(57)【要約】【課題】  異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正を確実に実行する。【解決手段】  欠陥修正装置１００は、欠陥源８５を有する欠陥画素を撮像した撮像画像Ｆｃの画像データを取得する撮像画像取得部６４と、撮像画像Ｆｃの画像データと欠陥源８５を有しないモデル画像Ｆａの画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥領域ｇを特定する欠陥領域特定部７１と、その欠陥領域ｇと予め設定された複数のレーザ光照射候補位置とに基づいて、複数のレーザ光照射候補位置から、欠陥領域ｇに重複しないレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定する照射位置決定部７２と、決定された照射位置にレーザ光を照射するように、レーザ光照射装置４０を制御する照射制御部６２とを含む。【選択図】      図３
2012053360.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを備え、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、
撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定部と、
予め設定された複数のレーザ光照射候補位置と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記複数のレーザ光照射候補位置から、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定する照射位置決定部と、
照射位置決定部によって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御部とを含むことを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項２】
前記各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定部は、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする請求項１に記載の欠陥修正装置。
【請求項３】
画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを備え、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、
撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定部と、
予め設定されたレーザ光照射候補領域と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記レーザ光照射候補領域のうち前記欠陥源の存在領域に重複しない領域から、レーザ光の照射位置を決定する照射位置決定部と、
照射位置決定部によって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御部とを含むことを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項４】
前記レーザ光照射候補領域内には、複数のレーザ光照射候補位置が予め設定されるとともに、各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定部は、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする請求項３に記載の欠陥修正装置。
【請求項５】
前記欠陥領域特定部は、撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとを、配線パターンにおける予め定める特徴箇所を一致させて照合することにより、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の欠陥修正装置。
【請求項６】
画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを用い、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得ステップと、
撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定ステップと、
正常な画素における配線パターンに基づいて予め設定された複数のレーザ光照射候補位置と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記複数のレーザ光照射候補位置から、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定する照射位置決定ステップと、
照射位置決定ステップによって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御ステップとを含むことを特徴とする欠陥修正方法。
【請求項７】
前記各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定ステップは、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする請求項６に記載の欠陥修正方法。
【請求項８】
画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを用い、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得ステップと、
撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定ステップと、
正常な画素における配線パターンに基づいて予め設定されたレーザ光照射候補領域と欠陥領域特定ステップによって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記レーザ光照射候補領域のうち前記欠陥源の存在領域に重複しない領域から、レーザ光の照射位置を決定する照射位置決定ステップと、
照射位置決定ステップによって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御ステップとを含むことを特徴とする欠陥修正方法。
【請求項９】
前記レーザ光照射候補領域内には、複数のレーザ光照射候補位置が予め設定されるとともに、各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定ステップは、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする請求項８に記載の欠陥修正方法。
【請求項１０】
前記欠陥領域特定ステップは、撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとを、配線パターンにおける予め定める特徴箇所を一致させて照合することにより、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定することを特徴とする請求項６〜９のいずれか１つに記載の欠陥修正方法。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか１つに記載の欠陥修正方法をコンピュータに実行させるための欠陥修正用プログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の欠陥修正用プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、絵素を構成する画素が配列された液晶パネルなどの平面表示パネルにおける欠陥を自動修正する欠陥修正装置、欠陥修正方法、欠陥修正用プログラムおよび該欠陥修正用プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、絵素を構成する三原色すなわちＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）の画素がマトリクス状に配列された液晶パネルなどの平面表示パネルを搭載するフラットパネルディスプレイ（Flat Panel Display；略称「ＦＰＤ」）は、軽量、薄型、低消費電力などの特性を活かして各種分野で使用されており、特に家電製品および情報端末装置などにおける表示装置として幅広く使用されている。
【０００３】
このＦＰＤの製造工程では、組み立てられた平面表示パネルに対して、電気的な断線または短絡による欠陥、液晶への異物混入による微小な欠陥、液晶の部分的な配向不良による微小な欠陥などの欠陥を検出する欠陥検出工程が含まれ、さらに、検出された欠陥のうち、修復可能なものについて修正を行う欠陥修正工程が含まれる。
【０００４】
従来、欠陥検出工程および欠陥修正工程は作業員の手動で行われていたため、欠陥の位置検出および修正位置決定の作業には、多大な時間と労力が必要となっていた。さらに、修正を行う作業員には、平面表示パネルに対する高度な知識が要求されるため、作業員の育成および確保が困難であった。そこで、このような問題を解決する技術として、たとえば特許文献１に、欠陥検出工程および欠陥修正工程を自動化したリペアシステムが提案されている。
【０００５】
特許文献１に記載のリペアシステムでは、検査対象の液晶パネルを検査ステージ上の所定位置に保持させると、画像処理用の撮像装置が、点灯状態にされた液晶パネルを画像データとして取込み、画像処理ユニットが、その画像データに基づいて、欠陥が生じている画素（以下、「欠陥画素」と称する）を検出し、その欠陥画素の表示面上での位置および欠陥の種類などの情報を生成する。そして、システム制御ユニットが、その位置の情報に基づいて、修正（リペア）用の撮像装置が欠陥画素上に平面的に一致するように光学系移動ユニットを制御し、修正用の撮像装置が、欠陥画素における配線パターンの画像を画像データとして取込む。
【０００６】
そして、画像処理ユニットが、欠陥画素における配線パターンと予め登録されている複数の欠陥パターンとを比較し、システム制御ユニットが、この比較結果に基づいて、欠陥画素に対してレーザ光を照射するようにレーザ光照射部を制御する。このようにして、欠陥検出工程および欠陥修正工程を自動化している。また、特許文献１では、画像処理用の撮像装置をさらに用いて、修正前後の液晶パネルの点灯状態の画像データを比較することにより、修正の成否判定を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２９６５１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載の方法によれば、欠陥検出工程および欠陥修正工程を自動化することができるとともに、修正前後の液晶パネルの点灯状態の画像データを比較することによって、欠陥画素に対する修正の成否を自動的に判定することができる。これにより、欠陥画素の検出および修正に要する作業時間を大幅に短縮することができる。
【０００９】
しかしながら、特許文献１では、欠陥画素に対してレーザ光を照射する際に、欠陥画素の位置については考慮されているが、欠陥画素内における異物などの欠陥源の位置については考慮されていない。つまり、異物などの欠陥源が欠陥の原因となっている欠陥画素について、その欠陥源が、画素領域内におけるどの位置に存在しているのかについては考慮されていない。
【００１０】
このように欠陥源の位置について考慮せずに欠陥画素にレーザ光を照射すると、欠陥源上にレーザ光を照射してしまう可能性がある。欠陥源上にレーザ光を照射した場合、レーザ照射の衝撃によって欠陥源が別の位置へ移動してしまい、移動先の画素において新たに欠陥が生成されてしまうおそれがある。この場合、再度、画像処理用の撮像装置を用いて液晶パネルを撮像することによって、欠陥画素の位置を特定しなければならず、欠陥画素の検出および修正に要する作業時間が不所望に増大してしまうという問題がある。
【００１１】
また、レーザ光照射部は、欠陥源が存在していない状態を想定して、レーザ光の照射強度および照射範囲などの条件が設定されるので、そのような設定で欠陥源上にレーザ光を照射してしまうと、配線パターンを切断したり、短絡させたりする修正が失敗してしまう可能性があるという問題がある。
【００１２】
本発明の目的は、異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正作業を確実に実行することができる欠陥修正装置、欠陥修正方法、欠陥修正用プログラムおよび該欠陥修正用プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを備え、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、
撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定部と、
予め設定された複数のレーザ光照射候補位置と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記複数のレーザ光照射候補位置から、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定する照射位置決定部と、
照射位置決定部によって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御部とを含むことを特徴とする欠陥修正装置である。
【００１４】
また本発明は、前記各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定部は、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする。
【００１５】
また本発明は、画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを備え、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正装置であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得部と、
撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定部と、
予め設定されたレーザ光照射候補領域と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記レーザ光照射候補領域のうち前記欠陥源の存在領域に重複しない領域から、レーザ光の照射位置を決定する照射位置決定部と、
照射位置決定部によって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御部とを含むことを特徴とする欠陥修正装置である。
【００１６】
また本発明は、前記レーザ光照射候補領域内には、複数のレーザ光照射候補位置が予め設定されるとともに、各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定部は、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、前記欠陥領域特定部は、撮像画像取得部によって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとを、配線パターンにおける予め定める特徴箇所を一致させて照合することにより、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定することを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを用い、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得ステップと、
撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定ステップと、
正常な画素における配線パターンに基づいて予め設定された複数のレーザ光照射候補位置と欠陥領域特定部によって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記複数のレーザ光照射候補位置から、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定する照射位置決定ステップと、
照射位置決定ステップによって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御ステップとを含むことを特徴とする欠陥修正方法である。
【００１９】
また本発明は、前記各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定ステップは、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする。
【００２０】
また本発明は、画素が配列される平面表示パネルに形成されている配線パターンを撮像可能な撮像装置と、レーザ光を照射可能なレーザ光照射装置とを用い、撮像装置によって撮像された配線パターンの撮像画像の画像データに基づいて、欠陥源を有する欠陥画素に対しレーザ光照射装置でレーザ光を照射することにより、該欠陥画素における欠陥を修正する欠陥修正方法であって、
欠陥画素における配線パターンの撮像画像の画像データを取得する撮像画像取得ステップと、
撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定する欠陥領域特定ステップと、
正常な画素における配線パターンに基づいて予め設定されたレーザ光照射候補領域と欠陥領域特定ステップによって特定された欠陥源の存在領域とに基づいて、前記レーザ光照射候補領域のうち前記欠陥源の存在領域に重複しない領域から、レーザ光の照射位置を決定する照射位置決定ステップと、
照射位置決定ステップによって決定されたレーザ光の照射位置にレーザ光を照射するように、前記レーザ光照射装置を制御する照射制御ステップとを含むことを特徴とする欠陥修正方法である。
【００２１】
また本発明は、前記レーザ光照射候補領域内には、複数のレーザ光照射候補位置が予め設定されるとともに、各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、
前記照射位置決定ステップは、前記欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定することを特徴とする。
【００２２】
また本発明は、前記欠陥領域特定ステップは、撮像画像取得ステップによって取得された画像データと欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンの撮像画像の画像データとを、配線パターンにおける予め定める特徴箇所を一致させて照合することにより、欠陥画素内における欠陥源の存在領域を特定することを特徴とする。
【００２３】
また本発明は、前記欠陥修正方法をコンピュータに実行させるための欠陥修正用プログラムである。
【００２４】
また本発明は、前記欠陥修正用プログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、欠陥源を有する欠陥画素における配線パターンを撮像装置で撮像したときの撮像画像の画像データと、欠陥源を有しない正常な画素における配線パターンを撮像装置で撮像したときの撮像画像の画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥源の存在領域が特定される。そして、予め設定された複数のレーザ光照射候補位置と、該欠陥源の存在領域とに基づいて、複数のレーザ光照射候補位置のうち、欠陥源の存在領域に重複しないレーザ光照射候補位置が、レーザ光の照射位置として決定される。したがって、異物などの欠陥源にレーザ光を照射してしまうことを回避することができるので、欠陥画素における欠陥を修正するのに要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正作業を確実に実行することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施形態に係る欠陥修正装置１００の概略的な構成を示す模式図である。
【図２】本実施形態における検査対象の液晶パネルＬを示す平面図であり、図２（ａ）は液晶パネルＬ全体を示す平面図であり、図２（ｂ）は液晶パネルＬの角部を拡大して示す平面図である。
【図３】制御装置５１の構成を示すブロック図である。
【図４】本実施形態における検査対象の液晶パネルＬのモデル画像Ｆａを示す図である。
【図５】図４に示すモデル画像Ｆａに基づいて生成されたドレインバスライン８１のマスク画像Ｆｂを示す図である。
【図６】複数のレーザ光照射候補位置の一例を示す図である。
【図７】本実施形態における検査対象の液晶パネルＬにおける欠陥画素付近の配線パターン８０を撮像したときの撮像画像Ｆｃの一例を示す図である。
【図８】図４に示すモデル画像Ｆａと図７に示す撮像画像Ｆｃとをゲートバスライン８２が一致するように重ね合わせた画像を示す図である。
【図９】図７に示す撮像画像Ｆｃと図５に示すマスク画像Ｆｂとを重ね合わせた画像を示す図である。
【図１０】欠陥領域ｇを特定する方法を説明するための図である。
【図１１】撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５とが重複していない状態の一例を示す図である。
【図１２】撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５の一部とが重複している状態の一例を示す図である。
【図１３】撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５の全てとが重複している状態の一例を示す図である。
【図１４】制御装置５１による欠陥修正処理の処理手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
図１は、本発明の実施形態に係る欠陥修正装置１００の概略的な構成を示す模式図である。欠陥修正装置１００は、バックライト１０と、検査台２０と、ＣＣＤカメラ３０と、レーザ光照射装置４０と、コンピュータ５０とを含んで構成される。
【００２８】
欠陥修正装置１００は、平面表示パネルである液晶パネルＬにおいて欠陥が生じている画素（以下、「欠陥画素」と称する）が検出されると、その欠陥画素に対してレーザ光を照射し、欠陥画素における配線パターンを切断したり、短絡させたりすることによって、その欠陥画素における欠陥を自動的に修正するように構成されている。
【００２９】
欠陥修正装置１００は、本実施形態では、液晶パネルＬにおける電気的な断線または短絡による欠陥、液晶への異物混入による微小な欠陥、液晶の部分的な配向不良による微小な欠陥などの欠陥の有無を検出するための欠陥検出装置２００と一体化して構成されており、欠陥検出装置２００によって欠陥が検出されると、液晶パネルＬの表示面における欠陥画素の位置情報が、欠陥検出装置２００から入力されるように構成されている。
【００３０】
バックライト１０は、光を出射可能な光源を備え、本実施形態では、上方に向かって平面的に光を出射する面光源として構成されている。検査台２０は、検査対象の液晶パネルＬが載置される平坦な載置面Ｓを有する。検査台２０は、本実施形態では、載置面Ｓが水平または略水平となるように、バックライト１０上に取り付けられている。したがって、バックライト１０を駆動することによって、検査台２０上に水平に載置された液晶パネルＬに対して、下方から光を照射することができる。
【００３１】
撮像装置であるＣＣＤカメラ３０は、検査台２０の上方に、検査台２０の載置面Ｓに対向して配設され、検査台２０に載置された液晶パネルＬに形成されている配線パターンを撮像可能に構成されている。また、ＣＣＤカメラ３０は、図示しない移動装置を備え、検査台２０の載置面Ｓに平行で、互いに直交する２軸方向（図１における左右方向および前後方向）に沿って移動可能に構成されている。
【００３２】
ＣＣＤカメラ３０は、欠陥検出装置２００から入力される欠陥画素の位置情報に基づいて、後述する撮像制御部６３によって、欠陥画素の上方まで移動するように制御される。そして、欠陥画素の上方まで移動すると、撮像制御部６３によって、欠陥画素付近の配線パターンを撮像するように制御される。また、ＣＣＤカメラ３０は、撮像した配線パターンの撮像画像の画像データを、コンピュータ５０へ出力するように構成されている。
【００３３】
レーザ光照射装置４０は、検査台２０の上方に、検査台２０の載置面Ｓに対向して配設され、欠陥画素における配線パターンを切断したり、短絡させたりする修正を行うために、検査台２０に載置された液晶パネルＬに向けてレーザ光を照射可能に構成されている。また、レーザ光照射装置４０は、図示しない移動装置を備え、前記２軸方向に沿って移動可能に構成されている。
【００３４】
レーザ光照射装置４０は、後述する照射位置決定部７２によってレーザ光を照射すべき照射位置が決定されると、後述する照射制御部６２によって、照射位置の上方まで移動するように制御される。そして、照射位置の上方まで移動すると、照射制御部６２によって、その照射位置に対してレーザ光を照射するように制御される。これにより、欠陥画素における配線パターンを切断したり、短絡させたりする修正が行われる。
【００３５】
コンピュータ５０は、制御装置５１を備え、欠陥検出装置２００によって検査台２０に載置された液晶パネルＬにおいて欠陥が検出されると、欠陥検出装置２００から出力される欠陥画素の位置情報に基づいて、制御装置５１が、欠陥画素にレーザ光を照射して欠陥を修正する欠陥修正処理を実行する。制御装置５１は、図示しないＲＯＭ（Read Only 
Memory）に格納されている欠陥修正用プログラムを読み込むことによって、欠陥修正処理を実行する。
【００３６】
本実施形態では、ＣＣＤカメラ３０およびレーザ光照射装置４０を、検査台２０に載置されている液晶パネルＬに対して移動させるように構成されているが、このような構成に限らず、バックライト１０、検査台２０および検査台２０に載置された液晶パネルＬが、所定位置に固定されたＣＣＤカメラ３０およびレーザ光照射装置４０に対して、一体的に移動するように構成されてもよい。
【００３７】
図２は、本実施形態における検査対象の液晶パネルＬを示す平面図であり、図２（ａ）は液晶パネルＬ全体を示す平面図であり、図２（ｂ）は液晶パネルＬの角部を拡大して示す平面図である。
【００３８】
液晶パネルＬは、その厚み方向に見て矩形状に形成されており、画像を表示可能な矩形状の表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１を囲繞する矩形枠状の周縁領域Ａ２とを有する。表示領域Ａ１には、複数の絵素Ｐが、液晶パネルＬの長辺方向Ｘおよび短辺方向Ｙに沿って、マトリクス状に配列されている。
【００３９】
表示領域Ａ１を構成する各絵素Ｐは、画素によって構成され、本実施形態では、三原色Ｒ・Ｇ・Ｂの画素、すなわち赤色の画素ＳＲ、緑色の画素ＳＧおよび青色の画素ＳＢによって構成されている。
【００４０】
各画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢは、いずれも短冊状に形成された画素領域から成る。表示領域Ａ１を構成する各絵素Ｐでは、このような三原色の画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢが、長辺方向Ｘに沿って、この順に並んで配列されている。
【００４１】
ここで、長辺方向Ｘに沿う画素の並びを「行」と称し、短辺方向Ｙに沿う画素の並びを「列」と称すると、各行には、三原色の画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢが周期的に繰り返し配列されている。一方、各列には、同色の画素が連続して配列されている。このように、表示領域Ａ１には、三原色の画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢが、長辺方向Ｘおよび短辺方向Ｙに沿ってマトリクス状に配列されている。なお、隣接する画素間には、混色を防ぐための遮光領域であるブラックマトリクスが設けられている。
【００４２】
図３は、制御装置５１の構成を示すブロック図である。制御装置５１は、装置制御部６１と、撮像画像取得部６４と、データ格納部６５と、画像処理部６９とを含んで構成される。
【００４３】
装置制御部６１は、照射制御部６２と、撮像制御部６３とを含んで構成される。照射制御部６２は、レーザ光の照射強度および照射範囲などの条件を設定し、後述する照射位置決定部７２によって決定された照射位置に対してレーザ光を照射するように、レーザ光照射装置４０を制御する。
【００４４】
撮像制御部６３は、欠陥検出装置２００から入力される欠陥画素の位置情報に基づいて、その欠陥画素付近の配線パターンが撮像されるように、ＣＣＤカメラ３０を制御する。
【００４５】
撮像画像取得部６４は、ＣＣＤカメラ３０から入力される撮像画像の画像データを取得し、取得した画像データを、所定の画像記憶領域に格納する。
【００４６】
データ格納部６５は、モデル画像格納部６６と、マスク画像格納部６７と、レーザ光照射位置格納部６８とを含んで構成される。
【００４７】
モデル画像格納部６６には、欠陥が全く生じていない状態の検査対象の液晶パネルＬにおける配線パターンをＣＣＤカメラ３０で撮像したときの撮像画像（以下、「モデル画像」と称する）Ｆａの画像データが予め格納される。図４は、本実施形態における検査対象の液晶パネルＬのモデル画像Ｆａを示す図である。図４に示すように、モデル画像Ｆａには、ドレインバスライン８１、ゲートバスライン８２、ソースバスライン８３およびＣｓバスライン８４によって形成される配線パターン８０が映し出される。
【００４８】
マスク画像格納部６７には、モデル画像格納部６６に格納されるモデル画像Ｆａに基づいて生成された各配線８１〜８４のマスク画像Ｆｂの画像データが予め格納される。ここで、マスク画像Ｆｂとは、モデル画像Ｆａに基づいて手動で生成された２値化画像であり、モデル画像Ｆａにおいて認識すべき配線が存在している配線領域ｈ１と、配線領域ｈ１以外の領域ｈ２とを識別可能に区分けした２値化画像である。つまり、マスク画像Ｆｂは、モデル画像Ｆａにおいて、各配線８１〜８４が存在している配線領域ｈ１を認識するために用いられる画像である。
【００４９】
図５は、図４に示すモデル画像Ｆａに基づいて生成されたドレインバスライン８１のマスク画像Ｆｂを示す図である。図５では、ドレインバスライン８１が存在している配線領域ｈ１は白（ハッチングを付していない領域）で示し、配線領域ｈ１以外の領域ｈ２はハッチングを付して示している。
【００５０】
マスク画像Ｆｂは、モデル画像Ｆａに基づいて作成されるので、モデル画像Ｆａとマスク画像Ｆｂとは同一の基準位置を有している。すなわち、たとえば画像の左上隅を基準位置とするとき、モデル画像Ｆａとマスク画像Ｆｂとは、この基準位置同士を重ね合わせることにより、マスク画像Ｆｂにおける配線領域ｈ１と、モデル画像Ｆａにおいてその配線に対応する領域とを一致させることができる。したがって、このようなマスク画像Ｆｂを用いることによって、モデル画像Ｆａにおいて、各配線８１〜８４が存在している配線領域ｈ１を認識することができる。
【００５１】
マスク画像格納部６７には、図５に示すドレインバスライン８１のマスク画像Ｆｂのほか、ゲートバスライン８２、ソースバスライン８３およびＣｓバスライン８４のマスク画像Ｆｂの画像データが、モデル画像Ｆａに基づいて生成されて予め格納される。
【００５２】
レーザ光照射位置格納部６８には、モデル画像Ｆａに基づいて予め設定された複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報が格納される。複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報とは、配線の種類およびその配線においてレーザ光を照射するときの候補位置を特定するための情報である。
【００５３】
図６は、複数のレーザ光照射候補位置の一例を示す図である。図６では、ドレインバスライン８１においてゲートバスライン８２から距離１０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、７０μｍおよび８０μｍだけ離れた７箇所の位置が、レーザ光照射候補位置Ｑ１〜Ｑ７として予め設定された場合を示している。複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報は、モデル画像Ｆａに基づいて予め生成されてレーザ光照射位置格納部６８に格納される。
【００５４】
複数のレーザ光照射候補位置は、配線上にレーザ光を照射する修正を行う場合であって、欠陥画素内の単一の配線に対してレーザ光を照射することにより修正可能な一部の領域内において設定される。ここで、単一の配線とは、欠陥画素内における１本または１個の配線のことである。すなわち、本実施形態では、全く異なる配線に跨って複数のレーザ光照射候補位置が設定される場合を含まないものとする。
【００５５】
たとえば、同一種類の複数の配線のうちの１本の配線におけるレーザ光照射領域に対して十分長尺の配線をレーザ光照射によって切断修正を行う場合には、配線の切断箇所にある程度自由度がある。このような場合は配線上の修正可能領域をレーザ光照射候補として設定することが有効である。配線の短絡修正する場合に、修正箇所に自由度がある場合も同様である。
【００５６】
また、複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報には、各レーザ光照射候補位置に対して予め設定された優先順位を示す情報が含まれている。たとえば、図６に示すレーザ光照射候補位置Ｑ１〜Ｑ７を例に挙げると、ゲートバスライン８２に近い方が優先度が高くなるように、優先順位が設定される。
【００５７】
画像処理部６９は、配線領域特定部７０と、欠陥領域特定部７１と、照射位置決定部７２とを含んで構成される。
【００５８】
配線領域特定部７０は、撮像画像取得部６４によって取得された欠陥画素付近の撮像画像Ｆｃの画像データと、モデル画像格納部６６に予め格納されているモデル画像Ｆａの画像データおよびマスク画像格納部６７に予め格納されているマスク画像Ｆｂの画像データとに基づいて、撮像画像Ｆｃにおいて、認識すべき配線が存在している配線領域ｈ１を特定する。
【００５９】
図７は、本実施形態における検査対象の液晶パネルＬにおける欠陥画素付近の配線パターン８０を撮像したときの撮像画像Ｆｃの一例を示す図である。図７に示すように、欠陥画素付近の撮像画像Ｆｃには、液晶パネルＬに形成される配線パターン８０のほか、異物などによって構成される欠陥源８５が映し出されている。
【００６０】
配線領域特定部７０は、撮像画像Ｆｃにおける配線領域ｈ１を特定するために、先ず、撮像画像取得部６４によって取得された欠陥画素付近の撮像画像Ｆｃの画像データと、モデル画像格納部６６に予め格納されているモデル画像Ｆａの画像データとに基づいて、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素との位置合わせを行う。
【００６１】
検査対象の液晶パネルＬを撮像するためのＣＣＤカメラ３０を機械的に位置制御する際には必ず精度誤差があるため、撮像画像Ｆｃを撮像したときのＣＣＤカメラ３０の撮像位置とモデル画像Ｆａを撮像したときのＣＣＤカメラ３０の撮像位置とは完全に一致しない。したがって、撮像画像Ｆｃとモデル画像Ｆａとは、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素とは位置ずれを生じている。すなわち、たとえば画像の左上隅を基準位置とするとき、モデル画像Ｆａと撮像画像Ｆｃとは、この基準位置同士を重ね合わせると、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素とは位置ずれを生じてしまう。
【００６２】
そこで、配線領域特定部７０は、液晶パネルＬに形成される配線パターン８０において予め設定された特徴的な部分（以下、「特徴箇所」と称する）Ｊａをモデル画像Ｆａ内から抽出するとともに、同一の特徴箇所Ｊｃを撮像画像Ｆｃ内から抽出し、抽出された特徴箇所Ｊａと特徴箇所Ｊｃとが一致して重なるように、モデル画像Ｆａと撮像画像Ｆｃとを重ね合わせて、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素との位置合わせを行う。
【００６３】
本実施形態では、特徴箇所として、ゲートバスライン８２を抽出するように予め設定されている。特徴箇所としては、たとえばドレインバスライン８１の屈曲部を利用することも可能であるが、前記のように、ゲートバスライン８２のような線幅の大きな配線を特徴箇所とすることにより、検査対象の液晶パネルＬにおける配線とモデル画像Ｆａに対応する液晶パネルＬにおける配線との線幅に誤差があったとしても、誤差の影響を可及的に小さくすることができ、撮像画像Ｆｃとモデル画像Ｆａとを精度良く位置合わせすることができる。
【００６４】
図８は、図４に示すモデル画像Ｆａと図７に示す撮像画像Ｆｃとをゲートバスライン８２が一致するように重ね合わせた画像を示す図である。図８に示すように、モデル画像Ｆａと撮像画像Ｆｃとを重ね合わせて、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素との位置合わせを行うことにより、モデル画像Ｆａの基準位置、たとえば画像の左上隅の位置を、撮像画像Ｆｃにおいて設定することができる。
【００６５】
配線領域特定部７０は、モデル画像Ｆａの基準位置を撮像画像Ｆｃにおいて設定すると、次に、マスク画像格納部６７に予め格納されているマスク画像Ｆｂの画像データを用いて、マスク画像Ｆｂと撮像画像Ｆｃとを重ね合わせる。このとき、マスク画像Ｆｂの左上隅の位置を、撮像画像Ｆｃにおいて設定された位置に一致させて重ね合わせることにより、撮像画像Ｆｃにおいて、認識すべき配線が存在している配線領域ｈ１を特定することができる。
【００６６】
図９は、図７に示す撮像画像Ｆｃと図５に示すマスク画像Ｆｂとを重ね合わせた画像を示す図である。図９に示すように、撮像画像Ｆｃとドレインバスライン８１のマスク画像Ｆｂとを重ね合わせることにより、撮像画像Ｆｃにおいて、ドレインバスライン８１が存在している配線領域ｈ１を特定することができる。
【００６７】
同様に、ゲートバスライン８２、ソースバスライン８３およびＣｓバスライン８４の各マスク画像Ｆｂと撮像画像Ｆｃとを重ね合わせることにより、撮像画像Ｆｃにおいて、ゲートバスライン８２、ソースバスライン８３およびＣｓバスライン８４が存在している配線領域ｈ１をそれぞれ特定することができる。
【００６８】
このように、撮像画像Ｆｃにおける認識すべき配線の配線領域ｈ１を特定する際に、モデル画像Ｆａを利用して撮像画像Ｆｃとマスク画像Ｆｂとを重ね合わせているので、撮像画像Ｆｃにおいて配線領域ｈ１を精度良く特定することができる。
【００６９】
配線領域特定部７０は、さらに、特定した配線領域ｈ１と、レーザ光照射位置格納部６８に予め格納されている前記特定した配線に対する複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報とに基づいて、撮像画像Ｆｃにおいて、複数のレーザ光照射候補位置を特定する。
【００７０】
たとえば、図９に示すように、撮像画像Ｆｃにおいて、ドレインバスライン８１が存在している配線領域ｈ１が特定された場合において、ドレインバスライン８１に対する複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報として、前記のようにドレインバスライン８１においてゲートバスライン８２から距離１０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、７０μｍおよび８０μｍだけ進んだ７箇所の位置を示す位置特定情報が予め格納されていれば、図６に示すような７箇所の位置が、レーザ光照射候補位置Ｑ１〜Ｑ７として特定される。
【００７１】
欠陥領域特定部７１は、配線領域特定部７０によって位置合わせされたモデル画像Ｆａと撮像画像Ｆｃとの差分を取り、欠陥画素の画素領域内における欠陥源８５の存在領域（以下、「欠陥領域」と称する）を特定する。
【００７２】
図１０は、欠陥領域ｇを特定する方法を説明するための図である。図１０（ａ）は、モデル画像Ｆａにおける画素領域の画像ｆａを示し、図１０（ｂ）は、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素の画素領域の画像ｆｃを示している。また、図１０（ｃ）は、図１０（ａ）に示す画素領域の画像ｆａと図１０（ｂ）に示す画素領域の画像ｆｃとの差分を取ったときの画像ｆｄを示している。また、図１０（ｄ）は、図１０（ｃ）に示される画像ｆｃにおいて抽出された欠陥源８５に基づいて欠陥領域ｇを特定したときの画像ｆｅを示している。
【００７３】
欠陥領域特定部７１は、図１０（ｃ）に示すように、モデル画像Ｆａにおける画素領域の画像ｆａと撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素の画素領域の画像ｆｃとの差分を取ることにより、欠陥画素に含まれる欠陥源８５を抽出する。そして、欠陥源８５が抽出されると、図１０（ｄ）に示すように、欠陥源８５の形状を所定の図形で近似する。これにより、近似した図形内の領域を、撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇとして特定することができる。図１０（ｄ）に示す場合では、欠陥源８５の形状を矩形近似しているが、近似に用いられる図形は、矩形に限らず円形であってもよい。
【００７４】
照射位置決定部７２は、欠陥領域特定部７１によって特定された撮像画像Ｆｃにおける欠陥領域ｇと、配線領域特定部７０によって特定された撮像画像Ｆｃにおける複数のレーザ光照射候補位置とに基づいて、レーザ光の照射位置を決定する。
【００７５】
図１１は、撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５とが重複していない状態の一例を示す図である。なお、レーザ光照射候補位置Ｒ１から順に優先度が低くなるように、優先順位が予め設定されているものとする。この場合、照射位置決定部７２は、優先順位の最も高いレーザ光照射候補位置Ｒ１を、レーザ光の照射位置として決定する。
【００７６】
図１２は、撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５の一部とが重複している状態の一例を示す図である。前記と同様に、レーザ光照射候補位置Ｒ１から順に優先度が低くなるように、優先順位が予め設定されているものとする。この場合、照射位置決定部７２は、欠陥領域ｇに重複しないレーザ光照射候補位置Ｒ３〜Ｒ５のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置Ｒ３を、レーザ光の照射位置として決定する。
【００７７】
図１３は、撮像画像Ｆｃにおいて欠陥領域ｇと配線８６に設定された複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５の全てとが重複している状態の一例を示す図である。前記と同様に、レーザ光照射候補位置Ｒ１から順に優先度が低くなるように、優先順位が予め設定されているものとする。この場合、照射位置決定部７２は、複数のレーザ光照射候補位置Ｒ１〜Ｒ５からレーザ光の照射位置を決定することができないと判定する。
【００７８】
照射位置決定部７２が、前記のように照射位置を決定することができないと判定すると、制御装置５１における図示しない報知制御部が、照射位置を決定することができなかった旨を、たとえば図示しない表示装置に出力するなどして、作業者に報知する。
【００７９】
図１４は、制御装置５１による欠陥修正処理の処理手順を示すフローチャートである。以下、図１４に示すフローチャートに従って、本実施形態に係る欠陥修正方法について説明する。
【００８０】
欠陥修正処理は、欠陥検出装置２００から検査台２０上に載置されている液晶パネルＬの表示面における欠陥画素の位置情報が入力されることによって開始される。
【００８１】
ステップｓ１では、撮像制御部６３が、欠陥検出装置２００から入力される欠陥画素の位置情報に基づいて、その欠陥画素付近の配線パターン８０が撮像されるように、ＣＣＤカメラ３０を制御する。これにより、ＣＣＤカメラ３０による撮像動作が開始される。
【００８２】
次に、ステップｓ２では、撮像画像取得部６４が、ＣＣＤカメラ３０から入力される撮像画像Ｆｃの画像データを取得し、取得した画像データを、所定の画像記憶領域に格納する。
【００８３】
次に、ステップｓ３では、配線領域特定部７０が、ステップｓ２において取得された欠陥画素付近の撮像画像Ｆｃの画像データと、モデル画像格納部６６に予め格納されているモデル画像Ｆａの画像データとに基づいて、撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素とモデル画像Ｆａにおける画素との位置合わせを行う。これにより、モデル画像Ｆａの基準位置を、撮像画像Ｆｃにおいて設定する。
【００８４】
次に、ステップｓ４では、配線領域特定部７０が、ステップｓ３においてモデル画像Ｆａの基準位置が設定された撮像画像Ｆｃの画像データと、マスク画像格納部６７に予め格納されている各配線８１〜８４のマスク画像Ｆｂの画像データとに基づいて、撮像画像Ｆｃにおいて、各配線８１〜８４が存在している配線領域ｈ１をそれぞれ特定する。
【００８５】
次に、ステップｓ５では、配線領域特定部７０が、ステップｓ４において特定された配線領域ｈ１と、レーザ光照射位置格納部６８に予め格納されている複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報とに基づいて、撮像画像Ｆｃにおいて、複数のレーザ光照射候補位置を特定する。
【００８６】
次に、ステップｓ６では、欠陥領域特定部７１が、ステップｓ３において位置合わせされたモデル画像Ｆａにおける画素の画像ｆａと撮像画像Ｆｃにおける欠陥画素の画像ｆｃとの差分を取ることによって、欠陥画素の画素領域内における欠陥領域ｇを特定する。
【００８７】
次に、ステップｓ７では、照射位置決定部７２が、ステップｓ６において特定された撮像画像Ｆｃにおける欠陥領域ｇと、ステップｓ５において特定された撮像画像Ｆｃにおける複数のレーザ光照射候補位置とに基づいて、レーザ光の照射位置を決定する。
【００８８】
次に、ステップｓ８では、照射位置決定部７２によって、ステップｓ７においてレーザ光の照射位置が決定されたか否かが判定され、照射位置が決定している場合には、ステップｓ９に進み、照射位置を決定することができなかった場合には、ステップｓ１０に進む。
【００８９】
ステップｓ９では、照射制御部６２が、ステップｓ７において決定されたレーザ光の照射位置に対してレーザ光を照射するように、レーザ光照射装置４０を制御する。これにより、レーザ光照射装置４０によって、配線パターンの切断または短絡などの修正作業が行われる。レーザ光の照射が終了すると、欠陥修正処理が終了する。
【００９０】
またステップｓ１０では、制御装置５１における図示しない報知制御部が、照射位置を決定することができなかった旨を、たとえば図示しない表示装置に出力するなどして、作業者に報知する。この場合、欠陥画素の修正作業は行われない。作業者への報知が行われると、欠陥修正処理を終了する。
【００９１】
以上のように、本実施形態によれば、欠陥源８５を有する欠陥画素を撮像した撮像画像Ｆｃの画像データと欠陥源８５を有しないモデル画像Ｆａの画像データとに基づいて、欠陥画素内における欠陥領域ｇが特定され、その欠陥領域ｇと予め設定された複数のレーザ光照射候補位置とに基づいて、複数のレーザ光照射候補位置のうち、欠陥領域ｇに重複しないレーザ光照射候補位置が、レーザ光の照射位置として決定される。
【００９２】
したがって、欠陥源８５の形状が複雑であっても、欠陥源８５にレーザ光を照射してしまうことを回避することができるので、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正作業を確実に実行することができる。
【００９３】
上記の実施形態では、レーザ光照射位置格納部６８には、モデル画像Ｆａに基づいて予め設定された複数のレーザ光照射候補位置の位置特定情報が格納されているが、他の実施形態では、モデル画像Ｆａに基づいて予め設定されたレーザ光照射候補領域の領域特定情報が格納されていてもよい。レーザ光照射候補領域の領域特定情報とは、配線の種類およびその配線においてレーザ光を照射するときの候補領域を特定するための情報である。
【００９４】
レーザ光照射候補領域の領域特定情報は、たとえば、ドレインバスライン８１においてゲートバスライン８２から距離２０μｍ〜５０μｍの領域を、レーザ光照射候補領域として設定した情報などである。
【００９５】
また、この場合には、レーザ光照射候補領域内に、複数のレーザ光照射候補位置が予め設定されるとともに、各レーザ光照射候補位置には、それぞれ優先順位が予め設定され、照射位置決定部７２は、欠陥領域ｇに重複しないレーザ光照射候補位置のうち、優先順位が最も高いレーザ光照射候補位置を、レーザ光の照射位置として決定するように構成される。
【００９６】
コンピュータ５０の制御装置５１に含まれる各ブロックは、ハードウェアロジックによって構成してもよいし、次のようにＣＰＵ（Central Processing Unit）を用いてソフトウェアによって実現してもよい。
【００９７】
すなわち、コンピュータ５０の制御装置５１は、各機能を実現する欠陥修正用プログラムの命令を実行するＣＰＵ、上記プログラムを格納したＲＯＭ（Read Only Memory）、上記プログラムを展開するＲＡＭ（Random Access Memory）、上記プログラムおよび各種データを格納するメモリ等の記憶装置（記録媒体）などを備えている。そして、本発明の目的は、上述した機能を実現するソフトウェアである欠陥修正用プログラムのプログラムコード（実行形式プログラム、中間コードプログラム、ソースプログラム）をコンピュータで読み取り可能に記録した記録媒体をコンピュータ５０に供給し、コンピュータ５０がその記録媒体に記録されているプログラムコードを読み出し実行することによっても達成可能である。
【００９８】
上記記録媒体としては、たとえば、磁気テープやカセットテープ等のテープ系、フロッピー（登録商標）ディスク／ハードディスク等の磁気ディスクやＣＤ−ＲＯＭ／ＭＯ／ＭＤ／ＤＶＤ／ＣＤ−Ｒ等の光ディスクを含むディスク系、ＩＣカード（メモリカードを含む）／光カード等のカード系、あるいはマスクＲＯＭ／ＥＰＲＯＭ／ＥＥＰＲＯＭ／フラッシュＲＯＭ等の半導体メモリ系などを用いることができる。
【００９９】
また、コンピュータ５０を通信ネットワークと接続可能に構成し、上記プログラムコードを通信ネットワークを介してコンピュータ５０に供給するようにしてもよい。この通信ネットワークとしては、とくに限定されず、たとえば、インターネット、イントラネット、エキストラネット、ＬＡＮ、ＩＳＤＮ、ＶＡＮ、ＣＡＴＶ通信網、仮想専用網（
Virtual Private Network）、電話回線網、移動体通信網、衛星通信網等が利用可能である。また、通信ネットワークを構成する伝送媒体としては、とくに限定されず、たとえば、ＩＥＥＥ１３９４、ＵＳＢ、電力線搬送、ケーブルＴＶ回線、電話線、ＡＤＳＬ回線等の有線でも、ＩｒＤＡやリモコンのような赤外線、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、８０２．１１無線、ＨＤＲ、携帯電話網、衛星回線、地上波デジタル網等の無線でも利用可能である。なお、本発明は、上記プログラムコードが電子的な伝送で具現化された、搬送波に埋め込まれたコンピュータデータ信号の形態でも実現され得る。
【符号の説明】
【０１００】
１０  バックライト
２０  検査台
３０  ＣＣＤカメラ
４０  レーザ光照射装置
５０  コンピュータ
５１  制御装置
６１  装置制御部
６２  照射制御部
６３  撮像制御部
６４  撮像画像取得部
６５  データ格納部
６６  モデル画像格納部
６７  マスク画像格納部
６８  レーザ光照射位置格納部
６９  画像処理部
７０  配線領域特定部
７１  欠陥領域特定部
７２  照射位置決定部
１００  欠陥修正装置
２００  欠陥検出装置
【図１】
2012053360.tif 000003
【図２】
2012053360.tif 000004
【図３】
2012053360.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
2012053360.tif 000014
【図１３】
2012053360.tif 000015
【図１４】
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