(57)【要約】      （修正有）【課題】量産性に優れ、既存の設備の貼り合せ精度により表示領域の遮光を充分に行うことができる液晶表示素子を提供する。【解決手段】表示領域１を有する第一電極基板２と、前記第一電極基板２に対向する位置関係にて第一遮光領域３を有する第二電極基板４がシール剤５を介して所定の間隔で貼りあわされている。また、前記第一遮光領域３が覆っていないシール剤５部分に関しては、第三基板６が具備している第二遮光領域７が覆うことにより、前記シール剤５全域を第一遮光領域３及び、第二遮光領域７で遮光を行っている。尚、シール剤５は、紫外線硬化型樹脂である。前記シール剤５の前記表示領域１側の遮光を行っている部分は前記シール剤５幅の１／３以下であり、第二電極基板４を貼付する前に、残りの２／３以上の領域にはＵＶ（紫外線）照射を行えるため、既存の紫外線硬化型樹脂を前記シール剤５に使用することは可能である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極を有する第一電極基板と該第一電極基板に相対する対向電極を有する第二電極基板とをシール剤を介して所定の間隔に貼りあわせた後に、前記所定の間隔に液晶を封止してなる液晶表示素子であり、且つ前記シール剤と前記複数の画素電極が隣接している液晶表示素子において、
前記第二電極基板上には、前記第一電極基板上の複数の画素電極領域の周囲を規定し、且つ前記シール剤の前記複数の画素電極側の４辺を覆うように形成された第一遮光領域と、
前記シール剤の前記第一遮光領域に覆われていない部分の遮光を行う第二遮光領域を備えた第三基板を前記第二電極基板上に設けたことを特徴とした液晶表示素子。
【請求項２】
前記第二遮光領域を具備している第三基板が、位相差板を兼ねていることを特徴とした請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項３】
複数の画素電極を有する第一電極基板と
第一遮光領域を有する第二電極基板とを所定の位置関係でシール剤を介して貼りあわせる工程と、
前記第一遮光領域に覆われていない、前記シール剤部分を覆うために第二遮光領域を有する第三基板を前記第二電極基板上に貼り合せる工程とを有した液表表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子は、表面に画素電極が形成された第一電極基板と、それに相対し表面に対向電極が形成された第二電極基板を所定の位置関係でシール剤にて貼り合せ、前記基板間に液晶を注入した液晶パネルを回路基板若しくは基台上に実装し、画素電極と対向電極間に電位差を与え、液晶の配向を制御することにより各種表示を得るものである。
【０００３】
また、液晶表示素子は表示領域には画素電極が形成されており、表示領域外周にはダミー領域として画素電極同様のパターニングがされている。前記ダミー領域は前記表示領域同様の画素電極パターンを有しているが、前記表示領域の画素電極とは異なり各画素電極は電気的には独立していない。即ち、ダミー領域全域がひとつの電極となっている。
【０００４】
また、前記ダミー領域に加え、前記第二電極基板には、液晶素子における表示領域の額縁を規定する額縁遮光領域が設けられることが一般的である。シール剤を硬化させるためには前記第二電極基板の外側から紫外線照射を妨げないようにするために、前記遮光領域は、シール剤領域と重ならないように隙間をあけて形成されることが多い。このため、前記遮光領域とシール領域との間の隙間から光が漏れることにより、遮光品質を低下させてしまう恐れがある。
【０００５】
図４は従来の液晶表示素子を示す図であり、断面図である。
前述の光漏れを防止するために、第二電極基板４上の第一遮光領域３と第二電極基板４上に第二遮光領域７を有した第三基板６を貼り合せている。また前記第一遮光領域３と第二遮光領域７との重なる部分のズレを考慮し、第一電極基板２下部に第三遮光領域８を設けている。また、シール剤５の外周部に関しては実装ケース９によって遮光を行う構成が開示されている。（例えば、特許文献１参照）
【０００６】
図４に示す液晶表示素子は、シール剤５として紫外線硬化型樹脂を用いているため、硬化のためＵＶ照射を行う必要がある。シール剤５の液晶１０との接触面の遮光を、第三基板６上に設けられた第二遮光領域７で行っているが、シール剤５と表示領域１との間隔が小さい場合には前記第二遮光領域７を有する第三基板６と、前記表示領域１を有する第一電極基板２との貼り合わせ精度が厳しくなり、また、前記第二遮光領域７と前記表示領域１間には前記第二電極基板４を介しているため、前記第二電極基板４の厚み分の入射光角度依存を考慮する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特願２００６−１５７０１６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記した図４に示す従来の液晶表紙素子の構造では、前記シール剤５の前記表示領域１側の遮光を第二遮光領域７で行っているため、前記シール剤５と前記表示領域１が近接する場合には貼り合わせ精度が非常に重要になり大量生産には不適切である。また、貼り合わせ精度を考慮してしまうと、前記第１遮光領域３に十分な遮光幅を持たすことができない。
【０００９】
図５はシール剤５と表示領域１が隣接した際の図４の構造の一部を示す図であり、前記シール剤５と前記表示領域１間の間隔は例えば３００μｍである。前記間隔が３００μｍであり、前記シール剤５の前記表示領域１側の額縁を規定する額縁遮光領域は、遮光性を確保するために、例えば１００μｍを前記シール剤５から前記表示領域側に入れ込んでいる。
【００１０】
前述の状態で、仮に入射光が法線方向から１０°の入射光角度を有したとすると、前記角度を有した入射光が前記第二遮光領域７から前記第一電極基板２上の表示領域１に入射する際には、前記第二電極基板４の厚みが０．５ｍｍであると仮定して
ｔａｎ（１０°）×０．５ｍｍ＝８８．２μｍ
上記のように、少なくとも、８８μｍ前記第二遮光領域７端面から内側に入り込んでしまう。また、図５に示すように、前記第二遮光領域７端面から前記表示領域１端面までは２００μｍしか有していないため、前記第二遮光領域７を有した第三基板６と、前記表示領域１を有した第一電極基板との貼りあわせ精度は±５０μｍ以内で実施する必要性が生じる。
【００１１】
前記第二電極基板４を±５０ｕｍの精度で貼り合わせを行う工程として、第三基板６を、すでに貼り合わせてある第一電極基板２と第二電極基板４上に行うことは、量産工程としては非常に不適切であり、貼り合わせマージンはより大きくとることが一般的である。
【００１２】
前述の内容は、シール剤５と表示領域１間隔が３００μｍ以下の小型液晶表示素子においては全て適用となる。
【００１３】
本発明は、シール剤領域と表示領域が隣接している小型液晶表示素子であっても、量産性に優れ、既存の設備の貼り合せ精度により表示領域の遮光を充分に行うことができる液晶表示素子を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の液晶表示素子は、複数の画素電極を有する第一電極基板と該第一電極基板に相対する対向電極を有する第二電極基板とをシール剤を介して所定の間隔に貼りあわせた後に、前記所定の間隔に液晶を封止してなる液晶表示素子であり、且つ前記シール剤と前記複数の画素電極が隣接している液晶表示素子において、前記第二電極基板上には、前記第一電極基板上の複数の画素電極領域の周囲を規定し、且つ前記シール剤の前記複数の画素電極側の４辺を覆うように形成された第一遮光領域と、前記シール剤の前記第一遮光領域に覆われていない部分の遮光を行う第二遮光領域を備えた第三基板を前記第二電極基板上に設けたことを特徴とする。
【００１５】
前記第二遮光領域を具備している第三基板が、位相差板を兼ねた構成とすることができる。
【００１６】
複数の画素電極を有する第一電極基板と、第一の遮光領域を有する第二電極基板とを所定の位置関係でシール剤を介して貼りあわせる工程と、前記第一遮光領域に覆われていない、前記シール剤部分を覆うために第二の遮光領域を有する第三基板を前記第二電極基板上に貼り合せる工程とを有した液表表示素子製造方法とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、シール剤領域と表示領域が隣接している小型液晶表示素子において、量産性に優れ、既存の設備の貼り合せ精度により表示領域の額縁を行う額縁遮光領域を設けることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の液晶表示素子の一実施例示す断面図。
【図２】本発明の液晶表意素子の製造方法を示す工程毎断面図。
【図３】本発明の液晶表示素子の別の実施例を示す断面図。
【図４】従来技術の液晶表示素子を示す断面図。
【図５】従来技術構造に角度を有した入射光が照射された状態を示す部分断面図
【発明を実施するための形態】
【実施例１】
【００１９】
図１は本発明の液晶表示素子の一実施例を示す図であり、断面図である。
表示領域１を有する第一電極基板２と、前記第一電極基板２に対向する位置関係にて第一遮光領域３を有する第２電極基板４がシール剤５を介して所定の間隔で貼りあわされている。
【００２０】
また、前記第一遮光領域３が覆っていないシール剤５部分に関しては、第三基板６が具備している第２遮光領域７が覆うことにより、前記シール剤５全域を第一遮光領域３及び、第二遮光領域７で遮光を行っている。尚、シール剤５は、紫外線硬化型樹脂である。
【００２１】
図１に示す液晶表示素子の構造において、前記シール剤５の前記表示領域１側の遮光は、前記第１遮光領域３によって行っており、位置合わせ精度は前記第一電極基板２と前記第二電極基板４の貼りあわせ精度に依存する。
【００２２】
図１に示す液晶表示素子の構造において、前記シール剤５の前記表示領域１側の遮光を行っている部分は前記シール剤５の幅の１／３以下であり、残りの２／３以上の領域にはＵＶ（紫外線）照射を行えるため、既存の紫外線硬化型樹脂を前記シール剤５に使用することは可能である。
【００２３】
図２は図１の液晶表示素子の製造方法を示す図であり、工程毎断面図である。以後図２の工程毎断面図に準じて説明を行う。
（ａ）：表示領域１を有する第一電極基板２と第一遮光領域３を有する第二電極基板４をシール剤５を介して所定の間隔で貼り合わせる。尚、貼り合わせ精度は一般的には±５０ｕｍで可能である。また、前記シール剤５の前記表示領域１側部分は前記第一遮光領域３にて遮光されている。なお、前記シール剤５の硬化は例えばＵＶ照射にて実施を行う。
【００２４】
（ｂ）：前記シール剤５にて所定の間隔で貼り合わされている前記第一電極基板２及び前記第二電極基板４の、前記第二電極基板４上に、第二遮光領域７を有した第３基板６を、例えば光学用ＵＶ硬化樹脂にて貼り合わせる。前記第二遮光領域７は前記シール剤５の前記第一遮光領域３で覆われていない部分の遮光を行う目的であり、前記表示領域１の額縁遮光は前記第一遮光領域３にて実施しているため、この際の貼り合せ精度は特に問われない。
【００２５】
前記した製造方法によれば、シール剤領域と表示領域とが隣接した小型液晶表示素子の製造工程において、シール剤の表示領域側の額縁遮光領域を第二電極基板上に第一遮光領域として設けることにより、既存の材料と工程精度で表示領域の遮光を充分に行うことができる液晶表示素子の大量生産を行うことができる。
【００２６】
図３は本発明の液晶表示素子の別の実施例示す図であり、断面図である。
表示領域１を有する第一電極基板２と、前記第一電極基板２に対向する位置関係にて第一遮光領域３を有する第二電極基板４がシール剤５を介して所定の間隔で貼りあわされている。また、前記第一遮光領域３が覆っていないシール剤５部分に関しては第三基板６が具備している第二遮光領域７が覆うことにより、前記シール剤５全域を第一遮光領域３、及び第二遮光領域７で遮光を行っている。なお、前記第三基板６は位相差板１１も具備する構成とすることができ、液晶表示素子の光学特性の調整も同時に行うことが可能である。
【００２７】
前記遮光領域３の透過率はＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）が３以上が好ましいがこれに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００２８】
１  表示領域
２  第一電極基板
３  第一遮光領域
４  第二電極基板
５  シール剤
６  第三基板
７  第二遮光領域
８  第三遮光領域
９  実装ケース
１０  液晶
１１  位相差板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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