(57)【要約】【課題】  充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することのできる照明光学系。【解決手段】  光源からの光により被照射面を照明する照明光学系は、所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面に形成する空間光変調器と、空間光変調器と被照射面との間の光路中に配置されて、第１面と光学的に共役な第２面を形成する結像光学系と、空間光変調器と結像光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えている。【選択図】  図１
2012028543.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面に形成する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記第１面と光学的に共役な第２面を形成する結像光学系と、
前記空間光変調器と前記結像光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えていることを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
前記空間光変調器と前記第１面との間の光路中には、パワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記第２面に沿って入射面を有する波面分割型のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記照明瞳は、前記オプティカルインテグレータの直後に位置することを特徴とする請求項３に記載の照明光学系。
【請求項５】
前記オプティカルインテグレータは、第１方向に沿って細長い矩形状の単位波面分割面を有することを特徴とする請求項３または４に記載の照明光学系。
【請求項６】
前記角度分布付与素子は、回折光学素子を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項７】
前記回折光学素子は、前記第１面に沿って配置されていることを特徴とする請求項６に記載の照明光学系。
【請求項８】
前記空間光変調器は、二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項９】
前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項８に記載の照明光学系。
【請求項１０】
複数の前記空間光変調器と、
入射光束を互いに向きの異なる複数の光束に分割し、該複数の光束のうちの第１の光束を第１の空間光変調器へ導き且つ第２の光束を第２の空間光変調器へ導く光束分割部材とを備えていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１１】
前記第１の空間光変調器と前記第２の空間光変調器とは、前記結像光学系の光軸を挟んで前記第１方向に間隔を隔てて配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の照明光学系。
【請求項１２】
前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項１３】
光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面に形成する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記第１面と光学的に共役な第２面を形成する結像光学系とを備え、
前記空間光変調器と前記第１面との間の光路中には、パワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする照明光学系。
【請求項１４】
前記空間光変調器と前記結像光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子を備えていることを特徴とする請求項１３に記載の照明光学系。
【請求項１５】
所定のパターンを照明するための請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備え、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第２面に沿って第１方向に細長い矩形状の複数の単位波面分割面を有するオプティカルインテグレータを備え、
前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を、前記第１方向と直交する第２方向に対応する走査方向に沿って相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板へ投影露光することを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィー工程で製造するための露光装置に好適な照明光学系に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の典型的な露光装置においては、光源から射出された光が、オプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズを介して、多数の光源からなる実質的な面光源としての二次光源（一般には照明瞳における所定の光強度分布）を形成する。以下、照明瞳での光強度分布を、「瞳強度分布」という。また、照明瞳とは、照明瞳と被照射面（露光装置の場合にはマスクまたはウェハ）との間の光学系の作用によって、被照射面が照明瞳のフーリエ変換面となるような位置として定義される。
【０００３】
二次光源からの光は、コンデンサー光学系により集光された後、所定のパターンが形成されたマスクを重畳的に照明する。マスクを透過した光は投影光学系を介してウェハ上に結像し、ウェハ上にはマスクパターンが投影露光（転写）される。マスクに形成されたパターンは高度に微細化されており、この微細パターンをウェハ上に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である。
【０００４】
従来、ズーム光学系を用いることなく瞳強度分布（ひいては照明条件）を連続的に変更することのできる照明光学系が提案されている（特許文献１を参照）。特許文献１に開示された照明光学系では、アレイ状に配列され且つ傾斜角および傾斜方向が個別に駆動制御される多数の微小なミラー要素により構成された可動マルチミラーを用いて、入射光束を反射面毎の微小単位に分割して偏向させることにより、光束の断面を所望の形状または所望の大きさに変換し、ひいては所望の瞳強度分布を実現している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／０１１６０９３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載された照明光学系では、姿勢が個別に制御される多数のミラー要素を有する空間光変調器を用いているので、瞳強度分布の形状および大きさの変更に関する自由度は高い。しかしながら、フライアイレンズの直後の照明瞳に形成される瞳強度分布は点状の小光源の集合からなり、瞳強度分布の全体領域に占める小光源の充填率（以下、単に「瞳強度分布の充填率」または「充填率」という）が低い。所望の照明条件のもとで良好な露光を行うには、瞳強度分布の充填率を高めて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することが求められる。
【０００７】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することのできる照明光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成する照明光学系を用いて、所望の照明条件のもとで良好な露光を行うことのできる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面に形成する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記第１面と光学的に共役な第２面を形成する結像光学系と、
前記空間光変調器と前記結像光学系との間の光路中に配置されて、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
【０００９】
本発明の第２形態では、光源からの光により被照射面を照明する照明光学系において、
所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の光学要素を有し、前記照明光学系の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面に形成する空間光変調器と、
前記空間光変調器と前記被照射面との間の光路中に配置されて、前記第１面と光学的に共役な第２面を形成する結像光学系とを備え、
前記空間光変調器と前記第１面との間の光路中には、パワーを有する光学部材が配置されていないことを特徴とする照明光学系を提供する。
【００１０】
本発明の第３形態では、所定のパターンを照明するための第１形態または第２形態の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１１】
本発明の第４形態では、第３形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の照明光学系では、充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することができる。本発明の露光装置では、充填率が高く面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成する照明光学系を用いて、所望の照明条件のもとで良好な露光を行うことができ、ひいては良好なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の空間光変調ユニットの内部構成を概略的に示す図である。
【図３】空間光変調器の構成および作用を概略的に示す図である。
【図４】空間光変調器の部分斜視図である。
【図５】回折光学素子が介在しないと瞳強度分布の充填率が低くなることを説明する第１の図である。
【図６】回折光学素子が介在しないと瞳強度分布の充填率が低くなることを説明する第２の図である。
【図７】本実施形態において回折光学素子の作用により瞳強度分布の充填率が高くなることを説明する第１の図である。
【図８】本実施形態において回折光学素子の作用により瞳強度分布の充填率が高くなることを説明する第２の図である。
【図９】一対の矩形状の小光源を照明瞳の各単位領域に形成する変形例を示す図である。
【図１０】単一の矩形状の小光源を照明瞳の各単位領域に形成する変形例を示す図である。
【図１１】半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。
【図１２】液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図２は、図１の空間光変調ユニットの内部構成を概略的に示す図である。図１において、感光性基板であるウェハＷの転写面（露光面）の法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハＷの転写面内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、ウェハＷの転写面内において図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。
【００１５】
図１を参照すると、本実施形態の露光装置では、光源１から露光光（照明光）が供給される。光源１として、たとえば１９３ｎｍの波長の光を供給するＡｒＦエキシマレーザ光源や、２４８ｎｍの波長の光を供給するＫｒＦエキシマレーザ光源などを用いることができる。光源１から射出された光は、ビーム送光部２および空間光変調ユニット３を介して、マイクロフライアイレンズ（またはフライアイレンズ）４に入射する。ビーム送光部２は、光源１からの入射光束を適切な大きさおよび形状の断面を有する光束に変換しつつ空間光変調ユニット３へ導くとともに、空間光変調ユニット３に入射する光束の位置変動および角度変動をアクティブに補正する機能を有する。
【００１６】
空間光変調ユニット３は、図２に示すように、照明光路中に並列的に配置された一対の空間光変調器３１および３２を備えている。空間光変調器３１，３２は、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素を有する。ビーム送光部２と空間光変調器３１，３２の間の光路中には光束分割部材３３が配置され、空間光変調器３１，３２とマイクロフライアイレンズ４との間の光路中には回折光学素子３４および結像光学系３５が配置されている。
【００１７】
光束分割部材３３は、光源１からの入射した光束を互いに向きの異なる２つの光束に分割し、第１の光束を第１の空間光変調器３１へ導き、第２の光束を第２の空間光変調器３２へ導く。空間光変調器３１，３２を経た光は、回折光学素子３４および結像光学系３５を介して、マイクロフライアイレンズ４へ導かれる。マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａには、空間光変調器３１，３２の変調作用に応じて、所要の光強度分布が可変的に形成される。空間光変調ユニット３の具体的な構成および作用については後述する。
【００１８】
マイクロフライアイレンズ４は、たとえば縦横に且つ稠密に配列された多数の正屈折力を有する微小レンズからなる光学素子であり、平行平面板にエッチング処理を施して微小レンズ群を形成することによって構成されている。マイクロフライアイレンズでは、互いに隔絶されたレンズエレメントからなるフライアイレンズとは異なり、多数の微小レンズ（微小屈折面）が互いに隔絶されることなく一体的に形成されている。しかしながら、微小屈折面が縦横に配置されている点でマイクロフライアイレンズはフライアイレンズと同じ波面分割型のオプティカルインテグレータである。
【００１９】
マイクロフライアイレンズ４における単位波面分割面としての矩形状の微小屈折面は、Ｚ方向に細長い矩形状、すなわちマスクＭ上において形成すべき照野の形状（ひいてはウェハＷ上において形成すべき露光領域の形状）と相似な矩形状である。マイクロフライアイレンズ４として、例えばシリンドリカルマイクロフライアイレンズを用いることもできる。シリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成および作用は、例えば米国特許第６９１３３７３号公報に開示されている。
【００２０】
マイクロフライアイレンズ４に入射した光束は多数の微小レンズにより二次元的に分割され、その後側焦点面またはその近傍の照明瞳には、入射面４ａに形成される光強度分布と同じ性状の光強度分布を有する二次光源（瞳強度分布）が形成される。マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に形成された二次光源からの光束は、照明開口絞り（不図示）に入射する。照明開口絞りは、マイクロフライアイレンズ４の後側焦点面またはその近傍に配置され、二次光源に対応した形状の開口部（光透過部）を有する。
【００２１】
照明開口絞りは、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ大きさおよび形状の異なる開口部を有する複数の開口絞りと切り換え可能に構成されている。照明開口絞りの切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用いることができる。照明開口絞りは、後述する投影光学系ＰＬの入射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、二次光源の照明に寄与する範囲を規定する。なお、照明開口絞りの設置を省略することもできる。
【００２２】
照明開口絞りにより制限された二次光源からの光は、コンデンサー光学系５を介して、Ｚ方向に細長い矩形状の開口部（光透過部）を有するマスクブラインド６を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブラインド６には、マイクロフライアイレンズ４の矩形状の微小屈折面（単位波面分割面）の形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブラインド６の開口部を介した光束は、照明結像光学系７の集光作用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスクＭを重畳的に照明する。すなわち、照明結像光学系７は、マスクブラインド６の矩形状開口部の像をマスクＭ上に形成することになる。
【００２３】
マスクステージＭＳ上に保持されたマスクＭには転写すべきパターンが形成されており、パターン領域全体のうちＹ方向（マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａおよびマスクブラインド６におけるＺ方向に対応）に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状（スリット状）のパターン領域が照明される。マスクＭのパターン領域を透過した光は、投影光学系ＰＬを介して、ウェハステージＷＳ上に保持されたウェハ（感光性基板）Ｗ上にマスクパターンの像を形成する。すなわち、マスクＭ上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハＷ上においてもＹ方向に沿って長辺を有し且つＸ方向に沿って短辺を有する矩形状の静止露光領域（実効露光領域）にパターン像が形成される。
【００２４】
こうして、ステップ・アンド・スキャン方式にしたがって、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと直交する平面（ＸＹ平面）内において、Ｘ方向（走査方向）に沿ってマスクステージＭＳとウェハステージＷＳとを、ひいてはマスクＭとウェハＷとを同期的に移動（走査）させることにより、静止露光領域のＹ方向寸法に等しい幅を有し且つウェハＷの走査量（移動量）に応じた長さを有するウェハＷ上の１つのショット領域（露光領域）にマスクパターンが走査露光される。そして、ウェハステージＷＳをＸＹ平面に沿って二次元的にステップ移動させつつ走査露光を繰り返すことにより、ウェハＷの各ショット領域にマスクＭのパターンが順次転写される。
【００２５】
本実施形態の露光装置は、投影光学系ＰＬを介した光に基づいて投影光学系ＰＬの瞳面における瞳強度分布を計測する瞳強度分布計測部ＤＴと、瞳強度分布計測部ＤＴの計測結果に基づいて空間光変調ユニット３を制御する制御部ＣＲとを備えている。瞳強度分布計測部ＤＴは、例えば投影光学系ＰＬの瞳位置と光学的に共役な位置に配置された撮像面を有するＣＣＤ撮像部を備え、投影光学系ＰＬの像面の各点に関する瞳強度分布（各点に入射する光が投影光学系ＰＬの瞳位置に形成する瞳強度分布）をモニターする。瞳強度分布計測部ＤＴの詳細な構成および作用については、例えば米国特許公開第２００８／００３０７０７号公報を参照することができる。
【００２６】
本実施形態では、マイクロフライアイレンズ４により形成される二次光源を光源として、照明光学系の被照射面に配置されるマスクＭ（ひいてはウェハＷ）をケーラー照明する。このため、二次光源が形成される位置は投影光学系ＰＬの開口絞りＡＳの位置と光学的に共役であり、二次光源の形成面を照明光学系の照明瞳面と呼ぶことができる。典型的には、照明瞳面に対して被照射面（マスクＭが配置される面、または投影光学系ＰＬを含めて照明光学系と考える場合にはウェハＷが配置される面）が光学的なフーリエ変換面となる。
【００２７】
なお、瞳強度分布とは、照明光学系の照明瞳面または当該照明瞳面と光学的に共役な面における光強度分布（輝度分布）である。マイクロフライアイレンズ４による波面分割数が比較的大きい場合、マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａに形成される大局的な光強度分布と、二次光源全体の大局的な光強度分布（瞳強度分布）とが高い相関を示す。このため、マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａおよび当該入射面４ａと光学的に共役な面における光強度分布についても瞳強度分布と称することができる。
【００２８】
次に、空間光変調ユニット３の内部構成および作用を具体的に説明する。光束分割部材３３は、蛍石または石英のような光学材料により形成されて、Ｘ方向に延びる三角柱状のプリズムミラーの形態を有する。光束分割部材３３は、光源側（図２中左側）に向けた一対の反射面３３ａおよび３３ｂを有し、反射面３３ａと３３ｂとの稜線は光軸ＡＸを通ってＸ方向に延びている。なお、例えば金属のような非光学材料により形成された三角柱状の部材の側面に、アルミニウムや銀などからなる反射膜を設けることにより、光束分割部材３３を形成することもできる。あるいは、光束分割部材３３を、ミラーとして形成することもできる。
【００２９】
光軸ＡＸに沿って空間光変調ユニット３に入射した光束は、光束分割部材３３の２つの反射面３３ａ，３３ｂにより２分割される。反射面３３ａによって反射された光束は空間光変調器３１に入射し、反射面３３ｂによって反射された光束は空間光変調器３２に入射する。空間光変調器３１により変調された光および空間光変調器３２により変調された光は、例えば光軸ＡＸと直交する第１面ＩＰ１に所要の光強度分布を形成する。空間光変調器３１，３２と第１面ＩＰ１との間の光路中には、パワーを有する光学部材（レンズ、曲面反射鏡など）が配置されていない。
【００３０】
回折光学素子３４は、その回折光学面が第１面ＩＰ１とほぼ一致するように配置され、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する。結像光学系３５は、例えば拡大倍率を有し、第１面ＩＰ１と光学的に共役な第２面ＩＰ２を形成する。マイクロフライアイレンズ４は、その入射面４ａが第２面ＩＰ２とほぼ一致するように配置されている。
【００３１】
以下、説明を単純化するために、空間光変調ユニット３は、光軸ＡＸを含んでＸＹ平面に平行な面に関して対称な構成を有するものとする。すなわち、空間光変調器３１と３２とは互いに同じ構成を有し、且つ光軸ＡＸを含んでＸＹ平面に平行な面に関して対称に配置されているものとする。換言すれば、空間光変調器３１と３２とは、光軸ＡＸを挟んでＺ方向（マイクロフライアイレンズ４の矩形状の単位波面分割面の長辺方向に対応）に間隔を隔てて配置されているものとする。同様に、光束分割部材３３の反射面３３ａと反射面３３ｂとは、光軸ＡＸを含んでＸＹ平面に平行な面に関して対称に配置されているものとする。
【００３２】
空間光変調器３１（３２）は、図３に示すように、所定面（配列面）に沿って二次元的に配列された複数のミラー要素３１ａ（３２ａ）と、複数のミラー要素３１ａ（３２ａ）を保持する基盤３１ｂ（３２ｂ）と、基盤３１ｂ（３２ｂ）に接続されたケーブル（不図示）を介して複数のミラー要素３１ａ（３２ａ）の姿勢を個別に制御駆動する駆動部３１ｃ（３２ｃ）とを備えている。空間光変調器３１（３２）では、制御部ＣＲからの制御信号に基づいて作動する駆動部３１ｃ（３２ｃ）の作用により、複数のミラー要素３１ａ（３２ａ）の姿勢がそれぞれ変化し、各ミラー要素３１ａ（３２ａ）がそれぞれ所定の向きに設定される。
【００３３】
空間光変調器３１（３２）は、入射した光に対して、その入射位置に応じた空間的な変調を付与して射出する。空間光変調器３１（３２）は、図４に示すように、所定面内で二次元的に配列された複数の微小なミラー要素（光学要素）３１ａ（３２ａ）を備えている。説明および図示を簡単にするために、図３および図４では空間光変調器３１（３２）が４×４＝１６個のミラー要素３１ａ（３２ａ）を備える構成例を示しているが、実際には１６個よりもはるかに多数のミラー要素３１ａ（３２ａ）を備えている。
【００３４】
図３を参照すると、光束分割部材３３の反射面３３ａ（３３ｂ）を経て空間光変調器３１（３２）に入射する光線群のうち、光線Ｌ１は複数のミラー要素３１ａ（３２ａ）のうちのミラー要素ＳＥａに、光線Ｌ２はミラー要素ＳＥａとは異なるミラー要素ＳＥｂにそれぞれ入射する。同様に、光線Ｌ３はミラー要素ＳＥａ，ＳＥｂとは異なるミラー要素ＳＥｃに、光線Ｌ４はミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｃとは異なるミラー要素ＳＥｄにそれぞれ入射する。ミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄは、その位置に応じて設定された空間的な変調を光Ｌ１〜Ｌ４に与える。
【００３５】
空間光変調器３１（３２）の複数のミラー要素ＳＥａ〜ＳＥｄによって反射されて所定の角度分布が与えられた光は、第１面ＩＰ１に所定の光強度分布を形成する。第１面ＩＰ１に所定の光強度分布を形成した光は、回折光学素子３４および結像光学系３５を介して、第２面ＩＰ２に、ひいてはマイクロフライアイレンズ４の入射面４ａに、第１面ＩＰ１での光強度分布と同じ性状の光強度分布を形成する。
【００３６】
こうして、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に形成される光強度分布（瞳強度分布）は、空間光変調器３１が第１面ＩＰ１に形成する第１の光強度分布と、空間光変調器３２が第１面ＩＰ１に形成する第２の光強度分布との合成分布に対応した分布となる。換言すれば、空間光変調器３１，３２は、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に形成すべき瞳強度分布に対応する所定の光強度分布を第１面ＩＰ１に形成する。
【００３７】
空間光変調器３１（３２）は、図４に示すように、平面形状の反射面を上面にした状態で１つの平面に沿って規則的に且つ二次元的に配列された多数の微小な反射素子であるミラー要素３１ａ（３２ａ）を含む可動マルチミラーである。各ミラー要素３１ａ（３２ａ）は可動であり、その反射面の傾き、すなわち反射面の傾斜角および傾斜方向は、制御部ＣＲからの指令にしたがって作動する駆動部３１ｃ（３２ｃ）の作用により独立に制御される。各ミラー要素３１ａ（３２ａ）は、その反射面に平行な二方向であって互いに直交する二方向（例えばＸ方向およびその直交方向）を回転軸として、所望の回転角度だけ連続的或いは離散的に回転することができる。すなわち、各ミラー要素３１ａ（３２ａ）の反射面の傾斜を二次元的に制御することが可能である。
【００３８】
なお、各ミラー要素３１ａ（３２ａ）の反射面を離散的に回転させる場合、回転角を複数の状態（例えば、・・・、−２．５度、−２．０度、・・・０度、＋０．５度・・・＋２．５度、・・・）で切り換え制御するのが良い。図４には外形が正方形状のミラー要素３１ａ（３２ａ）を示しているが、ミラー要素３１ａ（３２ａ）の外形形状は正方形に限定されない。ただし、光利用効率の観点から、ミラー要素３１ａ（３２ａ）の隙間が少なくなるように配列可能な形状（最密充填可能な形状）とすることができる。また、光利用効率の観点から、隣り合う２つのミラー要素３１ａ（３２ａ）の間隔を必要最小限に抑えることができる。
【００３９】
本実施形態では、空間光変調器３１，３２として、たとえば二次元的に配列された複数のミラー要素３１ａ，３２ａの向きを連続的にそれぞれ変化させる空間光変調器を用いている。このような空間光変調器として、たとえば特表平１０−５０３３００号公報およびこれに対応する欧州特許公開第７７９５３０号公報、特開２００４−７８１３６号公報およびこれに対応する米国特許第６,９００,９１５号公報、特表２００６−５２４３４９号公報およびこれに対応する米国特許第７,０９５,５４６号公報、並びに特開２００６−１１３４３７号公報に開示される空間光変調器を用いることができる。なお、二次元的に配列された複数のミラー要素３１ａ，３２ａの向きを離散的に複数の段階を持つように制御してもよい。
【００４０】
空間光変調器３１，３２では、制御部ＣＲからの制御信号に応じて作動する駆動部３１ｃ，３２ｃの作用により、複数のミラー要素３１ａ，３２ａの姿勢がそれぞれ変化し、各ミラー要素３１ａ，３２ａがそれぞれ所定の向きに設定される。空間光変調器３１，３２の複数のミラー要素３１ａ，３２ａによりそれぞれ所定の角度で反射された光は、マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａに、所望の形状（円形状、輪帯状、複数極状など）および大きさの光強度分布を形成する。
【００４１】
こうして、一対の空間光変調器３１および３２を経た光は、マイクロフライアイレンズ４の後側焦点面またはその近傍の照明瞳に、入射面４ａでの光強度分布に対応する瞳強度分布を形成する。さらに、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳と光学的に共役な別の照明瞳の位置、すなわち照明結像光学系７の瞳位置および投影光学系ＰＬの瞳位置（開口絞りＡＳが配置されている位置）にも、入射面４ａでの光強度分布に対応する瞳強度分布が形成される。
【００４２】
本実施形態では、並列的に配置された空間光変調器３１と３２とを備えた空間光変調ユニット３の作用により、瞳強度分布の形状および大きさを自在に且つ迅速に変化させ、ひいては多様性に富んだ照明条件を実現することができる。ただし、図２の構成から回折光学素子３４の設置を省略すると、従来技術の場合と同様に、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に形成される瞳強度分布は点状の小光源の集合からなり、瞳強度分布の充填率が低くなってしまう。
【００４３】
従来技術では、空間光変調器（図２における３１，３２に対応）とマイクロフライアイレンズ（図２における４に対応）の入射面とを光学的にフーリエ変換の関係にするフーリエレンズを採用している。この場合、マイクロフライアイレンズの直後の照明瞳に形成される瞳強度分布の充填率を高める（瞳強度分布を構成する各小光源のサイズを大きくする）には、フーリエレンズの焦点距離を小さくすることが求められる。
【００４４】
しかしながら、空間光変調器を経た光がマイクロフライアイレンズの入射面の有効領域の全体を照らすように構成するには、フーリエレンズの焦点距離をある程度大きく確保する必要がある。このため、従来技術では、フーリエレンズの焦点距離をある程度大きく確保することが優先され、瞳強度分布を構成する各小光源のサイズが小さくなり、ひいては瞳強度分布の充填率が低くなってしまう。
【００４５】
以下、本実施形態において回折光学素子３４が介在しないと瞳強度分布の充填率が低くなることの理解を容易にするために、空間光変調器３１，３２へ平行光束が入射し、且つ複数のミラー要素３１ａ，３２ａが配列面に揃った状態、すなわち各ミラー要素３１ａ，３２ａの反射面が配列面と平行に整列した整列状態にあるものとする。この場合、図５に示すように、空間光変調器３１，３２を経た平行光束は、結像光学系３５の瞳面３５ａにおいて、光軸ＡＸを挟んでＺ方向に間隔を隔てた点４１，４２に集光する。
【００４６】
集光点４１，４２の位置は、空間光変調器３１，３２を経た平行光束が結像光学系３５に入射する角度に依存する。空間光変調器３１，３２を経て集光点４１，４２を形成した光は、マイクロフライアイレンズ４に入射し、その直後の照明瞳に瞳強度分布を形成する。この瞳強度分布は、図６に示すように、点状の小光源４３の集合からなり、その充填率は低い。図６において、直線状の破線によって包囲された矩形状の単位領域４４は、マイクロフライアイレンズ４の矩形状の単位波面分割面に対応している。
【００４７】
各単位領域４４においてＺ方向に間隔を隔てて形成される一対の点状の小光源４３は、結像光学系３５の瞳面３５ａにおいてＺ方向に間隔を隔てた一対の集光点４１，４２に対応している。これは、結像光学系３５の瞳面３５ａとマイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳面とが光学的に共役であるからである。実際には、空間光変調器３１，３２を経て変調された光は平行光束状態ではないが、結像光学系３５およびマイクロフライアイレンズ４への入射光の角度成分の分布が偏っているため、点状の小光源４３のサイズも小さくなる。
【００４８】
本実施形態では、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する回折光学素子３４が、第１面ＩＰ１に沿って配置されている。したがって、図７に示すように、整列状態にある空間光変調器３１，３２を経た平行光束は、回折光学素子３４に入射する。回折光学素子３４を経てある程度の範囲の角度分布が付与された光は、結像光学系３５の瞳面３５ａにおいて、光軸ＡＸを挟んでＺ方向に間隔を隔てた光束領域５１，５２を形成する。
【００４９】
光束領域５１，５２は、回折光学素子３４の回折特性に応じた外形形状（円形状、楕円形状、矩形状など）を有する。空間光変調器３１，３２を経て、例えば円形状の光束領域５１，５２を形成した光は、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に瞳強度分布を形成する。この瞳強度分布は、図８に示すように、円形状の小光源５３の集合からなり、その充填率は図６に示す比較例に比して高くなる。図８においても、直線状の破線によって包囲された矩形状の単位領域５４は、マイクロフライアイレンズ４の矩形状の単位波面分割面に対応している。
【００５０】
各単位領域５４においてＺ方向に間隔を隔てて形成される一対の円形状の小光源５３は、結像光学系３５の瞳面３５ａにおいてＺ方向に間隔を隔てた一対の円形状の光束領域５１，５２に対応している。実際には、空間光変調器３１，３２を経た光は平行光束状態ではなく、比較的小さな角度分布を有する。この比較的小さな角度分布を有する光は、回折光学素子３４を経て比較的大きな角度分布を有する光に変換されてマイクロフライアイレンズ４に入射する。
【００５１】
すなわち、空間光変調器３１，３２を経て変調された光の角度分布の範囲が比較的小さくても、回折光学素子３４の角度分布付与作用により結像光学系３５への入射光の角度分布の範囲が比較的大きくなるので、マイクロフライアイレンズ４への入射光の角度成分の分布が分散し、ひいては小光源５３のサイズも大きくなる。なお、回折光学素子３４は、結像光学系３５による第１面ＩＰ１と第２面ＩＰ２との光学的な共役関係に実質的な影響を及ぼすことはない。
【００５２】
こうして、本実施形態では、回折光学素子３４の角度分布付与作用により、マイクロフライアイレンズ４への入射光の角度成分の分布が分散する。その結果、マイクロフライアイレンズ４への入射光の角度成分の分布の分散に応じて、その直後の照明瞳に形成される瞳強度分布を構成する各小光源５３のサイズが拡大され、ひいては瞳強度分布の充填率を高めて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することができる。
【００５３】
以上のように、本実施形態の照明光学系（２〜７）では、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳に、充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成することができる。また、本実施形態の露光装置（２〜ＷＳ）では、充填率が高くて面光源に近い形態を有する瞳強度分布を形成する照明光学系（２〜７）を用いて、転写すべきマスクＭのパターンの特性に応じて実現された所望の照明条件のもとで良好な露光を行うことができる。
【００５４】
また、本実施形態では、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳において各単位領域５４にサイズの比較的大きな小光源５３を形成することにより、マイクロフライアイレンズ４の射出面の面形状の製造誤差に起因する照度ムラを低減することができる。図６の比較例では、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳における点状の各小光源４３に達する光は、射出側の各微小屈折面のうちの比較的小さい領域しか通過しない。このため、射出側の各微小屈折面の面形状に製造誤差がある場合、比較的小さい通過領域の製造誤差の影響を直接的に受けて、被照射面であるマスクＭまたはウェハＷで照度ムラが発生し易い。
【００５５】
これに対し、本実施形態では、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳における円形状の各小光源５３に達する光は、射出側の各微小屈折面のうちの比較的大きな領域を通過する。この場合、射出側の各微小屈折面の面形状に製造誤差があっても、比較的大きな通過領域のうちの微小領域毎の製造誤差の影響の平均化効果により、マスクＭまたはウェハＷでの照度ムラの発生が小さく抑えられる。
【００５６】
また、本実施形態では、空間光変調器３１，３２と第１面ＩＰ１との間の光路中に、パワーを有する光学部材が配置されていない。その結果、第１面ＩＰ１に所望の光強度分布を形成するのに必要なミラー要素３１ａ，３２ａの可動角度範囲を小さく抑えることができ、ひいては空間光変調器３１，３２の駆動制御性が向上する。
【００５７】
また、本実施形態では、拡大倍率を有する結像光学系３５を用いることにより、マイクロフライアイレンズ４の入射面４ａに形成される照野の外形サイズを拡大しつつ、入射面４ａへの光の入射角度を適切な範囲まで狭めることができる。ただし、結像光学系が拡大倍率を有することは必須ではなく、等倍率または縮小倍率を有する結像光学系を用いることもできる。
【００５８】
なお、上述の本実施形態では、入射光束の角度分布の範囲よりも大きい範囲の角度分布を射出光束に付与する角度分布付与素子として、第１面ＩＰ１に沿って配置された回折光学素子３４を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、角度分布付与素子の具体的な構成、配置などについて様々な形態が可能である。例えば、角度分布付与素子としての回折光学素子３４を、空間光変調器３１，３２と結像光学系３５との間の光路中の適当な位置に配置することができる。また、回折光学素子以外の形態を有する角度分布付与素子を用いることもできる。
【００５９】
また、上述の本実施形態では、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳の各単位領域５４に、Ｚ方向に間隔を隔てた一対の円形状の小光源５３を形成している。しかしながら、これに限定されることなく、照明瞳の各単位領域に形成される小光源の外形形状、数、配置などについて様々な形態が可能である。例えば、図９に示すように、Ｚ方向に間隔を隔てた一対の矩形状の小光源５５を照明瞳の各単位領域５４に形成することもできる。
【００６０】
また、上述の本実施形態では、一対の空間光変調器３１，３２を、光軸ＡＸを挟んでＺ方向（マイクロフライアイレンズ４の矩形状の単位波面分割面の長辺方向に対応）に間隔を隔てて配置している。しかしながら、これに限定されることなく、空間光変調器の数、配置などについて様々な形態が可能である。空間光変調器を単体で配置する場合、結像光学系３５の瞳面３５ａにおいて単一の光束領域が形成される。その結果、マイクロフライアイレンズ４の直後の照明瞳の各単位領域５４には、図１０に示すように、所定形状（図１０では例示的に矩形状）の単一の小光源５６が形成される。
【００６１】
また、上述の本実施形態では、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素３１ａ，３２ａを有する空間光変調器３１，３２として、二次元的に配列された複数の反射面の向き（角度：傾き）を個別に制御可能な空間光変調器を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、たとえば二次元的に配列された複数の反射面の高さ（位置）を個別に制御可能な空間光変調器を用いることもできる。このような空間光変調器としては、たとえば特開平６−２８１８６９号公報及びこれに対応する米国特許第５，３１２，５１３号公報、並びに特表２００４−５２０６１８号公報およびこれに対応する米国特許第６，８８５，４９３号公報の図１ｄに開示される空間光変調器を用いることができる。これらの空間光変調器では、二次元的な高さ分布を形成することで回折面と同様の作用を入射光に与えることができる。なお、上述した二次元的に配列された複数の反射面を持つ空間光変調器を、たとえば特表２００６−５１３４４２号公報およびこれに対応する米国特許第６，８９１，６５５号公報や、特表２００５−５２４１１２号公報およびこれに対応する米国特許公開第２００５／００９５７４９号公報の開示に従って変形しても良い。
【００６２】
また、上述の本実施形態では、所定面に沿って配列されて個別に制御される複数のミラー要素３１ａ，３２ａを有する空間光変調器３１，３２を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、例えば所定面に沿って配列されて個別に制御される複数の透過光学要素を備えた透過型の空間光変調器を用いることができる。
【００６３】
また、上述の本実施形態では、マスクＭおよびウェハＷを投影光学系ＰＬに対して相対移動させながらウェハＷの各露光領域にマスクパターンをスキャン露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置に対して本発明を適用している。しかしながら、これに限定されることなく、マスクと感光性基板とを静止させた状態でマスクのパターンを感光性基板へ一括的に転写し、感光性基板を順次ステップ移動させて各露光領域にマスクパターンを逐次露光するステップ・アンド・リピート方式の露光装置に対しても本発明を適用することができる。
【００６４】
上述の実施形態では、マスクの代わりに、所定の電子データに基づいて所定パターンを形成する可変パターン形成装置を用いることができる。なお、可変パターン形成装置としては、たとえば所定の電子データに基づいて駆動される複数の反射素子を含むＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）のような反射型空間光変調器を用いることができる。ＤＭＤを用いた露光装置は、例えば特開２００４−３０４１３５号公報、国際特許公開第２００６／０８０２８５号パンフレットおよびこれに対応する米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報に開示されている。また、ＤＭＤのような非発光型の反射型空間光変調器以外に、透過型空間光変調器を用いても良く、自発光型の画像表示素子を用いても良い。ここでは、米国特許公開第２００７／０２９６９３６号公報の教示を参照として援用する。
【００６５】
上述の実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行っても良い。
【００６６】
次に、上述の実施形態にかかる露光装置を用いたデバイス製造方法について説明する。図１１は、半導体デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１１に示すように、半導体デバイスの製造工程では、半導体デバイスの基板となるウェハＷに金属膜を蒸着し（ステップＳ４０）、この蒸着した金属膜上に感光性材料であるフォトレジストを塗布する（ステップＳ４２）。つづいて、上述の実施形態の投影露光装置を用い、マスク（レチクル）Ｍに形成されたパターンをウェハＷ上の各ショット領域に転写し（ステップＳ４４：露光工程）、この転写が終了したウェハＷの現像、つまりパターンが転写されたフォトレジストの現像を行う（ステップＳ４６：現像工程）。
【００６７】
その後、ステップＳ４６によってウェハＷの表面に生成されたレジストパターンをマスクとし、ウェハＷの表面に対してエッチング等の加工を行う（ステップＳ４８：加工工程）。ここで、レジストパターンとは、上述の実施形態の投影露光装置によって転写されたパターンに対応する形状の凹凸が生成されたフォトレジスト層であって、その凹部がフォトレジスト層を貫通しているものである。ステップＳ４８では、このレジストパターンを介してウェハＷの表面の加工を行う。ステップＳ４８で行われる加工には、例えばウェハＷの表面のエッチングまたは金属膜等の成膜の少なくとも一方が含まれる。なお、ステップＳ４４では、上述の実施形態の投影露光装置は、フォトレジストが塗布されたウェハＷを、感光性基板つまりプレートＰとしてパターンの転写を行う。
【００６８】
図１２は、液晶表示素子等の液晶デバイスの製造工程を示すフローチャートである。図１２に示すように、液晶デバイスの製造工程では、パターン形成工程（ステップＳ５０）、カラーフィルタ形成工程（ステップＳ５２）、セル組立工程（ステップＳ５４）およびモジュール組立工程（ステップＳ５６）を順次行う。ステップＳ５０のパターン形成工程では、プレートＰとしてフォトレジストが塗布されたガラス基板上に、上述の実施形態の投影露光装置を用いて回路パターンおよび電極パターン等の所定のパターンを形成する。このパターン形成工程には、上述の実施形態の投影露光装置を用いてフォトレジスト層にパターンを転写する露光工程と、パターンが転写されたプレートＰの現像、つまりガラス基板上のフォトレジスト層の現像を行い、パターンに対応する形状のフォトレジスト層を生成する現像工程と、この現像されたフォトレジスト層を介してガラス基板の表面を加工する加工工程とが含まれている。
【００６９】
ステップＳ５２のカラーフィルタ形成工程では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応する３つのドットの組をマトリックス状に多数配列するか、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を水平走査方向に複数配列したカラーフィルタを形成する。ステップＳ５４のセル組立工程では、ステップＳ５０によって所定パターンが形成されたガラス基板と、ステップＳ５２によって形成されたカラーフィルタとを用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。具体的には、例えばガラス基板とカラーフィルタとの間に液晶を注入することで液晶パネルを形成する。ステップＳ５６のモジュール組立工程では、ステップＳ５４によって組み立てられた液晶パネルに対し、この液晶パネルの表示動作を行わせる電気回路およびバックライト等の各種部品を取り付ける。
【００７０】
また、本発明は、半導体デバイス製造用の露光装置への適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。
【００７１】
なお、上述の実施形態では、露光光としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長：１９３ｎｍ）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長：２４８ｎｍ）を用いているが、これに限定されることなく、他の適当なレーザ光源、たとえば波長１５７ｎｍのレーザ光を供給するＦ2レーザ光源などに対して本発明を適用することもできる。
【００７２】
また、上述の実施形態において、投影光学系と感光性基板との間の光路中を１．１よりも大きな屈折率を有する媒体（典型的には液体）で満たす手法、所謂液浸法を適用しても良い。この場合、投影光学系と感光性基板との間の光路中に液体を満たす手法としては、国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンフレットに開示されているような局所的に液体を満たす手法や、特開平６−１２４８７３号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる手法や、特開平１０−３０３１１４号公報に開示されているようなステージ上に所定深さの液体槽を形成し、その中に基板を保持する手法などを採用することができる。ここでは、国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンフレット、特開平６−１２４８７３号公報および特開平１０−３０３１１４号公報の教示を参照として援用する。
【００７３】
また、上述の実施形態において、米国特許第７，４２３，７３１号公報、米国公開公報第２００６／０１７０９０１号及び第２００７／０１４６６７６号に開示される、いわゆる偏光照明方法を適用することも可能である。米国特許第７，４２３，７３１号公報に開示される技術を上述の実施形態に適用する際には、当該公報の偏光状態切換装置を、上述の実施形態における空間光変調ユニット３の光源側の光路に配置するか、光束分割部材３３と空間光変調器３１，３２との間の光路にそれぞれ配置すれば良い。また、米国公開公報第２００６／０１７０９０１号に開示される技術を上述の実施形態に適用する際には、当該公報の偏光状態変換器を、上述の実施形態における空間光変調ユニット３の光源側の光路に配置するか、光束分割部材３３と空間光変調器３１，３２との間の光路にそれぞれ配置し、上述の実施形態における偏光変調器を、空間光変調器３１，３２よりも被照射面側の光路でかつ第１面ＩＰ１または第１面と光学的に共役な面（例えば第２面ＩＰ２）またはそれらの面の近傍、或いは照明瞳面またはその近傍に配置しても良い。ここでは、米国特許第７，４２３，７３１号公報、米国特許公開第２００６／０１７０９０１号公報及び米国特許公開第２００７／０１４６６７６号公報の教示を参照として援用する。
【００７４】
また、上述の実施形態では、露光装置においてマスク（またはウェハ）を照明する照明光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、マスク（またはウェハ）以外の被照射面を照明する一般的な照明光学系に対して本発明を適用することもできる。
【符号の説明】
【００７５】
１  光源
２  ビーム送光部
３  空間光変調ユニット
３１，３２  空間光変調器
３３  光束分割部材
３４  回折光学素子
３５  結像光学系
４  マイクロフライアイレンズ
５  コンデンサー光学系
６  マスクブラインド
７  照明結像光学系
ＤＴ  瞳強度分布計測部
ＣＲ  制御部
Ｍ  マスク
ＭＳ  マスクステージ
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
ＷＳ  ウェハステージ
【図１】
2012028543.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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