(57)【要約】      （修正有）【課題】安全性に優れ、広範な植物病害に対する防除効果と優れた植物生長効果を有する農園芸用病害防除剤、および広範な有害微生物対する材料保護効果を有する工業用材料保護剤の提供。【解決手段】式（Ｉ）のアゾール誘導体。本誘導体は、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有する。2012250961.tif 000051（式中、Ｒａ、Ｒｂ、ＲｃＡは特定の基。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で示されるアゾール誘導体。
2012250961.tif 000047
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ｘは、ハロゲン原子を示す。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【請求項２】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒａは、Ｃ１〜Ｃ３のアルキレン基であり、Ｘは、塩素原子または臭素原子であることを特徴とする請求項１に記載のアゾール誘導体。
【請求項３】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒｃは、ハロゲン原子により置換された５〜６員のヘテロ環基であることを特徴とする請求項１または２に記載のアゾール誘導体。
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒｃは、ハロゲン原子により置換されたピリジル基、チエニル基またはチアゾリル基であることを特徴とする請求項３に記載のアゾール誘導体。
【請求項５】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒｃは、塩素原子または臭素原子で置換されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載のアゾール誘導体。
【請求項６】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒａは、メチレン基であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載のアゾール誘導体。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載のアゾール誘導体の製造に用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＩＩ）で示される中間体化合物。
2012250961.tif 000048
（式（ＩＩ）中、Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示し、
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【請求項８】
請求項１から６のいずれか一項に記載のアゾール誘導体の製造方法であって、
下記一般式（ＩＩ）で示すアゾール化合物における環構造を、ハロゲン酸を用いて開環する工程を含むことを特徴とするアゾール誘導体の製造方法。
2012250961.tif 000049
（式（ＩＩ）中、Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示す。
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【請求項９】
下記一般式（ＩＩＩ）で示す化合物と、シアン化物塩とを反応させて下記式（ＩＶ）で示す中間体化合物を得る工程と、
当該中間体化合物におけるシアノ基をメチレンを含む官能基に変換した誘導体化合物に、下記一般式（Ｖ）で示す化合物を付加させて上記式（ＩＩ）で示すアゾール化合物を得る工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載のアゾール誘導体の製造方法。
2012250961.tif 000050
（式（ＩＩＩ）および式（ＩＶ）中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、上記式（ＩＩ）と同一である。Ｘ２は、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を示す。式（Ｖ）中、Ａは上記式（ＩＩ）と同一であり、Ｍはアルカリ金属を示す。）
【請求項１０】
請求項１から６のいずれか一項に記載のアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤または工業用材料保護剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複素環を有するアゾール誘導体に関する。また、該誘導体の製造方法、該誘導体の中間体化合物ならびに該誘導体を含有する農園芸用薬剤および工業用材料保護剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の２−置換−５−ベンジル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール誘導体には、殺菌活性を示すものが知られている（特許文献１・２参照）。
【０００３】
特許文献３には、シクロペンタノールの２位の置換基にアルキル基を有し、５位の置換基にヘテロ環メチル基を有するアゾリルメチルシクロペンタノール誘導体と、該誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤および工業用材料保護剤が開示されている。
【０００４】
また、特許文献４には、シクロペンタノールの２位にハロゲン化アルキル基等の置換基を有し、５位の置換基にヘテロアリールメチル基を有するアゾリルメチルシクロペンタノール誘導体が記載されている（当該文献請求の範囲第１５項参照）。なお、当該文献では、上記誘導体の殺菌活性は検討されておらず、農園芸用薬剤および工業用材料保護剤の有効成分としての同誘導体の有用性は明らかでない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０１−９３５７４号公報
【特許文献２】特開平０１−１８６８７１号公報
【特許文献３】国際公開第２００９／０８８０７０号
【特許文献４】国際公開第２０１０／１２２１７１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来、人畜に対する毒性が低く取扱い安全性に優れ、かつ広範な植物病害に対して高い防除効果を示す農園芸用病害防除剤が求められている。加えて、種々の農作物や園芸植物の成長を調節して収量を増加させてその品質を高める効果を示す植物生長調節剤、または工業用材料を侵す広範な有害微生物から材料を保護する効果を示す工業用材料保護剤も求められている。
【０００７】
本発明は、上記の要望に応える農園芸用薬剤
工業用材料保護剤を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題解決のため、本発明者らは、アゾール誘導体の化学構造と生理活性を詳細に検討した。その結果、本発明者らは、下記一般式（Ｉ）で示される２−（ハロゲン化炭化水素置換）−５−ヘテロ環メチル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール誘導体が優れた活性を有することを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で示されるアゾール誘導体を提供する。
【００１０】
【化１】
2012250961.tif 000002
（式（Ｉ）中、Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示す。
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ｘは、ハロゲン原子を示す。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【００１１】
このアゾール誘導体は、上記の構成を有することにより、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有するという効果を奏する。従って、このアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤または工業用材料保護剤は、広汎な植物病害に対して高い防除効果を発揮することができる効果を奏する。
【００１２】
本発明に係るアゾール誘導体は、上記一般式（Ｉ）中、ＲａがＣ１〜Ｃ３のアルキレン基、特に好ましくはメチレン基であり、Ｘが塩素原子または臭素原子であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明に係るアゾール誘導体は、上記一般式（Ｉ）中、Ｒｃが、ハロゲン原子により置換された５〜６員のヘテロ環基であることが好ましく、ハロゲン原子により置換されたピリジル基、チエニル基またはチアゾリル基であることが特に好ましい。ハロゲン原子は、塩素原子または臭素原子であることが好ましい。
【００１４】
また、本発明は、上記アゾール誘導体の製造に用いられる中間体化合物であって、下記一般式（ＩＩ）で示される中間体化合物を提供する。
【００１５】
【化２】
2012250961.tif 000003
（式（ＩＩ）中、Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示し、
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【００１６】
さらに、本発明は、上記アゾール誘導体の製造方法であって、下記一般式（ＩＩ）で示すアゾール化合物における環構造を、ハロゲン酸を用いて開環する工程を含むことを特徴とするアゾール誘導体の製造方法をも提供する。
【００１７】
【化３】
2012250961.tif 000004
（式（ＩＩ）中、Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示し、
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５〜６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
Ａは、窒素原子またはメチン基を示す。）
【００１８】
この製造方法は、さらに、下記一般式（ＩＩＩ）で示す化合物と、シアン化物塩とを反応させて下記式（ＩＶ）で示す中間体化合物を得る工程と、当該中間体化合物におけるシアノ基をメチレンを含む官能基に変換した誘導体化合物に、下記一般式（Ｖ）で示す化合物を付加させて上記式（ＩＩ）で示すアゾール化合物を得る工程と、を含む。
【００１９】
【化４】
2012250961.tif 000005
【００２０】
【化５】
2012250961.tif 000006
【００２１】
【化６】
2012250961.tif 000007
（式（ＩＩＩ）および式（ＩＶ）中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、上記式（ＩＩ）と同一である。Ｘ２は、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を示す。
式（Ｖ）中、Ａは上記式（ＩＩ）と同一であり、Ｍはアルカリ金属を示す。）
【００２２】
本明細書では、各一般式において同一の置換基、官能基または原子を規定している符号は同一の記号を付し、その記号で示される置換等の詳細は重複して説明しない。例えば、一般式（Ｉ）において示されるＲａと、一般式（Ｉａ）において示されているＲａは同一の置換基、官能基または原子を示している。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係るアゾール誘導体は、植物に病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を有する。従って、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤は、広汎な植物病害に対して高い防除効果を発揮する。また、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する農園芸用薬剤は、種々の農作物や園芸植物の成長を調節して収量を増加させると共に、その品質を高める効果も併せて奏する。
【００２４】
さらに、本発明に係るアゾール誘導体を有効成分として含有する工業用材料保護剤によれば、工業用材料を侵す広範な有害微生物からより一層効果的に工業用材料を保護できる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための好適な形態について説明する。以下に説明する実施形態は、本発明の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本発明の範囲が狭く解釈されることはない。なお、説明は以下の順序で行う。
１．アゾール誘導体
（１）化合物（Ｉ）
（２）Ｒａ・Ｒｂ
（３）Ｘ
（４）Ｒｃ
（５）Ａ
（６）立体異性体
（７）具体例
２．アゾール誘導体の製造方法
（１）工程１：ヒドロキシアルキル化
（２）工程２：脱離基への変換
（３）工程３：加水分解および脱炭酸
（４）工程４：オキセタン閉環
（５）工程５：イミデート化
（６）工程６：エステル化
（７）工程７：還元反応
（８）工程８：脱離基への変換
（９）工程９：アゾール付加
（１０）工程１０：オキセタン開環
３．農園芸用薬剤
（１）植物病害防除効果
（２）植物生長作用
（３）工業材料保護効果
（４）製剤
【００２６】
１．アゾール誘導体
（１）化合物（Ｉ）
本発明に係るアゾール誘導体（以下、化合物（Ｉ）と称する）は、下記一般式（Ｉ）で示される。化合物（Ｉ）は、シクロペンタン環の２位に結合するハロゲン置換した炭化水素置換基と、５位に結合するヘテロ環メチル基とを有する。すなわち、化合物（Ｉ）は、２−（ハロゲン化炭化水素置換）−５−ヘテロ環メチル−１−アゾリルメチルシクロペンタノール誘導体とも表記することができる。
【００２７】
【化７】
2012250961.tif 000008
【００２８】
以下、化合物（Ｉ）中の各記号（Ｒａ、Ｒｂ、Ｘ、Ｒｃ、Ａ）の定義内容とその具体例について説明する。
【００２９】
（２）Ｒａ・Ｒｂ
Ｒａは、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基またはＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒａは、Ｃ１〜Ｃ３のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることが特に好ましい。
【００３０】
Ｃ１〜Ｃ６のアルキレン基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基およびＣ２〜Ｃ６のアルキニレン基の具体例としては以下が挙げられる。
【００３１】
Ｃ１〜Ｃ６のアルキレン基：メチレン基、エチレン基、１−メチルエチレン基、ｎ−プロピレン基、１−メチルプロピレン基、２−メチルプロピレン基、ｎ−ブチレン基、１−メチルブチレン基、２−メチルブチレン基、１−エチルプロピレン基、１，１−ジメチルエチレン基など。このうち、Ｃ１〜Ｃ４のアルキレン基が好ましく、Ｃ１〜Ｃ３のアルキレン基が特に好ましい。
【００３２】
Ｃ２〜Ｃ６のアルケニレン基：エテニレン基、１−メチルエテニレン基、３−メチル−１，３−ブタジエニレン基、１−プロペニレン基、２−プロペニレン基、２−メチル−２−プロペニレン基、２−ブテニレン基、３−ブテニレン基、３−メチル−３−ブテニレン基など。このうち、Ｃ２〜Ｃ４のアルケニレン基が好ましい。
【００３３】
Ｃ２〜Ｃ６のアルキニレン基：エチニレン基、１−プロピニレン基、２−プロピニレン基、１−ブチニレン基、２−ブチニレン基など。このうち、Ｃ２〜Ｃ４のアルキニレン基が好ましい。
【００３４】
Ｒｂは、水素原子、または置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基もしくはＣ２〜Ｃ６のアルキニル基を示す。
【００３５】
Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基：メチル基、エチル基、１−メチルエチル基、ｎ−プロピル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルエチル基など。このうち、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基が好ましく、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基が特に好ましい。
【００３６】
Ｃ２〜Ｃ６のアルケニル基：エテニル基、１−メチルエテニル基、、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、３−メチル−３−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基など。このうち、Ｃ２〜Ｃ４アルケニル基が好ましい。
【００３７】
Ｃ２〜Ｃ６のアルキニル基：エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基など。このうち、Ｃ２〜Ｃ４アルキニル基が好ましい。
【００３８】
（３）Ｘ
Ｘは、ハロゲン原子を示す。ハロゲン原子としては、塩素原子および臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。このうち、塩素原子あるいは臭素原子が好ましい。
【００３９】
（４）Ｒｃ
Ｒｃは、硫黄原子、窒素原子または酸素原子を少なくとも一つ含む、５員または６員のヘテロ環基または８〜１０員の縮合ヘテロ環基を示す。該ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。
【００４０】
５員または６員のヘテロ環基としては、フリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピロリニル基、ピロリジニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、イミダゾリニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリル基、ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基等の５員ヘテロ環基、ピラニル基、ピリジル基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、オキサジニル基、モルホリニル基、チアジニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニル基等の６員ヘテロ環基が挙げられる。このうち、チエニル基、チアゾリル基、ピリジル基が好ましい。
【００４１】
８〜１０員の縮合ヘテロ環基は、上述した５員または６員のヘテロ環基が縮合した縮合へテロ環基である。すなわち、縮合ヘテロ環基としては、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、ジヒドロイソベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、イソベンゾチエニル基、ジヒドロベンゾチエニル基、ジヒドロイソベンゾチエニル基、テトラヒドロベンゾチエニル基、インドリル基、イソインドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、インダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾジオキソラニル基、ベンゾジオキサニル基、クロメニル基、クロマニル基、イソクロマニルクロモニル基、クロマノニル基、キノリル基、イソキノリル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、インドリジニル基、キノリジニル基、イミダゾピリジル基、ナフチリジニル基、プテリジニル基、ジヒドロベンゾオキサジニル基、ジヒドロベンゾオキサゾリノニル基、ジヒドロベンゾオキサジノニル基、ベンゾチオキサニル基等が挙げられる。
【００４２】
特に好適な５員または６員のヘテロ環基の具体的な構造式を以下に示す。式中、ドットは、シクロペンタン環５位に結合する炭素原子を表す。また、Ｘは、ハロゲン原子を示す。
【００４３】
【化８】
2012250961.tif 000009
【００４４】
【化９】
2012250961.tif 000010
【００４５】
【化１０】
2012250961.tif 000011
【００４６】
ヘテロ環基および該縮合ヘテロ環基が有する置換基としては、塩素原子および臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。このうち、塩素原子あるいは臭素原子が好ましい。置換基の数は、特に限定されないが、１または２が好ましい。置換数が２以上の場合、置換基は同一であっても異なっていてもよい。なお、置換基の位置は、特に限定されない。
【００４７】
（５）Ａ
Ａとしては、窒素原子またはメチン基を挙げることができる。より好ましくは、Ａは窒素原子である。
【００４８】
（６）立体異性体
化合物（Ｉ）には、下記一般式（Ｉ−Ｃ）、（Ｉ−Ｔ）で示す立体異性体（Ｃ型およびＴ型）が存在する。化合物（Ｉ）は、いずれかの異性体単体でもよく、混合物でもよい。なお、下記一般式では、１位の水酸基と５位のヘテロ環メチル基がシス型であるものの相対立体配置を（Ｉ−Ｃ）とし、トランス型であるものの相対立体配置を（Ｉ−Ｔ）としている。
【００４９】
【化１１】
2012250961.tif 000012
【００５０】
（７）具体例
化合物（Ｉ）の具体例として以下の構造式で示される化合物が例示される。
【００５１】
【化１２】
2012250961.tif 000013
【００５２】
２．アゾール誘導体の製造方法
次に、化合物（Ｉ）の製造方法について、以下の式（Ｉａ）で示される化合物を例に挙げて具体的に説明する。すなわち、化合物（Ｉ）のうち、Ｒａがメチレン基である場合を例に挙げて説明する。なお、Ｒａがメチレン基以外（すなわち、炭素数が２〜６のアルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基）の場合であっても同様の方法により化合物（Ｉ）を製造することができる。
【００５３】
【化１３】
2012250961.tif 000014
【００５４】
式（Ｉａ）中、Ｘ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ａは、上述の通りである。
【００５５】
（１）工程１：ヒドロキシアルキル化
まず、式（１）で示される化合物（以下、化合物（１）と称する）をヒドロキシアルキル化（反応式中ではヒドロキシメチル化）することにより、式（２）で示される化合物（以下、化合物（２）という）を得る（下記反応式（１）参照）。
【００５６】
反応式（１）
【化１４】
2012250961.tif 000015
【００５７】
化合物（１）および化合物（２）におけるＲｂおよびＲｃは、上述した通りである。
【００５８】
ヒドロキシアルキル化は、溶媒中、塩基存在下で、化合物（１）をヒドロキシアルキルハライドと反応させることで得ることができる。導入するアルキル基の炭素数は、最終的に得たい化合物（Ｉ）におけるＲａの炭素数に応じて決定すればよい。また、化合物（Ｉ）におけるＲａがアルケニレン基もしくはアルキニレン基である場合には、炭素数に応じたヒドロキシアルケニルハライドまたはヒドロキシアルキニルハライドを用いればよい。
【００５９】
反応式（１）では、式（Ｉａ）で示す化合物を得るために、化合物（１）をヒドロキシメチル化した場合を例に挙げて示している。ヒドロキシメチル化の場合、ヒドロキシアルキルハライドの代わりにホルムアルデヒドまたはホルムアルデヒド誘導体（以下、ホルムアルデヒド等という）を用いることが好ましい。
【００６０】
ホルムアルデヒド誘導体としては、パラホルムアルデヒド、１，３，５−トリオキサンおよびホルムアルデヒドジアルキルアセタールなどが用いられる。化合物（１）に対するホルムアルデヒド等の量は、０．５倍モル〜２０倍モルであり、好ましくは０．８倍モル〜１０倍モルである。
【００６１】
塩基としては、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素塩などが用いられる。化合物（１）に対する塩基の量は、０．１倍モル〜１０倍モルであり、好ましくは０．２倍モル〜５倍モルである。
【００６２】
溶媒は、特に限定されないが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類や、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類などが用いられる。反応系に相間移動触媒を使用することが好ましい。相間移動触媒としては、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドなどの慣用の第４アンモニウム塩を用いることができる。
【００６３】
反応温度は、０℃〜２５０℃であり、好ましくは０℃〜１００℃であり、さらに好ましくは室温〜４０℃である。反応時間は、０．１時間〜数日であり、好ましくは０．５時間〜２日であり、さらに好ましくは１時間〜２４時間である。
【００６４】
なお、ここで使用される化合物（１）は、公知の方法（例えば、特許文献１記載の方法）を用いて製造すればよい。
【００６５】
（２）工程２：脱離基への変換
次に、化合物（２）のヒドロキシ基を脱離基に変換することにより、式（３）で示される化合物（以下、化合物（３）という）を得る（下記反応式（２）参照）。
【００６６】
反応式（２）
【化１５】
2012250961.tif 000016
【００６７】
化合物（３）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（２）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【００６８】
化合物（３）におけるＸ１は、好適には、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基である。
【００６９】
化合物（２）のヒドロキシ基を脱離基（Ｘ１）に変換する方法としては、過剰量の塩基の存在下、溶媒中で、化合物（２）をスルホニルクロライド類と反応させる方法、あるいは化合物（２）をハロゲン化チオニル類と反応させる方法を挙げることができる。
【００７０】
スルホニルクロライド類としては、メタンスルホニルクロライド、プロパンスルホニルクロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、クロロベンゼンスルホニルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルクロライド、ナフタレンスルホニルクロライド、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルクロライドおよびジメチルアミノナフチルスルホニルクロライドなどが用いられる。このうち、ｐ−トルエンスルホニルクロライドおよびメタンスルホニルクロライドが好適に用いられる。
【００７１】
化合物（２）をスルホニルクロライド類と反応させる方法において、スルホニルクロライド類としてｐ−トルエンスルホニルクロライドを用いる場合には、Ｎ−メチルイミダゾールおよびジメチルアミノピリジンなどの触媒の存在下で反応を行うことが好ましい。
【００７２】
塩基としては、特に限定されないが、例えば、トリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンなどの脂肪族アミン類、水素化ナトリウム等の無機塩基、ピリジン等の芳香族有機塩基などが用いられる。このうち、トリメチルアミンが好適に用いられる。
【００７３】
スルホニルクロライド類の量は、化合物（２）に対して、０．８倍モル〜１０倍モルであり、好ましくは０．９倍モル〜５倍モルである。塩基の量は、化合物（２）に対して、０．９倍モル〜２０倍モルであり、好ましくは１倍モル〜１０倍モルである。
【００７４】
溶媒は、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、およびキシレン等の芳香族炭化水素類および塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類などが用いられる。このうち、トルエンが好適に用いられる。
【００７５】
ハロゲン化チオニル類としては、チオニルブロマイドおよびチオニルクロライドなどが用いられる。このうち、チオニルクロライドが好適に用いられる。
【００７６】
化合物（２）をスルホニルクロライド類と反応させる方法では、触媒およびさらなる溶媒は不要である。
【００７７】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、反応させるスルホニルクロライド類またはハロゲン化チオニル、および塩基の種類によって適宜設定できる。スルホニルクロライド類を用いて反応を行う場合、反応温度は、例えば、−２０℃〜１５０℃であり、好ましくは−１０℃〜４０℃である。一方、ハロゲン化チオニルを用いて反応を行う場合、反応温度は、−２０℃〜１５０℃であり、好ましくは８０℃〜１００℃である。また、反応時間は、スルホニルクロライド類を用いて反応を行う場合には、０．１時間〜２４時間であり、好ましくは０．５時間〜５時間である。一方、ハロゲン化チオニルを用いて反応を行う場合には、０．５時間〜２４時間であり、好ましくは２．５時間〜３時間である。
【００７８】
（３）工程３：加水分解および脱炭酸
続いて、化合物（３）のメトキシカルボニル基を水素により置換することにより、式（４）で示される化合物（以下、化合物（４）という）を得る（下記反応式（３）参照）。
【００７９】
反応式（３）
【化１６】
2012250961.tif 000017
【００８０】
化合物（４）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（３）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【００８１】
化合物（４）におけるＸ２は、基本的には、上述のＸ１と同一である。すなわち、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基であることが好ましい。ただし、Ｘ２は上述のＸ１と異なっていてもよい。
【００８２】
メトキシカルボニル基を水素により置換する方法としては、酸触媒により化合物（３）のメトキシカルボニル基を加水分解するとともに脱炭酸する方法を挙げることができる。
【００８３】
酸触媒としては、臭化水素、塩化水素、メタンスルホン酸およびｐ−トルエンスルホン酸等の置換スルホン酸、硫酸などが用いられる。また、酸触媒とＸ１の組合せにより、化合物（３）の一部が置換されることがある。例えば、化合物（３）のＸ１がメタンスルホニルオキシ基であり酸触媒に臭化水素を用いた場合には、化合物（３）においてＸ１の一部が臭素に置換される。
【００８４】
溶媒としては、水および酢酸が好適に用いられる。
【００８５】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、酸触媒の種類によって適宜設定できる。例えば、反応温度（還流温度）は、０℃〜１５０℃であり、好ましくは８０℃〜１３０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜４８時間であり、好ましくは１時間〜２４時間である。
【００８６】
（４）工程４：オキセタン閉環
化合物（４）をシアン化物塩と反応させてオキセタン化することにより、式（５）で示されるオキセタン化合物（以下、化合物（５）という）を得る（下記反応式（４）参照）。
【００８７】
反応式（４）
【化１７】
2012250961.tif 000018
【００８８】
化合物（５）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（４）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【００８９】
シアン化塩としては、シアン化ナトリウムおよびシアン化カリウム等のアルカリ金属シアン化物、シアン化カルシウムならびにシアン化テトラブチルアンモニウムなどが用いられる。このうち、シアン化ナトリウムを用いることが好ましい。
【００９０】
シアン化物塩の量は、化合物（４）に対して、０．８倍モル〜２０倍モルであり、好ましくは１倍モル〜５倍モルである。
【００９１】
溶媒は、ベンゼン、トルエン、およびキシレン等の芳香族炭化水素類、ジメトキシエタンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド、これらの混合溶媒などを用いることができる。
【００９２】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、およびシアン化物塩の種類によって適宜設定できる。反応温度は、−１０℃〜１５０℃であり、好ましくは室温〜７０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜３０日であり、好ましくは１時間〜１１日である。化合物（４）におけるＸ２が臭素原子である場合には、反応時間は相対的に短くて済み、例えば１時間〜２４時間である。一方、化合物（４）におけるＸ２が塩素原子である場合には、相対的に長い反応時間を要し、例えば４８時間〜１４日である。化合物（４）におけるＸ２がトルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基等の置換スルホニルオキシ基である場合には、反応時間は、例えば１時間〜７日である。
【００９３】
本工程における反応では、溶媒に、触媒を添加してもよく、好適には水が添加される。触媒としては、ヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、トリエチルアミン、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムおよび１，８−ジアザビシクロ−７−［５，４，０］ウンデセンなどが用いられる。
【００９４】
（５）工程５：イミデート化
次に、化合物（５）をアルコキシドと反応させることにより、式（６）で示されるイミデート化合物（以下、化合物（６）という）を得る（下記反応式（５）参照）。
【００９５】
反応式（５）
【化１８】
2012250961.tif 000019
【００９６】
化合物（６）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（５）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【００９７】
化合物（６）におけるＲ１は、メチル基およびエチル基が好適に用いられる。
【００９８】
アルコキシドとしては、炭素数１〜６の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシドであり、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシドが挙げられる。このうち、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシドが好適に用いられる。
【００９９】
アルコキシドの量は、化合物（５）に対して、０．８倍モル〜１００倍モルであり、好ましくは１倍モル〜５０倍モルである。
【０１００】
溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよびブタノール等のアルコール類を用いることができる。特に、アルコキシドにおける炭化水素の構造と同一の炭化水素の構造を有するアルコールを用いることが好ましい。例えば、アルコキシドとしてナトリウムメトキシドを用いる場合には、溶媒としてメタノールを用いることが好ましい。また、例えば、アルコキシドとしてナトリウムエトキシドを用いる場合には、溶媒としてエタノールを用いることが好ましい。
【０１０１】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、およびアルコキシドの種類によって適宜設定できる。反応温度は、−３０℃〜１５０℃であり、好ましくは室温〜７０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜１０日であり、好ましくは１５時間〜９０時間である。
【０１０２】
（６）工程６：エステル化
続いて、化合物（６）を酸触媒と反応させることにより、式（７）で示されるエステル化合物（以下、化合物（７）という）を得る（下記反応式（６）参照）。
【０１０３】
反応式（６）
【化１９】
2012250961.tif 000020
【０１０４】
化合物（７）におけるＲｂ、ＲｃおよびＲ１は、化合物（６）におけるＲｂ、ＲｃおよびＲ１と同一である。
【０１０５】
化合物（６）をエステル化する反応としては、溶媒中、酸触媒との反応により酸が付加された化合物（６）からアンモニアが引き抜かれる反応を挙げることができる。
【０１０６】
酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素等のハロゲン酸や、硫酸、ギ酸、酢酸、酪酸、トリフルオロ酢酸およびｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸などを用いることができる。このうち、硫酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸および酢酸が好適に用いられる。
【０１０７】
酸触媒の量は、化合物（６）に対して、０．１倍モル〜１０倍モルであり、好ましくは０．５倍モル〜５倍モルである。
【０１０８】
溶媒としては、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルおよびジメトキシエタン等のエーテル類、メタノール、エタノールおよびイソプロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素類などが用いられる。このうち、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、トルエンおよびメタノールが好適に用いられる。
【０１０９】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、および酸触媒の種類によって適宜設定できる。反応温度は、−２０℃〜１５０℃であり、好ましくは室温〜８０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜１０日であり、好ましくは１時間〜９０時間である。
【０１１０】
（７）工程７：還元反応
化合物（７）を還元することにより、式（８）で示される化合物（以下、化合物（８）という）を得る（下記反応式（７）参照）。
【０１１１】
反応式（７）
【化２０】
2012250961.tif 000021
【０１１２】
化合物（８）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（７）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【０１１３】
化合物（７）を還元するための還元剤としては、ヒドリド型還元剤を用いることができる。ヒドリド型還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウムおよび水素化リチウムアルミニウムなどを挙げることができる。このうち、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化ホウ素カルシウムが好適に用いられる。また、還元剤は必要に応じて系内で調製してもよい。
【０１１４】
還元剤の量は、化合物（７）に対して、０．２倍モル〜５０倍モルであり、好ましくは０．５倍モル〜２０倍モルである。
【０１１５】
溶媒としては、メタノール、エタノールおよびイソプロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類などを挙げることができる。このうち、メタノール、エタノールおよびテトラヒドロフランが好適に用いられる。
【０１１６】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、還元剤の種類、添加物の有無によって適宜設定できる。例えば、水素化ホウ素カルシウムを用いる場合の反応温度（還流温度）は、−３０℃〜７０℃であり、好ましくは−２０℃〜５０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜２４時間であり、好ましくは１時間〜８時間である。
【０１１７】
（８）工程８：脱離基への変換
次に、化合物（８）のヒドロキシ基を脱離基に変換することにより、式（９）で示される化合物（以下、化合物（９）という）を得る（下記反応式（８）参照）。
【０１１８】
反応式（８）
【化２１】
2012250961.tif 000022
【０１１９】
化合物（９）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（８）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。
【０１２０】
化合物（９）におけるＸ３は、脱離基であれば特に制限されないが、例えば、フッ素原子、塩素原子および臭素原子等のハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、プロパンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、クロロベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、ナフタレンスルホニルオキシ基、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルオキシ基およびジメチルアミノナフチルスルホニルオキシ基等の置換スルホニルオキシ基などを挙げることができる。このうち、塩素原子、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基が好適に用いられ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基が特に好適に用いられる。
【０１２１】
ヒドロキシ基を脱離基に変換する方法としては、過剰量の塩基の存在下、溶媒中で、化合物（８）をスルホニルクロライド類と反応させる方法、あるいは化合物（８）をハロゲン化チオニル類と反応させる方法を挙げることができる。このうち、前者の方法がより好ましい。
【０１２２】
本工程において使用可能なスルホニルクロライド類およびハロゲン化チオニル類は、上記工程２において使用可能なスルホニルクロライド類およびハロゲン化チオニル類と同じである。
【０１２３】
同様に、本工程において使用可能な塩基および溶媒は、上記工程２において使用可能な塩基および溶媒と同一である。ハロゲン化チオニル類と反応させて、ヒドロキシ基をハロゲン化する場合には、さらなる溶媒は不要である。
【０１２４】
スルホニルクロライド類としてｐ−トルエンスルホニルクロライドを用いる場合には、Ｎ−メチルイミダゾールおよびジメチルアミノピリジンなどの触媒の存在下で反応を行うことが好ましい。
【０１２５】
スルホニルクロライド類の量は、化合物（８）に対して、０．８倍モル〜１０倍モルであり、好ましくは０．９倍モル〜５倍モルである。塩基の量は、化合物（８）に対して、０．９倍モル〜１２倍モルであり、好ましくは１倍モル〜６倍モルである。
【０１２６】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、反応させるスルホニルクロライド類またはハロゲン化チオニル、および塩基の種類によって適宜設定できる。例えばスルホニルクロライド類を用いて反応を行う場合、反応温度は、−２０℃〜１５０℃であり、好ましくは０℃〜４０℃である。また、反応時間は、０．１時間〜２４時間であり、好ましくは０．５時間〜５時間である。
【０１２７】
（９）工程９：アゾール付加
続いて、化合物（９）を、塩基の存在下、溶媒中で、トリアゾール化合物またはイミダゾール化合物と反応させることにより、式（１０）で示される化合物（以下、化合物（１０）という）を得る（下記反応式（９）参照）。
【０１２８】
反応式（９）
【化２２】
2012250961.tif 000023
【０１２９】
化合物（１０）におけるＲｂおよびＲｃは、化合物（９）におけるＲｂおよびＲｃと同一である。Ａは、上述の通りである。
【０１３０】
イミダゾール化合物およびトリアゾール化合物としては、下記式（Ｖ）で示される１，２，４−トリアゾールの金属塩またはイミダゾールの金属塩が挙げられる。
【０１３１】
【化２３】
2012250961.tif 000024
【０１３２】
式（Ｖ）中、Ｍは金属を示す。Ｍとしては、アルカリ金属が好適に用いられ、ナトリウムおよびカリウムが好適に用いられる。
【０１３３】
塩基としては、特に制限されないが、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウム、水素化カリウムおよび水素化リチウム等の金属水素化合物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシドなどを挙げることができる。このうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウムおよびｔ−ブトキシカリウムが好適に用いられ、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが特に好適に用いられる。また、この塩基については予めアゾール化合物と処理して塩を形成するのに用いても、系内に共存させて用いてもよい。
【０１３４】
溶媒は、特に限定されないが、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類などを挙げることができる。このうち、ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリドンが好適に用いられる。
【０１３５】
イミダゾール化合物およびトリアゾール化合物の量は、化合物（９）に対して、０．８倍モル〜２０倍モルであり、好ましくは１倍モル〜５倍モルである。
【０１３６】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒、および塩基によって適宜設定できる。反応温度は、０℃〜１５０℃であり、好ましくは１００℃〜１３０℃である。また、反応時間は、０．５時間〜４８時間であり、好ましくは２時間〜１２時間である。
【０１３７】
（１０）工程１０：オキセタン開環
最後に、化合物（１０）が有するオキセタン環を開環することにより、式（Ｉａ）で示されるシクロペンタノール化合物（化合物（Ｉａ））を得る（下記反応式（１０）参照）。
【０１３８】
反応式（１０）
【化２４】
2012250961.tif 000025
【０１３９】
化合物（Ｉａ）におけるＲｂ、Ｒｃ、ＸおよびＡは、上述の通りである。
【０１４０】
化合物（１０）が有するオキセタン環を開環する方法としては、化合物（１０）とハロゲン酸とを溶媒中で混合し、ハロゲン化メチル基と３級ヒドロキシ基とを生成する方法が好適に用いられる。オキセタンにハロゲン酸が付加する場合、１位が３級ヒドロキシ基となり、２位がハロゲン化メチル基となる。
【０１４１】
ハロゲン酸としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素を挙げることができ、塩化水素および臭化水素が好適に用いられる。ハロゲン酸は、気体として導入してもよいし、有機溶媒に溶解させて添加してもよい。なお、ハロゲン化物塩（例えば、塩化リチウム）と別種の酸（例えばトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸および硫酸などのブレンステッド酸もしくは塩化アルミニウムなどのルイス酸）とを添加することにより、系内にハロゲン酸を生成させて化合物（１０）から化合物（Ｉａ）を得るようにしてもよい。
【０１４２】
溶媒は、特に限定されないが、例えば、Ｎ−メチルピロリドンおよびジメチルホルムアミド等のアミド類、メタノールおよびエタノール等のアルコール類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、水などが用いらえる。このうち、ジメチルホルムアミド、メタノール、水およびジオキサンが好適に用いられる。
【０１４３】
ハロゲン酸の量は、化合物（１０）に対して、０．５倍モル〜５０倍モルであり、好ましくは１倍モル〜２０倍モルである。
【０１４４】
反応温度および反応時間は、用いられる溶媒によって適宜設定できる。反応温度は、−２０℃〜２５０℃であり、好ましくは−１０℃〜１５０℃であり、さらに好ましくは５０℃〜８０℃である。反応時間は、０．１時間〜数日であり、好ましくは１時間〜４８時間である。
【０１４５】
（付記事項）
上述した製造方法では、化合物（Ｉ）に存在するジアステレオマーのうち、シクロペンタン環における１位の炭素原子に結合するヒドロキシル基と２位の炭素原子に結合するＲa−Ｘ基との立体配置がシス体であるもの（１，２−シス体）を最も多く得ることができる。さらに、上述した製造方法では、１，２−シス体の化合物（Ｉ）に存在するジアステレオマーのうち、当該ヒドロキシル基と５位の炭素に結合するヘテロ環メチル基との立体配置もシス体であるもの（１，５−シス体）をより多く得ることができる。１，５−シス体と１，５−トランス体との比率は約９：１となる。
【０１４６】
なお、上述した製造方法は、シクロペンタン環における５位の炭素原子に結合する官能基がヘテロ環メチル基であるものに限定されるものではなく、ヘテロ環メチル基の代わりにベンジル基であってもよい。この場合、ベンジル基における芳香環の水素原子はハロゲン原子に置換されていてもよい。
【０１４７】
また、上述した製造方法の各工程において、溶媒および塩基、酸等としては、特に言及していない限り、次のものを用いることができる。
【０１４８】
［溶媒］
使用される溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、通常、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、石油エーテル、ヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類等を挙げることができる。この他、溶媒としては、水、アセトニトリル、酢酸エチル、無水酢酸、酢酸、ピリジン、ジメチルスルホキシド等も使用可能である。これらの溶媒は、２種類以上を混合して使用してもよい。
【０１４９】
また、溶媒としては、互いに均一な層を形成することのない溶媒からなる溶媒組成物も挙げられる。この場合には、反応系に相間移動触媒、例えば慣用の第４アンモニウム塩またはクラウンエーテルを添加してもよい。
【０１５０】
［塩基・酸］
上述の溶媒には、塩基または酸を添加してもよい。
【０１５１】
用いられる塩基は、特に限定されない。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド；水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチウム等のアルカリ金属水素化合物、ｎ−ブチルリチウム等のアルカリ金属の有機金属化合物；ナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属類；リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類；トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ−７−［５．４．０］ウンデセン等の有機アミン類等を挙げることができる。
【０１５２】
また、用いられる酸は、特に限定されない。酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、酪酸、トリフルオロ酢酸、ｐ-トルエンスルホン酸等の有機酸、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化ロジウム、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス酸を挙げることができる。
【０１５３】
ここで、本明細書等において「室温」とは、１０℃〜３０℃の範囲内の温度であることを意味している。
【０１５４】
３．農園芸用薬剤
本発明に係る農園芸用薬剤に有効成分として配合される化合物（Ｉ）は、広汎な植物病害に対して防除効果を呈する。
【０１５５】
化合物（Ｉ）は、１，２，４−トリアゾリル基またはイミダゾリル基を有するので、無機酸もしくは有機酸との酸付加塩、または金属錯体を形成する。化合物（Ｉ）は、これらの酸付加塩および金属錯体の形態で用いてもよい。
【０１５６】
また、化合物（Ｉ）には、少なくとも３個の不斉炭素が存在する。そのため、組成によっては立体異性体混合物（エナンチオマーまたはジアステレオマー）か、いずれかの一方の立体異性体となる。従って、これらの立体異性体の少なくとも１種類を農園芸用薬剤等の有効成分として使用することもできる。
【０１５７】
（１）植物病害防除効果
有効成分として化合物（Ｉ）を含有する本発明に係る農園芸用薬剤の適用病害の例として以下が挙げられる。
【０１５８】
ダイズさび病（Phakopsora pachyrhizi、Phakopsora meibomiae）、イネいもち病 (Pyricularia grisea)、イネごま葉枯病 (Cochliobolus miyabeanus)、イネ白葉枯病 (Xanthomonas oryzae)、イネ紋枯病 (Rhizoctonia solani)、イネ小黒菌核病 (Helminthosporium sigmoideun)、イネばか苗病 (Gibberella fujikuroi)、イネ苗立枯病 (Pythium aphanidermatum)、リンゴうどんこ病 (Podosphaera leucotricha)、リンゴ黒星病 (Venturia inaequalis)、リンゴモリニア病 (Monilinia mali)、リンゴ斑点落葉病 (Alternaria alternata)、リンゴ腐乱病 (Valsa mali)、ナシ黒斑病 (Alternaria kikuchiana)、ナシうどんこ病 (Phyllactinia pyri)、ナシ赤星病 (Gymnosporangium asiaticum)、ナシ黒星病 (Venturia nashicola)、ブドウうどんこ病 (Uncinula necator)、ブドウべと病 (Plasmopara viticola)、ブドウ晩腐病 (Glomerella cingulata)、オオムギうどんこ病 (Erysiphe graminis f. sp hordei)、オオムギ黒さび病 (Puccinia graminis)、オオムギ黄さび病 (Puccinia striiformis)、オオムギ斑葉病 (Pyrenophora graminea)、オオムギ雲形病 (Rhynchosporium secalis)、コムギうどんこ病 (Erysiphe graminis f. sp tritici)、コムギ赤さび病 (Puccinia recondita)、コムギ黄さび病 (Puccinia striiformis)、コムギ眼紋病 (Pseudocercosporella herpotrichoides)、コムギ赤かび病  (Fusarium graminearum、Microdochium nivale)、コムギふ枯病 (Phaeosphaeria nodorum)、コムギ葉枯病 (Septoria tritici)、ウリ類うどんこ病 (Sphaerotheca fuliginea)、ウリ類の炭疸病 (Colletotrichum lagenarium)、キュウリべと病 (Pseudoperonospora cubensis)、キュウリ灰色疫病 (Phytophthora capsici)、トマトうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、トマト輪紋病 (Alternaria solani)、ナスうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、イチゴうどんこ病 (Sphaerotheca humuli)、タバコうどんこ病 (Erysiphe cichoracearum)、テンサイ褐斑病 (Cercospora beticola)、トウモロコシ黒穂病 (Ustillaga maydis)、核果類果樹の灰星病 (Monilinia fructicola)、種々の作物をおかす灰色かび病 (Botrytis cinerea)、菌核病 (Sclerotinia sclerotiorum) 等。
【０１５９】
また、適用植物の例としては、野生植物、植物栽培品種、異種交配もしくは原形質融合などの従来の生物育種によって得られる植物および植物栽培品種、遺伝子操作によって得られる遺伝子組み換え植物および植物栽培品種を挙げることができる。遺伝子組み換え植物および植物栽培品種としては、例えば、除草剤耐性作物、殺虫性タンパク産生遺伝子を組み込んだ害虫耐性作物、病害に対する抵抗性誘導物質産生遺伝子を組み込んだ病害耐性作物、食味向上作物、収量向上作物、保存性向上作物、収量向上作物等を挙げることができる。遺伝子組み換え植物栽培品種としては、具体的に、ROUNDUP READY、LIBERTY LINK、CLEARFIELD、YIELDGARD、HERCULEX、BOLLGARD等の登録商標を含むものを挙げることができる。
【０１６０】
（２）植物生長作用
また、化合物（Ｉ）は、広汎な作物および園芸植物に対して、成長を調節して収量を増加させる効果および品質を高める効果を示す。作物等の例としては、以下を挙げることができる。
【０１６１】
コムギ・大麦・燕麦などの麦類、稲、ナタネ、サトウキビ、トウモロコシ、メイズ、大豆、エンドウ、落花生、シュガービート、キャベツ、ニンニク、ダイコン、ニンジン、リンゴ、ナシ、みかん、オレンジ、レモンなどの柑橘類、モモ、桜桃、アボガド、マンゴー、パパイヤ、トウガラシ、キュウリ、メロン、イチゴ、タバコ、トマト、ナス、芝、菊、ツツジ、その他の観賞用植物。
【０１６２】
（３）工業材料保護効果
さらに、化合物（Ｉ）は、工業材料を侵す広汎な有害微生物から材料を保護する優れた効果を示す。微生物の例としては、以下を挙げることができる。
【０１６３】
紙・パルプ劣化微生物（スライム形成菌を含む）であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ジェオトリカム（Geotrichum sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、カドホーラ（Cadophora sp.）、セラトストメラ（Ceratostomella sp.）、クラドスボリウム（Cladosporium sp.）、コーティシウム（Corticium sp.）、レンティヌス（Lentinus sp.）、レンズィテス（Lenzites sp.）、フォーマ（Phoma sp.）、ポリスティクス（Polysticus sp.）、プルラリア（Pullularia sp.）、ステレウム（Stereum sp.）、トリコスポリウム（Trichosporium sp.）、アエロバクタ−（Aerobacter sp.）、バシルス（Bacillus sp.）、デスルホビブリオ（Desulfovibrio sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、フラボバクテリウム（Flavobacterium sp.）、ミクロコツカス（Micrococcus sp.）など、繊維劣化微生物であるアスペルギルスAspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、ミロテシウム（Myrothecium sp.）、クルブラリア（Curvularia sp.）、グリオマスティックス、（Gliomastix sp.）、メンノニエラ（Memnoniella sp.）、サルコポディウム（Sarcopodium sp.）、スタキボトリス（Stschybotrys sp.）、ステムフィリウム（Stemphylium sp.）、ジゴリンクス（Zygorhynchus sp.）、バシルス（bacillus sp.）、スタフィロコッカス（Staphylococcus sp.）など、木材変質菌であるオオウズラタゲ（Tyromyces palustris）、カワラタケ（Coriolus versicolor）、アスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、リゾプス（Rhizopus sp.）、オーレオバシディウム（Aureobasidium sp.）、グリオクラデイウム（Gliocladum sp.）、クラドスポリウム（Cladosporium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）など、皮革劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、クラドスポリウム(Cladosporium sp.）、ムコール（Mucor sp.）、パエシロミセス（Paecilomyces sp.）、ピロブス（Pilobus sp.）、プルラリア（Pullularia sp.）、トリコスポロン（Trichosporon sp.）、トリコテシウム（Tricothecium sp.）など、ゴム・プラスチック劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、リゾプス（Rhizopus sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、ケトミウム（Chaetomium sp.）、ミロテシウム（Myrothecium sp.）、ストレプトマイセス（Streptomyces sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、バシルス（Bacillus sp.）、ミクロコツカス（Micrococcus sp.）、セラチア（Serratia sp.）、マルガリノマイセス（Margarinomyces sp.）、モナスクス（Monascus sp.）など、塗料劣化微生物であるアスペルギルス（Aspergillus sp.）、ペニシリウム（Penicillium sp.）、クラドスポリウム（Cladosporium sp.）、オーレオバシディウム（Aureobasidium sp.）、グリオクラディウム（Gliocladium sp.）、ボトリオディプロディア（Botryodiplodia sp.）、マクロスポリウム（Macrosporium sp.）、モニリア（Monilia sp.）、フォーマ（Phoma sp.）、プルラリア（（Pullularia sp.）、スポロトリカム（Sporotrichum sp.）、トリコデルマ（Trichoderma sp.）、バシルス（（bacillus sp.）、プロテウス（Proteus sp.）、シュードモナス（Pseudomonas sp.）、セラチア（Serratia sp.）。
【０１６４】
（４）製剤
化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤は、化合物（Ｉ）以外にも種々の成分を含んでいてもよい。化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤は、固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤補助剤と混合することができる。化合物（Ｉ）を有効成分として含む農園芸用製剤の剤型としては、粉剤、水和剤、粒剤、乳剤などの種々の形態を挙げることができる。
【０１６５】
農園芸用製剤には、有効成分としての化合物（Ｉ）が、農園芸用製剤全量に対して、０．１〜９５重量％含まれていればよい。有効成分としての化合物（Ｉ）は、０．５〜９０重量％含まれていることが好ましく、２〜８０重量％含まれていることがより好ましい。
【０１６６】
製剤補助剤として使用する坦体、希釈剤、界面活性剤を例示すれば、まず、固体坦体としては、タルク、カオリン、ベンナイト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレーなどを挙げることができる。液体希釈剤としては、水、キシレン、トルエン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アルコールなどを挙げることができる。界面活性剤は、その効果により使い分ければよい。例えば、乳化剤の場合には、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートなどを用いればよく、分散剤の場合には、リグニンスルホン酸塩、ジブチルナフタリンスルホン酸塩などを用いればよく、湿潤剤の場合には、アルキルスルホン酸塩、アルキルフェニルスルホン酸塩などを用いればよい。
【０１６７】
製剤には、そのまま使用してもよいし、水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用してもよい。希釈して使用する時には、化合物（Ｉ）の濃度が０．００１〜１．０％の範囲となることが望ましい。
【０１６８】
また、化合物（Ｉ）の使用量は、畑、田、果樹園、温室などの農園芸地１ｈａあたり、２０〜５０００ｇ、より好ましくは５０〜２０００ｇである。これらの使用濃度および使用量は剤形、使用時期、使用方法、使用場所、対象作物等によっても異なるため、上記の範囲にこだわることなく増減することが可能である。
【０１６９】
さらに、化合物（Ｉ）は他の有効成分、例えば以下に例示するような殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤と組み合わせ、農園芸用薬剤としての性能を高めて使用することもできる。
【０１７０】
＜抗菌性物質＞
アシベンゾラル‐Ｓメチル、２−フェニルフェノール（ＯＰＰ）、アザコナゾール、アゾキシストロビン、アミスルブロム、ビキサフェン、ベナラキシル、ベノミル、ベンチアバリカルブ-イソプロピル、ビカルボネイト、ビフェニル、ビテルタノール、ブラストサイジン−Ｓ、ボラックス、ボルドー液、ボスカリド、ブロムコナゾール、ブロノポール、ブピリメート、セックブチラミン、カルシウムポリスルフィド、カプタフォル、キャプタン、カルベンダジム、カルボキシン、カルプロパミド、キノメチオネート、クロロネブ、クロロピクリン、クロロタロニル、クロゾリネート、シアゾファミド、シフルフェナミド、シモキサニル、シプロコナゾール、シプロジニル、ダゾメット、デバカルブ、ジクロフルアニド、ジクロシメット、ジクロメジン、ジクロラン、ジエトフェンカルブ、ジフェノコナゾール、ジフルメトリン、ジメトモルフ、ジメトキシストロビン、ジニコナゾール、ジノカップ、ジフェニルアミン、ジチアノン、ドデモルフ、ドジン、エディフェンフォス、エポキシコナゾール、エタポキサム、エトキシキン、エトリジアゾール、エネストロブリン、ファモキサドン、フェナミドン、フェナリモル、フェンブコナゾール、フェンフラム、フェンヘキサミド、フェノキサニル、フェンピクロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェンチン、フェルバム、フェリムゾン、フルアジナム、フルジオキソニル、フルモルフ、フルオロミド、フルオキサストロビン、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルスルファミド、フルトラニル、フルトリアフォル、フォルペット、フォセチル−アルミニウム、フベリダゾール、フララキシル、フラメトピル、フルオピコリド、フルオピラム、グアザチン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサコナゾール、ヒメキサゾール、イマザリル、イミベンコナゾール、イミノクタジン、イプコナゾール、イプロベンフォス、イプロジオン、イプロバリカルブ、イソプロチオラン、イソピラザム、イソチアニル、カスガマイシン、銅調製物例えば水酸化銅、ナフテン酸銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、酸化銅、オキシン−銅、クレゾキシムメチル、マンコカッパー、マンコゼブ、マネブ、マンジプロパミド、メパニピリム、メプロニル、メタラキシル、メトコナゾール、メチラム、メトミノスウトロビン、ミルジオマイシン、ミクロブタニル、ニトロタル−イソプロピル、ヌアリモル、オフレース、オキサジキシル、オキソリニック酸、オキスポコナゾール、オキシカルボキシン、オキシテトラサイクリン、ペフラゾエート、オリザストロビン、ペンコナゾール、ペンシクロン、ペンチオピラド、ピリベンカルブ、フサライド、ピコキシストロビン、ピペラリン、ポリオキシン、プロベナゾール、プロクロラズ、プロシミドン、プロパモカルブ、プロピコナゾール、プロピネブ、プロキナジド、プロチオコナゾール、ピラクロストロビン、ピラゾフォス、ピリフェノックス、ピリメタニル、ピロキロン、キノキシフェン、キントゼン、シルチオファム、シメコナゾール、スピロキサミン、硫黄および硫黄調製物、テブコナゾール、テクロフタラム、テクナゼン、テトラコナゾール、チアベンダゾール、チフルザミド、チオファネート−メチル、チラム、チアジニル、トルクロフォス−メ��ル、トリルフルアニド、トリアジメフォン、トリアジメノール、トリアゾキシド、トリシクラゾール、トリデモルフ、トリフロキシストロビン、トリフルミゾール、トリホリン、トリチコナゾール、バリダマイシン、ビンクロゾリン、ジネブ、ジラム、ゾキサミド、アミスルブロム、セダキサン、フルチアニル、バリフェナール、アメトクトラジン、ジモキシストロビン、メトラフェノン、ヒドロキシイソキサゾール、メタスルホカルブ等。
【０１７１】
＜殺虫剤／殺ダニ剤／殺線虫剤＞
アバメクチン、アセフェート、アクリナトリン、アラニカルブ、アルジカルブ、アレトリン、アミトラズ、アベルメクチン、アザジラクチン、アザメチフォス、アジンフォス−エチル、アジンフォス−メチル、アゾサイクロチン、バシルス・フィルムス、バシルス・ズブチルス、バシルス・ツリンジエンシス、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ベンスルタップ、ベンゾキシメイト、ビフェナゼイト、ビフェントリン、ビオアレトリン、ビオレスメトリン、ビストリフルロン、ブプロフェジン、ブトカルボキシン、ブトキシカルボキシン、カズサフォス、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、カータップ、ＣＧＡ ５０４３９、クロルデイン、クロレトキシフォス、クロルフェナピル、クロルフェンビンフォス、クロルフルアズロン、クロルメフォス、クロルピリフォス、クロルピリフォスメチル、クロマフェノザイド、クロフェンテジン、クロチアニジン、クロラントラリニプロール、コウンパフォス、クリオライト、シアノフォス、シクロプロトリン、シフルトリン、シハロトリン、シヘキサチン、シペルメトリン、シフェノトリン、シロマジン、シアザピル、シエノピラフェン、ＤＣＩＰ、ＤＤＴ、デルタメトリン、デメトン−Ｓ−メチル、ジアフェンチウロン、ジアジノン、ジクロロフェン、ジクロロプロペン、ジクロルボス、ジコフォル、ジクロトフォス、ジシクラニル、ジフルベンズロン、ジメトエート、ジメチルビンフォス、ジノブトン、ジノテフラン、エマメクチン、エンドスルファン、ＥＰＮ、エスフェンバレレート、エチオフェンカルブ、エチオン、エチプロール、エトフェンプロックス、エトプロフォス、エトキサゾール、ファムフル、フェナミフォス、フェナザキン、フェンブタチンオキシド、フェニトロチオン、フェノブカルブ、フェノチオカルブ、フェノキシカルブ、フェンプロパトリン、フェンピロキシメート、フェンチオン、フェンバレレート、フイプロニル、フロニカミド、フルアクロピリム、フルシクロクスロン、フルシトリネート、フルフェノクスロン、フルメトリン、フルバリネート、フルベンジアミド、フォルメタネート、フォスチアゼート、ハルフェンプロクス、フラチオカルブ、ハロヘノジド、ガンマ−ＨＣＨ、ヘプテノフォス、ヘキサフルムロン、ヘキシチアゾックス、ヒドラメチルノン、イミダクロプリド、イミプロトリン、インドキサカルブ、イソプロカルブ、イソキサチオン、ルフェヌロン、マラチオン、メカルバム、メタム、メタミドフォス、メチダチオン、メチオカルブ、メトミル、メトプレン、メトスリン、メトキシフェノジド、メトルカルブ、ミルベメクチン、モノクロトフォス、ナレド、ニコチン、ニテンピラム、ノバルロン、ノビフルムロン、オメトエート、オキサミル、オキシデメトンメチル、パラチオン、パーメトリン、フェントエート、フォレート、フォサロン、フォスメット、フォスファミドン、フォキシム、ピリミカルブ、ピリミフォスメチル、プロフェノフォス、プロポクスル、プロチオフォス、ピメトロジン、ピラクロフォス、ピレスリン、ピリダベン、ピリダリル、ピリミジフェン、ピリプロキシフェン、ピリフルキナゾン、ピリプロール、キナルフォス、シラフルオフェン、スピノサド、スピロジクロフェン、スピロメシフェン、��ピロテトラマット、スルフラミド、スルフォテップ、ＳＺＩ−１２１、テブフェノジド、テブフェンピラド、テブピリムフォス、テフルベンズロン、テフルトリン、テメフォス、テルブフォス、テトラクロルビンフォス、チアクロプリド、チアメトキサム、チオジカルブ、チオファノックス、チオメトン、トルフェンピラド、トラロメトリン、トラロピリル、トリアザメート、トリアゾフォス、トリクロルフオン、トリフルムロン、バミドチオン、バリフェナール、ＸＭＣ、キシリルカルブ、イミシアホス、レピメクチン等。
【０１７２】
＜植物成長調節剤＞
アンシミドール、６−ベンジルアミノプリン、パクロブトラゾール、ジクロブトラゾール、ウニコナゾール、メチルシクロプロペン、メピコートクロリド、エセフォン、クロルメコートクロライド、イナベンフィド、プロヘキサジオンおよびその塩、トリネキサパックエチル等。また、植物ホルモンとしてのジャスモン酸や、ブラシノステロイド、ジベレリン等。
【０１７３】
化合物（Ｉ）を有効成分として含む工業用材料保護剤は、化合物（Ｉ）以外にも種々の成分を含んでいてもよい。工業用材料保護剤は、適当な液体担体に溶解あるいは分散させるか、または固体担体と混合して使用することができる。工業用材料保護剤は、必要に応じて、乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、安定剤等含んでいてもよい。また、工業用材料保護剤の剤型としては、水和剤、粉剤、粒剤、錠剤、ペースト剤、懸濁剤、噴霧材などとできる。工業用材料保護剤は、他の殺菌剤、殺虫剤、劣化防止剤等を含んでいてもよい。
【０１７４】
液体担体は、有効成分と反応しないものであれば特に限定されるものではない。液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、エチレングリコール、セロソルブ等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エーテル類（例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（例えばガソリン、ケロシン、灯油、機械油、燃料油等）、酸アミド類（例えばジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）ハロゲン化炭化水素類（例えば、クロロホルム、四塩化炭素等）、エステル類（例えば、酢酸エチルエステル、脂肪酸のグリセリンエステル等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）およびジメチルスルホキシド等を挙げることができる。
【０１７５】
また、固体担体としては、カオリンクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石、尿素、硫酸アンモニウム等の微粉末あるいは粒状物を使用できる。
【０１７６】
乳化剤、分散剤としては、石鹸類、アルキルスルホン酸、アルキルアリールスルホン酸、ジアルキルスルホコハク酸、第４級アンモニウム塩、オキシアルキルアミン、脂肪酸エステル、ポリアルキレンオキサイド系、アンヒドロソルビトール系などの界面活性剤を使用できる。
【０１７７】
化合物（Ｉ）を有効成分として製剤中に含有させる場合、その含有割合は、剤型および使用目的によっても異なるが、製剤の全量に対して、０．１〜９９．９重量％とすればよい。なお、実際の使用時においては、その処理濃度は、通常０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜１重量％となるように適宜、溶剤、希釈剤、増量剤などを加えて調整する。
【０１７８】
以上説明したように、化合物（Ｉ）で示されるアゾール誘導体は、植物病害を引き起こす多くの菌に対して優れた殺菌作用を示す。すなわち、化合物（Ｉ）で示されるアゾール誘導体を有効成分として含む農園芸用病害防除剤は、人畜に対する毒性が低く取扱い安全性に優れ、かつ広範な植物病害に対して高い防除効果を示すことができる。
【０１７９】
（付記事項）
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
【実施例】
【０１８０】
以下、製造例、製剤例、試験例を示し、本発明を具体的に説明する。なお、本発明はその要旨を越えない限り以下の製造例、製剤例および試験例に限定されるものではない。
【０１８１】
＜製造例１＞
１−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−３−ヒドロキシメチル−３−メチル−２−オキソ−シクロペンタンカルボン酸メチルエステル（化合物（２−１））の合成
既知の化合物である2-メチルシクロペンタノン-2-カルボン酸メチルエステル 5.00g (32.0mmol)をトルエン30mlに溶解し、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液 6.18g (32.0mmol)およびジメチルホルムアミド 0.5mlを加えた。Dean-Stark分留管を用いてメタノールを除去しながら1時間加熱還流することにより中間体エノール塩を半固体として得た。
反応終了後、室温まで冷却し、半固体をジメチルホルムアミド 7mlに溶解した。溶液を氷冷した後、2-クロロ-5-クロロメチルピリジン 5.70g (35.2mmol)とジメチルホルムアミド 3mlの混合液を滴下した。滴下後、60℃で2時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより、中間体ケトエステル(1-1)の粗体を褐色油状物として9.30g得た。
これをトルエン 21.4mlに溶解し、37%ホルムアルデヒド水溶液 2.60ml (34.6mmol)、炭酸カリウム 1.33g (9.62mmol)、およびベンジルトリエチルアンモニウムクロライド 1.33g (5.84mmol)を加え、室温で4時間激しく撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Silicagel 60, 230-400 mesh, Merck, 酢酸エチル/ヘキサン=1/1.5)で精製し、目的のヒドロキシメチルケトエステル(2-1)を無色油状物として5.86g得た。収率59%(3工程)。以上の合成経路を下記反応式（１１）に示す。
【０１８２】
反応式（１１）
【化２５】
2012250961.tif 000026
【０１８３】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［異性体１］
1.08(s, 3H), 1.78-1.84(m, 1H), 1.91-1.98(m, 1H), 2.12(dt, 1H, J=13.0, 7.2Hz), 2.22(br, 1H), 2.39-2.46(m, 1H), 2.96(d, 1H, J=14.2Hz), 3.22(d, 1H, J=14.1Hz), 3.36(dd, 1H, J=10.4, 3.6Hz), 3.63(dd, 1H, J=10.4, 5.7Hz), 3.72(s, 3H), 7.23(d, 1H, J=8.2Hz), 7.54(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 8.20(d, 1H, J=2.3Hz).
［異性体２］
0.89(s, 3H), 1.56(ddd, 1H, J=13.0, 7.2, 2.7Hz), 1.85(ddd, 1H, J=13.3, 11.0, 7.2Hz), 2.01(t, 1H, J=6.2Hz), 2.19(ddd, 1H, J=13.0, 11.0, 7.2Hz), 2.43(ddd, 1H, J=13.3, 7.2, 2.7Hz), 3.06(d, 1H, J=14.0Hz), 3.21(d, 1H, J=14.0), 3.46(dd, 1H, J=10.9, 5.6Hz), 3.65(dd, 1H, J=10.9, 6.7Hz), 3.72(s, 3H), 7.24(d, 1H, J=8.2Hz), 7.44(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 8.17(d, 1H, J=2.3Hz).
【０１８４】
同様の方法により、以下の化合物（２−２）、（２−３）を合成した。
【０１８５】
【化２６】
2012250961.tif 000027
化合物2-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物2-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル)
【０１８６】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（２−２）、異性体１］
1.11(s, 3H), 1.75-1.83(m, 2H), 1.98-2.07(m, 2H), 2.44-2.52(m, 1H), 3.04(d, 1H, J=15.0Hz), 3.35(d, 1H, J=15.2Hz), 3.38(dd, 1H, J=10.8, 4.7Hz), 3.61(dd, 1H, J=10.7, 6.8Hz), 3.77(s, 3H), 6.59(d, 1H, J=3.7Hz), 6.72(d, 1H, J=3.7Hz).
［化合物（２−２）、異性体２］
0.90(s, 3H), 1.57-1.62(m, 1H), 1.91-2.05(m, 2H), 2.18(ddd, 1H, J=12.9, 10.5, 7.3Hz), 2.46(ddd, 1H, J=13.3, 7.2, 3.2Hz), 3.13(d, 1H, J=14.9Hz), 3.35(d, 1H, J=14.9Hz), 3.49(dd, 1H, J=11.0, 7.0Hz), 3.65(dd, 1H, J=10.9Hz), 3.73(s, 3H), 6.56(d, 1H, J=3.8Hz), 6.72(d, 1H, J=3.7Hz).
【０１８７】
［化合物（２−３）、異性体１］
1.10(s, 3H), 1.82-1.88(m, 1H), 1.93-2.01(m, 2H), 2.19(dt, 1H, J=13.0, 7.7Hz), 2.45(dt, 1H, J=13.3, 7.7Hz), 3.02(d, 1H, J=15.6Hz), 3.36(d, 1H, J=15.1Hz), 3.43(dd, 1H, J=10.4, 4.2Hz), 3.71(m, 1H), 3.76(s, 3H), 7.27(s, 1H).
［化合物（２−３）、異性体２］
0.97(s, 3H), 1.64-1.69(m, 1H), 1.86-1.94(m, 1H), 1.98(t, 1H, J=6.2Hz), 2.25(ddd, 1H, J=13.0, 10.4, 7.3Hz), 2.47(ddd, 1H, J=13.4, 7.3, 3.1Hz), 3.07(d, 1H, J=15.4Hz), 3.43(dd, 1H, J=15.0, 0.8Hz), 3.50(dd, 1H, J=10.9, 5.5Hz), 3.67(dd, 1H, J=10.9, 6.8Hz), 3.73(s, 3H), 7.27(s, 1H).
【０１８８】
＜製造例２＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプタン−５−カルボニトリル（化合物（５−１））の合成
ヒドロキシメチルケトエステル(2-1) 5.86g (18.8mmol)をトルエン60mlに溶解し、トリエチルアミン 2.50g (24.7mmol)を加え氷冷した。ここにメタンスルホニウムクロライド 2.61g (22.8mmol)を滴下し、室温で3時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより、中間体メシルケトエステル(3-1)の粗体を7.69g得た。
このうち6.68g (17.1mmol)を酢酸9.85mlに溶解し、47%臭化水素酸 9.85ml (85.8mmol)を加え、110℃で8時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却した後、水を加え、炭酸ナトリウム水溶液で中和した。酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより、ブロモケトンと少量のメシルケトンの混合物(4-1)の粗体を褐色油状物として4.73g得た。
これをN-メチル-2-ピロリドン 24mlに溶解し、シアン化ナトリウム 1.094g(22.3mmol)を加え、室温で26時間撹拌した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Silicagel 60, 230-400 mesh, Merck, 酢酸エチル/ヘキサン=1/5)で精製し、目的のシアノオキセタン(5-1)を無色油状物として3.01g得た。収率70%(3工程)。以上の合成経路を下記反応式（１２）に示す。
【０１８９】
反応式（１２）
【化２７】
2012250961.tif 000028
【０１９０】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.43-1.53(m, 1H), 1.47(s, 3H), 1.90-2.02(m, 3H), 2.18-2.26(m, 1H), 2.76(dd, 1H, J=13.9, 9.2Hz), 2.95(dd, 1H, J=13.9, 5.9Hz), 4.27(d, 1H, J=6.0Hz), 4.54(dd, 1H, J=6.0, 1.5Hz), 7.28(d, 1H, J=8.3Hz), 7.51(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 8.25(d, 1H, J=2.2Hz).
【０１９１】
同様の方法により、以下の化合物（５−２）、（５−３）を合成した。
【０１９２】
【化２８】
2012250961.tif 000029
化合物5-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物5-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０１９３】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（５−２）］
1.47(s, 3H), 1.47-1.52(m, 1H), 1.89-2.10(m, 3H), 2.20-2.27(m, 1H), 2.88(dd, 1H, J=14.7, 9.5Hz), 3.07(dd, 1H, J=14.9, 5.8Hz), 4.26(d, 1H, J=6.0Hz), 4.52(dd, 1H, J=6.0, 1.5Hz), 6.61(d, 1H, J=3.7Hz), 6.73(d, 1H, J=3.7Hz).
［化合物（５−３）］
1.48(s, 3H), 1.48-1.55(m, 1H), 1.92-2.08(m, 3H), 2.20-2.28(m, 1H), 2.92-3.00(m, 1H), 3.08-3.15(m, 1H), 4.26(d, 1H, J=6.0Hz), 4.53(dd, 1H, J=6.0, 1.5Hz), 7.30-7.34(s+s, 1H).
【０１９４】
＜製造例３＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプタン−５−カルボキシイミデートメチルエステル（化合物（６−１））の合成
シアノオキセタン(5-1) 3.00g (11.4mmol)を無水メタノール 30mlに溶解し、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液 2.64g (13.7mmol)を加え、室温で25時間撹拌した。反応終了後、1mol/l硫酸水溶液を加え、pH4付近とした後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和しpH7とした。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Silicagel 60, 230-400 mesh, Merck, 酢酸エチル/ヘキサン=1/1)で精製し、目的のオキセタンイミデート(6-1)を無色油状物として2.62g得た。収率78%。以上の合成経路を下記反応式（１３）に示す。
【０１９５】
反応式（１３）
【化２９】
2012250961.tif 000030
【０１９６】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.11(s, 3H), 1.42-1.47(m, 1H), 1.70-1.86(m, 1H), 1.90-1.97(m, 2H), 2.46-2.65(m, 3H), 3.64(s, 3H), 4.23(d, 1H, J=5.9Hz), 4.28(dd, 1H, J=5.9, 1.3Hz), 7.19(d, 1H, J=8.1Hz), 7.39(dd, 1H, J=8.14, 2.5Hz), 7.96(s, 1H), 8.16(d, 1H, J=2.4Hz).
【０１９７】
同様の方法により、以下の化合物（６−２）、（６−３）を合成した。
【０１９８】
【化３０】
2012250961.tif 000031
化合物6-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物6-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０１９９】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（６−２）］
1.12(s, 3H), 1.44-1.52(m, 1H), 1.81-1.97(m, 2H), 2.01-2.07(m, 1H), 2.46-2.54(m, 1H), 2.71(d, 2H, J=7.2Hz), 3.72(s, 3H), 4.22(d, 1H, J=5.9Hz), 4.27(dd, 1H, J=5.9, 1.4Hz), 6.49(d, 1H, J=3.7Hz), 6.67(d, 1H, J=3.7Hz), 7.95(s, 1H).
［化合物（６−３）］
1.13(s, 3H), 1.45-1.51(m, 1H), 1.83-1.97(m, 2H), 2.00-2.06(m, 1H), 2.45-2.53(m, 1H), 2.74-2.80(m, 2H), 3.74(s, 3H), 4.22(d, 1H, J=6.0Hz), 4.28(dd, 1H, J=6.0, 1.4Hz), 7.19-7.22(s+s, 1H), 7.99(s, 1H).
【０２００】
＜製造例４＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプタン−５−カルボン酸メチルエステル（化合物（７−１））の合成
オキセタンイミデート(6-1) 1.50g (5.09mmol)をジメトキシエタン 30mlに溶解し、1mol/l硫酸水溶液 5.09mlを加え、室温で16時間撹拌した。反応終了後、水を加え、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水および飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、目的のオキセタンエステル(7-1)を白色固体として1.46g得た。収率96%。以上の合成経路を下記反応式（１４）に示す。
【０２０１】
反応式（１４）
【化３１】
2012250961.tif 000032
【０２０２】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.15(s, 3H), 1.47-1.55(m, 1H), 1.84(dd, 1H, J=12.7, 5.3Hz), 1.98-2.05(m, 2H), 2.61-2.73(m, 3H), 3.57(s, 3H), 4.29(d, 1H, J=5.8Hz), 4.41(dd, 1H, J=5.8, 1.3Hz), 7.20(d,1H, J=8.1Hz), 7.44(dd, 1H, J=8.1, 2.5Hz), 8.18(d, 1H, J=2.4Hz).
【０２０３】
同様の方法により、以下の化合物（７−２）、（７−３）を合成した。
【０２０４】
【化３２】
2012250961.tif 000033
化合物7-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物7-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０２０５】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（７−２）］
1.17(s, 3H), 1.49-1.56(m, 1H), 1.83(dd, 1H, J=13.1, 6.2Hz), 1.92-2.09(m, 2H), 2.60-2.68(m, 1H), 2.81(dd, 1H, J=14.7, 7.2Hz), 2.88(dd, 1H, J=14.8, 8.0Hz), 3.66(s, 3H), 4.26(d, 1H, J=5.8Hz), 4.40(dd, 1H, J=5.8, 1.4Hz), 6.52(d, 1H, J=3.7Hz), 6.66(d, 1H, J=3.7Hz).
［化合物（７−３）］
1.18(s, 3H), 1.50-1.56(m, 1H), 1.86(dd, 1H, J=13.2, 6.2Hz), 1.93-2.09(m, 2H), 2.59-2.68(m, 1H), 2.84-2.96(m, 2H), 3.69(s, 3H), 4.28(d, 1H, J=5.8Hz), 4.42(dd, 1H, J=5.8, 1.2Hz), 7.21-7.24(s+s, 1H).
【０２０６】
＜製造例５＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプト−５−イルメチルアルコール（化合物（８−１））の合成
オキセタンエステル(7-1) 1.452g (4.91mmol)をエタノール15mlに溶解し、塩化カルシウム 0.574g (4.91mmol)を加えて0℃に冷却した。ここに水素化ホウ素ナトリウム 0.404g (9.83mmol)を加え、室温で4時間撹拌した。反応終了後、析出物がなくなるまで10%クエン酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、目的のアルコール(8-1)を無色油状物として1.30g得た。収率99%。以上の合成経路を下記反応式（１５）に示す。
【０２０７】
反応式（１５）
【化３３】
2012250961.tif 000034
【０２０８】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.26-1.33(m, 1H), 1.33(s, 3H), 1.70-1.78(m, 1H), 1.81-1.90(m, 1H), 2.18(dd, 1H, J=8.8, 3.0Hz), 2.62(dd, 1H, J=13.9, 9.7Hz), 2.73(dd, 1H, J=14.0, 4.0Hz), 3.63(dd, 1H, J=12.1, 8.8Hz), 3.82(dd, 1H, J=12.2, 3.0Hz), 4.23(d, 1H, J=1.4Hz), 4.34(dd, 1H, J=5.9, 1.4Hz), 7.24(d, 1H, J=8.1Hz), 7.47(dd, 1H, J=8.1, 2.5Hz), 8.22(d, 1H, J=2.4Hz).
【０２０９】
同様の方法により、以下の化合物（８−２）、（８−３）を合成した。
【０２１０】
【化３４】
2012250961.tif 000035
化合物8-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物8-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０２１１】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（８−２）］
1.25-1.35(m, 1H), 1.32(s, 3H), 1.76(dd, 1H, J=13.0, 5.6Hz), 1.83-1.95(m, 3H), 2.15(dd, 1H, J=9.1, 3.1Hz), 2.76(dd, 1H, J=14.9, 8.8Hz), 2.85(dd, 1H, J=14.9, 4.5Hz), 3.58(dd, 1H, J=12.3, 9.1Hz), 3.76(dd, 1H, J=12.3, 3.0Hz), 4.22(d, 1H, J=5.9Hz), 4.32(dd, 1H, J=5.9, 1.4Hz), 6.55(d, 1H, J=3.6Hz), 6.70(d, 1H, J=3.7Hz).
［化合物（８−３）］
1.25-1.35(m, 1H), 1.32(s, 3H), 1.78(dd, 1H, J=13.3, 5.2Hz), 1.84-1.93(m, 3H), 2.12(dd, 1H, J=8.7, 3.3Hz), 2.82-2.92(m, 2H), 3.64(dd, 1H, J=12.2, 8.7Hz), 3.78(dd, 1H, J=12.2, 3.2Hz), 4.22(d, 1H, J=6.0Hz), 4.33(dd, 1H, J=5.9, 1.4Hz), 7.25-7.28(s+s, 1H).
【０２１２】
＜製造例６＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプタト−５−イルメチルメタンスルホン酸エステル（化合物（９−１））の合成
アルコール(8-1) 1.297g (4.84mmol)をトルエン 11mlに溶解し、トリエチルアミン1.01ml (7.25mmol)を加えて0℃に冷却した。ここにメタンスルホニルクロライド 0.783g (6.84mol)とトルエン2mlの混合液を滴下し、滴下後室温に昇温し1時間撹拌した。反応終了後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、目的のメシル酸エステル(9-1)を無色油状物として1.66g得た。収率99%。以上の合成経路を下記反応式（１６）に示す。
【０２１３】
反応式（１６）
【化３５】
2012250961.tif 000036
【０２１４】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.29(s,3H), 1.29-1.47(m, 1H), 1.72-1.94(m, 3H), 2.02-2.10(m, 1H), 2.62(dd, 1H, J=13.8, 10.2Hz), 2.80(dd, 1H, J=13.8, 4.7Hz), 3.06(s, 3H), 4.21(d, 1H, J=6.0Hz), 4.29(d, 1H, J=11.2Hz), 4.35(dd, 1H, J=6.0, 1.3Hz), 4.48(d, 1H, J=11.2Hz), 7.25(d, 1H, J=8.5Hz), 7.51(dd, 1H, J=8.1, 2.5Hz), 8.24(d, 1H, J=2.4Hz).
【０２１５】
同様の方法により、以下の化合物（９−２）、（９−３）を合成した。
【０２１６】
【化３６】
2012250961.tif 000037
化合物9-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物9-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０２１７】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（９−２）］
1.30(s, 3H), 1.35-1.43(m, 1H), 1.79(dd, 1H, J=13.1, 2Hz), 1.85-2.09(m, 3H), 2.79(dd, 1H, J=14.9, 8.8Hz), 2.92(dd, 1H, J=14.5, 5.1Hz), 3.02(s, 3H), 4.17(d, 1H, J=11.1Hz), 4.20(d, 1H, J=5.9Hz), 4.34(dd, 1H, J=5.9, 1.4Hz), 4.43(d, 1H, J=11.1Hz), 6.58(d, 1H, J=3.7Hz), 6.71(d, 1H, J=3.6Hz).
［化合物（９−３）］
1.30(s, 3H), 1.36-1.48(m, 1H), 1.79-1.97(m, 3H), 2.02-2.08(m, 1H), 2.81-2.90(m, 1H), 2.93-2.99(m, 1H), 3.06(s+s, 3H), 4.21(d, 1H, J=6.0Hz), 4.25-4.29(d+d, 1H, J=11.2Hz), 4.34(dd, 1H, J=6.0, 1.3Hz), 4.46(d, 1H, J=11.2Hz), 7.27-7.30(s+s, 1H).
【０２１８】
＜製造例７＞
４−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−１−メチル−５−（１H−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）−６−オキサ−ビシクロ［３，２，０］ヘプタン（化合物（１０−１））の合成
メシレート(9-1) 1.655g (4.79mmol)をN-メチル-2-ピロリドン 17mlに溶解し、トリアゾールナトリウム塩 0.959g (10.53mmol)を加え、120℃で7.5時間撹拌した。反応終了後、室温まで冷却し、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Silicagel 60, 230-400 mesh, Merck, 酢酸エチル)で精製し、目的のトリアゾールオキセタン(10-1)を白色固体として1.06g得た。融点109-110℃。収率69%。以上の合成経路を下記反応式（１７）に示す。
【０２１９】
反応式（１７）
【化３７】
2012250961.tif 000038
【０２２０】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.24(s, 3H), 1.24-1.34(m, 1H), 1.65-1.91(m, 4H), 2.19(dd, 1H, J=13.6, 3.6Hz), 2.48(dd, 1H, J=13.6, 10.2Hz), 4.24(d, 1H, J=6.1Hz), 4.28(dd, 1H, J=6.1, 1.2Hz), 4.54(s, 2H), 7.22(d, 1H, J=8.1Hz), 7.41(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 7.97(s, 1H), 8.18(d, 1H, J=2.4Hz), 8.24(s, 1H).
【０２２１】
同様の方法により、以下の化合物（１０−２）、（１０−３）を合成した。
【０２２２】
【化３８】
2012250961.tif 000039
化合物10-2: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物10-3: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０２２３】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（１０−２）］
1.19(s, 3H), 1.31-1.39(m, 1H), 1.75(dd, 1H, J=13.2, 5.4Hz), 1.82-1.95(m, 3H), 2.40(dd, 1H, J=14.9, 3.5Hz), 2.67(dd, 1H, J=14.8, 8.6Hz), 4.21(s, 2H), 4.45(s, 2H), 6.51(d, 1H, J=3.7Hz), 6.69(d, 1H, J=3.7Hz), 7.95(s, 1H), 8.20(s, 1H).
［化合物（１０−３）］
1.23(s, 3H), 1.33-1.39(m, 1H), 1.76-1.92(m, 4H), 2.26-2.32(m, 1H), 2.66-2.75(m, 1H), 4.23(d, 1H, J=6.2Hz), 4.26(dd, 1H, J=6.1, 1.1Hz), 4.48(d, 1H, J=15.0Hz), 4.53(d, 1H, J=14.9Hz), 7.20-7.23(s+s, 1H), 7.96(s, 1H), 8.23(s, 1H).
【０２２４】
＜製造例８＞
２−クロロメチル−５−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−２−メチル−１−（１H−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物（Ｉ−１−Ｃｌ））の合成
トリアゾールオキセタン(10-1) 202mg (0.634mmol)をジメチルホルムアミド 2mlに溶解し、リチウムクロライド 323mg (7.62mmol)およびp-トルエンスルホン酸1水和物 148mg (0.778mmol)を加えた。80℃で1時間加熱撹拌し、室温まで冷却した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル/ヘキサンから再結晶することにより、目的のクロロメチルトリアゾール(I-1-Cl)を白色固体として166mg得た。融点125-126℃。収率74%。以上の合成経路を下記反応式（１８）に示す。
【０２２５】
反応式（１８）
【化３９】
2012250961.tif 000040
【０２２６】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.19(s, 3H), 1.40-1.49(m, 2H), 1.65-1.75(m, 1H), 1.87-1.99(m, 2H), 2.31-2.41(m, 2H), 3.31(d, 1H, J=10.9Hz), 3.57(d, 1H, J=10.8Hz), 4.16(s, 1H), 4.28(d, 1H, J=14.2Hz), 4.58(d, 1H, J=14.2Hz), 7.21(d, 1H, J=8.2Hz), 7.34(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 8.03(s, 1H), 8.11(d, 1H, J=2.4Hz), 8.20(s, 1H).
【０２２７】
同様の方法により、以下の化合物（Ｉ−２−Ｃｌ）、（Ｉ−３−Ｃｌ）を合成した。
【０２２８】
【化４０】
2012250961.tif 000041
化合物I-2-Cl: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
化合物I-3-Cl: (Rc=2-クロロチアゾール-5-イル、2-ブロモチアゾール-5-イル混合物)
【０２２９】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
［化合物（Ｉ−２−Ｃｌ）］
1.19(s, 3H), 1.44-1.53(m, 2H), 1.89-1.97(m, 2H), 2.02(dd, 1H, J=15.1, 3.6Hz), 2.29-2.34(m, 1H), 2.55(dd, 1H, J=14.6, 10.3Hz), 3.22(d, 1H, J=10.8Hz), 3.55(d, 1H, J=10.8Hz), 4.17(s, 1H), 4.23(d, 1H, J=14.2Hz), 4.54(d, 1H, J=14.2Hz), 6.45(d, 1H, J=3.7Hz), 6.66(d, 1H, J=3.7Hz), 8.02(s, 1H), 8.16(s, 1H).
［化合物（Ｉ−３−Ｃｌ）］
1.19(s, 3H), 1.43-1.53(m, 2H), 1.86-2.00(m, 3H), 2.31-2.36(m, 1H), 2.56-2.65(m, 1H), 3.29(d, 1H, J=10.8Hz), 3.55(d, 1H, J=10.9Hz), 4.26(s, 1H), 4.27(d, 1H, J=14.2Hz), 4.58(d, 1H, J=14.2Hz), 7.14-7.17(s+s, 1H), 8.03(s, 1H), 8.18(s, 1H).
【０２３０】
＜製造例９＞
２−ブロモメチル−５−（６−クロロ−３−ピリジルメチル）−２−メチル−１−（１H−１，２，４−トリアゾール−１−イルメチル）シクロペンタノール（化合物（Ｉ−１−Ｂｒ））の合成
トリアゾールオキセタン(10-1) 100mg (0.314mmol)をジメチルホルムアミド 1mlに溶解し、リチウムブロマイド 277mg (3.19mmol)およびp-トルエンスルホン酸1水和物 72.8mg (0.383mmol)を加えた。50℃で4時間加熱撹拌し、室温まで冷却した。反応終了後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル/ヘキサンから再結晶することにより、目的のブロモメチルトリアゾール(I-1-Br)を白色固体として105mg得た。収率83%。以上の合成経路を下記反応式（１９）に示す。
【０２３１】
反応式（１９）
【化４１】
2012250961.tif 000042
【０２３２】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.20(s, 3H), 1.39-1.54(m, 2H), 1.64-1.74(m, 1H), 1.95-2.02(m, 2H), 2.33-2.45(m, 2H), 3.00(d, 1H, J=10.0Hz), 3.54(d, 1H, J=10.0Hz), 4.23(s, 1H), 4.27(d, 1H, J=14.2Hz), 4.56(d, 1H, J=14.2Hz), 7.22(d, 1H, J=7.6Hz), 7.35(dd, 1H, J=8.2, 2.5Hz), 8.03(s, 1H), 8.12(d, 1H, J=2.3Hz), 8.20(s, 1H).
【０２３３】
同様の方法により、以下の化合物（Ｉ−２−Ｂｒ）を合成した。
【０２３４】
【化４２】
2012250961.tif 000043
化合物I-2-Br: (Rc=5-クロロチオフェン-2-イル)
【０２３５】
1H-NMR (400MHz, CDCl3)δ
1.20(s, 3H), 1.45-1.57(m, 2H), 1.86-2.02(m, 2H), 2.13(dd, 1H, J=15.1, 3.8Hz), 2.34-2.39(m, 1H), 2.59(dd, 1H, J=14.7, 10.2Hz), 2.91(d, 1H, J=9.9Hz), 3.52(d, 1H, J=9.8Hz), 4.23(s, 1H), 4.23(d, 1H, J=14.2Hz), 6.52(d, 1H, J=14.2Hz), 6.47(d, 1H, J=3.6Hz), 6.67(d, 1H, J=3.6Hz), 8.02(s, 1H), 8.16(s, 1H).
【０２３６】
次に、製剤例と試験例を示す。なお、担体（希釈剤）および助剤、その混合比は広い範囲で変更し得るものとする。各製剤例の「部」は重量部を表す。
【０２３７】
＜製剤例１(水和剤)＞
化合物（Ｉ）            ５０  部
リグニンスルホン酸塩      ５  部
アルキルスルホン酸塩      ３  部
珪藻土                  ４２  部
を粉砕混合して水和剤とし、水で希釈して使用する。
【０２３８】
＜製剤例２(粉剤)＞
化合物（Ｉ）        ３  部
クレー            ４０  部
タルク            ５７  部
を粉砕混合し、散粉として使用する。
【０２３９】
＜製剤例３(粒剤)＞
化合物（Ｉ）              ５  部
ベンナイト              ４３  部
クレー                  ４５  部
リグニンスルホン酸塩      ７  部
を均一に混合しさらに水を加えて練り合わせ、押し出し式造粒機で粒状に加工乾燥して粒剤とする。
【０２４０】
＜製剤例４(乳剤)＞
化合物（Ｉ）                                  ２０  部
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル    １０  部
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート      ３  部
キシレン                                      ６７  部
を均一に混合溶解して乳剤とする。
【０２４１】
＜試験例１：コムギ葉枯病菌に対する抗菌性試験＞
本試験例では、コムギ葉枯病菌（Septoria tritici）に対する抗菌性を試験した。
【０２４２】
ジメチルスルホキシドに溶解した化合物溶液を６０℃前後のＰＤＡ培地（ポテト−デキストロース−アガー培地）に加えよく混合し、シャーレ内に流し固化させ、０．６２５ｍｇ／ｍｌの化合物を含む平板培地を作製した。比較として、メトコナゾールを用いた。
【０２４３】
予め平板培地上で培養した供試菌を直径４ｍｍのコルクボーラーで打ち抜き、上記の化合物含有平板培地上に接種した。接種後、菌の生育適温にて１４日間培養し、菌そう直径を測定し菌の生育程度を調べた。化合物含有平板培地上で得られた菌の生育程度を、化合物無添加区における菌の生育程度と比較して、下記式により菌糸伸長抑制率を求めた。
【０２４４】
Ｒ＝１００（ｄｃ−ｄｔ）／ｄｃ
（式中、Ｒは菌糸伸長抑制率（％）、ｄｃは無処理平板上菌そう直径、ｄｔは化合物処理平板上菌そう直径、をそれぞれ示す）
【０２４５】
以下の基準により、抗菌性（菌糸生育阻害度）を評価した。
５：菌糸伸長抑制率が８０％以上のもの
４：菌糸伸長抑制率が８０％未満６０％以上のもの
３：菌糸伸長抑制率が６０％未満４０％以上のもの
２：菌糸伸長抑制率が４０％未満２０％以上のもの
１：菌糸伸長抑制率が２０％未満のもの
【０２４６】
結果、上記化合物（Ｉ−２−Ｃｌ）、（Ｉ−２−Ｂｒ）、（Ｉ−３−Ｃｌ）は、いずれも菌糸生育阻害度５を示した。比較化合物メトコナゾールの菌糸生育阻害度は４であった。
【０２４７】
＜試験例２：コムギ紅色雪腐病菌およびイネ苗立枯病菌に対する抗菌性試験＞
本試験例では、コムギ紅色雪腐病菌（Microdochium nivale）およびイネ苗立枯病菌（Rhizopus oryzae）に対する抗菌性を試験した。
【０２４８】
ジメチルスルホキシドに溶解した化合物溶液を６０℃前後のＰＤＡ培地（ポテト−デキストロース−アガー培地）に加えよく混合し、シャーレ内に流し固化させ、５、１．２５ｍｇ／ｍｌの化合物を含む平板培地を作製した。比較として、メトコナゾールを用いた。
【０２４９】
予め平板培地上で培養した供試菌を直径４ｍｍのコルクボーラーで打ち抜き、上記の化合物含有平板培地上に接種した。接種後、各菌の生育適温にて１〜３日間培養し、菌そう直径を測定し菌の生育程度を調べた。化合物含有平板培地上で得られた菌の生育程度を、化合物無添加区における菌の生育程度と比較して、試験例１と同様にして菌糸伸長抑制率を求め、菌糸生育阻害度を評価した。
【０２５０】
結果を表１に示す。
【０２５１】
【表１】
2012250961.tif 000044
コムギ紅色雪腐病菌 (Microdochium nivale) M.n
イネ苗立枯病 (Rhizopus oryzae) R.o
【０２５２】
＜試験例３：各種病原菌および有害微生物に対する抗菌性試験＞
本試験例では、各種植物病原菌および工業用材料有害微生物に対する抗菌性を試験した。
【０２５３】
ジメチルスルホキシドに溶解した化合物溶液を６０℃前後のＰＤＡ培地（ポテト−デキストロース−アガー培地）に加えよく混合し、シャーレ内に流し固化させ、５０ｍｇ／ｍｌの化合物を含む平板培地を作製した。
【０２５４】
予め平板培地上で培養した供試菌を直径４ｍｍのコルクボーラーで打ち抜き、上記の化合物含有平板培地上に接種した。接種後、各菌の生育適温にて３〜７日間培養し、菌そう直径を測定し菌の生育程度を調べた。化合物含有平板培地上で得られた菌の生育程度を、化合物無添加区における菌の生育程度と比較して、試験例１と同様にして菌糸伸長抑制率を求め、菌糸生育阻害度を評価した。
【０２５５】
結果を表２に示す。
【０２５６】
【表２】
2012250961.tif 000045
コムギふ枯病菌 (Phaeosphaeria nodorum) P.n
コムギ眼紋病菌(Pseudocercoporella herpotrichoides) P.h
コムギ赤かび病菌 (Fusarium graminearum) F.g
オオムギ裸黒穂病菌 (Ustilago nuda) U.n
イネいもち病菌 (Pyricularia oryzae) P.o
イネばか苗病菌 (Gibberella fujikuroi) G.f
リンゴ斑点落葉病菌 (Alternaria alternata) A.m
菌核病菌 (Sclerotinia sclerotiorum) S.s
灰色かび病菌 (Botrytis cinerea) B.c
キュウリつる割れ病菌 (Fusarium oxysporum) F.c
オオムギ雲形病菌 (Rhynchosporium secalis) R.sec
【０２５７】
＜試験例４：コムギ赤さび病に対する防除効果試験＞
角型プラスチックポット（6cm×6cm）を用いて栽培した第2葉期のコムギ（品種:農林61号）に、製剤例１のような水和剤形態のものを水に希釈懸濁し、濃度12.5 g/haで散布した。散布葉を風乾した後、コムギ赤さび病菌の胞子（200個／視野に調整、60ppmとなるようにグラミンSを添加）を噴霧接種し、２５℃高湿度条件下に４８時間保った。その後は温室内で管理した。接種後、９〜１４日目にコムギ赤さび病の罹病度を調査して、下記式により防除価を算出した。
【０２５８】
防除価（％）＝（１−散布区の平均罹病度／無散布区の平均罹病度)×１００
【０２５９】
【表３】
2012250961.tif 000046
【０２６０】
以下の基準により、抗菌性（防除指数）を評価した。
５：防除価が８１〜１００のもの
４：防除価が６１〜８０のもの
３：防除価が４１〜６０のもの
２：防除価が２１〜４０のもの
１：防除価が０〜２０のもの
【０２６１】
結果、上記化合物（Ｉ−１−Ｃｌ）、（Ｉ−１−Ｂｒ）、（Ｉ−２−Ｃｌ）、（Ｉ−２−Ｂｒ）、（Ｉ−３−Ｃｌ）は、いずれも防除指数５を示した。
【産業上の利用可能性】
【０２６２】
本発明に係るアゾール誘導体は、農園芸用の殺菌剤、植物生長調節剤および工業用材料保護剤の有効成分として好適に利用することができる。