(57)【要約】【課題】スプレーコート法において溝部の側面に膜形成材料を塗布でき、溝部の側面に膜をムラなく形成できる圧電振動片の製造方法と、この方法により製造された圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計を提供する。【解決手段】フォトレジスト膜形成工程（膜形成工程）は、ウエハ６０にフォトレジスト材（膜形成材料）を噴霧する噴霧器７７を備えたフォトレジスト膜形成装置（膜形成装置）を用いて行い、ウエハ６０の法線Ｋに対し長手方向の一方側に傾斜した第１方向から、噴霧器７７によりウエハ６０にフォトレジスト材を塗布する第１塗布工程と、ウエハ６０の法線に対し長手方向の他方側に傾斜した第２方向から、噴霧器７７によりウエハ６０にフォトレジスト材を再度塗布する第２塗布工程と、を有することを特徴とする。【選択図】図８
2012065025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハから複数の圧電振動片を製造する圧電振動片の製造方法であって、
前記圧電振動片は、幅方向に並んで配置された一対の振動腕部と、前記振動腕部の両主面上に、前記振動腕部の長手方向の基端側から前記長手方向の先端側に向かって形成された溝部と、を備え、
前記ウエハの第１面または第２面のうち少なくとも一方に対して、スプレーコート法により膜形成材料を塗布し、前記振動腕部の外表面および前記溝部の内表面に膜を形成する膜形成工程を有しており、
前記膜形成工程は、前記ウエハに前記膜形成材料を噴霧する噴霧器を備えた膜形成装置を用いて行い、
前記ウエハの法線に対し前記長手方向の一方側に傾斜した第１方向から、前記噴霧器により前記ウエハに前記膜形成材料を塗布する第１塗布工程と、
前記ウエハの法線に対し前記長手方向の他方側に傾斜した第２方向から、前記噴霧器により前記ウエハに前記膜形成材料を再度塗布する第２塗布工程と、
を有することを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の圧電振動片の製造方法であって、
前記膜形成装置は、回転軸周りに回転可能な回転ドラムを備え、
前記第１塗布工程および前記第２塗布工程は、前記回転ドラムの外周面に形成された取付部に、前記回転軸と前記長手方向とを沿わせつつ前記ウエハを取り付けた状態で、前記回転ドラムを回転させて行うことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の圧電振動片の製造方法であって、
前記膜形成装置は、複数の前記ウエハを取付可能なウエハ固定治具を備え、
前記第１塗布工程および前記第２塗布工程は、前記ウエハ固定治具に前記複数のウエハを取り付け、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハを前記回転ドラムの前記取付部に取り付けて行い、
前記第１塗布工程と前記第２塗布工程との間に、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハを反転させて前記長手方向の一方側と前記長手方向の他方側とを反対にする反転工程を有することを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の圧電振動片の製造方法であって、
前記ウエハ固定治具は、前記ウエハの前記第１面および前記第２面を露出する開口部を有し、
前記膜形成工程を行った後に、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハの前記第１面および前記第２面の表裏を反転させて、再度前記膜形成工程を行うことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の圧電振動片の製造方法であって、
前記膜形成材料は、前記溝部に電極をパターニングするときのマスクとなるフォトレジスト材であることを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された圧電振動片を備えたことを特徴とする圧電振動子。
【請求項７】
請求項６に記載の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴とする発振器。
【請求項８】
請求項６に記載の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴とする電子機器。
【請求項９】
請求項６に記載の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴とする電波時計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯情報端末機器には、時刻源や制御信号のタイミング源、リファレンス信号源等として、水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子は、様々なものが提供されているが、その１つとして、いわゆる音叉型の圧電振動片を有する圧電振動子が知られている。
【０００３】
ところで、搭載される機器の小型化に伴って、圧電振動片のさらなる小型化が望まれている。一般に、圧電振動子のＣＩ値（Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｉｍｐｅｄａｎｃｅ）を低く抑えつつ、圧電振動片の小型化を図る方法としては、圧電振動片の振動腕部の両主面に溝部を形成する方法が知られている。
【０００４】
例えば、特許文献１では、外部接続用の基部電極（本願のマウント電極に相当）を有する振動子基部（本願の基部に相当）と、前記振動子基部から連続して形成され、所定の周波数で振動する２本の振動子脚部（本願の振動腕部に相当）と、前記振動子脚部の表面又は裏面の少なくとも一方であって前記振動子基部にかからない領域に形成した溝部と、を有している。溝部には溝電極（本願の励振電極に相当）が形成され、これら溝部が設けられていない側面には側面電極（本願の励振電極に相当）が形成される。そして、振動子に外部から電圧が印加されると、溝電極と側面電極の間に電界が生じ、溝部の左右の壁部は圧電効果により互いに逆方向に伸縮して脚部が振動する。
【０００５】
溝電極や側面電極等の各電極を形成する具体的な方法は以下のとおりである。
まず、圧電振動片を形成するウエハに、スパッタリング等により金属膜を成膜する。続いて、金属膜に重ねてフォトレジスト材を塗布してフォトレジスト膜を形成する。その後、フォトリソグラフィによりフォトレジスト膜をパターニングして、各電極を形成するためのマスクを形成する。最後に、金属膜をエッチングすることにより、金属膜をパターニングして各電極を形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４４０９９７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、フォトレジスト材の塗布をスプレーコート法で行う場合には、例えばスプレーノズルを備えた噴霧器をウエハに向けてフォトレジスト材を噴霧する。
ここで、スプレーノズルをウエハの法線方向に沿って配置したときには、溝部の側面に沿ってフォトレジスト材が噴霧される。したがって、溝部の側面にフォトレジスト材を十分に塗布することができず、フォトレジスト膜が形成されない領域が発生するおそれがある。また、ウエハの法線方向に対してスプレーノズルを所定角度傾斜させ、溝部の一方側の側面に向けて配置したときには、溝部の一方側の側面にフォトレジスト膜を形成することができる。しかし、溝部の他方側の側面にはスプレーノズルを向けることができないため、溝部の他方側の側面に向かってフォトレジスト材を十分に塗布することができず、フォトレジスト膜が形成されない領域が発生するおそれがある。
さらに、フォトレジスト膜が形成されない領域が発生すると、電極を形成する際のマスクが不十分となる。この状態で金属膜をエッチングすると、フォトレジスト膜が形成されていない領域で電極が切れ、電極に不良が生じるおそれがある。
【０００８】
そこで本発明は、スプレーコート法において溝部の側面に膜形成材料を塗布でき、溝部の側面に膜をムラなく形成できる圧電振動片の製造方法と、この方法により製造された圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明の圧電振動片の製造方法は、ウエハから複数の圧電振動片を製造する圧電振動片の製造方法であって、前記圧電振動片は、幅方向に並んで配置された一対の振動腕部と、前記振動腕部の両主面上に、前記振動腕部の長手方向の基端側から前記長手方向の先端側に向かって形成された溝部と、を備え、前記ウエハの第１面または第２面のうち少なくとも一方に対して、スプレーコート法により膜形成材料を塗布し、前記振動腕部の外表面および前記溝部の内表面に膜を形成する膜形成工程を有しており、前記膜形成工程は、前記ウエハに前記膜形成材料を噴霧する噴霧器を備えた膜形成装置を用いて行い、前記ウエハの法線に対し前記長手方向の一方側に傾斜した第１方向から、前記噴霧器により前記ウエハに前記膜形成材料を塗布する第１塗布工程と、前記ウエハの法線に対し前記長手方向の他方側に傾斜した第２方向から、前記噴霧器により前記ウエハに前記膜形成材料を再度塗布する第２塗布工程と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、ウエハの法線に対して前記長手方向の一方側に傾斜した第１方向から、ウエハに膜形成材料を塗布する第１塗布工程を有している。また、ウエハの法線に対して前記長手方向の他方側に傾斜した第２方向から、ウエハに膜形成材料を塗布する第２塗布工程を有している。したがって、前記長手方向の一方側および他方側に配置された溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面を、膜形成材料を噴霧する方向に対向させることができる。これにより、溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面に向かって膜形成材料を塗布できるので、溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面に膜をムラなく形成することができる。
【００１０】
また、前記膜形成装置は、回転軸周りに回転可能な回転ドラムを備え、前記第１塗布工程および前記第２塗布工程は、前記回転ドラムの外周面に形成された取付部に、前記回転軸と前記長手方向とを沿わせつつ前記ウエハを取り付けた状態で、前記回転ドラムを回転させて行うことが望ましい。
本発明によれば、回転軸と長手方向とを沿わせつつウエハを取り付け、回転ドラムを回転させて第１塗布工程および第２塗布工程を行っている。したがって、回転ドラムの回転途中で、溝部の幅方向に配置された両側面を、膜形成材料を噴霧する方向に対向させることができる。これにより、溝部の幅方向の両側面に向かって膜形成材料を塗布できる。したがって、溝部の全ての側面に向かって膜形成材料を塗布できるので、全ての側面に膜をムラなく形成することができる。
【００１１】
また、前記膜形成装置は、複数の前記ウエハを取付可能なウエハ固定治具を備え、前記第１塗布工程および前記第２塗布工程は、前記ウエハ固定治具に前記複数のウエハを取り付け、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハを前記回転ドラムの前記取付部に取り付けて行い、前記第１塗布工程と前記第２塗布工程との間に、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハを反転させて前記長手方向の一方側と前記長手方向の他方側とを反対にする反転工程を有することが望ましい。
本発明によれば、ウエハ固定治具には複数のウエハを取り付けることができるので、ウエハ固定治具ごと複数のウエハを回転ドラムに取り付けることができる。これにより、回転ドラムに複数のウエハを短時間で容易に取り付けることができる。さらに、ウエハ固定治具ごと複数のウエハを反転させて、前記長手方向の一方側と前記長手方向の他方側とを反対にすることにより、反転工程を短時間で容易に行うことができる。
【００１２】
また、前記ウエハ固定治具は、前記ウエハの前記第１面および前記第２面を露出する開口部を有し、前記膜形成工程を行った後に、前記ウエハ固定治具ごと前記複数のウエハの前記第１面および前記第２面の表裏を反転させて、再度前記膜形成工程を行うことが望ましい。
本発明によれば、ウエハ固定治具は、ウエハの第１面および第２面を露出する開口部を有している。これにより、ウエハ固定治具にウエハを装着したまま、複数のウエハの第１面および第２面に膜形成材料を塗布することができる。さらに、ウエハ固定治具ごと複数のウエハの第１面および第２面の表裏を反転させるので、複数のウエハの表裏を一度に反転させることができる。したがって、複数のウエハの表裏を容易に反転させて、膜を形成することができる。
【００１３】
また、前記膜形成材料は、前記溝部に電極を形成するときのマスクとなるフォトレジスト材であることが望ましい。
本発明によれば、溝部の側面にフォトレジスト材を塗布してフォトレジスト膜を形成することができる。これにより、溝部に電極を形成する際のマスクをムラなく形成することができるので、エッチングの際に溝部の側面で電極膜が切れるのを防止することができる。したがって、導通不良のない電極を有する圧電振動片を形成することができる。
【００１４】
また、本発明の圧電振動子は、上述の製造方法により製造された圧電振動片を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、導通不良のない圧電振動子を提供することができる。
【００１５】
本発明の発振器は、上述の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の電子機器は、上述の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴とする。
本発明の電波時計は、上述の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の発振器、電子機器および電波時計によれば、導通不良のない圧電振動子を備えているので、信頼性が高く性能が良好な発振器、電子機器および電波時計を製造することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ウエハの法線に対して前記長手方向の一方側に傾斜した第１方向から、ウエハに膜形成材料を塗布する第１塗布工程を有している。また、ウエハの法線に対して前記長手方向の他方側に傾斜した第２方向から、ウエハに膜形成材料を塗布する第２塗布工程を有している。したがって、前記長手方向の一方側および他方側に配置された溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面を、膜形成材料を噴霧する方向に対向させることができる。これにより、溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面に向かって膜形成材料を塗布できるので、溝部の基端側の側面および溝部の先端側の側面に膜をムラなく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】圧電振動片の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】圧電振動片の製造方法のフローチャートである。
【図４】回転ドラムおよび噴霧器の説明図であり、図４（ａ）は側面図であり、図４（ｂ）は平面図である。
【図５】ウエハ固定治具の説明図であり、図５（ａ）は正面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のＢ−Ｂ線における断面図である。
【図６】ウエハセット工程の説明図である。
【図７】フォトレジスト膜形成工程の説明図である。
【図８】第１塗布工程の説明図である。
【図９】図７のＣ−Ｃ線における断面図である。
【図１０】反転工程および第２塗布工程の説明図である。
【図１１】圧電振動子の外観斜視図である。
【図１２】圧電振動子の内部構成図であって、リッド基板を取り外した状態の平面図である。
【図１３】図１２のＤ−Ｄ線における断面図である。
【図１４】図１１に示す圧電振動子の分解斜視図である。
【図１５】発振器の一実施形態を示す構成図である。
【図１６】電子機器の一実施形態を示す構成図である。
【図１７】電波時計の一実施形態を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
（圧電振動片）
最初に、本発明の実施形態に係る圧電振動片を、図面を参照して説明する。
図１は圧電振動片の平面図である。
図２は図１のＡ−Ａ線における断面図である。
図１および図２に示すように、本実施形態の圧電振動片４は、水晶から形成された音叉型の振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。この圧電振動片４は、平行に配置された一対の振動腕部１０，１１と、前記一対の振動腕部１０，１１の基端側を一体的に固定する基部１２と、一対の振動腕部１０，１１の両主面上に形成された溝部１８とを備えている。この溝部１８は、該振動腕部１０，１１の長手方向に沿って振動腕部１０，１１の基端側から略中間付近まで形成されている。
【００２０】
本実施形態の圧電振動片４は、一対の振動腕部１０，１１の外表面上に形成されて一対の振動腕部１０，１１を振動させる第１の励振電極１３および第２の励振電極１４からなる励振電極１５と、圧電振動片４をパッケージに実装するために基部１２に形成されたマウント電極１６，１７と、第１の励振電極１３および第２の励振電極１４とマウント電極１６，１７とを電気的接続する引き出し電極１９，２０と、を有している。
【００２１】
本実施形態において、励振電極１５および引き出し電極１９，２０は、後述するマウント電極１６，１７の下地層と同じ材料のクロムにより単層膜で形成されている。これにより、マウント電極１６，１７の下地層を成膜するのと同時に、励振電極１５および引き出し電極１９，２０を成膜することができる。ただし、この場合に限られず、例えば、ニッケルやアルミニウム、チタン等により励振電極１５および引き出し電極１９，２０を成膜しても構わない。
【００２２】
励振電極１５は、一対の振動腕部１０，１１を互いに接近又は離間する方向に所定の共振周波数で振動させる電極である。励振電極１５を構成する第１の励振電極１３および第２の励振電極１４は、一対の振動腕部１０，１１の外表面に、それぞれ電気的に切り離された状態でパターニングされて形成されている。また、第１の励振電極１３および第２の励振電極１４は、基部１２の両主面上において、それぞれ引き出し電極１９，２０を介して、後述するマウント電極１６，１７に電気的に接続されている。
【００２３】
本実施形態のマウント電極１６，１７は、クロムと金との積層膜であり、水晶と密着性の良いクロム膜を下地層として成膜した後に、表面に金の薄膜を仕上げ層として成膜することにより形成される。ただし、この場合に限られず、例えば、クロムとニクロムを下地層として成膜した後に、表面にさらに金の薄膜を仕上げ層として成膜しても構わない。
【００２４】
また、一対の振動腕部１０，１１の先端には、所定の周波数の範囲内で振動するように調整（周波数調整）を行うための重り金属膜２１が被膜されている。この重り金属膜２１は、周波数を粗く調整する際に使用される粗調膜２１ａと、微小に調整する際に使用される微調膜２１ｂとに分かれている。これら粗調膜２１ａおよび微調膜２１ｂを利用して周波数調整を行うことで、一対の振動腕部１０，１１の周波数をデバイスの公称周波数の範囲内に収めることができる。
【００２５】
（圧電振動片の製造方法）
次に、上述した圧電振動片４の製造工程について、フローチャートを参照しながら以下に説明する。
図３は、圧電振動片４の製造工程のフローチャートである。
本実施形態の圧電振動片の製造工程は、主に外形・溝部形成工程Ｓ１１０と、金属膜成膜工程Ｓ１１５と、ウエハセット工程Ｓ１２０と、フォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５と、表裏反転工程Ｓ１２９とを備えている。さらに、レジストパターン形成工程Ｓ１３０と、電極形成工程Ｓ１３５と、周波数調整工程Ｓ１４０と、小片化工程Ｓ１４５とを備えている。以下に各工程の詳細を説明する。
【００２６】
（外形・溝部形成工程Ｓ１１０）
まず、水晶ウエハに圧電振動片の外形形状を複数形成し、後に圧電振動片の溝部となる凹部を形成する外形・溝部形成工程Ｓ１１０を行う。具体的には、ポリッシングが終了し、所定の厚みに高精度に仕上げられたウエハを準備する。次いで、このウエハをフォトリソ技術によってエッチングして、ウエハに圧電振動片の外形形状を複数形成し、さらに溝部となる凹部を形成する。
【００２７】
（金属膜成膜工程Ｓ１１５）
次に、励振電極、引き出し電極およびマウント電極となる金属膜をウエハに成膜する金属膜成膜工程Ｓ１１５を行う。本実施形態では、水晶と密着性の良いクロムをスパッタ法や真空蒸着法等により数μｍ程度成膜している。さらに、クロム膜の上から仕上層として金の薄膜を施して形成される。但し、この場合に限られず、例えば、クロムとニクロムの積層膜の表面にさらに金の薄膜を積層しても構わないし、クロムやニッケル、アルミニウム、チタン等の単層膜でも構わない。なお、励振電極１３，１４および引き出し電極１９，２０はクロムのみの単層膜で形成されている。
【００２８】
（ウエハセット工程Ｓ１２０、フォトレジスト膜形成装置）
次に、金属膜が成膜されたウエハをフォトレジスト膜形成装置（請求項の「膜形成装置」に相当。）にセットするウエハセット工程Ｓ１２０を行う。
以下では、まずフォトレジスト膜形成装置を説明した後に、ウエハセット工程Ｓ１２０について詳述する。
【００２９】
図４は、回転ドラム７１および噴霧器７７の説明図であり、図４（ａ）は側面図であり、図４（ｂ）は平面図である。
図５は、ウエハ固定治具８０の説明図であり、図５（ａ）は正面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のＢ−Ｂ線における断面図である。
なお、以下の説明では、回転ドラムの回転方向をθ方向とし、正回転側を＋θ側とし、反対側を−θ側とする。また、回転ドラムの回転軸Ｐに沿った方向をＨ方向とし、一方側を＋Ｈ側とし、他方側を−Ｈ側とする。
本実施形態のフォトレジスト膜形成装置７０は、主に図４に示す回転軸Ｐ周りに回転可能な回転ドラム７１と、フォトレジスト材（本願の「膜形成材料」に相当。）を噴霧する噴霧器７７と、図５に示すウエハを複数固定するウエハ固定治具８０とで構成されている。
【００３０】
（回転ドラム）
回転ドラム７１は、回転軸Ｐに垂直な面に沿った断面形状が略正八角形をした柱状の部材であり、例えばアルミ等の金属により形成される。回転ドラム７１は、上方に＋Ｈ側を配置し、下方に−Ｈ側を配置して、回転軸Ｐが水平面に対して略垂直になるように設置されている。そして、回転ドラム７１は、駆動モータ（不図示）により回転軸Ｐ周りに回転する。
【００３１】
回転ドラム７１はウエハ取付部７１ａを有している。ウエハ取付部７１ａは、８面の平面からなる回転ドラム７１の外周面と、後述するウエハ固定治具８０を取り付けるための取付金具７３とで構成されている。
取付金具７３は、アルミ等の金属からなる部材であり、プレスや機械加工により形成される。取付金具７３は、回転ドラム７１の外周面の法線Ｋ方向から見て、略Ｕ字状に形成されており、一対の側部７４と底部７５とで形成されている。
【００３２】
側部７４は、ウエハ取付部７１ａの＋θ側および−θ側に、Ｈ方向に沿って略並行に一対延設されている。側部７４は、＋Ｈ側から見て略Ｌ字形状に形成されており、規制部７４ｂと、押え部７４ａとを有している。
規制部７４ｂは、ウエハ取付部７１ａから法線Ｋ方向に立設されている。一対の規制部７４ｂは、ウエハ固定治具８０のθ方向における幅（図５参照）と略同等か前記幅よりも若干広くなるように離間して配置される。これにより、ウエハ固定治具８０が取り付けられた回転ドラム７１が回転している時に、ウエハ固定治具８０がθ方向に移動するのを規制することができる。
押え部７４ａは、＋θ側および−θ側の規制部７４ｂのＫ方向先端から、対向する−θ側および＋θ側の規制部７４ｂに向かって、それぞれウエハ取付部７１ａと略並行に立設されている。対向する押え部７４ａは、ウエハ固定治具８０のθ方向における幅よりも狭くなるように離間して配置される。これにより、ウエハ固定治具８０が取り付けられた回転ドラム７１が回転している時に、ウエハ固定治具８０が径方向に移動して脱落するのを防止することができる。また、ウエハ取付部７１ａと押え部７４ａとは、ウエハ固定治具８０の板厚寸法Ｗ（図５参照）よりも若干広くなるように離間して配置される。これにより、後述するように、ウエハ取付部７１ａと押え部７４ａとの間にウエハ固定治具８０を配置することができる。
【００３３】
底部７５は、前述した一対の側部７４の−Ｈ側端部を接続している。底部７５の法線Ｋ方向の高さは、一対の側部７４の法線Ｋ方向の高さと略同一に形成されている。後述するように、回転ドラム７１にウエハ固定治具８０を取り付けた際に、ウエハ固定治具８０の−Ｈ側端部と取付金具７３の底部７５とが当接して、ウエハ固定治具８０が保持される。これにより、ウエハ固定治具８０が−Ｈ側に脱落するのを防止できる。
【００３４】
（噴霧器）
本実施形態の噴霧器７７は、主に回転ドラム７１に向けられた噴霧口７７ｂを有する噴霧ノズル７７ａにより構成されている。噴霧器７７は、法線Ｋ方向に対し＋Ｈ側に角度αだけ傾斜して配置されている。これにより、回転ドラム７１にウエハを取り付けてフォトレジスト材を塗布する際に、ウエハの法線Ｋ方向に対し＋Ｈ側に角度αだけ傾斜した噴霧方向Ｆから塗布することができる。ここで、後述するように、回転軸Ｐに沿ったＨ方向と、振動腕部の長手方向とを沿わせつつウエハ６０を取り付けている。したがって、噴霧方向Ｆは、振動腕部の長手方向の一方側に角度αで傾斜しており、請求項の第１方向に相当する。なお、角度αは、例えば２０°から５０°の間で固定して設定される。さらに、噴霧器７７は、不図示の駆動装置によって、角度αを保ちつつ＋Ｈ側および−Ｈ側に移動できるように構成されている。これにより、複数のウエハをＨ方向に並べて配置した場合でも、噴霧器７７をＨ方向に移動させることにより、Ｈ方向に配置された全てのウエハにフォトレジスト材を塗布することができる。なお、噴霧器７７は市販のスプレー等を用いてもよい。
【００３５】
（ウエハ固定治具）
図５に示すように、ウエハ固定治具８０は、Ｈ方向を長手方向とし、θ方向を幅方向とする平板状の部材であり、例えばアルミ等の金属により形成される。本実施形態のウエハ固定治具８０は、第１保持板８１と第２保持板８４とを重ね合わせることで形成されている。
第１保持板８１は、ウエハ６０の第１面６０ａを露出する開口部８１ａを有している。本実施形態では、開口部８１ａは、ウエハ６０の第１面６０ａにおけるフォトレジスト材の塗布範囲に対応して略正方形状に形成されている。また、開口部８１ａは、ウエハ６０の外形よりも若干小さくなるように形成されている。
図５（ｂ）に示すように、第１保持板８１における第２保持板８４との当接面８１ｂには、凹部８２が形成されている。凹部８２は、側面部８２ａと底面部８２ｂとを有している。凹部８２の深さは、ウエハ６０の板厚と略同一かそれよりも若干深く形成されている。側面部８２ａは、当接面８１ｂ側から見て、ウエハ６０の外形に対応して略正方形状に形成されている。側面部８２ａのＨ方向およびθ方向の長さは、ウエハ６０のＨ方向およびθ方向の長さと略同一かそれよりも若干長く形成されている。これにより、底面部８２ｂにウエハ６０の第１面６０ａを当接させて、凹部８２内にウエハ６０を配置することができる。
【００３６】
第２保持板８４は、第１保持板８１の開口部８１ａと対向する位置に、ウエハ６０の第２面６０ｂを露出する開口部８４ａを有している。第２保持板８４の開口部８４ａは、第１保持板８１の開口部８１ａと同様に、ウエハ６０の第２面６０ｂのフォトレジスト材の塗布範囲に対応して略正方形状に形成されており、ウエハ６０の外形よりも若干小さく形成されている。
上述の開口部８１ａ，８４ａおよび凹部８２は、ウエハ固定治具８０のＨ方向に並んで、所定間隔を空けて３箇所形成されている。したがって、本実施形態のウエハ固定治具８０には、３枚のウエハ６０をセットすることができる。凹部８２内にウエハ６０を配置し、第１保持板８１の当接面８１ｂに第２保持板８４を当接させることにより、第１保持板８１と第２保持板８４との間にウエハ６０を保持することができる。
【００３７】
（ウエハセット工程Ｓ１２０）
図６は、ウエハセット工程Ｓ１２０の説明図である。
次に、図６に示すように、上述したフォトレジスト膜形成装置にウエハ６０にセットするウエハセット工程Ｓ１２０を行う。
ウエハセット工程Ｓ１２０では、まず、ウエハ固定治具８０にウエハ６０をセットする。具体的には、図５（ｂ）に示すように、第１保持板８１の凹部８２内にウエハ６０を配置し、第１保持板８１の当接面８１ｂに第２保持板８４を当接させ、第１保持板８１と第２保持板８４とを重ね合わせた状態で固定する。本実施形態では、第１保持板８１側にウエハ６０の第１面６０ａを向け、第２保持板８４側にウエハ６０の第２面６０ｂを向けてウエハ６０を配置している。また、本実施形態では、ウエハ６０に形成された振動腕部の先端側が＋Ｈ側に、基端側が−Ｈ側になるようにウエハ６０を配置している。すなわち、回転軸Ｐに沿ったＨ方向と振動腕部の長手方向とを沿わせつつ、振動腕部の先端側の側面４０ｃが＋Ｈ側に、基端側の側面４０ｂが−Ｈ側になるようにウエハ６０を取り付けている。なお、第１保持板８１と第２保持板８４とは、第１保持板８１に設けたクリップ（不図示）により固定される。
【００３８】
続いて、図６に示すように、取付金具７３とウエハ取付部７１ａとの間にウエハ固定治具８０を挿入して、回転ドラム７１に複数のウエハ６０をウエハ固定治具８０ごと取り付ける。具体的には、回転ドラム７１のウエハ取付部７１ａと、第１保持板８１および第２保持板８４のいずれか一方（本実施形態では第２保持板８４）とを対向させる。そして、ウエハ取付部７１ａと取付金具７３の押え部７４ａとの間に、ウエハ固定治具８０を回転ドラム７１の＋Ｈ側から挿入する。ウエハ固定治具８０は、ウエハ取付部７１ａと取付金具７３の押え部７４ａとの間に配置される。したがって、ウエハ固定治具８０は、回転ドラム７１の径方向への移動が規制される。また、ウエハ固定治具８０の−Ｈ側端部は、取付金具７３の−Ｈ側に配置された底部７５と当接する。したがって、ウエハ固定治具８０は−Ｈ側への移動が規制される。これにより、回転ドラム７１を回転させても、ウエハ固定治具８０が回転ドラム７１から外れることがない。なお、取付金具７３の＋Ｈ側は開口しているため、回転ドラム７１の＋Ｈ側においてウエハ固定治具８０を挿抜できる。したがって、ウエハ固定治具８０は、回転ドラム７１に対して簡単に着脱できるように取り付けられている。また、本実施形態では、回転ドラム７１に形成された８面のウエハ取付部７１ａ全てに、ウエハ固定治具８０ごとウエハ６０を取り付けている。ウエハ固定治具８０には３枚のウエハ６０が取り付けられているため、回転ドラム７１には２４枚のウエハ６０が取り付けられる。
【００３９】
（フォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５）
図７は、フォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５の説明図である。
次に、図７に示すように、スプレーコート法によりフォトレジスト材を塗布し、ウエハ６０にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５を行う。
本実施形態のフォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５は、噴霧器７７からウエハ６０にフォトレジスト材を塗布する第１塗布工程Ｓ１２５Ａと、噴霧器７７およびウエハ６０を相対的に反転させる反転工程Ｓ１２５Ｂと、噴霧器７７からウエハ６０にフォトレジスト材を再度塗布する第２塗布工程Ｓ１２５Ｃと、を有している。
【００４０】
（第１塗布工程Ｓ１２５Ａ）
図８は、第１塗布工程Ｓ１２５Ａの説明図である。
なお、図８以降では、わかりやすくするために、回転ドラム７１およびウエハ固定治具８０の図示を省略している。また、ウエハ６０の溝部１８（１８ａ，１８ｂ）の大きさを誇張して表している。
具体的な第１塗布工程Ｓ１２５Ａの方法としては、例えば１００ｒｐｍ程度の回転速度で回転ドラム７１をθ方向に回転させつつ、＋Ｈ側および−Ｈ側に所定速度で噴霧器７７を移動させて、噴霧器７７からフォトレジスト材を噴霧する。これにより、ウエハ６０の法線Ｋ方向に対し＋Ｈ側に角度αだけ傾斜した噴霧方向Ｆから、複数のウエハ６０の第１面６０ａに対してフォトレジスト材を噴霧することができる。
【００４１】
ここで、前述のとおり、振動腕部の先端側の側面４０ｃが＋Ｈ側に、基端側の側面４０ｂが−Ｈ側になるようにウエハ６０を配置している。また、噴霧方向Ｆは、ウエハ６０の法線Ｋ方向に対して＋Ｈ側に角度αだけ傾斜している。このため、図８に示すように、−Ｈ側に配置された溝部１８ａの基端側の側面４０ｂおよび底面４０ａにおける基端側の側面４０ｂ側は、噴霧方向Ｆと対向することができる。したがって、第１塗布工程Ｓ１２５Ａでは、溝部１８ａの基端側の側面４０ｂおよび底面４０ａに、フォトレジスト膜５０を形成することができる。一方、＋Ｈ側に配置された先端側の側面４０ｃおよび底面４０ａにおける先端側の側面４０ｃの近傍は、噴霧方向Ｆと対向することができない。したがって、第１塗布工程Ｓ１２５Ａでは、先端側の側面４０ｃおよび底面４０ａにおける先端側の側面４０ｃの近傍には、フォトレジスト膜５０を形成することができない。
【００４２】
図９は回転ドラム７１が回転しているときの第１塗布工程Ｓ１２５Ａの説明図であり、図７のＣ−Ｃ線における断面図である。
図９に示すように、Ｈ方向から見て、ウエハ６０が噴霧方向Ｆより−θ側の位置にあるときは、溝部１８ａの−θ側面４０ｄは噴霧方向Ｆと対向することができる。また、Ｈ方向から見て、ウエハ６０が噴霧器７７の正面に位置するときは、溝部１８ａの底面４０ａは噴霧方向Ｆと対向することができる。さらに、Ｈ方向から見て、ウエハ６０が噴霧方向Ｆより＋θ側の位置にあるときは、溝部１８ａの＋θ側面４０ｅは噴霧方向Ｆと対向することができる。したがって、回転ドラム７１を回転させてフォトレジスト材を噴霧することにより、溝部１８ａの−θ側面４０ｄ、底面４０ａおよび＋θ側面４０ｅにフォトレジスト膜５０を形成することができる。
【００４３】
（反転工程Ｓ１２５Ｂ）
図１０は、反転工程Ｓ１２５Ｂおよび第２塗布工程Ｓ１２５Ｃの説明図である。
続いて、噴霧方向Ｆとウエハ６０との相対位置が法線Ｋ周りに反対になるように、噴霧器７７およびウエハ６０を相対的に反転させる反転工程Ｓ１２５Ｂを行う。
具体的な反転工程Ｓ１２５Ｂとしては、図６に示すように、回転ドラム７１にセットされたウエハ６０を、ウエハ固定治具８０ごと回転ドラム７１の＋Ｈ側に抜き出して、回転ドラム７１からウエハ固定治具８０ごとウエハ６０を全て取り外す。そして、ウエハ固定治具８０ごとウエハ６０の上下を反転させて、振動腕部の基端側の側面４０ｂを＋Ｈ側に、先端側の側面４０ｃを−Ｈ側に配置する。そして、再度回転ドラム７１の＋Ｈ側から、ウエハ取付部７１ａと取付金具７３の押え部７４ａとの間に、ウエハ固定治具８０を挿入する。これにより、図１０に示すように、第１塗布工程Ｓ１２５Ａに対して、噴霧方向Ｆとウエハ６０との相対位置が法線Ｋ周りに反対になるように、回転ドラム７１にウエハ６０を取り付けることができる。すなわち、＋Ｈ側には溝部１８ａの基端側の側面４０ｂが配置され、−Ｈ側には先端側の側面４０ｃが配置されるように、回転ドラム７１にウエハ６０を取り付けることができる。
【００４４】
（第２塗布工程Ｓ１２５Ｃ）
第１塗布工程Ｓ１２５Ａと同様に、回転ドラム７１をθ方向に回転させつつ、噴霧器７７を＋Ｈ側および−Ｈ側に所定速度で移動させて、第２塗布工程Ｓ１２５Ｃを行う。噴霧方向Ｆは、ウエハ６０の法線Ｋ方向に対し＋Ｈ側に角度αだけ傾斜している。ここで、前述の反転工程Ｓ１２５Ｂによりウエハ６０を反転したので、噴霧方向Ｆは、振動腕部の長手方向の他方側に角度αで傾斜している。したがって、第２塗布工程Ｓ１２５Ｃにおける噴霧方向Ｆは請求項の第２方向に相当する。
【００４５】
図１０に示すように、−Ｈ側に配置された溝部１８ａの先端側の側面４０ｃおよび底面４０ａにおける先端側の側面４０ｃ側は、噴霧方向Ｆと対向することができる。したがって、第２塗布工程Ｓ１２５Ｃでは、第１塗布工程Ｓ１２５Ａでフォトレジスト膜５０を形成することができなかった溝部１８ａの先端側の側面４０ｃおよび底面４０ａにおける先端側の側面４０ｃの近傍に、フォトレジスト膜５０を形成することができる。このように、第１塗布工程、反転工程および第２塗布工程を行うことで、溝部１８ａの内表面全体にフォトレジスト膜５０を形成することができる。
【００４６】
（塗布面の確認Ｓ１２７および表裏反転工程Ｓ１２９）
ウエハ６０の第１面６０ａにフォトレジスト材を塗布した後、ウエハ６０の第２面６０ｂにフォトレジスト材が形成されていない場合には（Ｓ１２７）、ウエハ６０の第２面６０ｂに対して再度フォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５を行う。このとき、ウエハ６０の第１面６０ａおよび第２面６０ｂの表裏を反転させ回転ドラム７１にウエハ６０を取り付ける表裏反転工程Ｓ１２９を行ってから、再度フォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５を行っている。
【００４７】
表裏反転工程Ｓ１２９では、前述の反転工程Ｓ１２５Ｂと同様に、回転ドラム７１にセットされたウエハ６０を、ウエハ固定治具８０ごと回転ドラム７１の＋Ｈ側に抜き出し、回転ドラム７１からウエハ固定治具８０ごとウエハ６０を全て取り外す。そして、ウエハ固定治具８０ごとウエハ６０の表裏を反転させ、再度回転ドラム７１の＋Ｈ側から、ウエハ取付部７１ａと取付金具７３の押え部７４ａとの間にウエハ固定治具８０を挿入する。このように、ウエハ固定治具８０により、複数のウエハ６０の第１面６０ａおよび第２面６０ｂの表裏を一度に反転させることができる。したがって、複数のウエハ６０の第１面６０ａおよび第２面６０ｂに対して、フォトレジスト膜５０を容易に形成することができる。
なお、ウエハ６０の第２面６０ｂにフォトレジスト材が塗布されている場合には（Ｓ１２７）、そのまま次の工程（レジストパターン形成工程Ｓ１３０以降）に進む。
【００４８】
（レジストパターン形成工程Ｓ１３０）
次に、上述のように形成されたフォトレジスト膜５０をフォトリソグラフィ技術によりパターニングするレジストパターン形成工程Ｓ１３０を行う。具体的には、まず、不図示のフォトマスクをセットし、紫外線を照射して露光を行う。ついで、現像液に浸漬することで、紫外線が露光されていない領域のフォトレジスト膜のみが選択的に除去される。これにより、金属膜成膜工程Ｓ１１５で形成したクロムの金属膜上にレジストパターンを形成することができる。本実施形態では、圧電振動片４の励振電極１３，１４、引き出し電極１９，２０およびマウント電極１６，１７に対応した位置にレジストパターンが残存する。
【００４９】
（電極形成工程Ｓ１３５）
次に、前述のレジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、各電極を形成する電極形成工程Ｓ１３５を行う。本工程では、レジストパターンによりマスクされている金属膜を残し、レジストパターンによりマスクされていない金属膜を選択的に除去する。前述のフォトレジスト膜形成工程Ｓ１２５により、圧電振動片の溝部１８の内表面の全面にわたって、ムラなくフォトレジスト膜５０を形成している。したがって、レジストパターン形成工程Ｓ１３０で残存した、溝部１８の内表面のレジストパターンは、ムラなく残存している。したがって、溝部１８の内表面に形成された金属膜がエッチングされることはないので、溝部１８での電極膜の切れを防止することができる。電極形成工程Ｓ１３５でエッチングを行うことで、圧電振動片４の励振電極１３，１４、引き出し電極１９，２０およびマウント電極１６，１７が形成される（図１参照）。
【００５０】
（周波数調整工程Ｓ１４０）
次に、一対の振動腕部１０，１１の先端に周波数調整用の粗調膜２１ａ及び微調膜２１ｂからなる重り金属膜２１（例えば、銀や金等）を形成する。そして、ウエハ６０に形成された全ての振動腕部１０，１１に対して、共振周波数を粗く調整する周波数調整工程Ｓ１４０を行う。重り金属膜２１の粗調膜２１ａおよび２１ｂにレーザ光を照射して一部を蒸発させ、重量を変化させることで行う。なお、共振周波数をより高精度に調整する微調に関しては、圧電振動子の製造時に行う。
【００５１】
（小片化工程Ｓ１４５）
最後にウエハと圧電振動片とを連結していた連結部を切断して、複数の圧電振動片をウエハから切り離して小片化する小片化工程Ｓ１４５を行う。これにより、１枚のウエハから、音叉型の圧電振動片４を一度に複数製造することができる。この時点で、圧電振動片４の製造工程が終了し、図１に示す圧電振動片４を複数得ることができる。
【００５２】
本実施形態によれば、図７に示すように、本発明によれば、ウエハ６０の法線Ｋに対して前記長手方向の一方側に傾斜した噴霧方向Ｆから、ウエハ６０にフォトレジスト材を塗布する第１塗布工程Ｓ１２５Ａを有している。また、ウエハ６０の法線Ｋに対して前記長手方向の他方側に傾斜した噴霧方向Ｆから、ウエハ６０にフォトレジスト材を塗布する第２塗布工程Ｓ１２５Ｃを有している。したがって、溝部１８の基端側の側面４０ｂおよび溝部１８の先端側の側面４０ｃを、噴霧方向Ｆに対向させることができる。これにより、溝部１８の基端側の側面４０ｂおよび溝部１８の先端側の側面４０ｃに向かってフォトレジスト材を塗布できるので、図１０に示すように、基端側の側面４０ｂおよび先端側の側面４０ｃにフォトレジスト膜５０をムラなく形成することができる。
【００５３】
また、本実施形態によれば、図６に示すように、ウエハ固定治具８０には複数のウエハ６０を取り付けることができるので、ウエハ固定治具８０ごと複数のウエハ６０を回転ドラム７１に取り付けることができる。これにより、回転ドラム７１に複数のウエハ６０を短時間で容易に取り付けることができる。さらに、ウエハ固定治具８０ごと複数のウエハ６０を反転させて、前記長手方向の一方側と前記長手方向の他方側とを反対にすることにより、反転工程Ｓ１２５Ｂを短時間で容易に行うことができる。
【００５４】
また、本実施形態によれば、図７に示すように、回転軸Ｐと振動腕部の長手方向とを沿わせつつウエハ６０を取り付け、回転ドラム７１を回転させて第１塗布工程Ｓ１２５Ａおよび第２塗布工程Ｓ１２５Ｃを行っている。したがって、図９に示すように、回転ドラム７１の回転途中で、溝部１８の＋θ側面４０ｅおよび−θ側面４０ｄを、噴霧方向Ｆに対向させることができる。これにより、溝部１８の＋θ側面４０ｅおよび−θ側面４０ｄに向かってフォトレジスト材を塗布できる。したがって、溝部１８の基端側の側面４０ｂ、先端側の側面４０ｃ、＋θ側面４０ｅおよび−θ側面４０ｄの全ての側面に向かってフォトレジスト材を塗布できるので、全ての側面にフォトレジスト膜５０をムラなく形成することができる。
【００５５】
さらに、本実施形態によれば、図１０に示すように、溝部１８ａの全ての側面にフォトレジスト材を塗布してフォトレジスト膜５０を形成している。これにより、溝部１８ａに各電極を形成する際のマスクをムラなく形成することができるので、エッチングの際に溝部１８ａの側面で電極膜が切れるのを防止することができる。したがって、導通不良のない電極を有する圧電振動片を形成することができる。
【００５６】
（パッケージ）
次に、上述した製造方法により製造された圧電振動片４を備えたパッケージについて説明する。
図１１は、圧電振動子の外観斜視図である。
図１２は、圧電振動子の内部構成図であって、リッド基板を取り外した状態の平面図である。
図１３は、図１２のＤ−Ｄ線における断面図である。
図１４は、図１１に示す圧電振動子の分解斜視図である。
なお、ベース基板２のリッド基板３との接合面を第１面Ｕとし、ベース基板２の外側の面を第２面Ｌとして説明する。また、図１４においては、図面を見易くするために励振電極１３，１４、引き出し電極１９，２０、マウント電極１６，１７および重り金属膜２１の図示を省略している。
図１１から図１４に示すように、リッド基板３は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる陽極接合可能な基板であり、略板状に形成されている。リッド基板３におけるベース基板２との接合面側には、圧電振動片４を収容するキャビティ用凹部３ａが形成されている。
【００５７】
リッド基板３におけるベース基板２との接合面側の全体に、陽極接合用の接合膜３５が形成されている。すなわち接合膜３５は、キャビティ用凹部３ａの内面全体に加えて、キャビティ用凹部３ａの周囲の額縁領域に形成されている。本実施形態の接合膜３５はシリコン膜で形成されているが、接合膜３５をアルミニウムで形成することも可能である。後述するように、この接合膜３５とベース基板２とが陽極接合されることにより、キャビティＣが真空封止されている。
【００５８】
ベース基板２は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる基板であり、図１１から図１４に示すように、リッド基板３と同等の外形で略板状に形成されている。また、このベース基板２には、ベース基板２を厚さ方向に貫通する一対の貫通孔３０，３１と、一対の貫通電極３２，３３とが形成されている。貫通電極３２，３３は、ベース基板２を貫通する貫通孔３０，３１内に配置されている。
貫通孔３０，３１の中心軸に垂直な方向の断面形状は、円形状となるように形成されている。また、図１２および図１３に示すように、貫通孔３０，３１は、圧電振動子１を形成したときにキャビティＣ内に収まるように形成される。より詳しく説明すると、本実施形態の貫通孔３０，３１は、後述する実装工程で実装される圧電振動片４の基部１２側に対応した位置に一方の貫通孔３０が形成され、振動腕部１０，１１の先端側に対応した位置に他方の貫通孔３１が形成される。
【００５９】
貫通電極３２，３３は、例えば貫通孔３０，３１に金属ピン（不図示）を挿入したのち、貫通孔３０，３１と金属ピンとの間にガラスフリットを充填して焼成することで形成される。このように、金属ピンとガラスフリットとで貫通孔３０，３１を完全に塞ぐことができるので、キャビティＣ内の気密を維持しつつ、引き回し電極３６，３７と外部電極３８，３９とを導通させる役割を担っている。
【００６０】
図１２から図１４に示すように、ベース基板２の第１面Ｕ側には、一対の引き回し電極３６，３７がパターニングされている。一対の引き回し電極３６，３７のうち、一方の引き回し電極３６は、一方の貫通電極３２の真上に位置するように形成されている。また、他方の引き回し電極３７は、一方の引き回し電極３６に隣接した位置から、振動腕部１０，１１に沿って前記振動腕部１０，１１の先端側に引き回しされた後、他方の貫通電極３３の真上に位置するように形成されている。
【００６１】
そして、図１４に示すように、一対の引き回し電極３６，３７上にバンプＢが形成されている。また、バンプＢは、マウント電極１６，１７の仕上げ層と同じ金材料により形成される。これにより、フリップチップボンディングによりマウント電極１６，１７をバンプＢに接合する際に、マウント電極１６，１７とバンプＢとの金属拡散を十分に実現することができる。
【００６２】
圧電振動片４のマウント電極１６，１７は、バンプＢを介してベース基板２に実装されている。これにより、圧電振動片４の一方のマウント電極１６が、一方の引き回し電極３７を介して一方の貫通電極３３に導通し、他方のマウント電極１７が、他方の引き回し電極３６を介して他方の貫通電極３２に導通するようになっている。
【００６３】
またベース基板２の第２面Ｌには、図１１、図１３および図１４に示すように、一対の外部電極３８，３９が形成されている。一対の外部電極３８，３９は、ベース基板２の長手方向の両端部に形成され、一対の貫通電極３２，３３に対してそれぞれ電気的に接続されている。
【００６４】
このように構成された圧電振動子１を作動させる場合には、ベース基板２に形成された外部電極３８，３９に対して、所定の駆動電圧を印加する。これにより、圧電振動片４の第１の励振電極１３および第２の励振電極１４からなる励振電極１５に電圧を印加することができるので、一対の振動腕部１０，１１を接近・離間させる方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この一対の振動腕部１０，１１の振動を利用し、時刻源や制御信号のタイミング源、リファレンス信号源等として圧電振動子１を利用することができる。
【００６５】
（発振器）
次に、本発明に係る発振器の一実施形態について、図１５を参照しながら説明する。
本実施形態の発振器１１０は、図１５に示すように、圧電振動子１を、集積回路１１１に電気的に接続された発振子として構成したものである。この発振器１１０は、コンデンサ等の電子素子部品１１２が実装された基板１１３を備えている。基板１１３には、発振器用の集積回路１１１が実装されており、この集積回路１１１の近傍に、圧電振動子１の圧電振動片が実装されている。これら電子素子部品１１２、集積回路１１１及び圧電振動子１は、図示しない配線パターンによってそれぞれ電気的に接続されている。なお、各構成部品は、図示しない樹脂によりモールドされている。
【００６６】
このように構成された発振器１１０において、圧電振動子１に電圧を印加すると、圧電振動子１内の圧電振動片が振動する。この振動は、圧電振動片が有する圧電特性により電気信号に変換されて、集積回路１１１に電気信号として入力される。入力された電気信号は、集積回路１１１によって各種処理がなされ、周波数信号として出力される。これにより、圧電振動子１が発振子として機能する。
また、集積回路１１１の構成を、例えば、ＲＴＣ（リアルタイムクロック）モジュール等を要求に応じて選択的に設定することで、時計用単機能発振器等の他、当該機器や外部機器の動作日や時刻を制御したり、時刻やカレンダー等を提供したりする機能を付加することができる。
【００６７】
本実施形態の発振器１１０によれば、導通不良のない圧電振動子１を備えているので、信頼性が高く性能が良好な発振器１１０を製造することができる。
【００６８】
（電子機器）
次に、本発明に係る電子機器の一実施形態について、図１６を参照して説明する。なお電子機器として、前述した圧電振動子１を有する携帯情報機器１２０を例にして説明する。
始めに本実施形態の携帯情報機器１２０は、例えば、携帯電話に代表されるものであり、従来技術における腕時計を発展、改良したものである。外観は腕時計に類似し、文字盤に相当する部分に液晶ディスプレイを配し、この画面上に現在の時刻等を表示させることができるものである。また、通信機として利用する場合には、手首から外し、バンドの内側部分に内蔵されたスピーカ及びマイクロフォンによって、従来技術の携帯電話と同様の通信を行うことが可能である。しかしながら、従来の携帯電話と比較して、格段に小型化及び軽量化されている。
【００６９】
次に、本実施形態の携帯情報機器１２０の構成について説明する。この携帯情報機器１２０は、図１６に示すように、圧電振動子１と、電力を供給するための電源部１２１とを備えている。電源部１２１は、例えば、リチウム二次電池からなっている。この電源部１２１には、各種制御を行う制御部１２２と、時刻等のカウントを行う計時部１２３と、外部との通信を行う通信部１２４と、各種情報を表示する表示部１２５と、それぞれの機能部の電圧を検出する電圧検出部１２６とが並列に接続されている。そして、電源部１２１によって、各機能部に電力が供給されるようになっている。
【００７０】
制御部１２２は、各機能部を制御して音声データの送信や受信、現在時刻の計測、表示等、システム全体の動作制御を行う。また、制御部１２２は、予めプログラムが書き込まれたＲＯＭと、該ＲＯＭに書き込まれたプログラムを読み出して実行するＣＰＵと、該ＣＰＵのワークエリアとして使用されるＲＡＭ等とを備えている。
【００７１】
計時部１２３は、発振回路やレジスタ回路、カウンタ回路、インターフェース回路等を内蔵する集積回路と、圧電振動子１とを備えている。圧電振動子１に電圧を印加すると圧電振動片が振動し、該振動が水晶の有する圧電特性により電気信号に変換されて、発振回路に電気信号として入力される。発振回路の出力は二値化され、レジスタ回路とカウンタ回路とにより計数される。そして、インターフェース回路を介して、制御部１２２と信号の送受信が行われ、表示部１２５に、現在時刻や現在日付或いはカレンダー情報等が表示される。
【００７２】
通信部１２４は、従来の携帯電話と同様の機能を有し、無線部１２７、音声処理部１２８、切替部１２９、増幅部１３０、音声入出力部１３１、電話番号入力部１３２、着信音発生部１３３及び呼制御メモリ部１３４を備えている。
無線部１２７は、音声データ等の各種データを、アンテナ１３５を介して基地局と送受信のやりとりを行う。音声処理部１２８は、無線部１２７又は増幅部１３０から入力された音声信号を符号化及び複号化する。増幅部１３０は、音声処理部１２８又は音声入出力部１３１から入力された信号を、所定のレベルまで増幅する。音声入出力部１３１は、スピーカやマイクロフォン等からなり、着信音や受話音声を拡声したり、音声を集音したりする。
【００７３】
また、着信音発生部１３３は、基地局からの呼び出しに応じて着信音を生成する。切替部１２９は、着信時に限って、音声処理部１２８に接続されている増幅部１３０を着信音発生部１３３に切り替えることによって、着信音発生部１３３において生成された着信音が増幅部１３０を介して音声入出力部１３１に出力される。
なお、呼制御メモリ部１３４は、通信の発着呼制御に係るプログラムを格納する。また、電話番号入力部１３２は、例えば、０から９の番号キー及びその他のキーを備えており、これら番号キー等を押下することにより、通話先の電話番号等が入力される。
【００７４】
電圧検出部１２６は、電源部１２１によって制御部１２２等の各機能部に対して加えられている電圧が、所定の値を下回った場合に、その電圧降下を検出して制御部１２２に通知する。このときの所定の電圧値は、通信部１２４を安定して動作させるために必要な最低限の電圧として予め設定されている値であり、例えば、３Ｖ程度となる。電圧検出部１２６から電圧降下の通知を受けた制御部１２２は、無線部１２７、音声処理部１２８、切替部１２９及び着信音発生部１３３の動作を禁止する。特に、消費電力の大きな無線部１２７の動作停止は、必須となる。更に、表示部１２５に、通信部１２４が電池残量の不足により使用不能になった旨が表示される。
【００７５】
すなわち、電圧検出部１２６と制御部１２２とによって、通信部１２４の動作を禁止し、その旨を表示部１２５に表示することができる。この表示は、文字メッセージであっても良いが、より直感的な表示として、表示部１２５の表示面の上部に表示された電話アイコンに、×（バツ）印を付けるようにしても良い。
なお、通信部１２４の機能に係る部分の電源を、選択的に遮断することができる電源遮断部１３６を備えることで、通信部１２４の機能をより確実に停止することができる。
【００７６】
本実施形態の携帯情報機器１２０によれば、導通不良のない圧電振動子１を備えているので、信頼性が高く性能が良好な携帯情報機器１２０を製造することができる。
【００７７】
（電波時計）
次に、本発明に係る電波時計の一実施形態について、図１７を参照して説明する。
本実施形態の電波時計１４０は、図１７に示すように、フィルタ部１４１に電気的に接続された圧電振動子１を備えたものであり、時計情報を含む標準の電波を受信して、正確な時刻に自動修正して表示する機能を備えた時計である。
日本国内には、福島県（４０ｋＨｚ）と佐賀県（６０ｋＨｚ）とに、標準の電波を送信する送信所（送信局）があり、それぞれ標準電波を送信している。４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚのような長波は、地表を伝播する性質と、電離層と地表とを反射しながら伝播する性質とを併せもつため、伝播範囲が広く、前述した２つの送信所で日本国内を全て網羅している。
【００７８】
以下、電波時計１４０の機能的構成について詳細に説明する。
アンテナ１４２は、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚの長波の標準電波を受信する。長波の標準電波は、タイムコードと呼ばれる時刻情報を、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚの搬送波にＡＭ変調をかけたものである。受信された長波の標準電波は、アンプ１４３によって増幅され、複数の圧電振動子１を有するフィルタ部１４１によって濾波、同調される。
本実施形態における圧電振動子１は、前記搬送周波数と同一の４０ｋＨｚ及び６０ｋＨｚの共振周波数を有する水晶振動子部１４８、１４９をそれぞれ備えている。
【００７９】
更に、濾波された所定周波数の信号は、検波、整流回路１４４により検波復調される。
続いて、波形整形回路１４５を介してタイムコードが取り出され、ＣＰＵ１４６でカウントされる。ＣＰＵ１４６では、現在の年や積算日、曜日、時刻等の情報を読み取る。読み取られた情報は、ＲＴＣ１４８に反映され、正確な時刻情報が表示される。
搬送波は、４０ｋＨｚ若しくは６０ｋＨｚであるから、水晶振動子部１４８、１４９は、前述した音叉型の構造を持つ振動子が好適である。
【００８０】
なお、前述の説明は、日本国内の例で示したが、長波の標準電波の周波数は、海外では異なっている。例えば、ドイツでは７７．５ＫＨｚの標準電波が用いられている。従って、海外でも対応可能な電波時計１４０を携帯機器に組み込む場合には、さらに日本の場合とは異なる周波数の圧電振動子１を必要とする。
【００８１】
本実施形態の電波時計１４０によれば、導通不良のない圧電振動子１を備えているので、信頼性が高く性能が良好な電波時計１４０を製造することができる。
【００８２】
なお、この発明は上述した実施の形態に限られるものではない。
本実施形態では、回転ドラムに設けられた取付金具と回転ドラムのウエハ取付部との間にウエハ固定治具を挿入することで、回転ドラムにウエハ固定治具を取り付けている。しかし、たとえば、ボルト等を用いて回転ドラムにウエハ固定治具を取り付けてもよい。ただし、簡単にウエハ固定治具を回転ドラムから着脱できる点で、本実施形態に優位性がある。
【００８３】
本実施形態では、ウエハ固定治具を用いて回転ドラムにウエハを取り付けているが、回転ドラムに直接ウエハを取り付けてもよい。ただし、複数のウエハを一度に簡単に着脱できる点で本実施形態に優位性がある。
【００８４】
本実施形態では、圧電振動片の溝部の側面にフォトレジスト材を塗布しているが、溝部に限らず、凹部が形成されている場合には同様の手法を適用することができる。また、塗布する材料はフォトレジスト材に限られない。
【００８５】
本実施形態では、表面実装型の圧電振動子に本発明の圧電振動片を採用している。しかし、これに限らず、例えばシリンダーパッケージタイプの圧電振動子に本発明の圧電振動片を採用しても構わない。
【符号の説明】
【００８６】
１・・・圧電振動子  ４・・・圧電振動片  １０，１１・・・振動腕部  １８（１８ａ，１８ｂ）・・・溝部  ５０・・・フォトレジスト膜（膜）  ６０・・・ウエハ  ６０ａ・・・第１面  ６０ｂ・・・第２面  ７０・・・膜形成装置  ７１・・・回転ドラム  ７１ａ・・・ウエハ取付部（取付部）    ７７・・・噴霧器  ８０・・・ウエハ固定治具  １１０・・・発振器  １２０・・・携帯情報機器（電子機器）  １４０・・・電波時計  Ｓ１２５・・・フォトレジスト膜形成工程（膜形成工程）  Ｓ１２５Ａ・・・第１塗布工程  Ｓ１２５Ｂ・・・反転工程  Ｓ１２５Ｃ・・・第２塗布工程  Ｆ・・・噴霧方向（第１方向、第２方向）  Ｋ・・・法線  Ｐ・・・回転軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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