(57)【要約】【課題】データストレージのベースフィルムに用いても優れた電磁変換特性を発現できる走行性に優れた二軸配向積層フィルムの提供。【解決手段】磁性層形成側に位置するフィルム層Ａは、平均粒径０．０５〜０．１５μｍと平均粒径が０．２０〜０．４０μｍの不活性球状粒子を０．０５〜０．２０質量％と０．０３〜０．１０質量％含有し、他方の表面に位置するフィルム層Ｂは、平均粒径０．０５〜０．１５μｍと平均粒径０．２０〜０．４０μｍと平均粒径０．４５〜０．５５μｍの不活性球状粒子を０．０５〜０．２５質量％と０．０３〜０．５０質量％と０〜０．０３質量％含有し、表面粗さが磁性層側６〜１５ｎｍで、他方は磁性層側よりも１ｎｍ以上大きくかつ１０〜２５ｎｍで、磁性層側の表面粗さの周波数解析による波長７０μｍでの強度が０．４０〜０．９０ｎｍの範囲にある二軸配向積層フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録テープのベースフィルムに用いるフィルム層Ａおよび層Ｂからなる二軸配向積層フィルムであって、
フィルム層Ａは、磁性層を形成する側の表面（表面Ａ）に位置し、フィルム層Ａの質量を基準として、平均粒径０．０５〜０．１５μｍの不活性球状粒子（Ａ１）を０．０５〜０．２０質量％含有し、かつ平均粒径が０．２０〜０．４０μｍの不活性球状粒子（Ａ２）を０．０３〜０．１０質量％含有すること、
フィルム層Ｂは、磁性層を形成しない側の表面（表面Ｂ）に位置し、フィルム層Ｂの質量を基準として平均粒径０．０５〜０．１５μｍの不活性球状粒子（Ｂ１）を０．０５〜０．２５質量％含有し、平均粒径が０．２０〜０．４０μｍの不活性球状粒子（Ｂ２）を０．０３〜０．５０質量％含有し、かつ平均粒径が０．４５〜０．５５μｍの不活性球状有機粒子（Ｂ３）を含有しないか、０．０１〜０．０３質量％含有すること、そして
表面Ａの表面粗さ（ＲａＡ）が６〜１５ｎｍで、表面Ｂの表面粗さ（ＲａＢ）がＲａＡよりも１ｎｍ以上大きくかつ１０〜２５ｎｍであり、表面Ａの表面粗さを周波数解析したときの波長７０μｍでの強度が０．４０ｎｍ〜０．９０ｎｍ以下であることを特徴とする二軸配向積層フィルム。
【請求項２】
フィルムが、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルからなる請求項１記載の二軸配向積層フィルム。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載の二軸配向積層フィルムと、その表面Ａ側に形成された磁性層とからなる記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージ。
【請求項４】
磁性層が塗布によって形成され、記録方式がリニア記録方式である請求項３記載のデータストレージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムに用いる二軸配向積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１〜５には、磁気テープとしたときのエラーを低減するために、ベースフィルムの表面を平坦にすることや、ベースフィルム中に含有させる粒子として粗大粒子の少ないものを用いること、およびその両方を具備したフィルムが提案されている。
【０００３】
しかしながら、前述の特許文献１〜５で提案されるような平坦でかつ表面欠点が少ないフィルムだと、表面が非常に平坦であることから、フィルムの製膜工程やデータストレージの加工工程において、生産性を向上させようと搬送速度などを速くすると、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きいことから、破断などの工程トラブルが頻発し、生産性を向上できないといった問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１１４４９２号公報
【特許文献２】特開２００３−２９１２８８号公報
【特許文献３】特開２００２−３６３３１１号公報
【特許文献４】特開２００２−３６３３１０号公報
【特許文献５】特開２００２−０５９５２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムに用いても優れた電磁変換特性を発現でき、フィルムの製膜工程やデータストレージの加工工程において、優れた生産性も発現できる二軸配向フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究した結果、データストレージの製造工程において、磁性層の平坦化処理（カレンダー加工など）を併用し、かつ、ベースフィルムの表面にあるこれまであまり問題視されなかった特定の周期のうねりを低減させることで，Ｒａで表す表面粗さが粗いものであっても高い電磁変換特性が得られることを見出し、本発明に到達した。
【０００７】
かくして本発明によれば、磁気記録テープのベースフィルムに用いるフィルム層Ａおよび層Ｂからなる二軸配向積層フィルムであって、
フィルム層Ａは、磁性層を形成する側の表面（表面Ａ）に位置し、フィルム層Ａの質量を基準として、平均粒径０．０５〜０．１５μｍの不活性球状粒子（Ａ１）を０．０５〜０．２０質量％含有し、かつ平均粒径が０．２０〜０．４０μｍの不活性球状粒子（Ａ２）を０．０３〜０．１０質量％含有すること、
フィルム層Ｂは、磁性層を形成しない側の表面（表面Ｂ）に位置し、フィルム層Ｂの質量を基準として平均粒径０．０５〜０．１５μｍの不活性球状粒子（Ｂ１）を０．０５〜０．２５質量％含有し、平均粒径が０．２０〜０．４０μｍの不活性球状粒子（Ｂ２）を０．０３〜０．５０質量％含有し、かつ平均粒径が０．４５〜０．５５μｍの不活性球状有機粒子（Ｂ３）を含有しないか、０．０１〜０．０３質量％含有すること、そして
表面Ａの表面粗さ（ＲａＡ）が６〜１５ｎｍで、表面Ｂの表面粗さ（ＲａＢ）がＲａＡよりも１ｎｍ以上大きくかつ１０〜２５ｎｍであり、表面Ａの表面粗さを周波数解析したときの波長７０μｍでの強度が０．４０ｎｍ〜０．９０ｎｍである二軸配向積層フィルムが提供される。
【０００８】
また、本発明によれば、フィルムが、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルからなる二軸配向積層フィルムも提供される。
さらにまた、本発明によれば、上記本発明の二軸配向積層フィルムと、その表面Ａ側に形成された磁性層とからなる記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージ、さらに磁性層が塗布によって形成され、記録方式がリニア記録方式であるデータストレージも提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の二軸配向積層フィルムは、表面粗さが粗いことから、フィルム製膜工程やデータストレージの加工工程において、走行性に優れ、工程トラブルを減少して，歩留まりを上げることができ、しかも、特定周期のうねりが低減されていることから、記憶容量が０．８ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムに用いたとき、優れた電磁変換特性をも発現することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について、詳述する。
本発明の二軸配向積層フィルムは、磁性層を形成する側の表面の表面粗さ（ＲａＡ）が６〜１５ｎｍであり、好ましくは７〜１４ｎｍであり、さらに好ましくは８〜１３ｎｍである。ＲａＡが下限未満では、二軸配向積層フィルムの表面Ａが平坦過ぎて、フィルムの製膜工程やデータストレージの加工工程において、搬送ロール等との摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを引き起したり、歩留まりが極端に悪くなる。一方、上限を超えると、データストレージの製造工程でも電磁変換特性への影響を抑えることが困難になり、データストレージとしたときに、エラーが発生したり、電磁変換特性が低下したりする。
【００１１】
また、本発明の二軸配向積層フィルムは、他方の表面（表面Ｂ）、すなわち磁性層を形成しない側表面は、その表面粗さ（ＲａＢ）がＲａＡよりも１ｎｍ以上大きく、かつ１０〜２５ｎｍである。ＲａＢとＲａＡとの差が１ｎｍ未満では、走行性と電磁変換特性とを高度に両立するのが難しくなる。また、ＲａＢが下限未満では、二軸配向積層フィルムの表面Ｂが平坦過ぎて、フィルムの製膜工程やデータストレージの加工工程において、搬送ロール等との摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを引き起したり、歩留まりが極端に悪くなる。一方、ＲａＢが上限を超えると、データストレージの製造工程でも電磁変換特性への影響を抑えることが困難になり、データストレージとしたときに、エラーが発生したり、電磁変換特性が低下したりする。好ましいＲａＢの範囲は、１１〜２２ｎｍ、さらに１３〜２０ｎｍの範囲である。
【００１２】
さらにまた、本発明の二軸配向積層フィルムは、表面Ａの表面粗さを周波数解析したときの波長７０μｍの強度が０．１０ｎｍ〜０．９５ｎｍであり、好ましくは０．２０ｎｍ〜０．８５ｎｍであり、さらに好ましくは０．２５ｎｍ〜０．８０ｎｍｎｍである。波長７０μmのうねりは電磁変換特性悪化させるため，上限を超えると，データストレージとしたときにエラーが多発してしまう。なお、ここでいう波長７０μｍの強度とは、そもそも表面粗さのうねりを表すものであり、表面Ａ側の表面を形成する後述のフィルム層Ａ中の不活性粒子による突起や、表面Ｂ側の表面を形成する後述のフィルム層Ｂ中の不活性粒子による突き上げなどによって大きくなる。そして、微細な凹凸は磁性層の形成過程で電磁変換特性などに影響しないように加工できるが、この波長７０μｍの大きなうねりは、その磁性層の形成過程でも影響しないようにすることが困難であり、それを見出し、かつ抑制したのが本発明の特徴の一つである。
【００１３】
ところで、このような表面粗さと波長７０μｍの強度とは、それぞれの表面Ａおよび表面Ｂを形成するフィルム層に含有させる不活性粒子の種類、粒径、粒子量およびそれらの組み合わせならびに延伸条件によって調整できる。以下、それらについて、詳述する。
【００１４】
まず、表面Ａを形成するフィルム層Ａは、後述の不活性球状粒子（Ａ１）および不活性球状粒子（Ａ２）の２種を特定量含有させる。１種類だけでは、表面粗さを上記範囲にしつつ、波長７０μｍの強度を０．４０〜０．９０ｎｍの範囲にするのが難しくなる。不活性球状粒子（Ａ１）の平均粒径（ＤＡ１）は、０．０５〜０．１５μｍ、さらに０．０７〜０．１４μｍの範囲にあることが好ましい。ＤＡ１が上記下限未満では、表面粗さが平坦過ぎて走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、うねりが大きくなり波長７０μmの強度が増し電磁変換特性悪化、となりやすい。また、含有させる該不活性球状粒子（Ａ１）の含有量（ＷＡ１）は、フィルム層Ａの質量を基準として、０．０５〜０．２０質量％、さらに０．０７〜０．１８質量％、特に０．０８〜０．１５質量％の範囲で含有させることが好ましい。ＷＡ１が上記下限未満では、摩擦係数が大きくなり走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、表面粗さが粗くなりすぎ電磁変換特性悪化となりやすい。つぎに、不活性球状粒子（Ａ２）の平均粒径（ＤＡ２）は、０．２０〜０．４０μｍ、さらに０．１８〜０．３６μｍの範囲にあることが好ましい。ＤＡ２が上記下限未満では、ＤＡ１との差が小さくなり過ぎ摩擦係数が大きくなり、他方上記上限を超えるようでは、スペーシングロスが大きくなり電磁変換特性悪化となりエラーが発生しやすい。また、含有させる該不活性球状粒子（Ａ２）の含有量（ＷＡ２）は、不活性粒子Ａ２を含有するフィルム層の質量を基準として、０．０３〜０．１０質量％、さらに０．０３〜０．０８質量％、特に０．０５〜０．０８質量％の範囲で含有させることが好ましい。ＷＡ２が上記下限未満では、摩擦係数が大きくなり走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、表面粗さが粗くなりすぎ電磁変換特性悪化となりやすい。
【００１５】
このような不活性球状粒子（Ａ１）および（Ａ２）としては、粗大粒子を含まないか含有するとしても極めて少ない粒度分布がシャープな、一次粒子の状態で存在しやすい不活性粒子であることが好ましい。そのような観点から、不活性球状粒子（Ａ１）および（Ａ２）としては、シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、架橋ポリスチレンなどの有機高分子粒子および球状シリカからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましく、特にシリコーン樹脂、架橋ポリスチレンおよび球状シリカからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましい。なお、本発明における球状とは、例えば長径と短経の比が２以下の略球状から１の真球状を包含するものである。
【００１６】
つぎに、表面Ｂを形成するフィルム層Ｂは、後述の不活性球状粒子（Ｂ１）および不活性球状粒子（Ｂ２）の２種もしくはさらに不活性球状有機粒子（Ｂ３）の３種類を特定量含有させることが上述の表面特性を発現させる上で好ましい。１種類だけでは、表面粗さを上記範囲にしつつ、波長７０μｍの強度を０．４０〜０．９０ｎｍの範囲にするのが難しくなる。
【００１７】
まず、不活性球状粒子（Ｂ１）の平均粒径（ＤＢ１）は、０．０５〜０．１５μｍ、さらに０．０７〜０．１４μｍの範囲にあることが好ましい。ＤＢ１が上記下限未満では、表面粗さが平坦過ぎて走行性不良となり、他方上記上限を超えるようでは、表面Ａへの突き上げが大きくなり電磁変換特性悪化となりやすい。また、含有させる該不活性球状粒子（Ｂ１）の含有量（ＷＢ１）は、フィルム層Ｂの質量を基準として、０．０５〜０．１５質量％、さらに０．０６〜０．１３質量％、特に０．０８〜０．１２質量％の範囲で含有させることが好ましい。ＷＢ１が上記下限未満では、摩擦係数が大きくなり走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、表面Ａへの突き上げによりうねりが大きくなり電磁変換特性悪化となりやすい。
【００１８】
つぎに、不活性球状粒子（Ｂ２）の平均粒径（ＤＢ２）は、０．２０〜０．４０μｍ、さらに０．２４〜０．３６μｍの範囲にあることが好ましい。ＤＡ２が上記下限未満では、摩擦係数が大きくなり走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、表面粗さが粗くなりすぎうねりが大きく電磁変換特性悪化となりやすい。また、含有させる該不活性球状粒子（Ｂ２）の含有量（ＷＢ２）は、不活性粒子Ｂ２を含有するフィルム層の質量を基準として、０．０３〜０．５０質量％、さらに０．０５〜０．４６質量％、特に０．０６〜０．４２質量％の範囲で含有させることが好ましい。ＷＢ２が上記下限未満では、ＤＢ１との差が小さくなり過ぎ摩擦係数が大きくなり、他方上記上限を超えるようでは、突き上げによるうねりが大きくなりすぎ電磁変換特性悪化となりやすい。
【００１９】
さらにまた、本発明の二軸配向積層フィルムは、さらに不活性球状有機粒子（Ｂ３）を含有することが好ましい。不活性球状粒子（Ｂ３）の平均粒径（ＤＢ３）は、０．４５〜０．５５μｍ、さらに０．４７〜０．５３μｍの範囲にあることが好ましい。ＤＢ３が上記下限未満では、摩擦係数が十分に下げることができず走行性が不良となり、他方上記上限を超えるようでは、転写による表面Ａの凹で電磁変換特性悪化となりやすい。また、含有させる該不活性球状粒子（Ｂ３）の含有量（ＷＢ３）は、不活性粒子Ｂ３を含有するフィルム層の質量を基準として、０．０．４０〜０．０３０質量％、さらに０．０１２〜０．０２８質量％、特に０．０１２〜０．０２６質量％の範囲で含有させることが好ましい。ＷＢ３が上記下限未満では、貼り付きが発生して走行性不良となり、他方上記上限を超えるようでは、転写が多発して電磁変換特性不良となりやすい。
【００２０】
このような不活性球状粒子（Ｂ１）および（Ｂ２）としては、前述の不活性球状粒子（Ａ１）および（Ａ２）で説明したのと同様なことが言え、フィルムを製造する工程で発生するフィルム屑などを再利用することかできることから、同じものであることが好ましい。また、不活性粒子（Ｂ１）と（Ｂ２）以外の粒子を加える場合は、不活性球状有機粒子（Ｂ３）であることが、表面粗さを粗くしつつ、波長７０ｎｍの強度を抑える観点から好ましい。不活性球状有機粒子（Ｂ３）が無機粒子であると、波長７０μｍの強度を抑えるのが困難になりやすい。なお、不活性球状有機粒子（Ｂ３）としては、不活性球状粒子（Ａ１）および（Ａ２）の有機粒子で説明したのと同様なことが言える。また、不活性球状粒子（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）を無機粒子とし、不活性球状有機粒子（Ｂ３）を有機粒子とする組合せでも、不活性球状粒子（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）および不活性球状有機粒子（Ｂ３）のすべてを有機粒子とする組合せでもよい。
【００２１】
このような不活性球状粒子（Ａ１）、不活性球状粒子（Ａ２）、不活性球状粒子（Ｂ１）、不活性球状粒子（Ｂ２）さらに必要に応じて不活性球状有機粒子（Ｂ３）を、上述のような組合せで用いることにより、表面粗さと波長７０μｍの強度を制御できる。
【００２２】
また、波長７０μｍの強度を低くする観点からは、横方向の延伸温度を高くすることや、横方向の延伸倍率を高くすることで小さくすることができる。その条件は、それぞれの延伸条件やフィルムを形成する樹脂によって異なることから一律に規定できないが、波長７０μｍの強度を測定し、その結果に基づいて、調整すればよい。
【００２３】
さらに、本発明のその他の好ましい態様について説明する。
本発明の二軸配向積層フィルムはそれ自体公知の熱可塑性樹脂から成形されたものでよいが、ポリエステルフィルムであることが好ましい。本発明におけるポリエステルとしては、フィルムへの製膜が可能なものであれば、それ自体公知のものを採用でき、例えば、グリコール成分と芳香族ジカルボン酸成分との重縮合によって得られる芳香族ポリエステルが好ましい。具体的なかかる芳香族ジカルボン酸成分として、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸が挙げられ、またグリコール成分として、例えばエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。
【００２４】
これらの中でも、高温での加工時の寸法安定性の点からは、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましく、特にエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましい。
【００２５】
また、より環境変化に対する寸法安定性を向上させる観点から、国際公開２００８／０９６６１２号パンフレットに記載された６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分などを共重合したものも挙げられる。
【００２６】
本発明におけるポリエステルは、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有しない場合はο−クロロフェノール中、３５℃において、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有する場合はＰ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０質量比）の混合溶媒中、３５℃において、測定したときの固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜１．０ｄｌ／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度が０．４ｄｌ／ｇ未満ではフィルム製膜時に切断が多発したり、成形加工後の製品の強度が不足することがある。一方固有粘度が１．０ｄｌ／ｇを超える場合は重合時の生産性が低下する。
【００２７】
また、本発明における熱可塑性樹脂の融点は、２００〜３００℃であることが好ましく、更に好ましくは２１０〜２９０℃、特に好ましくは２２０〜２８０℃である。融点が下限に満たないと二軸配向フィルムの耐熱性が不十分な場合があり、融点が上限を超える場合は後述は溶融混練する際の温度が非常に高温になり、熱劣化などを引き起こしやすくなる。
【００２８】
なお、本発明における熱可塑性樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の他の共重合成分をさらに共重合、例えば繰り返し単位のモル数に対して１０モル％以下、さらに５モル％以下の範囲で共重合していてもよいし、他の熱可塑性樹脂などを、例えば２０質量％以下、さらに１０質量％以下の範囲でブレンドしたものであっても良い。
【００２９】
つぎに、本発明の二軸配向積層フィルムの製造方法について説明する。まず、本発明における熱可塑性樹脂は、それ自体公知の方法で製造できる。この際、異物などによる欠点などを抑える観点から、精製を繰り返して、異物を低減しておくのが好ましい。
【００３０】
また、熱可塑性樹脂に不活性粒子を含有させる方法については、熱可塑性樹脂の重合段階でスラリーなどの状態で添加し、さらにフィルターなどによって粗大粒子を低減しつつ、粒子含有量が０．０２〜１．０質量％のマスター樹脂組成物を作成し、該マスター樹脂組成物を、粒子を含有しない熱可塑性樹脂で希釈するのが、不活性粒子の凝集による粗大突起を低減する上で好ましい。
【００３１】
なお、本発明における熱可塑性樹脂は、本発明の効果を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤等の安定剤、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、離型剤、核剤、を必要に応じて配合しても良いが、少なくとも磁性層を形成する側の表面に用いる熱可塑性樹脂は、不活性粒子（Ａ１）および（Ａ２）のほかに、表面欠点を形成しやすい他の熱可塑性ポリマー、顔料、充填剤、ガラス繊維、炭素繊維、層状ケイ酸塩などは含有させないのが好ましい。
【００３２】
ところで、本発明の二軸配向フィルムは、データストレージのベースフィルムに用いることから、製膜方向と幅方向の２方向に配向している。このような二軸配向フィルムは、例えば上述のポリエステルを溶融状態で押出し、二軸方向に延伸することで製造できる。なお、製膜方法はそれ自体公知のものを採用することができる。
【００３３】
例えば、二軸配向積層ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、表面Ａ側を形成するポリエステルＡと表面Ｂ側を形成するポリエステルＢとを、それぞれ高精度のフィルターでろ過したのち、溶融状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金よりポリエステルの融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出ししたのち、３０〜７０℃の冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（ポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。
【００３４】
さらに、前記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
また、上記の説明は逐次二軸延伸で説明したが、同時二軸延伸でも同様な温度条件や延伸倍率によって製造できる。
【実施例】
【００３５】
以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明におけるポリエステル、ポリエステルフィルムおよびデータストレージの特性は、下記の方法で測定および評価した。
【００３６】
（１）固有粘度
得られたポリエステルの固有粘度は、前述のとおり、ｏ−クロロフェノール、３５℃で測定し、ｏ−クロロフェノールでは均一に溶解するのが困難な場合は、ｐ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０質量比）の混合溶媒を用いて３５℃で測定して求めた。
【００３７】
（２）中心面平均粗さ（Ｒａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏ  Ｐｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求めた。
【００３８】
（３）周波数解析
中心面平均粗さの測定データをイメージメトロロジー社製ＳＰＩＰ画像解析ソフトウェアーによりフーリエ変換を行い，波長７０μｍの点の強度を読みとる。
【００３９】
（４）ガラス転移点および融点
ガラス転移点、融点はＤＳＣ（ＴＡインスツルメンツ株式会社製、商品名：Ｔｈｅｒｍａｌ  ｌｙｓｔ２９２０）により昇温速度２０℃／ｍｉｎで測定した。
【００４０】
（５）ヤング率
得られたフィルムを試料巾１０ｍｍ、長さ１５ｃｍで切り取り、チャック間１００ｍｍ、引張速度１０ｍｍ／分、チャート速度５００ｍｍ／分の条件で万能引張試験装置（東洋ボールドウィン製、商品名：テンシロン）にて引っ張る。得られた荷重―伸び曲線の立ち上がり部の接線よりヤング率を計算する。
【００４１】
（６）データストレージ（磁気テープ）の作成
１ｍ幅にスリットしたポリエステルフィルムを、張力２０ｋｇ／ｍで搬送させ、フィルムの平坦な側の表面に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布（上層は磁性塗料で、塗布厚０．１μｍ、非磁性下層の厚みは１．５μｍとした。）し、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させる。次いで反対面に下記組成のバックコートを固形分の厚みが０．５μｍとなるように塗布した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理し、巻き取る。上記テープ原反を１／２インチ幅にスリットし、それをＬＴＯ用のケースに組み込み、長さが８２０ｍで磁気記録容量が０．８ＴＢのデータストレージカートリッジを作成した。
（磁性塗料の組成）
・超微粒子メタル粉体  ：  １００質量部
・変成塩化ビニル共重合体  ：  １０質量部
・変成ポリウレタン  ：  １０質量部
・ポリイソシアネート  ：  ５質量部
・ステアリン酸  ：  １．５質量部
・オレイン酸  ：  １質量部
・カーボンブラック  ：  １質量部
・アルミナ  ：  １０質量部
・メチルエチルケトン  ：  ７５質量部
・シクロヘキサノン  ：  ７５質量部
・トルエン  ：  ７５質量部
非磁性塗料の組成
・超微粒子酸化鉄                                            ：１００質量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体    ：１０質量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン    製ポリウレタンエラストマ）：１０質量部
・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネート）      ：  ５質量部
・レシチン                                                  ：  １質量部
・メチルエチルケトン                                        ：７５質量部
・メチルイソブチルケトン                                    ：７５質量部
・トルエン                                                  ：７５質量部
・カーボンブラック                                          ：  ２質量部
・ラウリン酸                                                ：１．５質量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ）  ：  ９５質量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）：  １０質量部
・αアルミナ  ：  ０．１質量部
・変成ポリウレタン  ：  ２０質量部
・変成塩化ビニル共重合体  ：  ３０質量部
・シクロヘキサノン  ：  ２００質量部
・メチルエチルケトン  ：  ３００質量部
・トルエン  ：  １００質量部
【００４２】
（７）平均粒子径および粒子含有量
フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（たとえばヤマト科学製ＰＲ−５０３型）で除去し粒子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザーに結び付け、観察箇所を変えて粒子数５０００個以上で次の数値処理を行ない、それによって求めた数平均径Ｄを平均粒径とする。
また、粒子含有量は、積層フィルムからフィルム層Ａとフィルム層Ｂをそれぞれ削り取り、ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって全体としての粒子含有量を求める。そして、上記平均粒径の測定から、それぞれの不活性粒子の頻度が求められるので、それに基づき、個々の不活性粒子の含有量を算出した。
【００４３】
（８）加工性
上記（６）のデータストレージの作成を、フィルムの搬送速度が（５００）ｍ／分で行ったときに塗布斑などの欠陥がない場合を◎、フィルムの搬送速度が（５００）ｍ／分で行ったときに塗布斑などの欠陥があるものの、フィルムの搬送速度を（２００）ｍ／分で行ったときには塗布斑などの欠陥がない場合を○、フィルムの搬送速度を（２００）ｍ／分で行ったときにも塗布斑などの欠陥がある場合を×と評価した。
【００４４】
（９）電磁変換特性
電磁変換特性測定には、ヘッドを固定した１／２インチリニアシステムを用いた。記録は、電磁誘導型ヘッド（トラック幅１４．３μｍ、ギャップ０．１μｍ）を用い、再生はＭＲヘッド（５μｍ）を用いた。ヘッド／テープの相対速度は７ｍ／秒とし、記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号をスペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力Ｃと、スペクトル全域の積分ノイズＮの比をＣ／Ｎ比とし、実施例１を０ｄＢとした相対値を求め、以下の基準で、評価した。
◎  ：  ＋１ｄＢ以上
○  ：  −１ｄＢ以上、＋１ｄＢ未満
×  ：  −１ｄＢ未満
【００４５】
［参考例１］樹脂１の作成
蒸留による精製を繰り返した２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステルとエチレングリコールとをそれぞれ１００部と７０部用意し、それらを攪拌機、精留塔、冷却器を供えた反応槽に仕込み、１５０℃まで昇温した。その後、トリメリット酸チタンをＴｉ元素量として、全ジカルボン酸成分のモル数に対して７ｍｍｏｌ％となるように添加し、反応槽全体を窒素により０．２５ＭＰａの圧力下で加熱して、反応槽内部温度を２４０℃に昇温した。反応の進行に従い、圧力一定のまま内温を２５０℃まで上げた。その後、反応槽内の圧力を常圧にゆっくりと戻し、トリメチルホスフェートをリン元素量で、全ジカルボン酸成分のモル数に対して１２ｍｍｏｌ％となるように添加し、余剰のエチレングリコールを追い出して、エステル交換反応を終了させた。
得られた反応生成物を重合反応槽へと移送した。このとき、移送途中で９５％濾過精度５μｍの金属繊維製のフィルターを通して濾過した。重合反応槽では２５０℃からゆっくりと昇温しながら、また減圧させながら重縮合反応を行い、最終的に２９０℃、３０Ｐａで所定の重合度になるまで重縮合を行い、実質的に不活性粒子を含有しない、固有粘度０．６ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートを得た。
【００４６】
［参考例２］樹脂２の作成
蒸留による精製を繰り返したテレフタル酸ジメチルエステルとエチレングリコールとをそれぞれ１００部と７０部用意し、それらを攪拌機、精留塔、冷却器を供えた反応槽に仕込み、１５０℃まで昇温した。その後、トリメリット酸チタンをＴｉ元素量として、全ジカルボン酸成分のモル数に対して３ｍｍｏｌ％となるように添加し、反応槽全体を窒素により０．２５ＭＰａの圧力下で加熱して、反応槽内部温度を２４０℃に昇温した。反応の進行に従い、圧力一定のまま内温を２５０℃まで上げた。その後、反応槽内の圧力を常圧にゆっくりと戻し、トリメチルホスフェートをリン元素量で、全ジカルボン酸成分のモル数に対して７ｍｍｏｌ％となるように添加し、余剰のエチレングリコールを追い出して、エステル交換反応を終了させた。
得られた反応生成物を重合反応槽へと移送した。このとき、移送途中で９５％濾過精度５μｍの金属繊維製のフィルターを通して濾過した。重合反応槽では２５０℃からゆっくりと昇温しながら、また減圧させながら重縮合反応を行い、最終的に２９０℃、３０Ｐａで所定の重合度になるまで重縮合を行い、実質的に不活性粒子を含有しない、固有粘度０．６ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートを得た。
【００４７】
［参考例３］樹脂３の作成
平均粒径が０．１μｍで相対標準偏差が０．１３のアルコキシド法で作成した真球状シリカ粒子を、エチレングリコールに１０質量％となるように添加して、１００℃で２０分間過熱したのち、９５％濾過精度５μｍの金属繊維製のフィルターを通過するように循環させて、真球状シリカ粒子の含有量が１０質量％のエチレングリコールスラリーを作成した。そして、このエチレングリコールスラリーを、エステル交換反応の段階で、真球状シリカ粒子の含有量が、得られるポリエステルの質量に対して、０．５質量％となるように添加したほかは、参考例１と同様な操作を繰り返して、樹脂３を作成した。
【００４８】
［参考例４］樹脂４の作成
平均粒径が０．１μｍで相対標準偏差が０．１３のアルコキシド法で作成した真球状シリカ粒子を、エチレングリコールに１０質量％となるように添加して、１００℃で２０分間過熱したのち、９５％濾過精度５μｍの金属繊維製のフィルターを通過するように循環させて、真球状シリカ粒子の含有量が１０質量％のエチレングリコールスラリーを作成した。そして、このエチレングリコールスラリーを、エステル交換反応の段階で、真球状シリカ粒子の含有量が、得られるポリエステルの質量に対して、０．５質量％となるように添加したほかは、参考例２と同様な操作を繰り返して、樹脂４を作成した。
【００４９】
［参考例５］樹脂５の作成
真球状シリカ粒子を、平均粒径が０．３μｍで相対標準偏差が０．１２の真球状シリカ粒子に変更したほかは、参考例３と同様な操作を繰り返して、樹脂５を作成した。
【００５０】
［参考例６］樹脂６の作成
真球状シリカ粒子を、平均粒径が０．３μｍで相対標準偏差が０．１２の真球状シリカ粒子に変更したほかは、参考例４と同様な操作を繰り返して、樹脂６を作成した。
【００５１】
［参考例７］樹脂７の作成
真球状シリカ粒子の変わりに、平均粒径が０．３μｍで相対標準偏差が０．１９のシリコーン粒子を用いたほかは、参考例３と同様な操作を繰り返して、樹脂７を作成した。
【００５２】
［参考例８］樹脂８の作成
真球状シリカ粒子の変わりに、平均粒径が０．０８μｍで相対標準偏差が０．１８の架橋ポリスチレン粒子を用いたほかは、参考例４と同様な操作を繰り返して、樹脂８を作成した。
【００５３】
［参考例９］樹脂９の作成
真球状シリカ粒子の変わりに、平均粒径が０．５μｍで相対標準偏差が０．１９のシリコーン粒子に変更したほかは、参考例３と同様な操作を繰り返して、樹脂９を作成した。
【００５４】
［参考例１０］樹脂１０の作成
真球状シリカ粒子の変わりに、平均粒径が０．５μｍで相対標準偏差が０．１９のシリコーン粒子に変更したほかは、参考例４と同様な操作を繰り返して、樹脂１０を作成した。
【００５５】
［参考例１１］樹脂１１の作成
真球状シリカ粒子の変わりに、平均粒径が１．２μｍで相対標準偏差が０．１９のシリコーン粒子に変更したほかは、参考例３と同様な操作を繰り返して、樹脂１１を作成した。
【００５６】
［実施例１］
Ａ層用ポリマーとして樹脂１と３と７とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂１と３と７と９とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、それぞれ、１７０℃で６時間乾燥させた。こうして、乾燥チップを表１に示した層厚み構成になるような比率にて、２台の押出機ホッパーに供給し、溶融温度３１０℃で溶融し、マルチマニホールド型共押出ダイを用いてＡ層の片側にＢ層を積層させて積層未延伸フィルムを得た。なお、Ａ層用のポリマーとＢ層用のポリマーは、溶融状態にした後、ダイに供給する前に、それぞれ９５％ろ過精度が１μｍの金属繊維製のフィルターでろ過した。
このようにして得られた積層未延伸フィルムを、金属ロール上で１２０℃に予熱し、低速、高速のロール間でフィルムを１３０℃に加熱して４．８倍に延伸し後、急冷し、縦延伸フィルムを得た。
続いてステンターに供給し、１５０℃にて横方向に５．１倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で３秒間熱固定しつつ横方向に１０％延伸を行い、厚み４．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムのヤング率は縦方向５．８ＧＰａ、横方向８．８ＧＰａであった。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００５７】
［実施例２］
実施例１において、Ａ層用のポリマーとＢ層用のポリマーとを表１に示す不活性粒子の割合となるように樹脂１と３と５を用いたほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００５８】
［実施例３］
実施例１において、樹脂７の代わりに、表１に示す不活性粒子の割合となるように樹脂５を用いたほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００５９】
［実施例４］
実施例１において、Ａ層用のポリマーとＢ層用のポリマーとを表１に示す不活性粒子の割合となるように樹脂１と３と７を用いたほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６０】
［実施例５］
Ａ層用ポリマーとして樹脂２と６と８とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂２と６と８と１０とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、それぞれ、１５０℃で３時間乾燥させた。こうして、乾燥チップを表１に示した層厚み構成になるような比率にて、２台の押出機ホッパーに供給し、溶融温度２５０℃で溶融し、マルチマニホールド型共押出ダイを用いてＡ層の片側にＢ層を積層させて積層未延伸フィルムを得た。なお、Ａ層用のポリマーとＢ層用のポリマーは、溶融状態にした後、ダイに供給する前に、それぞれ９５％ろ過精度が１μｍのフィルター金属繊維製のでろ過した。このようにして得られた積層未延伸フィルムを、金属ロール上で１００℃に予熱し、さらに低速、高速のロール間でフィルムを１１０℃に加熱して３．５倍に延伸し後、急冷し、縦延伸フィルムを得た。続いてステンターに供給し、１０５℃にて横方向に４．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２１０℃の熱風で３秒間熱固定しつつ横方向に５％延伸を行い、厚み４．５μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムのヤング率は縦方向４．４ＧＰａ、横方向６．１ＧＰａであった。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６１】
［比較例１］
実施例１において、Ａ層用ポリマーとして樹脂１と３とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂１と３と９とを表１の不活性粒子の割合になるように用意したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６２】
［比較例２］
実施例１において、Ａ層用ポリマーとして樹脂１と７とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂１と７とを表１の不活性粒子の割合になるように用意したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６３】
［比較例３］
実施例５において、Ａ層用ポリマーとして樹脂２と４と１０とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂２と４と６と１０とを表１の不活性粒子の割合になるように用意したほかは、実施例５と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６４】
［比較例４］
実施例５において、Ａ層用ポリマーとして樹脂２と６と８とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂２と６と８と１０とを表１の不活性粒子の割合になるように用意したほかは、実施例５と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６５】
［比較例５］
実施例１において、Ａ層用ポリマーとして樹脂１と３と７とを表１の不活性粒子の割合になるように用意し、また、Ｂ層用のポリマーとして樹脂１と３と７と１１とを表１の不活性粒子の割合になるように用意したほかは、実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表１に示す。
【００６６】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明のポリエステルフィルムは、表面粗さは粗いものでも特定の周期のうねりを低減させていることから、特に記憶容量が０．８ＴＢ以下であるデータストレージのベースフィルムに好適に用いることができる。