(57)【要約】【課題】高記録密度を実現できる磁気記録媒体を、高い生産性で安価に製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】磁性層を有する磁気記録媒体に対し、凹凸パターンを有するとともに磁性粉体を含む樹脂製のモールドを押圧して、凹凸パターンを磁気転写する方法であり、樹脂製のモールドは、互いに対向する一対の基体１１、１２間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体１０を得る工程、積層体１０から一方の基体１２を剥離して硬化性樹脂材料の層１３を露出させる工程、露出した硬化性樹脂材料の層１３に、凹凸パターンを有するマスターモールドを押圧する工程、マスターモールドを押圧したまま硬化性樹脂材料の層１３を硬化させて樹脂製のモールドを得る工程、マスターモールドから樹脂製のモールドを剥離する工程、の各工程を経て作製される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の少なくとも片面に磁性層を有する磁気記録媒体に、凹凸パターンを有するとともに磁性粉体を含む樹脂製のモールドを押圧し、前記凹凸パターンを前記磁性層に磁気転写することにより磁気記録媒体を製造する方法であって、
前記モールドは、
互いに対向する一対の基体間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体を得る工程、
前記積層体から一方の基体を剥離して硬化性樹脂材料の層を露出させる工程、
露出した前記硬化性樹脂材料の層に、凹凸パターンを有するマスターモールドを押圧する工程、
前記マスターモールドを押圧したまま前記硬化性樹脂材料の層を硬化させて樹脂製のモールドを得る工程、
前記マスターモールドから樹脂製のモールドを剥離する工程、
の各工程を経て作製されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記硬化性樹脂材料中における前記磁性粉体の含有量が６０〜９０体積％の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記硬化性樹脂材料に含まれる前記磁性粉体が、ＦｅＰｔ粒子粉体からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記磁性粉体をなすＦｅＰｔ粒子粉体の平均粒径が３〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記硬化性樹脂材料の粘度が１０Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記硬化性樹脂材料が、（メタ）アクリル基、オキセタニル基、シクロヘキセンオキサイド基及びビニルエーテル基からなる群より選ばれる１種以上の反応基を有する樹脂材料であることを特徴とする請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記硬化性樹脂材料が、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長に対して硬化性を有する放射線硬化性樹脂材料であり、前記硬化性樹脂材料の硬化物が、前記硬化性樹脂材料を放射線照射によって硬化させた硬化物であることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記硬化性樹脂材料の硬化後の樹脂が、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長の透過性が２０％以上、温度２５℃における引張弾性率が１．３ＧＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜請求項７の何れか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置（ＨＤＤ）等の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク装置、フレキシブルディスク装置、磁気テープ装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大されその重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られている。特に、磁気抵抗（ＭＲ）ヘッドおよびＰＲＭＬ技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに大きくなり、近年ではさらに巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）ヘッド、トンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）ヘッドなどが導入されたことによって、１年に約１．５倍で増加を続けている。しかしながら、このような磁気記録媒体については、記録密度をさらに向上させることが要求されており、そのため、磁性層の高保磁力化と高信号対雑音比（ＳＮＲ）、高分解能を達成することが望まれている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようという試みもある。
【０００３】
このため、高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。具体的に、現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などの情報信号（以下、サーボ信号等と称するコトガアル）が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
従って、上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となることから、これらの信号の書き込みには高い位置決め精度が求められる。このため、従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ信号記録装置（以下、サーボライタと称することがある）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込みが行われている。また、サーボライタは、生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングし、これらの磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
しかしながら、上述したようなサーボライタによるサーボ信号等の書き込み方法を採用した場合には、以下のような課題が存在する。
即ち、上記方法により、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むためには、非常に長い工程時間を必要とし、さらに、生産性を向上させるためには、多くのサーボライタを同時に稼働させる必要がある。しかしながら、工程に導入するサーボライタの数を増やした場合には、その維持管理に多額のコストが生じるという問題がある。また、スピンドルを長くして同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やした場合には、回転中にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対する書き込み精度の低下を招く虞がある。このため、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数には自ずと限界がある。そして、これらの課題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻なものとなっている。
【０００６】
上記問題を解決するため、磁気記録媒体へのサーボ信号等の書き込みを行う工程において、上記構成のサーボライタではなく、全てのサーボ信号等に対応する磁気転写パターンが書き込まれたマスター情報担体を用い、このマスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。特許文献１に記載の方法によれば、具体的には、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、外部から転写用のエネルギーとして磁界を加えながら、マスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に磁気転写する。これにより、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込み作業を短時間で行うことが可能となり、また、上記構成のマスター情報担体は、繰り返し使用可能となっている。
【０００７】
ここで、上述のようなマスター情報担体は、電子線リソグラフィー法等を用いて製造されるため、大変高価である。そのため、このマスターを原盤（マスターモールド）として、ナノインプリントで樹脂のレプリカモールドを作り、このレプリカモールドに磁性層をスパッタ法で形成して、これを磁気転写用情報担体に使う技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００９−２８９３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、マスターモールドの凹凸パターンを転写させる材料としては、硬化性を有し、柔軟性や充填性が高く、厚さが均一であることが要求される。このような要求を満足させるため、例えば、ゲル状の硬化性樹脂をベースフィルムの上に印刷し、その印刷膜を転写材料としてマスターモールドを押圧する方法等が考えられる。
【００１０】
ここで、印刷膜を均一な膜厚でフィルム状に保持するためには、印刷する樹脂が一定の粘性を有している必要があるが、硬化性樹脂の粘性を高めた場合、マスターモールドによる転写の際に凹凸パターンへの充填性が低下し、転写の精度が低下するという問題がある。
【００１１】
また、ベースフィルムの表面にあらかじめ堰を設け、その堰の中に液体状の硬化性樹脂を流し、それによって得た硬化性樹脂の層にマスターモールドをスタンプする方法が考えられる。しかしながら、このような方法は、製造設備が大がかりになる上に生産性が低く、しかも薄い層を得ることは困難である。
また、ベースフィルムの上にスピンコートにより硬化性樹脂の薄膜を形成し、その薄膜を転写材料としてマスターモールドを押圧する方法も考えられるが、さらに製造設備が大がかりになる上に、生産性が低下するという問題がある。
【００１２】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、高記録密度を実現できる磁気記録媒体を、高い生産性で安価に製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は、上記問題を解決するために鋭意検討した結果、互いに対向する一対の基体間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の粘性の低い硬化性樹脂材料を挟み、その硬化性樹脂材料の周囲を該硬化性樹脂材料の硬化物で囲った積層体を、磁気記録媒体の製造に使用するモールドを作製する際に用いることで上記問題を解決できることを見出し、本願発明を完成させた。
即ち、本発明は以下に示す構成を採用するものである。
【００１４】
［１］  基板の少なくとも片面に磁性層を有する磁気記録媒体に、凹凸パターンを有するとともに磁性粉体を含む樹脂製のモールドを押圧し、前記凹凸パターンを前記磁性層に磁気転写することにより磁気記録媒体を製造する方法であって、前記モールドは、互いに対向する一対の基体間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体を得る工程、前記積層体から一方の基体を剥離して硬化性樹脂材料の層を露出させる工程、露出した前記硬化性樹脂材料の層に、凹凸パターンを有するマスターモールドを押圧する工程、前記マスターモールドを押圧したまま前記硬化性樹脂材料の層を硬化させて樹脂製のモールドを得る工程、前記マスターモールドから樹脂製のモールドを剥離する工程、の各工程を経て作製されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
［２］  前記硬化性樹脂材料中における前記磁性粉体の含有量が６０〜９０体積％の範囲であることを特徴とする上記［１］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］  前記硬化性樹脂材料に含まれる前記磁性粉体が、ＦｅＰｔ粒子粉体からなることを特徴とする上記［１］又は［２］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［４］  前記磁性粉体をなすＦｅＰｔ粒子粉体の平均粒径が８〜２０ｎｍであることを特徴とする上記［３］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１５】
［５］  磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の前記硬化性樹脂材料の粘度が１０Ｐａ・ｓ以下であることを特徴とする上記［１］〜［４］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［６］  前記硬化性樹脂材料が、（メタ）アクリル基、オキセタニル基、シクロヘキセンオキサイド基及びビニルエーテル基からなる群より選ばれる１種以上の反応基を有する樹脂材料であることを特徴とする上記［１］〜［５］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［７］  前記硬化性樹脂材料が、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長に対して硬化性を有する放射線硬化性樹脂材料であり、前記硬化性樹脂材料の硬化物が、前記硬化性樹脂材料を放射線照射によって硬化させた硬化物であることを特徴とする上記［１］〜［６］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
［８］    前記硬化性樹脂材料の硬化後の樹脂が、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長の透過性が２０％以上、温度２５℃における引張弾性率が１．３ＧＰａ以上であることを特徴とする上記［１］〜［７］の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、上記構成の如く、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を基体間に挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体を得た後、この積層体から一方の基体を剥離して硬化性樹脂材料の層を露出させ、この層を、凹凸パターンを有するマスターモールドを押圧した状態で硬化させることにより、樹脂製のレプリカモールドを得る方法を採用している。このレプリカモールドを用いて磁気転写を行うことにより、高記録密度を実現できる磁気記録媒体を、高い生産性で安価に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、積層体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、硬化性樹脂材料の層及び流動抑止体の一例を示す概略図である。
【図３】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、硬化性樹脂材料の層及び流動抑止体の他の例を示す概略図である。
【図４】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する装置の一例を示す断面図である。
【図５】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、図４に示す装置を構成する上型セットの下面を示す平面図である。
【図６】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、図４に示す装置を構成する下型セットの上面を示す平面図である。
【図７】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する工程の一例を示す概略図である。
【図８】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する工程の一例を示す概略図である。
【図９】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する工程の一例を示す概略図である。
【図１０】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する工程の一例を示す概略図である。
【図１１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、樹脂製のレプリカモールドを作製する工程の一例を示す概略図である。
【図１２】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、長尺のレプリカモールドを示す平面図である。
【図１３】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一実施形態を模式的に説明する図であり、レプリカモールドを用いた磁気転写工程を示す断面図である。
【図１４】本発明に係る製造方法によって得られる磁気記録媒体が用いられてなる磁気記録再生装置の一例を模式的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法について、図１〜図１４を適宜参照しながら説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、磁気記録媒体の製造方法を説明するための図面であって、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体等の寸法関係とは異なっている。
【００１９】
本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、基板の少なくとも片面に磁性層を有する磁気記録媒体に対し、凹凸パターンを有するとともに磁性粉体を含む樹脂製のレプリカモールドを押圧し、凹凸パターンを磁性層に磁気転写して磁気記録媒体を製造する方法であり、樹脂製レプリカモールドは、互いに対向する一対の基体間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体を得る工程、積層体から一方の基体を剥離して硬化性樹脂材料の層を露出させる工程、露出した硬化性樹脂材料の層に、凹凸パターンを有するマスターモールドを押圧する工程、マスターモールドを押圧したまま硬化性樹脂材料の層を硬化させて樹脂製のモールドを得る工程、マスターモールドから樹脂製のレプリカモールドを剥離する工程、の各工程を経て作製される方法である。
【００２０】
［レプリカモールドの作製方法］
本発明の製造方法で作製され、磁気転写に用いるレプリカモールド３０は、例えば、以下に詳述するような工程によって得られる。
即ち、上述の如く、互いに対向する一対の基体１１、１２間に、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料（硬化性樹脂材料の層１３）を挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体１０（１０ａ）を得る工程、積層体１０から一方の基体（１２）を剥離して硬化性樹脂材料の層１３を露出させる工程、露出した硬化性樹脂材料の層１３に、凹凸パターンを有するマスターモールド２０を押圧する工程、マスターモールド２０を押圧したまま硬化性樹脂材料の層１３を硬化させて樹脂製のレプリカモールド３０を得る工程、マスターモールド２０から樹脂製モールド２０を剥離する工程、の各工程によって、樹脂製のレプリカモールド３０を得る。
【００２１】
以下に、積層体１０（１０ａ）を得る工程の一例について説明する。
本実施形態で説明する例の積層体１０は、図１に例示するように、互いに対向する一対の長尺な基体１１、１２と、一対の基体１１、１２間に挟まれた硬化性樹脂材料の層１３と、一対の基体１１、１２間に挟まれ、長さ方向に沿った第１の流動抑止体１４、１４とを有する。また、硬化性樹脂材料の層１３は、一対の基体１１、１２および第１の流動抑止体１４、１４によって封入されている。
【００２２】
本実施形態で説明する例では、基体１１、１２が長尺状であるので、その間に挟まれる硬化性樹脂材料の層１３の厚さが、フィルムの長さ方向に不均一になる可能性がある。このため、本実施形態では、図２に例示するように、幅方向に沿った直線状の第２の流動抑止体１５、１５が一定間隔で設けられている。このように、幅方向で第２の流動抑止体１５、１５が設けられていることにより、硬化性樹脂材料が長さ方向に移動し難くなるため、硬化性樹脂材料の層１３の厚さが、長さ方向で不均一になるのを防止できる。
【００２３】
上記構成の積層体１０は、例えば、以下のようにして作製することができる。
まず、一方の基体１１に、溶剤で希釈した硬化性樹脂材料を塗布し、乾燥させて溶剤を除去した後、この上に他方の基体１２を載せる。
次いで、基体１１、１２で挟んだ硬化性樹脂材料の周縁部分を硬化させて、第１の流動抑止体１４を形成する。この、第１の流動抑止体１４の形成方法については、特に制限されるものではなく、硬化性樹脂材料の性質に応じて適宜選択できるが、例えば、他方の基体１２を載せた後、ロールで巻き取る前に、紫外線照射機によって幅方向の両端部のみを硬化させる方法が挙げられる。この方法によれば、効率的に連続生産を行うことが可能であり、生産性をより向上させることができる。
また、硬化性樹脂材料の層１３の粘度が低く、両端部のみを硬化させただけでは、その硬化度や基体１１、１２に対する接合性が不充分である場合には、複数の紫外線照射機を用いて硬化性樹脂材料に紫外線を照射することが好ましい。
【００２４】
次いで、幅方向に沿って紫外線を照射することにより、第２の流動抑止体１５を形成する。この第２の流動抑止体１５を形成すれば、封入された硬化性樹脂材料の厚さをより均一化できる。
第２の流動抑止体１５の形成方法としては、例えば、紫外線照射装置のオン−オフをタイマーで制御して一定間隔で紫外線を照射する方法や、シャッターを用いて、一定間隔に幅方向に沿って紫外線を照射する方法等が挙げられる。
上述のように、第１の流動抑止体１４及び第２の流動抑止体１５を形成することにより、硬化性樹脂材料の層１３を封入する。その後、ロールで巻き取ることにより、積層体１０のロールを得る。
【００２５】
本実施形態で説明する基体１１、１２は長尺状であるため、マスターモールドを連続的にスタンプできるようになっている。
また、長尺状の基体１１、１２の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０，０００ｍ程度とすることができる。
【００２６】
上述したように、本実施形態では基体１１、１２が長尺状であるので、その間に挟まれる硬化性樹脂材料の層１３の厚さが、フィルムの長さ方向に不均一になる可能性がある。このため、本実施形態では、図２に示すように、幅方向に沿った直線状の第２の流動抑止体１５、１５が一定間隔で設けることにより、硬化性樹脂材料が長さ方向に移動しにくくなるため、硬化性樹脂材料の層１３の厚さが長さ方向に不均一になるのが防止できる。
【００２７】
基体１１、１２の材料としては、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、硬化性樹脂材料として光硬化性樹脂を用いる場合には、硬化させるための放射線を透過させるものが好ましい。さらに、硬化性樹脂材料の層１３の厚さを一定にするために、表面の平滑性が良好になるものがより好ましい。
具体的な基体１１、１２の材料としては、透明な合成樹脂、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。また、これらの材料は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
また、基体１１、１２の少なくとも一方は、硬化性樹脂材料の硬化物を剥離可能な材料であることが好ましい。
積層体１０を用いてレプリカモールドを製造する際には、基体１１、１２の少なくとも一方を剥離するため、基体１１、１２の少なくとも一方が、硬化性樹脂材料の硬化物を剥離可能な材料であれば、基体１１、１２を剥離する際の作業性が良好になる。
ただし、基体１１、１２の剥離性が高すぎると、基体１１、１２に挟まれた硬化性樹脂材料が漏れ出すおそれがある。このため、基体１１、１２の剥離性は、硬化性樹脂材料が漏れ出ない程度であることが好ましい。
また、基体１１、１２は、圧縮成形する際の加熱による変形を防止するために、圧縮成形する際の加熱温度よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂からなることが好ましい。
【００２９】
基体１１、１２の硬化性樹脂材料の層１３側には、剥離性のフィルムであるセパレートフィルムが設けられていてもよい。上述したように、基体１１、１２は、硬化性樹脂材料の硬化物を剥離可能な材料であることが好ましいが、その一方で、ベースフィルムになる基体１１には、硬化性樹脂材料の層１３を平坦に保つために高い剛性が求められ、カバーフィルムとなる基体１２には、剥離しやすさの点から高い可撓性が求められる。このような要求に対し、基体１１、１２の硬化性樹脂材料の層１３側にセパレートフィルムを設けて硬化性樹脂材料の硬化物に対する剥離性を確保すれば、基体１１、１２として剛性又は可撓性が高いものを選択できる。従って、上述したような要求を容易に満足させることが可能となる。
【００３０】
なお、セパレートフィルムとしては、基体１１、１２との接合性によっても選択されるが、例えば、紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
セパレートフィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜１００μｍが好ましく、８μｍ〜５０μｍがより好ましく、１０〜３０μｍが特に好ましい。
また、セパレートフィルムを用いる場合には、硬化性樹脂材料の硬化物とセパレートフィルムとが、硬化性樹脂材料の硬化物と基体１１、１２とよりも剥離しやすいことが好ましく、セパレートフィルムと硬化性樹脂材料の硬化物との層間の接着力は、他の各層間の層間接着力よりも小さいことがより好ましい。
【００３１】
基体１１、１２とセパレートフィルムとの組合せ（以下、“基体／セパレートフィルム”の組み合わせで示す）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００３２】
また、基体１１、１２及びセパレートフィルムの少なくとも一方に、接着力を調整するための表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などが挙げられる。
これらのうち、下塗層を塗設する方法としては、ポリオルガノシロキサン、フッ素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーを含む塗布液を、基体１１、１２又はセパレートフィルムの表面に塗布した後、３０℃〜１５０℃（特に５０℃〜１２０℃）で１分〜３０分間乾燥させる方法等が挙げられる。
【００３３】
基体１１、１２とセパレートフィルムとの間の静摩擦係数は０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。この静摩擦係数が０．３未満であると、滑り過ぎるため、積層体をロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、ロール状に巻くことが困難となることがある。
【００３４】
基体１１、１２の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２μｍ〜３００μｍが好ましく、５μｍ〜２００μｍがより好ましく、８μｍ〜１００μｍが特に好ましい。
【００３５】
本発明において、硬化性樹脂材料は、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の流動性のある材料とする。中でも、より高精度に樹脂製モールドを製造できることから、その粘度が１０Ｐａ・ｓ以下のものが好ましい。ここで述べる粘度とは、２５℃の環境下において、例えばビスコメーター（ブルックフィールド社製、商品名「ＤＶ−ＥＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ」）を用いて測定した値である。
【００３６】
このような硬化性樹脂材料としては、硬化性に優れることから、（メタ）アクリル基、オキセタニル基、シクロヘキセンオキサイド基及びビニルエーテル基からなる群より選ばれる１種以上の反応基を有する樹脂材料が好ましい。
また、硬化性樹脂材料としては、積層体１０を光ナノインプリント法に用いる場合には放射線硬化性樹脂が用いられ、熱ナノインプリント法を用いる場合には熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が用いられる。
とりわけ、硬化性樹脂材料としては、放射線硬化性樹脂材料がより好ましい。放射線硬化性樹脂材料によれば、光照射によって短時間で且つ容易に硬化させることができるため、マスターモールドからレプリカモールドを製造する工程を簡便且つ短時間で行うことができる。
【００３７】
本発明においてレプリカモールド３０に用いる硬化性樹脂材料は、上述のように磁性粉体を含むものである。このような磁性粉体としては、例えば、ＦｅＰｔ粒子粉体からなるものを用いることが好ましい。
【００３８】
本実施形態において、磁性粉体としてＦｅＰｔ粒子粉体を用いる場合、ＦｅとＰｔの比が、Ｆｅ：４５〜６５ａｔ％（Ｐｔ：３５〜５５ａｔ％）の範囲であることが好ましい。ＦｅとＰｔの比が上記範囲外だと、強磁性を発現するｆｃｔ構造（面心正方晶）になり難い。このため、個々の粒子の磁気特性を均一にするには、まず、個々の粒子の組成が上記範囲内で均一である必要があるが、例え、組成がｆｃｔ構造を発現する範囲内であっても、実際には、個々の粒子のｆｃｔ構造の割合が異なることもある。このように、個々の粒子のｆｃｔ構造の割合が異なっている場合、個々の粒子の磁気特性にバラツキが生じるという問題がある。また、仮に、全ての粒子がｆｃｔ構造単相になっていたとしても、ＦｅとＰｔの含有割合が異なる場合には、飽和磁化等が異なってくるという問題がある。このように、如何なる場合を想定しても、個々の粒子の組成のバラツキは、個々の磁気特性のバラツキを招いてしまう。従って、磁性粉体としてＦｅＰｔ粒子粉体を用いる場合の個々の粒子の組成を均一に規定することが、磁性粉体が含有された硬化性樹脂材料からなるモールドを用いて高記録密度の磁気記録媒体を製造するにあたり、必須の要件となる。一方、ナノレベルのＦｅＰｔ粒子粉体において、個々の粒子の組成が均一な合金粒子を得るのは、従来の技術では極めて困難であるという問題もある。このため、本実施形態において磁性粉体に用いるＦｅＰｔ粒子粉体の組成を上記範囲とする場合には、例えば、ポリオール法を用いて、結晶核誘発剤によって還元反応を制御しながらＦｅＰｔ粒子粉体の合金を合成することができる。
【００３９】
磁性粉体に用いるＦｅＰｔ粒子粉体は、その平均粒径が３〜２０ｎｍの範囲であることが好ましく、また、４〜７ｎｍの範囲内であることが最も好ましい。このような、ＦｅＰｔ粒子粉体の平均粒径は、例えば、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察による１次粒子の平均を求めることで得られる。ここで説明する１次粒子とは、それ以上には分けられない最小単位の粒子のことを言う。
【００４０】
上述のような磁性粉体は、合成されたままの状態で優れた磁気特性を有するので、このまま磁気記録媒体への磁気転写用のレプリカモールドへの適用が可能である。また、合成後の磁性粉体に熱処理を施す場合であっても、その工程を簡略化することができる。これにより、熱処理に伴う粒子間の固着を防止することができ、磁性粉体を、流動性を有する粉末の状態で採取することが可能となる。
【００４１】
なお、硬化性樹脂材料中における磁性粉体の含有量は、６０〜９０体積％の範囲とし、
ゲル状の硬化性樹脂材料の粘度が１０Ｐａ・ｓ以下とできる範囲で含有量をなるべく高めることが好ましい。硬化性樹脂材料中の磁性粉体の含有量がこの範囲であれば、十分且つ適正な保磁力が得られ、上記効果がより顕著となる。
【００４２】
また、本実施形態においては、磁性粉体をＦｅＰｔ粒子粉体から構成することにより、レプリカモールド３０を用いて磁気記録媒体Ｗに磁気転写を行う際、特に、高磁界における書き込み性が向上するという効果が得られる。
【００４３】
また、放射線硬化性樹脂材料としては、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長に対して硬化性を有する樹脂を含有し、硬化後の硬化物の３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長の透過率が２０％以上、温度２５℃における引張弾性率が１．３ＧＰａ以上であることが好ましい。このような放射線硬化性樹脂を用いれば、硬化性樹脂材料が充分に光を透過させるため、ナノインプリントプロセスに光ナノインプリント法を適用することが可能になる。また、硬化性樹脂材料の硬化物の引張弾性率が１．３ＧＰａ以上であれば、ナノインプリント法に適した物性の樹脂製モールドが得られる。
【００４４】
また、上述のような放射線硬化性樹脂材料は、光硬化時の収縮率が低く、マスターモールドに対する離型性が高いため、この樹脂材料を用いてレプリカモールドを製造すると、微細な凹凸パターンを有する樹脂製モールドを歩留まり良く製造することができる。
【００４５】
なお、波長の透過率は、例えば分光光度計（日本分光社製、商品名「Ｖ−６５０」）を用いて測定する。この波長測定の際の、試料の硬化膜の厚みは２０μｍとし、測定温度は室温とする。また、引張弾性率はＪＩＳ  Ｋ７１２０に準拠して導出する。即ち、チャック幅５０ｍｍでレオメーター（例えば、ＦＵＤＯＨ社製、商品名「ＲＴ−３０１０Ｄ−ＣＷ」）に評価用硬化膜を取り付け、２５℃で延伸して、破断点までの変位を求めることによって導出する。
【００４６】
３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の紫外線に対して硬化性を有する放射線硬化性樹脂材料としては、例えば、アクリル単量体（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）および離型剤（Ｃ）を含有するものが好ましい。
【００４７】
アクリル単量体（Ａ）としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択できるものであり、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸アミド類が用いられる。なお、本発明において説明する（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸の総称である。
【００４８】
（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のモノ（メタ）アクリレート。
【００４９】
１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート。
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタアエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート。
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のその他の（メタ）アクリレート。
【００５０】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。具体的な商品名としては、ビームセット３７１（荒川化学工業社製）等が挙げられる。
これらアクリル単量体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。  
【００５１】
放射線硬化性樹脂材料中のアクリル単量体の含有量（樹脂材料に含まれる磁性粉体を除く。以下同様。）は８５〜９８質量％が好ましく、８７．５〜９６質量％がより好ましく、９０〜９４質量％が特に好ましい。アクリル単量体の含有量が８５質量％以上であれば、硬化後の材料を成形して用いる場合に充分に良好な物性が得られ、９８質量％以下であれば、重合開始剤や離型剤等との混合により、硬化後の材料の物性調整が容易になる。
【００５２】
光重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。
アセトフェノン系光重合開始剤：アセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、ジアルキルアミノアセトフェノン等。
ベンゾイン系光重合開始剤：ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等。
ベンゾフェノン系光重合開始剤：ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等。
【００５３】
チオキサントン系光重合開始剤：チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジメチルチオキサントン等。
その他の光重合開始剤：α−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等。
【００５４】
放射線硬化性樹脂材料中の重合開始剤の含有量は、アクリル単量体の１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。重合開始剤の含有量が０．００１質量部以上であれば、アクリル単量体を短時間に重合でき、１０質量部以下であれば、重合開始剤の残渣が硬化物中に残存しにくい。
【００５５】
離型剤（Ｃ）としては、より離型性に優れる硬化物が得られることから、含フッ素界面活性剤を含むことが好ましい。さらには、フッ素含有量が１０〜７０質量％の含フッ素界面活性剤がより好ましく、フッ素含有量が１０〜４０質量％の含フッ素界面活性剤が特に好ましい。また、含フッ素界面活性剤は、水溶性であっても油溶性であってもよい。
このような含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤、カチオン性含フッ素界面活性剤、両性含フッ素界面活性剤、ノニオン性含フッ素界面活性剤の何れであってもよい。これらの中でも、硬化性樹脂材料における相溶性と、その硬化物における分散性が良好であることから、ノニオン性含フッ素界面活性剤が特に好ましい。
【００５６】
アニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸塩、ポリフルオロアルキル燐酸エステル、又は、ポリフルオロアルキルスルホン酸塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１１１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１４３（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０、メガファックＲ−３０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
カチオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸のトリメチルアンモニウム塩、またはポリフルオロアルキルスルホン酸アミドのトリメチルアンモニウム塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１２１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１３４（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１５０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
【００５７】
両性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルベタインが好ましい。両性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１３２（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＸ−１７２（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
ノニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルアミンオキサイド、又は、ポリフルオロアルキル・アルキレンオキサイド付加物が好ましい。ノニオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１４５（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＳ−３９３（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−２０（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１７０（商品名、スリーエム社製）、フロラードＦＣ−４３０（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１４１（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
【００５８】
放射線硬化性樹脂材料中の含フッ素界面活性剤の含有量は、放射線硬化性樹脂材料の全体を１００質量％とした際の０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。含フッ素界面活性剤の含有量が０．０１質量％以上であれば、離型性に優れた硬化物を確実に形成でき、１０質量％以下であれば、放射線硬化性樹脂材料を容易に調製できる。
【００５９】
硬化性樹脂材料として、熱硬化性樹脂を用いる場合には、熱硬化性樹脂として、熱ナノインプリント法に対する適合性の点から、圧縮成形の際の加熱温度よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱硬化性樹脂が好ましい。
【００６０】
硬化性樹脂材料の層１３の厚さは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜５０μｍが好ましく、３μｍ〜２５μｍがより好ましく、５μｍ〜１５μｍが特に好ましい。
【００６１】
第１の流動抑止体１４及び第２の流動抑止体１５は、上述の硬化性樹脂材料を硬化させた硬化物からなる。第１の流動抑止体１４自体、及び、第２の流動抑止体１５自体の幅は１ｍｍ〜２０ｍｍであることが好ましい。第１の流動抑止体１４自体、及び、第２の流動抑止体１５自体の幅が１ｍｍ以上であれば、確実に硬化性樹脂材料を封入でき、２０ｍｍ以下であれば、未硬化の硬化性樹脂材料の面積を充分に確保できる。
【００６２】
上述した積層体１０では、硬化性樹脂材料の層１３が、基体１１、１２並びに第１の流動抑止体１４及び第２の流動抑止体１５によって封入されているため、硬化性樹脂材料が流れ出ることを防止して、硬化性樹脂材料の層１３を薄く且つ均一な厚さにすることができる。とりわけ、第１の流動抑止体１４は、硬化性樹脂材料自体を硬化させたものであるため、硬化性樹脂材料の層１３の全体にわたって厚さが均一化されている。そのため、マスターモールドを押圧した際に、高精度に凹凸パターンを転写させて、樹脂製のレプリカモールドを得ることができる。
また、このような積層体１０を用いれば、レプリカモールドの製造の原料となる硬化性樹脂材料の層１３を、大がかりな設備を用いずに、スタンパ装置に対して連続的に、容易に供給できるため、微細な凹凸パターンが形成された樹脂製レプリカモールドを大量に、高い生産性で製造できる。
【００６３】
なお、積層体としては、上記構成のものに限定されず、例えば、図３に示すように、硬化性樹脂材料の層１３を円形状とし、それ以外の部分１６を硬化させて流動抑止体としたものであってもよい。
【００６４】
上述したような積層体及びマスターモールドを用いて、樹脂製のレプリカモールドを作製する方法の一例について説明する。
図４〜６に、マスターモールドを用いて樹脂製のモールドを作製するための装置の一例を示す。
この樹脂製モールド作製装置１００は、第１の取付盤１１１に支持された上型セット１１０と、第２の取付盤１２１に支持された下型セット１２０とを具備している。ここで、第１の取付盤１１１は、図示略の油圧シリンダ等の上下移動用アクチュエータ装置に支持されて上下に移動自在に設けられ、第２の取付盤１２１は図示略の基台上に設置されて固定されている。
【００６５】
第１の取付盤１１１の上方には、円盤状のカッターセット部材１１２が、図示略の油圧シリンダなどの上下移動用アクチュエータ装置に支持されて、上下に移動自在に設けられている。このカッターセット部材１１２の底面外周部側には、円筒状の外周カッター部１１４が設けられ、カッターセット部材１１２の底面中央部には、丸棒状の内周カッター部１１５が設けられ、これら外周カッター部１１４と内周カッター部１１５とからカッター部材１１６が構成されている。また、前記外周カッター部１１４の先端部側にリング状の外周カッター刃１１７が下向きに形成され、内周カッター部１１５の先端部側に内周カッター刃１１８が形成されている。
【００６６】
外周カッター部１１４は、第１の取付盤１１１の外周部に形成されている透孔１１１ａを介して第１の取付盤１１１の下方側に延出され、内周カッター部１１５は、第１の取付盤１１１の中央に形成されている透孔１１１ｂを介して第１の取付盤１１１の下方側に延出され、第１の取付盤１１１に対するカッターセット部材１１２の上下移動に応じて外周カッター部１１４と内周カッター部１１５とが上下移動するように構成されている。
【００６７】
外周カッター刃１１７の断面は三角形状に形成されており、円筒状の外周カッター部１１４の内周面１１４ａをそのまま延長した形状の切刃面１１７ａと、外周カッター部１１４の外方に向いて傾斜する外側刃面１１７ｂを有している。また、内周カッター刃１１８は、丸棒状の内周カッター部１１５の外周面をそのまま延長した形状の切刃面１１８ａと、内周カッター部１１５の先端部に形成されている断面逆Ｖ字型のすり鉢状の凹部１１８ｂからなる切刃形状とされている。
【００６８】
第１の取付盤１１１の下方側であって、外周カッター部１１４と内周カッター部１１５との間の部分には、放射線源サポート機構１３０と照射装置１４０とが設けられ、照射装置１４０に内蔵されている高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、キセノン水銀ランプ、紫外ＬＥＤランプなどの放射線源から紫外光を下方に照射できるように構成されている。これらの放射線源のうち、成型品の歪みの原因となる熱の発生が小さいことから、紫外ＬＥＤランプを用いることが特に好ましい。この場合に用いる紫外線の波長としては、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲を例示することができる。
【００６９】
照射装置１４０の下方には、枠状のサポート部材１５０が設置され、このサポート部材１５０の下方側に、円盤状のガラス盤等からなる透放射線押圧基盤１６０が設けられている。また、放射線源サポート部材１５０と、照射装置１４０と、透放射線押圧基盤１６０が第１の取付盤１１１に一体化されており、第１の取付盤１１１の上下移動に応じて透放射線押圧基盤１６０が上下移動するように構成されている。
【００７０】
一方、第２の取付盤１２１の上には、同一高さの円筒状の内側摺動サポート部材１７０と円筒状の外側摺動サポート部材１８０が設けられ、これらの間には円盤状の受け台１９０が上下に摺動自在に嵌め込まれており、受け台１９０は、その下方側に設けられたバネ部材等の弾性部材１９１により支持されている。この受け台１９０の上には、摺動サポート部材１７０、１８０よりも若干上方に突出するようにドーナツ円盤状のマスターモールド２０が設置されている。
【００７１】
マスターモールド２０は、その上面側に転写するべき凹凸パターンが形成されたものである。本実施形態では、磁気転写によって磁気記録媒体の磁性層にサーボ情報等のパターンを形成するための樹脂製レプリカモールドを製造する方法なので、マスターモールド２０の表面には、転写するサーボ情報等の凹凸パターンが形成されている。なお、転写パターンには、前述のサーボ情報の他、ハードディスクドライブにおいてサーボ情報を生成するためのプリサーボ情報、セルフサーボ情報がある。
また、内側サポート部材１７０の中心部には、前記ロッド状の内周カッター刃１１８を挿入可能な凹部１７１が形成されている。
【００７２】
図４に示す構成の装置で樹脂製のモールドを製造するにあたっては、目的の樹脂製のモールドの基になる前記のフィルム状の積層体１０を用意する。
まず、積層体１０のカバーフィルムである一方の基体１２を剥離して硬化性樹脂材料の層１３（図１参照）を露出させる（以下、基体１２を剥離したものを積層体１０ａと称する）。図７に示すように、マスターモールド２０と透放射線押圧基盤１６０の間に積層体１０ａを挟み込み、第１の取付盤１１１を下降させることにより、透放射線押圧基盤１６０を介して、積層体１０ａをマスターモールド２０の表面に規定の圧力で押し付ける。このマスターモールド２０は、Ｎｉ合金などの精密加工が可能な材料であって、現状の成形加工技術において微細な凹凸を精密に形成することが可能な材料からなるメタルプレート等を適用できる。
この操作によりマスターモールド２０の表面に形成されている微細凹凸の逆パターンである微細凹凸パターンを積層体１０ａの硬化性樹脂材料の層１３に転写する（以上の工程を凹凸パターン転写工程と称する）。
【００７３】
次いで、マスターモールド２０の表面に積層体１０ａを押しつけた状態のまま、照射装置１４０から紫外放射線を照射し、硬化性樹脂材料を硬化させる（以上の工程を硬化工程と称する）。
この硬化の前、又は後に、もしくは硬化中に、図８に示すように、カッターセット部材１１２を下降させることで外周カッター部１１４と内周カッター部１１５を下降させ、外周カッター刃１１７と内周カッター刃１１８により、積層体１０ａから円板状とされた樹脂製のレプリカモールド３０を打ち抜く（以上の工程を打ち抜き加工工程と称する）。
この打ち抜き加工工程においては、外周カッター刃１１７が円筒状の外側摺動サポート部材１８０の外周の延長面に沿って摺動しつつ積層体１０ａを打ち抜くとともに、内周カッター刃１１８が内側摺動サポート部材１７０の内側に沿って摺動しつつ積層体１０ａを打ち抜くので、正確な位置で積層体１０ａを打ち抜くことができ、目的の内径寸法及び外径寸法とされたドーナツ円盤状のレプリカモールド３０が得られる。
【００７４】
また、図８に示すように、積層体１０ａの内、打ち抜かれてレプリカモールド３０となった部分を除く領域において、内周カッター刃１１８によって打ち抜かれた積層体１０ａの中心部１０ｂは、内側摺動サポート部材１７０の中心の凹部１７１側に排出され、外周カッター刃１１７によって打ち抜かれた積層体１０ａの外周部１０ｃは、外側摺動サポート部材１８０の外周側に排出される。ここで、摺動サポート部材１７０の凹部１７１の内径は内周カッター刃１１８の外径とほぼ等しい大きさとされているので、積層体１０ａを内周カッター刃１１８によって打ち抜く際、凹部１７１の内周縁に沿って積層体１０ａを無理なく正確な位置で打ち抜くことができ、打ち抜き精度を高めることができる。また、外側摺動サポート部材１８０の外径は外周カッター刃１１７の内径とほぼ等しい大きさとされているので、積層体１０ａを外周カッター刃１１７によって打ち抜く際、外側摺動サポート部材１８０の外周縁に沿って積層体１０ａを無理なく正確な位置で打ち抜くことができ、打ち抜き精度を高めることができる。よって、内周円の形状及び位置精度、並びに、外周円の形状及び位置精度の何れもが高められ、目的のドーナツ円盤状に積層体１０ａを打ち抜くことができる。
なお、本実施形態において、樹脂製のモールドを、同一のパターンが連続して設けられた長尺状とする場合には、カッター刃による打ち抜きを内周円のみとし、外周円の打ち抜きは行わない。
【００７５】
図８に示すように、積層体１０ａを打ち抜いた後、図９に示すように第１の取付盤１１１及びカッターセット部材１１２を上昇させると、外周カッター刃１１７と内周カッター刃１１８の間に挟まれた状態でレプリカモールド３０が持ち上がる。これにより、図１０に示すように、第１の取付盤１１１に対してカッターセット部材１１２を上昇させることで、外周カッター刃１１７と内周カッター刃１１８をレプリカモールド３０から外すように移動させ、さらに、先端部に折曲部４１を有する取出ロッド４０等の剥離手段を用いてレプリカモールド３０を取り出すことができる。このレプリカモールド３０の取出時において、外周カッター刃１１７と内周カッター刃１１８はレプリカモールド３０から既に外れており、レプリカモールド３０は透放射線押圧基盤１６０のみに密着した状態であるので、取出ロッド３１によってレプリカモールド３０を容易に剥離することができる。
【００７６】
そして、レプリカモールド３０を透放射線押圧基盤１６０から取り外した後、図１１に示すように、新たな積層体１０ａを、透放射線押圧基盤１６０とマスターモールド２０の間に配置し、再度、上述した押圧加工工程、紫外線照射工程、打ち抜き加工工程を施してレプリカモールド３０を得る。そして、上記の操作を繰り返し行うことにより、レプリカモールド３０を大量生産することができる。
【００７７】
ここで、本発明で用いるレプリカモールド３０に備えられる硬化性樹脂材料の層１３は、上述のような磁性粉体を含有するものなので、この層が、レプリカモールド３０の凹凸パターンを磁気記録媒体Ｗに磁気転写するための磁性層として機能する。
また、図１３に示す例のレプリカモールド３０は、硬化性樹脂材料の層１３に、マスターモールド２０から転写された、凸部１３ａと凹部１３ｂとからなる凹凸パターンが形成されている。
【００７８】
本発明において作製され、磁気記録媒体３００の製造に用いられるレプリカモールド３０は、詳細を後述するが、磁気記録媒体Ｗ（磁気記録媒体３００）に対し、凹凸パターンのレジスト膜２４０への転写を行うとともに、磁性層２２０に対して磁気転写を行う、所謂、磁気転写用情報担体として機能する。
【００７９】
また、上記方法によって得られ、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたレプリカモールド３０は、使い捨てタイプの樹脂スタンパとして使用することもできる一方、磁気転写用情報担体として磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なものとなる。このような構成とした場合、レプリカモールド３０は、例えば、１０００回程度の磁気転写工程回数で、連続的な磁気転写に用いることが可能となる。
【００８０】
［磁気記録媒体の製造方法］
本発明の磁気記録媒体の製造方法を例示する。
非磁性基板の表面に形成される磁性層は、面内磁性層でも垂直磁性層でもかまわない。これら磁性層は主としてＣｏを主成分とする合金から形成することが好ましい。
【００８１】
例えば、面内磁気記録媒体用の磁性層としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層からなる積層構造を用いることができる。
また、垂直磁気記録媒体用の磁性層としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕ等）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣ等）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢ等）等からなる裏打ち層と、Ｐｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層を積層したものを用いることができる。
【００８２】
磁性層の厚さは、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とする。また、磁性層は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層の膜厚は、再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層膜厚が必要であり、一方で、記録再生特性を表す各パラメータは出力の上昇とともに劣化するため、適切な膜厚に設定する必要がある。
なお、通常、磁性層はスパッタ法により薄膜として形成する。
【００８３】
磁性層の上には保護膜を形成し、その後、潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を製造する。保護膜の形成は、一般的には、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎの薄膜を、Ｐ−ＣＶＤ等で成膜する方法が用いられるが、特に限定されるものではない。また、保護膜としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨｘＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層や、ＳｉＯ２、Ｚｒ２Ｏ３、ＴｉＮ等の、通常用いられる保護膜材料を用いることができる。また、保護膜が２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜の膜厚は１０ｎｍ未満とする必要がある。保護膜の膜厚が１０ｎｍを超えるとヘッドと磁性層との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるからである。
保護膜の上には、上述したように、潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤、及び、これらの混合物等が挙げられ、通常１〜４ｎｍの厚さで潤滑層を形成する。
【００８４】
［磁気転写工程］
以下に、磁性粉体を含む樹脂製のレプリカモールド３０を用いて、磁性層に対して磁気転写を行う方法について詳述する。
【００８５】
先ず、磁気記録媒体Ｗの信号記録面を初期磁化する。この初期磁化は、面内磁気記録媒体の場合には、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することによって行い、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することによって行う。この初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体Ｗの表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００８６】
次いで、図１３に示す例のように、磁性層２２０に磁気転写を行う。即ち、レプリカモールド３０を磁気記録媒体Ｗ（磁気記録媒体３００）に押し当てて重ね合わせた後、レプリカモールド３０の裏面側、即ち、磁気記録媒体Ｗ側とは反対側において、焼結磁石からなる磁界生成手段Ｇを回転させながら磁気記録媒体Ｗに対して外部磁界を印加することにより、レプリカモールド３０から磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する。なお、図１３においては、磁性層２２０の表面に設ける保護膜および潤滑層を省略している。
この転写用の外部磁界は、上述した初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、磁気記録媒体Ｗでは、レプリカモールド３０の転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが磁気転写によって書き込まれることになる。
【００８７】
磁界生成手段Ｇは、焼結磁石等の永久磁石や電磁石等から構成することができ、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。そして、この磁界生成手段Ｇは、磁気記録媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、磁気記録媒体Ｗの中心にトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
【００８８】
また、本発明においては、磁界生成手段Ｇに用いられる永久磁石として、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を採用することができる。そして、磁気記録媒体Ｗの裏面側、即ち、磁気記録媒体Ｗとは反対側において、焼結磁石を回転させながら磁場を発生させる構成とすることができる。
【００８９】
ここで、ハードディスクドライブに内蔵される磁気記録媒体３００は、一般的に、非磁性基板２１０の両面に磁性層が形成されており、また、１台のハードディスクドライブには、複数枚の磁気記録媒体３００が内蔵される場合が多い。このため、ハードディスクドライブでは、複数の磁気ヘッドがスタック構造により一体で移動操作されるが、磁気記録媒体３００のトッラク幅は益々狭くなっており、１つの磁気記録媒体３００の信号記録面に書き込まれたサーボ信号等を用いて、他の信号記録面における磁気ヘッドの位置決めを行うことは、ヘッドのスタック構造の精度からは困難となっている。このため、本発明においては、磁気記録媒体Ｗ（磁気記録媒体３００）の両面に、磁気転写によってサーボ信号等を書き込むことが好ましい。具体的には、磁気記録媒体Ｗの両面を一対のレプリカモールド３０で挟み込んだ状態とし、この状態で、これらレプリカモールド３０の転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて転写用の外部磁界を印加する。これにより、磁気記録媒体Ｗの両面にサーボ信号等を書き込むことができる。
【００９０】
なお、磁気記録媒体３００の磁性層２２０の保磁力Ｈｃは、通常は３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上である。従って、この磁性層を初期直流磁化した後、磁気記録媒体Ｗの両面をレプリカモールド３０で挟み込み、磁気転写できる強度の磁界を、レプリカモールド３０を介して印加することで磁気転写を行うことが好ましい。
【００９１】
また、本発明においては、図１２に例示するような長尺のモールド２５０に開口部１０ｄを設け、この開口部１０ｄを磁気記録媒体の開口部（中心孔）に一致させて位置合わせを行い、さらに、モールド２５０を治具により磁気記録媒体に押しあて、治具側から外部磁界を印加することにより、磁気記録媒体の磁気転写を高い生産性で行うことができる。図１２に例示したモールド２５０は、同一パターンのレプリカモールド３０を連続して設けた構成なので、各工程を連続して行うことが可能となり、また、容易に磁気記録媒体の両面を同時に磁気転写することが可能となる。
【００９２】
[グライド検査、サーティファイ検査]
そして、本実施形態では、上述したような各工程によって磁気記録媒体３００を製造した後、得られた磁気記録媒体３００に対するグライド検査を行なう。このグライド検査とは、磁気記録媒体３００の表面に突起物が無いかどうかを検査する工程である。即ち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体３００に対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体３００の表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドとの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体３００に欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００９３】
そして、グライド検査をパスした磁気記録媒体３００には、通常、サーティファイ検査が実施される。このサーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体３００に対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体３００の記録不能の有無を検出し、磁気記録媒体１０の電気特性や欠陥の有無等、媒体の品質を確認するものである。
【００９４】
本発明を適用して製造された磁気記録媒体３００は、サーボ信号等が既に書き込まれているため、従来の方法によるサーティファイ検査とは異なる。即ち、本発明を適用して製造された磁気記録媒体３００では、この磁気記録媒体３００に磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【００９５】
磁気記録媒体３００は、上記構成により、磁性層２２０によって形成される図示略の磁気記録パターンに、読み出しヘッド及び書き込みヘッドを備えた磁気ヘッド（図１４に示す磁気記録再生装置５０の磁気ヘッド５００を参照）により、情報信号の磁気記録あるいは再生を行なうことが可能な構成とされる。また、本実施形態の磁気記録媒体３００は、本発明に係る製造方法によって得られるものなので、優れた記録再生特性が確保され、高記録密度に対応可能なものとなる。
【００９６】
［磁気記録媒体の用途：磁気記録再生装置］
上記の製造方法により得られた磁気記録媒体は、主に磁気記録再生装置等に用いられる。本発明を適用して製造された磁気記録媒体３００を備える磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）の一例を図１４に示す。
【００９７】
図１４に示す磁気記録再生装置１は、上述した本発明の磁気記録媒体３００と、これを記録方向に駆動する媒体駆動部４００と、記録部と再生部からなる磁気ヘッド５００と、磁気ヘッド５００を磁気記録媒体３００に対して相対運動させるヘッド駆動部６００と、磁気ヘッド５００への信号入力と磁気ヘッド５００からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせた記録再生信号系７００とを具備したものである。これらを組み合わせることにより、記録密度の高い磁気記録再生装置１を構成することが可能となる。
【００９８】
磁気記録再生装置１によれば、磁気記録媒体３００の記録トラックを磁気的に不連続に加工したことにより、従来はトラックエッジ部の磁化遷移領域の影響を排除するために再生ヘッド幅を記録ヘッド幅よりも狭くして対応していたものを、この両者をほぼ同じ幅として動作させることができる。これにより、十分な再生出力と高いＳＮＲを得ることが可能となる。
【００９９】
さらに、上述の磁気ヘッド５００の再生部を、例えば、巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲヘッド、あるいは、トンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）を利用したＴＭＲヘッドで構成することにより、高記録密度においても十分な信号強度を得ることができ、高記録密度を有する磁気記録再生装置１を実現することができる。
【０１００】
また、上述の磁気ヘッド５００の浮上量を、例えば、０．００５μｍ〜０．０２０μｍ程度と従来よりも低い高さで浮上させると、出力が向上して高い装置ＳＮＲが得られ、大容量で信頼性の高い磁気記録再生装置１を提供することができる。また、最尤復号法による信号処理回路を組み合わせると、さらに記録密度を向上でき、例えば、トラック密度３２０ｋトラック／インチ以上、線記録密度１０００ｋビット／インチ以上、１平方インチ当たり１００Ｇビット以上の記録密度で記録・再生する場合にも、十分なＳＮＲが得られる。
【０１０１】
以上説明したような、本発明に係る磁気記録媒体３００の製造方法によれば、上記構成の如く、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写を行う際に用いるレプリカモールド３０を作製するにあたり、磁性粉体を含む液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料を基体１１、１２間に挟み、該硬化性樹脂材料の周縁部分のみを硬化させて積層体１０を得た後、この積層体１０から一方の基体（１２）を剥離して硬化性樹脂材料の層１３を露出させ、この層を、凹凸パターンを有するマスターモールド２０を押圧した状態で硬化させることにより、樹脂製のレプリカモールド３０を得る方法を採用している。このレプリカモールド３０を用いて磁気転写を行うので、磁気転写用情報担体を低価格で製造することが可能となり、ひいては、高記録密度を実現できる磁気記録媒体３００を、高い生産性で安価に製造することが可能となる。
【実施例】
【０１０２】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法について、実施例及び比較例を示してより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【０１０３】
［硬化性樹脂材料の調製］
まず、光硬化性の樹脂材料として、ビームセット３７１（荒川化学工業社製）を４５質量％、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）の１０質量％、アセトン溶液を１０質量％、メガファックＲ−３０（ＤＩＣ株式会社製）を５質量％、酢酸エチル（希釈溶剤）を３０質量％で各々配合し、紫外線硬化性の硬化性樹脂材料の溶液を調製した。
また、これと同時に、磁性粉体として、ＦｅＰｔ粒子粉体を、従来公知のポリオール法で合成した。この際、ＦｅとＰｔの比率を、Ｆｅ６０原子％：Ｐｔ４０原子％とした。また、合成後の磁性粉体の平均粒径は約５ｎｍであった。
【０１０４】
そして、これら紫外線硬化性の樹脂材料と、ＦｅＰｔ粒子粉体からなる磁性粉体とを、樹脂材料３０体積％：磁性粉末７０体積％の比で混合し、本実施例の硬化性樹脂材料を得た。
上記方法で得られた硬化性樹脂材料の粘度は、約９ｍＰａ・ｓであった。
【０１０５】
［積層フィルムの製造］
次に、上記方法で得られた硬化性樹脂材料の溶液を、易接着処理を施したベースフィルムであるポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、厚さ５０μｍ、幅１００ｍｍ、長さ１０００ｍ）上に塗布した。
次いで、希釈溶剤を揮発させて、厚さ３０μｍの紫外線硬化性樹脂材料の層（粘度：２Ｐａ・ｓ）を形成させた。
次いで、その硬化性樹脂材料の層の上に、カバーフィルムとして、シリコン処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１６μｍ）を貼り合せることにより、硬化性樹脂材料の層をベースフィルムとカバーフィルムで挟んだ構成の積層フィルムを得た。
【０１０６】
［硬化性樹脂材料の封入］
次に、上記手順で得られた積層フィルムの幅方向の両端部に、９０ｍｍ×１０ｍｍの幅で紫外線（３６５ｎｍ、３６ｍＷ／ｍ２）を照射して流動抑止体を形成しながら、ＡＢＳ樹脂製円筒状巻き芯を用いて１０８０ｍｍ／分の巻取り速度で巻き取った。これにより、長さ１５０ｍ、幅１００ｍｍで、幅方向の両端部１０ｍｍが硬化されて流動抑止体となった積層体のロールを得た。
【０１０７】
［レプリカモールドの製造］
次に、上記手順で得られた積層体のロールと、マスターモールドを用いて、レプリカモールドを製造した。
この際、マスターモールドとしては、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを用いた。具体的には、トラックを幅１２０ｎｍ、トラック間隔を６０ｎｍ、トラック間に設けるサーボ情報のパターンの段差を４５ｎｍとしたものを用いた。
そして、まず、上記マスターモールドのパターン面を下にしてスタンパ装置に取り付けた。次いで、上記手順で得られた積層体を、カバーフィルムの表面を上にしてカバーフィルムの表面がマスターモールドのパターン面と対向するように供給した。
【０１０８】
次いで、積層体からカバーフィルムを剥離させ、硬化性樹脂材料の層に対して、マスターモールドを圧力３０ＭＰａで１０秒間押し付けた。次いで、そのままの状態で、照度が３０ｍＷ／ｃｍ２に設定された紫外線照射装置（波長３６５ｎｍのＬＥＤランプ）により、紫外線を２０秒間照射して硬化性樹脂材料を硬化させた。そして、紫外線の照射を停止し、マスターモールドを上昇させ、硬化性樹脂材料の層にパターンを転写させたレプリカモールドを得た。この工程を連続的に行い、積層体のロールから１５００個のレプリカモールドを得た。
【０１０９】
［磁気記録媒体の作製］
磁気記録媒体用ガラス基板を真空チャンバ内に配置し、真空チャンバ内を１．０×１０−５Ｐａ以下に真空排気した。この際に使用したガラス基板は、Ｌｉ２Ｓｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３−ＺｎＯの各成分から構成される結晶化ガラスからなり、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）は２オングストロームである。
【０１１０】
そして、上記ガラス基板上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、軟磁性層として６５Ｆｅ−３０Ｃｏ−５Ｂ、中間層としてＲｕ、磁性層として７４Ｃｏ−６Ｃｒ−１８Ｐｔ−２ＳｉＯ２合金（以上、全てモル比）の順に薄膜を積層した。この際、それぞれの層の膜厚を、ＦｅＣｏＢ軟磁性層は６０ｎｍ、Ｒｕ中間層は１０ｎｍ、磁性層は１５ｎｍとした。
そして、磁性層の表面に、ＣＶＤ法によってカーボン（ＤＬＣ：ダイヤモンドライクカーボン）保護膜を４ｎｍ成膜し、その後、潤滑材を塗布して磁気記録媒体を製造した。
【０１１１】
［樹脂製のレプリカモールドを用いた磁気転写］
磁気記録媒体の磁性層の初期磁化を行った。この初期磁化は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に、ＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いた直流磁界を印加することによって行った。
次に、上記磁気記録媒体に対し、上記樹脂製のレプリカモールドを、凹凸パターンの面が磁気記録媒体基板のレジスト膜に対向するように、治具を用いて両側から挟んだ。この際、治具の一方に、磁気記録媒体及び樹脂製のレプリカモールドの位置合わせ用の、直径２０ｍｍの円柱状の棒が垂直に設けられているものを用いた。そして、２つの治具同士を、圧力０．６ＭＰａで１０秒間押圧した後、その圧力を変更せず、外部磁界を印加した。その後、磁気記録媒体からレプリカモールドを剥がし取り、モールドはフィルム巻き取り機によって回収した。
【０１１２】
［特性評価］
本実施例で得られた各々の磁気記録媒体のサーボ信号の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。具体的には、磁気記録媒体の記録領域においてサーボ信号の再生特性を測定し、磁気転写の安定性、均一性の指標とした。なお、上記評価に用いた装置は、磁気記録媒体に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができるものである。また、この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価した。
その結果、本実施例の樹脂製モールドを用いて製造した磁気記録媒体は、磁気記録媒体のほぼ全面において、Ｓ／Ｎ比が１６．８ｄＢで均一であり、サーボ信号の再生特性に優れていることが確認できた。
【０１１３】
以上、本実施例の結果により、本発明に係る方法によって磁気記録媒体を製造することで、高記録密度を実現できる磁気記録媒体を、高い生産性で安価に製造することが可能であることが明らかとなった。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気記録再生装置、所謂ハードディスクドライブに用いられる磁気記録媒体の製造工程に適用することで、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を高い生産性で製造することが可能となり、産業上の利用可能性は計り知れない。
【符号の説明】
【０１１５】
２０…マスターモールド、
１０、１０ａ…積層体、
１１、１２…基体、
１３…硬化性樹脂材料の層、
１３ａ…凸部、
１３ｂ…凹部、
１４…第１の流動抑止体、
１５…第２の流動抑止体、
３０、２５０…樹脂製のモールド（レプリカモールド）、
Ｇ…磁界生成手段
１００…樹脂製モールド作製装置、
１１０…上型セット、
１１１…第１の取付盤、
１１１ａ、１１１ｂ…透孔、
１１２…カッターセット部材、
１１４…外周カッター部、
１１４ａ…内周面、
１１５…内周カッター部、
１１６…カッター部材、
１１７…外周カッター刃、
１１７ａ…切刃面、
１１７ｂ…外側刃面、
１１８…内周カッター刃、
１１８ａ…切刃面、
１１８ｂ…凹部、
１２０…下型セット、
１２１…第２の取付盤、
１３０…放射線源サポート機構、
１４０…照射装置、
１５０…サポート部材、
１６０…透放射線押圧基盤、
１７０…内側摺動サポート部材（サポート部材）、
１７１…凹部、
１８０…外側摺動サポート部材（サポート部材）、
１９０…受け台、
１９１…弾性部材、
３００…磁気記録媒体、
Ｗ…磁気記録媒体（磁気記録媒体）、
１…磁気記録再生装置、
４００…媒体駆動部、
５００…磁気ヘッド、
６００…ヘッド駆動部、
７００…記録再生信号系
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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