(57)【要約】【課題】簡易な工程で、電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる、メッシュ電極基板の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板の製造方法であって、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有することを特徴とする、メッシュ電極基板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製基板、および前記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板の製造方法であって、
樹脂製基板を用い、前記樹脂製基板上に樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる導電層形成工程と、
前記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、
を有することを特徴とする、メッシュ電極基板の製造方法。
【請求項２】
前記メッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものであり、かつ前記樹脂材料が、色素増感型太陽電池の電解質層に用いられる酸化還元対に対して耐性を有するものであることを特徴とする、請求項１に記載のメッシュ電極基板の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂材料が、電子線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、または熱硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項２に記載のメッシュ電極基板の製造方法。
【請求項４】
樹脂製基板、および前記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板と、
前記メッシュ電極基板の前記導電層が形成された側に配置され、対極としての機能を有する色素増感型太陽電池用電極基板と、
前記メッシュ電極基板上、または前記色素増感型太陽電池用電極基板上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層と、
前記メッシュ電極基板と、前記色素増感型太陽電池用電極基板との間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層と、を有する色素増感型太陽電池を製造する、色素増感型太陽電池の製造方法であって、
前記メッシュ電極基板を作製するメッシュ電極基板作製工程が、樹脂製基板を用い、前記樹脂製基板上に、前記電解質層に含まれる酸化還元対に対して耐性を有する樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる導電層形成工程と、前記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有するものであることを特徴とする、色素増感型太陽電池の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色素増感型太陽電池等に好適に用いられるメッシュ電極基板の製造方法、および色素増感型太陽電池の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、二酸化炭素の増加が原因とされる地球温暖化等の環境問題が深刻となり、世界的にその対策が進められている。中でも環境に対する負荷が小さく、省エネおよびＣＯ２削減に寄与できるクリーンなエネルギー源として、太陽光エネルギーを利用した太陽電池に関する積極的な研究開発が進められている。このような太陽電池としては、単結晶シリコン太陽電池、多結晶シリコン太陽電池、アモルファスシリコン太陽電池、および化合物半導体太陽電池などが既に実用化されているが、これらの太陽電池は製造コストが高い等の問題がある。そこで、環境負荷が小さく、かつ製造コストを削減できる太陽電池として、色素増感型太陽電池が注目され、研究開発が進められている。
【０００３】
色素増感型太陽電池セルの一般的な構成の一例を図４に示す。図４に例示するように、一般的な色素増感型太陽電池セル１００は、第１基材１１１上に、第１電極層１１２および色素増感剤を担持した金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層１１３がこの順で積層された酸化物半導体電極１１０と、第２基材１２１上に第２電極層１２２が形成された対向電極基材１２０との間に、酸化還元対を有する電解質層１０１がシール材１０２の内側に形成された構成を有するものである。そして、金属酸化物半導体微粒子の表面に吸着した色素増感剤の電子が、第１基材１１１側から太陽光を受光することによって励起され、励起された電子が第１電極層へ伝導し、外部回路を通じて第２電極層へ伝導される。その後、酸化還元対を介して色素増感剤の基底準位に電子が戻ることよって発電するものである。このような色素増感型太陽電池としては、上記多孔質層を多孔質二酸化チタンから構成し、色素増感剤の含有量を増加させたグレッチェルセルが代表的であり、発電効率の高い色素増感型太陽電池として広く研究の対象となっている。
【０００４】
ここで、上述したような酸化物半導体電極が用いられた色素増感型太陽電池においては、上記第１電極層として第１基材側からの入射光を妨げることがないように透明な材料が用いられることが一般的である。そして、このような材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）等の金属酸化物が主に用いられるのが通常である。しかしながら、上記金属酸化物は電気抵抗が十分に低いものではないことから、第１電極層の電気抵抗に起因して色素増感型太陽電池の光電変換効率が低下してしまうという問題点が指摘されていた。このような問題に対し、特許文献１、２には、電極層に接するように補助電極としてメッシュ状（網の目状）の導電層を形成することにより、光電変換効率を改善する方法が開示されている。このようなメッシュ状の導電層が形成された電極基板（以下、「メッシュ電極基板」と称する場合がある。）を用いる方法は、色素増感型太陽電池の光電変換効率を改善する方法として、有用な方法である。
【０００５】
上記メッシュ電極基板は、色素増感型太陽電池以外にも広く用いられるものであるが、上記メッシュ電極基板を作製する方法としては、従来、基板上に、スパッタ法等によって導電層を形成する方法が用いられてきた。しかしながら、スパッタ法では厚みが大きい導電層を形成することが難しく、仮に厚みの大きい導電層を形成したとしても、クラックが生じてしまうという問題があった。このため、スパッタ法で作製されるメッシュ電極基板は、導電層の厚みが薄く、電気抵抗値が高くなってしまうという問題点があった。また、スパッタ法を実施するには真空設備が必要になるため、工程が複雑化してしまうという問題点もあった。
【０００６】
また、上記スパッタ法以外の方法で形成された導電層としては、高耐食性ＳＵＳからなるエキスパンドメタルなどの線材を樹脂に埋め込んだ構造のものが知られている。しかしながら、この線材を埋め込んだ構造の場合、線材が埋まっている周辺樹脂が凹むことになり、開口部分が平坦な膜にはならず、例えば、導電層上に触媒層を形成した際に、エッジ部分は均一な成膜が出来ず、性能がばらつくという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２０３６８１号公報
【特許文献２】特開２００４−２９６６６９号公報
【特許文献３】特表２００６−５２３３６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、簡易な工程で、電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる、メッシュ電極基板の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板の製造方法であって、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に、樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有することを特徴とする、メッシュ電極基板の製造方法を提供する。
【００１０】
本発明によれば、上記導電層形成工程が、上記樹脂製基板上に導電層を直接形成するのではなく、予め別途形成した導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせるものであり、かつ上記導電層パターニング工程がこのようにして導電層が形成された後に、導電層をパターニングするものであることにより、上記樹脂製基板上に厚みの大きい導電層を形成することができる。このため、本発明によれば電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる。また、上記導電層形成工程が、導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせることによって導電層を形成するものであることにより、複雑な製造設備が不要であり、簡易な工程でメッシュ電極基板を製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、簡易な工程で、電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる。
【００１１】
本発明においては、上記メッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものであり、かつ上記樹脂材料が、色素増感型太陽電池の電解質層に用いられる酸化還元対に対して耐性を有するものであってもよい。また、この場合においては、上記樹脂材料が、電子線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、または熱硬化性樹脂であることが好ましい。
これにより、本発明のメッシュ電極基板の製造方法によって、色素増感型太陽電池を作製するために好適に用いられるメッシュ電極基板を製造することができるからである。
【００１２】
また本発明は、樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板と、上記メッシュ電極基板の上記導電層が形成された側に配置され、対極としての機能を有する色素増感型太陽電池用電極基板と、上記メッシュ電極基板上、または上記色素増感型太陽電池用電極基板上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層と、上記メッシュ電極基板と、上記色素増感型太陽電池用電極基板との間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層と、を有する色素増感型太陽電池を製造する色素増感型太陽電池の製造方法であって、上記メッシュ電極基板を作製するメッシュ電極基板作製工程が、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に、上記電解質層に含まれる酸化還元対に対して耐性を有する樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を形成する導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有するものであることを特徴とする、色素増感型太陽電池の製造方法を提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記メッシュ電極基板作製工程における導電層形成工程が、上記樹脂製基板上に導電層を直接形成するのではなく、接着層を介して予め別途形成した導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせるものであり、かつ上記導電層パターニング工程がこのようにして導電層が形成された後に、導電層をパターニングするものであることにより、上記樹脂製基板上に厚みの大きい導電層を形成することができる。このため、本発明によれば電気抵抗値が低いメッシュ電極基板が用いられ、光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を製造することができる。また、上記メッシュ電極基板作製工程における上記導電層形成工程が、導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせることによって導電層を形成するものであることにより、複雑な製造設備が不要であり、簡易な工程でメッシュ電極基板を製造することができる。このため、本発明によれば、簡易な工程で、光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を製造することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のメッシュ電極基板の製造方法は、簡易な工程で、電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができるという効果を奏する。また、本発明の色素増感型太陽電池の製造方法は、簡易な工程で、光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のメッシュ電極基板の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明の色素増感型太陽電池の製造方法によって製造される、色素増感型太陽電池の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の色素増感型太陽電池の製造方法によって製造される、色素増感型太陽電池の他の一例を示す概略断面図である。
【図４】一般的な色素増感型太陽電池を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明は、メッシュ電極基板の製造方法、および色素増感型太陽電池の製造方法に関するものである。
以下、各発明について順に説明する。
【００１７】
Ａ．メッシュ電極基板の製造方法
まず、本発明のメッシュ電極基板の製造方法について説明する。本発明のメッシュ電極基板の製造方法は、樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板の製造方法であって、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有することを特徴とするものである。
【００１８】
このような本発明のメッシュ電極基板の製造方法について、図を参照しながら説明する。図１は、本発明のメッシュ電極基板の製造方法の一例を示す工程図である。図１に例示するように本発明のメッシュ電極基板の製造方法は、樹脂製基板１１を用い（図１（ａ））、上記樹脂製基板１１上に、樹脂材料を含有する樹脂層１２を介して導電層１３を貼り合わせる導電層形成工程と（図１（ｂ））、上記導電層１３に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程（図１（ｃ））と、を有するものであり、樹脂製基板１１、および上記樹脂製基板１１上に樹脂層１２を介して形成され、メッシュ状に形成された導電層１３を有するメッシュ電極基板１０を製造するものである（図１（ｃ））。
【００１９】
本発明によれば、上記導電層形成工程が、上記樹脂製基板上に導電層を直接形成するのではなく、接着層を介して予め別途形成した導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせるものであり、かつ上記導電層パターニング工程がこのようにして導電層が形成された後に、導電層をパターニングするものであることにより、上記樹脂製基板上に厚みの大きい導電層を形成することができる。このため、本発明によれば電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる。また、上記導電層形成工程が、導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせることによって導電層を形成するものであることにより、複雑な製造設備が不要であり、簡易な工程でメッシュ電極基板を製造することができる。
このようなことから、本発明によれば、簡易な工程で、電気抵抗値が低いメッシュ電極基板を製造することができる。
【００２０】
本発明のメッシュ電極基板の製造方法は、少なくとも上記導電層形成工程と、導電層パターニング工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。
以下、本発明に用いられる各工程について、順に説明する。
【００２１】
１．導電層形成工程
まず、本発明に用いられる導電層形成工程について説明する。本工程は、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に、樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を貼り合わせる工程である。
【００２２】
（１）樹脂製基板
本工程に用いられる樹脂製基板は、樹脂材料からなるものであれば特に限定されるものではない。また、本工程に用いられる樹脂製基板は、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜選択されるものである。したがって、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途によっては、樹脂製基板は透明性を有するものであってもよく、あるいは不透明なものであってもよい。
【００２３】
本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合、本工程に用いられる樹脂製基板は、透明性を有する透明樹脂製基板であることが好ましい。透明樹脂基板が用いられることにより、本発明によって製造されるメッシュ電極基板を用いて作製される色素増感型太陽電池において、当該メッシュ電極基板側から太陽光を受光することが可能になるからである。上記透明樹脂製基板の透明性としては、太陽光を透過することができるものであれば特に限定されるものではないが、全光線透過率８０％以上であることがより好ましい。なお、上記全光線透過率は、JIS K7361-1:1997に準拠した測定方法により測定した値である。
【００２４】
上記樹脂製基板としては、例えば、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、ポリアミド（ナイロン−６、ナイロン−６６等）、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリカーボネート等、あるいはこれらの高分子の共重合体からなる基材を用いることができる。
【００２５】
また、本工程に用いられる樹脂製基板の厚みは、本発明によって製造されるメッシュ電極基板に必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、樹脂製基板を構成する材料等に応じて適宜決定されるものであるが、通常、１０μｍ〜２０００μｍの範囲内であることが好ましく、特に５０μｍ〜１８００μｍの範囲内であることが好ましく、さらに１００μｍ〜１５００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００２６】
（２）導電層
本工程において上記樹脂製基板上に貼り合わされる導電層は、電極として機能し、後述する導電層パターニング工程において、複数の開口部を形成することができる材料からなるものであれば特に限定されるものではない。なお、本工程において樹脂製基板上に貼り合わされた導電層は、後述する導電層パターニング工程において複数の開口部が形成されることによって、メッシュ電極となるものである。したがって、本工程において樹脂製基板上に貼り合わされた時点では、導電層は開口部が形成されていない状態となっている。
【００２７】
本工程に用いられる導電層を構成する材料としては、電極としての機能を有する導電層を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜選択して用いることができる。中でも本工程においては、通常、導電性に優れるという観点から、金属材料からなる導電層が用いられることが好ましい。本工程に用いられる上記金属材料としては、例えば、チタン、アルミ、鉄、ニッケル、鉄−ニッケル合金、銅、銅−ニッケル合金、ニオブ、タングステン、タンタル、クロム、ステンレス系合金等を挙げることができる。
【００２８】
ここで、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合、本工程に用いられる導電層としては、色素増感型太陽電池の電解質層に含まれる酸化還元対に対する耐性を有するものであることが好ましい。特に、色素増感型太陽電池においては電解質層に、腐食性の高いヨウ素を含有する酸化還元対が用いられることが一般的であるため、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合は、上記導電層を構成する材料として、当該ヨウ素を含有する酸化還元対に対して耐性を有するものが用いられることが好ましい。このような材料としては、例えば、チタン、アルミ、銅、または銅−ニッケル合金、ステンレス系合金を挙げることができる。
なお、上記導電層が、ヨウ素を含有する酸化還元対に対して耐性を有するかについては、ヨウ素を含む電解質溶液に５００ｈ浸漬させ、重量変化を測定することにより評価することができる。この場合、導電層が腐食した場合には、導電層が溶解（イオン化）し、重量が減少することになる。
【００２９】
本工程においては、上記樹脂製基板上に直接導電層を製膜するのではなく、予め別途形成された導電層を、上記樹脂製基板上に樹脂層を介して貼り合わせることにより、導電層の厚みを任意に決定することが容易である。すなわち、従来のようにスパッタ法によって導電層を形成する場合には、厚みが厚い導電層を形成するとクラックが生じてしまうという問題点があったことから、比較的厚みが薄い導電層しか形成することができないという製膜方法に起因するという制約があった。しかしながら、本工程においては、予め別途形成された導電層を、上記樹脂製基板上に樹脂層を介して貼り合わせるので、導電層を形成する方法としては特に制約がない。したがって、本工程においては導電層の厚みを任意に決定することが容易になる。このため、例えば、本工程においては、スパッタ法等によって樹脂製基板上に直接導電層を形成する場合と比べて、厚みが大きい導電層を上記樹脂製基板上に形成することができる。
【００３０】
本工程に用いられる導電層の厚みは、導電層を構成する材料に応じて、導電層の所望の電気抵抗値を所望の範囲内で適宜決定されるものであり、特に限定されるものではないが、通常、１００ｎｍ〜１ｍｍの範囲内であることが好ましく、３００ｎｍ〜５０μｍの範囲内であることがより好ましく、５００ｎｍ〜３０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いと、導電層の電気抵抗が大きくなりすぎてしまい、実質的に導電層が電極として機能しなくなる可能性があるからである。また、厚みが上記範囲よりも厚いと、導電層を構成する材料の種類によっては、製造効率が低下したり、製造コストが高くなる場合があるからである。
【００３１】
（３）樹脂層
次に、本工程に用いられる樹脂層について説明する。本工程に用いられる樹脂層は、樹脂材料を含有するものであり、上記樹脂製基板と、上記導電層とを接着するために用いられるものである。樹脂層に含まれる樹脂材料としては、少なくとも上記樹脂製基板と上記導電層とを所望の強度で接着できるものであれば特に限定されるものではなく、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途や、上記樹脂製基板および上記導電層を構成する材料等に応じて適宜決定される。本工程に用いられる樹脂材料としては、例えば、紫外線硬化性樹脂等、電子硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、および熱硬化性樹脂等を挙げることができる。
【００３２】
ここで、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合、本工程に用いられる樹脂層としては、色素増感型太陽電池の電解質層に用いられる酸化還元対に対して耐性を有するものであることが好ましい。本発明によって製造されるメッシュ電極基板を用いて作製された色素増感型太陽電池においては、上記樹脂層が電解質層に接する場合があり、樹脂層が上記酸化還元対に対して耐性を有さない場合は、色素増感型太陽電池が経時劣化してしまう可能性があるからである。特に、色素増感型太陽電池においては電解質層に、腐食性の高いヨウ素を含有する酸化還元対が用いられることが一般的であるため、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合は、上記樹脂層に含まれる樹脂材料として、当該ヨウ素を含有する酸化還元対に対して耐性を有するものが用いられることが好ましい。なお、樹脂材料が、上記酸化還元対に対して耐性を有するかどうかは、樹脂材料を、ヨウ素を含む電解質溶液に５００ｈ浸漬させ、引張り強度の変化を測定することにより評価することができる。この場合、樹脂材料が腐食した場合には、樹脂材料の高分子鎖が切断されることにより引張り強度が低下する。この引張り強度は例えばテンシロン万能材料試験機ＲＴＦ−２４１０（ヤマト科学）を用いて測定することができる。
【００３３】
ここで、上述した樹脂材料の例のうち紫外性硬化性樹脂等の光硬化性樹脂に関しては、硬化させるために光重合開始剤を必要とする場合が多いところ、当該光重合開始剤を必要する光硬化性樹脂については、当該光重合開始剤等の影響によりヨウ素を含有する酸化還元対に対する耐性を有さない場合がある。したがって、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合は、上記樹脂材料として、光重合開始剤を要する光硬化性樹脂を用いることは好ましくない場合が多いといえる。このため、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池を作製するために用いられるものである場合は、上記樹脂材料として、電子線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、または熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、特に熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。ここで、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、シアノアクリレート、アイオノマー、ポリビニルアルキルエーテル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ニトロセルロース、酢酸セルロース、熱可塑性エポキシ、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−アクリル酸エチルコポリマー等を挙げることができる。また、上記熱硬化性樹脂としては、例えば、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリベンツイミダゾール、ポリエーテルがある。エラストマー系接着剤としては、天然ゴム、再生ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ポリスルフィドゴム、シリコーンゴム、ポリウレタンゴム、合成天然ゴム、エチレンプロピレンゴム等を挙げることができる。
【００３４】
本工程に用いられる樹脂材料は１種類のみであってもよく、または２種類以上であってもよい。
【００３５】
（４）導電層の貼り合わせ方法
本工程においては、上記樹脂層を介して上記樹脂製基板上に導電層を貼り合わせることにより、上記樹脂製基板上に導電層を形成する。本工程において、上記樹脂層を介して上記樹脂製基板上に導電層を貼り合わせる方法としては、樹脂製基板上に樹脂層を形成した後、当該樹脂層上に導電層を貼り合わせる方法であってもよく、または導電層上に樹脂層を形成した後、樹脂層と樹脂製基板とを貼り合わせる方法であってもよい。さらには、別個に形成した導電層および樹脂層を、同時に上記樹脂製基板上に貼り合わせる方法であってもよい。
【００３６】
なお、上記樹脂製基板上、または上記導電層上に樹脂層を形成する方法としては、例えば、別途製膜した樹脂層を上記樹脂製基板または上記導電層上に貼り合わせる方法や、樹脂材料を含有する樹脂層形成用塗工液を、上記樹脂製基板または上記導電層上に塗布・乾燥する方法等を挙げることができる。
【００３７】
２．導電層パターニング工程
次に、本発明に用いられる導電層パターニング工程について説明する。本工程は、上記導電層形成工程において形成された導電層に、複数の開口部を形成する工程である。
【００３８】
本工程において、導電層に形成される開口部の形状は、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜決定されるものであり特に限定されるものではないが、例えば、三角形、四角形、六角形などの多角形、円形、楕円形およびそれらの連続形状等を挙げることができる。
【００３９】
また、本工程においては導電層に複数の開口部が形成されるが、複数の開口部が形成される態様としては、開口部が形成された後の導電層において、開口部の比率を所定の範囲内にできれば特に限定されるものではない。本工程において開口部が形成された後の開口部の比率は、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されないが、通常、５０％〜９０％の範囲内であることが好ましい。上記開口部の比率が上記範囲に満たない場合、例えば、本発明によって製造されるメッシュ電極基板を用いて作製された色素増感型太陽電池において、メッシュ電極基板側から太陽光を十分に受光することができないため、発電効率が低下する可能性があるからである。また、上記開口部の比率が上記範囲を超える場合は、導電層が電極としての機能を果たせなくなる可能性があるからである。
【００４０】
また、本工程において導電層に形成される個々の開口部の大きさは、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜決定されるものであるが、開口幅が１μｍ〜２０００μｍの範囲内であることが好ましく、１０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることがより好ましく、１００μｍ〜５００μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
ここで、上記開口幅とは、本工程において導電層に形成される個々の開口部において、最も幅が広い場所の距離をいう。
【００４１】
さらに、本工程においては導電層に複数の開口部が形成されることにより、導電層はメッシュ状にパターニングされることになるが、パターニングされた後の導電層の線幅は、０．０２μｍ〜１０ｍｍの範囲内であることが好ましく、１μｍ〜２ｍｍの範囲内であることがより好ましく、特に１０μｍ〜１ｍｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００４２】
本工程において導電層をパターニングする方法としては、例えば、ドライエッチングやウェットエッチング等を挙げることができる。
【００４３】
３．任意の工程
本発明のメッシュ電極の製造方法においては、上記導電層形成工程と、上記導電層パターニング工程以外の他の工程が用いられてもよい。本発明に用いられる他の工程としては、本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。
【００４４】
このような他の工程としては、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池に用いられるものである場合に、上記導電層パターニング工程後に実施され、上記導電層上に触媒層を形成する触媒層形成工程を挙げることができる。このような触媒層形成工程が用いられることにより、本発明によって製造されるメッシュ電極基板を用いて色素増感型太陽電池を作製した場合に、より光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を得ることができる。上記触媒層形成工程において形成される触媒層としては、白金、導電性高分子材料、またはこれらの混合物からなるものなどを挙げることができる。導電性高分子材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ＰＡ）、ポリピロール、またはこれらの誘導体などを挙げることができる。また、触媒層形成工程においては、真空蒸着法や、上記材料を含有する触媒層形成用塗工液を、上記導電層上に塗布、乾燥する塗布法等によって形成することができる。また、触媒層形成工程において形成される触媒層の厚みは、特に限定されないが、１ｎｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００４５】
また、上記他の工程としては、本発明によって製造されるメッシュ電極基板が、色素増感型太陽電池に用いられるものである場合に、上記導電層パターニング工程後に実施され、上記導電層上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程を挙げることができる。上記透明電極層形成工程において形成される透明電極層としては、透明性を有し、所定の導電性を有する材料からなるものであれば特に限定されるものではない。このような透明電極層としては、たとえば、導電性高分子材料や金属酸化物等からなるものを挙げることができる。上記金属酸化物としては、所望の導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、太陽光に対して透過性を有するものであることが好ましい。このような太陽光に対する透過性を有する金属酸化物としては、例えば、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、酸化インジウムにスズを添加した化合物（ＩＴＯ）、フッ素ドープしたＳｎＯ２（以下、ＦＴＯと称する。）、酸化インジウムに酸化亜鉛を添加した化合物（ＩＺＯ）を挙げることができる。一方、上記導電性高分子材料としては、例えば、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ＰＡ）、ポリピロール、またはこれらの誘導体などを挙げることができる。
【００４６】
上記透明電極層形成工程において形成される透明電極層は、単一の層からなる構成であってもよく、また、複数の層が積層された構成であってもよい。複数の層が積層された構成としては、例えば、仕事関数が互いに異なる材料からなる層が積層された態様や、互いに異なる金属酸化物からなる層が積層された態様を挙げることができる。
さらに、上記透明電極層形成工程において形成される透明電極層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、５ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。厚みが上記範囲よりも厚いと、均質な透明電極層を形成することが困難となる場合があるからである。また、全光線透過率が低下して、本発明によって製造されるメッシュ電極基板を用いて色素増感型太陽電池を作製した場合に、良好な光電変換効率を得ることが難しくなる場合があるからである。一方、厚みが上記範囲よりも薄いと、透明電極層の導電性が不足する可能性があるからである。なお、上記厚みは、透明電極層が複数の層から構成される場合には、すべての層の厚みを合計した総厚みを指すものとする。
上記透明電極層形成工程において透明電極層を形成する方法としては、例えば、上述した材料を含有する透明伝教層形成用塗工液を塗布、乾燥する方法を挙げることができる。
【００４７】
４．メッシュ電極基板
次に、本発明によって製造されるメッシュ電極基板について説明する。本発明によって製造されるメッシュ電極基板は、樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に樹脂層を介して形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するものとなる（図１参照）。本発明によって製造されるメッシュ電極基板の用途は特に限定されず、例えば、色素増感型太陽電池の電極基板、太陽電池、画像表示装置、照明装置等の電極基板、あるいはパーソナルコンピュータや携帯電話等の電磁波吸収シート等として用いることができるものである。光電変換素子に有機化合物を含む有機系太陽電池や発光素子に有機化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス画像表示装置や有機エレクトロルミネッセンス照明装置では、光電変換素子や発光素子に含有する有機化合物の水分による劣化を防ぐため、本発明のメッシュ電極基板を好適に用いることができる。特に、本発明のメッシュ電極基板の製造方法は、色素増感型太陽電池の電極基板として用いられるメッシュ電極基板を製造するために好適に用いることができる。この場合、色素増感型太陽電池の電極基板として用いるという関係上、上記樹脂層は、色素増感型太陽電池の電解質層に用いられる酸化還元対に対して耐性を有する樹脂材料を含有するものであることが好ましく、さらには上記導電層も、同じく上記酸化還元対に対して耐性を有するものであることが好ましい。
【００４８】
Ｂ．色素増感型太陽電池の製造方法
次に、本発明の色素増感型太陽電池の製造方法について説明する。本発明の色素増感型太陽電池の製造方法は、樹脂製基板、および上記樹脂製基板上に形成され、メッシュ状に形成された導電層を有するメッシュ電極基板と、上記メッシュ電極基板の上記導電層が形成された側に配置され、対極としての機能を有する色素増感型太陽電池用電極基板と、上記メッシュ電極基板上、または上記色素増感型太陽電池用電極基板上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層と、上記メッシュ電極基板と、上記色素増感型太陽電池用電極基板との間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層と、を有する色素増感型太陽電池を製造するものであって、上記メッシュ電極基板を作製するメッシュ電極基板作製工程が、樹脂製基板を用い、上記樹脂製基板上に、上記電解質層に含まれる酸化還元対に対して耐性を有する樹脂材料を含有する樹脂層を介して導電層を形成する導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有するものであることを特徴とするものである。
【００４９】
本発明によれば、上記メッシュ電極基板作製工程における導電層形成工程が、上記樹脂製基板上に導電層を直接形成するのではなく、接着層を介して予め別途形成した導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせるものであり、かつ上記導電層パターニング工程がこのようにして導電層が形成された後に、導電層をパターニングするものであることにより、上記樹脂製基板上に厚みの大きい導電層を形成することができる。このため、本発明によれば電気抵抗値が低いメッシュ電極基板が用いられ、光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を製造することができる。また、上記メッシュ電極基板作製工程における上記導電層形成工程が、導電層を、上記樹脂層を介して樹脂製基板上に貼り合わせることによって導電層を形成するものであることにより、複雑な製造設備が不要であり、簡易な工程でメッシュ電極基板を製造することができる。このため、本発明によれば、簡易な工程で、光電変換効率に優れた色素増感型太陽電池を製造することができる。
【００５０】
本発明の色素増感型太陽電池の製造方法は、上記メッシュ電極基板作製工程を有することを特徴とするものであり、それ以外に必要な工程については、一般的に色素増感型太陽電池の製造方法として公知方法を用いて実施すればよいものである。
【００５１】
１．メッシュ電極基板作製工程
本発明に用いられるメッシュ電極基板作製工程について説明する。本工程は、樹脂製基板を用い、上記電解質層に含まれる酸化還元対に対して耐性を有する樹脂材料を含有する樹脂層を介して、上記樹脂製基板上に導電層を形成する導電層形成工程と、上記導電層に複数の開口部を形成する導電層パターニング工程と、を有することを特徴とするものである。ここで、上記「導電層形成工程」、および「導電層パターニング工程」については、上記「Ａ．メッシュ電極基板の製造方法」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００５２】
また、本工程には、上記導電層形成工程、および導電層パターニング工程以外の他の工程が用いられてもよい。このような他の工程としては、例えば、上記導電層パターニング工程後に実施され、上記導電層上に触媒層を形成する触媒層形成工程や、上記導電層パターニング工程後に実施され、上記導電層上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程等を挙げることができる。なお、上記触媒層形成工程、および上記透明電極層形成工程については、上記「Ａ．メッシュ電極基板の製造方法」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００５３】
２．色素増感型太陽電池
次に、本発明によって製造される色素増感型太陽電池について説明する。本発明によって製造される色素増感型太陽電池は、上記メッシュ電極基板作製工程で作製されたメッシュ電極基板と、上記メッシュ電極基板の上記導電層が形成された側に配置され、対極としての機能を有する色素増感型太陽電池用電極基板と、上記メッシュ電極基板上、または上記色素増感型太陽電池用電極基板上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層と、上記メッシュ電極基板と、上記色素増感型太陽電池用電極基板との間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層と、を有するものである。このような本発明によって製造される色素増感型太陽電池は、上記多孔質層が形成される位置が、上記メッシュ電極基板上か、または上記色素増感型太陽電池用電極基板上かによって、２態様に分けることができる。
【００５４】
本発明によって製造される色素増感型太陽電池について図を参照しながら説明する。
図２は、上記メッシュ電極基板上に多孔質層が形成された態様（第１態様）の色素増感型太陽電池の一例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本態様の色素増感型太陽電池３０は、メッシュ電極基板１０と、上記メッシュ電極基板１０上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層３１と、上記メッシュ電極基板１０の導電層１３が形成された側に配置された色素増感型太陽電池用電極基板２０と、上記メッシュ電極基板１０および上記色素増感型太陽電池用電極基板２０の間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層３２とを有するものである。ここで、上記メッシュ電極基板１０は、上述したメッシュ電極基板作製工程によって作製されるものであり、樹脂製基板１１上に、樹脂層１２およびメッシュ状に形成された導電層１３とがこの順で積層された構成を有するものである。
一方、図３は、上記色素増感型太陽電池用電極基板上に上記多孔質層が形成された態様（第２態様）の色素増感型太陽電池の一例を示す概略断面図である。図３に例示するように、本態様の色素増感型太陽電池３０は、メッシュ電極基板１０と、上記メッシュ電極基板１０の導電層１３が形成された側に配置された色素増感型太陽電池用電極基板２０と、上記色素増感型太陽電池用電極基板上２０上に形成され、色素増感剤が坦持された金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層３１と、上記メッシュ電極基板１０および上記色素増感型太陽電池用電極基板２０の間に形成され、酸化還元対を含有する電解質層３２とを有するものである。ここで、上記メッシュ電極基板１０は、上述したメッシュ電極基板作製工程によって作製されるものであり、樹脂製基板１１上に、樹脂層１２およびメッシュ状に形成された導電層１３とがこの順で積層された構成を有するものである。
【００５５】
以下、本発明によって製造される色素増感型太陽電池の各構成について順に説明する。
【００５６】
（１）メッシュ電極基板
上記メッシュ電極基板は、上記メッシュ電極基板作製工程において作製されるものであり、樹脂製基板上に、樹脂層およびメッシュ状に形成された導電層と、がこの順で積層された構成を有するものである。このようなメッシュ電極基板については、上記「Ａ．メッシュ電極基板の製造方法」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００５７】
（２）色素増感型太陽電池用電極基板
上記色素増感型太陽電池用電極基板は、上記メッシュ電極基板の導電層が形成された側に配置されるものであり、本発明によって製造される色素増感型太陽電池において、上記メッシュ電極基板に対向する対極として機能するものである。このような色素増感型太陽電池用電極基板としては、対極として機能するものであれば特に限定されるものではなく、金属材料からなる金属層のみから構成されるものであってもよく、あるいは任意の基板上に電極層が形成された構成を有するものであってもよい。
【００５８】
上記金属層としては、例えば、銅、アルミニウム、チタン、クロム、タングステン、モリブデン、白金、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、亜鉛、各種ステンレスおよびそれらの合金等が挙げられ、チタン、クロム、タングステン、各種ステンレスおよびそれらの合金からなるものを挙げることができる。また、金属層の厚みは特に限定されないが、通常、通常、５μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、１０μｍ〜５００μｍの範囲内であることがより好ましく、２０μｍ〜２００μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００５９】
（３）多孔質層
上記多孔質層は、色素増感剤が表面に坦持された金属酸化物半導体微粒子を含むものである。また、上述したように、上記多孔質層は上記メッシュ電極基板上、または色素増感型太陽電池用電極基板上のいずれか一方に形成されるものである。
【００６０】
（ｉ）金属酸化物半導体微粒子
上記金属酸化物半導体微粒子としては、半導体特性を備える金属酸化物からなるものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＺｒＯ２、ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、Ｍｎ３Ｏ４、Ｙ２Ｏ３、ＷＯ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３等を挙げることができる。なかでも上記金属酸化物半導体微粒子としては、ＴｉＯ２が用いられることが好ましい。ＴｉＯ２は、特に半導体特性に優れるからである。また、上記金属酸化物半導体微粒子の平均粒径としては、通常、１ｎｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、特に１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００６１】
（ｉｉ）色素増感剤
上記色素増感剤としては、光を吸収して起電力を生じさせることが可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような色素増感剤としては、有機色素または金属錯体色素を挙げることができる。上記有機色素としては、アクリジン系、アゾ系、インジゴ系、キノン系、クマリン系、メロシアニン系、フェニルキサンテン、インドリン、カルバゾール系の色素が挙げられる。本発明においてはこれらの有機色素の中でも、クマリン系色素が用いられることが好ましい。また、上記金属錯体色素としてはルテニウム系色素が用いられることが好ましく、特にルテニウム錯体であるルテニウムビピリジン色素およびルテニウムターピリジン色素が用いられることが好ましい。このようなルテニウム錯体は吸収する光の波長範囲が広いため、光電変換できる光の波長領域を大幅に広げることができるからである。
【００６２】
（ｉｉｉ）任意の成分
上記多孔質層には、上記金属酸化物半導体微粒子の他に任意の成分が含まれていてもよい。このような任意の成分としては、例えば、樹脂を挙げることができる。上記多孔質層に樹脂が含有されることにより、多孔質層の脆性を改善することができる。このような樹脂としては、例えば、ポリビニルピロリドン、エチルセルロース、カプロラクタン等を挙げることができる。
【００６３】
（ｉｖ）その他
上記多孔質層の厚みは、通常、１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、特に３μｍ〜３０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００６４】
（４）電解質層
上記電解質層は、酸化還元対を含むものである。上記酸化還元対としては、一般的に色素増感型太陽電池の電解質層に用いられているものであれば、特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる酸化還元対は、ヨウ素およびヨウ化物の組合せ、臭素および臭化物の組合せであることが好ましい。ここで、上記ヨウ素およびヨウ化物の組合せとしては、例えば、ＬｉＩ、ＮａＩ、ＫＩ、ＣａＩ２等の金属ヨウ化物と、Ｉ２との組合せを挙げることができる。また、上記臭素および臭化物の組合せとしては、例えば、ＬｉＢｒ、ＮａＢｒ、ＫＢｒ、ＣａＢｒ２等の金属臭化物と、Ｂｒ２との組合せを挙げることができる。
【００６５】
上記電解質層には、上記酸化還元対以外のその他の化合物として、架橋剤、光重合開始剤、増粘剤、常温融解塩等の添加剤を含有していてもよい。また、電解質層は、ゲル状、固体状または液体状のいずれの形態からなる電解質層であってもよいが、固体状の電解質層であることがより好ましい。上記固体状の電解質層は液漏れ等の問題が生じにくく、扱いが容易であるからである。
【００６６】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
【００６８】
［実施例１］
樹脂製基板として厚み１２５μｍＰＥＴフィルムを用い、当該樹脂製基板上に導電層として厚み５μｍのＳＵＳ３０４を、ドライラミ材（タケラックＸＡ−１１５１を主剤、タケネート Ａ−３０７０を硬化剤として１２：１の割合で混合したものであり、厚み４．３μｍ）を樹脂層として用いて貼り合わせた。次に、フォトエッチング法で、上記導電層を、開口幅２５０μｍ、線幅５０μｍ、開口率８０％の六角形のハニカムパターン状にパターニングした。さらに、このようにして得られた導電層上に、スパッタ法でＩＴＯ膜を１５０ｎｍの膜厚で成膜して透明電極層を形成した後、ＰＥＤＯＴ  ＰＳＳ２％水分散液を上記ＩＴＯ上に塗工、乾燥させることで膜重量０．２ｇ/ｍ２の触媒層を形成した。このような方法によりメッシュ電極基板を作製した。
【００６９】
［実施例２］
導電層として、厚み２０μｍのＴｉを用いたこと以外は、実施例１と同様の方法によりメッシュ電極基板を作製した。
【００７０】
［比較例１］
樹脂製基板として厚み１２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、当該樹脂製基板上に導電層として厚み５００ｎｍのＴｉをスパッタ法で成膜し、次いで、フォトエッチング法で、開口幅２５０μｍ、線幅５０μｍの六角形のハニカムパターン状の導電層を作製した。このようにして作製したメッシュ状の導電層上にスパッタ法でＩＴＯを１５０ｎｍの膜厚で成膜することにより透明電極層を形成した後、さらに、上記透明電極層上に、ＰＥＤＯＴ ＰＳＳ２％水分散液を塗工、乾燥させることで膜重量０．２ｇ／ｍ２の触媒層を形成した。このような方法によりメッシュ電極基板を作製した。
【００７１】
［比較例２］
導電層として厚み５μｍのＴｉをスパッタ法で成膜したこと以外は、比較例１と同様の方法によりメッシュ電極基板を作製した。
【００７２】
［評価］
実施例１、２と比較例２で作製したメッシュ電極基板をそれぞれ１０回程度湾曲させた試験を行った結果、実施例１、２では変化が無かったのに対して、比較例１では配線のクラックを確認した。また、比較例２で作製したメッシュ電極基板は成膜時の応力によりクラックが発生した。
【００７３】
［実施例３］
（電極）
第１電極基材として厚み５０μｍのＴｉ箔（株式会社ニラコ）上に、エタノール中で酸化チタン粒子Ｐ２５（日本エアロジル株式会社）に０．５％エチルセルロースＳＴＤ-１００（日新化成工業株式会社）を混合させたペーストを塗布、乾燥させ、５００℃で３０分焼成し、膜厚が５μｍの多孔質層形成用層を得た。その後、アセトニトリル／ｔ−ブタノール＝１／１溶液中にＮ７１９色素（Ｄｙｅｓｏｌ）を０．３ｍＭ溶解させた色素増感剤溶液を調製し、この色素増感剤溶液中に上記Ｔｉ箔基板を２０時間浸漬させたのち、乾燥させることにより、酸化物半導体電極基板を得た。
【００７４】
（電解質）
次に、6mol/l hexyl metyl imidazolum iodide(富山薬品)、0.6mol/l I2（メルク株式会社）、0.45mol/l  n-metyl benzoimidazol(Aldrich)をhexyl metyl imidazolum tetracyano borat（メルク株式会社）に溶解した電解液を調整した。次にＳＴＤ−１００（日新化成）をエタノールに１０質量％溶解させた樹脂溶液を調整し、上記電解液：樹脂溶液＝１：６（重量比）で混合した樹脂電解質溶液を作製した。これをミヤバーで多孔質層上に塗布し、１２０度で１０分間加熱した。
【００７５】
その後、実施例１で作製したメッシュ電極基板の触媒層面と上記酸化物半導体電極基板の固体電解質層面とを貼り合わせ、真空ラミネータにて熱ラミネートすることで色素増感型太陽電池を得た。
【００７６】
［実施例４］
実施例２で作製したメッシュ電極基板を用いたこと以外は、実施例３と同様の方法により色素増感型太陽電池を作製した。
【００７７】
［比較例３］
比較例１で作製したメッシュ電極基板を用いたこと以外は、実施例３と同様の方法により色素増感型太陽電池を作製した。
【００７８】
［比較例４］
比較例２で作製したメッシュ電極基板を用いたこと以外は、実施例３と同様の方法により色素増感型太陽電池を作製した。
【００７９】
［評価］
実施例３，４で得られた色素増感型太陽電池の性能評価を行った結果、実施例３では変換効率２．５％、実施例４では変換効率２．７％であったのに対し、比較例３では変換効率３％、比較例４では変換効率１．０％の初期性能が得られた。なお、色素増感型太陽電池の性能評価としては、分光感度促成装置ＣＥＰ−２０００（分光計器）を用いてＩＶ特性を測定して変換効率を求めることにより行った。その後、全ての素子をそれぞれ１０回程度湾曲させた試験を行った結果、実施例３、４の色素増感型太陽電池ではほぼ変化が無かったのに対して、比較例３、４ではその性能が低下し、比較例３では１％、比較例４では０．５％と大幅に性能低下した。
【符号の説明】
【００８０】
１０  …  メッシュ電極基板
１１  …  樹脂製基板
１２  …  樹脂層
１３  …  導電層
２０  …  色素増感型太陽電池用電極基板
３０  …  色素増感型太陽電池
３１  …  多孔質層
３２  …  電解質層
【図１】
2012064451.tif 000003
【図２】
2012064451.tif 000004
【図３】
2012064451.tif 000005
【図４】
2012064451.tif 000006