(57)【要約】【課題】黒化層に欠損部がなく、ＰＤＰ等の画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない電磁波遮蔽シート、歩留まりの良い当該電磁波遮蔽シートの製造方法及び当該電磁波遮蔽シートを備えた画像表示装置を提供すること。【解決手段】透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられた電磁波遮蔽シートであって、前記導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、かつ、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面の前記第一黒化層が欠損した部位が、第二の黒化材料で被覆されていることを特徴とする、電磁波遮蔽シート。【選択図】図１
2012064846.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられた電磁波遮蔽シートであって、
前記導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、かつ、
前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面の前記第一黒化層が欠損した部位が、第二の黒化材料で被覆されていることを特徴とする、電磁波遮蔽シート。
【請求項２】
前記第一黒化層は、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面だけに存在しており、
前記導電性メッシュ層の側面及び前記第一黒化層の側面並びに前記第一黒化層の導電性メッシュ層とは反対側の面が、前記第二の黒化材料からなる第二黒化層で被覆されていることを特徴とする、請求項１に記載の電磁波遮蔽シート。
【請求項３】
前記第一の黒化材料が銅原子を含有し、前記第二の黒化材料がテルル原子を含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の電磁波遮蔽シート。
【請求項４】
（ｉ）透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられ、かつ、当該導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、当該第一黒化層の一部には欠損した部位が存在する電磁波遮蔽シート中間製品を準備する工程、及び、
（ｉｉ）前記第一黒化層の欠損した部位を、第二の黒化材料で被覆する工程、
を有することを特徴とする、電磁波遮蔽シートの製造方法。
【請求項５】
前記（ｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面だけが前記第一黒化層で被覆された電磁波遮蔽シート中間製品を準備し、
前記（ｉｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の側面及び前記第一黒化層の側面並びに前記第一黒化層の導電性メッシュ層とは反対側の面を前記第二の黒化材料からなる第二黒化層で被覆することを特徴とする、請求項４に記載の電磁波遮蔽シートの製造方法。
【請求項６】
前記（ｉ）工程において、前記第一の黒化材料が、銅系材料であり、
前記（ｉｉ）工程において、テルルの濃度（酸化物換算濃度）が０．０１〜０．４５質量％、かつ、塩酸濃度が０．０５〜８質量％である塩酸溶液に、前記電磁波遮蔽シート中間製品を浸漬させて、前記第一黒化層の欠損した部位を第二の黒化材料で被覆することを特徴とする、請求項４又は５に記載の電磁波遮蔽シートの製造方法。
【請求項７】
前記請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽シートが、画像表示装置の表示面に配置されていることを特徴とする、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の画像表示装置から発生する電磁波を遮蔽する用途に好適な電磁波遮蔽シート、当該電磁波遮蔽シートの製造方法及び当該電磁波遮蔽シートを備える画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気電子機器の機能高度化と利用増加に伴い、電磁気的なノイズ妨害（ＥＭＩ）が増え、ＰＤＰ又は陰極線管（ＣＲＴ）等の画像表示装置（ディスプレイ）でも電磁波が発生する。特に、ＰＤＰは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると画像光以外に不要な電磁波及び近赤外線が大量に発生する。
【０００３】
通常、電磁波を遮蔽（シールド）するためにＰＤＰの表示面（前面）に、電磁波遮蔽用シートと硝子板との積層体が前面板として設けられる。画像表示装置前面から発生する電磁波の遮蔽性は、日本では３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおいてＶＣＣＩ（情報処理装置等電波障害自主規制協議会）が規定する家庭環境、住宅環境で使用する情報処理装置に適用される規格（クラスＢ）を達成することが必要である。なお、本発明において単に「電磁波」と言った場合は、広義の電磁波の中でも周波数が上記範囲を中心とするＭＨｚ〜ＧＨｚ帯近辺の電磁波のことを意味し、赤外線、可視光線、紫外線及びＸ線等は含まないものとする（例えば、赤外線帯域の周波数の電磁波は「赤外線」と呼称する）。
【０００４】
この電磁波を遮蔽し、かつ、光透過性も確保するために、樹脂フィルム又はガラス板等の透明基材上に、銅や銀等の金属からなり開口部を有するメッシュパターン部をエッチング加工、転写又は印刷等により形成することにより、電磁波遮蔽性と光透過性を有する電磁波遮蔽シート、ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタ等が用いられている（例えば、特許文献１及び２）。
【０００５】
図８は、一般的な電磁波遮蔽シートの層構成を模式的に示した断面図である。
図８に示す一般的な電磁波遮蔽シート１１０では、透明基材１２０上に、中央部に位置すると共にメッシュパターン１３０により画定された開口部１４０を有するメッシュパターン部１５０と、当該メッシュパターン部１５０の周縁部の少なくとも１偏に位置すると共に開口部１４０を有しない周縁部１６０を含む導電性メッシュ層１７０が設けられており、導電性メッシュ層１７０上には黒化層１８０が設けられている。また、メッシュパターン部１５０と周縁部１６０とは電気的に接続（導通）してなる。
導電性メッシュ層１７０は、導電性を有し、電磁波遮蔽性を担い、一般に銅や銀等の金属や合金等の金属光沢を有する物質で形成される。黒化層１８０は、導電性メッシュ層１７０における外光や表示光の反射を防止したり、表示画像のコントラストを向上して、表示画像の視認性を高めるために設けられる。
なお、図１以下の模式図においては、説明の便宜上、縦横の寸法比、各層及び各部材の寸法は実寸から変えて誇張して示している。
【０００６】
電磁波遮蔽シート１１０の製造時や搬送時の取り扱いで、表層の黒化層１８０が図９に示すように、欠けたり、削れて薄くなって、欠損した部位（以下、単に「欠損部」ともいうことがある。）１９０、１９１が生ずることがある。黒化層１８０にこのような欠損部１９０、１９１が生ずると、欠損部１９０、１９１直下の導電性メッシュ層１７０と、欠損部１９０、１９１の周囲の黒化層１８０との反射率の違いにより、その欠損部１９０、１９１がスジ（筋）やスポット（点）等の形態の欠陥として視認され、電磁波遮蔽シートをＰＤＰ等の画像表示装置の前面に配置した際に、画像表示装置の外観を損ねてしまうという問題があった。
また、周縁部１６０は、メッシュパターン１３０よりも幅が広いため、周縁部１６０の欠損部１９０、１９１によるスジ等の欠陥は、メッシュパターン部１５０の欠損部１９０、１９１による欠陥よりも目立ちやすく、電磁波遮蔽シートを用いてＰＤＰ等の画像表示装置の組み立てを行うメーカーにおいて、画像表示装置に組み込まれた最終製品の状態での外観、性能の良否の如何によらず一律に、不良品と判断されてしまい歩留まりが低下するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−０６２４５４号公報
【特許文献２】特開２００８−１４７３５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、黒化層に欠損部がなく、ＰＤＰ等の画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない電磁波遮蔽シート、歩留まりの良い当該電磁波遮蔽シートの製造方法及び当該電磁波遮蔽シートを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らが鋭意検討した結果、電磁波遮蔽シートの黒化層の欠損部をさらに黒化層の材料で被覆することで、欠損部が修復され、ＰＤＰ等の画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない電磁波遮蔽シートが得られ、歩留まりも向上することを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられた電磁波遮蔽シートであって、前記導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、かつ、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面の前記第一黒化層が欠損した部位が、第二の黒化材料で被覆されていることを特徴とする。
【００１１】
本発明に係る電磁波遮蔽シートでは、前記第一黒化層は、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面だけに存在しており、前記導電性メッシュ層の側面及び前記第一黒化層の側面並びに前記第一黒化層の導電性メッシュ層とは反対側の面が、前記第二の黒化材料からなる第二黒化層で被覆されている態様であっても良い。
【００１２】
本発明に係る電磁波遮蔽シートでは、前記第一の黒化材料が銅原子を含有し、前記第二の黒化材料がテルル原子を含有する態様であっても良い。
【００１３】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、（ｉ）透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられ、かつ、当該導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、当該第一黒化層の一部には欠損した部位が存在する電磁波遮蔽シート中間製品を準備する工程、及び、（ｉｉ）前記第一黒化層の欠損した部位を、第二の黒化材料で被覆する工程、を有することを特徴とする。
【００１４】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法の好ましい態様では、前記（ｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面だけが前記第一黒化層で被覆された電磁波遮蔽シート中間製品を準備し、前記（ｉｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の側面及び前記第一黒化層の側面並びに前記第一黒化層の導電性メッシュ層とは反対側の面を前記第二の黒化材料からなる第二黒化層で被覆することができる。
【００１５】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法の好ましい態様では、前記（ｉ）工程において、前記第一の黒化材料が、銅系材料であり、前記（ｉｉ）工程において、テルルの濃度（酸化物換算濃度）が０．０１〜０．４５質量％、かつ、塩酸濃度が０．０５〜８質量％である塩酸溶液に、前記電磁波遮蔽シート中間製品を浸漬させて、前記第一黒化層の欠損した部位を第二の黒化材料で被覆することが好ましい。
【００１６】
本発明に係る画像表示装置は、上記電磁波遮蔽シートが、画像表示装置の表示面に配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、第一黒化層の欠損部を、さらに第二の黒化材料で被覆するため、第一黒化層の欠損部が修復され、欠損部によるスジ等の欠陥のない電磁波遮蔽シートを得ることができ、歩留まりが高い。
本発明に係る電磁波遮蔽シートは、第一黒化層の欠損部が第二の黒化材料で被覆されているため、第一黒化層の欠損部によるスジ等の欠陥がなく、画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない。
本発明に係る画像表示装置は、上記電磁波遮蔽シートが表示面に配置されているため、第一黒化層の欠損部によるスジ等がなく、外観が良好である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の一例を模式的に示した断面図である。
【図２】図２は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの平面図の一例を示した模式図である。
【図３】図３は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの平面図の他の一例を示した模式図である。
【図４】図４は、電磁波遮蔽シートのメッシュパターン部の一部の一例を模式的に示した断面図である。
【図５】図５は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の別の一例を模式的に示した断面図である。
【図６】図６は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
【図７】図７は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法のフローの一例を示した模式図である。
【図８】図８は、欠損部がない一般的な電磁波遮蔽シートの層構成を模式的に示した断面図である。
【図９】図９は、欠損部がある一般的な電磁波遮蔽シートの層構成を模式的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００２０】
本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを、また、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を表す。
本発明の電離放射線には、可視光線並びに紫外線及びＸ線等の非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線及びα線のような粒子線を総称する、分子に架橋反応乃至重合反応を生じせしめるに足るエネルギー量子を持った放射線が含まれる。
本発明において樹脂とは、モノマーやオリゴマーの他、ポリマーを含む概念である。
なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。したがって、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの及び薄いものの両方の意味を含めて、「シート」と定義する。なお、通常、「シート」よりもさらに厚い形態の物を「板」と呼称するが、本発明においては、「シート」の語はいわゆる「板」も包含する定義とする。
【００２１】
（電磁波遮蔽シート）
本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられた電磁波遮蔽シートであって、前記導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、かつ、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面の前記第一黒化層が欠損した部位が、第二の黒化材料で被覆されていることを特徴とする。
【００２２】
図１は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の一例を模式的に示した断面図である。
電磁波遮蔽シート１は、透明基材１０上に、メッシュパターン２０により画定された開口部３０を有するメッシュパターン部４０と、開口部を有しない周縁部５０を含む導電性メッシュ層６０が設けられており、導電性メッシュ層６０上には第一黒化層７０が設けられている。そして、第一黒化層７０の欠損部は第二の黒化材料８０により被覆されている。
このように、本発明に係る電磁波遮蔽シート１では、第一黒化層７０に欠損部があっても、当該欠損部が第二の黒化材料８０で被覆されているため、導電性メッシュ層６０が視認されず、スジやスポット等の欠陥がなく、画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない。
以下、本発明に係る電磁波遮蔽シートを構成する透明基材、導電性メッシュ層、第一黒化層、第二の黒化材料、その他必要に応じて適宜設けられるその他の層等について順に説明する。
【００２３】
（透明基材）
透明基材１０は、電磁波遮蔽シート１の基材であり、従来公知の電磁波遮蔽シート、電磁波シールド材又はディスプレイ用複合フィルタ等に用いられている透明基材を用いることができる。透明基材１０は、例えば、特許文献１や２に記載のものを用いることができる。
透明基材１０は、所望の透明性、機械的強度、後述する導電性メッシュ層６０又は透明接着剤層との接着性等の要求適性を勘案の上、材料及び厚さを適宜選択すればよい。
透明基材１０は、樹脂基材であっても良いし、硝子基材であっても良い。軽さ及び薄さの点から、樹脂製の透明フィルムが好ましく用いられる。
透明フィルムの樹脂材料としては、アクリル樹脂（ここでは、いわゆるメタクリル樹脂も包含する概念として用いる。）又はポリエステル樹脂が好ましい。
その他、樹脂材料としては、特許文献２に記載のトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル等の含ハロゲン樹脂等が挙げられる。中でも、二軸延伸ＰＥＴフィルムが透明性及び耐久性に優れ、製造工程で紫外線照射処理又は加熱処理を経た場合でも熱変形等しない耐熱性を有するため好ましい。
透明基材１０の樹脂材料には、必要に応じて適宜、特許文献２に記載の近赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等が含まれていても良い。
【００２４】
透明基材１０は、長尺で帯状形状であっても良いし、所定の大きさからなる枚葉形状であっても良い。
透明基材１０の厚さは、用途や軽さ、光透過性等の要求される性能に応じて適宜調節すれば良く、特に限定されないが、樹脂基材である場合、十分な機械的強度を確保し、透明基材の反りや弛み、破断等を抑制する観点から、８〜５０００μｍが好ましく、５０〜５００μｍが好ましい。
硝子基材の場合も特に限定されないが、厚さ１〜５ｍｍが好ましい。
透明基材１０の光透過率としては、１００％が理想であり、透過率８０％以上であることが好ましい。
透明基材１０の表面には必要に応じて、易接着層を設けても良い。易接着層の代わりに、コロナ放電処理、プラズマ処理若しくは火炎処理等の表面処理を行っても良い。
易接着層の樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂又は塩素化ポリプロピレン等の樹脂から適宜選択すれば良い。
【００２５】
（導電性メッシュ層）
導電性メッシュ層６０は、導電性を有することで電磁波遮蔽性を担う。導電性メッシュ層６０自体は、不透明性の材料からなるが、多数の開口部３０が存在するメッシュ状の形状とすることにより、電磁波遮蔽性と光透過性を両立させることができる。
本発明の導電性メッシュ層６０の材料及び形成方法は、従来公知の電磁波遮蔽シート又は電磁波シールド材等に用いられている導電性メッシュ層のものを、適宜採用することができる。
なお、本発明において、開口部３０とは、透明基材１０（後述する透明接着剤層を設ける場合は、当該透明接着剤層。）の導電性メッシュ層６０側の面の、メッシュパターン２０により画定された領域であり、導電性メッシュ層６０や後述する黒化材料等の不透明性材料が存在しない領域をいう。ただし、製造技術の限界等から、メッシュパターン２０により画定された領域であって、本来上記不透明性の材料が設けられない領域に若干上記不透明性材料が付着した領域も開口部３０とみなす。
【００２６】
導電性メッシュ層６０の材料は、電磁波遮蔽性を発現し得る導電性を有する物質であれば良く、通常は、導電性が良い点で金属、合金及び金属化合物が好ましい。このような金属としては、金、銀、銅、白金、錫、アルミニウム、鉄、ニッケル又はクロム等の導電率の高い金属が好ましい。なかでも、導電性、加工適性及び材料の価格の観点から、銅及びアルミニウムが好ましい。上記合金としては、低炭素リムド鋼、低炭素アルミキルド鋼等の低炭素鋼、Ｎｉ−Ｆｅ合金、インバー合金等の鉄合金及び銅合金等が挙げられる。
導電性メッシュ層６０の厚さは、要求される電磁波遮蔽性等の性能に応じて適宜調節すれば良いが、電気抵抗の上昇を抑え、十分な電磁波遮蔽性を得る観点から、２μｍ以上が好ましい。また、均一で精度の良いメッシュパターン２０を得る観点から、３０μｍ以下が好ましい。導電性メッシュ層６０の平坦化を容易にし、平坦化を行った際に気泡の混入が少なく、透明性及び電磁波遮蔽性に優れた電磁波遮蔽シートを得やすい観点から、導電性メッシュ層６０の厚さは５〜１５μｍであることが好ましい。
【００２７】
図２は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの平面図の一例を示した模式図である。
図２の（ａ）において、電磁波遮蔽シート１は、中央部に位置して画像表示装置の画面と対峙すると共に開口部３０を有するメッシュパターン部４０と、メッシュパターン部４０の周縁部の少なくとも１辺に位置すると共にメッシュパターン部４０とは電気的に接続（導通）してなる周縁部５０とを有する。なお、メッシュパターン部４０と周縁部５０とは、通常、同材料からなり連続一体化した物として形成される。
図２の（ａ）のメッシュパターン部４０の円で囲った部分４１を拡大したものが図２の（ｂ）である。
この図２の場合の導電性メッシュ層のメッシュ形状（開口部３０の形状）は正方形である。
【００２８】
導電性メッシュ層６０のメッシュ形状は、メッシュパターン部４０（開口部３０）において光透過性を有し、画像表示装置の表示面に電磁波遮蔽シートを配置した際にメッシュパターン部４０において表示画像を視認できる形状であれば特に限定されない。メッシュ（開口部３０）の平面視の形状としては、例えば、二等辺三角形、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形若しくは台形等の四角形又は六角形等の多角形、あるいは円形又は楕円形等が挙げられる。
メッシュパターン部４０は、図１や図２に示したように、メッシュパターン２０により画定された複数の開口部３０を有する。通常は、開口部３０及びメッシュパターン２０は、メッシュパターン部４０全面において同一形状及び同一寸法で、かつ、周期的に配列されるものであるが、メッシュパターン部４０において、画素とのモアレ防止のため、各部分を構成するメッシュパターン２０や開口部３０の形状や寸法が場所に応じて各々異なっていても良い。
図２の（ｂ）に示されるメッシュパターン２０の幅２１は、光透過性の確保とメッシュパターン２０自体の非視認性の観点から、５〜３０μｍが好ましい。
メッシュパターン２０のピッチ（周期）は、光透過性の観点から、１００〜５００μｍが好ましい。
開口部３０が正方形の場合、その幅３１は、（メッシュパターン２０のピッチ）−（メッシュパターン２０の幅２１）であるから、７０〜４９５μｍが好ましい。
また、メッシュパターン部４０の全面積に対する開口部３０の面積の合計の割合（以下、「開口率」という。）は、光透過性と電磁波遮蔽性の両立の観点から、５０〜９７％が好ましい。
なお、バイアス角度（メッシュパターン２０と電磁波遮蔽シート１の外周辺との成す角度）は、画像表示装置の画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが発生しにくい角度に適宜設定すれば良い。
【００２９】
メッシュパターン部４０の形成方法は特に限定されず、従来公知のメッシュパターン部を有する電磁波遮蔽シート又は電磁波シールド材において用いられている方法を用いることができる。
このような方法としては、例えば、透明基材１０の一面側の全面に、間に接着剤層を介して銅等の金属箔を積層したり、又は電解メッキ法若しくは無電解メッキ法を用いて銅等の金属箔をメッキにより直接形成し、当該金属箔上に後述する第一黒化層７０を形成する前又は形成した後に、感光性レジスト（以下、単に「レジスト」ともいう。）を塗布し、露光と現像により所望のレジスト膜のパターンを形成して、金属箔（又は金属箔及び残存したレジスト膜のパターン）のエッチングを行い、当該エッチングで金属箔と一緒に残存したレジスト膜のパターンを除去しない場合はさらに残存したレジスト膜のパターンを除去し、導電性のメッシュパターン部４０を形成する方法（以下、単に「フォトリソグラフィー法」という。）が挙げられる。この他、導電性組成物からなるインキ乃至ペーストを透明基材１０の一面側に、メッシュ状に印刷する等の印刷法及び転写法等が挙げられる。
【００３０】
本発明に係る電磁波遮蔽シートにおいて、メッシュパターン部４０と周縁部５０は、その設けられる位置や形状は、適宜調節すれば良い。
例えば、図１や図２に示したように、電磁波遮蔽シート１の中央にメッシュパターン部４０が位置し、その周囲四辺に周縁部５０が設けられていても良いし、この他、図３の（ａ）〜ｃに示すような位置に設けられていても良い。
また、メッシュパターン部４０と周縁部５０は、例えば、図３の（ｄ）〜（ｆ）に示すように、それぞれが独立して、角が直角の他、丸みを帯びた形状であっても良い。
周縁部５０の幅は、適宜調節すれば良いが、１５〜１００ｍｍが好ましい。
【００３１】
また、図示しないが、電磁波遮蔽シート１を画像表示装置の表示面に設けた際に画像表示装置の外枠等により周縁部５０の一部に、画像表示装置の視聴者又は観察者から視認されない領域がある場合は、接地するための領域として、当該領域のうち少なくとも接地加工を行う部分のみ又はさらにその近傍において導電性メッシュ層６０の透明基材１０と反対側には第一黒化層７０、第二黒化層、第二の黒化材料８０等を設けずに、導電性メッシュ層６０が露出していても良い。
【００３２】
（第一黒化層）
第一黒化層７０は、第一の黒化材料からなり、導電性メッシュ層６０の少なくとも透明基材１０とは反対側の面に設けられる層である。
第一黒化層７０は、導電性メッシュ層６０における外光や表示光の反射を防止したり、表示画像のコントラストを向上して、表示画像の視認性を高める働きを有する。なお、ここで外光とは、画像表示装置の画面に対して外部から入射する日光、電灯光等をいう。
【００３３】
図４は、電磁波遮蔽シートのメッシュパターン部の一部の一例を模式的に示した断面図である。
第一黒化層７０は、図４の右から二つ目のメッシュパターン２０のように導電性メッシュ層６０の少なくとも透明基材１０とは反対側の面（図４において上側の面、以下、「上面」という。）に設けられていれば良く、図４の右から一つ目又は三つ目のメッシュパターン２０のように、導電性メッシュ層６０の開口部３０に面している面（以下、第一黒化層の開口部に面している面も含めて「側面」という。）にも設けられていても良い。また、図示しないが、導電性メッシュ層６０の透明基材１０側の面（図４において下側の面、以下、「下面」という。）に設けられていても良い。
【００３４】
本発明の「黒化層」や「黒化処理」の色は、上述した外光等の反射を防止し、表示画像のコントラストを向上させることができる色であれば、完全な黒である必要はなく、低明度の（暗い）有彩色又は無彩色、すなわち、いわゆる暗色であれば良い。このような暗色としては、例えば、黒、濃い（低明度の）灰色等の無彩色、紺色、褐色、深緑色、えんじ色及び濃紫色等の低明度の有彩色が挙げられる。
第一黒化層７０、後述する欠損部を被覆している第二の黒化材料及び第二黒化層は、好ましくは黒濃度が０．６以上である。
なお、黒濃度は、（株）きもと製の商品名ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１を用いて、観察視野角１０度、観察光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩＴに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定することで求められる。
第一黒化層７０の全光線反射率としては、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。全光線反射率は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して、コニカミノルタセンシング（株）製の商品名、分光測色計ＣＭ−３６００ｄを用いて測定することができる。
【００３５】
第一黒化層７０を形成する第一の黒化材料は、従来公知の電磁波遮蔽シート又は電磁波シールド材に用いられている黒化層の材料を用いることができる。
このような黒化材料としては、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物を用いることができる。第一の黒化材料としては、銅、銅−ニッケル−クロム系若しくは銅−コバルト系の銅合金、銅の酸化物又は銅の硫化物等の銅系材料が好ましい。また、黒化材料は、特許文献２に記載のテルル原子又は塩化テルル（ＴｅＣｌ２）であっても良い。この他、黒着色樹脂等の有機材料を用いても良い。
【００３６】
第一黒化層を形成する黒化処理としては、従来公知のカソーディック電着メッキ法が好ましく挙げられる。このカソーディック電着メッキ法は、例えば、銅からなる導電メッシュ層６０又はメッシュパターンを有しない銅箔を、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルト等からなる電解液中で、陰極電解処理を行い、導電メッシュ層６０又は銅箔にカチオン性粒子を付着させる方法である。この方法によれば、カチオン性粒子の付着で黒色と同時に粗面も得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子を用いることができる。カチオン性粒子は、好ましくは銅−コバルト合金の粒子である。カチオン性粒子の平均１次粒径は、黒濃度の観点から、０．１〜１μｍが好ましい。
その他、黒化材料として、ニッケル−亜鉛合金、硫化ニッケル、これらの複合体及び酸化銅も好適に使用できる。
【００３７】
第一黒化層の厚さは、通常０．０１〜１μｍ程度であるが、０．１〜０．５μｍが好ましく、０．１〜０．２μｍがより好ましい。
【００３８】
（欠損部）
後述するように第二の黒化材料で被覆（黒化処理）を行う前の電磁波遮蔽シート中間製品には、導電性メッシュ層６０の透明基材１０とは反対側の面を被覆している第一黒化層７０には、その一部に欠損部が存在する。当該欠損部が第二の黒化材料８０で被覆されることにより、図１に示した電磁波遮蔽シート１となる。
このような欠損部は、第一黒化層７０が欠けて第二の黒化材料８０がなければ導電性メッシュ層６０が露出してしまうもの（図９の欠損部１９０を参照）の他、第一黒化層７０で被覆されているがその厚さが薄く、第二の黒化材料８０がなければ導電性メッシュ層６０が透けて見えてしまうもの（図９の欠損部１９１を参照）も含む。
本発明に係る電磁波遮蔽シートでは、当該欠損部を後述する第二の黒化材料８０で被覆しているため、欠損部によるスジやスポット等の欠陥が視認されず、画像表示装置の表示面に配置しても外観を損ねない。
【００３９】
第一黒化層７０が幅０．０５〜２ｍｍで欠けて下地の導電性メッシュ層６０が露出している線状の部分又は外接円の直径が０．０５〜２ｍｍで欠けて下地の導電性メッシュ層６０が露出している円状又は不定形状の部分は、欠損部として視認されてしまうおそれがある。
また、第一黒化層７０の厚さが０．１μｍよりも薄い場合は、下地の導電性メッシュ層６０が目立ち、欠損部として視認されてしまうおそれがある。
【００４０】
（第二の黒化材料）
第二の黒化材料８０は、導電性メッシュ層６０の少なくとも上面の第一黒化層７０の欠損部を被覆し、欠損部によるスジやスポット等の欠陥が視認されないようにする働きを有する。
第二の黒化材料は、欠損部を被覆してスジやスポット等の欠陥が視認されない黒化材料であれば良く、上記第一の黒化材料を用いることができる。
第一の黒化材料と第二の黒化材料は、同じであっても良いし、異なっていても良い。
第二の黒化材料は、少なくとも上記欠損部を被覆するため、当該欠損部の形状に合わせて、層状に形成されていても良いし、スジ状又はスポット状に形成されていても良い。
なお、第一の黒化材料と第二の黒化材料が同一の材料の場合、第一黒化層７０の欠損部１００を被覆している第二の黒化材料は、例えば、結晶の粒径、結晶の面指数（原子配列方向）等の相違によって見分けることができる。また、第一の黒化材料と第二の黒化材料が異なる場合、第一黒化層７０の欠損部１００を被覆している第二の黒化材料は、例えば、Ｘ線蛍光分析法、電子線衝突による２次イオン（原子）質量分析法等の元素分析によって見分けることができる。
【００４１】
図５は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の別の一例を模式的に示した断面図である。
本発明に係る電磁波遮蔽シートでは、図５に示したように、前記第一黒化層７０は、前記導電性メッシュ層６０の透明基材１０とは反対側の面だけに存在しており、前記導電性メッシュ層６０の側面及び前記第一黒化層７０の側面並びに前記第一黒化層７０の導電性メッシュ層６０とは反対側の面が、前記第二の黒化材料８０からなる第二黒化層で被覆されている態様であっても良い。
このように被覆されていることにより、電磁波遮蔽シート１を画像表示装置に用いた際に、表示画像のコントラストをさらに高めることができる。
【００４２】
本発明に係る電磁波遮蔽シートでは、前記第一の黒化材料が銅原子を含有し、前記第二の黒化材料がテルル原子を含有する態様であっても良い。このような電磁波遮蔽シートは効率良く生産でき、生産コストを低減できる。
このような態様とするには、例えば、第一黒化層７０を第一の黒化材料として、銅、銅合金、銅の酸化物又は銅硫化物等の銅系材料を用いて形成し、第二の黒化層を第二の黒化材料として、特許文献２に記載のようなテルル原子を含む材料を用いれば良い。
上記態様の場合、第二の黒化材料は、欠損部による欠陥をなくすことができ、かつ、テルル原子を含有すれば良く、塩化テルル（ＴｅＣｌ２）であっても良いし、それ他のテルル化合物であっても良い。
【００４３】
（電磁波遮蔽シートのその他の層）
本発明に係る電磁波遮蔽シートは、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、必要に応じて、従来公知の透明接着剤層、導電処理層及び防錆層等のその他の層を有していても良い。
以下、これらのその他の層を説明する。
【００４４】
（透明接着剤層）
透明接着剤層は、透明基材１０の一面側に必要に応じて設けられ、透明基材１０と導電性メッシュ層６０等とを接着する働きを有する。
図６は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
図６の電磁波遮蔽シート１は、透明基材１０の一面側に、透明接着剤層９０を介して、図１と同様の導電性メッシュ層６０及び第一黒化層７０を有し、さらに導電性メッシュ層６０の上面の第一黒化層７０が欠損した部位が第二の黒化材料８０で被覆されている。
【００４５】
透明接着剤層９０の材料は、通常、透明接着剤層９０が図６に示したように透明基材１０の一面側に設けられるため、透明性（光透過性）と接着性を有すれば良く、上記フォトリソグラフィー法を用いる場合は、後述するエッチング液に対する耐性（耐エッチング性）も有すれば良い。
このような材料としては、従来公知の電磁波遮蔽シート又は電磁波シールド材に用いられている透明接着剤層又は接着剤層の材料を用いることができる。例えば、特許文献２に記載のウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール単独若しくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂又はエポキシ樹脂等を好ましく用いることができる。
透明接着剤層９０の材料は、紫外線硬化性でも良いし、熱硬化性でも良い。
透明接着剤層９０の材料は、透明基材１０との密着性の観点からアクリル樹脂又はポリエステル樹脂が好ましい。
透明接着剤層９０の材料には、従来公知の近赤外線吸収色素、ネオン光吸収色素、調色色素、紫外線吸収剤又は酸化防止剤等が含まれていても良い。
透明接着剤層９０の厚さは、透明基材１０と導電性メッシュ層６０との十分な接着性を得る観点及びエッチング法を用いる場合は透明基材１０をエッチング液から十分に保護する観点から、１〜５０μｍが好ましく、５〜２０μｍが好ましい。
【００４６】
（導電処理層）
導電処理層は、透明基材１０の一面側に後述するメッシュパターンを有しない銅箔等の導電性層（金属層）を電解メッキ法で形成する場合に用いる導電性を有する層である。
導電性を有する材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル若しくはクロム等の金属又はこれらの金属の合金又は酸化スズ、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）若しくはＡＴＯ（酸化アンチモンスズ）等の透明な金属酸化物を用いることができる。
導電処理層を形成する方法は、例えば、公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッキ法を用いることができる。
導電処理層の厚さは、適宜調節すれば良く、特に限定されないが、０．００１〜１μｍであれば電解メッキ法に必要な導電性が得られやすい。
【００４７】
（防錆層）
防錆層は、必要に応じて設けられる層であって、導電性メッシュ層６０の材料が銅等の錆び得る金属からなり、電磁波遮蔽シートの製造時、取扱い時に当該導電性メッシュ層６０の側面等が錆びて変質し電磁波遮蔽性が低下することを防ぐ働きを有する層である。
防錆層は、第一黒化層７０及び第二の黒化材料８０を被覆しても良い。第一黒化層７０や第二の黒化材料８０が上記カチオン性粒子等の粒子からなる場合、防錆層によって当該粒子の脱落や変形を防止することもできる。
防錆層は、当該防錆層で被覆する導電性メッシュ層６０よりも錆びにくいものであれば、例えば、クロム、亜鉛、ニッケル、スズ等の金属、合金、金属酸化物等の無機材料、樹脂等の有機材料又はこれらの組み合わせであっても良い。
防錆層は、公知のメッキ法で形成すれば良い。例えば、特許文献２に記載の被覆対象を亜鉛メッキした後、クロメート処理する方法が、防錆効果及び密着性の観点から好ましい。
【００４８】
（電磁波遮蔽シートの製造方法）
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、（ｉ）透明基材の一面側に、開口部を有するメッシュパターン部及び開口部を有しない周縁部を含む導電性メッシュ層が設けられ、かつ、当該導電性メッシュ層の少なくとも透明基材とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層で被覆され、当該第一黒化層の一部には欠損した部位が存在する電磁波遮蔽シート中間製品を準備する工程、及び、（ｉｉ）前記第一黒化層の欠損した部位を、第二の黒化材料で被覆する工程、を有することを特徴とする。
【００４９】
図７は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法のフローの一例を示した模式図である。
まず、図７の（ａ）に示すように、第一黒化層７０に、当該第一黒化層７０が欠けた又は薄い欠損した部位（欠損部）１００が存在する電磁波遮蔽シート中間製品２を準備する。
次いで、図７の（ｂ）に示すように、当該第一黒化層７０の欠損部１００を第二の黒化材料８０で被覆する。
【００５０】
図８に示したような黒化層１８０に欠損部がない電磁波遮蔽シートを製造する際の製造時の取扱い又は製造した場合でも、搬送時の取扱い等で、図７の（ａ）に示したような第一黒化層７０に欠損部１００が生じてしまうことがある。このような欠損部１００を有する電磁波遮蔽シート中間製品２は、仮にメッシュパターン部４０には全く欠損部１００がない場合（その場合は、性能上は本来、良品となる。）であっても、不良品と判断されることがあり、当該電磁波遮蔽シート中間製品２を廃棄すると歩留まりが悪い。
これに対して、本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、第一黒化層７０の欠損部１００を、さらに第二の黒化材料８０で被覆するため、第一黒化層７０の欠損部１００が修復され、欠損部１００によるスジ等の欠陥のない電磁波遮蔽シート１を得ることができる。そのため、本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、本来、廃棄すべき電磁波遮蔽シート中間製品２を製品化できるため、歩留まりを高めることができる。
以下、本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法の工程を説明する。
【００５１】
（ｉ工程）
（ｉ）工程では、図７の（ａ）に示したように、透明基材１０の一面側に、開口部３０を有するメッシュパターン部４０及び開口部３０を有しない周縁部５０を含む導電性メッシュ層６０が設けられ、かつ、当該導電性メッシュ層６０の少なくとも透明基材１０とは反対側の面が第一の黒化材料からなる第一黒化層７０で被覆され、当該第一黒化層７０の一部には欠損した部位（欠損部）１００が存在する電磁波遮蔽シート中間製品２を準備する。
電磁波遮蔽シート中間製品２は、上述したように、図８に示す電磁波遮蔽シート１１０の製造時、搬送時の取り扱いで黒化層１８０（第一黒化層７０）に本来、意図しない欠損部が生じたものを準備する。
【００５２】
図８に示す電磁波遮蔽シート１１０を製造する方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特許文献２に記載の（１）〜（５）の方法を用いることができる。
【００５３】
特許文献２に記載の（３）の方法において使用する銅箔は、必要に応じて、予め表示装置側の面に黒化層が公知の方法により形成されたものであっても良い。また、当該銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、公知のクロメート処理を行い、防錆層を形成する方法等、公知の方法により上記防錆層を形成しても良い。
また、特許文献２に記載の（１）、（２）、（４）の方法において、透明基材上に導電性メッシュ層となる銅箔を積層する工程の前に、必要に応じて、透明基材上に蒸着等により導電処理層を積層し、公知のメッキ法を用いてニッケル、亜鉛、及び／又は銅の酸化物からなる防錆層を積層しても良く、さらに黒化層を任意の黒化処理方法により積層しても良い。
【００５４】
以下、特許文献２に記載の（２）〜（５）の方法において、透明基材上の全面に積層されたメッシュパターンを有しない導電性を有する層（以下、単に「導電性層」という。）からフォトリソグラフィー法によりメッシュパターンを形成し、導電性メッシュ層６０とする工程について説明する。
【００５５】
まず、透明基材１０上の導電性層、例えば、透明基材１０上の銅箔面へ、ポジ型又はネガ型のレジストを塗布し、露光し、現像によりそのレジスト膜を所望のメッシュ形状（パターン）とし、当該残存したレジスト膜で覆われていない部分の導電性層をエッチングにより除去した後に、レジスト膜を除去することで、導電性メッシュ層６０を得る。
なお、その際、導電性層以外に、第一黒化層７０等のその他の層も積層されている場合は、メッシュパターン部４０を形成する領域においては、当該その他の層も導電性層と共にエッチングで除去する。
【００５６】
上記フォトリソグラフィー法においては、銅箔等の導電性層の表面へポジ型又はネガ型のレジストを塗布し、乾燥した後に、所望のメッシュパターンを形成するためのフォトマスクを用いて露光し、水現像し、ベーキングする。ポジ型のレジストを用いる場合は、フォトマスクの開口部３０に相当する部分が透明の（露光光を透過する）ものを用いる。一方、ネガ型のレジストを用いる場合は、フォトマスクのメッシュパターン２０に相当する部分が透明の（露光光を透過する）ものを用いる。
【００５７】
ロール・ツー・ロール加工でレジストを塗布する場合は、長尺帯状の（透明基材１０／導電性層）又は（透明基材１０／導電性層／第一黒化層７０）の積層体を、連続又は間欠で搬送しながら、最表面の導電性層又は第一黒化層７０へ、カゼイン、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ゼラチン等のレジストをディッピング（浸漬）、カーテンコート、掛け流し等の方法で塗布する。
また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いても良い。この場合、作業性が向上できる。
ベーキングは適宜の温度で行えば良いが、カゼインレジストの場合、通常、２００〜３００℃で行う。
【００５８】
上記ベーキングに続いて、エッチングを行う。エッチングに用いるエッチング液としては、塩化第二鉄又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すれば良い。このようにして、開口部３０が形成され、透明基材１０が露出する。
上記フォトリソグラフィー工程の後に第一黒化層７０を形成する場合は、従来公知のカソーディック電着メッキ法等の黒化処理を行えば良い。
【００５９】
（ｉｉ工程）
（ｉｉ）工程では、図７に示したように、第一黒化層７０の欠損部１００を、第二の黒化材料８０で被覆する。
第二の黒化材料８０は、上記電磁波遮蔽シートで説明したものを用いれば良い。第一の黒化材料と第二の黒化材料は、同じであっても良いし、異なっていても良い。
【００６０】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法の好ましい態様では、前記（ｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の透明基材とは反対側の面だけが前記第一黒化層で被覆された電磁波遮蔽シート中間製品を準備し、前記（ｉｉ）工程において、前記導電性メッシュ層の側面及び前記第一黒化層の側面並びに前記第一黒化層の導電性メッシュ層とは反対側の面を前記第二の黒化材料からなる第二黒化層で被覆することができる。
具体例としては、図７の（ａ）に示す電磁波遮蔽シート中間製品２を、後述するテルルを含む塩酸溶液で黒化処理することにより、図５に示したように、前記導電性メッシュ層６０の側面及び前記第一黒化層７０の側面並びに前記第一黒化層７０の導電性メッシュ層６０とは反対側の面を前記第二の黒化材料８０からなる第二黒化層で被覆することができる。
【００６１】
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法の好ましい態様では、前記（ｉ）工程において、前記第一の黒化材料が、銅系材料であり、前記（ｉｉ）工程において、テルルの濃度（酸化物換算濃度）が０．０１〜０．４５質量％、かつ、塩酸濃度が０．０５〜８質量％である塩酸溶液に、前記電磁波遮蔽シート中間製品を浸漬させて、前記第一黒化層の欠損した部位を第二の黒化材料で被覆することが好ましい。
このように（ｉｉ）工程で、電磁波遮蔽シート中間製品２を、上記塩酸溶液に浸漬させて第一黒化層７０の欠損部１００を第二の黒化材料８０で被覆することにより、容易に第一黒化層７０の欠損部１００を第二の黒化材料８０で被覆することができ、生産性が良く、第二の黒化材料８０の強度が高く、導電性メッシュ層−第二の黒化材料間及び導電性メッシュ層−透明基材間の密着性も高まる。また、画像表示装置の表示面に電磁波遮蔽シートを配置した際に、高い電磁波遮蔽性と反射防止性を発現する。
【００６２】
上記塩酸溶液について具体的に説明する。
上記実施態様で用いる塩酸溶液は、テルルが溶解された塩酸溶液であり、このテルルの供給源として、酸化テルルを用いることが好ましい。上記実施態様でテルル供給源として使用される酸化テルルは、ＴｅＯ２で表すことができる。
上記塩酸溶液（１００質量％）中には、テルルは、酸化物換算で、０．０１〜０．４５質量％の量、好ましくは０．０５〜０．４０質量％の量で含有されている。上記塩酸溶液は、従来の処理液よりもテルル濃度が低いため、第二の黒化材料８０又は第二黒化層の堆積速度が小さくなり、薄く、導電性メッシュ層（金属箔）−第二の黒化材料又は第二黒化層間の密着性が高い第二の黒化材料又は第二黒化層を堆積させることができる。また、上記実施態様では、テルルは塩酸に溶解した状態で処理液中に存在し、大変安定性が良く、塩酸溶液を長時間放置した場合であっても配合物が析出しにくい。したがって、塩酸溶液を一液型の処理剤とすることができる。さらに、この一液型塩酸溶液は、処理金属と接触させた後も、その安定性が低下しないので、繰り返し使用することができる。
第二の黒化材料又は第二黒化層の堆積速度を適度に調整し、導電性メッシュ層（金属箔）表面に堆積する第二の黒化材料又は第二黒化層にひびが入ることを抑制し、導電性メッシュ層（金属箔）−第二の黒化材料又は第二黒化層間の密着性を高める観点から、塩酸溶液におけるテルルの含有量は０．４５質量％以下が好ましい。
導電性メッシュ層（金属箔）−第二の黒化材料又は第二黒化層間の十分な密着性を得る観点から、塩酸溶液におけるテルルの含有量は０．０１質量％以上が好ましい。
上記実施態様の塩酸溶液で使用される酸化テルルとしては、工業的に提供される酸化テルルを使用することができるが、酸化テルルの純度が高いものを使用することが好ましく、純度９９〜１００％の酸化テルルを使用することが特に好ましい。
【００６３】
酸化テルルを溶解する塩酸水溶液は、通常は３５％塩酸（以下、単に「塩酸」という。）に水を配合することにより調製される。この塩酸水溶液中のＨＣｌ（塩化水素）濃度は、０．０５〜８質量％の範囲内にあり、好ましくは０．１〜２質量％、さらに好ましくは０．３〜１質量％である。このような濃度の塩酸水溶液を使用することにより、上記酸化テルルを十分に溶解することができる。また、処理する導電性メッシュ層６０（金属箔）が透明基材１０上に直接積層された場合には、透明基材−導電性メッシュ層（金属箔）間の浸食（アンダーカット）が発生することなく、十分な密着性を有する。また、上記ＨＣｌ濃度の塩酸溶液を用いた黒化処理により得られる電磁波遮蔽シートは、反射防止性能に優れる。
透明基材−導電性メッシュ層（金属箔）間の密着性を高め、アンダーカットを抑制する観点から、ＨＣｌ濃度は８質量％以下が好ましい。特に、処理する導電性メッシュ層６０（金属箔）が透明基材１０上に直接積層されている場合には、アンダーカットが発生しやすい。
また、酸化テルルを塩酸水溶液中に十分に溶解させ、導電性メッシュ層６０（金属箔）表面における第二の黒化材料８０又は第二黒化層の堆積速度を大きくし、処理効率を高める観点から、ＨＣｌ濃度は０．０５質量％以上が好ましい。
【００６４】
上記塩酸溶液には、任意の有機酸又は無機酸を加えても良い。
上記塩酸溶液は、無機酸として硫酸を含有し、当該硫酸濃度が９０質量％以下であることが、第二の黒化材料８０又は第二黒化層の黒濃度が高い点から好ましい。
処理する導電性メッシュ層６０（金属箔）が透明基材１０上に直接積層されている場合に、透明基材−導電性メッシュ層（金属箔）間の密着性を高め、アンダーカットを抑制する観点から、硫酸濃度は９０質量％以下が好ましい。
上記硫酸濃度は、さらに１０〜４５質量％、特に１５〜３０質量％であることが、処理時間を短くすることができ、また得られる第二の黒化材料又は第二黒化層の黒濃度に優れる点から好ましい。
【００６５】
無機酸としては、上記硫酸の他、硝酸又はリン酸等を用いることができる。また、有機酸としては、酢酸、ぎ酸、プロピオン酸、しゅう酸、安息香酸等の有機カルボン酸、メタンスルホン酸等の有機スルホン酸等を用いることができる。上記塩酸溶液に塩酸及び硫酸以外の無機酸及び有機酸を含有させる場合は、必要に応じて０．０１〜９０質量％含有させることができる。
また、上記塩酸溶液には、テルルの溶解性を高めるためにその他の成分を加えても良い。
【００６６】
上記塩酸溶液は、塩酸と水とを混合して塩酸水溶液を調製し、この塩酸水溶液に酸化テルルを配合して、酸化テルルを塩酸水溶液に十分に溶解させることにより調製することができる。
【００６７】
（画像表示装置）
本発明に係る画像表示装置は、上記電磁波遮蔽シートが、画像表示装置の表示面に配置されていることを特徴とする。
このような画像表示装置においては、上記電磁波遮蔽シートが有する電磁波遮蔽性及び表面の黒濃度により、画像表示装置本体から発生する電磁波の放出が遮蔽されると共に外光反射による画面の白化と画像コントラストの低下を防止し得る。また、第一黒化層７０の欠損部１００が第二の黒化材料８０で被覆されているため、スジ等の欠陥がなく、外観に優れる。
画像表示装置としては、従来公知の画像表示装置、例えば、ＣＲＴ、ＰＤＰ等を挙げることができる。
【００６８】
（電磁波遮蔽シートの用途）
本発明の電磁波遮蔽シート１の用途としては、テレビジョン受像器、測定機器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器、電話機、電子看板、遊戯機器等の表示部等に用いられるＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、電界発光（ＥＬ）ディスプレイ等の各種画像表示装置の前面に配置する電磁波遮蔽シートとして好適である。
その他、電子レンジ等の家電製品の窓、住宅、事務所、店舗、病院等の建築物の窓、扉等に貼着する電磁波遮蔽シートとしても好適である。
【実施例】
【００６９】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
【００７０】
（実施例１）
透明基材１０として、連続帯状で無着色透明な２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一面側に、片面に第一の黒化材料として銅−ニッケル−クロム系合金からなる第一黒化層７０を形成した厚さ１０μｍの電解銅箔（導電性層）を、２液硬化型ウレタン樹脂系の透明接着剤層９０を介して、当該電解銅箔を、その第一黒化層７０側が透明基材１０と反対側を向くようにして、ドライラミネートした。
このようにして、透明基材１０／透明接着剤層９０／銅箔／第一黒化層７０の層構成の積層体を作製した。
【００７１】
次いで、上記積層体の第一黒化層７０の表面全体へカゼイン系の感光性ネガ型レジストをディッピング法で塗布した。次いで、開口部３０の形状が正方形でメッシュパターン２０の幅２１が１０μｍ、メッシュパターン２０のピッチが３００μｍ、バイアス角度が４９度のメッシュパターン部４０及び当該メッシュパターン部４０を外周する幅が１５ｍｍの開口部３０を有しない周縁部５０を形成可能なフォトマスクを用いて、水銀灯からの紫外線を照射して密着露光した。
次いで、密着露光した後の積層体を水現像し、硬膜処理し、さらに１００℃でベーキングした。
次いで、エッチング液として５０℃、４２゜ボーメの塩化第二鉄溶液をスプレー法で吹きかけてエッチングし、開口部３０を形成した。
次いで、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに６０℃で乾燥して、メッシュパターン部４０を形成し、透明基材１０／透明接着剤層９０／導電性メッシュ層６０／第一黒化層７０の層構成の電磁波遮蔽シート中間製品２を得た。
【００７２】
上記電磁波遮蔽シート中間製品２では、上記レジストを剥離する工程以降において当該中間製品２をガイドローラ上を経由して搬送する際に、第一黒化層７０とガイドローラとの接触により、導電性メッシュ層６０の透明基材１０とは反対側の面に形成された第一黒化層７０の一部に欠け（欠損部１００）が生じ、下地の導電性メッシュ層６０（銅箔）が露出していた。
次いで、塩酸溶液（黒化処理液）として、二酸化テルル０．２５質量％（テルル濃度として０．２質量％）、塩酸０．４５質量％、硫酸２０質量％の水溶液を用い、当該塩酸溶液に上記電磁波遮蔽シート中間製品２を処理温度２５℃条件下、３０秒間浸漬し、銅が露出している欠損部１００を塩化テルル（ＴｅＣｌ２）を含む第二の黒化材料８０で被覆し、図５に示すような導電性メッシュ層６０の側面及び第一黒化層７０の側面並びに第一黒化層７０の導電性メッシュ層６０とは反対側の面が、第二の黒化材料８０からなる第二黒化層で被覆した。
その後、水洗、乾燥工程を経て実施例１の電磁波遮蔽シートを得た。
【００７３】
（比較例１）
実施例１において、第一黒化層の欠損部１００を第二の黒化材料８０で被覆する工程を行わなずに、電磁波遮蔽シート中間製品２を得た。
【００７４】
上記実施例１の電磁波遮蔽シート及び比較例１の電磁波遮蔽シート中間製品に対して、以下の点を評価した。
【００７５】
（１）外観評価
上述したように、比較例１の電磁波遮蔽シート中間製品は、第一黒化層７０に欠け（欠損部１００）が生じ、導電性メッシュ層６０が露出し、外観がスジ状の欠陥が確認された。
実施例１の電磁波遮蔽シートは、電磁波遮蔽シート中間製品の時点で存在していた欠損部１００が第二の黒化材料で被覆され、スジ上の欠陥は確認されなかった。
【００７６】
（２）密着性評価
実施例１の電磁波遮蔽シートの周縁部５０の第二黒化層及び比較例１の電磁波遮蔽シート中間製品の周縁部５０の第一黒化層７０を形成した面に、カッターナイフにて、碁盤目状（縦１０×横１０の計１００個の桝目からなり、１枡の寸法は縦１ｍｍ×横１ｍｍ）の傷を導電性メッシュ層６０の途中にまで達する傷を付けた。その傷全面の上に、セロハン粘着テープ（ニチバン（株）製の商品名「セロテープ」（登録商標）、幅２４ｍｍ）を貼り付けた後、セロハン粘着テープを剥離した。セロハン粘着テープ側に付着移行した黒化層の桝目数が０の場合を合格、１以上の場合を不合格とした。
実施例１の電磁波遮蔽シートは、密着性は合格であった。
一方、比較例１の電磁波遮蔽シート中間製品の密着性は、不合格であった。
【符号の説明】
【００７７】
１  電磁波遮蔽シート
２  電磁波遮蔽シート中間製品
１０  透明基材
２０  メッシュパターン
２１  メッシュパターンの幅
３０  開口部
３１  開口部の幅
４０  メッシュパターン部
５０  周縁部
６０  導電性メッシュ層
７０  第一黒化層
８０  第二の黒化材料
９０  透明接着剤層
１００  欠損部
１１０  欠損部がない一般的な電磁波遮蔽シート
１１１  欠損部がある一般的な電磁波遮蔽シート
１２０  透明基材
１３０  メッシュパターン
１４０  開口部
１５０  メッシュパターン部
１６０  周縁部
１７０  導電性メッシュ層
１８０  黒化層
１９０、１９１  欠損部
【図１】
2012064846.tif 000003
【図２】
2012064846.tif 000004
【図３】
2012064846.tif 000005
【図４】
2012064846.tif 000006
【図５】
2012064846.tif 000007
【図６】
2012064846.tif 000008
【図７】
2012064846.tif 000009
【図８】
2012064846.tif 000010
【図９】
2012064846.tif 000011