(57)【要約】【課題】基板を引き上げ乾燥する際に、乾燥染みが発生することを防止した引き上げ乾燥装置を提供する。【解決手段】中心孔１ａを有する円盤状の基板１を洗浄槽２内の洗浄液Ｌに浸漬しながら基板１の洗浄を行った後に、この基板１を引き上げ乾燥する引き上げ乾燥装置であって、基板１の中心孔１ａに挿通されて複数の基板１を吊り下げた状態で支持するハンガー機構と、洗浄槽２内の洗浄液Ｌに基板１を浸漬する位置と、洗浄槽２上に基板１を取り出す位置との間で、ハンガー機構を昇降操作する昇降機構と、洗浄槽２内に配置されて、ハンガー機構の下方から基板１に向かって洗浄液Ｌを噴出する噴出機構と、洗浄液Ｌの液面から引き上げられた基板１に対して乾燥雰囲気ガスＧを吹き付ける吹付機構とを備える。【選択図】図２
2012064300.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心孔を有する円盤状の基板を洗浄槽内の洗浄液に浸漬しながら基板の洗浄を行った後に、この基板を引き上げ乾燥する引き上げ乾燥装置であって、
前記基板の中心孔に挿通されて複数の基板を吊り下げた状態で支持するハンガー機構と、
前記洗浄槽内の洗浄液に基板を浸漬する位置と、前記洗浄槽上に基板を取り出す位置との間で、前記ハンガー機構を昇降操作する昇降機構と、
前記洗浄槽内に配置されて、前記ハンガー機構の下方から基板に向かって前記洗浄液を噴出する噴出機構とを備えることを特徴とする引き上げ乾燥装置。
【請求項２】
前記洗浄液の液面から引き上げられた基板に対して乾燥雰囲気ガスを吹き付ける吹付機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項３】
前記基板の引き上げ速度が０．０１〜３０ｍｍ／秒であることを特徴とする請求項１又は２に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項４】
前記噴出機構から噴出される洗浄液の流速が０．１〜１００ｃｍ／秒であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項５】
前記吹付機構から噴出される乾燥雰囲気ガスの流速が０．１〜５０ｃｍ／秒であることを特徴とする請求項２〜４の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項６】
前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項７】
前記基板が磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体であることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
【請求項８】
請求項１〜６の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置を用いて、磁気記録媒体用基板を洗浄する工程を含む磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜６の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置を用いて、磁気記録媒体を洗浄する工程を含む磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中心孔を有する円盤状の基板を洗浄槽内の洗浄液に浸漬しながら基板の洗浄を行った後に、この基板を引き上げ乾燥する引き上げ乾燥装置、並びにこれを用いた磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、情報機器等に搭載されるハードディスクドライブなどには、中心孔を有する円盤状の磁気記録媒体用基板が使用されている。このような磁気記録媒体用基板は、アルミニウム合金やガラスなどからなる基板を用いて、切削工程や、研削工程、研磨工程、スパッタリング工程、めっき工程などの種々の処理工程を経ることによって製造される。また、これらの処理工程が行われた後に、基板表面を洗浄し乾燥させる工程が行われる。
【０００３】
ところで、近年、記録媒体の大容量化と情報機器等の小型化に対する要望から、磁気記録媒体の記録密度はますます高まっている。また、このような磁気記録媒体用基板やこれを用いた磁気記録媒体に対しては、その記録面上を浮上走行する磁気ヘッドの低浮上化に対応できる高い平坦度が求められている。
【０００４】
このため、磁気記録媒体用基板及び磁気記録媒体では、研磨加工、スパッタリング成膜などの様々な表面処理を施した後に、基板表面に付着した塵埃などを除去できる高度な洗浄方法と、洗浄した基板を清浄に乾燥するための乾燥方法が求められている。
【０００５】
従来、基板の洗浄及び乾燥方法としては、大径の基板の場合、キャリアと呼ばれる容器の中に多数枚の基板を収容し、洗浄液の中を搬送しながら、多数の洗浄ブラシによってスクラブ洗浄した後に、基板を回転させてスピン乾燥させることが行われている。
【０００６】
また、磁気ディスク基板などをワークとし、この表面に研磨加工などの表面処理を行った後に、ワークの表面に付着している異物などを除去するため、複数の洗浄槽を用いてワークをコンベアにより搬送しながら、液体を用いて洗浄する洗浄装置が提案されている（特許文献１を参照。）。
【０００７】
また、半導体基板をウェーハとし、複数枚のウェーハを収納したカセットをクレードルに収納し、ウェーハに水滴や塵埃が滞留するのを防ぐため、Ｖ字溝を有する部材でウェーハを平行に離間させて保持しながら、クレードルを回転させるウェーハ乾燥装置が提案されている（特許文献２を参照。）。
【０００８】
また、中央に開口部がある円盤状ディスクに付着した洗浄液を、このディスクを回転することにより除去するスピン乾燥装置において、外周部をチャックするチャック部材とチャックされるディスクとが接触する接触部の一部を、チャック部材とディスクとが接触しない非接触部とし、チャック部材に滞留する洗浄液を効率的に除去することが提案されている（特許文献３を参照。）。
【０００９】
また、中央に開口部がある円盤状ディスクに付着した洗浄液を、このディスクを回転することにより除去するスピン乾燥装置において、内周部をチャックするチャック部材によってディスクを立てた状態でチャックさせて、チャック部材とディスクとの当接部の回転方向における後方側に向けてエアを供給するエア供給部を設け、チャック部材に滞留する洗浄液を効率的に除去することが提案されている（特許文献４を参照。）。
【００１０】
また、ウェーハ状の基板の乾燥方法としては、引き上げ乾燥法が知られている（特許文献５参照。）。引き上げ乾燥法とは、洗浄後のウェーハをチャッキング装置に保持して純水に浸漬し、その後、チャッキング装置を上昇させてウェーハの上方部を純水中から浮上させながら浮上した部分の純水を除去し、その後、ウェーハ全表面を純水から引き上げることによりウェーハを乾燥させる方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００１−９６２４５号公報
【特許文献２】特開平８−４５８９４号公報
【特許文献３】特開２００３−２５７０１７号公報
【特許文献４】特許第２７８２８３８号公報
【特許文献５】特開平１０−１８９５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上述した引き上げ乾燥法は、装置の構造が簡単であり、同時に多数の基板が処理できるため、ウェーハ状の基板の乾燥方法としては広く用いられている。しかしながら、引き上げ乾燥法は、磁気記録媒体用基板や磁気記録媒体の乾燥にはあまり用いられていなかった。すなわち、この引き上げ乾燥法を用いた場合には、例えば図３（ａ）〜（ｃ）に模式的に示すように、基板Ｄが純水Ｗから離れる瞬間に表面張力で盛り上がった純水Ｗが弾け、その弾けた液滴Ｐが基板Ｄに再付着する。また、基板Ｄに再付着した液滴Ｐには汚れが凝縮されている場合が多く、その汚れが基板Ｄに乾燥染みを形成する。そして、この乾燥染みが形成される箇所は磁気記録媒体の記録面であるため、これが磁気記録媒体の不良セクターとなっていた。
【００１３】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、中心孔を有する円盤状の基板を洗浄槽内の洗浄液に浸漬しながら基板の洗浄を行った後に、この基板を引き上げ乾燥する際に、乾燥染みが発生することを防止した引き上げ乾燥装置、並びに、これを用いた磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明は以下の手段を提供する。
（１）  中心孔を有する円盤状の基板を洗浄槽内の洗浄液に浸漬しながら基板の洗浄を行った後に、この基板を引き上げ乾燥する引き上げ乾燥装置であって、
前記基板の中心孔に挿通されて複数の基板を吊り下げた状態で支持するハンガー機構と、
前記洗浄槽内の洗浄液に基板を浸漬する位置と、前記洗浄槽上に基板を取り出す位置との間で、前記ハンガー機構を昇降操作する昇降機構と、
前記洗浄槽内に配置されて、前記ハンガー機構の下方から基板に向かって前記洗浄液を噴出する噴出機構とを備えることを特徴とする引き上げ乾燥装置。
（２）  前記洗浄液の液面から引き上げられた基板に対して乾燥雰囲気ガスを吹き付ける吹付機構を備えることを特徴とする前項（１）に記載の引き上げ乾燥装置。
（３）  前記基板の引き上げ速度が０．０１〜３０ｍｍ／秒であることを特徴とする前項（１）又は（２）に記載の引き上げ乾燥装置。
（４）  前記噴出機構から噴出される洗浄液の流速が０．１〜１００ｃｍ／秒であることを特徴とする前項（１）〜（３）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
（５）  前記吹付機構から噴出される乾燥雰囲気ガスの流速が０．１〜５０ｃｍ／秒であることを特徴とする前項（２）〜（４）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
（６）  前記洗浄液が水素水を含むことを特徴とする前項（１）〜（５）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
（７）  前記基板が磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体であることを特徴とする前項（１）〜（６）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置。
（８）  （１）〜（６）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置を用いて、磁気記録媒体用基板を洗浄する工程を含む磁気記録媒体用基板の製造方法。
（９）  （１）〜（６）の何れか一項に記載の引き上げ乾燥装置を用いて、磁気記録媒体を洗浄する工程を含む磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように、本発明に係る引き上げ乾燥装置では、洗浄液の液面から引き上げられた基板の表面に洗浄液の液滴が付着することを防止でき、また、簡便な構成を有しながら、複数の基板に対して乾燥染みが発生することを防止した引き上げ乾燥を行うことが可能である。
【００１６】
したがって、本発明に係る磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の製造方法では、上記引き上げ乾燥装置を用いて、磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の表面に付着した塵埃などを除去した後に、引き上げ乾燥を行うことで、乾燥染みのない清浄な表面を有する磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明を適用した引き上げ乾燥装置の一例を示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示す引き上げ乾燥装置の構成を示す断面図である。
【図３】図３は、洗浄液の液面から引き上げられた基板の表面に洗浄液の液滴が付着する場合を説明した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を適用したに引き上げ乾燥装置、これを用いた磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の製造方法ついて、図面を参照して詳細に説明する。
（引き上げ乾燥装置）
本発明を適用した引き上げ乾燥装置は、例えば図１及び図２に示すように、中心孔１ａを有する円盤状の基板１を洗浄槽２内の洗浄液Ｌに浸漬しながら基板１の洗浄を行った後に、この基板１を引き上げ乾燥するものであり、基板１として磁気記録媒体用基板又はこれを用いた磁気記録媒体を引き上げ乾燥する際に好適に用いられる。
【００１９】
具体的に、この引き上げ乾燥装置は、図１及び図２に示すように、基板１の中心孔１ａに挿通されて複数の基板１を吊り下げた状態で支持するハンガー機構１１と、洗浄槽２内の洗浄液Ｌに基板１を浸漬する位置と、洗浄槽２上に基板１を取り出す位置との間で、ハンガー機構１１を昇降操作する昇降機構１２と、洗浄槽２内に配置されて、ハンガー機構１１の下方から基板１に向かって洗浄液Ｌを噴出する噴出機構１３と、洗浄液Ｌの液面から引き上げられた基板１に対して乾燥雰囲気ガスＧを吹き付ける吹付機構（図示せず。）とを備えている。
【００２０】
洗浄槽２は、長方形を為す底壁２ａと、底壁２ａの周囲から立ち上がる４つの側壁２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅと、底壁２ａと対向する上面の開口部２ｆとを有して、全体が略直方体状に形成されると共に、その内側に上記基板１が浸漬される略直方体状の浸漬空間Ｓを形成している。
【００２１】
また、洗浄槽２内の洗浄液Ｌは、洗浄槽２の上部からオーバーフローしながら、短手方向の両側面２ｃ，２ｅに沿って設けられたタンク１５に回収されて、このタンク１５の底面に設けられた排出口１６から排出されるようになっている。
【００２２】
なお、この引き上げ乾燥装置１には、洗浄槽２内の洗浄液Ｌを循環的に再使用するための機構として、図示を省略するものの、排出口１６から排出された洗浄液Ｌを吸引し、噴出機構１３に向かって圧送するポンプと、このポンプにより圧送された洗浄液Ｌを浄化するフィルタとが設けられている。
【００２３】
ハンガー機構１１は、基板１の中心孔１ａに挿通される長尺状の支持ロッド１７を有し、この支持ロッド１７は、水平方向に延長して設けられて、洗浄槽２の長手方向に平行となるように配置されている。また、支持ロッド１７の外周面には、基板１の内周部が係合される溝部（図示せず。）が全周に亘って設けられている。また、溝部は、支持ロッド１７の長手方向に一定の間隔で複数並んで設けられている。これにより、複数の基板１を長手方向に平行に並べた状態で支持することができる。また、このような溝部に基板１の内周部が当接されることによって、基板１を安定的に保持することが可能である。
【００２４】
昇降機構１２は、基板１を洗浄液Ｌの入った浸漬槽２に浸漬したり、この浸漬槽２から基板１を引き上げたりすることが可能な機構であれば、特に限定されるものではなく、例えば、図示を省略するものの、上記支持ロッド１７の基端側を片持ち支持する支持ポールと、この支持ポールに取り付けられたナット部と、このナット部と噛合されるリードスクリューと、このリードスクリューを回転駆動する駆動モータとを有して、駆動モータがリードスクリューを回転駆動しながら、このリードスクリューと噛合されたナット部と共に支持ポールを上下方向に移動操作することによって、上記支持ロッド１７を浸漬槽２に対して昇降操作する機構などを採用することが可能である。
【００２５】
噴出機構１３は、洗浄液Ｌを噴出する複数の孔部１８ａが並んで設けられた長尺状の噴出管１８を有し、この噴出管１８は、洗浄槽２の底壁２ａに沿って配置されると共に、支持ロッド１７の下方（直下）において、当該支持ロッド１７と平行（洗浄槽２の長手方向に平行）となるように配置されている。
【００２６】
ここで、上記基板１として磁気記録媒体を洗浄する場合には、水素水を含む洗浄液Ｌを用いることが好ましい。これは、磁気記録媒体の表面にわずかに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄等では除去不能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等の除去を目的とし、この水素水を用いることによりＦｅやＣｏ等を含む磁性層の腐食を低減し、また高い洗浄力でこれらの汚染物質を除去することができるからである。
【００２７】
水素水とは、超純水又は純水に高純度の水素ガスを溶解したものであり、水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。上述したように、磁気記録媒体にはＦｅやＣｏ等の腐食しやすい元素が含まれているため、磁気記録媒体の洗浄はフッ素化合物等を用いた非水系洗浄液による洗浄に限られていた。本発明では、水素水を含む洗浄液Ｌを用いるため、この洗浄液Ｌによる磁気記録媒体の腐食が発生しにくく、磁気記録媒体の表面に付着した汚染物質を高い洗浄力で除去することが可能となる。特に、本発明では、水素水中の溶存水素濃度を０．１ｐｐｍ〜５ｐｐｍの範囲とし、また、水素水の酸化還元電位を−２００ｍＶ〜−８００ｍＶの範囲とすることによって、その効果を高めることが可能となる。
【００２８】
吹付機構は、洗浄液Ｌの液面から引き上げられた基板１に対して乾燥雰囲気ガスＧを吹き付けることが可能な機構であれば、特に限定されるものではなく、例えば、上記支持ロッド１７に対応した長さを有し且つ格子を設けた整流ブロックを備え、この整流ブロックからフィルタを介して露点が−８０℃以下の乾燥空気を層流の状態で洗浄槽２の上方から洗浄液Ｌの液面に向かって吹き付ける機構などを採用することが可能である。
【００２９】
乾燥雰囲気ガスＧとしては、乾燥空気を用いることができる。また、磁気記録媒体を引き上げ乾燥する場合には、不活性ガスとして窒素を含む乾燥雰囲気ガスＧを用いることが好ましい。
【００３０】
以上のような構造を有する引き上げ乾燥装置では、ハンガー機構１１に保持された複数の基板１を洗浄槽２内の洗浄液Ｌに浸漬しながら、これら基板１の洗浄を行った後に、基板１を引き上げ乾燥する。
【００３１】
具体的に、浸漬槽２内の洗浄液Ｌに浸漬された複数の基板１を浸漬槽２から引き上げる際には、洗浄液Ｌの液面を揺らさないように一定の速度で支持ロッド１７を上方へと移動させることが好ましい。また、基板１の引き上げ速度は、０．０１〜３０ｍｍ／秒の範囲とすることが好ましい。
【００３２】
本発明を適用した引き上げ乾燥装置では、支持ロッド１７の下方（直下）において、当該支持ロッド１７と平行に配置された噴出管１８の各孔部１８ａから洗浄液Ｌを噴出することによって、図２中の矢印Ａで示すような洗浄液Ｌの流れ、すなわち、噴出管１８の各孔部１８ａから噴出した洗浄液Ｌが各基板１に向かって下方から上方へと流れ、液面付近で洗浄槽２の両側面２ｃ，２ｅに向かって分岐する洗浄液Ｌの流れが生じることになる。
【００３３】
これにより、基板１が洗浄液Ｌの液面から離れる瞬間に洗浄液Ｌの液面が表面張力で盛り上がるといったことを抑制できる。これは、通常は表面張力で盛り上がる液面を、洗浄液Ｌの分岐する流れが横方向に分散させて緩和するためである。したがって、本発明では、盛り上がった洗浄液Ｌが弾け、その弾けた液滴が基板１の表面に再付着するといったことを防止できる。また、このような効果を得るため、噴出管１８の各孔部１８から噴出される洗浄液Ｌの流速は、０．１〜１００ｃｍ／秒の範囲とすることが好ましい。
【００３４】
さらに、本発明を適用した引き上げ乾燥装置では、上記吹付機構が 洗浄液Ｌの液面から引き上げられた各基板１に対して乾燥雰囲気ガスＧを吹き付けることによって、図２中の矢印Ｂで示すような乾燥雰囲気ガスＧの流れ、すなわち、吹付機構から噴出された乾燥雰囲気ガスＧが洗浄液Ｌの液面に向かって上方から下方へと流れ、液面上で洗浄槽２の両側面２ｃ，２ｅに向かって分岐する乾燥雰囲気ガスＧの流れが生じることになる。
【００３５】
これにより、通常は表面張力で盛り上がる液面を、乾燥雰囲気ガスＧの流れが押し下げて緩和させる。また、仮に基板１が洗浄液Ｌの液面から離れる瞬間に液滴が生じた場合でも、その液滴を押し下げて各基板１の表面に洗浄液Ｌの液滴が付着することを防止できる。また、このような効果を得るため、吹付機構から噴出される乾燥雰囲気ガスＧの流速は、０．１〜５０ｃｍ／秒の範囲とすることが好ましい。
【００３６】
以上のようにして、本発明を適用した引き上げ乾燥装置では、洗浄液Ｌの液面から引き上げられた各基板１の表面に洗浄液Ｌの液滴が再付着することを防止でき、また、簡便な構成を有しながら、複数の基板１に対して乾燥染みが発生することを防止した引き上げ乾燥を行うことが可能である。
【００３７】
（磁気記録媒体用基板の製造方法）
本発明を適用して製造される磁気記録媒体用基板は、中心孔を有する円盤状の基板であり、磁気記録媒体は、この基板の面上に、磁性層、保護層及び潤滑膜等を順次積層したものからなる。また、磁気記録再生装置（ＨＤＤ）では、この磁気記録媒体の中心部をスピンドルモータの回転軸に取り付けて、スピンドルモータにより回転駆動される磁気記録媒体の面上を磁気ヘッドが浮上走行しながら、磁気記録媒体に対して情報の書き込み又は読み出しを行う。
【００３８】
磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム合金基板やガラス基板などを挙げることができる。このうち、ガラス基板は、その硬度、表面平滑性、剛性、耐衝撃性に関して、一般にアルミニウム合金基板よりも優れている。
【００３９】
磁気記録媒体用ガラス基板については、例えば、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―Ｒ２Ｏ（Ｒは、アルカリ金属元素の中から選ばれる少なくとも１種以上を表す。）系化学強化ガラス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―Ｌｉ２Ｏ系ガラスセラミックス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ―ＴｉＯ２系ガラスセラミックスなどを用いることができる。その中でも特に、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ―ＣａＯ―Ｌｉ２Ｏ―Ｎａ２Ｏ―ＺｒＯ２―Ｙ２Ｏ３―ＴｉＯ２―Ａｓ２Ｏ３系化学強化ガラス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―Ｌｉ２Ｏ―Ｎａ２Ｏ―ＺｒＯ２―Ａｓ２Ｏ３系化学強化ガラス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ―ＺｎＯ―Ｌｉ２Ｏ―Ｐ２Ｏ５―ＺｒＯ２―Ｋ２Ｏ―Ｓｂ２Ｏ３系ガラスセラミックス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ―ＣａＯ―ＢａＯ―ＴｉＯ２―Ｐ２Ｏ５―Ａｓ２Ｏ３系ガラスセラミックス、ＳｉＯ２―Ａｌ２Ｏ３―ＭｇＯ―ＣａＯ―ＳｒＯ―ＢａＯ―ＴｉＯ２―ＺｒＯ２―Ｂｉ２Ｏ３―Ｓｂ２Ｏ３系ガラスセラミックスなどを好適に用いることができる。さらに、例えば、二珪酸リチウム、ＳｉＯ２系結晶（石英、クリストバライト、トリジマイト等）、コージェライト、エンスタタイト、チタン酸アルミニウムマグネシウム、スピネル系結晶（［Ｍｇ及び／又はＺｎ］Ａｌ２Ｏ４、［Ｍｇ及び／又はＺｎ］２ＴｉＯ４、並びにこれら２結晶間の固溶体）、フォルステライト、スポジューメン、並びにこれら結晶の固溶体などを結晶相として含有するガラスセラミックスが磁気記録媒体用ガラス基板として適している。
【００４０】
そして、この磁気記録媒体用ガラス基板を製造する際は、先ず、大きな板状のガラス板からガラス基板を切り出す、又は、溶融ガラスから成形型を用いてガラス基板を直接プレス成形することにより、中心孔を有する円盤状のガラス基板を得る。
【００４１】
次に、得られたガラス基板に対して、ラップ(研削)加工とポリッシュ(研磨)加工とを施す。そして、ラップ加工、研削加工及びポリッシュ加工が施されたガラス基板は、最終洗浄工程及び検査工程に送られる。
【００４２】
そして、最終洗浄工程では、上記本発明の洗浄装置（引き上げ乾燥装置）を用いて、ガラス基板を洗浄し、上記工程において使用した研磨剤等の除去を行う。また、検査工程では、例えばレーザを用いた光学式検査器により、ガラス基板の表面（主面、端面及びチャンファー面）の傷やひずみの有無等の検査を行う。
【００４３】
（磁気記録媒体の製造方法）
また、本発明では、この磁気記録媒体用基板の面上に、磁性層、保護層等を順次積層した磁気記録媒体に対して、上記本発明の洗浄装置（引き上げ乾燥装置）を用いた洗浄工程を実施することが可能である。
【００４４】
本発明を適用して製造される磁気記録媒体としては、磁気記録媒体用基板の表面に形成される磁性層については、面内磁性層でも垂直磁性層でもかまわない。これらの磁性層は、主としてＣｏを主成分とする合金から形成することが好ましい。また、磁性層は、通常はスパッタ法により薄膜として形成される。
【００４５】
面内磁気記録媒体用の磁性層としては、例えば、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層からなる積層構造を用いることができる。一方、垂直磁気記録媒体用の磁性層としては、例えば、軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕ等）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣ等）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢ等）等からなる裏打ち層と、Ｎｉ合金などの配向制御膜と、必要によりＲｕ等の中間膜、及び６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる磁性層を積層したものを用いることができる。
【００４６】
磁性層の上に形成される保護層については、一般的には、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎの薄膜を、Ｐ−ＣＶＤ等で成膜する方法が用いられるが、これに特に限定されるものではない。
【００４７】
本発明では、上記本発明の洗浄装置（引き上げ乾燥装置）を用いて、上述した磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の表面に付着した塵埃などを除去した後に、引き上げ乾燥を行うことで、乾燥染みのない清浄な表面を有する磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体を歩留まり良く製造することが可能である。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００４９】
［第１の実施例］
（実施例１−１）
実施例１−１では、本発明の洗浄装置として、上記図１，２に示す洗浄槽２と同様の構造を有する、長さ３５ｃｍ、幅２５ｃｍ、高さ２５ｃｍのステンレス製の洗浄槽を用いた。この洗浄槽の底部には、洗浄液を上方に向かって噴出する２０カ所のノズル孔が設けられた噴出管を配置し、この噴出管の各ノズル孔から洗浄液を流速３ｃｍ／秒で噴出させながら、上記図２中の矢印Ａで示すような洗浄液Ｌの流れを発生させた。洗浄液には、溶存水素濃度１．５ｐｐｍ、酸化還元電位−５５０ｍＶの水素水を用いた。
【００５０】
そして、この洗浄装置を用いて基板の洗浄を行った。基板には、外径６５ｍｍ、厚み１．２７ｍｍ、中心孔の口径２０ｍｍのニッケルリンメッキを施したアルミニウム合金基板を使用し、この基板を支持ロッドに２５枚吊り下げた状態で、洗浄槽内の洗浄液に浸漬した後、洗浄液に５００Ｗの超音波振動を加えながら、基板の洗浄を３０秒間行った。その後、超音波振動を停止し、支持ロッドを３ｍｍ／秒で引き上げながら基板の引き上げ乾燥を行った。また、基板を引き上げ乾燥する際に、５ｍｍ格子を必要面積分だけ設けた整流ブロックからフィルタを介して露点が−８０℃程度の乾燥空気を層流の状態で洗浄槽の上方から洗浄液の液面に向かって流速８ｃｍ／秒で吹き付けた。
【００５１】
そして、乾燥後の各基板の表面を微分干渉光学顕微鏡（６００倍）で観察したところ、何れの基板Ｍも表面に乾燥ムラや水ジミなどの付着物は一切観察されなかった。
【００５２】
（比較例１−１）
比較例１−１では、実施例と同様に基板の洗浄を行ったが、洗浄槽内の洗浄液の流れを制御せずに、実施例と同量の洗浄液を底部に設けた３カ所の供給口から供給した。なお、供給口の直径は１５ｍｍであり、洗浄槽内の洗浄液には不定の対流が生じていた。また、洗浄液の液面付近での乾燥空気の対流も生じさせず、洗浄装置全体を乾燥空気の雰囲気下に設置した。
【００５３】
そして、乾燥後の各基板の表面を微分干渉光学顕微鏡（６００倍）で観察したところ、５枚の基板の外周端部に、直径０．２ｍｍ程度の乾燥ジミが複数観察された。
【００５４】
［第２の実施例］
第２の実施例では、上記実施例１−１の洗浄方法を用いて洗浄した磁気記録媒体用基板（以下、洗浄済み基板という。）を１０００枚用意し、この洗浄済み基板を用いて磁気記録媒体の製造を行った。
【００５５】
具体的には、先ず、洗浄済み基板を、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を減圧排気した後、この基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて、１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上に層厚０．７６ｎｍのＲｕ層を成膜した後、さらに、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂのターゲットを用いて、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【００５６】
次に、この軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−１０Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲットと、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ層厚５ｎｍのＮｉＷ層と、層厚２０ｎｍのＲｕ層を順に成膜し、これを配向制御層とした。
【００５７】
次に、この配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、９２（７０Ｃｏ１５Ｃｒ１５Ｐｔ）−８ＳｉＯ２（平均膜厚３ｎｍ）、９３（７５Ｃｏ１０Ｃｒ１５Ｐｔ）−５ＳｉＯ２−２ＴｉＯ２（平均膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ（平均膜厚０．３ｎｍ）、６５Ｃｏ１５Ｃｒ１５Ｐｔ５Ｂ（平均膜厚３ｎｍ）の各層を順次積層した。
【００５８】
次に、この磁性層の上に、ＣＶＤ法により、層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜した。
【００５９】
（実施例２−２）
実施例２−２では、製造した磁気記録媒体１０００枚のうちの５００枚に対して、上記実施例１−１と同様の方法を用いて洗浄を行った。なお、各磁気記録媒体の洗浄時間は１５秒間とした。
【００６０】
（実施例２−３）
実施例２−３では、製造した磁気記録媒体１０００枚のうち、上記実施例２−１の洗浄を行わなかった残りの５００枚に対して、上記比較例１−１の方法と同様の方法を用いて洗浄を行った。なお、各磁気記録媒体の洗浄時間は１５秒間とした。
【００６１】
（実施例２−４）
実施例２−４では、上記比較例１−１の洗浄方法を用いて洗浄した洗浄済み基板を５００枚用意し、この洗浄済み基板を用いて、上記実施例２−１と同様の方法で磁気記録媒体の製造を行った。そして、製造した磁気記録媒体に対して、実施例１−１と同様の方法を用いて洗浄を行った。なお、各磁気記録媒体の洗浄時間は１５秒間とした。
【００６２】
（比較例２−１）
上記比較例１−１の洗浄方法を用いて洗浄した洗浄済み基板を５００枚用意し、この洗浄済み基板を用いて、上記実施例２−１と同様の方法で磁気記録媒体の製造を行った。そして、製造した磁気記録媒体に対して、比較例１−１と同様の方法を用いて洗浄を行った。なお、各磁気記録媒体の洗浄時間は１５秒間とした。
【００６３】
（磁気記録媒体の製造と評価）
そして、これら実施例２−１，２−２，２−３及び比較例２−１の各磁気記録媒体について、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤膜を、保護層の表面に厚さ１５オングストロームで成膜した。
【００６４】
次に、潤滑剤膜が形成された磁気記録媒体に対して、ワイピング処理を施した。このとき、ワイピングテープとしては、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維からなるものを用いた。また、ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度を１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【００６５】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対して、バーニッシュ処理を施した。このとき、バーニッシュテープとしては、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。また、バーニッシュ処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【００６６】
次に、各磁気記録媒体に対してグライド検査を行った。グライド検査では、検査ヘッドと磁気記録媒体の表面との間の機械的なスペーシングを、０．２５マイクロインチに設定し、検査ヘッドから、磁気記録媒体表面の突起物との衝突に起因するシグナルが出力された場合は、その磁気記録媒体は不良品と判断し、それ以外は良品と判断した。
【００６７】
次に、グライド検査に合格した磁気記録媒体に対して、サーティファイ検査を行った。サーティファイ検査では、磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲヘッドを用いた。そして、被検査媒体を６０００ｒｐｍで回転させながら、この磁気ヘッドを用いて被検査媒体に、データエリアの最外周から最内周まで、６μｍのトラックピッチで３２０ｋＦＣＩの高周波信号を書き込み、その後、被検査媒体からの出力信号を解析した。
【００６８】
出力信号の解析は、周方向の幅で１５μｍより長いミッシング箇所（書き込んだ信号が出力されない箇所）、１５μｍ〜０．８μｍのミッシング箇所、０．８μｍ未満で検出されたミッシング箇所の個数を調べることで行った。その評価結果をまとめたものを表１に示す。
【００６９】
【表１】
2012064300.tif 000003
【００７０】
表１に示すように、上記本発明の洗浄方法を用いたものは、上記比較例の洗浄方法を用いたものよりも、良好な結果が得られた。
【符号の説明】
【００７１】
１…基板  １ａ…中心孔  ２…洗浄槽  １１…ハンガー機構  １２…昇降機構  １３…噴出機構  １５…タンク  １６…排出口  １７…支持ロッド  １８…噴出管  １８ａ…孔部  Ｌ…洗浄液  Ｇ…乾燥雰囲気ガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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