(57)【要約】【課題】誘電体層の機械的強度を確保しつつ、消費電力の低減が可能なプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】プラズマディスプレイパネルは、前面板２と、背面板と、を備え、前面板２と背面板とが対向配置されるとともに周囲が封着される。前面板２は、表示電極６と表示電極６を覆う誘電体層８とを有する。誘電体層８は、内部が中空である中空微粒子２０とガラス層２２とを含む。中空微粒子２０は、誘電体層８中に分散している。【選択図】図２
2012018825.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面板と、
背面板と、を備え、
前記前面板と前記背面板とが対向配置されるとともに周囲が封着され、
前記前面板は、表示電極と前記表示電極を覆う誘電体層とを有し、
前記誘電体層は、内部が中空である中空微粒子とガラス層とを含み、
前記中空微粒子は、前記誘電体層中に分散している、
プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルであって、
前記中空微粒子は、平均粒径が１００ｎｍ以下、かつ、最大粒径が４００ｎｍ以下である、
プラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１または請求項２のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルであって、
前記中空微粒子の主成分は、二酸化珪素、または酸化アルミニウム、または酸化亜鉛、または酸化ガリウム、またはこれらの複合酸化物である、
プラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層における前記中空微粒子の含有量は、１０体積％以上、７４体積％以下である、
プラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ここに開示された技術は、表示デバイスなどに用いられるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）の表示電極を構成するバス電極には、導電性を確保するための銀電極が用いられている。バス電極を覆う誘電体層には、酸化鉛を主成分とする低融点ガラスが用いられている。近年、環境への配慮から、鉛成分を含まない誘電体層が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ＰＤＰの消費電力低減のため、誘電体層の静電容量を小さくし、無効電力を低減することが求められている。すなわち、誘電体層の比誘電率を小さくすることが求められている。比誘電率が小さい誘電体層を形成するために、空孔を有する微粒子（以下、中空微粒子と称する）をガラス板上に堆積させる技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１２８４３０号公報
【特許文献２】特開２００９−２５９５６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、中空微粒子で構成された誘電体層においては、中空微粒子間の結合力が低下する場合がある。すなわち、誘電体層の機械的強度が低下して、誘電体層にクラックが発生するといった課題があった。
【０００６】
ここに開示された技術は、上記課題を解決するためになされたもので、誘電体層の機械的強度を確保しつつ、消費電力の低減が可能なＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的は、以下のＰＤＰによって達成される。前面板と、背面板と、を備え、前面板と背面板とが対向配置されるとともに周囲が封着される。前面板は、表示電極と表示電極を覆う誘電体層とを有する。誘電体層は、内部が中空である中空微粒子とガラス層とを含む。中空微粒子は、誘電体層中に分散している。
【０００８】
このような構成によれば、ガラス層により中空微粒子間の結合力を確保できる。また、中空微粒子によって、誘電体層の比誘電率を小さくできる。
【発明の効果】
【０００９】
上記の構成によれば、誘電体層の機械的強度を確保しつつ、消費電力の低減が可能なＰＤＰを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図である。
【図２】同前面板の構造を示す概略断面図である。
【図３】同球形の中空微粒子の正面図である。
【図４】図３におけるＡ−Ａ断面図である。
【図５】本実施の形態における六面体の中空微粒子の斜視図である。
【図６】図５における一点鎖線部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（実施の形態）
［１．ＰＤＰ１の構成］
本実施の形態のＰＤＰ１は、交流面放電型ＰＤＰである。図１に示すように、ＰＤＰ１は前面ガラス基板３などよりなる前面板２と、背面ガラス基板１１などよりなる背面板１０とが対向して配置される。前面板２と背面板１０の外周部がガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ＮｅおよびＸｅなどの放電ガスが５５ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入される。
【００１２】
前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６とブラックストライプ（遮光層）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置される。前面ガラス基板３上には、表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成される。さらに、誘電体層８の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などからなる保護層９が形成される。
【００１３】
また、背面ガラス基板１１上には、前面板２の表示電極６と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極１２が互いに平行に配置される。さらに、アドレス電極１２を覆うように下地誘電体層１３が形成される。さらに、アドレス電極１２の間に形成された下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成される。隔壁１４の間には、紫外線によって赤色に発光する蛍光体層１５と、青色に発光する蛍光体層１５および緑色に発光する蛍光体層１５が順番に形成される。
【００１４】
表示電極６とアドレス電極１２とが交差する位置に放電セルが形成される。赤色に発光する蛍光体層１５を有する放電セルと、青色に発光する蛍光体層１５を有する放電セルと、緑色に発光する蛍光体層１５を有する放電セルとによりカラー表示をする画素が形成される。
【００１５】
［２．ＰＤＰ１の製造方法］
［２−１．前面板２の製造方法］
図２に示すように、前面ガラス基板３上に、走査電極４および維持電極５と遮光層７とが形成される。表示電極６は、走査電極４および維持電極５を有する。走査電極４および維持電極５は、導電性を確保するための銀（Ａｇ）を含む白色電極４ｂ、５ｂを有する。また、走査電極４および維持電極５は、画像表示面のコントラストを向上するため黒色顔料を含む黒色電極４ａ、５ａを有する。白色電極４ｂは、黒色電極４ａに積層される。白色電極５ｂは、黒色電極５ａに積層される。
【００１６】
具体的には、黒色顔料を含む黒色ペーストが、スクリーン印刷法などによって前面ガラス基板３に塗布されることにより、黒色ペースト層（図示せず）が形成される。次に、黒色ペースト層（図示せず）が、フォトリソグラフィ法によりパターニングされる。次に、銀（Ａｇ）を含む白色ペーストが、スクリーン印刷法などによって、黒色ペースト層（図示せず）上に塗布されることにより、白色ペースト層（図示せず）が形成される。次に、白色ペースト層（図示せず）と黒色ペースト層（図示せず）が、フォトリソグラフィ法によりパターニングされる。その後、現像ステップを経て、黒色ペースト層（図示せず）および白色ペースト層（図示せず）が焼成されることにより、表示電極６である白色電極４ｂ、５ｂ、黒色電極４ａ、５ａ、および遮光層７が形成される。
【００１７】
次に、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストがダイコート法などにより塗布されることにより、誘電体ペースト層（図示せず）が形成される。その後、所定の時間が経過すると、誘電体ペースト層（図示せず）の表面がレベリングし、平坦になる。その後、誘電体ペースト層が焼成されることにより、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。
【００１８】
なお、誘電体ペーストは、ガラス粉末などの誘電体ガラス、バインダおよび溶剤を含む塗料である。
【００１９】
次に、誘電体層８上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などからなる保護層９が真空蒸着法により形成される。
【００２０】
以上の工程により前面ガラス基板３上に走査電極４、維持電極５、遮光層７、誘電体層８、保護層９が形成され、前面板２が完成する。
【００２１】
［２−２．背面板１０の製造方法］
図１に示すように、背面板１０は、以下のように形成される。
【００２２】
背面ガラス基板１１上に、アドレス電極１２が形成される。具体的には、銀（Ａｇ）を含むペーストがスクリーン印刷法により、背面ガラス基板１１上に塗布されることにより、アドレス電極ペースト層（図示せず）が形成される。次に、アドレス電極ペースト層（図示せず）が、フォトリソグラフィ法により、パターニングされることにより、アドレス電極１２用の構成物となる材料層（図示せず）が形成される。その後、材料層（図示せず）が所定の温度で焼成されることにより、アドレス電極１２が形成される。ここで、ペーストをスクリーン印刷する方法以外にも、スパッタ法、蒸着法などにより、金属膜を背面ガラス基板１１上に形成する方法が採用される。
【００２３】
次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などによりアドレス電極１２を覆うように下地誘電体ペーストが塗布されることにより、下地誘電体ペースト層（図示せず）が形成される。その後、下地誘電体ペースト層（図示せず）が焼成されることにより、下地誘電体層１３が形成される。なお、下地誘電体ペーストはガラス粉末などの下地誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。
【００２４】
次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストが塗布されることにより、隔壁ペースト層（図示せず）が形成される。隔壁ペースト層（図示せず）がフォトリソグラフィ法により、パターニングされることにより、隔壁１４の材料層となる構成物（図示せず）が形成される。次に、構成物（図示せず）が、焼成されることにより隔壁１４が形成される。ここで、下地誘電体層１３上に塗布された隔壁ペースト層をパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法の他に、サンドブラスト法などが採用される。
【００２５】
次に、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上および隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストが塗布される。次に、蛍光体ペーストが焼成されることにより蛍光体層１５が形成される。
【００２６】
以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材を有する背面板１０が完成する。
【００２７】
［２−３．前面板２と背面板１０との組立方法］
まず、表示電極６とアドレス電極１２とが直交するように、前面板２と背面板１０とが対向配置される。次に、前面板２と背面板１０の周囲がガラスフリットで封着される。次に、放電空間１６にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスが封入されることによりＰＤＰ１が完成する。
【００２８】
［３．誘電体層８の詳細］
誘電体層８は、低比誘電率、高耐電圧かつ高光透過率を要求される。これらの特性は、誘電体層８の構造に大きく依存する。図２に示すように、誘電体層８は、中空微粒子２０とガラス層である誘電体ガラス層２２とを含む。本実施の形態において中空微粒子２０は、誘電体層８中に分散している。なお、説明の便宜のため、図２に示される中空微粒子２０の大きさおよび数は、実際の製品とは異なる。
【００２９】
後述されるように、中空微粒子２０が、誘電体層８中に均一に分散しているか、否かは種々の測定方法によって判断される。例えば、前面板２の可視光線透過率を測定する方法がある。中空微粒子２０が誘電体層８中に均一に分散していなければ、可視光線透過率が低下する。他には、例えば、前面板２のヘイズ値を測定する方法がある。中空微粒子２０が誘電体層８中に均一に分散していなければ、ヘイズ値が大きくなる。
【００３０】
従来、４５０℃から６００℃程度での焼成を可能にするために、誘電体ガラスは、２０重量％以上の酸化鉛を含有していた。しかし、本実施の形態においては、環境への配慮のため、誘電体ガラスは、酸化鉛を含有しない。すなわち、誘電体層８は、酸化鉛を含有しない。
【００３１】
［３−１．誘電体ペーストの製造］
誘電体ペーストは、誘電体ガラス微粒子が分散した誘電体ガラススラリーと中空微粒子２０が分散した中空微粒子スラリーとビヒクルから構成される。
【００３２】
［３−１−１．誘電体ガラススラリー］
誘電体ガラススラリーは、誘電体ガラス微粒子１０重量％〜６５重量％と溶媒３５重量％〜９０重量％とから構成される。誘電体ガラス微粒子は、一例として、三酸化二硼素（Ｂ2Ｏ3）と二酸化珪素（ＳｉＯ2）とアルカリ金属の酸化物である酸化カリウム（Ｋ2Ｏ）や酸化リチウム（Ｌｉ2Ｏ）や酸化ナトリウム（Ｎａ2Ｏ）などを含む。溶媒は、一例として、アルコール系やグリコール系や水系などを含む。
【００３３】
まず、例示した組成成分からなる誘電体ガラス材料が、湿式ジェットミルやボールミルにより平均粒径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ、かつ最大粒径が４００ｎｍ以下となるように粉砕されて誘電体ガラス微粒子が作製される。本実施の形態において、誘電体ガラス微粒子の粒径は、内接球直径で規定される。内接球直径とは、誘電体ガラス微粒子の内部に球を挿入したと仮定して、球の表面が誘電体ガラス微粒子に内接可能な最大の直径である。作製される誘電体ガラス微粒子の形状は、おおよそ球状のものや、鱗片状のものなどがある。おおよそ球状であるものに対しては平均粒径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ、かつ最大粒径が４００ｎｍ以下。なお、粒径は、ＳＥＭ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ    Ｅｌｅｔｏｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）装置によって測定された値である。中空微粒子２０が均一に分散した誘電体ガラススラリーを製造するためには、誘電体ガラス微粒子の粒径を規定することが好ましい。誘電体ガラス微粒子の平均粒径が１００ｎｍを超え、また最大粒径が４００ｎｍを超えると、誘電体層８が形成されたときに中空微粒子２０が偏って分布する。これは、誘電体ガラススラリーと、後述される中空微粒子スラリーとの混合時に、誘電体ガラス微粒子の周縁に、中空微粒子２０が分布し、偏りが焼成後も維持されるためである。このような誘電体層８では、可視光が誘電体層８中で散乱して、可視光線透過率が低下する場合がある。よって、誘電体ガラス微粒子の平均粒径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍ、かつ最大粒径が４００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３４】
誘電体ガラススラリーには、滑剤や分散剤などが添加されてもよい。このような構成の誘電体ガラススラリーは分散性が向上する。
【００３５】
［３−１−２．中空微粒子スラリー］
中空微粒子スラリーは、中空微粒子２０が１重量％〜２０重量％と溶媒が８０重量％〜９９重量％とを混合分散させたものである。中空微粒子２０の主成分は、一例として、二酸化珪素（ＳｉＯ2）である。酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）、または、これらの複合酸化物なども用いることができる。図３および図４には、外形が球形の中空微粒子２０が例示されている。図４に示すように、中空微粒子２０は、内部に中空部２１を有する中空構造である。なお、中空微粒子２０の外形は、球形に限られない。例えば、図５および図６には、外形が六面体の中空微粒子２０が例示されている。図６に示すように、中空微粒子２０は、内部に中空部２１を有する中空構造である。なお、中空微粒子２０は、六面体に限られず、八面体などの多面体でもよい。溶媒は、一例として、アルコール系やグリコール系や水系などを含む。
【００３６】
本実施の形態において、中空微粒子２０は、平均粒径が１０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以下、かつ最大粒径が４００ｎｍ以下である。図４に示すように、中空微粒子２０が球形の場合、粒径は、中空微粒子２０の外直径である。なお、中空微粒子２０が多面体の場合、粒径は、内接球直径で規定される。なお、粒径は、ＳＥＭ装置によって測定された値である。中空微粒子２０の最大粒径が大きくなると前面板の可視光線透過率が低下する。中空微粒子２０の最大粒径が、可視光線の最短波長である４００ｎｍ以下であれば、可視光線透過率は、７５％以上を確保できる。また、中空微粒子２０の粒径が、可視光線の最短波長の１／４波長に相当する１００ｎｍ以下であれば、中空微粒子２０間の光散乱が抑制される。よって、中空微粒子２０の平均粒径は１００ｎｍ以下が好ましい。
【００３７】
また、中空微粒子２０は、空間率で１０％以上、６０％以下が好ましい。空間率が１０％より小さい場合は、比誘電率が上昇する。空間率が６０％より大きい場合は、中空微粒子２０の壁が薄くなることにより、中空微粒子２０の形状を確保することが困難になる。なお、空間率は、中空微粒子２０の内部空間である中空部２１の体積を中空微粒子２０の体積で除算した値である。
【００３８】
中空微粒子２０は、有機粒子プレート法や、無機粒子プレート法などにより製造される。有機粒子プレート法は、ポリスチレンなどの有機コア粒子の周りに表面電荷により選択的に目的の酸化物を析出させる。有機コア粒子の表面が酸化物で被覆された後、有機コア粒子が除去される。無機粒子プレート法は、炭酸カルシウムなどのコア粒子の周りに目的の酸化物がコーティングされる。無機コア粒子の表面が酸化物で被覆された後、無機コア粒子が溶解除去される。
【００３９】
有機粒子プレート法においても、無機粒子プレート法においても、中空微粒子２０の粒径および空間率は、有機コア粒子または無機コア粒子の粒径と、被覆される酸化物の膜厚に依存する。すなわち、有機コア粒子または無機コア粒子の粒度分布が所定の範囲に収めること、および酸化物の膜厚を所定の範囲に収めることにより、中空微粒子２０の粒径および空間率を制御することができる。中空微粒子スラリーには滑剤や分散剤などが添加されてもよい。このような構成の中空微粒子スラリーは分散性が向上する。
【００４０】
［３−１−３．誘電体ペースト］
上述のように、誘電体ガラススラリーと中空微粒子スラリーは、別々に製造される。誘電体ペーストを前面ガラス基板に塗布する前に、誘電体ガラススラリーと中空微粒子スラリーとが混合分散される。さらに、必要に応じてビヒクルなどバインダ成分が混合分散される。バインダ成分はエチルセルロースあるいはアクリル樹脂１重量％〜２０重量％を含むターピネオールあるいはブチルカルビトールアセテートである。また、誘電体ガラス用ペーストには、可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルが添加されてもよい。なお、バインダ成分はガラス粒子粉砕時溶媒に合わせて選定してもよい。
【００４１】
なお、バインダを混合分散するタイミングはこの限りではない。
【００４２】
このような誘電体ペーストの製造方法によれば、誘電体ペースト中に誘電体ガラス微粒子と中空微粒子２０とが均一に分散する。
【００４３】
誘電体層８における中空微粒子２０の含有量は、１０体積％以上、７４体積％以下であることが好ましい。中空微粒子２０の含有量が１０体積％より少ないと、誘電体層８の比誘電率を小さくすることが難しい。一方、中空微粒子２０の含有量が７４体積％を超えると、誘電体層８の密度が低下するため、機械的強度が低下する。すなわち、誘電体層８にクラックが発生しやすくなる。さらに誘電体層８の機械的強度を確保するために、中空微粒子２０の含有量は、５０体積％以下であることが好ましい。
【００４４】
誘電体層８における中空微粒子２０の含有量を所定の範囲に収めるためには、誘電体ペースト中の中空微粒子２０の含有量を所定の範囲に収めることが好ましい。すなわち、規定された比率にしたがって、誘電体ガラススラリーと中空微粒子スラリーとが混ぜ合わされればよい。あるいは、中空微粒子スラリーの製造段階で、中空微粒子スラリーにおける中空微粒子２０の含有量を所定の範囲に収めてもよい。
【００４５】
［３−２．誘電体層８の形成方法］
誘電体層８を形成する方法として、スクリーン印刷法やダイコート法などが用いられる。  まず、誘電体ペーストが、前面ガラス基板３上に塗布される。誘電体ペースト層の塗布膜厚は、焼成によって収縮する割合が考慮された上で、適宜設定される。次に、１００℃から２００℃の温度範囲で誘電体ペースト層が乾燥される。次に、４５０℃から６００℃の温度範囲、より好ましくは５５０℃から５９０℃の温度範囲で焼成されることにより、中空微粒子２０と誘電体ガラス層２２とからなる誘電体層８が形成される。
【００４６】
また、誘電体層８を形成する方法として、以下の方法も用いられる。まず、誘電体ペーストをフィルム上に塗布、乾燥させたシートが用いられる。次に、シートに形成された誘電体ペーストが前面ガラス基板３に転写される。次に、４５０℃から６００℃、より好ましくは５５０℃〜５９０℃の温度範囲で焼成されることにより、中空微粒子２０と誘電体ガラス層２２とからなる誘電体層８が形成される。
【００４７】
なお、誘電体層８の膜厚が小さいほどＰＤＰ１の輝度が向上する。また、誘電体層８の膜厚が小さいほどＰＤＰ１の放電電圧が低減する。よって、絶縁耐圧が低下しない範囲で、できるだけ誘電体層８の膜厚が小さいことが好ましい。絶縁耐圧の観点と、可視光透過率の観点との両方から、本実施の形態では、一例として、誘電体層８の膜厚は１０μｍ以上、４１μｍ以下である。
【００４８】
［４．まとめ］
本実施の形態のＰＤＰ１は、前面板２と、背面板１０と、を備え、前面板２と背面板１０とが対向配置されるとともに周囲が封着される。前面板２は、表示電極６と表示電極６を覆う誘電体層８とを有する。誘電体層８は、内部が中空である中空微粒子２０とガラス層である誘電体ガラス層２２とを含む。中空微粒子２０は、誘電体層８中に分散している。
【００４９】
このような構成によれば、誘電体ガラス層２２により中空微粒子２０相互の結合力を確保できる。また、中空微粒子２０の内部は中空であるため、中空微粒子２０内部の比誘電率は約１．０である。よって中空微粒子２０自体の比誘電率は１．０に近い値になる。よって、誘電体層８の比誘電率を小さくできる。
【００５０】
なお、誘電体層８に均一に分散された中空微粒子２０の一部は割れていてもよい。すなわち、誘電体層８中には、中空微粒子２０の破片が分散してもよい。割れて一部が開いた中空微粒子２０の内部にはガラスは入り込まず中空は維持される。よって、中空微粒子２０の一部が割れていても、割れていない中空微粒子２０と同等の効果を得られる。さらに、割れた中空微粒子２０の破片が誘電体ガラス微粒子の隙間に入りこんだ場合でも、緻密な膜になり、膜強度が向上する。
【００５１】
また、誘電体ペーストの塗布後から時間が経過すると、中空微粒子２０は、誘電体ペーストよりも比重が軽いため、誘電体ペースト層の表面側へ移動する。この状態で、前面ガラス基板３を乾燥させると、誘電体層８において、厚み方向に中空微粒子２０の含有量に勾配が生じる。すなわち、誘電体層８における屈折率は、誘電体層８の厚み方向に勾配が生じてもよい。誘電体層８の前面ガラス基板３側における中空微粒子２０の含有量が少なくなると屈折率が相対的に高くなる。誘電体層８の表面側における中空微粒子２０の含有量が多くなると、屈折率が相対的に低くなる。この構成によれば、前面ガラス基板３と誘電体層８との界面の屈折率差が低減される。また、放電ガスが封入されている放電空間と誘電体層８との界面の屈折率差が低減される。すなわち、前面ガラス基板３と誘電体層８との界面および放電空間と誘電体層８との界面での反射率が低減される。よって、発光取り出し効率が向上し、さらに、外光反射率が低減する。
【００５２】
［５．実施例］
ＰＤＰが作製され、ＰＤＰの性能が評価された。作製されたＰＤＰは、４２インチクラスのハイビジョンテレビに適合するものである。すなわち、ＰＤＰは、前面板と、背面板と、を備え、前面板と背面板とが対向配置されるとともに周囲が封着されている。前面板は、表示電極と誘電体層と保護層とを有する。背面板は、アドレス電極と、下地誘電体層と、隔壁と、蛍光体層とを有する。ＰＤＰ１には、キセノン（Ｘｅ）の含有量が１５体積％のネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）系の混合ガスが、６０ｋＰａの内圧で封入された。また、表示電極と表示電極との電極間距離は、０．０６ｍｍである。隔壁の高さは０．１５ｍｍ、隔壁と隔壁との間隔（セルピッチ）は０．１５ｍｍである。
【００５３】
中空微粒子スラリーには、無機粒子プレート法で作製された中空微粒子（主成分：ＳｉＯ2、空間率：５０％、平均粒径：１００ｎｍ、最大粒径：２００ｎｍ、形状：球）が用いられた。誘電体ガラススラリーには、上述の方法で作製された誘電体ガラス微粒子（比誘電率：６．０、平均粒径１００ｎｍ、最大粒径：２００ｎｍ）が用いられた。誘電体ペーストを塗布する直前に、中空微粒子スラリーと、誘電体ガラススラリーとが混ぜ合わされた。誘電体ペーストは、ダイコート法で前面基板に塗布された。塗布膜の膜厚は、焼成後の誘電体層の膜厚が１５μｍになるように設定された。誘電体層における中空微粒子の含有率は２０体積％であった。誘電体層の比誘電率は、４．０であった。比誘電率の測定にはＬＣＲメーターが用いられた。比誘電率は、周波数が１ｋＨｚのときの値である。
【００５４】
上述のように前面ガラス基板に誘電体層が形成された基板の可視光線透過率は、８０％であった。すなわち、実施例において、中空微粒子が、誘電体層中に均一に分散していることを示している。誘電体層の絶縁破壊はなく、誘電体層の機械的強度は確保されていた。さらに、実施例におけるＰＤＰの消費電力は、従来の誘電体層を有するＰＤＰよりも１０％低減できた。
【００５５】
また、実施例における誘電体層８のヘイズ値は、３０％であった。なお、ヘイズ値の測定には、ヘイズ・透過率計「ＨＭ−１５０」（株式会社  村上色彩研究所製）が用いられた。実施例において、誘電体層が形成された前面ガラス基板に対して、波長５５０ｎｍの単波長の光を前面ガラス基板と直交する方向から入射させた時の光線透過率（可視光線透過率）およびヘイズ値が測定された。ヘイズ値からも実施例において、中空微粒子が、誘電体層中に均一に分散していることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、低消費電力のＰＤＰを実現して、大画面の表示デバイスなどに有用である。
【符号の説明】
【００５７】
１    ＰＤＰ
２    前面板
３    前面ガラス基板
４    走査電極
４ａ，５ａ    黒色電極
４ｂ，５ｂ    白色電極
５    維持電極
６    表示電極
７    ブラックストライプ（遮光層）
８    誘電体層
９    保護層
１０    背面板
１１    背面ガラス基板
１２    アドレス電極
１３    下地誘電体層
１４    隔壁
１５    蛍光体層
１６    放電空間
２０    中空微粒子
２１    中空部
２２    誘電体ガラス層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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