(57)【要約】【課題】最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図る。【解決手段】一旦光ディスク記録媒体の作成までを行って原盤の評価値と光ディスク記録媒体の評価値との差分から原盤評価値の目標値を計算した上で、当該目標値に評価値を一致させるように原盤ストラテジの調整（原盤記録信号についての評価値を上記目標値に追い込むストラテジ調整）を行う。ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数を少なくとも１回に抑えることができ、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることができる。このとき、ストラテジの調整は実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値を反映して行われるので、その分、光ディスク記録媒体の信号品質は高めることができる。【選択図】図３
2012195020.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第１の記録工程と、
上記第１の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第１の評価値測定工程と、
上記第１の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第１のディスク作成工程と、
上記第１のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第２の評価値測定工程と、
上記第１の評価値測定工程により測定した評価値と上記第２の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程と、
上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第１の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第１のストラテジ調整工程と
を有する原盤ストラテジ調整方法。
【請求項２】
上記ディスク原盤に対する記録をＰＴＭ（Phase Transition Mastering）方式により行う請求項１に記載の原盤ストラテジ調整方法。
【請求項３】
上記評価値は、対象とする符号長ごとに測定するものとされており、
少なくとも上記ディスク原盤についての評価値を符号長ごとに測定するにあっては、
各符号長の分別を、予め記憶された上記ディスク原盤に記録されるべき記録符号パターンを上記ディスク原盤からの再生信号と同期させた上で、当該同期させた上記記録符号パターンに基づいて行う
請求項２に記載の原盤ストラテジ調整方法。
【請求項４】
上記記録符号パターンの上記再生信号に対する同期は、上記記録符号パターンと上記再生信号とに含まれる各符号長のうち、符号長分布の重なりの無い所定長以上の符号長の一致を見て行う
請求項３に記載の原盤ストラテジ調整方法。
【請求項５】
上記第１のストラテジ調整工程により求まったライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第２の記録工程と、
上記第２の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第２のディスク作成工程と、
上記第２のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第３の評価値測定工程と
をさらに有する請求項４に記載の原盤ストラテジ調整方法。
【請求項６】
上記第３の評価値測定工程で測定した評価値とその理想値との差に基づいて、上記目標値の修正を行う目標値修正工程と、
上記目標値修正工程で修正した上記目標値に、上記ディスク原盤についての評価値が一致するように、上記第１のライトストラテジ調整工程で求まった上記ライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記修正後の目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第２のストラテジ調整工程と
をさらに有する請求項５に記載の原盤ストラテジ調整方法。
【請求項７】
所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第１の記録工程と、
上記第１の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第１の評価値測定工程と、
上記第１の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第１のディスク作成工程と、
上記第１のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第２の評価値測定工程と、
上記第１の評価値測定工程により測定した評価値と上記第２の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程と、
上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第１の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第１のストラテジ調整工程と、
上記判別により肯定結果が得られたときに設定されていたライトストラテジに基づくストラテジ設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第３の記録工程と、
上記第３の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第３のディスク作成工程と
を有するディスク製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、ディスク原盤に対する記録（露光）を行うためのライトストラテジの調整方法（原盤ストラテジ調整方法）に関する。また、ディスク原盤に基づいて作成される光ディスク記録媒体の製造方法（ディスク製造方法）に関する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】特開２００９−６４５４２号公報
【背景技術】
【０００３】
例えばＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＢＤ（Blu-ray Disc：登録商標）など光ディスク記録媒体には、いわゆるＲＯＭ（Read Only Memory）タイプとして知られるように、ピット／ランドの組み合わせによって情報が記録されたものがある。すなわち、ピットとしての凹部とランドとしての凸部の形成パターンによって情報が記録されたものである。
【０００４】
このようなＲＯＭタイプの光ディスク記録媒体の製造にあたっては、先ず、感光層が成膜された光ディスク原盤に対してレーザ光照射を行って情報記録を行う。そして、このような記録工程を経た光ディスク原盤に対する現像処理を行ってピットが形成された記録済原盤を生成し、当該記録済原盤に形成されたピットパターン（ひいては記録情報）を転写したスタンパを作成した上で、当該スタンパを用いた射出成形などにより上記記録情報を再現した基板を生成し、当該基板に対し反射膜の成膜等を行って光ディスク記録媒体を製造する。
【０００５】
このような光ディスク記録媒体の製造工程において、近年では、光ディスク記録媒体の高記録密度化に対応すべく、記録工程（マスタリング工程）にＰＴＭ(Phase Transition Mastering)方式を採用するものがある。いわゆる熱記録と呼ばれるものである。
【０００６】
ＰＴＭ方式では、感光層を構成するフォトレジストとして、無機レジストを用いる。また記録用レーザとしては、半導体レーザを用いる。
ここで、ＰＴＭ方式を採用しない従来の方式においては、感光層として有機レジストを用いるようにされている。この場合、フォトレジストの露光はいわゆる光記録であるため、レーザにより露光された部分がそのままピットとなる。つまり、レーザスポット径がそのままピット幅を左右する。
これに対しＰＴＭ方式は、レーザ光の照射に伴い熱が与えられることで、無機レジストの特性が変化し（つまり化学的性質が変化し）、記録マークが形成されるものである。ＰＴＭ方式で用いる無機レジストは、熱の集中する部分で顕著な化学的性質変化を示すものであり、形成される溝のサイズは、レーザスポット径に直接的に左右されるものとはならない。つまり、この点でＰＴＭ方式は、従来の方式よりも微細な溝形成を行うことができる。
【０００７】
ところで、ディスク原盤の製造のために、記録信号に応じてレーザ照射を行う場合にも、適切にライトストラテジが設定されていることを要する。例えば２Ｔ〜９Ｔ（Ｔはチャネルクロック）としてのピット長を有する光ディスクを製造するためのディスク原盤については、そのディスク原盤の記録の際に、レーザ照射により２Ｔ〜９Ｔのピットに対応する露光を行うことになる。その際、２Ｔ〜９Ｔの各ピット長毎に、ストラテジパターン（レーザ発光部に与える記録駆動波形）が適切に調整されていることで、最終的に製造される光ディスクのピット列の品質向上を図ることができる。
【０００８】
このとき、原盤の記録工程にＰＴＭ方式を採用する場合には、このような原盤記録時のストラテジ調整を、原盤に対する現像処理（ピットの形成処理）を経ることなく実行可能となる。
すなわち、上記特許文献１に開示されるように、ＰＴＭ方式が採用される場合は、無機レジストにおいてレーザ光を照射した部分に変形（膨らみ）が生じるため、現像処理によりピットとしての凹部を形成せずとも、当該変形部分とそれ以外の部分とで記録された信号を再生パワーによるレーザ光照射により読み取ることができる。すなわち、このように読み取った信号に基づきストラテジ調整に係る評価値測定を行うことができる。
ストラテジ調整のための評価値測定にあたって現像処理以降の工程を行わずに済むため、作業効率の大幅な改善が可能となる。
【０００９】
但し、信号品質を改善すべきであるのは、原盤ではなく、最終製品としての光ディスクである。
通常、原盤で測定される評価値をその最良値に調整しても、光ディスクで測定される評価値は必ずしも最良値とはならない。これは、原盤作成から光ディスク作成までの間にスタンパ作成、基板成形、成膜等の多くの工程が介在するため、このようなプロセス中の種々の要因により、原盤と光ディスクとで形成されるピット長が異なるということが生じ得るためである。
【００１０】
このことから、上記特許文献１に記載の手法によりストラテジ調整作業の効率化を図る（つまり現像処理〜光ディスク作成までの工程を省略する）とした場合には、ストラテジ調整で用いる評価値の目標値として、原盤で測定される評価値の最量値ではなく、光ディスクで測定される評価値を最良値とすることのできる値を予め実験や計算等によって求めておき、このように求めておいた目標値に合致するようにストラテジ調整を行うということになる。
【００１１】
しかしながら、このように光ディスクで測定される評価値を最良とすることのできる目標値を予め求めておくということは、上述のように原盤と光ディスクとの間で生じるずれが種々の要因に起因しているという性質上、現実的には非常に困難なものとなる。
【００１２】
そこで実際には、最終製品としての光ディスクにおける信号品質を適切なものとするためには、都度、光ディスクの作成とその評価値測定を行い、当該光ディスクの評価値測定結果に基づき原盤のストラテジ調整を行うということが現実的となる。
【００１３】
確認のため、このような原盤ストラテジの調整手法の具体的な手順を図８のフローチャートを参照して説明しておく。
先ずは、原盤に対する記録を行い（ステップＳ１）、記録後の原盤に基づいて光ディスクを作成する（ステップＳ２）。
その上で、作成した光ディスクについて評価値測定を行い（ステップＳ３）、評価値が許容範囲内であるか否かを判別する（ステップＳ４）。
評価値が許容範囲内でない場合には、ストラテジ調整処理として、評価値測定結果に基づいた原盤ストラテジの調整を行う（ステップＳ５）。具体的には、ステップＳ３にて測定した評価値が最良値となるようにストラテジの調整を行う。このようなストラテジ調整処理の後、原盤記録（Ｓ１）からの手順を再び実行する。つまりこれにより、光ディスクについて測定される評価値が許容範囲内となるまで、ストラテジの調整が繰り返される。
【００１４】
上記手法によれば、光ディスクについて測定した評価値に基づいて原盤ストラテジを調整するので、より確実に高品質な光ディスクを製造することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、上記手法によるストラテジ調整とした場合には、都度、光ディスクの作成を行うため、ストラテジ調整のための作業効率が著しく悪化することとなる。
また、ストラテジ調整のために、製品として用いることのできない光ディスクを大量に作成しなければならない虞があり、原盤、スタンパ、及び光ディスクの作成に係る材料の無駄な消費を助長することとなる。
【００１６】
本技術はかかる問題点に鑑み為されたもので、最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスクの作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題の解決のため、原盤ストラテジ調整方法として以下に掲げるものを提案する。
すなわち、所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第１の記録工程を有する
また、上記第１の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第１の評価値測定工程を有する。
また、上記第１の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第１のディスク作成工程を有する。
また、上記第１のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第２の評価値測定工程を有する。
また、上記第１の評価値測定工程により測定した評価値と上記第２の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程を有する。
さらに、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第１の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第１のストラテジ調整工程を有するものである。
【００１８】
また、ディスク製造方法として以下のものを提案する。
つまり、所定のライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第１の記録工程を有する。
また、上記第１の記録工程により上記ディスク原盤に対して記録された信号についての信号品質の評価指標となる評価値の測定を行う第１の評価値測定工程を有する。
また、上記第１の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第１のディスク作成工程を有する。
また、上記第１のディスク作成工程により作成した光ディスク記録媒体の記録信号について上記評価値の測定を行う第２の評価値測定工程を有する。
また、上記第１の評価値測定工程により測定した評価値と上記第２の評価値測定工程により測定した評価値との差分に基づいて、上記ディスク原盤についての上記評価値の目標値を計算する目標値計算工程を有する。
また、上記ディスク原盤についての評価値が上記目標値に一致するように上記第１の記録工程で設定したライトストラテジを調整し、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行う第１のストラテジ調整工程を有する。
さらに、上記判別により肯定結果が得られたときに設定されていたライトストラテジに基づくストラテジ設定状態でディスク原盤に対する記録を行う第３の記録工程と、上記第３の記録工程により記録の行われた上記ディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を作成する第３のディスク作成工程とを有するものである。
【００１９】
上記のように本技術では、所定のストラテジ設定により記録を行ったディスク原盤について評価値の測定を行う（第１の評価値測定工程）と共に、この記録を行ったディスク原盤に基づいて光ディスク記録媒体を一旦作成し（第１のディスク作成工程）、当該光ディスク記録媒体についての評価値測定を行うものとしている（第２の評価値測定工程）。そして、これら原盤についての測定値と光ディスク記録媒体の測定値と差分に基づいて、ディスク原盤についての評価値の目標値を計算するものとしている（目標値計算工程）。その上で、ディスク原盤についての評価値が当該目標値に一致するように原盤ストラテジの調整を行い、当該調整したライトストラテジの設定状態でディスク原盤に対する記録を行い、当該ディスク原盤の記録信号についての上記評価値の測定を行い、当該測定した評価値が少なくとも上記目標値を基準とする所定範囲内の値となっているか否かを判別する、という処理を、当該判別により肯定結果が得られるまで行うものとしている（第１のストラテジ調整工程）。
このように一旦光ディスク記録媒体の作成までを行って原盤の評価値と光ディスク記録媒体の評価値との差分から原盤評価値の目標値を計算した上で、当該目標値に評価値を一致させるように原盤ストラテジの調整（原盤記録信号についての評価値を上記目標値に追い込むストラテジ調整）を行う、という手法を採ることで、ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数は、少なくとも１回に抑えることができる。
つまり、ストラテジ調整のための無駄な光ディスク記録媒体の作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費の防止を図ることができる。
このとき、ストラテジの調整は実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値を反映して行われるので、その分、光ディスク記録媒体の信号品質は高めることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本技術によれば、最終製品としての光ディスク記録媒体の品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスク記録媒体の作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費防止を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】光ディスク記録媒体の製造工程について説明するための図である。
【図２】原盤記録装置の構成例を示した図である。
【図３】実施の形態の原盤ストラテジ調整手法の概要について説明するためのフローチャートである。
【図４】差分Ｄに基づく上記目標値の計算手法について説明するための図である。
【図５】原盤評価値の信頼性低下について説明するための図である。
【図６】パターンマッチングによる符号長の把握を可能とする評価部の内部構成を例示した図である。
【図７】原盤評価値の信頼性向上のための処理と確認処理とを含んだ具体的な原盤ストラテジ調整手法について説明するためのフローチャートである。
【図８】従来の原盤ストラテジ調整の具体的な手順を示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本技術に係る実施の形態について説明していく。
なお、説明は以下の順で行う。
［１．ディスク製造工程について］
［２．原盤記録装置の構成例］
［３．実施の形態のストラテジ調整の概要］
［４．原盤評価値の信頼性向上について］
［５．確認処理について］
［６．具体的なストラテジ調整手法］
［７．変形例］
【００２３】
［１．ディスク製造工程について］
先ずは図１により、光ディスク記録媒体の製造工程について説明しておく。
図１において、光ディスク記録媒体を製造する工程としては、原盤製造工程、記録工程（露光工程）、現像工程、金型（スタンパ）作製工程、記録媒体生成工程に大別することができる。
なお、本明細書において言う光ディスク記録媒体とは、光の照射によって記録情報が読み出されるディスク状の記録媒体を指すものである。以下、光ディスク記録媒体については単に光ディスクとも表記する。
【００２４】
図１（ａ）は、光ディスク原盤（以下、単にディスク原盤又は原盤とも表記）を構成する原盤形成基板１００を示している。先ず、この原盤形成基板１００の上に、スパッタリング法により無機系のレジスト材料からなる無機レジスト層１０１を均一に成膜する（レジスト層形成工程、図１（ｂ））。これによって、先ずは無機レジスト原盤１０２（記録前原盤）を生成する。
【００２５】
本例では、ディスク原盤を製造するマスタリング工程として、無機系のレジスト材料を用いたＰＴＭ方式のマスタリングを行う。
このとき、レジスト層１０１に提供される材料としては、遷移金属の不完全酸化物が用いられる。具体的な遷移金属としては、例えばＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ａｇ等が挙げられる。
なお、レジスト層１０１の具体的な材料としては、いわゆる熱記録を可能とするもの（レーザ光照射に伴う熱反応により感光するもの）であれば特に限定されるものではない。
【００２６】
ここで、無機レジスト層１０１の露光感度の改善のために基板１００とレジスト層１０１との間に所定の中間層９９を形成しても良く、図１（ｂ）ではその状態を示している。何れにしても、レジスト層１０１としては、露光時のレーザ光照射に応じて感光できるように、基板１００の上層において外部に表出するようにして成膜されればよい。
また、この場合、原盤形成基板１００としては例えばＳｉウエハ基板を用い、上記レジスト層１０１の成膜は、スパッタリングにより行う。この場合、成膜方法としてはＤＣ又はＲＦスパッタを用いる。
【００２７】
次に、レジスト層１０１に信号パターンに対応した選択的な露光を施し感光させる（レジスト層露光工程、図１（ｃ））。
なお、この露光工程（記録工程）は、後述する原盤記録装置１を利用して行われるものとなる。
【００２８】
そして、レジスト層１０１を現像することによって、所定の凹凸パターンが形成されたディスク原盤１０３（以下、現像済原盤１０３とも表記）を生成する（レジスト層現像工程、図１（ｄ））。当該レジスト層現像工程において、具体的な現像手法としては、浸漬によるディッピング法、或いは、スピナーにて回転させた原盤１０２に薬液を塗布するなどの手法を挙げることができる。
現像液については、例えばＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム）等の有機アルカリ現像液、ＫＯＨ,ＮａＯＨ、燐酸系等の無機アルカリ現像液などを用いる。
【００２９】
続いて、上記のように生成した現像済原盤１０３を水洗い後、電鋳槽にてメタル原盤を作製する（電鋳工程、図１（ｅ））。そしてこの電鋳後、現像済原盤１０３とメタル原盤とを剥離することで、現像済原盤１０３の凹凸パターンが転写された成型用のスタンパ１０４を得る（図１（ｆ））。この場合、上記メタル原盤（スタンパ１０４）の材料としてはＮｉを用いる。
【００３０】
ここで、図１（ｅ）の電鋳工程を行う前に、現像済原盤１０３の表面の離形処理を行って離型性を改善することも可能であり、必要に応じて行う。
離型性の改善は、例えば現像済原盤１０３に対して以下に示す何れかの処理を施すことで行えばよい。
１)  40〜60℃に加温したアルカリ液に数分浸漬する。
２)  40〜60℃に加温した電解アルカリ液に数分浸漬したまま電解酸化させる。
３)  ＲＩＥなどを用いて酸化膜を形成する。
４)  成膜装置を用いて金属酸化膜を成膜する。
或いは、離型性の改善は、予め無機レジスト材料として、メタル原盤に対してより離型しやすい酸素組成比率を持つ組成の材料を選定することでも実現できる。
【００３１】
なお、スタンパ１０４を作製後、現像済原盤１０３は水洗・乾燥状態で保管しておき、必要に応じて所望枚数のスタンパ１０４を繰り返し作製する。
【００３２】
続いて、スタンパ１０４を用いて、射出成型法によって熱可塑性樹脂であるポリカーボネートからなる樹脂製ディスク基板１０５を成形する（図１（ｇ））。
その後、スタンパ１０４を剥離し（図１（ｈ））、樹脂製ディスク基板１０５の凹凸面にＡｇ合金などの反射膜１０６（図１（ｉ））と、膜厚０．１ｍｍ程度の保護膜１０７とを成膜することにより、光ディスクを生成する（図１（ｊ））。すなわちこれにより、凹凸パターンにより情報が記憶された光ディスク記録媒体が得られる。
【００３３】
［２．原盤記録装置の構成例］
ＰＴＭ方式でマスタリングを行う本例の原盤記録装置１の構成例を図２に示す。
この原盤記録装置１は、マスタリング工程において、無機レジスト層１０１を形成した記録前原盤１０２に対しレーザ光照射による熱記録動作により記録マークの形成を行う。
【００３４】
図２において、原盤記録装置１には、ピックアップヘッド１０として、一点鎖線部で示す構成を備える。ピックアップヘッド１０内において、半導体レーザとしてのレーザ光源１１は、製造すべき光ディスク記録媒体の種別に応じた波長が設定される。本例の場合、ＢＤに対応した４０５ｎｍ程度の波長が設定される。
【００３５】
レーザ光源１１から出射したレーザ光は、コリメータレンズ１２で平行光となるようにされた後、アナモルフィックプリズム１３でスポット形状が例えば円形に変形され、偏光ビームスプリッタ１４に導かれる。
そして偏光ビームスプリッタ１４を透過した偏光成分は、λ／４波長板１５，ビームエキスパンダ１６を介して対物レンズ１７に導かれ、この対物レンズ１７で集光されて無機レジスト原盤１０２上に照射される。
【００３６】
上記のように対物レンズ１７を介して原盤１０２に照射されるレーザ光は、当該原盤１０２における無機レジスト層１０１上で焦点を結ぶことになる。無機レジスト層１０１はレーザビームを吸収することで、照射部の特に中心付近の高温に加熱された部分で多結晶化が生じる。
この作用により、露光パターンが無機レジスト層１０１上に形成されていく。
【００３７】
偏光ビームスプリッタ１４において反射されたレーザ光は、モニタディテクタ１９（レーザパワーモニタ用のフォトディテクタ）に照射される。モニタディテクタ１９は、レーザ光の受光光量（光強度）に応じた光強度モニタ信号ＳＭを出力する。
【００３８】
一方、無機レジスト原盤１０２に照射されたレーザ光の戻り光は、対物レンズ１７、ビームエキスパンダ１６、λ／４波長板１５を通過して偏光ビームスプリッタ１４に達する。
【００３９】
ここで、先に特許文献１を挙げて説明したように、ＰＴＭ方式を採用する場合は、無機レジスト層１０１において露光部分が変形することで、露光部分と非露光部分との差による記録信号を読み出すことが可能となる。すなわち、現像前の段階で記録信号の読み出しが可能となるものである。
【００４０】
ここで、上記のように偏光ビームスプリッタ１４に達するレーザ光の戻り光は、λ／４波長板１５を往路と復路で２回通過していることで偏光面が９０°回転されており、偏光ビームスプリッタ１４で反射されることになる。偏光ビームスプリッタ１４で反射された戻り光は集光レンズ２０、シリンドリカルレンズ２１を介してフォトディテクタ２２の受光面に受光される。
フォトディテクタ２２の受光面は、例えば４分割受光面を備え、非点収差によるフォーカスエラー信号を得ることができるようにされている。
フォトディテクタ２２の各受光面では、受光光量に応じた電流信号を出力して反射光演算回路２３に供給する。
【００４１】
反射光演算回路２３は、４分割の各受光面からの電流信号を電圧信号に変換すると共に、非点収差法としての演算処理を行ってフォーカスエラー信号ＦＥを生成する。
また、和信号としてのＲＦ信号（原盤１０２の記録信号についての再生信号）も生成する。
図のようにフォーカスエラー信号ＦＥはフォーカス制御回路２４に供給され、ＲＦ信号は後述する評価部２５に供給される。
【００４２】
フォーカス制御回路２４は、フォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、対物レンズ１７をフォーカス方向に移動可能に保持しているアクチュエータ１８のサーボ駆動信号ＦＳを生成する。そしてアクチュエータ１８がサーボ駆動信号ＦＳに基づいて、対物レンズ１７を無機レジスト原盤１０２に対して接離する方向に駆動することで、フォーカスサーボが実行される。
【００４３】
無機レジスト原盤１０２は、スピンドルモータ８によって回転駆動される。スピンドルモータ８は、スピンドルサーボ／ドライバ５によって回転速度が制御されながら回転駆動される。これによって無機レジスト原盤１０２は例えば一定線速度で回転される。
【００４４】
スライダ７は、スライドドライバ６によって駆動され、無機レジスト原盤１０２が積載された、スピンドル機構を含む基台全体を移動させる。すなわち、スピンドルモータ８で回転されている状態の無機レジスト原盤１０２は、スライダ７で半径方向に移動されながら上記光学系によって露光されていくことで、無機レジスト層１０１に形成される溝部（ピット列：トラック）がスパイラル状に形成されていくことになる。
スライダ７による移動位置、すなわち無機レジスト原盤１０２の露光位置（ディスク半径位置：スライダ半径位置）はセンサ９によって検出される。センサ９による位置検出情報ＳＳは後述するコントローラ２に供給される。
【００４５】
評価部２５は、ＲＦ信号に基づき、原盤１０２の記録信号についての信号品質の評価指標となる所定の評価値を測定する。
ここで、本例の場合、上記評価値としては、記録信号中のピットとなるべき部分（現像により凹部となる部分）の長さ、及びその位置についての評価指標となる値を測定する。具体的には、ピット部のリーディングエッジ（前方エッジ）位置、トレーリングエッジ（後方エッジ）位置についての評価値の測定を少なくとも行う。
またこれらの評価値は、各ピット長（符号長）ごとに個別に分類して行う。
【００４６】
評価部２５にて符号長ごとに個別に計算された評価値は、コントローラ２に供給される。
【００４７】
コントローラ２は例えばマイクロコンピュータで構成され、原盤記録装置１の全体制御を行う。例えば、スピンドルサーボ／ドライバ５に対するスピンドル回転動作制御、スライドドライバ６によるスライダ７の移動動作の制御等を行うことで、原盤１０２上での記録位置の制御を行う。
【００４８】
また特に本例の場合、図中の表示部２７に評価部２５による評価値の測定結果等を表す画像表示を実行させたり、また、操作部２６からの操作入力情報に基づき、ユーザ（作業員）からの指示に基づくライトストラテジの設定処理も行う。
【００４９】
記録波形生成部３は、入力データに対する所定の記録変調符号化処理を行って記録変調符号列を得ると共に、当該記録変調符号列に応じた記録波形の生成を、コントローラ２により指示されたライトストラテジ設定に基づき行う。
【００５０】
レーザドライバ４は、記録波形生成部３によって生成された記録波形（記録駆動信号）を入力し、ピックアップヘッド１０内のレーザ光源１１を駆動する。レーザドライバ４は、上記記録駆動信号に応じた発光駆動電流をレーザ光源１１に与える。
なお、レーザドライバ４に対しては、モニタディテクタ１９からの光強度モニタ信号ＳＭも供給される。レーザドライバ４は、この光強度モニタ信号ＳＭと基準値とを比較した結果に基づくレーザ発光制御も併せて行うことができる。
【００５１】
［３．実施の形態のストラテジ調整の概要］
本実施の形態の原盤ストラテジ調整手法は、図１にて説明した光ディスク記録媒体の製造工程において、原盤記録時に設定すべきライトストラテジとして最適とされるストラテジを求めるための調整手法に係るものである。
以下、図３のフローチャートを参照して、実施の形態としての原盤ストラテジ調整手法の概要について説明する。
【００５２】
図３において、先ずステップＳ１０１においては、所定のストラテジで原盤記録を行う。すなわち、原盤記録装置１により、無機レジスト原盤１０２に対する所定のテストパターンの記録を、所定のストラテジの設定状態で行うものである。
ここで、上記所定のストラテジとしては、例えば初期ストラテジなどの、ストラテジ調整にあたっての初回の原盤記録時に対応して設定されるべきとして予め定められたストラテジを設定すればよい。
この際のストラテジ設定や記録開始の指示は、図２に示した操作部２６を介した操作入力により行うことができる。
【００５３】
続くステップＳ１０２では、原盤について、対象Ｔ（Ｔ：チャネルクロック）の評価値の測定を行う。すなわち、ステップＳ１０１により原盤１０２に記録したテストパターンとしての記録信号中に含まれる各符号長（Ｔ長）のうち、評価値測定の対象として予め定められた所定の符号長についての評価値の測定を、評価部２５が行うものである。
ここで、このように原盤１０２の記録信号について評価部２５が測定した評価値については、評価値ＥＶ-Mと表記する。
【００５４】
次のステップＳ１０３では、記録後の原盤に基づいてディスクを作成する。すなわち、記録後の原盤１０２に基づき、図１にて説明した現像工程（図１（ｄ））〜保護膜１０７の成膜工程（図１（ｊ））を行って光ディスク記録媒体を作成するものである。
【００５５】
そして、次のステップＳ１０４では、ディスクについて、対象Ｔの評価値の測定を行う。すなわち、ステップＳ１０３にて作成した光ディスクについて、その記録信号中に含まれる対象Ｔの評価値の測定を各Ｔ長ごとに行うものである。
当該ステップＳ１０４における光ディスクの評価値の測定は、原盤記録装置１ではなく光ディスクについての評価装置を用いて行う。なお、光ディスクの評価装置（エッジ位置や符号長等についての評価値を測定する装置）の構成については周知であるため、ここではその図示による説明は省略する。
以下、ステップＳ１０４にて測定された光ディスクについての評価値を評価値ＥＶ-Dとおく。
【００５６】
続くステップＳ１０５では、評価値ＥＶ-Mと評価値ＥＶ-Dとの差分Ｄを計算する。この差分Ｄの計算は、作業員が行ってもよいし、所定の情報処理装置に各評価値ＥＶの情報を入力して計算させてもよい。
【００５７】
次のステップＳ１０６では、差分Ｄに基づき、原盤についての評価値の目標値を計算する。なお、当該目標値の計算についても、作業員自らが行ってもよいし、所定の情報処理装置に情報を入力して計算させてもよい。
【００５８】
ここで、差分Ｄに基づく上記目標値の計算手法について、図４を参照して説明しておく。
図４（ａ）は、原盤１０２における或る符号長についての度数分布を示し、図４（ｂ）はその原盤１０２に基づき作成した光ディスクについて測定した同符号長についての度数分布を示している。
【００５９】
前述もしたように、原盤についての評価値の測定結果と光ディスクについての評価値の測定結果とにはずれが生じる。図４では一例として、原盤における符号長の度数分布の中心（平均）がその理想値から大きくずれ、光ディスクではその符号長の度数分布の中心がその理想値からそれほど大きくはずれていない場合を例示している。
【００６０】
上述のステップＳ１０６において評価値ＥＶ-Mと評価値ＥＶ-Dとの差分Ｄを計算することは、図４に示す「Ｄ」の部分を計算していることに相当する。
つまり、原盤について測定される評価値は、この差分Ｄだけディスク側の評価値との間でオフセットしていると捉えることができるので、原盤ストラテジ調整においては、理想値を目標とするのではなく、当該理想値をこの差分Ｄに基づきオフセットさせた値（つまり差分Ｄにより校正をかけた値）を目標とすることで、結果として、光ディスク側で測定される評価値が理想値と一致するように図ることができる。
具体的に、例えば原盤での度数分布中心が理想値から「１．０」だけずれており、ディスク側では理想値から「０．５」のずれしかないとすれば、原盤での目標値を、理想値から「０．５」だけずれた値と設定することで、ディスク側にて中心位置と理想値とが一致するように図ることができる。
【００６１】
説明を図３に戻す。
ステップＳ１０６において差分Ｄに基づく目標値の計算を行った後は、ステップＳ１０７において、目標値に一致するようにストラテジを調整する。
ここで、原盤に対する記録に関し、目標値の算出によりピット位置を動かすべき量が判明したとしても、その量だけ動かすためにどの程度ストラテジを調整すべきであるかは必ずしも一義的に定まっているものではない。例えば、前方エッジを動かしたときにはその影響で後方エッジ側も動いてしまうといった現象が生じ得るものであり、ストラテジの調整量と実際にピット位置が動く量との関係を予め導出しておくことは非常に困難である。
このような事情から、本例では、目標値に一致させるためのストラテジの調整は、作業員が目標値から推測されるストラテジを原盤記録装置１に指示入力し、それにより記録された信号の評価値を測定させ、当該測定結果からさらに修正が必要とされる場合は修正後のストラテジの再設定指示を行って再度の記録を実行させるというように、いわゆるトライアンドエラーを基本として行うものとしている。
【００６２】
具体的に、上記ステップＳ１０７において目標値に一致するようにストラテジを調整（作業員によるストラテジの設定指示）した後は、ステップＳ１０８において、当該調整後のストラテジの設定状態で原盤記録を行い、さらに次のステップＳ１０９では、対象Ｔの評価値を測定する。
そして、続くステップＳ１１０において、目標値とのずれを計算する。なお、このようなステップＳ１０９の測定結果と目標値とのずれの計算については、原盤記録装置１に実行させてもよいし、表示部２７に表示される測定結果の情報に基づいて作業員等が行うものとしてもよい。
【００６３】
続くステップＳ１１１では、ステップＳ１１０で計算したずれが許容範囲内であるか否かを判別する。すなわち、該計算したずれ量が予め設定された所定の範囲内の値となっているか否かを判別する。
【００６４】
ステップＳ１１１において、上記計算したずれ量が許容範囲内ではないとして否定結果が得られた場合は、先のステップＳ１０７に戻る。
これにより、ずれ量が許容範囲内に収まるまで、ステップＳ１０７〜Ｓ１１０までの処理、すなわちずれ量に応じたストラテジの再調整、再調整後のストラテジによる原盤記録、評価値の測定、目標値とのずれ量の計算が実行されることになる。換言すれば、原盤評価値を目標値を基準とした所定の許容範囲内に追い込むためのストラテジ調整が行われるものである。
【００６５】
一方、ステップＳ１１１において、上記計算したずれ量が許容範囲内であるとして肯定結果が得られた場合は、この図に示す原盤ストラテジ調整のための手順は完了となる。
【００６６】
ここで、図３に示す原盤ストラテジ調整のための手順が完了した（すなわち最適とされるストラテジの導出が完了した）後は、最終的に調整されたストラテジ（許容範囲内となったときのストラテジ）の設定状態で、新たな無機レジスト原盤１０２に対する記録を行う。
以降、記録後の原盤１０２について、図１にて説明した現像工程（図１（ｄ））〜保護膜１０７の成膜工程（図１（ｊ））までを行って、製品としての光ディスク記録媒体を作成する。
これにより、実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値に基づき導出した、最適とされるストラテジにより記録を行った原盤に基づいて光ディスク製品が作成されるものとなり、結果、高品質な光ディスク製品を実現できる。
【００６７】
上記により説明した原盤ストラテジ調整手法によれば、ストラテジ調整にあたって必要となる光ディスク記録媒体の作成回数は、１回に抑えることができ、結果、図８にて説明した従来のストラテジ調整手法とする場合と比較してストラテジ調整に係る作業工程を大幅に簡略化でき、作業効率の向上が図られる。また、光ディスク作成回数の削減により、光ディスク作成に係る材料の浪費防止が図られる。
【００６８】
また、前述のように上記による原盤ストラテジ調整手法によれば、実際に作成した光ディスク記録媒体の評価値に基づいて高品質な光ディスク記録媒体を実現できる。
【００６９】
このように実施の形態の原盤ストラテジ調整手法によれば、最終製品としての光ディスクの品質低下の防止を図りつつ、ストラテジ調整のための無駄な光ディスクの作成回数の削減を図ることで、原盤ストラテジ調整の作業効率の向上、及び光ディスク作成に係る材料の浪費防止を図ることができる。
【００７０】
また、本例では、原盤の記録工程に関してＰＴＭ方式を採用しているので、原盤の評価値の測定にあたって、都度、原盤の現像処理を施す必要はないものとできる。
この点においても、原盤ストラテジ調整作業の効率向上が図られる。
【００７１】
このとき、本実施の形態では、原盤評価値についての目標値を設定した後は、原盤評価値が当該目標値を基準とした許容範囲内となるまでストラテジ調整・記録・評価値測定を行う（Ｓ１０７〜Ｓ１１１）ものとしているが、このような目標値に応じたストラテジ調整処理が設けられることで、ＰＴＭ記録の利点、すなわち、現像工程前の原盤に対する信号読出が可能となることによる作業効率向上という利点をさらに生かすことができる。
【００７２】
［４．原盤評価値の信頼性向上について］
ここで、これまでの説明からも理解されるように、記録後の原盤１０２についての評価値の測定は、記録後の原盤１０２に対してレーザ光を照射し、その反射光に基づき再生信号（ＲＦ信号）を得ることで行うものとしている。
このような手法により原盤１０２からの再生信号を得る場合には、符号長の分離を適切に行うことが困難となり、符号長ごとの評価値の測定結果の信頼性が低下する虞がある。
【００７３】
図５は、この点について説明するための図であり、図５（ａ）は符号長の分離が良好な状態での符号長ごとの度数分布（２Ｔ〜７Ｔについての各符号長の度数分布）を示し、図５（ｂ）は原盤１０２に対して直接レーザ光を照射して再生信号を得た場合の符号長ごとの度数分布（同様に２Ｔ〜７Ｔについて）を例示している。
【００７４】
原盤１０２に対して直接レーザ光を照射して再生信号を得た場合は、特に２Ｔや３Ｔといった短い符号長において符号長の分離が悪く、このため、図５（ｂ）に示すように、本来は２Ｔの符号長として分類されるべき評価値が３Ｔの評価値として分類されてしまったり、又はその逆の現象が起こるなどして、符号長ごとの評価値の測定結果に信頼性の低下が生じる虞がある。
【００７５】
そこで本例では、このような原盤評価値の信頼性の低下の防止を図るべく、符号長ごとの評価値の測定を以下のようにして行う。
すなわち、原盤１０２に記録される符号パターンをメモリ等に格納しておき、この記録符号パターンを、実際に原盤１０２に記録した符号パターンを読み出して得た再生信号と同期させることで、現在読み出している再生信号中の符号長が何れの符号長に該当するかを適切に把握するというものである。換言すれば、記録符号パターンと再生信号とのパターンマッチングを行って、現在の符号長を適切に把握しようとするものである。
【００７６】
図６は、このようなパターンマッチングによる符号長の把握を可能とした評価部２５の内部構成を例示している。
図６において、この場合の評価部２５には、２値化回路３０、クロック生成回路３１、同期・現符号長指示部３２、メモリ３３、及び符号長ごとの評価値測定部３４が備えられている。
【００７７】
先ずこの場合には、メモリ３３内に、原盤１０２に対して記録されるべき記録符号パターン３３Ａが格納される。
この記録符号パターン３３Ａとしての情報は、同期・現符号長指示部３２により読み出し可能とされている。
【００７８】
この場合、図１に示した反射光演算回路２３からのＲＦ信号は、２値化回路３０とクロック生成回路３１とに入力される。
２値化回路３０はＲＦ信号を２値化する。２値化されたＲＦ信号（以下、２値化ＲＦ信号とも表記）は同期・現符号長指示部３２及び符号長ごとの評価値測定部３４に供給される。
【００７９】
クロック生成回路３１は、ＲＦ信号に基づき、当該ＲＦ信号と同期した再生クロックを生成する。当該再生クロックは、同期・現符号長指示部３２及び符号長ごとの評価値測定部３４に供給される。
【００８０】
同期・現符号長指示部３２は、２値化ＲＦ信号と記録符号パターン３３Ａとの同期をとる。
具体的に、この場合の同期は、先の図５にて説明した符号分離の問題を考慮し、符号分離が良好とされる（符号長分布の重なりの無い）所定長以上の符号長の信号部分の一致を見て行う。具体的に、本例のようにＢＤとしての光ディスクを作成する場合には、例えば７Ｔの信号部分の一致を見て２値化ＲＦ信号と記録符号パターンとの同期をとる。
同期・現符号長指示部３２は、同期後の記録符号パターン３３Ａに基づき、符号長ごとの評価値測定部３４に現在の符号長を指示する。
確認のため述べておくと、同期・現符号長指示部３２は、このような同期後の記録符号パターン３３Ａに基づく現在の符号長の指示を再生クロックに従って行う。
【００８１】
符号長ごとの評価値測定部３４は、同期・現符号長指示部３２から指示される現在の符号長の情報に従って、２値化ＲＦ信号に基づく評価値の測定を符号長ごとに行う。換言すれば、２値化ＲＦ信号に基づき測定した評価値を、同期・現符号長指示部３２から指示される現在の符号長の情報に従って符号長ごとに分類して保持する。
この場合、評価値としては、少なくともリーディングエッジ位置及びトレーリングエッジ位置に係る評価値を測定するものとされ、符号長ごとの評価値測定部３４は、これらの評価値の測定にあたって再生クロックを使用する。
【００８２】
上記のような構成により、原盤１０２からの再生信号について、パターンマッチングによる符号長の適切な把握が可能となり、その結果、原盤評価値の信頼性の向上を図ることができる。
【００８３】
また、評価値測定結果の信頼性が増すことで、目標値への追い込みを効率的に行うことができ、その結果として、ストラテジ調整作業の更なる効率向上が図られる。
【００８４】
［５．確認処理について］
また、先の図３により説明した原盤ストラテジ調整手法の概要では、原盤１０２について測定した評価値が目標値を基準とした許容範囲内となったことに応じてストラテジ調整を完了するものとしたが、より確実に光ディスクの品質向上を図る意味で、このように原盤評価値が許容範囲内となった後に、再度、光ディスクの作成及びその評価値の測定を行い、当該評価値が理想値を基準とした所定の許容範囲内となるか否かを確認するということもできる。
そして、このような確認処理を行った結果、光ディスクの評価値が上記許容範囲内とならない場合には、再度、ストラテジの調整を行う。具体的には、光ディスクの評価値と理想値とのずれ量に応じて、原盤評価値についての目標値を修正し、当該修正した目標値に基づき、再度、原盤評価値が当該修正後の目標値に一致するようにストラテジの調整を行う。
【００８５】
このような確認処理、及びその結果に応じた再度の原盤ストラテジ調整を行うことで、より確実に光ディスクの品質向上が図られるようにできる。
【００８６】
［６．具体的なストラテジ調整手法］
図７は、上記により説明した原盤評価値の信頼性向上のための処理（パターンマッチング）と確認処理とを含んだ具体的な原盤ストラテジ調整手法について説明するためのフローチャートである。
なお図７において、既に図３において説明したものと同内容となる手順については同一のステップ番号を付して説明を省略する。
【００８７】
先の図３と比較して分かるように、この場合は、図３におけるステップＳ１０２に代えてステップＳ２０１の手順を、またステップＳ１０９に代えてステップＳ２０２の手順を実行する。さらにこの場合は、ステップＳ１１１において肯定結果が得られた場合、すなわち原盤評価値が目標値に基づく許容範囲内であるとされた場合に、ステップＳ２０３〜Ｓ２０５、及び必要に応じてステップＳ２０６の手順を実行することになる。
【００８８】
先ず、ステップＳ２０１及びステップＳ２０２は、共に記録後の原盤１０２についての評価値測定に係る手順となる。具体的に、ステップＳ２０１はステップＳ１０１としての初回原盤記録後に、またステップＳ２０２はステップＳ１０９としての目標値設定後の原盤記録後にそれぞれ実行される手順である。
これらステップＳ２０１,Ｓ２０２では、原盤についての評価値測定として、パターンマッチングを用いて対象Ｔの評価値（ＥＶ-M）を測定する。すなわち、図６に示した評価部２５が、前述したパターンマッチングを用いて対象とされる各符号長ごとに評価値を測定するものである。
【００８９】
また、ステップＳ１１１において肯定結果が得られた後のステップＳ２０３では、記録後原盤に基づいてディスクを作成する。すなわち、評価値が目標値を基準とする許容範囲内と判別された後の原盤１０２に基づき、光ディスクを作成する。
【００９０】
続くステップＳ２０４では、作成した光ディスクについて、対象Ｔの評価値を測定する。ここでの評価値の測定対象は、ステップＳ１１１にて許容範囲内であると判別されたときのストラテジの設定状態で記録された原盤上の記録区間と対応する区間である。
【００９１】
そして、次のステップＳ２０５において、評価値が許容範囲内であるか否かを判別する。つまり、ステップＳ２０４で測定された評価値が、理想値を基準とした許容範囲内にあるか否かを判別する。
【００９２】
ステップＳ２０５において、評価値が許容範囲内ではないとして否定結果が得られた場合は、ステップＳ２０６に進み、理想値とのずれ量に基づき目標値を修正する。すなわち、ステップＳ２０４で測定された評価値と理想値とのずれがキャンセルされるように、目標値の修正を行う。
目標値を修正した後は、図のようにステップＳ１０７に戻る。これにより、修正後の目標値に基づいて、原盤ストラテジの再調整が行われる。
【００９３】
一方、ステップＳ２０４において許容範囲内であるとの肯定結果が得られた場合は、この図に示す原盤ストラテジ調整のための手順は完了となる。
【００９４】
［７．変形例］
以上、本技術に係る実施の形態について説明したが、本技術はこれまでに説明した具体例に限定されるべきものではない。
例えば、原盤に対する記録方式は、ＰＴＭ方式に限定されるものではない。原盤の記録信号についての読み出しに現像を要する場合は、現像を経た後の原盤１０３について、レーザ光を照射して信号読出（評価値測定）を行うものとすればよい。
【００９５】
また、原盤評価値の信頼性向上を図るためにパターンマッチングを用いた評価値測定手法を採用する場合を例示したが、このようなパターンマッチングを用いた評価値測定手法は、光ディスクについての評価値測定時にも適用することができる。
【００９６】
また、これまでの説明では、原盤や光ディスクの記録信号品質の評価指標となる評価値としてエッジ位置についての評価値（ピット長さについての評価値も含む）を測定する例を挙げたが、例えばジッター（Jitter）やアシンメトリなど他の評価値に基づいてストラテジ調整を行うようにすることもできる。
何れにしても評価値としては、記録信号品質の評価指標となるものを用いればよい。
【００９７】
また本技術は、ピット／ランドの組み合わせで情報が記録される光ディスクの製造に好適に適用できるものであり、いわゆるＲＯＭタイプの光ディスクの製造のみでなく、追記型や書換可能型の光ディスクであってもピット／ランドの組み合わせで情報が記録される部分を有する光ディスクであれば、その製造について適用可能である。
【符号の説明】
【００９８】
１  原盤記録装置、２  コントローラ、３  記録波形生成部、４  レーザドライバ、５  スピンドルサーボ／ドライバ、６  スライドドライバ、７  スライダ、８  スピンドルモータ、９  センサ、１０  ピックアップヘッド、１１  レーザ光源、１２  コリメータレンズ、１３  アナモルフィックプリズム、１４  偏光ビームスプリッタ、１５  λ／４波長板、１６  ビームエキスパンダ、１７  対物レンズ、１８  アクチュエータ、１９  モニタディテクタ、２０  集光レンズ、２１  シリンドリカルレンズ、２２  フォトディテクタ、２３  反射光演算回路、２４  フォーカス制御回路、２５  評価部、２６  操作部、２７  表示部、３０  ２値化回路、３１  クロック生成回路、３２  同期・現符号長指示部、３３  メモリ、３３Ａ  記録符号パターン、３４  符号長ごとの評価値測定部、９９  中間層、１００  原盤形成基板、１０１  無機レジスト層、１０２  無機レジスト原盤（記録前原盤）、１０３  ディスク原盤（現像済原盤）、１０４  スタンパ、１０５  樹脂製ディスク基板、１０６  反射膜、１０７  保護膜
【図１】
2012195020.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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