(57)【要約】【課題】焦点サイズを維持しつつ真空容器を開放することなくＮＡアパチャーの開口部の位置を調整できるＸ線管を提供する。【解決手段】透過ターゲット37を備えた真空容器11を有する。電子ビーム44を発生する電子源16を真空容器11内に収納する。電子源16が発生した電子ビーム44を収束させる収束レンズ18を真空容器11内に収納する。開口部39を備え、収束レンズ18により収束した電子ビーム44の開き角を設定して透過ターゲット37に入射させるＮＡアパチャー38を真空容器11に対して可動的に配置する。ＮＡアパチャー38の開口部39の位置を真空容器11の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構43を有する。【選択図】図１
2012004060.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過ターゲットを備えた真空容器と、
この真空容器内に収納され、電子ビームを発生する電子源と、
前記真空容器内に収納され、前記電子源が発生した電子ビームを収束させる電子光学系と、
開口部を備え、前記真空容器に対して可動的に配置され、前記電子光学系により収束された電子ビームの開き角を設定して前記透過ターゲットに入射させるアパチャーと、
このアパチャーの開口部の位置を前記真空容器の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構と
を具備していることを特徴とするＸ線源。
【請求項２】
位置調整機構は、
アパチャーが取り付けられ真空容器の一部を構成する保持部と、
変形可能な部材により形成され、前記真空容器の一部を構成するとともに、前記保持部を可動的に支持する変形構造体と、
基端側が前記真空容器の外部に位置し、先端側が前記真空容器の内部に挿入されて前記保持部に対して径方向に当接し、前記真空容器に対する進退により前記変形構造体を変形させつつ前記保持部の位置を径方向に可変させる螺子とを備えている
ことを特徴とする請求項１記載のＸ線源。
【請求項３】
請求項１または２記載のＸ線源と、
このＸ線源を覆うＸ線遮蔽カバーと、
このＸ線遮蔽カバーの外部から前記Ｘ線源の位置調整機構を操作する操作機構と、
前記Ｘ線源の透過ターゲットを介して放出されたＸ線の強度を検出するＸ線強度計と
を具備していることを特徴とするＸ線源の調整装置。
【請求項４】
請求項１または２記載のＸ線源と、
このＸ線源を覆うＸ線遮蔽カバーと、
このＸ線遮蔽カバーの外部から前記Ｘ線源の位置調整機構を操作する操作機構と、
前記Ｘ線源の透過ターゲットを介して放出されたＸ線を検出し、この検出したＸ線に対応する画像を出力可能なＸ線検出器と
を具備していることを特徴とするＸ線源の調整装置。
【請求項５】
透過ターゲットを備えた真空容器と、この真空容器内に収納され、電子ビームを発生する電子源と、前記真空容器内に収納され、前記電子源が発生した電子ビームを収束させる電子光学系と、開口部を備え、前記真空容器に対して可動的に配置され、前記電子光学系により収束された電子ビームの開き角を設定して前記透過ターゲットに入射させるアパチャーと、このアパチャーの開口部の位置を前記真空容器の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構とを具備しているＸ線源の調整方法であって、
前記Ｘ線源をＸ線遮蔽カバーにより覆い、前記透過ターゲットを介してＸ線を放出しつつ、そのＸ線の強度が最大値となるように前記Ｘ線遮蔽カバーの外部から前記位置調整機構を操作して前記アパチャーの開口部の径方向位置を調整する
ことを特徴とするＸ線源の調整方法。
【請求項６】
透過ターゲットを備えた真空容器と、この真空容器内に収納され、電子ビームを発生する電子源と、前記真空容器内に収納され、前記電子源が発生した電子ビームを収束させる電子光学系と、開口部を備え、前記真空容器に対して可動的に配置され、前記電子光学系により収束された電子ビームの開き角を設定して前記透過ターゲットに入射させるアパチャーと、このアパチャーの開口部の位置を前記真空容器の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構とを具備しているＸ線源の調整方法であって、
前記Ｘ線源をＸ線遮蔽カバーで覆い、前記透過ターゲットを介してＸ線を放出しつつ、そのＸ線によるテストチャートの透過画像でのＸ線の焦点形状の均一性が最良となるように前記Ｘ線遮蔽カバーの外部から前記位置調整機構を操作して前記アパチャーの開口部の径方向位置を調整する
ことを特徴とするＸ線源の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、電子光学系により収束された電子ビームの開き角と電流量を設定するアパチャーを備えたＸ線源、その調整装置および調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な微小焦点を有するＸ線源は、マイクロフォーカスＸ線源として既に製品化がなされており、対象物の微小領域を高分解能で検査する非破壊検査装置等に広く利用されている。このＸ線源は、電子源から放出される電子ビームを電磁レンズにより収束させ、ターゲット表面のμｍオーダ、またはそれ以下の狭い領域に収束、入射して、そこで放出されるＸ線を、ターゲットを透過させて放出させる構成が採られている。
【０００３】
一定量の電流値で、電子ビームを小さなスポットに集束させるためには、電子源と電磁レンズとを、マッチングを採って設計することが重要であるが、現在では、様々な工夫を凝らすことによって、０．１μｍに迫る微小焦点のＸ線源が達成されている。
【０００４】
ここで、高い分解能で検査対象の透過撮影を行うＸ線源には、空間分解能を確保する上で、上記のような微小焦点を持つことが必要条件であるが、もう一方、高いコントラストを確保するために適切なエネルギーのＸ線を放出できることが重要となる。これは、検査部位の微小領域の透過撮影を行うとき、使用するＸ線のエネルギーが高すぎると、撮影画像にコントラスト(濃淡度)が充分につかず、欠陥の有無等の判定ができなくなることによる。
【０００５】
現在のマイクロフォーカスＸ線源は、７０ｋＶ以上、あるいは１５０ｋＶ以上の高い電圧で駆動し、高エネルギーのＸ線を放出させるものがほとんどである。しかしながら、検査対象が数１０μｍの小さなサンプル、あるいは、その構成元素がＸ線の減弱率の小さな軽元素、特に有機物であったりするような場合には、利用するＸ線のエネルギーとしては、３０ｋｅＶ以下、場合によっては５ｋｅＶ以下の軟Ｘ線領域のものを利用することが必要となる。さらに、近年、有機系材料を多用するような製品分野、製薬の分野、さらには細胞に至るような軽元素で構成される微小な対象物に対する高分解能検査の要求が高まっていることから、上記の軟Ｘ線領域に及ぶような低エネルギーのＸ線を放出できる微小焦点のＸ線源の実用化が産業ニーズに非常にマッチしたものとなっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２６６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、現在の高エネルギー対応のマイクロフォーカスＸ線源を、駆動電圧を低減して動作させるだけでは、微小焦点サイズは維持しきれず、また、その構成のまま低電圧駆動に対応できるように設計変更するだけでは、達成しうる焦点サイズの限界点を満足できる範囲に収めることは容易でない。
【０００８】
そのため、上記特許文献１に記載されたような単純な構成の静電レンズを用いた電子光学系を適用したＸ線管が有効となるものの、上記特許文献１に記載された構成の場合、電子ビーム軌道、および、プロファイルに対する補正機構を備えないので、静電レンズを構成する各電極の偏芯、および、傾き精度を極力高いものとすることが重要となる。特に、ターゲットに入射する電子ビームの広がり(開き角)と電流量を決定するためのＮＡアパチャーは、例えば直径０．１〜０．２ｍｍの孔(開口部)を備えたものであり、この孔中心と電子ビームの中心軸とが合致するように充分な精度(概ね許容偏心量±１０μｍ以内)をもって装着されている必要がある。
【０００９】
そして、以上のように構成された従来の小型、密閉管構造の微小焦点型Ｘ線管では、焦点サイズ、および、ターゲットに入射する電子ビーム電流量という基本性能を保証する上で、電子銃ユニットの軸精度を維持することが最も重要となるが、一般的にＸ線管においてはガス放出量を抑制するための高温でのベーキングによる熱サイクルが加わるので、そのベーキング処置の前後での偏心量を完全に無くすことが容易でない。また、その偏心量が規定範囲を超えた場合には、管球を開放して電子銃ユニットを補修するという作業が必要となり、これは大きな労力を要するものとなる。
【００１０】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、焦点サイズを維持しつつ真空容器を開放することなくアパチャーの開口部の位置を調整できるＸ線源、その調整装置および調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
実施形態のＸ線源は、透過ターゲットを備えた真空容器を有する。また、Ｘ線源は、真空容器内に収納され、電子ビームを発生する電子源を有する。さらに、Ｘ線源は、真空容器内に収納され、電子源が発生した電子ビームを収束させる電子光学系を有する。また、Ｘ線源は、開口部を備え、真空容器に対して可動的に配置され、電子光学系により収束された電子ビームの開き角を設定して透過ターゲットに入射させるアパチャーを有する。さらに、Ｘ線源は、アパチャーの開口部の位置を真空容器の外部からの操作により径方向に調整可能な位置調整機構を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施形態を示すＸ線源の説明図である。
【図２】同上Ｘ線源の調整装置の説明図である。
【図３】第２の実施形態を示すＸ線源の調整装置の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、第１の実施形態の構成を、図面を参照して説明する。
【００１４】
図１にＸ線源の説明図を示す。
【００１５】
Ｘ線源であるＸ線管10は、内部が真空保持される真空容器11を有し、この真空容器11は、略円筒状の真空容器本体12と、この真空容器本体12に対して可動的な保持部13と、真空容器本体12に対して保持部13を保持する変形構造体14とを有するＸ線管である。また、真空容器11の内部には、電子源16、引出し電極17、および、電子光学系である収束レンズ18がそれぞれ収納されている。
【００１６】
真空容器本体12は、一端側に変形構造体14を介して保持部13が接続された円筒状の容器部21を備え、この容器部21の他端側に絶縁体である絶縁筒22を介して接続部である金属プレート部23が接続され、この金属プレート部23の他端側に絶縁体である絶縁筒24を介して接続部である金属プレート部25が接続され、この金属プレート部25の他端側に絶縁体である絶縁筒26を介して接続部である金属プレート部27が接続されて略有底円筒状に構成されている。また、金属プレート部27には、導入端子28，28が配置され、これら導入端子28，28は、各金属プレート部23，25，27とともに、駆動電源29に電気的に接続されている。
【００１７】
容器部21には、この容器部21を接地電位に設定するための接地部31が形成されている。
【００１８】
また、保持部13は、略円筒状の保持部本体33と、この保持部本体33の周縁部全周から外方へと延びるフランジ部34とを一体に備えている。そして、この保持部13は、真空容器11の真空容器本体12の容器部21に螺合された複数の螺子であるアライメント(位置合わせ)用螺子35により径方向に可動的となっている。
【００１９】
保持部本体33は、一端側の中央部には、Ｘ線放出窓36が開口形成されており、このＸ線放出窓36に、例えばタングステン等の透過ターゲット37が取り付けられて保持されている。また、保持部本体33の他端側には、Ｘ線放出窓36に対向する位置に、アパチャーであるＮＡ(可変開口)アパチャー38が取り付けられている。このＮＡアパチャー38は、中央部に開口部39を備えている。
【００２０】
各アライメント用螺子35は、軸方向から見て例えば上下左右の４箇所、すなわち互いに交差(直交)する二方向(Ｘ方向およびＹ方向)に沿って配置されており、容器部21の一端近傍に形成された各螺子穴40にそれぞれ螺合され、基端側が容器部21すなわち真空容器11の外部に位置し、先端側が容器部21すなわち真空容器11の内部に挿入され、保持部13のフランジ部34の外周に当接している。また、これらアライメント用螺子35は、回動させることで真空容器11(Ｘ線管10)の軸方向に交差(直交)する径方向に沿って進退可能となっており、この進退によって、保持部13とともにＮＡアパチャー38(および透過ターゲット37)を径方向に移動させるように構成されている。
【００２１】
また、変形構造体14は、保持部13のフランジ部34と、真空容器本体12の容器部21の一端側に内方へと突出形成された保持部接続部41とを接合することにより真空容器11の内部の気密を維持するように構成されている。この変形構造体14としては、周囲の真空容器本体12に対して接合が可能で、かつ、ベーキング時の高温に耐えることができる部材、例えば銅等の変形可能な(変形容易な)金属等の部材によって筒状に形成されており、アライメント用螺子35により移動された保持部13の移動距離分を変形によって吸収するように構成されている。なお、変形構造体14は、保持部13の移動距離分を吸収するための変形によって亀裂等が生じ真空容器11の気密を損なうことがないように、変形量としては±５０μｍ程度を限度としている。そして、この変形構造体14と、各アライメント用螺子35と、保持部13とにより、ＮＡアパチャー38(および透過ターゲット37)の径方向位置を真空容器11の外部からの操作により調整可能な位置調整機構43が構成されている。
【００２２】
一方、電子源16は、電子ビーム44を発生するもので、例えば最も代表的な例としてＴＦＥ(Thermal Field Emission:熱電界放出型)電子源等の、電子顕微鏡用の電子源として汎用的に使用されているものがある。この電子源16は、エミッタ45を主構成部品とし、このエミッタ45は、フィラメント45aの先端にエミッタチップ45bが接合されたものを筒状の抑制電極46により覆った構成となっている。
【００２３】
さらに、電子源16は、抑制電極46の周囲に接続された電子源固定部としてのフランジ部47を介して収束レンズ18に固定されている。このフランジ部47は、抑制電極46に対して径方向に突出しており、絶縁体としての絶縁筒51を介して収束レンズ18に組込むためのレンズ組込み部としての筒状の組込み用フランジ52と接続されている。また、このフランジ部47は、通電部材としての通電用ロッド53を介して金属プレート部27に電気的に接続されている。したがって、抑制電極46は、通電用ロッド53および金属プレート部27を介して駆動電源29に電気的に接続され、この駆動電源29から所定の電流および電圧の供給を受けるように構成されている。そして、抑制電極46は、駆動電源29から負電圧が印加されエミッタチップ45bの先端部以外の周辺部分からの電子の放出を抑制可能となっている。
【００２４】
また、組込み用フランジ52の一端側には、引出し電極17が接合されている。さらに、この組込み用フランジ52は、通電部材としての通電用ロッド55を介して金属プレート部25に電気的に接続されている。
【００２５】
また、引出し電極17は、絶縁筒51を介してエミッタ45との間に接続されている。したがって、引出し電極17は、組込み用フランジ52、通電用ロッド55および金属プレート部25を介して駆動電源29に電気的に接続され、この駆動電源29から所定の電流および電圧の供給を受けるように構成されている。このため、エミッタ45に対して駆動電源29から正電圧を引出し電極17に印加することによりエミッタチップ45bの先端から放出された電子を電子ビーム44として引き出す。なお、この引出し電極17は、環状に形成されており、エミッタチップ45bの先端に対して中心が高精度でアライメント(位置合わせ)されている。そして、電子源16、フランジ部47、抑制電極46、組込み用フランジ52、および、引出し電極17等により、一体的なユニット部58が構成されている。
【００２６】
また、収束レンズ18は、引出し電極17により引き出された電子ビーム44を収束、偏向、さらに収差補正し、その電子ビーム44の開き角および電流量を設定するＮＡアパチャー38の開口部39を経て透過ターゲット37に入射させるもので、支持部材としての筒状のレンズ本体であるレンズ筐体61に第１電極としての環状のレンズ第１電極62が支持されている。また、このレンズ筐体61の一端には、絶縁体としての絶縁筒63を介して第２電極としての環状のレンズ第２電極64が支持されているとともに、絶縁筒63の外方に、筒状の組込み部65が突出して形成され、この組込み部65の一端に第３電極としての環状のレンズ第３電極66が支持されている。また、レンズ筐体61の他端には、絶縁体としての絶縁筒68を介して取付部69が配置され、この取付部69に、固定部材としての固定用螺子70を介してユニット部58が固定されている。したがって、レンズ第２電極64のみが他の電極62，66に対して絶縁された状態で支持されている。さらに、レンズ筐体61(ユニット部58)は、取付部材としての取付用螺子71を介して、真空容器11の真空容器本体12の容器部21に突出形成された被取付部72に固定されている。
【００２７】
また、レンズ第２電極64は、通電部材としての通電用ロッド73を介して金属プレート部23に電気的に接続されている。したがって、レンズ第２電極64は、通電用ロッド73および金属プレート部23を介して駆動電源29に電気的に接続され、この駆動電源29から所定の電流および電圧の供給を受けるように構成されている。
【００２８】
そして、レンズ第２電極64の孔中心に対して、その他の電極62，66の穴中心が高精度にアライメントして接合されている。また、同様に、取付部69と組込み部65との開孔中心も、これら電極62，64，66の軸中心(基準軸Ａ)に対して高精度に加工されている。
【００２９】
具体的に、エミッタチップ45bの先端と、引出し電極17、レンズ第１電極62、レンズ第２電極64、および、レンズ第３電極66のそれぞれの中心は、基準軸Ａに対して例えば１００μｍ以下、一般的な高精度加工技術を適用すれば例えば５０μｍ以下の精度を持たせることが可能となる。
【００３０】
また、図２にＸ線管10の調整装置75を示す。
【００３１】
この調整装置75は、ＮＡアパチャー38のアライメント操作を、Ｘ線管10から放出されるＸ線76の強度を計測しながら実施するもので、Ｘ線管10を覆うＸ線遮蔽カバー77と、Ｘ線管10から放出されるＸ線76の強度を検出するＸ線強度計78と、各アライメント用螺子35をＸ線遮蔽カバー77の外部からそれぞれ操作するための操作機構としての複数のアライメント治具79とを備えている。
【００３２】
Ｘ線強度計78は、Ｘ線遮蔽カバー77の内部にてＸ線管10の一端側に離間された位置に、このＸ線管10に対向して配置されている。
【００３３】
また、各アライメント用治具79は、先端部79aがＸ線遮蔽カバー77に形成された開口81からこのＸ線遮蔽カバー77の内部にそれぞれ挿入されて各アライメント用螺子35に嵌合しているとともに、基端部79bがＸ線遮蔽カバー77の外部にそれぞれ位置している。そして、これらアライメント用治具79は、基端部79bを操作することにより、アライメント用螺子35を回動させることが可能となっている。
【００３４】
次に、Ｘ線管10の作用を説明する。
【００３５】
図１に示すように、Ｘ線管10を組立てる際には、電子源16の組込み用フランジ52と収束レンズ18の取付部69とを高精度で嵌め合わせて組込む。このような構成、手順によって組み合わされた電子源16および収束レンズ18は、固定用螺子70を用いて固定することによってユニット部58が完成される。
【００３６】
このユニット部58は、真空容器11の内部に取付用螺子71によって取り付け固定される。この状態で、ユニット部58の中心と、保持部13に保持されたＮＡアパチャー38の開口部39の中心位置とを高精度にアライメントする。この後、ユニット部58の動作に必要な到達真空度になるまで真空容器11の内部を真空排気し、封じ切る。さらに、Ｘ線管10では、真空容器11を所定温度でベーキングし、放出ガス量を抑制する。
【００３７】
そして、Ｘ線管10の導入端子28，28および各金属プレート部23，25，27を介して、Ｘ線管10の内部のエミッタ45および収束レンズ18の各電極62，64，66に駆動電源29から所定の電圧、電流が供給される。この操作によりエミッタ45から放出され引出し電極17により引出された電子ビーム44は、収束レンズ18によって収束され、透過ターゲット37の表面に焦点(収束スポット)を形成し、そこからＸ線76がＸ線放出窓36を介してＸ線管10の外部へと放出される。
【００３８】
また、Ｘ線管10を調整する際には、Ｘ線管10を調整装置75に取り付けた後、Ｘ線遮蔽カバー77により覆ったＸ線管10を動作させて透過ターゲット37の表面の焦点(収束スポット)からＸ線76を放出させつつ、このＸ線76をＸ線強度計78で計測する。
【００３９】
そして、そのＸ線強度計78で計測した強度が最大となるようにアライメント用治具79を用いて保持部13とともにＮＡアパチャー38(および透過ターゲット37)の径方向位置を調整することで、ＮＡアパチャー38の中心を組込み用フランジ52の中心に対して高精度でアライメントする。
【００４０】
以上のように構成された小型、密閉管構造の微小焦点型のＸ線管10では、焦点サイズ、および、透過ターゲット37に入射する電子ビーム44の電流量という基本性能を保証する上で、ユニット部58およびＮＡアパチャー38の軸精度を維持することが最も重要となるが、これに対してはベーキングによる熱サイクルが加わるため、熱膨張がもたらす変形によって精度が低下し、その処置の前後での偏心量を完全に無くすことは難しいものとなっている。また、偏心量が規定範囲を超えた場合には、真空容器11を開放してユニット部58およびＮＡアパチャー38の位置を補修するという作業が必要となり、これは大きな労力を要するものとなる。
【００４１】
そこで、上記第１の実施形態によれば、ベーキングの熱サイクルが加わったことにより充分な量の電子ビーム44がＮＡアパチャー38の開口部39を通過できなくなった場合、または焦点の形状が均一な円形から楕円形になってしまったような場合、Ｘ線管10の真空容器11の外部から内部のＮＡアパチャー38の開口部39の中心を規定の位置に修正・調整することによってＸ線管10の所定の性能を達成できる。すなわち、ベーキングの熱サイクルで規定以上の偏心が生じた場合であっても、微小焦点サイズを維持しつつ、真空容器11(Ｘ線管10)を開放することなくＮＡアパチャー38の開口部39の位置を容易に調整できる。
【００４２】
そして、このようにＮＡアパチャー38の開口部39の中心を修正および調整できることにより、Ｘ線管10の所定の性能を達成することが可能になる。
【００４３】
また、透過ターゲット37から放出されるＸ線76の強度をＸ線強度計78で測定し、その測定したＸ線76の強度が最大値となるように、Ｘ線遮蔽カバー77の外部から位置調整機構43を操作してＮＡアパチャー38の開口部39の径方向位置を調整することで、ＮＡアパチャー38の位置を最適なポイントに容易に調整できる。
【００４４】
次に、第２の実施形態を図３を参照して説明する。なお、上記第１の実施形態と同様の構成等については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００４５】
この第２の実施形態は、調整装置75が、上記第１の実施形態と同様のＸ線管10のＮＡアパチャー38のアライメント操作を、放出されるＸ線76のＸ線焦点形状を観察しながら実施するものである。
【００４６】
すなわち、調整装置75は、Ｘ線焦点形状を判定するためのテストチャート85と、その透過画像をモニタ可能なＸ線検出器としてのＸ線イメージングユニット86とを用いることによってＸ線焦点形状が均一になるように調整を行うことができるように構成する。
【００４７】
Ｘ線イメージングユニット86は、Ｘ線遮蔽カバー77の外部に配置されたモニタ88と、Ｘ線遮蔽カバー77の内部に配置され、検出したＸ線76に対応する画像信号をモニタ88へと出力するＸ線検出部89とを有している。
【００４８】
そして、Ｘ線管10を動作させて電子ビーム44を放出し、透過ターゲット37上に集束させた状態で、Ｘ線管10の透過ターゲット37から放出されるＸ線76をテストチャート85に照射し、その透過画像をＸ線検出部89により検出して画像信号としてモニタ88へと出力する。作業者は、モニタ88によりＸ線焦点形状を監視しつつＸ線焦点形状が均一になるようにアライメント用治具79を用いてＮＡアパチャー38の開口部39の中心位置を調整する。
【００４９】
このように、透過ターゲット37から放出されるＸ線76によるテストチャート85の透過画像でのＸ線76の焦点形状の均一性が最良となるように、Ｘ線遮蔽カバー77の外部から位置調整機構43を操作してＮＡアパチャー38の開口部39の径方向位置を調整することで、ＮＡアパチャー38の位置を最適なポイントに容易に調整できる。
【００５０】
そして、以上説明した各実施形態によれば、ＮＡアパチャー38の位置を最適なポイントに調整し、Ｘ線管10から放出されるＸ線76の強度と焦点形状の均一性を良好なものに調整可能となる。
【００５１】
また、Ｘ線76を放出させながらＮＡアパチャー38の開口部39の位置調整を実施するため、この位置調整を、Ｘ線遮蔽カバー77の外部からアライメント用治具79によって実施できるよう構成することにより、Ｘ線管10の動作中でも電子ビーム44の軌道中心にＮＡアパチャー38の開口部39の中心を一致させる位置調整の操作を行うことが可能となり、この位置調整がより容易となる。
【００５２】
なお、上記各実施の形態において、保持部13には、少なくともＮＡアパチャー38を保持していれば、透過ターゲット37は保持部13以外の箇所に設けてもよい。
【符号の説明】
【００５３】
10    Ｘ線源であるＸ線管
11    真空容器
13    保持部
14    変形構造体
16    電子源
18    電子光学系である収束レンズ
35    螺子であるアライメント用螺子
37    透過ターゲット
38    アパチャーであるＮＡアパチャー
39    開口部
43    位置調整機構
44    電子ビーム
75    調整装置
76    Ｘ線
77    Ｘ線遮蔽カバー
78    Ｘ線強度計
79    操作機構としてのアライメント用治具
85    テストチャート
86    Ｘ線検出器としてのＸ線イメージングユニット
【図１】
2012004060.tif 000003
【図２】
2012004060.tif 000004
【図３】
2012004060.tif 000005