(57)【要約】【課題】反射率が高い発光装置の提供。【解決手段】発光素子と反射膜とを有する発光装置であって、前記反射膜が、金属膜上に光学多層膜を積層した反射膜であり、かつ４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均反射率が９０．０％以上である発光装置である。光学多層膜の層数が、５層以上である態様が好ましい。また、光学多層膜が、下記式（１）で求められるαが１．０５以上である層を有する態様が好ましい。  α＝４×ｎ×ｄ／λ      式（１）  ここで、ｄ（ｎｍ）は層の厚み、ｎは層の屈折率、λ（ｎｍ）は（λ１＋λ２）／２を示す。λ１は２００ｎｍ〜１，０００ｎｍの波長領域における発光素子の発光波長において、ピーク波長の光強度の１／１０となる波長のうちの最も短い波長を示し、λ２は最も長い波長を示す。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と反射膜とを有する発光装置であって、
前記反射膜が、金属膜上に光学多層膜を積層した反射膜であり、かつ４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均反射率が９０．０％以上であることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
光学多層膜の層数が、５層以上である請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
光学多層膜が、下記式（１）で求められるαが１．０５以上である層を有する請求項１から２のいずれかに記載の発光装置。
α＝４×ｎ×ｄ／λ      式（１）
ここで、ｄ（ｎｍ）は層の厚み、ｎは層の屈折率、λ（ｎｍ）は（λ１＋λ２）／２を示す。λ１は２００ｎｍ〜１，０００ｎｍの波長領域における発光素子の発光波長において、ピーク波長の光強度の１／１０となる波長のうちの最も短い波長を示し、λ２は最も長い波長を示す。
【請求項４】
光学多層膜が、式（１）で求められるαが１．０５以上である層を２層以上有する請求項３に記載の発光装置。
【請求項５】
光学多層膜が、屈折率１．６０〜２．８０の第一の層と、屈折率１．２０〜１．７０の第二の層とが交互に積層した多層膜であり、前記第一の層と前記第二の層との屈折率差が０．１以上である請求項１から４のいずれかに記載の発光装置。
【請求項６】
光学多層膜が、酸化チタンの層と酸化ケイ素の層とが交互に積層した多層膜である請求項１から５のいずれかに記載の発光装置。
【請求項７】
発光素子が、発光ダイオードである請求項１から６のいずれかに記載の発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明、表示のための光源などに適用可能な発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光ダイオードや有機ＥＬ素子などを備えた発光装置は、白色の発光色を得ることができ、小型であり、低電圧で駆動することができ、更に長寿命であるという利点を有することから、照明や表示のための光源への検討が盛んに行われている。
【０００３】
発光ダイオードは、通常、０．３ｍｍ〜１ｍｍ角の微小なチップであることから、機械的強度を保ち、取扱いを容易にし、大気中の酸素や水分による発光素子性能の劣化を抑制するために、封止剤により封止されている。また、有機ＥＬ素子も、通常、同様の目的から封止剤により封止されている。しかしながら、封止剤により封止した場合、封止剤により光の取出しが阻害され、光の取出し効率が低くなるという問題がある。
【０００４】
このようなこともあり、発光装置には、光の取出し効率を高めることが要求されている。
光の取出し効率を高めるためには、高い反射率を有する反射膜を発光装置に備えることが有効である。そこで、白色の反射膜を備えた発光装置や、金属からなる反射膜を備えた発光装置（特許文献１）が提案されている。
しかしながら、これら提案の技術は、反射膜の反射率が要求される程度にまでは至っていないという問題がある。
【０００５】
また、実装基板の表面に金属膜と光学多層膜とを積層した反射膜を有する発光装置が提案されている（特許文献２）。この提案の技術では、ＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜を交互に積層した４層構造の光学多層膜が使用されている。
この提案の技術は、白色の反射膜を備えた発光装置や金属からなる反射膜を備えた発光装置よりは反射率が優れるものの、反射膜の反射率は要求される程度にまでは至っていないという問題がある。
【０００６】
したがって、反射率が高い発光装置の提供が求められているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−３９６９１号公報
【特許文献２】特開２００６−３５１８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、反射率が高い発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  発光素子と反射膜とを有する発光装置であって、
前記反射膜が、金属膜上に光学多層膜を積層した反射膜であり、かつ４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均反射率が９０．０％以上であることを特徴とする発光装置である。
＜２＞  光学多層膜の層数が、５層以上である前記＜１＞に記載の発光装置である。
＜３＞  光学多層膜が、下記式（１）で求められるαが１．０５以上である層を有する前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の発光装置である。
α＝４×ｎ×ｄ／λ      式（１）
ここで、ｄ（ｎｍ）は層の厚み、ｎは層の屈折率、λ（ｎｍ）は（λ１＋λ２）／２を示す。λ１は２００ｎｍ〜１，０００ｎｍの波長領域における発光素子の発光波長において、ピーク波長の光強度の１／１０となる波長のうちの最も短い波長を示し、λ２は最も長い波長を示す。
＜４＞  光学多層膜が、式（１）で求められるαが１．０５以上である層を２層以上有する前記＜３＞に記載の発光装置である。
＜５＞  光学多層膜が、屈折率１．６０〜２．８０の第一の層と、屈折率１．２０〜１．７０の第二の層とが交互に積層した多層膜であり、前記第一の層と前記第二の層との屈折率差が０．１以上である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の発光装置である。
＜６＞  光学多層膜が、酸化チタンの層と酸化ケイ素の層とが交互に積層した多層膜である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の発光装置である。
＜７＞  発光素子が、発光ダイオードである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の発光装置である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決することができ、反射率が高い発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の発光装置の一態様を示す概略図の断面図である。
【図２】図２は、図１の概略図の上面図である。
【図３】図３は、図１の概略図の部分拡大図である。
【図４】図４は、発光素子の発光スペクトルの一例を示す図である。
【図５】図５は、実施例における光学多層膜の層数と加重平均反射率の関係を示す図である。
【図６】図６は、実施例における１１層の光学多層膜の各層のα値と加重平均反射率の関係を示す図である。
【図７】図７は、実施例における２１層の光学多層膜の各層のα値と加重平均反射率の関係を示す図である。
【図８】図８は、実施例における２１層の光学多層膜のα値が１．０５以上の層の数と、加重平均反射率との関係を示す図である。
【図９】図９は、実施例における２１層の光学多層膜のα値が１．００以外の層の数と、加重平均反射率との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（発光装置）
本発明の発光装置は、発光素子と反射膜とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の構成を有する。
【００１３】
＜発光素子＞
前記発光素子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、発光ダイオード、有機ＥＬ素子、無機ＥＬ素子などが挙げられる。これらの中でも、発光ダイオードが、光量が多い点、高い反射率が得られる点で好ましい。
【００１４】
−発光ダイオード−
前記発光ダイオードの材料、構造、形状、大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記発光ダイオードに用いられる発光材料としては、必要な色調を発光するものを任意に選択できる。例えば、紫色から緑色の発光波長を有するＩＩＩ族窒化物系化合物半導体（ＡｌｘＧａｙＩｎ１−ｘ−ｙＮ）が挙げられる。また、近紫外から青色領域の発光波長を有する化合物半導体と、黄色蛍光体との組合せが挙げられる。この場合は、白色発光を得ることができる。
発光ダイオードの構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、いわゆるフェイスアップタイプの構造（ｐ型半導体層側に光取出し）やいわゆるフリップチップタイプの構造（絶縁基板側に光取出し）などが挙げられる。
【００１５】
−有機ＥＬ素子−
前記有機ＥＬ素子の材料、構造、形状、大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記有機ＥＬ素子の構造としては、例えば、一対の電極（陽極及び陰極）と、前記一対の電極間に配置された有機層とを有する構造が挙げられる。
前記有機層の積層の形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、陽極側から、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層の順に積層されている形態が挙げられる。この形態において、正孔輸送層と陽極との間には正孔注入層が設けられていてもよい。また、有機発光層と正孔輸送層との間には正孔輸送性中間層が設けられていてもよい。また、有機発光層と電子輸送層との間には電子輸送性中間層が設けられていてもよい。また、陰極と電子輸送層との間には電子注入層が設けられていてもよい。
【００１６】
−無機ＥＬ素子−
前記無機ＥＬ素子の材料、構造、形状、大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記無機ＥＬ素子に用いられる発光材料としては、例えば、ＳｒＳ：Ｃｅ、ＳｒＧａ２Ｓ４、ＢａＡｌ２Ｓ４：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｘ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｍｎ，Ｘ（Ｘは共賦活剤であり、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ａｌの群の中から選ばれるいずれかである。）などが挙げられる。
前記無機ＥＬ素子の構造としては、例えば、導電体を含む樹脂などのシートの上に前記発光材料を含む塗膜を設け、その上に導電体層を設けた構造が挙げられる。
【００１７】
＜反射膜＞
前記反射膜は、金属膜上に光学多層膜を積層した反射膜であり、かつ４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域における平均反射率が９０．０％以上である。
【００１８】
−平均反射率−
前記平均反射率（以下、「加重平均反射率」と称することがある。）は計算により求めることができ、その計算方法は以下の通りである。
前記反射膜への入射光の入射角は、前記反射膜の面に対して垂直方向を０°とした際の０°、１５°、３０°、４５°、６０°、７５°の６つの入射角を用いる。そして、前記反射膜に対して、それぞれの入射角から波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光を入射させた際の反射率を計算する。そして、それら反射率の平均値を求めることにより前記平均反射率を計算するが、その際には、入射角毎に立体角補正を行う。
発光素子（例えば発光ダイオード）から反射膜への光入射は、ランダムであると仮定できる。なぜなら、反射膜へ入ってくる光は、発光素子から直接届く光だけではない。例えば、発光素子は通常封止剤で封止されており、発光素子からの光は封止剤と空気との界面で全反射をおこし、その全反射した光が反射膜に届く。このように、反射膜へ入ってくる光には様々な光があるため、反射膜へはランダムな方向から光が入射する。そこで、発光素子から反射膜への光入射がランダムであることを前記平均反射率の算出に反映させるために、立体角補正を行っている。前記立体角補正は、入射頻度の重み付けにより行っている。入射頻度はｓｉｎα（αは、反射膜の面に対して垂直方向を０°とした際の入射角（°））に比例するものとしている。
そして、前記６つの入射角に対する反射率それぞれについて行った立体角補正を考慮した上で、それら反射率の平均値を求めることにより前記平均反射率が計算される。
前記計算は、例えば、ＴＦｃａｌｃ（光学薄膜コーティング特性計算ソフト、Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．製）により行うことができる。
【００１９】
前記平均反射率は、９１．０％以上が好ましく、９２．０％以上がより好ましい。
【００２０】
−金属膜−
前記金属膜の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金、銀、アルミニウムなどが挙げられる。これらの中でも、反射膜の反射率が優れる点、並びに熱及び湿気に対する安定性の点からアルミニウムが好ましい。
【００２１】
前記金属膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜４００ｎｍがより好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍが特に好ましい。前記厚みが、１０ｎｍ未満であると、反射率が低下することがあり、５００ｎｍを超えると、前記金属膜がパッケージなどから剥離したり、前記金属膜にひびが入ることがある。前記厚みが、前記特に好ましい範囲であると、高い反射率が得られる点、前記金属膜が剥離しない点、及び前記金属膜にひびが入ることがない点で有利である。
【００２２】
前記金属膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、無電解メッキ法、電解メッキ法などが挙げられる。
【００２３】
−光学多層膜−
前記光学多層膜としては、屈折率の異なる層が交互に積層された多層膜であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２４】
前記光学多層膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光学多層膜に用いる屈折率の高い材料としては、例えば、Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム、屈折率１．６３）、Ｔａ２Ｏ５（酸化タンタル、屈折率２．１）、ＺｎＯ（酸化亜鉛、屈折率２．１）、ＣｅＯ２（酸化セリウム、屈折率２．２）、ＴｉＯ２（酸化チタン、屈折率２．３９）、ＣｅＦ３（フッ化セリウム、屈折率１．６３）、ＺｎＳ（硫化亜鉛、屈折率２．３）などが挙げられる。
前記光学多層膜に用いる屈折率の低い材料としては、例えば、ＳｉＯ２（酸化ケイ素、屈折率１．４６）、Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム、屈折率１．６３）、ＬｉＦ（フッ化リチウム、屈折率１．３）、ＣａＦ２（フッ化カルシウム、屈折率１．３５）、ＭｇＦ２（フッ化マグネシウム、屈折率１．３９）などが挙げられる。
なお、屈折率が高いか低いかは、隣接する層の屈折率に対する相対的なものであるため、前記Ａｌ２Ｏ３のように、前記屈折率の高い材料、及び前記屈折率の低い材料のいずれにも当てはまる材料もある。
【００２５】
ここで、本発明において屈折率とは、可視光領域の波長の概ね中心である波長５５０ｎｍの光における屈折率を表す。
【００２６】
前記光学多層膜の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、屈折率１．６０〜２．８０の第一の層と、屈折率１．２０〜１．７０の第二の層とが交互に積層した多層膜であることが、高い反射率が得られる点で好ましい。
そして、前記第一の層と前記第二の層との屈折率差は、０．１以上が好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３〜１．０が特に好ましい。前記屈折率差が、０．１未満であると、反射膜の反射率が低くなることがある。前記屈折率差が、前記特に好ましい範囲であると、高い反射率の反射膜が得られる点で有利である。
【００２７】
また、前記光学多層膜の構造としては、酸化チタンの層と酸化ケイ素の層とが交互に積層した多層膜であることが、屈折率の点、及び保存安定性の点から好ましい。
【００２８】
前記光学多層膜の層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下限値としては、５層以上が好ましく、７層以上がより好ましく、１１層以上が特に好ましい。上限値としては、３００層以下が好ましく、２００層以下がより好ましく、１００層以下が特に好ましい。前記層数が、５層未満であると、反射膜の反射率が低くなることがある。前記層数が、前記特に好ましい範囲であると、高い反射率の反射膜が得られる点、及び反射膜の耐久性が優れる点で有利である。
【００２９】
前記光学多層膜の各層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光学多層膜が、下記式（１）で求められるαが１．０５以上である層を有することが、高い反射率の反射膜が得られる点で好ましい。また、前記αが、１．１５以上であることがより好ましく、１．２５以上であることが特に好ましい。また、上限値としては、１．６０以下であることが好ましく、１．５０以下であることがより好ましい。
α＝４×ｎ×ｄ／λ      式（１）
ここで、ｄ（ｎｍ）は層の厚み、ｎは層の屈折率、λ（ｎｍ）は（λ１＋λ２）／２を示す。λ１は２００ｎｍ〜１，０００ｎｍの波長領域における発光素子の発光波長において、ピーク波長の光強度の１／１０となる波長のうちの最も短い波長を示し、λ２は最も長い波長を示す。
【００３０】
また、高い反射率の反射膜が得られる点から、前記光学多層膜が、前記式（１）で求められるαを満たす層を、２層以上有することが好ましく、３層以上有することがより好ましく、５層以上有することが更に好ましく、７層以上有することが特に好ましい。
【００３１】
前記式（１）において、α＝１の場合、前記式（１）を変形するとｄ＝λ／（４×ｎ）となる。ｄ＝λ／（４×ｎ）は、一般に、波長λｎｍの光の反射率を高くするための最適な層の厚み（ｄ）を示す式として知られているものである。
【００３２】
ここで、前記発光装置のように、前記反射膜への光入射がランダムな場合には、前記光学多層膜において、前記式（１）で求められるαが１である層よりも、１．０５以上である層の方が角度依存性に有利であると推測される。
【００３３】
前記式（１）においては、λ＝（λ１＋λ２）／２とし、λ１は２００ｎｍ〜１，０００ｎｍの波長領域における発光素子の発光波長において、ピーク波長の光強度の１／１０となる波長のうちの最も短い波長を示し、λ２は最も長い波長を示すものとしている。発光素子からの発光スペクトルは、通常、単一の波長ではなく、可視光領域にピークを持ち、可視光領域にブロードなものである。そのため、そのようなブロードな発光スペクトルを持つ発光素子からの光に対して、反射特性のよい反射膜を得ることができる光学多層膜中の層の厚み（ｄ）を算出するためには、ブロードな発光スペクトルの中心の波長を求めることを要する。そこで、λ１、λ２、及びλ＝（λ１＋λ２）／２は、そのようなブロードな発光スペクトルの中心の波長を求めるために規定したものである。
【００３４】
前記光学多層膜の各層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、ゾル−ゲル法などが挙げられる。前記真空蒸着法としては、例えば、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。前記スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ／ＲＦスパッタリング法、反応性スパッタリング法などが挙げられる。前記ゾル−ゲル法としては、例えば、重合法、コロイド法などが挙げられる。これらの中でも、均一で薄い層が形成可能な点から、真空蒸着法、スパッタリング法が好ましく、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、反応性スパッタリング法がより好ましい。
【００３５】
前記反射膜において、例えば、５層の光学多層膜を有する反射膜としては、屈折率の高い層をＨとし、屈折率の低い層をＬとした場合、金属膜／Ｈ／Ｌ／Ｈ／Ｌ／Ｈの順に積層された反射膜が挙げられる。具体的には、金属膜／酸化チタンの層／酸化ケイ素の層／酸化チタンの層／酸化ケイ素の層／酸化チタンの層の順に積層された反射膜などが挙げられる。
【００３６】
＜その他の構成＞
前記その他の構成としては、パッケージ、封止部、リードフレーム、ボンディングワイヤーなどが挙げられる。
【００３７】
−パッケージ−
前記パッケージは、前記発光素子を載置する台や前記反射膜の支持体としての役割を有するものであれば、その材料、構造、形状、大きさは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記パッケージの材料としては、例えば、セラミック、樹脂などが挙げられる。前記樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ゴム系樹脂、エステル系樹脂などが挙げられる。
前記パッケージの形状としては、例えば、テーパー形状の凹部を有する形状が挙げられる。
前記テーパー形状の凹部を有する形状をしたパッケージにおいて、前記発光素子は、例えば、前記凹部の底部に配置され、前記反射膜は、例えば、前記凹部の底部及び側面部の少なくともいずれかに配置されている。
【００３８】
−封止部−
前記封止部は、大気中の酸素や水分により前記発光素子の性能の劣化を抑制するためなどに使用される。
前記封止部の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、ゴム系樹脂、エステル系樹脂などが挙げられる。これらの中でも、水分防止機能の点からエポキシ系樹脂が好ましい。エポキシ系樹脂の中でも熱硬化型エポキシ樹脂、光硬化型エポキシ樹脂がより好ましい。
【００３９】
前記封止部の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、樹脂溶液を塗布する方法、樹脂シートを圧着又は熱圧着する方法などが挙げられる。
【００４０】
−リードフレーム−
前記リードフレームとしては、前記発光素子へ電気を供給する役割を果たすものであれば、その材料、構造、形状、大きさは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記リードフレームの材料としては、例えば、鉄、銅、鉄入り銅、錫入り銅などが挙げられる。
前記リードフレームの形状としては、例えば、板状、棒状などが挙げられる。
【００４１】
−ボンディングワイヤー−
前記ボンディングワイヤーとしては、前記リードフレームと、前記発光素子の電極との電気的接続を可能にするものであれば、その材料、構造、形状、大きさは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記ボンディングワイヤーの材料としては、例えば、金、銅、白金、アルミニウム等及びそれらの合金などが挙げられる。
【００４２】
前記発光装置について、図を参照して、その一態様を説明する。図１は、前記発光装置の一態様を示す概略図の断面図である。図２は、図１の発光装置の概略図の上面図である。図３は、図１の断面図の部分拡大図である。発光装置１は、発光素子２、反射膜３、パッケージ４、封止部５、リードフレーム６、及びボンディングワイヤー７を有している。前記パッケージ４には、前記リードフレーム６が埋め込まれている。前記パッケージ４は、テーパー形状の凹部を有している。前記発光素子２は前記リードフレーム６にボンディング材で接着され、前記凹部の底部に載置されている。前記凹部の底部及び側面部には、前記反射膜３が形成されている。前記反射膜３は、図３に示すように、前記パッケージ４側から、金属膜３ａ、次いで光学多層膜３ｂが順に形成された構造となっている。そして、前記光学多層膜３ｂは、前記金属膜３ａ側から順に、屈折率の高い層と屈折率の低い層とが交互に積層された構造となっている。図３において、前記光学多層膜３ｂは５層構造となっている。前記発光素子２と前記リードフレーム６とは、前記ボンディングワイヤー７により電気的接続がされている。そして、前記パッケージ４のテーパー形状の凹部には、その凹部を埋めるように、前記封止部５が形成されている。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【００４４】
（実施例１）
発光装置の反射膜の加重平均反射率を、計算ソフトを用いて計算した。
＜反射膜の構成＞
計算の対象となる反射膜は、金属膜としてアルミニウムを用い、前記アルミニウム上に、酸化チタン（ＴｉＯ２）の層／酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層／酸化チタン（ＴｉＯ２）の層／酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層／酸化チタン（ＴｉＯ２）の層の順に５層積層した光学多層膜を用いた構成とした。
アルミニウムの厚みは１００ｎｍとした。光学多層膜における酸化チタンの層の厚み及び酸化ケイ素の層の厚みは表１−１に示す厚みとした。この際の各層の前記式（１）におけるαは、表２−１に示すとおりである。
なお、前記式（１）のαの算出において、λ１及びλ２は、図４の発光波長を有する発光素子におけるλ１＝４３２ｎｍ及びλ２＝６６８ｎｍとしており、λは５５０ｎｍとした。また、酸化チタンの層の屈折率は２．３９とし、酸化ケイ素の層の屈折率は１．４６とした。
【００４５】
＜加重平均反射率の計算＞
前記反射膜の加重平均反射率を、ＴＦｃａｌｃ（光学薄膜コーティング特性計算ソフト、Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．製）を用いて計算した。
前記反射膜への入射光の入射角は、前記反射膜の面に対して垂直方向を０°とした際の０°、１５°、３０°、４５°、６０°、７５°の６つの入射角を用いた。そして、前記反射膜に対して、それぞれの入射角から波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光を入射させた際の反射率を計算した。そして、それら反射率の平均値を求めることにより前記加重平均反射率を計算したが、その際には、入射角毎に立体角補正を行った。前記立体角補正は、入射頻度の重み付けにより行った。入射頻度はｓｉｎα（αは、反射膜の面に対して垂直方向を０°とした際の入射角（°））に比例するものとした。
そして、前記６つの入射角に対する反射率それぞれについて行った立体角補正を考慮した上で、それら反射率の平均値を求めることにより前記加重平均反射率を計算した。
加重平均反射率の計算結果を表１−１に示した。
【００４６】
（実施例２〜実施例２７、及び比較例１〜２）
実施例１において、光学多層膜を表１−１〜表１−４に示す層数、各層の厚み、及び各層の材料を有する光学多層膜に代えた以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜実施例２７、及び比較例１〜２の加重平均反射率を計算した。計算結果を表１−１〜表１−４に示した。
実施例２〜実施例２７、及び比較例１〜２の前記式（１）におけるαは、表２−１〜表２−４に示すとおりである。
なお、実施例１５においては、層番号２２〜４１は厚み１２２．９ｎｍの酸化ケイ素の層（αは１．３０）と厚み７４．９ｎｍの酸化チタンの層（αは１．３０）が交互に積層されている。そして、層番号２２は酸化ケイ素の層であり、層番号４１は酸化チタンの層である。
実施例１６においては、層番号２２〜８１は厚み１２２．９ｎｍの酸化ケイ素の層（αは１．３０）と厚み７４．９ｎｍの酸化チタンの層（αは１．３０）が交互に積層されている。そして、層番号２２は酸化ケイ素の層であり、層番号８１は酸化チタンの層である。
実施例１７においては、層番号２２〜１６１は厚み１２２．９ｎｍの酸化ケイ素の層（αは１．３０）と厚み７４．９ｎｍの酸化チタンの層（αは１．３０）が交互に積層されている。そして、層番号２２は酸化ケイ素の層であり、層番号１６１は酸化チタンの層である。
【００４７】
【表１−１】
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表１−１〜表１−４において、層数及び加重平均反射率の欄を除く各欄の数値は、厚み（ｎｍ）を示す。
表１−１〜表１−４、及び表２−１〜２−４において、層番号が小さいほど金属膜（アルミニウム）に近い層である。例えば、実施例１において、層番号１の酸化チタンの層は、アルミニウムに接する層である。
【００４８】
【表１−２】
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【００４９】
【表１−３】
2012033633.tif 000005
【００５０】
【表１−４】
2012033633.tif 000006
【００５１】
【表２−１】
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【００５２】
【表２−２】
2012033633.tif 000008
【００５３】
【表２−３】
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【００５４】
【表２−４】
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【００５５】
上記結果について、光学多層膜の層数と加重平均反射率の関係をまとめた。その結果を、表３及び図５に示した。
【００５６】
【表３】
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【００５７】
表３及び図５から明らかなように、本発明の発光装置の反射膜は、９０．０％以上という優れた加重平均反射率を有した。詳細には、１１層では９１．３％という、かなり優れた加重平均反射率を有し、層数が増加するほど加重平均反射率は更に高くなり、２１層以上では、９４％を超え、非常に優れた加重平均反射率を有した。
【００５８】
１１層の光学多層膜の各層のα値と加重平均反射率の関係をまとめた。その結果を、表４及び図６に示した。
【００５９】
【表４】
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【００６０】
２１層の光学多層膜の各層のα値と加重平均反射率の関係をまとめた。その結果を、表５及び図７に示した。
【００６１】
【表５】
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【００６２】
表４、表５、図６、及び図７から明らかなように、α値が大きいほど、加重平均反射率は増加した。ただし、α値が、１．５０を超えると加重平均反射率の増加はあまり見られなくなった。
【００６３】
２１層の光学多層膜のα値が１．０５以上の層の数と、加重平均反射率との関係をまとめた。その結果を表６及び図８に示した。
【００６４】
【表６】
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【００６５】
表６、及び図８から明らかなように、α値が１．０５以上の層数が多いほど、加重平均反射率は高くなった。
【００６６】
２１層の光学多層膜のα値が１．００以外の層の数と、加重平均反射率との関係をまとめた。その結果を表７及び図９に示した。
【００６７】
【表７】
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【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明の発光装置は、反射率が高いため、照明や表示のための光源へ好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００６９】
１    発光装置
２    発光素子
３    反射膜
３ａ  金属膜
３ｂ  光学多層膜
４    パッケージ
５    封止部
６    リードフレーム
７    ボンディングワイヤー
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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