(57)【要約】【課題】高い導電性を備え、かつ軟質銅材においても高い屈曲寿命を有する放電加工用電極線を提供する。【解決手段】本発明に係る放電加工用電極線は、希薄銅合金材料からなる放電加工用電極線であって、前記希薄銅合金材料が、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｂ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＣｒからなる群から選択される添加元素を含み残部が不可避的不純物からなる軟質希薄銅合金材料であり、２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上１２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の硫黄と、２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超える量の酸素とを含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
希薄銅合金材料からなる放電加工用電極線であって、
前記希薄銅合金材料が、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｂ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＣｒからなる群から選択される添加元素を含み残部が不可避的不純物からなる軟質希薄銅合金材料であり、２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上１２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の硫黄と、２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超える量の酸素とを含む放電加工用電極線。
【請求項２】
導電率が９８％ＩＡＣＳ以上である請求項１に記載の放電加工用電極線。
【請求項３】
軟化温度がφ２．６ｍｍサイズで１３０℃以上１４８℃以下である請求項２に記載の放電加工用電極線。
【請求項４】
前記添加元素がＴｉであり、前記Ｔｉの前記希薄銅合金材料に対する添加量が、４ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上５５ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の放電加工用電極線。
【請求項５】
ワイヤカット放電加工時にテーパー加工を施すためのテーパー加工用電極線である請求項１〜４のいずれか１項に記載の放電加工用電極線。
【請求項６】
難削材を加工するためのワイヤ放電加工用電極線である請求項１〜４のいずれか１項に記載の放電加工用電極線。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放電加工用電極線に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の科学技術においては、動力源としての電力や、電気信号等、あらゆる部分に電気が用いられており、それらを伝達するためにケーブルやリード線などの導線が用いられている。そして、その導線に用いられている素材としては、銅、銀等の導電率の高い金属が用いられ、とりわけ、コスト面などを考慮し、銅線が極めて多く用いられている。
【０００３】
銅と一括りにする中にも、その分子の配列などに応じて、大きく分けて、硬質銅と軟質銅とに分けられる。そして利用目的に応じて所望の性質を有する種類の銅が用いられている。
【０００４】
電子部品用リード線には、硬質銅線が多く用いられ、例えば、医療機器、産業用ロボット、ノート型パソコン等の電子機器等に用いられるケーブルは、過酷な曲げ、ねじれ、引張りなどが組み合わさった外力が繰り返し負荷される環境下で使用されているため、硬直な硬質銅線は不的確であり、軟質銅線が用いられている。
【０００５】
このような用途に使用される銅線には、導電性が良好（高導電率）で、かつ、屈曲特性が良好であるという、相反する特性が求められるが、今日までに、高導電性及び耐屈曲性を維持する銅材料の開発が進められている。
【０００６】
例えば、引張強さ、伸び、及び導電率が良好な耐屈曲ケーブル用導体に関し、純度９９．９９ｗｔ％以上の無酸素銅に、純度９９．９９ｗｔ％以上のインジウムを０．０５〜０．７０ｍａｓｓ％、純度９９．９ｗｔ％以上のＰを０．０００１〜０．００３ｍａｓｓ％の濃度範囲で含有させてなる銅合金を線材に形成した耐屈曲ケープル用導体が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００７】
また、インジウムが０．１〜１．０ｗｔ％、棚素が０．０２〜０．１ｗｔ％、残部が銅である耐屈曲性銅合金線が知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００８】
また、ワイヤ放電加工用電極線は、優れた伸線加工性及び経済性（消耗品であるため）を備えつつ、高い引張強度（特に高温強度）と良好な放電加工特性が要求されることから、従来、黄銅線が多用されている。
【０００９】
黄銅線を用いた電極線として、生産性向上、すなわち、放電加工特性（加工速度、加工精度、面精度）を向上させることを目的として、ベース材となる黄銅にアルミニウムを添加した電極線や複合線として、鉄・銅・黄銅等をコア材とし、それに放電特性が良好とされる亜鉛、黄銅、若しくは黄銅合金を被覆処理した電極線が知られている（例えば、特許文献３参照。）。放電特性は、ワイヤ放電加工機の性能及び電極線の特性に依存し、特に、電極線の特性は、その含有成分や構成によって種々変化するので、性質改善に関する開発が盛んになされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−３６３６６８号公報
【特許文献２】特開平９−２５６０８４号公報
【特許文献３】特開昭５６―９１３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１に係る発明は、あくまでも硬質銅線に関する発明であり、耐屈曲性に関する具体的な評価はされておらず、より耐屈曲性に優れる軟質銅線についての検討はなされていない。また、添加元素の量が多いため、導電性が低下してしまう。軟質銅線に関しては、まだまだ十分に検討がなされたとはいえない。また、特許文献２に係る発明は、軟質銅線に関する発明であるが、特許文献１に係る発明と同様に、添加元素の添加量が多いため、導電性が低下してしまう。
【００１２】
一方で、原料となる銅材料として無酸素銅（ＯＦＣ）等の高導電性銅材を選択することで高い導電性を確保することが考えられる。
【００１３】
しかしながら、この無酸素銅（ＯＦＣ）を原料とし、導電性を維持すべく他の元素を添加せずに使用した場合には、銅荒引線の加工度をあげて伸線することにより無酸素銅線内部の結晶組織を細かくすることによって耐屈曲性を向上させるとする考え方も有効かもしれないが、この場合には、伸線加工による加工硬化により硬質線材としての用途には適しているが、軟質線材への適用ができないという問題がある。
【００１４】
また、現在多用されている黄銅線や複合線にも問題がないわけではない。従来、金型加工、部品加工用として多用されている鋼材種として、炭素工具鋼（ＳＫＤ−１１等）や合金工具鋼（ＳＫ−３等）の一般鋼材がある。これらは黄銅線や複合線は十分な加工速度や形状精度向上の面では評価すべきものがあり、多用されている。しかしながら、最近では形彫用電極鋼材としてのグラファイト材やリードフレーム型プレス用の超硬材、また、航空機用部品金型鋼であるＴｉ合金、インコネル（Ｎｉ系合金鋼）、セラミック材等、これまでワイヤカットではなじみのない焼結金属鋼の需要が急速に増加している。
【００１５】
これらの焼結金属鋼の加工において黄銅線を用いると、不均一放電（ハンチングや二次放電が発生）による断線が多発し、作業性及び効率が著しく低下する。特に、厚物加工（タービンブレード等）においては断線が発生するため、加工条件を落とし、加工速度を下げた状態で加工することを要する。また、加工物の上下の寸法精度がプログラムされた要求精度に入らないといった致命的な金型・部品加工欠陥が発生する。特に複合線においては、ワイヤ表層部の被覆層が消耗するので、厚物加工においては板厚制限を受けることにより加工範囲が極端に絞られることがある。
【００１６】
また、これまで切削加工等で行われていたテーパー加工も、新たな加工方法としてワイヤ放電加工機を用いることで加工が可能になった。これに伴い、テーパー加工における加工分野において、加工の自動化等の使い勝手や精度向上面から、切削加工からワイヤカットへと加工方法が変化してきた。
【００１７】
ところが、現在多用されている黄銅線や複合線を用いたテーパー加工を行うと、ワイヤ剛性が強いために上下ノズルからのたわみが生じ、プログラム設定されたテーパー角度に制御加工できないといった致命的な欠陥が生ずる。したがって、グラファイト等の焼結金属鋼、難削鋼材加工用やテーパー加工用として新規電極線の開発が必要とされた。
【００１８】
したがって、本発明の目的は、高い導電性を備え、かつ軟質銅材においても高い屈曲寿命を有する放電加工用電極線を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、上記課題を解決することを目的として、希薄銅合金材料からなる放電加工用電極線であって、前記希薄銅合金材料が、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｂ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＣｒからなる群から選択される添加元素を含み残部が不可避的不純物からなる軟質希薄銅合金材料であり、２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上１２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の硫黄と、２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超える量の酸素とを含む放電加工用電極線が提供される。
【００２０】
また、上記放電加工用電極線において、導電率が９８％ＩＡＣＳ以上であってもよい。
【００２１】
また、上記放電加工用電極線において、軟化温度がφ２．６ｍｍサイズで１３０℃以上１４８℃以下であってもよい。
【００２２】
また、上記放電加工用電極線において、前記添加元素がＴｉであり、前記Ｔｉの前記希薄銅合金材料に対する添加量が、４ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上５５ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下であってもよい。
【００２３】
また、上記放電加工用電極線が、ワイヤカット放電加工時にテーパー加工を施すためのテーパー加工用電極線であってもよい。
【００２４】
また、上記放電加工用電極線が、難削材を加工するためのワイヤ放電加工用電極線であってもよい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る放電加工用電極線は、高い導電性を備え、かつ軟質銅材においても高い屈曲寿命を有する放電加工用電極線を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】ＴｉＳ粒子のＳＥＭ像である。
【図２】図１の分析結果を示す図である。
【図３】ＴｉＯ２粒子のＳＥＭ像である。
【図４】図３の分析結果を示す図である。
【図５】Ｔｉ−Ｏ−Ｓ粒子のＳＥＭ像である。
【図６】図５の分析結果を示す図である。
【図７】屈曲疲労試験の概要を示す図である。
【図８】４００℃で１時間の焼鈍処理を施した後の、無酸素銅を用いた比較例１３に係るワイヤロッドと、低酸素銅にＴｉを添加した軟質希薄銅合金線を用いて作製した実施例７に係るワイヤロッドとの屈曲寿命を測定した結果を示す図である。
【図９】６００℃で１時間の焼鈍処理を施した後の、無酸素銅を用いた比較例１４に係るワイヤロッドと、低酸素銅にＴｉを添加した軟質希薄銅合金線を用いて作製した実施例８に係るワイヤロッドとの屈曲寿命を測定した結果を示す図である。
【図１０】比較例１４に係る試料の幅方向の断面組織を示す図である。
【図１１】実施例８に係る試料の幅方向の断面組織を示す図である。
【図１２】表層における平均結晶粒サイズの測定方法の概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本実施の形態に係る放電加工用電極線は、Ｔｉドープ材を用いた焼結金属・難削鋼材用の放電加工用電極線、及び／又はテーパー加工用の放電加工用電極線として用いられる。例えば、放電加工用電極線は、ワイヤカット放電加工時にテーパー加工を施すためのテーパー加工用電極線、又は難削材（例えば、グラファイトや焼結金属等）を加工するためのワイヤ放電加工用電極線である。
【００２８】
そして、本実施の形態に係る放電加工用電極線は、導電率９８％ＩＡＣＳ（万国標準軟銅（Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ａｎｎｅｌｄ  Ｃｏｐｐｅｒ  Ｓｔａｎｄａｒｄ）以上、抵抗率１．７２４１×１０−８Ωｍを１００％とした場合の導電率）、好ましくは１００％ＩＡＣＳ以上、より好ましくは１０２％ＩＡＣＳ以上を満足する軟質型銅材としての軟質希薄銅合金材料を用いて構成される。
【００２９】
また、本実施の形態に係る放電加工用電極線は、ＳＣＲ連続鋳造設備を用い、表面の傷が少なく、製造範囲が広く、安定生産が可能で、加工度９０％（例えば、φ８ｍｍからφ２．６ｍｍのワイヤへの加工）での軟化温度が１４８℃以下の材料を用いて構成される。
【００３０】
具体的に、本実施の形態に係る放電加工用電極線は、希薄銅合金材料からなる放電加工用電極線であって、希薄銅合金材料が、添加元素を含み残部が不可避的不純物からなる軟質希薄銅合金材料であり、２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上１２ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の硫黄と、２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の酸素とを含んで構成される。２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の酸素を含有していることから、この実施の形態では、いわゆる低酸素銅（ＬＯＣ）を対象としている。
【００３１】
本実施の形態に係る放電加工用電極線は、導電率が９８％ＩＡＣＳ以上であり、軟化温度がφ２．６ｍｍサイズで１３０℃以上１４８℃以下であることが好ましい。そして、添加元素は、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｂ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＣｒからなる群から選択される添加元素が放電加工用電極線に添加される。ここで、添加元素がＴｉの場合、Ｔｉの希薄銅合金材料に対する添加量は、４ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上５５ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下であることが好ましい。添加元素としてＴｉ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｎ、及びＣｒからなる群から選択される元素を選択した理由は、これらの元素は他の元素と結合しやすい活性元素であり、Ｓと結合しやすいためＳをトラップすることができ、銅母材（マトリクス）を高純度化することができるためである。添加元素は１種以上含まれていてもよい。また、合金の性質に悪影響を及ぼすことのないその他の元素及び不純物を合金に含有させることもできる。また、以下に説明する好適な実施の形態においては、酸素含有量が２を超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下が良好であることを説明しているが、添加元素の添加量及びＳの含有量によっては、合金の性質を備える範囲において、２を超え４００ｍａｓｓ  ｐｐｍを含むことができる。
【００３２】
以下、本実施の形態に係る放電加工用電極線の実現において、本発明者が検討した内容を説明する。
【００３３】
まず、純度が６Ｎ（つまり、９９．９９９９％）の高純度銅は、加工度９０％における軟化温度は１３０℃である。したがって、本発明者は、安定生産することができる１３０℃以上１４８℃以下の軟化温度で軟質材の導電率が９８％ＩＡＣＳ以上、好ましくは１００％ＩＡＣＳ以上、より好ましくは１０２％ＩＡＣＳ以上である軟質銅を安定して製造することができる軟質希薄銅合金材料と、この軟質希薄銅合金材料の製造方法について検討した。
【００３４】
ここで、酸素濃度が１〜２ｍａｓｓ  ｐｐｍである高純度銅（４Ｎ）を準備して、実験室に設置した小型連続鋳造機（小型連鋳機）を用い、このＣｕをＣｕの溶湯にした。そして、この溶湯にチタンを数ｍａｓｓ  ｐｐｍ添加した。続いて、チタンを添加した溶湯からφ８ｍｍのワイヤロッドを製造した。次に、φ８ｍｍのワイヤロッドをφ２．６ｍｍに加工した（つまり、加工度が９０％である）。このφ２．６ｍｍのワイヤロッドの軟化温度は１６０℃〜１６８℃であり、この温度より低い軟化温度にはならなかった。また、このφ２．６ｍｍのワイヤロッドの導電率は、１０１．７％ＩＡＣＳ程度であった。つまり、ワイヤロッドに含まれる酸素濃度を低下させ、チタンを溶湯に添加してもワイヤロッドの軟化温度を低下させることができないと共に、高純度銅（６Ｎ）の導電率１０２．８％ＩＡＣＳよりも導電率が低いという知見を本発明者は得た。
【００３５】
軟化温度を低下させることができず、導電率が６Ｎの高純度銅より低くなった原因は、溶湯の製造中に不可避的不純物としての数ｍａｓｓ  ｐｐｍ以上の硫黄（Ｓ）が含まれることに起因すると推測された。すなわち、溶湯に含まれている硫黄とチタンとの間でＴｉＳ等の硫化物が十分に形成されないことに起因して、ワイヤロッドの軟化温度が低下しないものと推測された。
【００３６】
そこで、本発明者は、軟質希薄銅合金材料の軟化温度の低下と、軟質希薄銅合金材料の導電率の向上とを実現すべく、以下の二つの方策を検討した。そして、以下の二つの方策を銅ワイヤロッドの製造に併せ用いることで、本実施の形態に係る放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料を得た。
【００３７】
図１は、ＴｉＳ粒子のＳＥＭ像であり、図２は、図１の分析結果を示す。また、図３は、ＴｉＯ２粒子のＳＥＭ像であり、図４は、図３の分析結果を示す。更に、図５は、Ｔｉ−Ｏ−Ｓ粒子のＳＥＭ像であり、図６は、図５の分析結果を示す。なお、ＳＥＭ像において、中央付近に各粒子が撮像されている。図１〜６は、表１の実施例１の上から三段目に示す酸素濃度、硫黄濃度、Ｔｉ濃度をもつφ８ｍｍの銅線（ワイヤロッド）の横断面をＳＥＭ観察及びＥＤＸ分析にて評価したものである。観察条件は、加速電圧１５ｋｅＶ、エミッション電流１０μＡとした。
【００３８】
まず、第１の方策は、酸素濃度が２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超える量のＣｕに、チタン（Ｔｉ）を添加した状態で、Ｃｕの溶湯を作製することである。この溶湯中においては、ＴｉＳとチタンの酸化物（例えば、ＴｉＯ２）とＴｉ−Ｏ−Ｓ粒子とが形成されると考えられる。これは、図１のＳＥＭ像と図２の分析結果、図３のＳＥＭ像と図４の分析結果からの考察である。なお、図２、図４、及び図６において、Ｐｔ及びＰｄはＳＥＭ観察する際に観察対象物に蒸着する金属元素である。
【００３９】
次に、第２の方策は、銅中に転位を導入することにより硫黄（Ｓ）の析出を容易にすることを目的として、熱間圧延工程における温度を通常の銅の製造条件における温度（つまり、９５０℃〜６００℃）より低い温度（８８０℃〜５５０℃）に設定することである。このような温度設定により、転位上へのＳの析出、又はチタンの酸化物（例えば、ＴｉＯ２）を核としてＳを析出させることができる。一例として、図５及び図６のように、溶銅と共にＴｉ−Ｏ−Ｓ粒子等が形成される。
【００４０】
以上の第１の方策及び第２の方策により、銅に含まれる硫黄が晶出すると共に析出するので、冷間伸線加工後に所望の軟化温度と所望の導電率とを有する銅ワイヤロッドを得ることができる。
【００４１】
また、本実施の形態に係る放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料は、ＳＣＲ連続鋳造圧延設備を用いて製造する。ここで、ＳＣＲ連続鋳造圧延設備を用いる場合における製造条件の制限として、以下の３つの条件を設けた。
【００４２】
（１）組成について
導電率が９８％ＩＡＣＳ以上の軟質銅材を得る場合、不可避的不純物を含む純銅（ベース素材）として、３〜１２ｍａｓｓ  ｐｐｍの硫黄と、２を超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の酸素と、４〜５５ｍａｓｓ  ｐｐｍのチタンとを含む軟質希薄銅合金材料を用い、この軟質希薄銅合金材料からワイヤロッド（荒引き線）を製造する。
【００４３】
ここで、導電率が１００％ＩＡＣＳ以上の軟質銅材を得る場合には、不可避的不純物を含む純銅（ベース素材）として、２〜１２ｍａｓｓ  ｐｐｍの硫黄と、２を超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の酸素と、４〜３７ｍａｓｓ  ｐｐｍのチタンとを含む軟質希薄銅合金材料を用いる。また、導電率が１０２％ＩＡＣＳ以上の軟質銅材を得る場合には、不可避的不純物を含む純銅（ベース素材）として、３〜１２ｍａｓｓ  ｐｐｍの硫黄と、２を超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の酸素と、４〜２５ｍａｓｓ  ｐｐｍのチタンとを含む軟質希薄銅合金材料を用いる。
【００４４】
通常、純銅の工業的製造において、電気銅を製造する際に硫黄が銅の中に取り込まれるので、硫黄を３ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下にすることは困難である。汎用電気銅の硫黄濃度の上限は、１２ｍａｓｓ  ｐｐｍである。
【００４５】
酸素濃度が低い場合、放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料の軟化温度が低下しにくいので、酸素濃度は２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超える量に制御する。また、酸素濃度が高い場合、熱間圧延工程で放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料の表面に傷が生じやすくなるので、３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下に制御する。
【００４６】
（２）分散している物質について
放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料内に分散している分散粒子のサイズは小さいことが好ましく、また、放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料内に分散粒子が多く分散していることが好ましい。その理由は、分散粒子は、硫黄の析出サイトとしての機能を有するからであり、析出サイトとしてはサイズが小さく、数が多いことが要求されるからである。
【００４７】
放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料に含まれる硫黄及びチタンは、ＴｉＯ、ＴｉＯ２、ＴｉＳ、若しくはＴｉ−Ｏ−Ｓ結合を有する化合物又はＴｉＯ、ＴｉＯ２、ＴｉＳ、若しくはＴｉ−Ｏ−Ｓ結合を有する化合物の凝集物として含まれ、残部のＴｉ及びＳが固溶体として含まれる。放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料としては、ＴｉＯが２００ｎｍ以下のサイズを有し、ＴｉＯ２が１０００ｎｍ以下のサイズを有し、ＴｉＳが２００ｎｍ以下のサイズを有し、Ｔｉ−Ｏ−Ｓの形の化合物が３００ｎｍ以下のサイズを有しており、これらが結晶粒内に分布している軟質希薄銅合金材料を用いる。
【００４８】
なお、鋳造時の溶銅の保持時間及び冷却条件に応じて結晶粒内に形成される粒子サイズが変動するので、鋳造条件も適切に設定する。
【００４９】
（３）鋳造条件について
ＳＣＲ連続鋳造圧延により、鋳塊ロッドの加工度が９０％（３０ｍｍ）〜９９．８％（５ｍｍ）でワイヤロッドを作製する。一例として、加工度９９．３％でφ８ｍｍのワイヤロッドを製造する条件を採用する。以下、鋳造条件（ａ）〜（ｃ）について説明する。
【００５０】
［鋳造条件（ａ）］
溶解炉内での溶銅温度は１１００℃以上１３２０℃以下に制御する。溶銅の温度が高いとブローホールが多くなり、傷が発生すると共に粒子サイズが大きくなる傾向にあるので１３２０℃以下に制御する。また、１１００℃以上に制御する理由は、銅が固まりやすく、製造が安定しないことが理由であるものの、溶銅温度は可能な限り低い温度が望ましい。
【００５１】
［鋳造条件（ｂ）］
熱間圧延加工の温度は、最初の圧延ロールにおける温度を８８０℃以下に制御すると共に、最終圧延ロールでの温度を５５０℃以上に制御する。
【００５２】
通常の純銅の製造条件と異なり、溶銅中での硫黄の晶出及び熱間圧延中における硫黄の析出の駆動力である固溶限をより小さくすることを目的として、溶銅温度及び熱間圧延加工の温度を「鋳造条件（ａ）」及び「鋳造条件（ｂ）」において説明した条件に設定することが好ましい。
【００５３】
また、通常の熱間圧延加工における温度は、最初の圧延ロールにおいて９５０℃以下、最終圧延ロールにおいて６００℃以上であるが、固溶限をより小さくすることを目的として、本実施の形態では、最初の圧延ロールにおいて８８０℃以下、最終圧延ロールにおいて５５０℃以上に設定する。
【００５４】
なお、最終圧延ロールにおける温度を５５０℃以上に設定する理由は、５５０℃未満の温度では得られるワイヤロッドの傷が多くなり、製造される放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料を製品として扱うことができないからである。熱間圧延加工における温度は、最初の圧延ロールにおいて８８０℃以下の温度、最終圧延ロールにおいて５５０℃以上の温度に制御すると共に、可能な限り低い温度であることが好ましい。このような温度設定にすることで、放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料の軟化温度（φ８〜φ２．６ｍｍに加工した後の軟化温度）を、６ＮのＣｕの軟化温度（つまり、１３０℃）に近づけることができる。
【００５５】
無酸素銅の導電率は１０１．７％ＩＡＣＳ程度であり、６Ｎの高純度銅の導電率は１０２．８％ＩＡＣＳである。本実施の形態においては、例えば、直径φ８ｍｍサイズのワイヤロッドの導電率が９８％ＩＡＣＳ以上、好ましくは１００％ＩＡＣＳ以上、より好ましくは１０２％ＩＡＣＳ以上である。また、本実施の形態においては、冷間伸線加工後の線材（例えば、φ２．６ｍｍ）のワイヤロッドの軟化温度が１３０℃以上１４８℃である軟質希薄銅合金を製造し、この軟質希薄銅合金を放電加工用電極線の製造に用いる。
【００５６】
工業的に用いるためには、電気銅から製造した工業的に利用される純度の軟質銅線の導電率として、９８％ＩＡＣＳ以上の導電率が要求される。また、軟化温度は工業的価値から判断して１４８℃以下である。６ＮのＣｕの軟化温度は１２７℃〜１３０℃であるので、得られたデータから軟化温度の上限値を１３０℃に設定する。このわずかな違いは、６ＮのＣｕには含まれていない不可避的不純物の存在に起因する。
【００５７】
ベース材の銅は、シャフト炉で溶解された後、還元状態で樋に流すことが好ましい。すなわち、還元ガス（例えば、ＣＯ）雰囲気下において、希薄合金の硫黄濃度、チタン濃度、及び酸素濃度を制御しつつ鋳造すると共に、材料に圧延加工を施すことにより、ワイヤロッドを安定的に製造することが好ましい。なお、銅酸化物が混入すること、及び／又は粒子サイズが所定サイズより大きいことは、製造される放電加工用電極線の品質を低下させる。
【００５８】
ここで、放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料にチタンを添加物として添加した理由は次のとおりである。すなわち、（ａ）チタンは溶融銅の中で硫黄と結合することにより化合物になりやすく、（ｂ）Ｚｒ等の他の添加金属に比べて加工が容易で扱いやすく、（ｃ）Ｎｂ等に比べて安価であり、（ｄ）酸化物を核として析出しやすいからである。
【００５９】
以上より、生産性が高く、導電率、軟化温度、表面品質に優れた実用的な軟質希薄銅合金材料を、本実施の形態に係る放電加工用電極線を構成する軟質希薄銅合金材料の原料として得ることができる。なお、軟質希薄銅合金材料の表面にめっき層を形成することもできる。めっき層は、例えば、錫、ニッケル、銀を主成分とする材料、又はＰｂフリーめっきを用いることができる。
【００６０】
また、本実施の形態では、ＳＣＲ連続鋳造圧延によりワイヤロッドを作製すると共に、熱間圧延にて軟質材を作製したが、双ロール式連続鋳造圧延及びプロペルチ式連続鋳造圧延法を採用することもできる。
【００６１】
（実施の形態の効果）
本実施の形態に係る放電加工用電極線は、銅合金をベースにし、グラファイト等の焼結金属・難削鋼材加工に優れた放電加工特性を有するワイヤ放電加工用電極線として用いることができる。例えば、添加元素を含む黄銅ベースを主体とした電極線や複合線では一般鋼材とされる炭素工具鋼・合金工具鋼に対しては優れた放電加工特性を有しているものの、グラファイト等の焼結金属・難削鋼材に対しては、断線限界が低い、形状精度不良が発生する、面精度が劣るといった金型製作において致命的な放電加工特性の欠陥が生ずるが、本実施の形態に係る放電加工用電極線ではそのような欠陥が生じない。また、テーパー加工時には、従来の黄銅線や複合線だと上下ガイドからの線たわみが生じ、テーパー加工精度が確保されず、実用的ではないが、本実施の形態に係る放電加工用電極線においてはこのような欠点も生じない。
【実施例】
【００６２】
表１は実験条件と結果とを示す。
【００６３】
【表１】
2012086314.tif 000002
【００６４】
まず、実験材として、表１に示した酸素濃度、硫黄濃度、チタン濃度を有するφ８ｍｍの銅線（ワイヤロッド、加工度９９．３％）を作製した。φ８ｍｍの銅線は、ＳＣＲ連続鍛造圧延により、熱間圧延加工を施したものである。Ｔｉは、シャフト炉で溶解された銅溶湯を還元ガス雰囲気で樋に流し、樋に流した銅溶湯を同じ還元ガス雰囲気の鋳造ポットに導き、この鋳造ポットにて、Ｔｉを添加した後、これをノズルを通して鋳造輪と無端ベルトとの間に形成される鋳型にて鋳塊ロッドを作成した。この鋳塊ロッドを熱間圧延加工してφ８ｍｍの銅線を作成したものである。次に、各実験材に冷間伸線加工を施した。これにより、φ２．６ｍｍサイズの銅線を作製した。そして、φ２．６ｍｍサイズの銅線の半軟化温度と導電率とを測定すると共に、φ８ｍｍの銅線における分散粒子サイズを評価した。
【００６５】
酸素濃度は、酸素分析器（レコ（Ｌｅｃｏ（登録商標）酸素分析器）で測定した。硫黄、チタンの各濃度はＩＣＰ発光分光分析で分析した。
【００６６】
φ２．６ｍｍサイズにおける半軟化温度の測定は、４００℃以下で各温度１時間の保持後、水中急冷し、引張試験を実施し、その結果から求めた。室温での引張試験の結果と４００℃で１時間のオイルバス熱処理した軟質銅線の引張試験の結果を用いて求め、この２つの引張試験の引張強さを足して２で割った値を示す強度に対応する温度を半軟化温度と定義して求めた。
【００６７】
実施の形態で述べたとおり、軟質希薄銅合金線内に分散している分散粒子のサイズは小さいことが好ましく、また、軟質希薄銅合金線内に分散粒子が多く分散していることが好ましい。したがって、直径５００ｎｍ以下の分散粒子が９０％以上である場合を合格とした。ここに「サイズ」とは化合物のサイズであり、化合物の形状の長径と短径のうちの長径のサイズを意味する。また、「粒子」とは、前記ＴｉＯ、ＴｉＯ２、ＴｉＳ、Ｔｉ−Ｏ−Ｓのことを示す。また、「９０％」とは、全体の粒子数に対しての該当粒子数の割合を示すものである。
【００６８】
表１において比較例１は、実験室でＡｒ雰囲気において直径φ８ｍｍの銅線を試作した結果であり、銅溶湯にＴｉを０〜１８ｍａｓｓ  ｐｐｍ添加した。Ｔｉを添加していない銅線の半軟化温度が２１５℃であったのに対し、１３ｍａｓｓ  ｐｐｍのＴｉを添加した銅線の軟化温度は１６０℃まで低下した（実験した中では最小温度である。）。表１に示すとおり、Ｔｉ濃度が１５ｍａｓｓ  ｐｐｍ、１８ｍａｓｓ  ｐｐｍに増加するにつれ、半軟化温度も上昇しており、要求されている軟化温度である１４８℃以下を実現することはできなかった。また、工業的に要求されている導電率は９８％ＩＡＣＳ以上であったものの、総合評価は不合格（以下、不合格を「×」と表す）であった。
【００６９】
そこで、比較例２として、ＳＣＲ連続鋳造圧延法を用い、酸素濃度を７〜８ｍａｓｓ  ｐｐｍに調整したφ８ｍｍ銅線（ワイヤロッド）を試作した。
【００７０】
比較例２においては、ＳＣＲ連続鋳造圧延法で試作した中でＴｉ濃度が最小（つまり、０ｍａｓｓ  ｐｐｍ、２ｍａｓｓ  ｐｐｍ）の銅線であり、導電率は１０２％ＩＡＣＳ以上であったものの、半軟化温度が１６４℃、１５７℃であり、要求されている１４８℃以下ではなかったことから、総合評価は「×」であった。
【００７１】
実施例１においては、酸素濃度と硫黄濃度とが略一致（つまり、酸素濃度：７〜８ｍａｓｓ  ｐｐｍ、硫黄濃度：５ｍａｓｓ  ｐｐｍ）すると共に、Ｔｉ濃度が４〜５５ｍａｓｓ  ｐｐｍの範囲内で異なる銅線を試作した。
【００７２】
Ｔｉ濃度が４〜５５ｍａｓｓ  ｐｐｍの範囲では、軟化温度が１４８℃以下であり、導電率も９８％ＩＡＣＳ以上１０２％ＩＡＣＳ以上であり、分散粒子サイズは５００ｎｍ以下の粒子が９０％以上であり良好であった。また、ワイヤロッドの表面もきれいであり、いずれも製品性能を満たしていたので、総合評価は合格（以下、合格を「○」と表す）であった。
【００７３】
ここで、導電率１００％ＩＡＣＳ以上を満たす銅線は、Ｔｉ濃度が４〜３７ｍａｓｓ  ｐｐｍの場合であり、１０２％ＩＡＣＳ以上を満たす銅線は、Ｔｉ濃度が４〜２５ｍａｓｓ  ｐｐｍの場合であった。Ｔｉ濃度が１３ｍａｓｓ  ｐｐｍの場合に導電率は最大値である１０２．４％ＩＡＣＳを示し、この濃度の周辺では、導電率はわずかに低い値であった。これは、Ｔｉ濃度が１３ｍａｓｓ  ｐｐｍの場合に、銅の中の硫黄分を化合物として捕捉することで、高純度銅（６Ｎ）に近い導電率を示すためである。
【００７４】
よって、酸素濃度を高くし、Ｔｉを添加することで、半軟化温度と導電率との双方を満足させることができる。
【００７５】
比較例３においては、Ｔｉ濃度を６０ｍａｓｓ  ｐｐｍにした銅線を試作した。比較例３に係る銅線は、導電率は要求を満たすものの、半軟化温度は１４８℃以上であり、製品性能を満たしていなかった。更に、ワイヤロッドの表面の傷も多く、製品として採用することは困難であった。よって、Ｔｉの添加量は６０ｍａｓｓ  ｐｐｍ未満が好ましいことが示された。
【００７６】
実施例２に係る銅線おいては、硫黄濃度を５ｍａｓｓ  ｐｐｍに設定すると共に、Ｔｉ濃度を１３〜１０ｍａｓｓ  ｐｐｍの範囲で制御して、酸素濃度を変更することにより酸素濃度の影響を検討した。
【００７７】
酸素濃度に関しては、２ｍａｓｓ  ｐｐｍを超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下まで、大きく濃度が異なる銅線をそれぞれ作製した。ただし、酸素濃度が２ｍａｓｓ  ｐｐｍ未満の銅線は生産が困難で安定的に製造できないので、総合評価は「△」とした（なお、「△」は「○」と「×」との中間の評価である。）。また、酸素濃度を３０ｍａｓｓ  ｐｐｍにしても半軟化温度及び導電率の双方とも、要求を満たした。
【００７８】
比較例４においては、酸素濃度が４０ｍａｓｓ  ｐｐｍの場合に、ワイヤロッドの表面の傷が多く、製品として採用することができない状態であった。
【００７９】
よって、酸素濃度を２を超え３０ｍａｓｓ  ｐｐｍ以下の範囲にすることで、半軟化温度、導電率１０２％ＩＡＣＳ以上、分散粒子サイズのいずれの特性も満足させることができ、また、ワイヤロッドの表面もきれいであり、製品性能を満足させることができることが示された。
【００８０】
実施例３は、酸素濃度とＴｉ濃度とを互いに近づけた濃度に設定すると共に、硫黄濃度を４〜２０ｍａｓｓ  ｐｐｍの範囲内で変更した銅線である。実施例３においては、硫黄濃度が２ｍａｓｓ  ｐｐｍより小さい銅線については、原料の制約上、実現できなかった。しかしながら、Ｔｉ濃度と硫黄濃度とをそれぞれ制御することで、半軟化温度及び導電率の双方とも、要求を満たすことができた。
【００８１】
比較例５においては、硫黄濃度が１８ｍａｓｓ  ｐｐｍであり、Ｔｉ濃度が１３ｍａｓｓ  ｐｐｍである場合には、半軟化温度が１６２℃と高く、要求される特性を満足しなかった。また、特に、ワイヤロッドの表面品質が悪く、製品化は困難であった。
【００８２】
以上より、硫黄濃度が２〜１２ｍａｓｓ  ｐｐｍの範囲の場合には、半軟化温度、導電率１０２％ＩＡＣＳ以上、分散粒子サイズのいずれの特性も満足させることができ、また、ワイヤロッドの表面もきれいであり、製品性能を満足させることができることが示された。
【００８３】
比較例６は、６ＮのＣｕを用いた銅線である。比較例６に係る銅線においては、半軟化温度が１２７℃〜１３０℃であり、導電率が１０２．８％ＩＡＣＳであり、分散粒子サイズも５００ｎｍ以下の粒子は全く認められなかった。
【００８４】
表２には、製造条件としての溶融銅の温度と圧延温度とを示す。
【００８５】
【表２】
2012086314.tif 000003
【００８６】
比較例７においては、溶銅温度が１３３０℃〜１３５０℃で、かつ、圧延温度が９５０〜６００℃でφ８ｍｍのワイヤロッドを作製した。比較例７に係るワイヤロッドは、半軟化温度及び導電率は要求を満たすものの、分散粒子サイズに関しては１０００μｍ程度の粒子が存在しており、５００μｍ以上の粒子も１０％を超えて存在していた。よって、実施例７に係るワイヤロッドは不適と判定した。
【００８７】
実施例４においては、溶銅温度を１２００℃〜１３２０℃の温度範囲で制御すると共に、圧延温度を８８０℃〜５５０℃の温度範囲に制御してφ８ｍｍのワイヤロッドを作製した。実施例４に係るワイヤロッドは、ワイヤロッド表面の品質、分散粒子サイズが良好であり、総合評価は「○」であった。
【００８８】
比較例８においては、溶銅温度を１１００℃に制御すると共に、圧延温度を８８０℃〜５５０℃の温度範囲に制御してφ８ｍｍのワイヤロッドを作製した。比較例８に係るワイヤロッドは、溶銅温度が低いことからワイヤロッドの表面の傷が多く製品としては適さなかった。これは、溶銅温度が低いことから、圧延時に傷が発生しやすいことに起因するからである。
【００８９】
比較例９においては、溶銅温度を１３００℃に制御すると共に、圧延温度を９５０℃〜６００℃の温度範囲に制御してφ８ｍｍのワイヤロッドを作製した。比較例９に係るワイヤロッドは、熱間圧延工程における温度が高いことからワイヤロッドの表面の品質は良好であるものの、分散粒子サイズには大きいサイズが含まれ、総合評価は「×」になった。
【００９０】
比較例１０においては、溶銅温度を１３５０℃に制御すると共に、圧延温度を８８０℃〜５５０℃の温度範囲に制御してφ８ｍｍのワイヤロッドを作製した。比較例１０に係るワイヤロッドは、溶銅温度が高いことに起因して分散粒子サイズに大きなサイズが含まれ、総合評価は「×」になった。
【００９１】
（軟質希薄銅合金線の軟質特性）
表３は、無酸素銅線を用いた比較例１１に係るワイヤロッドと、低酸素銅に１３ｍａｓｓ  ｐｐｍのＴｉを含有させた軟質希薄銅合金線から作製した実施例５に係るワイヤロッドとについて、異なる焼鈍温度で１時間の焼鈍を施した後のビッカース硬さ（Ｈｖ）を測定した結果を示す。
【００９２】
【表３】
2012086314.tif 000004
【００９３】
実施例５に係るワイヤロッドは、表１の実施例１に記載した合金組成と同一の合金組成を有する。なお、試料としては、２．６ｍｍ径の試料を用いた。表３を参照すると、焼鈍温度が４００℃の場合及び６００℃の場合に、比較例１１に係るワイヤロッドと実施例５に係るワイヤロッドとのビッカース硬さは同等レベルであることが示された。したがって、実施例５に係るワイヤロッドは十分な軟質特性を有すると共に、無酸素銅線との比較においても、特に焼鈍温度が４００℃を超える温度範囲においては優れた軟質特性を発揮することが示された。
【００９４】
（軟質希薄銅合金線の耐力、及び屈曲寿命についての検討）
表４は、無酸素銅線を用いた比較例１２に係るワイヤロッドと、低酸素銅に１３ｍａｓｓ  ｐｐｍのＴｉを含有させた軟質希薄銅合金線を用いて作製した実施例６に係るワイヤロッドとについて、異なる焼鈍温度で１時間の焼鈍を施した後の０．２％耐力値の推移を測定した結果を示す。なお、試料としては、２．６ｍｍ径の試料を用いた。また、実施例６に係るワイヤロッドは、表１の実施例１に記載した合金組成と同一の合金組成を有する。
【００９５】
【表４】
2012086314.tif 000005
【００９６】
表４を参照すると、焼鈍温度が４００℃及び６００℃の場合に、比較例１２に係るワイヤロッドと実施例６に係るワイヤロッドとの０．２％耐力値が同等レベルであることが示された。
【００９７】
図７は、屈曲疲労試験の概要を示し、図８は、４００℃で１時間の焼鈍処理を施した後の、無酸素銅を用いた比較例１３に係るワイヤロッドと、低酸素銅にＴｉを添加した軟質希薄銅合金線を用いて作製した実施例７に係るワイヤロッドとの屈曲寿命を測定した結果を示す。
【００９８】
試料としては、０．２６ｍｍ径の線材に対して焼鈍温度４００℃で１時間の焼鈍を施した試料を用い、比較例１３に係るワイヤロッドは比較例１１に係るワイヤロッドと同一の成分組成を有し、実施例７に係るワイヤロッドは実施例５に係るワイヤロッドと同一の成分組成を有する。
【００９９】
屈曲寿命の測定は、屈曲疲労試験を用いて実施した。屈曲疲労試験は、試料に荷重を負荷し、試料表面に引張と圧縮との繰り返し曲げひずみを与える試験である。具体的には、まず、図７の（Ａ）に示すように、屈曲ヘッド１４が備えるクランプ１２に試料２０を固定すると共に曲げ冶具（つまり、リング１０）の間に試料２０をセットする。そして、試料２０に対し、錘１６により荷重を負荷する。次に、図７の（Ｂ）に示すようにリング１０を９０度回転させることにより試料２０に曲げを与える。この操作で、リング１０に接している試料２０の表面には圧縮ひずみが発生し、圧縮ひずみが発生している表面の反対側の表面には引張ひずみが発生する。
【０１００】
その後、再び図７の（Ａ）の状態（つまり、試料２０に曲げが加えられていない状態）に試料２０は戻る。続いて、図７の（Ｃ）に示すように、図７の（Ｂ）における場合と反対方向にリング１０を９０度回転させることにより試料２０に曲げを与える。この操作で、リング１０に接している試料２０の表面には圧縮ひずみが発生し、圧縮ひずみが発生している表面の反対側の表面には引張ひずみが発生する。そして、再び図７の（Ａ）の状態に試料２０は戻る。この屈曲疲労の１サイクル（なお、図７の（Ａ）の状態から（Ｂ）の状態になり、（Ｂ）の状態から（Ａ）の状態に戻り、（Ａ）の状態から（Ｃ）の状態になり、（Ｃ）の状態から（Ａ）の状態に戻るサイクルを１サイクルとする。）に要する時間は４秒である。
【０１０１】
表面曲げひずみは、「表面曲げひずみ（％）＝ｒ／（Ｒ＋ｒ）×１００（％）」から算出される。なお、「Ｒ」は、素線曲げ半径（３０ｍｍ）であり、「ｒ」は、素線半径である。
【０１０２】
図８に示すように、実施例７に係るワイヤロッドは、比較例１３に係るワイヤロッドに比べて高い屈曲寿命特性を示した。
【０１０３】
図９は、６００℃で１時間の焼鈍処理を施した後の、無酸素銅を用いた比較例１４に係るワイヤロッドと、低酸素銅にＴｉを添加した軟質希薄銅合金線を用いて作製した実施例８に係るワイヤロッドとの屈曲寿命を測定した結果を示す。
【０１０４】
試料としては、０．２６ｍｍ径の線材に対して焼鈍温度６００℃で１時間の焼鈍を施した試料を用い、比較例１４に係るワイヤロッドは比較例１１に係るワイヤロッドと同一の成分組成を有し、実施例８に係るワイヤロッドは実施例５に係るワイヤロッドと同一の成分組成を有する。また、屈曲寿命の測定は、図８に示す測定方法と同様に実施した。その結果、実施例８に係るワイヤロッドは、比較例１４に係るワイヤロッドに比べて高い屈曲寿命特性を示した。
【０１０５】
実施例７、実施例８、比較例１３、及び比較例１４に係るワイヤロッドの屈曲寿命測定の結果は、いずれの焼鈍条件下においても実施例７及び実施例８に係るワイヤロッドの方が、比較例１３及び比較例１４に係るワイヤロッドに比べて０．２％耐力値が大きい値を示すことに起因と理解できる。
【０１０６】
（軟質希薄銅合金線の結晶構造についての検討）
図１０は、比較例１４に係る試料の幅方向の断面組織を示し、図１１は、実施例８に係る試料の幅方向の断面組織を示す。
【０１０７】
図１０を参照すると、比較例１４の結晶構造は、表面部から中央部にかけて全体的に大きさの等しい結晶粒が均一に並んでいることが分かる。一方、実施例８の結晶構造は、全体的に結晶粒の大きさがまばらであり、試料の断面方向の表面付近に薄く形成されている層における結晶粒サイズが内部の結晶粒サイズに比べて極めて小さくなっている。
【０１０８】
本発明者は、比較例１４には形成されていない表層に現れた微細結晶粒層が実施例８の屈曲特性の向上に寄与しているものと考えている。
【０１０９】
通常、焼鈍温度６００℃で１時間の焼鈍処理を実行すれば、比較例１４のように再結晶により均一に粗大化した結晶粒が形成されると理解される。しかし、本実施例においては、焼鈍温度６００℃で１時間の焼鈍処理を実行しても表層には微細結晶粒層が残存している。したがって、本実施例では、軟質銅材でありながら屈曲特性に優れた軟質希薄銅合金材料が得られたと考えられる。
【０１１０】
また、図１０及び図１１に示す結晶構造の断面写真を基に、実施例８及び比較例１４に係る試料の表層における平均結晶粒サイズを測定した。
【０１１１】
図１２は、表層における平均結晶粒サイズの測定方法の概要を示す。
【０１１２】
図１２に示すように、０．２６ｍｍ径の幅方向断面の表面から深さ方向に１０μｍ間隔で５０μｍの深さまでの長さ１ｍｍの線上の範囲で、結晶粒サイズを測定した。そして、各測定値（実測値）から平均値を求め、この平均値を平均結晶粒サイズにした。
【０１１３】
測定の結果、比較例１４の表層における平均結晶粒サイズは、５０μｍであったのに対し、実施例８の表層における平均結晶粒サイズは、１０μｍであり、大きく異なっていた。表層の平均結晶粒サイズが細かいことにより、屈曲疲労試験による亀裂の進展が抑制され、屈曲疲労寿命が延びたと考えられる（なお、結晶粒サイズが大きいと、結晶粒界に沿って亀裂が進展する。しかし、結晶粒サイズが小さいと亀裂の進展方向が変わるので、進展が抑制される。）。このことが、上述のとおり、比較例と実施例との屈曲特性の面で大きな相違が生じた理由であると考えられる。
【０１１４】
また、２．６ｍｍ径である実施例６及び比較例１２の表層における平均結晶粒サイズは、２．６ｍｍ径の幅方向断面の表面から深さ方向に５０μｍの深さのところの長さ１０ｍｍの範囲での結晶粒サイズを測定した。
【０１１５】
測定の結果、比較例１２の表層における平均結晶粒サイズは１００μｍであったのに対し、実施例６の表層における平均結晶粒サイズは２０μｍであった。
【０１１６】
本実施例の効果を奏するには、表層の平均結晶粒サイズの上限値としては２０μｍ以下が好ましい。また、製造上の限界値を考慮すると、５μｍ以上の平均結晶粒サイズであることが好ましい。
【０１１７】
また、実施例に係る素材を用いた放電加工用電極線の製造方法としては、表１に示す実施例１の上から３番目の素材（φ２．６ｍｍ）に３００℃で１時間の焼鈍処理を施した後、φ０．２５ｍｍの製品サイズまで伸線加工を施した。この素材は、溶銅温度１３２０℃、かつ、圧延温度を８８０℃〜５５０℃でφ８ｍｍのワイヤロッドを作成し、このワイヤロッドに伸線加工を施してφ２．６ｍｍの伸線材を用いたものである。
【０１１８】
また、この製造工程において放電加工の難易度を観測し、各種鋼材における放電加工特性として、加工速度、形状精度、面精度、テーパー精度、及び断線の有無を確認した。その結果を表５に示す。
【０１１９】
【表５】
2012086314.tif 000006
【０１２０】
上記の電極線を用い、板厚７０ｍｍのＳＫＤ−１１（ＪＩＳ  Ｇ４４０４に規定の冷間ダイス鋼）とグラファイト材（ＥＤ−４、イビデン製）の２種類の鋼材に対し、１０ｍｍ角パンチ形状加工を用いて放電加工を施した。同一加工条件を用い比較テストによって得られたデータが表５に示されている。表５中の加工速度比率は現在多用されているＣｕ６５％−Ｚｎ３５％からなる黄銅線を１００とした時の相対比率で示した。加工速度は１００を基準としてそれより大きな数値だと速いことを意味する。また、形状精度、面精度、テーパー角度については基準値１００より小さい数値が優れていることを示す。
【０１２１】
表５において、ＳＫＤ−１１鋼材を用いた実施例は、比較例であるＣｕ６５％−Ｚｎ３５％黄銅と比べ、放電加工特性、及び断線限界に大きな優位性は認められないものの、加工物がＧｒ（グラファイト）である場合、すべての放電加工特性が向上しており、放電加工中の断線も観察されなかった。黄銅線はＳＫＤ−１１での加工では断線は発生しないものの、Ｇｒの加工では断線が多発し、作業効率を著しく低下させた。
【０１２２】
以上、本発明の実施の形態及び実施例を説明したが、上記に記載した実施の形態及び実施例は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態及び実施例の中で説明した特徴の組合せのすべてが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。
【符号の説明】
【０１２３】
１０  リング
１２  クランプ
１４  屈曲ヘッド
１６  錘
２０  試料
【図２】
2012086314.tif 000007
【図４】
2012086314.tif 000008
【図６】
2012086314.tif 000009
【図７】
2012086314.tif 000010
【図８】
2012086314.tif 000011
【図９】
2012086314.tif 000012
【図１２】
2012086314.tif 000013
【図１】
2012086314.tif 000014
【図３】
2012086314.tif 000015
【図５】
2012086314.tif 000016
【図１０】
2012086314.tif 000017
【図１１】
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