(57)【要約】【課題】透明電極に対する視認性を大幅に軽減する。【解決手段】各下側透明電極１１ａで構成される下側電極列１１が透明基板２上に複数列並設された下側透明導電層３と、その表面に形成された透明絶縁層４と、下側透明電極１１ａ間に形成される隙間内に配置された複数の上側透明電極２１ａで構成される上側電極列２１が透明絶縁層４の表面に下側電極列１１と交差する状態で複数列並設された上側透明導電層５とを有し、下側透明導電層３は、下側電極列１１を１列ずつ含んで分割された下側帯状領域Ａの下側電極列１１を除く全域に下側透明電極１１ａの厚み未満の厚みに形成された下側薄層部１２を備え、上側透明導電層５は、上側電極列を１列ずつ含んで分割された上側帯状領域Ｃの上側電極列２１を除く全域に上側透明電極２１ａの厚み未満の厚みに形成された上側薄層部２２を備えている。【選択図】図１
2012216146.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに連結された複数の下側透明電極で構成される下側電極列が透明基板の一方の表面に複数列並設して形成された下側透明導電層と、当該下側透明導電層の表面に形成された透明絶縁層と、平面視した状態において前記下側透明電極間に形成される隙間内に配置されて互いに連結された複数の上側透明電極で構成される上側電極列が前記透明絶縁層の表面に前記下側電極列と交差する状態で複数列並設して形成された上側透明導電層とを有し、
前記上側透明導電層は、前記上側電極列毎に当該上側電極列を１列ずつ含んで分割された上側帯状領域における当該上側電極列を除く全域に前記上側透明電極の厚み未満の厚みで形成された上側薄層部を備えているタッチパネル用積層体。
【請求項２】
前記下側透明導電層は、前記下側電極列毎に当該下側電極列を１列ずつ含んで分割された下側帯状領域における当該下側電極列を除く全域に前記下側透明電極の厚み未満の厚みで形成された下側薄層部を備えている請求項１記載のタッチパネル用積層体。
【請求項３】
前記上側薄層部の前記厚みは、１μｍ以上２０μｍ未満の範囲に規定されている請求項１記載のタッチパネル用積層体。
【請求項４】
前記下側薄層部の前記厚みは、１μｍ以上２０μｍ未満の範囲に規定されている請求項２記載のタッチパネル用積層体。
【請求項５】
請求項１記載のタッチパネル用積層体の製造方法であって、
前記透明基板の一方の表面に透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記下側電極列に対応するマスクパターンを前記透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記透明導電層をマスク部位のみを残してエッチングして前記下側電極列を複数列形成するエッチング工程とを実施して第１積層体を作製し、
他の透明基板の一方の表面に他の透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記上側電極列に対応するマスクパターンを前記他の透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記他の透明導電層を当該他の透明導電層における非マスク部位の厚みが前記上側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記上側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記他の透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該他の透明導電層を前記上側電極列を１列ずつ含む前記上側帯状領域に分割することによって前記上側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第２積層体を作製し、
前記第１積層体と前記第２積層体とを積層するタッチパネル用積層体の製造方法。
【請求項６】
請求項２記載のタッチパネル用積層体の製造方法であって、
前記透明基板の一方の表面に透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記下側電極列に対応するマスクパターンを前記透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記透明導電層を当該透明導電層における非マスク部位の厚みが前記下側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記下側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該透明導電層を前記下側電極列を１列ずつ含む前記下側帯状領域に分割することによって前記下側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第１積層体を作製し、
他の透明基板の一方の表面に他の透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記上側電極列に対応するマスクパターンを前記他の透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記他の透明導電層を当該他の透明導電層における非マスク部位の厚みが前記上側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記上側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記他の透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該他の透明導電層を前記上側電極列を１列ずつ含む前記上側帯状領域に分割することによって前記上側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第２積層体を作製し、
前記第１積層体と前記第２積層体とを積層するタッチパネル用積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電容量式タッチパネルに使用されるタッチパネル用積層体、およびこのタッチパネル用積層体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種のタッチパネル用積層体として、下記特許文献１に開示された積層体が知られている。まず、この積層体５１の積層構造について図１３を参照して説明する。積層体５１は、同図に示すように、透明基板５２の一方の面上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ，インジウム錫酸化物）膜などの透明導電膜よりなる第１電極パターン５３と、ＩＴＯ膜などの透明導電膜よりなる第２電極パターン５４とが、中間絶縁層５５を挟んで積層されている。さらに、透明な保護膜５６が、第２電極パターン５４上に積層されている。
【０００３】
次に、この積層体５１の平面構造について図１４を参照して説明する。第１電極パターン５３を構成する１行のＸ電極体５３ａは、菱形状で複数のＸ電極５３ｂと、Ｘ電極５３ｂと同様にしてＩＴＯ膜などの透明導電膜で形成されたＸ導通部５３ｃとを備え、パネル平面視水平方向であるＸ方向で隣接するＸ電極５３ｂ同士がＸ導通部５３ｃで接続されて構成されている。また、このＸ電極体５３ａは複数行配置されている。一方、第２電極パターン５４を構成する１列のＹ電極体５４ａは、菱形状で複数のＹ電極５４ｂと、Ｙ電極５４ｂと同様にしてＩＴＯ膜などの透明導電膜で形成されたＹ導通部５４ｃとを備え、パネル平面視垂直方向であるＹ方向で隣接するＹ電極５４ｂ同士がＹ導通部５４ｃで接続されて構成されている。また、このＹ電極体５４ａは複数列配置されている。以上のように形成された第１電極パターン５３および第２電極パターン５４は、積層体５１を平面視した状態において、Ｘ電極５３ｂとＹ電極５４ｂとが重ならないように交互に配置されると共に、Ｘ導電部５３ｃとＹ導電部５４ｃとが交差するように配置されている。
【０００４】
このように構成されたタッチパネル用積層体を使用したタッチパネルセンサでは、指などの外部導体が保護膜５６に接触または接近した際に生じるＸ電極５３ｂとＹ電極５４ｂとの間の静電容量の変化に基づいて、外部導体のタッチパネル用積層体５１上での位置を検出可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１４０３６９号公報（第３−４，第１図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、上記のタッチパネル用積層体には、以下のような解決すべき課題が存在している。この種のタッチパネル用積層体は、ＬＣＤなどの画面上に配置されて使用されるものであるため、画面上に表示される画像の視認性を低下させるものであってはならない。しかしながら、第１電極パターン５３および第２電極パターン５４に使用されているＩＴＯ膜などの透明導電膜は、透明基板５２に一般的に用いられている透明樹脂（ポリエチレンテレフタレート）と比較して、非常に大きな屈折率を有している。また、上記の積層体５１では、図１４に示すように、平面視した状態において、第１電極パターン５３および第２電極パターン５４と共に、これらの電極パターン５３，５４間に生じる隙間５７（同図においてドットを付した領域）を介して透明基板５２が保護膜５６を通して視認される。したがって、この積層体５１には、両電極パターン５３，５４の屈折率と透明基板５２の屈折率の相違に起因して、保護膜５６側から見たときに、第１電極パターン５３および第２電極パターン５４が全体的に視認され、これにより、ＬＣＤの画面上に配置したときに、画面上に表示される画像の視認性や美観を低下させるという解決すべき課題が存在している。
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決すべくなされたものであり、透明電極に対する視認性を大幅に軽減し得るタッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成すべく本発明に係るタッチパネル用積層体は、互いに連結された複数の下側透明電極で構成される下側電極列が透明基板の一方の表面に複数列並設して形成された下側透明導電層と、当該下側透明導電層の表面に形成された透明絶縁層と、平面視した状態において前記下側透明電極間に形成される隙間内に配置されて互いに連結された複数の上側透明電極で構成される上側電極列が前記透明絶縁層の表面に前記下側電極列と交差する状態で複数列並設して形成された上側透明導電層とを有し、前記上側透明導電層は、前記上側電極列毎に当該上側電極列を１列ずつ含んで分割された上側帯状領域における当該上側電極列を除く全域に前記上側透明電極の厚み未満の厚みで形成された上側薄層部を備えている。
【０００９】
また、本発明に係るタッチパネル用積層体は、前記下側透明導電層は、前記下側電極列毎に当該下側電極列を１列ずつ含んで分割された下側帯状領域における当該下側電極列を除く全域に前記下側透明電極の厚み未満の厚みで形成された下側薄層部を備えている。
【００１０】
また、本発明に係るタッチパネル用積層体は、前記上側薄層部の前記厚みは、１μｍ以上２０μｍ未満の範囲に規定されている
【００１１】
また、本発明に係るタッチパネル用積層体は、前記下側薄層部の前記厚みは、１μｍ以上２０μｍ未満の範囲に規定されている。
【００１２】
また、本発明に係るタッチパネル用積層体の製造方法は、上記のタッチパネル用積層体の製造方法であって、前記透明基板の一方の表面に透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記下側電極列に対応するマスクパターンを前記透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記透明導電層をマスク部位のみを残してエッチングして前記下側電極列を複数列形成するエッチング工程とを実施して第１積層体を作製し、他の透明基板の一方の表面に他の透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記上側電極列に対応するマスクパターンを前記他の透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記他の透明導電層を当該他の透明導電層における非マスク部位の厚みが前記上側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記上側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記他の透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該他の透明導電層を前記上側電極列を１列ずつ含む前記上側帯状領域に分割することによって前記上側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第２積層体を作製し、前記第１積層体と前記第２積層体とを積層する。
【００１３】
また、本発明に係るタッチパネル用積層体の製造方法は、上記のタッチパネル用積層体の製造方法であって、前記透明基板の一方の表面に透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記下側電極列に対応するマスクパターンを前記透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記透明導電層を当該透明導電層における非マスク部位の厚みが前記下側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記下側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該透明導電層を前記下側電極列を１列ずつ含む前記下側帯状領域に分割することによって前記下側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第１積層体を作製し、他の透明基板の一方の表面に他の透明導電層を形成する導電層形成工程と、複数列の前記上側電極列に対応するマスクパターンを前記他の透明導電層の表面に配置するマスキング工程と、当該マスクパターンをマスクとして前記他の透明導電層を当該他の透明導電層における非マスク部位の厚みが前記上側薄層部の厚みとなるまでエッチングして前記上側電極列を複数列形成するエッチング工程と、前記他の透明導電層におけるエッチングされた前記非マスク部位に対してレーザ光を照射して当該他の透明導電層を前記上側電極列を１列ずつ含む前記上側帯状領域に分割することによって前記上側透明導電層を形成する分割工程とを実施して第２積層体を作製し、前記第１積層体と前記第２積層体とを積層する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る製造方法によって製造される本発明に係るタッチパネル用積層体では、上側透明導電層は、上側電極列毎に上側電極列を１列ずつ含んで分割された上側帯状領域における上側電極列を除く全域に上側透明電極の厚み未満の厚みで形成された上側薄層部を備えている。
【００１５】
したがって、このタッチパネル用積層体およびその製造方法によれば、上側透明導電層において透明導電層が取り除かれた部位は、各上側帯状領域を分割する各隙間のみとなる構成のため、透明保護膜側から透明基板を視認し得る部位を上側透明導電層の隙間のみに限定することができる結果、上側透明導電層がタッチパネル用積層体の極めて広い領域に亘って存在する構成にすることができる。したがって、このタッチパネル用積層体によれば、上側透明導電層の屈折率と透明基板の屈折率の相違に起因して、透明保護膜側から見たときに、下側電極列および上側電極列が全体的に視認されるのを確実に回避することができる（各電極列に対する視認性を大幅に軽減することができる）。これにより、このタッチパネル用積層体を用いて製造されたタッチパネルでは、ＬＣＤなどの画面上に配置されたタッチパネル用積層体の各電極列がこの画面上に表示される画像や文字に対する視認性を低下させるのを大幅に軽減できるため、この画像や文字の良好な視認性を確実に確保することができ、画像や文字をそれらが持つ本来の美観を低下させる（損ねる）ことなく視認することができる。
【００１６】
また、本発明に係る他の製造方法によって製造される本発明に係るタッチパネル用積層体では、下側透明導電層は、下側電極列毎に下側電極列を１列ずつ含んで分割された下側帯状領域における下側電極列を除く全域に下側透明電極の厚み未満の厚みで形成された下側薄層部を備え、上側透明導電層は、上側電極列毎に上側電極列を１列ずつ含んで分割された上側帯状領域における上側電極列を除く全域に上側透明電極の厚み未満の厚みで形成された上側薄層部を備えている。
【００１７】
したがって、このタッチパネル用積層体およびその製造方法によれば、下側透明導電層において透明導電層が取り除かれた部位は、各下側帯状領域を分割する各隙間のみとなり、また上側透明導電層において透明導電層が取り除かれた部位は、各上側帯状領域を分割する各隙間のみとなる構成のため、透明保護膜側から透明基板を視認し得る部位を下側透明導電層の隙間と上側透明導電層の隙間の各交差部位のみに限定することができる結果、下側透明導電層および上側透明導電層がタッチパネル用積層体のほぼ全域に亘って存在する構成にすることができる。したがって、このタッチパネル用積層体によれば、下側透明導電層および上側透明導電層の屈折率と透明基板の屈折率の相違に起因して、透明保護膜側から見たときに、下側電極列および上側電極列が全体的に視認されるのを一層確実に回避することができる（各電極列に対する視認性を一層軽減することができる）。これにより、このタッチパネル用積層体を用いて製造されたタッチパネルでは、ＬＣＤなどの画面上に配置されたタッチパネル用積層体の各電極列がこの画面上に表示される画像や文字に対する視認性を低下させるのを一層軽減できるため、この画像や文字の良好な視認性を一層確実に確保することができ、画像や文字をそれらが持つ本来の美観を低下させる（損ねる）ことなく視認することができる。
【００１８】
また、これらのタッチパネル用積層体およびその製造方法によれば、上側帯状領域に共に形成されている上側薄層部の厚みを上側電極列の厚み未満に規定し、また下側帯状領域に共に形成されている下側薄層部の厚みを下側電極列の厚み未満に規定したことにより、上側電極列および下側電極列に対する上側薄層部および下側薄層部の導電率を十分に低くすることができる。したがって、このタッチパネル用積層体によれば、上側透明導電層では、各上側電極列を主としてライン状の検出電極（例えばＸ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として機能させることができ、下側透明導電層では、各下側電極列を主としてライン状の検出電極（例えばＹ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として確実に機能させることができる。
【００１９】
本発明に係るタッチパネル用積層体によれば、上側薄層部および下側薄層部の厚みを２０ｎｍ未満にそれぞれ規定したことにより、上側薄層部および下側薄層部の抵抗値を５００Ω□を超える値、すなわち上側薄層部および下側薄層部を電極として機能し得ない高い抵抗値に確実に規定することができる。言い換えれば、上側薄層部および下側薄層部の厚みを２０ｎｍ未満にそれぞれ規定したことにより、上側薄層部および下側薄層部の導電率を、各上側電極列および各下側電極列をライン状の検出電極として確実に機能させ得る低い値に常に規定することができる。また、上側薄層部および下側薄層部の厚みを１ｎｍ以上にそれぞれ規定したことにより、上側薄層部および下側薄層部を高い抵抗値の（導電率の小さな）導電膜として確実に存在させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】タッチパネル用積層体１の部分平面図である。
【図２】図１におけるＷ１−Ｗ１線断面図である。
【図３】図１におけるＷ２−Ｗ２線断面図である。
【図４】マスキング工程を完了した状態での透明基板２、透明導電層３１およびマスクパターン３２の断面図である。
【図５】エッチング工程を完了した状態でのマスクパターン３２、および下側透明導電層３（下側電極列１１および非マスク部位３３）の平面図である。
【図６】図５におけるＷ−Ｗ線断面図である。
【図７】分割工程を完了した状態での透明基板２、マスクパターン３２、および下側透明導電層３（下側電極列１１および下側薄層部１２）の断面図である。
【図８】透明基板２の表面に下側電極列１１および下側薄層部１２が形成されて構成された第１積層体の平面図である。
【図９】図８におけるＷ−Ｗ線断面図である。
【図１０】透明絶縁層４の表面に上側電極列２１および上側薄層部２２が形成されて構成された第２積層体の平面図である。
【図１１】図８に示す第１積層体に図１０に示す第２積層体を積層した状態での平面図である。
【図１２】タッチパネル用積層体１Ａの部分平面図である。
【図１３】従来の積層体５１（保護膜５６を含む状態）の図１４に示すＷ−Ｗ線の位置での断面図である。
【図１４】従来の積層体５１から保護膜５６を省いた状態での平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、タッチパネル用積層体およびその製造方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。
【００２２】
まず、タッチパネル用積層体１（以下、「積層体１」ともいう）の構成について説明する。
【００２３】
積層体１は、積層体１の平面図である図１におけるＷ１−Ｗ１線断面図である図２、および図１のＷ２−Ｗ２線断面図である図３に示すように、透明基板２、下側透明導電層３、透明絶縁層４、上側透明導電層５および透明保護膜６がこの順に積層されて構成されている。
【００２４】
透明基板２は、一例として絶縁性を有する合成樹脂材料で形成された透明フィルムで構成されている。この透明フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルムが使用される。
【００２５】
下側透明導電層３は、図１において破線で示すように、透明基板２の一方の表面に複数列並設（Ｙ方向に並設）された下側電極列１１と、透明基板２の一方の表面に下側電極列１１毎に下側電極列１１の両側に形成された下側薄層部１２とを備えている。各下側電極列１１は、図１に示すように、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってマトリクス状に複数配設された平面視菱形状の下側透明電極１１ａのうちのＸ方向に沿って１列に並ぶ下側透明電極１１ａが下側導通部１１ｂを介して複数連結（導通）されて構成されている。また、下側電極列１１は、一例として、２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚みに規定されている。この場合、下側電極列１１の厚みを２０ｎｍ以上に規定したことにより、下側電極列１１の導電率を電極として機能し得る十分に高い値（抵抗値で言えば、５００Ω□以下）にすることができる。また、下側電極列１１の厚みを３０ｎｍ以下に規定したことにより、十分な透過率を確保することができる。
【００２６】
下側薄層部１２は、下側電極列１１を１列ずつ含んで例えば一定の幅で分割された下側帯状領域Ａにおける下側電極列１１を除く領域（下側電極列１１の両側に位置する領域）の全域に亘って形成されている。この場合、各下側帯状領域Ａは、図１，２に示すように、隣接する下側帯状領域Ａとの間に、下側電極列１１に沿って例えばほぼ直線状で一定幅の隙間Ｂを設けた状態で分割されている。このため、１つの下側帯状領域Ａ内に形成された下側薄層部１２は、隣接する他の下側帯状領域Ａ内に形成された下側薄層部１２と電気的に絶縁された状態で形成されている。
【００２７】
下側透明導電層３（各下側電極列１１および各下側薄層部１２）は、金属（又は半金属）の酸化物からなる薄膜である。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、インジウム−錫複合酸化物、錫−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。これらのうち、インジウム−錫複合酸化物が好ましい。下側透明導電層３は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの真空成膜法によって形成することができる。
【００２８】
また、各下側電極列１１を構成する下側透明電極１１ａおよび下側導通部１１ｂは、同じ厚みに規定されている。一方、下側薄層部１２は、図２,３に示すように、下側電極列１１未満の厚み（下側電極列１１よりも十分に薄い厚み）に規定されている。この構成により、下側薄層部１２の導電率は、下側電極列１１の導電率よりも十分に低い値となる。このため、下側透明導電層３では、各下側電極列１１が主としてライン状の検出電極（Ｙ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として機能する。このように下側薄層部１２の導電率を下側電極列１１の導電率よりも十分に低い値にするためには、下側薄層部１２の厚みを２０ｎｍ未満に規定するのが好ましい。これにより、下側薄層部１２の抵抗値を５００Ω□を超える値、すなわち下側薄層部１２を電極として機能し得ない高い抵抗値に確実に規定することができる。言い換えれば、下側薄層部１２の厚みを２０ｎｍ未満に規定したことにより、下側薄層部１２の導電率を、各下側電極列１１をライン状の検出電極として確実に機能させ得る低い値に常に規定することができる。さらに、下側薄層部１２の厚みを１５ｎｍ未満に規定するのがより好ましい。これにより、下側薄層部１２の抵抗値を１０００Ω□を超える値、つまり下側薄層部１２を電極として機能し得ない一層高い抵抗値により確実に規定することができる。一方、下側薄層部１２の厚みを、１ｎｍ以上に規定するのが好ましい。これにより、下側薄層部１２を高い抵抗値の（導電率の小さな）導電膜として確実に存在させる（確実に形成する）ことができる。以上のことから、下側薄層部１２の厚みについては、１ｎｍ以上２０ｎｍ未満の範囲に規定するのが好ましく、１ｎｍ以上１５ｎｍ未満の範囲に規定するのがより好ましい。
【００２９】
透明絶縁層４は、一例として絶縁性を有する合成樹脂材料で形成された透明フィルムで構成されている。この透明フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルムが使用される。このタッチパネル用積層体１では、一例として透明基板２と同種のフィルムが透明絶縁層４に使用されているが、異種のフィルムを使用してもよいのは勿論である。
【００３０】
上側透明導電層５は、図１において一点鎖線で示すように、透明絶縁層４の表面に複数列並設（Ｘ方向に並設）された上側電極列２１と、透明絶縁層４の表面に上側電極列２１毎に上側電極列２１の両側に形成された上側薄層部２２とを備えている。各上側電極列２１は、図１に示すように、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってマトリクス状に複数配設された平面視菱形状の上側透明電極２１ａのうちのＹ方向に沿って１列に並ぶ上側透明電極２１ａが上側導通部２１ｂを介して複数連結（導通）されて構成されている。また、上側電極列２１は、上記した下側電極列１１と同様の理由により、一例として、２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚みに規定されている。
【００３１】
また、本例では一例として、各上側透明電極２１ａは、下側透明電極１１ａと同じ形状で、かつ同じ面積に形成されている。また、各上側透明電極２１ａは、４つの下側透明電極１１ａ間に形成される下側透明電極１１ａの非形成領域内に配設されている（言い換えれば、平面視した状態において、下側透明電極１１ａと重ならない状態に配設されている）。また、下側透明電極１１ａを連結する下側導通部１１ｂと、上側透明電極２１ａを連結する上側導通部２１ｂとは、互いに透明絶縁層４を介して交差（本例では直交）する状態で配設されている。
【００３２】
上側薄層部２２は、上側電極列２１を１列ずつ含んで例えば一定の幅で分割された上側帯状領域Ｃにおける上側電極列２１を除く領域（下側電極列１１の両側に位置する領域）の全域に亘って形成されている。この場合、各上側帯状領域Ｃは、図１，３に示すように、隣接する上側帯状領域Ｃとの間に、上側電極列２１に沿って例えばほぼ直線状で一定幅の隙間Ｄを設けた状態で分割されている。このため、１つの上側帯状領域Ｃ内に形成された上側薄層部２２は、隣接する他の上側帯状領域Ｃ内に形成された上側薄層部２２と電気的に絶縁された状態で形成されている。
【００３３】
上側透明導電層５を構成する各上側電極列２１および各上側薄層部２２は、下側透明導電層３と同じ導電層（つまり同じ材料）で形成されている。
【００３４】
また、各上側電極列２１を構成する上側透明電極２１ａおよび上側導通部２１ｂは、同じ厚み（一例として、下側電極列１１と同じ厚み）に規定されている。また、上側薄層部２２も下側薄層部１２と同様にして、図２,３に示すように、上側電極列２１未満の厚み（上側電極列２１よりも十分に薄い厚み）に規定されている。この構成により、上側薄層部２２の導電率は、上側電極列２１の導電率よりも十分に低い値となる。このため、上側透明導電層５では、各上側電極列２１が主としてライン状の検出電極（Ｘ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として機能する。このように上側薄層部２２の導電率を上側電極列２１の導電率よりも十分に低い値にし、かつ導電膜として確実に存在させるためには、上記した下側薄層部１２と同様にして、上側薄層部２２の厚みについては、１ｎｍ以上２０ｎｍ未満の範囲に規定するのが好ましく、１ｎｍ以上１５ｎｍ未満の範囲に規定するのがより好ましい。
【００３５】
透明保護膜６は、一例として絶縁性を有する合成樹脂材料で形成された透明フィルムで構成されている。この透明フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂が使用される。なお、透明保護膜６は、絶縁性を有する合成樹脂材料を上側透明導電層５上に塗布して形成した樹脂層で構成することもできる。
【００３６】
この積層体１は、下側透明導電層３では、各下側薄層部１２間に形成された隙間Ｂを除く全域に、下側電極列１１および下側薄層部１２が形成され、また下側透明導電層３の上層に形成された上側透明導電層５では、各上側薄層部２２間に形成された隙間Ｄを除く全域に、上側電極列２１および上側薄層部２２が形成されている。これにより、この積層体１では、導電層の存在しない部位、すなわち、透明基板２が透明保護膜６を介して視認される部位は、両隙間Ｂ，Ｄの各交差部位Ｅ（斜線を付した部位）のみに限定されている。この場合、隙間Ｂ，Ｄの幅は、例えば１０μｍ程度に規定することができることから、この交差部位Ｅは、極めて狭い面積に形成することができる。
【００３７】
したがって、この積層体１では、透明保護膜６側から平面視した状態において、導電層（下側透明導電層３および上側透明導電層５）が積層体１のほぼ全域に亘って存在しているため、下側透明導電層３および上側透明導電層５の屈折率と透明基板２の屈折率の相違に起因して、透明保護膜６側から見たときに、下側電極列１１および上側電極列２１が全体的に視認されるのが回避されている。
【００３８】
次いで、タッチパネル用積層体１の製造方法について図面を参照して説明する。
【００３９】
この製造方法では、まず、図４に示すように、透明基板２の一方の面上に、上記した透明導電層３１をスパッタ法を用いて形成する（導電層形成工程）。この際に、透明導電層３１は、下側電極列１１を構成する下側透明電極１１ａおよび下側導通部１１ｂと同じ厚みに形成する。
【００４０】
次いで、図４に示すように、複数列の下側電極列１１に対応するマスクパターン３２を透明導電層３１の表面に配置（形成）する（マスキング工程）。続いて、図５，６に示すように、このマスクパターン３２をマスクとして透明導電層３１を、透明導電層３１における非マスク部位３３の厚みが下側薄層部１２の厚みと一致するまでエッチングする（エッチング工程）。これにより、図５に示すように、Ｘ方向に沿って１列に並ぶ複数の下側透明電極１１ａが下側導通部１１ｂを介して連結（導通）されて構成された下側電極列１１が、Ｙ方向に複数並設された状態で形成される。
【００４１】
次いで、各下側電極列１１間に形成された非マスク部位３３における中央部に対してレーザ光（不図示）を照射しつつ、照射位置を下側電極列１１の長さ方向（Ｘ方向）に沿って例えば直線状に移動させて非マスク部位３３を透明基板２上から除去する。これにより、下側電極列１１に沿って例えばほぼ直線状で一定幅の隙間（透明基板２が覗く隙間）Ｂが各非マスク部位３３に形成される。また、透明導電層３１が隙間Ｂによって下側電極列１１を１列ずつ含む複数の下側帯状領域Ａに分割される（分割工程）。このため、図７に示すように、それぞれの下側帯状領域Ａ内における下側電極列１１の両側に、透明導電層３１で構成される下側薄層部１２が形成される。最後に、下側電極列１１上のマスクパターン３２を除去する（マスク除去工程）。これにより、図８，９に示すように、透明基板２と、上記の下側電極列１１および下側薄層部１２を含む下側透明導電層３とで構成される第１積層体が製造される。
【００４２】
次いで、図示はしないが、上記した下側透明導電層３の製造工程と同じ工程を実施して、透明絶縁層４として機能する他の透明基板の表面に上側透明導電層５が形成された第２積層体を製造する。具体的には、一例として透明基板２と同じ材質の透明フィルムで構成された他の透明基板の面上に、上記した他の透明導電層をスパッタ法を用いて形成する（導電層形成工程）。この際に、この他の透明導電層は、上側電極列２１（上側透明電極２１ａおよび上側導通部２１ｂ）と同じ厚みに形成する。
【００４３】
次いで、複数列の上側電極列２１に対応するマスクパターンを上記の他の透明導電層の表面に配置し（マスキング工程）、続いて、このマスクパターンをマスクとしてこの他の透明導電層を、この透明導電層における非マスク部位の厚みが上側薄層部２２の厚みとなるまでエッチングして、上側電極列２１を複数列形成する（エッチング工程）する。
【００４４】
次いで、各下側電極列１１間に形成された非マスク部位にレーザ光を照射することにより、上記した隙間Ｂと同様にして、上側電極列２１に沿って例えばほぼ直線状で一定幅の隙間Ｄ（図１，３参照）を各非マスク部位に形成する。これにより、上記した他の透明導電層が隙間Ｄによって上側電極列２１を１列ずつ含む複数の上側帯状領域Ｃに分割される（分割工程）。最後に、上側電極列２１上のマスクパターンを除去する（マスク除去工程）。これにより、図１０に示すように、Ｙ方向に沿って１列に並ぶ複数の上側透明電極２１ａが上側導通部２１ｂを介して連結（導通）されて構成された上側電極列２１と、上側薄層部２２とが上側透明導電層５に複数形成される。また、透明絶縁層４となる他の透明基板の表面上に上側透明導電層５が形成された第２積層体が製造される。
【００４５】
続いて、上記のようにして製造された第１積層体と第２積層体とを、第１積層体の下側透明導電層３と第２積層体の上記した他の透明基板とを接着剤を介して接合することによって積層する（貼り合わせる）。この第１積層体と第２積層体との積層に際しては、図１１に示すように、第１積層体と第２積層体との積層体を平面視した状態において、各上側透明電極２１ａが、４つの下側透明電極１１ａ間に形成される下側透明電極１１ａの非形成領域内に配設され、かつ下側透明電極１１ａを連結する下側導通部１１ｂと上側透明電極２１ａを連結する上側導通部２１ｂとが互いに上記した他の透明基板を介して交差（本例では直交）するように積層する。
【００４６】
最後に、第２積層体の上側透明導電層５上に透明保護膜６を形成する。これにより、上記の他の透明基板を透明絶縁層４とする図１，２，３に示す構成の積層体１が製造される。
【００４７】
このように、この積層体１では、下側透明導電層３は、下側電極列１１毎に下側電極列１１を１列ずつ含んで分割された（隣との間に隙間Ｂを空けて分割された）下側帯状領域Ａにおける下側電極列１１を除く全域に下側透明電極１１ａの厚み未満の厚みで形成された下側薄層部１２を複数備え、上側透明導電層５は、下側電極列１１と交差（直交）する上側電極列２１毎に上側電極列２１を１列ずつ含んで分割された（隣との間に隙間Ｄを空けて分割された）上側帯状領域Ｃにおける上側電極列２１を除く全域に上側透明電極２１ａの厚み未満の厚みで形成された上側薄層部２２を複数備えている。
【００４８】
したがって、この積層体１および上記した製造方法によれば、下側透明導電層３において透明導電層が取り除かれた部位は、各下側帯状領域Ａを分割する各隙間Ｂのみとなり、また上側透明導電層５において透明導電層が取り除かれた部位は、各上側帯状領域Ｃを分割する各隙間Ｄのみとなる構成のため、透明保護膜６側から透明基板２を視認し得る部位を各隙間Ｂ，Ｄの交差部位Ｅのみに限定することができる結果、下側透明導電層３および上側透明導電層５が積層体１のほぼ全域に亘って存在する構成にすることができる。したがって、この積層体１によれば、下側透明導電層３および上側透明導電層５の屈折率と透明基板２の屈折率の相違に起因して、透明保護膜６側から見たときに、下側電極列１１および上側電極列２１が全体的に視認されるのを確実に回避することができる（各電極列１１，１２に対する視認性を大幅に軽減することができる）。これにより、この積層体１を用いて製造されたタッチパネルでは、ＬＣＤなどの画面上に配置された積層体１の各電極列１１，１２がこの画面上に表示される画像や文字に対する視認性や美観の低下を大幅に軽減できるため、この画像や文字の良好な視認性を確実に確保することができ、画像や文字をそれらが持つ本来の美観を低下させる（損ねる）ことなく視認することができる。
【００４９】
また、この積層体１および上記した製造方法によれば、下側帯状領域Ａに共に形成されている下側薄層部１２の厚みを下側電極列１１の厚み未満に規定し、上側帯状領域Ｃに共に形成されている上側薄層部２２の厚みを上側電極列２１の厚み未満に規定したことにより、下側電極列１１および上側電極列２１に対する下側薄層部１２および上側薄層部２２の導電率を十分に低くすることができる。したがって、この積層体１によれば、下側透明導電層３では、各下側電極列１１を主としてライン状の検出電極（Ｙ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として機能させることができ、上側透明導電層５では、各上側電極列２１を主としてライン状の検出電極（Ｘ方向に沿った位置を特定するためのセンスライン）として確実に機能させることができる。
【００５０】
また、この積層体１によれば、下側薄層部１２および上側薄層部２２の厚みを１ｎｍ以上２０ｎｍ未満の範囲にそれぞれ規定したことにより、下側薄層部１２および上側薄層部２２を導電膜として確実に存在させつつ（確実に形成しつつ）、下側薄層部１２および上側薄層部２２を電極として機能し得ない高い抵抗値に確実に規定することができる。言い換えれば、下側薄層部１２および上側薄層部２２の導電率を、各下側電極列１１および各上側電極列２１をライン状の検出電極として確実に機能させ得る低い値に常に規定することができる。
【００５１】
なお、上記の積層体１では、下側透明導電層３および上側透明導電層５について、下側電極列１１と共に下側薄層部１２を形成し、上側電極列２１と共に上側薄層部２２を形成する構成を採用しているが、図１２に示すタッチパネル用積層体１Ａ（以下、積層体１Ａともいう）のように、上側透明導電層５についてのみ上側電極列２１と共に上側薄層部２２を形成し、下側透明導電層３については、下側電極列１１だけを形成して、下側薄層部１２を形成しない構成を採用することもできる。なお、この積層体１Ａは、下側透明導電層３が下側電極列１１だけで構成されている点を除き、積層体１と同じ構成を備えている。したがって、積層体１と同一の構成については同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【００５２】
この積層体１Ａは、下側透明導電層３では、下側電極列１１のみが形成され、下側透明導電層３の上層に形成された上側透明導電層５では、各上側薄層部２２間に形成された隙間Ｄを除く全域に、上側電極列２１および上側薄層部２２が形成されている。これにより、この積層体１Ａでは、導電層の存在しない部位、すなわち、透明基板２が透明保護膜６を介して視認される部位は、下側電極列１１間の隙間と、隙間Ｄとの各交差部位Ｆ（斜線を付した部位）のみに限定されている。この場合、隙間Ｄの幅は、例えば１０μｍ程度に規定することができることから、この交差部位Ｆは、極めて狭い面積に形成することができる。
【００５３】
したがって、この積層体１Ａでも、透明保護膜６側から平面視した状態において、上側透明導電層５が積層体１のほぼ全域に亘って存在しているため、上側透明導電層５の屈折率と透明基板２の屈折率の相違に起因して、透明保護膜６側から見たときに、下側電極列１１および上側電極列２１が全体的に視認されるのが回避されている。
【００５４】
また、この積層体１Ａの製造方法は、構成の異なる下側透明導電層３の形成工程において相違するのみで、他の工程は同一である。このため、この下側透明導電層３の形成工程についてのみ説明する。
【００５５】
下側透明導電層３の形成に際しては、まず、透明基板２の一方の面上に、透明導電層３１をスパッタ法を用いて形成する（導電層形成工程）。この際に、透明導電層３１は、下側電極列１１を構成する下側透明電極１１ａおよび下側導通部１１ｂと同じ厚みに形成する。
【００５６】
次いで、複数列の下側電極列１１に対応するマスクパターン３２を透明導電層３１の表面に配置（形成）する（マスキング工程）。続いて、このマスクパターン３２をマスクとして透明導電層３１を、透明導電層３１におけるマスク部位のみを残してエッチングする（エッチング工程）。これにより、Ｘ方向に沿って１列に並ぶ複数の下側透明電極１１ａが下側導通部１１ｂを介して連結（導通）されて構成された下側電極列１１が、Ｙ方向に複数並設された状態で形成される。
【００５７】
したがって、この積層体１Ａおよびこの製造方法によれば、下側透明導電層３において透明導電層が取り除かれた部位は、各下側電極列１１間の隙間となり、また上側透明導電層５において透明導電層が取り除かれた部位は、各上側帯状領域Ｃを分割する各隙間Ｄのみとなる構成のため、透明保護膜６側から透明基板２を視認し得る部位を、下側電極列１１間の各隙間と隙間Ｄとの交差部位Ｆのみに限定することができる結果、下側透明導電層３および上側透明導電層５が積層体１Ａのほぼ全域に亘って存在する構成にすることができる。したがって、この積層体１Ａにおいても、積層体１と同様にして、透明保護膜６側から見たときに、下側電極列１１および上側電極列２１が全体的に視認されるのを確実に回避することができる。これにより、この積層体１Ａを用いて製造されたタッチパネルでも、積層体１を用いて製造されたタッチパネルの上記した効果と同様の効果を奏することができる。
【００５８】
なお、上記の積層体１，１Ａでは、同じ材料で下側透明導電層３および上側透明導電層５を形成して、両者の屈折率を揃える好ましい構成を採用しているが、下側透明導電層３および上側透明導電層５は、例示した上記の種々の材料のうちの相違する任意の材料でそれぞれ形成することができる。
【符号の説明】
【００５９】
１  積層体
２  透明基板
３  下側透明導電層
４  透明絶縁層
５  上側透明導電層
６  透明保護膜
１１  下側電極列
１１ａ  下側透明電極
１２  下側薄層部
２１  上側電極列
２１ａ  上側透明電極
２２  上側薄層部
Ａ  下側帯状領域
Ｃ  上側帯状領域
【図１】
2012216146.tif 000003
【図２】
2012216146.tif 000004
【図３】
2012216146.tif 000005
【図４】
2012216146.tif 000006
【図５】
2012216146.tif 000007
【図６】
2012216146.tif 000008
【図７】
2012216146.tif 000009
【図８】
2012216146.tif 000010
【図９】
2012216146.tif 000011
【図１０】
2012216146.tif 000012
【図１１】
2012216146.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2012216146.tif 000016