(57)【要約】【課題】外部配線との電気的接続が容易であり、かつ表面導電性に優れ、耐傷性が向上した導電膜形成用積層体及び導電膜形成用積層体の製造方法、並びにパターン形成方法、タッチパネル及び集積型太陽電池の提供。【解決手段】基材と、該基材上に少なくとも導電性繊維を含む導電性繊維含有層と、該導電性繊維含有層上に少なくとも水溶性ポリマーを含む可溶性保護層とを有する導電膜形成用積層体である。該可溶性保護層の平均厚みが０．１μｍ〜５μｍである態様、前記水溶性ポリマーが、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ゼラチン及びセルロース誘導体から選択される少なくとも１種である態様などが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材上に少なくとも導電性繊維を含む導電性繊維含有層と、該導電性繊維含有層上に少なくとも水溶性ポリマーを含む可溶性保護層と、を有することを特徴とする導電膜形成用積層体。
【請求項２】
可溶性保護層の平均厚みが０．１μｍ〜５μｍである請求項１に記載の導電膜形成用積層体。
【請求項３】
水溶性ポリマーが、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ゼラチン及びセルロース誘導体から選択される少なくとも１種である請求項１から２のいずれかに記載の導電膜形成用積層体。
【請求項４】
導電性繊維が金属ナノワイヤーである請求項１から３のいずれかに記載の導電膜形成用積層体。
【請求項５】
金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる請求項４に記載の導電膜形成用積層体。
【請求項６】
導電性繊維含有層が、分散媒を含有する請求項１から５のいずれかに記載の導電膜形成用積層体。
【請求項７】
導電性繊維含有層の表面抵抗が０．１Ω／□〜１０，０００Ω／□である請求項１から６のいずれかに記載の導電膜形成用積層体。
【請求項８】
光透過率が７０％以上である請求項１から７のいずれかに記載の導電膜形成用積層体。
【請求項９】
基材上に、少なくとも導電性繊維を含有する導電性繊維含有層用組成物を塗布して導電性繊維含有層を形成する導電性繊維含有層形成工程と、
前記導電性繊維含有層上に、少なくとも水溶性ポリマーを含有する可溶性保護層用組成物を塗布して可溶性保護層を形成する可溶性保護層形成工程と、
を含むことを特徴とする導電膜形成用積層体の製造方法。
【請求項１０】
可溶性保護層に溶媒を付与して該可溶性保護層を除去する可溶性保護層除去工程を含む請求項９に記載の導電膜形成用積層体の製造方法。
【請求項１１】
溶媒が、水及びアルカリ溶液のいずれかである請求項１０に記載の導電膜形成用積層体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１から８のいずれかに記載の導電膜形成用積層体における少なくとも導電性繊維含有層を露光する露光工程と、
前記少なくとも導電性繊維含有層における露光部及び非露光部のいずれかと、可溶性保護層とを、溶媒を付与して除去する除去工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１３】
溶媒が、アルカリ溶液である請求項１２に記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
請求項１から８のいずれかに記載の導電膜形成用積層体を用いたことを特徴とするタッチパネル。
【請求項１５】
請求項１から８のいずれかに記載の導電膜形成用積層体を用いたことを特徴とする集積型太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電膜形成用積層体及び導電膜形成用積層体の製造方法、並びにパターン形成方法、タッチパネル及び集積型太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電膜としてＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）が広く利用されているが、ＩＴＯ膜を安価に大量生産することは困難であり、例えば可撓性を有するプラスチック基材にＩＴＯ膜を大面積で形成しそれをロール形態で安価に供給することは困難である。また、ＩＴＯ膜をパターニングするフォトリソグラフィ工程は複雑な工程を要するため、コスト高を招いたり、生産性が低下してしまうという問題がある。
【０００３】
このようなＩＴＯ膜に関する問題に対し、銀ナノワイヤー等の導電性素材を用いることが提案されている(特許文献１及び２参照）。これらの提案によれば、複数の銀ナノワイヤー含有層を、ネットワークを形成するようにウエットプロセスで透明基材上に塗布し、形成することにより簡易に透明導電膜を作製することができる。また、フォトレジスト等の感光性材料を銀ナノワイヤー含有層と同一層又は隣接層に含有させ、露光工程及び現像工程、あるいは露光工程、現像工程及びエッチング工程を経ることにより、比較的簡易に導電性パターンが得られることが開示されている。
【０００４】
しかし、導電性を向上させるためには銀ナノワイヤー間の接触頻度を高める必要があるため、銀ナノワイヤー含有層の分散媒の含有量を制限すると、形成される導電層の強度が弱くなり、非常に傷付き易くなる。このため、ウエッブ状の透明基材に大面積で塗布した後ロール状に巻き取る方法により大量生産すると、塗布機のパスローラーや基材裏面への接触によって導電層が傷付いてしまい、大量生産に耐えられないという課題がある。
前記課題を解決するため、例えば前記特許文献１に記載されているように、銀ナノワイヤー含有層上に感光層等の保護層を設けて導電層を保護することが考えられるが、現像後も保護層が残っているので導電層が保護層の下に埋没してしまい、表面導電性が失われ導電層と外部配線との電気的接続が不十分になってしまうという問題がある。
【０００５】
したがって、外部配線との電気的接続が容易であり、かつ表面導電性に優れ、耐傷性が向上した導電膜形成用積層体及び導電膜形成用積層体の製造方法、並びにパターン形成方法、タッチパネル及び集積型太陽電池の速やかな提供が望まれているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開２００７／００７４３１６号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開２００８／０２９２９７９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、外部配線との電気的接続が容易であり、かつ表面導電性に優れ、耐傷性が向上した導電膜形成用積層体及び導電膜形成用積層体の製造方法、並びにパターン形成方法、タッチパネル及び集積型太陽電池を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  基材と、該基材上に少なくとも導電性繊維を含む導電性繊維含有層と、該導電性繊維含有層上に少なくとも水溶性ポリマーを含む可溶性保護層と、を有することを特徴とする導電膜形成用積層体である。
＜２＞  可溶性保護層の平均厚みが０．１μｍ〜５μｍである前記＜１＞に記載の導電膜形成用積層体である。
＜３＞  水溶性ポリマーが、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ゼラチン及びセルロース誘導体から選択される少なくとも１種である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜４＞  導電性繊維が金属ナノワイヤーである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜５＞  金属ナノワイヤーが、銀、及び銀と銀以外の金属との合金のいずれかからなる前記＜４＞に記載の導電膜形成用積層体である。
＜６＞  導電性繊維含有層が、分散媒を含有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜７＞  導電性繊維含有層の表面抵抗が０．１Ω／□〜１０，０００Ω／□である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜８＞  光透過率が７０％以上である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜９＞  基材と導電性繊維含有層の間に、感光層を有する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜１０＞  基材が透明である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜１１＞  ロール状に巻回されてなる前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体である。
＜１２＞  基材上に、少なくとも導電性繊維を含有する導電性繊維含有層用組成物を塗布して導電性繊維含有層を形成する導電性繊維含有層形成工程と、
前記導電性繊維含有層上に、少なくとも水溶性ポリマーを含有する可溶性保護層用組成物を塗布して可溶性保護層を形成する可溶性保護層形成工程と、
を含むことを特徴とする導電膜形成用積層体の製造方法である。
＜１３＞  可溶性保護層に溶媒を付与して該可溶性保護層を除去する可溶性保護層除去工程を含む前記＜１２＞に記載の導電膜形成用積層体の製造方法である。
＜１４＞  溶媒が、水及びアルカリ溶液のいずれかである前記＜１３＞に記載の導電膜形成用積層体の製造方法である。
＜１５＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体における少なくとも導電性繊維含有層を露光する露光工程と、
前記少なくとも導電性繊維含有層における露光部及び非露光部のいずれかと、可溶性保護層とを、溶媒を付与して除去する除去工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法である。
＜１６＞  溶媒が、アルカリ溶液である前記＜１５＞に記載のパターン形成方法である。
＜１７＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体を用いたことを特徴とするタッチパネルである。
＜１８＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の導電膜形成用積層体を用いたことを特徴とする集積型太陽電池である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、外部配線との電気的接続が容易であり、かつ表面導電性に優れ、耐傷性が向上した導電膜形成用積層体及び導電膜形成用積層体の製造方法、並びに、パターン形成方法、タッチパネル及び集積型太陽電池を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１（Ａ）〜（Ｃ）は、タッチパネルの層構成を示す模式図である。
【図２】図２は、タッチパネルの一例を示す概略断面図である。
【図３】図３は、タッチパネルの他の一例を示す概略説明図である。
【図４】図４は、図３に示すタッチパネルにおける導電体の配置例を示す概略平面図である。
【図５】図５は、タッチパネルの更に他の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（導電膜形成用積層体）
本発明の導電膜形成用積層体は、基材と、該基材上に導電性繊維含有層と、該導電性繊維含有層上に可溶性保護層とを有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
前記「導電膜形成用積層体」は、導電性が発現していても導電性が発現していなくてもよく、導電性が発現している場合には「導電体」と称することもある。また、前記「導電性繊維含有層」は、導電性が発現していても導電性が発現していなくてもよく、導電性が発現している場合には、「導電層」と称することもある。
【００１２】
＜基材＞
前記基材の形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記形状としては、膜状、シート状などが挙げられる。
前記基材としては、例えば、透明ガラス基板、合成樹脂製シート（フィルム）、金属基板、セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板などが挙げられる。前記基板には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などの前処理を行うことができる。
【００１３】
前記基材の全可視光透過率としては、７０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましい。なお、本発明では、基材として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜５，０００μｍが好ましく、３μｍ〜４，０００μｍがより好ましく、５μｍ〜３，０００μｍが更に好ましい。
前記厚みが、１μｍ未満であると、塗布工程でのハンドリングの困難さに起因して、歩留まりが低下することがあり、５，０００μｍを超えると、ポータブルなアプリケーションにおいては厚みや質量が問題となることがある。
【００１４】
＜導電性繊維含有層＞
前記導電性繊維含有層は、少なくとも導電性繊維を含有し、分散媒、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００１５】
〔導電性繊維〕
前記導電性繊維の構造としては、中実構造及び中空構造のいずれかであることが好ましい。
ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。
平均短軸長さが５ｎｍ〜１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ〜１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と呼ぶことがある。
また、平均短軸長さが１ｎｍ〜１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ〜１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と呼ぶことがある。
前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していればよく、金属又はカーボンであることが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、又はカーボンナノチューブであることが好ましい。
【００１６】
＜＜金属ナノワイヤー＞＞
−材料−
前記金属ナノワイヤーの材料としては、例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましい。
【００１７】
−金属−
前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が特に好ましい。
前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１８】
−形状−
前記金属ナノワイヤーの形状としては、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。
前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。
【００１９】
−平均短軸長さ径及び平均長軸長さ−
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）としては、１ｎｍ〜５０ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜４０ｎｍがより好ましく、１５ｎｍ〜３５ｎｍが更に好ましい。
前記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
【００２０】
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）としては、１μｍ〜４０μｍであることが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
前記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。
前記金属ナノワイヤーの製造方法としては、例えば特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報などに記載の方法を用いることができる。
【００２１】
＜＜金属ナノチューブ＞＞
−材料−
前記金属ナノチューブの材料としては、前記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。
−形状−
前記金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
−平均短軸長さ、平均長軸長さ、厚み−
前記金属ナノチューブの厚み（外径と内径との差）としては、３ｎｍ〜８０ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜３０ｎｍがより好ましい。
前記厚みが、３ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、８０ｎｍを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。
前記金属ナノチューブの平均長軸長さは、１μｍ〜４０μｍが好ましく、３μｍ〜３５μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍが更に好ましい。
【００２２】
−製造方法−
前記金属ナノチューブの製造方法としては、例えば、米国出願公開２００５／００５６１１８号明細書等に記載の方法などを用いることができる。
【００２３】
＜＜カーボンナノチューブ＞＞
前記カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）は、グラファイト状炭素原子面（グラフェンシート）が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。前記単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ（ＳＷＮＴ）、前記多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ（ＭＷＮＴ）と呼ばれ、特に、２層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ（ＤＷＮＴ）とも呼ばれる。本発明で用いられる導電性繊維において、前記カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層が好ましい。
【００２４】
−アスペクト比−
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であることが好ましい。前記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さの比）を意味する。
前記アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。
前記導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、前記導電性繊維のアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、前記導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、前記導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。
なお、前記導電性繊維がチューブ状の場合には、前記アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。
【００２５】
前記導電性繊維のアスペクト比としては、１０以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０〜１，０００，０００が好ましく、１００〜１，０００，０００がより好ましい。
前記アスペクト比が、１０未満であると、前記導電性繊維によるネットワーク形成がなされず導電性が十分取れないことがあり、１，０００，０００を超えると、導電性繊維の形成時やその後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。
【００２６】
−アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率−
前記アスペクト比が１０以上の導電性繊維の比率としては、全導電性組成物中に体積比で、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７５％以上が特に好ましい。これらの導電性繊維の割合を、以下、「導電性繊維の比率」と呼ぶことがある。
前記導電性繊維の比率が、５０％未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少し導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため好ましくない。特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には透明度が悪化してしまうことがある。
【００２７】
ここで、前記導電性繊維の比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液をろ過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ＩＣＰ発光分析装置を用いてろ紙に残っている銀の量と、ろ紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。ろ紙に残っている導電性繊維をＴＥＭで観察し、３００個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維であることを確認する。なお、ろ紙は、ＴＥＭ像で短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の２倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さのものを用いることが好ましい。
【００２８】
ここで、前記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができ、本発明においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。
【００２９】
＜＜分散媒＞＞
本発明において、前記分散媒とは、前記導電性繊維含有層の導電性繊維以外の全ての成分を意味する。前記導電性繊維含有層における分散媒の合計含有量Ａ（１種のみの場合は単独の含有量）と、前記導電性繊維の含有量Ｂとの質量比（Ａ／Ｂ）は、０．１〜５．０であることが好ましく、０．５〜３．０であることがより好ましい。前記質量比（Ａ／Ｂ）が、０．１未満であると、導電性繊維の凝集による導電性や透過率・ヘイズ等の光学特性の劣化、導電性繊維含有層の力学強度や基板との密着性の劣化、特にフォトリソグラフィを用いたパターニングで得られるパターンの品質（露光パターンの忠実再現性）の劣化等の問題を生じたりすることがある。前記質量比（Ａ／Ｂ）が、５．０を超えると、導電性繊維間の接触点数の減少による導電性の低下や、ヘイズ、光透過率などの光学特性の劣化を生じることがある。
前記分散媒は、後述の除去工程で少なくとも一部が溶出等によって減少する場合があるため、本発明において前記の分散媒の合計含有量Ａは、除去工程を経た後の分散媒質量を用いることとする。分散媒の質量を除去工程で減少させる設計を行うことにより、塗布乾燥工程以前の導電性繊維の凝集抑制や導電性繊維含有層の力学強度の向上を図りつつ、除去工程以降の導電性を向上させる効果が得られるため、本発明において分散媒の質量は除去工程で減少することが好ましい。除去工程前の分散媒質量Ａ０と除去工程後の分散媒質量の比（Ａ／Ａ０）は、０．０１以上１未満であることが好ましく、０．１以上０．８未満であることがより好ましい。前記除去工程で分散媒の少なくとも一部を除去することは分散媒に水溶性ポリマーやアルカリ可溶性ポリマー等を含有させることにより好ましく行うことができる。
【００３０】
本発明において分散媒は、露光により画像を形成する機能を導電性繊維含有層に付与するか、又はそのきっかけを与える感光性化合物を含むことが好ましく、具体的には、（１）露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）、（２）感光性のキノンジアジド化合物、（３）光ラジカル発生剤等を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、感度調整のために、増感剤などを併用することもできる。これら以外の成分としては、後述するポリマー、モノマー、分散剤、溶媒、架橋剤、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種の添加剤などが挙げられる。これらの成分は、必要に応じて適宜含んでいてもよい。
【００３１】
−（１）光酸発生剤−
前記（１）光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物又はそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
【００３２】
前記（１）光酸発生剤としては、例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ−ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。
【００３３】
また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。
更に、米国特許第３,７７９,７７８号、欧州特許第１２６,７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。
【００３４】
−（２）キノンジアジド化合物−
前記（２）キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−キノンジアジドスルホニルクロリド類、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。
【００３５】
前記（１）光酸発生剤、及び前記（２）キノンジアジド化合物の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、後述するポリマーの総量１００質量部に対して、１質量部〜１００質量部が好ましく、３質量部〜８０質量部がより好ましい。
なお、前記（１）光酸発生剤と、前記（２）キノンジアジド化合物とを併用してもよい。
【００３６】
前記（２）キノンジアジド化合物として、１，２−ナフトキノンジアジド基を有する化合物を用いると高感度で現像性が良好である。
【００３７】
−（３）光ラジカル発生剤−
前記導電性繊維含有層は、光を直接吸収し、又は光増感されて分解反応若しくは水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する光ラジカル発生剤を分散媒として用いることができる。光ラジカル発生剤は波長３００ｎｍ〜５００ｎｍの領域に吸収を有するものであることが好ましい。
【００３８】
前記光ラジカル発生剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。光ラジカル発生剤の含有量は、導電性繊維含有層全体に対して、０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２０質量％が更に好ましい。該数値範囲において、良好な感度とパターン形成性が得られる。
【００３９】
前記光ラジカル発生剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば特開２００８‐２６８８８４号記載の化合物群が挙げられる。これらの中でも、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルホスフィン（オキシド）系化合物、オキシム系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物が露光感度の観点から特に好ましい。
【００４０】
前記導電性繊維含有層は、露光感度向上のために、光ラジカル発生剤と連鎖移動剤を併用してもよい。
前記連鎖移動剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、Ｎ−フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、１，３，５−トリス（３−メルカブトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等の複素環を有するメルカプト化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン等の脂肪族多官能メルカプト化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記連鎖移動剤の含有量は、前記導電性繊維含有層全体に対し、０．０１質量％〜１５質量％が好ましく、０．１質量％〜１０質量％がより好ましく、０．５質量％〜５質量％が更に好ましい。
【００４１】
−ポリマー−
前記ポリマーとしては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
これらの中でも、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。
ここで、前記酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。
【００４２】
前記線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。
前記側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。
【００４３】
これらの中でも、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。
更に、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体や（メタ）アクリル酸／グリシジル（メタ）アクリレート／他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【００４４】
前記ポリマーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、１，０００〜５００，０００が好ましく、３，０００〜３００，０００がより好ましく、５，０００〜２００，０００が更に好ましい。
ここで、前記重量平均分子量は、例えばゲルパーミエイションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。
【００４５】
前記ポリマーの含有量は、前記導電性繊維含有層全体に対し５質量％〜９０質量％であることが好ましく、１０質量％〜８５質量％がより好ましく、２０質量％〜８０質量％が更に好ましい。前記含有量の範囲にあると、現像性と金属ナノワイヤーの導電性の両立が図れる。
【００４６】
−分散剤−
前記分散剤は、前記導電性繊維の凝集を防ぎ、分散させるために用いる。前記分散剤としては、前記導電性繊維を分散させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適否選択することができ、例えば、市販の低分子顔料分散剤、高分子顔料分散剤を利用でき、特に高分子分散剤で導電性繊維に吸着する性質を持つものが好ましく用いられ、例えばポリビニルピロリドン、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ソルスパースシリーズ（日本ルーブリゾール社製など）、アジスパーシリーズ（味の素株式会社製）などが挙げられる。
【００４７】
前記分散剤の含有量としては、前記ポリマー１００質量部に対し、０．１質量部〜５０質量部が好ましく、０．５質量部〜４０質量部がより好ましく、１質量部〜３０質量部が特に好ましい。
前記含有量が、０．１質量部未満であると、分散液中で導電性繊維が凝集してしまうことがあり、５０質量部を超えると、塗布工程において安定な液膜が形成できず、塗布ムラが発生することがある。
【００４８】
＜可溶性保護層＞
前記可溶性保護層は、水溶性ポリマーを含有し、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００４９】
−水溶性ポリマー−
前記水溶性ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイン、寒天、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシアルキルセルロース、水溶性セルロースエーテル等のセルロース誘導体、ポリビニルピロリドン、デキストラン、ポリアルキレングリコールなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ゼラチン、セルロース誘導体が特に好ましい。
前記ポリビニルピロリドンは、ビニルピロリドン単位以外の重合単位を有する共重合体であってもよく、そのような共重合体としては、例えば、ビニルピロリドン／ビニル酢酸共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ビニルアルコール単位以外の重合単位を有する共重合体であってもよく、そのような共重合体としては、例えば、ビニルアルコール／ビニルピロリドン共重合体等が挙げられる。
前記水溶性セルロース誘導体としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどが挙げられる。
前記ポリアルキレングリコールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、エチレングリコール／プロピレングリコール共重合体、などが挙げられ、重量平均分子量が、５，０００〜１００，０００のポリアルキレングリコールが好ましい。
【００５０】
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フィラー、界面活性剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤等の各種添加剤などが挙げられる。
【００５１】
前記可溶性保護層は、後述する導電膜形成用積層体の製造方法により形成することができる。
前記可溶性保護層の平均厚みは、０．１μｍ〜５μｍであることが好ましく、０．２μｍ〜２μｍであることがより好ましく、０．５μｍ〜１μｍであることが更に好ましい。前記平均厚みが、０．１μｍ未満であると、耐傷性を改良する効果が得られにくくなることがあり、５μｍを超えると、可溶性保護層の除去に時間がかかったり、可溶性保護層が残存してしまうことがあり、また、保護層のバインダーが導電性繊維含有層に混入し導電性繊維の密度が下がるためか、可溶性保護層の除去に十分な時間をかけた場合でも導電性が低下する現象が見られることがある。
ここで、前記可溶性保護層の平均厚みは、例えば走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による保護層断面の観察により測定することができる。
【００５２】
−感光層−
本発明においては、前記導電性繊維含有層が分散媒としての感光性化合物を含有しない場合には、前記基材と前記導電性繊維含有層の間に感光層を有することが好ましい。
前記感光層は、感光性化合物を少なくとも含み、ポリマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記感光性化合物及びポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば前記導電性繊維含有層と同様なものを用いることができる。
前記感光層の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、０．０５μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。
【００５３】
（導電膜形成用積層体の製造方法）
本発明の導電膜形成用積層体の製造方法は、導電性繊維含有層形成工程と、可溶性保護層形成工程とを少なくとも含み、可溶性保護層除去工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００５４】
＜導電性繊維含有層形成工程＞
前記導電性繊維含有層形成工程は、基材上に、少なくとも導電性繊維を含有する導電性繊維含有層用組成物を塗布して導電性繊維含有層を形成する工程である。
【００５５】
前記基材、及び前記導電性繊維としては、上述したものの中から適宜選択することができる。
【００５６】
前記導電性繊維含有層用組成物の塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、などが挙げられる。
【００５７】
前記金属ナノワイヤーの塗布量（含有量）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．００５ｇ／ｍ２〜０．５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．０１ｇ／ｍ２〜０．４５ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０１５ｇ／ｍ２〜０．４ｇ／ｍ２が更に好ましい。
前記塗布量が、０．００５ｇ／ｍ２未満であると、局所的に抵抗が高くなってしまう箇所ができ、面内の抵抗分布が悪化することがあり、０．５g／ｍ２を超えると、塗布後の乾燥中に金属ナノワイヤー同士の凝集により、ヘイズが悪化することがある。
【００５８】
前記導電性繊維含有層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することがで、２０ｎｍ〜５，０００ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜４，０００ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ〜３，５００ｎｍが更に好ましい。
前記厚みが、２０ｎｍ未満であると、金属ナノワイヤーの平均短軸長さと変わらない範囲となってしまい、膜強度が低下することがあり、５，０００ｎｍを超えると、導電性繊維含有層のヒビ割れ、透過率やヘイズが悪化することがある。
【００５９】
＜可溶性保護層形成工程＞
前記可溶性保護層形成工程は、前記導電性繊維含有層上に、少なくとも水溶性ポリマーを含有する可溶性保護層用組成物を塗布して可溶性保護層を形成する工程である。
【００６０】
前記水溶性ポリマーとしては、前記可溶性保護層と同様なものを用いることができる。
前記可溶性保護層用組成物は、少なくとも水溶性ポリマーを含有し、溶媒、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００６１】
前記溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、アセトン、２−ブタノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸、水などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記導電性繊維含有層を溶解しないものが好ましく、水が特に好ましい。
【００６２】
前記「塗布」としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塗布法、印刷法、インクジェット法などの一般的な液相成膜法の全てを含むものである
前記塗布法としては、特に制限はなく、前記導電性繊維含有層用組成物の塗布方法と同じ方法が挙げられる。
前記印刷法としては、例えば凸版（活版）印刷法、孔版（スクリーン）印刷法、平版（オフセット）印刷法、凹版（グラビア）印刷法、などが挙げられる。
【００６３】
＜可溶性保護層除去工程＞
前記可溶性保護層除去工程は、可溶性保護層に溶媒を付与して該可溶性保護層を除去する工程である。
前記可溶性保護層除去工程は、導電膜形成用積層体の製造方法において、導電性繊維含有層のパターン形成時に行われるが、ユーザー側においてパターン形成と共に行うこともできる。
【００６４】
前記溶媒としては、水及びアルカリ溶液のいずれかであることが好ましい。
前記水としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばイオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の純水、又は超純水などが挙げられる。
前記アルカリ溶液に含まれるアルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
【００６５】
前記水及びアルカリ溶液の付与方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塗布、浸漬、噴霧などが挙げられる。これらの中でも、浸漬が特に好ましい。
前記水及びアルカリ溶液の浸漬時間は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０秒間〜５分間であることが好ましい。
【００６６】
（パターン形成方法）
本発明のパターン形成方法は、露光工程と、除去工程と、を含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００６７】
＜露光工程＞
前記露光工程は、本発明の前記導電膜形成用積層体における少なくとも導電性繊維含有層を露光する工程である。
前記露光方法としては、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いることができる。
【００６８】
＜除去工程＞
前記除去工程は、前記少なくとも導電性繊維含有層における露光部及び非露光部のいずれかと、可溶性保護層とを、溶媒を付与して除去する工程である。
前記除去工程において、前記基材と導電性繊維含有層の間に、感光層を有する場合には、前記感光層における露光部及び非露光部のいずれかと、可溶性保護層とを除去する。
【００６９】
前記溶媒としては、アルカリ溶液が好ましい。前記アルカリ溶液としては、本発明の前記導電膜形成用積層体の製造方法と同様のものを用いることができる。
前記アルカリ溶液の付与方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば塗布、浸漬、噴霧などが挙げられる。これらの中でも、浸漬が特に好ましい。
前記アルカリ溶液の浸漬時間は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０秒間〜５分間であることが好ましい。
【００７０】
本発明の導電膜形成用積層体における導電性繊維含有層の表面抵抗は、０．１Ω／□〜１０，０００Ω／□であることが好ましく、０．１Ω／□〜１，０００Ω／□であることがより好ましい。前記表面抵抗が低いこと自体に弊害は無いが、０．１Ω／□未満であると、光透過率の高い導電膜形成用積層体を得るのが困難になることがあり、１０，０００Ω／□を超えると、通電時に発生するジュール熱による断線を生じやすくなったり、配線の上流と下流で電圧降下が生じタッチパネルに用いる際の面積が制限されるなどの問題を生じることがある。
ここで、前記表面抵抗は、例えば表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、表面抵抗を測定することができる。
【００７１】
本発明の導電膜形成用積層体の光透過率は、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。前記光透過率が、７０％未満であると、タッチパネル等の画像表示媒体に用いる際に導電パターンが目立ってしまい画像の品質を損ねたり、輝度低下を補償するために消費電力を増加させる必要が生じる等の弊害が生じることがある。
ここで、前記透過率は、例えば自記分光光度計（ＵＶ２４００−ＰＣ、島津製作所製）により測定することができる。
【００７２】
本発明の導電膜形成用積層体は、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能であるので、例えばタッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ＥＬディスプレイ用電極、無機ＥＬディスプレイ用電極、電子パーパー、フレキシブルディスプレイ用電極、集積型太陽電池、表示素子、その他の各種デバイスなどに幅広く適用される。これらの中でも、タッチパネル、表示素子、集積型太陽電池が特に好ましい。
【００７３】
＜表示素子＞
本発明で用いられる表示素子としての液晶表示素子は、上記のようにして基板上にパターニングされた本発明の前記導電膜形成用積層体が設けられた素子基板と、対向基板であるカラーフィルター基板とを、位置を合わせて圧着後、熱処理して組み合わせ、液晶を注入し、注入口を封止することによって製作される。このとき、カラーフィルター上に形成される導電膜形成用積層体も、本発明の前記導電膜形成用積層体を用いることが好ましい。
また、前記素子基板上に液晶を散布した後、基板を重ね合わせ、液晶が漏れないように密封して液晶表示素子が製作されてもよい。
なお、前記液晶表示素子に用いられる液晶、即ち液晶化合物及び液晶組成物については特に制限はなく、いずれの液晶化合物及び液晶組成物をも使用することができる。
【００７４】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、本発明の前記導電膜形成用積層体を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投射型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。
なお、このタッチパネルでは、本発明の「導電膜形成用積層体」を「透明導電体」として使用した場合であり、「導電性繊維含有層」は「導電層」に該当する。
【００７５】
ここで、前記タッチパネルは、以下に説明するように、反射防止フィルムを有することが好ましい。
＜反射防止フィルム＞
前記反射防止フィルムは、透明支持体上にハードコート層及び反射防止層を形成して作製される。
ここで、図１（Ａ）〜図１（Ｃ）は、タッチパネルの層構成を示す模式図である。
図１（Ａ）は、ディスプレイ１０１と、タッチパネル１３０と、反射防止フィルム１２０とからなり、タッチパネル１３０は、第１の電極１０５と、透明基板１０４と、第２の電極１０３と、透明接着剤１０２とからなり、反射防止フィルム１２０は、反射防止層１０９と、ハードコート層１０８とからなる。
図１（Ｂ）は、ディスプレイ１０１と、タッチパネル１３０と、反射防止フィルム１２０とからなり、タッチパネル１３０は、保護樹脂層１１０と、第１の電極１０５と、透明基板１０４と、第２の電極１０３と、透明接着剤１０２とからなり、反射防止フィルム１２０は、反射防止層１０９と、ハードコート層１０８とからなる。
図１（Ｃ）は、ディスプレイ１０１と、タッチパネル１３０と、反射防止フィルム１２０とからなり、タッチパネル１３０は、透明接着剤１０６と、第１の電極１０５と、透明基板１０４と、第２の電極１０３と、透明接着剤１０２とからなり、反射防止フィルム１２０は、反射防止層１０９と、ハードコート層１０８と、透明フィルム１０７とからなる。
【００７６】
−透明支持体−
前記透明支持体は、画像表示装置の視認者側表面に用いるため、光透過率が高く、かつ透明性に優れた無色のフィルムであることが要求される。このような透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。
前記プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、例えばセルロースアシレート（例えば富士フイルム株式会社製、ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、ＴＤ８０ＵＦ等のセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ株式会社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン株式会社製）、（メタ）アクリル系樹脂（アクリペットＶＲＬ２０Ａ：商品名、三菱レイヨン株式会社製、特開２００４−７０２９６号公報や特開２００６−１７１４６４号公報記載の環構造含有アクリル系樹脂）などが挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、セルローストリアセテートが特に好ましい。
【００７７】
−ハードコート層−
前記反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることが好ましい。前記ハードコート層は、２層以上の積層から構成されてもよい。
【００７８】
前記ハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜１．９０であることが好ましく、１．５０〜１．８０であることがより好ましく、１．５２〜１．６５であることが更に好ましい。前記ハードコート層上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【００７９】
前記ハードコート層の厚みは、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、前記ハードコート層の厚みは、０．５μｍ〜５０μｍであることが好ましく、１μｍ〜２０μｍであることがより好ましく、２μｍ〜１５μｍであることが更に好ましく、３μｍ〜１０μｍであることが特に好ましい。また、前記ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることが更に好ましい。更に、前記ハードコート層は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００８０】
前記ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。前記光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基などが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。具体的な化合物としては、特開２００６−３０７４０号公報の段落〔００８７〕及び〔００８８〕に記載のモノマーを使用することができ、特開２００６−３０７４０号公報の段落〔００８９〕に記載の硬化方法を用いることができる。光重合の場合には特開２００６−３０７４０号公報の段落〔００９０〕〜〔００９３〕に記載の光重合開始剤を用いることができる。
【００８１】
前記ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０μｍ〜１０．０μｍ、好ましくは１．５μｍ〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。これらの粒子としては、例えば特開２００６−３０７４０号公報の段落〔０１１４〕に記載の粒子を用いることができる。
【００８２】
前記ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー又は光散乱を生じない大きさの無機微粒子（一次粒子の直径が１０ｎｍ〜２００ｎｍ）、或いは両者を加えることができる。前記無機微粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。前記無機微粒子としては、例えば特開２００６−３０７４０号公報の段落〔０１２０〕に無機フィラーとして記載されている化合物を用いることができる。
【００８３】
−反射防止層−
前記反射防止フィルムは、前記ハードコート層上に反射防止層を形成したフィルムであり、光学干渉を利用しているため、前記反射防止層は以下に述べる屈折率と光学厚みを有することが好ましい。前記反射防止層は一層のみでもよいが、より低い反射率が求められる場合には複数の反射防止層を積層して形成する。複数の反射防止層の積層には、異なる屈折率を有する光学干渉層を交互に積層してもよく、異なる屈折率を有する光学干渉層を２層以上積層してもよい。具体的には、前記ハードコート層上に低屈折率層のみを設ける態様、ハードコート層上に高屈折率層、低屈折率層をこの順に設ける態様、ハードコート層上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に設ける態様、が常用されている。なお、屈折率層の低、中、高は、屈折率の相対的な大小関係の表現である。
前記低屈折率層の屈折率は前記のハードコート層の屈折率より低く設定することが好ましい。前記低屈折率層と前記ハードコート層との屈折率差が小さすぎる場合は反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。前記低屈折率層と前記ハードコート層との屈折率差は０．０１以上０．４０以下が好ましく、０．０５以上０．３０以下がより好ましい(特開２００９−２０１７２７号公報の段落〔００８０〕参照)。
各層の屈折率と厚みは、以下を満たすことが好ましい。
【００８４】
前記低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４２であることがより好ましく、１．３０〜１．３８であることが更に好ましい。また、前記低屈折率層の厚みは、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、７０ｎｍ〜１２０ｎｍであることがよりに好ましい。
【００８５】
前記高屈折率層の上に前記低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、前記高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、１．６０〜２．２０であることがより好ましく、１．６５〜２．１０であることが更に好ましく、１．８０〜２．００であることが特に好ましい。
【００８６】
支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作製する場合、前記高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがより好ましい。前記中屈折率層の屈折率は、前記低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。前記中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。なお、前記高屈折率層、及び前記中屈折率層の厚みは、屈折率の範囲に応じた光学厚みとすることができる。
【００８７】
−低屈折率層−
前記低屈折率層は、層の形成後に硬化させることが好ましい。前記低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。
【００８８】
前記低屈折率層を形成するための好ましい組成物としては少なくとも以下のいずれかを含む組成物であることが好ましい。
（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物
（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物
（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、が挙げられる。
【００８９】
（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物
前記架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物としては、含フッ素モノマーと架橋性又は重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。
前記共重合体のうちで、主鎖が炭素原子のみからなり、かつ含フッ素ビニルモノマー重合単位と側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する重合単位とを含んでなる共重合体としては、特開２００４−４５４６２号公報の段落〔００４３〕〜〔００４７〕に記載のＰ−１〜Ｐ−４０を用いることができる。また、耐擦傷性、すべり性の改良のためにシリコーン成分を導入した含フッ素ポリマーとして、側鎖にポリシロキサン部位を含む重合単位を有し、主鎖にフッ素原子を有するグラフトポリマーとしては特開２００３−２２２７０２号公報の段落〔００７４〕〜〔００７６〕の表１及び表２に記載の化合物を用いることができ、主鎖にポリシロキサン化合物に由来する構造単位を含むエチレン性不飽和基含有フッ素重合体としては、特開２００３−１８３３２２号公報に記載の化合物を用いることができる。
【００９０】
前記ポリマーに対しては特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開２００４−１７０９０１号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【００９１】
前記ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。
【００９２】
（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物
前記含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開２００２−２６５８６６号公報、特開２００２−３１７１５２号公報に記載されている。
【００９３】
（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でもよいが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例としては、特開２００２−７９６１６号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は１．１５〜１．４０が好ましく、１．２０〜１．３０が更に好ましい。バインダーとしては、前記ハードコート層の項で述べた２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。
【００９４】
前記低屈折率層には、上記の防眩層の頁で述べた重合開始剤を添加することが好ましい。ラジカル重合性化合物を含有する場合には、該化合物１００質量部に対して１質量部〜１０質量部添加することが好ましく、１質量部〜５質量部添加することがより好ましい。
【００９５】
前記低屈折率層には、無機粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚みの１５％〜１５０％、好ましくは３０％〜１００％、更に好ましくは４５％〜６０％の粒径を有する微粒子を使用することができる。
【００９６】
前記低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。
【００９７】
−高屈折率層／中屈折率層−
前記反射防止フィルムには、前記のように低屈折率層とハードコート層の間に屈折率の高い層を設け、反射防止性を高めることができる。
前記高屈折率層及び中屈折率層は高屈折無機微粒子とバインダーを含有する硬化性組成物から形成されることが好ましい。ここで使用することのできる高屈折率無機微粒子は前記、ハードコート層の屈折率を高めるために含有することのできる高屈折率の無機微粒子を用いることができる。
【００９８】
前記高屈折率層及び中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【００９９】
更に、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【０１００】
前記高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５質量％〜８０質量％添加する。
前記高屈折率層における無機粒子の含有量は、前記高屈折率層の質量に対し１０質量％〜９０質量％であることが好ましく、１５質量％〜８０質量％であることがより好ましく、１５質量％〜７５質量％であることが更に好ましい。前記無機粒子は高屈折率層内で２種類以上を併用してもよい。
前記高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、前記高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
【０１０１】
前記高屈折率層を光学干渉層として用いるときの厚みは、３０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１７０ｎｍがより好ましく、６０ｎｍ〜１５０ｎｍが更に好ましい。
前記高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。前記ヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが更に好ましい。
【０１０２】
本発明において、低屈折率層を設けた反射防止性防眩フィルムの好ましい積分反射率は、３．０％以下であることが好ましく、２．０％以下であることがより好ましく、１．５％以下０．３％以上であることが更に好ましい。
【０１０３】
本発明においては、防汚性向上の観点から、更に、低屈折率層表面の表面自由エネルギーを下げることが好ましい。具体的には、含フッ素化合物やポリシロキサン構造を有する化合物を低屈折率層に使用することが好ましい。また、低屈折率層の上に下記の化合物を含む防汚層を低屈折率層とは別に設けてもよい。
【０１０４】
ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、反応性基含有ポリシロキサン｛例えば“ＫＦ−１００Ｔ”、“Ｘ−２２−１６９ＡＳ”、“ＫＦ−１０２”、“Ｘ−２２−３７０１ＩＥ”、“Ｘ−２２−１６４Ｂ”、“Ｘ−２２−５００２”、“Ｘ−２２−１７３Ｂ”、“Ｘ−２２−１７４Ｄ”、“Ｘ−２２−１６７Ｂ”、“Ｘ−２２−１６１ＡＳ”（商品名）、以上信越化学工業株式会社製；“ＡＫ−５”、“ＡＫ−３０”、“ＡＫ−３２”（商品名）、以上東亜合成株式会社製；「サイラプレーンＦＭ０７２５」、「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ株式会社製等｝を添加するのも好ましい。また、特開２００３−１１２３８３号公報の表２、表３に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の０．１質量％〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、１質量％〜５質量％であることがより好ましい。
【０１０５】
＜＜反射防止フィルムの作製方法＞＞
前記反射防止フィルムは、以下の塗布方式で形成することができるが、これらに制限されるものではない。
【０１０６】
−塗布の準備作業−
まず、ハードコート層や反射防止層などの各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。通常、塗布液は有機溶媒系が主であるので含水量を２質量％以下に抑制すると共に、密閉して溶媒の揮発量を抑制することが必要である。用いる有機溶媒は各層に用いられる材料により選択される。塗布液の均一性を得るために適宜、攪拌機や分散機が使用される。
調製された塗布液は、塗布故障を発生させないために塗布前に濾過されることが好ましい。濾過のフィルタは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましく、濾過圧力も１．５ＭＰａ以下で適宜選択される。濾過した塗布液は、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持することが好ましい。
本発明で使用する透明支持体は、塗布前に、ベース変形の矯正のための加熱処理、又は、塗工性改良や塗設層との接着性改良のための表面処理を施してもよい。表面処理の具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
【０１０７】
更に塗布の前工程として、除塵工程を設けることが好ましく、それに用いられる除塵方法としては、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１１９〕に記載の方法を用いることができる。また、このような除塵工程を行う前に、透明支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１２０〕に記載の方法を用いることができる。更に、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１２１〕及び〔０１２３〕に記載の方法によりフィルムの平面性の確保、接着性の改良をしてもよい。
【０１０８】
−塗布工程−
前記反射防止フィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許第２６８１２９４号明細書、国際公開第０５／１２３２７４号パンフレット参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。前記マイクログラビアコート法については、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１２５〕及び〔０１２６〕に、ダイコート法については、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１２７〕及び〔０１２８〕に記載されており、本発明においてもこれらの方法を用いることができる。ダイコート法を用い、２０ｍ／分以上の速度で塗布することが生産性の点で好ましい。
【０１０９】
−乾燥工程−
前記反射防止フィルムは、透明支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶媒を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。
溶媒を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては、特開２００１−２８６８１７号公報、特開２００１−３１４７９８号公報、特開２００３−１２６７６８号公報、特開２００３−３１５５０５号公報、特開２００４−３４００２号公報などの記載の技術が挙げられる。
【０１１０】
乾燥ゾーンの温度条件については、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３０〕に、乾燥風の条件については、特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３１〕に記載されているそれぞれの条件を用いることができる。
【０１１１】
−硬化工程−
前記反射防止フィルムは、溶媒の乾燥の後又は乾燥の後期に、ウェブとして電離放射線及び／又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。本発明における電離放射線種は、特に制限はなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【０１１２】
前記紫外線硬化性化合物を光重合させる紫外線の光源については、例えば特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３３〕に記載の光源を用いることができる。電子線については、例えば特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３４〕に記載の電子線を用いることができる。また、照射条件、照射光量、照射時間については、例えば特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３５〕及び〔０１３８〕に記載の条件を用いることができる。更に、照射前後のフィルムの膜面温度、酸素濃度、酸素濃度の制御方法については、例えば特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１３６〕、〔０１３７〕、〔０１３９〕〜〔０１４４〕に記載の条件、方法を用いることができる。
【０１１３】
−連続製造のためのハンドリング−
前記反射防止フィルムを連続的に製造するためには、ロール状の透明支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する該支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【０１１４】
前記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設け（いわゆるタンデム方式）て、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
【０１１５】
前記反射防止フィルムを作製するためには、上記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程及び乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、透明支持体フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／ｍ３以下）以上であることが好ましく、クラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／ｍ３以下）以上であることがより好ましい。なお、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１１６】
画像の鮮明性を維持する目的では、前記反射防止フィルムはその表面形状をできるだけ平滑に調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。本発明の反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。前記透過画像鮮明度は、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【０１１７】
前記反射防止フィルムは、画像表示装置の視認側の表面フィルムとして用いることができる。画像表示装置としては、各種の液晶表示装置、プラズマディスプレイ、有機ＥＬ、タッチパネルなど各種の表示装置に適用できる。前記反射防止フィルムを用いる画像表示装置の最表面の性質によって、前記反射防止フィルムの透明支持体の塗布層を有さない側表面に接着剤層を設けたり、支持体表面をケン化したりして画像表示装置に張り合わせることができる。
前記透明支持体の塗布層を有さない面をケン化する方法については、例えば特開２０１０−３２７９５号公報の段落〔０１４９〕〜〔０１６０〕に記載の技術を用いることができる。
【０１１８】
ここで、前記表面型静電容量方式タッチパネルの一例について、図２を参照して説明する。この図２において、タッチパネル１０は、透明基板１１の表面を一様に覆うように透明導電体１２を配してなり、透明基板１１の端部の透明導電体１２上に、図示しない外部検知回路との電気接続のための電極端子１８が形成されている。
なお、図中、１３は、シールド電極となる透明導電体を示し、１４、１７は、保護膜を示し、１５は、中間保護膜を示し、１６は、グレア防止膜を示す。
透明導電体１２上の任意の点を指でタッチ等すると、前記透明導電体１２は、タッチされた点で人体を介して接地され、各電極端子１８と接地ラインとの間の抵抗値に変化が生じる。この抵抗値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
【０１１９】
前記表面型静電容量方式タッチパネルの他の一例について図３を用いて説明する。該図３においてタッチパネル２０は、透明基板２１の表面を覆うように配された透明導電体２２と透明導電体２３と、該透明導電体２２と該透明導電体２３とを絶縁する絶縁層２４と、指等の接触対象と透明導電体２２又は透明導電体２３の間に静電容量を生じる絶縁カバー層２５からなり、指等の接触対象に対して位置検知する。構成によっては、透明導電体２２，２３を一体として構成することもでき、また、絶縁層２４又は絶縁カバー層２５を空気層として構成してもよい。
絶縁カバー層２５を指等でタッチすると、指等と透明導電体２２又は透明導電体２３の間の静電容量の値に変化が生じる。この静電容量値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標が特定される。
また、図４により、投射型静電容量方式タッチパネルとしてのタッチパネル２０を透明導電体２２と透明導電体２３とを平面から視た配置を通じて模式的に説明する。
タッチパネル２０は、Ｘ軸方向の位置を検出可能とする複数の透明導電体２２と、Ｙ軸方向の複数の透明導電体２３とが、外部端子に接続可能に配されている。透明導電体２２と透明導電体２３とは、指先等の接触対象に対し複数接触して、接触情報が多点で入力されることを可能とされる。
このタッチパネル２０上の任意の点を指でタッチ等すると、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の座標が位置精度よく特定される。
なお、透明基板、保護層等のその他の構成としては、前記表面型静電容量方式タッチパネルの構成を適宜選択して適用することができる。また、タッチパネル２０において、複数の透明導電体２２と、複数の透明導電体２３とによる透明導電体のパターンの例を示したが、その形状、配置等としては、これらに限られない。
【０１２０】
前記抵抗膜式タッチパネルの一例について、図５を用いて説明する。該図５において、タッチパネル３０は、透明導電体３２が配された基板３１と、該透明導電体３２上に複数配されたスペーサ３６と、空気層３４を介して、透明導電体３２と接触可能な透明導電体３３と、該透明導電体３３上に配される透明フィルム３５とが支持されて構成される。
このタッチパネル３０に対して、透明フィルム３５側からタッチすると、透明フィルム３５が押圧され、押し込まれた透明導電体３２と透明導電体３３とが接触し、この位置での電位変化を図示しない外部検知回路で検出することで、タッチした点の座標が特定される。
【０１２１】
（集積型太陽電池）
本発明の集積型太陽電池は、本発明の前記導電膜形成用積層体を用いている。
前記集積型太陽電池（以下、太陽電池デバイスと称することもある）としては、特に制限はなく、太陽電池デバイスとして一般的に用いられるものを使用することができる。例えば、単結晶シリコン系太陽電池デバイス、多結晶シリコン系太陽電池デバイス、シングル接合型、又はタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（ＩｎＰ）等のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体太陽電池デバイス、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）等のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイス、色素増感型太陽電池デバイス、有機太陽電池デバイスなどが挙げられる。これらの中でも、本発明においては、前記太陽電池デバイスが、タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイス、及び銅／インジウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅／インジウム／ガリウム／セレン／硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池デバイスであることが好ましい。
【０１２２】
タンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池デバイスの場合、アモルファスシリコン、微結晶シリコン薄膜層、又はこれらにゲルマニウムを含んだ薄膜、更に、これらの２層以上のタンデム構造が光電変換層として用いられる。成膜はプラズマＣＶＤ等を用いる。
【実施例】
【０１２３】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、この実施例は、本発明の「導電膜形成用積層体」を「透明導電体として使用する例であり、「導電性繊維含有層」は「導電層」に該当する。
【０１２４】
（合成例１）
＜バインダー（Ａ−１）の合成＞
共重合体を構成するモノマー成分としてメタクリル酸（ＭＡＡ）７．７９ｇ、ベンジルメタクリレート（ＢｚＭＡ）３７．２１ｇを使用し、ラジカル重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．５ｇを使用し、これらを溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）５５．００ｇ中において重合反応させることにより、下記式で表されるバインダー（Ａ−１）のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：４５質量％）を得た。なお、重合温度は、温度６０℃乃至１００℃に調整した。
分子量はゲルパーミエイションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１であった。
【化１】
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【０１２５】
（調製例１）
−銀ナノワイヤー水分散液の調製−
予め、下記の添加液Ａ、Ｇ、及びＨを調製した。
〔添加液Ａ〕
硝酸銀粉末０．５１ｇを純水５０ｍＬに溶解した。その後、１Ｎのアンモニア水を透明になるまで添加した。そして、全量が１００ｍＬになるように純水を添加した。
〔添加液Ｇ〕
グルコース粉末０．５ｇを１４０ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｇを調製した。
〔添加液Ｈ〕
ＨＴＡＢ（ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド）粉末０．５ｇを２７．５ｍＬの純水で溶解して、添加液Ｈを調製した。
【０１２６】
次に、以下のようにして、銀ナノワイヤー水分散液を調製した。
純水４１０ｍＬを三口フラスコ内に入れ、２０℃にて攪拌しながら、添加液Ｈ  ８２．５ｍＬ、及び添加液Ｇ  ２０６ｍＬをロートにて添加した（一段目）。この液に、添加液Ａ  ２０６ｍＬを流量２．０ｍＬ／ｍｉｎ、攪拌回転数８００ｒｐｍで添加した（二段目）。その１０分間後、添加液Ｈを８２．５ｍＬ添加した（三段目）。その後、３℃／分で内温７５℃まで昇温した。その後、攪拌回転数を２００ｒｐｍに落とし、５時間加熱した。
得られた水分散物を冷却した後、限外濾過モジュールＳＩＰ１０１３（旭化成株式会社製、分画分子量６，０００）、マグネットポンプ、及びステンレスカップをシリコーン製チューブで接続し、限外濾過装置とした。
銀ナノワイヤー分散液（水溶液）をステンレスカップに入れ、ポンプを稼動させて限外濾過を行った。モジュールからの濾液が５０ｍＬになった時点で、ステンレスカップに９５０ｍＬの蒸留水を加え、洗浄を行った。前記の洗浄を伝導度が５０μＳ／ｃｍ以下になるまで繰り返した後、濃縮を行い、銀ナノワイヤー水分散液を得た。
得られた調製例１の銀ナノワイヤーについて、以下のようにして平均短軸長さ、平均長軸長さ、アスペクト比が１０以上の銀ナノワイヤーの比率、及び銀ナノワイヤー短軸長さの変動係数を測定した。結果を表１に示す。
【０１２７】
＜銀ナノワイヤーの平均短軸長さ（平均直径）及び平均長軸長さ＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、３００個の銀ナノワイヤーを観察し、銀ナノワイヤーの平均短軸長さ及び平均長軸長さを求めた。
【０１２８】
＜銀ナノワイヤーの短軸長さの変動係数＞
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、銀ナノワイヤーの短軸長さを３００個観察し、ろ紙を透過した銀の量を各々測定し、短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが５μｍ以上である銀ナノワイヤーをアスペクト比が１０以上の銀ナノワイヤーの比率（％）として求めた。
なお、銀ナノワイヤーの比率を求める際の銀ナノワイヤーの分離は、メンブレンフィルター（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ社製、ＦＡＬＰ  ０２５００、孔径１．０μｍ）を用いて行った。
【０１２９】
【表１】
2012022844.tif 000003
【０１３０】
（実施例１）
＜試料Ｎｏ．１０１＞
−銀ナノワイヤーのＭＦＧ分散液（Ａｇ−１）の調製−
調製例１の銀ナノワイヤーの水分散物へ、ポリビニルピロリドン（Ｋ−３０、和光純薬工業株式会社製）と１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ）を添加し、遠心分離の後、デカンテーションにて上澄みの水を除去し、ＭＦＧを添加し、再分散を行い、その操作を３回繰り返し、銀ナノワイヤーのＭＦＧ分散液（Ａｇ−１）を得た。最後のＭＦＧの添加量は銀の含有量が、銀１質量％となるように調節した。
【０１３１】
−ネガ型導電層用組成物の調製−
合成例１のバインダー（Ａ−１）０．２４１質量部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬株式会社製）０．２５２質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．０２５２質量部、架橋剤としてのＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．０２３７質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）０．０００３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）０．９６１１質量部、及び１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＦＧ）４４．３質量部、前記銀ナノワイヤーのＭＦＧ分散液（Ａｇ−１）を５４．１質量部加え、攪拌し、ネガ型導電層用組成物を調製した。
【０１３２】
−導電層の形成−
得られたネガ型導電層用組成物を、塗布銀量が０．０５ｇ／ｍ２になるように厚み７５μｍのコロナ放電処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に塗布し、乾燥させることにより、厚み０．０５μｍの導電層を形成した。以上により、試料Ｎｏ．１０１の透明導電体を作製した。得られた試料Ｎｏ．１０１の導電層における銀と分散媒の質量比は、１．０であった。
【０１３３】
＜試料Ｎｏ．１０２＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を作製した。可溶性保護層の平均厚みは、走査型電子顕微鏡（株式会社日立ハイテクノロジーズ製、Ｓ３４００Ｎ）による断面観察にて長さ５０μｍの領域に渡って測定した値の平均値である（以下の試料についても同様にして測定した）。
−可溶性保護層用組成物の調製−
・ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ、和光純薬工業株式会社製、ＰＶＰ  Ｋ−３０）・・・１０ｇ
・イオン交換水・・・９０ｇ
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）・・・０．０５ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１３４】
＜試料Ｎｏ．１０３＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０３の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層組成物の調製−
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ、ＰＶＡ２０５（鹸化率＝８８％）；株式会社クラレ製）・・・１０ｇ
・イオン交換水・・・９０ｇ
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）・・・０．０５ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１３５】
＜試料Ｎｏ．１０４＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０４の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層組成物の調製−
・ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ、ダイセル化学工業株式会社製）・・・１０ｇ
・イオン交換水・・・９０ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１３６】
＜試料Ｎｏ．１０５＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０５の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層組成物の調製−
・ゼラチン（新田ゼラチン株式会社製、アルカリオセインゼラチン）・・・５ｇ
・イオン交換水・・・９５ｇ
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）・・・０．０５ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１３７】
＜試料Ｎｏ．１０６＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０６の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層組成物の調製−
・ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ、和光純薬工業株式会社製、ＰＶＰ  Ｋ−３０）・・・１０ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）・・・９０ｇ
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）・・・０．０５ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１３８】
＜試料Ｎｏ．１０７＞
試料Ｎｏ．１０２において、可溶性保護層の平均厚みを２．５μｍに変えた以外は、試料Ｎｏ．１０２と同様にして、試料Ｎｏ．１０７の透明導電体を作製した。
【０１３９】
＜試料Ｎｏ．１０８＞
試料Ｎｏ．１０２において、可溶性保護層の平均厚みを０．１μｍに変えた以外は、試料Ｎｏ．１０２と同様にして、試料Ｎｏ．１０８の透明導電体を作製した。
【０１４０】
＜試料Ｎｏ．１０９＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１０９の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層用組成物の調製−
・合成例１のバインダー（Ａ−１）（ＭＡＡ／ＢｚＭＡ共重合体）・・・１０．０ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）・・・９０ｇ
上記組成を混合し、撹拌して、非水溶性の可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１４１】
＜試料Ｎｏ．１１０＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１１０の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層用組成物の調製−
合成例１のバインダー（Ａ−１）４．４４質量部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬株式会社製）４．６５質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．４６質量部、架橋剤としてのＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．４４質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）０．００６質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）９０．０質量部を加え、攪拌し、ネガ型レジスト組成の可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１４２】
＜試料Ｎｏ．１１１＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記の組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１１１の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層用組成物の調製−
合成例１のバインダー（Ａ−１）４．４４質量部、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬株式会社製）０．２５２質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．４６質量部、架橋剤としてのＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．４４質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）０．００６質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）９０．０質量部を加え、攪拌し、ネガ型の可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１４３】
＜試料Ｎｏ．１１２＞
試料Ｎｏ．１０１において、導電層上に、下記組成の可溶性保護層用組成物を塗布し、乾燥させることで、平均厚み０．８μｍの可溶性保護層を形成した以外は、試料Ｎｏ．１０１と同様にして、試料Ｎｏ．１１２の透明導電体を作製した。
−可溶性保護層用組成物の調製−
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬株式会社製）１０．０質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．５質量部、及びメチルエチルケトン９０．０質量部を加え、攪拌し、ハードコート組成の可溶性保護層用組成物を調製した。
【０１４４】
次に、得られた各透明導電体について、以下のようにして、耐傷性、光透過率、表面抵抗、パターニング性、及び現像工程を経た後の銀と分散媒の質量比を評価した。結果を表１に示す。
【０１４５】
＜耐傷性＞
作製した各透明導電体に対し、日本塗料検査協会検定鉛筆引っかき用鉛筆（硬度ＨＢ及び硬度Ｂ）をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準じてセットした鉛筆引掻塗膜硬さ試験機（株式会社東洋精機製作所製、型式ＮＰ）にて荷重５００ｇの条件で長さ１０ｍｍにわたり引っ掻いた後、下記条件にて露光及び現像を施し、引っ掻いた部分をデジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−６００、キーエンス株式会社製、倍率２，０００倍）で観察し、下記のランク付けを行った。
〔評価基準〕
○：引っ掻き跡が認められない。
△：引っ掻き跡が認められるものの、導電性繊維が残存し、基材表面の露出が観察されない。
×：引っ掻き跡が認められ、かつ、導電性繊維が削られ、基材表面の露出が観察される。
【０１４６】
ここで、露光及び現像は下記の条件で行った。
＜露光及び現像条件＞
得られた各透明導電体を、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）で均一に露光を行った後、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）の１．０質量％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）でシャワー現像３０秒間を行い、更にイオン交換水にて２０秒間リンスを行った後乾燥させた。
【０１４７】
＜光透過率の測定＞
上記条件にて露光及び現像を施した各試料の引っ掻いていない部分を、ガードナー社製ヘイズガードプラスを用いて、Ｃ光源下のＣＩＥ視感度関数ｙについて、測定角０°で測定した。
【０１４８】
＜表面抵抗値の測定＞
上記条件にて露光及び現像を施した各試料の引っ掻いていない部分を、表面抵抗計（三菱化学株式会社製、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、表面抵抗値（ＳＲ）を測定した。試料Ｎｏ．１０１の乾燥後の表面抵抗値（ＳＲ１０１）に対する各試料の表面抵抗値の比（ＳＲ／ＳＲ１０１）を求め、下記基準によりランク付けを行った。
〔評価基準〕
○：ＳＲ／ＳＲ１０１＜１．５
△：１．５≦ＳＲ／ＳＲ１０１＜５．０
×：５．０≦ＳＲ／ＳＲ１０１
【０１４９】
＜パターニング性の評価＞
パターニング特性を評価するためのストライプパターン（ライン／スペース＝３０μｍ／３０μｍ）を含む光学マスクを用い、密着露光を行った。露光は、高圧水銀灯ｉ線（３６５ｎｍ）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２（照度２０ｍＷ／ｃｍ２）で行った。露光後の各試料を、水酸化カリウム系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）の１．０質量％現像液（ＣＤＫ−１を１質量部、純水を９９質量部の希釈した液、２５℃）で現像し、更にイオン交換水（２５℃）でリンスした後乾燥させた。現像はシャワー現像で行い、現像工程及びリンス工程ともにシャワー圧は０．０４ＭＰａであった。現像時間は３０秒及び６０秒の２条件で行い、リンス時間はいずれも１５秒とした。得られた試料のパターン部をデジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−６００、キーエンス株式会社製、倍率２，０００倍）で観察し、パターニング性を下記基準で評価した。
〔評価基準〕
○：未露光部の現像残渣が認められず、パターニング性良好。
△：未露光部の大半が現像で除去できているが、一部現像残渣が認められる。
×：未露光部の大半が現像で除去できておらず、パターニング不良。
【０１５０】
＜現像工程後の分散媒と銀の質量比の測定＞
露光及び現像後の試料から導電層を採取し、採取した導電層の質量及び銀の含有量を求めることにより、現像後の分散媒質量（Ａ）と銀の質量（Ｂ）の比（Ａ／Ｂ）を算出した。ここで、露光及び現像は耐傷性評価時と同一条件で行った。また銀の含有量の測定は、ＩＣＰ発光分析装置（株式会社島津製作所製、ＩＣＰＳ−８０００）にて行った。
【０１５１】
【表２−１】
2012022844.tif 000004
【表２−２】
2012022844.tif 000005
＊測定不能：１００,０００Ω／□以上
【０１５２】
（実施例２）
−タッチパネルの作製−
試料Ｎｏ．１０２の透明導電体を用いて、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行、株式会社テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４年１２月発行）、「ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック」、「Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２」等に記載の方法により、タッチパネルを作製した。ここで、試料Ｎｏ．１０２は実施例１の耐傷性評価時と同じ条件で露光及び現像を行ったものをタッチパネル作製用に用いた。
作製したタッチパネルを使用した場合、光透過率の向上により視認性に優れ、かつ導電性の向上により素手、手袋を嵌めた手、指示具のうち少なくとも一つによる文字等の入力又は画面操作に対し応答性に優れるタッチパネルを製作できることが分かった。なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものとする。
【０１５３】
（実施例３）
＜集積型太陽電池の作製＞
−アモルファス太陽電池（スーパーストレート型）の作製−
ガラス基板上に、試料Ｎｏ．１０３の透明導電体を形成し、実施例１の耐傷性評価時と同じ条件で露光及び現像を行った。該透明導電体の上部にプラズマＣＶＤ法により厚みが１５ｎｍのｐ型、前記ｐ型の上部に厚みが３５０ｎｍのｉ型、前記ｉ型の上部に厚みが３０ｎｍのｎ型アモルファスシリコンを形成した。前記ｎ型アモルファスシリコンの上部に裏面反射電極として厚み２０ｎｍのガリウム添加酸化亜鉛層、該ガリウム添加酸化亜鉛層の上部に厚み２００ｎｍの銀層を形成し、アモルファス太陽電池を作製した。
【０１５４】
（実施例４）
＜集積型太陽電池の作製＞
−ＣＩＧＳ太陽電池（サブストレート型）の作製−
ガラス基板上に、直流マグネトロンスパッタ法により厚みが５００ｎｍ程度のモリブデン電極、前記電極の上部に真空蒸着法により厚みが２．５μｍのカルコパイライト系半導体材料であるＣｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜、前記Ｃｕ（Ｉｎ０．６Ｇａ０．４）Ｓｅ２薄膜の上部に溶液析出法により厚みが５０ｎｍの硫化カドミニウム薄膜を形成した。前記硫化カドミニウム薄膜の上部に、試料Ｎｏ．１０４の透明導電体を形成し、実施例１の耐傷性評価時と同じ条件で露光及び現像を行った。以上により、ＣＩＧＳ太陽電池を作製した。
【０１５５】
＜太陽電池特性（変換効率）の評価＞
作製した実施例３及び４の太陽電池について、ＡＭ１．５、１００ｍＷ／ｃｍ２の疑似太陽光を照射することで太陽電池特性（変換効率）を測定した。結果を表３に示す。
【０１５６】
【表３】
2012022844.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【０１５７】
本発明の導電膜形成用積層体は、外部配線との電気的接続が容易であり、かつ表面導電性に優れ、耐傷性が向上しているので、例えば、タッチパネル、ディスプレイ用帯電防止、電磁波シールド、有機ＥＬ又は無機ＥＬディスプレイ用電極、電子ペーパー、フレキシブルディスプレイ用電極、フレキシブルディスプレイ用帯電防止、太陽電池、その他の各種デバイスなどに幅広く利用可能である。
【符号の説明】
【０１５８】
１０、２０、３０      タッチパネル
１１、２１、３１      透明基板
１２、１３、２２、２３、３２、３３      透明導電体
２４      絶縁層
２５      絶縁カバー層
１４、１７      保護膜
１５      中間保護膜
１６      グレア防止膜
１８      電極端子
３３      スペーサ
３４      空気層
３５      透明フィルム
３６      スペーサ
１０１      ディスプレイ
１０２      透明接着剤
１０３      第２の電極
１０４      透明基板
１０５      第１の電極
１０６      透明接着剤
１０７      透明フィルム
１０８      ハードコート層
１０９      反射防止層
１１０      保護樹脂層
１２０      反射防止フィルム
１３０      タッチパネル
【図１】
2012022844.tif 000007
【図２】
2012022844.tif 000008
【図３】
2012022844.tif 000009
【図４】
2012022844.tif 000010
【図５】
2012022844.tif 000011