(57)【要約】【課題】  媒体の流量を容易に調整することができる流量制御装置を提供する。【解決手段】  圧力源２４ｃと接続される圧力源側流路２４ｄと、粒度分布測定装置１の測定空間８３と接続される粒度分布測定装置側流路２４ｄと、圧力源側流路２４ｄと粒度分布測定装置側流路２４ｄとの間を接続するように形成された少なくとも２つの流量調整用流路３２ａ〜３２ｃと、各流量調整用流路３２ａ〜３２ｃについてそれぞれ流通可能状態か流通不可能状態かのいずれかの状態となるように開閉可能な開閉機構３４と、開閉機構３４を制御する制御部１７とを備える。【選択図】  図３
2012137390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力源と接続される圧力源側流路と、
粒度分布測定装置の測定空間と接続される粒度分布測定装置側流路と、
前記圧力源側流路と前記粒度分布測定装置側流路との間を接続するように形成された少なくとも２つの流量調整用流路と、
各流量調整用流路についてそれぞれ流通可能状態か流通不可能状態かのいずれかの状態となるように開閉可能な開閉機構と、
前記開閉機構を制御する制御部とを備えることを特徴とする流量制御装置。
【請求項２】
各流量調整用流路は、それぞれ異なる流量の媒体を流通可能とすることを特徴とする請求項１に記載の流量制御装置。
【請求項３】
ｋ個の流量調整用流路を備え、
各流量調整用流路を流通可能な媒体の流量は、式（１）で示す比率となっていることを特徴とする請求項２に記載の流量制御装置。
２０：２１：２２：２３：・・・：２ｋ−１      …（１）
ここで、ｋは２以上の整数である。
【請求項４】
各流量調整用流路は、それぞれ異なる大きさの開口が形成された断面を有することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の流量制御装置。
【請求項５】
前記開閉機構は、少なくとも２つの開閉バルブとバルブ駆動機構とであることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の流量制御装置。
【請求項６】
前記制御部は、入力装置で入力された入力情報に基づいて、前記開閉機構を制御することを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の流量制御装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の流量制御装置と、
測定光を出射する光源と、
光強度分布を検出する検出器と、
空気と被測定粒子群とを含む被測定物を通過させる測定空間を前記光源と前記検出器との間に配置する測定空間配置部と、
前記被測定粒子群を前記測定空間に供給する乾燥粉体分散供給装置とを備える粒度分布測定装置であって、
前記制御部は、前記開閉機構を制御するサンプル供給制御部と、
前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を前記検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、
前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備えることを特徴とする粒度分布測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学的手法（例えば、レーザ回折・散乱式等）を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定するための流量制御装置及びそれを用いた粒度分布測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ回折・散乱式の粒度分布測定装置においては、媒体（例えば、水や空気等）中に分散状態の被測定粒子群（例えば、乾燥粉体等）にレーザ光（測定光）を照射することにより、被測定粒子群で回折・散乱されたレーザ光の空間的な光強度分布を複数個の光検出素子で検出して、その光強度分布からフラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づく演算を行うことによって、被測定粒子群の粒度分布を算出する。
【０００３】
図５は、従来の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。なお、図５中で、光学系の構成を表す模式図と、データサンプリング回路やコンピュータからなる信号処理系の構成を表すブロック図とを併記して示している。
粒度分布測定装置５０１は、測定空間を配置するための測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するために空気（媒体）Ｌを供給する流量制御機構１２４と、測定空間にエアロゾルＳを供給するために乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを供給するサンプル供給装置５０２と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置５０１全体を制御するコンピュータ（制御部）５１７とを備える（例えば、特許文献１参照）。
ここでは、乾燥粉体Ｐを空気Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものとする。
【０００４】
測定空間配置部８３は、下端部に下側接続口を、上端部に上側接続口を有する。そして、測定空間配置部８３の下側接続口は、エアロゾル移送パイプ２４ｆを介してサンプル供給装置５０２及び流量制御機構１２４のエジェクタ２４ａと接続されている。また、上側接続口は、吸引パイプ９１を介してポンプ９２と接続されている。
【０００５】
サンプル供給装置５０２は、鉛直方向となる回転軸５２１ａを有する土台５２４と、円板状のターンテーブル５２１と、ターンテーブル５２１の上方に配置されたホッパ５２２及び充填器５２３とによって構成される。
ターンテーブル５２１は、土台５２４の回転軸５２１ａを中心として図中矢印で示す向きに回転可能となっている。ターンテーブル５２１の上面には、回転軸５２１ａを中心とする円環状の溝５２０が形成されている。
【０００６】
ホッパ５２２は、内部に充填された乾燥粉体Ｐをターンテーブル５２１の溝５２０の内部に向けて落下させて供給するものである。
充填器５２３は、溝５２０の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝５２０の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填するものである。
【０００７】
流量制御機構１２４は、エジェクタ２４ａと、一端が下向きに開口するとともに他端がエジェクタ２４ａに接続された吸引パイプ２４ｂと、エジェクタ２４ａにボンベ（圧力源）２４ｃから高圧の空気Ｌを供給する空気供給パイプ２４ｄと、一端がエジェクタ２４ａに接続されるとともに他端が測定空間に向かって開口する噴出ノズル２４ｅが装着されたエアロゾル移送パイプ２４ｆと、ボンベ２４ｃの出口に取り付けられた可変レギュレータ（圧力調整機構）２４ｇとによって構成される。
このようなサンプル供給装置５０２と流量制御機構１２４とによれば、吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気Ｌ中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって、エアロゾルＳが、下側接続口から測定空間に噴出し、そして、測定空間を下方から上方へ通過し、その後、上側接続口から流出するようになっている。
【０００８】
粒度分布測定装置５０１の左側部には、照射光学系８２が設置され、具体的にはレーザ光源８１と集光レンズ８２ａと空間フィルタ８２ｂとコリメータ８２ｃとが左からこの順に配置されている。
このような照射光学系８２の構成において、レーザ光源８１で発生されたレーザ光は、集光レンズ８２ａ、空間フィルタ８２ｂ、コリメータ８２ｃを通過して平行光とされ、前方向（図の左から右へ）に向かうように測定空間に照射される。
これにより、測定空間をエアロゾルＳが通過していれば、レーザ光は、測定空間の乾燥粉体Ｐで回折・散乱して、空間的に回折・散乱光の光強度分布パターンが生ずることになる。
【０００９】
粒度分布測定装置５０１の右側部には、検出光学系８４が設置され、具体的には集光レンズ８４ａとリングディテクタ８４ｂとが左からこの順に配置されている。
リングディテクタ８４ｂは、互いに異なる半径を持つリング状ないしは半リング状の受光面を持つ６４個の光検出素子を、集光レンズ８４ａの光軸を中心とするように同心円状に配置してあり、各光検出素子には、それぞれの位置に応じた回折・散乱角度を持つ光が入射するようにしてある。したがって、各光検出素子の出力信号は、各回折・散乱角度ごとの光の強度を表すことになる。
【００１０】
このような検出光学系８４の構成において、前方向に対して６０°以内の回折・散乱光は、集光レンズ８４ａを介してリングディテクタ８４ｂの受光面上に集光されて、リング状の回折・散乱像を結ぶようになる。
リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子の出力信号は、アンプ、マルチプレクサ及びＡ−Ｄ変換器からなるデータサンプリング回路８５によって順次デジタル化され、回折・散乱光の光強度分布データとして汎用のコンピュータ５１７に送信される。
【００１１】
コンピュータ５１７は、ＣＰＵ５４０とメモリ６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ５４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、サンプル供給装置５０２を制御するサンプル供給制御部５４２とを有する。
なお、メモリ６０は、光強度分布データを記憶するための光強度分布記憶領域と、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率や、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算式等を記憶するデータ記憶領域とを有する。
【００１２】
サンプル供給制御部５４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で入力されると、測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、ホッパ５２２は、乾燥粉体Ｐをターンテーブル５２１の溝５２０の内部に向けて落下させ、充填器５２３は、溝５２０の内部に供給された乾燥粉体Ｐに対して振動等を与えることによって、溝５２０の内部に乾燥粉体Ｐを均一に充填する。一方、測定者は空気Ｌを測定空間に供給するために、ボンベ２４ｃで発生させた圧力を可変レギュレータ２４ｇで調整することで、測定空間に供給する空気Ｌの流量を調整する。これにより、流量制御機構１２４は、エジェクタ２４ａにボンベ２４ｃから可変レギュレータ２４ｇで調整した流量の空気Ｌを供給する。
その結果、吸引パイプ２４ｂに対し真空が加えられたとき、乾燥粉体Ｐを吸引パイプ２４ｂの内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気Ｌ中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
【００１３】
光強度分布取得部４１は、エアロゾルＳが測定空間を通過していると判定すると、測定空間に照射光学系８２からのレーザ光を照射するとともに、リングディテクタ８４ｂの６４個の各光検出素子で検出される光強度をそれぞれ積算するように検出していき、エアロゾルＳが測定空間を通過していないと判定すると、６４個の各光検出素子で検出される各光強度の積算を終了することで、光強度分布データを取得してメモリ６０に記憶させる制御を行う。
粒度分布算出部４３は、光強度分布取得部４１で得られた光強度分布データと、粉体粒子Ｐ及び空気Ｌの屈折率とを用いて、フラウンホーファ回折理論やミーの散乱理論に基づいた公知の演算を行うことによって、エアロゾルＳに含まれる乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出する制御を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００８−１５７６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、一般的な可変レギュレータ２４ｇは、回転式バルブ（図示せず）が内蔵されており、測定者が手動で回転式バルブを回転させて回転量を調整することにより、測定空間に供給する空気Ｌの流量を調整できるようになっている。
しかしながら、測定者は可変レギュレータ２４ｇを手動で回転させて最適な流量を調整する必要があり、非常に手間がかかっていた。また、可変レギュレータ２４ｇを制御部５４０等で回転量を調整するように構成すると、回転式バルブを精密に回転させるための回転機構が必要となり、構造が複雑になる。
そこで、本発明は、媒体（空気Ｌ）の流量を容易に調整することができる流量制御装置及びそれを用いた粒度分布測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するためになされた本発明の流量制御装置は、圧力源と接続される圧力源側流路と、粒度分布測定装置の測定空間と接続される粒度分布測定装置側流路と、前記圧力源側流路と前記粒度分布測定装置側流路との間を接続するように形成された少なくとも２つの流量調整用流路と、各流量調整用流路についてそれぞれ流通可能状態か流通不可能状態かのいずれかの状態となるように開閉可能な開閉機構と、前記開閉機構を制御する制御部とを備えるようにしている。
【００１７】
本発明の流量制御装置によれば、各流量調整用流路についてそれぞれ流通可能状態か流通不可能状態かのいずれかの状態となるように開閉可能な開閉機構とを備える。これにより、第一の流量調整用流路について流通可能状態とするともに第二の流量調整用流路について流通不可能状態としたり、第一の流量調整用流路と第二の流量調整用流路とについて流通可能状態としたりするように、媒体が流通する流路の組み合わせを様々に変えることで、粒度分布測定装置側流路を流通する媒体の流量を調整することができる。また、開閉機構を操作することから、回転式バルブを精密に回転させるための回転機構は必要なくなり、構造が複雑にならず、制御部で媒体の流量を調整することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、本発明の流量制御装置によれば、媒体の流量を容易に調整することができる。
【００１９】
（その他の課題を解決するための手段および効果）
また、本発明の流量制御装置は、各流量調整用流路は、それぞれ異なる流量の媒体を流通可能とするようにしてもよい。
また、本発明の流量制御装置は、ｋ個の流量調整用流路を備え、各流量調整用流路を流通可能な媒体の流量は、式（１）で示す比率となっているようにしてもよい。
２０：２１：２２：２３：・・・：２ｋ−１      …（１）
ここで、ｋは２以上の整数である。
本発明の流量制御装置によれば、様々な流量を容易に設定することができる。
【００２０】
また、本発明の流量制御装置は、各流量調整用流路が、それぞれ異なる大きさの開口を形成した断面を有するようにしてもよい。
また、本発明の流量制御装置は、前記開閉機構が、少なくとも２つの開閉バルブとバルブ駆動機構とであるようにしてもよい。
また、本発明の流量制御装置は、前記制御部が、入力装置で入力された入力情報に基づいて、前記開閉機構を制御するようにしてもよい。
【００２１】
そして、本発明の粒度分布測定装置は、上述したような流量制御装置と、測定光を出射する光源と、光強度分布を検出する検出器と、空気と被測定粒子群とを含む被測定物を通過させる測定空間を前記光源と前記検出器との間に配置する測定空間配置部と、前記被測定粒子群を前記測定空間に供給する乾燥粉体分散供給装置とを備える粒度分布測定装置であって、前記制御部は、前記開閉機構を制御するサンプル供給制御部と、前記光源からの測定光を被測定物に照射することにより発生する光強度分布を前記検出器で検出して取得する光強度分布取得部と、前記光強度分布取得部で取得された光強度分布を用いて、前記被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を算出する粒度分布算出部とを備えるようにしている。
【００２２】
ここで、「測定光」としては、レーザ光が好ましいが、これに限らず、ＬＥＤによる光、分光器で分光された光、干渉フィルタやバンドパスフィルタ等で波長範囲が制限された光を用いてもよい。
また、「光強度」とは、光検出素子で検出される数値そのものではなくてもよく、被測定物を測定する前に既に検出されている初期余剰光の光強度が存在する場合もあるので、光検出素子で検出される数値と初期余剰光の数値との差分であることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態である粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【図２】図１に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す断面図。
【図３】図１に示す流量制御装置の一例を示す図。
【図４】流量制御装置の他の一例を示す図。
【図５】従来の粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれる。
【００２５】
図１は、本発明の実施形態である粒度分布測定装置の全体構成を示す概略構成ブロック図である。また、図２（ａ）は、図１に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す垂直方向の断面図であり、図２（ｂ）は、図１に示す乾燥粉体分散供給装置の一例を示す水平方向の断面図（図２（ａ）に示すＡ−Ａ線断面図）である。なお、粒度分布測定装置５０１と同様のものについては、同じ符号を付している。
粒度分布測定装置１は、測定空間を配置する測定空間配置部８３と、測定空間に対してレーザ光を照射する照射光学系８２と、光強度分布を検出する検出光学系８４と、測定空間にエアロゾル（被測定物）Ｓを供給するために空気（媒体）Ｌを供給する流量制御機構２４と、測定空間にエアロゾルＳを供給するために乾燥粉体（被測定粒子群）Ｐを供給する乾燥粉体分散供給装置２と、データサンプリング回路８５と、通信制御回路８６と、粒度分布測定装置１全体を制御するコンピュータ（制御部）１７とを備える。
本実施形態は、乾燥粉体Ｐを空気Ｌ中に分散させたエアロゾルＳを測定することにより、乾燥粉体Ｐの粒度分布を算出するものである。
【００２６】
乾燥粉体分散供給装置２は、吸引プローブ１０と試料容器２０とを備える。
吸引プローブ１０は、略円柱状の金属製のプローブ本体１１と、プローブ本体１１の上面の中央部から下面の中央部まで貫通するように配置される円管状の吸引管１２と、プローブ本体１１の上面の周縁部から下面の周縁部まで貫通するように形成された４個の円管状の気流発生口（貫通孔）１３と、円環状のＯリング（シール部材）１４とを有する。
【００２７】
吸引管１２は、プローブ本体１１の上面を通って上方に延びている。また、プローブ本体１１の下部の外周面には、凹部が形成されており、Ｏリング１４がはめ込まれている。すなわち、プローブ本体１１にＯリング１４が一体的に形成されている。
４個の気流発生口１３は、プローブ本体１１の先端部を軸方向から視ると、図２（ｂ）に示す通り、プローブ本体１１の周縁部に等間隔をあけて円形状に並ぶように配置されている。なお、複数個の気流発生口１３の水平方向における断面の面積の合計値は、吸引管１２の水平方向における断面の面積と同じであることが好ましい。よって、４個の気流発生口１３の水平方向における断面の面積は、吸引管１２の水平方向における断面の面積の１／４であることが好ましい。また、気流発生口１３の個数は、何個でもよく、１個以上であることが好ましい。
【００２８】
試料容器２０は、円筒状のガラス製又は金属製の側壁２１と、側壁２１の下部に形成された円板状のガラス製又は金属製の底面２２とを有する。そして、試料容器２０の内部には、乾燥粉体Ｐが収容されるようになっている。このとき、乾燥粉体Ｐは、底面２２から高さ５ｃｍ程度で収容される。
そして、プローブ本体１１の水平方向における断面は円形状であり、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面は円環形状であり、プローブ本体１１の水平方向における断面の直径Ｌ２は、試料容器２０の側壁２１の水平方向における断面の内径Ｌ１よりも小さくなっている。また、Ｏリング１４の水平方向における断面は円環形状であり、試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間に配置されている。これにより、空気が試料容器２０の側壁２１の内周面とプローブ本体１１の外周面との間を通過することがなくなる。
【００２９】
図３は、図１に示す流量制御装置３０の一例を示す図である。
流量制御機構２４は、エジェクタ２４ａと、一端が下向きに開口するとともに他端がエジェクタ２４ａに接続された吸引パイプ２４ｂと、エジェクタ２４ａにボンベ（圧力源）２４ｃから高圧の空気Ｌを供給する空気供給パイプ２４ｄと、一端がエジェクタ２４ａに接続されるとともに他端が測定空間に向かって開口する噴出ノズル２４ｅが装着されたエアロゾル移送パイプ２４ｆと、ボンベ２４ｃの出口に取り付けられた可変レギュレータ（圧力調整機構）２４ｇと、空気供給パイプ２４ｄ間に配置される流量制御装置３０とによって構成される。そして、本実施形態では、流量制御装置３０は、コンピュータ（制御部）１７によって制御されるようになっているが、別途、流量制御装置３０を制御する専用のコンピュータを備えてもよい。
【００３０】
流量制御装置３０は、ボンベ２４ｃと接続される空気供給パイプ（圧力源側流路）２４ｄと、エジェクタ２４ａと接続される空気供給パイプ（粒度分布測定装置側流路）２４ｄと、圧力源側流路２４ｄと粒度分布測定装置側流路２４ｄとの間を接続するように形成された３つの流量調整用流路３２ａ〜３２ｃと、３つの開閉バルブＶ１〜Ｖ３を動かすバルブ駆動機構３４とを有する。
第一の流量調整用流路３２ａには、第一のオリフィスＯＲ１と、第一の開閉バルブＶ１とがこの順で形成されている。第一のオリフィスＯＲ１は、直径Ｌ１の円形状の開口が中央部に形成された断面３５ａを有する。第一の開閉バルブＶ１は、バルブ駆動機構３４によって開かれることにより流通可能状態となり、一方、閉められることにより流通不可能状態になるようになっている。
【００３１】
第二の流量調整用流路３２ｂには、第二のオリフィスＯＲ２と、第二の開閉バルブＶ２とがこの順で形成されている。第二のオリフィスＯＲ２は、直径Ｌ２の円形状の開口が中央部に形成された断面３５ｂを有する。第二の開閉バルブＶ２は、バルブ駆動機構３４によって開かれることにより流通可能状態となり、一方、閉められることにより流通不可能状態になるようになっている。
第三の流量調整用流路３２ｃには、第三のオリフィスＯＲ３と、第三の開閉バルブＶ３とがこの順で形成されている。第三のオリフィスＯＲ３は、直径Ｌ３の円形状の開口が中央部に形成された断面３５ｃを有する。第三の開閉バルブＶ３は、バルブ駆動機構３４によって開かれることにより流通可能状態となり、一方、閉められることにより流通不可能状態になるようになっている。
【００３２】
そして、（Ｌ１）２：（Ｌ２）２：（Ｌ３）２＝２０：２１：２２となっている。これにより、可変レギュレータ２４ｇが０．５ＭＰａに調整され、全ての開閉バルブＶ１〜Ｖ３が開かれると、第一の流量調整用流路３２ａでは、１０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第二の流量調整用流路３２ｂでは、２０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第三の流量調整用流路３２ｃでは、４０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通するようになっている。よって、可変レギュレータ２４ｇを０．５ＭＰａに調整すると、開く開閉バルブＶ１〜Ｖ３の組み合わせを変えることにより、空気供給パイプ（粒度分布測定装置側流路）２４ｄでは表１に示す流量で空気Ｌが流通するようになる。なお、「○」は開閉バルブが開かれた状態を示し、「×」は開閉バルブが閉められた状態を示す。
【００３３】
【表１】
2012137390.tif 000003
【００３４】
また、可変レギュレータ２４ｇが０．５５ＭＰａに調整され、全ての開閉バルブＶ１〜Ｖ３が開かれると、第一の流量調整用流路３２ａでは、１１Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第二の流量調整用流路３２ｂでは、２２Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第三の流量調整用流路３２ｃでは、４４Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通するようになっている。よって、可変レギュレータ２４ｇを０．５５ＭＰａに調整すると、開く開閉バルブＶ１〜Ｖ３の組み合わせを変えることにより、空気供給パイプ（粒度分布測定装置側流路）２４ｄでは表２に示す流量で空気Ｌが流通するようになる。
【００３５】
【表２】
2012137390.tif 000004
【００３６】
コンピュータ１７は、ＣＰＵ４０とメモリ６０とを備え、モニタ画面を有する表示装置５２と、キーボード５１ａやマウス５１ｂを有する入力装置５１とが連結されている。
ＣＰＵ４０が処理する機能をブロック化して説明すると、光強度分布データを取得する光強度分布取得部４１と、被測定粒子群Ｐの粒度分布を算出する粒度分布算出部４３と、乾燥粉体分散供給装置２及び流量制御装置３０を制御するサンプル供給制御部４２とを有する。
【００３７】
サンプル供給制御部４２は、測定者によって、エアロゾルＳを測定するように入力装置５１で、開く開閉バルブＶ１〜Ｖ３の組み合わせ等の入力情報が入力されると、測定空間にエアロゾルＳを供給する制御を行う。
具体的には、乾燥粉体Ｐを測定空間に供給するために、吸引プローブ１０が、試料容器２０の内部で乾燥粉体Ｐの表面より少し上に配置される。
一方、測定者は空気Ｌを測定空間に供給するために、ボンベ２４ｃで発生させた圧力を可変レギュレータ２４ｇで調整する。さらに、開く開閉バルブＶ１〜Ｖ３の組み合わせ等の入力情報を入力装置５１で入力し、測定空間に供給する空気Ｌの流量を調整する。
例えば、空気供給パイプ２４ｄで５０Ｌ／ｍｉｎの流量の空気Ｌが流通するように設定するには、開閉バルブＶ１、Ｖ３を開き、開閉バルブＶ２を閉じる入力情報を入力装置５１で入力する。そして、流量制御装置３０は、入力情報に基づいて、バルブ駆動機構３４を制御して、エジェクタ２４ａにボンベ２４ｃから所望の流量５０Ｌ／ｍｉｎの空気Ｌを供給する。
また、空気供給パイプ２４ｄで６０Ｌ／ｍｉｎの流量の空気Ｌが流通するように変更したいときには、開閉バルブＶ２、Ｖ３を開き、開閉バルブＶ１を閉じるようにする入力情報を入力装置５１で入力する。そして、流量制御装置３０は、入力情報に基づいて、バルブ駆動機構３４を制御して、エジェクタ２４ａにボンベ２４ｃから所望の流量６０Ｌ／ｍｉｎの空気Ｌを供給する。
【００３８】
その結果、吸引管１２に対し真空が加えられたとき、空気Ｌが予め決まった直径を有する４個の気流発生口１３に入り、試料容器２０の気流発生口１３に沿って高速下向き空気流を形成し、下向き空気流が吸引プローブ１０の下端部において方向を変え、乾燥粉体Ｐの表面より上で高せん断力を生成し、高せん断力が乾燥粉体Ｐを分散させ、分散された乾燥粉体Ｐを吸引管１２の内部にフィードする。吸引パイプ２４ｂにより吸引された乾燥粉体Ｐは、エジェクタ２４ａ内で高圧空気Ｌ中に混入され、エアロゾル移送パイプ２４ｆを通って移送され、エアロゾル移送パイプ２４ｆの先端に装着された噴出ノズル２４ｅからエアロゾルＳとなって測定空間に噴出されるようになっている。
【００３９】
以上のように、粒度分布測定装置１によれば、測定者は入力情報を入力装置５１で入力することで、空気Ｌの流量を容易に調整することができる。
【００４０】
＜他の実施形態＞
（１）上述した粒度分布測定装置１において、図３に示す流量制御装置３０を用いるような構成を示したが、図４に示す流量制御装置１３０を用いるような構成としてもよい。
図４は、流量制御装置の他の一例を示す図である。
流量制御装置１３０は、ボンベ２４ｃと接続される空気供給パイプ（圧力源側流路）２４ｄと、測定空間と接続される空気供給パイプ（粒度分布測定装置側流路）２４ｄと、圧力源側流路２４ｄと粒度分布測定装置側流路２４ｄとの間を接続するように形成された４つの流量調整用流路３２ａ〜３２ｃ、１３２ｄと、３つの開閉バルブＶ１〜Ｖ３を駆動するバルブ駆動機構３４とを有する。
第四の流量調整用流路１３２ｄは、常に流通可能状態となっており、２０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通する。
これにより、可変レギュレータ２４ｇが０．５ＭＰａに調整され、全ての開閉バルブＶ１〜Ｖ３が開かれると、第一の流量調整用流路３２ａでは、１０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第二の流量調整用流路３２ｂでは、２０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通し、第三の流量調整用流路３２ｃでは、４０Ｌ／ｍｉｎの流量で空気Ｌが流通するようになっている。よって、開く開閉バルブＶ１〜Ｖ３の組み合わせを変えることにより、空気供給パイプ（粒度分布測定装置側流路）２４ｄでは表３に示す流量で空気Ｌが流通するようになる。
【００４１】
【表３】
2012137390.tif 000005
【００４２】
（２）上述した粒度分布測定装置１において、第一の流量調整用流路３２ａ等で、第一のオリフィスＯＲ１と、第一の開閉バルブＶ１とがこの順で形成されている構成を示したが、第一の開閉バルブＶ１と、第一のオリフィスＯＲ１の順序を入れ替えて形成される構成としてもよい。
【００４３】
（３）上述した粒度分布測定装置１において、第一のオリフィスＯＲ１等のように開口の大きさが固定された構成を示したが、ニードルバルブ等のように開口の大きさが変化できるような構成としてもよい。
（４）上述した粒度分布測定装置１において、乾燥粉体分散供給装置２を用いる構成を示したが、乾燥粉体分散供給装置５０２を用いる構成としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、光学的手法を用いて被測定物に含まれる被測定粒子群の粒度分布を測定する粒度分布測定装置等に使用することができる。
【符号の説明】
【００４５】
１  粒度分布測定装置
２  乾燥粉体分散供給装置
１０  吸引プローブ
１１  プローブ本体
１２  吸引管
１３  気流発生口（貫通孔）
１４  シール部材
１７  制御部
２０  試料容器
２１  側壁
２２  底面
２４ｃ  ボンベ（圧力源）
２４ｄ  空気供給パイプ（圧力源側流路、粒度分布測定装置側流路）
３２ａ〜３２ｃ  流量調整用流路
３４  バルブ駆動機構（開閉機構）
８３  測定空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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