(57)【要約】【課題】  気体を吹きかけて円筒状基体を冷却する工程の長時間化を抑制し、かつ、気体を吹きかけた際の円筒状基体の表面への水滴の再付着を抑制した電子写真用の円筒状基体の洗浄方法を提供する。【解決手段】  円筒状基体を持ち運ぶためのパレットが格子状支持台および格子状支持台上に立設された支持柱を有しており、支持柱のうち、少なくとも円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、格子状支持台の支持柱が立設されている側の面（ａ）のうち、少なくとも円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、格子状支持台の面（ａ）の反対側の面（ｂ）が、ステンレス鋼で形成されている。【選択図】  図３
2012022130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
格子状支持台および該格子状支持台上に立設された支持柱を有するパレットの該支持柱をアルミニウム合金で形成されている電子写真用の円筒状基体の内側に挿入することによって、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態にする工程（１）と、
該工程（１）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごと洗浄液に浸漬し、その後に引き上げる工程（２）と、
該工程（２）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごとすすぎ液に浸漬し、その後に引き上げる工程（３）と、
該工程（３）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごと５０℃以上の水に浸漬し、その後に引き上げる工程（４）と、
該工程（４）の後、該格子状支持台上に起立させた状態の該円筒状基体に気体を吹きかける工程（５）と、
を有する電子写真用の円筒状基体の洗浄方法において、
該支持柱のうち、少なくとも該円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、
該格子状支持台の該支持柱が立設されている側の面（ａ）のうち、少なくとも該円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、
該格子状支持台の該面（ａ）の反対側の面（ｂ）が、ステンレス鋼で形成されている
ことを特徴とする電子写真用の円筒状基体の洗浄方法。
【請求項２】
前記格子状支持台の前記支持柱が立設されている側の面（ａ）が、樹脂で形成されている請求項１に記載の電子写真用の円筒状基体の洗浄方法。
【請求項３】
前記支持柱が、樹脂で形成されている請求項１または２に記載の電子写真用の円筒状基体の洗浄方法。
【請求項４】
前記樹脂が、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドまたはポリプロピレンである請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真用の円筒状基体の洗浄方法。
【請求項５】
電子写真用の円筒状基体を請求項１〜４のいずれか１項に記載の洗浄方法により洗浄する洗浄工程と、洗浄工程の後、該円筒状基体の表面上に塗料を塗布して被覆層を形成する工程と、を有する円筒状の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真用の円筒状基体の洗浄方法および円筒状の電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真装置において用いられる円筒状の電子写真感光体（感光ドラム）や現像部材（現像スリーブ）などの円筒状部材は、円筒状基体の表面上に塗料を塗布し、被覆層を形成してなる構成のものが一般的である。
【０００３】
電子写真用の円筒状基体の材料には、加工性や寸法安定性に優れているアルミニウム合金が広く用いられている。
【０００４】
円筒状基体の表面上に塗料を塗布するにあたり、円筒状基体の表面に汚れが付着していると、ハジキやムラなどの塗工欠陥が発生しやすくなるため、あらかじめ円筒状基体を洗浄し、その表面に付着している汚れを除去しておく必要がある。円筒状基体の表面に付着しうる汚れとしては、例えば、空気中の粉麈や、円筒状基体の加工時に用いられた油系物質（灯油やポリブテンなどの切削油や防錆油など）や、加工時の切削粉などが挙げられる。
【０００５】
円筒状基体の洗浄は、一般的に、図１に例示されるような構成の洗浄装置を用いて行われる。すなわち、
・洗浄槽４に充填されている洗浄液（水系洗浄剤など）に円筒状基体１を浸漬し、その後に引き上げて、円筒状基体１の表面の汚れを除去する工程、
・すすぎ槽５に充填されているすすぎ液（純水、脱イオン水など）に円筒状基体１を浸漬し、その後に引き上げて、円筒状基体１の表面の洗浄液を除去する工程、
・温水槽６に充填されている温水（通常５０℃以上の水）に円筒状基体１を浸漬し、その後に引き上げて、円筒状基体１の表面に付着している水分を効率的に揮発させる工程、および、
・冷却ステージ８において円筒状基体１に気体を吹きかける（エアブローする）工程
をこの順に経て、円筒状基体１は洗浄される。
【０００６】
このときの円筒状基体の持ち運びは、液切れの観点から、図２に例示されるようなパレットに円筒状基体を支持させて行うことが好ましい。図１中、２はパレットである。また、図１中、７は超音波発振器である。
【０００７】
図２において、パレット２は、格子状支持台２１と、格子状支持台２１上に立設された支持柱２２を有している。支持柱２２を円筒状基体１の内側に挿入することによって、円筒状基体１は格子状支持台２１上に起立した状態になる。この状態で円筒状基体１はパレット２に支持される。
【０００８】
温水から引き上げた円筒状基体は、温水により温度が上昇している。円筒状基体の温度が上昇したままであると、円筒状基体の表面上に塗料を塗布した際に塗工欠陥が発生しやすくなるため、円筒状基体の表面上に塗料を塗布する前に、円筒状基体を冷却しなければならない。そのため、上記の気体を吹きかける（エアブローする）工程が必要とされる。
【０００９】
パレットの格子状支持台の材料としては、強靭性や耐久性に優れているステンレス鋼を用いることが好ましく、特許文献１には、ステンレス鋼をパレットの格子状支持台の材料として用いた例が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平０６−１１８６６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところが、通常、円筒状基体に用いられるアルミニウム合金の熱伝導率が１００〜３００Ｗ／（ｍ・Ｋ）の範囲であるのに対して、格子状支持台に用いられるステンレス鋼の熱伝導率は、その１／１０前後の、１０〜３０Ｗ／（ｍ・Ｋ）の範囲である。そのため、格子状支持台上に起立させた状態の円筒状基体に気体を吹きかけた場合、円筒状基体に比べて格子状支持台の冷却速度が遅くなってしまう。次工程である塗料の塗布工程に進む際、円筒状基体はパレットから離れるものの、離れる前までパレットの格子状支持台に接触していた円筒状基体の下部は、円筒状基体の他の部分に比べて温度が高くなっている。この温度ムラは、円筒状基体の表面上に塗料を塗布した際に塗工欠陥を招く可能性が高い。
【００１２】
この温度ムラを抑えるためには、円筒状基体だけでなく格子状支持台も十分に冷却されるまで長時間気体を吹きかけたり、円筒状基体の下部の温度が他の部分の温度と同程度になるまで待ったりすればよいが、どちらも生産効率の観点からは好ましくない。
【００１３】
一方、アルミニウム合金やステンレス鋼に比べて熱伝導率が小さい樹脂（樹脂の熱伝導率は、通常０．１〜１．０Ｗ／ｍＫの範囲）で格子状支持台が形成されているパレットを用いれば、温水に浸漬した際の格子状支持台の温度上昇がそもそも小さいため、上記温度ムラが生じにくい。
【００１４】
しかしながら、格子状支持台の温度が低いままだと、円筒状基体の表面を伝って格子状支持台にまで流れてきた水滴は、揮発せずに格子状支持台に残留しやすくなる。格子状支持台に水滴が残留したまま気体を吹きかけると、水滴が飛び散って円筒状基体の表面に再付着し、円筒状基体の表面上に塗料を塗布した際に塗工欠陥が生じやすくなる。
【００１５】
本発明の目的は、気体を吹きかけて円筒状基体を冷却する工程の長時間化を抑制し、かつ、気体を吹きかけた際の円筒状基体の表面への水滴の再付着を抑制した電子写真用の円筒状基体の洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、格子状支持台および該格子状支持台上に立設された支持柱を有するパレットの該支持柱をアルミニウム合金で形成されている電子写真用の円筒状基体の内側に挿入することによって、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態にする工程（１）と、
該工程（１）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごと洗浄液に浸漬し、その後に引き上げる工程（２）と、
該工程（２）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごとすすぎ液に浸漬し、その後に引き上げる工程（３）と、
該工程（３）の後、該円筒状基体を該格子状支持台上に起立させた状態でパレットごと５０℃以上の水に浸漬し、その後に引き上げる工程（４）と、
該工程（４）の後、該格子状支持台上に起立させた状態の該円筒状基体に気体を吹きかける工程（５）と、
を有する電子写真用の円筒状基体の洗浄方法において、
該支持柱のうち、少なくとも該円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、
該格子状支持台の該支持柱が立設されている側の面（ａ）のうち、少なくとも該円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されており、
該格子状支持台の該面（ａ）の反対側の面（ｂ）が、ステンレス鋼で形成されている
ことを特徴とする電子写真用の円筒状基体の洗浄方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、気体を吹きかけて円筒状基体を冷却する工程の長時間化を抑制し、かつ、気体を吹きかけた際の円筒状基体の表面への水滴の再付着を抑制した電子写真用の円筒状基体の洗浄方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】円筒状基体の洗浄装置の一例を示す図である。
【図２】パレット（従来のパレット）の一例を示す図である。
【図３】本発明に用いられるパレットの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明においては、電子写真用の円筒状基体を持ち運ぶためのパレットとして、格子状支持台および格子状支持台上に立設された支持柱を有するパレットが用いられる。また、本発明に用いられるパレットの支持柱は、少なくとも円筒状基体と接触しうる部分が樹脂で形成されているものである。また、本発明に用いられるパレットの格子状支持台は、支持柱が立設されている側の面（「面（ａ）」または「上面」ともいう。）の少なくとも円筒状基体と接触しうる部分が樹脂で形成されており、反対側の面（「面（ｂ）」または「下面」ともいう。）がステンレス鋼で形成されているものである。
【００２０】
本発明に用いられるパレットの一例を図３に示す。パレット２の格子状支持台２１は、水滴が円筒状基体１の表面を伝って格子状支持台２１の上面に付着しても、格子状支持台２１の下面に流れやすくなるよう、格子状になっている。また、格子状支持台２１は、上下２層構成となっており、円筒状基体１の内側に挿入するための支持柱２２が立設されている側の面（ａ）を含む上層２１１は、樹脂で形成されている。また、面（ａ）の反対側の面（ｂ）を含む下層２１２は、ステンレス鋼で形成されている。なお、上層２１１のうち、円筒状基体１と接触しうる部分だけを樹脂で形成してもよい。このように、パレット２の格子状支持台２１の面（ａ）のうち、少なくとも円筒状基体と接触しうる部分が、樹脂で形成されているため、上記温度ムラが生じにくくなっている。
【００２１】
支持柱２２は、持ち運び中（搬送中や液体への浸漬中など）において円筒状基体１を支持するために、格子状支持台２１の上面（面（ａ））に立設されている。円筒状基体１が格子状支持台２２上に自立可能であれば、支持柱２２は、必ずしも円筒状基体１と常時接触しなくてもよい。しかしながら、持ち運び方によっては円筒状基体１と接触する可能性もあるため、本発明においては、上記温度ムラの抑制のため、支持柱２２も上記と同様の樹脂で形成されている。
【００２２】
なお、支持柱は、円筒状基体の転倒防止のため、円筒状基体の内径に応じて適切な外径を有するものを用いることが好ましい。また、円筒状基体の内径に応じて適切な外径を有する支持柱を用いようとすると、異なる内径の円筒状基体を洗浄する場合、円筒状基体ごとに支持柱を格子状支持台から外して交換したり、パレットごと交換したりする手間が生じる。その手間を省くため、あらかじめ想定される複数種の円筒状基体のそれぞれ内径に応じた外径を有する支持柱を単一の格子状支持台上に立設させておき、洗浄する円筒状基体の内径に応じて、用いる支持柱を変えるようにしてもよい。
【００２３】
格子状支持台や支持柱に用いられる樹脂としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン：ＰＥＥＫ（熱伝導率０．２６Ｗ／ｍＫ）、ポリフェニレンサルファイド：ＰＰＳ（熱伝導率０．２９Ｗ／ｍＫ）、ポリテトラフルオロエチレン：ＰＴＦＥ（熱伝導率０．２５Ｗ／ｍＫ）、ポリイミド：ＰＩ（熱伝導率０．３１Ｗ／ｍＫ）、ポリアセタール（ポリオキシメチレン）：ＰＯＭ（熱伝導率０．２３Ｗ／ｍＫ）、ポリプロピレン：ＰＰ（熱伝導率０．１２５Ｗ／ｍＫ）、エポキシ樹脂（熱伝導率０．３Ｗ／ｍＫ）、フェノール樹脂（熱伝導率０．１９Ｗ／ｍＫ）などが挙げられる。これらの中でも、特に、耐摺擦性、耐衝撃性など機械強度の点で、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリプロピレンが好ましく、これらの中でも、ポリエーテルエーテルケトンがより好ましい。
【００２４】
本発明において、上記工程（ｉ）に用いられる洗浄液としては、水を主溶媒とした水系洗浄剤が好ましい。水系洗浄剤としては、例えば、アルカリイオン水や、界面活性剤の水溶液などが挙げられる。アルカリイオン水としては、例えば、炭酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムなどを水に溶解させた水溶液を電気分解することにより得られるものが挙げられる。また、界面活性剤としては、例えば、脂肪族高級アルコール硫酸エステルナトリウム塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、ポリエリレングリコールアルキルエーテルなどが挙げられる。洗浄槽に金属部分を含むものを用い、洗浄液にアルカリイオン水を用いる場合、アルカリによる洗浄槽の金属部分の腐食を抑制するため、洗浄液にケイ酸カリウムを添加してもよい。また、洗浄液に界面活性剤の水溶液を用いる場合、界面活性剤の水溶液を充填した洗浄槽とすすぎ液を充填したすすぎ槽との間にアルカリイオン水を充填した第２の洗浄槽を設け、界面活性剤の水溶液のすすぎを効率化してもよい。
【００２５】
すすぎ液や温水としては、脱イオン水を用いることが好ましい。脱イオン水の導電率は、３０μＳ／ｃｍ以下であることが好ましく、２０μＳ／ｃｍ以下であることがより好ましく、１０μＳ／ｃｍ以下であることがより一層好ましい。
【００２６】
次に、本発明の洗浄方法の具体例について、図１を用いて説明する。
【００２７】
洗浄対象の円筒状基体１の内側にパレット２の支持柱を挿入し、円筒状基体１をパレットの格子状支持台上に起立させる。このようにして円筒状基体１をパレット２に載置する。円筒状基体１が載置されたパレット２を、搬送装置（不図示）により洗浄槽４の上まで搬送した後、洗浄槽４に設置された昇降装置（不図示）上に載置する。その後、洗浄槽４の昇降装置を下降させ、円筒状基体１をパレット２の格子状支持台上に起立させた状態でパレット２ごと洗浄槽４内の洗浄液に浸ける。必要に応じて、洗浄槽４内に超音波発振器７を設置し、洗浄液への浸漬中、超音波発振器７により超音波を円筒状基体１に照射し、円筒状基体１の表面からの汚れの脱離を促進してもよい。また、必要に応じて、円筒状基体１やパレット２を揺動させたり、バブリングを用いたりしてもよい。
【００２８】
その後、円筒状基体１をパレット２ごと洗浄液から引き上げ、次いで、円筒状基体１が載置されたパレット２を、搬送装置（不図示）によりすすぎ槽５の上に搬送した後、すすぎ槽５に設置された昇降装置（不図示）上に載置する。その後、すすぎ槽５の昇降装置を下降させ、円筒状基体１をパレット２の格子状支持台上に起立させた状態でパレット２ごとすすぎ槽５内のすすぎ液に浸ける。必要に応じて、すすぎ槽５内に超音波発振器７を設置し、すすぎ液への浸漬中、超音波発振器７により超音波を円筒状基体１に照射し、円筒状基体１の表面のすすぎを促進してもよい。
【００２９】
その後、円筒状基体１をパレット２ごとすすぎ液から引き上げ、次いで、円筒状基体１が載置されたパレット２を、搬送装置（不図示）により温水槽６の上に搬送した後、温水槽６に設置された昇降装置（不図示）上に載置する。その後、温水槽６の昇降装置を下降させ、円筒状基体１をパレット２の格子状支持台上に起立させた状態でパレット２ごと温水槽６内の温水に浸ける。
【００３０】
その後、円筒状基体１をパレット２ごと温水から引き上げる。温水に浸けることによって、円筒状基体１およびパレット２に付着した水滴の除去が促進される。
【００３１】
本発明において、温水としては、円筒状基体１およびパレット２に付着した水滴の除去を促進するため、５０℃以上の水が用いられるが、より好ましくは６５℃以上の水である。
【００３２】
円筒状基体１およびパレット２を温水から引き上げる際、円筒状基体１の表面に付着した水滴は、円筒状基体１の表面において揮発するか、および／または、円筒状基体１の表面を伝ってパレット２の格子状支持台まで流れる。そして、パレット２の格子状支持台の上面に付着した水滴は、格子状支持台の下面側に流れる。格子状支持台の下面は、ステンレス鋼で形成されており、温水槽６内の温水への浸漬によって温度が比較的高くなっているため、付着した水滴を比較的短時間で揮発させることが可能である。円筒状基体１およびパレット２を温水から引き上げる途中において、円筒状基体１およびパレット２に付着した水滴の流れを促進するために、円筒状基体１の上方から気体を吹きかけてもよい。ただし、水滴が飛散して円筒状基体１の表面に再付着することがないよう、この際の気体の流量は弱くすることが好ましい。
【００３３】
円筒状基体１をパレット２ごと温水から引き上げた後、円筒状基体１が載置されたパレット２を、搬送装置（不図示）により冷却ステージ８に搬送し、冷却ステージ８に設置された把持装置（不図示）に把持させる。その後、パレット２の格子状支持台上に起立させた状態の円筒状基体にノズル９から気体を吹きかけ、円筒状基体１を冷却する。
【００３４】
図１において、冷却ステージ８は、全体が略密閉状態になるように囲まれており、円筒状基体１を冷却するための気体を円筒状基体１の上部から下向きに吹きかける。冷却ステージ８のパレット２の下側の位置にダクト（不図示）が設けられており、円筒状基体１に吹きかけられた気体が吸引されるようになっている。このとき、気体の吹きかけがＯＮになっているときのみダクトによる気体の吸引もＯＮになるようにすることにより、外部からのホコリの吸いこみを抑制することができる。
【００３５】
格子状支持台の上面のうち、少なくとも円筒状基体１と接触しうる部分は、樹脂で形成されており、温水槽６内の温水への浸漬による温度上昇がアルミニウム合金で形成されている円筒状基体１よりも少ないため、円筒状基体１の冷却が阻害されにくい。
【００３６】
次に、本発明の洗浄方法により洗浄した円筒状基体を用いて円筒状部材を製造する例として、電子写真感光体を製造する方法について説明する。
【００３７】
電子写真感光体は、一般的に、円筒状基体上に感光層を形成することによって製造される。感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層であってもよいし、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに機能分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよい。電子写真特性の観点からは、感光層は、積層型感光層であることが好ましい。また、積層型感光層の中でも、円筒状基体側から電荷発生層および電荷輸送層をこの順に積層してなるものが好ましい。
【００３８】
以下、積層型感光層を有する電子写真感光体を例に挙げて、より詳細に説明する。
【００３９】
また、円筒状基体の表面は、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
【００４０】
円筒状基体と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）または後述の下引き層との間には、レーザー光の散乱による干渉縞の抑制や、円筒状基体の表面の傷の被覆などを目的として、導電層を設けてもよい。
【００４１】
導電層は、カーボンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子などの導電性粒子を結着樹脂に分散させることによって形成することができる。
【００４２】
導電層の膜厚は、１〜４０μｍであることが好ましく、２〜３０μｍであることがより好ましい。
【００４３】
また、円筒状基体または導電層と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、感光層の接着性改良、塗工性改良、円筒状基体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護などを目的として、バリア機能や接着機能を有する下引き層を設けてもよい。
【００４４】
下引き層は、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エチルセルロース樹脂、エチレン−アクリル酸コポリマー、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、シリコーン樹脂、ゼラチン樹脂、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリレート、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブタジエン、ポリプロピレン、ユリア樹脂などの樹脂や、酸化アルミニウムなどの材料を用いて形成することができる。また、下引き層には、金属、合金、それらの酸化物、塩類、界面活性剤などを含有させてもよい。
【００４５】
下引き層の膜厚は、０．０５〜７μｍであることが好ましく、０．１〜２μｍであることがより好ましい。
【００４６】
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。分散方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機などを用いた方法が挙げられる。
【００４７】
電荷発生物質としては、例えば、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料や、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や、アンスラキノン、ピレンキノンなどの多環キノン顔料や、スクワリリウム色素や、ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や、トリフェニルメタン色素や、セレン、セレン−テルル、アモルファスシリコンなどの無機物質や、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料や、シアニン染料や、キサンテン色素や、キノンイミン色素や、スチリル色素や、硫化カドミウムや、酸化亜鉛などが挙げられる。これら電荷発生物質は、１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【００４８】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、スチレン−ブタジエンコポリマー、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂、ポリアクリレート、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルアセタール、ポリブタジエン、ポリプロピレン、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ブチラール樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として、１種または２種以上用いることができる。
【００４９】
電荷発生層中の結着樹脂の割合は、電荷発生層全質量に対して９０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましい。
【００５０】
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
【００５１】
電荷発生層の膜厚は、０．００１〜６μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましい。
【００５２】
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
【００５３】
電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。
【００５４】
電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリールメタン化合物などが挙げられる。これら電荷輸送物質は、１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
【００５５】
電荷輸送層中の電荷輸送物質の割合は、電荷輸送層全質量に対して２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％であることがより好ましい。
【００５６】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルブチラール、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリプロピレン、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリアリレート、ポリカーボネートが好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として、１種または２種以上用いることができる。
【００５７】
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、モノクロロベンゼン、ジオキサン、トルエン、キシレン、Ｎ−メチルピロリドン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、メチラールなどが挙げられる。
【００５８】
また、電荷輸送層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
【００５９】
感光層上には、これを保護することを目的とした保護層を設けてもよい。保護層は、上述した各種樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる保護層用塗布液を塗布し、これを加熱および／または放射線の照射などにより、乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
【００６０】
また、電子写真感光体の最表面に位置する層、すなわち表面層には、潤滑剤を含有させてもよい。潤滑剤としては、例えば、ケイ素原子やフッ素原子を含むポリマー、モノマーおよびオリゴマーなどが挙げられる。具体的には、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（β−アクリロキシエチル）−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド、Ｎ−（ｎ−プロピル）−（β−メタクリロキシエチル）−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド、パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロカプリル酸、Ｎ−ｎ−プロピル−ｎ−パーフルオロオクタンスルホン酸アミド−エタノール、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジヒドロキシプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジヒドロキシプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミドなどが挙げられる。また、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体などのフッ素原子含有樹脂の粒子なども挙げられる。これらは、単独または混合して、１種または２種以上用いることができる。また、潤滑剤が高分子である場合、その数平均分子量は、３０００〜５００００００であることが好ましく、１００００〜３００００００であることが好ましい。潤滑剤が粒子である場合、その平均粒径は、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜２．０μｍであることが好ましい。
【００６１】
また、電子写真感光体の表面層には、抵抗調整剤を含有させてもよい。抵抗調整剤としては、例えば、ＳｎＯ２、ＩＴＯ、カーボンブラック、銀粒子などが挙げられる。また、これらに疎水化処理を施したものを用いてもよい。抵抗調整剤を添加した場合の表面層の抵抗率は、１０９〜１０１４Ω・ｃｍであることが好ましい。
【実施例】
【００６２】
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【００６３】
（実施例１）
円筒状基体の洗浄装置として、図１に示す構成の洗浄装置を用いた。洗浄装置における洗浄液としては、炭酸カリウムの水溶液を電気分解して得られたアルカリイオン水を用いた。すすぎ液および温水としては、導電度０．４０μＳ／ｃｍの脱イオン水を用いた。洗浄液、すすぎ液、温水の温度は、それぞれ３５℃、３５℃、８５℃を維持するようにした。
【００６４】
パレットとしては、格子状支持台の上層がＰＥＥＫ（熱伝導率０．２６Ｗ／ｍＫ）、下層がステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）（熱伝導率１６．７Ｗ／ｍＫ）、支持柱がＰＥＥＫ（熱伝導率０．２６Ｗ／ｍＫ）でそれぞれ形成されている、図３に示す構成のパレットを用いた。このパレットに、直径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍのアルミニウム合金製の円筒状基体を９本載置し、これを洗浄槽内の洗浄液に浸漬し、１５秒間超音波を円筒状基体に照射した。次に、円筒状基体９本が載置されたパレットを洗浄液から垂直方向上方に引き上げ、すすぎ槽上に搬送し、すすぎ液に１０秒間浸漬した。次に、円筒状基体９本が載置されたパレットをすすぎ液から垂直方向上方に引き上げ、温水槽上に搬送し、温水槽に７秒間浸漬した。次に、円筒状基体９本が載置されたパレットをすすぎ液から垂直方向上方に引き上げ、冷却ステージに搬送し、冷却ステージに設置された把持装置に把持させた。その後、パレットの格子状支持台上に起立させた状態の円筒状基体に上から２４℃の気体（空気）を８秒間吹きかけ、円筒状基体およびパレットを冷却した。
【００６５】
次に、円筒状基体把持装置にて円筒状基体の上端部の内側を把持して、円筒状基体を垂直方向上方に引き上げ、円筒状基体とパレットを離間させ、円筒状基体を塗布装置の上まで搬送した。
【００６６】
パレットを温水槽より引き上げてから、円筒状基体を塗布装置の上に搬送し終わるまでの時間は２０秒であった。塗布装置の上に到達したときの円筒状基体の温度を熱電対により測定したところ、中央部、下端部（格子状支持台の上面に接触していた部分）ともに２６℃であった（円筒状基体温度評価）。また、円筒状基体の表面に水滴の付着は見られなかった（円筒状基体水滴付着評価）。
【００６７】
次に、酸化スズで被覆されている酸化チタン粒子１０部、非被覆の酸化チタン粒子１０部、フェノール樹脂１０部、シリコーンオイル０．００１部、メタノール１５部および１−メトキシ−２−プロパノール１５部をサンドミルに入れ、３時間分散処理することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を洗浄した円筒状基体に浸漬塗布し、これを３０分間１４０℃で乾燥および硬化させることによって、膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【００６８】
次に、ポリアミド（商品名：Ｍ−４０００、東レ（株）製）１０部を、メタノール１００部／ブチルアルコール９０部の混合溶剤に溶解させることによって、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、これを１０分間９０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．６μｍの下引き層を形成した。
【００６９】
次に、ＣｕＫαのＸ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°および２８．１°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）９部およびポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学（株）製）３部をシクロへキサノン１００部／酢酸エチル１００部の混合溶剤に溶解させ、分散液を得た。得られた分散液を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、３時間分散処理し、これに１００部の酢酸エチルを加えて希釈することによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、これを１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【００７０】
次に、下記構造式で示されるスチリル化合物（電荷輸送物質）１０部、
【００７１】
【化１】
2012022130.tif 000003
【００７２】
および、ポリカーボネート（商品名：ユーピロンＺ−４００、三菱ガス化学（株）製）１０部を、モノクロロベンゼン７０部／メチラール５０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを６０分間１２０℃で乾燥させることによって、電荷輸送層を形成した。
【００７３】
以上の方法によって、４層の被覆層を有する円筒状の電子写真感光体を９０本連続的に製造した。
【００７４】
このように製造した９０本の電子写真感光体について、円筒状基体の洗浄後の冷却が不十分で円筒状基体に温度ムラが生じていることに起因する導電層（最も円筒状基体側の被覆層）の塗膜の欠陥（ムラ）の有無を目視にて評価したところ、欠陥は見られなかった（導電層塗膜評価）。また、９０本のうちの１本の円筒状の電子写真感光体をレーザービームプリンター（商品名：ＬＢＰ−ＳＸ、キヤノン（株）製）に装着してハーフトーン画像の出力を行い、出力画像の品質の評価を行ったところ、異常は見られなかった（出力画像評価）。
【００７５】
以上の評価（円筒状基体温度評価、円筒状基体水滴付着評価、導電層塗膜評価および出力画像評価）の結果を表１に示す。
【００７６】
（実施例２）
実施例１において、格子状支持台の上層がＰＥＥＫの代わりにＰＰＳ（熱伝導率０．２９Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造ならびに評価を行った。
【００７７】
結果を表１に示す。
【００７８】
（実施例３）
実施例１において、格子状支持台の上層がＰＥＥＫの代わりにＰＰ（熱伝導率０．１２５Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造ならびに評価を行った。
【００７９】
結果を表１に示す。
【００８０】
（実施例４）
実施例１において、格子状支持台の上層がＰＥＥＫの代わりにＥＰＤＭ（熱伝導率０．３６Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造ならびに評価を行った。
【００８１】
結果を表１に示す。
【００８２】
（比較例１）
実施例１において、全体がステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）（熱伝導率１６．７Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造ならびに評価を行った。
【００８３】
結果を表１に示す。
【００８４】
（比較例２）
実施例１において、全体がＰＥＥＫ（熱伝導率０．２６Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造を行った。また、評価のうち、温度評価および水滴付着評価を行った。
【００８５】
結果を表１に示す。
【００８６】
（比較例３）
実施例１において、全体がＥＰＤＭ（熱伝導率０．３６Ｗ／ｍＫ）で形成されているパレットを用いた以外は、実施例１と同様にして円筒状基体の洗浄および円筒状の電子写真感光体の製造を行った。また、評価のうち、温度評価および水滴付着評価を行った。
【００８７】
結果を表１に示す。
【００８８】
【表１】
2012022130.tif 000004
【００８９】
以上より、本発明の洗浄方法を用いた場合は、短時間で、円筒状基体は表面上に塗料が塗布される前までに中央部も下端部も十分ムラなく冷却され、かつ、表面に水滴の付着（再付着）がない状態となっていることがわかる。比較例２および３で診られた水滴付着は、格子状支持台に水滴が残留したまま気体を吹きかけたために、水滴が飛び散って円筒状基体の表面に再付着したものである。
【符号の説明】
【００９０】
１  円筒状基体
２  パレット
２１  格子状支持台
２２  支持柱
２１１  格子状支持台の上層
２１２  格子状支持台の下層
４  洗浄槽
５  すすぎ槽
６  温水槽
７  超音波発振器
８  冷却ステージ
９  ノズル
【図１】
2012022130.tif 000005
【図２】
2012022130.tif 000006
【図３】
2012022130.tif 000007