(57)【要約】【課題】光記録媒体におけるバーコード状の記録領域（ＢＣＡ）として、適切な再生信号が得られるようにする。【解決手段】トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域（ＢＣＡ）を備える。このＢＣＡにおいて低反射率領域はピット列により形成されている。そして高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たすように、高反射率領域と低反射率領域が形成されているようにする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、
上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、
上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体。
【請求項２】
ディスク状光記録媒体であって、
上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、
上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が５０±５％である請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが０．３２μｍ以下である請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項６】
上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項７】
上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項８】
上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項９】
上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、
上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている光記録媒体。
【請求項１１】
ディスク状光記録媒体であって、
上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１２】
上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１３】
上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が５０±５％である請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１４】
上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが０．３２μｍ以下である請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１５】
上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１６】
上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１７】
上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１８】
上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている請求項１０に記載の光記録媒体。
【請求項１９】
トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、
上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、
上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体の製造方法であって、
記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、
上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、
上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、
上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備え、
上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにした光記録媒体の製造方法。
【請求項２０】
トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、
上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている光記録媒体の製造方法であって、
記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、
上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、
上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、
上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備え、
上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにした光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光ディスク等の光記録媒体とその製造方法に係り、特に光記録媒体上における、バーコード状のパターンで情報が記録された領域に関する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００２】
【特許文献１】特開２００５−５１８０５５号公報
【背景技術】
【０００３】
ブルーレイディスク（Blu-ray Disc：登録商標）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）等の光ディスクでは、ディスク内周側の所定領域に、バーコード状の記録領域が設けられることが知られている。これはＢＣＡ（Burst Cutting Area）と呼ばれる。
このＢＣＡは、反射率の異なる領域として放射状のパターンが形成されることで、トラッキングフリーで情報を読み出せる領域とされる。そして特に、大量生産される光ディスクに、ディスク固有の情報、例えばシリアルナンバ等の情報を付加できる領域として用いられている。
【０００４】
従来のＢＣＡは、光ディスクがその製造工程により完成した後、信号領域のさらなる内周（例えば半径２１〜２２ｍｍの領域）に、ディスク一枚ごとにシリアルナンバーやディスクインフォメーションなどを、ＢＣＡ記録装置によってオフラインで書き込み、一枚ごとの管理ができるようにしている。
そのＢＣＡは、高反射率領域と低反射率領域が、トラック線方向に走査したときに交互に現れるパターンとされ、その各領域の反射光のレベルから、情報を読み取ることができる。そして低反射率領域を形成するためには、ＢＣＡ記録装置が高パワーのレーザ出力を行うことで、反射膜を焼き切ることで形成していた。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このようにＢＣＡは、ディスク一枚一枚にユニークな情報を記録するため、製造されるディスク毎に書き込みを行うため、専用の高価なＢＣＡ記録装置が各製造ラインに必要となり、製造コストが増大するという問題があった。
一方、各ディスク個別の情報ではなく、或る程度まとまったディスク群に同一の情報をＢＣＡに記録したいという要望もある。例えば製造ライン毎にユニークな情報を記録するような場合である。
本開示では、このような場合に応じて、適切なＢＣＡの形態及び光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の光記録媒体は、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている。
【０００７】
また本開示の光記録媒体は、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている。
【０００８】
本開示の製造方法は、上記のように高反射率領域と上記低反射率領域を有する記録領域が形成されている光記録媒体の製造方法であって、記録情報に基づいて凹凸パターンが設けられた原盤を製造する原盤製造工程と、上記原盤における凹凸パターンを転写したスタンパを作成するスタンパ作成行程と、上記スタンパにおける凹凸パターンが転写された基板を作成する基板作成行程と、上記基板に所定の層構造を形成することで光記録媒体を形成する光記録媒体形成行程とを備える。そして上記原盤製造工程において、上記原盤に、上記高反射率領域と上記低反射率領域から成る上記記録領域に相当する凹凸パターンを形成することで、上記光記録媒体形成行程で形成される光記録媒体に、上記記録領域が形成されているようにする。
【０００９】
以上の本開示の技術では、例えばＢＣＡのようなバーコード状の記録領域において、低反射率領域をピット列で形成するという考え方を採る。高反射率領域は、その低反射率領域のピット列よりも高い反射率を有する形態であればよい。
低反射率領域をピット列で形成する場合、ピット列を、空間周波数限界を考慮して形成したり、高反射率領域と低反射率領域からの各再生信号レベルと変調度の関係を考慮して形成する。これにより、低反射率領域をピット列で形成する場合に、適切な記録領域（ＢＣＡ）を形成できる。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、低反射率領域を、反射膜の焼き切りではなく、ピット列で形成することで、例えば原盤製造工程段階でバーコード状の記録領域の形成が可能となる。これにより光記録媒体の製造行程の効率化、コスト削減に好適である。さらに、低反射率領域のピット列を、空間周波数限界や、高反射率領域と低反射率領域からの各再生信号レベルと変調度の関係を考慮して形成することで、該記録領域から品質のよい再生信号が得られ、適切なバーコード状の記録領域を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示の実施の形態のＢＣＡの説明図である。
【図２】第１の実施の形態のＢＣＡの低反射率領域と高反射率領域の説明図である。
【図３】第１の実施の形態のＢＣＡの模式的な説明図である。
【図４】従来のＢＣＡの模式的な説明図である。
【図５】実施の形態及び従来のＢＣＡからの再生信号波形の説明図である。
【図６】第２の実施の形態の説明のための信号の定義の説明図である。
【図７】空間周波数６００，８００の場合の変調度と低反射率領域の再生レベルの説明図である。
【図８】空間周波数１０００，１３００の場合の変調度と低反射率領域の再生レベルの説明図である。
【図９】空間周波数１６６７の場合の変調度と低反射率領域の再生レベルの説明図である。
【図１０】空間周波数２５００，３０００の場合の変調度と低反射率領域の再生レベルの説明図である。
【図１１】空間周波数３５００，４０００の場合の変調度と低反射率領域の再生レベルの説明図である。
【図１２】第３の実施の形態のＢＣＡの模式的な説明図である。
【図１３】第４の実施の形態の低反射率領域と高反射率領域の説明図である。
【図１４】第４の実施の形態のＢＣＡの模式的な説明図である。
【図１５】第４の実施の形態のＢＣＡからの再生信号波形の説明図である。
【図１６】第４の実施の形態の面密度の説明図である。
【図１７】第４の実施の形態の変形例の説明図である。
【図１８】実施の形態のディスク製造工程のフローチャートである。
【図１９】実施の形態のディスク製造工程の説明図である。
【図２０】実施の形態のディスク製造工程の説明図である。
【図２１】実施の形態のマスタリング装置のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本開示の実施の形態を次の順序で説明する。
＜１．実施の形態の概要＞
＜２．第１の実施の形態＞
＜３．第２の実施の形態＞
＜４．第３の実施の形態＞
＜５．第４の実施の形態＞
＜６．ディスク製造工程＞
【００１３】
＜１．実施の形態の概要＞
実施の形態の光ディスクについて説明する。
実施の形態の光ディスクは、いわゆるブルーレイディスクと呼ばれる高密度光ディスク方式の範疇における例えばＲＯＭタイプディスク、さらにはライトワンス型ディスク（ＢＤ−Ｒ）又はリライタブル型ディスク（ＢＤ−ＲＥ）として実施可能である。
【００１４】
本実施の形態の高密度光ディスクの物理パラメータの一例について説明する。
本例の光ディスクは、ディスクサイズとしては、直径が１２０ｍｍ、ディスク厚は１．２ｍｍとなる。即ちこれらの点では外形的に見ればＣＤ（Compact Disc）方式のディスクや、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）方式のディスクと同様となる。
そして記録／再生のためのレーザとして、いわゆる青色レーザ（例えば波長λ＝４０５ｎｍ）が用いられ、また光学系が高ＮＡ（例えばＮＡ＝０．８５）とされる。さらには狭トラックピッチ（例えばトラックピッチ＝０．３２μｍ）、高線密度（例えば記録線密度０．１１２μｍ／ｂｉｔ）を実現する。これらにより、直径１２ｃｍのディスクにおいて、ユーザーデータ容量として２３Ｇ〜２５ＧＢ（Giga Byte）程度を実現している。また更なる高密度記録により、３０ＧＢ程度の容量も可能とされる。
また、記録層が複数層とされたいわゆるマルチレイヤーディスクも開発されており、マルチレイヤーディスクの場合、ユーザーデータ容量は、ほぼ層数倍となる。
【００１５】
図１に、ディスク全体のレイアウト（領域構成）を概略的に示す。
ディスク上の主たる領域としては、内周側からリードインゾーンＬＩ、データゾーンＤＡ、リードアウトゾーンＬＯが配される。
リードインゾーンには、ディスクの物理特性や記録再生のための管理情報などが記録される。データゾーンは、主たるデータ、例えば映像や音楽等のコンテンツデータ、アプリケーションプログラムなどコンピュータ用途データなどが用いられる。リードアウトゾーンＬＯはバッファエリアとされたり、管理情報が記録されることもある。
【００１６】
通常の記録再生には、これらの領域が用いられるが、特に個々のディスク管理のための等の目的のため、リードインゾーンＬＩより内周側にはＢＣＡ（Burst Cutting Area）が設けられる。
ＢＣＡは、図示するように、放射状に形成されたバーコード状のパターンによって形成されている。このＢＣＡは、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向（半径方向）に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンとされる。例えば高反射率領域と低反射率領域が、半径２１．０ｍｍ〜２２．２ｍｍの範囲に連続して形成されることでバーコード状とされる。
この場合、バーコード状のパターンであることで、このＢＣＡの範囲はトラッキングフリーで情報を読み取ることができる。
【００１７】
従来は、ＢＣＡはディスク記録媒体固有のユニークＩＤ等を、例えば記録層の反射膜を焼き切る記録方式で記録している。
後述するが、本実施の形態では、これとは異なる方式でＢＣＡを形成する。
【００１８】
実施の形態の場合、ＢＣＡには、光ディスク一枚ごとでなく、ある一定のロットに同一の情報を記録する。
そして後述するが、このためマスタリングの段階でディスク原盤でＢＣＡに相当する凹凸パターンを形成する。つまりＢＣＡの低反射率領域を、反射膜を焼き切る方式で形成するものではないものとする。これによって、光ディスクを製造した後、１枚ごとにＢＣＡ記録装置でＢＣＡを形成する工程を無くす。
【００１９】
すると、ＢＣＡの高反射率領域と低反射率領域は、従来のＢＣＡとは異なる形態となるが、その本例のＢＣＡが形成された実施の形態の光ディスクであっても、既存の再生装置で問題を起こすことなく再生できるようにもする。
【００２０】
ここで、実施の形態の光ディスクにおけるＢＣＡを開発するに当たっての前提を説明しておく。
図４Ａは、従来のＢＣＡを模式的に示したものである。
従来の光ディスクでも、ＢＣＡは見かけ上は図１と同様に、放射状のバーコードパターンとされている。
図４Ａのように、ＢＣＡは低反射率領域と高反射率領域がトラック線方向に交互に現れるものとされる。高反射率領域は、ピットＰ及びランドＬによるピット列部とされている。例えばリードインゾーンＬＩやデータゾーンＤＡに形成されるピット列と同様、ＲＬＬ（１−７）変調されたピット列とされる。
一方、低反射率領域が、ＢＣＡ記録装置によって反射膜が焼き切られた領域とされる。
即ち、従来の光ディスクの場合、大量生産で個々の光ディスクが製造された段階では、ＢＣＡ領域（半径２１．０ｍｍ〜２２．２ｍｍの範囲）は、通常のピット列が形成された領域となっている。このような光ディスクに対して、ＢＣＡ記録装置によって、ディスク回転と同期させながら、所定のタイミング（記録するユニークデータに応じたタイミング）で反射膜を焼き切っていく。
これにより、低反射率領域が半径方向に連続する状態とする。結果として、トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれ半径方向に連続するバーコード状の反射パターンが形成される。
【００２１】
再生装置で、このＢＣＡを再生した場合、得られるＲＦ信号（再生信号）の波形は、図４Ｂのようになる。つまり、ピット列が形成された高反射率領域では、ピット列に応じたある程度の反射光が得られるので、ＲＦ信号波形は、ピット／ランドにより多少変動しながら、平均的にはある程度のレベルとなる。
一方、低反射率領域は、反射膜が焼き切られているため、ほとんど反射光は得られず、ＲＦ信号波形はかなり低いレベルとなる。
再生装置では、このような高反射率領域と低反射率領域でのＲＦ信号振幅の差から、「１」「０」の情報を得ることができ、ＢＣＡに記録された情報を読み出すことができる。
【００２２】
ところが上述のように、この方式では、製造された個々の光ディスクについて、ＢＣＡ記録装置によってＢＣＡ記録を行うことで、製造効率やコストの点で非常に不利である。
また、個々の光ディスクの個別の情報ではなく、ロット単位で同じ情報を入れたいという要望もある。
これらを考慮すると、上述のようにマスタリング段階でＢＣＡに相当する凹凸パターンを形成し、スタンパを用いてディスク基板を形成する際に、ディスク基板上にＢＣＡとなるバーコード状のパターンを形成しておくことが考えられる。こうすれば、ＢＣＡ記録に係る効率の悪化やコストアップは解消される。
【００２３】
そこで本実施の形態では、焼き切りを行わずにＢＣＡを形成するために、低反射率領域をピット列で形成するものとする。高反射率領域はピット列よりも反射率が高くなる領域とする。例えばミラー部とする。
【００２４】
ここで、低反射率領域をピット列で形成するとすると、次の点を考慮しなければならない。
図５Ｂは、従来のＢＣＡの再生波形を示す。
いま、ピット列部分からのＲＦ信号レベルとして、この図の縦軸で示す「１」〜「１．５」を中心とする範囲の振幅が得られるとする。
図４で説明したように、従来のＢＣＡではピット列部が高反射率領域であり、焼き切り部が低反射率領域である。低反射率領域（焼き切り部）では、ＲＦ信号レベルは図５Ｂの「０」近辺となる。
高反射率領域では、ピット列による変調を受けるため、図５Ｂの「１」〜「１．５」近辺となる。
【００２５】
ピット列での変調による振幅変動が大きいと、適正な２値化ができなくなる。しかし、従来のＢＣＡでは、そもそも焼き切り部でのレベルがほぼ「０」であり、ピット列部分からのＲＦ信号レベルが多少変調されていても、２値化に不具合が生ずるほどではない。例えばこの図でいうレベル「０．５」あたりをスライスレベルとすれば、ほぼ間違いなく２値化できる。
【００２６】
一方、本実施の形態では、低反射率領域をピット列として形成する。仮に一例として、高反射率領域をミラー部とすると考える。ミラー部とは、ピットＰが形成されず、ランドＬが連続する部分である。つまりピットＰによる回折を受けずに高い反射率となる部分である。
その場合のＲＦ信号波形を比較例として図５Ａに示す。低反射率領域はピット列部であることで、ＲＦ信号レベルは「１」〜「１．５」近辺となる。しかもピット列による変調を受け、比較的大きなレベル変動が観測される。
高反射率領域は、低反射率領域より高いレベルとなる。
つまり、高反射率領域、低反射率領域とも、図５Ｂの場合に比べてＲＦ信号レベルは高いレベルになるとともに、低反射率領域でのＲＦ信号において変調成分が生じるものとなる。
【００２７】
この場合、高反射率領域のＲＦ信号レベルと、変調による振幅変動が大きい低反射率領域のＲＦ信号レベルは、比較的差が小さくなる。すると、場合によっては低反射率領域での比較的大きい振幅が、スライスレベルを上下することで、誤った２値化が行われる可能性が高くなる。
その結果、再生装置がＢＣＡ情報の読出を適切に行うことができず、ＢＣＡ再生のリトライを繰り返し、最終的にはディスクエラーとしてディスクイジェクトを行ったり、コンテンツ再生を行わずに再生不可のまま停止してしまうというようなことが生じる。
【００２８】
ブルーレイディスク規格では、低反射率領域の再生信号レベルは、高反射率領域の再生信号レベルの０．５４９以下と規定されている。一般に記録再生装置は約１０％のマージンを見込んで設計するため、変調をも含んだ低反射率領域の再生信号レベルが０．６以下（０．６０３以下）であれば、再生に問題はない。
従って、本実施の形態において低反射率領域をピット列で形成することとした場合は、この点を考慮し、低反射率領域からの変調を含んだ再生信号レベルをなるべく低くし、上記の０．６以下という基準を満たすようにすることが必要となる。
【００２９】
即ち次のようになる。
高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」とする。また低反射率領域（つまり本実施の形態の場合はピット列部分）での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」とする。
本実施の形態では、この場合に、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、高反射率領域と低反射率領域を形成するものである。
【００３０】
＜２．第１の実施の形態＞
図２，図３で第１の実施の形態としてのＢＣＡを説明する。
図２Ａは、図１に示した光ディスクにおけるＢＣＡ部分の放射状のバーコードパターンの一部を模式的に示している。
ここでは、バーコード状のパターンにおいて黒い帯で示す部分を低反射率領域ＬＡ、黒い帯の間の白部分を高反射率領域ＨＡとしている。
【００３１】
黒い帯で示す低反射率領域ＬＡの１つを図２Ｂに拡大している。
１つの帯は、図２ＢのようにピットＰ、ランドＬによる細かい帯状に形成されている。この図２Ｂでの帯状部分をさらに図２Ｃに示しているが、細かい帯状の部分は半径方向（トラックピッチ方向）に重なり合ったピットＰと、ランドＬによって形成されている。
【００３２】
図３には、このように形成されるＢＣＡを、先に説明した図４と同様の形式で模式的に示している。
図３Ａのように、ＢＣＡは低反射率領域ＬＡと高反射率領域ＨＡがトラック線方向に交互に現れる。そして図４の場合とは逆に、低反射率領域ＬＡが、ピットＰ及びランドＬによるピット列部とされている。
そして高反射率領域ＨＡは、ミラー部とされている。
【００３３】
即ち本実施の形態の場合、ＢＣＡとしての（半径２１．０ｍｍ〜２２．２ｍｍの範囲）は、ディスク原盤を製造した段階で、そのディスク原盤に、既に低反射率領域ＬＡのピット列に相当する凹凸パターンが形成されている。高反射率領域ＨＡはピットが存在しない連続したランドＬによる相当する凸部となる。
ディスク製造工程については後述するが、このようなディスク原盤からスタンパが作成され、さらにスタンパを用いて光ディスクが大量生産されるが、大量生産の光ディスクが製造された時点で、既にＢＣＡが形成されていることになる。
【００３４】
再生装置では、ＢＣＡ部分を再生した場合、得られるＲＦ信号（再生信号）の波形は、図５Ｃのようになる。つまり、ミラー部とされた高反射率領域ＨＡでは、大きな反射光が得られるため、ＲＦ信号レベルが高くなる。
低反射率領域ＬＡは、ピット列となるが、ミラー部よりは反射光量は落ちるため、ＲＦ信号レベルは低くなる。
再生装置では、このような高反射率領域ＨＡと低反射率領域ＬＡでのＲＦ信号振幅の差から、「１」「０」の情報を得ることができ、ＢＣＡに記録された情報を読み出すことができる。
【００３５】
ここで、図５Ａで述べたように、ＲＦ信号波形がピット列部分での変調の影響を受けるとすると、本例の場合、低反射率領域ＬＡで振幅変動が大きくなる。
これに対して本実施の形態では、以下説明するように、低反射率領域ＬＡでのＲＦ信号の変調成分及び信号レベルを抑えるようにしている。
【００３６】
ブルーレイディスクの場合、波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．８５である。このため空間周波数特性の原理から、再生装置は、カットオフ周波数として、２ＮＡ／λ＝４１９７本／ｍｍ以上は解像できない。
この数値の空間周波数長さは０．２４μｍであり、例えば、０．１２μｍの長さのピットと０．１２μｍ長さのランドが繰り返されると変調度が得られない。
なおこの場合、デューティ、つまりピットＰとランドＬの比率には無関係に変調度が得られない。よって、例えば、ピット長０．２０μｍ、ランド長０．０４μｍなどとしても良い。つまり０．２４μｍ区間にピットＰとランドＬが形成されればよい。
【００３７】
従って、最も確実に低反射率領域ＬＡでのＲＦ信号に変調が観察されないＢＣＡパターンは、図２Ｂ、図２Ｃのように、ピットＰとランドＬを組み合わせた長さが０．２４μｍ長さ、あるいはそれ以下の長さの線状パターンとすればよいこととなる。
【００３８】
具体的な作成方法としては、ディスク原盤の露光（カッティング）時に、光変調信号をターンテーブルの回転と同期をかけＣＡＶで回転させる。
例えば、２１７４ｒｐｍ（半径２１．６ｍｍで線速４．９１７ｍ／ｓ相当）で回転させ、周期４８．８ｎｓｅｃの矩形パルスで露光用のレーザを駆動すると、２４．４ｎｓｅｃの時間長のピットが形成される。これを例えば５０パルス記録すると、線方向の長さ１２μｍの規格を満たしたＢＣＡ内のデータが形成される。
この記録を半径方向に例えば、０．２μｍピッチで等速送りを行いながら記録すると半径方向に放射状のパターンが形成されることになる。
【００３９】
以上のように、本実施の形態のＢＣＡでは、ピット列で低反射率領域ＬＡを形成するが、そのピット列は、空間周波数の点から、再生信号において変調度が得られないピット列とする。これにより、低反射率領域ＬＡでのＲＦ信号波形において変調成分を低減できる。
例えば図５Ｃのような低反射率領域ＬＡでの変調成分が抑制されたＲＦ信号が得られるＢＣＡとすることができる。
従ってＢＣＡ再生時のＲＦ信号波形において、低反射率領域ＬＡでの信号レベルが変調成分によってスライスレベルを上下してしまうことを防止でき、適切なＢＣＡ再生が実現されるようにできる。
【００４０】
＜３．第２の実施の形態＞
上記第１の実施の形態では、線方向の空間周波数４１９７本／ｍｍ、トラックピッチ０．２μｍでのパターンで、ピット列による低反射率領域ＬＡを形成することとしたが、現行機器が問題なく再生できる他の条件もあり、それによってディスクの生産マージンを広げることが出来る。
【００４１】
本願発明者等は、上記第１の実施の形態で設定した線方向の空間周波数を４１９７本以外に４０００，３５００，３０００，２５００，１６６７，１３００，１０００，８００，６００本の９通りに関して、深さとデューティをパラメータとして変調度Ｍ，信号レベルＳのシミュレーションを行った。
なお、以下に述べるシミュレーションにおける信号の定義を図６に示しておく。
図６の「Ｈ  Ｌｅｖｅｌ」は、高反射率領域ＨＡから得られる再生信号レベルである。高反射率領域は図３で示したようにミラー部とし、ミラー部での再生信号レベルを「１」としている。
「Ｓ  Ｌｅｖｅｌ」はピット列部としての低反射率領域ＬＡから得られる再生信号レベルである。ピット列再生レベルともいうこととする。これはミラー部での再生信号レベル（Ｈ  Ｌｅｖｅｌ）を「１」としたときの値で示している。
変調度「Ｍｏｄ．」は低反射率領域ＬＡから得られる再生信号レベルのピーク−ボトム間振幅レベルである。
「ｄｅｐｔｈ」はピット深さであり、ランドＬからピットＰまでの深さである。
「ｄｕｔｙ」はピット部分とランド部分の比である。
【００４２】
図７、図８，図９，図１０，図１１は、それぞれ空間周波数を６００本〜４０００本としたそれぞれの場合において、変調度（Ｍｏｄ．）と低反射率領域ＬＡから得られる再生信号レベル「Ｓ  Ｌｅｖｅｌ」を、ピット深さ（ｄｅｐｔｈ）とピット／ランド比（ｄｕｔｙ）の関係で示している。
【００４３】
例えば図７では空間周波数を６００本とした場合と、８００本とした場合とを示しているが、変調度については、各等高線で区切られる各領域の濃淡で、右側の目盛りの値の変調度となることを示している。
またＳ  Ｌｅｖｅｌ（ピット列再生レベル）についても、各等高線で区切られる各領域の濃淡で、右側の目盛りの値のレベルとなることを示している。
【００４４】
エンボスピット列によるＲＯＭタイプのディスクの場合、最も変調度が得られる深さ（ｄｅｐｔｈ）は、λ／（４Ｎ）：（Ｎはカバー層の屈折率）であり、ブルーレイディスクの場合、０．４０５／４／１．５５＝０．０６５μｍとなる。
従って、一般に、ピットＰは、０．０４５〜０．０７μｍの深さで作成される。
【００４５】
ここで図９の空間周波数１６６７本に着目する。
ピット深さ０．０６μｍとした場合、ｄｕｔｙ＝５０±５％でピット列を形成すると、変調度（Ｍｏｄ．）は０．２以下となる。つまり低反射率領域ＬＡの再生信号として変調度は小さいものとできる。
そしてＳ  Ｌｅｖｅｌは、０．５以下となる。つまり、低反射率領域ＬＡの再生信号レベルとして十分に低いレベルとできる。
このため、ピット列部分の信号レベルの最大値は、０．５＋０．２／２＝０．６となり実用上問題のない範囲に収めることが出来る。
【００４６】
つまり、上述したＳ＋Ｍ／２≦０．６Ｈにおいて、
Ｓ＝Ｓ  Ｌｅｖｅｌ＝０．５
Ｍ＝Ｍｏｄ．＝０．２
Ｈ＝Ｈ  Ｌｅｖｅｌ＝１
となり、Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たす。
【００４７】
そしてこの空間周波数１６６７本の場合、周期は０．６μｍとなるので、ピット長さは０．２７〜０．３３μｍとなる。
空間周波数の考え方は、半径方向も同様である。従って変調度が取れないか、あるいは、実用上問題のない範囲であれば良く、例えば、ブルーレイのトラックピッチ０．３２μｍとすると、空間周波数はほぼ３０００本となり、計算結果からデューティが３５〜６５％までずれても、変調度０．１以下、信号レベル０．２５以下となり全く問題のない信号が得られる。
【００４８】
図１０，図１１では、より空間周波数が高い場合を示しているが、例えば空間周波数が２５００本の場合、ピット深さ０．０６μｍとした場合、ｄｕｔｙが約０．４〜０．６というより広い範囲で、変調度（Ｍｏｄ．）は０．２以下となる。またＳ  Ｌｅｖｅｌは、０．３５以下となる。この場合も、上記のＳ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たし、実用上問題のない範囲とできる。空間周波数が３０００本、３５００本、４０００本の場合も同様に問題はない。
なお付言すると、ピット深さが適切であれば、上述した第１の実施の形態の空間周波数が４１９７本の場合も、Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たすようにできることはいうまでもない。
【００４９】
一方、図８の１３００本の場合を見てみる。
ピット深さ０．０６μｍとした場合、ｄｕｔｙ＝５０でも変調度（Ｍｏｄ．）は０．３５程度となり、比較的大きい。
またＳ  Ｌｅｖｅｌは、０．５５程度となる。
するとＳ＋Ｍ／２＝０．７２５程度となり、Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たさない。このため、ＢＣＡ再生に問題が生ずるおそれがある。
同図の１０００本の場合や、図７の６００本、８００本の場合も適切ではない。
【００５０】
以上のことから、第２の実施の形態のブルーレイディスク方式の光ディスクとして、ＢＣＡの低反射率領域ＬＡをピット列で形成する場合、その低反射率領域ＬＡは、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されていることが適切であることがわかる。
【００５１】
＜４．第３の実施の形態＞
第３の実施の形態を図１２に示す。
上記第１，第２の実施の形態では、低反射率領域ＬＡをピット列、高反射率領域ＨＡをミラー部とした。
第３の実施の形態としては、低反射率領域ＬＡをピット列とすることは同様であるが、高反射率領域ＨＡもピット列とする。
但し、低反射率領域ＬＡは、上述の空間周波数の考え方から、再生信号の変調度が小さく、また信号レベルも小さいピット列とする。
一方、高反射率領域ＨＡは、ある程度大きな再生信号レベルが得られるピット列とする。
【００５２】
図１２Ａに第３の実施の形態のＢＣＡを模式的に示す。
低反射率領域ＬＡは、上記第１の実施の形態と同様のピット列が形成されているものとする（第１ピット列部）。高反射率領域ＨＡは、第１ピット列部とは異なるピット列が形成されている（第２ピット列部）。
第２ピット列部は、例えば空間周波数、ピット深さ、デューティ等の設定により、例えば０．７程度の高いＲＦ信号レベルが得られるようにしておく。
そして図１２Ｂに示すように、第１ピット列部と第２ピット列部でＲＦ信号レベルに十分な差が出るようにする。
【００５３】
このように低反射率領域ＬＡ、高反射率領域ＨＡを共にピット列で形成するようにしても、第１ピット列部と第２ピット列部でＲＦ信号レベルに十分な差が出るようにすれば、適切なＢＣＡを実現することができる。
なお、この第３の実施の形態では、高反射率領域ＨＡをピット列としていることで、高反射率領域ＨＡでのＲＦ信号レベルが、第１の実施の形態のミラー部とする場合よりは低くなる。
このことは、ＲＦ信号レベルがあまりに高すぎて再生装置のフォーカスサーボが不安定になるという事態を避けることができるという利点が生ずる。即ち、ＲＦ信号レベルが高いと、再生装置によっては、フォーカスエラー信号が適切に得られなくなることがある。そのような事態を避ける場合、本例のように高反射率領域ＨＡを第２ピット列部として、ＲＦ信号レベルを多少低下させることは有効である。
なお、第２ピット列部に代えて、グルーブを設けるようにすることも考えられる。
【００５４】
＜５．第４の実施の形態＞
第４の実施の形態を説明する。第４の実施の形態は、低反射率領域ＬＡのピットＰの配置を、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係にしたものである。
【００５５】
図１３Ａは、図２Ａと同様にＢＣＡ部分の放射状のバーコードパターンを示している。黒い帯で示す部分が低反射率領域ＬＡであるが、それを図１３Ｂに拡大して示している。
図１３Ｂに示すように、低反射率領域ＬＡでは、直角を有さない三角形の一例として、破線で示す正三角形の各頂点位置（黒丸で示す）が、略中心となるようにピットＰが形成されている。つまり図のように低反射率領域ＬＡの面上に、仮想的に、多数の連続する正三角形を構成するラインを引いた場合に、各ピットＰが、その仮想的に引いた正三角形のラインの各頂点位置を含むように形成されている。
これにより、全体のピットの並びとしては、いわゆる千鳥状に、１トラック毎にピットがずれて並ぶような状態となる。
【００５６】
図１４は、上述した図３と同様な形式でＢＣＡを示している。
図１４Ａのように、ＢＣＡは低反射率領域ＬＡと高反射率領域ＨＡがトラック線方向に交互に現れる。そして低反射率領域ＬＡが、ピットＰ及びランドＬによるピット列部とされ、高反射率領域ＨＡはミラー部とされている。
低反射率領域ＬＡのピット列は正三角形の各頂点位置を基準とする位置関係となるようにピットＰが形成されている。
上述した第１の実施の形態の場合と同様、ＢＣＡとしての（半径２１．０ｍｍ〜２２．２ｍｍの範囲）は、ディスク原盤を製造した段階で、そのディスク原盤に、既に低反射率領域ＬＡのピット列に相当する凹凸パターンが形成されている。高反射率領域ＨＡはピットが存在しない連続したランドＬによる相当する凸部となる。このようなディスク原盤からスタンパが作成され、さらにスタンパを用いて光ディスクが大量生産されると、その時点で既にＢＣＡが形成されていることになる。
【００５７】
図１５に、この第４の実施の形態のＢＣＡの再生信号波形を示す。
なお、再生レーザ光は波長λ＝４０５ｎｍ、光学系ＮＡ＝０．８５である。そしてピットＰはブルーレイディスクシステムでの最短ピットである２Ｔピット（Ｔはチャネルクロック周期）で形成し、各ピットＰの中心位置間のピッチＰＰ（図１３Ｂ参照）は３１５ｎｍである。各ピットＰの中心は正三角形の頂点位置であるため、千鳥状に形成された全てのピットＰのピッチＰＰは３１５ｎｍとなる。
【００５８】
図１５に示すように、高反射率領域ＨＡの再生信号レベルは１３００ｍＶ程度となり、低反射率領域ＬＡの再生信号レベルは５２４ｍＶ程度となった。低反射率領域ＬＡの変調度としては８０〜９０ｍＶ程度のレベルの振幅である。
【００５９】
この場合、高反射率領域での反射光から得られる再生信号レベルを「Ｈ」、低反射率領域での反射光から得られる再生信号レベルを「Ｓ」とし、Ｈ＝１とするとＳ＝０．４０となる。また変調度Ｍ＝０．０６となる。
つまり、上述したＳ＋Ｍ／２≦０．６Ｈを満たしており、実用上問題のないＢＣＡとすることができる。
【００６０】
なお、ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるシステムを想定する場合、低反射率領域ＬＡは、上述の第２の実施の形態の検討を踏まえれば、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されていることが好ましい。
また低反射率領域ＬＡのピット列は、ピットＰとランドＬの比率が５０±５％であるとすることが好ましい。
また低反射率領域ＬＡのピット列は、トラックピッチが０．３２μｍ以下であることが適切である。
【００６１】
この第４の実施の形態では、低反射率領域ＬＡでのピットＰを直角を有さない三角形の各頂点位置を基準とする位置関係として、千鳥状に並ぶようにしたが、この場合の利点は以下のように考えられる。
例えば図１６Ａでは、第１の実施の形態のように半径方向にピットＰが連続して並ぶようにした場合を示している。ＢＣＡは、トラッキングフリーであるため、レーザスポットＳＰは、必ずしも矢印ＤＲ１のようにトラック線方向に進むとは限らず、ピット列に対して矢印ＤＲ２，ＤＲ３のようにトラック線方向に対して斜めに進むことも通常にあり得る。
レーザスポットＳＰがこの矢印ＤＲ２，ＤＲ３のように進んだ場合、矢印ＤＲ１のように進んだ場合よりも、ピットＰの間隔が長くなる。その意味で、変調成分の増加という不利な点が生ずる。もちろん上述のようにトラック線方向の空間周波数が適切に設定されていれば実用上は問題ないが、このためのトラック線方向のピット間隔は、レーザスポットが矢印ＤＲ２，ＤＲ３のように進む場合も想定しておくことが必要である。
【００６２】
一方図１６Ｂは、第４の実施の形態のように千鳥状にピットＰが並ぶ場合である。この場合も、矢印ＤＲ１，ＤＲ２，ＤＲ３のように各種の方向性でレーザスポットＳＰが進むことが想定されるが、いずれの方向性でも、レーザスポットＳＰによって照射されるピットＰの間隔はさほど異ならない。つまり二次元的に密な状態となる。この点でスポット進行方向によらず変調成分がさほど増大しないという利点がある。
また千鳥状配置のピットによれば、通常に矢印ＤＲ１のように進んだ場合でも、左右のトラックのピットの影響で変調度は小さくなることもあり、この点でも低反射率領域ＬＡの変調度を小さくすることで有利となる。
【００６３】
ところで、図１３Ｂでは、正三角形の頂点位置にピットが形成されるようにしたが、必ずしも正三角形状の配置に限らない。即ち直角を有さない三角形として、例えば図１７に示すような二等辺三角形の頂点位置を含むようにピットＰが形成されるものでもよい。
但し、トラック線方向及び半径方向の両方を含む面に対して、ピットＰを密に配置し（面密度を高める）、低反射率領域ＬＡでの変調度を抑えるという観点からは、正三角形の頂点位置の配置が好ましい。
【００６４】
また、第４の実施の形態を上記第３の実施の形態と組み合わせることも考えられる。即ち低反射率領域ＬＡは千鳥状の配置のピットＰにより形成するが、高反射率領域ＨＡを、低反射率領域ＬＡのピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成することとしてもよい。
【００６５】
＜６．ディスク製造工程＞
上記実施の形態の光ディスクの製造工程について説明する。即ちＢＣＡにおいて低反射率領域ＬＡをピット列により形成し、また高反射率領域ＨＡはミラー部（もしくは第２ピット列部）として形成する場合の製造工程である。
【００６６】
図１８Ａは、光ディスクの全体的な製造工程を示している。図１９，図２０を参照しながら説明する。
まず図１８ＡのステップＦ１０１として、原盤作成のためのマスタリングが行われる。
例えば図１９Ａに示すように、無機レジスト等のレジストが塗布されたディスク原盤１００に対して、露光ヘッド４６から記録情報に応じて変調されたレーザ光を照射し、ピットパターンに応じた露光を行う。これにより図１９Ｂに示すように、露光部分Ｒが形成される。
【００６７】
次にステップＦ１０２として原盤形成が行われる。
例えば図１９Ｂのように露光されたディスク原盤に対して現像を行い、図１９Ｃのように露光部分が凹状となったディスク原盤１００を作製する。凹部が完成後の光ディスクにおけるピットＰに相当することとなる。
次にステップＦ１０３でスタンパを作成する。
例えばディスク原盤１００を用いたニッケル電鋳処理により、ディスク原盤１００の凹凸が転写されたスタンパ１０１を作製する（図１９Ｄ）。スタンパ１０１の凹凸パターン１０１ａではピット相当部分が凸形状となっている。
【００６８】
次にステップＦ１０４でスタンパ１０１を用いたディスク基板製造を行う。
図２０Ａのようにスタンパ１０１を基板成形用の金型に配置させる。この金型は、下キャビティ１２０と上キャビティ１２１から成り、下キャビティ１２０に、ピット列を転写するためのスタンパ１０１が配置される。
【００６９】
このような金型を用いて例えばポリカーボネート樹脂の射出成形で基板１を成形するが、成形される基板１は図２０Ｂのようになる。
即ちポリカーボネート樹脂による基板１は、その中心はセンターホール２とされるとともに、情報読出面側は、金型内のスタンパ１０１に形成された凹凸パターン１０１ａが転写されたピットパターン３となる。
【００７０】
続いてステップＦ１０５で、このように形成された基板１に対して成膜が行われる。
まずスパッタにより、スタンパ１０１から転写されたピットパターン上に、反射膜４の成膜が行われる。即ち図２０Ｃに示すように、ピットパターン３が形成された信号読出面側に例えばＡｇ合金の反射膜４を形成する。
さらに、例えば紫外線硬化型樹脂のスピンコートにより、図２０Ｄのようにカバー層５を形成する。
なお、カバー層５の表面にさらにハードコート処理を施す場合もある。
また、ここでは記録層が１つの１層ディスクの場合を示しているが、２層以上の多層の場合は、さらに各記録層の形成工程が加わる。
【００７１】
以上のように成膜工程を経たら、その後ステップＦ１０６でレーベル面側の印刷を行い、光ディスクが完成される。
以上の工程で、光ディスクが形成される。特にステップＦ１０４以降は、大量生産工程となるが、本実施の形態の場合、図２０Ｄのように、成膜工程を終えた段階で、既にＢＣＡも形成されていることとなる。
【００７２】
即ちマスタリングの段階で、ＢＣＡのためのピット列を形成する露光が行われる。図１８Ｂには、ステップＦ１０１のマスタリング工程を示しているが、まずステップＦ１０１ＡとしてＢＣＡ部分のピット列の露光が行われる。そしてステップＦ１０１Ｂで、リードインエリアＬＩ、データエリアＤＡ、リードアウトエリアＬＯの各部のピット列の露光が行われる。
このようにマスタリングの段階でＢＣＡのためのピット列露光も行われ、ディスク原盤１００上でＢＣＡのピット列に相当する凹部が形成される。
そのため、そのディスク原盤１００から製造されたスタンパ１０１を用いてディスク基板１を製造することで、ディスク基板１のピットパターン３として、既にＢＣＡを構成するピットパターンもできていることになる。
従ってその後、反射膜４やカバー層５を形成した時点で、ＢＣＡ記録済みの光ディスクが作成されることになり、従来のように、その後、個々の光ディスクに対してＢＣＡ記録装置でＢＣＡ記録を行うことは不要となる。
【００７３】
マスタリング工程で用いるマスタリング装置の例を図２１に示す。
露光ヘッド４６内には、露光用のレーザ光源及び必要な光学系が搭載される。レーザ光源は、レーザドライバ４１からの駆動信号に基づいて発光を行う。
【００７４】
記録データ生成部４３は、所定の変調処理を施した記録データを出力する。ピット列を露光するＲＯＭディスクのカッティング工程を行う場合は、レーザ光源のＯＮ／ＯＦＦの変調動作を行うことになる。
記録データ生成部４３は、例えば光ディスクに記録する管理情報や実コンテンツデータ等についてのＲＬＬ（１−７）変調信号を出力する。
その記録データはレーザパルス発生部４２でレーザ駆動パルスに変換される。
【００７５】
レーザパルス発生部４２は、レーザ駆動パルスをレーザドライバ４１に供給する。
レーザドライバ４１は、レーザ駆動パルスに基づいて、露光ヘッド４６内の露光用のレーザ光源に駆動信号を供給する。
これにより露光用のレーザ光源からの記録レーザ光は、ピット列に応じた変調光となり、ディスク原盤１００にはピット列に相当する露光パターンが形成されることになる。
【００７６】
ディスク原盤１００は、スピンドルモータ４４によって回転駆動される。スピンドルモータ４４は、スピンドルサーボ／ドライバ４７によって回転速度が制御されながら回転駆動される。これによってディスク原盤１００は例えば一定線速度又は一定角速度で回転される。
スライダ４５は、スライドドライバ４８によって駆動され、ディスク原盤１００が積載された、スピンドル機構を含む基台全体を移動させる。即ち、スピンドルモータ４４で回転されている状態のディスク原盤１００は、スライダ４５で半径方向に移動されながら上記光学系によって露光されていくことで、露光されるピット列によるトラックがスパイラル状に形成されていくことになる。
スライダ４５による移動位置、即ちディスク原盤１００の露光位置（ディスク半径位置：スライダ半径位置）はセンサ４９によって検出される。センサ４９による位置検出情報はコントローラ４０に供給される。
【００７７】
コントローラ４０は、このマスタリング装置の全体を制御する。即ち、記録データ生成部４３によるデータ出力、レーザ駆動パルス発生部４２でのパルス生成パラメータの制御、レーザドライバ４１に対してのレーザパワー設定、スピンドルサーボ／ドライバ４７によるスピンドル回転動作制御、スライドドライバ４８によるスライダ４５の移動動作の制御等を行う。
【００７８】
例えばこのようなマスタリング装置では、まず図１８ＢのステップＦ１０１ＡとしてのＢＣＡパターン露光が行われる。
例えば第１の実施の形態の光ディスクの製造の場合、コントローラ４０は、記録データ生成部４３に、低反射率領域ＬＡのピット列用のデータ（光変調信号）を出力させる。そして、その光変調信号をスピンドル回転と同期をかけＣＡＶで回転させる。
例えば、２１７４ｒｐｍ（半径２１．６ｍｍで線速４．９１７ｍ／ｓ相当）で回転させ、周期４８．８ｎｓｅｃの矩形パルスで露光用のレーザ光源を駆動すると、２４．４ｎｓｅｃの長さのピットが形成される。これを例えば、５０パルス分露光させることで線方向の長さ１２μｍの規格を満たした低反射率領域ＬＡとしてのピット列パターンを形成できる。
高反射率領域ＨＡに相当する部分ではレーザ発光させない。つまり露光させずに、ランド相当部分とする。
コントローラ４０は、この記録動作を、スライダ４５を制御して半径方向に例えば、０．２μｍピッチで等速送りを行いながら実行させて、ディスク原盤１００上に、半径方向に放射状の露光パターンを形成させる。
コントローラ４０は、センサ４９からの検出信号を監視して、例えば半径２１．０ｍｍ〜２２．２ｍｍの範囲で、上記の露光を実行制御する。
【００７９】
なお、図１２の第３の実施の形態の光ディスクの製造の場合、高反射率領域ＨＡに相当する部分でもレーザ発光させ、第２のピット列部を形成することはいうまでもない。
【００８０】
さらに図１４の第４の実施の形態の光ディスクの製造の場合、高反射率領域ＨＡに相当する部分ではレーザ発光させず、低反射率領域ＬＡに相当する部分では、１回転毎に所定時間だけレーザ発光タイミングが切り換えられるようにし、またスライダ送りピッチを適切に設定することで、図１３Ｂのような、互いに正三角形の各頂点位置を基準とする位置関係で配置されているピット（露光部分）を形成したり、図１７のような二等辺三角形の各頂点位置を基準とする位置関係で配置されているピット（露光部分）を形成することができる。
【００８１】
半径２４．００ｍｍ以降は、ステップＦ１０１Ｂの処理として、通常の光ディスクと同様に、リードインエリアＬＩ、データエリアＤＡ、リードアウトエリアＬＯのそれぞれのピット列相当の露光パターンを形成させていく。
【００８２】
以上のように、マスタリングの段階で例えば図３（又は図１２、又は図１４）のようなＢＣＡパターンの露光を行うことで、例えば製造ロット単位の情報が記録されたＢＣＡを有する光ディスクを、製造効率の悪化やコストアップを招くことなく製造できる。
【００８３】
なお、実施の形態では本開示の技術を、ブルーレイディスク方式の光ディスクに適用した例で説明してきたが、本開示の光記録媒体は、他の種の光ディスクでも適用できる。またカード状の光記録媒体など、ディスク形態以外の記録メディアでも本発明は適用できる。
【００８４】
なお、本開示の記録媒体は以下の構成を採ることもできる。
（１）トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、
上記低反射率領域はピット列により形成されているとともに、
上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている光記録媒体。
（２）ディスク状光記録媒体であって、
上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている上記（１）に記載の光記録媒体。
（３）ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、
上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている上記（１）又は（２）に記載の光記録媒体。
（４）上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が５０±５％である上記（３）に記載の光記録媒体。
（５）上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが０．３２μｍ以下である上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（６）上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている上記（１）乃至（５）のいずれかに記載の光記録媒体。
（７）上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている上記（１）乃至（５）のいずれかに記載の光記録媒体。
（８）上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている上記（１）乃至（７）のいずれかに記載の光記録媒体。
（９）上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている上記（１）乃至（７）のいずれかに記載の光記録媒体。
【００８５】
また、本開示の記録媒体は以下の構成を採ることもできる。
（１０）トラック線方向にみて交互に現れる高反射率領域と低反射率領域とが、それぞれトラックピッチ方向に連続する状態で形成されていることでバーコード状の反射パターンが形成され、該反射パターンによって情報が記録されている記録領域を備え、該記録領域は、ＮＡ＝０．８５の光学系によって出射される波長４０５ｎｍのレーザ光によって再生されるとともに、
上記低反射率領域は、トラック線方向の空間周波数が１６６７本／ｍｍ以上のピット列により形成されている光記録媒体。
（１１）ディスク状光記録媒体であって、
上記高反射率領域と上記低反射率領域とが、それぞれ上記トラックピッチ方向である半径方向に放射状に連続する状態で形成されることで、上記バーコード状の反射パターンが形成されている上記（１０）に記載の光記録媒体。
（１２）上記高反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｈ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の信号レベルを「Ｓ」、上記低反射率領域での反射光から得られる再生信号の変調度を「Ｍ」としたとき、
Ｓ＋Ｍ／２≦０．６Ｈ
を満たすように、上記高反射率領域と上記低反射率領域が形成されている上記（１０）又は（１１）に記載の光記録媒体。
（１３）上記低反射率領域のピット列は、ピット部とランド部の比率が５０±５％である上記（１０）乃至（１２）のいずれかに記載の光記録媒体。
（１４）上記低反射率領域のピット列は、トラックピッチが０．３２μｍ以下である上記（１０）乃至（１３）のいずれかに記載の光記録媒体。
（１５）上記低反射率領域のピット列では、トラックピッチ方向に隣接するピットが重なりあっている上記（１０）乃至（１４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（１６）上記低反射率領域の各ピットは、互いに、直角を有さない三角形の各頂点位置となる位置関係で配置されている上記（１０）乃至（１４）のいずれかに記載の光記録媒体。
（１７）上記高反射率領域は、ピット列が形成されていないミラー部とされている上記（１０）乃至（１６）のいずれかに記載の光記録媒体。
（１８）上記高反射率領域は、上記低反射率領域のピット列より高い再生信号レベルが得られるピット列又はグルーブにより形成されている上記（１０）乃至（１６）のいずれかに記載の光記録媒体。
【符号の説明】
【００８６】
１  ディスク基板、２  センターホール、３  ピットパターン、４  反射膜、５  カバー層、４０  コントローラ、４６  露光ヘッド、１００  ディスク原盤、１０１  スタンパ、ＬＡ  低反射率領域、ＨＡ  高反射率領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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