(57)【要約】【課題】  基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減する露光装置を実現する。【解決手段】  液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、基板１を移動するステージを有し、ステージは、基板１を保持する保持部２と、保持部２の外周に配置され、基板１と伴に液体を支持する補助部３と、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間を通った液体を回収口４を介して回収する回収部５とを有し、保持部２の外周面と補助部３の内周面との隙間は、回収口４に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、
前記基板を移動するステージを有し、
前記ステージは、
前記基板を保持する保持部と、
前記保持部の外周に配置され、前記基板と伴に前記液体を支持する補助部と、
前記保持部の外周面と前記補助部の内周面との隙間を通った前記液体を回収口を介して回収する回収部とを有し、
前記保持部の外周面と前記補助部の内周面との隙間は、前記回収口に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記保持部の外周面と前記補助部の内周面との隙間を第１隙間として、
前記回収部は、前記第１隙間に続く第２隙間を隔てて前記補助部と離間して配置され、前記第１隙間及び前記第２隙間を通った前記液体を回収することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２隙間の間隔は前記第１隙間の下端の間隔以下であることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記保持部の外周面と前記液体の接触角と、前記補助部の内周面と前記液体の接触角との和は１８０度より小さいことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置において、
前記基板を移動するステージを有し、
前記ステージは、
位置計測に用いられるマークが形成されたマーク基板と、
前記マーク基板を支持するマークベース部と、
前記マーク基板の外周に配置され、前記マーク基板と伴に前記液体を保持する補助部と、
前記マーク基板及び前記マークベース部の外周面と前記補助部の内周面との隙間を通った前記液体を回収口を介して回収する回収部とを有し、
前記マーク基板及び前記マークベース部の外周面と前記補助部の内周面との隙間は、前記回収口に向けて小さくなっていることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光する工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年注目されている液浸露光では、投影光学系の最終レンズと基板の表面との間に局所的に液体を充填するローカルフィル方式が提案されている。図１１は一般的なローカルフィル方式を説明する図であり、ウエハステージ周辺の断面図である。特に、液体供給ノズル１１３と液体回収ノズル１１４を用いて基板４０の周辺部を露光する様子を説明する概略図である。ローカルフィル方式の露光装置では、液体供給機構が液体供給ノズル１１３を介して投影光学系の最終レンズ３０と基板４０の表面との間に液体ＬＷを供給し、液体回収機構が液体回収ノズル１１４を介して供給された液体を回収する。上記ローカルフィル方式では、基板の中央付近を露光するときは液体の流出及び欠損は生じずに良好に露光ができるが、基板の周辺部を露光する際には、液体の一部が基板の外側に流出する。その結果、液体は基板の裏面に回り込み、更には、基板と基板ステージとの間に侵入するので、基板ステージが良好に基板を保持できなくなる。
【０００３】
図１１に示すように、基板チャック４１ｂは、基板４０との接触面積を小さくするために、基板チャック４１ｂの上面に形成された複数のピン４１ａにより基板４０の裏面を支持する。さらに、基板チャック４１ｂは、基板４０を真空吸着することで、強固に基板４０を固定して支持できる。また、基板チャック４１ｂは、取り外し可能な方式で天板４１ｃに固定されている。一方、補助板４３は天板４１ｃの上に基板４０を囲む形で基板４０の表面と略同じ高さになるように配置されている。補助板を用いた露光装置は、特許文献１及び特許文献２に開示されている。
【０００４】
特許文献１では基板と補助板の間に入った液体を回収するのに、気流を発生させて回収口へと液体を導いている。気流を発生させるために、基板最外周の基板支持部の構造は基板裏面との間に開放ではないものの、流量と流速をバランスさせた隙間が形成されている。
【０００５】
特許文献２では液体を部分的な領域に保持するためにガスナイフを使っている。ガスナイフでは有限な深さを持つ溝を通過する際に課題が生じる。基板と補助板の間に続けて、基板と補助板の隙間よりも大きな空間を構成することで、有限な深さでありながらガスナイフは底部の存在を感じさせなくする。こうすることで、基板と基板ステージの間に液浸液が進入しないようにすることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第０６／０６４８５１号パンフレット
【特許文献２】特開２００７−２６６６０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１では、基板と補助板の間に入る液体を回収するために基板の下、または補助板の下に回収口を設けている。かつ回収口から吸引することで気体の流れを発生させて、基板と補助板の間の液体を回収している。しかしながら、気体の流れを一定量以上の流量と流速で生成するために一定以上の隙間を形成する必要があった。その結果、液体を回収する工程中は液体を押せる程度の流量と流速で気体が流れているので、気流による気化熱が無視できない。
【０００８】
特許文献２では、基板と補助板の間に隙間を設けた後に、基板と補助板の間の隙間に比べて大きな空間を設けている。液体を投影光学系の下に限定して保持する機構上この大きな空間が必要であり、基板と補助板の間から漏れる液体でこの空間が埋まってしまっては目的の機能を発揮しなくなる。空間が埋まる前に液体を排出する機構として小さな隙間による毛管力で液体を排出している。しかし開示された構成は、基板と補助板と続く広い空間（特許文献２ではチャンバ）の構成では、基板と補助板の間にある液体を積極的に広い空間に導く力は発生できない（ここでは重力は除き、重力の他に作用するものを積極的と考えている）。特許文献２では基板と補助板の間の液体を空間へと導く力はガスナイフが持っており、積極的に広い空間に導くためにはガスナイフを構成として持つ必要がある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の露光装置は、液体を介してマスクのパターンを基板に露光する露光装置であって、基板を移動するステージを有し、ステージは、基板を保持する保持部と、保持部の外周に配置され、基板と伴に液体を支持する補助部と、保持部の外周面と補助部の内周面との隙間を通った液体を回収口を介して回収する回収部とを有し、保持部の外周面と補助部の内周面との隙間は、回収口に向けて小さくなっていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の露光装置によれば、基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減し、良好な露光精度を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】（ａ）露光装置のステージを投影光学系側から見た図である。（ｂ）ウエハと補助板が接近している場所Ｘの拡大図である。
【図２】実施例１の位置ＡＡ´の断面図である。
【図３】実施例２のウエハと補助板が接近している場所Ｘの拡大図である。
【図４】（ａ）実施例２の位置ＢＢ´の断面図である。（ｂ）実施例２の位置ＣＣ´の断面図である。
【図５】実施例３のマーク基板が配置されている場所Ｙの拡大図である。
【図６】実施例３のマーク基板と補助板の断面図である。
【図７】実施例４のウエハと補助板が接近している場所Ｘの拡大図である。
【図８】実施例４の位置ＤＤ´の断面図である。
【図９】（ａ）液回収口が位置するウエハと補助板の断面図である。（ｂ）液回収口が位置するウエハと補助板の断面図である。
【図１０】（ａ）実施例５のウエハと補助板の断面図である。（ｂ）実施例５のウエハと補助板の断面図である。（ｃ）実施例５のウエハと補助板の断面図である。
【図１１】液浸露光を説明したステージの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【実施例１】
【００１３】
図１及び図２は本発明の実施例１を説明するための図である。
【００１４】
図１（ａ）に露光装置のステージを上部から見た図を示した。１はパターンが露光されるウエハ、３は補助板（補助部）、７はマーク基板である。ステージにはさらにウエハ１を保持するためのウエハチャック（保持部）、液回収口（回収口）を介して液体を回収するための液回収流路（回収部）を有している。このステージは不図示の駆動機構を有しており、ウエハを移動させることができる。図１（ｂ）は図１（ａ）において点線で囲まれた場所Ｘを拡大した図であり、ウエハ１と補助板３とが接近する部分である。図１（ｂ）において４は液回収口、６はウエハ１と補助板３のエッジ部である。液回収口４は補助板３の下部にあって見えないので、液回収口４の位置を点線で示した。
【００１５】
図２は、図１（ｂ）において１つの液回収口４を通る位置ＡＡ´の断面を矢印で示した方向で見た図に示したものである。図２において、２はウエハチャック、５は液回収流路、６はエッジ部（第１隙間）である。
【００１６】
本発明の露光装置は不図示の原版（レチクル、マスク等）に描画されている微細なパターンを基板（シリコンウエハやガラスプレート等）上に露光する。このとき、投影光学系の最終レンズと基板との間を液体（液浸液）で満たし、液体を介して露光を行う。このような露光方法を一般的に液浸露光と呼ぶ。露光装置は、高精度な位置合わせを行う必要があり、露光するべき位置を決めたり、露光装置の光学系を調整したりするためにキャリブレーションを行う。露光装置にはキャリブレーションを行うためのキャリブレーションユニットを搭載している。マーク基板７にはこれらキャリブレーションを行うために必要なマークパターンやセンサーが搭載されている。
【００１７】
実際に液浸露光を行う際は、不図示の投影光学系の最終レンズとウエハ１との間に液浸液の液膜を張った状態で、図１（ａ）に示されたステージの全体が動く。露光前や露光後には、ステージの駆動によってマーク基板７が投影光学系のレンズの下に適宜移動しキャリブレーションを行う。露光中にはウエハ１が投影光学系のレンズの下に移動し、原版に描画されているパターンをウエハ上に焼き付ける工程が行われる。
【００１８】
投影光学系の最終レンズとウエハ１上との間に液浸液の液膜を保持した状態で、投影光学系のレンズの下にウエハ１やマーク基板７を移動させる。そのため、ウエハ１とマーク基板７との間に空間が空いているとレンズ下に保持している液浸液が漏れ出てしまう。そこで、ウエハ１とマーク基板７との隙間を埋めるために補助板３が配置されている。
【００１９】
図２を用いてウエハ１と補助板３とが接近する部分の断面の様子を説明する。補助板３はウエハ１と略同じ高さに設置されており、マーク基板７とも略同じ高さに設置されている。本実施例ではウエハチャック２はウエハ１を搭載する上面に続く側面は垂直に加工されており、その後に補助板３の下部まで延長している。ウエハチャック２と補助板３の間は高さ方向にギャップ９（第２隙間）を持つ。さらに、ウエハチャック２はギャップ９に通じている液回収口４を持っている。
【００２０】
液回収口４は図１（ｂ）にあるように複数の穴で形成されている。さらに液回収口４は液回収流路５とつながっている。液回収流路５の詳細はここでは図示していない。液回収流路５は液回収口４を連結する流路でもよいし、液回収口４よりも大きな径の穴でも構わず、本発明の本質を左右するものではない。液回収口４の上部に一定の間隔を開けて位置する補助板３はウエハ１とウエハチャック２と対向する側面にテーパがついている。つまり補助板３は、ウエハ１を囲むようにテーパが設けられた内周面を有している。この内周面とウエハ１及びウエハチャック２の外周面とで形成される隙間をエッジ部６と呼ぶことにする。補助板３に有するテーパは下部に行くにしたがってエッジ部６の間隔が狭くなるように形成されている。その幅はウエハチャック２（液回収口４）と補助板３とが形成するギャップ９の間隔以上の範囲で設計している。
【００２１】
ウエハ１の周辺部が露光される際には投影光学系の最終レンズとウエハ１との間に保持された液浸液がエッジ部６にかかることになる。露光が終了して液回収ノズルにより液浸液が、回収された後にもウエハ１と補助板３との間のエッジ部６には液浸液が残存する場合がある。この残存した液浸液を液回収口４から回収する。
【００２２】
一般的にウエハ１の表面は感光性材料等が被覆処理されている。ウエハ１の表面はできる限り撥水性が高い方が望ましい。しかし、ウエハ１の表面に液浸液を置いた際の接触角を測定すると９０度に満たない場合が多い。
【００２３】
ウエハチャック２は軽量かつ剛性が高く加工時に表面の平坦度などの精度が達成しやすい材料が採用される。セラミックスが良く使われ、成膜等による精度の劣化などを嫌うと当然材料表面は親水性を示す。
【００２４】
補助板３には撥水膜が成膜していても、隙間を構成するウエハチャック２と補助板３との二面の接触角の和は１８０度より小さい。この場合、液体はウエハチャック２と補助板３の側面との間にできるエッジ部６が徐々に狭くなっていることで、メニスカス力によってより狭い方へ向かう力が生じる。その結果、隙間に残る液体は常に狭い部分に充填されるように残る。
【００２５】
隙間に残る液体がある場合はエッジ部６の最も狭い間隔以下の間隔を有するギャップ９（第２隙間）を有して配置している液回収口４の前に常に液が存在することになる。つまり、液回収口４に向けて隙間を小さくすることで回収したい液体は液回収口４を覆う。加えて液回収口４より吸引されるにつれてエッジ部６内の液体は順次、液回収口４へと導かれる。本実施例ではギャップ９の大きさは、エッジ部６の下端の隙間の大きさ以下とする。その結果、エッジ部６内の液体を残すことなく液浸液を良好に回収することができる。
【００２６】
また、実際のウエハ１は図２の断面図から見ても分かるように、ウエハ１の端部は面取りが施されており、厳密にはウエハ１とウエハチャック２との間に、くさび状の隙間１０が生じる。くさび状の隙間１０があると補助板３の側面との距離が一時的に広くなる。ただし、くさび状の隙間１０の容積に比べて、ウエハ１と補助板３との側面の間の容積は大きい。そのため、くさび状の隙間１０は液体が容易に充満し、くさび状の隙間１０を越えた位置まで液体が移動することができる。結果として、実際のウエハ形状が面取りされているために生じるくさび状の隙間１０は、無視することができる。
【００２７】
本発明の効果を限定するものではないものの、エッジ部６の隙間の大きさは最大部が１ｍｍ程度に、最小部を０．１ｍｍ程度にした範囲で設計するのが、望ましい。
【００２８】
本実施例によれば、基板の基板ステージ側の面と基板ステージとの間に液体が残留することを低減し、良好な露光精度を実現できる。
【実施例２】
【００２９】
第２の実施例を図３および図４を用いて説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。図３は、図１（ａ）において点線で囲まれた場所Ｘを拡大した図であり、ウエハ１と補助板３とが接近する部分である。図３には液回収口４の位置と補助板３の液回収口４側の形状を点線で示している。補助板３の形状を説明するために、図４（ａ）に液回収口４を通る位置ＢＢ´の断面を矢印で示した方向で見た図を示した。また、図４（ｂ）に２つの液回収口４の間の位置ＣＣ´の断面を矢印で示した方向で見た図を示した。
【００３０】
図４（ａ）と図４（ｂ）とを比較すると分かるように、液回収口４がある場所の補助板３とウエハチャック２とのギャップ９は液回収口４が無い場所におけるギャップ９の間隔よりも狭くなっている。ちょうど液回収口４を覆う位置の補助板３とウエハチャック２との間隔が他の位置の間隔と比較して狭くなっている。このため、補助板３の下面の形状は、液回収口４がある場所のみが凸形状になっており、２つの液回収口４の間は凹形状となっている。このような構造とすることで、補助板３とウエハチャック２のギャップ９における間隔の差が生じ、液浸液を間隔の狭い方へ導くことができる。
【００３１】
本実施例の形状によれば、エッジ部６の下部まで導かれた液浸液は、ウエハチャック２と補助板３とのギャップ９で選択的に液回収口４の位置に移動することが出来る。この結果、液回収口４は離散的に配置されているにも関わらず、ウエハ１の全周にわたり良好に液浸液を回収することができる。
【実施例３】
【００３２】
第３の実施例を図５および図６を用いて説明する。図５は、図１（ａ）において点線で囲まれた場所Ｙを拡大した図であり、補助板３とマーク基板７とが接近する部分である。図５において６は補助板３とマーク基板７のエッジ部である。
【００３３】
図６は図５の補助板３とマーク基板７との境界を補助板３の下部に配置されている液回収口４を含む断面を図に示したものである。７はマーク基板、８はマーク基板７を搭載するマークベースである。上記の実施例と同じ番号のものはここでは説明を省略する。
【００３４】
露光装置上には基板上の座標とステージの位置座標を関連づけるためなどに種々のマークパターンが用いられている。これらを一体で形成することは適切ではない。そのため、位置計測などに用いられるマークが形成されたマーク基板７がマークベース８（マークベース部）に支持されたものがステージに設けられている。液浸状態で計測する場合のためにマーク基板７の外周にも液体を保持するための補助板３が配置されている。マーク基板７と補助板３とで形成される隙間をエッジ部６とする。
【００３５】
本実施例でも上述の実施例と同様にマーク基板７およびマークベース８とが連続する側面と補助板３の側面とからなるエッジ部６が下方に向かって徐々に狭くなるように、補助板３にテーパをつけた。図６では補助板３にテーパをつけたものを示したが、マーク基板７とマークベース８の側面にテーパをつけて、エッジ部６が下方に向かって狭くなるようにしてもよい。また、補助板３とマーク基板７、マークベース８の両側面にテーパをつけて、下方に向かって狭くなるようにしてもよい。
【００３６】
エッジ部６に残った液体は徐々に狭くなる方向へ働くメニスカス力によって液回収口４に集まり、残存する液浸液を良好に回収することができる。また、マーク基板７とマークベース８とは接着で組み立てているので、厳密には接着層分は凹みがあると考えられる。接着層分の凹みの容積に比べて、エッジ部６の容積は大きい。そのため、マーク基板７の厚みが１ｍｍ弱あることを考えると隙間に残る液体の体積から考えて、容易に越えることができる窪みと見なせるために無視することができる。
【００３７】
本発明の効果を限定するものではないものの、エッジ部６の隙間の大きさは最大部が１ｍｍ程度に、最小部を０．１ｍｍ程度にした範囲で設計するのが、望ましい。
【００３８】
本実施例によれば、マーク基板のマークベース側の面とマークベースとの間に液体が残留することを低減することができる。
【実施例４】
【００３９】
第４の実施例を図７および図８を用いて説明する。図７は図１（ａ）において点線で囲まれた場所Ｘを拡大した図であり、ウエハ１と補助板３とが接近する部分である。図８は図７において１つの液回収口４を通る位置ＤＤ´の断面を矢印で示した方向で見た図を示したものである。
【００４０】
上述の実施例と異なり、本実施例では液回収口４がウエハ１と補助板３との隙間のエッジ部６の直下に液回収口４が配置されている。補助板３の側面には図に示した通り、テーパをつけて下方へ向かって狭くなるようにしている。こうすることにより、本実施例においてもメニスカス力によってウエハ１と補助板３の間に残った液体は良好にエッジ部６の下部に導いて回収することができる。
【００４１】
上述の実施例１および４において、ウエハ１又はマーク基板７と補助板３との隙間を下方へ向かって狭くする実施例を示した。いずれの実施例も補助板３又はマーク基板７（マークベース８）にテーパを設けて隙間を狭くする実施例について説明した。隙間を狭くする方法としては、テーパを設ける他に図９（ａ）、図９（ｂ）に示すように、補助板３を階段状に加工することで、隙間を徐々に狭くすることもできる。
【００４２】
図９（ａ）では補助板３の側面を階段状に加工した。テーパで形成する場合に比べ、形状の指定と検査がやり易くなる。また階段状に形成する場合には図９（ｂ）に示す形態を採用してもウエハ１と補助板３との間に残る液体を良好に回収することができる。図９（ｂ）では補助板３の加工に加えウエハ１とウエハチャック２の関係にも注目する。ウエハチャック２の直径をウエハ１よりも大きくすることで、ウエハ１と補助板３とが形成する隙間よりも、ウエハチャック２と補助板３とが形成する隙間を狭くすることができる。この場合、補助板３の加工の工程を図９の場合と比較して短くすることができる。
【００４３】
この補助板３の加工方法は上述のいずれの実施例においても適用可能であり、階段状の加工は図面に記されたものに限定されない。段数を増やすなど種々の変形が可能である。
【実施例５】
【００４４】
第５の実施例を図１０を用いて説明する。図１０は、図２に示す構造の変形例を示したものである。
【００４５】
図１０（ａ）に示す本実施例はウエハチャック２と補助板３とで形成するエッジ部６を横方向に配置した。そのため、隙間を狭くする方向は下方ではなく、液回収口４に向かって隙間が狭くなっている。本実施例の場合、ウエハ１に対して外側へ向かう方向へと隙間が徐々に狭くなっていく。本実施例でもウエハ１と補助板３との間に残った液体を良好に回収することができる。
【００４６】
また、ウエハチャック２のウエハ１を搭載する面から液回収口４までの距離を第一の実施例と比較して大きくすることができる。その結果、精度良くウエハ１を保持するというウエハチャック２本来の機能への影響を抑えながら本発明を実施することができる。また、ウエハチャック２と液回収口４を離すことができる。このようにウエハチャック２と液回収口４とを離間して配置することにより、ウエハチャック２と液回収口４とを別部品で構成することも容易となる。特に補助板３の側面を図１０（ａ）に示すように逆テーパにした場合、ウエハ１と補助板３の間に水が入りかけた時に液体が接触する側面が離れている。そのため、隙間に液体が侵入した際の補助板３の側面から液体を引き離す力が要らない。そればかりか、側面に触れることを避けられるのでウエハ１と補助板３の隙間は理想的な撥水面と同様に機能する。
【００４７】
また、図１０（ｂ）に示すように、ウエハ１と接するウエハチャック２の上面を補助板３の下部にまで延長してもよい。こうすることで、ウエハ１と補助板３との間の液を良好に回収することができる。エッジ部６が図１０（ａ）における隙間と比較して小さくすることができるため、メニスカス力を強める働きを期待できる。
【００４８】
さらに図１０（ｃ）に示すように、ウエハチャック２にウエハ１を搭載する面より外側に斜面を設けることができる。ウエハチャック２の表面を下方へ斜面を設けることにより、ウエハ１よりも下の位置に液回収口４を設けている。それに併せて補助板３のテーパを含む断面形状を設計している。本実施形態によれば、図１０（ｂ）の形態に比べて補助板３のウエハ１に近接する部分の厚みを増やすことができる。これにより、補助板３の加工が容易となることに加えて、機械強度が上がるという効果をもたらす。
【００４９】
［デバイス製造方法］
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハ等の基板に集積回路を作る前工程と、前工程で作られた基板上の集積回路を半導体チップ等の製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布された基板を露光する工程と、基板を現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板等の基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布された基板を露光する工程と、基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００５０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００５１】
１  ウエハ
２  ウエハチャック
３  補助板
４  液回収口
５  液回収流路
６  エッジ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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