(57)【要約】      （修正有）【課題】光透過性、耐熱性および力学的強度に優れた偏光子保護フィルムおよびそれを含む表示装置を提供する。【解決手段】特定式で表わされる構造単位および下記式（２）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉ）を有する重合体を含む偏光子保護フィルム。2012018360.tif 000019（式（２）中、Ｒ１〜Ｒ４は炭素数１〜１２の１価の有機基、ａ〜ｄは、０〜４の整数。Ｙは単結合、−ＳＯ２−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表わされる構造単位および下記式（２）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉ）を有する重合体を含む偏光子保護フィルム。
【化１】
2012018360.tif 000015
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄは、それぞれ０〜４の整数を示す。）
【化２】
2012018360.tif 000016
（式（２）中、Ｒ１〜Ｒ４およびａ〜ｄは、それぞれ前記式（１）中のＲ１〜Ｒ４およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは単結合、−ＳＯ２−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ７はシアノ基ではない。）
【請求項２】
前記重合体が、さらに、下記式（３）で表わされる構造単位および下記式（４）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉｉ）を有する、請求項１に記載の偏光子保護フィルム。
【化３】
2012018360.tif 000017
（式（３）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。）
【化４】
2012018360.tif 000018
（式（４）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ前記式（２）中のＲ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ前記式（３）中のＲ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。）
【請求項３】
前記重合体において、上記構造単位（ｉ）と上記構造単位（ｉｉ）とのモル比が８０：２０〜１００：０である、請求項１または２に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項４】
前記重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量が５，０００〜５００，０００である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項５】
前記重合体の示差走査熱量測定（ＤＳＣ，昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が２３０〜３５０℃である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項６】
厚み３０μｍにおけるＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法による全光線透過率が８５％以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項７】
厚み３０μｍにおけるＹＩ値（イエローインデックス）が３．０以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項８】
厚み３０μｍにおける厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）が１００ｎｍ以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルム。
【請求項９】
偏光子の少なくとも一方の表面に、請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光子保護フィルムを備えてなる偏光板。
【請求項１０】
請求項９に記載の偏光板を含む表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光子保護フィルムおよびそれを含む表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示装置の前面には、表示装置のコントラストの向上や外部からの光の反射を防ぐ等のために偏光板が用いられている。
【０００３】
従来、このような偏光板に用いられる偏光子保護フィルムとしては、偏光子として用いられるポリビニルアルコールフィルムとの密着性に優れることおよび光線透過性に優れることなどからトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが用いられている（特許文献１）。
【０００４】
しかしながら、ＴＡＣフィルムは耐熱性が十分ではなく、ＴＡＣフィルムを偏光子保護フィルムとして用いた場合、高温下で偏光板の特性が劣化することがあり、また、ポリビニルアルコールフィルムの収縮、膨張および変形に耐えることができない場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２６２７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、光透過性、耐熱性および力学的強度に優れた偏光子保護フィルムおよびそれを含む表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造単位を有する重合体を含むフィルムが上記課題を解決することができることを見出し、さらに、該フィルムの位相差が小さいため、偏光子保護フィルムとして好適に用いることができることを見出し本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［１０］を提供するものである。
［１］  下記式（１）で表わされる構造単位および下記式（２）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉ）を有する重合体を含む偏光子保護フィルム。
【０００９】
【化１】
2012018360.tif 000002
【００１０】
（式（１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄは、それぞれ０〜４の整数を示す。）
【００１１】
【化２】
2012018360.tif 000003
【００１２】
（式（２）中、Ｒ１〜Ｒ４およびａ〜ｄは、それぞれ前記式（１）中のＲ１〜Ｒ４およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは単結合、−ＳＯ２−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ７はシアノ基ではない。）
［２］  前記重合体が、さらに、下記式（３）で表わされる構造単位および下記式（４）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉｉ）を有する、［１］に記載の偏光子保護フィルム。
【００１３】
【化３】
2012018360.tif 000004
【００１４】
（式（３）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。）
【００１５】
【化４】
2012018360.tif 000005
【００１６】
（式（４）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ前記式（２）中のＲ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ前記式（３）中のＲ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。）
［３］  前記重合体において、上記構造単位（ｉ）と上記構造単位（ｉｉ）とのモル比が８０：２０〜１００：０である、［１］または［２］に記載の偏光子保護フィルム。
【００１７】
［４］  前記重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量が５，０００〜５００，０００である、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光子保護フィルム。
【００１８】
［５］  前記重合体の示差走査熱量測定（ＤＳＣ、昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が２３０〜３５０℃である、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光子保護フィルム。
【００１９】
［６］  厚み３０μｍにおけるＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法による全光線透過率が８５％以上である、［１］〜［５］のいずれかに記載の偏光子保護フィルム。
【００２０】
［７］  厚み３０μｍにおけるＹＩ値（イエローインデックス）が３．０以下である、［１］〜［６］のいずれかに記載の偏光子保護フィルム。
【００２１】
［８］  厚み３０μｍにおける厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）が１００ｎｍ以下である、［１］〜［７］のいずれかに記載の偏光子保護フィルム。
【００２２】
［９］  偏光子の少なくとも一方の表面に、［１］〜［８］のいずれかに記載の偏光子保護フィルムを備えてなる偏光板。
【００２３】
［１０］  ［９］に記載の偏光板を含む表示装置。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の偏光子保護フィルムは、光透過性、耐熱性および力学的強度に優れ、厚み方向の位相差が小さい。そのため、本発明の偏光子保護フィルムは、偏光板および表示装置に好適に使用される。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
≪偏光子保護フィルム≫
本発明の偏光子保護フィルムは、下記式（１）で表わされる構造単位（以下「構造単位（１）」ともいう。）および下記式（２）で表わされる構造単位（以下「構造単位（２）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉ）を有する重合体を含むことを特徴とする。
【００２６】
このような重合体を含むことにより、光透過性、耐熱性および力学的強度にバランスよく優れ、低位相差（光学等方性）を有する。そのため、偏光子を好適に保護することができる。
【００２７】
【化５】
2012018360.tif 000006
【００２８】
前記式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄは、それぞれ０〜４の整数を示す。
【００２９】
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、炭素数１〜１２の１価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の１価の炭化水素基等を挙げることができる。
【００３０】
炭素数１〜１２の１価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００３１】
前記炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の炭化水素基としては、炭素数１〜８の直鎖または分岐鎖の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜５の直鎖または分岐鎖の炭化水素基がより好ましい。
【００３２】
前記直鎖または分岐鎖の炭化水素基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基およびｎ−ヘプチル基等が挙げられる。
【００３３】
前記炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜８の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３または４の脂環式炭化水素基がより好ましい。
【００３４】
炭素数３〜１２の脂環式炭化水素基の好適な具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロへキシル基等のシクロアルキル基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基およびシクロヘキセニル基等のシクロアルケニル基が挙げられる。当該脂環式炭化水素基の結合部位は、脂環上のいずれの炭素でもよい。
【００３５】
前記炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の結合部位は、芳香族環上のいずれの炭素でもよい。
【００３６】
酸素原子を含む炭素数１〜１２の炭化水素基としては、エーテル結合、カルボニル基およびエステル基を有する炭素数１〜１２の炭化水素基等を挙げることができる。
【００３７】
エーテル結合を有する炭素数１〜１２の炭化水素基としては、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基、炭素数２〜１２のアルキニルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基および炭素数１〜１２のアルコキシアルキル基などを挙げることができる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、プロペニルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基およびメトキシメチル基等が挙げられる。
【００３８】
また、カルボニル基を有する炭素数１〜１２の炭化水素基としては、炭素数２〜１２のアシル基等を挙げることができる。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基およびベンゾイル基等が挙げられる。
【００３９】
エステル基を有する炭素数１〜１２の炭化水素基としては、炭素数２〜１２のアシルオキシ基等が挙げられる。具体的には、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびベンゾイルオキシ基等が挙げられる。
【００４０】
窒素原子を含む炭素数１〜１２の炭化水素基としては、イミダゾール基、トリアゾール基、ベンズイミダゾール基およびベンズトリアゾール基等が挙げられる。
【００４１】
酸素原子および窒素原子を含む炭素数１〜１２の炭化水素基としては、具体的には、オキサゾール基、オキサジアゾール基、ベンズオキサゾール基およびベンズオキサジアゾール基等が挙げられる。
【００４２】
【化６】
2012018360.tif 000007
【００４３】
前記式（２）中、Ｒ１〜Ｒ４およびａ〜ｄは、それぞれ前記式（１）中のＲ１〜Ｒ４およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは単結合、−ＳＯ２−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ７はシアノ基ではない。
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記と同様の官能基等を挙げることができる。
【００４４】
前記重合体は、上記構造単位（１）と上記構造単位（２）とのモル比（但し、両者（構造単位（１）＋構造単位（２））の合計は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から構造単位（１）：構造単位（２）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、構造単位（１）：構造単位（２）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
【００４５】
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
【００４６】
また、前記重合体は、さらに、下記式（３）で表わされる構造単位、および下記式（４）で表わされる構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一つの構造単位（ｉｉ）を有してもよい。前記重合体がこのような構造単位（ｉｉ）を有すると、該重合体を有するフィルムの力学的特性が向上するため好ましい。
【００４７】
【化７】
2012018360.tif 000008
【００４８】
前記式（３）中、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆは、それぞれ０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
【００４９】
炭素数１〜１２の１価の有機基としては、前記と同様の官能基等を挙げることができる。
【００５０】
炭素数１〜１２の２価の有機基としては、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基、炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数３〜１２の２価の炭化水素基、ならびに酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数３〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基等を挙げることができる。
【００５１】
炭素数１〜１２の２価の炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基、炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００５２】
炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、イソプロピリデン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基およびヘプタメチレン基等が挙げられる。
【００５３】
炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基等のシクロアルキレン基；シクロブテニレン基、シクロペンテニレン基およびシクロヘキセニレン基等のシクロアルケニレン基などが挙げられる。
【００５４】
炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基およびビフェニレン基等が挙げられる。
【００５５】
炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基としては、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基、炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基および炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基等が挙げられる。
【００５６】
炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖の２価のハロゲン化炭化水素基としては、ジフロオロメチレン基、ジクロロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、テトラクロロエチレン基、ヘキサフルオロトリメチレン基、ヘキサクロロトリメチレン基、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびヘキサクロロイソプロピリデン基等が挙げられる。
【００５７】
炭素数３〜１２の２価のハロゲン化脂環式炭化水素基としては、前記炭素数３〜１２の２価の脂環式炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００５８】
炭素数６〜１２の２価のハロゲン化芳香族炭化水素基としては、前記炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００５９】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の炭化水素基としては、エーテル結合、カルボニル基、エステル基およびアミド基を有する炭素数１〜１２の２価の炭化水素基等が挙げられる。
【００６０】
酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価のハロゲン化炭化水素基としては、具体的には、酸素原子および窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を含む炭素数１〜１２の２価の炭化水素基において例示した基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子で置換された基等が挙げられる。
【００６１】
【化８】
2012018360.tif 000009
【００６２】
前記式（４）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ前記式（２）中のＲ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ前記式（３）中のＲ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。なお、ｍが０の時、Ｒ７はシアノ基ではない。
【００６３】
前記重合体は、前記構造単位（ｉ）と、前記構造単位（ｉｉ）とのモル比（但し、両者（（ｉ）＋（ｉｉ））の合計は１００である。）が、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から（ｉ）：（ｉｉ）＝５０：５０〜１００：０であることが好ましく、（ｉ）：（ｉｉ）＝７０：３０〜１００：０であることがより好ましく、（ｉ）：（ｉｉ）＝８０：２０〜１００：０であることがさらに好ましい。
【００６４】
ここで、力学的特性とは、重合体の引張強度、破断伸びおよび引張弾性率等の性質のことをいう。
前記重合体は、光学特性、耐熱性および力学的特性の観点から前記構造単位（ｉ）および前記構造単位（ｉｉ）を全構造単位中７０モル％以上含むことが好ましく、全構造単位中９５モル％以上含むことがより好ましい。
【００６５】
前記重合体は、例えば、下記式（５）で表わされる化合物（以下「化合物（５）」ともいう。）および下記式（７）で表わされる化合物（以下「化合物（７）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物を含む成分（以下「（Ａ）成分」ともいう。）と、下記式（６）で表わされる化合物を含む成分（以下「（Ｂ）成分」ともいう。）とを、反応させることにより得ることができる。
【００６６】
【化９】
2012018360.tif 000010
【００６７】
前記式（５）中、Ｘは独立してハロゲン原子を示す。
【００６８】
【化１０】
2012018360.tif 000011
【００６９】
前記式（７）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ前記式（２）中のＲ７、Ｒ８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｘは、前記式（５）中のＸと同義である。但し、ｍが０の時、Ｒ７はシアノ基ではない。
【００７０】
【化１１】
2012018360.tif 000012
【００７１】
前記式（６）中、Ｒａは、水素原子、メチル基、エチル基、アセチル基、メタンスルホニル基およびトリフルオロメチルスルホニル基を示し、この中でも水素原子が好ましい。なお、式（６）中、Ｒ１〜Ｒ４およびａ〜ｄは、それぞれ前記式（１）中のＲ１〜Ｒ４およびａ〜ｄと同義である。
【００７２】
上記化合物（５）としては、具体的には、２，６−ジフルオロベンゾニトリル、２，５−ジフルオロベンゾニトリル、２，４−ジフルオロベンゾニトリル、２，６−ジクロロベンゾニトリル、２，５−ジクロロベンゾニトリル、２，４−ジクロロベンゾニトリルおよびその反応性誘導体を挙げることができる。特に、反応性および経済性等の観点から、２，６−ジフルオロベンゾニトリル、および２，６−ジクロロベンゾニトリルが好適に用いられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００７３】
上記式（６）で表わされる化合物（以下「化合物（６）」ともいう。）としては、具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、および、その反応性誘導体等が挙げられる。上述の化合物の中でも、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよび９，９−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンが好適に用いられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００７４】
上記化合物（７）としては、具体的には、４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、４，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、２，４’−ジフルオロベンゾフェノン、２，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、２，２’−ジフルオロベンゾフェノン、２，２’−ジフルオロジフェニルスルホン、３，３’−ジニトロ−４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、３，３’−ジニトロ−４，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、２，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，４’−ジクロロジフェニルスルホン、２，２’−ジクロロベンゾフェノン、２，２’−ジクロロジフェニルスルホン、３，３’−ジニトロ−４，４’−ジクロロベンゾフェノン、および３，３’−ジニトロ−４，４’−ジクロロジフェニルスルホン等を挙げることができる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００７５】
化合物（５）および化合物（７）からなる群より選ばれる少なくとも一つの化合物は、（Ａ）成分１００モル％中に、８０モル％〜１００モル％含まれていること好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましい。
【００７６】
また、（Ｂ）成分は、必要に応じて下記式（８）で表わされる化合物を含むことが好ましい。化合物（６）は、（Ｂ）成分１００モル％中に、８０モル％〜１００モル％含まれていることが好ましく、９０モル％〜１００モル％含まれていることがより好ましい。
【００７７】
【化１２】
2012018360.tif 000013
【００７８】
前記式（８）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ前記式（３）中のＲ５、Ｒ６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義であり、Ｒａは、前記式（６）中のＲａと同義である。
【００７９】
前記式（８）で表わされる化合物としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、２−フェニルヒドロキノン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、３，３’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，３’−ジヒドロキシベンゾフェノン、１，１’−ビ−２−ナフトール、１，１’−ビ−４−ナフトール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３-ヘキサフルオロプロパンおよびその反応性誘導体等が挙げられる。これらの化合物は２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００８０】
上述の化合物の中でも、反応性および力学的特性の観点から、４，４’−ビフェノールが好適に用いられる。
【００８１】
前記重合体は、より具体的には、以下に示す方法（Ｉ）で合成することができる。
（Ｂ）成分に含まれる化合物（６）を有機溶媒中でアルカリ金属化合物と反応させて、化合物（６）のアルカリ金属塩を得た後に、得られたアルカリ金属塩と、（Ａ）成分に含まれる化合物（５）および／または化合物（７）とを反応させる。なお、化合物（６）とアルカリ金属化合物との反応を化合物（５）および／または化合物（７）の存在下で行うことで、化合物（６）のアルカリ金属塩と化合物（５）および／または化合物（７）とを反応させることもできる。
【００８２】
反応に使用するアルカリ金属化合物としては、リチウム、カリウムおよびナトリウム等のアルカリ金属；水素化リチウム、水素化カリウムおよび水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属；水酸化リチウム、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属；炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩などを挙げることができる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００８３】
アルカリ金属化合物の使用量は、前記式（６）中の１つの−Ｏ−Ｒａに対し通常１〜３倍当量であり、好ましくは１．１〜２倍当量であり、さらに好ましくは１．２〜１．５倍当量である。
【００８４】
また、反応に使用する有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、γ−ブチルラクトン、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン、ジフェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジアルコキシベンゼン（アルコキシ基の炭素数１〜４）およびトリアルコキシベンゼン（アルコキシ基の炭素数１〜４）などを使用することができる。これらの溶媒の中でも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の誘電率の高い極性有機溶媒が特に好適に用いられる。
【００８５】
さらに、前記反応の際には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールなどの水と共沸する溶媒をさらに用いることもできる。
【００８６】
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の使用割合は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計を１００モル％とした場合に、（Ａ）成分が好ましくは４５モル％以上５５モル％以下、より好ましくは５０モル％以上５２モル％以下、さらに好ましくは５０モル％を超えて５２モル％以下であり、（Ｂ）成分が好ましくは４５モル％以上５５モル％以下、より好ましくは４８モル％以上５０モル％以下であり、さらに好ましくは４８モル％以上５０モル％未満である。
【００８７】
また、反応温度は、好ましくは６０℃〜２５０℃で、より好ましくは８０℃〜２００℃の範囲である。反応時間は、好ましくは１５分〜１００時間、より好ましくは１時間〜２４時間の範囲である。
【００８８】
前記重合体は、ＴＯＳＯＨ製ＨＬＣ−８２２０型ＧＰＣ装置（カラム：ＴＳＫｇｅｌα―Ｍ、展開溶剤：テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」ともいう。）で測定した、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、好ましくは５，０００〜５００，０００、より好ましくは１５，０００〜４００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜３００，０００である。
【００８９】
また、前記重合体は、Ｒｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置（昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が、２３０〜３５０℃であることが好ましく、２４０〜３３０℃であることがより好ましく、２５０〜３００℃であることがさらに好ましい。
【００９０】
本発明の偏光子保護フィルムは、このようなガラス転移温度を有する重合体を含むことにより、優れた耐熱性を有する。そのため、得られる偏光板を光源に近接して配置することが可能となり、このような偏光板を用いることで、表示装置の低背化が可能となる。
【００９１】
前記重合体は、熱重量分析法：ＴＧＡで測定した熱分解温度が、好ましくは４５０℃以上、より好ましくは４７５℃以上、さらに好ましくは４９０℃以上である。
【００９２】
本発明の偏光子保護フィルムの製造方法としては、特に制限されないが、前記重合体を含む樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成し、次いで該塗膜から有機溶媒を除去することで基板上にフィルムを形成する方法が挙げられる。
【００９３】
このような方法でフィルムを形成することにより、樹脂の分子が一定方向に配向することを防ぐことができるため、より位相差の小さいフィルムを得ることができる。
【００９４】
前記樹脂組成物は、前記重合体および有機溶媒を含むことが好ましい。
【００９５】
このような樹脂組成物としては、前記の方法（Ｉ）で得られた重合体と有機溶媒との混合物をそのまま使用することができる。このような樹脂組成物を用いることで、容易に、安価に偏光子保護フィルムを製造することができる。
【００９６】
また、前記樹脂組成物は、前記の方法で得られた重合体と有機溶媒との混合物から、重合体を固体分として単離（精製）した後、有機溶媒に再溶解して樹脂組成物を調製することも出来る。
【００９７】
前記重合体を固体分として単離（精製）する方法は、例えば、メタノール等の重合体の貧溶媒に重合体を再沈殿させ、その後ろ過し、次いで減圧乾燥すること等により行うことができる。また、前記重合体を溶解する有機溶媒としては、例えば、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンおよびγ−ブチロラクトンが好適に用いられ、塗工性、経済性の観点から、好ましくは、塩化メチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチルピロリドンが好適に使用される。これらの溶媒は、１種単独であるいは２種以上を併用することができる。
【００９８】
前記重合体を溶解させた樹脂組成物中の重合体濃度は、重合体の分子量にもよるが、通常、５〜４０重量％、好ましくは７〜２５重量％である。５重量％未満では、厚膜化し難く、また、ピンホールが生成しやすい恐れがある。一方、４０重量％を超えると、樹脂組成物の粘度が高すぎてフィルム化し難く、また、表面平滑性に欠けることがある。
【００９９】
なお、樹脂組成物の粘度は、重合体の分子量や濃度にもよるが、通常、２，０００〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは３，０００〜５０，０００ｍＰａ・ｓである。２，０００ｍＰａ・ｓ未満では、成膜中の樹脂組成物の滞留性が悪く、基板から流れ落ちてしまうことがある。一方、１００，０００ｍＰａ・ｓを超えると、粘度が高過ぎて、膜厚の調整が困難となり、フィルムの成形が困難となることがある。
【０１００】
また、樹脂組成物にはさらに老化防止剤を含有させることができ、老化防止剤を含有することで、得られるフィルムの耐久性をより向上させることができる。
【０１０１】
老化防止剤としては、好ましくは分子量５００以上のヒンダードフェノール系化合物を挙げることができる。
【０１０２】
本発明で使用することのできる分子量５００以上のヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，３−トリス［２−メチル−４−［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］ブタン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト、および、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンなどを挙げることができる。
【０１０３】
本発明において、重合体１００重量部に対して分子量５００以上のヒンダードフェノール系化合物は０．０１〜１０重量部の量で使用することが好ましい。
【０１０４】
前記樹脂組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する方法としては、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法およびドクターブレードを用いる方法等が挙げられる。塗膜の厚さは、特に限定されないが、例えば１〜２５０μｍであり、好ましくは２〜１５０μｍであり、より好ましくは５〜１２５μｍである。前記基板としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムおよびＳＵＳ板などが挙げられる。
【０１０５】
また、塗膜から前記有機溶媒を除去する方法としては、特に制限されないが、例えば、塗膜を加熱する方法が挙げられる。塗膜を加熱することにより、該塗膜中の有機溶媒を蒸発させて除去することができる。前記加熱の条件は、有機溶媒が蒸発すればよく、基板や重合体に応じて適宜決めればよいが、例えば加熱温度が３０℃〜３００℃であることが好ましく、４０℃〜２５０℃であることがより好ましく、５０℃〜２３０℃であることがさらに好ましい。
【０１０６】
また、加熱時間としては、１０分〜５時間であることが好ましい。なお、加熱は二段階で行ってもよい。具体的には、３０〜８０℃の温度で１０分〜２時間乾燥後、１００℃〜２５０℃でさらに１０分〜２時間加熱するなどである。また、必要に応じて、窒素雰囲気下、もしくは減圧下にて乾燥を行ってもよい。
【０１０７】
得られたフィルムは、基板から剥離して用いることができるし、あるいは剥離せずにそのまま用いることもできる。
【０１０８】
本発明のフィルムの厚みは、所望の用途に応じて適宜選択されるが、好ましくは１〜２５０μｍ、より好ましくは２〜１５０μｍ、さらに好ましくは、１０〜１２５μｍである。
フィルムの位相差、偏光板および表示措置の軽量化等を考慮すると、フィルムの膜厚は薄いことが好ましい
【０１０９】
また、本発明のフィルムは、Ｒｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置（昇温速度２０℃／分）によるガラス転移温度（Ｔｇ）が、２３０〜３５０℃であることが好ましく、２４０〜３３０℃であることがより好ましく、２５０〜３００℃であることがさらに好ましい。ガラス転移温度がこのような範囲にあることで、偏光子保護フィルムとして好適に用いることができる。
【０１１０】
また、本発明のフィルムは、厚みが３０μｍである場合に、ＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法における全光線透過率が、８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがより好ましい。全光線透過率は、ヘイズメーターＳＣ−３Ｈ（スガ試験機社製）を用いて測定することができる。
【０１１１】
本発明のフィルムは、厚みが３０μｍである場合に、波長４００ｎｍにおける光線透過率が、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは７５％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。波長４００ｎｍにおける光線透過率は、紫外・可視分光光度計Ｖ−５７０（ＪＡＳＣＯ社製）を用いて測定することができる。
【０１１２】
本発明のフィルムの透過率がこのような範囲にあることで、特に高い光線透過率を有する。このため、偏光板に好適に用いることができる。
【０１１３】
本発明のフィルムは、厚みが３０μｍである場合に、ＹＩ値（イエローインデックス）が、３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。ＹＩ値は、スガ試験社製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定することができる。ＹＩ値がこのような範囲にあることで、着色のしにくいフィルムを得ることができ、偏光子保護フィルムとして好適に用いることができる。
【０１１４】
また、本発明のフィルムは、厚みが３０μｍである場合に、熱風乾燥機にて大気中２３０℃で１時間の加熱を行った後のＹＩ値が３．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。ＹＩ値がこのような範囲にあることで、高温でも着色のしにくいフィルムを得ることができ、偏光子保護フィルムとして好適に用いることができる。
【０１１５】
本発明のフィルムは、波長６３３ｎｍの光に対して、好ましくは１．５５〜１．７５、より好ましくは１．６０〜１．７０の屈折率を有する。屈折率は、ヘイズメーターＳＣ−３Ｈ（スガ試験機社製）を用いて測定することができる。
【０１１６】
本発明のフィルムは、引張強度が、５０〜２００ＭＰａであることが好ましく、８０〜１５０ＭＰａであることがより好ましい。引張強度は、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１１７】
本発明のフィルムは、破断伸びが、１０〜１００％であることが好ましく１５〜１００％であることがより好ましい。破断伸びは、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１１８】
本発明のフィルムは、引張弾性率が、２．５〜４．０ＧＰａであることが好ましく、２．７〜３．７ＧＰａであることがより好ましい。引張弾性率は、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて測定することができる。
【０１１９】
本発明のフィルムは、このような力学的特性を有すると、膜厚の薄いフィルムであっても十分に偏光子の強度を補強することができる。そのため、軽量で薄い、光学特性に優れる偏光板を製造することができる。
【０１２０】
本発明のフィルムは、厚みが３０μｍである場合に、厚み方向の位相差（Ｒｔｈ)が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。位相差は、大塚電子社製ＲＥＴＳ分光器を用いて測定することができる。
【０１２１】
本発明のフィルムが、このような低い位相差を有すると、光学等方性のフィルムを得ることができ、該フィルムを備えてなる偏光板を表示装置等に用いる場合、表示面に色むらや干渉縞が表れて、表示品位が低下することおよび偏光特性の低下を好適に防ぐことができる。そのため、本発明のフィルムは、表示装置等に用いる偏光板の偏光子保護フィルムとして好適に使用することが出来る。
【０１２２】
本発明のフィルムは、Ｓｅｉｋｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＳＳＣ−５２００型ＴＭＡ測定装置を用いて測定した線膨張係数が、好ましくは８０ｐｐｍ／Ｋ以下、より好ましくは７５ｐｐｍ／Ｋ以下である。
【０１２３】
本発明のフィルムは、湿度膨張係数が、１５ｐｐｍ／Ｋ以下であることが好ましく、１２ｐｐｍ／Ｋ以下であることがより好ましい。湿度膨張係数は、ＭＡ（ＳＩＩナノテクノロジー社製、ＴＭＡ−ＳＳ６１００）湿度制御オプションを用いて測定することができる。フィルムの膨張係数が前記範囲にあると、フィルムの寸法安定性（環境信頼性）が高いことを示すため、偏光子保護フィルムとしてより好適に用いることができる。
【０１２４】
＜偏光板＞
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも一方の表面に、前記本発明の偏光子保護フィルムを備えてなることを特徴とする。
このため、偏光子として、後述するポリビニルアルコールを含む偏光子を用いる場合であっても、該偏光子の収縮や膨張に耐えうる光学特性に優れる偏光板を得ることができる。
また、偏光子保護フィルムの耐熱性が高いため、偏光板を光源に近接して配置することが可能となり、このような偏光板を用いることで、表示装置の低背化が可能となる。
【０１２５】
本発明の偏光板の構造は特に限定されず、偏光子の一方の面に偏光子保護フィルムが積層された構造であってもよいし、偏光子の両面に偏光子保護フィルムが積層された構造であってもよい。
【０１２６】
本発明で用いられる偏光子としては特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素および／または二色性染料等で染色した後、一軸延伸して得られる偏光子；脱水処理したポリビニルアルコールあるいは脱塩酸処理したポリ塩化ビニルなどのポリエン偏光子；多層積層体あるいはコレステリック液晶を用いた反射型偏光子；薄膜結晶フィルムからなる偏光子；などの公知の偏光子である。偏光子の厚さは特に限定されず、一般に５〜１００μｍ程度である。
【０１２７】
偏光子と偏光子保護フィルムとを積層する方法としては、特に制限されないが、粘着剤や接着剤を用いることができる。これらの粘着剤、接着剤としては、透明性に優れたものが好ましく、具体例としては天然ゴム、合成ゴム、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、ポリビニルエーテル、アクリル系、変性ポリオレフィン系、及びこれらにイソシアナートなどの硬化剤を添加した硬化型粘着剤、ポリウレタン系樹脂溶液とポリイソシアナート系樹脂溶液を混合するドライラミネート用接着剤、合成ゴム系接着剤、エポキシ系接着剤などが挙げられる。また、偏光子の機能が損なわれない限り、加熱圧着により積層してもよい。
【０１２８】
本発明の偏光板は、偏光子および本発明の偏光子保護フィルムの他に、任意の部材を有していてもよい。当該部材としては、例えば、ＴＡＣフィルム、ポリカーボネートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムおよびポリナフタレンテレフタレートフィルムなどが挙げられる。
【０１２９】
また、本発明の偏光板には、その表面特性、例えば耐傷つき特性の向上を目的として、ハードコート層を有していてもよく、反射防止処理あるいは低反射処理などの公知の防眩処理を行ってもよい。
【０１３０】
≪表示装置≫
本発明の表示装置は、前記本発明の偏光板を含むことを特徴とする。このため、表示特性の優れた表示装置を得ることができる。
表示装置としては、例えば、タッチパネル、携帯電話、ディジタル情報端末、ポケットベル、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイおよびＡＶ機器用ディスプレイ等の各種液晶表示装置が挙げられる。
【実施例】
【０１３１】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
【０１３２】
（１）構造分析
下記実施例で得られた重合体の構造分析は、ＩＲ（ＡＴＲ法、ＦＴ−ＩＲ，６７００、ＮＩＣＯＬＥＴ社製）およびＮＭＲ（ＡＤＶＡＮＣＥ５００型，ＢＲＵＫＡＲ社製）により行った。
【０１３３】
（２）重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布
下記実施例で得られた重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布は、ＴＯＳＯＨ製ＨＬＣ−８２２０型ＧＰＣ装置（カラム：ＴＳＫｇｅｌα―Ｍ、展開溶剤：テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」ともいう。）を用いて測定した。
【０１３４】
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記実施例および比較例で得られた重合体またはフィルムのガラス転移温度は、Ｒｉｇａｋｕ社製８２３０型ＤＳＣ測定装置を用いて、昇温速度２０℃／ｍｉｎとして測定した。
【０１３５】
（３’）熱分解温度
下記実施例および比較例で得られた重合体の熱分解温度を熱重量分析法（ＴＧＡ：窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／分、５％重量減少温度）により測定した。
【０１３６】
（４）機械的強度
下記実施例および比較例で得られたフィルムの室温における引張強度、破断伸び、引張弾性率を、引張試験機５５４３（ＩＮＳＴＲＯＮ社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１２７に準じて測定した。
【０１３７】
（５）環境安定性
下記実施例および比較例で得られたフィルムの線膨張係数をＳｅｉｋｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＳＳＣ−５２００型ＴＭＡ測定装置を用いて測定した。一度２８０℃まで昇温した後、３℃／ｍｉｎで降温した際の２００〜１００℃での勾配から線膨張係数を算出した。
【０１３８】
下記実施例および比較例で得られたフィルムの湿度膨張係数をＭＡ（ＳＩＩナノテクノロジー社製、ＴＭＡ−ＳＳ６１００）湿度制御オプションを用いて下記条件にて測定を実施した。
湿度条件：４０％ＲＨ→７０％ＲＨ（引張法：加重５ｇ）  温度：２３℃
【０１３９】
（６）光学特性
下記実施例および比較例で得られたフィルムについて、全光線透過率およびイエローインデックス（ＹＩ値）をＪＩＳ  Ｋ７１０５透明度試験法に準じて測定した。具体的には、基材の全光線透過率、ＹＩ値を、スガ試験社製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定した（加熱前ＹＩ)。また、下記実施例および比較例で得られた基材を熱風乾燥機にて大気中２３０℃で１時間の加熱を行った後、ＹＩ値をスガ試験社製ＳＭ−Ｔ型色彩測定器を用いて測定した（加熱後ＹＩ）。なお、測定は、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２２条件に準じて行った。
【０１４０】
また、下記実施例および比較例で得られた基材の位相差（Ｒｔｈ）は、大塚電子社製ＲＥＴＳ分光器を用いて測定した。なお、測定の際の基準波長は５８９ｎｍであり、位相差の評価膜厚は３０μｍに規格化した値で示した。
【０１４１】
（７）偏光板の評価
下記実施例および比較例で得られた偏光板から試験片として１０ｃｍ×１０ｃｍの偏光板を２枚切り出した。各偏光板を斜めから見た際の色むら及び干渉縞の有無を観察して以下の基準により評価した。また、２枚の偏光板を互いの偏光軸が直交位となるように重ねて、目視により観察して光漏れを観察して以下の基準により評価した。
＜色むらの評価＞
○：色むらが見えない。
△：色むらがうっすらと見える。
×：色むらが目立つ。
＜干渉縞の評価＞
○：干渉縞が見えない。
△：干渉縞がうっすらと見える。
×：干渉縞が目立つ。
＜光漏れの評価＞
○：全面に渡り光漏れが見えない。
△：光漏れが一部見える。
×：光漏れが目立つ。
【０１４２】
［実施例１］
３Ｌの４つ口フラスコに（Ａ）成分：２，６−ジフルオロベンゾニトリル（以下、「ＤＦＢＮ」ともいう。）３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、（Ｂ）成分：９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下、「ＢＰＦＬ」ともいう。）７０．０８ｇ（０．２００ｍｏｌ）、レゾルシノール（以下、「ＲＥＳ」ともいう。）５．５１ｇ（０．０５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管および冷却管を取り付けた。
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋ管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。
室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（重合体）を得た（収量９５．６７ｇ、収率９５％）。
【０１４３】
得られた重合体の物性を表１に示す。得られた重合体の構造分析及び重量平均分子量の測定を行った。結果は、赤外吸収スペクトルの特性吸収が、３０３５（Ｃ−Ｈ伸縮）、２２２９ｃｍ−１（ＣＮ）、１５７４ｃｍ−１、１４９９ｃｍ−１（芳香環骨格吸収）、１２４０ｃｍ−１（−Ｏ−）であり、重量平均分子量が１３０，０００であった。
【０１４４】
次いで、得られた重合体をＤＭＡｃに再溶解し、重合体濃度２０質量％の樹脂組成物を得た。該樹脂組成物を、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）からなる基板上にドクターブレードを用いて塗布し、７０℃で３０分乾燥させ、ついで１００℃で３０分乾燥してフィルムとした後、ＰＥＴ基板より剥離した。その後、フィルムを金枠に固定し、さらに２３０℃、２時間乾燥して、膜厚３０μｍの評価用フィルムを得た。
【０１４５】
得られた評価用フィルムの物性を表１に示す。
【０１４６】
また、（株）クラレ製ＰＶＡフイルム（７５μｍ）をヨウ素０．３ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム１８．０ｇ／Ｌの水溶液に２５℃にて浸漬し、さらにホウ酸８０ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／Ｌ、塩化第一鉄１０ｇ／Ｌ、５０℃の水溶液中にて５．０倍に延伸した。６０℃にて５分間乾燥した。このようにして作成した偏光子の両面に、シリコン系接着剤［コニシ（株）、サイレックスクリヤー］を介して上記フィルムを貼付して偏光板を作製した。得られた偏光板を評価した結果、色むら、干渉縞および光漏れは観測されなかった。
【０１４７】
［実施例２］
レゾルシノールの替わりに２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１１．４１ｇ（０．０５０ｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１４８】
［実施例３］
（Ｂ）成分として、ＢＰＦＬ７０．０８ｇおよびＲＥＳ５．５１ｇの代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン７８．８４ｇ（０．２２５ｍｏｌ）および２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン８．４１ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を使用した以外は実施例１と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１４９】
［実施例４］
（Ｂ）成分として、ＢＰＦＬ７０．０８ｇおよびＲＥＳ５．５１ｇの代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５０】
［実施例５］
（Ｂ）成分として、ＢＰＦＬ７０．０８ｇおよびＲＥＳ５．５１ｇの代わりに、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン７８．８４ｇ（０．２２５ｍｏｌ）および９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６．７１ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を使用した以外は実施例1と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５１】
［実施例６］
（Ａ）成分として、ＤＦＢＮ３５．１２ｇの代わりに、２，６−ジフルオロベンゾニトリル２８．１０ｇ（０．２０２ｍｏｌ）および４，４−ジフルオロベンゾフェノン１１．０２ｇ（０．０５１ｍｏｌ）を用いた以外は実施例５と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５２】
［実施例７］
（Ａ）成分の配合量を、２，６−ジフルオロベンゾニトリル１７．５６ｇ（０．１２６ｍｏｌ）および４，４−ジフルオロベンゾフェノン２７．５５ｇ（０．１２６ｍｏｌ）に変更した以外は実施例７と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５３】
［実施例８］
（Ａ）成分として、４，４−ジフルオロジフェニルスルホン（ＤＦＤＳ）７８．８４ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は実施例５と同様に行った。得られた重合体およびフィルムの物性を表１に示す。
【０１５４】
［比較例１］
（Ｂ）成分として、ＢＰＦＬ７０．０８ｇおよびＲＥＳ５．５１ｇの代わりに、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン８４．０６ｇ（０．２５０ｍｏｌ）を使用した以外は実施例１と同様に行った。得られた重合体、フィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５５】
［比較例２］
帝人（株）製のポリエチレンナフタレートフィルム：ネオテックスを使用し、評価および偏光板の作製は実施例１と同様の方法で行った（膜厚１２５μｍ）。得られたフィルムおよび偏光板の物性を表１に示す。
【０１５６】
［比較例３］
温度計、攪拌機、窒素導入管、及び冷却管を取り付けた３００ｍＬの４つ口フラスコに、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン９．７０ｇ（２３．６ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）（６０ｍｌ）を加え均一になるまで攪拌した。得られた溶液に２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物５．３０ｇ（２３．６ｍｍｏｌ）を室温で加え、そのままの温度で１２時間攪拌を続けて反応させ、ポリアミック酸を含む溶液を得た。
得られたポリアミック酸を含む溶液にＮＭＰ（７５ｍｌ）を加えて希釈した後、ピリジン（７．５ｍｌ）および無水酢酸（６．７ｍｌ）を加え、１１０℃で６時間攪拌してイミド化を行った。その後、室温まで冷却した後、大量のメタノールに投じ、ろ別によりろ物を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（重合体）を得た（収量１３．５ｇ、収率９５．３％）。
【０１５７】
次いで、得られた重合体をＤＭＡｃに再溶解し、２０質量％の樹脂溶液を得た。該樹脂溶液を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる基板上にドクターブレード（１００μｍギャップ）を用いて塗布し、１００℃で３０分乾燥させ、ついで１５０℃で６０分乾燥してフィルムとした後、ＰＥＴ基板より剥離した。その後、フィルムをさらに１５０℃、減圧下で３時間乾燥して、膜厚３０μｍの評価用フィルムを得た。評価および偏光板の作製は実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。
【０１５８】
【表１】
2012018360.tif 000014