(57)【要約】【課題】異物等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分等が発生することがなく、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体の使用可能な合計回数を高めることができ、高記録密度の磁気記録媒体を効率良く低コストで製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】非磁性基板１の上に少なくとも垂直磁性層４が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から磁界生成手段Ｇによって外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程を含み、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料からなる保護膜１０２が表面に形成されてなるマスター情報担体Ｍを用いる。【選択図】図１
2012033209.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料が表面に塗布されてなるマスター情報担体を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記マスター情報担体は、凹凸パターンが形成された基材上に、少なくとも、垂直磁性膜と、前記磁気塗料とが積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料が、少なくとも、磁性粒子と硬化剤樹脂とを含有してなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料に含有される前記磁性粒子がバリウム−フェライト磁性粒子またはＦｅＰｔ磁性ナノ粒子であることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料に含有される前記硬化剤樹脂がポリウレタン樹脂であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
非磁性基板の上に、少なくとも磁性層を形成し、該磁性層の上に保護層を形成して磁気記録媒体を得る工程と、この磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、
前記磁気記録媒体を得る工程は、前記磁性層上に硬質炭素膜を積層することで前記保護膜を形成し、
前記情報信号を磁気転写する工程は、請求項１〜請求項５の何れか１項に記載のマスター情報担体を用いて、前記磁気記録媒体に磁気転写することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置（ＨＤＤ）等の磁気記録再生装置に用いられる磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、より詳しくは、マスター情報担体によって磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する、磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録再生装置の一種であるハードディスク装置（ハードディスクドライブ）は、現在その記録密度が年１．５倍以上で増えており、今後もその傾向は続くと言われている。また、それに伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。そして、最新の磁気記録装置においては、トラック密度が３２０ｋＴＰＩにも達している。
【０００３】
このため、高いトラック密度を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドをトラック上で正確に走査するために、磁気ヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。具体的に、現在のハードディスクドライブでは、ディスクの１周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信号や、アドレス情報信号、再生クロック信号などの情報信号（以下、サーボ信号等と称する）が記録されている。そして、磁気ヘッドから一定間隔の時間で再生されるこれらの信号によって、磁気ヘッドの位置を検出しながら、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するように磁気ヘッドの位置を修正する制御が行われている。
【０００４】
従って、上述したサーボ信号等は、磁気ヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となることから、これらの信号の書き込みには高い位置決め精度が求められる。このため、従来のハードディスクドライブの製造現場では、高精度の位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ信号記録装置（以下、サーボライタと称する）を用いて、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込みが行われている。また、サーボライタは、その生産性を高めるために、一つのスピンドルに多数枚の磁気記録媒体をチャッキングし、これらの磁気記録媒体に対して同時にサーボ信号等を書き込む構造となっている。
【０００５】
しかしながら、上述したようなサーボライタによるサーボ信号等の書き込み方法を採用した場合には、以下の課題が存在する。
即ち、上記方法により、磁気ヘッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックに亘って信号を書き込むためには、長い工程時間を必要とし、さらに、生産性を向上させるためには、多くのサーボライタを同時に稼働させる必要がある。しかしながら、工程に導入するサーボライタの数を増やした場合には、その維持管理に多額のコストが生じるという問題がある。また、スピンドルを長くして同時にチャッキングできる磁気記録媒体の枚数を増やした場合には、回転中にブレが生じ易くなり、磁気記録媒体に対する書き込み精度の低下を招く虞がある。このため、１つのスピンドルにチャッキングできる磁気記録媒体の枚数には自ずと限界がある。そして、これらの課題は、磁気記録媒体のトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻なものとなっている。
【０００６】
上記問題を解決するため、磁気記録媒体へのサーボ信号等の書き込みを行う工程において、上記構成のサーボライタではなく、全てのサーボ信号等に対応する磁気転写パターンが書き込まれたマスター情報担体を用い、このマスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に一括して磁気転写する方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。特許文献１に記載の方法によれば、具体的には、マスター情報担体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、外部から転写用のエネルギーとして磁界を加えながら、マスター情報担体に書き込まれた信号を磁気記録媒体に磁気転写する。これにより、磁気記録媒体に対するサーボ信号等の書き込み作業を短時間で行うことが可能となり、また、上記構成のマスター情報担体は、繰り返し使用可能となっている。
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の方法で磁気転写を行う場合、磁気記録媒体の表面に異常突起等が存在すると、磁気記録媒体とマスター情報担体とを重ね合わせた際に、この異常突起等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、磁気転写が不完全となるという問題が生じる。
【０００８】
また、磁気転写に用いられるマスター情報担体は非常に高価であるため、磁気記録媒体の製造コストを低減するためには、１枚のマスター情報担体が摩耗等によって破損するまでの間に、磁気転写を行うことが可能な合計回数（使用回数）を高めることが重要となる。
【０００９】
そこで、磁気記録媒体の表面にバーニッシュ処理を施し、表面の突起物や埃等を除去した後、この磁気記録媒体にマスター情報担体を重ね合わせて磁気転写を行うことにより、マスター情報担体の使用回数を高める方法が提案されている（例えば、特許文献２、５等を参照）。
【００１０】
ここで、一般に磁気記録媒体の製造工程で行われる基板表面等のクリーニングは、洗浄液を用いた湿式クリーニングと、ワイピングテープ等を用いた乾式クリーニングとに大別される。前者の湿式クリーニングは、後者の乾式クリーニングに比べ、洗浄能力に優れるものの、洗浄液に含まれる磁気記録媒体から除去された汚れが、媒体表面に再付着する場合がある。このため、湿式クリーニングは、例えば、特許文献３に記載されているように、高い洗浄性がそれほど要求されない、アルミニウム合金やガラス等の磁気記録媒体用非磁性基板の洗浄に主に用いられている。また、磁気記録媒体の洗浄に湿式クリーニングが用いられる場合もあるが、磁気記録媒体に含まれるＦｅやＣｏ等の腐食や汚れの再付着を防ぐため、純水を用いた数秒間程度の短時間のスピン洗浄に限られる。また、磁気記録媒体の表面に付着する異物はスパッタダスト等のような粒状物が多く、これらを除去するためには、例えば、特許文献４に記載されているような、織布や不織布を用いたワイピングテープ等を用いた方法の方が効果的と考えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開２００１−６１６９号公報
【特許文献３】特開２０００−２０３８８９号公報
【特許文献４】特開平１０−１０６２２９号公報
【特許文献５】特開平１１−２７７３３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、本発明者等が鋭意検討を行ったところ、例え、磁気記録媒体の表面に対してバーニッシュ処理を施すか、あるいは、磁気記録媒体及びマスター情報担体の表面に対してワイピング処理、湿式洗浄等を行うことで、それらの表の突起物や埃等を除去した場合でも、上記同様、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、磁気転写が不完全になることが明らかとなった。また、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面には、依然として、バーニッシュ処理等によっても除去できない微小な突起物が存在していた。
【００１３】
一般に、磁気転写用のマスター情報担体は、凹凸パターンが形成されたＮｉ等からなる基板上に、磁気記録媒体と同様、例えば、９０Ｎｉ１０Ｗアモルファス膜、Ｒｕ柱状晶膜、９２（６７Ｃｏ１７Ｃｒ１６Ｐｔ）−８ＳｉＯ２垂直磁性膜が設けられ、さらに、最表面には、ＣＶＤ法硬質炭素膜からなる保護層が設けられる。しかしながら、このようなマスター情報担体を用いて磁気記録媒体への磁気転写を行なうと、両表面の陥没部分で磁気的な結合が不十分となり、転写不良が生ずる場合があった。また、磁気記録媒体の表面の平坦度が低い場合に、互いに硬質膜であるマスター情報担体表面の保護膜と磁気記録媒体表面の保護膜とがぶつかり合い、両者が磨耗することでダストが発生する。このように、磁気転写を行う工程において、マスター情報担体や磁気記録媒体の磨耗ダストが発生すると、このダストの噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分が発生し、上記同様、磁気転写が不完全になるという問題がある。また、このような磨耗ダストの噛み込みを生じた場合、１枚のマスター情報担体によって磁気記録媒体に磁気転写を行うことが可能な合計回数が限られるので、製造コストが増大するという問題があった。
【００１４】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面の陥没部分で磁気転写が不完全となるのを防止し、また、異物等の噛み込みによって磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分等が発生することがなく、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体の使用可能な合計回数を高めることができ、高記録密度の磁気記録媒体を効率良く低コストで製造することが可能な、磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者等は、上記問題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面の陥没部分において、磁気転写が不完全となるのを防止することが可能となる手段を見出した。また、マスター情報担体による磁気転写パターンが不完全になる原因として、互いに硬質炭素膜からなるマスター情報担体表面の保護層と磁気記録媒体表面の保護層とがぶつかり合い、この際の磨耗等で発生するダストがマスター情報担体と磁気記録媒体との間に噛み込まれ、双方の表面に陥没部分が発生することを突き止めた。そして、マスター情報担体の保護層を弾性材料から構成することにより、この弾性保護層と磁気記録媒体の保護層との間にダストが噛み込まれた場合であっても、弾性保護層が撓むことでダストによる損傷が生じるのが緩和されることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は以下に示す構成を採用するものである。
【００１６】
［１］  非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁気転写を行う際に繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料が表面に塗布されてなるマスター情報担体を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
［２］  前記マスター情報担体は、凹凸パターンが形成された基材上に、少なくとも、垂直磁性膜と、前記磁気塗料とが積層されてなることを特徴とする上記［１］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［３］  前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料が、少なくとも、磁性粒子と硬化剤樹脂とを含有してなることを特徴とする上記［１］又は［２］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［４］  前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料に含有される前記磁性粒子がバリウム−フェライト磁性粒子またはＦｅＰｔ磁性ナノ粒子であることを特徴とする上記［３］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
［５］  前記マスター情報担体は、表面に塗布される前記磁気塗料に含有される前記硬化剤樹脂がポリウレタン樹脂であることを特徴とする上記［３］又は［４］に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１７】
［６］  非磁性基板の上に、少なくとも磁性層を形成し、該磁性層の上に保護層を形成して磁気記録媒体を得る工程と、この磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体とを重ね合わせた後、前記マスター情報担体側から外部磁界を印加しながら、前記マスター情報担体から前記磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程とを含む磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁気記録媒体を得る工程は、前記磁性層上に硬質炭素膜を積層することで前記保護膜を形成し、前記情報信号を磁気転写する工程は、上記［１］〜［５］の何れかに記載のマスター情報担体を用いて、前記磁気記録媒体に磁気転写することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、上記構成の如く、磁気記録媒体への磁気転写を行うにあたり、複数回数で繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料が表面に塗布されてなるマスター情報担体を用いる方法を採用している。これにより、例え、ダスト等の異物を噛み込んだ場合であっても、磁気記録媒体やマスター情報担体の表面に陥没部分等が発生するのを防止できるとともに、磁気記録媒体とマスター情報担体との密着性が増し、磁気転写パターンが鮮明になる。従って、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体の使用可能な合計回数を高めることができ、高記録密度の磁気記録媒体を効率良く低コストで製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一例を模式的に説明する図であり、マスター情報担体を用いた磁気転写工程を示す断面図である。
【図２】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の一例を模式的に説明する図であり、本発明の製造方法によって得られる磁気記録媒体を示す断面図である。
【図３】本発明に係る磁気記録媒体が用いられてなる磁気記録再生装置の一例を模式的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法について、図１〜図３を適宜参照しながら説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、磁気記録媒体の製造方法を説明するための図面であって、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体等の寸法関係とは異なっている。
【００２１】
［磁気記録媒体の製造方法］
本発明を適用した磁気記録媒体１０の製造方法は、非磁性基板１の上に少なくとも垂直磁性層（磁性層）４が形成された磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から磁界生成手段Ｇによって外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する工程（以下、磁気転写工程と称することがある）を含む方法であり、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料からなる保護膜１０２が表面に形成されてなるマスター情報担体Ｍを用いる方法である。
【００２２】
また、本実施形態の磁気記録媒体１０の製造方法は、より具体的には、非磁性基板１の上に、少なくとも垂直磁性層（磁性層）４を形成し、この垂直磁性層４の上に保護層５を形成して磁気記録媒体Ｗを得る工程（以下、積層工程と称することがある）と、この積層工程で得られる磁気記録媒体Ｗと、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍとを重ね合わせた後、マスター情報担体Ｍ側から磁界生成手段Ｇによって外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Ｍから磁気記録媒体Ｗへと情報信号を磁気転写する磁気転写工程とを含む方法とすることができる。そして、磁気記録媒体Ｗを得る積層工程は、垂直磁性層４上に硬質炭素膜を積層することで保護膜５を形成し、また、磁気転写工程は、上述したような垂直配向処理が施された磁気塗料からなる保護膜１０２が表面に形成されてなるマスター情報担体Ｍを用いて、磁気記録媒体Ｗに磁気転写することにより、磁気記録媒体１０を製造する方法とすることができる。
【００２３】
本発明の製造方法を適用して得られる磁気記録媒体１０は、非磁性基板１上に、上述の磁気転写工程において形成された磁気的に分離した磁気記録パターン（図１中の符号Ｐで示す矢印を参照）を有するものであり、平面視略ドーナツ型の板状とされている（図３中の磁気記録再生装置５０における符号１０を参照）。また、図２に例示するように、磁気記録媒体１０は、非磁性基板１上に、少なくとも、磁気パターンが形成された垂直磁性層４、保護層５が順次積層されることで概略構成される。また、図示例においては、磁気記録媒体１０は、非磁性基板１上に、スペーサ層２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層２ａを含む軟磁性下地層２と、配向制御層３と、垂直磁性層４と、保護層５と、潤滑剤膜６とを順次積層した構造を有している。また、図示例では、垂直磁性層４は、下層の磁性層４ａと、中層の磁性層４ｂと、上層の磁性層４ｃとの３層を含み、磁性層４ａと磁性層４ｂの間で非磁性層７ａを、磁性層４ｂと磁性層４ｃの間で非磁性層７ｂを挟み込むことで、これら磁性層４ａ〜４ｃと非磁性層７ａ、７ｂとが交互に積層された構造を有している。
本発明では、これらの各層の内、非磁性基板１、垂直磁性層４並びに保護層５以外の層については、適宜選択して設けることができる。
【００２４】
以下に、図１及び図２を適宜参照しながら、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法における各工程について詳しく説明する。
【００２５】
「積層工程（磁気記録媒体を得る工程）」
本発明に係る磁気記録媒体１０の製造方法では、非磁性基板１上に、軟磁性下地層２、配向制御層３、垂直磁性層４、保護層５及び潤滑剤膜６を形成する方法として、従来公知の方法を何ら制限無く用いることができる。従って、本実施形態では、上記各層を形成する工程について、一部、その詳しい説明を省略する。
【００２６】
まず、図２に示すように、非磁性基板１上に軟磁性下地層２を形成する。
具体的には、非磁性基板１上に、例えばスパッタ法を用いて軟磁性材料を堆積させることにより、スペーサ層２ｂによって反強磁性結合させた２層の軟磁性層２ａを含む軟磁性下地層２を形成する。この際、軟磁性下地層２を構成する各層の材料としては、Ｃｏを主成分とする合金等、従来公知の材料を何ら制限無く用いることができる。
また、一般に、軟磁性下地層２を形成する方法としてはスパッタ法を用いるが、その他の公知の方法も含め、適宜採用することが可能である。
【００２７】
次に、図２に示すように、非磁性基板１上に形成された軟磁性下地層２の上に、さらに、配向制御層３を積層する。この際、配向制御層３に用いる材料としては、従来公知の材料を用いることができ、また、その形成方法としても、従来公知の方法を何ら制限無く採用することができる。
【００２８】
次に、図２に示すように、配向制御層３の上に、さらに、垂直磁性層４を積層する。この際、図２に示す例のように、垂直磁性層４を、下層の磁性層４ａ、中層の磁性層４ｂ、及び上層の磁性層４ｃの３層を含む構成で形成することができる。また、図示例のように、さらに、磁性層４ａと磁性層４ｂの間に非磁性層７ａを、磁性層４ｂと磁性層４ｃの間に非磁性層７ｂを形成することで、磁性層４ａ〜４ｃと非磁性層７ａ、７ｂとを交互に積層しても良い。
また、垂直磁性層４に用いる材料としても、従来公知の材料を採用することができ、その形成方法としても従来公知の方法を採用することができる。
【００２９】
次に、図２に示すように、上記工程で形成された垂直磁性層４を覆うように、保護層５を形成する。この際、例えば、Ｐ−ＣＶＤ法等の方法を用いて、垂直磁性層４上に保護膜材料を薄膜として堆積させることにより、保護層５を形成する。また、保護層５の形成方法としては、上記のＰ−ＣＶＤ法に限定されるものではなく、従来公知の方法、例えば、イオンビーム法等を適宜採用することも可能である。
【００３０】
保護層５の材料としては、一般的に当該分野で用いられるＤｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ等の硬質炭素膜の他、通常用いられる保護膜材料を含むものを使用することができる。
また、保護層５として硬質炭素膜を形成する場合には、例えば、形成装置として、炭素を含む原料気体を高周波プラズマによって励起分解し、これによって生じた炭素イオンを用いて、磁気記録媒体Ｗとなる非磁性基板１上の両表面に炭素膜を形成する成膜装置を用いることができる。
【００３１】
このような成膜装置並びに成膜方法で形成された硬質炭素膜からなる保護層５は、密着性が非常に高く、高硬度で緻密な膜となる。このため、このような硬質炭素膜を磁気記録媒体Ｗの保護層５に用いた場合には、保護膜５を薄く構成することが可能となる。これにより、磁気記録媒体Ｗに磁気転写することで得られる磁気記録媒体１０と磁気ヘッド（図３中の符号５７を参照）との距離を狭く設定することが可能となるので、磁気記録媒体１０の記録密度が高められるとともに、磁気記録媒体１０の耐コロージョン性を高めることが可能となる。
【００３２】
次に、図２に示すように、上記工程で形成した保護層５の上に、さらに、潤滑剤材料からなる潤滑剤層６を形成する。この際、潤滑剤層６に用いる材料としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤材料を何ら制限無く採用することができる。
【００３３】
（磁気記録媒体の洗浄処理）
次に、本発明においては、上記工程で磁気記録媒体Ｗを製造した後、後述の工程において磁気転写を施す前に、磁気記録媒体Ｗの表面を、従来公知のワイピング処理やバーニッシュ処理を行うことが、後述の磁気転写をさらに高精度で行う観点からより好ましい。
【００３４】
ワイピング処理は、例えば、特許文献４に記載されているように、布製のワイピングテープ等を用いて行われる。具体的には、ワイピング処理は、詳細な図示を省略するが、ワイピングテープを磁気記録媒体Ｗの表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロール又はパッドによってワイピングテープの表面を磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く拭く処理である。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面に付着したスパッタダスト等が除去され、媒体表面が清浄化される。
【００３５】
また、ワイピング処理に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物などが挙げられる。
【００３６】
また、ワイピングテープは、図示略の供給リールと巻取リールとの間に掛け渡され、供給リールから順次供給されて、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、ワイピングテープの拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、ワイピングテープの拭き面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【００３７】
バーニッシュ処理は、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起物を除去するため、研磨テープを用いてその表面を研磨する処理である。これにより、後述の磁気転写工程において、磁気記録媒体Ｗとマスター情報担体Ｍとの間に隙間が生じることで転写パターンが不鮮明となったり、マスター情報担体Ｍが損傷を受けたりすることを防止することが可能となる。また、磁気記録媒体Ｗに磁気転写を施して製造した磁気記録媒体１０を用い、ハードディスクドライブ（図３に示す磁気記録再生装置５０を参照）を構成した場合に、磁気ヘッドの浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００３８】
このようなバーニッシュ処理は、例えば、特許文献５に記載されているように、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ等を用いて行われる。即ち、バーニッシュ処理は、詳細な図示を省略するが、ゴム製のコンタクトロールを用いて研磨テープを磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てることにより、媒体表面を軽く研磨する処理である。より具体的には、磁気記録媒体Ｗを回転させつつ、この磁気記録媒体Ｗの表面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることによって行う。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面にある突起が研磨除去され、その媒体表面が平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取リールとの間に掛け渡され、供給リールから順次供給されて、巻取リールに順次巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取リール側に走行する途中で、研磨テープの砥粒面と反対側の面（裏面）が、ゴム等のバッキングロール又はフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体Ｗの表面に押し当てられる。
【００３９】
バーニッシュ処理に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常、ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層が形成されてなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体Ｗの表面と接触して摺動することにより、媒体表面に付着した微小な塵埃が除去されるとともに、その媒体表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて媒体表面が平滑化される。
【００４０】
研磨材としては、例えば、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００４１】
なお、上述のようなワイピング処理やバーニッシュ処理は、一般に、潤滑剤層６までを形成した後に行なわれるが、本発明においては、これらの処理と併せ、さらに、洗浄剤を用いて磁気記録媒体Ｗの洗浄処理を行うことがより好ましい。即ち、ワイピング工程やバーニッシュ工程では除去できない磁気記録媒体Ｗの表面の汚染物質を、洗浄剤によって除去することがより好ましい。
【００４２】
ここで、上述のような汚染物質は、潤滑剤層６を形成する工程や、ワイピング処理、バーニッシュ処理の後では、洗浄除去することが困難となる場合がある。その理由としては、推測ではあるが、汚染物質が潤滑剤膜６に覆われると、その撥水性によって除去が困難となることや、ワイピング処理やバーニッシュ処理の後では、汚染物質が磁気記録媒体の表面に塗り込められ、除去しにくくなることが考えられる。このため、磁気記録媒体を洗浄剤によって洗浄する工程を採用する場合には、潤滑剤層６を形成する前に行うことが好ましい。
【００４３】
具体的には、保護層５までを形成した磁気記録媒体の表面を、例えば、フッ素化合物を用いた非水系洗浄剤等を用い、磁気記録媒体Ｗを洗浄槽内の洗浄液に浸漬する方法を採用できる。この際、洗浄槽内の洗浄液に超音波振動を印加することが、洗浄力をより高めることが可能となる点からさらに好ましい。また、上記洗浄液を用いて磁気記録媒体の洗浄を行った後、さらに、純水を用いたスピン洗浄、又はドライエアを用いた引き上げ乾燥等の極短時間の浸漬洗浄を行う多段工程を採用することもできる。
【００４４】
上述のように、磁気転写を施す前に、上記各方法で磁気記録媒体Ｗの表面を洗浄することにより、この表面に付着した塵埃や異物、汚染物質等を効率良く除去することができる。これにより、後述の磁気転写工程において、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとの間に異物等が噛み込まれるのを防止でき、高精度な磁気転写を行うことが可能となる。
【００４５】
「磁気転写工程」
本発明の製造方法に備えられる磁気転写工程においては、上記積層工程において製造され、必要に応じて、上記条件の清浄化が施された磁気記録媒体Ｗに対し、サーボ信号等の書き込み処理を磁気転写によって行う。
【００４６】
磁気転写工程においては、具体的には、まず、磁気記録媒体Ｗの信号記録面を初期磁化する。この初期磁化は、面内磁気記録媒体の場合には、トラック方向の一方向に初期直流磁界を印加することによって行い、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の一方向に初期直流磁界を印加することによって行う。この初期直流磁界は、永久磁石や電磁石を用いて印加することが可能である。また、永久磁石としては、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いることが好ましい。また、初期直流磁界の印加は、磁気記録媒体Ｗと非接触の状態で行うことが、磁気記録媒体Ｗの表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００４７】
次に、図１に示すように、初期直流磁界の印加を行った後の磁気記録媒体Ｗの信号記録面と、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍの転写面とを接触させた状態で、互いを所定の押圧力で密着させる。そして、この状態で、マスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて、この磁界生成手段Ｇを、相対的にトラック方向Ｘに移動させながら転写用の外部磁界を印加する。この転写用の外部磁界は、上述した初期直流磁界とは逆方向となる磁界である。これにより、磁気記録媒体Ｗでは、マスター情報担体Ｍの転写パターンと対向する箇所で磁化反転が生じ、サーボ信号等に対応した磁化パターンが磁気転写によって書き込まれることになる。
【００４８】
本発明の製造方法で用いるマスター情報担体Ｍは、以下のような方法で製造することができる。
具体的には、まず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。次いで、このレジストに対して、電子線露光装置を用いてサーボ信号等に対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストの露光・現像を行った後、未露光部分を除去することによって、シリコンウェハ上に、転写パターンに対応したレジストパターンを形成する。
【００４９】
次に、このレジストパターンをマスクとして、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理の後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させて、マスター情報担体を作製するための原盤を得る。
【００５０】
次に、この原盤上に、スパッタリング法により、Ｎｉからなる導電層を１０ｎｍ程度の厚みで形成する。次いで、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数ミクロン厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層の洗浄等を行い、図１中に示すような、表面に凸部１００ａ及び凹部１００ｂが形成されたＮｉ基材１００を得る。
【００５１】
次に、Ｎｉ基材１００の表面に、垂直磁性膜からなる磁性層１０１を形成する。この磁性層１０１については、上述した磁気記録媒体Ｗに用いられる垂直磁性層４と同じ材料を使用することができる。なお、Ｎｉ基材１００の表面に形成された磁性層１０１のうち、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写に用いられるのは、凸部１００ａが形成された部分の磁性層１０１であり、凹部１００ｂが形成された部分の磁性層１０１は、磁気記録媒体Ｗと接触しないため、磁気転写には用いられない。
【００５２】
さらに、このＮｉ基材１００上には、垂直配向処理が施された磁気塗料が塗布されることで、保護膜１０２が形成されている。この保護膜１０２は、マスター情報担体Ｍの耐摩耗性を高めるためのものであり、例えば、従来公知の方法によって塗布された磁気塗料からなる、数十ｎｍ程度の厚さの膜から構成される。また、磁性層１０１と保護膜１０２との間には、例えば、膜厚が数ｎｍ程度の硬質炭素膜を設けても良い。このような硬質炭素膜は、磁気転写時の磁性層１０１の摩耗を防ぐ効果が得られ、公知のイオンビーム法、Ｐ−ＣＶＤ法等で成膜することができる。
【００５３】
また、マスター情報担体Ｍは、表面に塗布することで保護膜１０２を形成するための磁気塗料として、少なくとも、磁性粒子と硬化剤樹脂とを含有してなるものを用いることができる。またさらに、保護膜１０２を構成する磁気塗料としては、高い表面平滑性が必要となることから、磁気塗料の固形分を高濃度に保持しつつ、この磁気塗料の粘度を低く保持しうる硬化剤樹脂に加え、界面滑性剤を組み合わせた構成とすることが好ましい。即ち、磁性粒子には強く吸着（イオン吸着）することがなく、且つ、界面活性作用（分散作用）を有する電子線硬化剤樹脂、及び、５０重量％以上の高い固形分濃度を有し、且つ、磁性粒子の周りに体積の大きな吸着層を形成する界面活性剤を併用することが可能である。
【００５４】
そして、本発明においては、上記組成とされた磁気塗料を、Ｎｉ基材１００上の磁性層１０１の上に塗布した後、この基材を垂直磁界に置くことによって磁気塗料中の磁性粒子の配向処理を行う。また、これと同時に、Ｎｉ基材１００上の磁気塗料に電子線を照射することにより、磁気塗料中の電子線硬化剤樹脂の硬化処理を行うことで、保護膜１０２を形成する。
【００５５】
磁気塗料中に含有される磁性粒子としては、磁性記録媒体において通常用いられているものと同じ磁性粒子を用いることができ、例えば、バリウム−フェライト磁性粒子の他、（ガンマ磁性酸化鉄γ−Ｆｅ２Ｏ３、コバルト含有のγ−Ｆｅ２Ｏ３、マグネタイト酸化鉄Ｆｅ３Ｏ４、コバルト含有のＦｅ３Ｏ４）、酸化クロム（ＣｒＯ２）、金属磁性鉄等を用いることができる。
【００５６】
また、磁気塗料中に含有される磁性粒子としては、ＦｅＰｔ磁性ナノ粒子を用いることができる。本発明において使用するＦｅＰｔ磁性ナノ粒子は、強磁性材料であれば特に制限はなく、例えば、ＦｅＰｔ磁性ナノ粒子、ＣｏＰｔ磁性ナノ粒子等が好適に使用できる。このような磁性ナノ粒子（一次粒子）の平均粒子径は、３〜２０ｎｍであることが好ましく、特に、４〜１０ｎｍ、更には５〜７ｎｍであることがより好ましい。なお、この平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）像から算出することができる。
【００５７】
本発明で用いられる磁性ナノ粒子は、例えば、Ｐｔ化合物と還元剤と第１の粒子分散剤とを含む溶媒溶液から還元反応によって金属Ｐｔ核粒子を生成させる工程（工程ａ）、金属Ｐｔ核粒子を生成させた後の溶媒溶液に、Ｆｅ化合物及び第２の粒子分散剤を添加、より好ましくはＦｅ化合物を添加してＦｅ化合物を溶解させた後に第２の粒子分散剤を添加して、金属Ｐｔ核粒子上に金属Ｆｅを析出させる行程（工程ｂ）、金属Ｆｅが析出して生成したＦｅとＰｔとを含むナノ粒子を、反応液中で１８５〜３２０℃、より好ましくは２２５〜２７５℃、特に好ましくは２４５〜２５５℃の温度で熟成する行程（工程ｃ）、の各工程によって得ることができる。
【００５８】
磁気塗料中に含有される硬化剤樹脂としては、磁性粒子表面には強く吸着（イオン吸着）することがない一方、非イオン性の界面活性作用（分散能）を有するものであり、スルホン酸基、リン酸基、カルボン酸基等のイオン性官能基を持たないものが好ましい。このため、電子線照射での硬化作用がある硬化剤樹脂としては、例えば、分子内に多数の水酸基を持つポリビニルアルコール、水酸基は持たないが親水性のポリウレタン樹脂からなることが好ましい。このような樹脂としては、ポリエチレングリコール／アジピン酸／水添ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）からなるポリウレタン樹脂、例えば、ＮＲ−２０００（三菱レイヨン社製）、Ｍｕ−１５５（三菱レイヨン社製）、Ｄｅｓｏｔｏ ３５１１Ｆ（日本合成ゴム社製）等が挙げられる。
【００５９】
磁気塗料中に含有される界面活性剤としては、疎水基（親油基）の鎖が、ある程度の長さを有し、且つ、枝分れ構造を有しており、磁性粒子表面に直接相互作用（吸着）する官能基（親水基）が第四級アンモニウム塩であることが最も好適である。このような条件を満たす界面活性剤としては、本発明においては、上記（１）式で示される構造を有する界面活性剤を用いることが好ましい。
【００６０】
磁気塗料中における界面活性剤の使用量は、磁性粒子１００重量部に対して２〜１０重量部、好ましくは３〜７重量部である。この量が多過ぎると磁性層の耐摩耗性が低下し、少な過ぎると塗料の粘度を十分に下げることができない。
【００６１】
上述のような方法により、サーボ信号等に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Ｍを得ることができる。このようにして得られるマスター情報担体Ｍは、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なものとなる。
【００６２】
磁界生成手段Ｇは、電磁石や永久磁石によって構成されるものであり、面内磁気記録媒体の場合は、トラック方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させ、垂直磁気記録媒体の場合は、媒体表面に対して垂直な方向の他方向に転写用の外部磁界を発生させる。そして、この磁界生成手段Ｇは、磁気記録媒体Ｗの半径方向において同一方向の外部磁界を発生させながら、磁気記録媒体Ｗの中心にトラック方向Ｘに回転移動させることが可能となっている。
【００６３】
ここで、ハードディスクドライブに内蔵される磁気記録媒体１０は、一般的に非磁性基板１の両面に磁性層が形成されており、また、１台のハードディスクドライブには、複数枚の磁気記録媒体１０が内蔵される場合が多い。このため、ハードディスクドライブでは、複数の磁気ヘッドがスタック構造により一体で移動操作されるが、磁気記録媒体１０のトッラク幅は益々狭くなっており、１つの磁気記録媒体１０の信号記録面に書き込まれたサーボ信号等を用いて、他の信号記録面における磁気ヘッドの位置決めを行うことは、ヘッドのスタック構造の精度からは困難となっている。このため、本発明の磁気転写工程では、磁気記録媒体Ｗの両面に、磁気転写によってサーボ信号等を書き込むことが好ましい。具体的には、磁気記録媒体Ｗの両面を一対のマスター情報担体Ｍで挟み込んだ状態とし、この状態で、これらマスター情報担体Ｍの転写面とは反対側から、磁界生成手段Ｇを用いて転写用の外部磁界を印加する。これにより、磁気記録媒体Ｗの両面にサーボ信号等を書き込むことができる。
【００６４】
本発明の製造方法に備えられる磁気転写工程は、上記構成の保護層１０２が備えられたマスター情報担体Ｍを用い、磁気記録媒体Ｗに磁気転写を行う方法を採用したものである。これにより、例え、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとの間にダスト等の異物を噛み込んだ場合であっても、これらの表面に陥没部分等が発生するのを防止できるとともに、磁気記録媒体Ｗまたはマスター情報担体Ｍの表面に陥没があったとしても、その陥没は磁気塗料によって平滑化され、両者の密着性が増し、磁気転写パターンが鮮明になる。従って、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体Ｍの使用可能な合計回数を高めることができる。即ち、高記録密度の磁気記録媒体１０を、効率良く低コストで製造することが可能である。
【００６５】
なお、垂直磁性層４の保磁力Ｈｃは、通常は３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上である。従って、磁気転写工程においては、この垂直磁性層４を初期直流磁化した後、磁気記録媒体Ｗの両面をマスター情報担体Ｍで挟み込み、磁気転写できる強度の磁界を、マスター情報担体Ｍを介して印加することで磁気転写を行うことが好ましい。
【００６６】
上記磁気転写工程の後、得られた磁気記録媒体１０に対するグライド検査を行なう。このグライド検査とは、磁気記録媒体１０の表面に突起物が無いかどうかを検査する工程である。即ち、磁気ヘッドを用いて磁気記録媒体１０に対して記録再生を行う際に、磁気記録媒体１０の表面に浮上量（媒体と磁気ヘッドとの間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッドが突起に衝突して磁気ヘッドが損傷したり、磁気記録媒体１０に欠陥が発生したりする原因となる。グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００６７】
そして、グライド検査をパスした磁気記録媒体１０には、通常、サーティファイ検査が実施される。このサーティファイ検査とは、通常のハードディスクドライブの記録再生と同様に、磁気記録媒体１０に対して磁気ヘッドで所定の信号を記録した後、その信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１０の記録不能の有無を検出し、磁気記録媒体１０の電気特性や欠陥の有無等、媒体の品質を確認するものである。
【００６８】
本発明を適用して製造された磁気記録媒体１０は、サーボ信号等が既に書き込まれているため、従来の方法によるサーティファイ検査とは異なる。即ち、本発明を適用して製造された磁気記録媒体１０では、この磁気記録媒体１０に磁気転写されたサーボ信号等を用いて、磁気ヘッドを特定箇所に位置づけして読み書きを行う形式の検査を行う。
【００６９】
なお、本発明では、前記した各種清浄方法によって表面が高度に清浄化された磁気記録媒体Ｗに対して磁気転写を行うことで、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとの間に異物が噛み込まれるのを、最大限、抑制することが可能となり、より高精度の磁気転写を行うことが可能となる。
【００７０】
（担体の洗浄）
本発明においては、上述のような磁気転写工程において所定回数使用されたマスター情報担体Ｍに対し、洗浄処理を施すことがより好ましい。
具体的には、詳細な図示を省略するが、例えば、洗浄液が層流の状態で流れる洗浄槽内にマスター情報担体Ｍを浸漬しながら、このマスター情報担体Ｍの湿式洗浄を行う。これにより、磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の湿式洗浄等では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等が磁気記録媒体Ｗからマスター情報担体Ｍに転写された場合に、これらをマスター情報担体Ｍの表面から効率よく除去することが可能である。
【００７１】
また、本発明においては、マスター情報担体Ｍの洗浄を定期的に行うことがさらに好ましい。即ち、上述した磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留する金属腐食物等は、マスター情報担体Ｍに少しずつ転写されて蓄積する。そして、この蓄積物は、徐々にマスター情報担体Ｍの転写面を浸食し、このマスター情報担体Ｍによる転写精度を低下させることがある。従って、本発明では、繰り返し使用されるマスター情報担体Ｍが磁気転写を行う中で、マスター情報担体Ｍによる転写精度が低下する前に、洗浄処理を定期的に行うことが好ましい。具体的には、マスター情報担体Ｍの洗浄工程は、例えば、マスター情報担体Ｍを５０００〜５００００回使用する毎に行うことが好ましい。
【００７２】
本発明においては、上記方法でマスター情報担体Ｍの洗浄処理を行うことにより、磁気記録媒体Ｗの表面に僅かに残留し、バーニッシュ処理や、ワイピング、スピン洗浄、従来の清浄化では除去不可能なレベルの量の汚染物質、特に、金属腐食物に代表されるイオン性の不純物等がマスター情報担体Ｍに転写された場合であっても、これらをマスター情報担体Ｍの表面から効率よく除去することができる。これにより、マスター情報担体Ｍの表面を常に清浄な状態で維持することができ、高精度の磁気転写を行うことができるとともに、マスター情報担体Ｍの繰返し使用可能な回数を増大させることができる。
【００７３】
［磁気記録媒体］
次に、本発明を適用して製造される磁気記録媒体１０の一例を図２に示す。図２に示す例の磁気記録媒体１０は、非磁性基板１上に、スペーサ層２ｂにより反強磁性結合させた２層の軟磁性層２ａを含む軟磁性下地層２と、配向制御層３と、垂直磁性層４と、保護層５と、潤滑剤膜６とを順次積層した構造を有している。
【００７４】
また、垂直磁性層４は、下層の磁性層４ａと、中層の磁性層４ｂと、上層の磁性層４ｃとの３層を含み、磁性層４ａと磁性層４ｂの間で非磁性層７ａを、磁性層４ｂと磁性層４ｃの間で非磁性層７ｂを挟み込むことで、これら磁性層４ａ〜４ｃと非磁性層７ａ、７ｂとが交互に積層された構造を有している。
【００７５】
本発明の製造方法を適用して得られる磁気記録媒体１０は、非磁性基板１の垂直方向に磁化が付与される垂直磁性層４を備えることで、読み出しヘッド及び書き込みヘッドを備えた磁気ヘッド５７（図３の磁気記録再生装置５０を参照）により、図示略の磁気記録パターンへの情報信号の書き込み及び読み出しが行われる。
【００７６】
非磁性基板１としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、また、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００７７】
非磁性基板１に用いられるガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００７８】
非磁性基板１は、その平均表面粗さ(Ｒａ)が１ｎｍ（１０Å）以下、より好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Ｗａ)が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下）であることが、上述のように磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録により適している点から、さらに好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下、より好ましくは９．５ｎｍ以下のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性の点から好ましい。
なお、微少うねり(Ｗａ)は、例えば、表面荒粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００７９】
また、非磁性基板１は、Ｃｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層２と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散等によって腐食が進行する可能性がある。このような場合には、非磁性基板１と軟磁性下地層２の間に図示略の密着層を設けることが好ましく、これにより、上述した腐食進行を抑制することが可能となる。なお、密着層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金等の中から適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００８０】
軟磁性層２ａ、２ｃとしては、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いることが好ましい。また、その透磁率や耐食性を高めるために、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒの中から選ばれる何れか１種を１〜８原子％の範囲で含有させることがより好ましい。また、スペーサ層２ｂとしては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中で特にＲｕを用いることが好ましい。
【００８１】
配向制御層３は、垂直磁性層４の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するためのものである。この配向制御層３の材料としては、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものを用いることが好ましく、特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金を用いることが好ましい。また、これらの合金を多層化しても良く、例えば、基板側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００８２】
ここで、配向制御層３直上の垂直磁性層４の初期部には、結晶成長の乱れが生じ易いため、これがノイズの原因となる。このような場合には、配向制御層３と垂直磁性層４の間に非磁性下地層８を設けることが好ましい。これにより、垂直磁性層４の初期部における乱れた部分を、非磁性下地層８で置き換えることができ、ノイズの発生を抑制することが可能となる。
【００８３】
非磁性下地層８としては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料からなるものを用いることが好ましい。また、非磁性下地層８におけるＣｏの含有量は、２５原子％以上、５０原子％以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏ等の酸化物を用いることが好ましく、その中でも、特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２等を好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上、１８ｍｏｌ％以下とすることが好ましい。
【００８４】
垂直磁性層４を構成する磁性層４ａ、４ｂ、４ｃとしては、Ｃｏを主成分とし、更に酸化物を含んだ材料を用いることが好ましく、この酸化物としては、例えば、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏ等の酸化物を用いることが好ましい。これらの中でも、特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２等を好適に用いることができる。また、下層の磁性層４ａは、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２等を好適に用いることができる。
【００８５】
磁性層４ａ、４ｂ、４ｃに適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）等の組成物を挙げることができる。
【００８６】
また、本発明では、上記組成の垂直磁性層４を、４層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層４ａ、４ｂに加えて、グラニュラー構造の磁性層を３層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層４ｃを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層４ｃを２層構造として、磁性層４ａ、４ｂの上に設けた構成とすることができる。
【００８７】
また、本発明では、図２に示すように、垂直磁性層４を構成する３層以上の磁性層の各々の間に、さらに、非磁性層７ａ、７ｂを設けることがより好ましい。このように、垂直磁性層４の各層の間に非磁性層７を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果、磁気記録媒体のＳ／Ｎ比をより向上させることが可能となる。
【００８８】
保護層５は、垂直磁性層４の腐食を防止するとともに、磁気ヘッド（図３中の符号５７を参照）が磁気記録媒体に接触した際に、媒体表面の損傷を防止するために設けられるものである。このような保護層５としては、従来公知の材料を用いることができ、例えば、硬質炭素膜（Ｃ）から構成することが可能である。また、保護層５の材料としては、その他、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２等、通常用いられる保護膜材料を含むものを用いることが可能である。
【００８９】
また、保護層５の厚みは、１〜１０ｎｍの範囲とすることが、磁気ヘッドと磁気記録媒体の距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。保護層の膜厚が上記範囲を超えると、磁気ヘッドと垂直磁性層との間の距離が大きくなり、十分な強さの出入力信号が得られなくなる虞がある。また、保護層５が、２層以上の層から構成されていてもよい。
【００９０】
本発明においては、特に、硬質炭素膜から保護層５を構成した場合であっても、上述した構成の保護膜１０２が設けられたマスター情報担体Ｍを用いて磁気転写を行うことにより、例え、マスター情報担体Ｍと磁気記録媒体Ｗとの間に異物が噛み込まれても、保護膜１０２が撓むことでダストによる損傷が生じるのが緩和される。これにより、磁気記録媒体１０やマスター情報担体Ｍの表面に陥没部分等が発生するのを防止でき、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体Ｍの使用可能な合計回数を高めることができる。従って、高記録密度の磁気記録媒体１０を効率良く低コストで製造することが可能となる。
【００９１】
潤滑剤膜６としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を保護層５上に塗布することによって形成される。また、潤滑材膜６の膜厚としては、通常１〜４ｎｍ程度の厚さで形成される。
【００９２】
磁気記録媒体１０は、上記各構成により、垂直磁性層４によって形成される図示略の磁気記録パターンに、磁気ヘッド（図３に示す磁気記録再生装置５０の磁気ヘッド５７を参照）によって磁気記録あるいは再生を行なうことが可能な構成とされる。また、本実施形態の磁気記録媒体１０は、本発明に係る製造方法によって得られるものなので、優れた記録再生特性が確保され、高記録密度に対応可能なものとなる。
【００９３】
［磁気記録再生装置］
次に、本発明を適用して製造された磁気記録媒体１０を備える磁気記録再生装置（ハードディスクドライブ）の構成を図３に示す。
図３に示す磁気記録再生装置５０は、図２に示すような本発明を適用して製造された磁気記録媒体１０と、この磁気記録媒体１０を記録方向に駆動する媒体駆動部５１と、記録部と再生部からなり磁気記録媒体１０に情報を記録再生する磁気ヘッド５７と、この磁気ヘッド５７を磁気記録媒体１０に対して相対運動させるヘッド駆動部５８と、磁気ヘッド５７への信号入力と磁気ヘッド５７からの出力信号再生を行うための記録再生信号処理手段を組み合わせた記録再生信号系５９とを具備して構成される。これらを組み合わせることにより、記録密度の高い磁気記録再生装置５０を構成することが可能となる。
【００９４】
また、記録再生信号系５９は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド５７に送り、この磁気ヘッド５７からの再生信号を処理してデータを外部に送ることが可能となっている。また、この磁気記録再生装置が備える磁気ヘッド５７には、再生素子として巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用したＧＭＲ素子などを有した、より高記録密度に適した磁気ヘッドを用いることができる。
【００９５】
上記構成の磁気記録再生装置５０によれば、磁気記録媒体として、本発明を適用して製造された高記録密度、高速書き込み、並びに、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体１０を採用することで、優れたハードディスクドライブを実現することが可能である。
【００９６】
以上説明したような、本発明に係る磁気記録媒体１０の製造方法によれば、上記構成の如く、磁気記録媒体Ｗへの磁気転写を行うにあたり、複数回数で繰り返し使用可能であるとともに、垂直配向処理が施された磁気塗料１０２が表面に塗布されてなるマスター情報担体Ｍを用いる方法を採用している。これにより、例え、ダスト等の異物を噛み込んだ場合であっても、磁気記録媒体Ｗやマスター情報担体Ｍの表面に陥没部分等が発生するのを防止できるとともに、マスター情報担体Ｍの磁性層に陥没が生じている場合であっても、磁気塗料がその陥没部分を平滑化するので磁気記録媒体とマスター情報担体との密着性が増し、磁気転写パターンが鮮明になる。従って、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体Ｍの使用可能な合計回数を高めることができ、高記録密度の磁気記録媒体１０を効率良く低コストで製造することが可能となる。
【実施例】
【００９７】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法について、実施例及び比較例を示してより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００９８】
［実施例］
（磁気記録媒体の製造）
実施例では、まず、洗浄済みのガラス基板（コニカミノルタ社製、外形２．５インチ）を、ＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製Ｃ−３０４０）の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度１×１０−５Ｐａとなるまで成膜チャンバ内を排気した後、このガラス基板の上に、６０Ｃｒ−４０Ｔｉターゲットを用いて層厚１０ｎｍの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂ｛Ｆｅ含有量４６原子％、Ｃｏ含有量４６原子％、Ｚｒ含有量５原子％、Ｂ含有量３原子％｝のターゲットを用いて、１００℃以下の基板温度で、層厚３４ｎｍの軟磁性層を成膜し、この上にＲｕ層を層厚０．７６ｎｍで成膜した後、さらに、４６Ｆｅ−４６Ｃｏ−５Ｚｒ−３Ｂの軟磁性層を層厚３４ｎｍ成膜して、これを軟磁性下地層とした。
【００９９】
次に、上記軟磁性下地層の上に、Ｎｉ−６Ｗ｛Ｗ含有量６原子％、残部Ｎｉ｝ターゲット、Ｒｕターゲットを用いて、それぞれ５ｎｍ、２０ｎｍの層厚で順に成膜し、これを配向制御層とした。
【０１００】
次に、配向制御層の上に、多層構造の磁性層として、８４（Ｃｏ１２Ｃｒ１６Ｐｔ）−１６ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｒｕ４７．５Ｃｏ（膜厚０．５ｎｍ）、９１（Ｃｏ１１．５Ｃｒ１３Ｐｔ１０Ｒｕ）−４ＳｉＯ２−３Ｃｒ２Ｏ３−２ＴｉＯ２（膜厚３ｎｍ）、Ｃｏ１５Ｃｒ１６Ｐｔ６Ｂ（膜厚３ｎｍ）を積層した。
次に、ＣＶＤ法により、層厚２．５ｎｍの炭素保護層を成膜した。
【０１０１】
次に、保護層までを形成した磁気記録媒体の表面を洗浄した。具体的には、フッ素化合物を用いた非水系洗浄剤等を用い、保護層までを形成した磁気記録媒体を洗浄槽内の洗浄液に浸漬し、超音波振動を加えることで、保護層表面を洗浄した。
【０１０２】
そして、洗浄後の保護層の表面に、ディッピング法により、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤層を、厚さ１５オングストロームで形成することにより、実施例の磁気記録媒体を得た。
【０１０３】
次に、潤滑剤層までを形成した後に洗浄処理を行った磁気記録媒体に対し、ワイピング処理を施した。この際、ワイピングテープとしては、ナイロン樹脂とポリエステル樹脂による線径２μｍの剥離型複合繊維からなるものを用いた。また、ワイピング処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、ワイピングテープの送り速度を１０ｍｍ／秒、ワイピングテープを磁気記録媒体に押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【０１０４】
次に、ワイピング処理を施した磁気記録媒体に対して、バーニッシュ処理を施した。この際、バーニッシュテープとしては、ポリエチレンテレフタレート製のフィルム上に、平均粒径０．５μｍの結晶成長タイプのアルミナ粒子をエポキシ樹脂で固着したものを用いた。また、バーニッシュ処理は、磁気記録媒体の回転数を３００ｒｐｍ、研磨テープの送り速度を１０ｍｍ／秒、研磨テープを磁気ディスクに押し当てる際の押圧力を９８ｍＮ、処理時間を５秒間として行った。
【０１０５】
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体に対して初期磁化を施した。具体的には、磁気記録媒体の両データ面に対し、磁気記録媒体を貫通する１０ｋＯｅの磁界を、ＮｄＦｅＢ系焼結磁石を用いて印加した。
【０１０６】
（マスター情報担体の製造）
マスター情報担体としては、２７１ｋトラック／インチのサーボ信号等の転写パターンが形成されたものを製造した。この際、マスター情報担体を、そのトラックを幅１２０ｎｍ、トラック間隔を６０ｎｍ、転写パターンの段差を４５ｎｍとして製造した。また、このマスター情報担体には、凸部及び凹部を有するＮｉ基材の上に、ＤＣスパッタリング法を用いて、層厚１０ｎｍのＲｕ膜、磁性層として層厚２０ｎｍの７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金膜、層厚１５ｎｍの８０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金膜の各膜を順次積層した後、その上に、硬質炭素保護層として層厚２０ｎｍの炭素膜をイオンビーム法で形成した。
【０１０７】
次に、硬質炭素保護層の表面に磁気塗料を塗布した。具体的には、平均粒子径１０ｎｍのＦｅＰｔ磁性ナノ粒子を１体積％、活性エネルギー線硬化性官能基としてメタクリル基を用いたシルセスキオキサン骨格含有硬化性組成物（重量平均分子量約３０００）を１体積％、残部がトルエンの溶液を、炭素保護膜の表面にスピンコートした後、乾燥させた後、紫外線を照射して樹脂を硬化させた。この際、紫外線の波長は２５０ｎｍ、照射時間は１０秒間とした。
【０１０８】
（磁気転写工程）
次に、バーニッシュ加工を施した磁気記録媒体に対して、上記マスター情報担体を用いた磁気転写により、サーボ信号等を書き込んだ。具体的には、初期磁化を施した磁気記録媒体の両面に、マスター情報担体を９８ｍＮの圧力で密着させ、このマスター情報担体の裏面から記録磁界を印加した。この記録磁界の強度は４ｋＯｅとし、転写時間は１０秒間とした。
このような条件で磁気記録媒体に磁気転写を施すことにより、磁気記録媒体を製造した。
【０１０９】
（マスター情報担体の洗浄）
本実施例では、マスター情報担体を用いて磁気記録媒体１万枚に磁気転写を行う度に、マスター情報担体の洗浄を行った。具体的には、洗浄液（ＫＯＨを０．１ｐｐｍ含む純水）が層流の状態で流れる洗浄槽内にマスター情報担体を浸漬しながら、このマスター情報担体の湿式洗浄を行った。そして、この条件でマスター情報担体を２０秒間洗浄した後、洗浄液を純水で洗い流し、ドライエアで乾燥させた。
【０１１０】
（磁気転写後の磁気記録媒体の評価）
本実施例では、上記方法で製造した磁気記録媒体について定期的に抜き取り評価を行った。具体的には、サーボ信号の再生特性を、リードライトアナライザ（型番：ＲＷＡ１６３２；米国ＧＵＺＩＫ社製）、及び、スピンスタンド（型番：Ｓ１７０１ＭＰ）を用いて測定した。この装置は、磁気記録媒体に記録されたサーボ信号等を読み込み、この信号を用いて磁気ヘッドの位置決めができるものである。また、この際、評価用の磁気ヘッドとして、ＴｕＭＲを用いた磁気ヘッドを使用してサーボ信号の読み込み時のＳ／Ｎ比を評価し、Ｓ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった場合に磁気転写不良と判断した。
【０１１１】
上記方法によって磁気記録媒体を製造した場合、２１４０００回の磁気転写を行うことが可能であった。
【０１１２】
［比較例］
比較例においては、磁気転写工程において用いるマスター情報担体として、表面に磁気塗料が塗布されていない従来の構成のものを用いた点を除き、上記実施例と同様の手順並びに条件で磁気記録媒体を製造し、上記同様に評価した。
【０１１３】
この結果、比較例においては、磁気転写を９１０００回行った時点で、磁気転写後の磁気記録媒体のＳ／Ｎ比が１６．０ｄＢ以下となった。このように、マスター情報担体の使用可能回数が少なくなった原因としては、転写部において偶発的に０．５ミクロン程度のダストを噛み込んだために、マスター情報担体の一部のパターンが破損したことが挙げられる。
【０１１４】
以上、本実施例の結果により、本発明に係る方法によって磁気記録媒体を製造することにより、磁気転写が不完全になるのを防止できるとともに、マスター情報担体の使用可能な合計回数を高めることができ、高記録密度の磁気記録媒体を効率良く低コストで製造することが可能であることが明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気記録再生装置、所謂ハードディスクドライブに用いられる磁気記録媒体の製造工程に適用することで、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を高い生産性で製造することが可能となり、産業上の利用可能性は計り知れない。
【符号の説明】
【０１１６】
１０…磁気記録媒体、
Ｗ…磁気記録媒体、
１…非磁性基板、
２…軟磁性下地層、
２ｂ…スペーサ層、
２ａ…軟磁性層、
３…配向制御層、
４…垂直磁性層（磁性層）、
４ａ、４ｂ、４ｃ…磁性層、
５…保護層、
６…潤滑剤膜、
７、７ａ、７ｂ…非磁性層、
５０…磁気記録再生装置、
５１…媒体駆動部、
５７…磁気ヘッド、
５８…ヘッド駆動部、
５９…記録再生信号系、
Ｍ…マスター情報担体、
１００…Ｎｉ基材、
１００ａ…凸部、
１００ｂ…凹部、
１０１…磁性層（垂直磁性膜）、
１０２…保護層、
Ｇ…磁界生成手段
【図１】
2012033209.tif 000003
【図２】
2012033209.tif 000004
【図３】
2012033209.tif 000005