【事件の表示】
　平成　４年特許願第　３７７５０号「ポジ型レジスト組成物」拒絶査定に対する審判事件〔平成　５年　９月１０日出願公開、特開平　５−２３２６９７、請求項の数（３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
　１．手続きの経緯・本願発明　
　本願は、平成４年２月２５日の出願であって、平成１０年１１月９日付けで明細書の補正がなされ、平成１２年５月３１日付けで拒絶理由が通知され、平成１２年７月２７日付けで意見書が提出され、平成１２年１０月１３日付けで拒絶査定がなされた、次いで審判請求の後平成１２年１２月１９日付で明細書の補正がなされたものであり、その請求項１ないし３に係る発明は次のおりのものである。　
「【請求項1】
　ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量 1,000以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して２５％以下であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物、及び下式のものから選ばれる化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化1】
　
　　【請求項2】
　該アルカリ可溶性ノボラック樹脂のＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量 1,000以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して２０％以下である請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
　　【請求項3】
　該アルカリ可溶性ノボラック樹脂が、3,000〜20,000 のポリスチレン換算重量平均分子量を有する請求項１又は２に記載のポジ型レジスト組成物。　」
　
　２．原査定の概要　
　原査定の拒絶の理由の概要は次のとおりである。
　【理由１】
　本願請求項１ないし３に係る発明は、その出願前日本国内で頒布された、
　　　文献１．特開平３−２２８０５９号公報
　　　文献２．特開平３−１４２４６８号公報
　　　文献３．特開昭６３−３１３１５０号公報
に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができとものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることはできない。
　
【理由２】
　この出願の請求項１ないし３に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に出願公開がされた下記の特許出願の願書に最初に添付された明細書に記載された発明と同一であり、しかも、この出願の発明者がその出願前の特許出願に係る上記の発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が上記特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
　
　先願４．特願平２−１９９９９６号（特開平４−８６６６５号公報）
　先願５．特願平３−８９８７６号（特開平４−２９９３４８号公報）
　先願６．特願平４−２３９６７号（特開平５−２２４４０７号公報）
　
　　３．当審の判断　
　3.1　特許法第２９条第２項違反について
　3.1.1　請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）について
　本願発明１は、アルカリ可溶性樹脂として、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量1,000以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して２５％以下であるという特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド化合物及び〔化１〕に示される特定構造のシクロアルキリデン系ビスフェノール化合物を含有することにより、感度、解像度、耐熱性、密着性等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物に関する。(本願明細書【0006】、【0030】【0035】)
　一方、引用文献１には、アルカリ可溶性樹脂として、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量900以下の成分のパターン面積が、全パターン面積に対して２５％以下であるＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及びトリフェノール化合物を用いたポジ型レジスト組成物が示されている。(請求項２及び10、第4頁右上欄11行〜左下欄9行、第5頁左上欄15行〜右上欄4行)
　また、引用文献２にも、アルカリ可溶性樹脂として、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量900以下の成分のパターン面積が、全パターン面積に対して30％以下であるＧＰＣ分布有するアルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及びトリフェノール化合物を用いたポジ型レジスト組成物が示されいる。(請求項３、第３頁右下欄３行〜下から３行)
　しかしながら、引用文献１、２には、特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性樹脂と組合せるフェノール化合物として、トリフェノール化合物が記載されているが、本願発明１における〔化１〕で示されるシクロアルキリデン系ビスフェノール化合物を用いることについては開示も示唆もなく、また、該ビスフェノールの採用により、レジストとしての諸性能のバランスに格別優れた組成物が得られることについても示唆も開示もなされていない。
　引用文献３には、アルカリ可溶性フェノール樹脂を用い、フェノール化合物として、下記一般式
　   
 
 
〔式中、Ｘは、単結合、ＣＨ２、ＳＯ２、Ｓ、ＣＯ、Ｃ（ＣＨ３）２、ＣＨＣＣｌ３又は　     
　
を表す〕で示されるビスフェノール化合物を用いた感光性組成物が示されていて、本件発明１のビスフェノールは該一般式に包含されている。(請求項１、第３頁左上欄17行〜右上欄15行)
　しかしながら、該ビスフェノール化合物の具体例としては、ヒ゛フェニルジオール−（４，４’）、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ケトン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−スルホンが示されているにすぎず（第３頁左上欄17行〜右上欄15行、実施例１〜４）、本願発明１の〔化１〕で示されるビスフェノールについての記載はないばかりか、引用文献３に記載の一般式に含まれる多数のビスフェノールから、本願発明１の〔化１〕で示される化合物を特に選択する根拠となる記載もない。
　しかも、引用文献３に記載のビスフェノール化合物と、特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性樹脂とを組合せることを示唆する記載も見あたらない。
　以上のように、引用文献１〜３の何れにも、特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性樹脂と特定構造を有するシクロアルキリデン系ビスフェノール化合物とを組合わせることについては開示も示唆もなく、レジスト諸性能のバランスに格別優れたレジスト組成物が得られることについても示唆も開示もなされていない。
　したがって、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定に該当するものではない。
　
　3.1.2　請求項２及び３に係る発明について
　請求項２又は３に係る発明は、請求項１の構成要件を全て引用するものであるから、上記請求項１に係る発明と同様の理由により、引用文献１ないし３に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
　3.2　【理由２】（特許法第２９条の２違反）について
　本願発明１ないし３は、、アルカリ可溶性樹脂として、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量1,000以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して２５％以下であるという特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性ノボラック樹脂及びキノンジアジド化合物に加えて、〔化１〕で示される特定構造のシクロアルキリデン系ビスフェノール化合物を含有するポジ型レジスト組成物に関するものである。
　しかしながら、先願４〜６のいずれの当初明細書にも、本願発明の〔化１〕で示される特定構造のシクロアルキリデン系ビスフェノール化合物については例示されてはいるものの「アルカリ可溶性樹脂として、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算分子量1,000以下の成分のパターン面積が、未反応フェノール類を除く全パターン面積に対して２５％以下であるという特定のＧＰＣ分布を有するアルカリ可溶性ノボラック樹脂」については記載されていない。
　したがって、本願発明１ないし３が先願４ないし６の当初の明細書に記載された発明と同一とはいえないから特許法第２９条の２の規定に該当するものではない。
　
　４．むすび
　したがって、本願請求項１ないし３に係る発明は、引用文献１ないし３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできないし、先願４ないし６の出願当初の明細書に記載された発明であるとも認めることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。