【事件の表示】
　特願２００９−１５４５５６「太陽電池モジュール用保護フィルム及び該保護フィルムを使用した太陽電池モジュール」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　１月２０日出願公開、特開２０１１−　１４５５９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２１年６月３０日の出願であって、平成２５年５月１６日付けで拒絶理由が通知され、同年７月２６日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、同年８月９日付けで拒絶理由が通知され、同年１０月８日付けで意見書が提出されたが、同年１０月２４日付けで拒絶査定がなされた。本件は、これに対して、平成２６年１月２８日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
　
第２　本願発明
１．本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２５年７月２６日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「保護フィルム、充填剤層、光起電力素子、充填剤層、及び保護フィルムの積層構造を含む太陽電池モジュールを構成する太陽電池モジュール用保護フィルムにおいて、該保護フィルムがフッ素系樹脂フィルムの一方の面に、ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け、さらに、反応性イオンクラスタービーム法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなるガスバリア性層を設けたガスバリア性フィルムを含むことを特徴とする太陽電池モジュール用保護フィルム。」
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、特開２００４−２４７３９０号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
　
（ａ）「【０００８】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。
なお、本発明において、シ−トとは、シ−ト状物ないしフィルム状物のいずれの場合も意味するものであり、また、フィルムとは、フィルム状物ないしシ−トシ−ト状物のいずれの場合も意味するものである。
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的に説明すると、図１、図２、図３、図４および図５は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トの層構成についてその二三例を例示する概略的断面図であり、図６および図７は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを構成する無機酸化物の蒸着膜の層構成についてその他の例を例示する概略的断面図であり、図８は、図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面図である。
【０００９】
まず、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トＡは、図１に示すように、基材フィルム１の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜２を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜２を設けた基材フィルム１の一方の片面に、着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム３を積層し、その他方の片面に、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム４を積層した構成からなるものである。
または、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トＡ１  は、図２に示すように、基材フィルム１の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜２を設け、かつ、上記の無機酸化物の蒸着膜２を設けた基材フィルム１の２層以上を重層し、更に、上記で重層した重層体５の一方の片面に、着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム３を積層し、その他方の片面に、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム４を積層した構成からなるものである。
あるいは、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トＡ２  は、図３に示すように、基材フィルム１の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜２を設け、かつ、上記の無機酸化物の蒸着膜２を設けた基材フィルム１の２層以上を強靱性樹脂フィルム６を介して重層し、更に、上記で重層した重層体５ａの一方の片面に、着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム３を積層し、その他方の片面に、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルム４を積層した構成からなるものである。
上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トについてその二三例を例示するものであり、本発明は、これによって限定されるものではないことは勿論である。」
（ｂ）「【００１３】
更に、上記の図１〜５に示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トにおいて、無機酸化物の蒸着膜としては、図６、図７等に示すように、後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の２層以上、あるいは、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の２層以上のように、無機酸化物の蒸着膜２、２の２層以上を重層した多層膜２ａ（図６）、あるいは、
後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜２ｂと、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜２ｃとの異種の無機酸化物の蒸着膜２ｂ、２ｃの２層以上を重層した複合膜２ｄ（図７）等で構成することができるものである。
【００１４】
次に
、本発明において、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造する太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示すると、上記の図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トＡを使用した例で説明すると、図８に示すように、まず、通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト１１、充填剤層１２、光起電力素子としての太陽電池素子１３、充填剤層１４、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト１５（Ａ）を順次に積層し、次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電池モジュ−ルＴを製造することができる。
上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示するものであり、本発明はこれにより限定されるものではない。
例えば、図示しないが、上記の図２〜図５等に示す太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを使用し、上記と同様にして、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルを製造することができ、また、上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他の層を任意に加えて積層することができるものである。
また、図示しないが、上記の太陽電池モジュ−ルにおいて、上記の着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムが、外面側に位置して積層され、他方、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムが、内面側に位置して積層されることが望ましいものである。
【００１５】
次に、本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等について更に詳しく説明すると、まず、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する基材フィルムとしては、基本的には、無機酸化物の蒸着膜等を形成する際の蒸着条件、その他等に耐え、かつ、それらの無機酸化物の蒸着膜等との密接着性に優れ、それらの膜の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができ、また、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、また、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐久性に富み、その保護能力性が高いこと等の特性を有する各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
【００１６】
具体的には、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、
フッ素系樹脂
のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、または、ポリエステル系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
而して、本発明において、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トを使用することにより、それが有する機械的特性、化学的特性、物理的特性等の優れた特性、具体的には、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐防湿性、耐汚染性、耐薬品性、その他等の諸特性を利用して太陽電池を構成する裏面保護シ−トとするものであり、これにより、耐久性、保護機能性等を有し、また、そのフレキシブル性や機械的特性、化学的特性等から軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリングし易い等の利点を有するものである。」
（ｃ）「【００２３】
更にまた、本発明においては、上記の基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を製膜化する際の蒸着条件等に対し該基材フィルムを保護し、例えば、その黄変、劣化ないし収縮、あるいは、フィルム表層ないし内層等における凝集破壊等を抑制し、更に、基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜が良好に製膜化され、かつ、該基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、予め、基材フィルムの一方の面に、表面前処理層として、例えば、後述するプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）、あるいは、例えば、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて、無機酸化物の蒸着薄膜を形成することにより、耐蒸着保護膜を設けることができる。なお、本発明において、上記の酸化珪素等からなる耐蒸着保護膜の膜厚としては、薄膜であり、更に、水蒸気ガス、酸素ガス等に対するバリア性を有しない非バリア性膜で十分であり、具体的には、膜厚１５０Å未満であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、１０〜１００Å位、好ましくは、２０〜８０Å位、更に、より好ましくは、３０〜６０Å位が望ましい。
而して、上記において、１５０Å以上、具体的には、１００Å、更に、８０Å、更には、６０Åより厚くなると、良好な耐蒸着保護膜を形成することが困難になるので好ましくなく、また、１０Å、更に、３０Å、更には、６０Å未満であると、耐蒸着保護層としての機能を喪失し、その効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
【００２４】
次に、
本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明すると、かかる無機酸化物の蒸着膜としては、
その両者を併用して、無機酸化物の蒸着膜の
２層以上からなる
複合膜を形成して製造することができるものである。
上記の物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して基材フィルムの上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。
【００２５】
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成する方法
・・・（中略）・・・
【００２６】
上記において、無機酸化物の蒸着膜としては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）
の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、
上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、
のように金属酸化物として呼ぶことができ
また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の値をとることができる。
上記において、Ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケイ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜４０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属、または金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【００２７】
次にまた、
本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【００２８】
具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、図１０は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
・・・（中略）・・・
【００２９】
上記において、真空チャンバ−内を真空ポンプにより減圧し、真空度１×１０−１〜１×１０−８Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０−３〜１×１０−７Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましいものである。
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを原料供給ノズルを介して真空チャンバ−内に導入されるものである。
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、１〜４０％位、酸素ガスの含有量は、１０〜７０％位、不活性ガスの含有量は、１０〜６０％位の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を１：６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
一方、冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバ−内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、混合ガス中の１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の樹脂フィルムの上に、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができるものである。
なお、このときの真空チャンバ−内の真空度は、１×１０−１〜１×１０−４Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０−１〜１×１０−２Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましく、また、基材フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分位、好ましくは、５０〜１５０ｍ／分位に調製することが望ましいものである。
【００３０】
また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜の形成は、基材フィルムの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯＸ  の形で薄膜状に形成されるので、当該形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となるものであり、従って、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜のバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と比較してはるかに高いものとなり、薄い膜厚で十分なバリア性を得ることができるものである。
また、本発明においては、ＳｉＯＸ  プラズマにより基材フィルムの表面が、清浄化され、基材フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と基材フィルムとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
更に、上記のように酸化珪素等の無機酸化物の連続膜の形成時の真空度は、１×１０−１〜１×１０−４Ｔｏｒｒ位、好ましくは、１×１０−１〜１×１０−２Ｔｏｒｒ位に調製することから、従来の真空蒸着法により酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する時の真空度、１×１０−４〜１×１０−５Ｔｏｒｒ位に比較して低真空度であることから、基材フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。
【００３１】
本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスを使用して形成される酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式ＳｉＯＸ  （ただし、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式ＳｉＯＸ  （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Ｘの値は、蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
・・・（中略）・・・
【００３５】
ところで、
本発明において、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を形成して使用することもできるものである。
而して、上記の異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜としては、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいものである。
勿論、本発明においては、上記とは逆に、基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法により、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することもできるものである。」
「【００５９】
次に、本発明において、太陽電池モジュ−ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて説明すると、かかる表面保護シ−トとしては、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、更に、耐候性、耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性を有し、物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、極めて耐久性に富み、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保護ということから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要である。
上記の表面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、公知のガラス板等は勿論のこと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリアミド系樹脂（各種のナイロン）、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、２軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−トも使用することができる。
また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚としては、１２〜２００μｍ位、より好ましくは、２５〜１５０μｍ位が望ましい。」
（ｃ）「【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
　すると、上記引用文献１の記載事項から、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
「通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを順次に積層し、次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とした太陽電池モジュ−ルを構成する太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トであって、
　太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トは、基材フィルムの一方又は両方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの一方の片面に、着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムを積層し、その他方の片面に、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムを積層した構成からなり、
　基材フィルムとしては、フッ素系樹脂を使用し、
　無機酸化物の蒸着膜として、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して形成する異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を使用し、この複合膜は、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成し、
　物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法を用いて形成されるケイ素（Ｓｉ）の酸化物の蒸着膜を使用し、
　化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法を用いて形成される酸化珪素の蒸着膜を使用する、
　太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト」
３．対比
（１）引用発明と本願発明との対比
（ａ）引用発明の「通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト」及び「太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト」が、本願発明の「保護フィルム」に、また、引用発明の「充填剤層」、「光起電力素子としての太陽電池素子」が、それぞれ、本願発明の「充填剤層」、「光起電力素子」に相当する。
　すると、引用発明の「通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを順次に積層し、次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とした太陽電池モジュ−ルを構成する太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト」は、本願発明の「保護フィルム、充填剤層、光起電力素子、充填剤層、及び保護フィルムの積層構造を含む太陽電池モジュールを構成する太陽電池モジュール用保護フィルム」に相当する。
（ｂ）引用発明の「フッ素系樹脂を使用し」た「基材フィルム」は、本願発明の「フッ素系樹脂フィルム」に相当する．
　また、引用発明の「無機酸化物の蒸着膜として、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して形成する異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を使用し、この複合膜は、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成し、
　物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法を用いて形成されるケイ素（Ｓｉ）の酸化物の蒸着膜を使用し、
　化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法を用いて形成される酸化珪素の蒸着膜を使用する、」ことは、
　無機酸化物の蒸着膜として、まず、基材フィルムの上に、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法を用いて酸化珪素の蒸着膜を設け、次いで、該酸化珪素の蒸着膜の上に、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法を用いてケイ素（Ｓｉ）の酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することと言い換えることができる。
　そして、この言い換えた「プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法を用いて酸化珪素の蒸着膜を設け」ることは、本願発明の「ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け」ることに相当し、
　また、この言い換えた「真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法を用いてケイ素（Ｓｉ）の酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成する」ことと、本願発明の「反応性イオンクラスタービーム法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなる」ことは、「物理気相成長法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなる」ことで一致する。
　すると、引用発明の
「基材フィルムの一方又は両方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、」
「基材フィルムとしては、フッ素系樹脂を使用し、
　無機酸化物の蒸着膜として、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して形成する異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜を使用し、この複合膜は、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成し、
　物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法を用いて形成されるケイ素（Ｓｉ）の酸化物の蒸着膜を使用し、
　化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法を用いて形成される酸化珪素の蒸着膜を使用」したものと、本願発明の
「フッ素系樹脂フィルムの一方の面に、ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け、さらに、反応性イオンクラスタービーム法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなるガスバリア性層を設けたガスバリア性フィルム」は、
「フッ素系樹脂フィルムの一方の面に、ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け、さらに、物理気相成長法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなるガスバリア性層を設けたガスバリア性フィルム」で一致する。
（ｃ）引用発明の「太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トは、基材フィルムの一方又は両方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、上記の無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムの一方の片面に、着色用添加剤と紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の着色ポリオレフィン系樹脂フィルム、または、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムを積層し、その他方の片面に、紫外線吸収剤と光安定化剤とを含む耐熱性の透明ないし半透明ポリオレフィン系樹脂フィルムを積層した構成からな」ることは、本願発明の「該保護フィルムが」「ガスバリア性フィルム
を含む
（２）一致点
　してみると、両者は、
「保護フィルム、充填剤層、光起電力素子、充填剤層、及び保護フィルムの積層構造を含む太陽電池モジュールを構成する太陽電池モジュール用保護フィルムにおいて、該保護フィルムがフッ素系樹脂フィルムの一方の面に、ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け、さらに、物理気相成長法により珪素酸化物の蒸着膜を重層してなるガスバリア性層を設けたガスバリア性フィルムを含むことを特徴とする太陽電池モジュール用保護フィルム。」
で一致し、次の点で相違する。
（３）相違点
　物理気相成長法について、本願発明では、「反応性イオンクラスタービーム法」であるのに対して、引用発明では、「真空蒸着法（抵抗加熱、誘電加熱、ＥＢ加熱方式）、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法」である点。
　
４．判断
（１）相違点について
　特開昭６３−１６６９６０号公報（特に、公報第１頁右下欄第１３行〜第２頁左上欄第１行参照。）、特開平３−１９３８６５号公報（特に、公報第１頁右下欄第４〜１４行参照。）により示されるように、ＳｉＯ２等の酸化物薄膜の蒸着法一般において、反応性イオンクラスタービーム法が、スパッタリング、ＣＶＤなどの他の方法に比べて、硬度が高く、基板への付着力が強いということは、周知の技術事項である。
　そして、引用文献１の段落【０００２】に「一般に、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護シ−ト層としては、例えば、強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、光反射性、光拡散性、意匠性等の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優れ、更に、
表面硬度が高く
（２）効果について
　本願発明が奏し得る効果は、引用発明及び周知の技術事項から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
（３）請求人の主張について
（ａ）請求人は、審判請求書の【請求の理由】「３．」「（３）」「（ロ）−１．」及び「（ロ）−４．」で、
「すなわち、引用文献１に記載の発明は、一般的な記載として、太陽電池モジュール用裏面保護シートとして、無機酸化物蒸着膜の複合膜を用いてもよいこと、その蒸着膜の形成方法として、一般的な物理気相成長法や化学気相蒸着法を利用して形成することができることなどが記載されているだけのものである　。
　さらに、個々の層の構成についての説明記載、実施態様として蒸着層１層のみを有するバリア性フィルムの実施例のみが記載されるだけであって、蒸着層を重層した蒸着層の実施例についての記載がなく、しかも、ＣＶＤ法と物理蒸着法による蒸着層を重層したものも、この順番に重層することも、ましてや、本願発明のように先ず、ＣＶＤ法により珪素酸化物の蒸着膜を設け、さらに、反応性イオンクラスタービーム法により珪素酸化物を重層してなるガスバリア性層を設けたガスバリア性フィルムとすること及びそのような特定の積層構成としたことにより予測し得ない顕著な効果を奏することについて記載も示唆もするものではありません。」
「すなわち、引用文献１には、本願の請求項１−１６に係る発明の個々の構成に関する一般的な記載があるだけですから、無機酸化物の蒸着膜に対するバリア性に対する考え方として、蒸着膜を形成することで、基材フィルムのガスバリア性は向上すること、また、蒸着膜が厚くなればバリア性は向上するという程度の一般的な技術常識を前提とし、重ねればバリア性が向上するという程度の認識に基づいて記載されているものであって、どのような方法のどのような蒸着膜とを組み合わせるとより優れたガスバリア性フィルムが得られるのかとい目的、課題を持ち、方法とその方法により形成される蒸着膜の物性、構造等を考慮して、複合膜をどのように形成することがより優れたガスバリア性能のものが得られるかということまでも考慮したものではありませんし、そのような技術的事項について、全く、何ら記載も示唆もされていません。」
「したがって、本願の請求項１−１６に係る発明は、特定の積層順序で特定の蒸着法を採用したこと及びそのことにより表１に示す優れた効果を奏することができるものであり、これに対し、引用文献１〜４に記載の発明は、上記のとおり本願の請求項１−１６に係る発明の目的、課題を記載も示唆もしないものであり、本願の請求項１−１６に係る発明の発明特定事項を記載も示唆もしませんし、かつ本願の請求項１−１６に係る発明の発明特定事項に記載のようにすることにより表１に示すような予期しない優れたガスバリア性能を発揮することができることを記載も示唆もしませんから、引用文献１〜４に記載の発明が本願の請求項１−１６に係る発明の発明特定事項の構成及びその発明特定事項に基づく効果を奏することを当業者といえども予測することができないものと考えます。」
と主張している。
　しかし、請求人の主張中にある「蒸着膜が厚くなればバリア性は向上するという程度の一般的な技術常識を前提とし、重ねればバリア性が向上するという程度の認識」という当業者の技術常識を念頭において、引用文献１を読めば、単層膜より複合膜の方が保護フィルムの性能が向上することが理解できることは明らかであるから、引用文献１に、複合膜の実施例の記載がないとしても、当業者であれば、複合膜により保護フィルムの性能が向上できるという技術事項を把握できると認められる。
　また、引用文献１には、複合膜について、ＣＶＤ法による蒸着膜とＰＶＤ法による蒸着膜のどちらを先に形成すると良いかについての記載はないが、本願の明細書においても、ＣＶＤ法を先にする例が記載されるのみで、ＰＶＤ法を先にする例との比較についての記載は全くないから、本願の明細書の記載により、ＣＶＤ法を先にすることにより、予測し得ない顕著な効果を奏することが開示されているとは認められない。
　さらに、引用文献１には、ＰＶＤ法として、種々の公知の方法が列記されているが、その中のどの方法を採用するかにおいて、それぞれの方法の特性などを考慮して選択することは、蒸着法の研究・開発において普通に行われることにすぎない。
（ｂ）請求人は、審判請求書の【請求の理由】「３．」「（３）」「（ロ）−２．」で、
「審査官殿は、他の蒸着法よりも、Ｒ−ＩＣＢ法の蒸着膜の「高度」（硬度？）があり、付着力も強いことは当業者には周知の事項であると指摘しています　が、本願の請求項１−１６に係る発明は、Ｒ−ＩＣＢ法を「硬度の優れた蒸着膜を形成する」ため採用したものではありません。
　むしろ硬度が優れることは、折角、ガラス基板からプラスチックス基材に移行することで、軽量化とともに柔軟性を持たせようとしたことやクラックが形成し難くすることなどの本願の請求項１−１６に係る発明の目的又は課題と反するものであり、Ｒ−ＩＣＢ法を組み合わせて用いることを避ける方向に導くものですから、審査官殿が引用し、摘示した事項からは本願の請求項１−１６に係る発明とすることに阻害要因があるといえるものと考えます。」
と主張している。
　しかし、上述のとおり、引用文献１には、表面硬度が高いことが求められることが記載されており（本願の明細書段落【０００４】にも同じ記載がある。）、また、蒸着膜は数十ｎｍ程度の厚さであるから、硬度が優れていることのみにより柔軟性が大きく損なわれるとは必ずしもいえないから、反応性イオンクラスタービーム法による蒸着膜の硬度が高いことが、引用発明のＰＶＤ法として、反応性イオンクラスタービーム法を採用することを阻害する要因になるとは認められない。
（４）結論
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
第３　むすび
　したがって、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって結論のとおり審決する。