(57)【要約】【課題】像担持体表面に残留した残留物を除去するクリーニング装置等に関し、表面の硬度が高められた像担持体からも残留物を長期にわたってしっかりと除去する。【解決手段】像担持体１１の、被転写面３０にトナー像が転写された後の表面１１ａから垂直に立ち上がる垂線Ｌに対して像担持体１１の移動方向上流側若しくは下流側に傾いて表面１１ａを向いた対向面１５３ａと、対向面１５３ａから折れ曲がった厚み面１５３ｂとの境になる縁１５３ｃが像担持体１１の中心軸１１０に対して平行になるように配備され、縁１５３ｃが表面１１ａに向けて押しつけられ、表面１１ａに残留した残留物を掻き取るゴム材料からなるものであって、縁１５３ｃと、縁１５３ｃから対向面１５３ａにかけての部分と、縁１５３ｃから厚み面１５３ｂにかけての部分とにそのゴム材料よりも硬い被膜１５３１を有するクリーニングブレード１５３を備える。【選択図】        図３
2007086441.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー像を表面に担持して中心軸の周りを循環移動することで、該トナー像を被転写面に転写する転写領域まで該トナー像を搬送する像担持体の、該被転写面にトナー像が転写された後の表面に残留した残留物を該表面から除去するクリーニング装置において、
前記像担持体の、前記被転写面にトナー像が転写された後の表面から垂直に立ち上がる垂線に対して該像担持体の移動方向上流側若しくは下流側に傾いて該表面を向いた対向面と、該対向面から折れ曲がった厚み面との境になる縁が該像担持体の中心軸に対して平行になるように配備され、該縁が該表面に向けて押しつけられ、該表面に残留した残留物を掻き取るゴム材料からなるものであって、該縁と、該縁から前記対向面にかけての部分と、該縁から前記厚み面にかけての部分とに該ゴム材料よりも硬い被膜を有するクリーニングブレードを備えたことを特徴とするクリーニング装置。
【請求項２】
トナー像を形成し、形成したトナー像を、被転写面に転写し最終的に記録媒体上に定着することにより該記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
中心軸の周りを所定方向に回転しながら表面にトナー像が形成される像担持体、
前記像担持体に形成されたトナー像を所定の被転写面に転写する転写手段、および
前記像担持体の、前記被転写面にトナー像が転写された後の表面から垂直に立ち上がる垂線に対して該像担持体の回転方向上流側若しくは下流側に傾いて該表面を向いた対向面と、該対向面から折れ曲がった厚み面との境になる縁が該像担持体の中心軸に対して平行になるように配備され、該縁が該表面に向けて押しつけられ、該表面に残留した残留物を掻き取るゴム材料からなるものであって、該縁と、該縁から前記対向面にかけての部分と、該縁から前記厚み面にかけての部分とに該ゴム材料よりも硬い被膜を有するクリーニングブレードを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トナー像を担持して循環移動する像担持体表面に残留した残留物を除去するクリーニング装置、およびそのクリーニング装置を備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式では、まず、トナー像形成サイクルが実施される。このトナー像形成サイクルでは、所定方向に循環移動する像担持体表面を帯電器によって帯電させ帯電後の像担持体表面に露光光を照射することによりその表面に静電潜像を得、その静電潜像を現像器を用いてトナーにより現像し像担持体表面にトナー像を形成する。トナー像形成サイクルによって形成されたトナー像は、転写手段により所定の被転写面（記録媒体や中間転写体）に転写され最終的に記録媒体上に定着されることで記録媒体上に定着トナー像からなる画像が形成される。
【０００３】
記録媒体や中間転写体に転写を終えた像担持体表面には、未転写のトナーや帯電の際に生じた放電生成物などの異物が存在するため、これらを次のトナー像形成サイクルに先立ってクリーニング装置により除去することが必要になる。
【０００４】
残留トナー等の異物を除去するクリーニング方式としては、ウレタン等のゴム材料からなる板状のクリーニングブレードを、像担持体表面から垂直に立ち上がる垂線に対して像担持体の循環移動方向上流側若しくは下流側に傾けて配備し、その先端エッジ部を像担持体表面に圧接させる方式が、クリーニング効率が高く、安価で省スペース化が図れるため多くとられている。この方式では、像担持体の表面に残留した残留物をクリーニングブレードの先端エッジ部によって掻き落とす。この際、像担持体表面とブレードの先端エッジ部との間に摺擦が生じ、この摺察が好適に保たれないと、像担持体表面とブレードの先端エッジ部との摩擦力が高くなりすぎ、像担持体表面の磨耗が必要以上に促進されたり、ブレードの先端エッジ部に磨耗やカケが発生し、良好なクリーニング性を長期にわたり維持することが困難になる。
【０００５】
そこで、クリーニングブレードの先端エッジ部に低摩擦化材料を塗布しておいたり、あるいは低摩擦化材料を分散させた材料を用いてクリーニングブレードを作製しておく提案（例えば、特許文献１〜３等参照）や、像担持体表面に潤滑剤を塗布する提案（例えば、特許文献４等参照）がなされている。
【特許文献１】特開平５−７２９５７号公報
【特許文献２】特開平５−１２７４４５号公報
【特許文献３】特開平５−６６６９８号公報
【特許文献４】特開２００４−２７９７３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、像担持体の表面には、帯電器や現像器や転写手段等により電気的、機械的な外力が直接加えられる。このため、昨今では、像担持体表面の硬度を高め、像担持体表面の磨耗や傷に対する耐久性を向上させる傾向にある。表面の硬度が高められた像担持体を備えた画像形成装置では、上記特許文献による提案を採用し、像担持体表面とブレードの先端エッジ部との摩擦力を弱めたとしても、ゴム材料からなるクリーニングブレードの先端エッジ部は、硬度が高められた像担持体表面に負け、結局、その先端エッジ部に磨耗やカケが発生し、良好なクリーニング性を長期にわたり維持することがやはり困難になる。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑み、表面の硬度が高められた像担持体からも残留物を長期にわたってしっかりと除去することができるクリーニング装置、およびそのクリーニング装置を備えた画像形成装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を解決する本発明のクリーニング装置は、トナー像を表面に担持して中心軸の周りを循環移動することで、そのトナー像を被転写面に転写する転写領域までそのトナー像を搬送する像担持体の、その被転写面にトナー像が転写された後の表面に残留した残留物をその表面から除去するクリーニング装置において、
上記像担持体の、上記被転写面にトナー像が転写された後の表面から垂直に立ち上がる垂線に対してその像担持体の移動方向上流側若しくは下流側に傾いてその表面を向いた対向面と、その対向面から折れ曲がった厚み面との境になる縁がその像担持体の中心軸に対して平行になるように配備され、その縁がその表面に向けて押しつけられ、その表面に残留した残留物を掻き取るゴム材料からなるものであって、その縁と、その縁から上記対向面にかけての部分と、その縁から上記厚み面にかけての部分とにそのゴム材料よりも硬い被膜を有するクリーニングブレードを備えたことを特徴とする。
【０００９】
ここにいう像担持体とは、一様に帯電された後に露光を受け静電潜像が形成される感光体であってもよいし、その感光体からトナー像が１次転写され１次転写されたトナー像を記録媒体へ２次転写する中間転写体であってもよい。すなわち、本発明のクリーニング装置は、感光体表面のクリーニング装置としても、中間転写体表面のクリーニング装置としても適用することができる。
【００１０】
本発明のクリーニング装置によれば、上記クリーニングブレードの、上記縁を含めてその縁の周囲の硬度が上記被膜によって高められている。上記被膜が設けられていないクリーニングブレードでは、長期の使用による上記縁の磨耗は、その縁から上記クリーニングブレードの上記対向面にかけても上記厚み面にかけても進む。そこで、本発明のクリーニング装置では、クリーニングブレードの上記縁と、その縁から上記対向面にかけての部分と、その縁から上記厚み面にかけての部分とに上記被膜を設け、磨耗が進むことやカケが生じることを抑えている。したがって、本発明のクリーニング装置によれば、表面の硬度が高められた像担持体からも残留物を長期にわたってしっかりと除去することができる。
【００１１】
なお、上記クリーニングブレードが、このクリーニングブレード全面に上記被膜を有するものであってもよいが、クリーニングブレード全面のうちの、上記縁と、その縁から上記対向面にかけての部分と、その縁から上記厚み面にかけての部分とに限って上記被膜を有するものであることが好ましい。
【００１２】
上記被膜によってクリーニングブレードの表面をあまり多く覆ってしまうと、上記ゴム材料の弾性力が変化してしまうため、上記被膜で覆う部分は必要最小限であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明のクリーニング装置において、上記被膜は、結晶構造としてアモルファスＳＰ3構造を８５％以上有する固体カーボンからなるものであることが好ましい。
【００１４】
こうすることで、上記先端の縁を含めたクリーニングブレード先端部分の硬度が上記被膜によって十分に高められる。
【００１５】
ここで、上記固体カーボンとしては、例えば、テトラヘデラル  アモルファス  カーボン（Ｔａ−Ｃ）をあげることができる。
【００１６】
このＴａ−ｃは、ゴム材料よりも硬度が十分に高く、摩擦係数が低い。
【００１７】
上記目的を解決する本発明の画像形成装置は、トナー像を形成し、形成したトナー像を、被転写面に転写し最終的に記録媒体上に定着することによりその記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
中心軸の周りを所定方向に回転しながら表面にトナー像が形成される像担持体、
上記像担持体に形成されたトナー像を所定の被転写面に転写する転写手段、および
上記像担持体の、上記被転写面にトナー像が転写された後の表面から垂直に立ち上がる垂線に対してその像担持体の回転方向上流側若しくは下流側に傾いてその表面を向いた対向面と、その対向面から折れ曲がった厚み面との境になる縁がその像担持体の中心軸に対して平行になるように配備され、その縁がその表面に向けて押しつけられ、その表面に残留した残留物を掻き取るゴム材料からなるものであって、その縁と、その縁から上記対向面にかけての部分と、その縁から上記厚み面にかけての部分とにそのゴム材料よりも硬い被膜を有するクリーニングブレードを備えたことを特徴とする。
【００１８】
ここにいう被転写面とは、中間転写体の、上記像担持体表面に接する面であってもよいし、あるいは記録媒体の記録面であってもよい。
【００１９】
本発明の画像形成装置によれば、上記本発明のクリーニング装置を備えているため、上記像担持体の表面の硬度が高くても、その表面から残留物が長期にわたってしっかりと除去される。
【００２０】
ここで、上記像担持体が、表面に、電荷輸送能を有する構造単位をもち、かつ架橋構造を有する樹脂を含有する保護層を有するものであってもよく、さらには、
上記保護層が、メチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂およびシロキサン誘導体を架橋したシロキサン系樹脂のうちの少なくとも１種であって、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を含む電荷輸送性構造単位を有する樹脂を含むものであってもよい。
【００２１】
上記保護層によって上記像担持体の表面における磨耗や傷に対する耐久性が向上する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、表面の硬度が高められた像担持体からも残留物を長期にわたってしっかりと除去することができるクリーニング装置、およびそのクリーニング装置を備えた画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成を示す図である。
【００２５】
本実施形態の画像形成装置１は、フルカラータンデム方式を採用した画像形成装置であって、イエロー、マゼンタ、シアンおよびブラックの４色のトナーそれぞれに対応した、４つのトナー像形成ユニットを用いて、中間転写ベルトの送りに同期させて各トナー像形成ユニットでそれぞれの色のトナー像を形成し、それらトナー像を中間媒体としての中間転写ベルト上に重ね合わせ（１次転写）、中間転写ベルト上に重ね合わせたトナー像を記録媒体である用紙に転写（２次転写）し、定着するものである。
【００２６】
図１に示す画像形成装置１は、４つのトナー像形成ユニット１０、４つの１次転写ロール２０、３つの支持ロール３１に支持されて反時計回りの方向に循環移動する半導電性の中間転写ベルト３０、２次転写を行う一括転写装置４０、および未定着トナー像を用紙に定着させる定着装置５０を備えている。
【００２７】
４つのトナー像形成ユニット１０は、中間転写ベルト３０の循環方向に並んで配置されており、各トナー像形成ユニット１０には、時計回りに回転するドラム状の感光体１１が備えられている。各感光体１１は、ドラム状の導電性支持体の上に、下引層、電荷発生層、電荷輸送層、保護層を積層してなるものである。保護層は、この感光体１１の最表層になる層であって、感光体１１が回転軸を中心にして回転することで保護層（感光体１１の表面）は回転軸の周りを循環移動する。この保護層は、電荷輸送機能を有する構造単位を持ち、かつ架橋構造を有する樹脂を含有した高強度表面層である。感光体１１の表面は、中間転写ベルト３０に接している。中間転写ベルト３０が感光体１１の表面に接する領域には、中間転写ベルト３０を感光体１１と挟み込むように一次転写ロール２０が配備されており、この領域が１次転写領域である。
【００２８】
ここで、図１とともに図２も用いて、本実施形態の画像形成装置の説明をさらに進める。
【００２９】
図２は、図１に示す４つのトナー像形成ユニットのうちの一つのトナー像形成ユニットを図１よりも詳しく示した図である。
【００３０】
図２に示すトナー像形成ユニット１０は、感光体１１の他、帯電器１２、露光器１３、現像装置１４、クリーニング装置１５、および除電器１６を備えている。なお、この図２には、感光体１１の表面１１ａになる保護層１１１が模式的に示されている。
【００３１】
帯電器１２は、非接触帯電方式のコロトロン帯電器である。この帯電器１２には帯電バイアスが印加される。なお、帯電器として、感光体表面１１ａに接触した状態で回転する帯電ロールや、ブレード状の帯電部材等を備えた接触帯電方式を採用した帯電器を用いてもよい。露光器１３は、感光体表面１１ａに向けて、画像情報に基づく露光光を照射するものである。現像装置１４は、感光体１１の周囲の、１次転写領域よりも上流側に配備されている。この現像装置１４は、トナーを収容したトナー収容体１４１と、トナー収容体１４１に収容されたトナーを担持して感光体の表面１１ａに接した状態で回転する現像ロール１４２を有する。除電器１６は、感光体１１の周囲の、１次転写領域よりも下流側に配備されており、感光体１１の、１次転写領域を通過した表面１１ａの残留電荷を除電する。
【００３２】
図１に示す画像形成装置１において画像形成が行われる際には、感光体１１の表面１１ａが、帯電器１２による放電現象によって一様に帯電された後、露光器１３によって画像情報に基づく露光光が照射され、感光体表面１１ａに静電潜像が形成される。続いて、静電潜像が形成された感光体表面１１ａに現像ロール１４２からトナー供給が行われ静電潜像がトナーによって現像され、感光体表面１１ａにトナー像が形成される。感光体表面１１ａに形成されたトナー像は、１次転写領域において感光体表面１１ａから中間転写ベルト３０の表面へ移行する。各トナー像形成ユニット１０で形成されたトナー像は、中間転写ベルト３０上で１つに重なり合ったトナー像となる。
【００３３】
また、一括転写装置４０は、中間転写ベルト３０のトナー像担持面側に圧接配置された二次転写ロール４１と、中間転写ベルト３０の裏面側に配置されたバックアップロール４２を備えており、これら２つのロール４１，４２で中間転写ベルト３０を挟みこんでいる。これら２つのロール４１，４２間が二次転写領域になる。
【００３４】
さらに、図１に示す画像形成装置１には、用紙トレイ６０が配備されており、用紙トレイ６０に収容された用紙Ｐは、フィードロール６１によって用紙トレイ６０から送り出され、所定のタイミングで二次転写領域へと送り込まれる。二次転写領域では、中間転写ベルト３０上で１つに重なり合ったトナー像が、送り込まれてきた用紙Ｐ上に転写される。定着装置５０は、加熱熱機構５１１を有する定着ロール５１、および定着ロール５１に対向するように設けられた圧力ロール５２を備えている。互いに対向する定着ロール５１と圧力ロール５２との間には、２次転写領域を通過した用紙Ｐが搬送されてくる。用紙Ｐ上のトナー像を構成するトナーは、定着ロール５１の加熱機構５１１により溶融され用紙Ｐに定着する。
【００３５】
また、一括転写装置４０の下流側にはベルトクリーナ７０が設けられている。中間転写ベルト３０の、２次転写領域を通過した表面には、用紙Ｐへ移行することができなかった残留トナー等の残留物が存在するが、この残留物はベルトクリーナ７０によって中間転写ベルト２０から除去される。
【００３６】
また、図２示す感光体１１の、１次転写領域を通過した表面１１ａにも、１次転写領域において中間転写ベルト３０の表面へ移行することができなかった残留トナーが存在する。また、帯電器１２による放電現象によって生じた放電生成物等も存在する。図２に示すクリーニング装置１５は、これらの残留トナーや放電生成物等といった異物を除去するための装置であり、１次転写領域よりも感光体回転方向下流側であって帯電器１２よりも感光体回転方向上流側の位置に配備されたものである。このクリーニング装置１５は、本発明のクリーニング装置の一実施形態に相当するものであり、固形潤滑剤１５１と、潤滑剤塗布ブラシ１５２と、クリーニングブレード１５３と、搬送オーガ１５４を有する。
【００３７】
固形潤滑剤１５１は、ステアリン酸亜鉛を主成分とするブロック状のものである。この固形潤滑剤１５１は、図２の紙面に対して垂直な方向（感光体１１の回転軸１１０の延在方向）に長尺なものであり、自重によって潤滑剤塗布ブラシ１５２に接している。潤滑剤塗布ブラシ１５２は、クリーニングブレード１５１よりも感光体回転方向上流側に配備されたものであり、感光体１１の回転軸１１０に平行な回転軸１５２１から放射状に延びたブラシ繊維１５２２を有する。この潤滑剤塗布ブラシ１５２は、ブラシ繊維１５２２を感光体１１の、クリーニングブレード１５１よりも感光体回転方向上流側の表面１１ａに接触させた状態で回転するものである。すなわち、潤滑剤塗布ブラシ１５２は、固形潤滑剤１５１に接する領域と、感光体表面１１ａに接する領域とを経ながら反時計回り（図中の矢印Ｒ参照）に回転するものである。この潤滑剤塗布ブラシ１５２が回転すると、ブラシ繊維１５２２によって固形潤滑剤１５１が掻き取られ、掻き取られた固形潤滑剤はブラシ繊維１５２２に担持される。ブラシ繊維１５２２に担持された固形潤滑剤は、ブラシ繊維１５２２が感光体表面１１ａに接する領域で、感光体表面１１ａに塗布され、感光体表面１１ａには潤滑剤膜が形成される。
【００３８】
クリーニングブレード１５３は、ゴム材料からなる２ｍｍ程度の厚みを有する板状部材である。クリーニングブレード１５１に用いるゴム材料の種類としては、公知のものを用いることが可能であり、例えばウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム等を用いることができる。その中で耐磨耗性に優れていることからポリウレタン弾性体を用いることが好ましい。図２に示すクリーニングブレード１５３は、図２の紙面に対して垂直な方向（感光体１１の回転軸１１０の延在方向）に長尺な矩形状のものであるが、以下、短尺方向の一端を先端と称することがある。
【００３９】
図３は、図２に示すクリーニングブレードの先端部分を模式的に拡大して示す図である。
【００４０】
本実施形態のクリーニングブレード１５３は、感光体１１の、中間転写ベルト３０にトナー像が転写された後の表面１１ａから垂直に立ち上がる垂線Ｌに対して感光体回転方向下流側に傾いた姿勢で配備されたものである。すなわち、このクリーニングブレード１５３は、ドクター方式によって配備されたものであり、上記垂線Ｌに対して感光体回転方向下流側に傾いて感光体表面１１ａを向いた対向面１５３ａと、その対向面１５３ａから折れ曲がった厚み面１５３ｂとの境になる縁１５３ｃが、感光体１１の回転軸１１０に対して平行になるように配備されている。この縁１５３ｃは、感光体表面１１ａに向けて押し付けられているが、この縁１５３ｃを含めてこの縁１５３ｃの周囲には被膜１５３１が設けられており、この縁１５３ｃは、感光体表面１１ａに直接接していない。以下、上記縁１５３ｃが感光体表面１１ａに向けて押し付けられることでクリーニングブレード１５３の、感光体表面１１ａに直接接した圧接部分を先端エッジ部１５３２と称し、上記縁１５３ｃと区別して用いる。クリーニングブレード１５３の先端エッジ部１５３は、感光体表面１１ａに圧接することで塑性変形するが、図３では、上記縁１５３ｃを明確化するため、敢えて先端エッジ部１５３が塑性変形していない状態で示している。図３に示す被膜１５３１が設けられていないクリーニングブレードでは、上記縁１５３ｃと感光体表面１１ａとの間に摺擦が生じ、上記縁１５３ｃに磨耗が生じる。この摩耗は、その縁１５３ｃから上記クリーニングブレードの対向面１５３ａにかけても（図３中の矢印Ｓ方向参照）厚み面にかけても（図３中の矢印Ｗ方向参照）進む。。そこで、本実施形態では、クリーニングブレード１５３の上記縁１５３ａと、その縁１５３ｃから対向面１５３ａにかけての部分と、その縁１５３ｃから厚み面１５３ｂにかけての部分とに、結晶構造としてアモルファスＳＰ3構造を８５％以上有するテトラヘデラル  アモルファス  カーボン（Ｔａ−Ｃ）からなる被膜１５３１を設けている。この被膜１５３１は、クリーニングブレード１５３のゴム材料に、Ｔａ−Ｃをイオン化して打ち込むことにより形成されたものであり、このゴム材料よりも硬度が十分に高く、摩擦係数が低い。したがって、本実施形態のように、高強度表面層である保護層１１１を有する感光体１１を用いても、クリーニングブレード１５３の先端エッジ部１５３２が磨耗してしまうことや、その先端エッジ部１５３２にカケが生じることが抑えられる。なお、Ｔａ−Ｃからなる被膜１５３１に代えて、アモルファスＳＰ3構造が５０％以下であるＤＬＣ（ダイヤモンド  ライク  カーボン）からなる被膜を設けてもよいが、Ｔａ−Ｃからなる被膜１５３１の方が、ＤＬＣからなる被膜に比べて硬い点で有利である。
【００４１】
ここで、Ｔａ−ＣやＤＬＣといった固体カーボンからなる被膜によってクリーニングブレードの表面をあまり多く覆ってしまうと、上記ゴム材料の弾性力が変化してしまうため、図３に示すクリーニングブレード１５３では、クリーニングブレード全面のうち、上記縁１５３ａと、その縁１５３ｃから対向面１５３ａにかけての部分と、その縁１５３ｃから厚み面１５３ｂにかけての部分とに限ってＴａ−Ｃからなる被膜を設けている。
【００４２】
なお、図３中に示す矢印ａと矢印ｂについての説明は後述する。
【００４３】
感光体１１の、１次転写領域を通過した表面１１ａに残留した残留物は、このクリーニングブレード１５３の先端エッジ部１５３２によって掻き取られ、図２に示す搬送オーガ１５４によってクリーニング装置７０の外まで搬送される。したがって、本実施形態では、表面１１ａの硬度が高められた感光体１１から残留物が長期にわたってしっかりと除去される。
【００４４】
なお、クリーニングブレード１５３は、感光体表面１１ａから垂直に立ち上がる垂線Ｌに対して感光体回転方向上流側に傾くワイパー方式によって配備されたものであってもよい。
【００４５】
以上、感光体表面１１ａから残留物を除去するクリーニング装置１５について詳細に説明したが、本発明のクリーニング装置は、図１に示す中間転写ベルト３０から残留物を除去するクリーニング装置にも適用することができる。
【００４６】
続いて、図１に示す感光体に使用することができる感光体について詳述する。
【００４７】
ここで用いることができる感光体としては、導電性支持体の上に、下引層、電荷発生層と電荷輸送層を含む感光層、および保護層を積層してなるものを一例としてあげることができる。
【００４８】
導電性支持体としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。感光体がレーザープリンターに使用される場合には、レーザーの発振波長としては３５０ｎｍから８５０ｎｍのものが好ましく、短波長のものほど解像度に優れるため好ましい。さらに、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、支持体表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍに粗面化することが好ましい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましい。中心線平均粗さＲａが０．０４μｍより小さいと、鏡面に近くなるので干渉防止効果が得られなくなり、中心線平均粗さＲａが０．５μｍより大きいと、画質が粗くなって不適である。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００４９】
陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００５０】
陽極酸化膜の膜厚については０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【００５１】
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下の様に実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０〜１１重量％の範囲、クロム酸が３〜５重量％の範囲、フッ酸が０．５〜２重量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５〜１８重量％の範囲が好ましい。処理温度は、４２〜４８℃であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【００５２】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬するか、９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１〜５μｍが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００５３】
次に、下引層について説明する。この下引層は必ずしも設けなくてもよいが、下引層を設ける場合には、材料として、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物を用いればよい。特に、有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましい材料である。また、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させてもよい。さらに、従来より下引層に用いられるポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることもできる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。また、下引層中には電子輸送性顔料を混合／分散してもよい。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料があげられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダーなどで表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引層の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるため９５重量％以下、��ましくは９０重量％以下で使用される。混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等をもちいる常法が適用される。混合／分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有期金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。下引層の厚みは一般的には、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．２〜２５μｍが適当である。また、下引層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った基材は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層を形成することが好ましい。
【００５４】
次に電荷発生層について説明する。電荷発生層は、電荷発生材料と結着樹脂を含有して形成される。
【００５５】
電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など既知のもの全て使用することができるが、特に３８０ｎｍ〜５００ｎｍの露光波長を用いる場合には無機顔料が好ましく、７００ｎｍ〜８００ｎｍの露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報、及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、及び特開平５−１４０４７３号に公報開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００５６】
結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００５７】
電荷発生材料と結着樹脂の配合比は（重量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。またこれらを分散させる方法としてはボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって結晶型が変化しない条件が必要とされる。さらにこの分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。またこれらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００５８】
電荷発生層の厚みは一般的には、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍが適当である。また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【００５９】
次いで、電荷輸送層について説明する。電荷輸送層としては、公知の技術によって形成されたものを使用できる。それらの電荷輸送層は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【００６０】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は単独または２種以上混合して用いることができ、これらに限定されるものではないが、モビリティーの観点から、以下の構造のものが好ましい。
【００６１】
【化１】
2007086441.tif 000003
【００６２】
（式中、Ｒ14は、水素原子またはメチル基を示す。また、ｎは１又は２を意味する。Ａｒ6及びＡｒ7は置換又は未置換のアリール基、あるいは−Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）（Ｒ20）、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表わし、置換基としてはハロゲン原子、炭素数が１〜５の範囲のアルキル基、炭素数が１〜５の範囲のアルコキシ基、又は炭素数が１〜３の範囲のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。）
【００６３】
【化２】
2007086441.tif 000004
【００６４】
（式中Ｒ15、Ｒ15'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、を表わす。Ｒ16、Ｒ16'、Ｒ17、Ｒ17'は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基、あるいは、−Ｃ（Ｒ18）＝Ｃ（Ｒ19）（Ｒ20）、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表わし、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20は水素原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは０〜２の整数である。）
【００６５】
【化３】
2007086441.tif 000005
【００６６】
（式中Ｒ21は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、または、―ＣＨ＝ＣＨ―ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）2を表す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を表す。Ｒ22、Ｒ23は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換又は未置換のアリール基を表す。）
さらに電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜１：５が好ましい。
【００６７】
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００６８】
電荷輸送層の厚みは一般的には、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜３０μｍが適当である。塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。さらに電荷輸送層を設けるときに用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００６９】
また、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ，  ＣＮ，  ＮＯ2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
【００７０】
また、フッ素樹脂粒子を含有した保護層を用いたり、あるいは保護層を省略する場合であっても電荷輸送層にフッ素樹脂粒子を含有させたものを用いることで、クリーニングブレードと感光体表面の摺擦摩擦力が低減し、感光体摩耗を抑制し、球状のトナーを用いた場合に於いても良好なクリーニング性を維持することが可能である。
【００７１】
電荷輸送層にフッ素樹脂粒子を含有させる場合には、電荷輸送層中の、フッ素系樹脂の含量は、電荷輸送層全量に対し、０．１〜４０ｗｔ％が適当であり、１〜３０ｗｔ％がより好ましく、特には３〜１０％が好ましい。含量が０．１ｗｔ％未満ではフッ素系樹脂粒子の分散による摩擦低減効果が接触型帯電器との組合せに於いては十分でなく、一方、４０ｗｔ％を越えると光通過性及び電荷輸送性顕著に低下し、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が生じてくる。黒用の感光体における電荷輸送層中の、フッ素系樹脂の含量は、カラー用の感光体のそれよりも少なく、且つ０〜３ｗｔ％が好適であり、０〜２ｗｔ％がより好適である。３ｗｔ％よりも多い場合は、高速画像形成時電荷移動速度が低下し易い。
【００７２】
フッ素系樹脂粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化エチレンプロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂、及びこれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を適宜選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。フッ素系樹脂の一次粒径は０．０５〜１μｍが良く、更に好ましくは０．１〜０．５μｍが好ましい。一次粒径が０．０５μｍを下回ると分散時の凝集が進みやすくなる。又、１μｍを上回ると画質欠陥が発生しやすくなる。
【００７３】
次に保護層について説明する。この保護層も、下引層と同じく、必ずしも設けなくてもよいが、感光体表面の傷などに対する耐性を持たせ長寿命化をはかるため高強度表面層として保護層を設けることが好ましい。この保護層としては、バインダー樹脂中に導電性微粒子を分散したもの、通常の電荷輸送層材料にフッ素樹脂、アクリル樹脂などの潤滑性微粒子を分散させたもの、シリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができるが、強度、電気特性、画質維持性などの観点から、電荷輸送性を有し、架橋構造を有するものが好ましい。保護層が架橋構造を有する樹脂を含むことで感光体表面の硬度が高まり耐摩耗性が向上し、低摩擦であるＴａ−Ｃの被膜が形成されたクリーニングブレードとの摺擦による感光体表面の傷を大幅に抑制することができる。
【００７４】
架橋構造を形成するものとしては種々の材料を用いることが出来るが、特性上フェノール樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが好ましく、特にフェノール樹脂またはシロキサン系樹脂からなるものが好ましい。なお、保護層には、架橋構造を有する樹脂以外にも必要に応じて、架橋構造を有さないバインダー樹脂や、導電性微粒子、また、フッ素樹脂やアクリル樹脂などからなる潤滑性微粒子が含まれていてもよく、保護層の形成に際しては、必要に応じてシリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができる。また、保護層の形成には架橋構造を有する樹脂を構成する前駆体を少なくとも含む保護層形成用溶液が用いられる。
【００７５】
さらに電気特性や画質維持性などの観点からは、架橋構造を有する樹脂は、電荷輸送性を持ったものである（電荷輸送能を有する構造単位を含む）ことが好ましい。なお、保護層が電荷輸送層の一部として機能するものであってもよい。
【００７６】
電荷輸送能を有する構造単位を含み、且つ、架橋構造を有する樹脂としては、架橋構造を有する樹脂としてメチロール基を有するフェノール誘導体またはシロキサン系樹脂と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料とを含有するものがより好ましい。さらに当該フェノール誘導体含有層の赤外吸収スペクトルが下記式で示される条件を満たすことで電気特性に優れ高画質化が図れる為より好ましい。
（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２
［式中、Ｐ１は１５６０ｃｍ-1〜１６４０ｃｍ-1に存在する最大吸収ピークの吸光度を示し、Ｐ２は１６４５ｃｍ-1〜１７００ｃｍ-1に存在する最大吸収ピークの吸光度を示す。］
上記式で上述の効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、メチロール基を有するフェノール誘導体を用いて塗膜を形成する過程において、フェノール誘導体のメチロール基のうちの一部は、ホルミル基等の酸化物になると考えられる。このようなホルミル基等の酸化物は、感光体中の電荷輸送を妨げるキャリアトラップとして作用し、感光体の電気特性を低下させると考えられる。ここで、赤外吸収スペクトルにおいて、１５６０ｃｍ-1〜１６４０ｃｍ-1に存在する最大吸収ピーク（Ｐ１）は、フェノール誘導体の芳香族Ｃ−Ｃ伸縮振動に相当する。また、１６４５ｃｍ-1〜１７００ｃｍ-1に存在する最大吸収ピーク（Ｐ２）は、ホルミル基等の酸化物に由来すると考えられる。つまり、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が小さい感光体は、感光体中のホルミル基等の酸化物が少なく、キャリア輸送性に優れると考えられる。したがって、上記特定の材料を用い且つ吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を０．２以下することで、電気特性に優れ、高画質化が達成できる。なお、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）は、０．１８以下が好ましく、０．１７以下がより好ましい。吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２を超えると、キャリア輸送性が低下し、感光体の電気特性が不十分となり、画質が低下する。
【００７７】
上記メチロール基を有するフェノール誘導体としては、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類若しくはトリメチロールフェノール類のモノマー、それらの混合物、それらがオリゴマー化されたもの、又はそれらモノマーとオリゴマーの混合物が挙げられる。このようなメチロール基を有するフェノール誘導体は、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸触媒又はアルカリ触媒下で反応させることで得られるもので、一般にフェノール樹脂として市販されているものも使用できる。なお、本明細書では、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子をオリゴマーといい、それ以下のものをモノマーという。
【００７８】
上記酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸等が用いられる。また、アルカリ触媒としては、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｂａ（ＯＨ）2等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。
【００７９】
アミン系触媒としては、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる傾向がある。そのため、酸で中和するか、シリカゲル等の吸着剤や、イオン交換樹脂等と接触させることにより不活性化又は除去することが好ましい。
【００８０】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体としては、フェノール樹脂が好ましく、レゾール型フェノール樹脂がより好ましい。
【００８１】
水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で示される化合物であることが好ましい。
Ｆ−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］ｍ３            （Ｉ）
上記一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｙは水酸基、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、チオール基（−ＳＨ）又はアミノ基（−ＮＨ2）を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］ｎ４    （ＩＩ）
上記一般式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｚはアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］ｂ              （ＩＩＩ）
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）又は置換若しくは未置換のアリール基（炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１５がより好ましい）を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。
【００８２】
また、上記可とう性を有する２価の基Ｄは、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ２β−２−、−ＣγＨ２γ−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ6Ｈ4）−（Ｃ6Ｈ4）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。
【００８３】
上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される化合物における正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆとしては、下記一般式（ＩＶ）で示される化合物が好ましい。
【００８４】
【化４】
2007086441.tif 000006
【００８５】
上記一般式（ＩＶ）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3及びＡｒ4はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ5は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で示される化合物における−［（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ）ｎ３Ｇ］、又は、−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ３）（３−ａ）Ｑａ］で示される部位と結合手を有し、ｋは０又は１である。
【００８６】
また、保護層には、残留電位を下げるために導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の観点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましい。
【００８７】
また、保護層には、保護層の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（Ｖ−１）で示される化合物を添加することもできる。
Ｓｉ（Ｒ30）（４−ｃ）Ｑc        （Ｖ−１）
上記一般式（Ｖ−１）中、Ｒ30は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｃは１〜４の整数を示す。
【００８８】
上記一般式（Ｖ−１）で示される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。
【００８９】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。
【００９０】
また、保護層には、その強度を高めるために、下記一般式（Ｖ−２）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ31）(3-d)Ｑd）2              （Ｖ−２）
上記式（Ｖ−２）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ31は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｄは１〜３の整数を示す。
【００９１】
また、保護層には、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、トルク低減、塗布膜表面の均一性向上のため、下記一般式（Ｖ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることもできる。
【００９２】
【化５】
2007086441.tif 000007
【００９３】
上記一般式（Ｖ−３）中、Ａ1及びＡ2は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。
【００９４】
一般式（Ｖ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【００９５】
さらに、感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、２種以上を併用してもよい。
【００９６】
微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜３０ｎｍであり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜５０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【００９７】
ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径が好ましくは１〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍであり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【００９８】
また、その他の微粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や”第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。
【００９９】
シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
【０１００】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０１０１】
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【０１０２】
また、保護層には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を含有させてもよい。この場合、絶縁性樹脂は、所望の割合で添加することができ、これにより、電荷輸送層との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥等を抑制することができる。
【０１０３】
保護層は、上記電荷輸送性構造単位を有する化合物、及び上記メチロール基を有するフェノール誘導体又はシロキサン誘導体等の構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、電荷輸送層上に塗布して硬化させることで形成される。
【０１０４】
保護層は、上述した電荷輸送材料を用いて形成されることから、保護層形成用塗布液に触媒を添加すること、又は保護層形成用塗布液作製時に触媒を用いることが好ましい。用いられる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒、さらに系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【０１０５】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体またはシロキザン誘導体から、合成時の触媒を除去するために、フェノール誘導体をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿等の処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。
【０１０６】
例えば、イオン交換樹脂としては、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂が挙げられる。
【０１０７】
また、無機固体としては、Ｚｒ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｈ）２，Ｔｈ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ）2等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ4，ＭｇＳＯ4等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ3，Ｍｎ（ＮＯ3）2等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
【０１０８】
保護層形成用塗布液には、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の他、種々の溶媒が使用できる。なお、感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましい。また、使用される溶媒の沸点は５０〜１５０℃のものが好ましく、それら任意に混合して使用することができる。
【０１０９】
なお、溶剤としてアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましいことから、使用される保護層の形成に使用される電荷輸送性構造単位を有する化合物としては、それらの溶剤に可溶であることが好ましい。
【０１１０】
また、溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると構成材料が析出しやすくなるため、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対し好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部とすることが好ましい。
【０１１１】
保護層形成用塗布液を用いて保護層を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。ただし、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。なお、複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【０１１２】
電荷輸送層上に保護層形成用塗布液を塗布後には、硬化処理を行う。通常、硬化処理の際には、フェノール誘導体またはシロキサン誘導体の架橋反応を促進し、保護層の機械強度を上げるためには硬化温度は高く、硬化時間長いほど好ましい。しかし、そうした場合には、フェノール系樹脂の場合は吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が０．２を超えやすく、電気特性が著しく悪化してしまう。そこで、フェノール系樹脂の場合は保護層のＩＲスペクトルが上記条件を満たすように、硬化温度、硬化時間、架橋雰囲気又は硬化触媒で制御することが好ましい。すなわち、フェノール系樹脂の場合は保護層のＩＲスペクトルが（Ｐ２／Ｐ１）≦０．２で示される条件を満たすようにするために、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃が好ましく、１００〜１５０℃が、さらに１００〜１４０℃がより好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。シロキサン系樹脂の場合は、硬化処理の際の硬化温度は１００〜１７０℃の範囲が好ましく、１００〜１５０℃の範囲がより好ましく、さらに１００〜１４０℃の範囲がより一段と好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。
【０１１３】
また、硬化処理（架橋反応）を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の、いわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気（不活性ガス雰囲気）下が吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）を小さくするのに効果的である。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気（酸素含有雰囲気）下よりも硬化温度を高く設定することができ、硬化温度は１００〜１６０℃（好ましくは１１０〜１５０℃）とすることが可能である。また、硬化時間は３０分〜２時間（好ましくは３０分〜１時間）とすることが可能である。また、上記一般式（Ｉ）で示される化合物において、（−（Ｘ１）ｍ１−（Ｒ１）ｍ２−Ｙ）で示される部位が−ＣＨ2−ＯＨの場合が最も硬化温度による電気特性の影響が大きい傾向があり、酸化に対して敏感であるので、上記好ましい温度範囲で硬化処理を行うことが好ましい。
【０１１４】
さらに、硬化処理の際には、硬化触媒を使用することが好ましい。硬化触媒としては、例えば、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類（ｇ）ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類等の光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、無水カルボン酸化合物等が挙げられる。
【０１１５】
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ＢＦ3、ＦｅＣｌ3、ＳｎＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＺｎＣｌ2等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
【０１１６】
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。
【０１１７】
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。
【０１１８】
ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス（アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセトナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１９】
これら硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０１２０】
また、保護層を形成する際に、有機金属化合物を触媒として用いる場合には、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（Ｖ−４）で示される２座配位子が挙げられる。
【０１２２】
【化６】
2007086441.tif 000008
【０１２３】
上記式（Ｖ−４）中、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
【０１２４】
２座配位子としては、上記一般式（Ｖ−４）中のＲ32とＲ33とが同一のものが特に好ましい。Ｒ32とＲ33とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。
【０１２５】
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、有機金属化合物の使用量１モルに対し、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０．１モル以上、さらに好ましくは１モル以上である。
【０１２６】
保護層の２５℃における酸素透過係数は、４×１０12ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることが好ましく、３．５×１０12ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがより好ましく、３×１０12ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがさらに好ましい。
【０１２７】
ここで、酸素透過係数は層の酸素ガス透過のし易さを表す尺度であるが、見方を変えると、層の物理的な隙間率の代用特性と捕らえることもできる。なお、ガスの種類が変われば透過率の絶対値は変わるものの、検体となる層間で大小関係の逆転は殆どない。したがって、酸素透過係数は、一般的なガス透過のし易さを表現する尺度と解釈して良い。
【０１２８】
つまり、保護層の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たす場合には、保護層においてガスが浸透しにくい。したがって、トナー像形成サイクルにより生じる放電生成物の浸透が抑制され、保護層に含有される化合物の劣化が抑制され、電気特性を高水準に維持することができ、高画質化、長寿命化に有効である。
【０１２９】
また、フェノール樹脂の場合、赤外吸収スペクトルの吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすように保護層を形成しようとする場合には、空気雰囲気下では硬化温度を比較的低く設定することが必要である。そのため、保護層の２５℃における酸素透過係数を下げることは困難であるが、吸光度比（Ｐ２／Ｐ１）が上記条件を満たすようにすると共に、保護層の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たすようにすることで、電気特性がさらに向上し、さらに高画質を達成できる感光体が得られる。
【０１３０】
保護層の膜厚は、０．５〜１５μｍが好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましく、１〜５μｍがより好ましい。
【０１３１】
上記保護層を感光体最表面に設けることで、クリーニングブレードからの感光体に作用する力で発生する感光体傷や摩耗性が著しく改善され、更には、帯電の際に生じる放電生成物の浸透が抑制され、保護層に含有された加工物の劣化が抑えられて、電気特性を高水準た維持することができるため、保護層は高画質化にも有効である。
（実施例）
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は全て「質量部」を意味する。
＜感光体の作製＞
［感光体Ａの作製］
４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０部に、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０部および有機シラン化合物（γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）３部を添加、混合撹拌して下引層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、ホーニング処理により粗面化（中心線平均粗さＲａで０．６μｍ）された外径４０ｍｍのドラム状のアルミニウム支持体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行った後、支持体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入れて１７０℃で１０分間乾燥を行い下引層を形成した。
【０１３２】
電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０部およびｎ−ブチルアルコール３００部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１３３】
次に、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４０部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４０，０００）６０部とをテトロヒドロフラン２３５部及びモノクロロベンゼン１００部に十分に溶解混合して得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布し、乾燥することにより、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１３４】
下記に示す化合物（１）（上記構造単位ＩＩＩに相当）を５部、イソプロピルアルコールを１５部、テトラヒドロフランを９部、及び蒸留水を０．９部混合し、それにイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）を０．５部加え、室温で攪拌することにより２時間加水分解を行った。さらに、ブチラール樹脂を０．５部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−２２１１、群栄化学社製）を５部、酸化防止剤としてサノールＬＳ２６２６を０．２部、加え保護層形成用塗布液を調製した。この保護層形成用塗布液を浸漬コーティング法により上記電荷輸送層上に塗布し、１３０℃で３０分乾燥し、膜厚３μｍの保護層を形成した。こうして保護層まで形成した感光体を感光体Ａとする。
【０１３５】
【化７】
2007086441.tif 000009
【０１３６】
［感光体Ｂの作製］
下記に示す化合物（２）（上記構造単位Ｉに相当）を５部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）を７部、ジメチルポリシロキサンを０．０３部、及びイソプロパノールを２０部混合して溶解し、保護層形成用塗布液を得た。感光体Ａにおける電荷輸送層までの作成と同様にして電荷輸送層まで作製した感光体のその電荷輸送層上に、この保護層形成用塗布液を浸漬コーティング法で塗布し、１３０℃で４０分乾燥させ、膜厚３μｍの保護層を形成した。得られた感光体を感光体Ｂとする。
【０１３７】
【化８】
2007086441.tif 000010
【０１３８】
［感光体Ｃの作製］
上記化合物（２）に代えて下記化合物（３）（上記構造単位Ｉに相当）を用いた以外は、感光体Ｂの作成と同様にして感光体Ｃを作成した。
【０１３９】
【化９】
2007086441.tif 000011
【０１４０】
［感光体Ｄの作製］
上記化合物（２）に代えて下記化合物（４）（同じく上記構造単位Ｉに相当）を用いた以外は、感光体Ｂの作成と同様にして感光体Ｄを作成した。
【０１４１】
【化１０】
2007086441.tif 000012
【０１４２】
［感光体Ｅの作製］
上記化合物（２）に代えて下記化合物（５）（同じく上記構造単位Ｉに相当）を用いた以外は、感光体Ｂの作成と同様にして感光体Ｅを作成した。
【０１４３】
【化１１】
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【０１４４】
［感光体Ｆの作製］
上記化合物（２）に代えて下記化合物（６）（上記構造単位ＩＩに相当）を用いた以外は、感光体Ｂの作成と同様にして感光体Ｆを作成した。
【０１４５】
【化１２】
2007086441.tif 000014
【０１４６】
［感光体Ｇの作製］
感光体Ａにおける電荷輸送層までの作成と同様にして電荷輸送層まで作製した。感光体表面が電荷輸送層になるこの感光体を感光体Ｇとする。
＜クリーニングブレードの用意＞
［クリーニングブレードＢ１の用意］
ゴム材料からなる、バンドー化学（株）製のＴＳ−２７ブレード（２３℃における硬さ８０°；ＪＩＳ−Ａ、Ｔａｎδピーク温度２２℃）を用意し、そのＴＳ−２７ブレードの、先端の縁（図３中の符号１５３ｃに相当）、その縁から、感光体表面を向く対向面（図３中の符号１５３ａに相当）にかけての部分と、その縁から、対向面から折れ曲がった厚み面（図３中の符号１５３ｂに相当）にかけての部分（以下、これら３つの部分を総称して先端部分と称する）にＴａ−Ｃからなる被膜を設けた。
【０１４７】
ここにいう２３℃におけるブレードの硬さは、高分子計器株式会社製のアナログ型硬度計Ａ型によりＪＩＳ  Ｋ６２５３：９７に準拠して測定したＪＩＳ−Ａ硬度での値であり、Ｔａｎδのピーク温度は、短冊状にした幅５ｍｍ×長さ２０ｍｍの試験片を、ダイナミックアナライザーを使用し、周波数１０Ｈｚ、５％変位のときのピーク温度である。
【０１４８】
また、Ｔａ−Ｃ被膜のコーティングは、ＮＴＩ（Ｎａｎｏｆｉｌｍ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）社のＦＣＶＡ（Ｆｉｌｔｅｒｅｄ  Ｃａｔｈｏｄｉｃ  Ｖａｃｕｕｍ  Ａｒｃ）テクノロジーを使った装置を用いて行った。ここではまず、ＴＳ−２７ブレードの全面のうち上記先端部分を除いた部分に、Ａｌホイルによってマスキングを施した。次いで、ＦＣＶＡテクノロジーを使った装置において、バキュームアーク放電により炭素プラズマを作り出し、電磁気的空間フィルターにより炭素イオンを抽出し、さらに、炭素イオンをスキャニングした後、ＡｌホイルでマスキングしたＴＳ−２７ブレードに向けて、真空チャンバー内で炭素イオンを打ち込んだ。この装置では、ターゲットとなるブレードにバイアスをかけることにより炭素イオンのエネルギーレベルを可変し、Ｔａ−Ｃ被膜のコーティング量を調整することができ、ここでは、約１μｍの膜厚のＴａ−Ｃ被膜を設けた。こうして得られたクリーニングブレードをクリーニングブレードＢ１とする。
［クリーニングブレードＢ２の用意］
ゴム材料からなる、北辰工業（株）製の２３８７０７ブレード（２３℃における硬さ７０°；ＪＩＳ−Ａ、Ｔａｎδピーク温度１．２℃）を用意し、クリーニングブレードＢ１におけるＴａ−Ｃ被膜のコーティングと同様にして、２３８７０７ブレードの全面のうち先端部分に限って膜厚１μｍのＴａ−Ｃ被膜を設けた。こうして得られたクリーニングブレードをクリーニングブレードＢ２とする。
［クリーニングブレードＢ３の用意］
クリーニングブレードＢ１の作製で用意したバンドー化学（株）製のＴＳ−２７ブレードをクリーニングブレードＢ３とする。すなわち、クリーニングブレードＢ３の先端部分にはＴａ−Ｃ被膜が設けられておらず、この先端部分はゴム材料からなるものである。
［クリーニングブレードＢ４の用意］
クリーニングブレードＢ２の作製で用意した北辰工業（株）製の２３８７０７ブレードをクリーニングブレードＢ４とする。すなわち、クリーニングブレードＢ４の先端部分にもＴａ−Ｃ被膜が設けられておらず、この先端部分もゴム材料からなるものである。
＜実施例及び比較例＞
図１に示す画像形成装置の構成と同じ構成の富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ５００を改造し、感光体およびクリーニングブレードを下記表１に示す組み合せで組み込みんだ画像形成装置を用い、フルカラーにて高温高湿（２８℃、８５％ＲＨ）で、画像密度が５％の画像を１０万枚採取し、１０万枚採取した後のブレードエッジ磨耗量と、感光体磨耗量を求めた。結果を、表１に併せて記す。
【０１４９】
なお、いずれの実施例及び比較例においても、クリーニングブレードは、感光体表面から垂直に立ち上がる垂線に対して感光体回転方向下流側に傾くドクター方式によって配備した。また、クリーニングブレードの、感光体表面への圧接力は３．５ｇ／ｍｍに統一するとともに感光体表面との圧接角は９°に統一した。ここにいう圧接角とは、クリーニングブレードと、感光体の、クリーニングブレードが圧接した部位から感光体回転方向下流側に広がる表面とで挟まれた角度をいう。
【０１５０】
【表１】
2007086441.tif 000015
【０１５１】
ここでは、ブレードエッジ磨耗量を以下のようにして求めた。クリーニングブレードの磨耗が進むことによって、感光体の回転軸の延在方向に延びる線状の先端エッジ部が面状になった部分の幅を磨耗幅（図３中の矢印ａ参照）とし、線状の先端エッジ部が存在していた位置からその面状の部分までの深さを磨耗深さ（図３中の矢印ｂ参照）として、ブレードエッジ磨耗量（単位；μｍ2）を以下に示す式から求めた。
ブレードエッジ磨耗量＝磨耗幅×磨耗深さ／２
また、感光体磨耗量としては、感光体１０００回転当たりの感光体表面の摩耗量（単位；ｎｍ／ｋｃｙ）を求めた。
【０１５２】
Ｔａ−Ｃ被膜を設けた、クリーニングブレードＢ１においてもクリーニングブレードＢ２においても、そのＴａ−Ｃ被膜の硬度は６０〜９０ＧＰａと高く、その摩擦係数は０．１と反対に低かった。ここにいうＴａ−Ｃ被膜の硬度の値は、厚さ  ２ｍｍのクリーニングブレードにＴａ−Ｃ被覆したものを、島津製ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−２０１  で測定した値である。また、ここにいうＴａ−Ｃ被膜の摩擦係数の値は、ＰＥＴ材に対し、クリーニングブレードエッジにＴａ−Ｃ被覆した物を、新東科学株式会社  ＨＥＩＤＯＮ  ＴＹＰＥ  １４ＤＲを使用し、１Ｎの荷重で移動速度３ｃｍ／ｓの速さで測定した時の値である。
なお、Ｔａ−Ｃ被膜を設けなかったクリーニングブレードＢ３における先端エッジ部の２３℃でのＪＩＳ−Ａ硬度は８０°であり、同じくＴａ−Ｃ被膜を設けなかったクリーニングブレードＢ４における先端エッジ部の２３℃でのＪＩＳ−Ａ硬度は７０°である。
【０１５３】
実施例では、Ｔａ−Ｃ被膜を設けたクリーニングブレード（Ｂ１又はＢ２）を組み込んだ画像形成装置を用いており、Ｔａ−Ｃ被膜を設けなかったクリーニングブレード（Ｂ３又はＢ４）を組み込んだ画像形成装置を用いた各比較例に比べ、これら各実施例では、上記表１に示すようにブレードエッジ磨耗量が大幅に抑えられている。また、いずれの実施例においても、高強度表面層である保護層を有する感光体（Ａ〜Ｆ）を画像形成装置に組み込んでおり、感光体磨耗量も抑えられている。また、高強度表面層である保護層を有する感光体（Ａ又はＢ）を用いた比較例と対比すると、実施例では、先端エッジ部の硬度が高いクリーニングブレードを用いたにもかかわらず、比較例よりも感光体磨耗量が抑えられる傾向にある。このことから、Ｔａ−Ｃ被膜は硬度が高いにもかかわらず低摩擦なものであることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】本発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す４つのトナー像形成ユニットのうちの一つのトナー像形成ユニットを図１よりも詳しく示した図である。
【図３】図２に示すクリーニングブレードの先端部分を模式的に拡大して示す図である。
【符号の説明】
【０１５５】
１    画像形成装置
１０    トナー像形成ユニット
１１    感光体
１１ａ    表面
１１０    回転軸
１２    帯電器
１３    露光器
１４    現像装置
１５    クリーニング装置
１５３    クリーニングブレード
１５３ａ    対向面
１５３ｂ    厚み面
１５３ｃ    縁
１５３１    被膜
１５３２    先端エッジ部
１６    除電器
２０    １次転写ロール
３０    中間転写ベルト
４０    一括転写装置
５０    定着装置
６０    用紙トレイ
７０    ベルトクリーナ
【図１】
2007086441.tif 000016
【図２】
2007086441.tif 000017
【図３】
2007086441.tif 000018