【事件の表示】
　特願２０１１−５２９６５８「被覆された分流線を備えるＯＬＥＤ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　４月　８日国際公開、ＷＯ２０１０／０３８１８１、平成２４年　２月２３日国内公表、特表２０１２−５０４８４４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、２００９年　９月２５日（パリ条約による優先権主張　２００８年１０月　２日、欧州特許庁）を国際出願日とする出願であって、平成２５年　６月１１日付けで拒絶理由通知がなされ、同年　９月１２日に意見書及び手続補正書が提出されたところ、同年　１１月２９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２６年　３月２７日に拒絶査定不服審判の請求と同時に手続補正がなされたものである。
２　本願発明
（１）平成２６年　３月２７日に提出された手続補正書による手続補正（以下、「本件補正」という。）の内容
　本件補正は、平成２５年　９月１２日に提出された手続補正書により補正された（以下、「本件補正前」という。）特許請求の範囲を補正するものであり、本件補正前の請求項（以下、「旧請求項」という。）１を削除するとともに旧請求項８を引用する旧請求項９を独立形式にした上で新たな請求項１とする補正を含むものである。
（２）特許請求の範囲の請求項１に係る発明
　本願の請求項１〜１１に係る発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１１に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その内、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　基板と、導体層と、活性層としての有機層と、付加的な配電チャネルとしての分流線とを備えるＯＬＥＤ装置であって、前記導体層が、前記基板上に設けられ、前記分流線が、レーザ堆積によって前記導体層上に設けられ、前記分流線が、少なくとも部分的に、電気絶縁層によって被覆され、前記有機層が、前記導体層及び被覆された前記分流線の上に設けられ、
　前記電気絶縁層が、インクジェット印刷、グラビア印刷又は／及びスクリーン印刷によって堆積され、
　前記電気絶縁層の厚さが、≧1μmであり、且つ≦2μmであるＯＬＥＤ装置。」
　
３  刊行物の記載事項
（１）原査定の拒絶の理由に引用文献１として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００５−２７６８２８号公報（以下、「引用文献１」という。）」には、「有機電界発光素子およびその製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている（下線は当審で付した。以下同じ。）
ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明電極とバス電極からなるアノード電極と、該アノード電極と交差するカソード電極と、前記アノード電極およびカソード電極の交差部に位置する有機層を備え、前記
バス電極の傾斜角は30度〜70度であることを特徴とする有機電界発光表示素子
イ　「【０００１】
　
本発明は電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）
に関する
ウ　「【０００３】
　このような
電界発光表示素子は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層からなる有機層を間に置き、交差するアノード電極およびカソード電極を備えている。このアノード電極およびカソード電極から放出された電子及び正孔は、有機層内で再結合しながら可視光を発生する。
【０００４】
　一方、アノード電極52は、図１に示すように、基板51上に形成された透明電極56と、該透明電極56の一側上に形成されて透明電極56の抵抗成分を補償するバス電極54を含む。
【０００５】
　ここで、バス電極54は60〜65wt％の硝酸と、５〜６wt％の硝酸と、10wt％の酢酸と、19〜25wt％の水からなる蝕刻液で、クロームCr、モリブデンMo、銅Cuなどを蝕刻することにより形成される。この蝕刻液を使用して形成されるバス電極54の傾斜角は、80度〜110度程で、比較的大きいため、バス電極54のテーパーが低下する。即ち、バス電極54は、下部の幅が上部の幅より狭い逆テーパー形状に形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　このような
バス電極54を有するアノード電極52を覆うように形成される絶縁膜58は、ステップカバレッジ(step  coverage)が低下して、図２に示すように、バス電極54を露出させるピンホールAが発生する。このピンホールにより絶縁破壊が発生し、アノード電極52とカソード電極がショートするなど、電界発光素子の信頼性が低下する問題点がある。
　従って、本発明の目的は、金属電極の逆テーパー発生を減らすことができる有機電界発光表示素子およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　前記目的を達成するために、本発明による有機電界発光素子は、透明電極とバス電極からなるアノード電極と、該アノード電極と交差するカソード電極と、前記アノード電極およびカソード電極の交差部に位置する有機層を備え、前記バス電極の傾斜角は30〜70°であることを特徴とする。」
エ　「【００２０】
　
本発明による有機電界発光素子
は、バス電極の傾斜角を30〜70°で形成する。これによって、
バス電極を覆うように形成される絶縁膜のステップカバレッジが向上し、絶縁破壊を防止することができる
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
　以下、図３〜図７Ｂを参照して本発明の望ましい実施形態について説明する。
　図３は本発明による電界発光表示素子を示した平面図であり、図４は図３で線“II−II”に沿って切り取った電界発光表示素子を示した断面図である。
【００２２】
　図３と図４を参照すると、従来の電界発光表示素子は、基板２上に相互絶縁されるように交差するアノード電極４およびカソード電極12の間に形成される絶縁膜６、隔壁８および有機層10を含む。
　アノード電極４は、基板２上に所定間隔、離れて多数個が形成される。このアノード電極４には電子(正孔)を放出させるための第1駆動信号が供給される。
【００２３】
　このような
アノード電極４は、図５に示すように、基板２上に透明導電性物質(ITOなど)で形成される透明電極４aと、該透明電極４aの一側上にクロームCr、モリブデンMo
などで形成されて透明電極４aの抵抗成分を補償するバス電極４bで構成される。
【００２４】
　
ここで、バス電極４bは、
約30度〜70度の傾斜角を有するように形成される。
【００２５】
　
絶縁膜６は、アノード電極４が形成された基板２上に、ELセル領域毎に開口部が露出されるように、格子形状で形成される
　隔壁８は、アノード電極４と交差するように形成され、カソード電極12と所定間隔、離れて平行に形成され、隣接したELセルを区分する。即ち、隔壁８は、隣接したELセルの有機層10とカソード電極12を分離する。また、隔壁８は、上端部が下端部より広い幅を有するオーバーハング構造で形成される。
【００２６】
　
有機層10は、絶縁膜６上に有機化合物で構成される。即ち、有機発光層10は、絶縁膜６上に正孔輸送層、発光層および電子輸送層が積層されて形成される。
　カソード電極12は有機層10上に所定間隔、離れて、アノード電極４と交差するように多数個が形成される。また、カソード電極12には、正孔(電子)を放出させるための第2駆動信号が供給される。
【００２７】
　このように、本発明による有機電界発光表示素子は、バス電極４bの傾斜角を30度〜70度に形成する。これによって、相対的に緩い傾斜角を有するバス電極４bのテーパーは向上し、バス電極４bを覆うように形成される絶縁膜６のステップカバレッジが向上され、絶縁破壊を防止することができる。
【００２８】
　図６Ａ〜図６Ｆは、本発明による有機電界発光表示素子の製造方法を示す断面図である。
　
先ず、
基板２上に、透明導電性物質
が蒸着された後にパターニングされることにより、図６Ａに示すように、基板上にアノード電極の透明電極４aが形成される。
【００２９】
　
透明電極４aが形成された基板２上に、クロームCrまたはモリブデンMo
が蒸着された後、フォトリソグラフィー工程と
蝕刻工程によってパターニングされることにより、図６Ｂに示すように、30度〜70度のテーパー角度を有するアノード電極のバス電極４bが形成される。
【００３０】
　
アノード電極４が形成された基板２上に、感光性絶縁物質が蒸着された後、パターニングされることにより、図６Ｃに示すように、絶縁膜６が形成される。絶縁膜６は、発光領域を除いた全部分に格子形状で形成される。
【００３１】
　絶縁膜６が形成された基板２上に感光性絶縁物質が蒸着された後、パターニングされることにより、図６Ｄに示すように、隔壁８が形成される。隔壁８は、透明電極４と交差する方向へ所定間隔を離隔して非発光領域に形成される。
　隔壁８が形成された基板２上に、図６Ｅに示すように、有機層10が形成される。
有機層10は、正孔輸送層
発光層
および電子輸送層
を含む。
【００３２】
　
有機層10が形成された基板２上に、図６Ｆに示すように、カソード電極12が形成される。
オ　図５は、図３で線“III−III”に沿って切り取った有機電界発光素子を示した断面図であって、
バス電極４ｂが透明電極４aの上に設けられていること、絶縁膜６がバス電極４ｂを被覆する
有機層10が透明電極４aの上及び絶縁膜６により被覆されたバス電極４ｂの上に設けられること
カ  上記アないしオから、引用文献１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「交差するアノード電極およびカソード電極の間に正孔輸送層、発光層、電子輸送層からなる有機層を置き、アノード電極およびカソード電極から放出された電子及び正孔が有機層内で再結合しながら可視光を発生する有機電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）において、バス電極を有するアノード電極を覆うように形成される絶縁膜のステップカバレッジが低下して、バス電極を露出させるピンホールが発生し、このピンホールにより絶縁破壊が発生することで、アノード電極とカソード電極がショートして有機電界発光表示素子の信頼性が低下する問題点を解決するため、バス電極の傾斜角を30度〜70度で形成することによって、バス電極を覆うように形成される絶縁膜のステップカバレッジが向上し、絶縁破壊を防止することができるようにした有機電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）であって、
　基板２上に、透明導電性物質が蒸着された後にパターニングされることにより、アノード電極の透明電極４aが形成され、透明電極４aが形成された基板２上に、クロームCrまたはモリブデンMoが蒸着された後、フォトリソグラフィー工程と蝕刻工程によってパターニングされることにより、30度〜70度のテーパー角度を有するアノード電極のバス電極であって、透明電極４aの抵抗成分を補償するバス電極４bが透明電極４aの上に形成され、アノード電極４が形成された基板２上に、感光性絶縁物質が蒸着された後、パターニングされることにより、ELセル領域毎に開口部が露出されるように、発光領域を除いた全部分に格子形状で形成された絶縁膜６であって、バス電極４ｂを被覆する絶縁膜６が形成され、透明電極４aの上及び絶縁膜６により被覆されたバス電極４ｂの上に、正孔輸送層、発光層および電子輸送層が積層された有機層10が形成され、有機層10が形成された基板２上に、カソード電極12が形成された有機電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）。」
（２）金属膜の形成方法に関する周知技術について
ア　原査定の拒絶の理由で周知例として引用された本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００５−２０３１９６号公報（以下、「周知例１」という。）には、「パッシブマトリクス駆動トップエミッション型有機ＥＬ素子およびその製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
（ア）「【００１９】
　図５を参照して、本発明にかかる
有機ＥＬ発光素子
基板１０の上に、反射電極１２
および補助電極１６が形成されている
（イ）「【００２１】
　反射電極１２は、１つの方向（第１の方向）に延びるライン形状を有する複数の部分電極から形成される。
反射電極１２は、高反射率の金属
を用いて形成されることが好ましい。高反射率の金属は、
Ｍｏ、
Ｃｒなどを含む
・・・（略）・・・
反射電極１２は、用いる材料に依存して
レーザーアブレーション
を用いて形成することができる
（ウ）　「【００２３】
　補助電極１６は、レーザ保護層１４の上に設けられ、透明電極２０と電気的に接続され上部電極の一部として機能する層である。
補助電極１６は、
高い導電性を有する金属（たとえば、
Ｍｏ、
Ｃｒなど）
用い、
レーザーアブレーション
を用いて形成することができる。
形成時にマスクなどを用いて所望の部位のみに材料を堆積させてもよいし、あるいは形成後にフォトリソグラフ法などを用いてパターニングしてもよい
・・・（略）・・・」
イ　原査定の拒絶の理由で周知例として引用された本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開第２００４／０７７４６１号（以下、「周知例２」という。）には、「電極層および誘電体層を含む積層体ユニット」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
（ア）「　本発明において、積層体ユニットは、支持基板に、導電性材料によって形成された電極層を備えている。
　本発明において、
電極層を形成するための材料は
金属
を用いることができる
　本発明において、
電極層は、
パルスレーザー蒸着法（ＰＬＤ）
を用いて、形成することができる
（イ）「　また、前記実施態様においては、積層体ユニット１は、薄膜コンデンサの構成部品として、用いられているが、
積層体ユニット１は、
無機ＥＬ（ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  ｅｌｅｃｔｒｏ−ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子を高輝度に発光させるための積層体ユニットとして用いることもできる。
ウ　原査定の拒絶の理由で周知例として引用された本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−９６５５７号公報（以下、「周知例３」という。）には、「有機ＥＬ素子の製造装置および有機ＥＬ素子の製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
（ア）「【０００３】図6は、有機EL素子（パネル）の構成例を示す断面図である。当図に示す有機ELパネルは、厚さ80nmのITO（透明電極）12が所定のパターンで形成されたガラス基板11の表面に、RGB各色に対応した有機発光層（例えば厚さ20nmのアルミニウムキノリノール錯体にキナクリドンをドープし、蛍光材料を混合したもの）13R、13G、13Bが形成されている。この発光層13R、13G、13Bは3セル1組で1画素を構成しており、前記ガラス基板11上においてマトリクス状に配され、パネル全体でフルカラー表示をなしている。
【０００４】なお、詳細な説明と図示を省くが、電極12と発光層13R、13G、13Bの間には、ホール注入層（例えば厚さ100nmのトリフェニルアミン誘導体）と、その上にホール輸送層（例えば厚さ20nmのジアミン誘導体）等の有機層が形成されている。
発光層13R、13G、13Bの上には他方の電極（厚さ300nmのMgIn）14が積層され、これによって上下方向の電極12、14に通電することにより発光層13R、13G、13Bが発光する
電極14が陰極とされている
（イ）「【００２８】なお、
ここでは発光層の蒸着工程に本発明のレーザ蒸着装置を適用する例を示したが、
電極12、14についても、それぞれの材料を蒸着トレイ115の凹部に入れ、所定のパターンマスクを介して同様に蒸着を行うことにより各層を基板11に形成する工程に適用してもよい
エ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−２３２０１０号公報（以下、「周知例４」という。）には、「表示装置およびその製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
（ア）「【００２１】（第１の表示素子）図２は、図１に示した表示装置１に用いられる第１の表示素子の一断面の構成を表したものである。
第１の表示素子は、基板２上に、第１の電極４、紫外発光体３および第２の電極５を順に形成する
（イ）「【００２４】
第１の電極４は導電性を有する材料によって
形成されている
この導電性を有する材料として、
モリブデン（Ｍｏ）
クロム（Ｃｒ）などを用いる
【００２５】
第１の電極４の形成方法として
パルスレーザー成膜法
を用いる
・・・（略）・・・」
（ウ）「【００３３】
紫外発光体３は
半導体発光層を有し
ている
紫外発光体３は
第１の電極４と第２の電極５に対して電圧が印加されることによって紫外光を放射する
オ　上記周知例１〜４の各記載事項ア〜エにおける「レーザーアブレーション」、「パルスレーザー蒸着法（ＰＬＤ）」、「レーザ蒸着」、「パルスレーザー成膜法」は、いずれもレーザを用いた堆積技術であるから、本願の優先日前に、「発光素子における電極等の各種金属膜をレーザ堆積によって形成すること」、また、「パターニングを、金属膜の形成時にマスクを用いて行うか、金属膜の形成後にフォトリソグラフ法を用いて行うこと」が周知（以下、「周知技術１」という。）であったことが認められる。
（３）電気絶縁層の形成方法に関する周知技術について
カ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−１２３９９０号公報（以下、「周知例５」という。）には、「有機エレクトロルミネッセンス素子」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
「【００４６】＜実施例２＞実施例１の
ＥＬ素子において、透明陽極層２をパターニングせずに、絶縁層７として、エポキシ樹脂をスクリーン印刷法により１μｍ形成した
キ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−１８５３６２号公報（以下、「周知例６」という。）には、「高分子ＥＬ素子およびその製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
「【００２３】（実施例２)以下図２を用いて説明する。ポリ塩化ビニリデンがされたポリエステルフィルム７（１２μｍ）のポリ塩化ビニリデンのコート層８とＩＴＯ付きポリエステルフィルム１０（７５μｍ）のポリエステル面とをウレタン系接着剤９にてドライラミネートした。次いで、該積層フィルムの
ＩＴＯ面にウレタン樹脂を絶縁層１１としてダイレクトグラビアにて厚さ２μｍでパターン印刷し
た
ク　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−２３７０６５号公報（以下、「周知例７」という。）には、「高分子ＥＬ素子およびその製造方法」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
「【００３２】（実施例２)ＩＴＯ付きポリエステルシート（１５）の
ＩＴＯ面にウレタン樹脂を絶縁層（１６）としてダイレクトグラビアにて厚さ２μｍでパターン印刷し
た
ケ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００７−２７３３２７号公報（以下、「周知例８」という。）には、「有機エレクトロルミネッセンス表示装置」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
「【００３７】
　２．絶縁層
　本発明における絶縁層は遮光部上に形成されたものであり、絶縁層のパターンのエッジは遮光部のパターンのエッジよりも内側に配置されている。
絶縁層は、
近接する透明電極層および背面電極層間を絶縁するために設けられるものである
【００３８】
　絶縁層のパターンは、通常、線状であり、例えばマトリクス状またはストライプ状等の開口部を有するパターンが例示される。
【００３９】
　この絶縁層のパターンの幅は、上述したように遮光部のパターンの幅よりも小さければ特に限定されるものではないが、遮光部および絶縁層のパターンの幅の差が所定の範囲であることが好ましい。中でも、材料の製版性、パターニング精度等の観点から、絶縁層のパターンの幅は、２μｍ〜９５μｍの範囲内であることが好ましく、特に好ましくは５μｍ〜２０μｍの範囲内である。
【００４０】
　本発明に用いられる絶縁層の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、あるいは無機材料などを用いることができる。
【００４１】
　また、
絶縁層の形成方法として
印刷法等を用いることもできる
【００４２】
　上記
絶縁層の膜厚としては、通常０．５μｍ〜２μｍ程度である
コ　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００７−２３４５２６号公報（以下、「周知例９」という。）には、「表示素子」（発明の名称）に関して以下の事項が記載されている。
（ア）「【００２０】
　〔５．絶縁層〕
　本発明に用いられる
有機ＥＬ素子には、陽極上に、
所定形状と略同一形状に該透明陽極が露出するようにパターニングされた絶縁層が設けられている
（イ）「【００２８】
　パターンを大面積に安価に短時間に形成できるという観点からは、
絶縁層の材料はインキであることが好ましい。この場合、絶縁層の厚さは
０．５〜３μｍであることが望ましい。
【００２９】
　
前記絶縁層の材料としてインキを用いる場合には、
　インキとしてＵＶ硬化型インキを用いるのであれば、オフセット印刷法、
グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの方法により、
絶縁層を形成することができる。
【００３０】
　また、パターンをフォトマスクなしに安価に短時間に形成できるという観点からは、
絶縁層の材料はトナーであることが好ましい。この場合、絶縁層の厚さは
０．５〜３μｍであることが望ましい。
【００３１】
　
前記絶縁層の材料としてトナーを用いる場合には、
インクジェットプリンターで陽極上に印刷することができる。
サ　上記周知例５〜９の各記載事項カ〜コから、本願の優先日前に、「発光素子において、電気絶縁層が、インクジェット印刷、グラビア印刷又は／及びスクリーン印刷によって堆積されること」が周知（以下、「周知技術２」という。）であり、そのような場合に「電気絶縁層の厚さが、≧1μmであり、且つ≦2μmであること」も周知（以下、「周知技術３」という。）であったことが認められる。
４　本願発明についての対比・判断
（１）　本願発明と引用発明との対比
ア　引用発明の「基板２」、「透明電極４a」、「絶縁膜６」は、それぞれ本願発明の「基板」、「導体層」、「電気絶縁層」に相当する。
イ　引用発明の「正孔輸送層、発光層および電子輸送層が積層された有機層10」について、本願の明細書の【０００２】の「有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、無機ＬＥＤと同じ動作原理に従うが、活性発光材料として有機材料を用いる。」という記載により発光層は活性層に相当することから、引用発明の「正孔輸送層、発光層および電子輸送層が積層された有機層10」は本願発明の「活性層としての有機層」と、「活性層を含む有機層」である点で一致する。
ウ　引用発明の「バス電極４ｂ」は、導体層（透明電極４a）が形成された基板上に形成され、導体層の抵抗成分を補償するものであるから、導体層を流れる電流の一部が流れる経路を形成していることは明らかであり、一方、本願発明の「分流線」については、本願の明細書の【０００３】には「これらの透明な電極の導電率には限りがあり、これは、装置のサイズを制限し、且つこの導体を通した電圧降下により、均質でない発光を生じさせる。この制限を克服するため、金属製の付加的な配電チャネルが用いられ得る。」こと、及び【００１８】には「基板１は、透明な導体層３で覆われ、前記透明な導体層３には、分流線４が設けられる。この分流線４は、導体層３を覆う分流線の格子の一部であり、従って、付加的な配電チャネルとしての役割を果たす。」ことが説明されており、「配電チャネル」は、導体層を流れる電流の一部が流れる経路を意味することから、引用発明の「バス電極４ｂ」は、本願発明の「付加的な配電チャネルとしての分流線」に相当する。
エ　引用発明の「有機電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）」は、アノード電極およびカソード電極の間に発光層を含む有機層を置き、アノード電極およびカソード電極から放出された電子及び正孔が有機層内で再結合しながら可視光を発生するものであることから、本願の明細書の【０００２】の「有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）」という記載を参酌すると、本願発明の「ＯＬＥＤ装置」に相当する。
オ　上記ア〜エから、引用発明の「基板２上に・・・アノード電極の透明電極４aが形成され、・・・アノード電極の・・・バス電極４bが透明電極４aの上に形成され、・・・基板２上・・・に、正孔輸送層、発光層および電子輸送層が積層された有機層10が形成され・・・た有機電界発光表示素子（エレクトロルミネッセンスディスプレィ装置）。」は、本願発明と「基板と、導体層と、活性層を含む有機層と、付加的な配電チャネルとしての分流線とを備えるＯＬＥＤ装置であって、前記導体層が、前記基板上に設けられ、前記分流線が、前記導体層上に設けられ・・・るＯＬＥＤ装置。」の点で一致する。
カ　引用発明の「バス電極４ｂを被覆する絶縁膜６が形成」されることは、本願発明の「分流線が、少なくとも部分的に、電気絶縁層によって被覆」されることに相当する。
キ　引用発明の「透明電極４aの上及び絶縁膜６により被覆されたバス電極４ｂの上に・・・有機層10が形成」されることは、本願発明の「有機層が、前記導体層及び被覆された前記分流線の上に設けられ」ることに相当する。
ク　上記ア〜キから、本願発明と引用発明とは、
「基板と、導体層と、活性層を含む有機層と、付加的な配電チャネルとしての分流線とを備えるＯＬＥＤ装置であって、前記導体層が、前記基板上に設けられ、前記分流線が、前記導体層上に設けられ、前記分流線が、少なくとも部分的に、電気絶縁層によって被覆され、前記有機層が、前記導体層及び被覆された前記分流線の上に設けられるＯＬＥＤ装置。」の点で一致し、次の点で相違する。
　相違点１：「活性層を含む有機層」が、本願発明では「活性層としての有機層」であるのに対し、引用発明では、さらに正孔輸送層および電子輸送層が積層されている点。
　相違点２：「分流線」が、本願発明では「レーザ堆積」によって設けられるのに対し、引用発明では、クロームCrまたはモリブデンMoが蒸着された後、フォトリソグラフィー工程と蝕刻工程によってパターニングされることにより設けられる点。
  相違点３：「電気絶縁層」が、本願発明では「インクジェット印刷、グラビア印刷又は／及びスクリーン印刷によって堆積され」、その厚さが「≧1μmであり、且つ≦2μm」であるのに対し、引用発明では、感光性絶縁物質が蒸着された後パターニングされることにより形成され、厚さは不明である点。
（２）　相違点についての判断
ア　相違点１について
（ア）本願発明では、「ＯＬＥＤ装置」が「活性層としての有機層」を備えることが特定されているのみであり、正孔輸送層や電子輸送層などの活性層以外の有機層を備えることが排除されるのか否かは明らかではない。
（イ）本願発明が、活性層以外の有機層を備える構成を含むものであるとすれば、上記相違点１は実質的な相違点ではない。
（ウ）一方、本願発明が、活性層以外の有機層を備える構成を含まないものだとしても、ＯＬＥＤ装置において、正孔輸送層および電子輸送層が活性層（発光層）に対する任意の付加層であることは当業者に周知であり、また引用発明は、バス電極の逆テーパー発生を減らすことを課題とした発明であり、有機層として正孔輸送層および電子輸送層を必須の構成として、これを有していなければならない特段の理由もないことは当業者に明らかである。したがって、引用発明において、有機層が正孔輸送層および電子輸送層を含まない構成とすることで、上記相違点１に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
イ　相違点２について
（ア）引用発明において、分流線（バス電極４ｂ）は、クロームCrまたはモリブデンMoが蒸着された後、フォトリソグラフィー工程と蝕刻工程によって形成されるものであり、これは分流線（バス電極４ｂ）を形成するための金属膜を堆積によって形成した後、電極としての形状に形成されるものであるが、蒸着の具体的手段について特段の限定はなされておらず、引用文献１においても特定の蒸着方法に限定すべき説明はなされていない。
（イ）そして、上記周知技術１のように、「発光素子における電極等の各種金属膜をレーザ堆積によって形成すること」、また、「パターニングを、金属膜の形成時にマスクを用いて行うか、金属膜の形成後にフォトリソグラフ法を用いて行うこと」は周知である。
（ウ）一方、本願発明において分流線は、「レーザ堆積」によって設けられることが特定されているのみであり、また本願の出願当初明細書には、「レーザ堆積」自体について、具体的な定義、特に「分流線」としての構造を形成するための方法について何らの定義もなされていないことから、「レーザ堆積」の後にフォトリソグラフィー工程と蝕刻工程によってパターニングされるものを排除するものでもない。
（エ）よって、引用発明において、分流線（バス電極４ｂ）を形成するに際し、上記周知技術１を適用し、当業者に周知のレーザ堆積及びパターニング方法を採用することで、上記相違点２に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
ウ　相違点３について
（ア）引用文献１には、電気絶縁層の形成に際して特定の方法に限定されることは記載されておらず、任意の形成方法が適用できることは明らかであり、また、上記周知技術２のように、「発光素子において、電気絶縁層が、インクジェット印刷、グラビア印刷又は／及びスクリーン印刷によって堆積されること」は周知であるから、引用発明において、電気絶縁層の形成方法として上記周知技術２を採用することは、当業者が適宜選択し得た設計上の事項にすぎない。
（イ）また、引用発明において、電気絶縁層の厚さは、電極間のショートが防止できる程度に厚く形成する必要がある一方、ＯＬＥＤ全体の厚さが厚くなりすぎないよう上限を考慮する必要があり、さらに電気絶縁層の形成方法によって異なる最適な厚さをも考慮する必要があることは当業者には明らかであり、引用発明において、電気絶縁層の厚さを、これらの要因を考慮しつつ決めることは、当業者が適宜なし得た設計上の事項にすぎない。そして、上記周知技術３のように、上記周知技術２を適用した際に「電気絶縁層の厚さが、≧1μmであり、且つ≦2μmであること」とすることは周知である。
（ウ）よって、引用発明において、上記周知技術２及び３を適用し、上記相違点３に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
（３）効果について
　相違点１ないし３に係る本願発明の発明特定事項により奏される効果について、格別顕著な点は見いだせない。
（４）まとめ
　上記（１）〜（３）のとおり本願発明は、引用発明及び周知例１〜９に記載された周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知例１〜９に記載された周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。