【事件の表示】
　平成　４年特許願第１３４３０３号「投影露光方法及び投影露光装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年１１月１６日出願公開、特開平　５−３０４０７５］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願は、平成４年４月２７日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本件第１発明」という。）は、平成１４年１月２１日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、次のとおりのものである。
　請求項１
「被投影ウェハには該ウェハの外端縁より一定の距離のフォーカス無効範囲が設定され、該ウェハのそれより内側の範囲がフォーカス有効範囲であり、かつ該ウェハ端部は傾斜により投影中心に距離差が生じている該被投影ウェハを露光する露光方法であって、１回の投影で複数のチップを投影露光する操作をくり返す投影露光方法において、
　前記フォーカス無効範囲は該フォーカス無効範囲上のチップも素子形成は可能であり、かつ、
　或る１回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるとともに該投影の中心は前記フォーカス無効範囲上もしくは被投影ウェハ外にあり、かつ該投影内の少なくとも１つの被投影チップは前記フォーカス無効範囲を含むウェハ上にある場合、該ウェハのフォーカス有効範囲にあるチップ上にフォーカスポイントを設け、該フォーカスポイントをフォーカス中心にして前記投影露光装置における露光源のフォーカスを合わせるためのフォーカスデータを測定し、そのフォーカスデータにより投影露光を行い、これにより前記フォーカス無効範囲上のチップにも素子を形成することを特徴とする投影露光方法。」
２．これに対し、原査定の拒絶の理由に引用した特開昭６３−１９０３３４号公報（以下、「引用例」という。）には、以下の記載がされている。
　記載ａ
　第２頁右上欄第３行〜同欄第１４行には、「（発明の概要）
　本発明はウエハ周辺部で焦点位置検出光がウエハから外れ焦点位置検出が不能になる場合に、検出が不能となる領域の内側までステップアンドリピート露光のためのＸ−Ｙステージでウエハを補正駆動させることを特徴とし、これによりレチクルとウエハを投影光学系の共役な光学基準面位置に正確に位置決めすることを可能とする。また、レチクル上に半導体素子用のパターンを複数形成し、１回の露光動作（ショット）でウエハ上に複数の半導体素子用のパターン像を焼付ける」と記載されている。
　記載ｂ
　第３頁右上欄第５行〜左下欄第２０行には、「また、焦点位置検出装置４の検出位置、即ちウエハ９の面に光源３からの光束が投射される位置は、Ｘ−Ｙステージ７の補正駆動をしない標準状態で、ショット領域の中心、即ち、ショット中央のチップ２０ｅ，３０ｅの中心２０ｅ′、３０ｅ′である。焦点位置の検出が可能な範囲はウエハ面内である。
　第３図において、１７番目のショット領域２０の焦点位置検出装置４によるウエハ面の検出位置は、先に述べた様に、チップ２０ｅの中心２０ｅ′である。この位置はウエハ面上であるので焦点位置検出可能範囲内となり、ウエハ９を投影レンズ５を介してレチクル２と共役な光学基準面位置に正確に位置決めできる。しかし、次の１８番目のショット領域３０を露光するために、Ｘ−Ｙステージ７でＳｘだけウエハ９を移動させると、焦点位置検出装置４によるウエハ面の検出位置、即ちチップ３０ｅの中心３０ｅ′はウエハ面上の外にあるので検出不能となり、レチクル２とウエハ９を投影レンズ５の共役な位置に位置決めできない。そのため、ショット領域３０の中には３つの有効なチップ３０ａ、３０ｄ、３０ｇが存在するにもかかわらず、無効なチップとなり、歩留りの低下となる。
　そこで、このような場合、本発明では、ショット領域２０とショット領域３０の間で、焦点位置検出可能範囲内にあり、かつ、所定の条件を満足する位置にＸ−Ｙステージ７でウエハ９を補正駆動させて、ショット領域３０のチップ３０ｄの中心３０ｄ′に対する焦点位置の検出を可能にする。焦点位置の検出後、ウエハ９のショット領域３０を露光位置に移動し、露光することによってチップ３０ａ、３０ｄ，３０ｇを無効なチップから有効なチップとしている。」と記載されている。
３．本件第１発明と引用例に記載された発明の対比
３．１　本件第１発明と引用例に記載された発明の一致点
　引用例には、記載ａを参照すると、１回の投影で複数のチップを投影露光する操作をくり返す投影露光方法の発明が記載されている。
　また、記載ｂを参照すると、記載ｂの「焦点位置検出装置４によるウエハ面の検出位置、即ちチップ３０ｅの中心３０ｅ′はウエハ面上の外にあるので検出不能」は、本件第１発明の「或る１回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるとともに該投影の中心は前記フォーカス無効範囲上もしくは被投影ウェハ外にあり」に相当し、記載ｂの「ショット領域３０のチップ３０ｄの中心３０ｄ′に対する焦点位置の検出」は、本件第１発明の「フォーカスポイントをフォーカス中心にして前記投影露光装置における露光源のフォーカスを合わせるためのフォーカスデータを測定」に相当するから、引用例には、１回の投影で複数のチップを投影露光する操作をくり返す投影露光方法において、或る１回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるとともに該投影の中心は前記フォーカス無効範囲上もしくは被投影ウェハ外にあり、かつ該投影内の少なくとも１つの被投影チップはウェハ上にある場合、該ウェハのチップ上にフォーカスポイントを設け、該フォーカスポイントをフォーカス中心にして前記投影露光装置における露光源のフォーカスを合わせるためのフォーカスデータを測定し、そのフォーカスデータにより投影露光を行う構成を満たす発明が記載されており、この部分においては、本件第１発明と引用例に記載された発明は一致する。
３．２　本件第１発明と引用例に記載された発明の相違点
　そこで本件第１発明と、引用例記載の発明を対比すると、本件第１発明は、
「ウェハ端部は傾斜により投影中心に距離差が生じている該被投影ウェハ」の構成である点（以下、「本件第１発明の構成１」という。）、「被投影ウェハには該ウェハの外端縁より一定の距離のフォーカス無効範囲が設定」される構成である点（以下、「本件第１発明の構成２」という。）、「投影内の少なくとも１つの被投影チップは前記フォーカス無効範囲を含むウェハ上にある場合、該ウェハのフォーカス有効範囲にあるチップ上にフォーカスポイントを設け」た点（以下、「本件第１発明の構成３」という。）及び「フォーカス無効範囲上のチップにも素子を形成する」構成である点（以下、「本件第１発明の構成４」という。）を有するのに対し、引用例記載の発明には、本件第１発明の構成１〜４が記載されていない点で両者は相違する。
３．３　相違についての検討
　ウェハの外端縁に、ウェハの端部が平坦でない部分が生じて、フォーカス無効範囲が生じることは周知の事項（例えば特開昭６３−２２８７１９号公報（第３頁左上欄第７行〜同欄第１７行）及び特開昭６３−５００１７号公報（第２頁左下欄第３行〜同欄第７行及び第２頁右下欄第１０行〜同欄第１１行）参照）であるから、本件第１発明の構成１及び２については、上記引用例に対し、ウェハに通常生じる事項を記載したにすぎず、何ら困難なく付加できた事項にすぎない。
　また、上記引用例では、ウェハの外端縁にフォーカス無効範囲を特に設定する旨の記載がないから、「投影内の少なくとも１つの被投影チップは前記フォーカス無効範囲を含むウェハ上にある場合、該ウェハのフォーカス有効範囲にあるチップ上にフォーカスポイントを設け」ることは記載されていないが、ウェハの外端縁にフォーカス無効範囲が生じることは周知の事項であることを考慮すると、上記引用例において、本件第１発明の構成３の「投影内の少なくとも１つの被投影チップは前記フォーカス無効範囲を含むウェハ上にある場合、該ウェハのフォーカス有効範囲にあるチップ上にフォーカスポイントを設け」ることは、当然配慮すべき事項にすぎず、何ら困難性はない。
　さらに、周知のウェハの外端縁に生じたフォーカス無効範囲においても素子を形成することは周知手段（例えば上記特開昭６３−２２８７１９号公報（第３頁右下欄第１３行〜同欄第１７行）及び特開昭６３−５００１７号公報（第２頁右下欄第１０行〜同欄第１１行）参照）であるから、本件第１発明の構成４については、引用例に対し、単なる周知手段を付加した程度のものにすぎない。
　さらにまた、本件第１発明の構成１〜４が有する効果についても、当業者が予測し得たものである。
５．　そうすると、本件請求項１に係る発明は、引用例に記載された発明及び周知手段に基いて当業者が容易に発明できたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。