(57)【要約】【課題】ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具７を準備する工程と、保持用治具７を用いてガラス基板１を化学強化処理液中に浸漬し、ガラス基板１の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、保持用治具７の周囲は、ガラス基板１が化学強化処理液中に浸漬された状態で、ガラス基板１の周りに化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
線状の金属部材を含む保持用治具を準備する工程と、
前記保持用治具を用いて前記ガラス基板を化学強化処理液中に浸漬し、前記ガラス基板の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、
前記保持用治具の周囲は、前記ガラス基板が前記化学強化処理液中に浸漬された状態で、前記ガラス基板の周りに前記化学強化処理液の対流が生じるように開放されている、
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記保持用治具は、
前記ガラス基板の下方において直線状に延在する下部延在部と、
前記下部延在部から重力方向の上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第１保持部と、を含み、
前記第１保持部は、前記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部を挟持する、
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記保持用治具は、前記ガラス基板の周囲に配置される側壁に取り付けられ、
前記保持用治具は、前記側壁から前記ガラス基板に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第２保持部を含み、
前記第２保持部は、前記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第２外周端面部を挟持する、
請求項１または２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下である、
請求項１から３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記金属部材の熱膨張係数は、２４×１０−６／℃以下である、
請求項１から４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク等の情報記録媒体は、ハードディスクとしてコンピュータ等に搭載される。情報記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板（以下、ガラス基板ともいう）から製造される。
【０００３】
情報記録媒体の記録密度は年々高くなる傾向にある。これに伴って、情報記録媒体と磁気ヘッドとの間隔（ヘッド浮上量）も小さくなる傾向にある。情報記録媒体にＤＦＨ（Dynamic Flying Height）機構が採用される場合、ヘッド浮上量は３ｎｍ以下に構成される場合もある。このような背景のもと、情報記録媒体および情報記録媒体用ガラス基板には、ますます高い品質が求められている。
【０００４】
特開２００８−１７１５０２号公報（特許文献１）に開示されるように、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の表面に化学強化層を形成する化学強化工程を含む。化学強化処理は、ガラス基板の表面全体に対して均一に施される必要がある。
【０００５】
図８および図９を参照して、一般的な化学強化工程について説明する。図８は、一般的な化学強化工程に用いられる保持用治具７０を示す断面図である。図９は、保持用治具７０がガラス基板１を保持する部分を拡大して示す断面図である。保持用治具７０は、特開２００８−１７１５０２号公報（特許文献１）に開示されるものに類似している。
【０００６】
図８に示すように、保持用治具７０は、ガラス基板１の外側の両端部を挟持する。ガラス基板１は、化学強化処理液が貯留された化学強化処理槽（図示せず）の中に、保持用治具７０とともに浸漬される。
【０００７】
図９を参照して、保持用治具７０においては、側壁７１から端部７２に向かって２本のワイヤ７３が張られている。交差するように配置されたワイヤ７３によって、ガラス基板１が挟持される。ガラス基板１の外周端面１Ｄは、ワイヤ７３同士の間に位置する。保持用治具７０においては、側壁７１とガラス基板１との間の間隔が小さい。ガラス基板１の外周端面１Ｄと端部７２との間も空間的に閉塞されている。
【０００８】
保持用治具７０においては、側壁７１および端部７２に囲まれた領域７５内において、化学強化処理液が十分に対流しにくい。外周端面１Ｄの周囲において、イオン交換が十分に行なわれない。化学強化処理によって形成される化学強化層（圧縮応力層）の厚さにばらつきが生じ、ガラス基板１には、ひずみ又はうねりといった不具合が発生する。ひずみ又はうねりは、いわゆるヘッドクラッシュを発生させる原因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−１７１５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記のような実情に鑑みて為されたものであって、ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具を準備する工程と、上記保持用治具を用いて上記ガラス基板を化学強化処理液中に浸漬し、上記ガラス基板の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、上記保持用治具の周囲は、上記ガラス基板が上記化学強化処理液中に浸漬された状態で、上記ガラス基板の周りに上記化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。
【００１２】
好ましくは、上記保持用治具は、上記ガラス基板の下方において直線状に延在する下部延在部と、上記下部延在部から重力方向の上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第１保持部と、を含み、上記第１保持部は、上記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部を挟持する。
【００１３】
好ましくは、上記保持用治具は、上記ガラス基板の周囲に配置される側壁に取り付けられ、上記保持用治具は、上記側壁から上記ガラス基板に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第２保持部を含み、上記第２保持部は、上記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第２外周端面部を挟持する。
【００１４】
好ましくは、上記金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下である。好ましくは、上記金属部材の熱膨張係数は、２４×１０−６／℃以下である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を示す斜視図である。
【図２】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。
【図３】実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャート図である。
【図４】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（化学強化工程）に用いられる化学強化処理装置を示す断面図である。
【図５】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（化学強化工程）に用いられる保持用治具を示す斜視図である。
【図６】図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿った矢視断面図である。
【図７】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（化学強化工程）に用いられる保持用治具に、ガラス基板が保持される様子を示す斜視図である。
【図８】一般的なガラス基板の化学強化工程に用いられる保持用治具を示す断面図である。
【図９】一般的なガラス基板の化学強化工程に用いられる保持用治具がガラス基板を保持する部分を拡大して示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００１８】
［ガラス基板１・磁気ディスク１０］
図１および図２を参照して、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板１、およびガラス基板１を備えた磁気ディスク１０（図２参照）について説明する。図１は、磁気ディスク１０の製造に用いられるガラス基板１を示す斜視図である。図２は、情報記録媒体として、ガラス基板１を備えた磁気ディスク１０を示す斜視図である。
【００１９】
図１に示すように、磁気ディスク１０（図２参照）の製造に用いられるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）は、円形ディスク状（環状の円板形状）に形成される。ガラス基板１は、表主表面１Ａ、裏主表面１Ｂ、内周端面１Ｃ、および外周端面１Ｄを有している。ガラス基板１の中心には、孔１Ｈが設けられる。
【００２０】
ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板１の大きさは、外径が約６４ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板１の厚さとは、ガラス基板１上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。
【００２１】
図２に示すように、磁気ディスク１０は、上記したガラス基板１の表主表面１Ａ上に磁気薄膜層２が形成されることによって構成される。図２中では、表主表面１Ａ上にのみ磁気薄膜層２が形成されているが、裏主表面１Ｂ上に磁気薄膜層２が形成されていてもよい。
【００２２】
磁気薄膜層２は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１の表主表面１Ａ上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２は、ガラス基板１の表主表面１Ａに対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００２３】
ガラス基板１の表主表面１Ａに形成される磁気薄膜層２の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２は、スパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００２４】
磁気薄膜層２に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。
【００２５】
磁気記録ヘッドの滑りをよくするために、磁気薄膜層２の表面に潤滑剤が薄くコーティングされてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００２６】
必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１０における下地層は、磁性膜の種類に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００２７】
下地層は、単層構造とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。下地層は、たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、または、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等からなる多層構造としてもよい。
【００２８】
磁気薄膜層２の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、またはシリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、または磁性膜など共に、インライン型スパッタ装置を使用することによって連続して形成されることができる。これらの保護層は、単層構造から構成されていてもよく、同一または異種の層を含む多層構造から構成されていてもよい。
【００２９】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２)層を形成してもよい。
【００３０】
［ガラス基板の製造方法］
図３に示すフローチャート図を参照して、本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法について説明する。
【００３１】
本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、形状加工工程（ステップＳ２０）、粗面化工程（ステップＳ３０）、精ラッピング工程（ステップＳ４０）、端面研磨工程（ステップＳ５０）、主表面研磨工程（ステップＳ６０）、化学強化工程（ステップＳ７０）、および洗浄工程（ステップＳ８０）を含む。
【００３２】
洗浄工程（ステップＳ８０）を経ることによって得られたガラス基板（図１におけるガラス基板１に相当）に対して、磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）が実施される。磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）によって、磁気ディスク１０（図２参照）が得られる。
【００３３】
上記のステップは、必ずしも必須ではなく、必要に応じて省略または追加することは可能である。以下、これらの各ステップＳ１０〜Ｓ９０について順に説明する、以下には、各ステップＳ１０〜Ｓ９０間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については記載していない。
【００３４】
（粗ラッピング工程：ステップＳ１０）
まず、上型、下型、および胴型が準備され、これらによって溶融ガラスがダイレクトプレスされる。直径６６ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のガラス基板が得られる。ガラス基板のガラス素材は、たとえばアルミノシリケートガラスである。ダイレクトプレス法以外に、ダウンドロー法またはフロート法を使用してシートガラスを形成し、このシートガラスから研削砥石で切り出すことによって、円盤状のガラス基板を得てもよい。
【００３５】
アルミノシリケートガラスの組成は、たとえば、ＳｉＯ２が５８質量％〜７５質量％、Ａｌ２Ｏ３が５質量％〜２３質量％、Ｌｉ２Ｏが３質量％〜１０質量％、Ｎａ２Ｏが４質量％〜１３質量％を主成分として含有している。
【００３６】
ダイレクトプレス等によって得られたガラス基板には、ラッピング加工が施される。このラッピング加工は、寸法精度および形状精度の向上を目的として、両面ラッピング装置によって行なわれる。
【００３７】
ラッピング加工において使用される砥粒の粒度は、たとえば、＃４００（粒径約４０μｍ〜６０μｍ）である。研磨装置において粒度＃４００のアルミナ砥粒が用いられ、上定盤の荷重は約１００ｋｇに設定される。キャリア内に収納したガラス基板の両面は、面精度０μｍ〜１μｍ、表面粗さＲｍａｘで約６μｍに仕上げられる。
【００３８】
（形状加工工程：ステップＳ２０）
粗ラッピング工程を経たガラス基板は、外周端面および内周端面がそれぞれ研削される。当該研削によって、ガラス基板の外径は約６５ｍｍとなる。ガラス基板の内径（中心部の孔１Ｈの直径）は約２０ｍｍとなる。外周端面および内周端面には、所定の面取り加工が施される。このときのガラス基板の端面の面粗さは、Ｒｍａｘが約２μｍ程度である。一般的に、２．５インチ型のハードディスクには外径が６５ｍｍのガラス基板が用いられる。
【００３９】
（粗面化工程：ステップＳ３０）
形状加工工程を経たガラス基板は、表面が粗面化される。この粗面化工程においては、平面研磨機が使用される。平面研磨機は、遊離砥粒研磨を用いて、ガラス基板に対して機械的な粗面化を行なう。ガラス基板の表面の全体が、略均一の表面粗さ（Ｒａ＝０．０１μｍ〜０．４μｍ程度）となるように研磨される。粗面化工程において目標とする表面粗さは、次述する精ラッピング工程（ステップＳ４０）で使用される固定砥粒の粒度との関係で設定されるとよい。
【００４０】
（精ラッピング工程：ステップＳ４０）
粗面化工程を経たガラス基板は、ラッピング装置にセットされる。ガラス基板の主表面は、固定砥粒研磨パッドまたはダイヤモンドシート等によって研削される。ガラス基板は、たとえば、表面粗さＲａが０．１μｍ以下、平坦度が７μｍ以下となるように研削される。
【００４１】
ここで、ガラス基板の主表面は、粗面化工程（ステップＳ３０）において粗面化されている。微細な固定砥粒からなる引っ掛かりがガラス基板の主表面に形成されていることによって、固定砥粒がガラス基板の表面を滑るという不具合が防止される。したがって、精ラッピング工程における加工レートは、表面研磨の開始時点から高い加工レートで実現できるものとなっている。
【００４２】
（端面研磨工程：ステップＳ５０）
端面研磨工程においては、ブラシ研磨方法が使用される。ガラス基板が回転された状態で、ガラス基板の外周端面および内周端面がそれぞれ研磨される。ガラス基板の外周端面および内周端面は、たとえば、表面の粗さが、Ｒｍａｘで約０．４μｍ、Ｒａで約０．１μｍとなる。端面研磨を終えたガラス基板の表面は、水洗浄される。
【００４３】
（主表面研磨工程：ステップＳ６０）
主表面研磨工程は、第１研磨工程および第２研磨工程を有する。第１研磨工程においては、上述した両面研磨装置を用いてガラス基板の主表面が研磨される。上述の精ラッピング工程（ステップＳ４０）で残留した傷または歪みなどが除去される。第１研磨工程においては、たとえば、研磨パッド（ポリッシャは、たとえばスウェードパッドである）が、以下の条件の下に用いられる。
【００４４】
研磨液  ：酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）＋水
荷  重  ：８０ｇ／ｃｍ２〜１００ｇ／ｃｍ２
研磨時間：３０分〜５０分
除去法  ：３５μｍ〜４５μｍ
次に、ガラス基板の表面が洗浄される。ガラス基板の表面に付着している研磨剤が除去される。洗浄方法としては、ＨＦを１質量％、硫酸を３質量％混合させた洗浄液が用いられる。
【００４５】
この洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態で、この洗浄液にたとえば８０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、中性洗剤にガラス基板を浸漬させた状態で、この中性洗剤にたとえば１２０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、ガラス基板は、純粋を使用するリンスによって洗浄される。最後に、ガラス基板はＩＰＡ（Isopropyl alcohol）によって乾燥される。
【００４６】
その後、第２研磨工程においては、軟質ポリッシャ（スウェード）である研磨パッドを用いて、ガラス基板の主表面が研磨される。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウムよりも微細なシリカ砥粒が用いられる。
【００４７】
（化学強化工程：ステップＳ７０）
次に、図４〜図７を参照して、化学強化工程について説明する。図４は、化学強化工程に使用される化学強化処理装置８を模式的に示す断面図である。化学強化工程においては、化学強化処理装置８が使用される。化学強化処理装置８は、化学強化処理液６を内部に貯留する化学強化処理槽９を有する。化学強化処理液６としては、溶融塩が使用される。この溶融塩は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合した塩が、４５０℃で加熱されることによって得られる。
【００４８】
化学強化処理槽９の内部には、固定体４に取り付けられた保持用治具７が配置される。固定体４は、側壁４Ａ〜４Ｄ（図５参照）から角筒状に構成される。固定体４の下部には、開口部４Ｈが設けられる。側壁４Ａ〜４Ｄによって、保持用治具７は取り囲まれる。主表面研磨工程（ステップＳ６０）を経た複数のガラス基板１は、保持用治具７に保持された状態で、化学強化処理液６の内部に浸漬される。
【００４９】
複数のガラス基板１は、隣り合うガラス基板１同士が互いに対向するように配置される。複数のガラス基板１の各表面は、平行な位置関係にある。
【００５０】
（保持用治具７）
図５〜図７を参照して、保持用治具７について詳細に説明する。図５は、保持用治具７を示す斜視図である。図５においては、図示上の便宜のため、ガラス基板１が図示されていない。図５においては、側壁４Ａおよび側壁４Ｂの一部が破断して図示されるが、実際には連続している。図６は、図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿った矢視断面図である。図７は、保持用治具７にガラス基板１が保持される様子を示す斜視図である。
【００５１】
図５〜図７に示すように、保持用治具７は、第１保持部７Ａ、第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２、上部延在部７Ｃ、および下部延在部７Ｄを含む。保持用治具７（第１保持部７Ａ、第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２、上部延在部７Ｃ、および下部延在部７Ｄ）は、線状の金属部材から構成される。
【００５２】
線状の金属部材とは、針金またはワイヤーなどである。線状の金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下であるとよい。線状の金属部材の熱膨張係数は、２４×１０−６／℃以下であるとよい。保持用治具７の周囲は、固定体４を構成する側壁４Ａ〜４Ｄによって取り囲まれる。保持用治具７および固定体４は、組み立てられることによって、いわゆる網籠状に構成される。
【００５３】
下部延在部７Ｄは、ガラス基板１が配列される方向（図６紙面左右方向）に沿って直線状に延在する。下部延在部７Ｄの一方の端部および他方の端部は、側壁４Ａおよび側壁４Ｃにそれぞれ固定される。
【００５４】
第１保持部７Ａは、重力方向の下方から上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される。第１保持部７Ａの下端は、下部延在部７Ｄによって上方支持される（図５，図７参照）。
【００５５】
上部延在部７Ｃは、側壁４Ｂおよび側壁４Ｄの間を橋渡しするように直線状に複数設けられる。複数の上部延在部７Ｃは、ガラス基板１が配列される方向（図６紙面左右方向）に互いに等間隔を空けて配置される。隣り合う上部延在部７Ｃ同士の間に、ガラス基板１が配置される（図６，図７参照）。第１保持部７Ａの一方の上端および他方の上端は、隣り合う上部延在部７Ｃにそれぞれ固定される。
【００５６】
第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２は、水平方向における上記ガラス基板１の両外側から内側に向かって、それぞれ略Ｖ字形状に水平方向に延在する。第２保持部７Ｂ１および第２保持部７Ｂ２は、対向するように配置される。
【００５７】
第２保持部７Ｂ１の延在方向の先端部の一方および先端部他方は、隣り合う上部延在部７Ｃ上にそれぞれ固定される。第２保持部７Ｂ１の延在方向の後端部は、側壁４Ｂに固定される。同様に、第２保持部７Ｂ２の延在方向の先端部の一方および先端部の他方は、隣り合う上部延在部７Ｃ上にそれぞれ固定される。第２保持部７Ｂ２の延在方向の後端部は、側壁４Ｄに固定される。
【００５８】
図７を参照して、第１保持部７Ａは、ガラス基板１の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部１ＤＡを挟持する。第２保持部７Ｂ１は、ガラス基板１の水平方向の一方の外側に位置する第２外周端面部１ＤＢ１を挟持する。同様に、第２保持部７Ｂ２は、ガラス基板１の水平方向の他方の外側に位置する第２外周端面部１ＤＢ２を挟持する。第１保持部７Ａおよび第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２の各挟持によって、ガラス基板１は保持される。
【００５９】
本実施の形態における保持用治具７は、上述のとおり、線状の金属部材から構成される。線状の金属部材は、たとえば０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。図６に示すように、保持用治具７の周囲は、ガラス基板１が化学強化処理液６（図４参照）中に浸漬された状態で、ガラス基板１の周りに化学強化処理液６の対流が十分に生じるように開放されている。当該構成によって、ガラス基板１の表面の全体には、均一な化学強化処理が良好に実施されることが可能となる。
【００６０】
化学強化工程においては、ガラス基板に化学強化処理が施される。ガラス基板の表面に存在するイオンが、そのイオンよりも大きなイオン半径を有する他のイオンに交換される。たとえば、ガラス基板がアルミノシリケートガラスである場合、Ｌｉ＋およびＮａ＋が、Ｌｉ＋およびＮａ＋よりも大きなイオン半径を有するイオン（Ｎａ＋およびＫ＋など）に交換される。
【００６１】
化学強化工程においては、（ガラス基板の厚さ方向に）ガラス基板表面から約５μｍの深さまでにわたってイオン交換が行なわれる。ガラス基板の表面に圧縮応力が付与されることによって、ガラス基板の剛性が向上する。
【００６２】
（洗浄工程：ステップＳ８０）
図３を再び参照して、化学強化処理（ステップＳ７０）が完了したガラス基板１は、アルカリ系の洗浄液に浸漬される。洗浄液に対して８０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、ガラス基板１は酸性の洗剤からなる洗浄液に浸漬される。洗浄液に対して４３０ｋＨｚ、および９５０ｋＨｚの超音波が順次付与される。さらに、９５０ｋＨｚのリンス（純水  １８ＭΩ・ｃｍ）を用いて複数のガラス基板１には乾燥処理が施される。
【００６３】
以上の粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、形状加工工程（ステップＳ２０）、粗面化工程（ステップＳ３０）、精ラッピング工程（ステップＳ４０）、端面研磨工程（ステップＳ５０）、主表面研磨工程（ステップＳ６０）、化学強化工程（ステップＳ７０）、および洗浄工程（ステップＳ８０）を経ることによって、情報記録媒体用ガラス基板１（図１参照）が得られる。主表面研磨工程（ステップＳ６０）における第２研磨工程は、化学強化工程（ステップＳ７０）の後に行なってもよい。
【００６４】
（磁気薄膜形成工程：ステップＳ９０）
洗浄工程（ステップＳ８０）が完了したガラス基板（図１に示すガラス基板１に相当）の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気薄膜層２（図２参照）が形成される。磁気薄膜層２は、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。
【００６５】
磁気薄膜層２の形成によって、図２に示す磁気ディスク１０に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。本実施の形態における磁気ディスクは、磁気薄膜層２から構成される垂直磁気ディスクの一例である。磁気ディスクは、いわゆる面内磁気ディスクとして磁性層等から構成されてもよい。
【００６６】
（作用・効果）
本実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、化学強化工程（ステップＳ７０）において、ガラス基板１の表面全体に対して均一な化学強化処理を施すことができる。
【００６７】
ここで、保持用治具７を構成する線状の金属部材は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。この直径が０．０１ｍｍより小さくなると、保持用治具７がガラス基板１に対して傷を付けてしまう場合がある。
【００６８】
この直径が５ｍｍより大きくなると、保持用治具７とガラス基板１との接触部において化学強化層が良好に形成されにくくなる。したがって、保持用治具７を構成する線状の金属部材は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成されるとよい。
【００６９】
また、保持用治具７を構成する線状の金属部材の熱膨張係数は、２４×１０−６／℃以下であるとよい。熱膨張係数がこの値よりも大きいと、化学強化処理液６（溶融塩）中において保持用治具７が膨張しすぎるため、ガラス基板１を保持しにくくなる。熱膨張係数の下限としては、ガラス基板１を保持するだけの強度を持つという観点から、ある程度の硬さを有しているとよい。
【００７０】
上述の実施の形態においては、保持用治具７は固定体４（側壁４Ａ〜４Ｄ）に取り付けられる。固定体４を用いないで、保持用治具７を針金状の部材のみから自立可能なように構成してもよい。この場合であっても、保持用治具７の周囲において化学強化処理液６の良好な対流が得られるため、上述の実施の形態と同様の作用および効果を得ることができる。
【００７１】
［実施例・比較例］
上述の実施の形態に基づく実施例およびこれに対する比較例について説明する。
【００７２】
（実施例１）
実施例１においては、直径が０．５ｍｍのワイヤーを用いて保持用治具７を構成した。当該条件のもと、上述の化学強化工程（ステップＳ７０）と同様に、ガラス基板１の表面に化学強化処理を施した。その後、ガラス基板１に磁気薄膜層２を形成し、磁気ディスク１０を得た。この磁気ディスク１０を用いて、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ装置）を作製した。このＨＤＤに対して１０００Ｇ（１Ｇ：９．８０６６５ｍ／ｓ２）の衝撃が与えられるように、ＨＤＤを落下させた。その際、ＨＤＤに内蔵される磁気ディスク１０が割れたか否かを目視で確認した。
【００７３】
この落下試験を１０回繰り返したところ、実施例１におけるガラス基板１から構成された磁気ディスク１０には、１度も割れが発生しなかった。
【００７４】
（実施例２）
実施例２においては、直径が０．８ｍｍのワイヤーを用いて保持用治具７を構成した。当該条件の下、上記の実施例１と同様に化学強化処理を実施した。実施例１と同様の落下試験を行なったところ、１０回中、１回ないし２回の割れが磁気ディスク１０に発生した。
【００７５】
（比較例）
比較例においては、図８および図９に示す保持用治具７０を用いて、上述の化学強化工程と同様に、ガラス基板１の表面に化学強化処理を施した。実施例１と同様の落下試験を行なったところ、１０回中、６回以上の割れが磁気ディスク１０に発生した。
【００７６】
以上の実験結果から、本実施の形態における保持用治具７を用いて化学強化処理を実施することによって、高い強度を有する化学強化層（圧縮応力層）がガラス基板１に形成されることがわかる。
【００７７】
以上、本発明に基づいた実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００７８】
１  ガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）、１Ａ  表主表面、１Ｂ  裏主表面、１Ｃ  内周端面、１Ｄ  外周端面、１ＤＡ  第１外周端面部、１ＤＢ１，１ＤＢ２  第２外周端面部、１Ｈ  孔、２  磁気薄膜層、４  固定体、４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ，７１  側壁、４Ｈ  開口部、６  化学強化処理液、７，７０  保持用治具、７Ａ  第１保持部、７Ｂ１，７Ｂ２  第２保持部、７Ｃ  上部延在部、７Ｄ  下部延在部、８  化学強化処理装置、９  化学強化処理槽、１０  磁気ディスク、７２  端部、７３  ワイヤ、７５  領域、Ｓ１０，Ｓ２０，Ｓ３０，Ｓ４０，Ｓ５０，Ｓ６０，Ｓ７０，Ｓ８０，Ｓ９０  ステップ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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