(57)【要約】【課題】記録・再生時にレーザを照射する光透過層の膜厚分布が均一で、外周端の樹脂盛り上がり（スキージャンプ）のない高密度再生可能な光記録媒体を作製する。【解決手段】基板１上に光硬化性樹脂を供給する工程と、遠心力により展延させる工程と、光照射により硬化させる工程とにより、スピンコート法により光透過層６を形成する工程を有しており、光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、展延中の、少なくともいずれかの段階において、基板１、光硬化性樹脂を塗布した状態の基板のうちの少なくともいずれかに対し、光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱工程と、光硬化性樹脂を基板１上で展延中に、基板外周端の情報記録層７が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱工程とを有している光情報記録媒体１０の製造方法を提供する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体の製造方法であって、
少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、
遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、
光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とにより、スピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しており、
前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱工程と、
前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱工程とを有していることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第１の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させる工程を有していることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記光硬化性樹脂は、供給前に温度を安定化させる工程を経て供給されるようになされていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記基板温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御することを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記光硬化性樹脂の温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御することを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体の製造装置であって、
少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、
遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、
光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、
前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱手段と、
前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱手段とを具備していることを特徴とする光情報記録媒体の製造装置。
【請求項７】
前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第１の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させるようになされていることを特徴とする請求項６に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項８】
前記光硬化性樹脂を供給するノズルの手前に、当該光硬化性樹脂の温度を安定化させる樹脂温度安定化手段が設けられていることを特徴とする請求項６又は７に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項９】
前記基板の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御されるようになされていることを特徴とする請求項７に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
前記樹脂の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御されるようになされていることを特徴とする請求項８に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体であって、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法を適用し、
請求項６乃至１０のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造装置を用いて、前記光透過層の形成がなされたものであり、
レーザ光波長が、４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．０５の光学系により、記録及び／又は再生がなされるものであることを特徴とする光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体の製造方法、製造装置、及び光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、文字情報、静止画像情報、更には動画情報を記録・再生可能な光情報記録媒体に関する提案がなされている。
例えば、結晶状態と非晶質（アモルファス）状態との可逆的相変化を利用したいわゆる相変化型の光情報記録媒体が、実用化されている。
相変化記録材料としては、ＧｅＴｅ−Ｓｂ2Ｔｅ3擬似２元系組成を有しており、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5等の化合物組成に代表されるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系３元合金材料、及びＳｂ70Ｔｅ30共晶組成近傍を主成分とし、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅに代表されるＳｂＴｅ共晶系材料がある。
前記ＧｅＳｂＴｅ系材料はＤＶＤ−ＲＡＭ用材料として、後者のＡｇＩｎＳｂＴｅ共晶系材料は、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷ、及びＤＶＤ＋ＲＷ用材料として、広く実用化されている。
【０００３】
上述したような各種の光情報記録媒体は、いずれも螺旋状、もしくは同心円状の溝を有するプラスチック基板（光透過性樹脂基板）上に、下部保護層、記録層、上部保護層、反射層等が積層形成された構成を有しており、前記記録層の、結晶状態とアモルファス状態における光学定数変化、及び前記積層構造の多重干渉を利用して、反射率を制御し、情報の記録・再生を行うものである。
【０００４】
一方、デジタル化の進展やブロードバンドの普及に伴って、扱う情報量が増大しており、高品位の動画像を高密度かつ高速でデータを記録・再生できる新たな記録システムが求められている。
このような背景から、記録再生波長の短波長化や開口数ＮＡ（Numerical Aperture）の増大化が進み、集光ビーム径を小さくし、記録されるマークのサイズを小さくして、高密度化及び高速化を図った光記録システムが提案された。
例えば、従来公知の記録型ＤＶＤは、記録再生波長λ＝６５０〜６６０ｎｍ、開口数ＮＡ＝０．６５で、記録容量が４．７ＧＢであるが、記録再生波長λを４００ｎｍ程度まで短波長化し、開口数ＮＡ＝０．８５とした記録容量２０ＧＢの光ディスクシステム、例えばBlue-ray disc 規格が提案されている。
【０００５】
しかしながら、上述のようにして光学系を高ＮＡ化することによって、種々の問題が生じている。
例えば、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からずれる角度、いわゆるチルト角により発生する収差の許容量が小さくなってしまうという問題がある。ここで、記録・再生レーザ光の波長をλ、基板の厚さをｔとすると、レンズの開口数ＮＡによって光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度、いわゆるチルトマージンＭが決まる。
すなわち、チルトマージンＭは、λ／｛ｔ×（ＮＡ）3｝に比例する。チルトマージンを充分な値に確保するためには、基板の厚さｔを薄くすることが必要となる。そこで、高ＮＡシステムにおいては、記録・再生レーザ光を、０．１ｍｍ程度もの薄層に成膜されている光透過層を通して照射する技術が考案されている（下記特許文献１、２参照。）。
【０００６】
このように、光透過層の膜厚が、０．１ｍｍ程度の薄層である場合、従来公知のポリカーボネート等の射出成形法によりこれを成形しようとすると、充分な機械的強度や板厚分布、光学特性の面内均一性等が確保できなくなるという問題が生じていた。
このような問題に鑑みて、下記特許文献１及び２においては、基板側とは反対側に、レーザ光透過用の光透過層を設けた構成の記録媒体が提案された。すなわち、ポリカーボネート等からなる基板上に、反射層、誘電体層、相変化記録層、誘電体層、及び光透過層を順次積層形成した構成とし、光透過層が極めて薄膜となるようにするのである。
このような構成の相変化記録媒体は、先ず、スタンパを用いてプリグルーブを有する基板を射出成形し、次にプリグルーブが形成されている基板表面にスパッタリング法等によって反射層、第１誘電体層、相変化記録層、第２誘電体層を順次成膜する。そして第２誘電体層の表面に紫外線硬化型樹脂のスピンコートやフィルムシートの貼り合わせによって光透過層を形成することにより作製できる。
【０００７】
上述したようにして作製された相変化記録媒体においては、記録・再生の際に、基板の反対側に形成された光透過層側からレーザ光を入射させるので、基板の厚さを充分に確保できる。
また、基板には透過率や複屈折等の光学特性が要求されないため、溝の転写性や媒体の機械特性のみに着目した基板成形を行えばよく、このようなタイプの光記録媒体を用いれば、基板の機械的強度を確保しつつ、高ＮＡの光記録媒体用ヘッドを利用することが可能となる。
【０００８】
上述した光透過層の形成方法について説明する。
下記特許文献１には、スピンコート法が提案されている。
スピンコーティング法は、所定の基板上に、紫外線硬化樹脂等の液状材料を供給し、ディスク体を回転させて回転による遠心力で該液状材料を展延・硬化させて、ディスク表面に液状材料の薄膜を形成するという技術である。
下記特許文献２には、球面収差の面内変動を抑えるために均一な厚さの光透過層を形成する製造方法として、マスクでディスク中心孔を塞いだスピンコート法が開示されている。
【０００９】
しかしながら、このような従来提案されている技術については、下記のような問題を有している。
第１の問題点としては、特許文献２において開示されている技術に関しては、マスク洗浄工程が必要であることに起因する生産性悪化の問題である。
すなわち、ディスク基板の中心孔を塞ぐキャップ状治具を有機溶剤等で洗浄し、再利用するという工程があるため、治具の清浄度を保つべく、多量の有機溶剤が必要となり、コストアップを招来し、かつ環境負荷の問題も引き起こすのである。
マスクの洗浄頻度を減らし、樹脂が残留したままのキャップ治具でスピンコートを行うと、マスクで遮蔽したディスク内周部に樹脂が回り込んで、突発的な外観不良を発生させるという問題を生じた。
また、スピンコート中に、部分的に紫外線を照射する操作を行うと、回り込んだ紫外線によりキャップ上の樹脂が硬化してしまい、除去が困難になるという問題を生じた。
部分的に樹脂が固着した洗浄が不充分なキャップ治具を用いてスピンコートを行うと、樹脂残留部を基点として膜厚の薄い部分が放射状に発生したりして、歩留まりを劣化させる原因になっていた。
【００１０】
第２の問題点としては、スキージャンプと呼ばれるディスク外周端での樹脂の盛り上がりに関する問題である。
スピンコーティング法により、ディスク中央付近に滴下された液状樹脂は、遠心力によりディスク全体に均一な膜厚で塗布されるが、回転を止めて遠心力がなくなると、液体の表面張力によりディスクの外周端で塗膜が盛り上がる等の膜厚不均一な状態となる。このような現象は、コーティングされる液状材料の粘度が高いほど顕著となる。このような、いわゆるスキージャンプと呼ばれる現象が、ディスク基板の外周部における記録形成領域にまで及んでしまい、トラッキング不良や信号品質の悪化を招来するという問題を引き起こしていた。
このため、Blue-ray disc 規格では、外周端におけるスキージャンプの高さを３０μｍ以下に抑制するということが規定されている。
【００１１】
これに対し、スピンコーティング工程で、ディスクの回転を止める前に紫外線を照射し、ディスク上に塗膜されている液状材料の流動性を低下させる技術についての提案がなされている（下記特許文献３参照。）。
このような方法により、ディスク基板の外周端におけるスキージャンプを、上記規格内に抑えることができるようになったが、ディスク基板の側面に、スピンコートされた樹脂がバリ状の凹凸となって残ってしまい、外観不良のみならずユーザーがハンドリングする際に怪我の原因となったりするという問題が生じた。
このため、外周バリを除去する後工程が必要となり、工程数の増加によるコストアップや歩留まり低下を引き起こした。
【００１２】
また、照射した紫外線は、スピンコート装置内のディスク周囲に配置された樹脂回収トレイにも照射されてしまうため、トレイ内に付着した樹脂が硬化したり、あるいは粘度が変化してしまったりし、樹脂の再生利用が困難になるという問題を生じた。
このため、回収トレイの洗浄が必要になったり、あるいは樹脂の利用率が悪くなったりし、コストアップの原因になっていた。
【００１３】
また、スピンコート法において、樹脂の温度制御により塗布される膜厚分布を適正化する技術についての提案がなされている（下記特許文献４、５参照。）。
特許文献４においては、２層構成のＤＶＤの貼り合わせに際して、光ディスク外周部を加熱することで外周側の中間層（＝接着層）膜厚を薄くするという技術が開示されている。
しかしながら、０．１ｍｍ程度もの薄層の光透過層を有する記録媒体とは構造が異なっており、光ディスク外周部のみを加熱しても、光透過層の膜厚を、例えばBlue-ray disc 規格の±２μｍ以内に抑制することは困難であった。
また、引用文献４に記載されている技術は、基板外周の膜厚が厚くなる部分を平坦化するのに、外周部の比較的広い範囲を加熱する方法であるため、外周端のスキージャンプの発生を回避することも困難である。
【００１４】
引用文献５には、シートを接着して光透過層を形成した構成の高密度型の光ディスク構造において、接着剤を展延する際に、熱エネルギーを付与して接着層の厚さを均一化し、トータルの光透過層全体の膜厚を均一化する技術についての開示がなされている。
特許文献４の技術が光ディスク外周部のみを加熱する方法であるのに対し、特許文献５の技術は、内周から外周に向かって基板面に集光した光源を走査することにより光ディスク全体を加熱する方法であり、これにより、Blue-ray disc 規格を満足する光透過層の膜厚分布が得られるとしている。更には、この方法を応用して、スピンコーティングで光透過層を直接形成する方法についても開示されている。
しかしながら、外周端のスキージャンプに関しては、やはり具体的な解決手段が示されておらず、スピンコート法によりスキージャンプを確実に防止した光ディスク媒体は得られなかった。
また、引用文献５の技術においては、ディスクの内周から外周に向かって樹脂温度を高くするための具体的な手段として、基板にスポット集光された光源を樹脂展延中に半径方向に掃引する方法についての開示がなされているが、実際には、膜厚平坦化のために必要な加熱温度はそれほど高くはなく、集光した高強度の加熱スポットでは、短時間で半径方向に高速度で掃引しなければならなくなり、ディスク面内の温度分布の再現性が得られにくく、膜厚分布にロット間ばらつきが生じやすいという製造上の欠点があった。
この問題を回避すべく、掃引中の光源の出力調整を行い、温度分布を調整しようとすると、加熱源自体の温度変動により、負荷インピーダンスが変動して、照度の繰り返し精度が悪化してしまい、膜厚分布がばらついてしまうという問題を生じた。
【００１５】
【特許文献１】特許第３２４１５６０号公報
【特許文献２】特開平１１−２１３４５９号公報
【特許文献３】特開２００２−３１９１９２号公報
【特許文献４】特開２０００−２２８０３８号公報
【特許文献５】特開２００４−１０３０８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
そこで本発明においては、上述したような従来の技術で問題となっていたことに鑑み、光透過層の膜厚分布が均一で、外周端の樹脂盛り上がり（スキージャンプ）のない高密度再生可能な光記録媒体とその製造方法および製造装置を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対してレーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体の製造方法であって、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とによりスピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱工程と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱工程とを有しているものとした光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【００１８】
請求項２の発明においては、前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第１の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させる工程を有しているものとした請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【００１９】
請求項３の発明においては、前記光硬化性樹脂は、供給前に温度を安定化させる工程を経てから供給されるようになされていることとした請求項１又は２に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【００２０】
請求項４の発明においては、前記基板温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御することとした請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【００２１】
請求項５の発明においては、前記光硬化性樹脂の温度を安定化させる工程において、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御することとした請求項３に記載の光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【００２２】
請求項６の発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体の製造装置であって、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱手段と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱手段とを具備している光情報記録媒体の製造装置を提供する。
【００２３】
請求項７の発明においては、前記基板上に、前記光硬化性樹脂を供給する工程の前段階で、あるいは前記第１の加熱工程の前段階において、前記基板の温度を安定化させるようになされているものとした請求項６に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。
【００２４】
請求項８の発明においては、前記光硬化性樹脂を供給するノズルの手前に、この光硬化性樹脂の温度を安定化させる樹脂温度安定化手段が設けられているものとした請求項６又は７に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。
【００２５】
請求項９の発明においては、前記基板の温度を安定化させる際、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御されるようになされていることとした請求項７に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。
【００２６】
請求項１０の発明においては、前記樹脂温度安定化手段においては、温度の変動幅は、±０．２℃以下に制御されるようになされていることとした請求項８に記載の光情報記録媒体の製造装置を提供する。
【００２７】
請求項１１の発明においては、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、前記光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる光情報記録媒体であって、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造方法を適用し、請求項６乃至１０のいずれか一項に記載の光情報記録媒体の製造装置を用いて、前記光透過層の形成がなされたものであり、レーザ光波長＝４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．０５の光学系により、記録及び／又は再生がなされるものである光情報記録媒体を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、光透過層の膜厚分布が均一で、外周端の樹脂盛り上がり（スキージャンプ）を効果的に抑制できた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明について、以下具体的に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、情報記録層、光透過層とを具備しており、薄層に形成された光透過層を介して前記情報記録層に対して、レーザ光を照射することにより、データの記録、及び／又は再生が行われる構成の光情報記録媒体を製造するものである。
【００３０】
本発明方法は、基板上に光硬化性樹脂を供給する工程と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる工程と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させる工程とにより、スピンコート法により、前記光透過層を形成する工程を有しているものであるが、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱工程と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱工程とを有しているものである。
【００３１】
上記本発明方法を実現するための光情報記録媒体の製造装置は、少なくとも、基板上に光硬化性樹脂を供給する樹脂供給手段と、遠心力により前記光硬化性樹脂を展延させる樹脂展延手段と、光照射により光硬化性樹脂を硬化させてスピンコート法により、前記光透過層を形成する樹脂硬化手段とを具備しており、前記光硬化性樹脂を基板上に供給する前、供給中、前記展延中の、少なくともいずれかの段階において、前記基板、前記光硬化性樹脂を塗布した基板のうちの少なくともいずれかに対し、前記光硬化性樹脂を展延する際の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する第１の加熱手段と、前記光硬化性樹脂を基板上で展延中に、前記基板外周端の情報記録層が形成されていない領域に対して局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱手段とを具備しているものとする。
【００３２】
上記第１の加熱工程について説明する。
これは、光硬化性樹脂を基板上に供給する前段階における基板、及び／又は供給中における基板、もしくは展延中の光硬化性樹脂を含めた基板に対し、この基板回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する工程である。
すなわち、この第１の加熱工程は、光硬化性樹脂を供給する前段階、供給中、樹脂展延中のいずれのタイミングで行われてもよいものであり、またこれらを併用して行ってもよい。
【００３３】
この第１の加熱工程における加熱対象は、情報記録層が積層された基板単体、あるいは表面に樹脂が塗布された状態の基板である。
例えば、光硬化性樹脂を供給しながら、基板の中周付近に熱エネルギーを付与すると、続くスピンコート工程において樹脂を展延する際に、基板からの熱伝導により、加熱された部分を通過する樹脂の温度が内周側よりも高くなる。その結果、樹脂粘度が低下するため、熱エネルギーを付与しない場合に比べ、中周から外周にかけての樹脂膜が平坦化でき、かつ薄く形成することが可能になるのである。
【００３４】
基板に対する加熱によってどのように温度分布を制御するかについては、加熱のタイミング、光硬化性樹脂の初期粘度、樹脂温度−粘度特性、スピンコート工程における樹脂の振り切り時間、スピンコート工程の回転数等によって最適なエネルギー照射条件を選択する。
【００３５】
次に、基板の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与する方法について説明する。
目的とする光透過層の膜厚分布は、特に光ディスク駆動装置のピックアップの走査方向に均一であることが望ましい。
このため、理想的には、基板の温度分布もグルーブ溝の円周方向に均一で、円中心に対して同心円状に所望の温度分布を有していることが望ましい。
実際の生産においては、時間的照度変化のない熱エネルギー源をディスク基板の周方向に相対的に移動させ、基板の回転中心に対してほぼ同心円状の基板温度分布を付与することが好ましい手法として行われる。
この第１の加熱工程において使用する第１の加熱手段としては、例えば、赤外線ランプやハロゲンランプのような熱エネルギー源を適用でき、これを基板上に固定し、基板を回転させながら周方向に加熱する。
この際、基板の周方向の温度分布を無くすために、加熱時間（照射時間）に対し、エネルギー照射部分が充分に平均的に加熱されるような回転数で基板を回転させたり、熱エネルギー源を周方向に複数配置したりすることが好ましい。
上述したような、基板の回転と熱エネルギー源の相対運動により得られる温度分布は、基板の回転中心に対して同心円状となり、周方向の光透過層膜厚分布が良好となって、例えばBlue-ray disc 規格の面内膜厚分布規格±２μm以下を満足できることが確かめられた。
【００３６】
次に、第１の加熱工程における加熱温度について説明する。
約０．１ｍｍもの薄層の光透過層を形成する場合、１０００〜３０００ｍＰａ・ｓ程度の粘度の光硬化樹脂を用いることが望ましい。
図１は、上述したような第１の工程を行わずに光透過層を形成したときの、光透過層の膜厚状態を示す。横軸にディスク基板中心から外周方向への距離を示し、縦軸は光透過層の膜厚を示す。
上述した加熱工程を行わないと、光透過層の膜厚は、外周側で約２割程度（膜厚０．１ｍｍに対して２０μｍ程度）厚くなってしまうことが確かめられた。
【００３７】
図２においては、横軸に光硬化性樹脂の樹脂粘度を示し、縦軸に平均膜厚を示す。
図３においては、横軸に光硬化性樹脂の温度を示し、縦軸に粘度を示す。
図２に示されているように、約２００ｍＰａ・ｓの粘度変化に対して、５μｍの膜厚変化が生じることが分かった。
また、図３より、室温付近で−２００ｍＰａ・ｓ／℃程度の温度―粘度特性を示すことが分かった。
これらの関係から、光硬化性樹脂の温度と、光透過層の膜厚の関係について、およそ−５μｍ／℃の関係が得られることが分かった。
すなわち、図２、３の物性を示す光硬化樹脂について、スピンコート法を適用して基板外周部の膜厚を２０μｍ程度薄くするためには、４℃程度の温度分布を面内でコントロールすれば良いことが分かった。
また、基板の厚さを例えばｔ＝１．１ｍｍとするとき、これに対し光透過層の膜厚はその約１／１０なので、基板表面だけが上記温度に加熱される程度の熱エネルギーを付与すれば充分である。
【００３８】
上記第１の加熱工程を行う加熱手段としては、赤外線ランプやハロゲンランプのようなランプ光源を用いることが好ましいが、これは、基板表面の加熱温度は、せいぜい数℃程度で足りるので、特に結像光学系で基板上に光を集光させて加熱を行う必要はないのであり、むしろ基板上で発散光の照度分布が最適になるようにランプ出力や位置や個数等を調整できるという点においても上記のようなものが好適だからである。
【００３９】
基板上で展延される光硬化性樹脂は、内周側から徐々に加熱されて外周に広がるため、半径方向の温度分布は基板中周付近を最も高くすることが好ましい。仮に外周側の温度を高くしすぎると、逆に外側の光硬化性樹脂の膜厚が薄くなりすぎてしまい、不適当である。
【００４０】
ランプ光源以外の熱エネルギー源としては、例えば、加熱気体のような流体を吹き付ける手段や、マイクロ波のような電磁波等も適用できるが、第１の加熱手段は、これらに限定されるものではない。
【００４１】
次に、第２の加熱工程について説明する。
これは、樹脂の展延中に、情報記録層が形成されていない外端領域に対して局所的に熱エネルギーを付与するものである。すなわち光硬化性樹脂の展延中、基板外周端の非成膜領域（例えば，φ１２０ｍｍの光ディスクにおいて、r（半径）＞５８．５ｍｍ部分）に、局所的に熱エネルギーを付与するものである。
かかる位置は、記録形成領域外の位置であり、光透過層が基板と直接密着して、内周側の記録領域を保護する保護膜としての機能を強固にする部分である。
【００４２】
上述した第１の加熱工程で、記録領域における光透過層の膜厚分布は充分に均一化されるが、上述した第１の加熱工程のみでは従来問題となっていた、いわゆる「スキージャンプ」が依然残存してしまう。
上述のように、０．１ｍｍもの薄層の光透過層を得るには、粘度数１０００ｍＰａ・ｓの樹脂を１０００〜３０００ｒｐｍ程度の回転数でスピンコートすることが必要である。
本発明においては、第２の加熱工程で、基板の外周端の樹脂温度を局所的に、４０〜５０℃程度に加熱し、１０００〜３０００ｒｐｍの回転数によるスピンコートにより、樹脂溜まりが飛散できるような数１００Ｐａ・ｓにまで樹脂粘度を低下させるものである。これにより、従来問題となっていた端部におけるスキージャンプの残存を回避できることが確かめられた。
【００４３】
第２の加熱工程で用いる第２の加熱手段としては、基板上での樹脂展延中の短時間に局所的に熱エネルギーを付与できるものであることが必要である。例えば、赤外線ランプやハロゲンランプをφ１ｍｍ程度の点光源として集光したもの、あるいは赤外線レーザ、ＹＡＧレーザ、炭酸ガスレーザ等のレーザ光源をφ１ｍｍ程度に絞ったものが好適である。
【００４４】
また、第２の加熱工程は、光硬化性樹脂を基板上に供給する前段階に行ってもよいが、光硬化性樹脂を展延するまでにタイムラグが生ずると、基板の熱伝導により加熱部位が広がってしまい、記録領域最外周付近の膜厚分布に悪影響を及ぼすので樹脂展延中において充分に加熱を行うことが最も望ましい。
【００４５】
上述したように、第１の加熱工程と第２の加熱工程とは、より最適な加熱のタイミングが異なり、狙いの加熱温度や温度分布が異なるため、それぞれ個別の加熱手段として本発明に係る製造装置に具備されることが望ましい。
【００４６】
光硬化性樹脂を展延させる工程、及び第１の加熱工程より前段階として、ディスク基板の温度を安定化させておくことが好ましい。
基板の温度を安定化させる手法としては、例えば温度制御された気体を基板表面に吹き付ける方法や、基板が設置されうる閉空間内の温度を一定に保ち、基板を回転させながら熱交換の効率を上げて基板温度を閉空間内の雰囲気温度に漸近させる方法、基板を恒温体に接近させて保持し、その間隙に熱交換効率の良い気体流体を流す方法等が挙げられる。
【００４７】
また、本発明においては，基板上に供給する光硬化性樹脂を、供給前にその温度を安定化させておくことが望ましい。
光硬化性樹脂の温度を安定化させるための、樹脂温度安定化手段としては、例えば供給ノズルの直前に設けた恒温に保たれた熱交換器が挙げられ、この中に樹脂を通すことにより温度を安定化できる。また、供給ノズル近くに温度制御されたリザーブタンクを設置することや、前記熱交換器あるいはリザーブタンクを前記基板の温度制御手段における恒温体と兼用する方法等が挙げられる。
熱交換器としては、温度制御した流体を内部に循環させる機能を有するものや、ペルチェ素子等により温度制御する機能を有するものが好適である。
【００４８】
一般に、光透過層の膜厚は、スピナーの回転条件や、上述した第１の加熱工程の加熱条件を一定にしても、加熱前の基板温度や樹脂温度の変動、光硬化性樹脂の調整粘度のばらつき等により、その中央値が変動してしまう。すなわち目的とした膜厚からずれてしまう。
上述したように、一般的な樹脂の膜厚−温度係数は、−５μｍ／℃程度なので、Blue-ray disc 規格で許容される光透過層の厚さ１００±５μｍを満たすには、少なくとも±１℃以内に系の温度ドリフトを抑える必要がある。この程度の温度制御であれば、スピナー装置内全体の温度を±０．５℃程度に温度調節すれば実現可能である。
【００４９】
しかしながら、光透過層の膜厚のばらつきは、目的とする光情報記録媒体の球面収差を変化させるため、あらかじめ設定されている記録条件の最適条件から乖離してしまう。このような場合、記録ジッターが上がってしまい、レーザ光源の汚れや劣化による記録パワー変動や、記録環境の違いによる光情報記録媒体のチルト変化に対する記録マージンが狭くなってしまう。
このため、光透過層の膜厚は、±２μｍ以内に膜厚変動幅を抑えることが望ましいことが確認された。
これを実現するためには、上記温度を安定化する工程において、基板温度を変動幅±０．２℃以下に制御することが望ましい。
また、光硬化性樹脂の温度を安定化する上記工程においても、樹脂温度を変動幅±０．２℃以下に制御することが望ましいことを確かめた。
これにより基板や樹脂の温度ドリフトによる膜厚変動を効果的に抑えることができ、製造上好ましい膜厚仕様の「変動幅±２μｍ以下」を実現することが可能である。
【００５０】
基板および光硬化性樹脂の温度制御は、いずれか一方行うだけでも上記効果が得られるが、両者を併用した方がより精度の高い、光透過層の膜厚管理が可能となる。
基板温度もしくは樹脂温度が±０．２℃を越えて変動すると、膜厚の中央値が±２μｍ以上変動してしまい好ましくない。
【００５１】
また、基板及び光硬化性樹脂の温度制御は、スピナー装置内全体を温度調整することにより実現しても良いが、別途第１および第２の加熱手段を組み込んで行うようにしてもよい。
装置内全体を±０．２℃以下の一定温度に制御するには，容量の大きい温調設備が必要になり、装置コストおよびランニングコスト上好ましくないからである。
【００５２】
本発明による光情報記録媒体は、基板上に情報記録層と光透過層とを備え、光透過層を介して情報記録層にレーザ光を照射することにより、データの記録及び／又は再生が行われるものである。
本発明の光情報記録媒体は、上述した方法、および上述した製造装置により光透過層を形成するものである。これはレーザ光波長４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．０５の光学系により記録及び／または再生を行うものである。
【００５３】
次に、上述した製造方法、及び製造装置を適用して最終的に得られる本発明の光情報記録媒体について、以下説明する。
図４に光情報記録媒体の一例として、相変化型の光情報記録媒体の概略断面図を示す。
光情報記録媒体１０は、基板１上に、情報記録層７、及び光透過層６が形成されている。
情報記録層７は、反射層２、第１誘電体層３、相変化記録層４、及び第２誘電体層５により構成されている。
【００５４】
基板１は、ポリカーボネート、アクリル、ポリオレフィン等の樹脂の射出成形することにより作製できる。基板１は、情報記録層７形成面側に、螺旋状のグルーブ溝を有している。
図４の光情報記録媒体１０においては、記録再生用のレーザ光の入射は、光透過層６側から行われるので、基板１の材料は必ずしも透光性である必要はなく、グルーブ溝の転写性や反り等の機械特性の良好な成形材料から選択すればよい。例えばＣＤやＤＶＤにおいて実績があり、安価なポリカーボネート樹脂が好適である。
【００５５】
情報記録層７は、相変化型記録材料を含有する相変化型情報記録層、あるいは色素材料や無機材料を含む追記型情報記録層である。
情報記録層７が相変化型情報記録層の場合、前記基板１上に反射層２、第１誘電体層３、記録層４、第２誘電体層５を公知のスパッタ法等により順次積層形成する。
【００５６】
反射層２は、Ａｇを主成分とするＡｇ合金であり、充分な冷却能を有するようにするため、その膜厚は１００〜２５０ｎｍ程度であることが好ましい。
具体的なＡｇ合金としては，Ａｇ−Ｂｉ、Ａｇ−Ｉｎ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｎｄ−Ｃｕ等が選択できる。
前記合金元素は、Ａｇ膜の高温環境下での凝集や結晶粒成長を抑制するために添加されるがＡｇの良好な熱伝導率を損ねることのないよう、その総含有量は３ａｔｍ％以下とすることが望ましい。
【００５７】
第１誘電体層３及び第２誘電体層５は、金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物等の透明性が高い高融点材料を用いて形成する。
例えば、ＳｉＯx、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5等の金属酸化物、Ｓｉ3Ｎ4、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＢＮ、ＺｒＮ等の窒化物、ＺｎＳ、ＴａＳ4等の硫化物、ＳｉＣ、ＴａＣ、Ｂ4Ｃ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ等の炭化物が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、混合物として用いてもよい。また、２層以上からなる多層構造としてもよい。これらの層の最適な材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。
特に、ＺｎＳを６０〜９０ｍｏｌ％で含有するＳｉＯ2との混合膜は、繰り返し記録、高温環境下での膜自身の結晶化や化学変化、膜変形がないため好適である。また、熱伝導率が、０．５Ｗ／ｍＫ以下と低いため、記録層の溶融ピーク温度を高く保ち、変調度の高いアモルファスマークの形成に有利である点等からも、記録層に接する誘電体膜として最も適している。
【００５８】
相変化記録層４としては、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5に代表される公知のＧｅＴｅ−Ｓｂ2Ｔｅ3擬似２元系材料や、ＡｇＩｎＳｂＴｅＧｅに代表されるＳｂＴｅ共晶系材料を用いることができる。特に、記録再生波長として４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．０５の光学系を用いる場合は、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ及びＭｎからなる合金を主成分とした相変化記録材料が、再生光安定性と保存信頼性（アモルファスマークの安定性）に優れており好ましい。
各元素の好適な組成は、５≦Ｇｅ≦２０原子％、４５≦Ｓｂ≦７０原子％、１０≦Ｓｎ≦２０原子％、０＜Ｍｎ≦２０原子％である。Ｇｅは、結晶化温度を上げて保存性を高める一方で、繰り返し記録特性を悪化させるので、２０原子％を越えないことが望ましい。
逆に、高温高湿環境下での保存信頼性を確保するためには、少なくとも５原子％以上が必要である。
Ｓｎは、波長４０５ｎｍにおける充分な反射率とコントラストを得るために、１０原子％より多く含む必要がある。しかしＳｎが多すぎると、Ｇｅ同様、繰り返し記録特性を損ねるため、２０原子％を越えないことが望ましい。
Ｍｎは、反射率低下や記録ジッターへの悪影響がＧｅよりも小さいため、結晶化速度を遅くする際にＧｅに代替して添加される。Ｍｎの添加量は、Ｇｅ同様に繰り返し記録特性を悪化させるので、２０原子％を越えないことが望ましい。
ＳｎとＳｂは結晶化速度を速め、ＧｅとＭｎは結晶化速度を遅くする元素なので、総合的な記録特性と狙いの記録線速を考慮して、各元素の組成比が最適化される。基本的には，狙いの記録線速をＧｅ−Ｓｂ系で設計し、Ｇｅに対してＭｎ、Ｓｂに対してＳｎを適量に置換する。Ｓｂ＋Ｓｎが９０原子％を超えると、結晶化速度が速くなり過ぎ、アモルファスマークの形成が困難になるので、Ｓｂの上限はＳｂ≦７０原子％が望ましい。
また、１０≦Ｓｎ≦２０原子％において記録線速５〜３０ｍ／ｓとするには、４５原子％≦Ｓｂが好ましい。
また、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ及びＭｎの総量が９５原子％以上で、記録特性や保存信頼性等を改善するための５原子％以下の第五元素を含む構成としてもよい。
【００５９】
光透過層６は、紫外線硬化性樹脂等の放射線硬化樹脂からなる。
光透過層６の上には、スピンコート法等によりハードコート層を設けてもよい。
波長４０５±１５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡ＝０．８５±０．０５の光学系を用いて記録再生を行う場合、充分なチルトマージンを確保するための前記光透過層６の膜厚は、５〜２００μｍが好ましく、更には５〜２００μｍとすることが好ましく、より好ましくは５〜１２０μｍである。
紫外線硬化性樹脂は、特に限定されるものではないが、エポキシアクリレートオリゴマー（２官能オリゴマー）、多官能アクリルモノマー、単官能アクリルモノマー、及び光重合開始剤等から構成される。光重合開始剤は４００ｎｍ以下に反応波長を有するものが望ましい。また硬化後に未硬化成分等の揮発が少ないものが望ましい。
【００６０】
なお、本発明方法により得られる光情報記録媒体は、相変化記録型の情報記録媒体に限定されるものではなく、情報記録層は相変化記録層以外に、ライトワンス用の色素記録層や無機記録層であってもよい。また所定の中間層を介して情報記録層を２層以上有する多層記録媒体としてもよい。
【実施例】
【００６１】
〔実施例１〕
図５（ａ）〜（ｄ）に、本発明による光情報記録媒体１０の作製工程の一例の概略図を示す。
先ず、溝深さ２１ｎｍ、溝幅０．１６μｍ、トラックピッチ０．３２μｍのグルーブ溝を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート基板（製品名ST3000、帝人バイエルポリテック社製）を用意し、以下の積層膜をスパッタリング法により順次形成して情報記録層７とした。
反射層２：Ａｇ−０．５ａｔｍ％Ｂｉ：１４０ｎｍ
第１誘電体層３：ＺｎＳ・２０ｍｏｌ％ＳｉＯ2：８ｎｍ
相変化記録層４：Ｇｅ11Ｓｂ62.5Ｓｎ20Ｍｎ6.5：１４ｎｍ
第２誘電体層５：ＺｎＳ・３０ｍｏｌ％ＳｉＯ2：４０ｎｍ
【００６２】
次に、図５（ａ）に示すように、基板１を５００ｒｐｍで回転させ、第１の加熱手段（この例においては赤外線ランプ装置２０）により、中周付近を３秒間加熱した。
図６（ａ）赤外線ランプ装置の概略断面図を示し、図６（ｂ）に赤外線ランプ装置の概略平面図を示す。
この例の赤外線ランプ装置２０は、ランプハウジング２５によって覆われた赤外線ランプ２１を具備しており、円周状に８０Ｗの赤外線ランプ２１が等間隔に６個配置されている。光硬化性樹脂（この例においては紫外線硬化樹脂）を滴下する基板中心部への照度が相対的に小さくなるように基板の回転中心上に遮光部２６を設けた構成となっている。
【００６３】
次に、図５（ｂ）に示すように、基板１の内周部に、樹脂供給ノズル２２から円環状に紫外線硬化樹脂２３（日本化薬製、BRD-806）を供給した。
次に、図５（ｃ）に示すように、第２の加熱手段（この場合はハロゲンランプ光源３０と集光光学系３１）により、基板１の最外周の非成膜部分を加熱しながら、回転数１７００ｒｐｍで樹脂を振り切った。
次に、図５（ｄ）に示すように、超高圧水銀ランプからなる紫外線光源４０で１２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層とした。
【００６４】
干渉膜厚測定器ＥＴＡ−ＲＴ（STEAG ETA-Optik社製）を用いて、上記工程により作製した光透過層６の膜厚分布を測定した。図７においては、横軸に基板の中心から外周方向への距離（ｒ）を示し、縦軸に光透過層５の膜厚を示す。
図７は、光情報記録媒体の半径Ｒ＝２２．０〜５８．５ｍｍを等間隔に分けた１０ヶ所の各１周について、１０°刻みに３６点の膜厚を測定し、その最大値（Ｍａｘ）、平均値（Ａｖｅ）、最小値（Ｍｉｎ）を示したものである。
図７に示すように、Ｒ＝２２．０〜５８．５ｍｍ全面で、Blue-ray disc規格内の１００±２．０μｍを満足していた。
【００６５】
また、外周端部における、いわゆるスキージャンプについて測定した。測定結果を図８に示す。
図８は、触針式の表面形状測定器（Dektak3030）により、光情報記録媒体の外周端（Ｒ＝５０ｍｍ付近より外側、図左側が内周）付近の光透過層の表面形状プロファイルを示したものである。
図８に示すように、ｒ＝５８．５ｍｍまでは、充分に平坦な光透過層６が形成され、ｒ＝５９．０ｍｍの外で、樹脂溜まりによるスキージャンプが約２０μｍの高さで生じているのみであることがわかった。
【００６６】
上述したようにして作製した本発明の光情報記録媒体１０に対し、所定の記録再生装置（Pulstek社製ODU1000）で信号評価を行った。その結果、周内の反射率変動が無く、全面で記録ジッターが６．５％以下であることが確かめられた。
【００６７】
〔実施例２〕
図９（ａ）〜（ｃ）に、本発明による光情報記録媒体の製造方法のより好適な作製工程図を示す。
図９（ａ）は、基板１の温度を安定化させる工程の概略図である。上記実施例１と同様に情報記録層７をスパッタ積層形成した基板１に対し、ブロアー６０を用いて、±０．２℃に温度調節された空気６１で全面をブローしながら一定温度に安定化する。
このとき、基板１と空気の熱交換を効率よく行うために、ブロアー６０と基板１との距離を数ｃｍ以下となるように接近させ、基板１を３００ｒｐｍで回転させている。
図９（ｂ）に示すように、上記実施例１と同様に基板１の加熱を行った。
次に図９（ｃ）に示すように、樹脂供給ノズル２２の手前側に、樹脂温度調整ユニット７０を設置した。これにより、温度変動幅が±０．２℃になるように温度調整された紫外線硬化樹脂（日本化薬BRD-806）２３を円環状に供給した。
なお、この樹脂温度調整ユニット７０は、内部に水管を通した金属製ヒートシンクで樹脂供給管を囲み、ヒートシンクを循環冷却水で温度の変動幅を±０．２℃になるようにしたものである。
【００６８】
次に、上記実施例１と同様に、図５（ｃ）、図５（ｄ）に示した工程を経て、図４に示した本発明の光情報記録媒体を得た。
光透過層６の膜厚分布についての測定を行ったところ、中心から外周への距離ｒ＝２２．０〜５８．５ｍｍの全面において、Blue-ray disc規格内の１００±２．０μｍが満足されており、外周端におけるスキージャンプも全く生じていないことが確認された。
また膜厚中央値の変動は、タクト３秒・連続５０００枚の生産で、±２．０μｍ以下の変動であった。
【００６９】
実施例１においては、第１の加熱工程を樹脂供給工程の直前に行ったが、本発明においては、紫外線硬化樹脂を基板上に供給した後に、基板中心部を遮光した赤外線ランプ装置２０を用いて第１の加熱工程を行うようにしてもよい。
また、紫外線硬化樹脂の展延工程における第２の加熱工程と同じタイミングで加熱を行うようにしてもよい。
更に、樹脂供給工程中で基板１の加熱を行うようにしてもよい。
また、基板温度安定化工程は、紫外線硬化樹脂を供給する工程よりも前、かつ第１の加熱工程の前に行うようにしてもよい。
【００７０】
〔比較例１〕
上記実施例１において行った図５（ｃ）の、第２の加熱手段（ハロゲンランプ光源等）を適用せず、これによる加熱工程を行わなかった。その他の条件は、実施例１と同様にして光情報記録媒体１０を作製した。
比較例１の光情報記録媒体は、実施例１と同様に、第１の加熱工程を行ったため、中心からの距離ｒ＝２２．０〜５７ｍｍ付近までの光透過層の膜厚分布は、１００±２．０μｍの平坦性を満足し良好であったが、最外周には、図１０（光透過層の表面形状プロファイル）に示すようにスキージャンプが残存してしまい、ｒ＝５７ｍｍよりも外周においては、記録もトラッキングも出来ない状態となってしまった。
【００７１】
このように、樹脂の展延工程において基板外周端に局所的に熱エネルギーを付与する第２の加熱工程を有することにより，スキージャンプを効果的に抑制できることが確かめられた。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】光透過層の膜厚状態を示す。
【図２】樹脂の粘度と光透過層の平均膜厚との関係を示す。
【図３】樹脂の温度と粘度との関係を示す。
【図４】本発明の光情報記録媒体の概略断面図を示す。
【図５】（ａ）〜（ｄ）本発明による光情報記録媒体の作製工程の一例の概略図を示す。
【図６】（ａ）赤外線ランプ装置の概略断面図を示す。（ｂ）赤外線ランプ装置の概略平面図を示す。
【図７】基板の中心から外周方向への距離と光透過層の膜厚との関係を示す。
【図８】光透過層の表面形状プロファイルを示す。
【図９】（ａ）〜（ｃ）本発明の光情報記録媒体の製造方法の作製工程図を示す。
【図１０】光透過層の表面形状プロファイルを示す。
【符号の説明】
【００７３】
１  基板
２  反射層
３  第１誘電体層
４  相変化記録層
５  第２誘電体層
６  光透過層
７  情報記録層
２０  赤外線ランプ装置
２１  赤外線ランプ
２２  樹脂供給ノズル
２３  紫外線硬化樹脂
２５  ランプハウジング
２６  遮光部
３０  ハロゲンランプ
３１  集光光学系
４０  紫外線光源
６０  ブロアー
６１  空気
７０  樹脂温度調節ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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