【事件の表示】
　特願２００８−５５８５９２「生体分子に結合する活性化ポリマー」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年９月２０日国際公開、ＷＯ２００７／１０４１０７、平成２１年８月２０日国内公表、特表２００９−５２９５８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　  
　本願は、平成１９年３月１５日（パリ条約による優先権主張　２００６年３月１５日　オーストラリア連邦（ＡＵ））を国際出願日とする特許出願であって、平成２４年８月９日付けで拒絶理由が通知され、平成２５年２月２１日に意見書とともに手続補正書が提出されたが、同年１１月５日付けで拒絶査定がなされ、それに対して、平成２６年３月１２日に拒絶査定不服審判請求がなされると同時に手続補正書が提出され、同年３月１４日に審判請求書の手続補正書（方式）が提出され、同年５月１４日付けで前置報告がなされたものである。
　  
　  
　  
第２　本願発明
　  
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２６年３月１２日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲、明細書（以下、「本願明細書」という。）及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの、以下のとおりのものである。
　
「機能的生体分子との直接的な共有結合により機能化されたポリマー基質であって、前記生体分子への前記直接的な共有結合が可能となるように活性化された親水性表面と、前記表面下1nmから300nmに位置する複数の架橋領域を含む内層面とを含むポリマー基質。」
　  
　  
　  
第３　原査定の拒絶の理由の概要
　  
　原査定の拒絶の理由３は、本願の請求項１−２０に係る各発明は、その優先日前の日を優先日とする外国語特許出願であって、その優先日後に国際公開がされた引用先願２（特願２００８−５２７０５７号）の外国語特許出願の国際出願日における国際出願の明細書、請求の範囲又は図面（以下、併せて「先願明細書」という。）に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができないというものである。
　  
　  
　  
第４　先願明細書の記載事項
　  
　特願２００８−５２７０５７号の外国語特許出願の国際出願であるＰＣＴ／ＵＳ２００６／０３１８１７号は、本願の優先日である２００６年３月１５日より前の２００５（平成１７）年８月１８日及び同年９月１５日を優先日として、発明者をコンデュリン　アレクセイ及びマイツ　マンフレット　フランツとし、出願人をボストン　サイエンティフィック　リミテッドとして特許協力条約に基づいてなされた国際出願であって、本願の優先日後である２００７（平成１９）年２月２２日に国際公開第２００７／０２２１７４号として国際公開がされたものであるところ、先願明細書には、次の事項が記載されている。なお、以下の摘示は、ファミリー文献である特表２００９−５０４３３０号に依った（下線は、当合議体によるものを含む。）。
　  
摘示ア　「【請求項１】
　ｅＰＴＦＥ表面を修飾する方法であって、
　プラズマ処理に適したチャンバ内にｅＰＴＦＥ材料を準備し、
　前記試料に連続低エネルギー・プラズマ放電を加え、
　短時間幅の高電圧パルスを印加してプラズマ放電からの高エネルギー・イオン束を形成し、前記ｅＰＴＦＥ材料の前記表面上に、該表面の下の分子及び／又は物理構造を変化させることなしにフリーラジカルを形成して修飾ｅＰＴＦＥ表面を画定する、イオンを生成する、
ステップを含むことを特徴とする方法。
・・・
【請求項２０】
　
付着生物活性剤を前記修飾ｅＰＴＦＥ表面に共有結合させるステップをさらに含む
・・・
【請求項３９】
　結節及び小繊維構造を有し、前記結節及び小繊維構造を破壊せずにプラズマ浸漬イオン注入により形成された浸炭表面を有し、前記小繊維に付着する及び／又はスペーサ基に付着する種細胞及び／又は蛋白質を有し、親水性アクリルアミド基及び／又は多糖ヒドロキシエチルスターチ基が前記小繊維に共有結合していることが好ましい、ｅＰＴＦＥを含むことを特徴とする表面修飾ｅＰＴＦＥ。
・・・
【請求項４３】
　前記浸炭表面は約３０ｎｍから約５００ｎｍまでの深さを有することを特徴とする、請求項３９に記載の表面修飾ｅＰＴＦＥ。」（特許請求の範囲請求の範囲１、２０、３９及び４３）
　  
摘示イ　「ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）は、その化学的安定性、生物学的安定性及び生物学的不活性により埋め込み可能な医療用具に普通に用いられる。これはまた、高度に疎水性である。機械的に伸びた発泡形（ｅＰＴＦＥ）は、微視的には多孔質であり、ＰＴＦＥの安定性及び不活性の特性を有する。」（国際公開２ページ２０〜２３行、公表公報段落【０００６】） 
　  
摘示ウ　「本発明の１つの態様において、プラズマ浸漬イオン注入によりｅＰＴＦＥ表面を修飾する方法は、プラズマ処理に適したチャンバ内の試料ホルダーの上にｅＰＴＦＥ材料を準備し、試料に連続低エネルギー・プラズマ放電を加え、試料ホルダーに短時間幅の短い負の高電圧パルスを印加してプラズマ放電からの高エネルギー・イオン束を形成してｅＰＴＦＥ材料に向ける、ステップを含む。
ｅＰＴＦＥ材料の表面上に、表面の下の分子及び／又は物理構造を変えることなく生成したフリーラジカルが修飾ｅＰＴＦＥ表面を画定する
　連続低エネルギー・プラズマ放電を試料に加えるステップは、約１３．５６ＭＨｚ又は約２．４５ＧＨｚのラジオ周波数でプラズマ放電を生成するステップをさらに含む。これらのラジオ周波数は非限定的であり、他のラジオ周波数を適切に用いることができる。連続低エネルギー・プラズマ放電を試料に加えるステップはまた、プラズマを生成する気体源を準備するステップをさらに含むことができるが、ここで気体は、窒素、酸素、アルゴン及びそれらの組合せ、から成る群から選択される。
　短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップは、約−０．５ｋＶから約−４０ｋＶまでの電圧を印加するステップをさらに含むことができる。短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップはまた、約−０．５ｋＶから約−２０ｋＶまでの電圧を印加するステップをさらに含むことができる。短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップはまた、０．２Ｈｚから２００Ｈｚまでの周波数で電圧を印加するステップをさらに含むことができる。電圧は、約１ミリ秒から約１０ミリ秒までの間、望ましくは約５ミリ秒の間印加することができる。
　本発明によるプラズマ放電を生成する出力は５０ワットから５００ワットまで変化し得る。チャンバ内の圧力は、約０．１Ｐａから約１．０Ｐａの圧力まで減圧することができる。」（国際公開４ページ７行〜５ページ６行、公表公報段落【００１２】〜【００１５】）
　 
摘示エ　「本発明は、窒素、酸素及び／又はアルゴンのイオンのプラズマ浸漬イオン注入（ＰＩＩＩ）によるｅＰＴＦＥへのイオン注入、及びそれに続く表面の化学的機能化に向けられる。
　プラズマ浸漬イオン注入は、ｅＰＴＦＥのようなポリマーの表面修飾を、高エネルギー・イオンのポリマー内への浸透、高分子の原子との衝突のカスケード、及び浸透したイオンの運動エネルギーの、ポリマー高分子の原子及び電子への移動、により変化させる。移動したエネルギーは、高分子内の化学結合を切断するのに十分に高く、放出された原子及び電子は近接した高分子との新しい衝突を起すのに十分な運動エネルギーをもって飛行する。その結果、化学結合の化学的切断、イオン化、フリーラジカルの生成、電子及び光子による高分子の励起が起こる。ポリマーのそのような激烈な構造変化の範囲は、イオン・トラックと呼ばれ、イオン・トラックの大きさは、イオン・エネルギー、イオン及びポリマーの種類に依存する。これらの反応は、ポリマーへのイオン・ビーム注入の第１段階において１０-9秒から１０-6秒の間に起こる。
　イオン浸透後、ポリマーのトラック範囲は、非常に高濃度のフリーラジカル、高分子のイオン化及び高励起部分を有するが、これがポリマーのこの破壊された範囲に多くの化学反応を誘起する。その生成物はアモルファス炭素、芳香族凝縮構造体、安定又は部分的安定なフリーラジカル構造体である。フリーラジカルは初めの高分子からの水素切断の連鎖反応を引き起し、修飾範囲はイオンのトラックよりも著しく深くなる。
本明細書で用いる「浸炭」という用語及びその変形は、ｅＰＴＦＥのようなポリマーの表面内部における、アモルファス炭素、芳香族凝縮構造体、安定又は部分的安定なフリーラジカル構造体の形成を意味する
　プラズマ浸漬イオン注入において、ポリマー試料のような試料、例えばｅＰＴＦＥは、ホルダー上で連続低エネルギー・プラズマ放電内に置かれ、そして高電圧パルスが短時間印加されてプラズマ雲からのイオン束が形成される。
　ポリマー表面はプラズマ処理により機能化されるが、プラズマ浸漬イオン注入とは対照的に、プラズマ処理は普通、修飾された分子がポリマーのバルク中に移動しやすいので、比較的短時間の効果のみを有する。しかし、プラズマ浸漬イオン注入により、ポリマー、例えばｅＰＴＦＥは、表面の浸炭を誘起する高エネルギー・イオンで処理される。ポリマー表面の浸炭は、この表面の再形成、即ちポリマー・バルクへの移動を防ぐ。
　プラズマ浸漬イオン注入によるポリマーへのイオン注入は、ポリマー表面にダングリング・ボンド及びフリーラジカルの形成をもたらす可能性がある。・・・
・・・
　本発明による、プラズマ浸漬イオン注入によりｅＰＴＦＥ表面を修飾する方法は、プラズマ処理に適したチャンバ内にｅＰＴＦＥ材料を準備し、試料に連続低エネルギー・プラズマ放電を加え、短時間に高電圧パルスを印加してプラズマ放電からの高エネルギー・イオン束を形成し、ｅＰＴＦＥ材料の表面上に、表面の下の分子及び／又は物理構造を変えることなくフリーラジカルを形成して修飾ｅＰＴＦＥ表面を画定するイオンを生成する、ステップを含む。高電圧パルスを印加するステップは、ｅＰＴＦＥの結節及び小繊維構造を破壊せずにｅＰＴＦＥの表面を修飾するように制御する。電圧パルスのエネルギー及び周波数もまた、結節及び小繊維構造を破壊せずにｅＰＴＦＥの表面をエッチング及び／又は浸炭化するように制御する。連続低エネルギー・プラズマ放電は、約１３．５６ＭＨｚ又は約２．４５ＧＨｚのラジオ周波数でプラズマ放電を生成することによりもたらされる。これらのラジオ周波数は非限定的であり、他のラジオ周波数を適切に用いることができる。プラズマを生成する気体源は、窒素、酸素，アルゴン及びそれらの組合せを含むことができる。分子の被覆をｅＰＴＦＥ表面上に堆積させるだけの従来技術の方法に比較して、本発明の方法においては、これらの気体のイオンをｅＰＴＦＥの表面を浸炭化するために用いることが望ましい。
　約−０．５ｋＶから約−４０ｋＶまでの短時間高電圧パルスを試料又は試料ホルダーに印加してプラズマからのイオンを試料に向けて加速する。約−０．５ｋＶから約−３０ｋＶまでの電圧、約−０．５ｋＶから約−２０ｋＶまでの電圧、約−５ｋＶから約−４０ｋＶまでの電圧、約−１０ｋＶから約−３０ｋＶまでの電圧、及び約−２０ｋＶから約−３０ｋＶまでの電圧、もまた有用である。電圧は、約０．２Ｈｚから約２００Ｈｚまでの周波数で印加することができる。電圧はまた、約１マイクロ秒から約１０マイクロ秒までの時間、望ましくは約５マイクロ秒間、印加することができる。
　プラズマ放電を生成する出力は、約５０ワットから約５００ワットまで、望ましくは約５０ワットから約４００ワットまでであった。プラズマ浸漬イオン注入により、チャンバは、非限定的であるが、約０．１Ｐａから約１．０Ｐａまでの減圧力において作動する。イオンは、約１０13イオン／ｃｍ2から約１０16イオン／ｃｍ2までのドーズ量でｅＰＴＦＥ表面に投与することが望ましい。
　この方法はｅＰＴＦＥ表面を浸炭化する。ｅＰＴＦＥ表面の浸炭化後、ｅＰＴＦＥ上のフリーラジカル又はｅＰＴＦＥ表面上のフリーラジカルの一部分は、ｅＰＴＦＥ材料を酸化環境、例えば空気に曝して酸化することが望ましい。
　
フリーラジカル・サイト又は酸化されたフリーラジカル・サイトはスペーサ分子又は材料により機能化することができる。従来技術の被覆法とは異なり、スペーサ分子又は材料はｅＰＴＦＥに共有結合する
　さらに、
生物活性剤を修飾ｅＰＴＦＥ表面に
共有結合させることができる
　  
摘示オ　「本発明の１つの態様において、ｅＰＴＦＥ表面をプラズマ浸漬イオン注入により修飾する方法は、プラズマ処理に適したチャンバ内にｅＰＴＦＥ材料を準備し、試料に連続低エネルギー・プラズマ放電を加え、短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からの高エネルギー・イオン束を形成し、ｅＰＴＦＥ材料の表面上に、表面の下の分子及び／又は物理構造を変えることなくフリーラジカルを形成して修飾ｅＰＴＦＥ表面を画定するイオンを生成する、ステップを含む。ｅＰＴＦＥ材料は結節及び小繊維構造を有し、高電圧パルスを印加するステップがｅＰＴＦＥの表面をエッチング又は浸炭化するときでも、高電圧パルスを印加するステップは結節及び小繊維構造を破壊することなくｅＰＴＦＥの表面を修飾する。修飾された表面は約３０ｎｍから約５００ｎｍまでの深さを有することができる。イオンは約１０13イオン／ｃｍ2から約１０16イオン／ｃｍ2までの濃度又はドーズ量でｅＰＴＦＥ試料に投与することが望ましい。
　連続低エネルギー・プラズマ放電を試料に加えるステップは、約１３．５６ＭＨｚ又は約２．４５ＧＨｚのラジオ周波数でプラズマ放電を生成するステップをさらに含む。これらの有用なラジオ周波数は非限定的であり、他のラジオ周波数を適切に用いることができる。連続低エネルギー・プラズマ放電を試料に加えるステップは、プラズマを生成する気体源を準備するステップをさらに含むことができ、その気体は、窒素、酸素、アルゴン及びそれらの組合せから成る群から選択される。
　短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップは、約−０．５ｋＶから約−４０ｋＶまでの電圧を印加するステップをさらに含むことができる。短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップはまた、約−０．５ｋＶから約−２０ｋＶまでの電圧を印加するステップをさらに含むことができる。短時間、高電圧パルスを印加してプラズマ放電からのイオン束を形成するステップはまた、０．２Ｈｚから２００Ｈｚまでの周波数で電圧を印加するステップをさらに含むことができる。電圧は、約１ミリ秒から約１０ミリ秒までの時間、望ましくは約５ミリ秒間、印加することができる。
　本発明によるプラズマ放電を生成する出力は５０ワットから５００ワットまで変化し得る。チャンバ内の圧力は、約０．１Ｐａから約１．０Ｐａの圧力まで減圧することができる。
　　
ｅＰＴＦＥ表面を修飾する方法は、フリーラジカルの少なくとも一部分を酸化し、フリーラジカル・サイトを、ｅＰＴＦＥに共有結合したスペーサ分子又は材料により機能化し
修飾ｅＰＴＦＥ表面に付着生物活性剤を共有結合させ
　  
摘示カ　「以下の非限定的な実施例は、本発明をさらに説明するためのものである。
【実施例１】
　種々のエネルギー及び処理の種々の実施法による窒素、酸素及びアルゴンのイオンのプラズマ浸漬イオン注入を用いて、ｅＰＴＦＥのシート、ＰＴＦＥ薄膜及び低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）膜の修飾を行った。ＰＴＦＥ及びＬＤＰＥ試料を、分析を支持するための付随試料として用いた。
　材料及び方法
　
材料
　Ｂｏｓｔｏｎ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　ＳＣＩＭＩＤから供給されたｅＰＴＦＥを用いて、プラズマ浸漬イオン注入処理、構造解析及び細胞培養実験を行った。２０μｍのＰＴＦＥ膜及び５０μｍのＬＤＰＥ膜を用いて、プラズマ浸漬イオン注入処理及び構造解析を行った。ＰＴＦＥ及びＬＤＰＥ膜はプラズマ浸漬イオン注入の前にアルコールで洗浄した。ｅＰＴＦＥ試料はプラズマ浸漬イオン注入の前にアルコールで洗浄しなかったが、試料の表面は梱包を除去した後触れなかった。
　
プラズマ浸漬イオン注入
　殆どの修飾は、ドイツ、ドレスデン所在のＦｏｒｓｃｈｕｎｇｓｚｅｎｔｒｕｍ　Ｒｏｓｓｅｎｄｏｒｆ（ＦＺＲ）の装置を用いて行った。残留空気の圧力は１０-3Ｐａであり、放電時の作業圧力は１０-1Ｐａであった。プラズマ放電には窒素、酸素及びアルゴン気体を用いた。プラズマは１３．５６ＭＨｚのラジオ周波数発生器により生成した。プラズマ出力は５０−４００Ｗの範囲に調節した。プラズマ開始後、０．５−１分後の安定プラズマ放電時に、高電圧パルスを試料ホルダーに印加した。高電圧パルスは５μｓの時間幅を有し、２０ｋＶ、１０ｋＶ、１ｋＶ及び０．５ｋＶのピーク電圧を用いた。０．２Ｈｚから２００Ｈｚまでのパルスの繰返し周波数を用いた。プラズマ浸漬イオン注入処理の間、パルス周波数を調節して温度を制御した。プラズマ浸漬イオン注入処理は、ｅＰＴＦＥ、ＰＴＦＥ及びＬＤＰＥ試料に対して１０13イオン／ｃｍ2から１０16イオン／ｃｍ2までのドーズ量で行った。
　付加的に、幾つかの試料をライプチッヒ所在のＩｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎにおいて処理した。この場合は、２０ｋｅＶのエネルギーで窒素イオンだけを用いた。処理のドーズ量は１０13、１０14、１０15及び１０16ｃｍ-2であった。
　プラズマ浸漬イオン注入処理のドーズ量は、ラングミュア・プローブによるプラズマ密度の直接測定により、及びＬＤＰＥの付随試料のフフーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）スペクトルを周知の以前のデータと比較することにより、計算した。ラングミュア・プローブによりプラズマ密度の安定度を決定し、ドーズ処理量の平均値からの偏差は１０％と見積った。例えば、窒素プラズマ放電のプラズマ密度の、作業気体の圧力及びプラズマ出力に依存した挙動は図４Ａ及び図４Ｂに示す。プラズマ密度はチャンバ圧力及びプラズマ生成に用いた出力の関数である。プラズマ密度はこれら変数の両方の増加に伴って増加する。
　ｅＰＴＦＥ、ＰＴＦＥ及びＬＤＰＥの処理に用いたプラズマ浸漬イオン注入実施法の一覧を表１に示す。
　
化学的後処理
　修飾試料を、アクリルアミドの１０％水溶液、修飾多糖ヒドロキシエチルスターチの１０％水溶液（ＨＡＥＳ無菌１０％、Ｆｒｅｓｅｎｉｕｓ　ＡＧ）により処理した。後処理は、プラズマ浸漬イオン注入の直後、及び２０日後、並びに、促進経時劣化処置後の異なる時間に行った。試料は室温において２時間、溶液中に完全に浸した。後処理の後、試料は脱イオン水で洗浄し空気乾燥した。これらの試料の濡れ角度測定は、ポリマー表面上の残留水の影響を除外するために翌日に行った。」（国際公開２０ページ２８行〜２３ページ２行、公表公報段落【００５１】〜【００５５】）
　
摘示キ　「　
プラズマ浸漬イオン注入処理表面の経時劣化
　プラズマ浸漬イオン注入後の修飾表面の安定性を分析するために経時劣化試験を行った。表面の安定性は、熱経時劣化後、並びに経時劣化及びＨＡＥＳ処理後、の水滴の接触角測定によって見積った。第２の場合には、濡れ性だけでなく、経時劣化の間に処理表面が化学的活性を保持する機能をも試験した。
　実験においては、ＰＴＦＥ及びｅＰＴＦＥの試料をプラズマ浸漬イオン注入により、３通りの異なるドーズ量、即ち、示されるように１０14イオン／ｃｍ2、１０15イオン／ｃｍ2及び１０16イオン／ｃｍ2、で処理し、次に高温で処理したが、これは経時劣化過程（時間と温度の重ね合わせ）のモデルとして用いた。熱処理後、ｅＰＴＦＥの接触角は大抵の場合変化しなかった（図１３Ａ）。経時劣化反応速度は、処理ＰＴＦＥの親水性は少なくとも数ヶ月間保持できることを示す。」（国際公開３０ページ１１〜２３行、公表公報段落【００７４】）
　
摘示ク　「
」（国際公開　ＦＩＧ．１３Ａ、公表公報【図１３Ａ】）
　
　
　
第５　先願明細書に記載された発明
　  
　付着生物活性剤について、先願明細書の記載をみると、「【請求項２０】付着生物活性剤を前記修飾ｅＰＴＦＥ表面に共有結合させるステップをさらに含む」との記載（摘示ア）から、付着生物活性剤を修飾ｅＰＴＦＥ表面に共有結合させることが記載されており、その具体的な態様として、「
生物活性剤を修飾ｅＰＴＦＥ表面に
共有結合させることができる
ｅＰＴＦＥ表面を修飾する方法は、
修飾ｅＰＴＦＥ表面に付着生物活性剤を共有結合させ
　そうすると、先願明細書には、摘示ア〜オの記載を総合すると、以下の発明（以下、「先願発明」という。）が記載されているといえる。
　
「結節及び小繊維構造を有し、前記結節及び小繊維構造を破壊せずにプラズマ浸漬イオン注入により形成された、酸化されたフリーラジカル・サイト表面及び３０ｎｍから５００ｎｍまでの深さを有する浸炭表面を有し、前記小繊維に付着する生物活性剤を有し、当該生物活性剤が修飾ｅＰＴＦＥ（機械的に伸びた発泡形ポリテトラフルオロエチレン）表面にスペーサ分子を介さずに共有結合している、ｅＰＴＦＥを含む表面修飾ｅＰＴＦＥ」
　  
　  
　  
第６　対比
　  
　本願発明と先願発明とを対比する。
　先願発明における「結節及び小繊維構造を有」する「ｅＰＴＦＥ」は、本願明細書の請求項３に「前記ポリマー基質が、ブロック、シート、フィルム、ストランド、繊維、小片または粒子、粉末、造形品、織布、あるいはシートにプレスされた密集繊維である」と記載されており、同じく請求項７に「前記ポリマーが、1つまたは複数の・・・ポリテトラ-フルオロエチレン(PTFE)・・・を含む」と記載されていることからみて、本願発明における「ポリマー基質」に相当することは明らかである。
　先願発明における「生物活性剤」は、摘示エ〜オの記載と本願明細書の「用語『機能的』は、該分子が、生体系において通常示すと考えられる少なくともいくつかの活性を示すことができることを伝えるものとする。例えば、活性は、抗原/抗体結合、受容体/薬物結合などの結合相互作用に寄与する能力の維持、またはたとえ生体系において通常のレベルよりも低いレベルではあっても、生体反応を触媒するか、または生体反応に寄与する能力の維持を含み得る。・・・
　用語『生体分子』とは、生物源に由来するか、生体系に存在する分子の合成的に製造された複製物であるか、生体系に存在する分子の活性を模倣する分子であるか、またはその他の形で生物学的活性を示す任意の分子を包含するものとする。生体分子の例としては、限定はしないが、アミノ酸、ペプチド、タンパク質、糖タンパク質、リポタンパク質、ヌクレオチド、オリゴヌクレオチド、核酸(DNAおよび RNAなど)、脂質および炭水化物、ならびにそれらの活性断片が挙げられる。好ましい生体分子としては、タンパク質および薬物または薬物標的が挙げられる。特に好ましい生体分子としては、抗体および免疫グロブリン、受容体、酵素、神経伝達物質または他の細胞シグナル伝達物質、サイトカイン、ホルモンおよび相補性決定タンパク質、ならびにそれらの活性断片が挙げられる。」（段落００２３〜００２４）との記載とを対比すれば、本願発明における「機能的生体分子」に相当することは明らかである。
　そして、先願発明における「生物活性剤」は、プラズマ浸漬イオン注入により形成された、酸化されたフリーラジカル・サイト表面を機能化するものであって（摘示エ）、「修飾ｅＰＴＦＥ（機械的に伸びた発泡形ポリテトラフルオロエチレン）表面にスペーサ分子を介さずに共有結合している」のであるから、本願発明における「機能的生体分子との直接的な共有結合により機能化されたポリマー基質」に相当することは明らかである。
　また、先願発明における「酸化されたフリーラジカル・サイト表面」は、本願明細書の「理論に拘泥するものではないが、本発明によるポリマー表面の活性化により、生体分子の化学基または生体分子に結合するリンカーに対する化学結合、多くの場合は共有結合を形成することが可能であると考えられる。生体分子の化学基は、該分子の外部に位置することなどによって結合相互作用に接近できることが好ましい。ポリマー表面の活性化は、酸素(例えば、空気から)へのPIIIプラズマ処理表面の曝露後に生じ、次いで、アミン基など、生体分子上の反応性種に対する結合部位として利用できる、荷電酸素原子および反応性カルボニルなどの反応性酸素種ならびにカルボン酸部分の生成を含むと考えられる。」（段落００２１）との記載からみて、本願発明における「前記生体分子への前記直接的な共有結合が可能となるように活性化された親水性表面」に相当することは明らかである。
　そうすると、両者は、以下の一致点で一致し、以下の相違点１で一応相違するものである。
　  
　＜一致点＞
　機能的生体分子との直接的な共有結合により機能化されたポリマー基質であって、前記生体分子への前記直接的な共有結合が可能となるように活性化された親水性表面を含むポリマー基質
　  
　＜相違点１＞
　本願発明においては、「前記表面下1nmから300nmに位置する複数の架橋領域を含む内層面とを含む」と特定しているのに対し、先願発明においては、「３０ｎｍから５００ｎｍまでの深さを有する浸炭表面を有」すると特定している点
　  
　  
　  
第７　判断
　  
　先願発明における「浸炭表面」について検討すると、摘示エには、「『浸炭』という用語及びその変形は、ｅＰＴＦＥのようなポリマーの表面内部における、アモルファス炭素、芳香族凝縮構造体、安定又は部分的安定なフリーラジカル構造体の形成を意味する。」と記載されているのであるから、当該浸炭表面とは上記ポリマーの表面内部の一部に、芳香族凝縮構造体、すなわちポリマーの架橋構造を形成するものであることを意味することがみてとれる。
　そして、本願明細書の記載（段落００２８）を参酌すれば、「内層面」とはＰＩＩＩ（プラズマ浸漬イオン注入）条件下プラズマ処理に供される表面下約１ｎｍと約３００ｎｍとの間であるポリマー領域を包含するものであって、ポリマーの内層面へエネルギー性イオンが貫入し、基質内層面においてポリマー架橋領域が生じるものであることがみてとれる。
　そして、先願発明の「浸炭表面」の深さ（３０ｎｍから５００ｎｍまで）と本願発明の「内層面」の位置（表面下1nmから300nm）とは重複一致する範囲を包含するものである。
　そうすると、先願発明の「浸炭表面」と本願発明の「複数の架橋領域を含む内層面」とは、ともにプラズマ浸漬イオン注入条件下でのポリマーの内層面へエネルギー性イオンが貫入することにより形成するポリマー架橋領域を含む点で共通するものであるといえ、しかもその深さも一致するものであることから、両者は同じものであるといえる。
　してみると、相違点１は、実質的な相違点ではない。
　  
　したがって、本願発明は、先願発明、すなわち、その出願の優先日前の日を優先日とする外国語特許出願であって、その優先日後に国際公開がされた外国語特許出願の国際出願日における国際出願の明細書、請求の範囲又は図面に記載された発明と同一である。
　そして、先願発明をした者が本願発明の発明者と同一の者ではなく、また、本願の出願の時に本願の出願人と先願発明に係る出願人とが同一の者でもない。
　よって、本願発明は、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
　  
　  
　  
第８　請求人の主張の検討
　  
　請求人は、以下のとおり主張しているが、以下に述べるとおり、何れも受け入れられるものではない。
　 
１．架橋領域の生成について
　請求人は、先願明細書には修飾ｅＰＴＦＥに表面架橋の生成を生ずることに関して記載も示唆もなく、「表面下１ｎｍから３００ｎｍに位置する複数の架橋領域」の生成を、採用された処理が生成することについて記載も示唆もない旨主張している。
　 
　しかしながら、上記第６で述べたとおり、先願明細書には、「３０ｎｍから５００ｎｍまでの深さを有する浸炭表面を有」する先願発明が記載されているといえ、上記第７で述べたとおり、当該「浸炭表面」は、本願発明の「複数の架橋領域を含む内層面」と同じものであるといえる。
　そして、プラズマ浸漬イオン注入条件について、先願明細書の摘示ウ〜カの記載と本願明細書の段落００３４〜００３５の記載とを比較しても、両者間に特に差異はないといわざるを得ない。
　 
２．発明の課題について
　請求人は、先願明細書には、本願発明の課題としている「疎水性回復の遅延」について何の記載もない旨主張している。
　 
　しかしながら、摘示キ〜クに記載されているとおり、熱処理後、ｅＰＴＦＥの接触角は大抵の場合変化せず、経時劣化反応速度は、処理ＰＴＦＥの親水性は少なくとも数ヶ月間保持できることがみてとれる。
　そうすると、処理ＰＴＦＥの親水性が長期間（少なくとも数ヶ月間）保持できることが示されており、これは本願発明における疎水性回復を遅延していることと同義であるといえる。
　したがって、請求人の発明の課題についての主張は失当である。
　  
　  
　  
第９　むすび
　  
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。