(57)【要約】  【課題】      装置を不所望に大型化させることなく未気化状態の液体原料が次工程のＣＶＤ装置に供給されるのを防止できる気化器を提供する。  【解決手段】  液体原料LMを加熱して気化させる気化室62を有する気化部26と、気化室62内に液体原料LMを供給する液体原料供給部24とを備える気化器10,10'において、気化部26には、一端が気化室62に連通され、他端が気化原料排出口74に連通される未気化液体原料気化用流路80が気化室62の周囲を取り囲むように螺旋状に形成されている。  この発明によれば、気化室62内の気化原料VMを長経路で加熱された未気化液体原料気化用流路80内に通流させてから気化原料排出口74に送り出すようにしているので、気化室62から送出される混合ガスVM+CG中に未気化の液体原料LMが混入している場合であっても、これを未気化液体原料気化用流路80内にて完全に気化させることができ、リアクター16に未気化の液体原料LMが供給されることはない。【選択図】      図２
2007046084.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体原料を加熱して気化させる気化室を有する気化部と、前記気化室内に液体原料を供給する液体原料供給部とを備える気化器において、
前記気化部の内部であって且つ前記気化室の近傍には、一端が前記気化室に連通され、他端が気化原料排出口に連通される屈曲又は湾曲した未気化液体原料気化用流路が形成されていることを特徴とする気化器。
【請求項２】
前記未気化液体原料気化用流路は、前記気化室の周囲を取り囲むように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の気化器。
【請求項３】
前記未気化液体原料気化用流路は、前記気化室の周囲を取り囲むように螺旋状に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の気化器。
【請求項４】
前記気化器の気化原料排出口の下流側には、混合ガス中に含まれる固体微粒子を捕集するためのフィルタユニットが設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の気化器。
【請求項５】
液体原料を貯留する原料タンクと、前記原料タンクから気化器へ向けて送出される液体原料の質量流量を測定する液体質量流量計と、キャリアガスの質量流量を制御するマスフローコントローラと、前記液体質量流量計及び前記マスフローコントローラに接続され、液体原料を気化させて気化原料にすると共にキャリアガスにて前記気化原料を送り出す気化器とを備える液体気化供給装置において、
前記気化器は、請求項１から４のいずれかに記載の気化器であることを特徴とする液体気化供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、ＣＶＤ（Chemical  Vapor  Deposition、化学気相堆積）法による薄膜堆積装置などに用いられる、液体原料を気化配給する気化器並びに該気化器を用いた液体気化供給装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液体原料(LM)をＣＶＤ装置に気化配給する手段として、図７に示すような気化器(1)が用いられている（例えば、特許文献１参照）。この従来の気化器(1)は、内部に気化室(2a)が設けられている気化部(2)と、気化室(2a)内に液体原料(LM)を供給する液体原料供給部(3)とで構成されている。液体原料供給部(3)は、気化室(2a)の上部に配置されているノズル部(4)と、ノズル部(4)の上端に配置されているアクチュエータやダイヤフラム、あるいは制御弁などを具備する液体原料質量流量制御部(5)が接続されており、ノズル部(4)の下端には気化室(2a)に向けて開口するノズル(6)が設けられている。ノズル(6)の中心には、気化室(2a)に向かって開口する液体原料配給口(6a)が設けられており、その周囲にキャリアガス配給口(6b)が設けられている。
【０００３】
この従来の気化器(1)の使用時には、図示しない原料タンクから供給された液体原料(LM)が液体原料配給口(6a)から気化室(2a)内に向けて噴射され、その周囲を包むようにキャリアガス(CG)が噴射される。気化室(2a)の内部は図示しないヒーターによって加熱されており、気化室(2a)内に噴射された液体原料(LM)の液滴がこのヒーターの熱によって気化して気化原料(VM)となり、キャリアガス(CG)と共に混合ガス(VM+CG)となって次工程のＣＶＤ装置に供給されるようになっている。
【特許文献１】特開２００２−１０５６４６号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、気化室(2a)内に噴射された液体原料(LM)は、その全てが完全に気化した状態でＣＶＤ装置に供給されるわけではなく、場合によっては、完全に気化することができなかったミスト状の液体原料(LM)が含まれていることもある。そして、このようなミスト状の液体原料(LM)がＣＶＤ装置に供給された場合には、これがＣＶＤ装置に設置された被処理材である基板の被堆積表面に付着し、マークと呼ばれる不良の発生原因となる。
【０００５】
なお、気化室(2a)内の混合ガス(VM+CG)をＣＶＤ装置に向けて送出する混合ガス送出用の配管（図示省略）の配管経路を長くすれば、加熱された配管内を混合ガス(VM+CG)が通流することによってミスト状態の液体原料(LM)を完全に気化させることも可能であるが、この場合には装置が大型化してしまい、省スペース化の要請に反する結果となるため好ましくない。
【０００６】
本願発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、装置を不所望に大型化させることなく未気化状態の液体原料が次工程のＣＶＤ装置に供給されるのを防止できる気化器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、「液体原料(LM)を加熱して気化させる気化室(62)を有する気化部(26)と、気化室(62)内に液体原料(LM)を供給する液体原料供給部(24)とを備える気化器(10)(10')において、気化部(26)の内部で且つ気化室(62)の近傍には、一端が気化室(62)に連通され、他端が気化原料排出口(74)に連通される屈曲又は湾曲した未気化液体原料気化用流路(80)が形成されている」ことを特徴とする気化器(10)(10')である。
【０００８】
この発明によれば、気化室(62)内の気化原料(VM)を長経路で加熱された未気化液体原料気化用流路(80)内に通流させてから気化原料排出口(74)に送り出すようにしているので、気化室(62)から送出される混合ガス(VM+CG)中に未気化の液体原料(LM)が混入している場合であっても、未気化液体原料気化用流路(80)内にて未気化の液体原料(LM)を完全に気化させることができる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、未気化液体原料気化用流路(80)を限定したもので、「未気化液体原料気化用流路(80)が気化室(62)の周囲を取り囲むように形成されている」ことを特徴とする気化器(10)(10')である。
【００１０】
この発明によれば、未気化液体原料気化用流路(80)が気化室(62)の周囲を取り囲むように形成されているので、気化室(62)内および未気化液体原料気化用流路(80)の温度分布差が生じるのを防止することができる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、未気化液体原料気化用流路(80)の形状の具体例であり、「未気化液体原料気化用流路(80)は、気化室(62)の周囲を取り囲むように螺旋状に形成されている」ことを特徴とするものである。
【００１２】
この発明によれば、限られた容積の中でより長い距離の未気化液体原料気化用流路(80)を確保することができる。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、「気化器(10')の気化原料排出口(74)の下流側には、混合ガス(VM+CG)中に含まれる固体微粒子(P)を捕集するためのフィルタユニット(82)が設けられている」ことを特徴とする。
【００１４】
気化原料(VM)や液体原料(LM)は非常に反応性が高く、その化学的性質は非常に不安定であるため、熱等により変性して固体微粒子(P)を発生させる場合がある。そして、この固体微粒子(P)がリアクター(16)に供給されると不良の原因となるため好ましくない。
【００１５】
この発明では、フィルタユニット(82)を気化原料排出口(74)の下流側に設けることにより、混合ガス(VM+CG)中に固体微粒子(P)が含まれていたとしてもこれを除去することができる。なお、仮に混合ガス(VM+CG)中に未気化の液体原料(LM)が存在していたとしても、未気化の液体原料(LM)は、フィルタユニット(82)を通過中に完全に気化することとなる。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、「液体原料(LM)を貯留する原料タンク(14)と、原料タンク(14)から気化器へ向けて送出される液体原料(LM)の質量流量を測定する液体質量流量計(18)と、キャリアガス(CG)の質量流量を制御するマスフローコントローラ(20)と、液体質量流量計(18)及びマスフローコントローラ(20)に接続され、液体原料(LM)を気化させて気化原料(VM)にすると共にキャリアガス(CG)にて気化原料(VM)を送り出す気化器とを備える液体気化供給装置(12)において、気化器は、請求項１から３のいずれかに記載の気化器(10)(10')である」ことを特徴とする液体気化供給装置(12)である。
【００１７】
この発明によれば、液体原料(LM)を気化するための気化器として請求項１から４のいずれかに記載された気化器(10)(10')が使用されるので、未気化の液体原料(LM)や固体微粒子(P)が後工程のリアクターに不所望に供給されることはない。
【発明の効果】
【００１８】
本願発明によれば、液体原料を完全に気化させた気化原料だけを後工程のリアクターに供給できるので、リアクターにおいて気化器由来の不良品が発生するのを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本願発明を図示実施例に従って詳述する。図１は、本願発明の気化器(10)が組み込まれた液体気化供給装置(12)の一例である。ここで、液体気化供給装置(12)は、原料タンク(14)から供給される液体原料(LM)を気化させて気化原料(VM)にするとともに、気化後の気化原料(VM)を次工程であるＣＶＤ装置などのリアクター(16)へ供給するためのものであり、気化器(10)、原料タンク(14)、液体質量流量計(18)及びマスフローコントローラ(20)等を備え、これらの機器が液体原料供給管(22a)〜(22b)及びガス管(22d)を介して互いに連結されている。また、気化器(10)と液体質量流量計(18)とは、制御用導電線(22f)により接続されている。
【００２０】
気化器(10)は、図２に示すように、液体原料供給部(24)と気化部(26)とで大略構成されている。
【００２１】
液体原料供給部(24)は、液体原料(LM)を後述する気化部(26)の気化室(62)内に供給する部分であり、液体原料質量流量制御部(28)と噴射部(30)とを有する。
【００２２】
液体原料質量流量制御部(28)は、ハウジング(32)を有し、ハウジング(32)の内部には弁室(34)が形成されており、弁室(34)の上端はハウジング(32)の上面に開口している。また、ハウジング(32)の内部には、弁室(34)の底部へ液体原料(LM)を導入する液体原料導入路(36)と液体原料供給管(38)とが設けられており、液体原料供給管(38)の上端が弁室(34)の底部に連通している。
【００２３】
ハウジング(32)の上面には、アクチュエータ(40)が設けられている。アクチュエータ(40)は、ハウジング(32)の上面に立設されている筒状のハウジング(42)を有し、内部に駆動素子(44)が収納された構造となっている。一方、弁室(34)の内部には、弾性材料からなる膜状のダイヤフラム(46)が設けられており、前記ダイヤフラム(46)を押圧して液体原料供給管(38)の弁室(34)への開口部である原料導入口(38a)の開度を制御するプランジャー(48)が駆動素子(44)の下端に設けられている。
【００２４】
駆動素子(44)は、印加電圧の大きさに応じて長さが変化するものであり、印加電圧によって、伸長する長さ（以下、「伸長長さ」という。）が変化する。このような駆動素子(44)として、本実施例ではソレノイド素子が使用されるが、これに限定されるものではなく、たとえばピエゾ素子を使用することも可能である。
【００２５】
ハウジング(42)内におけるソレノイド駆動素子(44)の位置は、駆動素子(44)の伸長長さがゼロのときに、ダイヤフラム(46)によって液体原料供給管(38)の原料導入口(38a)が開放され、駆動素子(44)の伸長長さが最大のときに原料導入口(38a)が閉塞され得るように調整される。なお、駆動素子(44)は、印加電圧に対する応答速度が非常に速く、駆動素子(44)に印加する電圧を微小時間間隔に設定した場合であっても、印加電圧に応じて伸長長さを瞬時に変化させることができる。
【００２６】
液体原料質量流量制御部(28)の下方には、噴射部(30)が設けられている。
【００２７】
噴射部(30)は、円柱状のブロックからなるハウジング(50)を有し、ハウジング(50)の内部には、ガス室(52)が形成されている。また、ハウジング(50)の内部には、キャリアガス(CG)をガス室(52)へ導入するキャリアガス導入路(54)およびガス室(52)内のキャリアガス(CG)を後述する気化室(62)の内部へ向けて送出するキャリアガス送出路(56)が形成されている。なお、上述した液体原料供給管(38)は、ガス室(52)を通過してその下端部がキャリアガス送出路(56)から下方に突出するように配置されている（したがって、キャリアガス送出路(56)の内径は、液体原料供給管(38)の外形よりも大きめに設定しておく必要がある。）。
【００２８】
液体原料供給部(24)における噴射部(30)の下方には、気化部(26)が設けられている。
【００２９】
気化部(26)は、液体原料(LM)を加熱して気化させる部分であり、本実施例では、入れ子状に構成されたインナハウジング(58)とアウタハウジング(60)とに２分割されており、その内部には、アウタハウジング(60)の天井面からインナハウジング(58)の内部にかけて気化室(62)が穿設されている。
【００３０】
インナハウジング(58)は、アウタハウジング(60)内に挿入される円柱状のインナハウジング本体(58a)と、前記インナハウジング本体(58a)よりも大径のフランジ(58b)とを有しており、これら両部材(58a)(58b)が一体的に形成されている（図３参照）。
【００３１】
インナハウジング本体(58a)の内部には、上端がインナハウジング本体(58a)の上面に開口し、気化室(62)の下側部分となる下側気化室(62a)が形成されている。下側気化室(62a)は、その底面が凹状に湾曲して形成されており、下側気化室(62a)を水平方向に切断したときの内周形状は略円形状をなしている（図２のＡ−Ａ線断面図を参照）。
【００３２】
また、インナハウジング本体(58a)の内部には、上下方向に延びる複数（本実施例では１０本）の流路(68)が下側気化室(62a)を中心として同心円状に形成されている。なお、本実施例では、流路(68)の一端が下側気化室(62a)の内側面(36c)に開口しており（本実施例では、下側気化室(62a)の下段部分に臨むように形成されている。）、上端がインナハウジング本体(58a)の上面に開口されている。
【００３３】
インナハウジング本体(58a)の側面には、複数（本実施例では、３本）の溝(70)（(70a)〜(70c)）が等間隔にて螺旋状に刻設されている。なお、各螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）の上端は、インナハウジング本体(58a)の上面に開口している。
【００３４】
インナハウジング本体(58a)の上面には、上述した流路(68)の上端部と、螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）の上端部とがそれぞれ開口しており、これらが連通溝(69)を介して互いに連通されている。なお、流路(68)と、アウタハウジング(60)によって閉塞される連通溝(69)と、同じくアウタハウジング(60)によって閉塞される螺旋状の溝(70)とで未気化液体原料気化用流路(80)が形成されることになる（この点については後述する）。
【００３５】
さらに、インナハウジング本体(58a)の内部における流路(68)の外方（すなわち、流路(68)と螺旋状の溝(70)との間）には、下側気化室(62a)、流路(68)および螺旋状の溝(70)をそれぞれ加熱する複数（本実施例では３本）のヒーター(72)が等角度間隔にて埋め込まれており、このヒーター(72)には、図示しない温度調整器が接続されている。
【００３６】
アウタハウジング(60)は、天井面を有する筒状部材であり、その内部空間にインナハウジング(58)（より詳しくは、インナハウジング本体(58a)）が収容される。アウタハウジング(60)の内径は、インナハウジング(58)を構成しているインナハウジング本体(58a)の外径と略等しく設定されており、インナハウジング(58)をアウタハウジング(60)内に収容したときに高い気密性を発揮できるようになっている。
【００３７】
アウタハウジング(60)の天井面には、気化室(62)の上側部分となる上側気化室(62b)が形成されている。なお、上側気化室(62b)は、その下端部の内周形状が下側気化室(62a)の内周形状に対応して形成されており、中段部分から上端部に向かうにつれて次第に縮径し、上端の開口部分は、その位置や内周形状がキャリアガス送出路(56)の位置や内周形状と一致するようになっている。
【００３８】
また、アウタハウジング(60)の内部には、アウタハウジング(60)の内側面と外側面とを連通する気化原料排出口(74)が形成されている。なお、気化原料排出口(74)におけるアウタハウジング(60)側はやや拡径して形成されており、インナハウジング本体(58a)の側面に形成されている３本の螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）とそれぞれ連通できるようになっている（つまり、螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）を通過してきた混合ガス(VM+CG)は、この気化原料排出口(74)にて一箇所に集約されることになる。）。
【００３９】
さらに、アウタハウジング(60)の内部には、インナハウジング(58)を外方から保温するための複数（本実施例では３本）のヒーター(76)が等角度間隔にて埋め込まれており、このヒーター(76)には、図示しない温度調整器が接続されている。なお、インナハウジング(58)に設けられているヒーター(72)と、アウタハウジング(60)に設けられているヒーター(76)とは、それぞれ別個独立して温調することが可能である。
【００４０】
気化部(26)を形成する際には、インナハウジング(58)の上方からアウタハウジング(60)を装着し、ボルト等の締結部材により両部材(58)(60)を接合する。これにより、気化部(26)の内部には、下側気化室(62a)と上側気化室(62b)とからなる気化室(62)が構成されることになる。なお、インナハウジング本体(58a)とフランジ(58b)との付け根部分には、インナハウジング(58)とアウタハウジング(60)との気密性を高めるためのシール部材(78)が装着されている。
【００４１】
ここで、インナハウジング(58)の側面に形成されている螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）やインナハウジング(58)の上面に形成されている連通溝(69)は、アウタハウジング(60)によって閉塞される。そして、これら閉塞された螺旋状の溝(70)（(70a)〜(70c)）および連通溝(69)と流路(68)とが一体となることにより未気化液体原料気化用流路(80)が構成されることになる。ここで、未気化液体原料気化用流路(80)は、混合ガス(VM+CG)中に含まれる未気化の液体原料(LM)を気化させるためのものであり、一端が気化室(62)に連通され、他端が気化原料排出口(74)に連通されており、気化室(62)の周囲を取り囲むように形成されることになる。
【００４２】
液体気化供給装置(12)の構成については最初に簡単に説明したが、図１に基いて更に説明すると、気化器(10)の液体原料導入路(36)には液体原料供給管(22a)を介して液体質量流量計(18)が接続され、液体質量流量計(18)には液体原料供給管(22b)を介して原料タンク(14)が接続され、原料タンク(14)にはプッシュガス(PG)を導入するガス管(22c)が接続される。
【００４３】
また、気化器(10)のキャリアガス導入路(54)にはガス管(22d)を介してマスフローコントローラ(20)が接続され、マスフローコントローラ(20)にはキャリアガス(CG)を導入するガス管(22e)が接続される。
【００４４】
さらに、気化器(10)のアクチュエータ(40)には制御用導電線(22f)を介して液体質量流量計(18)が接続され、気化ガス排出口(74)には混合ガス(VM+CG)を送出するガス管(22g)を介してリアクター(16)が接続される。
【００４５】
原料タンク(14)は、薄膜の原料となる液体原料(LM)を貯留するものであり、液体質量流量計(18)は、液体原料供給管(22b)を流れる液体原料(LM)の質量流量（単位時間当りに流れる液体原料(LM)の質量）を測定し、測定結果に基づいて気化器(10)の駆動素子(44)に電圧を印加するものであり、マスフローコントローラ(20)は、気化器(10)に対するキャリアガス(CG)の供給量を調整するものである。また、リアクター(16)は、「成膜手段」として機能するものであり、熱エネルギー或いはプラズマエネルギー等を利用し、供給された気化原料(VM)と他のガスとを反応させることによって（或いは気化原料(VM)を分解させることによって）ウエハの表面に薄膜を形成するものである。なお、液体質量流量計(18)においては、内部を流れる液体原料(LM)の質量流量に応じて駆動素子(44)に電圧が印加され、これによって、原料導入口(38a)の開口度が調整されて気化室(62)へ与えられる液体原料(LM)の量が均一化されることになる。
【００４６】
次に、液体気化供給装置(12)を用いて液体原料(LM)を気化する方法について説明する。原料タンク(14)にプッシュガス(PG)が供給されると、原料タンク(14)内の圧力が上昇し、液体原料(LM)の液面が押し下げられる。プッシュガス(PG)としては、例えばヘリウムなどの不活性ガスが用いられる。プッシュガス(PG)の圧力により液体原料(LM)の液面が押し下げられると、液体原料(LM)が液体原料供給管(22b)内を流れ、液体質量流量計(18)を通過して気化器(10)の弁室(34)へ与えられる。このとき、液体質量流量計(18)では、内部を流れる液体原料(LM)の質量流量が測定され、測定された流量信号に基づいて気化器(10)の駆動素子(44)に電圧が印加される。そして、これにより原料導入口(38a)の開口度が調整され、一定質量流量の液体原料(LM)が液体原料供給管(38)の下端から気化室(62)内に連続的に滴下されることになる。
【００４７】
一方、マスフローコントローラ(20)にキャリアガス(CG)が供給されると、キャリアガス(CG)の質量流量が制御され、所定質量流量のキャリアガス(CG)がガス管(22d)を通って気化器(10)のガス室(52)へ連続的に与えられる。キャリアガス(CG)としては、例えばヘリウムなどの不活性ガスが用いられる。
【００４８】
ガス室(52)内に与えられたキャリアガス(CG)は、キャリアガス送出路(56)から気化室(62)内に向けて勢い良く連続的に噴射される。ここで、キャリアガス送出路(56)は、液体原料供給管(38)の周囲を囲繞するように設けられているので、液体原料供給管(38)の下端から滴下された液体原料(LM)は、キャリアガス送出路(56)から勢い良く噴射されたキャリアガス(CG)によって霧化し、気化室(62)内を落下する。そしてこのとき、霧化した液体原料(LM)は、気化室(62)の器壁からの伝熱、器壁からの輻射熱、キャリアガス(CG)分子との衝突による熱交換によって気化し、気化原料(VM)となる。
【００４９】
気化室(62)内の気化原料(VM)は、キャリアガス(CG)と共に混合ガス(VM+CG)となり、未気化液体原料気化用流路(80)を通る（即ち、各流路(68)を通ってインナハウジング本体(58a)の内部を上方へ移動し、連通溝(69)を経由して螺旋状の溝(70)に至り、各螺旋状の溝(70)((70a)〜(70c))を通ってインナハウジング本体(58a)の側壁を回りながら下方へ移動する。）。
【００５０】
このとき、未気化液体原料気化用流路(80)はヒーター(72)およびヒータ(76)によって加熱されているので、未気化液体原料気化用流路(80)内を通過中の気化原料(VM)が温度低下によって液化し、液体原料(LM)に戻ることはない。また、混合ガス(VM+CG)内に未気化の液体原料(LM)が存在している場合には、未気化の液体原料(LM)がこの加熱された長い未気化液体原料気化用流路(80)内を通過している最中に気化して気化原料(VM)となる。さらに、未気化液体原料気化用流路(80)は、気化室(62)の周囲を取り囲むように形成されているので、気化室(62)内および未気化液体原料気化用流路(80)の温度分布に偏りが生じることもない。
【００５１】
そして、最後に混合ガス(VM+CG)（この混合ガス(VM+CG)中には、完全に気化した気化原料(VM)だけが存在し、未気化の液体原料(LM)は含まれていない）が気化原料排出口(74)からリアクター(16)へ向けて送出され、リアクター(16)にて薄膜が形成される。
【００５２】
本実施例では、気化室(62)内と気化原料排出口(74)とを連通する未気化液体原料気化用流路(80)が気化室(62)の周囲を取り囲むようにして形成されているので、装置全体を大型化することなく混合ガス(VM+CG)の移動距離、即ち、未気化液体原料気化用流路(80)の経路を長距離確保することができる。
【００５３】
したがって、仮に混合ガス(VM+CG)に未気化の液体原料(LM)が存在した場合であっても、長い未気化液体原料気化用流路(80)を通過させている最中にこれを完全に気化させることができ、未気化の液体原料(LM)が後工程のリアクター(16)に供給されることはない。
【００５４】
なお、未気化液体原料気化用流路(80)の構成は、上述した構成に限定されるものではない。例えば、上述の実施例では、未気化液体原料気化用流路(80)を構成している螺旋状の溝(70)がインナハウジング(58)の外側面に形成されているがアウタハウジング(60)の内側面に螺旋状の溝(70)を刻設するようにしてもよいし、インナハウジング(58)の外側面とアウタハウジング(60)の内側面の両方に螺旋状の溝(70)を刻設するようにしてもよい。また、溝(70)の形状も螺旋状に限定されるものではなく、長距離を確保することができるような形状であればよく、例えば図５に示すように、溝(70)をジグザグ状に屈曲させてもよいし、図示しないが湾曲させた状態にて形成してもよい。そして、これらの実施例においても、上述実施例と同様の作用効果を奏することができる。
【００５５】
ところで、気化原料(VM)や液体原料(LM)は非常に反応性が高くその化学的性質は非常に不安定である。つまり、気化原料(VM)や液体原料(LM)は熱等により変性して気化器(10)内で固体微粒子(P)を発生させる場合があり、この固体微粒子(P)がリアクター(16)に供給されると不良の原因となるため好ましくない。そこで、図５に示す気化器(10')のように、気化原料排出口(74)の下流側に固体微粒子(P)を捕集するためのフィルタユニット(82)を設けるようにしてもよい。
【００５６】
フィルタユニット(82)は、主として固体微粒子(P)を捕集するために設けられるものであり、図６に示すように、その内部にはフィルタ(84)が収容されるフィルタ収容空間(86)が形成されており、フィルタ収容空間(86)の四隅には、フィルタ(84)を加熱するための複数（本実施例では４つ）のヒーター(90)が埋設されており、上下方向に延びて形成された分割面(88)において２つのブロック(82a)(82b)に分割されている。
【００５７】
上流側のブロック(82a)の内部には、フィルタ収容空間(86)と外部とを連通する気化原料通流路(82c)が形成されており、この気化原料通流路(82c)の上流側端部が気化原料排出口(74)に接続される。また、下流側のブロック(82b)の下流側には、フィルタ収容空間(86)と外部とを連通する気化原料通流路(82d)が形成されており、この気化原料通流路(82d)の下流側端部がリアクター(16)との接続管路であるガス管(22g)と接続される。
【００５８】
フィルタ収容空間(86)の内部には、２枚のフィルタ(84)が配設されている（勿論、３枚以上であってもよいし、１枚であってもよい。）。なお、本実施例では、各フィルタ(84)の周囲および中心部がブロック(82a)(82b)と接触しており、フィルタ(84)と各ブロック(82a)(82b)とがロウ付け或いは溶接などの手段により接合されている。
【００５９】
各フィルタ(84)は、通気性を有する板状部材であり、本実施例ではステンレスの焼結体（内部に微細な空孔が形成されている）が用いられている。
【００６０】
ここで、上流側のフィルタ(84a)は、空孔の粒径が粗くなっており、平均粒径０．３μm以上の固体微粒子(P)を捕集することができるようになっている。一方、下流側のフィルタ(84b)は、上流側のフィルタ(84a)よりも空孔の粒径が密となっており、平均粒径０．１μm以上の固体微粒子(P)を捕集できるようになっている。
【００６１】
本実施例によれば、気化器(10')の気化原料排出口(74)の下流にフィルタユニット(82)が設けられているので、混合ガス(VM+CG)中に固体微粒子(P)が含まれていたとしてもこれを除去することができる。また、フィルタ(84)はヒーター(90)によって加熱されているので、仮に混合ガス(VM+CG)中に未気化の液体原料(LM)が存在していたとしても、未気化の液体原料(LM)は、表面積の大きなフィルタ(84)を通過している最中にフィルタ(84)から多量の熱量を受けて完全に気化することとなる。そして、気化原料(VM)だけを後工程のリアクター(16)に供給できるので、リアクター(16)において気化器(10)に起因する不良品の発生が生じるのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】液体気化供給装置を示すブロック図である。
【図２】本願発明にかかる気化器の一例を示す断面図である。
【図３】インナブロックを示す図である。
【図４】インナブロックの変形例を示す図である。
【図５】第２実施例の気化器を示す断面図である。
【図６】フィルタユニットを示す断面図である。
【図７】従来技術を示す図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０，１０’  気化器
１２  液体気化供給装置
１４  原料タンク
１６  リアクター
２６  気化部
５８  インナハウジング
６０  アウタハウジング
６２  気化室
６８  流路
６９  連通溝
７０  溝
７４  気化原料排出口
８０  未気化液体原料気化用流路
８２  フィルタユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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