(57)【要約】 【課題】視野角及び画質等の表示品質を改善することのできる液晶表示パネルを提供する。【解決手段】複数の画素領域と該各々の画素領域内に配置されるスイッチング素子とを含む下部基板と、前記スイッチング素子上に配置される有機膜と、前記下部基板上の前記画素領域内の前記有機膜上に配置され前記スイッチング素子のドレイン電極と電気的に接続される複数の画素電極部と、該画素電極部間を相互に電気的に接続する連結部とを含む画素電極と、前記連結部の下に配置される第１光遮断パターンと、前記画素領域に対応する表示領域と該表示領域を囲む周辺領域とを含む上部基板と、前記上部基板上に配置され前記各々の画素電極部に対応して、複数の凹部を具備する開口パターンを含む共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置される液晶層とを有する。【選択図】      図１
2007226232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素領域と該各々の画素領域内に配置されるスイッチング素子とを含む下部基板と、
前記スイッチング素子上に配置される有機膜と、
前記下部基板上の前記画素領域内の前記有機膜上に配置され前記スイッチング素子のドレイン電極と電気的に接続される複数の画素電極部と、該画素電極部間を相互に電気的に接続する連結部とを含む画素電極と、
前記連結部の下に配置される第１光遮断パターンと、
前記画素領域に対応する表示領域と該表示領域を囲む周辺領域とを含む上部基板と、
前記上部基板上に配置され前記各々の画素電極部に対応して、複数の凹部を具備する開口パターンを含む共通電極と、
前記画素電極と前記共通電極との間に配置される液晶層とを有することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記各々の画素電極部は、丸められた（ｒｏｕｎｄｅｄ）角部を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記画素領域は透過領域と反射領域とを含み、前記画素電極部は反射電極と透明電極とを含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記反射電極及び透明電極の内の少なくともいずれか１つの上部に配置される位相差層をさらに有することを特徴とする請求項３に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記反射電極は、スイッチング素子の上部に配置されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記反射電極が配置された部分の有機膜と透明電極が配置された部分の有機膜の厚みが互いに異なることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記透明電極は前記反射領域及び透過領域に配置され、前記反射電極は反射領域に配置された前記透明電極上に配置され、前記反射電極の境界は透明電極の境界より反射電極が透明電極に部分的に重畳するように所定距離だけ更に延長されることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記反射電極は前記反射領域から前記透過領域に延長され、前記反射電極と透明電極が電気的に接続されるように、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位上に配置される連結部を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記連結部は、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位の上部にのみ配置されることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
前記第１光遮断パターンの両側に配置され、前記画素電極部の間に配置される第２光遮断パターンを更に有することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項１１】
前記第２光遮断パターンは、前記画素電極の連結部の下部に配置された第１光遮断パターンに向かって延長され、前記画素電極の丸められた角部に沿って配置される第３光遮断パターンを含み、前記第２光遮断パターンと第３光遮断パターンとの境界は前記画素電極の境界と重畳されることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示パネル。
【請求項１２】
前記有機膜は、前記第２及び第３光遮断パターンの下部に延長されて配置され、前記有機膜の境界は前記画素電極の境界と前記第２光遮断パターンの境界との間、及び画素電極の境界と前記第３光遮断パターンの境界との間に配置されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１３】
前記有機膜の境界は、前記画素電極の境界と２．０〜２．５μｍだけ重畳されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示パネル。
【請求項１４】
前記第２光遮断パターンと第３光遮断パターンの境界は、前記有機膜の境界より１．５〜２．０μｍだけ長いことを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示パネル。
【請求項１５】
前記透明電極は前記反射領域及び透過領域に配置され、前記反射電極は反射領域に配置された前記透明電極上に配置され、前記反射電極の境界は透明電極の境界より所定距離だけ更に延長されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示パネル。
【請求項１６】
前記反射電極は前記反射領域から前記透過領域に延長され、前記反射電極と透明電極が電気的に接続されるように、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位上に配置される連結部を含むことを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示パネル。
【請求項１７】
前記連結部は、前記反射電極と透明電極の連結部位の上部にのみ配置されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示パネル。
【請求項１８】
前記有機膜は、前記連結部を露出させることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示パネルに関し、より詳細には視野角及び画質を向上させることのできる液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板とカラーフィルタ基板との間に注入されている異方性誘電率を有する液晶物質に電界を発生させ、この電界の強度を調節して基板を透過する光の量を調節することにより、所望する画像信号を得る表示装置である。
【０００３】
液晶表示装置は、液晶の異方性による光が透過する方向によって画質に差異が発生する。従来の液晶表示装置は、一定の角度範囲内でのみ良質の画像を得ることができる。特に、液晶表示装置が卓上用モニターとして使用される場合、前記角度の範囲が９０°より広いことがある。一般的に、視野角とは、コントラスト比が１０：１以上である画像を得ることができる角度を言う。コントラスト比は、画面で明るい所と暗い所の明るさの差異を示す。コントラスト比は、液晶表示装置がより暗い状態を具現することができるか、より均一な輝度を有する場合に増加する。
【０００４】
視野角を広くするために、液晶表示装置は例えば、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等を採用している。
【０００５】
ＰＶＡモードでは、画素電極を多数の領域に分けてパターニングして電圧が印加された時、電場歪曲を通じて多重配向構造を得る技術である。この場合、画素電極間の連結部位が外部圧力によって液晶の方向性が阻害された後、元の状態に復帰しないと、画像表示品質が低下するという問題点がある。
【０００６】
液晶表示装置は、液晶表示パネルが自発的に発光しない受光素子なので、光が供給されなければならない。種類によって反射型、透過型、半透過型液晶表示装置がある。
【０００７】
半透過型液晶表示装置は、内部光及び外部光によって画像を表示する液晶表示パネルと、液晶表示パネルに内部光を提供するバックライトアセンブリを含む。液晶表示パネルは画像を表示する複数の画素で構成され、各画素は内部光を利用して画像を表示する透過領域と、外部光を利用して画像を表示する反射領域を含む。
【０００８】
上記のような外部圧力付加時、透過領域と反射領域の境界部に段差が存在する場合、画素電極が切断され不良が発生するという問題がある。又、画素電極の境界部で侵食が発生して品質が低下するという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明は上記従来の液晶表示パネルにおける問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、透過領域と反射領域の境界部に段差が存在する場合の画素電極切断不良及び画素電極の境界部での侵食不良を防止して、視野角及び画質等の表示品質を改善することのできる液晶表示パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示パネルは、複数の画素領域と該各々の画素領域内に配置されるスイッチング素子とを含む下部基板と、前記スイッチング素子上に配置される有機膜と、前記下部基板上の前記画素領域内の前記有機膜上に配置され前記スイッチング素子のドレイン電極と電気的に接続される複数の画素電極部と、該画素電極部間を相互に電気的に接続する連結部とを含む画素電極と、前記連結部の下に配置される第１光遮断パターンと、前記画素領域に対応する表示領域と該表示領域を囲む周辺領域とを含む上部基板と、前記上部基板上に配置され前記各々の画素電極部に対応して、複数の凹部を具備する開口パターンを含む共通電極と、前記画素電極と前記共通電極との間に配置される液晶層とを有することを特徴とする。
【００１１】
前記各々の画素電極部は、丸められた（ｒｏｕｎｄｅｄ）角部を有することが好ましい。
前記画素領域は透過領域と反射領域とを含み、前記画素電極部は反射電極と透明電極とを含むことが好ましい。
前記反射電極及び透明電極の内の少なくともいずれか１つの上部に配置される位相差層をさらに有することが好ましい。
前記反射電極は、スイッチング素子の上部に配置されることが好ましい。
前記反射電極が配置された部分の有機膜と透明電極が配置された部分の有機膜の厚みが互いに異なることが好ましい。
【００１２】
前記透明電極は前記反射領域及び透過領域に配置され、前記反射電極は反射領域に配置された前記透明電極上に配置され、前記反射電極の境界は透明電極の境界より反射電極が透明電極に部分的に重畳するように所定距離だけ更に延長されることが好ましい。
前記反射電極は前記反射領域から前記透過領域に延長され、前記反射電極と透明電極が電気的に接続されるように、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位上に配置される連結部を含むことが好ましい。
前記連結部は、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位の上部にのみ配置されることが好ましい。
前記第１光遮断パターンの両側に配置され、前記画素電極部の間に配置される第２光遮断パターンを更に有することが好ましい。
前記第２光遮断パターンは、前記画素電極の連結部の下部に配置された第１光遮断パターンに向かって延長され、前記画素電極の丸められた角部に沿って配置される第３光遮断パターンを含み、前記第２光遮断パターンと第３光遮断パターンとの境界は前記画素電極の境界と重畳されることが好ましい。
前記有機膜は、前記第２及び第３光遮断パターンの下部に延長されて配置され、前記有機膜の境界は前記画素電極の境界と前記第２光遮断パターンの境界との間、及び画素電極の境界と前記第３光遮断パターンの境界との間に配置されることが好ましい。
前記有機膜の境界は、前記画素電極の境界と２．０〜２．５μｍだけ重畳されることが好ましい。
前記第２光遮断パターンと第３光遮断パターンの境界は、前記有機膜の境界より１．５〜２．０μｍだけ長いことが好ましい。
【００１３】
前記透明電極は前記反射領域及び透過領域に配置され、前記反射電極は反射領域に配置された前記透明電極上に配置され、前記反射電極の境界は透明電極の境界より所定距離だけ更に延長されることが好ましい。
前記反射電極は前記反射領域から前記透過領域に延長され、前記反射電極と透明電極が電気的に接続されるように、前記透過領域と反射領域を連結する連結部位上に配置される連結部を含むことが好ましい。
前記連結部は、前記反射電極と透明電極の連結部位の上部にのみ配置されることが好ましい。
前記有機膜は、前記連結部を露出させることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る液晶表示パネルによれば、画素電極は丸められた角部を有する正四角形形状を有し、有機絶縁膜及び光遮断パターンと重畳する境界部を有して、画素電極の侵食を防止して、表示品質が向上するという効果がある。
【００１５】
又、コンタクトホールと画素電極との間の連結部位に有機膜を配置せず、反射電極を配置して画素電極の電気的接触を維持して表示品質が向上するという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【００１７】
図１は、本発明による液晶表示パネルを示す平面図である。図２は、図１のゲート電極、ゲートライン、光遮断パターン、及びストレージ電極のパターンを示す平面図である。図３は、図１のソース電極、データライン、及びドレイン電極のパターンを示す平面図である。図４は、図１の薄膜トランジスタ、ゲートライン、データライン、及びストレージ電極のパターンを示す平面図である。
【００１８】
図１〜図４を参照すると、液晶表示パネルは、下部基板、上部基板、及び液晶層（図示せず）を含む。
【００１９】
下部基板は、ベース基板１００、スイッチング素子１５０、ゲートライン１９０、ゲート電極１９１、データライン１８０、ストレージ電極１９２、第１乃至第３光遮断パターン１９３ａ、１９３ｂ、１９３ｃ、ソース電極１８１、ドレイン電極１８２、画素電極１３０、及び反射電極１７０を含む。例えば、スイッチング素子１５０は、薄膜トランジスタＴＦＴである。下部基板は、位相差層（図示せず）を更に含むこともできる。
【００２０】
上部基板は、カラーフィルタ２１０、共通電極２２０、ブラックマトリックス（図示せず）、及びスペーサ（図示せず）を含む。液晶層（図示せず）は、上部基板及び下部基板１００の間に配置される。
【００２１】
下部基板は、画像が表示される画素領域及び光が遮断される遮光領域１４４（図７参照）を含む。好ましくは、画素領域は、データライン１８０の方向に延長される矩形形状を有する。画素領域には画素電極１３０（図７、図８参照）が配置される。
【００２２】
画素電極１３０は、コンタクトホール１９５を通じてスイッチング素子１５０、例えば、薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極１８２に連結される。画素電極１３０は、透明な導電性物質で形成することができる。このような透明な導電性物質の例としては、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺＯ）等が挙げられる。画素領域は、反射領域１４１と透過領域１４２を含む（図８参照）。これについては後述する。
【００２３】
上部基板及び下部基板のベース基板（２００、１００）（図７、図８参照）には、光を通過させることができる透明な材質のガラスを使用する。ガラスは、無アルカリ特性である。ガラスがアルカリ特性である場合、ガラスからアルカリイオンが液晶セル中に溶出すると、液晶比抵抗が低下し、表示特性が変わり、シーラントとガラスとの接着力を低下させ、スイッチング素子の動作に悪影響を与える。
【００２４】
この際、上部基板のベース基板２００及び下部基板のベース基板１００が三酢酸セルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、サイクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等を含むこともできる。
【００２５】
好ましくは、上部基板のベース基板２００及び下部基板のベース基板１００は光学的に等方性である。
【００２６】
図２及び図３を参照すると、ゲートライン１９０は、下部基板のベース基板１００上に第１方向Ｄ１に延長され形成される。データライン１８０は、ベース基板１００上に第１方向と直交する第２方向Ｄ２に延長され形成される。データライン１８０は、ゲートライン１９０と互いに絶縁され交差する。ゲートライン１９０とデータライン１８０によって画素領域が定義される。
【００２７】
ゲート電極１９１、ソース電極１８１、及びドレイン電極１８２は、スイッチング素子１５０、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を形成する。ＴＦＴは、画素領域に配置される。ドレイン電極１８２とソース電極１８１は互いに離隔して形成され、ドレイン電極１８２は、画素電極１３０とコンタクトホール１９５を通じて電気的に接続される。従って、ＴＦＴは、ゲートライン１９０から印加されたゲート信号に応答してスイッチング動作され、これによってデータライン１８０から印加されたデータ信号を画素電極１３０に出力する。
【００２８】
ストレージ電極１９２は、ゲートライン１９０と同時に形成される。下部基板のベース基板１００上に形成され上部基板の共通電極２２０と反射電極１７０の間、及び共通電極２２０と画素電極１３０の間の電位差を維持させる。
【００２９】
ゲート絶縁膜１０１（図７、図８参照）は、ゲート電極１９１が形成された下部基板のベース基板１００上に配置され、ゲート電極１９１をソース電極１８１及びドレイン電極１８２と電気的に絶縁する。ゲート絶縁膜１０１は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）等を含む。
【００３０】
パッシベーション膜１０２（図８参照）は、薄膜トランジスタ１５０が形成された下部基板のベース基板１００上に配置され、ドレイン電極１８２の一部を露出するコンタクトホール１９５を含む。パッシベーション膜１０２は、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）等を含む。
【００３１】
図５は、図１の有機絶縁膜が配置された液晶表示パネルの平面図である。図６は、図１の画素電極が配置された液晶表示パネルの平面図である。
【００３２】
図５〜図６、図７、図８を参照すると、スイッチング素子１９５を形成してパッシベーション膜１０２を配置した後、有機絶縁膜１６０を下部基板のベース基板１００上に配置する。有機絶縁膜１６０の表面に多数の凸凹を付与するために、エンボシングに相応して透明部材上に形成された不透明パターンを有するフォトマスクを有機絶縁膜１６０上に位置させた後、露光工程及び現像工程を行う。これによって、有機絶縁膜１６０の表面には多数の凸凹が形成される。
【００３３】
有機絶縁膜１６０は、コンタクトホール１９５を露出させる。又、有機絶縁膜１６０は、画素領域のうち、透過領域１４２に該当する部分には配置されない。より詳細な有機絶縁膜１６０の配置は後述する。
【００３４】
画素領域は、反射領域１４１と透過領域１４２を含む。画素領域には画素電極１３０が配置される。画素電極１３０は、第１透明画素電極部１３１、第２透明画素電極部１３２、及び第３透明画素電極部１３３を含む。画素電極１３０は、複数の透明画素電極連結部１３１ａ、１３２ａを更に含む。
【００３５】
それぞれの透明画素電極部（１３１、１３２、１３３）は、透明画素電極連結部１３１ａ、１３２ａによって電気的に接続される。画素電極１３０は、下部基板のベース基板１００上に配置される。好ましくは、画素電極１３０は画素領域内に配置され、パッシベーション膜１０２と有機絶縁膜１６０上に配置される。
【００３６】
第１透明画素電極部１３１、第２透明画素電極部１３２、及び第３透明画素電極部１３３は、画素領域内に互いに隣接して配置される。第１透明画素電極連結部１３１ａは、第１透明画素電極部１３１と第２透明画素電極部１３２との間に配置され、第１透明画素電極部１３１と第２透明画素電極部１３２を電気的に接続する。第２透明画素電極連結部１３２ａは、第２透明画素電極部１３２と第３透明画素電極部１３３との間に配置され、第２透明画素電極部１３２と第３透明画素電極部１３３を電気的に接続する。
【００３７】
第１透明画素電極部１３１、第２透明画素電極部１３２、及び第３透明画素電極部１３３は、角部がラウンドされた（丸められた）正四角形形状を有する。
【００３８】
第３透明画素電極部１３３の一部は、コンタクトホール１９５の内面上に配置され、薄膜トランジスタ１５０のドレイン電極１８２に電気的に接続される。この際、第１透明画素電極部１３１、第２透明画素電極部１３２、及び第３透明画素電極部１３３は、多角形又は円形形状を有することもできる。
【００３９】
反射電極１７０は、反射領域１４１に配置される。反射領域１４１は、スイッチング素子１５０上に配置される。反射領域１４１に配置される反射電極１７０を配置する方法は次のようである。
アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、又はアルミニウム−ネオジウム（ＡｌＮｄ）等のような反射率の高い金属を有機絶縁膜１６０上に蒸着した後、蒸着された金属を所定の画素形状にパターニングして、反射領域１４１に対応してのみ反射電極１７０を形成する。反射電極１７０は、有機絶縁膜１６０の表面と同じ形状を有する。即ち、有機絶縁膜１６０の相対的に高い領域部に対応しては、凸形状の多数のレンズ部が形成され、相対的に低い領域部に対応しては凹形状の多数のレンズ部が形成される。
【００４０】
反射電極１７０は導電性物質なので、第３透明画素電極部１３３上に配置され、画素電極と電気的に接続される。第３透明画素電極部１３３が反射領域１４１に配置されない場合があり得る。即ち、透過領域１４２には透明画素電極部のみが配置され、反射領域１４１には反射電極部のみが配置されることができる。この場合、反射電極部と透明電極部が電気的に接続されるように２つの電極は接するか、オーバーラップされなければならない。反射電極１７０は、第２透明画素電極連結部１３２ａの上部に配置されるように、反射電極１７０の一部が延長される。好ましくは、反射電極の延長部は、第２透明画素電極連結部１３２ａの境界線に沿って所定距離だけオーバーラップ（重畳）される。
【００４１】
図７は、図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【００４２】
図７を参照すると、画素領域間の遮光領域１４４についての本発明の構造がわかる。即ち、画素電極１３０のエッジ部分についての本発明の特徴が現れている。遮光領域１４４は、第２光遮断パターン１９３ｂ、ゲート絶縁膜１０１、データライン１８０、有機絶縁膜１６０、及び画素電極１３０を含む。
【００４３】
遮光領域１４４に第２光遮断パターン１９３ｂ、ゲート絶縁膜１０１、データライン１８０、有機絶縁膜１６０、及び画素電極１３０が順次に配置される。第２光遮断パターン１９３ｂの幅は、有機絶縁膜１６０の幅より広い。好ましくは、画素電極１３０は、遮光領域１４４の一部にのみ配置される。遮光領域１４４は、パッシベーション膜を更に含むことができる。
【００４４】
好ましくは、第２光遮断パターン１９３ｂ、有機絶縁膜１６０、及び画素電極１３０の境界は、一定距離だけ離隔して配置される。第２光遮断パターン１９３ｂの境界は、有機絶縁膜１６０の境界より画素領域に近い。第２光遮断パターン１９３ｂの境界と有機絶縁膜１６０の境界間の距離ｄ１は、好ましくは１．５〜２．０μｍである。これによって、遮光領域１４４に配置される画素電極１３０の段差を減少させることができる。
【００４５】
有機絶縁膜１６０の上部には、画素電極１３０が遮光領域１４４の方向に一定距離だけ延長され配置される。従って、画素電極１３０の遮光領域１４４側の境界は、有機絶縁膜１６０の画素領域側の境界とオーバーラップされる。画素電極１３０の境界と有機絶縁膜１６０の境界間の距離ｄ２は、好ましくは２．０〜２．５μｍである。これによって、画素電極１３０の段差が減少され、画素電極１３０の侵食が改善される。
【００４６】
図８は、図１のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【００４７】
上部基板のベース基板２００は、カラーフィルタ２１０及び共通電極２２０を含む。共通電極２２０は、開口部（開口パターン）２２０ａ、２２０ｂを含む。
【００４８】
カラーフィルタ２１０は、上部基板の表示領域内に形成され、所定の波長を有する光のみを選択的に透過させる。カラーフィルタ２１０は、赤色カラーフィルタ部、緑色カラーフィルタ部、及び青色カラーフィルタ部を含む。カラーフィルタ２１０は、光重合開始剤、モノマー、バインダー、顔料、分散剤、溶剤、フォトレジスト等を含む。この際、カラーフィルタ２１０が下部基板のベース基板１００又はパッシベーション膜１０２上に配置されることもできる。
【００４９】
共通電極２２０は、ブラックマトリックス（図示せず）及びカラーフィルタ２１０が形成された上部基板のベース基板２００の全面に形成される。共通電極２２０は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、又はＺＯのような透明な導電性物質を含む。
【００５０】
共通電極２２０は、位相差層（図示せず）を更に含むことができる。位相差層（図示せず）は、入射される線形偏光を円偏光又は楕円偏光に位相を変化させるか、入射される光の一軸成分を他軸成分に対して１／１０波長から１／２波長の間で選択されたいずれか１つの波長だけ位相変化させる。具体的には、１／４波長だけ位相変化させることができ、位相変化軸はＤ１−Ｄ２平面で４５°方向を有する。位相変化軸は、光が位相差層を通過する時、位相変化軸に平行に振動する光の速度を、位相変化軸に直交する光の速度と異なるように変化させて、光の一軸成分を他軸成分に対して１／４波長だけ位相変化させる。
【００５１】
共通電極２２０は、液晶層３００内に多重領域を形成するために、共通電極２２０の一部が除去された開口パターン２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃを含む。本実施形態において、共通電極２２０は、３つの開口パターン２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃを含む。開口パターン２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃは、それぞれ第１透明画素電極部１３１、第２透明画素電極部１３２、及び第３透明画素電極部１３３の中央部に対応する。
【００５２】
画素電極１３０と共通電極２２０の間に電圧が印加されると、開口パターン２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃに隣接する領域、第１透明画素電極部１３１と第２透明画素電極部１３２との間の領域、及び第２透明画素電極部１３２と第３透明画素電極部１３３との間の領域に電場の歪曲が発生する。歪曲された電場によって液晶層３００内に多重領域が形成され視野角が向上される。
【００５３】
下部基板のベース基板１００は、ストレージ電極１９２、第１光遮断パターン１９３ａ、ゲート絶縁膜１０１、ドレイン電極１８２、パッシベーション膜１０２、有機絶縁膜１６０、画素電極１３０、及び反射電極１７０を含む。下部基板のベース基板１００は、位相差層（図示せず）を更に含むことができる。位相差層（図示せず）の機能は、上述したものと同様である。構成要素の形成方法は上述したので省略し、配置関係を説明する。
【００５４】
図１及び図８を参照すると、第１光遮断パターン１９３ａは、第１透明画素電極連結部１３１ａの下に配置される。好ましくは、第１光遮断パターン１９３ａは、第１透明画素電極連結部１３１ａの境界部分を全部オーバーラップするように配置される。この際、開口率を向上させるために、オーバーラップされた領域の長さは最小限となることが好ましい。
【００５５】
有機絶縁膜１６０は、画素領域１４３のうち、透過領域１４２を除いた部分に配置される。有機絶縁膜１６０は、高低が異なるように凸凹形状を有することができる。有機絶縁膜１６０は反射領域１４１に配置される。コンタクトホール１９５から第３透明画素電極連結部１３２ａを連結する連結区間には、有機絶縁膜１６０が配置されないことが好ましい。より好ましくは、反射領域１４１のうち、コンタクトホール１９５、第２透明画素電極連結部１３２ａ及び連結区間の上部を除いた部分にのみ有機絶縁膜１６０が配置される。この場合、コンタクトホール１９５による段差が除去される。又、第２透明画素電極連結部１３２ａで発生する段差を減少させることができる。
【００５６】
反射電極１７０は、反射領域１４１に配置された画素電極１３０の上部に配置される。反射電極１７０は、第３透明画素電極部１３３の境界をオーバーラップして配置される。反射電極１７０の一部は延長され第２透明画素電極連結部１３２ａの上部に配置される。好ましくは、延長された反射電極１７０部分は、第２透明画素電極連結部１３２ａの境界をオーバーラップするように配置される。
【００５７】
好ましくは、延長された部分は、第２透明画素電極連結部１３２ａと第２透明画素電極１３２が連結される部分の上部まで配置される。この場合、第２透明画素電極１３２と第３透明画素電極１３３が切断される場合にも、画素電極１３０と反射電極１７０の電気的接触をよりよく維持させることができる。
【００５８】
図９は、図１のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【００５９】
図９を参照すると、第１光遮断パターン１９３ａは、第１透明画素電極連結部１３１ａの下に配置される。第２光遮断パターン１９３ｂは、第１透明画素電極連結部１３１ａに向かって延長される第３光遮断パターン１９３ｃを含む。第２光遮断パターン１９３ｂは、ストレージ電極１９２と連結されることができる。
【００６０】
第３光遮断パターン１９３ｃは、画素電極１３０のコーナー部分とオーバーラップされるように配置される。即ち、第３光遮断パターン１９３ｃは、ラウンドされた（丸められた）エッジ形状の角部を有する画素電極１３０の境界に沿って同じ形状にオーバーラップされる。有機絶縁膜１６０の境界は、画素電極１３０の境界と第３光遮断パターン１９３ｃの境界との間に配置される。前記第３光遮断パターン１９３ｃの境界と前記有機絶縁膜１６０の境界との間の距離ｄ３は、好ましく１．５〜２．０μｍである。
【００６１】
即ち、第２光遮断パターン１９３ｂと第３光遮断パターン１９３ｃが形成する形状は十字形状である。第２光遮断パターン１９３ｂは、データライン１８０に沿って第２方向Ｄ２に延長され形成され、第３光遮断パターン１９３ｃは、第２方向と直交する第１方向Ｄ１に延長され形成される。
【００６２】
図１０は、図１のＩＶ−ＩＶ’線に沿って切断した断面図である。
【００６３】
図１０を参照すると、上部基板のベース基板２００は、カラーフィルタ２１０、共通電極２２０、及びブラックマトリックス２３０を含む。上部基板のベース基板２００上に不透明な物質を蒸着する。継続して、不透明な物質の一部を除去してブラックマトリックス２３０を形成する。この際、不透明な物質及びフォトレジストを上部基板のベース基板２００上に塗布した後に写真工程（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｒｏｃｅｓｓ）を利用して、ブラックマトリックス２３０を形成することもできる。写真工程は、露光工程及び現像工程を含む。
【００６４】
以後に、ブラックマトリックス２３０が形成された上部基板のベース基板２００上に赤色顔料及びフォトレジストを含む混合物を塗布する。その後、マスクを利用して塗布された混合物を露光して現像して、赤色カラーフィルタ部を形成する。継続して、ブラックマトリックス２３０及び赤色カラーフィルタ部が形成された上部基板のベース基板２００上に緑色カラーフィルタ部及び青色カラーフィルタ部を形成して、カラーフィルタ２１０を形成する。この後に、ブラックマトリックス２３０及びカラーフィルタ２１０上に透明な導電性物質を蒸着する。
【００６５】
下部基板のベース基板１００に配置されるストレージ電極１９２、ゲート絶縁膜１０１、データライン１８０、有機絶縁膜１６０、画素電極１３０、及び反射電極１７０についての説明は上述したので、詳細な説明は省略する。反射電極１７０の境界は、画素電極１３０の境界より突出されている。
【００６６】
尚、本発明は、上述の実施例に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明による液晶表示パネルを示す平面図である。
【図２】図１のゲート電極、ゲートライン、光遮断パターン、及びストレージ電極のパターンを示す平面図である。
【図３】図１のソース電極、データライン、及びドレイン電極のパターンを示す平面図である。
【図４】図１の薄膜トランジスタ、ゲートライン、データライン、及びストレージ電極のパターンを示す平面図である。
【図５】図１の有機絶縁膜が配置された液晶表示パネルの平面図である。
【図６】図１の画素電極が配置された液晶表示パネルの平面図である。
【図７】図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図８】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図９】図１のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図１０】図１のＩＶ−ＩＶ’線に沿って切断した断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１００、２００    ベース基板
１０１      ゲート絶縁膜
１０２      パッシベーション膜
１３０      画素電極
１３１、１３２、１３３    （第１、第２、第３）透明画素電極部
１３１ａ、１３２ａ    （第１、第２）透明画素電極連結部
１４１      反射領域
１４２      透過領域
１４３      画素領域
１４４      遮光領域
１６０      有機絶縁膜
１７０      反射電極
１８０      データライン
１９０      ゲートライン
１９２      ストレージ電極
１９３ａ      第１光遮断パターン
１９３ｂ      第２光遮断パターン
１９３ｃ      第３光遮断パターン
２１０      カラーフィルタ
２２０      共通電極
２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ    開口パターン（開口部）
２３０      ブラックマトリックス
３００      液晶層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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