【事件の表示】
　平成　３年特許願第３０９４２５号「露光用マスク」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　６月１１日出願公開、特開平　５−１４２７４９］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【１】手続の経緯・本願発明
　
　本願は、平成３年１１月２５日に出願されたものであって、本願の請求項１に係る発明は、平成１３年４月２５日付け手続補正書により補正された明細書及び出願当初の図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】　遮光部と透過部を有する露光用マスクにおいて、
　前記透過部は、
　　第１の領域と、
　　該第１の領域に対して９０度の位相差を持つ第２の領域と、
　　該第１の領域に対して１８０度の位相差を持つ第３の領域と、
　　該第１の領域に対して２７０度の位相差を持つ第４の領域とを具備し、
　前記遮光部を挟んで隣接する前記領域は１８０度の位相差を有し、
　直接接する前記領域は９０度の位相差を有する
　ことを特徴とする露光用マスク。」
　
【２】引用例
　
１．これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本願の出願日前の平成２年２月５日に頒布された刊行物である特開平２−３４８５４号公報（以下、引用例１という。）には、
　
「〔産業上の利用分野〕本発明は、縮小投影露光装置で使用するマスクの改良に係り、特に微細パターンを転写するのに好適なマスクおよび投影露光装置並びに半導体素子に関する。」（第２頁右上欄第１４〜１８行）
　
「本発明の課題は、隣接する開口パターンがある部分で接続しているような微細パターンについても正確に転写可能であるようなマスク（レティクル）および、投影露光装置並びに上記微細パターンから構成される半導体素子を提供することにある。」（第３頁左上欄第１〜６行）
　
「レティクル上の隣接する開口部に１８０°の位相差を与えることにより解像力が向上する。また、隣接する開口部が一端で接続している部分は、この接続部付近で位相を連続的あるいは段階的に変化させることにより、パターンを分離させることなく形成することができる。」（第３頁左上欄第１６行〜右上欄第１行）
　
「第１１図は、本発明のマスクを用いて半導体素子を製作するための配線パターンの一例である。このパターンは、広い開口部２１の内側に微細な寸法の遮光パターン１９が存在するものである。開口領域２０は照明光の位相が１８０°シフトする領域であり、開口領域２２は照明光の位相が９０°シフトする領域である。他の開口領域２１は位相のシフト量が０の領域である。線状の遮光パターン１９は、その両側の照明光の位相差が１８０°となるので確実に転写される。また、開口部２０，２１，２２は互いに接する境界線上で位相差が９０°となっており、１８０°より充分小さいので分離することなく転写される。照明光の位相が９０°シフトする領域２２は微細な寸法の遮光パターン１９の先端に配置するが、その形状や大きさは特に限定されたものではなく、開口領域２０と開口領域２１とが接しないように配置すればよい。また、ここでは１８０°の位相差を２段階に分けて９０°の位相差を与える領域を設けた」（第４頁右下欄第７行〜第５頁左上欄第６行）
　
「第１２図は、広い開口部２１の内側に微小寸法の遮光パターン１９が奇数本存在する例である。開口部２１を透過する照明光の位相のシフト量を０とする場合、開口部２０は照明光の位相が１８０°シフトする領域であり、開口部２２は照明光の位相が９０°シフトする領域である。線状の遮光パターン１９は、その両側を透過する照明光の位相差が１８０°となるので確実に転写される。また、開口部２０と２２とは、あるいは開口部２１と２２とは、それらの境界線で位相差が９０°となっており、１８０°より充分に小さな値なので互いに分離することはない。」（第５頁左上欄第８〜１９行）
　
また、第１１〜１２図に併記されている符号の説明として
「１９：線状の遮光部　　２０：位相差１８０°の開口部　　２１：位相差０°の開口部　　２２：位相差９０°の開口部」（第７頁第１１〜１２図に併記されている符号の説明）
　
の記載があり、これらの記載及び図面等を参照すると、引用例１には、
　
「線状の遮光パターン１９と開口部を有する縮小投影露光装置で使用するマスクにおいて、
　前記開口部は、
　　開口部２１と、
　　該開口部２１に対して位相差９０°の開口部２２と、
　　該開口部２１に対して位相差１８０°の開口部２０と、を具備し、
　前記線状の遮光パターン１９を挟んで隣接する前記開口部は１８０°の位相差を有し、
　直接接する前記開口部は９０°の位相差を有する
　ことを特徴とする縮小投影露光装置で使用するマスク。」の発明（以下、「引用発明」という。）
　
が開示されているものと認められる。
　
２．また、同じく、平成３年１月１４日に頒布された刊行物である特開平３−６５５９号公報（以下、「引用例２」という）には、
　
「１．複数の縦パターンと複数の横パターンとを有するフォトマスクであって、相隣る縦パターン同士及び相隣る横パターン同士は互いに１８０°の位相差を有し、前記縦パターンと前記横パターンの交差部は両者の平均値の位相差を有するフォトマスク。」（特許請求の範囲の欄）
　
「〔発明の目的〕本発明は上記従来技術の問題点を解決して、解像度を向上させたフォトマスクを提供し、例えば従来技術では困難であった上記０．３５μｍルールの微細パターンの形成も可能とする技術を得ることを目的とする。」（第２頁左下欄第８〜１３行）
　
「第１Ａ図において、横パターンについては下から０°の１部分、１８０°の２部分、・・・となるように、各々位相を与える。縦パターンについては、第１Ａ図において、左から９０°の（１）部分、２７０°の（２）部分・・・というように、各々位相を与える。」（下線部分は、○で囲んだ数字を表す。第３頁右上欄第５〜１４行）
　
「本実施例では更に、縦パターンと横パターンとの位相差を９０°ずらす構成にして、この効果を確実ならしめるようにした。本実施例によれば、前記式（１）で予想される解像度より３０％程度解像度を上昇させることができ、従来より一層細い線の形成が可能で、微細パターン形成が可能になる。」（第３頁右下欄第１１〜１７行）
　
【３】対比・判断
１．本願発明と引用発明とを対比するに、後者の「線状の遮光パターン１９」、「開口部」「縮小投影露光装置で使用するマスク」、「開口部２１」、「位相差９０°」、「開口部２２」、「位相差１８０°」、「開口部２０」は、それぞれ前者の「遮光部」、「透過部」、「露光用マスク」、「第１の領域」、「９０度の位相差」、「第２の領域」、「１８０度の位相差」、「第３の領域」に相当するから、両者は、
　
「遮光部と透過部を有する露光用マスクにおいて、
　前記透過部は、
　　第１の領域と、
　　該第１の領域に対して９０度の位相差を持つ第２の領域と、
　　該第１の領域に対して１８０度の位相差を持つ第３の領域と、を具備し、
　前記遮光部を挟んで隣接する前記領域は１８０度の位相差を有し、
　直接接する前記領域は９０度の位相差を有する
　ことを特徴とする露光用マスク。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
〔相違点〕
　本願発明が、第１の領域に対して２７０度の位相差を持つ第４の領域を具備しているのに対して、引用発明では、そのような構成がない点。
　
２．そこで、この相違点について検討する。
　露光用マスクにおいて、解像度を向上させるため、本願発明のように、遮光部に相対して隣接する両透過部には、１８０度の位相差を有するように構成することは、例えば、引用例１、２に記載されているようにレベンソン型位相シフト法として本願出願前より良く知られた技術事項であり、また、より微細なパターンにおいてもその解像度の向上を目指して、その１８０度の位相差を有する両透過部の組み合わせとして、位相差が０度と１８０度の透過部および位相差が９０度と２７０度の透過部を用いた露光用マスクも、引用例２に開示されているように、本願出願前より知られている以上、引用例１に記載されたパターンより複雑で微細なパターンを考慮した場合、引用例１における「第１の領域に対して９０度の位相差を持つ第２の領域（引用例１では開口部２１に対して位相差９０°の開口部２２に相当する。）」に対して１８０度の位相差を有する「第１の領域に対して２７０度の位相差を持つ第４の領域」を設けて本願発明のように構成することは、当業者にとっては必要に応じて適宜設定し得る設計事項である。
　
３．作用効果について
　前記相違点は、格別のものではなく、また、前記相違点を検討しても奏される効果は当業者が予測できる範囲内のものと認められる。
　
【４】むすび
　以上のとおりであるから、本願請求項１に係る発明は、本願出願前に頒布された各刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。