【事件の表示】
　特願２００８−２１１０９０「展示用ケースの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　３月　４日出願公開、特開２０１０−　４８９０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２０年８月１９日の出願であって、平成２４年７月２１日、同年１０月１５日及び平成２５年６月１８日に手続補正書が提出され、同年１１月５日付けで平成２５年６月１８日提出の手続補正書による手続補正が却下されるとともに拒絶査定がなされ、これに対して、平成２６年２月１２日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出されたものである。
　なお、審判請求人は、平成２６年９月８日に上申書を提出している。
　
第２　平成２６年２月１２日提出の手続補正書による手続補正についての補正却下の決定
〔補正却下の決定の結論〕
　平成２６年２月１２日提出の手続補正書による手続補正を却下する。
　
〔理由〕
１　本件補正の内容
（１）平成２６年２月１２日提出の手続補正書による手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲についてするものであって、そのうち請求項１についての補正は、本件補正前の請求項１（平成２４年１０月１５日に提出された手続補正書による補正後のもの）に、
　
「展示物が外部から見えるように、透明板を該展示物に覆設する展示用ケースの製造方法であって、
　該透明板は、平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルムを、透明なガラス板又は透明な合成樹脂板の片面又は両面に貼り合わせてなる、視感度補正後の反射率が０．３％以下である低反射透明板であり、
　該微細構造を、ヘイズが小さくなるように以下の陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研摩し、次いで、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と、該陽極酸化によって得られた陽極酸化被膜のエッチングとを繰り返すことによりテーパー形状の細孔を形成した型に、微細構造形成材料を供給し剥離することによって得ることを特徴とする展示用ケースの製造方法。」とあったものを、
　
「展示物が外部から見えるように、透明板
を、該透明板の表面と該展示物の少なくともある１点との距離が３ｃｍ以上となるように該
　該透明板は、平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルムを、透明なガラス板又は透明な合成樹脂板
の両
あり、かつ、全光透過率に対する拡散透過率の百分率であるヘイズが２％以下であり、透過率が９８％以上である低
　該微細構造を、ヘイ
ズを小
くする
に、以
、陽極酸化の処理時間は５秒以上５０秒以下とし、該
、シュウ酸溶液中での４０〜１００Ｖの電圧での陽
　
（２）本件補正後の請求項１に係る上記（１）の補正は、次のアないしオからなるものである。
　ア　本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「透明板」による「展示物」の「覆設」が、「該透明板の表面と該展示物の少なくともある１点との距離が３ｃｍ以上となるように」するものであることを限定する。
　イ　本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「反射低減フィルム」が、「透明なガラス板又は透明な合成樹脂板」の「片面又は両面に」貼り合わせるものであったものを、「両面に」貼り合わせるものに限定する。
　ウ　本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「低反射透明板」が、「全光透過率に対する拡散透過率の百分率であるヘイズが２％以下であり、透過率が９８％以上」であることを限定する。
　エ　本件補正前の請求項１に「ヘイズが小さくなるように」とあったものを「ヘイズを小さくするように」に変更し、これにより、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「アルミニウム材料」の「陽極酸化」に先立つ「表面研磨」の目的が「ヘイズを小さくする」ことであることを明確化する。
　オ　本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「陽極酸化」について、その「処理時間」が「５秒以上５０秒以下」であることを限定するとともに、当該「陽極酸化」が「シュウ酸溶液中での４０〜１００Ｖの電圧で」行われることを限定する。
　
２　新規事項の追加及び本件補正の目的
　上記１（２）アの点は、本願の願書に最初に添付された明細書（以下、願書に最初に添付された明細書を「当初明細書」といい、願書に最初に添付された明細書及び特許請求の範囲を併せて「当初明細書等」という。）の【００６２】に記載されており、上記１（２）イの点は当初明細書の【００４０】に記載されており、上記１（２）ウの点は当初明細書の【００３８】及び【００３６】に記載されており、上記１（２）エの点は当初明細書の【００３９】に記載されており、上記１（２）オの点は当初明細書の【００４６】、【００４７】及び【００６７】に記載されているから、本件補正は、本願の当初明細書等に記載された事項の範囲内においてなされた補正であって、特許法第１７条の２第３項に記載する要件を満たしている。
　上記１（１）アないしウ及びオの補正は、いずれも本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項を限定するものであって、本件補正の前後で請求項１に係る発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題は同一であると認められるから、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか）について以下検討する。
　
３　引用例
　本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００５−１５６６９５号公報（以下「引用例１」という。）には、図とともに次の事項が記載されている。
（１）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　
高分子膜の表面に凹凸を形成し、屈折率を連続的に変化させることで反射を低減させる反射防止膜の製造方法であって、前記凹凸の形成に、表面に細孔を有し、該細孔に、陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として
用いる
反射防止膜の製造方法
【請求項２】
　
細孔周期５０ｎｍ〜３００ｎｍ，細孔深さ１００ｎｍ以上の陽極酸化ポーラスアルミナを用いる
【請求項３】
　定電圧で長時間陽極酸化を施したのち、一旦酸化皮膜を除去し、再び同一条件で陽極酸化を施すことで作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いる、請求項１または２の反射防止膜の製造方法。
【請求項４】
　
シュウ酸を電解液として用い、化成電圧３０Ｖ〜６０Ｖにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いる
・・・（以下略）・・・」
　
（２）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　
本発明は、高分子膜（フィルム）の表面に形成され、可視光域における反射を低減させる反射防止層（反射防止膜）
の製造方法
【背景技術】
【０００２】
　
様々な情報機器用表示装置において、高分子フィルムが広く用いられているが、良好な視認性を確保するためには、反射光を抑制するための反射防止層の形成が必要とされる
【０００３】
　一方、
高分子フィルムの表面に突起状の形状を付与し、屈折率が連続的に変化する層を形成することにより反射率を低減する方式が知られている
高分子フィルムに突起形状を付与するためには、通常、突起形状に対応した窪み配列を有するスタンパを用意し、これをもとに高分子フィルムを加工する方法が用いられている
【０００４】
　
高分子フィルムの表面に突起形状を形成するためのスタンパに形成する窪みは、光の波長に比較して微細な周期を有し、可視光域で反射率を十分減衰させるためには、波長の１／４程度の深さを有することが必要とされる
このとき、窪みは、屈折率を連続的に変化させる必要があることから、テーパー形状を有することが必要とされる
【０００５】
　
このような条件を満たす窪み配列の形成のため、電子ビームリソグラフィー、あるいは光露光法によるパターニングとＳｉに代表される半導体単結晶の異方性エッチングを組み合わせる手法が
用いられている
電子ビームリソグラフィーは
加工に多大な時間と高価な装置が必要とされる
光露光法では、レーザー光の干渉を用いることでパターンを形成する方法が用いられるが、十分に微細な周期の構造を形成することは困難である
【０００６】
　微細なパターンを形成する手法として、
規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナを用いる方法が提案されている
この方法では，規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナをマスクとし、反応性イオンエッチングを施すことによりＳｉ基板に窪みを形成する
この方法においては、無反射層形成に必須なテーパー形状の形成は困難であった
【０００７】
　これらの他、
陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施し、これをもとにスタンパを作製する方法が提案されているが
陽極酸化ポーラスアルミナの細孔形状は円柱状であるので、単にこれをもとに反射防止膜に必要な制御されたテーパー形状を有する突起形状を高分子フィルムに形成することは困難である
【特許文献１】特開２００３―４３２０３号公報
【非特許文献１】Kanamori et al., Appl. Phys. Lett., vol. 78, No.2, p.142 (2001)」
　
（３）「【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　上記のように、リソグラフィーを用いる方法では、大面積を加工可能なスタンパを安価に製造することは困難であり、またテーパー形状を制御することは困難であった。また、陽極酸化ポーラスアルミナを用いる手法においても、無反射層形成に必須な最適なテーパー形状を形成するのが困難であるという問題点を有していた。
【０００９】
　そこで本発明の課題は、
上記従来技術における問題点を解決するために、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として、高分子フィルム面に所望の反射防止膜を形成可能な反射防止膜の製造方法
を提供する
【課題を解決するための手段】
【００１０】
　上記課題を解決するために、本発明は、
陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、連続的に細孔径が変化したテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることで無反射高分子フィルムの作製を可能にするものである
【００１１】
　
この反射防止膜の製造方法においては、細孔周期５０ｎｍ〜３００ｎｍ，細孔深さ１００ｎｍ以上の陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いる
・・・（中略）・・・
【００１３】
　
使用する陽極酸化ポーラスアルミナとしては、たとえば、シュウ酸を電解液として用い、化成電圧３０Ｖ〜６０Ｖにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いることもでき
・・・（中略）・・・
【００１５】
　本発明に係る反射防止膜は、このような方法により製造されたものであり、所望形状に形成された表面凹凸により、優れた反射防止性能を有するものである。
この反射防止膜は、とくに光透過性高分子膜の表面に形成することにより、各種用途において目標とする反射防止性能を発揮することができる
【００１６】
　
本発明に係る反射防止膜作製用スタンパの製造方法は、高分子膜の表面に凹凸を形成し、屈折率を連続的に変化させることで反射を低減させる反射防止膜の作製に用いるスタンパの製造方法であって、表面に細孔を有し、該細孔に、陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることを特徴とする方法からなる
【００１７】
　本発明に係る反射防止膜作製用スタンパは、このような方法により製造されたものからなる。
【発明の効果】
【００１８】
　本発明によれば、従来の方法に比較し、より簡便に、またテーパー形状が制御された陽極酸化ポーラスアルミナに基づく鋳型の形成が可能となり、この結果、可視光域における反射を低減した反射防止層およびその製造方法、更には、反射防止層を形成するためのスタンパ、およびその製造が可能となる。」
　
（４）「【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
　以下に、本発明の望ましい実施の形態について、図面を参照して説明する。
　図１は，本発明において形成される高分子からなる反射防止膜（無反射膜）の構造例を示している。高分子膜１の表面にテーパー状の突起配列、つまり凹凸を有することで，屈折率が連続的に変化し、反射率の低減が可能となる。
【００２０】
　図２は，本発明において，テーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナの作製方法法を示したものである。
陽極酸化ポーラスアルミナ３は、アルミニウム基材２の表面に形成される
所定の時間陽極酸化を施して所望の深さの細孔を形成したのち、適当な酸溶液中に浸漬することにより孔径の拡大処理を施す
この後、再び陽極酸化を施すことにより、１段階目に比較して孔径の小さな孔を形成する
この操作を繰り返すことにより、テーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得ることができる
このとき，繰り返し段数を増大することにより、より滑らかなテーパー形状を得ることが可能となる
陽極酸化時間と孔径拡大処理時間とを調整することで、様々なテーパー形状を有する孔の形成が可能であり、周期、孔深さに合わせて、最適な屈折率変化を設計することが可能となる
【００２１】
　
このようにして形成されたテーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型とし、
高分子フィルム（高分子膜）１に構造を転写し（たとえば、ポリマーを鋳型に充填することにより転写し）、鋳型を除去することで表面に突起を有する無反射構造を得る
高分子フィルム１としては，良好な光透過性
を有するものが利用できる
・・・（以下略）・・・」
　
（５）「【実施例】
【００２５】
　次に、実施例に基づいて、本発明を更に具体的に説明する。
実施例１
　
純度９９．９９％のアルミニウム板を０．３Ｍシュウ酸を電解液とし、化成電圧４０Ｖとし、５０秒間陽極酸化を行った。その後、２重量％リン酸３０℃中に５分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。この操作を５回繰り返すことで、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８０ｎｍ、底部２５ｎｍ、孔深さ３００ｎｍのテーパー状細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た
【００２６】
　
重合開始剤として５重量％の過酸化ベンゾイルを含むメタクリル酸メチルモノマーを細孔内に充填した後、紫外線を照射することで重合させた
重合後、高分子層を鋳型から剥離することで、表面に突起配列を有するポリメチルメタクリレート樹脂を得た
得られた高分子膜の反射率を測定した結果、反射率の低減が確認された
・・・（中略）・・・
【産業上の利用可能性】
【００３２】
　
本発明は、反射防止膜の形成が要求されるあらゆる用途に適用でき
　
（６）上記（１）ないし（５）より、引用例１には次の発明が記載されているものと認められる。
「様々な情報機器用表示装置において、高分子フィルムが広く用いられているが、良好な視認性を確保するために反射光を抑制するための反射防止層の形成が必要とされ、高分子フィルムの表面に突起形状を付与し、屈折率が連続的に変化する層を形成することにより反射率を低減する方式が知られおり、当該高分子フィルムに突起形状を付与するためには、突起形状に対応した窪み配列を有するスタンパを用意し、これをもとに高分子フィルムを加工する方法が用いられており、
　前記高分子フィルムの表面に突起形状を形成するためのスタンパに形成する窪みは、光の波長に比較して微細な周期を有し、可視光域で反射率を十分減衰させるためには、波長の１／４程度の深さを有することが必要とされ、このとき、窪みは、屈折率を連続的に変化させる必要があることから、テーパー形状を有することが必要とされ、
　このような条件を満たす窪み配列の形成のため、従来、電子ビームリソグラフィー、あるいは光露光法によるパターニングとＳｉに代表される半導体単結晶の異方性エッチングを組み合わせる手法が用いられていたが、電子ビームリソグラフィーは、加工に多大な時間と高価な装置が必要とされ、また、光露光法では、レーザー光の干渉を用いることでパターンを形成する方法が用いられるが、十分に微細な周期の構造を形成することは困難であり、
　また、微細なパターンを形成する他の従来の手法として、規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナを用いる方法が提案されているが、この方法では、規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナをマスクとし、反応性イオンエッチングを施すことによりＳｉ基板に窪みを形成するが、無反射層形成に必須なテーパー形状の形成は困難であり、
　さらに他の従来の手法として、陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施し、これをもとにスタンパを作製する方法が提案されているが、陽極酸化ポーラスアルミナの細孔形状は円柱状であるので、単にこれをもとに反射防止膜に必要な制御されたテーパー形状を有する突起形状を高分子フィルムに形成することは困難であるので、
　前記従来技術における問題点を解決するために、陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として、高分子フィルム面に所望の反射防止膜を形成可能な反射防止膜の製造方法を提供することを目的とし、
　前記反射防止膜は、高分子フィルムの表面に凹凸を形成し、屈折率を連続的に変化させることで反射を低減させるものであって、
　前記反射防止膜の凹凸は、表面に細孔を有し、該細孔に陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、連続的に細孔径が変化するテーパー形状が付与され、前記細孔の周期が５０ｎｍ〜３００ｎｍ、深さが１００ｎｍ以上の陽極酸化ポーラスアルミナであって、シュウ酸を電解液として用い、化成電圧３０Ｖ〜６０Ｖにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いて形成され、
　前記連続的に細孔径が変化するテーパー形状の付与は、アルミニウム基材の表面に所定の時間陽極酸化を施して所望の深さの細孔を形成したのち、適当な酸溶液中に浸漬することにより孔径の拡大処理を施し、その後、再び陽極酸化を施すことにより、前段階に比較して孔径の小さな孔を形成する操作を繰り返すことにより、テーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得るものであり、このとき、繰り返し段数を増大することにより、より滑らかなテーパー形状を得ることが可能となり、陽極酸化時間と孔径拡大処理時間とを調整することで様々なテーパー形状を有する孔の形成が可能となり、周期、孔深さに合わせて、最適な屈折率変化を設計することが可能となるものであり、
　このようにして形成されたテーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型とし、例えば、ポリマーを鋳型に充填することにより、良好な光透過性を有する高分子フィルムに構造を転写し、鋳型を除去することで表面に突起を有する無反射構造を得る、
　反射防止膜の形成が要求されるあらゆる用途に適用できる反射防止膜の製造方法であって、
　具体的には、例えば、
　純度９９．９９％のアルミニウム板を０．３Ｍシュウ酸を電解液とし、化成電圧４０Ｖとし、５０秒間陽極酸化を行い、その後、２重量％リン酸３０℃中に５分間浸漬し、孔径拡大処理を施す操作を５回繰り返すことで、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８０ｎｍ、底部２５ｎｍ、孔深さ３００ｎｍのテーパー状細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得て、
　重合開始剤として５重量％の過酸化ベンゾイルを含むメタクリル酸メチルモノマーを前記細孔内に充填した後、紫外線を照射することで重合させ、重合後、高分子層を鋳型から剥離することで、表面に突起配列を有し、反射率が低減した、ポリメチルメタクリレート樹脂の反射防止膜を有する高分子フィルムを得る、
　反射防止膜の製造方法。」（以下「引用発明１」という。）
　
４　対比
　本願補正発明と引用発明１を対比する。
（１）引用発明１の「表面に『反射防止膜』を形成した『高分子フィルム』」、「『突起形状』、『凹凸』」、「テーパー形状」、「細孔」、「無反射構造」、「反射防止膜」、「『アルミニウム基材』、『アルミニウム板』」、「鋳型」及び「『ポリマー』、『メタクリル酸メチルモノマー』」は、それぞれ、本願補正発明の「『透明板』、『低反射透明板』」、「凸部」、「テーパー形状」、「細孔」、「微細構造」、「反射低減フィルム」、「アルミニウム材料」、「型」及び「微細構造形成材料」に相当する。
　
（２）引用発明１は、「低反射透明板（表面に反射防止膜を形成した高分子フィルム）」の製造方法の発明である。そして、本願補正発明の「展示用ケースの製造方法」は、その一部に該展示用ケースに用いる「低反射透明板」の製造方法を含むから、引用発明１は、本願補正発明と、「低反射透明板の製造方法」である点で一致する。
　
（３）引用発明１の「低反射透明板（表面に反射防止膜を形成した高分子フィルム）」における「反射低減フィルム（反射防止膜）」は、「細孔」の周期が５０ｎｍ〜３００ｎｍ、深さが１００ｎｍ以上の陽極酸化ポーラスアルミナ（具体例では、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８０ｎｍ、底部２５ｎｍ、孔深さ３００ｎｍの「テーパー形状」の「細孔」を有する陽極酸化ポーラスアルミナ）を「型（鋳型）」として用いて形成されるものであり、該「型」の反転形状である「凸部（凹凸）」からなる「微細構造（無反射構造）」がモスアイ効果を有することにより反射が低減されることは明らかであるから、引用発明１の「低反射透明板」は、本願補正発明の「低反射透明板」と、「平均高さ１００ｎｍ以上、例えば３００ｎｍ程度の凸部を有し、その凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、例えば１００ｎｍで存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルムを含む」点で一致する。
　
（４）引用発明１の「低反射透明板（表面に反射防止膜を形成した高分子フィルム）」は、「テーパー形状」を有する陽極酸化ポーラスアルミナを「型（鋳型）」とし、「微細構造形成材料（ポリマー）」を「型（鋳型）」に充填することにより、良好な光透過性を有する高分子フィルムに構造を転写し、鋳型を除去することで表面に突起を有する「微細構造（無反射構造）」を得るものであり、具体例では、純度９９．９９％の「アルミニウム材料（アルミニウム板）」を０．３Ｍシュウ酸を電解液とし、化成電圧４０Ｖとし、５０秒間陽極酸化を行い、その後、２重量％リン酸３０℃中に５分間浸漬し、孔径拡大処理を施す操作を５回繰り返すことで前記陽極酸化ポーラスアルミナを得て、重合開始剤として５重量％の過酸化ベンゾイルを含む「微細構造形成材料（メタクリル酸メチルモノマー）」を前記「細孔」内に充填した後、紫外線を照射することで重合させ、重合後、高分子層を「型（鋳型）」から剥離することで、表面に突起配列を有し、反射率が低減した、ポリメチルメタクリレート樹脂の反射防止膜を有する高分子フィルムを得ており、リン酸中に浸漬して孔径拡大処理を施す操作がエッチングであることは明らかであるから、本願補正発明の「低反射透明板」と、「微細構造を、アルミニウム材料を用意し、陽極酸化の処理時間は５０秒とし、該アルミニウム材料の表面に、シュウ酸溶液中での４０Ｖの電圧での陽極酸化と、該陽極酸化によって得られた陽極酸化被膜のエッチングとを繰り返すことによりテーパー形状の細孔を形成した型に、微細構造形成材料を供給し剥離することによって得る」点で一致するといえる。
　
（５）上記（１）ないし（４）より、本願補正発明と引用発明１とは、
「低反射透明板の製造方法であって、
　該透明板は、平均高さ１００ｎｍ以上、例えば３００ｎｍ程度の凸部を有し、その凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、例えば１００ｎｍで存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルムを含む、低反射透明板であり、
　該微細構造を、アルミニウム材料を用意し、陽極酸化の処理時間は５０秒とし、該アルミニウム材料の表面に、シュウ酸溶液中での４０Ｖの電圧での陽極酸化と、該陽極酸化によって得られた陽極酸化被膜のエッチングとを繰り返すことによりテーパー形状の細孔を形成した型に、微細構造形成材料を供給し剥離することによって得る、
　低反射透明板の製造方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１：
　本願補正発明が、当該製造方法により製造した低反射透明板を用いて、「展示物が外部から見えるように」、「該透明板の表面と該展示物の少なくともある１点との距離が３ｃｍ以上となるように該展示物に覆設する展示用ケースの製造方法」であるのに対して、
　引用発明１は、低反射透明板の製造方法である点。
　
相違点２：
　前記「低反射透明板」が、
　本願補正発明では、「反射低減フィルム」を「透明なガラス板又は透明な合成樹脂板の両面に貼り合わせてなる」ものであるのに対して、
　引用発明１では、高分子フィルムの表面に反射防止膜を形成したものである点。
　
相違点３：
　前記「低反射透明板」が、
　本願補正発明では、「視感度補正後の反射率が０．３％以下であり、かつ、全光透過率に対する拡散透過率の百分率であるヘイズが２％以下であり、透過率が９８％以上である」のに対して、
　引用発明１では、反射率が低減されているものの、具体的な視感度補正後の反射率は不明であり、さらに、ヘイズ、透過率も不明である点。
　
相違点４：
　本願補正発明では、「ヘイズを小さくするように」、「陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研摩」するのに対して、
　引用発明１では、陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研磨するか否か不明である点。
　
５　判断
（１）相違点１について
　ア　引用発明１の「低反射透明板（表面に反射防止膜を形成した高分子フィルム）」は、「反射低減フィルム（反射防止膜）」の形成が要求されるあらゆる用途に適用できるものとされているところ、反射低減フィルムの用途として、展示物に覆設する展示用ケースがあることは本願出願前に周知（以下「周知技術１」という。例えば、原査定の拒絶の理由に引用された国際公開第２００８／００１８４７号公報（【００６４】の「反射防止フィルム、反射防止膜としては、例えば、・・・ショーウィンドー、展示ケース・・・の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルム・・・等が挙げられる。」との記載を参照。）、原査定の拒絶の理由に引用された特開２００７−２５６３４０号公報（【００２５】の「・・・反射防止微細構造を・・・透明基材の片面、望ましくは両面に形成することによって、反射防止構造体とすることができ、・・・ショウウインドウや展示ケースなどの透明パネルに適用することによって、外光や室内照明の映り込みを防止して、・・・内部展示物の視認性を向上させることができる。」との記載を参照。）。）である。そして、覆設する展示物の少なくともある１点との距離が３ｃｍ以上となるように離して展示用ケースを設置することも、例えば展示用ケースがショーウィンドーの場合等に、本願出願前に広く行われていたことも明らかである。
　イ　上記アからみて、反射低減フィルム（反射防止膜）の形成が要求されるあらゆる用途に適用できる引用発明１の低反射透明板を、覆設する展示物の少なくともある１点との距離が３ｃｍ以上となるような展示用ケースに用いることは、当業者が周知技術１に基づいて適宜なし得た程度のことであるとともに、本願補正発明において、透明板からどのようにして展示用ケースを形成するかが何ら特定されていないことに鑑みれば、引用発明１の低反射透明板の製造方法を展示用ケースの製造方法となすこと、すなわち、相違点１に係る本願補正発明の構成となすことも、当業者が周知技術１に基づいて適宜なし得た程度のことである。
　
（２）相違点２について
　低反射透明板として、透明基材の両面に反射防止微細構造を形成することは、本願出願前に周知（以下「周知技術２」という。例えば、上記特開２００７−２５６３４０号公報（【００２５】の「・・・反射防止微細構造を・・・透明基材の・・・両面に形成することによって、反射防止構造体とすることができ、・・・」との記載参照。）、特開２００６−１１９３９０号公報（【請求項１】の「ピッチが３０〜３００ｎｍの範囲内、深さが６０〜４００ｎｍの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を有する光透過性フィルムと、この光透過性フィルムが・・・両面に積層される光透過性部材とを備えている・・・低反射性物品。」との記載を参照。）。）であり、引用発明１において、透明基材の両面に反射防止微細構造を形成するために、「反射低減フィルム」を透明基材（通常、透明なガラス板又は透明な合成樹脂板である）の両面に貼り合わせて低反射透明板となすこと、すなわち、相違点２に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が周知技術２に基づいて容易になし得たことである。
　
（３）相違点３について
　ア　本願補正発明の視感度補正後の反射率の上限である０．３％は、本願明細書【００３１】の「本発明において、モスアイ効果を奏する微細構造を有する表面の視感度補正後の反射率は０．３％以下であることが好ましく、０．２％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。」との記載に基づいているが、実施例１ないし５の低反射透明板の視感度補正後の反射率はいずれも測定されておらず、実現されたか否か不明である。また、本願補正発明のヘイズの上限である２％は、本願明細書【００３８】の「本発明の低反射透明板のヘイズは特に限定はないが、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下である。」との記載に基づいているが、やはり実施例１ないし５の低反射透明板のヘイズはいずれも測定されておらず、実現されたか否か不明である。さらに、本願補正発明の透過率の下限である９８％は、本願明細書【００３６】の「本発明の低反射透明板は、４３０〜７８０ｎｍの全ての波長領域で（好ましくは３８０〜７８０ｎｍの全ての波長領域で）、透過率９３％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、９６％以上であることが特に好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。」との記載に基づいているが、やはり実施例１ないし５の低反射透明板の透過率はいずれも測定されておらず、実現されたか否か不明である。上記のことに鑑みれば、本願補正発明の反射率の「０．３％以下」及びヘイズの「２％以下」は、低反射透明板においては反射率やヘイズはより低い方が好ましいという技術常識の下で、それらの上限値を適宜設定したというに過ぎず、また、本願補正発明の透過率の「９８％以上」は、低反射透明板においては透過率はより高い方が好ましいという技術常識の下で、その下限値を適宜設定したというに過ぎないから、これらの上限値及び下限値は、好ましいとされる低さ又は高さであるということを超える技術上の意義を有しない。
　イ　本願出願前に、モスアイ効果を奏する低反射透明板の視感度補正後の反射率の０．３％以下、ヘイズの２％以下及び透過率の９８％以上は、いずれも好ましいとされていた値である（視感度補正後の反射率については、例えば、国際公開第２００６／０５９６８６号の【０１１８】に記載された「実施形態３」の「正反射率を０．１％以下に抑えることができる。」との記載を参照。ヘイズについては、例えば、原査定の拒絶の理由に引用された国際公開第２００８／００１８４７号の【００６５】の「本発明の反射防止膜のヘイズは３％以下が好ましく、１％以下が更に好ましく、０．５％以下が最も好ましい。」との記載を参照。透過率については、例えば、特開２００６−１１９３９０号公報の【００３７】の、「射出成形により得られた樹脂基板に対して可視光を照射して透過率及び反射率を測定した結果、透過率が９８．０％、反射率が０．５％であり、良好な低反射率となっていた。」との記載を参照。）。
　ウ　上記ア及びイからみて、引用発明１の反射率が低減した低反射透明板の視感度補正後の反射率を０．３％以下となし、かつ、全光透過率に対する拡散透過率の百分率であるヘイズを２％以下となし、透過率を９８％以上となすこと、すなわち、相違点３に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が適宜なし得た程度のことである。
  
（４）相違点４について
　ア　陽極酸化ポーラスアルミナを形成する際、陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研磨することは本願出願前に周知（以下「周知技術３」という。例えば、上記国際公開第２００６／０５９６８６号（【０１６８】の「Ａｌ層１８の表面をあらかじめ平坦化しておくことが好ましい。例えば、過塩素酸とエタノールとの混合溶液を用いた電界研磨等で平坦化することができる。Ａｌ層１８の表面の平坦性が陽極酸化ポーラスアルミナの細孔の生成に影響を与えるためである。」との記載を参照。）、特開２００８−１４４２４８号公報（【０００４】の「・・・表面を研磨した金属アルミニウムをアノードとして、Ｐｔなどの金属をカソードとして、電解液中で陽極酸化することにより、金属アルミニウムの表面に微小な細孔を有する酸化膜を形成することができ、このような微小な細孔を有する酸化膜は陽極酸化ポーラスアルミナと称されている。」との記載を参照。）。）である。
　イ　上記アからみて、引用発明１において、陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研磨すること、すなわち、相違点４に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が周知技術３に基づいて容易になし得たことである。
　
（５）効果について
　本願補正発明の奏する効果は、当業者が引用発明１の奏する効果、周知技術１の奏する効果、周知技術２の奏する効果及び周知技術３の奏する効果から予測することができた程度のものである。
　
（４）まとめ
　したがって、本願補正発明は、当業者が引用発明１、周知技術１、周知技術２及び周知技術３に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　本願補正発明は、当業者が引用例１に記載された発明、周知技術１、周知技術２及び周知技術３に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
６　小括
　以上のとおり、本願補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は、上記第２のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし７に係る発明は、平成２４年１０月１５日提出の手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし７によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記「第２〔理由〕１（１）」に本件補正前の請求項１として記載したとおりのものである。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である国際公開第２００８／００１８４７号（以下「引用例２」という。）には、図とともに次の事項が記載されている。
　
（１）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　
本発明は微細凹凸構造を転写するための
鋳型を用いて微細凹凸構造を有するシートを製造する方法
【背景技術】
【０００２】
　近年、
可視光の波長以下の周期の微細な凹凸構造を表面に有する材料
特に、Ｍｏｔｈ−Ｅｙｅ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている
【０００３】
　一般的に
材料表面に微細構造を形成する方法としては、
生産性、経済性の観点から微細な反転構造を有する鋳型を作製して材料上に転写する方法が優れている
このような微細な凹凸構造を形成する方法としては、電子線描画やレーザー光干渉法による方法が知られていたが、
より簡便に作製できる鋳型として陽極酸化ポーラスアルミナ
【０００４】
　また、上述のように
材料表面に微細形状を付与する工程においては、経済性が高い大面積鋳型や連続生産が可能になり、より生産性、経済性が向上するよう鋳型を使用する
・・・（略）・・・」
　
（２）「【課題を解決するための手段】
【００１０】
　本発明者らは鋭意検討の結果、圧延痕のないアルミニウム原型の表面に、隣り合う凹部または凸部間の距離が可視光の波長以下の微細凹凸構造を有するアルミナが陽極酸化により形成され、且つ結晶粒界の凹凸高さ、または深さが３００ｎｍ以下であることを特徴とする鋳型は目視でマクロな凹凸が確認できないことを見出した。
【００１１】
　また、
表面に微細凹凸構造を有する鋳型の製造方法であって、圧延痕のないアルミニウムを研磨して
原型を用意する工程、該原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して細孔を有する厚さ１０μｍ以下の酸化皮膜を形成する第１の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の全部を除去する酸化被膜除去工程、前記原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して酸化皮膜を形成する第２の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の一部を除去して前記細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程とを含むことで、簡便に可視光の波長以下の微細である程度規則的な凹凸構造を有する鋳型が得られる
【００１２】
　
さらに、前記方法で製造された鋳型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填して活性エネルギー線照射により硬化後離型する
微細凹凸構造を表面に有するシートの製造方法
【発明の効果】
【００１３】
　本発明は簡便に表面に継ぎ目や目視で確認可能な凹凸がなく、可視光の波長以下の微細な凹凸構造を有する鋳型を得ることを可能にすると同時に、該鋳型を用いて経済性良く表面に微細な凹凸構造を有するシートを製造することを可能とした。」
　
（３）「【００３０】
（鋳型の製造方法）
（陽極酸化）
  
原型表面のアルミニウムは酸性電解液中で定電圧下で陽極酸化し、一旦酸化皮膜を除去し、これを陽極酸化の細孔発生点にすることで細孔の規則性を向上する
規則的な細孔発生点をつくるための陽極酸化を「一段階目の陽極酸化」といい、この陽極酸化による酸化被膜の形成工程を「第１の酸化被膜形成工程」という
酸化皮膜除去後の陽極酸化を「二段階目の陽極酸化」といい、この陽極酸化による酸化被膜の形成工程を「第２の酸化被膜形成工程」という
【００３１】
  まず、一段階目の陽極酸化について説明する。
【００３２】
  酸性電解液とは、例えば硫酸、シュウ酸、それらの混合物などが挙げられる。
【００３３】
  
シュウ酸を電解液として用いた場合を例に挙げると、濃度は０．７Ｍ以下が好ましい
化成電圧が３０〜６０Ｖの時、周期が１００ｎｍの規則性の高い細孔を有する酸化皮膜（以下、ポーラスアルミナという）を得ることが出来る
【００３４】
  硫酸を電解液として用いた場合は、濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。０．７Ｍより高い場合は電流値が高くなりすぎて定電圧でなくなることがある。化成電圧が２５〜３０Ｖで周期６３ｎｍの規則性の高い細孔を得ることが可能である。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向があり、可視光の波長より大きい凹凸構造が出来ることがある。陽極酸化反応時の電解液の温度は３０℃以下が好ましく、２０℃以下が更に好ましい。３０℃より高いといわゆる「やけ」といわれる現象がおこり、構造が壊れたり、表面がとけて規則性が乱れることがある。
【００３５】
  本発明で円柱または円筒形状のアルミニウムまたは少なくとも該形状の表面に存在しているアルミニウムを前記電解液及び化成電圧下で陽極酸化して形成される酸化皮膜の厚みは電界放出形走査電子顕微鏡で観察した時に１０μｍ以下が好ましく、１〜５μｍが更に好ましく、１〜３μｍが最も好ましい。酸化皮膜の厚みが１０μｍ以下では、アルミニウムの結晶粒界が目視では確認できず、転写した場合、樹脂表面に結晶粒界の凹凸までもが転写されることが防止できる。
【００３６】
  また、
本発明のポーラスアルミナ皮膜を一旦除去することにより、細孔発生点の形成を行う
ポーラスアルミナ皮膜の除去方法は
例えばクロム酸／リン酸混合液などが使用される
【００３７】
  次に二段階目の陽極酸化について説明する。
【００３８】
  一段階目の陽極酸化皮膜を除去した後、
二段階目の陽極酸化
陽極酸化は一段階目と同じ範囲の電解液濃度、電解液温度、略同一の化成電圧で行い
【００３９】
  
陽極酸化と細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔が得られる
細孔径拡大処理はアルミナを溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理であり
アルミナを溶解する溶液には例えば５％程度のリン酸水溶液などが使用される
本発明では、一段階目の陽極酸化を行うことなく、二段階目の陽極酸化と細孔径拡大処理を繰り返すことによっても鋳型の製造が可能であるが、形成される細孔の規則性の点では一段階目の陽極酸化を行い、形成された酸化被膜を一旦全て除去した後、二段階目の陽極酸化と細孔径拡大処理とを繰り返すことが好ましい
　
（４）「【００６４】
（用途）
　
本発明の方法で製造された微細凹凸構造を有するシート材料は、
特に反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品、としての用途に適している
反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品としては、
ショーウィンドー、展示ケース
の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルムや反射防止シート等が挙げられる
特に本発明で得られる微細凹凸構造を有するシート材料は
ショーウィンドー、展示ケースなどの大面積で使用する用途に適してい
【００６５】
　
本発明の反射防止膜のヘイズは３％以下が好ましく、１％以下が更に好ましく、０．５％以下が最も好ましい
　
（５）「【００７４】
  ＜実施例１＞平型の作製
　
純度９９．９９％のアルミニウムビレットから機械加工で得た厚さ２ｍｍ、直径７５ｍｍのアルミニウム円板に羽布研磨処理を施した後、電解研磨を行った
鏡面化を行ったアルミニウム円板を、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、浴温１７℃において直流４０Ｖの条件下で３０分間陽極酸化を行い、第１の酸化皮膜を形成した
形成した酸化物層を、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸混合水溶液中で一旦溶解除去した後、再び同一条件下において、３０秒間陽極酸化を行った
その後、５質量％リン酸３０℃中に８分間浸漬し、孔径拡大処理を施した
この操作を５回繰り返すことで、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８５ｎｍ、底部４０ｎｍ、孔深さ２２０ｎｍのテーパー状細孔を有する鋳型を得た
【００７５】
　
得られた鋳型は信越化学社製商品名のＫＢＭ−７８０３の０．５質量％に１０分間浸漬した後２０分間風乾して２時間１２０℃で熱処理して離型処理を行った
【００７６】
　
このようにして得られた鋳型と東洋紡社製ＰＥＴフィルム商品名「Ａ４３００」の間に活性エネルギー線硬化組成物Ａを充填して高圧水銀ランプで積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ
2
の紫外線を照射して微細凹凸構造を有するフィルムを得た
【００７７】
　
周期１００ｎｍ、凸部高さ２００ｎｍ、凸部先端径４０ｎｍ、凸部底部径８５ｎｍの微細凹凸構造を有するフィルムを得た
　
（６）上記（１）ないし（５）より、引用例２には次の発明が記載されているものと認められる。
「可視光の波長以下の周期の微細な凹凸構造を表面に有する材料、特に、Ｍｏｔｈ−Ｅｙｅ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られており、材料表面に微細構造を形成する方法としては、生産性、経済性の観点から微細な反転構造を有する鋳型を作製して材料上に転写する方法が優れており、このような微細な凹凸構造を形成する方法として従来知られていた電子線描画やレーザー光干渉法による方法より簡便に作製できる陽極酸化ポーラスアルミナを微細凹凸構造を転写するための鋳型として用いて微細凹凸構造を有するシートを製造する方法において、
　表面に微細凹凸構造を有する前記鋳型は、圧延痕のないアルミニウムを研磨して原型を用意する工程、該原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して細孔を有する厚さ１０μｍ以下の酸化皮膜を形成する第１の酸化被膜形成工程、前記酸化皮膜の全部を除去する酸化被膜除去工程、前記原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して酸化皮膜を形成する第２の酸化被膜形成工程、前記酸化皮膜の一部を除去して前記細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程とを含む製造方法により、簡便に可視光の波長以下の微細である程度規則的な凹凸構造を有する鋳型を得るものであり、
　さらに、前記方法で製造された鋳型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化性組成物を充填して活性エネルギー線照射により硬化後離型し、微細凹凸構造を表面に有するシートの製造方法であって、
　具体的には、例えば、
　純度９９．９９％のアルミニウムビレットから機械加工で得た厚さ２ｍｍ、直径７５ｍｍのアルミニウム円板に羽布研磨処理を施した後、電解研磨を行い、鏡面化を行ったアルミニウム円板を、０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、浴温１７℃において直流４０Ｖの条件下で３０分間陽極酸化を行い、第１の酸化皮膜を形成し、形成した酸化物層を、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸混合水溶液中で一旦溶解除去した後、再び同一条件下において、３０秒間陽極酸化を行い、その後、５質量％リン酸３０℃中に８分間浸漬し、孔径拡大処理を施す操作を５回繰り返すことで、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８５ｎｍ、底部４０ｎｍ、孔深さ２２０ｎｍのテーパー状細孔を有する鋳型を得て、
　得られた鋳型を信越化学社製商品名ＫＢＭ−７８０３の０．５質量％に１０分間浸漬した後２０分間風乾して２時間１２０℃で熱処理して離型処理を行い、
　このようにして得られた鋳型と東洋紡社製ＰＥＴフィルム商品名「Ａ４３００」の間に活性エネルギー線硬化組成物Ａを充填して高圧水銀ランプで積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、周期１００ｎｍ、凸部高さ２００ｎｍ、凸部先端径４０ｎｍ、凸部底部径８５ｎｍの微細凹凸構造を有するフィルムを得る、
　
　微細凹凸構造を有するフィルムのヘイズは３％以下が好ましく、１％以下が更に好ましく、０．５％以下が最も好ましいものである、
　微細凹凸構造を表面に有するシートの製造方法。」（以下「引用発明２」という。）
　
３　対比
　本願発明と引用発明２を対比する。
（１）引用発明２の「微細凹凸構造を表面に有するシート」、「『凹凸構造』、『凸部』」、「テーパー状」、「細孔」、「『微細構造』、『微細凹凸構造』」、「微細凹凸構造を有するフィルム」、「東洋紡社製ＰＥＴフィルム商品名『Ａ４３００』」、「『アルミニウム』、『アルミニウム円板』」、「鋳型」及び「活性エネルギー線硬化性組成物」は、それぞれ、本願発明の「『透明板』、『低反射透明板』」、「凸部」、「テーパー形状」、「細孔」、「微細構造」、「反射低減フィルム」、「透明な合成樹脂板」、「アルミニウム材料」、「型」及び「微細構造形成材料」に相当する。
　
（２）引用発明２は、「低反射透明板（微細凹凸構造を表面に有するシート）」の製造方法の発明である。そして、本願発明の「展示用ケースの製造方法」は、その一部に該展示用ケースに用いる「低反射透明板」の製造方法を含むから、引用発明２は、本願発明と、「低反射透明板の製造方法」である点で一致する。
　
（３）引用発明２の「低反射透明板（微細凹凸構造を表面に有するシート）」における「反射低減フィルム（微細凹凸構造を有するフィルム）」は、具体例では、周期１００ｎｍ、「凸部」高さ２００ｎｍ、「凸部」先端径４０ｎｍ、「凸部」底部径８５ｎｍの「微細構造（微細凹凸構造）」を有するものであり、該「凸部」は「テーパー形状細孔を有する型（テーパー状細孔を有する鋳型）」の反転形状であるからテーパー形状であることは明らかであり、また、該「微細構造」がモスアイ効果を有することにより反射が低減されることは明らかであるから、引用発明２の「低反射透明板」は、本願発明の「低反射透明板」と、「平均高さ２００ｎｍの凸部を有し、その凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期１００ｎｍで存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルム」である点で一致する。
　
（４）引用発明２の「低反射透明板（微細凹凸構造を表面に有するシート）」は、「テーパー形状細孔（テーパー状細孔）」を有する「型（鋳型）」を用い、「微細構造形成材料（活性エネルギー線硬化性組成物）」を「型（鋳型）」に充填して高圧水銀ランプで紫外線を照射することにより硬化し、硬化後離型することにより、微細凹凸構造を有するフィルムを得るものであり、具体例では、純度９９．９９％のアルミニウムビレットから機械加工で得た厚さ２ｍｍ、直径７５ｍｍのアルミニウム円板に羽布研磨処理を施した後、電解研磨を行い、鏡面化を行った「アルミニウム材料（アルミニウム円板）」を０．３Ｍシュウ酸水溶液中で、浴温１７℃において直流４０Ｖの条件下で３０分間陽極酸化を行い、第１の酸化皮膜を形成し、形成した酸化物層を、６質量％のリン酸と１．８質量％のクロム酸混合水溶液中で一旦溶解除去した後、再び同一条件下において、３０秒間陽極酸化を行い、その後、５質量％リン酸３０℃中に８分間浸漬し、孔径拡大処理を施す操作を５回繰り返すことで、周期１００ｎｍ、細孔径開口部８５ｎｍ、底部４０ｎｍ、孔深さ２２０ｎｍのテーパー状細孔を有する「型（鋳型）」を得て、得られた「型（鋳型）」を信越化学社製商品名ＫＢＭ−７８０３の０．５質量％に１０分間浸漬した後２０分間風乾して２時間１２０℃で熱処理して離型処理を行い、このようにして得られた「型（鋳型）」と「透明な合成樹脂板（東洋紡社製ＰＥＴフィルム商品名『Ａ４３００』）」の間に「微細構造形成材料（活性エネルギー線硬化組成物）」Ａを充填して高圧水銀ランプで積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、周期１００ｎｍ、凸部高さ２００ｎｍ、凸部先端径４０ｎｍ、凸部底部径８５ｎｍの「反射低減フィルム（微細凹凸構造を有するフィルム）」を得ており、５質量％リン酸３０℃に８分間浸漬して孔径拡大処理を施す操作がエッチングであることは明らかであるから、本願発明の「低反射透明板」と、「反射低減フィルムを、透明な合成樹脂板の片面に貼り合わせてなる」点、及び、「微細構造を、以下の陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研摩し、次いで、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と、該陽極酸化によって得られた陽極酸化被膜のエッチングとを繰り返すことによりテーパー形状の細孔を形成した型に、微細構造形成材料を供給し剥離することによって得る」点で一致するといえる。
　
（５）上記（１）ないし（４）より、本願発明と引用発明２とは、
「低反射透明板の製造方法であって、
　該透明板は、平均高さ２００ｎｍの凸部を有し、その凸部が、少なくともある一の方向に対し平均周期１００ｎｍで存在するテーパー形状の細孔を有する微細構造が発現するモスアイ効果によって低反射率が実現されている反射低減フィルムを、透明な合成樹脂板の片面に貼り合わせてなる低反射透明板であり、
　該微細構造を、以下の陽極酸化に先立ってアルミニウム材料の表面を研摩し、次いで、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と、該陽極酸化によって得られた陽極酸化被膜のエッチングとを繰り返すことによりテーパー形状の細孔を形成した型に、微細構造形成材料を供給し剥離することによって得る、
　低反射透明板の製造方法。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点５：
　本願発明が、当該製造方法により製造した低反射透明板を用いて、「展示物が外部から見えるように」、「透明板を該展示物に覆設する展示用ケースの製造方法」であるのに対して、
　引用発明２は、低反射透明板の製造方法である点。
　
相違点６：
　前記「低反射透明板」が、
　本願発明では、「視感度補正後の反射率が０．３％以下である」のに対して、
　引用発明２では、視感度補正後の反射率は不明である点。
　
相違点７：
　前記「陽極酸化に先立」つ「アルミニウム材料の表面を研摩」が、
　本願発明では、「ヘイズが小さくなるように」するのに対して、
　引用発明２では、どのようにするのか不明である点。
　
４　判断
（１）相違点５について
　ア　引用発明２の「低反射透明板（微細凹凸構造を表面に有するシート）」は、反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品としての用途に適し、特にショーウィンドー、展示ケース等の大面積の表面で使用される反射防止膜、反射防止フィルムや反射防止シート等の用途に適しているものである。　イ　上記アからみて、引用発明２の低反射透明板を、展示物が外部から見えるように透明板を該展示物に覆設する展示用ケースに用いることは、当業者が容易になし得たことであるとともに、本願発明において、透明板からどのようにして展示用ケースを形成するかが何ら特定されていないことに鑑みれば、引用発明２の低反射透明板の製造方法を展示用ケースの製造方法となすこと、すなわち、相違点５に係る本願補正発明の構成となすことも、当業者が容易になし得たことである。
　
（２）相違点６について
　ア　本願発明の視感度補正後の反射率の上限である０．３％は、本願明細書【００３１】の「本発明において、モスアイ効果を奏する微細構造を有する表面の視感度補正後の反射率は０．３％以下であることが好ましく、０．２％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。」との記載に基づいているが、実施例１ないし５の低反射透明板の視感度補正後の反射率はいずれも測定されておらず、実現されたか否か不明である。このことに鑑みれば、本願発明の反射率の「０．３％以下」は、低反射透明板においては反射率はより低い方が好ましいという技術常識の下で、その上限値を適宜設定したというに過ぎないから、この上限値は、好ましいとされる低さであるということを超える技術上の意義を有しない。
　イ　本願出願前に、モスアイ効果を奏する低反射透明板の視感度補正後の反射率の０．３％以下は、好ましいとされていた値である（例えば、国際公開第２００６／５９６８６号の【０１１８】に記載された「実施形態３」の「正反射率を０．１％以下に抑えることができる。」との記載を参照。）。
　ウ　上記ア及びイからみて、引用発明２の低反射透明板の視感度補正後の反射率を０．３％以下となすこと、すなわち、相違点６に係る本願発明の構成となすことは、当業者が適宜なし得た程度のことである。
　
（３）相違点７について
　引用発明２の微細凹凸構造を有するフィルムのヘイズは３％以下が好ましく、１％以下が更に好ましく、０．５％以下が最も好ましいものであるから、引用発明２において、陽極酸化に先立つアルミニウム材料の表面を研摩がヘイズが小さくなるようになすこと、すなわち、相違点７に係る本願発明の構成となすことは、当業者が容易になし得たことである。
　
（４）効果について
　本願補正発明の奏する効果は、当業者が引用発明２の奏する効果から予測することができた程度のものである。
　
５　むすび 
　本願発明は、以上のとおり、当業者が引用例２に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。