(57)【要約】【課題】従来の分散補償光ファイバのような複雑かつ比屈折率差の大きい光ファイバにおいて、伝送損失を改善した光ファイバを提供する。【解決手段】コア２と、そのコア２を覆う屈折率が異なる２層以上のクラッド層３〜６とを備えた光ファイバ１において、ファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎの線引張力で線引きし、コア２の最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ２層以上のクラッド層３〜６の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにしたものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コアと、そのコアを覆う屈折率が異なる２層以上のクラッド層とを備えた光ファイバにおいて、ファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎの線引張力で線引きし、上記コアの最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ上記２層以上のクラッド層の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにしたことを特徴とする光ファイバ。
【請求項２】
コアの比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．２５％とした請求項１記載の光ファイバ。
【請求項３】
コアを覆う第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２を−０．５〜−０．２％とした請求項１または２記載の光ファイバ。
【請求項４】
上記２層以上のクラッド層は内側から順に第１〜第４のクラッド層からなり、上記コアの比屈折率差Δｎ１と第２クラッド層の比屈折率差Δｎ３とを第４クラッド層の比屈折率差Δｎ０より大きくし、第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２と第３クラッド層の比屈折率差Δｎ４とを第４クラッド層の比屈折率差Δｎ０より小さくした請求項１〜３いずれかに記載の光ファイバ。
【請求項５】
コアの比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．０５％とし、コアの半径ｒ１を２．０５〜２．１５μｍとし、第２クラッド層の比屈折率差Δｎ３を０．１０〜０．１３％とし、第２クラッド層の半径ｒ３を８．７５〜８．９５μｍとし、第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２を−０．４５〜−０．４０％とし、第１クラッド層の半径ｒ２を５．５０〜５．９０μｍとし、第３クラッド層の比屈折率差Δｎ４を−０．０７〜−０．０３％とし、第３クラッド層の半径ｒ４を９．９５〜１０．１５μｍとした請求項４記載の光ファイバ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コアと、そのコアを覆う屈折率が異なる２層以上のクラッド層とを備えた光ファイバに係り、特に、複雑な屈折率プロファイルを有し、比屈折率差Δが大きい光ファイバに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年のインターネットを始めとするデータ通信の爆発的な増加により、伝送容量の飛躍的な増加が求められている。現在、１本の光ファイバ中に波長の異なる複数の信号光を同時に伝送させるＷＤＭ（Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎ  Ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ：波長分割多重）伝送方式が実用化され、幹線系伝送路や海底光ケーブルに用いられている。通常、このような光ファイバ伝送路には一定の間隔で中継器が設置されている。
【０００３】
従来の中継器は、信号光を補償・増幅するために信号光をいったん電気信号に変換し、その電気信号を同期再生・増幅して光信号に変換する、いわゆる再中継器と呼ばれる装置であるが、ＷＤＭ伝送においては、わずかに波長の異なる複数の信号光ごとに再生・増幅を行わなければならないため、波数の分だけデバイスを必要とすることになる。
【０００４】
このため、ＷＤＭ伝送の大容量化のための波数増加にはコスト的・実装空間的な限界があった。
【０００５】
しかし、ＥＤＦＡ（Ｅｒｂｉｕｍ−Ｄｏｐｅｄ  Ｆｉｂｅｒ  Ａｍｐｌｉｆｉｅｒ：エルビウム添加光ファイバ増幅器）の開発により、信号光を電気信号に変換することなく全波長の信号光を一括して光のまま増幅することができるようになった。このＥＤＦＡにより伝送容量の大容量化が急速に進展したが、波数の増加や信号光のビットレートの増加により様々な問題が生じてきた。
【０００６】
例えば、本来光ファイバの有する波長分散により、使用波長帯域の両端で異なる分散を生じてしまい、伝送後の信号光の波形が劣化したり、非線形現象が生じたりする問題がある。非線形現象は伝送路を構築する光ファイバの局所的な屈折率分布の変化（一般に光パワー密度に依存する）により生じる現象であり、ＦＷＭ（Ｆｏｕｒ  Ｗａｖｅ  Ｍｉｘｉｎｇ：四光波混合）等が該当する。
【０００７】
これら分散や非線形現象は信号光の伝送品質を劣化させる原因となりうる。特に、ＷＤＭ伝送のように多数の異なる波長の信号光を長距離伝送させる場合には深刻である。
【０００８】
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、次のものがある。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−２０７６７４号公報
【特許文献２】特開２００５−２２２０６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ここで、光ファイバの波長分散による信号波形の劣化を防止するためには、使用波長帯域の分散値をできるだけ小さくする、いわゆる零分散波長を使用波長にシフトさせることが有効である。例えば、零分散波長が１５５０ｎｍのＤＳＦ（Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ  Ｓｈｉｆｔ  Ｆｉｂｅｒ：分散シフトファイバ）等は陸上、海底を問わず広く適用されている。
【００１１】
しかし、複数の信号光を伝送するＷＤＭ伝送においては、最短波長側の信号光と最長波長側の信号光とに生じる分散の値が異なる。すなわち、分散スロープの存在により波数そのものが制限を受ける。これは、光ファイバ伝送後の信号光が判別可能な限度内である分散範囲（すなわち、波長帯域）がハードウエアや伝送速度により定まり、結果として最大波数を決定するためである。
【００１２】
したがって、この分散スロープの値をできるだけ小さくすることが伝送容量を増加させる上で重要である。
【００１３】
従来の光ファイバの単峰型の屈折率プロファイル（屈折率分布）を、例えばＷ型や３重クラッド型等の複雑な屈折率プロファイルに変更することにより、０．０５ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍ以下の低い分散スロープを達成することができる。
【００１４】
しかし、一方では波数の増加に伴い光ファイバに入射する光信号のパワー密度が増加し、上述の非線形現象が大きな問題となってきた。例えば、前述のＦＷＭにより零分散波長近傍のＷＤＭ信号光が増幅され、信号伝送特性を著しく劣化させることが近年の研究により明らかになってきた。この非線形現象を防止しつつ信号光の波数を増加させるには、伝送路全体で分散、分散スロープを小さく保ち、可能な限り実効断面積の大きな光ファイバを用いればよい。
【００１５】
例えば、ＥＤＦＡ等の増幅器による増幅直後の光密度が高い部分で実効断面積が比較的大きく、分散、分散スロープが小さい光ファイバを用いて非線形現象の発生を抑え、その光ファイバの出力端に比較的実効断面積が小さく、分散、分散スロープが比較的小さい光ファイバを接続することで、伝送路全体で分散を非零、スロープを０．１ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍ以下に抑えることができる。
【００１６】
また、ＥＤＦＡ等の増幅器による増幅直後（希土類添加光ファイバの増幅区間前半）で実効断面積が非常に大きく、分散も大きい光ファイバを用い、その後（希土類添加光ファイバの増幅区間後半）で前半に生じた累積分散や分散スロープを完全に補償する光ファイバを用いたハイブリッド伝送路も提案されている。
【００１７】
図４は波長多重伝送時の実効断面積拡大光ファイバおよび分散・分散スロープ補償光ファイバによるハイブリッド伝送路の累積分散を示す図である。図４においては横軸はファイバ長を示し、縦軸は累積分散を示す。
【００１８】
この伝送路後半で用いられるＳＣＤＣＦ（Ｓｌｏｐｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｂｅｒ：分散・分散スロープ補償光ファイバ）は大きな負分散と負分散スロープを実現することができるが、実効断面積が比較的小さい。そのため前半で用いられる実効断面積が極めて大きい光ファイバ等の異種光ファイバと融着接続する際、ＭＦＤ（モードフィールド径）を大きくしたＳＣＤＣＦが提案されている。
【００１９】
しかしながら、これらのＳＣＤＣＦは大きな負分散と負分散スロープを得るために、屈折率プロファイルを多重構造とし、かつ一般のシングルモードファイバ等に比べコアの比屈折率差が大きくなり、第１クラッド層の比屈折率差が小さくなる傾向にある。このため、材料のドーパント量が過多となってレイリー散乱損失が増加し、また構造が複雑になることによる構造不正損失が増加していた。
【００２０】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、従来の分散補償光ファイバのような複雑かつ比屈折率差の大きい光ファイバにおいて、伝送損失を改善した光ファイバを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明は上記目的を達成するために創案されたものであり、請求項１の発明は、コアと、そのコアを覆う屈折率が異なる２層以上のクラッド層とを備えた光ファイバにおいて、ファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎの線引張力で線引きし、上記コアの最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ上記２層以上のクラッド層の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにした光ファイバである。
【００２２】
請求項２の発明は、コアの比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．２５％とした請求項１記載の光ファイバである。
【００２３】
請求項３の発明は、コアを覆う第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２を−０．５〜−０．２％とした請求項１または２記載の光ファイバである。
【００２４】
請求項４の発明は、上記２層以上のクラッド層は内側から順に第１〜第４のクラッド層からなり、上記コアの比屈折率差Δｎ１と第２クラッド層の比屈折率差Δｎ３とを第４クラッド層の比屈折率差Δｎ０より大きくし、第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２と第３クラッド層の比屈折率差Δｎ４とを第４クラッド層の比屈折率差Δｎ０より小さくした請求項１〜３いずれかに記載の光ファイバである。
【００２５】
請求項５の発明は、コアの比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．０５％とし、コアの半径ｒ１を２．０５〜２．１５μｍとし、第２クラッド層の比屈折率差Δｎ３を０．１０〜０．１３％とし、第２クラッド層の半径ｒ３を８．７５〜８．９５μｍとし、第１クラッド層の比屈折率差Δｎ２を−０．４５〜−０．４０％とし、第１クラッド層の半径ｒ２を５．５０〜５．９０μｍとし、第３クラッド層の比屈折率差Δｎ４を−０．０７〜−０．０３％とし、第３クラッド層の半径ｒ４を９．９５〜１０．１５μｍとした請求項４記載の光ファイバである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、従来の分散補償光ファイバのような複雑なプロファイルであっても、伝送損失を低く抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の好適な実施形態を添付図面にしたがって説明する。
【００２８】
図１は、本発明の好適な実施形態を示す光ファイバの屈折率分布図である。図１において横軸はコアの中心Ｏからの距離（ファイバ径）を示し、縦軸は比屈折率差を示す。
【００２９】
図１に示すように、本実施形態に係る光ファイバ（分散補償光ファイバ）１は、半径ｒ１のコア２と、そのコア２を覆う屈折率が異なる２層以上のクラッド層として、内側から順に半径ｒ２の第１クラッド層３、半径ｒ３の第２クラッド層４、半径ｒ４の第３クラッド層５、半径ｒ５の第４クラッド層６とからなり、プリフォームであるファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎ（２５０〜４００ｇｆ）の線引張力で線引して得られ、コア２の最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにしたものである。
【００３０】
コア２の最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにしたのは、この範囲外だと、複雑な屈折率プロファイルを有し、比屈折率差Δが大きい光ファイバの場合、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失が０．２５ｄＢ／ｋｍを超えてしまうからである。
【００３１】
特に、コア２の最大残留圧縮応力が１６５ＭＰａを超え、かつ第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力が３７ＭＰａを超えると、光ファイバの強度が著しく低下してしまう。また、コア２の最大残留圧縮応力が８５ＭＰａ未満、かつ第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力が２３ＭＰａ未満であると、波長１５５０ｎｍにおける伝送損失が０．２５ｄＢ／ｋｍを超えてしまうことに加え、光ファイバの製造が難しくなる。
【００３２】
コア２の残留圧縮応力と第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力は、線引張力のみに依存して変化する。このため、ファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎの線引張力で線引きして光ファイバ１を得るには、慣用の線引装置を用いてファイバ母材を線引きする際、例えば、光ファイバ１を巻き取る巻き取り機の巻き取り速度を増減速したり、ファイバ母材を加熱溶融する加熱炉を調整して線引温度（線引炉設定温度）を昇降温したりすればよい。また、慣用の線引装置において、線引中の光ファイバに当接して張力を加える進退自在な張力付加ローラなどの張力付与手段を設けることにより、光ファイバ１を得てもよい。
【００３３】
また、線引装置においては、線引き後の光ファイバ素線にＵＶ（紫外線）硬化型樹脂を被覆するため、このＵＶ硬化型樹脂の厚さや硬化後の樹脂の収縮なども考慮して、コア２の最大残留圧縮応力と第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力を決定する。
【００３４】
コア２の比屈折率差Δｎ１は、０．８５〜１．２５％にするとよい。これにより、大きな負分散を得ることができる。ここで、比屈折率差Δとは、第４クラッド層６の屈折率ｎ０に対する、対象の屈折率ｎと第４クラッド層の屈折率ｎ０の差（ｎ−ｎ０）／ｎ０のことをいう。
【００３５】
コア２を覆う第１クラッド層３の比屈折率差Δｎ２は、−０．５〜−０．２％にするとよい。これにより、大きな負分散と負分散スロープを得ることができる。
【００３６】
この光ファイバ１は、コア２の比屈折率差Δｎ１と第２クラッド層４の比屈折率差Δｎ３とを第４クラッド層６の比屈折率差Δｎ０より大きくし、第１クラッド層３の比屈折率差Δｎ２と第３クラッド層５の比屈折率差Δｎ４とを第４クラッド層６の比屈折率差Δｎ０より小さくしたものである。本実施形態では、光ファイバ１の屈折率分布を、コア２から離れるにしたがって比屈折率差の振れ幅が小さくなるように、かつ各層の境界において角部を有するように蛇行させて形成した。
【００３７】
より詳細には、コア２の比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．０５％とし、コア２の半径ｒ１を２．０５〜２．１５μｍとし、第２クラッド層４の比屈折率差Δｎ３を０．１０〜０．１３％とし、第２クラッド層４の半径を８．７５〜８．９５μｍとし、第１クラッド層３の比屈折率差Δｎ２を−０．４５〜−０．４０％とし、第１クラッド層３の半径ｒ２を５．５０〜５．９０μｍとし、第３クラッド層５の比屈折率差Δｎ４を−０．０７〜−０．０３％とし、第３クラッド層５の半径ｒ４を９．９５〜１０．１５μｍとするとよい。
【００３８】
光ファイバ１の波長分散および分散スロープは主にコア２および第１クラッド層３の径とそのΔｎ１，Δｎ２に、モードフィールド径は主にコア２の径とそのΔｎ１に、カットオフ波長は主に第１および第２クラッド層３，４の径とそのΔｎ２，Δｎ３に依存する。各層の比屈折率差Δ、径などの各パラメータを最適化し、所望の波長分散、分散スロープ、モードフィールド径、カットオフ波長を得ることができる。
【００３９】
ここで、第３クラッド層５の半径ｒ４の値は理論的には波長分散にはほとんど影響を及ぼさない。比較的変化するのはカットオフ波長であるが、このカットオフ波長は半径ｒ４が大きくなるにつれて減少するので、半径ｒ４の制限は下限しかない。ただし、製造条件的にはクラッドの堆積厚は薄い方がよく、また製造上の誤差も含めると上限は１０．１５μｍが好ましい。
【００４０】
本実施形態の作用を説明する。
【００４１】
光ファイバ１は、コア２と、屈折率が異なる第１〜第４のクラッド層３〜６とからなり、ファイバ母材を２．４５〜３．９２Ｎの線引張力で線引きし、コア２の最大残留圧縮応力を８５〜１６５ＭＰａにし、かつ第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力を２３〜３７ＭＰａにしたものである。
【００４２】
図２は光ファイバ１の軸方向応力分布図である。図２では、光ファイバ１の中心を０μｍとし、残留圧縮応力を−、残留引張応力を＋で示した。図２に示すように、コア２の最大残留圧縮応力が約１５０ＭＰａで８５〜１６５ＭＰａの範囲にあり、第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力が約３０ＭＰａで２３〜３７ＭＰａの範囲にあることがわかる。
【００４３】
これにより、光ファイバ１では、Ｗ型や３重クラッド等の複雑な屈折率分布を有する従来の分散補償光ファイバと同じ構造であっても、通信波長の１つである波長１５５０ｎｍの光における伝送損失を０．２５ｄＢ／ｋｍ以下と低く抑えることができる。
【００４４】
また、コア２の比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．０５％とすることで、波長１５５０ｎｍにおける波長分散を−５０〜−４０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍにできる。
【００４５】
コア２の半径ｒ１を２．０５〜２．１５μｍとすることで、波長１５５０ｎｍにおける波長分散を−５０〜−４０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍにできる。
【００４６】
さらに、コア２の比屈折率差Δｎ１を０．８５〜１．０５％とし、コア２の半径ｒ１を２．０５〜２．１５μｍとすることで、モードフィールド径を６．０μｍ以上にできる。
【００４７】
第１クラッド層３の比屈折率差Δｎ２を−０．４５〜−０．４０％とすることで、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープを−０．１６〜−０．１０ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍにできる。
【００４８】
第１クラッド層３の半径ｒ２を５．５０〜５．９０μｍとすることで、波長１５５０ｎｍにおける波長分散を−５０〜−４０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍにでき、かつ波長１５５０ｎｍにおける分散スロープを−０．１６〜−０．１０ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍにできる。
【００４９】
第２クラッド層４の比屈折率差Δｎ３を０．１０〜０．１３％とすることで、基準長２ｍでのカットオフ波長を１５００ｎｍ以下にできる。
【００５０】
第２クラッド層４の半径ｒ３を８．７５〜８．９５μｍとすることで、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープを−０．１６〜−０．１０ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍにでき、かつ基準長２ｍでのカットオフ波長を１５００ｎｍ以下にできる。
【００５１】
第３クラッド層５の比屈折率差Δｎ４を−０．０７〜−０．０３％とすることで、基準長２ｍでのカットオフ波長を１５００ｎｍ以下にでき、かつ波長１５５０ｎｍにおける分散スロープを−０．１６〜−０．１０ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍにできる。
【００５２】
第３クラッド層５の半径ｒ４を９．９５〜１０．１５μｍとすることで、基準長２ｍでのカットオフ波長を１５００ｎｍ以下にできる。
【００５３】
上記実施形態では、クラッドが第１〜第４のクラッド層３〜６からなる例で説明したが、クラッドは２層以上からなるものであればよい。
【実施例】
【００５４】
（実施例１）
光ファイバ１は、一般的な光ファイバの製造方法であるＭＣＶＤ（内付け）法、ＶＡＤ（軸付け）法、ＯＶＤ（外付け）法等により製造される。以下、ＭＣＶＤ法による光ファイバ１の製造方法について説明するが、本発明はＭＣＶＤ法で製造される光ファイバに限定されるものではない。
【００５５】
図３はＭＣＶＤ法によるコアロッドの製造方法の模式図である。
【００５６】
バブラー酸素供給管３０を通してバブラー３１に純粋酸素を供給し、その純粋酸素でバブリングした原料ガスｇを、回転継手からなる回転導入端子３２を通して軸周りに回転する出発石英管３３の内部に導入する。原料ガスｇは、例えばＳｉＣｌ4 、ＧｅＣｌ4 、Ｏ2 、Ｈｅ、Ｃｌ2 、Ｃ2 Ｆ6 等が挙げられる。
【００５７】
これらの原料ガスｇを石英管３３外側から石英管３３の長手方向に沿って移動する酸水素バーナ３４で加熱し、化学反応によりスート粒子３５を生成させる。このスート粒子３５は一部が石英管３３の内面に付着・堆積し、残りは排気管３６を通りスートボックス３７に排出される。石英管３３の内面に付着したスート粒子３５は、再度酸水素バーナ３４で加熱することで透明ガラス化する。
【００５８】
以上の工程を必要なだけ繰り返し、第４クラッド層６、第３クラッド層５、第２クラッド層４、第１クラッド層３、コア２の順に形成する。
【００５９】
このとき、コア２の比屈折率差Δｎ１＝０．９１７％、線引き後の半径ｒ１＝２．１０６μｍ、第１クラッド層３の比屈折率差Δｎ２＝−０．４３６％、線引き後の半径ｒ２＝５．６８１μｍ、第３クラッド層４の比屈折率差Δｎ３＝０．１１６％、線引き後の半径ｒ３＝８．８８４８μｍ、第３クラッド層５の比屈折率差Δｎ４＝−０．０５１％、線引き後の半径ｒ４＝１０．０５５μｍとなるように、各層の比屈折率差Δと各層間の外径の比率とを考慮して形成する。
【００６０】
スート粒子３５の堆積、透明ガラス化が終了した後、中心の残った空間を閉鎖するために酸水素バーナ３４の火力を増加させ、石英管３３の表面張力で中実化させ、コアロッドを製造する。
【００６１】
このようにして得られたコアロッドに、例えばＶＡＤ法により純粋石英のスートを外付け、焼結して線引母材（ファイバ母材）とする。この線引母材を、線引温度２０５０℃、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、線引張力２．９４Ｎ（３００ｇｆ）で線引きし、光ファイバ１を得る。
【００６２】
その結果、得られた光ファイバ１は、コア２の最大残留圧縮応力が１２４ＭＰａ、第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力が３０ＭＰａとなった。光ファイバ１の特性を測定したところ、ＭＦＤが６．１６μｍであり、分散が−４６．０９ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープが０．１２８ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍであり、ケーブルカットオフ波長が１４１９ｎｍであり、波長１５５０ｎｍでの伝送損失が０．２４２ｄＢ／ｋｍと良好な特性が得られた。
【００６３】
（実施例２）
実施例１と同様のコアロッドを用いて実施例１よりも線引温度を下げて、線引温度２０２０℃、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、線引張力３．４３Ｎ（３５０ｇｆ）で線引きした。その結果、コア２の最大残留応力は１６１ＭＰａ、第１〜第４クラッド層３〜６の最大残留引張応力は３７ＭＰａとなった。この光ファイバ１の特性を測定したところ、ＭＦＤが６．１５μｍであり、分散が−４６．１０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープが−０．１１７ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍであり、ケーブルカットオフは長が１４９０ｎｍであり、波長１５５０ｎｍでの伝送損失が０．２４０ｄＢ／ｋｍと良好な特性が得られた。
【００６４】
（実施例３）
実施例１と同様のコアロッドを用いて実施例１よりも線引温度を上げて、線引温度２０８０℃、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、線引張力２．４５Ｎ（２５０ｇｆ）で線引きした。その結果、コアの最大残留応力は９９ＭＰａ、クラッドの最大残留引張応力は２６ＭＰａとなった。本光ファイバの特性を測定したところ、ＭＦＤが６．２３μｍであり、分散が−４８．０９ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープが−０．１４５ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍであり、ケーブルカットオフは長が１２４４ｎｍであり、波長１５５０ｎｍでの伝送損失が０．２４９ｄＢ／ｋｍと良好な特性が得られた。
【００６５】
（比較例１）
実施例１と同様のコアロッドを用いて実施例３よりもさらに線引温度を上げて、線引温度２１００℃、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、線引張力１．９６Ｎ（２００ｇｆ）で線引きした。その結果、コアの最大残留応力は３８ＭＰａ、クラッドの最大残留引張応力は１６ＭＰａとなった。この光ファイバの特性を測定したところ、ＭＦＤが６．３３μｍであり、分散が−５３．０９ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、波長１５５０ｎｍにおける分散スロープが−０．１５２ｐｓ／ｎｍ2 ／ｋｍであり、ケーブルカットオフは長が１２４４ｎｍであり、波長１５５０ｎｍでの伝送損失が０．２９９ｄＢ／ｋｍとなり、伝送損失が増加した。
【００６６】
（比較例２）
実施例１と同様のコアロッドを用いて実施例２よりもさらに線引温度を下げて、線引温度２０００℃、線引速度２００ｍ／ｍｉｎ、線引張力３．９２Ｎ（４００ｇｆ）で線引きした。その結果、コアの最大残留応力は１８１ＭＰａ、クラッドの最大残留引張応力は４０ＭＰａとなった。この光ファイバを１％プルーフ試験をしたところ断線し、強度が低下した。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の好適な実施形態を示す光ファイバの屈折率分布図である。
【図２】図１に示した光ファイバの応力分布図である。
【図３】図１に示した光ファイバの製造に用いるＭＣＶＤ法によるコアロッド製造装置の模式図である。
【図４】波長多重伝送時の実効断面積拡大光ファイバと分散・分散スロープ補償光ファイバによるハイブリッド伝送路の累積分散を示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  光ファイバ
２  コア
３  第１クラッド層
４  第２クラッド層
５  第３クラッド層
６  第４クラッド層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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