(57)【要約】【課題】触媒濃度の極めて低い条件化においてＸＲＦ分析を実施するに際し、高精度のＸＲＦ分析結果を得ることのできる触媒特定方法を提供する。【解決手段】マトリックス担体に金属触媒が担持されてなる触媒コート層１において、Ｘ線照射によって励起される金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層１を準備する第１のステップと、触媒コート層１にＸ線を照射して金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物からなるマトリックス担体に貴金属からなる金属触媒が担持されてなる触媒コート層において、Ｘ線照射によって励起される該金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、該金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、
Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層を準備する第１のステップと、
前記触媒コート層にＸ線を照射して前記金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなる触媒特定方法。
【請求項２】
前記触媒コート層の厚みが２０μｍ以下である請求項１に記載の触媒特定方法。
【請求項３】
前記触媒コート層は、触媒を含有する前記金属酸化物のスラリーを層状に形成し、乾燥させ、焼成して製造されたものである請求項１または２に記載の触媒特定方法。
【請求項４】
前記貴金属は、白金、ロジウム、パラジウムのうちの少なくともいずれか一種からなる請求項１から３のいずれかに記載の触媒特定方法。
【請求項５】
前記マトリックス担体を形成する金属酸化物は、ジルコニアとアルミナ、セリアとアルミナ、セリア−ジルコニアとアルミナ、の混合素材のうちのいずれか一種からなる請求項１から４のいずれかに記載の触媒特定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は触媒特定方法に関し、特に低濃度の金属触媒の濃度および分布を特定することができる触媒特定方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
三元触媒、ＮＯｘ触媒等の各種触媒を構成する触媒層中の触媒金属（貴金属）の濃度やその分布（触媒層内における分布、複数のマトリックス担体からなる場合は各マトリックス担体への金属触媒の偏析の状態等）を測定、特定する方法として、電子プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ：Electron Probe Micro Analyzer）を用いた測定方法が知られている。
【０００３】
ところで、触媒コート層を構成する金属触媒の担持量、すなわち金属触媒濃度は、レアメタルである触媒金属の材料コストの高騰やその比表面積を増大させるための様々な技術改良等によって低下傾向にあり、たとえば触媒金属が白金等の場合には、0.25質量％程度の低濃度の白金分布を上記ＥＰＭＡによって測定する必要が生じている。
【０００４】
触媒金属が担持されるマトリックス担体としては、セリア（CeO2）、ジルコニア（ZrO2）、アルミナ（Al2O3）等を挙げることができる。これらは相互に数μｍの異なるバックグラウンド（ＢＧ）を有していることから、これらのマトリックス担体が混合され、各担体に触媒金属が担持されてなる触媒コート層に対して、その触媒金属の濃度や分布を精緻に評価するためには、各担体組成に応じたＢＧ処理をおこなう必要があり、そのための有効な方法が特許文献１や特許文献２に開示されている。
【０００５】
一方、上記するように、触媒金属濃度が極めて低い状況下でＥＰＭＡ分析をおこなう場合には、各触媒金属に固有のＸ線（特性信号）が低下する、すなわち、感度が不足することとなる。ここで、図９は、0.1質量％の低濃度のロジウム分布をＥＰＭＡによって測定したＢＳＥ画像（Back Scattered Electron）の結果である。図示するように、ロジウム固有のＸ線が低下したため、ロジウムを含む上層とロジウムを含まない下層の間に差異が確認できず、このＢＳＥ画像からロジウムの濃度および分布を精緻に測定することはできない。したがって、このような触媒金属濃度が極めて低い状況下においては、測定試料に対してより高い強度の電子線を照射せざるを得ない。
【０００６】
ところで、上記するＥＰＭＡ分析においては、適宜の基材表面に形成されたこの触媒からなるコート層を樹脂で包埋し（包埋樹脂層）、さらに、この包埋樹脂層の表面に金等の貴金属を蒸着することでその導電性を担保するようにしている。より具体的には、触媒コート層表面に包埋樹脂層を形成後、この表面を研磨し、包埋樹脂層の研磨面に金等を蒸着する。このようにして、たとえば多孔質の触媒コート層に対して、照射された電子がその細孔内に溜まるのを（チャージアップ）防止することができる。
【０００７】
しかしながら、上記するような高い強度を有する電子線を１μｍ程度の微細範囲に照射すると、電子線が直接的に照射される包埋樹脂層の表面側から電子線による破壊が生じ、これが触媒コート層にまで進展してその上層に亀裂が生じ得るといった問題がある。これは、触媒コート層と包埋樹脂層の界面強度が弱いことにより、この界面近傍で起こった損傷を起点として触媒コート層の表層が破壊され、さらにこの破壊がコート層内部にまで進展するという、亀裂進展のメカニズムによるものである。測定対象となる試料の表面にこのような亀裂等の損傷が生じると、試料によるＸ線吸収のバランスが崩れてしまい、精緻にＢＧ処理をおこなうことができない。
【０００８】
そこで、近年、電子線照射による試料表面の損傷を抑制しながら、触媒層中の触媒金属（貴金属）の濃度やその分布を測定、特定する方法として、蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ：X-ray fluorescence analysis）を用いた測定方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−２８６６９８号公報
【特許文献２】特開昭６２−２８５０４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
このＸＲＦ分析は、測定対象となる試料にＸ線を照射し、それによって励起される測定試料に含まれる元素特有の蛍光Ｘ線をＸ線検出器にて検出することで、検出された蛍光Ｘ線のエネルギから元素の種類を特定し、その強度から元素の濃度を測定する測定方法である。ＸＲＦ分析は、試料にＸ線を照射することによって、電子線照射による試料表面の損傷が抑制されるとともに、表面に金等を蒸着する導電処理（前工程）が不要であり、ＥＰＭＡと比較して簡便な測定方法である。
【００１１】
また、ＥＰＭＡ分析で使用される電子線の浸透深さは約1μｍであるのに対し、ＸＲＦ分析で使用されるＸ線は一般に数十μｍ深さまで浸透することができ、電子線よりもＸ線の浸透深さが深いことから、ＸＲＦ分析においては試料深さ方向の情報を得ることができ、ＥＰＭＡ分析よりも精緻に触媒金属の分布や濃度を測定することができる。
【００１２】
その一方で、上記するＸＲＦ分析においては、触媒金属が担持されるマトリックス担体に由来する信号が、触媒層中の触媒金属（貴金属）の信号に干渉するといった問題があることが発明者等によって特定されている。
【００１３】
ここで、図１０は、触媒金属（貴金属）を含まない触媒コート層に対するＸＲＦ分析結果を示したものである。同図においては、触媒コート層の厚みの異なる２種類の検査用試料（それぞれ、20μｍと7ｍｍ）に対してＸＲＦ分析を実施した結果を示している。
【００１４】
図１０に示すように、触媒コート層の厚みが小さい（20μｍ）検査用試料においては、全体としてＸ線強度が低いものの、たとえばロジウム（Rh）のＫα線に対応する20.2keVや、パラジウム（Pd）のＫβ線に対応する23.8keVのＸ線エネルギでは、マトリックス担体に由来する信号が検出されていない。その一方で、触媒コート層の厚みが大きい（7ｍｍ）検査用試料においては、ロジウム（Rh）のＫα線に対応する20.2keVやパラジウム（Pd）のＫβ線に対応する23.8keVのＸ線エネルギ近傍にて、マトリックス担体（この場合、ジルコニウム（Zr））に由来する信号の散乱ピークが検出されている。
【００１５】
このように、触媒コート層の厚みの大きい検査用試料においては、マトリックス担体に由来する信号が触媒金属（貴金属）の信号に干渉してしまい、特に触媒金属濃度の極めて低い状況下においては、この触媒金属の濃度や分布を精緻に測定できない可能性があることが確認された。
【００１６】
また、ＸＲＦ分析においては、触媒層中の触媒金属（貴金属）の信号（蛍光Ｘ線）の一部が、測定試料の内部からその外部へ放出される際にマトリックス担体に吸収され、Ｘ線検出器にて検出される触媒金属の信号（蛍光Ｘ線強度）が相対的に低下するといった問題があることも知られている。すなわち、触媒コート層の厚みが大きい試料において試料深さの深い箇所に存在する触媒金属から励起される蛍光Ｘ線は主としてマトリックス担体に吸収され、試料深さの比較的浅い箇所に存在する触媒金属から励起される蛍光Ｘ線のみがＸ線検出器に検出される。その一方で、マトリックス担体に由来する信号は、試料深さの深い箇所からも試料外部に放出されてＸ線検出器にて検出される。したがって、触媒コート層の厚みが大きい試料においては、Ｘ線検出器にて検出される触媒金属（貴金属）の信号強度がマトリックス担体に由来する信号強度に対して相対的に低下して、触媒金属の濃度や分布を精度良く測定することができないといった問題が生じる。
【００１７】
本発明は上記する課題に鑑みてなされたものであり、触媒金属濃度の極めて低い状況下において、高精度のＸＲＦ分析結果を得ることができ、触媒金属の濃度や分布を精緻に測定することができる触媒特定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記目的を達成すべく、本発明による触媒特定方法は、金属酸化物からなるマトリックス担体に貴金属からなる金属触媒が担持されてなる触媒コート層において、Ｘ線照射によって励起される該金属触媒に固有のＸ線エネルギとＸ線強度を検出する蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）を使用して、該金属触媒の濃度もしくは分布を特定する触媒特定方法であって、Ｘ線照射方向に１００μｍ以下の厚みを有する触媒コート層を準備する第１のステップと、前記触媒コート層にＸ線を照射して前記金属触媒の濃度もしくは分布を特定する第２のステップからなるものである。
【００１９】
上記するように、触媒コート層の厚みが大きくなると、マトリックス担体に由来する信号が触媒金属の信号に干渉しやすくなるとともに、触媒コート層の深い箇所に存在する触媒金属から励起される蛍光Ｘ線がマトリックス担体に吸収され、金属触媒の濃度もしくは分布を精緻に特定することができなくなる。
【００２０】
上記する触媒特定方法によれば、触媒コート層の厚みを１００μｍ以下とする極めて簡易な試料構成を適用することで、たとえば触媒金属濃度の極めて低い状況下においても、触媒金属の信号に対するマトリックス担体に由来する信号の干渉を抑制することができ、マトリックス担体に吸収される触媒金属の蛍光Ｘ線の量を抑制することができる。したがって、触媒金属から励起されるＸ線強度がマトリックス担体から励起されるＸ線強度に対して相対的に低下する、すなわち触媒金属から励起される信号がマトリックス担体から励起される信号等に埋もれてしまうことを効果的に防止することができ、測定対象である触媒金属の濃度や分布を精緻に測定することができる。
【００２１】
また、前記触媒コート層の厚みは２０μｍ以下であることが好ましい。触媒コート層の厚みが２０〜１００μｍの間では、その厚みが大きくなるにしたがってＸ線検出器等にて検出される試料全体の信号強度は大きくなる一方で、触媒金属の信号強度がマトリックス担体の信号強度に対して相対的に低下していくため、触媒コート層の厚みを２０μｍ以下とすることで、触媒コート層内の触媒金属の濃度や分布をより精緻に測定することが可能となる。
【００２２】
ここで、前記触媒コート層は、触媒を含有する前記金属酸化物のスラリーを層状に形成し、乾燥させ、焼成して製造されたものであってもよい。
【００２３】
また、前記貴金属としては、白金、ロジウム、パラジウムのうちの少なくともいずれか一種を適用することができる。また、前記マトリックス担体を形成する金属酸化物としては、ジルコニアとアルミナ、セリアとアルミナ、セリア−ジルコニアとアルミナ、の混合素材のうちのいずれか一種を適用することができる。
【００２４】
なお、上記する貴金属の白金（Pt、原子番号：78）とロジウム（Rh、原子番号：45）とパラジウム（Pb、原子番号：46）は、元素周期表において互いに隣接する元素であって、硬くて脆い銀白色を呈し、腐食に強くて重いという共通の特性を有しており、白金族元素と称される元素群に分類される元素である。そのため、それらの元素は、物理的および化学的性質が相互に極めて類似する元素であり、ＸＲＦ分析においても同様の特性を示す元素である。
【発明の効果】
【００２５】
以上の説明から理解できるように、本発明の触媒特定方法によれば、触媒コート層の厚みを所定値以下とする極めて簡易な試料構成を適用することで、触媒金属（貴金属）から励起される信号強度がマトリックス担体から励起される信号強度に対して相対的に低下することを効果的に防止することができ、もって、触媒濃度が極めて低い条件下において、高精度なＸＲＦ分析結果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の触媒特定方法にて触媒金属の濃度、分布を特定する状況を説明した模式図である。
【図２】試料厚さと信号強度の関係を示した図である。
【図３】触媒金属とマトリックス担体の信号（蛍光Ｘ線）と試料深さの関係を説明した図である。
【図４】実施例１の試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図５】実施例２の試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図６】実施例３の試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図７】実施例４の試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図８】比較例の試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図９】低濃度のロジウムを含む試料に対するＥＰＭＡ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【図１０】触媒金属を含まない試料に対するＸＲＦ分析結果を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の触媒特定方法にて触媒金属の濃度、分布を特定する状況を説明した模式図である。なお、図示例は、触媒コート層が１層構造を呈するものであるが、上層、下層の２層構造のものや、３層以上の積層構造のものであってもよい。
【００２８】
図１で示す検査用試料１０は、基材Ｋ表面上に触媒コート層１が積層され、触媒コート層１表面上に包埋樹脂層２が積層されたものである。
【００２９】
ここで、触媒コート層１は、マトリックス担体を形成する金属酸化物、より具体的には、ジルコニアとアルミナ、セリアとアルミナ、セリア−ジルコニアとアルミナ、の混合素材のうちのいずれか一種に対して、白金、ロジウム、パラジウムのうちの少なくともいずれか一種の貴金属（金属触媒）が担持されたものである。
【００３０】
上記検査用試料１０の作製方法を概説すると、まず、たとえばセラミックスからなる基材Ｋに対し、貴金属からなる触媒金属を含有した金属酸化物のスラリーを層状に形成し、乾燥させ、焼成して触媒コート層１を製造する。次に、この触媒コート層１から数ｃｍ立方の試料を切り出し、アクリル、エポキシ等の樹脂埋め操作を行うことで触媒コート層１の表面に包埋樹脂層２を形成する。最後に、この試料の厚みが所望の厚みＴ（たとえば、100μｍ以下）となるようにその表面を研磨して検査用試料１０が得られる。
【００３１】
上記方法で作製された検査用試料１０に対してＸＲＦ分析を実施する。具体的には、検査用試料１０に対して、所定強度のＸ線を所定の積分時間だけ照射し（Ｘ１方向）、触媒コート層１に含有される金属触媒やマトリックス担体を形成する金属酸化物等に固有（特有）の蛍光Ｘ線をＸ線検出器Ｓで検出する（Ｙ１方向）。
【００３２】
そして、Ｘ線検出器Ｓで検出された金属触媒固有のＸ線（触媒金属のピーク信号）とそれ以外のＸ線（触媒金属ＢＧ信号）の差分演算を実施してＢＳＥ画像を得ることで、触媒金属の濃度や分布を特定することが可能となる。
【００３３】
上記する触媒特定方法によれば、触媒コート層に含まれる触媒金属が低濃度であっても、触媒コート層の破損を防止しながら、金属触媒固有のＸ線（触媒金属のピーク信号）がそれ以外のＸ線（触媒金属ＢＧ信号）に埋もれてしまうことを確実に防止することができ、精緻に触媒金属の濃度分布を特定することができる。
【００３４】
［検査用試料の厚みによる効果を検証した実験とその結果］
本発明者等は、試料厚みの異なる５種類の検査用試料（実施例１〜４、比較例）を作製し、それぞれの試料に対してＸＲＦ分析を実施した。
【００３５】
実施例１〜４の試料厚みはそれぞれ、10μｍ、20μｍ、40μｍ、100μｍであり、比較例の試料厚みは7ｍｍである。なお、実施例１〜４と比較例の触媒コート層については、本実験における触媒コート層に含まれる貴金属の測定の可否を明確とするべく、触媒金属を含む上層と触媒金属を含まない下層からなる２層構造のものを使用した。
【００３６】
まず、検査用試料の作製方法を説明すると、触媒コート層は、その上層の触媒金属に0.05質量％のロジウムを使用し、マトリックス担体としてジルコニア−セリアとアルミナの混合材を使用した。また、その下層には、触媒金属を使用せず、マトリックス担体としてのジルコニア−セリアとアルミナの混合材のみを使用した。上記触媒を約10×10×10ｍｍの試験片で切り出し、その表面に包埋樹脂層を形成した。
【００３７】
実施例１〜４においては、その樹脂埋め試料をミクロトームにて約100μｍまで薄片化し、この薄片化した樹脂埋め試料を、炭化水素系のワックス（数μｍ厚さ）を用いて石英ガラスの基台（約0.3ｍｍ厚さ）に固定して、ダイヤモンド研磨によって所望の厚みとなるようにその表面を研磨した。また、比較例においては、樹脂埋め試料をミクロトームにて約7ｍｍまで薄片化し、この薄片化した樹脂埋め試料を石英ガラスの基台に固定して、ダイヤモンド研磨によって7ｍｍ厚さとなるようにその表面を研磨した。
【００３８】
上記作製方法によって、実施例１〜４と比較例の各検査用試料を作製し、これらについて以下の条件でＸＲＦ分析を実施した。なお、Ｘ線照射装置としては、大強度Ｘ線を照射することのできるSPring-8 BL37XUを使用した。
【００３９】
上記ＸＲＦ分析において照射されるＸ線の条件は、Ｘ線強度を109photon/(μｍ２・ｓ)、Ｘ線エネルギを25ｋｅＶ、Ｘ線の大きさを0.8×1.3μｍとした。
【００４０】
図２は、検査用試料の厚さとＸＲＦ分析にて検出したロジウム（Rh）およびジルコニウム（Zr）の信号強度との関係を示したものである。なお、図２の横軸は試料厚さ、縦軸は規格化された平均信号強度を示している。
【００４１】
図示するように、ロジウムの信号強度は、試料厚さが20μｍまでは急激に増加するものの、試料厚さが20μｍを超えるとその増加率が低下し、約40μｍにおいて規格化された平均信号強度が１となることが確認できた。すなわち、試料深さが40μｍよりも深い領域に存在するロジウムの信号は試料外部に脱出することができないため、たとえば試料厚みを40μｍ以上としたとしてもＸ線検出器にて検出されるロジウムの信号はこれ以上増加しないことが実証された。
【００４２】
一方、ジルコニウムの信号強度は、試料厚さが20μｍまではロジウムと同様に急激に増加し、20μｍ近傍で変曲点を迎え、20μｍを超えるとその増加率が低下するもの、試料厚さが大きくなるにしたがってその信号強度は増加し続けることが確認できた。すなわち、ジルコニウムの信号は試料内部の深い領域であっても試料外部へ脱出することができ、Ｘ線検出器にて検出されるジルコニウムの信号は、試料厚さが大きくなるにしたがって増加することが実証された。
【００４３】
図３は、ロジウムとジルコニウムの信号（蛍光Ｘ線）と試料深さの関係を説明した図である。図示するように、試料表面から約40μｍまでの領域に存在するロジウムの信号は試料外部へ脱出して、その信号がＸ線検出器にて検出される（矢印Ｒ１）。しかしながら、試料表面から約40μｍよりも深い領域に存在するロジウムの信号は、試料に含まれるジルコニウムに吸収されてＸ線検出器では検出されない（矢印Ｒ２）。その一方で、ジルコニウムの信号は、そのジルコニウムが試料表面から約40μｍよりも深い領域に存在する場合であっても試料外部へ脱出することができ、試料外部に配置されたＸ線検出器にて検出される（矢印Ｚ１）。
【００４４】
このように、試料厚さが40μｍよりも大きな検査用試料においては、ロジウムの信号の一部がジルコニウムに吸収されるため、ロジウムの信号強度がジルコニウムの信号強度に対して相対的に小さくなることが実証された。
【００４５】
次に、本発明者等は、実施例１〜４と比較例の検査用試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像を検証した。図４〜８はそれぞれ、実施例１〜４と比較例の検査用試料に対するＸＲＦ分析結果を示したＢＳＥ画像である。
【００４６】
まず、図４に示すように、実施例１（10μｍ厚さ）では、その厚さが薄いために信号強度が低いものの、ロジウムが含まれる触媒コート層の上層とロジウムが含まれない触媒コート層の下層との境界を確認することができ、触媒コート層の上層内に含まれるロジウムの濃度分布を測定できることが実証された。なお、Ｘ線強度やＸ線エネルギを大きくすることで、Ｘ線検出器にて検出される信号強度を高めることができ、図示例よりも更に測定精度を向上させることができる。また、図示するように、マトリックス担体に含まれるジルコニウムやセリウムについても、触媒コート層の上層と下層における濃度分布を精緻に測定できることが実証された。
【００４７】
次に、図５に示すように、実施例２（20μｍ厚さ）では、実施例１と比較して触媒コート層の上層内に含まれるロジウムの濃度分布を更に精緻に測定できることが実証された。これは、検査用試料の厚みが増加することで、触媒コート層に含まれる元素から励起される信号量が増加し、Ｘ線検出器にて検出される信号強度が増加したためである。
【００４８】
次に、図６に示すように、実施例３（40μｍ厚さ）では、実施例２と比較して測定精度が低下するものの、依然として触媒コート層の上層内に含まれるロジウムの濃度分布を測定できることが実証された。これは、試料厚みが20μｍよりも大きくなることで、触媒コート層に含まれるロジウムの信号とジルコニウムの信号が干渉しやすくなるものの、ロジウムの信号がジルコニウムに吸収されることなくＸ線検出器にて検出できたためであると考えられる。
【００４９】
また、図７に示すように、実施例４（100μｍ厚さ）では、実施例３と比較して更に測定精度が低下するものの、依然として触媒コート層に上層内に含まれるロジウムの濃度分布を測定できることが実証された。上記するように、試料厚みが40μｍよりも大きくなると、ロジウムの信号は飽和（規格化された平均信号強度が１となる）してＸ線検出器にて検出されるロジウムの信号強度は増加しない。その結果、ＸＲＦ分析によるロジウムの濃度分布の測定精度は必然的に低下することとなる。しかしながら、Ｘ線検出器にて検出されたロジウムの蛍光Ｘ線とそれ以外の蛍光Ｘ線を用いることで、図示するように依然としてその差分を演算することができるため、この実施例４においてもロジウムの濃度分布を測定できたと考えられる。
【００５０】
一方で、図８に示すように、比較例（7ｍｍ厚さ）では、試料厚みが大きいためにロジウムが含まれる触媒コート層の上層とロジウムが含まれない触媒コート層の下層との境界を明確に確認することができず、触媒コート層の上層内に含まれるロジウムの濃度分布を精緻に測定できることができなかった。
【００５１】
この実験結果より、検査用試料（触媒コート層）の厚みを100μｍ以下として、ＸＲＦ分析をおこなう本発明の触媒特定方法を適用することで、触媒金属濃度が低濃度である条件下においても、特定対象の触媒金属の濃度分布を精緻に特定できることが実証された。
【００５２】
以上、本発明の実施の形態を図面を用いて詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計変更等があっても、それらは本発明に含まれるものである。
【符号の説明】
【００５３】
１…触媒コート層、２…包埋樹脂層、１０…検査用試料、Ｋ…基材、Ｓ…Ｘ線検出器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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