【事件の表示】
　平成１０年特許願第　８５９３５号「薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成１１年１０月１５日出願公開、特開平１１−２８３２１６、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１　手続の経緯
　　　特許出願　　　　　　　　　　　　平成１０年　３月３１日
　　　拒絶理由通知　　　　　　　　　　平成１３年１０月１２日
　　　意見書・手続補正書１　　　　　　平成１３年１２月１７日
　　　拒絶査定　　　　　　　　　　　　平成１４年　６月２０日
　　　審判請求　　　　　　　　　　　　平成１４年　７月２５日
　　　手続補正書２　　　　　　　　　　平成１４年　８月２６日
　　　前置報告　　　　　　　　　　　　平成１４年１０月２２日
　
２　本願発明
　上記手続補正書１，２で補正された明細書及び図面の記載から見て、本件特許請求の範囲請求項１〜５に係る発明は、上記手続補正書２に記載されたとおりの次の事項で特定されるものである。
「【請求項１】
　磁気記録媒体と対向する磁極部分を有する第１の磁性層と、
　この第１の磁性層の磁極部分の端面とともにエアベアリング面を構成する磁極部分を有し、エアベアリング面から離れた位置において第１の磁性層と磁気的に連結された第２の磁性層と、
　少なくとも前記エアベアリング面において第１の磁性層の磁極部分と第２の磁性層の磁極部分との間に介挿された非磁性材料より成るライトギャップ層と、
　前記第１および第２の磁性層の間に、絶縁分離された状態で配設された部分を有する薄膜コイルと、
　前記第１および第２の磁性層、ライトギャップ層、絶縁層および薄膜コイルを支持する基体とを具える薄膜磁気ヘッドであって、
　前記薄膜コイルのコイル巻回体が、電気メッキのシード層として作用し、リアクティブイオンエッチングによって所定のパターンに形成されたＴｉ−ＴｉＮよりなるシード層と、このシード層の、前記基体とは反対側の面に電解メッキにより堆積された銅よりなるコイル本体とを具えることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】
　磁気記録媒体と対向する磁極部分を有する第１の磁性層と、
　この第１の磁性層の磁極部分の端面とともにエアベアリング面を構成する磁極部分を有し、エアベアリング面から離れた位置において第１の磁性層と磁気的に連結された第２の磁性層と、
　少なくとも前記エアベアリング面において第１の磁性層の磁極部分と第２の磁性層の磁極部分との間に介挿された非磁性材料より成るライトギャップ層と、
　前記第１および第２の磁性層の間に、絶縁分離された状態で配設された部分を有する薄膜コイルと、
　前記第１および第２の磁性層、ライトギャップ層、絶縁層および薄膜コイルを支持する基体とを具え、
　前記薄膜コイルのコイル巻回体が、電気メッキ用シード層と、このシード層の、前記基体とは反対側の面に電気メッキにより堆積された導電材料のコイル本体とで形成された薄膜磁気ヘッドであって、
　前記シード層を、リアクティブイオンエッチングにより所定のパターンに形成されたＴｉ−ＴｉＮよりなるシード層本体と、このシード層本体の、前記基体とは反対側の面に形成された銅層との２層構造とし、前記コイル本体を前記銅層の上に電気メッキで形成された銅としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】
　前記薄膜コイルの、前記第１および第２の磁性層で囲まれる部分の順次のコイル巻回体の間隔を０．８〜１．５μｍとしたことを特徴とする請求項１または２の何れかに記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項４】
　磁気記録媒体と対向する磁極部分を有する第１の磁性層と、
　この第１の磁性層の磁極部分の端面とともにエアベアリング面を構成する磁極部分を有し、エアベアリング面から離れた位置において第１の磁性層と磁気的に連結された第２の磁性層と、
　少なくとも前記エアベアリング面において第１の磁性層の磁極部分と第２の磁性層の磁極部分との間に介挿された非磁性材料より成るライトギャップ層と、
　前記第１および第２の磁性層の間に絶縁体を介して配設された部分を有する薄膜コイルと、
　前記第１および第２の磁性層、ライトギャップ層、絶縁層および薄膜コイルを支持する基体とを具える薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、
　前記薄膜コイルを形成する工程が、
　前記基体によって支持されるように第１の絶縁層を形成する工程と、
　この第１の絶縁層の表面に、Ｔｉ−ＴｉＮより成る電気メッキ用のシード層を形成する工程と、
　このシード層の上に、コイル状の溝を形成したフォトレジストを形成する工程と、
　このフォトレジストをマスクとして電気メッキを施して、前記溝の底部に露出するシード層の上に銅より成るコイル巻回体を形成する工程と、
　前記フォトレジストを除去した後、コイル巻回体間に残存するシード層を、フレオン系または塩素系ガスを用いるリアクティブイオンエッチングによって除去する工程と、
　前記コイル巻回体を覆うように第２の絶縁層を形成する工程と、
を具えることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項５】
　磁気記録媒体と対向する磁極部分を有する第１の磁性層と、
　この第１の磁性層の磁極部分の端面とともにエアベアリング面を構成する磁極部分を有し、エアベアリング面から離れた位置において第１の磁性層と磁気的に連結された第２の磁性層と、
　少なくとも前記エアベアリング面において第１の磁性層の磁極部分と第２の磁性層の磁極部分との間に介挿された非磁性材料より成るライトギャップ層と、
　前記第１および第２の磁性層の間に絶縁体を介して配設された部分を有する薄膜コイルと、
　前記第１および第２の磁性層、ライトギャップ層、絶縁層および薄膜コイルを支持する基体とを具える薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、
　前記薄膜コイルを形成する工程が、
　前記基体によって支持されるようにアルミナより成る第１の絶縁層を形成する工程と、
　この第１の絶縁層の表面に、Ｔｉ−ＴｉＮより成るシード層本体を形成する工程と、
　このシード層本体の上に銅層を形成する工程と、
　この銅層の上に、コイル状の溝を形成したフォトレジストを形成する工程と、
　このフォトレジストをマスクとして電気メッキを施して、前記溝の底部に露出する銅層の上に銅より成るコイル巻回体を形成する工程と、
　前記フォトレジストを除去した後、コイル巻回体間に残存する前記銅層をアルゴン系ガスを用いるスパッターエッチングによって除去する工程と、
　コイル巻回体間に残存する前記シード層本体をフレオン系または塩素系ガスを用いるリアクティブイオンエッチングによって除去する工程と、
　前記コイル巻回体を覆うように第２の絶縁層を形成する工程と、
を具えることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。」
　
３　引用例
（１）　引用文献１（特開昭６３−１１３８１２号公報）には、有機樹脂膜２の表面に溝２０を形成し、全表面にＣｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｔａなどのメッキ下地膜４を形成し、その上にＣｕ，Ｎｉ，Ａｕなどの金属膜５を形成した後、全面エッチバックを施し、平坦とした表面に有機絶縁膜を設けて薄膜コイルを形成する技術が開示されている。
（２）　引用文献２（特開平０６−２６７７７６号公報）には、絶縁膜３１ａの表面に溝を形成し、全表面にＣｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｎｉ，Ｆｅなどの下地膜４２を形成し、さらにその上にＣｕ，Ａｌ，Ａｕ，Ａｇなどの導体３を真空蒸着により形成し、機械的な研磨を行って余分な導体３を除去して薄膜コイル４３を形成する技術が開示されている。
（３）　引用文献３（特開平０２−２３０５０５号公報）には、ＴａまたはＴｉより成るメッキ下地膜２を形成し、Ｃｕメッキ層３を形成し、Ｃｕメッキ層の間に残存する下地膜２をＣＦ４ガスを主成分とする雰囲気中におけるリアクティブイオンエッチングによって除去して薄膜コイルを形成する技術が開示されている。さらに、この引用文献３には、メッキ下地膜を、Ｃｒ層５とＣｕ層６との２層構造とすることが第２図に開示されている。
（４）　引用文献４（特開平０９−１１５１１１号公報）には、第１のシード層３０３をＴｉ，Ｃｒなどで形成し、第２のシード層３０４をＡｕ，Ｐｄなどで形成した２層構造のシード層が開示されている。
　またメッキ後、余分なシード層を塩素プラズマ反応性イオンエッチングによって除去することが開示されている。
　
４　本願発明と引用例との対比
（１）　請求項１について
　請求項１の特定された事項である、「Ｔｉ−ＴｉＮよりなるシード層」と「銅よりなるコイル本体」との組み合わせは上述した引用文献１〜４には開示されていない。
　しかも「Ｔｉ−ＴｉＮよりなるシード層」を用いることにより、明細書【００３３】記載のコイル巻回体の幅を従来と同じし、間隔を狭くすることができ、磁路長を短くすることができる効果を奏する。
　従って請求項１に係る発明は上記引用文献１〜４記載の発明から容易に発明できたものであるとすることはできない。
　
（２）　請求項２について
　請求項２の特定された事項である、「Ｔｉ−ＴｉＮよりなるシード層本体と、このシード層本体の、前記基体とは反対側の面に形成された銅層との２層構造」と「銅よりなるコイル本体」との組み合わせは上述した引用文献１〜４には開示されていない。
　しかも「Ｔｉ−ＴｉＮよりなるシード層本体と、このシード層本体の、前記基体とは反対側の面に形成された銅層との２層構造」にすると、明細書【００３６】記載のその上の電気メッキによって堆積させた銅層を均一のものとすることができる効果を奏する。
　従って請求項２に係る発明は上記引用文献１〜４記載の発明から容易に発明できたものであるとすることはできない。
　
（３）　請求項３について
　請求項３は、請求項１または２を引用する従属形式であり、上記（１）、（２）で、請求項１または２に係る発明は上記引用文献１〜４記載の発明から容易に発明できたものであるとすることはできないので、請求項３に係る発明も上記引用文献１〜４記載の発明から容易に発明できたものであるとすることはできない。
　
（４）　請求項４について
　請求項１を製造方法にかえたものであり、上記（１）と同様である。
　
（５）　請求項５について
　請求項２を製造方法にかえたものであり、上記（２）と同様である。
　
５　まとめ
　従って、請求項１〜５に係るいずれの発明も、上記引用文献１〜４記載の発明から容易に発明できたものであるとすることはできないので、拒絶理由によっては拒絶することはできない。
　また他に拒絶の理由を発見しない。
　よって結論のとおり審決する。