(57)【要約】【課題】ケース内部が確認できる視認性と、特にレジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性とを兼ね備え、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランク収納ケースを提供する。【解決手段】基板上に転写パターンを形成する薄膜を少なくとも有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースであって、その少なくとも一部が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽する。また、上記収納ケースは、波長が６００ｎｍ以上の光を実質的に透過する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に転写パターンを形成する薄膜を少なくとも有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースであって、
前記収納ケースは、その少なくとも一部が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽することを特徴とするマスクブランク収納ケース。
【請求項２】
前記収納ケースは、互いに係合させてその内部にマスクブランクを収納する２つの部材からなり、この部材のいずれか一方又は両方が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽することを特徴とする請求項１に記載のマスクブランク収納ケース。
【請求項３】
前記収納ケースは、少なくとも波長が２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の帯域の光を実質的に遮蔽することを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランク収納ケース。
【請求項４】
前記収納ケースは、波長が６００ｎｍ以上の光を実質的に透過することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一に記載のマスクブランク収納ケース。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースに少なくとも一枚のマスクブランクを収納することを特徴とするマスクブランクの収納方法。
【請求項６】
前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする請求項５に記載のマスクブランクの収納方法。
【請求項７】
請求項１乃至４の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースと、該収納ケースの内部に収納された少なくとも一枚のマスクブランクとからなることを特徴とするマスクブランク収納体。
【請求項８】
前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする請求項７に記載のマスクブランク収納体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクを製造するためのマスクブランクの収納ケース、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはＴＦＴ素子等は、ＩＴ技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波を転写マスクを通してレジスト膜付きシリコンウエハー等に露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写マスクは通常、透光性基板上に遮光性膜等を形成したマスクブランクにリソグラフィー技術を用いて転写パターンを形成して製造される。ところで、マスクブランクの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。
【０００３】
このようなマスクブランクを収納保管し運搬するための容器としては、従来では例えば下記特許文献１に記載されているようなマスク運搬用ケースが知られている。
すなわち、従来のマスクブランクを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクを保持した内ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。このような容器の材質としては従来は樹脂製のものが殆どである。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１５４３４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、表面にレジスト膜を有するマスクブランクの場合、このようなマスクブランクを収納保管する容器は、少なくともレジストの感光波長域の光を遮蔽する必要がある。この目的のためには、例えば、カーボンブラック等の顔料を混入した樹脂を用いて成形したケースが一般的にはよく用いられている。しかし、このケースは、紫外領域だけでなく可視領域の光も遮蔽し、外観上は黒色ケースであるため、ケース外部から内部に収納されているマスクブランクを視認することは全くできない。ケース内部の視認性がないと例えば次のような問題が生じる。
【０００６】
マスクブランクを収納ケースに収納して外国へ輸送する場合、輸出先の税関でのチェックの際、ケース内部を確認できないとケースを開けられてしまう。税関でのチェックは、通常は蛍光灯などの照明のある室内で行われるため、一旦ケースを開けられると、内部に収納されているマスクブランクのレジスト膜が感光してしまい、そのレジスト膜はもはや使用できなくなってしまう。また、レジスト膜を有していないマスクブランクの場合でも、上記室内（当然クリーンルームではない）でケースを開けられると、それまで清浄な雰囲気で収納されていたマスクブランクの表面にパーティクル等の異物が付着したり、外気中のコンタミによる影響を受けてしまうため、マスクブランクの使用時に再度入念な洗浄作業が必要となる。
【０００７】
したがって、マスクブランクの収納ケースの場合、ケース内部を確認できる視認性は非常に重要な要素である。なお、レジスト膜を有していないマスクブランクの場合は、たとえば透明性のある収納ケースを使用することで上述の問題を回避することは可能であるが、透明性のある収納ケースは遮光性をほとんど有していないため、レジスト膜を有するマスクブランクの収納ケースとして使用した場合、税関でのチェックの際、ケース内部を確認できるのでケースを開けられることはなくても、レジスト膜は感光してしまうので、レジスト膜を有するマスクブランクの収納ケースとしては使用できないことは云うまでもない。
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、ケース内部が確認できる視認性と、特にレジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性とを兼ね備え、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランク収納ケース等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するため、鋭意研究した結果、収納ケースの光学特性に着目し、収納ケースが所定の光学特性（光吸収特性、光透過特性）を備えることにより、ケース内部が確認できる視認性と、特にレジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性とを兼ね備えることができることが分かった。
本発明は、得られたこれら知見に基づいて完成するに至ったものである。
【０００９】
すなわち、本発明は以下の各構成を有するものである。
（構成１）基板上に転写パターンを形成する薄膜を少なくとも有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースであって、前記収納ケースは、その少なくとも一部が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽することを特徴とするマスクブランク収納ケースである。
（構成２）前記収納ケースは、互いに係合させてその内部にマスクブランクを収納する２つの部材からなり、この部材のいずれか一方又は両方が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽することを特徴とする構成１に記載のマスクブランク収納ケースである。
（構成３）前記収納ケースは、少なくとも波長が２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の帯域の光を実質的に遮蔽することを特徴とする構成１又は２に記載のマスクブランク収納ケースである。
（構成４）前記収納ケースは、波長が６００ｎｍ以上の光を実質的に透過することを特徴とする構成１乃至３の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースである。
【００１０】
（構成５）構成１乃至４の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースに少なくとも一枚のマスクブランクを収納することを特徴とするマスクブランクの収納方法である。
（構成６）前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする構成５に記載のマスクブランクの収納方法である。
（構成７）構成１乃至４の何れか一に記載のマスクブランク収納ケースと、該収納ケースの内部に収納された少なくとも一枚のマスクブランクとからなることを特徴とするマスクブランク収納体である。
（構成８）前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする構成７に記載のマスクブランク収納体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、収納ケースが所定の光学特性（光吸収特性、光透過特性）を備えることにより、ケース内部が確認できる視認性と、特にレジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性とを兼ね備えることができる。また、マスクブランクに使用されるレジストの感光波長域も様々であるが、本発明の収納ケースはいずれの種類のレジストに対しても好適な遮光性を備える。従って、税関等での検査があっても、ケースを開けることなく中身を確認できるので、レジスト膜の感光を防止できる。また、マスクブランク収納保管後に安定したレジスト性能が得られるので、その結果、マスク製造時に安定したレジストパターンが形成され、所望のマスクパターンを形成した高品質の転写マスクを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
本発明のマスクブランク収納ケースは、基板上に転写パターンを形成する薄膜を少なくとも有するマスクブランクを収納するためのマスクブランク収納ケースであって、その少なくとも一部が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽する。これにより、ケース内部が確認できる視認性と、レジスト膜を形成したマスクブランクに好適な遮光性、特に感光波長域の異なるいずれの種類のレジストに対しても好適な遮光性が得られる。
ここで、実質的に遮蔽するとは、たとえば光学濃度（吸光度）が１．５以上となるように遮光されることを言う。本発明では、特に光学濃度が２．０以上となるように遮光されることが好ましい。
【００１３】
上述の光透過性と遮光性を兼ね備えた部分が収納ケースの一部でもよいし、収納ケースの全体であってもよい。収納ケースの一部が上述の光透過性と遮光性とを兼ね備える材質で構成される場合、収納ケースの他の部分は、遮光性を優先した材質で構成することができる。但し、製造の容易さ、製造コスト等を考慮すると、収納ケースの全体が上述の光透過性と遮光性とを兼ね備える材質で構成されることが好適である。
【００１４】
本発明のマスクブランク収納ケースは、例えば互いに係合させてその内部にマスクブランクを収納する２つの部材からなる。この場合、この部材のいずれか一方又は両方が、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有し、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽することが好適である。
また、本発明のマスクブランク収納ケースは、少なくとも波長が２００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の帯域の光を実質的に遮蔽することが好ましい。これにより、いずれの種類のレジストに対しても好適な遮光性を持たせることができる。
【００１５】
また、本発明のマスクブランク収納ケースは、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性を有するものであるが、特に、波長が６００ｎｍ以上の光を実質的に透過することが好ましい。これにより、収納ケースの内部を確認できる視認性が好適に得られる。
ここで、実質的に透過するとは、例えば透過率が２０％以上であることをいうが、内部に収納されるマスクブランクが収納ケースの外から視認可能な状態であれば、透過率は特に限定される必要はない。
【００１６】
次に、本発明を適用するマスクブランク収納ケースの一例を説明する。図１乃至図４はマスクブランク収納ケースの一例を示すもので、図１は収納ケースの蓋を示す斜視図、図２はマスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図３は収納ケースの本体（外ケース）を示す斜視図、図４は収納ケースにマスクブランクを収納した状態の縦方向の断面図である。
本例の収納ケースは、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上に例えばクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上にレジスト膜を形成したマスクブランク１を中ケース２に収納し、この中ケース２をケース本体３に収納し、このケース本体３の開口部側に蓋４を被せる構造である（図４）。
なお、上記中ケース２を使用せずに、マスクブランク１をケース本体３に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本例のように中ケース２を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクをまとめて中ケース２に入れた状態で取り扱えるので便利である。
【００１７】
上記中ケース２は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝２１，２２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝２１，２２の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓２３，２４と開口部２７が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部２６が形成され、この基板支持部２６でマスクブランク１の下方端面を支持している（図２、図４）。そして、この中ケース２を容器本体３に収納して固定するための凹面部２８，２９がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている（図２）。なお、中ケース２の開口部側の上端面２５から前記基板支持部２６までの高さ寸法は、収納するマスクブランク１の高さ寸法の主要部分に相当し、マスクブランク１を中ケース２に収納したとき、マスクブランク１の上方部分が中ケース２の上端面２５からとび出る構造となっている（図４）。数枚のマスクブランク１を中ケース２の一対の溝２１，２２に沿って入れると、これらのマスクブランクは所定間隔をおいて互いに平行に林立する。本例の形態では垂直方向に林立するが、傾斜方向にしてもよい。
【００１８】
上記ケース本体３は、前述した中ケース２の凹面部２８，２９と当接するに適合した突出部３１，３２を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部３１，３２の底部はケース本体３底面とも接合している（図３）。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部３３，３４が形成されている。そして、ケース本体３の開口縁３５のやや下方の位置に続く外周面３６と上記凸部３３，３４の凸面とは略同一面に形成されている。
上記蓋４は、その一方の対向する下方縁（ケース本体へ差し込む開口部側の縁であって、図１では上方へ向いている）４７から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋４をケース本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記ケース本体３の凸部３３，３４とそれぞれ係合することで、蓋４とケース本体３とが固定される（図４）。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している（図１）。
【００１９】
ケース本体３の上から蓋４を被せて、蓋４の凹部４３，４４をケース本体３の凸部３３，３４と係合させて蓋４とケース本体３とを固定すると、蓋４の下方縁に続く外周面４８とケース本体３の開口縁に続く外周面３６とが前後に重なり合って接合される。
以上の中ケース２、ケース本体３及び蓋４の材質は、好ましくは樹脂材料であり、中でもポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）系樹脂であることが好ましい。なお、マスクブランクの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえばケース本体３の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与することができる。
【００２０】
本発明におけるマスクブランク収納ケースの材質は、収納物をケース外部から視認可能である程度の光透過性と、尚且つ波長が５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽する遮光性とを兼ね備える材質であれば、特に限定されるものではないが、軽量且つ取扱いの容易な樹脂材料を好ましく挙げることが出来る。樹脂材料の場合、適当な顔料等を含有することにより、本発明における所望の光透過性と遮光性とを好適に持たせることが可能であるため好ましい。
このような樹脂材料としては、例えばポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリブチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を挙げることができる。これらの中でも、アクリル系樹脂、とりわけポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）系樹脂は比較的アウトガスの少ない材料であるので、収納保管されるマスクブランクに形成されたレジスト膜の性能を良好に維持することができる。
【００２１】
本発明のマスクブランク収納ケースに少なくとも一枚のマスクブランクを収納する。前述の図１乃至図４に示す構造の収納ケースは一例であり、本発明のマスクブランク収納ケースの形態はこれに限定されない。マスクブランクを多数枚収納するケースでも、マスクブランクを１枚収納するケース（１枚入りケース）でもよい。また、マスクブランクの形状も四角形状のものに限らず、円板（ディスク）状のものでもよい。
本発明のマスクブランク収納ケースは、前述のように好適な光透過性（内部視認性）と遮光性とを兼ね備えるので、特にレジスト膜を有するマスクブランクの収納ケースとして好適である。
【００２２】
なお、マスクブランクの収納は、清浄化された環境で実施することが好ましい。そのためには、例えばケミカルフィルター（例えば炭酸カリウムやリン酸を含有させた活性炭フィルターなど）を使用して清浄化されたクリーンルーム内のような雰囲気で実施することが望ましい。また、上記ケミカルフィルターにエアーフィルターを併用することも好ましい。このようなエアーフィルターとしては、ＨＥＰＡフィルター（high efficiency particulate air filter）やＵＬＰＡフィルター（ultra low penetration particulate air filter）を好ましく挙げることができる。フィルターの能力は、0.05μｍ以上のパーティクルを捕捉できるフィルターであることが好ましい。
【００２３】
なお、本発明が適用されるマスクブランクは特に制約はなく、ガラス基板などの透光性基板上にＣｒ等の遮光膜を形成したバイナリマスク用のマスクブランク、基板上にＭｏＳｉ系等の位相シフト膜あるいは位相シフト膜及び遮光膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランク、基板上に露光光を反射する例えばＭｏ／Ｓｉ多層反射膜と露光光を吸収する例えばＴａ系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランク等が含まれる。また、本発明が適用されるマスクブランクは、半導体装置製造用のフォトマスクを作製する際に用いられるマスクブランクだけでなく、液晶表示装置製造用の大型フォトマスク（例えば３００ｍｍ×３００ｍｍ以上の大きさ）を作製する際に用いられるマスクブランクも含まれる。
【実施例】
【００２４】
以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
（実施例１）
石英基板（６インチ×６インチ）上にスパッタ法でハーフトーン膜を形成し、その上にスピンコート法でレジスト膜を形成してレジスト膜付きマスクブランクを製造した。このとき、ハーフトーン膜としてＭｏＳｉ系金属膜を用い、レジストとしてはポジ型レジスト（IP3000型レジスト、東京応化工業社製）を用いた。このレジストはｉ線（波長３６５ｎｍ）に対応するレジストである。レジスト膜の形成は、ケミカルフィルター（例えば炭酸カリウムやリン酸を含有させた活性炭フィルター）並びにエアーフィルター（例えばULPAフィルター（ultra lowpenetration particulate air filter））を併用して清浄化されたクリーンルーム内で行った。なお、このクリーンルーム内は上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
【００２５】
このようにして製造した１００枚のレジスト膜付きマスクブランクを前述の図１乃至図４に示す形態の収納ケース内に各々１０枚ずつ１０箱に分けて収納した。なお、この収納ケースの蓋と本体及び中ケースの材質はいずれもＰＭＭＡ系樹脂を用い、そのうち蓋と本体はこのＰＭＭＡ系樹脂中に赤色顔料を一定量分散させたものを用いて光学特性を調整し、上記形態に成形した。この収納ケースの板厚は２．５ｍｍである。また、この収納ケースの吸光度特性及び分光透過率特性を評価した結果をそれぞれ図５及び図６中の曲線Ａで示す。吸光度特性及び分光透過率特性の評価は、収納ケースの本体を一部切り取ったものを測定用サンプルとし、分光光度計（Ｕ−４１００型、日立製）を用いて行った。図５及び図６中のそれぞれ曲線Ａで示したとおり、本実施例に使用した上記収納ケースは、少なくとも波長２００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽し、また波長６００ｎｍ以上の光を実質的に透過する。
【００２６】
マスクブランクの収納作業についても上記ケミカルフィルター及びエアーフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行ない、この場合のクリーンルーム内についても上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
このマスクブランクを収納した収納ケースを、白色蛍光灯で照明された室内（但しクリーンルームではない）に約１週間保管した。なお、内部に収納されたマスクブランクはケース外部から十分視認することができた。保管後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクに所定の電子線描画を行い、続いて所定の現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を詳細に検査したところ、１００枚の何れも、面内の寸法ばらつきは良好で、特に問題となる欠陥は発見されなかった。
【００２７】
（実施例２）
実施例１と同様にして製造した１００枚のレジスト膜付きマスクブランクを本実施例の収納ケース内に各々１０枚ずつ１０箱に分けて収納した。本実施例の収納ケースの蓋及び本体はいずれも実施例１の収納ケースとは別のＰＭＭＡ系樹脂に赤色顔料を分散させたものを用いて成形したものである。なお、赤色顔料の種類と量を調整し、光学特性を調整した。この収納ケースの板厚は２．５ｍｍである。また、この収納ケースの吸光度特性及び分光透過率特性を評価した結果をそれぞれ図５及び図６中の曲線Ｂで示す。吸光度特性及び分光透過率特性の評価は、実施例１と同様、収納ケースの本体を一部切り取ったものを測定用サンプルとし、分光光度計（Ｕ−４１００型、日立製）を用いて行った。図５及び図６中のそれぞれ曲線Ｂで示したとおり、本実施例に使用した上記収納ケースは、少なくとも波長２００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の光を実質的に遮蔽し、また波長６００ｎｍ以上の光を実質的に透過する。
【００２８】
マスクブランクの収納作業はケミカルフィルター及びエアーフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行ない、このクリーンルーム内についても上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
このマスクブランクを収納した収納ケースを、実施例１と同じ蛍光灯で照明された室内（但しクリーンルームではない）に約１週間保管した。なお、内部に収納されたマスクブランクはケース外部から十分視認することができた。保管後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクに実施例１と同様の電子線描画、現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を詳細に検査したところ、１００枚の何れも、面内の寸法ばらつきは良好で、特に問題となる欠陥は発見されなかった。
【００２９】
（実施例３）
基板サイズが３３０ｍｍ×４５０ｍｍの合成石英ガラス基板上にスパッタ法でクロム膜と酸化クロム膜を順次形成し、基板上に遮光膜と反射防止膜を形成した液晶表示装置製造用大型マスクブランクを得た。得られたマスクブランク上にスピンコート法でレジスト膜を形成してレジスト膜付き大型マスクブランクを製造した。このとき、レジストとしてはポジ型の高分子量型レジストＰＢＳ（ポリブテンー１−スルホン）を用いた。このレジストはｉ線に対応するレジストである。レジスト膜の形成は、ケミカルフィルター及びエアーフィルターを併用して清浄化されたクリーンルーム内で行った。なお、このクリーンルーム内は上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
【００３０】
このようにして製造した１０枚の液晶表示装置製造用のレジスト膜付き大型マスクブランクを実施例２の収納ケースと同じ材質でできた収納ケース（但し１枚入りケース）内に各々１枚ずつ１０箱に分けて収納した。マスクブランクの収納作業はケミカルフィルター及びエアーフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行ない、このクリーンルーム内についても上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
このマスクブランクを収納した収納ケースを、実施例１と同じ蛍光灯で照明された室内（但しクリーンルームではない）に約１週間保管した。なお、内部に収納されたマスクブランクはケース外部から十分視認することができた。保管後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクに所定の電子線描画、現像、エッチングを行って、液晶表示装置製造用の転写マスクを製造した。製造した転写マスクの品質を詳細に検査したところ、１０枚の何れも、面内の寸法ばらつきは良好で、特に問題となる欠陥は発見されなかった。
【００３１】
（比較例）
実施例１と同様にして製造した２０枚のレジスト膜付きマスクブランクを前述の図１乃至４に示す形態の収納ケース内に各々１０枚ずつ２箱に分けて収納した。なお、本比較例に使用する収納ケースの蓋及び本体はいずれもＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルとブタジエンとスチレンの共重合樹脂）中に黄色顔料を分散させたものを用いて成形したものである。ここで、黄色顔料の量を調整して光学特性を変化させた。この収納ケースの板厚は２．５ｍｍである。また、この収納ケースの吸光度特性及び分光透過率特性を評価した結果をそれぞれ図５及び図６中の曲線Ｃで示す。吸光度特性及び分光透過率特性の評価は、実施例１と同様、収納ケースの本体を一部切り取ったものを測定用サンプルとし、分光光度計（Ｕ−４１００型、日立製）を用いて行った。図５中の曲線Ｃで示したとおり、本比較例に使用した上記収納ケースは、前述の実施例に使用した収納ケースと比べると、波長５００〜５５０ｎｍ及び波長３５０〜４５０ｎｍの帯域の吸光度が小さく、これらの帯域での遮光性が低い。また、図６中の曲線Ｃで示したとおり、本比較例の収納ケースは、波長５６０ｎｍ以上の光を実質的に透過する。
【００３２】
マスクブランクの収納作業はケミカルフィルター及びエアーフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行ない、このクリーンルーム内についても上記レジストの感光波長域の光を遮蔽する環境とした。
このマスクブランクを収納した収納ケースを、実施例１と同じ蛍光灯で照明された室内（但しクリーンルームではない）に約１週間保管した。なお、内部に収納されたマスクブランクはケース外部から十分視認することができた。保管後、上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクに実施例１と同様の電子線描画、現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を詳細に検査したところ、２０枚のうち３枚は、パターン寸法や面内の寸法ばらつきの欠陥が発見され、不良品の発生率は１５％であった。このように不良品の発生率が高い原因は、上述の蛍光灯で照明された室内で保管中に、収納ケースの遮光性が不十分のためレジスト膜が感光したことによるものと考えられる。つまり、本比較例の収納ケースは、視認性は良好であるものの、遮光性に対する信頼性が低い。
【００３３】
以上、上記実施例では、レジストとしてｉ線（波長３６５ｎｍ）に対応するレジスト膜が形成されたマスクブランクについて挙げたが、ＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）に対応する化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクを収納した場合であっても、同様に優れた効果が得られた。また、ＫｒＦエキシマレーザー光（波長２４８ｎｍ）に対応するレジスト膜を形成したマスクブランクを収納した場合であっても、同様に優れた効果が得られた。
本発明は、少なくともｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光に対応するレジスト膜が形成されたマスクブランクを収納するのに好適である。
また、本発明は、例えば蛍光灯、具体的には白色蛍光灯で照明された環境に触れるマスクブランクを収納するのに特に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】収納容器の蓋を示す斜視図である。
【図２】マスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図である。
【図３】収納容器の容器本体（外ケース）を示す斜視図である。
【図４】収納容器にマスクブランクを収納した状態の縦方向の断面図である。
【図５】実施例１、実施例２及び比較例１の各収納ケースの吸光度特性を示す特性図である。
【図６】実施例１、実施例２及び比較例１の各収納ケースの分光透過率特性を示す特性図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  マスクブランク
２  中ケース
３  容器本体
４  蓋
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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