(57)【要約】      （修正有）【課題】素子基板の端子に検査端子が当接した際に発生した異物が素子基板の一方面に付着することを確実に防止することのできる電気光学装置の製造方法、および電気光学装置用素子基板検査装置を提供する。【解決手段】素子基板検査装置３００において素子基板１０の検査を行う際、気流吐出装置３５０の吹き出し口３５１から素子基板１０の一方面１０ｓに向けて斜め方向から気流Ｓを吹き付けるとともに、気流Ｓの下流側において、吸引装置３６０の吸引口３６１で気流を吸い込みながら、検査端子３２０を素子基板１０の端子１０２に当接させて検査を行う。従って、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に異物Ｐが発生しても、かかる異物Ｐは気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から離脱して、吸引装置３６０の吸引口３６１に気流Ｓとともに吸い込まれる。【選択図】図６
2012189674.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置用の素子基板の一方面に少なくとも画素トランジスターおよび端子を形成
する素子基板形成工程と、
前記素子基板の前記一方面に向けて斜め方向から気流を吹き付けるとともに、前記気流
を該気流の下流側で吸引しながら、前記端子に検査端子を当接させて前記素子基板の電気
的な検査を行う検査工程と、
当該検査工程が行われた前記素子基板の前記一方面側に対向基板を貼り付ける貼り合せ
工程と、
を有していることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記素子基板では、複数の前記端子が一方方向に配列されており、
前記素子基板は、平面視で前記一方方向に交差する方向から前記気流が吹き付けられる
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記気流の吸引は、前記気流を吹き出す吹き出し口よりサイズが大きな吸引口によって
行われることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記素子基板に対して前記気流を吹き付ける方向と、当該気流を吸引する方向とを反転
させながら前記検査を行うことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の電気光
学装置の製造方法。
【請求項５】
前記検査工程では、前記一方面を下方に向けて前記検査を行うことを特徴とする請求項
１乃至４の何れか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
一方面側に少なくとも画素トランジスターおよび端子が形成された電気光学装置用の素
子基板を保持する基板保持具と、
前記基板保持具に保持された前記素子基板の前記端子に当接する検査端子と、
該検査端子と前記素子基板との相対位置を切り換える駆動機構と、
前記素子基板の前記一方面に向けて斜め方向から気流を吹き付ける気流吐出装置と、
前記気流の下流側で吸引を行う吸引装置と、
を有していることを特徴とする電気光学装置用素子基板検査装置。
【請求項７】
前記素子基板では、複数の前記端子が一方方向に配列されており、
前記素子基板は、平面視で前記一方方向に交差する方向から前記気流が吹き付けられる
ことを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置用素子基板検査装置。
【請求項８】
前記吸引装置において前記気流を吸引する吸引口は、前記気流吐出装置において前記気
流を吹き出す吹き出し口よりサイズが大きいことを特徴とする請求項６または７に記載の
電気光学装置用素子基板検査装置。
【請求項９】
前記吸引装置は、前記気流を吹き出す気流吐出機構を備え、
前記気流吐出装置は、前記気流を吸引する吸引機構を備え、
前記気流吐出装置と前記吸引装置とは、前記気流の吹き付けと前記吸引とを交互に行う
ことを特徴とする請求項６乃至８の何れか一項に記載の電気光学装置用素子基板検査装置
。
【請求項１０】
前記基板保持具は、前記一方面側を下向きに前記素子基板を保持することを特徴とする
請求項６乃至９の何れか一項に記載の電気光学装置用素子基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、素子基板に画素トランジスターや端子等が形成された電気光学装置の製造方
法、および当該素子基板の電気的な検査を行う電気光学装置用素子基板検査装置に関する
ものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス装置等の電気光学装置では、画素トランジス
ター、配線、画素電極、端子等が形成された素子基板が用いられており、かかる素子基板
については、対向基板を貼り合せる前に、端子にプローブ等の検査端子を当接させて画素
トランジスター等の電気的な特性を検査する工程が行われる。
【０００３】
同様な検査は、半導体装置の製造工程においてシリコンウエーハに対しても行われる。
かかる検査装置としては、プローブの外側から送風して中央側（プローブとプローブの間
）から吸引する構成が提案されている（特許文献１参照）。また、プローブの中央側（プ
ローブとプローブの間）から送風して外側から吸引する構成も提案されている（特許文献
２参照）。さらに、プローブの外側から送風する構成、プローブの両側から送風する構成
、プローブの外側に送風と吸引を対で設置する構成も提案されている（特許文献３参照）
。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１２０９６１号公報
【特許文献２】特開２００５−１７５０９４号公報
【特許文献３】特開２００３−２７３１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１〜３に記載の構成はいずれも、プローブと端子とが当接した際にプローブや
プローブの間に付着した金属粉等の異物（パーティクル）を除去することによって検査を
確実に行うことを主眼に構成されているため、気流が主にプローブに向けて供給される構
成になっている。このため、特許文献１〜３に記載の構成を電気光学装置用の素子基板の
検査に適用した場合、異物に起因する素子基板の不具合の発生を防止するという点では不
十分である。すなわち、電気光学装置のうち、液晶装置用の素子基板の場合、半導体ＩＣ
チップと違って、検査の時点では、端子が形成されている側の面は封止されていないため
、プローブと端子とが当接した際に発生した金属粉等の異物が素子基板の一方面に付着す
ると不具合の原因となる。また、液晶装置用あるいは有機エレクトロルミネッセンス装置
の場合、素子基板の一方面側に表示光が通過するため、プローブと端子とが当接した際に
発生した金属粉等の異物が素子基板の一方面に付着すると不具合の原因となる。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、素子基板の端子に検査端子が当接した際に発
生した異物が素子基板の一方面に付着することを確実に防止することのできる電気光学装
置の製造方法、および電気光学装置用素子基板検査装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用
の素子基板の一方面に少なくとも画素トランジスターおよび端子を形成する素子基板形成
工程と、前記素子基板の前記一方面に向けて斜め方向から気流を吹き付けるとともに、前
記気流の下流側で当該気流を吸引しながら、前記端子に検査端子を当接させて前記素子基
板の電気的な検査を行う検査工程と、当該検査工程が行われた前記素子基板の前記一方面
側に対向基板を貼り付ける貼り合せ工程と、を有していることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明に係る電気光学装置用素子基板検査装置は、一方面側に少なくとも画素ト
ランジスターおよび端子が形成された電気光学装置用の素子基板を保持する基板保持具と
、前記基板保持具に保持された前記素子基板の前記端子に当接する検査端子と、該検査端
子と前記素子基板との相対位置を切り換える駆動機構と、前記素子基板の前記一方面に向
けて斜め方向から気流を吹き付ける気流吐出装置と、前記気流の下流側で当該気流の吸引
を行う吸引装置と、を有していることを特徴とする。
【０００９】
本発明では、素子基板に対する検査時、素子基板において端子が形成されている一方面
に向けて気流を斜め方向から吹き付けるとともに、気流の下流側で気流を吸引しながら、
端子に検査端子を当接させて素子基板の電気的な検査を行う。このため、検査端子と端子
とが当接した際に金属粉等の異物が発生しても、かかる異物は気流によって素子基板およ
び検査端子から離脱して吸引される。その際、気流が斜め方向から吹き付けられるため、
素子基板に対して十分な風圧が加わる。従って、異物は気流によって素子基板および検査
端子から確実に離脱して吸引される。それ故、異物が素子基板に再付着することに起因す
る不具合の発生を確実に防止することができるとともに、異物が検査端子に付着すること
に起因する検査不良の発生を確実に防止することができる。
【００１０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法、および電気光学装置用素子基板検査装置におい
て、前記素子基板では、複数の前記端子が一方方向に配列されており、前記素子基板は、
平面視で前記一方方向に交差する方向から前記気流が吹き付けられることが好ましい。か
かる構成によれば、気流は複数の端子の各々に向けて確実に吹き付けられる。従って、検
査端子と端子とが当接した際に異物が発生しても、かかる異物は気流によって素子基板お
よび検査端子から確実に離脱して吸引される。このため、異物が素子基板に再付着するこ
とに起因する不具合の発生を確実に防止することができるとともに、異物が検査端子に付
着することに起因する検査不良の発生を確実に防止することができる。
【００１１】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記気流の吸引は、前記気流を吹き出
す吹き出し口よりサイズが大きな吸引口によって行われることが好ましい。また、本発明
に係る電気光学装置用素子基板検査装置において、前記吸引装置において前記気流を吸引
する吸引口は、前記気流吐出装置において前記気流を吹き出す吹き出し口よりサイズが大
きいことが好ましい。かかる構成によれば、吹き出し口から吹き出された気流が拡散して
も確実に吸引することができる。
【００１２】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記素子基板に対して前記気流を吹き
付ける方向と、当該気流を吸引する方向とを反転させながら前記検査を行うことが好まし
い。また、本発明に係る電気光学装置用素子基板検査装置において、前記吸引装置は、前
記気流を吹き出す気流吐出機構を備え、前記気流吐出装置は、前記気流を吸引する吸引機
構を備え、前記気流吐出装置と前記吸引装置とは、前記気流の吹き付けと前記吸引とを交
互に行うことが好ましい。かかる構成によれば、検査端子と端子とが当接した際に異物が
検査端子のいずれの側に位置している場合でも、気流によって素子基板および検査端子か
ら異物を確実に離脱させることができる。このため、異物が素子基板に再付着することに
起因する不具合の発生を確実に防止することができるとともに、異物が検査端子に付着す
ることに起因する検査不良の発生を確実に防止することができる。
【００１３】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記検査工程では、前記一方面を下方
に向けて前記検査を行うことが好ましい。本発明に係る電気光学装置用素子基板検査装置
において、前記基板保持具は、前記一方面側を下向きに前記素子基板を保持することが好
ましい。かかる構成によれば、検査端子と端子とが当接した際に異物が発生した際、異物
は自重によって落下し、素子基板および検査端子から離脱する。このため、異物が素子基
板に再付着することに起因する不具合の発生を確実に防止することができるとともに、異
物が検査端子に付着することに起因する検査不良の発生を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】本発明に係る液晶装置の液晶パネルの説明図である。
【図３】本発明に係る液晶装置の素子基板に形成されている電極等の構成を示す説明図である。
【図４】本発明に係る液晶装置の製造に用いられる素子基板の説明図である。
【図５】本発明に係る液晶装置の製造工程を示す説明図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査装置）の説明図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査装置）の説明図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査装置）の説明図である。
【図９】本発明を適用した液晶装置を用いた投射型表示装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図にお
いては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に
縮尺を異ならしめてある。また、電界効果型トランジスターを流れる電流の方向が反転す
る場合、ソースとドレインとが入れ替わるが、以下の説明では、便宜上、画素電極が接続
されている側をドレインとし、データ線が接続されている側をソースとして説明する。ま
た、以下の説明では、素子基板の面内方向において互いに直交する方向をＸ方向およびＹ
方向とし、素子基板に対する法線方向をＺ方向として説明する。
【００１６】
［実施の形態１］
（全体構成）
図１は、本発明に係る液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。図１において、
液晶装置１００は、ＴＮ（Twisted Nematic）モードやＶＡ（Vertical Alignment）モー
ドの液晶パネル１００ｐを有しており、液晶パネル１００ｐは、その中央領域に複数の画
素１００ａがマトリクス状に配列された画像表示領域１０ａ（有効画素領域）を備えてい
る。液晶パネル１００ｐにおいて、後述する素子基板１０（図２を参照）では、画像表示
領域１０ａの内側で複数本のデータ線６ａ（画像信号線）および複数本の走査線３ａが縦
横に延びており、それらの交差部分に対応する位置に画素１００ａが構成されている。複
数の画素１００ａの各々には、電界効果型トランジスターからなる画素トランジスター３
０、および後述する画素電極９ａが形成されている。画素トランジスター３０のソースに
はデータ線６ａが電気的に接続され、画素トランジスター３０のゲートには走査線３ａが
電気的に接続され、画素トランジスター３０のドレインには、画素電極９ａが電気的に接
続されている。
【００１７】
素子基板１０において、画像表示領域１０ａより外周側には走査線駆動回路１０４やデ
ータ線駆動回路１０１が設けられている。データ線駆動回路１０１は各データ線６ａに電
気的に接続しており、画像処理回路から供給される画像信号を各データ線６ａに順次供給
する。走査線駆動回路１０４は、各走査線３ａに電気的に接続しており、走査信号を各走
査線３ａに順次供給する。
【００１８】
素子基板１０において、画素電極９ａは、後述する対向基板２０（図２等を参照）に形
成された共通電極と液晶層を介して対向し、液晶容量５０ａを構成している。また、各画
素１００ａには、液晶容量５０ａで保持される画像信号の変動を防ぐために、液晶容量５
０ａと並列に保持容量５５が付加されている。本形態では、保持容量５５を構成するため
に、複数の画素１００ａに跨って走査線３ａと並行して延びた容量線５ｂが形成されてい
る。本形態において、容量線５ｂは、共通電位Ｖcomが印加された定電位配線６ｔに導通
している。
【００１９】
（液晶パネル１００ｐおよび素子基板１０の構成）
図２は、本発明に係る液晶装置１００の液晶パネル１００ｐの説明図であり、図２（ａ
）、（ｂ）は各々、液晶パネル１００ｐを各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図
、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。図３は、本発明に係る液晶装置１００の素子基板１
０に形成されている電極等の構成を示す説明図であり、図３（ａ）、（ｂ）は、電極等の
全体的なレイアウトを示す説明図、および液晶パネル１００ｐの角部分の一つを拡大して
示す説明図である。なお、図３において画素電極９ａやダミー画素電極９ｂの数等につい
ては少なく示してある。
【００２０】
図２および図３に示すように、液晶パネル１００ｐでは、素子基板１０と対向基板２０
とが所定の隙間を介してシール材１０７によって貼り合わされており、シール材１０７は
対向基板２０の外縁に沿うように枠状に設けられている。シール材１０７は、光硬化樹脂
や熱硬化性樹脂等からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスフ
ァイバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材１０７ａが配合されている。
【００２１】
かかる構成の液晶パネル１００ｐにおいて、素子基板１０および対向基板２０はいずれ
も四角形であり、液晶パネル１００ｐの略中央には、図１を参照して説明した画像表示領
域１０ａが四角形の領域として設けられている。かかる形状に対応して、シール材１０７
も略四角形に設けられ、画像表示領域１０ａの外側は、四角枠状の外周領域１０ｃになっ
ている。
【００２２】
素子基板１０において、外周領域１０ｃでは、素子基板１０の一辺に沿ってデータ線駆
動回路１０１および複数の端子１０２が形成されており、この一辺に隣接する他の辺に沿
って走査線駆動回路１０４が形成されている。端子１０２は、Ｘ方向に並んだ状態にある
。かかる端子１０２には、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、素子基
板１０には、フレキシブル配線基板を介して各種電位や各種信号が入力される。
【００２３】
詳しくは後述するが、素子基板１０において対向基板２０と対向する一方側の基板面に
おいて、画像表示領域１０ａには、図１を参照して説明した画素トランジスター３０、お
よび画素トランジスター３０に電気的に接続する画素電極９ａ（液晶駆動用電極）がマト
リクス状に形成されており、かかる画素電極９ａの上層側には、素子基板側配向膜として
の配向膜１６が形成されている。
【００２４】
素子基板１０の一方側の基板面において、外周領域１０ｃのうち、画像表示領域１０ａ
とシール材１０７とに挟まれた四角枠状の周辺領域１０ｂには、画素電極９ａと同時形成
されたダミー画素電極９ｂが形成されている。ダミー画素電極９ｂは、隣り合うダミー画
素電極９ｂ同士が細幅の連結部９ｆ（図３（ｂ）参照）で繋がっている。また、ダミー画
素電極９ｂは、共通電位Ｖcomが印加されており、画像表示領域１０ａの外周側端部での
液晶分子の配向の乱れを防止する。また、ダミー画素電極９ｂは、素子基板１０において
配向膜１６が形成される面を研磨により平坦化する際、画像表示領域１０ａと周辺領域１
０ｂとの高さ位置の差を圧縮し、配向膜１６が形成される面を平坦面にするのに寄与する
。なお、ダミー画素電極９ｂに電位を印加せず、ダミー画素電極９ｂを電位的にフロート
状態とする場合もあり、この場合でも、ダミー画素電極９ｂは、画像表示領域１０ａと周
辺領域１０ｂとの高さ位置の差を圧縮し、配向膜１６が形成される面を平坦面にするのに
寄与する。
【００２５】
図２（ｂ）に示すように、対向基板２０において素子基板１０と対向する一方面側には
共通電極２１（液晶駆動用電極）が形成されている。共通電極２１は、対向基板２０の略
全面あるいは複数の帯状電極として複数の画素１００ａに跨って形成されている。
【００２６】
また、対向基板２０において素子基板１０と対向する一方面側には、共通電極２１の下
層側に遮光層２９が形成され、共通電極２１の表面には対向基板側配向膜としての配向膜
２６が積層されている。本形態において、遮光層２９は、画像表示領域１０ａの外周縁に
沿って延在する額縁部分２９ａと、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた画素間領域に重
なるブラックマトリクス部２９ｂとからなる。ここで、額縁部分２９ａはダミー画素電極
９ｂと重なる位置に形成されており、額縁部分２９ａの外周縁は、シール材１０７の内周
縁との間に隙間を隔てた位置にある。従って、額縁部分２９ａとシール材１０７とは重な
っていない。
【００２７】
図２（ａ）、および図３（ａ）、（ｂ）に示すように、液晶パネル１００ｐにおいて、
シール材１０７より外側には、対向基板２０の一方面側（素子基板１０と対向する面側）
の角部分に、対向基板側基板間導通用電極部としての基板間導通用電極部２５ｔが形成さ
れており、素子基板１０の一方面１０ｓ側（対向基板２０と対向する面側）には、対向基
板２０の角部分（基板間導通用電極部２５ｔ）と対向する位置に素子基板側基板間導通用
電極部としての基板間導通用電極部８ｔが形成されている。基板間導通用電極部８ｔは、
共通電位Ｖcomが印加された定電位配線６ｔに導通しており、定電位配線６ｔは、端子１
０２のうち、共通電位印加用の端子１０２ａに導通している。
【００２８】
基板間導通用電極部８ｔと基板間導通用電極部２５ｔとの間には、導電粒子を含んだ基
板間導通材１０９が配置されており、対向基板２０の共通電極２１は、基板間導通用電極
部８ｔ、基板間導通材１０９および基板間導通用電極部２５ｔを介して、素子基板１０側
に電気的に接続されている。このため、共通電極２１は、素子基板１０の側から共通電位
Ｖcomが印加されている。
【００２９】
シール材１０７は、略同一の幅寸法をもって対向基板２０の外周縁に沿って設けられて
いる。このため、シール材１０７は、略四角形である。但し、シール材１０７は、対向基
板２０の角部分と重なる領域では基板間導通用電極部８ｔ、２５ｔを避けて内側を通るよ
うに設けられており、シール材１０７の角部分は略円弧状である。
【００３０】
かかる構成の液晶装置１００において、画素電極９ａおよび共通電極２１を透光性導電
膜により形成すると、透過型の液晶装置を構成することができる。これに対して、画素電
極９ａおよび共通電極２１のうち、例えば、共通電極２１を透光性導電膜により形成し、
画素電極９ａを反射性導電膜により形成すると、反射型の液晶装置を構成することができ
る。液晶装置１００が反射型である場合、素子基板１０および対向基板２０のうち、対向
基板２０の側から入射した光が素子基板１０で反射して出射される間に変調されて画像を
表示する。液晶装置１００が透過型である場合、素子基板１０および対向基板２０のうち
、例えば、対向基板２０の側から入射した光が素子基板１０を透過して出射される間に変
調されて画像を表示する。
【００３１】
液晶装置１００は、モバイルコンピューター、携帯電話機等といった電子機器のカラー
表示装置として用いることができ、この場合、対向基板２０あるいは素子基板１０には、
カラーフィルター（図示せず）が形成される。また、液晶装置１００では、使用する液晶
層５０の種類や、ノーマリホワイトモード／ノーマリブラックモードの別に応じて、偏光
フィルム、位相差フィルム、偏光板等が液晶パネル１００ｐに対して所定の向きに配置さ
れる。さらに、液晶装置１００は、後述する投射型表示装置（液晶プロジェクター）にお
いて、ＲＧＢ用のライトバルブとして用いることができる。この場合、ＲＧＢ用の各液晶
装置１００の各々には、ＲＧＢ色分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色
の光が投射光として各々入射されることになるので、カラーフィルターは形成されない。
【００３２】
（液晶装置１００の製造方法）
図４は、本発明に係る液晶装置１００の製造に用いられる素子基板１０の説明図であり
、図４（ａ）、（ｂ）は、単品サイズの素子基板１０の説明図、および大型の素子基板１
０の説明図である。図５は、本発明に係る液晶装置１００の製造工程を示す説明図である
。
【００３３】
本形態の液晶装置１００を製造するにあたって、素子基板１０は、図４（ａ）に示すよ
うに、単品サイズの素子基板１０を用い、かかる単品サイズの素子基板１０で、図５を参
照して説明する素子基板形成工程を行って液晶パネル１００ｐを形成する場合がある。ま
た、図４（ｂ）に示すように、単品サイズの素子基板１０を多数取りできる大型基板１０
ｔの状態で、図５を参照して説明する素子基板形成工程を行う場合もある。同様に、対向
基板２０についても大型基板を用いる場合があり、この場合、大型基板同士を貼り合せて
大型のパネル構造体を形成した後、大型のパネル構造体から単品サイズの液晶パネル１０
０ｐを複数、切り出すことになる。大型基板１０ｔにおいては、単品サイズの素子基板１
０が切り出される領域（図４（ｂ）に一点鎖線で示す領域）が有効領域１０ｙであり、そ
の周りの部分は、大型基板１０ｔを切断する際に除去される除材領域１０ｚである。図４
（ｂ）に示す大型基板１０ｔは、シリコンウエーハのように、円盤状の基板にオリエンテ
ーションフラットが形成された形状を有することもある。
【００３４】
なお、大型基板１０ｔを用いた場合、素子基板１０は同一の向きに形成される。このた
め、端子１０２は、Ｘ方向に並んだ状態にある。以下の説明では、大型基板１０ｔを用い
た場合を説明するが、この場合、大型基板１０ｔについても「素子基板１０」として説明
する。
【００３５】
図５に示すように、液晶装置１００を製造するには、まず、大型の素子基板１０に対し
て画素トランジスター３０、各種配線、端子１０２、画素電極９ａ等を形成する素子基板
形成工程Ｓ１を行った後、後述する素子基板検査工程Ｓ１０を行う。かかる素子基板検査
工程Ｓ１０は、素子基板形成工程Ｓ１の途中で行われることもある。
【００３６】
次に、素子基板１０に対して斜方蒸着法、印刷法、スピンコート法等により配向膜１６
を形成する配向膜形成工程Ｓ２を行う。配向膜１６がポリイミド膜からなる場合には、配
向膜形成工程Ｓ２の後、配向膜１６に対するラビング工程を行う。配向膜１６が斜方蒸着
法により形成された無機配向膜の場合、かかる配向膜１６の形成工程は、素子基板形成工
程Ｓ１の中で行われることもある。
【００３７】
一方、対向基板２０に対しては、共通電極２１等を形成する対向基板形成工程Ｓ１１を
行った後、斜方蒸着法、印刷法、スピンコート法等により配向膜２６を形成する配向膜形
成工程Ｓ１２を行う。配向膜２６がポリイミド膜からなる場合には、配向膜形成工程Ｓ１
２の後、配向膜２６に対するラビング工程を行う。また、配向膜２６が斜方蒸着法により
形成された無機配向膜の場合、かかる配向膜２６の形成工程は、対向基板形成工程Ｓ１１
の中で行われることもある。
【００３８】
次に、素子基板１０と対向基板２０とを貼り合せる貼り合せ工程Ｓ２０を行う。それに
は、まず、素子基板１０にシール材１０７および基板間導通材１０９を塗布するシール材
・基板間導通材塗布工程Ｓ３を行う。シール材１０７の塗布は、ノズルからシール材１０
７を吐出しながら、ノズルと素子基板１０とを相対移動させて、シール材１０７を矩形枠
状に描画する。基板間導通材１０９の塗布は、ノズルから基板間導通材１０９を吐出しな
がらノズルと素子基板１０とを相対移動させて、基板間導通材１０９を基板間導通用電極
部８ｔ上に点状に配置する。なお、シール材１０７および基板間導通材１０９の塗布は、
対向基板２０の側に行ってもよい。次に、シール材１０７および基板間導通材１０９を間
に挟んで素子基板１０と対向基板２０とを重ね合わせる。次に、素子基板１０と対向基板
２０とを押圧して、素子基板１０および対向基板２０の双方にシール材１０７のギャップ
材１０７ａが当接するまで、素子基板１０と対向基板２０との隙間を狭め、しかる後に、
シール材硬化工程Ｓ２２を行う。かかるシール材硬化工程Ｓ２２では、対向基板２０側か
らＵＶ光等を照射してシール材１０７を硬化させる。
【００３９】
しかる後には、大型の素子基板１０と大型の対向基板２０とを貼り合せたパネルを単品
サイズに切断するパネル切断工程Ｓ２３を行い、その後、液晶封入工程Ｓ２４を行う。液
晶封入工程Ｓ２４では、減圧雰囲気中でシール材１０７の途切れ部分に液晶を供給した後
、減圧状態を解除する。その結果、シール材１０７の内側に液晶が注入され、液晶パネル
１００ｐが完成する。かかる液晶の注入を終えた後は、シール材１０７の途切れ部分を封
止材１０７ｃ（図２（ａ）参照）で封止する。その結果、液晶パネル１００ｐが完成する
。なお、大型の素子基板１０に対して単品サイズの対向基板２０を貼り合せた後、液晶を
注入し、しかる後にパネル切断工程Ｓ２３を行うこともある。また、素子基板１０にシー
ル材１０７を形成した後、シール材１０７の内側に液晶を滴下し、その後、シール材１０
７を間に挟んで素子基板１０と対向基板２０とを重ね合わせた後、シール材１０７を硬化
させることもある。かかる方法の場合、シール材１０７に対しては、途切れ部分や封止材
１０５を設ける必要がない。
【００４０】
（検査工程Ｓ１０の詳細説明）
図６は、本発明の実施の形態１に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査
装置）の説明図である。本形態では、図５を参照した工程によって液晶装置１００を製造
するにあたって、素子基板形成工程Ｓ１の後、検査工程Ｓ１０において、図６に示す素子
基板検査装置３００によって、大型の素子基板１０の電気的な検査を行う。より具体的に
は、検査工程Ｓ１０において、端子１０２に通電して配線の切断や短絡、画素トランジス
ター３０の特性等の電気的な検査を行う。
【００４１】
本形態において、素子基板検査装置３００は、大型の素子基板１０を保持する基板保持
具３１０と、基板保持具３１０に保持された素子基板１０の端子１０２に当接する検査端
子３２０と、検査端子３２０と素子基板１０との相対位置を切り換える駆動機構３３０と
を有している。本形態において、基板保持具３１０は真空チャック機構を備えたステージ
であり、駆動機構３３０は、基板保持具３１０および検査端子３２０の少なくとも一方を
、Ｘ方向と、Ｘ方向に対して９０°の角度をもって交差するＹ方向と、Ｘ方向およびＹ方
向に対して９０°の角度をもって交差するＺ方向とに駆動して、検査端子３２０と素子基
板１０との相対位置を切り換える。検査端子３２０は、プローブカードに設けられており
、検査回路３４０に電気的に接続されている。検査端子３２０は、端子１０２の数に対応
して複数設けられている。また、検査端子３２０は、単品サイズの素子基板１０を同時に
複数検査できるように、例えば、単品サイズの素子基板１０を４枚分、同時に検査可能な
数が設けられている。
【００４２】
また、本形態の素子基板検査装置３００は、素子基板１０の一方面１０ｓ（端子１０２
等が形成されている側の面）に向けて斜め方向（法線方向に対して斜めに傾いた方向）か
ら気流Ｓを吹き付ける気流吐出装置３５０と、気流Ｓの下流側で吸引を行う吸引装置３６
０とを有している。本形態において、気流吐出装置３５０は、素子基板１０に対して斜め
２０°程度の角度位置から検査端子３２０の先端部に向けて乾燥空気等の気流Ｓを吹き付
ける。また、吸引装置３６０は、検査端子３２０に対して気流吐出装置３５０が位置する
側とは反対側に設けられ、吸引装置３６０の吸引口３６１は、素子基板１０に対して斜め
３０°程度の角度で傾いた状態で検査端子３２０の先端部に向いている。このため、気流
吐出装置３５０の吹き出し口３５１から吹き出された気流Ｓは、端子１０２に当接する検
査端子３２０の先端部に向けて吹き付けられた後、吸引装置３６０の吸引口３６１によっ
て吸い込まれる。
【００４３】
本形態において、吸引口３６１は、吹き出し口３５１よりサイズが大きい。図示されて
はいないが、より具体的には、開口された吸引口の面積が、開口された吹き出し口の面積
よりも大きく、更には、素子基板１０上において気流Ｓの流れる方向と交差した方向（一
方方向）に対応した吸引口の幅が、吹き出し口の幅より大きくされていることが好ましい
。そして、上記吸引口の幅及び吹き出し口の幅は、素子基板１０において複数の端子１０
２が配置されている領域の前記一方方向における幅、あるいは検査端子３２０が配置され
ている領域の前記一方方向における幅よりも大きく設定されている。また、本形態では、
端子１０２がＸ方向に配列していることから、かかる配列方向に対して平面視で交差する
方向に気流吐出装置３５０と吸引装置３６０とが配置されている。本形態では、端子１０
２が配列しているＸ方向に対して９０°の角度を成すＹ方向に気流吐出装置３５０と吸引
装置３６０とが配置されている。
【００４４】
このような素子基板検査装置３００において検査を行う際、気流吐出装置３５０の吹き
出し口３５１から素子基板１０の一方面１０ｓに向けて斜め方向から気流Ｓを吹き付ける
とともに、気流Ｓの下流側において、気流吐出装置３５０の吸引口３６１で気流Ｓを吸い
込みながら、検査端子３２０を素子基板１０の端子１０２に当接させて検査を行う。従っ
て、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に金属粉等の異物Ｐが発生しても、かか
る異物Ｐは気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から離脱して、気流吐出装
置３５０の吸引口３６１に気流Ｓとともに吸い込まれる。
【００４５】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の液晶装置１００の製造方法（素子基板１０の検査方法）
、および素子基板検査装置３００では、素子基板１０に対する検査時、素子基板１０にお
いて端子１０２が形成されている一方面１０ｓに向けて気流Ｓを斜め方向から吹き付ける
とともに、気流Ｓの下流側で気流Ｓを吸引しながら、端子１０２に検査端子３２０を当接
させて素子基板１０の電気的な検査を行う。その際、気流Ｓが斜め方向から吹き付けられ
るため、素子基板１０の一方面１０ｓに対して十分な風圧が加わる。このため、検査端子
３２０と端子１０２とが当接した際に金属粉等の異物Ｐが発生しても、かかる異物Ｐは気
流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から確実に離脱して吸引される。従って
、異物Ｐが素子基板１０に再付着することに起因する不具合の発生を確実に防止すること
ができるとともに、異物Ｐが検査端子３２０に付着することに起因する検査不良の発生を
確実に防止することができる。
【００４６】
また、本形態において、端子１０２が配列しているＸ方向と直交するＹ方向に気流吐出
装置３５０と吸引装置３６０とが配置されているため、素子基板１０および検査端子３２
０は、平面視で端子１０２が配列しているＸ方向と直交するＹ方向から気流Ｓが吹き付け
られる。このため、気流Ｓは複数の端子１０２の各々に向けて確実に吹き付けられる。従
って、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に異物Ｐが発生しても、かかる異物Ｐ
は気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から確実に離脱して吸引される。そ
れ故、異物Ｐが素子基板１０に再付着することに起因する不具合の発生を確実に防止する
ことができるとともに、異物Ｐが検査端子３２０に付着することに起因する検査不良の発
生を確実に防止することができる。
【００４７】
また、気流Ｓの吸引は、気流Ｓを吹き出す吹き出し口３５１よりサイズが大きな吸引口
３６１によって行われる。このため、吹き出し口３５１から吹き出された気流Ｓが拡散し
ても確実に吸引することができる。
【００４８】
［実施の形態２］
図７は、本発明の実施の形態２に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査
装置）の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため
、共通する部分には同一の符号を付し、それらの説明を省略する。
【００４９】
本形態でも、実施の形態１と同様、素子基板形成工程Ｓ１の後、検査工程Ｓ１０におい
て、図７に示す素子基板検査装置３００によって、大型の素子基板１０の電気的な検査を
行う。本形態において、素子基板検査装置３００は、実施の形態１と同様、大型の素子基
板１０を保持する基板保持具３１０と、基板保持具３１０に保持された素子基板１０の端
子１０２に当接する検査端子３２０と、検査端子３２０と素子基板１０との相対位置を切
り換える駆動機構３３０とを有している。また、本形態の素子基板検査装置３００も、実
施の形態１と同様、素子基板１０の一方面１０ｓ（端子１０２等が形成されている側の面
）に向けて斜め方向から気流Ｓを吹き付ける気流吐出装置３５０と、気流Ｓの下流側で吸
引を行う吸引装置３６０とを有している。また、吸引口３６１は、吹き出し口３５１より
サイズが大きい。また、本形態でも、実施の形態１と同様、端子１０２が配列しているＸ
方向に対して、平面視で９０°の角度を成すＹ方向に気流吐出装置３５０と吸引装置３６
０とが配置されている。
【００５０】
ここで、吸引装置３６０は、気流Ｓを吹き出す気流吐出機構３６５を備え、気流吐出装
置３５０は、気流Ｓを吸引する吸引機構３５５を備えている。従って、気流吐出装置３５
０と吸引装置３６０とは、気流Ｓの吹き付けと吸引とを交互に行うことができる。従って
、本形態では、図７に矢印Ｃで示すように、検査端子３２０が端子１０２に当接している
途中、あるいは検査端子３２０が移動している途中、気流Ｓの吹き付け方向と吸引方向と
が反転する。また、気流吐出装置３５０に設けた吸引機構３５５の吸引口３５６は、吸引
装置３６０に設けた気流吐出機構３６５の吹き出し口３６６よりサイズが大きい。
【００５１】
このように構成した素子基板検査装置３００において検査を行う際も、実施の形態１と
同様、気流吐出装置３５０の吹き出し口３５１から素子基板１０の一方面１０ｓに向けて
斜め方向から気流Ｓを吹き付けるとともに、気流Ｓの下流側において、気流吐出装置３５
０の吸引口３６１で気流を吸い込みながら、検査端子３２０を素子基板１０の端子１０２
に当接させて検査を行う。このため、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に異物
Ｐが発生しても、かかる異物Ｐは気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から
確実に離脱して吸引される等、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００５２】
また、本形態においては、検査端子３２０が端子１０２に当接している途中、あるいは
検査端子３２０が移動している途中、気流Ｓの吹き付け方向と吸引方向とが反転する。こ
のため、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に異物Ｐが検査端子３２０のいずれ
の側に位置している場合でも、気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から異
物Ｐを確実に離脱させることができる。このため、異物Ｐが素子基板１０に再付着するこ
とに起因する不具合の発生を確実に防止することができるとともに、異物Ｐが検査端子３
２０に付着することに起因する検査不良の発生を確実に防止することができる。
【００５３】
［実施の形態３］
図８は、本発明の実施の形態３に係る素子基板検査装置（電気光学装置用素子基板検査
装置）の説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため
、共通する部分には同一の符号を付し、それらの説明を省略する。
【００５４】
本形態でも、実施の形態１と同様、素子基板形成工程Ｓ１の後、検査工程Ｓ１０におい
て、図８に示す素子基板検査装置３００によって、大型の素子基板１０の電気的な検査を
行う。本形態において、素子基板検査装置３００は、実施の形態１と同様、大型の素子基
板１０を保持する基板保持具３１０と、基板保持具３１０に保持された素子基板１０の端
子１０２に当接する検査端子３２０と、検査端子３２０と素子基板１０との相対位置を切
り換える駆動機構３３０とを有している。また、本形態の素子基板検査装置３００も、実
施の形態１と同様、素子基板１０の一方面１０ｓ（端子１０２等が形成されている側の面
）に向けて斜め方向から気流Ｓを吹き付ける気流吐出装置３５０と、気流Ｓの下流側で吸
引を行う吸引装置３６０とを有している。また、吸引口３６１は、吹き出し口３５１より
サイズが大きい。また、本形態でも、実施の形態１と同様、端子１０２が配列しているＸ
方向に対して、平面視で９０°の角度を成す矢印Ｙに気流吐出装置３５０と吸引装置３６
０とが配置されている。
【００５５】
ここで、基板保持具３１０は真空チャック機構であり、基板保持具３１０および検査端
子３２０の少なくとも一方を、Ｘ方向と、Ｘ方向に対して９０°の角度をもって交差する
Ｙ方向と、Ｘ方向およびＸ方向に直交するＺ方向とに駆動して、検査端子３２０と素子基
板１０との相対位置を切り換える。
【００５６】
また、基板保持具３１０は、素子基板１０において端子１０２等が形成されている一方
面１０ｓを下向きに素子基板１０を保持している。このため、気流吐出装置３５０および
気流吐出装置３５０は斜め上向きに配置されている。
【００５７】
このように構成した素子基板検査装置３００において検査を行う際も、実施の形態１と
同様、気流吐出装置３５０の吹き出し口３５１から素子基板１０の一方面１０ｓに向けて
斜め方向から気流Ｓを吹き付けるとともに、気流Ｓの下流側において、気流吐出装置３５
０の吸引口３６１で気流を吸い込みながら、検査端子３２０を素子基板１０の端子１０２
に当接させて検査を行う。このため、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に異物
Ｐが発生しても、かかる異物Ｐは気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から
確実に離脱して吸引される等、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００５８】
また、本形態においては、素子基板１０は、端子１０２等が形成されている一方面１０
ｓが下向きである。このため、検査端子３２０と端子１０２とが当接した際に発生した異
物Ｐは、気流Ｓによって素子基板１０および検査端子３２０から離脱して吸引されるとと
もに、自重によっても、素子基板１０および検査端子３２０から離脱する。このため、異
物Ｐが素子基板１０に再付着することに起因する不具合の発生を確実に防止することがで
きるとともに、異物Ｐが検査端子３２０に付着することに起因する検査不良の発生を確実
に防止することができる。
【００５９】
［他の実施の形態］
上記実施の形態では、端子１０２が配列しているＸ方向と直交するＹ方向に気流吐出装
置３５０と吸引装置３６０とを配置したが、端子１０２が配列しているＸ方向と交差する
方向であれば、直交するＹ方向でなくてもよい。この場合の交差する方向としては、端子
１０２の形成ピッチ等にもよるが、端子１０２が配列しているＸ方向に対して６０°以上
の角度を成していることが好ましい。
【００６０】
上記実施の形態では液晶装置１００を例示したが、有機エレクトロルミネッセンス装置
等の電気光学装置の素子基板を検査する際に本発明を適用してもよい。
【００６１】
［電子機器への搭載例］
上述した実施形態に係る液晶装置１００を備えた電子機器について説明する。図９は、
本発明を適用した液晶装置１００を用いた投射型表示装置の概略構成図であり、図９（ａ
）、（ｂ）は各々、透過型の液晶装置１００を用いた投射型表示装置の説明図、および反
射型の液晶装置１００を用いた投射型表示装置の説明図である。
【００６２】
（投射型表示装置の第１例）
図９（ａ）に示す投射型表示装置１１０は、観察者側に設けられたスクリーン１１１に
光を照射し、このスクリーン１１１で反射した光を観察する、いわゆる投影型の投射型表
示装置である。投射型表示装置１１０は、光源１１２を備えた光源部１３０と、ダイクロ
イックミラー１１３、１１４と、液晶ライトバルブ１１５〜１１７（液晶装置１００）と
、投射光学系１１８と、クロスダイクロイックプリズム１１９と、リレー系１２０とを備
えている。
【００６３】
光源１１２は、赤色光、緑色光及び青色光を含む光を供給する超高圧水銀ランプで構成
されている。ダイクロイックミラー１１３は、光源１１２からの赤色光を透過させると共
に緑色光及び青色光を反射する構成となっている。また、ダイクロイックミラー１１４は
、ダイクロイックミラー１１３で反射された緑色光及び青色光のうち青色光を透過させる
と共に緑色光を反射する構成となっている。このように、ダイクロイックミラー１１３、
１１４は、光源１１２から出射した光を赤色光と緑色光と青色光とに分離する色分離光学
系を構成する。
【００６４】
ここで、ダイクロイックミラー１１３と光源１１２との間には、インテグレーター１２
１及び偏光変換素子１２２が光源１１２から順に配置されている。インテグレーター１２
１は、光源１１２から照射された光の照度分布を均一化する構成となっている。また、偏
光変換素子１２２は、光源１１２からの光を例えばｓ偏光のような特定の振動方向を有す
る偏光にする構成となっている。
【００６５】
液晶ライトバルブ１１５は、ダイクロイックミラー１１３を透過して反射ミラー１２３
で反射した赤色光を画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置１００である。液晶ライ
トバルブ１１５は、λ／２位相差板１１５ａ、第１偏光板１１５ｂ、液晶パネル１１５ｃ
及び第２偏光板１１５ｄを備えている。ここで、液晶ライトバルブ１１５に入射する赤色
光は、ダイクロイックミラー１１３を透過しても光の偏光は変化しないことから、ｓ偏光
のままである。
【００６６】
λ／２位相差板１１５ａは、液晶ライトバルブ１１５に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換
する光学素子である。また、第１偏光板１１５ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させ
る偏光板である。そして、液晶パネル１１５ｃは、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によっ
てｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。さらに、
第２偏光板１１５ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。したがって
、液晶ライトバルブ１１５は、画像信号に応じて赤色光を変調し、変調した赤色光をクロ
スダイクロイックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。
【００６７】
なお、λ／２位相差板１１５ａ及び第１偏光板１１５ｂは、偏光を変換させない透光性
のガラス板１１５ｅに接した状態で配置されており、λ／２位相差板１１５ａ及び第１偏
光板１１５ｂが発熱によって歪むのを回避することができる。
【００６８】
液晶ライトバルブ１１６は、ダイクロイックミラー１１３で反射した後にダイクロイッ
クミラー１１４で反射した緑色光を画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置１００で
ある。そして、液晶ライトバルブ１１６は、液晶ライトバルブ１１５と同様に、第１偏光
板１１６ｂ、液晶パネル１１６ｃ及び第２偏光板１１６ｄを備えている。液晶ライトバル
ブ１１６に入射する緑色光は、ダイクロイックミラー１１３、１１４で反射されて入射す
るｓ偏光である。第１偏光板１１６ｂは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板で
ある。また、液晶パネル１１６ｃは、ｓ偏光を画像信号に応じた変調によってｐ偏光（中
間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。そして、第２偏光板１
１６ｄは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光板である。したがって、液晶ライト
バルブ１１６は、画像信号に応じて緑色光を変調し、変調した緑色光をクロスダイクロイ
ックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。
【００６９】
液晶ライトバルブ１１７は、ダイクロイックミラー１１３で反射し、ダイクロイックミ
ラー１１４を透過した後でリレー系１２０を経た青色光を画像信号に応じて変調する透過
型の液晶装置１００である。そして、液晶ライトバルブ１１７は、液晶ライトバルブ１１
５、１１６と同様に、λ／２位相差板１１７ａ、第１偏光板１１７ｂ、液晶パネル１１７
ｃ及び第２偏光板１１７ｄを備えている。ここで、液晶ライトバルブ１１７に入射する青
色光は、ダイクロイックミラー１１３で反射してダイクロイックミラー１１４を透過した
後にリレー系１２０の後述する２つの反射ミラー１２５ａ、１２５ｂで反射することから
、ｓ偏光となっている。
【００７０】
λ／２位相差板１１７ａは、液晶ライトバルブ１１７に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換
する光学素子である。また、第１偏光板１１７ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させ
る偏光板である。そして、液晶パネル１１７ｃは、ｐ偏光を画像信号に応じた変調によっ
てｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっている。さらに、
第２偏光板１１７ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。したがって
、液晶ライトバルブ１１７は、画像信号に応じて青色光を変調し、変調した青色光をクロ
スダイクロイックプリズム１１９に向けて射出する構成となっている。なお、λ／２位相
差板１１７ａ及び第１偏光板１１７ｂは、ガラス板１１７ｅに接した状態で配置されてい
る。
【００７１】
リレー系１２０は、リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂと反射ミラー１２５ａ、１２５ｂ
とを備えている。リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂは、青色光の光路が長いことによる光
損失を防止するために設けられている。ここで、リレーレンズ１２４ａは、ダイクロイッ
クミラー１１４と反射ミラー１２５ａとの間に配置されている。また、リレーレンズ１２
４ｂは、反射ミラー１２５ａ、１２５ｂの間に配置されている。反射ミラー１２５ａは、
ダイクロイックミラー１１４を透過してリレーレンズ１２４ａから出射した青色光をリレ
ーレンズ１２４ｂに向けて反射するように配置されている。また、反射ミラー１２５ｂは
、リレーレンズ１２４ｂから出射した青色光を液晶ライトバルブ１１７に向けて反射する
ように配置されている。
【００７２】
クロスダイクロイックプリズム１１９は、２つのダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂ
をＸ字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜１１９ａは青色光を反射
して緑色光を透過する膜であり、ダイクロイック膜１１９ｂは赤色光を反射して緑色光を
透過する膜である。したがって、クロスダイクロイックプリズム１１９は、液晶ライトバ
ルブ１１５〜１１７のそれぞれで変調された赤色光と緑色光と青色光とを合成し、投射光
学系１１８に向けて射出するように構成されている。
【００７３】
なお、液晶ライトバルブ１１５、１１７からクロスダイクロイックプリズム１１９に入
射する光はｓ偏光であり、液晶ライトバルブ１１６からクロスダイクロイックプリズム１
１９に入射する光はｐ偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム１１９に入
射する光を異なる種類の偏光としていることで、クロスダイクロイックプリズム１１９に
おいて各液晶ライトバルブ１１５〜１１７から入射する光を有効に合成できる。ここで、
一般に、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂはｓ偏光の反射特性に優れている。このた
め、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂで反射される赤色光及び青色光をｓ偏光とし、
ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂを透過する緑色光をｐ偏光としている。投射光学系
１１８は、投影レンズ（図示略）を有しており、クロスダイクロイックプリズム１１９で
合成された光をスクリーン１１１に投射するように構成されている。
【００７４】
（投射型表示装置の第２例）
図９（ｂ）に示す投射型表示装置１０００は、光源光を発生する光源部１０２１と、光
源部１０２１から出射された光源光を赤、緑、青の３色に分離する色分離導光光学系１０
２３と、色分離導光光学系１０２３から出射された各色の光源光によって照明される光変
調部１０２５とを有している。また、投射型表示装置１０００は、光変調部１０２５から
出射された各色の像光を合成するクロスダイクロイックプリズム１０２７（合成光学系）
と、クロスダイクロイックプリズム１０２７を経た像光をスクリーン（不図示）に投射す
るための投射光学系である投射光学系１０２９とを備えている。
【００７５】
かかる投射型表示装置１０００において、光源部１０２１は、光源１０２１ａと、一対
のフライアイ光学系１０２１ｄ、１０２１ｅと、偏光変換部材１０２１ｇと、重畳レンズ
１０２１ｉとを備えている。本形態においては、光源部１０２１は、放物面からなるリフ
レクタ１０２１ｆを備えており、平行光を出射する。フライアイ光学系１０２１ｄ、１０
２１ｅは、システム光軸と直交する面内にマトリックス状に配置された複数の要素レンズ
からなり、これらの要素レンズによって光源光を分割して個別に集光・発散させる。偏光
変換部材１０２１ｇは、フライアイ光学系１０２１ｅから出射した光源光を、例えば図面
に平行なｐ偏光成分のみに変換して光路下流側光学系に供給する。重畳レンズ１０２１ｉ
は、偏光変換部材１０２１ｇを経た光源光を全体として適宜収束させることにより、光変
調部１０２５に設けた複数の液晶装置１００を各々均一に重畳照明可能とする。
【００７６】
色分離導光光学系１０２３は、クロスダイクロイックミラー１０２３ａと、ダイクロイ
ックミラー１０２３ｂと、反射ミラー１０２３ｊ、１０２３ｋとを備える。色分離導光光
学系１０２３において、光源部１０２１からの略白色の光源光は、クロスダイクロイック
ミラー１０２３ａに入射する。クロスダイクロイックミラー１０２３ａを構成する一方の
第１ダイクロイックミラー１０３１ａで反射された赤色（Ｒ）の光は、反射ミラー１０２
３ｊで反射されダイクロイックミラー１０２３ｂを透過して、入射側偏光板１０３７ｒ、
ｐ偏光を透過させ、ｓ偏光を反射するワイヤーグリッド偏光板１０３２ｒ、および光学補
償板１０３９ｒを介して、ｐ偏光のまま、赤色（Ｒ）用の液晶装置１００に入射する。
【００７７】
また、第１ダイクロイックミラー１０３１ａで反射された緑色（Ｇ）の光は、反射ミラ
ー１０２３ｊで反射され、その後、ダイクロイックミラー１０２３ｂでも反射されて、入
射側偏光板１０３７ｇ、ｐ偏光を透過させ、ｓ偏光を反射するワイヤーグリッド偏光板１
０３２ｇ、および光学補償板１０３９ｇを介して、ｐ偏光のまま、緑色（Ｇ）用の液晶装
置１００に入射する。
【００７８】
これに対して、クロスダイクロイックミラー１０２３ａを構成する他方の第２ダイクロ
イックミラー１０３１ｂで反射された青色（Ｂ）の光は、反射ミラー１０２３ｋで反射さ
れて、入射側偏光板１０３７ｂ、ｐ偏光を透過させる一方で、ｓ偏光を反射するワイヤー
グリッド偏光板１０３２ｂ、および光学補償板１０３９ｂを介して、ｐ偏光のまま、青色
（Ｂ）用の液晶装置１００に入射する。
【００７９】
なお、光学補償板１０３９ｒ、１０３９ｇ、１０３９ｂは、液晶装置１００への入射光
および出射光の偏光状態を調整することで、液晶層の特性を光学的に補償している。
【００８０】
このように構成した投射型表示装置１０００では、光学補償板１０３９ｒ、１０３９ｇ
、１０３９ｂを経て入射した３色の光は各々、各液晶装置１００において変調される。そ
の際、液晶装置１００から出射された変調光のうち、ｓ偏光の成分光は、ワイヤーグリッ
ド偏光板１０３２ｒ、１０３２ｇ、１０３２ｂで反射し、出射側偏光板１０３８ｒ、１０
３８ｇ、１０３８ｂを介してクロスダイクロイックプリズム１０２７に入射する。クロス
ダイクロイックプリズム１０２７には、Ｘ字状に交差する第１誘電体多層膜１０２７ａお
よび第２誘電体多層膜１０２７ｂが形成されており、一方の第１誘電体多層膜１０２７ａ
はＲ光を反射し、他方の第２誘電体多層膜１０２７ｂはＢ光を反射する。従って、３色の
光は、クロスダイクロイックプリズム１０２７において合成され、投射光学系１０２９に
出射される。そして、投射光学系１０２９は、クロスダイクロイックプリズム１０２７で
合成されたカラーの像光を、所望の倍率でスクリーン（図示せず。）投射する。
【００８１】
（他の投射型表示装置）
なお、投射型表示装置については、光源部として、各色の光を出射するＬＥＤ光源等を
用い、かかるＬＥＤ光源から出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成
してもよい。
【００８２】
（他の電子機器）
本発明を適用した液晶装置１００については、上記の電子機器の他にも、携帯電話機、
情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）、デジタルカメラ、液晶テレビ
、カーナビゲーション装置、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等の電
子機器において直視型表示装置として用いてもよい。
【符号の説明】
【００８３】
９ａ・・画素電極、３０・・画素トランジスター、５０・・液晶層、１０２・・端子、１
００・・液晶装置、１１０、１０００・・投射型表示装置、３００・・素子基板検査装置
、３１０・・基板保持具、３２０・・検査端子、３３０・・駆動機構、３５０・・気流吐
出装置、３５１、３６６・・吹き出し口、３５５・・吸引機構、３６０・・吸引装置、３
６１、３５６・・吸引口、３６５・・気流吐出機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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