【事件の表示】
　平成１０年特許願第３４０９３５号「高視認性電磁波シールド用透明シート」拒絶査定に対する審判事件［平成１１年１１月１６日出願公開、特開平１１−３１７５９３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１
　［【優先権主張番号】特願平１０―７１３０５
　　【優先日】平１０（１９９８）３月４日
　　【優先権主張国】日本（ＪＰ）］であって、その請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの次のものと認める。
「　　　【請求項１】　透明シート（１）上に、線幅３〜２０μmの銅を主成分とする網の目銅パターン（P）が開口率５６〜９６％でもって形成され、前記網の目銅パターン（Ｐ）が、物理的薄膜形成手段による銅を主成分とする厚さ５０Å〜１μｍの銅の薄膜層（２）を下地層に、メッキ手段による厚さ１〜１０μｍの銅の厚膜層（３）を上層にして形成されていることを特徴とする高視認性電磁波シールド用透明シート。」
　
２
［
］
　視認性が優れ、電磁波シールド効果も高い透光性電磁波シールド材料とその製造方法を提供することを目的とする発明で、
【００５７】には、「実施例８
厚さ０．３μmのニッケルを蒸着した厚さ１．１ｍｍのホウケイ酸ガラス板の金属層を、フォトリソグラフィーで内径１００μｍ、ピッチ１１０μｍの逆水玉状にパターン化した。この金属層に導電線を接続し、ピロリン酸カリウム２００ｇ／ｌ、ピロリン酸スズ１５ｇ／ｌ、硫酸ニッケル１５ｇ／ｌ、モリブデン酸ナトリウム１０５ｇ／ｌ、グリシン２０ｇ／ｌを含む５０℃のめっき溶液に浸漬し、０．２Ａ／ｄｍ2の電流を３分間通電して厚さ１μmの黒色電気析出層を形成した。その後６０℃で３０分乾燥し、冷却後この上にフィルムをラミネートして電気めっき被膜が黒色系の色調を有する透光性電磁波シールド材料を得た。」と記載されている。
　そして、「内径１００μｍ、ピッチ１１０μｍの逆水玉状にパターン化した」の記載から、線幅は、略１０μm前後と認められ、開口率は、１００２／１１０２から略８３％と認められる。
　
　これらの記載からみれば引用例２には、以下のとおりの発明が記載されていると認められる。［以下、〈〉内には、本願発明で相当している事項の用語を示す。］
『ホウケイ酸ガラス板〈透明シート〉上に、略１０μm前後〈線幅３〜２０μm〉のニッケルの逆水玉状にパターン〈網の目パターン〉が開口率８３％〈５６〜９６％〉でもって形成され、前記逆水玉状にパターン〈網の目パターン〉が、蒸着〈物理的薄膜形成手段〉による厚さ０．３μｍ〈５０Å〜１μｍ〉のニッケルの薄膜層を下地層に、メッキ手段による厚さ１μｍ〈１〜１０μｍ〉の黒色電気析出層〈厚膜層〉を上層にして形成されていることを特徴とする高視認性電磁波シールド用透明シート。』
　
［
］
　電磁波シールドプラスチック成形品に関する発明で、
　【００１０】には、「また、この発明は、あらかじめ洗浄することなく、プライマーコート層を配設せずにプラスチック成形品表面に高周波励起プラズマによる0.7 〜5.0 μｍの膜厚の銅膜を配設し、次いで１０〜３０μｍ厚の銅電解メッキ膜を、さらに保護膜を配設してなる電磁波シールドプラスチック成形品をも提供する。この発明の電磁波シールドプラスチック成形品は、各種のプラスチックの射出成形、押出成形、注型成形、あるいはそれらの表面成形したものを含み、その目的、用途に応じて、表面に配設する高周波励起プラズマによる銅の厚みを0.7 〜5.0 μｍの適宜なものとする。」と記載され、
【００１７】【実施例】実施例１には、
「プラスチック射出成形品としての、ＡＢＳ−ＰＣアロイ材料から成形した自動車電話器の筐体に、フロン洗浄およびプライマーコート層の配設を行うことなく、直接高周波励起プラズマによる銅成膜を行った。
【００１８】真空室の到達真空度を５×１０-5Torrとし、アルゴンを、２×１０-4Torrの分圧として導入し、コイル状高周波励起電極によって生成させたグロープラズマによって銅蒸発粒子の励起とプラスチック射出成形品表面への付着を行った。平面部の銅の膜厚が５μｍとなるまで成膜した。次いで電解メッキにより約３０μｍの銅と、約２μｍのニッケルを成膜した。」と記載されている。
　
［
］
　透明電磁波吸収シールド材に関する発明で、
【００２９】には、
「一次元導電性線分パターン(１)および二次元導電性線分パターン(２)のいずれもその厚さには特に限定はないが、例えば金属蒸着薄膜の場合５０〜５０００Å、好ましくは１００〜１０００Åが好適に形成される。また、導電性線分パターンの線幅は、透明性が十分に確保できる幅であれば特に問題はないが、一般的に１００μ以下、好ましくは１〜５０μ、より好ましくは１〜３０μである。１００μを越えると、透明性が十分確保できない恐れがある。」と記載され、
【００３３】ないし【００３８】の実施例１ないし実施例５には、
「【００３３】【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００３４】＜実施例１＞尾池工業製アルミ蒸着ＰＥＴフィルム(蒸着膜厚５００Å、ＰＥＴフィルム厚１００μ)上に日本ペイント製ポジ型液状レジスト(オプトＥＲ Ｐ−６００)を乾燥膜厚０.５μになるように塗布した後熱風オーブンで乾燥せしめた。この上に図４、のパターンマスクを重ね３０mＪ／cm2露光した後１％苛性ソーダ水で現像と同時に露出したアルミ蒸着膜部分をエッチングしアルミ蒸着パターンフィルムを得た。次にこのフィルムを厚さ２mmのＩＴＯ蒸着ガラス(蒸着膜厚２０００Å、光線透過率８５％))の非蒸着面に貼り付け透明電磁波吸収シールド材を得た。
【００３５】＜実施例２＞実施例１において、図４に加えて図５のパターンマスクを重ね３０mＪ／cm2露光した後１％苛性ソーダ水で現像と同時に露出したアルミ蒸着膜部分をエッチングし、２種類のアルミ蒸着パターンフィルムを得た。次にこの２枚のフィルムを厚さ２mmの板ガラスの両面に貼り付け透明電磁波吸収シールド材を得た。
【００３６】＜実施例３＞実施例２において図４の代わりに図６のパターンマスクを使用する以外は実施例２と同様の方法で２種類のアルミ蒸着パターンフィルムを得た。次に図６のフィルムを４枚模様が重ならないように積層し、厚さ２mmの板ガラスの両面に図５のフィルムに対向させて貼り付け透明電磁波吸収シールド材を得た。
【００３７】＜実施例４＞実施例３において図６の代わりに図７の積層フィルムを作成し、厚さ２mmの２枚の板ガラスに図５のフィルムを夾んだ合わせガラスの両面に図６、図７の積層フィルムを貼り付け透明電磁波吸収シールド材を得た。
【００３８】＜実施例５＞実施例３においてアルミ蒸着ＰＥＴフィルムの代わりに銅蒸着ＰＥＴフィルム(蒸着膜厚１０００μ)を使用し、現像後、２.５％ＨＣ１／ＦeＣ１３エッチング液で４１℃で銅エッチングする以外は実施例３と同様の方法で透明電磁波吸収シールド材を得た。」と記載されている。
　
　上記引用例４及び上記周知例（実施例５）の記載から、電磁波シールド用層の材料に銅が使用されている点を見ることができる。
　
３
　『透明シート上に、線幅３〜２０μmの網の目パターンが開口率５６〜９６％でもって形成され、前記網の目パターンが、物理的薄膜形成手段による厚さ５０Å〜１μｍの薄膜層を下地層に、メッキ手段による厚さ１〜１０μｍの厚膜層を上層にして形成されていることを特徴とする高視認性電磁波シールド用透明シート。』の点で一致し、
　
　本願請求項１に係る発明は、薄膜層及び厚膜層が共に銅を主成分とする材料で形成されているのに対し、引用例２の実施例８に記載の発明では、薄膜層がニッケルで形成され、厚膜層が黒色電気析出層で形成されている点で相違する。
　
４
　導電性を必要とする部分を銅を主成分とする材料で形成することは極普通のことであり、電磁波シールド用層の材料においても、上記引用例４及び上記周知例（実施例５）に銅を主成分とする点が見られることから、上記実施例８に記載された発明において、薄膜層及び厚膜層を銅を主成分とする材料で形成し、本願請求項１に係る発明のように構成することは当業者が容易に為し得ることと認められる。
　
５
　よって、結論のとおり審決する。