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　平成８年特許願第２８６１４１号「レジスト露光方法及びその露光装置」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年４月２８日出願公開、特開平１０−１１２５７９］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成８年１０月７日の出願であって、平成１３年１月２３日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年２月２７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年３月２７日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１３年３月２７日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１３年３月２７日付の手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１，２はそれぞれ
「　【請求項１】
　電気的デバイスの製作時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光するにあたり、
　露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、
　該パターンデータを電気信号として、２次元に配列された複数の微小ミラーを有するディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、
　該ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるレジスト露光方法であって、
　前記微小ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を光吸収板に吸収させるとともに、
　上記ディジタルマイクロミラーデバイスの各微小ミラーからの反射光を光学系を用いて当該パターンデータに対応した形状に縮小してレジストに投影するようにしたレジスト露光方法。
　　【請求項２】
　表面にレジストが形成されたウエハ類を支持する支持台と、
　該支持台に対向して配置され、２次元に配列されたメモリーアレイの各メモリーセル上に微小ミラーを配設して構成され、上記複数の各微小ミラーを上記メモリーアレイに入力されるパターンデータの電気信号に応じて傾動させ、該複数の微小ミラーからの反射光を上記支持台に支持されたウエハ類のレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光するディジタルマイクロミラーデバイスと、
　該ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーに光を入射する光源と、
　前記ディジタルマイクロミラーデバイスの微小ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を吸収する光吸収板と、
　上記複数の微小ミラーからの反射光を上記レジストに当該パターンデータに対応した形状に縮小投影する光学系と、
　を備えたことを特徴とするレジスト露光装置。 」
と補正された。
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「各微小ミラーからの反射光」について、「光学系を用いて当該パターンデータに対応した形状に縮小してレジストに投影する」との限定を付加し、また、請求項２に記載した発明を特定するために必要な事項である「微小ミラーからの反射光」について、「レジストに縮小投影する光学系を備えた」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１，２に記載された発明（以下、「本願補正発明１」、「本願補正発明２」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６２−２１２２０号公報（以下、「引用例」という。）には、「マスクレス露光装置」に関し、図１〜５と共に、次のイ〜ホの記載事項がある。
　　イ）「〔技術分野〕　この発明は、マスクレス露光装置に関するものである。」（公報第１頁左下欄第１６〜１８行）
　　ロ）「ＤＭＤとは、電気的ＯＮ，ＯＦＦをミラー部１３の揺動のＯＮ，ＯＦＦに変換し、さらに光のふれ角に変換するものである。」（公報第２頁右下欄第１５〜１７行）
　　ハ）「第２図は上記ＤＭＤを、露光装置に適用したこの発明の実施例を示す。
　図において、２１は照明手段としての光源、２２，２４はＤＭＤを照明するための光学系、・・・２７はＤＭＤである。この素子のミラー部１３は、・・・第３図に示すように、アレイ状に多数配列されている。２８はＤＭＤ駆動回路、２９はＤＭＤ２７の反射光を被露光体３０に結像する結像手段としてのレンズ（光学系）で、普通ＤＭＤに信号がＯＮした時のみ光が入る。３０は上記被露光体であり、例えば感光材をコーティングしたウェハやマスク原版である。３１は被露光体３０を保持し、互いに垂直な２方向に移動するテーブルである。ＤＭＤ２７のミラー部１３の列が紙面の手前から奥に向かう方向に配置され、同様に被露光体３０の上面に紙面の手前から奥に向かう方向にミラー部１３の列による像の列が結像されるとき、上記テーブル３１は紙面の手前と奥の方向（Ａｘ方向）と左右方向（Ａｙ方向）の２方向に移動できるようになっている。」（公報第２頁右下欄第１８行〜第３頁右上欄第２行）
　　ニ）「計算機３２は、ＣＡＤ等により描画パターンを作成し、・・・描画パターン情報を・・・読み出し、・・・露光装置インターフェース３４は、・・・ＤＭＤ２７のそれぞれのミラー部１３に対応した画素データを選択し、・・・駆動信号をＤＭＤ駆動回路２８に入力する。・・・ＤＭＤ２７はこの信号に応じて・・・電気機械的に反応し、・・・アレイミラーが揺動する。光源２１より発せられた照明系の光Ａは・・・ＤＭＤ２７上のアレイミラー部１３の状況がＯＦＦの場合にはＣの方向に反射光が向い遮光板３５で遮光され、被露光体３０上に光がとどかない。ＯＮの場合には、Ｂ方向に光が反射されてレンズ２９に入り、ミラー部１３一個に相応したドットパターンが被露光体３０上に結ばれる。」（公報第３頁右上欄第３行〜左下欄第８行）
　　ホ）「ライン状のＯＮ，ＯＦＦ信号をＤＭＤ駆動回路２８に入力すれば、ライン状の潜像が被露光体上に形成される。そして、ミラー部１３の幅分だけｙ方向にテーブル３１を移動させるように信号をテーブル駆動装置３６に送る。そして次の別の露光を行うために、再び各ミラー部１３に対応したデータを読み込み、次のライン状のＯＮ，ＯＦＦ信号をＤＭＤ駆動回路２８に入力する。
　このように、列ごとのパターンデータを逐次計算機３２から入力することにより一度に１列（ＤＭＤのミラー部１３の列がｎ列ならｎ列）づつパターン描画できる。」（公報第３頁左下欄第８〜１６行）
　
（３）対比・判断
　（３−１）本願補正発明１について
　本願補正発明１と上記イ〜ホの記載事項とを対比する。
　当業者における技術常識を参酌すると、引用例の「マスクレス露光装置」はウェハやマスク原版上のレジストを露光するものであるから（記載事項ハ）、本願補正発明１と同様に「電気的デバイスの作成時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光する」ためのものであり、引用例の「ＤＭＤ」は本願補正発明１の「ディジタルマイクロミラーデバイス」に相当する。
　また、引用例の「ＣＡＤ等により描画パターンを作成」すること（記載事項ニ）は、本願補正発明１における「パターンデータを作成」することに相当し、引用例の、「画素データ」は本願補正発明１の「パターンデータ」の一部に相当するから、引用例における「露光装置インターフェース３４」は、「ＤＭＤ２７のそれぞれのミラー部１３に対応した画素データを選択し」「駆動信号をＤＭＤ駆動回路２８に入力」し、「ＤＭＤ２７」が「この信号に応じて」「アレイミラー」を「揺動」させるということ（記載事項ニ）は、本願補正発明１における「パターンデータを電気信号として、」「配列された複数の微小ミラーを有するディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ」ることに相当する。
　さらに、引用例の、「光源２１より発せられた照明形の光Ａ」が「ＤＭＤ２７上のアレイミラー部１３の状況がＯＦＦの場合にはＣの方向に反射光が向い遮光板３５で遮光され、被露光体３０上に光がとどか」ず、「ＯＮの場合には、Ｂ方向に光が反射されてレンズ２９に入り、ミラー部１３一個に相応したドットパターンが被露光体３０上に結ばれる」ということ（記載事項ニ）は、これによって、レジスト上のパターン形成に必要な反射光をレジストの方向に光学系をとおして縮小投影（なお、レジストパーターンを露光形成する際に、光学系を通して縮小投影することは常套手段である）し、不必要な反射光を遮光板で遮光するものであるから、本願補正発明１の「ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影して」「露光させる」時に、「微小ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を光吸収板に吸収させる」こと、及び「ディジタルマイクロミラーデバイスの各微小ミラーからの反射光を光学系を用いて」「縮小してレジストに投影する」ことに相当する。
　したがって、本願補正発明１と引用例記載の発明の一致点及び相違点を次のとおり認定できる。
＜一致点＞
　電気的デバイスの製作時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光するにあたり、
　露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、
　該パターンデータを電気信号として、配列された複数の微小ミラーを有するディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、
　該ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるレジスト露光方法であって、
　前記微小ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を光吸収板に吸収させるとともに、
　上記ディジタルマイクロミラーデバイスの各微小ミラーからの反射光を光学系を用いて縮小してレジストに投影するようにしたレジスト露光方法である点。
＜相違点＞
　本願補正発明１の「ディジタルマイクロミラーデバイス」は、微小ミラーを２次元に配列したものであり、レジストに投影される像が（２次元の）パターンデータに対応した形状であるのに対し、引用例記載の発明の「ＤＭＤ」の微小ミラーの配列についてはアレイ状とあるのみで、１列ずつあるいはｎ列ずつ逐次繰り返しパターン描画（露光）するものである点。
　
　上記相違点について検討する。
　ディジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の微小ミラーを２次元（平面状）に配列することは本願出願前周知の技術であり、また、この２次元（平面状）ディジタルマイクロミラーデバイスの各々の微小ミラーを、２次元の画像のパターンデータに応じて傾動させ、一度の光の照明で所望の２次元の画像パターンの像を結像することも、本願出願前周知の技術（例えば、特開平７−３２５３４６号、特開平６−１０２４５９号公報、参照。）である。よって、引用例記載の発明のＤＭＤを上記従来周知の微小ミラーが２次元に配列されたものとし、ウェハのレジスト上に投影される像を（２次元の）パターンデータに対応した形状とすることは、当業者であれば容易に想到することができたものである。
　そして、微小ミラーを２次元配列したディジタルマイクロミラーデバイスを採用したことによる作用効果（一度に露光できる、光学系の構造を簡素化することができる）も、引用例に記載の発明及び上記周知の技術より、当業者であれば予測しうる程度のものであり格別なものとはいえない。
　したがって、本願補正発明１は、引用例に記載の発明及び従来周知の技術より当業者であれば容易に発明をすることができたものである。
　
（３−２）本願補正発明２について
　本願補正発明２は、本願補正発明１の方法の発明を装置の発明としたものであり、本願補正発明２は本願補正発明１と実質的な差異はない。
　したがって、本願補正発明２は、上記（３−１）と同様の理由により、引用例に記載の発明及び従来周知の技術より当業者であれば容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本願補正発明１，２は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明
　平成１３年３月２７日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜４に係る発明は、平成１２年１０月３０日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定される、以下のとおりのものと認める。
「【請求項１】
　電気的デバイスの製作時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光するにあたり、
　露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、
　該パターンデータを電気信号として、２次元に配列された複数の微少ミラーを有するディジタル・マイクロ・ミラー・デバイスに入力し、その複数の各微少ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、
　該ディジタル・マイクロ・ミラー・デバイスに光を投射してその各微少ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるレジスト露光方法であって、
　前記微少ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を光吸収板に吸収させるようにしたレジスト露光方法。
　　【請求項２】
　上記ディジタルマイクロミラーデバイスの各微少ミラーからの反射光を光学系で縮小して又はそのままレジストに投影するようにした請求項１記載のレジスト露光方法。
　　【請求項３】
　表面にレジストが形成されたウエハ類を支持する支持台と、
　該支持台に対向して配置され、２次元に配列されたメモリーアレイの各メモリーセル上に微少ミラーを配設して構成され、上記複数の各微少ミラーを上記メモリーアレイに入力されるパターンデータの電気信号に応じて傾動させ、該複数の微少ミラーからの反射光を上記支持台に支持されたウエハ類のレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光するディジタルマイクロミラーデバイスと、
　該ディジタルマイクロミラーデバイスの微少ミラーに光を入射する光源と、
　前記ディジタルマイクロミラーデバイスの微少ミラーからの反射光のうち、前記パターンの形成に必要でない反射光を吸収する光吸収板と、
　を備えたことを特徴とするレジスト露光装置。
　　【請求項４】
　上記複数の微少ミラーからの反射光を上記レジストに縮小投影する光学系を更に備えた請求項３記載のレジスト露光装置。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、及び、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断
（２−１）請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という）について
　本願発明１は、前記「２．（３）」で検討した本願補正発明１から「各微小ミラーからの反射光」の限定事項である「光学系を用いて当該パターンデータに対応した形状に縮小してレジストに投影する」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明１の構成要件を全て含み、さらに上記限定構成要件を付加したものに相当する本願補正発明１が、前記「２．（３）」で記載したとおり、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１も同様の理由により、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（２−２）請求項２に係る発明（以下、「本願発明２」という）について
　本願発明２は、本願発明１の「各微小ミラーからの反射光」について「光学系で縮小して又はそのままレジストに投影する」との限定構成要件を付加したものである。
　しかしながら、ＤＭＤ（ディジタルマイクロミラーデバイス）の各微小ミラーからの反射光を光学系をとおして縮小してレジストに投影することは、引用例に開示されている。したがって、本願発明２は、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（２−３）請求項３に係る発明（以下、「本願発明３」という）について
　本願発明３は、前記「２．（３）」で検討した本願補正発明２から「微小ミラーからの反射光」の限定事項である「当該パターンデータに対応した形状に縮小投影する光学系」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明３の構成要件を全て含み、さらに上記限定構成要件を付加したものに相当する本願補正発明２が、前記「２．（３）」で記載したとおり、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明３も同様の理由により、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。　
　
（２−４）請求項４に係る発明（以下、「本願発明４」という）について
　本願発明４は、本願発明３の「微小ミラーからの反射光」について「レジストに縮小投影する光学系」の限定構成要件を付加したものである。
　しかしながら、ＤＭＤ（ディジタルマイクロミラーデバイス）の微小ミラーからの反射光を光学系をとおして縮小してレジストに投影することは、引用例に開示されている。
　したがって、本願発明４は、引用例及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明１〜４は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、上記結論のとおり審決する。