(57)【要約】【課題】物体の厚さを測定する装置と方法において、従来技術の制約と欠点に起因する問題点を解消する。【解決手段】本発明の厚さ測定装置及び厚さ測定方法は、第１共焦点顕微鏡を設けることと、第１共焦点顕微鏡から第１光線を第１方向に発射することと、第１光線を第１焦点面において焦点合わせすることと、第２共焦点顕微鏡を設けることと、第２共焦点顕微鏡から第２光線を第１方向と大略反対の第２方向に発射することと、第２光線を第２焦点面において焦点合わせすることと、第１焦点面と第２焦点面を重ねることにより、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の相対位置を調整することとを含む。【選択図】図２Ａ
2007086053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に第１焦点面において収束する第１光線を供給する第１共焦点顕微鏡と、第１方向と大略反対の第２方向に第２焦点面において収束する第２光線を供給する第２共焦点顕微鏡とを備える光学測定装置。
【請求項２】
第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に配置されて、層を含む物体を更に備える請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項３】
第１焦点面と第１焦点面に関連する対物レンズの間に配置した干渉計を更に備える請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項４】
第２焦点面と第２焦点面に関連する対物レンズの間に配置した干渉計を更に備える請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項５】
第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の少なくとも一方が、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って移動自在の対物レンズを含む請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項６】
第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の少なくとも一方が、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って対物レンズを移動させる装置を含む請求項１に記載の光学測定装置。
【請求項７】
対物レンズが装置に装着される請求項６に記載の光学測定装置。
【請求項８】
第１対物レンズを含んで、第１方向に第１対物レンズの第１焦点面において収束する第１光線を供給する第１共焦点顕微鏡と、第２対物レンズを含んで、第１方向と大略反対の第２方向に第２対物レンズの第２焦点面において収束する第２光線を供給する第２共焦点顕微鏡と、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って第１共焦面と第２共焦面の一方の位置を調整する装置とを備える光学測定装置。
【請求項９】
第１焦点面と第１対物レンズの間に配置された干渉計を更に備える請求項８に記載の光学測定装置。
【請求項１０】
第２焦点面と第２対物レンズの間に配置された干渉計を更に備える請求項８に記載の光学測定装置。
【請求項１１】
第１対物レンズと第２対物レンズの少なくとも一方が軸心に沿って移動自在である請求項８に記載の光学測定装置。
【請求項１２】
第１対物レンズと第２対物レンズの一方が装置に装着される請求項８に記載の光学測定装置。
【請求項１３】
第１共焦点顕微鏡を設けるステップと、第１共焦点顕微鏡から第１光線を第１方向に発射するステップと、第１光線を第１焦点面において焦点合わせするステップと、第２共焦点顕微鏡を設けるステップと、第２共焦点顕微鏡から第２光線を第１方向と大略反対の第２方向に発射するステップと、第２光線を第２焦点面において焦点合わせするステップと、第１焦点面と第２焦点面を重ねることにより、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の相対位置を調整するステップとを備える厚さ測定方法。
【請求項１４】
少なくとも１個の層を含む物体を第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に位置決めするステップを更に備える請求項１３に記載の厚さ測定方法。
【請求項１５】
層の第１界面が第１焦点面と重なるまで、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って物体を移動させるステップを更に備える請求項１４に記載の厚さ測定方法。
【請求項１６】
第２焦点面と関連する対物レンズの位置を記録するステップを更に備える請求項１３に記載の厚さ測定方法。
【請求項１７】
第１界面に対応する層の第２界面が第２焦点面と重なるまで、第２焦点面に関連する対物レンズを軸心に沿って移動させるステップを更に備える請求項１５に記載の厚さ測定方法。
【請求項１８】
第２界面が第２焦点面と重なる時に対物レンズの位置を記録するステップを更に備える請求項１７に記載の厚さ測定方法。
【請求項１９】
第１焦点面に関連する第１対物レンズと第２焦点面に関連する第２対物レンズの一方を装着する装置を設けるステップを更に備える請求項１３に記載の厚さ測定方法。
【請求項２０】
第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って装置を移動させるステップを更に備える請求項１９に記載の厚さ測定方法。
【請求項２１】
少なくとも１個の層を含む物体を第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に位置決めするステップと、層の第１界面が第１焦点面と重なるまで、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って物体を移動させるステップと、第１界面が第１焦点面と重なる時に装置の位置を記録するステップとを更に備える請求項１９に記載の厚さ測定方法。
【請求項２２】
層の第２界面が第２焦点面と重なるまで、装置を軸心に沿って移動させるステップと、第２界面が第２焦点面と重なる時に装置の位置を記録するステップとを更に備える請求項２１に記載の厚さ測定方法。
【請求項２３】
第１対物レンズを含む第１共焦点顕微鏡を設けるステップと、第１共焦点顕微鏡から第１光線を第１方向に発射するステップと、第１光線を第１対物レンズの第１焦点面において焦点合わせするステップと、第２対物レンズを含む第２共焦点顕微鏡を設けるステップと、第２共焦点顕微鏡から第２光線を第１方向と大略反対の第２方向に発射するステップと、第２光線を第２対物レンズの第２焦点面において焦点合わせするステップと、少なくとも１個の層を含む物体を設けるステップとを備える厚さ測定方法。
【請求項２４】
第１焦点面と第２焦点面を重ねるステップを更に備える請求項２３に記載の厚さ測定方法。
【請求項２５】
第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に物体を位置決めするステップを更に備える請求項２４に記載の厚さ測定方法。
【請求項２６】
層の第１界面が第１焦点面と重なるまで、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って物体を移動させるステップを更に備える請求項２４に記載の厚さ測定方法。
【請求項２７】
第２対物レンズの位置を記録するステップを更に備える請求項２３に記載の厚さ測定方法。
【請求項２８】
第１界面に対応する層の第２界面が第２焦点面と重なるまで、第２対物レンズを軸心に沿って移動させるステップを更に備える請求項２６に記載の厚さ測定方法。
【請求項２９】
第２界面が第２焦点面と重なる時に第２対物レンズの位置を記録するステップを更に備える請求項２８に記載の厚さ測定方法。
【請求項３０】
第１対物レンズと第２対物レンズの一方を装着する装置を設けるステップを更に備える請求項２３に記載の厚さ測定方法。
【請求項３１】
第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って装置を移動させるステップを更に備える請求項３０に記載の厚さ測定方法。
【請求項３２】
層の第１界面が第１焦点面と重なるまで、軸心に沿って物体を移動させるステップと、第１界面が第１焦点面と重なる時に装置の位置を記録するステップとを更に備える請求項３０に記載の厚さ測定方法。
【請求項３３】
層の第２界面が第２焦点面と重なるまで、装置を軸心に沿って移動させるステップと、第２界面が第２焦点面と重なる時に装置の位置を記録するステップとを更に備える請求項３０に記載の厚さ測定方法。
【請求項３４】
第１対物レンズと第１焦点面の間に干渉計を位置決めするステップを更に備える請求項２３に記載の厚さ測定方法。
【請求項３５】
第２対物レンズと第２焦点面の間に干渉計を位置決めするステップを更に備える請求項２３に記載の厚さ測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、光学測定に関し、より詳しくは、液晶セルのセルギャップを測定する装置と方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体プロセスの出現と共に、半導体製品は、軽量、小型で低輪郭への要求が高まっている。従って、電子製品において広く使用されてきた液晶表示（ＬＣＤ）パネルの製作はより複雑になっている。ＬＣＤパネルは、通常、上方ガラス基板、下方ガラス基板と両ガラス基板の間に挟持される中間層を備える。中間層は、カラーフィルター層、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）層、配向膜と液晶で満たされた液晶セルを含む。液晶セルの表示カラー、応答速度と配向安定性等の特性はセルギャップに依存するので、液晶セルの厚さ又はセルギャップは、制御の重要な要因である。従って、液晶セルを使用するためには、セルギャップを測定することが重要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、物体の厚さを測定する装置と方法において、従来技術の制約と欠点に起因する１個以上の問題点を解消することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の一実施の形態によれば、光学測定装置は、第１方向に第１焦点面において収束する第１光線を供給する第１共焦点顕微鏡と、第１方向と大略反対の第２方向に第２焦点面において収束する第２光線を供給する第２共焦点顕微鏡とを備える。
【０００５】
又、本発明によれば、光学測定装置は、第１対物レンズを含んで、第１方向に第１対物レンズの第１焦点面において収束する第１光線を供給する第１共焦点顕微鏡と、第２対物レンズを含んで、第１方向と大略反対の第２方向に第２対物レンズの第２焦点面において収束する第２光線を供給する第２共焦点顕微鏡と、第１方向と第２方向によって画定される軸心に沿って第１共焦面と第２共焦面の一方の位置を調整する装置とを備える。
【０００６】
更に、本発明によれば、厚さ測定方法は、第１共焦点顕微鏡を設けるステップと、第１共焦点顕微鏡から第１光線を第１方向に発射するステップと、第１光線を第１焦点面において焦点合わせするステップと、第２共焦点顕微鏡を設けるステップと、第２共焦点顕微鏡から第２光線を第１方向と大略反対の第２方向に発射するステップと、第２光線を第２焦点面において焦点合わせするステップと、第１焦点面と第２焦点面を重ねることにより、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の相対位置を調整するステップとを備える。
【０００７】
その上、本発明によれば、厚さ測定方法は、第１対物レンズを含む第１共焦点顕微鏡を設けるステップと、第１共焦点顕微鏡から第１光線を第１方向に発射するステップと、第１光線を第１対物レンズの第１焦点面において焦点合わせするステップと、第２対物レンズを含む第２共焦点顕微鏡を設けるステップと、第１共焦点顕微鏡から第２光線を第１方向と大略反対の第２方向に発射するステップと、第２光線を第２対物レンズの第２焦点面において焦点合わせするステップと、少なくとも１個の層を含む物体を設けるステップとを備える。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明の各実施の形態を図面を参照して詳しく説明する。全図面を通して、同じ又は同様の部品に対してはできるだけ同じ参照番号を使用している。
【０００９】
図１Ａは、本発明で使用するのに適した共焦点顕微鏡１０の略図である。図１Ａにおいて、共焦点顕微鏡１０は、光源１１，第１レンズ１２−１、第２レンズ１２−２、ビームスプリッタ１３、第１対物レンズ１４−１、第２対物レンズ１４−２とピンホール１５−１を有する検出器１５を含む。光源１１，第１レンズ１２−１と第２レンズ１２−２は、レーザービームを物体１６に供給する。第１レンズ１２−１、第２レンズ１２−２とビームスプリッタ１３を通過するレーザービームは、第１対物レンズ１４−１と関連する焦点面１７−１上に第１対物レンズ１４−１によって焦点合わせされ、次に、焦点面１７−１から反射される。焦点面１７−１に配置されている物体１６は、第１対物レンズ１４−１と合焦している。入射レーザービームと一致する反射光線は、第１対物レンズ１４−１によって再集光されて、ビームスプリッタ１３によって第２対物レンズ１４−２を介して検出器１５の方へ反射される。ピンホール１５−１は、第２対物レンズ１４−２と関連する焦点面に配置されているので、焦点面１７−１からの反射光線は、ピンホール１５−１において焦点合わせされて、全部が検出器１５に進行する。
【００１０】
図１Ｂは、図１Ａに示す共焦点顕微鏡１０の非合焦状態を図示する略図である。図１Ｂにおいて、入射光線１７は、第１対物レンズ１４−１によって焦点面１７−１に焦点合わせされる。しかしながら、物体１６が焦点面１７−１から離れて配置されているので、反射光線の一部（点線で図示）だけが検出器１５によって受けられる。特に、焦点面１７−１の下方からの光線は、ピンホール１５−１に到達する前に合焦状態になり、次に、発散して、光線の大部分がピンホール１５−１から検出器１５に到達することが物理的に妨げられる。同様にして、焦点面１７−１の上方からの光線は、ピンホール１５−１の後方に焦点合わせされて、光線の大部分がピンホール１５−１の縁部に当たって検出されない。
【００１１】
図１Ｃは、図１Ａに示す共焦点顕微鏡１０の検出器１５が受ける光線の変位と相対強度比の間の関係を図示するグラフである。図１Ｃにおいて、物体が焦点面に位置する合焦状態では、相対強度比、即ち、入射光線の強度に対する受けた光線の強度の比は約１であり、これは、共焦点顕微鏡１０の測定閾値として使用することができる。物体が焦点面から離れて位置する非合焦状態では、相対強度比は、変位が増加するにつれて減少する。
【００１２】
図２Ａは、本発明の一実施の形態にかかる光学測定装置２０の略図である。光学測定装置２０は、第１共焦点顕微鏡３０と第２共焦点顕微鏡４０を含む。図１Ａに図示する共焦点顕微鏡１０と類似の構造を有する第１共焦点顕微鏡３０は、光源３１、第１レンズ３２−１、第２レンズ３２−２、ビームスプリッタ３３、第１対物レンズ３４−１、第２対物レンズ３４−２とピンホール３５−１を有する検出器３５を含む。光源３１、第１レンズ３２−１と第２レンズ３２−２は、第１方向３７の第１光線を供給する。第１光線は、ビームスプリッタ３３を通過して、第１対物レンズ３４−１の焦点面において第１対物レンズ３４−１によって焦点合わせされる。反射光線は、第１対物レンズ３４−１によって集光されて、ビームスプリッタ３３によって第２対物レンズ３４−２とピンホール３５−１を介して検出器３５の方へ反射される。
【００１３】
同様にして、図１Ａに図示する共焦点顕微鏡１０と類似の構造を有する第２共焦点顕微鏡４０は、光源４１、第１レンズ４２−１、第２レンズ４２−２、ビームスプリッタ４３、第１対物レンズ４４−１、第２対物レンズ４４−２とピンホール４５−１を有する検出器４５を含む。光源４１、第１レンズ４２−１と第２レンズ４２−２は、第１方向３７とと大略反対の第２方向４７の第２光線を供給する。第２光線は、ビームスプリッタ４３を通過して、第１対物レンズ４４−１の焦点面において第１対物レンズ４４−１によって焦点合わせされる。反射光線は、第１対物レンズ４４−１によって集光されて、ビームスプリッタ４３によって第２対物レンズ４４−２とピンホール４５−１を介して検出器４５の方へ反射される。第２共焦点顕微鏡４０は、第１方向３７と第２方向４７によって画定される軸心に沿って第１対物レンズ４４−１を光源４１に対して移動させる摺動装置４６を更に含む。本発明の一実施の形態において、第１対物レンズ４４−１が、軸心に沿って移動するように、摺動装置４６に装着されている。当業者は、摺動装置４６の代わりに、軸心に沿って第１対物レンズ４４−１の焦点を調整できる他の装置を使用してもよいことを理解するだろう。更に、第１共焦点顕微鏡３０は、軸心に沿って第１対物レンズ３４−１を移動させる、摺動装置４６に類似の装置を含んでもよい。
【００１４】
物体５０、例えば、ガラス基板等の透明層５１と５２に挟持された液晶層５３を含む液晶セルが、第１共焦点顕微鏡３０と第２共焦点顕微鏡４０の間に配置されている。物体５０の厚さ、又は液晶セルのセルギャップを測定するために、第１共焦点顕微鏡３０と第２共焦点顕微鏡４０の相対位置がリセットされる。図２Ｂは、本発明の一実施の形態にかかる、光学測定装置２０を操作する方法を図示する略図である。図２Ｂにおいて、物体５０を第１共焦点顕微鏡３０と第２共焦点顕微鏡４０の間に位置決めする前に、第１対物レンズ３４−１の焦点面が第１位置平面４８において第１対物レンズ４４−１の焦点面と重なるまで、第２共焦点顕微鏡４０が第１共焦点顕微鏡３０に対して軸心に沿って移動させられる。摺動装置４６の位置は次に記録される。
【００１５】
次に、図２Ａにおいて、物体５０が第１共焦点顕微鏡３０と第２共焦点顕微鏡４０の間に位置決めされる。液晶層５３と一方の透明層５１の間の第１界面５３１が、第１対物レンズ３４−１の焦点面と重なるまで、物体５０が軸心に沿って移動させられる。次に、液晶層５３と他方の透明層５２の間の第２界面５３２が、第１対物レンズ４４−１の焦点面と重なるまで、第１対物レンズ４４−１が装着された摺動装置４６が、軸心に沿って光源４１の方へ移動させられる。摺動装置４６の新たな位置が次に記録される。物体５０の厚さは、摺動装置４６の記録位置によって決定される。
【００１６】
図３は、本発明の一実施の形態にかかる厚さ測定方法を図示するフローチャートである。図３において、ステップ５１で、軸心に沿って第１方向に第１焦点面において収束する第１光線を供給するように、第１共焦点顕微鏡が設けられる。ステップ５２で、軸心に沿って第２焦点面において収束する第２光線を供給するように、第２共焦点顕微鏡が設けられる。第２光線は、第１方向と大略反対の第２方向に進行する。次に、ステップ５３において、第１焦点面が第２焦点面と重なるまで第２共焦点顕微鏡を軸心に沿って移動させることによって、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の相対位置がリセットされる。第１焦点面が第２焦点面と重なった時、最大相対強度比が検出される。次に、第２焦点面と関連する、第２共焦点顕微鏡の対物レンズの位置が記録される。ステップ５４で、第１側面と第２側面を有する層を含む物体が、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に位置決めされる。次に、ステップ５５で、第１側面が第１焦点面と重なるまで、物体が軸心に沿って移動させられる。ステップ５６で、第２側面が第２焦点面と重なるまで、第２焦点面と関連する対物レンズを移動させることによって、第２焦点面の位置が調整される。次に、第２共焦点顕微鏡の対物レンズの新たな位置が記録される。物体の層厚さは、第２焦点面と関連する対物レンズの記録位置から決定される。
【００１７】
図４は、本発明で使用するのに適した干渉計６０の略図である。干渉計は、同位相で一致する２個の光波は互いに増幅し合う一方、逆位相を有する２個の光波は互いに消去し合うという原理で働く。図４において、干渉計６０、例えば、マイケルソン干渉計は、検出器６１、反射鏡６２−１及び６２−２と通常半透明ミラーであるビームスプリッタ６３を含む。光源から検出器６１に向かう２個の光路がある。一方の光路は、ビームスプリッタ６３を反射して一方の反射鏡６２−２に進行して次に反射され、ビームスプリッタ６３を介して検出器６１に進行する。他方の光路は、ビームスプリッタ６３を通過して他方の反射鏡６２−１に進行して、ビームスプリッタ６３に反射され、次に、ビームスプリッタ６３から検出器６１に反射される。もしこれらの２個の光路が波長の整数倍（ゼロを含む）だけ異なると、検出器６１における建設的干渉と強い信号がある。もしこれらの２個の光路が半波長の整数倍だけ異なると、検出器６１における破壊的干渉と弱い信号がある。
【００１８】
図５は、本発明の別の実施の形態にかかる光学測定装置７０の略図である。図５において、光学測定装置７０は、第１共焦点顕微鏡８０が干渉計８９を含み、第２共焦点顕微鏡９０が干渉計９９を含む点を除いて、図２Ａに図示する光学測定装置２０に類似の構造を有する。図４に図示する干渉計６０に類似の構造を有する干渉計８９は、第１対物レンズ３４−１と第１対物レンズ３４−１の焦点面の間に配置される。同様に、図４に図示する干渉計６０に類似の構造を有する干渉計９９は、第１対物レンズ４４−１と第１対物レンズ４４−１の焦点面の間に配置される。干渉計８９と９９により、第１共焦点顕微鏡８９と第２共焦点顕微鏡９９の感度と分解能が増大させられる。本発明の一実施の形態において、光学測定装置７０の測定閾値は、図１Ｃも参照して、約１であり、プロットＡの最大傾斜は包絡線Ｂのそれ以上である。包絡線Ｂの最大傾斜は、０．４から０．６の範囲の比に対応する個所で発生する。
【００１９】
図６Ａは、多数の透明層を含む物体１００の略図である。図６Ａにおいて、物体１００は、液晶層１０１と、液晶層１０１を挟持する１対の配向層１０２−１及び１０２−２と、配向層１０２−１と１０２−２を挟持する１対の酸化インジウム錫（ＩＴＯ）層１０３−１及び１０３−２と、ＩＴＯ層１０３−１と１０３−２を挟持する１対のガラス基板１０４−１及び１０４−２とを含む。
【００２０】
図６Ｂは、本発明の一実施の形態にかかる、図６Ａに示す物体１００の厚さを測定する方法を図示するフローチャートである。図６Ｂにおいて、ステップ１１１で、軸心に沿って第１方向に第１焦点面において収束する第１光線を供給するように、第１共焦点顕微鏡が設けられる。ステップ１１２で、軸心に沿って第２焦点面において収束する第２光線を供給するように、第２共焦点顕微鏡が設けられる。第２光線は、第１方向と大略反対の第２方向に進行する。次に、ステップ１１３において、第１焦点面が第２焦点面と重なるまで第２共焦点顕微鏡を軸心に沿って移動させることによって、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の相対位置がリセットされる。次に、第２焦点面と関連する、第２共焦点顕微鏡の対物レンズの位置が記録される。ステップ１１４で、第１光線と第２光線に対して透明な多数の層を含む物体が、第１共焦点顕微鏡と第２共焦点顕微鏡の間に位置決めされる。次に、ステップ１１５で、多数層の第１界面が第１焦点面と重なるまで、物体が軸心に沿って移動させられる。第１界面は物体の第１側面を含む。ステップ１１６で、第１界面に対応する第２界面が第２焦点面と重なるまで、第２焦点面に関連する対物レンズを移動させることによって、第２焦点面の位置が調整される。第２界面は物体の第２側面を含む。次に、第２共焦点顕微鏡の対物レンズの新たな位置が記録される。ステップ１１７で、物体の層、例えば、液晶層の厚さが、第２焦点面と関連する対物レンズの記録位置から決定される。次に、ステップ１１８で、測定を続行するか否かを決定する。もしその決定が肯定的である場合、残りの層のいずれかの厚さを測定するために、ステップ１１３〜１１７が繰返される。
【００２１】
当業者は、広い発明概念から逸脱することなく、上記実施の形態を変更できることを認識するだろう。従って、本発明は、開示した特定の実施の形態に限定されるものではなく、添付の請求項によって限定されるように、本発明の精神と範囲内で変形例を包含するよう意図されていることを理解すべきである。
【００２２】
更に、本発明の代表的な実施の形態を説明することにより、明細書は、本発明の方法及び／又はプロセスを特定の順序のステップとして記載した。しかしながら、方法又はプロセスがここに記載された特定順序のステップに依存しない程度まで、方法又はプロセスは、記載の特定順序のステップに限定されない。当業者なら認識するように、他の順序のステップも可能である。従って、明細書に記載の特定順序のステップは、クレームへの限定として解釈されるべきではない。更に、本発明の方法及び／又はプロセスについての請求項は、記載の順序のステップの性能に制限されず、当業者は、変更した順序も本発明の精神と範囲内に含まれることを容易に認識し得る。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】本発明で使用するのに適した共焦点顕微鏡の略図である。
【図１Ｂ】図１Ａに示す共焦点顕微鏡の非合焦状態を図示する略図である。
【図１Ｃ】図１Ａに示す共焦点顕微鏡の検出器が受ける光線の変位と相対強度比の間の関係を図示するグラフである。
【図２Ａ】本発明の一実施の形態にかかる光学測定装置の略図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施の形態にかかる、図２Ａの光学測定装置を操作する方法を図示する略図である。
【図３】本発明の一実施の形態にかかる厚さ測定方法を図示するフローチャートである。
【図４】本発明で使用するのに適した干渉計の略図である。
【図５】本発明の別の実施の形態にかかる光学測定装置の略図である。
【図６Ａ】多数の透明層を含む物体の略図である。
【図６Ｂ】本発明の一実施の形態にかかる、図６Ａに示す物体の厚さを測定する方法を図示するフローチャートである。
【符号の説明】
【００２４】
１０  共焦点顕微鏡
１１  光源
１３  ビームスプリッタ
１５  検出器
１６  物体
２０  光学測定装置
３０  第１共焦点顕微鏡
３１  光源
３３  ビームスプリッタ
３５  検出器
４０  第２共焦点顕微鏡
４１  光源
４３  ビームスプリッタ
４５  検出器
４６  摺動装置
５０  物体
５１  透明層
５２  透明層
５３  液晶層
６０  干渉計
６３  ビームスプリッタ
７０  光学測定装置
８０  第１共焦点顕微鏡
８９  干渉計
９０  第２共焦点顕微鏡
９９  干渉計
１００  物体
【図１Ａ】
2007086053.tif 000003
【図１Ｂ】
2007086053.tif 000004
【図１Ｃ】
2007086053.tif 000005
【図２Ａ】
2007086053.tif 000006
【図２Ｂ】
2007086053.tif 000007
【図３】
2007086053.tif 000008
【図４】
2007086053.tif 000009
【図５】
2007086053.tif 000010
【図６Ａ】
2007086053.tif 000011
【図６Ｂ】
2007086053.tif 000012