【事件の表示】
　特願２００８−５４０２６８「光学的に未処理の表面特徴の特性を測定する干渉計及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年５月２４日国際公開，ＷＯ２００７／０５９０８８，平成２１年４月１６日国内公表，特表２００９−５１６１７１〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
平成１８年１１月１３日　　：国際特許出願
（優先権　平成１７年１１月１５日，１８年９月２１日　アメリカ合衆国）
平成２３年　９月２２日付け：拒絶理由通知（同年同月２７日発送）
平成２４年　２月２４日　　：意見書
平成２４年　２月２４日　　：手続補正書
平成２５年　１月２１日付け：拒絶査定（同年同月２９日送達）
平成２５年　５月２９日　　：手続補正書（以下「本件補正」という。）
平成２５年　５月２９日　　：審判請求
　
第２　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は，概略，以下のとおりである。
（理由１）この出願の請求項１，２，５１及び５２に係る発明は，その優先日前に日本国内又は外国において頒布された引用例に記載された発明であるから，特許法第２９条１項３号に該当し，特許を受けることができない。
　
（理由２）この出願の請求項１，２，５１及び５２に係る発明は，その優先日前に日本国内又は外国において頒布された引用例に記載された発明に基づいて，その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により，特許を受けることができない。
　
（引用例）国際公開第２００４／０７９２９４号
発明の名称：PROFILING COMPLEX SURFACE STRUCTURES USING SCANNING INTERFEROMETRY
（当審訳：走査干渉分光を用いた複雑な表面構造のプロファイリング）
出願人：ZYGO CORPORATION
公開日：平成１６年９月１６日
　
第３　本願発明
　１　本件補正について
　本件補正は，本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし５６のうち，請求項２ないし５６を削除し，本件補正後の特許請求の範囲の請求項１とするものである。
　したがって，本件補正は，特許請求の範囲の削除を目的とする補正である。
　
　２　本願発明
　本件補正は適法であるから，本件出願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は，明細書，特許請求の範囲及び図面の記載からみて，本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの，以下のものである（以下「本願発明」という。）。
「【請求項１】方法であって，
　試験対象物の異なる表面箇所に対応する複数の走査干渉分光信号から導出可能な表面の見かけの特性を示す情報と前記試験対象物の複数のモデルとを比較することであって，前記複数のモデルは，前記試験対象物の１つまたは複数の横方向に十分に分解できない特徴に関連する一連の特性によってパラメータ化されている，比較すること，
　前記比較に基づいて前記横方向に十分に分解できない特徴についての情報を出力することを備える方法。」
　
　３　引用例の記載及び引用発明
　引用例には，以下の事項が記載されている。原文の引用の後に日本語訳を記載する。なお，日本語訳として，引用例に対応する公表公報（特表２００６−５１９９９２号公報）記載のものを使用する。
　
　(1) 請求項１及び２
「1. 　　A method comprising:
　　comparing information derivable from a scanning interferometry signal for a first surface location of a test object to information corresponding to multiple models of the test object, wherein the multiple models are parametrized by a series of characteristics for the test object,
　　wherein the information corresponding to the multiple models comprises information about at least one amplitude component of a transform of a scanning interferometry signal corresponding to each of the models of the test object.
2. 　　The method of claim 1, further comprising determining an accurate characteristic for the test object based on the comparison.」
（１．方法であって，
　試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含み，
　前記複数のモデルは，試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化され，
　前記複数のモデルに対応する情報は，試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含む，方法。
２．前記比較に基づいて試験対象物に対する正確な特性を決定することをさらに含む請求項１に記載の方法。）
　
　(2) １頁１４行ないし１９行
「　　The invention relates to using scanning interferometry to measure surface topography and/or other characteristics of objects having complex surface structures, such as thin film(s), discrete structures of dissimilar materials, or discrete structures that are underresolved by the optical resolution of an interference microscope. Such measurements are relevant to the characterization of flat panel display components, semiconductor wafer metrology, and in- situ thin film and dissimilar materials analysis.」
（　本発明は，複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を，走査干渉分光法を用いて測定することに関する。複雑な表面構造としては，たとえば薄膜，材料が異なる別個の構造，または干渉顕微鏡の光学分解能では十分に分解できない別個の構造が挙げられる。このような測定は，フラット・パネル・ディスプレイ・コンポーネント，半導体ウェハ計測学，および，その現場での薄膜および異材料分析の特徴付けに関連する。）
　
　(3) ３頁１０ないし２９行
「　　After the complex surface structure is characterized, surface height can be efficiently determined. For example, a cross-correlation between the scanning interferometry signal and a model signal having the shape corresponding to the complex surface structure can produce a peak at a scan coordinate corresponding to the surface height. Similarly, in the frequency domain, a phase contribution resulting from the complex surface structure can be subtracted from the frequency domain phase profile and the surface height can be extracted using a conventional FDA analysis.
　　Examples of complex surface structure include: simple thin films (in which case, for example, the variable parameter of interest may be the film thickness, the refractive index of the film, the refractive index of the substrate, or some combination thereof); multilayer thin films; sharp edges and surface features that diffract or otherwise generate complex interference effects; unresolved surface roughness; unresolved surface features, for example, a sub-wavelength width groove on an otherwise smooth surface; dissimilar materials (for example, the surface may comprise a combination of thin film and a solid metal, in which case the library may include both surface structure types and automatically identify the film or the solid metal by a match to the corresponding frequency-domain spectra); surface structure that give rise to optical activity such as fluorescence; spectroscopic properties of the surface, such as color and wavelength-dependent reflectivity; polarization-dependent properties of the surface; and deflections, vibrations or motions of the surface or deformable surface features that result in perturbations of the interference signal.」
（　複雑な表面構造が特徴付けられれば，表面高さを効率的に決定することができる。たとえば，走査干渉分光信号と，複雑な表面構造に対応する形状を有するモデル信号との間の相互相関によって，表面高さに対応する走査座標においてピークを生成することができる。同様に，周波数ドメインにおいては，複雑な表面構造に起因する位相の影響を，周波数ドメイン位相プロファイルから差し引くことができる。また表面高さを，従来のＦＤＡ解析を用いて抽出することができる。
　複雑な表面構造の例としては，以下のものが挙げられる。単純な薄膜（この場合，たとえば，対象とする可変パラメータは，膜厚，膜の屈折率，基板の屈折率，またはそれらの何らかの組み合わせであってもよい）；多層の薄膜；回折するか，その他の場合には複雑な干渉効果を生成する鋭いエッジおよび表面特徴；未処理の表面荒さ；未処理の表面特徴，たとえばその他の点では滑らかな表面上のサブ波長幅溝；異なる材料（たとえば，表面に薄膜および固体金属の組み合わせが含まれていてもよい。この場合，ライブラリは，両方の表面構造タイプを含み，薄膜または固体金属を，対応する周波数ドメイン・スペクトルに対するマッチングによって自動的に特定してもよい）；光学活性たとえば蛍光性を生じる表面構造；表面の分光学特性，たとえば色彩および波長依存性の反射率；表面の偏光依存性の特性；干渉信号の乱れを招く表面または変形可能な表面特徴の歪み，振動，または運動。）
　
　(4) １６頁１９行ないし１７頁１６行
「　　FIG. 3 shows a scanning interferometer of the Linnik type. Illumination light 102 from a source (not shown) is partially transmitted by a beam splitter 104 to define reference light 106 and partially reflected by beam splitter 104 to define measurement light 108. The measurement light is focused by a measurement objective 110 onto a test sample 112 (e.g., a sample comprising a thin single- or multi-layer film of one or more dissimilar materials). Similarly, the reference light is focused by a reference objective 114 onto a reference mirror 116. Preferably, the measurement and reference objectives have common optical properties (e.g., matched numerical apertures). Measurement light reflected (or scattered or diffracted) from the test sample 112 propagates back through measurement objective 110, is transmitted by beam splitter 104, and imaged by imaging lens 118 onto a detector 120. Similarly, reference light reflected from reference mirror 116 propagates back through reference objective 114, is reflected by beam splitter 104, and imaged by imaging lens 118 onto a detector 120, where it interferes with the measurement light.
　　For simplicity, FIG. 3 shows the measurement and reference light focusing onto particular points on the test sample and reference mirror, respectively, and subsequently interfering on a corresponding point on the detector. Such light corresponds to those portions of the illumination light that propagate perpendicular to the pupil planes for the measurement and reference legs of the interferometer. Other portions of the illumination light ultimately illuminate other points on the test sample and reference mirror, which are then imaged onto corresponding points on the detector. In FIG. 3, this is illustrated by the dashed lines 122, which correspond to the chief rays emerging from different points on the test sample that are imaged to corresponding points on the detector. The chief rays intersect in the center of the pupil plane 124 of the measurement leg, which is the back focal plane of measurement objective 110. Light emerging from the test sample at an angle different from that of the chief rays intersect at a different location of pupil plane 124.
　　In preferred embodiments, detector 120 is a multiple element (i.e., multi-pixel) camera to independently measure the interference between the measurement and reference light corresponding to different points on the test sample and reference mirror (i.e., to provide spatial resolution for the interference pattern).」
（　図３に示すのは，リニック型の走査型干渉計である。光源（図示せず）からの照明光１０２は，ビーム・スプリッタ１０４によって部分的に透過されて，基準光１０６を形成し，またビーム・スプリッタ１０４によって部分的に反射されて，測定光１０８を形成する。測定光は，測定用対物レンズ１１０によって，試験サンプル１１２（たとえば，１つまたは複数の異なる材料からなる薄い単一膜または多層膜を含むサンプル）上にフォーカスされる。同様に，基準光は，基準対物レンズ１１４によって基準ミラー１１６上にフォーカスされる。好ましくは，測定用および基準対物レンズは，共通の光学特性を有する（たとえば，開口数がマッチングされている）。試験サンプル１１２から反射された（または散乱されたかもしくは回折された）測定光は，測定用対物レンズ１１０を通って逆方向に伝搬し，ビーム・スプリッタ１０４によって透過されて，結像レンズ１１８によって検出器１２０上に結像される。同様に，基準ミラー１１６から反射された基準光は，基準対物レンズ１１４を通って逆方向に伝搬し，ビーム・スプリッタ１０４によって反射されて，結像レンズ１１８によって検出器１２０上に結像され，そこで測定光と干渉する。
　説明を簡単にするために，図３に示す測定および基準光は，試験サンプルおよび基準ミラー上の特定の点にそれぞれフォーカスされ，その後，検出器上の対応する点上で干渉する。このような光は，干渉計の測定脚および基準脚に対する瞳平面に垂直に伝搬する照明光部分に対応する。照明光の他の部分は最終的に，試験サンプルおよび基準ミラー上の他の点を照明する。そして，これらの点は，検出器上の対応する点に結像される。図３では，このことが，破線１２２によって例示されている。破線１２２は，試験サンプル上の異なる点から現れて検出器上の対応する点に結像される主光線に対応する。主光線は，測定脚の瞳平面１２４の中心で交わる。瞳平面１２４は，測定用対物レンズ１１０の後側焦点面である。試験サンプルから現れる光のうち，主光線とは異なる角度で現れるものは，瞳平面１２４の異なる箇所で交わる。
　好ましい実施形態においては，検出器１２０は，複数要素（すなわち多画素）カメラであって，試験サンプルおよび基準ミラー上の異なる点に対応する測定光と基準光との間の干渉を独立に測定する（すなわち，干渉パターンに対する空間分解能を与える）。）
【図３】
　
　(5) ４９頁１８行ないし５０頁１０行
「　　One way of thinking about this effect is that the scanning interferometry signal for a first camera pixel generally corresponding to a first surface location also includes contributions from adjacent surface locations when those additional surface locations have surface features sufficiently sharp relative to the light wavelength to diffract light to the first pixel. The surface height features from those adjacent surface locations corrupt conventional analysis of the scanning interferometry signal corresponding to the first surface location.
　　At the same time, however, this means that the scanning interferometry signal corresponding to the first surface location includes information about the complex surface features nearby. FIG. 17 illustrates this by showing the scanning interferometry signal from pixels corresponding to various locations about a step height feature. For the signal in (a) the step height is to the right of the pixel and higher, for the signal in (b) the step passes directly through the pixel, and for the signal in (c) the step is to the left of the pixel and is lower. One signature that is immediately apparent in the signals is the reduction in fringe contrast in (b) relative to (a) and (c). For example, if the step height was equal to one-quarter of the wavelength and the pixel location corresponded exactly to the position of the step height, the fringe contrast in (b) should disappear entirely because interference from the two sides of the step would exactly cancel one another. There is also much information in the signals in shown in (a) and (c). For example, FIG. 18 shows the nonlinear distortions in the frequency domain phase spectra for the signals (a) and (c) of FIG. 17, respectively, resulting from the nearby step height. These spectra are indicated as (a) and (b), respectively, in FIG. 18. In the absence of the step height, the frequency domain phase spectra would be linear. Thus, the nonlinear features in the frequency domain phase spectrum for pixels corresponding to surface locations adjacent to the step height nonetheless include information about the step height.」
（　この効果について考慮する１つの方法は，第１の表面箇所に概ね対応する第１のカメラ画素に対する走査干渉分光信号は，隣接する表面箇所からの影響も含む場合があり，これが起きるのは，それらのさらなる表面箇所の表面特徴が光波長に対して十分に先鋭で光を第１の画素に回折するときである，ということである。これらの隣接する表面箇所からの表面高さ特徴によって，第１の表面箇所に対応する走査干渉分光信号の従来の解析が損なわれる。
　しかし同時に，これは，第１の表面箇所に対応する走査干渉分光信号は，近くの複雑な表面特徴についての情報を含んでいる，ということを意味する。図１７に，このことを示す。同図では，このステップ高さ特徴の周りの種々の箇所に対応する画素からの走査干渉分光信号が示されている。（ａ）における信号では，ステップ高さは画素の右側にあり，より高くなっている。（ｂ）における信号では，ステップは画素を直接通り過ぎている。（ｃ）における信号では，ステップは画素の左側にあり，より低くなっている。信号内で直ちに明白な識別特性の１つは，（ｂ）におけるフリンジ・コントラストが，（ａ）および（ｃ）と比べて低くなっていることである。たとえば，ステップ高さが波長の４分の１に等しく，画素の箇所がステップ高さの位置に正確に対応していた場合には，（ｂ）におけるフリンジ・コントラストは，全く消滅する。その理由は，ステップの２つの側面からの干渉が，互いに正確に打ち消しあうからである。（ａ）および（ｃ）に示した信号内にも多くの情報が存在している。たとえば，図１８は，図１７の信号（ａ）および（ｃ）に対する周波数ドメイン位相スペクトルにおける非線形の歪みをそれぞれ示している。この歪みは，近くのステップ高さに起因するものである。これらのスペクトルは，図１８において，それぞれ（ａ）および（ｂ）として示されている。ステップ高さがない場合には，周波数ドメイン位相スペクトルは線形である。すなわち，ステップ高さに隣接する表面の箇所に対応する画素に対する周波数ドメイン位相スペクトルにおける非線形特徴は，ステップ高さについての情報を含む。）
【図１７】
　
【図１８】
　
　引用例には，次の発明が記載されている（以下「引用発明」という。）。
「　複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を，走査干渉分光法を用いて測定することに関して，
　方法であって，
　試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含み，
　前記複数のモデルは，試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化され，
　前記複数のモデルに対応する情報は，試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含み，
　前記比較に基づいて試験対象物に対する正確な特性を決定する，
　複雑な表面構造としては，たとえば薄膜，材料が異なる別個の構造，または干渉顕微鏡の光学分解能では十分に分解できない別個の構造が挙げられる，
方法。」
　
　４　対比
　本願発明と引用発明を対比すると，以下のとおりとなる。
　(1) 比較すること
　引用発明は，「試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含み」の構成を具備する。
　したがって，引用発明の「比較すること」と本願発明の「比較すること」は，「試験対象物の表面箇所に対応する走査干渉分光信号から導出可能な情報と前記試験対象物の複数のモデルとを比較すること」の点で共通する。
　
　(2) 複数のモデル
　引用発明は，「前記複数のモデルは，試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化され」の構成を具備する。
　したがって，引用発明の「複数のモデル」と本願発明の「複数のモデル」は，複数のモデルが「前記試験対象物の一連の特性によってパラメータ化されている」点で共通する。
　
　(3) 出力すること
　引用発明は，「試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含み」及び「前記比較に基づいて試験対象物に対する正確な特性を決定する」の構成を具備する。また，比較，決定された結果が，試験結果として情報出力されることは，試験において当然のことである。
　したがって，引用発明の「決定する」ことと本願発明の「出力すること」は，「前記比較に基づいて情報を出力すること」の点で共通する。
　
　(4) 方法
　以上の対比結果，並びに，引用発明と本願発明の全体構成からみて，引用発明の「方法」は，本願発明の「方法」に相当する。
　
　そうしてみると，本願発明と引用発明の一致点及び（一応の）相違点は，以下のとおりである。
　
（一致点）
「方法であって，
　試験対象物の表面箇所に対応する走査干渉分光信号から導出可能な情報と前記試験対象物の複数のモデルとを比較することであって，前記複数のモデルは，前記試験対象物の一連の特性によってパラメータ化されている，比較すること，
　前記比較に基づいて情報を出力することを備える方法。」
　
（相違点１）
　本願発明の「走査干渉分光信号」は，試験対象物の「異なる」表面箇所に対応する「複数の」走査干渉分光信号であり，また，本願発明の「走査干渉分光信号から導出可能な」「情報」は，走査干渉分光信号から導出可能な「表面の見かけの特性を示す」情報であるのに対し，引用発明は，これが，明らかではない点。
　
（相違点２）
　本願発明の「一連の特性」は，前記試験対象物の「１つまたは複数の横方向に十分に分解できない特徴に関連する」一連の特性であり，また，本願発明において出力される「情報」は，「前記横方向に十分に分解できない特徴についての」情報であるのに対し，引用発明は，これが，明らかではない点。
　
　５　判断
（相違点１について）
　引用発明は「
複雑な表面構造を有する対象物
複雑な表面構造としては，
干渉顕微鏡の光学分解能では十分に分解できない別個の構造
試験サンプルおよび基準ミラー上の異なる点に対応する測定光と基準光との間の干渉を独立に測定する
第１の表面箇所に対応する走査干渉分光信号は，近くの複雑な表面特徴についての情報を含んでいる
　そうしてみると，引用発明は，その実施態様として，試験対象物の「異なる」表面箇所に対応する「複数の」走査干渉分光信号から導出可能な「表面の見かけの特性を示す」情報と前記試験対象物の複数のモデルとを比較すること」の構成を具備する（引用例に記載されている）から，相違点１は，実質的な相違点ではない。
　あるいは，少なくとも，引用発明の実施態様における検出器の構成及び前記知見に基づいて，引用発明を，「試験対象物の異なる表面箇所に対応する複数の走査干渉分光信号から導出可能な表面の見かけの特性を示す情報と前記試験対象物の複数のモデルとを比較すること」とすることは，当業者が容易にできることである。
　
（相違点２について）
　引用発明は「前記複数のモデルに対応する情報は，試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含み」の構成を具備するところ，引用発明は，さらに，「複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を，走査干渉分光法を用いて測定する」及び「複雑な表面構造としては，たとえば薄膜，材料が異なる別個の構造，または干渉顕微鏡の光学分解能では十分に分解できない別個の構造が挙げられる」の構成も具備する。すなわち，引用発明の「モデル」は，干渉顕微鏡の光学分解能では十分に分解できない別個の構造（複雑な表面構造）を有する対象物についての「モデル」との比較により，試験対象物の複雑な表面構造を有する表面トポグラフィを測定するものである。
　そうしてみると，相違点２に係る構成は，引用発明が具備する構成であるから，相違点２は，実質的な相違点ではない。
　
　したがって，本願発明は，引用例に記載された発明である。
　あるいは，本願発明は，少なくとも，引用例に記載された発明（引用発明）から容易に発明できるものであり，また，本願発明が奏する効果は，引用発明から予測できる範囲内である。
　
　６　まとめ
　以上のとおり，この出願の請求項１に係る発明は，その優先日前に日本国内又は外国において頒布された引用例に記載された発明であるから，特許法第２９条１項３号に該当し，特許を受けることができない。また，この出願の請求項１に係る発明は，その優先日前に日本国内又は外国において頒布された引用例に記載された発明に基づいて，その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものでもあるから，特許法２９条２項の規定によっても，特許を受けることができない。
　したがって，本願は拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。