(57)【要約】【課題】  基板などの被処理物に付着した異物（析出物など）を好適に除去することが可能な液体エッチング式表面処理装置を提供する。【解決手段】  エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理を行うエッチング室２と、エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を行う水洗室３と、エッチング室２から水洗室３に被処理物を搬送する複数の搬送ローラー４を備える。被処理物において搬送ローラー４に接触する面に付着した異物を水洗室３内において力学的に掻き落とす回転式ブラシ５を備える。【選択図】    図１
2007253068.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理を行うエッチング室と、
前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を行う水洗室と、
前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する複数の搬送ローラーと、
前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面に付着した異物を前記水洗室内において力学的に掻き落とす被処理物表面異物掻き落とし機構と、
を備えることを特徴とする液体エッチング式表面処理装置。
【請求項２】
前記水洗室は前記エッチング室に隣設され、
前記搬送ローラーは、前記エッチング室と前記水洗室とを仕切る壁部に形成された開口を介して、被処理物を前記エッチング室から前記水洗室に搬送し、
前記被処理物表面異物掻き落とし機構は、少なくとも、前記水洗室内における前記エッチング室の近傍位置に配設されていることを特徴とする請求項１に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項３】
前記被処理物表面異物掻き落とし機構は、ブラッシングにより異物を掻き落とす回転式ブラシを備えて構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項４】
前記回転式ブラシは、前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面と、前記搬送ローラーの表面と、を同時にブラッシングし、それぞれの表面に付着した異物を掻き落とすことを特徴とする請求項３に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項５】
少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項６】
エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理を行うエッチング室と、
前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を行う水洗室と、
前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する複数の搬送ローラーと、
少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構と、
を備えることを特徴とする液体エッチング式表面処理装置。
【請求項７】
前記ローラー面異物掻き落とし機構は、ブレード状の形状に形成され、その先端部が、前記搬送ローラーの表面に接触して異物を掻き落とすことを特徴とする請求項５又は６に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項８】
前記ローラー面異物掻き落とし機構を振動させる振動付与手段を更に備えることを特徴とする請求項５乃至７の何れか一項に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項９】
前記エッチング室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構も備えることを特徴とする請求項５乃至８の何れか一項に記載の液体エッチング式表面処理装置。
【請求項１０】
エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理をエッチング室において行う第１の過程と、
前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を水洗室において行う第２の過程と、
複数の搬送ローラーによって前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する第３の過程と、
前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面に付着した異物を、前記水洗室内において力学的に掻き落とす第４の過程と、
を備えることを特徴とする液体エッチング式表面処理方法。
【請求項１１】
少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とす第５の過程を更に備えることを特徴とする請求項１０に記載の液体エッチング式表面処理方法。
【請求項１２】
エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理をエッチング室において行う第１の過程と、
前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を水洗室において行う第２の過程と、
複数の搬送ローラーによって前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する第３の過程と、
少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とす第５の過程と、
を備えることを特徴とする液体エッチング式表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体エッチング式表面処理装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、液晶表示パネルを構成するガラス基板などをエッチングにより表面処理した後で、その表面を水洗する液体エッチング式表面処理装置がある。
【０００３】
図５は従来の液体エッチング式表面処理装置１０００を示す模式的な正面断面図である。
【０００４】
図５に示すように、液体エッチング式表面処理装置１０００は、基板（例えば、液晶表示パネルを構成するガラス基板）１に対して薬液（エッチング液）によるエッチング処理が行われるエッチング室２と、エッチング処理後の基板１に対する水洗処理が行われる水洗室３と、それぞれ図５における矢印Ａ方向に回転駆動され基板１を図５の矢印Ｂ方向に搬送する複数の搬送ローラー４と、を備えている。
【０００５】
エッチング室２内には、基板１の上方並びに下方に位置し、それぞれ基板１の表裏面に向けて薬液をスプレーする複数の薬液スプレーノズル６が設けられている。
【０００６】
エッチング室２において、水洗室３とは反対側に位置する壁面には、液体エッチング式表面処理装置１０００の外部からエッチング室２内に基板１を搬入するための搬入用開口部７が開口している。
【０００７】
水洗室３内には、基板１の上方並びに下方に位置し、それぞれ基板１の表裏面に向けて水をスプレーする複数の水スプレーノズル８が設けられている。
【０００８】
水洗室３において、エッチング室２とは反対側に位置する壁面には、水洗室３内から液体エッチング式表面処理装置１０００の外部に基板１を搬出するための搬出用開口部９が開口している。
【０００９】
更に、水洗室３とエッチング室２とを仕切る壁部には、基板１をエッチング室２内から水洗室３内へと搬送するための搬送用開口部１０が開口している。
【００１０】
このような構成の液体エッチング式表面処理装置１０００による基板１に対する処理は次のように行う。
【００１１】
先ず、基板１は、搬入用開口部７よりエッチング室２内に搬入され、該エッチング室２内においてエッチング処理される。
【００１２】
続いて、基板１は、搬送ローラー４により搬送用開口部１０を介して水洗室３内に搬入され、該水洗室３内において水洗される。すなわち、基板１の表面に残留しているエッチング液を、水スプレーノズル８から噴射される水のスプレー力により水置換を行うことによって除去する。
【００１３】
次に、基板１は、搬送ローラー４により搬出用開口部９を介して液体エッチング式表面処理装置１０００外に搬出される。
【００１４】
また、特許文献１には、液体エッチング式表面処理装置１０００におけるのと同様のエッチング室、水洗室及び搬送ローラーを備える技術が開示されている。
【特許文献１】実開平５−７２１６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、エッチング室２にて基板１に対して噴射されるエッチング液として、反応生成物の析出物が発生し易いものを使用する場合、搬送ローラー４の表面に析出物が付着堆積し、基板１において搬送ローラー４と接触する面（すなわち、下面）に前記析出物が転写され付着することがある。
【００１６】
例えば、液晶表示パネルを構成する基板は多くの場合は薄板ガラスからなり、液体エッチング式表面処理装置１０００を用いた際に薄板ガラスの表面に析出物が付着するという事態が生じてしまう。この付着物が液晶ディスプレーとしての表示品位を損なうことがある。又、発生工程の追求のために、製造工程の全設備の状態確認を強いられることになり、製造作業に乱れをもたらす要因にもなっていた。
【００１７】
従来の液体エッチング式表面処理装置１０００では、エッチング後は洗浄処理を行うだけであり、この水洗処理はスプレー式が一般的であったが、このスプレー力だけでは基板１に付着している固形物までは除去することが出来なかった。
【００１８】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、基板などの被処理物に付着した異物（析出物など）を好適に除去することが可能な液体エッチング式表面処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【００１９】
また、本発明は、基板などの被処理物に異物が付着することを未然に防止することが可能な液体エッチング式表面処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記課題を解決するため、本発明の液体エッチング式表面処理装置は、エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理を行うエッチング室と、前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を行う水洗室と、前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する複数の搬送ローラーと、前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面に付着した異物を前記水洗室内において力学的に掻き落とす被処理物表面異物掻き落とし機構と、を備えることを特徴としている。
【００２１】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記水洗室は前記エッチング室に隣設され、前記搬送ローラーは、前記エッチング室と前記水洗室とを仕切る壁部に形成された開口を介して、被処理物を前記エッチング室から前記水洗室に搬送し、前記被処理物表面異物掻き落とし機構は、少なくとも、前記水洗室内における前記エッチング室の近傍位置に配設されていることが好ましい。
【００２２】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記被処理物表面異物掻き落とし機構は、ブラッシングにより異物を掻き落とす回転式ブラシを備えて構成されていることが好ましい。
【００２３】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記回転式ブラシは、前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面と、前記搬送ローラーの表面と、を同時にブラッシングし、それぞれの表面に付着した異物を掻き落とすことが好ましい。
【００２４】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構を更に備えることが好ましい。
【００２５】
また、本発明の液体エッチング式表面処理装置は、エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理を行うエッチング室と、前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を行う水洗室と、前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する複数の搬送ローラーと、少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構と、を備えることを特徴としている。
【００２６】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記ローラー面異物掻き落とし機構は、ブレード状の形状に形成され、その先端部が、前記搬送ローラーの表面に接触して異物を掻き落とすことが好ましい。
【００２７】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記ローラー面異物掻き落とし機構を振動させる振動付与手段を更に備えることが好ましい。
【００２８】
本発明の液体エッチング式表面処理装置においては、前記エッチング室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構も備えることが好ましい。
【００２９】
また、本発明の液体エッチング式表面処理方法は、エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理をエッチング室において行う第１の過程と、前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を水洗室において行う第２の過程と、複数の搬送ローラーによって前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する第３の過程と、前記被処理物において前記搬送ローラーに接触する面に付着した異物を、前記水洗室内において力学的に掻き落とす第４の過程と、を備えることを特徴としている。
【００３０】
本発明の液体エッチング式表面処理方法においては、少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とす第５の過程を更に備えることが好ましい。
【００３１】
また、本発明の液体エッチング式表面処理方法は、エッチング液を用いて被処理物に対するエッチング処理をエッチング室において行う第１の過程と、前記エッチング処理後の被処理物に対する水洗処理を水洗室において行う第２の過程と、複数の搬送ローラーによって前記エッチング室から前記水洗室に被処理物を搬送する第３の過程と、少なくとも前記水洗室内の前記搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とす第５の過程と、を備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、被処理物において搬送ローラーに接触する面に付着した異物（析出物など）を水洗室内において力学的に掻き落とす被処理物表面異物掻き落とし機構を備えるので、被処理物に付着した異物を好適に除去することができる。
【００３３】
また、本発明によれば、少なくとも水洗室内の搬送ローラーの表面に付着した異物を力学的に掻き落とすローラー面異物掻き落とし機構を備えるので、搬送ローラーに付着した異物を好適に除去することができる結果として、被処理物に異物が付着することを未然に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態について説明する。
【００３５】
〔第１の実施形態〕
図１は第１の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置１００の構成を示す模式的な正面断面図である。
【００３６】
図１に示すように、第１の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置１００は、基板（例えば、液晶表示パネルを構成するガラス基板）１に対して薬液（エッチング液）によるエッチング処理が行われるエッチング室２と、このエッチング室２に隣設されエッチング処理後の基板１に対する水洗処理が行われる水洗室３と、それぞれ図１における矢印Ａ方向に回転駆動され基板１を図１の矢印Ｂ方向に搬送する複数の搬送ローラー４と、水洗室３内において基板１の下面をブラッシングすることにより該基板１の下面に付着した異物を力学的に掻き落とす回転式ブラシ（被処理物表面異物掻き落とし機構）５と、を備えている。
【００３７】
エッチング室２内には、基板１の上方並びに下方に位置し、それぞれ基板１の表裏面に向けて薬液をスプレーする複数の薬液スプレーノズル６が設けられている。
【００３８】
エッチング室２において、水洗室３とは反対側に位置する壁面には、液体エッチング式表面処理装置１００の外部からエッチング室２内に基板１を搬入するための搬入用開口部７が開口している。
【００３９】
水洗室３内には、基板１の上方並びに下方に位置し、それぞれ基板１の表裏面に向けて水をスプレーする複数の水スプレーノズル８が設けられている。
【００４０】
水洗室３において、エッチング室２とは反対側に位置する壁面には、水洗室３内から液体エッチング式表面処理装置１００の外部に基板１を搬出するための搬出用開口部９が開口している。
【００４１】
更に、水洗室３とエッチング室２とを仕切る壁部には、基板１をエッチング室２内から水洗室３内へと搬送するための搬送用開口部１０が開口している。
【００４２】
図１に示すように、回転式ブラシ５は、例えば、水洗室３内において、エッチング室２の近傍の位置に配設されている。この回転式ブラシ５は、図示しない駆動機構により、例えば、図１の矢印Ｃ方向に回転駆動される。
【００４３】
次に、動作を説明する。
【００４４】
先ず、基板１は、搬入用開口部７よりエッチング室２内に搬入され、該エッチング室２内においてエッチング処理される。
【００４５】
すなわち、エッチング室２内の薬液スプレーノズル６よりスプレーされる薬液（エッチング液）によって基板１の表面がエッチング処理される。
【００４６】
続いて、基板１は、搬送ローラー４により搬送用開口部１０を介して水洗室３内に搬入され、該水洗室３内において水洗される。すなわち、基板１の表面に残留しているエッチング液を、水スプレーノズル８から噴射される水のスプレー力により水置換を行うことによって除去する。
【００４７】
ここで、基板１は、水洗室３内に設けられた回転式ブラシ５により、下面がブラッシングされるので、該基板１の下面に付着している異物（例えば、反応生成物の析出物）が力学的に掻き落とされる。
【００４８】
すなわち、エッチング室２内で用いられるエッチング液の中には反応生成物の析出物を発生し易い成分のものもあり、そのようなエッチング液を使用する場合、エッチング室２や水洗室３の内壁及び搬送ローラー４の表面に析出物が付着し堆積することがある。搬送ローラー４の表面に付着堆積した析出物は、基板１が搬送ローラー４により搬送される際に基板１の下面に転移することがあるが、この転移した析出物を回転式ブラシ５のブラッシング力により力学的に除去することができる。
【００４９】
その後、基板１は、搬送ローラー４により搬出用開口部９を介して液体エッチング式表面処理装置１００外に搬出される。
【００５０】
以上のような第１の実施形態によれば、基板１において搬送ローラー４に接触する面（下面）に付着した異物（析出物など）を水洗室３内において力学的に掻き落とす被処理物表面異物掻き落とし機構としての回転式ブラシ５を備えるので、基板１に付着した異物を好適に除去することができる。
【００５１】
また、特に、水洗室３はエッチング室２に隣設され、搬送ローラー４は、エッチング室２と水洗室３とを仕切る壁部に形成された搬送用開口部（開口）１０を介して基板１をエッチング室２から水洗室３に搬送するものである場合に、回転式ブラシ５は、水洗室３内におけるエッチング室２の近傍位置に配設されているので、エッチング処理の後、間髪を入れずに基板１から異物を除去することができる。
【００５２】
なお、上記の第１の実施形態では、回転式ブラシ５が１つだけである例を説明したが、回転式ブラシ５の数は２つ以上であっても良い。また、水洗室３内における回転式ブラシ５の配置も任意である。
【００５３】
更に、エッチング室２内で用いられるエッチング液の性質と回転式ブラシ５の材質に応じては、エッチング室２内に回転式ブラシ５を設けることも可能である。
【００５４】
〔第２の実施形態〕
図２は第２の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置２００の構成を示す模式的な正面断面図である。
【００５５】
第２の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置２００は、以下に説明する点でのみ上記の第１の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置１００と相違し、その他の点では液体エッチング式表面処理装置１００と同様に構成されているため、液体エッチング式表面処理装置２００の構成要素のうち液体エッチング式表面処理装置１００におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００５６】
図２に示すように、本実施形態の場合、回転式ブラシ５は、水洗室３内において、基板１において搬送ローラー４に接触する面（下面）と、搬送ローラー４の表面と、を同時にブラッシングし、それぞれの表面に付着した異物を掻き落とすようになっている。
【００５７】
このため、第２の実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる他に、搬送ローラー４から基板１に異物が転移することを未然に防止することができるという効果が得られる。
【００５８】
なお、第２の実施形態の場合にも、回転式ブラシの数は２つ以上であっても良いし、回転式ブラシ５の配置も任意である。更に、エッチング室２内で用いられるエッチング液の性質と回転式ブラシ５の材質に応じては、エッチング室２内に回転式ブラシ５を設けることも可能である。
【００５９】
〔第３の実施形態〕
図３は第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置３００の構成を示す模式的な正面断面図である。
【００６０】
第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置３００は、以下に説明する点でのみ上記の第１の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置１００と相違し、その他の点では液体エッチング式表面処理装置１００と同様に構成されているため、液体エッチング式表面処理装置３００の構成要素のうち液体エッチング式表面処理装置１００におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００６１】
図３に示すように、本実施形態の場合、回転式ブラシ５を備えていない代わりに、搬送ローラー４の表面に付着した異物を力学的に掻き落とすブレード（ローラー面異物掻き落とし機構）１１を複数備えている。
【００６２】
図３に示すように、各ブレード１１は、例えば、ほぼ鉛直に起立し、その先端部が対応する搬送ローラー４の表面に接触されている。
【００６３】
本実施形態の場合、ブレード１１は、例えば、水洗室３内及びエッチング室２内の全ての搬送ローラー４に対応して備えられている。
【００６４】
本実施形態の場合、各搬送ローラー４が回転するのに伴い、各搬送ローラー４に接触しているブレード１１が各搬送ローラー４の表面の異物を掻き落とす動作となる。
【００６５】
以上のような第３の実施形態によれば、水洗室３内の搬送ローラー４の表面に付着した異物を力学的に掻き落とすブレード１１を備えるので、搬送ローラー４に付着した異物を好適に除去することができる結果として、基板１に異物が付着することを未然に防止することができる。
【００６６】
なお、上記の第３の実施形態では、ブレード１１が水洗室３内及びエッチング室２内の全ての搬送ローラー４に対応して備えられている例を説明したが、ブレード１１の個数は任意である。
【００６７】
また、ブレード１１が水洗室３内及びエッチング室２内に備えられている例を説明したが、ブレード１１は水洗室３内にのみ設けることとしても良い。
【００６８】
〔第４の実施形態〕
図４は第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置４００の構成を示す模式的な正面断面図である。
【００６９】
第４の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置４００は、以下に説明する点でのみ上記の第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置３００と相違し、その他の点では液体エッチング式表面処理装置３００と同様に構成されているため、液体エッチング式表面処理装置４００の構成要素のうち液体エッチング式表面処理装置３００におけるのと同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００７０】
図４に示すように、第４の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置４００は、第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置３００の構成に加えて、ブレード１１を振動させる振動付与機構（振動付与手段）１２を、例えば、水洗室３及びエッチング室２にそれぞれ備えている。
【００７１】
振動付与機構１２は、例えば、水洗室３及びエッチング室２の下部に配設され、各ブレード１１は、振動付与機構１２より上方に起立するように設けられている。
【００７２】
振動付与機構１２は、例えば、その内部に備えられた振動モーターの駆動により発生する振動を各ブレード１１に伝達する。
【００７３】
なお、ブレード１１の振動は、例えば、図４の紙面の手前側と奥側との往復振動（各搬送ローラー４の長手方向における往復振動）となるように設定されている。
【００７４】
以上のような第４の実施形態によれば、ブレード１１を振動させる振動付与機構１２を備えるので、上記の第３の実施形態の場合よりも好適に搬送ローラー４の表面の異物を除去することができる。
【００７５】
なお、上記の各実施形態では、被処理物が基板（例えば、液晶表示パネルを構成するガラス基板）１である例を説明したが、被処理物はその他のものであっても良い。
【００７６】
また、上記の第１及び第２の実施形態の構造に加え、第３の実施形態で説明したブレード１１を備えることとしても良い。また、同様に、上記の第１及び第２の実施形態の構造に加え、第４の実施形態で説明したブレード１１及び振動付与機構１２を備えることとしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】第１の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置の構成を示す模式的な正面断面図である。
【図２】第２の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置の構成を示す模式的な正面断面図である。
【図３】第３の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置の構成を示す模式的な正面断面図である。
【図４】第４の実施形態に係る液体エッチング式表面処理装置の構成を示す模式的な正面断面図である。
【図５】従来の液体エッチング式表面処理装置の構成を示す模式的な正面断面図である。
【符号の説明】
【００７８】
１      基板（被処理物）
２      エッチング室
３      水洗室
４      搬送ローラー
５      回転式ブラシ（被処理物表面異物掻き落とし機構）
１００  液体エッチング式表面処理装置
２００  液体エッチング式表面処理装置
１１    ブレード（ローラー面異物掻き落とし機構）
３００  液体エッチング式表面処理装置
１２    振動付与機構（振動付与手段）
４００  液体エッチング式表面処理装置
【図１】
2007253068.tif 000003
【図２】
2007253068.tif 000004
【図３】
2007253068.tif 000005
【図４】
2007253068.tif 000006
【図５】
2007253068.tif 000007