(57)【要約】【課題】  カラーフィルタ層の厚さに影響を与えることなくセルギャップの調整を行うことができる表示パネル用の基板を提供すること。【解決手段】  スペーサの第一要素１４１ａを中心線の方向に沿って一端から他端に向かって横幅が増加または減少する形状に形成し、この第一要素１４１ａの上に第二要素１４２ａの少なくとも一部を積層させることにより、第一要素１４１ａと第二要素１４２ａの相対的な位置関係を前記中心線の方向に沿ってシフトした場合に、第一要素１４１ａと第二要素１４２ａとの積層部の面積が増減するようにする。【選択図】  図２
2007086463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルギャップを所定の寸法に維持するスペーサを備える表示パネル用の基板であって、第一要素と、少なくとも一部が前記第一要素に積層する第二要素とを有し、前記第一要素と前記第二要素との積層部の面積が前記第一要素と前記第二要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサを備えることを特徴とする表示パネル用の基板。
【請求項２】
前記スペーサの前記第一要素と前記第二要素の少なくとも一方はある方向に対して不等幅な形状に形成され、前記第一要素と前記第二要素との積層部の位置を前記ある方向に沿って相対的に移動させることにより前記積層部の面積が変化するスペーサを備えることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル用の基板。
【請求項３】
セルギャップを所定の寸法に維持するスペーサを備える表示パネル用の基板であって、第一要素と、少なくとも一部が前記第一要素に積層する第二要素とを有し、前記積層部における前記第一要素と前記第二要素との積層高さが前記第一要素と前記第二要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサを備えることを特徴とする表示パネル用の基板。
【請求項４】
前記第一要素と前記第二要素の少なくとも一方は、ある方向に沿って高さが変化する形状に形成され、前記第一要素と前記第二要素とが積層する部分の位置を前記ある方向に相対的に移動させることにより前記積層部における前記第一要素と前記第二要素との積層高さが変化するスペーサを備えることを特徴とする請求項３に記載の表示パネル用の基板。
【請求項５】
第一の領域と第二の領域とを備える表示パネル用の基板であって、前記第一の領域に形成されるスペーサの第一要素と、前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素とが互いに異なる材料および／または異なる工程により形成されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項６】
前記第一の領域に形成されるスペーサの第二要素と、前記第二の領域に形成されるスペーサの第二要素とが同じ材料および／または同じ工程により形成されることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル用の基板。
【請求項７】
第一の領域と第二の領域とを備える表示パネル用の基板であって、前記第一の領域に形成されるスペーサの第一要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素とはある方向に対して不等幅な形状に形成され、前記第一の領域に形成される前記スペーサの第二要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第二要素のいずれか一方は、前記ある方向に略直角な方向な対して等幅な形状を有し、他方は前記ある方向に略直角な方向に対して不等幅な形状を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項８】
第一の領域と第二の領域とを備える表示パネル用の基板であって、前記第一の領域に形成されるスペーサの第一要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素とはある方向に対して不等幅な形状を有し、前記第一の領域に形成される前記スペーサの第二要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第二要素は、前記ある方向に略直角な方向に対して不等幅な形状を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項９】
第一の領域と第二の領域とを備える表示パネル用の基板であって、前記第一の領域に形成されるスペーサの第一要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素とは互いに異なる材料および／または異なる工程により形成され、前記第一の領域に形成されるスペーサの第二要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの第二要素は互いに同一の材料および／または同一の工程により形成されることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の表示パネル用の基板。
【請求項１０】
前記スペーサの前記第一要素と前記第二要素は、フォトレジスト材料により形成されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項１１】
前記フォトレジスト材料は、カラーフィルタ層を形成するフォトレジスト材料と同じフォトレジスト材料であることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル用の基板。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれかに記載の表示パネル用の基板を備えることを特徴とする表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルのセルギャップを所定の寸法に保持するスペーサ備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルに関するものであり、特に好適には、フォトリソグラフィ法を用いて形成されるスペーサを備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、アレイ基板とカラーフィルタ基板とが所定の間隔をおいて対向して配設される構成を有する。そして、これらの基板の間には液晶が充填される。この充填された液晶の層の厚さ（以下、「セルギャップ」と称する）を所定の均一な寸法に保つため、基板の間にスペーサを介在させている。
【０００３】
このスペーサとしては、たとえば所定の径のプラスチックビーズなどが用いられている。プラスチックビーズを液晶の層内に散在させることにより、セルギャップが液晶パネルの全面に亘って所定の寸法に均一に保持される。しかしながらプラスチックビーズを用いる構成は、次のような問題点を有する。まず、液晶の層内にプラスチックビーズが存在すると、このプラスチックビーズの周囲で液晶の配向が乱れる。この結果、プラスチックビーズの周囲で光漏れが発生し、コントラストが低下する。また、プラスチックビーズの分布が不均一となると、表示ムラなどの不具合が生じることがある。
【０００４】
そこで、プラスチックビーズに代わるスペーサが用いられるようになっている。たとえば、フォトリソグラフィ法を用いて基板の表面に柱状の構造物を形成し、これをスペーサとする構成が用いられている。具体的には、カラーフィルタ基板のブラックマトリックス上にカラーフィルタ層と同じフォトレジスト材料を積層させ、柱状のスペーサを形成する構成がある（特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、基板表面の絵素がマトリックス状に形成される領域（以下、この領域を「表示領域」と称する）と、その外側の領域とでは、ブラックマトリックスやオーバーコート層の厚さが相違することがある。このような場合、柱状のスペーサの高さを全て同一にすると、表示領域の周縁部において対向基板に撓みが生じ、セルギャップが不均一となることがある。その結果、光漏れが発生するなどして表示品位が低下するおそれがある。
【０００６】
この問題を解決するための構成として、表示領域の内外でスペーサの高さを異ならせるという構成が提案されている（特許文献２参照）。このような構成によれば、表示領域の周縁部における対向基板の撓みを防止し、セルギャップの不均一に起因する光漏れの発生などを防止することができる。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−１２００７５号公報
【特許文献２】特開２００４−１９８８４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、各カラーフィルタ層は、各絵素が所定の色特性を備えるように所定の厚さに形成される。したがって、各カラーフィルタ層を積層させて柱状のスペーサを形成する構成では、各カラーフィルタ層の必要な厚さの合計値を、セルギャップに一致させる必要がある。このため、柱状のスペーサの高さと各カラーフィルタ層の色特性とが相互に影響することになる。この結果、各絵素の色特性とセルギャップのいずれか一方のみを独立して変更することが困難となる。たとえば、生産工程でばらつきが発生してセルギャップが設計値からずれた場合でも、セルギャップのみを適正な値に補正することが困難となる。
【０００９】
また、表示領域の内外で高さの異なるスペーサを形成する構成は、表示領域内外のそれぞれにスペーサを形成する工程が必要となる。このため工程数が増加し、生産コストの増加を招く。また、このような構成では、表示領域内と表示領域外とで独立してセルギャップの調整ができるが、表示領域内と表示領域外とで同じ量の調整を行うことは困難である。
【００１０】
上記実状に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、セルギャップの調整が容易なスペーサを備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、工程数を増加させることなく高さの調整ができるスペーサを備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、カラーフィルタ層の厚さの影響を受けることなくもしくは影響を与えることなく高さの調整ができるスペーサを備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供すること、または、表示領域内と表示領域外とで独立してもしくは連動してセルギャップの調整ができるスペーサを備える表示パネル用の基板およびこの基板を備える表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
このような課題を解決するため、セルギャップを所定の寸法に保持するためのスペーサは、少なくとも第一要素と第二要素とを備え、これら第一要素と第二要素とは互いに積層する部分を有する構成とし、この積層部を実際にスペーサとして機能させる。ここで、これら第一要素と第二要素の形状を、相対的な位置関係に応じて積層する部分の面積が変化する形状とする。たとえば第一要素または第二要素の少なくとも一方を、一端から他端に向かって横幅寸法が変化（増加または減少）する形状に形成する。
【００１２】
このようなスペーサを備える表示パネル用の基板と対向基板とを加圧して貼り合わせると、この第一要素と第二要素との積層部は加圧により圧縮変形する。この圧縮変形の程度は、第一要素と第二要素との積層部の面積に応じて変化する。すなわち、積層部の面積が大きくなれば圧縮変形し難くなり、積層部の面積が小さくなれば圧縮変形しやすくなる。そしてこの積層部の面積は、第一要素と第二要素との相対的な位置関係に応じて変化する。したがって、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することにより、セルギャップを調整できる。
【００１３】
また、スペーサの第一要素と第二要素が、互いの相対的な位置関係に応じて積層する部分の高さが変化する形状に形成される構成であってもよい。たとえば第一要素または第二要素の少なくともいずれか一方を、一端から他端に向かって高さ寸法が変化（たとえば増加または減少）する形状に形成する。そして、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することにより、セルギャップの調整を行う。
【００１４】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有するものであって、これらの領域について互いに独立してまたは連動してセルギャップの調整を行いたい場合、第一の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素と、第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素とは、互いに独立して形成されることが好ましい。ここで「独立して形成される」とは、少なくとも形成される位置が互いに影響を受けることがないこという。たとえば互いに異なる材料により形成される構成や、互いに異なる工程で形成される構成などが挙げられる。
【００１５】
この場合、前記第一の領域に形成されるスペーサと前記第二の領域に形成されるスペーサにおいて、他方の要素（互いに独立して形成される要素ではない方の要素）は、互いに連動して形成されるものであることが好ましい。ここで「互いに連動して形成される」とは、少なくとも形成される位置が互いに影響すること、たとえば、一方が形成される位置に応じて他方が形成される位置も定まることをいう。具体的にはたとえば、同じ材料および／または同じ工程により形成されるなどの構成が挙げられる。
【００１６】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有するものであって、これらの領域について互いに独立してまたは連動してセルギャップの調整を行いたい場合には、各領域に形成されるスペーサは次のような構成を有するものであってもよい。前記第一の領域に形成されるスペーサおよび前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素のいずれか一方は、ある方向に沿って一端から他端に向かって横幅寸法が変化する形状に形成される。また、前記第一の領域または第二の領域の一方に形成されるスペーサの第二要素は、前記ある方向とは異なる方向に沿って一端から他端に向かって横幅寸法が変化する形状に形成される。なお、「前記ある方向とは異なる方向」としては、たとえば前記ある方向に直角または略直角方向であることが好ましい。
【００１７】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有するものであって、これらの領域について互いに独立してまたは連動してセルギャップの調整を行いたい場合には、各領域に形成されるスペーサは次のような構成を有するものであってもよい。第一の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素のいずれか一方と、第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素のいずれか一方は、ある方向に対して不等幅な形状を有する形状に形成される。第一の領域に形成されるスペーサの他方の要素と第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素は、前記ある方向とは異なる方向に対して不等幅な形状を有する形状に形成される。なお、「前記ある方向とは異なる方向」としては、たとえば前記ある方向に直角または略直角方向であることが好ましい。
【００１８】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有するものであって、これらの領域について互いに独立してまたは連動してセルギャップの調整を行いたい場合には、各領域に形成されるスペーサは次のような構成を有するものであってもよい。第一の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素と、前記第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素は、互いに独立して形成される。ここで、「互いに独立して形成される」とは前記したのと同じ意味である。そして第一の領域に形成されるスペーサの他方の要素と、第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素は、互いに連動して形成される。「互いに連動して形成される」とは、前記したのと同じ意味である。
【００１９】
前記スペーサの第一要素または第二要素の少なくとも一方は、フォトレジスト材料により形成されることが好ましい。また、このフォトレジスト材料は、カラーフィルタ層を形成する複数種類のフォトレジスト材料のいずれかであることが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することにより、容易にセルギャップを調整できる。また、セルギャップの調整に際してカラーフィルタ層の厚さを変更する必要がない。ここで、第一要素と第二要素の少なくともいずれか一方を、ある方向に沿って一端から他端に向かって横幅寸法または高さ寸法が変化する形状とすれば、この方向に沿って第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変化させるだけで、セルギャップの調整を行うことができる。
【００２１】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有する場合、第一の領域に形成される前記スペーサの第一要素または第二要素と、第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素とを独立して形成する構成であれば、互いに独立して形成される位置を変更することができる。このため、第一の領域に形成される前記スペーサのみ、または第二の領域に形成されるスペーサのみについて、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することができる。この結果、第一の領域と第二の領域のセルギャップの調整を、互いに影響を受けることなく別々に行うことができる。
【００２２】
一方この場合において、第一の領域に形成される前記スペーサの他方の要素と、第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素とを、互いに連動して形成すれば、第一の領域に形成されるスペーサの他方の要素と、第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素との形成位置を同時に同量だけ変更することができる。このため、第一の領域に形成されるスペーサと、第二の領域に形成されるスペーサの双方について、同時に同量だけ第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することができる。この結果、第一の領域と第二の領域のセルギャップを同時に調整することもできる。
【００２３】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有する場合、第一の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素と、第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素は、互いに独立して形成されるものであって、共にある方向に対して不等幅な形状に形成されるものであると、第一領域または第二領域のセルギャップを別々に調整することができる。この場合、第一の領域に形成されるスペーサの他方の要素と第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素のいずれか一方が、前記ある方向と異なる方向に対して等幅な形状に形成され、他方が前記ある方向に対して不等幅な形状に形成されるものであって、互いに連動して形成されるものであることが好ましい。
【００２４】
表示パネルが第一の領域と第二の領域とを有する場合、第一の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素と第二の領域に形成されるスペーサの第一要素または第二要素は、互いに独立して形成されるものであり、かつある方向に対して不等幅な形状を有すれば、前記ある方向に沿って第一の領域または第二領域の形成されるスペーサの前記一方の要素の位置を変更することにより、それぞれ別個にセルギャップを調整することができる。そして、前記第一の領域に形成される前記スペーサの他方の要素と前記第二の領域に形成されるスペーサの他方の要素が連動して形成されるものであり、かつ前記ある方向と異なる所定の方向に対して不等幅な形状を有すれば、前記ある方向とは異なる所定の方向に沿ってこれらの要素を移動させることにより、第一の領域と第二領域のセルギャップを同時に調整できる。
【００２５】
前記スペーサの各要素を、フォトレジスト材料により形成すれば、フォトリソグラフィ法により容易に形成できる。そして、このフォトレジスト材料を、カラーフィルタ層を形成するフォトレジスト材料と同じフォトレジスト材料とすれば、カラーフィルタ層を形成する工程において同時に形成できる。したがって、工程数を増加させる必要がない。
【００２６】
そして、このような表示パネルによれば、たとえば第一の領域と第二の領域との境界近傍においてもセルギャップを均一にできるから、セルギャップの不均一などによる光漏れを防止でき、表示品位の高い表示パネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に、本発明の各種実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に示す各実施形態は、液晶表示パネルのカラーフィルタ基板に適用されるものである。
【００２８】
図１は、本発明の第一実施形態に係る表示パネル用の基板の構成を示した模式図である。それぞれ、図１（ａ）は表示パネル用の基板の全体を示した図、図１（ｂ）は図１（ａ）から第一スペーサまたは第二スペーサを抜き出して示した拡大図である。なお、図１は模式図であり、表示パネル用の基板１ａのサイズに対する各スペーサ１４ａ，１５ａや絵素のサイズの比率、絵素の形状や数等は、必ずしも現実の表示用のパネルの基板と一致するものではない。
【００２９】
図１（ａ）に示すように、第一実施形態に係る表示パネル用の基板１ａは、透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２と、第一カラーフィルタ層１３ａと、第二カラーフィルタ層１３ｂと、第三カラーフィルタ層１３ｃとが形成される。また図示しないが、このほかにも透明電極やその他の必要な要素が形成される。そしてこれらの各要素により、ガラス基板１１の表面の所定の領域に、絵素がマトリックス状に形成される。ここでは、絵素がマトリックス状に形成される領域（図１においては、一点鎖線Ａに囲まれる領域）を、「表示領域」と称する。
【００３０】
そして、第一スペーサ１４ａが表示領域内のブラックマトリックス１２上に形成される。また第二スペーサ１５ａが表示領域外のブラックマトリックス１２上に形成される。
【００３１】
ブラックマトリックス１２は、一般に黒色のフォトレジスト材料により形成される。このブラックマトリックス１２の材質や構造は、従来一般のものが適用できることから、説明は省略する。
【００３２】
第一、第二、第三の各カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃは、それぞれ、赤色、青色、緑色のフォトレジスト材料のいずれかにより形成される。第一、第二、第三カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃを形成するフォトレジスト材料は、公知の一般的なものが適用できる。以下の説明においては、露光されると硬化するタイプのフォトレジスト材料を用いるものとする。
【００３３】
図１（ｂ）に示すように、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａは、それぞれ第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａとを備える。それぞれの第一要素１４１ａ，１５１ａは、中心線Ｌ１１またはＬ２１の方向（第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａの中心線を符号「Ｌ１１」で、第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａの中心線を符号「Ｌ２１」で示す。以下同じ。）に沿って一端から他端に向かって幅が細くなっていくような（または太くなっていくような）形状を有する。たとえば図１（ｂ）に示すような台形のほか、三角形などの先細り（または先太り）形状に形成される。そして、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第一要素１４１ａ，１５１ａは、全て同じ向きに（中心線Ｌ１１，Ｌ２１はすべて平行で、かつ幅が細い側または太い側が同じ側に向くように）形成されることが好ましい。また、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａは、長方形や帯状など、中心線Ｌ１２，Ｌ２２の方向（第一スペーサ１４ａの第二要素１４２ａの中心線を符号「Ｌ１２」で、第二スペーサ１５ａの第二要素１５２ａの中心線を符号「Ｌ２２」で示す。以下同じ。）に対する横幅が等幅の形状に形成される。第二要素１４２ａ，１５２ａの中心線Ｌ２１，Ｌ２２は、第一要素１４１ａ，１５１ａの中心線Ｌ１１，Ｌ１２と直交または略直交することが好ましい。そして、第一、第二スペーサ１４ａ，１５ａとも、第二要素１４２ａ，１５２ａの少なくとも一部が、第一要素１４１ａ，１５１ａの上に積層される。
【００３４】
また、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第一および第二要素１４１ａ，１５１ａ，１４２ａ，１５２ａは、第一、第二、第三カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃを形成する三色のフォトレジスト材料のうちのいずれかにより形成される。その組み合わせは、次の通りである。
【００３５】
第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａと第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａは、互いに異なる色のフォトレジスト材料により形成される。一方、第一スペーサ１４ａの第二要素１４２ａと、第二スペーサ１５ａの第二要素１５２ａとは、互いに同じ色のフォトレジスト材料により形成される。そして、第一スペーサ１４ａ、第二スペーサ１５ａともに、第一要素１４１，１５１ａと第二要素１４ａ，１５２ａとは、異なる色のフォトレジスト材料から形成されるようにする。
【００３６】
具体的には、たとえば次のような組み合わせが挙げられる。第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａは赤色のフォトレジスト材料により形成さる。第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａは緑色のフォトレジスト材料により形成される。そして、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａは、青色のフォトレジスト材料により形成される。
【００３７】
次いで、このような表示パネル用の基板の製造方法の一例を説明する。
【００３８】
ガラス基板１１の表面に黒色のフォトレジスト材料を塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてブラックマトリックス１２を形成する。ブラックマトリックス１２の形成方法は、従来一般の方法が適用できる。このため詳細な説明は省略する。
【００３９】
次に、第一カラーフィルタ層１３ａと、第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａをフォトリソグラフィ法を用い、第一の色のフォトレジスト材料（たとえば赤色のフォトレジスト材料）により同時に形成する。露光の際に使用するフォトマスクが、第一カラーフィルタ層１３ａを形成するための開口部と、第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａを形成するための開口部を有するものであれば、同じフォトレジスト材料により同じ工程で同時に形成できる。
【００４０】
次に、第二カラーフィルタ層１３ｂと第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａとを、フォトリソグラフィ法を用いて第二の色のフォトレジスト材料（たとえば、緑色のフォトレジスト材料）により同時に形成する。露光の際に使用するフォトマスクが、第二カラーフィルタ層１３ｂを形成するための開口部と、第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａを形成するための開口部を有するものであれば、同じフォトレジスト材料により同一工程において同時に形成できる。
【００４１】
次に、第三カラーフィルタ層１３ｃと、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａとを、フォトリソグラフィ法を用いて第三の色のフォトレジスト材料（たとえば、青色のフォトレジスト材料）により同時に形成する。露光の際に使用するフォトマスクが、第三カラーフィルタ層１３ｃを形成するための開口部と、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａを形成するための開口部を有するものであれば、同じフォトレジスト材料により同一工程において同時に形成できる。
【００４２】
このフォトマスクの第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａを形成するための開口部は、先に形成した第一および第二スペーサ１４ａ，１４ｂの第一要素１４１ａ，１５１ａに重なる位置に形成される。これにより、先に形成した第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第一要素１４１，１５１の上に、それぞれ第二要素１４２ａ，１５２ａを積層させることができる。
【００４３】
その後、スパッタリング法などを用いて透明電極を形成する。この透明電極は、たとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などから形成される。さらに必要があれば、このほかの所定の要素を形成する。これにより第一実施形態に係る表示パネル用の基板１ａが形成される。
【００４４】
本発明に係る液晶表示パネルは、この第一実施形態に係る表示パネル用の基板１ａと対向基板を貼り合わせて形成される。対向基板には、一般的なアレイ基板が適用できることから説明は省略する。また、基板どうしの貼り合わせ方法や、液晶の充填方法または滴下方法も、従来一般の方法が適用できる。
【００４５】
次に、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａを用いたセルギャップの調整機構について説明する。第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａともに、実際にスペーサとして機能するのは第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａとの積層部である。すなわちセルギャップは、第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａの積層高さにより規定される。
【００４６】
図２は、第一または第二スペーサ１４ａ，１５ａを用いてセルギャップを調整する機構および方法を示した平面模式図である。なお、セルギャップを調整する機構は、第一スペーサ１４ａと第二スペーサ１５ａとで同じであるから、まとめて説明する。図２(ａ）は、第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａとの積層部が通常の位置にある状態を示す。図２（ｂ）は、前記積層部が、第一要素１４１ａ，１５１ａの幅が細い側にシフトしている状態を示す。図２（ｃ）は、前記積層部が、第一要素１４１ａ，１５１ａの幅が太い側にシフトしている状態を示す。
【００４７】
第一要素１４１ａ，１５１ａは、中心線Ｌ１１またはＬ１２に対する横幅が先細り形状（または先太り形状）に形成される。このため、第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａとが積層する位置を、第一要素１４１ａ，１５１ａの中心線Ｌ１１，Ｌ１２の方向に沿って相対的に移動させると、積層部の面積が変化する。以下、この積層部の面積を、単に「積層部面積」と称する。この積層部面積が大きくなるにしたがって、第一または第二スペーサ１４ａ，１５ａは、圧縮変形が加わっても圧縮変形しにくくなる。反対に積層部面積が小さくなるにしたがって圧縮変形しやすくなる。
【００４８】
表示パネル用の基板１ａに対向基板を貼り合わせる際、セルギャップが表示パネルの全面に亘って均一になるように所定の圧力で加圧される。この加圧によるスペーサ１４ａ，１５ａの圧縮変形量は、前記のとおり積層部面積に応じて変化する。そしてこの積層部面積は、第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａの積層部の位置に応じて変化する。したがって、第一要素１４１ａ，１５１ａと第二要素１４２ａ，１５２ａとが積層する位置を、第一要素１４１ａ，１５１ａの中心線Ｌ１１またはＬ１２に沿って相対的にシフトさせることにより、セルギャップを調整できる。
【００４９】
次に、表示領域内のみ、表示領域外のみ、および基板の全面に亘るセルギャップの調整方法について説明する。
【００５０】
表示領域内のセルギャップの調整は、表示領域内に形成される第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａの形成時にフォトマスクの位置を変更し、第一要素１４１ａが形成される位置をシフトさせることで行う。セルギャップを小さくしたい場合には、フォトマスクを矢印ｂの向きにシフトさせた位置で露光する。これにより、第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａと第二要素１５１ａとの積層部の位置が矢印ａの向きに移動し、図２（ｂ）に示すように積層部面積が小さくなる。反対に、セルギャップを大きくしたい場合には、フォトマスクを矢印ａの向きにシフトさせた位置で露光する。これにより積層部の位置が矢印ｂの向きに移動し、図２（ｃ）に示すように積層部面積が大きくなる。一方、表示領域外に形成される第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａは、図２（ａ）に示すように通常の位置に形成する。このようにすれば、表示領域外のセルギャップは変化せず、表示領域内のセルギャップのみを調整することができる。なお、セルギャップをどの程度大きくするかまたは小さくするかは、フォトマスクのシフト量により調整できる。
【００５１】
表示領域外のセルギャップの調整は、第二スペーサ１５ａの第一要素１５１ａの形成時にフォトマスクの位置を変更し、第一要素１５１ａが形成される位置をシフトさせることにより行う。セルギャップを小さくしたい場合には、フォトマスクを矢印ｂの向きにシフトさせた位置で露光し、図２（ｂ）に示すように積層部面積を小さくする。反対に、セルギャップを大きくしたい場合には、フォトマスクを矢印ａの向きにシフトさせた位置で露光し、図２（ｃ）に示すように積層部面積を大きくする。一方、表示領域内に形成される第一スペーサ１４ａの第一要素１４１ａは、図２（ａ）に示すように、通常の位置に形成する。このようにすれば、第二スペーサ１５ａの積層部面積のみを変更できるから、表示領域外のセルギャップのみを調整できる。
【００５２】
表示領域の内外に亘るセルギャップの調整は、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａの成形時に、フォトマスクをシフトさせることで行う。セルギャップを小さくしたい場合には、フォトマスクを矢印ａの向きにシフトさせた位置で露光し、積層部の位置を、図２（ｂ）に示すようにそれぞれの第一要素１４１ａ，１５１ａの幅が細い側にシフトさせる。一方、セルギャップを大きくしたい場合には、フォトマスクを矢印ｂの向きにシフトした位置で露光し、積層部の位置を、図２（ｃ）に示すようにそれぞれの第一要素１４１ａ，１５１ａの幅が太い側にシフトさせる。この結果、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａともに積層部面積が変化する。第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａは、同じフォトマスクを用いて同一工程で形成されるから、表示領域の内外にわたって同時にセルギャップを調整できる。
【００５３】
なお、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第一要素１４１ａ，１５１ａは互いに同じ寸法・形状を有し、かつ、第一および第二スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａも、互いに同じ寸法・形状を有することが好ましい。このようにすれば、スペーサ１４ａ，１５ａの第二要素１４２ａ，１５２ａの積層位置を変更することにより、表示領域の内外に亘って均等にセルギャップを調整できる。
【００５４】
以上説明したように、本発明の第一実施形態によれば、表示領域内と表示領域外とで、それぞれ独立してセルギャップを調整することができる。したがって、たとえば表示領域の周縁部におけるセルギャップの不均一を解消し、表示ムラの発生を防止できる。一方で、表示領域の内外に亘って均等にセルギャップを調整することもできる。そして、セルギャップの調整のために工程数を増加させる必要はない。また、各カラーフィルタ層の厚さを変更等することなくセルギャップの調整を行える。
【００５５】
なお、第一または第二スペーサ１４ａ，１５ａの第一または第二要素１４１ａ，１５１ａ，１４２ａ，１５２ａの形成位置をシフトさせると、各カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃが形成される位置も、それにしたがってシフトする。そこでこのような場合でも、各カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃが所定の領域に形成されるようにする。このための具体的には、フォトマスクのカラーフィルタ層を形成するための開口部を、矢印ａおよびｂの向きに拡大するという構成が挙げられる。このような構成によれば、フォトマスクの位置をシフトした場合でも、カラーフィルタ層を形成すべき領域を露光できる。したがって、表示品位に影響を与えることはない。
【００５６】
次に、本発明の第二実施形態について説明する。なお、前記第一実施形態と同一の構成については説明を省略する。
【００５７】
図３は、第二実施形態に係る表示パネル用の基板の構成を模式的に示した外観斜視図である。詳しくは、図３（ａ）は、表示パネル用の基板１ｂの全体を示した図、図３（ｂ）は第一スペーサを、図３（ｃ）は第二スペーサを抜き出して示した拡大図である。なお、図３は模式図であり、表示パネル用の基板１ｂのサイズに対する第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂや絵素のサイズの比率、絵素の形状や数等は、必ずしも現実の表示用のパネルと一致するものではない。
【００５８】
本実施形態に係る表示パネル用の基板１ｂは、図３（ａ）に示すように、透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２、第一、第二、第三カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃ、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂが形成される。第一スペーサ１４ｂは表示領域内の所定の位置に、第二スペーサ１５ｂは表示領域外の所定の位置に形成される。
【００５９】
第一スペーサ１４ｂは、第一要素１４１ｂと第二要素１４２ｂとを有する。第一要素１４１ｂは、中心線Ｌ１１の方向に沿って一端から他端に向かって横幅が細くなっていく（または太くなっていく）形状を有する。たとえば図３（ｂ）に示すような台形のほか、三角形などの先細り（または先太り）形状に形成される。また、第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂは、長方形や帯状など、中心線Ｌ１２の方向に対する横幅寸法が均一な形状に形成される。そして、第二要素１４２ｂの少なくとも一部が、第一要素１４１ｂの上に積層される。なお、第一要素１４１ｂと第二要素１４２ｂとは、それらの中心線Ｌ１１，Ｌ１２が互いに直交、または略直交するように配置される。
【００６０】
図３（ｃ）に示すように第二スペーサ１５ｂは、それぞれ第一要素１５１ｂと第二要素１５２ｂとを備える。各要素１５１ｂ，１５２ｂは、中心線Ｌ２１またはＬ２２方向に沿って一端から他端に向かって幅が細くなっていく（または太くなっていく）形状を有する。この形状は、前記第一スペーサ１４ｂの第一要素１４１ｂと同様の形状が適用できる。そして、第二要素１５２ｂの少なくとも一部が、第一要素１５１ｂの上に積層される。なお、第一要素１５１ｂと第二要素１５２ｂとは、それらの中心線Ｌ２１，Ｌ２２が互いに直交、またはほぼ直交するように配置される。
【００６１】
なお、第一スペーサ１４ｂの第一要素１４１ｂの中心線Ｌ１１と、第二スペーサ１５ｂの第一要素１５１ｂの中心線Ｌ２１とは互いに平行で、かつ第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂの中心線Ｌ１２と、第二スペーサ１５ｂの第二要素１５２ｂの中心線Ｌ２２も互いに平行であることが好ましい。
【００６２】
第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一および第二要素１４１ｂ，１５１ｂ，１４２ｂ，１５２ｂは、第一、第二、第三カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃを形成する三色のフォトレジスト材料のうちのいずれかにより形成される。その組み合わせは次の通りである。
【００６３】
第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂは、同一色のフォトレジスト材料により形成される。第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂは同一色のフォトレジスト材料により形成される。そして、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂと、第二要素１４２ｂ，１５２ｂは、互いに異なる色のフォトレジスト材料により形成される。
【００６４】
具体的には、たとえば次の組み合わせが挙げられる。第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂは、共に緑色のフォトレジスト材料により形成さる。第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂは、共に青色のフォトレジスト材料により形成さる。
【００６５】
次いで、このような表示パネル用の基板の製造方法の一例を説明する。
【００６６】
ブラックマトリックス１２が形成されたガラス基板上１１に、第一カラーフィルタ層１３ａと、第一および第二スペーサ１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂを、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。露光の際に使用するフォトマスクが、第一カラーフィルタ層１３ａを形成するための開口部と、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂを形成するための開口部を有するものであれば、これらを同じフォトレジスト材料により同一の工程において同時に形成できる。
【００６７】
次に、第二カラーフィルタ層１３ｂと、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂを、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。露光の際に使用するフォトマスクが、第二カラーフィルタ層１３ｂを形成するための開口部と、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂを形成するための開口部を有するものであれば、これらを同じフォトレジスト材料により同一工程において同時に形成できる。
【００６８】
このフォトマスクの第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂを形成するための開口部は、前記工程で形成した各スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂに重なる位置に形成される。このようなフォトマスクを用いれば、先に形成した第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第一要素１４１ｂ，１５１ｂの上に、それぞれ第二要素１４２ｂ，１５２ｂを積層させることができる。
【００６９】
そして、第三カラーフィルタ層１３ｃを、フォトリソグラフィ法を用いて形成する。その後、スパッタリング法などを用いて、透明電極をＩＴＯなどから形成する。さらに必要があれば、このほかの所定の要素を形成する。これにより表示パネル用の基板１ｂが形成される。
【００７０】
そして、本実施形態に係る第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂを備える表示パネル用の基板１ｂと対向基板とが貼り合わされ、その間に液晶が充填または滴下されると共に、表示領域の周縁部がシールされて液晶表示パネルが形成される。対向基板には一般的なアレイ基板が適用できることから説明は省略する。また対向基板との貼り合わせ方法、液晶の充填または滴下方法、シールの形成方法や構造も従来一般の方法や構造が適用できることから説明は省略する。
【００７１】
次に、第二スペーサ１５ｂを用いたセルギャップの調整機構について説明する。なお、第一スペーサ１４ｂを用いたセルギャップの調整機構は、前記第一実施形態に係る第一または第二スペーサ１４ａ，１５ａと同じであることから、説明は省略する。
【００７２】
図４は、第二スペーサ１５ｂを用いてセルギャップを調整する方法を模式的に示した平面図である。それぞれ、図４（ａ）は、積層部の位置が通常の位置にある状態を、図４（ｂ），（ｃ）は、積層部の位置が第一要素１５１ｂの中心線Ｌ２１の方向に沿ってシフトした状態を、図４（ｄ），（ｅ）は、積層部の位置が第二要素１５２ｂの中心線Ｌ２２の方向に沿ってシフトした状態を示す。
【００７３】
図４（ｂ）に示すように、積層部の位置が第一要素１５１ｂの中心線Ｌ２１の方向に沿って矢印ａの向きにシフトすると、積層部面積が減少する。反対に図４（ｃ）に示すように矢印ｂの向きにシフトすると、積層部面積が増加する。また図４（ｄ）に示すように積層部の位置が第二要素１５２ｂの中心線Ｌ２２の方向に沿って矢印ｃの向きにシフトすると、積層部面積が減少する。反対に図４（ｅ）に示すように矢印ｄの向きにシフトすると、積層部面積が増加する。このように、積層部の位置を、第一要素１５１ｂの中心線Ｌ２１と第二要素の中心線Ｌ２２のいずれの方向に沿ってシフトさせても、積層部面積を増減させてセルギャップを調整することができる。
【００７４】
次に、表示領域外のセルギャップの調整方法について、図５を参照して説明する。図５は、第一スペーサ１４ｂと第二スペーサ１５ｂによるセルギャップの調整メカニズムを模式的に示した図である。それぞれ、図５（ａ）は第一、第二スペーサ１４ｂ，１５ｂともに通常の状態を、図５（ｂ）は表示領域外のセルギャップが大きくなるように調整した状態を、図５（ｃ）は表示領域外のセルギャップが小さくなるように調整した状態を示す。
【００７５】
表示領域外のセルギャップの調整は、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂの形成時にフォトマスクの位置を変更し、第二要素１４２ｂ，１５２ｂが形成される位置をシフトさせることで行う。第一スペーサ１４ｂと第二スペーサ１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂは、同一のフォトマスクを用いて同時に形成されるから、連動してシフトする。
【００７６】
表示領域外のセルギャップを大きくしたい場合には、図５（ｂ）に示すように、フォトマスクを第二要素１５２ｂの中心線Ｌ２２に沿って矢印ｃの向きに相対的にシフトさせた位置で露光する。そして、第二要素１５２ｂの幅が太い側を第一要素１５１ｂに積層させる。この結果、積層部面積が増加し、セルギャップを大きくすることができる。反対にセルギャップを小さくしたい場合には、図５（ｃ）に示すように、フォトマスクを矢印ｄの向きに相対的にシフトさせた位置で露光する。そして、第二要素１５２ｂの幅が細い側を第一要素１５１ｂに積層させる。この結果、積層部面積が減少し、セルギャップを小さくすることができる。
【００７７】
一方、フォトマスクの移動により、図５（ｂ），（ｃ）に示すように第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂが形成される位置もその中心線Ｌ１２の方向に沿ってシフトする。しかし、第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂは等幅の形状を有するから、中心線Ｌ１２の方向に沿って積層部の位置がシフトしても第一スペーサ１４ｂの積層部面積は変化しない。
【００７８】
このように、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの積層部の位置を、それぞれ第二要素１４２ｂ，１５２ｂの中心線Ｌ２２の方向に沿ってシフトさせると、表示領域外のセルギャップのみを調整することができる。セルギャップをどの程度変化させるかは、フォトマスクのシフト量により調整できる。
【００７９】
表示領域の内外に亘るセルギャップの調整は、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂの形成時にフォトマスクの位置をシフトさせて行う。図６は、この方法によるセルギャップの調整方法を用いた場合のスペーサの状態を模式的に示した平面図である。それぞれ、図６（ａ）は第一および第二スペーサの通常の状態を、図６（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、図６（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【００８０】
セルギャップを小さくしたい場合には、図６（ｂ）に示すようにフォトマスクを第一要素１４１ｂ，１５１ｂの中心線Ｌ１１，Ｌ２１の方向に沿って矢印ａの向きにシフトさせた位置で露光する。そして、積層部を第一要素１４１ｂ，１５１ｂの幅が細い側にシフトさせて積層部面積を減少させる。反対にセルギャップを大きくしたい場合には、図６（ｃ）に示すようにフォトマスクを矢印ｂの向きにシフトさせた位置で露光する。そして、積層部を第一要素１４１ｂ，１５１ｂの幅が太い側にシフトさせて積層部面積を増加させる。
【００８１】
第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂの第二要素１４２ｂ，１５２ｂは、同じフォトマスクを用いて同時に形成されるから、フォトマスクのシフトにより同量だけシフトする。したがって、表示領域の内外に亘って均等にセルギャップを調整することができる。
【００８２】
なお、次の方法によれば、表示領域内のみのセルギャップを調整することもできる。図７は、表示領域内のみのセルギャップを調整する場合におけるスペーサの状態を示した平面模式図である。それぞれ、図７（ａ）は通常の状態を、図７（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、図７（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【００８３】
表示領域内のみのセルギャップを調整するには、第一および第二スペーサ１４ｂ，１５ｂとも、第一要素１４１ｂ，１５１ｂと第二要素１４２ｂ，１５２ｂを共にシフトさせて形成する。セルギャップを小さくする場合、図７（ｂ）に示すように第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂを形成する位置を、第一要素１４１ｂの幅が細い側にシフトさせ、積層部面積を小さくする。ただし、同時に第二スペーサ１５ｂの第二要素１４２ｂもシフトして第二スペーサ１５ｂの積層部面積も減少するから、これを防ぐため第二スペーサ１５ｂの第一要素１５１ｂを形成する位置を、第二要素１５２ｂの中心線Ｌ２２の方向に沿って幅が太い側にシフトさせる。この場合、第一スペーサ１４ｂの第二要素１４２ｂは、等幅の形状を有するから、中心線Ｌ１２の方向に沿ってシフトしても積層部面積には影響しない。反対にセルギャップを大きくしたい場合には、図７（ｃ）に示すように、それぞれ積層部の位置が図７（ｂ）とは反対となるようにすればよい。この結果、第一スペーサ１４ｂの積層部面積のみが増減し、第二スペーサ１５ｂの積層部面積は変化しない。したがって、表示領域内のみのセルギャップを調整できる。
【００８４】
このように第二実施形態によれば、表示領域外と、表示領域の内外にわたる範囲とで、それぞれ独立してセルギャップを調整できる。また、表示領域内のみのセルギャップの調整も可能である。したがって、たとえば表示領域の周縁部におけるセルギャップの不均一を解消し、表示ムラの発生を防止できる。そして、セルギャップの調整のために工程数を増加させる必要はない。また、各カラーフィルタ層の厚さを変更等しなくとも、スペーサの高さを調整できる。
【００８５】
次に、本発明の第三実施形態について説明する。なお、前記第一または第二実施形態と同一の構成については説明を省略する。
【００８６】
図８は、第三実施形態に係る表示パネル用の基板の構成を模式的に示した外観斜視図である。それぞれ、図８（ａ）は表示パネル用の基板の全体を示した図、図８（ｂ）はスペーサを抜き出して示した拡大図である。なお、この図は模式図であり、表示パネル用の基板１ｃのサイズに対するスペーサや絵素のサイズの比率、絵素の形状や数等は、必ずしも現実の表示用のパネルと一致するものではない。
【００８７】
第三実施形態に係る表示パネル用の基板１ｃは、透明基板１１の表面に、ブラックマトリックス１２と、第一、第二、第三カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃとが形成される。また、図示しないが、このほかにも、透明電極やその他必要な要素が形成される。これらの構成は前記第一または第二実施形態と同じである。
【００８８】
そして、表示領域内のブラックマトリックス１２の上の所定の位置に第一スペーサ１４ｃが形成される。また、表示領域外のブラックマトリックス１２の上の所定の位置に第二スペーサ１５ｃが形成される。本実施形態においては、第一スペーサ１４ｃと第二スペーサ１５ｃは、ほぼ同様の構成を有することから、まとめて説明する。
【００８９】
第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃは、それぞれ第一要素１４１ｃ，１５１ｃと第二要素１４２ｃ，１５２ｃとを備える。第一要素１４１ｃ，１５１ｃおよび第二要素１４２ｃ，１５２ｃは、一端から他端に向かって幅が細くなる（または太くなる）形状を有する。たとえば図８（ｂ）に示すような台形のほか、三角形などといった先細り（または先太り）形状に形成される。それぞれ第一要素１４１ｃ，１５１ｃの中心線Ｌ１１，Ｌ２１と第二要素１４２ｃ，１５２ｃの中心線Ｌ１２，Ｌ２２とが直交、またはほぼ直交するように形成される。そして、第二要素１４２ｃ，１５２ｃの少なくとも一部が、第一要素１４１ｃ，１５１ｃの上に積層される。
【００９０】
また、第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第一および第二要素１４１ｃ，１５１ｃ，１４２ｃ，１５２ｃは、各カラーフィルタ層１３ａ，１３ｂ，１３ｃを形成する三色のフォトレジスト材料のうちのいずれかにより形成される。その組み合わせは次の通りである。第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第二要素１４１ｃ，１５２ｃは、互いに同一色のフォトレジスト材料により形成される。そして、第一スペーサ１４ｃの第一要素１４１ｃと、第二スペーサ１５ｃの第一要素１５１ｃと、第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第二要素１４２ｃ，１５２ｃとは、互いに異なる色のフォトレジスト材料により形成される。
【００９１】
具体的には、たとえば次の組み合わせが挙げられる。第一スペーサ１４ｃの第一要素１４１ｃは赤色のフォトレジスト材料により形成される。第二スペーサ１５ｂの第一要素１５１ｂは、緑色のフォトレジスト材料により形成さる。第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第二要素１４２ｃ，１５２ｃは、青色のフォトレジスト材料により形成される。
【００９２】
第三実施形態に係る表示パネル用の基板の製造方法は、前記第一実施形態に係る表示パネル用の基板の製造方法とほぼ同じであることから、説明は省略する。第一実施形態と第三実施形態とは、主に第一スペーサ１４ａ，１４ｃおよび第二スペーサ１５ａ，１５ｃの第二要素１５２ａ，１５２ｃの形状が異なるのみである。
【００９３】
本実施形態に係るスペーサ１４ｃ，１５ｃによるセルギャップの調整機構は、前記第二実施形態に係る第二スペーサ１５ｂによるセルギャップの調整機構と同じである。よって説明は省略する（図４およびそれに関する説明を参照）。
【００９４】
表示領域内のみのセルギャップの調整方法は、次の通りである。図９は、表示領域内のみのセルギャップを調整する場合における第一および第二スペーサの状態を示した平面模式図である。それぞれ図９（ａ）はスペーサが通常の状態を、図９（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した場合の状態を、図９（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した場合の状態を示す。
【００９５】
表示領域内のみのセルギャップの調整は、第一スペーサ１４ｃの第一要素１４１ｃの形成時にフォトマスクの位置をシフトさせることで行う。セルギャップを小さくしたい場合には、フォトマスクを矢印ｂの向きにシフトさせた位置で露光し、図９（ｂ）に示すように積層部を第一要素１４１ｃの横幅が小さい部分にシフトさせる。反対にセルギャップを大きくしたい場合には、フォトマスクを矢印ａの向きにシフトさせた位置で露光し、図９（ｃ）に示すように積層部を第一要素１４１ｂの横幅の大きい部分にシフトさせる。これにより第一スペーサ１５ｃの積層部面積が変化する。このため、この基板と対向基板とを貼り合わせて加圧した際、第一スペーサ１４ｃの圧縮変形量が変化するから、セルギャップの調整ができる。
【００９６】
なお、第一スペーサ１４ｃの第一要素１４１ｃと第二スペーサ１５ｃの第一要素１５１ｃとは、互いに独立して形成されるから、第一スペーサ１４ｃの第一要素１４１ｃの形成位置をシフトしても、表示領域外のセルギャップは影響を受けない。
【００９７】
表示領域外のみのセルギャップの調整は、第二スペーサ１５ｃの第一要素１５１ｃの形成時にフォトマスクの位置をシフトさせることで行う。具体的な方法および作用は、前記表示領域内のセルギャップの調整とほぼ同じであるから説明は省略する。前記説明において、第一スペーサ１４ｃと第二スペーサ１５ｃ、表示領域内と表示領域外とを読み替えればよい。
【００９８】
表示領域の内外に亘るセルギャップの調整は次の通りである。図１０は、表示領域の内外に亘ってセルギャップの調整を行う場合のスペーサの状態を示した平面模式図である。それぞれ図１０（ａ）はスペーサが通常の状態を、図１０（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、図１０（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【００９９】
表示領域の内外に亘るセルギャップの調整は、第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第二要素１４２ｃ，１５２ｃの形成時にフォトマスクの位置をシフトをさせることで行う。セルギャップを小さくしたい場合には、図１０（ｂ）に示すようにフォトマスクを矢印ｄの向きにシフトさせた位置で露光し、積層部を第二要素１４２ｃ，１５２ｃの幅が細い側にシフトさせる。反対にセルギャップを大きくしたい場合には、図１０（ｃ）に示すようにフォトマスクを矢印ｃの向きにシフトさせた位置で露光し、積層部を第二要素１４２ｃ，１５２ｃの幅が太い側にシフトさせる。第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃの第二要素１４２ｃ，１５２ｃは、１枚のフォトマスクを用いて同時に形成されるから、フォトマスクをシフトさせると両方とも同様にシフトする。この結果、第一および第二スペーサ１４ｃ，１５ｃともに、積層部面積が同様の態様で増減する。したがって、この基板と対向基板とを貼り合わせて加圧した際、第一スペーサ１４ｃおよび第二スペーサ１５ｃの圧縮変形量が同様に変化する。このように、基板の全面に亘って均等にセルギャップの調整ができる。
【０１００】
なお、いずれのセルギャップの調整においても、セルギャップをどの程度大きくするかまたは小さくするかは、フォトマスクのシフト量により調整できる。
【０１０１】
このように第三実施形態によれば、表示領域内と、表示領域外と、表示領域の内外にわたる領域とで、それぞれ独立してセルギャップを調整できる。したがって、たとえば表示領域の周縁部におけるセルギャップの不均一を解消し、表示ムラの発生を防止できる。そして、セルギャップの調整のために工程数を増加させる必要はない。また、スペーサの高さの調整のために、各カラーフィルタ層の厚さを変更等する必要もない。
【０１０２】
次に、他の形態に係るスペーサついて説明する。
【０１０３】
図１１は、他の形態に係るスペーサの構成を模式的に示した斜視図である。図１１（ａ）に示すスペーサ１４’は、一端から他端に向かって階段状に高さが変化する形状の第一要素１４１’を備える。図１１（ｂ）に示すスペーサ１４”は、上面が傾斜面状に形成され、一端から他端に向かってなだらかに高さが変化する第一要素１４１”を備える。このような構成によれば、第一要素１４１’，１４１”と第二要素１４２との積層部の位置を、第一要素１４１’，１４１”の中心線Ｌ１’，Ｌ１”の方向に沿ってシフトさせることにより、積層部の合計高さが変化する。セルギャップはこの積層部の合計高さにより規定されるから、第一要素１４１’，１４１”と第二要素１４２との相対的な位置関係を変更することにより、セルギャップの調整を行うことができる。
【０１０４】
このようなスペーサの具体的な配置態様、表示領域の内外のセルギャップの調整方法は、前記各実施形態とほぼ同じであることから説明は省略する。前記説明中の不等幅に形成される要素について、「幅が太い側」を「高さが高い側」に、「幅が細い側」を「高さが低い側」に、スペーサの「積層部面積」を「積層部の合計高さ」に、それぞれ読み替えればよい。
【０１０５】
このような高さが一端側から他端側に向かって変化する形状の第一要素１４１’，１４１”の形成方法としては、次のような方法が挙げられる。
【０１０６】
露光により硬化するタイプのフォトレジスト材料は、露光量が少なくなると、最終的に形成されるフォトレジスト材料の層厚が薄くなる。そこで、フォトリソグラフィ法における露光の際に、高さを低くする部位への露光量を高さを高くする部位への露光量より少なくする。
【０１０７】
具体的にはたとえば次のような構成のフォトマスクを用いる。図１２は、高さが段階的に変化する第一要素１４１’を形成するために用いるフォトマスクの構成を模式的に示した平面図である。図１２（ａ）は、第一要素１４１’を形成するための開口部５１がスリット状に形成される構成を示す。高さを高くしたい部位を露光する部分は開口部５１の幅を大きくし、低くしたい部位を露光する部分は開口部５１の幅を狭くする。その中間は段階的に開口部５１の幅を変化させる。図１２（ｂ）も、開口部５１がスリット状に形成される構成を示す。高さを高くしたい部位を露光する部分は開口部５１の数を多くし、低くしたい部位を露光する部分は開口部５１の数を少なくする。その中間は段階的に開口部の数を変化させる。図１２（ｃ）は、微小な径の開口部５１が多数形成される構成を示す。高さを高くしたい部位を露光する部分は開口部５１の数を多くし、低くしたい部位を露光する部分は開口部５１の数を少なくする。その中間は段階的に開口部５１の数を変化させる。
【０１０８】
図１３は、高さがなだらかに変化する第一要素１４１”を形成するために用いるフォトマスクの構成を模式的に示した平面図である。図１３（ａ）は、スリット状の開口部５１が形成される構成を示す。高さを高くしたい部位を露光する側から低くしたい部位を露光する側に向かって、開口部５１の幅が徐々に狭くなっていく構成を備える。図１３（ｂ）は開口部がグラデーション状に設けられる構成を示す。高さを高くしたい部位を露光する側から低くしたい部位を露光する側に向かって、開口部の数が徐々に少なくなっていく構成を備える。このようなフォトマスクを用いれば、一端から他端に向かって露光量が徐々に変化するから、高さがなだらかに変化する形状の第一要素を形成できる。
【０１０９】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は前記各実施形態になんら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
【０１１０】
たとえば、前記各実施形態においては、スペーサの第一要素と第二要素とを、台形または帯状の形状に形成する構成を示したが、これに限られるものではない。図１４は、スペーサの変形例を模式的に示した図である。たとえば図１４（ａ），（ｂ）に示すように、少なくとも一方の要素を三角形に形成する構成、（ｃ），（ｄ）に示すように階段状に横幅が変化する形状に形成する構成などであってもよい。要は、スペーサを二以上の要素から形成し、これらの要素の積層する位置を変化させることによって積層部の面積を変化させる構成であればよい。
【０１１１】
また、第一および第二スペーサの積層部の位置を変更するためのフォトマスクのシフトは相対的なものであり、第一要素または第二要素のどちらか一方または双方をシフトさせればよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の第一実施形態に係るスペーサと、このスペーサを備える表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は表示パネル用の基板の全体を示した図、（ｂ）はスペーサを抜き出して拡大した図である。
【図２】前記スペーサによるセルギャップの調整のメカニズムを模式的に示した平面図であり、（ａ）はスペーサが通常の状態を、（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図３】本発明の第二実施形態に係るスペーサと、このスペーサを備える表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は表示パネル用の基板の全体を示した図、（ｂ）は第一スペーサを抜き出して拡大した図、（ｃ）は第二スペーサを抜き出して拡大した図である。
【図４】前記実施形態に係る第二スペーサによるセルギャップの調整のメカニズムを示した平面模式図であり、（ａ）はスペーサの通常の状態を、（ｂ）および（ｄ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）および（ｅ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図５】前記実施形態に係るスペーサを備える表示パネル用について、表示領域外のみのセルギャップの調整方法を模式的に示した平面図であり、（ａ）は通常の状態を、（ｂ）は表示領域外のセルギャップが大きくなるように調整した状態を、（ｃ）は表示領域外のセルギャップが小さくなるように調整した状態を示す。
【図６】前記実施形態に係るスペーサを備える表示パネル用について、表示領域内外に亘ってのセルギャップの調整方法を模式的に示した平面図であり、（ａ）は通常の状態を、（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図７】前記実施形態に係るスペーサを備える表示パネル用について、表示領域内のみのセルギャップの調整方法を模式的に示した平面図であり、（ａ）は通常の状態を、（ｂ）は表示領域内のセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）は表示領域内のセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図８】本発明の第三実施形態に係る表示パネル用の基板の構成を模式的に示した外観斜視図であり、（ａ）は表示パネル用の基板の全体を示した図、（ｂ）はスペーサを抜き出して示した拡大図である。
【図９】前記実施形態に係るスペーサを備える表示パネル用について、表示領域内のみのセルギャップの調整方法を模式的に示した平面図であり、（ａ）は通常の状態を、（ｂ）は表示領域内のセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）は表示領域内のセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図１０】前記実施形態に係るスペーサを備える表示パネル用について、表示領域内外に亘るセルギャップの調整方法を模式的に示した平面図であり、（ａ）は通常の状態を、（ｂ）はセルギャップが小さくなるように調整した状態を、（ｃ）はセルギャップが大きくなるように調整した状態を示す。
【図１１】他の形態に係るスペーサの構成を模式的に示した外観斜視図であり、（ａ）は一端から他端に向かって階段状に高さが変化する形状の第一要素を備えるスペーサを、（ｂ）は上面が傾斜面状に形成されて一端から他端に向かってなだらかに高さが変化する第一要素を備えるスペーサを示す。
【図１２】高さが段階的に変化する第一要素を形成するために用いるフォトマスクの構成を模式的に示した平面図であり、（ａ）は開口部の幅が変化する構成を、（ｂ）および（ｃ）は開口部の数が変化する構成を示す。
【図１３】高さがなだらかに変化する第一要素を形成するために用いるフォトマスクの構成を模式的に示した平面図であり、（ａ）は開口部の幅が徐々に変化する構成を、（ｂ）は開口部の数が徐々に変化する構成を示す。
【図１４】スペーサの変形例を模式的に示した平面図であり、（ａ）および（ｂ）少なくとも一方の要素が三角形に形成される構成を、（ｃ）および（ｄ）は階段状に横幅が変化する形状に形成される構成を示す。
【符号の説明】
【０１１３】
１ａ  表示パネル用の基板
１１  透明基板
１２  ブラックマトリックス
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ  カラーフィルタ層
１４ａ  第一スペーサ
１４１ａ  第一スペーサの第一要素
１４２ａ  第一スペーサの第二要素
１５ａ  第二スペーサ
１５１ａ  第二スペーサの第一要素
１５２ｂ  第二スペーサの第二要素
Ａ  表示領域を示す線
Ｌ１１  第一スペーサの第一要素の中心線
Ｌ１２  第一スペーサの第二要素の中心線
Ｌ２１  第二スペーサの第一要素の中心線
Ｌ２２  第二スペーサの第二要素の中心線
【図１】
2007086463.tif 000003
【図２】
2007086463.tif 000004
【図３】
2007086463.tif 000005
【図４】
2007086463.tif 000006
【図５】
2007086463.tif 000007
【図６】
2007086463.tif 000008
【図７】
2007086463.tif 000009
【図８】
2007086463.tif 000010
【図９】
2007086463.tif 000011
【図１０】
2007086463.tif 000012
【図１１】
2007086463.tif 000013
【図１２】
2007086463.tif 000014
【図１３】
2007086463.tif 000015
【図１４】
2007086463.tif 000016