(57)【要約】【課題】本発明は、大気圧の変動が装置精度に影響せず、かつポンプの振動が荷電粒子装置本体に伝わらない真空排気系構造を備えた荷電粒子装置、および荷電粒子線装置の真空吸引径路を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系を含む荷電粒子線装置本体と、荷電粒子線装置本体内を真空にする吸引ポンプが備わる真空排気系と、荷電粒子線装置本体と真空排気系を連通する吸引路と、吸引路に介在される防振部と、防振部に設けられる可撓性通路部材とを有する荷電粒子線装置または荷電粒子線装置の真空吸引径路において、真空排気系の吸引により、荷電粒子線装置本体と真空排気系が引き合う方向に可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止手段を設けたことを特徴とする。【選択図】図２
2007165232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的に電子線またはイオンビームを照射する電磁光学系を含む荷電粒子線装置本体と、
前記荷電粒子線装置本体内を真空にする吸引ポンプが備わる真空排気系と、
前記荷電粒子線装置本体と前記真空排気系を連通する吸引路と、
前記吸引路に介在される防振部と、
前記防振部に設けられる可撓性通路部材とを有する荷電粒子線装置において、
前記真空排気系の吸引により、前記荷電粒子線装置本体と前記真空排気系が引き合う方向に前記可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
標的が置かれる標的室と、
前記標的室の上部に設けられ、前記標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系が備わる鏡体と、
ターボ分子ポンプを含む真空ポンプや真空配管等を備える真空排気系のやぐらと、
前記真空排気系内と前記鏡体内とを連通する吸引路と、
前記吸引路に介在される防振部と、
前記防振部に設けられる可撓性通路部材と、
前記真空排気系の吸引により、前記鏡体と前記真空排気系が引き合う方向に前記可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止器体とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
標的が置かれる標的室と、
前記標的室の上部に設けられ、前記標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系が備わる鏡体と、
ターボ分子ポンプを含む真空ポンプや真空配管等を備える真空排気系のやぐらと、
前記真空排気系内と前記鏡体内とを連通する吸引路と、
前記吸引路に介在される防振部と、
前記防振部に含まれる可撓性通路部材、および硬質のフランジと、
前記真空排気系の吸引により、前記鏡体と前記真空排気系が引き合う方向に前記可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止器体と、
前記収縮阻止器体に含まれる可撓性部材、および硬質のフランジと、
前記防振部のフランジと、前記収縮阻止器体のフランジとの間に突っ張るように置く支杆とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項３記載の荷電粒子線装置において、
前記可撓性通路部材と前記可撓性部材は、柔軟なベローズの筒体で形成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項３記載の荷電粒子線装置において、
前記収縮阻止器体は前記防振部の反対側に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項３記載の荷電粒子線装置において、
一つの前記防振部と、二つの前記収縮阻止器体を前記鏡体にほぼ等間隔で配置し、
隣り合う前記収縮阻止器体のフランジの間に突っ張るように置く支杆を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項３から６のいずれに記載された荷電粒子線装置において、
前記支杆の長さを調整する調整機構を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項３から６のいずれに記載された荷電粒子線装置において、
前記収縮阻止器体のフランジに着脱自在なる閉鎖用の蓋を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
標的が置かれる標的室と、
前記標的室の上部に設けられ、前記標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系が備わる鏡体と、
ターボ分子ポンプを含む真空ポンプや真空配管等を備える真空排気系のやぐらと、
前記真空排気系内と前記鏡体内とを連通する吸引路と、
前記吸引路の途中に設けられた振動の伝達を断つ防振部とを有し、
前記防振部は、前記吸引路の真空排気系側が連通するように接続される中央基体と、この中央基体の一端に設けられ、かつ前記鏡体側に連通するように接続される可撓性通路部材と、この可撓性通路部材の反対側になる中央基体の他端に設ける収縮阻止用の可撓性部材と、前記真空排気系の吸引により、前記可撓性通路部材と、前記可撓性部材とが互いに引き合う方向に収縮するのを阻止する支杆を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項９記載の荷電粒子線装置において、
前記可撓性部材の外側端部側に設けられた硬質のフランジに着脱自在なる閉鎖用の蓋を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系を含む荷電粒子線装置本体と、
前記荷電粒子線装置本体内を真空にする吸引ポンプが備わる真空排気系と、
前記荷電粒子線装置本体と前記真空排気系を連通する吸引路と、
前記吸引路に介在される防振部と、
前記防振部に設けられる可撓性通路部材とを有する荷電粒子線装置の真空吸引径路において、
前記真空排気系の吸引により、前記荷電粒子線装置本体と前記真空排気系が引き合う方向に前記可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線装置の真空吸引径路。
【請求項１２】
標的が置かれる標的室と、
前記標的室の上部に設けられ、前記標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系が備わる鏡体と、
ターボ分子ポンプを含む真空ポンプや真空配管等を備える真空排気系のやぐらと、
前記真空排気系内と前記鏡体内とを連通する吸引路と、
前記吸引路の途中に設けられた振動の伝達を断つ防振部とを有し、
前記防振部は、前記吸引路の真空排気系側が連通するように接続される中央基体と、この中央基体の一端に設けられ、かつ前記鏡体側に連通するように接続される可撓性通路部材と、この可撓性通路部材の反対側になる中央基体の他端に設ける収縮阻止用の可撓性部材と、前記真空排気系の吸引により、前記可撓性通路部材と、前記可撓性部材とが互いに引き合う方向に収縮するのを阻止する支杆を有することを特徴とする荷電粒子線装置の真空吸引径路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線を用いて回路パターン等を半導体ウェハ等に描画する電子線描画装置、および電子線を用いて物体の拡大像を得る電子顕微鏡、ならびにイオンビームを用いて物体の拡大像を得たり、また対象物の加工を行うイオンビーム装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空排気装置は、内部に電子線またはイオンビームの発生機構を備え、電磁レンズ等を用いて細く絞って標的に照射する電子線描画装置、電子顕微鏡等の荷電粒子線装置の設計上の要点の一つである。なお、電子線描画装置は、例えば、特開２０００−３５７４８４号公報（特許文献１）に示されている。
【０００３】
高エネルギーの電子線またはイオンビームが大気分子と衝突して運動エネルギーを失ったり軌道を曲げられたりしないよう、荷電粒子線装置本体の荷電粒子線が通過する部分は高真空に保たれなければならない。
【０００４】
このために必要な到達真空度の要請から、真空排気装置として、ターボ分子ポンプ、イオンポンプが主に用いられる。これらの真空ポンプは、Ｏリング、ガスケット等で気密を保った管（真空配管）で荷電粒子装置本体と接続され、稼動中の荷電粒子装置本体内を高真空に保つ。
【０００５】
ターボ分子ポンプはタービン状の羽根を回転させ空気の分子をはじき出す真空ポンプである。荷電粒子装置の真空装置としてターボ分子ポンプを採用した場合、イオンポンプに比べ排気速度が著しく高いため、装置を高真空領域まで排気するためにかかる時間が短くて済む。メンテナンス等で装置内を大気圧に戻した後などの復帰が早く、装置の稼働時間が長く取れるため、経済的である。ところが、ターボ分子ポンプは、タービンが機械的に回転する構造上、ポンプ作動時に振動が発生する弱点がある。ポンプで生じた振動は、荷電粒子線装置本体に伝わり、精度に悪影響を与える。
【０００６】
このため、ターボ分子ポンプを採用する荷電粒子線装置では、多く、ターボ分子ポンプを防振ゴム等の上に設置して振動を緩和する措置が取られている。この際、ターボ分子ポンプと荷電粒子線本体の間の真空配管は、ベローズ等の可動部分を持つフランジ等を用いて接続しなければならない。これは、通常の鋼管などの真空ダクトで接続した場合、ダクトを通じてポンプの振動が本体に伝わってしまうからである。
【０００７】
ところが、ベローズを用いたポンプ−本体真空排気系は、装置のまわりの大気圧の変動に対して影響を受ける弱点がある。通常、大気の圧力によって、ベローズ部を備える真空配管には、ベローズを収縮させる向きに力が働く。この力に抗してベローズを支えるため、ベローズの収縮を防ぐ支持棒等をベローズ周囲に設置する場合が多いが、荷電粒子線装置の場合、安易に支持棒を追加することができない。支持棒が新たな振動伝達路となり、ポンプの振動を本体に伝えてしまうからである。このため、ポンプと本体の間に働く力は、装置本体やポンプを固定するやぐらの剛性によって支えられることになる。通常、大気圧は１気圧（約１０１３ヘクトパスカル）で、断面積１００平方センチメートルのベローズの場合、約１０３キログラム重（約１０１３ニュートン）の力が、常時ベローズを収縮させる力として働いていることになる。
ここで、低気圧等の影響による、装置周囲の大気圧の変動を考える。大気圧は天候により、最大で１０パーセント程度変動するが、ベローズを収縮させる力は、この大気圧に比例するので、収縮力も１０パーセント程度変動する。上のベローズの場合、約１０キログラム重（約１０１ニュートン）の変動となる。もともとこの収縮力は、荷電粒子線装置本体やポンプを載せるやぐら等の剛性によって支えられているものだから、収縮力が変化することにより、荷電粒子線装置本体とやぐらの間に働いていた力が変動し、両者が変形を受けることになる。特に荷電粒子線装置本体は、荷電粒子ビームの光学系を形作る部分であるため、本体の変形が、荷電粒子ビームの軌道を変動させ、ビーム照射位置を悪化させてしまう。これは、装置の精度悪化の原因となる。
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−３５７４８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記の問題に鑑み、大気圧の変動が装置精度に影響せず、かつポンプの振動が荷電粒子装置本体に伝わらない真空排気系構造を備えた荷電粒子装置、および荷電粒子線装置の真空吸引径路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、標的に電子線またはイオンビームを照射する電子光学系を含む荷電粒子線装置本体と、荷電粒子線装置本体内を真空にする吸引ポンプが備わる真空排気系と、荷電粒子線装置本体と真空排気系を連通する吸引路と、吸引路に介在される防振部と、防振部に設けられる可撓性通路部材とを有する荷電粒子線装置または荷電粒子線装置の真空吸引径路において、真空排気系の吸引により、荷電粒子線装置本体と真空排気系が引き合う方向に可撓性通路部材が収縮するのを抑える収縮阻止手段を設けたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、真空ポンプの振動が遮断され、かつ大気圧変動によるビーム照射位置精度が悪化しない荷電粒子線装置、および荷電粒子線装置の真空吸引径路を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１は、本発明の実施形態を示すための公知例の一例として、荷電粒子線装置の一種である電子線描画装置の概略構成を表す縦断面図である。
【００１３】
図１において、電子線描画装置本体１、真空排気系２は、ベローズ１０８を有する真空吸引径路の吸引路で連通している。
【００１４】
電子線描画装置本体１は、電子線を生成、収束させる機能を持つ電子光学系を内置する鏡体１０２、標的室１０６を有する。鏡体１０２は、標的室１０６の上部に載置され、ボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。
【００１５】
鏡体１０２に内置される電子銃１０１によって生成された電子線１０５は、陽極との電位差によってエネルギー数十キロ電子ボルトに加速され、絞り１０３および電磁レンズ１０４によって成形、縮小投影され、標的１０７上に回路パターン等を描画する。
【００１６】
真空排気系２は、真空ポンプであるターボ分子ポンプ１１１を有する。鏡体１０２と真空排気系２を連通する真空吸引径路の吸引路には、真空ポンプのターボ分子ポンプ１１１より生じる振動を伝えない目的のベローズ１０８が介在するように備わる。
【００１７】
真空排気系２を支持するやぐら１１０は、真空配管１０９、ターボ分子ポンプ１１１、防振装置１１２を備えている。やぐら１１０の下方内部に備わる防振装置１１２は、ターボ分子ポンプ１１１を防振支持している。
【００１８】
鏡体１０２の真空は、ターボ分子ポンプ１１１、回転ポンプ１１３の吸引により真空度が高めるように維持される。
【００１９】
図３は、本発明と比較するための参考図で、電子線描画装置本体の鏡体３０１の一部と真空吸引径路を示す。
【００２０】
電子ビームは、矢印３０８で示すように鏡体３０１を通過する。真空ポンプ（図示せず）は、ダクト３０４を通じて真空排気を表す矢印３１４の先に設置されている。このダクト３０４を含む真空吸引径路の吸引路には、防振部が介在される。
【００２１】
防振部は、可撓性通路部材である柔軟なベローズ３０３、硬質のフランジ３０２，３０５、気密用のＯリング３１３を有する。
【００２２】
真空ポンプの吸引により、大気圧変動が起きると、電子線描画装置本体の鏡体３０１がダクト３０４の方向に押されるようにわずかに変形する。これは、真空と大気圧の差圧によりベローズ３０３が鏡体３０１と真空排気系２を引き合うように収縮し、その収縮力が鏡体３０１に作用するからである。
【００２３】
本発明は、その収縮力を生じないようにして、鏡体３０１の変形を抑えたものである。
【００２４】
図２に示す実施例について説明する。
【００２５】
電子線描画装置本体の鏡体２０１は、真空吸引径路の吸引路のダクト２０４を介して真空排気系の真空ポンプ側２１４に連通している。更に吸引路には防振部が設けられる。防振部は、可撓性通路部材である柔軟なベローズ２０３、硬質のフランジ２０２，２０５、気密用のＯリング２１３を有する。
【００２６】
防振部は、ボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って鏡体２０１とダクト２０４に締結される。鏡体２０１にはフランジ２０２が締結され、ダクト２０４にはフランジ２０５が締結される。
【００２７】
そして、鏡体２０１には、防振部を含む吸引路の反対側に収縮阻止器体（収縮阻止手段）が設けられる。この収縮阻止手段により、可撓性通路部材である柔軟なベローズ２０３の収縮を抑えることができる。
【００２８】
収縮阻止器体は、可撓性部材である柔軟なベローズ２１０、硬質のフランジ２０９，２１１、気密用のＯリング２１３、閉鎖用の蓋２１２を有する。
【００２９】
防振部は、ボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って鏡体２０１に締結される。鏡体２０１にはフランジ２０９が締結され、フランジ２１１には蓋２１２が締結される。
【００３０】
そして、鏡体２０１を貫いて防振部のフランジ２０５と、収縮阻止器体のフランジ２１１との間に突っ張るように支杆２０６が置かれる。支杆２０６の一端はフランジ２０５に、他端はフランジ２１１に螺合されるので、支杆２０６はフランジ２０５、２１１に脱落することなく、取り付けられる。
【００３１】
調整機構２０７は、支杆２０６の途中に設けられる。この調整機構２０７で、支杆２０６の長さが調整されるので、フランジ２０５、２１１に対する張り力を調整できる。
【００３２】
この支杆２０６、調整機構２０７、ダクト２０４およびフランジ２０５、２１１は、電子線描画装置本体の鏡体２０１には接触しておらず、ベローズ２０３，２１０の可動可能範囲で自由に動かすことができる。
【００３３】
真空ポンプの吸引により、大気圧の変動が起こっても、支杆２０６が防振部のフランジ２０５と収縮阻止器体のフランジ２１１との間に突っ張るように置かれているので、鏡体２０１と真空排気系が引き合う方向に可撓性通路部材のベローズ２０３の収縮が抑えられる。
【００３４】
すなわち、鏡体２０１内の気圧が真空になると、ベローズ２０３は鏡体２０１と真空排気系が引き合う方向に収縮するように作用する。同時に収縮阻止器体のベローズ２１０にも収縮する力が作用する。ベローズ２０３とベローズ２１０に作用する力は、強さが同じで向きが反対であるので、支杆２０６を介して打ち消し合い、ベローズ２０３の収縮が阻止される。このため、大気圧変動が電子線描画装置の描画精度に影響しない。
【００３５】
図５に示す他の実施例について説明する。
【００３６】
この実施例は、電子ビームの通過が支障なく良く行われるようにしたものである。
【００３７】
先の実施例（図２に示した実施例）では、支杆２０６が電子ビーム２０８の近くに存在するので、電子ビームの通過を損ねる恐れがあり、その問題を解決したものである。
【００３８】
図５に示すように、電子線描画装置本体の鏡体５０１は、真空吸引径路の吸引路のダクト５１４を介して真空排気系の真空ポンプ側５１４に連通している。更に吸引路には防振部が設けられる。
【００３９】
防振部は、可撓性通路部材である柔軟なベローズ５０３、硬質のフランジ５０２，５０５、気密用のＯリング５１３を有する。
【００４０】
防振部は、ボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って鏡体５０１とダクト５０４に締結される。鏡体５０１にはフランジ５０２が締結され、ダクト５１４にはフランジ２０５が締結される。
【００４１】
そして、鏡体５０１には、防振部を含む吸引路が位置するところから１２０°位置を移動したところに収縮阻止器体（収縮阻止手段）が設けられる。この収縮阻止器体は、防振部を含む吸引路を挟んで両側に設けられる。
【００４２】
この収縮阻止手段により、可撓性通路部材である柔軟なベローズ５１０の収縮を抑えることができる。
【００４３】
収縮阻止器体は、可撓性部材である柔軟なベローズ５１０、硬質のフランジ５０９，５１１、気密用のＯリング５１３、閉鎖用の蓋５１２を有する。
【００４４】
防振部は、ボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って鏡体５０１に締結される。鏡体５０１にはフランジ５０９が締結され、フランジ５１１には蓋５１２が締結される。
【００４５】
そして、鏡体５０１を貫いて防振部のフランジ５０５と、収縮阻止器体のフランジ５１１との間に突っ張るように支杆５０６が置かれる。支杆５０６の一端はフランジ５０５に、他端はフランジ５１１に螺合されるので、支杆５０６はフランジ５０５、５１１に脱落することなく、取り付けられる。
【００４６】
また、支杆５０６は、両収縮阻止器体の間にも設けられる。防振部と両収縮阻止器体には、それぞれが二本の支杆５０６が突っ張るように設けられる。このため、３本の支杆５０６は、電子ビーム５０８が通過する鏡体５０１の中心から離れた位置に存在する。これにより、電子ビーム５０８の通過が支杆５０６で妨げられることがなく、描画は損なわれずに行われる。
【００４７】
調整機構５０７は、支杆５０６の途中に設けられる。一つの支杆５０６に二つの調整機構５０７を設けることにより、支杆５０６を曲げることなく、直線の支杆２０６を用いることができるので、製作がし易い。
【００４８】
図４に示す他の実施例について説明する。
【００４９】
この実施例は、鏡体を貫くことなく、短い支杆が使用できるものである。
【００５０】
図２、図５に示す先の実施例では、支杆が鏡体内を貫通するので、構成が複雑、かつ組立て性が良くなく、しかも長い支杆を必要とする不具合があり、その問題を解決したものである。
【００５１】
図４に示すように、電子線描画装置本体の鏡体４０１は、真空吸引径路の吸引路のダクト４１５、４１６を介して真空排気系の真空ポンプ側４１４に連通している。更に吸引路には防振部が設けられる。吸引路の途中には、真空ポンプの振動の伝達を断つ防振部が設けられる。
【００５２】
防振部は、吸引路の真空排気系側が連通するように接続される中央基体４０４と、この中央基体４０４の一端に設けられ、かつ鏡体４０１側に連通するように接続される可撓性通路部材のベローズ４０３と、このベローズ４０３の反対側になる中央基体４０４の他端に設ける収縮阻止用の可撓性部材のベローズ４１０を有する。
【００５３】
また、中央基体４０４の中央には、連通するダクト４１６が一体に形成される。ダクト４１６は、ベローズ４０３，４１０の取り付け方向とは交差する向きに設けられる。
【００５４】
可撓性通路部材のベローズ４０３は、両端側に硬質のフランジ４０２，４０５、気密用のＯリング４１３を有する。
【００５５】
可撓性部材のベローズ４１０は、両端側に硬質のフランジ４０９，４１１、気密用のＯリング４１３を有する。
【００５６】
可撓性通路部材のベローズ４０３のフランジ４０５は、中央基体４０４にボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。ベローズ４０３の別のフランジ４０５は、鏡体４０１側に設けられるダクト４１５にボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。ダクト４１５の反対側は、鏡体４０１にボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。
【００５７】
可撓性部材のベローズ４１０のフランジ４０９は、中央基体４０４にボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。ベローズ４１０の別のフランジ４１１には、閉鎖用の蓋４１２がボルトを含む連結手段で堅牢に、かつ気密を保って締結される。
【００５８】
支杆４０６は、可撓性通路部材のベローズ４０３のフランジ４０２と、可撓性部材のベローズ４１０のフランジ４１１との間に突っ張るように置かれる。
【００５９】
このような構成を有する防振部は、支杆４０６を鏡体４０１内に貫通させないので、図２、図５に示す実施例に比べ、支杆４０６の長さを短くできる。また、鏡体４０１内に支杆４０６を貫通させないので、構成が簡単で組み立て易い。
【００６０】
また、鏡体４０１内に支杆４０６を貫通させないので、鏡体４０１内を通過する電子ビーム４０８の妨げにならない。
【００６１】
上記の本実施例によれば、電子線描画装置などの電子線またはイオンビーム装置において、高速のターボ分子ポンプを排気装置として用いつつ、荷電粒子装置本体に振動を伝えず、また大気圧変動による精度の悪化のない、安価で高精度な荷電粒子装置を提供することができる。
【００６２】
図６は、図４に対応する他の実施例で、収縮阻止手段の支杆６０６を中央基体６０４の外側に離して配置した構成を有する。この実施例は、支杆６０６が外側であるので、取り付けの面では有利である。
【００６３】
なお、鏡体６０１、真空吸引径路の吸引路のダクト６１５，６１６、真空排気系の真空ポンプ側６１４、鏡体６０１、可撓性通路部材のベローズ６０３、可撓性部材のベローズ６１０、フランジ６０２，６０５、Ｏリング６１３は、図４の実施例と共通である。また、フランジ６０９，６１１、電子ビーム６０８、閉鎖用の蓋６１２も図４の実施例と共通である。
【００６４】
図７は、図２に対応する他の実施例で、収縮阻止手段の支杆７０６を鏡体７０２の外側に離して配置した構成を有する。この実施例は、支杆７０６が外側であるので、取り付けんの面では有利である。支杆７０６は湾曲しているので、強度を上げる必要がある。
【００６５】
なお、ダクト７０４、真空ポンプ側７１４、ベローズ７０３、フランジ７０２，７０５、Ｏリング７１３、ベローズ７１０、フランジ７０９，７１１、蓋７１２、調整機構７０７は、図２の実施例と共通である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施例に係わるもので、電子線描画装置の概要を示す縦断面図である。
【図２】本発明の実施例に係わるもので、要部拡大断面図である。
【図３】本発明と比較する参考図である。
【図４】本発明の他の実施例に係わるもので、要部拡大断面図である。
【図５】本発明の他の実施例に係わるもので、要部拡大断面図である。
【図６】本発明の他の実施例に係わるもので、図４に示す支杆を中央基体の外側に移した要部拡大断面図である。
【図７】本発明の他の実施例に係わるもので、図２に示す支杆を鏡体の外側に移した要部拡大断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０７…標的、２０８…電子ビーム（電子線）、１…電子光学系を含む荷電粒子線装置本体、１１１…ターボ分子ポンプ（吸引ポンプ）、２０４…ダクト（吸引路）、２０３…ベローズ（防振部．可撓性通路部材）、２０６…支杆（収縮阻止手段）、２１０…ベローズ（収縮阻止手段）。
【図１】
2007165232.tif 000003
【図２】
2007165232.tif 000004
【図３】
2007165232.tif 000005
【図４】
2007165232.tif 000006
【図５】
2007165232.tif 000007
【図６】
2007165232.tif 000008
【図７】
2007165232.tif 000009