【事件の表示】
　平成　４年特許願第３１２６４０号「磁気記録媒体」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　５月２０日出願公開、特開平　６−１３９５６０］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成４年１０月２９日の出願であって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成５年１月８日付け、平成１３年９月３日付けの手続補正で補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　【請求項１】「非磁性基体の表面に強磁性金属膜を形成した磁気記録媒体において、前記強磁性金属膜の表面に水素ガスによるプラズマ処理を施し、その上に炭素が６０〜７０ａｔ％と水素が３０〜４０ａｔ％の組成を有するダイヤモンド状保護膜を形成し、その上に更に脂肪酸、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリエーテル、高級アルコール、及び脂肪酸アミドより選択した潤滑層を設けたことを特徴とする、磁気記録媒体。」
　
ＩＩ．引用例
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前の刊行物である、特開昭６４−２１７１８号公報（以下、「引用例１」という。）、及び特開昭６２−４２３１８号公報（以下、「引用例２」という。）には、それぞれ次のように記載されている。
　引用例１（特開昭６４−２１７１８号公報）には、
　（1-i）「非浮上型の磁気記録装置に用いられる硬質の基体を用いた磁気記録媒体において、該磁気記録媒体の表面を水素対炭素のモル比が３０：７０以上の水素を架橋させた炭素質プラズマ重合体で被覆し、水に対する接触角を６５°以上にしたことを特徴とする磁気記録媒体。」（特許請求の範囲参照）、
　（1-ii）「基体の表面あるいは基体上の硬化膜の表面に磁性層を形成する。磁性層はＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｐｔ等のＣｏ合金による連続薄膜が望ましい。これらの磁性層はスパッタリング法またはめっき法で形成する。」（第２頁右上欄１５〜１９行参照）こと、
　（1-iii）「つぎに磁性層の表面を炭素質プラズマ重合体で被覆する。プラズマ重合時の反応ガスは、ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ２Ｈ４、Ｃ２Ｈ２等の炭化水素ガスのうち少なくとも一種のガスを用いる。　また、これらのガスを単独で用いてもよいが、Ｈ２、Ｎ２またはＡｒの少なくとも１種のガスと混合して用いてもよい。　ここで重要な点は炭素質プラズマ重合体は水素対炭素のモル比が３０：７０以上の水素を架橋させたものであり、水に対する接触が６５°以上でなければならないことである。水素対炭素のモル比が３０：７０未満では耐摩耗性が悪く、水に対する接触角が６５°未満では耐食性が劣る。　プラズマ重合体の水素のモル比および水に対する接触角はプラズマ重合時の印加電圧および炭化水素ガスの割合により調節することができる。一般には、印加電圧の絶対値を高くするとプラズマ重合体の水素のモル比が低下し、また、炭化水素ガスの割合を低くすると水に対する接触角が低下する傾向がある。」（第２頁右上欄１９行〜同頁左下欄１７行参照）こと、
　（1-iv）「プラズマ重合体の水素のモル比の測定および前記接触角の測定はそれぞれ通常の元素分析法および液滴測定法で行なうことができる。なお、プラズマ重合体の被覆の上にフッ素樹脂系の潤滑剤を薄く塗布してもよい。」（第２頁左下欄１８行〜同頁右下欄２行参照）こと、
　（1-v）実施例として、ポリカーボネート樹脂製の円筒状基体乃至はポリエーテルイミド樹脂製の円盤状基体に、Ｃｏ−Ｐｔ磁性層を形成し、その上に表に示すガスを導入してプラズマ重合体の被覆膜を形成した旨、炭素質プラズマ重合体中の水素と炭素のモル比はＣＨＮ分析装置で測定し、耐摩耗性の試験は荷重１ｇで摺動面積５０μｍ×５０μｍの非浮上型の磁気ヘッドを用い、磁気記録媒体を３６００ｒｐｍで回転させ、再生出力が試験開始時の８０％になるまでの時間を評価し、測定時間は１００時間までとし、さらに磁気記録媒体を温度６０℃、相対湿度９０％の環境に９６時間放置した後にも耐摩耗性試験を行い、また、前記９６時間放置後の媒体表面を１００倍の顕微鏡でくまなく観察し腐食発生の有無を調べ、これらの結果は表に示すとおりである旨、
（第２頁右下欄３行〜第４頁の表参照）、
　（1-vi）「［発明の効果］　本発明の磁気記録媒体はとくに耐摩耗性および耐食性に優れており、非浮上型の磁気記録装置用媒体として適している。」（第４頁左下欄１〜４行参照）こと、が記載されている。
　
　これらの記載から、引用例１には、耐摩耗生よび耐食性に優れた、「ポリカーボネート樹脂製やポリエーテルイミド樹脂製の基体の表面にＣｏ合金磁性層を形成した磁気記録媒体において、前記磁性層の表面に水素対炭素のモル比が３０：７０以上の水素を架橋させた炭素質プラズマ重合体を形成し、その上に更にフッ素樹脂系の潤滑剤を薄く塗布したことを特徴とする、磁気記録媒体。」の発明が記載されているものと認められる。
　
　引用例２（特開昭６２−４２３１８号公報）には、
　（2-i）「基体上に、水素を含む無機ガスで表面をプラズマ処理した連続薄膜型の磁性層を有し、この磁性層上にＣとＨとを含有するプラズマ重合膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。」（特許請求の範囲参照）、
　（2-ii）「II　発明の目的　本発明の目的は、耐食性、耐薬品性および走行耐久性にすぐれた磁気記録媒体を提供することにある。」（第２頁左上欄４〜７行参照）こと、
　（2-iii）「このような磁性層上には、プラズマ処理が施される。　プラズマ処理法は、処理ガスとした無機ガスを用い、このガスの放電プラズマを被処理体に接触させることにより被処理体表面をプラズマ処理するものである。　原理について概説すると、・・・（中略）・・・。　このように、電子の運動エネルギー（電子温度）と、分子の熱運動（ガス温度）が分離した系は低温プラズマと呼ばれ、ここでは化学種が比較的原型を保ったまま重合等の加成的化学反応を進めうる状況を創出しており、本発明はこの状況を利用して基体上に設けられた磁性層の表面をプラズマ処理しようとするものである。　なお、低温プラズマを利用するため、基体および磁性層への熱影響は全くない。」（第３頁左上欄１２行〜同頁左下欄２行参照）こと、
　（2-iv）「このようなプラズマ処理において、本発明では、処理ガスとして、水素Ｈを含む無機ガスを用いる。　これらの無機ガスは、水素を含む還元性ないし非酸化性ガス、例えばＨ２，ＮＨ３，等の中から適宜選定すればよい。　また、これらの２種以上を適宜選定し、混合したものを用いてもよい。　これらの１種もしくは２種以上のガスに加えてさらにＮ２，Ａｒ，Ｎｅ，Ｈｅなどの不活性ないし非酸化性ガスを加えてもよい。　なお、印加電流、周波数、処理時間等は通常の条件とすればよい。」（第４頁左上欄１〜１２行参照）こと、
　（2-v）「このようにプラズマ処理を施された磁性層表面にはさらにＣとＨとを含有するプラズマ重合膜が形成される。　このようなプラズマ重合膜を形成させるのに用いる原料としては、通常操作性の良いことから、常温で気体のメタン、エタン、・・・（中略）・・・を用いるが、・・・。　・・・（中略）・・・。　このように形成されたプラズマ重合膜の膜厚は５〜１００Å、より好ましくは１０〜４０Åである。　このような膜厚の制御は、プラズマ重合膜形成時の反応時間、原料ガス流量等を制御すればよい。　プラズマ重合膜は、前述の原料ガスの放電プラズマを基板に接触させることにより重合膜を形成するものである。　プラズマ重合の原理方法および形成条件等は前述したプラズマ処理のそれと基本的にはほぼ同一である。　ただし、プラズマ処理は原則として、無機ガスを処理ガスとして用いるために膜面に埋積するものはなく、２次元的処理となる。　他方、プラズマ重合は、原則として、有機ガス（場合によっては無機ガスを混入させてもよい）を原料ガスとして用いるために、解離したガスと基板との化学反応および再結合がおこり、プラズマ重合膜が形成され、３次元的処理といえる点で両者は異なる。」（第４頁左上欄１３〜同頁左下欄６行参照）こと、
　（2-vi）「このように成形されるプラズマ重合膜は、前述したように、ＣとＨとを含有しており、この場合、Ｈ／Ｃ（原子比）は、１〜４程度である。」（第４頁左下欄７〜１０行参照）こと、
　（2-vii）「このようなプラズマ重合膜の上にはさらに公知の種々のトップコート層を設けることもできる。」（第４頁右下欄４〜６行参照）こと、
　（2-viii）「本発明によれば、磁性層表面に所定のプラズマ処理を行ない、さらにその表面上にＣとＨとを含有するプラズマ重合膜を形成するために、被着強度が強く、酸素遮断性、耐薬品性に優れ、しかも安定した走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供することができる。」（第５頁左上欄５〜９行参照）こと、
　（2-ix）実施例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にＣｏ−Ｎｉ合金の斜め蒸着を行い磁性層を形成し、次いで、上記の磁性層上に、Ｈ２を処理ガスとしてプラズマ処理を行ない、更にプラズマ重合膜を形成した旨、表１に示すように重合モノマーを変えて各サンプルを得、比較のために、プラズマ処理およびプラズマ重合膜を形成しないもの、プラズマ処理を施さないもの、プラズマ重合モノマーとしてフッ化炭素Ｃ２Ｆ４としたもの、プラズマ処理ガスをＯ２としたものを作製した旨、そして、耐食性、走行耐久性、スチル特性、耐薬品性、Ｒ法試験（ロータリー研磨機にテープを接触させて磁性層がなくなるまでの時間）を行い、その結果を表１に示した旨、
（第５頁左上欄下から６行目〜第６頁下欄末行参照）が記載されている。
　
ＩＩＩ．対比、判断
　そこで、本願発明と引用例１記載の発明とを対比する。
　（ａ）引用例１記載の発明の「ポリカーボネート樹脂製やポリエーテルイミド樹脂製の基体」と「Ｃｏ合金磁性層」は、それぞれ本願発明の「非磁性基体」と「強磁性金属膜」（本願発明の実施例でＣｏ−Ｎｉを使用）に相当することは明らかである。
　（ｂ）本願発明の「ダイヤモンド状保護膜」は、メタンなどのプラズマ重合により製造している（本願明細書段落【０００５】、実施例の説明の【００１０】など参照）ことからみて、炭素質プラズマ重合体（膜）の保護膜に相当する。
　（ｃ）引用例１記載の発明における炭素質プラズマ重合体は、保護膜として設けられていることが明らかであり、その組成に関しては、「水素対炭素のモル比が３０：７０以上の水素」と記載されているところ、その測定が元素分析法（ＣＨＮ分析装置）によること及び実施例の表中に「（Ｈ／Ｃ）」と記載され、実施例１〜４としてＨ／Ｃが、４０／６０，３２／６８，３８／６２，４０／６０の数値が記載されていることから、炭素が６０〜６８ａｔ％で水素が４０〜３２ａｔ％の組成を有する炭素質プラズマ重合体の保護膜と認められる。
　なお、この点に関しては、審判請求理由（平成１４年１１月２８日付け手続補正書第３頁１７〜１９行、５頁５〜７行など）において、「引用文献２は、・・・・開示している。組成範囲は原審査官が認定したとおり本願発明との範囲と同様であるものと認められる。」や「引用文献２の低水素含有率（３０〜４０ａｔ％）のダイヤモンド状保護膜と・・・。」（注：引用文献２は引用例１に相当する。）などと、請求人自からが前記判断を妥当と認めている。
　（ｄ）　上記（ｂ）と（ｃ）の認定を勘案すると、引用例１記載の発明の「水素対炭素のモル比が３０：７０以上の水素を架橋させた炭素質プラズマ重合体」と、本願発明の「炭素が６０〜７０ａｔ％と水素が３０〜４０ａｔ％の組成を有するダイヤモンド状保護膜」とは、いずれも「炭素が６０〜６８ａｔ％と水素が３２〜４０ａｔ％の組成を有する炭素質プラズマ重合体の保護膜」といえる点で一致している。
　
　そうであるから、両発明は、「非磁性基体の表面に強磁性金属膜を形成した磁気記録媒体において、前記強磁性金属膜の上部に炭素が６０〜６８ａｔ％と水素が３２〜４０ａｔ％の組成を有する炭素質プラズマ重合体保護膜を形成し、その上に更に潤滑層を設けたことを特徴とする、磁気記録媒体。」の発明である点で一致し、他方、次の（１）〜（３）の点で一応相違している。
　（１）保護膜の形成に際して、本願発明では、保護膜を形成する前に「強磁性金属膜の表面に水素ガスによるプラズマ処理を施し」としているのに対して、引用例１記載の発明では、そのような前処理が行われていない点。
　（２）保護膜に関して、本願発明では、「ダイヤモンド状保護膜」としているのに対して、引用例１記載の発明ではそのことに言及していない点
　（３）潤滑層に関して、本願発明では、「脂肪酸、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリエーテル、高級アルコール、及び脂肪酸アミドより選択した」とされているのに対して、引用例１記載の発明では、単に「フッ素樹脂系」としている点。
　
　（１）の点について
　引用例２には、「磁性層表面に所定のプラズマ処理を行ない、さらにその表面上にＣとＨとを有するプラズマ重合膜を形成するために、被着強度が強く、酸素遮断性、耐薬品性に優れ、しかも安定した走行耐久性を有する磁気記録媒体を提供する。」（摘示（2-viii）参照）と説明され、水素プラズマ処理のある実施例が水素プラズマ処理のない比較例に比べてスチル特性、走行耐久性、耐食性、耐研磨性（Ｒ法）などが改善されていることが明白に読みとれる実例（摘示（（2-ix））の表１参照）が示されている。　即ち、引用例２は、磁気記録媒体の耐久性を改善することを課題とし磁性層に設ける保護層に工夫を設けようとする点で引用例１並びに本願発明と軌を一にしているのであるから、引用例２の水素プラズマ処理を前処理として行ない被着強度を強くする工夫を引用例１記載の発明において採用してみる程度のことは、当業者が容易に想い到る程度のことと認められる。　そして、その採用によって格別予想外の作用効果を奏しているとは、本願明細書を検討しても認められない。　即ち、本願明細書の実施例及び比較例を検討しても、保護膜の水素原子の量を変化させて硬度やスチル特性などを評価しているだけであり、「水素ガスによるプラズマ処理を施」すことにより、どの程度の作用効果が奏しているのか何ら示されていない。　効果として、本願明細書（段落【００１８】）に「水素プラズマ処理により、還元雰囲気となり活性化された基体上に製膜されたダイヤモンド状保護膜は密着性が増し、耐久摩擦、スチル特性が著しく向上する。」と記載されているものの、何らの裏付けも示されていないのである。　まして、引用例２には、引用例１とは実施例レベルで組成割合の違いがあるとしてもＣとＨとを含有するプラズマ重合膜形成の点で相違が無く、そのプラズマ重合膜形成の前処理として水素プラズマ処理を行うことにより、「被着強度が強く、・・・安定した走行耐久性を有する」と説明され、スチル特性が向上している実施例、比較例が示されているのであるから、引用例２のその工夫を引用例１記載の発明に適用すれば、同様に被着強度や耐久性、スチル特性などの向上は期待される程度のことというしかない。
　
　これに対して、請求人は、審判請求理由において、引用例２記載の発明においては、ＣとＨとを有するプラズマ重合膜に関して、Ｈ／Ｃ（原子比）１〜４と記載されていて、本願発明の「炭素が６０〜７０ａｔ％と水素が３０〜４０ａｔ％の組成」とは全く異なるものであるから、組合せはできない旨主張している。　なるほど、引用例２にはＨ／Ｃ（原子比）１〜４程度との記載があり、更に実施例ではその範囲の例がしめされているにすぎない。
　しかしながら、引用例２には、その範囲を外れる例が示されているわけではない（比較例にも無い）し、その範囲を外れた場合に支障があるとの積極的に否定する記載もない。　そうであるから、その程度の記載があったところで、引用例２の水素プラズマ処理を前処理として行なう工夫を引用例１記載の発明において採用することの阻害要因とはなり得ないと解するのが相当であり、前記請求人の主張は採用できない。
　
　（２）の点について
　引用例１記載の発明の「架橋させた炭素質プラズマ重合体」保護膜は、組成の水素と炭素の割合が本願発明の「ダイヤモンド状保護膜」と同一で、メタンを原料とする点でも同じでありかつ本願発明で説明するように架橋させているのであるから、（２）の点は表現上の相違があるだけで、実質的な相違があるとは認められない。
　なお、この点に関しては、審判請求理由（平成１４年１１月２８日付け手続補正書第５頁５〜７行など）において、「引用文献２（注：引用例１）の低水素含有率（３０〜４０ａｔ％）のダイヤモンド状保護膜と・・・。」と、請求人自らがダイヤモンド状保護膜であると認めている。
　
　（３）の点について
　フッ素樹脂系の潤滑剤として、本願発明で列挙する「パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリエーテル」などが周知のものであるから、引用例１記載の発明においてフッ素樹脂系の潤滑剤の具体例が例示されていないからと云って実質的な相違があると言えない。
　
　よって、本願発明は、周知技術を勘案して引用例１と引用例２記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得る。
　
ＩＶ．むすび
　したがって、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。