(57)【要約】【課題】蒸着装置において、真空室内の壁面に付着した付着物の剥離を低減すると共に蒸着膜の指向性を向上させる。【解決手段】蒸着装置１０は、基板２１０にターゲット１１０から蒸発される蒸発物質１１０を蒸着させる電子ビーム系１２０と、ターゲット１１０及び基板２１０を設置するための空間１０１を規定すると共に空間１０１を真空に維持することが可能なチャンバ１００を備える。更に、チャンバ１００の側壁面１００ａの一部に設けられ、側壁面１００ａの法線方向よりもターゲット１１０に向かう方向に向かって夫々突出した複数の庇部１５０を備える。【選択図】図１
2007297704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、
前記蒸着源及び前記基板を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、
前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面の法線方向よりも前記蒸着源に向かう方向に向かって夫々突出した複数の突出部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段と
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、
前記複数の突出部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿った複数列として配列される
ことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、
前記複数の突出部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿って延びるように夫々形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記側壁面は、前記底面に隣接することを特徴とする請求項２又は３に記載の蒸着装置。
【請求項５】
基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、
前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、
前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面の法線方向よりも前記蒸着源に向かう方向に沿って前記蒸着源に対して夫々窪んだ複数の凹部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段と
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項６】
前記複数の凹部の各々の内表面によって規定される空間は、前記蒸着源に向かう方向に沿って延びる形状を有することを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、
前記複数の凹部は、前記真空槽の側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿った複数列として配列される
ことを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、
前記複数の凹部は、前記真空槽の側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿って延びるように夫々形成される
ことを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項９】
前記側壁面は、前記底面に隣接することを特徴とする請求項７又は８に記載の蒸着装置。
【請求項１０】
基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、
前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、
前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面に対して網目状の凹凸部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段と
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項１１】
基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、
前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、
前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面に対して格子状の凸部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段と
を備えたことを特徴とする蒸着装置。
【請求項１２】
前記蒸発物質付着手段は、少なくとも部分的に前記壁面から所定間隔を隔てて配置されることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の蒸着装置。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の蒸着装置によって前記基板上に前記蒸発物質を蒸着させることにより蒸着膜を形成する蒸着膜形成工程を含むことを特徴とする蒸着方法。
【請求項１４】
無機材料を前記蒸着源とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の蒸着装置によって前記基板上に電気光学装置用の無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、
前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、
前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面から夫々突出した複数の突出部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段と
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【請求項１６】
基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、
前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、
前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面から夫々窪んだ複数の凹部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段と
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【請求項１７】
基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、
前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、
前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面に対して網目状の凹凸部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段と
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【請求項１８】
基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、
前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、
前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面に対して格子状の凸部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段と
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置に係る無機配向膜を斜方蒸着するのに好適に用いられる、蒸着装置、蒸着方法、及び該蒸着装置を用いた電気光学装置の製造方法、並びに成膜装置の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の蒸着装置において、蒸着源からの蒸発物質が真空室内の壁面に付着した後、壁面から付着物が剥離することによって真空室内が汚染されてしまうことを防止するために真空室内の壁面等に防着板が設けられることがある。例えば、特許文献１では、防着板にヒーターを取り付けることにより、防着板に付着する蒸発物の付着量を減少させて、付着物が剥離するのを防止する技術が開示されている。また、例えば、特許文献２では、開口部を有すると共に冷却可能な遮蔽体を、蒸着源と成膜対象である基板との間に設けることにより、蒸発物質が飛行する方向を制御する技術が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１９２８１６号公報
【特許文献２】特開平６−１８１１７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した技術では、真空室内の壁面に設けられた防着板に付着した付着物の剥離を十分に低減させることが困難であるという技術的問題点がある。また、真空室内の壁面或いは防着板から反跳する蒸発物質によって、成膜される蒸着膜の指向性が低下してしまうおそれがあるという技術的問題点もある。
【０００５】
本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、真空室内の壁面に付着した付着物の剥離を低減できると共に蒸着膜の指向性を向上させることができる蒸着装置、蒸着方法、及び該蒸着装置を用いた電気光学装置の製造方法、並びに成膜装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る第１の蒸着装置は上記課題を解決するために、基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、前記蒸着源及び前記基板を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面の法線方向よりも前記蒸着源に向かう方向に向かって夫々突出した複数の突出部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段とを備える。
【０００７】
本発明に係る第１の蒸着装置によれば、真空槽に設けられた蒸着手段によって、基板に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が蒸着される。ここに、本発明に係る「真空槽」とは、蒸着源（或いは、ターゲットとも称される）及び被蒸着対象となる基板を設置するための空間を規定すると共に、この空間を真空に維持することが可能に構成された、チャンバなどの箱体を表す概念であり、係る概念が担保される限りにおいて、その形状及び材質などは何ら限定されない。但し、構成材料としては、機械的、物理的及び化学的な安定性に鑑みて金属材料、鉄鋼材料、ガラス材料、陶器又は陶磁器材料などが使用されて好適である。「真空」とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされている空間の状態を包括する概念であり、好適には、蒸発物質が基板上に蒸着される際の膜質に大気雰囲気中に含まれる酸素や窒素などの不純物が影響しない程度に大気圧から減圧された空間の状態を指す。「真空に維持する」とは、例えば、ロータリーポンプ、メカニカルブースターポンプ、油拡散ポンプ又はターボ分子ポンプ等を含む排気系によって真空槽から排気される気体の量と、真空槽における気体の漏れ量（即ち、リーク量）とが相殺する結果として、一定或いは一定とみなし得る程度に安定した真空度に到達している状態を含む概念である。本発明に係る「蒸着手段」としては、例えば抵抗加熱蒸着法、電磁加熱蒸着法等を用いることができる。本発明に係る「蒸着源」とは、加熱することによって蒸発させることが可能な物質を包括する概念であり、係る概念が担保される限りにおいて、その材質、形状及びその他の物理特性は何ら限定されない。例えば、蒸着源は、ＳｉＯやＳｉＯ２などの無機材料であってもよい。また、液晶装置などの電気光学装置における無機配向膜材料として使用可能な無機材料であってもよい。
【０００８】
本発明では特に、真空槽の壁面の少なくとも一部に、該壁面の法線方向よりも蒸着源に向かう方向に向かって突出した複数の突出部を有する蒸発物質付着手段を備える。即ち、例えば、真空槽における下方側に蒸着源が設置されると共に上方側に基板が設置される場合において、真空槽の側壁面における蒸着源より上方側には、蒸着源に向かう方向（即ち、斜め下方向）に夫々突出した複数の突出部が設けられる。複数の突出部はそれぞれ、例えば、数ｍｍ程度の幅及び厚みで、蒸着源に向かう方向に数ｍｍ程度だけ庇状に突出しており、真空槽の壁面において例えば格子状、縞状等に配列される。尚、複数の突出部は、真空槽の壁面に備えられた、蒸発物質を付着させるための防着板に設けてもよい。即ち、本発明に係る「蒸着物質付着手段」は、このような複数の突出部が設けられた防着板を含む趣旨である。
【０００９】
このような蒸発物質付着手段によって、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面に付着物として付着する際の、該壁面における付着物を保持する保持量（即ち、該壁面における蒸発物質を付着可能な付着可能量）を大きくすることができる、言い換えれば、該壁面における付着物を保持する保持時間を長くすることができる。よって、蒸着手段による蒸着時に、真空槽の壁面に付着した蒸発物質の量が多くなり、壁面において保持することができなくなってしまい、壁面から付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、真空槽内において、壁面から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、基板上に蒸着される蒸着膜の膜質を向上させることが可能となる。
【００１０】
更に、蒸発物質付着手段によって、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面において付着可能な付着可能量が大きくなっている（即ち、蒸発物質をトラップするトラップ効率が高められている）ので、真空槽の壁面における蒸発物質の跳ね返り（即ち、反跳）を低減或いは防止できる。よって、蒸発物質が、真空槽の壁面において反跳して、基板へ向かうことを低減或いは防止できる。即ち、所定の方向とは異なる蒸発物質が、基板へ向かうことを低減或いは防止できる。従って、基板上に蒸着される、例えば所定のプレティルト角が付与された無機配向膜等の蒸着膜の指向性を高めることができる。即ち、基板面の全域或いは比較的広範囲に殆ど或いは完全に均一な蒸着膜を形成することができる。
【００１１】
以上説明したように、本発明の第１の蒸着装置によれば、蒸着源に向かう方向に沿って突出した複数の突出部を有する蒸着物質付着手段によって、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面において付着可能な付着可能量が大きくなっているので、真空槽内において、壁面から剥がれ落ちる付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。更に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を高めることができる。
【００１２】
本発明に係る第１の蒸着装置の一態様では、前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、前記複数の突出部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿った複数列として配列される。
【００１３】
この態様によれば、複数の突出部は、真空槽の側壁面において、底面の法線方向に交わる方向に沿って所定間隔で配列されており、例えば縞状に複数列をなしている。よって、例えば、複数の突出部の各々の大きさを小さく或いは配列間隔を狭くして、側壁面において複数の突出部を多く形成することにより、複数の突出部の総表面積を大きくすることができる。従って、複数の突出部に蒸発物質をより多く付着させることができる。
【００１４】
本発明に係る第１の蒸着装置の他の態様では、前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、前記複数の突出部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿って延びるように夫々形成される。
【００１５】
この態様によれば、複数の突出部は、側壁面において、底面の法線方向に交わる方向に沿って延びるように、典型的には、側壁面における、底面と交わる一辺からこれと対向する他辺まで延びるように夫々形成される。即ち、側壁面において、底面に沿って延びるように形成された、例えば庇状の突出部が、底面に交わる方向に複数配列される。よって、底面に配置された蒸着源から、底面に交わる方向に飛行する蒸発物質を殆ど確実に付着させることができる。
【００１６】
上述した複数の突出部が側壁面に形成される態様では、前記側壁面は、前記底面に隣接していてもよい。
【００１７】
この場合には、蒸着源の比較的に近くに複数の突出部が形成されるので、複数の突出部に蒸発物質をより多く付着させることができる。
【００１８】
本発明に係る第２の蒸着装置は上記課題を解決するために、基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面の法線方向よりも前記蒸着源に向かう方向に沿って前記蒸着源に対して夫々窪んだ複数の凹部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段とを備える。
【００１９】
本発明に係る第２の蒸着装置によれば、上述した本発明に係る第１の蒸着装置と同様に、真空槽において、基板に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が蒸着される。
【００２０】
本発明では特に、真空槽の壁面の少なくとも一部に、該壁面の法線方向よりも蒸着源に向かう方向に沿って前記蒸着源に対して夫々窪んだ複数の凹部を有する蒸発物質付着手段を備える。即ち、例えば、真空槽における下方側に蒸着源が設置されると共に上方側に基板が設置される場合において、真空槽の側壁面における蒸着源より上方側には、蒸着源に向かう方向（即ち、斜め下方向）に沿って蒸着源に対して夫々窪んだ複数の凹部が設けられる。複数の凹部はそれぞれ、例えば、数ｍｍ程度の幅及び厚みで、蒸着源に向かう方向に沿って蒸着源に対して数ｍｍ程度だけ窪んでおり、真空槽の壁面において例えば格子状、縞状等に配列される。尚、複数の凹部は、真空槽の壁面に備えられた、蒸発物質を付着させるための防着板に設けてもよい。即ち、本発明に係る「蒸着物質付着手段」は、このような複数の凹部が設けられた防着板を含む趣旨である。
【００２１】
本発明の第２の蒸着装置によれば、蒸着源に向かう方向に沿って蒸着源に対して窪んだ複数の凹部を有する蒸着物質付着手段によって、上述した本発明の第１の蒸着装置と同様に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面において付着可能な付着可能量を大きくすることができる。よって、真空槽内において、壁面から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。更に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を高めることができる。
【００２２】
本発明に係る第２の蒸着装置の一態様では、前記複数の凹部の各々の内表面によって規定される空間は、前記蒸着源に向かう方向に沿って延びる形状を有する。
【００２３】
この態様によれば、複数の凹部の内部に蒸発物質が入り込みやすく、複数の凹部の内表面に蒸発物質をより多く付着させることができる。
【００２４】
本発明に係る第２の蒸着装置の他の態様では、前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、前記複数の凹部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面に沿う方向に沿った複数列として配列される。
【００２５】
この態様によれば、複数の凹部は、真空槽の側壁面において、底面に沿って所定間隔で配列されており、例えば縞状に複数列をなしている。よって、例えば、複数の凹部の各々の大きさを小さく或いは配列間隔を狭くして、側壁面において複数の凹部を多く形成することにより、複数の凹部の総表面積を大きくすることができる。従って、複数の凹部に蒸発物質をより多く付着させることができる。
【００２６】
本発明に係る第２の蒸着装置の他の態様では、前記蒸着源は、前記真空槽の底面に配置され、前記複数の凹部は、前記壁面のうち側壁面において、前記底面の法線方向に交わる方向に沿って延びるように夫々形成される。
【００２７】
この態様によれば、複数の凹部は、真空槽の側壁面において、底面に沿う方向に沿って延びるように、典型的には、側壁面における、底面と交わる一辺からこれと対向する他辺まで延びるように夫々形成される。即ち、側壁面において、底面に沿って延びるように形成された凹部が、底面に交わる方向に複数配列される。よって、底面に配置された蒸着源から、底面に交わる方向に飛行する蒸発物質を殆ど確実に付着させることができる。
【００２８】
上述した複数の凹部が側壁面に形成される態様では、前記側壁面は、前記底面に隣接していてもよい。
【００２９】
この場合には、蒸着源の比較的に近くに複数の凹部が形成されるので、複数の突出部に蒸発物質をより多く付着させることができる。
【００３０】
本発明に係る第３の蒸着装置は上記課題を解決するために、基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面に対して網目状の凹凸部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段とを備える。
【００３１】
本発明に係る第３の蒸着装置によれば、上述した本発明に係る第１及び第２の蒸着装置と同様に、真空槽において、基板に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が蒸着される。
【００３２】
本発明では特に、真空槽の壁面の少なくとも一部に、該壁面に対して網目状の凹凸部を有し、蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段を備える。即ち、例えば、真空槽における下方側に蒸着源が設置されると共に上方側に基板が設置される場合において、真空槽の側壁面における蒸着源より上方側には、網目状の凹凸部が設けられる。網目状の凹凸部は、例えば、例えば１ｍｍ程度の直径を有する例えばアルミニウム等の金属からなる複数の金属線が、例えば２ｍｍ四方程度の網目をなすように、壁面上に配列されることにより形成される。或いは、例えばアルミニウム等の金属からなる複数の金属線により形成された網を、壁面に取り付けてもよい。尚、網目状の凹凸部は、真空槽の壁面に備えられた、蒸発物質を付着させるための防着板に設けてもよい。即ち、本発明に係る「蒸着物質付着手段」は、このような網目状の凹凸部が設けられた防着板を含む趣旨である。
【００３３】
本発明の第３の蒸着装置によれば、壁面に対して網目状の凹凸部を有する蒸着物質付着手段によって、上述した本発明の第１の蒸着装置と同様に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面において付着可能な付着可能量を大きくすることができる。よって、真空槽内において、壁面から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。更に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を高めることができる。
【００３４】
本発明に係る第４の蒸着装置は上記課題を解決するために、基板に蒸着源から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、前記基板及び前記蒸着源を設置するための空間を規定すると共に該空間を真空に維持することが可能な真空槽と、前記真空槽の壁面の少なくとも一部に設けられ、前記壁面に対して格子状の凸部を有し、前記蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段とを備える。
【００３５】
本発明に係る第４の蒸着装置によれば、上述した本発明に係る第１、第２及び第３の蒸着装置と同様に、真空槽において、基板に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が蒸着される。
【００３６】
本発明では特に、真空槽の壁面の少なくとも一部に、該壁面に対して格子状の凸部を有し、蒸発物質を付着させる蒸発物質付着手段を備える。即ち、例えば、真空槽における下方側に蒸着源が設置されると共に上方側に基板が設置される場合において、真空槽の側壁面における蒸着源より上方側には、格子状の凸部が設けられる。格子状の凸部は、例えば、例えば１ｍｍ程度の直径を有する例えばアルミニウム等の金属からなる複数の金属線が、例えば２ｍｍ四方程度の格子状に、壁面上に配列されることにより形成される。或いは、例えばアルミニウム等の金属からなる複数の金属線により形成された網を、壁面に取り付けてもよい。或いは、格子状に組み合わされた複数の金属棒或いは金属板を、壁面に取り付けてもよい。或いは、格子状に配列された複数の開口部を有する金属板を、壁面に取り付けてもよい。尚、格子状の凸部は、真空槽の壁面に備えられた、蒸発物質を付着させるための防着板に設けてもよい。即ち、本発明に係る「蒸着物質付着手段」は、このような格子状の凸部が設けられた防着板を含む趣旨である。
【００３７】
本発明の第４の蒸着装置によれば、壁面に対して格子状の凸部を有する蒸着物質付着手段によって、上述した本発明の第１の蒸着装置と同様に、蒸着源から蒸発した蒸発物質が真空槽の壁面において付着可能な付着可能量を大きくすることができる。よって、真空槽内において、壁面から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。更に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を高めることができる。
【００３８】
本発明に係る第３又は第４の蒸着装置の一態様では、前記蒸発物質付着手段は、少なくとも部分的に前記壁面から所定間隔を隔てて配置される。
【００３９】
この態様によれば、蒸発物質付着手段と壁面との間にも、蒸発物質を付着させることができる。よって、蒸発物質付着手段によって蒸発物質をトラップするトラップ効率を高めることができる。従って、付着物に起因するパーティクルの発生を、より一層、減少させることができると共に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を、より一層、高めることができる。
【００４０】
本発明に係る蒸着方法は上記課題を解決するために、上述した本発明に係る第１、２、３又は４の蒸着装置（但し、各種態様を含む）によって前記基板上に前記蒸発物質を蒸着させることにより蒸着膜を形成する蒸着膜形成工程を含む。
【００４１】
本発明の蒸着方法によれば、蒸着膜形成工程において、壁面から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生が低減されると共に、壁面における蒸発物質の反跳が低減される。よって、蒸着膜形成工程において、蒸着膜を、基板面の全域或いは比較的広範囲に均一に蒸着することが可能となる。
【００４２】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、無機材料を前記蒸着源とする上述した本発明に係る第１、２、３又は４の蒸着装置によって前記基板上に電気光学装置用の無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程を含む。
【００４３】
本発明に係る電気光学装置の製造方法によれば、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器に使用可能な液晶表示装置などの電気光学装置の製造工程において、無機配向膜を、基板面の全域或いは比較的広範囲に均一に蒸着することが可能となる。
【００４４】
本発明に係る第１の成膜装置は上記課題を解決するために、基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面から夫々突出した複数の突出部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段とを備える。
【００４５】
本発明に係る第１の成膜装置によれば、成膜手段によって、例えばスパッタ法を用いて、基板上に薄膜が形成される。即ち、成膜手段によって、基板に、ターゲット（即ち、形成する薄膜の母材）からの例えばスパッタ粒子である飛散粒子が堆積される。
【００４６】
シールド部材は、ターゲットと基板との間に設けられると共に飛散粒子を通過させる開口部が形成されている。このため、シールド部材によって、飛散粒子が基板の表面に対して不必要な方向から堆積されてしまうことを抑制できる。尚、シールド部材は、ターゲットと基板との間に設けられると共に開口部が形成された本体部から、例えば基板の周囲を覆うように延設されてもよい。
【００４７】
本発明では特に、シールド部材の表面の少なくとも一部に、該表面から夫々突出した複数の突出部を有する飛散粒子付着手段を備える。複数の突出部は、例えば、シールド部材の表面のうち基板に対向する部分面には、基板に向かう方向に夫々突出するように設けられ、シールド部材の表面のうちターゲットに対向する部分面には、ターゲットに向かう方向に夫々突出するように設けられる。複数の突出部はそれぞれ、例えば、数ｍｍ程度の幅及び厚みで、基板或いはターゲットに向かう方向に数ｍｍ程度だけ庇状に突出しており、シールド部材の表面において例えば格子状、縞状等に配列される。
【００４８】
このような飛散粒子付着手段によって、ターゲットからの飛散粒子がシールド部材の表面に付着物として付着する際の、該表面における付着物を保持する保持量（即ち、該表面における飛散粒子を付着可能な付着可能量）を大きくすることができる、言い換えれば、該表面における飛散粒子を保持する保持時間を長くすることができる。よって、成膜手段による成膜時に、シールド部材の表面に付着した飛散粒子の量が多くなり、該表面において保持することができなくなってしまい、シールド部材の表面から付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、シールド部材から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、基板上に形成される薄膜の膜質を向上させることが可能となる。
【００４９】
本発明に係る第２の成膜装置は上記課題を解決するために、基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面から夫々窪んだ複数の凹部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段とを備える。
【００５０】
本発明に係る第２の成膜装置によれば、上述した第１の成膜装置と同様に、成膜手段によって、例えばスパッタ法を用いて、基板上に薄膜が形成される。
【００５１】
本発明では特に、シールド部材の表面の少なくとも一部に、該表面から夫々窪んだ複数の凹部を有する飛散粒子付着手段を備える。複数の凹部は、例えば、シールド部材の表面のうち基板に対向する部分面には、基板に向かう方向に沿って夫々窪むように設けられ、シールド部材の表面のうちターゲットに対向する部分面には、ターゲットに向かう方向に沿って夫々窪むように設けられる。複数の凹部はそれぞれ、例えば、数ｍｍ程度の幅及び厚みで、基板或いはターゲットに向かう方向に沿って数ｍｍ程度だけ窪んでおり、シールド部材の表面において例えば格子状、縞状等に配列される。
【００５２】
このような飛散粒子付着手段によって、上述した本発明に係る第１の成膜装置と同様に、ターゲットからの飛散粒子がシールド部材の表面に付着物として付着する際の、該表面における付着物を保持する保持量を大きくすることができる。これにより、基板上に形成される薄膜の膜質を向上させることが可能となる。
【００５３】
本発明に係る第３の成膜装置は上記課題を解決するために、基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面に対して網目状の凹凸部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段とを備える。
【００５４】
本発明に係る第３の成膜装置によれば、上述した本発明に係る第１の成膜装置と同様に、成膜手段によって、例えばスパッタ法を用いて、基板上に薄膜が形成される。
【００５５】
本発明では特に、シールド部材の表面の少なくとも一部に、該表面に対して網目状の凹凸部を有する飛散粒子付着手段を備える。このような飛散粒子付着手段によって、上述した本発明に係る第１の成膜装置と同様に、ターゲットからの飛散粒子がシールド部材の表面に付着物として付着する際の、該表面における付着物を保持する保持量を大きくすることができる。
【００５６】
本発明に係る第４の成膜装置は上記課題を解決するために、基板にターゲットからの飛散粒子を堆積させることで前記基板上に薄膜を形成する成膜手段と、前記ターゲットと前記基板との間に設けられると共に前記飛散粒子を通過させる開口部が形成されたシールド部材と、前記シールド部材の表面の少なくとも一部に設けられ、前記表面に対して格子状の凸部を有し、前記飛散粒子を付着させる飛散粒子付着手段とを備える。
【００５７】
本発明に係る第４の成膜装置によれば、上述した本発明に係る第１の成膜装置と同様に、成膜手段によって、例えばスパッタ法を用いて、基板上に薄膜が形成される。
【００５８】
本発明では特に、シールド部材の表面の少なくとも一部に、該表面に対して格子状の凸部を有する飛散粒子付着手段を備える。このような飛散粒子付着手段によって、上述した本発明に係る第１の成膜装置と同様に、ターゲットからの飛散粒子がシールド部材の表面に付着物として付着する際の、該表面における付着物を保持する保持量を大きくすることができる。
【００５９】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６０】
以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。
＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る蒸着装置について、図１から図４を参照して説明する。
【００６１】
先ず、本実施形態に係る蒸着装置の全体構成について、図１を参照して説明する。ここに図１は、本実施形態に係る蒸着装置の構成を示す模式的な側面断面図である。尚、図１において、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各構成要素ごとに縮尺を異ならしめてある。後に示す図２から図１０においても同様である。
【００６２】
図１において、蒸着装置１０は、チャンバ１００を備えている。
【００６３】
チャンバ１００は、本発明に係る「真空槽」の一例であり、例えばアルミニウムやステンレス鋼などの金属材料或いは鉄鋼材料で構成されている。
【００６４】
チャンバ１００の内壁部分は、チャンバ１００の内部に空間１０１を規定しており、空間１０１には、ターゲット１１０、電子ビーム照射系１２０及び基板２１０が設置されている。尚、チャンバ１００の側面部分の一部は、排気系１１と接続されており、空間１０１内の気体をチャンバ１００外に排出することによって、空間１０１を真空に維持することが可能に構成されている。尚、排気系１１は、副排気装置（例えば、粗引き用）であるロータリーポンプ及び主排気装置（例えば、本引き用）であるターボ分子ポンプを含む真空排気系である。
【００６５】
ターゲット１１０は、例えば、液晶装置などの電気光学装置において無機配向膜の形成材料となる無機材料のバルクであり、不図示のルツボに載置されている。尚、ターゲット１１０は、本発明に係る「蒸着源」の一例である。
【００６６】
電子ビーム照射系１２０は、不図示のフィラメント並びに電源系、冷却水系、制御系及び各種配線部材の一部などを含んでなり、フィラメントから電子ビームを発生させることが可能に構成されている。尚、電子ビーム照射系１２０は、本発明に係る「蒸着手段」の一例である。
【００６７】
基板２１０は、液晶装置などの電気光学装置に使用されて好適な低温ポリシリコン基板である。
【００６８】
空間１０１において、基板２１０は、治具９００によりチャンバ１００の側壁面１００ａに対し一定の傾きを有するように保持されている。治具９００は、支持部９１０によって、チャンバ１００の上面に固定されている。
【００６９】
本実施形態では特に、チャンバ１００の側壁面１００ａには、本発明に係る「複数の突出部」の一例である複数の庇部１５０が設けられている。複数の庇部１５０は、後に詳述するように、側壁面１００ａの法線方向よりもターゲット１１０に向かう方向に沿ってそれぞれ庇状に突出している。
【００７０】
次に、本実施形態に係る蒸着装置の複数の庇部の構成について、図１に加え、図２から図４を参照して、詳細に説明する。ここに図２は、本実施形態に係る複数の庇部を示す斜視図である。図３は、本実施形態に係る複数の庇部を示す平面図である。図４は、図１の部分Ｃ１を拡大して示す拡大断面図である。
【００７１】
図１及び図２に示すように、チャンバ１００の側壁面１００ａにおけるターゲット１１０より上方側には、ターゲット１１０に向かう方向（即ち、図１中、斜め下方向）にそれぞれ庇状に突出した複数の庇部１５０が設けられている。
【００７２】
複数の庇部１５０はそれぞれ、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、銅等の金属材料からなり、側壁面１００ａに固定されている。
【００７３】
図２及び図３に示すように、複数の庇部１５０は、側壁面１００ａにおいて、底面に沿って（即ち、底面の法線方向（即ち、Ｚ方向）と交わる方向に沿って）、厚さＴ１及び間隔Ｄ１がそれぞれ例えば１〜２ｍｍ程度の縞状に形成されている。即ち、複数の庇部１５０は、側壁面１００ａにおいて底面に沿った複数列として形成されている。
【００７４】
図４に示すように、複数の庇部１５０はそれぞれ、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図４中、矢印線Ｎが示す方向）に対して角度θ１だけ下方にずれた方向（即ち、図４中、矢印線Ｆが示す方向）に沿って、側壁面１００ａから長さＬ１だけ突き出るように形成されている。
【００７５】
複数の庇部１５０は、長さＬ１が例えば１〜２ｍｍ程度となるように形成されている。
【００７６】
角度θ１は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図４中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａからターゲット１１０へ向かう方向がなす角度として設定される。本実施形態では、角度θ１は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図４中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａ上の任意の点Ｐからターゲット１１０へ向かう方向とがなす角度として設定されている。尚、角度θ１は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図４中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａ上の各点からターゲット１１０へ向かう方向とがなす各角度の平均値として設定してもよい。或いは、角度θ１は、複数の庇部１５０の各々について互いに異なるようにしてもよい。
【００７７】
尚、チャンバ１００の側壁面１００ａに、蒸発物質１１０ａを付着させるための防着板を設ける場合には、複数の庇部１５０は、そのような防着板に設けてもよい。また、このような複数の庇部は、チャンバ１００の底面或いはこれに対向する上面の少なくとも一部に設けてもよい。
【００７８】
次に、本実施形態に係る蒸着装置の動作について、図１から図４を適宜参照して説明する。
【００７９】
図１において、蒸着装置１０による蒸着プロセスでは、電子ビーム系１２０から電子ビームが発射され、ターゲット１１０に照射される。電子ビームを照射されたターゲット１１０は加熱され、その一部が蒸発する。蒸発したターゲットからなる蒸発物質１１０ａは、ターゲット１１０に対し斜めに対面配置された基板２１０に蒸着される。
【００８０】
この際、蒸発物質１１０ａの一部は、チャンバ１００の側壁面１００ａへ向かって飛行或いは飛散し、側壁面１００ａに蒸発物質１１０ａが付着物として付着する。
【００８１】
仮に何らの対策も施さねば、側壁面１００ａに付着した付着物の量が増加すると、付着物が側壁面１００ａから剥がれ落ちてパーティクルが発生してしまうおそれがある。このようなパーティクルによって、チャンバ１００内の空間１０１が汚染され、基板２１０上に蒸着される蒸着膜の膜質が低減してしまう。
【００８２】
更に、側壁面１００ａに付着した付着物の量が増加すると、側壁面１００ａにおいて、蒸発物質１１０ａが付着されにくくなるので、側壁面１００ａから反跳して基板２１０へ向かう蒸発物質１１０ａの量が増大してしまうおそれがある。即ち、側壁面１００ａに到達した蒸発物質１１０ａが側壁面１００ａにおいて跳ね返り、所定の方向（即ち、ターゲット１１０から基板２１０へ向かう方向）とは異なる方向から基板２１０へ向かってしまう量が増えてしまう。このため基板２１０上に成膜される蒸着膜の指向性が低下してしまうおそれがある。
【００８３】
しかるに、図１から図４を参照して上述したように、本実施形態では特に、チャンバ１００の側壁面１００ａの一部に、側壁面１００ａの法線方向（即ち、図４中、矢印線Ｎが示す方向）よりもターゲット１１０に向かう方向（即ち、図４中、矢印線Ｆが示す方向）に沿って庇状に突出した複数の庇部１５０が設けられている。よって、ターゲット１１０から蒸発した蒸発物質１１０ａがチャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着する際の、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量（即ち、側壁面１００ａにおける蒸発物質１１０ａを付着可能な付着可能量）を大きくすることができる。
【００８４】
より具体的には、側壁面１００ａに設けられた複数の庇部１５０によって、側壁面１００ａにおける蒸着物質１１０ａが付着可能な総表面積を増大させることができる。よって、側壁面１００ａにおいて、複数の庇部１５０に蒸発物質１１０ａをより多く付着させることができる、即ち、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量を大きくすることができる。  よって、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持時間を長くすることができる。従って、蒸着プロセス中に、チャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着した蒸発物質１１０ａの量が多くなって、側壁面１００ａから付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、チャンバ１００内において、側壁面１００ａから剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、基板２１０上に蒸着される蒸着膜の膜質を向上させることが可能となる。
【００８５】
更に、図４に示すように、複数の庇部１５０は、側壁面１００ａの法線方向よりもターゲット１１０に向かう方向に沿って庇状に突出しているので、複数の庇部１５０の各々の下側面と側壁面１００ａとの間に蒸発物質１１０ａが入り込みやすく、且つ、側壁面１００ａから反跳して上側へ向かう蒸発物質１１０ａを複数の庇部１５０に付着させることができる。即ち、蒸発物質１１０ａが、チャンバ１００の側壁面１００ａにおいて反跳して、基板２１０へ向かうことを低減或いは防止できる。言い換えれば、所定の方向とは異なる蒸発物質１１０ａが、基板２１０へ向かうことを低減或いは防止できる。従って、基板２１０上に蒸着される、例えば所定のプレティルト角が付与された無機配向膜等の蒸着膜の指向性を高めることができる。即ち、基板２１０の基板面の全域或いは比較的広範囲に殆ど或いは完全に均一な蒸着膜を形成することができる。
【００８６】
以上説明したように、蒸着装置１０によれば、ターゲット１１０に向かう方向に沿って突出した複数の庇部１５０によって、ターゲット１１０から蒸発した蒸発物質１１０ａがチャンバ１００の側壁面１１０ａにおいて付着可能な付着可能量を大きくすることができるので、チャンバ１００内において、側壁面１００ａから剥がれ落ちる付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。更に、基板２１０上に蒸着される蒸着膜の指向性を高めることができる。
【００８７】
尚、蒸着装置１０によれば、チャンバ１００の側壁面１００ａにおける蒸発物質１１０ａの付着可能量が高められているので、側壁面１００ａを洗浄する洗浄頻度を減少させることもできる。或いは、複数の庇部１５０を防着板に設けた場合には、防着板を洗浄する洗浄頻度又は防着板を交換する交換頻度を減少させることもできる。
【００８８】
図５に変形例として示すように、複数の庇部１５０は、側壁面１００ａにおいて、底面に沿う方向（図５中、左右方向）に沿った複数列として形成してもよい。ここに図５は、本発明の第１変形例における図２と同趣旨の斜視図である。
【００８９】
即ち、複数の庇部１５０は、複数の庇部１５０ａが配列されてなる列と、複数の庇部１５０ｂが配列されてなる列と、複数の庇部１５０ｃが配列されてなる列とを含む複数列として構成してもよい。この場合には、複数の庇部１５０の各々の大きさを小さく或いは配列間隔を狭くして、側壁面１００ａにおいて複数の庇部１５０を多く形成することにより、複数の庇部１５０の総表面積を大きくすることができる。従って、複数の庇部１５０に蒸発物質１１０ａをより多く付着させることができる。尚、複数の庇部１５０の幅Ｗ１は、例えば１〜２ｍｍ程度とすることができる。
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態に係る蒸着装置について、図６及び図７を参照して説明する。ここに図６は、第２実施形態における図２と同趣旨の斜視図である。図７は、第２実施形態における図４と同趣旨の拡大断面図である。尚、図６及び図７において、図１から図４に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
【００９０】
図６及び図７に示すように、本実施形態に係る蒸着装置は、チャンバ１００の側壁面１００ａに、第１実施形態における複数の庇部１５０に替えて蒸発物質付着板１６０を備えている点で、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と異なり、他の点については、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と概ね同様に構成されている。
【００９１】
図６及び図７に示すように、蒸発物質付着板１６０には、複数の凹部１６１が形成されており、蒸発物質付着板１６０は、複数の凹部１６１がチャンバ１００の内側に対して窪むように側壁面１００ａに配置されている。
【００９２】
図６及び図７に示すように、複数の凹部１６１は、ターゲット１１０に向かう方向（即ち、図７中、斜め下方向）沿って、ターゲット１１０に対して夫々窪むように形成されている。
【００９３】
蒸発物質付着板１６０は、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、銅等の金属材料からなり、側壁面１００ａに固定されている。
【００９４】
図６に示すように、複数の凹部１６１は、側壁面１００ａにおいて、底面に沿って（即ち、底面の法線方向であるＺ方向と交わる方向に沿って）、厚さＴ２及び間隔Ｄ２がそれぞれ例えば１〜２ｍｍ程度で、縞状に形成されている。即ち、複数の凹部１６１は、側壁面１００ａにおいて底面に沿った複数列として形成されている。
【００９５】
図７に示すように、複数の凹部１６１はそれぞれ、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図７中、矢印線Ｎが示す方向）に対して角度θ２だけ下方にずれた方向（即ち、図７中、矢印線Ｇが示す方向）に沿って、側壁面１００ａから長さＬ２だけターゲット１１０に対して窪むように形成されている。
【００９６】
複数の凹部１５０は、長さＬ２が例えば１〜２ｍｍ程度となるように形成されている。
【００９７】
角度θ２は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図７中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａからターゲット１１０へ向かう方向がなす角度として設定される。本実施形態では、角度θ２は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図７中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａ上の任意の点Ｑからターゲット１１０へ向かう方向とがなす角度として設定されている。尚、角度θ２は、チャンバ１００の側壁面１００ａの法線方向（即ち、図７中、矢印線Ｎが示す方向）と側壁面１００ａ上の各点からターゲット１１０へ向かう方向とがなす各角度の平均値として設定してもよい。或いは、角度θ２は、複数の凹部１６１の各々について互いに異なるようにしてもよい。
【００９８】
尚、チャンバ１００の側壁面１００ａに、複数の凹部１６１を形成してもよい。また、上述した如き蒸発物質付着板は、チャンバ１００の底面或いはこれに対向する上面の少なくとも一部に設けてもよい。
【００９９】
本実施形態では特に、上述のように構成された蒸発物質付着板１６０がチャンバ１００の側壁面１００ａに設けられているので、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と概ね同様に、ターゲット１１０から蒸発した蒸発物質１１０ａがチャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着する際の、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量（即ち、側壁面１００ａにおける蒸発物質１１０ａを付着可能な付着可能量）を大きくすることができる。
【０１００】
より具体的には、側壁面１００ａに設けられた蒸発物質付着板１６０の複数の凹部１６１によって、側壁面１００ａにおける蒸着物質１１０ａが付着可能な総表面積を増大させることができる。よって、側壁面１００ａにおいて、複数の凹部１６１に蒸発物質１１０ａをより多く付着させることができる、即ち、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量を大きくすることができる。
【０１０１】
よって、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持時間を長くすることができる。従って、蒸着プロセス中に、チャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着した蒸発物質１１０ａの量が多くなって、側壁面１００ａから付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、チャンバ１００内において、側壁面１００ａから剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、基板２１０上に蒸着される蒸着膜の膜質を向上させることが可能となる。
【０１０２】
更に、図７に示すように、複数の凹部１６１は、側壁面１００ａの法線方向よりもターゲット１１０に向かう方向に沿って、ターゲット１１０に対して窪んでいるので、複数の凹部１６１内に蒸発物質１１０ａが入り込みやすく、且つ、複数の凹部１６１内で反跳する蒸発物質１１０ａを複数の凹部１６１内に付着させることができる。即ち、蒸発物質１１０ａが、チャンバ１００の側壁面１００ａにおいて反跳して、基板２１０へ向かうことを低減或いは防止できる。言い換えれば、所定の方向とは異なる蒸発物質１１０ａが、基板２１０へ向かうことを低減或いは防止できる。従って、基板２１０上に蒸着される、例えば所定のプレティルト角が付与された無機配向膜等の蒸着膜の指向性を高めることができる。即ち、基板２１０の基板面の全域或いは比較的広範囲に殆ど或いは完全に均一な蒸着膜を形成することができる。
【０１０３】
図８に変形例として示すように、蒸発物質付着板１６０の複数の凹部１６１は、底面に沿う方向（図８中、左右方向）に沿った複数列として形成してもよい。ここに図８は、本発明の第２変形例における図６と同趣旨の斜視図である。
【０１０４】
即ち、複数の凹部１６１は、複数の凹部１６１ａが配列されてなる列と、複数の凹部１６１ｂが配列されてなる列と、複数の凹部１６１ｃが配列されてなる列とを含む複数列として構成してもよい。この場合には、複数の凹部１６１の各々の大きさを小さく或いは配列間隔を狭くして、側壁面１００ａに配置される蒸発物質付着板１６０において複数の凹部１６１を多く形成することにより、複数の凹部１６１の総表面積を大きくすることができる。従って、蒸発物質付着板１６０（特に、複数の凹部１６１内）に蒸発物質１１０ａをより多く付着させることができる。尚、複数の凹部１６１の幅Ｗ２は、例えば１〜２ｍｍ程度とすることができる。
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態に係る蒸着装置について、図９及び図１０を参照して説明する。ここに図９は、第３実施形態における図３と同趣旨の平面図である。図１０は、図９のＡ−Ａ´線での断面図である。尚、図９及び図１０において、図１から図４に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
【０１０５】
図９及び図１０に示すように、本実施形態に係る蒸着装置は、チャンバ１００の側壁面１００ａに、第１実施形態における複数の庇部１５０に替えて蒸発物質付着網１７０を備えている点で、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と異なり、他の点については、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と概ね同様に構成されている。
【０１０６】
図９及び図１０に示すように、蒸発物質付着網１７０は、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、銅等の金属材料からなる金属線１７０ａ及び１７０ｂを編んで構成した金属網であり、側壁面１００ａに固定されている。金属線１７０ａ及び１７０ｂの各々の幅Ｗ３及びＷ４は、例えば１ｍｍ程度であり、間隔が例えば２ｍｍ程度でそれぞれ配列されている。即ち、蒸発物質付着網１７０は、金属線１７０ａ及び１７０ｂが例えば２ｍｍ四方の網目或いは格子を規定するように編まれて形成されている。
【０１０７】
図１０に示すように、蒸発物質付着網１７０は、金属線１７０ａの１本おきに（或いは金属線１７０ｂの１本おき）に配置された支持部１７５を介して側壁面１００ａに固定されており、部分的に側壁面１００ａから間隔Ｄ３だけ隔てて配置されている。これにより、蒸発物質付着網１７０と側壁面１００ａとの間には空間１９０が部分的に形成されている。尚、間隔Ｄ３は、例えば１〜２ｍｍ程度に設定されている。
【０１０８】
本実施形態では特に、上述のように構成された蒸着物質付着網１７０がチャンバ１００の側壁面１００ａに設けられているので、上述した第１実施形態に係る蒸着装置と概ね同様に、ターゲット１１０から蒸発した蒸発物質１１０ａがチャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着する際の、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量（即ち、側壁面１００ａにおける蒸発物質１１０ａを付着可能な付着可能量）を大きくすることができる。
【０１０９】
より具体的には、側壁面１００ａに設けられた蒸発物質付着網１７０を構成する金属線１７０ａ及び１７０ｂがなす網目によって、側壁面１００ａにおける蒸着物質１１０ａが付着可能な総表面積を増大させることができる。よって、側壁面１００ａにおいて、金属線１７０ａ及び１７０ｂに蒸発物質１１０ａをより多く付着させることができる、即ち、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持量を大きくすることができる。
【０１１０】
よって、側壁面１００ａにおける付着物を保持する保持時間を長くすることができる。従って、蒸着プロセス中に、チャンバ１００の側壁面１００ａに付着物として付着した蒸発物質１１０ａの量が多くなって、側壁面１００ａから付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、チャンバ１００内において、側壁面１００ａから剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、基板２１０上に蒸着される蒸着膜の膜質を向上させることが可能となる。
【０１１１】
更に、図１０において、本実施形態では特に、上述したように、蒸発物質付着網１７０は、部分的に側壁面１００ａから間隔Ｄ３だけ隔てて配置されている。よって、蒸発物質付着網１７０と側壁面１００ａとの間にも蒸発物質１１０ａを付着させることができる。即ち、蒸発物質付着網１７０の網目を通過して空間１９０に到達した蒸発物質１１ａや側壁面１００ａにおいて反跳した蒸発物質１１０ａを、蒸発物質付着網１７０の側壁面１００ａに対向する側にも付着させることができる。よって、蒸発物質付着網１７０によって蒸発物質１１０ａをトラップするトラップ効率を高めることができる。従って、付着物に起因するパーティクルの発生を、より一層、減少させることができると共に、基板上に蒸着される蒸着膜の指向性を、より一層、高めることができる
尚、本実施形態では、金属線が編まれて形成された蒸発物質付着網１７０を側壁面１００ａに設けたが、格子状に組み合わされた複数の金属棒或いは金属板を側壁面１００ａに設けてもよい。或いは、格子状に配列された複数の開口部を有する金属板を側壁面１００ａに設けてもよい。これらの場合にも、蒸発物質付着網１７０を側壁面１００ａに設けた場合と同様に、格子状に組み合わされた複数の金属棒或いは金属板、或いは、格子状に配列された複数の開口部を有する金属板によって、蒸発物質１１０ａをトラップするトラップ効率を高めることができる。
＜電気光学装置の製造方法＞
次に、上述した本実施形態に係る蒸着装置を用いて、電気光学装置を製造する方法について、図１１を参照して説明する。ここでは、電気光学装置の一例として、一対の基板である素子基板と対向基板間に、電気光学物質の一例たる液晶が挟持されてなる液晶装置を製造する場合について説明する。図１１は、その製造の流れを示す工程図である。
【０１１２】
図１１において、先ず、一方で、素子基板上に、各種配線、各種電子素子、各種電極、各種内蔵回路等を、既存の薄膜形成技術やパターンニング技術等により、その製造すべき機種に応じて適宜作成する（ステップＳ１）。その後、上述した実施形態に係る蒸着装置１０を用いて、素子基板における、対向基板に面することとなる側の表面に、斜方蒸着により所定のプレティルト角を持つ無機配向膜を形成する（ステップＳ２）。
【０１１３】
他方で、対向基板上に、各種電極、各種遮光膜、各種カラーフィルタ、各種マイクロレンズ等を、既存の薄膜形成技術やパターンニング技術等により、その製造すべき機種に応じて適宜作成する（ステップＳ３）。その後、上述した実施形態に係る蒸着装置１０を用いて、対向基板における、素子基板に面することとなる側の表面に、斜方蒸着により所定のプレティルト角を持つ無機配向膜を形成する（ステップＳ４）。
【０１１４】
その後、無機配向膜が形成された一対の素子基板及び対向基板を、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなるシール材を用いて、両無機配向膜が対面するように貼り合わせる（ステップＳ５）。その後、これらの貼り合わせられた基板間に、例えば真空吸引等を用いて液晶を注入し、例えば接着剤等の封止材による封止や、更に洗浄、検査などが行われる（ステップＳ６）。
【０１１５】
以上により、上述した実施形態に係る蒸着装置１０による斜方蒸着を用いて形成された無機配向膜を備えた液晶装置の製造が完了する。このように、上述した実施形態に係る蒸着装置１０を用いて無機配向膜を形成するので、本製造方法によれば、無機配向膜を、基板面の全域或いは比較的広範囲に均一に蒸着することが可能となる。
＜成膜装置＞
本実施形態に係る成膜装置について、図１２を参照して説明する。以下では、本発明に係る成膜装置の一例としてスパッタ装置を例に挙げて説明する。
【０１１６】
図１２は、本実施形態に係るスパッタ装置の構成を示す模式的な側面断面図である。尚、図１２において、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各構成要素ごとに縮尺を異ならしめてある。
【０１１７】
図１２において、本実施形態に係るスパッタ装置３０は、チャンバ３００を備えている。
【０１１８】
チャンバ３００内には、ターゲット３１０、電源系３２０及びウエハ４１０が設置されている。尚、ターゲット３１０は、本発明に係る「ターゲット」の一例であり、電源系３２０は、本発明に係る「成膜手段」の一例を構成し、ウエハ４１０は、本発明に係る「基板」の一例である。また、電源系３２０は、チャンバ３００外に設置されてもよい。
【０１１９】
ターゲット３１０は、例えばシリコンウエハであるウエハ４１０上に形成しようとする薄膜の母材である。ターゲット３１０とウエハ４１０とは所定の間隔で対向配置されている。  ウエハ４１０は、支持部８１０によって、チャンバ３００の上面に固定されている。
【０１２０】
スパッタ装置３０の動作時には、例えば、図示しない排気管からチャンバ３００内を真空引きした後、図示しないガス導入管から例えばＡｒガスを所定の流量で導入し、電源系３２０によりウエハ４１０及びターゲット３１０間（即ち、ウエハ４１０側に設けられた電極とターゲット３１０側に設けられた電極との間）に電圧を印加する。すると、生成したプラズマ中で加速されたＡｒイオンがターゲット３１０の表面をスパッタし、ウエハ４１０上にスパッタ粒子３１０ａを堆積させることにより薄膜が形成される。尚、スパッタ粒子３１０ａは、本発明に係る「飛散粒子」の一例である。
【０１２１】
更に、チャンバ３００内には、シールド部材５１０が設けられている。シールド部材５１０は、ウエハ４１０をターゲット３１０側から覆うように設けられると共にターゲット３１０からのスパッタ粒子３１０ａがウエハ４１０へ向かって進行できるように開口部５１０ａが形成されている。このため、シールド部材５１０によって、スパッタ粒子３１０ａがウエハ４１０の表面に対して不必要な方向から堆積されてしまうことを抑制できる。
【０１２２】
本実施形態では特に、シールド部材５１０の表面に、本発明に係る「飛散粒子付着手段」の一例としてのスパッタ粒子付着部５５０を備えている。スパッタ粒子付着部５５０（即ち、スパッタ粒子付着部５５０ａ及び５５０ｂ）は、図９及び図１０を参照して上述した第３実施形態に係る蒸着装置における蒸発物質付着網１７０と同様に構成された金属網であり、シールド部材５１０の表面に固定されている。スパッタ粒子付着部５５０ａは、シールド部材５１０の表面のうちウエハ４１０に対向する部分面に設けられており、スパッタ粒子付着部５５０ｂは、シールド部材５１０の表面のうちターゲット３１０に対向する部分面に設けられている。よって、ターゲット３１０からのスパッタ粒子３１０ａがシールド部材５１０の表面に付着物として付着する際の、該表面における付着物を保持する保持量を大きくすることができる。つまり、シールド部材５１０の表面におけるスパッタ粒子３１０ａを保持する保持時間を長くすることができる。よって、スパッタ装置３０による成膜時に、シールド部材５１０の表面に付着したスパッタ粒子３１０ａの量が多くなって、シールド部材５１０の表面から付着物が剥がれ落ちてしまうことを抑制或いは防止できる。従って、シールド部材５１０から剥がれ落ちた付着物に起因するパーティクルの発生を減少させることができる。これにより、ウエハ４１０上に形成される薄膜の膜質を向上させることが可能となる。加えて、シールド部材５１０に付着したスパッタ粒子３１０を除去することが必要となる周期を長くすることができる、即ち、スパッタ装置３０のメンテナンスサイクルを延長することができる。
【０１２３】
ここで、スパッタ粒子付着部５５０は、図１から図５を参照して上述した第１実施形態に係る蒸着装置における複数の庇部１５０と同様に構成された複数の庇部であってもよい。より具体的には、例えば、スパッタ粒子付着部５５０ａは、ウエハ４１０に向かう方向に夫々突出するように設けられた複数の庇部として設けられてもよいし、スパッタ粒子付着部５５０ｂは、ターゲット３１０に向かう方向に夫々突出するように設けられた複数の庇部として設けられてもよい。この場合にも、シールド部材５１０の表面におけるスパッタ粒子３１０ａを保持する保持時間を長くすることができる。
【０１２４】
或いは、スパッタ粒子付着部５５０は、図６及び図７を参照して上述した第２実施形態に係る蒸着装置における蒸着物質付着板１６０と同様に構成されたスパッタ粒子付着板であってもよい。より具体的には、例えば、スパッタ粒子付着部５５０ａは、ウエハ４１０に向かう方向に沿って夫々窪むように設けられた複数の凹部を有するスパッタ粒子付着板として設けられてもよいし、スパッタ粒子付着部５５０ｂは、ターゲット３１０に向かう方向に夫々窪むように設けられた複数の凹部を有するスパッタ粒子付着板として設けられてもよい。この場合にも、シールド部材５１０の表面におけるスパッタ粒子３１０ａを保持する保持時間を長くすることができる。尚、このような複数の凹部をシールド部材５１０に形成することで、スパッタ粒子付着部５５０を構成してもよい。
【０１２５】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う蒸着装置、蒸着方法及び該蒸着装置を用いた電気光学装置の製造方法、並びに成膜装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】第１実施形態に係る蒸着装置の構成を示す模式的な側面断面図である。
【図２】第１実施形態に係る複数の庇部を示す斜視図である。
【図３】第１実施形態に係る複数の庇部を示す平面図である。
【図４】図１の部分Ｃ１を拡大して示す拡大断面図である。
【図５】第１変形例における図２と同趣旨の斜視図である。
【図６】第２実施形態における図２と同趣旨の斜視図である。
【図７】第２実施形態における図４と同趣旨の拡大断面図である。
【図８】第２変形例における図６と同趣旨の斜視図である。
【図９】第３実施形態における図３と同趣旨の平面図である。
【図１０】図９のＡ−Ａ´線断面図である。
【図１１】第１実施形態に係る蒸着装置を用いた電気光学装置の製造方法の流れを示す工程図である。
【図１２】実施形態に係るスパッタ装置の構成を示す模式的な側面断面図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１０…蒸着装置、１１…排気系、１００…チャンバ、１００ａ…側壁部、１１０…ターゲット、１１０ａ…蒸発物質、１２０…電子ビーム照射系、１５０…庇部、１６０…蒸発物質付着板、１６１…凹部、１７０…蒸発物質付着網、１７０ａ、１７０ｂ…金属線、２１０…基板、９００…冶具、９１０…支持部、３０…スパッタ装置、３１０…ターゲット、４１０…ウエハ、５１０…シールド部材、５５０…スパッタ粒子付着部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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