(57)【要約】【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好ましい。また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることを特徴とする請求項１に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気情報記録装置は、磁気、光及び光磁気等を利用することによって、情報を情報記録媒体に記録させるものである。その代表的なものとしては、例えば、ハードディスクドライブ装置等が挙げられる。ハードディスクドライブ装置は、基板上に記録層を形成した情報記録媒体としての磁気ディスクに対し、磁気ヘッドによって磁気的に情報を記録する装置である。このような情報記録媒体の基材、いわゆるサブストレートとしては、ガラス基板が好適に用いられている。
【０００３】
また、ハードディスクドライブ装置は、磁気ヘッドを磁気ディスクに接触することなく、磁気ディスクに対し僅か数ｎｍ程度浮上させ、高速回転させながら磁気ディスクに情報を記録させている。さらに、近年においては、ますますハードディスクの記録密度が向上しており、それに伴って磁気ヘッドと磁気ディスクの差（以下、ヘッド浮上量という。）が小さくなってきている。特に、ＤＦＨ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｆｌｙｉｎｇ  Ｈｉｇｈｔ）機構を有するようなハードディスクにおいては、ヘッド浮上量が３ｎｍ以下のものが開発されている。しかしながら、ＤＦＨ機構においては、ヘッド浮上量が極めて小さいために、磁気ヘッドと磁気ディスクとが衝突してヘッドクラッシュが生じるといった問題が頻発していた。
【０００４】
また、近年のハードディスクドライブ装置は、その記録密度が向上していることにより、そのハードディスクに使用される基板の表面清浄性の高いものが要求されてきている。さらに、この基板の表面清浄性を高めるために、磁気情報記録媒体用ガラス基板は、微小な付着物が取り除かれたものが強く求められている。
【０００５】
前記磁気情報記録媒体用ガラス基板は、通常、プラスチック製の保管ケースに収納されて移送され、次工程へと流れていく。この使用した保管ケースは超音波を伴った洗剤、リンス、乾燥工程による一般的な洗浄方法が用いられてきた。
【０００６】
しかし、近年はこれまでの方法で製造した記録媒体を実装試験であるリードライトエラーのテストを行うと欠陥品になることが頻発し、安定して満足のいくスペックのガラス基板を提供できずにいた。
【０００７】
欠陥品となったガラス基板を詳細に分析すると微小付着物が検出され、これらの付着物はこれまでは大きな問題とはならなかったが、上述のような記録密度向上やＤＦＨ機構に伴って、基板と磁気ヘッド間の浮上量が非常に狭くなってきたことで顕著に発生するようになった。
【０００８】
特許文献１には、磁気情報記録媒体用ガラス基板を収納容器に収納する際の雰囲気を、光触媒に対して光を照射して雰囲気中の化合物を分解する処理を施した雰囲気とし、この雰囲気とともに、磁気ディスク用ガラス基板を収納容器に収納する技術が開示されている。
【０００９】
しかし、上記の方法では、静電的に空気などからイオン系コンタミが入り込み、ガラス基板にイオン系コンタミが付着してしまう。また、収納容器の内部はガラス基板を収納できるように複雑な形状になっている為に、光が一様に照射できずに、容器内にはコンタミ付着が残存してしまうという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８−２４３３１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたものであり、その解決すべき課題は、イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微小なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するために、本発明者らは、磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造工程における移送時の収納、及びその収納に用いられるガラス基板保管ケース着目し、鋭意検討を行った。この結果、前述の付着物の発生要因は、ガラス基板の保管ケースであることを突き止めた。
【００１３】
そして、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてガラス基板保管ケースのリンス処理を行い、この保管ケースを用いて収納、移送することでイオン系コンタミが少なく、洗浄度の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板を製造し得ることを見出した。さらに、前記磁気情報記録媒体用ガラス基板であれば、ヘッド浮上量が３ｎｍ以下と微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こしにくいことを見出した。
【００１４】
本発明に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、イオン系コンタミが少なく、洗浄度の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。また、ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。
【００１６】
また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好適である。このような構成であれば、収納容器に帯電防止効果を付随させ、静電気による付着を防止することができる。
【００１７】
また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好適である。このような構成であれば、収納容器に帯電防止効果を付随させ、静電気による付着を防止することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、イオン系コンタミが少なく、洗浄度の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板であって、ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態に係るリンス処理、及び乾燥処理を説明する図である。
【図２】本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造される磁気情報記録媒体用ガラス基板を示す上面図である。
【図３】本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における粗研磨工程や精密研磨工程で用いる研磨装置の一例を示す概略断面図である。
【図４】本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気情報記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体の一例である磁気ディスクを示す一部断面斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００２１】
本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする。
【００２２】
また、本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、当該ガラス基板の製造工程の各移送時に前記保管ケースを用いていれば、特に限定されない。具体的には、リンス処理に用いる水溶液として上記のものを用いること以外は、特に限定されず、従来公知の製造方法であればよい。
【００２３】
磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法としては、例えば、ガラス溶融工程、形成工程、熱処理工程、第１ラッピング工程、コアリング加工工程、内・外径加工工程、第２ラッピング工程、端面研磨加工工程、第１ポリッシング工程（粗研磨工程）、化学強化工程、第２ポリッシング工程（精密研磨工程）、洗浄工程、検査工程等を備える方法等が挙げられる。そして、前記各工程を、この順番で行うものであってもよいし、化学強化工程と第２ポリッシング工程との順番が入れ替わったものであってもよい。さらに、これら以外の工程を備える方法であってもよい。
【００２４】
特に、洗浄工程については、第１ポリッシング工程の後に行っても、第２ポリッシング工程の後に行ってもよく、さらに第１ポリッシング工程及び第２ポリッシング工程の後にそれぞれ一度ずつ行ってもよい。
【００２５】
ここで、本発明の製造方法におけるガラス基板保管ケースの洗浄について詳述する。
【００２６】
＜ガラス基板保管ケースの洗浄＞
ガラス基板保管ケースの洗浄は、具体的に洗浄処理とリンス処理と乾燥処理とを含む以下のような洗浄工程が挙げられる。
【００２７】
（洗浄処理）
まず、ガラス基板保管ケースに対して、純水を用いて純水シャワー洗浄を行う。
このシャワー洗浄によって保管ケースに付着しているある程度大きいコンタミを除去することができる。
【００２８】
次に、ブラシを用いてブラシ洗浄を用いる。このブラシは、公知のものであれば特に限定されない。この際に、純水をかけながら実施してもよいし、浸漬させた状態でもよい。ブラシ洗浄によって、保管ケースに固着しているコンタミを効率よく除去することができる。
【００２９】
次に、超音波による洗剤洗浄を行う。例えば、中性洗剤３質量％の洗浄液に浸漬させて、その洗浄液に８０ｋＨｚの超音波振動を印加させる。薬品と超音波で効率的にコンタミを分解除去することができる。
【００３０】
その後、ガラス素板を取り出す。そして、取り出したガラス素板を中性洗剤液に浸漬させる。その際、その中性洗剤液３質量％に、１２０ｋＨｚの超音波振動を印加させる。前述した超音波とは異なる周波数を用いる理由は、除去したい対象物のサイズによって最適な周波数が存在するためである。一般的に除去対象サイズが小さいほど、超音波の周波数は大きくするのが好ましい。
【００３１】
（リンス処理）
続いて、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いて、ガラス基板保管ケースのリンスを行う。ここで、リンスに用いられる水溶液は、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、比抵抗が１８ＭΩ・cm以上である超純水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したもの、同じく超純水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好ましい。
【００３２】
（乾燥処理）
以上のように、洗浄、リンスを施したガラス基板保管ケースを乾燥させる。乾燥方法としては、例えば、保管ケースの周囲からエアーを供給して水を吹き飛ばして乾燥させるエアーカッターが用いられる。
【００３３】
＜ガラス溶融工程＞
まず、ガラス溶融工程として、ガラス素材を溶融する。ガラス基板の材料としては、例えば、ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス；ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｒ２Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス；ボロシリケートガラス；Ｌｉ２Ｏ−ＳｉＯ２系ガラス；Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス；Ｒ’Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
【００３４】
＜成型工程＞
次に、成型工程として、溶融したガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成形して円板状のガラス基板を得る。なお、円板状のガラス基板は、プレス成形によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。
【００３５】
この成型工程において得たガラス基板の大きさに限定はなく、例えば、外径ｒ１が２．５インチ（約６４ｍｍ）、１．８インチ（約４６ｍｍ）、１インチ（約２５ｍｍ）、０．８インチ（約２０ｍｍ）等で、厚みが２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍ等の円盤状のガラス素板に加工される。また、外径ｒ１が２．５インチ（約６４ｍｍ）のときは、内径ｒ２が０．８インチ（約２０ｍｍ）等に加工される。なお、図２は、本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造される磁気情報記録媒体用ガラス基板を示す上面図である。
【００３６】
＜熱処理工程＞
この熱処理工程は、セッター治具に情報記録媒体用ガラス基板を挟み、熱処理炉にて加熱する工程であり、プレスガラス基板や切り出しガラス基板を耐熱部材のセッターと交互に積層し、高温電気炉工程を通過させて、基板の反りやガラス結晶化を促進させることができる。
【００３７】
特にガラス溶融され、プレスにより成形される工程においては、ガラスの冷却温度が均一でないため、ガラス内部に応力歪みを生じる。この応力歪みが原因となり、熱処理工程を行わずに、ラッピングやポリッシングを行うと歪みに応じて微小なクラックが生じる。このクラックの内部に研磨材や異物等が入り込み、高精度の研磨を繰り返しても凸部が発生し、不良品となる。このガラス内部の応力歪みを、円盤加工工程直後に熱処理処理することにより開放することができ、その後にラッピングやポリッシングを行ってもクラックの発生がなく不良品の発生を減少させることができる。
【００３８】
熱処理工程の温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）より２０〜５０℃低いことが好ましい。上記範囲より低い温度だと、ガラスの内部応力の開放が不十分となり、微小クラックが発生し異物が埋まってしまう。また、上記範囲より高い温度だと、ガラスの転移温度に近くなり、表面に凹凸ムラが生じやすくなる。熱処理温度での保持時間は、２０〜１２０分が好ましい。
【００３９】
また、除冷スピードが早く行うと（急冷）、別の反りが発生するため、除冷スピードは遅い方が好ましい。
【００４０】
セッター部材の材質としては、ステンレス（オーステナイト系、マルテンサイト系）、鋳物（ＦＣ 系、ＦＣＤ 系）、耐熱合金（ Ｃｏ 系やＮｉ 系）、セラミックス（ ＳｉＣ、ＳｉＣＮ３）等を使用することができる。また、押圧部材表面に、硬度が高く酸化しにくいＣＲメッキ、Ｎｉ−Ｐ無電解メッキ等の処理を行うこともできる。押圧面の形状は、上下面とも平坦でかつ、上下面が互いに平行なものを使用することが望ましい。セッター面の形状は、温度によって変形するため、使用温度や型材料の膨張特性などを考慮し、ガラス基板主表面を加圧する際に所望の形状になるように配慮して決定される。
【００４１】
＜第１ラッピング行程＞
ラッピング工程は、前記ガラス素板を所定の板厚に加工する工程である。具体的には、ガラス素板の両面を研削（ラッピング）加工する工程等が挙げられる。このように加工することによって、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを調整することができる。また、このラッピング工程は、１回であってもよいし、２回以上であってもよい。例えば、２回行う場合、１回目のラッピング工程（第１ラッピング工程）で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを予備調整し、２回目のラッピング工程（第２ラッピング工程）で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを微調整することが可能となる。
【００４２】
より具体的には、前記第１ラッピング工程としては、ガラス素板の表面全体が略均一の表面粗さとなるようにする工程等が挙げられる。その際、例えば、ガラス素板の算術平均粗さＲａを複数個所測定した際に、得られたＲａの最小値と最大値との差が０．０１〜０．４μｍ程度にすることが好ましい。
【００４３】
＜コアリング加工行程＞
次に、コアリング加工工程で、第１ラッピング工程後のガラス基板の中心部に穴を開ける。穴開けは、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で研削することで得られる。
【００４４】
＜外・内径加工行程＞
次に、内・外径加工工程として、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削することで内・外径加工する。
【００４５】
＜第２ラッピング工程＞
また、前記第２ラッピング工程としては、粗面化されたガラス基板の主表面を、さらに固定砥粒研磨パッドを用いて研削する行程等が挙げられる。この第２ラッピング工程においては、例えば、粗面化されたガラス基板をラッピング装置にセットし、ダイヤモンドタイル（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｉｌｅ）のような表面模様付きの三次元固定研磨物を用いることで、ガラス基板の表面をラッピングすることができる。
【００４６】
前記第２ラッピング行程を施すと、後述する粗研磨行程にて行われる研磨を効率良く行うことができる。また、第２ラッピング行程によって施された研磨工程に用いるガラス素板ガラス素板の表面粗さＲａは０．１０μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。
【００４７】
＜端面研磨加工工程＞
端面研磨加工工程は、第２ラッピング工程を終えたガラス基板の外周面及び内周面の研磨加工を、端面研磨機を用いて研磨する工程である。
【００４８】
＜第１ポリッシング工程（粗研磨工程）＞
第１ポリッシング（粗研磨工程）は、前記ラッピング工程が施されたガラス素板の表面に粗研磨を施す工程である。この粗研磨は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、下記の研磨方法を用いて実施する。
【００４９】
なお、前記粗研磨工程で研磨する表面は、主表面及び／又は端面である。主端面とは、ガラス素板の面方向に平行な面である。端面とは内周端面と外周端面とからなる面のことである。また、内周端面とは、内周側の、ガラス素板の面方向に垂直な面及びガラス素板の面方向に対して傾斜を有する面である。また、外周端面とは、外周側の、ガラス素板の面方向に垂直な面及びガラス素板の面方向に対して傾斜を有する面である。
【００５０】
粗研磨工程で用いる研磨装置は、ガラス基板の製造に用いる研磨装置であれば、特に限定されない。具体的には、図３に示すような研磨装置１が挙げられる。なお、図３は、本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における粗研磨工程や精密研磨工程で用いる研磨装置１の一例を示す概略断面図である。
【００５１】
図３に示すような研磨装置１１は、両面同時研削可能な装置である。また、この研磨装置１１は、装置本体部１１ａと、装置本体部１１ａに研磨液を供給する研磨液供給部１１ｂとを備えている。
【００５２】
装置本体部１１ａは、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とを備えており、それらが互いに平行になるように上下に間隔を隔てて配置されている。そして、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とが、互いに逆方向に回転する。
【００５３】
この円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３との対向するそれぞれの面にガラス素板１０の表裏の両面を研磨するための研磨パッド１５が貼り付けられている。この粗研磨工程で使用する研磨パッド１５は、粗研磨工程で用いられる研磨パッドであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ポリウレタン製の硬質研磨パッド等が挙げられる。
【００５４】
また、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３との間には、回転可能な複数のキャリア１４が設けられている。このキャリア１４は、複数の素板保持用孔５１が設けられており、この素板保持用孔５１にガラス素板１０をはめ込んで配置することができる。キャリア１４としては、例えば、素板保持用孔５１を１００個有していて、１００枚のガラス素板１０をはめ込んで配置できるように構成されていてもよい。そうすると、一回の処理（１バッチ）で１００枚のガラス素板１０を処理できる。
【００５５】
研磨パッドを介して定盤１２、１３に挟まれているキャリア１４は、複数のガラス素板１０を保持した状態で、自転しながら定盤１２，１３の回転中心に対して下定盤１３と同じ方向に公転する。なお、円盤状の上定盤１２と円盤状の下定盤１３とは、別駆動で動作することができる。このように動作している研磨装置１１において、研磨スラリー１６を上定盤１２とガラス素板１０との間、及び下定盤１３とガラス素板１０との間、夫々に供給することでガラス素板１０の粗研磨を行うことができる。
【００５６】
研磨スラリー供給部１１ｂは、液貯留部１１０と液回収部１２０とを備えている。液貯留部１１０は、液貯留部本体１１０ａと、液貯留部本体１１０ａから装置本体部１１ａに延ばされた吐出口１１０ｅを有する液供給管１１０ｂとを備えている。液回収部１２０は、液回収部本体１２０ａと、液回収部本体１２０ａから装置本体部１１ａに延ばされた液回収管１２０ｂと、液回収部本体１２０ａから研磨スラリー供給部１１ｂに延ばされた液戻し管１２０ｃとを備えている。
【００５７】
そして、液貯留部本体１１０ａに入れられた研磨スラリー７は、液供給管１１０ｂの吐出口１１０ｅから装置本体部１１ａに供給され、装置本体部１１ａから液回収管１２０ｂを介して液回収部本体１２０ａに回収される。また、回収された研磨スラリー１６は、液戻し管１２０ｃを介して液貯留部１１０に戻され、再度、装置本体部１１ａに供給可能とされている。
【００５８】
ここで用いる研磨液１６は、研磨剤を水に分散させた状態の液体、すなわち、スラリー液である。研磨材としては酸化セリウムを含む研磨剤等が挙げられる。この酸化セリウム砥粒の平均粒子径としては、０．４〜１．６μｍ程度であることが好ましい。
【００５９】
また、ここで用いる研磨パッド１５は、ウレタンやポリエステル等の合成樹脂の発泡体に、酸化セリウム研磨剤を含有させたものである。
【００６０】
＜化学強化工程＞
本発明の製造方法における化学強化工程は、公知の方法であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ガラス素板を化学強化処理液に浸漬させる工程等が挙げられる。そうすることによって、ガラス素板の表面、例えば、ガラス素板表面から５μｍの領域に化学強化層を形成することができる。そして、化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
【００６１】
より詳しくは、化学強化工程は、加熱された化学強化処理液にガラス素板を浸漬させることによって、ガラス素板に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンに置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス素板の表面が強化される。
【００６２】
本実施形態では、ガラス基板の原料であるガラス素板として、上記のようなガラス組成のものを用いることによって、この化学強化工程により、強化層が好適に形成されると考えられる。具体的には、ガラス素板のアルカリ成分であるＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏのうち、Ｎａ２Ｏの含有量が多く、このＮａ２Ｏのナトリウムイオンが、化学強化処理液に含まれるカリウムイオンに交換されやすいためと考えられる。さらに、化学強化工程を施す前の研磨工程、ここでは粗研磨工程で用いる研磨剤が、上記のような組成の研磨剤であるので、ガラス素板の表面に付着しているアルカリ土類金属の量が少なく、化学強化が均一になされると考えられる。よって、本実施形態のように、好適な化学強化がなされたガラス素板に、精密研磨工程を行うことによって、耐衝撃性に優れたガラス基板を製造することができる。
【００６３】
化学強化処理液としては、磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法における化学強化工程で用いられる化学強化処理液であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、カリウムイオンを含む溶融液、及びカリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融液等が挙げられる。
【００６４】
これらの溶融液としては、例えば、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸カリウム、及び炭酸ナトリウム等を溶融させて得られた溶融液等が挙げられる。この中でも、硝酸カリウムを溶融させて得られた溶融液と硝酸ナトリウムを溶融させて得られた溶融液とを組み合わせて用いることが、融点が低く、ガラス素板の変形を防止する観点から好ましい。その際、硝酸カリウムを溶融させて得られた溶融液と硝酸ナトリウムを溶融させて得られた溶融液とを、ほぼ同量ずつの混合させた混合液であることが好ましい。
【００６５】
＜第２ポリッシング工程（精密研磨工程）＞
精密研磨工程は、前記粗研磨工程で得られた平坦平滑な主表面を維持しつつ、例えば、主表面の表面粗さ（Ｒｍａｘ）が６ｎｍ程度以下である平滑な鏡面に仕上げる鏡面研磨処理である、この精密研磨工程は、例えば、上記粗研磨工程で使用したものと同様の研磨装置を用い、研磨パッドを硬質研磨パッドから軟質研磨パッドに取り替えて行われる。なお、前記精密研磨工程で研磨する表面は、前記粗研磨工程で研磨する表面と同様、主表面である。
【００６６】
また、精密研磨工程で用いる研磨剤としては、粗研磨工程で用いた研磨剤より、研磨性が低くても、傷の発生がより少なくなる研磨剤が用いられる。具体的には、例えば、粗研磨工程で用いた研磨剤より、粒子径が低いシリカ系の砥粒（コロイダルシリカ）を含む研磨剤等が挙げられる。このシリカ系の砥粒の平均粒子径としては、２０ｎｍ程度であることが好ましい。そして、前記研磨剤を含む研磨スラリー液をガラス素板に供給し、研磨パッドとガラス素板とを相対的に摺動させて、ガラス素板の表面を鏡面研磨する。
【００６７】
＜洗浄工程＞
次に、第２ポリッシング工程を終えた後に洗浄工程としてスクラブ洗浄を行う。特に、スクラブ洗浄に限定するものではなく、研磨工程後のガラス基板表面を清浄にできる洗浄方法であれば良い。
【００６８】
スクラブ洗浄がなされたガラス基板に対して、必要により超音波による洗剤洗浄および乾燥処理が行われる。乾燥処理は、ガラス基板表面に残る洗浄液をＩＰＡ等を用いて除去し、基板表面を乾燥させる。例えば、スクラブ洗浄後のガラス基板に、洗剤洗浄を２槽、水リンス洗浄工程を3槽、それぞれ３分間行ない、洗浄液の残渣を除去する。次に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）洗浄工程を３分間行い、基板上の水を除去する。最後に、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）蒸気乾燥工程を３分間行い、基板に付着している液状ＩＰＡをＩＰＡ蒸気により除去しつつ乾燥させる。基板の乾燥処理としてはこれに限定されるわけではなく、スピン乾燥、エアーナイフ乾燥などガラス基板の乾燥方法として一般的に知られた方法であってももちろん構わない。
【００６９】
＜検査工程＞
検査工程では、目視によるキズ、割れや異物の付着等の検査を行う。
目視では判別できないような異物、付着は、光学表面アナライザ（ＫＬＡ−ＴＥＮＣＯＬ社製、ＯＳＡ６１００）を用いて検査を行う。
【００７０】
検査工程で良品と判断されたガラス基板は、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境の中で、ガラス基板保管ケースに収納され、真空パックされた後、情報記録媒体用ガラス基板として出荷される。
【００７１】
本発明の製造方法では、上述したように検査工程後に良品を保管するケースが、事前に洗浄されている必要がある。
【００７２】
＜成膜工程＞
図４は、本実施形態に係る磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気情報記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体の一例である磁気ディスクを示す一部断面斜視図である。この磁気ディスクＤは、円形の磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１の主表面に形成された磁性膜１０２を備えている。磁性膜１０２の形成には、公知の常套手段による形成方法が用いられる。例えば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１上にスピンコートすることによって磁性膜１０２を形成する形成方法（スピンコート法）や、磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１上にスパッタリングによって磁性膜１０２を形成する形成方法（スパッタリング法）や、磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１上に無電解めっきによって磁性膜１０２を形成する形成方法（無電解めっき法）等が挙げられる。
【００７３】
磁性膜１０２の膜厚は、スピンコート法による場合では、約０．３〜１．２μｍ程度であり、スパッタリング法による場合では、約０．０４〜０．０８μｍ程度であり、無電解めっき法による場合では、約０．０５〜０．１μｍ程度である。薄膜化および高密度化の観点から、スパッタリング法による膜形成が好ましく、また、無電解めっき法による膜形成が好ましい。
【００７４】
磁性膜１０２に用いる磁性材料は、公知の任意の材料を用いることができ、特に限定されない。磁性材料は、例えば、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金等が好ましい。より具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯ等が挙げられる。
【００７５】
磁性膜１０２は、ノイズの低減を図るために、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶ等）で分割された多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａ等）であってもよい。磁性膜１０２に用いる磁性材料は、上記磁性材料の他、フェライト系や鉄−希土類系であってもよく、また、ＳｉＯ２、ＢＮ等からなる非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散した構造のグラニュラー等であってもよい。また、磁性膜１０２への記録には、内面型および垂直型のいずれかの記録形式が用いられてよい。
【００７６】
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために、磁性膜１０２の表面には、潤滑剤が薄くコーティングされてもよい。潤滑剤として、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００７７】
さらに必要により磁性膜１０２に対し下地層や保護層が設けられてもよい。磁気ディスクＤにおける下地層は、磁性膜１０２に応じて適宜に選択される。下地層の材料として、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉ等の非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。例えば、Ｃｏを主成分とする磁性膜１０２の場合には、下地層の材料は、磁気特性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。
【００７８】
また、下地層は、単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造であってもよい。このような複数層構造の下地層は、例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層が挙げられる。磁性膜１０２の摩耗や腐食を防止する保護層として、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層等が挙げられる。これら保護層は、下地層および磁性膜１０２と共にインライン型スパッタ装置で連続して形成することができる。また、これら保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる複数層構成であってもよい。
【００７９】
なお、上記保護層上に、あるいは、上記保護層に代えて、他の保護層が形成されてもよい。例えば、上記保護層に代えて、Ｃｒ層の上にＳｉＯ２層が形成されてもよい。このようなＳｉＯ２層は、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成することによって形成される。
【００８０】
このような本実施形態における磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１を基体とした磁気記録媒体は、磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１が上述した組成により形成されるので、情報の記録再生を長期に亘り高い信頼性で行うことができる。
【００８１】
なお、上述では、本実施形態における磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１を磁気記録媒体に用いた場合について説明したが、これに限定されるものではなく、本実施形態における磁気情報記録媒体用ガラス基板１０１は、光磁気ディスクや光ディスク等にも用いることが可能である。
【実施例】
【００８２】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８３】
まず、情報記録媒体用ガラス基板の製造に用いられる一般的なガラス基板を用意し、各製造工程（ガラス溶融工程、形成工程、熱処理工程、第１ラッピング工程、コアリング加工工程、内・外径加工工程、第２ラッピング工程、端面研磨加工工程、第１ポリッシング工程（粗研磨工程）、化学強化工程、第２ポリッシング工程（精密研磨工程）、洗浄工程、検査工程）によって得たガラス基板を、下記の実施例１〜４、比較例１の手法で洗浄したガラス基板保管ケースを用いて製造した。
【００８４】
（実施例１）
実施例１のガラス基板保管ケースの洗浄は、純水シャワー洗浄、ブラシ洗浄、超音波（80、１２０ｋＨｚ）による洗剤洗浄、純水洗浄、および乾燥処理（エアーカッター）の順番で行った。さらに、乾燥前の純水洗浄に使用する純水に約０．００１ｍｇ／Ｌの炭酸ガスを溶解せ、純水の純度を維持しながら比抵抗を１０ＭΩ・ｃｍに調整したものを使用した。
【００８５】
（実施例２）
実施例１のガラス基板保管ケースの洗浄は、純水シャワー洗浄、ブラシ洗浄、超音波（８０、１２０ｋＨｚ）による洗剤洗浄、純水洗浄、および乾燥処理（エアーカッター）の順番で行った。さらに、乾燥前の純水洗浄に使用する純水に約０．５ｍｇ／Ｌの炭酸ガスを溶解せ、純水の純度を維持しながら比抵抗を１ＭΩ・ｃｍに調整したものを使用した。
【００８６】
（実施例３）
純水シャワー洗浄、ブラシ洗浄、超音波（８０、１２０ｋＨｚ）による洗剤洗浄、純水洗浄、および乾燥処理（エアーカッター）の順番で行った。乾燥前の純水洗浄に使用する純水に約１．０ｍｇ／Ｌの水素ガスを溶解させ、アンモニア添加によってｐＨを９に設定することで、純水の純度を維持しながら比抵抗を０．５ＭΩ・ｃｍに調整したものを使用した。
【００８７】
（実施例４）
純水シャワー洗浄、ブラシ洗浄、超音波（８０、１２０ｋＨｚ）による洗剤洗浄、純水洗浄、および乾燥処理（エアーカッター）の順番で行った。乾燥前の純水洗浄に使用する純水に約１５ｍｇ／Ｌの炭酸ガスを溶解せることで、純水の純度を維持しながら比抵抗を０．２ＭΩ・ｃｍに調整したものを使用した。
【００８８】
（比較例１）
純水シャワー洗浄、ブラシ洗浄、超音波（８０、１２０ｋＨｚ）による洗剤洗浄、純水洗浄、および乾燥処理（エアーカッター）の順番で行った。乾燥前の純水洗浄に使用する純水は超純水であり比抵抗は１８ＭΩ・ｃｍである。
【００８９】
（リードライトエラーのテスト評価）
次に、実施例１〜３と比較例１のそれぞれの手法で洗浄した保管ケースを用いて製造した磁気記録媒体でのリードライトエラーのテスト評価を行った結果を表１に、記録媒体でのリードライトエラーのテスト評価（ｎ＝１０００測定）を表２に示す。
【００９０】
【表１】
2012203937.tif 000002
【００９１】
【表２】
2012203937.tif 000003
【００９２】
表２の評価基準を基にして、表１の結果から、保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされた保管ケースによって製造された実施例１〜４の磁気記録媒体は、リードライトエラーの少ないものとなった。特に、比抵抗が最も低い実施例１では、メディア評価は最も優良なものとなった。一方で、比較例１は、電気抵抗値が１８ＭΩ・ｃｍである水溶液を用いてリンスされた保管ケースによって製造されたため、エラー発生数が２０以上となり、メディアランクは不可なものとなった。
【符号の説明】
【００９３】
１０  ガラス基板
１１  研磨装置
１２  上定盤
１３  下定盤
１６  ポンプ
１０１  磁気情報記録媒体用ガラス基板
【図１】
2012203937.tif 000004
【図２】
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【図３】
2012203937.tif 000006
【図４】
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