(57)【要約】【課題】低い放射線出力での、親水性領域と疎水性領域への印刷面の構造化を実現する。【解決手段】表面が両親媒性分子で覆われている版を準備し、印刷画像に応じて、表面を電磁放射によって露光する。その後、版による印刷の前に、表面の露光された部分が親水性になって、表面が親水性および疎水性の領域へと構造化されるように、少なくとも１つの錯体形成物質によって表面を処理する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平版印刷用の版（１８）の、両親媒性分子（２２）で覆われている表面（２０）の部分面を電磁放射にさらす、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法において、
前記平版印刷用の版（１８）の露光の後、かつ印刷の前に、前記平版印刷用の版（１８）が、親水性および疎水性の領域（３６，３８）へと構造化されるように、前記部分面を、少なくとも１つの錯体形成物質によって処理することを特徴とする、平版印刷用の版に画像を形成する方法。
【請求項２】
前記錯体形成物質の作用によって前記両親媒性分子（２２）の、前記部分面での密度を低下させ、および／または前記両親媒性分子（２２）を前記部分面から取り除き、および／または前記部分面を化学的にマスキングする、請求項１に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項３】
前記表面（２０）の露光時に、２Ｊ／ｃｍ2以下のフルエンス、および／または１０００ｋＷ／ｃｍ2よりも低い出力を導入する、請求項１または２に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項４】
前記錯体形成物質は極性媒体であり、または極性媒体に溶解されている、請求項１から３のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項５】
前記錯体形成物質の分子は、前記両親媒性分子および／または前記両親媒性分子の断片との間で１つまたは複数の配位結合をすることができる配位子である、請求項１から４のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項６】
前記錯体形成物質は錯体形成オリゴ糖または錯体形成多糖である、請求項１から５のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項７】
前記錯体形成物質はアラビアゴムである、請求項１から６のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項８】
前記錯体形成物質は、アンモニアまたはクエン酸であり、またはアンモニアとクエン酸の混合物である、請求項１から５のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項９】
前記部分面は、前記錯体形成物質（１８）による処理中に、弱い酸にさらされる、請求項１から８のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項１０】
前記電磁放射は赤外レーザ放射である、請求項１から９のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項１１】
前記両親媒性分子で覆われた前記表面(２０)は、自然酸化したチタン、アルミニウム、鋼、ジルコニウム、マグネシウム、またはこれらの金属の合金、もしくはチタン酸塩またはジルコン酸塩を有する、請求項１から１０のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項１２】
前記両親媒性分子は、脂肪酸または芳香族の基で置換された無機酸または有機酸である、請求項１から１１のいずれか１項に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項１３】
前記両親媒性分子はヒドロキサム酸またはカルボン酸またはホスホン酸である、請求項１２に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【請求項１４】
前記基は、置換されていない、または置換された炭素鎖を有しており、炭素原子の数が６個以上２５個以下である、請求項１２または１３に記載の、平版印刷用の版（１８）に画像を形成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平版印刷用の版の、両親媒性分子で覆われている表面の部分面を電磁放射にさらす、平版印刷用の版に画像を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
両親媒性分子で覆われた表面を有している平版印刷用の版に画像を形成するには、エネルギー供給によって、親水性の（湿し水を導く）領域と疎水性の（インキが付く）領域とへの構造化を直接行い、それによって平版印刷のための印刷面が得られるようにするために、高い放射出力、特にレーザ出力が必要なのが普通である。
【０００３】
特許文献１または特許文献２には、両親媒性の有機化合物、特にｎオクタデカンホスホン酸を備える印刷面を有する再利用可能、すなわち再書込み可能な平版印刷用の版が開示されている。この印刷面は、両親媒性分子で覆われた領域で疎水性になっている。印刷面に画像を形成するために、すなわち、親水性領域と疎水性領域のパターンを生成するために、両親媒性化合物で覆われている自然酸化された金属表面、例えばｎオクタデカンホスホン酸で覆われている自然酸化されたチタン表面が、局所的かつ選択的にレーザ光線、例えば出力３ワット、波長１１００ナノメートルのイットリウムをドープしたファイバレーザの光線にさらされ、それによって両親媒性分子が取り除かれて、金属表面の親水性領域が露出させられる。
【０００４】
両親媒性分子で覆われた平版印刷用の版への画像形成は、印加されるレーザ放射によって表面が加熱され、それによって、両親媒性分子の層または膜の（例えば熱分解による）変化が起ることに基づいている。このような手法には高いレーザ出力が必要であるため、従来の版の画像形成に使われている市販のダイオードレーザの技術を、コストまたは技術的な理由から適用することができない。特に、一体に組み込まれた複数のダイオードレーザを用いた、有利に適用可能な並行した画像形成を適用することができず、そのため、画像形成のために必要な時間が長くなる。
【０００５】
異なる波長、例えば８３０ナノメートルの波長のレーザを使用したり、異なる両親媒性分子（異なる誘導体および異なるアンカー基）を使用したり、例えば熱伝導率、温度伝導率、特定の波長の光の吸収挙動を変化させて支持体材料を最適化しても、上述したような状況が根本的に変わることはない。
【０００６】
再画像形成が可能な、両親媒性分子で覆われた平版印刷用の版の再生に関連して、特許文献３から、大気圧プラズマによる処理によって、版表面の外側層を機械的に剥離できることが知られている。化学的な、または溶解作用を生じる補助物質を補足して用いて機械的な剥離を行うこともできる。
【０００７】
平版印刷用の版という概念は、本明細書においては、平版印刷用の版の未加工品、すなわち平版印刷用の版となる前の物、すなわち、親水性領域と疎水性領域とに構造化されていない、またはパターンのない版も意味している。
【特許文献１】独国特許出願公開第１０２２７０５４号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００４／０００７１４６号明細書
【特許文献３】独国特許出願公開第１０２００５０２０５５８号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、親水性領域と疎水性領域への印刷面の構造化を、特に、画像を形成すべき表面上での出力密度の小さい低い放射線出力を用いて実現できる、平版印刷用の版に画像を形成する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、本発明によると、請求項１に記載の特徴を備える、平版印刷用の版に画像を形成する方法によって達成される。本発明の有利な他の態様が、従属請求項に記載されている。
【００１０】
平版印刷用の版、特に平版オフセット印刷用の版に画像を形成する本発明の方法では、両親媒性分子で覆われている平版印刷用の版の表面の部分面を電磁放射に露光し、すなわちさらす。平版印刷用の版の露光の後、かつ印刷の前に、部分面を、少なくとも１つの錯体形成物質によって処理し、それによって、親水性領域、特にインキをはじく領域と、疎水性領域、特にインキが付着する領域とに構造化された平版印刷用の版が得られる。
【００１１】
両親媒性分子は、特に両親媒性の有機分子である。連続していない複数の部分面を設けることができる。平版印刷用の版を特に再利用可能とすることができ、すなわち、親水性領域と疎水性領域とへ画像形成し、これらの領域を消去することが何度でもでき、したがって、様々な構造（印刷画像）を印刷面に繰り返し形成することができる。処理の後、かつ錯体形成物質による処理の前には、親水性領域と疎水性領域の構造はまだ印刷面に形成されていなくてよく、すなわち、親水性領域と疎水性領域の濡れ性の差は、平版印刷にとってまだ十分に大きくなくてよい。画像形成を、濡れ特性が異なる複数の面のパターンの付与と表現することができ、この際、両親媒性分子を備える面、または多く備える面が画像領域を形成し、両親媒性分子を備えない面、または少ししか備えない面が非画像領域を形成する。このような画像形成は、この画像形成方法において非画像領域が制御され処理されるという意味で、陰画の画像形成と呼ぶことができる。部分面を処理する時には、電磁放射にさらされていない表面領域も、錯体形成物質と接触させることができるが、両親媒性分子との間で、またはこれらの領域の表面との間で場合によっては生じる相互作用は、本発明の結果に何ら影響を及ぼすことがない。この処理は、特に塗り付けること、吹き付けること、濡らすことであってよい。構造化は、印刷すべき印刷画像、特に、印刷すべき印刷ジョブの色分解像に応じて行うことができる。
【００１２】
「覆われた」という概念は、本明細書では、表面が両親媒性分子の層、特に、分子層、単分子層、または微細層を有することを意味している。両親媒性分子を表面に吸着させることができる。両親媒性分子を、特に、親水性の分子領域すなわちアンカー基によって表面に吸着させ、付着させ、または結合させることができる。両親媒性分子を、自己組織化単分子膜（self-assembling monolayers,ＳＡＭ）を形成することができる分子とすることができる。両親媒性分子は、界面活性剤のような(tensidarige)構造を有することができる。
【００１３】
本発明の画像形成では、表面の、予め電磁放射にさらした部分領域に、錯体形成物質を作用させることによって構造化が行われる。錯体形成物質は溶解を誘起する作用があり、または溶剤として作用するので、電磁放射の作用のみによって両親媒性分子を取り除く画像形成に比べて、本発明では、必要な放射出力が低くなり、特に、放射線生成装置の、必要な出力が低くなり好ましい。このようにして、特に市販されているマルチチャンネルの放射線発生装置を使用することができ、例えば、Hidelberger Druckmaschinen AG社の版露光機Suprasetter（商標）のような、個別に制御可能なレーザダイオードバーを使用することができる。
【００１４】
平版印刷用の版に画像を形成する本発明の方法では、特に露光された領域における錯体形成物質の作用によって、部分面における両親媒性分子の密度が低下し、および／または両親媒性分子が部分面から取り除かれ、および／または部分面で化学的なマスキングが行われる。換言すると、本発明では、表面の、予め電磁放射にさらされた部分領域で、両親媒性分子の選択的な減少、除去、または化学的マスキングを行うことができ、それによって、親水性の（有効な両親媒性分子が十分に少ない）領域と、疎水性の（有効な両親媒性分子が十分に多い）領域とからなるパターンが、版上に印刷面として生じることになる。
【００１５】
本発明の方法では、表面の露光時に、２Ｊ／ｃｍ2以下、より好ましくは１．６Ｊ／ｃｍ2以下のフルエンス、および／または１０００ｋＷ／ｃｍ2よりも低い出力、より好ましくは７００ｋＷ／ｃｍ2よりも低い出力を導入するのが好ましい。特に本発明の方法では、直径が約１０マイクロメートルのスポットサイズ（１／ｅ2の減衰）の場合、出力が１ワットよりも低い、特に５００ｍＷよりも低い、１つまたは複数のレーザによって画像形成を行うことができる。２．５ｍ／ｓの画像形成速度で露光を行うことができる。
【００１６】
本明細書では、「錯体形成物質」という概念は、１つまたは複数の中心分子または中心原子または中心イオン（中心粒子）と分子結合または原子結合することができ、その結合時に、１つまたは複数の中心粒子の周りに（必ずしも完全ではない）分子被膜または分子マトリクスを形成することによって、錯体を形成する中心分子の特定の物理特性または化学特性が少なくとも部分的に、好ましくは全面的に抑えられる物質を意味している。そのようにして、中心粒子は、部分的に、または完全に、いわばマスキングされる。このことによって、例えば所与の溶剤中における中心粒子の溶解性の変化、すなわち中心粒子の移動しやすさの変化を引き起こすことができる。錯体形成物質は、他の意味で溶剤として働くことができ、または錯体形成物質を、所与の溶剤に対する溶解誘導物質とすることができる。要するに、錯体形成物質は中心粒子を取り込んで、その化学特性を変化させる。
【００１７】
本発明による方法の具体的な実施態様では、錯体形成物質を極性媒体とすることができ、または、特に水である極性媒体中に溶解させておくことができる。錯体形成物質は現像液と呼ぶこともできる。
【００１８】
本発明の方法では、錯体形成物質の分子は、両親媒性分子および／または両親媒性分子の断片、特に両親媒性分子の、光解離によって形成された断片と、１つまたは複数の配位結合をすることができる配位子であるのが好ましい。
【００１９】
本明細書において、「配位子」とは、１つまたは複数の中心分子または中心原子または中心イオン（中心粒子）と結合または相互作用することができ、それによって、特定の条件下で（例えば特定のｐＨ値や特定の溶媒系(Solvatsystem)で）結合した分子化合物または結合した原子化合物（錯体）を形成することができる錯体形成物質を意味している。錯体は、新たな、または変化した物理特性または化学特性を生じる。錯体では、１つまたは複数の配位子が、適切な１つまたは複数の中心粒子の周囲に配置されていてよい。この場合、結合は必ずしも共有結合の特性を有する化学結合でなくてもよい。錯結合を多結合的または多重的にすることができ、すなわち、配位子は、錯体を形成する中心粒子との間で１つだけでなく複数の結合を形成することができる。さらに、複数の配位子に、単一の中心粒子との間で同時に１つまたは複数の結合を生じさせることもできる。こうして生じる個々の結合または相互作用は、共有結合よりも弱いのが普通である。要するに、配位子は中心粒子に配位結合する。
【００２０】
本発明による方法の有利な実施態様では、錯体形成物質は錯体形成オリゴ糖または錯体形成多糖である。オリゴ糖は最大１００個の単糖から構成されるのに対して、多糖は１００個を超える単糖を有している。糖を、アルドース（ポリヒドロキシアルデヒド）またはケトース（ポリヒドロキシケトン）とすることができる。特に、錯体形成物質をアラビアゴムとすることができる。アラビアゴムは、例えば、Eggon-Chemie GmbH & Co.KG社（ドイツ、３１１５７ Sarustedt）により、AgumOやAgumZといった名称で販売されている。
【００２１】
本発明の方法の、代替の有利な実施態様では、錯体形成物質はアンモニアまたはクエン酸、もしくはアンモニアとクエン酸の混合物であり、特に水に溶解されている。
【００２２】
本発明による方法の他の態様では、部分面は、錯体形成物質による処理中に弱い酸、特に酸化をさせない酸にさらされる。
【００２３】
本発明の方法では、電磁放射は赤外レーザ放射であるのが好ましい。赤外レーザ放射は、１つまたは複数の固体レーザまたは半導体レーザ、特にダイオードレーザによって生成されるのが好ましい。
【００２４】
加えて、または代替として、本発明の方法では、両親媒性分子で覆われた表面は、自然酸化したチタン、アルミニウム、鋼、ジルコニウム、マグネシウム、またはこれらの金属の合金、もしくはチタン酸塩またはジルコン酸塩を有するのが好ましい。
【００２５】
加えて、または代替として、本発明の方法では、両親媒性分子を、脂肪酸基または芳香族基で置換された無機酸または有機酸とすることができる。特に、両親媒性分子を、ヒドロキサム酸またはカルボン酸またはホスホン酸とすることができる。さらに、特に基は、置換されていない、または置換された炭素鎖を有することができ、この際、炭素原子の数は６個以上であり、有利には８個以上、特に１２個以上２５個以下である。
【００２６】
平版印刷用の版を、特許文献１または特許文献２に開示されているような版とすることができることは、本明細書に係る当業者には明らかである。これらの特許文献１または特許文献２の全ての開示内容は、引用により、本明細書の開示内容に取り入れられている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２８】
図１は、本発明による方法の有利な実施形態のフローチャートを示している。平版印刷法、特にオフセット印刷法の場合、表面には、層、特に微細な層、例えば両親媒性分子の単分子層が備えられている。表面の、後で印刷面となる部分は、当初は構造化されておらず、すなわち実質的に均質であり、両親媒性分子で密に覆われている。このように覆われることによって、両親媒性分子の、表面とは反対側の疎水性面のために、印刷面の疎水性は実質的に均一である（これについては図２も参照）。この初期状態を何度でも再生することができ、したがって、以下に説明する方法を、様々な構造パターン（印刷画像）に繰り返し適用することが可能である。両親媒性分子を備える版の準備１０についての詳細は既に述べたとおりであり、開示内容において取り挙げた特許文献１および特許文献２から理解される。この有利な実施形態では、表面は、自然酸化したチタン面であり、両親媒性分子としてはホスホン酸が用いられる。
【００２９】
本発明によれば、画像を形成する方法において、両親媒性分子で覆われた版の、電磁放射による、本実施形態ではレーザ放射による露光１２が行われる。露光１２は選択的に行われ、すなわち、印刷すべき印刷画像、特に印刷すべき色分解像に応じた（二次元の）パターンで、表面の部分領域でのみ行われる。この時、表面は、厳密に言うと両親媒性分子は、例えば出力が数百ミリワット、有利には１００から３００ミリワットのレーザを用いて、両親媒性分子の膜に少しの改変しか生じないような低いレーザ放射にのみさらされる（これに関しては図３の部分図も参照）。したがって、露光された領域と露光されていない領域の間で、平版印刷にとって十分に大きい接触角差（親水性または疎水性の尺度）は生じない。
【００３０】
露光１２に続く、錯体形成物質による処理１４によって初めて、表面の部分領域でレーザ放射により改変された両親媒性分子の膜は、十分に大きい接触角差が生じる程度に強く改変される。この有利な実施形態では、錯体形成物質はアラビアゴムであり、あるいは、この代わりに、クエン酸、アンモニア、またはこの両物質の混合物の１モル(einmolarige)水溶液である。換言すると、錯体形成物質は、露光１２の後に生じる、十分に強い濡れ性差を有していない構造を十分に強い構造にする現像液である。両親媒性分子が露光１２によって既に完全に取り除かれるならば、処理１４は必要ないことが当業者には明らかである。処理１４は、表面の部分面から両親媒性分子を選択的に除去するのには十分でないことも、当業者には明らかである。露光されていない領域、すなわち電磁放射による影響を受けていない領域では、両親媒性分子は、錯体形成物質の作用のみによって除去可能である以上に強く層に結合している。
【００３１】
本発明のこのやり方で、親水性領域と疎水性領域とに構造化された印刷面が得られる。平版印刷用の版による印刷１６は、従来のやり方で行うことができる。その後、場合によっては洗浄をしてから、新たに版の準備１０を行うことができる。換言すると、親水性領域と疎水性領域の構造、すなわちパターンが除去、すなわち消去され、表面が構造化されていない初期状態に戻される。
【００３２】
平版印刷用の版１８、特に金属製の版の、図２に模式的に示している有利な実施形態は、（例えば自然酸化に基づいた）親水性の表面２０を有しており、表面２０上が両親媒性分子２２によって覆われている。両親媒性分子２２は、自己組織化単分子膜を形成しているのが好ましいが、両親媒性分子２２の多重膜、すなわち複数の膜からなる層が、平版印刷用の版１８上に存在していてもよい。両親媒性分子２２は、親水性のアンカー基２４と疎水性の有機鎖２６とを有している。両親媒性分子２２は、親水性のアンカー基２４によって表面２０に結合し、例えば吸着することができる。両親媒性分子２２は、有機鎖２６が表面に直角に、表面と反対を向くように配向されているのが好ましい。ただし、印刷面の疎水性の部分面としての両親媒性分子２２の膜または層の機能のためには、このような配向が絶対に必要というわけではない。
【００３３】
図３ａ、３ｂ、および３ｃは、電磁放射によって露光された後の、両親媒性分子で覆われた表面の微視的な図である。両親媒性分子で覆われた表面を露光すると、両親媒性分子を完全に除去するか、不完全に除去するか、または除去しないことができる。特に、不完全に除去する場合、両親媒性分子を電磁放射によって損傷させることができる。両親媒性分子の配向を変化させることもでき、または配置の規則性を低下させることもできる。
【００３４】
図３ａには、両親媒性分子の膜が間引かれた平版印刷用の版１８が示されている。換言すると、電磁放射の作用によって、両親媒性分子の一部が完全に、特にアンカー基も含めて除去されている。このようにして、表面のこの領域の疎水性を低下させることができる。しかしながら、場合によっては、露光された領域と露光されていない領域の間の疎水性の差は、平版印刷プロセスを行うのに不十分である。
【００３５】
図３ｂには、平版印刷用の版１８の表面２０上の有機鎖２６が部分的に破壊された、両親媒性分子の膜３０が示されている。アンカー基２４はまだ表面に結合しており、一方、疎水性の有機鎖２６は電磁放射の作用によって部分的に破壊され、すなわち除去されている。このような状況でも疎水性が低下させられ、親水性のアンカー基に、外部から、すなわち表面と反対側から、少なくとも部分的にアクセス可能であり、例えば平版印刷プロセスにおける湿し水等の極性媒体(polaren Medium)に対して、比較的強い相互作用を生じる。
【００３６】
図３ｃでは、平版印刷用の版１８の表面２０上でアンカー基が部分的に分離されている、両親媒性分子の膜３２を見ることができる。アンカー基２４は完全に、または部分的に表面２０から分離されており、主として疎水性の分子断片である分離生成物が表面に堆積し、親水性の濡れ特性を抑制している。さらに、両親媒性分子をそのアンカー基も含めて分離する時に、平版印刷用の版１８の金属マトリクスの個々の原子またはイオンも、両親媒性分子とともに分離することもできる。
【００３７】
図３ａ、３ｂ、および３ｃに示す状況を、露光された表面の部分領域に互いに同時に、組み合わせて、または混ぜ合わせて生じさせることもできる。
【００３８】
部分面で電磁放射にさらされた表面の処理、すなわち現像ステップは、インキ案内を、すなわち露光されていない領域の疎水性を低下させ、または制限することなく、露光された個所または領域に、平版印刷プロセスに十分な親水性を生じさせ、すなわち露光されていない領域に対して十分な濡れ性差を生じさせることを目的としている。
【００３９】
図４は、両親媒性分子によって覆われた、図３ａに示す状態の表面の、錯体形成物質による処理を模式的に示す微視的な図である。両親媒性分子２２が間引かれているので、両親媒性分子の膜内への錯体形成物質の浸透によって、アンカー基２４に化学的にアクセス可能である。特に、極性媒体との相互作用を生じさせることが可能である。錯体形成物質３４の作用が、図４に示す矢印によって示されている。このようにして、平版印刷用の版１８の（自然酸化された）金属の表面２０へのアンカー基の結合を、化学反応によって、例えば加水分解によって、切断することができる。それに対して、両親媒性分子２２の、密に閉じられている層または膜では、極性物質、特に極性媒体は、両親媒性分子２２のアンカー基２４まで達してアンカー基２４の、表面２０との結合を切断することが、空間的に不可能である。さらに、その場合、化学的に作用する錯体形成物質、すなわち現像液は、間引かれた膜の疎水性が低下しているために、電磁放射に露光された領域を局部的に濡らし、その場所で、表面２０との結合が弱められた両親媒性分子を除去する。この際、両親媒性分子の層における欠陥、すなわち規則性の低下だけでも、結合は弱められ、それによって、その層は機械的な強度を失う。このように親水性は、換言すると、画像を形成される領域と画像を形成されない領域の、インキまたは水による濡れ性の差は、平版印刷プロセスにとって十分となるように、この領域における加溶媒分解と機械的プロセスとの組合せに基づいてさらに高められる。
【００４０】
図４の下側部分には、錯体形成物質による平版印刷用の版１８の処理の結果が示されている。表面２０は、親水性領域３６と、両親媒性分子２２の密な膜がまだある疎水性領域３８とを有している。表面は、画像に応じて、またはパターンに応じて構造化されている。
【００４１】
図５は、平版印刷用の版１８の、両親媒性分子によって覆われた、図３ｂに示す状態の表面２０の、錯体形成物質による処理、およびその適用結果を模式的に示している。破壊された両親媒性分子２２の、部分的に残っているアンカー基２４は、極性媒体、特に錯体形成物質によって塗らされ、場合によっては可溶化され(angelost)て除去される。この際、表面２０の金属原子または金属イオンとのアンカー基２４の錯結合を解消することもできる。残りの（破壊されていない）間引かれた両親媒性分子の除去は、図４に関して説明した工程と同様であることが分かる。図５の下側部分に模式的に示すように、残りの極性アンカー基２４が除去されていない時に既に親水性が高められる。表面２０は、個々の親水性のアンカー基がまだある親水性領域３６と、両親媒性分子２２の密な膜がまだある疎水性領域３８とを有している。表面は、画像に応じて、またはパターンに応じて構造化されている。
【００４２】
図６は、平版印刷用の版１８の、両親媒性分子によって覆われた、図３ｂに示す状態の表面２０の、極性媒体４０中の、代替の錯体形成物質による処理と、図５に示す状況に代わる適用結果とを示している。破壊された両親媒性分子２２の、部分的に残っているアンカー基２４は、錯体形成物質を有する極性媒体４０によって濡らされ、場合によっては可溶化されて除去される。この際、表面２０の金属原子または金属イオンとのアンカー基２４の錯結合を解消することもできる。残りの（破壊されていない）間引かれた両親媒性分子の除去は、図４に関して説明した工程と同様であることが分かる。図６の下側部分に模式的に示すように、残りの極性のアンカー基２４も一緒に除去された時に、親水性をより大幅に高められる。表面２０は、両親媒性分子およびその残りのない親水性領域３６と、両親媒性分子２２の密な膜がまだある疎水性領域３８とを有している。表面は、画像に応じて、またはパターンに応じて構造化されている。
【００４３】
図７は、両親媒性分子によって覆われた、図３ｃに示す状態の表面の、極性媒体４０中の錯体形成物質による処理を模式的に示す微視的な図である。分離生成物を、機械的に、または溶解工程で、表面２０から除去しなければならない。図７の下側部分に模式的に示すように、表面２０は、表面２０に個々に結合された間引かれた両親媒性分子またはアンカー基をまだ有している親水性領域３６と、両親媒性分子２２の密な膜がまだある疎水性領域３８とを含んでいる。表面は、画像に応じて、またはパターンに応じて構造化されている。
【００４４】
換言すると、例えば、錯体形成粒子の結合平衡を崩すことによって、または共有結合、特に縮合結合の加水分解によって、金属イオンの溶解性(Loslichkkeot)を高め、および／または、両親媒性分子の膜または層内で生じる、表面との結合（錯結合または共有結合、特に縮合結合）を弱め、または切断する（極性のある）物質、特に媒体が、錯体形成物質または現像液として用いられる。適切な錯体形成物質を使えば、または錯体形成物質の媒体中の溶液を使えば、両親媒性分子を備えている再画像形成可能な表面上に電磁放射によって生成される、濡れ性差の弱い構造を現像することができ、すなわち強化することができる。低い放射出力と湿潤化化学処理とを組み合わせ、その結果として、画像形成される領域または部分面と、画像形成されない領域または部分面との、水に対する接触角差を選択的に高めることによって、平版印刷用の、構造化された版が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明による方法の有利な実施形態のフローチャートである。
【図２】本発明の方法によって画像を形成することができる、平版印刷用の版の、両親媒性分子で覆われた表面の実施形態を模式的に示す微視的な図である。
【図３ａ】電磁放射にさらされた後の、両親媒性分子で覆われた表面を模式に示す微視的な図である。
【図３ｂ】電磁放射にさらされた後の、両親媒性分子で覆われた表面を模式に示す微視的な図である。
【図３ｃ】電磁放射にさらされた後の、両親媒性分子で覆われた表面を模式に示す微視的な図である。
【図４】両親媒性分子で覆われた、図３ａに示す状態の表面の、錯体形成物質による処理を模式的に示す微視的な図である。
【図５】両親媒性分子で覆われた、図３ｂに示す状態の表面の、錯体形成物質による処理、および適用結果を模式的に示す微視的な図である。
【図６】両親媒性分子で覆われた、図３ｂに示す状態の表面の、錯体形成物質による処理、および図５に示す状況に代わる適用結果を模式的に示す微視的な図である。
【図７】両親媒性分子で覆われた、図３ｃに示す状態の表面の、錯体形成物質による処理を模式的に示す微視的な図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０    版の準備
１２    電磁放射による露光
１４    錯体形成物質による処理
１６    版の印刷
１８    平版印刷用の版
２０    表面
２２    両親媒性分子
２４    アンカー基
２６    有機鎖
２８    両親媒性分子の間引かれた膜
３０    有機鎖が部分的に破壊された両親媒性分子の膜
３２    アンカー基が部分的に分離された両親媒性分子の膜
３４    錯体形成物質の作用
３６    親水性領域
３８    疎水性領域
４０    極性媒体
【図１】
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【図２】
2007253626.tif 000004
【図３ａ】
2007253626.tif 000005
【図３ｂ】
2007253626.tif 000006
【図３ｃ】
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【図４】
2007253626.tif 000008
【図５】
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【図６】
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【図７】
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