【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４２１８０００号発明「含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼とその製造方法」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　請求のとおり訂正を認める。
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯
本件特許第４２１８０００号に係る経緯の概要は、以下のとおりである。
　平成１３年　９月１２日　特許出願（特願２００１−３２１２０２号）
　平成２０年１１月２１日　設定登録
　平成２５年　４月１１日　本件無効審判請求（請求項１及び２に対して）
　平成２５年　７月　９日　答弁書及び訂正請求書
　平成２５年　８月２７日　口頭審理陳述要領書（請求人）
　平成２５年　９月１８日　口頭審理陳述要領書（被請求人）
　平成２５年１０月　２日　口頭審理
　
第２　平成２５年７月９日付け訂正請求（以下、「本件訂正請求」という。）について
（１）本件訂正請求の内容について
　本件訂正請求は、本件特許の願書に添付した明細書の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付した特許請求の範囲のとおり一群の請求項ごとに訂正することを求めるものであって、その内容は以下のとおりである。
　
ａ　訂正事項１
　訂正前の特許請求の範囲の請求項１である「ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、含弗素水溶性塩類の水溶液の電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめることにより、表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった含弗素、酸素系被膜層を形成させ、その被膜の作用効果によって該鋼種相応の耐食性特に塩素による耐孔食性をより向上せしめたことを特徴とする含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼。」を、
「ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、含弗素水溶性塩類の水溶液の電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめることにより、表層部に比べて
Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された
　
（２）訂正の適否
　上記訂正事項１は、請求項１の「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった含弗素、酸素系被膜層」を、「表層部に比べて
Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された
　また、「約６Å深さの弗素濃度」の具体的測定方法として、含弗素、酸素系被膜層を「６Åエッチング」し、エッチング後の表面を「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法」によって測定することを特定したものであるから、「約６Å深さの弗素濃度」の測定手段を限定したものであるともいえる。
　してみると、当該訂正は、「約６Å深さの弗素濃度」の具体的測定方法を明らかにするとともに、その測定手段を限定するものであるので、本件訂正は、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」又は同項ただし書第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものである。
　
　また、上記訂正事項１は、発明特定事項の構成を明瞭にするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１３４条の２第５項で準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するものである。
　
　さらに、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。
「【０００５】
・・・ＥＳＣＡ法による表面層並びにその近傍の元素分析を行ったところ、・・・本発明方法による試片については、Ｏの存在のほかに、バックグラウンド値を遥かに超えた極めて多量のＦが検出されてその存在が立証されたことから上記の各事実と併せて、従来法の定説となっている酸素系よりも塩素に対して遥かに強力な含弗素乃至は含弗素・酸素系不動態化被膜の生成法を発明するに至ったものである。」
「【０００６】
【実施例】・・・
実施例３．
・・・ＥＳＣＡ分析を行ったところ、・・・表層部に於ては勿論、６Åエッチング面に於ては更に多量のＦが検出され、・・・
実施例４．
・・・Ｆについては表層部では実施例３と同等で、６Åエッチング面では稍々低下しているものの、同様に多量のＦが浸透していることが確認され、・・・
実施例５．
・・・Ｆについてはバックグラウンド値と同じであるが、６Åエッチング後の面では可成りの高い値を示しており、・・・」
　上記の記載によれば、上記訂正事項１（訂正前の「約６Å深さの」を「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された」に訂正する）は、特許明細書の発明の詳細な説明の記載に基づいて導き出される事項であることは明らかであり、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１３４条の２第５項において準用する同法１２６条第３項の規定に適合するものである。
　
　よって、本件訂正は、特許法第１３４条の２第１項ただし書き、及び、同条第５項において準用する同法第１２６条第３項、４項の規定に適合するので、適法な訂正と認める。
　
　なお、請求人は、口頭審理陳述要領書において、「特許請求の範囲の請求項１の、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった・・・」は、・・・「表層部に比べて
６Å深さの前後にわたる領域の弗素濃度
そのエッチング後の表面から数ｎｍにわたる領域の弗素濃度
ハ．また、発明の詳細な説明の表２には、「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって
約６Å
６Å
６Å
約６Å
　しかしながら、訂正前の請求項１の「約６Å深さの弗素濃度」については測定方法が不明であり、どのような範囲の弗素濃度を指しているのか不明りょうであったところ、請求人の主張するように「約６Å深さ」を「６Å深さの前後にわたる領域」または「６Å深さを中心とするその前後のきわめて狭い領域（例えば、５．５Å深さから６．５Å深さに至る約１Åの領域）」と解さなければならない理由は何もなく、また、訂正後に測定方法を明らかにして「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度」としたことは、弗素濃度の測定条件を明らかにして、一義的に弗素濃度を求めることができるようになったものであり、「実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するもの」に該当するものではない。また、「約６Å」を「６Å」と訂正することは、範囲を曖昧にする表現であって、発明の範囲を不明確とする「約」という語を省くものであり、数値範囲または数値を明りょうとするものであって、「明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正」である。よって、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
第３　本件発明
　本件特許の明細書の特許請求の範囲は、上記のとおり訂正が認められるから、本件特許の請求項１及び２に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、含弗素水溶性塩類の水溶液の電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめることにより、表層部に比べてＸ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度が高くなった含弗素、酸素系被膜層を形成させ、その被膜の作用効果によって該鋼種相応の耐食性特に塩素による耐孔食性をより向上せしめたことを特徴とする含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼。」（以下、「本件特許発明１」という）
　
「【請求項２】
請求項１記載のステンレス鋼の製造方法であって、ステンレス鋼を直流の陽極に、又は交流の一極に、若しくは直流に交流を重ね合わせた交直重乗電流の陽極側に接続し、他の電導性対極との間に、塩素、沃素、臭素を含まぬ他の有機或は無機酸若しくはその水溶性塩類に弗酸若しくはそのナトリウム、カリウム、アンモニウム塩の一種若しくは二種以上を配合添加した溶液を電解液とし、対抗する電極との間に前記ステンレス鋼を介在せしめた状態で電解処理することにより、ステンレス鋼表層に含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を形成させることを特徴とするステンレス鋼の製造方法。」（以下、「本件特許発明２」という）
　
第４　請求人及び被請求人の主張の概要
　
１．請求人の主張
　請求人の主張は、以下のとおりである。
　
　本件特許発明１及び２は、発明の詳細な説明及び特許請求の範囲がその記載要件を満たしておらず、特許法第３６条第４項並びに第６項第１号及び第２号の規定により特許を受けることができないものであり、その特許は同法第１２３条第１項第４号に該当し、無効とされるべきである（以下、「無効理由１」という。）。
　本件特許発明１及び２は、下記の、甲第１号証に記載された発明であるか、又は、甲第１号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第１項又は第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、その特許は同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とされるべきである（以下、「無効理由２」という。）。
　本件特許発明１及び２は、下記の、甲第２号証及び甲第３号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであり、その特許は同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とされるべきである（以下、「無効理由３」という。）。
　
〈証拠方法〉
甲第１号証：山▲崎▼（「さき」の字は「崎」の「大」を「立」としたもの。以下同様。）修、「ステンレス鋼の耐食性および不働態皮膜生成に及ぼすフッ化物イオンの影響に関する研究」、博士論文、学位授与日　２０００年３月２４日、国立国会図書館受入日　２０００年６月１日
甲第１号証の２：国立国会図書館所蔵図書館資料に関する証明書コピー、証明番号　国図関西１２０１０４４−７−１号（甲第１号証の学位授与日、国立国会図書館受入日を証明する書類）
甲第２号証：柴田俊夫、山▲崎▼修、松浦修、藤本慎司、「フッ化物水溶液中においてＳＵＳ ３０４ステンレス鋼に生成した不動態皮膜の耐硫酸腐食性」、表面技術、社団法人表面技術協会、１９９９年５月１日発行、第５０巻、第５号、４５３−４５９頁、表紙、および奥付頁
甲第３号証：柴田俊夫、山▲崎▼修、藤本慎司、「二段硝酸不働態化処理によるＴｙｐｅ３０４ステンレス鋼の耐孔食性向上効果」、材料と環境、社団法人腐食防食協会、１９９９年３月１５日発行、第４８巻、第３号、１５５−１６１頁、表紙、および奥付頁
甲第４号証：特許第３０５７０３３号公報、平成１２年６月２６日発行
甲第５号証：特公平１−２７１６０号公報、平成１年５月２６日公告
甲第６号証：「Ｘ線・放射光の分光」、株式会社講談社、２０１１年６月１０日発行、６８−６９頁および奥付頁
甲第７号証：インターネットにより検索された情報
http://www.nakano-acl.co.jp/fukugo/feature.html
甲第８号証：インターネットにより検索された情報
http://www.nakano-acl.co.jp/fukugo/
　
２．被請求人の主張
　本件特許発明１は、発明の詳細な説明に記載されており、また特許を受けようとする発明は明確であり、さらに発明の詳細な説明には本件特許発明１を当業者が実施することができる程度に明確かつ十分に記載があるから、本件特許は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に違反する特許出願に対して特許されたものでも、同条第４項第１号に違反する特許出願に対して特許されたものでもない。
　また、本件発明は、甲第１号証に記載された発明と実質的に同一ではなく、また、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもなく、さらに、甲第２号証及び甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないから、本件特許は、特許法第２９条第１項又は同条第２項の規定に違反して特許されたものではない。
　
＜証拠方法＞
　乙第１号証：「電解研磨後の粗さ測定結果」（菱明技研（株）報告書）
　乙第２号証：柴田俊夫、山▲崎▼修、藤本慎司、「微量フッ化物含有ＨＮＯ３不働態化処理によるＴｙｐｅ３０４ステンレス鋼の耐孔食性向上効果」、材料と環境、社団法人腐食防食協会、第４８巻、第１号、４１−４６頁
　
第５　当審の判断
１．甲１〜３号証の記載内容
（１）甲第１号証
　甲第１号証は、「ステンレス鋼の耐食性および不働態皮膜生成に及ぼすフッ化物イオンの影響に関する研究」と題し、図面とともに以下の記載がある。
　
（ア）第１章「序論」の「１．１　緒言」として
「・・・ステンレス鋼は不働態化処理条件によって、その耐食性が大きく影響を受けることが知られている。柴田らは各種酸溶液中での不働態化処理条件と不働態皮膜中のＣｒ濃度に着目した研究を行い、耐食性の上昇が不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進によることを明らかにした。また、橘らは酸性溶液においてフッ化物イオンはステンレス鋼表面からＦｅ成分を選択的に溶解することを明らかにし、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進を示唆した。これらから判断すると、フッ化物イオンを用いた不働態化処理で耐食性が向上する可能性があるものと考えられる。
　一方、フッ素ガスを用いたステンレス鋼の不働態化処理技術が報告されている。半導体製造プロセスの中においてＣＶＤ、ＰＩＥなどのプロセスでは反応性ガス、腐食性の特殊材料ガスが用いられるため、耐食性に富んだフッ化不働態化処理ステンレス鋼が半導体製造プロセス清浄度の改善に大きく貢献している。このことから、湿式での不働態化処理においてもフッ化物イオンが適応できる可能性が大きいことが伺われる。
　上述のごとく、ステンレス鋼の耐食性に及ぼすフッ化物イオンの影響については、ほとんど研究例がなく、また不働態化処理に関してフッ化物イオンが有効に働く可能性があることから、本研究においては、ステンレス鋼の耐食性、とくに局部腐食に及ぼすフッ化物イオンの影響を明らかにすることを目的とし、さらに水溶液中における不働態皮膜の生成に関するフッ化物イオンの作用を検討し、高耐食性不働態皮膜の生成を試みた。」（２頁２〜１８行）
　
（イ）第１章の「１．６　本研究の目的と概要」として
「・・・５．２節においては、フッ化物イオンを含む硝酸溶液中にＴｙｐｅ ３０４鋼を浸漬処理した後、孔食電位測定とＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）による表面分析を行い、耐孔食性向上効果と不働態皮膜中へのＣｒの濃縮挙動に及ぼすフッ化物イオンの影響について検討した。また、５．３節では、Ｔｙｐｅ ３０４鋼の耐孔食性をさらに向上させることを目的に、フッ化物を含む硝酸溶液への浸漬処理「１段浸漬処理」と、その後に硝酸単独溶液への浸漬処理「２段浸漬処理」とを施し、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進に及ぼす１段浸漬処理でのフッ化物イオンの影響と２段浸漬処理での硝酸濃度の影響について検討した。さらに、５．４節では、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液中においてＴｙｐｅ ３０４鋼を定電位電解した後、硫酸中での自己活性化時間の測定およびＸＰＳによる表面分析を行い、耐硫酸腐食性が優れる不働態皮膜の生成に及ぼす電解電位とｐＨの影響について検討した。」（９頁下から１１〜２行）
　
（ウ）第５章「フッ化物水溶液中で生成した不働態皮膜の耐食性」の「５．１　緒言」として
「・・・その後、硝酸溶液中での不働態化処理による孔食電位の上昇が不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進によることを明らかにした。
　一方、橘らはフッ化物イオンを含む硫酸ナトリウム溶液中でＴｙｐｅ ３０４鋼を定電位アノード分極した後、溶出成分をＩＣＰ分析して、酸性溶液においてフッ化物イオンはＦｅ成分を選択的に溶解することを明らかにし、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進を示唆した。このことから推定すると、フッ化物イオンを用いた不働態化処理でステンレス鋼の耐食性が向上する可能性があるものと考えられる。
　そこで本章では、フッ化物水溶液中において生成した不働態皮膜の耐食性を調べることを目的に、５．２節では、フッ化物イオンを含む硝酸溶液中にＴｙｐｅ ３０４鋼を浸漬処理した後、孔食電位測定とＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）による表面皮膜解析を行い、耐孔食性向上効果と不働態皮膜中へのＣｒの濃縮挙動に及ぼすフッ化物イオンの影響について検討した。
　また、５．３節では、Ｔｙｐｅ ３０４鋼の耐孔食性をさらに向上させることを目的に、フッ化物イオンを含む硝酸溶液中への浸漬処理「１段浸漬処理」と、その後に硝酸単独溶液中への浸漬処理「２段浸漬処理」とを施し、孔食電位測定とＸＰＳによる表面皮膜解析を行い、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進に及ぼす１段浸漬処理でのフッ化物イオンの影響と２段浸漬処理での硝酸濃度の影響について検討した。
　さらに、５．４節では、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液中においてＴｙｐｅ ３０４鋼を定電位電解した後、硫酸中での自己活性化時間の測定とＸＰＳによる表面皮膜解析を行い、耐硫酸腐食性が優れる不働態皮膜の生成に及ぼす電解電位とｐＨの影響について検討した。」（５８頁８〜２７行）
　
（エ）第５章の５．２節「微量フッ化物含有ＨＮＯ３不働態化処理によるＴｙｐｅ ３０４ステンレス鋼の耐孔食性向上効果」の「５．２．５　まとめ」として
「Ｔｙｐｅ ３０４鋼を１．５〜６．０ｋｍｏｌ・ｍ−３ＨＮＯ３＋０〜５×１０−２ｋｍｏｌ・ｍ−３ＮａＦ溶液中で３．６ｋｓの浸漬処理を行った後、孔食電位測定およびＸＰＳによる表面皮膜解析を行い、耐孔食性および皮膜組成に及ぼすフッ化物イオンの影響を調べた。１．５および３．０ｋｍｏｌ・ｍ−３ＨＮＯ３＋５×１０−３ｋｍｏｌ・ｍ−３ＮａＦ溶液中で浸漬処理することによって耐孔食性が飛躍的に向上するとともに、不働態皮膜中のＣｒ濃度の上昇、皮膜厚さの増加が認められた。上記溶液への浸漬処理によって耐孔食性が向上するのは、Ｆ−が不働態皮膜内に侵入して皮膜内および母材金属中のＦｅと錯体を形成し、優先的にＦｅを溶出させ、その結果として皮膜中のＣｒ濃度が上昇し、皮膜厚さも増加するためと考えられた。」（６７頁９〜１４行）
　
（オ）第５章の５．３節「二段硝酸不働態化処理によるＴｙｐｅ ３０４ステンレス鋼の耐孔食性向上効果」の「５．３．４　考察」として
「不働態皮膜中のＣｒ濃度の上昇が孔食電位を貴に移行させることはよく知られている。本実験結果においても、図５−１７に示すように、Ｃｒ濃度が高い範囲で孔食電位が貴な値を示した。しかしながら、本実験結果から孔食電位の上昇には不働態皮膜中のＣｒ濃度の他に、皮膜厚さが影響しているものと考えられた。・・・
　先に述べたように、２段浸漬処理後の不働態皮膜からはＦ−が認められ、さらに、図５−１７から、皮膜中のＦ−量が孔食電位の上昇に影響を及ぼすものと考えられた。・・・このことから推定すると、皮膜中に存在するＦ−には塩化物溶液中において耐孔食性を向上させる作用があるものと考えられた。
　・・・皮膜内あるいは皮膜最表面のＦ−には溶液皮膜界面においてＣｌ−の不働態皮膜への吸着を妨害する作用、たとえばクーロン力による反発作用などがあり、塩化物溶液において耐孔食性を向上させるものと推定した。」（７６頁５行〜７７頁１０行）
　
（カ）第５章の５．３節の「５．３．５　まとめ」として
「・・・上記処理後の試験片のＸＰＳによる解析から、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進が認められ、また皮膜中にＦ−の存在が認められた。
　不働態皮膜中へのＣｒの濃縮は、１段浸漬処理でのＦ−による促進効果をＨＮＯ３の高酸化性作用を利用した２段浸漬処理によってさらに促進したものと考えられた。また不働態皮膜内および皮膜最表面のＦ−が塩化物溶液中において、インヒビターとして作用して耐孔食性を向上させたものと推定した。」（７７頁１８〜２３行）
　
（キ）第５章の５．４節「フッ化物水溶液中においてＴｙｐｅ ３０４ステンレス鋼に生成した不働態皮膜の耐硫酸腐食性」の「５．４．１　目的」として
「本研究では、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液中においてＴｙｐｅ ３０４鋼を定電位電解した後、硫酸中での自己活性化時間の測定およびＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）による表面皮膜解析を行い、耐硫酸腐食性が優れる不働態皮膜の生成に及ぼす電解電位とｐＨの影響について検討した。」（７７頁下から２行〜７８頁１行）
　
（ク）第５章の５．４節の「５．４．２　実験方法」として
「定電位電解開始３０分前から電解終了までＡｒで試験溶液を脱気した。」（７８頁下から３行）
　
（ケ）第５章の５．４節の「５．４．３　実験結果　（３）ＸＰＳによる不働態皮膜の解析」として
「・・・本研究では、不働態皮膜が表面から順に、炭化水素の汚染層、Ｃｒの水酸化物層、ＦｅとＣｒの混合酸化物層とする３層モデルを仮定した。
　・・・酸化物層の皮膜厚さは、電解電位には関係なく、０．５ｎｍ程度であるが、水酸化物層の皮膜厚さは電解電位の上昇とともに増加して、０．４Ｖでピークを示した。また皮膜内Ｆ−量の増減は水酸化物層の皮膜厚さと対応しており、０．４Ｖでピークを示した。」（８３頁２〜１１行）
　また、図５−２４には、ｐＨ１．８のフッ化物水溶液で生成した不働態皮膜の組成、皮膜厚さなどの測定結果が示されている。同図によると、電解電位が０．４Ｖのとき、皮膜内Ｆ−量がピーク値を示し、酸化物層の被膜厚さは約０．５ｎｍ（５Å）、水酸化物層の被膜厚さは約１．０ｎｍ（１０Å）であることが見て取れる。
　
（コ）第５章の５．４節の「５．４．４　考察」として
「・・・図５−２４の結果から、水酸化物層の皮膜厚さの増減とＦ−量の増減には対応が認められ、Ｆ−は水酸化物層に侵入するものと考えられた。」（８５頁１６〜１７行）
　
（サ）第５章の５．４節の「５．４．５　まとめ」として
「酸性のフッ化物水溶液中では低電位側（ｐＨ１．８、−０．４Ｖ）に耐硫酸腐食性の優れる不働態皮膜が生成した。ＸＰＳの表面解析から、不働態皮膜の酸化物中のＣｒ分率の上昇が確認され、τａとの関連性が認められた。アノード分極曲線の測定から、酸性溶液ではフッ化物イオンの活性溶解を促進する作用により、ステンレス鋼表面からＦｅが優先的に溶出して、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮が促進するものと考えられた。また水酸化物層の皮膜厚さの増減と皮膜中のＦ−量の増減には関連性が認められ、Ｆ−は水酸化物層に侵入するものと考えられた。」（８６頁下から３行〜８７頁３行）
　
　上記の記載事項（ア）〜（ウ）及び（キ）〜（サ）によれば、甲第１号証の５．４節には、「Ｔｙｐｅ ３０４鋼の表層部乃至その近傍に対し、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液の定電位電解により発生したフッ素イオンを侵入せしめることにより、含フッ素不働態皮膜を形成させ、その被膜の作用効果によって耐硫酸腐食性が優れる含フッ素不働態皮膜を形成させたＴｙｐｅ ３０４鋼。」（以下、「甲１発明」という。）が記載されている。
　
（２）甲第２号証 
　甲第２号証は、「フッ化物水溶液中においてＳＵＳ ３０４ステンレス鋼に生成した不動態皮膜の耐硫酸腐食性」と題し、図面とともに以下の記載がある。
　
（シ）
「ステンレス鋼の耐食性がその表面に生成する不動態皮膜によってもたらされることは良く知られている。不動態皮膜中のＣｒ濃度は耐食性に大きく影響し、これは下地合金中のＣｒ濃度のみならず、表面処理条件によって変化する。・・・」（４５３頁左欄２〜６行）
　
（ス）
「・・・本研究では、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液中においてＳＵＳ ３０４鋼を定電位電解した後、硫酸中での自己活性化時間の測定およびＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）による表面分析を行い、耐硫酸腐食性が優れる不動態皮膜の生成に及ぼすフッ化物溶液中における電解電位とｐＨの影響について検討した。」（４５３頁右欄６〜１１行）
　
（セ）
「比電導度が２×１０−６Ｓ・ｃｍ−１以下の蒸留水と４６ｍａｓｓ％ＨＦ水溶液、ＮａＦ、ＮａＯＨの特級試薬とを用いて、表２に示すように全フッ化物濃度、［Ｆ］ｔｏｔａｌを０．５ｋｍｏｌ・ｍ−３に固定してｐＨを１．８〜１３．２に変化させた６種類の試験溶液を調製した。・・・定電位電解にはポテンショスタット（北斗電工（株）製：ＨＡ−１５１）を使用して、対極にＰｔ板を、照合電極として飽和カロメル電極、ＳＣＥ（東亜電波工業（株）製：ＨＣ−２０５Ｃ）を用いた。」（４５４頁左欄３〜１２行）
　
（ソ）
「・・・本研究では、不動態皮膜が表面から順に、炭化水素の汚染層、Ｃｒの水酸化物層、ＦｅとＣｒの混合酸化物層とする３層モデルを仮定した。・・・」（４５６頁右欄６〜９行）
　
（タ）
「ｐＨ１．８（図６）では、・・・酸化物層の皮膜厚さは、電解電位には関係なく０．５ｎｍ程度であるが、水酸化物層の皮膜厚さは電解電位の上昇とともに増加して、０．４Ｖでピークを示した。また皮膜内Ｆ−量の増減は水酸化物層の皮膜厚さと対応しており、０．４Ｖでピークを示した。」（４５６頁右欄１６行〜４５７頁左欄３行）
　
（チ）
「・・・図６の結果から、水酸化物層の皮膜厚さの増減とＦ−量の増減には対応が認められ、Ｆ−は水酸化物層に侵入するものと考えられた。」（４５８頁左欄６〜９行）
　
（ツ）図６（４５６頁）には、ｐＨ１．８のフッ化物水溶液で生成した不働態皮膜の組成、皮膜厚さなどの測定結果が示されている。同図によると、電解電位が０．４Ｖのとき、皮膜内Ｆ−量がピーク値を示し、酸化物層の皮膜厚さは約０．５ｎｍ（５Å）、水酸化物層の皮膜厚さは約１．０ｎｍ（１０Å）であることが見て取れる。
　
（３）甲第３号証
　甲第３号証は、「二段硝酸不働態化処理によるＴｙｐｅ３０４ステンレス鋼の耐孔食性向上効果」と題し、図面とともに以下の記載がある。
　
（テ）
「前報において著者らは、・・・１．５および３．０ｋｍｏｌ・ｍ−３ＨＮＯ３＋５×１０−３ｋｍｏｌ・ｍ−３ＮａＦ溶液中（３１３Ｋ）での浸漬処理（３．６ｋｓ）により耐孔食性が飛躍的に向上することがわかり、またＸＰＳの表面皮膜解析から不働態皮膜中のＣｒ濃度の上昇、皮膜厚さの増加が認められ、さらにＦ−が不働態皮膜内に侵入していることがわかった。上記溶液中への浸漬処理で、Ｆ−が不働態皮膜内に侵入して、皮膜内および母材金属中のＦｅと錯体を形成し、優先的にＦｅを溶出させ、その結果、皮膜中のＣｒ濃度が上昇し、皮膜厚さも増加して耐孔食性が向上したものと推定した。
　そこで本研究では、Ｔｙｐｅ３０４鋼の耐孔食性をさらに向上させることを目的に、フッ化物を含む硝酸溶液への浸漬処理「１段浸漬処理」と、その後に硝酸単独溶液への浸漬処理「２段浸漬処理」とを施し、孔食電位測定とＸＰＳによる表面被膜解析を行い、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進に及ぼす１段浸漬処理でのフッ化物の影響と２段浸漬処理での硝酸濃度の影響について検討した。」（１５５頁右欄２行〜１５６頁１１行）
　
（ト）
「不働態皮膜中のＣｒ濃度の上昇が孔食電位を貴に移行させることはよく知られている。本実験結果においても、Ｆｉｇ．９に示すように、Ｃｒ濃度が高い範囲で孔食電位が貴な値を示した。しかしながら、本実験結果から孔食電位の上昇には不働態皮膜中のＣｒ濃度のほかに、皮膜厚さが影響しているものと考えられた。・・・
　先に述べたように、２段浸漬処理後の不働態皮膜からはＦ−が認められ、さらに、Ｆｉｇ．９から、皮膜中のＦ−量が孔食電位の上昇に影響を及ぼすものと考えられた。・・・このことから推定すると、皮膜中に存在するＦ−には塩化物溶液中において耐孔食性を向上させる作用があるものと考えられた。」（１６０頁右欄下から１９行〜１６１頁左欄１０行）
　
（ナ）
「・・・皮膜内あるいは皮膜最表面のＦ−には溶液皮膜界面においてＣｌ−の不働態皮膜への吸着を妨害する作用、たとえば電気的反発力などがあり、塩化物溶液において耐孔食性を向上させるものと推定した。」（１６１頁左欄下から８〜４行）
　
（ニ）
「・・・上記処理後の試験片のＸＰＳによる解析から、不働態皮膜中へのＣｒの濃縮促進が認められ、また皮膜中にＦ−の存在が認められた。
　不働態皮膜中へのＣｒの濃縮は、１段浸漬処理でのＦ−による促進効果をＨＮＯ３の高酸化性作用を利用した２段浸漬処理によってさらに促進したものと考えられた。また不働態皮膜内および皮膜最表面のＦ−が塩化物溶液中において、インヒビターとして作用して耐孔食性を向上させたものと推定した。」（１６１頁右欄９〜１７行）
　
　請求人は、甲第１号証又は甲第２号証及び甲第３号証を提示して、新規性及び進歩性に係る無効理由２または無効理由３を主張する。
　そこで、以下、無効理由２及び無効理由３の検討においては、甲第１号証又は甲第２号証及び甲第３号証に記載された発明と対比する。
　
２．無効理由２（甲第１号証に基づく新規性・進歩性）について
（１）本件特許発明１について
ａ　対比
　本件特許発明１と甲１発明とを対比すると、その機能及び作用からみて、甲１発明の「Ｔｙｐｅ ３０４鋼」、「ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液」、「定電位電解」、「フッ素」、「侵入」、「含フッ素不働態皮膜」は、それぞれ、本願特許発明１の「ステンレス鋼」、「含弗素水溶性塩類の水溶液」、「電気分解」、「弗素若しくは弗素と酸素」、「拡散、浸透」、「含弗素、酸素系被膜層」に相当する。
　また、本件特許発明１の「電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめる」とは、「電気分解で発生した弗素イオン等を拡散、浸透せしめる」ことであると解されるので、甲１発明の「定電位電解により発生したフッ素イオンを侵入せしめる」に相当する。
　してみると、
　両者は、
「ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、含弗素水溶性塩類の水溶液の電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめることにより含弗素、酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼。」
の点で一致し、次の点で相違している。
　
〈相違点１〉
　含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層における弗素濃度について、本件特許発明１では、表層部に比べてＸ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度が高くなっているのに対し、甲１発明では、表面部及び被膜層内部の弗素濃度分布が明らかでない点。
　
〈相違点２〉
　含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層の作用効果について、本件特許発明１では、該鋼種相応の耐食性特に塩素による耐孔食性をより向上せしめたものであるのに対し、甲１発明では、耐硫酸腐食性に優れたものではあるが、塩素による耐孔食性については不明である点。
　
ｂ　判断
〈相違点１について〉
　本件特許明細書の発明の詳細な説明には、本件特許発明１に対応する実施例として、実施例３〜５が記載されているが、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層における弗素濃度に関して次のような記載がある。
「実施例３．
そこで本発明方法による実施例として、電解液として、硫酸ソーダ１５％にクエン酸を５％、さらに弗化ナトリウムを０．５％添加した水溶液を電解液とし、電源器としては
直流電源の陽極電圧を１５Ｖとし、これにさらに交流の１７Ｖを重ね合せた交直重乗電流
終了後引上げて前記比較例と全く同様にＥＳＣＡ分析を行ったところ、図１並びに表２の各試料▲３▼に示す如く、
表層部に於ては勿論、６Åエッチング面に於ては更に多量のＦが検出され、可成り深部にまでＦが拡散、浸透していることを示し、
実施例４．
実施例３に於ける電源器を単純な
直流電源
Ｆについては表層部では実施例３と同等で、６Åエッチング面では稍々低下しているものの、同様に多量のＦが浸透していることが確認され、
実施例５．
実施例３に於ける電源器を
交流電源
Ｆについてはバックグラウンド値と同じであるが、６Åエッチング後の面では可成りの高い値を示しており、更にエッチングを継続しながらＦの検出を続けたところ、約３０Å付近でＦが消失していることが確認された。
　これらの記載並びに本件特許明細書の【図１】及び【表２】を参照すると、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層における弗素濃度は、表層部よりも６Åエッチング後の面において、多量の弗素が検出されており、約３０Å付近で弗素が消滅していることが理解される。
　弗素濃度の分析に用いられているＸ線光電子分析ＥＳＣＡ法が、表面を含めて表面から数ｎｍ深さまでの間にある元素を分析するものであることを前提として考察すると、本件特許明細書の実施例３〜５において生成した含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層における弗素は、表層部からの深さとして、少なくとも６Åよりさらに深く、約３０Å付近まで分布し、浸透していることがわかる。そして、その濃度分布は、表層部付近では薄く、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）では濃くなっているものと理解される。
　してみると、本件特許発明１における「表層部に比べてＸ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度が高くなった」とは、表層部付近よりも、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）のほうが弗素濃度が濃くなったことを意味しているものと解される。これは、すなわち、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層の内部に弗素が深く拡散、浸透し、その結果、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）に弗素が濃い分布を持つものと解される。
　一方、甲１発明については、上記記載事項（ケ）を参照すると、不働態皮膜が表面から順に、炭化水素の汚染層、Ｃｒの水酸化物層、ＦｅとＣｒの混合酸化物層とする３層モデルを仮定した上で、電解電位が０．４Ｖで水酸化物層の被膜厚さはピークの約１．０ｎｍ（１０Å）となり、そのときの混合酸化物層の被膜厚さは約０．５ｎｍ（５Å）であって、皮膜内Ｆ−量がピーク値を示している。皮膜全体の弗素イオン（Ｆ−）の濃度分布についてみてみると、皮膜内におけるＦ−量の増減は水酸化物層の皮膜厚さと対応していることから、Ｆ−の存在は水酸化物層と関連しているようにもみえるが、混合酸化物層におけるＦ−の存在が不明であることから、皮膜全体において弗素イオン（Ｆ−）の濃度分布は必ずしも明らかとはいえない。
　このことからすると、少なくとも、表面から炭化水素の汚染層を経た約１．０ｎｍ（１０Å）の厚さの水酸化物層には弗素イオン（Ｆ−）が存在していることが推定されることから、表面から６Å深さ付近には、弗素イオン（Ｆ−）が存在することは一応考えられるが、弗素濃度が表層部付近よりも、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）のほうが濃くなっているとまでいうことはできない。また、弗素濃度について、表層部付近よりも、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）のほうを濃くする動機付けが何ら存在しないし、甲第１号証のほかの記載においても、これを示唆する記載も見当たらない。
　してみると、本件特許発明１の相違点１に係る構成は、甲第１号証に基づいて容易になし得るものとはいえない。
　
〈相違点２について〉
　含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層と耐孔食性の関連について、甲第１号証の５．２節には、上記記載事項（エ）を参照すれば、「１．５および３．０ｋｍｏｌ・ｍ−３ＨＮＯ３＋５×１０−３ｋｍｏｌ・ｍ−３ＮａＦ溶液中で浸漬処理することによって
耐孔食性が飛躍的に向上
耐孔食性が向上するのは、Ｆ
−
が不働態皮膜内に侵入して皮膜内および母材金属中のＦｅと錯体を形成し、優先的にＦｅを溶出させ、その結果として皮膜中のＣｒ濃度が上昇し、皮膜厚さも増加するため
皮膜内あるいは皮膜最表面のＦ
−
には溶液皮膜界面においてＣｌ
−
の不働態皮膜への吸着を妨害する作用、たとえばクーロン力による反発作用などがあり、塩化物溶液において耐孔食性を向上させる
不働態皮膜内および皮膜最表面のＦ
−
が塩化物溶液中において、インヒビターとして作用して耐孔食性を向上させた
　これらの記載からみると、甲第１号証の５．２節及び５．３節に記載された含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層について、弗素イオン（Ｆ−）が耐孔食性に大きく寄与していることが理解される。
　ここで、甲第１号証の５．２節及び５．３節に記載された被膜層（不働態皮膜）と５．４節に記載された被膜層（不働態皮膜）とを比較すると、前者は電気分解を用いずに、弗素含有水溶液に浸漬処理のみを施して被膜層（不働態皮膜）を形成させたものである（上記記載事項（エ）〜（カ）参照）のに対し、後者は、本件特許発明１と同様に、弗素含有水溶液中において電気分解処理を施して被膜層（不働態皮膜）を形成させたものである（上記記載事項（キ）〜（サ）参照）。
　これらの被膜層（不働態皮膜）の違いについて考察すると、電気分解処理を施した被膜層（不働態皮膜）と施していない被膜層（不働態皮膜）との間において、被膜層（不働態皮膜）の組成、構成、性質等の違いは必ずしも明らかではなく、また、被膜層（不働態皮膜）中の弗素イオン（Ｆ−）の挙動の違いも明らかではない。
　しかしながら、電気分解処理を施していない被膜層（不働態皮膜）において、弗素イオン（Ｆ−）が耐孔食性に大きく寄与しているからといって、電気分解処理を施した被膜層（不働態皮膜）においても同様に、弗素イオン（Ｆ−）がインヒビターとして作用して、耐孔食性に寄与するとは直ちにいうことはできず、またそれを類推する記載は見当たらない。また、甲第１号証の５．４節に記載された電気分解処理を施した被膜層（不働態皮膜）は、「耐硫酸腐食性が優れる不働態皮膜の生成に及ぼす電解電位とｐＨの影響」について考察するために用いられたものであり（上記記載事項（キ）参照）、甲第１号証の５．２節及び５．３節に記載された「塩素による耐孔食性」とは何ら関係しないものである。
　してみると、甲１発明において、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層における弗素イオン（Ｆ−）の働きとして、耐硫酸腐食性に加えて、塩素による耐孔食性について想定することは、甲第１号証の５．２節及び５．３節の記載から直ちに導かれるものではなく、また、何ら示唆を与えるものではない。
　よって、本件特許発明１の相違点２に係る構成は、甲第１号証に基づいて容易になし得るものとはいえない。
　
　したがって、本件特許発明１は、甲１発明と同一ではなく、すなわち甲第１号証に記載された発明ではなく、また甲１発明及び甲第１号証に記載されたものに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないから、特許法第２９条第１項又は第２項の規定により、特許を受けることができないものであるとする請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
（２）本件特許発明２について
　本件特許発明２は、「請求項１記載のステンレス鋼の製造方法であって」と特定されるとおり、本件特許発明１に係るステンレス鋼の製造方法の発明である。
　上記（１）で述べたように、本件特許発明１のステンレス鋼は、甲第１号証に記載された発明でもなく、甲１発明及び甲第１号証に記載されたものに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　そうすると、本件特許発明１に係るステンレス鋼の製造方法の発明である本件特許発明２は、甲第１号証に記載された発明でもなく、甲１発明及び甲第１号証に記載されたものに基いて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　請求人は、甲第１号証の５．４節には、本件特許発明２の「ステンレス鋼を直流の陽極に、又は交流の一極に、若しくは直流に交流を重ね合わせた交直重乗電流の陽極側に接続し、他の電導性対極との間に、塩素、沃素、臭素を含まぬ他の有機或は無機酸若しくはその水溶性塩類に弗酸若しくはそのナトリウム、カリウム、アンモニウム塩の一種若しくは二種以上を配合添加した溶液を電解液とし、対抗する電極との間に前記ステンレス鋼を介在せしめた状態で電解処理する」に相当するものが記載されており、また、電気化学的方法において、ステンレス鋼を直流の陽極に接続することは技術常識である（甲第４号証、甲第５号証）から、本件特許発明２と甲第１号証の５．４節に記載されたものは、構成上の差異はなく、本件特許発明２は、甲第１号証に記載された発明か、又は甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと主張する（審判請求書３４頁８行〜３５頁９行）。
　しかしながら、本件特許発明１に新規性及び進歩性に係る無効理由がないことは上述したとおりであるから、本件特許発明１を引用する本件特許発明２についても新規性及び進歩性に係る無効理由はない。
　よって、本件特許発明２に対する請求人の上記主張は採用できない。
　
（３）まとめ
　したがって、無効理由２についての請求人の主張は理由がない。
　
３．無効理由３（甲第２号証及び甲第３号証に基づく進歩性）について
（１）本件特許発明１について
　甲第１号証の５．４節における上記記載事項（キ）〜（サ）及び甲第２号証の上記記載事項（シ）〜（ツ）によれば、甲第２号証の記載は甲第１号証の５．４節の記載に概略一致している。
　また、甲第１号証の５．３節における上記記載事項（オ）〜（カ）及び甲第３号証の上記記載事項（テ）〜（ニ）によれば、甲第３号証の記載は甲第１号証の５．３節の記載に概略一致している。
　してみると、甲第２号証の記載は甲第１号証の５．４節の記載に、甲第３号証の記載は甲第１号証の５．３節の記載に、それぞれ対応しているものとみることができる。
　また、上記記載事項（シ）〜（ツ）によれば、甲第２号証には、「ＳＵＳ ３０４ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、ｐＨ１．８〜１３．２のフッ化物水溶液の定電位電解により発生したフッ素イオンを侵入せしめることにより、含フッ素不動態皮膜を形成させ、その被膜の作用効果によって耐硫酸腐食性が優れる含フッ素不動態皮膜を形成させたＳＵＳ ３０４ステンレス鋼。」（以下、「甲２発明」という。）が記載されている。
　
ａ　対比
　上記２．（１）アで述べたものと同様に、本件特許発明１と甲２発明は、
「ステンレス鋼の表層部乃至その近傍に対し、含弗素水溶性塩類の水溶液の電気分解による発生期状態の弗素若しくは弗素と酸素とをイオン状で拡散、浸透せしめることにより含弗素、酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼。」
の点で一致し、上記〈相違点１〉及び〈相違点２〉と同様な点で相違している（以下、上記「相違点１」、「相違点２」について、「甲１発明」を「甲２発明」と読み替えたものを、それぞれ「相違点１’」及び「相違点２’」とする。）。
　
ｂ　判断
〈相違点１’について〉
　上記２．（１）イ〈相違点１について〉で述べたものと同様であり、本件特許発明１の相違点’１に係る構成は、甲第２号証に基づいて容易になし得るものとはいえない。
　
〈相違点２’について〉
　上記２．（１）イ〈相違点２について〉で述べたものと同様であり、本件特許発明１の相違点２’に係る構成は、甲第２号証及び甲第３号証に基づいて容易になし得るものとはいえない。
　
　したがって、本件特許発明１は、甲２発明及び甲第３号証に記載されたものに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもないから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであるとする請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
（２）本件特許発明２について
　上記２．（２）で述べたものと同様に、本件特許発明１に係るステンレス鋼の製造方法の発明である本件特許発明２は、甲２発明及び甲第３号証に記載されたものに基いて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　
（３）まとめ
　したがって、無効理由３についての請求人の主張は理由がない。
　
４．無効理由１（記載不備）について
（１）３６条６項１号（サポート要件）について
ａ　請求人は、「Ｘ（当審注：表層部の弗素濃度（％））＜Ｙ（当審注：約６Åエッチング後の表面の弗素濃度（％））の条件は、約６Å深さの弗素濃度を表層部の弗素濃度との関係で特定若しくは限定したものであるから、Ｘ＜Ｙの条件に適合する全ての数値について発明の効果が得られることを明らかにしなければならないところ、前記した３＜Ｙ＜７の範囲の数値については発明の効果が得られるかどうか不明ないし疑問である。また、比較例１についてはＸ＝Ｙ＝３％であるが、これらの「３％」は小数点以下を四捨五入して得られた値であると認められるから、Ｘ、Ｙともに２．６〜３．４％の範囲にあるものである。したがって、従来例である比較例１についても、Ｘ＜Ｙの条件に適合していた可能性があり、その場合はＸ＜Ｙの条件は比較例１（従来例）を含むという不合理な結果となる。以上のことから、本件特許の請求項１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載した範囲を超えるものであり、請求項１に記載の発明を特定するための事項と対応する技術的事項は発明の詳細な説明に記載されていない。また、発明の詳細な説明には、請求項１に係る発明の範囲まで発明の詳細な説明に記載された内容を拡張ないし一般化することができるとする技術的根拠が示されているわけでもない。」と主張する（審判請求書１７頁下から７行〜１８頁９行）。
　しかしながら、本件訂正請求により、訂正前の請求項１における「約６Å深さの弗素濃度」の記載は、「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度」と訂正されたので、Ｘ＜Ｙの条件の意味するところは、上記２．（１）ｂ〈相違点１について〉で述べたように、表層部付近よりも、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）のほうが、弗素濃度が濃くなったことを意味しているものと解される。すなわち、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層の内部に弗素が深く拡散、浸透し、その結果、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）に弗素が濃い分布を持つものと解される。
　そして、本件特許明細書の実施例３〜５によれば、Ｘ＜Ｙの条件のものについて、一定の効果があることが記載されているところ、このほかのＸ、Ｙの数値の組合せについて、実験データが示されていなくとも、Ｘ＜Ｙの条件さえ満足していれば、ある程度の効果、すなわち、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層の内部に弗素が深く拡散、浸透しているものと理解されることは自明であり、その結果、耐孔食性を有する被膜層が形成されているということは容易に推測できるものといえる。
　なお、本件特許明細書の比較例は、本件特許発明１の実施例ではなく、すなわち、電解処理を施した含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を有していないため、本件特許発明１の構成要件とは何ら関与しない。仮に、比較例において、Ｘ＜Ｙの条件が満たされたものがあったとしても、それをもって、比較例が本件特許発明１に含まれるものとはならない。
　してみると、Ｘ＜Ｙの条件に適合する全ての数値について発明の効果が得られることを明らかでないから、請求項１に係る発明の構成は、発明の詳細な説明に記載した範囲を超えるものである、とした請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｂ　また請求人は、「表２に示された約６Åエッチング後の表面の弗素濃度は、６Åエッチング後の表面から数ｎｍの深さにわたる領域の情報を取得してその情報から算出されたものである。約６Åエッチング後の表面の弗素濃度ではないのである。したがって、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」という発明を特定するための事項に対応する技術的事項は発明の詳細な説明中に記載されておらず、特許を受けようとする発明は発明の詳細な説明に記載されたものではない。さらに、発明を特定するための事項である「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」の「約６Å」は、「６Å」のみならず、「６Åよりもやや小さな数値」も「６Åよりもやや大きな数値」も含むから、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」は「６Å深さの前後にわたる領域において表層部に比べて弗素濃度が高くなった」という意味に理解するしかない。しかし、発明の詳細な説明には、それに対応する技術的事項がどこにも記載されていない。」と主張する（審判請求書１８頁１２〜下から３行）。
　しかしながら、本件訂正請求により、訂正前の請求項１における「約６Å深さの弗素濃度」の記載は、「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度」と訂正されたので、当該発明特定事項に対応する技術的事項は発明の詳細な説明に記載されたものとなったことは明らかであり、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｃ　したがって、本件特許の請求項１に係る発明の構成のうち、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」との構成は、発明の詳細な説明に記載した範囲を超えるものであり、特許法第３６条第６項第１号の記載要件に適合していないものであるとする請求人の主張は理由がない。
　
（２）３６条６項２号（明確化要件）について
ａ　請求人は、「「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」という発明を特定するための事項がどのような技術的意味を有するのか全く不明である。発明の詳細な説明中の表２に示された各実施例３〜５のデータが、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」、すなわち、前記したＸ＜Ｙの条件に単に適合しているというだけであって、発明の詳細な説明の記載並びに出願時の技術常識を考慮しても、Ｘ＜Ｙの条件の技術的意味は全く理解できない。」と主張する（審判請求書１９頁９〜１５行）。
　しかしながら、本件訂正請求により、訂正前の請求項１における「約６Å深さの弗素濃度」の記載は、「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度」と訂正されたので、Ｘ＜Ｙの条件の意味するところは、上記２．（１）ｂ〈相違点１について〉で述べたように、表層部付近よりも、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）のほうが、弗素濃度が濃くなったことを意味しているものと解される。すなわち、Ｘ＜Ｙの条件の技術的意味は、含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層の内部に弗素が深く拡散、浸透し、その結果、６Å深さ付近（６Åよりさらに深いところ）に弗素が濃い分布を持つものと解されることは明らかであり、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｂ　また請求人は、「「約６Å」という数値は、原子の大きさでいえば、２、３個分の大きさに相当するもので、Ｘ線光電子分析装置（島津製ＥＳＣＡ−８５０）によって約６Åのエッチングは到底不可能であり、約６Å深さの弗素濃度を測定することは困難である。したがって、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」という発明を特定するための事項の内容に技術的な欠陥があり、発明が不明確であるというほかはない。」と主張する（審判請求書１９頁下から６〜１行）。
　しかしながら、本件特許明細書の【表１】には、「Ｘ線光電子分析装置　ＥＳＣＡ−８５０（Ｓｈｉｍａｄｚｕ）」について、エッチング速度が「約６００Å／ｍｉｎ　ａｓ　Ｃｒ」であると記載されているところ、エッチング時間を０．０１ｍｉｎと設定すれば、６Åのエッチングが可能であることは読み取ることはできる。そして、【表２】を参酌すると、実質的に「約６Åのエッチング後」のＥＳＣＡ分析の測定結果が得られている。また、当該測定は、エッチングも含めて、第三者の外部機関である菱明技研（株）（現・ＭＨＩソリューションテクノロジーズ株式会社）に依頼して行っていることは、被請求人の平成２５年９月１８日付け口頭審理陳述要領書（８頁４〜１０行）からみて明らかである。してみると、６Åのエッチングは設定可能であり、本件特許明細書において測定結果が第三者機関により実質的に得られている以上、それを否定する具体的証拠が請求人から格別に提出されていないことからみて、６Åのエッチングは実施可能であるとするのが妥当であり、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｃ　さらに請求人は、「発明の詳細な説明には、実施例中の素材はステンレス鋼のＳＵＳ３０４の２Ｂ材である旨の記載があるが、２Ｂ材の表面の表面粗さは約０．１μｍ（１０００Å）程度であり、その表面粗さの凹凸面をわずかに６Åだけエッチングすることについて具体的なものを想定することが困難であり、発明に属する具体的な事物が理解できない。仮に６Åエッチングが実施できたとしても、そのような２Ｂ材の凹凸面のどの部分をエッチングするかでＸ線光電子分析による分析結果に誤差が生じることは明らかである。」と主張する（審判請求書２０頁１〜７行）。
　しかしながら、本件特許発明１の含弗素乃至含弗素・酸素系被膜層を形成させたステンレス鋼は、表面部乃至その近傍に対し、電解処理したものであり、素材であるステンレス鋼のＳＵＳ３０４の２Ｂ材の表面よりも、表面粗さが小さく滑らかなものとなっていることは明らかである。請求人は、素材であるステンレス鋼のＳＵＳ３０４の２Ｂ材の表面粗さを前提に、分析の困難性を主張しているが、本件特許明細書において素材自体を用いているのは比較例だけであり、当該比較例の分析精度は本件特許発明とは何ら関与しないものであるので、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｄ　また請求人は、「図示された比較例１の２Ｂ材についての弗素の光電子スペクトルを見ると、表層部に比べて約６Åエッチング後の方がピーク面積がはるかに大きいことが見た目で明らかであり、この図１の光電子スペクトルからいかにしてＸ＝Ｙ＝３％分析結果が導かれたのかも理解できない。」と主張する（審判請求書２０頁８〜１１行）。
　しかしながら、本件特許明細書の【図１】における「各試片のＥＳＣＡ光電子スペクトル」に基づいて【表２】の元素存在割合を求める場合、【０００６】における「表２は、各試片毎の前記各元素のピーク面積と感度係数とから簡易的に求めた各元素の存在割合を示したものである。」との記載、及び、答弁書における「Ｘ線光電子分析法では、下式で表されるように、元素割合を、各元素のピーク面積（光電子面積強度）を各元素の相対感度係数で除し、その総和に対する割合を、各元素の％割合として算出する。Ｍｉ＝（Ｉｉ／Ｓｉ）／（ΣＩα／Ｓα）×１００（Ｉ：元素の光電子面積強度，Ｓ：元素の相対感度係数（各元素により異なる），α：試料中の各元素）」（８頁下から４行〜９頁４行）の記載を参酌すると、単に、【図１】における見かけ上のスペクトルの光電子面積強度比をもって分析結果を論じている請求人の主張は適切ではなく、失当と言わざるを得ない。
　
ｅ　したがって、本件特許の請求項１に係る発明の構成のうち、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」との構成は、発明を特定するための事項であるところ、それがどのような技術的意味を有するのか不明であり、特許法第３６条第６項第２号の記載要件に適合していないものであるとする請求人の主張は理由がない。
　
（３）３６条４項１号（実施可能要件）について
ａ　請求人は、「Ｘ線光電子分析装置（島津製ＥＳＣＡ−８５０）によって６Å深さの弗素濃度を正確に測定することは困難であることは前記したとおりである。したがって、発明の詳細な説明には、「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」という発明を特定するための事項に対応する技術的事項が抽象的に記載してあるだけであり、ステンレス鋼にそれが具現されているかどうかが不明であるから、当業者は請求項１、２に係る発明の実施をすることができず、特許法第３６条第４項の記載要件を満たしていない。」と主張する（審判請求書２０頁下から７〜１行）。
　しかしながら、本件訂正請求により、訂正前の請求項１における「約６Å深さの弗素濃度」の記載は、発明の詳細な説明の記載に基づいて、「Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について測定された弗素濃度」と訂正された。また、発明の詳細な説明には、本件特許発明１及び２を実施するための技術的事項、すなわち、Ｘ線光電子分析ＥＳＣＡ法によって６Åエッチング後の表面について弗素濃度を測定することが開示されており、上記（２）ｂで検討したように、エッチングを含めて当該測定が実施可能であるとすることは妥当であり、発明の詳細な説明には、実施をすることができる程度に明確かつ十分な記載があるものといえる。よって、請求人の主張は失当と言わざるを得ない。
　
ｂ　したがって、請求項１及び２の「表層部に比べて約６Å深さの弗素濃度が高くなった」という構成に対応する技術的事項は発明の詳細な説明に抽象的に記載してあるだけで、ステンレス鋼にそれが具現されているかどうか不明であり、しかも、出願時の技術常識に基づいても当業者が理解できないため、当事者が請求項１及び２に係る発明の実施をすることができないものであり、特許法第３６条第４項の記載要件に適合していないものであるとする請求人の主張は理由がない。
　
（４）まとめ
　したがって、無効理由１についての請求人の主張は理由がない。
　
５．まとめ
　以上、検討したとおり、請求人の主張する無効理由１〜３は、いずれも理由がない。
　
第６　むすび
　以上のとおりであるから、請求人の主張及び証拠方法によっては、本件特許発明１及び２の特許を無効とすることはできない。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人が負担すべきものとする。 
　よって、結論のとおり審決する。