(57)【要約】【課題】感度が高く、しかも経時安定性、セーフライト適性が優れた感光性平版印刷版を提供すること。【解決手段】アルミニウム支持体並びに（Ａ）炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物、（Ｂ）３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ特定の構造を有する増感色素及び（Ｃ）光重合開始剤を含む重合性感光層を有することを特徴とする感光性平版印刷版。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム支持体並びに（Ａ）炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物、（Ｂ）３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ下記一般式（１）で表される増感色素及び（Ｃ）光重合開始剤を含む重合性感光層を有することを特徴とする感光性平版印刷版。
【化１】
2007086342.tif 000016
（一般式（１）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Ｘは、＝Ｏ、＝Ｓ、または、＝Ｎ−Ｒ5を表す。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ3またはＲ4とＲ5はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。）
【請求項２】
前記重合性感光層が、更に（Ｄ）アルカリ水可溶性または膨潤性バインダーを含有することを特徴とする請求項１記載の感光性平版印刷版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲に関して、高い感光性能を有する光重合性感光層を使用した感光性平版印刷版に関するものである。特に高感度かつ良好な経時安定性を有し、セーフライト適性に優れる感光性平版印刷版に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ネガ型感光性平版印刷版は、一般に粗面化処理されたアルミニウム版等の支持体上に感光性組成物を塗布して感光層を形成し、所望の画像を露光し、画像部（光照射された部分）を重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、非画像部を現像液で溶出するプロセスにて画像形成が行われる。従来このような目的に使用される感光性組成物としては、光重合性組成物がよく知られている。
近年、画像情報をコンピューターにより、電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及してきている。例えば、レーザー光のような指向性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版を製造するＣＴＰ（Computer-To-Plate）技術が望まれ、これに適応した高感度な印刷用原版の開発が進んできている。
【０００３】
この光源としてはＡｒイオンレーザー（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）が使用され、これらの光源に適合した光重合性感光層を有する感光性平版印刷版が開発され、実用に供されている。また最近、ＩｎＧａＮ系半導体レーザー（バイオレットレーザー、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ）が開発され、明室化、露光機の低コスト化、高生産性が期待されるため、この光源に感光性を有する高感度な光重合性感光層を有する平版印刷版の開発が急速化している。Ａｒイオンレーザー、ＦＤ−ＹＡＧレーザーに感応する光重合性組成物としては、特許文献１及び２等に記載のチタノセンとクマリン色素との併用開始系を含む組成物、特許文献３に記載のスチリル系色素とチタノセンとの併用開始系を含む組成物、バイオレットレーザーに感応する光重合性組成物としては、特許文献４に記載のカルバゾリルスチリル色素を有する光重合性組成物等が知られている。
【０００４】
これらの光重合性組成物を利用して光重合性感光層を形成した高感度な平版印刷版は、ようやく描画速度において実用の領域に達し、ＣＴＰ用平版印刷版として実用に供されているが、製版の生産性を上げる目的で更なる高感度化が求められている。また同時にＣＴＰ化率が高くなるに従って、感光性平版印刷版の製造から使用までの期間が長くなるため、いままで以上の保存安定性の確保が必要であり、使用環境においても可能な限り明室に近い環境で製版できる感光性平版印刷版の開発が望まれていた。
【特許文献１】特開平９−２６８１８５号公報
【特許文献２】特開平１０−２０４０８５号公報
【特許文献３】特開平９−８０７５０号公報
【特許文献４】特開２００１−４２５２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の課題は、高感度かつ経時安定性の良好な感光性平版印刷版を提供することにある。もう一つの課題はセーフライト適性の向上した、黄色灯下の明るい環境で取り扱いの可能な感光性平版印刷版を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、感光性平版印刷版の感光層に、炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ
３級アミノ基を有する重合可能な化合物及び３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ特定の構造を有する増感色素を含有させることにより達成された。
即ち、本発明は以下の感光性平版印刷版を含む。
（１）アルミニウム支持体並びに（Ａ）炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物、（Ｂ）３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ下記一般式（１）で表される増感色素及び（Ｃ）光重合開始剤を含む光重合性感光層を有することを特徴とする感光性平版印刷版。
【０００７】
【化１】
2007086342.tif 000002
【０００８】
（一般式（１）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Ｘは、＝Ｏ、＝Ｓ、または、＝Ｎ−Ｒ5を表す。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ3またはＲ4とＲ5はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。）
（２）前記重合性感光層が、更に（Ｄ）アルカリ水可溶性または膨潤性バインダーを含有することを特徴とする（１）記載の感光性平版印刷版。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高感度で、経時安定性が良好であり、且つセーフライト適性の向上により明るい環境で取り扱い可能な感光性平版印刷版が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の感光性平版印刷版について詳細に説明する。
本発明の感光性平版印刷版は、支持体上に光重合性感光層を有する。また、支持体と光重合性感光層の間に、必要に応じて、下塗り層を設けても良く、光重合性感光層上には、保護層（酸素遮断層）を設けてもよい。
【００１１】
＜１．光重合性感光層＞
本発明の感光性平版印刷版の光重合性感光層は、（Ａ）炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物、（Ｂ）３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ下記一般式（１）で表される増感色素及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。好ましくは、更に（Ｄ）アルカリ水可溶性または膨潤性バインダーを含有する。必要に応じて、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を含有させることもできる。
光重合性感光層は、上記成分を含む光重合性組成物を用いて作製することができる。
【００１２】
〔Ａ．炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物〕
本発明の一つの特徴は、炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物（Ａ）を使用することにある。３級アミノ基を有する重合可能な化合
物を使用することにより、高感度でかつ経時安定性の高い光重合性感光層が得られる。これは、３級アミノ基を有する重合可能な化合物が増感色素との相溶性に優れ、良好な分散状態が形成されるためと考えられる。これらの、炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を含有する重合可能な化合物は、例えば３官能以上の水酸基を有する化合物と、アクリル酸、メタクリル酸のような不飽和基を有するカルボン酸と、３級アミノ基含有カルボン酸を、酸触媒下で脱水縮合させることで合成されるが、他の方法で合成してもかまわない。また、市販のものを用いてもよい。３級アミノ基としては、ジアルキルアミノ基が好ましい。
１分子中の炭素−炭素二重結合の数は、感光性平版印刷版の感度、架橋効率を決める因子であり、２個以上、好ましくは３個〜７個である。３級アミノ基の数は、感光性平版印刷版の感度および経時安定性の両面から好ましい範囲が決められ１〜４個が好ましい。更に好ましい範囲は１〜２個である。
以下に本発明に使用される、炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物の例を列挙するがこれに限定されるものではない。
【００１３】
【化２】
2007086342.tif 000003
【００１４】
また本発明においては、感光性平版印刷版の感度、経時安定性、感光層の被膜強度を調整する目的で、公知の重合可能な化合物、例えば、エチレン性不飽和化合物を併用することができる。
【００１５】
〔Ａ'．併用可能なエチレン性不飽和化合物〕
エチレン性不飽和化合物（Ａ'）とは、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物であり、光重合性組成物からなる感光層が活性光線の照射を受けた時、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する化合物である。    エチレン性不飽和化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつものである。
【００１６】
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エ−テル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【００１７】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス[p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]ジメチルメタン、ビス−[p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル]ジメチルメタン等がある。
【００１８】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,5−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【００１９】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレシビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
【００２０】
その他の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で
示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【００２１】
ＣＨ2=Ｃ(Ｒ1)ＣＯＯＣＨ2ＣＨ(Ｒ2)ＯＨ      （Ａ)
(ただし、Ｒ1およびＲ2は、独立に、水素原子又はメチル基を示す。)
【００２２】
また、特開昭51-37193号、特公平2-32293号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接着協会誌Vo1.20, No.7, 300〜308ぺ−ジ (1984年)に記載の光硬化性モノマーおよびオリゴマーも使用することができる。
【００２３】
炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物（Ａ）及び、必要によりエチレン性不飽和化合物（Ａ'）を含む重合可能な化合物の総量は、光重合性感光層の全質量に対し、通常１０〜８０質量％、好ましくは３０〜７０質量％の範囲で使用され、このうち炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ３級アミノ基を有する重合可能な化合物（Ａ）の量は、重合可能な化合物の総量に対し、２０質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは５０質量％以上である。
【００２４】
〔Ｂ．３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ一般式（１）で表される増感色素〕
本発明のもう一つの特徴である、３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ下記一般式（１）で表される増感色素は、高感度であり好ましい。
【００２５】
【化３】
2007086342.tif 000004
【００２６】
（一般式（１）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表し、Ｘは、＝Ｏ、＝Ｓ、または、＝Ｎ−Ｒ5を表す。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ3またはＲ4とＲ5はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成合してもよい。）
【００２７】
一般式（１）について更に詳しく説明する。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子または、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアルキニル基、置換もしくは非置換のアシル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
【００２８】
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げる
ことができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００２９】
置換アルキル基の置換基としては、水素原子を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）およびその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)
(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
【００３０】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００３１】
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5として好ましい芳香族複素環残基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環残基が用いられ、特に好ましい芳香族複素環残基を構成する環の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
【００３２】
また、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5として好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基（Ｇ1ＣＯ−）におけるＧ1としては、水素原子、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００３３】
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
【００３４】
該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるＲ3、Ｒ4及びＲ5として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、
【００３５】
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００３６】
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5として好ましいアリール基の具体例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００３７】
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な
、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。
【００３８】
次に、一般式（１）におけるＡについて説明する。Ａは置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基を表す。置換基を有してもよい芳香族環基またはヘテロ環基の具体例としては、一般式（１）中のＲ3、Ｒ4及びＲ5で記載したアリール基または芳香族複素環残基と同様のものが挙げられる。
【００３９】
本発明の一般式（１）で表される増感色素は、その酸性核もしくは活性メチレン基を有する酸性核と、置換もしくは非置換の芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得られるが。これらは特公昭５９−２８３２９号公報を参照して合成することができる。
【００４０】
以下に一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例（Ｄ１）から（Ｄ４２）を示す。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については、どちらかの異性体に限定されるものではない。
【００４１】
【化４】
2007086342.tif 000005
【００４２】
【化５】
2007086342.tif 000006
【００４３】
【化６】
2007086342.tif 000007
【００４４】
【化７】
2007086342.tif 000008
【００４５】
【化８】
2007086342.tif 000009
【００４６】
【化９】
2007086342.tif 000010
【００４７】
なお、これら増感色素の添加量は、感光層の全成分の１．０〜１０．０質量％が好ましく、１．０〜５．０質量％がより好ましい。
＜光重合開始剤＞
【００４８】
本発明の感光性平版印刷版の感光層に用いられる光重合開始剤（系）としては、チタノセン系開始剤、トリハロメチルトリアジン系開始剤、ヘキサアリールビスイミダゾール系開始剤等が挙げられる。特に、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物が好ましい。
〔ヘキサアリールビスイミダゾール化合物〕
ヘキサアリールビスイミダゾール化合物としては、ＥＰ２４６２９号、ＥＰ１０７７９２号、ＵＳ４４１０６２１号、ＥＰ２１５４５３号およびＤＥ３２１１３１２号等に記載の種々の化合物を使用することができる。
好ましいものとしては、例えば、２，４，５，２’，４’，５’−ヘキサフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラキス（３−メトキシフェニル）−ビスイミダゾール、２，５，２’，５’−テトラキス（２−クロロフェニル）−４，４’−ビス（３，４−ジメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２’−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ジ−ｏ−トリル−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−エトキシフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール、および２，２’−ビス（２，６−ジフルオロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルビスイミダゾール等を挙げることができる。
ヘキサアリールビスイミダゾール化合物は２種以上併用してもよい。
【００４９】
ヘキサアリールビスイミダゾール化合物とともに、他の光重合開始剤、例えば、チタノセン化合物を併用してもよい。    
チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げることができる。
【００５０】
更に上記光重合開始剤に必要に応じ、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール等のチオール化合物、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高められることが知られている。
光重合開始剤（系）の使用量は、前記重合可能な化合物の総量１００質量部に対し、０．０５〜１００質量部、好ましくは０．１〜７０質量部、更に好ましくは０．２〜５０質
量部の範囲である。
【００５１】
〔Ｄ．アルカリ水可溶性または膨潤性バインダー〕
本発明の光重合性感光層に含有されるバインダーは、アルカリ水可溶性または膨潤性であり、皮膜形成剤として機能するだけでなく、アルカリ現像液に溶解する必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が好ましく使用される。
すなわち、アルカリ水に可溶性または膨潤性であるポリマーであることにより、アルカリ現像によって、必要によりブラシなどの圧力を加えることで、除去されるものである。
アルカリ水に可溶性または膨潤性である有機高分子重合体として、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭59-44615号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特開昭54-92723号、特開昭59-53836号、特開昭59-71048号の各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
【００５２】
また、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。これらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子重合体として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
【００５３】
また、特公平７−１２００４０号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−３５２６９１号の各公報等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
【００５４】
これら有機高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としてはメルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルホン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。
【００５５】
本発明においては、特に（メタ）アクリル構造単位を有する重合体（（メタ）アクリル系バインダー）またはウレタン構造単位を有する重合体（ウレタン系バインダー）が好ましい。例えば、特開平１１−３５２６９１号に記載の（メタ）アクリル系バインダー、特開平１１−３５２６９１号、特開２００１−２２８６０８号、特開２００２−１７４９０７号、特開２００３−２７０７７５号、特開２００３−２７０７７６号記載のウレタン系バインダーなどが好適に用いられる。
【００５６】
光重合性感光層の現像性を維持するためには、バインダーは適当な分子量、酸価を有することが好ましく、質量平均分子量５０００〜３０万、酸価２０〜２００の高分子重合体
が有効に使用される。ここで酸価とは、試料１ｇ中に含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのｍｇ数をいう。
バインダーは、光重合性感光層中に任意な量を含有させることができるが、９０質量％以下であれば、形成される画像強度等の点で好ましい結果を与える。好ましくは１０〜９０質量％、より好ましくは３０〜８０質量％である。また前記重合可能な化合物の総量とバインダーは、質量比で１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３である。
【００５７】
〔その他の成分〕
本発明においては以上の成分の他に光重合性感光層に用いられる光重合性組成物の製造中あるいは保存中において前記重合可能な化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、組成物の全固形分の質量に対して約０.０１質量％〜約５質量％が好ましい。必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合性感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体等の添加量は、組成物の全固形分の約０.５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【００５８】
更に光重合性感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料(C.I.Pigment Blue 15:3、15:4、15:6など)、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤の添加量は感光層全組成物の約０.５質量％〜約２０質量％が好ましい。更に、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は感光層組成物の全固形分（全組成物）の１０質量％以下が好ましい。
【００５９】
本発明の光重合性感光層は、上記のごとき光重合性組成物を塗布することにより形成される。塗布する際には、通常、上記各成分を有機溶媒に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート−３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。塗布溶液中の固形分の濃度は１〜５０質量％が一般的である。
【００６０】
光重合性組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
光重合性感光層の厚さは、乾燥後の質量として、好ましくは約０.１ｇ／ｍ2〜約１０ｇ
／ｍ2であり、より好ましくは０.３〜５ｇ／ｍ2、更に好ましくは０.５〜３ｇ／ｍ2である。
【００６１】
＜２．支持体＞
本発明において使用されるアルミニウム支持体は、アルミニウムを主成分とする寸度的に安定な金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、およびアルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙の中から選ばれる。
【００６２】
以下の説明において、上記に挙げたアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用のもの、例えばＪＩＳＡ １０５０、ＪＩＳＡ １１００、ＪＩＳＡ ３１０３、ＪＩＳ Ａ ３００５などを適宜利用することが出来る。本発明に用いられるアルミニウム基板の厚みは、一般的に０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ、好ましくは０．１５ｍｍから０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさおよびユーザーの希望により適宜変更することができる。アルミニウム基板には適宜必要に応じて後述の基板表面処理が施されてもよい。もちろん施されなくてもよい。
【００６３】
〔粗面化処理〕
アルミニウム基板は、通常粗面化処理される。粗面化処理方法は、特開昭５６−２８８９３号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、およびアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸または硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法である。具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜８０℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の条件で交流および／または直流電解を行うことが好ましい。
【００６４】
このように粗面化処理したアルミニウム基板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。酸には硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方法および特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。このように処理された後、処理面の中心線平均組さＲａは０．２〜０．５μｍでることが好ましく、その方法条件は特に限定されない。
【００６５】
〔陽極酸化処理〕
以上のようにして粗面化処理されたアルミニウム基板には、その後に陽極酸化処理がなされ酸化皮膜が形成される。陽極酸化処理は、硫酸、燐酸、シュウ酸もしくは硼酸／硼酸ナトリウムの水溶液が単独もしくは複数組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともＡｌ合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。さらには第２、第３成分が添加されていても構わない。ここでいう第２、第３成分とは、例えばＮａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては０〜１００００ｐｐｍ程度である。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは濃度３０〜５００ｇ／リットル、処理液温１０〜７０℃で、電流密度０．１〜４０Ａ／ｍ2の範囲で直流または交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは通常０．５〜１．５μｍ、好ましくは０．５〜１．０μｍの範囲である。
【００６６】
＜３．保護層＞
本発明の感光性平版印刷版においては、通常、露光を大気中で行うため、感光層の上に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事である。この様な、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第３，４５８，３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。
【００６７】
保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルあるいはアセタールで置換されていても良い。また、一部が他の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては鹸化度が７１〜１００％、分子量が３００から２４００の範囲のものを挙げる事ができる。
【００６８】
具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等があげられる。
【００６９】
保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ防止性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部の密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こすことがある。
【００７０】
これに対し、これら２層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第２９２，５０１号、米国特許第４４，５６３号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを５〜８０質量％混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する事ができる。保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３,４５８,３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されている。
【００７１】
さらに、保護層に他の機能を付与する事もできる。例えば、露光に使う、３５０ｎｍから４５０ｎｍの光の透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率良く吸収しうる着色剤（水溶性染料等）の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに高める事ができる。
【００７２】
保護層の被覆量は乾燥後の質量で一般的に約０．１ｇ／ｍ2〜約１５ｇ／ｍ2、好ましくは１．０ｇ／ｍ2〜約５．０ｇ／ｍ2である。
【００７３】
＜４．下塗り層＞
上記支持体上に、下塗り層として水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体（特開昭５９−１０１６５１号公報）、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を設けることができる。さらに特開平７−１５９９８３号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を支持体に共有結合させるゾル−ゲル処理も好適に用いられる。
【００７４】
その他、好ましい例として、特開２００３−０２１９０８号に記載のオニウム基を有する下塗り層、支持体上に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げることができる。この様な表面層としては例えばＵＳ３０５５２９５や、特開昭５６−１３１６８号記載の無機顔料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４号記載の親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７号記載の酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾルゲル膜等を上げる事ができる。これらの下塗り処理は、支持体の表面を親水性とするために施される以外に、その上に設けられる感光層における有害な反応の防止、感光層との密着性の向上等のために施される。
下塗り層の塗設量は、乾燥質量として、一般的に０．５〜５００ｍｇ／ｍ2、好ましくは１〜１００ｍｇ／ｍ2である。
【００７５】
＜５．製版方法＞
本発明の感光性平版印刷版は、通常、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。
【００７６】
その他、本発明の感光性平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。この様な加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を行う事も有効である。
通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。すなわち、非画像部までがかぶってしまう等の問題を回避する点で１５０℃以下とすることが好ましい。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は２００〜５００℃の範囲である。
すなわち、画像強化作用の点で２００℃以上が好ましく、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を回避する点で５００℃以下が好ましい。
【００７７】
本発明による感光性平版印刷版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができる。望ましい光源の波長は３５０ｎｍから４５０ｎｍであり、具体的にはＩｎＧａＮ系半導体レーザが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでも良い。また、本発明の感光層成分は、高い水溶性のものを使用する事で、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、この様な構成の平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった方式を行う事もできる。
【００７８】
また、本発明による感光性平版印刷版に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー（３６４ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレーザー（３５６ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ、３２５ｎｍ、１ｍＷ〜１００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ4）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５ｎｍ、５ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０ｎｍ、１０ｍＷ）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ3リング共振器（４３０ｎｍ、３０ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ）その他、パルスレーザーとしてＮ2レーザー（３３７ｎｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１ｎｍ、パルス１０〜２５０ｍＪ）が挙げられる。特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎｍ、５〜３０ｍＷ）が波長特性、コストの面で好適である。
【００７９】
また、例えば走査露光方式の平版印刷版露光装置としては、露光機構として内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式があり、光源としては上記光源の中で連続発振可能なものが好ましく利用することができる。現実的には感材感度と製版時間の関係で、以下の露光装置が特に好ましい。
【００８０】
（１）内面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上の半導体レーザーとなる様に、ガスレーザーあるいは固体レーザー光源を１個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの露光装置。
（２）フラットベッド方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを１個以上使用したマルチビーム（１〜１０本）の露光装置。（３）外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザーあるいは固体レーザーを１個以上使用したマルチビーム（１〜９本）の露光装置。
（４）外面ドラム方式で総出力２０ｍＷ以上となる様に、半導体レーザーあるいは固体レーザーを１個以上使用したマルチビーム（１０本以上）の露光装置。
【００８１】
以上のようなレーザー直描型の平版印刷版においては、一般に感材感度Ｘ（Ｊ／ｃｍ2）、感材の露光面積Ｓ（ｃｍ2）、レーザー光源１個のパワーｑ（Ｗ）、レーザー本数ｎ、全露光時間ｔ（ｓ）との間に式（ｅｑ1）が成立する。
Ｘ・Ｓ＝ｎ・ｑ・ｔ     （ｅｑ 1）
【００８２】
ｉ）内面ドラム（シングルビーム）方式の場合
レーザー回転数ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）の間には一般的に式（ｅｑ 2）が成立する。
ｆ・Ｚ・ｔ＝Ｌｘ       （ｅｑ 2）
【００８３】
ii）外面ドラム（マルチビーム）方式の場合
ドラム回転数Ｆ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ 3）が成立する。
Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ   （ｅｑ 3）
【００８４】
iii）フラットヘッド（マルチビーム）方式の場合
ポリゴンミラーの回転数Ｈ（ラジアン／ｓ）、感材の副走査長Ｌｘ（ｃｍ）、解像度Ｚ（ドット／ｃｍ）、全露光時間ｔ（ｓ）、ビーム数（ｎ）の間には一般的に式（ｅｑ4) が成立する。
Ｆ・Ｚ・ｎ・ｔ＝Ｌｘ   （ｅｑ 4）
【００８５】
実際の印刷版に要求される解像度（２５６０ｄｐｉ）、版サイズ（Ａ１／Ｂ１、副走査長４２ｉｎｃｈ）、２０枚／１時間程度の露光条件と本発明の感光層の感光特性（感光波長、感度：約０．１ｍＪ／ｃｍ2）を上記式に代入することで、本発明の感光層においては総出力２０ｍＷ以上のレーザーを用いたマルチビーム露光方式との組み合わせが好ましいことが理解できる。しかし、必要十分の出力（３０ｍＷ以上）を有するレーザーを用いた場合には、操作性、コスト等を掛け合わせると、内面ドラム方式の半導体レーザーシングルビーム露光装置との組み合わせが最も好ましいことになる。
【００８６】
また、従来公知の活性光線で画像露光後、現像までの間に、感光層の硬化率を高める目的で５０℃〜１５０℃の温度で１秒から５分の時間の加熱プロセスを設けることにより、非画像部の硬化性を高め、耐刷性の更なる向上を図ることができ、より好ましい。
【００８７】
上述の感光性平版印刷版を従来公知の現像液を用いて現像し、画像形成することが可能であるが、これらの従来公知の現像液としては、特公昭５７−７４２７号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。現像液のアルカリ溶質濃度は一般的には０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。
【００８８】
また、このようなアルカリ現像液には、必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載されているものを挙げることができる。さらに、特開昭５０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載されている現像液も挙げることができる。
【００８９】
本発明の感光性平版印刷版の製版に使用される現像液として、網点、ベタ部の細線等のヌケ防止の点から、ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、ｐＨが１０.５〜１３.５（より好ましくはｐＨ１１．０〜１２．５）であるアルカリ現像液が好ましい。
【００９０】
ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することにより、
未露光部の感光層の溶解促進、露光部への現像液の浸透性の低減が可能となる。ポリオキシアルキレンエーテル基を含有する界面活性剤としては、下記一般式（Ｂ）の構造を有する物が好適に使用される。
【００９１】
Ｒ3−Ｏ−(Ｒ4-Ｏ)qＨ       (Ｂ)
式中、Ｒ3は、置換基を有しても良い炭素数３〜１５のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、又は置換基を有しても良い炭素数４〜１５の複素芳香族環基(尚、置換基としては炭素数１〜２０のアルキル基、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉ等のハロゲン原子、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、炭素数７〜１７のアラルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１５のアシル基が挙げられる。)を示し、Ｒ4は、置換基を有しても良い炭素数１〜１００のアルキレン基（尚、置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる。）を示し、ｑは１〜１００の整数を表す。
【００９２】
上記式（Ｂ）の定義において、「芳香族炭化水素基」の具体例としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基、アンスリル基、ビフェニル基、フェナンスリル基等が挙げられ、また「複素芳香族環基」の具体例としては、フリル基、チオニル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、ピラニル基、ピリジニル基、アクリジニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオニル基、ベンゾピラニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基等が挙げられる。
【００９３】
また式（Ｂ）の(Ｒ4−Ｏ)qの部分は、上記範囲であれば、２種又は３種の基の組み合わせであっても良い。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダム又はブロック状に連なったもの等が挙げられる。本発明において、ポリオキシアルキレンエーテル基を有する界面活性剤は単独又は複合系で使用され、現像液中の添加量を１質量％以上とすることで現像性を確保でき、３０質量％以下とすることで現像のダメージを防止できる。より好ましい添加量は２〜２０質量％である。
【００９４】
上記式（Ｂ）で表されるポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリオキシエチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類が挙げられる。
【００９５】
さらに以下に記す、その他の界面活性剤を加えてもよい。その他の界面活性剤としては、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤;ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベ
タイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤等が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。
【００９６】
その他の界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、界面活性剤の現像液中における含有量は質量換算で２〜２０質量％の範囲が好適である。
【００９７】
このアルカリ現像液は通常無機アルカリ塩を含有する。無機アルカリ塩としては適宜選択可能であるが、例えば、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、珪酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、同リチウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、及び同アンモニウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いても良い。
【００９８】
珪酸塩を使用する場合には、珪酸塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ2とアルカリ酸化物Ｍ2Ｏ（Ｍはアルカリ金属またはアンモニウム基を表す。）との混合比率及び濃度の調製により、現像性を容易に調節することが出来る。前記アルカリ水溶液の中でも前記酸化珪素ＳｉＯ2とアルカリ酸化物Ｍ2Ｏとの混合比率（ＳｉＯ2／Ｍ2Ｏ:モル比）が０.５〜３.０のものが好ましく、１.０〜２.０のものがより好ましい。前記ＳｉＯ2／Ｍ2Ｏが０.５未満であると、アルカリ水溶液の質量に対して１〜１０質量％が好ましく、３〜８質量％がより好ましく、４〜７質量％が最も好ましい。現像性、処理能力の点で１質量％以上が好ましく、沈殿や結晶の生成の抑制、さらに廃液の中和の際にゲル化の抑制による廃液処理の点で１０質量％以下が好ましい。
【００９９】
また、アルカリ濃度の微少な調整、感光層の溶解性の補助の目的で、補足的に有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらの有機アルカリ剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１００】
本発明で使用される現像液の導電率は、３〜３０ｍＳ/ｃｍであることが好ましい。アルミニウム支持体表面の感光層の溶出、印刷の汚れの抑制の点から、３ｍＳ/ｃｍ以上が好ましく、塩濃度、感光層の溶出速度、未露光部の残膜の抑制の点から、３０ｍＳ/ｃｍ以下が好ましい。特に好ましい導電率は、５〜２０ｍＳ/ｃｍの範囲である。
【０１０１】
現像処理された感光性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例】
【０１０２】
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【０１０３】
実施例１〜６及び比較例１〜３
［アルミニウム支持体の作製］
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板を１０質量％水酸化ナトリウム水溶液に６０℃で２５秒間浸漬してエッチングし、流水で水洗後、２０質量％硝酸水溶液で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を用いて、１質量％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
引き続いて１質量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬後、３０質量％の硫酸水溶液中に浸漬して６０℃で４０秒間デスマット処理した後、２０質量％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ／ｄｍ2において、陽極酸化皮膜の厚さが２．７ｇ／ｍ2になるように、２分間陽極酸化処理した。その表面粗さを測定したところ、０．３μｍ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１によるＲａ表示）であった。
【０１０４】
［下塗り層の塗設］
次に、アルミニウム支持体に下記組成の下塗り層塗布液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて９０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は１０ｍｇ／ｍ2であった。
【０１０５】
（下塗り層塗布液）
エチルメタクリレートと２−アクリルアミド−２−メチル−１−
プロパンスルホン酸ナトリウム塩（モル比７５：２５）の共重合体
（分子量  １．８万）                                           ０．１ｇ
メタノール                                                   ５０ｇ
イオン交換水                                                 ５０ｇ
【０１０６】
［光重合性感光層の塗設］
上記下塗り層上に、下記組成の感光層塗布液を、乾燥後の膜厚が１．５ｇ／ｍ2になる様に、ホイラーで塗布し、１００℃で１分乾燥させた。
【０１０７】
（感光層塗布液）
重合可能な化合物：  表１に記載の化合物                        ２．０ｇ
バインダー：  下記構造                                        １．８ｇ
【０１０８】
【化１０】
2007086342.tif 000011
【０１０９】
増感色素：  表１に記載の化合物                                ０．１ｇ
光重合開始剤：  下記構造                                      ０．１５ｇ
【０１１０】
【化１１】
2007086342.tif 000012
【０１１１】
着色顔料分散物：  下記組成                                    １．５ｇ
熱重合禁止剤：Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン          ０．０１ｇ
界面活性剤：大日本インキ化学工業(株)製メガファックＦ１７６    ０．０２ｇ
メチルエチルケトン                                          ２０．０ｇ
プロピレングリコールモノメチルエーテル                      ２０．０ｇ
【０１１２】
＜着色顔料分散物の組成＞
Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６                    １５質量部
アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体            １０質量部
（共重合モル比８３／１７）
シクロヘキサノン                                      １５質量部
メトキシプロピルアセテート                            ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                ４０質量部
【０１１３】
［保護層の塗設］
この感光層上に下記組成よりなる保護層塗布液を、乾燥塗布質量が２ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で２分間乾燥した。
（保護層塗布液）
ポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）    ４ｇ
ポリビニルピロリドン（分子量１０万）                        １ｇ
水                                                        ９５ｇ
【０１１４】
上記で得られた感光性平版印刷版を下記の方法により製版し、感度、経時安定性、セーフライト適性の評価を実施した。
【０１１５】
（露光）
実施例１〜６、比較例１〜３の感光性平版印刷版を、室温（約２５℃）で４日間、保存した後、３０ｍＷのバイオレットレーザーを搭載した富士フイルムエレクトロイメージング社製のプレートセッターＶｘ９６００ＣＴＰで、版面上の光量が０．１ｍＪ／ｃｍ2になる様に光量を調整し、版面の上にグレースケールを貼り付け、その上から全面露光した。グレースケールは光量が１／√２ずつ変化する様に作られており、グレースケール段数（Ｇ／Ｓ段数）が高いほど感度が高いことを示す。
【０１１６】
（現像／製版）
富士写真フイルム（株）製自動現像機ＬＰ−８５０Ｐ２（プレヒート温度は１００℃）に下記現像液と富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ−２Ｗをそれぞれ仕込み、現像液温度３０℃、現像時間１８秒の条件で、露光済みの版を現像／製版して平版印刷版を得た。
【０１１７】
（現像液：ｐＨ１１．６）
水酸化ナトリウム                                      ０．１５質量部
下記構造の化合物                                      ５．０  質量部
エチレンジアミンテトラ酢酸・４Ｎａ塩                  ０．１  質量部
水                                                  ９４．７５質量部
【０１１８】
【化１２】
2007086342.tif 000013
【０１１９】
（評価）
感度評価は、上記レーザー露光の説明で述べた条件で実施した。
経時安定性評価は、上記実施例１〜６、比較例１〜３の感光性平版印刷版を上記のレーザー露光前に、６０℃のサーモセルコ(ＴＡＢＥＩ社製ＰＨＨ−２００）に３日間保存し、上記のレーザー露光を実施した。サーモセルコに入れなかったサンプルとグレースケール段数を比較し、その差を経時安定性の指標とした。グレースケールの段数の差が小さい方が、経時安定性が良好であることを示す。
セーフライト適性評価は、実施例１〜６、比較例１〜３の感光性平版印刷版を上記のレーザー露光前に、白灯を使用し、富士フイルム社製ＦＶ３０フィルターを介することにより、４２０ｎｍ以上の白灯成分で、６０Ｌｕｘ、１時間全面前露光した。その後、上記のレーザー露光を実施した。前露光を行わないサンプルとグレースケール段数を比較し、その差からセーフライト適性を評価した。グレースケールの段数の差が小さい方が、セーフライト適性が良好であることを示す。
結果を表１に示す。
【０１２０】
【表１】
2007086342.tif 000014
【０１２１】
【化１３】
2007086342.tif 000015
【０１２２】
表１より、本発明の感光性平版印刷版は比較例の感光性平版印刷版と比べて、感度が高く、しかも経時安定性、セーフライト適性が優れていることが明らかである。