【事件の表示】
　平成　４年特許願第３５１４２１号「液晶表示装置」において、平成１４年６月１１日付けでした手続補正に対してされた補正の却下の決定に対する審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原決定を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成４年１２月８日に出願したものであって、平成１４年１月８日付けで拒絶査定がなされ、平成１４年４月１日付けで審判請求時の手続補正がなされたところ、前置審査において平成１４年６月１１日付けでその補正について補正の却下の決定がなされたものである。
　なお、原審において提出された平成１２年７月２１付け手続補正は、平成１３年２月７日付けで却下され確定している。
　
２．原決定の理由
　本件補正の却下の決定の理由は、おおよそ次のとおりである。
『上記補正後の特許請求の範囲には「前記第１の電極は前記第１の基板上に光透過率の小さい膜厚にして形成した後、前記陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化し」（請求項１、２）及び「前記薄膜化された第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い」（請求項４）の事項が記載されている。
　しかし、本願の願書に最初に添付した明細書及び図面には、「第１の電極２に膜厚１５０ｎｍのタンタルからなる金属膜を用い陽極酸化処理後においても１１５ｎｍの膜厚のタンタルが残っているため、透過率を充分小さくできる」（段落００８４）の記載により、膜厚１５０ｎｍのタンタルあるいは１１５ｎｍの膜厚のタンタルの透過率が充分小さい事項は記載されていると認められるが、この実施例では光透過率の大きな膜厚まで薄膜化されていない。
　段落００４３及び図２には、タンタルの膜厚と入射光を１００パーセントとした場合の透過率の測定波長４５０ｎｍから５００ｎｍでの値との関係について記載されており、この場合、タンタルの膜厚２５ｎｍにおける透過率は２５パーセントが得られることが記載されている。また、段落００４４〜００４５には「図１に示すように、本発明では、第１の基板１上に形成する第１の電極２として、薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する。さらに薄膜タンタルである第１の電極２上には、第１の電極２を陽極酸化処理して形成する酸化タンタルからなる非線形抵抗層３を厚さ６５ｎｍで形成する。酸化タンタルを形成することにより第１の電極２の厚さは減少し、陽極酸化処理後では、前述の６０ｎｍの膜厚が２５ｎｍになる。」が記載されている。しかし、第１の電極２として、薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する理由が光透過率の小さい膜厚であるとの記載はなく、図２のグラフから６０ｎｍの膜厚の場合１，２％の光透過率となっているがこのパーセントが小さくて２５パーセントが大きいとの記載はなく、段落００４４〜００４５の記載からは、薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する理由は第１の電極２を陽極酸化処理して形成する酸化タンタルからなる非線形抵抗層３を厚さ６５ｎｍで形成するために必要な膜厚であると解釈するのが妥当である。そして、第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い点は、記載されていない。
　本願の願書に最初に添付した明細書及び図面の他の記載からも「前記第１の電極は前記第１の基板上に光透過率の小さい膜厚にして形成した後、前記陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化し」及び「前記薄膜化された第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い」の事項が自明であるとすることもできない。』
　
３．当審の判断
　願書に最初に添付された明細書及び図面（以下、「当初明細書」という。）には、補正後の特許請求の範囲の「前記第１の電極は前記第１の基板上に光透過率の小さい膜厚にして形成した後、前記陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化し」（請求項１、２）及び「前記薄膜化された第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い」（請求項４）の事項に関し、直接の記載はない。
　
　当初明細書から上記事項が記載したに等しい事項といえるかどうかを、次の３点について検討する。
（ａ）陽極酸化処理前には、第１の電極は光透過率の小さい膜厚で形成されているか
（ｂ）上記第１の電極は、陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化されているか
（ｃ）薄膜化された第１の電極の膜厚を２５ｎｍより薄くすることが記載されているといえるか
　
（１）当初明細書の記載事項
　当初明細書には、次の記載がある。
「【００３６】本発明の目的は、上記の非線形抵抗素子の極性による大きな非対称特性変化を抑えて、液晶への直流印加を減らし、液晶の品質の低下をなくし、コントラストの低下、フリッカ現象および画像焼き付き現象を防止して、良好な画像品質を有する液晶表示装置を提供することである。
【００３７】【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置においては、下記記載の構造を採用する。
【００３８】本発明の液晶表示装置においては、第１の基板上に第１の電極と第２の電極とを形成し、第１の電極の側壁と第２の電極との重なり合う領域に非線形抵抗素子を形成し、第１の基板と第２の基板とを所定の間隔で張り合わせ、第１の基板と第２の基板との間に液晶を封入する液晶表示装置にあって、第１の電極を薄膜にし、液晶表示装置に利用する表示用照明部を第１の電極を形成する第１の基板側に配置し、光を非線形抵抗素子に照射することを可能とする。」、
「【００４２】【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基いて説明する。図１は、本発明の液晶表示装置を示す断面図である。
【００４３】図２にタンタルの膜厚（単位：ナノメーター）と透過率（単位：パーセント）のグラフを示す。透過率は入射光を１００パーセントした場合の、タンタルの膜厚依存性を示している。測定波長は、４５０ｎｍから５００ｎｍの値である。図２のグラフに示すように、２５ｎｍのタンタルの膜厚では、２５パーセントの透過率が得られている。
【００４４】図１に示すように、本発明では、第１の基板１上に形成する第１の電極２として、薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する。
【００４５】さらに薄膜タンタルである第１の電極２上には、第１の電極２を陽極酸化処理して形成する酸化タンタルからなる非線形抵抗層３を厚さ６５ｎｍで形成する。酸化タンタルを形成することにより第１の電極２の厚さは減少し、陽極酸化処理後では、前述の６０ｎｍの膜厚が２５ｎｍになる。」、
「【００５７】そのため、図２から明らかなように、第１の電極２の構成材料であるタンタルの膜厚を薄膜化することにより、表示用照明部１６の光を薄膜タンタルからなる第１の電極２の側壁および上面に形成する非線形抵抗素子１３の、とくに上面に形成する非線形抵抗素子に効率よく光照射することが可能となる。」、
「【００５９】図３は、図１２のグラフに示す非線形抵抗素子の第１の電極（Ｔａ）に正の電圧を印加するときの初期の特性を示す曲線Ｌと、駆動した後の特性を示す曲線Ｍとの差分を示す差分Ｐの光量による依存性を示す曲線Ｄと、第１の電極（Ｔａ）に負の電圧を印加するときの初期の特性を示す曲線Ｌと駆動した後の特性を示す曲線Ｍとの差分を示す差分Ｑの光量による依存性を示す曲線Ｅとを示すグラフである。
【００６０】図３のグラフから明らかなように、第１の電極に正電圧を印加した状態を示す曲線Ｄは、非線形抵抗素子に照射する光量が１０００ルクスより大きくなるに従い、急激に減少している。
【００６１】これに対して第１の電極に負の電圧を印加した状態を示す曲線Ｅは、光量の増加により、徐々に減少するが、曲線Ｄに比較して、光量５０００ルクス程度までは、その変化量はきわめて小さい。」、
「【００６３】さらに図３のグラフから明らかなように、５０００ルクス以上の光量を非線形抵抗素子に照射することにより、第１の電極に印加する電圧の極性による非対称な変化量、すなわち差分Ｆをきわめて小さくすることができる。」、
「【００６６】本実施例においては、表示用照明部１６として、２００００ルクスの照明を利用する。この光量は、液晶表示用の照明部としては、一般的である。この表示用照明部を利用することにより、第１の電極２として膜厚が２５ｎｍの薄膜タンタルを利用しているため、光量５０００ルクスの光を、第１の電極２の側壁および上面を利用して形成する非線形抵抗素子１３に照射することが可能となる。」、
「【００８４】この開口部１４の面積を非線形抵抗素子１３の面積より小さくし、さらに非線形抵抗素子１３を構成する第１の電極２に膜厚１５０ｎｍのタンタルからなる金属膜を用い陽極酸化処理後においても１１５ｎｍの膜厚のタンタルが残っているため、透過率を充分小さくできるため、ブラックマトリクス７からの光の漏れを完全に防止することができる。このため、液晶表示装置の表示品質が低下することはない。」
　図２のグラフには、タンタルの膜厚が２５ｎｍにおいて透過率が２５％程度であること、６０ｎｍにおいて透過率が１ないし２％程度であること、及び１１５ｎｍにおいては１％以下の小さな値であることがみてとれる。
　図３のグラフには、段落【００５９】から【００６１】を合わせ見ると、曲線Ｄ，Ｅは非線形抵抗素子に照射する光量が１０００ＬＵＸ程度ではその曲線が大きく異なっており、１０００ＬＵＸより大きくなるに従い急激に減少し、５０００ＬＵＸ付近でその曲線がきわめて接近すること、また、５０００ＬＵＸ以上では両曲線に差が少ないことがみてとれる。
　
（２）判断
（ａ），（ｂ）の点について
　当初明細書の段落【００３６】〜【００３８】の記載から見て、本発明の目的は、上記の非線形抵抗素子の極性による大きな非対称特性変化を抑えて、液晶への直流印加を減らし、液晶の品質の低下をなくし、コントラストの低下、フリッカ現象および画像焼き付き現象を防止して、良好な画像品質を有する液晶表示装置を提供することであり、そのために、液晶表示の第１の電極を薄膜にし、表示用照明部を第１の電極を形成する第１の基板側に配置して光を非線形抵抗素子に照射するとの構成を採用したものである。
　そして、当初明細書には、「図２にタンタルの膜厚・・・と透過率・・・のグラフを示す。・・・図２のグラフに示すように、２５ｎｍのタンタルの膜厚では、２５パーセントの透過率が得られている。・・・本発明では、第１の基板１上に形成する第１の電極２として、薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する。・・・第１の電極２を陽極酸化処理して形成する酸化タンタルからなる非線形抵抗層３を厚さ６５ｎｍで形成する。酸化タンタルを形成することにより第１の電極２の厚さは減少し、陽極酸化処理後では、前述の６０ｎｍの膜厚が２５ｎｍになる。」（【００４３】〜【００４５】）、「図２から明らかなように、第１の電極２の構成材料であるタンタルの膜厚を薄膜化することにより・・・非線形抵抗素子に効率よく光照射することが可能となる。」（【００５７】）、「曲線Ｅは、光量の増加により、徐々に減少するが、曲線Ｄに比較して、光量５０００ルクス程度までは、その変化量はきわめて小さい。・・・図３のグラフから明らかなように、５０００ルクス以上の光量を非線形抵抗素子に照射することにより、・・・差分Ｆをきわめて小さくすることができる。」（【００６１】、【００６３】）、「表示用照明部１６として、２００００ルクスの・・・照明部を利用することにより、第１の電極２として膜厚が２５ｎｍの薄膜タンタルを利用しているため、光量５０００ルクスの光を、第１の電極２の側壁および上面を利用して形成する非線形抵抗素子１３に照射することが可能となる。」【００６６】」と記載されており、該記載から見れば、本願発明における第１の電極の透過率が小さいあるいは大きいとの事項は、光を非線形抵抗素子に照射して非線形抵抗素子の極性による大きな非対称特性変化を抑えることができるかどうかを基準に判断したものであることが理解でき、その具体的な数値として、５０００ルクスの光量を非線形抵抗素子１３に照射することが可能かどうかが判断の基準になっていることも理解できる。
　さらに、当初明細書には、「非線形抵抗素子１３を構成する第１の電極２に膜厚１５０ｎｍのタンタルからなる金属膜を用い陽極酸化処理後においても１１５ｎｍの膜厚のタンタルが残っているため、透過率を充分小さくできる」（【００８４】）と記載されており、１パーセントより小さい透過率（上記の図面よりみてとれる事項参照）の１１５ｎｍタンタルが透過率が小さいと記載されていることから、それと透過率としては大きく変わらない６０ｎｍのもの（光透過率１ないし２％）も透過率が小さいと解することができる。
　また、透過率の基準として図２を参照して上記記載がなされており、上記記載から見れば、２５ｎｍというのは光透過率の大きな膜厚として認識されていることは明らかであり、６０ｎｍはそれより膜厚が厚いのであるから、光透過率が２５ｎｍより小さいことも明らかである。
　また、光学的な知見から見ても、吸収体の厚さが厚いほど光透過率が小さくなることは明らかであるから、２５ｎｍより厚い６０ｎｍにおいては光透過率が小さいといえる。
　してみれば、２５ｎｍより厚い６０ｎｍにおいては光透過率が小さいこと、すなわち上記（ａ）の事項は、当初明細書に記載されていたに等しい事項といえるものである。
　
　また、６０ｎｍにおいて光透過率が小さいといえる以上、２５ｎｍにおいて透過率が大きいことは当初明細書から明らかであることから、「酸化タンタルを形成することにより第１の電極２の厚さは減少し、陽極酸化処理後では、前述の６０ｎｍの膜厚が２５ｎｍになる」などの記載は、上記（ｂ）の「上記第１の電極は、陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化されている」との事項を示すものである。
　
（ｃ）の点について
　（ａ），（ｂ）の事項が上記のとおり記載されているといえる以上、図２及び図３からみてとれる事項並びに厚さが薄いほど光透過率が大きくなるとの光学的な知見から見れば、薄膜化された第１の電極の膜厚を２５ｎｍより薄くすれば光透過率が増し、より本願発明の作用効果が増大することが理解できるから、「前記薄膜化された第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い」との事項は、当初明細書に記載されていたに等しい事項である。
　
　なお、原決定においては、「薄膜タンタルを６０ｎｍの膜厚で形成する理由は第１の電極２を陽極酸化処理して形成する酸化タンタルからなる非線形抵抗層３を厚さ６５ｎｍで形成するために必要な膜厚である」旨記載しているが、もし当初明細書の実施例の記載がその程度の記載しかないとしても、それが当初明細書全体の記載及び技術水準を勘案した場合に、６０ｎｍの薄膜タンタルの透過率が小さいといえるかどうかが要旨変更の判断を左右するものであるが、上記考察からすれば、６０ｎｍの薄膜タンタルの透過率が小さいとの事項が記載されていないとはいえない。
　
（３）まとめ
　したがって、「前記第１の電極は前記第１の基板上に光透過率の小さい膜厚にして形成した後、前記陽極酸化処理によって光透過率の大きな膜厚まで薄膜化し」（請求項１、２）及び「前記薄膜化された第１の電極の膜厚は２５ｎｍより薄い」（請求項４）の事項に補正することは、明細書の要旨を変更するものではない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、上記手続補正は特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものとした原決定は妥当でない。
　よって、結論のとおり審決する。