【事件の表示】
　平成　９年特許願第３３９８１６号「レリーフパターンの製造法」拒絶査定に対する審判事件〔平成１１年　７月　２日出願公開、特開平１１−１７４６７８、請求項の数（６）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の請求項１ないし６に係る発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１　本願発明
　本願は、平成９年１２月１０日の出願であって、その請求項１〜６に係る発明は、平成１３年５月２１日付け、平成１３年１０月１２日付け及び平成１４年７月１７日付け手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲、請求項１〜６に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
「【請求項１】ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、ｉ線縮小投影露光装置を露光光源とした活性光線照射を行い、アルカリ水溶液で現像し、次いで加熱処理することを特徴とするレリーフパターンの製造法であって、前記ポジ型感光性樹脂組成物は、（Ａ）一般式（I）
【化１】
（但し、式中Ｒ１は４価の有機基、Ｒ２及びＲ３は炭化水素基、Ｒ４はビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンのアミノ基を除いた残基）で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル及び（Ｂ）ｏ−キノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、
該ポジ型感光性樹脂組成物を塗布し８０〜１３０℃で３分乾燥して形成される５〜７μｍの膜に２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を浴びせ、５０秒間放置した後、純粋を浴びせ前記膜上から前記水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を除去したときの第１の溶解速度が３０ｎｍ／秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で塗布乾燥して形成される膜に３６５ｎｍの紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ２照射した後に、膜に対して上記と同様に前記水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いたときの第２の溶解速度が８０ｎｍ／秒以上である、ｉ線露光用ポジ型感光性樹脂組成物であることを特徴とするレリーフパターンの製造法。
【請求項２】前記Ｒ１が芳香環又は２〜３個の芳香族環が単結合、エーテル結合、２，２−ヘキサフルオロプロピレン結合、スルホン結合、メチレン結合及びカルボニル結合の中から選ばれた少なくとも一種の結合を介して結合した化学構造を持つ４価の有機基である請求項１記載のレリーフパターンの製造法。
【請求項３】前記ポリアミド酸エステルが、更に一般式（II）
【化２】　
（但し、式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ３と同義であり、Ｒ５は芳香環又は２〜３個の芳香環が単結合、エーテル結合、２，２−ヘキサフルオロプロピレン結合、メチレン結合及びスルホン結合の中から選ばれた少なくとも一種の結合を介して結合した化学構造を持ち、フェノール性水酸基を有しない２価の有機基）で示される反復単位を含むものであり、前記一般式（I）と前記一般式（II）の反復単位の比が、一般式（I）の数をｍ、一般式（II）の数をｍとしたときのｍ／（ｍ＋ｎ）で、１．０〜０．４である請求項１又は２記載のレリーフパターンの製造法。
【請求項４】前記ポリアミド酸エステルが、下記一般式（III）で示されるテトラカルボン酸ジエステルジクロリドと、下記一般式（IV）で示されるジアミン化合物と、下記一般式（V）で示されるジアミン化合物とを反応させて得られるものである請求項３記載のレリーフパターンの製造法。
【化３】
（化学式省略）　　　（III）
【化４】
Ｈ２Ｎ−Ｒ４−ＮＨ２　　（IV）  
【化５】
Ｈ２Ｎ−Ｒ５−ＮＨ２　　（V）
（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５と同義である。）
【請求項５】前記ｏ−キノンジアジド化合物が、トリス（４−イドロキシフェニル）メタンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドを反応させた化合物である請求項１〜４のいずれか一項に記載のレリーフパターンの製造法。
【請求項６】前記第１の溶解速度が２５ｎｍ／秒以下であり、かつ前記第２の溶解速度が９０ｎｍ／秒以上であ請求項１〜５のいずれか一項に記載のレリーフパターンの製造法。」
　なお、本件請求項１〜４、６に係る発明を、以下、項番号順に「第１発明」、「第２発明」、「第３発明」、「第４発明」、「第６発明」という。
　　　　　　　　　　　　　　　
２　引用例等に記載の発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由の概要は、（１）本願の請求項１〜４、６に係る発明は、特開平３−１５８８５６号公報（引用例１）、特開平５−２２４４１１号公報（引用例２）、特開平８−２２１１８号公報（引用例３）、国際公開第９３／０９４７０号パンフレット（特表平７−５００９３２号公報）（引用例４）、特開平４−２１８０５１号公報（引用例５）、特開平３−１１５４６１号公報（引用例６）、特開平４−１６８４４１号公報（引用例７）に記載された発明であり、また請求項１〜４、６に係る発明は、これらの発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の請求項１〜４、６に係る発明は特許法第２９条第１項第３号または第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、
（２）本願の請求項１〜４、６に係る発明は、その出願の日前の特許出願であって、その出願後に出願公開された特許出願である特願平９−２６８６５５号（特開平１１−１０６６５１号公報）、特願平１０−５８１７７号（特開平１１−２２３９４０号公報）及び特願平１０−１１５５２６号（特開平１１−２４２７０号公報）の願書に最初に添付された明細書（以下、それぞれ「先願明細書ア」、「先願明細書イ」、「先願明細書ウ」という。）に記載された発明と同一であるので、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない、というものである。
　そして、引用例１には、アルカリ可溶性フェノール樹脂と感光剤（例、キノンジアジドのスルホン酸エステル）を含有するポジ型レジスト組成物に関する発明が記載（特許請求の範囲）され、アルカリ可溶性フェノール樹脂の例として「フェノール類とアルデヒド類との縮合反応生成物」等が挙げられている。
　引用例２には、フェノール−アルデヒド樹脂、溶解抑制剤と感光剤から構成され、溶解抑制剤がナフトキノンジアジド４−及び５−スルホン酸混合物とポリフェノールとから得られる混合エステルである、ポジ型レジスト組成物に関する発明が記載（特許請求の範囲、請求項１）されている。
　引用例３には、ポリベンゾオキサゾール前駆体、一般式（１）で表されるジアミンを含むポリアミド酸、特定の感光性ジアゾキノンを含むポジ型感光性樹脂組成物に関する発明が記載されている（特許請求の範囲）。
　引用例４には、ポリイミド前駆体、酸発生剤、溶解性促進剤、溶剤からなるポジホトレジスト組成物に関する発明が記載され（特許請求の範囲）、ポリイミド前駆体の構造に含まれるジアミン類の例として「２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」が挙げられている。
　引用例５には、式１で示されるポリアミド酸誘導体と感光剤を含む感光性樹脂組成物に関する発明が記載されている（特許請求の範囲、請求項１）。
  引用例６には、一般式（I）で示されるポリアミド酸エステル、オルトキノンジアジド化合物を含む感光性樹脂組成物に関する発明が記載されている（特許請求の範囲）。
　引用例７には、一般式（I）からなるポリイミド樹脂前駆体、オルトキノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物に関する発明が記載されている（特許請求の範囲、請求項１）。
　「先願明細書ア」には、特許請求の範囲、「実施例」等の記載からみて、一般式（１）（化学式の記載省略）で示されるポリマーとオルトキノンジアジド化合物とを含むポジ型感光性樹脂組成物の発明が記載されていると認める。
　「先願明細書イ」には、特許請求の範囲、「実施例」等の記載からみて、一般式（１）（化学式の記載省略）で示されるポリマー、一般式（２）または（３）で示されるジアミン化合物及びオルトキノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物の発明が記載されていると認める。
　「先願明細書ウ」には、特許請求の範囲、「実施例」等の記載からみて、一般式（１）（化学式の記載省略）で示されるポリマーとオルトキノンジアジド化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物の発明が記載されていると認める。
　　　　
３　引用例記載の発明との対比 
（ａ）「第１発明」について                           
　「第１発明」の「レリーフパターンの製造法」は、ポジ型感光性樹脂組成物として、「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンのアミノ基を除いた残基」を構成成分として含有する、一般式（I）で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル（本件の請求項１記載の構造式）（以下、「特定酸エステルａ」という。）と、ｏ−キノンジアジド化合物を含む組成物であって、「該ポジ型感光性樹脂組成物を塗布し８０〜１３０℃で３分乾燥して形成される５〜７μｍの膜に２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を浴びせ、５０秒間放置した後、純粋を浴びせ前記膜上から前記水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を除去したときの第１の溶解速度が３０ｎｍ／秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で塗布乾燥して形成される膜に３６５ｎｍの紫外線を７００ｍＪ／ｃｍ２照射した後に、膜に対して上記と同様に前記水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いたときの第２の溶解速度が８０ｎｍ／秒以上である」点（以下、「溶解速度に関する要件Ａ」という。）を有する組成物を、レリーフパターンの製造において用いるものである。そして、成分の１つ「特定酸エステルａ」は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ４−の部分構造を有し、ここでＲ４は、前記した「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンのアミノ基を除いた残基」（以下「特定Ｒ４残基」という。）に限定される。以下、各引用例の発明と「第１発明」とを対比する。
　引用例１，２に記載のポジ型レジスト組成物は、主成分となるポリマー成分がフェノール樹脂であるから明らかに「第１発明」のものとは異なる。引用例１，２には、「特定酸エステルａ」を用いる記載はなく、またポリマー成分としてフェノール樹脂を必須とするものであるから、フェノール樹脂に代えて「特定酸エステルａ」を用いることが示唆されているとはいえない。
　引用例３に記載のポジ型感光性樹脂組成物も、ポリマー成分が「第１発明」のポリマー成分とは異なる。即ち、引用例３の組成物では、ポリマー成分は、ポリアミド酸エステルとは反応性、溶解性等において異なるポリアミド酸である。また、この分野においてポリアミド酸エステルとポリアミド酸を同等のものとして用いることが普通のことであったとは認められない。
　上記のように、引用例１，２はフェノール樹脂系のポジ型感光性樹脂組成物に関する技術であり、他方、引用例３はポリイミド前駆体（ポリアミド酸）系のポジ型感光性樹脂組成物に関する技術であり、両者は技術内容を異にするだけでなく、引用例１〜３のいずれにも「溶解速度に関する要件Ａ」について全く記載がないのであるから、これらに記載の発明を組み合わせることにより、「第１発明」が容易に想到し得たとすることはできない。
　更に検討する。
　引用例４に記載のポジホトレジスト組成物は、ポリマー成分としてポリイミド前駆体を含むものであり、その前駆体は、構造中に「ジアミン類」として、例えば２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを含む旨記載されているが、「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」をその構造中に含んでなるポリアミド酸エステルは記載されていない。また、引用例６には、ポリマー成分として特定の「ポリアミド酸エステル」（特許請求の範囲に記載の「成分ａ」）を含む感光性樹脂組成物が記載され、「水酸基を有すジアノ化合物」（例、２，２’−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン）が「ポリアミド酸エステル」の原料となる旨記載されているが、「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」をその構造中に含むポリアミド酸エステルは記載されていない。
　ポリアミド酸エステルはその構造中に−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ−の部分を有するが、ジアミンとして前記した「２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」を用いた場合は、フェニル基の置換基が「３−アミノ−４−ヒドロキシ」ではないから、Ｘが上記した「特定Ｒ４残基」であるものとはならない。
　また、引用例４，６には、本願の請求項１に記載の一般式（I）においてＲ４が上記した「特定Ｒ４残基」であるポリアミド酸エステルの使用、及び感光性樹脂組成物が「溶解速度に関する要件Ａ」を有することについて記載も示唆もない。
　引用例５には、ポリマー成分として特定の「ポリアミド酸誘導体」（請求項１記載の式１）を含む感光性樹脂組成物が記載され、式１における−Ｒ３、−Ｒ４について「一価の有機基または水酸基」であるとされ、かつ「少なくとも一方は芳香環に結合した水酸基１個以上を有する有機基」という条件が付されたものとなっている（２頁、請求項１等参照）。しかし、引用例５には、請求項１記載の式１において−Ｒ３及び−Ｒ４が共に「−ＯＲ（但しＲは炭化水素基とする。）」であるもの（即ちポリアミド酸エステル）は記載されておらず、示唆もない。
　引用例７には、ポリマー成分としての特定の「ポリイミド樹脂前駆体」（請求項１〜２記載の一般式I〜III）とオルトキノンジアジドとを含むポジ型感光性樹脂組成物が記載され、一般式IIIのポリイミド樹脂前駆体のジアミン原料として「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」が例示されている（なお、ジアミンは一般式IIIにおいて、Ｒ５を構成する。）。しかし、一般式IIIにおいてＲ５が、特に「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」で構成されたポリイミド樹脂前駆体とオルトキノンジアジドとを含む感光性樹脂組成物であって、該組成物が「溶解速度に関する要件Ａ」を有するものは引用例７に具体的に明らかにされていない。また、そのような感光性樹脂組成物を示唆する記載もない。
　引用例７に記載の「実施例１」（９頁）には、「・・・塗膜を得た。・・・紫外光を５分間照射した。この露光面での紫外線強度は３５０ｎｍで１．６ｍW／ｃｍ２・・・であった。」とあるが、該記載は紫外線全体の照射を示しており、ここでの「３５０ｎｍ」の波長は、光強度のレファレンスとして用いたことを示すに過ぎないので、ｉ線（３６５ｎｍ）露光が示唆されているとは言えない。
　更に、「第１発明」は、上記引用例１〜７に記載の発明を組み合わせることによって容易になし得たものであるとも認められない。
　そして、「第１発明」においては、ポジ型感光性樹脂組成物として「特定酸エステルａ」とｏ−キノンジアジド化合物を含む組成物であって、「溶解速度に関する要件Ａ」を有する組成物を、レリーフパターンの製造に用いることにより、ｉ線の活性光線で露光し、アルカリ現像液を用いて現像して、良好なレリーフパターンの形成ができるという効果が奏されるものである。
　したがって、「第１発明」は、引用例１〜７に記載の発明と同一であるとも、また、これらの発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるとも認められない。
　　　
（ｂ）「第２発明」〜「第４発明」、「第６発明」について
 「第２発明」〜「第４発明」、「第６発明」は、「第１発明」の特定事項をすべて備え、さらに技術的限定を加えるものであるから、上記と同様な理由により引用例１〜７に記載の発明と同一であるとも、また、これらの発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるとも認められない。
　　　
４　先願明細書に記載の発明との対比
（ａ）「第１発明」について 
　「先願明細書ア」には、請求項１記載（２頁）の一般式（１）におけるＲ１（ＣＯＯＲ３）ｍ（ＯＨ）ｐが、一般式（４）で示されるポリマーである化合物においてＲ１０が「ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」に該当するものが例示されている（請求項４、段落【0012】、【0016】の最初の式）。
　また、「先願明細書ウ」には、請求項１記載（２頁）の一般式（１）においてＲ１が「２，２−ビス（ｍ−アミノ−ｐ−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」に該当するものが例示されている（段落【0009】の最初の化合物）。
　しかし、これらの先願明細書には、本願の請求項１に記載の一般式（I）においてＲ４が上記した「特定Ｒ４残基」であるポリマーの使用、及び該ポリマー及びオルトキノンジアジドを含むポジ型感光性樹脂組成物が上記した「溶解速度に係る要件Ａ」を有することについて記載がない。
　「先願明細書イ」には、請求項１記載（２頁）の一般式（１）中、ヒドロキシルアミンの構成成分を表すＲ２が「２，２−ビス（ｍ−アミノ−ｐ−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン」であるものが例示されている（段落【0012】の最初の化合物）。
　しかし、一般式（１）で示されるポリマーは末端がＲ４でブロックされており、加熱処理の際脱離する基であるから、このような脱離基を有さない本願の請求項１に記載の一般式（I）の構造のものとは異なる。
　それゆえ、上記した各先願明細書には、ポジ型感光性樹脂組成物として「特定酸エステルａ」とｏ−キノンジアジド化合物を含む組成物であって、「溶解速度に関する要件Ａ」を有する組成物をレリーフパターンの製造に用いることが開示されているとすることはできず、したがって、「第１発明」は、「先願明細書ア」〜「先願明細書ウ」に記載された発明と同一であるとはいえない。
　　　　
（ｂ）「第２発明」〜「第４発明」、「第６発明」について
　「第２発明」〜「第４発明」、「第６発明」は、「第１発明」を限定したものであり、「第１発明」の特定事項をすべて備えるので、上記（ａ）で述べたのと同様な理由により、これらの発明も「先願明細書ア」〜「先願明細書ウ」に記載された発明と同一であるとはいえない。
　　　　
５　むすび
　以上のとおりであるから、原査定の理由及び証拠によっては本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。