【事件の表示】
　特願２０１２−１６９８７０「色調補正フィルム及びそれを用いた透明導電性フィルム」拒絶査定不服審判事件〔平成２５年　５月２３日出願公開，特開２０１３−　９９９２４〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は，平成２４年７月３１日（優先権主張平成２３年１０月２１日）の出願であって，平成２５年５月１０日付けで拒絶理由が通知され，同年６月１３日に意見書が提出されたが，同年７月１１日付けで拒絶査定がなされたところ，同年９月１９日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出され，当審において，平成２６年６月１８日付けで拒絶の理由が通知され，同年８月２０日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　
２　本願発明
　平成２６年８月２０日提出の手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項からみて，本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりのものと認められる（「ＪＩＳ Ｚ ８７２９」の記載内容からみて，請求項１の「Ｌ＊ａ＊ｂ表色系」なる記載は明らかな誤記であって，正しくは「Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系」であると認められるから，当該誤記を訂正して本願発明を認定した。なお，「＊」については，後述の引用文献の記載も含めて，本審決では上付文字に統一して表記する。）。
　
「透明基材フィルムの両面にハードコート層が積層されており，前記両ハードコート層上にそれぞれ色調補正層１，色調補正層２，及び錫ドープ酸化インジウム層が順に積層されている透明導電性フィルムであって，
　前記両ハードコート層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．５１〜１．６１，膜厚が１〜１０μｍであり，
　前記両色調補正層１は，金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が２５〜５５ｎｍであり，　前記両色調補正層２は，シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５５ｎｍであり，
　前記両錫ドープ酸化インジウム層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであり，
　全光線透過率が８５％以上，且つＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が−２≦ｂ＊≦２である，静電容量式タッチパネル用の透明導電性フィルム。」
　
３　当審で通知した拒絶理由の概要
　当審において平成２６年６月１８日付けで通知した拒絶の理由（以下「当審拒絶理由」という。）の概要は，本願の請求項１及び２に係る発明は，特開２０１１−９８５６３号公報に記載の発明及び周知の事項に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
　
４　引用例
（１）特開２０１１−９８５６３号公報
　ア　特開２０１１−９８５６３号公報の記載
　前記当審拒絶理由で引用した特開２０１１−９８５６３号公報（以下「引用文献」という。）は，本願の優先権主張の日より前（以下，単に「本願優先日前」という）に頒布された刊行物であって，当該引用文献には次の記載がある。（下線は，後述する引用発明の認定に特に関係する箇所を示す。）
（ア）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの表面から順に，高屈折率層，低屈折率層及び錫ドープ酸化インジウム層が積層された透明導電性フィルムであって，
　高屈折率層は，金属酸化物微粒子と紫外線硬化性バインダーとより形成され，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が４０〜９０ｎｍであり，低屈折率層は，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５０ｎｍであり，錫ドープ酸化インジウム層は，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
ポリエステルフィルムと高屈折率層との間に，膜厚１．０〜１０．０μｍのハードコート層が積層されている請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
ポリエステルフィルムの錫ドープ酸化インジウム層の反対面に機能層が形成されている請求項１又は請求項２に記載の透明導電性フィルム。」
　
（イ）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は，例えば
タッチパネル
に用いられ
【背景技術】
【０００２】
　現在，画像表示部に直接触れることにより，情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが用いられている。このタッチパネルは光を透過する入力装置を液晶表示装置，ＣＲＴ等の各種ディスプレイ上に配置されるものであり，
代表的な形式として，
静電容量タイプのタッチパネルがある
【０００３】
　抵抗膜式タッチパネルや
静電容量タイプのタッチパネルの透明電極基板として，
熱可塑性高分子フィルム等の基材上に，酸化錫を含有するインジウム酸化物（錫ドープ酸化インジウム，ＩＴＯ）や酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている
金属酸化物層の反射及び吸収に由来する可視光短波長領域の透過率の低下による，黄色の呈色が見られる
【０００４】
　
この問題を解決するために，透明導電層を多層光学膜と組み合わせた透明導電性積層体が提案
多層光学膜として，異なる屈折率の層が積層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−３０１６４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　そこで，
本発明の目的とするところは，透過光の着色を抑え，ヘイズ値が低く，全光線透過率の高い透明導電性フィルムを提供すること
　
（ウ）「【課題を解決するための手段】
【０００７】
　前記の目的を達成するために，第１の発明の透明導電性フィルムは，ポリエステルフィルムの表面から順に，高屈折率層，低屈折率層及び錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）が積層されて構成されている。そして，高屈折率層は，金属酸化物微粒子と紫外線硬化性バインダーとより形成され，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が４０〜９０ｎｍであり，低屈折率層は，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５０ｎｍであり，錫ドープ酸化インジウム層は，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであることを特徴とする。
【０００８】
　第２の発明の透明導電性フィルムは，第１の発明において，ポリエステルフィルムと高屈折率層との間に，膜厚１．０〜１０．０μｍのハードコート層が積層されている。
　第３の発明の透明導電性フィルムは，第１又は第２の発明において，ポリエステルフィルムの錫ドープ酸化インジウム層の反対面に機能層が形成されている。」
　
（エ）「【発明の効果】
【００１１】
　本発明によれば，次のような効果を発揮することができる。
　第１の発明の透明導電性フィルムでは，高屈折率層は光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が４０〜９０ｎｍであり，低屈折率層は光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５０ｎｍであり，ＩＴＯ層は光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍに設定されている。このように，高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層の屈折率を，光の波長４００ｎｍにおける屈折率に基づいて適切に設定することにより，透明導電性フィルムの透過光の黄色味を抑えることができると同時に，透過率を上げることができる。従って，第１の発明の透明導電性フィルムによれば，透過光の着色を抑え，ヘイズ値が低く，全光線透過率を高めることができる。
【００１２】
　ここで，屈折率には波長分散性があり，短波長領域では屈折率が高くなる傾向がある。一般に，各層の屈折率調整では，ナトリウムのＤ線（光の波長５８９ｎｍ）の値を用いることが多いが，本発明の中間層及びＩＴＯ層のように金属酸化物微粒子を含む層においては，屈折率の波長分散の影響が大きくなる。黄色味を抑えるには光の波長４００ｎｍの透過率制御が重要であるため，波長５８９ｎｍの屈折率で各層の屈折率を調整した場合，光の波長４００ｎｍの透過率を十分に調整することはできなくなり，黄色味低減効果が十分に得られない。本発明では，光の波長４００ｎｍの屈折率を使用して各層を設計するため，効果が最大となる。」
　
（オ）「【発明を実施するための形態】
【００１３】
　以下，本発明を具体化した実施形態について詳細に説明する。
〔透明導電性フィルム〕
　本実施形態の透明導電性フィルムは，
ポリエステルフィルムの表面から順に，高屈折率層，低屈折率層及び錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）が積層されて構成
【００１４】
　以下に，この透明導電性フィルムの構成要素について順に説明する。
＜ポリエステルフィルム＞
　ポリエステルフィルムは
透明基材
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂
膜厚は通常２５〜４００μｍ，好ましくは３５〜２５０μｍ
＜高屈折率層＞
　
高屈折率層は金属酸化物微粒子と，紫外線硬化性バインダーとを混合してなる高屈折率層用塗液を紫外線硬化させた硬化物により形成される。金属酸化物微粒子としては，
酸化ジルコニウム
【００１５】
　高屈折率層の塗液は乾燥硬化後の硬化膜について光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．６３〜１．８６，好ましくは１．６６〜１．８６になるように調整する。さらに，高屈折率層の乾燥硬化後の膜厚は４０〜９０ｎｍ，好ましくは４５〜９０ｎｍになるように塗布後硬化される。屈折率及び膜厚がこれらの範囲外では，ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ表色系における透過色の前記ｂ＊の値が大きくなってしまい，透明導電性フィルムの透過色の黄色味が明瞭に認識されるようになる。また，高屈折率層の屈折率が１．８６より大きい場合には，塗膜中の粒子の割合が多くなり，ヘイズ値が上昇してしまう。高屈折率層の膜厚が上記の範囲外では，前記ｂ＊の値が大きくなってしまい，透明導電性フィルムの透過色の黄色味の着色が明瞭に認識されるようになる。
＜低屈折率層＞
　
低屈折率層
は，平均粒子径が１０〜１００ｎｍの無機微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを混合した塗液を，塗布，硬化させた層
無機微粒子としては，コロイダルシリカ
【００１６】
　低屈折率層の塗液は，乾燥硬化後の硬化膜について光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３になるように調整する。この屈折率が１．３３より小さい場合，低屈折率層の塗液中における中空シリカ微粒子等の割合が増えるため，塗膜が脆くなるとともに，製膜を良好に行うことができなくなる。その一方，屈折率が１．５３より大きい場合，透過色についてｂ＊の値が大きくなってしまい，透明導電性フィルムの透過色の黄色味の着色が明瞭に認識されるようになる。
【００１７】
　乾燥硬化後の膜厚は１０〜５０ｎｍ，好ましくは１５〜４５ｎｍになるように塗布後硬化される。この膜厚がこれらの範囲外では透過色の前記ｂ＊の値が大きくなってしまい，透明導電性フィルムの透過色の黄色味の着色が明瞭に認識されるようになる。
＜高屈折率層及び低屈折率層の形成方法＞
　ポリエステルフィルム上に設けられる高屈折率層及び低屈折率層の形成方法は従来公知の方法でよく，特に制限されない。例えばドライコーティング法，ウェットコーティング法等の方法を採ることができる。生産性及び製造コストの面より，特にウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法としては公知の方法で良く，例えばロールコート法，スピンコート法，ディップコート法などが代表的な方法として挙げられる。その中でロールコート法等，連続的に層を形成できる方法が生産性の点より好ましい。
＜ＩＴＯ層＞
　
低屈折率層の上に積層されるＩＴＯ層
＜ハードコート層＞
　
ポリエステルフィルムと高屈折率層との間には，ハードコート層を形成
【００１８】
　そのような活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物としては特に限定されるものではないが，例えば公知の活性エネルギー線硬化型樹脂を２種類以上混合したもの，紫外線硬化性ハードコート材として市販されているもの，或いはこれら以外に本発明の効果を損なわない範囲において，その他の成分をさらに添加したものを用いることができる。その乾燥硬化後の膜厚は１．０〜１０．０μｍが好ましく，屈折率は１．４５〜１．６０であることが好ましい。膜厚が１．０μｍより薄い場合には，鉛筆硬度がＨ未満になるため好ましくない。一方，膜厚が１０μｍより厚い場合には，硬化収縮によるカールが強くなるとともに，不必要に厚くなり，生産性や作業性が低下するため好ましくない。
【００１９】
　また，ハードコート層の形成方法は特に限定されず，通常行われている塗布方法，例えばロールコート法，スピンコート法，ディップコート法，バーコート法，グラビアコート法等のいかなる方法も採用される。
＜機能層＞
　
ポリエステルフィルムの反対面には，機能層を設ける
機能層は，例えばハードコート層
　
（カ）「【実施例】
【００３１】
　以下に，製造例，実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明するが，本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。なお，各層の屈折率は以下のように測定した。
＜屈折率の測定方法＞
（１）屈折率１．６３のＰＥＴフィルム〔商品名「Ａ４１００」，東洋紡績（株）製〕上に，ディップコーター〔杉山元理化学機器（株）製〕により，各層用塗液をそれぞれ乾燥硬化後の膜厚で１００〜５００ｎｍ程度になるように層の厚さを調製して塗布した。
（２）乾燥後，紫外線照射装置〔岩崎電気（株）製〕により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて，４００ｍＪの紫外線を照射して硬化した。硬化後のＰＥＴフィルム裏面をサンドペーパーで荒らし，黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計〔「ＦＥ−３０００」，大塚電子（株）製〕により，反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から，下記に示すｎ−Ｃａｕｃｈｙの波長分散式（式１）の定数を求め，光の波長４００ｎｍにおける屈折率を求めた。
【００３２】
　Ｎ（λ）＝ａ／λ４＋ｂ／λ２＋ｃ　・・・（式１）
　ａ，ｂ，ｃ：波長分散定数
＜屈折率の測定方法＞
（１）屈折率１．６３のＰＥＴフィルム〔商品名「Ａ４１００」，東洋紡績（株）製〕を１００℃で１時間予備乾燥を行った後，ＰＥＴフィルム上にインジウム：錫＝１０：１（質量比）のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行い，実膜厚２０ｎｍの透明導電層としての錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し，透明導電性フィルムを作製した。
（２）この透明導電性フィルム裏面をサンドペーパーで荒らし，黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計〔「ＦＥ−３０００」，大塚電子（株）製〕により，反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から，上記式（１）を用いて，
光の波長４００ｎｍにおける屈折率
【００３３】
　なお，実施例及び比較例に記載の各層の屈折率は，前段の屈折率の測定方法から求めた屈折率である。
＜全光線透過率，ヘイズ値の測定方法＞
　ヘイズメーター〔「ＮＤＨ２０００」，日本電色工業（株）製〕により全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を測定した。
＜透過色の測定方法＞
　色差計〔「ＳＱ−２０００」，日本電色工業（株）製〕を用いて透過色，ｂ＊を測定した。この
ｂ
＊
は，ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ
＊
ａ
＊
ｂ表色系
における値
＜巻き取り性の評価方法＞
　両面ハードコート（ＨＣ）フィルムをロール状に巻き取り，目視で観察することにより，フィルムの巻き取り性を下記に示す評価基準によって評価した。
【００３４】
　◎：巻きじわ及びへこみなどの凹凸状変形が全くない。
　○：巻きじわ又はへこみなどの凹凸状変形がほとんどない。
　×：巻きじわ又はへこみなどの凹凸状変形が大きい。
〔製造例１，ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）の調製〕
　
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８０質量部，トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０質量部，１，６−ビス（３−アクリロイルオキシー２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン２０質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部及びイソブチルアルコール１００質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−１）を調製
〔製造例２，高屈折率層用塗液（Ｈ−１）の調製〕
　
平均粒子径が０．０２μｍの酸化ジルコニウム微粒子を７９質量部，１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕２１質量部及び光重合開始剤〔商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４」，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製〕５質量部を混合し，メチルエチルケトンで上記固形分が１０質量％になるように希釈し，高屈折率層用塗液（Ｈ−１）を調製
・・・（中略）・・・
〔製造例９，低屈折率層用塗液（Ｌ−１）の調製〕
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部，シリカ微粒子分散液〔商品名「ＸＢＡ−ＳＴ」，日産化学（株）製〕９０質量部，イソプロピルアルコール９００質量部，光重合開始剤〔商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７」，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製〕５質量部を混合し，低屈折率層用塗液（Ｌ−１）を調製した。
〔製造例１０，変性中空シリカ微粒子（ゾル）の調製〕
　
中空シリカゾル〔触媒化成工業（株）製，商品名：ＥＬＥＣＯＭ　ＮＹ−１００１Ｓ１Ｖ，イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの２５質量％分散液，平均粒子径６０ｎｍ〕２０００質量部，γ―アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業（株）製，ＫＢＭ５１０３〕７０質量部及び蒸留水８０質量部を混合して変性中空シリカ微粒子（ゾル）（平均粒子径：６０ｎｍ）を調製
・・・（中略）・・・
【００３５】
　次に，ヒドロキシル基含有フッ素アリエーテル重合体，メチルエチルケトン４３質量部，ピリジン１質量部及びα−フルオロアクリル酸フルオライド１質量部より重合性二重結合を有する含フッ素反応性重合体溶液（固形分１３質量％，α−フルオロアクリロイル基への水酸基の導入率４０モル％）を調製した。この含フッ素反応重合体溶液４０質量部と，前記変性中空シリカ微粒子６０質量部と，光重合開始剤〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製，イルガキュア９０７〕２質量部と，イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−２）を調製した。
〔製造例１２，低屈折率層用塗液（Ｌ−３）の調製〕
　
前記変性中空シリカ微粒子６０質量部と，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部と，光重合開始剤〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製，イルガキュア９０７〕２質量部と，イソプロピルアルコール２０００質量部とを混合して低屈折率層用塗液（Ｌ−３）を調製
・・・（中略）・・・
〔製造例１４，ハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ１）の調製〕
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９５質量部，平均粒子径０．５μｍのアクリル樹脂微粒子（屈折率１．４９５）５質量部，メチルエチルケトン１００質量部，光重合開始剤〔商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」，チバジャパン（株）製〕４質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ１）を調製した。
〔製造例１５，ハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ２）の調製〕
　ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９７質量部，平均粒子径１．５μｍのアクリル樹脂微粒子（屈折率１．４９５）３質量部，メチルエチルケトン１００質量部，光重合開始剤〔商品名：「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」，チバジャパン（株）製〕４質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ２）を調製した。
（実施例１−１）
　
製造例１で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をロールコーターにて，厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム上に，乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ
【００３６】
　該ハードコート処理ＰＥＴフィルム上に，
高屈折率層用塗液Ｈ−１を用い，ロールコーターにて乾燥後の膜厚が６０ｎｍになるように塗布後，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，高屈折率層を形成し
高屈折率層の上へ，低屈折率層用塗液Ｌ―１を用い，ロールコーターにて乾燥後の膜厚が２０ｎｍになるように塗布後，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，低屈折率層を形成し
【００３７】
　該色調補正フィルムの
裏面に製造例１で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をロールコーターにて，乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射し，硬化させ
【００３８】
　この
両面にハードコート層が積層
１００℃で１時間予備乾燥を行った後，インジウム：錫＝１０：１（質量比）のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行い，低屈折率層上に，実膜厚３０ｎｍの透明導電層としてのＩＴＯ層を形成し，１５０℃で３０分間アニール処理を施し，透明導電性フィルムを作製
・・・（中略）・・・
（実施例１−３）
　高屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を６５ｎｍ，低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を２５ｎｍ，ＩＴＯ層の膜厚を２５ｎｍにする以外は，実施例１−１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。得られた透明導電性フィルムについて，透過色の色調（ｂ＊），全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を前記方法で測定し，それらの結果を表１に示した。
・・・（中略）・・・
（実施例１−５）
　低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を４５ｎｍ，ＩＴＯ層の膜厚を２５ｎｍにする以外は，実施例１−１と同様にして，透明導電性フィルムを作製した。得られた透明導電性フィルムについて，透過色の色調（ｂ＊），全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を前記方法で測定し，それらの結果を表１に示した。
・・・（中略）・・・
（実施例１−７）
　高屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を６５ｎｍ，低屈折率層用塗液Ｌ−３を使用し，低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を３０ｎｍ，ＩＴＯ層の膜厚を２５ｎｍにする以外は，実施例１−１と同様にして透明導電性フィルムを作製した。得られた透明導電性フィルムについて，透過色の色調（ｂ＊），全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を前記方法で測定し，それらの結果を表２に示した。
（
実施例１−８
　
高屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を４５ｎｍ，低屈折率層用塗液Ｌ−３を使用し，低屈折率層の乾燥硬化後の膜厚を３０ｎｍ，ＩＴＯ層の膜厚を２５ｎｍにする以外は，実施例１−１と同様
・・・（中略）・・・
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
・・・（中略）・・・
【００４３】
・・・（中略）・・・（実施例２−１）
　製造例１で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をロールコーターにて，厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム上に，乾燥硬化後の膜厚が２μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。
【００４４】
　このハードコート処理ＰＥＴフィルム裏面に製造例１３で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ１）をロールコーターにて，乾燥硬化後の膜厚が２μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射し，硬化させることにより，両面ハードコートフィルムを作製した。得られた両面ハードコートフィルムの巻き取り性を評価したところ◎であった。上記両面ハードコートフィルムのハードコート層上に，実施例１−１と同様に，高屈折率層，手屈折率層及びＩＴＯ層を形成し，透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムについて，透過色の色調（ｂ＊），全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を前記方法で測定し，それらの結果を表４に示した。
（実施例２−２）
　製造例１で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をロールコーターにて，厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム上に，乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。このハードコート処理ＰＥＴフィルム裏面に製造例１３（審決注：誤記であり，正しくは「製造例１５」と認められる。）で調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ２）をロールコーターにて，乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射し，硬化させることにより，両面ハードコートフィルムを作製した。
【００４５】
　得られた両面ハードコートフィルムの巻き取り性を評価したところ○であった。この両面ハードコートフィルムの片面上に，実施例１−１と同様にして，高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層を形成し，透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムについて，透過色の色調（ｂ＊），全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を前記方法で測定し，それらの結果を表４に示した。・・・（中略）・・・
【００４６】
【表４】
」
　
　イ　引用文献に記載された発明
　引用文献の【００３２】の屈折率の測定方法に関する記載及び【００４０】の【表２】（前記ア（カ）を参照。）から，「実施例１−８」における
ハードコート層，高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層の光の波長４００ｎｍにおける屈折率がそれぞれ１．５３，１．７６，１．４３及び２．００
透過色ｂ
＊
が０．０で全光線透過率が８８．８％
　
「厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム上に，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８０質量部，トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０質量部，１，６−ビス（３−アクリロイルオキシー２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン２０質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部及びイソブチルアルコール１００質量部を混合して調製したハードコート層用塗液ＨＣ−１をロールコーターにて，乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，ハードコート層を形成し，
　当該ハードコート層上に，平均粒子径が０．０２μｍの酸化ジルコニウム微粒子を７９質量部，１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕２１質量部及び光重合開始剤〔商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４」，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製〕５質量部を混合し，メチルエチルケトンで上記固形分が１０質量％になるように希釈して調製した高屈折率層用塗液Ｈ−１を用い，ロールコーターにて乾燥後の膜厚が４５ｎｍになるように塗布後，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，高屈折率層を形成し，
　当該高屈折率層上に，中空シリカゾル〔触媒化成工業（株）製，商品名：ＥＬＥＣＯＭ　ＮＹ−１００１Ｓ１Ｖ，イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの２５質量％分散液，平均粒子径６０ｎｍ〕２０００質量部とγ―アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業（株）製，ＫＢＭ５１０３〕７０質量部と蒸留水８０質量部とを混合して調製した変性中空シリカ微粒子ゾル（平均粒子径：６０ｎｍ）６０質量部，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部，光重合開始剤〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製，イルガキュア９０７〕２質量部及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合して調製した低屈折率層用塗液Ｌ−３を用い，ロールコーターにて乾燥後の膜厚が３０ｎｍになるように塗布後，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，低屈折率層を形成し，
　前記ＰＥＴフィルムの裏面に，前記ハードコート層用塗液ＨＣ−１をロールコーターにて乾燥硬化後の膜厚が４μｍになるように塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによって，ハードコート層を形成し，
　１００℃で１時間予備乾燥を行った後，インジウム：錫＝１０：１（質量比）のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行い，低屈折率層上に，実膜厚２５ｎｍの透明導電層としてのＩＴＯ層を形成し，
　１５０℃で３０分間アニール処理を施すことによって得られる透明導電性フィルムであって，
　前記両ハードコート層，前記高屈折率層，前記低屈折率層及び前記ＩＴＯ層の光の波長４００ｎｍにおける屈折率がそれぞれ１．５３，１．７６，１．４３及び２．００であり，
　ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色ｂ＊の値が０．０で，全光線透過率が８８．８％であり，
　静電容量タイプのタッチパネルの透明電極基板として用いられる透明導電性フィルム。」（以下「引用発明」という。）
　
（２）周知の事項
　ア　特開２０１１−５４２０８号公報の記載
　前記当審拒絶理由で周知の事項を認定する際に例示した特開２０１１−５４２０８号公報（以下「周知例１」という。）は，本願優先日前に頒布された刊行物であって，当該周知例１には次の記載がある。（下線は，後述する周知技術の認定に特に関係する箇所を示す。後述する周知例２ないし４についても同様。）
「【０００３】
　タッチパネル装置は，タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて，種々の形式に区別され得る。昨今では，光学的に明るいこと，意匠性があること，構造が容易であること，機能的にも優れていること等の理由から，容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。
容量結合方式のタッチパネル装置
容量結合方式には表面型と投影型とがある
投影型が注目を浴びている
【０００４】
　投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは，誘電体と，誘電体の両側に異なるパターンでそれぞれ形成された第１電極部および第２電極部と，を有している（例えば，特許文献２）。典型的には，第１電極部および第２電極部は，それぞれ格子状に配列された導電体を有し，外部導体（典型的には，指）がタッチパネルセンサに接触または接近した際に生じる，電磁的な変化または静電容量の変化に基づき，導電体の位置を検出するようになっている。
【０００５】
　このような
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは，一般的に，第１電極部が形成された第１の基材フィルムと，第２電極部が形成された第２の基材フィルムと，を接着層により接合することによって，作製されている
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００７−５３３０４４
【特許文献２】特開平４−２６４６１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　ところで，昨今においては，薄型化および光学特性の向上が要望されている。しかしながら，
上述した作製方法で作製されるタッチパネルセンサにおいては，二枚のフィルムが貼り合わされるため，厚みが厚くなるだけでなく，透過光に対して光学的作用を及ぼし得る界面の数を増やしてしまう。この結果，表示装置からの映像光の透過率を低下させてしまうとともに，表示装置が表示する映像の画質を劣化させてしまう
【０００８】
　また，投影型容量結合方式のタッチパネルセンサにおいて接触位置（接近位置）の検出精度を向上させるためには，第１電極部および第２電極部を互いに対して精度良く位置決めすることも必要となる。しかしながら，上述した作製方法で作製されるタッチパネルセンサ，すなわち，電極部を形成された二枚のフィルムを貼り合わせることによって作製されるタッチパネルセンサにおいては，
第１基材フィルムおよび第２基材フィルムを互いに対して精度良く位置決めすることは困難である
【０００９】
　これに対して，特許文献１では，
一枚の基材フィルムの両面に，フォトリソグラフィー技術を用いて電極部をそれぞれ所望のパターンで形成する方法が開示されている。この方法では，基材フィルムを透過しない遠紫外線が，基材フィルムの両側に形成されたレジスト膜を露光するための光として採用されるとともに，基材フィルムとして遠紫外線を遮光する機能を有したフィルムが用いられている。これにより，二枚のレジスト膜を互いに異なるパターンで同時露光することが可能となり，一枚の基材フィルムの両面に異なるパターンの電極部を形成することが可能となっている
・・・（中略）・・・
【００３２】
　なお，「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は，タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして，本件においても用いている。なお，
「容量結合」方式は，タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式
とも呼ばれており
　
　イ　国際公開第２０１１／０６５０３２号の記載
　前記当審拒絶理由で周知の事項を認定する際に例示した国際公開第２０１１／０６５０３２号（以下「周知例２」という。）は，本願優先日前に頒布された刊行物であって，当該周知例２には次の記載がある。
「［０００２］　近年，様々な電子機器のディスプレイ上に入力デバイスとして，透明なタッチパネルが取り付けられている。
タッチパネルの方式としては，
静電容量式
［０００３］　静電容量式のタッチパネルは，パターンを形成した透明導電層を用いる。・・・（中略）・・・
［０００８］本発明は，かかる従来技術の課題に鑑みてなされたもので，その目的は，レジストを用いて透明導電層にパターンを形成する方法を用いても，短い製造工程で基板の両面に異なる形状のパターンを同時に形成することができ，基板の両面に形成されたパターンが微細なものであっても位置合わせが容易であり，さらに，パターン形状を目立たなくする上で有利な透明導電性積層体及びその製造方法並びに静電容量式タッチパネルを提供することにある。
・・・（中略）・・・
［００３１］　図１は，本発明の透明導電性積層体の断面例１の説明図である。
透明導電性積層体１１は，透明基板１の両面に設けられた導電性パターン領域４ａ及び非導電性パターン領域４ｂを形成した第一の透明導電層３ａと，導電性パターン領域４ａ及び非導電性パターン領域４ｂを形成した第二の透明導電層３ｂとから構成される
・・・（中略）・・・
［００３５］　図５は，本発明の透明導電性積層体の断面例５の説明図である。
透明導電性積層体１１は，第一の透明基板１ａの片面に設けられた導電性パターン領域４ａ及び非導電性パターン領域４ｂを形成した第一の透明導電層３ａと，第二の透明基板１ｂの片面に設けられた導電性パターン領域４ａ及び非導電性パターン領域４ｂを形成した第二の透明導電層３ｂと，第一の透明導電層３ａと第二の透明導電層３ｂを外側にして，第一の透明基板１ａと第二の透明導電基板１ｂとの間に設けた粘着層６とから構成される
　
　ウ　特開２００９−７６４３２号公報の記載
　前記当審拒絶理由で周知の事項を認定する際に例示した特開２００９−７６４３２号公報（以下「周知例３」という。）は，本願優先日前に頒布された刊行物であって，当該周知例３には次の記載がある。
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，可視光線領域に於いて透明性を有し，かつフィルム基材上にアンダーコート層を介して透明導電体層が設けられた透明導電性フィルムおよびその製造方法に関する。さらには，当該透明導電性フィルムを備えたタッチパネルに関する。
【０００２】
　本発明の透明導電性フィルムは，液晶ディスプレイ，エレクトロルミネッセンスディスプレイなどのディスプレイ方式やタッチパネルなどに於ける透明電極のほか，透明物品の帯電防止や電磁波遮断などのために用いられる。特に，
本発明の透明導電性フィルムは
静電容量結合方式のタッチパネル用途において好適
【背景技術】
【０００３】
　タッチパネルには，位置検出の方法により光学方式，超音波方式，静電容量方式，抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは，透明導電性フィルムと透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており，透明導電性フィルムに電流を流し透明導電体層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方，
静電容量方式のタッチパネルは，基材上に透明導電層を有するものを基本的構成
・・・（中略）・・・
【００２４】
　図５も，本発明の透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。なお，図５では，図１と同様の構成をもって説明しているが，図５においても，当然，図２，図３で説明した構成と同様の構成を適用できる。図５の
透明導電性フィルムは，透明なフィルム基材１の両面に，アンダーコート層２を介して，パターン化された透明導電体層３を有する
【００２５】
　図６乃至図９も，本発明の透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。図６乃至９の透明導電性フィルムは，前記図１または図５で示す透明導電性フィルムが，透明な粘着剤層４を介して２枚積層されている。また，図６乃至図９では積層して得られる透明導電性フィルムは，少なくとも
片面に前記パターン化された透明導電体層３が配置されるように積層
透明導電性フィルム２枚を透明な粘着剤層４を介して積層している
透明導電性フィルムの透明なフィルム基材１同士が，透明な粘着剤層４を介して積層された
　
　エ　特開２００８−９８１６９号公報の記載
　前記当審拒絶理由で周知の事項を認定する際に例示した特開２００８−９８１６９号公報（以下「周知例４」という。）は，本願優先日前に頒布された刊行物であって，当該周知例４には次の記載がある。
「【００２０】
　図１は，本発明に係る透明タッチスイッチの第１実施形態を示す概略断面図である。この
透明タッチスイッチ１０１は，静電容量式のタッチスイッチであり，透明基板１１にアンダーコート層１３を介して透明導電膜１２が形成された第１の透明面状体１と，透明基板２１にアンダーコート層２３を介して透明導電膜２２が形成された第２の透明面状体２とを備えている。第１の透明面状体１と第２の透明面状体２とは，それぞれの透明導電膜１２，２２が対向するようにして，粘着層１５を介して貼着されている
・・・（中略）・・・
【０１４１】
　また，図３３の概略断面図に示すように，
一つの透明基板３１の両面にそれぞれ所定間隔をあけて帯状透明導電部３２，４２を複数配置
このような構成の透明面状体３０を用いて静電容量式のタッチスイッチを形成した場合，
タッチスイッチが備える透明基板３１は一枚だけであると共に，粘着層１５を必要としないので，タッチスイッチの厚みを薄くすることが可能になる
　
　オ　周知例１ないし４から把握される周知の事項
　周知例１ないし４の記載（前記アないしエを参照。）から，静電容量式のタッチパネルの透明電極基板としては，透明基板の片面のみに透明導電層が設けられた透明導電性積層体を２枚貼合して構成したもの（以下「片面基板貼合タイプ」という。）と，透明基板の両面に透明導電層が設けられた透明導電性積層体を用いるもの（以下「両面基板タイプ」という。）のいずれもが本願優先日前に周知であったと認められ，かつ，周知例１及び４の記載（前記ア及びエを参照。）から，前記両面基板タイプは，前記片面基板貼合タイプのものに比べて，薄型化や透過率の向上といった利点を有することもまた本願優先日前に周知であったと認められる（以下，「静電容量式のタッチパネルの透明電極基板には片面基板貼合タイプ及び両面基板タイプがあり，両面基板タイプは，片面基板貼合タイプのものに比べて，薄型化や透過率の向上等の利点を有すること」を「周知の技術的事項」という。）
　
５　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「ＰＥＴフィルム」，「ハードコート層」，「高屈折率層」，「低屈折率層」，「ＩＴＯ層」，「酸化ジルコニウム微粒子」，「１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕」を紫外線照射により硬化させた樹脂，「変性中空シリカ微粒子ゾル」中の変性中空シリカ微粒子，「ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート」を紫外線照射により硬化させた樹脂，「静電容量タイプのタッチパネル」及び「透明導電性フィルム」は，本願発明の「透明基材フィルム」，「ハードコート層」，「色調補正層１」，「色調補正層２」，「錫ドープ酸化インジウム層」，「金属酸化物微粒子」，「色調補正層１」に含まれる「活性エネルギー線硬化型樹脂」，「シリカ微粒子」，「色調補正層２」に含まれる「活性エネルギー線硬化型樹脂」，「静電容量式タッチパネル」及び「透明導電性フィルム」に，それぞれ相当する。
　
（２）引用発明では，「ＰＥＴフィルム」（透明基材フィルム）の両面に「ハードコート層」（ハードコート層）が形成されているから，引用発明は「透明基材フィルムの両面にハードコート層が積層されて」いるという本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（３）引用発明の「ハードコート層」（ハードコート層）のうち一方の「ハードコート層」上には高屈折率層用塗液Ｈ−１を用いて「高屈折率層」（色調補正層１）が形成され，当該「高屈折率層」上には低屈折率層用塗液Ｌ−３を用いて「低屈折率層」（色調補正層２）が形成され，当該「低屈折率層」上には「ＩＴＯ層」（錫ドープ酸化インジウム層）が形成されているから，本願発明と引用発明は，「一方のハードコート層上に色調補正層１，色調補正層２，及び錫ドープ酸化インジウム層が順に積層されている」点で一致する。
　
（４）引用発明の２つの「ハードコート層」は，いずれも，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．５３，乾燥硬化後の膜厚が４μｍであって，本願発明の「ハードコート層」の屈折率及び膜厚についての「１．５１〜１．６１」及び「１〜１０μｍ」という要件を満足しているから，引用発明は，「両ハードコート層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．５１〜１．６１，膜厚が１〜１０μｍであ」るという本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（５）引用発明の「高屈折率層」（色調補正層１）は，酸化ジルコニウム微粒子と１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕と光重合開始剤〔商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４」，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製〕を含有する高屈折率層用塗液Ｈ−１をハードコート層上に塗布した後，紫外線を照射して硬化させることにより形成したものであって，硬化後の「高屈折率層」には，「酸化ジルコニウム微粒子」（金属酸化物微粒子）と「１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕を紫外線照射により硬化させた樹脂」（活性エネルギー線硬化型樹脂）とが含まれている。
　また，引用発明の「高屈折率層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率は１．７６で，乾燥後の膜厚は４５ｎｍであって，本願発明の「色調補正層１」の屈折率及び膜厚についての「１．６３〜１．８６」及び「２５〜５５ｎｍ」という要件を満足している。
　したがって，引用発明の「高屈折率層」は，「金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が２５〜５５ｎｍであ」るという本願発明の「色調補正層１」についての発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（６）引用発明の「低屈折率層」（色調補正層２）は，変性中空シリカ微粒子ゾルとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと光重合開始剤〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製，イルガキュア９０７〕を含有する低屈折率層用塗液Ｌ−３を高屈折率層上に塗布した後，紫外線を照射して硬化させることにより形成したものであって，硬化後の「低屈折率層」には，「変性中空シリカ微粒子ゾル中の変性中空シリカ微粒子」（シリカ微粒子）と「ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを紫外線照射により硬化させた樹脂」（活性エネルギー線硬化型樹脂）とが含まれている。
　また，引用発明の「低屈折率層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率は１．４３で，乾燥後の膜厚は３０ｎｍであって，本願発明の「色調補正層２」の屈折率及び膜厚についての「１．３３〜１．５３」及び「１０〜５５ｎｍ」という要件を満足している。
　したがって，引用発明の「低屈折率層」は，「シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５５ｎｍであ」るという本願発明の「色調補正層２」についての発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（７）引用発明の「ＩＴＯ層」（錫ドープ酸化インジウム層）の光の波長４００ｎｍにおける屈折率は２．００で，実膜厚は２５ｎｍであって，本願発明の「錫ドープ酸化インジウム層」の屈折率及び膜厚についての「１．８５〜２．３５」及び「５〜５０ｎｍ」という要件を満足している。
　したがって，引用発明の「ＩＴＯ層」は，「波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであ」るという本願発明の「錫ドープ酸化インジウム層」についての発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（８）引用発明の「ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色ｂ＊の値」は０．０で，「全光線透過率」は８８．８％であって，本願発明の「ＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値」及び「全光線透過率」についての「−２≦ｂ＊≦２」及び「８５％以上」という要件を満足している。
　したがって，引用発明は，「全光線透過率が８５％以上，且つＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が−２≦ｂ＊≦２である」という本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（９）引用発明は「静電容量タイプのタッチパネル」（静電容量式タッチパネル）の透明電極基板として用いられるものであるから，引用発明は，「静電容量式タッチパネル用の」ものであるという本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備している。
　
（１０）前記（１）ないし（９）のとおりであるから，本願発明と引用発明とは，
「透明基材フィルムの両面にハードコート層が積層されており，一方のハードコート層上に色調補正層１，色調補正層２，及び錫ドープ酸化インジウム層が順に積層されている透明導電性フィルムであって，
　前記両ハードコート層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．５１〜１．６１，膜厚が１〜１０μｍであり，
　前記色調補正層１は，金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が２５〜５５ｎｍであり，
　前記色調補正層２は，シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５５ｎｍであり，
　前記錫ドープ酸化インジウム層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであり，
　全光線透過率が８５％以上，且つＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が−２≦ｂ＊≦２である，
　静電容量式タッチパネル用の透明導電性フィルム。」である点で一致し，次の点で相違する。
　
相違点：
　本願発明では，他方のハードコート層上にも，色調補正層１，色調補正層２，及び錫ドープ酸化インジウム層が順に積層されており，前記色調補正層１は，金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が２５〜５５ｎｍであり，前記色調補正層２は，シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５５ｎｍであり，前記錫ドープ酸化インジウム層は，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであるのに対して，
　引用発明では，他方（裏面）のハードコート層上には，これらの層が積層されていない点。
　
６　判断
（１）相違点の容易想到性について
　ア　前記４（２）オで認定したように，静電容量式のタッチパネルの透明電極基板としては片面基板貼合タイプ及び両面基板タイプがあり，両面基板タイプは，片面基板貼合タイプのものに比べて，薄型化や透過率の向上等の利点を有すること（周知の技術的事項）が本願優先日前に周知であったと認められるところ，片面基板貼合タイプである引用発明において，薄型化や透過率の向上を達成するため，裏面のハードコート層上に，もう一方の面に形成したものと同じ構成の高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層を形成して，両面基板タイプとして構成することは，周知の技術的事項に基づいて当業者が容易になし得たことである。
　
　イ　前記アの両面基板タイプとして構成した引用発明において，裏面のハードコート層上に形成した「高屈折率層」（色調補正層１）は，酸化ジルコニウム微粒子と１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕と光重合開始剤〔商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４」，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製〕を含有する高屈折率層用塗液Ｈ−１をハードコート層上に塗布した後，紫外線を照射して硬化させることにより形成したものであって，硬化後の「高屈折率層」には，「酸化ジルコニウム微粒子」（金属酸化物微粒子）と「１分子中にアクリロイル基を６個有するウレタンアクリレート〔分子量１４００，日本合成化学工業（株）製，紫光ＵＶ７６００Ｂ〕を紫外線照射により硬化させた樹脂」（活性エネルギー線硬化型樹脂）とが含まれ，光の波長４００ｎｍにおける屈折率は１．７６で，乾燥後の膜厚は４５ｎｍであるから，本願発明の他方のハードコート層上に形成した「色調補正層１」の「金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６，膜厚が２５〜５５ｎｍであり」という要件を満足している。
　また，前記アの両面基板タイプとして構成した引用発明において，裏面の前記高屈折率層上に形成した「低屈折率層」（色調補正層２）は，変性中空シリカ微粒子とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと光重合開始剤〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製，イルガキュア９０７〕を含有する低屈折率層用塗液Ｌ−３を高屈折率層上に塗布した後，紫外線を照射して硬化させることにより形成したものであって，硬化後の「低屈折率層」には，「変性中空シリカ微粒子」（シリカ微粒子）と「ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを紫外線照射により硬化させた樹脂」（活性エネルギー線硬化型樹脂）とが含まれ，光の波長４００ｎｍにおける屈折率は１．４３で，乾燥後の膜厚は３０ｎｍであるから，本願発明の本願発明の他方の色調補正層１上に形成した「色調補正層２」の「シリカ微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み，波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．３３〜１．５３，膜厚が１０〜５５ｎｍであり」という要件を満足している。
　さらに，前記アの両面基板タイプとして構成した引用発明において，裏面の前記低屈折率層上に形成した「ＩＴＯ層」（錫ドープ酸化インジウム層）は，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が２．００で，実膜厚が２５ｎｍであるから，本願発明の本願発明の他方の色調補正層２上に形成した「錫ドープ酸化インジウム層」の「波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．８５〜２．３５，膜厚が５〜５０ｎｍであり」という要件を満足している。
　したがって，引用発明において，薄型化や透過率の向上を達成するため，裏面のハードコート層上に，もう一方の面に形成したものと同じ構成の高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層を形成して，両面基板タイプとして構成するという前記構成の変更を行うことは，引用発明を，相違点に係る本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備するものとすることにほかならない。
　
　ウ　以上のとおりであるから，引用発明を，相違点に係る本願発明の発明特定事項に相当する構成を具備するものとすることは，周知の技術的事項に基づいて当業者が容易になし得たことである。
　
（２）全光線透過率及びｂ＊の値について
　前記（１）で述べた，裏面のハードコート層上に，もう一方の面に形成したものと同じ構成の高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層を形成するという構成の変更によって，引用発明の全光線透過率及びＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値は変化すると考えられるから，当該構成の変更後の引用発明における全光線透過率及びｂ＊の値について以下で検討する。
　ア　全光線透過率の値について
（ア）本願明細書には，本願発明の実施例について，次のとおり記載されている（下線は，後述する「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の構成の認定に特に関係する箇所を示す。）。
「【実施例】
【００３６】
　以下に，実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが，本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。なお，各例におけるＩＴＯ層以外の層の屈折率は下記に示す方法により測定した。
【００３７】
＜屈折率（ＩＴＯ層以外の層）＞
（１）波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．７２のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１００」，東洋紡績株式会社製）上に，ディップコーター（杉山元理化学機器株式会社製）により，各層用塗液をそれぞれ乾燥硬化後の膜厚で１００〜５００ｎｍ程度になるように層の厚さを調整して塗布した。
（２）乾燥後，紫外線照射装置（岩崎電気株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて，４００ｍＪの紫外線を照射して硬化した。硬化後のＰＥＴフィルム裏面をサンドペーパーで荒らし，黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計（「ＦＥ−３０００」，大塚電子株式会社製）により，反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から，下記に示すｎ−Ｃａｕｃｈｙの波長分散式（式１）の定数を求め，
光の波長４００ｎｍにおける屈折率
　Ｎ（λ）＝ａ／λ４＋ｂ／λ２＋ｃ　（式１）
（Ｎ：屈折率，λ：波長，ａ，ｂ，ｃ：波長分散定数）
【００３８】
〔ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）の調製〕
　
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９６質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部，及びイソブチルアルコール１００質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−１）を調製した
屈折率は１．５２
【００３９】
〔ハードコート層用塗液（ＨＣ−２）の調製〕
　
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９６質量部，アクリル微粒子［商品名：ＭＡ−１５０，綜研化学（株）製］５質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部，及びイソブチルアルコール１００質量部を混合してハードコート層用塗液（ＨＣ−２）を調製した
屈折率は１．５３
【００４０】
〔色調補正層１用塗液の調製〕
　色調補正層１用塗液として次の原料を使用し，各原料を表１に記載した組成で混合して，
色調補正層１用塗液Ｃ１−１
　　
金属酸化物微粒子：平均粒子径が０．０２μｍの酸化ジルコニウム微粒子
　　　　　　　　　　　平均粒子径が０．０２μｍの酸化チタン微粒子
　　
活性エネルギー線硬化型樹脂：６官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂ）
　　
光重合開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）
　　
溶媒：メチルイソブチルケトン
【００４１】
　得られた色調補正層１用塗液Ｃ１−１〜Ｃ１−４を用いて形成される色調補正層の屈折率を，上記方法により測定した。その結果を表１に示す。
　　【表１】
【００４２】
〔色調補正層２用塗液の調製〕
　色調補正層２用塗液として次の原料を使用し，各原料を表２に記載した組成で混合して，
色調補正層２用塗液Ｃ２−１
　　
シリカ微粒子：日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子　スルーリアＮＡＵ
　　　　　　　　：日産化学（株）製　ＸＢＡ−ＳＴ
　　金属酸化物微粒子（比較例用）：平均粒子径が０．０２μｍの酸化ジルコニウム微粒子
　　
活性エネルギー線硬化型樹脂：日本化薬（株）製　ＤＰＨＡ
　　
光重合開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（Ｉ−９０７）
　　
溶媒：イソプロピルアルコール
【００４３】
　得られた色調補正層２用塗液Ｃ２−１〜Ｃ２−５を用いて形成される色調補正層の屈折率を，上記方法により測定した。その結果を表２に示す。
　　【表２】
【００４４】
（実施例１−１）
　
東レ（株）製ＰＥＴフィルム（製品名：Ｕ−４０３，膜厚：１２５μｍ，屈折率１．７２）の一面に，ハードコート層用塗液（ＨＣ−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が２．５μｍのハードコート層（１）を形成した。続いて，ＰＥＴフィルムの他面にハードコート層用塗液（ＨＣ−２）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が２．５μｍのハードコート層（２）を形成
【００４５】
　上記ハードコート層（１）上に，
色調補正層１用塗液（Ｃ１−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が５５ｎｍの色調補正層１（１）を形成した。続いて，ハードコート層（２）上に，色調補正層１用塗液（Ｃ１−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が５５ｎｍの色調補正層１（２）を形成
【００４６】
　上記色調補正層１（１）上に，
色調補正層２用塗液（Ｃ２−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が３０ｎｍの色調補正層２（１）を形成した。続いて，色調補正層１（２）上に，色調補正層２用塗液（Ｃ２−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより，乾燥硬化後の膜厚が３０ｎｍの色調補正層２（２）を形成
色調補正フィルム（Ｓ−１）を作成
・・・（中略）・・・
【００４９】
（実施例１−４）
　色調補正層２（１）の色調補正層２用塗液をＣ２−２とした以外は，実施例１−１と同様にして，色調補正フィルム（Ｓ−４）を作製した。
・・・（中略）・・・
【００５９】
　実施例１−１〜１−１３で得られた色調補正フィルムの性質を表３に示す。
　　【表３】
【００６０】
（実施例２−１）
　上記色調補正フィルム（Ｓ−１）の
色調補正層２（１）上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより，膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）（１）を形成し，ついで，色調補正層２（２）上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてのスパッタリングを行うことにより，膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（２）を形成し，１５０℃，３０分のアニール処理を施し，透明導電性フィルムを作製
・・・（中略）・・・
【００６３】
（実施例２−４）
　色調補正フィルムを（Ｓ−４）とした以外は，実施例２−１と同様の方法にて透明導電性フィルムを作製した。
・・・（中略）・・・
【００７１】
（実施例２−１２）
　
錫ドープ酸化インジウム層（１）及び錫ドープ酸化インジウム層（２）の膜厚を３０ｎｍとし，アニール処理を１５０℃，６０分とした以外は，実施例２−１と同様
・・・（中略）・・・
【００７５】
　得られた透明導電性フィルムについて，ＩＴＯ層の屈折率，透過色ｂ＊，及び全光線透過率を測定した。その結果を下記表４に示す。なお，ＩＴＯ層の屈折率，透過色ｂ＊，及び全光線透過率は，下記に示す方法により測定した。
【００７６】
＜屈折率（ＩＴＯ層）＞
（１）波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．７２のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１００」，東洋紡績株式会社製）上にインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行い，実膜厚２０ｎｍの透明導電層としての錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を形成し，下記実施例および比較例のそれぞれの条件でアニーリングを施し，透明導電性フィルムを作製した。
（２）上記透明導電性フィルム裏面をサンドペーパーで荒らし，黒色塗料で塗りつぶしたものを反射分光膜厚計（「ＦＥ−３０００」，大塚電子株式会社製）により，反射スペクトルを測定した。
（３）反射スペクトルより読み取った反射率から，上記（式１）を用いて，光の波長４００ｎｍにおける屈折率を求めた。
　なお，表４に記載の屈折率は，上記屈折率測定用サンプルから求めた屈折率である。
【００７７】
＜透過色＞
　色差計（「ＳＱ−２０００」，日本電色工業株式会社製）を用いて透明導電性フィルムの透過色，ｂ＊を測定した。このｂ＊は，ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ表色系における値である。
【００７８】
＜全光線透過率＞
　ヘイズメーター（「ＮＤＨ２０００」，日本電色工業株式会社製）により透明導電性フィルムの全光線透過率（％）を測定した。
【００７９】
　　【表４】
」
　
（イ）本願明細書の【００４１】の【表１】から，「色調補正層１用塗液Ｃ１−１」が，金属酸化物微粒子として酸化ジルコニウム微粒子を７９重量部，活性エネルギー線硬化型樹脂を２１重量部，光重合開始剤を５重量部，及び溶媒を１０００重量部という組成で混合したものであり，「色調補正層１」の屈折率が１．７６であることを把握でき，本願明細書の【００４３】の【表２】から，「色調補正層２用塗液Ｃ２−１」が，シリカ微粒子としてスルーリアＮＡＵを４０重量部，活性エネルギー線硬化型樹脂を６０重量部，光重合開始剤を５重量部，及び溶媒を４０００重量部という組成で混合したものであり，「色調補正層２」の屈折率が１．４３であることを把握でき，本願明細書の【００７９】の【表４】から，「実施例２−１」のＩＴＯ層（１）及び（２）の屈折率が同じ２．１３であり，透過色ｂ＊及び全光線透過率がそれぞれ０．０及び８７．２％であること，及び，「実施例２−１２」のＩＴＯ層（１）及び（２）の屈折率が同じ１．９０であり，透過色ｂ＊及び全光線透過率がそれぞれ１．０及び８６．２％であることを把握できるから，本願明細書の前記（ア）の記載から，本願明細書に記載された「実施例２−１」及び「実施例２−１２」が，次のような構成のものであると把握できる。
　ａ　「実施例２−１」の構成
　東レ（株）製ＰＥＴフィルム（製品名：Ｕ−４０３，膜厚：１２５μｍ，屈折率１．７２）の片面に，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９６質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部，及びイソブチルアルコール１００質量部を混合して調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−１）を，バーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させて形成した，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．５２で乾燥硬化後の膜厚が２．５μｍのハードコート層（１）を設け，
　前記東レ（株）製ＰＥＴフィルム（製品名：Ｕ−４０３，膜厚：１２５μｍ，屈折率１．７２）の他面に，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９６質量部，アクリル微粒子［商品名：ＭＡ−１５０，綜研化学（株）製］５質量部，光重合開始剤［商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４，チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製］４質量部，及びイソブチルアルコール１００質量部を混合して調製したハードコート層用塗液（ＨＣ−２）を，バーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させて形成した，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．５３で乾燥硬化後の膜厚が２．５μｍのハードコート層（１）を設け，
　前記ハードコート層（１）及び（２）上に，それぞれ，金属酸化物微粒子として平均粒子径が０．０２μｍの酸化ジルコニウム微粒子７９重量部，活性エネルギー線硬化型樹脂として６官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂ）２１重量部，光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）５重量部，及びメチルイソブチルケトン１０００重量部を混合して調製した色調補正層１用塗液（Ｃ１−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させて形成した，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．７６で乾燥硬化後の膜厚が５５ｎｍの色調補正層１（１）及び（２）を設け，
　前記色調補正層１（１）及び（２）上に，それぞれ，シリカ微粒子として日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子　スルーリアＮＡＵ４０重量部，活性エネルギー線硬化型樹脂として日本化薬（株）製　ＤＰＨＡ６０重量部，光重合開始剤としてチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（Ｉ−９０７）５重量部，及びイソプロピルアルコール４０００重量部を混合して調製した色調補正層２用塗液（Ｃ２−１）をバーコーターにて塗布し，１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させて形成した，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．４３で乾燥硬化後の膜厚が３０ｎｍの色調補正層２（１）及び（２）を設けることで，色調補正フィルム（Ｓ−１）を作成し，
　当該色調補正フィルム（Ｓ−１）の色調補正層２（１）及び（２）上に，それぞれ，インジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより，膜厚が２０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）（１）及び（２）を形成し，
　１５０℃，３０分のアニール処理を施すことによって作製した，
　前記錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）（１）及び（２）の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が２．１３で，全光線透過率が８７．２％で，ＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が０．０である，透明導電性フィルム。
　
　ｂ　「実施例２−１２」の構成
　実施例２−１の色調補正フィルム（Ｓ−１）の色調補正層２（１）及び（２）上に，それぞれ，インジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングを行うことにより，膜厚が３０ｎｍの錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）（１）及び（２）を形成し，
　１５０℃，６０分のアニール処理を施すことによって作製した，
　前記錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）（１）及び（２）の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．９０で，全光線透過率が８６．２％で，ＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色のｂ＊の値が１．０である，透明導電性フィルム。
　
（ウ）前記（イ）の本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」と，引用発明とを比べると，両者の各層の構成は専ら次の点で相違する。
　ａ　「ハードコート層」について
　両者ともにアクリル樹脂により構成されてはいるが，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の膜厚が２．５μｍであり，一方の面のハードコート層がアクリル微粒子［商品名：ＭＡ−１５０，綜研化学（株）製］を含有するのに対して，引用発明の膜厚が４μｍであり，両面のハードコート層ともにアクリル微粒子は含有していない点。
　　
　ｂ　「色調補正層１」（高屈折率層）について
　両者ともに同一組成の塗液を用いて形成されたものであるが，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の膜厚が５５ｎｍであるのに対して，引用発明の膜厚が４５ｎｍである点。
　
　ｃ　「色調補正層２」（低屈折率層）について
　両者ともにアクリル樹脂にシリカ微粒子を含有させた材質により構成されており，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．４３で膜厚が３０ｎｍであるが，
　本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の「色調補正層２」が，シリカ微粒子として日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子　スルーリアＮＡＵ４０重量部と，活性エネルギー線硬化型樹脂として日本化薬（株）製　ＤＰＨＡ６０重量部とを含有する色調補正層２用塗液（Ｃ２−１）を用いて形成されたものであるのに対して，
　引用発明の「低屈折率層」が，中空シリカゾル〔触媒化成工業（株）製，商品名：ＥＬＥＣＯＭ　ＮＹ−１００１Ｓ１Ｖ，イソプロピルアルコールによる中空シリカゾルの２５質量％分散液，平均粒子径６０ｎｍ〕２０００質量部とγ―アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン〔信越化学工業（株）製，ＫＢＭ５１０３〕７０質量部と蒸留水８０質量部とを混合して調製した変性中空シリカ微粒子ゾル（平均粒子径：６０ｎｍ）６０質量部と，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部とを含有する低屈折率層用塗液Ｌ−３を用いて形成されたものである点。
　
　ｄ　「錫ドープ酸化インジウム層」（ＩＴＯ層）について
　両者ともにインジウム：錫＝１０：１のＩＴＯターゲットを用いてスパッタリングによる成膜後にアニール処理を施したものであるが，
　本願明細書に記載の「実施例２−１」が１５０℃，３０分のアニール処理を施したものであって，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が２．１３で膜厚が２０ｎｍであり，「実施例２−１２」が１５０℃，６０分のアニール処理を施したものであって，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．９０で膜厚が３０ｎｍであるのに対して，
　引用発明が１５０℃で３０分間アニール処理を施したものであって，「ＩＴＯ層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が２．００で実膜厚が２５ｎｍである点。
　
（エ）前記（ウ）の各層の構成の違いによる全光線透過率への影響について検討する。
　ａ　「ハードコート層」の違いによる全光線透過率への影響について
　引用文献１の【００４６】の【表４】には，一方の面のハードコート層を平均粒子径１．５μｍのアクリル樹脂微粒子（屈折率１．４９５）を含有するハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ２）で形成すること以外は引用文献に記載の「実施例１−１」と同様に作製（前記４（１）ア（カ）の【００３４】，【００４４】及び【００４５】を参照。）した「実施例２−２」の全光線透過率が実施例１−１の全光線透過率より１．２ポイント低い「８９．１％」になることが示されており，このことからは，一方の面に平均粒子径１．５μｍのアクリル樹脂微粒子を含有させると全光線透過率が１．２ポイント減少することを把握できる。
　一方，同【表４】には，両ハードコート層の膜厚を２μｍとし，一方の面のハードコート層を平均粒子径０．５μｍのアクリル樹脂微粒子（屈折率１．４９５）を含有するハードコート層用塗液（ＨＣ−Ａ１）で形成すること以外は引用文献に記載の「実施例１−１」と同様に作製した「実施例２−１」の全光線透過率が「９０．３％」という「実施例１−１」の全光線透過率と同じ値を示すことが示されており，このことからは，一方の面のハードコート層にアクリル樹脂微粒子を含有させたとしても，膜厚を「４μｍ」から「２μｍ」に減少させると全光線透過率が変化しないことを把握できる。
　前記（ウ）ａのとおり，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の「ハードコート層」と，引用発明の「ハードコート層」とは，一方の面の「ハードコート層」にアクリル微粒子［商品名：ＭＡ−１５０，綜研化学（株）製］を含有するのか否かという違い，及び，「２．５μｍ」と「４μｍ」という膜厚の違いが存在するところ，前記引用文献１の【００４６】の【表４】から把握できる事項に照らせば，これらハードコート層の構成の違いによる全光線透過率への影響は概ね相殺されると推察されるから，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明においては，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」に比べて「色調補正層１」（高屈折率層）のアクリル微粒子の含有の有無及び膜厚に違いが存在しても，全光線透過率には殆ど影響しないと推定される。
　
　ｂ　「色調補正層１」（高屈折率層）の違いによる全光線透過率への影響について
（ａ）本願明細書の【００４４】ないし【００５１】，【００５９】の【表３】，【００６０】，【００６５】及び【００７９】の【表４】から，本願明細書に記載の「実施例２−１」と「実施例２−６」とは，「色調補正層１」のうちの一方の膜厚が５５ｎｍであるのか２５ｎｍであるのかという点以外に構成の違いは存在せず，「実施例２−１」の全光線透過率が８７．２％で，「実施例２−６」の全光線透過率が８６．３％であることを把握できるところ，このことからは，屈折率が１．４３で膜厚が３０ｎｍの「色調補正層２」が表面に形成された，屈折率が１．７６の「色調補正層１」の膜厚が５５ｎｍに対して３０ｎｍ薄くなると，全光線透過率が０．９ポイント減少すると理解できる。
　
（ｂ）一方，前記（ウ）ｂのとおり，引用発明の「高屈折率層」と，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の「色調補正層１」とは，同一組成の塗液を用いて形成されたものであって，引用発明の「高屈折率層」における膜厚４５ｎｍが，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」の「色調補正層１」の膜厚５５ｎｍに対して１０ｎｍ薄いという点以外に構成上の違いは存在せず，また，引用発明の「高屈折率層」の屈折率は１．７６で，その上に形成された「低屈折率層」の屈折率が１．４３で膜厚が３０ｎｍであるところ，前記（ａ）に照らせば，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」において，両方の「色調補正層１」の膜厚を１０ｎｍ小さくして，引用発明の「高屈折率層」の膜厚と同じ４５ｎｍとすると，全光線透過率が０．６（＝０．９×１０／３０×２）ポイント程度減少すると推定される。
　
　ｃ　「色調補正層２」（低屈折率層）の違いによる全光線透過率への影響について
（ａ）引用文献の【００３４】，【００３８】，【００３９】の【表１】及び【００４０】の【表２】から，引用文献に記載の「実施例１−３」と「実施例１−７」について，両者の「高屈折率層」はともに屈折率が１．７６で膜厚が６５ｎｍの同一構成のものであって，「実施例１−３」の「低屈折率層」が「低屈折率層用塗液Ｌ−１」を用いて形成しているのに対して，「実施例１−７」の「低屈折率層」が引用発明の「低屈折率層」を形成するための塗液と同じ「低屈折率層用塗液Ｌ−３」を用いている点，及び，「実施例１−３」の「低屈折率層」の膜厚が２５ｎｍであるのに対して，「実施例１−７」の「低屈折率層」の膜厚が３０ｎｍであって，５ｎｍ厚い点以外に構成の違いは存在せず，「実施例１−３」の全光線透過率が８９．４％で，「実施例１−７」の全光線透過率が９０．４％であることを把握できるところ，このことからは，屈折率が１．７６で膜厚が６５ｎｍの「高屈折率層」上に形成された「低屈折率層」について，これを形成するための塗液を「低屈折率層用塗液Ｌ−１」から「低屈折率層用塗液Ｌ−３」に変更するとともに，膜厚を２５ｎｍから３０ｎｍに増加すると，全光線透過率が１ポイント増加すると理解できる。
　
（ｂ）一方，引用文献の【００３４】，【００３８】及び【００３９】の【表１】から，引用文献に記載の「実施例１−３」と「実施例１−５」について，両者の「低屈折率層」はともに「低屈折率層用塗液Ｌ−１」を用いて形成されたものであって，「実施例１−３」の「高屈折率層」の膜厚が６５ｎｍであるのに対して，「実施例１−５」の「高屈折率層」の膜厚が６０ｎｍであって，５ｎｍ薄い点，及び，「実施例１−３」の「低屈折率層」の膜厚が２５ｎｍであるのに対して，「実施例１−５」の「低屈折率層」の膜厚が４５ｎｍであって，２０ｎｍ厚い点以外に構成の違いは存在せず，「実施例１−３」の全光線透過率が８９．４％で，「実施例１−５」の全光線透過率が９１．２％であることを把握できるところ，このことからは，屈折率が１．７６で膜厚が６５ｎｍの「色調補正層１」と，その表面に「低屈折率層用塗液Ｌ−１」を用いて形成された，膜厚が２５ｎｍの「色調補正層２」について，「色調補正層１」の膜厚を５ｎｍ薄くし，「色調補正層２」の膜厚を２０ｎｍ厚くすると，全光線透過率が１．８ポイント増加すると理解できるから，各層の膜厚の変化を１／４に，すなわち，「色調補正層１」の膜厚を１．２５ｎｍ薄くし，「色調補正層２」の膜厚を５ｎｍ厚くすると，全光線透過率が０．４５（＝１．８／４）ポイント程度増加すると推定される。
　ここで，前記「色調補正層１」の１．２５ｎｍという膜厚の変化は，６５ｎｍという「色調補正層１」の膜厚自体に比べてきわめて小さく，当該膜厚の変化による全光線透過率への影響は，「色調補正層２」の膜厚の変化による影響に比べて，概ね無視して差し支えないものと考えられるから，結局，屈折率が１．７６で膜厚が６５ｎｍの「色調補正層１」と，その表面に「低屈折率層用塗液Ｌ−１」を用いて形成された，膜厚が２５ｎｍの「色調補正層２」について，「色調補正層２」の膜厚を５ｎｍ厚くすると，全光線透過率が０．４５ポイント程度増加すると推定される。
　
（ｃ）前記（ａ）及び（ｂ）から，「低屈折率層」について，これを形成するための塗液を「低屈折率層用塗液Ｌ−１」から「低屈折率層用塗液Ｌ−３」に変更すると，全光線透過率が０．５５（＝１−０．４５）ポイント程度増加すると推定できる。
　
（ｄ）本願明細書の【００４４】ないし【００４６】，【００４９】，【００６０】，【００６３】の記載から，本願明細書に記載の「実施例２−１」と「実施例２−４」について，「実施例２−１」の「色調補正層２」のうちの一方である色調補正層２（１）が「色調補正層Ｃ２−１」を用いて形成されているのに対して，「実施例２−４」の「色調補正層２」のうちの一方である色調補正層２（１）が「色調補正層Ｃ２−２」を用いて形成されている点以外に構成の違いは存在せず，「実施例２−１」の全光線透過率が８７．２％で，「実施例２−４」の全光線透過率が８６．４％であることを把握できるところ，このことからは，「色調補正層２」について，これを形成するための塗液を「色調補正層Ｃ２−１」から「色調補正層Ｃ２−２」に変更すると，全光線透過率が０．８（＝８７．２−８６．４）ポイント程度減少すると理解できる。
　
（ｅ）引用文献の【００３４】に記載された「低屈折率層用塗液Ｌ−１」の組成と，本願明細書の【００４２】及び【００４３】の【表２】に記載された「色調補正層２用塗液Ｃ２−２」の組成から，両者が，同じシリカ微粒子（日産化学（株）製　ＸＢＡ−ＳＴ）と，同種の活性エネルギー線硬化型樹脂（「色調補正層２用塗液Ｃ２−２」が含有する「日本化薬（株）製　ＤＰＨＡ」の主成分は，「低屈折率層用塗液Ｌ−１」が含有するジペンタエリスリトールヘキサアクリレートである。）とを同じ配合量で混合した塗液であることを把握できるから，これら塗液により形成された引用文献に記載の「実施例１−３」の「低屈折率層」と本願明細書に記載の「実施例２−４」の「色調補正層２」の一方である色調補正層２（１）は，略同一の光学特性を有するものと認められる。
　そうすると，前記（ｃ）及び（ｄ）に照らせば，本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」において，両方の「色調補正層２」を形成するための塗液を「色調補正層Ｃ２−１」から「低屈折率層用塗液Ｌ−３」に変更すると，全光線透過率が０．５（＝（０．８−０．５５）×２）ポイント程度減少すると推定される。
　
　ｄ　「錫ドープ酸化インジウム層」（ＩＴＯ層）の違いによる全光線透過率への影響について
　本願明細書の【００７１】に記載されたとおり，本願明細書に記載の「実施例２−１」と「実施例２−１２」とは，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率及び膜厚以外に層構成の違いは存在しないところ，本願明細書の【００７９】の【表４】から把握できるように，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率が２．１３で膜厚２０ｎｍの「実施例２−１」の全光線透過率は８７．２％であり，光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．９０で膜厚３０ｎｍの「実施例２−１２」の全光線透過率は８６．２％であるから，「錫ドープ酸化インジウム層」以外の層構成が「実施例２−１」と「実施例２−１２」と同一であって，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率及び膜厚を引用発明の「ＩＴＯ層」と同じ２．００（「実施例２−１」の屈折率と「実施例２−１２」の屈折率の略中間値である。）及び２５ｎｍ（「実施例２−１」の膜厚と「実施例２−１２」の膜厚の中間値である。）とした透明導電性フィルムの全光線透過率は，「実施例２−１」と「実施例２−１２」の中間値である８６．７％程度であると推定される。
　
（オ）前記（エ）ｄのとおり，「錫ドープ酸化インジウム層」以外の層構成が「実施例２−１」と「実施例２−１２」と同一であって，「錫ドープ酸化インジウム層」の光の波長４００ｎｍにおける屈折率及び膜厚を引用発明の「ＩＴＯ層」と同じ２．００及び２５ｎｍとした「透明導電性フィルム」（つまり，本願明細書に記載された「色調補正フィルム（Ｓ−１）」の両面に引用発明と同一構成の「錫ドープ酸化インジウム層」を形成した「透明導電性フィルム」）の全光線透過率は８６．７％程度になるものと推定されるところ，当該「透明導電性フィルム」と，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明との間の構成上の違いは，前記（ウ）ａないしｃ（ただし「本願明細書に記載の「実施例２−１」及び「実施例２−１２」」を「透明導電性フィルム」と読み替える。）のとおりとなる。
　しかるに，前記（エ）ａないしｃで検討した「錫ドープ酸化インジウム層」以外の「ハードコート層」，「色調補正層１」（高屈折率層）及び「色調補正層２」（低屈折率層）の構成の違いによる全光線透過率への影響に照らせば，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明の全光線透過率は，当該「透明導電性フィルム」の全光線透過率の８６．７％程度という値より１．１（＝０．６＋０．５）ポイント程度低い８５．６％程度と推認できる。
　したがって，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明の全光線透過率は，本願発明が規定する全光線透過率の範囲（８５％以上）を満足していると認められる。
　すなわち，引用発明において，前記（１）で述べた構成の変更を行うことで，全光線透過率の値が新たな相違点になることはない。
　
（カ）なお，仮に，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明の全光線透過率が本願発明が規定する全光線透過率の範囲外（８５％未満）のものとなるとしても，次の理由から，引用発明において全光線透過率を本願発明が規定する全光線透過率の範囲である８５％以上とすることは，当業者が容易に想到し得たことである。
　
　引用文献の【０００６】（前記４（１）ア（イ）を参照。）に記載されているように，引用発明は全光線透過率の高いものとすることをその目的の一つとしているところ，さらなる全光線透過率の向上を達成するために，例えば，透明基材である「ＰＥＴフィルム」の厚さを，引用文献の【００１４】（前記４（１）ア（オ）を参照。）に記載された「２５〜４００μｍ」という範囲内で，１２５μｍよりも小さな値に変更するなどして，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明の全光線透過率の値を８５％以上とすることは，当業者が適宜なし得た設計上の事項である。
　
　イ　ｂ＊の値について
　引用文献の【０００３】及び【０００４】（前記４（１）ア（イ）を参照。）の記載から，引用発明は，金属酸化物層であるＩＴＯ層の反射及び吸収に由来する可視光短波長領域の透過率の低下による黄色の呈色を，高屈折率層及び低屈折率層を積層することによって抑制しているものと理解できるところ，「ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色ｂ＊の値」とは黄色の呈色の程度を示すパラメータであって，引用発明が「ＪＩＳ　Ｚ　８７２９に規定されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色ｂ＊の値が０．０」という構成を有しているということは，専らＩＴＯ層によって生じる黄色の呈色を高屈折率層及び低屈折率層によって完全に解消していることにほかならない。
　そうすると，引用発明において，前記（１）で述べた「裏面のハードコート層上に，もう一方の面に形成したものと同じ構成の高屈折率層，低屈折率層及びＩＴＯ層を形成」するという構成の変更を行ったとしても，当該構成の変更によって新たに設けられるＩＴＯ層によって生じる黄色の呈色は，同じく当該構成の変更によって新たに設けられる高屈折率層及び低屈折率層によって解消されることとなるのだから，引用発明のｂ＊の値が０．０である以上，前記構成の変更後の引用発明のｂ＊の値も略０．０になると推認される。
　したがって，前記（１）で述べた構成の変更後の引用発明のｂ＊は，本願発明が規定するｂ＊の範囲（−２≦ｂ＊≦２）を満足していると認められる。
　すなわち，引用発明において，前記（１）で述べた構成の変更を行うことで，ｂ＊の値が新たな相違点になることはない。
　
（３）効果について
　本願発明の奏する効果は，引用文献の記載及び周知の技術的事項に基づいて，当業者が予測できた程度のものである。
　
（４）まとめ
　以上のとおりであるから，本願発明は，当業者が引用発明及び周知の技術的事項に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　
７　むすび
　本願発明は，当業者が引用発明及び周知の技術的事項に基づいて容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって，本願は，他の請求項について検討するまでもなく，当審拒絶理由によって拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。