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　平成　６年特許願第１１０４２１号「板状体の搬送装置および処理装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　７年１１月１０日出願公開、特開平　７−２９７２５８］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成６年４月２６日に出願されたものであって、同１３年１月２４日付で拒絶をすべき旨の査定がなされ、同１３年３月２１日に本件審判の請求がなされるとともに、同日付で手続補正がなされたものである。
第２　平成１３年３月２１日付の手続補正（以下「本件補正」という。）について
１　補正の内容及び補正発明
　本件補正は、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項１】　板状体に所定の処理を行うための第１の処理装置と第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備し、
　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、前記第２の処理装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする板状体の搬送装置。
【請求項２】　板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための第１の処理装置と、板状体に露光処理を行うための第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備したことを特徴とする板状体の搬送装置。
【請求項３】　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、第２の処理装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする請求項２に記載の板状体の搬送装置。
【請求項４】　前記少なくとも２つの待機部のうち最下部のものを垂直方向に移動可能に構成したことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項５】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、冷却手段を備えていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項６】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、板状体を支持して昇降可能な支持ピンを備えていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項７】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記第１の処理装置へ板状体を渡すための専用の待機部であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項８】　前記少なくとも２つの待機部のうち、最上の待機部に上記板状体を載置したときに板状体の周縁部に当接し、内方に下り勾配の傾斜面を有する部材ガイドを備えたことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項９】　板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための処理部と、露光装置との間で板状体の搬送を行うインターフェイス部とを具備し、
　前記インターフェイス部は、前記処理部と前記露光装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記処理部と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備したことを特徴とする処理装置。
【請求項１０】　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、露光装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする請求項９に記載の処理装置。
【請求項１１】　前記少なくとも２つの待機部のうち最下部のものを垂直方向に移動可能に構成したことを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の処理装置。
【請求項１２】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記処理部へ前記板状体を渡すための専用の待機部であることを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１３】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、冷却手段を備えていることを特徴とする請求項９から請求項１２のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１４】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記板状体を支持して昇降可能な支持ピンを備えていることを特徴とする請求項９から請求項１３のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１５】　前記少なくとも２つの待機部のうち、最上の待機部に上記板状体を載置したときに板状体の周縁部に当接し、内方に下り勾配の傾斜面を有する部材ガイドを備えたことを特徴とする請求項９から請求項１４のいずれか１項に記載の処理装置。」
から、
「【請求項１】　板状体に所定の処理を行うための第１の処理装置と第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備し、
　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、前記第２の処理装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする板状体の搬送装置。
【請求項２】　板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための第１の処理装置と、板状体に露光処理を行うための第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備し、
　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、前記第２の処理装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする板状体の搬送装置。
【請求項３】　前記少なくとも２つの待機部のうち最下部のものを垂直方向に移動可能に構成したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の板状体の搬送装置。
【請求項４】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、冷却手段を備えていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項５】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、板状体を支持して昇降可能な支持ピンを備えていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項６】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記第１の処理装置へ板状体を渡すための専用の待機部であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項７】　前記少なくとも２つの待機部のうち、最上の待機部に上記板状体を載置したときに板状体の周縁部に当接し、内方に下り勾配の傾斜面を有する部材ガイドを備えたことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の板状体の搬送装置。
【請求項８】　板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための処理部と、露光装置との間で板状体の搬送を行うインターフェイス部とを具備し、
　前記インターフェイス部は、前記処理部と前記露光装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記処理部と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを有し、
　前記少なくとも２つの待機部のうち一方は、前記露光装置において許容される温度に調節可能であることを特徴とする処理装置。
【請求項９】　前記少なくとも２つの待機部のうち最下部のものを垂直方向に移動可能に構成したことを特徴とする請求項８に記載の処理装置。
【請求項１０】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記処理部へ前記板状体を渡すための専用の待機部であることを特徴とする請求項８または請求項９に記載の処理装置。
【請求項１１】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、冷却手段を備えていることを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１２】　前記待機部のうち、少なくとも１つは、前記板状体を支持して昇降可能な支持ピンを備えていることを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれか１項に記載の処理装置。
【請求項１３】　前記少なくとも２つの待機部のうち、最上の待機部に上記板状体を載置したときに板状体の周縁部に当接し、内方に下り勾配の傾斜面を有する部材ガイドを備えたことを特徴とする請求項８から請求項１２のいずれか１項に記載の処理装置。」
と補正するものである。
　そこで、本件補正後の前記請求項２に記載された発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて、以下検討する。
２　引用例
（１）原査定における拒絶の理由に引用した本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平５−１７８４１６号公報（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されていると認める。
ア　第４欄第２８行−第５欄第１１行
「【実施例】以下本発明を半導体ウエハの塗布／現像装置に適用した実施例について説明する。図１は本発明の実施例の要部を示す斜視図、図２は本発明の実施例の全体を示す平面図である。図中Ｓ１は板状体である半導体ウエハについてレジスト膜形成処理及び現像処理を行うための塗布／現像ステーションであり、この塗布／現像ステーションＳ１に隣接して、露光ステーション（図示せず）との間でウエハの搬入及び搬出を行うための受け渡しステーションであるインターフェイスステーションＳ２が設置されている。
【００１８】前記塗布／現像ステーションＳ１には、図２に示すようにＸ方向に伸びるメイン搬送路３０に沿って移動自在でかつ昇降、回転自在な処理部用搬送機構であるメイン搬送アーム３が設けられると共に、このメイン搬送路３０の両側には、例えばアドヒージョン部３１、冷却部３２、ベーク部３３、塗布部３４、３５、現像部３６などの処理部が配置されている。
【００１９】前記インターフェイスステーションＳ２には、前記メイン搬送路３０の端部即ち塗布／現像ステーションＳ１の搬出入口に面して昇降自在に、冷却部兼用の中間受け渡し台４が設けられる。この中間受け渡し台４の下方側には、Ｙ方向に即ち前記メイン搬送路３０と直交する方向に伸びる搬送路に沿って移動自在に受け渡し用搬送機構５が設置されており、この搬送機構５は昇降自在かつ回転自在な搬送基台５１と、この搬送基台５１に沿って進退自在に板状体保持部材であるピンセット６とを備えている。この搬送機構５を駆動する部分に関して述べると、図１中５２は例えばボールネジ機構によりＹ方向に移動される移動体であり、この移動体５２には例えばボールネジ機構により昇降される昇降台５３が取り付けられると共に、この昇降台５３上に前記搬送基台５１を回転させる（θ方向に駆動する）ための回転軸５４が設けられており、これらによって搬送機構５が構成される。
イ　第５欄末行−第７欄第１行
「【００２３】更に前記受け渡し用搬送機構５を挟んで処理ステーションＳ１に対向するように、ウエハＷの周縁を保持するガイド部により構成された外部受け渡し用載置部としての搬入載置台７１及び搬出載置台７２が位置固定して設けられている。なおこれら搬入載置台７１及び搬出載置台７２は昇降機構により昇降自在であってもよい。また前記受け渡し用搬送機構５の搬送路の両端位置に当該搬送路に臨むようにバッファ用載置台であるバッファ用カセットが１段あるいは複数段例えば２段図示しない支持部材により支持されている。
【００２４】次に上述実施例の作用について述べる。今処理ステーションＳ１で、順次、アドヒージョン部３１、冷却部３２、塗布部３４又は３５、ベーク部３３にてそれぞれ処理されてレジスト膜が形成されたウエハがメイン搬送アーム３により中間受け渡し台４に受け渡されたとすると、当該受け渡し台４が下降すると共に搬送基台５１を、ピンセット６が受け渡し台４の下降位置と対向する位置まで上昇させ、その後例えば中間受け渡し台４より図示しないピンを押し上げてウエハをピンで支持する。続いてピンセット６の下面側に前進させ、若干上昇させてウエハを持ち上げ、ピンセット６を後退させる。ウエハはピンセットによって受け取られるまでの間、必要に応じて中間受け渡し台４上で冷却されることになる。
【００２５】ここで、図３（ａ）はピンセットが前進してウエハを保持した状態を示し（ただし図の便宜上ウエハＷを載置面から浮かせて描いてある）、図３（ｂ）はピンセット６を後端位置まで戻したときの状態を示している。ピンセット６を後端位置まで戻したときに、ピンセット６の段部６１及び両側の位置決め部材６４の当接部６３がウエハＷの周縁に当接するので、ウエハＷはこれらによって決定される円の中に収まり、結局図３（ｂ）に示すようにセンタリングが行われることになる。
【００２６】しかる後、搬送基台５１を中間受け渡し台４と高さ位置が干渉しない位置まで下降させ、搬出載置台７２と対向する位置まで移動してピンセット６上のウエハを当該搬出載置台７２に受け渡すか、あるいはここにウエハが載置されておりウエハ渡しが不可能な場合には、例えば中間受け渡し台４の下を潜って図１中右側のバッファ用キャリアＣ内に搬送する。ピンセット６からのウエハＷの受け渡しについては、ピンセット６を前進させた後下降させることによって行われる。
【００２７】また露光ステーションにて露光されたウエハＷを搬入する場合には、ピンセット６により搬入載置台７１上のウエハＷが中間受け渡し台４に搬送されると共に中間受け渡し台４上にウエハが載置されており渡す事が出来ないときにはバッファ用キャリアＣ内に一時収納される。次いで中間受け渡し台４上のウエハＷは必要に応じて冷却された後、メイン搬送アーム３によって塗布／現像ステーションＳ１内に搬入されて現像が行われる。」
ウ　第７欄第２３−２５行
「【００２９】次に搬送機構５における、中間受け渡し台４や載置台７１、７２等の間の移動制御を行う搬送装置の一例に関して述べる。」
　以上のとおりであるので、引用例１には、次の発明が記載されていると認める。
　板状体Ｗにレジスト塗布・現像処理を行うための塗布／現像ステーションＳ１と、板状体Ｗに露光処理を行うための露光ステーションとの間で、板状体Ｗを搬送する板状体の搬送装置において、前記塗布／現像ステーションＳ１と前記露光ステーションとの間で、板状体Ｗを双方向に搬送可能な受け渡し用搬送機構５と、前記塗布／現像ステーションＳ１と前記受け渡し用搬送機構５との間で板状体Ｗを受け渡しする際に、板状体Ｗを載置する１つの中間受け渡し台４とを具備し、前記中間受け渡し台４は、板状体Ｗを冷却する板状体の搬送装置。
（２）同じく引用した本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平４−２７１１３９号公報（以下「引用例２」という。）には、次のア及びイの事項が記載されていると認める。
ア　第２欄第６行−第３欄第１９行
「【０００３】この構成例では、半導体製造装置本体は、複数のウエーハが装填された、大気中にあるキャリアカセット１０または１１との間で大気側搬送装置９を用いてウエーハの受渡しが行われる大気側ロードロック室１と、真空中でウエーハの受渡しを行う真空搬送ロボット５を内蔵した反応室側ロードロック室２と、ウエーハ表面への薄膜形成など、ウエーハの処理が行われる反応室３とを主要構成要素として構成されている。
【０００４】ところが、このように構成される従来の半導体製造装置では、大気側から取り込まれた処理前のウエーハは大気側ロードロック室内のウエーハステージに載置され、反応室側ロードロック室内蔵の真空搬送ロボットにより反応室へローディングされ、所定の処理を行った後、同一経路を辿り大気側へアンローディングされる動作を順次繰り返すといった極めて単純な搬送システムではあるが、大気側ロードロック室内蔵のウエーハステージ４は、ローディングおよびアンローディング兼用の１層型ウエーハステージであるため、一旦大気側ロードロック室にローディングされたウエーハは、処理後にアンローディングされ、大気側キャリアカセットの元の棚にもどるまでは次の新しい処理前のウエーハを大気側ロードロック室内に取り込むことができない。すなわちシリーズ動作のため、大気側ロードロック室の真空引きの時間や大気圧への復帰時間を含めたウエーハ１枚当たりのサイクルタイムが長く、半導体工場の量産ラインにおける半導体製造装置のスループット向上への要求には追従できなくなった。
【０００５】また、ウエーハステージ４が１層構造であることから、アンローディングされる処理済みウエーハに付着している，反応室内で生じた副生成物等によるウエーハステージ載置面への汚染があり、処理前ウエーハへの悪影響が大きくクローズアップされてきた。
【０００６】この問題を解決するため、大気側ロードロック室を、処理前ウエーハが載置されるローディング専用のウエーハステージと，処理後のウエーハが載置されるアンローディング専用のウエーハステージとを収容可能に形成した大気側ロードロック室内で、処理前のウエーハをローディングウエーハステージに、処理後のウエーハをアンローディングウエーハステージに同時に載置して、両ウエーハにそれぞれ次工程への移動まで真空中で待機させるようにし、大気側ロードロック室と反応室側ロードロック室との間のゲートバルブを開いてウエーハを反応室へ搬入した後、ゲートバルブを閉じて大気側ロードロック室内を大気圧に復帰させることにより、反応室内でのウエーハ処理中に新たな未処理ウエーハの大気側ロードロック室内への搬入と、処理済みウエーハの大気側ロードロック室からの搬出とを同時に可能にし、かつ、大気側ロードロック室を再び真空に引いて大気側ロードロック室と反応室側ロードロック室との間のゲートバルブを開けば、処理済みウエーハの大気側ロードロック室への搬出と、未処理ウエーハの反応室への搬入とが可能になるようにして、大気側ロードロック室内の大気圧復帰, 真空引きを繰り返しつつウエーハ処理を行った場合、ウエーハ１枚当たりのサイクルタイムが従来と比較して大幅に短縮され、半導体製造装置のスループットが大きく向上する, 例えば図３および図４に示すような装置構成のものが本発明者により提案されている （特願平２−３６５８３）。また、この場合には、処理前のウエーハが載置されるウエーハステージ４ａと処理後のウエーハが載置されるウエーハステージ４ｂとはそれぞれローディング用, アンローディング用と専用化されているので、処理後のウエーハに付着した反応室内での副生成物により処理前のウエーハが汚染されることがなくなり、処理後のウエーハの品質が所望の高レベルに均一化される。」
イ　半導体製造装置の上面図を示す図３及びその側面断面図を示す図４。
ウ　また、上記アの段落【０００６】に記載されたローディングウエーハステージとアンローディングウエーハステージとに関する事項並びに図３及び４に示されたローディングウエーハステージとアンローディングウエーハステージとから、ウエーハステージは、垂直方向に積層されたローディングウエーハステージとアンローディングウエーハステージとからなる２つのウエーハステージであることが明らかである。
　以上のとおりであるので、引用例２には、次の発明が記載されていると認める。
　双方向に搬送可能な大気側搬送装置でウエーハを受け渡しする際にウエーハを一時待機させるウエーハステージを具備したウエーハの搬送装置において、ウエーハステージを垂直方向に積層されたローディングウエーハステージとアンローディングウエーハステージとからなる２つのウエーハステージとしたウエーハの搬送装置。
３　対比
　補正発明と上記引用例１に記載された発明とを対比すると、引用例１に記載された発明の「塗布／現像ステーション」は、補正発明の「第１の処理装置」に相当しており、同様に、「露光ステーション」は、「第２の処理装置」に、「受け渡し用搬送機構」は、「搬送機構」にそれぞれ相当していることが明らかである。
　また、引用例１に記載された発明の中間受け渡し台は、第１の処理装置と搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に、一時的に板状体を載置するものであるので、一時待機させるための待機部と表現することができる。
　以上のとおりであるので、両者は、次の「板状体の搬送装置」の点で一致している。
　板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための第１の処理装置と、板状体に露光処理を行うための第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるための待機部とを具備した板状体の搬送装置。
　しかし、補正発明では、待機部が垂直方向に積層された２つの待機部であり、２つの待機部のうち一方は、前記第２の処理装置において許容される温度に調節可能であるのに対し、引用例１に記載された発明では、そのようなものではなく、待機部は１つであり、前記板状体を冷却するものである点で、両者は相違している。
４　判断
　上記相違している点について、以下検討する。
　上記引用例２には、上記２（２）のとおりの発明が記載されており、引用例２に記載された発明の大気側搬送装置は、搬送機構と表現することができ、同様に、ウエーハは板状体と、ウエーハステージは待機部とそれぞれ表現することができるので、引用例２には、次の発明が記載されていることになる。
　双方向に搬送可能な搬送機構で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるための待機部を具備した板状体の搬送装置において、待機部を垂直方向に積層された２つの待機部とした板状体の搬送装置。
　そして、上記引用例１に記載された発明と引用例２に記載された発明とは、双方向に搬送可能な搬送機構で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるための待機部を具備した板状体の搬送装置である点で技術分野が共通するので、引用例１に記載された発明の待機部に引用例２に記載された発明の待機部を採用し、待機部を垂直方向に積層された２つの待機部と特定するすることに、格別の困難性はない。
　また、この待機部を２つの待機部とする際に、一方の待機部を第１の処理装置から第２の処理装置に搬送される板状体専用の待機部とし、他方の待機部を第２の処理装置から第１の処理装置に搬送される板状体専用の待機部とすることは、例えば、引用例２に、一方の待機部を処理前の板状体専用とし他方の待機部を処理後の板状体専用とすることが記載されているように（上記２（２）アの段落【０００６】参照。）、普通に行う程度の設計的事項にすぎず、また、一方の待機部で行われる冷却を、次工程である第２の処理装置において許容される温度に調節可能とすることも必要に応じて適宜なされる設計的事項にすぎない。
　また、補正発明の効果は、引用例１及び２に記載された発明から予測しうる程度のものであり、格別のものではない。
　以上のとおりであるので、補正発明は、本件出願前に日本国内において頒布された引用例１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではない。
　したがって、本件補正は、平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１７条の２第４項で読み替えて準用する同法第１２６条第３項の規定に違反するものであるので、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下する。
第３　本件発明について
１　本件発明
　上記のとおり本件補正は却下されたので、本件出願の請求項１乃至１５に係る発明は、平成１２年３月２９日付手続補正書により補正がなされた明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至１５に記載された事項により特定されるとおりのものと認めるところ、請求項２に係る発明（以下「本件発明」という。）は次のとおりである。
「板状体にレジスト塗布・現像処理を行うための第１の処理装置と、板状体に露光処理を行うための第２の処理装置との間で、板状体を搬送する板状体の搬送装置において、
　前記第１の処理装置と前記第２の処理装置との間で、板状体を双方向に搬送可能な少なくとも１つの搬送機構と、
　前記第１の処理装置と前記搬送機構との間で板状体を受け渡しする際に板状体を一時待機させるために垂直方向に積層された少なくとも２つの待機部とを具備したことを特徴とする板状体の搬送装置。」
２　本件発明と引用例に記載された発明との対比及び判断
　本件発明と上記引用例１に記載された発明とを対比すると、上記第２の３での対比で述べた一致点と同じ「板状体の搬送装置」の点で、両者は一致し、本件発明では、待機部が垂直方向に積層された２つの待機部であるのに対し、引用例１に記載された発明では、そのようなものではなく、待機部は１つである点で、両者は相違している。
　この相違している点については、上記第２の４の相違している点についての検討の中で、既に検討している。
３　むすび
　以上のとおりであるので、本件発明は、本件出願前に日本国内において頒布された引用例１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件出願の請求項１及び３乃至１５に係る発明について判断するまでもなく、本件出願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。