(57)【要約】【課題】５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、且つ、ガラス粒子の添加量を増やしても感度への影響が小さい感光性ペーストを提供する。【解決手段】［１］下記の（Ａ）〜（Ｄ）を必須成分として含有する感光性ペースト。  （Ａ）有機化合物によって表面修飾されたガラス粒子  （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂又は酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂  （Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物  （Ｄ）有機溶剤［２］前記ガラス粒子を表面処理した有機化合物が、分子内に酸基を有する有機高分子化合物を含むことを特徴とする[１]の感光性ペースト。［３］［１］または［２］の感光性ペーストを用いたプラズマディスプレイ用隔壁。［４］［３］記載の隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（Ａ）〜（Ｄ）を含有する感光性ペースト。
（Ａ）有機化合物によって表面修飾されたガラス粒子
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂又は酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂
（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物
（Ｄ）有機溶剤
【請求項２】
（Ａ）が、有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む請求項１に記載の感光性ペースト。
【請求項３】
（Ａ）が、分子内に酸性基を有する有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む請求項１に記載の感光性ペースト。
【請求項４】
（Ａ）が、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマーを重合した有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む請求項１に記載の感光性ペースト。
【請求項５】
（Ａ）が、下記の工程を含む製造方法によって得られるガラス粒子を含む請求項１に記載の感光性ペースト。
1) ガラス粒子表面に、炭素−炭素不飽和結合を有する有機化合物を吸着させる工程
2) 前記1)で得られたガラス粒子を、該ガラス粒子の表面に吸着した有機化合物の炭素−炭素不飽和結合を介して、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマーを反応させる工程
【請求項６】
（Ａ）が、少なくとも軟化点が４００℃以上であるガラス粒子を有機化合物によって表面修飾させたガラス粒子を含む請求項１〜５の何れかに記載の感光性ペースト。
【請求項７】
前記感光性ペーストに対する、前記の（Ａ）〜（Ｄ）の含有比率が、それぞれ（Ａ）１０〜８０質量％、（Ｂ）３〜３０質量％、（Ｃ）０.０１〜２０質量％、及び（Ｄ）１〜３０質量％である請求項１〜６の何れかに記載の感光性ペースト。
【請求項８】
請求項１〜７の何れかに記載の感光性ペーストを用いて製造されたプラズマディスプレイパネル用隔壁。
【請求項９】
請求項８記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材。
【請求項１０】
請求項９記載のプラズマディスプレイ用部材を備えるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイにおいて小型・高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が望まれている。パターン加工技術としては、例えば、感光性ペースト法などが知られており、プラズマディスプレイの部材である背面板の隔壁形成などに用いられている。
【０００３】
プラズマディスプレイの背面板の隔壁を形成する方法としては、例えば、アルカリ可溶性基ポリオルガノシロキサン樹脂およびガラス粒子を含有してなる感光性ペーストを基板上に塗布し、露光、現像して隔壁パターンを形成し、焼成せしめて隔壁を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、より緻密な隔壁を得るために、ガラス粒子の添加量を増加させると、著しく低感度になるばかりか、パターンを形成することが困難になる場合があった。この低感度化を回避するため、感光性ペースト中の感光剤を増量すると、残渣の増加、解像度の低下が生じるといった問題点があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１７７９２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、ガラス粒子の添加量を、従来の感光性ペーストより増量しても、感度が低下することなく、より緻密なプラズマディスプレイ用隔壁を形成できる感光性ペーストを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決できる感光性ペーストを見出すべく、鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
即ち、本発明は、[１]下記の（Ａ）〜（Ｄ）を含有する感光性ペースト、を提供するものである。
（Ａ）有機化合物によって表面修飾されたガラス粒子
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂又は酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂
（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物
（Ｄ）有機溶剤
上記（Ａ）の如き、有機化合物によって表面修飾されたガラス粒子を用いることにより、（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物への影響が低く、露光時に安定的な感度で、パターン加工を行なうことが可能となる。
【０００８】
また、本発明は、前記[１]に係る好適な実施態様として、下記の[２]〜[７]を提供する。
[２]（Ａ）が、有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む[１]の感光性ペースト
[３]（Ａ）が、分子内に酸性基を有する有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む、[１]の感光性ペースト
[４]（Ａ）が、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマーを重合した有機高分子化合物によって表面修飾されたガラス粒子を含む、[１]の感光性ペースト
[５]（Ａ）が、下記の工程を含む製造方法によって得られるガラス粒子を含む、[１]の感光性ペースト
1) ガラス粒子表面に、炭素−炭素不飽和結合を有する有機化合物を吸着させる工程
2) 前記1)で得られたガラス粒子を、該ガラス粒子の表面に吸着した有機化合物の炭素−炭素不飽和結合を介して、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマーを反応させる工程
[６]（Ａ）が、少なくとも軟化点が４００℃以上であるガラス粒子を有機化合物によって表面修飾させたガラス粒子を含む、[１]〜[５]の何れかの感光性ペースト
[７]前記感光性ペーストに対する、前記の（Ａ）〜（Ｄ）の含有比率が、それぞれ（Ａ）１０〜８０質量％、（Ｂ）３〜３０質量％、（Ｃ）０.０１〜２０質量％、及び（Ｄ）１〜３０質量％である[１]〜[６]の何れかに記載の感光性ペースト
【０００９】
さらに、本発明は前記何れかの感光性ペーストを用いてなる下記[８]〜[１０]を提供する。
[８]前記何れかに記載の感光性ペーストを用いて製造されたプラズマディスプレイパネル用隔壁
[９][８]のプラズマディスプレイパネル用隔壁を備えたプラズマディスプレイ用部材
[１０][９]のプラズマディスプレイ用部材を備えるプラズマディスプレイパネル
【発明の効果】
【００１０】
本発明の感光性ペーストによれば、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、且つ、ガラス粒子の含有量を増やすことにより緻密なプラズマディスプレイ用隔壁を製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
【００１２】
本発明における（Ａ）有機化合物により表面修飾されたガラス粒子は、該ガラス粒子の表面に、有機化合物を吸着させたものであり、さらに詳しくは、物理吸着又は化学結合によって、表面に有機化合物を保持したガラス粒子である。ここで、物理吸着とは、ファンデルワールス力でガラス表面と有機化合物が吸着し、保持されることを意味し、化学結合とは、水素結合、共有結合、イオン結合あるいは配位結合により、ガラス表面と有機化合物が結合されていることを言う。
【００１３】
本発明者は感光性ペーストを基板に塗布して塗膜を得た後、該塗膜を露光する際に、該感光性ペーストにガラス粒子を多量に配合すると感度が著しく低下する原因について検討したところ、ガラス粒子からアルカリ分が塗膜中に流出し、かかるアルカリ分が感度低下を及ぼすとの考えを得た。これに基づいてアルカリ分流出の抑制手段について種々検討を行い、前記（Ａ）を感光性ペーストに配合することによって、感光性ペーストを用いてなる塗膜の、露光時における感度低下を抑制できることを見出した。
【００１４】
前記ガラス粒子を表面修飾する有機化合物としては、特に有機高分子化合物が好ましい。有機高分子化合物は、ガラス粒子表面と物理吸着できる官能基又は化学結合できる官能基を、１分子内に複数持たせることが容易であり、さらに、一般に有機高分子化合物の高分子鎖コイルは固体表面で、ループを形成しやすいため、ガラス粒子表面と高分子鎖の間の結合基自体の数が増加し、ガラス表面との結合力がより強固となるため好ましい。
【００１５】
ガラス粒子表面に有機化合物を保持させる方法は、上記のとおり、物理吸着を利用する方法あるいは化学結合を利用する方法のいずれでもよいが、本発明の感光性ペーストを構成する（Ａ）としては、酸性基を有する有機化合物が、ガラス粒子表面に吸着又は結合しやすいことを利用して、表面修飾させたものが好ましい。特に、酸性基を有する有機高分子化合物を、該酸性基を介して、ガラス粒子表面と吸着又は結合させることで表面処理されたガラス粒子が好ましい。このように、酸性基を有する有機高分子化合物で表面処理されたガラス粒子を（Ａ）として含有する感光性ペーストは、前記感度低下を一層抑制させることができる。
【００１６】
前記酸性基としては、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）、ホスホン酸基（−ＰＯ3Ｈ2）、スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）、硫酸基（−ＯＳＯ3Ｈ）又はフェノール性水酸基等が挙げられ、特に、カルボキシル基、リン酸基が好ましく、とりわけカルボキシル基が好ましい。
これらの酸性基を分子内に複数有する有機高分子化合物が特に好適に用いることができる。
【００１７】
特に、ガラス粒子を表面処理する有機高分子化合物としては、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる、少なくとも１つのモノマーを付加重合した有機高分子化合物が好適である。前記のモノマーを付加重合してなる有機高分子化合物は、好適な酸性基であるカルボキシル基を分子内に有するものであり、かかる有機高分子化合物で表面処理したガラス粒子を（Ａ）として含む場合、特に、感度低下が抑制されるため好ましい。
【００１８】
次に、ガラス粒子表面に、有機高分子を物理吸着又は化学結合によって保持させる方法について説明する。かかる方法の中で、特に簡便な方法としては、予め、分子内に酸性基を有する有機高分子化合物を製造し、該有機高分子化合物によってガラス粒子表面を修飾する方法が挙げられるが、当該方法では、ガラス粒子と有機高分子化合物とを混合させる際に、系中が増粘し、攪拌等が困難になり、結果として、ガラス粒子の表面修飾自体が不十分となる場合がある。
【００１９】
本発明の（Ａ）としては、下記の工程を含む製造方法によって得られるガラス粒子であると好ましい。
1) ガラス粒子を、炭素−炭素不飽和結合を有する有機化合物（以下、「リンカー化合物」と呼ぶことがある）と吸着させる工程
2) 前記1)で得られたガラス粒子と、メタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれる少なくとも１つのモノマーとを接触させ、ガラス粒子表面に吸着したリンカー化合物の炭素−炭素不飽和結合を介して、前記モノマーを重合する工程
このように、リンカー化合物を介して、ガラス粒子表面上でモノマーを重合させると、ガラス粒子表面上で有機高分子化合物の生成反応が生じ、効率的に有機高分子化合物で表面修飾されたガラス粒子を得ることができる。また、かかる方法によれば、その重合反応中、増粘等の問題も生じないことから好ましい。
【００２０】
前記リンカー化合物としては、炭素−炭素不飽和結合を有する有機化合物が好ましく、特に、炭素−炭素二重結合（以下、単に「二重結合」と略す）を有する有機化合物が好ましく、また、酸性基として、カルボキシル基及び／又はリン酸基を有することが好ましい。当該酸性基としては、加水分解等で容易にカルボキシル基となる酸ハライド基、エステル基も用いることができる。
【００２１】
リンカー化合物としては、分子内にカルボキシル基と重合性の二重結合を有する化合物が好ましく、該リンカー化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、２−（メタクリロイルオキシ）エチルフタレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチルスクシネート、２−（メタクリロイルオキシ）エチルマレエート、２−（アクリロイルオキシ）エチルスクシネート等が例示できる。ここで、加水分解等で容易にカルボン酸基に転換できる基である酸ハライド基、エステル基を有するリンカー化合物としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミド、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸クロリド、メタクリル酸ブロミド、ビニル酢酸メチル、ビニル酢酸エチル、ビニル酢酸クロリド、ビニル安息香酸エチル、ビニル安息香酸クロリド等が例示できる。
さらに、分子内にリン酸基と重合性の二重結合を有するリンカー化合物としては、２−（メタクリロイルオキシ）エチルフォスフェート、ビス[２−（メタクリロイルオキシ）エチル]フォスフェート等が例示できる。
【００２２】
前記リンカー化合物を、ガラス粒子表面に吸着させる方法としては、溶媒の存在下又は不在下、反応温度、通常０〜１００℃、反応時間、通常１０分〜２時間で攪拌させる方法、あるいはこれらのリンカー化合物が気化できるときは、該リンカー化合物を気化せしめたガスを、ガラス粒子に接触させる方法等が挙げられる。このような処理を施すことによって得られる、表面にリンカー化合物が吸着されたガラス粒子は、使用した過剰のリンカー化合物を除去せずに、次の反応に用いることもできる。
【００２３】
次いで、表面にリンカー化合物を吸着したガラス粒子において、吸着したリンカー化合物の二重結合同士を反応させる方法、あるいは吸着したリンカー化合物の二重結合と重合可能な二重結合を有するモノマーを加え、該リンカー化合物の二重結合基を介して共重合させることにより、有機高分子化合物により表面修飾されたガラス粒子を得ることができる。このようにして得られたガラス粒子は、本発明の感光性ペーストにおける（Ａ）として、特に好ましい。
【００２４】
前記リンカー化合物の二重結合を介して重合可能なモノマーとしては、前記のメタクリル酸、アクリル酸、ビニル酢酸及びビニル安息香酸からなる群より選ばれたモノマーが特に好ましい。
【００２５】
吸着したリンカー化合物の二重結合同士を反応させる方法、あるいは吸着されたリンカー化合物の炭素−炭素二重結合と重合可能な炭素−炭素二重結合を有するモノマーを共重合させる方法としては、二重結合同士が付加重合できるラジカル重合、イオン重合、熱重合、光重合又は配位重合のいずれの方法も適用できるが、操作な簡便であることから、ラジカル重合が好ましく、とりわけ、ラジカル開始剤を用いたラジカル重合が好ましい。
ラジカル開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド等が例示できる。また、前記の好ましいモノマー類は、このようなラジカル開始剤を使用することで、容易にラジカル重合させることが可能である。
リンカー化合物を吸着させたガラス粒子と、前記ラジカル重合可能なモノマーとは、溶媒の存在下又は不在下に混合し、反応温度、通常４０〜１００℃、反応時間、通常１〜６時間で、前記重合を行なうことができる。また、前記ラジカル開始剤は、前記モノマーと同時に仕込んでもよいし、予め、リンカー化合物を吸着させたガラス粒子とラジカル発生剤を先に混合した後、前記ラジカル重合可能なモノマーを仕込む方法でもよい。
【００２６】
本発明の、有機化合物により表面修飾したガラス粒子は、該ガラス粒子の表面の一部に、有機化合物が吸着されていればよく、例えば、ガラス粒子の全表面積（Ｓ１）に対し、有機化合物が表面修飾されている部分の面積（Ｓ２）の面積比（Ｓ２／Ｓ１）は、１であることがもちろん特に好ましいが、完全に被覆されていなくても差し支えない。好ましくは０．２以上、より好ましくは０．５以上である。
【００２７】
ここで、有機化合物で表面修飾させるガラス粒子は、少なくとも軟化点が４００℃以上のガラス粒子を含むことが好ましく、軟化点が４００℃〜６００℃である低融点ガラス粒子および軟化温度が６０１℃以上であるガラス粒子からなる群より選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。
前記低融点ガラス粒子としては、酸化亜鉛系ガラス粒子、酸化ビスマス系ガラス粒子、酸化リチウム系ガラス粒子、酸化硼素酸化亜鉛系ガラス等が挙げられる。一方、軟化温度が６０１℃以上であるガラス粒子としては、ソーダガラス粒子、無アルカリガラス粒子、パイレックス（登録商標）粒子等が挙げられる。
【００２８】
また、前記ガラス粒子の体積平均粒径は、測定温度２５℃において、好ましくは０．１〜２０μｍであり、より好ましくは０．１〜１０μｍである。該体積平均粒径が、前記の範囲にあると、より緻密な隔壁が得られるため好ましい。体積平均粒径は、市販の光散乱粒径測定装置（例えば大塚電子社製  型番ＤＬＳ−７０００を挙げることができる）を用いて測定することができる。
【００２９】
本発明の感光性ペーストに用いられる（Ａ）の含有比率は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは１０〜８０質量％であり、より好ましくは１５〜７０質量％である。
【００３０】
次に、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂又は酸の作用によりアルカリ可溶性になる樹脂について説明する。ここで、「アルカリ可溶性」の表記は、アルカリ水溶液、アルカリ性を示す有機溶剤、またはアルカリ性を示す有機溶剤−水混合溶液のいずれかのアルカリ溶液に溶解しうることを示すものである。
アルカリ可溶性樹脂は、酸の作用により当該アルカリ可溶性樹脂との間に架橋反応を生じる架橋剤を添加することにより、前記（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物によって電離放射線露光部がアルカリ不溶性、電離放射線未露光部がアルカリ可溶性となる。こうして露光部−未露光部で、アルカリ溶液に対する溶解度差が生じ、光リソグラフィーが可能となるネガ型感電離放射線性樹脂となる。
一方、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂とは、それ自体ではアルカリ可溶性を示さないが、酸の存在下で化学反応を生じ、アルカリ可溶性となる樹脂であり、前記（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物によって、電離放射線露光部がアルカリ可溶性、電離放射線未露光部がアルカリ不溶性となる。こうして露光部−未露光部でアルカリ溶液に対する溶解度差が生じ、光リソグラフィーが可能となるポジ型感電離放射線性樹脂となる。
【００３１】
好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、分子内にカルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する樹脂が挙げられる。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、ビニル安息香酸、ヒドロキシスチレンから選ばれる少なくとも１種からなるモノマーを付加重合した樹脂であり、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニル酢酸、ポリビニル安息香酸、ポリヒドロキシスチレン、アクリル酸−ビニル酢酸共重合体、メタクリル酸−ビニル酢酸共重合体、メタクリル酸−ビニル安息香酸共重合体、メタクリル酸−ヒドロキシスチレン共重合体、ビニル安息香酸−ヒドロキシスチレン共重合体、メタクリル酸−ビニル安息香酸−ヒドロキシスチレン共重合体等が挙げられる。
また、通常、ノボラック樹脂と呼ばれる樹脂もアルカリ可溶性樹脂として好適であり、フェノール（ヒドロキシベンゼン）、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３−キシレノール、２−ブチルフェノール、２−イソブチルフェノール、２−シクロヘキシルフェノール、２−フェニルフェノール等のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、１−ナフチルアルデヒド等のアルデヒド化合物とを重縮合したノボラック樹脂が例示できる。ノボラック樹脂としては、特にフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂が好ましく用いられる。
【００３２】
ネガ型感電離放射線性樹脂を形成するための、酸の作用により前記アルカリ可溶性樹脂との間に架橋反応を生じる架橋剤としては、メラミン化合物、グリコルウレア化合物、アルコキシメチル置換芳香族化合物、アセトキシメチル置換芳香族化合物、メチロール置換芳香族化合物又はエポキシ化合物などが挙げられる。
メラミン化合物としては、例えば、ヘキサキス（メトキシメチル）メラミン、ヘキサキス（エトキシメチル）メラミン等が挙げられる。
グリコルウレア化合物としては、例えば、１，３，４，６−テトラキス（メトキシメチル）グリコルウレア、１，３，４，６−テトラキス（エトキシメチル）グリコルウレア、１，３，４，６−テトラキス（ブトキシメチル）グリコルウレア等が挙げられる。
アルコキシメチル置換芳香族化合物としては、１，４−ジメトキシメチルベンゼン、１，２−ジメトキシメチルベンゼン、１，３−ジメトキシメチルベンゼン、１，３，５−トリメトキシメチルベンゼン、１，４−ジブトキシメチルベンゼン、１，２−ジブトキシメチルベンゼン、１，３−ジブトキシメチルベンゼン、１，３，５−トリブトキシメチルベンゼン等が挙げられる。
アセトキシメチル置換芳香族化合物としては、１，４−ジアセトキシメチルベンゼン、１，２−ジアセトキシメチルベンゼン、１，３−ジアセトキシメチルベンゼン、１，３，５−トリアセトキシメチルベンゼン等が挙げられる。
メチロール置換芳香族化合物としては、１，４−ジメチロールベンゼン、１，２−ジメチロールベンゼン、１，３−ジメチロールベンゼン、１，３，５−トリメチロールベンゼン等を挙げることができる。また、エポキシ化合物としては、例えば、１，３−ビス（グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。
【００３３】
前記のポジ型感電離放射線性樹脂を形成できる、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂としては、分子内に酸の作用により脱離する基により保護されたカルボキシル基を有する樹脂、または、分子内に酸の作用により脱離する基により保護されたフェノール性水酸基を有する樹脂が挙げられる。ここで、酸の作用により脱離する基としては、ターシャリーブチル基、メトキシメチル基、２−エチルアダマンチル基などが挙げられる。分子内に酸の作用により脱離する基により保護されたカルボキシル基を有する樹脂としては、ポリアクリル酸-ポリ（ターシャリーブチルアクリレート）共重合体、ポリアクリル酸-ポリ（メトキシメチルアクリレート）共重合体、ポリアクリル酸-ポリ（２−エチルアダマンチルアクリレート）共重合体、ポリメタクリル酸-ポリ（ターシャリーブチルメタクリレート）共重合体、ポリメタクリル酸-ポリ（メトキシメチルアクリレート）共重合体、ポリアクリル酸-ポリ（２−エチルアダマンチルアクリレート）共重合体、ポリビニル酢酸-ポリ（ターシャリーブチルアクリレート）共重合体、ポリビニル酢酸-ポリ（メトキシメチルアクリレート）共重合体等が挙げられる。
分子内に酸の作用により脱離する基により保護されたフェノール基を有する樹脂としては、ポリヒドロキシスチレン-ポリ（ターシャリーブトキシスチレン）共重合体、ポリヒドロキシスチレン-ポリ（２−エチルアダマンチルオキシスチレン）共重合体等が挙げられる。
【００３４】
本発明の感光性ペーストに用いられる（Ｂ）の含有比率は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは３〜３０質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％である。
また、前記のように、酸の作用でバインダー樹脂と反応する化合物を添加する場合は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは１〜１５質量％であり、より好ましくは２〜１０質量％の範囲で添加できる。
【００３５】
次に、（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物について説明する。
電磁放射線の照射により酸を発生する化合物としては、例えば、光酸発生剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。
【００３６】
前記の電離放射線の照射量としては、電離放射線の照射により酸を発生する化合物が、酸を発生する量以上であり、本発明の効果を阻害しない範囲内であれば、特に制限されるものではない。
【００３７】
光酸発生剤としては、例えば、［シクロヘキシル−（２−シクロヘキサノニル）−メチル］スルホニウム  トリフルオロメタンスルフォネート、ビス（ｐ−トリルスルフォニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルフォニル）ジアゾメタン、ターシャリーブチルカルボニルメチル−テトラヒドロチオフェニウム  トリフルオロメタンスルフォネートなどが挙げられる。光酸発生剤としては、前記の他に、特開平１１―２０２４９５号公報記載の化合物を使用することもできる。
【００３８】
光カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスフェート塩、アンチモネート塩などを挙げることができる。具体的には、ロードシルフォトイニシエーター２０７４（ローデル社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２、アデカオプトンＣＰシリーズ（いずれも旭電化工業（株）製）などが挙げられる。また、前記の他に、特開平９−１１８６６３号公報に記載された化合物も使用することができる。
【００３９】
前記の電離放射線の照射により酸を発生する化合物の含有比率は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは０．０１〜２０質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０質量％である。当該含有量が、前記の範囲にあると、生産性よくパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
【００４０】
次に、（Ｄ）有機溶剤について説明する。
本発明の有機溶剤は特に限定させないが、好ましくは、２５℃における有機溶剤の屈折率が１．４０〜１．８０のものであり、更に好ましくは１．４３〜１．７０のものであり、より好ましくは１．４４〜１．６０のものである。該有機溶剤の屈折率が前記の範囲にあると、製膜後の感光性ペーストの透明性が高い傾向があり、好ましい。有機溶剤の屈折率は、２５℃において、屈折率計（京都電子工業（株）製  ＲＡ−５２０Ｎ）を用いて測定することができる。また、有機溶剤の屈折率は、例えば、改訂４版  化学便覧  基礎編ＩＩ  ５１４−５２０頁（日本化学会編  丸善（株）  平成５年９月３０日  発行）などの文献に記載されており、この文献記載値から、屈折率が１．４０〜１．８０の有機溶媒を選択して用いてもよい。
【００４１】
ここで、屈折率が１．４０〜１．８０である有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノブチルエーテル（屈折率１．４２）、ポリプロピレングリコールジベンゾエート（屈折率１．５２）、２−ヘプタノン（屈折率１．４１）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（屈折率１．４０）、ガンマ−ブチロラクトン（屈折率１．４４）、１，２−プロパンジオールジベンゾエート（屈折率１．５４）、ポリエチレングリコールジベンゾエート（屈折率１．５３）等が挙げられ、好ましくは屈折率が１．４３〜１．７０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、ガンマ−ブチロラクトン、１，２−プロパンジオールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエートが挙げられ、より好ましくは屈折率が１．４４〜１．６０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、１，２−プロパンジオールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエートが挙げられる。
【００４２】
本発明の感光性ペーストにおける（Ｄ）の含有比率としては、感光性ペースト全量に対して、通常１質量％以上３０質量％以下であり、好ましくは３質量％以上２５質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上２０質量％以下である。
【００４３】
更に、本発明の感光性ペーストには、（Ａ）以外の無機粒子を添加しても良い。
ここで、（Ａ）以外の無機粒子の比誘電率は、好ましくは４．０以上９．５以下であり、より好ましくは４．０以上９．０以下である。比誘電率は、２０℃において、ブリッジ型誘電率測定装置（例えば、安藤電気社製  型番ＴＲ−１０Ｃを挙げることができる）を用いて測定することができる。
【００４４】
また、前記（Ａ）以外の無機粒子の屈折率は、好ましくは１．４０〜２．５０であり、より好ましくは１．４３〜２．２０であり、とりわけ好ましくは１．４３〜１．８０である。無機粒子の屈折率が前記の範囲にあると、露光時に光の散乱が小さいため良好なパターンを形成することができる傾向があり、好ましい。屈折率は、２５℃において、プリズム屈折率測定装置（例えば、ＯＰＴＥＣ社製  型番ＧＰ１−Ｐを挙げることができる）を用いて測定することができる。
【００４５】
前記（Ａ）以外の無機粒子の体積平均粒径は、好ましくは０．０１〜４０μｍであり、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、とりわけ好ましくは１．０〜８．０μｍである。該無機粒子の体積平均粒径が、前記の範囲にあると、感光性ペーストを用いて形成される隔壁中における無機粒子の充填量を増加させることができることから焼成時の収縮が少ないため好ましく、また露光時の光の散乱が小さいため良好なパターンを形成できる傾向があり、好ましい。ここで、体積平均粒径は前記のガラス粒子と同様の方法により求めることができる。
【００４６】
本発明の感光性ペーストにおいては、平均粒径の異なる無機粒子を任意の割合で混合して用いてもよい。また、（Ａ）と（Ａ）以外の無機粒子の平均粒径が相違するものを用いることもできる。
【００４７】
前記（Ａ）以外の無機粒子の形状は特に限定されず、破砕状でも、球状でもよいが、球状であることが特に好ましい。
【００４８】
（Ａ）以外の無機粒子を具体的に例示すると、コロイダルシリカに由来するシリカ粒子、エアロジル、シリカゲルなどのシリカ粒子、ケイ素酸化物を主成分とするガラス粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。
【００４９】
本発明の感光性ペーストに（Ａ）以外の無機粒子を用いる場合、その含有比率は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは１０〜７０質量％であり、より好ましくは１５〜６５質量％である。（Ａ）以外の無機粒子を、前記の含有比率で用いると、焼成時の膜収縮が小さくなり基板から剥離しにくくなる傾向が見られ、また露光時の光の散乱が小さくなり良好なパターンを形成できる傾向があり好ましい。
【００５０】
さらに、本発明の感光性ペーストには、必要に応じて、光吸収剤、光増感剤、可塑剤、分散剤、沈殿防止剤、レベリング剤などの添加剤を添加してもよい。
【００５１】
次に、本発明の感光性ペーストを用いてパターン加工を行なう方法について、好適な例は下記（１）〜（４）の工程を有する方法を挙げることができる。
（１）本発明の感光性ペーストを基板上に塗布して塗膜を形成する工程
（２）前記（１）で得られた塗膜を露光する工程
（３）前記（２）で得られた塗膜を現像する工程
（４）前記（３）の現像を行った後、該基板を４００℃〜６００℃の温度で焼成する工程
【００５２】
はじめに（１）について説明する。まず、基板上に、感光性ペーストを全面塗布、又は部分的に塗布する。塗布方法としては、例えば、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、スクリーン印刷などの方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの粘度を選ぶことにより調整することができ、通常５〜５００μｍ程度である。
【００５３】
感光性ペーストを基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板表面を表面処理液で処理してもよい。
【００５４】
前記の表面処理液としては、例えば、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。該シランカップリング剤は、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどの有機溶媒で０．１〜５質量％の濃度に希釈したものを、表面処理液として用いることが好ましい。
【００５５】
表面処理の方法は、例えば、表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜１４０℃で５〜６０分間乾燥するなどを挙げることができる。乾燥方法としては、ホットプレート、遠赤外線オーブン等が好ましい。
【００５６】
前記のように、必要に応じて、表面処理を施した基板に、感光性ペーストを塗布し、遠赤外線オーブン等を用いて、通常８０〜１３０℃で、５〜１００分間乾燥させる。
【００５７】
乾燥後の塗膜に、（２）露光装置を用いて露光を行なう。露光装置としては、例えば、プロキシミティ露光機等が挙げられる。
【００５８】
大面積の露光を行なう場合には、基板上に感光性ペーストを塗布した後に、移動させながら露光を行なうことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。露光とは、作成するマスクパターンを、感光性ペースト塗布膜に電離放射線で転写または描画するものであり、電離放射線としては、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線、可視光、近赤外光等を使用することができる。
【００５９】
前記露光における照射量としては、使用する電離放射線あるいは感光性ペーストに使用した（Ｃ）の種類により適宜最適化できるが、（Ｃ）が酸を発生する量以上であれば、本発明の効果を阻害しない範囲内で最適化できる。
【００６０】
特に、露光源として高圧水銀灯を使用した波長３６５ｎｍの光源を使用し、温度は室温（２５±５℃）下で、露光量１００ｍJ/cm2〜２０００ｍJ/cm2で露光を行うことが好ましい。
【００６１】
露光後、（３）現像を行なう。かかる現像により、露光部が残存し、未露光部が溶解して基板上にパターンが形成される。なお、該現像は現像液を用いて、浸漬法、スプレー法、ブラシ法等で行われる。
【００６２】
現像液としては、例えば、テトラメチルアンモニイウムハイドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水溶液などが挙げられる。
【００６３】
水溶液中のアルカリ濃度は、好ましくは０．０５〜５質量％であり、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が前記の範囲にあると、現像除去するべき部分の除去性が良好であり、また残存すべきパターンが剥離したり侵食されたりする傾向が小さく、好ましい。
【００６４】
現像時の温度は、その工程管理上、好ましくは１５〜５０℃である。
【００６５】
前記のようにしてパターンを形成後、（４）焼成炉にて焼成を行なうことにより隔壁を製造することができる。焼成雰囲気や焼成温度は、感光性ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素などの雰囲気中で、通常、４００〜６００℃で焼成することができる。焼成炉は、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【００６６】
特に、ガラス基板上にパターン加工する場合は、通常、４００〜６００℃の温度で１０〜６０分間焼成が行なうことが好ましく、焼成することによりプラズマディスプレイ用隔壁を得ることができる。
【００６７】
上記のようにして得られた隔壁の表面に、さらにコート層を形成してもよい。コート層は、低融点ガラス粒子とバインダー樹脂からなるペースト剤やセラミックコーティング剤などを挙げることができる。
ペースト剤を用いたコート層は、コート剤を塗布・乾燥し、焼成することで形成できるものであり、前記の隔壁を製造した後、該コート剤を、形成された隔壁に塗布し、焼成を行なう方法でもよく、露光・現像して得られたパターンに、前記コート剤を塗布し、焼成を行なうことにより、隔壁の製造と同時にコート層を形成させてもよい。該ペーストを用いたコート層形成の焼成温度は、通常、２５０〜６００℃程度であり、隔壁の製造と同時に行なう場合は、４００〜６００℃が好ましい。
【００６８】
ここで、ペースト剤における低融点ガラス粒子としては、前記と同等の例示が挙げられる。
【００６９】
また、前記ペースト剤におけるバインダー樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ポリα-メチルスチレン等が挙げられる。
【００７０】
セラミックコート剤としては、水性金属塩系コート剤、アルコキシ金属塩系コート剤などを用いることができ、具体的には、水性金属塩系コート剤としてはＭＳ−１７００、アルコキシ金属塩系コート剤としてはＧ−３０１、Ｇ−４０１（いずれも、（株）日本セラミック製）等を挙げることができる。
【００７１】
該セラミックコート剤を用いる場合は、通常、室温〜５００℃でコート層を形成することができる。
【００７２】
上記のパターン加工を行なう方法により得られる隔壁において、焼成前後での該隔壁のトップ幅寸法、ボトム幅寸法および高さ寸法のそれぞれの変化量は、好ましくは±３０％以内であり、より好ましくは±１０％以内である。
さらに本発明の感光性ペーストによれば、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、且つ、ガラス粒子の含有量を増やすことにより緻密なプラズマディスプレイ用隔壁を製造することが可能となる。
【００７３】
上記のようにして得られた隔壁は、プラズマディスプレイ用部材である背面板の隔壁として好適に使用することができる。背面板の製造方法は、前記の隔壁を形成した基板に、蛍光層形成等の公知の処理を施すことにより、達成される。
また、このようにして製造された背面板は、公知の方法により製造されたプラズマディスプレイ用の前面板と封着し、前面板と背面板の間隔に形成された空間に放電ガスを封入して、プラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００７５】
実施例１
酸化亜鉛系低融点ガラス粒子（旭硝子製  ＮＬＰＦ０２３）５０．００ｇ、脱水トルエン１００ｍｌを三方コック、ジムロートを取り付けた２００ｍｌの四つ口フラスコに入れ、マグネチック攪拌子で攪拌しながら窒素ガスをバブリングして溶存酸素をパージした。メタクリル酸クロリド０．２５ｇを加え、室温で1時間攪拌した。メタクリル酸２．００ｇ、２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加え、攪拌しながらオイルバスで70℃で５時間反応させた。反応終了後、反応混合物を３００ｍｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターでトルエンを留去、濃縮して、主としてポリメタクリル酸からなる有機化合物で表面修飾されたガラス粒子を得た。
【００７６】
上記ガラス粒子７．６０ｇ、架橋剤１，３−ビス（３’−グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（信越化学工業（株）製；ＬＳ−７９７０）  ０．４５ｇ、平均粒径２．０μｍの球状シリカ（（株）アドマテックス製；ＳＯ−Ｃ６）５．１３ｇ、フェノールノボラック樹脂の５０ｗｔ％ガンマブチロラクトン溶液（群栄化学工業（株）製、ＰＳＭ−４２６１）１．８０ｇ、フォトイニシエーター（ローディアジャパン製ＰＩ−２０７４）０．１４ｇ、増感剤（ＤＢＡ、川崎化成工業製）０．０３ｇ、酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、石原産業会社製）０．０５ｇ、ポリ（プロピレングリコール）ジベンゾエート（アルドリッチ製）０．１５ｇ、１，２−プロパンジベンゾエート０．７２ｇ、粘度調整用のγ−ブチロラクトン１．１３ｇをポリプロピレン製密閉容器に入れ、攪拌脱泡機（（株）キーエンス社製；ＨＭ−５００）を用いて攪拌して均一な感光性ペーストを調製した。得られた感光性ペーストにおける（Ａ）〜（Ｄ）の含有比率は、（Ａ）４４．１９質量％、（Ｂ）５．２３質量％、（Ｃ）１．３４質量％及び（Ｄ）１６．８６質量％であった。
【００７７】
調製した感光性ペーストを２００μｍギャップのアプリケーターを用いて、ガラス基板上に１回塗布した。塗布後１１０℃のオーブンで３０分乾燥して塗膜を調製した。
【００７８】
乾燥後の塗膜は、５０μｍライン、２４０μｍピッチのマスクを用いて、プロキシミティ露光機（大日本スクリーン製造（株）製；ＭＡＰ−１３００）で露光された。照射露光量は、５００ｍＪ／ｃｍ2であった。露光後、１３０℃で１０分間ベークした後、０．５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液で現像して、パターン上部幅５９μｍ、パターン下部幅９９μｍ、高さ１００μｍのパターンが得られた。このようにして得られたパターンを５８０℃程度で焼成することにより、プラズマディスプレイ用部材として好適な隔壁を製造することができる。
【００７９】
実施例２
酸化亜鉛系低融点ガラス粒子（旭硝子製  ＮＬＰＦ０２３）５０．００ｇ、脱水トルエン１００ｍｌを三方コック、ジムロートを取り付けた２００ｍｌの四つ口フラスコに入れ、マグネチック攪拌子で攪拌しながら窒素ガスをバブリングして溶存酸素をパージした。メタクリル酸クロリド０．２５ｇを加え、室温で1時間攪拌した。メタクリル酸１．００ｇ、２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル０．０４２ｇを加え、攪拌しながらオイルバスで70℃で５時間反応させた。反応終了後、反応混合物を３００ｍｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターでトルエンを留去、濃縮して、主としてポリメタクリル酸からなる有機化合物で表面修飾されたガラス粒子を得た。
【００８０】
上記ガラス粒子８．４８ｇ、架橋剤１，３−ビス（３’−グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（信越化学工業（株）製；ＬＳ−７９７０）  ０．７０ｇ、平均粒径２．０μｍの球状シリカ（（株）アドマテックス製；ＳＯ−Ｃ６）５．６８ｇ、フェノールノボラック樹脂の５０ｗｔ％ガンマブチロラクトン溶液（群栄化学工業（株）製、ＰＳＭ−４３２４、熱軟化温度  約１００℃）２．００ｇ、フェノールノボラック樹脂の５０ｗｔ％ガンマブチロラクトン溶液（群栄化学工業（株）製、ＰＳＭ−４３２６、熱軟化温度  約１２０℃）０．４０ｇ、フォトイニシエーター（ローディアジャパン製ＰＩ−２０７４）０．２４ｇ、増感剤（ＤＢＡ、川崎化成工業製）０．０６ｇ、酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、石原産業会社製）０．０５ｇ、ポリ（プロピレングリコール）ジベンゾエート（アルドリッチ製）０．１２ｇ、１，２−プロパンジベンゾエート０．６０ｇ、粘度調整用のγ−ブチロラクトン０．５０ｇをポリプロピレン製密閉容器に入れ、攪拌脱泡機（（株）キーエンス社製；ＨＭ−５００）を用いて攪拌して均一な感光性ペーストを調製した。得られた感光性ペーストにおける（Ａ）〜（Ｄ）の含有比率は、（Ａ）４５．０３質量％、（Ｂ）６．３７質量％、（Ｃ）１．２２質量％及び（Ｄ）１２．８５質量％であった。
【００８１】
調製した感光性ペーストを２００μｍギャップのアプリケーターを用いて、ガラス基板上に１回塗布した。塗布後１１０℃のオーブンで３０分乾燥して塗膜を調製した。
【００８２】
乾燥後の塗膜は、５０μｍライン、２４０μｍピッチのマスクを用いて、プロキシミティ露光機（大日本スクリーン製造（株）製；ＭＡＰ−１３００）で露光された。照射露光量は、３００ｍＪ／ｃｍ2であった。露光後、１３０℃で１０分間ベークした後、０．５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液で現像して、パターン上部幅７５μｍ、パターン下部幅１０５μｍ、高さ９８μｍのパターンが得られた。このようにして得られたパターンを５８０℃程度で焼成することにより、プラズマディスプレイ用部材として好適な隔壁を製造することができる。
【００８３】
実施例３
酸化亜鉛系低融点ガラス粒子（旭硝子製  ＮＬＰＦ０２３）５０．００ｇ、脱水トルエン１００ｍｌを三方コック、ジムロートを取り付けた２００ｍｌの四つ口フラスコに入れ、マグネチック攪拌子で攪拌しながら窒素ガスをバブリングして溶存酸素をパージした。メタクリル酸クロリド０．２５ｇを加え、室温で1時間攪拌した。メタクリル酸２．００ｇ、２，２‘−アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを加え、攪拌しながらオイルバスで70℃で５時間反応させた。反応終了後、反応混合物を３００ｍｌのナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターでトルエンを留去、濃縮して、主としてポリメタクリル酸からなる有機化合物で表面修飾されたガラス粒子を得た。
【００８４】
上記ガラス粒子８．４８ｇ、架橋剤１，３−ビス（３’−グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（信越化学工業（株）製；ＬＳ−７９７０）  ０．９０ｇ、平均粒径２．０μｍの球状シリカ（（株）アドマテックス製；ＳＯ−Ｃ６）５．６８ｇ、フェノールノボラック樹脂の５０ｗｔ％ガンマブチロラクトン溶液（群栄化学工業（株）製、ＰＳＭ−４３２６、熱軟化温度  約１２０℃）１．８０ｇ、フォトイニシエーター（ローディアジャパン製ＰＩ−２０７４）０．２４ｇ、増感剤（ＤＰＡ、川崎化成工業製）０．０６ｇ、酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ、石原産業会社製）０．０５ｇ、１，２−プロパンジベンゾエート０．８０ｇをポリプロピレン製密閉容器に入れ、攪拌脱泡機（（株）キーエンス社製；ＨＭ−５００）を用いて攪拌して均一な感光性ペーストを調製した。得られた感光性ペーストにおける（Ａ）〜（Ｄ）の含有比率は、（Ａ）４７．０８質量％、（Ｂ）５．００質量％、（Ｃ）１．２８質量％及び（Ｄ）９．４４質量％であった。
【００８５】
調製した感光性ペーストを２００μｍギャップのアプリケーターを用いて、ガラス基板上に１回塗布した。塗布後１１０℃のオーブンで３０分乾燥して塗膜を調製した。
【００８６】
乾燥後の塗膜は、５０μｍライン、２４０μｍピッチのマスクを用いて、プロキシミティ露光機（大日本スクリーン製造（株）製；ＭＡＰ−１３００）で露光された。照射露光量は、１０００ｍＪ／ｃｍ2であった。露光後、１３０℃で１０分間ベークした後、０．５ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液で現像して、パターン上部幅６８μｍ、パターン下部幅１０８μｍ、高さ９０μｍのパターンが得られた。このようにして得られたパターンを５８０℃程度で焼成することにより、プラズマディスプレイ用部材として好適な隔壁を製造することができる。
【００８７】
比較例１
表面を有機化合物で修飾していないガラス粒子（旭硝子製、ＮＬＰＦ０２３）を用いた以外は、実施例１と同様にしてペーストを作製した。
得られたペーストを実施例１と同一の条件で、塗布、露光した。しかしながら、現像時にパターンが溶解し、パターンは得られなかった。
【００８８】
比較例１は、実施例１と同一の露光量では、架橋剤とアルカリ可溶性バインダー樹脂であるフェノールノボラック樹脂の架橋反応がほとんど進行せず、現像時にパターン溶解が生じたのに対し、本発明の有機化合物で表面を修飾したガラス粒子を添加した感光性ペーストでは、パターン高さ１００μｍでも、隔壁の製造が可能であり、ガラス粒子を高充填することで緻密な隔壁を製造することが可能となる。