(57)【要約】【課題】紙層／熱溶融樹脂層から構成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂層の膜厚が厚くなっても、少ない照射量で経済的に製造することができるエンボス付き離型紙を提供する。【解決手段】少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。
【請求項２】
紙層上に光反射層を設け、その上に電離放射線により硬化反応を起こす電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂層を設け、次いで熱エンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工した熱溶融樹脂層に電離放射線を照射し、そのとき前記光反射層により電離放射線を反射させて熱溶融樹脂層を硬化させることを特徴とするエンボス付き離型紙の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に合成皮革の製造に用いられる熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、紙の片面に未硬化の電離放射線硬化性コート層を設け、次いで６０℃に加熱したエンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工を行った未硬化の電離放射線硬化性コート層に電子線又は紫外線を照射してエンボス付き電離放射線硬化膜を形成することが記載されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特公昭６４−１０６２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の方法では電離放射線硬化性コート層の膜厚が厚くなると、電離放射線による硬化効率が低下し、硬化のために多くの照射量を必要としていた。また、生産性を上げるため、より少ない照射量で硬化させようとして、例えば紫外線硬化の場合、光開始剤量を多くすると、表面だけが集中して硬化し、内部（中下層）まで光が届きづらいことがあった。
本発明が解決しようとする課題は、少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂層の膜厚が厚くなっても、少ない照射量で経済的に製造することができるエンボス付き離型紙及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
請求項１に記載の発明は、上記のエンボス付き離型紙に関する課題を解決するもので、少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙であって、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙を要旨とする。
【０００５】
この発明に係るエンボス付き離型紙において、紙層と熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられているので、電離線照射の透過光による熱溶融樹脂層の硬化だけでなく、光反射層により反射された電離放射線も用いることができるため、熱溶融樹脂層が効率よく十分に硬化され、２００℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、繰り返し使用しても賦型性が悪くなることがないものである。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、上記の製造方法に関する課題を解決するもので、紙層上に光反射層を設け、その上に電離放射線により硬化反応を起こす電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂層を設け、次いで熱エンボスロールによりエンボス加工を行い、しかる後前記エンボス加工した熱溶融樹脂層に電離放射線を照射し、そのとき前記光反射層により電離放射線を反射させて熱溶融樹脂層を硬化させることを特徴とするエンボス付き離型紙の製造方法を要旨とするものである。
【０００７】
この製造方法に関する発明により、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、光効率が向上し、光反射層を設けない場合よりも、より少ない照射量で十分な硬化効率をあげることができる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係るエンボス付き離型紙は、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、より少ない照射量で製造されたにもかかわらず、耐熱性に優れ、２００℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、例えば、ポリ塩化ビニルゾルをエンボス付き離型紙上にコーティングし、２１０℃で加熱硬化させることを繰り返し行ってもそれによって賦型性が悪くなることはないという利点を有する。
また、本発明に係るエンボス付き離型紙の製造方法によれば、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、光効率が向上し、光反射層を設けない場合よりも、より少ない照射量で経済的にエンボス付き離型紙を製造することができる。
また、本発明の製造方法によれば、より少ない照射量で硬化させるので、硬化する過程でエンボス加工した電離放射線硬化性樹脂層のエンボスが照射時に発生する放射熱（赤外線等の放射熱）によりだれてしまうことがない利点を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１は本発明のエンボス付き離型紙を示す。
【００１０】
図１に示すように、本発明のエンボス付き離型紙は、少なくとも紙層１、光反射層２及び熱溶融樹脂層３からなり、熱溶融樹脂層３は、電離放射線により硬化反応を起こす未硬化の電離放射線硬化性樹脂からなる。本発明のエンボス付き離型紙は、熱エンボスロールにより未硬化の電離放射線硬化性樹脂からなる熱溶融樹脂を溶解し、同時に紙層１も軟化させることにより、エンボスロールの型を立体的に転写させ、エンボス加工後、電離放射線を照射して熱溶融樹脂を硬化させてなるものである。
【００１１】
エンボス付き離型紙は、電離線照射による熱溶融樹脂層の硬化時に光反射層により反射された電離放射線により熱溶融樹脂層が十分に硬化され、より少ない照射量で製造されたにもかかわらず、耐熱性に優れ、２００℃以上の合成皮革製造工程において使用可能であり、例えば、ポリ塩化ビニルゾルをエンボス付き離型紙上にコーティングし、２１０℃で加熱硬化させることを繰り返し行ってもそれによって賦型性が悪くなることはないという利点を有するものである。
【００１２】
図２乃至図５は本発明のエンボス付き離型紙の製造方法に係る製造工程を示す。
【００１３】
先ず図２に示すように、紙層１上に光反射層２を設けたものを用意する。
【００１４】
次いで図３に示すように、光反射層２を設けた紙層１上に未硬化の電離放射線硬化性樹脂３ａをコーティングする。
【００１５】
次いで図４に示すように、紙層１／光反射層２／電離放射線硬化性樹脂層３ａからなるものを、熱エンボスロールにより未硬化の電離放射線硬化性樹脂３ａを溶解し、同時に紙層１も軟化させることにより、エンボスロールの型を立体的に転写させる、
【００１６】
次いで図５に示すように、エンボス加工後、電離放射線４を照射させ、紙層１／光反射層２／熱溶融樹脂層（硬化させた電離放射線硬化性樹脂層）３からなる、
図１に示すようなエンボス付き離型紙を得る。尚、図６は、電離放射線硬化性樹脂層３ａを透過し、光反射層２により反射した電離放射線によって、電離放射線硬化性樹脂層３ａの表層５の硬化が促進される状態を示す説明図である。
【００１７】
而して本発明において、紙層１としては、クラフト紙、上質紙、模造紙、アート紙、コート紙等を使用することができる。
この紙層１の坪量は８０〜２００ｇ／ｍ2程度が好ましい。
【００１８】
光反射層２としては、例えばアルミニウム蒸着膜を利用することができる。
【００１９】
電離放射線硬化性樹脂層３ａは、例えばエチレン性不飽和結合を有する化合物と光開始剤からなるものである。
【００２０】
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルアミド等の単官能モノマー、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の２官能モノマー、トリメチロールプロパントリアクリレート等の３官能モノマーウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートエチレンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−（オキシジメチレン）ビスメタクリルアミド不飽和ポリエステル等のオリゴマー、プレポリマー、又はこれらの一種あるいは二種以上の混合物を用いることができる。
【００２１】
光開始剤として、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾイルアルキルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル、４，４−ジクロルベンゾフェノン等を用いることができる。      
【００２２】
電離放射線硬化性樹脂３ａはリバースコーター、バーコート、ナイフコート、ロールコート、カーテンフローコート、スプレーコート、押出コート等の方法で光反射層２上にコーティングすることができる。
【００２３】
コーティングする電離放射線硬化性樹脂３ａの塗布量は０．１ｇ／ｍ2〜５０ｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５ｇ／ｍ2〜２０／ｍ2である。
【００２４】
本発明の製造方法において、エンボス加工を電離放射線の照射前に行っているのは、硬化後にエンボスを施すのでは硬化した電離放射線硬化性樹脂層が割れてしまうからである。
【００２５】
エンボス加工は、エンボスロールで転写する方法が一般的であるが、他にベルト法、金型模様のプレス法等も適用可能である。
【００２６】
次に本発明の製造方法において電離放射線を照射する紫外線照射装置として、高圧水銀紫外線ランプ、水晶水銀灯、紫外線硬化炭素アーク等を適用でき、また電子線照射装置としては、５０〜２０００ＫｅＶのエネルギーを有するものが適当である。
【００２７】
本発明の製造方法によれば適度の離型性を有し、且つ耐熱性、耐侯性、耐薬品性、耐摩耗性等の点で優れたエンボス付き離型紙を製造することができる。
【００２８】
また、より少ない照射量で硬化させる方法によっているので硬化する過程でエンボス加工した電離放射線硬化性樹脂層のエンボスが照射時に発生する放射熱（赤外線等の放射熱）による熱によりだれてしまうことがない利点を有する。
【実施例】
【００２９】
基材としてアルミニウム蒸着を施したアルミ蒸着紙（坪量：１２５ｇ）を用い、このアルミ蒸着紙に、熱溶融タイプの電離放射線により硬化する樹脂として、トリメチロールプロパントリアクリレート１００重量部に反応開始剤として光開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュア９０７）２重量部を混合したものを、リバースコーターにより約２１ｇ／ｍ2塗工することにより、エンボス前の離型基材を作製した。その後、エンボス機（由利ロール製）の８０℃に加熱された熱エンボスロールによりエンボス加工を行った。その後、１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀紫外線ランプ２灯を用い、積算光量４００ｍＪで表面の樹脂を硬化させ、エンボス付き離型紙を作製した。
【００３０】
［比較例］
基材として通常の紙（坪量：１２５ｇ／ｍ2）を用いた以外は実施例１と同様にしてエンボス付き離型紙を作製した
【００３１】
実施例及び比較例のエンボス付き離型紙の電離放射線硬化性樹脂の硬化性について、温度２３０℃のオーブン内に３分間放置前後の賦型性の変化ががあるかどうかを３次元粗さ測定機を用い、縦方向及び横方向のエンボス表面十点平均粗さ（Ｒｚ）を測定し、各測定値の、エンボスロールの（縦）十点平均粗さ（Ｒｚ）＝５６．３及び（横）十点平均粗さ（Ｒｚ）＝５８．９との比率を計算して賦型率を求め、比較した。その結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
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【００３３】
表１に示すように、実施例においてはオーブン放置前後で殆ど賦型率の変化が見られなかった。それに対し比較例ではオーブン放置後賦型性が悪くなり、耐熱性が劣り、硬化性が十分ではないことが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明のエンボス付き離型紙は、特に合成皮革の製造に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明のエンボス付き離型紙の断面図である。
【図２】光反射層を有する紙層の断面図である。
【図３】光反射層上に未硬化の電離放射線硬化性樹脂をコーティングした状態のエンボス前の離型基材の断面図である。
【図４】図３に示す離型基材にエンボス加工を施した状態の断面図である。
【図５】図４に示すエンボス加工を施したものに電離放射線を照射して電離放射線硬化性樹脂を硬化させる過程を示す説明図である。
【図６】電離放射線硬化性樹脂層３ａを透過し、光反射層２により反射した電離放射線４によって、電離放射線硬化性樹脂層３ａの中下層５の硬化が促進される状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３６】
１        紙層
２        光反射層
３ａ      未硬化の電離放射線硬化性樹脂層
３        熱溶融樹脂層（硬化された電離放射線硬化性樹脂層）
４        電離放射線
５        電離放射線硬化性樹脂層の硬化した中下層部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
2007253527.tif 000006
【図４】
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【図５】
2007253527.tif 000008
【図６】
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