【事件の表示】
　特願２００９−５２３６５５「計測方法、ステージ装置、及び露光装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　１月２２日国際公開、ＷＯ２００９／０１１３５６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　本願は、２００８年７月１６日（優先権主張２００７年７月１８日、日本国）を国際出願日とする出願であって、 平成２５年５月３１日付け（送達：同年６月４日）で拒絶査定がなされ、これに対し、同年９月４日に拒絶査定不服審判が請求されると同時に特許請求の範囲についての補正（以下、「本件補正」という。）がなされたものである。
　その後、当審より平成２６年９月１７日付け（発送：同年同月２４日）で拒絶理由（以下、「当審拒絶理由」という。）を通知したところ、同年１１月１３日付けで意見書の提出があり、平成２７年２月２３日付け（発送：同年同月２４日）で拒絶理由を通知したところ、同年４月１７日付けで意見書の提出があった。
　
　そして、本願の請求項１〜１７に係る発明は、本件補正によって補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜１７に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明は、次のとおりである。
「基板が載置されるステージを有するステージ装置により前記基板を投影光学系の下に移動し、前記基板に露光光を照射して前記基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、
　前記投影光学系を支持する所定部材と、
　前記所定部材に設けられたスケールと、
　前記ステージに設けられ、前記スケールに検出光を照射して前記ステージの位置に関する情報を検出する複数の検出器と、
　前記所定部材に設けられた前記スケールを支持するとともに、線膨張率が前記ステージよりも小さい支持部材と、
　前記複数の検出器の検出結果から、前記ステージの変位情報を求める制御装置と、
を備える露光装置。」
（以下、「本願発明」という。）
　
　
第２　当審拒絶理由
　当審拒絶理由は、概略、以下のとおりである。
　
「この出願の請求項１〜１７に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物１〜３に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
引用刊行物
１　特開平７−２７０１２２号公報
２　特開平８−１７８６９４号公報
３　国際公開第２００６／０３８９５２号
　（パテントファミリー：特表２００８−５１５２１９号公報）」
　
　
第３　引用例
１　引用例１
（１）記載事項
　当審拒絶理由で引用された特開平７−２７０１２２号公報（以下、「引用例１」という。）には、特に変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法（発明の名称）に関し、次の事項（ａ）〜（ｅ）が図面とともに記載されている。なお、下線は強調のため当審が引いた。
　
（ａ）
「【００１０】一方、移動体の移動量を高精度で検出する変位検出装置としては、回折格子干渉の原理を用いた変位検出装置がある。この例としては特開平５−２１５５１５号公報に示されたものがあり、これについて図１４を参照して説明する。
【００１１】
図１４
半導体レーザ２１１
半導体レーザ２１１の活性層２１２により発生した可干渉性光束を空間上の１点（回折格子２１６上）に偏向させる２つのミラー２１４ａ、２１３４ｂと、回折格子２１６からの回折光を受光する検出手段２１５とを有する。
【００１２】‥‥‥
【００１３】‥‥‥
【００１４】そして、回折格子２１６から略垂直に射出した±ｍ次の２つの回折光を重ね合わせて受光手段２１５に入射させている。検出手段２１５では干渉した光が検出される。すなわち、
検出手段２１５では回折格子２１６の移動状態に応じた干渉縞の明暗の数（パルス）が検出される
　
（ｂ）
「【００３０】（第１実施例）図１は、本発明の変位検出装置を露光装置に適用した第１実施例の概略側面図であり、図２は、図１に示した露光装置の概略斜視図である。
【００３１】本実施例の露光装置はステップ＆スキャン方式の露光装置であり、
Ｘ方向に移動可能に設けられたＸステージ７と、Ｙ方向に移動可能に設けられたＹステージ６とで構成される移動機構
上面にウエハ４を保持するウエハチャック５が支持されている
【００３２】ウエハチャック５に保持されたウエハ４の上方には、ウエハ４に転写する回路パターンが描かれた原版３が、Ｙ方向に移動可能に設けられた原版ホルダ１１に保持されている。原版３の上方には露光用の光源１が配置され、原版３とウエハチャック５との間には、
光源１からの光が原版３を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハ４に縮小して投影する縮小光学系を含む、固定物体としての鏡筒２
　
（ｃ）
「【００３６】再び図１および図２に戻り、鏡筒２の下端部外周面には、４つのウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄが取り付けられ、それらに対応して、ウエハチャック５の上面には、ウエハ４を取り囲んで４つのウエハ用スケール２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄが固定されている。すなわち、図５の（ａ）に示すように、各ウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄのうち２つのウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂは、長手方向がＸ方向に平行で、しかも互いに鏡筒２の中心軸に対して反対側に取り付けられている。残りの２つのウエハ用ヘッドユニット２１ｃ、２１ｂは、長手方向がＹ方向に平行で、しかも互いに鏡筒２の中心軸に対して反対側に取り付けられる。また、図５の（ｂ）に示すように、
各ウエハ用スケール２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄは
１次元回折格子が形成された
【００３７】ここで、各ウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄについて、１つのウエハ用ヘッドユニット２１ａを例に挙げて説明する。図６は、ウエハ用ヘッドユニット２１ａを下方から見た斜視図であり、それに対応するウエハ用スケール２２ａとの関係も示している。図５に示すように
ウエハ用ヘッドユニット２１ａは、多数の要素ヘッド２１０を長手方向に並列に接合したもので、少なくとも２つの要素ヘッド２１０が常にウエハ用スケール２２ａに対向している
各要素ヘッド２１０は、それぞれ図１４に示した半導体レーザと同様の構成であり、また、要素ヘッド２１０による変位検出の原理についても図１４で説明したものと同様である
ウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂでウエハチャック５のＹ方向の移動量が検出され
ウエハ用ヘッドユニット２１ｃ、２１ｄでウエハチャック５のＸ方向の移動量が検出される
【００３８】図７は、ウエハ用ヘッドユニット２１ａを制御する制御部３０の構成図である。上述したようにウエハ用ヘッドユニット２１ａは複数の要素ヘッド２１０からなっており、各要素ヘッド２１０からの出力は、アレイ状リレースイッチ３１を介してヘッドコントローラ３２に入力される。ヘッドコントローラ３２は、どの要素ヘッド２１０が検出可能かを、ウエハ用スケール２２ａ（図５参照）の１次元回折格子に向けた光束の反射光の光量で判断し、少なくとも２個以上の要素ヘッド２１０から同時に出力を取り込むようリレースイッチコントローラ３３に指令を出す。リレースイッチコントローラ３３では、ヘッドコントローラ３２からの指令に基づきアクティブとなるべき要素ヘッド２１０の少なくとも２つ以上の要素ヘッド２１０のリレーを接続し、ヘッドコントローラ３２に方向も含めた２相の干渉信号を送る。
【００３９】以上の説明から明らかなように、各ウエハ用ヘッドユニット２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄと各ウエハ用スケール２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄと制御部３０とで、本発明にかかる変位検出装置が構成されている。」
　
（ｄ）
「【００４０】次に、本実施例の
露光装置
【００４１】‥‥‥
【００４２】次に、
原版３の回路パターンをウエハ４上に縮小投影し露光する
Ｘステージ７およびＹステージ６を一定量ステップ移動させてウエハ４上の露光領域を移動させ、再び前記の露光を繰り返す
　
（ｅ）
「【００４７】（第２実施例）図９は、本発明変位検出装置を露光装置に適用した第２実施例の概略斜視図であり、図１０は、図９に示した露光装置の各ウエハ用スケールの位置関係および各ウエハ用ヘッドユニットの位置関係を説明するための図である。
【００４８】本実施例では、
鏡筒５２の下端部に板部材が固定され、この板部材に４つのウエハ用スケール７２ａ、７２ｂ、７２ｃ、７２ｄが固定されている
ウエハチャック５５の上面には、ウエハ５４を取り囲んで４つのウエハ用ヘッドユニット７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、７１ｄが固定されている
各ウエハ用スケール７２ａ、７２ｂ、７２ｃ、７２ｄや各ウエハ用ヘッドユニット７１ａ、７１ｂ、７１ｃ、７１ｄの構成および配置は第１実施例と同様であり、また、露光装置のその他の構成についても第１実施例と同様である
　
　以下、第２実施例の露光装置に着目する。
・第２実施例の露光装置の構成は第１実施例と同様である（前記記載（ｅ））から、前記記載（ｂ）及び（ｅ）、並びに【図９】より、
ア　「光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系を含む、固定物体としての鏡筒５２」との技術的事項が読み取れる。
　
・前記記載（ｅ）及び【図９】より、
イ　「鏡筒５２の下端部に固定された板部材に固定されたウエハ用スケール」との技術的事項が読み取れる。
　
・前記記載（ｅ）及び【図９】より、
ウ　「ウエハチャック５５の上面に固定されたウエハ用ヘッドユニット」との技術的事項が読み取れる。
　
・第２実施例のウエハ用スケールやウエハ用ヘッドユニットの構成及び配置は第１実施例と同様である（前記記載（ｅ））から、前記記載（ａ）、（ｃ）及び（ｅ）、並びに【図１４】より、
エ　「ウエハ用ヘッドユニットは、多数の要素ヘッドを長手方向に並列に接合したもので、少なくとも２つの要素ヘッドが常に１次元回折格子が形成されたウエハ用スケールに対向しており、各要素ヘッドは、半導体レーザと、半導体レーザの活性層により発生した可干渉性光束を回折格子上の１点に偏向させる２つのミラーと、回折格子からの回折光を受光する検出手段とを有し、検出手段では回折格子の移動状態に応じた干渉縞の明暗の数（パルス）が検出される。」との技術的事項が読み取れる。
　
・前記記載（ｅ）及び【図９】より、
オ　「鏡筒５２の下端部に固定され、ウエハ用スケールを固定する板部材」との技術的事項が読み取れる。
　
・第２実施例のウエハ用ヘッドユニットの構成及び配置は第１実施例と同様である（前記記載（ｅ））から、前記記載（ｃ）及び（ｅ）より、
カ　「ウエハ用ヘッドユニットでウエハチャックの移動量が検出される」との技術的事項が読み取れる。
　
・第２実施例の露光装置の構成は第１実施例と同様である（前記記載（ｅ））から、前記記載（ｂ）及び（ｄ）、並びに【図９】より、
キ　「上面にウエハを保持するウエハチャック５５をＸ方向及びＹ方向に移動させるＸステージ及びＹステージを一定量ステップ移動させてウエハ上の露光領域を移動させ、原版の回路パターンをウエハ上に縮小投影し露光する露光装置」との技術的事項が読み取れる。
　
（２）引用発明
　以上の技術的事項アないしキを総合勘案すると、引用例１には次の発明が記載されているものと認められる。
「上面にウエハを保持するウエハチャック５５をＸ方向及びＹ方向に移動させるＸステージ及びＹステージを一定量ステップ移動させてウエハ上の露光領域を移動させ、原版の回路パターンをウエハ上に縮小投影し露光する露光装置であって、
　光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系を含む、固定物体としての鏡筒５２と、
　鏡筒５２の下端部に固定された板部材に固定されたウエハ用スケールと、
　ウエハチャック５５の上面に固定されたウエハ用ヘッドユニットと、
　鏡筒５２の下端部に固定され、ウエハ用スケールを固定する板部材と、
　を備え、
　ウエハ用ヘッドユニットは、多数の要素ヘッドを長手方向に並列に接合したもので、少なくとも２つの要素ヘッドが常に１次元回折格子が形成されたウエハ用スケールに対向しており、各要素ヘッドは、半導体レーザと、半導体レーザの活性層により発生した可干渉性光束を回折格子上の１点に偏向させる２つのミラーと、回折格子からの回折光を受光する検出手段とを有し、検出手段では回折格子の移動状態に応じた干渉縞の明暗の数（パルス）が検出され、
　ウエハ用ヘッドユニットでウエハチャックの移動量が検出される、露光装置」
（以下、「引用発明」という。）
　
２　引用例２
（１）記載事項
　当審拒絶理由で引用された特開平８−１７８６９４号公報（以下、「引用例２」という。）には、特に変位センサ用のスケール（発明の名称）に関し、次の事項（ａ）が図面とともに記載されている。なお、下線は強調のため当審が引いた。
　
（ａ）
「【００１５】本発明が実施された
光学スケール
目盛り部１０１は積層構造でベース基板３０２ａ上に積載された
石英は線膨張係数が小さい素材
ベース基板３０２ａは石英ガラスと線膨張係数が近い値のスーパーインバを使用しており
　
（２）引用例２記載の発明
　前記記載（ａ）より、引用例２には、「光学スケールにおいて、目盛り部を線膨張係数が小さいスーパーインバ上に積載する」という発明（以下、「引用例２記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　
第４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
１　引用発明における「ウエハ」は、本願発明における「基板」に相当する。また、引用発明における「ウエハチャック５５」は、「上面に」基板である「ウエハを保持する」から、本願発明における「基板が載置されるステージ」に相当する。さらに、引用発明における「ウエハチャック５５をＸ方向及びＹ方向に移動させるＸステージ及びＹステージ」は、本願発明における基板を移動する「ステージ装置」に相当する。
　
２　引用発明における「光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系」は、本願発明における「投影光学系」に相当する。
　
３　前記１及び２の相当関係を踏まえると、引用発明における「上面にウエハを保持するウエハチャック５５をＸ方向及びＹ方向に移動させるＸステージ及びＹステージを一定量ステップ移動させてウエハ上の露光領域を移動させ、原版の回路パターンをウエハ上に縮小投影し露光する露光装置」は、本願発明における「基板が載置されるステージを有するステージ装置により前記基板を投影光学系の下に移動し、前記基板に露光光を照射して前記基板に所定のパターンを形成する露光装置」に相当する。
　
４　引用発明において、「固定物体としての鏡筒５２」は、「光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系を含む」ところ、投影光学系である「光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系」は、「固定物体としての鏡筒５２」内で宙に浮いているわけではないから、「固定物体としての鏡筒５２」に支持されているといえる。そうすると、引用発明における「光源からの光が原版を通過することにより得られる回路パターンの光学像をウエハに縮小して投影する縮小光学系を含む、固定物体としての鏡筒５２」は、本願発明における「前記投影光学系を支持する所定部材」に相当する。
　
５　引用発明において、「ウエハ用スケール」は、「鏡筒５２の下端部に固定された板部材」を介して「鏡筒５２」に設けられているといえるから、引用発明における「鏡筒５２の下端部に固定された板部材に固定されたウエハ用スケール」は、本願発明における「前記所定部材に設けられたスケール」に相当する。
　
６　引用発明において、「ウエハ用ヘッドユニット」は、ステージである「ウエハチャック５５の上面に固定され」ており、「多数」、すなわち複数の「要素ヘッド」を有する。また、「要素ヘッド」は、半導体レーザの活性層により発生した可干渉性光束」を「ウエハ用スケール」の「回折格子上の１点」に照射し、「回折格子からの回折光を受光する検出手段」で回折格子の移動状態に応じた干渉縞の明暗の数（パルス）が検出されるものであるから、ウエハ用スケールに検出のための光を照射して回折格子の移動状態に関する情報を検出するものであるといえる。「回折格子の移動状態」は、要素ヘッドに対する相対的なものであり、また、引用発明においては、「回折格子が形成されたウエハ用スケール」は、固定物体としての鏡筒５２に設けられているから、「回折格子の移動状態」は、「多数の要素ヘッド」を有する「ウエハ用ヘッドユニット」が固定されたステージである「ウエハチャック５５」の移動状態のことであるといえる。そして、移動により位置が変化するから、「ウエハチャック５５」の移動状態は、「ウエハチャック５５」の位置に関する情報であるといえる。そうすると、引用発明の「ウエハチャック５５の上面に固定されたウエハ用ヘッドユニットと、‥‥‥ウエハ用ヘッドユニットは、多数の要素ヘッドを長手方向に並列に接合したもので、少なくとも２つの要素ヘッドが常に１次元回折格子が形成されたウエハ用スケールに対向しており、各要素ヘッドは、半導体レーザと、半導体レーザの活性層により発生した可干渉性光束を回折格子上の１点に偏向させる２つのミラーと、回折格子からの回折光を受光する検出手段とを有し、検出手段では回折格子の移動状態に応じた干渉縞の明暗の数（パルス）が検出され」との事項における「多数」、すなわち複数の「要素ヘッド」を有する「ウエハ用ヘッドユニット」は、本願発明における「前記ステージに設けられ、前記スケールに検出光を照射して前記ステージの位置に関する情報を検出する複数の検出器」に相当する。
　
７　引用発明における「板部材」は、「ウエハ用スケールを固定」し、支持するものであるといえるから、引用発明における「鏡筒５２の下端部に固定され、ウエハ用スケールを固定する板部材」も、本願発明における「前記所定部材に設けられた前記スケールを支持するとともに、線膨張率が前記ステージよりも小さい支持部材」も、共に、「前記所定部材に設けられた前記スケールを支持する支持部材」である点で共通する。
　
８　「移動量」は変位に関する情報であるといえ、また、引用発明において、「多数」、すなわち複数の「要素ヘッド」を有する「ウエハ用ヘッドユニット」で「移動量」を検出するためには、「要素ヘッド」の「検出手段」の検出結果から移動量を求める装置が必要であるから、引用発明における「ウエハ用ヘッドユニットでウエハチャックの移動量が検出される」ことも、本願発明における「前記複数の検出器の検出結果から、前記ステージの変位情報を求める制御装置」を備えることも、共に、「前記複数の検出器の検出結果から、前記ステージの変位情報を求める装置」を備える点で共通する。
　
９　以上の関係を整理すると、両者の一致点、相違点は、以下のとおりである。
（一致点）
「基板が載置されるステージを有するステージ装置により前記基板を投影光学系の下に移動し、前記基板に露光光を照射して前記基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、
　前記投影光学系を支持する所定部材と、
　前記所定部材に設けられたスケールと、
　前記ステージに設けられ、前記スケールに検出光を照射して前記ステージの位置に関する情報を検出する複数の検出器と、
　前記所定部材に設けられた前記スケールを支持する支持部材と、
　前記複数の検出器の検出結果から、前記ステージの変位情報を求める装置と、
を備える露光装置。」
　
（相違点１）
　本願発明では、支持部材が、「線膨張率が前記ステージよりも小さい支持部材」であるのに対し、引用発明では、板部材の線膨張率がウエハチャックよりも小さいのかが明らかでない点。
　
（相違点２）
　本願発明では、ステージの変位情報を求めるのが「制御装置」であるのに対し、引用発明では、ウエハチャックの移動量を検出する装置が制御装置であるのかが明らかでない点。
　
　
第５　当審の判断
　前記相違点について、検討する。
　
１　相違点１について
（１）引用例２記載の発明
　引用例２には、「光学スケールにおいて、目盛り部を線膨張係数が小さいスーパーインバ上に積載する」という発明が記載されている（前記「第３　引用例」「２　引用例２」「（２）引用例２記載の発明」参照。）。
（２）精密な機器においては、温度変化による影響を小さくするため、線膨張率（係数）が小さい素材を用いることは、広く一般に行われていることである。そして、引用発明に引用例２記載の発明を適用し、ウエハ用スケールを支持・固定する板部材を線膨張率が小さいスーパーインバのようなものとすることは、引用発明の露光装置も精密な機器であるといえるし、また、引用発明及び引用例２記載の発明がいずれも変位を検出するための光学スケールに関する点で共通するから、当業者であれば容易になし得ることである。また、ウエハ用スケールを支持・固定する板部材の線膨張率とステージであるウエハチャックの線膨張率の関係は、等しい値でなければいずれかが大きいの２通りしかないし、ウエハ用スケールを支持・固定する板部材とステージであるウエハチャックの変位は相対的であるから、ウエハ用スケールを支持・固定する板部材の線膨張率をステージであるウエハチャックの線膨張率よりも小さくするようにすることは、加工や製作のしやすさ等を考慮した上で当業者が適宜なすべき事項であって、当業者であれば容易になし得ることである。
　
２　相違点２について
　引用発明の露光装置がウエハチャックの移動量を検出するのは、露光時にウエハチャックの移動を一定量に制御するためでもあると認められるから、引用発明において、ウエハチャックの移動を制御する装置をウエハチャックの移動量を検出する装置に設けるようにして、相違点２に係る本願発明の構成とすることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
３　本願発明の奏する作用効果は、引用発明及び引用例２記載の発明から当業者が予測可能なものであって、格別なものではない。
　
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願の他の請求項に係る発明について審理するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。