【事件の表示】
　平成　５年特許願第１４３７５９号「抵抗薄膜」において、平成１３年１２月７日付けでした手続補正に対してされた補正の却下の決定に対する審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原決定を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成５年６月１５日（パリ条約による優先権主張１９９２年６月１６日、ドイツ国）の出願であって、平成１３年１２月７日付けで手続補正がなされたところ、原審において、この手続補正について平成１４年２月４日（起案日）に補正の却下の決定がなされたものである。
　
　
２．原決定の理由の概要
　上記補正の却下の決定（以下、「原決定」という。）の理由の概要は、次のとおりである。
　
　「上記手続補正書によって補正された段落００１８の「金原子含有率は０．０５（５原子％）」、段落００１９の「白金原子含有率は０．０９（９原子％）」、段落００２０の「白金原子含有率は０．３３（３３原子％）あり、ケイ素原子含有率は０．１２（１２原子％）であり、炭化水素原子含有率は０．５５（５５原子％）」という事項は、願書に最初に添付した明細書に記載されておらず、かつ、同明細書からみて自明のこととも認められないので、この補正により発明の構成に関する技術的事項が変更されたものと認める。
　したがって、この補正は、明細書の要旨を変更するものと認められ、特許法第５３条第１項の規定により、」却下すべきものである。
　
　
３．当審の判断
　そこで検討すると、願書に最初に添付した明細書には、特許請求の範囲の【請求項１】に「炭素および金属を含有する抵抗薄膜において、前記抵抗薄膜は４０〜９５原子％の炭素、４〜６０原子％の１種または２種以上の金属、および１〜３０原子％の水素を含有することを特徴とする抵抗薄膜。」が記載されており、また、段落【００１８】〜【００２０】には、「【００１８】【実施例】次に、本発明を実施例について一層詳細に説明する。
実施例１．Ａｕ−Ｃ：Ｈ
　金ターゲット（１５ｃｍ）を有する平行板ＲＦスパッタ装置（１３．５６ＭＨｚ，８００Ｗ，１．５ＫＶ　ＤＣ−バイアス）において、アルゴン（４６ｓｃｃｍ）およびエチレン（３ｓｃｃｍ）からなるガス雰囲気中で０．０３ミリバールの圧力下に、プラズマを発生させた。なお、ｓｃｃｍはｓｔａｎｄａｒｄ　ｃｕｂｉｃ　ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ　ｐｅｒ　ｍｉｎｕｔｅを意味し、標準状態下におけるｃｍ３／分に等しい。ターゲットから６ｃｍの距離に配置した石英基板上に厚さ１．５μｍのＡｕ−Ｃ：Ｈが１７分で堆積した。元素分析（電子ビーム・マイクロプローブ（ｍｉｃｒｏｐｒｏｂｅ））から、金原子含有量は０．０５原子％であり、全水素原子含有量は３０原子％未満であることが分かった。生成した薄膜の電気的特性に関しては、固有抵抗は２５００μΩｃｍであり、ＴＣは常温において４５ｐｐｍ／Ｋであった。」こと、
「【００１９】実施例２．Ｐｔ−Ｃ：Ｈ
　ＲＦスパッタによりＰｔ−Ｃ：Ｈ薄膜を製造した。ターゲットと基板との間の距離は５．５ｃｍであり、全圧は０．０２０ミリバールであった。気相のアセチレン含有量は２％であった（残部：アルゴン）。ターゲット電圧は１．５ｋＶ、基板バイアスは＋２０Ｖであった。
　このようにして、セラミック基板上に厚さ０．５μｍの薄膜が３０分で形成した。元素分析の結果、白金原子含有量は０．０９原子％であり、全水素含有量は３０原子％未満であった。調質処理（空気中３００℃で１時間）後における電気特性に関しては、固有抵抗は１９，０００μΩＣｍであり、ＴＣは常温で４０ｐｐｍ／Ｋであった。」こと、
「【００２０】実施例３．Ｐｔ−Ｓｉ−Ｃ：Ｈ
　テトラメチルシラン（ＴＭＳ）を使用して反応ＲＦスパッタにより、Ｐｔ−Ｓｉ−Ｃ：Ｈ薄膜を製造した。ターゲットと基板との間の距離は５．５ｃｍであり、ターゲット電圧は２．０ｋＶであった。０．０１ミリバールの圧力において、ＴＭＳ分圧は０．００１ミリバール（残部：アルゴン）であった。コーティング処理を１時間行って厚さ２μｍの薄膜を製造した。元素分析の結果、白金原子含有量は０．３３原子％であり、ケイ素原子含有量は０．１２原子％であり、炭化水素原子含有量は０．５５原子％であることが分かった。全水素含有量は３０原子％未満であった。調質処理（空気中３００℃で８時間）後の電気的特性に関しては、固有抵抗は６３，０００μΩｃｍであり、ＴＣは常温において−４６ｐｐｍ／Ｋであった。」ことが記載されている。
　
（１）段落【００２０】の補正について
　願書に最初に添付した明細書の、上記【請求項１】の「抵抗薄膜は４０〜９５原子％の炭素、４〜６０原子％の１種または２種以上の金属、および１〜３０原子％の水素を含有すること」という記載によれば、抵抗薄膜が含有する炭素は４０〜９５原子％、１種または２種以上の金属は４〜６０原子％、水素は１〜３０原子％であり、この抵抗薄膜は、通常、炭素と１種または２種以上の金属と水素とで、ほぼ１００原子％となるはずである。
　すなわち、願書に最初に添付した明細書の、上記段落【００２０】の実施例３においては、表題が「Ｐｔ−Ｓｉ−Ｃ：Ｈ」であり、薄膜の原料は、白金及びトリメチルシラン（ＴＭＳ）のみであるので、薄膜は、Ｐｔ原子、Ｓｉ原子、Ｃ原子、Ｈ原子の４元素のみで構成されるのは当業者にとって明らかであり、これら４元素でほぼ１００原子％となるはずである。
　ところが、この実施例３の「白金原子含有量は０．３３原子％であり、ケイ素原子含有量は０．１２原子％であり、炭化水素原子含有量は０．５５原子％」という記載は、各含有量を合計すると１原子％となり、本来考えられる１００原子％と比較して、極めて不自然であり、誤記と認められる。
　これに対し、補正後の記載、即ち「白金原子含有率は０．３３（３３原子％）であり、ケイ素原子含有率は０．１２（１２原子％）であり、炭化水素原子含有率は０．５５（５５原子％）であることがわかった。」であれば、合計の含有率が１、原子％（パーセント表示）が１００％になるので極めて自然である。
　すなわち、含有率表示と原子％表示（パーセント表示）の間には二桁の違いがあるため、各原子の比率を示すために含有率で表記するところ、誤記により原子％表示（パーセント表示）としたために、実施例３では「白金原子含有量は０．３３原子％であり、ケイ素原子含有量は０．１２原子％であり、炭化水素原子含有量は０．５５原子％」という記載となり、この記載は誤記であるから、補正により「白金原子含有率は０．３３（３３原子％）であり、ケイ素原子含有率は０．１２（１２原子％）であり、炭化水素原子含有率は０．５５（５５原子％）」とすることが相当であり、当業者にとっては、明細書全体の記載から自明のことと認められる。
　したがって、この補正は願書に最初に添付した明細書の要旨を変更するものではない。
　
（２）段落【００１８】の補正について
　段落【００１８】についての補正は、願書に最初に添付した明細書の実施例１の記載「金原子含有量は０．０５原子％」を、「金原子含有率は０．０５（５原子％）」と補正している。
　この補正も、上記段落【００２０】の補正と同様な誤記を補正するためのものであり、当業者にとっては、明細書全体の記載から自明のことと認められる。
　したがって、この補正も願書に最初に添付した明細書の要旨を変更するものではない。
　
（３）段落【００１９】の補正について
　段落【００１９】についての補正は、願書に最初に添付した明細書の実施例２の記載「白金原子含有量は０．０９原子％」を、「白金原子含有率は０．０９（９原子％）」と補正している。
　この補正も、上記段落【００２０】の補正と同様な誤記を補正するためのものであり、当業者にとっては、明細書全体の記載から自明のことと認められる。
　したがって、この補正も願書に最初に添付した明細書の要旨を変更するものではない。
　
　以上検討したように、上記手続補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載されている事項に基づいており、また、同明細書及び図面の記載からみて自明のことと認められるから、明細書の要旨を変更するものではない。
　
　
４．むすび
　よって、上記手続補正を却下すべきものとした原決定は失当である。
　よって、結論のとおり審決する。