(57)【要約】      （修正有）【課題】オレフィン重合用触媒を提供すること。【解決手段】式（１）2007238891.tif 000011（Ｍは第４族の遷移金属原子、Ａは第１４族元素、Ｒ１〜Ｒ４は水素、ハロゲン、アルキル基、アリール基、アラルキル基等を表し、Ｒ５〜Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２は水素、ハロゲン、アルキル基等を表し、ｎは３〜７を表す。）で示される遷移金属錯体を含有するオレフィン重合用触媒成分。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2007238891.tif 000010
（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａは元素の周期律表の第１４族元素を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたホスフィノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたチオ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２は同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基を表し、
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及び炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の隣接する基は、それぞれ任意に結合して環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の隣接する基はそれぞれ任意に結合して環を形成していてもよく、Ｒ９及びＲ１０は結合して環を形成していてもよく、ｎは３〜７の整数を表す。）
で示される遷移金属錯体を含有することを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。
【請求項２】
ｎが４又は５である請求項１に記載のオレフィン重合用触媒成分。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のオレフィン重合用触媒成分と、下記化合物（Ａ）及び／又は下記化合物（Ｂ）とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒。
化合物（Ａ）：下記（Ａ１）〜（Ａ３）からなる群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）一般式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）一般式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）一般式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）一般式  （Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）
【請求項４】
請求項３に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載のオレフィン重合用触媒の存在下、エチレンとα−オレフィンとを共重合させることを特徴とするエチレン−α−オレフィン共重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高活性なオレフィン重合用触媒に関する。
【背景技術】
【０００２】
シクロペンタジエンとフェノールが第１４族の原子で結合した化合物を有する第４族の遷移金属錯体は高活性なオレフィン重合用触媒成分であることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。工業的な観点からより高活性なオレフィン重合用触媒の開発が望まれている。
【特許文献１】特開平９−８７３１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、高活性なオレフィン重合用触媒を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した結果、シクロペンタジエンとフェノールが第１４族の原子で結合した化合物を有する第４族の遷移金属錯体において、第１４族原子の置換基を環状構造で束縛することにより、より高活性なオレフィン重合用触媒となることを見出し、本発明に至った。
すなわち本発明は、式（１）
2007238891.tif 000002
（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａは元素の周期律表の第１４族元素を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたホスフィノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたチオ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２は同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基を表し、
ここで、Ｒ１〜Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及び炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の隣接する基は、それぞれ任意に結合して環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８の隣接する基はそれぞれ任意に結合して環を形成していてもよく、Ｒ９及びＲ１０は結合して環を形成していてもよく、ｎは３〜７の整数を表す。）
で示される遷移金属錯体を含有するオレフィン重合用触媒成分；
該オレフィン重合用触媒成分と、下記化合物（Ａ）及び／又は下記化合物（Ｂ）とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒、
化合物（Ａ）：下記（Ａ１）〜（Ａ３）からなる群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）一般式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）一般式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）一般式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）一般式  （Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）；
及び、該オレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合させるオレフィン重合体の製造方法、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明により得られる重合用触媒は、オレフィンの重合反応の触媒として高い活性を示し、工業的に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、本発明について詳細に説明する。
【０００７】
式（１）で示される遷移金属錯体（以下、遷移金属錯体（１）と略す。）において式（２）
2007238891.tif 000003
（式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）
で示されるシクロペンタジエニル型アニオン骨格を有する基としては、例えばシクロぺンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、テトラヒドロインデニル基、オクタヒドロフルオレニル基、フェニルシクロぺンタジエニル基、ナフチルシクロぺンタジエニル基、トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、トリフェニルシリルシクロぺンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基などの置換もしくは無置換のシクロペンタジエニル基、
インデニル基、メチルインデニル基、ジメチルインデニル基、エチルインデニル基、ｎ−プロピルインデニル基、イソプロピルインデニル基、ｎ−ブチルインデニル基、ｓｅｃ−ブチルインデニル基、ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、ｎ−ペンチルインデニル基、ネオペンチルインデニル基、ｎ−ヘキシルインデニル基、ｎ−オクチルインデニル基、ｎ−デシルインデニル基、フェニルインデニル基、メチルフェニルインデニル基、ナフチルインデニル基、などの置換もしくは無置換のインデニル基、
フルオレニル基、２−メチルフルオレニル基、２，７−ジメチルフルオレニル基、２−エチルフルオレニル基、２，７−ジエチルフルオレニル基、２−ｎ−プロピルフルオレニル基、２，７−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、２−イソプロピルフルオレニル基、２，７−ジイソプロピルフルオレニル基、２−ｎ−ブチルフルオレニル基、２−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、２−ｎ−ペンチルフルオレニル基、２−ネオペンチルフルオレニル基、２−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、２−ｎ−オクチルフルオレニル基、２−ｎ−デシルフルオレニル基、２−ｎ−ドデシルフルオレニル基、２−フェニルフルオレニル基、２，７−ジ−フェニルフルオレニル基、２−メチルフェニルフルオレニル基、２−ナフチルフルオレニル基などの置換もしくは無置換のフルオレニル基が挙げられ、
好ましくはシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基、２，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、３，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基などが挙げられる。
【０００８】
遷移金属錯体（１）においてＡで示される元素の周期律表の第１４族元素としては、例えば、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが例示され、好ましくは炭素原子、ケイ素原子が例示される。
【０００９】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され、好ましくは塩素原子が挙げられる。
【００１０】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数１〜２０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、及びｎ−エイコシル基が例示され、好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、ハロゲン置換の炭素原子数１〜２０のアルキル基の具体例としては、これらのアルキル基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１１】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２おいて、炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが例示され、好ましはフェニル基が挙げられる。  
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、ハロゲン置換の炭素原子数６〜２０のアリール基の具体例としては、これらのアリール基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１２】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(４，６−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メチル基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが例示され、好ましくはベンジル基が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２においてハロゲン置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基の具体例としてはこれらのアラルキル基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１３】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭化水素基で置換されたシリル基の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが例示される。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の一置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された二置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された三置換シリル基などが例示され、好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。
これらの置換シリル基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかにフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が例示される。
【００１４】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが例示され、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｘ１及びＸ２においてハロゲン置換の炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の具体例としては、これらのアルコキシ基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１５】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などの炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基などが例示される。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２においてハロゲン置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の具体例としては、上記炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１６】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の具体例としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが例示され、好ましくはベンジルオキシ基が挙げられる。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２においてハロゲン置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の具体例としては、これらのアラルキルオキシ基がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されたものが例示される。
【００１７】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４における炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリルオキシ基とは、３つの炭化水素基で置換されたシリルオキシ基であって、ここで炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの前記と同様の炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが例示され、これらの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリルオキシ基としては、例えば、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリ−ｎ−ブチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基、メチルジフェニルシリルオキシ基などが例示され、好ましくはトリメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基が挙げられる。
これらの置換シリルオキシ基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかにフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が例示される。
【００１８】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ１及びＸ２において、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基とは、２つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが例示され、これらの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基などが例示され、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基等が挙げられる。
これらの置換アミノ基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかにフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が例示される。
【００１９】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４において、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたホスフィノ基とは、２つの炭化水素基で置換されたホスフィノ基であって、ここで炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ｎ−エイコシル基などの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが例示され、これらの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたホスフィノ基の具体例としては、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ基、ジ−ｎ−プロピルホスフィノ基、ジイソプロピルホスフィノ基、ジ−ｎ−ブチルホスフィノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルホスフィノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ基、ジ−イソブチルホスフィノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルホスフィノ基、ジ−ｎ−ヘキシルホスフィノ基、ジ−ｎ−オクチルホスフィノ基、ジ−ｎ−デシルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、ビストリメチルシリルホスフィノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルホスフィノ基などが例示され、好ましくはジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基が挙げられる。
これらの置換ホスフィノ基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかにフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が例示される。
【００２０】
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４において、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたチオ基における炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜２０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などが例示され、これらの置換基は互いに結合して環あるいはチオフェンを形成していてもよい。かかる炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたチオ基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｎ−デシルチオ基、フェニルチオ基などが例示される。
これらの置換チオ基を構成する炭化水素基としては、上記のような炭化水素基のほかにフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換された炭化水素基が例示される。
【００２１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの置換基、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８のうち隣接する２つの置換基並びにＲ９及びＲ１０の隣接する２つの置換基は、任意に結合して環を形成していてもよい。
【００２２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち隣接する２つの置換基が結合して形成される環としては、例えば、飽和の、又は不飽和の炭化水素環、チオフェン環、チアゾ−ル環、チアゾリン環、チアジアゾ−ル環、ピリジン環などのヘテロ環が例示される。
【００２３】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０のうち隣接する２つの置換基が結合して形成される環としては、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換された、飽和もしくは不飽和の炭化水素環などが例示される。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などが例示される。
【００２４】
本発明の遷移金属錯体（１）におけるｎは、第１４族原子の置換基で形成される環構造の大きさを表し、３〜７の整数を表す。好ましくは４又は５である。
【００２５】
本発明の遷移金属錯体（１）としては、例えば、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（２−ナフトキシ）］チタニウム、
【００２６】
ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−ナフトキシ）］チタニウム、
【００２７】
ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（インデニル）（２−ナフトキシ）］チタニウム、
【００２８】
ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３，４−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ジメチルアミノ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム、ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（フルオレニル）（２−ナフトキシ）］チタニウム、
【００２９】
などが挙げられ、シクロヘキシ−１−イリデンをシクロペント−１−イリデン、シクロヘプト−１−イリデン、シクロオクト−１−イリデン、シクロブト−１−イリデン、シラシクロヘキシ−１−イリデン、シラシクロペント−１−イリデン、シラシクロヘプト−１−イリデン、シラシクロオクト−１−イリデン、シラシクロブト−１−イリデンとしたもの、チタニウムをジルコニウム、ハフニウムとしたもの、ジクロロをジフルオロ、ジブロモ、ジヨードとしたものも同様に例示される。
【００３０】
遷移金属錯体（１）は、例えば、特開平９−８７３１３号公報において開示されている方法、あるいは特願２００５−１９８５１０号において記載されている方法により製造することができる。より具体的には、式（３）
2007238891.tif 000004
（式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は前記と同じ意味を表し、Ｒ９は炭化水素基又は三置換シリル基を表す）
で示される置換シクロペンタジエン化合物及び塩基を反応させた後、式（４）
2007238891.tif 000005
（式中、Ｘ１及びＸ２は前記と同じ意味を表し、Ｘ３及びＸ４は同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基で置換されたアミノ基を表し、
ここで、Ｘ３及びＸ４において、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及び炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい）
で示される遷移金属化合物を反応させる方法、あるいは、式（３）で示される置換シクロペンタジエン化合物及び塩基を反応させた後、ハロゲン化シリル化合物を反応させた後、式（４）で示される遷移金属化合物を反応させる方法により、製造することができる。
【００３１】
置換基Ｒ１１における炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、ホモアリル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基などの炭素原子数２〜１０のアルケニル基；ベンジル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基などの炭素原子数７〜１２のアラルキル基；メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基などのアルコキシアルキル基などが挙げられる。これらの炭化水素基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよく、例えば、２−クロロ−２−プロペニル基などが挙げられる。
【００３２】
置換基Ｒ１１における３置換シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
【００３３】
かかる置換基Ｒ１１としては、収率よく遷移金属錯体（１）を製造し得る観点から、好ましくはアルケニル基又はアルキル基であり、さらに好ましくはアリル基又はメチル基である。
【００３４】
〔オレフィン重合用触媒〕
本発明のオレフィン重合用触媒は、遷移金属錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分とするオレフィン重合用触媒であり、遷移金属錯体（１）と他の共触媒成分とを接触させて得られる。該オレフィン重合用触媒としては、遷移金属錯体（１）と下記化合物（Ａ）及び／又は下記化合物（Ｂ）とを接触させて得られるオレフィン重合用触媒があげられる。
化合物（Ａ）：下記（Ａ１）〜（Ａ３）からなる群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）一般式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）一般式Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、ａは０＜ａ≦３を満足する数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１、Ｅ２及びＥ３は夫々炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、複数のＥ１、複数のＥ２及び複数のＥ３はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚが複数ある場合、複数のＺは互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）からなる群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）一般式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（Ｂ３）一般式  （Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は二置換アミノ基を表し、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンを表し、Ｌ１は中性ルイス塩基を表す。）
【００３５】
（Ａ１）一般式Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで表される有機アルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等があげられる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム又はトリイソブチルアルミニウムである。
【００３６】
（Ａ２）一般式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）一般式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【００３７】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に限定はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン又は脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法などがあげられる。
【００３８】
（Ｂ１）一般式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子である。Ｑ１〜Ｑ３は、好ましくは、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の置換シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜２０の２置換アミノ基であり、より好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又は炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。
【００３９】
（Ｂ１）一般式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等があげられ、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。
【００４０】
（Ｂ２）一般式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００４１】
（Ｂ２）一般式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、無機のカチオンであるＧ＋には、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるＧ＋には、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどがあげられる。また、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４-トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどがあげられる。
【００４２】
（Ｂ２）一般式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物としては、例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどをあげることができ、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００４３】
（Ｂ３）一般式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、Ｌ１は中性ルイス塩基であり、（Ｌ１−Ｈ）＋はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｂ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００４４】
（Ｂ３）一般式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物において、（Ｌ１−Ｈ）＋には、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどがあげられ、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−には、前述と同様のものがあげられる。
【００４５】
（Ｂ３）一般式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどをあげることができ、好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００４６】
化合物（Ｂ）としては、通常、（Ｂ１）一般式ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物、（Ｂ２）一般式Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物又は（Ｂ３）一般式（Ｌ１−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物のいずれかを用いる。
【００４７】
オレフィン重合用触媒の製造での各触媒成分を接触させる方法においては、任意の２つの触媒成分を予め接触させて、その後もう一つの触媒成分を接触させてもよい。また、各触媒成分は重合反応装置中で接触させてもよく、各触媒成分を重合反応装置中に任意の順序で別々に投入してもよく、任意の２つ以上の触媒成分を予め接触させたものを投入してもよい。
なかでも、遷移金属錯体（１）と（Ａ１）有機アルミニウム化合物とを予め接触させることが好ましく、モノマーの不存在下で、遷移金属錯体（１）と（Ａ１）有機アルミニウム化合物とを予め接触させることがより好ましい。
【００４８】
各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体（１）のモル比は、通常０．１〜１００００、好ましくは５〜２０００である。化合物（Ａ）として（Ａ１）有機アルミニウム化合物を用いる場合、化合物（Ａ１）／遷移金属錯体（１）のモル比は、より好ましくは０．３〜５００、さらに好ましくは０．５〜１００である。また、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１）のモル比は、通常０．０１〜１００、好ましくは０．５〜１０である。
【００４９】
各触媒成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属錯体（１）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットル、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルであり、化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１〜５００ミリモル／リットル、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットルであり、化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットル、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。
【００５０】
〔オレフィン重合体の製造方法〕
本発明のオレフィン重合体の製造方法は、遷移金属錯体（１）をオレフィン重合用触媒成分とするオレフィン重合用触媒の存在下、オレフィンを重合するものである。
【００５１】
重合に使用するオレフィンとしては、鎖状オレフィン、環状オレフィン等を用いることができ、１種類のオレフィンを用いて単独重合を行ってもよく、２種類以上のオレフィンを用いて共重合を行ってもよい。通常、該オレフィンとしては、炭素原子数２〜２０のオレフィンが用いられる。
【００５２】
鎖状オレフィンとしては、エチレン；プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、３，３−ジメチル−１−ブテン、５−メチル−１−ヘキセン、３，３−ジメチル−１−ペンテンなどの炭素原子数３〜２０のα−オレフィン；１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘプタジエン、１，６−ヘプタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、１，７−ノナジエン、１，８−ノナジエン、１，８−デカジエン、１，９−デカジエン、１，１２−テトラデカジエン、１，１３−テトラデカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、３−メチル−１，４−ヘキサジエン、３−メチル−１，５−ヘキサジエン、３−エチル−１，４−ヘキサジエン、３−エチル−１，５−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，４−ヘキサジエン、３，３−ジメチル−１，５−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの共役ジエンなどを挙げることができる。
【００５３】
環状オレフィンとしては、脂環族化合物として、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロヘプタン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、８−メチルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデセンなどのモノオレフィン；５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、７−メチル−２，５−ノルボルナジエン、７−エチル−２，５−ノルボルナジエン、７−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、７−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ペンチル−２，５−ノルボルナジエン、７−ヘキシル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジメチル−２，５−ノルボルナジエン、７，７−メチルエチル−２，５−ノルボルナジエン、７−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、７−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、７−フルオロ−２，５−ノルボルナジエン、７，７−ジクロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−メチル−２，５−ノルボルナジエン、１−エチル−２，５−ノルボルナジエン、１−プロピル−２，５−ノルボルナジエン、１−ブチル−２，５−ノルボルナジエン、１−クロロ−２，５−ノルボルナジエン、１−ブロモ−２，５−ノルボルナジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン、ビニルシクロヘキセンなどの非共役ジエン；１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエンなどの共役ジエンなどをあげることができる。また、芳香族化合物として、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどを挙げることができる。
【００５４】
オレフィンの共重合を行う場合のオレフィンの組み合わせとしては、例えば、エチレン／プロピレン、エチレン／１−ブテン、エチレン／１−ヘキセン、エチレン／プロピレン／１−ブテン、エチレン／プロピレン／１−ヘキセン、プロピレン／１−ブテン、プロピレン／１−ヘキセンなどの鎖状オレフィン／鎖状オレフィンの組み合わせ；エチレン／ビニルシクロヘキサン、エチレン／ノルボルネン、エチレン／テトラシクロドデセン、エチレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、プロピレン／ビニルシクロヘキサン、プロピレン／ノルボルネン、プロピレン／テトラシクロドデセン、プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネン、エチレン／プロピレン／５−エチリデン−２−ノルボルネンなどの鎖状オレフィン／環状オレフィンの組み合わせなどをあげることができる。
【００５５】
重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族炭化水素（ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン等）又はハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド等）を溶媒として用いる溶媒重合又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、連続式重合又は回分式重合のどちらでも可能である。
【００５６】
重合温度は、−５０℃〜３００℃の範囲を取り得るが、特に、−２０℃〜２５０℃の範囲が好ましい。重合圧力は、常圧〜９０ＭＰａが好ましい。重合時間は、一般的に、目的とする重合体の種類、反応装置によって適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。また、本発明は重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明を実験例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実験例に限定されるものではない。
【００５８】
＜錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）
装置：日本電子社製  ＥＸ２７０、又は、Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＤＰＸ−３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：１０ｍｇ／０．５ｍＬ（ＣＤＣｌ３）
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＭＥＮＵＦ  ＮＯＮ、ＯＢＮＵＣ  1Ｈ、積算回数１６回
パルス角度：４５度
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ  ３秒、ＰＤ  ４秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ｐｐｍ）
【００５９】
（２）質量スペクトル
［電子イオン化質量分析（ＥＩ−ＭＳ）］
装置：日本電子社製  ＪＭＳ−ＡＸ５０５Ｗ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
データ処理装置：ＭＳ−ＭＰ８０２０Ｄ
ＭＡＳＳ  ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ  ３５−１０００
【００６０】
［参考例１］
「ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、錯体１と記す。）の合成」
１−（シクロペンタジエニル）−１−（２−メトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）シクロヘキサンを用いて、特願２００５−１９８５１０号に記載の方法と同様に合成を行い、錯体１を得た。
窒素雰囲気下、１−（シクロペンタジエニル）−１−（２−メトキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）シクロヘキサン（１．９０ｇ、５．８６ｍｍｏｌ）をトルエン（６０ｍＬ）に溶解させ、これを０℃に冷却した。この溶液にｎ−ブチルリチウムの１．５８Ｍヘキサン溶液（４．４５ｍＬ、７．０３ｍｍｏｌ）を滴下し、５０℃で１時間攪拌した。クロロトリメチルシラン（０．７６ｇ、７．０３ｍｍｏｌ）を滴下して、５０℃で１時間攪拌した。反応混合物を０℃に冷却した後、四塩化チタン（１．３３ｇ、７．０３ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下して、室温まで昇温した。その後９０℃で２時間加熱した後、室温に冷却して、反応混合物をセライト濾過し、得られた濾液を濃縮した。ヘキサンから再結晶することにより錯体１をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ））：１．４２（ｓ，９Ｈ）、１．４７−１．６７（ｍ、６Ｈ）、２．００−２．１２（ｍ、４Ｈ）、２．３８（ｓ、３Ｈ）、６．１９−６．２１（ｍ、２Ｈ）、６．９６−７．０２（ｍ、３Ｈ）、７．３４（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４２６（Ｍ＋）、４１１、３７５
【００６１】
［参考例２］
「ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、錯体２と記す。）の合成」
１−（シクロペンタジエニル）−１−（２−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）シクロヘキサンを用いて、参考例１に記載の方法と同様に合成を行い、錯体２を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ））：１．５９−１．７１（ｍ、６Ｈ）、１．９３−２．０５（ｍ、２Ｈ）、２．０６−２．１９（ｍ、２Ｈ）、２．２３（ｓ、３Ｈ）、２．３５（ｓ、３Ｈ）、６．１５−６．１７（ｍ、２Ｈ）、６．８５（ｓ、１Ｈ）、６．９４−６．９６（ｍ、２Ｈ）、７．２７（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３８４（Ｍ＋）、３４９、３０５
【００６２】
［参考例３］
「ジクロロ［シクロヘキシ−１−イリデン（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、錯体３と記す。）の合成」
１−（シクロペンタジエニル）−１−（２−メトキシ−５−メチル−３−フェニルフェニル）シクロヘキサンを用いて、参考例１に記載の方法と同様に合成を行い、錯体３を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ））：１．５０−１．７５（ｍ、６Ｈ）、１．９５−２．０９（ｍ、２Ｈ）、２．１０−２．２０（ｍ、２Ｈ）、２．４３（ｓ、３Ｈ）、６．２２−６．２４（ｍ、２Ｈ）、６．９６−６．９８（ｍ、２Ｈ）、７．０６（ｓ、１Ｈ）、７．２２−７．５０（ｍ、７Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４４６（Ｍ＋）、３６７
【００６３】
［参考例４］
「ジクロロ［シラシクロペント−１−イリデン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、錯体４と記す。）の合成」
１−（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）−１−（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）シラシクロペンタンを用いて、特開平９−８７３１３号公報に記載の方法と同様に合成を行い、錯体４を得た。
窒素雰囲気下、１−（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）−１−（２−アリロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）シラシクロペンタン（３．０４ｇ、７．４０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（３．３７ｇ、３３．３１ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４７ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６０Ｍヘキサン溶液（１０．４１ｍＬ、１６．６５ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で１．５時間攪拌した。得られた混合物を−７８℃に冷却した後、四塩化チタン（２．１１ｇ、１１．１０ｍｍｏｌ）をトルエン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、室温まで徐々に昇温させた。９０℃まで昇温させた後、９０℃で２時間攪拌した。溶媒を減圧下で濃縮した後、ヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、溶媒を減圧下で濃縮した。ペンタンから再結晶することにより、錯体４をオレンジ色固体として得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ））：１．０５−１．１６（ｍ、２Ｈ）、１．２２−１．３６（ｍ、２Ｈ）、１．７５−１．９８（ｍ、４Ｈ）、１．４１（ｓ、９Ｈ）、２．１４（ｓ、６Ｈ）、２．３５（ｓ、３Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０８（ｓ、１Ｈ）、７．１６（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４８４（Ｍ＋）、４６９、４３３
【００６４】
［参考例５］
「ジクロロ［イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、比較錯体１と記す。）の合成」
特開平９−８７３１３号公報に記載の方法と同様に合成を行い、比較錯体１を得た。
【００６５】
［参考例６］
「ジクロロ［イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、比較錯体２と記す。）の合成」
２−（１−シクロペンタジエニル−１−メチルエチル）−１−メトキシ−４，６−ジメチルベンゼンを用いて、参考例１に記載の方法と同様に合成を行い、比較錯体２を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ））：１．６０（ｓ、６Ｈ）、２．２４（ｓ、３Ｈ）、２．３５（ｓ、３Ｈ）、６．０８−６．１０（ｍ、２Ｈ）、６．８７（ｓ、１Ｈ）、６．９４−６．９６（ｍ、２Ｈ）、７．１３（ｓ、１Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３４４（Ｍ＋）、３２９、２９３
【００６６】
［参考例７］
「ジクロロ［ジメチルシリレン（２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）］チタニウム（以下、比較錯体３と記す。）の合成」
特開平９−８７３１３号公報に記載の方法と同様に合成を行い、比較錯体３を得た。
【００６７】
＜エチレン−α−オレフィン共重合体の製造＞
【００６８】
物性測定は次の方法で行った。
【００６９】
（１）共重合体中の１−ヘキセン単位含有量（ＳＣＢ、単位：１／１０００Ｃ）
赤外分光光度計（Ｂｒｕｋｅｒ社製  ＥＱＵＩＮＯＸ５５）を用いて、赤外分光法により求めた。なお、ブチル分岐の特性吸収は、１３７８ｃｍ−１〜１３０３ｃｍ−１のピークを用い、１−ヘキセン単位含有量は、エチレン−１−ヘキセン共重合体１０００炭素当たりのブチル分岐数として表した。
【００７０】
（２）分子量及び分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記の条件で測定した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評価した。
装置：送液装置（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  Ｍｏｄｅｌ３０５（ポンプヘッド２５．ＳＣ）
カラム：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製  ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ（７．５ｍｍφ×３００ｍｍ）
測定温度：１６０℃
移動相：オルトジクロロベンゼン
試料濃度：共重合体１ｍｇ／１，２，４−トリクロロベンゼン１ｍＬ
流量：２ｍＬ／分
標準物質：（標準ＰＳ分子量）５，０００、１０，０５０、２８，５００、６５，５００、１８５，４００、４８３，０００、１，０１３，０００、３，３９０，０００
［実施例１〜８］
錯体（錯体１〜４）をオレフィン重合用触媒成分として、Ｓｙｍｙｘ社製ＰＰＲ（４８連オートクレーブ）を用いて下記重合条件によりエチレンと１−ヘキセンの共重合を行った。重合結果を表１〜４に示す。
【００７１】
［比較例１〜６］
比較錯体（比較錯体１〜３）をオレフィン重合用触媒成分として、Ｓｙｍｙｘ社製ＰＰＲ（４８連オートクレーブ）を用いて下記重合条件によりエチレンと１−ヘキセンの共重合を行った。重合結果を表に示す。
＜重合条件＞
【００７２】
（Ａ−１）
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍｌ、１−ヘキセン６０μｌを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／ｌ）４０μｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及び錯体０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。
【００７３】
（Ａ−２）
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍｌ、１−ヘキセン５０μｌを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／ｌ）４０μｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及び錯体０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。
【００７４】
（Ｂ−１）
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍｌ、１−ヘキセン５０μｌを仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＴＩＢＡのヘキサン溶液（関東化学社製、ＴＩＢＡ濃度１．０ｍｏｌ／ｌ）４０μｌ、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート０．３０μｍｏｌ、及び錯体０．１０μｍｏｌを加え、３０分間重合した。
【００７５】
【表１】
2007238891.tif 000006
【００７６】
【表２】
2007238891.tif 000007
【００７７】
【表３】
2007238891.tif 000008
【００７８】
【表４】
2007238891.tif 000009