【事件の表示】
　平成９年特許願第１５４４２８号「電磁波シールド用透明部材」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年１２月１８日出願公開、特開平１０−３３５８８３］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１
「透明基体（１）上に、全光線透過率が５０％以上になるように、網の目状に、ニッケル、クロム又はそれらの合金のいずれか一種からなる膜厚０．００５〜１μｍの灰色系の導電性金属薄膜（２）と膜厚０．２〜２０μの銅薄膜（３）とが順次積層されてなることを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波シールド透明部材。」
　
２
［
］
　電磁遮蔽効果が高く、
透視性が良好
電磁遮蔽板
　その実施例１には、
「
　実施例１ 
　図１、図２に示すように、ソーダ石灰ガラスなどの厚さ１．１ｍｍ、２０ｃｍ角の
透明板状体１上に
【００１３】次いで、この、パターニングされた透明導電膜上に耐メッキレジストを塗布し、硫酸銅・５水和物１０ｇ／ｌ、エチレンジアミン四酢酸３０ｇ／ｌ、ホルマリン３ｍｌ／ｌ、ゲルマニウム酸ナトリウム０．５ｇ／ｌ、ポリエチレングリコール２０ｍ１／ｌから構成されるめっき液を７０°Ｃに調整し、前記基板を浸積、０．１μｍ厚さの銅皮膜を全面にめっきし、透明導電膜が生成されていない部分は銅めっき層の付着力が弱いので、その後水洗することにより、透明導電膜２に
銅のめっき層３が被覆された導電層４を
網目状パターンとして形成する
【００１４】このようにして得られた電磁遮蔽板５は
開口率が約５６．３％
」
　その実施例２には、
「
　実施例２ 
　実施例１同様、ソーダ石灰ガラスなどの厚さ１．１ｍｍ、２０ｃｍ角の透明板状体１上に透明導電膜２を全面に形成し、通常のエッチング法により透明導電膜の幅を１ｍｍ、網目の間隔を６ｍｍにパターニングする。
【００１６】次いで、この、パターニングされた透明導電膜上に塩化ニッケル０．０２モル／ｌ、酒石酸ナトリウム０．０２モル／ｌ、ヒドラジン１モル／ｌから構成されるめっき液を９０°Ｃに調整し、前記基板を浸積、０．１μｍ厚さのニッケル皮膜を全面にめっきし、透明導電膜が生成されていない部分はニッケルめっき層の付着力が弱いので、その後水洗することにより、透明導電膜２にニッケルのめっき層３が被覆された導電層４を、幅ｗを１ｍｍ、網目の間隔Ｌを６ｍｍの網目状パターンとして形成する。
【００１７】このようにして得られた電磁遮蔽板５は
開口率が約６９．４％
」
　
　これらの記載からみれば引用例１には、以下のとおりの発明が記載されていると認められる。［以下、〈〉内には、本願発明で相当している事項の用語を示す。］
『透明板状体〈透明基体〉上に、網の目状に、銅のめっき層〈銅薄膜〉が積層されてなることを特徴とする透視性が良好である電磁遮蔽板〈電磁波シールド透明部材〉。』
　
［
］
　透光性電磁波シールド材料に関する発明で、
その特許請求の範囲と発明の詳細な説明には、
「【請求項１】 透光性基板上に、透明アンカー層が形成され、その上に無電解メッキ層がパターン状に形成され、無電界メッキ層下の透明アンカー層に黒色パターン部が形成されている透光性電磁波シールド材料において、その表面に透光性基板の屈折率より低い屈折率を有する化合物からなる透明薄膜層が形成されていることを特徴とする透光性電磁波シールド材料。
【請求項２】 透明薄膜層がフッ素系化合物からなり、その膜厚が500〜5000Åの範囲にある請求項１記載の透光性電磁波シールド材料。
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＣＲＴや
プラズマディスプレイパネルなどのディスプレイやメーター表示機器などの表示部の前面に配置される透光性電磁波シールド材料
　
［
］
　電磁波遮蔽透明体に関する発明で、
［３頁左下欄８行ないし１５行］には、「第１図(a)は透明ガラス１と電磁波遮蔽膜２からなる電磁波遮蔽透明体の上に色合・反射性能調整層３を配置したものであり、同図(b)は電磁波遮蔽膜２と反対側に色合・反射性能調整層３を配置した例である。
色合・反射性能調整層３としては、例えばニッケルやクロム等の金属膜や
［４頁右下欄８行ないし５頁左上欄９行］には、「
本発明における色合・反射性能調整層としては
Ｎｉ
高屈折率・吸収膜が使用される。かかるタイプの色合・反射性能調整層を透明板に形成し、電磁波遮蔽透明体を得る場合には、例えば透明板面上に上記高屈折率膜又は高屈折率・吸収膜を形成し、その上に電磁波遮蔽層を形成するか、あるいは透明板上に電磁波遮蔽層を形成し、その上に高屈折率膜又は高屈折率・吸収膜を形成するか、あるいは又、透明板に高屈折率膜又は高屈折率・吸収膜を形成し、その上にＳｉＯ
２
等の透明板より屈折率の低い低屈折率膜を形成し、その上に電磁波遮蔽層を形成する。更に必要であれば電磁波遮蔽層上に高屈折率膜を形成する
　
　これらの記載からみれば、上記引用例（旭硝子）に、ニッケル又はクロムからなる導電性金属薄膜が示されていることは明白で、また、ニッケルの場合、その表面状態により銀白色から灰色の色彩を呈することも自明のことであるから、上記引用例（旭硝子）には、『透明基体上に、………ニッケル、クロム又はそれらの合金のいずれか一種からなる………灰色系の導電性金属薄膜と……電磁波遮蔽膜〈銅薄膜〉とが順次積層され』の構成が記載されているものと認められる。
　
［
］
　銅メッキフィルムの製造方法に関するもので、
　その特許請求の範囲（１）には
「プラスチックフィルムの少なくとも片面に樹脂層を設けた後、該樹脂層上に 
100〜3000Åの銅層を蒸着
さらに該銅層上に 0.5〜35μの銅層を電気メッキ法によって形成する
　
［
］
　電磁波シールドプラスチック成形品に関する発明で、
　【００１０】には、「また、この発明は、あらかじめ洗浄することなく、プライマーコート層を配設せずにプラスチック成形品表面に高周波
励起プラズマによる
銅膜
１０〜３０μｍ厚の銅電解メッキ膜
　実施例１には、
「
【実施例】
実施例１プラスチック射出成形品としての、ＡＢＳ−ＰＣアロイ材料から成形した自動車電話器の筐体に、フロン洗浄およびプライマーコート層の配設を行うことなく、直接高周波励起プラズマによる銅成膜を行った。
【００１８】真空室の到達真空度を５×１０-5Torrとし、アルゴンを、２×１０-4Torrの分圧として導入し、コイル状高周波励起電極によって生成させたグロープラズマによって銅蒸発粒子の励起とプラスチック射出成形品表面への付着を行った。平面部の銅の膜厚が５μｍとなるまで成膜した。次いで電解メッキにより約３０μｍの銅と、約２μｍのニッケルを成膜した。
」
　
３
『透明基体上に、網の目状に、銅薄膜が積層されてなることを特徴とする電磁波シールド透明部材。』の点で一致し、
Ａ：本願発明は、透明基体上に、ニッケル、クロム又はそれらの合金のいずれか一種からなる灰色系の導電性金属薄膜と銅薄膜とが順次積層されているのに対し、引用例１には該構成が示されていない点、
Ｂ：本願発明は、電磁波シールド透明部材の全光線透過率が５０％以上になるように設計されているのに対し、引用例１には該構成が示されていない点、
Ｃ：本願発明は、導電性金属薄膜の膜厚が、０．００５〜１μｍで、銅薄膜の膜厚が、０．２〜２０μであるのに対し、引用例１には、銅皮膜〈銅薄膜〉の厚さが０．１μｍとのみ示されているだけである点及び、
Ｄ：本願発明は、プラズマディスプレイ用の電磁波シールド透明部材であるのに対し、引用例には、具体的な用途の記載がない点で相違する。
　
４
　Ａの点に関しては、色合・反射性能調整層として、ニッケル、クロム又はそれらの合金のいずれか一種からなる灰色系の導電性金属薄膜が銅薄膜と、透明基体上に順次積層することは、拒絶査定時引用例（旭硝子）に示した如く、電磁波遮蔽透明体において、一般的に用いられている技術であるから
　引用例１の電磁波遮蔽透明体においても、ニッケル、クロム又はそれらの合金のいずれか一種からなる灰色系の導電性金属薄膜を、透明基体上に銅薄膜と順次積層して、本願請求項１に係る発明のように構成することは当業者であれば容易に設計しうる程度のことと認められる。
　
　Ｂの点については、引用例１において、実施例１の電磁波遮蔽透明体の開口率は約５６．３％と示され、特殊な透明板状体を使用しない限り、全光線透過率も５０％以上と推測されるが、たとえ５０％以下となる場合があったとしても、全光線透過率５０％以上とすること自体、プラズマディスプレイに用いるのであれば極当然のことであると共に、透明部材の全光線透過率は、透明基体の全光線透過率と網の目導電パターンが占める面積比率によって決定するものであることは一般的な技術常識であり、当然該面積比率をもって設計せざるを得ないところ、同引用例１の実施例２では６９．４％の開口率に設計した例も示されているのであるから、、本願発明のように透明部材の全光線透過率を面積比率を考慮しつつ、全光線透過率５０％以上の程度とすることに何も困難なことはなく、単なる設計上の事項であるということができる。
　
　Ｃの点に関しては、蒸着による薄膜の膜厚が、０．００５〜１μｍで、銅薄膜の膜厚が、０．２〜２０μであることは、通常用いられる値であり、
　蒸着による薄膜では、周知例１（東洋メタライジング）で、100〜3000Å（０．００１〜０．３μｍ）であり、周知例２（東京イングス）では、0.7 〜5.0 μｍである点を示すことができる。
　また、銅薄膜では、周知例１（東洋メタライジング）での電気メッキ銅層で0.5〜35μであり、周知例２（東京イングス）の銅電解メッキ膜で１０〜３０μｍである点を示すことができる。
　よって該相違点は、単に通常の設計範囲を示したに過ぎない。
　
　Ｄの点については、電磁波シールド透明部材がプラズマディスプレイ用に用いられることは出願人も認めているように周知の事実であり、１例として、引用例３（日本写真印刷）の【産業上の利用分野】にも示されているから、該相違点は単なる用途限定の有無に過ぎない。
　
　したがって、本願請求項１に係る発明は、上記引用例１の発明において、引用例３、拒絶査定時引用例の発明及び各周知例に記載の技術常識及び設計事項を勘案することにより、当業者ならば容易に発明をすることができたものと認められる。
　
５
　よって、結論のとおり審決する。