【事件の表示】
　平成　４年特許願第２０２６５９号「密閉コンテナのガスパージ方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　６年　２月２２日出願公開、特開平　６−　４８５０７］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
（１）本願は、平成４年７月２９日の出願である。
（２）平成１３年１０月１７日付け（発送日：同年１０月２３日）で拒絶の査定がなされた。
（３）平成１３年１１月２２日付けで、拒絶の査定を不服とする審判の請求がなされ、平成１４年３月７日付けで、請求の理由を補正の対象とする手続補正書が提出された。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成１２年１１月２０日付けで提出された手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものと認められる。
「【請求項１】
　密閉コンテナの開口部に着脱可能に設けられた底蓋を昇降させることによって、半導体ウエハのウエハカセットを上記開口部を介して密閉コンテナ内に収納する際に、該密閉コンテナ内を上記開口部を介して真空引きしたのち上記半導体ウエハにとって不活性なガスでガスパージする方法であって、
　配管を通して真空源と不活性ガス源に連絡される密閉ボックスの上面壁に上記底蓋およびウエハカセットの出し入れ用の開口を設け、かつ該開口を覆うように上記上面壁上に上記密閉コンテナを気密に載置し、該コンテナの底蓋を上記開口を介して密閉ボックス内へ下降させることによって、密閉コンテナ内を密閉ボックス内へ連通して、真空引きし、上記密閉コンテナや底蓋の内表面部および上記半導体ウエハやウエハカセットの表面部に付着している水分や酸素を離脱させて排気した所定時間の経過後に、上記不活性ガスによるガスパージを行うことを特徴とする密閉コンテナのガスパージ方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
３．刊行物記載の発明
（１）刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願発明の出願前に頒布された刊行物である国際公開第９０／１４２７３号パンフレット（以下、「刊行物１」という。）には、次の事項が記載されている。
（ａ）「ウェーハは、ポッドに入れられて保管され且つ輸送され、またポッドから加工装置の一位置まで次のようにして移送される。最初に、ポッドは、キャノピーの頂部に設けられたインターフェースボードに置かれる。各ポッドは、ボックスと、加工装置のキャノピーのインターフェースボードの扉と関連するように設計されたボックス扉とを有している。次に、ボックス扉及びキャノピーのインターフェースの扉のラッチが同時に開けられ、ボックス扉とインターフェースボードの扉とが同時に開放される。これにより、扉の外面上に存在することがある粒子が、ボックスとインターフェースボードの扉との間に捕捉（「サンドイッチ」）される。カセットがキャノピーの頂部に置かれた状態で、両扉が、機械的エレベータにより、キャノピーで覆われた空間内に下降される。カセットは、マニピュレータによりピックアップされて、加工装置のカセットボード／エレベータ上に置かれる。加工後は上記とは逆の作業が行われる。」（第４頁第１６行〜第５頁第６行訳文。以下同様。）
（ｂ）「第１、２図には加工ステーション８が示されており、該加工ステーション８には、加工装置１２のウェーハ取扱い機構を覆う容易に取外し可能な遮蔽体であるキャノピー１０を有している。加工装置１２は、例えば、ホトレジストアプリケータ、マスクアライナ、検査ステーション又は任意の同様な加工装置である。キャノピー１０は、・・・加工装置１２の取扱い機構及びウェーハ１６を保持するウェーハカセットのようなホルダ１４を包囲している。加工装置１２内の環境は別々に維持され且つ別々に浄化されるため、加工装置１２をクリーンルーム内に配置する必要はない。
　シール可能且つ輸送可能な容器（ポッド）１８は、ポート組立体２４によりキャノピー１０の水平表面２２上に取り付けられている。また、容器１８は、ボックス（ボックストップ）２０を有しており、該ボックス２０は内部領域２１及びボックス扉３２を備えている。ポート組立体２４は、ポートプレート２６と、ポート扉２８と、エレベータ機構３０とを有している。エレベータ機構３０は、集積回路のウェーハ１６を入れるカセットホルダ１４を、ボックス２０の内部領域２１からキャノピー１０の下の領域内に移送する。」（第１２頁第１５行〜第１３頁第１２行）
（ｃ）「ボート扉２８はラッチ作動機構６６を有しており、該ラッチ作動機構６６は、ボックス扉ラッチ機構８０を作動させ、これによりボックス２０からボックス扉３２を開放させるピン７０を備えている。ウェーハ１６はエレベータ機構３０及びムーバ組立体３４により加工装置１２内の適正位置に移動され、人手を要することなく加工される。」（第１５頁第２１行〜第１６頁第２行）
（ｄ）「ラッチの第１作動段は、ラッチプレート１０１１−２を、ラッチプレート１０１１−２がボックス扉３２内に完全に収容される引っ込み位置（すなわち非係合位置、第４図）から、ラッチフィンガ１１０１−８  がボックス扉３２から突出してボックス２０のラッチ係合面１１２１−８  に隣接する突出位置（係合位置、第５図）まで移動させる動作である。」（第１７頁第２３行〜第１８頁第３行）
（ｅ）「ラッチの第２作動段は、ラッチフィンガ１１０１−８の実質的な垂直運動である。・・・第２作動段中のラッチフィンガ１１０１−８の運動により、ラッチフィンガ１１０１−８がラッチ係合面１１２１−８の各一つと係合して、ボックス２０の第１シール面と第２シール面とをシール係合させるラッチ力及び／又はクランプ力を発生する。第１シール面はボックス２０のナイフエッジ１１８を備えており、第２シール面はボックス扉３２のガスケット保持スロット１２２を備えている。ガスケット１２０はガスケット保持スロット１２２内に配置されていて、ボックス２０とボックス扉３２との間のシールを形成する。」（第１８頁第１１〜２６行）
（ｆ）「ラッチの第２作動段により、ナイフエッジ１１８とガスケット１２０とを契合させる強力なクランプ力が発生され、これにより、ポッド１８の内部領域２１が外部条件の影響を受けないように防止するシールが形成される。例えば、このシールにより、微粒状物質や水分が内部領域２１内に入ることが防止される。また、このシールにより、内部領域２１を真空引きして不活性ガスの埋め戻し（バックフィル）を行うことが可能になる。」（第２２頁第１５〜２３行）
（ｇ）上記（ａ）、（ｂ）及び第１Ｂ、２Ｂ図の記載より、容器１８には開口部が設けられ、該開口部に着脱可能にボックス扉３２が設けられていることが看取できる。
（ｈ）上記（ａ）、（ｂ）及び第１Ｂ、２Ｂ図の記載より、キャノピー１０の水平表面２２にボックス扉３２およびホルダ１４の出し入れ用の開口が設けられていることが看取できる。
　これらの記載事項及び図面の記載を総合すれば、刊行物１には次の発明が記載されているものと認められる。
　「容器１８の開口部に着脱可能に設けられたボックス扉３２を昇降させることによって、ウェーハのホルダ１４を上記開口部を介して容器１８内に収納してから、該容器１８内を真空引きしたのち不活性ガスの埋め戻しを行う方法であって、
　キャノピー１０の水平表面２２に上記ボックス扉３２およびホルダ１４の出し入れ用の開口を設け、かつ該開口を覆うように上記水平表面２２上に上記容器１８を載置し、容器１８のボックス２０とボックス扉３２との間にシールを形成したのち容器１８の内部領域２１を真空引きし、不活性ガスの埋め戻しを行う方法。」（以下、「刊行物１記載の発明」という。）
　
（２）刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願発明の出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平２−６９９５５号公報（以下、「刊行物２」という。）には、次の事項が記載されている。
（ａ）「マスクカセット本体ＭＣＨとカセットカバーＭＣＣとが結合しているマスクカセット」（第４頁右上欄第１６〜１８行）
（ｂ）「まず本体チャンバＷＭＣ内にあるマスク基板ＭＦは所定のマスクカセット本体ＭＣＭの取付け位置に戻された後、・・・次に排気弁ＥＶを開口し、真空ポンプ（不図示）によりマスクチャンバＭＣＨ内を排気する。圧力計ＰＧが所定の圧力になった時排気弁ＥＶを閉止し、ただちに電磁弁Ｖ２を開口しマスクチャンバＭＣＨ内に窒素Ｎ２を導入する。マスクチャンバＭＣＨが所定の圧力に達したら、電磁弁Ｖ２を閉止する。・・・エレベータロッドＥＲを降下させることで、マスクカセット本体ＭＣＭとカセットカバーＭＣＣが結合され、前記マスクカセットの内部は窒素Ｎ２雰囲気に密閉されることになる。」（第５頁左上欄第１３行〜右上欄第１１行）
　上記記載事項及び図面の記載によれば、刊行物２には次の発明が記載されているものと認められる。
　「マスクチャンバＭＣＨが配管を通して真空ポンプとＮ２源に連絡されていて、マスクカッセト内にマスク基板ＭＦを収納する際に、マスクカセット内をマスクチャンバＭＣＨ内へ連通して、真空引きし、Ｎ２ガスの導入を行う方法」（以下、「刊行物２記載の発明」という。）。
　
４．対比・判断
　本願発明と、刊行物１記載の発明とを対比すると、後者の「容器１８」は、その機能・作用からみて、前者の「密閉コンテナ」に相当し、以下同様にして、「ボックス扉３２」は「底蓋」に、「ウェーハ」は「半導体ウエハ」に、「ホルダ１４」は「ウエハカセット」に、「キャノピー１０」は「密閉ボックス」に、「水平表面２２」は「上面壁」に、「不活性ガス」は「半導体ウエハにとって不活性なガス」に、「埋め戻し」は「ガスパージ」に相当する。
　そして、後者の「ウェーハのホルダ１４を上記開口部を介して容器１８内に収納してから、該容器１８内を真空引きしたのち不活性ガスを埋め戻しする」と、前者の「半導体ウエハのウエハカセットを上記開口部を介して密閉コンテナ内に収納する際に、該密閉コンテナ内を真空引きしたのち上記半導体ウエハにとって不活性なガスでガスパージする」とは、「半導体ウエハのウエハカセットを上記開口部を介して収納する密閉コンテナ内を、真空引きしたのち上記半導体ウエハにとって不活性なガスでガスパージする」の限りにおいて一致している。
　してみると、両者の一致点、相違点は、次のとおりになる。
〈一致点〉
　密閉コンテナの開口部に着脱可能に設けられた底蓋を昇降させることによって、半導体ウエハのウエハカセットを上記開口部を介して収納する密閉コンテナ内を、真空引きしたのち上記半導体ウエハにとって不活性なガスでガスパージする方法であって、
　密閉ボックスの上面壁に底蓋およびウエハカセットの出し入れ用の開口を設け、かつ該開口を覆うように上記上面壁上に密閉コンテナを載置し、真空引きし、上記不活性ガスによるガスパージを行う密閉コンテナのガスパージ方法。
〈相違点１〉
　密閉コンテナ内を開口部を介して真空引きしたのち不活性ガスでガスパージする時点が、本願発明では、ウエハカセットを密閉コンテナ内に収納する際、であるのに対し、刊行物１記載の発明では、ウエハカセットを密閉コンテナ内に収納してから、である点。
〈相違点２〉
　本願発明では、配管を通して真空源と不活性ガス源に連絡されている密閉ボックスの上面壁上に密閉コンテナを気密に載置し、コンテナの底蓋を開口を介して密閉ボックス内へ下降させることによって密閉コンテナ内を密閉ボックス内へ連通して、密閉コンテナ内を開口部を介して真空引きし、不活性ガスによるガスパージを行うのに対し、刊行物１記載の発明では、そのような構成になっていない点。
〈相違点３〉
　本願発明では、真空引きすることにより密閉コンテナや底蓋の内表面部および半導体ウエハやウエハカセットの表面部に付着している水分や酸素を離脱させて排気した所定時間の経過後に、不活性ガスによるガスパージを行うのに対し、刊行物１記載の発明では、真空引きはしているが、密閉コンテナや底蓋の内表面部および上記半導体ウエハやウエハカセットの表面部に付着している水分や酸素を離脱させて排気しているのかどうか不明である点。
　上記相違点について検討する。
〈相違点１〉、〈相違点２〉について
　刊行物２記載の発明における「マスクチャンバＭＣＨ」は、その機能・作用からみて、本願発明における「密閉ボックス」に相当し、以下同様にして、「真空ポンプ」は「真空源」に、「Ｎ２」は「不活性ガス」に、「マスクカセット」は「密閉コンテナ」に、「Ｎ２ガスの導入を行う」は、「不活性ガスによるガスパージを行う」に、それぞれ相当する。また、刊行物２記載の発明における「マスク基板ＭＦ」は、マスクカセット内への収納「対象物」ということができる。そうすると、刊行物２記載の発明は、「密閉ボックスが、配管を通して真空源と不活性ガス源に連絡されていて、対象物を密閉コンテナ内に収納する際に、密閉コンテナ内を密閉ボックス内へ連通して、真空引きし、不活性ガスによるガスパージを行う」発明ということができる。
　そして、刊行物１記載の発明と刊行物２記載の発明とは、ともに、半導体製造の技術分野に属し、対象物を密閉コンテナ内に収納する時に密閉コンテナ内を真空引きしてから不活性ガスによるパージを行うという共通の機能を有するものであるから、刊行物１記載の発明において、密閉コンテナ内を真空引きして、不活性ガスをパージするにあたり、刊行物２記載の発明を適用することは、それを妨げる特段の事情も見当たらず、当業者が容易に想到し得ることである。
　しかも、その適用に当たって、刊行物１記載の発明においては、密閉コンテナ内へウエハカセットを収納する際には、密閉コンテナの底蓋は密閉ボックス上面壁の開口を介して密閉ボックス内へ下降した位置にあり、密閉コンテナ内と密閉ボックス内が連通することは明らかであるから、この状態で密閉コンテナ内を密閉ボックス内へ連通して、密閉コンテナ内を真空引きし、不活性ガスによるガスパージを行うように構成することは、当業者が容易になし得たことである。その際に、密閉ボックス上面壁上に密閉コンテナを気密に載置させることは、外部雰囲気との遮断、気体の漏れ防止という観点から当業者が当然に考慮すべき事項である。
　してみると、上記〈相違点１〉、〈相違点２〉に係る本願発明の構成は、刊行物１記載の発明に、刊行物２記載の発明を適用することにより、当業者が容易になし得たものである。
〈相違点３〉について
　一般に、容器内を真空引きすれば、程度の差はあれ、該容器内表面や、該容器内の物体の表面から水分や酸素が離脱することは技術常識である。そして、刊行物１記載の発明において、密閉コンテナ内の「真空引き」によって、密閉コンテナ内表面やその中の物体の表面から水分や酸素が離脱することがないという特段の事情も見当たらない。翻って、本願発明において「密閉コンテナや底蓋の内表面部および上記半導体ウエハやウエハカセットの表面部に付着している水分や酸素を離脱させて排気した所定時間の経過後に」と規定しているものの、その具体的な条件（真空度、時間等）は、特許請求の範囲の記載はもとより、発明の詳細な説明にも記載されていない。そうすると、本願発明における当該記載は、単に、「真空引き」したことによる現象を述べたに過ぎないと解することができる。
　してみると、上記〈相違点３〉に係る本願発明の構成は、刊行物１記載の発明における「真空引きし、不活性ガスによるガスパージを行う」という構成と、実質的には相違しないものである。
　
　そして、本願発明が奏する作用効果も、刊行物１記載の発明及び刊行物２記載の発明から、当業者が予測し得る程度のものである。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１記載の発明及び刊行物２記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。