【事件の表示】
　平成　９年特許願第１４５９３８号「高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料およびその製造方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成１０年１２月　８日出願公開、特開平１０−３２４５３８、請求項の数（５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．本願の手続の経緯及び本願発明
　本願は、平成９年５月２０日に特許出願されたものであって、その請求項１乃至５に係る発明（以下、「本願発明１」乃至「本願発明５」という。）は、平成１３年６月１３日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至５に記載された次のとおりのものである。
【請求項１】超高純度の合成シリカガラスからなる波長１６５〜１９５ｎｍの高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料において、ＯＨ基濃度が５〜３００ｗｔｐｐｍ、ＯＨ基濃度変動幅（ΔＯＨ／ｃｍ）が１０ｗｔｐｐｍ以下、光学材料全体のＯＨ基濃度変動幅（ΔＯＨ）が３０ｗｔｐｐｍ以下、水素分子濃度が１×１０１７〜１×１０１９分子／ｃｍ３、水素分子濃度変動幅（ΔＨ２／ｃｍ）が１×１０１７分子／ｃｍ３以下、光学材料全体の水素分子濃度変動幅（ΔＨ２）が３×１０１７分子／ｃｍ３以下、塩素元素含有量が５０ｗｔｐｐｍ以下でで（「でで」は「で」の誤記と認められる。）あることを特徴とする大型の高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。
【請求項２】ＯＨ基濃度が５〜１００ｗｔｐｐｍであることを特徴とする請求項１記載の大型の高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。
【請求項３】合成シリカガラス中の各アルカリ金属元素濃度が５ｗｔｐｐｂ以下、各アルカリ土類金属元素濃度が１ｗｔｐｐｂ以下、各遷移金属元素濃度が０．１ｗｔｐｐｂ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の大型の高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。
【請求項４】光学材料の仮想温度（Ｔｆ）が７００〜１０００℃、光学全体の仮想温度変動幅（ΔＴｆ）が５０℃以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の大型の高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。
【請求項５】光学材料全体の屈折率変動幅（Δｎ）が２×１０−６以下、複屈折量が１ｎｍ／ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の大型の高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料。
２．原査定の理由
　原査定の理由の概要は、本願発明１〜５は、本願の出願前に頒布された刊行物である引用文献１（特開平９−１２３２３号公報、以下「引用例１」という。）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。なお、原査定では周知技術として特開平５−５８６６７号公報（以下、「周知例」という。）が提示されている。
３．引用例等の記載内容
　引用例１及び周知例には、それぞれ次の事項が記載されている。
（１）引用例１（特開平９−１２３２３号公報）
（ａ）「【請求項１】ＯＨ基濃度が２００ｐｐｍ以下である石英ガラス部材であって、４００ｎｍ以下の特定波長領域の紫外線照射による構造の緻密化が抑制されたことを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項２】請求項１に記載の石英ガラス光学部材において、水素分子濃度が１×１０１７molecules／ｃｍ３以上であることを特徴とする石英ガラス光学部材。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「これらの合成石英ガラスを光リソグラフィの光学系で用いる場合、集積回路パターンを大きな面積で高解像度で露光するためには、その合成石英ガラス光学部材には非常に高い品質が要求される。例えば、部材の屈折率分布が、直径２００ｍｍ程度の非常に大きな口径内で１０−６オーダー以下であることが要求される。また、複屈折量を減少させること、すなわち光学部材の内部歪を減少させることが、屈折率分布の均質性を向上させることと同様に、光学系の解像度に対して重要である。」（段落【０００４】）
（ｃ）「本発明は・・・紫外線照射による屈折率の上昇や歪の発生、表面の凹みを抑制して、光リソグラフィの光学系に最適な合成石英ガラスを提供することを目的とする。」（段落【０００９】）
（ｄ）「本発明はＯＨ基濃度が２００ｐｐｍ以下である石英ガラス部材であって、水素分子濃度が１×１０１７molecules／ｃｍ３以上であることを特徴としている。」（第３頁第３欄１４〜１７行、段落【００１１】）
（ｅ）「本発明の石英ガラスにＡｒＦエキシマレーザを照射したとき、酸素過剰型欠陥吸収帯（４．８ｅＶ吸収帯）が実質的に生成しない。これらの欠陥が存在しないことにより、真空紫外・紫外・可視・赤外分光光度計による透過率測定では、ｇ線（４３６ｎｍ）〜ｉ線（３６５ｎｍ）、さらにはＫｒＦ（２４８ｎｍ）波長では内部透過率９９．９％以上、ＡｒＦ（１９３ｎｍ）波長では略９９．８％以上を得ることが出来る。」（第４頁第５欄２３〜３０頁、段落【００１９】）
（ｆ）「【実施例１】高純度の四塩化珪素を原料として用い、・・・ＡｒＦエキシマレーザ照射用・・・実施例１のＯＨ基濃度は１０ｐｐｍであった。また、水素分子濃度は検出下限（５×１０１６molecules／ｃｍ３）以下であった。」（段落【００２２】）
                                                                             
（２）周知例（特開平５−５８６６７号公報）
（ａ）「【請求項１】肉厚が３０ｎｍ以上の合成シリカガラスからなる光学部材において、ＯＨ基を１００〜１０００（ｗｔ・ｐｐｍ）含有させると共に、仮想温度を８００〜１０００℃で且つ均質性△ｎを１×１０−５以下に設定した事を特徴とする光学部材
【請求項２】Ｈ２ガス分子の含有量を１×１０１６molecules／ｃｍ３以上に設定したことを特徴とする請求項１記載の光学部材」（特許請求の範囲）
（ｂ）「尚、仮想温度が８００〜１０００℃に設定すると、・・・シリカガラス中のプレカーサが少なくなる。第２に仮想温度が８００〜１０００℃になると密度が低下して構造が緩和してレーザ照射によって欠陥が発生しにくくなるものと思慮される。」（段落【００１１】）
（ｃ）「先ず高純度の合成石英ガラスを製造するために、ＯＨ基の含有量が５（ｗｔ・ｐｐｍ）以下の高純度合成シリカガラスインゴットを各々複数個合成した。」（段落【００１４】）
                                         
４．当審の判断                                                      
４−１．本願発明１について
　引用例１の上記（ａ）〜（ｅ）の記載から本願発明１に則して記載すると、引用例１には「高純度の四塩化珪素を原料とした、４００ｎｍ以下の特定波長領域の紫外線照射用合成石英ガラス光学部材において、ＯＨ基濃度が２００ｐｐｍ以下で、水素分子濃度が１×１０１７molecules／ｃｍ３以上であって、大きな口径では部材の屈折率分布が１０−６オーダー以下である合成石英ガラス光学部材。」の発明（以下、「引用発明１」という）が記載されているといえる。
　そこで、本願発明１と引用発明１とを対比すると、引用発明１の「石英ガラス」は「シリカガラス」と同義であり、原料としては引用発明１の「高純度の四塩化珪素」と本願明細書の段落【００１６】に記載された「高純度化したＳｉＣｌ４」とは本願明細書に「超高純度」が具体的にどの程度の高純度か明記がないことから同じものとみれるので、引用発明１の「高純度の四塩化珪素を原料とした合成石英ガラス」は本願発明１の「超高純度の合成シリカガラス」に相当するものといえる。そして、引用例１の「４００ｎｍ以下の特定波長領域の紫外線照射用」は、本願発明１の波長１６５〜１９５ｎｍで一致し、実施例においても上記（ｆ）からみて波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いていることからみて本願発明１と同程度の波長のものに使用される紫外線照射用のものといえることから、両者は、「超高純度の合成シリカガラスからなる波長１６５〜１９５ｎｍの高出力真空紫外線用合成シリカガラス光学材料において、ＯＨ基濃度が２００ｗｔｐｐｍ、水素分子濃度が１×１０１７〜１×１０１９分子／ｃｍ３である」ことで一致するものの、
（イ）本願発明１が「ＯＨ基濃度変動幅（ΔＯＨ／ｃｍ）が１０ｗｔｐｐｍ以下、光学材料全体のＯＨ基濃度変動幅（ΔＯＨ）が３０ｗｔｐｐｍ以下、水素分子濃度変動幅（ΔＨ２／ｃｍ）が１×１０１７分子／ｃｍ３以下、光学材料全体の水素分子濃度変動幅（ΔＨ２）が３×１０１７分子／ｃｍ３以下」としているのに対し、引用発明１では「部材の屈折率分布が１０−６オーダー以下」としている点
（ロ）本願発明１が「塩素元素含有量が５０ｗｔｐｐｍ以下」であるのに対し、引用発明１にはその構成が見当たらない点
で相違がみられる。
　この相違点（イ）（ロ）についてさらに検討すると、引用発明１の「部材の屈折率分布が１０−６オーダー以下」は上記（ｂ）の記載からみれば大きな口径の均質性に関係したものとみることができ、本願発明１の上記相違点の構成が大型の材料の均質性に関連していることからその点で共通するものといえる。しかしながら、この屈折率分布と本願発明１の上記相違点の構成とは、規定した物性が相違するものであり、引用発明１にはＯＨ基濃度変動や水素分子濃度変動幅については何ら記載するところがなく、屈折率を均一とするためにＯＨ基濃度変動や水素分子濃度変動幅を単位長さ、全体でどの程度にするかを当業者が容易に為し得るものとまでいえない。
　また、上記相違点（ロ）については塩素元素含有量については引用例１には何ら記載も示唆もない。
　これら相違点について他の証拠を検討するに、上記周知例には仮想温度や均質性△ｎ１×１０−５以下にするとの開示はあるものの、上記相違点についてのＯＨ基濃度変動、水素分子濃度変動幅及び塩素元素含有量に関しては何ら記載されていない。
　そして、本願発明１は、上記構成を採用することにより、明細書に記載のとおりの効果を奏するものと認められる。
　したがって、本願発明１は引用例１に記載される発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
４−２．本願発明２〜５について
　本願発明２〜５は、いずれも請求項１を引用し、本願発明１をさらに限定したものであることから、上記４−１で検討した同じ理由により、引用例１、２に記載された発明に基づいて発明をすることができたものとすることはできない。
５．結び
　以上のとおりであるから、本願については、原査定の理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。