(57)【要約】      （修正有）【課題】熱式インプリントリソグラフィーで形状を賦形可能で、保存時の長期安定性に優れたシートを形成可能な易表面賦形性シート用樹脂組成物、易表面賦形性シートおよび易表面賦形性シート積層体の提供。【解決手段】シート用樹脂組成物は、下記（１）、（２）の要件を満たすものである。（１）ＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００〜１００，０００であること。（２）ＧＰＣによる分子量分布曲線における、分子量全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３重量％以下であること。  易表面賦形性シートは、上記シート用樹脂組成物をシート状に加工してなるものである。  易表面賦形性シート積層体は、易表面賦形性シートからなる層と、支持体となる樹脂層とからなる複数の樹脂層からなる積層体であって、かつ、該積層体の少なくとも表面層に該易表面賦形性シート層が配置されているものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
易表面賦形性シート用樹脂組成物であって、下記（１）、（２）の要件を満たす易表面賦形性シート用樹脂組成物。
（１）明細書にて定義する測定方法により測定される、樹脂組成物の、ゲル浸透クロマトグラフ（以下、ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００〜１００，０００であること。
（２）明細書にて定義する、ＧＰＣによる分子量分布曲線における、分子量全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３重量％以下であること。
【請求項２】
前記樹脂組成物の、示差走査熱量測定（以下、ＤＳＣ）により得られる、昇温過程（昇温速度：１０℃／ｍｉｎ）における結晶化エンタルピーΔＨｃｃが１Ｊ／ｇ以下であることを特徴とする請求項１に記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項３】
ＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗとポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎから計算される多分散度Ｍｗ／Ｍｎが３．０以下である請求項１または２に記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
（ただし、ＭｗとＭｎは、明細書にて定義する測定方法により測定される値である。）
【請求項４】
ＧＰＣによるポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚとポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗから計算される多分散度Ｍｚ／Ｍｗが２．０以下である請求項１〜３のいずれかに記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
（ただし、ＭｚとＭｗは、明細書にて定義する測定方法により測定される値である。）
【請求項５】
前記易表面賦形性シート用樹脂組成物が、ポリエステル系樹脂を主たる成分としてなるものである請求項１〜４のいずれかに記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項６】
前記ポリエステル系樹脂が、フルオレン骨格を有する繰り返し単位を共重合成分として含むポリエステル系樹脂からなる請求項５に記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項７】
本文に定義する測定方法により測定される、該樹脂組成物の、ＤＳＣによるガラス転移温度Ｔｇ１が７０℃〜１６０℃である請求項１〜６のいずれかに記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物をシート状に加工してなる易表面賦形性シート。
【請求項９】
請求項８に記載の易表面賦形性シートからなる層と、支持体となる樹脂層とからなる複数の樹脂層からなる積層体であって、かつ、積層体の少なくとも表面層に易表面賦形性シート層が配置されている易表面賦形性シート積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱式インプリントリソグラフィーによる表面への賦形が容易なシート材料用樹脂組成物、特に高精細、高アスペクト比などの多種多様な形状を表面に容易に賦形可能なシート材料用組成物、および該シート材料用組成物を用いたシート材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学分野、半導体分野などの各種分野で、微細構造を形成する技術の重要性が高まっている。光学分野では高精度な微細構造形成技術が、また半導体製造分野においては高精度な微細構造形成技術に加えて、半導体集積回路の集積度向上のために加工寸法の微細化が要求されている。
【０００３】
そのため、微細加工の代表的技術であるフォトリソグラフィーにおいても、解像度を上げて微細寸法を高精度で制御しなければならなくなっており、露光波長の短波長化の試み等が検討され、現在までにＡｒＦレーザーを用いて最小線幅１００ｎｍの解像度が達成されている。更には、電子線、Ｘ線を用いた数１０ｎｍの解像度、いわゆるナノ構造体の形成技術も実用化が近づいている。
【０００４】
しかしながら、これらの技術は露光波長の短波長化による解像度を向上させるため、露光機自体の初期費用や、使用するマスク価格の高騰を避けられず、その結果、コスト面で非常に不利となる。また照射スポット径が小さく、大面積で微細構造を形成するには生産性が低いのが現状である。
【０００５】
そこで、近年、微細構造を容易に賦形する技術としてインプリントリソグラフィーがＣｈｏｕらによって提唱されている（非特許文献１参照）。インプリントリソグラフィーとは、金型上のパターンを樹脂に転写する技術であり、熱式と光式の二種類の方式がある。前者の熱式とは、熱可塑性樹脂をガラス転移温度Ｔｇ以上融点Ｔｍ未満に加熱して、該熱可塑性樹脂に凹凸形状のパターンを有する金型を押し付けてパターンを転写する方法であり、また、後者の光式とは、光硬化性樹脂に金型を押し付けた状態で光を照射して硬化させる方法で金型上のパターンを該光硬化性樹脂に転写する技術である。これらの技術は、金型作製のための初期費用はかかるものの、一つの金型から微細構造体を多数複製することができるので、結果としてフォトリソグラフィーと比べて安価に微細構造を賦形できる技術である。
【０００６】
そのため、近年、このインプリントリソグラフィーを駆使して、液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイ用部材（特許文献１）、光通信に用いる光導波路（特許文献２）などの光学素子や、細胞培養素子等のバイオ素子（特許文献３）などの各種分野でプラスチック製素子の開発が進められている。
【０００７】
これらプラスチック製素子を工業的に生産する上で、樹脂材料にはミクロンオーダーからナノオーダーの幅広い範囲の寸法で、多種多様な形状を、高速賦形できることが望まれている。
【非特許文献１】チョウら（Ｓ．Ｙ．Ｃｈｏｕ ｅｔ ａｌ．），「アプライド・フィジックス・レター（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．）」，米国，アメリカ物理学会，１９９５年，第６７巻，第２１号，ｐ．３３１４
【特許文献１】特開２００５−１６８４９４号公報（全頁）
【特許文献２】特開２００５−１４０８２２号公報（全頁）
【特許文献３】特開２００５−１６８４９５号公報（全頁）
【特許文献４】特開２００５−１４０８２２号公報（全頁）
【特許文献５】特開２００５−１６８４９５号公報（全頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、熱式インプリントリソグラフィーにおいて、従来から検討されているポリメチルメタアクリレートや、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂では、上述の要件をすべて満たすことができない。例えば、低分子量のＰＭＭＡでは高精細（ナノオーダー）、高アスペクト比構造の形成が可能といった例があるが、インプリント工程において精度良く離型するための条件幅が狭い。また、金型を離型出来たとしても成形したパターン強度が非常に弱く、外力によって容易に変形したり、長期保存時に形が崩れるといった問題がある。さらに、ポリカーボネートでは根本的に成形性が不十分であり、特にナノオーダーのパターンの成形は困難であるという問題があった。
【０００９】
本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、熱式インプリントリソグラフィーで高精細、高アスペクト比などの多種多様な形状を賦形しても、その形状を良好に賦形可能で、また保存時の長期安定性に優れたシートを形成可能な易表面賦形性シート用樹脂組成物、易表面賦形性シートおよび易表面賦形性シート積層体を提供せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、下記（１）、（２）の要件を満たすことを特徴とするものである。
（１）後述する、ゲル浸透クロマトグラフ（以下、ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００〜１００，０００であること。
（２）後述する、ＧＰＣによる分子量分布曲線における、分子量全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３重量％以下であること。
【００１１】
また、本発明の易表面賦形性シートは、かかる易表面賦形性シート用樹脂組成物をシート状に加工してなることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の易表面賦形性シート積層体は、かかる易表面賦形性シートからなる層と、支持体となる樹脂層とからなる複数の樹脂層からなる積層体であって、かつ、該積層体の少なくとも表面層に該易表面賦形性シート層が配置されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ナノオーダーの構造体が容易に賦形可能で、かつその構造の長期保存性に優れた易表面賦形性シート用樹脂組成物が得られ、これをシート状に加工して得られるシートは、シート表面にナノオーダーの高アスペクト比パターンを容易に賦形することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明者らは、熱式インプリントによって高精細、高アスペクト比などの多種多様な形状を賦形しても、その形状を良好に形成可能で、また、その形状が長期安定性に優れたシート用の樹脂組成物について、鋭意検討し、該樹脂組成物の分子量分布の領域を制御してみたところ、上記課題を一挙に解決することを究明したものである。すなわち、かかる樹脂組成物によれば、表面への賦形性、特にナノオーダーの形状賦形性に優れ、かつその形状が長期安定性に優れたシート（以下、易表面賦形性をシート）を提供することができることに成功したものである。
【００１５】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、以下の（１）、（２）の条件を満たすことが重要である。すなわち、
（１）ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００〜１００，０００であること。
（２）ＧＰＣによる分子量分布曲線における、分子量全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３重量％以下であること。
【００１６】
まず、（１）について説明する。
【００１７】
ここでいうポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは、ＧＰＣによる単分散ポリスチレン標準試料の分子量の対数と、その溶出時間とを３次式で近似し作成した較正曲線を基にして得られる該樹脂組成物の相対分子量（すなわち、ポリスチレン換算分子量）から求められる値であり、式（１）によって算出されるものである。
・ポリスチレン換算重量平均分子量
【００１８】
【数１】
2007238742.tif 000002
【００１９】
ここで、Ｎｉは分子数、Ｍｉ分子量較正曲線を介して得られたＧＰＣ曲線の各溶出位置の分子量である。
【００２０】
また、ＧＰＣの測定条件は任意で決められるが、本発明ではクロロホルムを移動層とし、理論段数は１４０００段のカラムを使用、流速を１．０ｍＬ／ｍｉｎとした場合の値を示している。
【００２１】
なお、かかる測定に使用される樹脂組成物に、有機微粒子、無機微粒子、金属、金属塩、その他添加剤等で溶媒に不溶な成分を含んでいる場合には、フィルターによる濾過や、遠心分離などにより、不溶成分の除去を行った後に、該樹脂組成物の溶媒溶液を調製して測定した値である。また、該樹脂組成物に可塑剤、界面活性剤、染料などの添加剤を含んでいる可能性がある場合は、不溶成分を除去した後に、最沈殿法、再結晶法、クロマトグラフィー法、抽出法等により、前記同様にかかる不溶添加剤を除去した後に、再度該樹脂組成物の溶媒溶液を調製して測定した値である。
【００２２】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗは、１０，０００〜１００，０００であることが重要であるが、好ましくは１５，０００〜９０，０００、最も好ましくは２０，０００〜８０，０００である。該樹脂組成物のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが、１０，０００より下回ると、低分子量であるために、熱式インプリントリソグラフィーにおいて、特にナノオーダーでの高精度パターンや高アスペクト比パターンを成形する際、金型から離型した時点でパターンが変形したり、また、離型が出来ても形成品の耐久性や形状熱安定性が悪くなるため、好ましくない。また、該樹脂組成物のポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが、１００，０００より上回ると、高分子量であるために賦形がしにくくなり、パターン全体が形成不良となったり、部分的にパターンが欠けて欠点となるため、好ましくない。本発明の易表面賦形性シート組成物において、かかるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗを上記特定な範囲に制御することにより特にナノオーダーの形状賦形時において、離型でのパターンの破断、倒れ等がなく離型する事ができ、またそのパターンを長期間保存しても、パターン崩れなく、形状を維持する事ができる。
【００２３】
次に（２）について説明する。
【００２４】
ここでいうポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗとは、ＧＰＣで測定した該樹脂組成物のポリスチレン換算分子量と、分子量の対数の重量分率（ｄＷ／ｄｌｏｇＭ）によって描く分子量分布曲線から得られる値であり、分子量分布全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量５，０００以下のピーク面積の積分値が占める割合を示したものである。
【００２５】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物において、ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３重量％以下であることが重要であるが、好ましくは２．０重量％以下、より好ましくは１．０重量％以下である。該ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが、３重量％より上回ると、樹脂組成物中には低分子量成分が多く含まれるため、特にナノオーダーでの賦形後の耐久性や形状熱安定性が悪くなり好ましくない。本発明の易表面賦形性シート樹脂組成物において、ポリスチレン換算分子量が５，０００以下の成分の含有率Ｗを上記特定な範囲に制御することによって、特にナノオーダーの形状賦形時において、離型でのパターンの破断、倒れ等がなく離型する事ができ、またそのパターンを長期間保存しても、パターン崩れなく、形状を維持する事ができる。
【００２６】
易表面賦形性シート用樹脂組成物にポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分が３．０重量％を越えて含まれている場合には、分取用ＧＰＣ、再沈殿、再結晶、抽出などによって除去することにより、ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有率Ｗが３．０重量％以下となるように低分子量成分を除去して使用することができる。
【００２７】
その具体的な方法として、ＧＰＣの場合を示す。ＧＰＣによる分子量の計算方法は、まず、単分散ポリスチレン等の分子量既知の標準混合試料を測定し、各ピークにおけるピークトップの溶出時間とその分子量から、較正曲線を作製する。続いて該樹脂組成物を測定し、較正曲線から相対分子量（ポリスチレン換算分子量）と各分子量成分が溶出される時間を求めることができる。本発明の場合、ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分含有率Ｗが抽出される時間を境界線として樹脂組成物を分取すればよく、また、分取物はエバポレーター等で濃縮した後、加熱乾燥または真空乾燥を行って残留溶媒を揮発させればよい。このとき、分取物を加熱乾燥する場合には、乾燥温度は該樹脂組成物のＴｇ１以上分解温度以下とする。また、再沈殿の場合は少量の良溶媒に樹脂組成物を加熱溶解させた後、大量の貧溶媒を添加（あるいは、大量の貧溶媒中に樹脂組成物の溶解液を添加する）して高分子量の生成物のみを抽出すればよい。ここでいう良溶媒とは、樹脂組成物が容易に溶解するものであれば特に限定されるものではない。また、ここでいう貧溶媒とは、樹脂組成物中に含まれる低分子量成分が容易に溶解するものであれば、特に限定されるものではない。
【００２８】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により得られる、昇温過程（昇温速度：１０℃／ｍｉｎ）における結晶化エンタルピーΔＨｃｃが、好ましくは１Ｊ／ｇ以下、より好ましくは０．１Ｊ／ｇ以下、最も好ましくは０Ｊ／ｇの非晶性樹脂であるのがよい。
【００２９】
ここでいう結晶化エンタルピーΔＨｃｃとは、ＤＳＣによってＪＩＳ  Ｋ７１２２（１９９９）に基づいて求められた値であり、昇温速度１０℃／ｍｉｎで走査した時に得られる示差走査熱量測定（１ｓｔＲＵＮ）チャートにおいて、結晶化に伴う発熱ピークの面積より求めた値である。
【００３０】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物において、該結晶化エンタルピーΔＨｃｃが、１Ｊ／ｇより大きいと、特にナノオーダーでの賦形前のシートの長期保存時において、経時的に結晶化が進行したり、また表面に賦形する際の昇温時にシートを構成する樹脂が素早く結晶化して、賦形しにくくなる。そのため、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時に、高速賦形が困難となるだけでなく、金型への樹脂の充填が不十分となって転写精度が低下したり、面内に圧力不均衡が生じて転写の面内均一性が低下したりする等の理由のため好ましくない。本発明において、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを上述の範囲とすることで、高アスペクト比パターンの賦形時であっても良好な高速賦形性、転写性および面内均一性を得ることができる。
【００３１】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、ＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗとポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎから計算される多分散度Ｍｗ／Ｍｎが３．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは２．５以下、最も好ましくは２．０以下である。このとき、多分散度Ｍｗ／Ｍｎの理論上の最下限値は１．０である。ここでいうポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎは、ＧＰＣによる単分散ポリスチレン標準試料の分子量の対数と、その溶出時間とを３次式で近似し作製した較正曲線を基にして得られる該樹脂組成物の相対分子量（すなわち、ポリスチレン換算分子量）から求められる値であり、式（２）によって算出される。
・ポリスチレン換算数平均分子量
【００３２】
【数２】
2007238742.tif 000003
【００３３】
ここで、Ｎｉは分子数、Ｍｉは分子量較正曲線を介して得られたＧＰＣ曲線の各溶出位置の分子量である。
【００３４】
また、ＧＰＣの測定条件は任意で決められるが、本発明ではクロロホルムを移動層とし、理論段数は１４０００段のカラムを使用、流速を１．０ｍＬ／ｍｉｎとした場合の値を示している。
【００３５】
かかる多分散度Ｍｗ／Ｍｎが大きくなると、該樹脂組成物中に分子量の異なる成分（特に、低分子側領域の成分）が多く含まれていることを意味しており、また、多分散度Ｍｗ／Ｍｎが１であると、その樹脂組成物は単分散であることを意味している。よって、多分散度Ｍｗ／Ｍｎが１に近づくほど、樹脂組成物中の分子構成がより均一であることを表している。
【００３６】
多分散度Ｍｗ／Ｍｎが上記範囲を上回る場合、該樹脂組成物中には低分子量成分が幅広く存在しているため、特にナノオーダーの形状賦形後における耐久性や形状熱安定性が低下する原因となり、好ましくない。
【００３７】
本発明の易表面賦形性シート樹脂組成物において、かかる多分散度Ｍｗ／Ｍｎをこの範囲とすることによって、特にナノオーダーの形状賦形時において、そのパターンを長期間保存しても、パターン崩れなく、形状を維持する事ができる。
【００３８】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、ＧＰＣによるポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚとポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗから計算される多分散度Ｍｚ／Ｍｗが２．０以下であることが好ましく、さらに好ましくは１．９以下、最も好ましくは１．７以下である。このとき、多分散度Ｍｚ／Ｍｗの理論上の最下限値は１．０である。
【００３９】
ここでいう、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚとは、ＧＰＣによる単分散ポリスチレン標準試料の分子量の対数と、その溶出時間とを３次式で近似し作製した較正曲線を基にして得られる該樹脂組成物の相対分子量（すなわち、ポリスチレン換算分子量）から求められる値であり、式（３）によって算出される。
・ポリスチレン換算Ｚ平均分子量
【００４０】
【数３】
2007238742.tif 000004
【００４１】
ここで、Ｎｉは分子数、Ｍｉは分子量較正曲線を介して得られたＧＰＣ曲線の各溶出位置の分子量である。
【００４２】
また、ＧＰＣの測定条件は任意で決められるが、本発明ではクロロホルムを移動層とし、理論段数は１４０００段のカラムを使用、流速を１．０ｍＬ／ｍｉｎとした場合の値を示している。
【００４３】
かかる多分散度Ｍｚ／Ｍｗが大きくなると、該樹脂組成物中に分子量の異なる成分（特に、高分子側領域の成分）が多く含まれていることを意味しており、また、かかる多分散度Ｍｚ／Ｍｗが１であると、その樹脂組成物は単分散であることを意味している。よって、多分散度Ｍｚ／Ｍｗが１に近づくほど、樹脂組成物中の分子構成がより均一であることを表している。
【００４４】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物において、該多分散度Ｍｚ／Ｍｗが上記範囲を上回る場合、該樹脂組成物中には高分子量成分が幅広く存在しているため、特にナノオーダーの形状賦形において、賦形がしにくくなり、パターン全体が形成不良となったり、部分的にパターンが欠けて欠点となるため好ましくない。かかる多分散度Ｍｚ／Ｍｗを上記特定範囲に制御することによって、特にナノオーダーの形状賦形時において、離型でのパターンの破断、倒れ等がなく離型する事ができる。
【００４５】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、熱可塑性樹脂を主たる成分として構成されているものであるが、かかる熱可塑性樹脂としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステルアミド系樹脂、ポリエーテルエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂などを使用することができる。これらの中で共重合するモノマー種の多様性、およびそれによって材料物性の調整が容易であるなどの理由から、特にポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂またはこれらの混合物から選ばれる熱可塑性樹脂から主として形成されていることが好ましい。
【００４６】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、ポリエステル樹脂を主たる成分としてなるものがより好ましく使用される。特にジカルボン酸、もしくはそのエステル形成性誘導体とジオールとを共重合したポリエステルが、重合が容易であることなどから好適に用いられる。
【００４７】
かかるジカルボン酸成分としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、エイコサンジオン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等の脂肪族ジカルボン酸類、アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、イソソルビド、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、などの脂環族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、フェニルエンダンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレン酸等芳香族ジカルボン酸などのジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体などが代表例としてあげられるが、これらに限定されない。分子中に二つのカルボキシル基を有する化合物を適宜選択して使用する。また、これらは単独で用いても、必要に応じて、複数種類用いても構わない。
【００４８】
また、上述のジカルボン酸類のカルボキシル基末端に、ｌ-ラクチド、ｄ−ラクチド、ヒドロキシ安息香酸などのオキシ酸類、およびその誘導体、そのオキシ酸類が複数個連なったもの等を付加させたジカルボキシ化合物も好ましく用いられる。
【００４９】
また、ジオール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、イソソルビドなどの脂環式ジオール類、ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール、１，４−ベンセンジメタノール、９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、などの芳香族ジオール類等のジオールなどが代表例としてあげられるが、これらに限定されない。分子中に二つのヒドロキシル基を有する化合物を適宜選択して使用する。また、これらは単独で用いても、必要に応じて、複数種類用いても構わない。
【００５０】
また、上述のジオール類のヒドロキシ末端にジオール類を付加させたジヒドロキシ化合物も好ましく用いられる。用いられるグリコール類としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等の脂肪族ジオール類、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環式ジオール類、ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール，１，４−ベンセンジメタノールなどの芳香族ジオール類などがあげられる。これらのジオール類は、二つのヒドロキシ末端にそれぞれ異なるジオールが付加されていてもよく、さらには、ジオール類が複数個連なっていてもよい。複数個連なっている場合、異なるジオールが混在していてもよい。
【００５１】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するポリエステル樹脂は、上述のジカルボン酸成分と、ジオール成分を適宜選択して、共重合させることにより得ることができる。
【００５２】
ここで、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するポリエステル樹脂は、少なくともフルオレン骨格を有する繰り返し単位を共重合成分として含むことが特に好ましい。かかるフルオレン骨格を有する繰り返し単位を共重合成分として含むことによって、特にナノオーダーの形状賦形性に優れるだけではなく、高い透明性、および光学歪みを低減させる効果も併せ持つため好ましい。
【００５３】
ポリエステル樹脂にフルオレン骨格を導入するためには、ジオール成分としてフルオレン骨格を有するジオールや、その誘導体を共重合させることによって得ることができる。また、フルオレン骨格を有するジカルボン酸や、その誘導体を共重合させることによっても得ることができる。
【００５４】
かかるフルオレン骨格を有するジオールの例として、９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンの他に、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３、５−エチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３,５−ジプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３,５−ジイソプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジイソブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−（１−メチルプロピル）フェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ビス（１−メチルプロピル）フェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフェニルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３−ベンジルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジベンジルフェニル）フルオレン等があげられる。
【００５５】
また、上述のフルオレン骨格を有するジオールのヒドロキシ末端にジオール類を付加させたジヒドロキシ化合物も好ましく用いられる。用いられるグリコール類としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等の脂肪族ジオール類、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環式ジオール類、ビスフェノールＡ、１，３―ベンゼンジメタノール，１，４−ベンゼンジメタノールなどの芳香族ジオール類などがあげられる。これらのジオール類は、フルオレン骨格を有するジオールの二つのヒドロキシ末端にそれぞれ異なるジオールが付加されていてもよく、さらには、ジオール類が複数個連なっていてもよい。複数個連なっている場合、異なるジオールが混在していてもよい。
【００５６】
また、フルオレン骨格を有するジカルボン酸の例として、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレンの他に、９，９’−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３、５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３、５−エチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−プロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３,５−ジプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３,５−ジイソプロピルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３，５−ジイソブチルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−（１−メチルプロピル）フェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３，５−ビス（１−メチルプロピル）フェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３，５−ジフェニルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３−ベンジルフェニル）フルオレン、９，９’−ビス（４−カルボキシ−３，５−ジベンジルフェニル）フルオレン等があげられる。
【００５７】
また、上述のフルオレン骨格を有するジカルボン酸のカルボキシル基末端に、ｌ-ラクチド、ｄ−ラクチド、ヒドロキシ安息香酸などのオキシ酸類、およびその誘導体、そのオキシ酸類が複数個連なったもの等を付加させたジカルボキシ化合物も好ましく用いられる。
【００５８】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂は、上述のジカルボン酸とジオール、フルオレン骨格を有するジカルボン酸、フルオレン骨格を有するジオールを適宜選択して共重合させることによって得ることができる。その重合方法としては、エステル交換法、直接重合法、溶液重合法、界面重合法など、公知の技術を用いて得ることができる。
【００５９】
ここで、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、全ジオール成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジオールのモル量をｎ１、その他ジオールのモル量をｎ３、全ジカルボン酸成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジカルボン酸のモル量をｎ２、その他ジカルボン酸のモル量をｎ４とした場合、全ジオール成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジオールのモル量ｎ１と、全ジカルボン酸成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジカルボン酸のモル量ｎ２との和ｎ１＋ｎ２が、好ましくは２０≦ｎ１＋ｎ２≦１６０、より好ましくは３０≦ｎ１＋ｎ２≦１５０、最も好ましくは４０≦ｎ１＋ｎ２≦１４０であるのがよい。すなわち、この範囲に満たないと、ポリエステル樹脂が結晶性を有して成形性が低下し、特にナノオーダーの形状の賦形が困難となったり、ポリエステル樹脂の複屈折が大きくなり、成形後に歪みが残ることがあるため好ましくなく、またこの範囲を超えると、シート自体が脆くなり、機械的強度が低下することがあるため好ましくない。つまり、かかるｎ１＋ｎ２を上述の割合とすることによって、特にナノオーダーの形状賦形性に優れるだけでなく、成形品の光学歪みの低減と、機械的強度の両立を達成することができたものである。
【００６０】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、全ジオール成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジオールのモル量をｎ１と、その他ジオールのモル量ｎ３の比ｎ１／ｎ３は、好ましくは２０／８０〜１００／０、より好ましくは３０／７０〜１００／０、最も好ましくは、４０／６０〜１００／０であるのがよい。この比ｎ１／ｎ３が、この範囲を下回ると、ポリエステル樹脂の成形性が低下し、特にナノオーダーの形状の賦形が困難となったり、複屈折が大きくなり、成形後に歪みが残ることがあるため好ましくない。かかる比ｎ１／ｎ３を上述の範囲とすることによって、特にナノオーダーの形状賦形性に優れるだけでなく、成形品の光学歪みも低減させることができたものである。
【００６１】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、全ジカルボン酸成分１００モル中に含まれるフルオレン骨格を有するジカルボン酸のモル分率をｎ２と、その他ジカルボン酸のモル分率をｎ４の比ｎ２／ｎ４は任意であってもよいものであるが、好ましくは０／１００〜６０／４０、より好ましくは０／１００〜５０／５０、最も好ましくは０／１００〜４０／６０であるのがよい。すなわち、かかる比ｎ２／ｎ４が、この範囲を上回ると、重合が困難になったり、重合できたとしてもシート自体が脆くなり、機械的強度が低下することがあるため好ましくない。かかる比ｎ２／ｎ４を上述の範囲とすることによって、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、該ポリエステル樹脂に機械的強度を付与することが可能となる。
【００６２】
ここで、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、その他ジカルボン酸成分１００モル％中、アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、イソソルビド、シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸のモル量をｎ４’、脂環式ジカルボン酸以外のその他ジカルボン酸のモル分率をｎ４”としたときに、その比ｎ４’／ｎ４”が、好ましくは５０／５０〜１００／０、より好ましくは６０／４０〜１００／０、最も好ましくは７０／３０〜１００／０であるのがよい。すなわち、かかる比ｎ４’／ｎ４”が、この範囲を下回ると、成形品の光学歪みが多くなるため好ましくない。かかる比ｎ４’／ｎ４”を上述の値とすることによって、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂おいて、成形品の光学歪みをより低減することができたものである。
【００６３】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物を構成するフルオレン骨格を有するポリエステル樹脂において、下記関係式（１）〜（３）をみたすように共重合率を制御することが好ましい。
３０≦ｎ１＋ｎ２≦１５０                                      （１）
ｎ１／ｎ３＝３０／７０〜１００／０（ただしｎ１＋ｎ３＝１００）（２）
ｎ２／ｎ４＝（任意）              （ただしｎ２＋ｎ４＝１００）（３）
より好ましくは、
４０≦ｎ１＋ｎ２≦１５０                                      （１）
ｎ１／ｎ３＝４０／６０〜１００／０（ただしｎ１＋ｎ３＝１００）（２）
ｎ２／ｎ４＝（任意）              （ただしｎ２＋ｎ４＝１００）（３）
最も好ましくは
４０≦ｎ１＋ｎ２≦１５０                                      （１）
ｎ１／ｎ３＝４０／６０〜１００／０（ただしｎ１＋ｎ３＝１００）（２）
ｎ２／ｎ４＝０／１００〜５０／５０（ただしｎ２＋ｎ４＝１００）（３）
である。
【００６４】
本発明において、この関係式を満たすことによって、特にナノオーダーでの高速賦形が可能となるだけでなく、成形品の光学歪み低減と、機械的強度の両立を達成することができる。
【００６５】
本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物は、ＤＳＣにより測定したときの該樹脂組成物のガラス転移温度Ｔｇ１が、好ましくは７０℃〜１６０℃、さらに好ましくは８０〜１６０℃、特に好ましくは１００〜１５０℃である。
【００６６】
ここでいうガラス転移温度Ｔｇ１とは、ＤＳＣによってＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９９９）に基づいて求められた値であり、昇温速度１０℃／ｍｉｎで走査した時に得られる示差走査熱量測定（１ｓｔＲＵＮ）チャート中のガラス転移に伴う階段状の変化部分について、各ベースラインを延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移に伴う階段状の変化部分の曲線とが交わる点から求めた値である。
【００６７】
該樹脂組成物のガラス転移温度Ｔｇ１が、この範囲を下回ると、該樹脂組成物をシート化して賦形したときに、高精細パターンや高アスペクト比パターンを成形する場合、金型離型時にパターンが変形したり、また、離型できたとしても成形品の熱安定性が低下し、形状が経時変化するため好ましくない。また該樹脂組成物のガラス転移温度Ｔｇ１が、この範囲を上回ると、賦形温度が高くエネルギー的に非効率であり、またシートの加熱／冷却時の体積変動が大きくなりシートが金型に噛み込んで離型できなくなったり、また離型できたとしてもパターンの転写精度が低下したり、部分的にパターンが欠けて欠点となる等の理由により好ましくない。該樹脂組成物は、該ガラス転移温度Ｔｇ１を上記特定範囲に制御したことによって、良好なパターン転写性、離型性を発揮することができたものである。
【００６８】
また、本発明の易表面賦形性シート用樹脂組成物には、本発明の効果が失われない範囲内で、重合時もしくは重合後に各種の添加剤を加えることができる。添加配合することができる添加剤の例としては、例えば、有機微粒子、無機微粒子、分散剤、染料、蛍光増白剤、酸化防止剤、耐候剤、帯電防止剤、離型剤、増粘剤、可塑剤、ｐＨ調整剤および塩などを使用することができる。特に、離型剤として、長鎖カルボン酸、もしくは長鎖カルボン酸塩、などの低表面張力のカルボン酸やその誘導体、および、長鎖アルコールやその誘導体、変性シリコーンオイルなどの低表面張力のアルコール化合物等を重合時に少量添加することが好ましく行われる。重合時にこれらの低表面張力化合物を添加することでポリエステル骨格の末端に低表面張力成分を導入することができ、それにより、離型剤のブリードアウトがなく、金型への樹脂の密着が低減され離型性を向上させることができるために好ましく行われる。
【００６９】
本発明の易表面賦形性シートは、上述の易表面賦形性シート用樹脂組成物を主たる成分として、シート状に加工することによって得ることができる。
【００７０】
また、本発明の易表面賦形性シートは、ガラス転移温度Ｔｇ２＋４０℃での動的粘弾性測定（以下、ＤＭＡと称す）により得られる動的貯蔵弾性率Ｅ２’が１×１０４〜５×１０６Ｐａであることが好ましく、より好ましくは１×１０４〜２．０×１０６Ｐａである。ここでいうガラス転移温度Ｔｇ２とは、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９９９）に基づいて求められた値であり、昇温速度１０℃／ｍｉｎで走査した時に得られる示差走査熱量測定（１ｓｔ  ＲＵＮ）チャート中のガラス転移に伴う階段状の変化部分について、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移に伴う階段状の変化部分の曲線とが交わる点から求めた値である。さらに、ここでいう動的貯蔵弾性率Ｅ２’とは、ＪＩＳ  Ｋ−７２４４に基づいた方法により、引張モード、試料動的振動速さ（駆動周波数）は１Ｈｚ、チャック間距離５ｍｍ、歪振幅１０μｍ、力振幅初期値１００ｍＮ、昇温速度２℃/ｍｉｎでの測定条件にて温度依存性（温度分散）を測定した時に得られる値である。Ｔｇ２＋４０℃での動的貯蔵弾性率Ｅ２’がこの値より高いと、賦形する際にシートの変形が起こりにくくなり、金型への樹脂の充填が途中から進行しなくなって金型の形状を十分に転写できなかったり、できたとしても、賦形速度が遅かったり、成形品に残留応力が残って形状安定性が低下する傾向にある。そのため、荷重を大きくしてプレス圧力を非常に高くしたり、加圧時間を長くするなどを行う必要があるが、効率的ではなく好ましくない。また、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時には、面内に圧力不均衡が生じて転写の面内均一性が低下したりすることもあり、好ましくない。また、荷重が大きくなるほど金型への負荷が大きく、くり返し使用耐久性が低下するため好ましくない。また、この値より低いとプレス時の樹脂の流動性が高くなりすぎて、プレス時に金型内に樹脂が充填せずに流れてしまうため好ましくない。Ｔｇ２＋４０℃での動的貯蔵弾性率Ｅ２’を上記特定な範囲に制御することにより、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの賦形時であっても、高速で賦形できると共に、良好な転写精度、面内均一性を得ることができる。
【００７１】
また、本発明の易表面賦形性シートは、Ｔｇ２＋４０℃でのＤＭＡにより得られる動的損失弾性率Ｅ２”が、好ましくは１×１０３〜１．８×１０６Ｐａ、より好ましくは、１×１０３〜１．５×１０６Ｐａである。すなわち、該動的損失弾性率Ｅ２”がこの値より高いと、賦形する際にシートの変形が起こりにくくなり、金型への樹脂の充填が途中から進行しなくなって金型の形状を十分に転写できなかったり、転写できたとしても、賦形速度が遅かったり、成形品に残留応力が残って形状安定性が低下する傾向にある。そのため、荷重を大きくしてプレス圧力を非常に高くしたり、加圧時間を長くするなどを行う必要があるが、効率的ではなく好ましくない。また、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時には、面内に圧力不均衡が生じて転写の面内均一性が低下したりすることもあり、好ましくない。また、荷重が大きくなるほど金型への負荷が大きく、くり返し使用耐久性が低下するため好ましくない。また、該動的損失弾性率Ｅ２”が、上記値より低いと、プレス時の樹脂の流動性が高くなりすぎて、プレス時に金型内に樹脂が充填せずに流れてしまうため好ましくない。つまり、かかる動的損失弾性率Ｅ２”を上記特定な範囲に制御することにより、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時であっても良好な転写精度を得ることができると共に、良好な転写精度、面内均一性を得ることができたものである。
【００７２】
また、本発明の易表面賦形性シートは、２５℃でのＤＭＡにより得られる動的貯蔵弾性率Ｅ１’が、好ましくは０．１×１０９〜２．５×１０９Ｐａ、より好ましくは０．５×１０９〜２×１０９Ｐａである。すなわち、かかる動的貯蔵弾性率Ｅ１’が、この範囲を上回ると、樹脂の剛性が高くなり、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時に金型からの離型が困難となるため好ましくない。また該動的貯蔵弾性率Ｅ１’が、この範囲に満たないと、成形品の機械的強度が低下し、離型時に変形が起こったり、離型できたとしても形状の経時安定性、耐衝撃性等が悪くなるため好ましくない。つまり、かかる動的貯蔵弾性率Ｅ１’を上記特定な範囲に制御することにより、高精細のパターンや、高アスペクト比パターンの大面積賦形時の離型性と、成形品の機械的強度を両立することができたものである。
【００７３】
また、本発明の易表面賦形性シートは、２５℃でのＤＭＡにより得られる動的貯蔵弾性率Ｅ１’が０．１×１０９〜２．５×１０９Ｐａであり、かつＴｇ２＋４０℃での動的貯蔵弾性率Ｅ２’が１×１０４〜５．０×１０６Ｐａであることが好ましい。より好ましくは、２５℃での動的貯蔵弾性率Ｅ１’が０．５×１０９〜２×１０９Ｐａであり、かつＴｇ２＋４０℃での動的貯蔵弾性率Ｅ２’が１．０×１０４〜２×１０６Ｐａである。すなわち、本発明において、このような特定条件を満たすことによって、高アスペクト比パターンの大面積賦形時の離型性、高速賦形性、転写精度、面内均一性および成形品の機械的強度を得ることができる。
【００７４】
また、本発明の易表面賦形性シートは、２５℃での光弾性係数ｋが、好ましくは５０×１０−１２Ｐａ−１以下、より好ましくは、４０×１０−１２Ｐａ−１以下、最も好ましくは３０×１０−１２Ｐａ−１以下であるのがよい。
【００７５】
ここでいう光弾性係数ｋとは、２５℃、６５ＲＨ％の雰囲気下、厚みｄ（ｎｍ）のシートに無張力の時の位相差Γ１（ｎｍ）、張力Ｆ（Ｐａ）を加えたときに生じる位相差をΓ２（ｎｍ）としたときに、下記算式で定義される値のことである。
・ｋ＝（Γ２−Γ１）／（ｄ×Ｆ）
なお、位相差Γの測定は、フィルムに１ｋｇ／ｍｍ２（９．８１×１０６Ｐａ）の張力をかけた状態で、直交ニコルを備えた偏光顕微鏡（光源にはナトリウムＤ線：波長５８９ｎｍ）を用い、２５℃の雰囲気下で行う。
【００７６】
かかる光弾性係数ｋが、この値より大きいと、加工時に光学歪みが残り、成形品面内において光学特性が変化して色調のムラなどが発生したりすることがあるため、好ましくない。本発明の易表面賦形性シートにおいて、かかる光弾性係数ｋを上述の範囲とすることによって、加工時に光学歪みが残ることなく、成形品面内において均一な光学特性を得ることができる。
【００７７】
本発明の易表面賦形性シートのガラス転移温度Ｔｇ２は、好ましは７０〜１６０℃、より好ましくは８０〜１６０℃、特に好ましくは１００〜１５０℃の範囲であるのがよい。すなわち、かかるガラス転移温度Ｔｇ２がこの範囲を下回ると、高精細パターンや高アスペクト比パターンの成形の離型時にパターンが変形したり、また、離型できたとしても成形品の耐熱性が低く、形状が経時変化するため好ましくない。また該ガラス転移温度Ｔｇ２がこの範囲を上回ると、賦形温度が高くエネルギー的に非効率であり、またシートの加熱／冷却時の体積変動が大きくなりシートが金型に噛み込んで離型できなくなったり、また離型できたとしてもパターンの転写精度が低下したり、部分的にパターンが欠けて欠点となる等の理由により好ましくない。つまり、本発明の易表面賦形性シートにおいて、シートのガラス転移温度Ｔｇ２を上記特定な範囲に制御することにより良好な転写性、離型性を得ることができる。
【００７８】
本発明の易表面賦形性シートのガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”、光弾性係数ｋなどは、シートを構成する樹脂のモノマー種を適宜共重合させることによって調整可能である。例えば、その他ジオール成分として、ビスフェノール−Ａや、スピログリコールのような剛直な骨格を導入することによって、ガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’が上昇する。また、ポリエチレングリコールのような柔軟な骨格を導入するとガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’が低下する。
【００７９】
また、可塑剤や架橋剤などの導入によっても、ガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”、などを制御することができる。可塑剤の場合、その種類、添加量によって制御することができる。すなわち可塑剤の量が多くなるほどガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”は低下し、破断伸度などは向上する。また架橋剤の場合、その添加量を多くしたり、架橋の進行度を高くすると、ガラス転移温度Ｔｇ２、動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”が向上し、破断伸度が低下する。これらも勘案して、適宜調整して添加することによって、前述の条件範囲に満たすようにシート化することもできる。
【００８０】
また、本発明の易表面賦形性シートには、電磁波照射により硬化する成分などを添加しても構わない。この場合、金型から転写した成形品に電磁波を照射して硬化させることで、成形品の機械強度、熱的安定性を向上させることができる。
【００８１】
また、本発明の易表面賦形性シートは、本発明の効果が失われない範囲内で、各種の添加剤を加えることができる。添加配合することができる添加剤の例としては、例えば、有機微粒子、無機微粒子、分散剤、染料、蛍光増白剤、酸化防止剤、耐候剤、帯電防止剤、重合禁止剤、離型剤、増粘剤、ｐＨ調整剤および塩などを使用することができる。
することができる。
【００８２】
本発明の易表面賦形性シートは、一軸、または二軸方向に延伸されていても構わない。しかしながら、用いる材料によっては、高倍率の延伸によって配向結晶化が進む結果、ガラス転移温度Ｔｇ２，動的貯蔵弾性率Ｅ’、及び動的損失弾性率Ｅ”の上昇を伴い、成形性が低下することがあるため、物性値の変化に併せて適宜制御しながら延伸を行うのが好ましい。
【００８３】
本発明の易表面賦形性シートは、上述の樹脂単体からなるシートであってもかまわないし、複数の層からなる積層体であってもよいが、かかる積層体の場合は、積層体の少なくとも片側の表面（表面層、表層）に上述の、つまり易表面賦形性シートからなる層を設ける必要がある。
【００８４】
すなわち、本発明の易表面賦形性シート積層体は、前記易表面賦形性シート用樹脂組成物からなる易表面賦形性シート層と、支持体となる基材を少なくとも含む複数の層からなる積層体であって、しかもその積層体の少なくとも片側の表面層に該易表面賦形性シート層が配置されている積層構造を有するものである。
【００８５】
かかる積層体の場合、単体シートと比べて、易滑性や、耐摩擦性などの表面特性や、機械的強度、成形品形状の熱安定性を付与することができる。このように複数の層からなる積層体とした場合は、シート全体が前述の要件を満たすことが好ましいが、シート全体としては前述要件を満たしていなくても、少なくとも前述の要件を満たす層が表層に形成されていれば容易に表面を賦形することができる。つまり、本発明の易表面賦形性シート積層体全体としては前述要件を満たしていなくても、該易表面賦形性シートが表面層として形成されているため、容易に表面を賦形することができる。
【００８６】
かかる支持体となる基材は、賦形の際にその形状が変化するシート状のもの、賦形の際にその形状が変化しないシート状のもの、およびそれらを組み合わせたもの、いずれでも構わないが、賦形した成形品の寸法安定性などの観点から、賦形の際にその形状が変化しないシート状のものを少なくとも一層含むのが好ましい。また、この場合、易表面賦形性シート層は、賦形の際にその形状が変化するシート状のもの側、賦形の際にその形状が変化しないシート状のもの側、どちらに形成されていても構わない。
【００８７】
ここで、賦形の際にその形状が変化しないシート状のものとは、好ましくは該易表面賦形性シート層のガラス転移温度（以下、Ｔｇ２１）＋４０℃において、ＤＭＡにより得られる基材の動的貯蔵弾性率Ｅ２’が、５×１０７Ｐａ以上であることが好ましく、より好ましくは１．０×１０８Ｐａ以上であるものがよい。
【００８８】
ここで、該易表面賦形性シート層のガラス転移温度Ｔｇ２１とは、該積層体の該易表面賦形性シート層をカッターで削り取り、得られたものを、ＤＳＣによってＪＩＳ  Ｋ−７１２１（１９９９）に基づいた方法により求められた値であり、昇温速度１０℃／ｍｉｎで走査した時に得られる示差走査熱量測定（１ｓｔ  ＲＵＮ）チャート中のガラス転移に伴う階段状の変化部分について、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移に伴う階段状の変化部分の曲線とが交わる点から求めた値である。
【００８９】
基材のかかる動的貯蔵弾性率Ｅ２’がこの値に満たないと、成形のために圧力印加した際において易表面賦形性シート層へ十分に圧力がかからなくなり、パターンの精度が低くなるため好ましくない。本発明の易表面賦形性シート積層体は、該基材の動的貯蔵弾性率Ｅ２’が上述の範囲に制御されたものを用いることによって、易表面賦形性シート層を精度よく成形可能なシートとすることができる。
【００９０】
また、本発明の易表面賦形性シート積層体の表面に設けられた易表面賦形性シート層のガラス転移温Ｔｇ２１は、７０〜１６０℃の範囲であるのが好ましい。より好ましくは８０〜１６０℃、更に好ましくは１００〜１５０℃である。すなわち、かかるガラス転移温度Ｔｇ２１がこの範囲を下回ると、高精細パターンや高アスペクト比パターンの成形の離型時にパターンが変形したり、また、離型できたとしても成形品の耐熱性が低く、形状が経時変化するため好ましくない。またかかるガラス転移温度Ｔｇ２１が、この範囲を上回ると、賦形温度が高くエネルギー的に非効率であり、またシートの加熱／冷却時の体積変動が大きくなりシートが金型に噛み込んで離型できなくなったり、また離型できたとしてもパターンの転写精度が低下したり、部分的にパターンが欠けて欠点となる等の理由により好ましくない。本発明の易表面賦形性シート積層体において、かかるガラス転移温度Ｔｇ２１を上記特定な範囲に制御した易表面賦形性シート層を使用したことにより、良好な転写性、離型性を得ることができたものである。
【００９１】
また、本発明の易表面賦形性シート積層体は、該基材と該シート層との剥離強度Ｆが、好ましくは５０ｍＮ／ｃｍ以上、より好ましくは７０ｍＮ／ｃｍ以上、最も好ましくは１００ｍＮ／ｃｍ以上であることがよい。
【００９２】
ここでいう剥離強度Ｆとは、本発明の易表面賦形性シート積層体の表面に設けられた易表面賦形性シート層を、基材に対して１８０°方向に剥離したときの剥離強度Ｆであり、剥離力のＳＳカーブの立ち上がり部分を除いた剥離長さ５０ｍｍ以上の平均剥離力Ｔ（Ｎ）から、
・剥離強度Ｆ（Ｎ／ｃｍ）＝Ｔ／Ｗ
（ここで、Ｔ（Ｎ）：平均剥離力、Ｗ（ｃｍ）：サンプル幅）
で求められる値である。
【００９３】
該基材と該シート層との剥離強度が、上記値未満であると、本発明の表面賦形性シート積層体の表面に金型を押し当てた後、離型しようとしても、基材とシート層間で剥離が起こり、離型ができないため好ましくない。本発明の易表面賦形性シート積層体において、基材とシート層との剥離強度を上述の値以上とすることによって、高精細のパターンや、高アスペクト比のパターン成形時においても、基材と表層間で剥離が起こることなく離型することができる。
【００９４】
本発明の易表面賦形性シート積層体に用いる基材の例としては、ポリエステル樹脂、二軸延伸ポリエステルフィルム、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の有機フィルム基材や、シリコン、ガラス、ステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鋼、チタン等の金属基材およびコンクリート等の無機基材、ケイ素系樹脂など有機無機複合基材、及びこれらを組み合わせたものなどが適用可能であるが、より好ましくは可撓性を有する基材を用いることが、取り扱い性や軽量化の点からよい。さらに好ましくは二軸延伸したポリエステルフィルムが取り扱い性と機械強度を兼ね備えているだけでなく、他の機能を容易に付与させることができるという点から好ましい。また、さらに他の機能をもった基材との複合体としての構成も好ましく採用される。
【００９５】
本発明の易表面賦形性シート積層体の基材として二軸延伸したポリエステルフィルムを用いた場合、該積層体の表面に設けられた易表面賦形性シート層の屈折率は１．５８〜１．７が好ましく、より好ましくは１．６０〜１．６８である。該易表面賦形性シート層の屈折率がこの範囲を外れると、基材ポリエステルとの屈折率差が大きくなり、薄膜干渉による色均一性が低下するため好ましくない。本発明の易表面賦形性シート積層体において、該積層体の表面に設けられた易表面賦形性シート層の屈折率を上述の範囲とすることによって、良好な色均一性を有するシートを得ることができる。
【００９６】
かかる基材には、本発明の効果が失われない範囲内で、各種の添加剤を加えることができる。添加配合することができる添加剤の例としては、例えば、有機微粒子、無機微粒子、分散剤、染料、蛍光増白剤、酸化防止剤、耐候剤、帯電防止剤、重合禁止剤、離型剤、増粘剤、ｐＨ調整剤および塩などを使用することができる。
【００９７】
本発明の易表面賦形性シートの厚さ（厚み、膜厚）としては、単体シートの場合、好ましくは１０μｍ〜５ｍｍ、より好ましくは２０μｍ〜２ｍｍの範囲であるのがよい。また、易表面賦形性シート積層体の場合は、該基材上に、前記易表面賦形性シートからなる層を、好ましくは０．１μｍ〜５ｍｍ、より好ましくは０．２μｍ〜２ｍｍの範囲の厚さとなるように設けるのがよい。なお、この場合、基材の厚さは特に限定されない。
【００９８】
本発明の易表面賦形性シートの形成方法としては、例えば単体シートの場合、シート形成用材料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（溶融キャスト法）を使用することができる。その他の方法として、シート形成用材料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法（溶液キャスト法）等も使用することができる。
【００９９】
また、易表面賦形性シート積層体の製造方法としては、二つの異なる熱可塑性樹脂を二台の押出機に投入し、溶融して口金から冷却したキャストドラム上に共押出してシート状に加工する方法（共押出法）、単膜で作製したシートに被覆層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法（溶融ラミネート法）、基材と易表面賦形性シートとをそれぞれ別々に作製し、加熱されたロール群などにより熱圧着する方法（熱ラミネート法）、接着剤を介して張り合わせる方法（接着法）、その他にはシート形成用材料を溶媒に溶解させてその溶液をシート上に塗布する方法（コーティング法）、およびこれらを組み合わせた方法等を使用することができる。ここで、本発明の易表面賦形性シート積層体の製造方法として、溶融ラミネート法、熱ラミネート法、接着法、コーティング法等に用いる基材は、易接着層などの下地調整材や下塗り材などの塗布層が設けられたものが該易表面賦形性シート層との接着力の点で好ましく用いられる。この場合、該塗布層を構成する樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ケイ素樹脂等の熱可塑性樹脂、およびそれらの混合物等が易表面賦形性シート層に応じて適宜選択される。特に、基材として二軸延伸ポリエステルフィルムを用いた場合、接着性の点からポリエステル系樹脂を主たる成分としたものが好ましく用いられる。ここでいう主たる成分とは、該塗布層を構成する熱可塑性樹脂のうち、ポリエステル系樹脂が５０重量％以上から成ることを示し、より好ましくは６０重量％以上、最も好ましくは７０重量％以上である。
【０１００】
また、基材との密着性向上、ブロッキング防止等の点で、塗布層に、架橋剤を含有するのが好ましい。架橋剤としては、塗布層を構成する樹脂に存在する官能基、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、グリシジル基、アミド基等と架橋反応する樹脂や化合物が好ましく用いられ、その例としてはメチロール化あるいはアルキロール化した尿素系、メラミン系、アクリルアミド系、ポリアミド系樹脂及びエポキシ化合物、イソシアネート化合物、カップリング剤、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物等、及びそれらの混合物等を使用することができる。架橋剤の種類は、基材、表面層、塗布層を構成する樹脂、架橋剤の種類等によって適宜選択されるが、その含有量は通常、樹脂固形分１００重量部に対し、０．０１〜５０重量部が好ましく、０．２〜３０重量部の範囲がより好ましい。また、架橋剤には、触媒を併用して架橋反応を促進させることも好ましく行われる。なお、架橋反応方式としては、加熱方式、電磁波照射方式、吸湿方式などのいずれでも構わないが、通常は加熱による方法が好ましく用いられる。
【０１０１】
また、塗布層には、塗布層の滑り性改良や、ブロッキング防止のために微粒子を含有するのが好ましい。その例として、無機微粒子や有機微粒子などを使用することができる。
【０１０２】
かかる無機微粒子としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、レニウム、バナジウム、オスミウム、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、プラセオジウム、クロム、ニッケル、アルミニウム、スズ、亜鉛、チタン、タンタル、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、イットリウム、ランタニウム等の金属、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セシウム、酸化アンチモン、酸化スズ 、インジウム・スズ酸化物、酸化イットリウム 、酸化ランタニウム 、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム 、酸化ケイ素等の金属酸化物、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム 、フッ化アルミニウム 、氷晶石等の金属フッ化物、リン酸カルシウム等の金属リン酸塩、炭酸カルシウム等の炭酸塩、硫酸バリウム等の硫酸塩、その他タルクおよびカオリンなどを用いることができる。
【０１０３】
また、有機微粒子としては、架橋スチレンや架橋アクリルなどの架橋微粒子の他、塗布層を構成する熱可塑性樹脂に対して非相溶だが、微分散して海島構造を形成する熱可塑性樹脂も微粒子として用いることもできる。
【０１０４】
かかる微粒子の形状としては、真球状、回転楕円体状、扁平体状、数珠状、板状または針状等、特に限定されない。また、かかる微粒子の平均粒径は、好ましくは０．０５〜１５μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍが分散性、滑り性、耐ブロッキング性の点からよい。また、かかる微粒子の添加量は任意であるが、通常は樹脂固形分１００重量部に対して０．１重量部〜５０重量部、より好ましくは１〜３０重量部である。
【０１０５】
また、塗布層には、効果が失われない範囲内で、必要に応じて、各種の添加剤を加えることができる。添加配合することができる添加剤の例としては、例えば、分散剤、染料、蛍光増白剤、酸化防止剤、耐候剤、帯電防止剤、重合禁止剤、増粘剤、消泡剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、ｐＨ調整剤および塩などを使用することができる。
【０１０６】
上記、塗布層を基材上へ形成する方法としては、上述の塗布層を構成する材料を溶媒に溶解／分散させた塗液を基材上に塗布、乾燥することを使用することができる。この際、用いる溶媒は任意であるが、水を主たる成分として用いることが好ましい。その場合、塗布性や、溶解性などの改良のため、水に溶解する有機溶剤を少量添加させても構わない。
【０１０７】
かかる有機溶剤の例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｎ―ブチルアルコールなどの脂肪族または脂環族アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールなどのジオール類、メチルセロソロブ、エチルセロソロブプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのジオール誘導体、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミルなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類など、および、これらの混合物を使用することができるがこれらに限定されない。
【０１０８】
塗布層を基材上に塗設する方法としては、基材の製膜中に塗設するインラインコーティング法、製膜後の原反に塗設するオフラインコーティング法があげられ、どちらでも用いることが出来るが、より好ましくは基材製膜と同時にできて効率的であり、かつ塗布層の基材への接着性が高いという理由からインラインコーティング法が好ましく用いられる。また、塗設する際には濡れ性向上、接着力向上の観点から基材表面へコロナ処理なども好ましく行われる。
【０１０９】
また、本発明の易表面賦形性シート積層体の基材として二軸延伸ポリエステルフィルムを選択した場合、易表面賦形性シート積層体の製造方法として、上述の溶融ラミネート法、熱ラミネート法、コーティング法等の方法の他に、二台の押出機にシート形成用材料と、基材用のポリエステル材料をそれぞれ投入し、溶融して口金から冷却したキャストドラム上に共押出して、二軸延伸した後、熱処理を施す方法（共押出二軸延伸法）も好ましく行われる。
【０１１０】
二軸延伸する方法としては、長手方向と幅方向の延伸とを分離して行う逐次二軸延伸方法や、長手方向と幅方向の延伸を同時に行う同時二軸延伸方法のどちらであっても構わない。
【０１１１】
また、二軸延伸での熱処理工程における熱処理温度Ｔａは、表層の融点（もしくは軟化点）をＴｍ１、基材の融点をＴｍ２とした時に、Ｔｍ２＞Ｔａ＞Ｔｍ１とすることが好ましい。この温度範囲で熱処理を行うことで、基材を熱固定して機械的強度を付与すると同時に、表層を溶融させて均一化し、易成形性を付与することができる。
【０１１２】
本発明の易表面賦形性シート、および易表面賦形性シート積層体を用いてパターンを形成する方法の例について、図１を用いて説明する。
【０１１３】
本発明の易表面賦形性シート（または積層体の易表面賦形性シート層）１と、転写すべきパターンと反転した凹凸を有する金型２とを、シートのガラス転移温度Ｔｇ２またはＴｇ２１（以下、これらをＴｇ２と示す）以上融点Ｔｍ未満の温度範囲内に加熱し（図１（ａ））、本発明の易表面賦形性シート（または積層体の易表面賦形性シート層）１と金型２を接近させ、そのまま所定圧力でプレス、所定時間保持する（図１（ｂ））。次にプレスした状態を保持したまま降温する。最後にプレス圧力を解放して金型２からシートを離型する（図１（ｃ））。
【０１１４】
また、本発明の表面賦形方法としては、図１に示したような平版をプレスする方法（平版プレス法）の他に、表面に凹凸を形成したロール状の金型を用いて、ロール状シートに成形し、ロール状の成形体を得るロールｔｏロールの連続成形であってもよい。ロールｔｏロール連続成形の場合、生産性点で平版プレス法より優れている。
【０１１５】
本発明の表面賦形方法において、加熱温度、およびプレス温度Ｔ１はＴｇ２℃〜Ｔｇ２＋６０℃の範囲内であることが好ましい。この範囲に満たないと、動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”が十分に低下していないため、金型をプレスしたときの変形が起こりにくくなり、成形に必要な圧力が非常に高くなる。またこの範囲を上回ると、加熱温度、およびプレス温度Ｔ１が高くエネルギー的に非効率であり、また、金型とシートの加熱／冷却時の体積変動量の差が大きくなりすぎて、シートが金型に噛み込んで離型できなくなったり、また離型できたとしてもパターンの精度が低下したり、部分的にパターンが欠けてしまう等の理由により好ましくない。本発明の表面賦形方法においては、加熱温度、およびプレス温度Ｔ１を上記特定な範囲に制御することにより、良好な成形性と、離型性を両立することができる。  
【０１１６】
本発明の表面賦形方法において、プレス圧力は、プレス温度Ｔ１での動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”の値等により適宜調整されるが、０．５〜５０ＭＰａが好ましい。より好ましくは１〜３０ＭＰａである。この範囲に満たないと金型内への樹脂の充填が不十分となりパターン精度が低下する。またこの範囲を超えると、必要とする荷重が大きくなり、金型への負荷が大きく、くり返し使用耐久性が低下するため好ましくない。プレス圧力を上記特定な範囲に制御することにより、良好な転写性を得ることができる。
【０１１７】
本発明の表面賦形方法において、プレス圧力保持時間は、プレス温度Ｔ１での動的貯蔵弾性率Ｅ’、動的損失弾性率Ｅ”の値等と成形圧力により適宜調整されるが、平板プレスの場合、１０秒〜１０分が好ましい。この範囲に満たないと金型内への樹脂の充填が不十分となりパターン精度が低下したり、面内均一性が低下する。またこの範囲を超えると、樹脂の熱分解による劣化などが起こり成形品の機械的強度が低下する可能性があるため好ましくない。本発明の表面賦形方法においては、保持時間を上記特定な範囲に制御することにより良好な転写性と、成形品の機械的強度の両立ができる。ただし、ロールｔｏロール成形の場合はプレス時間が１０秒以下であっても構わない。
【０１１８】
また本発明の表面賦形方法において、プレス圧力開放温度Ｔ２は、該表面賦形性シートのガラス転移温度Ｔｇ２−１０℃〜Ｔｇ２＋３０℃の温度範囲内で、プレス温度Ｔ１より低いのが好ましい。より好ましくはＴｇ２℃〜Ｔｇ２＋３０℃である。この範囲に満たないと、プレス時の樹脂の変形が残留応力として残り、離型時にパターンが崩壊したり、離型できたとしても成形品の熱的な安定性が低下するため好ましくない。またこの範囲を上回ると、圧力解放時の樹脂の流動性が高いため、パターンが変形したりして転写精度が低下したりするため好ましくない。本発明の表面賦形方法においては、プレス圧力開放温度Ｔ２をこの範囲とすることによって、良好な転写性と離型性とを両立することができる。
【０１１９】
また本発明の表面賦形方法において、離型温度Ｔ３は２０℃〜Ｔ２℃の温度範囲内であることが好ましく、より好ましくは２０℃〜Ｔｇ２℃の温度範囲である。この範囲を上回ると、離型時の樹脂の流動性が高いため、パターンが変形したりして精度が低下するため好ましくない。本発明の表面賦形方法においては、離型時の温度をこの範囲とすることによって、パターン精度よく離型することができる。
【０１２０】
本発明の表面賦形方法に用いる金型の横断面図を図２（ａ）〜（ｆ）に例示する。図２の横断面にて観察される金型凸部１１の形状としては、矩形（図２（ａ））、台形（図２（ｂ））、三角形（図２（ｃ））、これらが変形したもの（図２（ｄ）、（ｅ）、（ｆ））、およびこれらの混在したもの等が好ましく用いられるが、これら以外の形状も用いることができる。すなわち、横断面図において金型凸部１１の側面が、ほぼシート面に対して垂直な図２（ａ）等の他にも、図２（ｂ）〜（ｆ）のような形態も含まれる。図２では隣接する金型凸部１１間に平坦部が形成されている例を示したが、隣接する金型凸部１１間が平坦でなくてもよく、さらには隣接金型凸部１１の裾が連結していてもよい。また、金型凹部１２の形状についても、上記金型凸部１１と同様に、矩形、台形、三角形、釣鐘型、またはこれらが変形したもの等の形状を好ましく用いることができる。
【０１２１】
図３（ａ）〜（ｈ）は、それぞれ、金型をその面と平行に切断した場合の断面における、金型凸部１１と金型凹部１２との配置を模式的に示す断面図である。図３（ａ）〜（ｈ）のように金型凹部１２の形状が、線状、略三角形、略四角形、略六角形、円、楕円等から選ばれる形状を有していてもよい。図３（ａ）〜（ｃ）は金型凹部１２がストライプ状である場合、図３（ｄ）は金型凹部１２の断面が円形状である場合、図３（ｅ）は三角形状である場合、図３（ｆ）〜（ｇ）は四角形状である場合、図３（ｈ）は六角形状である場合を、それぞれ例示するものである。この金型凹部１２は、図示した場合のように整列していてもよく、またランダムに配列していたり、異なる形状が混在していてもよい。また、図４（ａ）〜（ｄ）のように、金型凸部１１の形状が、略三角形、略四角形、略六角形、円、楕円等から選ばれる形状を有していてもよい。
【０１２２】
また、本発明における表面賦形方法に用いる金型凸部１１の幅Ｓは好ましくは０．００１〜２０μｍ、より好ましくは、０．００５〜１０μｍ、最も好ましくは０．０１〜５μｍである。高さＨは好ましくは０．００１〜２０μｍ、より好ましくは０．００５〜１０μｍ、最も好ましくは０．０１〜５μｍである。また、金型凸部１１のアスペクト比Ｈ／Ｓは好ましくは０．１〜２５であり、より好ましくは１〜２０である。
【０１２３】
ここで、金型凸部１１の幅Ｓは、図２（ａ）に図示したように、金型凸部１１の単位長さである。なお、図３のストライプ状パターンの場合は単位長さの短い方向で測定する。図３（ｄ）〜（ｈ）の場合は単位長さが最も短いところを幅Ｓとする。また、図４（ａ）の様に金型凸部１１が円形の場合はその直径を、楕円の場合はその短径を、図４（ｂ）〜（ｄ）の様に三角形・四角形などの多角形の場合はその内接円の直径を、金型凸部１１幅Ｓとすればよい。また、金型の厚み方向における金型凸部１１の高さＨは図２に示すように、金型凸部１１の厚みを指す。
【０１２４】
また、この配列層は、この配列層内の金型面方向断面において、金型凸部１１の面積と金型凹部１２の面積比率は任意である。
【０１２５】
ここで、金型凸部１１の幅、金型凹部１２の幅は、図２（ａ）の場合、それぞれＳ、ｔの長さでもって表される。なお、図２（ｂ）等のようにその長さ単位が位置により異なる場合はその平均値でもって表す。また、凹凸のくり返し単位（ピッチ）は金型凸部の幅Ｓと金型凹部の幅ｔの和で表され、金型凸部１１のピッチは、好ましくは０．００２〜４０μｍ、より好ましくは０．０１〜２０μｍ、最も好ましくは０．０２〜１０μｍである。      
【０１２６】
金型の材質は特に限定されるものではなく、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、ニッケル（Ｎｉ）などが用いられ、また、金型は上述の材質をそのまま用いても良く、さらには易滑性を付与するため、金型の表面を表面処理剤で処理しても良い。表面処理による金型の表層の接触角としては、好ましくは８０°以上、より好ましくは１００°以上である。
【０１２７】
表面処理の方法としては、表面処理剤を金型表面に化学結合を用いて固定する方法（化学吸着法）や、表面処理剤を金型表面に物理的に吸着させる方法（物理吸着法）等を使用することができる。この中で、表面処理効果のくり返し耐久性、および成形品への汚染防止の観点から化学吸着法により表面処理するのが好ましい。
【０１２８】
化学吸着法に用いられる表面処理剤の好ましい例としては、フッ素系シランカップリング剤を使用することができる。これを用いた表面処理方法としては、有機溶剤（アセトン、エタノール）中での超音波洗浄、硫酸等の酸、過酸化水素等の過酸化物の溶液中での煮沸洗浄、などの洗浄方法により金型の表面を洗浄した後、フッ素系シランカップリング剤で処理する。その処理方法の一例として、フッ素系シランカップリング剤をフッ素系溶剤に溶解させた溶液に金型を浸漬することを使用することができる。浸漬時には、溶液を加熱することも好ましく行われる。
【０１２９】
本発明の表面賦形方法によって得られる成形品とは、本発明の易表面賦形性シートに金型を用いて賦形されたものであり、その横断面図は図５（ａ）〜（ｂ）に例示するように、シート状の基部４上に賦形部３が形成されたものである。図５（ａ）は、本発明の易表面賦形性シートに賦形した成形品を、図５（ｂ）は本発明の易表面賦形性シート積層体に賦形した場合の成形品を模式的に表す横断面図である。本発明の表面賦形方法によって得られる成形品の形状としては、好ましくは用いる金型と凹凸が反転したものであって、具体的な横断面図を  図６（ａ）〜（ｆ）に例示する。図６の横断面にて観察される成形品の凸部２２の形状としては、矩形（図６（ａ））、台形（図６（ｂ））、三角形（図６（ｃ））、これらが変形したもの（図６（ｄ）、（ｅ）、（ｆ））、およびこれらの混在したもの等が好ましく用いられるが、これら以外の形状も用いることができる。すなわち、横断面図において成形品の凸部２２の側面が、ほぼシート面に対して垂直な図６（ａ）等の他にも、図６（ｂ）〜（ｅ）のような形態も含まれる。また、図６では隣接する成形品の凸部２２間に平坦部が形成されている例を示したが、隣接する成形品の凸部２２間が平坦でなくてもよく、さらには隣接成形品の凸部２２の裾が連結していてもよい。また、成形品の凹部２１の形状についても、上記成形品の凸部２２と同様に、矩形、台形、三角形、釣鐘型、またはこれらが変形したもの等の形状を好ましく用いることができる。
【０１３０】
図７（ａ）〜（ｈ）は、それぞれ、本発明の表面賦形方法によって得られる成形品その面と平行に切断した場合の断面における、成形品の凸部２２と成形品の凹部２１との配置を模式的に示す断面図である。図７（ａ）〜（ｈ）のように成形品の凹部２１の形状が、線状、略三角形、略四角形、略六角形、円、楕円等から選ばれる形状を有していてもよい。図７（ａ）〜（ｃ）は成形品の凹部２１がストライプ状である場合、図７（ｄ）は成形品の凹部２１の断面が円形状である場合、図７（ｅ）は三角形状である場合、図７（ｆ）〜（ｇ）は四角形状である場合、図７（ｈ）は六角形状である場合を、それぞれ例示するものである。この成形品の凹部２１は、図示した場合のように整列していてもよく、またランダムに配列していたり、異なる形状が混在していてもよい。また、図８（ａ）〜（ｄ）のように、成形品の凸部２２の形状が、略三角形、略四角形、略六角形、円、楕円等から選ばれる形状を有していてもよい。
【０１３１】
また、本発明の表面賦形方法によって得られる成形品が、その凸部２２のアスペクト比Ｈ’／Ｓ’は好ましくは０．１〜１５、より好ましくは１〜１０である。さらにかかる凸部２２の形状は、凸部２２の幅Ｓ’が好ましくは０．００１〜２０μｍ、より好ましくは０．００５〜１０μｍ、最も好ましくは０．０１〜５μｍである。また該凸部２２の高さＨ’が好ましくは０．００１〜２０μｍ、より好ましくは０．００５〜１０μｍ、最も好ましくは０．０１〜５μｍである。
【０１３２】
ここで、成形品の凸部２２の幅Ｓ’は、図６（ａ）に図示したように、成形品の凸部２２の単位長さである。なお、図７（ａ）〜（ｃ）のストライプ状パターンの場合は単位長さの短い方向で測定する。図７（ｄ）〜（ｈ）の場合は単位長さが最も短いところを幅Ｓ’とする。また、図８（ａ）の様に成形品の凸部２２が円形の場合はその直径を、楕円の場合はその短径を、図８（ｂ）〜（ｄ）の様に三角形・四角形などの多角形の場合はその内接円の直径を、成形品の凸部２２幅Ｓ’とすればよい。また、成形品の厚み方向における成形品の凸部２２の高さＨ’は図６に示すように、成形品の凸部２２の厚みを指す。
【０１３３】
また、この配列層は、この配列層内の成形品面方向断面において、成形品の凸部２２の面積と成形品の凹部２１の面積比率は任意である。
【０１３４】
ここで、成形品の凸部２２の幅、成形品の凹部２１の幅は、図６（ａ）の場合、それぞれＳ’、ｔ’の長さでもって表される。なお、図６（ｂ）等のようにその長さ単位が位置により異なる場合はその平均値でもって表す。また、凹凸のくり返し単位（ピッチ）は成形品の凸部２２の幅Ｓ’と、成形品の凹部２１の幅ｔ’との和で表され、成形品の凸部２２のピッチは好ましくは０．００２〜４０μｍ、より好ましくは０．０１〜２０μｍ、最も好ましくは０．０２〜１０μｍである。 
【０１３５】
また、本発明の表面賦形方法によって得られる成形品の基部４の厚みｌ’としては、任意であるが、機械的強度等の面から２０μｍ〜２ｍｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１ｍｍであり、さらに好ましくは５０μｍ〜５００μｍである。しかしながら、図５（ｂ）の様に、本発明の易表面賦形性シート積層体に賦形した場合は基部の厚みｌ’は特に限定はされず、２０μｍ以下であっても構わない。   
【０１３６】
また、転写性（転写率）は成形品凸部の断面積Ａ’と、金型凹部の断面積Ａとの比Ａ’／Ａでもって判断される。転写性が良好であるとは、その比Ａ’／Ａが好ましくは０．９０以上、より好ましくは０．９５以上であることを示す。
【０１３７】
本発明の易表面賦形性シートまたは易表面賦形性シート積層体を用いて作製された成形品は、易表面賦形性シート用樹脂組成物のガラス転移温度Ｔｇ１−２０℃に設定したホットプレート上や熱風オーブン内などの加熱条件下において、５分以上熱処理しても、賦形したパターンの変形や収縮が起こらないことが好ましく、さらに好ましくは該Ｔｇ１−１５℃の環境下において５分以上、最も好ましくは該Ｔｇ１−１０℃の環境下において５分以上である。この条件を満たせば、成形品の耐久性や形状熱安定性が向上し、また、長期間に渡って保存した場合でも安定性が増すため好ましい。
【０１３８】
本発明の易表面賦形性シートを用いて作製された成形品は、各種用途に使用することが可能であるが、用途の一例としては、バイオチップ、半導体集積材料、意匠部材、光回路、光コネクタ部材、およびディスプレイ用部材などを使用することができる。
【０１３９】
［特性の評価方法］
Ａ．ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ
東ソー（株）製ゲル浸透クロマトグラフＧＰＣ（８）を用いてＭｗ、Ｍｎ、Ｍｚを求めた。検出器は昭和電工（株）製示差屈折率検出器ＲＩ（ＲＩ−７１型、感度６４）、カラムは東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＨＲ−Ｍ（φ７．８ｍｍ×３０ｃｍ、理論段数１４，０００段）を２本用いた。移動層にはクロロホルムを用い、下記の通り溶液を調製した。流速は１．０ｍＬ／ｍｉｎ、カラム温度は２３℃±２℃、注入量は０．２００ｍＬであった。標準試料には単分散ポリスチレン（東ソー（株）製ＴＳＫ標準ポリスチレン）を用いた。
【０１４０】
溶液の調製：溶液濃度が０．２重量％となるように樹脂組成物溶解液を調製、室温で緩やかに撹拌した。該溶液を孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過して用いた。
【０１４１】
Ｂ．ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分含有率Ｗ
上記ＧＰＣによって得られた各樹脂組成物のポリスチレン換算分子量と、その分子量に対する単位ｌｏｇ当たりの重量分率（ｄＷ／ｄｌｏｇＭ）から得られる分子量分布曲線における、分子量分布全体のピーク面積Ａとポリスチレン換算分子量５，０００以下のピーク面積Ｂとの比を、式（４）にて算出した。
・ポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分含有率Ｗ（重量％）
Ｗ＝（Ｂ／Ａ）×１００  ・・・（４）。
【０１４２】
Ｃ．ガラス転移温度Ｔｇ１、Ｔｇ２、結晶化エンタルピーΔＨｃｃ
ガラス転移温度Ｔｇ１、Ｔｇ２はＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９９９）に基づいて、結晶化エンタルピーΔＨｃｃはＪＩＳ  Ｋ７１２２（１９９９）に基づいて、セイコー電子工業（株）製示差走査熱量測定装置”ロボットＤＳＣ−ＲＤＣ２２０”を用いて測定を実施した。データ解析にはディスクセッション”ＳＳＣ／５２００”を用いた。サンプルパンにチップ、もしくはシートを５ｍｇずつ秤量し、昇温速度は１０℃／ｍｉｎで走査した。ガラス転移温度Ｔｇ１、Ｔｇ２は、示差走査熱量測定（１ｓｔＲＵＮ）チャート中のガラス転移に伴う階段状の変化部分において、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移に伴う階段状の変化部分の曲線とが交わる点から求めた。また、結晶化エンタルピーΔＨｃｃは結晶化の発熱ピークの面積より求めた。なお、易表面賦形性シート積層体の場合は、積層体の表面に設けられた易表面賦形性シート層をカッターで削り取り、得られたものを上述の方法で測定して、表面層のガラス転移温度のＴｇ２、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを求めた。
【０１４３】
Ｄ．長期保存安定性
易表面賦形性シートに金型のパターン転写した成型品を２３℃、６５％ＲＨの室内環境下で３０日間放置し、その後、下記Ｆ項のパターン倒れの有無に従って形状観察を行った。
【０１４４】
Ｅ．熱安定性
易表面賦形性シートに金型のパターンを転写した成形品を、樹脂組成物のガラス転移温度Ｔｇ１−２０℃、およびＴｇ１−１０℃に加熱したＥＳＰＥＣ（株）製高性能クリーンオーブンＰＶＨＣ−３３１で、それぞれ１０分間熱処理した。その後、それぞれの下記Ｆ項のパターン倒れの有無に従って形状観察を行った。
【０１４５】
Ｆ．形状観察
断面観察については、金型、成形品の断面を切り出し、白金−パラジウムを蒸着した後、日本電子（株）製電界放射走査型電子顕微鏡”ＪＳＭ−６７００Ｆ”で写真を撮影し、断面観察を行い、金型凸の高さ、及びＨ幅Ｓ、アスペクト比Ｈ／Ｓ、凹部の断面積Ａ、成形品の凸部の高さＨ’、及び幅Ｓ’、アスペクト比Ｈ’／Ｓ’，凸部の断面積Ａ’を求めた。
【０１４６】
離型性は次のように判定した。成形品を切り出し、表面に白金―パラジウム蒸着した後、表面観察を行い、
パターンが形成されている：○
パターンが破断している、もしくは金型から離型が出来ない：×
とした。
【０１４７】
転写性は次のように判定した。成形品凹部の断面積Ａ’と金型凸部の面積Ａとの比Ａ’／Ａを求めて
０．９０以上：○
０．８５〜０．９０：△
０．８５未満：×
とした。
【０１４８】
パターン倒れの有無については次のように判定した。成形品を切り出し、表面に白金―パラジウム蒸着した後、表面観察を行い、
隣接する凸部間が接触していない：○
凸部が倒れて隣接する凸部間が接触している、もしくは凸部が消失している：×
とした。
【０１４９】
Ｇ．剥離強度
積層体を幅２ｃｍ×長さ１２ｃｍの短冊状に切り出し、厚さ２ｍｍの表面平滑なアクリル板に基材側を両面テープで張り付け、表層側にポリエステル粘着テープ（日東電工（株）製Ｎｏ．３１Ｂ、幅１９ｍｍ）を張り付けて、アクリル板の上端をテンシロン引っ張り試験機（東洋測器（株）製ＵＴＭＩＩＩ）のロードセルにつるした。次いで、粘着テープの上端に帯状のリード紙をはり、その一端を下部チャックで把持して、クロスヘッド速度３００ｍｍ／ｍｉｎで下（１８０°）方向に引っ張り、基材層と表層の層間の剥離力を測定した。剥離強度Ｆ（Ｎ／ｃｍ）は、ＳＳカーブの立ち上がり部分を除いた剥離長さ５０ｍｍ以上の平均剥離力Ｔ（Ｎ）から次式により算出した。
・剥離強度Ｆ（Ｎ／ｃｍ）＝Ｔ／Ｗ
ここで、Ｔ（Ｎ）：平均剥離力、Ｗ（ｃｍ）：サンプル幅。
【実施例】
【０１５０】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０１５１】
なお、実施例、比較例において用いた金型は以下の４種類である（図９参照）。
「金型１」（図９（ａ））
材質：ニッケル、サイズ：３０ｍｍ角
パターン：ストライプ
ピッチ：１μｍ、凸部幅：２μｍ、凸部高さ：３μｍ
断面形状：矩形状  
「金型２」（図９（ｂ））
材質：ニッケル、サイズ：３０ｍｍ角
パターン：ストライプ
ピッチ：１５００ｎｍ、凸部幅：１０００ｎｍ、凸部高さ：１５００ｎｍ
断面形状：矩形状  
「金型３」（（図９（ｃ））
材質：ニッケル、サイズ：３０ｍｍ角
パターン：ストライプ
ピッチ：１５０ｎｍ、凸部幅：１００ｎｍ、凸部高さ：１５０ｎｍ
断面形状：矩形状。  
【０１５２】
なお、ＧＰＣによるポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分を除去（分取）する方法は、以下の通りである
ＧＰＣ：（株）島津製作所製分取クロマトグラフ（ＬＣ−６Ａ）
検出器：（株）島津製作所製ＲＩ検出器（ＲＩＤ−１０Ａ）
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ２００３（φ２０ｍｍ×３００ｍｍ）１本
Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ２００２（φ２０ｍｍ×３００ｍｍ）２本
移動層：クロロホルム
標準試料：単分散ポリスチレン
流速：３．０ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：４５℃
一回の注入量：６０ｍｇ。
【０１５３】
〔溶液の調整〕
溶液中の樹脂組成物濃度が５重量％となるように樹脂組成物溶解液を作製、室温で緩やかに撹拌した。該溶液を孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過して用いた。
【０１５４】
まず、単分散ポリスチレン標準試料を測定し、各ピークにおけるピークトップの溶出時間と分子量の対数を使って較正曲線を作成した。続いて該樹脂組成物を測定し、樹脂組成物の微分分布値ｄ（重量Ｗ）／ｄＬｏｇ（ポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ）と、単分散ポリスチレン標準試料の較正曲線と重ね合わせ、そのグラフ中から該樹脂組成物のポリスチレン換算分子量５，０００以上の成分が溶出される時間を求め、その時間を元に分取した。
【０１５５】
分取したポリスチレン換算分子量５，０００以上の成分をエバポレーターで濃縮した後、真空乾燥を行って残留溶媒を揮発させた。
【０１５６】
（実施例１）
ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン５０ｍｏｌ％、エチレングリコール５０ｍｏｌ％共重合したポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。
【０１５７】
次に、上記ポリエステルが１０重量％となるようにトルエンへ添加し、６０℃の温浴下で加熱溶解させた。得られた溶液を攪拌しながらイソプロピルアルコールを９０重量部添加して、樹脂組成物を再沈殿させた。さらに、得られた溶液の上澄み液をデカンテーションにて除去し、残留物を加熱乾燥させて、固形物を得た。その固形物をイソプロピルアルコールで洗浄した後、８０℃で４時間真空乾燥させた。
【０１５８】
得られた固形物が０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１５９】
また、上記固形物を８０℃で４時間真空乾燥させた後、２枚のポリイミドフィルム‘カプトン’（登録商標）５００Ｈ（東レ・デュポン（株）製）で挟み、２８０℃のホットプレート上で溶融させてプレスし、急冷することで、厚さ６００μｍのシートを得た。
【０１６０】
得られたシートと金型を１３５℃に加熱し、シートと金型の凹凸面を接触させて２０ＭＰａでプレスし、そのまま２分間保持した。その後１０５℃に冷却後プレスを解放し、３０℃に冷却して金型から離型して樹脂成形品を得た。
【０１６１】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９６２、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９４８、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９２６）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れは見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１６２】
（実施例２）
ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン８０ｍｏｌ％、エチレングリコール２０ｍｏｌ％共重合したポリエステルを用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、次に該ポリエステルを再沈殿させた。得られた溶液から濾過して得た固形物を、イソプロピルアルコールで洗浄した後、１００℃で４時間真空乾燥させた。
【０１６３】
得られた固形物が０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１６４】
また、上記固形物を１００℃で４時間真空乾燥させた後、実施例１と同様にして厚さ６００μｍのシートを得た。
【０１６５】
そして、プレス温度を１６５℃、プレス解放温度を１３５℃とした以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０１６６】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７８、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９４７、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９３０）。
【０１６７】
また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れは見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１６８】
（実施例３）
ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸２５ｍｏｌ％、テレフタル酸７５ｍｏｌ％、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン４５ｍｏｌ％、エチレングリコール５５ｍｏｌ％共重合したポリエステルを用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、次に該ポリエステルを再沈殿させた。得られた溶液から濾過して得た固形物を、イソプロピルアルコールで洗浄した後、９０℃で４時間真空乾燥させた。
【０１６９】
得られた固形物が０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１７０】
また、上記固形物を９０℃で４時間真空乾燥させた後、実施例１と同様にして厚さ６００μｍのシートを得た。
【０１７１】
そして、プレス温度を１６０℃、プレス解放温度を１３０℃とした以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０１７２】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７９、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５８、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４８）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れは見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１７３】
（実施例４）
ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン４０ｍｏｌ％、エチレングリコール６０ｍｏｌ％共重合したポリエステルを用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、次に該ポリエステルを再沈殿させた。得られた溶液から濾過して得た固形物を、イソプロピルアルコールで洗浄した後、１００℃で４時間真空乾燥させた。
【０１７４】
得られた固形物が０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１７５】
また、上記固形物を１００℃で４時間真空乾燥させた後、実施例１と同様にして厚さ６００μｍのシートを得た。
【０１７６】
そして、プレス温度を１６５℃、プレス解放温度を１２０℃とした以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０１７７】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９６２、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９４４、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９２１）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１７８】
（実施例５）
ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン４０ｍｏｌ％、エチレングリコール６０ｍｏｌ％共重合したポリエステルを用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、次に該ポリエステルを再沈殿させた。得られた溶液から濾過して得た固形物を、イソプロピルアルコールで洗浄した後、１００℃で４時間真空乾燥させた。
【０１７９】
得られた固形物が０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１８０】
そして、押出機Ａと押出機Ｂを有する複合製膜装置に、下記組成の原料を供給した。
【０１８１】
押出機Ａ：１００℃で４時間真空乾燥させた再沈殿後の上記ポリエステル
押出機Ｂ：１７０℃で２時間真空乾燥させたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
押出機Ａ、Ｂからそれぞれの原料を２８０℃で溶融押出し、押出機Ａの溶融原料と押出機Ｂの溶融原料とがＡ／Ｂ二層積層となるように合流させ、Ｔダイよりシート状に押出した。このシートを表面温度２０℃の鏡面冷却ドラム上にキャストして、未延伸シートとした。このシートを８４℃で長手方向に３．３倍延伸し、続いてテンターで８５℃の予熱ゾーンを通して、９０℃で幅方向に３倍延伸し、その後９０℃で２０秒、２２０℃で３０秒間熱処理し、全膜厚１００μｍの積層シートを得た。なお、Ａ層の厚みは３μｍであった。
【０１８２】
得られたシートと金型を１６５℃に加熱し、シートのＡ層と金型の凹凸面を接触させて２０ＭＰａでプレスし、そのまま２分間保持した。その後１２５℃に冷却後プレスを解放し、３０℃に冷却して金型から離型して樹脂成形品を得た。
【０１８３】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７４、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５８、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４２）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１８４】
（実施例６）
実施例１と同様に、ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン５０ｍｏｌ％、エチレングリコール５０ｍｏｌ％共重合したポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。次に、分取用ＧＰＣを用いて上記ポリエステルのポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分を除去した。分取用ＧＰＣの手法は上記の通りである。
【０１８５】
得られた固形物を０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１８６】
上記固形物を３５℃のシクロヘキサノン／メチルエチルケトン＝／トルエン１．５／１．５／１溶液中に２０重量％の濃度となるように溶解させた。得られた溶液を１００μｍ厚のポリエステルフィルム‘ルミラー’（登録商標）Ｕ４６（東レ（株）製）上にアプリケーターを用いて用いて塗布し、１４０℃で３０分間乾燥させて、乾燥膜厚３μｍの易表面賦形性シート層を有する積層シートを作製した。得られた積層シートの塗布層と基材層との剥離強度を求めた。
【０１８７】
塗布層側に金型をプレスすること、プレス温度を１３５℃、プレス解放温度を１０５℃とすること以外は実施例５と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０１８８】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７３、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９６０、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４４）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１８９】
（実施例７）
実施例２と同様に、ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン８０ｍｏｌ％、エチレングリコール２０ｍｏｌ％共重合したポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。
【０１９０】
次に、該ポリエステル中に含まれるポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分を除去した。
【０１９１】
得られた固形物を０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１９２】
また、易表面賦形性シート層として分取後の固形物を用いること以外は実施例６と同様にして、積層シートを作製した。得られた積層シートの塗布層と基材層の剥離強度を求めた。
【０１９３】
塗布層側に金型をプレスすること、プレス温度を１６５℃、プレス解放温度を１２５℃とすること以外は実施例６と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０１９４】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７０、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５４、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９３９）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０１９５】
（実施例８）
実施例３と同様に、ジカルボン酸成分としてシクロヘキサンジカルボン酸２５ｍｏｌ％，テレフタル酸７５ｍｏｌ％、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン４５ｍｏｌ％、エチレングリコール５５ｍｏｌ％共重合したポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。
【０１９６】
次に、上記ポリエステル中に含まれるポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分を除去した。
【０１９７】
得られた固形物を０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０１９８】
また、易表面賦形性シート層として分取後の上記ポリエステルを用いること以外は実施例６と同様にして、積層シートを作製した。得られた積層シートの塗布層と基材層の剥離強度を求めた。
【０１９９】
また、プレス温度を１６０℃、プレス解放温度を１２０℃とすること以外は実施例６と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０２００】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７２、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５３、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９３５）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２０１】
（実施例９）
実施例４と同様に、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分として９，９’−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）フルオレン４０ｍｏｌ％、エチレングリコール６０ｍｏｌ％共重合したポリエステルのガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。
【０２０２】
次に、該ポリエステル中に含まれるポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分を除去した。
【０２０３】
得られた固形物を０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２０４】
また、易表面賦形性シート層として、分取後の上記ポリエステルを用いること以外は実施例６と同様にして、積層シートを作製した。得られた積層シートの塗布層と基材層の剥離強度を求めた。
【０２０５】
また、プレス温度を１６５℃、プレス解放温度を１２５℃とすること以外は実施例６と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０２０６】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても形状が十分に転写されていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７２、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９６１、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９３４）。また、成形直後、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後における成形品の表面を観察したところ、いずれの金型においてもパターン倒れが見られず、耐久性、熱安定性に優れているものであった。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２０７】
（比較例１）
実施例１のポリエステルをそのまま用いたこと以外は実施例１と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、該ポリエステルを０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２０８】
次に、実施例１と同様にして厚さ６００μｍのシートを作製し、さらに樹脂成形品を得た。
【０２０９】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７７、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５８、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４０）。
【０２１０】
しかし、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後に成形品の表面を観察したところ、金型３においてパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２１１】
（比較例２）
実施例２のポリエステルをそのまま用いたこと以外は実施例２と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、該ポリエステルを０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２１２】
次に、実施例２と同様にして厚さ６００μｍのシートを作製し、さらに樹脂成形品を得た。
【０２１３】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９８０、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９６１、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４２）。
【０２１４】
しかし、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後に成形品の表面を観察したところ、金型３において長期保存後とＴｇ−１０℃の熱安定性試験後にパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２１５】
（比較例３）
実施例３のポリエステルをそのまま用いたこと以外は実施例３と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、該ポリエステルを０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２１６】
次に、実施例３と同様にして厚さ６００μｍのシートを作製し、さらに樹脂成形品を得た。
【０２１７】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９７９、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９５８、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９４４）。
【０２１８】
しかし、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後に成形品の表面を観察したところ、金型３において長期保存後とＴｇ−１０℃の熱安定性試験後にパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２１９】
（比較例４）
実施例４のポリエステルをそのまま用いたこと以外は実施例４と同様にして、ガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、該ポリエステルを０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２２０】
次に、厚さ６００μｍのシートを作製し、さらに実施例３と同様にして樹脂成形品を得た。
【０２２１】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、いずれの金型においても十分に転写されていることを確認した。（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９８０、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９６３、金型３：Ａ’／Ａ＝０．９５０）。
【０２２２】
しかし、長期保存安定性試験後、熱安定性試験後に成形品の表面を観察したところ、金型３において長期保存後とＴｇ−１０℃の熱安定性試験後にパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２２３】
（比較例５）
スピログリコール３０ｍｏｌ％共重合ＰＥＴ（”Ｓ−ＰＥＴ３０”，三菱ガス化学（株）製）のガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定し、該ポリエステルを０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２２４】
次に、該ポリエステルを９０℃で４時間真空乾燥させた後、押出機から２８０℃で溶融押出し、Ｔダイよりシート状に押出した。このシートを表面温度２０℃の鏡面冷却ドラム上にキャストして、厚さ６００μｍの未延伸シートとした。
【０２２５】
さらに、プレス温度を１４０℃、プレス解放温度を１０５℃とした以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０２２６】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、金型１では十分に成形ができていたが、金型２、３では頂点が丸くなっており、十分に成形ができていなかった（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９６０、金型２：Ａ’／Ａ＝０．８５３、金型３：Ａ’／Ａ＝０．７４２）。また、成形品の表面を観察したところ、金型３においてパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２２７】
（比較例６）
ポリメタクリル酸メチル（シグマアルドリッチ（株）製、重量平均分子量１５，０００）のガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。そして、該アクリルが０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２２８】
次に該アクリル３０重量部をシクロヘキサノン／メチルエチルケトン＝１／１溶液７０重量部に溶解させた。この溶液を口金からエンドレスベルトに流延して、次いで１２０℃の熱風にて溶媒を乾燥除去した後剥離した。次に８０℃で４時間減圧乾燥させて、厚さ６００μｍのシートを得た。
【０２２９】
プレス温度を１５０℃、プレス解放温度を１３０℃とする以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得ようとしたが、金型３では凸部が離型時に破断し、樹脂成形品を得ることができなかった。金型１，２では十分に成形できていることを確認した（金型１：Ａ’／Ａ＝０．９５３、金型２：Ａ’／Ａ＝０．９２７）。
【０２３０】
しかし、金型１、金型２の成型品について長期保存安定性試験後、熱安定性試験後に成形品の表面を観察したところ、いずれもパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２３１】
（比較例７）
イソフタル酸１７．５ｍｏｌ％共重合ＰＥＴのガラス転移温度Ｔｇ１、結晶化エンタルピーΔＨｃｃを測定した。そして、上記ポリエステルが０．２ｇ／ｍｌとなるようにクロロホルムに溶解後、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターで濾過し、得られた溶液をＧＰＣにてポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗ、ポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎ、ポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚ、多分散度Ｍｗ／Ｍｎ、多分散度Ｍｚ／Ｍｗ、Ｍｗ＝５０００以下の成分含有率Ｗを求めた。
【０２３２】
次に、上記ポリエステルを１５０℃で２時間真空乾燥させた後、押出機から２５０℃で溶融押出し、Ｔダイよりシート状に押出した。このシートを表面温度２０℃の鏡面冷却ドラム上にキャストして、厚さ６００μｍの未延伸シートとした。
【０２３３】
また、プレス温度を１１０℃、プレス解放温度を８０℃とした以外は、実施例１と同様の方法で樹脂成形品を得た。
【０２３４】
得られた成形品の断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、金型１では十分に成形ができていたが、金型２，３では頂点が丸くなっており、十分に成形ができていなかった（金型１：Ａ’／Ａ＝９２９、金型２：Ａ’／Ａ＝０．８６３、金型３：Ａ’／Ａ＝０．７１０）。また、成形品の表面を観察したところ、金型３においてパターン倒れが起こっていた。各測定の結果を表１，２に示す。
【０２３５】
【表１】
2007238742.tif 000005
【０２３６】
【表２】
2007238742.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【０２３７】
本発明の表面賦形用シート、ないし表面賦形方法により得られる成形品は光学素子、バイオチップなど各種分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２３８】
【図１】図１（ａ）〜（ｇ）は、本発明の表面賦形用シートを用いた表面賦形方法の工程を模式的に例示するものである。
【図２】図２（ａ）〜（ｆ）は、いずれも本発明の表面賦形方法に用いる金型を示す横断面図であり、横断面における凸部１１の形状を模式的に例示するものである。
【図３】図３（ａ）〜（ｈ）は、いずれも本発明の表面賦形方法に用いる金型の面と平行な断面における断面図であり、凸部１１の形状を模式的に例示するものである。
【図４】図４（ａ）〜（ｄ）いずれも本発明の表面賦形方法に用いる金型の面と平行な断面における断面図であり、凸部１１の形状を模式的に例示するものである。
【図５】図５（ａ）は、本発明の易表面賦形性シートに賦形した成形品を、図５（ｂ）は本発明の易表面賦形性シート積層体に賦形した場合の成形品を模式的に表す横断面図である。
【図６】図６（ａ）〜（ｆ）は、いずれも本発明の表面賦形方法によって得られた成形品を示す横断面図であり、横断面における凸部２２の形状を模式的に例示するものである。
【図７】図７（ａ）〜（ｈ）は、いずれも表面賦形方法によって得られた成形品の面と平行な断面における断面図であり、凸部２２の形状を模式的に例示するものである。
【図８】図８（ａ）〜（ｄ）いずれも表面賦形方法によって得られた成形品の面と平行な断面における断面図であり、凸部２２の形状を模式的に例示するものである。
【図９】図９（ａ）〜（ｃ）は実施例、比較例において用いた金型の一部分を模式的に表す斜視図である。
【符号の説明】
【０２３９】
１  表面賦形性シート
２  金型
３  賦形部
４  基部
５  基材
１１  金型の凸部
１２  金型の凹部
２１  成形品の凹部
２２  成形品の凸部
Ｓ  金型凸部の幅
Ｈ  金型凸部の高さ
ｔ  金型凹部の幅
Ｓ’  成形品凸部の幅
Ｈ’  成形品凸部の高さ
ｌ’  成形品の基部の厚さ
ｔ’  成形品凹部の幅
【図１】
2007238742.tif 000007
【図２】
2007238742.tif 000008
【図３】
2007238742.tif 000009
【図４】
2007238742.tif 000010
【図５】
2007238742.tif 000011
【図６】
2007238742.tif 000012
【図７】
2007238742.tif 000013
【図８】
2007238742.tif 000014
【図９】
2007238742.tif 000015