(57)【要約】【課題】蛍光体膜の印刷位置ずれに起因する画面表示領域の周辺部における混色や画素内での蛍光体膜のドット欠けの発生を防止することにより、歩留まりを向上させるとともに、画面表示領域の全面に亘って色均一性の高い画像表示が得られる画像表示装置を提供する。【解決手段】前面基板２内面に形成されるＢＭ膜１６の開口部１６１の単位面積当りの開口面積を、画面表示領域の中央部から周辺部に向かって漸次小さく設定する。【選択図】図５
2007165012.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の開口部を備えたブラックマトリクス膜と、前記開口部を塞いで前記ブラックマトリクス膜内に配置された複数色の蛍光体膜と、当該蛍光体膜及び前記ブラックマトリクス膜を覆う金属薄膜からなる陽極電極とを有する前面基板と、
一方向に延在し該一方向と交差する他方向に並設される複数の走査信号配線と、前記他方向に延在し前記一方向に並設された複数の画像信号配線と、前記走査信号配線と前記画像信号配線とに接続した電子源とを有して前記前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、
前記前面基板と背面基板との間に介挿され、前記所定の間隔を保持する枠体と、
を備え、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、
前記開口部の面積は、前記表示領域の中央部よりも周辺部で小さいことを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記開口部は、前記一方向または他方向に同一配列ピッチで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記蛍光体膜は、隣接する蛍光体膜相互間の前記他方向の間隔を前記表示領域の中央部から周辺部に向かって漸次大きくしたことを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記蛍光体膜は、前記開口部を塞いで前記ブラックマトリクス膜上迄延在して配置されていること特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記前面基板に形成された蛍光体膜は、赤、緑、青の３色から構成されていることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項６】
複数の開口部を備えたブラックマトリクス膜と、前記開口部を塞いで前記ブラックマトリクス膜内に配置された複数色の蛍光体膜と、当該蛍光体膜及び前記ブラックマトリクス膜を覆う金属薄膜からなる陽極電極とを有する前面基板と、
一方向に延在し該一方向と交差する他方向に並設される複数の走査信号配線と、前記他方向に延在し前記一方向に並設された複数の画像信号配線と、前記走査信号配線と前記画像信号配線とに接続した電子源とを有して前記前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、
前記前面基板と背面基板との間に介挿され、前記所定の間隔を保持する枠体と、
を備え、前記枠体の端面と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、
前記開口部は、前記開口面積を前記中央部と周辺部とで同一とし、且つ周辺部の配列ピッチを前記中央部の配列ピッチよりも大きくしたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前面基板と背面基板の間に形成される真空中への電子放出を利用した平面型の画像表示装置に係り、特に前面基板の内面にブラックマトリクス膜で区画された複数色の蛍光体膜を備えた画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
高輝度、高精細に優れたディスプレイデバイスとして、従来からカラー陰極線管が広く用いられている。しかし、近年の情報処理装置やテレビ放送の高画質化に伴い、高輝度、高精細の特性をもつと共に軽量、省スペースの平面型画像表示装置（フラット・パネル・ディスプレイ、ＦＰＤ）の要求が高まっている。
【０００３】
その典型例として液晶表示装置、プラズマ表示装置などが実用化されている。また、特に高輝度化が可能なものとして、電子源から真空への電子放出を利用した自発光型表示装置として、電子放出型画像表示装置、または電界放出型画像表示装置と呼ばれるものや、低消費電力を特徴とする有機ＥＬディスプレイ等、種々の平面型画像表示装置の実用化も図られている。
【０００４】
平面型画像表示装置の中、自発光型のフラット・パネル・ディスプレイでは、電子源をマトリクス状に配置した構成が知られており、その一つとして、微少で集積可能な冷陰極を利用する前述した電子放出型画像表示装置も知られている。
【０００５】
また、自発光型のフラット・パネル・ディスプレイでは、その冷陰極に、スピント型、表面伝導型、カーボンナノチューブ型、金属―絶縁体―金属を積層したＭＩＭ（Metal-Insulator-Metal）型、金属―絶縁体―半導体を積層したＭＩＳ（Metal-Insulator-Semiconductor）型、あるいは金属―絶縁体―半導体−金属型等の薄膜型電子源などが用いられる。
【０００６】
ＭＩＭ型電子源については、例えば特許文献１、特許文献２に開示されたものが知られている。また、金属―絶縁体―半導体型電子源についてはＭＯＳ型、金属―絶縁体―半導体−金属型電子源に関しては、ＨＥＥＤ型電子源、ＥＬ型電子源、ポーラスシリコン型電子源等が知られている。
【０００７】
ＦＰＤは、上記のような電子源を備えた背面基板と、蛍光体層とこの蛍光体層に電子源から放出される電子を射突させるための加速電圧を形成する陽極電極を備えた前面基板とを対向させ、両基板の対向する内部空間を所定の真空状態に封止する封止枠とも称される支持体とで構成される表示パネルが知られている。この表示パネルに駆動回路を組み合わせて動作させる。
【０００８】
ＭＩＭ型電子源を有する画像表示装置では、前記背面基板は絶縁材からなる基板を有し、この基板上には一方向に延在し該一方向と直交する他方向に並設されて前記他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線が形成されている。また、この基板上には、前記他方向に延在し前記走査信号配線に交差する如く前記一方向に並設された複数の画像信号配線が形成されている。走査信号配線と画像信号配線の各交差部に上記の電子源が設けられ、これら両配線と電子源とは給電電極で接続され、電子源に電流が供給される。
【０００９】
個々の電子源は、対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の単位画素で一つの画素（カラー画素、ピクセル）が構成される。なお、カラー画素の場合、各色を構成する単位画素は副画素（サブピクセル）とも呼ばれる。
【００１０】
近年の平面型画像表示装置では、画面の大型化の要望に応じて大量且つ微小の画素セルまたは電極配線を形成する必要性がある。平面型画像表示装置の製造上、数十インチの大型フラットパネルを組み立てる場合、画素セルまたは電極交点数が多大となることから、製作コストが高価となり、さらには、歩留まりが低下する等の種々の問題があった。
【００１１】
下記特許文献３には、この種の問題の一部を解決する手段が開示されている。この特許文献３では、互いに交差する方向に複数の電極が配列された少なくとも２組の電極群と、電極群の間に配置された各電極の交点部分において画素を形成する画面を有する平板発光素子とを備え、画面の中心領域の画素の面積に対してその周辺領域の画素の面積を大きく設定することにより、電極ドライバ数を低減させて製造を容易にするとともに、マスクのずれを軽減させて歩留まりを向上させたフラットパネル型画像表示装置が提案されている。
【００１２】
また、下記特許文献４では、他の手段としてマトリクス状に配置された複数のセルのうち、パネル中央領域からパネル上下両端に向かって並設された複数対の表示電極に対応して、各表示電極に沿ったセル面積を順次漸減させてパネル中央領域における平均セル面積を、パネル中央領域を取り囲むパネル周辺領域における平均セル面積よりも大きく設定することにより、パネル中央領域おいて平均セル面積、平均セル開口率平均可視光透過率の少なくとも何れかを部分的に大きくすることで、この領域のセル群における発光輝度を、パネル周辺領域のセル群の発光輝度よりも相対的に高めたプラズマディスプレイパネルが提案されている。
【００１３】
また、下記特許文献５では、ディスプレイパネルの表示部分の中心部から周辺部にかけて画素の密度と大きさの少なくともどちらか一方を異ならせることにより、表示部分の中心部と周辺部での視野角の相違により生じる表示部分の周辺部が圧縮されたように見える現象を取り除き、画像が歪んで見えるのを防ぐようにした冷陰極ディスプレイパネルが提案されている。
【００１４】
【特許文献１】特開平７−６５７１０号公報
【特許文献２】特開平１０−１５３９７９号公報
【特許文献３】特開平６−２５１７１２号公報
【特許文献４】特開２００３−５１２５８号公報
【特許文献５】特開平７−２５５０２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、この種の画像表示装置は、前面パネルの製作おいて、前面基板の内面に蛍光体膜を形成する場合、ブラックマトリクス膜の開口部に合わせて開口を設けたスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷法により蛍光体膜を塗布形成する。その際、スクリーン印刷版の伸びや歪み等により蛍光体膜の印刷位置ずれが生じる。この印刷位置ずれは、特に画面表示領域の周辺部において、隣接する画素への印刷による混色や画素内での蛍光体膜のドット欠け等の不具合を発生させ、歩留まりを低下させるとともに、表示品質を低下させるという課題があった。
【００１６】
したがって、本発明は、上述した従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、蛍光体膜の印刷位置ずれに起因する画面表示領域の周辺部における混色や画素内での蛍光体膜のドット欠けの発生を防止することにより、歩留まりを向上させるとともに、画面表示領域の全面に亘って色均一性の高い画像表示が得られる画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
このような目的を達成するために本発明による画像表示装置は、前面基板に形成されるブラックマトリクス膜の開口部の単位面積当りの開口面積を画面表示領域の中央部から周辺部に向かって漸次小さく設定することにより、蛍光体膜の位置ずれによる混色発生に対する裕度が大きくなるので、背景技術の課題を解決することができる。
【００１８】
なお、本発明は、上記の構成及び後述する実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明による画像表示装置によれば、ブラックマトリクス膜の開口部の単位面積当りの開口面積を画面表示領域の中央部から周辺部に向かって漸次小さく設定することにより、印刷塗布法にて形成される蛍光体膜の位置ずれによる混色発生に対する裕度が大きくなるので、画面表示領域の周辺部における色むらやモトリング等の発生がなくなる。したがって、歩留まりが向上するとともに、画面表示領域の全面に亘って色均一性の高い画像表示が得られるので、品質及び信頼性の高い画像表示装置が得られるという極めて優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００２１】
図１乃至図４は本発明の画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図１は前面基板側から見た平面図、図２は図１のI方向から見た側面図、図３は図１の前面基板を取り去って示す背面基板の模式平面図、図４は図３のII−II線に沿った背面基板の模式断面図とその背面基板と対応する部分の前面基板の模式断面図である。
【００２２】
これら図１乃至図４において、参照符号１は背面基板、２は前面基板であり、これら背面基板１及び前面基板は厚さ数ｍｍ、例えば３ｍｍ程度のガラス板から構成されている。３は枠体であり、この枠体３は厚さ数ｍｍ、例えば３ｍｍ程度のガラス板またはフリットガラスの燒結体から構成されている。４は排気管であり、この排気管４は背面基板１に固着されている。枠体３は背面基板１と前面基板２との間の周縁部に周回して介挿され、背面基板１及び前面基板２と例えばフリットガラス等からなる封着部材５を介して気密封着されている。
【００２３】
この枠体３と背面基板１と前面基板２と封着部材５とで囲まれた空間は排気管４を介して排気され、例えば１０-3〜１０-5Ｐａの真空を保持して画像表示領域６を構成している。また、排気管４は前述したように背面基板１の外表面に取り付けられてこの背面基板１を貫通して穿設された貫通孔７に連通しており、排気完了後に排気管４は封止される。８は画像信号配線であり、この画像信号配線８は、背面基板１の内面にＹ方向に延在し、Ｘ方向に並設されている。
【００２４】
また、９は走査信号配線であり、この走査信号配線９は画像信号配線８上でこれと交差するＸ方向に延在しＹ方向に並設されている。１０は電子源であり、この電子源１０は走査信号配線９と画像信号配線８の各交差部に設けられ、走査信号配線９と電子源１０とは接続電極１１で接続されている。また、画像信号配線８と、電子源１０及び走査信号配線９との間には層間絶縁膜ＦＴＲが配置されている。
【００２５】
ここで、前記画像信号配線８は例えばＡｌ／Ｎｄ膜等が用いられ、走査信号配線９は例えばＩｒ／Ｐｔ／Ａｕ膜等が用いられる。
【００２６】
また、参照符号１２はスペーサであり、このスペーサ１２は例えばセラミックス材から構成されており、長方形の薄板形状に成形され、この実施例では、走査信号配線９上に１本おきに直立配置されている。このスペーサ１２は通常、複数の画素毎に画素の動作を妨げない位置に設置される。
【００２７】
なお、このスペーサ１２の寸法は、基板寸法、枠体３の高さ、基板素材、スペーサの配置間隔、スペーサ素材等により設定されるが、一般的には高さは前述した支持体３と略同一寸法、厚さは数十μｍ〜数ｍｍ以下、長さは５０ｍｍ乃至４００ｍｍ程度、好ましくは８０ｍｍ乃至２５０ｍｍ程度が実用的な値となる。
【００２８】
参照符号１３は接着部材であり、この接着部材１３は、例えば接着用フリットガラスまたはガラス化成分と例えば銀とを含有した導電性の接着材等からなり、スペーサ１２を背面基板１及び前面基板２とに接着固定している。この接着部材１３は、その組成にもよるが、厚さは接着固定の確保の点から十数μｍ以上、望ましくは２０〜４０μｍ程度の厚さに設定される。
【００２９】
一方、前面基板２の内面には、赤色，緑色，青色用の蛍光体膜１５が遮光用のＢＭ（ブラックマトリクス）膜１６で区画されて配置され、これらを覆うように金属薄膜からなるメタルバック膜（陽極電極）１７が設けられて蛍光面を形成している。この蛍光面構成で、電子源１０から放射される電子を加速し、対応する画素を構成する蛍光体膜１５に射突させる。これにより、蛍光体膜１５が所定の色光で発光し、他の画素の蛍光体の発光色と混合されて所定の色のカラー画素を構成する。また、陽極電極１７は面電極として示してあるが、走査信号配線９と交差して画素列ごとに分割されたストライプ状電極とすることもできる。
【００３０】
図５乃至図７は、図１に示す本発明の画像表示装置の実施例１の前面基板内側の蛍光面の構成を説明する図であり、図５は背面基板側から見た模式平面図、図６は図５の表示領域中央部の拡大平面図、図７は図５の表示領域周辺部の拡大平面図である。図５乃至図７において、前面基板２上の表示領域６に対応する部分にＢＭ膜１６が形成されており、このＢＭ膜１６は、（表示領域６のＸ−Ｙ方向に）複数の開口（窓）部１６１を備え、これらの開口部１６１は、単位面積当りの開口面積が表示領域６の中央部分から周辺部分に向かって漸次小さくなって形成されている。つまり、開口部１６１の開口率（単位面積当りの開口面積）が表示領域６の中央部分から周辺部分に向かって漸次小さく形成される構造となっている。
【００３１】
図６は表示領域６の中央部分の単位面積Ｓ当りの開口率を示す図である。開口面積Ｓ１を有する開口部１６１はＸ方向に所定の画素ピッチＰｘで配列され、Ｙ方向に所定の画素ピッチＰｙで配列されている。一方、図７は表示領域６の周辺部分の単位面積Ｓ当りの開口率を示す図である。開口面積Ｓ２を有する開口部１６１は中央部分と同様にＸ方向に所定の画素ピッチＰｘで配列され、Ｙ方向に所定の画素ピッチＰｙで配列されている。つまり、中央部分の開口面積Ｓ１＞周辺部分の開口面積Ｓ２の関係を有して形成されている。
【００３２】
また、これらの各開口部１６１を塞いで緑蛍光体膜（１５Ｇ）、青蛍光体膜（１５Ｂ）、赤蛍光体膜（１５Ｒ）がそれぞれ被着形成されている。これらの蛍光体としては、例えば赤色としてＹ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ（Ｐ２２−Ｒ）を、緑色としてＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ（Ｐ２２−Ｇ）を、青色としてＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｌ（Ｐ２２−Ｂ）をそれぞれ用いることができる。
【００３３】
また、この前面基板２の内面に形成されたＢＭ膜１６及び蛍光体膜１５を覆うようにその上にアルミニウムを主成分としたメタルバック膜１７が例えば蒸着方法で形成されている。このメタルバック膜１７は、膜を貫通する複数のピンホールを有しており、このピンホールを下地の有機平滑化膜（フィルミング膜）、蛍光体膜１５等からの燃焼ガスのガス放出孔として用いる構成となっている。
【００３４】
このように構成された蛍光面に背面基板１の電子源１０から放出された電子がメタルバック膜１７を透過して蛍光体膜１５に衝突すると、蛍光体粒子が発光し、前面基板２から前方に出る光により画像が得られる。
【００３５】
本実施例では、前面基板２に形成されるＢＭ膜１６の開口部１６１の単位面積Ｓ当りの開口面積を画像表示領域６の中央部分から周辺部分に向かって漸次小さくして形成した。ＢＭ膜１６の開口部１６１に合わせて開口を設けたスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷法により蛍光体膜１５を形成する際、特に周辺部分におけるスクリーン印刷版の伸びや歪み等による蛍光体膜１５の位置ずれによるドット欠けや混色発生に対する裕度を大きくすることができる。
【実施例２】
【００３６】
図８は、本発明による画像表示装置の実施例２を説明する前面基板内側の蛍光面の表示領域周辺部分の構成を示す拡大平面図であり、前述した図と同一部分には同一符号を付しその説明は省略する。表示領域６の中央部分の構成は実施例１と同じである。図８において、表示領域６の周辺部分に形成された複数の開口部１６１は中央部分に形成された開口部１６１と同等の開口面積Ｓ１を有する。画素ピッチｐｘ１は中央部分のＸ方向の画素ピッチＰｘよりも大きい。Ｙ方向も同様に中央部分の画素ピッチＰｙよりも大きい画素ピッチＰｙ１で配列されている。
【００３７】
つまり、中央部分の開口面積Ｓ１＝周辺部分の開口面積Ｓ１の関係を有し、Ｘ方向では中央部分の画素ピッチＰｘ＜周辺部分の画素ピッチＰｘ１の関係を有し、Ｙ方向も同様に中央部分の画素ピッチＰｙ＜周辺部分の画素ピッチＰｙ１の関係を有している。
【００３８】
なお、この場合、中央部分のＸ方向における画素ピッチＰｘから周辺部分の画素ピッチＰｘ１に到るピッチ間隔及び中央部分のＹ方向における画素ピッチＰｙから周辺部分の画素ピッチＰｙ１に到るピッチ間隔が漸次大きくなる。
【００３９】
このような構成においても、開口部１６１の開口率（単位面積Ｓ当りの開口面積）が実質的に表示領域６の中央部分から周辺部分に向かって漸次小さく形成される構造となるので、前述と同等の効果が得られる。
【００４０】
図９は、本発明の画像表示装置の画素を構成する電子源１０の一例を説明する図であり、図９（a）は平面図、図９（b）は図９（a）のＡ−Ａ’線に沿って切断した断面図、図９（ｃ）は図９（ａ）のＢ−Ｂ’線に沿って切断した断面図である。この電子源はＭＩＭ型電子源である。
【００４１】
この電子源の構造をその製造工程を用いて説明する。先ず、背面基板ＳＵＢ１上に下部電極ＤＥＤ（実施例における映像信号電極８）、保護絶縁層ＩＮＳ１、絶縁層ＩＮＳ２を形成する。次に、層間膜ＩＮＳ３と、上部電極ＡＥＤへの給電線となる上部バス電極（実施例における走査信号電極９）とスペーサ１２を配置するためのスペーサ電極となる金属膜を、例えばスパッタリング法等により成膜する。下部電極及び上部電極にはアルミニウム（Ａｌ）を用いることができるが、後述する他の金属も用いることができる。
【００４２】
層間膜ＩＮＳ３としては、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物またはシリコン等を用いることができる。ここでは、シリコン窒化物を用い、膜厚は約１００ｎｍとした。この層間膜ＩＮＳ３は、陽極酸化で形成する保護絶縁層ＩＮＳ１にピンホールがあった場合、その欠陥を埋め、下部電極ＤＥＤと走査信号電極となる上部バス電極（金属膜下層ＭＤＬと金属膜上層ＭＡＬの間に金属膜中間層ＭＭＬとして銅（Ｃｕ）を挟んだ３層の積層膜）間の絶縁を保つ役割を果たす。
【００４３】
なお、走査信号配線となる上部バス電極ＡＥＤは、上記の３層積層膜は限らず、それ以上とすることもできる。例えば、金属膜下層ＭＤＬ、金属膜上層ＭＡＬとしてアルミニウム（Ａｌ）やクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）などの耐酸化性の高い金属材料またはそれらを含む合金やそれらの積層膜を用いることができる。なお、ここでは金属膜下層ＭＤＬ、金属膜上層ＭＡＬとしてアルミニウムとネオジム（Ａｌ−Ｎｄ）の合金を用いた。この他に金属膜下層ＭＤＬとしてＡｌ合金とＣｒ、Ｗ、Ｍｏ等の積層膜を用い、金属膜上層ＭＡＬとしてクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）などとＡｌ合金の積層膜を用いて金属膜中間層ＭＭＬのＣｕに接する膜を高融点金属とした５層膜を用いることにより、画像表示装置の製造プロセスにおける加熱工程の際に高融点金属がバリア膜となってＡｌとＣｕの合金化を抑制できるので、配線の低抵抗化に特に有効である。
【００４４】
上部バス電極としてＡｌ−Ｎｄ合金を用いる場合の当該Ａｌ−Ｎｄ合金の膜厚は、金属膜下層ＭＤＬより金属膜上層ＭＡＬを厚くし、金属膜中間層ＭＭＬのＣｕは配線抵抗を低減するため、できるだけ厚くしておく。ここでは、金属膜下層ＭＤＬを約３００ｎｍ、金属膜中間層ＭＭＬを約４μｍ、金属膜上層ＭＡＬを約４５０ｎｍの膜厚とした。なお、金属膜中間層ＭＭＬのＣｕはスパッタ以外に電気めっきなどにより形成することも可能である。
【００４５】
高融点金属を用いる上記５層膜の場合は、Ｃｕと同様に、特に燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液でのウェットエッチングが可能なＭｏでＣｕを挟んだ積層膜を金属膜中間層ＭＭＬとして用いるのが特に有効である。この場合、Ｃｕを挟むＭｏの膜厚は約５０ｎｍとし、この金属膜中間層を挟む金属膜下層ＭＤＬのＡｌ合金は約３００ｎｍ、金属膜上層ＭＡＬのＡｌ合金は約４５０ｎｍの膜厚とする。
【００４６】
続いてスクリーン印刷によるレジストのパターニングとエッチング加工により金属膜上層ＭＡＬを下部電極ＤＥＤと交差するストライプ形状に加工する。このエッチング加工では、例えば燐酸、酢酸の混合水溶液でのウェットエッチングを用いる。エッチング液に硝酸を加えないことによりＣｕをエッチングせずにＡｌ−Ｎｄ合金のみを選択的にエッチングすることが可能となる。
【００４７】
Ｍｏを用いた５層膜の場合も、エッチング液に硝酸を加えないことにより、ＭｏとＣｕをエッチングせずに、Ａｌ−Ｎｄ合金のみのみ選択的にエッチング加工することが可能である。ここでは、金属膜上層ＭＡＬを１画素あたり１本形成したが、２本形成することも可能である。
【００４８】
続いて同じレジスト膜をそのまま用いるか、金属膜上層ＭＡＬのＡｌ−Ｎｄ合金をマスクとして金属膜中間層ＭＭＬのＣｕを例えば燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液でウェットエッチングする。燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液のエッチング液中でのＣｕのエッチング速度はＡｌ−Ｎｄ合金に比べて十分に速いため、金属膜中間層ＭＭＬのＣｕのみを選択的にエッチングすることが可能である。Ｍｏを用いた５層膜の場合も、ＭｏとＣｕのエッチング速度はＡｌ−Ｎｄ合金に比べて十分に速く、ＭｏとＣｕの３層の積層膜のみを選択的にエッチングすることが可能である。Ｃｕのエッチングにはその他過硫酸アンモニウム水溶液や過硫酸ナトリウム水溶液も有効である。
【００４９】
続いて、スクリーン印刷によるレジストのパターニングとエッチング加工により金属膜下層ＭＤＬを下部電極ＤＥＤと交差するストライプ形状に加工する。このエッチング加工は、燐酸、酢酸の混合水溶液でのウェットエッチングで行う。その際、印刷するレジスト膜を金属膜上層ＭＡＬのストライプ電極とは平行な方向に位置をずらすことにより、金属膜下層ＭＤＬの片側ＥＧ１は金属膜上層ＭＡＬより張り出させて、後の工程で上部電極ＡＥＤとの接続を確保するコンタクト部とし、金属膜下層ＭＤＬの反対側ＥＧ２では金属膜上層ＭＡＬと金属膜中間層ＭＭＬをマスクとしてオーバーエッチング加工がなされ、金属膜中間層ＭＭＬに庇を形成する如く後退した部分が形成される。
【００５０】
この金属膜中間層ＭＭＬの庇により、後の工程で成膜される上部電極ＡＥＤが分離される。この際、金属膜上層ＭＡＬは金属膜下層ＭＤＬの膜厚より厚くしてあるので、金属膜下層ＭＤＬのエッチングが終了しても、金属膜上層ＭＡＬは金属膜中間層ＭＭＬのＣｕ上に残すことができる。これによりＣｕの表面を保護することが可能となるので、Ｃｕを用いても耐酸化性があり、かつ上部電極ＡＥＤを自己整合的に分離し、かつ給電を行う走査信号配線となる上部バス電極を形成することができる。また、ＣｕをＭｏで挟んだ５層膜の金属膜中間層ＭＭＬとした場合には、金属膜上層ＭＡＬのＡｌ合金が薄くても、ＭｏがＣｕの酸化を抑制してくれるので、金属膜上層ＭＡＬを金属膜下層ＭＤＬの膜厚より厚くする必要はない。
【００５１】
続いて、層間膜ＩＮＳ３を加工して電子放出部を開口する。電子放出部は画素内の１本の下部電極ＤＥＤと、下部電極ＤＥＤと交差する２本の上部バス電極（金属膜下層ＭＤＬ、金属膜中間層ＭＭＬ、金属膜上層ＭＡＬの積層膜と非図示の隣接画素の金属膜下層ＭＤＬ、金属膜中間層ＭＭＬ、金属膜上層ＭＡＬの積層膜）に挟まれた空間の交差部の一部に形成する。このエッチング加工は、例えばＣＦ4やＳＦ6を主成分とするエッチングガスを用いたドライエッチングによって行うことができる。
【００５２】
最後に、上部電極ＡＥＤの成膜を行う。この成膜にはスパッタ法を用いる。上部電極ＡＥＤとしては、Ａｌでも良く、またはイリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）の積層膜を用い、その膜厚は例えば約６ｎｍとした。この時、上部電極ＡＥＤは、電子放出部を挟む２本の上部バス電極（金属膜下層ＭＤＬ、金属膜中間層ＭＭＬ、金属膜上層ＭＡＬの積層膜）の一方の端部（図９（ｃ）の右側）では、金属膜中間層ＭＭＬと金属膜上層ＭＡＬの庇構造による金属膜下層ＭＤＬの後退部（ＥＧ２）により切断される。そして、上部バス電極の他方の端部（図９（ｃ）の左側）では、上部電極ＡＥＤは、上部バス電極（金属膜下層ＭＤＬ、金属膜中間層ＭＭＬ、金属膜上層ＭＡＬの積層膜）とは金属膜下層ＭＤＬのコンタクト部（ＥＧ１）により断線を起こさずに成膜接続されて、電子放出部へ給電される構造となる。
【００５３】
次に、図１０は本発明の構成を適用した画像表示装置の等価回路例の説明図である。図１０中に破線で示した領域は表示領域ＡＲであり、この表示領域ＡＲにｎ本の画像信号電極８とｍ本の走査信号電極９が互いに交差して配置されてｎ×ｍのマトリクスに配列された画素が形成されている。マトリクスの各交差部は副画素を構成し、図中の３つの単位画素（または副画素）"Ｒ"，"Ｇ"，"Ｂ"の１グループでカラー１画素を構成する。なお、電子源の構成は図示を省いた。画像信号電極（カソード電極）８は、画像信号電極引出端子で画像信号駆動回路ＤＤＲに接続され、走査信号電極（ゲート電極）９は走査信号電極引出端子で走査信号駆動回路ＳＤＲに接続されている。画像信号駆動回路ＤＤＲには外部信号源から画像信号ＮＳが入力され、走査信号駆動回路ＳＤＲには同様に走査信号ＳＳが入力される。
【００５４】
これにより、順次選択される走査信号電極９に交差する画像信号電極８に画像信号を供給することにより、二次元のフルカラー画像を表示することができる。本構成例の表示パネルを用いることにより、比較的低電圧で高効率の画像表示装置が実現される。
【００５５】
なお、前述した実施例においては、画像表示装置として内面に蛍光体層及びブラックマトリクス膜を有し、蛍光体層及びブラックマトリクス膜の背面にメタルバック膜（陽極電極）を有する前面基板を用いた表示装置に適用した場合について説明したが、本発明は、これに限定されるものではない。
【００５６】
また、前述した実施例では、ＭＩＭ型タイプの陰極構成の画像表示装置について説明したが、これに限定されるものではなく種々の陰極構成が利用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の画像表示装置の一実施例を説明する前面基板側から見た平面図である。
【図２】図１のＩ方向から見た側面図である。
【図３】図１の前面基板を取り去って示す背面基板の模式平面図である。
【図４】図３のII−II線に沿った背面基板及びこれと対応する前面基板の模式断面図である。
【図５】図１の前面基板の内側に形成された蛍光面の構成を示すＢＭ膜の模式平面図である。
【図６】図５のＢＭ膜の表示領域中央部分の拡大平面図である。
【図７】図５のＢＭ膜の表示領域周辺部分の拡大平面図である。
【図８】本発明の画像表示装置の実施例２の構成を示すＢＭ膜の表示領域周辺部分の拡大平面図である。
【図９】本発明の画像表示装置の画素を構成する電子源の一例を説明する図である。
【図１０】本発明の構成を適用した画像表示装置の等価回路例を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１・・・背面基板、２・・・前面基板、３・・・枠体、４・・・排気管、５・・・封着部材、６・・・表示領域、７・・・貫通孔、８・・・画像信号配線、９・・・走査信号配線、１０・・・電子源、１１・・・接続電極、１２・・・間隔保持部材、１３・・・接着部材、１５・・・蛍光体膜、１６・・・ＢＭ膜、１６１・・・ＢＭ開口部、１７・・・メタルバック膜（陽極電極）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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