【事件の表示】
　平成　４年特許願第　　７７２５号「インクジェットヘッド」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　８月　３日出願公開、特開平　５−１９３１４１］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　　
１．手続の経緯・本願発明
　　
　本願は、平成　４年　１月２０日の出願であって、その請求項１乃至請求項７に係る発明は、平成１４年　９月　９日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１乃至請求項７に記載された以下のとおりのものと認められる（以下、請求項１に係る発明を「本願発明１」、請求項４に係る発明を「本願発明２」という）。
「【請求項１】　インクが充填された複数の圧力室と、前記各圧力室と連通する複数のノズル開口を有するノズル形成部材と、前記圧力室に圧力を発生させて前記ノズル開口からインク滴を吐出させる圧力発生手段とを具備したインクジェットヘッドにおいて、
　前記各ノズル開口毎の周囲には親インク液領域を独立して設けると共に、前記親インク液領域の周囲には撥インク液領域が設けられており、
　インクジェットヘッドの印字待機状態においては、前記親インク液領域に均一なインク溜まりを形成するように前記圧力室内を大気圧より低い圧力に設定していることを特徴とするインクジェットヘッド。
【請求項２】　前記親インク液領域が、撥インク液領域より凹部となることを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッド。
【請求項３】　前記親インク液領域が、撥インク液領域より凸部となることを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッド。
【請求項４】　ノズル開口を有するノズル形成部材と、前記ノズル開口に対応して配置されて該ノズル開口からインク滴を吐出させる圧力発生手段とを具備したインクジェットヘッドにおいて、
　前記ノズル形成部材のインク滴吐出面における前記ノズル開口近傍の領域より外方の領域に、高分子樹脂と金属との共析メッキ処理が施されていることを特徴とするインクジェットヘッド。
【請求項５】　前記ノズル開口近傍の領域は、前記共析メッキ領域より凹部となっていることを特徴とする請求項４記載のインクジェットヘッド。
【請求項６】　前記ノズル開口近傍の領域は、前記共析メッキ領域より凸部となっていることを特徴とする請求項４記載のインクジェットヘッド。
【請求項７】　前記ノズル開口近傍の領域は、金属のメッキ処理が施されていることを特徴とする請求項４乃至６のいずれかに記載のインクジェットヘッド。」
　　
２．引用刊行物
　　
　当審における拒絶の理由において引用された特開平　３−２７４１６３号公報（以下、「引用刊行物」という）には、下記のとおり記載されている。
「（１）フェースイジェクトタイプのインクジェット記録用ヘッドにおいて、インク吐出用ノズルプレートを無電解メッキ鋳造法により形成した事を特徴とするインクジェット記録用ヘッド。
（２）インク吐出用ノズルプレートの表面（紙側の面）にフッ素系高分子共析メッキを行った事を特徴とする請求項１記載のインクジェット記録用ヘッド。」（特許請求の範囲）
「本発明は、インク滴を飛翔させて記録媒体上に文字、画像等を形成するインクジェットプリンター記録用ヘッドに関するものである。」（第１頁左下欄１５〜１７行）
「本発明は、インクジェット記録用プリンター、特にフェースイジェクトタイプの記録用ヘッドにおいて、そのインク吐出用ノズルプレートを無電解メッキ鋳造法により形成し、さらにその表面（紙側の面）にフッ素系高分子共析メッキを行う事により、」（第１頁右下欄２〜７行）
「また表面にフッ素系高分子共析メッキを形成する事により、吐出されたインクのノズルプレート表面での接触角が高く、」（第２頁左下欄４〜６行）
「第１図は、本発明の詳細を説明するためのノズルプレート製造工程の概略断面図である。第１図（ａ）は、…ノズル部等をパターン化する。ノズル数は、仕様によっても異なるが数十穴が形成されており、通常は、２列に配列される。」（第２頁左下欄１０〜１９行）
「この金属パターンに第一層として、四フッ化エチレンの微粒子（φ１μｍ以下）の無電解ニッケル共析メッキを５μｍ行う。」（第２頁左下欄２０行〜同右下欄２行）
「次に、無電解ニッケルの厚付けメッキ（鋳造）を５０μｍ行う。」（第２頁右下欄５〜６行）
「このニッケルのノズルプレートを、基板より剥離し表面のＣｕ膜を過硫酸アンモン溶液で溶解し、ノズルプレート単体完成とした後、樹脂製のインクジェットヘッド本体（ポンプ室）と、紫外線（ＵＶ）硬化タイプの接着剤を用いて接合し、ＦＥタイプのインクジェット記録用ヘッドとして完成させた。」（第２頁右下欄１６行〜第３頁左上欄２行）
　また、明細書の図面の簡単な説明の項、及び、図面第１図の記載からみて、インクジェット記録用ヘッドのノズルプレートに対応するインクジェットヘッド本体にはポンプ室が設けられ、そのポンプ室下面には、ピエゾ圧電体が設けられていること、及び、ノズルプレートの表面（紙側の面）の各ノズル近傍の領域より外方の領域に、フッ素系高分子共析メッキ層が設けらていることが看取できる。
　これらの記載を含む明細書及び図面の記載からみて、引用刊行物には、次のような発明（以下、「引用発明」という）が記載されていると認められる。
「複数のポンプ室と、前記各ポンプ室と連通する複数のノズルを有するノズルプレートと、ピエゾ圧電体とを具備したインクジェットヘッドにおいて、
前記ノズルプレートの表面（紙側の面）の各ノズル近傍の領域より外方の領域に、フッ素系高分子共析メッキ層が設けられたインクジェットヘッド。」
　　
３．対比・判断
　　
３−１．本願発明１と引用発明の対比・判断
　　
　本願発明１（前者）と引用発明（後者）とを比較すると、後者の「ノズル」、「ノズルプレート」はそれぞれ前者の「ノズル開口」、「ノズル形成部材」に相当し、また、後者の「ポンプ室」は前者の「圧力室」に相当するものであって、インクジェットプリンタにおける使用時においてはインクが充填されるものであり、さらに、後者の「ピエゾ圧電体」は前者の「圧力発生手段」に相当するものであって、ポンプ室に圧力を発生させてノズルからインク滴を吐出させるものである。
　そして、前者における「撥インク液領域」、及び、「親インク液領域」については、前者の明細書において
「本実施例では、ノズル形成部材１は、電鋳のＮｉにより製造し、ノズル開口部３の直径は６０μｍ、親インク液領域７の直径は、２６０μｍとし、撥インク液領域６は、上村工業のテフロン（ＤＵ　ＰＯＮＴ社登録商標）分散Ｎｉ無電解メッキであるニムフロン（上村工業登録商標）を用い、２μｍ厚のメッキ後熱処理を施して形成した。なお、親インク液領域７は、ニムフロン（上村工業登録商標）を施していない、電鋳Ｎｉ面である。」（段落【００１９】）
「この実施例では、ノズル形成部材１の表面全面に親インク液処理を行い、その後、凹部の内側を除き撥インク液処理を施した。撥インク液処理は、前記実施例１と同じ上村工業のニムフロン（上村工業登録商標）による。親インク液処理は無電解のＡｕめっきを厚み０．５μｍ付与した。」（段落【００２８】）
と記載されているとおり、撥インク液領域については「テフロン（ＤＵ　ＰＯＮＴ社登録商標）分散Ｎｉ無電解メッキであるニムフロン（上村工業登録商標）」を施した領域が例示され、また、親メッキ液領域については、「ニムフロン（上村工業登録商標）を施していない、電鋳Ｎｉ面である。」、もしくは、「親インク液処理は無電解のＡｕめっきを厚み０．５μｍ付与した。」と例示されている。
　ここで、「テフロン（ＤＵ　ＰＯＮＴ社登録商標）分散Ｎｉ無電解メッキであるニムフロン（上村工業登録商標）」は、フッ素系高分子共析メッキの一種であることは明らかであり、後者におけるフッ素系高分子共析メッキ層は、各ノズル開口近傍の領域より外方の領域に設けられ、吐出されたインクのノズルプレート表面での接触角を高くしたものであり（引用刊行物第２頁左下欄４〜６行）、前者における「撥インク液領域」ということができる。
　また、同じく後者におけるフッ素系高分子共析メッキ層以外の部分は、ニッケルが無電解メッキ鋳造法により形成された領域、すなわち、電鋳Ｎｉ面であり、フッ素系高分子共析メッキを施されていない部分であって、各ノズル開口近傍の領域に設けられているから、後者における「親インク液領域」ということができる
そうすると、両者は
「インクが充填された複数の圧力室と、前記各圧力室と連通する複数のノズル開口を有するノズル形成部材と、前記圧力室に圧力を発生させて前記ノズル開口からインク滴を吐出させる圧力発生手段とを具備したインクジェットヘッドにおいて、
　前記各ノズル開口毎の周囲には親インク液領域を独立して設けると共に、前記親インク液領域の周囲には撥インク液領域が設けられたインクジェットヘッド。」
である点において一致し、
（イ）前者が、インクジェットヘッドの印字待機状態においては、前記親インク液領域に均一なインク溜まりを形成するように前記圧力室内を大気圧より低い圧力に設定しているのに対し、後者では定かではない点、
において相違する。
　　
　そこで、上記相違点について検討する。
　　
相違点（イ）について
　　
　インクジェットヘッドが印字待機状態である場合に、圧力室内が大気圧より高い圧力に設定された場合、圧力室内のインクが外部へ噴出してしまうことが明らかであることからみて、インクジェットヘッドが印字待機状態である場合には、圧力室内を大気圧以下の圧力に設定する必要があることは明らかである。
　そして、このことは、親インク液領域に均一なインク溜まりを形成することを目的とするか否かに関わらず行われるものであり、本願発明１は、そのような大気圧以下の圧力の中でも、特に親インク液領域に均一なインク溜まりを形成する圧力を採用するものであるが、インクジェットヘッドの分野において、ノズル開口の周囲に不均一なインク溜まりが形成されていた場合には、ノズル開口の周囲に均一なインク溜まりが形成されていた場合に比較して、インクジェットヘッドによる印字結果に悪影響を与えることは当業者であればインクジェットヘッドを設計する際に事前に考慮しておくべき事項にすぎないものであるから（もし必要であれば、例えば特開平２−２７４５５３号公報、特開平２−６３８４０号公報、特開平１−２２１２５２号公報等参照）、すなわち、ノズル開口の周囲に均一なインク溜まりを形成することをも考慮して、圧力室内を大気圧より低い圧力に設定することは、当業者であれば必要に応じて適宜設計して採用し得る程度の事項にすぎないものである。
　したがって、相違点（イ）は、当業者が必要に応じて適宜なし得た設計の変更である。
　　
３−２．本願発明２と引用発明の対比・判断
　　
　本願発明２（前者）と引用発明（後者）とを比較すると、後者の「ノズル」、「ノズルプレート」はそれぞれ前者の「ノズル開口」、「ノズル形成部材」に相当し、また、後者の「ピエゾ圧電体」は前者の「圧力発生手段」に相当するものであって、ノズルに対応して配置されているものである。
　そうすると、両者は
「ノズル開口を有するノズル形成部材と、前記ノズル開口に対応して配置されて該ノズル開口からインク滴を吐出させる圧力発生手段とを具備したインクジェットヘッドにおいて、
　前記ノズル形成部材のインク滴吐出面における前記ノズル開口近傍の領域より外方の領域に、共析メッキ処理が施されていることを特徴とするインクジェットヘッド。」
である点において一致し、
（ロ）前者における共析メッキ処理が、高分子樹脂と金属との共析メッキ処理であるのに対し、後者における共析メッキ処理が、四フッ化エチレンの微粒子（φ１μｍ以下）の無電解ニッケル共析メッキ処理である点
において相違する。
　　
　そこで、上記相違点について検討する。
　　
相違点（ロ）について
　　
　ニッケルが金属の一種であることは明らかである。
　ここで、四フッ化エチレンの微粒子が必ずしも高分子樹脂を意味するか否かは定かではないにせよ、前者の共析メッキ処理において用いられる高分子樹脂である、テフロン（ＤＵ　ＰＯＮＴ社登録商標）が、ポリテトラフルオロエチレンを示すことは自明であり、しかも、ポリテトラフルオロエチレンが後者の共析メッキ処理において用いられる四フッ化エチレンの一種であることも自明であるから、結局、共析メッキ処理において、高分子樹脂と金属との共析メッキ処理を採用するか、あるいは、四フッ化エチレンの微粒子と金属との共析メッキを採用するかは、当業者であれば必要に応じて適宜選択して採用し得る程度の事項にすぎないものであり、その作用効果においても格別の相違があるものと認めることもできない。
　したがって、相違点（ロ）は、当業者が必要に応じて適宜なし得た設計の変更である。
　　
　なお、請求人は平成１４年　９月　９日付意見書第３頁１９〜２０行において、
「また、特許性を有する請求項１を更に限縮させた請求項２乃至７は引用例の存在の如何にかかわらず特許性を有することは明らかである。」
と主張している。
　この点について検討すると、平成１４年　９月　９日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項４は、独立形式の請求項として記載されたものであり、さらに請求項５及び請求項６は請求項４を引用する形式で、請求項７は請求項４乃至請求項６を引用する形式でそれぞれ記載されたものであり、請求項１を引用して減縮したものではなく、請求人の主張は採用できない。
　しかも、これら請求項４乃至請求項７の記載形式は、審判請求に伴い請求人が提出した、平成１３年　９月２０日付手続補正書、及び、拒絶査定時の特許請求の範囲が記載されている平成１３年　５月　１日付手続補正書においても、平成１４年　９月　９日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の記載と同様に、請求項４は、独立形式の請求項として記載されたものであり、さらに請求項５及び請求項６は請求項４を引用する形式で、請求項７は請求項４乃至請求項６を引用する形式でそれぞれ記載されたものであるから、請求項４乃至請求項７については、そもそも請求項１を減縮するとの意図を持って記載したものであると認めることはできない。
　　
４．むすび
　　
　以上のとおり、本願発明１または本願発明２は引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、その余の請求項について検討するまでもなく、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　　
　よって、上記結論のとおり審決する。