(57)【要約】【課題】  光記録後に、非重合部に残留するモノマーを重合させる以外の手段で消費させ、経時による光像の再生劣化を防止し、光像の高密度記録と正確な読み取りによる高密度記録再生が可能な光記録媒体用組成物、及びこの光記録媒体用組成物を用いた光記録媒体用組成物並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法の提供。【解決手段】  バインダー、エチレン性二重結合を含む重合性モノマー、光重合開始剤、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物、を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体用組成物である。また、該光記録媒体用組成物を用いた光記録媒体、並びに光記録方法及び光再生方法である。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、エチレン性二重結合を含む重合性モノマー、光重合開始剤、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物、を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体用組成物。
【請求項２】
外部からの刺激が、熱、及び光から選択されるいずれかである請求項１に記載の光記録媒体用組成物。
【請求項３】
外部からの刺激により発生するエチレン性二重結合と反応可能な化合物が、アミン及びメルカプタンの少なくともいずれかである請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体用組成物。
【請求項４】
光酸発生剤及び熱酸発生剤のいずれかを更に含む請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体用組成物。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体用組成物を含む光記録層を有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項６】
第一の基板と、光記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する請求項５に記載の光記録媒体。
【請求項７】
可干渉性を有する情報光及び参照光を請求項５から６のいずれかに記載の光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光とにより干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録し、該記録後の光記録層に対して外部から刺激を付与し、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生させ、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物とモノマーとを反応させることを特徴とする光記録方法。
【請求項８】
情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉像を前記光記録媒体に記録する請求項７に記載の光記録方法。
【請求項９】
請求項７から８に記載の光記録方法により光記録層に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録された干渉像の屈折率の差を小さくさせることがなく、光記録層に記録された干渉像を効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生可能な光記録媒体用組成物、この光記録媒体用組成物を用いることにより、高密度画像記録が可能な光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
二枚の基板の間に光記録層を有する体積型の光記録媒体を製造するための感光性組成物（光記録媒体用組成物）としては、ラジカル重合モノマーとバインダーポリマー、光ラジカル重合開始剤、増感色素を主成分とし、ラジカル重合モノマーとバインダーポリマーの屈折率差を利用したものが知られている（特許文献１参照）。この材料においては、フィルム状に形成された該感光性組成物を干渉露光すると、光が強い部分においてラジカル重合が開始され、それに伴いラジカル重合モノマーの濃度勾配ができ、光が弱い部分から強い部分にラジカル重合モノマーの拡散移動が起こる。結果として干渉光の強弱に応じて、ラジカル重合モノマーの疎密ができ、これが屈折率の差として現れるものである。
【０００３】
前記体積型光記録媒体用の感光性組成物の他の例として、ＮＣＯ末端のプレポリマーとポリオール、又は二官能性エポキシドと四官能性メルカプタンなどのポリマーマトリックス前駆体として含むものが知られている。この場合はこれらポリマーマトリックス前駆体を二枚の基材間に所定の厚みで堆積させた後に、これら前駆体を反応させポリマーマトリックスとすることにより、前記溶剤塗布を用いないで光記録媒体を作製することができる（特許文献２参照）。このようにして作製された光記録媒体を干渉露光することにより光記録が達成される。
しかしながら、このように記録した光像においてモノマーが全て消費されていない場合には、経時によりモノマーの移動や重合が発生し、光記録像が正確に読み出せないという問題を有している。この問題に鑑みて、光記録後に更に全面露光しモノマーを消費させる定着工程を入れることも考案されているが、光記録における非重合部に残存したモノマーを重合してしまうため、干渉縞の明暗部で元々生じている屈折率差を減少させることとなり、再生した光像の劣化を伴うという問題を有していた。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−４３６３４号公報
【特許文献２】米国特許第６，４８２，５５１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光記録後に、非重合部に残留するモノマーを重合させる以外の手段により消費させることができるため、経時によるモノマーの移動や重合が生じることがなく、かつ、干渉縞の明暗部の屈折率差を減少させることがなく、記録された干渉像を正確に読み取って高密度記録再生可能な光記録媒体用組成物、及びこの光記録媒体用組成物を用いることにより、干渉像の高密度記録が可能で該光像を正確に読み取って高密度記録情報を再生可能な光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  バインダー、エチレン性二重結合を含む重合性モノマー、光重合開始剤、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物、を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体用組成物である。
該＜１＞に記載の光記録媒体用組成物においては、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物を含むことから、光記録後にモノマーを重合させる以外の手段、即ち外部からの刺激によりモノマーを消費させることができ、経時によるモノマーの移動や重合が生じることがなく、かつ、干渉縞の明暗部の屈折率差を減少させることがなく、高密度記録された光像を正確に読み取って、高密度記録情報を再生可能な光記録媒体をが得られる。
＜２＞  外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物が、アミン及びメルカプタンのいずれかを含む化合物を少なくとも含む前記＜１＞に記載の光記録媒体用組成物である。
＜３＞  外部からの刺激により発生するエチレン性二重結合と反応可能な化合物が、アミン及びメルカプタンの少なくともいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体用組成物である。
＜４＞  光酸発生剤及び熱酸発生剤のいずれかを更に含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体用組成物である。
【０００７】
＜５＞  前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体用組成物を含む光記録層を有することを特徴とする光記録媒体である。
該＜５＞に記載の光記録媒体においては、本発明の光記録媒体用組成物を用いることにより、光像の劣化を生じさせることのない、高画質記録と正確な再生が可能な高品質な光記録媒体が得られる。
＜６＞  第一の基板と、光記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する前記＜５＞に記載の光記録媒体である。
【０００８】
＜７＞  可干渉性を有する情報光及び参照光を前記＜５＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光とにより干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録し、該記録後の光記録層に対して外部から刺激を付与し、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生させ、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物とモノマーとを反応させることを特徴とする光記録方法である。
該＜７＞に記載の光記録方法においては、本発明の前記光記録媒体を用いて、可干渉性を有する情報光及び参照光を照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉像によって情報を光記録層に記録し、該記録後の光記録層に対して外部から刺激を付与することにより、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生させ、この外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物とモノマーとを反応させることにより、非重合部に残留するモノマーが消費され、経時によるモノマーの移動や重合が生じることがなく、かつ、干渉縞の明暗部の屈折率差を減少させることがないため、正確な再生が可能な干渉像を記録できる。
＜８＞  情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉像を前記光記録媒体に記録する前記＜７＞に記載の光記録方法である。
該＜８＞に記載の光記録方法においては、本発明の前記光記録媒体を用いて、情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉像によって情報を光記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することができる。
＜９＞  外部からの刺激が、熱、及び光から選択されるいずれかである前記＜７＞から＜８＞に記載の光記録方法である。
【０００９】
＜１０＞  前記＜７＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録方法により光記録層に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
該＜１０＞に記載の光再生方法においては、本発明の前記光記録媒体用組成物を用いた本発明の光記録媒体に、前記光記録方法により光記録層に記録された干渉像を効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生させることにより、光記録後に、非重合部に残留するモノマーを重合させる以外の手段により消費させることができるため、経時によるモノマーの移動や重合が生じることがなく、かつ、干渉縞の明暗部の屈折率差を減少させることがなく、記録された干渉像を正確に読み取って高密度記録再生可能な光記録媒体用組成物、及びこの光記録媒体用組成物を用いることにより、干渉像の高密度記録が可能で干渉像を正確に読み取って高密度記録情報を再生可能な光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（光記録媒体用組成物）
本発明の体積型の光記録媒体用組成物は、必須成分として、（Ａ）外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物、（Ｂ）バインダー、（Ｃ）エチレン性二重結合を含む重合性モノマー、（Ｄ）光重合開始剤、を少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の成分を含んでなる。
＜（Ａ）外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物＞
前記化合物は、エチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生するため、光記録時に消費されなかったモノマーを、重合させる以外で消費することが可能となる。そのため、前記光記録時に消費されなかったモノマーが、経時により移動や重合を生じることがなく、また、全面露光によるモノマーの消費のような干渉像の屈折率差を小さくさせることがなく、光記録層に記録された干渉像を効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
前記外部からの刺激としては、例えば、熱、光が挙げられ、これらの中でも、光による刺激が好ましく挙げられる。外部からの刺激は、直接エチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物に作用してもよいし、これとは別の外部からの刺激に応答性の化合物を介してエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物に作用してもよい。
前記外部からの刺激により発生するエチレン性二重結合と反応可能な化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光及び熱のいずれかの作用（刺激）により、アミン及びメルカプタンのいずれかを生成する化合物が好ましい。
−アミンを生成する化合物−
前記光の作用によりアミンを生成する化合物としては、ｍ−ニトロフェニルカーバメート、ｏ−ニトロベンジルカーバメート、ｏ−ニトロベンジルアミン、などが挙げられる。
前記熱の作用によりアミンを生成する化合物としては、ｔ−ブチルカーバメート、マロン酸又はそのモノエステルのアミン塩、などが挙げられる。
更に、これらから発生するアミンを増殖する目的で、９−フルオレニルメチルカーバメートなど塩基の作用により触媒的に塩基を発生する化合物を添加してもよい。
また熱により塩基を発生させる場合には、加熱温度を低くする目的で、後述する熱酸発生剤を併用してもよい。
前記光又は熱の作用により発生させるアミンとしては、炭素原子数１〜１８の置換基を有してもよい一級アミン、炭素原子数２〜２４の置換基を有してもよい二級アミン（環状アミンも含む）が好適に挙げられ、これらの中でも、炭素原子数６〜１２の置換基を有してもよい一級アミン、炭素原子数６〜２０の置換基を有してもよい二級アミン（環状アミンも含む）が特に好適に挙げられる。また二官能以上の多官能アミンでもよい。
なお、前記アミンとモノマーとの反応は、マイケル付加反応であり、その一例として、下記反応式（１）のような反応が考えられる。
【化１】
2007086196.tif 000002
ただし、前記反応式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は置換基を表す。
【００１２】
このような外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能なアミンを発生する化合物としては、具体的には、下記構造式（１）〜（９）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものでない。
【化２】
2007086196.tif 000003
【００１３】
−メルカプタンを生成する化合物−
前記メルカプタンは、光又は熱の作用により直接発生させるよりも、光又は熱酸発生剤を用いることで発生した酸の作用により発生させることが好ましい。
このような酸の作用によりメルカプタンを生成する化合物としては、Ｓ−イソブトキシメチルヘミアセタール、Ｓ−２−テトラヒドロピラニルヘミアセタール、などが挙げられる。前記発生させるメルカプタンとしては、炭素原子数３〜１８の置換基を有してもよい脂肪族メルカプタンが好適に挙げられ、炭素原子数６〜１６の置換基を有してもよい脂肪族メルカプタンが特に好適に挙げられる。また二官能以上の多官能メルカプタンでもよい。
前記光酸発生剤としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、などが挙げられる。
前記熱酸発生剤としては、ベンジルスルホニウム塩、ベンジルアンモニウム塩、ベンジルホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホン酸エステル、などが挙げられ、具体的な例としては、下記に示す構造式（１０）〜（１４）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【化３】
2007086196.tif 000004
なお、前記メルカプタンとモノマーとの反応は、マイケル付加反応であり、その一例として、下記反応式（２）のような反応が考えられる。
【化４】
2007086196.tif 000005
ただし、前記反応式（２）中、Ｒ４〜Ｒ５は置換基を表す。
【００１４】
このような外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能なメルカプタンを発生する化合物としては、具体的には、下記構造式（１５）〜（１８）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものでない。
【化５】
2007086196.tif 000006
【００１５】
前記アミン又はメルカプタンを発生させるために光を用いる場合は、光記録波長と異なる波長の光を用いることが好ましい。光源としてはインコヒーレントな光を照射することが好ましく、蛍光灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、発光ダイオードが好ましい。これらの光照射時のエネルギー強度としては、１０Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましく、特に、１Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。光照射方法としては、全面照射でも、ライン状でも、点状に照射してもよい。前記エネルギー強度が、１０Ｊ／ｃｍ2超であると光分解に伴う副反応が起こることがある。
前記アミン又はメルカプタンを発生させるために熱を用いる場合は、光記録層のＴｇ以下の温度で行うことが好ましいが、Ｔｇを超える温度であっても、実質的に光記録像を改変することが無ければ特に制限されるものではない。前記熱を作用させる方法としては、全面を加熱する方法でも、サーマルヘッドまたはローラーで加熱する方法でも、赤外線レーザーで加熱する方法でもよい。
前記赤外線レーザーを照射する場合は、光記録組成物に赤外線吸収色素を添加しておくことが好ましい。このような赤外線吸収色素としては、光記録波長に吸収を持たない又は吸収が少ないものが好ましく、カチオン性色素、錯塩形成色素及びキノン系中性色素等が挙げられ、これらの詳細は特開２００４−２１６７５１号明細書に記載を参考にすることができる。
【００１６】
前記外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物の含有量としては、光記録媒体用組成物の全質量に対して１〜５０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が、１質量％未満であると、モノマーが残存することがあり、５０質量％超であると、残存したこれらの化合物が記録画像に悪影響を及ぼすことがある。
【００１７】
＜（Ｂ）バインダー＞
前記バインダーは、塗膜性、膜強度、及び光記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、光記録媒体用組成物、及び外部からの刺激により変換される物質（例えば、前記光又は熱の作用により生成されるアミン又はメルカプタンなどとモノマーとの反応物）との相溶性、を考慮して適宜選択される。
前記バインダーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルスチレン等との共重合体；ポリメチルメタクリレートに代表されるメタクリル酸アルキルやアクリル酸アルキルの重合体；（メタ）アクリル酸アルキルとアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体；アクリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデンとの共重合体；側鎖にカルボキシル基を有するセルロース変性物；ポリエチレンオキシド；ポリビニルピロリドン；フェノール、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾール、及び／又はキシレノールとアルデヒド、アセトン等との縮合反応で得られるノボラック樹脂；エピクロロヒドリンとビスフェノールＡとのポリエーテル；可溶性ナイロン；ポリ塩化ビニリデン；塩素化ポリオレフィン；塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体；酢酸ビニルの重合体；アクリロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリルとブタジエン及びスチレンとの共重合体；ポリビニルアルキルエーテル；ポリビニルアルキルケトン；ポリスチレン；ポリウレタン；ポリエチレンテレフタレートイソフタレート；アセチルセルロース；アセチルプロピオキシセルロース；アセチルブトキシセルロース；ニトロセルロース；セルロイド；ポリビニルブチラール；エポキシ樹脂；メラミン樹脂；フォルマリン樹脂、多価アルコールと多価イソシアネートからなるポリウレタン樹脂；多価アルコール、水、及び多価イソシアネートからなるポリウレタン／ウレア樹脂；有機シロキサンポリマー、などが挙げられる。なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記することがある。
前記バインダーの光記録層中における含有量は、光記録層の全固形分中、１０〜９８質量％が好ましく、３５〜９５質量％がより好ましい。
【００１８】
＜（Ｃ）エチレン性二重結合を含む重合性モノマー＞
前記エチレン性二重結合を含むモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単官能であってもよいし、多官能であってもよい。
このようなモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、２，４，６−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムフェニルアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
＜（Ｄ）光重合開始剤＞
前記光重合開始剤としては、記録光に対して感度を有し、光照射によりラジカル重合反応を引き起こすものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラチルアンモニウム、ビス(η−５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）〕フェニルチタニウム、特開２００５−４９６０８号公報記載の光吸収部と遊離基を発生する活性部を分子内に有する化合物などが挙げられる。これらの中でも、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、トリフェニルブチルボレートテトラチルアンモニウム、ビス(η−５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）〕フェニルチタニウムが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感剤として増感色素を併用してもよい。前記光重合開始剤の記録用組成物中における含有量は、全記録用組成物の固形分中、０．３〜４質量％が好ましく、０．５〜３質量％がより好ましい。
【００２０】
前記増感色素としては、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｖｏｌ．２００，１９８０年１２月、Ｉｔｅｍ ２００３６」や「増感剤」（ｐ．１６０〜ｐ．１６３、講談社；徳丸克己・大河原信／編、１９８７年）等に記載された公知の化合物を使用することができる。
上記分光増感色素として、具体的には、特開昭５８−１５６０３号公報に記載の３−ケトクマリン化合物、特開昭５８−４０３０２号公報に記載のチオピリリウム塩、特公昭５９−２８３２８号公報、同６０−５３３００号公報に記載のナフトチアゾールメロシアニン化合物、特公昭６１−９６２１号公報、同６２−３８４２号公報、特開昭５９−８９３０３号公報、同６０−６０１０４号公報に記載のメロシアニン化合物が挙げられる。
また、「機能性色素の化学」（１９８１年、ＣＭＣ出版社、ｐ．３９３〜ｐ．４１６）や「色材」（６０〔４〕２１２−２２４（１９８７））等に記載された色素も挙げることができ、具体的には、カチオン性メチン色素、カチオン性カルボニウム色素、カチオン性キノンイミン色素、カチオン性インドリン色素、カチオン性スチリル色素が挙げられる。
更に、クマリン（ケトクマリンまたはスルホノクマリンも含まれる。）色素、メロスチリル色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等のケト色素；非ケトポリメチン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラセン色素、ローダミン色素、アクリジン色素、アニリン色素、アゾ色素等の非ケト色素；アゾメチン色素、シアニン色素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、トリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素等の非ケトポリメチン色素；アジン色素、オキサジン色素、チアジン色素、キノリン色素、チアゾール色素等のキノンイミン色素等も分光増感色素に含まれる。上記分光増感色素は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記増感色素の記録用組成物中における含有量は、全記録用組成物の固形分中、０．３〜４質量％が好ましく、０．５〜３質量％がより好ましい。
【００２１】
＜その他の化合物＞
前記その他の化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、貯蔵安定性を改良するため、フォトポリマーの重合禁止剤及び酸化防止剤などを添加してもよい。
前記重合禁止剤及び酸化防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジターシヤリ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ターシヤリ−ブチルフェノール）、トリフェルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、フェノチアジン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンなどが挙げられる。これらの中でも、２，６−ジターシヤリ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ターシヤリ−ブチルフェノール）が好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記重合禁止剤及び酸化防止剤の使用量としては、組成物に使用するモノマーの全量に対して３質量％以内が好ましい。前記使用量が、３質量％を超えると重合反応が遅くなることがあり、著しい場合には重合しなくなることがある。
また、前記光記録用組成物の感度を向上させる目的で光熱変換材料を含有させることもできる。前記光熱変換材料としては、特願２００５−８４７８０号明細書の記載を参考にすることができる。
【００２２】
−化合物の含有量の分析−
前記化合物の含有量としては、前記光記録媒体用組成物における全固形分中の含有量と、該光記録媒体用組成物を含む光記録層における全固形分中の含有量などが挙げられる。
前記いずれの含有量の分析方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、各種ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）による質量分析、液体クロマト質量分析、フーリェ変換赤外線分光分析、顕微ラマン分光分析、有機微量元素分析（Ｃ、Ｈ、Ｎ）、顕微赤外分光分析、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴スペクトル、ガスクロマトグラフィー、紫外可視分光スペクトルなどが挙げられる。これらの中でも、化合物の含有量の分析は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィーが好ましい。
具体的には、前記含有量の分析は、株式会社島津製作所製ガスクロマトグラフＧＣ−１７００を用い、適切な温度条件の下、検量線法により分析することができる。
なお、前記光記録層が、前記外部からの刺激によりモノマー中のエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物とモノマーのエチレン性二重結合とが反応してなる化合物を含むことも、前記のような分析方法により分析することができる。この分析により、光記録層が、本発明の光記録媒体用組成物で形成されていることが判る。
【００２３】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、本発明の前記光記録媒体用組成物を含む光記録層を少なくとも有する。
また、前記光記録媒体としては、第一の基板と、光記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有するのが好ましく、必要に応じて、ギャップ層、その他の層を有してなる。
本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面光や立体像など多量の情報を記録する体積光であってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、光の記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅光、位相光、ブレーズド光、複素振幅光などでもよい。
また、本発明の光記録媒体の詳細については、後述の具体的形態にて説明する。
【００２４】
［光記録層］
前記光記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができ、例えば、湿式成膜法、米国特許６，７４３，５５２号に記載されている２成分ウレタンマトリックス形成方法などでもよい。
【００２５】
前記湿式成膜法による前記光記録層の形成は、例えば、前記光記録媒体用組成物を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。本発明の光記録媒体用組成物のバインダー成分がポリマーである場合は、このような方法で第二の基板上に光記録媒体用組成物を溶剤塗布し、乾燥することにより光記録層とすることができる。これにもう一枚の第一の基板を重ねることで光記録媒体とすることができる。
また、湿式成膜法以外の方法での前記光記録層の形成方法としては、例えば、前記基板に本発明の光記録媒体用組成物を保持するガスケットを取り付け、該ガスケットの保持により、前記本発明の光記録媒体用組成物を、二枚の基板の間に堆積させることにより行うことができる。
前記基板としては、後述するようにガラスが一般的に用いられるが、ガラス以外にも、データ記録に用いる照射光に透明な他の材料、例えばポリカーボネート、ポリ（メチルメタクリレート）、環状オレフィン系開環重合物等のプラスチックを用いることもできる。また、二枚の基板の間に、光記録媒層を所望の厚みで形成するためのスペーサーを配置して、光記録媒体用組成物の堆積を行うこともできる。
前記光記録媒体用組成物の堆積は、ガスケットにより形成される堆積空間内に、ディスペンサーにより光記録媒体用組成物を盛り付けてもよい。
本発明の光記録媒体用組成物のバインダー成分がポリマーマトリックス前駆体である場合は、このように二枚の基板の間に本発明の光記録媒体用組成物を堆積させた後に、室温又は加熱し所定時間経時することにより、ポリマーマトリックスを形成させることができる。
【００２６】
前記光記録媒体用組成物は、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を含み、光記録後に、熱、光その他の外部からの刺激を付与することにより、前記化合物とモノマー中のエチレン性二重結合との反応が開始され、光記録層の非重合部に残存したモノマーが消費される。このように、光記録後に、重合以外の手段で残存モノマーが消費されることにより、従来のように消費されなかった重合性モノマーが経時により移動や重合を生じて干渉像が損なわれることがない。また、光記録像の干渉像の屈折率の差が小さくなることがなく、光記録層に記録された干渉像を効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
【００２７】
前記光記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，５００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記光記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重記録を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００２８】
（光記録方法及び光再生方法）
本発明の光記録方法は、可干渉性を有する情報光及び参照光を本発明の光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光とにより干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録し、該記録後の光記録層に対して外部から刺激を付与し、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生させ、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能な化合物とモノマーとを反応させてなる。
また、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉像を前記光記録媒体に記録してもよい。
本発明の光再生方法は、前記本発明により光記録方法により前記光記録層に記録された干渉像に参照光を照射して情報を再生するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の光記録方法により記録された光記録媒体に対して、記録時の参照光の照射と、同一の方向から同じ光を照射することにより再生する方法などが挙げられる。前記光を前記光記録媒体の光記録層に形成された干渉像に照射すると、該干渉像に対応した記録情報としての回折光が生成され、該回折光を受光することにより再生することができる。
前記本発明の光記録方法では、光記録後に、モノマーの重合以外の方法でモノマーを消費することにより、記録直後は勿論、経時によっても干渉縞の明暗部の屈折率差を減少させることがなく、本発明の光再生方法によって、記録された干渉像を正確に読み取って高密度記録再生が可能となる。
本発明の光記録媒体を記録及び再生する方法、装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、米国特許第５，７１９，６９１号明細書、同第５，８３８，４６７号明細書、同第６，１６３，３９１号明細書、同第６，４１４，２９６号明細書、米国特許出願公開第２００２−１３６１４３号明細書、特開２０００−９８８６２号公報、同２０００−２９８８３７号公報、同２００１−２３１６９号公報、同２００２−８３４３１号公報、同２００２−１２３９４９号公報、同２００２−１２３９４８号公報、同２００３−４３９０４号公報、同２００４−１７１６１１号公報、国際公開第９９／５７７１９号パンフレット、同第０２／０５２７０号パンフレット、第０２／７５７２７号パンフレットなどに記載された光記録方法、光記録装置などが挙げられる。
【００２９】
（本発明の光記録媒体、光記録方法、及び光再生方法の具体的形態）
本発明の光記録媒体は、少なくとも一の支持体上に光記録層を積層し、情報光と参照光とが異なる方向から照射される一般的な光の記録に用いられる第一の形態と、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に用いられ、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に光記録層と、前記第二の基板と該光記録層との間にフィルタ層とを有する第二の形態などが挙げられる。以下第一の形態及び第二の形態について順に説明する。
【００３０】
≪第一の形態≫
前記第一の形態は一般の光記録方法に用いられるもので、層構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、支持体上に光記録層を単層又は２以上の層を積層した構成、図１に示すように、支持体４２及び４３により記録層４１を挟み込み、支持体４２及び４３の最外層にそれぞれ反射防止層４４及び４５を形成した層構成などが挙げられる。
更に、記録層４１及び支持体４２との間、記録層４１と支持体４３との間にガスバリア層などを形成してもよい。また、反射防止層４４及び４５の表面に保護層などを設けてもよい。
【００３１】
＜情報光及び参照光＞
前記情報光及び前記参照光の光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光源から出射される可干渉性のあるレーザ光などが好ましい。
前記レーザ光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長が、３６０〜８５０ｎｍから選択される１種以上の波長からなるレーザ光などが挙げられる。該波長は、３８０〜８００ｎｍが好ましく、４００〜７５０ｎｍがより好ましく、可視領域の中心が最も見え易い５００〜６００ｎｍが最も好ましい。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、鮮明な立体画像が得られないことがあり、８５０ｎｍを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。
【００３２】
前記レーザ光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、固体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器、液体レーザ光発振器、アルゴンなどの気体レーザ光発振器、Ｈｅ−Ｃｄレーザ発振器、周波数２倍ＹＡＧレーザ発振器、Ｈｅ−Ｎｅレーザ発振器、Ｋｒレーザ発振器などが挙げられる。これらの中でも、気体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器などが好ましい。
【００３３】
前記情報光及び前記参照光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一の光源から出射される一のレーザ光などを分割して、該情報光及び該参照光として照射してもよく、異なる光源から出射される二つのレーザ光などを照射してもよい。
前記情報光と前記参照光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光と前記参照光が異なった方向から照射されてもよく、同一方向で照射されもよい。また、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸と同軸となるようにして照射されるものでもよい。
【００３４】
＜定着光＞
前記定着光の照射領域としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも１μｍ外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から１μｍを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。
【００３５】
前記定着光の照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、１ｎｓ〜１００ｍｓが好ましく、１ｎｓ〜８０ｍｓがより好ましい。前記照射時間が、１ｎｓ未満であると、定着が不十分なことがあり、１００ｍｓを超えると過剰なエネルギーの照射となる。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して０〜６０°が好ましく、０〜４０°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録層の任意の箇所において、３５０〜８５０ｎｍであることが好ましく、４００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、材料が分解してしまうことがあり、８５０ｎｍを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。
【００３６】
前記定着光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インコヒーレントな光を照射することが好ましく、蛍光灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが挙げられる。これらの中でも、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが好ましい。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、０．００１〜１Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、０．０１〜３００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【００３７】
前記定着光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同一の光源から出射される光を照射してもよく、異なる光源から出射される光などを照射してもよい。
【００３８】
＜光記録層＞
前記光記録層は、本発明の光記録媒体用組成物を有してなる。
【００３９】
＜支持体＞
前記支持体としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００４０】
前記支持体の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【００４１】
前記支持体としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターなどにより回転して用いる場合には、過剰な負荷をかけることがある。
【００４２】
≪第二の形態≫
前記第二の形態は、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われるコリニア方式に用いられる光記録媒体の形態で、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に本発明の光記録層と、前記第二の基板と該光記録層との間にフィルタ層とを有する光記録媒体などが挙げられる。
【００４３】
＜第二の形態における光記録方法及び再生方法＞
前記第二の形態における光記録方法は、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉像によって情報を光記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。
【００４４】
前記再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により光記録層に形成された前記干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
【００４５】
前記第二の形態の光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の光記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して光記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを光記録層に照射し、光記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として光記録層から出射される。
ここで、前記第二の形態の光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
【００４６】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図６を参照して説明する。
図６は、前記第二の形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は光記録媒体２２が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２２の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２２に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２２に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２２に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２２の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【００４７】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２２の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２２の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２２の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【００４８】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２２のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【００４９】
前記第二の形態における第２の光源から出射する定着光を生成する装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録再生装置１００とは別個に、光源制御装置を具備し、該光記録再生装置１００と同期を確保しつつ、定着光を出射するようコントロールすることもでき、光記録再生装置１００の内部に第２の光源を設け、前記情報光、前記参照光及び前記定着光を該光記録再生装置により同時に制御することもできる。
【００５０】
前記第二の形態の光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用い、情報光及び参照光による干渉縞の記録後、前記光記録層の任意の箇所において、定着露光がなされ、必要に応じて適宜選択したその他の手段かつ十分な定着がなされ、かつ未記録部分の感度に影響を与えず、高密度の回折効率の高い光記録媒体が得られる。
【００５１】
＜光記録層＞
前記光記録層は、本発明の光記録媒体用組成物を有してなる。
【００５２】
＜フィルタ層＞
前記フィルタ層は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層の機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、光記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、８０％以上が好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上であり、４０％以上が好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック液晶層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していても良い。色材含有層については特願２００４−３５２０８４号明細書を参考にできる。
前記フィルタ層は、直接光記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
【００５３】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００５４】
前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００５５】
前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００５６】
前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００５７】
前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【００５８】
＜コレステリック液晶層＞
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【００５９】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
【００６０】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表されることから、（ｎｅ−ｎｏ）の大きな液晶を用いることが好ましい。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願２００４−３５２０８１号明細書に記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やＵＶ照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
【００６１】
また、複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００６２】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【００６３】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【００６４】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００６５】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６などが挙げられる。
【００６６】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００６７】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００６８】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【００６９】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャリティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【００７０】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００７１】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００７２】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【００７３】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００７４】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し１０質量％以下が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００７５】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００７７】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【００７８】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【００７９】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みとしては、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）としては、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００８０】
＜コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００８１】
＜基材＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の形態に用いられた支持体と同じ材料を用いることができる。
【００８２】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。
波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【００８３】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。
【００８４】
−反射膜、第一及び第二ギャップ層を有する光記録媒体−
前記光記録媒体は、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に前記光記録層と、前記第二の基板と前記光記録層との間に前記フィルタ層とを有してなり、反射膜、第一ギャップ層、第二ギャップ層、更に必要に応じてその他の層を有してなる構成でもよい。
【００８５】
−基板−
前記基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記基板材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００８６】
前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００８７】
前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【００８８】
−反射膜−
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、光をどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などを光に影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００８９】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００９０】
−第一ギャップ層−
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、光記録層内に生成される光の大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記光記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記光記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００９１】
−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層は、必要に応じて光記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００９２】
ここで、本発明の前記反射膜、前記第一及び前記第二ギャップ層を有する光記録媒体の具体例について、図面を参照して更に詳しく説明する。
〔光記録媒体の具体例〕
図４は、本発明の具体例における光記録媒体の構造を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２２では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図４では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図３に示す光記録媒体２０のように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。
【００９３】
第一ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、光記録層４内に生成される光の大きさを調整するためにも有効である。つまり、光記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、光記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）の間に第二ギャップ層７を設け、光記録層４を挟むことによって光記録媒体２２が構成される。
【００９４】
図４において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
【００９５】
具体例における光記録媒体２２は、図２に示すようなディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２２では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第一ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、第二ギャップ層７は５０μｍ、光記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【００９６】
次に、図５を参照して、光記録媒体２２周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２２に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２２の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、光記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、光記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。光記録層４を構成する光材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が光記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、光記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
【００９７】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が光記録層４内で干渉像を生成するように光記録媒体体２２に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、光記録層４で干渉し合って干渉像をそこに生成し、該干渉像を記録する。その後、情報光及び記録用参照光は光記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【００９８】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体を製造するための製造方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光記録層形成工程を少なくとも含んでなり、前記フィルタ層を有する場合は、フィルタ層形成工程を含んでなり、更に必要に応じて、反射膜形成工程、その他の工程を含んでなる。光記録層形成工程、反射膜形成工程は、前述したとおりであある。
【００９９】
−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。
ここで、本発明の前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１００】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
【実施例】
【０１０１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１０２】
（実施例１）
＜光記録用組成物の調製＞
以下の組成物を窒素気流下で混合し、光記録用組成物を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート                  ３１．０質量％
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（分子量１０００）      ６０．２質量％
・テトラメチレングリコール                                    ２．５質量％
・４−クロロフェノキシエチルアクリレート                      ３．１質量％
・下記構造式（１）で表される化合物                            ０．５質量％
・下記構造式（９）で表される化合物                            １．０質量％
・光重合開始剤
［チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア７８４］    ０．６９質量％
・ジブチルジラウレートスズ                                  １．０１質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【化６】
2007086196.tif 000007
【化７】
2007086196.tif 000008
なお、前記構造式（１）及び（９）で表される化合物は、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能なアミンを発生する化合物である。
【０１０３】
＜光記録媒体の作製＞
厚み０．５ｍｍのガラスの片面を５３２ｎｍの波長に対して垂直な入射光による反射率が０．１％となるように反射防止処理を施すことにより第一の基板を作製し、厚み０．５ｍｍのガラスの片面を５３２ｎｍの波長に対して垂直な入射光による反射率が９０％となるようにアルミ蒸着を施し、第二の基板を作製した。
次いで、前記第一の基板の反射防止処理していない面上に厚み５００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートシートをスぺーサとし、前記光記録用組成物を第一の基板に付与した。次いで、第二の基板のアルミ蒸着を施した面を、第一の基板における前記光記録用組成物側に当接させ、空気層を巻き込まないように貼り合わせ、スぺーサを介して第一の基板と第二の基板を貼り合わせた。最後に、４５℃で２４時間放置させ、光記録媒体を作製した。
【０１０４】
＜光記録媒体への記録及び評価＞
上述のようにして作製した光記録媒体を、パルステック工業（株）製、コリニアホログラム記録再生試験機ＳＨＯＴ−１０００を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径２００μｍで一連の多重ホログラムを書き込み、感度（記録エネルギー）、多重数について測定し、評価した。
【０１０５】
（感度の測定）
記録時の照射光エネルギー（ｍＪ／ｃｍ２）を変化させ、再生信号のエラー確率（ＢＥＲ：Ｂｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  Ｒate）の変化を測定した。通常、照射光エネルギーの増加にともない再生信号の輝度が増加し、再生信号のＢＥＲが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像（ＢＥＲ＜１０−３）が得られる最低の照射光エネルギーを光記録媒体の記録感度とした。結果を表１に示す。
【０１０６】
（多重数の評価）
得られた光記録媒体の多重数の評価手法として、ＩＳＯＭ’０４、Tｈ−J−０６、ｐｐ.１８４−１８５、Ｏｃｔ．２００４に記載されている、記録スポットをスパイラル状にシフトさせ評価する手法により行った。ここで、記録ホログラム数１３×１３＝１６９ホログラム、記録ピッチは２８．５μｍとした。最終１６９個目のホログラム記録時の多重度は４９多重となる。
前記記録ホログラム数の増加に従い多重度が増加するため、光記録媒体の多重特性が不十分であると記録数の増加に従い前記ＢＥＲが増加する。ここではＢＥＲ＞１０−３となる記録ホログラム数を光記録媒体の多重特性Ｍとした。結果を表１に示す。
【０１０７】
＜定着試験用光記録媒体の作製、記録及び評価＞
（定着試験用光記録媒体の作製）
厚み０．５ｍｍのガラスの片面を５３２ｎｍの波長に対して垂直な入射光による反射率が０．１％となるように反射防止処理を施すことにより第一の基板を作製し、処理をしていない基板を、第二の基板とした。
次いで、前記第一の基板の反射防止処理していない面上に厚み２００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートシートをスぺーサとし、前記光記録用組成物を第一の基板に付与した。次いで、第二の基板を、第一の基板における前記光記録用組成物側に当接させ、空気層を巻き込まないように貼り合わせ、スぺーサを介して第一の基板と第二の基板を貼り合わせた。最後に、４５℃で２４時間放置させ定着試験用の光記録媒体を作製した。
（光記録媒体への記録及び評価）
上述のようにして作製した光記録媒体を、例えばＡｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ，４２（３５），７００８（２００３）に記載されているような二光束型のホログラム記録再生機を用いて５３２ｎｍレーザー光で、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径６ｍｍでホログラムを書き込み、６５０ｎｍレーザー光を用い回折効率を測定した。
その後、光記録媒体を波長３６５ｎｍで４０ｍＷの光強度を有する超高圧水銀ランプで１分間照射してアミンを発生させ、該アミンとホログラム記録層に残留したモノマーとを反応させて、ホログラム像の定着を行った。
再度、上記の二光束型のホログラム記録再生機、前記記録時と同じ位置の回折効率を測定し、定着前の値との比を算出し、定着特性とした。結果を表１に示す。
【０１０８】
（実施例２）
＜光記録媒体の作製＞
実施例１において、前記光記録媒体用組成物中の前記構造式（１）で表される化合物０．５質量％及び前記構造式（９）で表される化合物１．０質量％を、下記構造式（６）で表される化合物１．１質量％及び下記構造式（１０）で表される化合物０．４質量％に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、ホログラム記録媒体用組成物を調整し、実施例２の光記録媒体を作製した。実施例１と同様に、実施例２の光記録媒体を作製し、感度、多重数を評価した。結果を表１に示す。
【化８】
2007086196.tif 000009
【化９】
2007086196.tif 000010
なお、前記構造式（６）で表される化合物は、外部からの刺激によりエチレン性二重結合と反応可能なアミンを発生する化合物であり、前記構造式（１０）で表される化合物は、熱酸発生剤である。
＜定着試験用光記録媒体の作製、記録及び評価＞
実施例１の定着試験用光記録媒体の作製と同様に、前記実施例２の光録媒体用組成物を用いて定着試験用光記録媒体を作製した。
実施例１と同様に二光束型のホログラム記録再生機で回折効率を測定した後に、光記録媒体を温度５０℃で加熱することによりアミンを発生させ、該アミンとホログラム記録層に残留したモノマーとを反応させて、ホログラム像の定着を行った。実施例１と同様に再度回折効率を測定し、定着特性を算出した。
【０１０９】
(実施例３)
＜光記録媒体の作製＞
実施例１において、前記ホログラム記録媒体用組成物中の前記構造式（１）で表される化合物０．５質量％及び前記構造式（９）で表される化合物１．０質量％を、下記構造式（１６）で表される化合物１．１質量％及びジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート（熱酸発生剤）０．４質量％に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体用組成物を調整し、実施例３の光記録媒体を作製し、感度、多重数、定着特性を評価した。結果を表１に示す。
【化１０】
2007086196.tif 000011
なお、前記構造式（１６）で表される化合物は、熱酸発生剤の酸の作用によりエチレン性二重結合と反応可能なメルカプタンを発生する化合物である。
【０１１０】
（実施例４）
＜ホログラム記録媒体の作製＞
実施例３において、前記ホログラム記録媒体用組成物中の前記構造式（１６）で表される化合物１．１質量％及びジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート０．４質量％を、下記構造式（１８）で表される化合物１．１質量％及び前記構造式（１０）で表される化合物０．４質量％に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、光記録媒体用組成物を調整し、実施例４の光記録媒体を作成した。また実施例２と同様にして定着試験用光記録媒体を作製し、定着特性を算出した。結果を表１に示す。
【化１１】
2007086196.tif 000012
【０１１１】
（比較例１）
＜ホログラム記録媒体の作製＞
実施例１において、ホログラム記録媒体用組成物を、下記組成に代えたこと以外は、実施例１と同様にして、ホログラム記録媒体用組成物を調整し、ホログラム記録媒体を作成した。
［ホログラム記録媒体用組成物］
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート                  ３１．５質量％
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（分子量１０００）      ６１．２質量％
・テトラメチレングリコール                                    ２．５質量％
・４−クロロフェノキシエチルアクリレート                      ３．１質量％
・光重合開始剤
［チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア７８４］    ０．６９質量％
・ジブチルジラウレートスズ                                  １．０１質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
実施例１と同様にして、感度、多重数、定着特性を評価した。結果を表１に示す。
【０１１２】
【表１】
2007086196.tif 000013
表１の結果から、光又は熱によりアミン又はメルカプタンを発生しモノマー中のエエチレン性二重結合と反応可能な化合物を含有した光記録媒体用組成物を使用して形成した実施例１〜４の光記録媒体では、光記録後に定着を行うと、回折効率が低くくなることがなく、この記録されたホログラム像を損なうことなく長期保存性を与えうることことが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明の光記録媒体用組成物は、外部からの刺激により重合性モノマーのエチレン性二重結合と反応可能な化合物を発生する化合物を含有することにより、光記録を行った後に、残存するモノマーを重合以外の手段で消費することができるので、回折効率の低下を招くことなく長期保存性を良好にすることができ、本発明の光記録媒体に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】図１は、光記録媒体の部分断面図である。
【図２】図２は、ディスク型の光記録媒体の部分断面図である。
【図３】図３は、光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図４】図４は、本発明による実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図６】図６は、第二の形態の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１１５】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボピットパターン
４      光記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
７      第二ギャップ層
８      第一ギャップ層
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光素子
１７      ハーフミラー
２０      光記録媒体
２２      光記録媒体
３１      ピックアップ
４１      記録層
４２      支持体
４３      支持体
４４      反射防止層
４５      反射防止層
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
2007086196.tif 000014
【図２】
2007086196.tif 000015
【図３】
2007086196.tif 000016
【図４】
2007086196.tif 000017
【図５】
2007086196.tif 000018
【図６】
2007086196.tif 000019