(57)【要約】【課題】植物病害、特にべと病および疫病に対して、低薬量で高い効果を発揮する新規なフェネチルアミド化合物を提供すること。さらに、それらの化合物を有効成分として含有する殺菌剤、特に農園芸用殺菌剤を提供すること。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される化合物またはその塩、さらにそれを含む農園芸用殺菌剤。2007297358.tif 000046【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2007297358.tif 000044
［式（Ｉ）中、Ｒ1は、２-プロピニル基あるいはシアノメチル基を示し、Ａは、次の一般式（ａ）あるいは一般式（ｂ）を示し、
【化２】
2007297358.tif 000045
Ｘは、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニル基を示し、ｎは、０から２の整数を示し，ｎが２のときそれぞれのＸは同一または相異なってよく、一般式（ａ）中、Ｙは、酸素原子あるいは＝ＮＯＲ2基を示し、Ｒ2は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニル基を示し、一般式（ｂ）中、Ｚは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ハロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカルバモイルオキシ基あるいは置換されていてもよいフェニル基または複素環基を示す。］で表されるフェネチルアミド化合物またはその塩。
【請求項２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1が２−プロピニル基を示すことを特徴とする、請求項１に記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
【請求項３】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1がシアノメチル基を示すことを特徴とする、請求項１に記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
【請求項４】
一般式（Ｉ）において、ｎが０であるか、あるいはｎが０でない場合は、それぞれのＸがハロゲン原子または／およびアルキル基を示すことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のフェネチルアミド化合物またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フェネチルアミド化合物およびこれを有効成分として含有することを特徴とする殺菌剤、特に農園芸用殺菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、殺菌活性を有すると報告された化合物として、以下の（１）〜（４）に記載した化合物が挙げられる。これらの化合物は、植物病害、特に、べと病および疫病に対して防除効果を示す。
【０００３】
（１）下記一般式（Ａ）または（Ｂ）で示される化合物が、殺菌活性を有することが知られている（特許文献１または２参照）。これらの一般式（Ａ）または（Ｂ）で示される化合物は、いずれもフェネチルアミン部分のアルキレン鎖の置換基が水素原子またはアルキル基であることを特徴とする。
【化３】
2007297358.tif 000002
［式（Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は特許文献１によって定義される。］
【化４】
2007297358.tif 000003
［式（Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＺは特許文献２によって定義される。］
【０００４】
（２）下記一般式（Ｃ）または（Ｄ）で示されるアミド誘導体が、殺菌活性を有することが知られている（特許文献３参照）。これらの一般式（Ｃ）または（Ｄ）で示される化合物は酸側にアクリル酸構造を有することを特徴とする。
【化５】
2007297358.tif 000004
［式（Ｃ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ａ、Ａｒ、Ｘ、Ｙ、Ｚ１およびＺ２は特許文献３によって定義される。］
【化６】
2007297358.tif 000005
［式（Ｄ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｘ、Ｙ、ｎおよびｍは特許文献４によって定義される。］
【０００５】
（３）下記一般式（Ｅ）〜（Ｋ）で表されるアミド誘導体が、殺菌活性を有することが知られている（特許文献５〜１０参照）。一般式（Ｅ）〜（Ｋ）で表される化合物は、酸側α-位にイミノ基またはオキソ基を有することを特徴とする。
【化７】
2007297358.tif 000006
［式（Ｅ）中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は特許文献５によって定義される。］
【化８】
2007297358.tif 000007
［式（Ｆ）中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は特許文献６によって定義される。］
【化９】
2007297358.tif 000008
［式（Ｇ）中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３Ｒ４およびｎは特許文献７によって定義される。］
【化１０】
2007297358.tif 000009
［式（Ｈ）中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は特許文献８によって定義される。］
【化１１】
2007297358.tif 000010
［式（Ｊ）中、Ａ、Ｇ、Ｑ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は特許文献９によって定義される。］
【化１２】
2007297358.tif 000011
［式（Ｋ）中、Ａ、Ｑ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は特許文献１０によって定義される。］
【０００６】
（４）下記一般式（Ｌ）で表される化合物が、殺菌活性を有することが知られている（特許文献１１参照）。
【化１３】
2007297358.tif 000012
［式（Ｌ）中、Ｒ７、Ａ、Ａ´、ＢおよびＸは特許文献１１によって定義される。］
一般式（Ｌ）で表される化合物は、フェネチルアミド部位のフェニル環上にジメトキシを有することを特徴とする。特許文献１１に記載の方法によっては、式（Ｌ）におけるフェネチルアミド部位のフェニル環上の置換基（ジメトキシ）を変更することができる範囲が限られている。
【０００７】
近年、農薬の環境に対する負荷の軽減または省力化の要請などから、より低薬量で効果を発揮する農薬の開発が望まれている。しかしながら、前記した化合物の植物病害に対する効果は十分ではない。
【特許文献１】特表２００２−５３４４９４号公報
【特許文献２】特表２００３−５３３５０２号公報
【特許文献３】特開２００２−３５６４６５号公報
【特許文献４】特表２００４−５０３４７５号公報
【特許文献５】特表平１１−５１３６７４号公報
【特許文献６】特表平１１−５００７１３号公報
【特許文献７】特表２０００−５１５５２０号公報
【特許文献８】特表２００１−５０３０３３号公報
【特許文献９】特表２００１−５０４０９５号公報
【特許文献１０】特表２００２−５１０３０７号公報
【特許文献１１】特表平８−５１１７７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような問題点を改善し、植物病害、特にべと病および疫病に対してより低薬量で高い効果を発揮する新規なフェネチルアミド化合物を提供することを課題とする。さらに、それらの化合物を有効成分として含有する殺菌剤、特に農園芸用殺菌剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために種々の化合物を合成して、それらの殺菌作用について鋭意検討した。その結果、下記の一般式（Ｉ）で表されるフェネチルアミド化合物が植物病害、特にべと病および疫病に対して低薬量で高い効果を発揮することを見出した。また、それを有効成分として含む組成物が、農園芸用殺菌剤として有用であることを見出して本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、本発明は次の（１）〜（５）のとおりである。
（１）  一般式（Ｉ）
【化１４】
2007297358.tif 000013
［式（Ｉ）中、Ｒ1は、２-プロピニル基あるいはシアノメチル基を示し、Ａは、次の一般式（ａ）あるいは一般式（ｂ）を示し、
【化１５】
2007297358.tif 000014
Ｘは、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニル基を示し、ｎは、０から２の整数を示し，ｎが２のときそれぞれのＸは同一または相異なってよく、一般式（ａ）中、Ｙは、酸素原子あるいは＝ＮＯＲ２基を示し、Ｒ２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基あるいはアルキニル基を示し、一般式（ｂ）中、Ｚは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ハロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカルバモイルオキシ基あるいは置換されていてもよいフェニル基または複素環基を示す。］で表されるフェネチルアミド化合物またはその塩。
（２）一般式（Ｉ）において、Ｒ１が２−プロピニル基を示すことを特徴とする、（１）に記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
（３）一般式（Ｉ）において、Ｒ１がシアノメチル基を示すことを特徴とする、（１）に記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
（４）一般式（Ｉ）において、ｎが０であるか、あるいはｎが０でない場合は、それぞれのＸがハロゲン原子または／およびアルキル基を示すことを特徴とする、（１）〜（３）のいずれかに記載のフェネチルアミド化合物またはその塩。
（５）（１）〜（４）のいずれかに記載のフェネチルアミド化合物またはその塩を含有することを特徴とする、農園芸用殺菌剤。
【００１１】
本発明のフェネチルアミド化合物は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物である。本発明のフェネチルアミド化合物は塩になることができる。例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物が水素化ナトリウムや炭酸カリウムなどの塩基で処理されると、フェネチルアミド部位の窒素原子上の水素が脱離して塩基性塩になり得る。
【００１２】
以下において、前記一般式（Ｉ）における各置換基について説明する。
なお、本願明細書において、アルキル基とは飽和炭化水素基を意味し、アルケニル基とは少なくとも一つの炭素二重結合を有する炭化水素基を意味し、アルキニル基とは少なくとも一つの炭素三重結合を有する炭化水素基を意味する。
【００１３】
Ｒ２で示されるアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。具体的には、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチル−１−エチルプロピル基、２，２−ジメチルブチル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、メチル基、エチル基が挙げられる。
【００１４】
また、Ｒ２で示されるシクロアルキル基としては、炭素数３〜７のシクロアルキル基を挙げることができる。また、該シクロアルキル基は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基で置換されていてもよい。具体的には、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、２−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロペンチル基または２−メチルシクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、シクロプロピル基が挙げられる。
【００１５】
Ｒ２で示されるアルケニル基としては、炭素数２〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルケニル基を挙げることができる。具体的には、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−エチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、１−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、１−エチル−２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基または４−ヘキセニル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−エチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基が挙げられる。
【００１６】
Ｒ２で示されるアルキニル基としては、炭素数２〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキニル基を挙げることができる。具体的には、例えばエチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１−エチル−２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−メチル−３−ブチニル基、２−ペンチニル基、４−ペンチニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基または５−ヘキシニル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、２−プロピニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基が挙げられる。
【００１７】
前述の通り、Ｒ２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を示すが、好ましくは水素原子、無置換の炭素数１〜４の鎖状アルキル基（より好ましくはメチル基またはエチル基）、炭素数２〜４のアルケニル基（より好ましくは２−プロペニル基）、もしくは炭素数２〜４のアルキニル基（より好ましくは２−プロピニル基または２−ブチニル基）が挙げられる。
【００１８】
Ｚで示されるアルコキシ基としては、炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。具体的には、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、メトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
【００１９】
Ｚで示されるシクロアルコキシ基としては、炭素数３〜７のシクロアルキルオキシ基を挙げることができる。また、該シクロアルコキシ基は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基で置換されていてもよい。具体的には、例えばシクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、シクロプロポキシ基が挙げられる。
【００２０】
Ｚで示されるアルケニルオキシ基としては、炭素数３〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルケニルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えば２−プロペニルオキシ基、１−メチル−２−プロペニルオキシ基、１−エチル−２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２，２−ジメチル−３−ブテニルオキシ基、４−ペンテニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、２−プロペニルオキシ基が挙げられる。
【００２１】
Ｚで示されるアルキニルオキシ基としては、炭素数３〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキニルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えば２−プロピニルオキシ基、１−メチル−２−プロピニルオキシ基、１−エチル−２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、４−ペンチニルオキシ基、５−ヘキシニルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、２−プロピニルオキシ基が挙げられる。
【００２２】
Ｚで示されるアルキルカルボニルオキシ基としては、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキルカルボニルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、メチルカルボニルオキシ基が挙げられる。
【００２３】
Ｚで示されるハロアルキルカルボニルオキシ基としては、前記したアルキルカルボニルオキシ基が有する任意の水素原子をフッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン原子で置換したアルキルカルボニルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えばクロロメチルカルボニルオキシ基、ブロモメチルカルボニルオキシ基、ジクロロメチルカルボニルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、２−クロロエチルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、クロロメチルカルボニルオキシ基が挙げられる。
【００２４】
Ｚで示されるアルキルカルバモイルオキシ基としては、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のアルキルカルバモイルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えばメチルカルバモイルオキシ基、エチルカルバモイルオキシ基、ｎ−プロピルカルバモイルオキシ基、イソプロピルカルバモイルオキシ基、ｎ−ブチルカルバモイルオキシ基、イソブチルカルバモイルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルバモイルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、メチルカルバモイルオキシ基が挙げられる。
【００２５】
Ｚで示されるジアルキルカルバモイルオキシ基としては、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のジアルキルカルバモイルオキシ基を挙げることができる。具体的には、例えばジメチルカルバモイルオキシ基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、ジメチルカルバモイルオキシ基が挙げられる。
【００２６】
Ｚで示されるフェニル基は、無置換のフェニル基でもよいが、任意の原子または置換基を複数有していてもよい。具体的には、例えば４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−ブロモフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、４−クロロフェニル基が挙げられる。
【００２７】
Ｚで示される複素環基は、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子から選ばれる少なくとも１種類のヘテロ原子を１〜４個含む５員もしくは６員の複素環基が挙げられる。具体的には、例えばピリジル基、ピペリジノ基、ピペリジル基、ピロリル基、ピロリニル基、ピロリジニル基、モルホリノ基、モルホリニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピリミジニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピペラジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾリニル基、ジオキサニル基、オキサジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ピラゾリニル基などを挙げることができる。これらの複素環基の置換位置は特に限定されるものではないが、これらのうち好ましくは窒素原子でフェネチルアミン部分と結合した複素環で、特に好ましいものとして、１−ピラゾリル基、モルホリノ基が挙げられる。
【００２８】
一般式（Ｉ）においてＸは、フェニル環炭素の任意の炭素に結合している。
一般式（Ｉ）においてＸは、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基などを示す。
【００２９】
Ｘで示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の各原子を挙げることができる。
【００３０】
Ｘで示されるアルキル基、シクロアルキル基としては、具体的にはＲ２で定義したアルキル基、シクロアルキル基と同様の基を挙げることができる。
【００３１】
Ｘで示されるハロアルキル基としては、前記したアルキル基が有する任意の水素原子をフッ素、塩素、臭素またはヨウ素のようなハロゲン原子で置換したアルキル基を挙げることができる。具体的には、例えばトリフルオロメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、１−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、１−フルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、２−クロロプロピル基、３−クロロプロピル基、３−ヨードプロピル基、１−フルオロブチル基、４−フルオロブチル基、１−クロロブチル基などを挙げることができる。これらのうち好ましくは、トリフルオロメチル基が挙げられる。
【００３２】
Ｘで示されるアルケニル基、アルキニル基としては、Ｒ２で定義したアルケニル基、アルキニル基と同様の基を挙げることができる。
【００３３】
一般式（Ｉ）において置換基Ｘの置換数を示すｎは、０〜２の整数である。
なお、置換基Ｘが結合していないフェニル環基の炭素原子には水素原子が結合していることはいうまでもない。
ｎが１の場合は、置換基Ｘは、フェニル環基の４位の炭素原子に結合していることが好ましい。また、ｎが２の場合は、２つの置換基のそれぞれのＸはフェニル環基の３位および４位の炭素原子に結合していることが好ましい。
【００３４】
これらのＸｎは、さらに好ましくは４−ハライド（特に４−クロロまたは４−ブロモ）、３，４−ジハライド（特に３，４−ジクロロ）、４−メチル基、４−トリフルオロメチル基などが挙げられる。
【００３５】
次に、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を表１〜表５に示すが、本発明の化合物がここに例示された化合物のみに限定されることはない。表１〜表５におけるＸｎの欄において「−」との表示は、ｎ＝０であることを示し、Ｘｎの欄における数字は、置換基Ｘのフェニル環における置換位置を示す。
【００３６】
表１〜表５において、それぞれ「Ｍｅ」はメチル基、「Ｅｔ」はエチル基、「Ｐｒ」はプロピル基、「Ｂｕ」はブチル基および「Ｐｈ」はフェニル基を表す。「Ｃｙｃｌｏ−Ｃ３Ｈ５−」は、シクロプロピル基を表す。
また、表１〜表５における化合物番号は、以下の表６、実施例、製剤例および試験例でも参照される。
【００３７】
【表１】
2007297358.tif 000015
【００３８】
【表２】
2007297358.tif 000016
【００３９】
【表３】
2007297358.tif 000017
【００４０】
【表４】
2007297358.tif 000018
【００４１】
【表５】
2007297358.tif 000019
【発明の効果】
【００４２】
本発明の殺菌剤は、殺菌剤として次のような防除効果を奏する。
第１に、本発明の殺菌剤は特に農園芸作物の重要病害であるキュウリべと病、トマト疫病およびジャガイモ疫病、さらにはブドウべと病などに対して、低薬量で高い防除効果を示す。
第２に、本発明の殺菌剤は、農園芸作物の病害に対して、茎葉散布、土壌施用などにより使用することができる。
第３に、本発明の殺菌剤は、有用作物に対して薬害を与えることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
＜本発明のフェネチルアミド化合物の製造方法＞
本発明のフェネチルアミド化合物（Ｉ）は、例えば下記の製造スキーム１に従って合成することができる。また、製造スキーム１中の一般式（IV）の化合物および一般式（Ｖ）の化合物は、それぞれ製造スキーム２および製造スキーム３に従って製造することができる。また一方、本発明のフェネチルアミド化合物（Ｉ）のうち、一般式（Ｉ−ｂ）〜（Ｉ−ｇ）の化合物は、一般式（Ｉ−ａ）の化合物の官能基を製造スキーム４に従い変換することにより製造することができる。
なお、下記製造スキーム１〜４における各置換基の定義は、前出と同様のものは前記と同様の意味を表し、その他のものについては後述する。
【００４４】
【化１６】
2007297358.tif 000020
【００４５】
本発明のフェネチルアミド化合物である一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記した工程Ａ−１、工程Ａ−２、工程Ａ−３あるいは工程Ａ−４および工程Ａ−５により製造することができる。
（工程Ａ−１）一般式（II−ａ）で表される化合物と、一般式（III−ａ）で表される化合物とを縮合させて製造する。
（工程Ａ−２）一般式（IV）で表される化合物と、一般式（XI）で示される化合物から製造する。ここで一般式（XI）におけるＬは、脱離能を有する原子または原子団を示し、好ましくはハロゲン原子を示す。
（工程Ａ−３）一般式（Ｖ）で表される化合物を用いてヒドロキシ基の水素原子を２−プロピニル基で置換することにより、製造することもできる。ここで一般式（XII）で表される化合物におけるＬは、脱離能を有する原子または原子団であれば特に制限されないが、好ましくはハロゲン原子を示す。
（工程Ａ−４およびＡ−５）一般式（Ｖ）で表される化合物のヒドロキシ基を、アルキルスルホニルオキシ基に変換した一般式（VI）で表される化合物を、プロピン−２−オールと反応させることで製造することもできる。ここで一般式（XIII）で表される化合物におけるＲ′は通常低級アルキル基を示すが、一般式（VI）で表される化合物の−ＯＳＯ２Ｒ′基が脱離能を有するものであれは特に制限されない。また一般式（XIII）で表される化合物におけるＬ′は通常ハロゲン原子を示すが、脱離能を有する原子または原子団であれば特に制限されない。
なお、アルキルスルホニルオキシ基は脱離能を有する原子団としての例であって、他の脱離能を有する原子団としてもよい。
以下、工程Ａ−１〜Ａ−５について詳細に説明する。
【００４６】
〔工程Ａ−１〕
上記製造スキーム１において工程Ａ−１は、一般式（II-a）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル基を活性化させた誘導体とを、必要に応じて溶媒および塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｉ）で表される本発明化合物を得る工程である。
工程Ａ−１において、一般式（II-a）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００４７】
一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル基を活性化させた誘導体とは、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル基が活性化カルボキシル基に変換させた誘導体あるいは一般式（III-a）で表される化合物のカルボキシル基を縮合剤によって活性化させたカルボン酸化合物の誘導体を表わす。
ここで、活性化したカルボキシル基とは、酸塩化物などの酸ハロゲン化物、Ｏ−炭酸アルキルとの酸無水物などのような無水物、ｐ−ニトロフェニルエステルまたはＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステルなどを挙げることができる。
また、縮合剤とはジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾ−ル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェートまたはベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェートなどを挙げることができる。
【００４８】
工程Ａ−１は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ａ−１に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランが挙げられる。
【００４９】
工程Ａ−１に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたはピリジンが挙げられる。
前記塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の１〜８倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００５０】
工程Ａ−１の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ａ−１の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ａ−１の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【００５１】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液に、トルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００５２】
工程Ａ−１において、原料として用いられる一般式（II-a）で表されるアミン化合物またはその塩は公知の化合物であって、例えば「ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー（Journal  of  the  American  Chemical  Society）」、１９４９年、第７１巻、Ｐ．２４７３、欧州特許出願公開第００６１１７８号明細書、「ヘテロサイクルズ（Heterocycles）」、１９７６年、第４巻、Ｐ．１２６３などに記載の方法に準じて合成することができる。さらに、その具体的製造例を後記の参考製造例に示した。
工程Ａ−１において、原料として用いられる一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物は、公知の化合物としても知られており、例えば、国際公開特許ＷＯ２００４／０１６５９４号パンフレットに記載の方法に準じて合成することができる。
【００５３】
〔工程Ａ−２〕
前記の製造スキーム１に示された通り、一般式（Ｉ）で表される本発明のフェネチルアミド化合物は、工程Ａ−２にしたがって合成することもできる。工程Ａ−２は、一般式（IV）で表される化合物と一般式（XI）で表される化合物とを反応させて、一般式（Ｉ）で表される本発明のフェネチルアミド化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
工程Ａ−２の反応において、一般式（IV）で表される化合物と一般式（XI）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００５４】
工程Ａ−２の反応は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ａ−２の反応に用いられる溶媒は、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、水、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。これらのうち、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランまたはアセトンなどが挙げられる。
【００５５】
工程Ａ−２の反応において用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくは炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどが挙げられる。
【００５６】
塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜７倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
また、工程Ａ−２の反応においてヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウムや相間移動触媒などの触媒を用いることで、反応速度を上げることができる。
工程Ａ−２の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。工程Ａ−２の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ａ−２の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【００５７】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００５８】
工程Ａ−２において、原料として用いられる一般式（IV）で表される化合物は、例えば後述する製造スキーム２に準じて製造することができる。
また一般式（XI）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られた化合物もあり、市販の（例えば、東京化成工業株式会社より）試薬として入手することができる。
【００５９】
〔工程Ａ−３〕
前記の製造スキーム１に示した通り、工程Ａ−３は一般式（Ｖ）で表される化合物を、一般式（XII）で表される化合物と反応させて、一般式（Ｉ）で表される本発明のフェネチルアミド化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および相間移動触媒の存在下にて行うことができる。
一般式（Ｖ）で表される化合物と一般式（XII）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００６０】
工程Ａ−３の反応は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ａ−３の反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類、アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、または塩化メチレンおよび水の混合溶媒などである。
【００６１】
工程Ａ−３において用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどが挙げられる。
【００６２】
上記の塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜５倍程度過剰な量とすればよい。
なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００６３】
工程Ａ−３の反応において必ずしも相間移動触媒を使用する必要はないが、相間移動触媒の存在下に実施してもよい。用いられる相間移動触媒としては、例えば臭化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなどが挙げられる。相間移動触媒の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量の０．０００１〜１倍量とすればよく、好ましくは化学量論量の０．０１〜１倍量程度とすればよい。
【００６４】
工程Ａ−３の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ａ−３の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ａ−３の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００６５】
工程Ａ−３において、原料として用いられる一般式（Ｖ）で表される化合物は、例えば後述する製造スキーム３に準じて製造することができる。
また一般式（XII）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば、東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【００６６】
〔工程Ａ−４〕
前記の製造スキーム１に示した通り、工程Ａ−４は、一般式（Ｖ）で表される化合物を、一般式（XIII）で示される化合物と反応させて、一般式（VI）で示される化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
一般式（Ｖ）で表される化合物と一般式（XIII）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００６７】
工程Ａ−４の反応は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ａ−４の反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合溶媒が挙げられる。これらのうち、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランなどが挙げられる。
【００６８】
工程Ａ−４において用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類、水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくは炭酸カリウム、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどが挙げられる。
【００６９】
上記の塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜７倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００７０】
工程Ａ−４の反応において必ずしも触媒を使用する必要はないが、触媒の存在下に実施してもよい。用いられる触媒としては、例えばヨウ化カリウムまたはヨウ化ナトリウムなどのヨウ化物塩、臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなどの相間移動触媒が挙げられる。触媒の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量の０．０００１〜１倍量とすればよく、好ましくは化学量論量の０．０１〜１倍量程度とすればよい。
【００７１】
工程Ａ−４の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ａ−４の反応は減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ａ−４の反応時間は反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【００７２】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００７３】
工程Ａ−４において、原料として用いられる一般式（XIII）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば、東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【００７４】
〔工程Ａ−５〕
前記の製造スキーム１に示した通り、工程Ａ−５は、により一般式（VI）で表される化合物をプロピン−２−オールと反応させて一般式（Ｉ）で表される本発明化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
一般式（VI）で表される化合物とプロピン−２−オールとの使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比からまたはその付近とすればよいが、大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００７５】
工程Ａ−５の反応は通常、無溶媒または不活性溶媒中で行われる。工程Ａ−５の反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリルなどのニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合溶媒が挙げられる。これらのうち、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランなどが挙げられる。
【００７６】
工程Ａ−５において用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくは炭酸カリウム、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどが挙げられる。
【００７７】
上記の塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜７倍程度過剰な量とすればよい。
なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００７８】
工程Ａ−５の反応において必ずしも触媒を使用する必要はないが、触媒の存在下に実施してもよい。用いられる触媒としては、例えばヨウ化カリウムまたはヨウ化ナトリウムなどのヨウ化物塩、臭化テトラブチルアンモニウムまたは塩化ベンジルトリエチルアンモニウムなどの相間移動触媒が挙げられる。触媒の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量の０．０００１〜１倍量とすればよく、好ましくは化学量論量の０．０１〜１倍量程度とすればよい。
【００７９】
工程Ａ−５の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ａ−５の反応は減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ａ−５の反応時間は反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【００８０】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００８１】
前述したように、製造スキーム１の工程Ａ−２に用いられる原料である一般式（IV）で表される化合物は、以下の製造スキーム２にしたがって製造することができる。以下、製造スキーム２における下記工程Ｂ−１〜Ｂ−３について説明する。
【００８２】
【化１７】
2007297358.tif 000021
〔工程Ｂ−１〕
上記製造スキーム２における工程Ｂ−１は、一般式（VII）で表される化合物から、必要に応じて溶媒および酸の存在下に処理してベンジル基を脱保護させ、一般式（IV）で表される化合物を得る工程である。
なおベンジル基は保護基としての例であって、他の保護基としてもよい。
【００８３】
工程Ｂ−１の反応は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｂ−１に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、酢酸、水またはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、酢酸、アセトニトリルまたは塩化メチレンなどである。
【００８４】
工程Ｂ−１の反応において用いられる酸は、例えば臭化水素酸、ヨウ化水素酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素または三塩化ホウ素などである。好ましくは、臭化水素酸などである。上記の酸の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜５倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリフルオロ酢酸などの有機酸を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【００８５】
工程Ｂ−１の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１２０℃である。工程Ｂ−１の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｂ−１の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。  反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【００８６】
〔工程Ｂ−２〕
一方、工程Ａ−２に用いられる原料である一般式（IV）で表されるものは、前記製造スキーム２に示したように、工程Ｂ−２にしたがって製造することもできる。工程Ｂ−２は、一般式（II-b）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体とを、必要に応じて溶媒および塩基の存在下にて反応させて、式（IV）で示される化合物を得る工程である。
工程Ｂ−２の反応において、一般式（II-b）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００８７】
工程Ｂ−２の反応は、工程Ａ−１の反応と同様にして行うことができる。
すなわち、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル活性化誘導体の種類、用いられる反応溶媒、ならびに塩基の種類および量、反応温度、反応圧力および反応時間などの反応条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−１の反応と同様にして選択することができる。
【００８８】
工程Ｂ−２において、原料として用いられる一般式（II-b）で表されるアミン化合物またはその塩は、公知の化合物であり、例えば、工程Ａ−１で示した文献記載の方法に準じて合成される。
また、工程Ｂ−２において原料として用いられる一般式（III-a）で表される化合物は、工程Ａ−１における説明と同様にして得ることができる。
【００８９】
〔工程Ｂ−３〕
上記工程Ｂ−１において原料として用いられる一般式（VII）で表される化合物は、製造スキーム２に示したように、工程Ｂ−３にしたがって得ることができる。上記製造スキーム２において工程Ｂ−３は、一般式（II-c）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体とを反応させて、一般式（VII）で表される化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒および塩基の存在下にて行うことができる。また、一般式（II-c）で表される化合物のベンジル基は保護基として用いられている基であって、他の保護基を用いてもよい。
【００９０】
工程Ｂ−３の反応において、一般式（II-c）で表されるアミン化合物またはその塩と、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【００９１】
工程Ｂ−３の反応は、工程Ａ−１の反応と同様にして行うことができる。
すなわち、一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル活性化誘導体の種類；用いられる反応溶媒、ならびに塩基の種類および量；反応温度、反応圧力および反応時間などの反応条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−１の反応と同様にして選択することができる。
【００９２】
工程Ｂ−３の反応において原料として用いられる一般式（II-c）で表されるアミン化合物またはその塩は、公知の化合物としても知られており、例えば、工程Ａ−１で示した文献記載の方法に準じて合成される。
また、工程Ｂ−３の反応において原料として用いられる一般式（III-a）で表されるカルボン酸化合物は、工程Ａ−１における説明と同様にして得ることができる。
【００９３】
前述の製造スキーム１の工程Ａ−４の原料である式（Ｖ）で示される化合物は、例えば下記の製造スキーム３にしたがって製造することができる。
【００９４】
【化１８】
2007297358.tif 000022
【００９５】
〔工程Ｃ−１〕
上記製造スキーム３における工程Ｃ−１は、式（IX）で示される化合物からベンジル基を脱保護させて、式（ＶＩＩＩ）で示される化合物を得る工程である。該反応は必要に応じて、溶媒および酸の存在下にて行うことができる。ベンジル基は保護基として用いられており、ベンジル基の代わりに他の保護基を適宜用いることができる。
工程Ｃ−１の反応は、前記工程Ｂ−１の反応と同様にして行うことができる。すなわち、工程Ｃ−１の反応に用いられる溶媒の種類、ならびに酸およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ｂ−１の反応と同様に選択することができる。
【００９６】
〔工程Ｃ−２〕
上記製造スキーム３における工程Ｃ−２は、式（VIII）で示される化合物と式（XI）で示される化合物とを反応させて、式（Ｖ）で示される化合物を得る工程である。該反応は必要に応じて、溶媒、塩基および触媒の存在下にて行うことができる。
工程Ｃ−２の反応は、前記工程Ａ−２の反応と同様にして行うことができる。すなわち、工程Ｃ−２の反応に用いられる溶媒の種類、ならびに塩基、触媒およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−２の反応と同様に選択することができる。
【００９７】
〔工程Ｃ−３、Ｃ−４、Ｃ−５〕
上記製造スキーム３における工程Ｃ−３〜Ｃ−５の反応は、それぞれ一般式（II−ｃ）、（II−ｂ）、（II−ａ）で表されるアミン化合物またはその塩と、式（III−ｂ）で示されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体とを、必要に応じて溶媒および塩基の存在下にて反応させて、対応する一般式（IX）、（VIII）、（Ｖ）で表される化合物を得る工程である。
【００９８】
工程Ｃ−３〜Ｃ−５の反応は、前記工程Ａ−１の反応と同様にして行うことができる。すなわち、工程Ｃ−３〜Ｃ−５の反応に用いられる溶媒の種類、ならびに塩基およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−１の反応と同様に選択することができる。
【００９９】
工程Ｃ−３〜Ｃ−５の反応において原料として用いられる一般式（II−ｃ）、（II−ｂ）、（II−ａ）で表されるアミン化合物またはその塩は、工程Ａ−１における説明と同様にして得ることができる。
また、工程Ｃ−３〜Ｃ−５の反応において原料として用いられる式（III−ｂ）で示されるカルボン酸化合物は、公知の化合物であり、例えば「オーガニック  シンセセス（Organic  Syntheses）」、１９４５年、第２５巻、Ｐ．３３、「オーガニック  シンセセス  コレクティブ  ボリュウム  Ｉ（Organic  Syntheses  Collective  Volume  I）」、１９４１年、Ｐ．３３６、「オーガニック  シンセセス  コレクティブ  ボリュウム  III（Organic  Syntheses  Collective  Volume  III）」１９５５年、Ｐ．５３８、「オーガニック  シンセセス  コレクティブ  ボリュウム  IV（Organic  Syntheses  Collective  Volume  IV）」１９６３年、Ｐ．１１０、「ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー（Journal  of  Organic  Chemistry）」、１９６８年、第３３巻、Ｐ．２５６５、「ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー（Journal  of  Organic  Chemistry）」、１９７８年、第４３巻、Ｐ．２７０２、国際公開特許ＷＯ２００４／０５８６８５号パンフレット、特表２００３−５３３５０２号公報、「ジャーナル  オブ  ジ  アメリカン  ケミカル  ソサイエティー（Journal  of  the  American  Chemical  Society）」、１９６１年、第８３巻、Ｐ．２７５５、「シンセティック  コミュニケーションズ（Synthetic  Communications）」、１９８８年、第１８巻、Ｐ．２１４１に記載の方法に準じて合成することができる。
【０１００】
一般式（Ｉ）で表される化合物は上記のように前記製造スキーム１に従って製造できるが、次の製造スキーム４に示すように、一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例である一般式（Ｉ−ａ）〜（Ｉ−ｇ）は本発明化合物の中で官能基を変換し別の本発明化合物を得ることもできる。
【０１０１】
【化１９】
2007297358.tif 000023
【０１０２】
一般式（Ｉ−ｂ）または（Ｉ−ｂ´）で表される本発明化合物は、一般式（Ｉ−ａ）で表される化合物と、一般式（ＸＶ）または（ＸＶ´）で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。さらに一般式（Ｉ−ｂ´）で表される化合物は、一般式（ＸＶＩ）で表わされる化合物と反応させて、Ｒ2が任意の本発明化合物化合物（Ｉ-ｂ）を得ることができる〔工程Ｄ-１、Ｄ-１′およびＤ-２〕。ここで一般式（ＸＶ）および（ＸＶI）で表される化合物におけるＲ２は前記と同じ意味を示す。また一般式（ＸＶＩ）で表される化合物におけるＬは前記と同じ意味を示す。
【０１０３】
一方、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物は、一般式（Ｉ−ａ）で表される本発明化合物を還元させることにより得ることができる〔工程Ｄ−３〕。さらにこの一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物は工程Ｄ−４からＤ−６によりヒドロキシ基の水素原子を置換することにより、一般式（Ｉ−ｄ）〜（Ｉ−ｆ）で表される本発明化合物を得ることができる。ここで一般式（XVII）で表される化合物のＲ３は、一般式（Ｉ−ｄ）で表される本発明化合物における−ＯＲ３基が前記のＺにおけるアルコキシ基、アルケニルオキシ基またはアルキニルオキシ基の定義を満たすものを示す。また一般式（XVIII）で表される化合物におけるＲ４は、一般式（Ｉ−ｅ）で表される本発明化合物における−ＯＣＯＲ４基が前記のＺにおけるアルキルカルボニルオキシ基またはハロアルキルカルボニルオキシ基の定義を満たすものを示す。同様に一般式（XIX）および（XX）で表される化合物におけるＲ５およびＲ６はそれぞれ、一般式（Ｉ−ｆ）で表される本発明化合物における−ＯＣＯＮＲ５Ｒ６基が前記のＺにおけるアルキルカルバモイルオキシ基またはジアルキルカルバモイルオキシ基の定義を満たすものを示す。
【０１０４】
さらに、工程Ｄ−７により、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物のヒドロキシ基をアルキルスルホニルオキシ基に変換した一般式（Ｘ）で表される化合物に変換し、工程Ｄ−８またはＤ−９により、一般式（Ｉ−ｄ）または（Ｉ−ｇ）で表される本発明化合物を得ることができる。ここで一般式（XXI）および（XXII）で表される化合物におけるＲ３、Ｒ′およびＬ′は前記と同じ意味を示す。また一般式（XXII）で表される化合物におけるＨｅｔは一般式（Ｉ−ｇ）で表される本発明化合物における前記のＺの複素環の定義を満たすものを示す。
なお、アルキルスルホニルオキシ基は脱離能を有する原子団としての例であって、他の脱離能を有する原子団としてもよい。
以下、工程Ｄ−１〜Ｄ−９について詳細に説明する。
【０１０５】
〔工程Ｄ−１、Ｄ−１′〕
上記製造スキーム４において工程Ｄ−１およびＤ−１′は、一般式（Ｉ−ａ）で表される本発明化合物またはその塩と、一般式（ＸＶ）または一般式（ＸＶ′）で表される化合物またはその塩とを必要に応じて、溶媒および塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｉ−ｂ）または一般式（Ｉ−ｂ′）で表される本発明化合物を得る工程である。
工程Ｄ−１およびＤ−１′において、式（Ｉ−ａ）で示される本発明化合物またはその塩と一般式（ＸＶ）または一般式（ＸＶ′）で表される化合物またはその塩との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
工程Ｄ−１およびＤ−１′は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｄ−１およびＤ−１′に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、メタノールまたはエタノールなどが挙げられる。
【０１０６】
工程Ｄ−１およびＤ−１′に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類；ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイドなどのアルカリ金属アルコキサイド；酢酸ナトリウムなどを挙げることができる。これらのうち、好ましくはナトリウムメトキサイドまたは酢酸ナトリウムなどが挙げられる。
前記塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の１〜８倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【０１０７】
工程Ｄ−１およびＤ−１′の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ｄ−１およびＤ−１′の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｄ−１およびＤ−１′の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【０１０８】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【０１０９】
工程Ｄ−１およびＤ−１′において、原料として用いられる一般式（XV）または一般式（XV′）で表される化合物またはその塩は公知で、市販されている化合物であって、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１１０】
〔工程Ｄ−２〕
上記製造スキーム４において工程Ｄ−２は、一般式（Ｉ−ｂ′）で表される本発明化合物またはその塩と、一般式（XVI）で表される化合物とを反応させて、式（Ｉ−ｂ）で表される本発明のフェネチルアミド化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基、および触媒の存在下で行うことができる。
工程Ｄ−２の反応において、一般式（Ｉ−ｂ′）で表される本発明化合物と一般式（XVI）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【０１１１】
工程Ｄ−２の反応は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｄ−２の反応に用いられる溶媒は、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトンまたはメチルエチルケトンなどのケトン類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシド、水、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。これらのうち、好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランまたはアセトンなどが挙げられる。
【０１１２】
工程Ｄ−２の反応において用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドまたはカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくは炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどが挙げられる。
【０１１３】
塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量よりも１〜７倍程度過剰な量とすればよい。
なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
また、工程Ｄ−２の反応においてヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウムや相間移動触媒などの触媒を用いることで、反応速度を上げることができる。
工程Ｄ−２の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。工程Ｄ−２の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｄ−２の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【０１１４】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【０１１５】
工程Ｄ−２において、原料として用いられる一般式（XVI）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１１６】
〔工程Ｄ−３〕
上記製造スキーム４において工程Ｄ−３は、一般式（Ｉ−ａ）で表される本発明化合物またはその塩を還元して、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物を得る工程である。
【０１１７】
工程Ｄ−３は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｄ−３に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；メチルアルコール、エチルアルコールまたはｔｅｒｔ−ブチルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；酢酸、プロピオン酸またはトリフルオロ酢酸などのカルボン酸類；水、ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、テトラヒドロフランまたはメタノールなどが挙げられる。
【０１１８】
工程Ｄ−３に用いられる還元剤としては、例えば水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、ジボラン、水素化ほう素ナトリウム、水素化ほう素カリウムなどが挙げられる。好ましくは水素化ほう素ナトリウム、水素化ほう素カリウムなどが挙げられる。
前記還元剤の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量の０．２〜５倍程度過剰な量とすればよい。
【０１１９】
工程Ｄ−３の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ｄ−３の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｄ−３の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【０１２０】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液に、トルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と、水とを加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【０１２１】
〔工程Ｄ−４〕
上記製造スキーム４において工程Ｄ−４は、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と、一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物とを反応させて、一般式（Ｉ−ｄ）で表される本発明化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
工程Ｄ−４の反応において、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、目的に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【０１２２】
工程Ｄ−４の反応は、工程Ａ−３の反応と同様にして行うことができる。すなわち、工程Ｄ−４の反応に用いられる溶媒の種類ならびに塩基、触媒およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−３の反応と同様に選択することができる。
【０１２３】
工程Ｄ−４において、原料として用いられる式（XVII）で示される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１２４】
〔工程Ｄ−５〕
上記製造スキーム４において工程Ｄ−５は、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と、一般式（XVIII）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体とを必要に応じて、溶媒および塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｉ−ｅ）で表される本発明化合物を得る工程である。
工程Ｄ−５において、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と一般式（XVIII）で表されるカルボン酸化合物またはそのカルボキシル活性化誘導体との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【０１２５】
一般式（XVIII）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル活性化誘導体とは、一般式（XVIII）で表されるカルボン酸化合物のカルボキシル基が活性化カルボキシル基に変換された誘導体、および縮合剤によって一般式（XVIII）で表される化合物のカルボキシル基が活性化されたカルボン酸化合物の誘導体を含む。
ここで、活性化カルボキシル基とは、酸塩化物などの酸ハロゲン化物、Ｏ−炭酸アルキルとの酸無水物などのような無水物、ｐ−ニトロフェニルエステルまたはＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステルなどを挙げることができる。
また、縮合剤とはジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール、ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（ペンタメチレン）ウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾ−ル−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−ビス（テトラメチレン）ウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート、Ｏ−ベンゾトリアゾール−１−イル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェートまたはベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェートなどを挙げることができる。
【０１２６】
工程Ｄ−５は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｄ−５に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランなどが挙げられる。
【０１２７】
工程Ｄ−５に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたはピリジンなどが挙げられる。
前記塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の１〜８倍程度過剰な量とすればよい。なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【０１２８】
工程Ｄ−５の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ｄ−５の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｄ−５の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【０１２９】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【０１３０】
工程Ｄ−５において、原料として用いられる一般式（XVIII）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１３１】
〔工程Ｄ−６〕
上記製造スキーム４において、工程Ｄ−６は、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と、一般式（XIX）または一般式（XX）で表される化合物とを必要に応じて、溶媒および塩基の存在下に反応させて、一般式（Ｉ−ｆ）で表される本発明化合物を得る工程である。
工程Ｄ−５において、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と一般式（XIX）または一般式（XX）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【０１３２】
工程Ｄ−６は通常、不活性溶媒中で行われる。工程Ｄ−６に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルまたはプロピオン酸エチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは１，４−ジオキサンなどのエーテル類；塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロホルムまたは四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類；アセトニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンまたは１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドまたはこれらの混合溶媒が挙げられる。好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはテトラヒドロフランなどが挙げられる。
【０１３３】
工程Ｄ−６に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンまたは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機第三級アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類；水素化ナトリウムまたは水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属類を挙げることができる。これらのうち、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンまたはピリジンなどが挙げられる。
前記塩基の使用量は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できるが、通常化学量論量またはそれよりも過剰とすればよく、好ましくは化学量論量の１〜８倍程度過剰な量とすればよい。
なお、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基を用いる場合は、これらを大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【０１３４】
工程Ｄ−６の反応温度は−５０℃から反応系における還流温度の範囲であり、好ましくは０℃から１００℃である。また、工程Ｄ−６の反応は、減圧条件下または加圧条件下でも行うことができるが、通常は常圧条件下で行われる。工程Ｄ−６の反応時間は、反応温度や反応基質により異なるが、通常３０分〜２４時間の範囲内である。
【０１３５】
反応終了後は、反応溶液中から通常の後処理により目的化合物を得ることができる。例えば、反応溶液にトルエン、酢酸エチルまたはクロロホルムなどの抽出溶媒と水を加えて抽出後、溶媒を留去することにより得られる。得られた目的化合物は必要ならばクロマトグラフィー、再結晶または蒸留などの操作により精製することができる。
【０１３６】
工程Ｄ−６において、原料として用いられる一般式（XIX）または（XX）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１３７】
〔工程Ｄ−７〕
前記の製造スキーム４に示した通り、工程Ｄ−７は、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩を、一般式（XIII）で示される化合物と反応させて、一般式（Ｘ）で示される化合物を得る工程である。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
工程Ｄ−７の反応において、一般式（Ｉ−ｃ）で表される本発明化合物またはその塩と一般式（XIII）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、目的に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常は等モル比またはその付近とすればよい。
【０１３８】
工程Ｄ−７の反応は、工程Ａ−４の反応と同様にして行うことができる。
すすなわち、工程Ｄ−７の反応に用いられる溶媒の種類、ならびに塩基、触媒およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−４の反応と同様に選択することができる。
【０１３９】
〔工程Ｄ−８、Ｄ−９〕
前記の製造スキーム４に示した通り、一般式（Ｘ）で表される化合物は、工程Ｄ−８、Ｄ−９により一般式（XXI）または（XXII）で表される化合物と反応させてそれぞれ一般式（Ｉ−ｄ）または一般式（Ｉ−ｇ）で表される本発明化合物を製造することが出来る。該反応は、必要に応じて溶媒、塩基および触媒の存在下で行うことができる。
一般式（Ｘ）で表される化合物と一般式（XXI）または（XXII）で表される化合物との使用割合は特に制限されず、広い範囲から適宜選択できる。通常は等モル比からまたはその付近とすればよいが、大過剰に用いて溶媒とすることもできる。
【０１４０】
工程Ｄ−８またはＤ−９の反応は、工程Ａ−５の反応と同様にして行うことができる。すなわち、工程Ｄ−８またはＤ−９の反応に用いられる溶媒の種類、ならびに塩基、触媒およびその量、反応温度、反応圧力、反応時間などの条件、後処理や精製方法など、工程Ａ−５の反応と同様に選択することができる。
【０１４１】
工程Ｄ−８またはＤ−９において、原料として用いられる一般式（XXI）または（XXII）で表される化合物には有機化学の分野においてよく知られ、市販されている化合物もあり、例えば東京化成工業株式会社より試薬として入手することができる。
【０１４２】
〔本発明の殺菌剤〕
前述した一般式（Ｉ）で示される本発明のフェネチルアミド化合物（以下、単に「化合物（Ｉ）とも称する）のうち、好ましい化合物は殺菌活性を有する。よって、本発明のフェネチルアミド化合物は、殺菌剤の成分として用いられることが好ましく、農園芸用の殺菌剤の成分として用いられることがより好ましい。以下、本発明のフェネチルアミド化合物を含む殺菌剤を「本発明の殺菌剤」と称する。
【０１４３】
本発明の殺菌剤は、化合物（Ｉ）を含むこと以外は通常の殺菌剤と同様の組成とすることができる。すなわち、本発明の殺菌剤は、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる成分が含まれ得る。また、補助剤以外にも、有効成分として他の殺菌成分を含んでいてもよい。
【０１４４】
本発明の殺菌剤における化合物（Ｉ）の含有量は、通常０．１〜９０重量部の範囲から任意に選択される。また化合物（Ｉ）は、本発明の殺菌剤における有効成分として含有されることが好ましい。
【０１４５】
また、本発明の殺菌剤に含まれる農薬補助剤としての成分としては、（１）担体、（２）界面活性剤および（３）その他補助剤が挙げられる。
【０１４６】
本発明の殺菌剤に含まれる担体は、農園芸用薬剤に用いることができるものであれば、固体担体または液体担体のいずれでもよく、特定のものに限定されることはない。
固体担体としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木粉、魚粉、粉乳などの動植物性粉末、タルク、カオリン、ベントナイト、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ、炭酸カルシウム、塩化カリウム、硫安などの鉱物性粉末が挙げられる。
液体担体としては、例えば水、イソプロピルアルコール、エチレングリコールなどのアルコール類、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルなどのエーテル類、ケロシン、軽油などの脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水素類、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類、脂肪酸のグリセリンエステルなどのエステル類、大豆油、ナタネ油などの植物油が挙げられる。これらの担体は、２種以上を併用することができる。
【０１４７】
本発明の殺菌剤に含まれる界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤などがあり、具体的には次のものが挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンフェニルエーテルポリマー、ポリオキシエチレンアルキレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマーなどが挙げられる。
陰イオン性界面活性剤としては、例えば、リグニンスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルサルフェート、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルサルフェートなどが挙げられる。
陽イオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルアミン塩などが挙げられる。
両性界面活性剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩アルキルベタイン、アミンオキサイドなどが挙げられる。
【０１４８】
なお、製剤化に際して使用できる界面活性剤は、これらに限定されるものではない。また、２種以上の界面活性剤を併用することもできる。
【０１４９】
本発明の殺菌剤に含まれるその他の補助剤としては、粘結剤、増粘剤、固着剤、防腐防かび剤、溶剤、農薬活性成分の安定化剤、酸化防止剤、紫外線防止剤、結晶析出防止剤、消泡剤、物性向上剤、着色剤などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１５０】
粘結剤、増粘剤、固着剤としては、特に限定されるものではないが、たとえば澱粉、デキストリン、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルデンプン、プルラン、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、グアーガム、ローカストビーンガム、アラビアゴム、キサンタンガム、ゼラチン、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、エチレン・プロピレンブロックポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。
【０１５１】
本発明の殺菌剤は、本発明のフェネチルアミド化合物（化合物（Ｉ））を配合する（好ましくは有効成分として含有する）こと以外は、目的とする剤型に応じて、一般的な製剤化法に従って製造することができる。
【０１５２】
本発明の殺菌剤の剤型は、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤、乳濁剤などの種々の形態の剤型にすることができる。
【０１５３】
後述の製剤例に、本発明の殺菌剤の製造方法についてより具体的に記載した。もちろん、本発明の殺菌剤がこれらの製剤例に限定されることはなく、他の種々の添加物を任意の割合で混合することができ、また他の殺菌剤などを任意の割合で混合して製剤化することもできる。
【０１５４】
本発明の殺菌剤は、通常の殺菌剤の使用法と同様に使用され得る。すなわち、本発明の殺菌剤は、そのまま使用するか、または水などの希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。
【０１５５】
また、本発明の殺菌剤（その希釈物を含む）の施用方法としては、散布（例えば噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用等）、土壌施用（例えば混入、潅注等）、表面施用（例えば塗布、粉衣、被覆等）、浸漬などが挙げられる。
【０１５６】
本発明の殺菌剤の施用量は特に限定されず、殺菌剤中の有効成分の濃度、製剤の形態、対象病害や作物の種類、病害による被害の程度、施用場所、施用方法、施用時期、混用併用する薬剤や肥料などの使用量、種類などの種々の条件に応じて、広い範囲から適宜選択される。目安として通常、１００ｍ２あたり、本発明の化合物の０．００１〜１００ｇ程度、好ましくは０．０５〜５０ｇ程度が施用される。
【０１５７】
本発明の殺菌剤が、乳剤、水和剤またはフロアブル剤などである場合は、水で希釈されて用いられることがある。その施用濃度は０．１〜１０００質量ｐｐｍ程度、好ましくは１〜５００質量ｐｐｍ程度で使用されるが、これらに限定されるものではない。一方、粒剤、粉剤などは、通常希釈することなく製剤のままで施用される。
【０１５８】
なお、本発明の殺菌剤は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤、共力剤などと混用あるいは併用することがでる。
【０１５９】
本発明のフェネチルアミド化合物を含有する本発明の殺菌剤は、例えば下記の植物病害の防除に適用することができる。ただし、本発明の殺菌剤が適用され得る植物病害はこれらに限定されるものではない。本発明の殺菌剤により防除され得る植物病害としては、例えば、イネのいもち病(Pyricularia  grisea)、ごま葉枯病(Cochliobolus  miyabeanus)、紋枯病(Thanatephorus  cucumeris)、ばか苗(Gibberella  fujikuroi)、苗立枯病(Fusarium菌、Rhizopus菌、Pythium菌、Trichoderma  viride)、稲こうじ病(Claviceps  virens)、ムギ類の赤かび病(Gibberella  zeae、Fusarium  avenaceum、Fusarium  culmorum、Monographella  nivale)、雪腐病(Pythium菌、Typhula菌、Monographella  nivalis、Myriosclerotinia  borealis)、裸黒穂病(Ustilago  nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia  controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella  herpotrichoides)、葉枯病(Septoria  tritici)、ふ枯病(Phaeosphaeria  nodorum)、カンキツ類の黒点病(Diaporthe  citri)、小黒点病(Diaporthe  medusa、Alternaria  citri)、そうか病(Elsinoe  fawcettii)、褐色腐敗病(Phytophthora  citrophthra)、緑かび病(Penicillium  digitatum)、青かび病(Penicillium  italicum)、リンゴのモニリア病(Monilinia  mali)、黒星病(Venturia  inaequalis)、斑点落葉病(Alternaria  mali)、黒点病(Mycosphaerella  pomi)、すす斑病(Gloeodes  pomigena)、すす点病(Zygophiala  jamaicensis)、輪紋病(Botryosphaeria  berengeriana)、褐斑病(Diplocarpon  mali)、赤星病(Gymnosporangium  yamadae)、腐らん病(Valsa  ceratosperma)、ナシの黒星病(Venturia  nashicola)、赤星病(Gymnosporangium   asiaticum)、輪紋病(Botryosphaeria  berengeriana)、胴枯病(Phomopsis  fukushii)、モモの縮葉病(Taphrina  deformans)、灰星病(Monilinia  fructicola、Monilinia  fructigena)、黒星病(Cladosporium  carpophilum)、ホモプシス腐敗病(Phomopsis  sp.)、オウトウの灰星病(Monilinia  fructicola、Monilinia  fructigena)、幼果菌核病(Monilinia  kusanoi)、ウメの黒星病(Cladosporium  carpophilum)、ブドウの黒とう病(Elsinoe  ampelina)、晩腐病(Colletotrichum  acutatum、Glomerella  cingulata)、褐斑病(Pseudocercospora  vitis)、つる割病(Phomopsis  viticola)、カキの角斑落葉病(Cercospora  kaki)、円星落葉病(Mycosphaerella  nawae)、チャの輪斑病(Pestalotiopsis  longiseta、Pestalotiopsis  theae)、褐色円星病(Pseudocercospora  ocellata、Cercospora  chaae)、もち病(Exobasidium  vexans)、網もち病(Exobasidium  reticulatum)、ウリ類のつる枯病(Mycosphaerella  melonis)、つる割病(Fusarium  oxysporum)、黒星病(Cladosporium  cucumerinum)、褐斑病(Corynespora  cassiicola)、トマトの葉かび病(Fulvia  fulva)、輪紋病(Alternaria  solani)、ナスの褐紋病(Phomopsis  vexans)、すすかび病(Mycovellosiella  nattrassii)、アブラナ科野菜の白さび病(Albugo  macrospora)、白斑病(Cercosporella  brassicae、Pseudocercosporella  capsellae)、タマネギの灰色腐敗病(Botrytis  allii)、イチゴのじゃのめ病(Mycosphaerella  fragariae)、ジャガイモの夏疫病(Alternaria  solani)、ダイズの茎疫病(Phytophthora  sojae)、紫斑病( Cercospora  kikuchii)、アズキの茎疫病(Phytophthora  vignae)、ラッカセイの褐斑病(Mycosphaerella  arachidis)、テンサイの褐斑病(Cercospora  beticola)、葉腐病(Thanatephorus  cucumeris)、シバのカーブラリア葉枯病(Curvularia菌)、ダラースポット病(Sclerotinia  homoeocarpa)、ヘルミントスポリウム葉枯病(Cochliobolus菌)、バラの黒星病(Diplocarpon  rosae)、キクの白さび病(Puccinia  horiana) などがあげられる。
【０１６０】
さらに、各種作物のべと病(Peronospora菌、Pseudoperonospora菌、Plasmopara菌、Bremia菌)、疫病(Phytophthora菌)、うどんこ病(Erysiphe菌、Blumeria菌、Sphaerotheca菌、Podosphaerea菌、Phyllactinia菌、Uncinula菌、Oidiopsis菌)、さび病(Puccinia菌、Uromyces菌、Physopella菌)、炭疽病(Glomerella菌、Colletotrichum菌、Gloeosporium菌)、黒斑病(Alternaria菌)、灰色かび病(Botrytis  cinerea)、菌核病(Sclerotinia  sclerotiorum)、白紋羽病(Rosellinia  necatrix)、紫紋羽病(Helicobasidium  mompa)、白絹病(Sclerotium  rolfsii)、その他各種土壌病害(Fusarium菌、Rhizoctonia菌、Pythium菌、Aphanomyces菌、Phoma菌、Verticillium菌、Plasmodiophora  brassicaeなど)などの病害を挙げることができる。
【０１６１】
これらのうち、好ましくはキュウリべと病、トマト疫病、ジャガイモ疫病、ブドウべと病などのべと病菌あるいは疫病菌によって引き起こされる野菜、畑作物、果樹などのべと病、疫病を挙げることができる。
【０１６２】
本発明の殺菌剤の有用性（病害に対する防除効果）は、後述の試験例１および試験例２により具体的に示されている。
【０１６３】
以下に、実施例（化合物の合成及び製剤例）および試験例を参照して、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されるものではない。
【実施例１】
【０１６４】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号１０）の製造
【化２０】
2007297358.tif 000024
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３００ｍｌ４つ口フラスコ中に、α−アミノ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン塩酸塩５．５０ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン１１．１ｇ（８６．１ｍｍｏｌ）および４−クロロマンデル酸４．０１ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）を入れた。室温でベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート１１．１ｇ（２５．８ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で３時間攪拌した。得られた反応混合物に１Ｎ塩酸を加えて酸性とした後、さらに酢酸エチルを加えて２回抽出処理した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用いて、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド５．８ｇを淡黄色油状物として得た（収率６９％）。
ｂ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した１００ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド３．３０ｇ（８．５２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン４０ｍｌおよびトリエチルアミン１．１２ｇ（１１．１ｍｍｏｌ）を入れた。フラスコを氷水で冷却しながら塩化メタンスルホニル１．１７ｇ（１０．２ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で２時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加えた後、酢酸エチルを加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド３．８１ｇを淡黄色油状物として得た（収率９６％）。
ｃ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した５０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド３．８０ｇ（８．１６ｍｍｏｌ）および２−プロピン−１−オール４．５７ｇ（８１．６ｍｍｏｌ）を入れた後、８０℃で１時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝５：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２．５２ｇを淡黄色結晶として得た（収率７３％）。このものの融点は１２７〜１２９℃であった。
【実施例２】
【０１６５】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号２８）の製造
【化２１】
2007297358.tif 000025
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した１００ｍｌ４つ口フラスコ中に、塩化ヒドロキシルアンモニウム２．６０ｇ（３７．４ｍｍｏｌ）およびメタノール２５ｍｌを入れた。室温でナトリウムメトキシド２８％メタノール溶液７．２ｇ（１７．０ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で３０分攪拌した。室温で、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２．１４ｇ（５．０３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶解して加えた後、加熱還流下で１時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、反応混合物に水、酢酸エチルを順次加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド１．２２ｇを淡黄色結晶として得た（収率５５％）。このものの融点は９２〜９４℃であった。
【実施例３】
【０１６６】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号３１）の製造
【化２２】
2007297358.tif 000026
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、炭酸カリウム０．３６ｇ（２．６７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌおよびＮ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．５１ｇ（１．１６ｍｍｏｌ）を入れた。室温でヨードメタン０．７１ｇ（４．９９ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で５時間、５０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、反応混合物に水、酢酸エチルを順次加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．２９ｇを淡黄色結晶として得た（収率５５％）。このものの融点は１１８〜１２０℃であった。
【実施例４】
【０１６７】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（２−プロピニルオキシイミノ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号４０）の製造
【化２３】
2007297358.tif 000027
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、炭酸カリウム０．３１ｇ（２．２８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌおよびＮ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシイミノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．５０ｇ（１．１４ｍｍｏｌ）を入れた。室温でプロパルギルブロミド０．２７ｇ（２．２８ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で２時間、５０℃で７時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、反応混合物に水、酢酸エチルを順次加えて抽出処理した。得られた有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝５：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（２−プロピニルオキシイミノ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．２９ｇを淡黄色結晶として得た（収率５４％）。このものの融点は９５〜９７℃であった。
【実施例５】
【０１６８】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号１０）の製造
【化２４】
2007297358.tif 000028
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３００ｍｌ４つ口フラスコ中に、α−アミノ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン塩酸塩４．３０ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン８．６８ｇ（６７．３ｍｍｏｌ）および２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸３．７８ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）を入れた。室温でベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート８．９３ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で３時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加えた後、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を１Ｎ塩酸で酸性として、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝５：１）を用いて、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド５．９２ｇを淡黄色結晶として得た（収率８３％）。
【実施例６】
【０１６９】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号５９）の製造
【化２５】
2007297358.tif 000029
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した１００ｍｌ４つ口フラスコ中にＮ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−オキソエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド４．００ｇ（９．４０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン３０ｍｌを入れた。０℃で水素化ほう素ナトリウム０．１６ｇ（４．２３ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で３０分攪拌した。
得られた反応混合物に１Ｎ塩酸を加えて酸性とし、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド３．１２ｇを淡黄色結晶として得た（収率７８％）。このものの融点は９２〜９４℃であった。
【実施例７】
【０１７０】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−メトキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号６１）の製造
【化２６】
2007297358.tif 000030
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１０ｍｌ、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．２４ｇ（０．７５ｍｍｏｌ）およびヨードメタン４．８５ｇ（３４．１ｍｍｏｌ）を入れた。室温で３０％水酸化ナトリウム水溶液０．４５ｍｌを加えた後、加熱還流下で３０時間攪拌した。
得られた反応混合物に水を加え、さらにクロロホルムを加えて抽出処理した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−メトキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．３８ｇを淡黄色油状物として得た（収率４６％）。
【実施例８】
【０１７１】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（２−プロピニルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号７０）の製造
【化２７】
2007297358.tif 000031
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した５０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、塩化メチレン１５ｍｌ、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド０．２４ｇ（０．７５ｍｍｏｌ）およびプロパルギルブロマイド０．６６ｇ（５．６２ｍｍｏｌ）を入れた。室温で３０％水酸化ナトリウム水溶液０．４５ｍｌを加えた後、加熱還流下で８時間攪拌した。
得られた反応混合物に水を加え、さらにクロロホルムを加えて抽出処理した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（２−プロピニルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．４２ｇを淡黄色油状物として得た（収率４８％）。
【実施例９】
【０１７２】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−アセチルオキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号７４）の製造
【化２８】
2007297358.tif 000032
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１０ｍｌ、およびトリエチルアミン０．８５ｇ（８．４２ｍｍｏｌ）を入れた。５℃で塩化アセチル０．４１ｇ（５．２４ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間、５０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝４：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−アセチルオキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．６１ｇを淡黄色油状物として得た（収率６９％）。
【実施例１０】
【０１７３】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（クロロアセチルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号７６）の製造
【化２９】
2007297358.tif 000033
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ、およびトリエチルアミン０．５５ｇ（５．４２ｍｍｏｌ）を入れた。５℃でクロロアセチルクロライド０．３６ｇ（３．１８ｍｍｏｌ）を加え、室温で７時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（クロロアセチルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．５８ｇを淡黄色油状物として得た（収率５８％）。
【実施例１１】
【０１７４】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（メチルカルバモイルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号７８）の製造
【化３０】
2007297358.tif 000034
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した５０ｍｌ４つ口フラスコ中にＮ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１０ｍｌ、トリエチルアミン２滴を入れた。１０℃でメチルイソシアネート１．６０ｇ（２８．１ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下４時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を１Ｎ塩酸で酸性とし飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝２：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（メチルカルバモイルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．５５ｇを白色結晶として得た（収率６０％）。このものの融点は１２６〜１２８℃であった。
【実施例１２】
【０１７５】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（ジメチルカルバモイルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号８０）の製造
【化３１】
2007297358.tif 000035
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、水素化ナトリウム０．０７ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン７ｍｌを入れた。１０℃でＮ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．８０ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解して加え、室温で３０分間攪拌した。室温でジメチルカルバモイルクロライド０．２２ｇ（２．０６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（ジメチルカルバモイルオキシ）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．４６ｇを淡黄色油状物として得た（収率４９％）。
【実施例１３】
【０１７６】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−モルホリノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号９９）の製造
【化３２】
2007297358.tif 000036
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２．００ｇ（４．６８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１５ｍｌ、およびトリエチルアミン０．６６ｇ（６．５５ｍｍｏｌ）を入れた。５℃で塩化メタンスルホニル０．７０ｇ（６．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、粗生成物２．０５ｇを得た。得られた粗生成物は精製することなく次の工程に用いた。
ｂ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、上記粗成生物０．５６ｇおよびモルホリン６ｍｌを入れて、８０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝２：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−モルホリノエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．１４ｇを淡黄色油状物として得た（収率２５％）。
【実施例１４】
【０１７７】
Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（１−ピラゾリル）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（化合物番号１０５）の製造
【化３３】
2007297358.tif 000037
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−ヒドロキシエチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド２．００ｇ（４．６８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１５ｍｌ、およびトリエチルアミン０．６６ｇ（６．５５ｍｍｏｌ）を入れた。５℃で塩化メタンスルホニル０．７０ｇ（６．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去し、粗生成物２．０５ｇを得た。得られた粗生成物は精製することなく次の工程に用いた。
ｂ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３０ｍｌ４つ口フラスコ中に、上記粗成生物０．５６ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍｌおよび１−Ｈ−ピラゾール０．４３ｇ（６．４０ｍｍｏｌ）を入れた後、加熱還流下で２時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、反応混合物に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和重曹水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−アセトン混液（溶媒容量比率トルエン：アセトン＝３：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製し、Ｎ−｛２−［３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル］−２−（１−ピラゾリル）エチル｝−２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．２３ｇを淡黄色油状物として得た（収率２３％）。
【０１７８】
次に、本発明のフェネチルアミド化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）の一部について、そのプロトンＮＭＲデータを表６に示す。ＮＭＲデータは、ＪＮＭ−ＬＡ３００スペクトロメーター（日本電子株式会社製）で測定し、全δ値をｐｐｍで示した。
【０１７９】
【表６】
2007297358.tif 000038
【０１８０】
〔参考製造例〕
α−アミノ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン塩酸塩の製造法
【化３４】
2007297358.tif 000039
ａ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した５００ｍｌ４つ口フラスコ中にアセトバニロン１０．０ｇ（６０．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０．８１ｇ（７８．３ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌを入れた。室温で、プロパルギルブロマイド７．８９ｇ（６６．３ｍｍｏｌ）を加えた後、約７０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、不溶物を濾過した。ろ液に水を加え、さらに酢酸エチルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物をｎ−ヘキサンで洗浄し、３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン１２．３ｇを淡褐色結晶として得た（収率１００％）。  
ｂ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３００ｍｌ４つ口フラスコ中に３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン１２．３ｇ（６０．２ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン１００ｍｌを入れた。室温でフェニルトリメチルアンモニウムトリブロマイド２３．０ｇ（６０．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。得られた反応混合物に水を加え、さらにジエチルエーテルを加えて抽出処理した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、展開溶媒としてトルエン−酢酸エチル混液（溶媒容量比率トルエン：酢酸エチル＝１０：１）を用い、シリカゲル（メルク社製商品名：シリカゲル６０Ｈ）クロマトグラフィーにより精製しα−ブロモ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン１６．８ｇを淡褐色結晶として得た（収率９９％）。
ｃ）攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３００ｍｌ４つ口フラスコ中にヘキサメチレンテトラミン６．９３ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）およびクロロホルム５０ｍｌを入れた。室温でα−ブロモ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン１２．７ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）をクロロホルム５０ｍｌに溶解して加えた後、５０℃で３時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、エタノール１００ｍｌを加えて希釈した後、結晶を濾取した。
攪拌装置、還流冷却器および１００℃まで測定できる温度計を装備した３００ｍｌ４つ口フラスコ中に得られた結晶、エタノール５０ｍｌおよび濃塩酸１４ｍｌを入れた。室温で５時間攪拌した後、真空ポンプ減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物を、少量の水で洗浄し、α−アミノ−３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）アセトフェノン塩酸塩６．７３ｇを白色結晶として得た（収率８０％）。
【０１８１】
次に、本発明の殺菌剤の製剤例を示す。製剤例中の「部」は重量部を表わす。
以下に示す製剤例の添加物および添加割合は、これら製剤例に限定されるものではなく、広範囲に変化させることが可能である。
【０１８２】
〔製剤例１〕  乳剤
化合物番号７０の化合物（１０部）を、ソルベッソ１５０（４５部）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（３５部）に溶解した。得られた溶液に、ソルポール３００５Ｘ（東邦化学工業株式会社製）（１０部）を加え、攪拌混合して１０％乳剤を得た。
さらに、化合物番号７０の化合物に代えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、製剤例１と同様な方法により、それぞれの乳剤を得た。
【０１８３】
〔製剤例２〕  水和剤
化合物番号１０の化合物（２０部）を、ラウリル硫酸ナトリウム（２部）、リグニンスルホン酸ナトリウム（４部）、ホワイトカーボン（２０部）およびクレー（５４部）の混合物中に加え、ジュースミキサーで攪拌混合して２０％水和剤を得た。
さらに、化合物番号１０の化合物に代えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、同様な方法によりそれぞれの水和剤を得た。
【０１８４】
〔製剤例３〕  粒剤
化合物番号７６の化合物（５部）に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（２部）、カルボキシメチルセルロース（２部）、ラウリル硫酸ナトリウム（２部）、ベントナイト（１０部）およびクレー（７９部）を加え、十分攪拌混合した。適当量の水を加えさらに攪拌し、造粒機で造粒した。得られた造粒物を通風乾燥して５％粒剤を得た。
さらに、化合物番号７６の化合物に替えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、同様な方法により、それぞれの粒剤を得た。
【０１８５】
〔製剤例４〕  粉剤
化合物番号５９の化合物（１部）を大豆油（２部）に溶解した。得られた溶液にホワイトカーボン（５部）、酸性リン酸イソプロピル（ＰＡＰ）（０．３部）およびクレー（９１．７部）を加え、ジュースミキサーで攪拌混合し、１％粉剤を得た。
さらに、化合物番号５９の化合物に代えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、同様な方法により、それぞれの粉剤を得た。
【０１８６】
〔製剤例５〕  フロアブル剤
化合物番号１０５の化合物（２０部）と、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ジアルキルスルホサクシネートナトリウムおよびプロキセルＧＸＬ（１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン）をそれぞれ２部、１部および０．２部含む水（２０部）とを混合した。得られた混合物を、ダイノミルを用いて湿式粉砕した。得られた粉砕物と、プロピレングリコールおよびキサンタンガムをそれぞれ８部および０．３２部含む水（６０部）とを混合し、２０％水中懸濁液であるフロアブル剤を得た。
さらに、化合物番号１０５の化合物に代えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、同様な方法により、それぞれのフロアブル剤を得た。
【０１８７】
〔製剤例６〕  顆粒水和剤
化合物番号７４の化合物（２０部）に、ラウリル硫酸ナトリウム（２部）、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３部）、デキストリン（５部）、ホワイトカーボン（２０部）、クレー（５０部）を加えて十分攪拌混合した。適当量の水を加えさらに攪拌し、造粒機で造粒した。得られた造粒物を通風乾燥して２０％顆粒水和剤を得た。
さらに、化合物番号７４の化合物に代えて、表１〜表５に記載の各化合物を用いること以外は、同様な方法により、それぞれの顆粒水和剤を得た。
【０１８８】
次に、本発明の殺菌剤の試験例を示す。
【０１８９】
〔試験例１〕  キュウリべと病防除効果試験
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培した、１．５葉期のキュウリ（品種：相模半白）に、製剤例２に準じて調製した水和剤の希釈液（１００ｐｐｍ）を、１ポットあたり１０ｍｌ散布（茎葉散布）した。一方、別のポットで栽培したキュウリの葉上でキュウリべと病菌（Pseudoperonospora  cubensis）の遊走子嚢を形成させた。
得られた遊走子嚢を、薬剤を散布処理したキュウリに、散布処理した翌日に接種した。このキュウリを２０℃の接種箱内（相対湿度＝１００％）に２４時間静置した後、さらに２４℃の人工気象室内に静置し、発病を促した。
接種の５日後に、第１葉上のキュウリべと病の病斑面積歩合（％）を調査して各反復区から平均病斑面積歩合を求め、さらに下記の式１により防除価（％）を算出した。
【数１】
2007297358.tif 000040
算出された防除価を、下記の表７の基準に従って評価値に換算した。
本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。この結果を、表８の「防除効果の評価値」の欄に示した。
【０１９０】
【表７】
2007297358.tif 000041
【０１９１】
また、下記の基準にしたがってキュウリ葉に対する薬害程度を調査した。
薬害程度の調査指数（６段階で評価）
５：激甚  ４：甚  ３：多  ２：若干  １：わずか  ０：なし
上記薬害程度の調査指数は、試験例２においても適用した。この結果を表８の「薬害」の欄に示した。
【０１９２】
【表８】
2007297358.tif 000042
【０１９３】
〔試験例２〕  キュウリべと病防除低濃度効果試験
温室内で直径６ｃｍの大きさのプラスチックポットで栽培した、１．５葉期のキュウリ（品種：相模半白）に、製剤例２に準じて調製した水和剤の希釈液（１．６ｐｐｍ）を、１ポットあたり１０ｍｌ散布（茎葉散布）した。一方、別のポットで栽培したキュウリの葉上でキュウリべと病菌（Pseudoperonospora  cubensis）の遊走子嚢を形成させた。
得られた遊走子嚢を、薬剤を散布処理したキュウリに、散布処理した翌日に接種した。このキュウリを２０℃の接種箱内（相対湿度＝１００％）に２４時間静置した後、さらに２４℃の人工気象室内に静置し、発病を促した。
接種の５日後に、第１葉上のキュウリべと病の病斑面積歩合（％）を調査して各反復区から平均病斑面積歩合を求め、上記の式１に従って防除価（％）を算出した。
算出された防除価を、上記の表７の基準に従って評価値に換算した。
本試験は、１薬液濃度当り、１区１ポットの３連制で行った。この結果を、表９の「防除効果の評価値」の欄に示した。
【０１９４】
【表９】
2007297358.tif 000043