【事件の表示】
　平成　４年特許願第　　７７２４号「インクジェットヘッドの製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　５年　８月　３日出願公開、特開平　５−１９３１４０］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　　
　本願は、平成　４年　１月２０日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１４年　８月２３日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものと認められる（以下、「本願発明」という）。
　　
「【請求項１】　インク吐出口が形成されたノズルプレートの、インク吐出側の表面の、前記インク吐出口の近傍に、前記インク吐出口の外周領域より低い段差が金属層により形成されたインクジェットヘッドの製造方法において、前記インク吐出口を覆い、かつ前記低い段差の領域に一致するように前記インク吐出口より広い面積のマスクを前記ノズルプレート上に形成する工程と、前記マスクされた領域以外の領域に、前記マスクよりも薄く金属をメッキするメッキ工程と、を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。」
　　
２．引用刊行物
　　
　当審における拒絶の理由において引用された実願昭60−84328号（実開昭61−200239号）のマイクロフイルム（以下、「引用刊行物１」という）には、以下の点が記載されている。
（Ａ−１）「オリフィス部の出口側に前記オリフィス部の径より少し大きめの径の段差部を形成してなることを特徴とするノズル。」（実用新案登録請求の範囲）
（Ａ−２）「この考案は、インク等の液流を噴射させるインクドットプリンタ、半導体デバイス等におけるノズルに関する。」（第１頁９〜１１行）
（Ａ−３）「この実施例のノズル５は第１図に示すように金属基板６に所定径のオリフィス部７を形成してなり、このオリフィス部７からインク等の液流８を噴射させるものであるが、前記オリフィス部７の液流８の出口側に段差部９を意識的に形成するものである。」（第２頁２０行〜第３頁５行）
（Ａ−４）「この段差部９の径は前記オリフィス部７の径よりも少し大きい所定の径とされ、」（第３頁５〜７行）
（Ａ−５）「このようなノズル５の製造方法について第３図を参照して説明する。…第３図（ａ）に示すようにオリフィス部７が形成された金属基板６にディッピング法等によりフォトレジスト１０を塗布する。」（第３頁２０行〜第４頁６行）
（Ａ−６）「次に、同図（ｂ）に示すようにこれを露光して所定形状のフォトレジストパターン１１を形成する。」（第４頁７〜９行）
（Ａ−７）「そして、同図（ｃ）に示すようにノズル５の出口側にＮｉ等によるメッキを行なってメッキ層１２を形成する。この時、このメッキ層１２はフォトレジストパターン１１上には少しかかる程度となる。」（第４頁９〜１３行）
（Ａ−８）「そこで、同図（ｄ）に示すようにフォトレジストパターン１１を剥離することにより、オリフィス部７の出口側にメッキ層１２による段差部９が形成される。」（第４頁１３〜１６行）
　ここで、図面第３図の記載からみて、上記（Ａ−７）及び（Ａ−８）中の「メッキ層１２」は「メッキ層１３」の誤記であると認められる。また、図面第３図（ｄ）の記載からみて、金属基板６上のオリフィス７出口側に形成された段差部９は、メッキ層１３により形成されるものであって、オリフィス部７の外周領域より低く形成されていることが看取できる。
　これらの記載を含む明細書及び図面の記載からみて、引用刊行物１には、次のような発明（以下、「引用発明」という）が記載されていると認められる。
「オリフィス部７が形成された金属基板６の、出口側の表面の、前記オリフィス部７の近傍に、前記オリフィス部７の外周領域より低い段差部９がメッキ層１３により形成されたインクジェットヘッドの製造方法において、フォトレジスト１０を前記金属基板６上に形成する工程と、前記フォトレジスト１０された領域以外の領域に、前記フォトレジスト１０には少しかかる程度にＮｉ等をメッキするメッキ工程と、を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。」
　同じく、特開平1−105749号公報（以下、「引用刊行物２」という）には、下記のとおり記載されている。
（Ｂ−１）「◎第一実施例…ノズル板形成用のマスターを製造した。」（第４頁右上欄１０〜１４行）
（Ｂ−２）「次いで、上記マスター（７）をスルファミン酸とニッケルを含有するメッキ浴槽内に浸漬し、」（第４頁左下欄１７〜１８行）
（Ｂ−３）「◎第二実施例…第４図Ａに示すように孔部（１３）、並びにその周辺部位に塗布、露光、現像されたフォトレジスト…等の非導電性材料（１４）を充填させ、次いで第一実施例と同一の電着条件により電着を施して、第４図Ｂに示すように上記メッキ被膜を成長させる。」（第５頁左上欄８〜２０行）
（Ｂ−４）「次いで、第４図Ｃに示すように上記ノズル板用被膜（９）から非導電性材料（１４）を取除いた後、マスター（７）からノズル板用被膜（９）を剥離し、第４図Ｄに示すように…ノズル板（１０）を得た。」（第５頁右上欄１〜５行）
　また、同じく特開昭63−3963号公報（以下、「引用刊行物３」という）には、下記のとおり記載されている。
（Ｃ−１）「第１図（ａ）〜（ｆ）は、本発明によるインクジェットノズル製造方法の一実施例を説明するための工程図で、」（第２頁左上欄７〜９行）、
（Ｃ−２）「第１図（ｃ）は第１図（ｂ）に示した基板上にドライフィルムレジスト（厚み２５〜５０μｍ）をラミネートし、図示しない露光，現像の工程を経て所望のノズル径と一致した外径のレジストパターン３を島状に残した状態を示す。」（第２頁左上欄１５〜１９行）
（Ｃ−３）「第１図（ｄ）は、第１図（ｃ）に示した基板上で、かつ、前記レジストパターン３の周囲にノズルの基板になる金属４を電着した図で、本実施例では、スルファミン酸ニッケルを主成分とした組成のメッキ液中にて電着した。」（第２頁左上欄２０行〜同右上欄４行）
（Ｃ−４）「このメッキ４の厚さを第１図（ｄ）に示したようにドライフィルムの厚み近くまで電着した後、」（第２頁右上欄４〜６行）
　　
３．対比
　　
　本願発明（前者）と引用発明（後者）とを対比すると、後者の「オリフィス部７」、「金属基板６」、「出口側」、「段差部９」、「メッキ層１３」、「フォトレジスト１０」は前者の「インク吐出口」、「ノズルプレート」「インク吐出側」、「段差」、「金属層」、「マスク」に対応し、また、後者の「Ｎｉ等」は金属の一種であるＮｉを含みメッキに供されるものであるから前者の「金属」ということができる。そうすると、
　　
　両者は
「インク吐出口が形成されたノズルプレートの、インク吐出側の表面の、前記インク吐出口の近傍に、前記インク吐出口の外周領域より低い段差が金属層により形成されたインクジェットヘッドの製造方法において、マスクを前記ノズルプレート上に形成する工程と、前記マスクされた領域以外の領域に、金属をメッキするメッキ工程と、を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。」
である点において一致し、
（イ）ノズルプレート上にマスクを形成するにあたり、本願発明ではインク吐出口を覆い、かつ低い段差の領域に一致するようにインク吐出口より広い面積のマスクをノズルプレート上に形成しているのに対し、引用発明ではマスクの面積及び形状については定かではない点、
（ロ）金属をメッキするメッキ工程について、本願発明ではマスクよりも薄く金属がメッキされるのに対して、引用発明ではマスクには少しかかる程度にメッキされる点、
において相違する。
　　
　そこで、これらの相違点について検討する。
　　
相違点（イ）について
　引用刊行物２には、ノズル板上にニッケルによるメッキを行うにあたり、ノズルの孔部及びその周辺にフォトレジスト等の非導電性材料によりマスクを行う構成が記載されており、引用発明及び引用刊行物２は、ともにインクジェットヘッドの製造方法に関するものであるとともに、引用刊行物２は金属メッキを行う際に孔部とその周辺部を覆うマスクを形成してなるものであるから、引用発明に記載のマスク形成方法に代えて引用刊行物２に記載のマスク形成方法を採用することに、技術的困難性は認められず、しかも、引用刊行物２に記載のマスク形成方法を採用することによって相違点（イ）は解消するものであり、かかる構成を備えた本願発明の作用効果は、引用発明及び引用刊行物２から予測し得る範囲のものにすぎないものである。
　なお請求人は引用刊行物２に関して、平成１４年　８月２３日付意見書において、
「（４）刊行物Ｂの第４図のＢには、ノズル開口の周囲に及ぶ広さにマスク（１４）を形成し、このマスク（１４）の厚みよりも薄いノズル板用被膜（９）を形成した構成が記載されているが、この被膜（９）は、ノズル孔（８）（第１図の符号８）の拡開側、つまりインク吐出面とは反対のインク加圧室側となる面に形成されたものであり、インクの吐出口近傍の撥水性の維持の為に、インクの吐出口を囲むように段差を形成し、紙ジャムの際の吐出口近傍の表面保護を図ることを意図したものではない。」（第２頁１８〜２４行）
と主張しているが、引用刊行物２は金属メッキを行う際のマスク形成方法に関する技術的思想を示したものであって、引用刊行物２に記載のマスク形成方法それ自体は上述のとおり引用発明においても採用可能なものであり、請求人の上記主張は採用できない。
　　
相違点（ロ）について
　引用刊行物３には、基板上にニッケルによるメッキを行うにあたり、基板の一部をレジストパターンによりマスクを行い、そのレジストパターンの周囲に厚さをレジストパターンの厚み近くまで、すなわちレジストパターンより薄くメッキを形成したものが記載されており、引用発明及び引用刊行物３は、ともにインクジェットヘッドの製造方法に関するものであって、金属メッキを行う際にマスクを形成してなるものであるから、引用発明に記載のメッキ工程に代えて引用刊行物３に記載のメッキ工程を採用することに、技術的困難性は認められず、しかも、引用刊行物３に記載のメッキ工程を採用することによって相違点（ロ）は解消するものであり、かかる構成を備えた本願発明の作用効果は、引用発明及び引用刊行物３から予測し得る範囲のものにすぎないものである。
　また、引用刊行物２の図面第４図Ｂからは、フォトレジスト等の非導電性材料からなるマスクの周囲に厚さをマスクよりも薄くメッキを形成した構成が看取でき、引用発明及び引用刊行物２は、ともにインクジェットヘッドの製造方法に関するものであって、金属メッキを行う際にマスクを形成してなるものであるから、引用発明に記載のメッキ工程に代えて引用刊行物２に記載のメッキ工程を採用することに、技術的困難性は認められず、しかも、引用刊行物２に記載のメッキ工程を採用することによって相違点（ロ）は解消するものであり、かかる構成を備えた本願発明の作用効果は、引用発明及び引用刊行物２から予測し得る範囲のものにすぎないものであるということもできる。
　なお請求人は引用刊行物３に関して、平成１４年　８月２３日付意見書において、
「　なお、審判官殿は、刊行物Ｃの第２頁左上欄第２０行乃至右上欄第６行目、及び図１（ｄ）には、「マスクされた領域以外の領域に、前記マスクよりも薄く金属をメッキするメッキ工程の点」が記載されていると指摘されているが、第２頁右上欄第６行乃至同欄第９行目には「ドライフィルムの厚みの近くまで電着した後、第１図（ｅ）に示したように、ノズル基板（メッキ層）４の最表面のみに四フッ化樹脂粒子を結合させたメッキ液中で数μ電着層を形成する。」と記載されていて、同一のマスクにより電着（またはメッキ）される層は、ノズル基板４と電着層との一体物であり、これらがマスクよりも薄く形成されているのならばともかく、マスクと同一の厚みに形成されているから、電着（メッキ）される一方の層（数μ電着層）を形成する前の段階だけを捉えて、マスクされた領域以外の領域に、前記マスクよりも薄く金属をメッキすることが記載されているとの認定は、不合理であると思慮します。
　また、刊行物Ｃは、そもそもインク滴を吐出させる孔を形成する発明で、既にインク吐出口が形成されたノズルプレートのインク吐出口のインク吐出面側の表面の、インク吐出口の近傍に段差を形成することを目的とする本願発明とは対象が相違する。」（第３頁１０〜２５行）
と主張しているが、引用刊行物３はメッキ工程に関する技術的思想を示したものであって、引用刊行物３に記載のメッキ工程それ自体は上述のとおり引用発明においても採用可能なものであり、また、引用刊行物３におけるメッキ４の厚さは、マスクであるレジストパターン３の厚みより、電着層５の厚み分だけ薄く形成されているものであり、メッキ４と電着層５は別個の構成部材として示されているものであるから、マスクされた領域以外の領域に、前記マスクよりも薄く金属をメッキすることが記載されていると認定した点は不合理ではなく、請求人の上記主張は採用できない。
　仮に、引用刊行物３についての請求人の上記主張が採用し得るものであったとしても、上述のとおり、相違点（ロ）は引用刊行物２の存在により解消されるものであるから、請求人の上記主張は結論に影響を与えない。
　　
　さらに、相違点（イ）及び相違点（ロ）に係る構成を備えたことによる本願発明の作用効果についても、格別のものを認めることができない。
　　
４．むすび
　　
　以上のとおり、本願発明は引用刊行物１乃至引用刊行物３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　
　よって、上記結論のとおり審決する。