(57)【要約】【課題】塵などの異物の侵入などにより発射杆の回動範囲が制限された場合でも、遊技球を適正な発射強度で発射することができるパチンコ遊技機の球発射装置を提供する。【解決手段】先端に打球部１６を設けた発射杆１５が回動軸に軸支され、発射杆１５の発射位置と待機位置で発射杆１５の回動を制限する第１、第２ストッパ部１７，１８が配設される。発射杆１５の発射位置と待機位置間の往復回動動作により、先端の打球部１６を遊技球に打ち当て、遊技球を遊技領域に向けて発射する。発射杆１５が発射杆駆動手段により駆動され、発射杆１５が発射位置から待機位置まで戻る際の発射杆１５の戻り回転量の減少を検出する回転量検出手段が設けられる。発射駆動制御手段は、回転量検出手段が戻り回転量の減少を検出したとき、戻り回転量の減少量に応じて発射杆駆動手段の駆動力を増大させる。【選択図】図１
2007130160.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
先端に打球部を設けた発射杆が回動軸に軸支され、該発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が配設され、該発射杆の発射位置と待機位置間の往復回動動作により、先端の打球部を遊技球に打ち当て、遊技球を遊技領域に向けて発射するパチンコ遊技機の球発射装置において、
該発射杆を回転駆動する発射杆駆動手段と、該発射杆が該発射位置から該待機位置まで戻る際の該発射杆の戻り回転量の減少を検出する回転量検出手段と、該回転量検出手段が該戻り回転量の減少を検出したとき、該戻り回転量の減少量に応じて該発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する発射杆駆動制御手段と、を備えたことを特徴とするパチンコ遊技機の球発射装置。
【請求項２】
前記発射杆駆動手段は、電磁回転駆動機構により発射杆を回転駆動するように構成され、前記発射杆駆動制御手段は、前記発射杆の戻り回転量の減少量が多くなるほど、該電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を増大させることを特徴とする請求項１記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
【請求項３】
前記回転量検出手段は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、該待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、該待機位置検出器は、該発射杆が待機位置に戻ったときの該待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力することを特徴とする請求項１記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
【請求項４】
前記待機位置被検出部は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に複数の孔または溝を回転方向に並設して形成され、前記待機位置検出器は、該孔または溝の位置を光の透過または反射により検出する光電検出器を用いて形成されたことを特徴とする請求項３記載のパチンコ遊技機の球発射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パチンコ遊技機の球発射装置に関し、特に塵などの異物の侵入によって発射強度が減少する不具合を解消することができる球発射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のパチンコ遊技機の球発射装置は、例えば下記特許文献１に記載されるように、長尺の発射レールが遊技盤の外レールの下端部の導入口に向けて傾斜して配設され、ロータリソレノイドの回動軸にレバー状の発射杆が軸着され、発射レールの下端部に遊技球が保持された状態で、発射杆が回動軸を軸に回動し、発射杆の先端に取り付けた弾発槌が遊技球を打撃して、弾発された遊技球が遊技領域に向けて発射される。
【０００３】
この種の球発射装置には、発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が設けられ、発射杆は、この発射位置と待機位置で、それらのストッパ部に当接して停止する。また、従来の発射杆は、金属のレバー状に形成され、その金属製の発射杆がゴム製のストッパ部に衝突して、発射位置と待機位置に停止する。
【特許文献１】特開平４−２５６７６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このため、長期の使用により、発射杆とストッパ部との間に或はロータリソレノイド内に塵などの異物が侵入した場合、発射位置と待機位置間における発射杆の回動範囲が狭く制限された状態となり、これによって、遊技球の適正な発射強度が得られなくなるという問題が発生していた。つまり、発射杆とストッパ部間に塵などの異物が侵入すると、発射杆が正常な待機位置に戻りきらない状態で、回動を開始するため、発射する際の発射杆の回動範囲が狭くなって、発射杆が正常な発射速度に達する手前で遊技球を打撃することになり、遊技球の発射強度が低下する課題があった。
【０００５】
本発明は、上述の課題を解決するものであり、塵などの異物の侵入などにより発射杆の回動範囲が制限された場合でも、遊技球を適正な発射強度で発射することができるパチンコ遊技機の球発射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明の球発射装置は、先端に打球部を設けた発射杆が回動軸に軸支され、該発射杆の発射位置と待機位置で発射杆の回動を制限するストッパ部が配設され、該発射杆の発射位置と待機位置間の往復回動動作により、先端の打球部を遊技球に打ち当て、遊技球を遊技領域に向けて発射するパチンコ遊技機の球発射装置において、該発射杆を回転駆動する発射杆駆動手段と、該発射杆が該発射位置から該待機位置まで戻る際の該発射杆の戻り回転量の減少を検出する回転量検出手段と、該回転量検出手段が該戻り回転量の減少を検出したとき、該戻り回転量の減少量に応じて該発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する発射杆駆動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
ここで、請求項２のように、上記発射杆駆動手段は、電磁回転駆動機構により発射杆を回転駆動するように構成され、前記発射杆駆動制御手段は、前記発射杆の戻り回転量の減少量が多くなるほど、該電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を増大させる構成とすることができる。
【０００８】
また、請求項３のように、上記回転量検出手段は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、該待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、該待機位置検出器は、該発射杆が待機位置に戻ったときの該待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力するように構成することができる。
【０００９】
さらに、請求項４のように、上記待機位置被検出部は、前記発射杆の一部または該発射杆に取り付けられた部分に複数の孔または溝を回転方向に並設して形成され、前記待機位置検出器は、該孔または溝の位置を光の透過または反射により検出する光電検出器を用いて構成することができる。
【発明の効果】
【００１０】
上記構成の球発射装置は、発射杆駆動手段が発射杆を回転駆動したとき、回転量検出手段が、発射位置から待機位置まで戻る際の発射杆の戻り回転量の減少を検出する。そして、発射杆駆動制御手段は、回転量検出手段が戻り回転量の減少を検出したとき、戻り回転量の減少量に応じて発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御する。
【００１１】
したがって、待機位置のストッパ部と発射杆の間或は発射杆駆動手段内に、塵などの異物が侵入し、発射杆が正常な待機位置に戻らない状態が発生した場合、回転量検出手段は戻り回転量が通常時より減少する減少量を検出する。このとき、発射杆駆動制御手段は、その戻り回転量の減少量に応じて発射杆駆動手段の駆動力を増大させるように制御するから、発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
【００１２】
また、請求項２の発明によれば、発射杆の駆動に電磁回転駆動機構を使用し、発射杆駆動制御手段は、電磁回転駆動機構を駆動する駆動電流を制御して発射強度を増すように制御するため、発射強度の制御を正確に行うことができる。
【００１３】
また、請求項３の発明によれば、回転量検出手段は、発射杆の一部または発射杆に取り付けられた部分に設けられた待機位置被検出部と、待機位置被検出部を検出する待機位置検出器と、を有して構成され、待機位置検出器は、発射杆が待機位置に戻ったときの待機位置被検出部の被検出位置に応じて、戻り回転量を示す信号を出力するから、発射杆の戻り回転量の減少を正確に検出することができる。
【００１４】
さらに、請求項４の発明によれば、待機位置検出器として光電検出器を用いて構成し、待機位置被検出部に設けた孔または溝の位置を光の透過または反射により検出するから、検出器、被検出部共に小形化することができ、狭い発射装置のケース内にも設置することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図１はパチンコ遊技機の発射装置１０の正面図を示し、図２はその斜視図を、図３はその分解斜視図を示している。発射装置１０は、金属板などにより矩形に形成されたベース板１１上に、発射口部材１２、ロータリソレノイド１４、第１・第２ストッパ部１７，１８などを取り付けて構成される。ベース板１１の中央右寄りに軸孔が穿設され、その軸孔から回動軸１４ａを突き出すように、ロータリソレノイド１４がベース板１１の裏面に固定ねじなどで固定される。
【００１６】
ベース板１１上には、合成樹脂製の発射口部材１２が固定ねじなどにより固定されている。発射口部材１２は、その略中央に発射通路１２ａが斜め上方に傾斜して形成され、その発射通路１２ａに向かって左側の側壁部に発射レール１３が取り付けられている。
【００１７】
また、発射口部材１２の発射通路１２ａは、後述の遊技盤２上の外レール３の下端部と内レール４間に斜め下方に傾斜して設けられた導入口５に向けて、傾斜して形成される。さらに、発射通路１２ａ内の下端部には、側壁をせりだして通路を狭搾するように、球保持部１２ｂが形成され、図示しない球送り機構から送られた１個の遊技球がこの球保持部１２ｂに保持される。
【００１８】
発射通路１２ａの下側の側壁部を形成する発射レール１３は、コ字状に曲折した金属板の接触面を略Ｖ字型に曲折して形成され、発射レール１３の長さは遊技球の直径の略２倍の長さに形成されている。この発射レール１３は遊技球の発射時のガイドとなるものであるが、発射レール１３の傾斜角度より、少し大きい発射角度で遊技球を外レールの下端の導入口に向けて発射することにより、発射レールとの接触を少なくし、発射レール１３の長さを従来のものより短縮している。
【００１９】
発射杆１５は、概略的には、略Ｌ字型に形成され、その角部に回動軸を嵌着されるための軸孔が形成される。また、発射杆１５の先端部には、遊技球を打撃するための打球部１６が形成され、反打球部側の片部には、後述の第１・第２ストッパ部１７，１８に当接するための回動範囲制限部１５ａが形成されている。また、この発射杆１５は、金属インサートの周囲に高反発弾性の合成樹脂を被覆するように、インサート成形して、合成樹脂の被覆層がその周囲に被覆・形成されている。合成樹脂材料としては、一般的なゴムとプラスチックの間の中間的な柔らかさを有し、高い耐衝撃性と反発弾性を有した熱可塑性エラストマーを使用することが好ましく、熱可塑性エラストマーとしては、ポリエステルエラストマーの使用が好ましい。
【００２０】
発射杆１５は、このようなインサート成形により成形され、金属インサートの外周には、略全体を覆うように合成樹脂の被覆層が被覆・形成される。したがって、回動範囲制限部１５ａにも被覆層がその成形時に一体的に形成される。また、発射杆１５の先端部の左側端面に、遊技球を打球する打球部１６がインサート成形時に一体成形され、さらに、発射杆１５の回動範囲制限部１５ａの先端に、待機位置被検出部２０が設けられる。待機位置被検出部２０は、後述の待機位置検出器１９に発射杆１５の待機位置を検出させるための部分であり、発射杆１５の回動時の円周方向（円軌跡）に沿って３個の孔２０ａを穿設して形成されている。この待機位置被検出部２０は合成樹脂の被覆層によって一体成形することができる。
【００２１】
図３などに示すように、発射杆１５のＬ字形本体の角部には、軸孔が穿設され、その軸孔にロータリソレノイド１４の回動軸１４ａの先端が嵌入され、固定ナット１４ｂにより締め付け固定される。ロータリソレノイド１４は、ベース板１１の中央右寄りに形成された孔から回動軸１４ａを突き出すように、ベース板１１の裏面に固定され、その回動軸１４ａの先端に発射杆１５が固定ナット１４ｂにより締め付け固定される。このとき、発射杆１５の打球部１６は、図６に示すように、発射杆１５が正面視で略６時位置から略８時位置に向けて時計方向に回動したとき、球保持部１２ｂの遊技球を打撃して、これを所定の発射方向に発射させるように形成されている。
【００２２】
さらに、発射杆１５の反打球部側の片部には、回動範囲を制限するための回動範囲制限部１５ａが形成され、この回動範囲制限部１５ａに対向して、第１ストッパ部１７、第２ストッパ部１８が当接可能にベース板１１上に固定されている。
【００２３】
第１ストッパ部１７は、図６のように、発射杆１５が発射側に回動されて打球を行なった際、回動範囲制限部１５ａが当接する位置のベース板１１上に固定される。また、第２ストッパ部１８は、発射杆１５が打球動作後に待機位置に戻った際、回動範囲制限部１５ａが当接する位置のベース板１１上に固定される。第１ストッパ部１７及び第２ストッパ部１８における、発射杆１５の回動範囲制限部１５ａが当接する部分には、合成樹脂製の取付部に対してゴム状弾性を有する高分子エラストマーなどのゴム状弾性体を取り付け、ストッパ部に発射杆１５が当った際の衝撃を緩衝させるようにしている。
【００２４】
さらに、発射杆１５の回動範囲制限部１５ａが第２ストッパ部１８に当接して待機位置に戻ったとき、その位置（待機位置被検出部２０）を検出するために、待機位置検出器１９が第２ストッパ部１８の近傍に取り付けられている。待機位置検出器１９は、受光素子と投光素子を対向して配置した透過式の光電検出器を用いて形成され、その検出空間内に待機位置被検出部２０が進入したとき、投光素子の光軸が待機位置被検出部２０の各孔２０ａと一致するように位置調整されている。なお、待機位置被検出部２０の孔２０ａは、光軸を透過させればよいことから、溝またはスリットとすることもできる。
【００２５】
待機位置検出器１９は、発射杆１５の末端の待機位置被検出部２０が待機位置に戻る際、光電検出器の光軸が、その待機位置被検出部２０の孔２０ａと孔２０ａ間の非透過部の通過によって遮断され、その後、受光素子が透過光を受光したとき、検出信号（例えば低レベルから高レベルに立ち上がる信号）を出力し、その検出信号の数に応じて、待機位置を検出することになる。つまり、光電検出器の光軸が３個の孔２０ａを全て通過し発射杆１５が正常の待機位置に戻った場合、３個の検出信号が出力され、検出信号が２個または１個と少ない場合、発射杆１５が正常な位置まで戻らず、発射杆１５の回動範囲が塵などの異物により狭く制限されていることとなる。
【００２６】
このように構成された発射装置１０は、図４に示すように、遊技機の前面枠１内における遊技盤２の下側中央位置に取り付けられる。遊技盤２は、前面枠１の中央部に着脱可能に取り付けられ、遊技盤２上には中央の遊技領域を囲うように外レール３と内レール４が配設されている。なお、図面上では、遊技盤２上に打設される障害釘、各種役物、表示装置、入賞口などは省略されている。
【００２７】
遊技盤２の正面視において、左下側の外レール３の下端部と内レール４の間に、発射された遊技球を導入するための導入口５が形成されている。この導入口５は左端部から遊技盤２の下側の中央部、つまり斜め下方の中央部に向けて開口して形成され、発射装置１０がその遊技盤２の下側の略中央位置に設置される。
【００２８】
発射装置１０のロータリソレノイド１４は、図５に示すように、発射制御回路２１の出力側に接続される。発射制御回路２１は、遊技者の図示しない発射レバーへの接触を検出すると共に、発射レバーの回動時の回転量（回転角）を検出し、球送り機構（図示を省略）を動作させて、受け皿より送られた遊技球を１個づつ発射装置１０の球保持部１２ｂに送ると共に、ロータリソレノイド１４を発射レバーの回転角に応じたトルクで回転駆動し、遊技球の発射動作を制御するように構成されている。
【００２９】
また、発射制御回路２１の入力側には、上記の待機位置検出器１９が接続され、待機位置検出器１９の光電検出器が発射杆１５の待機位置被検出部２０の孔２０ａ間を検出したとき、検出信号が発射制御回路２１に送られる。発射制御回路２１は、例えばＣＰＵ，ＲＡＭ，ＲＯＭ、入出力回路などを備えたマイクロコンピュータから構成され、ＣＰＵは、予めＲＯＭに記憶されたプログラムデータにより、入力した待機位置検出器１９からの検出信号に基づき、ロータリソレノイド１４の駆動電流を制御するように動作する。
【００３０】
つまり、発射制御回路２１は、発射杆１５が待機位置に戻ったとき、待機位置検出器１９から入力された検出信号が３個の場合、正常の待機位置に達したものと判断して、通常の電流値でロータリソレノイド１４を駆動し、これに対し、検出信号が２個または１個の場合、通常の電流値より高い電流値でロータリソレノイド１４を駆動するように構成される。
【００３１】
次に、上記構成の球発射装置の動作を、図７のフローチャートを参照して説明する。遊技者が発射レバーを操作すると、図示しない球送り機構が動作して遊技球を１個づつ発射装置１０の球保持部１２ｂに送ると共に、ロータリソレノイド１４が駆動して発射杆１５が、図１の待機位置から図６の発射位置に向けて正面視で時計方向に回転駆動される。
【００３２】
すなわち、図７のフローチャートにおいて、発射制御回路２１のＣＰＵは、遊技球の発射時、先ず、ステップ１００で、駆動電流の設定値として通常値の１．０Ａをセットし、ステップ１１０にて、その１．０Ａの電流値のパルス状電流をロータリソレノイド１４に供給する。これにより、ロータリソレノイド１４が発射杆１５を図１の時計方向に回転駆動し、発射杆１５の回動により、その先端の打球部１６が球保持部１２ｂの遊技球を打撃し、遊技球は発射通路１２ａを通り外レール３の下端部の導入口５に向けて発射される。
【００３３】
発射杆１５は、このような発射動作時、その回動範囲制限部１５ａの一側が第１ストッパ部１７に当接して停止する。ロータリソレノイド１４の回転駆動を行なう駆動電流は、短い時間幅のパルス状電流であって、パルス状に供給され、これによって打球部１６が遊技球に向けて回動して打撃し、回動範囲制限部１５ａが第１ストッパ部１７に当接した時点で、駆動パルス電流は消失し、回転トルクはゼロとなる。このため、発射杆１５は、打撃動作後、その自重により図１、図６の反時計方向に回動し、図１の待機位置まで戻る（ステップ１２０）。
【００３４】
このとき、発射制御回路２１のＣＰＵは、ステップ１３０にて、パルス状電流の出力時から所定の復帰動作時間が経過したか否かを判定し、復帰動作時間が経過するまでの間、ステップ１４０に進み、待機位置検出器１９からの検出信号に基づき、発射杆１５の末端の待機位置被検出部２０の孔２０ａが検出されたか否かを判定する。
【００３５】
つまり、図１に示すように、発射杆１５がその自重により待機位置まで戻り、待機位置検出器１９の光電検出器が光軸の遮断から透過光の検出への移行を示す検出信号を出力したとき、１個の透過光を検出したとして、次のステップ１５０にて、検出個数をカウントするカウンタに１を加算する。
【００３６】
そして、このような動作は、発射杆１５の回動範囲制限部１５ａが第２ストッパ１８に当接して、発射杆１５の戻り回動が完全に停止するまで、上記ステップ１２０〜ステップ１５０が繰り返し実施され、その結果、発射杆１５が正常な待機位置まで完全に戻ったとき、待機位置検出器１９から３個の検出信号が出力される。
【００３７】
一方、第２ストッパ部１８の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド１４の内部に塵などの異物が入って、発射杆１５が待機位置に完全に戻りきらない状態となった場合、待機位置被検出部２０の３個の孔２０ａが待機位置検出器１９の光軸の位置まで到達することができず、２個または１個のみの検出信号が出力され、或は１個の検出信号も出力されずに、発射杆１５が停止することとなる。
【００３８】
発射制御回路２１のＣＰＵは、発射時から所定時間が経過して発射杆１４が停止した後、ステップ１６０に進み、待機位置検出器１９が検出した待機位置被検出部２０の孔２０ａの数つまり検出信号の数が３個であるか否かを判定し、検出信号の数が３個であったとき、発射杆１５は正常に回動動作しているとして、次に、ステップ１７０に進み、駆動電流の設定値として通常値の１．０Ａをセットする。
【００３９】
一方、待機位置被検出部２０の孔２０ａが２個検出され、検出信号が２個出力された場合、ステップ１８０を経て、ステップ１９０に進み、駆動電流の設定値として通常値より１段上の１．２Ａをセットする。そして、ステップ２３０にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ１１０に戻り、セットされた通常時より少し高い１．２Ａの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給される。これにより、発射杆１５が回転駆動され、遊技球が発射される。
【００４０】
したがって、第２ストッパ部１８の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド１４の内部に塵などの異物が入って、発射杆１５が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動された場合、発射杆１５の回動範囲が狭く制限され、発射杆１５の先端の打球部１６が遊技球を打撃して発射する際の発射強度が通常より低下するが、上記のように、検出信号が２個の場合、通常時より少し高い１．２Ａの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給されて発射杆１５が駆動されるため、このような発射強度の低下を防止して通常の強度で遊技球を発射することができる。
【００４１】
一方、待機位置被検出部２０の孔２０ａが１個だけ検出され、検出信号が１個のみ出力された場合、ステップ２００を経て、ステップ２１０に進み、駆動電流の設定値として通常値より２段上の１．４Ａをセットする。そして、ステップ２３０にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ１１０に戻り、セットされた通常時より高い１．４Ａの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給される。これにより、発射杆１５が回転駆動され、遊技球が発射される。
【００４２】
また、待機位置被検出部２０の孔２０ａが１個も検出されず、検出信号が出力されない場合、ステップ２００を経て、ステップ２２０に進み、駆動電流の設定値として通常値より３段上の１．６Ａをセットする。そして、上記と同様に、ステップ２３０にて、検出信号の数をカウントするカウンタをゼロにリセットした後、再びステップ１１０に戻り、セットされた最も高い１．６Ａの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給される。これにより、発射杆１５が回転駆動され、遊技球が発射される。
【００４３】
このように、第２ストッパ部１８の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド１４の内部に塵などの異物が入って、発射杆１５が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動された場合、発射杆１５の回動範囲が狭く制限され、発射杆１５の先端の打球部１６が遊技球を打撃して発射する際の発射強度が通常より低下するが、上記のように、検出された検出信号の数が１個またはゼロの場合、その数に応じてより高い１．４Ａまたは１．６Ａの電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給されて発射杆１５が駆動させるため、このような発射強度の低下を防止して通常の強度で遊技球を発射することができる。
【００４４】
そしてこの後、上記ステップ１１０〜ステップ２３０が繰り返し実行されることから、第２ストッパ部１８の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド１４の内部に塵などの異物が入って、発射杆１５が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動される状態が継続される場合であっても、上記のように、待機位置検出器１９によって検出された検出信号の数に応じて、通常時より高い電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給されて発射杆１５が駆動されるため、このような発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
【００４５】
なお、最も高い１．６Ａの駆動電流にセットされた場合などには、塵などの異物を除去した方がよいことを考慮して、警告灯を点灯させ、或は音声などで警告音を発生させることもできる。
【００４６】
図８〜図１０は他の実施形態を示している。この例では、発射杆１５の軸心位置に円板２２が固定され、その円板２２の一部に待機位置被検出部２３が形成され、その待機位置被検出部２３と対向するベース板１１上に待機位置検出器２４が取り付けられる。この発射装置における上記実施形態と同様な部分については、図８〜図１０に上記と同じ符号を付してその説明を省略する。
【００４７】
図８〜図１０に示すように、円板２２の一部に３個の孔２３ａが所定の間隔をおいて円周方向に並設された位置に穿設され、そこに待機位置被検出部２３が形成される。円板２２は発射杆１５の軸心位置の外側に、同軸上に取着される。その円板２２の待機位置被検出部２３に対向して、待機位置検出器２４がベース板１１上に取り付けられる。
【００４８】
待機位置検出器２４は、上記と同様に、受光素子と投光素子を対向して配置した透過式の光電検出器を用いて形成され、その検出空間内に待機位置被検出部２３が進入したとき、投光素子の光軸が待機位置被検出部２３の各孔２３ａと一致するように位置調整されている。したがって、待機位置検出器２４は、上記同様に、発射杆１５の末端の待機位置被検出部２３が待機位置に戻る際、光電検出器の光軸が、その待機位置被検出部２３の孔２３ａと孔２３ａ間の非透過部の通過によって遮断され、その後、受光素子が透過光を受光したとき、検出信号（例えば低レベルから高レベルに立ち上がる信号）を出力し、その検出信号の数に応じて、待機位置を検出する。
【００４９】
このような円板２２の待機位置被検出部２３の孔２３ａを、発射杆１５の待機位置の復帰時に検出する待機位置検出器２４を使用することによっても、第２ストッパ部１８の表面に塵などの異物が付着し、或はロータリソレノイド１４の内部に塵などの異物が入って、発射杆１５が待機位置に完全に戻りきらない位置から、回転駆動される状態を検出することができる。そして、発射杆１５が待機位置に完全に復帰しない状態が検出された場合には、待機位置検出器２４によって検出された検出信号の数に応じて、通常時より高い電流値のパルス状駆動電流がロータリソレノイド１４に供給されて発射杆１５が駆動されるため、発射強度の低下を防止して通常の安定した強度で遊技球を発射することができる。
【００５０】
なお、本発明の球発射装置は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のような態様でも実施可能である。
１．上記では、発射杆の回転駆動用にロータリソレノイドを使用したが、モータを使用することもできる。
２．上記では、待機位置検出器に透過式の光電検出器を使用したが、反射式の光電検出器を使用することもでき、その場合には、孔に代えて非反射部または反射部を設けることになる。また、光電検出器に代えて磁気的に待機位置を検出する磁気検出器を使用することもでき、この場合には、待機位置被検出部に磁性体を配置することになる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態を示す発射装置の正面図である。
【図２】同発射装置の斜視図である。
【図３】発射装置の分解斜視図である。
【図４】パチンコ遊技機の前面枠の正面図である。
【図５】ロータリソレノイドの制御系の構成図である。
【図６】（ａ）は発射杆の発射動作時の正面図、（ｂ）は同斜視図である。
【図７】発射動作時の発射制御回路のフローチャートである。
【図８】（ａ）は他の実施形態の発射装置の正面図、（ｂ）は同斜視図である。
【図９】（ａ）は同発射装置の発射動作時の正面図、（ｂ）は同斜視図である。
【図１０】同発射装置の分解斜視図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０  発射装置
１３  発射レール
１４  ロータリソレノイド
１５  発射杆
１５ａ  回動範囲制限部
１６  打球部
１７  第１ストッパ部
１８  第２ストッパ部
１９  待機位置検出器
２０  待機位置被検出部
２０ａ  孔
２１  発射制御回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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