【事件の表示】
　平成　６年特許願第３１７７５２号「半導体製造装置およびデバイス製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　８年　６月１１日出願公開、特開平　８−１５３６７２］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成６年１１月２９日の出願であって、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
請求項１
　レチクル上のパターンを投影レンズを介してウエハ上に投影露光する露光装置の露光動作を制御する制御手段と、前記制御手段とオペレータとの間で情報の授受を行うために利用されているディスプレイとを有し、
　前記ディスプレイは、露光レイアウトやメンテナンス用ウインドウを切り替え表示する領域とは別に、ポインティング操作により前記制御手段に指令を与えるための複数のボタンを表示するボタン表示領域を有し、
　前記ボタン表示領域に表示される少なくとも１つのボタンには、前記露光装置の露光動作シーケンスが待機状態にある時は、前記制御手段に前記露光装置の露光動作を開始させる指令を与えることが表示され、前記露光装置の露光動作シーケンスが稼働状態にある時は、前記制御手段に前記露光装置の露光動作を中断させる指令を与えることが表示されることを特徴とする露光装置。
２．当審が通知した拒絶の理由
　当審で平成１４年７月１日付で通知した拒絶の理由の概要は、
「本件請求項１〜１６に係る発明は、その出願前に国内において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が、容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
                    　　　　記
　引用例１．特開平５−３６５７９号公報
　引用例２．特開平６−５９７１０号公報
　引用例３．「花子　リファレンスマニュアル　［解説］」株式会社ジャストシステム発行　１９８８年１０月１３日第１版第２刷　第６７頁　メニューライン参照」
というものである。
　なお、上記当審拒絶理由通知での、引用例２の特開「昭」６−５９７１０号公報は、特開「平」６−５９７１０号公報の誤記である旨審判請求人に電話で連絡し、審判請求人は了解した。
３．引用例１に記載された事項
　記載１
　発明の詳細な説明【０００２】〜【００１５】段落には、
「【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体装置の製造においては、細く絞ったイオンビ−ムを半導体ウェハに照射することにより、半導体ウェハのプロセス処理を行なう装置が用いられている。これが、ＦＩＢ（集束イオンビーム露光：Ｆｏｃｕｓｅｄ　Ｉｏｎ　Ｂｅａｍ）装置である。…
【０００３】この文献に記載されているＦＩＢ装置は、主に、制御ファイル、入出力装置、中央処理装置、処理チャンバの夫々から構成されている。前記制御ファイル、入出力装置、中央処理装置および処理チャンバ制御インターフェイスは、制御部を構成する。ここで、制御ファイルは、種々のパターン加工データを格納する。このパターン加工データは、後述するように、制御内容、条件データから構成されている。入力装置は、複数のパターン加工データのうちから、所定のパターン加工データを指定するために設けられている。つまり、処理チャンバ内に搭載する半導体ウェハおよび工程毎に、パターン加工データを変更し、指定する。中央処理装置は、入力装置からの指示に基づき、制御ファイルからパターン加工データを読み込み、この読み込んだパターン加工データに基づいて処理チャンバで処理を制御する。また出力装置は処理チャンバでの処理状況及び入力データの内容を出力する。
【０００４】次に、前記文献に記載されているパターン加工データの構造を説明する。イオンビームを半導体ウェハの指定箇所へ指定量だけ照射するためのデータ構造は、図８に示すように、最小単位を１／１０００（μｍ）として、Ｘ座標、Ｙ座標を連続した６４ビット（ｂｉｔ）を用いて表示することにより構成されている。Ｘ座標、Ｙ座標は、それぞれ３２ビットづつを用いて表示される。
【０００５】なお、図８の第１欄〜第８欄には、特定するためのコードや加工幅、ドーズ量などの加工条件がビット対応で登録されている。このように、前記ＦＩＢ装置のパターン加工データは、データ構造の組合せと処理する半導体ウェハに関する情報から構成されている。前記半導体ウェハに関する情報は、半導体チップのサイズ、半導体チップ上の位置合わせマーク座標などから構成されている。
【０００６】このように、前記したＦＩＢ装置のパターン加工データを構成することにより、半導体集積回路の設計者が必要とする種々のプロセスの処理条件の指定が可能になる。
【０００７】一方、前記のＦＩＢ装置は、オペレータによって操作される。オペレータは、工務計画表に基づいて種々の操作を実行する。この工務計画表には、例えば、各半導体ウェハに対応した処理工程毎に描画すべきパターンデータの種別、処理チャンバ内へ搭載し、所定時刻に描画すべき半導体ウェハの種別などが記載されている。オペレータは送られてきた半導体ウェハの種別、完了した処理工程を判断し、工務計画表に基づいてその段階で必要な処理を入力装置から指定する。
【０００８】また、これらのオペレータの操作、つまり工務計画表の内容を指定や半導体集積回路の専門知識を前提として、各半導体ウェハに対応した処理の条件の指定、イオンビーム装置の調整条件の指定に関しても入力装置から行なう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記文献に記載された従来技術には、以下の問題があることを本発明者は見出した。
【００１０】すなわち、前記のＦＩＢ装置の場合には、入力装置から入力すべき情報は、処理チャンバでの処理に関するものの他に工務計画表の内容を指定や半導体集積回路の専門知識を前提とした各半導体ウェハに対応した処理の条件の指定、イオンビーム装置の調整条件の指定などがある。つまり、装置のオペレータとしては、入力装置を用いて、半導体ウェハ処理のための一定の単純操作だけでなく、場合によっては、種々の専門知識が必要となる。
【００１１】また、前記ＦＩＢ装置は、従来、複数の制御用モニタを備え、その制御のための複雑な操作用入力スイッチを備えている。この装置を複数の人が使う場合、操作エラーを少なくすることが困難になる。特に、特定の操作だけを行うことが多い半導体装置を処理する場合には、操作エラーの要因になる。従来装置のように複雑な操作ができるようにしてあると、オペレータが装置の操作を誤ることが多くなる。半導体装置などの製造装置や検査装置においては、この種の操作エラーは許されないにもかかわらず、発生頻度が比較的高く、重要な課題となっている。すなわち、操作エラーが発生しないようにすることが要求される。
【００１２】そこで、本発明の目的は、操作者の習熟度にかかわらず操作エラーを低減することのできる技術を提供することにある。…
【００１４】
【課題を解決するための手段】本願に於いて開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記の通りである。
【００１５】すなわち、被制御装置を制御するための制御プログラムを格納する制御ファイルと、前記被制御装置の処理状態を出力する出力装置と、前記被制御装置の処理内容を指定する入力装置とを備え、前記制御プログラムに基づいて中央処理装置により前記被制御装置を制御可能な自動処理装置において、その処理状態に対応して異なる内容の表示画面を前記出力装置へ出力する表示手段と、前記各表示画面の内容に対応して設けられる複数種類の操作用入力スイッチと、前記出力装置へ出力される前記表示画面の内容に対応して前記操作用入力スイッチの一部または全部の切り替え或いは変更を行う制御手段とを設けるようにしている。」と記載されている。
　記載２
　発明の詳細な説明【００２０】〜【００２３】段落には、
「【００２０】本実施例の電子線露光装置は、被制御装置（例えば、処理チャンバ）１、制御ファイル２（例えば、集積回路パターンなどのデータ）、中央処理装置（例えば、ワークステーションを用いるが、以下においてはＣＰＵと表記する）３、入出力装置（例えば、入力関係ではキーボードやマウス、出力関係はＣＲＴなどによる表示装置）４、記憶装置５、システムバス６（例えば、イーサバス）、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８（例えば、真空機器、ウェハ台駆動機構などの駆動制御用）、及び通信用Ｉ／Ｏインターフェイス９（専用回線、電話線を通しての外部との通信用）の夫々から構成されている。
【００２１】なお、制御ファイル２、ＣＰＵ３、入出力装置４、記憶装置５、システムバス６、複数の制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８、通信用Ｉ／Ｏインターフェイス９の夫々によって制御部が構成される。制御ファイル２、記憶装置５、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７及び制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８の各々と、ＣＰＵ３とはシステムバス６を介して接続される。また、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８の各々には被制御装置１が接続される。
【００２２】制御ファイル２には、被制御装置１での処理内容を規定する描画データ（パターンデータ、露光位置データ、露光条件データなどを含むデータ）が、複数格納されている。ＣＰＵ３には、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７、システムバス６を介して、入出力装置４からの入力が入力される。このＣＰＵ３は、入出力装置４からの入力に対応して、制御ファイル２からシステムバス６を介して描画データを読み込む。そして、この描画データに基づいて、システムバス６、制御用Ｉ／Ｏインターフェイス８を介して、被制御装置１を制御する。このＣＰＵ３は、被制御装置１での処理状態をシステムバス６、汎用Ｉ／Ｏインターフェイス７を介して、入出力装置４に出力する。入出力装置４に出力される情報は、例えば、ＣＲＴに表示される画像および文字である。従って、オペレータは、この画像および文字情報を認識することにより、被制御装置１での処理状態を確認することができる。また、このＣＰＵ３は、マルチタスク処理が可能であり、被制御装置１を制御しながら、上記の入出力処理を行うことができる。
【００２３】入出力装置４は、例えば、キーボード、マウスなどの入力装置、ＣＲＴなどの出力装置から構成されている。この出力装置には、各表示内容に対応した操作用スイッチがＣＲＴ画面上に設置（表示画面の読み取りに影響を与えないような透明な部材で構成され、その出力が入出力装置４に取り込まれる）されている。また、記憶装置５は、システムバス６を介してＣＰＵ３に接続されている。この記憶装置５には、装置を使う人の習熟度、装置の安定度、半導体ウェハの仕様などに応じて出力画面情報とそれに対応した操作用入力スイッチの一部または全部を切り替える情報が記憶されている。この記憶装置５は、例えば、半導体メモリで構成されている。」と記載されている。
　記載３
　発明の詳細な説明【００２５】段落には、
「【００２５】上記の機能によって、例えば、装置を使う人の習熟度に応じて、その出力画面要素と操作用入力スイッチ要素を３段階程度に分類して分け、装置の操作範囲と出力画面内容を設定し、変更できるようにすることができる。装置を使う人の習熟度が向上するのに応じて、前記の出力画面要素と操作用入力スイッチ要素の組合せを変更することで、操作エラーはなくなる。前記の３段階程度の分類は、装置を使う人について分類した場合、半導体製造ラインのオペレータ、プロセスエンジニア、装置の保守サービスマンに大別することができるからである。前記機能により、夫々に最適な被制御装置１の制御画面と入力スイッチを持つ装置とすることができる。また、前記の３段階程度に分類した出力画面と操作用入力スイッチの内容は、装置のオペレータの習熟度に応じて変え、さらに複雑な操作ができるようにすることができる。」と記載されている。
　記載４
　発明の詳細な説明【００３４】段落には、
「【００３４】図４、図５、図６及び図７は、本発明における電子線露光装置の制御に伴う制御画面の一例を示すものである。制御画面は複数の描画装置の状態を表示する領域と、複数の操作用スイッチ領域とに画面分割してある。」と記載されている。
　記載５
　発明の詳細な説明【００３８】段落には、
「【００３８】入力スイッチ領域は、通常、画面上に表示された矢印をマウスなどの入力デバイスを用い、指定の場所でボタンスイッチを押すことにより操作する。」と記載されている。
　記載６
　発明の詳細な説明【００４９】段落には、
「【００４９】…制御プログラムに基づいて中央処理装置により前記被制御装置を制御可能な自動処理装置において、その処理状態に対応して異なる内容の表示画面を前記出力装置へ出力する表示手段と、前記各表示画面の内容に対応して設けられる複数種類の操作用入力スイッチと、前記出力装置へ出力される前記表示画面の内容に対応して前記操作用入力スイッチの一部または全部の切り替え或いは変更を行う制御手段とを設けるようにした」と記載されている。
３．本件請求項１に係る発明と引用例との対比
３．１　引用例１の記載２を参照すると、引用例１記載の発明は、パターンをウエハ上に露光する露光装置の発明である。
　また、引用例１の記載１及び３を参照すると、引用例１記載の発明は、露光動作を制御する制御部を有し、制御部とオペレータとの間で情報の授受を行うために利用される、キーボード、マウスなどの入力装置、ＣＲＴなどの出力装置から構成されている入出力装置４を有している。
３．２　上記入出力装置４のＣＲＴは、記載４を考慮すると、制御画面を有しており、当該制御画面は、複数の描画装置の状態を表示する領域と、複数の操作用スイッチ領域とに画面分割してあるものである。
３．３　当該複数の描画装置の状態表示は、記載１の【００１５】段落の「その処理状態に対応して異なる内容の表示画面を前記出力装置へ出力する表示手段」、第４〜６図及び記載３の「装置を使う人について分類した場合、半導体製造ラインのオペレータ…に大別することができる…。前記機能により、夫々に最適な被制御装置１の制御画面と入力スイッチを持つ装置とすることができる。」との記載を参照すると、露光の制御画面を表示していると認められ、また、当該複数の描画装置の状態表示は、記載３の「装置を使う人について分類した場合、…装置の保守サービスマンに大別することができる…。前記機能により、夫々に最適な被制御装置１の制御画面と入力スイッチを持つ装置とすることができる。」との記載を参照すると、メンテナンスの制御画面を表示していると認められ、制御画面を切り替えることができると認められる。
３．４　記載４によれば、「制御画面は複数の描画装置の状態を表示する領域と、複数の操作用スイッチ領域とに画面分割してある」ものであり、記載５によれば、「入力スイッチ領域は、通常、画面上に表示された矢印をマウスなどの入力デバイスを用い、指定の場所でボタンスイッチを押すことにより操作する」と記載され、記載４の操作用スイッチは、記載５のボタンスイッチからなる入力スイッチを意味すると認められる。
３．５　そうすると、引用例１記載の「制御部」、「制御画面」及び「複数の操作用スイッチ領域」は、それぞれ、本件請求項１に係る発明の「制御手段」、「ディスプレイ」及び「複数のボタンを表示するボタン表示領域」に相当する。
　また、上記３．２及び３．３によれば、引用例１記載の「制御画面」は、「露光レイアウトやメンテナンス用ウインドウを切り替え表示する領域」を有すると認められる。
　さらに、引用例１記載の「指定の場所でボタンスイッチを押すこと」は、本件請求項１に係る発明の「ポインティング操作」に相当する。
　また、３．２及び３．４を参照すると、引用例１記載の発明は、露光やメンテナンス用画面を切り替え表示する領域とは別に、複数の操作用スイッチ領域を有するものである。
３．６　本件請求項１に係る発明と、引用例１に記載された発明とを対比すると、両者は、ウエハ上に露光する露光装置の露光動作を制御する制御手段と、前記制御手段とオペレータとの間で情報の授受を行うために利用されているディスプレイとを有し、
　前記ディスプレイは、露光レイアウトやメンテナンス用ウインドウを切り替え表示する領域とは別に、ポインティング操作により前記制御手段に指令を与えるための複数のボタンを表示するボタン表示領域を有する点において一致し、本件請求項１に係る発明が、レチクル上のパターンを投影レンズを介してウエハ上に投影露光するのに対し、引用例１記載の発明では、ウエハに対して集束イオンビーム露光する点において相違（以下、「相違点１」という。）し、また、本件請求項１に係る発明が、ボタン表示領域に表示される少なくとも１つのボタンには、前記露光装置の露光動作シーケンスが待機状態にある時は、前記制御手段に前記露光装置の露光動作を開始させる指令を与えることが表示され、前記露光装置の露光動作シーケンスが稼働状態にある時は、前記制御手段に前記露光装置の露光動作を中断させる指令を与えることが表示されるのに対し、引用例１ではこの記載がない点で相違（以下、「相違点２」という。）する。
　相違点１については、投影レンズによる露光法と、集束イオンビームによる露光法は、何れもウエハに対する露光法として周知手段であるから、集束イオンビーム露光に用いる手段を投影レンズによる露光法に適用することに何ら困難性は認められない。
　したがって、相違点１に特に意義は認められない。
　相違点２について検討すると、操作時にオペレータにいかなる操作を許可するかは、誤動作防止の観点から、引用例１（引用例１の記載３参照）にみられるように単なる設計上の事項であり、また、ある動作後、次段動作内容のみを表示して操作可能にすることは周知手段（要すれば実願昭５９−１１７３７１号（実開昭６１−３３３２１号公報）のマイクロフィルム参照）でもあるから、相違点２については、引用例１に記載された発明に対し、上記設計上の判断事項を考慮し、単に、上記周知手段を適用した程度のことであり、何ら困難性なく想到できたことである。
　したがって、相違点２に特に意義は認められない。
　また、本願請求項１に係る発明の効果も、引用例１及び周知手段から予測される程度のものにすぎない。
４．むすび
　従って、本願請求項１に係る発明は、引用例１及び周知手段に基づいて、容易に発明をすることができたものと認められるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　よって、結論のとおり審決する。