【事件の表示】
　平成　６年特許願第　６０４３２号「高温脱硝装置」拒絶査定に対する審判事件［平成　７年１０月１７日出願公開、特開平　７−２６５６６６］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．本願発明
　本願は、平成６年３月３０日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１４年７月４日付け手続補正書により補正された明細書及び図面からみて、その特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という）は、請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】５００℃以上の窒素酸化物を含む排ガスをアンモニアの存在下に脱硝触媒と接触させて脱硝処理する選択的接触還元脱硝装置であって、脱硝装置内に配設する触媒層を多段に設け、アンモニアの注入点を触媒層の上流と多段触媒層の間に配置してなることを特徴とする高温脱硝装置。」
２．引用文献
　これに対して、原査定の拒絶の理由で引用された引用文献には、次の事項が記載されている。
（１）引用例１：特開昭５３−６６８６８号公報：拒絶理由通知の引用文献１
（ａ）「１．窒素酸化物を含有する燃焼排ガス中に、アンモニア、アミン類、及びアミド類から選定された還元剤を注入し、触媒と接触させて窒素酸化物を還元分解する脱硝装置において、触媒層を排ガスの流れ方向に複数段に分割して設置し、かつ前記還元剤を注入する装置を各触媒層ごとに分割して設置したことを特徴とする窒素酸化物の接触還元脱硝装置。」（特許請求の範囲第１項）
（ｂ）「５．還元剤がアンモニアであり、触媒がチタン系触媒であって、かつ排ガス温度が２５０℃〜４５０℃である範囲に触媒層を設置したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の接触還元脱硝装置。」（特許請求の範囲第５項）
（ｃ）「また各段に注入する還元剤の注入量は、各段における脱硝率と還元剤注入量の関係、および脱硝プラントに要求される脱硝率の関係から、還元剤消費量が最少となる如く調整して注入することとなる。」（第４頁右下欄第８〜１２行）
（ｄ）「第６図は本発明をガスタービンの排ガス処理に採用した例であり、１７は圧縮機、１８は燃焼器、１９はガスタービン、２０は本発明による脱硝装置を内装した排気ダクトである。この場合、排気ダクト２０におけるガス温度は普通の発電用ガスタービンで４５０℃〜５５０℃であるから、尿素又はアンモニア脱硝方式を採用する。ガスタービン１９を出た排ガス７は１５％程度の高濃度の酸素を含有しているが、この脱硝装置は還元剤が選択的にＮＯｘと反応するので、酸素濃度の影響はほとんどない。」（第５頁左上欄第第１４行〜右上欄第４行）
（ｅ）「従来の脱硝装置に比較して脱硝率が向上し、かつ還元剤消費量が低減するので、経済的かつ高性能の脱硝装置を提供することが可能となる。」（第５頁右上欄第１８行〜左下欄第１行）
（ｆ）第６頁第６図には、ガスタービン１９からの排ガスは排気ダクト２０に導入され、該ダクト中で、排ガス７は、還元剤注入ノズル６ａ、触媒層２ａ、還元剤注入ノズル６ｂ、触媒層２ｂを通過することが記載されている。
（２）引用例２：実願平３−２６８９４号（実開平４−１２２６３３号）のマイクロフィルム：拒絶理由通知の引用文献２
（ａ）「４００〜６５０ ℃の燃焼排気ガスが通る通路の上流側にアンモニア等の還元剤を注入する還元剤注入部を設け、下流側に触媒層から成る反応器を設けた乾式排煙脱硝装置において、上記還元剤注入部と反応器を接続するダクトをステンレス鋼で成形したことを特徴とする排煙脱硝装置。」（請求項１）
（ｂ）「ところで、燃焼排気ガス温度が ４００〜６５０℃といった比較的高い温度になると、脱硝反応以外にアンモニアの酸化、分解反応が進行し、脱硝反応率が低下することになる。・・・そのため、還元剤注入部の上流側に熱交換器を設けて燃焼排気ガス温度を低下させてアンモニアの酸化、分解反応を抑制することも考えられるが、その場合、装置が大型化したり、製造コストが高くなるといった問題が生じてくる。」（第３頁第２１行〜第４頁第１行）
（３）引用例３：特開平２−２５９２２３号公報：拒絶理由通知の引用文献３
（ａ）「約３００〜６００℃の温度範囲で脱硝反応を行う請求項１記載の排ガス脱硝方法。」（請求項２）　
（ｂ）「第５図においてディーゼルエンジン１で発生した排ガスはライン１１を経て、脱硝反応器２に送られる。排ガスライン１１にアンモニアタンク６１からバルブ６２を介してアンモニアが供給される。脱硝反応器２において窒素酸化物がアンモニアで還元され窒素にされた後、ライン２２を経て消音器３に送られ、消音ライン２３より大気に放出される。」（第２頁右上欄第７〜１３行）
３．対比・判断
  引用例１の第６図の装置については、上記（１）（ｆ）のとおり「ガスタービンからの排ガスは排気ダクトに導入され、該ダクト中で、排ガスは、還元剤注入ノズル６ａ、触媒層２ａ、還元剤注入ノズル６ｂ、触媒層２ｂを通過する」ことが記載されていると云える。
　ここで、上記「ダクト」は、上記（１）（ａ）の記載からみて、「還元剤を注入し、触媒と接触させて窒素酸化物を還元分解する脱硝装置」と云える。また、第６図の装置について、上記（１）（ｄ）には、「排気ダクト２０におけるガス温度は普通の発電用ガスタービンで４５０℃〜５５０℃であるから、尿素又はアンモニア脱硝方式を採用する。」と記載されているところから、排ガスの温度が「４５０℃〜５５０℃」であることや、還元剤として「アンモニア」を採用することが記載されていると云える。
　これら記載事項を本願発明の記載ぶりに則って整理すると、引用例１には、「４５０℃〜５５０℃のガスタービンからの排ガスにアンモニアを注入し、触媒と接触させて窒素酸化物を還元分解する脱硝装置であって、ダクト内に触媒層２ａと触媒層２ｂを設け、アンモニアの注入ノズルを触媒層２ａの上流と、触媒層２ａと触媒層２ｂの間に配置してなる脱硝装置」という発明（以下、「引用例１発明」という）が記載されていると云える。
  そこで、本願発明と引用例１発明とを対比すると、引用例１発明の「ガスタービンからの排ガス」、「脱硝装置」は、本願発明の「窒素酸化物を含む排ガス」、「選択的接触還元脱硝装置」にそれぞれ相当し、また、引用例１の「脱硝装置」も「４５０℃〜５５０℃」の排ガスを取り扱うのであるから「高温脱硝装置」であると云え、また引用例１発明もダクト内で触媒層が連設されていることから、「多段触媒層」となっていると云え、その際、アンモニアの注入ノズルの位置からみて、引用例１発明においても「脱硝装置内に配設する触媒層を多段に設け、アンモニアの注入点を触媒層の上流と多段触媒層の間に配置」していると云える。
　してみると、両者は「窒素酸化物を含む排ガスをアンモニアの存在下に脱硝触媒と接触させて脱硝処理する選択的接触還元脱硝装置であって、脱硝装置内に配設する触媒層を多段に設け、アンモニアの注入点を触媒層の上流と多段触媒層の間に配置してなることを特徴とする高温脱硝装置。」という点で一致し、次の点が相違していると云える。
相違点：本願発明では、窒素酸化物を含む排ガスが「５００℃以上」であるのに対して、引用例１発明では、「４５０℃〜５５０℃」である点
　次に、この相違点について検討する。
  先ず、引用例１の上記（１）（ｂ）に「還元剤がアンモニアであり、触媒がチタン系触媒であって、かつ排ガス温度が２５０℃〜４５０℃である範囲に触媒層を設置」するという記載があることから、請求人は、還元剤がアンモニアの場合、引用例１は排ガス温度２５０℃〜４５０℃の領域を想定していることを主張している（請求人提出平成１４年１０月７日付け手続補正書第４頁第１１〜１４行）。
  しかしながら、上述したように上記（１）（ｄ）に「アンモニア脱硝方式」、「４５０℃〜５５０℃」の記載があるということは、アンモニアを採用する場合の排ガス温度が４５０℃以上の場合を想定しているのは明らかであるから、上記（１）（ｂ）の「２５０℃〜４５０℃」の記載は、アンモニアを採用した場合の排ガス温度の最適な温度範囲を示した記載にすぎないと云え、４５０℃以上の温度では脱硝剤としてアンモニアを採用できないと云ういわゆる阻害要件を記載したものであるとまでは云うことはできない。
  この前提の上に立って、上記相違点を検討すると、窒素酸化物を含む排ガスをアンモニアの存在下に脱硝触媒と接触させて脱硝処理する選択的接触還元脱硝技術において、従来、５００℃以上では脱硝処理を行ってこなっかたと云うことならばともかく、５００℃以上の排ガス温度で脱硝処理することは普通に行われてきたことであるから（必要ならば、引用例２、３、特開平３−１７４２２３号公報参照）、刊行物１発明において、５００℃以上の排ガスを脱硝処理することは、当業者が容易に想到し得ることであると云える。
　そして、引用例１に記載された「脱硝率の向上」、「還元剤消費量が低減」等の効果からみて（上記（１）（ｅ））、本願発明の効果は予測される範囲を出るものとは云えない。
　したがって、本願発明は、引用例１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
４．むすび
　したがって、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
  よって、上記結論のとおり審決する。