(57)【要約】【課題】シール性を向上させることにより外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる液体ワイピング装置を提供すること。【解決手段】下端が溶融金属めっき浴５に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なる無酸化ガスＧで充満されるシールボックス８を溶融金属めっき浴５に浸漬された後引き上げられた鋼板Ｓを囲むように形成し、シールボックス８から排出された鋼板Ｓを挟んで鋼板Ｓの厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズル２５ａ，２５ｂを開口部９の出側において搬送方向に多段に設け、鋼板Ｓに向けて外部雰囲気とは異なる無酸化ガスＧをノズル２５ａ，２５ｂから噴射させてめっき液Ｍをワイピングするようにした。【選択図】図２
2007138208.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下端が液体浴に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴に浸漬された後引き上げられた帯板を囲むように形成し、
前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする液体ワイピング装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする液体ワイピング装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする液体ワイピング装置。
【請求項４】
内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴の上方に配置し、
液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする液体ワイピング装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の液体ワイピング装置において、
前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設ける
ことを特徴とする液体ワイピング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体ワイピング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、鋼板の製造ラインには、圧延工程、酸洗工程、焼鈍工程等の後に、鋼板の表面にめっきを施すめっき工程が設けられている。このめっき工程においては、溶融金属めっき浴中に、その上方から鋼板を連続的に浸漬させた後、更に、鋼板を溶融金属めっき浴内に設けられたシンクロールにより上向きに方向転換させて引き上げ、この上昇過程においてワイピングすることによりめっきが施される。そして、このワイピング時に用いられるのが液体ワイピング装置である。
【０００３】
液体ワイピング装置は、溶融金属めっき浴から連続的に引き上げられた鋼板を、対向する一対のワイパー（ノズル）間に通板させると共に、高圧の無酸化ガスを噴射させてワイピングすることにより、鋼板の表面に付着しためっき液の余剰分を掻き取り、めっき層の膜厚を調整するものである。そして、溶融金属めっき浴の表面からワイピング点までは不活性雰囲気で保たれており、これにより、めっき液の酸化を防止している。
【０００４】
このような、従来の液体ワイピング装置は、例えば、特許文献１に開示されている。
【０００５】
【特許文献１】実公平８−３５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の液体ワイピング装置においては、ワイパーの据付精度が悪いとノズル同士が対向しなくなるので、無酸化ガスを噴射すると、鋼板の無酸化ガスが衝突した付近では負圧になり易く、特に、鋼板の両端側においてはシール性が低下してしまう。これにより、ノズルから噴射された無酸化ガスが鋼板に衝突した後、鋼板の搬送方向に沿って流れると、この流れとは逆に大気が侵入して、不活性雰囲気の濃度が低下してしまい、酸化物が発生し付着する、即ち、鋼板の品質に影響を与えるおそれがある。
【０００７】
従って、本発明は上記課題を解決するものであって、シール性を向上させることにより外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる液体ワイピング装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する第１の発明に係る液体ワイピング装置は、
下端が液体浴に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴に浸漬された後引き上げられた帯板を囲むように形成し、
前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする。
【０００９】
上記課題を解決する第２の発明に係る液体ワイピング装置は、
第１の発明に係る液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする。
【００１０】
上記課題を解決する第３の発明に係る液体ワイピング装置は、
第１の発明に係る液体ワイピング装置において、
前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させる
ことを特徴とする。
【００１１】
上記課題を解決する第４の発明に係る液体ワイピング装置は、
内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴の上方に配置し、
液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、
前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングする
ことを特徴とする。
【００１２】
上記課題を解決する第５の発明に係る液体ワイピング装置は、
第１乃至４のいずれかの発明に係る液体ワイピング装置において、
前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設ける
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
第１の発明に係る液体ワイピング装置によれば、下端が液体浴に浸漬されることによりその内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴に浸漬された後引き上げられた帯板を囲むように形成し、前記シールボックスから排出された前記帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの開口部出側において搬送方向に多段に設け、前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングすることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる。
【００１４】
第２の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第１の発明に係る液体ワイピング装置において、前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去してから前処理工程の雰囲気ガスとして利用する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させて前記ノズルから噴射させることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができ、且つ、熱回収とガスの有効利用とによりランニングコストを低減させることができる。
【００１５】
第３の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第１の発明に係る液体ワイピング装置において、前記シールボックスに流れ込んだ前記ノズルから噴射されたガスを冷却し液体の気化成分を除去する一方、前記ガスの冷却時において奪った熱を新たに供給されるガスに伝達させ、伝熱された前記ガスを気化成分が除去された前記ガスと共に前記ノズルから噴射させることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができ、且つ、熱回収とガスの再利用とによりランニングコストを低減させることができる。
【００１６】
第４の発明に係る液体ワイピング装置によれば、内部が外部雰囲気とは異なるガスで充満されるシールボックスを液体浴の上方に配置し、液体浴に浸漬された後引き上げられる帯板を挟んで前記帯板の厚さに応じて接近離間するように対向配置される一対のノズルを前記シールボックスの搬入口入側において搬送方向に多段に設け、前記帯板に向けて外部雰囲気とは異なるガスを前記ノズルから噴射させて液体をワイピングすることにより、シール性を向上させることができるので、前記シールボックス内への外部雰囲気の侵入を確実に防止することができる。
【００１７】
第５の発明に係る液体ワイピング装置によれば、第１乃至４のいずれかの発明に係る液体ワイピング装置において、前記一対のノズル間において前記帯板の板幅に応じて接近離間する側面シールブロックを設けることにより、前記帯板の両端側においてもシール性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明に係る液体ワイピング装置を図面を用いて詳細に説明する。図１は本発明の第１実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図、図２は液体ワイピング装置の概略断面図、図３は図２の平断面図、図４は本発明の第２実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図、図５は本発明の第３実施例に係る液体ワイピング装置を備えた塗装設備の概略断面図、図６は本発明の第４実施例に係る液体ワイピング装置を備えた焼鈍炉の概略断面図である。
【実施例１】
【００１９】
先ず、図１乃至３を用いて本発明の第１実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備について説明する。
【００２０】
図１に示すように、鋼板Ｓは焼鈍炉１から溶融金属めっき設備２に連続的に供給されている。焼鈍炉１内には搬送ロール３が回転可能に設けられており、この搬送ロール３の回転方向下流側に搬送通路４が形成されている。そして、搬送通路４が溶融金属めっき設備２の溶融金属めっき浴５内と連通されることにより、焼鈍炉１内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の無酸化ガスＧが充満され不活性雰囲気に保たれている。
【００２１】
一方、溶融金属めっき設備２の下部には、めっき液Ｍが貯溜される溶融金属めっき浴５が設けられている。この溶融金属めっき浴５内には、搬送される鋼板Ｓを略鉛直方向上方に搬送させるシンクロール６と、このシンクロール６から搬送される鋼板Ｓを矯正して溶融金属めっき装置２の上方へ搬送させる上下一対の矯正ロール７とが回転可能に設けられている。
【００２２】
また、溶融金属めっき浴５の上方にはシールボックス８が設けられている。このシールボックス８の下端は溶融金属めっき浴５に浸漬されており、これにより、シールボックス８内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の無酸化ガスＧが充満され不活性雰囲気に保たれている。そして、シールボックス８の上面には開口部９が開口される一方、その側壁には排気口１０が形成されている。
【００２３】
更に、シールボックス８の上部にはシール材１１を介して液体ワイピング装置１２が設けられている。この液体ワイピング装置１２は騒音低減ケーシング１３で覆われており、騒音低減ケーシング１３の上面には開口部１４が開口されている。この開口部１４の上方には、搬送される鋼板Ｓを挟んで対向するように配置される一対の制振装置１５が設けられている。
【００２４】
そして、排気口１０は気化金属成分除去手段１６を介して焼鈍炉１内に連通している。一方、液体ワイピング装置１２は気化金属成分除去手段１６と加熱手段１７とを介してワイピングガス供給装置１８に連通されている。
【００２５】
次に、図２，３を用いて液体ワイピング装置１２を詳細に説明する。図２、３に示すように、液体ワイピング装置１２は一対のワイパー２１と、一対の側面シールブロック２２とから構成されている。ワイパー２１は、鋼板Ｓの厚さ方向において対向すると共に、互いに接近離間するように移動可能に支持されている。一方、側面シールブロック２２は、鋼板Ｓの板幅方向において対向すると共に、互いに接近離間するように移動可能に支持されている。つまり、ワイパー２１及び側面シールブロック２２は、鋼板Ｓの板厚（めっきの膜厚）及び板幅に応じてシール材１１上を移動できる。なお、図３に示す矢印は、ワイパー２１及び側面シールブロック２２の移動方向を示している。
【００２６】
ワイパー２１は、シール材１１の上部に配置され、且つ鋼板Ｓの厚さ方向において対向する一対のケーシング２３を備えており、このケーシング２３内には板幅方向に延設するチャンバ２４が形成されている。このチャンバ２４は、上述したワイピングガス供給装置１８と気化金属成分除去手段１６及び加熱手段１７を介して接続されている。そして、チャンバ２４の内側（鋼板Ｓ側）には板幅以上に延設する上スリットノズル２５ａ及び下スリットノズル２５ｂが形成されている。
【００２７】
従って、上述した構成をなすことにより、焼鈍炉１内に搬送された鋼板Ｓは不活性雰囲気中で焼鈍された後、搬送ロール３の回転により搬送通路４を通り溶融金属めっき浴５内に搬送される。そして、溶融金属めっき浴５内に搬送された鋼板Ｓは、シンクロール６により略鉛直方向上方に引き上げられると共に、その表面にめっき液Ｍが付着された後、矯正ロール７間で矯正される。次いで、めっき液Ｍが付着された鋼板Ｓは、開口部９からワイパー２１間及び側面シールブロック２２間に搬送され、スリットノズル２５ａ，２５ｂから噴射される無酸化ガスＧによりワイピングされることで、余剰に付着されためっき液Ｍが掻き取られ、所定の膜厚のめっきが施される。このとき、ワイパー２１及び側面シールブロック２２は、鋼板Ｓの搬送速度，板厚，板幅及びめっき膜厚等に応じて、予め所定の位置に配置されている。その後、めっきが施された鋼板Ｓは、開口部１４から排出され次工程へ搬送される。
【００２８】
なお、ワイピング時においては、無酸化ガスＧの噴射による風切り音が発生するが、液体ワイピング装置１２は騒音低減ケーシング１３で覆われているので、これらの騒音は外部に漏れることがない。また、搬送時においては、焼鈍、めっき及びワイピングにより鋼板Ｓに振動が発生するが、制振装置１５によりその振動が低減されている。しかも、制振装置１５は溶融金属めっき設備２（液体ワイピング装置１２）の出側直後、即ち、次工程の入側直前に設けられているので、振動によって次工程での作業を阻害することはない。
【００２９】
次に、ワイピング時における無酸化ガスＧの噴き付け及び循環について説明する。ワイピングガス供給装置１８により圧送された無酸化ガスＧは、後述する気化金属成分除去手段１６を通過することにより熱が伝達され、更に加熱手段１７を通過することにより所定の温度に加熱される。そして、加熱された無酸化ガスＧは、ワイパー２１のチャンバ２４内に供給され、スリットノズル２５ａ，２５ｂから鋼板Ｓに向けて噴射される。スリットノズル２５ａ，２５ｂから噴射された無酸化ガスＧは鋼板Ｓに衝突した後、鋼板Ｓに沿って上向き及び下向きに流される。
【００３０】
ここで、上スリットノズル２５ａから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧは、搬送される鋼板Ｓと共に開口部１４から排出される。一方、下スリット２５ｂから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧは、シールボックス８内に流れ込み、シールボックス８内を不活性雰囲気に保持する。また、上スリットノズル２５ａから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧと、下スリットノズル２５ｂから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧとは、鋼板Ｓとワイパー２１とに囲まれた空間に流れ込み、その空間において静圧を生じさせ、静圧保持部Ｐを形成させる。この静圧保持部Ｐは、溶融金属めっき設備２の外部雰囲気である大気とシールボックス８内との圧力よりも高くなるので、開口部１４からの大気の侵入と、開口部９からの無酸化ガスＧの排出とを防止している。
【００３１】
つまり、上スリットノズル２５ａから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧにより大気をシールすると共に、下スリットノズル２５ｂから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧによりめっき液Ｍのワイピングを行う。一方、上スリットノズル２５ａから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧと、下スリットノズル２５ｂから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧとにより、静圧保持部Ｐを形成させ、シール性を向上させている。これにより、大気の侵入を防止でき、溶融金属めっき浴５の浴面からワイピング点までが不活性雰囲気で保たれるので、めっき液Ｍの酸化が防止される。
【００３２】
また、鋼板Ｓの板幅に応じて側面シールブロック２２を配置させているので、鋼板Ｓの両端と側面シールブロック２２とに囲まれた空間にも静圧保持部Ｐを形成することができ、鋼板Ｓの両側方のシール性も向上される。
【００３３】
そして、シールボックス８内に流れ込んだ無酸化ガスＧは排気口１０から排気され、気化金属成分除去手段１６を通り焼鈍炉１内に供給される。このとき、排気された無酸化ガスＧ中には、溶融金属めっき浴５（めっき液Ｍ）の一部が気化した成分が含まれている。そこで、気化金属成分除去手段１６において、排気された無酸化ガスＧをめっき液Ｍの沸点以下に冷却することにより、めっき液Ｍの気化した成分を固体にして除去する。これにより、清浄された無酸化ガスＧを焼鈍炉１内に供給することができるので、焼鈍炉１内がめっき液Ｍの気化した成分で汚染されることがない。
【００３４】
更に、気化金属成分除去手段１６において、排気された無酸化ガスＧから奪った熱は、ワイピングガス供給装置１８から圧送される無酸化ガスＧに伝えられる。これにより、加熱手段１７の負荷が低減される。
【００３５】
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス８の開口部９の出側において、ワイパー２１及び側面シールブロック２２を備え、搬送方向にスリットノズル２５ａ，２５ｂを設けて静圧保持部Ｐを形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、開口部１４からの大気の侵入と、開口部９からの無酸化ガスＧの排出とを防止することができる。また、鋼板Ｓの両側方に側面シールブロック２２を備えているので、鋼板Ｓの両端側においてもシール性を向上させることができる。しかも、ワイピングとシールとを同時に行うことができるので、例えば、従来の液体ワイピング装置のように、シールボックスにシール専用のノズルを設ける必要がなくなるので、簡素な構成とすることができる。
【００３６】
更には、排気された無酸化ガスＧを清浄にして焼鈍炉１に供給することにより、ワイピングガス用の無酸化ガスＧを焼鈍用のガスと兼用に使用できるので、鋼板Ｓの製造ライン全体を簡素な構成にするだけでなく、無酸化ガスＧの消費を抑制させることができる。そして、排気された無酸化ガスＧの清浄時に発生する熱を、新たに供給する無酸化ガスＧに伝熱させているので、加熱手段１７の負荷を低減させることができる。
【実施例２】
【００３７】
図４を用いて本発明の第２実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備について説明する。なお、第１実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。
【００３８】
図４に示すように、鋼板Ｓは焼鈍炉１から溶融金属めっき設備３１に連続的に共有されている。溶融金属めっき浴５には、搬送される鋼板Ｓを略鉛直方向上方に搬送させる浸漬ロール３２が回転可能に設けられている。浸漬ロール３２は図示しない軸受により支持されており、この軸受は溶融金属めっき浴５の上方に設けられている。また、シールボックス８の開口部９の出側には、搬送される鋼板Ｓを挟んで一対のブレード３３が設けられている。このブレード３３は鋼板Ｓとの間で所定の角度を有して支持されている。
【００３９】
更に、液体ワイピング装置１２は保温材３４で覆われており、この保温材３４の上面には開口部３５が開口されている。ワイパー２１にはスリットノズル２５ａ，２５ｂ間に中間スリットノズル２５ｃが形成されている。そして、加熱手段１７とワイピングガス供給装置１８との間には昇圧手段３６が設けられており、排気口１０は気化金属成分除去手段１６を介してワイピングガス供給装置１８と、この昇圧手段３６の上流側に接続されている。
【００４０】
従って、上述した構成をなすことにより、溶融金属めっき浴５内に搬送された鋼板Ｓは、浸漬ロール３２により略鉛直方向上方に引き上げられると共に、その表面にめっき液Ｍが付着される。そして、鋼板Ｓがブレード３３間に搬送されることにより、その表面の余剰なめっき液Ｍが一次的に削ぎ取られる（ワイピング）。次いで、一次的にワイピングされた鋼板Ｓは、開口部９からワイパー２１間及び側面シールブロック２２間に搬送される。ここで、更に、スリットノズル２５ａ，２５ｂ，２５ｃから噴射される無酸化ガスＧにより二次的にワイピングされることで、余剰に付着されためっき液Ｍが掻き取られ、所定の膜厚のめっきが施される。なお、浸漬ロール３２の軸受を溶融金属めっき浴５外に設置しているので、軸受の劣化を抑制させている。
【００４１】
そして、ワイピングガス供給装置１８により圧送された無酸化ガスＧは、気化金属成分除去手段１６を通過することにより熱が伝達され、また昇圧手段３６を通過することにより昇圧され、更に加熱手段１７を通過することにより所定の温度に加熱される。そして、昇圧及び加熱された無酸化ガスＧは、ワイパー２１のチャンバ２４内に供給されるが、ワイパー２１は保温材３４で覆われているので、供給された無酸化ガスＧの温度は殆ど低下することがない。そして、無酸化ガスＧは、スリットノズル２５ａ，２５ｂ，２５ｃから鋼板Ｓに向けて噴射されて衝突した後、鋼板Ｓに沿って上向き及び下向きに流される。
【００４２】
ここで、上スリットノズル２５ａから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧは、搬送される鋼板Ｓと共に開口部１４から排出される。一方、下スリット２５ｂから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧは、シールボックス８内に流れ込み、シールボックス８内を不活性雰囲気に保持する。また、中間スリットノズル２６ｃから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧは、上スリットノズル２５ａから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧと共に静圧を生じさせ、静圧保持部Ｐ１を形成させる。一方、中間スリットノズル２６ｃから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧは、下スリットノズル２５ｂから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧと共に静圧を生じさせ、静圧保持部Ｐ２を形成させる。これにより、開口部３５からの大気の侵入と、開口部９からの無酸化ガスＧの排出とを防止している。
【００４３】
つまり、上スリットノズル２５ａから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧにより大気をシールすると共に、下スリットノズル２５ｂから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧによりめっき液Ｍのワイピングを行う。一方、上スリットノズル２５ａから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧと、中間スリットノズル２５ｃから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧとにより静圧保持部Ｐ１を形成させると共に、中間スリットノズル２５ｃから噴射されて下向きに流れた無酸化ガスＧと、下スリットノズル２５ｂから噴射されて上向きに流れた無酸化ガスＧとにより静圧保持部Ｐ２を形成させることにより、シール性を向上させている。これにより、大気の侵入を防止でき、溶融金属めっき浴５の浴面からワイピング点までが不活性雰囲気で保たれるので、めっき液Ｍの酸化が防止される。
【００４４】
また、鋼板Ｓの板幅に応じて側面シールブロック２２を配置させているので、鋼板Ｓの両端と側面シールブロック２２とに囲まれた空間にも静圧保持部Ｐを形成することができ、鋼板Ｓの両側方のシール性も向上される。
【００４５】
そして、シールボックス８内に流れ込んだ無酸化ガスＧは排気口１０から排気され、気化金属成分除去手段１６を通ることで清浄にされ、ワイピングガス供給装置１８の下流側に供給される。一方、ワイピングガス供給装置１８から圧送された無酸化ガスＧは、気化金属成分除去手段１６を通ることで伝熱され、清浄にされた無酸化ガスＧと合流する。次いで、合流した無酸化ガスＧは昇圧及び加熱されて、スリットノズル２５ａ，２５ｂ，２５ｃから噴射される。
【００４６】
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス８の開口部９の出側において、ワイパー２１及び側面シールブロック２２を備え、搬送方向にスリットノズル２５ａ，２５ｂ，２５ｃを設けて静圧保持部Ｐ１，Ｐ２を形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、開口部３５からの大気の侵入と、開口部９からの無酸化ガスＧの排出とを防止することができる。また、鋼板Ｓの両側方に側面シールブロック２２を備えているので、鋼板Ｓの両端側においてもシール性を向上させることができる。
【００４７】
更に、排気口１０をワイピングガス供給装置１８の下流側に接続させているので、排気した無酸化ガスＧを循環させて利用する共に、開口部３５から排出した分だけ、無酸化ガスＧをワイピングガス供給装置１８から供給すればよいので、鋼板Ｓの製造ライン全体を簡素な構成にするだけでなく、無酸化ガスＧの消費を抑制させることができる。これにより、ワイピングガス供給装置１８の負荷を低減させることができる。また、ワイピングガス供給装置１８から供給される無酸化ガスＧにより、循環する無酸化ガスＧの温度が低下されるので、昇圧手段３６の負荷を低減させることができる。
【００４８】
なお、本実施例においては、スリットノズル２５ａ，２５ｂ，２５ｃを３段する構成にしたが、４段以上に構成して、静圧保持部Ｐを多段に形成させるようにしても構わない。
【実施例３】
【００４９】
図５を用いて本発明の第３実施例に係る液体ワイピング装置を備えた塗装設備について説明する。なお、第１実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。
【００５０】
図５に示す塗装設備４１は有害な塗料Ｎを用いて連続的に搬送される鋼板Ｓを塗装する装置である。塗装設備４１の下部には塗料Ｎが貯溜される塗料浴４２が設けられており、この塗料浴４２の上部にはシールボックス８と液体ワイピング装置１２が設けられている。そして、チャンバ２４には加圧手段４３が接続され、排気口１０は後処理設備４４に接続されている。
【００５１】
従って、上述した構成をなすことにより、塗料浴４２内に搬送された鋼板Ｓは略鉛直方向上方に引き上げられることにより、その表面に塗料Ｎが付着される。そして、塗料が付着した鋼板Ｓはワイパー２１間及び側面シールブロック２２（図３参照）間に搬送される。このとき、加圧手段４３により昇圧及び昇温されたガスＡが圧送され、スリットノズル２５ａ，２５ｂからこのガスＡが噴射されることにより、余剰に付着された塗料Ｎが掻き取られ、所定の膜厚で塗装される。また、上述したように上スリットノズル２５ａから噴射されて下向きに流れたガスＡと、下スリットノズル２５ｂから噴射されて上向きに流れたガスＡとにより静圧保持部Ｐが形成されるので、シール性が向上される。
【００５２】
そして、シールボックス８内に流れ込んだガスＡは排気口１０から排気される。このとき、排気されたガスＡ中には塗料浴５（塗料Ｎ）の一部が気化した有害成分が含まれているので、後処理設備４４においてこの有害成分が除去される。
【００５３】
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、シールボックス８の開口部９の出側において、ワイパー２１及び側面シールブロック２２を備え、搬送方向にスリットノズル２５ａ，２５ｂを設けて静圧保持部Ｐを形成させることにより、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、ワイパー２１間からの大気の侵入と、開口部９からの無酸化ガスＧの排出とを防止することができる。また、鋼板Ｓの両側方に側面シールブロック２２を備えているので、鋼板Ｓの両端側においてもシール性を向上させることができる。
【００５４】
なお、本実施例においては液体ワイピング装置１２を塗装設備４１に適用したが、例えば、有害な化成処理液を用いて連続的に搬送される鋼板を化成処理する化成処理装置に適用しても構わない。
【実施例４】
【００５５】
図６を用いて本発明の第４実施例に係る液体ワイピング装置を備えた焼鈍炉について説明する。なお、第１実施例において説明したものと同様の機能を有する部材には同一の符号を付して説明を省略する。
【００５６】
図６に示すように、鋼板Ｓは焼鈍炉５１に連続的に供給されている。焼鈍炉５１には鋼板Ｓを低露点雰囲気中で焼鈍する低露点雰囲気シールボックス５２が設けられており、この低露点雰囲気シールボックス５２内は非酸化性または還元性あるいは弱酸化性の低露点ガスｇにより不活性雰囲気に保たれている。そして、低露点雰囲気シールボックス５２において、鋼板Ｓの入側には入側シール手段６６及び加熱手段６７が設けられる一方、鋼板Ｓの出側には出側シール手段６８が設けられると共に出側シールボックス６９が形成されている。この出側シールボックス６９には排気口７０排出口７１が形成されており、排出口７１の入側には液体ワイピング装置１２及び乾燥手段７２が設けられている。
【００５７】
また、低露点雰囲気シールボックス５２の下面には排出口５３及び搬入口５４が開口されており、この排出口５３及び搬入口５４の下方にはシール材１１を介して液体ワイピング装置１２が設けられている。この液体ワイピング装置１２のスリットノズル２５ａ，２５ｂから低露点ガスｇが噴射される。
【００５８】
更に、液体ワイピング装置１２の下方にはシール材１１を介して排出側ケーシング５５及び搬入側ケーシング５６が設けられている。この排出側ケーシング５５には、開口部５７、排出路５８及び排気口５９が形成される一方、搬入側ケーシング５６には、搬入路６０、開口部６１及び排気口６２が形成されている。排出路５８及び搬入路６０の下端は後述する冷却水浴６３に浸漬され、排気口５９，６２は大気に連通している。また、排出路５８及び搬入路６０の下部には冷却水Ｗが貯溜される冷却水浴６３が設けられており、この冷却水浴６３内には排出側シンクロール６４及び搬入側シンクロール６５が回転可能に設けられている。
【００５９】
従って、上述した構成をなすことにより、低露点雰囲気シールボックス５２内に搬送された鋼板Ｓは不活性雰囲気中で加熱手段６７により焼鈍された後、排出側シンクロール６４の回転により排出口５３から排出される。そして、排出側の液体ワイピング装置１２においてシールされながら排出側ケーシング５５を通り、冷却水浴６３内に搬送される。次いで、冷却された鋼板Ｓは、搬入側シンクロール６５の回転により引き上げられ搬入側ケーシング５６内に搬送される。このとき、鋼板Ｓの表面には冷却水Ｗが多量に付着されている。そして、冷却水Ｗが付着した鋼板Ｓは搬入側の液体ワイピング装置１２においてワイピング及びシールされ、再び低露点雰囲気シールボックス５２内に搬送された後、乾燥手段７２により乾燥されて次工程へと排出される。
【００６０】
ここで、鋼板Ｓを冷却水浴６３内で急冷すると、排出側シンクロール６４の近傍においては、水蒸気ｗが発生する。この水蒸気ｗは排出路５８から排出側ケーシング５５内に侵入し、開口部５７を通り排出口５３から低露点雰囲気シールボックス５２内に侵入しようとする。しかしながら、低露点雰囲気シールボックス５２と排出側ケーシング５５との間に液体ワイピング装置１２を配置させているので、その侵入を防止できる。つまり、スリットノズル２５ａ，２５ｂから噴射された低露点ガスｇにより静圧保持部Ｐを形成し、シール性を向上させることにより、排出口５３からの水蒸気ｗの侵入及び低露点ガスｇとの排出とを防止している。
【００６１】
一方、搬入側シンクロール６５の近傍においても水蒸気ｗが発生する。鋼板Ｓの搬入と共に搬入側ケーシング５６内の水蒸気ｗが開口部６１を通り搬入口５４から低露点雰囲気シールボックス５２内に侵入しようとする。しかしながら、低露点雰囲気シールボックス５２と搬入側ケーシング５６との間に液体ワイピング装置１２を配置させているので、その侵入を防止できる。つまり、スリットノズル２５ａ，２５ｂから噴射された低露点ガスｇによりワイピングすると共に、静圧保持部Ｐを形成し、シール性を向上させることにより、搬入口５４からの水蒸気ｗの侵入及び低露点ガスｇの排出を防止している。
【００６２】
従って、本発明に係る液体ワイピング装置によれば、低露点雰囲気シールボックス５２の排出口５３の出側及び搬入口５４の入側において、ワイパー２１及び側面シールブロック２２を備え、搬送方向にスリットノズル２５ａ，２５ｂを設けて静圧保持部Ｐを形成させることができる。これにより、排出口５３側においては、シール性を向上させることができるので、水蒸気ｗの侵入を防止すると共に、低露点ガスｇの排出とを防止することができる。一方、搬入口４３側においては、ワイピングを行うだけでなく、シール性も向上させることができるので、水蒸気ｗの侵入を防止すると共に、低露点ガスｇの排出を防止することができる。また、鋼板Ｓの両側方に側面シールブロック２２を備えているので、鋼板Ｓの両端側においてもシール性を向上させることができる。なお、乾燥手段７２の搬送方向下流側における液体ワイピング装置１２においても、同様の作用効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
ワイピングとシールとを兼用する液体ワイピング装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の第１実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図である。
【図２】液体ワイピング装置の概略断面図である。
【図３】図２の平断面図である。
【図４】本発明の第２実施例に係る液体ワイピング装置を備えた溶融金属めっき設備の概略断面図である。
【図５】本発明の第３実施例に係る液体ワイピング装置を備えた塗装設備の概略断面図である。
【図６】本発明の第４実施例に係る液体ワイピング装置を備えた焼鈍炉の概略断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１,３１，５１      焼鈍炉
２      溶融金属めっき設備
５      溶融金属めっき浴
８      シールボックス
９      開口部
１２      液体ワイピング装置
１６      気化金属成分除去手段
１８      ワイピングガス供給装置
２１      ワイパー
２２      側面シールブロック
２３      ケーシング
２４      チャンバ
２５ａ    上スリットノズル
２５ｂ    下スリットノズル
２５ｃ    中間スリットノズル
４１      塗装設備
４２      塗料浴
５２      低露点雰囲気シールボックス
５３      排出口
５４      搬入口
６３      冷却水浴
【図１】
2007138208.tif 000003
【図２】
2007138208.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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