【事件の表示】
　平成　８年特許願第１１４９９３号「アニオン性電着塗料によるカラーフィルタ製造方法」拒絶査定に対する審判事件［平成　９年１１月２５日出願公開、特開平　９−３０２５００］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願は、平成８年５月９日の出願であって、その請求項１に係る発明は、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める（以下、「本願発明」という）。
「（１）透明導電基板上にクレゾールノボラック樹脂およびキノンジアシド化合物からなるポジ型フォトレジストを全面コーティングしたのち、露光および現像プロセスを介して、透明導電基板を部分的に露出するステップと、
（２）アニオン性電着法により、前記導電基板の前記露光および現像プロセスで露出した部分に色相のある電着樹脂層を選択的にコーティングするステップと、
（３）残されたポジ型フォトレジストに対して全面的な露光を行うステップと、
（４）前記透明導電基板を１２０〜２２０℃で加熱乾燥して前記電着樹脂層の硬化を行うステップと、
（５）アルカリ性現像液で残されたポジ型フォトレジストを剥離するステップと、
（６）前記ステップ（１）〜（５）を繰り返して残りの異なる色相の電着樹脂層を作製するステップとを具備したアニオン性電着塗料によるカラーフィルタ製造方法。」
　なお、本願特許請求の範囲の請求項１の（４）に記載の「透明電極基板」は、その前後の文脈及び発明の詳細な説明の記載から、明らかに「透明導電基板」の誤りであるので、本願発明を上記のとおり認定した。
　
２．引用例
　これに対して、当審において平成１４年４月３０日付けで通知した拒絶の理由に引用した本願の出願の日前の昭和６３年１０月１７日に頒布された特開昭６３−２４９１０６号公報（以下、「刊行物１」という）には、次の（ａ１）〜（ａ５）の事項が記載されている。
（ａ１）「まず、ガラス基板、可とう性プラスチック基板などの透明基板５の全面若しくは部分面上に透明導電膜１を形成する（第１図（Ａ））。その透明導電膜１は、一般にＮＥＳＡ（酸化スズ膜）またはＩＴＯ膜（酸化スズを含有する酸化インジウム膜）と呼ばれる金属酸化物被膜で形成する。次に透明導電膜１上にホトレジスト２を塗布する（第１図（Ａ））。そして、このレジスト２を所定のホトマスク３によりホト・エッチングして、第１の色（例えば赤）が施されるべき画素領域に窓即ち開口を有するレジストパターン４を形成する。即ち透明導電膜の表面にホトレジストを塗布し、（第１図（Ｂ））、所定のホトマスクによりレジストを露光現像し、エッチャントによりレジストの露光部分を除去して、同一の色が施されるべき部分に窓を有するレジストパターンを形成する（第１図（Ｃ））。」（第３ページ左上欄第４行〜２０行）
（ａ２）「次に、上記の工程で得られたレジストパターンの窓の部分即ち透明導電膜が露出している部分に、色素含有高分子からなる着色膜Ｒを高分子電着法で形成する（第１図（Ｄ））。」（第３ページ右上欄第３行〜６行）
（ａ３）「その水溶性高分子にはアニオン形が主に使用される。着色膜の形成後、不要となったレジストを除去し、着色膜６のパターンのみを残す（第１図（Ｅ））。次に、上記第１図（Ｂ）の工程で用いたホトマスクを、所定距離だけ移動し、赤色の色素の代りに緑色の色素を用いること以外、上記と同様の工程を繰返す（第１図（Ｆ〜Ｉ））。」（第３ページ右上欄第１２行〜１９行）
（ａ４）「最後に着色膜を熱処理硬化（例えば約１００°Ｃ、１０分間）させる。」（第２ページ第１６〜１７行）
（ａ５）「最後に、以上のようにして、三色の着色膜が被着されたカラーフィルタを熱処理して硬化させる。」（第３ページ左下欄第５行〜８行）
　以上の記載から、刊行物１には、以下の発明が記載されているものと認められる。
「カラーフィルタの製造方法において、透明導電膜１がその上部に形成された透明基板５に、ホトレジストを塗布し、所定のホトマスク３によりレジストを露光・現像し、レジストの露光部分を除去して、透明導電膜が露出している部分に着色膜をアニオン形の高分子電着法により形成する。次に、不要となったレジストを除去し、着色膜６のパターンのみを残す。この工程を他の色素について繰り返す。最後に、三色の着色膜が被着されたカラーフィルタを例えば約１００°Ｃで熱処理硬化させる。」
　
　同様に、当審において平成１４年４月３０日付けで通知した拒絶の理由に引用した本願の出願の日前の平成７年８月１日に頒布された特開平７−１９８９３４号公報（以下、「刊行物２」という）には、 次の（ｂ１）〜（ｂ４）の事項が記載されている。
（ｂ１）「次に、ブラックマトリックス１３が形成された透明導電性基板１１上にポジ型の感光性レジスト層１４を形成し（図５（Ａ））、プリベーク（１１０℃、２０分間）を行う。そして、着色層を構成する各色共通のパターンを有する着色層用フォトマスクＣを介して感光性レジスト層１４を露光し、ブラックマトリックス１３の非形成箇所であって青（Ｂ）色の着色層が形成される位置に露光部１４Bを形成する（図５（Ｂ））。そして、現像液により感光性レジスト層１４の露光部１４Bを現像除去して透明導電性層を露出させる（図５（Ｃ））。その後、透明導電性基板１１を電着浴に浸漬し、露出した透明導電性層に青色電着材を電着させて青色着色層１５Ｂを形成し、水洗浄、ポストベーク（１１０℃、３０分間）を行う（図５（Ｄ））。」（段落【００１８】）、
（ｂ２）「次に、着色層用フォトマスクＣを介して感光性レジスト層１４を露光し、ブラックマトリックス１３の非形成箇所であって緑（Ｇ）色の着色層が形成される位置に露光部１４G を形成する（図５（Ｅ））。そして、上記の青色着色層の形成と同様に、現像液により感光性レジスト層１４の露光部１４Gを現像除去して透明導電性層を露出させ、その後、透明導電性基板１１を電着浴に浸漬し、露出した透明導電性層に緑色電着材を電着させて緑色着色層１５Ｇを形成し、水洗浄、ポストベーク（１１０℃、３０分間）を行う（図５（Ｆ））。」（段落【００１９】）
（ｂ３）「さらに、着色層用マスクフォトＣを介して感光性レジスト層１４を露光し、ブラックマトリックス１３の非形成箇所であって赤（Ｒ）色の着色層が形成される位置に露光部１４R を形成し（図６（Ａ））、水洗浄、ポストベーク（１１０℃、３０分）を行う。次に、上記の青色着色層の形成と同様に、現像液により感光性レジスト層１４の露光部１４Rを現像除去して透明導電性層を露出させ、その後、透明導電性基板１１を電着浴に浸漬し、露出した透明導電性層に赤色電着材を電着させて赤色着色層１５Ｒを形成する（図６（Ｂ））。」（段落【００２０】）
（ｂ４）「上記の着色層形成工程における硬化促進剤処理は、電着膜（着色層１５Ｂ、１５Ｇ、１５Ｒ）の硬化状態を高めることによりレジスト層除去液（通常、アルカリ性溶液）に対する電着膜の耐久性（耐膨潤性）を向上させ、電着膜の強度低下を防止することを目的としたものである。上述のように、各着色層１５Ｂ、１５Ｇ、１５Ｒを形成した後には、それぞれポストベークが行われている。しかし、このポストベークは、ポジ型感光性レジストに含有される成分（例えば、キノンジアジド基を有する樹脂）が約１２０℃以上で反応することによりレジスト層が剥離不可能となることを防止するために比較的低温度（約１１０℃）で行う必要がある。したがって、形成された着色層（電着膜）の硬化状態はレジスト層除去液による膨潤を回避できる程度にまで達していない。特に、赤色着色層１５Ｒにおいて、レジスト層除去液による膨潤の程度が大きい。このため、本発明では、レジスト層１４の除去前に電着膜に硬化促進剤処理、例えば酸処理を施すことにより、ポストベークにおける電着膜を構成する樹脂成分（例えば、カルボキシル基含有アクリル樹脂とメラミン樹脂）の反応を酸の触媒作用により進行させ、電着膜の硬化状態を高い状態とするものである。これにより、形成された電着膜の高い精度を維持したまま、着色層に欠け等を生じることなくレジスト層を除去することができ、精度の高いカラーフィルタの製造が可能となる。」（段落【００２２】）
　以上の記載から、刊行物２には、次の発明が記載されているものと認められる。
「カラーフィルタの製造方法において、ポジ型の感光性レジストの露光部が現像除去された透明導電性層に電着により青色電着層を形成し、次いで、水洗浄、ポストベーク（１１０°Ｃ、３０分間）を行う。その後、この工程を緑色、赤色にも繰り返す。」
　
３．対比
　本願発明と刊行物１に記載された発明を対比すると、刊行物１に記載の「透明基板５」と「透明導電膜１」からなる基板は、本願発明に係る「透明導電基板」に相当し、また、刊行物１に記載のアニオン形の水溶性高分子が使用される高分子電着法は、実質的に本願発明に係る「アニオン性電着法」に相当し、また、刊行物１に記載の「ポストベーク」は、本願発明の（４）における「加熱乾燥」に実質的に相当し、さらに、刊行物１に記載の「ホトレジスト２」「着色膜６」は、それぞれ本願発明に係る「フォトレジスト」、「色相のある電着樹脂層」に相当するから、結局、両者は、アニオン性電着塗料によるカラーフィルターの製造方法において、透明導電基板上にフォトレジストをコーティングしたのち、露光および現像プロセスを介して、透明導電基板を部分的に露出するステップと、アニオン性電着法により、前記導電基板の前記露光および現像プロセスで露出した部分に色相のある電着樹脂層を選択的にコーティングするステップと、フォトレジストを剥離するステップと、前記ステップを繰り返して残りの異なる色相の電着樹脂層を形成するステップ、からなる点で一致し、次の点で相違する。
（イ）本願発明では、フォトレジストの材料として、クレゾールノボラック樹脂およびキノンジアシド化合物からなるポジ型フォトレジストを用いているのに対し、刊行物１のものではフォトレジストの材料については言及するところがない点。
（ロ）本願発明では、電着樹脂層をコーテイングした後、全面的に露光をおこなうのに対し、刊行物１のものではその旨の記載がない点。
（ハ）本願発明では、一つの色相の電着樹脂層がコーティングされる毎に、透明導電基板を１２０〜２２０°Ｃで加熱乾燥して電着層の硬化を行うのに対し、刊行物１のものでは、三つの色相の電着樹脂層がコーティングされた後に、加熱して電着性樹脂の硬化を行うとともに、加熱温度を「例えば約１００°Ｃ」としている点。
（ニ）本願発明では、アルカリ性現像液により残されたポジ型フォトレジストを剥離するのに対し、刊行物１のものでは、単に、剥離するとの記載があるだけで、現像液の材料には言及するところがない点。
　
４．当審の判断
　上記相違点（イ）〜（ニ）について検討する。
相違点（イ）について
　フォトレジスト材料として、クレゾールノボラック樹脂およびキノンジアシド化合物からなるポジ型フォトレジスト材料は、本願出願前、当業者において広く慣用されているものであり（慣用例として、”角田隆弘著「新・感光性樹脂」印刷学会出版部刊、ｐ７７〜ｐ８２、昭和６１年３月２８日発行”、特開平４−３２４４２６号公報、特開平５−２０４１４５号公報、特開平５−２５７２７５号公報、を参照のこと）、本願発明のように、フォトレジストの材料として、クレゾールノボラック樹脂およびキノンジアシド化合物からなるポジ型のフォトレジスト材料を用いることは、当業者であれば、適宜、採用しえたことである。
相違点（ロ）について
　刊行物１のものでは、上記（ａ３）に、「着色膜６の形成後、不要となったレジストを除去」することが記載されており、また、フォトレジストを剥離する前に、フォトレジストを露光することが、本願出願前、当該分野の技術常識であることを考慮すれば、刊行物１のものにおいても、フォトレジストを剥離する前に露光を行っているものと認められる。また、露光を全面的におこなうか否かは、フォトレジストのコーティング領域に応じて当業者が適宜選択しうる事項にすぎない。してみれば、本願発明のように、残されたポジ型フォトレジストに対して全面的な露光を行うことは、当業者であれば、容易に採用することができたものと認められる。
相違点（ハ）について
　一つの色相の電着樹脂層がコーティングされる毎に、基板を加熱することは刊行物２に記載されており（上記（ｂ１）〜（ｂ３）参照）、また、上記（ｂ４）の記載から、加熱乾燥の目的の一つが、電着樹脂層の硬化にあることが示唆されているから、本願発明のように、一つの色相の電着樹脂層がコーティングされた透明導電基板を加熱乾燥して電着層の硬化を行うことは、刊行物２に記載に基づけば当業者が容易に着想することができたものと認められる。なお、その際、加熱温度を何度にするかは、電着材料及びフォトレジスト材料の熱特性、等を勘案して、当業者が適宜選択すべき設計事項に過ぎない。
相違点（ニ）について
　ポジ型フォトレジスト材料を剥離するために、アルカリ性現像液が用いられることは、一般のフォトリソグラフィー工程において、本願出願前、広く周知であり、本願発明のようにアルカリ性現像液で残されたポジ型フォトレジストを剥離することは、当業者であれば、適宜、採用し得たものと認める。
　そして、本願発明の奏する効果も、刊行物１、２及び本願出願前周知の技術から、当業者であれば予測することができる程度のもので、格別なものとはいえない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は刊行物１及び刊行物２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。