(57)【要約】【課題】ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具７を用いてガラス基板１を洗浄液中に保持する工程と、洗浄液に超音波を印加し、ガラス基板１の表面に沿うように洗浄液中を伝播する超音波によってガラス基板１の表面を洗浄する工程と、を備え、ガラス基板１の表面に対して保持用治具７が超音波の伝播を遮る面積は、ガラス基板１の表面の面積に対して１％以下である。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
保持用治具を用いて前記ガラス基板を洗浄液中に保持する工程と、
前記洗浄液に超音波を印加し、前記ガラス基板の表面に沿うように前記洗浄液中を伝播する前記超音波によって前記ガラス基板の前記表面を洗浄する工程と、を備え、
前記ガラス基板の前記表面に対して前記保持用治具が前記超音波の伝播を遮る面積は、前記ガラス基板の前記表面の面積に対して１％以下である、
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄液に印加される前記超音波の周波数は、９００ｋＨｚ以上である、
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記保持用治具は、線状の金属部材から構成される、
請求項１または２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記保持用治具は、重力方向の下方から上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第１保持部を含み、
前記第１保持部は、前記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部を挟持する、
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記保持用治具は、
水平方向における前記ガラス基板の両外側から内側に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第２保持部を含み、
前記第２保持部は、前記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第２外周端面部を挟持する、
請求項３または４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下である、
請求項３から５のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク等の情報記録媒体は、ハードディスクとしてコンピュータ等に搭載される。情報記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板（以下、ガラス基板ともいう）から製造される。
【０００３】
情報記録媒体の記録密度は年々高くなる傾向にある。これに伴って、情報記録媒体と磁気ヘッドとの間隔（ヘッド浮上量）も小さくなる傾向にある。情報記録媒体にＤＦＨ（Dynamic Flying Height）機構が採用される場合、ヘッド浮上量は３ｎｍ以下に構成される場合もある。このような背景のもと、情報記録媒体および情報記録媒体用ガラス基板には、ますます高い品質が求められている。
【０００４】
特開２００９−８７４７２号公報（特許文献１）に開示されるように、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の表面を洗浄する工程を含む。ガラス基板の表面に付着物が残留していると、この付着物はいわゆるヘッドクラッシュ現象を発生させる原因となる。ガラス基板の表面は、このような付着物がガラス基板の表面から除去され、高い清浄度となるように洗浄される必要がある。
【０００５】
図９および図１０を参照して、ガラス基板１を洗浄する一般的な方法について説明する。図９は、ガラス基板１を洗浄するために用いられる洗浄槽９０および保持用治具７０，７１を側方から見た断面図である。図１０は、洗浄槽９０および保持用治具７０，７１を正面から見た断面図である。
【０００６】
ガラス基板１を洗浄する際には、洗浄液６０が貯留された洗浄槽９０の内部に、ガラス基板１が浸漬される。当該浸漬のために、固定体４０および保持用治具７０，７１が用いられる。固定体４０の下端には、開口部４０Ｈが設けられる。固定体４０の内部に、保持用治具７０，７１が設けられる。保持用治具７０，７１によって、複数のガラス基板１が保持される。
【０００７】
複数のガラス基板１は、保持用治具７０，７１に保持された状態で、洗浄液６０の内部に浸漬される。洗浄槽９０の下部に設けられた超音波発生装置３０は、洗浄液６０に対して超音波を付与する。
【０００８】
図１１を参照して、超音波発生装置３０から洗浄液６０に付与された超音波３２（図１１中の白抜き矢印によって示される）は、開口部４０Ｈを通して固定体４０内の洗浄液６０に伝播する。超音波３２は、ガラス基板１の表面に沿って、そのまま洗浄液６０の内部を上方に向かって伝播する。超音波３２の振動を受けた洗浄液６０よって、ガラス基板１の表面が洗浄される。
【０００９】
ここで、ガラス基板１の下方に配置された保持用治具７０は、超音波発生装置３０から上方に向かって伝播する超音波３２の伝播を遮る。ガラス基板１の表面上の領域Ｒ２０においては、超音波３２が良好に伝播する。一方で、保持用治具７０の存在によって、ガラス基板１の表面上の領域Ｒ１０においては、超音波３２が良好には伝播しない。
【００１０】
領域Ｒ１０においては、ガラス基板１は良好に洗浄されにくくなる。特に、超音波発生装置３０から付与される超音波の周波数が高くなればなるほど（たとえば９００ｋＨｚ以上）、超音波の直進性が高くなるため、領域Ｒ１０においてガラス基板１は良好に洗浄されにくくなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−８７４７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記のような実情に鑑みて為されたものであって、ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具を用いて上記ガラス基板を洗浄液中に保持する工程と、上記洗浄液に超音波を印加し、上記ガラス基板の表面に沿うように上記洗浄液中を伝播する上記超音波によって上記ガラス基板の上記表面を洗浄する工程と、を備え、上記ガラス基板の上記表面に対して上記保持用治具が上記超音波の伝播を遮る面積は、上記ガラス基板の上記表面の面積に対して１％以下である。
【００１４】
好ましくは、上記洗浄液に印加される上記超音波の周波数は、９００ｋＨｚ以上である。好ましくは、上記保持用治具は、線状の金属部材から構成される。
【００１５】
好ましくは、上記保持用治具は、重力方向の下方から上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第１保持部を含み、上記第１保持部は、上記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部を挟持する。
【００１６】
好ましくは、上記保持用治具は、水平方向における上記ガラス基板の両外側から内側に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される第２保持部を含み、上記第２保持部は、上記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第２外周端面部を挟持する。好ましくは、上記金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を示す斜視図である。
【図２】実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。
【図３】実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャート図である。
【図４】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（洗浄工程）に用いられる基板洗浄装置を示す断面図である。
【図５】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（洗浄工程）に用いられる保持用治具を示す斜視図である。
【図６】図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿った矢視断面図である。
【図７】実施の形態におけるガラス基板の製造方法（洗浄工程）に用いられる保持用治具に、ガラス基板が保持される様子を示す斜視図である。
【図８】実施の形態に基づく実施例およびこの実施例に対する比較例の実験結果を示す図である。
【図９】一般的なガラス基板の洗浄方法に用いられる洗浄槽および保持用治具を側方から見た断面図である。
【図１０】一般的なガラス基板の洗浄方法に用いられる洗浄槽および保持用治具を正面から見た断面図である。
【図１１】一般的なガラス基板の洗浄方法において、超音波が伝播する様子を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。
【００２０】
［ガラス基板１・磁気ディスク１０］
図１および図２を参照して、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板１、およびガラス基板１を備えた磁気ディスク１０（図２参照）について説明する。図１は、磁気ディスク１０の製造に用いられるガラス基板１を示す斜視図である。図２は、情報記録媒体として、ガラス基板１を備えた磁気ディスク１０を示す斜視図である。
【００２１】
図１に示すように、磁気ディスク１０（図２参照）の製造に用いられるガラス基板１（情報記録媒体用ガラス基板）は、円形ディスク状（環状の円板形状）に形成される。ガラス基板１は、表主表面１Ａ（本発明における「ガラス基板の表面」に相当する）、裏主表面１Ｂ、内周端面１Ｃ、および外周端面１Ｄを有している。ガラス基板１の中心には、孔１Ｈが設けられる。
【００２２】
ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば０．３０ｍｍ〜２．２ｍｍである。本実施の形態におけるガラス基板１の大きさは、外径が約６４ｍｍ、内径が約２０ｍｍ、厚さが約０．８ｍｍである。ガラス基板１の厚さとは、ガラス基板１上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。
【００２３】
図２に示すように、磁気ディスク１０は、上記したガラス基板１の表主表面１Ａ上に磁気薄膜層２が形成されることによって構成される。図２中では、表主表面１Ａ上にのみ磁気薄膜層２が形成されているが、裏主表面１Ｂ上に磁気薄膜層２が形成されていてもよい。この場合は、裏主表面１Ｂも、本発明における「ガラス基板の表面」に相当する。
【００２４】
磁気薄膜層２は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１の表主表面１Ａ上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層２は、ガラス基板１の表主表面１Ａに対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。
【００２５】
ガラス基板１の表主表面１Ａに形成される磁気薄膜層２の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜０．１μｍである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層２は、スパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。
【００２６】
磁気薄膜層２に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。
【００２７】
磁気記録ヘッドの滑りをよくするために、磁気薄膜層２の表面に潤滑剤が薄くコーティングされてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。
【００２８】
必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク１０における下地層は、磁性膜の種類に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、またはＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。
【００２９】
下地層は、単層構造とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。下地層は、たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、または、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等からなる多層構造としてもよい。
【００３０】
磁気薄膜層２の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、またはシリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、または磁性膜など共に、インライン型スパッタ装置を使用することによって連続して形成されることができる。これらの保護層は、単層構造から構成されていてもよく、同一または異種の層を含む多層構造から構成されていてもよい。
【００３１】
上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ２)層を形成してもよい。
【００３２】
［ガラス基板の製造方法］
図３に示すフローチャート図を参照して、本実施の形態におけるガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）の製造方法について説明する。
【００３３】
本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、形状加工工程（ステップＳ２０）、粗面化工程（ステップＳ３０）、精ラッピング工程（ステップＳ４０）、端面研磨工程（ステップＳ５０）、主表面研磨工程（ステップＳ６０）、化学強化工程（ステップＳ７０）、および洗浄工程（ステップＳ８０）を含む。
【００３４】
洗浄工程（ステップＳ８０）を経ることによって得られたガラス基板（図１におけるガラス基板１に相当）に対して、磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）が実施される。磁気薄膜形成工程（ステップＳ９０）によって、磁気ディスク１０（図２参照）が得られる。
【００３５】
上記の各ステップは必ずしも必須ではなく、必要に応じて省略または追加してもよい。以下、これらの各ステップＳ１０〜Ｓ９０について順に説明する、以下には、各ステップＳ１０〜Ｓ９０間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については記載していない。
【００３６】
（粗ラッピング工程：ステップＳ１０）
まず、上型、下型、および胴型が準備され、これらによって溶融ガラスがダイレクトプレスされる。直径６６ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの円盤状のガラス基板が得られる。ガラス基板のガラス素材は、たとえばアルミノシリケートガラスである。ダイレクトプレス法以外に、ダウンドロー法またはフロート法を使用してシートガラスを形成し、このシートガラスから研削砥石で切り出すことによって、円盤状のガラス基板を得てもよい。
【００３７】
アルミノシリケートガラスの組成は、たとえば、ＳｉＯ２が５８質量％〜７５質量％、Ａｌ２Ｏ３が５質量％〜２３質量％、Ｌｉ２Ｏが３質量％〜１０質量％、Ｎａ２Ｏが４質量％〜１３質量％を主成分として含有している。
【００３８】
ダイレクトプレス等によって得られたガラス基板には、ラッピング加工が施される。このラッピング加工は、寸法精度および形状精度の向上を目的として、両面ラッピング装置によって行なわれる。
【００３９】
ラッピング加工において使用される砥粒の粒度は、たとえば、＃４００（粒径約４０μｍ〜６０μｍ）である。研磨装置において粒度＃４００のアルミナ砥粒が用いられ、上定盤の荷重は約１００ｋｇに設定される。キャリア内に収納したガラス基板の両面は、面精度０μｍ〜１μｍ、表面粗さＲｍａｘで約６μｍに仕上げられる。
【００４０】
（形状加工工程：ステップＳ２０）
粗ラッピング工程を経たガラス基板は、外周端面および内周端面がそれぞれ研削される。当該研削によって、ガラス基板の外径は約６５ｍｍとなる。ガラス基板の内径（中心部の孔１Ｈの直径）は約２０ｍｍとなる。外周端面および内周端面には、所定の面取り加工が施される。このときのガラス基板の端面の面粗さは、Ｒｍａｘが約２μｍ程度である。一般的に、２．５インチ型のハードディスクには外径が６５ｍｍのガラス基板が用いられる。
【００４１】
（粗面化工程：ステップＳ３０）
形状加工工程を経たガラス基板は、表面が粗面化される。この粗面化工程においては、平面研磨機が使用される。平面研磨機は、遊離砥粒研磨を用いて、ガラス基板に対して機械的な粗面化を行なう。ガラス基板の表面の全体が、略均一の表面粗さ（Ｒａ＝０．０１μｍ〜０．４μｍ程度）となるように研磨される。粗面化工程において目標とする表面粗さは、次述する精ラッピング工程（ステップＳ４０）で使用される固定砥粒の粒度との関係で設定されるとよい。
【００４２】
（精ラッピング工程：ステップＳ４０）
粗面化工程を経たガラス基板は、ラッピング装置にセットされる。ガラス基板の主表面は、固定砥粒研磨パッドまたはダイヤモンドシート等によって研削される。ガラス基板は、たとえば、表面粗さＲａが０．１μｍ以下、平坦度が７μｍ以下となるように研削される。
【００４３】
ここで、ガラス基板の主表面は、粗面化工程（ステップＳ３０）において粗面化されている。微細な固定砥粒からなる引っ掛かりがガラス基板の主表面に形成されていることによって、固定砥粒がガラス基板の表面を滑るという不具合が防止される。したがって、精ラッピング工程における加工レートは、表面研磨の開始時点から高い加工レートで実現できるものとなっている。
【００４４】
（端面研磨工程：ステップＳ５０）
端面研磨工程においては、ブラシ研磨方法が使用される。ガラス基板が回転された状態で、ガラス基板の外周端面および内周端面がそれぞれ研磨される。ガラス基板の外周端面および内周端面は、たとえば、表面の粗さが、Ｒｍａｘで約０．４μｍ、Ｒａで約０．１μｍとなる。端面研磨を終えたガラス基板の表面は、水洗浄される。
【００４５】
（主表面研磨工程：ステップＳ６０）
主表面研磨工程は、第１研磨工程および第２研磨工程を有する。第１研磨工程においては、上述した両面研磨装置を用いてガラス基板の主表面が研磨される。上述の精ラッピング工程（ステップＳ４０）で残留した傷または歪みなどが除去される。第１研磨工程においては、たとえば、研磨パッド（ポリッシャは、たとえばスウェードパッドである）が、以下の条件の下に用いられる。
【００４６】
研磨液  ：酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）＋水
荷  重  ：８０ｇ／ｃｍ２〜１００ｇ／ｃｍ２
研磨時間：３０分〜５０分
除去法  ：３５μｍ〜４５μｍ
次に、ガラス基板の表面が洗浄される。ガラス基板の表面に付着している研磨剤が除去される。洗浄方法としては、ＨＦを１質量％、硫酸を３質量％混合させた洗浄液が用いられる。
【００４７】
この洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態で、この洗浄液にたとえば８０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、中性洗剤にガラス基板を浸漬させた状態で、この中性洗剤にたとえば１２０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、ガラス基板は、純粋を使用するリンスによって洗浄される。最後に、ガラス基板はＩＰＡ（Isopropyl alcohol）によって乾燥される。
【００４８】
その後、第２研磨工程においては、軟質ポリッシャ（スウェード）である研磨パッドを用いて、ガラス基板の主表面が研磨される。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウムよりも微細なシリカ砥粒が用いられる。
【００４９】
（化学強化工程：ステップＳ７０）
化学強化工程においては、ガラス基板に化学強化処理が施される。ガラス基板の表面に存在するイオンが、そのイオンよりも大きなイオン半径を有する他のイオンに交換される。たとえば、ガラス基板がアルミノシリケートガラスである場合、Ｌｉ＋およびＮａ＋が、Ｌｉ＋およびＮａ＋よりも大きなイオン半径を有するイオン（Ｎａ＋およびＫ＋など）に交換される。
【００５０】
化学強化工程においては、（ガラス基板の厚さ方向に）ガラス基板表面から約５μｍの深さまでにわたってイオン交換が行なわれる。ガラス基板の表面に圧縮応力が付与されることによって、ガラス基板の剛性が向上する。
【００５１】
（洗浄工程：ステップＳ８０）
次に、図４〜図７を参照して、洗浄工程について説明する。図４は、洗浄工程に使用される基板洗浄装置８を模式的に示す断面図である。洗浄工程においては、基板洗浄装置８が使用される。基板洗浄装置８は、洗浄液６を内部に貯留する洗浄槽９を有する。洗浄液６としては、洗浄物およびパーティクルの性質に応じて、純水またはアルコール系の化学洗浄液などが適宜使用される。
【００５２】
洗浄槽９の下部に、洗浄液供給口４Ｓが設けられる。洗浄液供給口４Ｓから洗浄槽９の内部に、洗浄液６が供給される。洗浄槽９の上部に、排水受部５が設けられる。排水受部５の下部に、洗浄液排出口５Ｓが設けられる。
【００５３】
洗浄槽９の内部には、固定体４に取り付けられた保持用治具７が配置される。固定体４は、側壁４Ａ〜４Ｄ（図５参照）から角筒状に構成される。固定体４の下部には、開口部４Ｈが設けられる。側壁４Ａ〜４Ｄによって、保持用治具７は取り囲まれる。化学強化工程（ステップＳ７０）を経た複数のガラス基板１は、保持用治具７に保持された状態で、洗浄液６の内部に浸漬される。
【００５４】
保持用治具７によって、複数のガラス基板１の各表面は、洗浄液６の液面Ｗに対して垂直となっている。複数のガラス基板１は、隣り合うガラス基板１同士が互いに対向するように配置される。複数のガラス基板１の各表面は、平行な位置関係にある。複数のガラス基板１の各表面同士の間隔は、１０ｍｍ以下であるとよい。保持用治具７の詳細については、図５〜図７を参照して後述する。
【００５５】
洗浄槽９の底部に、超音波発生装置３が設けられる。超音波発生装置３によって、洗浄液６にはたとえば９００ｋＨｚ以上の超音波が印加される。超音波発生装置３は、振動板３Ａと、振動板３Ａの裏面に設けられた複数の超音波振動ユニット３Ｂとから構成される。振動板３Ａは、板状の形状を有する。超音波振動ユニット３Ｂは、一方向に延びる直方体形状を有する。
【００５６】
超音波振動ユニット３Ｂは、振動板３Ａに接触した状態で、振動板３Ａに対向配置される。超音波振動ユニット３Ｂは、ガラス基板１の表面に対して超音波振動ユニット３Ｂの長手方向が平行となるように配置される。超音波振動ユニット３Ｂは、超音波発振器Ｍによって駆動される。
【００５７】
超音波振動ユニット３Ｂが駆動されることによって、振動板３Ａは洗浄液６に対して超音波を印加する。超音波は、振動板３Ａに対して垂直な方向に発生するとともに、ガラス基板１の表面に沿いながら洗浄液６の内部を直進流として伝播する。超音波の伝播によって、ガラス基板１の表面が洗浄される。
【００５８】
洗浄液６は、超音波振動によって洗浄槽９の開口部において盛り上がる。洗浄槽９からあふれ出した洗浄液６は、排水受部５に流れ込む。排水受部５に流れ込んだ洗浄液６は、洗浄液排出口５Ｓ、循環ポンプＰ、フィルタＦ、および洗浄液供給口４Ｓを通して、洗浄槽９の内部に再び供給される。洗浄液６は、循環使用されることができる。
【００５９】
（保持用治具７）
図５〜図７を参照して、保持用治具７について詳細に説明する。図５は、保持用治具７を示す斜視図である。図５においては、図示上の便宜のため、ガラス基板１が図示されていない。図５においては、側壁４Ａおよび側壁４Ｂの一部が破断して図示されるが、実際には連続している。図６は、図５中のＶＩ−ＶＩ線に沿った矢視断面図である。図７は、保持用治具７にガラス基板１が保持される様子を示す斜視図である。
【００６０】
図５〜図７に示すように、保持用治具７は、第１保持部７Ａ、第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２、上部延在部７Ｃ、および下部延在部７Ｄを含む。保持用治具７（第１保持部７Ａ、第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２、上部延在部７Ｃ、および下部延在部７Ｄ）は、線状の金属部材から構成される。
【００６１】
線状の金属部材とは、針金またはワイヤーなどである。線状の金属部材の直径は、０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下であるとよい。保持用治具７の周囲は、固定体４を構成する側壁４Ａ〜４Ｄによって取り囲まれる。保持用治具７および固定体４は、組み立てられることによって、いわゆる網籠状に構成される。
【００６２】
下部延在部７Ｄは、ガラス基板１が配列される方向（図６紙面左右方向）に沿って直線状に延在する。下部延在部７Ｄの一方の端部および他方の端部は、側壁４Ａおよび側壁４Ｃにそれぞれ固定される。
【００６３】
第１保持部７Ａは、重力方向の下方から上方に向かって略Ｖ字形状に延びるように形成される。第１保持部７Ａの下端は、下部延在部７Ｄによって上方支持される（図５，図７参照）。
【００６４】
上部延在部７Ｃは、側壁４Ｂおよび側壁４Ｄの間を橋渡しするように直線状に複数設けられる。複数の上部延在部７Ｃは、ガラス基板１が配列される方向（図６紙面左右方向）に互いに等間隔を空けて配置される。隣り合う上部延在部７Ｃ同士の間に、ガラス基板１が配置される（図６，図７参照）。第１保持部７Ａの一方の上端および他方の上端は、隣り合う上部延在部７Ｃにそれぞれ固定される。
【００６５】
第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２は、水平方向における前記ガラス基板１の両外側から内側に向かって、それぞれ略Ｖ字形状に水平方向に延在する。第２保持部７Ｂ１および第２保持部７Ｂ２は、対向するように配置される。
【００６６】
第２保持部７Ｂ１の延在方向の先端部の一方および先端部他方は、隣り合う上部延在部７Ｃ上にそれぞれ固定される。第２保持部７Ｂ１の延在方向の後端部は、側壁４Ｂに固定される。同様に、第２保持部７Ｂ２の延在方向の先端部の一方および先端部の他方は、隣り合う上部延在部７Ｃ上にそれぞれ固定される。第２保持部７Ｂ２の延在方向の後端部は、側壁４Ｄに固定される。
【００６７】
図７を参照して、第１保持部７Ａは、ガラス基板１の重力方向の下方側に位置する第１外周端面部１ＤＡを挟持する。第２保持部７Ｂ１は、ガラス基板１の水平方向の一方の外側に位置する第２外周端面部１ＤＢ１を挟持する。同様に、第２保持部７Ｂ２は、ガラス基板１の水平方向の他方の外側に位置する第２外周端面部１ＤＢ２を挟持する。第１保持部７Ａおよび第２保持部７Ｂ１，７Ｂ２の各挟持によって、ガラス基板１は保持される。
【００６８】
ここで、ガラス基板１の下方に配置された第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄは、超音波発生装置３（図４参照）から上方に向かって伝播する超音波の伝播経路上に位置する。ガラス基板１の表面上の領域Ｒ２においては、超音波が良好に伝播する。
【００６９】
一方で、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄの存在によって、ガラス基板１の表面上の領域Ｒ１においては、超音波の伝播は一部遮られる。領域Ｒ１の面積は、洗浄液６に印加される超音波の周波数が９００ｋＨｚ以上である場合、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄを超音波の伝播方向に投影した際の、ガラス基板１の表面に形成される投影像の面積に略等しい。
【００７０】
本実施の形態における第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄは、上述のとおり、線状の金属部材から構成される。線状の金属部材は、たとえば０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。ここで、本実施の形態における領域Ｒ１（図７参照）の面積は、冒頭に説明した一般的なガラス基板１（図１１参照）の洗浄方法における領域Ｒ１０（図１１参照）の面積に比べて小さい。
【００７１】
特に、本実施の形態における第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄは、ガラス基板１の表面に対して、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄが超音波の伝播を遮る面積（領域Ｒ１の面積）が、ガラス基板１の全体の表面の面積（領域Ｒ１の面積＋領域Ｒ２の面積）に対して１％以下となるように構成される。当該構成によって、ガラス基板１の表面の全体は良好に洗浄されることが可能となる。
【００７２】
洗浄工程（ステップＳ８０）の一例としては、複数のガラス基板１が、固定体４および保持用治具７を用いて洗浄液６内に浸漬される。洗浄液６は、たとえばアルカリ性の洗剤である。面積が２．０ｍｍ２の振動板３Ａ（図４参照）を用いて、洗浄液６に対して８０ｋＨｚの超音波が印加される。その後、ガラス基板１は酸性の洗剤からなる洗浄液６に浸漬される。洗浄液６に対して４３０ｋＨｚ、および９５０ｋＨｚの超音波が順次付与される。さらに、９５０ｋＨｚのリンス（純水  １８ＭΩ・ｃｍ）を用いて複数のガラス基板１には乾燥処理が施される。
【００７３】
なお、ガラス基板１を保持する第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄの太さ（直径）ｘと、振動板３Ａの面積ｍと、洗浄液６に印加する超音波の周波数ｆとの間には、次の式（１）および（２）の関係を満足しているとよい。
（１／ｆ）／ｍ  ＜  １  ・・・式（１）
２０×（１／ｆ）  ≧  ｘ  ・・・式（２）
太さ（直径）ｘ、面積ｍ、および周波数ｆが上記の式（１）および（２）を満足していることによって、洗浄液６に印加された超音波が、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄによって遮られにくくなる。超音波が第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄを回り込み易くなることによって、上記の領域Ｒ１の面積は、一層小さくなる。
【００７４】
図３を再び参照して、以上の粗ラッピング工程（ステップＳ１０）、形状加工工程（ステップＳ２０）、粗面化工程（ステップＳ３０）、精ラッピング工程（ステップＳ４０）、端面研磨工程（ステップＳ５０）、主表面研磨工程（ステップＳ６０）、化学強化工程（ステップＳ７０）、および洗浄工程（ステップＳ８０）を経ることによって、情報記録媒体用ガラス基板１（図１参照）が得られる。主表面研磨工程（ステップＳ６０）における第２研磨工程は、化学強化工程（ステップＳ７０）の後に行なってもよい。
【００７５】
洗浄工程（ステップＳ８０）において、上述のようにガラス基板１が洗浄されることによって、ガラス基板１の表面における付着物の残存は、冒頭に説明した一般的な洗浄方法に比べて少なくすることができる。本実施の形態における洗浄方法によれば、より高品質なガラス基板１が得られ、ヘッドクラッシュ現象の発生の可能性も低減される。
【００７６】
（磁気薄膜形成工程：ステップＳ９０）
洗浄工程（ステップＳ８０）が完了したガラス基板（図１に示すガラス基板１に相当）の両主表面（またはいずれか一方の主表面）に対し、磁気薄膜層２（図２参照）が形成される。磁気薄膜層２は、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。
【００７７】
磁気薄膜層２の形成によって、図２に示す磁気ディスク１０に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。本実施の形態における磁気ディスクは、磁気薄膜層２から構成される垂直磁気ディスクの一例である。磁気ディスクは、いわゆる面内磁気ディスクとして磁性層等から構成されてもよい。
【００７８】
（作用・効果）
本実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、洗浄工程（ステップＳ８０）において、ガラス基板１は良好に洗浄されることができる。
【００７９】
ここで、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄを構成する線状の金属部材は、０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。この直径が０．０１ｍｍより小さくなると、第１保持部７Ａが、超音波によって振動するガラス基板１に対して傷を付けてしまう場合がある。
【００８０】
この直径が１ｍｍより大きくなると、超音波が第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄによって遮られてしまい、良好な洗浄効果が得られない。したがって、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄを構成する線状の金属部材は、０．０１ｍｍ以上１ｍｍ以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成されるとよい。
【００８１】
上述の実施の形態においては、第２保持部７Ｂ１および第２保持部７Ｂ２も、線状の金属部材から構成される。水平方向におけるガラス基板１の保持を安定させるという観点からは、第２保持部７Ｂ１および第２保持部７Ｂ２の直径は、１ｍｍ以上であってもよい（線状の金属部材から構成されていなくてもよい）。この場合であっても、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄによって超音波の伝播が遮られることは、抑制されることができる。結果として、上述の実施の形態と同様の作用および効果を得ることができる。
【００８２】
上述の実施の形態においては、保持用治具７は固定体４（側壁４Ａ〜４Ｄ）に取り付けられる。固定体４を用いないで、保持用治具７を針金状の部材のみから自立可能なように構成してもよい。この場合であっても、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄによって超音波の伝播が遮られることは、抑制されることができる。結果として、上述の実施の形態と同様の作用および効果を得ることができる。
【００８３】
［実施例・比較例］
図８を参照して、上述の実施の形態に基づく実施例およびこれに対する比較例について説明する。
【００８４】
（実施例１）
実施例１においては、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄをガラス基板１に投影した際にガラス基板１の表面上に形成される投影像の面積（投影面積）が、ガラス基板１の表面全体の面積に対して０．３％である。当該条件のもと、上述の洗浄工程（ステップＳ８０）と同様に、ガラス基板１の表面を洗浄した。その後、ガラス基板１に残存する付着物の数（２００ｎｍの欠陥数）を、光学式表面解析機（ＫＬＡ  ｔｅｎｃｏｌ社製  Ｃａｎｄｅｒａ７１２０）を使用して数えた。欠陥数は、３５個であった。
【００８５】
（実施例２）
実施例２においては、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄをガラス基板１に投影した際にガラス基板１の表面上に形成される投影像の面積（投影面積）が、ガラス基板１の表面全体の面積に対して１．０％である。当該条件のもと、上述の洗浄工程（ステップＳ８０）と同様に、ガラス基板１の表面を洗浄した。実施例１と同様に欠陥数を数えたところ、欠陥数は６５個であった。
【００８６】
（比較例１）
比較例１においては、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄをガラス基板１に投影した際にガラス基板１の表面上に形成される投影像の面積（投影面積）が、ガラス基板１の表面全体の面積に対して１．２％である。当該条件のもと、上述の洗浄工程（ステップＳ８０）と同様に、ガラス基板１の表面を洗浄した。実施例１と同様に欠陥数を数えたところ、欠陥数は２０５個であった。
【００８７】
（比較例２）
比較例２においては、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄをガラス基板１に投影した際にガラス基板１の表面上に形成される投影像の面積（投影面積）が、ガラス基板１の表面全体の面積に対して５％である。当該条件のもと、上述の洗浄工程（ステップＳ８０）と同様に、ガラス基板１の表面を洗浄した。実施例１と同様に欠陥数を数えたところ、欠陥数は３７２個であった。
【００８８】
以上の実験結果から、第１保持部７Ａおよび下部延在部７Ｄをガラス基板１に投影した際にガラス基板１の表面上に形成される投影像の面積（投影面積）は、１％以下とされることが好ましいことがわかる。
【００８９】
以上、本発明に基づいた実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００９０】
１  ガラス基板（情報記録媒体用ガラス基板）、１Ａ  表主表面、１Ｂ  裏主表面、１Ｃ  内周端面、１Ｄ  外周端面、１ＤＡ  第１外周端面部、１ＤＢ１，１ＤＢ２  第２外周端面部、１Ｈ  孔、２  磁気薄膜層、３，３０  超音波発生装置、３Ａ  振動板、３Ｂ  超音波振動ユニット、４  固定体、４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ  側壁、４Ｈ  開口部、４Ｓ  洗浄液供給口、５  排水受部、５Ｓ  洗浄液排出口、６  洗浄液、７，７０，７１  保持用治具、７Ａ  第１保持部、７Ｂ１，７Ｂ２  第２保持部、７Ｃ  上部延在部、７Ｄ  下部延在部、８  基板洗浄装置、９，９０  洗浄槽、１０  磁気ディスク、Ｓ１０，Ｓ２０，Ｓ３０，Ｓ４０，Ｓ５０，Ｓ６０，Ｓ７０，Ｓ８０，Ｓ９０  ステップ、３２  超音波、４０  固定体、４０Ｈ  開口部、６０  洗浄液、Ｆ  フィルタ、Ｍ  超音波発振器、Ｐ  循環ポンプ、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ１０，Ｒ２０  領域、Ｗ  液面、ｆ  周波数、ｍ  面積、ｘ  太さ（直径）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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