(57)【要約】【課題】製造工程が簡単な表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】表示装置の製造方法は、絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、第１表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、第２表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、第３表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階とを含む。【選択図】図３
2007226237.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フレームと、
前記支持フレームの一面から陥没している少なくとも１つのパターン形成部と前記パターン形成部の周辺に設けられている有機膜除去部を含み、
前記パターン形成部は所定の深さに陥没した第１領域と前記第１領域よりさらに深く陥没した第２領域を有することを特徴とする表示装置用モールド。
【請求項２】
前記パターン形成部は前記支持フレームの一面から階段形状に陥没していることを特徴とする、請求項１に記載の表示装置用モールド。
【請求項３】
前記表示装置用モールドは第１表示装置用モールドと、第２表示装置用モールドおよび第３表示装置用モールドを含み、
前記第１表示装置用モールドは前記支持フレームの一面に１つのパターン形成部が設けられており、前記第２表示装置用モールドは前記支持フレームの一面に隣接した２つのパターン形成部が設けられており、前記第３表示装置用モールドは前記支持フレームの一面に所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部が設けられていることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の表示装置用モールド。
【請求項４】
前記支持フレームの一面には所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部が反復形成されており、
前記支持フレームの一面および他面のうちのいずれか１つの面には前記３つのパターン形成部のうちのいずれか１つに対応する開口部が形成された光遮断膜が設けられていることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の表示装置用モールド。
【請求項５】
前記第２領域は前記第１領域を介して一対で設けられることを特徴とする、請求項１に記載の表示装置用モールド。
【請求項６】
前記第２領域は前記第１領域の周りに沿って設けられていることを特徴とする、請求項１に記載の表示装置用モールド。
【請求項７】
支持フレームと、
前記支持フレームの一面から陥没している少なくとも１つのパターン形成部と前記パターン形成部の周辺に設けられた有機膜除去部を含み、
前記パターン形成部には複数の段差が形成されていることを特徴とする表示装置用モールド。
【請求項８】
絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、
前記請求項３による第１表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、
前記絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、
前記請求項３による第２表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、
前記絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、
前記請求項３による第３表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１カラーフィルターの形成後前記第２カラーフィルター層の形成前に、前記第１カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項８に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２カラーフィルター層の形成後、前記２つのパターン形成部のうちの１つのパターン形成部が前記第１カラーフィルターに対応するように前記第２表示装置用モールドを整列配置する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項９に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第２カラーフィルターの形成後前記第３カラーフィルター層の形成前に、前記第２カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第３カラーフィルター層の形成後、前記３つのパターン形成部のうちの２つのパターン形成部が前記第１および第２カラーフィルターに対応するように前記第３表示装置用モールドを整列配置する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第３カラーフィルターの形成後、前記第３カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１および第２カラーフィルターの間の領域、前記第２および第３カラーフィルターの間の領域、および前記第１および第３カラーフィルターの間の領域に残存する残膜を除去する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１および第２カラーフィルターの間の領域、前記第２および第３カラーフィルターの間の領域、および前記第１および第３カラーフィルターの間の領域にブラックマトリックスを形成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、
前記請求項４による表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、
前記表示装置用モールドを加圧した状態で前記第１カラーフィルターを露光して硬化させた後、前記開口部に対応する前記第１カラーフィルターのみを残す段階と、
前記絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、
前記開口部に隣接した前記パターン形成部が前記第１カラーフィルターに対応するように前記請求項４による表示装置用モールドを移動させる段階と、
前記請求項４による表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、
前記表示装置用モールドを加圧した状態で前記第２カラーフィルターを露光して硬化させた後、前記第１カラーフィルターと前記開口部に対応する前記第２カラーフィルターのみを残す段階と、
前記絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、
前記開口部に隣接した前記パターン形成部が前記第２カラーフィルターに対応するように前記請求項４による表示装置用モールドを移動させる段階と、
前記請求項４による表示装置用モールドを前記絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記表示装置用モールドを加圧した状態で露光して前記第３カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１８】
硬化された前記第１〜第３カラーフィルター以外の領域に残存するカラーフィルターを除去する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項１７に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第１カラーフィルターは前記第１領域に対応する第１反射部と前記第２領域に該当する第１透過部を有し、
前記第２カラーフィルターは前記第１領域に対応する第２反射部と前記第２領域に該当する第２透過部を有し、
前記第３カラーフィルターは前記第１領域に対応する第３反射部と前記第２領域に該当する第３透過部を有することを特徴とする、請求項８または請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２０】
絶縁基板上にゲート電極を有するゲート配線を形成する段階と、
前記ゲート配線上にゲート絶縁膜、半導体層、抵抗接触層およびデータ金属層を連続して蒸着する段階と、
前記データ金属層上に感光物質層を形成する段階と、
前記感光物質層上に前記請求項５および請求項６のうちのいずれか一項の表示装置用モールドを整列配置した後に加圧して、前記第１領域に対応する第１部分と前記第２領域に対応する第２部分を有する感光膜を形成する段階と、
前記感光膜を利用したエッチング工程によって薄膜トランジスタを形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１部分の厚さは前記第２部分の厚さより薄く、
前記第２部分は前記第１部分を介して一対で設けられることを特徴とする、請求項２０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記ゲート配線は一方向に延長されているゲート線を含み、
前記表示装置用モールドの一面には所定の深さに陥没しており、前記表示装置用モールドの整列配置時に前記ゲート線と交差するグルーブが設けられていることを特徴とする、請求項２０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記グルーブは前記第２領域と実質的に同一の深さに陥没していることを特徴とする、請求項２０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２４】
前記感光膜は前記グルーブに対応する第３部分をさらに含むことを特徴とする、請求項２２に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置用モールドとこれを利用した表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、表示装置のうちの小型、軽量化の長所を有する平板表示装置（ｆｌａｔ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ）が脚光を浴びている。このような平板表示装置は液晶表示装置（ＬＣＤ）と有機電界発光装置（ＯＬＥＤ）等を含む。これら表示装置は、薄膜トランジスタが設けられている基板を含むという点で共通しており、液晶表示装置の場合は、薄膜トランジスタ基板、カラーフィルターが形成されているカラーフィルター基板、および両基板の間に液晶層が位置している液晶パネルを含む。
【０００３】
各基板には金属層、無機層および有機層などを含むことができ、各層は所定のパターンに設けられている。各層のパターンは写真エッチング（ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程によって形成される。
一方、段差があるカラーフィルターや感光膜などを形成する時、スリットマスク（ｓｌｉｔ  ｍａｓｋ）、ハーフトーンマスク（ｈａｌｆｔｏｎｅ  ｍａｓｋ）、および露光を２回以上行う方法が主に使用される。しかし、これら方法は非常に複雑な工程を経なければならず、複雑な工程の条件により形成されるパターンの再現性が低いという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、本発明の目的は、製造工程が簡単な表示装置の製造方法とこれに使用される表示装置用モールドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る表示装置用モールドは、支持フレームと、支持フレームの一面から陥没している少なくとも１つのパターン形成部と前記パターン形成部の周辺に設けられている有機膜除去部を含み、パターン形成部は所定の深さに陥没した第１領域と前記第１領域よりさらに深く陥没した第２領域を有することを特徴とする。
ここで、パターン形成部は支持フレームの一面から階段形状に陥没するように構成できる。
【０００６】
そして、表示装置用モールドは第１表示装置用モールドと、第２表示装置用モールドおよび第３表示装置用モールドを含み、第１表示装置用モールドは支持フレームの一面に１つのパターン形成部が設けられており、第２表示装置用モールドは支持フレームの一面に相互隣接した２つのパターン形成部が設けられており、第３表示装置用モールドは支持フレームの一面に所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部を設けることができる。
【０００７】
また、支持フレームの一面には所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部が反復形成されており、支持フレームの一面および他面のうちのいずれか１つの面には３つのパターン形成部のうちのいずれか１つに対応する開口部が形成された光遮断膜を設けることができる。
そして、第２領域は第１領域を介して一対で設けることができる。
【０００８】
また、第２領域は第１領域の周りに沿って設けることができる。
本発明に係る表示装置用モールドは、支持フレームと、支持フレームの一面から陥没している少なくとも１つのパターン形成部とパターン形成部の周辺に設けられた有機膜除去部を含み、パターン形成部には複数の段差が形成されていることを特徴とする。
さらに、本発明に係る表示装置の製造方法は、絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、請求項３による第１表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、請求項３による第２表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、請求項３による第３表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階とを含むことを特徴とする。
【０００９】
ここで、第１カラーフィルターの形成後第２カラーフィルター層の形成前に、第１カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むように構成できる。
そして、第２カラーフィルター層の形成後、２つのパターン形成部のうちの１つのパターン形成部が第１カラーフィルターに対応するように第２表示装置用モールドを整列配置する段階をさらに含むように構成できる。
【００１０】
また、第２カラーフィルターの形成後第３カラーフィルター層の形成前に、第２カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むように構成できる。
ここで、第３カラーフィルター層の形成後、３つのパターン形成部のうちの２つのパターン形成部が第１および第２カラーフィルターに対応するように第３表示装置用モールドを整列配置する段階をさらに含むように構成できる。
【００１１】
そして、第３カラーフィルターの形成後、第３カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むことができる。
また、第１および第２カラーフィルターの間の領域、第２および第３カラーフィルターの間の領域、および第１および第３カラーフィルターの間の領域に残存する残膜を除去する段階をさらに含むように構成できる。
【００１２】
そして、第１および第２カラーフィルターの間の領域、第２および第３カラーフィルターの間の領域、および第１および第３カラーフィルターの間の領域にブラックマトリックスを形成する段階をさらに含むように構成できる。
本発明に係る表示装置の製造方法は、絶縁基板に第１カラーフィルター層を形成する段階と、請求項４による表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第１カラーフィルターを形成する段階と、表示装置用モールドを加圧した状態で第１カラーフィルターを露光して硬化させた後、開口部に対応する第１カラーフィルターのみを残す段階と、絶縁基板上に第２カラーフィルター層を形成する段階と、開口部に隣接したパターン形成部が第１カラーフィルターに対応するように請求項４による表示装置用モールドを移動させる段階と、請求項４による表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第２カラーフィルターを形成する段階と、表示装置用モールドを加圧した状態で第２カラーフィルターを露光して硬化させた後、第１カラーフィルターと開口部に対応する第２カラーフィルターのみを残す段階と、絶縁基板上に第３カラーフィルター層を形成する段階と、開口部に隣接したパターン形成部が第２カラーフィルターに対応するように請求項４による表示装置用モールドを移動させる段階と、請求項４による表示装置用モールドを絶縁基板の方向に加圧して第３カラーフィルターを形成する段階とを含むことを特徴とする。
【００１３】
ここで、表示装置用モールドを加圧した状態で露光して第３カラーフィルターを硬化させる段階をさらに含むように構成できる。
そして、硬化された前記第１〜第３カラーフィルター以外の領域に残存するカラーフィルターを除去する段階をさらに含むように構成できる。
ここで、第１カラーフィルターは第１領域に対応する第１反射部と第２領域に該当する第１透過部を有し、第２カラーフィルターは第１領域に対応する第２反射部と第２領域に該当する第２透過部を有し、第３カラーフィルターは第１領域に対応する第３反射部と第２領域に該当する第３透過部を有するように構成できる。
【００１４】
本発明に係る表示装置の製造方法は、絶縁基板上にゲート電極を有するゲート配線を形成する段階と、ゲート配線上にゲート絶縁膜、半導体層、抵抗接触層およびデータ金属層を連続して蒸着する段階と、データ金属層上に感光物質層を形成する段階と、感光物質層上に請求項５および請求項６のうちのいずれか一項の表示装置用モールドを整列配置した後に加圧して、第１領域に対応する第１部分と第２領域に対応する第２部分を有する感光膜を形成する段階と、感光膜を利用したエッチング工程によって薄膜トランジスタを形成する段階とを含むことを特徴とする。
【００１５】
ここで、第１部分の厚さは第２部分の厚さより薄く、第２部分は第１部分を介して一対として設けることができる。
そして、ゲート配線は一方向に延長されているゲート線を含み、表示装置用モールドの一面には所定の深さに陥没しており表示装置用モールドの整列配置時に前記ゲート線と交差するグルーブを設けることができる。
【００１６】
また、グルーブは第２領域と実質的に同一の深さに陥没するように構成できる。
そして、感光膜はグルーブに対応する第３部分をさらに含むことができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、製造工程が簡単な表示装置の製造方法とこれに使用される表示装置用モールドが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、各図面を参照して本発明による表示装置用モールド１０、２０、３０、４０について具体的に説明する。
図１ａ〜１ｅは本発明による表示装置用モールドを示す断面図である。
図１ａ〜１ｅに示されているように、本発明による表示装置用モールド１０、２０、３０、３０ａ、４０は、支持フレーム１１、２１、３１、４１と、支持フレーム１１、２１、３１、４１の一面から陥没している少なくとも１つのパターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２と、パターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２の周辺に設けられている有機膜除去部１６、２６、３６、４６とを含む。ここで、パターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２は、所定の深さに陥没した第１領域１３、２３ａ、２３ｂ、３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、４３と、第１領域１３、２３ａ、２３ｂ、３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、４３よりさらに深く陥没した第２領域１４、２４ａ、２４ｂ、３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、４４とからなる。つまり、パターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２には複数の段差が形成されており、前述した第１領域１３、２３ａ、２３ｂ、３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、４３と第２領域１４、２４ａ、２４ｂ、３４ａ、３４ｂ、３４ｃ、４４は段差をなしている。パターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２は所望のパターンを形成する型枠であり、有機膜除去部１６、２６、３６、４６はモールディング時に形成されたパターン以外の領域を除去する部分である。
【００１９】
図１ａ〜図１ｄは液晶表示装置を成すカラーフィルター基板１００（図３参照）のカラーフィルター１２０、１２３、１２６（図３参照）を形成することに使用される表示装置用モールド１０、２０、３０、３０ａを概略的に示した図面である。さらに具体的には、半透過型液晶表示装置において反射率と色再現性を向上させるためのツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を形成することに使用される表示装置用モールド１０、２０、３０、３０ａを示した図面である。図１ａ〜図１ｄに示されているように、本発明による表示装置用モールド１０、２０、３０、３０ａのパターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２は支持フレーム１１、２１、３１の一面から階段形状に陥没している。
【００２０】
図１ａに示されているように、第１表示装置用モールド１０には支持フレーム１１の一面から陥没した１つのパターン形成部１２が設けられており、パターン形成部１２は第１領域１３と第２領域１４とからなる。第２領域１４の陥没した深さｈ２は第１領域１３の陥没した深さｈ１より深く、第１領域１３と第２領域１４は段差をなしている。
そして、図１ｂに示されているように、第２表示装置用モールド２０には支持フレーム２１の一面から陥没しており隣接した２つのパターン形成部２２ａ、２２ｂが設けられている。２つのパターン形成部２２ａ、２２ｂは所定間隔で離間しており、離間している領域は有機膜除去部２６であって、後述するブラックマトリックス１３０（図３参照）に対応する幅で設けられている。それぞれのパターン形成部２２ａ、２２ｂには、所定の深さｈ１に陥没した第１領域２３ａ、２３ｂと、この第１領域２３ａ、２３ｂと段差をなして第１領域２３ａ、２３ｂよりさらに深くｈ２だけ陥没した第２領域２４ａ、２４ｂが設けられている。
【００２１】
また、図１ｃに示されているように、第３表示装置用モールド３０には支持フレーム３１の一面から陥没しており所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃが設けられている。離間した領域は有機膜除去部３６としての役割を果たし、後述するブラックマトリックス１３０（図３参照）に対応する幅で設けられている。それぞれのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと、第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと階段形状をなしている第２領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃとを含む。そして、第２領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃの陥没した深さｈ２は第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃの陥没した深さｈ１よりさらに深く設けられている。
【００２２】
図１ｄは１つの表示装置用モールド３０ａを利用して赤色、緑色、青色のツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を形成する場合に使用される表示装置用モールド３０ａの構造を説明するための図面である。説明の便宜のために図１ｃと同一の構成要素に対して同一の参照番号を付与して説明する。
図１ｄに示されているように、支持フレーム３１の一面には所定間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃが繰り返されて形成されている。それぞれのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃは、所定の深さｈ１だけ陥没した第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと、第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと階段形状をなしており第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃより深い深さｈ２だけ陥没した第２領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃとを含む。パターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃの間の領域は有機膜除去部３６であり、支持フレーム３１の他面には３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃのうちのいずれか１つに対応するように開口部３９が形成された光遮断膜３８が設けられている。つまり、図１ｄに示されているように、一番目に位置するパターン形成部３２ａに対応するように開口部３９が設けられた光遮断膜３８が支持フレーム３１の他面に形成されている。光遮断膜３８はパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃが設けられたフレーム３１の一面にも形成することができ、照射される光を遮断する役割を果たす。そして、光遮断膜３８によって形成しようとするカラーフィルター以外の領域を容易に除去することができる。
【００２３】
このように、階段形状をなしているパターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃの形状はツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を形成するための構造的特徴である。
図１ｅは、薄膜トランジスタ製造工程で使用するマスクの数を減少するために、段差を有するように感光膜を形成する場合に、使用する表示装置用モールド４０である。つまり、ソース電極、ドレイン電極、抵抗接触層、および半導体層を所望のパターンに形成するために互いに異なる高さを有する形態の感光膜を形成しなければならず、感光膜を所望の形態に形成するために使用される表示装置用モールド４０である。図１ｅによる表示装置用モールド４０には、所定の深さｈ１だけ陥没した第１領域４３とこの第１領域４３を介して対で設けられている第２領域４４とを備えたパターン形成部４２が設けられている。第２領域４４の陥没した深さｈ２は第１領域４３より深く設けられている。パターン形成部４２は支持フレーム４１の一面に設けられており、パターン形成部４２の周辺は、パターンを形成する領域以外の領域の感光膜をモールディング時に除去するための有機膜除去部４６である。形成しようとするソース電極とドレイン電極の形態に従って、第２領域４４は第１領域４３の周りに沿って設けることもできる。
【００２４】
前述のように、複数の段差が形成されたパターン形成部１２、２２ａ、２２ｂ、３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、４２を有する表示装置用モールド１０、２０、３０、３０ａ、４０を利用することによって、マスクを使用することなく簡単に所望のパターンを形成することができ、工程が容易であり、パターン形成の収率が向上する。
以下、添付図面を参照して本発明による表示装置用モールドを利用した表示装置の製造方法について説明する。以下において、ある膜（層）が他の膜（層）の‘上部に’形成されて（位置して）いるという場合は、２つの膜（層）が接している場合だけでなく、２つの膜（層）の間に他の膜（層）が存在する場合も含む。
【００２５】
図２は本発明による薄膜トランジスタ基板の平面度であり、図３は図２のIII-III線による断面図であり、図4は 本発明による薄膜トランジスタ基板の簡略配置図であり、図５は 図４のV-V線によるカラーフィルター基板の 断面図である。
本発明による液晶パネル４００は、カラーフィルター基板１００とこれに対面している薄膜トランジスタ基板２００、そしてこれらの間に位置している液晶層３００を含む。
【００２６】
まず、図３及び図５を参照してカラーフィルター基板１００について説明した後、図２および図３を参照して薄膜トランジスタ基板２００について説明する。
絶縁基板１１０はガラスまたはプラスチックにより形成することができる。この第１絶縁基板１１０の上には赤色、緑色および青色フィルターが所定間隔で離間して反復形成されている。カラーフィルター１２０、１２３、１２６は、通常、感光性有機物質で構成され、バックライトユニット（図示せず）から照射された光または自然光が液晶層３００を通過した後の光に色を付与する役割を果たす。カラーフィルター１２０、１２３、１２６は、図３に示されているように、互いに異なる高さを形成している。つまり、カラーフィルター１２０、１２３、１２６の厚さは一部の領域で厚く形成されており、その他の領域では薄く形成されている。
【００２７】
カラーフィルター１２０、１２３、１２６は、厚さの薄い反射部１２１、１２４、１２７と厚さの厚い透過部１２２、１２５、１２８を備えている。反射部１２１、１２４、１２７は反射層２９８が形成された領域に対応しており、透過部１２２、１２５、１２８は反射層２９８の周辺領域に対応している。 
バックライトから照射された光は、厚さの厚い透過部１２２、１２５、１２８を１回経て外部に放出され、自然光から照射された光は反射領域で反射されて、厚さの薄い反射部１２１、１２４、１２７を２回経て外部に放出される。
【００２８】
このようにバックライトから照射された光と自然光から照射された光がカラーフィルター１２０、１２３、１２６を同程度に通過して色再現性が向上する。
各カラーフィルター１２０、１２３、１２６の間にはブラックマトリックス１３０が形成されている。ブラックマトリックス１３０は一般に赤色、緑色および青色フィルターの間を区分し、薄膜トランジスタ基板２００に位置する薄膜トランジスタＴへの直接的な光照射を遮断する役割を果たす。ブラックマトリックス１３０は通常黒色顔料が添加された感光性有機物質からなる。この黒色顔料としてはカーボンブラックや酸化チタン（ｔｉｔａｎｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ）などを使用する。
【００２９】
カラーフィルター１２０、１２３、１２６とカラーフィルター１２０、１２３、１２６が覆っていないブラックマトリックス１３０の上部にはオーバーコート層１４０が形成されている。オーバーコート層１４０はカラーフィルター１２０、１２３、１２６を平坦にするとともに、カラーフィルター１２０、１２３、１２６を保護する役割を果たすものであって、通常アクリル系エポキシ材料が多く使用される。
【００３０】
オーバーコート層１４０の上部には共通電極１５０が形成されている。共通電極１５０はＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質からなる。共通電極１５０は薄膜トランジスタ基板２００の画素電極２８０と共に液晶層３００に直接電圧を印加する。
以下、薄膜トランジスタ基板２００について説明する。
【００３１】
ガラスまたはプラスチックを含んでなる第２絶縁基板２１０上には薄膜トランジスタＴが設けられている。
薄膜トランジスタＴはゲート電極２２３、第２絶縁基板２１０とゲート電極２２３を覆っているゲート絶縁膜２３０、ゲート電極２２３上のゲート絶縁膜２３０に形成された半導体層２４０、半導体層２４０上でゲート電極２２３を中心に相互に離間している抵抗接触層２５０、分離された抵抗接触層２５０上にそれぞれ位置するソース電極２６２とドレイン電極２６３を含む。
【００３２】
ここで、ゲート電極２２３は一方向に延長されたゲート線２２１の分枝であって、ゲート配線２２１、２２３はゲート線２２１、ゲート電極２２３およびゲート線２２１の端部に設けられて外部から信号の伝達を受けるゲートパッド（図示せず）を含む。
そして、ソース電極２６２はゲート線２２１と電気的に絶縁した状態で交差するデータ線２６１の分枝であり、ドレイン電極２６３はゲート電極２２３を介してソース電極２６２と離間してチャンネル領域を形成する。データ配線（２６１、２６２、２６３）はデータ線２６１、ソース電極２６２、ドレイン電極２６３およびデータ線２６１の端部に設けられて外部から信号の伝達を受けるデータパッド（図示せず）を含む。
【００３３】
データ配線（２６１、２６２、２６３）およびこれらが覆っていない半導体層２４０の上部には保護膜２７０が形成されている。保護膜２７０には凹凸パターン２７５、ドレイン電極２６３を露出させるドレイン接触孔２７１等が形成されている。保護膜２７０の表面に形成された凹凸パターン２７５は光の散乱を誘発して反射率を高めるためのものである。
【００３４】
凹凸パターン２７５が形成された保護膜２７０の上部には画素電極２８０が形成されている。画素電極２８０は通常ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質からなる。画素電極２８０はドレイン接触孔２７１を通じてドレイン電極２６３と電気的に接続されている。そして、保護膜２７０の表面の凹凸パターン２７５によって、画素電極２８０には凹凸パターンが形成される。
【００３５】
反射層２９８は画素電極２８０の上部の一領域に形成されている。ここで、ゲート線２２１とデータ線２６１は電気的に絶縁状態で交差して画素領域を定義する。この画素領域は反射層２９８が形成されていない透過領域と反射層２９８が形成されている反射領域とに区分される。反射層２９８が形成されていない透過領域ではバックライトユニット（図示せず）の光が通過して液晶パネル４００の外部に照射され、反射層２９８が形成されている反射領域では外部からの光が反射されて再び液晶パネル４００の外部に照射される。反射層２９８は主にアルミニウムや銀が使用され、場合によってはアルミニウム／モリブデンの二重層を使用することもできる。反射層２９８はドレイン接触孔２７１を通じてドレイン電極２６３と電気的に接続されている。そして、画素電極２８０の表面の凹凸パターンによって反射層２９８にも凹凸パターンが形成されている。
【００３６】
以下、ツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を有するカラーフィルター基板１００を製造する方法について図６ａ〜図６ｉを参照して説明する。
まず、図６ａに示されているように、第１絶縁基板１１０の上に第１カラーフィルター層１２０ａを形成する。第１カラーフィルター層１２０ａは感光性物質で、赤色、緑色、青色のうちのいずれか１つとすることができる。そして、第１表示装置用モールド１０を第１絶縁基板１１０の上に整列配置する。
【００３７】
その次に、図６ｂに示されているように、第１表示装置用モールド１０を第１絶縁基板１１０の方向に加圧して第１カラーフィルター層１２０ａにパターン形成部１２に対応するパターンを形成する。
その後、図６ｃに示すように、第１表示装置用モールド１０を分離して、第１領域１３に対応する第１反射部１２１と第２領域１４に対応する第１透過部１２２を有する第１カラーフィルター１２０を完成する。ここで、図示していないが、第１カラーフィルター１２０を露出させる開口部を有するマスクを利用して第１カラーフィルター１２０を露光して硬化することもできる。これは、形成された第１カラーフィルター１２０の形状を後工程でも維持できるようにするためであり、これによってさらに精密な形態の第１カラーフィルター１２０を形成することができる。
【００３８】
続いて、図６ｃに示すように、第１カラーフィルター１２０が形成された第１絶縁基板１１０の上に第２カラーフィルター層１２３ａを形成する。
その後、図６ｄに示しているように、第２表示装置用モールド２０を第１絶縁基板１１０の上に整列配置する。さらに具体的に説明すると、２つのパターン形成部２２ａ、２２ｂのうちの１つのパターン形成部２２ａが予め設けられた第１カラーフィルター１２０に対応するように第２表示装置用モールド２０を整列配置する。これは、第１カラーフィルター１２０の形状を後続工程でも保護するためである。
【００３９】
その次に、図６ｅに示すように、第２表示装置用モールド２０を第１絶縁基板１１０の方向に加圧して第２カラーフィルター層１２３ａにパターン形成部２２ｂに対応するパターンを形成する。
その後、図６ｆに示すように、第２表示装置用モールド２０を分離して第１領域２３ｂに対応する第２反射部１２４と第２領域２４ｂに対応する第２透過部１２５を有する第２カラーフィルター１２３を完成する。ここでも、第１カラーフィルター１２０のように第２カラーフィルター１２３を硬化させる工程を経るのが好ましい。
【００４０】
続いて、図６ｆに示すように、第１および第２カラーフィルター１２０、１２３が形成された第１絶縁基板１１０の上に第３カラーフィルター層１２６ａを形成する。
その後、図６ｇに示すように、第３表示装置用モールド３０を第１絶縁基板１１０の上に整列配置する。さらに具体的に説明すると、３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃのうちの２つのパターン形成部３２ａ、３２ｂが予め設けられた第１および第２カラーフィルター１２０、１２３に対応するように第３表示装置用モールド３０を整列配置する。これは、第１および第２カラーフィルター１２０、１２３の形状を後続工程でも保護するためである。
【００４１】
その次に、図６ｈに示すように、第３表示装置用モールド３０を第１絶縁基板１１０の方向に加圧して第３カラーフィルター層１２６ａにパターン形成部３２ｃに対応するパターンを形成する。
その後、図６ｉに示すように、第３表示装置用モールド３０を分離して第１領域３３ｃに対応する第３反射部１２７と第２領域３４ｃに対応する第３透過部１２８を有する第３カラーフィルター１２６を完成する。ここでも、第１カラーフィルター１２０のように第３カラーフィルター１２６を硬化させる工程を経るのが好ましい。一方、必要によって、所定のパターンの開口部を有するマスクをさらに使用して第１および第２カラーフィルター１２０、１２３の間の領域、第２および第３カラーフィルター１２３、１２６の間の領域、および第１および第３カラーフィルター１２０、１２６の間の領域に残存する感光性物質の残膜を除去する工程をさらに行うことができる。
【００４２】
続いて、図６ｉに示すように、第１および第２カラーフィルター１２０、１２３の間の領域、第２および第３カラーフィルター１２３、１２６の間の領域、および第１および第３カラーフィルター１２０、１２６の間の領域に公知の方法を利用してブラックマトリックス１３０を形成する。
そして、図３に示すように、公知の方法によってオーバーコート層１４０と共通電極１５０を形成するとツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）の構造を有するカラーフィルター基板１００を完成することができる。
【００４３】
以下、図７ａ〜図７ｉを参照して、１つの表示装置用モールド３０ａを利用して赤色、緑色、青色のツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を形成する方法について説明する。
以下の説明で使用する表示装置用モールド３０ａは図７ａに示すように、支持フレーム３１の一面には所定の間隔で離間して配置されている３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃが繰り返して形成されている。それぞれのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃは所定の深さｈ１で陥没した第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと、この第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃと階段形状をなしており第１領域３３ａ、３３ｂ、３３ｃより深い深さｈ２だけ陥没した第２領域３４ａ、３４ｂ、３４ｃとを含む。パターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃの間の領域は有機膜除去部３６であり、支持フレーム３１の他面には３つのパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃのうちのいずれか１つに対応するように開口部３９の形成された光遮断膜３８が設けられている。
【００４４】
まず、図７ａに示すように、第１絶縁基板１１０の上に第１カラーフィルター層１２０ａを形成する。第１カラーフィルター層１２０ａは感光性物質で、赤色、緑色、青色のうちのいずれか１つとすることができる。そして、前述した表示装置用モールド３０ａを第１絶縁基板１１０の上に整列配置する。
その次に、図７ｂに示すように、表示装置用モールド３０ａを第１絶縁基板１１０の方向に加圧してパターン形成部３２ａ、３２ｂ、３２ｃに対応する第１カラーフィルター１２０を形成する。続いて、露光して開口部３９に対応する第１カラーフィルター１２０のみを硬化させる。
【００４５】
その後、図７ｃに示すように、表示装置用モールド３０ａを分離した後、硬化していないカラーフィルター１２０を除去して、第１領域３３ａに対応する第１反射部１２１と第２領域３４ａに対応する第１透過部１２２を有する第１カラーフィルター１２０を完成する。
その次に、図７ｄに示すように、第１カラーフィルター１２０が形成された第１絶縁基板１１０の上に第２カラーフィルター層１２３ａを形成した後、開口部３９に隣接したパターン形成部３２ｃが第１カラーフィルター１２０に対応するように前述した表示装置用モールド３０ａを移動させて整列配置する。例えば、開口部３８に対応するパターン形成部３２ａが第１パターン形成部３２ａであり、右側方向に配置されているパターン形成部３２ｂ、３２ｃが順に第２および第３パターン形成部３２ｂ、３２ｃである場合、第３パターン形成部３２ｃが第１カラーフィルター１２０に対応するように前述した表示装置用モールド３０ａを移動させて整列配置する。
【００４６】
その後、図７ｅに示すように、表示装置用モールド３０ａを第１絶縁基板１１０の方向に加圧してパターン形成部３２ａ、３２ｂに対応する第２カラーフィルター１２３を形成する。続いて、露光して開口部３９に対応する第２カラーフィルター１２３のみを硬化させる。
続いて、図７ｆに示すように、表示装置用モールド３０ａを分離した後、硬化していない第２カラーフィルター１２３を除去して、第１領域３３ａに対応する第２反射部１２４と第２領域３４ａに対応する第２透過部１２５を有する第２カラーフィルター１２３を完成する。ここで、第１カラーフィルター１２０は第３パターン形成部３２ｃによって後続工程でその形状が保護される。
【００４７】
その次に、図７ｇに示すように、第１および第２カラーフィルター１２０、１２３が形成された第１絶縁基板１１０の上に第３カラーフィルター層１２６ａを形成した後、開口部３９に隣接したパターン形成部３２ｂ、３２ｃが第１および第２カラーフィルター１２０、１２３に対応するように前述した表示装置用モールド３０ａを移動して整列配置する。
【００４８】
その後、図７ｈに示すように、表示装置用モールド３０ａを第１絶縁基板１１０の方向に加圧して、パターン形成部３２ｃに対応する第３カラーフィルター１２６を形成する。続いて、露光して開口部３９に対応する第３カラーフィルター１２６のみを硬化させる。
その次に、図７ｉに示すように、表示装置用モールド３０ａを分離して、第１領域３３ａに対応する第３反射部１２７と第２領域３４ａに対応する第３透過部１２８を有する第３カラーフィルター１２６を完成する。ここで、第１および第２カラーフィルター１２０、１２３は第２および第３パターン形成部３２ｂ、３２ｃによって後続工程でその形状が保護される。
【００４９】
一方、必要によって、硬化された前記第１〜第３カラーフィルター１２０、１２３、１２６以外の領域に残存するカラーフィルター材料を除去する工程をさらに行うこともできる。
以上の方法によって、複雑な写真エッチング工程でない、表示装置用モールドを利用して簡単にツートーンカラーフィルター（ｔｗｏ  ｔｏｎｅ  ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ）を製造することができる。また、カラーフィルターの形状をより精巧に製作することができ、カラーフィルターの収率が向上する。
【００５０】
以下、複数の段差を有する表示装置用モールド４０を利用して薄膜トランジスタ基板２００を製造する方法について説明する。
以下で説明する表示装置用モールド４０（図８ｄ参照）は、薄膜トランジスタ製造工程で使用するマスクの回数を減少させるために、感光膜が段差を有するように形成する場合に使用される表示装置用モールド４０（図８ｄ参照）である。図８ｄに示すように、表示装置用モールド４０には所定の深さｈ１だけ陥没した第１領域４３と、この第１領域４３を介して対に設けられている第２領域４４とからなるパターン形成部４２を備えている。第２領域４４が陥没している深さｈ２は第１領域４３より深いように設定されている。パターン形成部４２は支持フレーム４１の一面に設けられており、パターン形成部４２の周辺はモールディング時にパターンが形成された以外の領域を除去する有機膜除去部４６である。そして、パターン形成部４２と一定の間隔で離間している部分にはグルーブ４８が設けられている。このグルーブ４８の深さｈ３は第１領域４４の深さｈ２と実質的に同一である。
【００５１】
まず、図８ａに示すように、第２絶縁基板２１０の上にゲート金属層を蒸着した後、パターニングしてゲート線２２１（図２参照）、ゲート電極２２３、ゲートパッド（図示せず）を形成する。
その後、図８ｂに示すように、ゲート絶縁膜２３０、半導体層２４５、抵抗接触層２５５、データ金属層２６５を形成する。
【００５２】
続いて、図８ｃに示すように、データ金属層２６５の上に有機物質の感光物質層２９５を形成する。
その後、図８ｄに示すように、前述した表示装置用モールド４０を第２絶縁基板２１０の上に整列配置する。さらに詳しく説明すると、第１領域４３がゲート電極２２３に対応し、ゲート線２２１（図２参照）と交差するように形成されるデータ線２６１（図２参照）にグルーブ４８が対応するように整列配置する。
【００５３】
そして、表示装置用モールド４０を第２絶縁基板２１０の方向に加圧して、図８ｅに示すように、第１領域４３に対応する第１部分２９１と第２領域４４に対応する第２部分２９２を有する感光膜２９０を形成する。これに加えて、感光膜２９０はグルーブ４８に対応する第３部分２９３をさらに含む。
この時、感光膜２９０のうちの第１部分２９１の厚さｈ４は、データ線２６１（図２参照）を形成するための第３部分２９３の厚さｈ６より小さく形成される。また、第２部分２９２の厚さｈ５と第３部分２９３の厚さｈ６は実質的に同一に形成される。そして、パターン形成部４２とグルーブ４８に対応する領域以外の感光膜は全て除去する。ここで、第１部分２９１の厚さｈ４と第２部分２９２および第３部分２９３の厚さｈ５、ｈ６の比は後述するエッチング工程での工程条件によって異なるように設定することができ、第１部分２９１の厚さｈ４を第２および第３部分２９２、２９３の厚さｈ５、ｈ６の１／２以下とするのが好ましく、例えば、４０００Å以下とすることが好ましい。
【００５４】
その次に、感光膜２９０およびその下部の膜、つまり、データ金属層２６５、抵抗接触層２５５および半導体層２４５に対するエッチングを行う。この時、第２および第３部分２９２、２９３の下部にはデータ金属層２６５およびその下部の膜２５５、２４５、２３０がそのまま残っており、第１領域２９１の下部には半導体層２４０（図３参照）のみが残っており、感光膜２９０が形成された以外の領域では上の３つの層２６５、２５５、２４５が全て除去されてゲート絶縁膜２３０が露出されなければならない。
【００５５】
まず、図８ｆに示すように、感光膜２９０が形成された以外の領域のデータ金属層２６５を除去して、その下部の抵抗接触層２５５を露出させる。このようにすると、図８ｆに示すように、感光膜２９０の下部にデータ金属層２６５のみが残り、それ以外の領域ではデータ金属層２６５が全て除去されて、その下部の抵抗接触層２５５が露出される。この時残ったデータ金属層２６５は、ソースおよびドレイン電極２６２、２６３が分離されずに接続されている点を除けば、データ配線２６１、２６２、２６３（図２および図３参照）の形態と同一である。その次に、図８ｇに示されているように、感光膜２９０が形成された以外の領域で露出された抵抗接触層２５５およびその下部の半導体層２４５を感光膜２９０の第１部分２９１と共に乾式エッチング法で同時に除去する。このようにすると、図８ｇに示すように、感光膜２９０の第１部分２９１が除去されてデータ配線層２６５が露出され、感光膜２９０が形成された以外の領域の抵抗接触層２５５および半導体層２４５が除去されて、その下部のゲート絶縁膜２３０が露出される。一方、感光膜２９０の第３部分２９３もエッチングされるので厚さが薄くなる。
【００５６】
その次に、アッシング（ａｓｈｉｎｇ）によってデータ金属層２６５の表面に残っている感光膜クズを除去する。
その次に、図８ｈに示すように、第２領域２９２の間に位置するデータ金属層２６５およびその下部の抵抗接触層２５５をエッチングして除去する。
このようにすると、図８ｈに示されているように、ゲート電極２２３を中心に互いに離間しているソース電極２６２とドレイン電極２６３および抵抗接触層２５０が形成される。そして、半導体層２４０の一部が除去されて厚さが薄くなり得る。
【００５７】
その後、残存する感光膜２９０を除去した後、図６ｉに示されているように、窒化シリコンやａ−Ｓｉ：Ｃ：Ｏ膜またはａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｆ膜を化学気相蒸着（ＣＶＤ）法によって有機絶縁膜を塗布して保護膜２７０を形成する。保護膜２７０にはドレイン電極２６３を露出させる接触孔２７１が形成されている。
その後、図示していないが、公知の半透過型液晶表示装置を製造する方法によって保護膜２７０に凹凸パターン２７５を形成し、画素電極２８０と画素電極２８０の一領域に反射層２９８を形成することによって半透過型液晶表示装置に適用される薄膜トランジスタ基板２００を完成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１ａ】本発明による表示装置用モールドを示す図面である。
【図１ｂ】本発明による表示装置用モールドを示す図面である。
【図１ｃ】本発明による表示装置用モールドを示す図面である。
【図１ｄ】本発明による表示装置用モールドを示す図面である。
【図１ｅ】本発明による表示装置用モールドを示す図面である。
【図２】本発明による薄膜トランジスタ基板の配置図である。
【図３】図２のIII-III線による断面図である。
【図４】本発明による薄膜トランジスタ基板の簡略配置図である。
【図５】図５のV-V線によるカラーフィルター基板の断面図である。
【図６ａ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｂ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｃ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｄ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｅ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｆ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｇ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｈ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図６ｉ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ａ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｂ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｃ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｄ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｅ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｆ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｇ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｈ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図７ｉ】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ａ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｂ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｃ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｄ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｅ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｆ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｇ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｈ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図８ｉ】本発明による薄膜トランジスタ基板の製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１０      第１表示装置用モールド
１１      支持フレーム
１２      パターン形成部
１３      第１領域
１４      第２領域
１６      有機膜除去部
２０      第２表示装置用モールド
２１      支持フレーム
２２ａ、２２ｂ      パターン形成部
２３ａ、２３ｂ      第１領域
２４ａ、２４ｂ      第２領域
２６      有機膜除去部
３０      第３表示装置用モールド
３１      支持フレーム
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ      パターン形成部
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ      第１領域
３４ａ、３４ｂ、３４ｃ      第２領域
３６      有機膜除去部
４０      表示装置用モールド
４１      支持フレーム
４２      パターン形成部
４３      第１領域
４４      第２領域
４６      有機膜除去部
【図１ａ】
2007226237.tif 000003
【図１ｂ】
2007226237.tif 000004
【図１ｃ】
2007226237.tif 000005
【図１ｄ】
2007226237.tif 000006
【図１ｅ】
2007226237.tif 000007
【図２】
2007226237.tif 000008
【図３】
2007226237.tif 000009
【図４】
2007226237.tif 000010
【図５】
2007226237.tif 000011
【図６ａ】
2007226237.tif 000012
【図６ｂ】
2007226237.tif 000013
【図６ｃ】
2007226237.tif 000014
【図６ｄ】
2007226237.tif 000015
【図６ｅ】
2007226237.tif 000016
【図６ｆ】
2007226237.tif 000017
【図６ｇ】
2007226237.tif 000018
【図６ｈ】
2007226237.tif 000019
【図６ｉ】
2007226237.tif 000020
【図７ａ】
2007226237.tif 000021
【図７ｂ】
2007226237.tif 000022
【図７ｃ】
2007226237.tif 000023
【図７ｄ】
2007226237.tif 000024
【図７ｅ】
2007226237.tif 000025
【図７ｆ】
2007226237.tif 000026
【図７ｇ】
2007226237.tif 000027
【図７ｈ】
2007226237.tif 000028
【図７ｉ】
2007226237.tif 000029
【図８ａ】
2007226237.tif 000030
【図８ｂ】
2007226237.tif 000031
【図８ｃ】
2007226237.tif 000032
【図８ｄ】
2007226237.tif 000033
【図８ｅ】
2007226237.tif 000034
【図８ｆ】
2007226237.tif 000035
【図８ｇ】
2007226237.tif 000036
【図８ｈ】
2007226237.tif 000037
【図８ｉ】
2007226237.tif 000038