(57)【要約】【課題】透過・反射バンドが広く、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、およびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。【解決手段】基体１１側から順に、第１の酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ、第２の酸化物層１２ｃを積層した３層構造、または該３層構造が繰り返された３×ｎ層構造（ｎは２以上の整数である。）からなる導電膜１２を有し、第１の酸化物層１２ａが酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とし、金属層１２ｂが銀を主成分とし、第２の酸化物層１２ｃが酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とする導電性積層体１０を用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
該基体側から順に、第１の酸化物層、金属層、および第２の酸化物層を積層した３層構造、または、該３層構造が繰り返された３×ｎ層構造（ｎは２以上の整数である。）からなる導電膜とを有し、
前記第１の酸化物層が、酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とする層であり、
前記金属層が、銀または銀合金を主成分とする層であり、
前記第２の酸化物層が、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％であり、ガリウムの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％である層である、導電性積層体。
【請求項２】
前記導電膜が、３×ｎ層構造（ｎは２〜８の整数である。）からなる、請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
前記金属層が、純銀からなる層、または金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種を含有する銀合金からなる層である、請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性積層体からなる、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム。
【請求項５】
支持基体と、
該支持基体上に設けられた請求項４に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、
該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有する、プラズマディスプレイ用保護板。
【請求項６】
導電性メッシュフィルムをさらに有する、請求項５に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。たとえば、特許文献１には、透明基板上に酸化亜鉛からなる透明酸化物層と銀層とを交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された導電性積層体が開示されている。該導電性積層体は、充分な導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性を有するとされている。しかし、導電性積層体の導電性（電磁波遮蔽性）をさらに向上させようと、積層数ｎを増やして銀層の数を増やした場合、可視光透過性が低下する問題がある。
【０００３】
また、導電性積層体は、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す。）の前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、ＰＤＰの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された導電性積層体からなる電磁波遮蔽フィルムが配置されている。
たとえば、特許文献２には、導電膜として、酸化物層と金属層とが交互に積層された積層体を有するプラズマディスプレイ用保護板が開示されている。
【０００４】
プラズマディスプレイ用保護板においては、可視光領域全体にわたって透過率が高いこと、および可視光領域全体にわたって反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンドが広いこと、また、近赤外領域においては遮蔽性が高いことが求められる。透過・反射バンドを広くするためには、保護板に用いられる電磁波遮蔽フィルムにおける導電膜の酸化物層と金属層との積層数を増やせばよい。しかし、積層数を増やすと、（ｉ）電磁波遮蔽フィルムにおける内部応力が増加し、該フィルムがカールしたり、導電膜が破断して抵抗値が高くなったりする問題、（ii）可視光透過性が低下する問題、等が生じるため、導電膜における酸化物層と金属層との積層数には限界がある。よって、透過・反射バンドが広くでき、しかも導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性に優れた電磁波遮蔽フィルムは知られていなかった。
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】国際公開第９８／１３８５０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、透過・反射バンドが広く、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、およびプラズマディスプレイ用保護板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の導電性積層体は、基体と、該基体側から順に、第１の酸化物層、金属層、および第２の酸化物層を積層した３層構造、または、該３層構造が繰り返された３×ｎ層構造（ｎは２以上の整数である。）からなる導電膜とを有し、前記第１の酸化物層が、酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とする層であり、前記金属層が、銀または銀合金を主成分とする層であり、前記第２の酸化物層が、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％であり、ガリウムの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％である層であることを特徴とする。
前記導電膜は、３×ｎ層構造（ｎは２〜８の整数である。）からなることが好ましい。
前記金属層は、純銀からなる層、または金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種を含有する銀合金からなる層であることが好ましい。
【０００７】
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、本発明の導電性積層体からなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、支持基体と、該支持基体上に設けられた本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、導電性メッシュフィルムをさらに有していてもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の導電性積層体は、透過・反射バンドが広く、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、電磁波遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
＜導電性積層体＞
図１は、本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体１０は、基体１１と、該基体１１上に設けられた導電膜１２とを有して概略構成される。
【００１０】
（基体）
基体１１としては、透明基体が好ましい。本発明における「透明」とは、可視光領域の波長の光を透過することを意味する。
透明基体の材質としては、ガラス（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む。）；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のプラスチック等が挙げられる。
【００１１】
（導電膜）
本発明における導電膜は、基体側から順に、第１の酸化物層、金属層、および第２の酸化物層を積層した３層構造、または、該３層構造が繰り返された３×ｎ層構造（ｎは２以上の整数である。）の多層膜である。
導電膜は、３×ｎ層構造（ｎは２以上の整数である。）であることが好ましい。また、ｎは、２〜８が好ましく、２〜６がより好ましい。ｎを２以上とすることにより、得られる保護板の透過・反射バンドが充分に広くなり、また、抵抗値が充分に低くなり、導電性が向上する。ｎを８以下とすることにより、導電性積層体の内部応力増加を充分に抑制できる。導電膜の抵抗値は、電磁波遮蔽性を充分に確保するため、３．５Ω以下が好ましく、２．５Ω以下がより好ましく、１．５Ω以下が特に好ましい。導電膜１２の抵抗値を充分に低くするするために、導電膜１２の比抵抗は、５．０μΩｃｍ以下が好ましい。
【００１２】
図１における導電膜１２は、ｎ＝４の例である。該導電膜１２は、基体１１側から順に、第１の酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ、および第２の酸化物層１２ｃを積層し、さらにこれら３層の積層をさらに３回繰り返してなる、合計１２層から構成される多層膜である。
【００１３】
第１の酸化物層１２ａは、酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とする層である。酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とすることにより、第１の酸化物層１２ａの可視光透過性の向上させ、また導電膜１２の透過・反射バンドを広くできる。
【００１４】
第１の酸化物層１２ａは、酸化物換算で、ＺｎＯとＴｉＯ2 とを第１の酸化物層全質量に対して合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。これにより、透過・反射バンドを広く保つことができる。本発明における酸化物換算の含有量は、ラザフォード後方散乱法により測定して求められる。
第１の酸化物層１２ａにおいて、亜鉛（Ｚｎ）およびチタン（Ｔｉ）は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）として、またはこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。
【００１５】
第１の酸化物層１２ａにおけるチタンの割合は、チタンと亜鉛との合計（１００原子％）のうち、１〜５０原子％が好ましく、５〜２０原子％が特に好ましい。チタンの割合をこの範囲内とすることにより、保護板とした際、透過・反射バンドを広く保つことができる。また、第１の酸化物層１２ａ中の粒子を小さくできるため、金属層１２ｂを製膜した際、均一で緻密な膜を形成でき、導電性に優れた金属層１２ｂが得られる。
【００１６】
第１の酸化物層１２ａには、物性を損なわない範囲で、亜鉛、チタン以外の、他の金属が酸化物として適宜必要に応じて含まれていてもよい。たとえば、ニオブ、ガリウム、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、スズ等が含まれていてもよい。
【００１７】
第１の酸化物層１２ａの物理的膜厚（以下、膜厚と記す。）は、３０〜５０ｎｍが好ましく、３５〜４５ｎｍが特に好ましい。本発明における「膜厚」は、触針式表面粗さ測定機により測定される膜厚である。
【００１８】
金属層１２ｂは、銀または銀合金を主成分とする層である。金属層１２ｂは、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９５質量％以上含有することが好ましい。これにより、導電膜１２の抵抗値を低くできる。
【００１９】
金属層１２ｂは、導電膜１２の抵抗値を低くする観点からは、純銀からなる層であることが好ましい。本発明における「純銀」は、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含有することを意味する。
金属層１２ｂは、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点からは、金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種の他の金属を含有する銀合金からなる層が好ましい。他の金属の合計は、比抵抗を５．０μΩｃｍ以下にするために、金属層１２ｂ（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。
【００２０】
すべての金属層１２ｂの膜厚を合計した合計膜厚は、たとえば、得られる導電性積層体１０の表面抵抗の目標を１．５Ω／□とした場合、２５〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましく、表面抵抗の目標を１Ω／□とした場合、３５〜８０ｎｍが好ましく、３５〜７０ｎｍがより好ましい。各金属層１２ｂの膜厚は、合計膜厚を金属層１２ｂの数で適宜配分する。なお、金属層１２ｂの数が多くなると、各金属層１２ｂの比抵抗が上がるため、抵抗値を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００２１】
第２の酸化物層１２ｃは、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とする層である。第２の酸化物層１２ｃは、酸化物換算で、ＺｎＯとＮｂ2Ｏ5とＧａ2Ｏ3とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
第２の酸化物層１２ｃにおいて、亜鉛（Ｚｎ）、ニオブ（Ｎｂ）およびガリウム（Ｇａ）は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）および酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）として、またはこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。
【００２２】
酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とするターゲット（以下、ＧＮＺＯターゲットと記す。）は、第１の酸化物層１２ａの製膜に用いられる、酸化亜鉛および酸化チタンを主成分とするターゲット（以下、ＴＺＯターゲットを記す。）に比べ、後述のスパッタリング等による製膜速度が速い。よって、金属層１２ｂと第１の酸化物層１２ａとの間、および導電膜１２の最外層に第２の酸化物層１２ｃを設けることにより、製膜に時間のかかる第１の酸化物層１２ａの膜厚を光学特性を低下させることなく薄くでき、かつ最外層に第１の酸化物層１２ａを設ける必要がなくなり、結果、導電性積層体１０の生産効率が向上する。
【００２３】
ニオブの割合は、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％が好ましい。また、ガリウムの割合は、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％が好ましい。この範囲内にすることで、透過・反射バンドを広く保つことができると同時に、耐湿性が良好な導電膜を得ることができる。
【００２４】
第２の酸化物層１２ｃには、物性を損なわない範囲で、亜鉛、ニオブ、ガリウム以外の金属が、酸化物として含まれていてもよい。たとえば、導電性を付与する目的で、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、スズ等の酸化物が含まれていてもよい。
【００２５】
第２の酸化物層１２ｃの膜厚は、２０〜６０ｎｍが好ましく、３０〜５０ｎｍが特に好ましい。
第１の酸化物層１２ａと、これに隣接する第２の酸化物層１２ｃとの膜厚比（第１の酸化物層１２ａ：第２の酸化物層１２ｃ）は、５：５〜９：１が好ましい。
【００２６】
基体１１上への導電膜１２（第１の酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ、および第２の酸化物層１２ｃ）の形成方法としては、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法等が挙げられる。これらのうち、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタ法が好ましい。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。
【００２７】
スパッタ法による導電膜１２の形成は、たとえば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、ＴＺＯターゲットを用いてスパッタリングを行い、基体１１表面に第１の酸化物層１２ａを形成する。
（ii）アルゴンガスを導入しながら、銀ターゲットまたは銀合金ターゲットを用いてスパッタリングを行い、第１の酸化物層１２ａ表面に金属層１２ｂを形成する。
(iii）酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、ＧＮＺＯターゲットを用いてスパッタリングを行い、金属層１２ｂ表面に第２の酸化物層１２ｃを形成する。
（ｉ）〜(iii）の操作により、３層構造の導電膜１２を形成する。または、（ｉ）〜(iii）の操作を繰り返し、３×ｎ層構造の導電膜１２を形成する。
【００２８】
ＴＺＯターゲットおよびＧＮＺＯターゲットターゲットは、各金属酸化物の高純度（通常９９．９％）粉末を混合し、ホットプレス法、またはＨＩＰ（ホットアイソスタティックプレス）法、または常圧焼成法により焼結することにより製造できる。
【００２９】
（保護膜）
導電膜１２の表面には、保護膜が設けられていてもよい。
保護膜は、導電膜１２を水分から保護し、導電性積層体１０上に任意の樹脂フィルム（防湿フィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等）を接着する際の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から第２の酸化物層１２ｃを保護する層である。なお、保護膜は、本発明において任意の構成要素であり、省略されていても構わない。
【００３０】
保護膜としては、具体的には、スズ、インジウム、チタン、ケイ素等の金属の酸化物膜、窒化物膜、複数の酸化物の混合物からなる膜等が挙げられる。これらのうち、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜が特に好ましい。
保護膜の膜厚は、２〜３０ｎｍが好ましく、３〜２０ｎｍがより好ましい。
【００３１】
本発明の導電性積層体は、可視光透過性に優れる。本発明の導電性積層体は、視感透過率が５５％以上のものが好ましく、６０％以上のものがより好ましい。また、本発明の導電性積層体は、波長８５０ｎｍでの透過率が５％以下のものが好ましく、２％以下のものが特に好ましい。
【００３２】
（用途）
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとして有用である。
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【００３３】
＜プラズマディスプレイ用保護板＞
以下、本発明の導電性積層体を、プラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）の電磁波遮蔽フィルムとして用いた例について説明する。
【００３４】
（第１の実施形態）
図２に、第１の実施形態の保護板を示す。保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、導電性積層体１０の周縁部が着色セラミックス層３０と重なるように、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面に、粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、粘着剤層７０を介して導電性積層体１０表面に貼り合わされた保護フィルム６０と、導電性積層体１０および保護フィルム６０の周縁部に設けられ、導電性積層体１０の導電膜１２と電気的に接続する電極５０とを有するものである。保護板１は、導電性積層体１０が支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている例である。
【００３５】
支持基体２０は、導電性積層体１０の基体１１よりも剛性の高い、透明基体である。支持基体２０を設けることにより、導電性積層体１０の基体１１の材料がＰＥＴ等のプラスチックであっても、ＰＤＰ側と観察者側との間で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体２０の材料としては、上述の基体１１の材料と同様の材料が挙げられる。
【００３６】
着色セラミックス層３０は、電極５０が観察者側から直接見えないように隠蔽するための層である。着色セラミックス層３０は、たとえば、支持基体２０上に印刷する、着色テープを貼る等により形成できる。
【００３７】
飛散防止フィルム４０は、支持基体２０の損傷時における支持基体２０の破片の飛散を防止するためのフィルムである。飛散防止フィルム４０としては、公知のものを用いることができる。
飛散防止フィルム４０には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能とを兼ね備えたフィルムとしては、旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）が挙げられる。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、ＰＥＴ等の高分子からなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルム等も挙げられる。
【００３８】
電極５０は、導電性積層体１０の導電膜１２による電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜１２と電気的に接続するように設けられる。電極５０は、導電性積層体１０の周縁部の全体に設けられていることが、導電膜１２による電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。
電極５０の材質は、抵抗が低い方が電磁波遮蔽性の点では優位となる。電極５０は、たとえば、銀とガラスフリットとを含む銀ペースト、Ｃｕとガラスフリットとを含む銅ペーストを塗布、焼成することにより形成される。
【００３９】
保護フィルム６０は、導電性積層体１０（導電膜１２）を保護するフィルムである。導電膜１２を水分から保護する場合には、防湿フィルムが設けられる。防湿フィルムとしては、たとえば、ＰＥＴ、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。また、保護フィルム６０として、上述した飛散防止フィルムを用いてもよい。
【００４０】
粘着剤層７０の粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。たとえば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられる。これらのうち、良好な耐湿性が得られることから、アクリル系の粘着剤が特に好ましい。粘着剤層７０には、紫外線吸収剤等の添加剤が配合されてもよい。
【００４１】
（第２の実施形態）
図３に、第２の実施形態の保護板を示す。保護板２は、支持基体２０と、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０の周縁部に設けられ、導電性積層体１０の導電膜１２と電気的に接続する電極５０と、電極５０と重ならないように、導電性積層体１０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０とを有するものである。保護板２は、導電性積層体１０が支持基体２０の観察者側に設けられている例である。
なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図２と同じ符号を付して説明を省略する。
【００４２】
（第３の実施形態）
図４に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、支持基体２０と、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、導電性メッシュフィルム８０の周縁部が着色セラミックス層３０と重なるように、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性メッシュフィルム８０と、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層（図示略）とを電気的に接続するように保護板３の周側部に設けられた導電体９０とを有するものである。保護板３は、導電性積層体１０が支持基体２０の観察者側に設けられ、導電性メッシュフィルム８０が支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている例である。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図２と同じ符号を付して説明を省略する。
【００４３】
導電性メッシュフィルム８０は、透明フィルム上に銅からなる導電性メッシュ層を形成したものである。通常は、透明フィルム上に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより製造される。
銅箔は、圧延銅、電界銅のどちらでもよく、適宜必要に応じて公知のものを用いればよい。銅箔は、各種表面処理をされていてよい。表面処理としては、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等が挙げられる。銅箔の厚さは、３〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１０μｍが特に好ましい。銅箔の厚さを３０μｍ以下とすることにより、エッチング時間を短くすることができ、３μｍ以上とすることにより、電磁波遮蔽性が高くなる。
【００４４】
導電性メッシュ層の開口率は、６０〜９５％が好ましく、６５〜９０％がより好ましく、７０〜８５％が特に好ましい。
導電性メッシュ層の開口部の形状は、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等である。開口部は、形状が揃っていて、かつ面内に並んでいることが好ましい
開口部のサイズは、１辺または直径が５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。開口部の１辺または直径を２００μｍ以下とすることにより、電磁波遮蔽性が向上し、５μｍ以上とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
開口部以外の金属部の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、開口部の配列ピッチは、１０〜２５０μｍが好ましい。金属部の幅を５μｍ以上とすることにより、加工が容易となり、５０μｍ以下とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
【００４５】
導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に低くすると、膜が厚くなり、開口部を充分確保できなくなる等、保護板３の光学性能等に悪影響を及ぼす。一方、導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に高くすると、充分な電磁波遮蔽性を得ることができなくなる。したがって、導電性メッシュ層の面抵抗は、０．０１〜１０Ω／□が好ましく、０．０１〜２Ω／□がより好ましく、０．０５〜１Ω／□が特に好ましい。
【００４６】
導電性メッシュ層の面抵抗は、開口部の１辺または直径よりも５倍以上大きな電極を用い、開口部の配列ピッチよりも５倍以上の電極間隔で、４端子法より測定すればよい。たとえば、開口部が１辺１００μｍの正方形で、金属部の幅２０μｍを介して規則的に並べられたものであれば、直径１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定すればよい。または、導電性メッシュフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗Ｒを測り、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂから、下式から求めてもよい。
面抵抗＝Ｒ×ｂ／ａ
【００４７】
銅箔を透明フィルムにラミネートする際には、透明な接着剤を用いる。接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤等が挙げられる。接着剤のタイプとしては、２液型または熱硬化タイプが好ましい。また、接着剤としては、耐薬品性に優れたものが好ましい。
【００４８】
銅箔をメッシュ状に加工する方法としては、フォトレジスト法が挙げられる。印刷法では、スクリーン印刷によって開口部のパターン形成をする。フォトレジスト法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法等により、銅箔上にフォトレジスト材料を形成し、露光、現像、エッチングによって開口部のパターンを形成する。導電性メッシュ層を形成する他の方法としては、スクリーン印刷等の印刷法によって、開口部のパターンを形成する方法が挙げられる。
【００４９】
導電体９０は、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続するものである。導電体９０としては、導電性テープ等が挙げられる。導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続することによって、全体の面抵抗値をさらに下げることができるため、電磁波遮蔽効果をさらに向上させることができる。
【００５０】
保護板１〜３は、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ＰＤＰの画像が見にくくならないように、可視光透過率は３５％以上であることが好ましい。また、可視光反射率は６％未満が好ましく、３％未満が特に好ましい。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、５％以下が好ましく、２％以下が特に好ましい。
【００５１】
（他の実施形態）
なお、本発明の保護板は、第１〜３の実施形態に限定されない。たとえば、粘着剤層７０を設けずに、熱による貼り合わせを行ってもよい。
また、本発明の保護板には、必要に応じて、反射防止フィルムまたは低屈折率薄膜である反射防止層を設けてもよい。
反射防止フィルムとしては、公知のものを用いることができ、反射防止性の点から、フッ素樹脂系フィルムが特に好ましい。
反射防止層は、保護板の反射率が低くなり、好ましい反射色が得られることから、可視光領域において反射率が最低となる波長が５００〜６００ｎｍであるものが好ましく、５３０〜５９０ｎｍであるものが特に好ましい。
【００５２】
また、保護板に近赤外線遮蔽機能を持たせてもよい。近赤外線遮蔽機能を持たせる方法としては、近赤外線遮蔽フィルムを用いる方法、近赤外線吸収基体を用いる方法、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に用いる方法、反射防止フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる方法、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる方法等が挙げられる。
【００５３】
以上説明した導電性積層体１０にあっては、金属層１２ｂの基体１１側に、屈折率の高いＴＺＯを含む第１の酸化物層１２ａが接しているため、導電層１２の積層数を増やすことなく、これを用いた保護板１〜３の透過・反射バンドを広くすることができる。また、金属層１２ｂと第１の酸化物層１２ａとの間、および導電膜１２の最外層にＧＮＺＯを含む第２の酸化物層１２ｃを設けることにより、導電性積層体１０の生産効率が向上するとともに、透過・反射バンドを広くすることができる。また、金属層１２ｂが、ＴＺＯを含む第１の酸化物層１２ａ表面に形成されているため、金属層１２ｂの抵抗が小さくなり、結果、導電層１２の積層数（金属層１２ｂの数）を減らしても、導電性（電磁波遮蔽性）に優れる。また、導電層１２の積層数を増やすことなく、透過・反射バンドを広くでき、導電性にも優れるため、導電層１２の積層数を減らすことができ、結果、可視光透過性にも優れる。
また、以上説明した、保護板１〜３にあっては、透過・反射バンドが広く、しかも導電性、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体１０を用いているため、電磁波遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れる。
【実施例】
【００５４】
（実施例１）
図１に示す導電性積層体１０を以下のように作製した。
まず、イオンビームによる乾式洗浄によって、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を行った。イオンビームによる乾式洗浄は、アルゴンガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入し、イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体１１表面に照射して行った。
【００５５】
（ｉ）１５体積％の酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、ＴＺＯターゲット［酸化亜鉛：酸化チタン＝８５：１５（質量比）］を用い、圧力０．７３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、基体１１表面に厚さ３５ｎｍの第１の酸化物層１２ａを形成した。第１の酸化物層１２ａは、酸化物換算で、ＺｎＯとＴｉＯ2 とを合計で１００質量％含有し、アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、第１の酸化物層１２ａにおいて、亜鉛とチタンとの合計（１００原子％）中、亜鉛は８５原子％、チタンは１５原子％であった。
【００５６】
（ii）アルゴンガスを導入しながら、金を１質量％ドープした銀合金ターゲットを用い、圧力０．７３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、第１の酸化物層１２ａ表面に厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂを形成した。
【００５７】
(iii）１５体積％の酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、ＧＮＺＯターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ：酸化ガリウム＝９５：４．９：０．１（質量比）］を用い、圧力０．７３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタリングを行い、金属層１２ｂ表面に厚さ３５ｎｍの第２の酸化物層１２ｃを形成した。第２の酸化物層１２ｃは、酸化物換算で、ＺｎＯとＮｂ2Ｏ5とＧａ2Ｏ3とを合計で１００質量％含有し、アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、第２の酸化物層１２ｃにおいて、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９８．１９原子％、ニオブは１．７６原子％、ガリウムは０．０５原子％であった。
【００５８】
（ｉ）〜(iii）の操作をさらに３回繰り返した。
このようにして、図１に示すような、第１の酸化物層１２ａが４層、金属層１２ｂが４層、第２の酸化物層１２ｃが４層の導電性積層体１０を得た。
実施例１の導電性積層体１０について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６８．０％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．８７％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２８２ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．０３４Ω／□であった。
透過スペクトルを図５に、結果を表１に示す。
【００５９】
（比較例１）
ＴＺＯターゲットおよびＧＮＺＯターゲットを、アルミナを添加した酸化亜鉛ターゲット［酸化亜鉛：アルミナ＝９５：５（質量比）］に変更した以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
比較例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６４．４％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．３４％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２５０ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９９６Ω／□であった。
透過スペクトルを図５に、結果を表１に示す。
【００６０】
（比較例２）
ＴＺＯターゲットおよびＧＮＺＯターゲットを、ＩＴＯターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝９０：１０（質量比）］に変更した以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
比較例２の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６６．８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７１％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２７０ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９７７Ω／□であった。
透過スペクトルを図５に、結果を表１に示す。
【００６１】
【表１】
2007165593.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広いことから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、保護板として有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第１の実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第２の実施形態を示す概略断面図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第３の実施形態を示す概略断面図である。
【図５】実施例の導電性積層体の透過スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【００６４】
１  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
２  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
３  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
１０  導電性積層体
１１  基体
１２  導電膜
１２ａ  第１の酸化物層
１２ｂ  金属層
１２ｃ  第２の酸化物層
２０  支持基体
５０  電極
８０  導電性メッシュフィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2007165593.tif 000007
【図５】
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