【事件の表示】
　平成　４年特許願第　　６４０７号「投影露光装置、及び投影露光方法」拒絶査定に対する審判事件〔平成　５年　７月３０日出願公開、特開平　５−１９０４２３、請求項の数（１４）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
１．経緯・本願発明
　本願は、平成４年１月１７日の出願であって、原審において拒絶査定がなされ、その後、拒絶査定不服の審判請求がなされ、審判請求時に手続補正書が提出されたものである。
　その発明は、平成１４年４月１日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、請求項１〜１４に記載された次のとおりのものである。
請求項１
「マスクのパターンの像を所定の結像面内に結像投影する投影光学系と、前記結像面とほぼ平行に感光基板を保持して前記結像面と平行な面内で２次元移動するＸＹステージと、前記感光基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させるＺステージと、前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し、該複数の計測点の夫々で前記感光基板の表面の前記光軸方向の位置情報を検出する第１の焦点検出手段とを備えた投影露光装置において、
請求項２
「前記較正手段は、前記第２の焦点検出手段の検出信号と前記第１の焦点検出手段の検出信号とに基づいて、前記複数の計測点のそれぞれにおける前記第1の焦点検出手段のオフセット量を求めることを特徴とする請求項１に記載の投影露光装置。」
請求項３
「前記第１の焦点検出手段は、該第1の焦点検出手段が有する仮想的な基準面を前記投影光学系の光軸方向に変位させるための平行平面板を備え、前記較正手段は、前記複数の計測点に対応して得られた複数のオフセット量に基づいて前記平行平面板を駆動し、前記仮想的な基準面を変位させることを特徴とする請求項２に記載の投影露光装置。」
請求項４
「前記較正手段は、前記複数の計測点に対応して得られた複数のオフセット量に異常値があるか否かを判断することを特徴とする請求項２又は３に記載の投影露光装置。」
請求項５
「前記第２の焦点検出手段は、前記マスクを介して前記投影光学系の結像面を検出し、前記較正手段は、前記オフセット量に異常値があった場合、前記マスクをマスクホルダーから一度はずした後、再度前記マスクホルダーに保持させることを特徴とする請求項４に記載の投影露光装置。」
請求項６
「前記較正手段は、前記第２の焦点検出手段の検出信号に基づいて前記投影光学系の結像面の近似平面を求め、該近似平面を基準として前記オフセット量を求めることを特徴とする請求項２〜５のいずれか一項に記載の投影露光装置。」
請求項７
「前記ＸＹステージは、前記近似平面の傾きに応じて前記感光基板を傾けるレベリング機構をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の投影露光装置。」
請求項８
「マスクのパターンの像を投影光学系を介して基板上に投影することにより前記基板を露光する投影露光方法において、前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し、該複数の計測点の夫々で前記基板の表面の前記光軸方向の位置情報を検出する第1の焦点検出手段と、前記第１の焦点検出手段による複数の計測点、もしくはその極く近傍の各位置において前記投影光学系の結像面を検出する第２の焦点検出手段と、を有し、前記第２の焦点検出手段を前記各位置で作動させて検出した信号と、そのときに得られる前記各位置もしくはその極く近傍の計測点における前記第１の焦点検出手段の検出信号とに基づいて、前記第１の焦点検出手段による前記複数の計測点の夫々での検出誤差を個別に、もしくは平均的に較正することを特徴とする投影露光方法。」
請求項９
「前記較正する工程は、前記第２の焦点検出手段の検出信号と前記第１の焦点検出手段の検出信号とに基づいて、前記複数の計測点のそれぞれにおける前記第１の焦点検出手段のオフセット量を求めることを特徴とする請求項８に記載の投影露光方法。」
請求項１０
「前記第１の焦点検出手段は、該第１の焦点検出手段が有する仮想的な基準面を前記投影光学系の光軸方向に変位させるための平行平面板を備え、前記較正する工程は、前記複数の計測点に対応して得られる複数のオフセット量に基づいて前記平行平面板を駆動し、前記仮想的な基準面を変位させることを特徴とする請求項９に記載の投影露光方法。」
請求項１１
「前記較正する工程は、前記複数の計測点に対応して得られる複数のオフセット量に異常値があるか否かを判断することを特徴とする請求項９又は１０に記載の投影露光方法。」
請求項１２
「前記第２の焦点検出手段は、前記マスクを介して前記投影光学系の結像面を検出し、前記較正する工程は、前記オフセット量に異常値があった場合、前記マスクをマスクホルダーから一度はずした後、再度前記マスクホルダーに保持させることを特徴とする請求項１１に記載の投影露光方法。」
請求項１３
「前記較正する工程は、前記第２の焦点検出手段の検出信号に基づいて前記投影光学系の結像面の近似平面を求め、該近似平面を基準として前記オフセット量を求めることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか一項に記載の投影露光方法。」　
請求項１４
「前記近似平面の傾きに応じて前記基板を傾けることを特徴とする請求項１３に記載の投影露光方法。」
２．原審の拒絶査定で引用した、特許法第２９条第２項に関する引用例
２．１　特開平１−２７３３１８号公報（以下、「引用例１」という。）
２．２　特開昭６３−３０６６２６号公報（以下、「引用例２」という。）
２．３　実願平１−９３８９１号（実開平３−３４２３３号）のマイクロフィルム（以下、「引用例３」という。）
２．４　引用例に記載された発明の内容
２．４．１　引用例１の記載内容
　引用例１には、「露光フィールド内の複数点での…焦点位置の変動特性をメモリに記憶し…露光中は…焦点位置と、メモリの焦点位置の変動特性とに基づいて、投影レンズの結像面の状態（像面湾曲、像面傾斜等）を算出する…。従って、この結像面の状態の変動に追従して…露光領域表面を最適な露光位置に維持する」（第３頁右上欄下から第４行〜左下欄第９行）と記載されている。
２．４．２　引用例２に記載内容
　引用例２には、投影レンズＴの合焦位置を求め、これに基づいて斜入射オートフォーカス系のハービングガラス２６に対して必要なオフセットをかけてオートフォーカス系による合焦位置の補正を行う旨記載されている。
２．４．３　引用例３に記載内容
　引用例３には、「本案は、…焦点合せ用検出ビームが…乱反射しないようにし、検出ビームを当てる位置およびビーム径を可変として最適状態に設定する」（第４頁第７〜１１行）と記載され、第１，２図には、複数の検出ビームをレジストに当てることが示されている。
３．対比、判断
　そうすると、本願第１発明は、引用例１〜３に基づいて容易に発明できたとはいえない。
　本願請求項８に係る発明及び本願請求項８を引用する本願請求項９〜１４に係る発明（以下、「本願第２発明」という。）が、「基板の表面の前記光軸方向の位置情報を検出する第１の焦点検出手段と、前記第１の焦点検出手段による複数の計測点、もしくはその極く近傍の各位置において前記投影光学系の結像面を検出する第２の焦点検出手段と、を有し、前記第２の焦点検出手段を前記各位置で作動させて検出した信号と、そのときに得られる前記各位置もしくはその極く近傍の計測点における前記第１の焦点検出手段の検出信号とに基づいて、前記第1の焦点検出手段による前記複数の計測点の夫々での検出誤差を個別に、もしくは平均的に較正する」構成（以下、「本願第２発明の特徴的構成」という。）を有し、当該本願第２発明の特徴的構成により、本願第２発明は、「本発明はこの様な問題点に鑑みてなされたもので、投影視野内の任意の位置にＡＦ系の計測点が設定されても、その計測点での正確な較正(フォーカスキャリブレーション)を可能とし、これによって特に多点ＡＦ系の精度、再現性、安定性等を向上させる」（明細書の詳細な説明【００１１】段落）という効果を有するのに対し、引用例１〜３記載の発明は、上記本願第２発明の特徴的構成及び上記効果が記載されていない点で本願第２発明と相違する。
　そうすると、本願第２発明は、引用例１〜３に基づいて容易に発明できたとはいえない。
４．むすび
　本願請求項１〜１４に係る発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないとした原査定は妥当ではない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。　
　よって、結論のとおり審決する。