(57)【要約】【課題】透過・反射バンドが広く、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよび保護板を提供する。【解決手段】基体１１と導電膜１２とを有し、導電膜１２が基体１１側から酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層積層された層であり、酸化物層１２ａが酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が１〜７原子％であり、ガリウムの割合が０．０１〜０．５原子％である層であり、金属層１２ｂが銀または銀合金を主成分とする層である導電性積層体１０；支持基体と、支持基体上に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０の導電膜１２に電気的に接している電極とを有するプラズマディスプレイ用保護板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは１以上の整数である。］積層された多層構造体であり、
酸化物層が、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％であり、ガリウムの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％である層であり、
金属層が、銀または銀合金を主成分とする層である、導電性積層体。
【請求項２】
導電膜が、金属層を２〜８層有する、請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
金属層が、純銀からなる層、または金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種を含有する銀合金からなる層である、請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性積層体からなる、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム。
【請求項５】
支持基体と、
該支持基体上に設けられた請求項４に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、
該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有する、プラズマディスプレイ用保護板。
【請求項６】
導電性メッシュフィルムをさらに有する、請求項５に記載のプラズマディスプレイ用保護板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す。）本体を保護するためにＰＤＰの観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。たとえば、特許文献１には、透明基板上にＺｎＯからなる透明酸化物層と銀層とを交互に積層した合計（２ｎ＋１）層（ｎ≧２）のコーティングが施された導電性積層体が開示されている。該導電性積層体は、充分な導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性を有するとされている。しかし、導電性積層体の導電性（電磁波遮蔽性）をさらに向上させようと、積層数ｎを増やして銀層の数を増やした場合、可視光透過性が低下する問題がある。
【０００３】
また、導電性積層体は、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとしても用いられている。ＰＤＰの前面からは電磁波が放出されているため、その電磁波を遮蔽することを目的として、ＰＤＰの観察者側には、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜が形成された電磁波遮蔽フィルムが配置されている。
たとえば、特許文献２には、導電膜として、酸化物層と金属層とが交互に積層された積層体を有するプラズマディスプレイ用保護板が記載されている。
【０００４】
電磁波遮蔽フィルムにおいては、可視光領域全体にわたって透過率が高く、かつ反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンドが広いこと、また、近赤外領域においては遮蔽性が高いことが求められる。透過・反射バンドを広くするためには、酸化物層および金属層の積層数を増やせばよい。しかし、積層数を増やすと、（ｉ）電磁波遮蔽フィルムにおける内部応力が増加し、該フィルムがカールしたり、導電膜が破断して抵抗値が高くなったりする問題、（ii）可視光透過性が低下する問題、等が生じるため、導電膜における酸化物層と金属層との積層数には限界がある。よって、透過・反射バンドを広くでき、しかも導電性（電磁波遮蔽性）および可視光透過性に優れた電磁波遮蔽フィルムは知られていなかった。
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】国際公開第９８／１３８５０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の導電性積層体は、基体と、基体上に形成された導電膜とを有する導電性積層体であって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは１以上の整数である。］積層された多層構造体であり、酸化物層が、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％であり、ガリウムの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％である層であり、金属層が、銀または銀合金を主成分とする層であることを特徴とする。
導電膜は、金属層を２〜８層有することが好ましい。
金属層は、純銀からなる層、または金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種を含有する銀合金からなる層であることが好ましい。
【０００７】
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、本発明の導電性積層体からなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、支持基体と、該支持基体上に設けられた本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムと、該プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムの導電膜に電気的に接している電極とを有することを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、導電性メッシュフィルムをさらに有していてもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の導電性積層体は、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムは、透過・反射バンドが広く、しかも導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性、および近赤外線遮蔽性に優れている。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、電磁波遮蔽能に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
＜導電性積層体＞
図１は、本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。導電性積層体１０は、基体１１と、該基体上に設けられた導電膜１２とを有するものである。
【００１０】
（基体）
基体１１としては、透明基体が好ましい。本発明における「透明」とは、可視光領域の波長の光を透過することを意味する。
基体１１の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む。）；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のプラスチック等が挙げられる。
【００１１】
（導電膜）
導電膜１２は、基体１１側から酸化物層１２ａと金属層１２ｂとが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数である。］積層された多層構造体である。
導電膜１２は、金属層１２ｂを２〜８層有することが好ましく、２〜６層有することがより好ましい。金属層１２ｂが２層以上であれば、抵抗値を充分に低くすることができる。金属層１２ｂが、８層以下であれば、導電性積層体１０の内部応力増加をより抑制できる。
導電膜１２の抵抗値は、電磁波遮蔽能を充分に確保するため、３．５Ω以下が好ましく、２．５Ω以下がより好ましく、１．５Ω以下が特に好ましい。
【００１２】
酸化物層１２ａは、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とする層である。酸化物層１２ａは、酸化物換算で、ＺｎＯとＮｂ2Ｏ5とＧａ2Ｏ3とを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
酸化物層１２ａにおいて、亜鉛（Ｚｎ）、ニオブ（Ｎｂ）およびガリウム（Ｇａ）は、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）および酸化ガリウム（Ｇａ2Ｏ3）として、またはこれらの複合酸化物が混合した形で存在すると考えられる。
【００１３】
ニオブの割合は、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％が好ましい。また、ガリウムの割合は、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％が好ましい。この範囲内にすることで、透過・反射バンドを広く保つことができると同時に、耐湿性が良好な導電膜を得ることができる。
【００１４】
酸化物層１２ａには、物性を損なわない範囲で、亜鉛、ニオブ、ガリウム以外の金属が、酸化物として含まれていてもよい。例えば、導電性を付与する目的で、インジウム、アルミニウム、マグネシウム、スズ等の酸化物が含まれていてもよい。
【００１５】
最も基体１１に近い酸化物層１２ａおよび最も基体１１から遠い酸化物層１２ａの物理的膜厚（以下、単に膜厚と記す。）は、２０〜６０ｎｍが好ましく、３０〜５０ｎｍが特に好ましい。それ以外の酸化物層１２ａの膜厚は、４０〜１２０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍが特に好ましい。本発明における「膜厚」は、触針式表面粗さ測定機により測定される膜厚である。
【００１６】
金属層１２ｂは、銀または銀合金を主成分とする層である。金属層１２ｂは、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９５質量％以上含有することが好ましい。銀または銀合金により金属層１２ｂが形成されていることにより導電膜１２の抵抗値を低くできる。
【００１７】
金属層１２ｂは、導電膜１２の抵抗値を低くする観点からは、純銀からなる層であることが好ましい。本発明における「純銀」は、金属層１２ｂ（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含有することを意味する。
金属層１２ｂは、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる観点からは、金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種の他の金属を含有する銀合金からなる層が好ましい。他の金属の合計は、比抵抗を５．０μΩｃｍ以下にするために、金属層１２ｂ（１００質量％）中、０．２〜１．５質量％が好ましい。
【００１８】
すべての金属層１２ｂの膜厚を合計した合計膜厚は、たとえば、得られる導電性積層体１０の表面抵抗の目標を１．５Ω／□とした場合、２５〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましく、表面抵抗の目標を０．９Ω／□とした場合、３５〜８０ｎｍが好ましく、３５〜７０ｎｍがより好ましい。各金属層１２ｂの膜厚は、合計膜厚を金属層１２ｂの数で適宜配分する。なお、金属層１２ｂの数が多くなると、各金属層１２ｂの比抵抗が上がるため、表面抵抗を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００１９】
基体１１上への導電膜１２（酸化物層１２ａ、金属層１２ｂ）の形成方法としては、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法等が挙げられ、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタ法が好ましい。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。
【００２０】
スパッタ法による導電膜１２の形成は、たとえば、以下のようにして行うことができる。
（ｉ）酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムからなるターゲット（以下、混合ターゲットと記す。）を用いてパルススパッタを行い、基体１１表面に酸化物層１２ａを形成する。
（ii）アルゴンガスを導入しながら、銀ターゲットまたは銀合金のターゲットを用いてパルススパッタを行い、酸化物層１２ａ表面に金属層１２ｂを形成する。
（ｉ）、（ii）の操作を繰り返し、最後に（ｉ）と同様の方法で酸化物層１２ａを形成することにより、多層構造体の導電膜１２を形成する。
【００２１】
混合ターゲットは、各金属酸化物の高純度（通常９９．９％）粉末を混合し、ホットプレス法、またはＨＩＰ（ホットアイソスタティックプレス）法、または常圧焼成法により焼結することにより製造できる。酸化ガリウムを含むターゲットは、常圧焼成法により製造できるため、ホットプレス法で製造しなければならない酸化亜鉛および酸化ニオブのみからなるターゲットに比べ、低コストである。
混合ターゲットとしては、気孔率が５．０％以下であり、比抵抗が１Ωｃｍ未満であるものが好ましい。
【００２２】
導電膜１２においては、最も基体１１から遠い酸化物層１２ａ表面に保護膜１２ｄが設けられていてもよい。保護膜１２ｄは、酸化物層１２ａおよび金属層１２ｂを水分から保護する層である。また、最も基体１１から遠い酸化物層１２ａを、任意の樹脂フィルム（防湿フィルム、飛散防止フィルム、反射防止フィルム、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等）を接着する際の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から保護する層である。
【００２３】
保護膜１２ｄとしては、スズ、インジウム、チタン、ケイ素等の金属の酸化物膜、窒化物膜等が挙げられ、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜が好ましい。
保護膜１２ｄの膜厚は、２〜３０ｎｍが好ましく、３〜２０ｎｍがより好ましい。
【００２４】
導電膜１２においては、図２に示すように、金属層１２ｂ上にバリア層１２ｃが設けられていてもよい。金属層１２ｂの上にバリア層１２ｃを設けることにより、酸化物層１２ａを酸素雰囲気下で形成する場合に、金属層１２ｂの酸化を防ぐことができる。バリア層１２ｃとしては、酸素非存在下で形成できるものが挙げられる。材質としては、たとえば、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等が挙げられる。
【００２５】
本発明の導電性積層体は、視感透過率が５５％以上のものが好ましく、６０％以上のものがより好ましい。また、本発明の導電性積層体は、波長８５０ｎｍでの透過率が５％以下のものが好ましく、２％以下のものが特に好ましい。
【００２６】
（用途）
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過・反射バンドが広くなることから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムとして有用である。
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
【００２７】
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【００２８】
＜プラズマディスプレイ用保護板＞
以下、本発明の導電性積層体を、プラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）の電磁波遮蔽フィルムとして用いた例について説明する。
【００２９】
（第１の実施形態）
図３に、第１の実施形態の保護板を示す。保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０上に設けられた導電性積層体１０と、支持基体２０における導電性積層体１０側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面に貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２の周縁部にて電気的に接している電極５０と、導電性積層体１０上に設けられた保護フィルム６０とを有するものである。導電性積層体１０と支持基体２０との間、導電性積層体１０と保護フィルム６０の間、支持基体２０と飛散防止フィルム４０との間には粘着剤層７０が設けられている。保護板１は、導電性積層体１０が、支持基体２０のＰＤＰ側に設けられた例である。
【００３０】
支持基体２０は、導電性積層体１０の基体１１よりも剛性の高い、透明基体である。支持基体２０を設けることにより、導電性積層体１０の基体１１の材料がＰＥＴ等のプラスチックであっても、ＰＤＰ側と観察者側との間で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体２０の材料としては、上述の基体１１の材料と同様の材料が挙げられる。
【００３１】
着色セラミックス層３０は、電極５０が観察者側から直接見えないように隠蔽するための層である。着色セラミックス層３０は、たとえば、支持基体２０上に印刷する、着色テープを貼る等により形成できる。
【００３２】
飛散防止フィルム４０は、支持基体２０の損傷時における支持基体２０の破片の飛散を防止するためのフィルムである。飛散防止フィルム４０としては、公知のものを用いることができる。
飛散防止フィルム４０には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能を兼ね備えたフィルムとしては、旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）が挙げられる。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、ＰＥＴ等のプラスチックからなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルム等も挙げられる。
【００３３】
電極５０は、導電性積層体１０の導電膜１２の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜１２と電気的に接するように設けられる。電極５０は、導電膜１２の周縁部の全体に設けられていることが、導電膜１２の電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。
電極５０の材質は、抵抗が低い方が電磁波遮蔽能の点では優位となる。電極５０は、たとえば、銀およびガラスフリットを含む銀ペースト、または銅およびガラスフリットを含む銅ペーストを塗布、焼成することにより形成される。
【００３４】
保護フィルム６０は、導電性積層体１０の導電膜１２を保護するフィルムである。導電膜１２を水分から保護する場合には、防湿フィルムが設けられる。防湿フィルムとしては、たとえば、ＰＥＴ、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。また、保護フィルム６０として、上述した飛散防止フィルムを用いてもよい。
【００３５】
粘着剤層７０の粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられ、たとえば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられ、良好な耐湿性が得られることから、アクリル系粘着剤が特に好ましい。粘着剤層７０には、紫外線吸収剤等の種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
【００３６】
（第２の実施形態）
図４に、第２の実施形態の保護板を示す。保護板２は、支持基体２０と、支持基体２０の片面に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０上に設けられた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２に周縁部にて電気的に接している電極５０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０とを有するものである。また、飛散防止フィルム４０は、電極５０の内側に設けられている。保護板２は、導電性積層体１０が、支持基体２０の観察者側に設けられた例である。
なお、本実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
【００３７】
（第３の実施形態）
図５に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、支持基体２０と、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性積層体１０と、導電性積層体１０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０とは反対側の支持基体２０表面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、導電性メッシュフィルム８０の周縁部が着色セラミックス層３０と重なるように、支持基体２０表面に粘着剤層７０を介して貼り合わされた導電性メッシュフィルム８０と、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層（図示略）とを電気的に接続するように保護板３の周側部に設けられた電極９０とを有するものである。保護板３は、導電性積層体１０が支持基体２０の観察者側に設けられ、導電性メッシュフィルム８０が支持基体２０のＰＤＰ側に設けられた例である。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図３と同じ符号を付して説明を省略する。
【００３８】
導電性メッシュフィルム８０は、透明フィルム上に銅からなる導電性メッシュ層を形成したものである。通常は、透明フィルム上に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより製造される。
銅箔は、圧延銅、電界銅のどちらでもよく、適宜必要に応じて公知のものを用いればよい。銅箔は、各種表面処理をされていてよい。表面処理としては、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等が挙げられる。銅箔の厚さは、３〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１０μｍが特に好ましい。銅箔の厚さを３０μｍ以下とすることにより、エッチング時間を短くすることができ、３μｍ以上とすることにより、電磁波遮蔽性が高くなる。
【００３９】
導電性メッシュ層の開口率は、６０〜９５％が好ましく、６５〜９０％がより好ましく、７０〜８５％が特に好ましい。
導電性メッシュ層の開口部の形状は、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等である。開口部は、形状が揃っていて、かつ面内に並んでいることが好ましい。
開口部のサイズは、１辺または直径が５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。開口部の１辺または直径を２００μｍ以下とすることにより、電磁波遮蔽性が向上し、５μｍ以上とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
開口部以外の金属部の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、開口部の配列ピッチは、１０〜２５０μｍが好ましい。金属部の幅を５μｍ以上とすることにより、加工が容易となり、５０μｍ以下とすることにより、ＰＤＰの画像への影響が少ない。
【００４０】
導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に低くすると、膜が厚くなり、開口部を充分確保できなくなる等、保護板３の光学性能等に悪影響を及ぼす。一方、導電性メッシュ層の面抵抗を必要以上に高くすると、充分な電磁波遮蔽性を得ることができなくなる。したがって、導電性メッシュ層の面抵抗は、０．０１〜１０Ω／□が好ましく、０．０１〜２Ω／□がより好ましく、０．０５〜１Ω／□が特に好ましい。
【００４１】
導電性メッシュ層の面抵抗は、開口部の１辺または直径よりも５倍以上大きな電極を用い、開口部の配列ピッチよりも５倍以上の電極間隔で、４端子法より測定すればよい。たとえば、開口部が１辺１００μｍの正方形で、金属部の幅２０μｍを介して規則的に並べられたものであれば、直径１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定すればよい。または、導電性メッシュフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗Ｒを測り、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂから、下式から求めてもよい。
面抵抗＝Ｒ×ｂ／ａ
【００４２】
銅箔を透明フィルムにラミネートする際には、透明な接着剤を用いる。接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤、ポリエステル系接着剤等が挙げられる。接着剤のタイプとしては、２液型または熱硬化タイプが好ましい。また、接着剤としては、耐薬品性に優れたものが好ましい。
【００４３】
銅箔をメッシュ状に加工する方法としては、フォトレジスト法が挙げられる。印刷法では、スクリーン印刷によって開口部のパターン形成をする。フォトレジスト法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法等により、銅箔上にフォトレジスト材料を形成し、露光、現像、エッチングによって開口部のパターンを形成する。導電性メッシュ層を形成する他の方法としては、スクリーン印刷等の印刷法によって、開口部のパターンを形成する方法が挙げられる。
【００４４】
電極９０は、導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続するものである。電極９０としては、導電性テープ等が挙げられる。導電性積層体１０の導電膜１２と導電性メッシュフィルム８０の導電性メッシュ層とを電気的に接続することによって、全体の面抵抗値をさらに下げることができるため、電磁波遮蔽効果をさらに向上させることができる。
【００４５】
保護板１〜３は、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ＰＤＰの画像が見にくくならないように、視感透過率は４０％以上であることが好ましい。また、視感反射率は６％未満が好ましく、３％未満が特に好ましい。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、５％以下が好ましく、２％以下が特に好ましい。
【００４６】
なお、本発明の保護板は、第１〜３の実施形態に限定されない。たとえば、粘着剤層７０を設けずに、熱による貼り合わせを行ってもよい。
また、本発明の保護板には、必要に応じて、反射防止フィルムまたは低屈折率薄膜である反射防止層を有してもよい。反射防止フィルムとしては、公知のものを用いることができ、反射防止性の点から、フッ素樹脂系フィルムが好ましい。反射防止層としては、保護板の反射率が低くなり、好ましい反射色が得られることから、可視光領域において反射率が最低となる波長が５００〜６００ｎｍであるものが好ましく、５３０〜５９０ｎｍであるものが特に好ましい。
【００４７】
また、保護板に近赤外線遮蔽機能を持たせてもよい。近赤外線遮蔽機能を持たせる方法としては、近赤外線遮蔽フィルムを用いる方法、近赤外線吸収基体を用いる方法、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に用いる方法、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる方法、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる方法等が挙げられる。
【００４８】
以上説明した導電性積層体１０にあっては、酸化物層１２ａが酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムを主成分とし、ニオブの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち１〜７原子％であり、ガリウムの割合が亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）のうち０．０１〜０．５原子％である層でるため、導電膜１２の積層数を増やすことなく、これを用いた保護板１〜３の透過・反射バンドを広くできる。また、金属層１２ｂが、該酸化物層１２ａ表面に形成されているため、金属層１２ｂの抵抗が小さくなり、結果、導電膜１２の積層数を減らしても、導電性（電磁波遮蔽性）に優れる。また、導電膜１２の積層数を増やすことなく、透過・反射バンドを広くでき、導電性にも優れるため、導電膜１２の積層数を減らすことができ、結果、可視光透過性にも優れる。
また、以上説明した、保護板１〜３にあっては、透過・反射バンドが広く、しかも導電性、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れた導電性積層体１０を用いているため、電磁波遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広く、可視光透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れる。
【実施例】
【００４９】
（実施例１）
図２に示す導電性積層体を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。
アルゴンガスに約３０体積％の酸素ガスを混合して、１００Ｗの電力を投入し、イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体１１表面に照射した。
【００５０】
（ｉ）１５体積％の酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ：酸化ガリウム＝９５：４．９：０．１（質量比）］を用い、圧力０．７３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．７Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタを行い、基体１１表面に厚さ３５ｎｍの酸化物層１２ａ（１）を形成した。
【００５１】
（ii）アルゴンガスを導入しながら、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用い、圧力０．７３Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１０μ秒の条件でパルススパッタを行い、酸化物層１２ａ（１）表面に厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂ（１）を形成した。
【００５２】
（iii)アルゴンガスを導入しながら、ＡＺＯターゲット［酸化亜鉛：アルミナ＝９５：５（質量比）］を用い、圧力０．４５Ｐａ、周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅２μ秒の条件でパルススパッタを行い、金属層１２ｂ（１）表面に厚さ５ｎｍのバリア層１２ｃ（１）を形成した。
【００５３】
（ｉ）と同様にして、バリア層１２ｃ（１）表面に厚さ６５ｎｍの酸化物層１２ａ（２）を形成した。
（ii）と同様にして、酸化物層１２ａ（２）表面に厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂ（２）を形成した。
（iii)と同様にして、金属層１２ｂ（２）表面に厚さ５ｎｍのバリア層１２ｃ（２）を形成した。
【００５４】
（ｉ）と同様にして、バリア層１２ｃ（２）表面に厚さ６５ｎｍの酸化物層１２ａ（３）を形成した。
（ii）と同様にして、酸化物層１２ａ（３）表面に厚さ１４ｎｍの金属層１２ｂ（３）を形成した。
（iii)と同様にして、金属層１２ｂ（３）表面に厚さ５ｎｍのバリア層１２ｃ（３）を形成した。
【００５５】
（ｉ）と同様にして、バリア層１２ｃ（３）表面に厚さ６５ｎｍの酸化物層１２ａ（４）を形成した。
（ii）と同様にして、酸化物層１２ａ（４）表面に厚さ１０ｎｍの金属層１２ｂ（４）を形成した。
（iii)と同様にして、金属層１２ｂ（４）表面に厚さ５ｎｍのバリア層１２ｃ（４）を形成した。
【００５６】
１０体積％の酸素ガスを混合したアルゴンガスを用い、電力密度を４．５Ｗ／ｃｍ2 に変更した以外は、（ｉ）と同様にして、バリア層１２ｃ（４）表面に厚さ３０ｎｍの酸化物層１２ａ（５）を形成した。
５体積％の酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、ＩＴＯターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝９０：１０（質量比）］を用い、圧力０．３５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度１．３Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅１μ秒の条件でパルススパッタを行い、酸化物層１２ａ（５）表面に、保護膜１２ｄである厚さ５ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
【００５７】
このようにして、基体１１上に、酸化亜鉛、酸化ニオブおよび酸化ガリウムからなる酸化物層１２ａと、金を含有する銀合金からなる金属層１２ｂとが交互に積層され、金属層１２ｂ上にバリア層１２ｃが設けられた導電性積層体１０であって、酸化物層１２ａが５層、金属層１２ｂが４層のものを得た。
酸化物層１２ａは、酸化物換算で、ＺｎＯとＮｂ2Ｏ5とＧａ2Ｏ3とを合計で１００質量％含有し、アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９８．１９原子％、ニオブは１．７６原子％、ガリウムは０．０５原子％であった。
【００５８】
実施例１の導電性積層体１０について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６７．０％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．９７％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２８２ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．１７９Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００５９】
（実施例２）
混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ：酸化ガリウム＝９５：４．５：０．５（質量比）］を用いた以外は、実施例１と同様にして導電性積層体１０を得た。
酸化物層１２ａは、酸化物換算で、ＺｎＯとＮｂ2Ｏ5とＧａ2Ｏ3とを合計で１００質量％含有し、アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、酸化物層１２ａにおいて、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９８．１６原子％、ニオブは１．６２原子％、ガリウムは０．２２原子％であった。
【００６０】
実施例２の導電性積層体１０について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６７．８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．６８％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２７３ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９９７Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６１】
（比較例１）
混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ＝９５：５（質量比）］を用いた以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、酸化物層において、亜鉛とニオブとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９８．２０原子％、ニオブは１．８０原子％であった。
【００６２】
比較例１の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６５．２％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．３２％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２５５ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９８２Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６３】
（比較例２）
混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ＝８０：２０（質量比）］を用いた以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、酸化物層において、亜鉛とニオブとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９２．００原子％、ニオブは８．００原子％であった。
【００６４】
比較例２の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６３．１％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．３１％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２４６ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．０４９Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６５】
（比較例３）
混合ターゲット［酸化亜鉛：酸化ニオブ：酸化ガリウム＝８０：１９．９：０．１（質量比）］を用いた以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
アルバックファイ製、ＥＳＣＡ５５００で測定したところ、酸化物層において、亜鉛とニオブとガリウムとの合計（１００原子％）中、亜鉛は９１．９９原子％、ニオブは７．９６原子％、ガリウムは０．０５原子％であった。
【００６６】
比較例３の導電性積層体について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６１．０％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．２０％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２３７ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は１．０２７Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６７】
（比較例４）
混合ターゲットを、ＡＺＯターゲット［酸化亜鉛：アルミナ＝９５：５（質量比）］に変更した以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
比較例４の導電性積層体１０について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６４．４％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．３４％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２５０ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９９６Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６８】
（比較例５）
混合ターゲットを、ＩＴＯターゲット［酸化インジウム：酸化スズ＝９０：１０（質量比）］に変更した以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を得た。
比較例５の導電性積層体１０について、東京電色社製カラーアナライザーＴＣ１８００により測定した視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）は６６．８％であった。また、波長８５０ｎｍでの透過率は、０．７１％であった。また、透過率４０％以上の波長の帯域（バンド幅）は、２７０ｎｍであった。
また、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定したシート抵抗（表面抵抗）は０．９７７Ω／□であった。
透過スペクトルを図６に、評価結果を表１に示す。
【００６９】
【表１】
2007165592.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００７０】
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広いことから、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルム、保護板として有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の導電性積層体の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の導電性積層体の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第１の実施形態を示す概略断面図である。
【図４】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第２の実施形態を示す概略断面図である。
【図５】本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第３の実施形態を示す概略断面図である。
【図６】実施例の導電性積層体の透過スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【００７２】
１  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
２  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
３  保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
１０  導電性積層体
１１  基体
１２  導電膜
１２ａ  酸化物層
１２ｂ  金属層
２０  支持基体
５０  電極
８０  導電性メッシュフィルム
【図１】
2007165592.tif 000004
【図２】
2007165592.tif 000005
【図３】
2007165592.tif 000006
【図４】
2007165592.tif 000007
【図５】
2007165592.tif 000008
【図６】
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