【事件の表示】
　平成８年特許願第１８０２４７号「プラズマ処理方法」拒絶査定に対する審判事件［平成１０年１月２７日出願公開、特開平１０−２７７８０］について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯・本願発明　
　本願は、平成８年７月１０日の出願であって、その請求項１〜４に係る発明は、平成１１年４月１９日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、それぞれ、その請求項１〜４に記載された以下の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】パーティクルが存在する条件の下で、静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
　プラズマ処理に供する高周波放電をオンしている状態で、静電チャックをオンおよびオフすることを特徴とするプラズマ処理方法。
　【請求項２】パーティクルが存在する条件の下で、静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
　プラズマ処理に供する高周波放電をオンした後に静電チャックをオンすることを特徴とするプラズマ処理方法。
　【請求項３】パーティクルが存在する条件の下で、静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
　所望のプラズマ処理終了後、静電チャックをオフした後にプラズマ処理に供した高周波放電をオフすることを特徴とするプラズマ処理方法。
　【請求項４】パーティクルが存在する条件の下で、静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
　プラズマ処理に供する高周波放電をオンした後に静電チャックをオンし、かつ、所望のプラズマ処理終了後、静電チャックをオフした後にプラズマ処理に供した高周波放電をオフすることを特徴とするプラズマ処理方法。」
　（以下、上記補正後の請求項１〜４に係る発明を、それぞれ、「本願発明１」〜「本願発明４」という。）
　
II．原審が通知した拒絶理由・引用例　
　原審が平成１１年２月１５日付けで通知した拒絶理由は、本願の（補正前の）請求項１に係る発明は、下記引用例１に記載された発明であるか、それに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、本願の（補正前の）請求項２に係る発明は、下記引用例２又は３に記載された発明であるか、それに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、又、本願の（補正前の）請求項３に係る発明は、下記引用例１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の（補正前の）各請求項に係る発明は、特許法第29条第１項ないし第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
　　引用例１：特開平６−１１２１６０号公報
　　引用例２：特開平４−２９０２２５号公報
　　引用例３：特開平８−１７６８５４号公報
　
　而して、上記引用例のうち、引用例２には、プラズマ処理方法に関して次のことが記載されている。
　イ．「【請求項１】静電吸着のための電圧を載置台側に印加して被処理体を静電吸着し、この被処理体の裏面側に導入した気体を介して上記被処理体を温調状態でプラズマ処理する工程と、上記被処理体の裏面側を真空引きする工程と、上記被処理体表裏面側の差圧が少なくなった後に、静電吸着用の電圧の印加を解除する工程と、その後、プラズマ生成の持続を停止する工程と、を具備することを特徴とするプラズマ処理方法。」（【特許請求の範囲】）
　ロ．「【００２３】反応室へのウエハの搬入は、………このようにしてウエハ１のセッテングが終了した後に、対向電極へのＲＦパワーの印加、エッチングガスの導入等により、プラズマエッチング工程が開始されることになる。また、静電チャックシート１０の導電性シート１６に対して高電圧を印加し、一方ウエハ１はプラズマを通して上部チャンバー２８と導通するので接地でき、ウエハ１、導電性シート１６間にクーロン力に作用させて静電チャックシート１０表面にウエハ１を吸着保持できる。
【００２４】プラズマエッチングが終了すると、各種の稼働が停止されるが、この稼働停止順序について図１を参照して説明する。
　　　　　　　　　　　　　　　………
【００２６】次に、図１に示すタイミングにて、静電チャックシート１０に対するＤＣ電源１９ａの給電経路途中のスイッチ１９ｂをオフする。この結果、静電チャックシート１０の導電性シート１６に対する高電圧印加が解除され、静電チャックシート１０によるウエハ１の静電吸着動作が終了することになる。この状態にあっても、サセプターに対するＲＦパワーの供給が続行されていることになる。この際、ウエハ１に電荷が残留している場合には、このウエハ１はプラズマを通して上部チャンバー３０と導通しているので、ウエハ１に残留している電荷プラズマ、上部チャンバー３０を介して接地側に流れ込み、ウエハ１を除電することが可能となる。
【００２７】そして、十分なウエハ１の除電期間を経過した後に、ＲＦ電極２９ａの給電経路途上の２９ｂをオフすることで、サセプターに対するＲＦパワーの供給を停止する。……その後処理済みウエハ１の搬出、新たなウエハ１の搬入を行うことで、次のプロセスに移行することになる。
【００２８】なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
【００２９】……例えば、プラズマ化学気相成長（プラズマＣＶＤ）装置やスパッタ堆積装置等他の種々の装置に適用可能である。」（【００２３】１行〜【００２９】末行）
　ハ．【図１】〜【図３】（上記イ及びロに対応する説明図が示されている。）　
　
III．対比・判断　
　先ず、本願発明３について検討する。
　本願発明３と引用例２に記載された発明を対比すると、後者における「ウエハ１、導電性シート１６間にクーロン力を作用させて静電チャックシート１０表面にウエハ１を吸着保持」（【００２３】１６〜１８行。なお、原記載に「クーロン力に」とあるは「クーロン力を」の誤記と認めて、上記のとおり訂正した。）して「対向電極へのＲＦパワーの印加、エッチングガスの導入等により、プラズマエッチング工程」（【００２３】１１〜１２行）を行うことは、前者における「静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行う」ことに相当し、又、後者における「プラズマエッチングが終了すると」（【００２４】１行）行われる「図１に示すタイミングにて、静電チャックシート１０に対するＤＣ電源１９ａの給電経路途中のスイッチ１９ｂをオフ」（【００２６】１〜３行）し、「そして、十分なウェハ１の除電期間を経過した後に、ＲＦ電源２９ａの給電経路途上の２９ｂをオフすること」（【００２７】１〜３行）は、前者における「所望のプラズマ処理終了後、静電チャックをオフした後にプラズマ処理に供した高周波放電をオフすること」に相当するから、結局、両者は、
　“静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、
　所望のプラズマ処理終了後、静電チャックをオフした後にプラズマ処理に供した高周波放電をオフするプラズマ処理方法”
である点で共通し、以下の点で一応相違する。
　相違点：本願発明３では、静電チャックを用いてウェハを吸着させてプラズマ処理を行うことが「パーティクルが存在する条件の下で」行われるのに対し、引用例２には、かかる条件の存在について記載されていない点。
　
　そこで、上記相違点について検討するに、プラズマエッチングその他のプラズマ処理においては、処理装置内に微粉末（パーティクル）状の不純物が（量の多寡はともかくとして）存在することは周知であり（例えば、特開平３−２５５６２６号公報２頁右下欄１〜７行等を参照）、絶対的な清浄化処理が施された理想的な状況を想定するならともかく、装置の一般的な使用状況下では、それが皆無であるとみることは困難であると解される。してみれば、本願発明３でいう上記「パーティクルが存在する条件の下で」なる要件は、単に、通常のプラズマ処理装置の状態を述べたものに過ぎず、それについて格別な記載のない引用例２に記載の発明においても、かかる要件は、通常、満たされる筈のものであるから、かかる要件の記載の有無によって、本願発明３と引用例２に記載の発明とが実質的に相違するものであるということはできない。　
　したがって、上記一応の相違点に拘わらず、本願発明３は実質的には引用例２に記載された発明であると認められる。　
　
　なお、出願人は、審判請求書において、引用例２に記載の発明は、被処理体および静電チャックシートの破損を防止することを課題とするものであるとして、本願発明との相違につき種々主張しているが、発明の構成上の対比において上記のとおり実質的な相違が認められない以上、出願人の上記主張は採用できない。
　
IＶ．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明３は、引用例２に記載された発明であるから、特許法第29条第１項第３号の発明に該当し、従って、同条第１項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、本願発明１、２、４について別途検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。