(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の反りを小さくできる電極被覆用ガラス。【解決手段】モル％で、Ｂ２Ｏ３  ３０〜４７％、ＳｉＯ２  ２５〜４２％、ＺｎＯ  ５〜１７％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ９〜１７％、から本質的になり、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれか一方または両方とＫ２Ｏとを含有し、Ｌｉ２Ｏが０〜２．５％であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５未満であり、Ｌｉ２Ｏが０．１〜２．５％である前記電極被覆用ガラス。Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５〜１であり、Ｌｉ２Ｏが０〜１．５％である前記電極被覆用ガラス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３  ３０〜４７％、ＳｉＯ２  ２５〜４２％、ＺｎＯ  ５〜１７％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ９〜１７％、から本質的になり、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれか一方または両方とＫ２Ｏとを含有し、Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が２．５％以下であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス。
【請求項２】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５未満であり、Ｌｉ２Ｏが０．１〜２．５％である請求項１の電極被覆用ガラス。
【請求項３】
Ｋ２Ｏが９〜１４％である請求項２の電極被覆用ガラス。
【請求項４】
Ｎａ２Ｏが０〜３．５％である請求項２の電極被覆用ガラス。
【請求項５】
Ｎａ２Ｏを含有せず、Ｌｉ２Ｏが１〜２％である請求項１または３の電極被覆用ガラス。
【請求項６】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５〜１であり、Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が１．５％以下である請求項１の電極被覆用ガラス。
【請求項７】
Ｋ２Ｏが５〜１３％である請求項６の電極被覆用ガラス。
【請求項８】
Ｎａ２Ｏが２〜８％である請求項６の電極被覆用ガラス。
【請求項９】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．４以上であり、Ｌｉ２Ｏを含有しない請求項６、７または８の電極被覆用ガラス。
【請求項１０】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが１超であり、Ｌｉ２Ｏを含有しない請求項１の電極被覆用ガラス。
【請求項１１】
Ｎａ２Ｏが５〜１０％である請求項１０の電極被覆用ガラス。
【請求項１２】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが２以下である請求項１０の電極被覆用ガラス。
【請求項１３】
Ｎａ２Ｏが４〜８％、Ｋ２Ｏが５〜１０％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合それらの含有量の合計が１１％以下、ＣｕＯ、ＣｅＯ２またはＣｏＯを含有する場合それらの含有量の合計が３％以下であり、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ２およびＣｏＯの含有量の合計が９０％以上である請求項１の電極被覆用ガラス。
【請求項１４】
Ｌｉ２Ｏを含有しない請求項１３の電極被覆用ガラス。
【請求項１５】
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが１０．５％以上である請求項１〜１４のいずれかの電極被覆用ガラス。
【請求項１６】
Ｂｉ２Ｏ３を含有しない請求項１〜１５のいずれかの電極被覆用ガラス。
【請求項１７】
５０〜３５０℃における平均線膨張係数が６５×１０−７〜９０×１０−７／℃である請求項１〜１６のいずれかの電極被覆用ガラス。
【請求項１８】
軟化点が６３０℃以下である請求項１〜１７のいずれかの電極被覆用ガラス。
【請求項１９】
ガラス板上に電気配線パターンが形成されており、その電気配線パターンが請求項１〜１８のいずれかの電極被覆用ガラスにより被覆されている電気配線形成ガラス板。
【請求項２０】
表示面として使用される前面ガラス基板、背面ガラス基板および隔壁によりセルが区画形成されているプラズマディスプレイ装置であって、前面ガラス基板上の透明電極が請求項１〜１８のいずれかの電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板上にＩＴＯ（スズがドープされた酸化インジウム）、酸化スズ等の透明電極等が形成されている場合にこれら電極を絶縁被覆するのに好適な電極被覆用ガラス、電気配線形成ガラス板およびプラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰは代表的な大画面フルカラー表示装置である。
ＰＤＰは、表示面として使用される前面基板と多数のストライプ状またはワッフル状の隔壁が形成された背面基板とを対向させて封着し、それら基板間に放電ガスを封入して製造される。
【０００３】
前面基板は、前面ガラス基板上に面放電を発生する複数の表示電極対が形成されており、それら電極対が透明ガラスによって被覆されているものである。
背面基板は、背面ガラス基板上に前記表示電極対と直交するアドレス電極が形成され、そのアドレス電極がガラス（通常は着色ガラス）によって被覆され、その上に隔壁、蛍光体層が形成されているものである。
【０００４】
前面基板および背面基板におけるガラスによる電極被覆は、ガラス粉末を含有するグリーンシートを電極上に転写後焼成する、ガラス粉末を含有するペーストを電極上に塗布後焼成する、等の方法によって行われる。
しかし、このような焼成を行うことによりこれら基板に反りが生ずることがあり、この問題を解決するために焼成後の冷却を特殊な方法で行うことが提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−３３１７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の電極被覆用ガラスは先に述べたような反りを生じやすいものであると考えられるが、ＰＤＰの製造時にたとえば特許文献１で提案されているような方法をとることによって反りの問題が解決されていると考えられる。
しかし、反りが生じにくい電極被覆用ガラスが得られればＰＤＰの製造時にこのような特殊な方法をとる必要がなくなることが期待される。
本発明はこのような問題を解決できる電極被覆用ガラス、電気配線形成ガラス板およびＰＤＰの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３  ３０〜４７％、ＳｉＯ２  ２５〜４２％、ＺｎＯ  ５〜１７％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ９〜１７％、から本質的になり、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれか一方または両方とＫ２Ｏとを含有し、Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が２．５％以下であり、ＰｂＯを含有しない電極被覆用ガラス（本発明のガラス）を提供する。
【０００８】
また、本発明のガラスであって、Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５未満であり、Ｌｉ２Ｏが０．１〜２．５％である電極被覆用ガラス（第１のガラス）を提供する。
また、本発明のガラスであって、Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５〜１であり、Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が１．５％以下である電極被覆用ガラス（第２のガラス）を提供する。
また、本発明のガラスであって、Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが１超であり、Ｌｉ２Ｏを含有しない電極被覆用ガラス（第３のガラス）を提供する。
【０００９】
また、本発明のガラスであって、Ｎａ２Ｏが４〜８％、Ｋ２Ｏが５〜１０％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを含有する場合それらの含有量の合計が１１％以下、ＣｕＯ、ＣｅＯ２またはＣｏＯを含有する場合それらの含有量の合計が３％以下であり、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ２およびＣｏＯの含有量の合計が９０％以上である電極被覆用ガラス（第４のガラス）を提供する。
【００１０】
また、ガラス板上に電気配線パターンが形成されており、その電気配線パターンが前記電極被覆用ガラスにより被覆されている電気配線形成ガラス板を提供する。
また、表示面として使用される前面ガラス基板、背面ガラス基板および隔壁によりセルが区画形成されているＰＤＰであって、前面ガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているＰＤＰを提供する。
【００１１】
本発明者は、Ｂ２Ｏ３を３０〜４７モル％、ＳｉＯ２を３０〜４２モル％、ＺｎＯを５〜１７モル％およびＫ２Ｏをそれぞれ含有する種々の組成の無鉛ガラスをＰＤＰ用ガラス基板上に塗布後焼成し、ガラス層が形成された基板の反りを後述する方法で測定したところ、ガラス層が形成されていない基板面が凹状になったときを反りが負、同基板面が凸状になったときを反りが正として、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれも含有しないものは反りが大きく、また、Ｌｉ２Ｏの含有量を増加させると反りが増加することを見出し、本発明に至った。
【００１２】
また、Ｌｉ２Ｏを含有しないガラスについて、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏのモル比（Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏ）が０から１まで増加するのにともない反りは負の値から正の値に単調に増加し、Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが１を超えるとその増加率が小さくなることを見出し、本発明の好ましい態様に至った。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のガラスを用いてＰＤＰ前面基板の電極被覆を行うことにより、前面基板の反りを小さくできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のガラスは通常、粉末化して電極被覆に用いられる。なお、粉末化は通常、ガラスを粉砕後分級して行われる。
ガラスペーストを用いて電極被覆を行う場合、粉末化された本発明のガラス（以下、本発明のガラス粉末という。）はビヒクルと混練されガラスペーストとされる。このガラスペーストは、たとえば透明電極等の電極が形成されているガラス基板に塗布、焼成され、当該電極を被覆するガラス層が形成される。なお、ＰＤＰ前面基板の製造においては焼成は典型的には６００℃以下の温度で行われる。
グリーンシートを用いて電極被覆を行う場合、本発明のガラス粉末は樹脂と混練され、得られた混練物はポリエチレンフィルム等の支持フィルムの上に塗布されてグリーンシートとされる。このグリーンシートはたとえばガラス基板上に形成された電極上に転写後、焼成され、当該電極を被覆するガラス層が形成される。
【００１５】
本発明のガラス粉末の質量平均粒径（Ｄ５０）は０．５μｍ以上であることが好ましい。０．５μｍ未満では粉末化に要する時間が長くなりすぎるおそれがある。より好ましくは０．７μｍ以上である。また、前記質量平均粒径は４μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは３μｍ以下である。
本発明のガラス粉末の最大粒径は２０μｍ以下であることが好ましい。２０μｍ超では、厚みを通常３０μｍ以下とすることが求められるＰＤＰの電極被覆ガラス層の形成に用いようとすると当該ガラス層の表面に凹凸が発生し、ＰＤＰの画像がゆがむおそれがある。より好ましくは１０μｍ以下である。
【００１６】
本発明のガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数（α）は６５×１０−７〜９０×１０−７／℃であることが好ましく、典型的には６５×１０−７〜８５×１０−７／℃である。
本発明のガラスの軟化点（Ｔｓ）は６３０℃以下であることが好ましい。６３０℃超では６００℃以下の温度での焼成によっては緻密な焼成層（ガラス層）を得にくくなるおそれがある。より好ましくは６００℃以下である。
【００１７】
本発明のガラスはその１ＭＨｚにおける比誘電率（ε）を低くしたい場合、たとえば８未満にしたい場合に好適であり、そのεは典型的には６〜７である。
【００１８】
後述する方法で本発明のガラスからなるガラス層が形成された基板を測定して得られた反り（Ｗ）は−５０〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは−３０〜３０μｍである。以下では、反りという語は原則として反りが凹状であるか凸状であるかを問題とせずその大きさ（Ｗの絶対値）を問題とするときに使用する。
【００１９】
次に、本発明のガラスの組成について説明する。なお、以下ではモル％を単に％と表示する。
Ｂ２Ｏ３はガラスを安定化させる、またはＴｓを下げる成分であり、必須である。３０％未満ではガラス化が困難になる。好ましくは３２％以上である。４７％超ではＴｓがかえって高くなる、または分相が起こりやすくなる。好ましくは４５％以下、より好ましくは４２％以下、典型的には４０％以下である。
ＳｉＯ２はガラスの骨格をなす成分であり、必須である。２５％未満ではガラス化しにくくなる。好ましくは３０％以上、より好ましくは３２％以上である。４２％超ではＴｓが高くなりすぎる。好ましくは４０％以下、より好ましくは３８％以下である。
【００２０】
ＺｎＯはＴｓを下げる、またはαを小さくする成分であり、必須である。５％未満ではＴｓが高くなる。好ましくは１０％以上である。１７％超では焼成時に結晶が析出しやすくなる。好ましくは１５％以下、Ｔｓをより下げたい等の場合には典型的には１２％以下である。
【００２１】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏはガラス化しやすくする、またはＴｓを下げる成分であり、Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれか一方または両方とＫ２Ｏとを含有しなければならない。
これら３成分の含有量の合計Ｒ２Ｏが９％未満ではＴｓが高くなる。典型的には１０％以上である。Ｒ２Ｏが１７％超ではαが大きくなる。典型的には１５％以下である。
Ｌｉ２ＯおよびＮａ２Ｏのいずれも含有しない、またはＫ２Ｏを含有しないものであると、反りが大きくなる。
Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が２．５％超では反りが大きくなる。
Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計は典型的には１０．５％以上である。
【００２２】
本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合における上記成分以外の成分の含有量の合計は好ましくは１２％以下、より好ましくは１０％以下、典型的には５％以下である。
たとえば、Ｔｓを下げる、またはαを小さくする等のためにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯを、これら４成分の含有量の合計ＲＯが１１％以下の範囲で含有してもよい場合がある。１１％超ではガラス化が困難になるおそれがある。ＲＯは典型的には７％以下である。
【００２３】
また、焼成時における脱バインダが不足して焼成後のガラス中にカーボンが残留してそのガラスが着色する現象を抑制したい場合などにはＣｕＯ、ＣｅＯ２またはＣｏＯをこれら３成分の含有量合計が３％まで含有してもよい場合がある。前記合計が３％超ではガラスの着色がかえって顕著になる。典型的には１．５％以下である。
これら３成分のいずれかを含有する場合、ＣｕＯを１．５％以下の範囲で含有することが典型的である。
【００２４】
また、焼結性向上等のためにＢｉ２Ｏ３を５％まで含有してもよいが、Ｂｉ２Ｏ３には資源問題等が存在するのでこの観点からはＢｉ２Ｏ３は含有しないものとすることが好ましい。
この他に、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＭｎＯ２等の成分が例示される。これら成分は通常、α、Ｔｓ、化学的耐久性、ガラスの安定性、ガラス被覆層の透過率などの調整、銀発色現象の抑制などの目的で添加される。
なお、本発明のガラスはＰｂＯを含有しない。
【００２５】
前記第１のガラスはＮａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５未満であり、Ｌｉ２Ｏを０．１〜２．５％含有することによりＷの絶対値をたとえば４０μｍ以下にしようとするものである。
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０すなわちＮａ２Ｏを含有しない場合、Ｌｉ２Ｏは１〜２％であることが好ましく、典型的には１．３〜１．７である。Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０超０．０４以下の場合も同様である。
【００２６】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．０４超０．２以下の場合、Ｌｉ２Ｏは典型的には０．５〜１．５％である。
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２超０．２５未満の場合、Ｌｉ２Ｏは典型的には０．１〜１．３％である。
【００２７】
Ｎａ２Ｏを含有する場合の典型的な含有量は３．５％以下である。
また、Ｋ２Ｏの典型的な含有量は９〜１４％である。
第１のガラスは焼結性を高めてガラス層の透明性を向上させたい場合などに好適な態様である。
【００２８】
前記第２のガラスはＮａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５〜１であり、Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量を１．５％以下とすることによりＷの絶対値をたとえば４０μｍ以下にしようとするものである。
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．２５以上０．４未満の場合、Ｗの絶対値をより小さくしようとすればＬｉ２Ｏを含有することが好ましく、その典型的な含有量は０．１〜１．３％である。
【００２９】
Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが０．４以上１以下の場合、Ｌｉ２Ｏは含有しないことが好ましく、含有するとしても０．５％以下であることが好ましい。
【００３０】
Ｎａ２Ｏの典型的な含有量は２〜８％、Ｋ２Ｏの典型的な含有量は５〜１３％である。
第２のガラスは、銀電極被覆に用いたときに起こりやすい焼成時のいわゆる銀発色を抑制したい場合などに好適な態様である。
【００３１】
前記第３のガラスはＮａ２Ｏ／Ｋ２Ｏが１超であり、Ｌｉ２Ｏを含有しないものとすることによりＷの絶対値をたとえば５０μｍ以下にしようとするものである。なお、Ｎａ２Ｏ／Ｋ２Ｏは典型的には２以下である。
Ｎａ２Ｏの典型的な含有量は５〜１０％である。
【００３２】
前記第４のガラスは、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ２およびＣｏＯの各成分以外の成分を、本発明の目的を損なわない範囲で合計で１０％以下含有してもよく、好ましくはその合計は５％以下である。
第４のガラスは典型的にはＬｉ２Ｏを含有しない。
【００３３】
本発明のガラスは先にも述べたようにεを低くしてたとえばεを６〜７にしたい場合などに好適なものであるが、εをそれほど低くはしたくない場合には次のようなガラス（ガラスＡ）、すなわち、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３  ３３〜４２％、ＳｉＯ２  ５〜１２％、ＺｎＯ  ２８〜４５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ  ３〜８％、Ｌｉ２Ｏ  ０〜４％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ５〜２０％、ＢａＯ  ５〜１５％、ＣｕＯ＋ＣｅＯ２＋ＣｏＯ  ０〜３％、から実質的になり、ＰｂＯを含有しないガラスが好適な態様であり、そのεは典型的には８〜９である。
【００３４】
以下で、ガラスＡの組成について説明する。
Ｂ２Ｏ３はガラスを安定化させる、またはＴｓを下げる成分であり、必須である。３３％未満ではガラス化が困難になる、またはＴｓが高くなる。典型的には３４％以上である。４２％超ではガラス化がかえって困難になる。好ましくは４２％以下、典型的には４０％以下である。
ＳｉＯ２はガラスの骨格をなす成分であり、必須である。５％未満ではガラス化が困難になる。典型的には７％以上である。１２％超ではＴｓが高くなりすぎる。典型的には１１％以下である。
【００３５】
ＺｎＯはＴｓを下げる、またはαを小さくする成分であり、必須である。２８％未満ではＴｓが高くなる。４５％超ではガラス化が困難になる、または焼成時に結晶が析出しやすくなる。好ましくは４２％以下である。ＺｎＯは典型的には３０〜４０％である。
【００３６】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏはガラス化しやすくする、またはＴｓを下げる効果を有する成分であり、いずれか１種以上を含有しなければならない。これら３成分の含有量の合計Ｒ２Ｏが３％未満では前記効果が小さい。典型的には４％以上である。Ｒ２Ｏが８％超ではαが大きくなる。
Ｌｉ２Ｏを含有する場合その含有量が４％超では反りが大きくなる。典型的には３％以下である。
Ｎａ２Ｏを含有する場合その含有量は典型的には４％以下である。
Ｋ２Ｏは２％以上含有することが好ましい。２％未満では反りが大きくなるおそれがある。この場合、Ｋ２Ｏの含有量は典型的には６％以下である。
【００３７】
ＢａＯはＴｓを下げる成分であり、必須である。５％未満ではＴｓが高くなる。典型的には６％以上である。１５％超ではαが大きくなる。典型的には１３％以下である。
反りを小さくしたい場合、Ｂ２Ｏ３が３８％以下、ＺｎＯが３２％以上かつＢａＯが１１％以下であることが好ましい。
【００３８】
ＭｇＯ、ＣａＯおよびＳｒＯはいずれも必須ではないが、Ｔｓを下げる、またはαを小さくする等のために、これら３成分とＢａＯの含有量の合計ＲＯが２０％になるまでは含有してもよい。２０％超ではガラス化が困難になるおそれがある。ＲＯは典型的には８〜１８％である。
ＣａＯを含有する場合その含有量は５％以下であることが好ましい。５％超では焼成時に結晶が析出しやすくなる。
【００３９】
ＣｕＯ、ＣｅＯ２およびＣｏＯはいずれも必須ではないが、焼成時における脱バインダが不足して焼成後のガラス中にカーボンが残留してそのガラスが着色する現象を抑制したい場合などにはいずれか１種以上をこれら３成分の含有量合計が３％以下の範囲で含有することが好ましい。前記合計が３％超ではガラスの着色がかえって顕著になる。典型的には１．５％以下である。
これら３成分のいずれかを含有する場合、ＣｕＯを１．５％以下の範囲で含有することが典型的であり、０．３〜１％の範囲が例示される。
【００４０】
ガラスＡは実質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合における上記成分以外の成分の含有量の合計は好ましくは１０％以下、典型的には５％以下である。
そのような成分として、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、ＭｎＯ２等が例示される。これら成分は通常、α、Ｔｓ、化学的耐久性、ガラスの安定性、ガラス被覆層の透過率などの調整、銀発色現象の抑制などの目的で添加される。
なお、ＰｂＯは含有しない。
また、Ｂｉ２Ｏ３は焼結性向上等のために５％以下の範囲で含有してもよいが、資源問題等が存在するのでＢｉ２Ｏ３は含有しないことがより好ましい。
【００４１】
本発明の電気配線形成ガラス板としてはＰＤＰ前面基板が典型的であり、この場合における電気配線は表示電極対などによって構成される。
本発明の電気配線形成ガラス板において電極被覆用ガラスにより被覆されている部分の最大径は典型的には１４ｃｍ以上であり、このようなものにおいて反り抑制の効果が顕著になることが多い。なお、前記最大径とはたとえば前記部分が長方形である場合にはその２本の対角線の長さの大きい方をいい、４２インチ以上のＰＤＰに使用する時は１０６ｃｍ以上である。
【００４２】
本発明のＰＤＰは、電極被覆用ガラスとして本発明のガラスを用いる以外は周知の方法によって製造できる。
【実施例】
【００４３】
表のＢ２Ｏ３からＣｏＯまたはＣｕＯまでの欄にモル％表示で示した組成となるように原料を調合、混合した。これを、白金坩堝を用いて１２５０℃にそれぞれ加熱し６０分間溶融した。
例１〜９は第１のガラスの実施例、例１０〜３６は第２のガラスの実施例、例３７〜４０は第３のガラスの実施例、例４１〜４８は比較例、例Ａ１〜Ａ６はガラスＡの実施例、例Ａ７はガラスＡの比較例である。なお、例８、９、３２〜３６、３９、４０については先に述べたような溶融は行わず、それらのＴｓ、α、εおよびＷの値は組成から推測して求めた。
【００４４】
先に述べたようにして得られた溶融ガラスの一部をステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷した。徐冷されたガラスを長さ２０ｍｍ、直径５ｍｍの円柱状に加工し、これを試料としてブルカーエイエックスエス社製水平示差検出方式熱膨張計ＴＤ５０１０ＳＡ−Ｎを用いて前記αを測定した。結果を表に示す（単位：１０−７／℃）。
【００４５】
残った溶融ガラスの一部をステンレス鋼製ローラーに流し込んでフレーク化した。得られたガラスフレークをアルミナ製のボールミルで１６時間乾式粉砕後、気流分級を行い、Ｄ５０が２〜４μｍであるガラス粉末を作製した。
このガラス粉末を試料として示差熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて前記Ｔｓを測定した。結果を表に示す（単位：℃）。
【００４６】
前記溶融ガラスの残部をステンレス鋼製の型枠に流し込み、徐冷した。徐冷されたガラスを直径４０ｍｍ、厚み３ｍｍの円盤状に加工しその両面に電極としてアルミニウムを蒸着したものをサンプルとし、横河ヒューレットパッカード社製ＬＣＲメーター４１９２Ａを用いて電極接触法によって前記εを測定した。結果を表に示す。
【００４７】
また、前記ガラス粉末１００ｇを、α−テルピネオール等にエチルセルロースを１０質量％溶解した有機ビヒクル２５ｇと混練してペーストインク（ガラスペースト）を作製し、大きさが１００ｍｍ×１００ｍｍ（最大径：１４１ｍｍ）、厚みが１．８ｍｍであるガラス基板（旭硝子社製ＰＤ２００）上に、焼成後の膜厚が２０μｍとなるよう均一にスクリーン印刷し、１２０℃で１０分間乾燥した。その後、このガラス基板を昇温速度毎分１０℃で５７０℃まで加熱してその温度に３０分間保持して焼成を行い、ガラス基板上にガラス層を形成した。
【００４８】
このガラス層付きガラス基板の対角線上の長さ１００ｍｍの部分について、その反りを表面粗さ計を用いて測定した。結果を表に示す（単位：μｍ）。この反り（Ｗ）は±５０μｍ以内であることが望ましい。なお、例２８〜３１、３８のＷの値は組成からの推測値である。
【００４９】
【表１】
2007297265.tif 000002
【００５０】
【表２】
2007297265.tif 000003
【００５１】
【表３】
2007297265.tif 000004
【００５２】
【表４】
2007297265.tif 000005
【００５３】
【表５】
2007297265.tif 000006
【００５４】
【表６】
2007297265.tif 000007
【００５５】
【表７】
2007297265.tif 000008
【産業上の利用可能性】
【００５６】
ＰＤＰの透明電極等を被覆するガラスとして利用できる。