【事件の表示】
　特願２０１０−２２６４１０「電極基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２３年　４月２１日出願公開，特開２０１１−　８２１６５〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成２２年１０月６日（パリ条約による優先権主張２００９年１０月６日，大韓民国）の出願であって，平成２４年１０月２３日付けで拒絶の理由が通知され，平成２５年４月３０日に意見書と手続補正書が提出され，同年６月２７日に拒絶査定がされたものである。
　その後，同年１１月５日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに手続補正書が提出され，同年１２月１６日付けで審尋を行い，平成２６年６月１６日に回答書が提出された。
　
第２　補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２５年１１月５日に提出された手続補正書による補正を却下する。
　
［理　由］
１　補正の内容
　平成２５年１１月５日に提出された手続補正書による補正（以下「本件補正」という。）は，補正前の特許請求の範囲の請求項１−１２を補正して，補正後の請求項１−１０とするものであって，補正前後の請求項１は各々次のとおりである。
　
＜補正前＞
「【請求項１】
　高分子基板上に，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と，
　炭素ナノチューブ分散層を洗浄して低分子量の分散剤を除去する工程と，
　低分子量の分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む基板を高分子樹脂溶液に含浸する工程と，
　基板を溶液から取り出して乾燥させる工程と，を含む電極基板の製造方法において，
高分子基板上に炭素ナノチューブ分散層を形成する工程は，高分子基板を６０〜１００℃で加熱しながら，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートする方法で行われる，製造方法。」
　
＜補正後＞
「【請求項１】
　高分子基板上に，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と，
　炭素ナノチューブ分散層を洗浄して低分子量の分散剤を除去する工程と，
　低分子量の分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む基板を固形分含量０．０１〜５重量％の高分子樹脂溶液に含浸する工程と，
　基板を溶液から取り出して乾燥させる工程と，を含む電極基板の製造方法において，
　高分子基板上に炭素ナノチューブ分散層を形成する工程は，高分子基板を６０〜１００℃で加熱しながら，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートする方法で行われ，
　乾燥させる工程は，高分子樹脂溶液から形成される膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍとなるように行われる，電極基板の製造方法。」
　
２　補正事項の整理
　本件補正の補正事項を整理すると次のとおりである。
　
（１）補正事項１
　補正前の請求項１の「高分子樹脂溶液に含浸」を補正して，補正後の請求項１の「固形分含量０．０１〜５重量％の高分子樹脂溶液に含浸」にすること。
　
（２）補正事項２
　補正前の請求項１の「コートする方法で行われる，製造方法」を補正して，補正後の請求項１の「コートする方法で行われ，
　乾燥させる工程は，高分子樹脂溶液から形成される膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍとなるように行われる，電極基板の製造方法」にすること。
　
（３）補正事項３
　補正前の請求項８，請求項１０を削除するとともに，請求項の項番号，及び，引用する請求項の項番号を整理すること。
　
（４）補正事項４
　補正前の請求項１２の「透過度を有する，電極基板」を補正して，補正後の請求項１０の「透過度を有する電極基板であって，
　前記炭素ナノチューブ分散層からの厚さが０．００１〜０．１μｍの高分子樹脂からなる膜を含むことを特徴とする電極基板」にすること。
　
３　新規事項追加の有無，及び，補正の目的の適否についての検討
（１）補正事項１−４について
　補正事項１−４により補正された部分は，本願の願書に最初に添付した明細書，特許請求の範囲（以下「当初明細書等」という。また，本願の願書に最初に添付した明細書を「当初明細書」という。）に記載されているものと認められるから，補正事項１−４は，当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入するものではない。
　したがって，補正事項１−４は，当初明細書等に記載された事項の範囲内においてなされたものであるから，特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たす。
　また，補正事項１−４が，特許法第１７条の２第４項に規定する要件を満たすことは明らかである。
　さらに，補正事項１，２，及び，４は，特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる，特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして，補正事項３は，特許法第１７条の２第５項第１号及び第４号に掲げる，請求項の削除，及び，明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　したがって，補正事項１−４は，特許法第１７条の２第５項に規定する要件を満たす。
　
（２）新規事項追加の有無，及び，補正の目的の適否についてのむすび
　以上検討したとおりであるから，本件補正は，特許法第１７条の２第３項，第４項及び第５項に規定する要件を満たす。
　
４　独立特許要件についての検討
　本件補正は，特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正事項を含むから，特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定によって，本件補正による補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が，特許出願の際独立して特許を受けることができるものであることを要する。
　そこで，本件補正による補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か，すなわち，本件補正がいわゆる独立特許要件を満たすものであるか否かについて，請求項１に係る発明について，更に検討を行う。
　
（１）補正後の発明
　本件補正による補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明１」という。）は，本件補正により補正された明細書及び特許請求の範囲の記載からみて，その特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるとおりのものである。
　以下，再掲する。
　
「【請求項１】
　高分子基板上に，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と，
　炭素ナノチューブ分散層を洗浄して低分子量の分散剤を除去する工程と，
　低分子量の分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む基板を固形分含量０．０１〜５重量％の高分子樹脂溶液に含浸する工程と，
　基板を溶液から取り出して乾燥させる工程と，を含む電極基板の製造方法において，
　高分子基板上に炭素ナノチューブ分散層を形成する工程は，高分子基板を６０〜１００℃で加熱しながら，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートする方法で行われ，
　乾燥させる工程は，高分子樹脂溶液から形成される膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍとなるように行われる，電極基板の製造方法。」
　
（２）引用例とその記載事項，及び，引用発明
　拒絶査定の理由で引用した，本願の優先権の主張の日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である下記の引用例１には，図面とともに次の事項が記載されている。（なお，下線は，当合議体において付したものである。以下同じ。）
　
ア　引用例１：特開２００８−１７７１４３号公報
（１ａ）「【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　
本発明は
高導電性で透過性にすぐれた透明導電性フィルム，その製造方法
を提供する
　
（１ｂ）「【００４１】
　このように，高い透明性を維持しながら表面抵抗を１０５Ω／ｓｑ．未満とすることによって，例えば１０４Ω／ｓｑ．以上１０５Ω／ｓｑ．未満であれば帯電防止フィルムとして使用でき，
１０
３
Ω／ｓｑ．以下であればタッチパネル用透明導電フィルムや液晶ディスプレイ等透明導電フィルムとして使用可能である
　
（１ｃ）「【００５４】
　本発明において，
透明基材の材質としては
透明高分子板，高分子フィルムが上げられる
　
（１ｄ）「【００５７】
　上記第四の発明における
塗布は
公知の塗布方法
浸漬コーティング
　
（１ｅ）「【００７７】
　
本発明の透明導電性フィルムは
カーボンナノチューブを基材に塗布することにより製造することができる
【００７８】
　
上記液には
カーボンナノチューブの他
界面活性剤等の分散剤
分散媒を含有させて用いられる
【００７９】
　
上記分散剤として用いることができる界面活性剤としては
【００８０】
　イオン性界面活性剤は，陽イオン性界面活性剤，両イオン性界面活性剤および陰イオン性界面活性剤にわけられる。陽イオン性界面活性剤としては，アルキルアミン塩，第四級アンモニウム塩などがあげられる。両イオン性界面活性剤としては，アルキルベタイン系界面活性剤，アミンオキサイド系界面活性剤がある。陰イオン性界面活性剤としては，
ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸塩
【００８１】
　非イオン性界面活性剤としては，例えば以下のような界面活性剤をあげられる。かかる界面活性剤は単独でもしくは２種以上を混合して用いることができる。
【００８２】
　非イオン性界面活性剤の例としては，ソルビタン脂肪酸エステル，ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの糖エステル系界面活性剤，ポリオキシエチレン樹脂酸エステル，ポリオキシエチレン脂肪酸ジエチルなどの脂肪酸エステル系界面活性剤，ポリオキシエチレンアルキルエーテル，ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル，ポリオキシエチレン・ポリプロピレングリコールなどのエーテル系界面活性剤，ポリオキシアルキレンオクチルフェニルエーテル，ポリオキシアルキレンノニルフェニルエーテル，ポリオキシアルキルジブチルフェニルエーテル，ポリオキシアルキルスチリルフェニルエーテル，ポリオキシアルキルベンジルフェニルエーテル，ポリオキシアルキルビスフェニルエーテル，ポリオキシアルキルクミルフェニルエーテル等の芳香族系非イオン性界面活性剤があげられる。中でも，分散能，分散安定能，高濃度化に優れることから，芳香族系非イオン性界面活性剤が好ましく，中でも
ポリオキシエチレンフェニルエーテルが好ましい
　
（１ｆ）「【０１０６】
　
本発明の透明導電性フィルムは
液を基材に塗布した後，風乾，加熱，減圧などの方法により不要な分散媒を除去することができる
その後，液中の成分である分散剤を適当な溶媒を用いて除去する
この操作により，電荷の分散が容易になり透明導電性フィルムの導電性が向上する
【０１０７】
　
上記分散剤を除去するための溶媒としては分散剤を溶解するものであれば特に制限はなく，水性溶媒でも非水性溶媒でもよい
　
（１ｇ）「【０１０８】
　
本発明においては上記のように液を塗布してカーボンナノチューブを含む透明導電性フィルムを形成後，このフィルムを有機または無機透明被膜を形成しうるバインダー材料でオーバーコーティングすることも好ましい
オーバーコーティングすることにより，さらなる電荷の分散や，移動に効果的である
　
（１ｈ）「【０１１０】
　
上記バインダー材料としては，導電性塗料に使用されるものであれば特に制限はなく
有機ポリマーまたはその前駆体（以下「有機ポリマー系バインダー」と称する場合もある）または無機ポリマーまたはその前駆体（以下「無機ポリマー系バインダー」と称する場合もある）が使用できる
　
（１ｉ）「【０１１５】
　
バインダーはカーボンナノチューブ分散液をコーティングしたあとに，オーバーコーティングすることもできる
なかでも，オーバーコーティング
の積層構造をとることによって電荷の移動がしやすくなり好ましい
　
（１ｊ）「【０１１６】
　
バインダーの使用量は，オーバーコートをするのに十分な量
であればよい
少なすぎると塗布がうまくいかず，多すぎても導電性を阻害し良くない
　
（１ｋ）「【０１２４】
　
本発明の透明導電性フィルムは，ＥＭＩ／ＲＦＩ（電磁干渉）シールド，低視認性，ポリマーエレクトロニクス（例えば，ＯＬＥＤディスプレイの透明導電層，ＥＬランプ，プラスチックチップ）など透明導電性コーティングの種々の用途に有用である
導電性を必要とする種々の用途を達成するために，本発明のフィルムの表面抵抗は導電層の膜厚を制御することにより，容易に調整可能である
透明性の低視認性コーティングは通常１０
３
Ω／ｓｑ．未満，好ましくは１０
２
Ω／ｓｑ．未満であれば一般に許容される
　
（１ｌ）「【０１２８】
　＜実施例１＞
　（カーボンナノチューブ液調製）
５０ｍＬの容器に＜参考例１＞で得た
カーボンナノチューブ組成物
ポリオキシエチレンフェニルエーテル（アイ・シー・エヌ社製）
蒸留水
カーボンナノチューブ組成物液を調製
カーボンナノチューブはよく分散していた
　
（１ｍ）「【０１２９】
　＜実施例２＞
　（カーボンナノチューブを含む透明導電性フィルム）
　
実施例１で得た液をポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム
バーコーター（Ｎｏ．８　Ｗｅｔ膜厚１２μｍ）を用いて塗布
８０℃乾燥機内で乾燥させカーボンナノチューブを固定化
【０１３０】
　フィルム表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察を行った写真（４万倍）を図１に示す。カーボンナノチューブが透明導電性フィルム表面に露出しており基材であるフィルム表面を被覆していることが見てとれた。被覆されている面積は，４万倍の写真を（Ａ３サイズ）カッターを用いて１０×１０ｃｍ２のサイズに３カ所切り出し，カーボンナノチューブで被覆されている部分とされていない部分を切り出しその重量比で測定した。その結果，フィルム表面積の７７％をカーボンナノチューブが被覆していた。
【０１３１】
　
得られた塗布フィルムをアセトニトリル溶液に浸漬させ，１０秒後に引き上げ乾燥させることで，界面活性剤を除去
【０１３２】
　
その後，０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液（アルドリッチ社製）をオーバーコーティングした
　
（１ｎ）「【０１５３】
　
本発明によれば
ＯＬＥＤディスプレイの透明導電層
ＥＬランプ
などの用途に使用できる
 
イ　引用発明
　引用例１の上記摘記（１ａ），（１ｌ）及び（１ｍ）の記載から，引用例１には，引用例１の特許請求の範囲に記載された発明の「実施例２」として，以下に示す発明（以下「引用発明」という。）が開示されていることが認められる。
「高導電性で透過性にすぐれた透明導電性フィルムを製造する方法であって，
（ａ）５０ｍＬの容器に，カーボンナノチューブ組成物６０ｍｇ，ポリオキシエチレンフェニルエーテル（アイ・シー・エヌ社製）６０ｍｇを量りとり，蒸留水３０ｍＬを加えて，超音波ホモジナイザー出力２４０Ｗ，３０分間で氷冷下分散処理して，カーボンナノチューブがよく分散した，カーボンナノチューブ組成物液を調製する工程と，
（ｂ）前記カーボンナノチューブ組成物液を，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）社製（ルミラー　Ｕ３６），光透過率９１．３％）上にバーコーター（Ｎｏ．８　Ｗｅｔ膜厚１２μｍ）を用いて塗布し，８０℃乾燥機内で乾燥させカーボンナノチューブを固定化する工程と，
（ｃ）得られた塗布フィルムを，アセトニトリル溶液に浸漬させ，１０秒後に引き上げ乾燥させることで，界面活性剤を除去する工程と，
（ｄ）その後，０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液（アルドリッチ社製）をオーバーコーティングする工程と，
　を含む，表面抵抗値が，１×１０３Ω／ｓｑ．，光透過率８８％（透明導電性フィルム８８％／ＰＥＴフィルム９１．３％＝０．９６），ヘイズ値１．０％である透明導電性フィルムを製造する方法。」
　
（３）本願補正発明１の進歩性についての検討
ア　本願補正発明１と引用発明との対比
（ア）引用発明の「ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）」が，高分子材料であることは明らかである。
　したがって，本願補正発明１の「高分子基板」と，引用発明の「ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム」とは，高分子材料からなる部材である点で一致する。
　
（イ）引用発明の「ポリオキシエチレンフェニルエーテル」は，本願補正発明１の「分散剤」に相当する。
　
（ウ）引用発明の「『カーボンナノチューブ組成物液を』『バーコーター（Ｎｏ．８　Ｗｅｔ膜厚１２μｍ）を用いて塗布し，８０℃乾燥機内で乾燥させカーボンナノチューブを固定化する工程』」は，本願補正発明１の「炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程」に相当する。
　
（エ）引用発明の「得られた塗布フィルムを，アセトニトリル溶液に浸漬させ，１０秒後に引き上げ乾燥させることで，界面活性剤を除去する工程」は，本願補正発明１の「炭素ナノチューブ分散層を洗浄して分散剤を除去する工程」に相当する。
　
（オ）引用発明の「０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液（アルドリッチ社製）をオーバーコーティングする工程」と，本願補正発明１の「固形分含量０．０１〜５重量％の高分子樹脂溶液に含浸する工程と，基板を溶液から取り出して乾燥させる工程」とは，オーバーコーティングを形成する工程である点で一致する。
　
（カ）したがって，上記（ア）−（オ）の対応関係から，本願補正発明１と引用発明との一致点及び相違点は，次のとおりである。
　
＜一致点＞
「高分子材料からなる部材上に，分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と，
　炭素ナノチューブ分散層を洗浄して分散剤を除去する工程と，
　分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む部材に，オーバーコーティングを形成する工程と，
　を含む製造方法。」
　
＜相違点＞
・相違点１：「高分子材料からなる部材」が，本願補正発明１では，「基板」であるのに対して，引用発明では，「フィルム」であること。
　
・相違点２：分散剤が，本願補正発明１では，「低分子量」と特定されているのに対して，引用発明では，そのように特定されていない点。
　
・相違点３：本願補正発明１では，高分子基板上に炭素ナノチューブ分散層を形成する工程が，「高分子基板を６０〜１００℃で加熱しながら」行われるのに対して，引用発明では，「塗布し，８０℃乾燥機内で乾燥させカーボンナノチューブを固定化」して行っている点。
　すなわち，本願補正発明１では，炭素ナノチューブ分散液のコートと，加熱とが，同時に行われているのに対して，引用発明では，炭素ナノチューブ分散液の塗布と，加熱とが，順次に行われている点。
　
・相違点４：オーバーコーティングが，本願補正発明１では，「固形分含量０．０１〜５重量％の高分子樹脂溶液に含浸する工程と，基板を溶液から取り出して乾燥させる工程」によって形成され，かつ，前記「乾燥させる工程」が，「高分子樹脂溶液から形成される膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍとなるように行われる」のに対して，引用発明では，「０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液（アルドリッチ社製）をオーバーコーティングする」ことによって形成されるとのみ特定されている点。
　
・相違点５：本願補正発明１が，「電極基板の製造方法」であるのに対して，引用発明が，「透明導電性フィルムを製造する方法」である点。
　
イ　本願補正発明１と引用発明との相違点についての判断
・相違点１について
　本願明細書の【００３４】の【表１】に，実施例１−実施例６として，総厚さが，１００μｍであるものが記載されていることから，本願補正発明１の「基板」が，１００μｍ程度の厚さの部材を含む概念であると理解することができる。
　一方，厚さが，１００μｍ程度の「高分子材料からなる部材」を，「フィルム」と呼称する場合ことがあることは，周知の事項である。
　そうすると，引用発明の，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）「フィルム」は，本願補正発明１の高分子「基板」に相当する部材であるといえる。
　したがって，相違点１は，実質的なものではない。
　また，仮に，本願補正発明１の「基板」が，「フィルム」を含まない概念であったとしても，引用例１の上記摘記（１ｃ）に「本発明において，透明基材の材質としては，基材として用いるときに透明性のあるものであれば特に制限されず，無機物でも有機物でもかまわない。たとえばガラス，石英板，透明高分子板，高分子フィルムが上げられる。」と記載されており，引用発明の透明基材の材質として「板」と「フィルム」が併記されていることに照らして，引用発明の「フィルム」を「基板」とすることは，当業者が適宜なし得たことである。
　
・相違点２について
　ポリオキシエチレンフェニルエーテルの分子量は，低分子量と分類される範囲に含まれると解されるから，相違点２は，実質的なものではない。
　また，仮に，本願補正発明１の「ポリオキシエチレンフェニルエーテル」の分子量が，低分子量と分類される範囲に含まれないとしても，引用例１の上記摘記（１ｅ）には，低分子量の分散剤を用いることが記載されており，しかも，本願明細書の【０００９】において，低分子量の分散剤として例示されている「ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム」は，引用例１の上記摘記（１ｅ）の【００８０】に記載された，「ドデシルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸塩」の一種であると認められるから，引用発明の分散剤として，低分子量の分散剤を用いることは当業者が適宜なし得たことである。
　
・相違点３について
　乾燥処理に要する時間を低減して，処理を促進するために，塗布時にあらかじめ基板を加熱しておき，乾燥処理を液体材料の吐出と並行して同時に進行させること，すなわち，板に液滴を配置した直後から，その液滴の乾燥を進行させることは，下記の周知例にも記載されているように，周知の方法である。
　また，引用発明の乾燥温度である「８０℃」は，本願補正発明１の基板の加熱温度である「６０〜１００℃」の範囲に含まれる値である。
　そうすると，カーボンナノチューブ組成物液を，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に塗布し，８０℃乾燥機内で乾燥させカーボンナノチューブを固定化する引用発明において，処理を促進するために，高分子基板を６０〜１００℃の温度範囲に含まれる程度の温度で加熱しながら，炭素ナノチューブ分散液をコートするようにすること，すなわち，相違点３について，本願補正発明１の発明特定事項を採用することは，当業者が容易に想到し得たことである。また，相違点３を，本願補正発明１において特定される事項としたことによる効果は，当業者が予測する範囲内のものといえる。
　
・周知例１：特開２００５−３４８３７号公報（拒絶査定時に提示した周知例）
（周１ａ）「【００４３】
　
基板１１上に液滴Ｌ１を配置した後，分散媒の除去を行うために，必要に応じて乾燥処理を行う
乾燥処理は，例えばホットプレート，電気炉，熱風発生機などの加熱手段を用いた一般的な加熱処理の他に，ランプアニールを用いて行ってもよい
　なお，この際，分散媒の除去だけでなく，分散液を導電膜に変換するまで，加熱や光照射の度合いを高めても差し支えない。ただし，導電膜の変換は，すべての液体材料の配置が終了してから，熱処理／光処理工程においてまとめて行えばよいので，ここでは，分散媒をある程度除去できれば十分である。
例えば，熱処理の場合は，通常１００℃程度の加熱を数分行えばよい
　また，
乾燥処理は液体材料の吐出と並行して同時に進行させることも可能である
例えば，基板を予め加熱しておいたり
基板に液滴を配置した直後から，その液滴の乾燥を進行させることができる
　
・相違点４について
（ア）引用発明の「ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液」は，本願補正発明１の「高分子樹脂溶液」に相当する。また，引用発明の「０．６重量％」は，本願補正発明１の「固形分含量０．０１〜５重量％」の範囲に含まれる値である。
　
（イ）引用発明には，０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液をオーバーコーティングした後に，乾燥させるとは，明示されていないが，引用発明において，０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液を乾燥させることが必須であることは明らかであるから，引用発明が，乾燥させる工程を有することは格別のこととは認められない。
　
（ウ）引用例１の上記摘記（１ｄ）に記載されているように，「浸漬コーティング」は，公知の塗布方法の一つとして知られている。
　そして，０．６重量％ポリスチレンスルホン酸ナトリウム水溶液をオーバーコーティングする具体的な方法が開示されていない引用発明において，塗布方法として前記「浸漬コーティング」を用いることは，当業者が容易になし得たことである。
　
（エ）引用発明には，高分子樹脂溶液から形成される膜の，乾燥後の，炭素ナノチューブ分散からの厚さは特定されていない。
　しかしながら，引用例１の上記摘記（１ｇ）−（１ｊ）には，次の記載がある。
（１ｇ）「【０１０８】
　本発明においては上記のように液を塗布してカーボンナノチューブを含む透明導電性フィルムを形成後，このフィルムを有機または無機透明被膜を形成しうるバインダー材料でオーバーコーティングすることも好ましい。オーバーコーティングすることにより，さらなる電荷の分散や，移動に効果的である。」
（１ｈ）「【０１１０】
　上記バインダー材料としては，導電性塗料に使用されるものであれば特に制限はなく，各種の有機および無機バインダー，すなわち透明な有機ポリマーまたはその前駆体（以下「有機ポリマー系バインダー」と称する場合もある）または無機ポリマーまたはその前駆体（以下「無機ポリマー系バインダー」と称する場合もある）が使用できる。」
（１ｉ）「【０１１５】
　バインダーはカーボンナノチューブ分散液をコーティングしたあとに，オーバーコーティングすることもできるし，あらかじめ基材にバインダーをコーティングしてから，アンカーとしてカーボンナノチューブ分散液をコーティングしてもよい。また，カーボンナノチューブ分散液とバインダー成分を混合してから混合液をコーティングしてもよい。なかでも，オーバーコーティング，あるいはアンダーコーティングの積層構造をとることによって電荷の移動がしやすくなり好ましい。」
（１ｊ）「【０１１６】
　バインダーの使用量は，オーバーコートをするのに十分な量，液中に配合する場合には塗布に適した粘性を得るのに十分な量であればよい。少なすぎると塗布がうまくいかず，多すぎても導電性を阻害し良くない。」
　
（オ）そして，引用発明は「高導電性で透過性にすぐれた透明導電性フィルムを製造する方法」に係る発明である。
　
（カ）そうすると，引用発明の「高導電性で透過性にすぐれた透明導電性フィルムを製造する」という目的を達成するために，引用例１に記載された「バインダーの使用量は，オーバーコートをするのに十分な量，・・・であればよい。少なすぎると塗布がうまくいかず，多すぎても導電性を阻害し良くない」等の記載を指針として実験等を行い，高分子樹脂溶液から形成される膜の，乾燥後の，炭素ナノチューブ分散からの厚さを，バインダー材料の物性等に応じて，最適化又は好適化することは，当業者の通常の創作能力の発揮であり，当業者が容易に想到することができたものと認められる。
　そして，本願の明細書には，特定の条件下で行われた実施例１について，「高分子樹脂膜の乾燥後の厚さ０．００１μｍ」が示されているだけであって，膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍという範囲である場合の臨界的な効果は，具体的な数値としては記載されていない。
　したがって，引用発明において，膜の乾燥後の厚さが炭素ナノチューブ分散から０．００１〜０．１μｍとなるようにすることは当業者が適宜なし得たことである。
　
（キ）すなわち，上記（ア）−（カ）で検討したとおりであるから，相違点４について，本願補正発明１の発明特定事項を採用することは，当業者が容易に想到し得たことである。また，相違点４を，本願補正発明１において特定される事項としたことによる効果は，当業者が予測する範囲内のものといえる。
　
・相違点５について
　引用例１の上記摘記（１ｎ）等の記載に照らして，引用発明に係る「透明導電性フィルム」を「電極基板」として使用することは想定されているものと認められるから，引用発明に係る「透明導電性フィルムを製造する方法」は，本願補正発明１の「電極基板の製造方法」に相当するものと認められる。
　したがって，相違点５は，実質的なものではない。
　また，仮に，引用発明が，「電極基板の製造方法」に相当しないとしても，引用発明を，「電極基板の製造方法」に適用することは当業者が容易になし得たことである。
　
ウ　小活
　相違点１−５については，以上のとおりであるから，本願補正発明１は，上記引用例１に記載された発明と周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　相違点１−５については，以上のとおりであるから，本願補正発明１は，上記引用例１に記載された発明と周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。したがって，本願補正発明１は，特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
５　補正の却下の決定のむすび
　したがって，本件補正は，特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２５年１１月５日に提出された手続補正書による補正は，上記のとおり却下されたので，本願の請求項１−１２に係る発明は，平成２５年４月３０日に提出された手続補正書によって補正された明細書及び特許請求の範囲の記載からみて，その特許請求の範囲の請求項１−１２に記載されている事項により特定されるとおりのものであるところ，そのうち請求項１に係る発明（以下「本願発明１」という。）は，次のとおりである。
　
「【請求項１】
　高分子基板上に，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートして炭素ナノチューブ分散層を形成する工程と，
　炭素ナノチューブ分散層を洗浄して低分子量の分散剤を除去する工程と，
　低分子量の分散剤が除去された炭素ナノチューブ分散層を含む基板を高分子樹脂溶液に含浸する工程と，
　基板を溶液から取り出して乾燥させる工程と，を含む電極基板の製造方法において，
高分子基板上に炭素ナノチューブ分散層を形成する工程は，高分子基板を６０〜１００℃で加熱しながら，低分子量の分散剤を含む炭素ナノチューブ分散液をコートする方法で行われる，製造方法。」
　
２　進歩性について
（１）引用例及びその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用され，本願の優先権の主張の日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である引用例１に記載されている事項は，上記「第２　４　（２）引用例とその記載事項，及び，引用発明」の項で指摘したとおりである。
　
（２）当審の判断
　本願発明１を限定したものである本願補正発明１が，前記「第２　４　（３）本願補正発明１の進歩性についての検討」で判断したとおり，引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものと判断されるから，本願発明１も同様に，引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものと認められる。
　
第４　むすび 
　以上のとおり，本願の請求項１に係る発明は，引用例１に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。したがって，他の請求項について検討するまでもなく，本願は拒絶をすべきものである。
　
　よって，結論のとおり審決する。