(57)【要約】【課題】規格値を満たすランドプリピット信号が得られ、かつ良好な記録再生を行うことができる光ディスクを提供する。【解決手段】光ディスク１は、第１の凹凸部２Ａ，２Ｂが形成された第１の基板２上に第１の記録層３、第１の反射層４が順次積層された第１の中間体Ａと、第２の凹凸部９Ａ，９Ｂが形成された第２の基板９上に第２の反射層８、第２の記録層７が順次積層された第２の中間体Ｂとを第１の反射層４を第２の記録層７側に対向配置させ、光透過性接着剤層５によって貼り合わされている。第１の基板２側から記録再生用のレーザ光を照射して第１、第２の記録層３、７の記録再生を行う。入射面２０１に近い側を第１、第２の凹部２Ａ、９Ａとするとき、第１の凸部２Ｂの幅が第１の凹部２Ａよりも狭く、かつ第２の凸部９Ｂの幅が第２の凹部９Ａよりも狭い。【選択図】図１
2007207304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクにおいて、
前記レーザ光の入射面を有し、第１の凹部と第１の凸部が形成された光透過性の第１の基板に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とが順次積層された第１の中間体と、
第２の凹部と第２の凸部が形成された第２の基板上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とが順次積層された第２の中間体とを備え、
前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせてなり、
前記第１の中間体では前記第１の凹凸部における前記入射面に近い側を前記第１の凹部とし、前記第２の中間体では前記第２の凹凸部における前記入射面に近い側を前記第２凹部とするとき、
前記第１の凸部の幅が前記第１の凹部よりも狭く、かつ前記第２の凸部の幅が前記第２の凹部よりも狭いことを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２層以上の記録層を有する光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
大容量の情報の記録再生を行うために２層の記録層を有するＤＶＤが開発されてきた。
特許文献１には、凹部幅が０．２〜０．３μｍを有する第１の基板上に第１の記録層、第１の反射層が順次積層された第１の中間体と、凹部幅が０．２〜０．４μｍを有する第２の基板上に第２の反射層、第２の記録層、バリア層が順次積層された第２の中間体とを上記した第１の反射層とバリア層とが透明中間層を介して対向配置され貼り合わされた光ディスクについて記載されている。そして、第１の反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのいずれかを主成分とし、Ａｕ、Ａｇ等から選ばれた少なくとも１種類を含有する合金からなり、光透過率が３０〜６０％で、かつ光反射率が１５〜３５％であることが記載されている。
【０００３】
更に、光ディスクの第１の基板側からレーザ光の焦点を第１の記録層、第２の記録層に合わせることによりそれぞれの記録層に情報を記録し、又はこの情報の再生を行うことができる。
凹部に対して第１、第２の基板の表面は凸部となるため、第１、第２の基板には、凹凸部が形成されていることになるが、以下では、第１、第２の基板のレーザ光の入射面に近い側を凹部ということにする。
このとき、第１、第２の基板の凹部上に形成された第１、第２記録層は、第１、第２の情報記録層となる。
【特許文献１】特開２００５−５０４９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
レーザ光を第１の基板を介して、第２の基板の第２の情報記録層に照射し、ここで反射して得られた情報光を光検出器で検出する際、第１の基板に形成されている凹部を透過する情報光と凸部を透過する情報光は互いに干渉し合って高次回折光を生じる。ところで従来技術では、第１、第２の両基板に形成されている凹部の幅と凸部の幅とは、等しく形成されている。そして、第１の基板に形成されている凹凸部には、そこに照射される情報光の光量は等しくなるので、干渉による高次回折光が最も生じやすくなる。この高次回折光が光検出器の受光状態を乱すため、良好な再生信号を得ることができなかった。
【０００５】
第２の情報記録層からの情報記録を容易に可能とするために、通常、第１の反射層には、金属或いは合金の半透過膜が用いられているが、このことも上記した高次回折光を発生しやすくするので、上記したと同様の問題を生じさせる要因となっていた。
【０００６】
また、この回折光は、第２の基板の第２情報記録層に隣接する凸部に形成されているランドプリピット信号まで影響を及ぼし、ランドプリピット信号のＡＲ（アパーチャ・レシオ）値が低下してしまうといった問題を生じていた。ＡＲ値とは、ランドプリピット信号が読み取れる指標を示す値である。
【０００７】
このランドプリピット信号のＡＲ値は、規格により、１０％以上であることが要求されている。
第２の記録層から得られる情報信号のうち、特に、ランドプリピットから得られるランドプリピット信号は、再生情報信号に比較して微小であるので、規格値を満たさない場合があった。上記したことは、記録の場合も同様である。
【０００８】
そこで、本発明は、前述の課題に鑑みて提案されるものであって、規格値を満たすランドプリピット信号が得られ、かつ良好な記録再生を行うことができる光ディスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明は、記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクにおいて、前記レーザ光の入射面を有し、第１の凹部と第１の凸部が形成された光透過性の第１の基板に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とが順次積層された第１の中間体と、第２の凹部と第２の凸部が形成された第２の基板上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とが順次積層された第２の中間体とを備え、前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせてなり、前記第１の中間体では前記第１の凹凸部における前記入射面に近い側を前記第１の凹部とし、前記第２の中間体では前記第２の凹凸部における前記入射面に近い側を前記第の２凹部とするとき、前記第１の凸部の幅が前記第１の凹部よりも狭く、かつ前記第２の凸部の幅が前記第２の凹部よりも狭いことを特徴とする光ディスクを提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本願発明によれば、第１の凹部の幅が前記第１の凸部よりも狭く、かつ前記第２の凸部の幅が前記第２の凹部よりも狭いので、規格値を満たすランドプリピット信号を得ることができ、かつ良好な記録再生を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明に係る光ディスクにおける実施の形態について、図１乃至図４を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態における光ディスクを示し、（Ａ）はその断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面図、（Ｃ）は（Ａ）のＮＮ断面図である。
図２は、第１の中間体の製造方法を示す図である。図３は、第２の中間体の製造方法を示す図である。図４は、第１、第２の中間体の貼り合わせを示す断面図である。
【００１２】
図１に示すように、光ディスク１は、記録再生用レーザ光の照射側となる円盤状の第１の凹凸部２Ａ、２Ｂを有する第１の基板２上に第１の記録層３、第１の反射層４が順次積層された第１中間体Ａと、円盤状の第２の凹凸部９Ａ、９Ｂを有する第２の基板９上に第２の反射層８、第２の記録層７、光透過性保護層６が順次積層された第２中間体Ｂとが、光透過性接着剤層５を介して前記第１の反射層４と光透過性保護層６とが対向配置されて貼り合わされている。
【００１３】
以下では、第１、第２の基板２、９に形成されている第１、第２の凹凸部２Ａ，２Ｂ、９Ａ，９Ｂのうち、記録再生用レーザ光の入射面２０１に近い方を凹部といい、遠い方を凸部ということにする。そして、凹部をグルーブ、凸部をランドということにする。即ち、図１中では、グルーブは２Ａ、９Ａであり、ランドは２Ｂ、９Ｂである。そして、グルーブ２Ａ、９Ａ上の第１、２の記録層３、７には、情報が記録される。この情報が記録されるグルーブ２Ａ、９Ａ上の第１、第２の記録層３、７の領域をそれぞれに対応して情報記録領域３Ａ、７Ａという。また、ランド２Ｂ、９Ｂには、補助情報を示すランドプリピット２Ｃ、９Ｃが形成されている。
【００１４】
第１の基板２の表面には、グルーブ２Ａとランド２Ｂとが互いに隣接して交互に形成され、図１（Ｂ）に示すように、ランド２Ｂにはアドレスや同期信号等の補助情報を示すランドプリピット２Ｃが形成されている。具体的には、ランドプリピット２Ｃは、ランド２Ｂと同じ高さのパターンとして形成されている。
【００１５】
即ち、ランドプリピット２Ｃは、ランド２Ｂに点在した凹部となるピットとして形成される。
グルーブ２Ａ及びランド２Ｂは、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状に形成されている。更に、グルーブ２Ａの両側は、ウォブルされ、このグルーブ２Ａ上に形成されている第１の記録層３の情報記録領域３Ａに第１の情報が記録再生される。
【００１６】
また、第１の基板２に対向する第２の基板９表面には、グルーブ９Ａとランド９Ｂが互いに隣接して交互に形成され、図１（Ｃ）に示すように、ランド９Ｂにはランドプリピット９Ｃが形成されている。具体的には、ランドプリピット９Ｃは、グルーブ９Ａと同じ高さのパターンとして形成されている。
【００１７】
即ち、ランドプリピット９Ｃは、ランド９Ｂに突き出した形状のピットとして形成され、規格で規定された間隔で点在する。グルーブ９Ａ及びランド９Ｂは、グルーブ２Ａ及びランド２Ｂと同様に、内周から外周に向かって或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状に形成されている。更に、グルーブ９Ａの両側は、ウォブルされ、このグルーブ９Ａ上に形成されている第２の記録層７の情報記録領域７Ａに第２の情報が記録再生される。
【００１８】
第１の基板２としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂の光透過性の材料を用いることができる。第２の基板９は、記録再生用レーザ光の照射側に配置されていないため、必ずしも光透過性でなくても良いが、第１の基板２と同じ材料を用いることが好ましい。
【００１９】
第１、第２の記録層３、７としては、極性溶剤であるアルコール系或いはセロソルブ系溶剤に可溶なシアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ系色素を用いることができる。第２の記録層７の表面は、平坦化されている。
【００２０】
光透過性保護層６としては、環状アモルファスポリオレフィン（例えば、商品名ゼオネックスやクイントン（日本ゼオン（株））を用いることができる。第１の記録層３に上記材料を用いた場合には、有機色素を溶解しない溶剤として、非極性溶剤のシクロヘキサン、テトラリン、デカリン等を用いて、非極性溶剤に溶解可能な透明樹脂として環状アモルファスポリオレフィン（例えば、商品名ゼオネックスやクイントン（日本ゼオン（株））を用いて、スピンコート法等で形成することができる。
【００２１】
また、光透過性保護層６に、半透過性の金属反射層や無機透明薄膜層を用いても良い。このとき、光透過性保護層６は、光学透過率を調整する機能を有しても良く、記録再生するレーザ光の波長に対する屈折率ｎ、吸収係数ｋ及び厚さを選択することにより、第２の記録層７の反射率及びトラッキング信号等を調整することができる。
【００２２】
具体的には、光透過性保護層６には、ＺｎＳ（ｎ＝２．４）、ＳｉＣ（ｎ＝２．２）、ＴｉＯ2（ｎ＝２．５）、ＳｉＮ（ｎ＝２．１）ＺｎＳ−ＳｉＯ2（ｎ＝２．１）等の硫化物、酸化物、窒化物の無機誘電体膜を用いることができる。更に、光透過性保護層６として、紫外線硬化樹脂中に金属、セラミックの微粒子を混合したものを用いることにより、光透過性保護層６の屈折率ｎを高めることができる。
【００２３】
更に、光透過性保護層６は、上記環状アモルファスポレオレフィンなどの光透過性樹脂薄膜層と半透過性の金属反射層や無機透明薄膜層との両方用いた２層構造にしても良い。
第１、第２の反射層４、８には、高い反射率が得られるＡｕ、Ａｌ、Ａｇ及びそれらの合金を用いることができる。
【００２４】
光透過性接着剤層５には、生産性、歩留りの点からアクリレート系の紫外線硬化樹脂を使用するのが好ましい。紫外線硬化樹脂としては、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びそれらの混合物が主成分である紫外線硬化樹脂が好ましい。
【００２５】
第１の凹部２Ａの幅Ｌ1と第１の凸部２Ｂの幅Ｌ2との関係は、Ｌ1＞Ｌ2である。また、第２の凹部９Ａの幅Ｌ3と第２の凸部９Ｂの幅Ｌ4との関係は、Ｌ3＞Ｌ4である。言い換えると、グルーブ２Ａの幅Ｌ1は、ランド２Ｂの幅Ｌ2よりも広く、グルーブ９Ａの幅Ｌ3は、ランド９Ｂの幅Ｌ4よりも広い。グルーブ２Ａの幅Ｌ1は、ランド２Ｂの幅Ｌ2よりも広いので、第２の記録層７の情報記録領域７Ａで反射された記録再生用レーザ光がグルーブ２Ａで回折する高次回折光の干渉を弱くすることができる。このため、図示しない光検出器により情報記録領域７Ａで反射された記録再生用レーザ光を検出し易くできるので、良好な記録再生を行うことができる。
【００２６】
また、グルーブ９Ａの幅Ｌ3は、ランド９Ｂの幅Ｌ4よりも広いので、第２の記録層７上での記録再生レーザ光の熱の広がりが抑えられるため、ランドプリピット信号を検出しやすくできる。しかし、ランド２Ｂ、９Ｂの幅Ｌ2、Ｌ4を狭くしすぎると、ランドプリピット２Ｃ、９Ｃからのランドプリピット信号の検出が難しくなってしまう。
【００２７】
このため、第１の凹部２Ａと隣接する第１の凸部２Ｂを組とした1トラック幅（Ｌ1＋Ｌ2）に対し、第１の凹部２Ａの幅Ｌ1の割合は、６０〜７０％が好ましい。
また、第２の凹部９Ａの幅Ｌ3の１トラック幅（Ｌ3＋Ｌ4）に対する割合は、５０〜７０％が好ましい。
このように溝幅を設定することで、図示しない光検出器でのランドプリピット９Ｃで反射された記録再生用レーザ光を検出しやすくできるようになり、規格値を満たすランドプリピット９Ｃの信号を得ることができる。
【００２８】
次に、この光ディスク１の製造方法について図２乃至図４を用いて説明する。
（第１の基板用ガラス原盤作製工程）
図２（Ａ）に示すように、円盤状のガラス基板１０上にフォトレジスト１１を塗布する。図２（Ｂ）に示すように、このフォトレジスト１１上からレーザ光を照射して露光した後、現像を行なって、図１（Ａ）、（Ｂ）を用いて説明したグルーブ２Ａ、ランド２Ｂ及びランド２Ｂ上に形成されるランドプリピット２Ｃとなるフォトレジストパターン１２を内周から外周に向かって形成してガラス原盤１３を作製する。この際、フォトレジストパターン１２の両側は、ウォブルされる。そして、グルーブ２Ａに対応するフォトレジストパターン１２は、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状の１本の凹部として形成される。
【００２９】
（第１の基板用マスタスタンパの作製工程）
図２（Ｃ）に示すように、ガラス原盤１３上にスパッタリング法により厚さ５０〜２００ｎｍのＮｉを形成した後、電鋳法により、厚さ１００〜５００μｍのメッキ膜を形成することにより、ガラス原盤１３に形成されているフォトレジストパターン１２を転写してマスタスタンパ１４を作製する。マスタスタンパ１４に形成されるパターンは、ガラス原盤１３に形成されているフォトレジストパターン１２と逆の関係になる。
【００３０】
（第１の基板の作製工程）
次に、マスタスタンパ１４を射出成型機（図示せず）に装着して、図２（Ｄ）に示すように、射出成型法により、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かってグルーブ２Ａ及びランドプリピット２Ｃが形成されたランド２Ｂが螺旋状に形成された第１の基板２を得る。
【００３１】
（第１の記録層の形成工程）
次に、図２（Ｅ）に示すように、スピンコート法により、第１の基板２上にアルコール系溶剤に溶解した有機色素を塗布して第１の記録層３を得る。実際には、第１の記録層３の厚さは、グルーブ２Ａの方がランド２Ｂ上よりも厚くなる。このようになるのは、有機色素がランド２Ｂ上よりも低いグルーブ２Ａに流れて溜るからである。このため、ランド２Ｂ及びランドプリピット２Ｃの側壁には、有機色素は形成されない。
【００３２】
（第１の反射層の形成工程）
次に、図２（Ｆ）に示すように、スパッタリング法或いは真空蒸着法により、第１の記録層３上に第１の反射層４を形成する。
こうして、第１の中間体Ａが作製される。
【００３３】
（第２の基板用マスタスタンパの作製工程）
次に、図３（Ａ）に示すように、円盤状のガラス基板１５上にフォトレジスト１１を塗布する。図３（Ｂ）に示すように、このフォトレジスト１１上からレーザ光を照射して露光した後、現像を行なって、図１（Ａ）、（Ｃ）を用いて説明したグルーブ９Ａ、ランド９Ｂ及びランド９Ｂに形成されるランドプリピット９Ｃとなるフォトレジストパターン１６を内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって形成してガラス原盤１７を作製する。この際、フォトレジストパターン１６の両側は、ウォブルされる。
【００３４】
（第２の基板用マスタスタンパの作製工程）
そして、グルーブ９Ａに対応するフォトレジストパターン１６は、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状の１本の凹部として形成される。図３（Ｃ）に示すように、このガラス原盤１７上にスパッタリング法により厚さ５０〜２００ｎｍのＮｉを形成した後、電鋳法により、厚さ１００〜５００μｍのＮｉメッキ膜を形成してマスタスタンパ１８を作製する。このマスタスタンパ１８のパターンは、ガラス原盤１７と逆の関係になる。
【００３５】
（マザースタンパの作製工程）
次に、マスタスタンパ１８をガラス原盤１７から離間させた後、図３（Ｄ）に示すように、電鋳法により、マスタスタンパ１８上にＮｉメッキ膜を形成することにより、マスタスタンパ１８に形成されているパターンを転写してマザースタンパ１９を作製する。このマザースタンパ１９のパターンは、ガラス原盤１７と同じ関係になる。
【００３６】
（第２の基板の作製工程）
次に、マザースタンパ１９を射出成型機（図示せず）に装着して、図３（Ｅ）に示すように、射出成型法により、内周から外周に向かってグルーブ９Ａ及びランドプリピット９Ｃが形成されたランド９Ｂが螺旋状に形成された第２の基板９を得る。
【００３７】
（第２の反射層の形成工程）
次に、図３（Ｆ）に示すように、スパッタリング法或いは真空蒸着法により、第２の基板９上に第２の反射層８を形成する。
【００３８】
（第２の記録層の形成工程）
次に、図３（Ｇ）に示すように、スピンコート法により、第２の反射層８上にアルコール系溶剤に溶解した有機色素を塗布して第２の記録層７を得る。グルーブ９Ａ上の第２の記録層７の厚さは、ランド９Ｂの高さよりも厚くする。結果として、その第２の記録層７の表面の凹凸は、グルーブ９Ａとランド９Ｂによって形成される段差よりも低減され、平坦化される。
【００３９】
（光透過性保護層の形成工程）
次に、図３（Ｈ）に示すように、スピンコート法により、第２の記録層７上に非極性溶剤に溶解した熱可塑性樹脂からなる光透過性樹脂を塗布して光透過性保護層６を形成する。こうして、第２の中間体Ｂが作製される。
【００４０】
（貼り合わせ工程）
図４に示すように、第１の中間体Ａの第１の光透過性保護層４上に紫外線硬化樹脂からなる光透過性接着剤層５を塗布した後、光透過性保護層６側を光透過性接着剤層５に対向配置させて、第２の中間体Ｂを光透過性接着剤層５上に重ねる。この状態で第１、第２の中間体Ａ、Ｂを回転させて全体に光透過性接着剤層５が行き渡るようにした後、紫外線を照射して硬化させて図１に示す片面に２層の記録層を有する光ディスク１を作製する。
【００４１】
なお、紫外線硬化樹脂の代わりに剥離シートの片面に粘着材が形成された粘着シートを用いても良い。この場合は、粘着材側を第１の中間体Ａの第１の反射層４に対向させて、上記した粘着シートを第１の中間体Ａに加圧、脱法して、接着した後、剥離シートだけを剥がし、次に光透過性保護層６側を粘着材に対向配置させて、第２の中間体Ｂを上記した粘着材上に重ねる。更に、加圧、脱法して接着して片面に２層の記録層を有する光ディスク１を作製することができる。
【００４２】
次に、光ディスク１における各層の材料を変えて実施例試料１、比較試料１、２を作製して、記録再生特性について調べた。
光ディスク１の各試料は、以下のようにして作製した。
ここで用いられる第１、第２の基板２、９の材料は、ポリカーボネート樹脂である。
【００４３】
（実施例試料１）
まずは、第１の中間体Ａを作製する。
マスタスタンパ１４を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１６０ｎｍ及び幅が０．２５μｍのグルーブ２Ａ、グルーブ２Ａの底面からの高さが１６０ｎｍ及び幅が０．４９μｍのランド２Ｂ、ランド２Ｂにランド２Ｂと同じ高さの１６０ｎｍのパターンを有するランドプリピット２Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第１の基板２を作製する。次に、極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．０ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第１の基板２上に塗布して第１の記録層３を形成する。この際、第１の基板２は、１５００ｒｐｍで回転させて行う。
【００４４】
このようにして形成された第１の記録層３の厚さは、グルーブ２Ａ上では、１２０ｎｍ、ランド２Ｂ上では、３０ｎｍである。スパッタリング法により、この第１の記録層３上に厚さ１０ｎｍのＡｇからなる第１の反射層４を形成する。こうして、第１の中間体Ａを作製する。
【００４５】
次に、第２の中間体Ｂを作製する。
マザースタンパ１９を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが３０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのグルーブ９Ａ、グルーブ９Ａの底面からの高さが３０ｎｍ及び幅が０.３μｍのランド９Ｂ、ランド９Ｂにグルーブ９Ａと同じ高さの３０ｎｍのパターンを有するランドプリピット９Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板９を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板９上に厚さ１００ｎｍのＡｇからなる第２の反射層８を形成する。
【００４６】
ジクロロメタン溶液中の極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．５ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の反射層８上に塗布して、グルーブ９Ａ上の厚さが１２０ｎｍとなるように第２の記録層７を形成する。この際、第２の基板９を１０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００４７】
次に、ＲＦスパッタリング法により、厚さ２０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2（ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝２０：８０ｍｏｌ％）薄膜からなる光透過性保護層６を形成する。
こうして、第２の中間体Ｂを作製する。
【００４８】
次に、第１、第２の中間体Ａ、Ｂの貼り合わせを行う。
第１の中間体Ａの第１の反射層４上に紫外線硬化樹脂（日本化薬（株）製：アクリレート（商品名）ＤＶＤ１１４２）からなる光透過性接着剤層５を塗布した後、光透過性保護層６側を光透過性接着剤層５に対向配置させて、第２の中間体Ｂを光透過性接着剤層５上に重ねる。この状態で第１、第２の中間体Ａ、Ｂを回転数６０００ｒｐｍで回転させて全体に厚さ５０μｍの光透過性接着剤層５が行き渡るようにした後、紫外線を照射して硬化させる。このとき、光透過性接着剤層５として用いられる紫外線硬化樹脂は、協立化学産業（株）製の変性ウレタンアクリレート（商品名ワールドロックＮｏ．８１１）である。
こうして、片面に２層の記録層３、７を有する試料１の光ディスク１を作製した。
【００４９】
（比較試料１）
比較試料１は、実施例試料１において、第２の中間体Ｂのグルーブ９Ａとランド９Ｂの幅はそのままにして、第１の中間体Ａのグルーブ２Ａとランド２Ｂの幅を等しくしたものであり、これ以外は同様である。
以下に比較試料１の作製方法について説明する。
まずは、第１の中間体Ａを作製する。
マスタスタンパ１４を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１６０ｎｍ及び幅が０．３７μｍのグルーブ２Ａ、グルーブ２Ａの底面からの高さが１６０ｎｍ及び幅０．３７μｍのランド２Ｂ、ランド２Ｂにランド２Ｂと同じ高さの１６０ｎｍのパターンを有するランドプリピット２Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第１の基板２を作製する。
【００５０】
次に、極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．０ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第１の基板２上に塗布して厚さ５０ｎｍの第１の記録層３を形成する。この際、第１の基板２を１５００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５１】
ＤＣスパッタリング法により、この第１の記録層３上にＡｇを主成分とする合金のターゲットを用いて、Ａｒガス中でスパッタすることにより、厚さ１０ｎｍの第１の反射層４を形成する。こうして、第１の中間体Ａを作製する。
【００５２】
次に、第２の中間体Ｂを作製する。
マザースタンパ１９を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが３０ｎｍ及び幅が０．２９μｍのグルーブ９Ａ、グルーブ９Ａの底面からの高さが３０ｎｍ及び幅が０．４５μｍのランド９Ｂ、ランド９Ｂにグルーブ９Ａと同じ高さの３０ｎｍのパターンを有するランドプリピット９Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板９を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板９上に厚さ１００ｎｍのＡｇ合金膜からなる第２の反射層８を形成する。
【００５３】
ジクロロメタン溶液中の極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．５ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の反射層８上に塗布して厚さが１２０ｎｍの有機色素からなる第２の記録層７を形成する。この際、第２の基板９を１０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５４】
次に、ＲＦスパッタリング法により、厚さ２０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2（ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝２０：８０ｍｏｌ％）薄膜からなる光透過性保護層６を形成する。
こうして、第２の中間体Ｂを作製する。
【００５５】
次に、実施例試料１と同様に、第１、第２の中間体Ａ、Ｂの貼り合わせを行って、片面に２層の記録層３、７を有する比較試料１の光ディスク１を作製した。
【００５６】
（比較試料２）
比較試料２は、実施例試料１において、第１の中間体Ａのグルーブとランドの幅はそのままにして、第２の中間体Ｂのグルーブの幅を０.３５μｍとランドの幅を０．３９μｍにしたものであり、これ以外は同様である。
比較試料２の作製方法は、実施例試料１と同様であるので、説明を省略する。
【００５７】
（記録再生評価）
こうして得られた実施例試料１、比較試料１、２の光ディスク１を対物レンズの開口数が０．６５、波長６５０ｎｍのレーザ光を射出する光ピックアップを搭載した光ディスク評価機にセットして記録再生特性について調べた。各試料の第１の記録層３の情報記録領域３Ａには、２０ｍＷのレーザ光パワーでＤＶＤフォーマット信号を記録し、第２の記録層７の情報記録領域７Ａには、２３ｍＷのレーザ光パワーでＤＶＤフォーマット信号を記録した。
【００５８】
（実施例試料１の評価結果）
第１の記録層３の情報記録領域３Ａでは、再生ジッタは、７．８％、反射率は１８％であり、第２の記録層７の情報記録層７Ａでは、再生ジッタは８．０％、反射率は１８％であった。
また、ランドプリピット検出信号の品質を示すＡＲ値は、２６％であった。ＤＶＤ規格では、再生ジッタは、８％以下であり、反射率は、１６%以上であり、ＡＲ値は、１０％以上であることが規定されている。上記したように、再生ジッタ、反射率及びＡＲ値は、いずれも規格値を満たしており良好な記録層が形成されていることがわかった。
【００５９】
（比較試料１の評価結果）
第１の記録層３の情報記録領域３Ａでは、再生ジッタ、反射率、ＡＲ値は、実施例試料１と同様であった。
第２の記録層７の情報記録領域７Ａでは、再生ジッタは、７．８％、反射率は、１７．８％であり、ＡＲ値は、０%であった。
再生ジッタ及び反射率は、規格値を満たすもののＡＲ値は、規格値を満たさず、信号品質の良いランドプリピット検出を行うことができなかった。
【００６０】
（比較試料２の評価結果）
第２の記録層７の情報記録領域７Ａでは、再生ジッタ及び反射率は比較試料と同様であったが、ＡＲ値は、８％であった。
このように、比較試料１同様に、ＡＲ値は、規格値を満たさず信号品質の良いランドプリピット検出を行うことができなかった。
以上のように、第１の記録層３におけるグルーブ２Ａの幅をランド２Ｂの幅よりも広くし、第２の記録層７におけるグルーブ９Ａの幅をランド９Ｂの幅よりも広くすることにより、規格値を満たすＡＲ値を得ることができると共に、良好な記録再生を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施の形態における光ディスクを示す図である。
【図２】第１の中間体の製造方法を示す図である。
【図３】第２の中間体の製造方法を示す図である。
【図４】第１、第２の中間体の貼り合わせを示す断面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…光ディスク、２…第１の基板、２Ａ、９Ａ…グルーブ、２Ｂ、９Ｂ…ランド、２Ｃ、９Ｃ…ランドプリピット、３…第１の記録層、３Ａ、７Ａ…情報記録領域、４…第１の反射層、５…光透過性接着剤層、６…光透過性保護層、７…第２の記録層、８…第２の反射層、９…第２の基板、１０、１５…ガラス基板、１１…フォトレジスト、１２、１６…フォトレジストパターン、１３…ガラス原盤、１４、１８…マスタスタンパ、１９…マザースタンパ、Ａ…第１の中間体、Ｂ…第２の中間体、２１０…入射面
【図１】
2007207304.tif 000003
【図２】
2007207304.tif 000004
【図３】
2007207304.tif 000005
【図４】
2007207304.tif 000006