(57)【要約】【課題】  完全に目が詰まることがなく、かつ、目が細かいフィルターを持っていて、高い信頼性を有していながら、流抵抗の増大によるスループットの低下が少ない記録ヘッドを提案すること。【解決手段】  基板の供給口から各々の吐出圧力発生素子の手前までが掘り込まれている彫込み流路のヘッドであって、彫込みの上に複数の孔またはスリットが開けられたフィルター層が被さっている構成とする。製造方法としては、フィルター層に開けられた孔またはスリットから等方エッチャントを導入して、基板に彫込みを形成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェット記録ヘッドの製造に用いるインクジェット記録ヘッド用基体を備え、
前記基体の前記吐出圧力発生素子が形成された面の前記吐出圧力発生素子の近傍部分が掘り込まれ、その一部に前記貫通口が形成される窪み部と、
該窪み部と前記液流路との間に複数の孔もしくはスリットが開けられたフィルター層を有するインクジェット記録ヘッド。
【請求項２】
前記フィルター層が前記吐出圧力発生素子の駆動回路の絶縁層、パッシベイション層、その他機能層と共通の層であることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項３】
前記窪み部の内面にＳｉＮ、ＳｉＯ、その他前記共通液室の形成や前記液体に用いられる酸、アルカリに耐性のある保護層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。
【請求項４】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
基板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する工程と、
フィルター層に孔もしくはスリットを形成する工程と、
前記孔もしくはスリットを通して基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する工程と、
前記基板上に吐出口と液流路を備えたオリフィスプレートを形成する工程と、
基板の樹脂がコートされた面の反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記窪み部と連結するまでエッチングを進行させて供給口を形成する工程と
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記等方エッチングがケミカルドライエッチング、もしくはフッ酸、硝酸、もしくはこれらの混合物によるウェットエッチング、もしくは二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記窪み部を形成する工程の後にフィルター層の孔もしくはスリットを通して窪み部内面に保護層を形成し、さらに前記供給口を形成する工程の後に窪み部と供給口の連結部分にある該保護層を除去することを特徴とする請求項４に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項７】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
基板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する工程と、
前記基板のフィルター層が存在する面と反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記フィルター層までエッチングを進行させて供給口を形成する工程と、
フィルター層に孔もしくはスリットを形成する工程と、
前記孔もしくはスリットを通して基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する工程と、
前記基板上に液流路と吐出口を備えたオリフィスプレートを形成する工程と
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記等方エッチングがケミカルドライエッチング、もしくはフッ酸、硝酸、もしくはこれらの混合物によるウェットエッチング、もしくは二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることを特徴とする請求項７に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記窪み部を形成する工程の後に窪み部および供給口内面に保護層を形成する工程を有することを特徴とする請求項７に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
基板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する工程と、
フィルター層に孔もしくはスリットを形成する工程と、
前記基板上に液流路と吐出口を備えたオリフィスプレートを形成する工程と、
前記基板のフィルター層が存在する面と反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記フィルター層までエッチングを進行させて供給口を形成する工程と、
前記吐出口、液流路、フィルター層の孔もしくはスリットを通してエッチャントを導入し、基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する工程と
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記等方エッチングが二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることを特徴とする請求項１０に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクなどの液体を液滴として吐出し、それを紙などの被記録材に付着させて記録を行うインクジェット記録ヘッド、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方式（液体噴射記録方式）に適用されるインクジェット記録ヘッドは、一般に、微細な吐出口（オリフィス）、それに通じる液流路、および該液流路の一部に設けられた、吐出圧力発生素子を備える吐出圧力発生部を複数備えている。吐出圧力発生素子としては、例えば、電気熱変換素子が用いられ、このインクジェット記録ヘッドにおいては、電気熱変換素子に駆動信号が印加され、それによって、電気熱変換素子はインクの核沸騰を越える急激な温度上昇を生じてインク内に気泡を生じさせ、この際に生じる圧力によって、インクの液滴が吐出される。各電気熱変換素子には、記録情報に応じて駆動信号が印加され、それによってインクは各吐出口から選択に吐出される。
【０００３】
ところで、この方式で用いられるインクジェットヘッドの中で、インク吐出に利用されるエネルギーを発生するためのエネルギー発生素子が形成された基板に対し、垂直方向に液滴が吐出される、いわゆるサイドシューター型のインクジェットヘッドが知られている。
【０００４】
インクジェット記録ヘッドでは、高スループット化が望まれている。このためには、吐出周波数（駆動周波数）を高くできるようにするために、液滴吐出後に流路内にインクを再充填する、すなわちリフィルするのを速くする必要がある。リフィルを速くするには、供給口から吐出口までの間のインクの供給経路の流抵抗を小さくすることが望まれる。
【０００５】
インクの供給経路の流抵抗を小さくする構成としては、特許文献１および特許文献２には、供給口近傍の流路高さが吐出圧力発生素子近傍の流路高さより高いことを特徴とするインクジェット記録ヘッドとその製造方法が提案されている。これらの公報に記載された製造方法では、基板の、供給口近傍から吐出圧力発生素子近傍までの間に相当する部分を掘り込むことによって、供給口近傍の流路高さを高くしている。これによって、インクの供給経路の断面積が大きくなり、したがって、その流抵抗が低減される。このように、これらの公報に記載された製造方法は、高スループット化を実現する上で有効な手法である。
【０００６】
一方、このようなインクジェット記録ヘッドでは高い信頼性も求められる。この課題の一つに、吐出される液体中に混入したゴミが吐出口もしくは吐出圧力発生部近傍に侵入し、吐出時の液体の流れに影響するために生じる不吐出、斜方吐出などの吐出不良がある。これに対して従来、数々のタイプのフィルターが提案され、用いられている。
【０００７】
特に、吐出圧力発生部に近い場所にフィルターが存在する構成では吐出圧力発生時に吐出圧力がフィルターにまで及んでトラップされているゴミが後方へ押し戻されることにより長期使用してもフィルターが完全に目詰してしまうことがないという利点がある。このような構成はサイドシューター型のインクジェット記録ヘッドでは通常供給口から吐出圧力発生部との間に基板に垂直な柱状のフィルター、櫛歯状のフィルター、堰状のフィルターなどが提案され、用いられており、高い信頼性を実現している。
【０００８】
しかしながらこのような構成ではフィルター面（フィルターの目に平行な面）の面積は液流路の高さによって制限されてしまう。高スループット化には流抵抗の低減のためフィルター面を大きくとることが望まれるがこの構成では十分な面積を取ることができず、フィルターの目を粗くする、即ち柱どうしの間隔などを大きくとることにより、フィルターとしての性能を犠牲にして、流抵抗の低減を図らなければならない場合があった。
【特許文献１】特開平１０−０９５１１９号公報
【特許文献２】特開平１０−０３４９２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題はフィルターの目が十分に細かく、また吐出圧力発生部近傍にフィルターが存在することで完全に目詰まりしてしまうことがないという高い信頼性を有しながら、供給口から吐出口までの流抵抗が低く、高スループットであるインクジェット記録ヘッドを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために本発明では以下を提案する。
【００１１】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェット記録ヘッドの製造に用いるインクジェット記録ヘッド用基体を備え、
前記基体の前記吐出圧力発生素子が形成された面の前記吐出圧力発生素子の近傍部分が掘り込まれ、その一部に前記貫通口が形成される窪み部と、
該窪み部と前記液流路との間に複数の孔が開けられたフィルター層を有するインクジェット記録ヘッドである。
【００１２】
つまりこのヘッドは、供給口から吐出圧力発生素子の近傍までが窪んでおり、供給口から吐出口までの流抵抗を低減させ、かつ、フィルター面を基板表面と平行にして供給口上面から窪み部上面までの広範囲に広げることにより、フィルターの目を十分に細かくしても流抵抗の増大が抑えられる構成となっている。
【００１３】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
１．基板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する
２．フィルター層に孔もしくはスリットを形成する
３．前記孔もしくはスリットを通して基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する
４．前記基板上に吐出口と液流路を備えたオリフィスプレートを形成する
５．基板の樹脂がコートされた面の反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記窪み部と連結するまでエッチングを進行させて供給口を形成する
工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法である。
【００１４】
また、前記等方エッチングがケミカルドライエッチング、もしくはフッ酸、硝酸、もしくはこれらの混合物によるウェットエッチング、もしくは二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることが考えられる。
【００１５】
また、前記工程の３．の後にフィルター層の孔もしくはスリットを通して窪み部内面に保護層を形成し、さらに前記工程５の後に窪み部と供給口の連結部分にある保護層を除去することも考えられる。
【００１６】
このようにすることで、酸性やアルカリ性の液体を吐出させる場合でも、窪み部表面が腐食されることのないよう保護することができると同時に、前記工程５において窪み部と供給口が連結する際に、その角部分が急速にエッチングされて形状が崩れてしまうことを防ぐことができる。
【００１７】
さらに以下のような製造方法も提案する。
【００１８】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
１．基板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する
２．前記基板のフィルター層が存在する面と反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記フィルター層までエッチングを進行させて供給口を形成する
３．フィルター層に孔もしくはスリットを形成する
４．前記孔もしくはスリットを通して基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する
５．前記基板上に液流路と吐出口を備えたオリフィスプレートを形成する
工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法である。
【００１９】
また、前記等方エッチングがケミカルドライエッチング、もしくはフッ酸、硝酸、もしくはこれらの混合物によるウェットエッチング、もしくは二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることが考えられる。
【００２０】
またさらに以下のような製造方法も提案する。
【００２１】
外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く液流路と、該液流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
１．板の吐出圧力発生素子が形成される面にフィルターとなる層を成膜する
２．フィルター層に孔もしくはスリットを形成する
３．前記基板上に液流路と吐出口を備えたオリフィスプレートを形成する
４．前記基板のフィルター層が存在する面と反対の面にレジストをパターニングし、その開口から前記フィルター層までエッチングを進行させて供給口を形成する
５．前記吐出口、液流路、フィルター層の孔もしくはスリットを通してエッチャントを導入し、基板に対して等方エッチングを行い、窪み部を形成する
工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの作製方法である。
【００２２】
この製造方法では基板に窪み部や供給口を形成する前にオリフィスプレートを設けるため、オリフィスプレートの形成にソルベントコートを用いることができる。
【００２３】
また、前記等方エッチングが二フッ化キセノンその他の反応性のある気体によるエッチングであることが考えられる。
【００２４】
なお、図１２は、従来のインクジェット記録ヘッドの例を示す平面図と断面図である。
【発明の効果】
【００２５】
これらのインクジェット記録ヘッドは、吐出圧力発生素子近傍に十分細かい目を持つフィルターが存在することで高い信頼性を有していた。さらにフィルターの面積が大きく、かつ供給口から吐出口までの経路が広いために流抵抗が小さく、高スループットな記録ヘッドであった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
次に、本発明の詳細を実施例の記述に従って説明する。
【実施例１】
【００２７】
図１は本発明の実施例１であるインクジェット記録ヘッド図である。
【００２８】
図２および図３は本発明の実施例１であるインクジェット記録ヘッドの作製方法を示す断面図である。
【００２９】
シリコン基板上に吐出圧力発生素子である発熱抵抗体とその駆動回路（図示しない）を汎用の半導体工程により形成する。また駆動回路中に絶縁層として用いられているSiOを窪み部を形成する位置の上にも及ぶように配置する（図２-a）。
【００３０】
基板上にレジストを塗布し、フォトリソ技術によりパターンする。
【００３１】
BHFに浸漬することにより窪み部形成位置のSiOに複数の孔を形成し、これをフィルターとする。
【００３２】
一度レジストを剥離し、基板の表面にはレジストをラミネートし、裏面にはレジストをソルベントコートした。
【００３３】
フィルターの領域上のレジストをフォトリソ技術により除去する。
【００３４】
XeF2ガスによりフィルター下のシリコンを等方エッチングし、窪み部を形成する（図２-c）。
【００３５】
ポリメチルイソプロペニルケトンを主材とする溶出可能なレジストをラミネートし、フォトリソによりパターニングして、液流路の型材とする（図２-d）。
【００３６】
その上にカチオン重合型エポキシ樹脂であるレジストを塗布し、フォトリソ技術により吐出口をパターニングし、オリフィスプレートを形成する（図３-a）。
【００３７】
基板のオリフィスプレート側の面に環化ゴムをコートし、裏面にはレジストを塗布する。
【００３８】
フォトリソ技術により裏面のレジストをパターニングした後に、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に浸漬して、レジストの開口部から、窪み部に到達し、さらに窪み部から内面に及ぶまでエッチングを進行させる（図３-b）。
【００３９】
キシレンにより環化ゴムを除去し、さらに裏面のレジストも除去する。
【００４０】
液流路の型材をオリフィスプレートを通して感光させた後、乳酸メチルに浸漬しながら超音波を付与してこれを除去する。
【００４１】
基板からダイサーにより切り出して本発明のインクジェット記録ヘッドを得る（図３-c）。
【実施例２】
【００４２】
図４は本発明の実施例２であるインクジェット記録ヘッド図である。
【００４３】
図５および図６は本発明の実施例２であるインクジェット記録ヘッドの作製方法を示す断面図である。
【００４４】
シリコン基板上に発熱抵抗体及びその駆動回路（図示しない）を形成する。また発熱抵抗体を吐出液体のキャビテーションから保護するTa層を窪み部を形成する位置の上にも及ぶように配置する。
【００４５】
基板の両面にレジストを塗布し、裏面をフォトリソ技術によりパターニングする。
【００４６】
水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に浸漬して、レジストの開口部から表面のTa層に到達するまでエッチングを進行させる（図５-a）。
【００４７】
レジストを剥離した後に、再度基板上にレジストを塗布し、フォトリソ技術によりパターニングする。
【００４８】
ケミカルドライエッチングにより窪み部形成位置のTa層に複数の孔を形成し、これをフィルターとする。
【００４９】
一度レジストを剥離した後、基板表面にレジストを塗布し、裏面にはUVテープを貼付する。
【００５０】
フィルターの領域上のレジストをフォトリソ技術により除去する。
【００５１】
XeF2ガスによりフィルター下のシリコンを等方エッチングし、窪み部を形成する（図５-c）。
【００５２】
ポリメチルイソプロペニルケトンを主材とする溶出可能なレジストをラミネートし、フォトリソによりパターニングして、液流路の型材とする（図５-d）。
【００５３】
その上にカチオン重合型エポキシ樹脂であるレジストを塗布し、フォトリソ技術により吐出口をパターニングし、オリフィスプレートを形成する（図６-a）。
【００５４】
液流路の型材をオリフィスプレートを通して感光させた後、乳酸メチルに浸漬しながら超音波を付与してこれを除去する。
【００５５】
基板からダイサーにより切り出して本発明のインクジェット記録ヘッドを得る（図６-b）。
【００５６】
この実施例では基板上にオリフィスプレートを形成する前に供給口を形成するので、環化ゴムでオリフィスプレートを保護する工程がなく、低コストの記録ヘッドを得ることができる。
【実施例３】
【００５７】
図７および図８は本発明の実施例３であるインクジェット記録ヘッドの作製方法を示す断面図である。
【００５８】
シリコン基板上に発熱抵抗体及びその駆動回路（図示しない）を形成する。また発熱抵抗体を吐出液体のキャビテーションから保護するTa層を窪み部を形成する位置の上にも及ぶように配置する（図７-a）。
【００５９】
レジストを剥離した後に、再度基板上にレジストを塗布し、フォトリソ技術によりパターニングする。
【００６０】
ケミカルドライエッチングにより窪み部形成位置のTa層に複数の孔を形成し、これをフィルターとする。
【００６１】
基板上のレジストを剥離する。
【００６２】
ポリメチルイソプロペニルケトンを主材とする溶出可能なレジストをラミネートし、フォトリソによりパターニングして、液流路の型材とする（図７-c）。
【００６３】
その上にカチオン重合型エポキシ樹脂であるレジストを塗布し、フォトリソ技術により吐出口をパターニングし、オリフィスプレートを形成する。
【００６４】
基板のオリフィスプレート側の面に環化ゴムをコートし、裏面にはレジストを塗布する。
【００６５】
フォトリソ技術により裏面のレジストをパターニングした後に、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に浸漬して、レジストの開口部から基板表面のTa層に到達するまでエッチングを進行させる（図８-a）。
【００６６】
キシレンにより環化ゴムを除去し、裏面のレジストも剥離する。
【００６７】
液流路の型材をオリフィスプレートを通して感光させた後、乳酸メチルに浸漬しながら超音波を付与してこれを除去する（図８-b）。
【００６８】
XeF2ガスによりフィルター下のシリコンを等方エッチングし、窪み部を形成する（図８-c）。
【００６９】
基板からダイサーにより切り出して本発明のインクジェット記録ヘッドを得る。
【００７０】
この実施例では基板上に窪み部を形成する前にオリフィスプレートを形成するので、液流路の型材をソルベントコートすることができる。これにより複数種の薬液を塗布できるコーターがあれば、別途ラミネート装置を用意する必要がない。また複数種のヘッドを同一ラインで製造することを考慮すると、膜厚ごとにフィルムを用意しなければならないラミネート法よりソルベントコートの方がコスト的に有利である。
【実施例４】
【００７１】
図９は本発明の実施例４であるインクジェット記録ヘッド図である。
【００７２】
図１０および図１２は本発明の実施例４であるインクジェット記録ヘッドの作製方法を示す断面図である。
【００７３】
シリコン基板上に吐出圧力発生素子である発熱抵抗体とその駆動回路（図示しない）を汎用の半導体工程により形成する。また駆動回路中に絶縁層として用いられているSiOを窪み部を形成する位置の上にも及ぶように配置する（図１０-a）。
【００７４】
基板上にレジストを塗布し、フォトリソ技術によりパターンする。
【００７５】
BHFに浸漬することにより窪み部形成位置のSiOに複数の孔を形成し、これをフィルターとする。
【００７６】
一度レジストを剥離し、基板の表面にはレジストをラミネートし、裏面にはレジストをソルベントコートした。
【００７７】
フィルターの領域上のレジストをフォトリソ技術により除去する。
【００７８】
XeF2ガスによりフィルター下のシリコンを等方エッチングし、窪み部を形成する（図１０-c）。
【００７９】
レジストを剥離した後、プラズマCVD法により窪み部内面を含む基板表面に保護層となるSiNを成膜する。
【００８０】
レジストをラミネートによりコートし、フォトリソ技術によりフィルターの孔が分布している領域以外のレジストを除去する。
【００８１】
ケミカルドライエッチングにより、窪み部内面以外のレジストで保護されていない領域のSiNを除去し、レジストを剥離する（図１０-d）。
【００８２】
ポリメチルイソプロペニルケトンを主材とする溶出可能なレジストをラミネートし、フォトリソによりパターニングして、液流路の型材とする。
【００８３】
その上にカチオン重合型エポキシ樹脂であるレジストを塗布し、フォトリソ技術により吐出口をパターニングし、オリフィスプレートを形成する（図１１-a）。
【００８４】
基板のオリフィスプレート側の面に環化ゴムをコートし、裏面にはレジストを塗布する。
【００８５】
フォトリソ技術により裏面のレジストをパターニングした後に、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に浸漬して、レジストの開口部から、窪み部に到達し、さらに窪み部から内面のSiNに及ぶまでエッチングを進行させる（図１１-b）。
【００８６】
ケミカルドライエッチングにより供給口からエッチャントを導入することで、供給口と窪み部の連結部分にあるSiNを除去する。
【００８７】
キシレンにより環化ゴムを除去し、さらに裏面のレジストも除去する。
【００８８】
液流路の型材をオリフィスプレートを通して感光させた後、乳酸メチルに浸漬しながら超音波を付与してこれを除去する。
【００８９】
基板からダイサーにより切り出して本発明のインクジェット記録ヘッドを得る（図１１-c）。
【００９０】
この実施例では窪み部内面に保護層が存在しており、吐出する液体が中性でないような場合においても基板がエッチングされていくことがない。
【００９１】
また同時に供給口と窪み部が連結する際に、その基板の角部が急速にエッチングされて形状が崩れないことにも寄与し、高い精度の窪み部形状を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の実施例１であるインクジェット記録ヘッド図。
【図２】本発明の実施例１であるインクジェット記録ヘッドの作製方法前半を示す断面図。
【図３】本発明の実施例１であるインクジェット記録ヘッドの作製方法後半を示す断面図。
【図４】本発明の実施例２であるインクジェット記録ヘッドの斜視断面図。
【図５】本発明の実施例２であるインクジェット記録ヘッドの作製方法前半を示す断面図。
【図６】本発明の実施例２であるインクジェット記録ヘッドの作製方法後半を示す断面図。
【図７】本発明の実施例３であるインクジェット記録ヘッドの作製方法前半を示す断面図。
【図８】本発明の実施例３であるインクジェット記録ヘッドの作製方法後半を示す断面図。
【図９】本発明の実施例４であるインクジェット記録ヘッド図。
【図１０】本発明の実施例４であるインクジェット記録ヘッドの作製方法前半を示す断面図。
【図１１】本発明の実施例４であるインクジェット記録ヘッドの作製方法後半を示す断面図。
【図１２】従来のインクジェット記録ヘッドの例を示す平面図と断面図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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