(57)【要約】【課題】基板を保持し位置決めがされている基板テーブルに、型を保持した型保持体を近づけて、微細な転写パターンを転写する転写装置において、転写をする際に、基板テーブルの位置決めによる発熱を抑制する。【解決手段】転写用の型Ｍを保持可能であると共に基板テーブル１５に対し接近・離反する方向で移動自在な型保持体７と、基板Ｗを保持可能であると共に型保持体７に対し移動自在な基板テーブル１５と、型保持体を移動するための型保持体駆動手段と、基板テーブルを移動するための基板テーブル駆動手段と、型Ｍで基板Ｗを押圧するときに、この押圧力で基板テーブル１５が変位するように、基板テーブル駆動手段による保持力を低減するべく基板テーブル駆動手段を制御する制御手段とを有する。【選択図】図１
2007260791.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用の型を基板テーブルに対向させて保持可能であると共に、前記基板テーブルに対し接近・離反する方向で相対的に移動自在な型保持体と； 
基板を前記型保持体に対向させて保持可能であると共に、前記型保持体の接近・離反方向に対して交差する方向で前記型保持体に対し相対的に移動自在な前記基板テーブルと；
前記型保持体を前記接近・離反する方向で相対的に移動するための型保持体駆動手段と；
前記基板テーブルを前記交差する方向で相対的に移動するための基板テーブル駆動手段と；
前記基板テーブル駆動手段で所定の位置に移動位置決めされた前記基板テーブルに前記型保持体を接近させて前記型で前記基板を押圧するときに、この押圧力で前記基板テーブルが前記所定の位置から前記交差する方向で変位するように、前記基板テーブル駆動手段による保持力を低減するべく前記基板テーブル駆動手段を制御する制御手段と；
を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
転写用の型を基板テーブルに対向させて保持可能であると共に、前記基板テーブルに対し接近・離反する方向で相対的に移動自在な型保持体と；
基板を前記型保持体に対向させて保持可能であると共に、前記型保持体の接近・離反方向に対して交差する方向で前記型保持体に対し相対的に移動自在な前記基板テーブルと；
前記型保持体を前記接近・離反する方向で相対的に移動するための型保持体駆動手段と；
前記基板テーブルを前記交差する方向で相対的に移動するためのサーボモータと；
前記サーボモータで相対的に移動する前記基板テーブルの位置を検出する基板テーブル位置検出手段と；
前記サーボモータで前記基板テーブルを相対的に所定の位置に移動位置決め可能であると共に、前記所定の位置に移動位置決めされた前記基板テーブルに前記型保持体を相対的に接近させて前記型で前記基板を押圧するときに変化する前記基板テーブルの位置を、前記基板テーブル位置検出手段で検出し、この検出値が目標値になるように前記サーボモータを制御して前記基板テーブルを相対的に移動位置決めする制御手段と；
を有することを特徴とする転写装置。
【請求項３】
請求項２に記載の転写装置において、
前記型で前記基板を押圧するときの押圧力を検出する押圧力検出手段を有し、
前記制御手段は、前記押圧力検出手段の検出結果に応じて、前記サーボモータを制御し、前記基板テーブルの相対的な移動位置決めをする手段であることを特徴とする転写装置。
【請求項４】
転写用の型を基板テーブルに対向させて型保持体で保持する工程と；
基板を前記型保持体に対向させて前記基板テーブルで保持する工程と；
前記型の転写パターンを前記基板の所定の位置へ転写するために、サーボモータを用いて前記基板テーブルを前記型保持体に対して所定の位置に位置決めする工程と；
前記型の転写パターンを前記基板の所定の位置へ転写すべく前記型で前記基板を押圧する工程と；
を有し、前記押圧をしているときに、前記サーボモータによる前記基板テーブルの保持力を低減することを特徴とする転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写用の型に形成されている微細な転写パターンを基板に転写する転写装置および転写方法に係り、特に、転写の際に前記基板を前記型に対して移動位置決めするものに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（テンプレート、スタンパ）を作製し、被成形品（基板）として被転写基板表面に形成されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（非特許文献１参照）。
【０００３】
また、前記ナノインプリントを実行するための装置としてたとえば特許文献１に記載の転写装置が知られている。この転写装置は、Ｌ字型のフレームの下部水平部にＸステージ、Ｙステージを設けてその上に被成形品の支持部である基板テーブルを搭載し、フレームの垂直部の上部に上下方向の移動機構を介して型支持部（型保持体）を設けている。型保持体は、転写用の微細な転写パターンを形成されている型を保持するものである。
【０００４】
そして、基板テーブルを、Ｘステージ、Ｙステージを用いてＸ軸方向Ｙ軸方向で適宜位置決めし、型保持体を下降し型で基板を押圧することで、基板への微細転写パターンの転写を行うようになっている。
【特許文献１】特開２００４−３４３００号公報
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載の従来の転写装置では、型保持体を下降し型で基板を押圧するときに、転写装置のわずかな精度の誤差により、基板テーブルの位置がごくわずかにずれる場合がある。たとえば、基板を押圧する型に面は、型保持体の移動方向に対して直角であることが理想であるが、実際にはごくわずかであるが傾いている。このごくわずかに傾いている状態で基板を押圧すると、Ｘ軸方向やＹ軸方向の小さな分力が発生し、この分力で、基板テーブルの位置がわずかにずれる場合がある。
【０００６】
そこで、特許文献１に記載の従来の転写装置では、磁石の保持力を利用して前記位置ずれを防止しているが、磁石を用いることで構成が煩雑になっている。磁石を使用しない従来の転写装置では、基板テーブルを駆動するサーボモータを用いて、基板テーブルの位置を保持するようになっている。したがって、転写の際に前記サーボモータに多くの電流が流れ、サーボモータやＸステージ、Ｙステージが発熱しやすいという問題がある。
【０００７】
本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、基板を保持し位置決めがされている基板テーブルに、型を保持した型保持体を近づけて、前記型に形成されている微細な転写パターンを前記基板に転写する転写装置および転写方法において、前記転写をする際に、前記基板テーブルの位置決めによる発熱を抑制することができる転写装置および転写方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、転写用の型を基板テーブルに対向させて保持可能であると共に、前記基板テーブルに対し接近・離反する方向で相対的に移動自在な型保持体と、基板を前記型保持体に対向させて保持可能であると共に、前記型保持体の接近・離反方向に対して交差する方向で前記型保持体に対し相対的に移動自在な前記基板テーブルと、前記型保持体を前記接近・離反する方向で相対的に移動するための型保持体駆動手段と、前記基板テーブルを前記交差する方向で相対的に移動するための基板テーブル駆動手段と、前記基板テーブル駆動手段で所定の位置に移動位置決めされた前記基板テーブルに前記型保持体を接近させて前記型で前記基板を押圧するときに、この押圧力で前記基板テーブルが前記所定の位置から前記交差する方向で変位するように、前記基板テーブル駆動手段による保持力を低減するべく前記基板テーブル駆動手段を制御する制御手段とを有する転写装置である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、転写用の型を基板テーブルに対向させて保持可能であると共に、前記基板テーブルに対し接近・離反する方向で相対的に移動自在な型保持体と、基板を前記型保持体に対向させて保持可能であると共に、前記型保持体の接近・離反方向に対して交差する方向で前記型保持体に対し相対的に移動自在な前記基板テーブルと、前記型保持体を前記接近・離反する方向で相対的に移動するための型保持体駆動手段と、前記基板テーブルを前記交差する方向で相対的に移動するためのサーボモータと、前記サーボモータで相対的に移動する前記基板テーブルの位置を検出する基板テーブル位置検出手段と、前記サーボモータで前記基板テーブルを相対的に所定の位置に移動位置決め可能であると共に、前記所定の位置に移動位置決めされた前記基板テーブルに前記型保持体を相対的に接近させて前記型で前記基板を押圧するときに変化する前記基板テーブルの位置を、前記基板テーブル位置検出手段で検出し、この検出値が目標値になるように前記サーボモータを制御して前記基板テーブルを相対的に移動位置決めする制御手段とを有する転写装置である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の転写装置において、前記型で前記基板を押圧するときの押圧力を検出する押圧力検出手段を有し、前記制御手段は、前記押圧力検出手段の検出結果に応じて、前記サーボモータを制御し、前記基板テーブルの相対的な移動位置決めをする手段である転写装置である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、転写用の型を基板テーブルに対向させて型保持体で保持する工程と、基板を前記型保持体に対向させて前記基板テーブルで保持する工程と、前記型の転写パターンを前記基板の所定の位置へ転写するために、サーボモータを用いて前記基板テーブルを前記型保持体に対して所定の位置に位置決めする工程と、前記型の転写パターンを前記基板の所定の位置へ転写すべく前記型で前記基板を押圧する工程とを有し、前記押圧をしているときに、前記サーボモータによる前記基板テーブルの保持力を低減する転写方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板を保持し位置決めがされている基板テーブルに、型を保持した型保持体を近づけて、前記型に形成されている微細な転写パターンを前記基板に転写する転写装置および転写方法において、前記転写をする際に、前記基板テーブルの位置決めによる発熱を抑制することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明の実施形態に係る転写装置１の概略構成を示す正面図であり、図２は、転写装置１の概略構成を示す側面図であり、図１におけるＩＩ矢視図である。
【００１４】
転写装置１は、型保持体７と基板テーブル１５とを備えている。型保持体７は、転写用の型（以下、単に「型」という場合がある。）Ｍを基板テーブル１５に対向させて保持することができるようになっている。転写用の型Ｍは、平板状に形成されており、厚さ方向の一方の面に、微細な転写パターンが形成されている。また、型Ｍは、微細な転写パターンが形成されている側の面が、基板テーブル１５の上面の平面に対して平行で対向するようにして、型保持体７に着脱自在に保持されるようになっている。型保持体７は、基板テーブル１５に対して接近・離反する方向（たとえば、基板テーブル１５の上面の平面や微細な転写パターンが形成されている型Ｍの面に直交する方向）で相対的に移動自在になっている。
【００１５】
基板テーブル１５は、基板（被成形材料である基板）Ｗを型保持体７に対向させて着脱自在に保持することができるようになっている。また、基板テーブル１５は、型保持体７の接近・離反方向に対して交差する方向（たとえば直交する方向；基板テーブル１５の上面の平面や微細な転写パターンが形成されている型Ｍの面が展開している方向）で、型保持体７に対し相対的に移動自在になっている。
【００１６】
転写装置１には、型保持体７を前記接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体駆動手段２１と、基板テーブル１５を、前記交差する方向で型保持体７に対し相対的に移動するサーボモータ１３、１９とが設けられている。
【００１７】
また、転写装置１には、サーボモータ１３、１９で相対的に移動する基板テーブル１５の位置を検出する基板テーブル位置検出手段（図示せず）と、制御手段（制御装置）２３（図３参照）と、型Ｍで基板Ｗを押圧するときの押圧力を検出する押圧力検出手段（たとえばロードセル２５）とが設けられている。
【００１８】
制御装置２３は、前記基板テーブル位置検出手段の検出結果をフィードバックすることにより、サーボモータ１３、１９で基板テーブル１５を相対的に所定の位置に移動位置決めするものである。
【００１９】
また、制御装置２３は、前記所定の位置に移動位置決めされた基板テーブル１５に型保持体７を相対的に接近させて型Ｍで基板Ｗを押圧するときに変化する基板テーブル１５の位置を、前記基板テーブル位置検出手段で検出し、この検出値が目標値になるようにサーボモータ１３、１９を制御して基板テーブル１５を相対的に移動位置決めするものである。
【００２０】
さらに、制御装置２３は、ロードセル２５の検出結果に応じて、サーボモータ１３、１９を制御し、基板テーブル１５の相対的な移動位置決めをするものである。
【００２１】
転写装置１について、より詳しく説明する。
【００２２】
以下、説明の便宜のために、水平方向の一方向をＸ軸方向とし、水平方向の他の一方向であってＸ軸方向に垂直な方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に垂直な方向（上下方向；鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、本件明細書のサーボモータは、ＡＣサーボモータ、ＤＣサーボモータ等の出力軸が回転するモータに加えてリニアモータもこの範疇に含むものとする。
【００２３】
転写装置１は、ベース部材３を備えている。型保持体７は、ベース部材３の上方で、たとえば、リニアガイドベアリング（図示せず）により支持されベース部材３に対しＺ軸方向で移動自在になっている。型保持体７は、ＡＣサーボモータ（もしくはＤＣサーボモータ）５とボールネジ６とにより、Ｚ軸方向で移動することができるようになっている。なお、ＤＣサーボモータやＡＣサーボモータとボールネジとを用いる代わりに、リニアモータを用いて、型保持体７を移動するようにしてもよい。また、転写用に型Ｍは、型保持体７の下面に配置され固定されるようになっている。
【００２４】
ベース部材３の下方には、板状の基板テーブル支持部材９が設けられている。基板テーブル支持部材９は、たとえば、リニアガイドベアリング１１により支持されベース部材３に対しＹ軸方向に移動自在になっている。基板テーブル支持部材９は、リニアモータ（Ｙ軸用のリニアモータ；ＡＣサーボモータ等を用いてもよい。）１３により、Ｙ軸方向に移動することができるようになっている。なお、Ｙ軸用のリニアモータ１３の固定子がベース部材３に一体的に設けられており、Ｙ軸用のリニアモータの可動子が基板テーブル支持部材９に一体的に設けられている。
【００２５】
基板テーブル支持部材９の上側であって型保持体７の下側には、板状の基板テーブル１５が設けられている。基板テーブル１５は、たとえば、リニアガイドベアリング１７により支持され基板テーブル支持部材９に対しＸ軸方向で移動自在になっている。また、基板テーブル１５は、Ｘ軸用のリニアモータ（ＡＣサーボモータ等を用いてもよい。）１９により、Ｘ軸方向に移動することができるようになっている。なお、Ｘ軸用のリニアモータ１９の固定子が基板テーブル支持部材９に一体的に設けられており、Ｘ軸用のリニアモータ１９の可動子が基板テーブル１５に一体的に設けられている。
【００２６】
ベース部材３と基板テーブル支持部材９との間には、ベース部材３に対する基板テーブル支持部材９のＹ軸方向における位置を検出するためのＹ軸用のリニアスケール（基板テーブル位置検出手段の例であるリニアスケール；図示せず）が設けられている。すなわち、Ｙ軸用のリニアスケールは、Ｙ軸用のリニアモータ１３の固定子が設置されている部材と、Ｙ軸用のリニアモータ１３の可動子が設置されている部材との間の相対的な位置を検出するものであるといえる。また、同様にして、基板テーブル支持部材９と基板テーブル１５との間には、基板テーブル支持部材９に対する基板テーブル１５のＸ軸方向における位置を検出するためのＸ軸用のリニアスケール（基板テーブル位置検出手段の例であるリニアスケール；図示せず）が設けられている。なお、ベース部材３と型保持体７との間に、ベース部材３に対する型保持体７のＺ軸方向における位置を検出するためのＺ軸用のリニアスケールが設けられていてもよい。
【００２７】
ベース部材３の上方には、前述したように、型Ｍで基板Ｗを押圧するときの押圧力を検出する押圧力検出手段の例であるロードセル２５が設けられている。
【００２８】
次に、制御手段（制御装置）２３等について説明する。
【００２９】
図３は、制御装置２３の概略構成を示すブロック図であり、図４は、サーボドライバ２７の概略構成を示すブロック図である。
【００３０】
転写装置１の制御装置２３は、図３に示すように、コントローラ部２９を備えており、このコントローラ部２９には、ＨＭＩ（ヒューマン・マシン・インタフェース）３１が接続されており、たとえば、転写のためのプログラムを、タッチスイッチ等を介して入力し、転写の進行状況を、ＬＣＤ（液晶表示装置）を介してオペレータに示すことができるようになっている。
【００３１】
ロードセル２５で検出した押圧力は、コントローラ部２９に入力されるようになっている。また、コントローラ部２９の制御の下、各サーボドライバ２７（２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ）により、各サーボモータ５、１３、１９が駆動するようになっている。各サーボモータ５、１３、１９による基板テーブル１５等の移動速度や位置は、リニアスケールを用いてフィードバックされるようになっている。
【００３２】
また、図４に示すように、サーボドライバ２７は、サーボアンプ３３と、サーボモータに流れる電流を検出しフィードバックすることにより、サーボモータのトルク制限を行う部位３５と、サーボモータの速度（たとえば基板テーブルの移動速度）を検出しフィードバックして、サーボモータの速度制御を行う部位３７と、サーボモータの移動距離（たとえば、基板テーブル１５の位置）を検出しフィードバックして、基板テーブル１５の位置を制御する位置制御部３９とを備えている。
【００３３】
そして、制御装置２３は、Ｘ軸用のリニアスケール、Ｙ軸用のリニアスケールの検出結果をフィードバックすることにより、各リニアモータ１３、１９を適宜駆動し、型Ｍの微細な転写パターンを基板Ｗへ転写するための所定の位置に、基板テーブル１５を位置決めするようになっている。
【００３４】
また、制御装置２３は、転写するための所定の位置に移動位置決めされた基板テーブル１５に型保持体７を接近させて型Ｍで基板Ｗを押圧するときに変化する基板テーブル１５の位置（Ｘ軸方向、Ｙ軸方向にわずかにずれた位置）を前記各リニアスケールで検出し、この検出値が目標値になるように各リニアモータ１３、１９を制御して基板テーブル１５を移動位置決めするようになっている。
【００３５】
さらに、制御装置２３は、ロードセル２５が所定の値の押圧力（たとえば「０」より大きい押圧力）を検出したときに、前述したように、基板テーブル１５のわずかに変化した位置を前記各リニアスケールで検出し、この検出値が目標値になるように各リニアモータ１３、１９を制御して基板テーブル１５を移動位置決めするようになっている。
【００３６】
図５（基板Ｗに転写をする際の基板テーブル１５の挙動を示す図）を用いてより詳しく説明する。
【００３７】
なお、この説明では、理解を容易にするために基板テーブル１５のＸ軸方向の挙動を例に掲げて説明するが、Ｙ軸方向の挙動についても同様に理解されるものである。
【００３８】
まず、図５（ａ）に示す状態では、型Ｍの微細な転写パターンを基板Ｗへ転写するための所定の位置に、基板テーブル１５が位置決めされているものとする。この状態では、リニアモータ１９により、基板テーブル１５の前記所定の位置は保持されているものとする。
【００３９】
図５（ａ）に示す状態から、型保持体７を下降して（基板テーブル１５に接近させて）型Ｍが基板Ｗに面接触すると、この面接触をしたときから基板テーブル１５（基板Ｗ）には押圧力Ｆがかかる。
【００４０】
前記押圧力Ｆは、押圧開始直後の状態（図５（ｂ）に示す状態）では、小さな値Ｆ１であるが、その後時刻の経過によって徐々に増えていく（たとえば経過時刻にほぼ比例して増えていく）。そして、図５（ｃ）に示すように、やがて最大値Ｆｆになる。この最大値Ｆｆに達してから所定の時間だけ、前記最大値Ｆｆが維持され、この維持されている間に、基板Ｗに設けられている被成形層（紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂で構成されている被成形層）の硬化が行われる。
【００４１】
前記最大値Ｆｆが所定の時間維持された後、型保持体７が上昇して型Ｍが基板Ｗから離れると、前記押圧力Ｆは「０」になる。
【００４２】
ところで前述したように、転写装置１の精度のわずかなくるいにより、転写のときに基板テーブル１５にＺ軸方向の押圧力がかかると、基板テーブル１５がＸ軸方向に移動し始める。すなわち、転写する際、押圧力Ｆにより基板テーブル１５の位置が、型保持体７と共にごくわずかな距離ΔＸずれるものである。前記ずれ量ΔＸは、たとえば、押圧力Ｆの値にほぼ比例して大きくなる。
【００４３】
すなわち、図５（ｂ）に示すように、押圧力Ｆの値が小さいとき（Ｆ１のとき）は、ずれ量（変位量）ΔＸはΔＸ１であり小さいが、（図５（ｃ）に示すように、押圧力Ｆの値が大きいとき（たとえば最大値Ｆｆのとき）は、ずれ量ΔＸは最大値ΔＸｆとなり、ΔＸ１より大きくなる。
【００４４】
制御装置２３は、Ｘ軸用のリニアスケールにより、ずれ量ΔＸを読み取り、このずれ量ΔＸを、初期値（型Ｍの微細な転写パターンを基板Ｗへ転写するための所定の位置；転写のための押圧が開始される直前の位置）Ｘ０に加える。そして、「Ｘ０＋ΔＸ」の位置を新たな位置決めの目標値として、リニアモータ１９で基板テーブル１５を移動位置決めするようになっている。より詳しくは、たとえば、型Ｍによる基板Ｗへの押圧が開始された時点から、押圧力が最大値Ｆｆになるまでの間に、短い時間間隔で多数回、前記目標値の補正がなされ基板テーブル１５の位置決めがなされるようになっている。
【００４５】
押圧力Ｆが最大値Ｆｆになっているときも、同様にして、前記目標値の補正がなされるようになっている。
【００４６】
さらに、前記最大値Ｆｆが所定の時間維持された後に、型Ｍが基板Ｗから離れるときには、基板テーブル１５にかかる押圧力Ｆは最大値Ｆｆから「０」まで減少する。この減少に伴って、ΔＸｆだけ変位していた基板テーブル１５は、基板テーブル１５の復元力等により、変位ΔＸｆがたとえば「０」になる位置（位置Ｘ０）に戻ろうとするが、制御装置２３は、押圧力Fが最大値Ｆｆから減少して「０」になるときも、同様にして、前記目標値の補正をして基板テーブル１５を移動位置決めするようになっている。
【００４７】
すなわち、転写がなされる間、前記目標値の補正をして基板テーブル１５の移動位置決めをするようになっている。
【００４８】
ところで、前述した目標値の補正は、型Ｍによる基板Ｗの押圧力が「０」を少しでも超えたことをロードセル２５が検出したときに開始され、押圧力Ｆが「０」になったときに終了するようになっているが、必ずしもこのようになっている必要はなく、ロードセル２５の検出値が所定の値（「０」よりも大きい所定の値；たとえば最大押圧力の１０％）を超えたときに、前述した目標値の補正を開始し、ロードセル２５の検出値が所定の値（「０」よりも大きい所定の値；前記開始のときの値と同じでもよいし異なっていてもよい）よりも小さくなったときに、前述した目標値の補正を終了してもよい。
【００４９】
なお、前記ロードセル２５の前記所定の値は、制御装置内メモリ（図示せず）に設定されるようになっており、たとえば、パスワードで保護されており、通常のオペレータは変更することができないようになっている。
【００５０】
次に、転写装置１の動作について説明する。
【００５１】
まず、初期状態として、型保持体７は基板テーブル１５から離れて上方に位置し、型保持体７には型Ｍが設置されており、基板テーブル１５には基板Ｗが設置されており、転写のための所定の位置に基板テーブル１５が位置決めされているものとする（図５（ａ）参照）。
【００５２】
この初期状態において、型保持体７を下降させて型Ｍで基板Ｗを押圧し、この押圧後、型保持体７を上昇させて型Ｍを基板Ｗから離すことにより基板Ｗへの転写を行う。このように基板Ｗへの転写を行っているときに、基板テーブル１５の位置の変化を検出し、この検出した値を目標値として基板テーブル１５を移動位置決めする（図５（ｂ）、（ｃ）参照）。
【００５３】
転写が終了したら、転写がされた基板Ｗを次の基板Ｗに交換し、基板テーブル１５を所定の位置に位置決めし次の基板Ｗへの転写を同様に行う。
【００５４】
転写装置１によれば、転写をする際、基板テーブル１５の位置の変化を検出し、この検出値が目標値になるようにサーボモータ１３、１９を制御して基板テーブル１５を移動位置決めするので、すなわち、転写の際に基板テーブル１５を無理に保持（拘束）していないことになるので、リニアモータ１３、１９に流れる電流が小さくなっている。したがって、転写をする際に、基板テーブル１５の位置決めによるリニアモータ１３、１９からの発熱を抑制することができる。また、磁石等を用いてないので、転写装置１の構成が簡素になっている。
【００５５】
なお、転写装置１において、型Ｍで基板Ｗを押圧した後型Ｍを基板Ｗから相対的に離すときに、この離す前（たとえば直前）における基板テーブル１５の位置を保持すべく、制御装置２３でサーボモータ１３、１９を制御してもよい。
【００５６】
また、ロードセル２５に代えて、タイマを用いもしくは型保持体７の位置に応じて、基板テーブル１５の位置制御を行ってもよい。
【００５７】
たとえば、型保持体７の下降開始時刻（型保持体７の基板テーブル１５の方向への移動開始時刻）Ｔ０から所定時間経過後の時刻Ｔ１において、前記目標値の補正を開始し、前記時刻補正開始時刻Ｔ１から所定時間経過後の時刻Ｔ２において、前記目標値の補正を終了するようにしてもよい。
【００５８】
なお、前記説明では、型Ｍによる押圧力が時刻の経過により徐々に増え所定の値になったときに所定の時間この値を維持し、この後、押圧力が除去される場合を例に掲げているが、必ずしも押圧力がこのように変化する必要はない。押圧力の値が時刻の経過と共に増減をするようにしてもよい。このように押圧力が増減する場合には、図５に示す位置ずれ量ΔＸも増減するものである。なお、図５（ｂ）、（ｃ）において位置ずれ量ΔＸが型保持体７や基板テーブル１５に比較して大きく描かれているが、これはずれ量ΔＸを誇張して描いているからである。実際のずれ量Δｘは、サブミクロンオーダーである。したがって、図５（ｂ）、（ｃ）では、型Mの右側の一部が基板Wからはずれているが、実際にはこのようにはずれることはない。
【００５９】
さらに、転写装置１においては、基板テーブル１５をＸ軸方向およびＹ軸方向で移動位置決めしているが、いずれか一方の位置決め機構を削除してもよい。
【００６０】
また、基板テーブル１５をＸ軸方向で移動位置決めすると共に、基板テーブル１５をＺ軸方向に延びた軸を中心に回動位置決めするようにしてもよい。さらには、基板テーブル１５をＺ軸方向に延びた第１の軸を中心に回動位置決めすると共に、基板テーブル１５をＺ軸方向に延びた第２の軸（水平方向において前記第１の軸から離れている軸）を中心に回動位置決めするようにしてもよい。
【００６１】
また、転写装置１において、型保持体７と基板テーブル１５とを入れ換えてもよい。すなわち、ベース部材３の上方で基板テーブル１５をＺ軸方向で移動自在に設け、ベース部材３の下方に型保持体７を設け、この型保持体７をＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決めするようにしてもよい。
【００６２】
さらには、転写装置１において、ベース部材３の下方に設けられている基板テーブル１５をＺ軸方向に移動自在に設け、ベース部材３の上方に設けられている型保持体７をＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決め自在にしてもよい。
【００６３】
また、転写装置１において、型保持体７をベース部材３に一体的に設け、基板テーブル１５をＺ軸方向に移動自在に設けかつＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決め自在に設けてもよい。逆に、基板テーブル１５をベース部材３に一体的に設け、型保持体７をＺ軸方向に移動自在に設けかつＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決め自在に設けてもよい。
【００６４】
さらには、転写装置１において、型保持体７をＺ軸方向に移動自在に設けかつＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決め自在に設けると共に、基板テーブル１５をＺ軸方向に移動自在に設けかつＸ軸方向Ｙ軸方向で移動位置決め自在に設けてもよい。
【００６５】
要するに、型保持体７が基板テーブル１５に対して相対的に移動自在になっており、基板テーブル１５が型保持体７に対して相対的に移動位置決め自在になっていればよい。
【００６６】
前述したように、型保持体７や基板テーブル１５の移動形態を変更した場合に、サーボモータの可動子に連動して移動する部材（たとえば、ＡＣサーボモータの回転出力軸にボールネジを介して連動されている基板テーブル１５）と、サーボモータの固定子が固定されている部材（たとえば、ＡＣサーボモータの筐体が固定されている基板テーブル支持９）との間にリニアスケールが設けられて、基板テーブル支持９に対する基板テーブル１５に位置を検出可能になっている。
【００６７】
また、転写装置１を、Ｚ軸方向が上下方向になるようにして使用するのではなく、Ｚ軸方向が水平方向や斜め方向になるようにして使用してもよい。
【００６８】
なお、転写装置１は、型保持体７と、基板テーブル１５と、前記型保持体駆動手段と、前記基板テーブル駆動手段と前記基板テーブル駆動手段で所定の位置に移動位置決めされた前記基板テーブルに前記型保持体を接近させて前記型で前記基板を押圧するときに、この押圧力で前記基板テーブルが前記所定の位置から前記交差する方向で変位するように、前記基板テーブル駆動手段による保持力（前記基板テーブルを前記所定の位置に保持しておこうとする力）を低減する（低減は、保持力を「０」にする場合も含む）するべく前記基板テーブル駆動手段を制御する制御手段とを有する転写装置の例である。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明の実施形態に係る転写装置の概略構成を示す正面図である。
【図２】転写装置の概略構成を示す側面図であり、図１におけるＩＩ矢視図である。
【図３】制御装置の概略構成を示すブロック図である。
【図４】サーボドライバの概略構成を示すブロック図である。
【図５】基板に転写をする際の基板テーブルの挙動を示す図である。
【符号の説明】
【００７０】
１  転写装置
７  型保持体
１３、１９  リニアモータ
２３  制御装置
２５  ロードセル
【図１】
2007260791.tif 000003
【図２】
2007260791.tif 000004
【図３】
2007260791.tif 000005
【図４】
2007260791.tif 000006
【図５】
2007260791.tif 000007