(57)【要約】【課題】表面が緻密で耐電圧が高い誘電体膜を電極外面に容易に形成することができる、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】  本発明のプラズマディスプレイパネルは、第１基板（背面基板１０）と、第１基板と対向配置される第２基板（前面基板２０）と、第１基板と第２基板との間で、第１方向に延在して形成される第１電極（アドレス電極２２）と、第１基板と第２基板との間で、第１電極と離隔して第１方向と交差する第２方向に延在して形成される第２電極（維持電極２５）と、第１基板と第２基板との間で、第１電極と離隔して第２方向に延在して形成される第３電極（走査電極２６）と、第１電極、第２電極または第３電極上の表面に、直接酸化されて形成される酸化物誘電体膜２８と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板と対向配置される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間で、第１方向に延在して形成される第１電極と、
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極と離隔して前記第１方向と交差する第２方向に延在して形成される第２電極と、
前記第１基板と前記第２基板との間で、前記第１電極と離隔して前記第２方向に延在して形成される第３電極と、
前記第１電極、前記第２電極または前記第３電極上の表面に直接酸化されて形成される酸化物誘電体膜と、
を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記第１電極、前記第２電極または前記第３電極は、アルミニウムを含み、前記酸化物誘電体膜はアルミニウム酸化物を含むことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記第２電極及び前記第３電極は、前記第２基板から離隔する方向に拡張され、空間をおいて互いに対向して形成されていることを特徴とする、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記第１基板と前記第２基板との間で、複数の放電セルを区画する隔壁をさらに含み、前記第２電極及び前記第３電極は、前記第１方向に隣接する放電セルの境界を通るように形成され、前記第１方向に沿って交互に配列されていることを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記第１基板と前記第２基板との間で、複数の放電セルを区画する隔壁をさらに含み、前記隔壁の前記第１方向に隣接する放電セルの境界の部分に前記第２方向に沿って連通する凹部が形成され、前記第２電極及び前記第３電極は、前記凹部と結合されていることを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記隔壁は、
前記第１方向に伸びて形成される第１隔壁部材と、
前記第２方向に伸びて形成される第２隔壁部材と、
を有し、
前記第１隔壁部材と前記第２隔壁部材との交差部分に凹部が形成されていることを特徴とする、請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記隔壁は、
前記第１方向で伸びて形成される第１隔壁部材と、
前記第２方向に伸びて形成される第２隔壁部材と、
を有し、
前記第１基板に垂直な方向に測定される前記第１隔壁部材の高さは、前記第２隔壁部材の高さより高いことを特徴とする、請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記酸化物誘電体膜は、前記第２方向に延在して形成されていることを特徴とする、請求項５〜７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記第１方向に測定される前記酸化物誘電体膜の幅は、前記凹部の幅と同一であるか、または小さいことを特徴とする、請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記第１基板に垂直な方向に測定される前記酸化物誘電体膜の高さは、前記凹部の高さと同一であることを特徴とする、請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記第１電極は、前記第２基板上に形成され、前記第１基板と前記第２基板との間で複数に区画された放電セルにおいて前記第２方向に隣接する前記放電セルの境界部分を通ることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記第１電極は、各々の前記放電セルの中心部分に向かって突出形成される拡大電極を有することを特徴とする、請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
一対の基板の間に電極を形成する段階と、
前記電極を正極酸化被膜処理し、表面に前記電極の材料の酸化物からなる酸化物誘電体膜を形成する段階と、
を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記電極を形成する段階は、アルミニウムで前記電極をパターン形成する段階を含み、前記酸化物誘電体膜を形成する段階は、前記アルミニウムを正極酸化被膜処理してアルミニウム酸化物からなる前記酸化物誘電体膜を形成する段階を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記電極を形成する段階は、非アルミニウム金属をアルミニウムで覆い、前記電極のパターンを形成する段階を含むことを特徴とする、請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記酸化物誘電体膜を形成する段階は、前記アルミニウムを正極酸化被膜処理して非アルミニウム金属表面にアルミニウム酸化物からなる前記酸化物誘電体膜を形成する段階を含むことを特徴とする、請求項１５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記非アルミニウム金属は、銀、銅または金が含まれることを特徴とする、請求項１５または１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
一対の前記基板の間に、複数の放電セルを区画する隔壁を形成する段階と、
前記隔壁の第１方向に隣接する放電セルの境界部分に、前記第１方向に交差する第２方向に沿って連通する凹部を形成する段階と、
表面に酸化物誘電体膜が形成された前記電極を前記凹部に結合する段階と、
をさらに含むことを特徴とする、請求項１３〜１７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対向放電構造のプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネルは気体放電によって得られたプラズマから放射される真空紫外線（ＶＵＶ）が蛍光体を励起させることによって発生する可視光を利用して映像を実現するディスプレイ素子である。このようなプラズマディスプレイパネルは６０インチ以上の超大型画面を僅か１０ｃｍ以内の厚さで実現することができる。
【０００３】
また、プラズマディスプレイパネルはＣＲＴのような自発光ディスプレイ素子であるので、色再現力が優れていて、視野角による歪曲現象がない特性を有する。また、ＬＣＤなどに比べて製造工法が単純で生産性及び原価側面でも長所を有するので、次世代産業用平板ディスプレイ及び家庭用テレビディスプレイとして注目されている。
【０００４】
プラズマディスプレイパネルの構造は１９７０年代から長期間にわたって発展してきたが、現在一般に知られている構造は３電極面放電型構造である。３電極面放電型構造は、同一面上に位置した２つの電極を含む１つの基板と、この基板から一定の距離をおいて離隔して垂直方向に連結されるアドレス電極を含む他の基板で構成される。そして、この一対の基板の間に放電ガスが充填され、両基板が封入される。
【０００５】
一般に、放電の有無は各ラインに連結されて独立的に制御される走査電極と、この走査電極に対向するアドレス電極の放電によって決められる。また、輝度を表示する維持放電は、同一面上に位置する２つの電極群、つまり、維持電極及び走査電極によって行われる。
【０００６】
しかし、このような３電極面放電型構造のプラズマディスプレイパネルでは、維持電極と走査電極間の放電ギャップが短くて放電効率が低下する問題があった。つまり、維持電極と走査電極との間の維持放電の時に、負極周辺のカソードシース（ｃａｔｈｏｄｅ  ｓｈｅａｔｈ）領域と、正極周辺のアノードシース（ａｎｏｄｅ  ｓｈｅａｔｈ）領域と、この２つの領域の間に形成されるポジティブコラム（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｃｏｌｕｍｎ）領域とが形成されるが、放電効率と関連のあるポジティブコラム領域が３電極面放電型構造では短く形成されてしまう。
【０００７】
したがって、このような問題点を解決するために、ポジティブコラム領域が長く形成できる対向放電構造のプラズマディスプレイパネルが提案された。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、このような構造で維持電極及び走査電極の外面に誘電層を形成するのには複数の工程段階が要求される問題があった。例えば、維持電極及び走査電極の外面に誘電層を形成する工程段階としては、電極形成段階と、この電極を覆いながら基板全体に誘電層を印刷する段階と、この誘電層上にマスクを形成する段階と、このマスク上にパターンを形成する段階と、露光と現象過程によって誘電層パターンを形成する段階と、などが含まれる。
【０００９】
さらに、このように複数の工程段階を経て形成された電極誘電層の表面は、粗く形成される問題がある。電極誘電層表面が粗く形成される場合、誘電層上に蓄積される壁電荷の分布が均一でなくなり、突出した部分に局部的に強い電場が形成されることがあり、電圧マージンが減少する。
【００１０】
そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、表面が緻密で耐電圧が高い誘電体膜を電極外面に容易に形成することができる、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、第１基板と、第１基板と対向配置される第２基板と、第１基板と第２基板との間で、第１方向に延在して（沿って伸びて）形成される第１電極と、第１基板と第２基板との間で、第１電極と離隔して第１方向と交差する第２方向に延在して形成される第２電極と、第１基板と第２基板との間で、第１電極と離隔して第２方向に延在して形成される第３電極と、第１電極、第２電極または第３電極上の表面に、直接酸化されて形成される酸化物誘電体膜と、を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００１２】
本願発明のプラズマディスプレイにおいては、第１電極、第２電極または第３電極上の表面に、酸化物誘電体膜を直接酸化して形成することを特徴としている。直接酸化によって形成された酸化物誘電体膜は、誘電層表面が緻密で耐電圧が強い長所があり、製造上も誘電層のパターニング工程等、複数の工程段階が不要となり、電極の表面に緻密で耐電圧が高い誘電体膜を容易に形成することができる。
【００１３】
ここで、第１電極、第２電極または第３電極は、電極の材料としてアルミニウムを含み、酸化物誘電体膜はアルミニウム酸化物を含むことができる。アルミニウムを含む電極を直接酸化して、アルミニウム酸化物を含む酸化物誘電体膜を形成することができる。
【００１４】
第２電極及び第３電極は、第２基板から離隔する（遠くなる）方向に拡張され、空間をおいて互いに対向して形成することができる。対向電極となる第２電極及び第３電極は、第２基板から離隔する方向に拡張されることにより、対向面の面積が大きくなり、高い発光効率が得られる。
【００１５】
第１基板と第２基板との間で、複数の放電セルを区画する隔壁をさらに含み、第２電極及び第３電極は、第１方向に隣接する放電セルの境界を通るように形成され、第１方向に沿って交互に配列することができる。第２電極及び第３電極（走査電極及び維持電極）は相互作用して維持放電を起こすことができる。この維持放電によって基板を通して画像を表示することができる。また、第１方向に隣接する放電セルの境界に第２電極及び第３電極が配置されるので、これら電極が金属で形成されても開口率低下を防止することができる。
【００１６】
第１基板と第２基板との間で、複数の放電セルを区画する隔壁をさらに含み、隔壁の第１方向に隣接する放電セルの境界の部分に第２方向に沿って連通する凹部が形成され、第２電極及び第３電極は、凹部と結合することができる。
【００１７】
また、隔壁は、第１方向に伸びて形成される第１隔壁部材と、第２方向に伸びて形成される第２隔壁部材と、を有し、第１隔壁部材と第２隔壁部材との交差部分に凹部を形成することができる。
【００１８】
また、隔壁は、第１方向で伸びて形成される第１隔壁部材と、第２方向に伸びて形成される第２隔壁部材と、を有し、第１基板に垂直な方向に測定される第１隔壁部材の高さは、第２隔壁部材の高さより高くすることができる。これにより第１方向に隣接する放電セルの境界部分には第２方向に沿って連通する凹部が形成される。
【００１９】
隔壁上の凹部と第２電極及び第３電極とが結合することにより、第１基板と第２基板との結合を容易にすることができる。また、第１方向に別途の誘電層を備えなくても、第１基板と第２基板とが結合する時に、第２方向に隣接する放電セル間のクロストークを防止することができる。
【００２０】
酸化物誘電体膜は、第２方向に延在して形成することができる。第２電極及び第３電極を覆って酸化物誘電体膜が形成されるので、酸化物誘電体膜は第２隔壁部材に対応して第２方向に沿って形成される。
【００２１】
第１方向に測定される酸化物誘電体膜の幅は、凹部の幅と同一か、または小さくすることができる。このように、酸化物誘電体膜の幅が凹部の幅と同一であるか小さく形成されることによって、第１基板と第２基板とが結合する時に、第２電極及び第３電極を凹部内に嵌め合わせることができる。
【００２２】
また、第１基板に垂直な方向に測定される酸化物誘電体膜の高さは、凹部の高さと同一にすることができる。このように、酸化物誘電体膜の高さと凹部の高さが同一に形成されることによって、第１基板と第２基板とが結合する時に、第２電極及び第３電極を凹部内に嵌め合わせることができる。
【００２３】
第１電極は、第２基板上に形成され、第１基板と第２基板との間で複数に区画された放電セルにおいて第２方向に隣接する放電セルの境界部分を通る。放電セルの境界部分を通ることにより、第１電極が金属電極で形成される場合にも、第２基板の開口率を落とすことはない。
【００２４】
第１電極は、各々の放電セルの中心部分に向かって突出形成される拡大電極を有することができる。拡大電極によって、第１電極と走査電極との間に起こるアドレス放電の効率を向上させることができる。
【００２５】
上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、一対の基板の間に電極を形成する段階と、電極を正極酸化被膜処理し、表面に電極の材料の酸化物からなる酸化物誘電体膜を形成する段階と、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【００２６】
電極表面に、酸化物誘電体膜を直接酸化して形成することにより、従来の誘電層のパターニング工程等、複数の工程段階が不要となり、電極の表面に緻密で耐電圧が高い誘電体膜を容易に形成することができ、安価なプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【００２７】
電極を形成する段階は、アルミニウムで電極をパターン形成する段階を含み、酸化物誘電体膜を形成する段階は、アルミニウムを正極酸化被膜処理してアルミニウム酸化物からなる酸化物誘電体膜を形成する段階を含むことができる。
【００２８】
上記に限らず、電極を形成する段階は、非アルミニウム金属をアルミニウムで覆い、電極のパターンを形成する段階を含むことができる。電極が非アルミニウム金属の場合の酸化物誘電体膜を形成する段階は、非アルミニウム金属を覆うアルミニウムを正極酸化被膜処理して非アルミニウム金属表面にアルミニウム酸化物からなる酸化物誘電体膜を形成する段階を含むことができる。この時、非アルミニウム金属は、銀、銅または金を含むことができる。
【００２９】
一対の基板の間に、複数の放電セルを区画する隔壁を形成する段階と、隔壁の第１方向に隣接する放電セルの境界部分に、第１方向に交差する第２方向に沿って連通する凹部を形成する段階と、表面に酸化物誘電体膜が形成された電極を凹部に結合する段階と、をさらに含むことができる。隔壁上に凹部を形成することによって、表面に酸化物誘電体膜が形成された電極を凹部に嵌め合うことができ、これによってマトリックス構造を有する対向放電構造のプラズマディスプレイパネルを容易に製造することができる。
【発明の効果】
【００３０】
以上詳述したように本発明によれば、維持電極及び走査電極を正極酸化被膜処理によって直接酸化させたり、維持電極及び走査電極の表面にアルミニウム被膜を形成し、この被膜を正極酸化被膜処理によって直接酸化させたりすることによって、表面が緻密で強い耐電圧特性を有する酸化物誘電体膜を簡単に形成することができるので、対向放電構造のプラズマディスプレイパネルを容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３２】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルを示す部分分解斜視図である。図１を参照すると、本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルは、基本的に第１基板（以下、背面基板１０と言う）と、第２基板（以下、前面基板２０と言う）とが所定の間隔をおいて互いに対向配置され、この背面基板１０と前面基板２０との間には複数の放電セル１７が区画される。放電セル１７内には紫外線を吸収して可視光を放出する蛍光体層１９が形成される。また、放電セル１７内には、気体放電を起こすように放電ガス、例えば、ゼノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）などを含む混合ガスが充填される。
【００３３】
背面基板１０の前面基板２０対向面には第１誘電層（以下、背面誘電層１４と言う）が形成され、この背面誘電層１４上には複数の放電セル１７を区画する隔壁１６が形成される。本実施の形態では隔壁１６が背面誘電層１４上に形成されるが、背面誘電層１４を形成せず背面基板１０上に隔壁１６が直接形成されてもよい。また、背面基板１０を放電セル１７に対応する形状にエッチングして隔壁１６を形成することもできる。この場合、隔壁１６と背面基板１０は同一材料で形成される。
【００３４】
隔壁１６は第１隔壁部材１６ａ及び第２隔壁部材１６ｂを含む。第１隔壁部材１６ａは第１方向（図面のｙ軸方向）に（沿って）伸びて形成され、第２隔壁部材１６ｂは第１隔壁部材１６ａと交差する第２方向（図面のｘ軸方向）に（沿って）伸びて形成される。これら第１隔壁部材１６ａ及び第２隔壁部材１６ｂによって放電セル１７が区画される。
【００３５】
一方、第１方向に隣接する放電セル１７の境界部分に位置する第１隔壁部材１６ａ上には第２方向に連通する凹部１８が形成される。さらに具体的に説明すると、第１隔壁部材１６ａと第２隔壁部材１６ｂの交差部分に凹部１８が形成され、背面基板１０から垂直方向に測定される第１隔壁部材１６ａの高さは、第２隔壁部材１６ｂの高さよりさらに高く形成される。
【００３６】
したがって、一つの放電セル１７を基準に見る時、第１方向に延在する放電セル１７の両側には、第２方向に延在する放電セル１７の両側に形成された第２隔壁部材１６ｂよりさらに高い第１隔壁部材１６ａが形成される。そして、第１方向に隣接する放電セル１７の境界部分には第２方向に沿って連通する凹部１８が形成される。
【００３７】
一方、このような隔壁構造は前記で説明した構造に限定されるわけではなく、第１方向と平行な隔壁部材のみからなる帯状隔壁構造も本発明に適用できる。つまり、第１方向と平行な隔壁部材上に凹部を形成する隔壁構造も本発明に適用することができ、これも本発明の技術的範囲に属する。
【００３８】
前面基板２０の背面基板１０対向面には第１電極（以下、アドレス電極２２と言う）が第１方向に延在して形成される。これらアドレス電極２２は互いに所定の間隔を維持しながら平行に形成される。アドレス電極２２はバス電極２２ａ及び拡大電極２２ｂを含む。そして、このアドレス電極２２を覆いながら、前面基板２０上に第２誘電層（以下、前面誘電層２４と言う）が形成され、この前面誘電層２４上には第２電極（以下、維持電極２５と言う）及び第３電極（以下、走査電極２６と言う）が第１方向と交差する第２方向に延在して形成される。
【００３９】
また、維持電極２５及び走査電極２６を覆いながら、前面誘電層２４上に第３誘電層（以下、酸化物誘電体膜２８と言う）が形成される。この酸化物誘電体膜２８は、第２隔壁部材１６ｂに対応して第２方向に延在して形成される。
【００４０】
本実施の形態の酸化物誘電体膜２８は、維持電極２５及び走査電極２６の電極材料が酸化されて維持電極２５及び走査電極２６の表面に直接形成される。具体的に、維持電極２５及び走査電極２６はアルミニウム（Ａｌ）からなり、このアルミニウムを正極酸化被膜処理してアルミニウム酸化物（Ａｌ２Ｏ３）が含まれる酸化物誘電体膜２８が形成される。
【００４１】
また、本実施の形態では維持電極２５及び走査電極２６を正極酸化被膜処理して表面に酸化物誘電体膜を直接形成したが、これに限定されるわけではない。つまり、アドレス電極２２にも正極酸化被膜処理を通じて表面に酸化物誘電体膜を形成することができ、これも本発明の技術的範囲に属する。一方、酸化物誘電体膜２８は維持電極２５及び走査電極２６の表面に直接形成されるために、この酸化物誘電体膜２８は維持電極２５及び走査電極２６の延長方向である第２方向に延在して形成される。
【００４２】
このように、前面基板２０には第２方向に沿って酸化物誘電体膜２８が形成され、背面基板１０の第１隔壁部材１６ａ上には第２方向に沿って連通される凹部１８が形成されることによって、第１隔壁部材１６ａと第２隔壁部材１６ｂが互いに交差するように形成されるマトリックス構造の隔壁を有しながら、前面基板に形成される電極と背面基板に形成された凹部が結合して対向放電構造のプラズマディスプレイパネルを容易に実現できる。
【００４３】
また、前面誘電層２４及び酸化物誘電体膜２８の表面に保護膜２９をさらに形成することができ、気体放電に露出される部分に形成されるのが好ましい。保護膜２９の例としてはＭｇＯの保護膜２９がある。このＭｇＯの保護膜２９は気体放電の時に電離されるイオンの衝突から誘電層及び誘電体膜を保護する役割を果たす。また、ＭｇＯの保護膜２９は、イオンが衝突した時の二次電子の放出係数も高いので、放電効率を向上することができる。
【００４４】
一方、放電セル１７内には蛍光体層１９が形成される。さらに具体的に説明すると、背面基板１０側に形成される隔壁１６の側面と背面誘電層１４上に蛍光体層１９が形成され、この蛍光体層１９は反射型蛍光体からなることができる。このように、アドレス電極２２が前面基板２０側に形成され、蛍光体層１９が背面基板１０側に形成されるので、赤色、緑色及び青色蛍光体層の互いに異なる誘電率によって、アドレス放電の放電開始電圧が不均一となる短所を克服することができる。
【００４５】
また、アドレス放電は前面基板２０側に備えられるアドレス電極２２と、前面基板２０と背面基板１０との間に配置される走査電極２６との間で起こるので、背面基板１０側に形成される蛍光体層１９上にはアドレス放電時に電荷が積層されない。そのために、蛍光体層１９上に電荷が積層されてイオンスパッタリングによって蛍光体寿命が減少することを防止することができる。
【００４６】
図２は第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの電極と放電セルとの構造を概略的に示す部分平面図である。図２を参照すると、前面基板２０上で第１方向（図面のｙ軸方向）に延在して形成されるアドレス電極２２はバス電極２２ａ及び拡大電極２２ｂを含む。バス電極２２ａは第１隔壁部材１６ａに対応しながら第１方向に沿って伸びて形成され、拡大電極２２ｂは各放電セル１７に対応しながら、このバス電極２２ａから各放電セル１７の中心に向かって拡大形成される。
【００４７】
この場合、拡大電極２２ｂは前面基板２０の開口率確保のために透明電極、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）電極で形成することができる。本実施の形態で拡大電極は長方形の平面形状を有するように形成されるが、他の平面形状を有する拡大電極も本実施の形態に適用することができる。例えば、走査電極２６から維持電極２５方向へ行くほど幅が減少する三角形状の拡大電極も本実施の形態に適用でき、これもまた本発明の技術的範囲に属する。
【００４８】
また、この透明電極の高い抵抗を補償して通電性を良くするために、バス電極２２ａは金属電極からなることができる。本実施の形態でバス電極２２ａは第２方向（図面のｘ軸方向）に隣接する放電セル１７の境界を通りながら互いに平行に形成されるので、金属電極で形成されても前面基板２０の開口率を落とさない長所がある。
【００４９】
一方、アドレス電極２２と交差する第２方向に維持電極２５及び走査電極２６が形成される。本実施の形態で維持電極２５及び走査電極２６は、第１方向に隣接する放電セル１７の境界を通りながら、第１方向に沿って交互に形成される。走査電極２６はアドレス電極２２と相互作用してアドレス期間でアドレス放電を起こす。このアドレス放電によって点灯される放電セル１７が選択される。維持電極２５は主に走査電極２６と相互作用して維持期間で維持放電を起こす。この維持放電によって前面基板２０を通して画像が表示される。しかし、各電極に印加される放電電圧に応じてその役割を異ならせるので、これに限定される必要はない。
【００５０】
また、維持電極２５及び走査電極２６は金属電極で形成されることができる。つまり、本実施の形態では第１方向に隣接する放電セル１７の境界に維持電極２５及び走査電極２６が配置されるので、これら電極が金属で形成されても開口率低下を防止することができる。
【００５１】
図３は図１に示されたプラズマディスプレイパネルのIII−III線での部分断面図である。図３を参照すると、アドレス電極２２を覆う前面誘電層２４上に維持電極２５及び走査電極２６が形成される。これら維持電極２５及び走査電極２６は、前面基板２０から遠くなる方向に背面基板１０に向かって突き出され、その間に空間をおいて互いに対向するように形成される。
【００５２】
また、これら維持電極２５及び走査電極２６の横断面は、背面基板１０及び前面基板２０と垂直方向（ｚ軸方向）への長さが、背面基板１０及び前面基板２０と平行方向（ｙ軸方向）への長さより長く形成されることができる。言い換えると、維持電極２５及び走査電極２６の前面基板２０面からの高さをさらに高く形成することができる。このように維持電極２５及び走査電極２６の高さを高めることによって、高精細ディスプレイを実現するために放電セルの平面方向大きさが減少しなければならない場合にも、その大きさの減少量が補償できる。また、維持電極２５と走査電極２６との間の対向面の面積を増加させることによって、面放電構造に比べてさらに高い発光効率が得られる。
【００５３】
そして、維持電極２５及び走査電極２６の表面には酸化物誘電体膜２８が形成される。この酸化物誘電体膜２８とアドレス電極２２を覆う前面誘電層２４は互いに同じ物質からなることができ、気体放電時に生成される電荷の衝突から各電極を保護する役割を果たす。また、アドレス放電の時に前面誘電層２４及び酸化物誘電体膜２８上には壁電荷を蓄積することができ、このように蓄積された壁電荷は維持電極２５と走査電極２６との間の維持放電時に放電開始電圧を下げる役割を果たす。
【００５４】
本実施の形態において、第１方向（図面のｙ軸方向）に測定される酸化物誘電体膜２８の幅Ｗ１は背面基板１０の第１隔壁部材１６ａ上に形成された凹部１８の幅Ｗ２と同一であるか小さく形成される。このように、酸化物誘電体膜の幅Ｗ１が凹部の幅Ｗ２と同一であるか小さく形成されることによって、前面基板２０と背面基板１０とが結合する時に、維持電極２５及び走査電極２６と、これら維持電極２５及び走査電極２６の表面に形成された酸化物誘電体膜２８とを、凹部１８内に嵌合することができる。
【００５５】
そして、このような構造によって、この酸化物誘電体膜２８と交差する第１方向（図面のｙ軸方向）に別途の誘電層を備えなくても、前面基板２０と背面基板１０とが結合する時に第２方向に隣接する放電セル１７間にクロストークが防止される。
【００５６】
また、前面基板２０と垂直方向に測定される酸化物誘電体膜２８の高さＨ１は、背面基板１０の第１隔壁部材１６ａ上に形成された凹部１８の高さＨ２と同一に形成される。このように、酸化物誘電体膜２８の高さＨ１と凹部１８の高さＨ２が互いに同一に形成されることによって、前面基板２０と背面基板１０の結合時に維持電極２５及び走査電極２６が凹部１８に嵌合されることができる。
【００５７】
なお、酸化物誘電体膜２８の高さＨ１が凹部の高さＨ２より少し大きいか小さく形成されることもある。この場合、第２方向に隣接する放電セルを互いに連通する開口部が形成されて排気効率を向上することができ、これも本発明の範囲に属する。
【００５８】
一方、上述のように本実施の形態で酸化物誘電体膜２８は、維持電極２５及び走査電極２６を直接酸化させる方法によって形成される。このように形成された酸化物誘電体膜２８は、誘電層表面が緻密で耐電圧が強い長所がある。また、電極表面に誘電層が形成される時、電極上に別途のマスクパターンを形成する必要がないので、誘電層形成工程が単純になり得る。
【００５９】
以下では本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルを製造する方法について説明する。本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、一対の基板の間に電極を形成する段階と、この電極を正極酸化被膜処理して表面に電極材料の酸化物からなる酸化物誘電体膜を形成する段階とを含む。また、一対の基板の間に複数の放電セルを区画する隔壁を形成する段階と、この隔壁の中で第１方向に隣接する放電セルの境界部分に第１方向と交差する第２方向に沿って連通する凹部を形成する段階と、表面に酸化物誘電体膜が形成された電極が凹部に結合する段階と、をさらに含むことができる。
【００６０】
一対の基板の間に隔壁を形成する段階と、この隔壁上に凹部を形成する段階は、公知の方法を用いることができる。例えば、サンドブラスト法によって隔壁を形成することができ、凹部もまた公知の機械的、化学的方法によって形成することができる。したがって、以下では前面基板上に維持電極及び走査電極を形成し、この維持電極及び走査電極の表面に酸化物誘電体膜を形成する段階を中心に説明する。
【００６１】
図４は本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの電極形成段階を示す工程断面図である。図４を参照すると、アルミニウム（Ａｌ）からなる維持電極２５及び走査電極２６が前面基板２０上にパターン形成される。説明の便宜のために、図４にはアドレス電極及び前面誘電層が省略され、前面基板２０上に形成される維持電極２５及び走査電極２６はパターン印刷などの多様な方法によって形成することができる。
【００６２】
その後、パターン形成された維持電極２５及び走査電極２６を正極酸化被膜処理して、維持電極２５及び走査電極２６の表面に酸化物誘電体膜が直接形成される。このような正極酸化被膜処理工程については図面を変えて詳しく説明する。
【００６３】
図５は本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの正極酸化被膜処理工程を概略的に示す説明図である。図５を参照すると、電極形成段階で形成された維持電極及び走査電極を電池の（＋）極に連結して電解液（Ｈ２ＳＯ４）の中に浸漬すると、（＋）極で発生する酸素によって維持電極及び走査電極の表面が酸化され、アルミニウム酸化物（Ａｌ２Ｏ３）の被膜が生じる。このような反応に対する化学式は次の通りである。
【００６４】
【化１】
2007305568.tif 000003
【００６５】
このような正極酸化被膜処理によって、１回の工程で維持電極及び走査電極の表面に酸化物誘電体膜が形成できるので、誘電層形成工程回数が顕著に減少する長所がある。
【００６６】
図６は本実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの酸化物誘電体膜形成段階を示す工程断面図である。図６を参照すると、維持電極２５及び走査電極２６の表面に正極酸化被膜処理によってアルミニウム酸化物（Ａｌ２Ｏ３）からなる酸化物誘電体膜２８が形成された状態が示されている。このようにアルミニウム酸化物からなる酸化物誘電体膜２８が、維持電極２５及び走査電極２６の表面に直接形成されることによって、表面が非常に緻密で耐電圧の高い特性を有する酸化物誘電体膜２８を容易に形成することができる。
【００６７】
本実施の形態の場合、アルミニウム酸化物からなる酸化物誘電体膜２８の厚さは、５０μｍ前後に形成され、実験結果として、４０μｍに酸化物誘電体膜２８の厚さが形成される場合、約６００Ｖ程度の耐電圧特性を有することが確認された。
【００６８】
以下に本発明の多様な実施形態について説明する。各実施形態によるプラズマディスプレイパネルは第１の実施の形態で説明したプラズマディスプレイパネルと構成及び作用が互いに同一または類似しているので、これについての詳細な説明は省略する。
【００６９】
（第２の実施の形態）
図７は本発明の第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの電極形成段階を示す断面図である。図７を参照すると、本実施の形態では前面基板２０上に形成される維持電極２２５及び走査電極２２６がアルミニウム（Ａｌ）でない非アルミニウム金属でパターン形成される。例えば、維持電極２２５及び走査電極２２６は銀（Ａｇ）、銅（Ｇｕ）、金（Ａｕ）を含む金属のうちいずれか１つの金属でパターン形成することができる。そして、このような維持電極２２５及び走査電極２２６をアルミニウム（Ａｌ）の被膜２３０が覆われるように形成される。
【００７０】
つまり、第１の実施の形態では、維持電極及び走査電極がアルミニウム（Ａｌ）からなり、このアルミニウムを直接酸化させて維持電極及び走査電極の表面に酸化物誘電体膜を形成した。しかし、第２の実施の形態では、アルミニウム（Ａｌ）でない他の金属で維持電極２２５及び走査電極２２６を形成し、この外面にアルミニウムの被膜２３０を形成して、このアルミニウム被膜２３０を正極酸化被膜処理する。非アルミニウム金属上にアルミニウム金属を形成して直接酸化する本実施の形態は、第１の実施の形態に比べ、電極材料を多様に選択できる効果がある。
【００７１】
図８は第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの酸化物誘電体膜形成段階を示す工程断面図である。図８を参照すると、図７で形成されたアルミニウム被膜は正極酸化被膜処理によってアルミニウム酸化物に酸化される。つまり、維持電極２２５及び走査電極２２６の表面には、アルミニウム酸化物からなる酸化物誘電体膜２２８が形成される。このように形成された酸化物誘電体膜２２８は、表面が緻密で強い耐電圧特性を有する。
【００７２】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明は、対向放電構造のプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルを示す部分分解斜視図である。
【図２】第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの各電極及び放電セルの構造を概略的に示す部分平面図である。
【図３】図１に示されたプラズマディスプレイパネルのIII−III線に沿った部分断面図である。
【図４】第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、電極形成段階を示す工程断面図である。
【図５】第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、正極酸化被膜処理工程を概略的に示す説明図である。
【図６】第１の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、酸化物誘電体膜形成段階を示す工程断面図である。
【図７】第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、電極形成段階を示す工程断面図である。
【図８】第２の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、酸化物誘電体膜形成段階を示す工程断面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０      背面基板
１４      背面誘電層
１６      隔壁
１７      放電セル
１８      凹部
１９      蛍光体層
２０      前面基板
２２      アドレス電極
２４      前面誘電層
２５      維持電極
２６      走査電極
２８      酸化物誘電体膜
２９      保護膜
【図１】
2007305568.tif 000004
【図２】
2007305568.tif 000005
【図３】
2007305568.tif 000006
【図４】
2007305568.tif 000007
【図５】
2007305568.tif 000008
【図６】
2007305568.tif 000009
【図７】
2007305568.tif 000010
【図８】
2007305568.tif 000011