(57)【要約】【課題】ディスプレイ又は有機電子部材の画素制作方法を提供する。【解決手段】絶縁材料２３を液体インクの形態で単一の縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に形成し、その配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直であって、画素の四辺を囲まない形状とする。インクジェットプロセスにより画素を形成する際に、連続した行或いは列として形成することができるため、従来の単一の画素ごとにインクジェットして形成する方法に比較して画素ごとの厚さを均一にすることが可能であり、ディスプレイの発光輝度を均等に出来る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁材料を単一縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に形成し、その絶縁材料の配列方向は陽極の配列方向と垂直であって、かつ、陰極が形成する方向と平行を成し、画素は液体インクの形態としてインクジェットの連続噴射方式により陽極表面に薄膜として形成することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項２】
前記陰極は、画素の表面層に形成されてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項３】
前記陰極は、蒸着により形成されることを特徴とした、請求項１或いは２に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項４】
前記陽極は、透明ガラス基板上に塗布したITO（Indium  Tin-doped  Oxide）により形成されることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項５】
前記絶縁材料は、フォトレジストであって、露光、現像によりパターニングして形成することを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項６】
前記絶縁材料は、陰極同士を隔離することを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項７】
前記画素は、高分子発光ダイオード（PLED；Polymer  OLED）より構成されてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項８】
前記画素の配列方法は、一列にてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項９】
前記画素の配列方法は、矩形状にてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法。
【請求項１０】
画素の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路を加え、接地回路の接地位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の消耗劣化を防止することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。
【請求項１１】
前記陽極は、ITO（Indium  Tin-doped  Oxide）をガラス基板上に塗布して構成することを特徴とした、請求項１０に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。
【請求項１２】
前記接地回路はITO（Indium  Tin-doped  Oxide）により構成されることを特徴とした、請求項１０に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機高分子発光ダイオードを用いたフラットディスプレイ又はそれらの有機電子部材の画素制作方法に関し、製造過程において絶縁材料を液体インクの形態で縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行な隔離層として設置してなるもので、絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まない構造とする。インクジェットプロセスによって画素を形成するとき、行或いは列を一続きの構造として形成することが可能であり、公知の方法において、単一画素を個々にインクジェットプリントして形成するのに比較して、各画素が十分に均等に形成されてなり、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。絶縁材料の配列方向は、陰極と平行方向に形成されてなり、直接に陽極の表面に画素を形成し、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させることを可能とするディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイの面板の製造工程において、画素表示構造は、図１及び図２に示すように、その画素表示領域の透明ガラス基板１０上にITO１２（Indium  Tin-doped  Oxide）を塗布してある。  ITOは透明、かつ導電特性を有する為、導電性のないガラス基板１０に導電性を付与することができ、それによって発光可能な画素を形成することができる。各画素の間は製造工程の問題によりショートが発生することがないように、各画素の間は絶縁材料１１を使用して隔離領域を形成してなり、この製造工程では絶縁体１１を画素周辺領域に重なる形状で形成する必要があり、後続の画素領域におけるインクジェットによる製造工程にて正確に整合させるが、但し、以下の問題点が存在する。
【０００３】
第一に、画素表示領域１３の面積を縮小させるとディスプレイの発光光度が不足する問題がある。
【０００４】
第二に、有効画素の四辺から突出して絶縁材料が形成されており、画素をインクジェットにより形成すると液体インク１４の表面張力により、中心領域が比較的厚く周囲が比較的薄くなる現象を発生し、ディスプレイの発光が不均等になる現象が発生する。
【０００５】
上述の欠点を改善する為、本発明が提案するディスプレイ又は有機電子部材の画素制作方法及び構造は、公知の画素発光効果の不良及び不均等を効果的に改善することを可能とする。
【特許文献１】特開２００４−９５５６２号公報
【特許文献２】特開２００４−１５２７４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の公知の技術における問題を解決する為、本発明は、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法の製造工程において、絶縁材料を液体インクの形態として縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行な連続層として形成する。絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まない形態で、インクジェットプロセスにより形成する時、連続した行或いは列として形成可能であり、公知の技術における単一画素をインクジェットの単位としてなる場合と異なり、各画素が十分に均等に形成されてなるため、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。
絶縁材料の配列方向は陰極と平行方向に形成されてなり、画素はインクジェット装置を利用して陽極表面に連続射出形成してなり、絶縁材料は二つの相互に隣接する陰極を隔離してなり、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させることを目的とする。
【０００７】
本発明は、更に、前述の絶縁材料の配列方向は、透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の上方に形成される陰極材料が電気的接続を形成してなり、各画素を明るくすることにより複数の画素間は電位差により画素の劣化現象が生じるが、画素の陽極から陰極に至る回路において接地回路を加えて防止する。該接地回路はITOにより構成することにより製造工程を簡易化するが、該接地回路の設置位置は二つの陽極の間として、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の損壊劣化の発生を防止する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明は、製造工程において絶縁材料を使用し液体インクを単一縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に設置してなり、絶縁材料の配列方向は陽極の配列方向と垂直であって、絶縁材料の配列方向は陰極が形成する方向と平行を成し、画素はインクジェットの連続噴射方式により陽極表面に薄膜を形成することにより、ディスプレイ画素の製造工程の良品率を確保し、その発光面積及び均等性を増加させることを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【０００９】
請求項２の発明は、前記陰極が画素の表面層に形成されてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１０】
請求項３の発明は、前記陰極が蒸着法により形成されることを特徴とした、請求項１或いは２に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１１】
請求項４の発明は、前記陽極が透明ガラス基板上に塗布するITO（Indium  Tin-doped  Oxide）により形成してなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１２】
請求項５の発明は、前記絶縁材料はフォトレジストより構成することができ、露光・現像のパターニングプロセスにより形成されたフォトレジストが絶縁材料を形成することを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１３】
請求項６の発明は、前記絶縁材料が陰極を電気的に分離することを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１４】
請求項７の発明は、前記ディスプレイの画素が、高分子発光ダイオード（PLED；Polymer  OLED）より構成されてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１５】
請求項８の発明は、前記画素の配列方法は一列にてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１６】
請求項９の発明は、前記画素の配列方法は矩形状にてなることを特徴とした、請求項１に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素製作方法である。
【００１７】
請求項１０の発明は、画素の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路を加え、接地回路の接地位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の消耗劣化を防止することを特徴とした、ディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。
【００１８】
請求項１１の発明は、前記陽極はITO（Indium  Tin-doped  Oxide）をガラス基板上に塗布して形成することを特徴とした、請求項１０に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。
【００１９】
請求項１２の発明は、前記接地回路はITO（Indium  Tin-doped  Oxide）により構成されることを特徴とした、請求項１０に記載のディスプレイ又は有機電子部材の画素劣化防止方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、ディスプレイ又は有機電子部材の画素製造方法であり、その製造工程において絶縁材料を液体インクの形態で縦方向或いは横方向に画素の二辺に平行に連続して設置してなり、絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の四辺を囲まないで、インクジェットプロセスを実行する時、行或いは列を作業単位とすることが可能であり、公知の技術のように単一画素をインクジェットの単位としないため、各画素が十分に均等に形成されてなり、ディスプレイの発光度を均等にすることができる。絶縁材料の配列方向は陰極と平行方向に形成されてなり、画素はインクジェット装置を利用して陽極表面に連続形成してなり、絶縁材料は二つの相互に隣接する陰極を隔離してなり、ディスプレイの画素製造における良品率を確保し、各画素の発光面積及び均等性を向上させる。
【００２１】
本発明は更に、前述の絶縁材料の配列方向は透明ガラス基板上に塗布されたITO（Indium  Tin-doped  Oxide）が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素の上方に形成される陰極材料が電気的接続を形成してなり、各画素の輝度を上げようとすると複数の画素間は電位差により画素の劣化現象が生じるが、画素の陽極から陰極に至る回路において接地回路を加える。該接地回路はITOにより構成することにより製造工程を簡易化することができ、該接地回路の設置位置は二つの陽極の間にてなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、低電位画素の損壊劣化の発生を防止する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
上述の目的及び効果を達成する為に本発明が採用した技術手段及びその構造を図及び実施例を用いてその特徴と機能を以下に説明する。
【００２３】
図２，３に示すように、フラットディスプレイ（パネル）の発光体は、PLED（高分子発光ダイオード）により構成され、該ディスプレイは自発光特性を有することから、ディスプレイの発光パネルとして極めて好適であって、省電力及び良好な輝度を有する。本発明の製造工程は、このようなディスプレイの製造工程に限らず、有機電子部材の製造法等においても本発明の技術的手段を適用することが可能である。
その技術的手段は、製造工程において、液体インクの形態で絶縁体２３からなる隔離領域を縦方向或いは横方向に画素２２の列に平行な二列に形成するもので、絶縁材料２３は陰極を電気的に隔離することができる。絶縁材料２３の配列方向は、透明ガラス基板２０上に塗布したITO２１が形成する陽極の配列方向と垂直を成し、画素２２の四辺を囲わない。
インクジェット装置を利用して画素形成のためインクジェットプロセスを実行する時には連続した行或いは列として形成する。例えば、一回目のインクジェットは、赤色画素２２を行の方向により形成し、二回目のインクジェットは緑色画素２２を行の方向により形成し、三回目のインクジェットは青色画素２２を行の方向により形成し、３原色全ての画素２２の製作を完成する。公知の技術とは異なり単一画素をそれぞれインクジェットプリントの単位としないため、各画素２２は十分に均等に形成され、表面張力の影響によって画素中心が突出して厚さが周囲と異なるようにならないため、ディスプレイの発光光度を均等にすることができる。更に、絶縁体２３の配列方向は陰極２４と平行方向を形成してなるため、直接陽極（ITO２１）表面に画素２２を形成しても、絶縁材料２３は二つの相互に隣接する陰極２４の隔離層となり、ディスプレイの画素製造工程の良品率を確保すると共に、各画素２２の発光面積及び均等性を向上することができる。
上述の絶縁材料２３は、フォトレジストを使用することができ、露光、現像の過程を経てパターニングプロセスにより形成されたフォトレジストパターンとして絶縁材料２３を形成することができる。
【００２４】
上述の絶縁材料２３は、連続した行或いは列として構成され、異なる色の画素２２を隔離することができるだけでなく、陰極を分離することができ（Cathode  Separator、CS）、鍍金方式を通して、画素の表面に陰極２４を形成することができ、画素２２の下方のITO２１が形成する陽極と電気的接続を形成して各画素２２を導通させる構成として、画素製造工程を簡易化する。
【００２５】
図５に示すように、複数個の画素２２の配列方法は一列に配列した構造としてスキャナーの光源に応用することができ、公知の冷陰極管（CCFL；Cold  Cathode  Fluorescent  Lamp）による光源に替えることが出来る。
このような光源は、省電力及び高輝度であり、一列の画素２２の上下両側にはフォトレジストにより構成される絶縁材料２３が設置されてなり、画素がインクジェットにより形成される工程を実施することにより、スキャナーの光源の製造においても低コストという長所を発揮することができる。
【００２６】
図６に示すように、複数個の画素２２の配列方式が矩形状に配列されるもので、矩形の上下両側にはフォトレジストにより構成される絶縁材料２３が設置されてなり、予め定められた間隔を取って、複数個のインクジェットにより画素２２を形成する工程を実行するとき、液体インク２５は必ずしも各画素２２の中心位置に対応できるものではないが、その場合でも液体インク２５は、流動拡散する現象により、全ての画素領域区画内を充満することができる。これらを前述の図３と比較すると、本実施例は、製造工程を高速化することができ、また設置する絶縁材料２３の量を低減することができる長所を具有する。
【００２７】
図７に示す例では、複数個の画素で「Ａ」字を構成して表示しているが、破線で囲まれる領域では一つの画素が点灯しており、点灯された画素は高電位状態になるが、その相互に隣接する画素は点灯していない為、低電位状態になるため、高電位画素３１は「漏電現象」を発生し、図８に示すように、電流が高電位画素３１の高電位陽極３１１から陰極３３に向かって流れ、さらに陰極３３からは低電位画素３２の低電位陽極３２１に向かって流れ、このため図９に示すように、複数個の正常画素４１及び損傷画素４２が形成されることとなり、長時間経過するうちには高電位及び低電位画素の電位差異の影響が大きくなり、低電位の画素には劣化現象を生じるが、防止制御する対策がない。
【００２８】
図１０に示すように、図３，４に記載した絶縁材料の配列方向は透明基板上塗布ITOが形成する陽極の配列方向に垂直を成し、画素５１上方に形成する陰極材料と電気的接続を形成し、各画素５１が点灯することにより、複数の画素５１の間に電位差更により画素の劣化現象が形成されるが、本発明の画素の劣化防止方法は、画素５１の陽極から陰極に至る回路の間に接地回路５２を追加する。
接地回路５２はITOより構成されることにより、製造工程を簡易化し、コストを低下させることができる。接地回路５２の設置位置は二つの陽極の間に設置してなり、高電位画素の電流を接地回路に向かって流し、直接低電位画素に流れないようにするため、各画素５１は接地回路に保護され、画素５１の消耗劣化が生じることがない。
【００２９】
本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】公知のディスプレイの画素形成構造の平面図である。
【図２】公知のディスプレイの画素形成構造の断面図である。
【図３】本発明のディスプレイの画素形成構造の説明図である。
【図４】本発明のディスプレイの金属層を設置した陰極構造の説明図である。
【図５】本発明の画素が一列に形成する構造の説明図である。
【図６】本発明のディスプレイの画素が形成するマトリクス構造の説明図である。
【図７】本発明のディスプレイの画素が対応図を形成した後、画素が形成する電位差の説明図である。
【図８】本発明のディスプレイの画素が電位差により画素の劣化損傷を形成する構造の説明図である。
【図９】本発明のディスプレイの画素が電位差により画素の劣化損傷を形成する構造の説明図である。
【図１０】本発明のディスプレイの画素が陽極から陰極に至る回路において設置回路を追加した構造の説明図である。
【符号の説明】
【００３１】
１０ ガラス基板
１１ 絶縁材料
１２ ITO（インジウムすず化合物）
１３ 画素表示領域
１４ 液体インク
１５ インクジェット装置
２０ ガラス基板
２１ ITO（インジウムすず化合物）
２２ 画素
２３ 絶縁材料
２４ 陰極
２５ 液体インク
３１ 高電位画素
３１１ 高電位陽極
３２ 低電位画素
３２１ 低電位陽極
３３ 陰極
４１ 正常画素
４２ 損傷画素
５１ 画素
５２ 設置回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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