(57)【要約】      （修正有）【課題】スリットノズル初期化時間の短縮、ひいては塗布工程のタクトタイムを短縮可能とする低コストで高品質の液晶ディスプレイ用部材の製造方法。【解決手段】塗布液を吐出するための一方向に延在または配列された吐出口を有する塗布器に少なくとも下流側に容量変化型バルブを備えた間欠型定容量ポンプから塗布液を供給して塗布液を回転ロール上に塗布して予備塗布を行った後、塗布器に塗布液を供給しながら塗布器と被塗布部材の間にビードを形成しつつ塗布器と被塗布部材を相対移動させて被塗布部材上に塗布膜を形成する塗布方法において、容量変化型バルブの閉止を下記（１）または（２）の時点で行うことを特徴とする塗布方法。（１）相対移動により塗布器が被塗布部材の塗布終了位置に到達して相対移動が停止した後であって塗布器からビードが断ち切られる前の時点（２）被塗布部材への塗布終了後であって塗布器の吐出口が回転ロールに近接した時点【選択図】図２
2007260485.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液を吐出するための一方向に延在または配列された吐出口を有する塗布器に少なくとも下流側に容量変化型バルブを備えた間欠型定容量ポンプから塗布液を供給して塗布液を回転ロール上に塗布して予備塗布を行った後、塗布器に塗布液を供給しながら塗布器と被塗布部材の間にビードを形成しつつ塗布器と被塗布部材を相対移動させて被塗布部材上に塗布膜を形成する塗布方法において、容量変化型バルブの閉止を下記（１）または（２）の時点で行うことを特徴とする塗布方法。
（１）相対移動により塗布器が被塗布部材の塗布終了位置に到達して相対移動が停止した後であって塗布器からビードが断ち切られる前の時点
（２）被塗布部材への塗布終了後であって塗布器の吐出口が回転ロールに近接した時点
【請求項２】
塗布液を吐出するための一方向に延在または配列された吐出口を有する塗布器と、少なくとも下流側に容量変化型バルブを備えた間欠型定容量ポンプと、該間欠型定容量ポンプから塗布液が前記塗布器に供給されて回転ロール上に塗布液が吐出されて予備塗布が行われる予備塗布装置と、予備塗布後に塗布器に塗布液を供給しながら塗布器と被塗布部材の間にビードを形成しつつ塗布器と被塗布部材を相対移動させて被塗布部材上に塗布膜の形成がなされる本塗布装置と、を備えた塗布装置において、容量変化型バルブの閉止が下記（１）または（２）の時点で行われるようにバルブの開閉を制御する制御装置を有することを特徴とする塗布装置。
（１）相対移動により塗布器が被塗布部材の塗布終了位置に到達して相対移動が停止した後であって塗布器からビードが断ち切られる前の時点
（２）被塗布部材への塗布終了後であって塗布器の吐出口が回転ロールに近接した時点
【請求項３】
請求項１に記載の塗布方法を用いて液晶ディスプレイ用部材を製造することを特徴とする液晶ディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えばカラー液晶ディスプレイ用カラーフィルタやＴＦＴ用アレイ基板等の液晶ディスプレイ用部材を製造する分野に主として使用されるものであり、詳しくはガラス基板などの被塗布部材表面に均一な塗布膜を多数枚にわたって形成できる塗布方法および塗布装置並びに液晶ディスプレイ用部材の製造方法の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶用ディスプレイは、カラーフィルタ、ＴＦＴアレイ基板などにより構成されているが、カラーフィルタ、アレイ基板ともに、低粘度の液体材料を塗布して乾燥させ、塗布膜を形成する製造工程が多く含まれている。たとえば、カラーフィルタの製造工程では、ガラス基板上に黒色のフォトレジスト材の塗布膜を形成し、フォトリソ法により塗布膜を格子状に加工した後に、格子間に赤色、青色、緑色のフォトレジスト材の塗布膜を同様の手法により順次形成していく。その他にも、フォトレジスト材を塗布して塗布膜を形成後、カラーフィルタとアレイ基板との間に注入される液晶のスペースを形成する柱にしたり、カラーフィルタ上の表面の凹凸を平滑化するためのオーバーコート塗布膜を形成する製造工程や、ＴＦＴアレイ基板に所定のパターンを形成するためにフォトレジスト材の塗布膜を形成する製造工程などもある。
【０００３】
この塗布膜形成のための塗布装置としては、従来スピナー、バーコータなどが使用されていたが、塗布液の消費量削減や消費電力削減、さらに対角長が１ｍを超える超大型基板に対応しての装置の大型化が困難であることなどにより、近年に至ってスリットコータ（例えば特許文献１）の使用が増加してきている。この公知のスリットコータは塗布ヘッドとしてスリットノズルを有し、このスリットノズルに間欠型の定容量ポンプで一定量の塗布液を供給し、先端に設けられたスリット状の吐出口から塗布液を吐出しながら、一方向に走行するガラス基板などの被塗布部材に塗布膜を形成するものとなっている。またスリットノズルは塗布液の出口である吐出口に向かって逆三角形の外形形状をしているのが通常で、そのために吐出口を含む面と、それに連なる斜面がスリットノズルの先端部に形成されている。
【０００４】
このスリットコータで多数枚の被塗布部材に続けて塗布する場合には、どの被塗布部材を塗布する前でも常にスリットノズルの吐出口の状態を同じにしてから塗布を始めないと、開始部の塗布膜の膜厚プロファイルが再現せず、同じ品質を維持できない。そのために塗布前には一枚一枚の被塗布部材ごとに、スリットノズルの初期化が必ず行われる。このスリットノズルの初期化を行う手段としては、一定量の塗布液をスリットノズルで吐出してから、スリットノズルの吐出口を含む先端部に合致する拭取り部材で先端部に残存している余剰の塗布液をかき落としてスリットノズルの先端部を均一とする手段（例えば特許文献２）や、回転ロールにスリットノズルで予備塗布を行い、一定厚さの塗布膜を回転ロール上に形成した段階で塗布液の吐出を終了して、スリットノズルを回転ロールから引き離すことで、スリットノズルの吐出口まで液が充填された状態にする手段（例えば特許文献３）がある。
【０００５】
以上の特許文献２の手段は、スリットノズルの吐出口を含む吐出口面に連なっている斜面に塗布液が付着しても問題なく塗布液を除去して初期化が行われ、洗浄と初期化の両方の機能を有した優れた手段である。一方特許文献３の回転ロールへの予備塗布を活用する手段は、スリットノズルの吐出口面に連なっている斜面に塗布液が付着していても、これを除去できないので、初期化とは別に特許文献３に記載されているように、洗浄手段が必要となる。
ところで、スリットコータのスリットノズルへの塗布液の供給は上述した通り、間欠型の定容量ポンプが、枚葉状の基板に間欠的に塗布するのに最適であるために、一般的に使用されている。間欠型であるために、特許文献１に記載されている通り、ポンプへの塗布液の充填と、ポンプからの塗布液の吐出を区分けする必要があり、そのためにポンプの上下流に切換えバルブがそれぞれ設けられている。すなわち、ポンプに塗布液を充填する時には、上流側切換えバルブを開、下流側切換えバルブを閉として（閉止して）、ポンプを吸引側に動作させ、一方ポンプから塗布液を吐出する時には、上流側切換えバルブを閉、下流側切換えバルブを開として、ポンプを供給側に動作させるのである。切換えバルブには、図５に示すボールバルブ４００のようにバルブの開閉動作によって容量変化が生じないものと、図４に示すダイヤフラムバルブ３００のようにバルブの開閉動作によって容量変化が生じる容量変化型のものがある。ボールバルブ４００は、貫通流路４０２のあるインナー４０４を本体４０６内で回転させることで開閉動作、すなわち流路の接続／遮断を行っており、液体の溜まりの中でインナー４０４を回転させているので、容量変化は生じない。しかし、開閉動作時にインナー４０４とシール材４０８Ａ、Ｂとの間で摺動磨耗を起こしたり、本体４０６とインナー４０４の間にどうしても滞留部分が形成される。一方ダイヤフラムバルブ３００は、金属またはテフロン（登録商標）のような合成樹脂性の膜であるダイヤフラム３０２をバー３０４で押し引きして入口流路３０８先端にあるシール部３１０と接触／引き離しを行うことで、開閉動作すなわち流路の接続／遮断を行っている。ダイヤフラム３０２の移動によって容量変化があり、たとえば流路を遮断するためにバルブを閉にするときは、ダイヤフラム３０２が液体を出口流路３０６側に押し出すし、流路を接続するためにバルブを開にするときは、ダイヤフラム３０２がシール部３１０から離れる方向に移動するので、逆に出口流路３０６側から液体を吸引する。しかし、ダイヤフラム３０２とシール部３１０は接触はするが摺動はないので、開閉時の接触部の摺動磨耗はなく、さらに滞留部分もほとんどない。通常は、磨耗粉や滞留による塗布液の劣化物が塗布膜に混ざって品質の低下を招かないようにダイヤフラムバルブが用いられる。しかし一枚の基板に塗布膜を形成後、間欠型定容量ポンプに次の基板への塗布用に塗布液を充填するために、上下流の切換えバルブの切換え動作を行うと、特に下流側切換えバルブの開→閉動作によって、容量変化分だけスリットノズル側に液が押し出され、押し出された塗布液がスリットノズルの吐出口から吐出されて、吐出口面やそれに連なる斜面に塗布液が付着するので、引き続いて回転ロールに予備塗布を行ってスリットノズルの初期化を行う場合は、毎回初期化前にスリットノズルの洗浄を行わねばならない。毎回スリットノズル先端部の洗浄を行うことによって初期化のために洗浄時間だけよけいに時間がかかり、塗布工程のタクトタイムを長くするという不都合がある。ここで問題となるのは、塗布終了後の間欠型定容量ポンプの下流側にある切換バルブの開閉タイミングと開閉方法であるが、スリットノズルによる基板への塗布の終了の方法については、いくつか提案されているものの（例えば特許文献４、５）、いずれも切換えバルブの開閉タイミングや開閉方法については、配慮の対象にもあげられていないので、上記の不都合を解消する公知の手段は全くない。
【特許文献１】特開２００４-２６７９９２号公報（００２１〜００３７、図１）
【特許文献２】特許第３３０６８３８号（第３欄２３行目〜４８行目、第４欄２３行目〜第６欄７行目、図１、図３）
【特許文献３】特開２００５−２５４０９０号公報（００６１〜００７２、図３、図４）
【特許文献４】特開２００５−２７０８７５号公報（００２０〜００３５、図１、図３、図５、図６、図７）
【特許文献５】特開２００２−１１３４１１号公報（００２２〜００３１、図１〜図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上述の事情に基づいてなされたもので、その目的とするところは、滞留・磨耗レスの一方、開閉動作時に容量変化のあるダイヤフラム式等の切換えバルブを塗布膜の高品質化のために使用して、塗布膜形成後に開閉動作を行っても、スリットノズルの先端部を塗布液で汚さず、それによって回転ロール上への予備塗布でスリットノズルの初期化をする時に、事前のスリットノズル先端部の洗浄を不要とすることで、スリットノズル初期化時間の短縮、ひいては塗布工程のタクトタイムを短縮可能とする塗布方法ならびに塗布装置を具現化するとともに、それによる低コストで高品質のカラーフィルターやＴＦＴアレイ基板等の液晶ディスプレイ用部材を製造できる液晶ディスプレイ用部材の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記本発明の目的は、以下に述べる手段によって達成される。
本発明になる塗布方法は、塗布液を吐出するための一方向に延在または配列された吐出口を有する塗布器に、少なくとも下流側に容量変化型バルブを備えた間欠型定容量ポンプから塗布液を供給して、塗布液を回転ロール上に塗布して予備塗布を行った後、塗布器に塗布液を供給しながら塗布器と被塗布部材の間にビードを形成しつつ塗布器と被塗布部材を相対移動させて被塗布部材上に塗布膜を形成する塗布方法において、容量変化型バルブの閉止を下記（１）または（２）の時点で行うことを特徴とする。
（１）相対移動により塗布器が被塗布部材の塗布終了位置に到達して相対移動が停止した後であって塗布器からビードが断ち切られる前の時点
（２）被塗布部材への塗布終了後であって塗布器の吐出口が回転ロールに近接した時点
本発明になる塗布装置は、塗布液を吐出するための一方向に延在または配列された吐出口を有する塗布器と、少なくとも下流側に容量変化型バルブを備えた間欠型定容量ポンプと、該間欠型定容量ポンプから塗布液が前記塗布器に供給されて回転ロール上に塗布液が吐出されて予備塗布行われる予備塗布装置と、予備塗布後に塗布器に塗布液を供給しながら塗布器と被塗布部材の間にビードを形成しつつ塗布器と被塗布部材を相対移動させて被塗布部材上に塗布膜の形成がなされる本塗布装置と、を備えた塗布装置において、容量変化型バルブの閉止が下記（１）または（２）の時点で行われるようにバルブの開閉を制御する制御装置を有することを特徴とする。
（１）相対移動により塗布器が被塗布部材の塗布終了位置に到達して相対移動が停止した後であって塗布器からビードが断ち切られる前の時点
（２）被塗布部材への塗布終了後であって塗布器の吐出口が回転ロールに近接した時点
本発明になる液晶ディスプレイ用部材の製造方法は、請求項１に記載の塗布方法を用いて液晶ディスプレイ用部材を製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明になる塗布方法および塗布装置を用いれば、塗布膜形成後にスリットノズルの吐出口が回転ロールに近接した状態で、間欠型定容量型ポンプ下流側にある容量変化型のバルブの閉止を行うのであるから、容量変化分だけ塗布液がスリットノズルの吐出口より吐出されても、スリットノズルの吐出口面と回転ロールの間に予備塗布の時と同じように液膜が形成され、スリットノズルの斜面には塗布液は付着しないので、そのまま回転ロールへの予備塗布を行うことができ、事前のスリットノズル先端部の洗浄が不要となる。これによって予備塗布による初期化の時間が短縮でき、ひいては塗布工程のタクトタイムが大幅に短縮可能となる。
【０００９】
また、本発明になる塗布方法および塗布装置を用いれば、塗布膜形成後でスリットノズルと被塗布部材の近接状態を維持して保持されているビードを断ち切る前に上記バルブの閉止を行ってもよいので、容量変化分だけ塗布液がスリットノズルの吐出口より吐出されても、スリットノズルの吐出口面と被塗布部材間に形成されているビードにわずかな余剰分が加算されるだけで、スリットノズルの斜面への塗布液のはい上がりはなく、そのまま回転ロールへの予備塗布に移行することができる。これによっても、スリットノズルの予備塗布による初期化が事前のスリットノズル先端部の洗浄なしに行うことができるので、初期化時間の短縮、ひいては塗布工程のタクトタイムの大幅短縮が可能となる。
【００１０】
本発明になる液晶ディスプレイ用部材の製造方法によれば、上記の優れた塗布方法を用いて液晶ディスプレイ用部材製造するのであるから、タクトタイム短縮による生産性向上によって低コストで、高品質の液晶ディスプレイ用部材を製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明の好ましい一実施形態を図面に基づいて説明する。
【００１２】
図１は、本発明に係るスリットコータ１の概略正面図、図２は本発明になる塗布方法を用いた時の予備塗布装置での塗布液挙動を示した概略正面図、図３は本発明になる別の塗布方法を概説した概略正面図、図４はダイヤフラムバルブの構造と動作状況を示した概略正面断面図、図５はボールバルブの構造を示した概略正面図並びに側面断面図である。
【００１３】
まず図１を参照すると、予備塗布装置装置２００を装備した本発明のスリットコータ１が示されている。このスリットコータ１は基台２を備えており、基台２上には、被塗布部材である基板Ａの載置台、すなわちステージ６が配置されている。ステージ６の上面は図示されない吸着孔からなる真空吸着面となっており、基板Ａを吸着保持することができる。基台２上には、さらに一対のガイドレール４が設けられており、このガイドレール４上には、門型ガントリー１０がＸ方向に案内自在に搭載されている。門型ガントリー１０には、上下昇降ユニット７０を介して、スリットノズル２０がステージ６の上方の位置にくるように取り付けられている。門型ガントリー１０は図示しないリニアモータで駆動されるので、これに搭載されているスリットノズル２０は、図１に矢印で示されているＸ方向に自在に往復動することができる。
【００１４】
スリットノズル２０は、Ｘ方向に直交する方向（紙面に垂直な方向）にのびているフロントリップ２２、及びリアリップ２４を、シム３２を介してＸ方向に重ね合わせ、図示しない複数の締結ボルトにより一体的に結合されている。スリットノズル２０内の中央部にはマニホールド２６が形成されており、このマニホールド２６もスリットノズル２０の長手方向（Ｘ方向に直交する方向）にのびている。マニホールド２６の下方には、スリット２８が連通して形成されている。このスリット２８もスリットノズル２０の長手方向にのびており、その下端がダイ２０の最下端面である吐出口面３６で開口して、吐出口３４を形成する。なおスリット２８はシム３２によって形成されるので、スリットの間隙（Ｘ方向に測定）は、シム３２の厚さと等しくなる。吐出口面３６の両隣には、斜め上方に切り上がっている斜面３８が設けられている。
【００１５】
このスリットノズル２０を昇降させる上下昇降装置ユニット７０は、スリットノズを吊り下げる形で保持する吊り下げ保持台８０、吊り下げ保持台８０を昇降させる昇降台７８、昇降台７８を上下方向に案内するガイド７４、モータ７２の回転運動を昇降台７８の直線運動に変換するボールねじ７６より構成されている。上下昇降ユニット７０はスリットノズ２０の長手方向の両端部を支持するよう左右１対あって、各々が独立に昇降できるので、ダイ２０長手方向の水平に対する傾き角度を任意に設定することができる。これによってダイ２０の吐出口面３６と基板Ａを、ダイ２０の長手方向にわたって略並行にすることができる。さらに、この上下昇降ユニット７０によって、ステージ６上の基板Ａとスリットノズ２０の吐出口面３６の間にすきま、すわなち、クリアランスを、任意の大きさに設けることができる。
【００１６】
さらに図１で基台２の左側端部を見ると、予備塗布装置２００が基台２上に取り付けられている。スリットノズル２０は、門型ガントリー１０の移動によって、予備塗布装置２００の回転ロール２０２の中心線の上方（破線で示す位置）まで移動し、回転ロール２０２に塗布液の予備塗布を行う。
【００１７】
予備塗布装置２００のフレーム２３６内にある回転ロール２０２は矢印で示す時計方向に回転し、予備塗布位置Ｄに近い方から回転方向に、すなわち回転方向の上流側から順に、洗浄液２２０を回転ロール２０２の長手方向にわたって吐出する洗浄液吐出ノズル２０４、予備塗布された塗布液と洗浄液や汚れをかきとるブレード２０６、窒素ガス等の気体を噴出して残存した洗浄液を除去・乾燥させるガスノズル２０８、が配置されている。洗浄液吐出ノズル２０４には洗浄液源２２４から、洗浄液配管２２６、洗浄液切換バルブ２２８を介して洗浄液が供給され、所定量の洗浄液２２０がスリットノズル２０の吐出口３６の長手方向長さよりもわずかに長い洗浄幅にわたって、回転ロール２０２上に吐出される。洗浄液２２０の吐出と吐出停止は洗浄液切換バルブ２２８の開閉動作によって行う。ブレード２０６はブラケット２１０に固定されており、ブラケット２１０は図示しない保持部に回転自在に取り付けられている。ブラケット２１０を図１の矢印方向に回転させると、ブレード２０６の回転ロール２０２への押しつけ力が高まり、液体のかき取り能力が向上する。ブレード２０６の材質は、耐薬品性、強度を考慮してステンレス等の金属や、ＰＥＴ等の合成樹脂が好ましい。ガスノズル２０８にはガス供給源２３０から、ガス配管２３２、ガス切換バルブ２３４を介してガスが供給され、所定量のガスが上記の洗浄幅にわたって、回転ロール２０２に向かって吐出される。ガスの吐出と吐出停止はガス切換バルブ２３４を動作させて行う。
【００１８】
回転ロール２０２上にスリットノズル２０から予備塗布された塗布液と、洗浄液吐出ノズル２０４より吐出される洗浄液２２０は、ブレード２０６によるかきとりや、ガスノズル２０６による吹き飛ばし等により、回転ロール２０２から離れて、トレイ２１２に向かって落下する。トレイ２１２に落下した塗布液や洗浄液２２０は、トレイ２１２に設けられた排出穴２１４から配管２１６を介して図示されない液回収装置に回収される。またガスノズル２０８より吐出されたガスは、回転ロール２０２に衝突後、ガスノズル２０８近くに配置されているガス吸引口２１８から、吸引配管２２２を介して図示されていないガス回収装置に回収される。スリットノズル２０で回転ロール２０２上に予備塗布された塗布液は、洗浄液吐出ノズル２０４から吐出される洗浄液２２０で薄められると共に押し流されて、ブレード２０６でかき取られ、ブレード２０６でかき取られなかったわずかな塗布液と洗浄液の混合液体が、最後にガスノズル２０８で除去・乾燥される。したがって回転ロール２０２上には、ガスノズル２０８の位置を通過すると何も残されておらず、常に同じ何もない状態で予備塗布を続けて行うことが可能となる。
【００１９】
再び図１のスリットノズル２０を見ると、スリットノズル２０のマニホールド２６の上流側は、塗布液供給装置４０に連なる供給ホース６０に、内部通路（図示しない）を介して常時接続されており、これにより、マニホールド２６へは塗布液供給装置４０から塗布液を供給することができる。マニホールド２６に入った塗布液はダイ２０の長手方向に均等に拡幅されて、スリット２８を経て、吐出口３４から吐出される。
【００２０】
なお、塗布液供給装置４０は、供給ホース６０の上流側に、フィルター４６、供給バルブ４２、シリンジポンプ５０、吸引バルブ４４、吸引ホース６２、タンク６４を備えている。タンク６４には塗布液６６が蓄えられており、圧空源６８に連結されて任意の大きさの背圧を塗布液６６に付加することができる。なお、供給バルブ４２、吸引バルブ４４には、摩耗や滞留のない図４に示すダイヤフラムタイプのバルブを使用している。ダイヤフラムタイプのバルブは、開閉動作を行うと内部の容量が変化する容量変化型のバルブである。タンク６４内の塗布液６６は、吸引ホース６２を通じてシリンジポンプ５０に供給される。シリンジポンプ５０では、シリンジ５２、ピストン５４が本体５６に取り付けられている。ここでピストン５４は図示しない駆動源によって上下方向に自在に往復動できる。シリンジポンプ５０は、一定の内径を有するシリンジ５２内に塗布液を充填し、それをピストン５４により押し出して、ダイ２０に基板Ａを一枚塗布する分だけ供給する定容量型のポンプである。シリンジ５２内に塗布液６６を充填するときは、吸引バルブ４４を開、供給バルブ４２を閉として、ピストン５４を下方に移動させる。またシリンジ５２内に充填された塗布液をダイ２０に向かって供給するときは、吸引バルブ４４を閉、供給バルブ４２を開とし、ピストン５４を上方に移動させることで、ピストン５４でシリンジ５２内部の塗布液を押し上げて排出する。
【００２１】
なお制御信号にて動作するリニアモータ、モータ７２、塗布液供給装置４０、予備塗布装置２００等はすべて制御装置１００に電気的に接続されている。そして、制御装置１００に組み込まれた自動運転プログラムにしたがって制御指令信号が各機器に送信されて、あらかじめ定められた動作を行う。なお条件変更時は操作盤１０２に適宜変更パラメータを入力すれば、それが制御装置１３０に伝達されて、運転動作の変更が実現できる。特に塗布液供給装置４０や予備塗布装置２００では、シリンジポンプ５０、供給バルブ４２、吸引バルブ４４、洗浄液切換バルブ２２８、ガス切換バルブ２３４、回転ロール２０２等が、制御装置１００に電気的に接続されており、制御装置１００にその電気的信号をとりこんだり、制御装置１００からの指令により、任意の動作をさせることができる。
【００２２】
次に本発明のスリットコータ１を用いた塗布方法である塗布方法１について詳述する。      
【００２３】
まずスリットコータ１の各動作部の原点復帰が行われると、門型ガントリー１０は図１の左部にある予備塗布装置２００の回転ロール２０２上部のスタンバイ位置（破線で示す位置）にスリットノズル２０を移動させる。ここで、タンク６４〜スリットノズル２０まで塗布液６６はすでに充満されており、タンク６４以降のスリットノズル２０までの残留エアーを排出する作業も既に終了している。この時の塗布液供給装置４０の状態は、シリンジ５２に塗布液６６が充填、吸引バルブ４４は閉、供給バルブ４２は開、そしてピストン５４は最下端の位置にあり、いつでも塗布液６６をスリットノズル２０に供給できるようになっている。さらに予備塗布装置２００についても準備動作として、洗浄液源２２４〜洗浄液吐出ノズル２０４に洗浄液が充填されてエアー抜きも十分行われ、一方ガス供給源２３０から閉となっているガス切換バルブ２３４までもガスが充填されており、いつでも洗浄液吐出ノズル２０４、ガスノズル２０８より、洗浄液２２０、ガスを吐出できる状態にある。ここで、洗浄液切換バルブ２２８もガス切換バルブ２３４と同じように閉となっている。さらにブレード２０６もブラケット２１０の回転により、回転ロール２０２に適切な力で押しつけられている。
【００２４】
次に、ステージ６の表面には図示しないリフトピンが上昇し、図示しないローダから基板Ａがリフトピン上部に載置される。そしてリフトピンを下降させて基板Ａをテーブル６上面に載置し、同時に吸着保持する。
【００２５】
これと並行して、上下昇降ユニット７０を駆動してスリットノズル２０を下降させ、回転ロール２０２の中心線上でその上面とスリットノズル２０の吐出口面３６の間のクリアランスが所定値になる位置で停止させる。
【００２６】
続いて、回転ロール２０２の回転を開始後に、洗浄液切換バルブ２２８、ガス切換バルブ２３４をそれぞれ開として、洗浄液、ガスを洗浄液吐出ノズル２０４、ガスノズル２０８より所定条件にて吐出する。回転ロール２０２の洗浄が行われて常に同じ状態にて予備塗布が行える状況になってから、塗布液供給装置４０を稼働させて所定量の塗布液６６を吐出して、回転ロール２０２上に予備塗布を実施し、一定厚さの塗布膜を形成後、スリットノズル２０を上昇させて吐出口面３６と回転ロール２０２間に形成されたビードＢを断ち切って、スリットノズル２０の初期化を完了させる。それから洗浄液切換バルブ２２８、ガス切換バルブ２３４をそれぞれ閉として、洗浄液吐出ノズル２０４、ガスノズル２０８からそれぞれ洗浄液、ガスを吐出するのを停止し、トレイ２１２に落下した塗布液と洗浄液や、ガスを排出穴２１４、ガス吸引口２１８を通じて回収する。
【００２７】
前記のスリットノズル２０の上昇が完了した時点で、門型ガントリー１０を右側方向に移動させ、スリットノズル２０を基板Ａの塗布開始部の真上の位置で停止させる。これらの動作の間、図示しない厚さセンサーによって基板Ａの厚さが測定される。上下昇降ユニット７０を駆動してスリットノズル２０を下降させ、測定した基板Ａの厚さデータを用いて、スリットノズル２０の吐出口面３６を基板Ａからあらかじめ与えたクリアランス分離れた位置まで近接させて停止させる。続いて、シリンジポンプ５０のピストン５４を所定速度で上昇させ、スリットノズル２０から塗布液６６を吐出して吐出口面３６と基板Ａの塗布開始部との間に液だまりであるビードＢを形成してから、門型ガントリー１０を所定速度でＸ方向に移動開始し、塗布液６６の基板Ａへの塗布を始めて、塗布膜Ｃを形成する。基板Ａの塗布終了位置がスリットノズル２０の吐出口３４の位置にきたらピストン５４を停止させて塗布液６６の供給を停止し、つづいて上下昇降ユニット７０を駆動して、スリットノズル２０を上昇させる。これによって基板Ａとスリットノズル２０の間に形成されたビードＢが断ち切られ、塗布が終了する。塗布終了後も門型ガントリー１０は動きつづけ、終点位置にきたら一旦停止し、今度は原点位置に向かって逆方向に門型ガントリー１０を移動させ、スリットノズル２０の吐出口３４が回転ロール２０２の中心線の上方に来たら、門型ガントリー１０の移動を停止させるとともに、基板Ａの吸着を解除し、リフトピンを上昇させて基板Ａを持ち上げる。この時図示されないアンローダによって基板Ａの下面が保持され、次の工程に基板Ａを搬送する。
【００２８】
門型ガントリー１０が停止した時に、上下昇降ユニット７０を駆動してスリットノズル２０を下降させ、スリットノズル２０の吐出口３４を回転ロール２０２に近接させる。ここでいう近接とは、スリットノズル２０の吐出口面３６と回転ロール２０２との間のすきまであるクリアランスを、好ましくは２０〜１５０μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍにすることである。このような近接状態にすると、スリットノズル２０の吐出口３４から塗布液が吐出されても、スリットノズル２０の吐出口面３６と回転ロール２０２の間に塗布液のビード、すなわち液膜を形成することができる。この状態で、塗布液供給装置４０の供給バルブ４２をまず閉とし、つづいて吸引バルブ４４は開としてから、ピストン５４を一定速度で下降させ、タンク６４の塗布液６６をシリンジ５２に充填する。ここでいうバルブの閉とは、バルブを閉止するということである。充填完了後、ピストン５４を停止させ、吸引バルブ４４を閉にしてから、供給バルブ４２を開とする。つづいて上下昇降ユニット７０を駆動してスリットノズル２０の吐出口面３６と回転ロール２０２の間のクリアランスを予備塗布の時の値にしてから、次の基板Ａが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。
【００２９】
以上の塗布方法で、基板Ａへの塗布終了後、図２（ａ）のようにスリットノズル２０の吐出口３４を含む面である吐出口面３６を回転ロール２０２に所定のクリアランスだけ近接させてから間欠型定容量ポンプであるシリンジポンプ５０の下流側にある容量変化型のバルブである供給バルブ４２を開から閉に切り換えたので、供給バルブ４２の閉動作による容量変化で供給バルブ４２からスリットノズル２０へ極少量の塗布液が供給されて、それが吐出口３４から吐出されても、塗布液が吐出口面３６と回転ロール２０２の間にビードＢを形成して、その結果スリットノズル２０の斜面３８に塗布液が付着することはない。斜面３８に付着する塗布液がないので、斜面３８や吐出口面３６の洗浄は毎回の塗布ごとに行う必要がなくなり、適切な周期、たとえば１０〜５０枚塗布おきに行えばよい。なお斜面３８や吐出口面３６の洗浄方法としては、洗浄液や気体を吹き付けて行うものでもよいし、布その他の部材による拭取りであってもよい。上記で、供給バルブ４２を開→閉に切り換える時の吐出口面３６と回転ロール２０２との間のクリアランスを、好ましくは２０〜１５０μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍとしたが、この範囲よりも大きいと、供給バルブ４２を閉にして塗布液が吐出口３４から吐出されるときに、クリアランスが大きすぎて吐出口面３６と回転ロール２０２の間に塗布液のビードを形成できず、図２（ｂ）のように塗布液が吐出口面３６はもちろんのこと、斜面３８にまではい上がって付着するという不都合が生じる。図２（ｂ）のような状態になると、別に斜面３８の洗浄が必要となり、よけいにタクトタイムがかかり、生産性が低下する。一方クリアランスが上記の範囲より小さいと、スリットノズルと回転ロール２０２が衝突する可能性が高くなって、好ましくない。
【００３０】
なお、スリットノズル２０と回転ロール２０２を近接させてから供給バルブ４２を開→閉に切り換える時に、回転ロール２０２は停止していてもよいし、回転していてもよい。ただし回転させるときは、回転ロール２０２の周速度は予備塗布の時よりも遅い方が好ましい。これはバルブ切換による塗布液の吐出がごくわずかであるので、回転ロール２０２の周速度が早いとビードが形成しにくいためである。
【００３１】
また、本発明になる塗布方法は、以下の塗布方法２も含む。この塗布方法２は、基板Ａへスリットノズル２０で塗布して塗布膜Ｃを形成するところまでは、上記した塗布方法１と全く同じである。次にスリットノズル２０の吐出口３４が基板Ａの塗布終了位置前の所定位置に近づいたら、シリンジポンプ５０のピストン５４の減速と門型ガントリー１０の減速を開始し、塗布終了位置に到達したら、図３（ａ）に示されるように門型ガントリー１０、ピストン５４、とも停止した状態になるようにする。この状態では、図３（ａ）からわかるように、ビードＢがスリットノズル２０と基板Ａとの間にまだ形成されている。そしてこのビードＢが断ち切られる前の時点で、容量変化型のバルブである供給バルブ４２をまず閉、すなわち閉止にし、つづいて吸引バルブ４４は開とする。供給バルブ４２の閉動作による容量変化で、供給バルブ４２からスリットノズル２０へ極少量の塗布液が供給されて、それが吐出口３４から吐出されるが、すでに吐出口面３６と回転ロール２０２の間にビードＢが形成されているので、吐出口３４より吐出された塗布液はビードＢの大きさをわずかに大きくするだけで、スリットノズル２０の斜面３８に塗布液が付着することはない。吸引バルブ４４の開動作が完了した時点で、スリットノズル２０と基板Ａとの間のクリアランスを塗布の時の値を保ったまま、すなわちスリットノズル２０の上下方向の位置をそのままにして門型ガントリー１０を右側に移動させて、図３（ｂ）に示すようにビードＢを断ち切る。スリットノズル２０の吐出口面３６と基板Ａとの間にあるビードを断ち切るだけなので、スリットノズル２０の斜面３８には塗布液が付着せず、吐出口面３６にも塗布液の種類によっては、ほとんど塗布液が付着させないことも可能となる。一方基板Ａの方には塗布膜が形成され、塗布を終了する位置によっては、基板Ａの内側に塗布膜が残される。ビードＢを断ち切った後も移動している門型カントリー１０は、終点位置に来たら一旦停止し、今度は原点位置に向かって逆方向に移動を行わせる。なお、シリンジポンプ４０については、塗布終了後に吸引バルブ４４の開動作が完了した時点でピストン５４を一定速度で下降させ、タンク６４の塗布液６６をシリンジ５２に充填する。充填完了後、ピストン５４を停止させ、吸引バルブ４４を閉にしてから、供給バルブ４２を開とする。この時に供給バルブを開とするとバルブ内の内容量が減少する方に変化するので、スリットノズル２０の吐出口から吸引が行われるが、ごくわずかにエアーが吐出口から入り込むだけで、吐出口面３６や斜面３８を塗布液を付着させることはない。ところでシリンジ５２への塗布液の充填と並行して原点位置へ移動している門型ガントリー１０が原点位置、すなわちスリットノズル２０の吐出口が回転ロール２０２の中心線上にある位置、に達したら、門型ガントリー１０の移動を停止させるとともに、基板Ａの吸着を解除し、リフトピンを上昇させて基板Ａを持ち上げる。この時図示されないアンローダによって基板Ａの下面が保持され、次の工程に基板Ａを搬送する。
【００３２】
一方門型ガントリー１０が停止した時に、上下昇降ユニット７０を駆動してスリットノズル２０を下降させ、スリットノズル２０の吐出口面３６と回転ロール２０２の間のクリアランスを予備塗布の時の値にしてから、次の基板Ａが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。
【００３３】
本発明の塗布方法で、塗布方法１では、塗布終了後に門型ガントリー１０が原点位置に戻ってから供給バルブ４２と吸引バルブ４４の開閉動作を行ってからシリンジ５２への塗布液の充填動作を直列的に行っているのに対し、塗布方法２では、塗布終了直後に供給バルブ４２と吸引バルブ４４の開閉動作を行っているので、門型ガントリー１０の原点位置への移動とシリンジ５２への塗布液の充填が同時並行的に行えるので、より塗布のタクトタイムを短くでき、生産性の向上を図ることができる。なお、塗布方法２で、塗布終了位置で供給バルブ４２と吸引バルブ４４の開閉動作後、スリットノズル２０と基板間のクリアランスを塗布の時と同じのまま、スリットノズル２０を移動開始してビードを断ち切っている。これによってビードＢの切断がスムーズに行われるので、ビードＢの一部がスリットノズル２０の斜面３８に付着することや、塗布終了位置での塗布膜の厚さ形状の変化がなく、好ましいビード切断方法といえる。これ以外に、上記のクリアランスを大きくしてからスリットノズル２０をＸ方向に移動させたり、スリットノズル２０を上昇させながら、すなわち上記クリアランスを大きくしながらスリットノズル２０をＸ方向に移動させたりしてビードＢを切断し、塗布を終了してもよい。ビードＢの切断方法すなわち塗布終了方法によらず、塗布を終了してスリットノズル２０と基板Ａが離れてから供給バルブ４２を開→閉にすると、図３（ｃ）に示すようにスリットノズル２０の吐出口３４から吐出された塗布液が斜面３８に付着してしまうので、供給バルブ４２を開→閉にするのは、必ずスリットノズル２０と基板Ａが近接しているときに行うことが好ましい。
【００３４】
以上の塗布方法２をそのまま実施すれば、何枚塗布を行っても斜面３８に塗布液が付着することはなく、毎回塗布を行うごとの洗浄が不要となる。それによって、洗浄時間を削除できる分タクトタイムが短くなって、生産性を向上させることができる。揮発性の高い溶剤を使用した塗布液の場合は、吐出口付近が乾燥により塗布液の乾燥膜が形成されるので、１０〜５０枚ごとに溶剤を使用した洗浄を吐出口周辺の吐出口面３６や斜面３８に対して行うことが好ましい。
【００３５】
以上説明した本発明が適用できる塗布液としては粘度が１〜１００mPaS、より望ましくは１〜５０mPaSであり、ニュートニアンであることが塗布性から好ましいが、チキソ性を有する塗液にも適用できる。とりわけ溶剤に揮発性の高いもの、たとえばＰＧＭＥＡ、酢酸ブチル、乳酸エチル等を使用している塗布液を塗布するときに有効である。具体的に適用できる塗布液の例としては、上記にあげたカラーフィルター用のブラックマトリックス、ＲＧＢ色画素形成用塗布液の他、レジスト液、オーバーコート材、柱形成材料、ＴＦＴアレイ基板用のポジレジスト等がある。基板である被塗布部材としてはガラスの他にアルミ等の金属板、セラミック板、シリコンウェハー等を用いてもよい。さらに使用する塗布状態と塗布速度が０．１ｍ／分〜１０ｍ／分、より好ましくは０．５ｍ／分〜６ｍ／分、スリットノズル２０のスリット間隙は５０〜１０００μｍ、より好ましくは８０〜２００μｍ、塗布厚さがウェット状態で１〜５０μｍ、より好ましくは２〜２０μｍである。
【００３６】
また予備塗布時の回転ロール２０２の回転周速度は、好ましくは０．５〜１０ｍ／分、より好ましくは１〜６ｍ／分である。この範囲より遅いと予備塗布の時間がかかりすぎてタクトタイムに影響し、早いと膜切れが生じて塗布ができない。予備塗布時の回転ロール２０２への塗布厚さは、本塗布時の基板Ａへの塗布厚さと略同一にするのが好ましい。
【００３７】
洗浄液は、塗布液の固化物を溶解させる必要があることから、塗布液の構成溶剤が好ましいが、その他塗布液の固化物を溶解させるものであれば、構成溶剤以外の有機溶剤やアルカリ液でもあってもよい。洗浄液吐出ノズル２０４から吐出される吐出量は、１ｍあたり０．５〜５cc／ｓが好ましい。この範囲より小さいと洗浄能力が低く、大きいと使用洗浄液量が多くなって製造コスト中での負担が大きくなる。ガスノズル２０８から吐出するガスについては、液体を吹き飛ばす気体ならいかなるものでも使用できるが、爆発の心配がないことから、窒素ガス等の不活性ガスが好ましく、コストや簡便さからクリーン化処理された空気であってもよい。
ガスノズル２１２から吐出される窒素ガス、エアー等のガスの吐出量は、吐出口の平均風速で表して、好ましくは５〜１００ｍ／ｓ、より好ましくは２０〜５０ｍ／ｓである。この範囲よりも遅いと、除去・乾燥能力が不足し、この範囲よりも早いと、エネルギーコストが増大して望ましくない。
【実施例】
【００３８】
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
３６０×４６５ｍｍで厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を洗浄装置に投入した。ウェット洗浄によって基板上のパーティクルを除去後、スリットコータ１でブラックマトリックス材を、スリットノズルからの吐出速度０．１８cc／ｓ、塗布速度３ｍ／分、スリットノズルと基板間のクリアランスは１００μｍで、タクトタイム３０秒で基板全面に塗布した。ブラックマトリックス材には、遮光材にカーボンブラック、バインダーにアクリル樹脂、溶剤にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を使用し、さらに感光剤を添加して、固形分濃度１５％、粘度４mPasに調整したペーストを用いた。この時のスリットノズルは吐出口の間隙が１００μｍで、長さが３６０ｍｍ、吐出口面３６の幅が１ｍｍ、吐出口面３６と斜面３８のなす角度が４５度のものを使用した。塗布前には毎回必ず予備塗布装置２００でスリットノズル２０の予備塗布を行って、スリットノズル２０の初期化を行った。なお塗液供給装置４０で、吸引バルブ４４、供給バルブ４２ともにダイヤフラムバルブを用いた。また予備塗布装置２００で、回転ロール２０２には直径２００ｍｍ、長さ４５０ｍｍで表面に０．５ｍｍ厚のセラミックスコーティングが施工されたもの、洗浄液吐出ノズル２０４には、直径０．４ｍｍの吐出口がピッチ５ｍｍで３１０ｍｍの長さに渡って一直線上に配置されたもの、１ブレード２０６にはＳＵＳ４２０製の厚さ０．３ｍｍで長さ４００ｍｍのもの、ガスノズル２０８には直径０．５ｍｍの吐出口がピッチ５ｍｍで３７０ｍｍの長さに渡って一直線上に配置されたもの、を用いた。洗浄液にはＰＧＭＥＡを用い、ガスノズル２１２から吐出するガスは窒素ガスを用いた。予備塗布を行う時の回転ロール２０２の周速度は５０ｍｍ／ｓ、スリットノズル２０からの塗布液であるブラックマトリックス材の吐出速度は０．１８cc／ｓ、スリットノズル２０の吐出口面３６と回転ロール２０２との間のクリアランスは８０μｍ、予備塗布中の塗布液吐出量は１．８ccであり、この塗布液吐出量を吐出完了した時点でスリットノズル２０を上昇させて初期化を行った。予備塗布で回転ロール２上に１０μｍの厚さで塗布された塗布液を除去するために、洗浄液を洗浄液吐出ノズル２０４から吐出流量１．５cc／ｓで、窒素ガスをガスノズル２０８の各吐出口から流速５０ｍ／ｓで吐出した。なお、洗浄液吐出ノズル２０４と回転ロール２０２との間の最短距離であるすきまは２ｍｍであり、洗浄液が回転ロール２０２と接触する位置での回転ロール２０２の法線を基準に回転ロール２０２の回転方向の下流向きに２０度傾けて洗浄液を洗浄液吐出ノズル２０４から吐出した。また、ガスノズル２０８と回転ロール２０２との間の最短距離であるすきまは２ｍｍであり、窒素ガスが回転ロール２０２と接触する位置での回転ロール２０２の法線を基準に回転ロール２０２の回転方向の上向きに２０度傾けてガスノズル２０８から吐出した。この条件で塗布液であるブラックマトリックス液と洗浄液は除去でき、ガスノズル２０８の下流側には何も残存しなかった。そのため以降の基板に塗布する前のどの予備塗布でも同じ状態でスリットノズル２０を初期化することができた。また本ブラックマトリックス塗布工程��は本発明の第１の塗布方法を使用し、基板への塗布が終了するごとに、すぐにスリットノズル２０を回転ロール２０２上に復帰させ、スリットノズルと静止している回転ロール２０２との間のクリアランスを４０μｍにしてから供給バルブ４２と吸引バルブ４４の開閉動作をして、シリンジポンプ５０の吸引動作を行わせた。この時供給バルブ４２を開→閉にしたときに吐出口３４から塗布液であるブラックマトリックス液が吐出されたが、吐出口面３６と静止している回転ロール２０２との間にビードが形成されるだけで、塗布液がスリットノズル２０の斜面３８に付着することはなかった。従来の塗布装置では必ずスリットノズル２０の斜面に塗布液が付着するので、ほぼ毎回の塗布終了後にスリットノズル２０の吐出口面３６や斜面３８の洗浄が必要であったが、本発明のスリットコータ１では全くそのような洗浄は不要であった。
【００３９】
以上のブラックマトリックス塗布工程で塗布された基板を、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行った後、２６０℃のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行い、基板の幅方向にピッチが２５４μｍ、基板の長手方向にピッチが８５μｍ、線幅が２０μｍ、ＲＧＢ画素数が４８００（基板長手方向）×１２００（基板幅方向）、対角の長さが２０インチ（基板幅方向に３０５ｍｍ、基板長手方向に４０６ｍｍ）となる格子形状で、厚さが１μｍとなるブラックマトリックス膜を作成した。
【００４０】
次にウェット洗浄後、Ｒ色用塗布液をスリットノズル２０からの吐出速度０．３６cc／ｓ、ダイと基板との間のクリアランス１００μｍ、門型ガントリー移動速度３ｍ／分にてタクトタイム２７秒で塗布した。Ｒ色用塗布液はアクリル樹脂をバインダー、ＰＧＭＥＡを溶媒、ピグメントレッド１７７を顔料にして固形分濃度１２％で混合し、さらに粘度を５mPaSに調整した感光性のものであった。塗布した基板は、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、９０℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行って、Ｒ画素部にのみ厚さ２μｍのＲ色塗膜を残し、２６０℃のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。つづいてブラックマトリックス、Ｒ色の塗膜を形成した基板に、Ｇ色用塗布液をスリットノズルからの吐出速度０．３４cc／ｓ、ダイと基板との間のクリアランス１００μｍ、門型ガントリー移動速度３ｍ／分にてタクトタイム２７秒で塗布後、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。
【００４１】
ついで露光・現像・剥離を行って、Ｇ色画素部にのみ厚さ２μｍのＧ色塗膜を残し、２６０度のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。さらにブラックマトリックス、Ｒ色、Ｇ色の塗膜を形成した基板に、Ｂ色用塗布液をスリットノズルからの吐出速度０．３３cc／ｓ、ダイと基板との間のクリアランス１００μｍ、門型ガントリー移動速度３ｍ／分にてタクトタイム２７秒で塗布し、３０秒で６５Ｐａに到達する真空乾燥を６０秒行ってから、１００℃のホットプレートで１０分間さらに乾燥した。ついで露光・現像・剥離を行って、Ｂ色画素部にのみ厚さ２μｍのＢ色塗膜を残し、２６０℃のホットプレートで３０分加熱して、キュアを行なった。なお、Ｇ色用塗布液はＲ色用塗布液で顔料をピグメントグリーン３６にして固形分濃度１４％で粘度を３mPaSに調整したもの、Ｂ色用塗布液にはＲ色用塗布液で顔料をピグメントブルー１５にして固形分濃度１５％で粘度を４mPaSに調整したものであった。Ｒ、Ｇ、Ｂ色塗布液の塗布はいずれも、ブラックマトリックス塗布工程と同じ形状のスリットノズルと予備塗布装置、塗布液供給装置を用い、特に予備塗布装置についてはブラックマトリックスと同じ条件で予備塗布と塗布液、洗浄液の除去・乾燥を行って、スリットノズルの初期化を行った。また、Ｒ、Ｇ、Ｂ色塗布工程とも本発明の第２の塗布方法を用いたので、塗布終了位置を基板端部から２ｍｍ手前の位置にし、そこでスリットノズル２０を停止させ、シリンジポンプ５０からの塗布液供給終了後に、供給バルブ４２と吸引バルブ４４の開閉動作を行い、それからスリットノズル２０と基板との間のクリアランスを１００μｍに保ったままスリットノズル２０を終了位置まで３ｍ／分で移動させてスリットノズル２０と基板間のビードを断ち切った。それからシリンジポンプ５０の塗布液の吸引とスリットノズル２０の原点位置への復帰を同時開始した。以上の動作により、供給バルブを開→閉にしてもスリットノズル２０の斜面３８に塗布液が付着することはなく、従来の塗布装置ではほぼ毎回の塗布終了後に必要であったスリットノズル２０の吐出口３４部周辺の洗浄は全く不要であった。  Ｒ、Ｇ、Ｂ色塗布工程では、以上のスリットノズル２０の原点復帰動作とシリンジポンプ４０の塗布液充填作業が並行して行えたので、タクトタイムをブラックマトリックス工程よりも３秒短縮できた。
【００４２】
以上ブラックマトリックスにＲＧＢ色を着色したものに、柱材とオーバーコート材を塗布後、最後にＩＴＯをスパッタリングで付着させた。この製造方法にて、１０００枚のカラーフィルターを作成した。得られたカラーフィルターは、塗布むらがなく、色度も基板全面にわたって均一で、品質的に申し分ないものであった。
【００４３】
さらに、このカラーフィルターをＴＦＴアレイを形成した基板と重ね合わせ、オーブン中で加圧しながら１６０℃で９０分間加熱して、シール剤を硬化させた。このセルに液晶注入を行った後、紫外線硬化樹脂により液晶注入口を封口した。次に、偏光板をセルの２枚のガラス基板の外側に貼り付け、さらに、得られたセルをモジュール化して、液晶表示装置を完成させた。得られた液晶表示装置は混色がなく、色度も基板全面に渡って、均一で品質的に申し分ないものであった。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係るスリットコータ１の概略正面図である。
【図２】本発明になる塗布方法を用いた時の予備塗布装置での塗布液挙動を示した概略正面図である。
【図３】本発明になる別の塗布方法を概説した概略正面図である。
【図４】ダイヤフラムバルブの構造と動作状況を示した概略正面断面図である。
【図５】ボールバルブの構造を示した概略正図面並びに側面断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  スリットコータ
２  基台
４  ガイドレール
６  ステージ
１０  門型ガントリー
２０  スリットノズル（塗布器）
２２  フロントリップ
２４  リアリップ
２６  マニホールド
２８  スリット
３２  シム
３４  吐出口
３６  吐出口面
３８  斜面
４０  塗布液供給装置
４２  供給バルブ
４４  吸引バルブ
４６  フィルター
５０  シリンジポンプ
５２  シリンジ
５４  ピストン
５６  本体    
６０  供給ホース
６２  吸引ホース
６４  タンク
６６  塗布液
６８  圧空源             
７０  上下昇降ユニット
７２  モータ
７４  ガイド
７６  ボールネジ
７８  昇降台
８０  吊り下げ保持台
９０  拭き取りユニット
９２  拭き取りヘッド
９４  ブラケット
９６  スライダー
９８  駆動ユニット
１００  制御装置
１０２  操作盤
２００  予備塗布装置
２０２  回転ロール
２０４  洗浄液吐出ノズル
２０６  ブレード
２０８  ガスノズル
２１０  ブラケット
２１２  トレイ
２１４  排出穴
２１６  配管
２１８  ガス吸引口
２２０  洗浄液
２２２  吸引配管
２２４  洗浄液源
２２６  洗浄液配管
２２８  洗浄液切換バルブ
２３０  ガス供給源
２３２  ガス配管
２３４  ガス切換バルブ
２３６  フレーム
３００  ダイヤフラムバルブ
３０２  ダイヤフラム
３０４  バー
３０６  出口流路
３０８  入口流路
３１０  シール部
３１２  本体
３１４  マニホールド
４００  ボールバルブ
４０２  貫通流路
４０４  インナー
４０６  本体
４０８Ａ、Ｂ  シール材
４１０  ステム
４１２  入口流路
４１４  出口流路
Ａ  基板（被塗布部材）
Ｂ  ビード
Ｃ  塗布膜
Ｄ  予備塗布位置
【図１】
2007260485.tif 000003
【図２】
2007260485.tif 000004
【図３】
2007260485.tif 000005
【図４】
2007260485.tif 000006
【図５】
2007260485.tif 000007