(57)【要約】【課題】  長期にわたって安定した記録・再生特性を維持し得る光記録媒体を提供すること。【解決手段】  好適な実施形態に係る光記録媒体１０は、基板２上に、金属層３、金属酸化物層４、記録層５、光入射層６及び保護層８がこの順に設けられた構成を有している。金属酸化物層４は、好適な場合、金属層３の表面を酸化することにより形成された層である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層を備える光記録媒体であって、
前記記録層の少なくとも一面側に、金属層と、該金属層の表面上に設けられた金属酸化物層と、を有する、
ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記記録層は、色素を含む層である、ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記金属酸化物層は、前記金属層の前記記録層側に少なくとも設けられている、ことを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記金属酸化物層は、前記金属層の両側に設けられている、ことを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記金属酸化物層は、前記金属層の表面を酸化して形成された層である、ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項６】
記録層と、前記記録層の少なくとも一面側に設けられた、金属層及びその表面上に設けられた金属酸化物層を含む反射層と、を備える光記録媒体の製造方法であって、
前記反射層を、前記金属層の表面を酸化して前記金属酸化物層を生じさせることにより形成する、
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＤＶＤ等の光記録媒体においては、適度な反射率を得る等の目的で、記録層の記録再生光が入射する側の反対側の面上に、反射層が設けられている。この反射層としては、一般に、スパッタリング等の蒸着によって形成された金属薄膜が用いられている（例えば、特許文献１〜４）。
【特許文献１】国際公開第２００２／２１５２４号パンフレット
【特許文献２】特開２００５−１００６０４号公報
【特許文献３】特開２００４−２０６８８２号公報
【特許文献４】特開２００５−１９０６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述した金属薄膜からなる反射層は、大気中の酸素や湿気等によって酸化等を生じて劣化され易い傾向にあった。そのため、かかる反射層を備える光記録媒体は、反射層が経時的に劣化して反射むらが生じたり、反射率等が好適範囲から外れたりする場合があり、長期間安定した記録・再生特性を維持するのが困難な傾向にあった。
【０００４】
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、長期にわたって安定した記録・再生特性を維持し得る光記録媒体、及び、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するため、本発明の光記録媒体は、記録層を備える光記録媒体であって、記録層の少なくとも一面側に、金属層と、この金属層の表面上に設けられた金属酸化物層とを有することを特徴とする。かかる光記録媒体における記録層は、色素を含有する層であると好ましい。
【０００６】
本発明の光記録媒体は、反射層として機能する層として、金属層及びこの金属層の表面上に設けられた金属酸化物層を備えている。この金属酸化物層は、金属のみからなる薄膜と比べて大気中の酸素や湿気等に対して安定である。そして、金属層は、その少なくとも片面がこの安定な金属酸化物層によって覆われていることから、単独で形成されているよりも酸素や湿気等による劣化が生じ難くなっている。したがって、このような金属層及び金属酸化物層を備える本発明の光記録媒体は、金属薄膜からなる反射層を備える従来の光記録媒体に比して、記録・再生特性の経時劣化が少ないものとなる。
【０００７】
上記本発明の光記録媒体においては、金属酸化物層は、金属層の記録層側に少なくとも設けられていると好ましい。この場合、金属酸化物層は、記録層に隣接して設けられていると更に好ましい。
【０００８】
金属層は、一般に熱伝導性が高いため、金属薄膜からなる反射層を備える光記録媒体においては、記録光の照射時に反射層の加熱部位が広がり易い傾向にある。そのため、条件によっては、この熱が記録層に影響して記録部分のにじみ等を引き起こす場合がある。一方、本発明の光記録媒体において上記構成とした場合、記録・再生の際に記録層に入射した記録・再生光は、主に金属酸化物層によって反射されることになる。この金属酸化物層は、金属層に比べて熱伝導性が適度に低く、記録光の照射による熱を良好に分散し得る。そのため、上記のような記録時のにじみを引き起こし難い。したがって、上記構成を有する本発明の光記録媒体によれば、上記のような安定性に加え、良好な記録・再生特性も得られるようになる。
【０００９】
特に、上述した金属酸化物層は、金属層の両側に設けられていると更に好ましい。こうすれば、金属層の両面が安定な金属酸化物層に覆われることとなって金属層の劣化が更に生じ難くなり、光記録媒体の記録・再生特性をより良好に維持し得るようになる。
【００１０】
より具体的には、金属酸化物層は、金属層の表面を酸化して形成された層であると更に好ましい。このように形成された金属酸化物層は、金属層の表面を反応させて生じさせた層であるため、金属層に対する密着性が極めて良好であるほか、大気中の酸素や湿気による更なる反応を生じ難い。そのため、光記録媒体の経時的な特性の低下を一層良好に抑制できる。
【００１１】
さらに、金属酸化物層の厚さは、０．５ｎｍ以上であると好ましく、０．５〜９５００ｎｍであるとより好ましく、１．９〜９５００ｎｍであると更に好ましく、２〜５０ｎｍであると特に好ましい。金属酸化物層の厚さが０．５ｎｍ以上であると、金属層３の保護が十分になされるようになるほか、金属酸化物層が金属層に対して記録層側に設けられている場合は、金属酸化物層が反射層として機能する際に好適な反射率が得られるようになり、再生時のノイズを良好に低減することが可能となる。
【００１２】
本発明による光記録媒体の製造方法は、上記本発明の光記録媒体を良好に製造し得る方法であって、色素を含む記録層と、記録層の少なくとも一面側に設けられた、金属層及びその表面上に設けられた金属酸化物層を含む反射層とを備える光記録媒体の製造方法であって、反射層を、金属層の表面を酸化して金属酸化物層を生じさせることにより形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、反射層の劣化が生じ難く、長期にわたって安定した記録・再生特性を維持し得る光記録媒体、及び、その製造方法を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００１５】
図１は、好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。図１に示す光記録媒体１０は、基板２上に、金属層３、金属酸化物層４、記録層５、光入射層６及び保護層８がこの順に設けられた構成を有している。かかる構造の光記録媒体１０においては、保護層８側から記録層５に記録又は再生光が照射され、記録層５への情報の記録又は記録層５からの情報の読み出しが行われる。以下、光記録媒体１０の各構成について説明する。
【００１６】
基板２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．３〜１．６ｍｍ、好ましくは０．５〜１．３ｍｍ程度のディスク状の形状を有するものである。この基板２の上面（記録層５側の面）には、溝状のグルーブ１２が形成されており、グルーブ１２が形成されていない部分がランド１４となっている。グルーブ１２は、基板２を平面視してスパイラル状に形成されている。
【００１７】
基板２は、必ずしも透明の材料から構成される必要はなく、樹脂、ガラス、セラミックス等からなるものを適用できる。特に、基板２としては、樹脂からなるものが好ましく、樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂等が好ましい。
【００１８】
グルーブ１２は、その深さ（ランド１４面とグルーブ１２面との高さの差）が、４０〜１５０ｎｍであると好ましく、６０〜１２０ｎｍであるとより好ましい。グルーブ１２の深さをかかる範囲とすることにより、十分なトラッキング制御が可能となり、クロストークを低減できる。また、グルーブ１２の幅（グルーブ１２の深さの１／２の位置の幅）は、好ましくは１１０〜２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０〜１９０ｎｍである。さらに、隣り合うグルーブ１２間の間隔（グルーブピッチ；グルーブ１２の幅方向の中心間の距離）は、２９０〜３５０ｎｍであると好ましく、３１０〜３３０ｎｍであるとより好ましい。これらにより、クロストークを更に低減することが可能となる。
【００１９】
金属層３は、その基板２に対して反対側に形成される金属酸化物層４とともに光記録媒体１０の反射層として機能する。金属層３の構成材料としては、光記録媒体の反射層に通常用いられる金属や合金を適用できる。例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属や半金属、あるいは合金が挙げられる。
【００２０】
金属層３の構成材料としては、なかでも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ又はこれらの合金が好ましく、Ａｇ又はＡｌを５０％以上含有するものがより好ましく、Ａｇ又はＡｌを９８〜９９．５％含有する合金が特に好ましい。Ａｇを含む合金としては、具体的には、Ａｇ−Ｂｉ合金が好ましい。なお、金属層３は、上述したような主な金属以外に、微量成分として、他の金属や金属以外の成分を更に含有していてもよい。このような金属層３の厚さは、０．１〜１００μｍであると好ましい。
【００２１】
金属酸化物層４は、金属層３の表面上に設けられ、且つ、記録層５と接するように形成されている。この金属酸化物層４は、上述したような金属層３を構成し得る金属の酸化物から構成される。金属酸化物層４を構成している金属酸化物の金属は、金属層３の金属と同じであっても異なっていてもよいが、金属酸化物層４の金属層３に対する密着性等を良好にする観点からは、金属層３の金属と同じであることが好ましい。特に、金属酸化物層４は、金属層３の表面を酸化して形成された層であるとより好ましい。例えば、金属層３が上述したＡｇ−Ｂｉ合金からなる場合、金属酸化物層４は、主としてＡｇ酸化物及びＢｉ酸化物から構成される。
【００２２】
金属酸化物層４の厚さは、０．５ｎｍ以上であると好ましく、０．５〜９５００ｎｍであるとより好ましく、１．９〜９５００ｎｍであると更に好ましく、２〜５０ｎｍであると特に好ましい。金属酸化物層４の厚さが０．５ｎｍ未満であると、金属層３を十分に保護できなくなるおそれがある。また、本実施形態のように金属酸化物層４が金属層３に対して記録層５側に設けられている場合は、再生時にノイズが不都合に大きくなることがある。これは、金属酸化物層４が薄いため、金属層３とともに反射層として機能する場合に反射率が高くなり過ぎる場合があることが一因と推測される。
【００２３】
一方、金属酸化物層４の厚さが９５００ｎｍを超える場合は、金属層３に対して金属酸化物層４の厚さが厚くなり過ぎ、反射率が過度に低下するおそれがある。また、本実施形態のように金属酸化物層４が金属層３に対して記録層５側に設けられている場合は、上記と同様に再生時のノイズが不都合に大きくなることがある。これは、金属酸化物層４が厚いため内部応力を保持し易くなり、記録層に形成されたピットに歪みが生じる易くなることに起因すると推測される。本実施形態の光記録媒体１０において、反射層として機能する金属層３と金属酸化物層４とを組み合わせた層の反射率は、１２〜２４％であると好ましい。
【００２４】
記録層５は、色素を含む層であり、４００〜４２０ｎｍの波長域の光の照射により情報の記録が可能な層であると好ましい。記録層５に含まれる色素としては、モノメチンシアニン、トリメチンシアニン、アゾメチン、アゾ化合物、ポルフィリン、フタロシアニン、クマリン、オキソノール、トリアゾール、ピロメテン、ホルマザンや、これらの化合物を金属と組み合わせた金属錯体等が挙げられる。これらは、所定の化学構造を有することで、光記録媒体の記録及び再生光の波長に合わせた吸収極大を有するように調整することができる。色素としては、これらを単独で、又は、組み合わせて用いることができる。
【００２５】
記録層５の記録光及び再生光に対する消衰係数（複素屈折率の虚部ｋ）は、０〜０．６０であることが好ましい。消衰係数が０．６０を超えると十分な反射率が得られなくなる傾向にある。また、記録層５の屈折率（複素屈折率の実部ｎ）は、１．６以下又は１．８以上であることが好ましい。屈折率が１．６を超えるか１．８未満であると、信号の変調度が小さくなる傾向にある。
【００２６】
さらに、記録層５の厚さは、５〜１００ｎｍであると好ましく、３０〜７０ｎｍであるとより好ましい。こうすれば、記録層５の変調度と反射率とのバランスが良くなるため、再生品質が更に向上する傾向にある。記録層５の厚さがこの範囲外であると、反射率が低下して、再生を行うことが困難となる傾向にある。特に、グルーブ１２の部分の記録層５の厚さが１００ｎｍ以上であると、変調度と反射率とのバランスが悪化する傾向にある。
【００２７】
光入射層６は、記録層５の上に設けられ、記録層５を物理的及び／又は化学的に保護するほか、記録層５の光学特性を調整する干渉層としての機能を有している。この光入射層６は、記録層５に対する光入射側に位置するため、記録再生光に対して透明な材料から構成される。光入射層６の好適な厚さは１〜１００ｎｍであり、２〜１０ｎｍであるとより好ましい。
【００２８】
このような光入射層６の構成材料としては、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、ＦｅやＭｇ等の金属の酸化物、窒化物、硫化物又はフッ化物あるいはこれらの複合物が好ましい。特に、良好な屈折率及び消衰係数を有する光記録媒体１０を得る観点からは、光入射層６の構成材料は、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＡＩＮ、Ｔａ２Ｏ３等が好ましい。
【００２９】
保護層８は、光記録媒体１０において記録再生光が入射される側に設けられ、光記録媒体１０内部の層を保護する機能を有する。保護層８は、記録再生光の吸収や複屈折が小さく、記録再生光に対して透明な材料から構成される。このような保護層８の構成材料としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、電子線硬化樹脂等、活性光線の照射による硬化が可能な活性光線硬化性樹脂が好ましい。また、記録再生光に対して透明であれば、保護層８としては、上述した基板２と同様の材料からなるものも適用できる。
【００３０】
このように構成された光記録媒体１０は、１２〜５０％の反射率を有すると好ましく、１２〜２４％の反射率を有するとより好ましい。これにより、４００〜４２０ｎｍの波長域の光による記録を行うことで記録層に微小なピットを形成した場合であっても、再生光の反射が適切に生じて記録層に記録された信号を明瞭に読み出すことができ、良好な再生品質が得られるようになる。
【００３１】
次に、上記の構成を有する光記録媒体１０の好適な製造方法について説明する。
【００３２】
光記録媒体１０の製造においては、まず、上記の構造を有する基板２を準備する。グルーブ１２を有する基板２は、例えば、上述したような樹脂を用いて射出成形等を行うことにより形成可能である。また、平板状の基板を製造した後、その上に２Ｐ法等によりグルーブ１２となる凹部を有する樹脂層を形成し、平板状の基板と樹脂層との複合基板とすることによって得ることもできる。
【００３３】
次に、基板２のグルーブ１２が形成された面上に、上述した金属層３の構成金属をスパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等により堆積させ、金属層３を形成する。
【００３４】
続いて、金属層３の基板２に対して反対側の面上に、金属酸化物層４を形成する。金属酸化物層４は、当該層の構成材料を金属層３上に堆積させるか、金属層３の表面を酸化することによって形成することができる。特に、金属酸化物層は、上述したように、金属層３の表面を酸化することによって形成することが好ましい。
【００３５】
金属層３の表面酸化は、例えば、金属層３の表面の酸素による処理、金属層３表面の加熱、金属層３表面への紫外光（ＵＶ）又はオゾンの照射やこれらの組み合わせ、金属層３表面への酸素プラズマの照射等が挙げられる。加熱又はＵＶ照射は、酸素含有雰囲気下で行うことが好ましい。なかでも、ＵＶ照射又はオゾン照射が、金属層３の表面を酸化するための活性な酸素を供給し易いため、良好に金属酸化物層４を形成できる傾向にある。
【００３６】
特に、ＵＶ照射は、製造サイクルのタクトタイムを低下させることなく効率的に金属酸化物層４を形成することができるため、好ましい方法である。このＵＶ照射は、例えば、金属層３をスパッタにより形成させる場合は、スパッタ後、温度が下がりきる前、より好ましくはスパッタ直後に金属酸化物層４を形成すべき面に対して行うことが好ましい。ＵＶ照射の光源としては、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ等が挙げられる。
【００３７】
それから、金属酸化物層４上に、上述したような色素を含む塗布液を塗布した後、必要に応じて乾燥することによって溶媒を除去し、記録層５を形成する。ここで、色素を含む塗布液は、色素や必要に応じてその他の成分を、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、フッ素系アルコール、ハロゲン化アルキル系等の溶媒に溶解することで調製することができる。また、塗布液は、必要に応じて、バインダー、分散剤、安定剤などを更に含有していてもよい。
【００３８】
また、塗布液の塗布は、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等により実施可能である。なかでも、平易に均一な厚さの塗布を行うことができるスピンコート法が好ましい。こうして形成された記録層５は、上述した塗布液から溶媒が除去された構成を有し、主として色素及び適宜添加したその他の成分とから構成される層となる。なお、記録層５には、塗布液に用いた溶媒が特性に大きく影響しない程度に残存していてもよい。
【００３９】
次に、記録層５上に、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法等により上述の光入射層６の構成材料を堆積させ、光入射層６を形成する。そして、光入射層６上に、活性光線硬化型樹脂をスピンコート法等により塗布した後、活性光線を照射して硬化させ、保護層８を形成する。こうして、上述した構造を有する光記録媒体１０が得られる。
【００４０】
上述のように構成された光記録媒体１０においては、保護層８側から４００〜４２０ｎｍの波長を有する記録光（レーザー等）を照射して、記録層５の記録光が照射された部位を化学的又は物理的に変化させてピットを形成させ、これによって記録層５に所定の情報を記録する。そして、このようにしてピットが形成された記録層５に、記録光と同程度の波長の再生光を照射して、反射された光を検出する。この際、ピット形成部位とその他の部位とで屈折率が異なるため、この屈折率の差に基づいて記録層５に記録された情報を読み出すことができる。
【００４１】
以上、本発明の光記録媒体及びその製造方法の好適な実施形態について説明したが、本発明は必ずしもこれらに限定されない。
【００４２】
例えば、光記録媒体の積層構造は、上記のものに限定されず、例えば、図２に示すような構成としても好適である。図２は、他の好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。図２に示す光記録媒体２０は、基板２２上に、記録層２５、金属層２３、金属酸化物層２４及び基板２８をこの順に備える構成を有している。なお、特に説明しないが、光記録媒体２０も、光記録媒体１０と同様のグルーブ及びランドを有している。このような光記録媒体２０は、基板２８側から記録・再生光を照射することによって、記録層２５における記録・再生を行うものである。
【００４３】
光記録媒体２０における基板２２、記録層２５、金属層２３、金属酸化物層２４及び基板２８は、それぞれ光記録媒体１における保護層８、記録層５、金属層３、金属酸化物層４及び基板２と同様の構成とすることができる。そして、基板２２上に上記各層を光記録媒体１の場合と同様に積層することによって、光記録媒体２０を得ることができる。
【００４４】
このような光記録媒体２０においても、光記録媒体１０と同様に、反射層として機能する層として、金属層２３及びこれの基板２８側に形成された金属酸化物層２４を備えている。このように、金属層２３の片面が金属酸化物層２４によって覆われていることから、大気中の酸素や湿気等の影響による反射層の経時的な劣化が少なくなる。特に、基板２８は、上述したような樹脂等の材料によって構成され、酸素や湿気等を透過し易い傾向にあることから、このように基板２８側に金属酸化物層２４を有することで、これを有していないものに比べて反射層の劣化が著しく抑制されるようになる。
【００４５】
また、光記録媒体における金属酸化物層は、上記の光記録媒体１０及び２０のように金属層３，２３の片側にのみ形成されるのではなく、この両側に形成されていてもよい。こうすれば、金属層３，２３の両側が安定な金属酸化物層４，２４に覆われてより反射層全体としての劣化が生じ難くなる。また、記録層５，２５が金属層３，２３に対してどちら側に設けた場合であっても、光記録媒体は良好な反射率を得やすい構造となる。
【００４６】
このように金属層の両側に金属酸化物層を形成する方法としては、各層を別個に堆積させる方法や、金属層の両側に金属酸化物層が形成されるように金属の堆積条件を連続的に変化させる方法が挙げられる。後者の方法としては、例えば、金属層を堆積させる際に、まず、酸化物が形成されるような酸素雰囲気とし、次いで酸化物が形成されない程度に酸素を含有しない雰囲気に変え、その後再び酸化物が形成される雰囲気に戻すことにより、金属酸化物層、金属層及び金属酸化物層を連続して形成する方法が挙げられる。
【００４７】
また、所定の厚さの金属層を堆積させた後、いったんこの金属層をＵＶ照射等により酸化して金属酸化物層とした後、更に金属層、金属酸化物層を順に堆積させる方法によっても、金属層の両側に金属酸化物層を有する反射層を形成することができる。なお、これらの方法において、上側に形成される金属酸化物層は、金属層の表面を酸化することによって形成させてもよい。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［光記録媒体の作製］
【００４９】
（実施例１〜１１）
まず、グルーブが形成されたポリカーボネート基板のグルーブ面上に、以下に示す方法により、Ａｇからなる金属層の両側がＡｇ酸化物層で覆われた構成を有する反射層を形成した。すなわち、まず、スパッタ法によりＡｇを堆積させる際に、酸素濃度が１０％程度となるように酸素ガスを導入するか、または、Ａｇを堆積させた後にこのＡｇ層に対してＵＶ照射を行うことにより、基板上にＡｇ酸化物層を形成させた。この際、５０ｎｍを超える厚さのＡｇ酸化物層を形成する場合は前者の方法を、また、５０ｎｍ以下のＡｇ酸化物層を形成する場合は後者の方法を実施した。
【００５０】
所定の厚さのＡｇ酸化物層が形成されたら、酸素ガスの導入又はＵＶ照射を止めてＡｇのスパッタを継続し、これによりＡｇを堆積させてＡｇ酸化物層上にＡｇ層を形成させた。その後、Ａｇ層上に更にＡｇ酸化物層を形成させた。Ａｇ酸化物層の形成は、Ａｇ酸化物層の厚さを５０ｎｍ以下とする場合は、Ａｇ層表面にＵＶ照射を行うことにより、また、５０ｎｍを超えるようにする場合は酸素濃度が１０％程度となるように酸素ガスを導入しながらＡｇのスパッタを継続することにより行った。こうして、基板上に上記構造を有する反射層を形成した。金属層に対して基板側の金属酸化物層及びこれと反対側（つまり、記録層側）の金属酸化物層の厚さは、それぞれ表１に示す通りであった。
【００５１】
次に、トリメチンシアニンと金属アゾクエンチャーの塩形成一体型色素を、溶媒であるテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に溶解して得られた塗布液を、上記の反射層上に塗布した後に乾燥させ、色素を含む記録層を形成した。その後、記録層上にスパッタ法によりＳｉＯ２−ＺｎＳからなる光入射層を形成した後、この光入射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線を照射してこれを硬化させ、保護層を形成した。これにより、図１に示す構造を有する光記録媒体を作製した。
【００５２】
（実施例１２〜２１）
次のような方法により、金属層に対して記録層側に金属酸化物層を有する反射層を形成したこと以外は、実施例１〜１１と同様にして光記録媒体を製造した。すなわち、酸素ガスを導入しない条件でスパッタ法を行い、基板上にＡｇを堆積させてＡｇ層を形成した後、このＡｇ層の表面上にＡｇ酸化物層を形成させ、これにより反射層を形成した。Ａｇ層上へのＡｇ酸化物層の形成は、実施例１〜１１と同様にして行った。Ａｇ酸化物層の厚さは、それぞれ表２に示す通りであった。
【００５３】
（実施例２２〜３５）
次のような方法により、金属層に対して基板側に金属酸化物層を有する反射層を形成したこと以外は、実施例１〜１１と同様にして光記録媒体を製造した。すなわち、基板上にＡｇ酸化物層を形成させた後、Ａｇ酸化物層上にスパッタ法によりＡｇを堆積させてＡｇ層を形成し、これにより反射層を形成した。基板上へのＡｇ酸化物層の形成は、実施例１〜１１と同様にして行った。Ａｇ酸化物層の厚さは、それぞれ表３に示す通りであった。
【００５４】
（比較例１）
スパッタ法によりＡｇを堆積させて、Ａｇ層のみからなる（すなわち、金属酸化物層を有しない）反射層を形成したこと以外は、実施例１〜１１と同様にして光記録媒体を製造した。
［特性評価］
【００５５】
実施例１〜３５及び比較例１の光記録媒体をそれぞれ用い、以下に示すようにしてこれらの記録・再生特性の安定性について評価した。すなわち、まず、製造直後の光記録媒体に対し、波長４０７ｎｍのレーザー光を用いて線速９．８３ｍ／ｓで信号を記録した。そして、信号が記録された光記録媒体に対して、パルステック社製ＤＤＵ−１０００を用いて、最短マークである２Ｔ信号のＣＮＲ（２Ｔ−ＣＮＲ、Ｃａｒｒｉｅｒ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ、単位：ｄＢ）を測定した。得られた値を２Ｔ−ＣＮＲの初期値（ＣＮＲ０）とした。
【００５６】
次いで、この光記録媒体を、８０℃、８０％ＲＨの条件で５０時間放置した。その後、かかる処理後の光記録媒体について上記と同様に２Ｔ−ＣＮＲを測定し、得られた値を処理後の値（ＣＮＲ１）とした。なお、２Ｔ−ＣＮＲは、その値が大きいほど、記録層に記録された信号を明瞭に読み出すことができることを示している。各光記録媒体を用いて得られた結果をそれぞれ表１〜表３に示す。
【００５７】
【表１】
2007207327.tif 000003
【００５８】
【表２】
2007207327.tif 000004
【００５９】
【表３】
2007207327.tif 000005
【００６０】
表１〜表３より、実施例１〜３５の光記録媒体は、比較例１の光記録媒体に比して高い２Ｔ−ＣＮＲ値が得られており、良好な再生品質を有していることが確認された。また、実施例の光記録媒体は、長時間の高温、高湿処理（８０℃、８０％ＲＨ、８時間）後であっても、良好に２Ｔ−ＣＮＲの値を維持していることから、長期にわたって安定した記録・再生品質を維持し得るものであることが確認された。これに対し、比較例１の光記録媒体は、高温、高湿処理後の２Ｔ−ＣＮＲの値の低下が顕著であった。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。
【図２】他の好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００６２】
２…基板、３…金属層、４…金属酸化物層、５…記録層、６…光入射層、８…保護層、１０…光記録媒体、１２…グルーブ、１４…ランド、２０…光記録媒体、２２…基板、２５…記録層、２３…金属層、２４…金属酸化物層、２８…基板。
【図１】
2007207327.tif 000006
【図２】
2007207327.tif 000007