(57)【要約】      （修正有）【課題】可動部品による圧力波の発生で測定の不正確や結像特性の劣化おそれがあり、その影響を受けにくい堅牢なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】物品を保持し移動させるように構成された可動の物品支持体と、物品、物品支持体、またはそれら両方上に向けるべき放射ビームを制御するように構成された放射制御システムであって、物品が、測定、露光、またはその両方の目的で、可動物品支持体によって放射制御システムに対して移動される、放射制御システムと、圧力波に起因する放射制御システムの変位の抑制を補助するように、放射制御システムから機械的に分離され、物品支持体によって誘起される圧力波をシールドする圧力シールド１３とを有する。【選択図】図４
2007173814.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を保持し移動させるように構成された可動の物品支持体と、
前記物品、前記物品支持体、またはそれら両方上に向けるべき放射ビームを制御するように構成された放射制御システムであって、前記物品が、測定、露光、またはその両方の目的で、前記可動物品支持体によって、前記放射制御システムに対して移動される、放射制御システムと、
圧力波に起因する前記放射制御システムの変位の抑制を補助するように、前記放射制御システムから機械的に分離され、前記物品支持体によって誘起される前記圧力波をシールドする圧力シールドと、
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記圧力シールドが、前記放射制御システムの前記放射ビームの通路を提供する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記圧力シールドが貫通孔を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記圧力シールドが、光学的パワーが低い、またはゼロの、ほぼ透明なプレートを備える、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記圧力シールドが、前記放射制御システムと共有の計測フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記圧力シールドが、前記放射制御システムと直接的に共有されない静止フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記可動物品支持体が、前記圧力シールドによって前記放射制御システムから実質的にシールドされる、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記放射制御システムが、パターン化された放射ビームを前記物品のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記放射制御システムが、前記物品、前記物品支持体、またはその両方の一部分上に測定ビームを投影するように、あるいは、前記物品、前記物品支持体、またはその両方の一部分から伝わる測定ビームを検出するように構成された測定システムを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記測定システムが、アライメントシステム、レベルセンサシステム、またはその両方を備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記測定システムが、干渉測定システムを備える、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記物品支持体が、パターニングデバイスを保持するように構成され、前記パターニングデバイスが、前記放射ビームの断面内にパターンを付与するように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記物品支持体が、基板を保持して、パターン化されたビームを前記基板のターゲット部分上で受け取るように構成された、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
パターンを基板に転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
可動かつ基板またはパターニングデバイスを保持するように構成されたテーブルと、
圧力波に起因する、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、前記デバイスに直接接続せずに、前記テーブルの移動によって誘起される前記圧力波から前記デバイスをシールドする圧力シールドとを備える、
リソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記変位の影響を受けやすいデバイスが、パターン化された放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスへの、またそのデバイスからの放射ビームに対する通路を提供する、請求項１４に記載の装置。
【請求項１７】
前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスが接続された計測フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１８】
前記圧力シールドが、前記変位の影響を受けやすいデバイスに直接接続されない静止フレームに取り付けられたプレートを備える、請求項１４に記載の装置。
【請求項１９】
基板またはパターニングデバイスを保持するテーブルを移動させるステップと、
圧力波によって引き起こされる、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、前記テーブルの前記移動によって誘起される前記圧力波から前記デバイスをシールドするステップと、
パターンを基板に転写するステップと、
を含むデバイス製造方法。
【請求項２０】
前記変位の影響を受けやすいデバイスが、前記パターンを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムを備える、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記変位の影響を受けやすいデバイスが、前記テーブル、前記基板、または前記パターニングデバイスの一部分上に測定ビームを投影するように、あるいは、前記テーブル、前記基板、または前記パターニングデバイスの一部分から伝わる測定ビームを検出するように構成された測定システムを備える、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常は基板のターゲット部分上に与える機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用することができる。その場合には、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上の（例えば、１つまたは複数のダイの一部を含む）ターゲット部分上に転写することができる。パターンの転写は一般に、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層上に結像することによってなされる。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される、隣接するターゲット部分のネットワークを含む。公知のリソグラフィ装置には、全体のパターンをターゲット部分上に一度に露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、パターンを、放射ビームを用いて所与の方向（「スキャン」方向）にスキャンしながら、それと同期して基板をその方向と平行に、または反平行にスキャンすることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置では、放射ビーム中に配置すべき基板、マスク、または基準（fiducial）などの物品が、例えばクランプ電極、真空吸引、またはその他の方法で、物品支持部材によって保持される。
【０００４】
[0004]  一般に、これらの物品は、物品のアライメントおよび／または高さ調節を含む、単一または多段の位置決め手順中に配置される。この目的のために、一般に１つまたは複数の非接触測定システムが使用され、その測定システムでは、例えば干渉測定による、または回折格子像の使用による測定のために、放射ビームが物品に誘導される。また、物品を露光するために、パターン化されたビームを物品のターゲット部分上、特に基板上に転写するのに投影システムが一般に使用される。これらの放射制御システム全て、特に位置決めセンサシステムおよび／または投影システムに関して、それらでナノメートル（未満）程度の精度の測定をすることができるように、および／または、露光後の特徴をもたらすことができるように、それらが非常に安定して取り付けられることが望まれている。この目的のために、従来型のリソグラフィ装置には、基板などを位置決めするのに使用される距離を測定するのに使用する機器を、ほぼ定位置に保持するのに使用する、および／または、基板にパターンを転写するのに使用する機器を、ほぼ定位置に保持するのに使用する、計測フレーム（metrology framｅ）を設けることがある。この計測フレームは、リソグラフィプロセスが実施されるところ、具体的には基板の位置決め、および基板のターゲット部分上へのパターンの転写が実施されるところに、優れた安定環境すなわち「サイレントワールド（silent world）」を作り出すように、外側からの振動から保護された、安定化されたフレームである。
【０００５】
[0005]  一方、リソグラフィ装置は、（スループットを増大させるために）ますます速く移動して、リソグラフィ装置内の機器の安定性、特に測定および／または露光機器のマウントに負担をかける可動部品を有している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]  考慮すべき一側面は、可動部品による圧力波の発生である。こうした波は、例えば干渉測定にとって問題となるおそれがある。干渉ビームが通過するガスの屈折率が圧力の変動によって変わり、したがって測定が不正確になるおそれがあるからである。それに加えてまたはその代わりに、こうした部品の移動がますます速くなるにつれて、こうした圧力波が、放射制御システムの物理的な変位を引き起こすおそれがあり、それにより結像および／または測定の精度の悪化が生じるおそれがある。したがって、例えば、こうした圧力波の存在に対してより堅牢で、その影響をより受けにくいリソグラフィ装置を提供することが望ましいはずである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
[0007]  本発明の一態様によれば、物品を保持し、移動させるように構成された可動の物品支持体と、物品、物品支持体、またはその両方上に向けるべき放射ビームを制御するように構成された放射制御システムであって、物品が、測定、露光、またはその両方の目的で、可動物品支持体によって、放射制御システムに対して移動される、放射制御システムと、圧力波によって引き起こされる放射制御システムの変位を抑制する助けとなるように、放射制御システムから機械的に分離して、物品支持体によって誘起される圧力波からシールドする圧力シールドとを備える、リソグラフィ装置が提供される。
【０００８】
[0008]  本発明の一態様によれば、パターンを基板に転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、可動でかつ基板またはパターニングデバイスを保持するように構成されたテーブルと、圧力波に起因する、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、そのデバイスに直接的に接続されずに、テーブルの移動によって誘起される圧力波からそのデバイスをシールドする圧力シールドとを備えるものが提供される。
【０００９】
[0009]  本発明の一態様によれば、基板またはパターニングデバイスを保持しているテーブルを移動させるステップと、圧力波に起因する、変位の影響を受けやすいデバイスの変位を実質的に抑制するように、テーブルの移動によって誘起される圧力波からそのデバイスをシールドするステップと、パターンを基板に転写するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
【００１０】
[0010]  本願の内容において、「物品」とは、基板（例えばウェーハ）でも、パターニングデバイス（例えば、レチクルまたはマスク）でも、放射制御システムの放射経路中に設けられる他の如何なる物品または光学エレメント（例えば、マスクブランク）でも、前述のものの如何なる組合せでもよい。より詳細には、リソグラフィ投影技法、リソグラフィ投影装置内のリソグラフィ投影マスク、マスク検査または洗浄装置などのマスク処理装置（mask handling apparatus）、あるいはマスク製造装置を使用して、デバイスの製造時に処理される基板などを含む用語である。
【００１１】
[0011]  次に、ほんの一例として、本発明の諸実施形態を、添付の概略図を参照して説明する。それらの概略図では、対応する参照記号は、対応する部分を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
[0019]  図１は、本発明の一実施形態による、リソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、
【００１３】
[0020]  放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射またはＥＵＶ放射）を調整するように構成された照射システム（イルミネータ）ＩＬと、
【００１４】
[0021]  パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを保持する構造とされており、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された、支持体構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、
【００１５】
[0022]  基板（例えばレジストコートウェーハ）Ｗを保持する構造とされており、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、
【００１６】
[0023]  パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳとを備える。
【００１７】
[0024]  照射システムは、放射を誘導、整形、または制御するために、屈折タイプ、反射タイプ、磁気タイプ、電磁タイプ、静電タイプ、または他のタイプの光学部品、あるいはそれらの任意の組合せなど、さまざまなタイプの光学部品を含み得る。
【００１８】
[0025]  支持体構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および他の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境内に保持されるか否かなどに応じた方式で、パターニングデバイスを保持する。支持体構造には、パターニングデバイスを保持するのに、機械的クランプ技法、真空クランプ技法、静電クランプ技法、または他のクランプ技法を使用することができる。支持体構造は、例えばフレームでも、テーブルでもよく、それは必要に応じて固定されても、可動でもよい。支持体構造は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに対して所望の位置にあるようにすることができる。本明細書において「レチクル」または「マスク」という用語を使用している場合、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義語と見なすことができる。
【００１９】
[0026]  本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを形成するなどのために、放射ビームの断面にパターンを付与するのに使用することができる任意のデバイスを指すものとして、広義に解釈すべきである。放射ビームに付与されたパターンは、例えば、パターンが位相シフト特徴またはいわゆるアシスト特徴を含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに厳密に一致しない可能性があることに留意されたい。一般には、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路など、ターゲット部分内に形成されているデバイス内の、特定の機能層に対応する。
【００２０】
[0027]  パターニングデバイスは、透過型でも、反射型でもよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ（programmable mirror array）、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクは、リソグラフィにおいて公知であり、マスクには、バイナリ、Alternating位相シフト、および減衰位相シフトなどのマスクタイプ、ならびにさまざまなハイブリッドマスクタイプがある。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型のミラーのマトリックス配列を使用しており、ミラーをそれぞれ、入射する放射ビームをさまざまな方向に反射するように個々に傾動することができる。傾動されたミラーにより、ミラーマトリックスによって反射された放射ビーム内にパターンが付与される。
【００２１】
[0028]  本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に適した、あるいは浸液の使用または真空の使用など、他の要因に適した、屈折光学システム、反射光学システム、カタディオプトリック光学システム、磁気光学システム、電磁光学システム、および静電光学システム、またはそれらの任意の組合せを含む、任意のタイプの投影システムを包含するものとして、広義に解釈すべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用している場合、より一般的な用語である「投影システム」と同義語として見なし得る。
【００２２】
[0029]  ここで示したように、この装置は（例えば、反射マスクを使用した）反射型である。あるいは、装置は（例えば、透過マスクを使用した）透過型でもよい。
【００２３】
[0030]  このリソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（および／または２つ以上の支持体構造）を有するタイプのものでもよい。そうした「マルチステージ」の機械では、追加のテーブルを同時に使用することができ、あるいは、１つまたは複数のテーブル上で予備段階を実施している間に、１つまたは複数の別のテーブルを露光に使用することもできる。
【００２４】
[0031]  このリソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部分を、屈折率の比較的高い液体、例えば水で、投影システムと基板の間の空間を埋めるように覆うことができるタイプのものでもよい。浸液を、リソグラフィ装置内の他の空間、例えばマスクと投影システムの間に適用することもできる。液浸技法は、投影システムの開口数を増大させることで、当技術分野で公知である。「液浸」という用語は、本明細書では、基板などの構造が液体中に浸されなければならないことを意味するのではなく、露光中に、液体が投影システムと基板の間に配置されることを意味するにほかならない。
【００２５】
[0032]  図１を参照すると、イルミネータＩＬが、放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。放射源およびリソグラフィ装置は、例えば、放射源がエキシマレーザであるとき、別々のものとすることができる。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部分を形成しているとは見なされず、放射ビームが、例えば、適切な誘導ミラーおよび／またはビーム拡大器を備えるビーム供給システムＢＤを用いて放射源ＳＯからイルミネータＩＬに渡される。別の場合には、例えば放射源が水銀ランプであるとき、放射源はリソグラフィ装置の一部分とすることができる。
【００２６】
[0033]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えることができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の、少なくとも外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよび集光レンズＣＯなど、他のさまざまな構成要素を備えることができる。イルミネータは、放射ビームがその断面内に所望の均一性および強度分布を有するように調整するのに、使用することができる。
【００２７】
[0034]  放射ビームＢが、支持体構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターン化される。放射ビームＢは、パターニングデバイスＭＡを反射して、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳがビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦される。第２のポジショナＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）を用いて、例えば、さまざまなターゲット部分Ｃを、放射ビームＢの経路中に位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１のポジショナＰＭおよびもう１つの位置センサＩＦ１を使用して、パターニングデバイスＭＡを、例えばマスクライブラリから機械的に取り出した後、またはスキャン中に、放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、支持体構造ＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの一部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を用いて実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２のポジショナＰＷの一部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。（スキャナとは対照的に）ステッパの場合には、支持体構造ＭＴを、ショートストロークアクチュエータだけに接続してもよく、固定してもよい。パターニングデバイスＭＡおよび基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２、および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用してアライメントすることができる。図示の基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有しているが、ターゲット部分とターゲット部分の間の間隔内（それらは、けがき線アライメントマークとして知られる）に配置することもできる。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に２つ以上のダイが設けられている状況では、パターニングデバイスアライメントマークをダイとダイの間に配置することもできる。
【００２８】
[0035]  図示の装置は、以下のモードのうち少なくとも１つのモードで使用することができる。
【００２９】
[0036]  １．ステップモードでは、支持体構造ＭＴおよび基板テーブルＷＴが本質的に固定されたまま、放射ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Ｃ上に一度に投影される（すなわち、単一静止露光）。次いで、さまざまなターゲット部分Ｃを露光することができるように、基板テーブルＷＴがＸおよび／またはＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静止露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００３０】
[0037]  ２．スキャンモードでは、支持体構造ＭＴおよび基板テーブルＷＴが同期スキャンされるとともに、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影される（すなわち、単一動的露光）。支持体構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＳの倍率（縮小率）および像の反転特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向の）幅が制限され、スキャン運動の長さによって、ターゲット部分の（スキャン方向の）高さが決定される。
【００３１】
[0038]  ３．別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持する支持体構造ＭＴが本質的に固定されたままであり、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃ上に投影されるとともに、基板テーブルＷＴが移動またはスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴが移動する毎にその後で、またはスキャン中に連続する放射パルスと放射パルスの間に、プログラマブルパターニングデバイスが必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに、容易に適用することができる。
【００３２】
[0039]  上述の使用モードの組合せおよび／または変形、あるいは全く異なる使用モードを使用することもできる。
【００３３】
[0040]  図２は、リソグラフィ装置の従来型のセットアップ、具体的には、例えば２つ以上の基板テーブルによる、複数テーブルセットアップ１の一部分の側面図である。図示の実施形態では、２つのテーブル２、３が同時に使用され、その場合には、一方のテーブル３上で基板４の測定などの予備段階を実施することができるとともに、他方のテーブル２が、別の基板５を、例えばパターン化されたビームを投影システム（図示せず）から受け取って露光するために使用される。波６によって概略的に示すように、移動しているテーブル２（移動を矢印Ｐによって概略的に示す）が圧力波をもたらし、それが、他方のテーブル３およびその付近の測定ユニット７に衝突する。矢印Ｑが、測定ユニットの底面領域の全てではないが大部分に圧力波が当たり、それにより測定ユニット７上に比較的大きな変位力が生じることを示す。一般に、そのような測定ユニット７は、基板のアライメント段階の実施、および／または高さマップの作成に使用される。具体的には、アライメントについては、測定ユニット７は基板の面内の位置を測定するように構成されたアライメントモジュール８を備える。レベル検出については、測定ユニット７は、基板の面外の位置を測定するように構成されたレベルセンサ９を備える。
【００３４】
[0041]  一実施形態では、測定ユニット７は、放射制御システムの一例である。測定ユニット７は一般に、基板４上に投影され、基板４によって反射され、ユニット７内で測定される放射ビーム１０をもたらすレーザ源など（図示せず）を備える。放射制御システムは、放射がシステム内で生成されるか、それとも外側の放射源から単に中継されるだけかどうかに関わらず、放射を制御するシステムを包含する。さらに、放射制御システムは一般に、放射を放出しかつ受け取るが、放射を放出するだけでもよく、受け取るだけでもよい。
【００３５】
[0042]  すでに示したように、移動しているテーブル２、特にその加速が、測定ユニット７に衝突する圧力波をもたらす。ユニット７が、ナノメートル（未満）の精度で動作しなければならない場合、こうした圧力波が、有害となり得る変位をもたらすおそれがある。
【００３６】
[0043]  図３は、テーブル２および３の周囲の周囲環境での、シミュレーションされた圧力プロファイル１１の上面図を示す。加速中の周囲環境内の圧力変動は、典型的な長さＬのガスカラム（column of gas）が、ΔＰａｃｃ＝ＬρｄＶ／ｄｔで加速されなければならないとする、一次元（１Ｄ）問題を仮定して推定することができる。上式でρはガス密度であり、典型的な加速度ｄＶ／ｄｔは＞１０ｍ／ｓ２である。さらに、一定の速度によって、圧力変動が誘起されるおそれがあるが、これはテーブルの前面で離れ去るガスのためであり、その圧力変動は、ΔＰｓｔａｇ＝１／２ρＶ２であるよどみ圧の１〜２倍になると推定することができる。
【００３７】
[0044]  圧力プロファイル１１は、テーブル２が０から０．４８ｍ／ｓまでｄＶ／ｄｔ＝１２ｍ／ｓ２で加速された時間ｔ＝０．０４秒のときのものを、コンピュータ流体力学を使用して算出したものである。等圧線は、１．６Ｐａの圧力差を示す。図３から、数Ｐａの圧力による力の変動が可能であることが分かる。（０．１ｘ０．１）ｍ２の有効面積を仮定した場合、１Ｅ７Ｎ／ｍのスチフネスを有する、比較的硬いマウント１２が測定ユニット７を保持している場合でも、数ナノメートル程度の変位が可能である。そうした変位は、測定ユニット７の上に全体的に分散するおそれがあり、図２に示すマウント１２に必ずしも集中しない。
【００３８】
[0045]  図４では、本発明の第１の実施形態を示す。この場合、測定ユニット７には、計測フレーム１４上に取り付けられた圧力シールド１３が設けられている。圧力シールド１３は、基板４の非接触測定を妨げずに実施することができるように、測定システム７の１本または複数本の放射ビーム１０に対する通路を提供する。しかし、圧力シールド１３は、圧力波６が測定ユニット７に到達するのをブロックする、または少なくとも実質的に低減させる。このようにして、圧力波によって引き起こされる測定システムの変位を抑制することができる。一実施形態では、圧力シールド１３を、測定システム７から機械的に分離する。このことは、一般的に、測定システムへの直接的な機械的結合はないが、例えば、計測フレーム１４を介しての間接的な結合が単にあることを意味する。しかし、非常に弾性のある直接結合を使用し、それにより、測定ユニット７を変位させずに波のエネルギーが弾性結合中に失われるようにすることもできる。計測フレーム１４が、大きな質量および高度の堅牢性を有するので、局所の圧力変動がシールド１３内で減衰され、実質的に測定ユニット７に到達しない。あるいは、例えば、放射制御システム７を保持するのに使用される計測フレーム１４の代わりに、外部の静止フレーム（図示せず）に取り付けたシールドを設けることによって、シールドを測定システムから完全に分離することもできる。
【００３９】
[0046]  図４は、マウント１５によって計測フレーム１４上に直接取り付けられた、貫通孔１６を有する圧力シールド１３を概略的に示す。放射ビーム１０は、貫通孔１６を通過することができる。貫通孔１６は、比較的幅が狭いので、限られたごく一部の圧力波だけが測定ユニット７に到達し、測定ユニット７の実質的な変位をもたらさない。
【００４０】
[0047]  図５の実施形態では、圧力シールド１３が、光学的パワーが低いまたはゼロの透明プレート１７を備える。この実施形態では、測定ユニット７が圧力波６から完全にシールドされ、透明プレート１７が、ビーム１０を妨げずに透過する。透明プレート１７がほぼ平坦である場合、衝突する圧力波による透明プレートの垂直または水平変位が、測定ユニット７の測定結果に与える影響はほとんどないまたはない。透明プレートがわずかに傾いている場合、いくらかの誤差が導入されるおそれがあるが、それは堅牢な圧力シールドマウント１５によって対処することができる。
【００４１】
[0048]  図６では、放射制御システムの一例としての投影システム１８にシールドが適用された、別の実施形態を概略的に示す。この場合もまた、圧力波が、投影システムのマウント１９に応力を加えるおそれがあり、そのことが望ましくない変位を引き起こすおそれがある。したがって、圧力波６によって引き起こされる投影システムの変位を抑制する助けとなるように、投影システム１８から機械的に分離して、１つまたは複数の物品支持体２、３によって誘起される圧力波６から投影システム１８をシールドする助けとなる圧力シールド２０を設ける。圧力シールド２０は、マウント２１によって計測フレーム１４に取り付けられ、投影システム１８の形状に従う（ただし、必ずしもその必要はない）。圧力シールドは、投影システム１８の結像ビームに対する通路を提供するための透明プレート１７を有する。したがって、投影システム１８の最も下の光学部分が、計測フレーム１４上に取り付けられた平坦なプレート、または低パワーの要素で形成される。あるいは、放射経路用の小さな開口を、場合によってはパージフード、または液浸リソグラフィを目的とする場合には液浸構造と組み合わせて使用することもできる。
【００４２】
[0049]  図７では、リソグラフィ装置のシールド構成の、第４の実施形態を概略的に示す。具体的には、この構成では、基板テーブルセットアップ１が全体的にまたは実質的に区画２２内にシールドされ、区画２２は、放射制御システム７および１８（例えば、測定ユニット７および投影システム１８）から、シールド２２内に取り付けられた透明プレート１７または小さな貫通孔を介してアクセス可能である。この構成では、例えば、区画２２内の気圧を積極的に制御することによって、気圧補正を実施することができる。したがって、ガス圧力変動およびそれに対応する屈折率の変化も、遅くなり得る。
【００４３】
[0050]  本発明を、本明細書において記載した実施形態に即して説明してきたが、特許請求の範囲から逸脱することなく、それらの実施形態に対する変更および修正が可能であることが、当業者には容易に理解されよう。具体的には、放射制御システムを、図示の投影システム、アライメントシステム、および／またはレベリングシステム以外の種類とすることができる。例えば、そうした放射制御システムは、図２に示すテーブル２、３の面内測定に使用される干渉測定システムを備えることができる。また、放射のタイプは、著しく重要ではなく、基板を露光するのに（すなわち、基板にパターンを転写するのに）使用される放射でもよく、他の波長、例えば、可視光または他のタイプの適切な電磁波でもよい。こうした変形および修正は、添付の特許請求の範囲内に含まれるものと見なされる。さらに、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に対して、具体的な参照がこの説明において行われることがあるが、本明細書において記載のリソグラフィ装置には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用の誘導パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドの製造など、他の適用分野があることを理解されたい。そうした代替適用分野の文脈では、本明細書において「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、より一般的な用語である「基板」または「ターゲット部分」と同義語として見なすことができることが、当業者には理解されよう。本明細書において参照される基板は、露光前または後に、例えばトラック（一般にレジストの層を基板に付け、露光後のレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツール内で処理することができる。適用可能な場合、本明細書における開示は、そうした基板処理ツール、および他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、例えば多層ＩＣを形成するために、基板を２回以上処理することもでき、したがって、本明細書で使用される基板という用語は、複数の処理済みの層をすでに含む基板を指すこともある。
【００４４】
[0051]  光学的リソグラフィの文脈において、本発明の諸実施形態の使用に対して、上記で具体的な参照を行ってきたかもしれないが、本発明の一実施形態を他の適用分野、例えばインプリントリソグラフィに使用することができ、文脈が許容する場合は、リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが、基板上に形成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたインプリント可能な媒体の層へと押し込むことができ、その後すぐに、媒体は例えば、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。媒体が硬化された後、パターニングデバイスは、媒体中にパターンを残した状態でそこから移される。
【００４５】
[0052]  本明細書で使用される「放射」および「ビーム」という用語は、（例えば、３６５、３５５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長、あるいはそれらの近くの波長を有する）紫外（ＵＶ）放射を含む全てのタイプの電磁放射を包含する。「レンズ」という用語は、文脈が許容する場合、屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品、および静電光学部品を含む、さまざまなタイプの光学部品のいずれか１つ、またはそれらの組合せを指すことがある。
【００４６】
[0053]  以上、本発明の具体的な諸実施形態を上記で説明してきたが、本発明を、説明した以外の方法で実施することができることが理解されよう。上記の説明は、限定するものではなく、例示のためのものである。例えば、本発明の一実施形態では、本明細書において開示した方法を記述した機械読取可能命令の、１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラムの形、あるいは、そうしたコンピュータプログラムが中に記憶されたデータ記憶媒体（例えば、半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形をとることができる。したがって、添付の記載された特許請求の範囲から逸脱することなく、説明したように本発明に対して修正を行うことができることが、当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】[0012]本発明の一実施形態による、リソグラフィ装置の概略図である。
【図２】[0013]本発明の一実施形態による圧力シールドが適用されていない、リソグラフィ装置用の従来型のセットアップの概略図である。
【図３】[0014]図２に示すテーブル２および３の周囲の周囲環境での、シミュレーションされた圧力プロファイルの上面図である。
【図４】[0015]貫通孔を有する圧力シールドを示す、本発明の第１の実施形態の概略図である。
【図５】[0016]ほぼ透明な圧力シールドを示す、本発明の第２の実施形態の概略図である。
【図６】[0017]投影システム用の圧力シールドおよびアライメントシステムを示す、本発明の第３の実施形態の概略図である。
【図７】[0018]別のシールド構成を示す、本発明の第４の実施形態を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
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