(57)【要約】      （修正有）【課題】成形機の構造や成形条件が変わっても実測作業が不要で、普遍性のある光学面形状を算出することのできる光学素子の成形シミュレーション方法及びシステムを提供する。【解決手段】対向配置された１対の成形型１１，２１間に介装されたガラス素材７を有する解析モデル１と、この解析モデル１を対象として成形シミュレーションする際に、ガラス素材７の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算する演算部３と、この演算部３にて演算されたずれ量を表示する表示部５とを備えている。【選択図】図１
2007119261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算する演算部と、
前記演算部にて演算されたずれ量を表示する表示部と、を備えている、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーションシステム。
【請求項２】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算する演算部と、
前記演算部にて演算されたずれ量を表示する表示部と、を備えている、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーションシステム。
【請求項３】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定し、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を表示する、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーション方法。
【請求項４】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定し、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を表示する、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーション方法。
【請求項５】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んでアニール工程後の光学素子の光学面形状を算出する算出部と、
この算出した光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状とを比較し、そのずれ量が許容誤差内に入っているか否かを判定する判定部と、
前記ずれ量が許容誤差内に入っていない場合は、前記解析モデルの成形型の成形面形状を補正する補正部と、を備えている、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーションシステム。
【請求項６】
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定する工程と、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んでアニール工程後の光学素子の光学面形状を算出する工程と、
この算出された光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状とを比較し、そのずれ量が許容誤差内に入っているか否かを判定する工程と、
前記ずれ量が許容誤差内に入っていない場合は、前記解析モデルの成形型の成形面形状を補正する工程と、を備えている、
ことを特徴とする光学素子の成形シミュレーション方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非球面レンズ、プリズム、ミラー等の高精度な光学素子を製造するにあたり、型形状を光学素子材料に転写して成形する際の光学素子の成形シミュレーション方法及びシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学機器の小型化、軽量化のために非球面レンズ、レンズ機能を有するプリズム等、複雑な表面形状を有する光学素子が多く採用されている。それらの複雑な表面形状を有する光学素子は、研削や研磨加工で製造することが容易でないため、加熱軟化した光学素子材料を成形型によって押圧成形する方法が採用されている。
【０００３】
一方、光学機器に搭載される光学素子は、高精度な形状が求められているが、押圧成形により高精度な光学素子を製造するためには、成形条件や成形型の形状を数多く試行し、最適な状態に設定する必要がある。しかし、実際に成形型を用い成形条件を調整して成形を実施し、成形品を試作、評価するためには、多大な時間と費用を要する。
【０００４】
そこで、近年、光学素子を成形する際の成形加工プロセスに関するシミュレーション技術が注目され、成形加工プロセスに関するシミュレーション解析を行って最適な成形条件や最適な成形型形状を設定する方法が開示されている。
【０００５】
例えば、特許文献１には、光学素子の有する成形面が、所望の設計値に対応するような成形型を得るために、光学ガラス材料の成形後にアニール処理を付加した際に、光学ガラス材料の仮想的な熱膨張係数を考慮し、有限要素法を用いた熱変形シミュレーションによって成形型を設計する技術が開示されている。
【０００６】
すなわち、実際に成形機で押圧成形し、アニールしたガラス光学素子の光学面形状を実測し、一方で、仮想的な熱膨張係数を用いた熱変形シミュレーションによる光学面形状を算出し、両者が一致するように熱膨張係数同定処理を行う。次に、求めた熱膨張係数を用いてガラス成形のシミュレーションを行っている。
【特許文献１】特開平９−１１０４４０号公報（第６頁、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１では、物性値である熱膨張係数を、成形品とシミュレーション結果が合うように調整している。そのため、例えば構造の異なる成形機を使ったり、成形機を新設計したり、温度等の成形条件を変えた場合には、その都度成形品を実測して熱膨張係数の同定処理を行わなければならない。このため、シミュレーションに普遍性がなく、非常に手間のかかるものである。
【０００８】
本発明は斯かる課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、成形機の構造や成形条件が変わっても成形品の実測作業が不要で、普遍性のある光学面形状を算出することのできる光学素子の成形シミュレーション方法及びシステムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算する演算部と、
前記演算部にて演算されたずれ量を表示する表示部と、を備えていることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算する演算部と、
前記演算部にて演算されたずれ量を表示する表示部と、を備えていることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定し、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を表示することを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定し、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を表示することを特徴とする。
【００１３】
請求項５に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーションシステムであって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルと、
前記解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んでアニール工程後の光学素子の光学面形状を算出する算出部と、
この算出した光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状とを比較し、そのずれ量が許容誤差内に入っているか否かを判定する判定部と、
前記ずれ量が許容誤差内に入っていない場合は、前記解析モデルの成形型の成形面形状を補正する補正部と、を備えていることを特徴とする。
【００１４】
請求項６に係る発明は、
加熱軟化した光学素子材料を押圧し、光学素子を成形する際の成形工程をシミュレーションする光学素子の成形シミュレーション方法であって、
対向配置された１対の成形型間に介装された光学素子材料を有する解析モデルを設定する工程と、
該設定された解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んでアニール工程後の光学素子の光学面形状を算出する工程と、
この算出された光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状とを比較し、そのずれ量が許容誤差内に入っているか否かを判定する工程と、
前記ずれ量が許容誤差内に入っていない場合は、前記解析モデルの成形型の成形面形状を補正する工程と、を備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、解析モデルを対象として成形シミュレーションする際に、光学素子材料の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前又はアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された光学素子の光学面形状と、のずれ量を演算して表示するので、シミュレーションに普遍性があるので成形機の構造や成形条件が変わっても成形品の実測作業が不要で、シミュレーションのみで光学面形状を算出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（成形シミュレーションシステムの構成）
図１は、成形シミュレーションシステムの構成を示している。この成形シミュレーションシステムは、上下に対向配置された１対の成形型１１，２１間に介装されたガラス素材７を有する解析モデル１と、この解析モデル１に物性値や各種成形条件を入力するデータ入力手段２と、この解析モデル１を対象としてシミュレーションする際に、ガラス素材７の体積緩和特性を取り込んで算出したアニール工程前又はアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状（又は、室温時の成形型の光学面形状）と、のずれを演算する演算部（算出部）３と、を有している。
【００１７】
この演算部３で演算された結果（ずれ量）は、判定部４で許容誤差内にあるか否かが判定され、そのずれ量が表示部５にて表示される。また、ずれ量が許容誤差を超えている場合には、成形型の形状補正部６でその成形面形状が補正されて、その補正後の形状が解析モデル１にフィードバックされる。
（成形機の構成）
図２は、光学素子の成形機１００の全体構成を示す図である。同図において、成形機１００は、対向配置された上下一対の金型組立体１０，２０を有し、この金型組立体１０，２０は、夫々成形面１１ａ、２１ａ（図１参照）を有する成形型１１、２１、該成形型１１，２１を周囲から支持するモールドダイ１２、２２、成形型１１，２１及びモールドダイ１２、２２の端面を支持するダイプレート１３、２３を有している。ガラス素材７は、成形型２１の成形面２１ａ上に載置されている。
【００１８】
なお、金型組立体１０，２０は、成形面１１ａ、２１ａを有する成形型の単体でも良いし、成形面１１ａ、２１ａを有する成形型の単体と他の金型部材とを組み合わせたものでも良い。また、光学素子材料としてガラス素材７を例として説明するが、これに限らず、例えば樹脂素材であっても良い。
【００１９】
上下一対の金型組立体１０，２０のうち、上金型組立体１０は、成形機１００の上方の固定軸１４の下端に断熱筒１５を介して取付けられている。また、下金型組立体２０は、成形機１００の下方の可動軸２４の上端に断熱筒２５を介して取付けられている。可動軸２４の下部には、不図示の駆動装置と荷重検出装置２６が設置されており、成形中の下金型組立体２０を駆動装置によって上下移動させることによって、荷重検出しつつ型締め、加圧、型開きができるようになっている。
【００２０】
また、金型組立体１０，２０の周囲には、透明石英管３０が取付けられており、該透明石英管３０の上下両端部はシールプレート１７、２７に当接されている。このシールプレート１７、２７により、金型組立体１０，２０の周囲に気密性を備えた成形室３１が形成されている。更に、透明石英管３０の周囲には、赤外線ランプユニット３２が取付けられ、その周囲後方に配置された反射ミラーと共に金型組立体１０，２０を加熱するようになっている。
【００２１】
また、固定軸１４及び可動軸２４の内部には、成形室３１内のダイプレート１３，２３面に乾燥した窒素ガス（Ｎ2）を導入して、金型組立体１０，２０の酸化防止及び冷却をするためのガス供給流路１８，２８が形成されている。また、図示しない水路がダイプレート１３，２３内に形成されており、金型組立体１０，２０を冷却するための冷却水が流れるようになっている。
（成形工程）
上記成形機１００を用いた場合の成形工程について説明する。
【００２２】
光学素子材料としては、略球形状のガラス素材７（（株）オハラのＬ−ＢＡＬ４２）を使用する。このガラス素材７は、予め下金型組立体２０の成形型２１の成形面２１ａ上に載置しておく（図１参照）。この状態で加熱工程に移行する。この加熱工程では、ガス供給流路１８，２８から成形室３１内に窒素ガスを供給し、該成形室３１内を窒素ガスで置換してから、赤外線ランプユニット３２により、上下１対の金型組立体１０，２０（成形型、モールドダイ、ダイプレート）、及びガラス素材７を加熱する。
【００２３】
ここで、上下の成形型１１、２１には、図示しない温度センサが設置されていて、この上下の成形型１１、２１は略６００℃に加熱される。ガラス素材７は、上下の成形型１１、２１の間に挟まれた状態で加熱されるため、ガラス素材７の温度も成形型１１，２１と同じく略６００℃に加熱される。
【００２４】
続いて、押圧工程では、最初に金型組立体１０，２０に所定の押圧荷重を付与し、冷却時には一定圧で保圧するような荷重条件として、可動軸２４を上方に駆動する。こうして、上下の成形型１１、２１の間で流動温度まで昇温したガラス素材７を押圧成形する。
【００２５】
そして、押圧成形後の冷却工程では、ダイプレート１３，２３に形成した水路に冷却水を流すと共にガス供給流路１８，２８に窒素ガスを導入し続けることにより、ダイプレート１３，２３面から冷却を行い、室温付近（略２０℃）まで冷却した後に、上下の成形型１１、２１の間から成形後のガラス素材７（レンズとなった光学素子）を取り出す。
【００２６】
その後、光学素子の内部歪を除去して屈折率分布を一様にするために、ガラス光学素子を加熱冷却するアニールという工程を行う。成形した光学素子の光学面形状を測定すると、アニール前とアニール後とでは、μｍオーダーで光学面形状が変化することがわかっている。
【００２７】
成形シミュレーションでは、この光学面形状の微細な変化を計算で再現するために、アニール前とアニール後の少なくとも一方の光学素子の光学面形状を求める。
ところで、ガラスを含む高分子材料には、通常、鎖状分子の不規則な運動（ミクロブラウン運動）に関係した特性が見られる。例えば、図３の体積・温度特性において、ガラスの温度をＡ点からＢ点に変化させてそのまま保持すると、体積は一度Ｙとなり、ある程度時間が経過するとＺへと変化する。これがガラスの体積緩和特性といわれる性質である。      
【００２８】
体積緩和特性による体積変化はガラスでは極めて微小である。このため従来は、体積変化がほとんどないガラスを用いてのシミュレーションでは、体積変化がないものとして体積緩和特性を考慮せずに計算されてきた。
【００２９】
しかし、光学素子のアニール工程で生じる光学面形状の微細な変化をシミュレーション計算で再現するという場合においては、上記の体積緩和特性を計算に組み込むことが有効である。
【００３０】
このように本実施形態では、ガラス本来の物性である体積緩和特性をモデル化しているので、例えば成形機１００の構造や成形条件が変わっても、従来のようにその都度成形実験をしてデータを取る必要がなく、成形シミュレーションで計算するだけで、光学素子の面形状を正確に求めることができる。
（第１の実施の形態）
次に、図４のフローチャートに基づき、上述した成形工程を、解析モデル１を対象としてシミュレーションするための方法について説明する。
【００３１】
Ｓ１で、スタートする際、予めコンピュータに、光学素子材料であるガラスの熱膨張係数、体積緩和特性（体積緩和弾性率）、密度等の物性値、成形機１００を構成する材料の熱膨張係数、密度等の物性値を読み込んでおく。
【００３２】
次に、Ｓ２で、コンピュータでのシミュレーションモデルの作成を行う。
ここでは、ガラス素材７のガラス種類の選択、成形温度・時間、冷却温度・時間の設定、押圧荷重・時間の設定、アニール条件（温度、時間）の設定、成形前のガラス素材の形状や成形型の成形面の形状の設定を行う。
【００３３】
次いで、Ｓ３では、押圧工程、冷却工程、アニール工程のシミュレーション計算を行う（図１の演算部３に相当）。ここでは、アニール工程前及びアニール工程後の光学素子の光学面形状を算出する。
【００３４】
この場合、図５に示すように、冷却工程を終了した後の光学素子の光学面形状は、成形前の成形型１１の成形面１１ａ形状と一致しない。これは、成形型１１の型材とガラスの熱膨張係数が異なるからである。同様に、冷却工程を終了した後の光学素子の光学面形状は、成形前の成形型２１の成形面２１ａ形状と一致しない。
なお、アニール工程後の光学素子の光学面形状は、図６の実線で示すようになる（塗りつぶした部分を囲む破線は、冷却工程後の光学素子の光学面形状である）。
【００３５】
Ｓ４では、シミュレーション計算の結果を表示する。すなわち、アニール工程前及びアニール工程後の光学素子の光学面形状と、設計者によって予め設定された室温時の光学素子の光学面形状（又は、室温時の成形型の成形面形状）と、のずれ量をコンピュータのディスプレイ（図１の表示部５に相当）に表示する。
【００３６】
図７は、アニール工程前とアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状と、のずれ量が、光学素子中心から径方向に離れるに従い、どのように変化するかを示した図である。同図によれば、ずれ量は光学素子中心から離れていくに従って大きくなっている。
【００３７】
次に、Ｓ５では、アニール工程前及びアニール工程後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状とのずれ量が、設計者が予め設定した許容誤差内に入っているか否かを、設計者が判断する。なお、このように、アニール工程前の光学素子の光学面形状をも判断対象としているのは、設計者にとっては、アニール工程前の光学素子の光学面形状がどのようになっているかを知りたい場合があるからである。例えば、成形型の成形面形状をどのように補正するか検討する場合があるからである。
【００３８】
従って、アニール工程前の光学素子の光学面形状を判断対象としない場合には、本実施の形態１では、アニール工程後の光学素子の光学面形状のみを判断対象としても良い。また、アニール工程前とアニール工程後の両方のうち、判断対象の一方を最終判断用とし他方を参考判断用として用いても良い。
【００３９】
そして、ずれ量が許容誤差内である場合（「Ｙｅｓ」）は、シミュレーションは終了し、また、ずれ量が許容誤差を超えている場合（「Ｎｏ」）は、Ｓ６で成形型の成形面形状のデータを変化させて、すなわち成形面形状を補正したデータをコンピュータに入力して（図１の成形型の形状補正部６に相当）Ｓ２に戻る。
（第２の実施の形態）
この実施の形態では、図８のフローチャートに基づき、光学素子の成形工程をシミュレーションするための方法について説明する。
【００４０】
Ｓ１１〜Ｓ１３は、前述した図４のフローチャートのＳ１〜Ｓ３と同様であるので、ここでは、その重複説明を省略する。
Ｓ１４では、アニール後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状とを比較し、そのずれ量が、設計者が予め設定した許容誤差内に入っているか否かをコンピュータで判断する（図１の判定部４に相当）。その結果、許容誤差内に入っている場合（「Ｙｅｓ」）はシミュレーションを終了し、許容誤差を超えている場合（「Ｎｏ」）は、Ｓ１５で成形型の成形面形状のデータを変化させて、すなわち成形面形状を自動的に補正したデータをコンピュータに設定して（図１の成形型の形状補正部６に相当）Ｓ２に戻る。
【００４１】
以下、同様にして、アニール後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状とのずれ量が許容誤差内に入っていない場合は、解析モデルの成形型の成形面形状を自動的に補正して、許容誤差内に入るまで数値計算を繰り返す。
【００４２】
例えば、図９を例として説明すると、アニール後の光学素子の光学面形状と、予め設定された室温時の光学素子の光学面形状とのずれ量は、光学素子の径方向の寸法が、光学素子中心からＸ点よりも離れた位置では許容誤差を超えている。そこで、図１０に示すように、上型の成形型１１において、光学素子中心からＸ点よりも離れた部分の成形面形状の曲率半径Ｒの値を、適宜に補正した形状とする。
【００４３】
なお、本実施の形態で、アニール後の光学素子の光学面形状のみを判断対象とし、アニール前の光学素子の光学面形状を判断から除いているが、これは、前記ずれ量が許容誤差内に入っているか否かをコンピュータで判断しているため、アニール前の光学素子の光学面形状については考慮する必要性に乏しいからである。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】光学素子の成形シミュレーションシステムの構成を示す図である。
【図２】光学素子の成形機の全体構成を示す図である。
【図３】ガラスの体積緩和特性を示す図である。
【図４】第１の実施の形態におけるフローチャートを示す図である。
【図５】成形前の型の成形面形状と冷却後の光学素子の光学面形状を示す図である。
【図６】冷却後とアニール後の光学素子の光学面形状を示す図である。
【図７】光学素子のアニール前後のずれ量を示す図である。
【図８】第２の実施の形態におけるフローチャートを示す図である。
【図９】光学素子のアニール後と設計上の許容値とのずれ量を示す図である。
【図１０】成形型の成形面形状を補正した状態を示す図である。
【符号の説明】
【００４５】
１      解析モデル
２      データ入力手段
３      演算部
４      判定部
５      表示部
６      形状補正部
７      ガラス素材
１０    金型組立体
１１    成形型
１１ａ  成形面
１２      モールドダイ
１３      ダイプレート
２０    金型組立体
２１    成形型
２１ａ  成形面
２２      モールドダイ
２３      ダイプレート
１００  成形機
【図１】
2007119261.tif 000003
【図３】
2007119261.tif 000004
【図４】
2007119261.tif 000005
【図５】
2007119261.tif 000006
【図６】
2007119261.tif 000007
【図７】
2007119261.tif 000008
【図８】
2007119261.tif 000009
【図９】
2007119261.tif 000010
【図１０】
2007119261.tif 000011
【図２】
2007119261.tif 000012