(57)【要約】      （修正有）【課題】蛍光体層や反射層を形成する際に、蛍光体や反射体が隔壁の上面に付着するのを防止する。【解決手段】隔壁１７の上面に撥水性材料からなる撥水膜１１０を形成する。この撥水膜１１０は、ポリテトラフルオロエチレンをはじめとするフッ素樹脂を隔壁１７の上面に塗布することによって形成することができる。  具体的には、溶射法による隔壁形成の工程において、基板１５に隔壁材料の膜８４を形成した後ドライフィルム８１のマスクを除去する前に、溶融したフッ素樹脂をスピンコート法で塗布すれば、隔壁１７の上面にフッ素樹脂からなる撥水膜１１０を形成することができる。  このように、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸着性を小さくすることによって、蛍光体インキを塗布するときに、隔壁の上面に蛍光体インキが付着するのを防止することができる。【選択図】図１８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁と隔壁との間に凹部が形成された第１のプレートを作成する第１プレート作成ステップと、
前記第１のプレートの凹部に蛍光体を塗布して蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、
前記第１のプレートの隔壁が形成された側に第２のプレートを重ねて封着すると共にガス媒体を封入する封入ステップを備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１プレート作成ステップは、
前記隔壁の上面に撥水性材料を含む撥水膜を形成する撥水膜形成ステップを含むプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記撥水膜形成ステップでは、
溶融したフッ素樹脂を前記隔壁上面に塗布することによって前記撥水膜を形成する請求項１に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
【請求項３】
隔壁の上面に撥水性材料からなる撥水膜が形成された後に、前記隔壁と隔壁との間の凹部に蛍光体を塗布することによって蛍光体層が形成されている第１のプレートと、
前記第１のプレートの隔壁を配設した側に重ねられた第２のプレートとが、
ガス媒体を封入された状態で封着されているプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスに用いるプラズマディスプレイパネルに関し、特に詳細なセル構造のプラズマディスプレイパネルに適した製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハイビジョンをはじめとする高品位で大画面のテレビに対する期待が高まっている中で、ＣＲＴ，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ），プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel，以下ＰＤＰと記載する）といった各ディスプレイの分野において、これに適したディスプレイの開発が進められている。
従来からテレビのディスプレイとして広く用いられているＣＲＴは、解像度・画質の点で優れているが、画面の大きさに伴って奥行き及び重量が大きくなる点で４０インチ以上の大画面には不向きである。また、ＬＣＤは、消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優れた性能を有しているが、大画面を作製するのに技術上の困難性があり、視野角にも限界がある。
【０００３】
これに対して、ＰＤＰは、小さい奥行きで大画面を実現することが可能であって、既に４０インチクラスの製品も開発されている。
ＰＤＰは一般的に、表面に電極を配したフロントカバープレートとバックプレートとが、電極を対向した状態で平行に配され、両プレート間の間隙は隔壁で仕切られ、隔壁と隔壁との間の溝に赤，緑，青の蛍光体層が形成されると共に放電ガスが封入された構成であって、その製造は、隔壁を配設したバックプレートの溝に蛍光体層を形成し、その上にフロントカバープレートを重ねて放電ガスを封入することによって行う。そして、駆動回路で電極に印加して駆動を行うようになっている。
【０００４】
ＰＤＰの発光原理は、基本的に蛍光灯と同様であって、駆動回路が電極に印加して放電すると放電ガスから紫外線が放出され、蛍光体層の蛍光体粒子（赤，緑，青）がこの紫外線を受けて励起発光するが、放電エネルギが紫外線へ変換する効率や、蛍光体における可視光への変換効率が低いので、蛍光灯のように高い輝度を得ることは難しい現状である。
ＰＤＰは駆動方式によって直流型（ＤＣ型）と交流型（ＡＣ型）とに大別される。ＤＣ型では電極が放電空間に露出しているのに対して、ＡＣ型では電極上に誘電体ガラス層が配設されている。
【０００５】
また隔壁の形状も違いがあって、一般的にＡＣ型では隔壁がストライプ状に配設されているのに対して、ＤＣ型では隔壁が井桁状に配設されている。この点で、ＡＣ型の方が微細なセル構造のパネルを形成するのに適している。
ところで、ディスプレイの高品位化に対する要求が高まるにつれて、ＰＤＰにおいても微細なセル構造のものが望まれている。
【０００６】
例えば、従来のＮＴＳＣではセル数が６４０×４８０で、４０インチクラスではセルピッチが０．４３ｍｍ×１．２９ｍｍ、１セル面積が約０．５５ｍｍ2であったが、フルスペックのハイビジョンテレビの画素レベルでは、画素数が１９２０×１１２５となり、４２インチクラスでのセルピッチは０．１５ｍｍ×０．４８ｍｍ、１セルの面積は０．０７２ｍｍ2の細かさとなる。
【０００７】
このような詳細なセル構造のＰＤＰを実用化するためには、従来よりもセルの発光効率を高める必要があり、そのために、蛍光体の改良等の研究がなされている。
【特許文献１】特開平６−２７３９２５号公報
【特許文献２】特開昭５３−７９３７１号公報
【特許文献３】特開平８−１６２０１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
このような背景のもとに、蛍光体層の形成に関して以下のような課題がある。
蛍光体層を形成する方法としては、図２５に示すようにスクリーン印刷法で蛍光体ペーストを隔壁間の凹部に充填して焼成する方法が多く用いられているが、微細なセル構造のＰＤＰに対しては、スクリーン印刷法は適用が難しい。
即ち、セルピッチが０．１〜０．１５ｍｍ程度の場合、隔壁間の溝幅は０．０８〜０．１ｍｍ程度と非常に狭くなってしまうが、スクリーン印刷で用いる蛍光体インキは粘度が高いので（通常、数万センチポイズ）、狭い隔壁間に精度良く高速に蛍光体インキを流し込むことは困難である。また、微細な構造のスクリーン板を作成することも困難である。
【０００９】
また、高い発光効率のＰＤＰを得るためには、バックプレートの表面上だけでなく隔壁の側面にも蛍光体層が配設され且つ放電空間が確保されるような構成とすることが望ましいということができる。スクリーン印刷法でもってこのような望ましい形状の蛍光体層を形成しようとすれば、蛍光体ペーストの粘度等の印刷条件を調整するなどしてプレートの表面及び隔壁の側面に蛍光体ペーストを適量づつ付着させる必要があるが、好適な印刷条件に調整することは難しく、実際にはなかなか隔壁の側面に蛍光体ペーストが付着しにくいという問題がある。
【００１０】
スクリーン印刷法以外の蛍光体層の形成方法として、フォトレジストフィルム法やインキジェット法も知られている。
フォトレジストフィルム法は、特開平６−２７３９２５号公報に開示されているように、各色蛍光体を含む紫外線感光性樹脂のフィルムを、隔壁と隔壁の間に埋め込み、該当する色の蛍光体層を形成しようとする部分だけに露光現像を施し、露光しない部分を洗い流す方法であって、この方法によれば、セルピッチが小さい場合にも、ある程度精度良く隔壁間にフィルムを埋め込むことが可能である。しかしながら、３色各色について、フィルムの埋め込み，露光現像及び洗い流しを順次行う必要があるため、製造工程が複雑であると共に混色が生じやすいという問題があり、更に、蛍光体は比較的高価であるにもかかわらず洗い流された蛍光体を回収することは困難なためコスト高になるという問題もある。
【００１１】
一方、インキジェット法は、特開昭５３−７９３７１号公報や特開平８−１６２０１９号公報に開示されているように、蛍光体と有機バインダーからなるインキ液を加圧してノズルから噴射させながら走査することにより、所望のパターンでインキ液を絶縁基板上に付着させる方法であって、狭い隔壁間の凹部にも精度良くインキを塗布することが可能である。
【００１２】
しかしながら、このような従来のインキジェット法では、噴射されたインキが液滴となって間欠的に付着するので、隔壁がストライプ状に配設されている場合、隔壁間の溝に一定の膜厚で塗布することが難しい。また、スクリーン印刷法と同様、インキ液が凹部の底面に集中して付着し側面には付着しにくいという問題がある。
ところで、このようなＰＤＰにおいて、隔壁間の凹部に先ず反射層を形成し、その反射層の上に蛍光体層を形成することによってパネル輝度を向上させる技術も知られている（例えば、特開平４−３３２４３０号公報）。
【００１３】
反射層の形成方法としては、蛍光体層と同様、反射材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布することによって形成する方法が知られているが、蛍光体層の形成と同様の問題、即ち、反射材ペーストが詳細なセル構造に適用しにくく、隔壁の側面に付着しにくいという問題がある。
また、蛍光体層や反射層の形成に関しては、蛍光体や反射体材料が隔壁の上面に付着しやすいという問題もある。この場合、バックプレートとフロントカバープレートを封着する際に、隔壁の上部とフロントカバープレートとの密着性が損なわれやすくなる。
【００１４】
また、ＰＤＰにおいては、電極形成に関する問題もある。即ち、従来のＰＤＰにおいて、表示電極やアドレス電極は、巾が１３０μｍ〜１５０μｍ程度であって、通常、スクリーン印刷法で形成されているが、上述のようにハイビジョンテレビの画素レベルの場合は電極幅を７０μｍ程度にする必要があり、更に高精細度の２０インチのＳＸＧＡ（画素数が１２８０×１０２４）では電極幅を５０μｍ前後とする必要があるので、スクリーン印刷法で電極を形成するのは困難である。
【００１５】
本発明は、上記課題に鑑み、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層や反射層を形成することのできるＰＤＰの製造方法を提供することを第１の目的とする。
また、蛍光体層や反射層を形成する際に、蛍光体や反射体が隔壁の上面に付着するのを防止することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記第１の目的を達成するため、本発明は、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工程において、凹部の底面より側面の方が、蛍光体インキあるいは反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成することとした。
また、上記第２の目的は、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工程において、隔壁の上面より側面の方が、蛍光体インキ或は反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成することによって達成できる。
【発明の効果】
【００１７】
以上説明したように、本発明は、隔壁がストライプ状に配設されたプレートにおける隔壁間の溝に蛍光体層或は反射層を形成する工程において、蛍光体インキ或は反射材インキをノズルから連続流となるよう吐出させながらノズルを隔壁に沿って走査するという方法で蛍光体インキ或は反射材インキを塗布するようにすることによって、微細なセル構造の場合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成することが可能であって、且つ隔壁がストライプ状の場合に、隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成することができる。
【００１８】
ここで、ノズルを隔壁の側面に向けた状態で蛍光体インキを噴出しながら、当該ノズルを隔壁に沿って走査すれば、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層や反射層を形成することもできる。
また、蛍光体層を形成する工程において、隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布した後、塗布された蛍光体インキに対して外力を加えて隔壁の側面に付着させることによっても、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層を形成することができる。 
【００１９】
また、隔壁間の溝とノズルとが蛍光体インキの表面張力で架橋する状態を保ちながらノズルを隔壁に沿って走査することによっても、微細なセル構造の場合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成することが可能であって、且つ隔壁がストライプ状の場合に、隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成することができ、隔壁の側面に対しても容易に蛍光体層や反射層を形成することもできる。
【００２０】
また、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工程において、凹部の底面より側面の方が、蛍光体インキあるいは反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成することによっても、隔壁の側面に対して容易に蛍光体層や反射層を形成することができる。
また、隔壁間に凹部が形成されたプレートを作成する工程において、隔壁の上面より側面の方が、蛍光体インキ或は反射材インキに対する吸着力が大きくなるよう形成することによって、蛍光体層や反射層を形成する際に、蛍光体や反射体が隔壁の上面に付着するのを防止することができる。
【００２１】
また、プレートに電極をストライプ状に配設する工程において、電極材料を含有するインキをノズルから連続流となるよう吐出させながらノズルを走査することによってインキを塗布するという方法を用いることにより、微細なセル構造の場合にも、表示電極やアドレス電極を容易に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
〔実施の形態１〕
（ＰＤＰの全体的な構成及び製法について）
図１は、本発明の一実施の形態に係る交流面放電型ＰＤＰの概略断面図である。図１ではセルが１つだけ示されているが、赤，緑，青の各色を発光するセルが交互に多数配列されてＰＤＰが構成されている。
【００２３】
このＰＤＰは、前面ガラス基板１１上に放電電極１２と誘電体ガラス層１３が配された前面パネルと、背面ガラス基板１５上にアドレス電極１６，隔壁１７，蛍光体層１８が配された背面パネルとを張り合わせ、前面パネルと背面パネルの間に形成される放電空間１９内に放電ガスが封入された構成となっており、このＰＤＰは、図２に示す駆動回路によって、放電電極１２とアドレス電極１６に印加して駆動するようになっている。
【００２４】
なお、図１では、便宜上、放電電極１２が断面で表示されているが、実際には、放電電極１２はアドレス電極１６と直交マトリックスを組むように、図１の紙面に沿った方向に配設されている。
前面パネルの作製：
前面パネルは、前面ガラス基板１１上に放電電極１２を形成し、その上を鉛系の誘電体ガラス層１３で覆い、更に誘電体ガラス層１３の表面に保護層１４を形成することによって作製する。
【００２５】
放電電極１２は銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し焼成することによって形成する従来の方法で形成することもできるが、本実施形態では、後述するようにインキジェット方式を用いて形成する。
誘電体ガラス層１３は、例えば、７０重量％の酸化鉛［ＰｂＯ］，１５重量％の酸化硼素［Ｂ2Ｏ3］，１０重量％の酸化硅素［ＳｉＯ2］及び５重量％の酸化アルミニウムと有機バインダ［α − ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの］とを混合してなる組成物を、スクリーン印刷法で塗布した後、５２０℃で２０分間焼成することによって膜厚約３０μｍに形成する。
【００２６】
保護層１４は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなるものであって、例えば、スパッタリング法によって０．５μｍの膜厚に形成する。
背面パネルの作製：
背面ガラス基板１５上に、放電電極１２と同様にインキジェット方式を用いて、アドレス電極１６を形成する。
【００２７】
次に、ガラス材料をくり返しスクリーン印刷した後、焼成することによって隔壁１７を形成する。
そして、隔壁１７の間の溝に蛍光体層１８を形成する。この蛍光体層１８の形成方法については後で詳述するが、ノズルから蛍光体インキを連続的に噴射しながら走査する方法で蛍光体インキを塗布し、焼成することによって形成する。
【００２８】
なお、本実施形態では、４０インチクラスのハイビジョンデレビに合わせて、隔壁の高さは０．１〜０．１５ｍｍ、隔壁のピッチは０．１５〜０．３ｍｍとする。
パネル張り合わせによるＰＤＰの作製：
次に、このように作製した前面パネルと背面パネルとを封着用ガラスを用いて張り合せると共に、隔壁１７で仕切られた放電空間１９内を高真空（例えば８×１０-7Ｔｏｒｒ）に排気した後、放電ガス（例えばＨｅ−Ｘｅ系，Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガス）を所定の圧力で封入することによってＰＤＰを作製する。
【００２９】
次に、ＰＤＰを駆動する回路ブロックを図２のように実装して、ＰＤＰ表示装置を作製する。
なお、本実施形態では、放電ガスにおけるＸｅの含有量を５体積％以上とし、封入圧力を５００〜８００Ｔｏｒｒの範囲に設定する。
（電極及び蛍光体層の形成方法について）
図３は、放電電極１２，アドレス電極１６及び蛍光体層１８を形成する際に用いるインキ塗布装置２０の概略構成図である。
【００３０】
図３に示されるように、インキ塗布装置２０において、サーバ２１には電極材インキまたは蛍光体インキが貯えられており、加圧ポンプ２２は、このインキを加圧してヘッダ２３に供給する。ヘッダ２３には、インキ室２３ａ及びノズル２４が設けられており、加圧されてインキ室２３ａに供給されたインキは、ノズル２４から連続的に噴射されるようになっている。
【００３１】
このヘッダ２３は、金属材料を機械加工並びに放電加工することによって、インキ室２３ａやノズル２４の部分も含めて一体成形されたものである。
電極材インキは、電極材料である銀粒子が、ガラス粒子、バインダ及び溶剤成分等と共に適度な粘度となるように調合されたものである。
蛍光体インキは、各色蛍光体粒子、シリカ、バインダ、溶剤成分等が適度な粘度となるように調合されたものである。
【００３２】
蛍光体インキを構成する蛍光体粒子としては、一般的にＰＤＰの蛍光体層に使用されているものを用いることができる。その、その具体例としては、
青色蛍光体：ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+
緑色蛍光体：ＢａＡｌ12Ｏ19：ＭｎあるいはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ
赤色蛍光体：（ＹxＧｄ1-x）ＢＯ3：Ｅｕ3+あるいはＹＢＯ3：Ｅｕ3+
を挙げることができる。
【００３３】
ノズルの目づまりや粒子の沈殿を抑制するために、電極材インキに用いる銀粒子及びガラス粒子並びに蛍光体インキに用いる蛍光体粒子の平均粒径は５μｍ以下とするのがよい。また、蛍光体が良好な発光効率を得るために、蛍光体の平均粒径は０．５μｍ以上とするのがよい。従って、ここでは、銀粒子、ガラス粒子及び蛍光体は、０．５〜５μｍ（２〜３μｍ）の範囲にあるものを用いる。
【００３４】
また、蛍光体インキの粘度は２５℃で１０００センチポアズ以下（１０〜１０００センチポアズ）の範囲内に、電極材インキは１００〜１０００センチポアズに調整することが望ましい。
添加剤としてのシリカの粒径は０．０１〜０．０２μｍで、添加量は１〜１０重量％が好ましく、更に、分散剤を０．１〜５重量％，可塑剤を０．１〜１重量％添加することが望ましい。
【００３５】
ノズル２４の口径は、ノズルの目詰まりを防止するために４５μｍ以上で、隔壁１７間の溝幅Ｗよりも小さく、通常は４５〜１５０μｍ範囲に設定することが望ましい。
なお、サーバ２１内では、インキ中の粒子（電極材料や蛍光体粒子など）が沈殿しないように、サーバ２１内に取り付けられた撹拌機（不図示）でインキが混合撹拌されながら貯蔵されている。
【００３６】
加圧ポンプ２２の加圧力は、ノズル２４から噴射されるインキの流れが連続流となるように調整する。
ヘッダ２３は、前面ガラス基板１１又は背面ガラス基板１５上を走査されるようになっている。このヘッダ２３の走査は、本実施の形態ではヘッダ２３を直線駆動するヘッダ走査機構（不図示）によってなされるが、ヘッダ２３を固定してガラス基板を直線駆動してもよい。
【００３７】
ヘッダ２３を走査しながら、ノズル２４からインキを連続的なインキ流２５（ジェットライン）を形成するように噴射することによって、ガラス基板上にインキがライン状に均一的に塗布される。
なお、インキ塗布装置２０において、図４に示すように、ヘッダ２３に複数のノズルを設置し、各ノズルから並行してインキを噴射しながら走査するような構成とするもできる（図４において、矢印Ａが走査方向）。このように複数のノズル２４を設ければ、１回の操作で複数のインキのライン２５を塗布することができる。
【００３８】
このようにして、インキ塗布装置２０を用いて、前面ガラス基板１１上に電極材インキを塗布することにより放電電極１２を形成し、背面ガラス基板１５上に電極材インキを塗布することによりアドレス電極１６を形成する。
なお、このように形成された放電電極１２及びアドレス電極１６は、誘電体ガラス層１３及び隔壁１７の焼成時に、共に焼成される。
【００３９】
一方、インキ塗布装置２０による蛍光体インキの塗布は、背面ガラス基板１５上を隔壁１７に沿って、赤，青，緑の各色ごとに行う。そして、赤，緑，青の蛍光体インキを順に所定の溝に塗布して乾燥した後、パネルを焼成（約５００℃で１０分間）することによって、蛍光体層１８が形成される。
このように、蛍光体層１８は、従来のインキジェット法のようにインキが液滴となって塗布されるのではなく、インキが連続的に塗布されて形成されたものなので、層の厚さが均一的である。
【００４０】
なお、このようなインキ塗布装置において、１つのヘッダに赤，青，緑の３つのインキ室及び各色のノズルを設けて、３色の蛍光体インキを並行して噴射するような構成にすれば、一回の走査で３色の蛍光体インキを塗布することもできる。
〔実施の形態２〕
本実施の形態のＰＤＰの構成及び製法は、実施の形態１と同様であるが、蛍光体層の形成方法に若干の違いがある。以下、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝への蛍光体層の形成方法について説明する。
【００４１】
図５は、本実施形態で蛍光体層１８を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図である。また、図６はその塗布動作を示す部分拡大斜視図である。
このインキ塗布装置２０も、実施の形態１で用いる装置と同様のものであって、サーバ２１には蛍光体インキが貯えられており、加圧ポンプ２２は、この蛍光体インキを加圧してヘッダ２３に供給する。またヘッダ２３には、インキ室２３ａ及び複数のノズル２４が設けられており、加圧供給された蛍光体インキは、インキ室２３ａから各ノズル２４に分配されて連続的に噴射されるようになっている。
【００４２】
ただし、本実施形態のインキ塗布装置２０においては、各ノズル２４の噴射方向は、図５，６に示されるように、背面ガラス基板１５に対して垂直ではなく片方の隔壁の方に傾斜している（図７のＡではこの傾斜角がθで表されている）。この傾斜によって、各ノズル２４から噴射されるインキ流２５は、隔壁間の溝の中央部ではなく、隔壁の側面に衝突するようになっている。
【００４３】
従って、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝に蛍光体インキが均一的に塗布される点は実施の形態１と同様であるが、本実施形態では、更に隔壁１７の側面の上部にも蛍光体インキを塗布することができるので、より発光面積の広い蛍光体層１８を形成することができる。
以下、図４〜７を参照しながら、インキ塗布装置２０の動作及び効果について、更に具体的に説明する。
【００４４】
インキ塗布装置２０において、ヘッダ２３は、赤，青，緑の各色ごとに備えられ、各色のヘッダ２３に開設されているノズル２４のピッチは、セルピッチの３倍に設定されており、図５，６に示されるように、ヘッダ２３の走査に伴って２つおきの溝に蛍光体インキが充填されるようになっている。
ヘッダ２３を図４の矢印Ａの方向に走査しながら所定の溝に蛍光体インキを充填した後、ヘッダ２３を回転させて端部２３ｂと端部２３ｃの位置を入れ替えて、再び矢印Ａの方向（または矢印Ａと逆の方向）に走査しながら上記の蛍光体インキを充填した溝に再度蛍光体インキを充填することによって、両方の隔壁の側面に蛍光体インキを付着させることができる。
【００４５】
図７は、本実施形態の蛍光体インキの塗布方法の効果を説明する図である。
図７のＡにおいて、２４ａは最初にヘッダ２３を走査するときのノズル２４の姿勢を表し、２５ａはその姿勢で形成される連続的なインキ流を表しており、２４ｂは、再びヘッダ２３を走査するときのノズル２４の姿勢を表し、２５ｂはその姿勢で連続的に形成されるインキ流を表している。
【００４６】
インキ流２５ａ並びにインキ流２５ｂは、背面ガラス基板１５に対して垂直な方向から左右の隔壁の方向に角度θだけ傾斜しているので、インキ流２５ａ，２５ｂを各隔壁１７の側面上端部に衝突させた後、当該側面を伝って底面に流れる様にすれば、各隔壁の側面の上部まで蛍光体インキを付着させることができる。図中の実線２６は、このようにして充填された蛍光体インキの液面を表している。
【００４７】
一方、図７のＢは、ノズル２４から噴射されるインキ流２５が、隔壁間の溝の中央部に、背面ガラス基板１５に対して垂直にあたっている場合の様子を示しているが、この場合、隔壁の側面に蛍光体インキが付着されにくく、塗布された蛍光体インキの液面は図中の実線２７のような傾向を示す。  なお、本実施形態のインキ塗布装置２０のヘッダ２３において、インキを塗布する溝の両側面に向けて２つのノズル２４を配設し、２つのノズルから並行して蛍光体インキを噴射するようにすれば、１回の走査で溝の両側面に蛍光体インキを付着させることができる。
【００４８】
〔実施の形態３〕
本実施の形態のＰＤＰの全体的な構成及び製法も、実施の形態１と同様であるが、蛍光体層の形成時における蛍光体インキの塗布方法が異なっている。
図８は、本実施の形態における蛍光体インキの塗布方法を説明する図であって、隔壁１７に沿って背面ガラス基板１５並びにインキ塗布装置のヘッダを切断した断面を表している。なお、図中矢印Ａは走査方向を示す。
【００４９】
本実施形態のインキ塗布装置は、実施の形態１のインキ塗布装置２０と同様であるが、図８に示すように、ヘッダ３３には、インキ室３３ａ及び複数のノズル３４に加えて、空気室３３ｂと複数の空気噴射ノズル３６が設けられ、空気室３３ｂにはコンプレッサ（不図示）から圧縮空気が送り込まれるようになっている。
空気噴射ノズル３６は、各ノズル３４の後方側（ヘッダ３３の走査方向に対して後方側）に配設されている。
【００５０】
このような構成のインキ塗布装置を用いることによって、ノズル３４から噴出された蛍光体インキは、連続的なインキ流を形成し、隔壁間の溝に塗布され（図９のＡ参照）、その直後に、空気噴射ノズル３６から噴出される空気流３７が、溝の中央部に塗布されている蛍光体インキを押さえつけて（図９のＢの矢印３７ａ参照）隔壁１７の側面方向に押しのけると共に、当該空気流３７は、蛍光体インキの液面３８に沿って流れ（図９のＢの矢印３７ｂ参照）、蛍光体インキを隔壁１７の側面に沿って立ち上がらせる。
【００５１】
この空気流３７は、蛍光体インキ３５を立ち上げると共にその乾燥も行うので、側面に立ち上げられた蛍光体インキは側面に固定される。このようにして、隔壁の側面に対する蛍光体層の形成を容易に行うことができる。
空気流３７の幅は、隔壁間の寸法よりも小さく設定することはもちろんであるが、空気流の運動量は、蛍光体インキの塗布量や物性或は蛍光体インキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。
【００５２】
なお、本実施形態のインキ塗布装置において、空気室３３ｂに加熱した圧縮空気を供給して、空気噴射ノズル３６から加熱された空気を噴射するようにすれば、空気流による蛍光体インキの乾燥力が向上し、隔壁の側面に対する蛍光体の付着量が増大する。
〔実施の形態４〕
本実施の形態は、実施の形態３と同様であるが、蛍光体形成時において、隔壁間の溝に塗布された蛍光体インキに、空気流以外の外力を加えて隔壁の側面に立ち上がらせる。
【００５３】
図１０に示すヘッダ４３においては、ノズル４４のすぐ後方にインキ撹拌ロッド４６が設けられている。なお、図中矢印Ａは走査方向を示す。
このヘッダ４３を用いる場合、ノズル４４から溝に充填された蛍光体インキ４８は、ロッド４６により隔壁の側面に押し付けられ、この側面に沿って立ち上げられるので、側面の上部にまで蛍光体インキが付着される。
【００５４】
なお、ロッド４６のインキ液面への浸入深さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或は蛍光体インキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。
また、図面による説明は省略するが、隔壁間の溝に蛍光体インキを塗布した後に、ロッドを走査する代わりに、隔壁に沿った方向に支持したワイヤを溝内に挿入して溝の中央部に充填されている蛍光体インキを押しのけて隔壁の側面に付着させることによっても同様の効果を得ることができる。
【００５５】
この他に、蛍光体インキを溝に塗布した後に、背面ガラス基板を振動させることによって、蛍光体インキを隔壁の側面に立ち上げたり、或は、背面ガラス基板を反転させて、蛍光体インキが重力により隔壁の側面を伝って流れるようにするといった方法を用いることもでき、同様の効果を期待することができる。
なお、上記実施の形態２〜４で説明した蛍光体層の形成工程において、背面ガラス基板を加熱しながら行うと、隔壁の側面に付着された蛍光体インキの溶剤成分が速く蒸発してインキ流動性がなくなるので、隔壁側面への蛍光体層の形成を更に良好に行うことができる。
【００５６】
この場合、背面ガラス基板の加熱温度は、２００℃以下とすることが望ましい。
〔実施の形態５〕
本実施の形態は、実施の形態１と同様であるが、蛍光体層の形成時において、蛍光体インキを架橋させた状態でノズルを走査する点が異なっている。
図１１は、本実施形態における蛍光体インキの塗布の様子を示す概略断面図である。
【００５７】
インキ塗布装置の構成は、図３のインキ塗布装置２０と同様であるが、走査時において、ノズル２４から吐出される蛍光体インキ５０が、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝の内面との間で表面張力によって架橋される状態を保ちながら走査を行う。
このようにインキを表面張力によって架橋する状態を保つために、ノズル２４とバックプレートとの距離を適切に保つことが必要であって、通常、この距離を５μｍ〜１ｍｍの範囲に設定することによって、安定した塗布を得る事ができる。 
【００５８】
ノズル２４の口径（ノズル径）は、隔壁の間隔やインキの吐出量によって最適値が存在するが、通常４５〜１５０μｍの範囲とすることが好ましい。
このようにインキを架橋しながらノズルを走査すれば、ノズル２４から吐出される蛍光体インキは、走査速度にかかわらず、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝に安定して連続塗布することができる。即ち、本実施の形態によれは、走査の速度を遅くしてもインキの連続流を形成できるため、高速で走査するための高価な装置は不要となる。
【００５９】
従って、安価なインキ塗布装置で均一な塗布を実現することができる。
また、ノズルと隔壁の側面との間でインキの架橋を形成しながら走査すれば、隔壁の側面の上部にもインキを付着させることができる。
蛍光体インキとしては、上記実施の形態１で説明したものと同様のものを用いればよいが、インキを架橋しない状態で塗布する場合は、高粘度の蛍光体インキや表面張力の大きい蛍光体インキをノズルから噴出しても連続流を形成することが難しいのに対して、本実施形態のように架橋を形成した状態で塗布すれば、比較的高粘度の蛍光体インキや表面張力の大きい蛍光体インキを用いても、連続流を形成することができる。
【００６０】
従って、使用する蛍光体インキの粘度や表面張力の制約が少なくなり、インキ材料の選択幅はより広いということができる。
なお、このように蛍光体インキを架橋しながら塗布する方法は、図４に示した複数のノズル２４を持つヘッダ２３を用いて行うことも可能である。
また、１つのヘッダに赤，青，緑の３つのインキ室及び各色のノズルを設けて３色の蛍光体インキを並行して塗布するような構成にすれば、一回の走査で３色の蛍光体インキを塗布することもできる。
【００６１】
ところで、蛍光体インキを安定して連続塗布するためには、インキの塗布を開始する前に、ノズル先端と背面ガラス基板１５の溝との間がインキで架橋された状態を形成することが望ましい。
この架橋形成の方法として、次のようなものが考えられる。
１．ノズルを走査する前に、背面ガラス基板１５の端部でノズルを一旦静止させて、ノズルからインキをある程度吐出することによって、ノズル先端と背面ガラス基板１５との間に架橋を形成する。
【００６２】
２．ノズル先端と背面ガラス基板１５の距離を走査時の距離よりも接近させた状態で、１．の架橋形成を行う。その後、走査時の距離に引き離して塗布を行う。３．まず、図１２に示されるように、背面ガラス基板１５の端部１５ｃにインキ６０を塗布しておく。
この塗布のために、端部１５ｃにインキ６０を塗布する機構をインキ塗布装置に別個に設けてもよいが、ノズル２４を端部１５ｃに位置させて、ノズルからインキを吐出することによって端部１５ｃに蛍光体インキ６０を塗布することができる。或は、背面ガラス基板１５をインキ塗布装置に装着する前に、別の装置や道具を用いて、端部１５ｃにインキ６０を塗布しておいてもよい。
【００６３】
次に、ノズル先端をインキ６０に接触させて架橋を形成する。引き続き、ノズルを走査させながらノズルからインキ吐出させて塗布する。この方法によれば、架橋の形成と塗布の動作を連続的に行うことができる。
〔実施の形態６〕
図１３は、本実施の形態における蛍光体インキの塗布の様子を示す図である。
【００６４】
本実施の形態は、実施の形態５と同様であって、蛍光体インキを架橋した状態で塗布するが、隔壁間の溝にノズルを挿入した状態で塗布を行う。
このように、ノズル２４を溝の中に挿入した状態で走査することにより、実施の形態５と同様、インキを架橋した状態で均一的に溝に塗布することができる。更に、ノズル２４が溝の中央部に存在するインキを押しのけ、隔壁の側面の上部にまでインキを付着させる働きもなすので、隔壁側面に蛍光体層を形成しやすい。
【００６５】
ノズル２４の外径は隔壁間の距離よりも小さいことはもちろんであるが、ノズル２４のインキ液面への浸入深さなどは、蛍光体インキの充填量や物性、或は蛍光体インキと隔壁との濡れ性などに応じて適宜調整する。
〔実施の形態７〕 
本実施形態のＰＤＰの構成及び製法は、実施の形態１のＰＤＰと同様であるが、隔壁１７及び蛍光体層１８の形成方法に違いがある。
【００６６】
即ち、本実施形態では、蛍光体インキの隔壁１７の側面に対する接触角が、９０°以下であって且つ凹部（溝）の底面に対する接触角よりも小さくなるように、隔壁を形成する材料を選択して隔壁１７を形成する。このように調整することによって、蛍光体インキが隔壁１７の側面に付着しやすくなる。
隔壁１７は、スクリーン印刷法などの方法で作製することができるが、以下に説明するように、溶射法によって形成することもできる。
【００６７】
図１４は、溶射法による隔壁の形成方法の説明図である。
まず、アドレス電極１６を形成した背面ガラス基板１５（図１４のＡ）の表面を、アクリル系感光樹脂でできたドライフィルム８１で覆う（図１４のＢ）。
フォトリソグラフィによって、このドライフィルム８１をパターニングする。即ち、ドライフィルム８１の上にフォトマスク８２を被せて、隔壁を形成しようとする部分だけに紫外光（ＵＶ）を照射し（図１４のＣ）、現像することによって、隔壁を形成する部分のドライフィルム８１を除去し、隔壁を形成しない部分だけにドライフィルム８１のマスクを形成する（図１４のＤ参照）。なお、現像は、１％程度のアルカリ水溶液（具体的には炭酸ナトリウム水溶液）中で行う。 
【００６８】
そして、これに隔壁の原材料であるアルミナとガラスの混合物をプラズマ溶射する。
図１５は、プラズマ溶射についての説明図である。
このプラズマ溶射装置９０では、陰極９１と陽極９２の間に電圧を印可して、陰極９１の先端にアーク放電を発生させ、その中にアルゴンガスとを送り込み、プラズマジェットを発生させる。そして、原材料（アルミナとガラスの混合物）の粉末をこの中に送り込んで、原材料をプラズマジェットの中で溶融して基板１５の表面に吹き付ける。これによって、基板１５の表面には、原材料の膜８４が形成される。
【００６９】
このようにして、膜８４が形成された基板１５（図１４のＥ）を、剥離液（水酸化ナトリウム溶液）に浸して、ドライフィルム８１のマスクを除去する（リフトオフ法）。これに伴って、原材料の膜８４の中、ドライフィルム８１のマスク上に形成された部分８４ｂは除去され、基板１５上に直接形成された部分８４ａだけが残り、これが隔壁１７となる（図１４のＦ）。
【００７０】
上述のように、蛍光体インキの基板１５に対する接触角よりも隔壁１７に対する接触角が小さくなるよう、アルミナとガラスの混合物で隔壁１７を形成することによって、隔壁の側面１７０ｂ（図１７のＡ参照）の蛍光体インキに対する吸着力を、凹部の底面１７０ａ（図１７のＡ参照）の蛍光体インキに対する吸着力よりも大きくすることができる。なお、隔壁の材料として、この他に、アルミナ、ジルコニア、ジルコニアとガラスとの混合物を用いても蛍光体インキに対する吸着力を同様に調整することが可能である。
【００７１】
図１６は、蛍光体層１８を形成する際に用いるインキ塗布装置１００の概略構成図である。
このインキ塗布装置１００は、図３のインキ塗布装置２０と同様の構成であって、ヘッダ１０３には、複数の突出したノズル２４が設けられており、蛍光体インキはインキ室１０３ａから各ノズル２４に分配されて連続的に吐出されるようになっている。
【００７２】
用いる蛍光体インキとしては、実施の形態１で説明したものと同様のものを用いればよいが、凹部の側面１７０ｂに付着しやすいような組成とするのが好ましく、バインダとしてエチルセルロースを０．１〜１０重量％用い、溶剤としてターピネオール（Ｃ10Ｈ18Ｏ）を用いると比較的良好な結果を得る。
また、これ以外に、用いる溶剤としてはジエチレングリコールメチルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事ができ、バインダーとしては、ＰＭＭＡやポリビニルアルコールなどの高分子を挙げる事ができる。
【００７３】
ノズル２４の口径は、隔壁１７間の溝幅Ｗよりも小さく、通常は１５０μｍ以下に、またノズルの目詰まりを防止するために４５μｍ以上に設定する。
このインキ塗布装置１００を用いて、以下のように、ノズル２４と凹部１７０の内面との間で蛍光体インキを架橋させながら蛍光体インキを塗布する。
まず、ヘッダ１０３を背面ガラス基板１５の端部に位置させ、ノズル２４と背面ガラス基板１５の凹部１７０の内面とを十分に接近させるか接触させて、ノズル２４から少量の蛍光体インキを吐出することによって、蛍光体インキの表面張力で架橋を形成する。
【００７４】
続いて、ヘッダ１０３を走査しながら、加圧ポンプ２２を作動してノズル２４から蛍光体インキを連続的に吐出することによって、背面ガラス基板１５の凹部１７０に蛍光体インキを塗布する。このとき、ノズル２４と底面１７０ａとの距離を小さく（通常１ｍｍ以下）維持し、背面ガラス基板１５の凹部１７０の内面とノズル２４の間に形成されている蛍光体インキの表面張力による架橋を維持しながら走査する。
【００７５】
なお、走査中は、ノズル２４と背面ガラス基板１５とが接触しないようにすることが望ましいが、背面ガラス基板１５の凹部１７０の表面には若干の凹凸が存在するので、ノズル２４と凹部１７０の底面１７０ａとの間隔を５μｍ以上とすることが望ましい。
走査時における加圧ポンプ２２の圧力は、凹部１７０への充填量及びノズル２４の走査速度に基づいて、適当な吐出量となるように調整する。
【００７６】
本実施形態では、数十ｍｍ／ｓ程度のゆっくりとした速度で走査を行い、加圧ポンプ２２の圧力を小さく設定して吐出量を小さくするが、蛍光体インキの架橋によって連続流が形成されるので、蛍光体インキを凹部１７０に均一的に塗布し、均一的な蛍光体層を形成することができる。
なお、凹部１７０の側面１７０ｂにも蛍光体インキを多く付着させるために、凹部１７０へ蛍光体インキの充填量は、凹部１７０の空間容積の８０％以上となるよう設定し、蛍光体インキ中の蛍光体の含有量を２０〜６０重量％の範囲に設定することが望ましい。
【００７７】
（効果についての説明）
図１７のＡは、本実施形態のように隔壁のインキに対する吸着力を調整した場合において、凹部に充填された蛍光体インキの乾燥過程を示す模式図である。
本実施形態では、凹部１７０の側面１７０ｂの蛍光体インキに対する吸着力が、底面１７０ａの蛍光体インキに対する吸着力より大きいために、乾燥中に蛍光体インキが底面１７０ａの方に落ちてしまうことがなく、凹部の側面１７０ｂにも付着して残る。
【００７８】
また、本図に示すように、蛍光体インキを凹部１７０の空間容積の８０％以上を占めるように充填すれば、蛍光体インキを側面１７０ｂに付着させる効果が顕著である。
一方、図１７のＢは、凹部の側面の蛍光体インキに対する吸着力が、底面の蛍光体インキに対する吸着力より小さい場合における、蛍光体インキの乾燥過程を示す模式図である。この場合、図に示すように、乾燥中に蛍光体インキが底面の方に落ちやすく、側面には残りにくい。
【００７９】
以上のように、本実施形態のＰＤＰの製造方法によれば、蛍光体層を隔壁に沿って均一に形成することができ、且つ凹部の側面にも蛍光体層を付着させることができる。従って、発光輝度の高いＰＤＰを作製することができる。
なお、隔壁１７の材料は、上記の材料に限られるものではなく、蛍光体インキの隔壁１７の側面に対する接触角が、凹部の底面に対する接触角よりも小さくなるように選択すればよい。ただし、蛍光体インキの隔壁１７の側面に対する接触角は９０°以下であることが、当該側面に対する良好な付着を得る上で好ましい。
【００８０】
また、本実施の形態においては、隔壁１７の材料として、蛍光体インキの隔壁１７に対する接触角が背面ガラス基板１５より小さくなるようなものを選択することによって、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対する吸着力が凹部底面の蛍光体インキに対する吸着力よりも小さくなるよう調整したが、蛍光体インキに対する吸着力は、蛍光体インキの表面に対する接触角のみならず、表面粗さにも影響される。即ち、表面粗さが大きいほど、蛍光体インキに対する吸着力が大きくなる。
【００８１】
従って、凹部の側面の表面粗さを凹部の底面の表面粗さより大きくすることによっても同様の効果を得ることができる。
この表面粗さの調整は、予め基板１５の表面を研磨して表面粗さを小さくしたり、溶射法で隔壁を形成するときのプラズマ溶射の条件（例えば、アルゴンガスの流量や印加電圧）を表面粗さが大きくなるように調整したり、スクリーン印刷法で隔壁を形成する場合には焼成温度を低くして表面粗さを大きくするといった方法で行うことができる。
【００８２】
また、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角を凹部の底面に対する接触角よりも小さくし、且つ、凹部の側面の表面粗さを底面の表面粗さよりも大きくすれば、効果はより顕著なものとなる。
なお、本実施の形態では、ノズルから蛍光体インキを架橋しながら塗布する場合について説明したが、他の塗布方式でも同様に実施できる。例えば、通常のインキジェット方式やスクリーン印刷法を用いた場合でも、凹部の側面の蛍光体インキに対する吸着力を底面の蛍光体インキに対する吸着力より大きくすれば、同様の効果を得る事ができる。
【００８３】
〔実施の形態８〕
本実施の形態のＰＤＰの製造方法は、実施の形態７と同様であるが、実施の形態７では、隔壁の材料を選択することによって、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角を凹部の底面に対する接触角よりも大きくしたのに対して、本実施の形態では、蛍光体インキの凹部の底面に対する接触角を大きくする被膜を形成することによって、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角を凹部の底面に対する接触角よりも大きく調整する。
【００８４】
このような凹部の底面への被膜の形成は、例えば、背面ガラス基板１５の表面にポリテトラフルオロエチレンをはじめとするフッ素樹脂を高温で溶融してスピンコート法で塗布し、背面ガラス基板１５上にアドレス電極１６と隔壁１７とを形成することによって行うことができる。
そして、このような被膜を形成した後、実施の形態７と同様に蛍光体インキを凹部に充填すれば、蛍光体インキの凹部の側面に対する接触角の方が底面に対する接触角よりも大きいので、上記図１７のＡに示すように、側面に蛍光体インキが多く付着する。
【００８５】
そして、これを焼成することによって、凹部の底面と側面とに良好な蛍光体層が形成される。なお、上記の被膜をフッ素樹脂のような有機化合物で形成した場合は、蛍光体層の焼成時に被膜が焼失されるので、出来上がったＰＤＰには被膜が残らない。
なお、本実施の形態では、インキジェット方式で塗布する場合について説明したが、塗布方式はこれに限らない。例えばスクリーン印刷法の場合でも、蛍光体ペーストの凹部の側面に対する接触角を底面に対する接触角より小さくすれば、同様の効果を得る事ができる。
【００８６】
〔実施の形態９〕 
図１８は、本実施の形態における蛍光体インキ塗布の様子を示す図である。本実施の形態におけるＰＤＰの製造方法は、実施の形態７の製造方法と同様であるが、背面ガラス基板１５に隔壁１７を形成した後、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸着性を、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対する吸着性よりも小さくし、その後に蛍光体インキを塗布する点が異なっている。
【００８７】
隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸着性を、隔壁１７の側面の蛍光体インキに対する吸着性よりも小さくする方法としては、図１８に示すように、隔壁１７の上面に撥水性材料からなる撥水膜１１０を形成する方法を挙げることができる。
この撥水膜１１０は、ポリテトラフルオロエチレンをはじめとするフッ素樹脂を隔壁１７の上面に塗布することによって形成することができる。
【００８８】
具体的には、実施の形態７で説明した溶射法による隔壁形成の工程において、基板１５に隔壁材料の膜８４を形成した後（図１４のＥの状態）、ドライフィルム８１のマスクを除去する前に、溶融したフッ素樹脂をスピンコート法で塗布すれば、隔壁１７の上面にフッ素樹脂からなる撥水膜１１０を形成することができる。
このように、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸着性を小さくすることによって、蛍光体インキを塗布するときに、隔壁の上面に蛍光体インキが付着するのを防止することができる。
【００８９】
従って、前面パネルと背面パネルとを張り合せて封着用ガラスで封着するときに、隔壁上面に付着した蛍光体で封着が妨げられるという問題を解消できる。また、撥水膜１１０は、蛍光体層の焼成時に焼失されるため、作製されたＰＤＰには残らない。
なお、隔壁１７の上面の蛍光体インキに対する吸着力を小さくする方法として、この他に、例えば隔壁１７の上面を研磨することによって、隔壁１７の上面の表面粗さを小さくする方法も挙げることができる。
【００９０】
なお、本実施の形態では、蛍光体をインキジェット方式で塗布する場合について説明したが、塗布する方式はこれに限らず、他の方式でも適用できる。例えばスクリーン印刷法で塗布する場合でも、隔壁の上面の蛍光体ペーストに対する吸着力を側面の蛍光体ペーストに対する吸着力より小さくすれば、同様の効果を得る事ができる。
〔実施の形態１０〕
本実施の形態は、基本的には上記実施の形態５と同じであるが、ノズルの外径が隔壁間の溝幅よりも大きく設定されている。
【００９１】
図１９は、本実施形態のインキ塗布装置の概略を示す断面図である。このインキ塗布装置１２０は、サーバ１２１内に蛍光体インキが入れられ、蛍光体粒子の沈殿が生じないように内部で混合撹拌されている。そして、サーバ１２１内の蛍光体インキは、図示しない加圧手段で加圧すると、ノズル１２２から吐出される。
また、サーバ１２１は、走査機構（不図示）によって、背面ガラス基板１５上の隔壁１７に沿って、図１９の表裏方向に走査できるようになっている。
【００９２】
走査時においては、ノズル１２２から吐出される蛍光体インキ１２３が、背面ガラス基板１５の隔壁間の溝の内面との間で表面張力によって架橋される状態を保ちながら走査を行う。
ノズル１２２の外径は、隔壁１７の間隔よりも大きく且つ隣の溝まではみ出さない程度に設定されている。こうすれば、隔壁１７とノズル１２２間の距離が比較的短くなるので、蛍光体インキが架橋しやすくなり、更に、背面ガラス基板１５のたわみ等によって塗布中にノズル先端と隔壁頂部とが接触したとしても、ノズル１２２の吐出口が閉塞しない。
【００９３】
蛍光体インキの架橋状態を維持するため、走査時のノズル１２２の先端と隔壁１７との距離は、１ｍｍ以下に設定することが好ましい。
〔実施の形態１１〕
本実施の形態は、実施の形態５と同様であるが、ノズルの先端の形状に違いがある。
図２０は、本実施の形態における蛍光体インキ塗布装置の要部概略図である。実施の形態５のノズル２４では先端の開口縁が背面ガラス基板１５の表面に対して平行であったのに対して、本実施形態のノズル１２４は、先端の開口縁が背面ガラス基板１５の表面に対して傾斜している。
【００９４】
このようなノズル１２４を用いても、実施の形態５と同様、インキを架橋した状態で均一的に溝に塗布することができる。
架橋しやすくするために、ノズル１２４の先端と背面ガラス基板の表面との距離は１ｍｍ以下に設定する。
ノズル１２４の先端を隔壁間の溝の中に挿入した状態で走査すれば、ノズル１２４が溝の中央部に存在するインキを押しのける働きをなすので、溝の側面にインキが付着しやすい。
【００９５】
また、ノズル１２４は、先端の開口面が傾斜しているので、背面ガラス基板１５のたわみ等によって塗布中にノズル先端と背面ガラス基板とが接触したとしても、ノズル１２４の吐出口が閉塞しないので安定してインキを連続塗布できる。背面ガラス基板の表面に対するノズル１２４の開口面の傾斜角は、１０°〜９０°の範囲とするのがよい。
なお、図２０のノズル１２４は、先端の開口面が傾斜しているが、ノズルの形状としては、開口縁端の少なくとも一部が、開口縁端の先端よりもガラス基板から離間した形状に形成されていれば、同様の効果を奏する。
【００９６】
例えば、次のようなの変形例を挙げることができる。
図２１に示すノズル１２５のように、ノズル先端が階段状に開口されたもの。 
図２２に示すノズル１２６のように、ノズルの途中が曲げられることによって、ノズルの先端の開口面１２６ａが背面ガラス基板１５の表面に対して傾斜しているもの。
図２３に示すノズル１２７のように、ノズルの先端に２方向に開口面１２７ａが形成され、各開口面が背面ガラス基板１５の表面１５ａ（１５ｂ）に対し傾斜を有しているもの。なお、図２３において、実線１５ａは、背面ガラス基板１５の表面がノズル１２７の先端に接触している様子を示し、１点鎖線１５ｂは、これが離れている様子を示している。
【００９７】
このようなノズル１２５〜１２７を用いても、背面ガラス基板１５の表面にノズルの先端を接したときに開口面が閉塞しないので、ノズルを背面ガラス基板１５の表面に接触させながら走査しても安定して連続的なインキ塗布を行うことが可能である。
〔実施の形態１２〕
図２４は、本実施の形態に係るＰＤＰの概略断面図である。このＰＤＰの構成及び製法は、上記実施の形態１のＰＤＰ（図１参照）と同様であるが、隔壁１７の間の溝に反射層１３０が配設され、その反射層１３０の上に蛍光体層１８が配設されている。このように反射層１３０を配設することによって、パネルの輝度を向上（１０〜２０％）させることができる。
【００９８】
反射層１３０の形成並びに蛍光体層１８は、上記実施の形態１の図３に示したようなインキ塗布装置を用いて、反射材インキ並びに蛍光体インキを塗布することによって形成する。
反射材インキは、反射材料とバインダーと溶剤成分とが調合されたものであって、反射材料としては、酸化チタンやアルミナなどの反射率の高い白色粉末を用いることができるが、特に、平均粒径５μｍ以下の酸化チタンが良好である。
【００９９】
本実施形態の反射層形成方法においては、上記実施の形態７，８で説明した蛍光体層の形成方法を反射層１３０の形成に適用して、隔壁１７の側面の反射材インキに対する吸着力が、凹部（溝）の底面の反射材インキに対する吸着力よりも大きくなるようにする。
即ち、隔壁１７の側面に対する反射材インキの接触角が凹部の底面に対する反射材インキの接触角よりも小さくなるよう、隔壁の材料を選択したり、隔壁１７の側面の表面粗さを凹部の底面の表面粗さより大きくしたりする。これによって、上記図１７のＡで説明したように、反射材インキが隔壁１７の側面に付着しやすくなるので、ＰＤＰの輝度の向上に寄与することになる。
【０１００】
反射材インキは、凹部の側面１７０ｂに付着しやすいようにするため、バインダとしてエチルセルロースを０．１〜１０重量％用い、溶剤としてターピネオール（Ｃ10Ｈ18Ｏ）を用いることが好ましい。
また、これ以外にも、好ましい溶剤としてジエチレングリコールメチルエーテルなどの有機溶剤や水を挙げる事ができ、バインダーとしては、ＰＭＭＡやポリビニルアルコールなどの高分子を挙げる事ができる。
【０１０１】
反射層の厚さを均一にするために、インキ粘度は低いこと（２５℃で１〜１０００センチポアズ）が望ましい。
また、凹部１７０の側面１７０ｂにも反射材インキを多く付着させるために、凹部１７０への反射材インキの充填量は、凹部１７０の空間容積の８０％以上となるよう設定し、反射材インキ中の反射材料の含有量を２０〜６０重量％の範囲に設定することが望ましい。
【０１０２】
〔実施の形態１３〕
本実施形態のＰＤＰの構成も、実施の形態１２のＰＤＰと同様であって、反射層１３０が配設されている（図２４参照）。また、製法も基本的に実施の形態１２で説明した方法と同様であるが、本実施形態では、隔壁１７の上面の反射材インキに対する吸着性を、隔壁１７の側面の反射材インキに対する吸着性よりも小さくする点が異なっている。
【０１０３】
反射材インキに対する吸着性の調整は、実施の形態９の図１８に示すように、隔壁１７の上面に撥水性材料からなる撥水膜１１０を形成することによって、隔壁の側面に対する反射材インキの接触角よりも、隔壁の上面に対する接触角を大きくすることによってなすことができる。
或は、隔壁側面の表面粗さより、隔壁上面の表面粗さを小さくすることによってもなすことができる。
【０１０４】
このようにして反射材インキを塗布すれば、隔壁の上面に反射材インキが付着しにくく、仮に付着したとしても、乾燥時に隔壁側面の方へ移動するので、隔壁の上面には反射材インキが残りにくい。
従って、前面パネルと背面パネルとを張り合せて封着用ガラスで封着するときに、隔壁上面に付着した反射材料によって封着が妨げられるという問題を解消できる。
【０１０５】
〔実施の形態１４〕
本実施形態のＰＤＰの構成は、実施の形態１２のＰＤＰと同様であって、反射層１３０が配設されている（図２４参照）
反射層１３０の形成並びに蛍光体層１８は、上記実施の形態１の図３に示したようなインキ塗布装置を用いて、反射材インキ並びに蛍光体インキを塗布することによって形成する。
【０１０６】
本実施の形態では、上記実施の形態５で説明した蛍光体層の形成方法を反射層１３０の形成に適用して、反射材インキを、表面張力によって架橋される状態でノズルを走査することによって隔壁間に連続的に塗布し、その後、これを乾燥して焼成することによって反射層１３０を形成する。
反射材インキの架橋状態を維持するため、走査時のノズルの先端と隔壁１７との距離は、０μｍ〜１ｍｍの範囲に設定することが好ましい。
【０１０７】
この反射層形成方法によれば、実施の形態５で説明したのと同様の効果、即ち、安価なインキ塗布装置で均一に反射材インキを塗布でき、広い範囲の粘度や表面張力の反射材インキを用いることができるという効果を奏する。
次に、このように形成した反射層１３０の上に、実施の形態５と同様の方法で蛍光体インキを塗布して蛍光体層１８を形成する。
【０１０８】
なお、反射層１３０は、上記の反射材インキを用いて、実施の形態６，１０，１１で説明した方法を応用して塗布することによっても形成することができ、これと同様の効果を奏する。
（その他の事項）
なお、上記実施の形態１〜１４では、ＡＣ型のＰＤＰを例にとって説明したが、ＡＣ型に限られず、隔壁がストライプ状に配設されたＰＤＰにおいても同様に実施することができる。
【０１０９】
また、上記実施の形態７，８，９，１２，１３のように、蛍光体インキや反射材インキに対する隔壁及び凹部底面の吸着力を調整することによってインキの付着状態を調整する技
術は、隔壁が井桁状に配設されたＤＣ型のＰＤＰにおいても適用することができ、同様の効果を奏する。
【実施例】
【０１１０】
（実施例１〜５）
実施の形態１に基づいて実施例１〜５のＰＤＰを作製した。
表１に、実施例１〜５で用いる電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキの組成並びにインキ粘度を掲載する。
実施例１〜５において、青色蛍光体としてはＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、緑色蛍光体としてはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、赤色蛍光体としては（ＹxＧｄ1-x）ＢＯ3：Ｅｕ3+を用いた。
【０１１１】
【表１】
2007173249.tif 000003
【０１１２】
表中の電極材インキ（銀インキ）に用いたガラスの組成は、酸化鉛（ＰｂＯ）７０重量％、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）１５重量％、酸化硼素（Ｂ2Ｏ3）１５重量％である。また、バインダとして用いたエチルセルローズの分子量は２０万、アクリル樹脂の分子量は１０万である。
実施例１では、ノズル径５０μｍのノズルを用い、ノズル先端と背面ガラス基板と距離を１ｍｍに保って走査しながら電極材インキを吐出して、電極幅６０μｍの電極１２，１６を形成した。
【０１１３】
隔壁１７の間隔（セルピッチ）は０．１５ｍｍに、高さは０．１５ｍｍに設定した。
放電ガスは、１０％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
実施例２〜５では、ノズル径４５μｍのノズルで、電極幅５０μｍで電極１２，１６を形成し、隔壁１７の間隔（セルピッチ）は０．１０６ｍｍ、高さ０．１０ｍｍに設定した。
【０１１４】
放電ガスは、２０％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力６００Ｔｏｒｒとした。
実施例１〜５のＰＤＰについて、放電維持電圧１５０Ｖ周波数３０ＫＨｚで放電させて輝度を測定した。なお、輝度測定の条件は、以下の実施例においても同様である。
紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。輝度の測定結果は、表１に示すような値であった。
【０１１５】
【表２】
2007173249.tif 000004
【０１１６】
表２に、以下の実施例６〜１３で用いる電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキの組成、インキ粘度並びにパネルの輝度測定結果を掲載した。
実施例６〜１３においても、青色蛍光体としてはＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、緑色蛍光体としてはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、赤色蛍光体としては（ＹxＧｄ1-x）ＢＯ3：Ｅｕ3+を用いた。
【０１１７】
（実施例６）
実施の形態２に基づき、表２のＮｏ．６に示した組成，粘度範囲の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【０１１８】
（実施例７）
実施の形態３に基づき、表２のＮｏ．７に示した組成，粘度範囲の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。
放電ガスは、６％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
【０１１９】
パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
（実施例８）
実施の形態５に基づき、表２のＮｏ．８に示した組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。
【０１２０】
蛍光体インキを塗布するときには、蛍光体インキの粘度は、２５℃で１０〜１０００センチポアズとし、ノズル径８０μｍのノズルを用い、０.５ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧すると、ノズルから蛍光体インキが吐出され、ノズルの先端部と隔壁１７間に蛍光体インキが表面張力によって架橋された。
ノズルの先端とバックプレートとの距離を１００μｍに保ちながら、背面ガラス基板１５を５０ｍｍ／ｓの速度で移動して走査することによって、蛍光体インキを連続的に隔壁間の溝に塗布することができた。
【０１２１】
なお、この条件ではインキの吐出量が少ないため、架橋を形成しない状態で蛍光体インキをこれと同じ吐出条件でノズルから吐出した場合には連続流は形成されない。
各色の蛍光体インキを塗布した後、約５００℃で１０分間焼成して蛍光体層を形成した。放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力６００Ｔｏｒｒとした。
【０１２２】
パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
（実施例９）
実施の形態６に基づき、上記表２のＮｏ．９に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。
【０１２３】
隔壁の高さは１２０μｍに設定した。蛍光体インキを塗布するときには、ノズル先端と背面ガラス基板１５との距離を２０μｍに設定した。蛍光体インキの粘度は、２５℃で１０〜１０００センチポアズとした。放電ガスは、１０％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【０１２４】
（実施例１０）
実施の形態７に基づいて、上記表２のＮｏ．１０に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰを作製した。ＰＤＰの作製を行った。
背面パネルの隔壁は、アルミナとガラスの混合物を用いて形成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍとした。
【０１２５】
形成した隔壁の側面１７０ｂ及び凹部１７０の底面１７０ａに対する蛍光体インキの接触角を目視で測定した。また、表面粗さを、ＪＩＳ規格の表面粗さ測定法（十点平均粗さ）に従って測定した。
蛍光体インキの側面１７０ｂに対する接触角が約８°で、側面１７０ｂの表面粗さが約５μｍであり、蛍光体インキの底面１７０ａに対する接触角が約１３°で、底面１７０ａの表面粗さが約０．５μｍであった。
【０１２６】
ノズル４４はノズル径が８０μｍのものを用い、走査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距離は１００μｍに設定し、０．５ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧しながら５０ｍｍ／ｓの速度で走査することにより、蛍光体インキを凹部の空間容積の約９０％に充填されるよう塗布した。
各色の蛍光体インキを充填し乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによって、蛍光体層を形成した。
形成した各色蛍光体層の断面形状をＳＥＭで観察したところ、凹部の底面での平均は厚さ約２０μｍ、側面での平均厚さは約２５μｍで、均一的に蛍光体層が形成されていることが確認された。
【０１２７】
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力８００Ｔｏｒｒとした。パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
（実施例１１）
実施の形態９に基づいて、上記表２のＮｏ．１１に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
【０１２８】
背面パネルの隔壁は、アルミナを用いて形成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍであって、隔壁の上面に、ポリテトラフルオロエチレンからなる撥水膜を形成した。
形成した隔壁の側面に対する蛍光体インキの接触角は約５°であった。また、隔壁の上面の撥水膜に対する蛍光体インキの接触角は約３０°であった。
【０１２９】
ノズルはノズル径が１００μｍのものを用い、走査時においては、ノズル先端と凹部の底面との距離は１００μｍに設定し、０．７ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧しながら１００ｍｍ／ｓの速度で走査することにより、蛍光体インキを凹部の空間容積の約９０％に充填されるよう塗布した。
各色の蛍光体インキを塗布して乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによって、蛍光体層を形成した。
【０１３０】
形成した各色蛍光体層の断面形状をＳＥＭで観察したところ、凹部の底面だけでなく側面にも、平均厚さ約２０μｍで均一的に蛍光体層が形成されていることが確認された。
また、通常、このような比較的直径の大きなノズルを用いた場合、インキ注入中に隔壁の上部にもインキが付着しやすいが、本実施例では、蛍光体が隔壁の上面に付着することはなかった。これは、隔壁上面の蛍光体インキに対する吸着力が、隔壁側面より小さいため、隔壁上面に付着したインキが乾燥とともに隔壁側面へ移動したためと考えられる。
【０１３１】
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。  パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
なお、本実施例のＰＤＰ作製方法において、隔壁の上面に撥水膜を形成する代わりに、隔壁の上面を研磨してその表面粗さを小さくした（隔壁の側面の表面粗さは約５μｍで、隔壁の上面の表面粗さは約０．５μｍ）場合も、隔壁の上面に蛍光体が付着することなく、凹部に蛍光体層を均一に塗布することができた。
【０１３２】
（実施例１２）
実施の形態１０に基づいて、上記表２のＮｏ．１２に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
隔壁１７の間の距離は１１０μｍである。ノズル１２２は、内径８０μｍ、外径１２０μｍのものを用い、走査時におけるノズル１２２の先端と隔壁１７頂部との距離は２０μｍに設定した。
【０１３３】
蛍光体インキは、せん断速度２００ｓｅｃ-1における粘度を１０〜１０００センチポアズに調合してサーバ１２１に入れた。そして、０.５ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧すると、ノズル１２２から蛍光体インキ１２３が吐出され、ノズル１２２の先端部と隔壁１７間に蛍光体インキ１２３が表面張力によって架橋された。
この状態で、背面ガラス基板１５を５０ｍｍ／ｓの速度で移動して走査することによって、蛍光体インキを連続的に隔壁間の溝に塗布することができた。
【０１３４】
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。  パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
（実施例１３）
実施の形態１１に基づいて、上記表２のＮｏ．１３に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ）及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
【０１３５】
隔壁１７間の距離を１１０μｍ、ノズル１２４の内径６０μｍ、外径１００μｍ、背面ガラス基板の表面に対するノズル１２４の開口面の傾斜を４５°とし、ノズル１２４の先端と背面ガラス基板１５の表面との距離を２０μｍに設定した。
これにより、蛍光体インキを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することができた。
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。  パネル輝度は表２に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【０１３６】
表３に、以下の実施例１４〜１７で用いる電極材インキ（Ａｇインキ）、反射材インキ、蛍光体インキの組成、インキ粘度並びにパネルの輝度測定結果を掲載する。
【０１３７】
【表３】
2007173249.tif 000005
【０１３８】
実施例１４〜１７においても、青色蛍光体としてはＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、緑色蛍光体としてはＺｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、赤色蛍光体としては（ＹxＧｄ1-x）ＢＯ3：Ｅｕ3+を用いた。
（実施例１４）
実施の形態１２に基づいて、上記表３のＮｏ．１４に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
【０１３９】
隔壁は、アルミナとガラスの混合物で形成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍとした。
反射材インキは、反射材料として平均粒径３μｍの酸化チタンを４５重量％、バインダーとしてエチルセルロースを１．８重量％、溶剤としてターピネオールを５３．２重量％用い、粘度は２５℃で５０センチポアズに調整した。
【０１４０】
反射材インキの隔壁に対する接触角は約８°であった。また、凹部の底面（背面ガラス基板１５）に対する接触角は約１３°であった。
ノズルはノズル径が８０μｍのものを用い、走査時のノズル先端と背面ガラス基板１５との距離は１００μｍに設定した。
０.５ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧すると、ノズルから反射材インキが吐出され、架橋が形成された。この状態で背面ガラス基板を隔壁の方向に走査することにより、インキを連続的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを凹部の空間容積の約９０％充填されるよう塗布した。
【０１４１】
塗布した反射材インキを乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによって反射層を形成した。
形成された反射層の断面塗布形状をＳＥＭで観察したところ、反射材料は溝の底面だけでなく隔壁側面にも厚さ約２０μｍで均一に塗布されていることが確認された。
そして、この反射層の上に、これと同様の方法で蛍光体インキを塗布して蛍光体層を形成した。
【０１４２】
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。  パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
なお、本実施例では、反射材インキの隔壁に対する接触角が小さくなるように調整したが、表面粗さが約０．５μｍの背面ガラス基板１５に対して、表面粗さが約５μｍのガラス隔壁を形成したものを用い、隔壁間の溝に反射材インキを塗布した場合にも、これと同様、隔壁の側面上にも厚さ２０μｍの均一な反射層を形成することができた。
【０１４３】
（実施例１５）
実施の形態１３に基づいて、上記表３のＮｏ．１５に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
隔壁はアルミナで形成し、ピッチ１４０μｍ、幅３０μｍ、高さ１２０μｍとした。隔壁上面には、ポリテトラフルオロエチレンからなる撥水膜を形成した。 
【０１４４】
反射材インキは、反射材料として粒径０．５μｍのアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）を４５重量％、バインダーとしてポリビニルアルコールを１．０重量％、溶剤として水を５４重量％用い、粘度は２５℃で１００センチポアズに調整した。
反射材インキの隔壁側面に対する接触角は約５°、また、反射材インキの隔壁上部に対する接触角は約３０°であった。
【０１４５】
ノズルは、ノズル径が１００μｍのものを用い、走査時におけるノズル先端と隔壁との距離を１００μｍに設定した。
加圧器により０.７ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧すると、ノズルから反射材インキが吐出され架橋した。この状態で背面パネル基板を１００ｍｍ／ｓの速度で隔壁に沿った方向に走査することにより、反射材インキを連続的に隔壁間の溝に注入し、反射材インキを溝の容積の約９０％に充填されるよう塗布した。
【０１４６】
塗布した反射材インキを乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによって反射層を形成した。
このような比較的直径の大きなノズルを用いた場合、通常は、インキ注入中に隔壁上部にインキが残りやすいが、本実施例の方法で反射層を形成した後、その断面塗布形状をＳＥＭで観察したところ、反射材料は隔壁上面には付着することなく、溝の内面に厚さ約２０μｍで均一に塗布されていることが確認された。
【０１４７】
そして、この反射層の上に、実施例１０と同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【０１４８】
なお、本実施例では、反射材インキの隔壁に対する接触角が小さくなるように調整したが、ガラス隔壁の側面の表面粗さを約５μｍ、ガラス隔壁の上面の表面粗さを約０．５μｍに形成し、隔壁間の溝に反射材インキを塗布した場合にも、これと同様、隔壁の側面上にも厚さ２０μｍの均一な反射層を形成することができた。
（実施例１６）
実施の形態１４に基づいて、上記表３のＮｏ．１６に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
【０１４９】
隔壁間の距離は１１０μｍとし、ノズルは、内径８０μｍ、外径１２０μｍのものを用い、ノズルの先端と隔壁頂部との距離は２０μｍに設定した。
反射材インキは、反射材料として平均粒径０．５〜５μｍの酸化チタンを３０〜６０重量％、バインダーとしてエチルセルロースを０．１〜１０重量％、溶剤としてターピネオールを３０〜６０重量％用い、粘度は２５℃で１０〜１０００センチポアズに調整した。
【０１５０】
加圧器により０.５ｋｇｆ／ｃｍ2で加圧すると、ノズルから反射材インキが吐出され、ノズルの先端部と隔壁１７の側面との間に反射材インキが表面張力によって架橋された。
この状態で、背面ガラス基板１５を５０ｍｍ／ｓの速度で移動して走査することによって、反射材インキを連続的に隔壁間の溝に塗布することができた。
乾燥した後、約５００℃で１０分間焼成することによって、反射層を形成することができた。
【０１５１】
そして、この反射層の上に、実施例１０と同様の方法で蛍光体層を形成した。 
放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【０１５２】
（実施例１７）
実施の形態１４に基づいて、上記表３のＮｏ．１７に示す組成の電極材インキ（Ａｇインキ），反射材インキ及び蛍光体インキを用いてＰＤＰの作製を行った。
用いた反射材インキは上記実施例１６と同様のものであるが、実施例１３と同様の開口面が傾斜して形成されたノズル１２４（図２０参照）を用いて塗布した。
【０１５３】
即ち、隔壁１７間の距離を１１０μｍ、ノズル１２４の内径６０μｍ、外径１００μｍ、背面ガラス基板の表面に対するノズル１２４の開口面の傾斜を４５°とし、ノズル１２４の先端と背面ガラス基板１５の表面との距離を２０μｍに設定した。 これにより、反射材インキを連続的に安定して隔壁間の溝に塗布することができた。
そして、この反射層の上に、実施例１０と同様の方法で蛍光体層を形成した。放電ガスは、５％のキセノン（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを用い、封入圧力５００Ｔｏｒｒとした。
【０１５４】
パネル輝度は表３に示す通りであり、紫外線の波長は、主に１７３ｎｍを中心とするＸｅの分子線による励起波長であった。
【産業上の利用可能性】
【０１５５】
本発明は、微細なセル構造のＰＤＰを製造するのに有効な技術であるので、ハイビジョンデレビに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】本発明の一実施の形態に係る交流面放電型ＰＤＰの概略断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係るＰＤＰの概略駆動ブロック図である。
【図３】実施の形態１で、放電電極，アドレス電極及び蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図である。
【図４】上記インキ塗布装置の一例を用いた充填動作を示す斜視図である。
【図５】実施の形態２で蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構成図である。
【図６】図５のインキ塗布装置の動作を示す部分拡大斜視図である。
【図７】実施の形態２における蛍光体インキの塗布方法の効果を説明する図である。
【図８】実施の形態３における蛍光体インキの塗布方法を説明する図である。
【図９】実施の形態３における蛍光体インキの塗布方法を説明する図である。
【図１０】実施の形態４における蛍光体インキの塗布方法を説明する図である。
【図１１】実施の形態５における蛍光体インキの塗布の様子を示す概略断面図である。
【図１２】実施の形態５におけるインキの架橋形成方法の一例を示す図である。
【図１３】実施の形態６における蛍光体インキの塗布の様子を示す図である。
【図１４】溶射法による隔壁の形成方法の説明図である。
【図１５】プラズマ溶射についての説明図である。
【図１６】実施の形態７に係るインキ塗布装置の概略構成図である。
【図１７】実施の形態８の製造方法で、凹部に充填された蛍光体インキの乾燥過程を示す模式図、並びにその比較図である。
【図１８】実施の形態９における蛍光体インキ塗布の様子を示す図である。
【図１９】実施の形態１０のインキ塗布装置の概略を示す断面図である。
【図２０】実施の形態１１における蛍光体インキ塗布装置の要部概略図である。
【図２１】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示す図である。
【図２２】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示す図である。
【図２３】実施の形態１１におけるノズルの変形例を示す図である。
【図２４】実施の形態１２に係るＰＤＰの概略断面図である。
【図２５】従来のスクリーン印刷法で蛍光体ペーストを隔壁間の凹部に塗布する様子を示す図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１１  前面ガラス基板
１２  放電電極
１３  誘電体ガラス層
１４  保護層
１５  背面ガラス基板
１６  アドレス電極
１７  隔壁
１８  蛍光体層
１９  放電空間
２０  インキ塗布装置
２１  サーバ
２２  加圧ポンプ
２３  ヘッダ
２４  ノズル
３３  ヘッダ
３３ａ  インキ室
３３ｂ  空気室
３４  ノズル
３６  空気噴射ノズル
４３  ヘッダ
４４  ノズル
４６  インキ撹拌ロッド
９０  プラズマ溶射装置
１００  インキ塗布装置
１１０  撥水膜
１２０  インキ塗布装置
１２２  ノズル
１２４〜１２７  ノズル
１３０  反射層
１７０  凹部
１７０ａ  凹部の底面
１７０ｂ  凹部の側面
【図１】
2007173249.tif 000006
【図２】
2007173249.tif 000007
【図３】
2007173249.tif 000008
【図４】
2007173249.tif 000009
【図５】
2007173249.tif 000010
【図６】
2007173249.tif 000011
【図７】
2007173249.tif 000012
【図８】
2007173249.tif 000013
【図９】
2007173249.tif 000014
【図１０】
2007173249.tif 000015
【図１１】
2007173249.tif 000016
【図１２】
2007173249.tif 000017
【図１３】
2007173249.tif 000018
【図１４】
2007173249.tif 000019
【図１５】
2007173249.tif 000020
【図１６】
2007173249.tif 000021
【図１７】
2007173249.tif 000022
【図１８】
2007173249.tif 000023
【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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