(57)【要約】【課題】  ステージの清掃作業を簡単にするだけでなく、ステージからガラスを持ち上げるときに発生する静電気を最小化するディスペンサステージのガラス吸着構造を提供する。【解決手段】  本発明によるディスペンサステージのガラス吸着構造は、ガラスなどの板が載置され、内部に流路が形成されたステージと、前記ステージの流路に連結されて該ステージの流路に吸入圧を作用する真空発生手段とを含むディスペンサにおいて、ガラスなどの板が載置されるステージの面に該ステージの流路に連通して形成されて吸入力が作用する複数の吸着孔と、該吸着孔の列の間に傾斜面を有して形成されて前記ガラスとの接触面積を減少させると共に、パーティクルの排出を円滑にする傾斜溝とを備える。【選択図】    図２
2007090322.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスを含む材質からなる板（以下、「ガラス」という）が載置され、内部に流路が形成されたステージと、前記ステージの流路に連結されて該ステージの流路に吸入圧を作用する真空発生手段とを含むディスペンサにおいて、
ガラスなどの板が載置されるステージの面に該ステージの流路に連通して形成される複数の吸着孔と、
前記吸着孔の列の間に傾斜面を有して形成されて前記ガラスとの接触面積を減少させると共に、パーティクルの排出を円滑にする傾斜溝と
を備えることを特徴とするディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項２】
前記傾斜溝は、２つの傾斜面を有することを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項３】
前記２つの傾斜面は、それぞれ平面であることを特徴とする請求項２に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項４】
前記２つの傾斜面は、それぞれ曲面であることを特徴とする請求項２に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項５】
前記傾斜溝間の間隔は、該傾斜溝間に位置する吸着孔の内径の２倍以上４倍以下であることを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項６】
前記傾斜溝の両側の縁部の線がそれぞれ前記吸着孔と接することを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項７】
前記傾斜溝は、２つの傾斜面と、該２つの傾斜面の間に形成された曲面とから構成されることを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項８】
前記傾斜溝は、２つの傾斜面と、該２つの傾斜面の間に形成された平面とから構成されることを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項９】
前記２つの傾斜面は、鈍角をなすことを特徴とする請求項２又は８に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項１０】
前記傾斜溝は、吸着孔の横列と縦列に沿って横方向と縦方向に形成され、吸着孔の縁部に該吸着孔と同心円の接触面が備えられたことを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【請求項１１】
前記ステージは、所定厚さ及び面積を有するステージベースと、該ステージベースの一面に結合される複数のブロックとから構成され、前記複数のブロックに前記吸着孔及び傾斜溝が形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスペンサステージのガラス吸着構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶のディスペンサに関し、特に、ステージの清掃作業を簡単にすると共に、そのステージからガラスを持ち上げるときに発生する静電気を最小にするディスペンサステージのガラス吸着構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＬＣＤは、板ガラスにトランジスタのような駆動素子などが備えられた下部基板と、板ガラスにカラーフィルタ層などが備えられた上部基板と、前記下部基板と上部基板を貼り合わせるシール材と、前記下部基板と上部基板間に充填された液晶層とから構成される。
【０００３】
このようなＬＣＤは、下部基板に形成された駆動素子により液晶層の液晶分子を駆動させ、その液晶分子の駆動により前記液晶層を透過する光量を制御することで情報を表示する。
【０００４】
前記ＬＣＤの製造方法の１つを説明すると、まず、所定サイズのガラスに駆動素子などを形成し、他のガラスにカラーフィルタ層などを形成する。そして、これら２枚のガラスのどちらかにシール材を所定パターンで塗布し、そのシール材のパターンの内側領域に液晶を滴下した後、前記２枚のガラスを貼り合わせる。この２枚のガラスを貼り合わせたものをマザーガラスという。前記マザーガラスを切断してＬＣＤを構成する単位液晶パネルを製造する。
【０００５】
このようなＬＣＤ製造方法は、それぞれの機能を有する製造装備が配列された製造ラインで行われ、特に、液晶滴下工程及びシール材塗布工程は、ディスペンサにより行われる。
【０００６】
図１０は、ディスペンサの一例を示す斜視図であり、図１０に基づいてディスペンサがガラスに液晶を滴下する動作を説明する。
【０００７】
まず、フレーム１００上に直線往復運動可能に設置されるステージ２００の上にガラスＧが載置される。次に、予め入力されたパターンによりステージ２００の上側に位置するヘッドユニット３００のノズル３１０から液晶を滴下し、ノズル３１０から滴下された液晶はステージ２００上に載置されたガラスＧに前記入力されたパターン通りパターニングされる。
【０００８】
ヘッドユニット３００に備えられたノズル３１０は、フレーム１００の上部に直線往復移動可能に装着されたヘッド支持台４００の移動、及び該ヘッド支持台４００に直線往復移動可能に装着されたヘッドユニット３００の移動により、予め入力されたパターンで移動し、ヘッド支持台４００の移動方向とヘッドユニット３００の移動方向は直交する。
【０００９】
符号５００はガイド部材であり、符号６００は固定テーブルである。
【００１０】
一方、前記ディスペンサのステージ２００に載置されたガラスＧは、作業中の移動を防止するために空気の吸入圧力によりステージ２００に吸着される。以下、ガラスＧがステージ２００に吸着される従来の構造の一例を説明する。
【００１１】
図１１及び図１２は、従来のディスペンサステージのガラス吸着構造の一例を備えるステージを示す平面図及び正面図である。
【００１２】
図面に基づいて説明すると、まず、ディスペンサのステージ２００は、所定厚さ及び面積を有して形成される。ステージ２００の上面は平面であり、その上面にガラスＧが載置される。また、ステージ２００の側面には所定間隔を置いて複数のメイン貫通孔２１０が形成され、ステージ２００の上面にはメイン貫通孔２１０に沿って該メイン貫通孔２１０に連通するように複数の微細な吸着孔２２０が形成され、ステージ２００の下面には流路（以下、「メイン貫通孔」という）２１０にそれぞれ連通する真空孔２３０が形成される。
【００１３】
メイン貫通孔２１０の両端は密閉され、吸着孔２２０は各メイン貫通孔２１０に沿って複数形成される。真空孔２３０は、別途に設置された真空発生手段（図示せず）に連通する。
【００１４】
このような構造は、ステージ２００上にガラスＧが載置されると、前記真空発生手段が作動して空気を吸入し、その真空発生手段の吸入力が真空孔２３０、メイン貫通孔２１０、及び吸着孔２２０を介してガラスＧに作用する。その吸入力がガラスＧに作用することにより、ガラスＧがステージ２００の上面に密着固定される。
【００１５】
さらに、ステージ２００上に密着固定されたガラスＧの上に液晶を滴下する工程が終了すると、前記真空発生手段の動作が停止し、その真空発生手段の動作の停止  により、ガラスＧに作用する吸入力が除去されてガラスＧは移動可能になる。ステージ２００上に載置されたガラスＧは、次の工程のために別途の移送ロボット（図示せず）により移送される。
【００１６】
このような構造は、ガラスＧが載置されるステージ２００の上面が平面であるため、ステージ２００の上面の清掃が非常に容易であり、清掃後に残留するパーティクルの量が極めて少ない。それに対して、ステージ２００の上面が平面であるため、ステージ２００とガラスＧとの接触面積が広くなり、よって、ステージ２００上に載置されたガラスＧを移送ロボットが持ち上げるとき、ステージ２００とガラスＧ間に大きな静電気が発生する。前記静電気は、ガラスＧにクラックを生じさせたり、半導体工程などによりガラスＧ上に形成された回路又はカラーフィルタなどを破損させるという問題があった。
【００１７】
図１３は、このような問題を補完した従来のディスペンサステージのガラス吸着構造の他の例である。図１３に示すように、ガラスＧが載置されるステージ２００の上面に所定深さ、幅、長さを有する複数の溝２４０が形成される。溝２４０の断面形状は四角形である。
特許文献１には、このような溝として凹形溝を設けることが開示されている。
このような構造は、ステージ２００とガラスＧ間の接触面積の減少により、ステージ２００からガラスＧを持ち上げるときの静電気の発生は減少させるが、ステージ２００の上面に四角形の断面を有する溝２４０が形成されるので、ステージ２００の清掃作業が不便であり、パーティクルの残留量が多いという問題があった。
【特許文献１】特開２０００−２２１４７９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、このような問題を解決するために提案されたもので、本発明の目的は、ステージの清掃作業を簡単にするだけでなく、ステージからガラスを持ち上げるときに発生する静電気を最小化するディスペンサステージのガラス吸着構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
このような目的を達成するために、本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造は、ガラスなどの板が載置され、内部に流路が形成されたステージと、前記ステージの流路に連結されて該ステージの流路に吸入圧を作用する真空発生手段とを含むディスペンサにおいて、ガラスなどの板が載置されるステージの面に該ステージの流路に連通して形成される複数の吸着孔と、前記吸着孔の列の間に傾斜面を有して形成されて前記ガラスとの接触面積を減少させると共に、パーティクルの排出を円滑にする傾斜溝とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造は、ガラスとステージ間の静電気発生を最小化することにより、静電気によりガラスにクラックが発生することを防止し、ガラスに形成された回路の破損を防止するので、ガラスの不良率を低減するという効果がある。
【００２１】
また、ステージに残留するパーティクルの量を最小化することにより、ステージに載置されるガラスにパーティクルが付着することを防止し、よって、ガラスの不良率を減らすという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の実施形態を図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００２３】
図１及び図２は、本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の一実施形態を備えたディスペンサステージの一例を示す平面図及び正面図である。
【００２４】
図示されたように、まず、ディスペンサステージ７００は、所定厚さ及び面積を有して形成される。
【００２５】
ステージ７００の側面には所定間隔を置いて複数の流路（以下、「メイン貫通孔」という）７１０が形成され、ガラスＧが載置されるステージ７００の上面にはメイン貫通孔７１０に沿ってそのメイン貫通孔７１０に連通するように複数の微細な吸着孔７２０が形成され、ステージ７００の下面にはメイン貫通孔７１０にそれぞれ連通する真空孔７３０が形成される。
【００２６】
また、ステージ７００の上面に吸着孔７２０の列の間には２つの傾斜面７４１を有する傾斜溝７４０が形成される。傾斜溝７４０は、ステージ７００の両側面を連通するように形成され、その傾斜溝７４０を形成する２つの傾斜面７４１は平面で、前記２つの傾斜平面は鈍角をなすことが好ましい。吸着孔７２０の列の両側に位置する傾斜溝７４０と傾斜溝７４０間の間隔は、吸着孔７２０の内径の２倍以上４倍以下であることが好ましい。
【実施例２】
【００２７】
傾斜溝の他の実施形態として、傾斜溝７４０’は、図３に示すように、２つの傾斜面７４１’、７４１’と両傾斜面７４１’、７４１’間に形成された曲面７４２とを備える。すなわち、２つの傾斜面７４１が形成され、その２つの傾斜面７４１の接触部分に曲面７４２が形成される。
【実施例３】
【００２８】
傾斜溝のさらに他の実施形態として、傾斜溝７４０”は、図４に示すように、２つの傾斜面７４１”、７４１”とその２つの傾斜面７４１”、７４１”間に所定幅を有して形成された平面７４３とを備える。
【実施例４】
【００２９】
傾斜溝のさらに他の実施形態として、傾斜溝７４０’’’は、図５に示すように、２つの曲面７４４により形成される。すなわち、傾斜溝７４０’’’の断面形状は半円状になる。
【実施例５】
【００３０】
ガラスＧと該ガラスＧが載置されるステージ７００の上面との接触面積を最小化するために、図６に示すように、傾斜溝７４０と傾斜溝７４０間の間隔Ｗを、傾斜溝７４０を構成する２つの傾斜面７４１の縁部の線が吸着孔７２０の周縁と接するように設定することもできる。この場合は、傾斜溝７４０間の間隔Ｗが吸着孔７２０の内径Ｄと同一である。
【００３１】
メイン貫通孔７１０の両端は密閉され、真空孔７３０は別途に設置された真空発生手段（図示せず）に連結される。
【実施例６】
【００３２】
一方、ステージ７００の変形例として、ステージ７００は、図７に示すように、所定厚さ及び面積を有するステージベース７５０と、該ステージベース７５０の一面に結合される複数のブロック７６０とから構成され、複数のブロック７６０には吸着孔７２０及び傾斜溝７４０が形成される。また、ステージベース７５０の側面には複数のメイン貫通孔７１０が形成され、ステージベース７５０の下面にはメイン貫通孔７１０と連通する真空孔７３０が形成される。吸着孔７２０は、ブロック７６０とそのブロック７６０に接面するステージベース７５０の上面とに形成される。
【実施例７】
【００３３】
図８及び図９に示すように、本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の他の実施形態は、ガラスＧなどの板が載置されるステージ７００の面に吸入力が作用する複数の吸着孔７２０が形成され、吸着孔７２０の横列及び縦列に沿ってその吸着孔７２０間に傾斜溝７４０が横方向及び縦方向に形成される。また、その吸着孔７２０の縁部に吸着孔７２０と同心円の環状接触面７７０が備えられる。円形接触面７７０は、ステージ７００の上面の一部分である。
【００３４】
以下、本発明に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の作用を説明する。
【００３５】
まず、ステージ７００の上にガラスＧが載置されると、前記真空発生手段が動作して空気を吸入し、真空発生手段の吸入力が真空孔７３０、メイン貫通孔７１０、及び吸着孔７２０を介してガラスＧに作用する。前記吸入力がガラスＧに作用することにより、ガラスＧはステージ７００に密着固定される。ここで、ガラスＧは、ステージ７００の上面のうち、傾斜溝７４０の間の接触面に接触して支持される。
【００３６】
また、ステージ７００上に密着固定されたガラスＧの上に液晶を滴下する工程が終了すると、前記真空発生手段の動作が停止し、真空発生手段の動作の停止により、ガラスＧに作用した吸入力が除去されてガラスＧがステージ７００上を移動可能になる。ステージ７００上に載置されたガラスＧは、次の工程のために別途の移送ロボット（図示せず）により移送される。
【００３７】
特に、本発明の実施例７の場合は、ステージ７００の吸着孔７２０の縁部にその吸着孔７２０と同心円で形成された円形接触面７７０とガラスＧが接触する。
【００３８】
このように本発明では、ステージ７００に吸着孔７２０を形成し、ステージ７００の上面に傾斜面７４１を有する傾斜溝７４０を形成することにより、ガラスＧとステージ７００との接触面積が最小になり、よって、ガラスＧをステージ７００から持ち上げるときに発生するガラスＧとステージ７００間の静電気を最小にし得る。さらに、傾斜溝７４０が２つの傾斜面７４１を有して形成されるので、ステージ７００の清掃作業が容易になり、傾斜溝７４０にパーティクルが残留することを防止する。
【００３９】
特に本発明の実施例７の場合、ガラスＧがステージ７００の吸着孔７２０と同心円の円形接触面７７０と接触するので、ガラスＧをステージ７００から持ち上げるときにガラスＧとステージ７００間に発生する静電気をさらに低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施例１に係るディスペンサステージのガラス吸着構造を示す平面図である。
【図２】本発明の実施例１に係るディスペンサステージのガラス吸着構造を示す正面図である。
【図３】本発明の実施例２に係るディスペンサステージのガラス吸着構造を構成する傾斜溝の変形例を示す正面図である。
【図４】本発明の実施例３に係るディスペンサステージのガラス吸着構造を構成する傾斜溝の変形例を示す正面図である。
【図５】本発明の実施例４に係るディスペンサステージのガラス吸着構造を構成する傾斜溝の変形例を示す正面図である。
【図６】本発明の実施例５に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の一部分を示す拡大平面図である。
【図７】本発明の実施例６に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の実施形態を示す平面図である。
【図８】本発明の実施例７に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の実施形態を示す平面図である。
【図９】本発明の実施例７に係るディスペンサステージのガラス吸着構造の実施形態を示す正面図である。
【図１０】ディスペンサの一例を示す斜視図である。
【図１１】従来のディスペンサステージのガラス吸着構造の一例を示す平面図である。
【図１２】従来のディスペンサステージのガラス吸着構造の一例を示す正面図である。
【図１３】従来のディスペンサステージのガラス吸着構造の他の例を示す正面図である。
【符号の説明】
【００４１】
７００：ステージ
７２０：吸着孔
７４０：傾斜溝
７４１：傾斜面
７４２：曲面
７４３：平面
７５０：ステージベース
７６０：ブロック
Ｇ：ガラス
【図１】
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【図２】
2007090322.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007090322.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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