(57)【要約】【課題】表面平滑性、付着性の良い粉体層が形成されるゴムローラの製造方法を提供する。【解決手段】芯金と、該芯金上の弾性層と、該弾性層上の被覆層を有するゴムローラの製造方法において、該ゴムローラに層状化合物の粉体を付着させる粉付け工程、粉付けされた該ゴムローラの該粉体を擦り込む仮粉拭き工程、仮粉拭きされた該ゴムローラを仕上げ拭きする仕上げ拭き工程により、該ゴムローラ表面に粉体層を形成することを特徴とするゴムローラの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯金と、該芯金上の弾性層と、該弾性層上の被覆層を有するゴムローラの製造方法において、該ゴムローラに層状化合物の粉体を付着させる粉付け工程、粉付けされた該ゴムローラの該粉体を擦り込む仮粉拭き工程、仮粉拭きされた該ゴムローラを仕上げ拭きする仕上げ拭き工程により、該ゴムローラ表面に粉体層を形成することを特徴とするゴムローラの製造方法。
【請求項２】
該粉付け工程は、粉体が載せられた弾性ローラＡへ、該ゴムローラを接触させ、粉体を転移させて行う接触式粉付け工程、或いは該ゴムローラに粉体を含むエアーを吹き付けて行う非接触式粉付け工程であることを特徴とする請求項１に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項３】
該接触式粉付け工程は、
粉体を載せるための弾性ローラＡと粉貯め部を有しており、該粉貯め部のバイブレーションにより該弾性ローラＡ上に粉体を載せる工程、或いは、
該弾性ローラＡに粉体を供給する弾性ローラＢと粉貯め部を有しており、該粉貯め部に該弾性ローラＢを押し付ける、または粉貯め部を該弾性ローラＢに押し付ける工程を有することを特徴とする請求項２に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項４】
該弾性ローラＡおよびＢは、それぞれ独立に、表面に粘着性の層を有するローラ、発泡体により形成されたローラ、またはウレタンフォームにより形成されたローラであることを特徴とする請求項３に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項５】
該仮粉拭き工程、該仕上げ拭き工程は、微細な隙間を有する布および該布の内側に弾性体を配置した拭き部を該ゴムローラの円周方向に対して直角に押し当てる押し当て工程と、該拭き部を該ゴムローラの円周方向に対して平行にスライドさせるスライド工程で構成された拭き工程を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のゴムローラの製造方法。
【請求項６】
該拭き部の弾性体の形状は、ローラ状、または該布に密着する面を有するブロック状であり、ポリウレタンにより形成されていることを特徴とする請求項５に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項７】
該拭き部の押し当て工程は、弾性的機能を有するバネ、シリンダ、重り、ロボットのいずれかにより構成される押し当て機構により、１Ｎ〜３０Ｎの範囲で押し当てることを特徴とする請求項５に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項８】
該拭き部のスライド工程は、直線的或いは曲線的に該拭き部を移動する機構により、１０〜１５００ｍｍ／ｓｅｃの範囲でスライドすることを特徴とする請求項５に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項９】
該直線的或いは曲線的に該拭き部を移動する機構は、少なくともロボット、カム、シリンダを含む機構であることを特徴とする請求項８に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項１０】
該仮粉拭き終了時または該仕上げ拭き終了時に該布の新しい面を繰り出す布送り工程、または該布の面を固定する工程を有することを特徴とする請求項５に記載のゴムローラの製造方法。
【請求項１１】
該粉体はハイドロタルサイト、ベントナイト、ゼオライトまたはカーボンの層状化合物であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のゴムローラの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴムローラの表面に粉体を塗布し、粉体層を形成するローラの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
円筒形状の部材に粉を均一に塗布する技術がある（例えば、特許文献１参照）。しかし、ゴムローラ表面に粉を均一に塗布するだけで、粉体が擦り込まれた状態の紛体層は形成できない。初期には粉体がゴムローラへ良好に付着し、ローラ表面に平滑性に優れた粉体層が形成されるが、耐久時には粉体層が良好に保持されず、この方法だけでは、ゴムローラ表面に粉体層を確実に形成することはできない。
【０００３】
即ち、ゴムローラ上に異物質の付着低減効果を有する粉体を塗布する場合、塗布状態により耐久時の付着低減効果は大きく変わり、各種紛体を単に塗布しただけでは画像評価で耐久を進めるにつれて、付着低減効果が薄れてしまうという問題もあった。また、目視または表面粗さにより塗布状態の判断ができない場合にも、付着低減効果に大きな差が出てしまうので、塗布後の付着低減効果を判断することは困難であった。
【特許文献１】特開２００３−５７９４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、ゴムローラの表面に粉体を塗布し、粉体層を形成し、表面平滑性および付着性を向上させることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の目的は以下の構成により達成される。
【０００６】
（１）芯金と、該芯金上の弾性層と、該弾性層上の被覆層を有するゴムローラの製造方法において、該ゴムローラに層状化合物の粉体を付着させる粉付け工程、粉付けされた該ゴムローラの該粉体を擦り込む仮粉拭き工程、仮粉拭きされた該ゴムローラを仕上げ拭きする仕上げ拭き工程により、該ゴムローラ表面に粉体層を形成することを特徴とするゴムローラの製造方法。
【０００７】
（２）該粉付け工程は、粉体が載せられた弾性ローラＡへ、該ゴムローラを接触させ、粉体を転移させて行う接触式粉付け工程、或いは該ゴムローラに粉体を含むエアーを吹き付けて行う非接触式粉付け工程であることを特徴とする（１）のゴムローラの製造方法。
【０００８】
（３）該接触式粉付け工程は、
粉体を載せるための弾性ローラＡと粉貯め部を有しており、該粉貯め部のバイブレーションにより該弾性ローラＡ上に粉体を載せる工程、或いは、
該弾性ローラＡに粉体を供給する弾性ローラＢと粉貯め部を有しており、該粉貯め部に該弾性ローラＢを押し付ける、または粉貯め部を該弾性ローラＢに押し付ける工程を有することを特徴とする（２）のゴムローラの製造方法。
【０００９】
（４）該弾性ローラＡおよびＢは、それぞれ独立に、表面に粘着性の層を有するローラ、発泡体により形成されたローラ、またはウレタンフォームにより形成されたローラであることを特徴とする（３）のゴムローラの製造方法。
【００１０】
（５）該仮粉拭き工程、該仕上げ拭き工程は、微細な隙間を有する布および該布の内側に弾性体を配置した拭き部を該ゴムローラの円周方向に対して直角に押し当てる押し当て工程と、該拭き部を該ゴムローラの円周方向に対して平行にスライドさせるスライド工程で構成された拭き工程を有することを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかのゴムローラの製造方法。
【００１１】
（６）該拭き部の弾性体の形状は、ローラ状、または該布に密着する面を有するブロック状であり、ポリウレタンにより形成されていることを特徴とする（５）のゴムローラの製造方法。
【００１２】
（７）該拭き部の押し当て工程は、弾性的機能を有するバネ、シリンダ、重り、ロボットのいずれかにより構成される押し当て機構により、１Ｎ〜３０Ｎ（約１００ｇ〜３０００ｇ）の範囲で押し当てることを特徴とする（５）のゴムローラの製造方法。
【００１３】
（８）該拭き部のスライド工程は、直線的或いは曲線的に該拭き部を移動する機構により、１０〜１５００ｍｍ／ｓｅｃの範囲でスライドすることを特徴とする（５）のゴムローラの製造方法。
【００１４】
（９）該直線的或いは曲線的に該拭き部を移動する機構は、少なくともロボット、カム、シリンダを含む機構であることを特徴とする請求項８に記載のゴムローラの製造方法。
【００１５】
（１０）該仮粉拭き終了時または該仕上げ拭き終了時に該布の新しい面を繰り出す布送り工程、または該布の面を固定する工程を有することを特徴とする（５）のゴムローラの製造方法。
【００１６】
（１１）該粉体はハイドロタルサイト、ベントナイト、ゼオライトまたはカーボンの層状化合物であることを特徴とする（１）乃至（５）のいずれかのゴムローラの製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のゴムローラ製造方法によれば、ゴムローラに粉体を付着させる粉付け工程、粉付けされたゴムローラの粉体を擦り込む仮粉拭き工程、仮粉拭きされたゴムローラを仕上げ拭きする仕上げ拭き工程により、表面平滑性、付着性の良い粉体層が形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
芯金と、その外周に形成された弾性層および被覆層を有するゴムローラの製造方法において、ゴムローラ表面に粉体（好ましくはハイドロタルサイト）を付着させる粉付け工程、布（例えば東レ社製）と弾性体による仮粉拭き工程、布と弾性体による仕上げ拭き工程を経て、ゴムローラ表面に粉体層を形成する。
【００１９】
その際に、粉付け工程は、接触式または、非接触式でゴムローラ表面に均一に粉をつけることが好ましい。粉が不均一にゴムローラに付着すると、ゴムローラ表面がむらになったり、付着低減効果が発揮でない場合がある。そのために、粉を載せる弾性ローラＡと粉貯め部を有しており、該粉貯め部のバイブレーションにより該弾性ローラＡ上に粉を載せる手段、或いは、該弾性ローラＡに粉を供給する弾性ローラＢと粉貯め部を有しており、該粉貯め部に弾性ローラを押し付けるまたは、粉貯め部を弾性ローラに押し付ける手段がある。ただし、弾性ローラＡは、弾性体が好ましいが、表面に粘着層を持つ弾性ローラが尚好ましい。また、弾性ローラＡに粉の凝集物が付着すると、拭きムラになったりするために、弾性ローラＡ且つ、弾性ローラＢ、または、弾性ローラＡ或いは、Ｂにならし機構を付加し、弾性ローラＡまたは、Ｂ表面の粉を均一にすることが望ましい。
【００２０】
仮粉拭き、仕上げ拭き工程では、ゴムローラ表面の塗布された粉体をゴムローラ表面に均一に擦り込むことが好ましい。仮粉拭き工程、仕上げ拭き工程は、微細な隙間を有する布および布の内側に弾性体を配置した拭き部をゴムローラの円周方向に対して直角に押し当てる押し当て機構と拭き部をゴムローラの円周方向に対して平行に、スライドさせるスライド機構で構成された拭き手段がある。ゴムローラと拭き部の平行度が重要であり、そのために、ガイドを使ったスライド機構などが挙げられるが、拭き部押し当て力が１Ｎなどの時には、ガイド等を使う方式では、力を均一に制御が困難である。そのために、１Ｎ〜５Ｎの範囲に置いては、ベアリング軸を用いた振り子式の押し当て方式にすることが望ましい。スライド機構部では、どうしても、ゴムローラの端部の拭き状態と中央の拭き状態が変化してしまうために、拭き部がゴムローラ端面から拭き部長さの１／３以上オーバーランさせることが望ましい。
【実施例】
【００２１】
本発明のローラの製造方法を電子写真装置の帯電ローラの製造方法に適用した実施例を図面を参照して説明する。
【００２２】
（実施例１）
粉付け部は、図１に示すように、表面が粘着層で構成された弾性ローラＡ（２）（テクノロール製  Ａ−４５２−Ｇ）に粉（８）を供給する発泡体により形成ローラ弾性ローラＢ（３）と粉貯め部（４）から構成されており、粉貯め部（４）に弾性ローラＢ（３）を弾性ローラＢ移動用シリンダ（７）で押し付け、弾性ローラＢ（３）に粉を補給する。弾性ローラＢ（３）に粉の凝集がないようにならし機構としてウレタンの板（９）を使用し、弾性ローラＢ表面の粉をならした（図３参照）。補給後、図２に示すように、弾性ローラＢ（３）を８００ｇの重り（５）を利用し振り子式（６は振り子の回転軸）に弾性ローラＡ（２）に５００ｇで押し当てることにより、ゴムローラ（１）に粉体を均一に付着させた。
【００２３】
仮粉拭き工程、該仕上げ拭き工程は、図４に示すように、微細な隙間を有する布（１０）および布の内側に材質は、ウレタンでローラ状弾性体（１１）を配置した拭き部（１９）とした。ローラの円周方向に対して直角に押し当てる押し当て機構として、図５に示すように、拭き移動軸（１４）を中心に重り（１８）によりゴムローラに押し当てる方式を行った。また、拭き部のゴムローラと接触する円周方向に対して直角の長さは、８０ｍｍとした。また、ゴムローラと拭き部を離すのは、拭き部移動シリンダ（１７）を用いた。拭き部をゴムローラの円周方向に対して平行に、スライドさせるスライド機構としては、ロボット（２０）を使用し、拭き部を１０００ｍｍ／ｓｅｃの速度でゴムローラ端面から５０ｍｍ左右にオーバーランさせた（図６参照）。仮粉拭き終了時に、布クランプ送り（１５）にて布を固定し、布クランプ送り（１５）を移動させ、布巻き取り（１３）にて布を巻き取り所定の巻き取り終了後に、布固定クランプ（１２）および布送りクランプ（１５）を移動させた後に戻し再び布送りクランプ（１５）を固定することにより、布送りを行った。
【００２４】
以上の構成により芯金と、その外周に形成された弾性層および被覆層を有するゴムローラ（１）に粉体を付着させる粉付け工程、粉付けされたゴムローラの粉体を擦り込む仮粉拭き工程、仮粉拭きされたゴムローラを仕上げ拭きする仕上げ拭き工程により、粉体層を形成した。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例１で説明した粉付け部の粉補給時の模式図を示す。
【図２】実施例１で説明した粉付け部の粉供給時の模式図を示す。
【図３】実施例１で説明した粉付け部のならし機構の模式図を示す。
【図４】実施例１で説明した粉拭き部の待機時の模式図を示す。
【図５】実施例１で説明した粉拭き部の押し当て時の模式図を示す。
【図６】実施例１で説明した粉拭き部のスライド機構の模式図を示す。
【符号の説明】
【００２６】
１  ゴムローラ
２  弾性ローラＡ
３  弾性ローラＢ
４  粉貯め部
５  弾性ローラＢ用重り
６  弾性ローラＢ回転軸
７  弾性ローラＢ移動用シリンダ
８  粉体
９  弾性ローラＢならし機構
１０  布
１１  弾性体
１２  布固定クランプ
１３  布巻き取り
１４  拭き部移動軸
１５  布クランプ送り
１６  布送り
１７  拭き部移動シリンダ
１８  拭き用重り
１９  拭き部全体
２０  スライド移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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