(57)【要約】【課題】液晶ディスプレイパネルにおける画素欠陥を抑制することが可能な技術を提供する。【解決手段】対向電極と液晶を挟んで対向配置された画素電極２には、複数の貫通孔２０が互いに離れて形成されている。これにより、画素電極２に異物が付着した場合には、画素電極２を部分的に除去して貫通孔２０間を連通させることによって、画素電極２において異物が付着している部分を当該画素電極２から切り離すことができる。従って、導電性の異物が画素電極２に付着した場合であっても、画素電極２の除去部分を低減しつつ、画素電極２と対向電極との電気的接続を回避できる。よって、画素電極２を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減でき、当該電極片が周囲に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。【選択図】図１
2007010824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極と、
液晶を挟んで前記画素電極と対向配置された対向電極と
を備え、
前記画素電極には、複数の貫通孔が互いに離れて設けられている、液晶ディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶ディスプレイパネルであって、
前記複数の貫通孔は、前記画素電極の端面が凹凸状になるように当該画素電極の端部に少なくとも設けられている、液晶ディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶ディスプレイパネルであって、
前記複数の貫通孔は、前記画素電極の全面に渡って設けられている、液晶ディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の液晶ディスプレイパネルの画素欠陥修正方法であって、
前記画素電極に異物が付着した場合に、前記画素電極を部分的に除去して前記複数の貫通孔のうち少なくとも２つの貫通孔間を連通させることによって、前記画素電極において前記異物が付着している部分を前記画素電極から切り離す、画素欠陥修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイパネルとその画素欠陥修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイパネルでは、例えば、複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や画素電極などが形成されたＴＦＴアレイ基板と、対向電極が形成された基板とが所定距離を成して対向配置されており、それらの基板間には液晶が封入されている。そして、当該液晶に電圧が印加されることにより、液晶ディスプレイパネルを透過する光の透過率が変化する。このような液晶ディスプレイパネルでは、画素電極と対向電極との間に導電性異物が存在すると、この導電性異物によって画素電極と対向電極とが電気的に接続されることがある。その結果、薄膜トランジスタを介して画素電極に電圧を印加すると、画素電極と対向電極とが同電位となる。この場合には、ノーマリホワイト方式の液晶ディスプレイパネルでは輝点欠陥が生じる。
【０００３】
特許文献１には輝点欠陥を修正する方法が開示されている。特許文献１の技術では、異物周辺の画素電極をレーザ照射によって破壊し、これによって、画素電極と対向電極とを電気的に絶縁し、輝点欠陥を修正している。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２８６２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の技術では、異物周辺の画素電極をレーザ照射によって破壊しているため、このとき飛散した画素電極片が周辺の正常画素における画素電極等に付着して、新たな輝点欠陥を引き起こすことがある。
【０００６】
更には、異物周辺の液晶にもレーザが照射されるため、当該液晶の配向が乱れてしまうことがある。そのため、液晶におけるレーザ照射部分が輝点となり、当該輝点が観察者に視認されてしまうことがある。
【０００７】
そこで、本発明は上述の問題に鑑みて成されたものであり、液晶ディスプレイパネルにおける画素欠陥を抑制することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明の液晶ディスプレイパネルは、画素電極と、液晶を挟んで前記画素電極と対向配置された対向電極とを備え、前記画素電極には、複数の貫通孔が互いに離れて設けられている。
【０００９】
また、この発明の画素欠陥修正方法は、上記液晶ディスプレイパネルの画素欠陥修正方法であって、前記画素電極に異物が付着した場合に、前記画素電極を部分的に除去して前記複数の貫通孔のうち少なくとも２つの貫通孔間を連通させることによって、前記画素電極において前記異物が付着している部分を前記画素電極から切り離す。
【発明の効果】
【００１０】
この発明の液晶ディスプレイパネルによれば、画素電極に異物が付着した場合には、画素電極を部分的に除去して貫通孔間を連通させることによって、画素電極において異物が付着している部分を当該画素電極から切り離すことができる。従って、導電性の異物が画素電極に付着した場合であっても、画素電極の除去部分を低減しつつ、画素電極と対向電極との電気的接続を回避できる。よって、画素電極を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減でき、当該電極片が周囲に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。
【００１１】
また、この発明の画素欠陥修正方法によれば、画素電極に異物が付着した場合には、画素電極を部分的に除去して貫通孔間を連通させることによって、画素電極において異物が付着している部分を当該画素電極から切り離している。従って、導電性の異物が画素電極に付着した場合であっても、画素電極の除去部分を低減しつつ、画素電極と対向電極との電気的接続を回避できる。よって、画素電極を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の生成量を低減でき、当該電極片が周囲に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１，２は、それぞれ本発明の実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルの構造を部分的に示す平面図及び断面図である。本実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルは、例えばノーマリホワイト方式の液晶ディスプレイパネルであって、行列状に配置された複数の画素構造５０を備えている。図１では、複数の画素構造５０のうちの一つを示している。図１に示されるように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルの画素構造５０は、薄膜トランジスタ１と、画素電極２と、列方向Ｙに延在するソース配線３と、ドレイン配線４と、行方向Ｘに延在するゲート配線５と、同じく行方向Ｘに延在する蓄積容量配線６とを備えており、これらは図示しないガラス基板等の基板上に形成されている。
【００１３】
薄膜トランジスタ１は、例えば正スタガ型のａ−Ｓｉ（アモルファスシリコン）ＴＦＴである。ソース配線３は、薄膜トランジスタ１のソース領域（図示せず）に接続されている。ドレイン配線４の一端は、薄膜トランジスタ１のドレイン領域（図示せず）に接続されており、その他端は画素電極２に接続されている。ゲート配線５は薄膜トランジスタ１のゲート電極として機能し、ソース配線３の一部とドレイン配線４の一部の上方に設けられている。
【００１４】
画素電極２には、その厚み方向に貫通する複数の貫通孔２０が互いに離れて形成されている。複数の貫通孔２０のそれぞれは四角柱形状を成しており、画素電極２の列方向Ｙにおける両端部に形成されているものを除いて、行列状に配置されている。画素電極２の列方向Ｙにおける両端部のそれぞれでは、複数の貫通孔２０が等間隔で行方向Ｘに沿って形成されており、これらの複数の貫通孔２０によって、画素電極２の列方向Ｙの両端面２ａのそれぞれは凹凸状になっている。また、画素電極２の行方向Ｘにおける両端面２ｂのそれぞれは、当該画素電極２の行方向Ｘにおける端部に列方向Ｙに沿って形成されている複数の貫通孔２０によって凹凸状になっている。なお、貫通孔２０の形状は四角柱形状に限定されることはなく、三角柱形状、五角柱形状あるいは円柱形状でも良い。
【００１５】
蓄積容量配線６は、列方向Ｙにおける画素電極２の一方の端部上に、図示しない絶縁膜を介して形成されており、当該絶縁膜と画素電極２とともに蓄積容量Ｃｓを形成している。
【００１６】
本実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルでは、図２に示されるように、画素電極２と所定距離を成して対向電極７が対向して配置されている。そして、画素電極２と対向電極７との間には液晶８が充填されている。なお対向電極７は、図示しないガラス基板等の基板に形成される。
【００１７】
以上のような構造を備える本液晶ディスプレイパネルでは、ゲート配線５に所定電圧が印加されて、スイッチング素子として機能する薄膜トランジスタ１がオン状態となると、ソース配線３に印加された駆動電圧がドレイン配線４を介して画素電極２に印加される。一方で、画素電極２と対向配置された対向電極７にも所定電圧が印加される。その結果、画素電極２と対向電極７との間に電圧差が生じて、それらの間の液晶８には電界が印加される。これにより、本液晶ディスプレイパネルを透過する光の透過率が変化する。また、画素電極２に印加された駆動電圧は蓄積容量Ｃｓで蓄積され、薄膜トランジスタ１がオフ状態になった場合であっても画素電極２には駆動電圧が印加される。
【００１８】
次に、画素電極２に異物が付着した場合に生じる画素欠陥の修正方法について説明する。図３は本実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す平面図である。なお図３及び後述する図４〜９では、図１に示される画素構造５０を部分的に拡大して示している。図３に示されるように画素電極２に異物１００が付着した場合には、画素電極２を部分的に除去して少なくとも２つの貫通孔２０間を連通させることにより、画素電極２において異物１００が付着している部分２ｃ（以後、「異物付着部分２ｃ」と呼ぶ）を当該画素電極２から切り離す。このときの画素電極２の除去は、例えば除去対象部分にレーザを照射することによって行う。図３に示される例では、異物付着部分２ｃの周辺に設定された除去対象部分１０にレーザを照射して、当該部分１０を除去する。これにより、図４に示されるように、異物付着部分２ｃの周辺の４つの貫通孔２０が互いに連通するようになり、異物付着部分２ｃが画素電極２から切り離される。
【００１９】
このようにして異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことによって、導電性の異物１００が画素電極２に付着した場合であっても、画素電極２と対向電極７との電気的接続を回避でき、ノーマリホワイト方式の本液晶ディスプレイパネルでは輝点欠陥の発生を防止できる。
【００２０】
また、異物１００がソース配線３などの配線と画素電極２とにまたがってそれらに付着した場合であっても、同様にして、画素電極２を部分的に除去して複数の貫通孔２０間を連通させることによって、異物付着部分２ｃを画素電極２から分離することができる。図５は、異物１００がソース配線３と画素電極２とにまたがって形成された場合の本画素欠陥修正方法を示す平面図である。本例においても、図３の例と同様に、異物付着部分２ｃの周辺に設定された除去対象部分１０にレーザを照射して当該部分１０を除去する。これにより、図６に示されるように、異物付着部分２ｃに隣接する複数の貫通孔２０が互いに連通するようになり、当該異物付着部分２ｃが画素電極２から切り離される。従って、導電性の異物１００がソース配線３と画素電極２とにまたがって形成された場合であっても、画素電極２と対向電極７との電気的接続を回避することができるとともに、画素電極２とソース配線３との電気的接続を回避できる。
【００２１】
また、異物１００が互いに隣り合う２つの画素構造５０の画素電極２にまたがってそれらに付着した場合であっても、同様にして、当該２つの画素構造５０のそれぞれにおいて、異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことができる。図７は、異物１００が隣り合う２つの画素構造５０にまたがって形成された場合の本画素欠陥修正方法を示す平面図である。図７の例では、異物１００は、列方向Ｙで互いに隣り合う画素構造５０にまたがって形成されている。また、図７の上側の画素構造５０においては、異物１００は蓄積容量配線６と画素電極２とにまたがってそれらに付着しており、下側の画素構造５０においては、異物１００はゲート配線５と画素電極２とにまたがってそれらに付着している。
【００２２】
本例では、上側の画素構造５０の異物付着部分２ｃの周辺に設定された除去対象部分１０と、下側の画素構造５０の異物付着部分２ｃの周辺に設定された除去対象部分１０とにそれぞれレーザを照射し、これらの除去対象部分１０を除去する。これにより、図８に示されるように、上側及び下側の画素構造５０のそれぞれにおいて、異物付着部分２ｃに隣接する２つの貫通孔２０が互いに連通して、当該異物付着部分２ｃが画素電極２から切り離される。同様に、下側の画素構造５０においては、異物付着部分２ｃに隣接する２つの貫通孔２０が互いに連通して、当該異物付着部分２ｃが画素電極２から切り離される。従って、導電性の異物１００が画素構造５０間にまたがって形成された場合であっても、当該画素構造５０のそれぞれにおいて画素電極２と対向電極７との電気的接続を回避することができるとともに、当該隣接する２つの画素構造５０の画素電極２間の電気的接続を回避できる。
【００２３】
なお、除去対象部分１０へのレーザの照射は、対向電極７等が形成されている基板側から当該基板を介して行っても良いし、画素電極２等が形成されている基板側から当該基板を介して行っても良い。
【００２４】
以上のように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルでは、画素電極２には複数の貫通孔２０が設けられている。画素電極２に異物１００が付着した場合には、画素電極２を部分的に除去して少なくとも２つの貫通孔２０間を連通させることにより、異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことができる。従って、異物が付着している部分の周辺をすべて除去する上述の特許文献１に記載の技術よりも画素電極２の除去部分を低減しつつ、画素電極２と対向電極７との電気的接続を回避することができる。よって、画素電極２を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減でき、当該電極片が周辺の正常な画素構造５０に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。
【００２５】
また、画素電極２を部分的に除去する際にレーザを用いた場合であっても、画素電極２に対するレーザ照射部分を低減できるため、画素電極２と対向電極７との間の液晶８に対するレーザ照射部分も低減することができる。従って、レーザ照射によって液晶８の配向が乱れることを抑制でき、新たな画素欠陥の発生を抑制できる。
【００２６】
また、導電性の異物１００がソース配線３等の配線と画素電極２とにまたがって形成された場合であっても、画素電極２に設けられた複数の貫通孔２０間を連通させることによって異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことができるため、当該配線にレーザを照射する必要はない。よって、当該配線を損傷することなく、画素電極２と当該配線との電気的接続を回避できる。特に、蓄積容量配線６にレーザを照射した場合には、当該蓄積容量配線６と画素電極２とが短絡することがあるが、本実施の形態では、蓄積容量配線６にレーザ照射を行う必要はないため、このような不具合を回避できる。
【００２７】
また、導電性の異物１００が画素構造５０間にまたがって形成された場合であっても、画素構造５０のそれぞれにおいて、画素電極２に設けられた複数の貫通孔２０間を連通させることによって異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことができるため、画素構造５０間の電気的接続を回避できる。
【００２８】
また本実施の形態では、画素電極２の端面２ａ，２ｂが凹凸状になるように当該画素電極２の端部に複数の貫通孔２０が設けられている。そのため、画素電極２の当該端部に異物１００が付着した際の画素電極２の除去部分を小さくすることができる。以下にこの効果について詳細に説明する。
【００２９】
図９は、本実施の形態とは異なり、画素電極２の端面２ｂが平面であって凹凸状ではなく、各貫通孔２０が画素電極２に完全に取り囲まれている場合の画素欠陥修正方法を示す平面図である。図９に示されるように、画素電極２の端面２ｂが平面の場合には、当該端面２ｂを含む画素電極２の端部に異物１００が付着すると、異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すために、画素電極２の端面２ｂと貫通孔２０とを接続する部分をも除去対象部分１０とする必要がある。従って、この場合には、画素電極２の除去部分が増大し、画素電極２を除去する際に発生する電極片が隣接する画素構造５０に付着する可能性が高くなる。
【００３０】
一方、本実施の形態のように画素電極２の端面２ｂが凹凸状である場合には、上記図５に示されるように、画素電極２の端面２ｂと貫通孔２０とを接続する上記部分は存在しないため、図８に示される場合よりも画素電極２の除去部分を低減できる。
【００３１】
このように、画素電極２の端面２ａ，２ｂが凹凸状の場合には画素電極２の除去部分を低減できるため、画素電極２を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減することができる。そのため、当該電極片が周囲に付着しにくくなり、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。
【００３２】
また本実施の形態のように、複数の貫通孔２０を画素電極２の全面に渡って形成した場合には、異物１００が画素電極２のどの部分に付着したかに関わらず、画素電極２の除去部分を低減しつつ、異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離すことができる。その結果、更に新たな画素欠陥の発生が確実に抑制される。
【００３３】
また、本実施の形態に係る画素欠陥修正方法では、画素電極２に異物１００が付着した場合には、画素電極２を部分的に除去して少なくとも２つの貫通孔２０間を連通させることにより、異物付着部分２ｃを画素電極２から切り離している。従って、導電性の異物１００が画素電極２に付着した場合であっても、画素電極２の除去部分を低減しつつ、画素電極２と対向電極７との電気的接続を回避することができる。よって、画素電極２を除去する際に電極片が生じた場合であっても、当該電極片の発生量を低減でき、当該電極片が周辺の正常な画素構造５０に付着することを抑制できる。その結果、新たな画素欠陥の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルの構造を部分的に示す平面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る液晶ディスプレイパネルの構造を部分的に示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図６】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る画素欠陥修正方法の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００３５】
２  画素電極、２ａ，２ｂ  端面、２ｃ  異物付着部分、２０  貫通孔、１００  異物。
【図１】
2007010824.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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