(57)【要約】【課題】ウエハ上の微細な構造物の破壊を抑制することのできる、ウエハ洗浄方法およびそのような洗浄を可能とするスピン洗浄装置を提供する。【解決手段】本スピン洗浄装置は、ノズルを移動させながら洗浄液をウエハ面に噴射し、同時に、ノズルの内部で発生させた超音波を洗浄液衝突スポットに照射してウエハ面を洗浄するものであって、次の（１）〜（４）の少なくともいずれか一つの機能を有する。  （１）洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させる機能。  （２）洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能。  （３）洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、超音波の出力を変化させる機能。  （４）洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能。【選択図】図１
2007173277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するスピン洗浄装置において、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させる機能、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させる機能、および、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能
の少なくともいずれか一つの機能を有するスピン洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ウエハの回転数を小さくするように設定できる、請求項１に記載のスピン洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記洗浄液衝突スポットの前記ウエハに平行な方向における移動速度を小さくするように設定できる、請求項１または２に記載のスピン洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記超音波の出力を大きくするように設定できる、請求項１〜３のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【請求項５】
前記超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、前記超音波の出力変化を実現するように設定できる、請求項１〜４のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくするように設定できる、請求項１〜５のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄液衝突スポットにおける前記ノズルの仰角を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できる、請求項１〜６のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【請求項８】
前記ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できる、請求項１〜７のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【請求項９】
被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するウエハ洗浄方法において、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させること、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させること、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させること、および、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること
の少なくともいずれか一つを行うことを含むウエハ洗浄方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載のスピン洗浄装置を用いる、請求項９に記載のウエハの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子の製造工程において、被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら、ノズルから超純水等の洗浄液をウエハ面に噴射し、同時に、洗浄液を媒体として、ノズルの内部で発生させた超音波を照射して洗浄する、枚葉式のスピン洗浄装置およびウエハ洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
超音波洗浄を行うスピン洗浄技術においては、ウエハの表面にノズルから洗浄液を噴射し、同時に、ノズル内部の超音波振動子を発振させて超音波を発生させ、ノズルから噴射される洗浄液を媒体として超音波をウエハ表面に伝播させ、超音波のエネルギーを利用してウエハ表面の洗浄を行う。ノズルから噴射された洗浄液がウエハ表面に衝突する微小な領域（以下、この微小な領域を「洗浄液衝突スポット」と呼ぶ）では、超音波が最も強く作用する。このことを、本発明では、「ノズルの内部で発生させた超音波を洗浄液衝突スポットに照射する」と表現する。
【０００３】
この様子を図１，２，３を用いて、例示的に説明する。図１は、超音波を照射しながら行うスピン洗浄を示す概略斜視図である。図１において、ウエハ１はウエハの円板の中心軸２を中心に回転しており、超音波振動子（図示せず）を内蔵したノズル３から、ウエハ面４にめがけて洗浄液５が噴射され、ウエハの洗浄を行う。符号６が、洗浄液衝突スポットである。
【０００４】
図２は、図１のウエハを真上から見た概略平面図である。洗浄液衝突スポット６が見えるようにノズルは省略してある。矢印７はウエハ１の回転方向を表す。ノズル３は、アーム８を動かすことにより、矢印９の方向に往復運動する。このようにして、洗浄液衝突スポットは、ウエハの中心を通る円弧状の軌跡をたどるようになる。このような公知例としてはたとえば特許文献１を上げることができる。
【０００５】
図３は、図２の場合とは異なり、ノズルを直線状のガイドに沿って往復運動をさせて、洗浄液衝突スポット６がウエハの中心を通る直線上を移動するようにしたものである。
【０００６】
これらの機構を動作させながらウエハを回転させれば、洗浄液衝突スポットがウエハの全面を通過し、ウエハ上のすべての点が超音波と洗浄液との作用で洗浄されることになる。
【特許文献１】特開平１０−３０８３７４号公報（図２〜４）
【特許文献２】特開昭５６−１２５８４２号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】特開平０１−０７６７２４号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
表面に非常に壊れやすいパターン等の微細な構造物が形成されたウエハを超音波洗浄すると、超音波が与えるダメージによって、その微細な構造物が折れ曲がったり消失したりして、破壊されることがある。特に、スピン洗浄装置によって超音波洗浄を行った場合には、ウエハ上の特定の位置に、パターン等の微細な構造物の破壊が高い頻度で発生するという現象が発生する。
【０００８】
本発明は、この問題を解決し、ウエハ上の微細な構造物の破壊を抑制することのできるウエハ洗浄方法および、そのような洗浄を可能とするスピン洗浄装置を提供することを目的としている。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様によれば、被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するスピン洗浄装置において、
（１）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させる機能、
（２）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能、
（３）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させる機能、および、
（４）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能
の少なくともいずれか一つの機能を有するスピン洗浄装置が提供される。
【００１０】
本発明態様により、ウエハ上の微細な構造物の破壊を抑制することのできる洗浄を可能とするスピン洗浄装置を実現することができる。
【００１１】
前記（１）〜（４）の少なくともいずれか二つの機能を有すること、前記（３）および（４）の少なくともいずれか一つの機能を有すること、前記（３）および（４）の少なくともいずれか一つの機能と前記（１）および（２）の少なくともいずれか一つの機能とを有すること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ウエハの回転数を小さくするように設定できること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記洗浄液衝突スポットの前記ウエハに平行な方向における移動速度を小さくするように設定できること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記超音波の出力を大きくするように設定できること、前記超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、前記超音波の出力変化を実現するように設定できること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくするように設定できること、前記洗浄液衝突スポットにおける前記ノズルの仰角を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できること、および、前記ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できること、が好ましい。
【００１２】
本発明の他の一態様によれば、被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するウエハ洗浄方法において、次の（Ａ）〜（Ｄ）の少なくともいずれか一つを行うことを含むウエハ洗浄方法が提供される。
【００１３】
（Ａ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させること。
【００１４】
（Ｂ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させること。
【００１５】
（Ｃ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させること。
【００１６】
（Ｄ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること。
【００１７】
本発明態様により、ウエハ上の微細な構造物の破壊を抑制することのできる洗浄方法を実現することができる。
【００１８】
前記（Ａ）〜（Ｄ）の少なくともいずれか二つを行うこと、前記（Ｃ）および（Ｄ）の少なくともいずれか一つを行うこと、前記（Ｃ）および（Ｄ）の少なくともいずれか一つと前記（Ａ）および（Ｂ）の少なくともいずれか一つとを行うこと、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ウエハの回転数を小さくすること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記洗浄液衝突スポットの前記ウエハに平行な方向における移動速度を小さくすること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記超音波の出力を大きくすること、前記超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、前記超音波の出力変化を実現すること、前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくすること、前記洗浄液衝突スポットにおける前記ノズルの仰角を変えることにより、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること、前記ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変えることにより、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること、および、上記のいずれかのスピン洗浄装置を用いること、が好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、ウエハ上の微細な構造物の破壊を抑制することのできる、ウエハ洗浄方法およびそのような洗浄を可能とするスピン洗浄装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施の形態を図、表、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、表、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。図中、同一の符号は同一の要素を表す。
【００２１】
詳細な調査を行った結果、ウエハ上の特定の位置に微細な構造物の破壊が高い頻度で発生するのは、以下の理由によるものであることが見出された。
【００２２】
第一の理由は、ウエハ上の洗浄液衝突スポットの移動速度の違いである。ウエハを一定の角速度ωで回転させると、図４に示すように、ウエハ上の洗浄液衝突スポットの移動速度（ウエハの周方向における洗浄液衝突スポットの運動の線速度ｒωは、ウエハの中心４１からの距離ｒ（図４ではｒ１，ｒ２，ｒ３で示されている）に比例して大きくなる。
【００２３】
このため、たとえば洗浄液衝突スポットをウエハの中心と外周部との間を等速度で往復運動をさせる場合には、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心から離れる（すなわち、周辺方向に移動する）に従い、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間が短くなる。すなわち、ウエハの中心により近い位置ほど、より長い時間、洗浄液衝突スポット内にとどまり、より長時間超音波の照射を受けることになる。これが、ウエハの中心に近い位置ほど、微細な構造物の破壊が高い頻度で発生していたことの理由の一つと考えられる。すなわち、この問題解決のためには、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の均一化が重要であると考えられる。
【００２４】
第二の理由は、ウエハ上で洗浄液衝突スポットが静止する瞬間が存在することである。機械的な機構によってノズルに往復運動を与える場合、ノズルの運動方向が変わる時にノズルが静止する瞬間がある。これは、機械的な機構に必ず存在する一定量の遊びが原因である。このため、ウエハ上で洗浄液衝突スポットが静止する瞬間が発生する。洗浄液衝突スポットが静止している間に洗浄液衝突スポットを通過するウエハ上の位置は、他の位置よりも洗浄液衝突スポット内により長く滞在して超音波の照射をより長く受けることになる。これが、ウエハ上の特定の位置において、微細な構造物の破壊が高い頻度で発生していたことの他の理由の一つと考えられる。すなわち、この問題解決のためにも、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の均一化が重要であると考えられる。
【００２５】
なお、本発明において、この「均一化」には、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の差異を、平均的に、または、部分的にあるいは全体的により小さくすることが含まれる。部分的に小さくすることには、後述する遊びに起因する場合のように、滞在する期間が特異的に長い点の滞在期間を短くすることが含まれる。
【００２６】
これらの検討結果に鑑み、本発明に係るスピン洗浄装置では、被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するが、さらに、
（１）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させる機能、
（２）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能、
（３）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させる機能、および、
（４）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能
の少なくともいずれか一つの機能を有する。
【００２７】
好ましくは、洗浄の際、次の（１）’〜（４）’の少なくともいずれか一つの設定が可能である。なお、以下において「移動速度」は、ノズル（または洗浄液衝突スポット）とウエハ面との間の相対速度を意味するのではなく、系全体における移動速度を意味する。
【００２８】
（１）’当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を自動的に変化させること。
【００２９】
（２）’当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を自動的に変化させること。
【００３０】
（３）’当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を自動的に変化させること。
【００３１】
（４）’当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を自動的に変化させること。
【００３２】
また、本発明に係るウエハ洗浄方法では、被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄する際に、次の（Ａ）〜（Ｄ）の少なくともいずれか一つを行う。
【００３３】
（Ａ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させること。
【００３４】
（Ｂ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させること。
【００３５】
（Ｃ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させること。
【００３６】
（Ｄ）当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること。
【００３７】
上記機能を有するスピン洗浄装置は、新規に設計してもよいが、公知のスピン洗浄装置を改造することによって、上記機能を持たせるようにすることも可能である。上記以外の機能については特に制限はなく、どのような公知の機能を有していてもよい。このスピン洗浄装置は枚葉方式と呼ばれ、ウエハを１枚ずつ洗浄するものであるのが一般的であるが、本発明の趣旨に反しない限り、複数枚を同時に洗浄する方式等、他のどのような方式を採用してもよい。
【００３８】
また、上記ウエハ洗浄方法においては、上記のスピン洗浄装置を使用することができるが、本方法を実現できる限り、その他の公知の洗浄装置を使用し、またはそれらを改造した装置を使用することもできる。
【００３９】
ウエハの種類やサイズにも特に制限はない。ノズルの種類やサイズや数についても特に制限はない。洗浄液についても特に制限はないが、超純水が使用されることが多い。
【００４０】
超音波を発生させるための超音波発生装置についても特に制限はなく、公知の装置を適宜利用することができる。超音波のエネルギーは、実情に応じて選択すればよいが、通常は１００Ｗ以下のものが使用される。洗浄液を媒体として、ノズルの内部で発生させた超音波を洗浄液衝突スポットに照射することは、超音波発生装置において超音波を発生させる部品である超音波振動子をノズル内に設置することで実現できる。
【００４１】
本発明において、「洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置」を基準とする場合には、もちろん、実際の洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置を用いてもよいが、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置そのものが、ノズルの位置とノズルの噴射方向と噴射された洗浄液の広がり方によって変化するので、その代わりに、たとえば、ウエハ上におけるノズルの位置（ウエハ面を直視した場合におけるウエハ面上におけるノズルの位置）あるいは、必要であればさらに、ノズルの噴射方向と噴射された洗浄液の広がり方で適宜補正したウエハ上におけるノズルの位置を使用してもよい。本発明に係る「洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置」には、そのようなウエハ上におけるノズルの位置で代用することも含まれる。このような意味から、以下、「洗浄液衝突スポット」に関する記述は、文脈上矛盾がない限り、ノズルに関する記述として理解することもできる。
【００４２】
従って、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、何かの動作を行わせる場合には、具体的には、上記のように、ウエハ上におけるノズルの位置に対応して、何かの動作を行わせればよい。この際、ウエハ上におけるノズルの位置とその動作とを直接結びつけてもよいが、たとえば時間を介して、ウエハ上におけるノズルの位置と他の動作（たとえばウエハの回転数の変更）とを間接的に関連づけるようにしても構わない。なお、上記動作には、ウエハの回転数を変化させること、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させること、超音波の出力を変化させること、およびノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させることが含まれる。
【００４３】
洗浄液衝突スポット（またはノズル）は、実際には、ある程度の大きさを有する。従って、このことを考慮して、ウエハ上における位置を決める場合には、洗浄液衝突スポット内の任意の一定の点（またはノズル上の任意の一定の点）を、ウエハ上における位置を決める場合の洗浄液衝突スポットの位置（またはノズルの位置）として選択することができる。通常は洗浄液衝突スポットの中心（またはノズルの噴射口）を選択すればよい。
【００４４】
洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させることが可能であれば、たとえば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心から離れるに従い、ウエハの回転数を小さくすることができる（逆に言えば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心に近づくに従い、ウエハの回転数を大きくすることができる。）。また、そのような動作を自動的に行わせるようにスピン洗浄装置を設定することもできる。ウエハの回転数を自動的に変化させるには公知の任意の技術を適宜適用することができる。
【００４５】
洗浄液衝突スポットの位置に対応してウエハの回転数を変化させ、洗浄液衝突スポットがウエハの中心に近い位置にある時にウエハの回転数をより大きくすることにより、上記の、ウエハの中心により近い位置ほど微細な構造物の破壊が起こりやすいという現象を改善することが可能となることが判明した。
【００４６】
なお、ウエハの回転数を変更しても、所与の期間あたりにウエハ面上のある点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値が変化するわけではないが、洗浄液衝突スポット内に一回滞在する期間は確実に変化する。
【００４７】
本発明における「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の均一化」は、後述するように、他の場合には、「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値の均一化」と考えるべき場合もあるが、ウエハの回転数の変更に関しては、「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に一回滞在する期間の均一化」と考えるべきようである。
【００４８】
どのようにまたどの程度ウエハの回転数を変化させるのかは、実験等を行い、ウエハ上での微細な構造物の破壊の発生をどの程度防止できるかにより、容易に決定することができる。
【００４９】
当該洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させることが可能である場合には、たとえば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心から離れるに従い、ノズルのウエハに平行な方向における洗浄液衝突スポットの移動速度を小さくすることができる（逆に言えば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心に近づくに従い、この移動速度を大きくすることができる。）。また、そのような動作を自動的に行わせるようにスピン洗浄装置を設定することもできる。このようにすれば、上記の「ウエハの中心により近い位置ほど、より長い時間、ウエハ面上の点が洗浄液衝突スポット内に滞在する」現象を改善することが可能となり、「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値の均一化」を図ることができる。なお、洗浄液衝突スポットの移動速度を自動的に変化させるには公知の任意の技術を適宜適用することができる。
【００５０】
どのようにまたどの程度上記移動速度を変化させるのかは、実験等を行い、ウエハ上での微細な構造物の破壊の発生をどの程度防止できるかにより、容易に決定することができる。
【００５１】
洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させることが可能である場合には、たとえば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心から離れるに従い、超音波の出力を大きくすることができる（逆に言えば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心に近づくに従い、超音波の出力を小さくすることができる。）。また、そのような動作を自動的に行わせるようにスピン洗浄装置を設定することもできる。なお、超音波の出力を自動的に変化させるには公知の任意の技術を適宜適用することができる。
【００５２】
このようにすれば、上記の「ウエハの中心により近い位置ほど、より長い時間、ウエハ面上の点が洗浄液衝突スポット内にとどまる」現象があったとしても、過剰な超音波の照射によるウエハ上での微細な構造物の破壊を抑制することができる。また、上記のウエハの中心のように、洗浄液衝突スポットの運動の線速度が一時的に停止する位置に洗浄液衝突スポットがある時に、超音波発振器の出力をより小さくすることにより、超音波の積算の照射エネルギーをより小さくするように設定できる。このようにして、「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値の均一化」を図ることができる。
【００５３】
どのようにまたどの程度超音波の出力を変化させるのかは、実験等を行い、ウエハ上での微細な構造物の破壊の発生をどの程度防止できるかにより、容易に決定することができる。
【００５４】
なお、この場合の「超音波の出力」は、任意の時間の長さにおける積算値を意味する。従って、超音波の出力を変化させるには、出力値そのものを変化させてもよく、出力のオン／オフ時間の調整によってもよい。
【００５５】
超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、超音波の出力を変化させる方法は、特に、機械的な機構による遊びのために、ウエハ上で洗浄液衝突スポットが静止する瞬間がある場合のようにウエハ上の他の点と比べて著しく洗浄液衝突スポットの運動の線速度が小さい位置に洗浄液衝突スポットがある場合には、その位置に対応して、超音波の出力のオフ時間を設けることができ、有用である。そのような場合であっても、洗浄液衝突スポットにはある程度の広がりがあることから、その位置に対して適当な超音波の照射量が確保できるようにすることは困難ではない。
【００５６】
洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させることが可能である場合には、たとえば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心から離れるに従い、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくすることができる（逆に言えば、洗浄液衝突スポットがウエハの回転の中心に近づくに従い、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を大きくすることができる。）。また、そのような動作を自動的に行わせるようにスピン洗浄装置を設定することもできる。なお、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるには公知の任意の技術を適宜適用することができる。
【００５７】
ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくすれば、超音波のウエハに与える影響が大きくなり、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を大きくすれば、超音波のエネルギーが減衰して、超音波のウエハに与える影響が小さくなる。従って、このようにすれば、上記の「ウエハの中心により近い位置ほど、より長い時間、ウエハ面上の点が洗浄液衝突スポット内にとどまる」現象があったとしても、過剰な超音波の照射によるウエハ上での微細な構造物の破壊を抑制することができる。また、ウエハの中心のように、洗浄液衝突スポットが一時的に停止する位置に洗浄液衝突スポットがある場合にも、ノズルとウエハ面との距離を大きくすることにより、ウエハ面に到達する超音波のエネルギーを減衰させて、超音波の積算の照射エネルギーをより小さくすることができる。このようにして、「ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値の均一化」を図ることができる。
【００５８】
どのようにまたどの程度上記距離を変化させるのかは、実験等を行い、ウエハ上での微細な構造物の破壊の発生をどの程度防止できるかにより、容易に決定することができる。
【００５９】
ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離は、ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変化させることによっても、洗浄液衝突スポットにおけるノズルの仰角（すなわち、ウエハ面上で眺めた場合、ノズルと洗浄液衝突スポットとを結ぶ線が視線に一致する際の視線とウエハ面との成す角度）によってでも、変えることが可能である。
【００６０】
前者の場合は、移動機構の機構および効果が単純であり、有用性が高い。後者の場合はノズルの首振り機構が必要になるため、やや複雑になるが、超音波がより斜めに照射される場合には、洗浄液衝突スポットの面積が増大し、相対的に単位面積あたりの超音波照射量が減少するので、単にノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離が増大したこと以上の効果が得られる。また、洗浄液衝突スポットが静止する場所等、ウエハ上の他の点と比べて著しく洗浄液衝突スポットの運動の線速度が小さい位置に洗浄液衝突スポットがある場合に、ノズルの向きを大きく変えることにより、その点が長時間超音波の照射に曝されることを防ぐことができる。
【００６１】
上記の諸条件の内、上記（１）〜（４）の少なくともいずれか二つの機能があると、効果がより大きくなり好ましい。単独の場合に上記（３）や（４）の効果が大きいことから、上記（３）および（４）の少なくともいずれか一つの機能を有することがより好ましく、上記（３）および（４）の少なくともいずれか一つの機能と上記（１）および（２）の少なくともいずれか一つの機能とを有することがさらに好ましい。
【００６２】
同様に、上記の諸条件の内、上記（Ａ）〜（Ｄ）の少なくともいずれか二つを行うと、効果がより大きくなり好ましい。単独の場合に上記（Ｃ）や（Ｄ）の効果が大きいことから、上記（Ｃ）および（Ｄ）の少なくともいずれか一つを行うことがより好ましく、上記（Ｃ）および（Ｄ）の少なくともいずれか一つと上記（Ａ）および（Ｂ）の少なくともいずれか一つとを行うことがさらに好ましい。
【００６３】
なお、洗浄液のみをウエハ面に噴射する洗浄技術において、ウエハの中心より半径方向に遠ざかるに従ってノズルの送り速度を変化させる技術やウエハの回転速度を変化させる技術（特許文献２，３参照。）が知られているが、本願発明は超音波と洗浄液との併用を必須の要件とするものであり、超音波と洗浄液とを使用する場合において、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させたり、ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させることの効果は、これまで知られていなかった。
【００６４】
洗浄液のみをウエハ面に噴射する場合における効果は、噴射洗浄液量の変化によるものと考えられているが、超音波と洗浄液とを使用する場合においては、洗浄液量を変動させても洗浄効果への影響が小さいことや、洗浄液のみを使用する場合には、超音波と洗浄液とを使用する場合に比べ洗浄能力が格段に低く、超音波と洗浄液とを使用する場合における「洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させたり、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させることの効果」程の顕著な効果は得られないことが見出されており、本発明における効果は、主に超音波による洗浄効果の制御であり、洗浄液による洗浄効果の制御の部分は、もしあったとしても、小さいものと推定される。
【実施例】
【００６５】
次に本発明の実施例および比較例を詳述する。以下の例では、本発明の一態様であるスピン洗浄装置を用いて、表面に、微細な構造物の代表例である微細なパターンを形成したウエハを洗浄した場合の効果について説明する。共通条件は以下の通りである。
【００６６】
直径８インチ（約２００ｍｍ）のＳｉウエハ上に、酸化物系の絶縁材料を一様な膜厚２００ｎｍで成膜した。この絶縁材料の膜に、ドライエッチングにより、Ｌ（ライン）／Ｓ（スペース）＝６５／６５ｎｍの縞状の一様なパターンを形成した。パターンの深さは約２００ｎｍであった。このパターンは、図９，１０に模式的に表してある。以下の例においては、すべてこの条件の試料を用いて洗浄実験を行った。
【００６７】
これらの試料に対して、スピン洗浄装置を使用して超音波洗浄を行った。以下の条件は、特に指定しない限り、実施例と比較例とに共通の標準条件として採用した。
【００６８】
ノズルから噴射する洗浄液としては超純水を使用し、その噴射流量を１．５Ｌ／分で一定とした。ノズルの噴射口はウエハ面を直視する方向に向け、洗浄液衝突スポットを図２のように往復運動をさせた。洗浄液衝突スポットは２ｍｍ程度の直径の円形形状のものであった。洗浄液衝突スポットの移動速度は５０ｍｍ／秒とした。
【００６９】
照射する超音波の条件は、周波数１ＭＨｚ、出力６０Ｗとした。試料のウエハは、５００回転／分（ｒｐｍ）の一定速度で回転させた。ノズルの先端（噴射口）とウエハ面との間の距離は１０ｍｍとした。洗浄時間は、１枚のウエハに対して６０秒で一定とした。
【００７０】
洗浄後に、ウエハ欠陥検査装置を使用して、ウエハ上の位置と微細な構造物の破壊の発生頻度の関係を調査した。ウエハ上の位置は、ウエハの中心からの距離ｒ（ｍｍ）によって、また、パターン破壊の発生頻度は、単位面積当たりのパターン破壊の発生密度Ｄ（個／平方ｍｍ）によって表現した。破壊されたものの典型例としては、柱状パターンが折れ曲がったものや破損して消失したものが挙げられる
［比較例１］
洗浄液衝突スポットが、０≦ｒ≦１００の範囲で等速度で往復運動をするようにノズルを運動させて、上記標準条件で洗浄を行った。なお、洗浄液衝突スポットは、ノズルを運動させている機械的な機構が持つ遊びによって、運動の向きが変わるｒ＝１００およびｒ＝０の位置において、０．３秒間静止した。
【００７１】
洗浄後のパターンの検査結果を表１に示す。ウエハの外周部から中心に近づくにつれてパターン破壊が増え、なかでも中心では極端に多く発生した。
【００７２】
次に、洗浄液衝突スポットが３０≦ｒ≦１００の範囲で往復運動をさせて洗浄を行った。パターンの検査結果を表２に示す。やはりウエハの外周部から中心に近づくにつれてパターン破壊が増え、洗浄液衝突スポットが運動の向きを変えるｒ＝３０の位置で、際立って多くのパターン破壊が発生した。０≦ｒ≦３０の範囲では超音波が照射されないため、パターンの破壊は発生しなかった。
【００７３】
［実施例１］
そこで、本発明の、洗浄液衝突スポットの位置に対応して超音波のＯＮとＯＦＦを自動的に設定できる機能を利用して、洗浄液衝突スポットが運動の向きを変える位置でのみ超音波がＯＦＦとなるように設定して、前記と同様の洗浄を行った。すなわち、洗浄液衝突スポットの運動範囲が０≦ｒ≦１００の場合ではｒ＝０およびｒ＝１００の位置においてのみ、また、洗浄液衝突スポットの運動範囲が３０≦ｒ≦１００の場合ではｒ＝３０およびｒ＝１００の位置においてのみ上記静止期間に合わせ、超音波が０．３秒間秒間ＯＦＦとなるようにして洗浄を行った。パターンの検査結果を、０≦ｒ≦１００の場合については表３に、３０≦ｒ≦１００の場合については表４にそれぞれ示す。いずれも、洗浄液衝突スポットが静止する位置において超音波をＯＦＦとしたことにより、その位置でのパターン破壊が激減した。
【００７４】
［実施例２］
次に、本発明の、洗浄液衝突スポットの位置に対応してウエハの回転数を自動的に変化させられる機能を利用して、洗浄液衝突スポットがウエハの中心に近い位置では試料のウエハをより速い速度で回転させるように設定した。また、洗浄液衝突スポットの位置に対応してノズルの移動速度を自動的に変化させられる機能を利用して、洗浄液衝突スポットがウエハの中心に近い位置では洗浄液衝突スポットがより速い速度で往復運動をするように設定した。具体的には、ノズルの位置（洗浄液衝突スポットの位置と一致）ｒとウエハの回転数ωの関係を図５に示す関係になるように、また、ノズルの位置ｒとノズルの移動速度（洗浄液衝突スポットの移動速度と一致）ｖの関係を図６に示す関係になるように、それぞれ設定した。
【００７５】
これらの設定のもとで、超音波をＯＮにし続けたまた洗浄を行なった。パターンの検査結果を、０≦ｒ≦１００の場合については表５に、３０≦ｒ≦１００の場合については表６にそれぞれ示す。超音波を照射し続けていることから、洗浄液衝突スポットが静止するｒ＝０およびｒ＝３０の位置で多くのパターン破壊が発生しているが、その他での中心に近づくほど徐々に多く発生していたパターン破壊が発生しなくなった。
【００７６】
これは、本実施例において行った二つの設定により、ウエハ上の他の点と比べて洗浄液衝突スポットの運動の線速度が小さい位置において、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に一回滞在する期間を短くした効果（ウエハの回転速度を上げた効果）と、ウエハ面上の各点が洗浄液衝突スポット内に滞在する期間の積算値を減少させた効果（洗浄液衝突スポットの移動速度を上げた効果）との複合した効果であると思われる。
【００７７】
［実施例３］
次に、実施例１および実施例２で行った、洗浄液衝突スポットの位置に応じた、超音波のＯＮ／ＯＦＦ、ウエハの回転速度、洗浄液衝突スポットの移動速度の設定を、同時に行い、洗浄を行った。
【００７８】
０≦ｒ≦１００の場合についてパターンの検査結果を表７に示す。ウエハ上のいずれの位置においても、パターン破壊が発生しなくなった。
【００７９】
また、パターンが形成されていないウエハの表面に意図的に微粒子を付着させ、これを洗浄して除去する実験を行った結果、本実施における設定のもとでの洗浄は、本実施例における設定を行っていない洗浄と比較して、同等の微粒子の除去能力を備えていることが確認できた。
【００８０】
［実施例4］
実施例１においては、ウエハ上の他の点と比べて著しく洗浄液衝突スポットの運動の線速度（すなわち移動速度）が小さい位置に洗浄液衝突スポットがある時、または洗浄液衝突スポットが静止する時に、ウエハ上の同じ点が長時間超音波の照射にさらされることを防止する目的で、超音波をＯＦＦとしたが、同様の目的を達成するための手段は、これに限定されるものではない。
【００８１】
たとえば、図７に示すように、洗浄液衝突スポットにおけるノズルの仰角αを変更できるようにしておき、洗浄を行っている場合は（ａ）のように一定の角度を成した状態で保持し、実施例１において超音波をＯＦＦとした位置においてのみ、（ｂ）のように、洗浄液衝突スポットにおけるノズルの仰角を大きく変えて、パターンにダメージが加わることを回避してもよい。
【００８２】
実施例１で採用した方法の代わりに本実施例に示した方法を採用した以外は実施例３と同様に洗浄を行った結果、表７に示したのと同様に、パターン破壊を発生させずにウエハを洗浄することができた。
【００８３】
［実施例５］
実施例２においては、ウエハ上の他の点と比べて洗浄液衝突スポットの運動の線速度が小さい位置において、ウエハ上の点が洗浄液衝突スポット内に滞在する時間がより短くなるようにする目的で洗浄液衝突スポットの移動速度を変化させたが、同じ目的を達成するための手段は、これに限定されるものではない。
【００８４】
たとえば、図８に示すように、超音波のＯＮ／ＯＦＦを高速で繰り返し行って、超音波をパルス状に照射し、さらに、洗浄液衝突スポットの位置に対応してパルスの時間間隔、すなわち単位時間当たりのパルスの密度を変化させても、単位時間当たりに照射される超音波のエネルギーが変化するので、同様の目的を達成できる。
【００８５】
従来は連続して照射されていた超音波をパルス状に照射できるようにし、パルスの長さ（ＯＮの時間の長さ）を１００ｍ秒とし、１秒間に発生させるパルス数を洗浄液衝突スポットの位置に対応して０回から５回の間で変化させた結果、表７に示したのと同様に、パターン破壊を発生させずにウエハを洗浄することができた。具体的には、ｒ＝０ｍｍの時は、上記静止期間の０．３秒間、１秒間に発生させるパルス数を０回とし、その後ｒ＝９０ｍｍまで、単調に５回まで増加させた。
【００８６】
［実施例６］
さらに、実施例５に示した方法に代わる手段として、洗浄液衝突スポットの位置に対応して、超音波発振器の出力を変化させても、同じ目的が達成できる。
【００８７】
超音波発振器から超音波振動子に送られる超音波信号の出力が従来は６０Ｗで固定されていたのに対し、洗浄液衝突スポットの位置に対応してこれを０Ｗから６０Ｗの間で変化させることにより、表７に示したのと同様に、パターン破壊を発生させずにウエハを洗浄することができた。具体的には、ｒ＝０ｍｍの時は、上記静止期間の０．３秒間、０Ｗに保ち、その後ｒ＝９０ｍｍまで、単調に６０Ｗまで増加させた。
【００８８】
［実施例７］
さらに、実施例５に示した方法に代わる手段として、洗浄液衝突スポットの位置に対応してノズルとウエハ面の距離を変化させても、同じ目的が達成できる。これは、超音波のエネルギーが、ノズルの先端からの距離が大きくなるとともに減衰していくことを利用するものである。
【００８９】
ノズルとウエハ面の間の距離は、たとえばアームの支点の軸を上下させることでノズルの運動面を直接上下動させて変化させてもよいし、ノズルの運動面はあくまでも直線状として、その運動面をウエハ面に対して傾けることによって変化させてもよい。
【００９０】
ノズルの先端からウエハ面までの距離が従来は１０ｍｍで固定されていたのに対し、これを１０ｍｍから４５ｍｍの範囲で変化させることにより、表７に示したのと同様に、パターン破壊を発生させずにウエハを洗浄することができた。具体的には、ｒ＝０ｍｍの時は、上記静止期間の０．３秒間、４５ｍｍに保ち、その後ｒ＝９０ｍｍまで、単調に１０ｍｍまで減少させた。
【００９１】
なお、この例は、ノズルの先端からウエハ面までの距離を変更することにより、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変えるものである。これに対し、実施例４の仰角の変更は、ノズルの先端からウエハ面までの距離を変更せずにノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変える効果を有する。従って、本例に仰角の変更を組み合わせることも可能である。
【００９２】
【表１】
2007173277.tif 000003
【００９３】
【表２】
2007173277.tif 000004
【００９４】
【表３】
2007173277.tif 000005
【００９５】
【表４】
2007173277.tif 000006
【００９６】
【表５】
2007173277.tif 000007
【００９７】
【表６】
2007173277.tif 000008
【００９８】
【表７】
2007173277.tif 000009
なお、上記に開示した内容から、下記の付記に示した発明が導き出せる。
【００９９】
（付記１）
被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するスピン洗浄装置において、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させる機能、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させる機能、および、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能
の少なくともいずれか一つの機能を有するスピン洗浄装置。
【０１００】
（付記２）
前記機能の少なくともいずれか二つを有する、付記１に記載のスピン洗浄装置。
【０１０１】
（付記３）
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、超音波の出力を変化させる機能、および、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能の少なくともいずれか二つを有する、付記１または２に記載のスピン洗浄装置。
【０１０２】
（付記４）
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、超音波の出力を変化させる機能および、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる機能の少なくともいずれか一つと、
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させる機能および、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させる機能の少なくともいずれか一つと
を有する、付記１〜３のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０３】
（付記５）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ウエハの回転数を小さくするように設定できる、付記１〜４のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０４】
（付記６）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記洗浄液衝突スポットの前記ウエハに平行な方向における移動速度を小さくするように設定できる、付記１〜５のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０５】
（付記７）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記超音波の出力を大きくするように設定できる、付記１〜６のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０６】
（付記８）
前記超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、前記超音波の出力変化を実現するように設定できる、付記１〜７のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０７】
（付記９）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくするように設定できる、付記１〜８のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０８】
（付記１０）
前記洗浄液衝突スポットにおける前記ノズルの仰角を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できる、付記１〜９のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１０９】
（付記１１）
前記ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変えることにより、当該ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させるように設定できる、付記１〜１０のいずれかに記載のスピン洗浄装置。
【０１１０】
（付記１２）
被洗浄物であるウエハを回転させ、ノズルを移動させながら当該ノズルから洗浄液を当該ウエハ面に噴射し、同時に、当該洗浄液を媒体として、当該ノズルの内部で発生させた超音波を、当該ノズルから噴射された当該洗浄液が当該ウエハ面に衝突する個所である洗浄液衝突スポットに照射して、当該ウエハ面を洗浄するウエハ洗浄方法において、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ウエハの回転数を変化させること、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルの当該ウエハに平行な方向における移動速度を変化させること、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該超音波の出力を変化させること、および、
当該洗浄液衝突スポットの当該ウエハ上における位置に対応して、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させること
の少なくともいずれか一つを行うことを含むウエハ洗浄方法。
【０１１１】
（付記１３）
前記の少なくともいずれか二つのことを行う、付記１２に記載のウエハ洗浄方法。
【０１１２】
（付記１４）
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、超音波の出力を変化させることおよび、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させることの少なくともいずれか一つを行う、付記１２または１３に記載のウエハ洗浄方法。
【０１１３】
（付記１５）
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、超音波の出力を変化させることおよび、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルと洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させることの少なくともいずれか一つと、
前記の、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ウエハの回転数を変化させることおよび、洗浄液衝突スポットのウエハ上における位置に対応して、ノズルのウエハに平行な方向における移動速度を変化させることの少なくともいずれか一つと
を行う、付記１２〜１４のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１４】
（付記１６）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ウエハの回転数を小さくする、付記１２〜１５のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１５】
（付記１７）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記洗浄液衝突スポットの前記ウエハに平行な方向における移動速度を小さくする、付記１２〜１６のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１６】
（付記１８）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記超音波の出力を大きくする、付記１２〜１７のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１７】
（付記１９）
前記超音波の出力のオン／オフ時間の調整により、前記超音波の出力変化を実現する、付記１２〜１８のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１８】
（付記２０）
前記洗浄液衝突スポットが前記ウエハの回転の中心から離れるに従い、前記ノズルと前記洗浄液衝突スポットとの間の距離を小さくする、付記１２〜１９のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１１９】
（付記２１）
前記洗浄液衝突スポットにおける前記ノズルの仰角を変えることにより、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる、付記１２〜２０のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１２０】
（付記２２）
前記ノズルと前記ウエハ面との間の距離を変えることにより、当該ノズルと当該洗浄液衝突スポットとの間の距離を変化させる、付記１２〜２１のいずれかに記載のウエハ洗浄方法。
【０１２１】
（付記２３）
付記１〜１１のいずれかに記載のスピン洗浄装置を用いる、付記１２〜２２のいずれかに記載のウエハの洗浄方法。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】超音波を照射するスピン洗浄の様子を示す概略斜視図である。
【図２】ウエハ上における洗浄液衝突スポットの運動を示すためのウエハの平面図である。
【図３】ウエハ上における洗浄液衝突スポットの他の運動を示すためのウエハの平面図である。
【図４】ウエハの中心からの距離と洗浄液衝突スポットの線速度との関係を示す図である。
【図５】実施例２における洗浄液衝突スポットの位置とウエハの回転数との関係を示すグラフである。
【図６】実施例２における洗浄液衝突スポットの位置と洗浄液衝突スポットの移動速度との関係を示すグラフである。
【図７】洗浄液衝突スポットにおけるノズルの仰角の変化を示す図である。
【図８】超音波のパルス波状の照射の様子を説明するための図である。
【図９】実施例と比較例とで使用した、Ｓｉウエハ上のパターンを示すための、Ｓｉウエハの平面図である。
【図１０】実施例と比較例とで使用した、Ｓｉウエハ上のパターンを示すための、Ｓｉウエハの側面図（断面図）である。
【符号の説明】
【０１２３】
１    ウエハ
２    円板の中心軸
３    ノズル
４    ウエハ面
５    洗浄液
６    洗浄液衝突スポット
７    矢印
８    アーム
９    矢印
１０  洗浄液衝突スポットの軌跡
４１  ウエハの中心
【図１】
2007173277.tif 000010
【図２】
2007173277.tif 000011
【図３】
2007173277.tif 000012
【図４】
2007173277.tif 000013
【図５】
2007173277.tif 000014
【図６】
2007173277.tif 000015
【図７】
2007173277.tif 000016
【図８】
2007173277.tif 000017
【図９】
2007173277.tif 000018
【図１０】
2007173277.tif 000019