(57)【要約】【課題】異物捕集性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材を提供すること。【解決手段】本発明のクリーニングシートは、支持基材と、該支持基材の少なくとも片面にクリーニング層とを有し、該クリーニング層が、高弾性率部分と低弾性率部分とを有する。好ましくは、高弾性率部分の引張弾性率は１００ＭＰａ以上であり、低弾性率部分の引張弾性率は１００ＭＰａ未満である。好ましくは、クリーニング層は、粘着性物質とエネルギー線硬化性物質とエネルギー線硬化開始剤とを含む。好ましくは、高弾性率部分および低弾性率部分は、エネルギー線を所定の位置に選択的に照射することにより形成されている。【選択図】図１
2007130539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材と、該支持基材の少なくとも片面にクリーニング層を有し、該クリーニング層が、高弾性率部分と低弾性率部分とを有する、クリーニングシート。
【請求項２】
前記高弾性率部分の引張弾性率が１００ＭＰａ以上であり、前記低弾性率部分の引張弾性率が１００ＭＰａ未満である、請求項１に記載のクリーニングシート。
【請求項３】
前記クリーニング層が、粘着性物質とエネルギー線硬化性物質とエネルギー線硬化開始剤とを含む、請求項１または２に記載のクリーニングシート。
【請求項４】
前記高弾性率部分および前記低弾性率部分が、エネルギー線を所定の位置に選択的に照射することにより形成されている、請求項１から３のいずれかに記載のクリーニングシート。
【請求項５】
前記高弾性率部分と前記低弾性率部分の面積比が、２／８〜８／２である、請求項１から４のいずれかに記載のクリーニングシート。
【請求項６】
搬送部材の少なくとも片面に、請求項１から５のいずれかに記載のクリーニング層を有する、クリーニング機能付搬送部材。
【請求項７】
搬送部材の少なくとも片面に、請求項１から５のいずれかに記載のクリーニングシートが配置されてなるクリーニング機能付搬送部材であって、
該搬送部材と該クリーニングシートの支持基材とが隣接するようにして配置されている、クリーニング機能付搬送部材。
【請求項８】
前記搬送部材と前記支持基材との間に粘着剤層をさらに有する、請求項７に記載のクリーニング機能付搬送部材。
【請求項９】
請求項１から５のいずれかに記載のクリーニングシート、あるいは請求項６から８のいずれかに記載のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む、基板処理装置のクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材に関する。より詳細には、本発明は、異物捕集性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材に関する。また、本発明は、このようなクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う各種の基板処理装置では、各搬送系と基板とを物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬送系に異物が付着していると、後続の基板をつぎつぎと汚染するため、定期的に装置を停止し、洗浄処理する必要がある。その結果、処理装置の稼動率が低下するという問題や装置の洗浄処理のために多大な労力が必要となるという問題がある。
【０００３】
このような問題を克服するため、板状部材を搬送することにより基板裏面に付着する異物を除去する方法（特許文献１参照）が提案されている。このような方法によれば、基板処理装置を停止させて洗浄処理を行う必要がないので、処理装置の稼動率が低下するという問題は解消される。しかし、この方法では、異物を十分に除去することはできない。
【０００４】
一方、粘着性物質を固着した基板をクリーニング部材として基板処理装置内に搬送することにより、当該処理装置内に付着した異物をクリーニング除去する方法（特許文献２参照）が提案されている。この方法は、特許文献１に記載の方法の利点に加えて異物の除去性にも優れるので、処理装置の稼動率が低下するという問題や装置の洗浄処理のために多大な労力が必要となるという問題はいずれも解消される。
【０００５】
しかし、クリーニング層に粘着性物質を使用した場合、その粘着性が高すぎると、粘着性物質と搬送系の接触部とが強く接着して剥離ができなくなり搬送不良となるといった課題がある。これは特に基板吸着用ステージなど密着性が高い箇所で問題となる。この解決策として、クリーニング層の引張弾性率を０．９８〜４９００Ｎ／ｍｍ２（０．９８〜４９００ＭＰａ）に規定することが提案されているが（特許文献３参照）、引張弾性率が均一なクリーニング層の場合、弾性率が低めだと搬送不良が発生する問題は解決されず、また、弾性率が高めだと異物を捕集する能力が低下するといった問題がある。
【特許文献１】特開平１１−８７４５８号公報
【特許文献２】特開平１０−１５４６８６号公報
【特許文献３】特開２００１−１９８０７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、異物捕集性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材（以下、これらをまとめてクリーニング部材と称することもある）を提供することにある。本発明の別の目的は、このようなクリーニング部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記の課題に対して鋭意検討した結果、クリーニング層に高弾性率部分と低弾性率部分とを設けることにより、異物捕集性能および搬送性能のバランスに優れるクリーニング部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
本発明のクリーニングシートは、支持基材と、該支持基材の少なくとも片面にクリーニング層とを有し、該クリーニング層が、高弾性率部分と低弾性率部分とを有する。
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記高弾性率部分の引張弾性率は１００ＭＰａ以上であり、上記低弾性率部分の引張弾性率は１００ＭＰａ未満である。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記クリーニング層は、粘着性物質とエネルギー線硬化性物質とエネルギー線硬化開始剤とを含む。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記高弾性率部分および上記低弾性率部分は、エネルギー線を所定の位置に選択的に照射することにより形成されている。
【００１２】
好ましい実施形態においては、上記高弾性率部分と上記低弾性率部分の面積比は、２／８〜８／２である。
【００１３】
本発明の別の局面においては、クリーニング機能付搬送部材が提供される。このクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面に、上記クリーニング層を有する。
【００１４】
別の実施形態においては、クリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面に、上記クリーニングシートが配置されてなり、該搬送部材と該クリーニングシートの支持基材とが隣接するようにして配置されている。好ましい実施形態においては、上記クリーニング機能付搬送部材は、上記搬送部材と上記支持基材との間に粘着剤層をさらに有する。
【００１５】
本発明のさらに別の局面においては、基板処理装置のクリーニング方法が提供される。この方法は、上記クリーニングシート、あるいは上記クリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、クリーニング層に高弾性率部分と低弾性率部分を設けることにより、異物捕集性能および搬送性能のバランスに優れたクリーニング部材を得ることができる。これは、主として高弾性率部分が自己支持性などの機械的特性に寄与して優れた搬送性能を発現し、主として低弾性率部分が粘着性などの表面特性に寄与して優れた異物捕集性能を発現するためであると推定される。本発明の好ましい実施形態においては、上記クリーニング部材は、高弾性率部分の引張弾性率が１００ＭＰａ以上であり、低弾性率部分の引張弾性率が１００ＭＰａ未満である。さらに好ましい実施形態においては、上記高弾性率部分と上記低弾性率部分の面積比は、２／８〜８／２である。このような特性を有することで、さらに優れた搬送性能および異物捕集性能を有するクリーニング部材を得ることができる。上記引張弾性率および／または上記面積比を適切に設定することにより、目的に応じた適切な異物捕集性能および搬送性能を有するクリーニング部材を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は、本発明の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図であり、図２は、本発明の別の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図である。図１によると、クリーニングシート１００は、支持基材１０の少なくとも片面に、クリーニング層２０とセパレーター３０とを有している。クリーニング層２０は、高弾性率部分２１と低弾性率部分２２を有する。該クリーニング層の厚みは、目的に応じて適宜設計され、好ましくは、５〜１００μｍであり、さらに好ましくは１０〜５０μｍである。このような範囲を有することで異物捕集性および搬送性に優れたクリーニング部材を得ることができる。別の実施形態においては、図２に示すように、支持基材１０のクリーニング層２０と反対側の面に、粘着剤層４０とセパレーター３０が設けられてもよい。なお、支持基材１０、セパレーター３０および／または粘着剤層４０は、目的に応じて省略してもよい。
【００１８】
高弾性率部分の引張弾性率は、好ましくは１００ＭＰａ以上であり、さらに好ましくは１００〜６００ＭＰａであり、とりわけ好ましくは２００〜５００ＭＰａである。高弾性率部分がこれらの範囲に引張弾性率を有することで、優れた搬送性能を有するクリーニング部材が得られる。一方、低弾性率部分の引張弾性率は、好ましくは１００ＭＰａ未満であり、さらに好ましくは０．１〜９０ＭＰａであり、とりわけ好ましくは０．５〜８０ＭＰａである。低弾性部分がこれらの範囲に引張弾性率を有することで、優れた異物捕集性能を有するクリーニング部材が得られる。クリーニング層２０が特定の引張弾性率を有する高弾性率部分と低弾性部分を有することにより、半導体などの装置内に付着する異物を簡便かつ確実に捕集することができ、かつ、良好な搬送性を有するクリーニング部材が得られる。なお、引張弾性率はＪＩＳ  Ｋ７１７２に準ずる。
【００１９】
高弾性率部分と低弾性率部分の面積比は、好ましくは、２／８〜８／２であり、さらに好ましくは、２．５／７．５〜７．５／２．５である。これらの範囲を有することで装置内搬送性および異物捕集性をバランスよく得ることができる。なお、面積比は、クリーニング層の表面（例えば、実質的にクリーニングを行う面）における面積比を意味する。
【００２０】
上記高弾性率部分と低弾性率部分の面積比は、クリーニング対象となる装置や工程などにより決定され得る。例えば、装置内搬送性（主に高弾性率部分が寄与する性質）を重視する場合は、高弾性率部分の面積比を相対的に高くすることで、装置内搬送性を高めればよい。逆に装置内搬送性よりも異物捕集性（主に低弾性率部分が寄与する性質）を重視する場合は、低弾性率部分の面積比を相対的に高くすることで、異物捕集性を高めればよい。従って、本発明の高弾性率部分および低弾性率部分の面積比（割合）を目的に応じて適宜設計することで、異物捕集性能および搬送性能が所望のバランスを有するクリーニング層を得ることができる。
【００２１】
上記高弾性率部分と低弾性率部分の配置パターンは目的に応じて適宜設定され得る。例えば、当該配置はクリーニング部材が用いられる基板処理装置（より具体的には、ウェハステージ）の形状、特徴、温度等に対応して決定される。配置パターンの具体例としては、格子状、水玉状、市松状、モザイク状が挙げられる。なお、図示例では、高弾性率部分と低弾性率部分が厚み方向全体にわたって形成されているが、これらは厚み方向の一部分に形成されていてもよい。
【００２２】
クリーニング層２０の所定の位置に高弾性率部分２１と低弾性率部分２２を形成する方法としては、例えば、支持基材上に塗布されたクリーニング層形成用組成物の所定の位置に、選択的にエネルギー線照射を施す方法が挙げられる。代表的には、エネルギー線照射部分に高弾性率部分２１が形成され、エネルギー線非照射部分に低弾性率部分２２が形成される。
【００２３】
クリーニング層形成用組成物に、選択的にエネルギー線照射を施す方法としては、目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、エネルギー線遮光性材料を用いて所定のパターンのマスクを作製し、そのマスクを介してエネルギー線照射を行う方法；クリーニング層側のセパレーターに予め部分的にエネルギー線遮光印刷を施したものを使用し、該クリーニング層側のセパレーターを介してエネルギー線照射を施す方法が挙げられる。また、エネルギー線を遮光するパターンは、上記配置パターンに対応して適宜設定され得る。具体的なマスクパターン材としては、直径２ｍｍの穴が全面積の７５％を占めるＳＵＳ板等が挙げられる。
【００２４】
上記エネルギー線は、目的に応じて任意の適切なエネルギー線が採用され得る。具体例としては、紫外線、電子線、放射線等が挙げられる。好ましくは、紫外線である。紫外線の波長は、目的に応じて適宜選択され、好ましくは、中心波長が３２０〜４００ｎｍである。紫外線発生源としては、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、Ｘｅ−Ｈｇランプ、ディープＵＶランプ等が挙げられる。紫外線積算光量は高弾性率部分の所望の引張弾性率に応じて設定される。具体的には、紫外線積算光量は、好ましくは１００〜８０００ｍＪ/ｃｍ2であり、さらに好ましくは５００〜５０００ｍＪ/ｃｍ2である。
【００２５】
上記クリーニング層形成用組成物は、代表的には、粘着性物質、エネルギー線硬化性物質およびエネルギー線硬化開始剤を含む。さらに、エネルギー線硬化前後に適切な引張弾性率を得るために、熱重合開始剤などの適宜な添加剤が必要に応じて配合されてもよい。また、これらの種類および配合量等は、エネルギー線照射条件および要求される引張弾性率等に応じて適宜選択され得る。
【００２６】
上記粘着性物質は、目的に応じて任意の適切な粘着性物質が採用される。例えば、ゴム系やアクリル系、ビニルアルキルエーテル系やシリコーン系、ポリエステル系やポリアミド系、ウレタン系やスチレン・ジエンブロック共重合体系、融点が約２００℃以下等の熱溶融性樹脂を配合してクリープ特性を改良した粘着剤(例えば特開昭５６−６１４６８号公報、特開昭６１−１７４８５７号公報、特開昭６３−１７９８１号公報、特開昭５６−１３０４０号公報)などが挙げられる。このような粘着性物質は、単独でまたは組み合わせて用いられる。粘着性物質の重量平均分子量は、好ましくは５０〜１００万、さらに好ましくは６０〜９０万である。なお、粘着剤性物質は、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、充点剤、老化防止剤などの適宜な添加剤を配合したものであってもよい。  
【００２７】
上記粘着性物質は、好ましくは、天然ゴムや各種の合成ゴムをベースポリマーとするゴム系粘着剤；あるいは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基やヘキシル基、ヘプチル基や２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、イソデシル基、ドデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基の如き炭素数が２０以下のアルキル基を有するアクリル酸やメタクリル酸等のエステルからなるアクリル酸系アルキルエステルの１種又は２種以上を用いたアクリル系共重合体をベースポリマーとするアクリル系粘着剤である。
【００２８】
上記アクリル系共重合体としては、目的に応じて任意の適切なアクリル系共重合体が用いられる。当該アクリル系共重合体は、必要に応じて、凝集力や耐熱性や架橋性等を有してもよい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシルエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イコタン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸の如きカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イコタン酸の如き酸無水物モノマー；（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルメタアクリレートの如きヒドロキシル基含有モノマー；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸の如きスルホン酸基含有モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミドの如き（Ｎ−置換）アミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチルの如き（メタ）アクリル酸アルキリアミノ系モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチルの如き（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドの如きマレイミド系モノマー；Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミドの如きイタコンイミド系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクルロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミドの如きスクシンイミド系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ブニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタムの如きビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリルの如きシアノアクリレートモノマー；（メタ）アクリル酸グリシジルの如きエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコー���、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールの如きグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、２−メトキシエチルアクリレートの如きアクリル酸エステル系モノマー；ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートの如き多官能モノマー；イソプレン、ブタジエン、イソブチレン、ビニルエーテル等の適宜なモノマー；等の２種以上の共重合が挙げられる。これらのモノマーの配合比等は、目的に応じて適宜設定される。
【００２９】
上記エネルギー線硬化性物質は、エネルギー線（好ましくは光、さらに好ましくは紫外線）により硬化可能なものであれば特に限定されない。エネルギー線硬化性物質の具体的な例としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、１，４−ブチレングリコールジアクリレート，１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートが挙げられる。
【００３０】
また、エネルギー線硬化性樹脂を用いてもよく、例えば、分子末端に（メタ）アクリロイル基を有するエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、アクリル樹脂（メタ）アクリレート、分子末端にアリル基を有するチオール−エン付加型樹脂や光カチオン重合型樹脂、ポリビニルシンナマートなどのシンナモイル基含有ポリマー、ジアゾ化したアミノノボラック樹脂やアクリルアミド型ポリマーなど、感光性反応基含有ポリマーあるいはオリゴマーなどが挙げられる。さらにエネルギー線で反応するポリマーとしては、エポキシ化ポリブタジエン、不飽和ポリエステル、ポリグリシジルメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリビニルシロキサン等が挙げられる。これらは単独で、または組み合わせて用いられる。組み合わせて用いる場合の配合比等は、目的に応じて適宜設定される。エネルギー線硬化性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５０〜５００００、さらに好ましくは６０〜３００００である。配合量としては、粘着性物質1００重量部に対して、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜２５０重量部である。
【００３１】
エネルギー線硬化開始剤は、目的に応じて任意の適切な開始剤を適宜選択できる。具体例としては、ベンジルジメチルケタール等のベンジルケタール；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどのベンゾインエーテル；アニソールメチルエーテルなどの置換ベンゾインエーテル；２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルケトンなどの置換アセトフェノン；２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノンなどの置換アルファーケトール；２−ナフタレンスルフォニルクロライドなどの芳香族スルフォニルクロライド；１−フェニル−１，１−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）−オキシムなどの光活性オキシムが挙げられる。配合量としては、エネルギー線硬化性物質1００重量部に対して、０．１〜１０重量部、好ましくは１〜５重量部である。尚、必要に応じて、エネルギー線硬化開始剤とともにエネルギー線重合促進剤を併用してもよい。
【００３２】
上記支持基材１０は、クリーニングシート１００を搬送可能に支持する。支持基材１０の厚さは適宜選択でき、好ましくは５００μｍ以下、さらに好ましくは３〜３００μｍ、最も好ましくは５〜２５０μｍである。支持基材の表面は、隣接する層との密着性，保持性などを高めるために、慣用の表面処理、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理などの化学的または物理的処理，下塗剤（例えば、上記粘着性物質）によるコーティング処理が施されていてもよい。なお、支持基材は単層であっても多層体であってもよい。
【００３３】
支持基材１０は、目的に応じて任意の適切な支持基材が採用される。例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリアミドなどのプラスチックフィルムが挙げられる。分子量などの諸物性は、目的に応じて適宜選択され得る。また、支持基材の成形方法は目的に応じて適宜選択される。
【００３４】
上記セパレーター３０は、クリーニング部材が実用に供されるまでの間、必要に応じて上記クリーニング層２０の表面および／または上記粘着剤層４０の表面に設けられ得る。セパレーターを設けることにより、クリーニング層に異物が付着することを防止できるので、クリーニング部材のクリーニング性能低下が防止される。セパレーターは任意の適切なセパレーターが採用される。セパレーターとしては、例えば樹脂フィルムが挙げられる。具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネートなどからなるプラスチックフィルム、ポリイミドなどの耐熱樹脂フィルムが挙げられる。また、セパレーターには目的に応じて剥離剤等の処理を施してもよい。好ましくは、非シリコーン系の剥離剤が用いられ、例えば、長鎖アルキル系、フッ素系、脂肪酸アミド系の剥離剤が挙げられる。セパレーターの形成方法は、目的に応じて適宜選択される。セパレーターの厚みは、好ましくは、５〜１００μｍである。
【００３５】
上記粘着剤層４０は、支持基材１０のクリーニング層２０と反対側の面に配置されてもよい。（図２参照）。当該接着剤層を介して、クリーニングシートが搬送部材（後述）に貼り合わせられる。該粘着剤層は、例えばシリコンウェハのミラー面に対する１８０度引き剥がし粘着力が、好ましくは０．０１〜１０Ｎ／１０ｍｍ幅、さらに好ましくは０．０５〜５Ｎ／１０ｍｍ幅である。粘着力が高すぎると、剥離除去する際に、クリーニング層などが裂ける恐れがある。また、粘着剤層の厚さは、目的に応じて適宜設定される。好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは５〜３０μｍである。
【００３６】
粘着剤層の材料構成については特に限定されず、例えば、アクリル系やゴム系など通常の粘着剤からなるものが使用される。好ましくは、アクリル系の粘着剤である。アクリル系粘着剤の主成分は、目的に応じて適宜選択される。例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーに必要に応じ共重合可能な他のモノマーを加えた混合物（混合比は目的に応じて適宜設計される）を、重合反応させることにより得ることができる。さらに、粘着剤層は目的に応じて添加剤を含んでもよい。粘着剤層の主成分の重量平均分子量は目的に応じて適宜選択され、好ましくは１０万〜１３０万である。これらの範囲を有することで、所望の粘着性を有することができる。また、粘着剤層の主成分の含有率は目的に応じて適宜選択される。好ましくは粘着剤層全体の９０重量％以上である。
【００３７】
上記クリーニングシート１００の作製方法は、目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、支持基材上に直接クリーニング層を形成する方法が挙げられる。以下に、クリーニングシートの代表的な形成方法を示すが、この方法等に限られるものではない。例えば、クリーニング層２０を、支持基材１０上に直接形成する場合、まず、クリーニング層形成用組成物を支持基材上に塗布し、当該塗布層に必要に応じて任意の適切なセパレーター３０を配置する。塗布方法の具体例としては、コンマコート法、ファウンテン法、グラビア法が挙げられる。次いで、目的に応じて任意の適切なマスクパターン材を配置する。最後に、エネルギー線を照射することにより、照射部分に高弾性率部分２１および非照射部分に低弾性率部分２２を有するクリーニング層２０が形成されクリーニングシート１００が作製される。なお、目的に応じて支持基材１０のクリーニング層２０と反対側の面に、粘着剤層４０およびセパレーター３０を同様に形成してもよい。以上のようにして、本発明のクリーニングシート１００が作製される。
【００３８】
本発明のクリーニングシートは、クリーニングシートとして単独で使用してもよく、任意の適切な搬送部材上に設けられたクリーニングシートとして（すなわち、本発明のクリーニング機能付搬送部材のクリーニングシートとして）使用してもよい。以下、本発明の好ましい実施形態によるクリーニング機能付搬送部材について説明する。
【００３９】
図３は本発明の好ましい実施形態によるクリーニング機能付搬送部材の概略断面図である。図３によると、クリーニング機能付搬送部材２００は、搬送部材５０の少なくとも片面（図示例では片面）に、支持基材１０とクリーニング層２０とセパレーター３０とを有する。すなわち、クリーニング機能付搬送部材２００は、搬送部材５０の少なくとも片面に上記の本発明のクリーニングシートを有する。当該クリーニングシートは、代表的には支持基材１０が粘着剤層４０を介して搬送部材５０に貼り合わされている。セパレーター３０は、目的に応じ省略してもよい。このクリーニング機能付搬送部材を装置内で搬送し、被洗浄部位に接触・移動させることにより、上記装置内に付着する異物による搬送トラブルを生じることなく簡便かつ確実にクリーニング除去することができる。別の実施形態においては、クリーニング層２０が搬送部材５０に直接設けられてもよい（図示せず）。このようなクリーニング機能付搬送部材は、例えば、クリーニング層形成用組成物を搬送部材に直接塗布し、所定のパターンを有するマスク材を介してエネルギー線を選択的に照射することにより作製され得る。
【００４０】
上記搬送部材５０としては、異物捕集の対象となる基板処理装置の種類に応じて任意の適切な基板が用いられる。具体例としては、半導体ウェハ（例えば、シリコンウェハ）、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ用基板（例えば、ガラス板）、コンパクトディスク、ＭＲヘッドなどの基板が挙げられる。
【００４１】
本発明の好ましい実施形態によるクリーニング方法は、上記クリーニングシートまたは上記クリーニング機能付搬送部材を所望の基板処理装置内に搬送して、その被洗浄部位に接触させることにより、当該被洗浄部位に付着した異物を簡便かつ確実にクリーニング除去することができる。本発明のような異物捕集性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材を用いることにより、例えば、搬送時に処理装置内での搬送不良や汚染を発生させることなく使用できるという利点がある。
【００４２】
上記クリーニング方法により洗浄される基板処理装置は、特に限定されない。基板処理装置の具体例としては、本明細書ですでに記載した装置に加えて、回路形成用の露光照射装置、レジスト塗布装置、スパッタリング装置、イオン注入装置、ドライエッチング装置、ウエハプローバなどの各種の製造装置や検査装置などが挙げられる。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、以下、部とあるのは重量部を意味するものとする。
（実施例１）
アクリル酸−２−エチルヘキシル７５部、アクリル酸メチル２０部、及びアクリル酸５部からなるモノマー混合液から得たアクリル系ポリマー（重量平均分子量７０万）１００部に対して、ウレタンアクリレート１５０部（重量平均分子量４０００）、ベンジルジメチルケタール３部、及びジフェニルメタンジイソシアネート３部を均一に混合し、クリーニング層形成用組成物とした。幅２５０ｍｍ、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート製支持基材の一方の側に、該クリーニング層形成用組成物を硬化後の厚み（すなわち、得られるクリーニング層の厚み）が３５μｍとなるように塗布し、その表面に厚さ５０μｍのポリエステル系セパレーターを貼った。
一方、上記クリーニング層形成用組成物からベンジルジメチルケタールを除いた以外は、上記と同様にして得た粘着剤層を、支持基材のもう一方の側に成形後の厚さが２０μｍとなるように塗布・乾燥した。その表面に厚さ３８μｍのポリエステル系セパレーターを貼った。
次に、ＳＵＳ板に直径２ｍｍΦの穴が面積比で７５％を占めるマスクパターン材を作製し、これをクリーニング層形成用組成物側セパレーター上に設置した。次いで、中心波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２照射して本発明のクリーニングシートを得た。このクリーニングシートのクリーニング層の引張弾性率については、別途、上記作製方法と同様にして測定用試料を作製し算出した。具体的には、クリーニング層の紫外線照射部分および非照射部分の引張弾性率をそれぞれ測定し、紫外線照射部分の引張弾性率を高弾性率部分の引張弾性率とし、紫外線非照射部部分の引張弾性率を低弾性率部分の引張弾性率とした。その結果、高弾性率部分の引張弾性率は３０５ＭＰａ、低弾性率部分の引張弾性率は０．７ＭＰａであった。ここで、引張弾性率はＪＩＳ  Ｋ７１２７に準じて測定した。このクリーニングシートの粘着剤層側のセパレーターを剥がし、８ｉｎｃｈのシリコンウェハの裏面（ミラー面）にハンドローラーで貼り付け、クリーニング機能付搬送部材を作製した。
【００４４】
一方、基板処理装置のウェハステージを２つ取り外し、レーザー式異物測定装置で、０．３μｍ以上の異物を測定したところ、８ｉｎｃｈウェハサイズのエリア内で一つは２４０００個、もう一つは２００５０個であった。次いで、前記で得たクリーニング機能付搬送部材のクリーニング層側のセパレーターを剥がし、上記の２４０００個の異物が付着していたウェハステージを持つ基板処理装置内を３回搬送させたところ、支障なく搬送できた。その後、ウェハステージを取り外し、レーザー式異物測定装置で０．３μｍ以上の異物を測定したところ、８ｉｎｃｈウェハサイズ内で５２００個であり、クリーニング前に付着していた異物数の３／４以上を除去することができた。
【００４５】
（比較例１）
紫外線照射を行わない以外は実施例と同様にしてクリーニング機能付搬送部材を作製した。次いで、上記ウェハステージを持つ基板処理装置内を搬送したところ、ウェハステージに固着し、搬送できなくなった。
【００４６】
（比較例２）
紫外線照射時にマスクパターンを使用せず、クリーニング層全面積に積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射処理を行った以外は、実施例に準じてクリーニング機能付搬送部材を作製した。次いで、上記の２００５０個の異物が付着していたウェハステージを持つ基板処理装置内を３回搬送させたところ支障なく搬送できたが、ウェハステージを取り外し、レーザー式異物測定装置で０．３μｍ以上の異物を測定したところ、８インチウェハサイズ内で１５０００個であり、クリーニング前に付着していた異物数の１／２以下しか除去することができなかった。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明のクリーニング部材は、各種の製造装置や検査装置のような基板処理装置のクリーニングに好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図である。
【図２】図２は、本発明の別の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図である。
【図３】図３は本発明の好ましい実施形態によるクリーニング機能付搬送部材の概略断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０    支持基材
２０    クリーニング層
２１    高弾性率部分
２２    低弾性率部分
３０    セパレーター
４０    粘着剤層
５０    搬送部材
１００  クリーニングシート
２００  クリーニング機能付搬送部材
【図１】
2007130539.tif 000003
【図２】
2007130539.tif 000004
【図３】
2007130539.tif 000005