(57)【要約】【課題】作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。【解決手段】パターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブ８３の欠損部３２にベース部３１を塗布する塗布ステップと、塗布されたベース部３１を工具７によって整形するステップとを含み、整形するステップにおいては、工具７に加わる負荷を検出し、検出結果に基づいて工具７を操作する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたパターンの欠損部に修正ペーストを塗布する塗布ステップと、
前記塗布された修正ペーストを工具によって整形するステップとを含み、
前記整形するステップにおいては、前記工具に加わる負荷を検出し、前記検出結果に基づいて前記工具を操作するパターン欠陥修正方法。
【請求項２】
前記整形するステップにおいては、
前記塗布された修正ペーストに対して前記工具を切り込ませ、前記切り込み時に前記工具に加わる負荷を検出し、前記検出された負荷が所定値以上である場合には前記工具の切り込みを停止するかまたは前記工具を所定距離だけ後退させ、その後、前記工具を前記切り込み方向と略直交する方向に移動させる請求項１記載のパターン欠陥修正方法。
【請求項３】
前記パターン欠陥修正方法は、さらに、
前記工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップを含み、
前記整形するステップにおいては、
前記非接触支持された回転軸の変位に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項１記載のパターン欠陥修正方法。
【請求項４】
前記パターン欠陥修正方法は、さらに、
前記工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップと、
前記非接触支持された回転軸を回転させるステップとを含み、
前記整形するステップにおいては、
前記回転軸の回転速度に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項１記載のパターン欠陥修正方法。
【請求項５】
前記パターン欠陥修正方法は、さらに、
前記工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップと、
前記非接触支持された回転軸をモータで回転させるステップとを含み、
前記整形するステップにおいては、
前記モータの駆動電流に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項１記載のパターン欠陥修正方法。
【請求項６】
前記パターン欠陥修正方法は、さらに、
前記塗布された修正ペーストを乾燥するステップを含み、
前記整形するステップにおいては、前記乾燥された修正ペーストを前記工具によって整形し、
前記パターン欠陥修正方法は、さらに、
前記整形された修正ペーストを焼成するステップを含む請求項１記載のパターン欠陥修正方法。
【請求項７】
基板上に形成されたパターンの欠損部に修正ペーストを塗布する塗布機構と、
工具を含み、前記塗布された修正ペーストを前記工具によって整形する整形機構と、
前記工具に加わる負荷を検出する検出機構と、
前記検出結果に基づいて前記工具を操作する制御機構とを備えるパターン欠陥修正装置。
【請求項８】
前記整形機構は、前記塗布された修正ペーストに対して前記工具を切り込ませ、
前記検出機構は、前記切り込み時に前記工具に加わる負荷を検出し、
前記制御機構は、前記検出された負荷が所定値以上である場合には前記工具の切り込みを停止するかまたは前記工具を所定距離だけ後退させ、その後、前記工具を前記切り込み方向と略直交する方向に移動させる請求項７記載のパターン欠陥修正装置。
【請求項９】
前記整形機構は、
前記工具が取り付けられる回転軸と、
前記回転軸を非接触支持する空気軸受機構とを含み、
前記検出機構は、前記非接触支持された回転軸の変位に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項７記載のパターン欠陥修正装置。
【請求項１０】
前記整形機構は、
前記工具が取り付けられる回転軸と、
前記回転軸を非接触支持する空気軸受機構と、
前記非接触支持された回転軸を回転させる回転機構とを含み、
前記検出機構は、前記回転軸の回転速度に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項７記載のパターン欠陥修正装置。
【請求項１１】
前記整形機構は、
前記工具が取り付けられる回転軸と、
前記回転軸を非接触支持する空気軸受機構と、
前記非接触支持された回転軸を回転させるモータとを含み、
前記検出機構は、前記モータの駆動電流に基づいて前記工具に加わる負荷を検出する請求項７記載のパターン欠陥修正装置。
【請求項１２】
前記パターン欠陥修正装置は、さらに、
前記塗布された修正ペーストを乾燥する熱放射機構を備え、
前記整形機構は、前記乾燥された修正ペーストを前記工具によって整形し、
前記熱放射機構は、さらに、前記整形された修正ペーストを焼成する請求項７記載のパターン欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠損箇所に修正ぺーストを塗布し、乾燥、焼成および余分な修正ペーストの除去整形等を行なって欠損箇所を修正するパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図６は、プラズマディスプレィパネル（PDP）の構成を示す図である。
図６を参照して、プラズマディスプレィパネル（PDP）は、前面ガラス基板７０と、透明電極７１と、バス電極７２と、誘電体層７３と、保護層７４と、背面ガラス基板８０と、アドレス電極８１と、誘電体層８２と、微細パターンである隔壁（リブ）８３と、蛍光体８４とを備える。
【０００３】
ＰＤＰでは、前面ガラス基板７０と背面ガラス基板８０とが張り合わされ、背面ガラス基板８０の、前面ガラス基板７０との張り合わせ面には多数のリブ(隔壁)８３が形成されている。
【０００４】
リブ８３の形は、図６では例として線状に形成されたストライプタイプを示しているが、矩形に形成されたワッフルタイプ等種々の形が提案されている。
【０００５】
ところで、背面ガラス基板にリブを形成する際、異物の混入および製作上の不具合により、リブの一部が欠損する欠陥が発生する場合がある。このようなリブの欠陥は、製作後のＰＤＰ点灯時に混色および暗い点を生じさせ、ＰＤＰの品質を著しく低下させるため、リブの欠損箇所（以下、リブ欠損部とも称する。）を修正する必要がある。
【０００６】
リブ欠損部を修正する装置として、たとえば、特許文献１には以下のようなパターン欠陥修正装置が開示されている。すなわち、ペースト塗布機構によりリブ欠け欠陥部に修正ペーストをはみ出る程度に塗布し、リブの上部をスキージ機構を用いて整形し、ＩＲ（赤外線）光源により塗布した修正ペーストを乾燥させ、カット用レーザ部により修正ペーストのはみ出し部をカットし、スクラッチ機構を用いてはみ出し部を除去し、バキューム機能により修正かすを吸引除去した後、半導体レーザを用いて焼成する。
【０００７】
また、特許文献２には以下のようなパターン欠陥修正装置が開示されている。すなわち、補修ペースト充填機構と、ペースト焼成機構と、リブ規定断面はみ出し材を機械的に切削整形する機械的整形機構と、平面基板に垂直方向に移動する垂直方向移動機構と、充填機構および焼成機構および整形機構を搭載したヘッド部と平面基板に平行な平面方向に相対的に移動する水平方向位置決め機構とを備え、ヘッド部に搭載される各機構を垂直方向移動機構に連動させる。
【特許文献１】特開２０００−２９９０５９号公報
【特許文献２】特開２００４−３１１９１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、特許文献１および特許文献２記載のパターン欠陥修正装置では、リブ欠損部に塗布された修正ペースト（以下、リブ修正部とも称する。）を整形するために、たとえば回転するスピンドルの先端に工具が取り付けられる。作業者は、スピンドルに工具を取り付ける際には、工具の先端とスピンドルが搭載されるテーブルとの位置関係を前もって確認しておく。そして、作業者は、修正ペーストに対して工具を切り込ませて整形する際に工具の先端が所定の深さ位置に到達するように、テーブルを移動させる位置をパターン欠陥修正装置に指示する。
【０００９】
ところが、スピンドルの回転中にスピンドルにおける回転軸の伸び、および工具の取り付け部材の熱変形等が発生し、工具の先端とテーブルとの位置関係に誤差が生じる場合がある。そうすると、所定の深さ位置より深く切り込むことによって工具が破損してしまい、また、修正対象であるＰＤＰの誘電体層が深く削られてしまう場合がある。
【００１０】
このような工具およびＰＤＰの破損を防止するために、工具の先端を所定の深さ位置より浅い位置に到達させて整形結果を確認し、その後、工具の先端をさらに深い位置に到達させて整形結果を確認する、という作業を繰り返し実施する方法が考えられる。しかしながら、このような方法では整形作業に長時間を要してしまう。
【００１１】
それゆえに、本発明の目的は、作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるパターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたパターンの欠損部に修正ペーストを塗布する塗布ステップと、塗布された修正ペーストを工具によって整形するステップとを含み、整形するステップにおいては、工具に加わる負荷を検出し、検出結果に基づいて工具を操作する。
【００１３】
好ましくは、整形するステップにおいては、塗布された修正ペーストに対して工具を切り込ませ、切り込み時に工具に加わる負荷を検出し、検出された負荷が所定値以上である場合には工具の切り込みを停止するかまたは工具を所定距離だけ後退させ、その後、工具を切り込み方向と略直交する方向に移動させる。
【００１４】
好ましくは、パターン欠陥修正方法は、さらに、工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップを含み、整形するステップにおいては、非接触支持された回転軸の変位に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００１５】
好ましくは、パターン欠陥修正方法は、さらに、工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップと、非接触支持された回転軸を回転させるステップとを含み、整形するステップにおいては、回転軸の回転速度に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００１６】
好ましくは、パターン欠陥修正方法は、さらに、工具が取り付けられた回転軸を空気軸受で非接触支持するステップと、非接触支持された回転軸をモータで回転させるステップとを含み、整形するステップにおいては、モータの駆動電流に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００１７】
好ましくは、パターン欠陥修正方法は、さらに、塗布された修正ペーストを乾燥するステップを含み、整形するステップにおいては、乾燥された修正ペーストを工具によって整形し、パターン欠陥修正方法は、さらに、整形された修正ペーストを焼成するステップを含む。
【００１８】
上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるパターン欠陥修正装置は、基板上に形成されたパターンの欠損部に修正ペーストを塗布する塗布機構と、工具を含み、塗布された修正ペーストを工具によって整形する整形機構と、工具に加わる負荷を検出する検出機構と、検出結果に基づいて工具を操作する制御機構とを備える。
【００１９】
好ましくは、整形機構は、塗布された修正ペーストに対して工具を切り込ませ、検出機構は、切り込み時に工具に加わる負荷を検出し、制御機構は、検出された負荷が所定値以上である場合には工具の切り込みを停止するかまたは工具を所定距離だけ後退させ、その後、工具を切り込み方向と略直交する方向に移動させる。
【００２０】
好ましくは、整形機構は、工具が取り付けられる回転軸と、回転軸を非接触支持する空気軸受機構とを含み、検出機構は、非接触支持された回転軸の変位に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００２１】
好ましくは、整形機構は、工具が取り付けられる回転軸と、回転軸を非接触支持する空気軸受機構と、非接触支持された回転軸を回転させる回転機構とを含み、検出機構は、回転軸の回転速度に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００２２】
好ましくは、整形機構は、工具が取り付けられる回転軸と、回転軸を非接触支持する空気軸受機構と、非接触支持された回転軸を回転させるモータとを含み、検出機構は、モータの駆動電流に基づいて工具に加わる負荷を検出する。
【００２３】
好ましくは、パターン欠陥修正装置は、さらに、塗布された修正ペーストを乾燥する熱放射機構を備え、整形機構は、乾燥された修正ペーストを工具によって整形し、熱放射機構は、さらに、整形された修正ペーストを焼成する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
【００２６】
＜第１の実施の形態＞
［構成および基本動作］
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置の構成を示す外観図である。
【００２７】
図１を参照して、このパターン欠陥修正装置は、位置決め機構と、パーソナルコンピュータ（制御機構）２２とを備える。位置決め機構は、Ｙ軸テーブル１と、Ｚ軸テーブル２と、Ｘ軸テーブル３とを含む。
【００２８】
Ｙ軸テーブル１は、修正対象となるＰＤＰ用パネルの背面ガラス基板８０が置かれ、背面ガラス基板８０と平行なＹ軸方向に移動する。
【００２９】
Ｚ軸テーブル２は、Ｙ軸テーブル１上に置かれた背面ガラス基板８０に対して垂直なＺ軸方向に移動する。
【００３０】
Ｘ軸テーブル３は、Ｚ軸テーブル２を搭載し、背面ガラス基板８０と平行でかつＹ軸と直交するＸ軸方向に移動する。
【００３１】
パーソナルコンピュータ２２は、このパターン欠陥修正装置全体を制御する。たとえば、パーソナルコンピュータ２２は、Ｙ軸テーブル１と、Ｚ軸テーブル２と、Ｘ軸テーブル３とを移動させる制御を行なう。
【００３２】
図２は、図１のＡ部拡大図を示す外観図である。
図２を参照して、このパターン欠陥修正装置は、Ｚ軸駆動モータ１２と、Ｚ軸テーブル２に搭載される修正ヘッドを備える。修正ヘッドは、観察光学系４と、塗布機構５と、連続発振ＣＯ２レーザ（熱放射機構）６と、整形機構と、レーザ変位計１１とを含む。整形機構は、工具回転スピンドル７と、スクラッチ機構９と、テープ研磨ユニット１０とを含む。
【００３３】
観察光学系４は、背面ガラス基板８０の表面におけるリブ８３の欠陥を観察する。
塗布機構５は、リブ欠損部に針を用いて修正ペーストを塗布する。
【００３４】
連続発振ＣＯ２レーザ６は、塗布した修正ペーストからなるリブ修正部にレーザ光を照射して乾燥させる。また、連続発振ＣＯ２レーザ６は、乾燥後のリブ修正部にレーザ光を照射して焼成する。なお、熱放射機構６として連続発振ＣＯ２レーザを使用する構成に限らず、修正ペーストに対して熱を放射するものを連続発振ＣＯ２レーザ６の代わりに使用する構成であってもよい。
【００３５】
整形機構は、リブ修正部を切削等して整形する。より詳細には、工具回転スピンドル７は、正常なリブの幅からはみだした余分な修正ペーストをカットして除去する。スクラッチ機構９は、正常なリブの幅からはみだした余分な修正ペーストを針によって除去する。テープ研磨ユニット１０は、リブ上面の突起欠陥または正常なリブの上面に対してはみ出している修正ペーストを研磨テープを用いて除去する。
【００３６】
レーザ変位計１１は、Ｚ軸テーブル２と背面ガラス基板８０との距離を検出する。Ｚ軸駆動モータ１２は、Ｚ軸テーブル２を駆動する。
【００３７】
なお、位置決め機構の構成はＹ軸テーブル１と、Ｚ軸テーブル２と、Ｘ軸テーブル３とを含む構成に限定するものではなく、ＰＤＰと修正ヘッドとの相対位置をＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向に移動調整できるものであればどんなものでもよい。
【００３８】
観察光学系４によって観察される画像は、パーソナルコンピュータ２２の画面上に表示される。作業者はこの画面を見て、塗布位置、レーザ照射位置、工具移動位置および測定位置等をパーソナルコンピュータ２２経由でパターン欠陥修正装置の各機構に指示し、塗布、乾燥、整形および焼成等の修正作業を行なう。なお、作業者が修正作業を各機構に指示する構成に限らず、パーソナルコンピュータ２２が自動的に各機構を制御して修正作業を行なう構成であってもよい。
図３は、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置における工具回転スピンドルの構成を示す図である。
【００３９】
図３を参照して、工具回転スピンドル７は、タービン駆動のセンサ付スピンドルである。工具回転スピンドル７は、工具４１と、回転軸４２と、スラスト板４３と、ハウジング４４と、給気路４５および４８と、非接触変位計（検出機構）４６とを含む。整形機構は、アンプ４７を含む。
【００４０】
スラスト軸受部と、ラジアル軸受部と、給気路４５および４８とは、空気軸受機構を構成する。
【００４１】
工具４１は、回転軸４２の先端に取り付けられる。回転軸４２の工具４１と反対側の端部には、スラスト板４３が回転軸４２と一体化して設けられている。スラスト板４３の両面に対し約５〜３０μｍの一定隙間を隔ててハウジング４４が対向している。すなわち、ハウジング４４によってスラスト軸受部が形成されている。
【００４２】
スラスト板４３の外形にはタービンが形成される。スラスト板４３において形成されるタービンに外部から圧縮空気が給気され、回転軸４２が回転するための駆動力が得られる。すなわち、スラスト板４３は、回転軸４２を回転させる回転機構を構成する。
【００４３】
回転軸４２は、ハウジング４４の中央部に設けられた穴に約５〜３０μｍの一定隙間を隔てて挿入されている。すなわちハウジング４４によってラジアル軸受部が形成されている。
【００４４】
外部から給気路４８および４５を通じてスラスト軸受部およびラジアル軸受部にそれぞれ圧縮空気を導き、給気路４８および４５の軸受部側の面に設けられた微細穴から圧縮空気を噴出させることにより、回転軸４２が非接触で支持される。
【００４５】
非接触変位計４６は、スラスト板４３に対向して、ハウジング４４に埋め込まれている。非接触変位計４６は、リブ修正部の整形時、回転軸４２の変位に基づいて工具４１に加わる負荷を検出する。より詳細には、工具４１に加わるスラスト力が増加すると、回転軸４２が工具４１と反対側に変位する。非接触変位計４６は、この回転軸４２の変位量を検出し、検出結果をアンプ４７を経由してパーソナルコンピュータ２２に出力する。なお、非接触変位計４６は、回転軸４２が回転していない際の回転軸４２の変位に基づいて工具４１に加わる負荷を検出する構成であってもよい。
【００４６】
ここで、発熱等による回転軸４２の伸びが軸受部に形成される隙間に比較して大きい場合には、回転軸４２の変位量検出において誤差が生じやすくなる。しかしながら、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、工具回転スピンドル７はエアータービン駆動であるため発熱が少なく、回転軸４２の変位量すなわち工具４１に加わる負荷の検出を精度良く行なうことができる。
【００４７】
また、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、工具回転スピンドル７は、スラスト軸受部およびラジアル軸受部にそれぞれ対応する給気路４８および４５を含む構成である。このような構成により、工具４１の端部が修正ペーストに接している状態および誘電体層８２に接している状態で工具４１に加わる負荷の差が小さい場合でも、スラスト軸受部に供給する圧縮空気の圧力だけを低下させることにより、工具４１に加わる負荷の変化に対する感度を向上させることができる。
【００４８】
なお、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、非接触変位計４６が、リブ修正部の整形時、回転軸４２の変位に基づいて工具４１に加わる負荷を検出する構成であるとしたが、これに限定するものではない。工具回転スピンドル７が非接触変位計４６の代わりに回転センサを含む。そして、スラスト板４３の端面に回転マークを付け、回転センサが、スラスト板４３の端面に付けられたマークを用いて回転軸４２の回転速度を検出する構成であってもよい。
【００４９】
より詳細には、工具４１に加わるスラスト力が増加すると、工具４１に対する回転抵抗が増加し、回転軸４２の回転速度が低下する。回転センサは、回転軸４２の回転速度に基づいて工具４１に加わる負荷を検出し、検出結果をアンプ４７を経由してパーソナルコンピュータ２２に出力する。工具４１に加わる負荷の変化に対して回転軸４２の回転速度の変化が小さい場合には、スラスト板４３において形成されるタービンへの給気圧力を低下させることにより、工具４１に加わる負荷の変化に対する感度を向上させることができる。
【００５０】
［動作］
次に、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置がリブの欠損箇所を修正する際の動作について説明する。
【００５１】
図４は、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置がリブの欠損箇所を修正する様子を示す図である。
【００５２】
図４を参照して、塗布機構５は、リブ欠損部３２の底部に適量の修正ペーストをライン状に１層塗布する。以下、リブ欠損部３２の底部に塗布された１層目の修正ペーストをベース部３１と称する。
【００５３】
連続発振ＣＯ２レーザ６は、ベース部３１にレーザ光を照射して乾燥させる。
連続発振ＣＯ２レーザ６による乾燥後、たとえば工具回転スピンドル７がリブ間に挿入され、ベース部３１のうち、正常なリブの幅からはみだした余分な修正ペーストであるペーストはみだし部３３が除去され、ベース部３１の壁面が整形される。
【００５４】
ここで、工具回転スピンドル７における工具４１としては、たとえば小径の砥石が利用されるか、あるいは、切削工具等の外周面の切れ刃が利用される。工具回転スピンドル７は、作業者の操作等により、ベース部３１の所定深さ位置まで工具４１の先端を切り込んだ後、工具４１を正常なリブの壁面形状に沿って水平移動させ、正常なリブの壁面に対してはみ出した修正ペーストであるペーストはみだし部３３を除去する。このとき、工具４１の先端はリブ８３の下に形成されている誘電体層８２に接触するか、リブ８３の僅かに上の位置で水平移動するのが望ましい。
【００５５】
作業者は、工具回転スピンドル７に工具４１を取り付ける際には、工具４１の先端と工具回転スピンドル７が搭載されるＺ軸テーブル２との位置関係を前もって確認しておく。そして、作業者は、修正ペーストに対して工具を切り込ませて整形する際、工具の先端が所定の深さ位置、たとえば誘電体層８２近傍に到達するように、Ｚ軸テーブル２を移動させる位置をパターン欠陥修正装置に指示する。
【００５６】
このとき、回転軸４２の伸び等によって、工具４１の先端が所定の深さ位置より深く切り込むと、工具４１に加わる負荷が増大し、回転軸４２が工具４１と反対側に変位する。非接触変位計４６は、回転軸４２の変位量を検出し、検出結果をアンプ４７を経由してパーソナルコンピュータ２２に出力する。
【００５７】
パーソナルコンピュータ２２は、非接触変位計４６から受けた検出結果が表わす、工具４１に加わる負荷が所定値以上である場合には、工具４１の切り込みを停止させるか、あるいは所定距離だけ工具４１を後退させる。そして、パーソナルコンピュータ２２は、工具４１をたとえば切り込み方向と略直交する方向に水平に移動させることにより、ペーストはみだし部３３を除去し、ベース部３１の壁面を整形する。
【００５８】
ここで、ベース部３１は乾燥しているが焼成されていないため柔らかく、ベース部３１の整形中に工具４１に加わる負荷は非常に小さい。一方、誘電体層８２はガラス質であり、誘電体層８２に工具４１が接すると工具４１に加わる負荷は急激に大きくなる。したがって、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、工具４１が誘電体層８２に接しているか否かを容易に検出することができる。
【００５９】
整形機構による整形後、連続発振ＣＯ２レーザ６は、乾燥時のレーザ光よりも強い出力でベース部３１にレーザ光を照射して焼成を行なう。
【００６０】
以上の工程により、リブ欠損部３２底部へのベース部３１の形成が完了する。なお、パターン欠陥修正装置が、リブ欠損部３２の底部にベース部３１を１層だけ形成する構成に限定されるものではなく、ベース部３１の形成工程を繰り返し行なって複数のベース部を積層する構成とすることも可能である。
【００６１】
次に、塗布機構５は、さらにベース部３１の上に適量の修正ペーストをライン状に１層塗布する。
【００６２】
連続発振ＣＯ２レーザ６は、ベース部３１の上に塗布された修正ペーストに乾燥時のレーザ光よりも強い出力でレーザ光を照射して焼成を行なう。
【００６３】
パターン欠陥修正装置は、上記のようにベース部３１の上に修正ペーストをライン状に重ねて塗布し、かつ焼成する工程を繰り返し、リブ欠損部３２が修正ペーストで充填されるまで修正ペーストを積層する。
【００６４】
テープ研磨ユニット１０は、リブ欠損部３２に充填された修正ペーストの、正常なリブの上面に対してはみ出している部分を研磨テープを用いて除去し、整形する。リブ欠損部３２に充填された修正ペーストの上面は、研磨テープによって周囲の正常なリブと同じ高さになるように整形される。
【００６５】
ところで、特許文献１および特許文献２記載のパターン欠陥修正装置では、リブ修正部の整形時、所定の深さ位置より深く切り込むことによって工具が破損してしまい、また、修正対象であるＰＤＰの誘電体層が深く削られてしまう場合がある。あるいは、整形結果の確認を繰り返し実施することにより、整形作業に長時間を要してしまうという問題点があった。しかしながら、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、非接触変位計４６は、リブ修正部の整形時、回転軸４２の変位に基づいて工具４１に加わる負荷を検出する。パーソナルコンピュータ２２は、非接触変位計４６の検出結果に基づいて工具４１すなわち工具回転スピンドル７を操作する。このような構成により、工具４１が所定の深さ位置より深く切り込むことを防ぐことができ、かつ整形結果の確認を繰り返し実施する必要がなくなる。したがって、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことができる。
【００６６】
なお、本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、連続発振ＣＯ２レーザ６がベース部３１にレーザ光を照射して乾燥させ、整形機構が含む工具回転スピンドル７が乾燥後のベース部３１を整形する構成としたが、これに限定するものではない。ベース部３１を乾燥する熱放射機構を備えない構成であっても、修正ペーストが乾燥しやすい物質である場合等、修正ペーストの塗布後に特に乾燥を行なわずに良好に整形が行なえる場合には、本発明の目的を達成することが可能である。
【００６７】
次に、本発明の他の実施の形態について図面を用いて説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
【００６８】
＜第２の実施の形態＞
本実施の形態は、第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置と比較して、工具回転スピンドル７の構成を変更したパターン欠陥修正装置に関する。
【００６９】
図５は、本発明の第２の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置における工具回転スピンドルの構成を示す図である。図５を参照して、工具回転スピンドル７は、モータ駆動のセンサ付スピンドルである。工具回転スピンドル７は、工具５１と、回転軸５２と、スラスト板５３と、ハウジング５４と、給気路５５と、ロータリーエンコーダ（検出機構）５６と、ロータ部５８と、モータステータ５９と、回転円板６０とを含む。整形機構は、アンプ５７を含む。
【００７０】
スラスト軸受部と、ラジアル軸受部と、給気路５５および５８とは、空気軸受機構を構成する。ロータ部５８と、モータステータ５９とは、回転軸５２を回転させるモータ（回転機構）を構成する。
【００７１】
工具５１は、回転軸５２の先端に取り付けられる。回転軸５２の工具５１と反対側の端部には、スラスト板５３が回転軸５２と一体化して設けられている。スラスト板５３の両面に対し約５〜３０μｍの一定隙間を隔ててハウジング５４が対向している。すなわち、ハウジング５４によってスラスト軸受部が形成されている。
【００７２】
回転軸５２は、ハウジング５４の中央部に設けられた穴に約５〜３０μｍの一定隙間を隔てて挿入されている。すなわちハウジング５４によってラジアル軸受部が形成されている。
【００７３】
外部から給気路５５を通じてスラスト軸受部およびラジアル軸受部にそれぞれ圧縮空気を導き、給気路５５の軸受部側の面に設けられた微細穴から圧縮空気を噴出させることにより、回転軸５２が非接触で支持される。
【００７４】
回転軸５２の中央部にはモータのロータ部５８が組み込まれている。ロータ部５８に対面したハウジング部５４には、モータステータ５９が組み込まれている。モータは、回転軸５２を回転させる駆動力を発生する。
【００７５】
回転軸５２の工具５１と反対側の端部には、回転円板６０が組み込まれている。ロータリーエンコーダ５６は、回転円板６０を用いてリアルタイムに回転軸５２の回転速度を検出する。
【００７６】
リブ修正部の整形時、たとえばＰＤＰの誘電体層８２に工具５１が切り込み、工具５１に加わる負荷トルクが増加すると、回転軸５２の回転速度が低下する。ロータリーエンコーダ５６は、回転軸５２の回転速度を検出し、検出結果をアンプ５７を経由してパーソナルコンピュータ２２に出力する。パーソナルコンピュータ（制御機構および検出機構）２２は、正常回転時における回転軸５２の回転速度と、検出結果が表わす各瞬間の回転軸５２の回転速度との差に基づいて工具５１に加わる負荷を検出する。
【００７７】
なお、本発明の第２の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、ロータリーエンコーダ５６およびパーソナルコンピュータ２２が、リブ修正部の整形時、回転軸５２の回転速度に基づいて工具５１に加わる負荷を検出する構成であるとしたが、これに限定するものではない。第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置と同様に、工具回転スピンドル７がロータリーエンコーダ５６の代わりに回転センサを含む。そして、スラスト板５３の端面に回転マークを付け、回転センサが、スラスト板５３の端面に付けられたマークを用いて回転軸５２の回転速度を検出する構成であってもよい。
【００７８】
また、工具回転スピンドル７がロータリーエンコーダ５６の代わりに電流検出機構を含み、電流検出機構がモータの駆動電流の変化に基づいて工具５１に加わる負荷の変化を検出する構成であってもよい。なお、この場合、負荷の変化が少ない場合には、モータの駆動電流を小さくすることにより、工具５１に加わる負荷の変化に対する感度を向上させることができる。
【００７９】
その他の構成および動作は本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置と同様である。したがって、本発明の第２の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置では、第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置と同様に、作業時間の増大を防ぐとともに、修正対象または装置の破損を防ぐことができる。
【００８０】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置の構成を示す外観図である。
【図２】図１のＡ部拡大図を示す外観図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置における工具回転スピンドルの構成を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置がリブの欠損箇所を修正する様子を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係るパターン欠陥修正装置における工具回転スピンドルの構成を示す図である。
【図６】プラズマディスプレィパネル（PDP）の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００８２】
１  Ｙ軸テーブル、２  Ｚ軸テーブル、３  Ｘ軸テーブル、４  観察光学系、５  塗布機構、６  連続発振ＣＯ２レーザ（熱放射機構）、７  工具回転スピンドル、９  スクラッチ機構、１０  テープ研磨ユニット、１１  レーザ変位計、１２  Ｚ軸駆動モータ、２２  パーソナルコンピュータ（制御機構）、４１，５１  工具、４２，５２  回転軸、４３，５３  スラスト板、４４，５４  ハウジング、４５，４８，５５  給気路、４６  非接触変位計（検出機構）、４７，５７  アンプ、５６  ロータリーエンコーダ（検出機構）、５８  ロータ部、５９  モータステータ、６０  回転円板、３１  ベース部、３２  リブ欠損部、３３  ペーストはみだし部、７０  前面ガラス基板、７１  透明電極、７２  バス電極、７３  誘電体層、７４  保護層、８０  背面ガラス基板、８１  アドレス電極、８２  誘電体層、８３  隔壁（リブ）、８４  蛍光体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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