(57)【要約】【課題】洗浄効果を向上させることができ、高タクトの洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】ディスクに洗浄液を吐出し、該ディスクの表面を洗浄する際に、洗浄液を超音波によって振動させることで該洗浄液中に気泡を生成させた後に、洗浄液をノズルからディスクに吐出する。【選択図】図２
2007090201.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクに洗浄液を吐出し、該ディスクの表面を洗浄する洗浄装置であって、
前記洗浄液を供給する供給部と、
前記洗浄液を前記ディスクに吐出するノズルとを備え、
前記洗浄液を超音波によって振動させることで該洗浄液中に気泡を生成する超音波発生装置を備えていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
ディスクに洗浄液を吐出し、該ディスクの表面を洗浄する洗浄方法であって、
前記洗浄液を超音波によって振動させることで該洗浄液中に気泡を生成させた後に、該洗浄液をノズルから前記ディスクに吐出することを特徴とする洗浄方法。
【請求項３】
ディスク基板に色素材料を塗布し、前記ディスクのエッジ以外の部位にスパッタ製膜によってマスクを形成し、前記洗浄液を吐出して前記エッジを洗浄することを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体等のディスクを洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関し、特にディスクのエッジを洗浄する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、磁気ディスクの製造工程においては、その磁気記録膜の形成の前後を問わず、複数回にわたって表面研磨加工が行われる。また、この研磨加工を行う毎にディスクを洗浄する必要がある。従来、アルコール系の洗浄液を洗浄ノズルよりディスク上に吐出し、洗浄液の流速によりディスク及び該ディスクのエッジを洗浄していた。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３３１３８７号公報
【特許文献２】特開平１０−１０６０３８号公報
【特許文献３】特開平１０−１３４４１９号公報
【特許文献４】特開平１０−１３４４２０号公報
【特許文献５】特開平１１−２５０５１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の洗浄液を噴き付ける洗浄方法では、ディスクの洗浄効果が高いとはいえず、改善の余地があった。ディスクは、ディスク基板上に記録層となる色素材料を塗布し、エッジのみ色素材料を洗浄液によって除去する作業が行われるが、特に、ディスクのエッジの色素材料は洗浄液を噴き付けるだけでは完全に除去することが難しかった。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、洗浄効果を向上させることができ、高タクトの洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、ディスクに洗浄液を吐出し、該ディスクの表面を洗浄する洗浄装置であって、前記洗浄液を供給する供給部と、前記洗浄液を前記ディスクに吐出するノズルとを備え、前記洗浄液を超音波によって振動させることで該洗浄液中に気泡を生成する超音波発生装置を備えていることを特徴とする洗浄装置によって達成される。
【０００７】
本発明に係る洗浄装置は、超音波発生装置によって洗浄液中に気泡を生成し、この気泡を含有する洗浄液をディスクに吐出し、該ディスクの表面を洗浄することができる。気泡を含有する洗浄液は、通常の気泡を含有しない洗浄液に比べて、ディスク基板に付着する際に、洗浄液の液面の総面積が生成された気泡の分だけ増大するため、より効率良くディスクの表面の洗浄を行うことができる。そして、本発明の洗浄装置をディスクの製造工程に適用すれば、ディスクのエッジにおける不要な色素材料の清浄に使用することで、効率良く色素材料を除去でき、高タスクでディスクの製造工程を実施することができる。
【０００８】
また、本発明の上記目的は、ディスクに洗浄液を吐出し、該ディスクの表面を洗浄する洗浄方法であって、前記洗浄液を超音波によって振動させることで該洗浄液中に気泡を生成させた後に、該洗浄液をノズルから前記ディスクに吐出することを特徴とする洗浄方法によって達成される。
【０００９】
本発明に係る洗浄方法は、洗浄液をディスクに吐出する前に、超音波によって振動させることで、該洗浄液中に気泡を生成する工程を有している。気泡を含有する洗浄液は、ディスク基板に付着する際に、洗浄液の液面の総面積が大きいため、より効率良くディスクの表面の洗浄を行うことができる。そして、本発明の洗浄方法をディスクの製造工程において適用すれば、ディスクのエッジにおける不要な色素材料の清浄に使用することで、効率良く色素材料を除去でき、高タスクでディスクの製造工程を実施することができる。
【００１０】
上記洗浄方法は、ディスク基板に色素材料を塗布し、前記ディスクのエッジ以外の部位にスパッタ製膜によってマスクを形成し、前記洗浄液を吐出して前記エッジを洗浄することが好ましい。こうすれば、ディスクの表面において、スパッタ製膜によってマスクを形成した部位には洗浄液が接触しないため、エッジ以外のディスク上の色素材料の層が除去されてしまうことがなく、また、エッジを色効率良く洗浄でき、該エッジに塗布された色素材料を除去することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、洗浄効果を向上させることができ、高タクトの洗浄装置及び洗浄方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法の実施形態を、図面に基づいて詳しく説明する。
図１は、本発明に係るディスクの洗浄装置の構成を示す図である。図２は、図１の洗浄装置によってディスクに洗浄液を吐出している状態を示す図である。
【００１３】
洗浄装置１０は、洗浄液を貯留させておくための貯留部１１と、該貯留部１１から洗浄液を引き込み、該洗浄液に圧力をかけることで送出する供給部１２とを備えている。供給部１２は、例えば、圧送ポンプなどを使用してもよい。また、貯留部１１と供給部１２とが、洗浄液を貯留させる機能と、該洗浄液を圧送する機能とを兼ねた、単一の装置として構成されていてもよい。
【００１４】
貯留部１１から供給部１２を経由するように洗浄液を送液する配管が設けられ、配管の一方の端部が貯留部１１に連結され、他方の端部が洗浄液バルブ１４に連結されている。
【００１５】
洗浄液バルブ１４には、洗浄液を吐出する小径のノズル１５が設けられている。本実施形態においてノズル１５の口径を０．２ｍｍから０．８ｍｍとした。ノズル１５の下方には、洗浄の際にディスクＤが載せられる回転ステージ（不図示）が設けられている。洗浄液が洗浄装置１０の他の部位に付着することを防止するため、回転ステージの周囲にノズル１５とディスクＤを載せる回転ステージとを隔離するようにケースが設けられていてもよい。
【００１６】
本実施形態において、供給部１２から洗浄液バルブ１４に至るまでの配管の途中に超音波発生装置１３が設けられている。超音波発生装置１３は、超音波を発生させ、配管内を流れる洗浄液を超音波によって振動させる構成を有している。洗浄液中には、超音波の振動により、直径が約１０μｍから１００μｍの微小な気泡が多数形成される。
【００１７】
図２に示すように、ディスクＤは、ディスク基板１と、該ディスク基板１の上面に色素材料を塗布してなる色素層２とを有している。また、本実施形態の洗浄方法においては、ディスクＤの色素層２を形成した側の面を、エッジＤｅ以外の部位をスパッタ製膜により形成されたマスク３で覆っている。そして、ノズル１５から洗浄液Ｒを吐出し、エッジＤｅに塗布された色素材料を除去している。なお、本実施形態において、ディスクＤの直径は約１２０ｍｍとし、エッジＤｅは、該ディスクＤの径方向外径縁部における０．１ｍｍから１．０ｍｍの幅の領域をいう。
【００１８】
本発明に係る洗浄装置１０は、超音波発生装置１３によって洗浄液中に微小な気泡Ｂを生成し、この気泡を含有する洗浄液をディスクＤに吐出し、該ディスクＤの表面を洗浄することができる。気泡Ｂを含有する洗浄液Ｒは、通常の気泡を含有しない洗浄液に比べて、ディスク基板１に付着する際に、洗浄液Ｒの液面の総面積が生成された気泡の分だけ増大するため、より効率良くディスクＤの表面の洗浄を行うことができる。そして、本発明の洗浄装置１０をディスクＤの製造工程に適用すれば、ディスクＤのエッジＤｅにおける不要な色素材料の清浄に使用することで、効率良く色素材料を除去でき、高タスクでディスクの製造工程を実施することができる。
【００１９】
次に、図１から図３を参照して本発明に係る洗浄方法の手順を説明する。図３は、洗浄方法の手順を示すフローチャートである。
最初に、ディスクＤとなるポリカーボネート製のディスク基板１を樹脂成型により形成し（ステップＳ３１）、このディスク基板１を冷却装置によって冷却する（ステップＳ３２）。
【００２０】
次に、成形されたディスク基板１の記録層側の全面に色素材料を塗布し、乾燥させ（ステップＳ３３）、ディスク基板１に色素層２が形成される。
【００２１】
色素層２を形成した後、該色素層２上面において、ディスクＤのエッジＤｅ以外を覆うように、スパッタ製膜を施すことでマスク３を形成する（ステップＳ３４）。
【００２２】
ディスクＤにマスクを形成した後、ディスクＤを洗浄工程へ移し、図１に示す洗浄装置を使用してエッジＤｅを洗浄液によって洗浄する。
【００２３】
本発明に係る洗浄方法は、洗浄液ＲをディスクＤに吐出する前に、超音波によって振動させることで、該洗浄液Ｒ中に微小な気泡Ｂを生成する工程を有している。気泡Ｂを含有する洗浄液Ｒは、ディスク基板１に付着する際に、洗浄液Ｒの液面の総面積が大きいため、より効率良くディスクＤの表面の洗浄を行うことができる。そして、本発明の洗浄方法をディスクの製造工程において適用すれば、ディスクのエッジにおける不要な色素材料の清浄に使用することで、効率良く色素材料を除去でき、高タスクでディスクの製造工程を実施することができる。
【００２４】
次に、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法の実施例を説明する。
実施例として、図１に示す洗浄装置を使用し、図３に示す工程でディスクのエッジの洗浄を行い、ディスク一枚あたりの洗浄にかかる時間の平均を計測した。また、比較例として、超音波発生装置を有しない従来の洗浄装置を使用し、実施例と同様に図３に示す工程でディスクのエッジの洗浄を行い、ディスク一枚あたりの洗浄にかかる時間の平均を計測した。すると、実施例では、超音波発生装置によって洗浄液に微小な気泡がされ、洗浄時間を短縮することができ、一枚あたり平均１．５秒で洗浄を完了することができた。一方で、比較例では、洗浄液には気泡が形成されず、一枚あたりの洗浄時間が平均３．０秒かかった。このように、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法を適用することで、洗浄時間の短縮を図ることができ、また、ディスクの製造工程を高タスクに改善できることがわかった。
【００２５】
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜な変形、改良などが可能である。
例えば、上記実施形態においては、ディスクＤのエッジＤｅの洗浄に本発明を適用したが、ディスクＤの全面の洗浄に適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係るディスクの洗浄装置の構成を示す図である。
【図２】ディスクに洗浄液を吐出している状態を示す図である。
【図３】洗浄方法の手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００２７】
１      ディスク基板
２      色素層
３      マスク
１０    洗浄装置
１２    供給部
１３    超音波発生装置
１５    ノズル
Ｂ      気泡
Ｄ      ディスク
Ｄｅ    （ディスクの）エッジ
Ｒ      洗浄液
【図１】
2007090201.tif 000003
【図２】
2007090201.tif 000004
【図３】
2007090201.tif 000005