(57)【要約】【課題】  計量終了時に、スクリュの回転及び後退の双方を適確に停止させ、樹脂密度が均一化された高度の計量精度を確保する。【解決手段】  予め、スクリュ回転停止位置Ｘｅに所定距離Ｌｓを付加した停止目標位置Ｘｅｓ及びスクリュ２を回転させる回転速度パターンＡｒを設定するとともに、計量時に、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ位置Ｘを検出し、検出したスクリュ位置Ｘから停止目標位置Ｘｅｓでスクリュ２の回転を停止させる残りの回転速度パターンＡｒを演算により予測するとともに、予測した回転速度パターンＡｒによりスクリュ２を回転制御し、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したならスクリュ２に対する回転停止制御を行い、かつスクリュ２の後退速度が予め設定した所定速度Ｖｄｓになったならスクリュ２に対する後退停止制御を行う。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリュに背圧を付与しつつスクリュを回転させて計量を行うとともに、スクリュが予め設定したスクリュ回転停止位置まで後退したならスクリュの回転を停止させる射出成形機の制御方法において、予め、スクリュ回転停止位置に所定距離を付加した停止目標位置及びスクリュを回転させる回転速度パターンを設定するとともに、計量時に、所定時間間隔毎にスクリュ位置を検出し、検出したスクリュ位置から前記停止目標位置でスクリュの回転を停止させる残りの回転速度パターンを演算により予測するとともに、予測した回転速度パターンによりスクリュを回転制御し、スクリュが前記スクリュ回転停止位置に達したならスクリュに対する回転停止制御を行い、かつスクリュの後退速度が予め設定した所定速度になったならスクリュに対する後退停止制御を行うことを特徴とする射出成形機の制御方法。
【請求項２】
前記回転速度パターンには、少なくとも、スクリュの回転速度が一定となる定速区間とこの定速区間の終端から所定の減速率により減速する減速区間を含むことを特徴とする請求項１記載の射出成形機の制御方法。
【請求項３】
予め、スクリュが後退する仮想の後退速度パターンを設定するとともに、計量時に、所定時間間隔毎にスクリュの後退速度を検出し、検出した後退速度から残りの後退速度パターンを演算により予測するとともに、後退速度に対するリミット値を設定し、かつ予測時における背圧制御を行う圧力制御量又は前記スクリュ回転停止位置に対して位置制御を行う位置制御量のいずれか小さい制御量を選択してスクリュを後退制御することを特徴とする請求項１記載の射出成形機の制御方法。
【請求項４】
前記リミット値は、予測した残りの後退速度パターンの最大値に基づいて設定することを特徴とする請求項３記載の射出成形機の制御方法。
【請求項５】
前記後退速度パターンには、少なくとも、スクリュの後退速度が一定となる定速区間とこの定速区間の終端から所定の減速率により減速する減速区間を含むことを特徴とする請求項３又は４記載の射出成形機の制御方法。
【請求項６】
前記定速区間におけるスクリュの後退速度は、実際のスクリュの後退速度よりも大きく設定することを特徴とする請求項５記載の射出成形機の制御方法。
【請求項７】
前記所定速度は、０．０１〜０．１〔ｍｍ／ｓ〕の範囲に設定することを特徴とする請求項１記載の射出成形機の制御方法。
【請求項８】
前記回転停止制御によりスクリュの回転が停止したスクリュ位置（第一停止位置）と前記後退停止制御によりスクリュの後退が停止したスクリュ位置（第二停止位置）を検出するとともに、前記第一停止位置と前記第二停止位置の偏差を求め、この偏差により射出工程の成形条件を補正することを特徴とする請求項１記載の射出成形機の制御方法。
【請求項９】
前記成形条件には、射出速度の設定切換位置，射出圧力の設定切換位置，射出完了位置の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項８記載の射出成形機の制御方法。
【請求項１０】
前記偏差はディスプレイに表示することを特徴とする請求項８記載の射出成形機の制御方法。
【請求項１１】
前記スクリュに対する後退停止制御によりスクリュの後退が停止した後に、サックバック処理を行うことを特徴とする請求項１又は８記載の射出成形機の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スクリュに背圧を付与しつつスクリュを回転させて計量を行うとともに、スクリュが予め設定したスクリュ回転停止位置まで後退したならスクリュの回転を停止させる射出成形機の制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、射出成形機の成形サイクルは、計量工程と射出工程を有し、計量工程では、スクリュを回転させて計量を行うとともに、スクリュが予め設定したスクリュ回転停止位置まで後退したなら計量を終了させる計量制御が行われる。ところで、計量工程では、速度制御，圧力制御及び位置制御等の各種制御が行われるが、計量工程における一連の制御に対する制御精度を高めることは、均一の成形品質量を確保して高品質の成形品を得る上で極めて重要となり、従来より各種の制御方法が提案されている。
【０００３】
例えば、特公平６−６１８００号公報には、予め設定されたスクリュ回転数でスクリュを回転させながら後退させ、スクリュを予め設定された計量完了位置で停止させる制御方法であって、スクリュ位置検出手段で検出されたスクリュ位置とスクリュ速度検出手段で検出されたスクリュ後退速度を受け、予め定められた演算式によってスクリュを計量完了位置で停止させるようなスクリュ回転数を演算し、演算されたスクリュ回転数を回転駆動指令として送出するようにした射出成形機の制御方法（計量制御装置）が開示されている。また、特開２００４−１５４９８８号公報には、設定計量完了位置近傍の設定スクリュ位置までスクリュが後退した後、設定計量完了位置と現在のスクリュ後退位置との位置偏差に比例するスクリュ回転速度を求め、このスクリュ回転速度に、設定樹脂圧力と現在の検出樹脂圧力との圧力偏差に基づいてスクリュ回転速度の補正を行って、スクリュ回転速度指令としてスクリュ回転速度を制御するようにした射出成形機の制御方法（計量方法）が開示されている。
【特許文献１】特公平６−６１８００号
【特許文献２】特開２００４−１５４９８８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上述した従来の射出成形機の制御方法は、次のような問題点があった。
【０００５】
まず、特許文献１のように、スクリュ位置とスクリュ後退速度を検出し、スクリュを計量完了位置で停止させるスクリュ回転数を演算するとともに、演算したスクリュ回転数を回転駆動指令とする制御方法を採用した場合、計量完了位置付近におけるスクリュの回転速度が限りなくゼロに近くなり、スクリュが計量完了位置に達するまでにかなりの時間を要する。このため、スクリュ位置の制御精度を高めるには有利になるものの、サイクル時間の短縮化を図れないため、高速成形を実現する上で極めて不利になるとともに、成形効率及び量産性を高めるにも限界を生じる。
【０００６】
また、特許文献２のように、設定計量完了位置近傍の設定スクリュ位置までスクリュを後退させた後、設定計量完了位置と現在のスクリュ後退位置の位置偏差に比例するスクリュ回転速度を求めるとともに、設定樹脂圧力と現在の検出樹脂圧力との圧力偏差により補正してスクリュ回転速度指令とする制御方法を採用した場合、設定計量完了位置近傍の制御が位置制御のみとなり、制御対象が固定される。このため、スクリュ位置の制御精度を高めるには有利になるものの、背圧制御はスクリュ回転速度を調整して行う必要があるなど、制御の複雑化を招くとともに、僅かな距離区間で背圧制御を実現する上での応答性及び安定性を確保することが困難となる。
【０００７】
さらに、計量制御においては、計量完了時（計量終了時）にスクリュの回転と後退の双方を適確に停止させることが樹脂密度を均一化して高度の計量精度を確保するために要求されるが、特許文献１及び２の場合、スクリュの回転と後退の双方を適確に停止させることについては何ら考慮されておらず、特に高度の計量精度が要求される近時における厚さの薄い光ディスク等の成形に対して十分に対応できない。
【０００８】
本発明は、このような背景技術に存在する課題を解決した射出成形機の制御方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述した課題を解決するため、スクリュ２に背圧Ｐｄを付与しつつスクリュ２を回転させて計量を行うとともに、スクリュ２が予め設定したスクリュ回転停止位置Ｘｅまで後退したならスクリュ２の回転を停止させる射出成形機Ｍの制御方法において、予め、スクリュ回転停止位置Ｘｅに所定距離Ｌｓを付加した停止目標位置Ｘｅｓ及びスクリュ２を回転させる回転速度パターンＡｒを設定するとともに、計量時に、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ位置Ｘを検出し、検出したスクリュ位置Ｘから停止目標位置Ｘｅｓでスクリュ２の回転を停止させる残りの回転速度パターンＡｒを演算により予測するとともに、予測した回転速度パターンＡｒによりスクリュ２を回転制御し、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したならスクリュ２に対する回転停止制御を行い、かつスクリュ２の後退速度が予め設定した所定速度Ｖｄｓになったならスクリュ２に対する後退停止制御を行うことを特徴とする。
【００１０】
この場合、発明の好適な態様により、回転速度パターンＡｒには、少なくとも、スクリュ２の回転速度が一定となる定速区間Ａｒｃとこの定速区間Ａｒｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｒｓを含ませることができる。一方、本発明に係る制御方法では、予め、スクリュ２が後退する仮想の後退速度パターンＡｂを設定するとともに、計量時に、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ２の後退速度Ｖｄを検出し、検出した後退速度Ｖｄから残りの後退速度パターンＡｂを演算により予測するとともに、後退速度に対するリミット値ＶＬ（ＶＬａ…）を設定し、かつ予測時における背圧制御を行う圧力制御量Ｄｐ又はスクリュ回転停止位置Ｘｅに対して位置制御を行う位置制御量Ｄｘのいずれか小さい制御量Ｄｐ又はＤｘを選択してスクリュ２を後退制御することができる。この際、リミット値ＶＬ（ＶＬａ…）は、予測した残りの後退速度パターンＡｂの最大値に基づいて設定することができる。また、後退速度パターンＡｂには、少なくとも、スクリュ２の後退速度が一定となる定速区間Ａｂｃとこの定速区間Ａｂｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｂｓを含ませることができ、この定速区間Ａｂｃにおけるスクリュ２の後退速度は、実際のスクリュ２の後退速度Ｖｄよりも大きく設定する。なお、所定速度Ｖｄｓは、０．０１〜０．１〔ｍｍ／ｓ〕の範囲に設定することができる。他方、回転停止制御によりスクリュ２の回転が停止したスクリュ位置（第一停止位置Ｘ１）と後退停止制御によりスクリュ２の後退が停止したスクリュ位置（第二停止位置Ｘ２）を検出するとともに、第一停止位置Ｘ１と第二停止位置Ｘ２の偏差Ｘａを求め、この偏差Ｘａにより射出工程の成形条件、具体的には、射出速度の設定切換位置，射出圧力の設定切換位置，射出完了位置の少なくとも一つを補正することができる。また、この偏差Ｘａはディスプレイ３に表示することもできる。さらに、スクリュ２に対する後退停止制御によりスクリュ２の後退が停止した後に、サックバック処理を行うことができる。
【発明の効果】
【００１１】
このような手法による本発明に係る射出成形機Ｍの制御方法によれば、次のような顕著な効果を奏する。
【００１２】
（１）  計量終了時に、スクリュ２の回転及び後退の双方を適確に停止させることができるため、樹脂密度が均一化された高度の計量精度を確保できる。この結果、近時において特に高度の計量精度が要求される厚さの薄い光ディスク等の成形にも十分に対応することができる。
【００１３】
（２）  スクリュ回転停止位置Ｘｅに所定距離Ｌｓを付加した停止目標位置Ｘｅｓ及びスクリュ２を回転させる回転速度パターンＡｒを設定するとともに、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ位置Ｘを検出し、検出したスクリュ位置Ｘから停止目標位置Ｘｅｓでスクリュ２の回転を停止させる残りの回転速度パターンＡｒを演算により予測するとともに、予測した回転速度パターンＡｒによりスクリュ２を回転制御し、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したならスクリュ２に対する回転停止制御を行うため、スクリュ回転停止位置Ｘｅの制御精度を高めつつサイクル時間の短縮化が可能となり、高い成形品質を維持しつつ成形効率及び量産性の向上、さらには高速成形を実現できる。
【００１４】
（３）  好適な態様により、回転速度パターンＡｒに、少なくとも、スクリュ２の回転速度が一定となる定速区間Ａｒｃとこの定速区間Ａｒｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｒｓを含ませれば、スクリュ２に対する回転制御を確実かつ安定に実施できる。
【００１５】
（４）  好適な態様により、スクリュ２が後退する仮想の後退速度パターンＡｂを設定するとともに、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ２の後退速度Ｖｄを検出し、検出した後退速度Ｖｄから残りの後退速度パターンＡｂを演算により予測するとともに、後退速度に対するリミット値ＶＬ（ＶＬａ…）を設定し、かつ予測時における背圧制御を行う圧力制御量Ｄｐ又はスクリュ回転停止位置Ｘｅに対して位置制御を行う位置制御量Ｄｘのいずれか小さい制御量Ｄｐ又はＤｘを選択してスクリュ２を後退制御すれば、スクリュ２に対する回転停止制御に関係して後退を停止させる制御の応答性及び安定性を高めることができるとともに、僅かな距離区間での確実かつ正確な背圧制御を実現することができる。
【００１６】
（５）  好適な態様により、後退速度パターンＡｂに、少なくとも、スクリュ２の後退速度が一定となる定速区間Ａｂｃとこの定速区間Ａｂｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｂｓを含ませるとともに、定速区間Ａｂｃにおけるスクリュ２の後退速度を、実際のスクリュ２の後退速度Ｖｄよりも大きく設定すれば、スクリュ２に対する後退制御を確実かつ安定に実施できる。
【００１７】
（６）  好適な態様により、リミット値ＶＬ（ＶＬａ…）を、予測した残りの後退速度パターンＡｂの最大値に基づいて設定すれば、スクリュ２に対する後退制御を容易かつ確実に実施できる。
【００１８】
（７）  好適な態様により、所定速度Ｖｄｓを、０．０１〜０．１〔ｍｍ／ｓ〕の範囲に設定すれば、樹脂密度の均一性を十分に確保しつつスクリュ２の後退を停止させる制御を確実かつ安定に行うことができる。
【００１９】
（８）  好適な態様により、第一停止位置Ｘ１と第二停止位置Ｘ２を検出するとともに、第一停止位置Ｘ１と第二停止位置Ｘ２の偏差Ｘａを求め、この偏差Ｘａにより射出工程の成形条件、具体的には、射出速度の設定切換位置，射出圧力の設定切換位置，射出完了位置の少なくとも一つを補正するようにすれば、スクリュ２の停止位置のバラツキを射出工程の成形条件に反映して成形品質をより高めることができる。
【００２０】
（９）  好適な態様により、偏差Ｘａをディスプレイ３に表示すれば、オペレータは、偏差Ｘａを容易に把握することができるため、成形品質への影響度合等を判断し、成形条件や制御条件を変更するなど、適切に対処することができる。
【００２１】
（１０）  好適な態様により、スクリュ２に対する後退停止制御によりスクリュ２の後退が停止した後に、サックバック処理を行えば、計量精度を高度に確保した状態で射出工程に移行させることができるため、サックバック処理に基づく射出工程でのバラツキ（成形品のバラツキ）を排除することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
次に、本発明に係る最良の実施形態を挙げ、図面に基づき詳細に説明する。
【００２３】
まず、本実施形態に係る制御方法を実施できる射出成形機Ｍの構成について、図３及び図４を参照して説明する。
【００２４】
図３に示す射出成形機Ｍは、型締装置を除いた射出装置Ｍｉのみを示す。射出装置Ｍｉは、離間した射出台１１と駆動台１２を備え、この射出台１１の前面により加熱筒１３の後端が支持される。加熱筒１３は、前端に射出ノズル１４を、また、後部に当該加熱筒１３の内部に成形材料を供給するホッパ１５をそれぞれ備えるとともに、加熱筒１３の内部にはスクリュ２を挿通させる。
【００２５】
一方、射出台１１と駆動台１２間には四本のタイバー１６…を架設し、このタイバー１６…に、スライドブロック１７をスライド自在に装填する。スライドブロック１７の前端には、被動輪１８を一体に有するロータリブロック１９を回動自在に支持し、このロータリブロック１９の中央にスクリュ２の後端を結合する。また、スライドブロック１７の側面には、スクリュ回転用サーボモータ（電動モータ）２０を取付け、このサーボモータ２０の回転シャフトに固定した駆動輪２１は、回転伝達機構２２を介して被動輪１８に接続する。この回転伝達機構２２は、伝達ギアを用いたギア式伝達機構であってもよいし、タイミングベルトを用いたベルト式伝達機構であってもよい。さらに、サーボモータ２０には、このサーボモータ２０の回転速度（回転数）を検出するロータリエンコーダ２３を付設する。
【００２６】
他方、スライドブロック１７の後部には、ナット部２５を同軸上一体に設けるとともに、駆動台１２に回動自在に支持されたボールねじ部２６の前側をナット部２５に螺合させることにより、ボールねじ機構２４を構成する。また、駆動台１２から後方に突出したボールねじ部２６の後端には、被動輪２７を取付けるとともに、駆動台１２に取付けた支持盤１２ｓには、スクリュ進退用のサーボモータ（電動モータ）２８を取付け、このサーボモータ２８の回転シャフトに固定した駆動輪２９は、回転伝達機構３０を介して被動輪２７に接続する。この回転伝達機構３０は、伝達ギアを用いたギア式伝達機構であってもよいし、タイミングベルトを利用したベルト式伝達機構であってもよい。さらに、サーボモータ２８には、このサーボモータ２８の回転速度（回転数）を検出するロータリエンコーダ３１を付設する。
【００２７】
また、図３において、３２は射出成形機Ｍに備えるコントローラであり、格納した制御プログラム３２ｐにより本実施形態に係る制御方法における一連の制御（シーケンス制御）及び演算等を実行することができる。一方、コントローラ３２には、上述したサーボモータ２０，２８及びロータリエンコーダ２３，３１をそれぞれ接続するとともに、ロータリブロック１９とスライドブロック１７間に介在させた圧力センサ（ロードセル）３３を接続する。この圧力センサ３３によりスクリュ２に対する背圧Ｐｄを検出することができる。さらに、コントローラ３２にはディスプレイ３を接続する。
【００２８】
図４は、コントローラ３２における主要機能部のブロック系統図である。同図において、４１はスクリュ回転側における速度フィードバック制御系であり、偏差演算部４２，速度補償部４３及び速度変換部４４を備え、速度補償部４３の出力は、スクリュ回転用サーボモータ２０に付与される。また、偏差演算部４２の一方の入力部（非反転入力部）には、コントローラ本体３２ｍから、スクリュ２を回転させる回転速度の指令値、具体的には、後述する回転速度パターンＡｒに基づく回転速度の指令値が付与されるとともに、偏差演算部４２の他方の入力部（反転入力部）には、速度変換部４４からスクリュ２の回転速度の検出値が付与される。この速度変換部４４の入力側には、サーボモータ２０に付設したロータリエンコーダ２３から得られるスクリュ２の回転位置の検出値が付与され、この回転位置の検出値が速度変換部４４により回転速度の検出値に変換される。この回転速度の検出値は、コントローラ本体３２ｍにも付与される。
【００２９】
一方、４５はスクリュ進退側におけるフィードバック制御系であり、４５ｘは位置フィードバック制御系、４５ｐは圧力フィードバック制御系を示す。位置フィードバック制御系４５ｘは、偏差演算部４６及び位置補償部４７を備え、位置補償部４７の出力（後述する位置制御量Ｄｘ）は、制御量選択部４８に付与される。また、偏差演算部４６の一方の入力部（非反転入力部）には、コントローラ本体３２ｍから、予め設定したスクリュ回転停止位置Ｘｅが指令値として付与されるとともに、偏差演算部４６の他方の入力部（反転入力部）には、スクリュ進退用サーボモータ２８に付設したロータリエンコーダ３１から得られるスクリュ位置Ｘ（検出値）が付与される。このスクリュ位置Ｘは、コントローラ本体３２ｍにも付与される。他方、圧力フィードバック制御系４５ｐは、偏差演算部４９及び圧力補償部５０を備え、圧力補償部５０の出力（後述する圧力制御量Ｄｐ）は、制御量選択部４８に付与される。また、偏差演算部４９の一方の入力部（非反転入力部）には、コントローラ本体３２ｍから、指令値となる背圧Ｐｓが付与されるとともに、偏差演算部４９の他方の入力部（反転入力部）には、圧力センサ３３から得られる検出値（背圧Ｐｄ）が付与される。この背圧Ｐｄは、コントローラ本体３２ｍにも付与される。
【００３０】
次に、このような射出成形機Ｍを用いた本実施形態に係る制御方法について、図３〜図９を参照しつつ図１及び図２に示すフローチャートに従って説明する。
【００３１】
計量工程では、スクリュ回転用サーボモータ２０の作動制御とスクリュ進退用サーボモータ２８の作動制御がそれぞれ関連しつつ同時に行われる（ステップＳＲ，ＳＢ）。
【００３２】
最初に、スクリュ回転用サーボモータ２０の作動制御を中心とした制御方法について、図５及び図６を参照しつつ図２に示すフローチャートに従って説明する。なお、図５は、横軸を時間とした回転速度パターンＡｒを表し、図６は、横軸をスクリュ位置とした回転速度パターンＡｒを表したものである。
【００３３】
まず、予め、スクリュ回転停止位置Ｘｅに所定距離Ｌｓを付加した停止目標位置Ｘｅｓ及びスクリュ２を回転させる回転速度パターンＡｒを設定する（ステップＳＲ１）。この場合、所定距離Ｌｓは、例えば、０．０１〜０．０５〔ｍｍ〕程度の僅かな距離を任意に選択できる。また、回転速度パターンＡｒは、図５及び図６に示すように、スクリュ２の回転速度を所定の加速率（加速係数）により加速させる加速区間Ａｒａ，この加速区間Ａｒａの終端から回転速度が一定となる定速区間Ａｒｃ及びこの定速区間Ａｒｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｒｓにより設定する。このように、回転速度パターンＡｒに、少なくとも、定速区間Ａｒｃと減速区間Ａｒｓを含ませることにより、スクリュ２に対する回転制御を確実かつ安定に実施できる。
【００３４】
一方、計量時には、コントローラ本体３２ｍから、設定した回転速度パターンＡｒに基づいてスクリュ２を回転させる回転速度の指令値が偏差演算部４２に付与され、スクリュ回転用サーボモータ２０が作動制御（速度制御）される（ステップＳＲ２）。この場合、偏差演算部４２により、速度変換部４４から付与されるスクリュ２の回転速度（検出値）とコントローラ本体３２ｍから付与される回転速度（指令値）の速度偏差が求められるとともに、この速度偏差は速度補償部４３に付与され、速度補償された後、サーボモータ２０に付与される。これにより、スクリュ２の回転速度（検出値）が指令値に一致するようにスクリュ２の回転速度に対するフィードバック制御が行われる。
【００３５】
また、サーボモータ２０の作動中は、所定時間Ｔｓ間隔（例えば、５０〜２００〔μｓ〕間隔）毎に、スクリュ２の位置（スクリュ位置Ｘ）がロータリエンコーダ３１により得られる（ステップＳＲ３）。コントローラ本体３２ｍでは、所定時間Ｔｓ間隔毎に検出したスクリュ位置Ｘから停止目標位置Ｘｅｓでスクリュ２の回転を停止させる残りの回転速度パターンＡｒを演算により予測する（ステップＳＲ４）。この場合、実際のスクリュ位置Ｘの検出により、既に計量した樹脂量を知ることができるとともに、計量した樹脂量から残りの計量すべき樹脂量を演算できるため、この残りの樹脂量から停止目標位置Ｘｅｓで停止させる回転速度パターンＡｒを予測する。そして、予測後は、予測した回転速度パターンＡｒによりスクリュ２を回転制御する。さらに、回転速度パターンＡｒの予測により、図５及び図６に示す停止目標位置Ｘｅｓ及び減速開始点ｔｃが、予測時毎に特定されるため、スクリュ２が図５に示す減速開始点ｔｃに到達したなら減速（減速区間Ａｒｓ）を開始するとともに（ステップＳＲ５，ＳＲ６）、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したならスクリュ２の回転を停止、即ち、サーボモータ２０の回転を停止制御し、サーボロックを行う（ステップＳＲ７，ＳＲ８）。
【００３６】
ところで、スクリュ回転停止位置Ｘｅにおける予測した回転速度パターンＡｒの回転速度は、図５及び図６に示すように、ゼロではなく、Ｖｅの大きさとなるが、スクリュ回転停止位置Ｘｅに達した時点ではスクリュ回転停止指令を出力してスクリュ２の回転を強制停止させる制御を行う。このときの回転速度Ｖｅの大きさは、前述した所定距離Ｌｓの選定により可変できるため、所定距離Ｌｓの長さを選定することにより、スクリュ回転停止位置Ｘｅに達する時間が短縮され、かつスクリュ回転停止指令の出力によりスクリュ２の回転が速やかに停止する最適な回転速度Ｖｅの大きさを設定すればよい。したがって、図６に示すように、予測した回転速度パターンＡｒの減速区間Ａｒｓにおける回転速度Ｖｒｓは、停止目標位置Ｘｅｓにおいてゼロとなるが、実際の回転速度Ｖｒｄは、仮想線で示すように、スクリュ回転停止位置Ｘｅにおいてゼロとなる。
【００３７】
なお、実際の制御では、スクリュ位置Ｘに対してスクリュ２の回転速度を検出しているため、図６に示す波形に沿った制御を行っている。このため、例えば、成形材料のスクリュ２に対する食い込み状態が変化した場合、時間に対する減速区間Ａｒｓでは一定割合の減速率により減速することから、スクリュ回転停止位置Ｘｅにおけるバラつきの原因となるが、スクリュ位置Ｘに対する減速区間Ａｒｓでは検出したスクリュ２の回転速度が異なるため、指令値を補正することにより、スクリュ２をスクリュ回転停止位置Ｘｅで確実に停止させることができる。
【００３８】
このように、スクリュ回転用サーボモータ２０側の作動制御においては、スクリュ回転停止位置Ｘｅに所定距離Ｌｓを付加した停止目標位置Ｘｅｓ及びスクリュ２を回転させる回転速度パターンＡｒを設定するとともに、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ位置Ｘを検出し、検出したスクリュ位置Ｘから停止目標位置Ｘｅｓでスクリュ２の回転を停止させる残りの回転速度パターンＡｒを演算により予測するとともに、予測した回転速度パターンＡｒによりスクリュ２を回転制御し、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したならスクリュ２の回転を停止制御するようにしたため、スクリュ回転停止位置Ｘｅの制御精度を高めつつサイクル時間の短縮化が可能となり、高い成形品質を維持しつつ成形効率及び量産性の向上、さらには高速成形を実現できる。
【００３９】
次に、スクリュ進退用サーボモータ２８の作動制御を中心とした制御方法について、図７〜図９を参照しつつ図１に示すフローチャートに従って説明する。
【００４０】
まず、予め、スクリュ２に対する背圧Ｐｓ及びスクリュ２が後退する仮想の後退速度パターンＡｂを設定する（ステップＳＢ１）。この場合、後退速度パターンＡｂは、図７（ａ）に実線で示すように、スクリュ２の後退速度を所定の加速率（加速係数）により加速させる加速区間Ａｂａ，この加速区間Ａｂａの終端から後退速度が一定となる定速区間Ａｂｃ及びこの定速区間Ａｂｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｂｓにより設定する。なお、Ｘｅｂは、後退速度パターンＡｂにおける仮想のスクリュ回転停止位置を示している。また、定速区間Ａｂｃにおけるスクリュ２の後退速度は、実際のスクリュ２の後退速度Ｖｄよりも大きく設定する。即ち、予め想定される実際の後退速度Ｖｄに対して実際には有り得ない大きさを設定する。このように、後退速度パターンＡｂに、少なくとも定速区間Ａｂｃと減速区間Ａｂｓを含ませるとともに、定速区間Ａｂｃにおけるスクリュ２の後退速度を、実際のスクリュ２の後退速度Ｖｄよりも大きく設定することにより、スクリュ２に対する後退制御を確実かつ安定に実施できる。
【００４１】
一方、計量時には、スクリュ進退用サーボモータ２８が作動制御されることによりスクリュ２に対する後退制御が行われる（ステップＳＢ２）。この場合、所定時間Ｔｓ間隔（例えば、５０〜２００〔μｓ〕間隔）毎にスクリュ位置Ｘ及びスクリュ２の後退速度Ｖｄを検出する（ステップＳＢ３）。そして、検出した後退速度Ｖｄから残りの後退速度パターンＡｂを演算により予測する（ステップＳＢ４）。即ち、実際の後退速度Ｖｄ（スクリュ位置Ｘ）の検出により既に計量した樹脂量を知ることができるとともに、計量した樹脂量から残りの計量すべき樹脂量を演算できるため、既に計量した樹脂量と残りの計量すべき樹脂量の加算量が、図７（ａ）に示す仮想の後退速度パターンＡｂを積分した面積に一致するように演算すればよく、これにより、残りの後退速度パターンＡｂを容易に予測できる。図７（ａ）に予測した後退速度パターンＡｂを仮想線で示すとともに、図７（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）には、それぞれ異なる時間において予測した後退速度パターンＡｂを示す。
【００４２】
また、コントローラ３２ｍでは、予測した残りの後退速度パターンＡｂの最大値に基づいてスクリュ２の後退速度に対するリミット値ＶＬを設定（変更）する（ステップＳＢ５）。このように、リミット値ＶＬを、予測した残りの後退速度パターンＡｂの最大値に基づいて設定することにより、スクリュ後退側に対する本発明に係る制御方法を容易かつ確実に実施することができる。
【００４３】
他方、計量時には、コントローラ３２ｍから、指令値となる背圧Ｐｓが偏差演算部４９に付与され、偏差演算部４９では、この背圧Ｐｓと圧力センサ３３から得られる背圧Ｐｄ（検出値）の圧力偏差が求められるとともに、この圧力偏差は、圧力補償部５０に付与され、圧力補償部５０により圧力補償された後、背圧制御を行う圧力制御量Ｄｐとして制御量選択部４８に付与される。また、コントローラ３２ｍから、スクリュ回転停止位置Ｘｅの指令値が偏差演算部４６に付与され、偏差演算部４６では、このスクリュ回転停止位置Ｘｅの指令値とロータリエンコーダ３１により得られるスクリュ位置Ｘ（検出値）の位置偏差が求められるとともに、この位置偏差は、位置補償部４７により位置補償された後、スクリュ回転停止位置Ｘｅに対して位置制御を行う位置制御量Ｄｘとして制御量選択部４８に付与される。
【００４４】
制御量選択部４８では、圧力補償部５０から付与される圧力制御量Ｄｐと位置補償部４７から付与される位置制御量Ｄｘのいずれか小さい方を選択して出力する処理を行う（ステップＳＢ６）。これにより、選択された圧力制御量Ｄｐ又は位置制御量Ｄｘがサーボモータ２８に付与され、圧力制御量Ｄｐが位置制御量Ｄｘよりも小さいときは圧力制御（背圧制御）、即ち、設定した背圧Ｐｓに一致するように背圧Ｐｄに対するフィードバック制御が行われるとともに、位置制御量Ｄｘが圧力制御量Ｄｐよりも小さいときは位置制御、即ち、スクリュ回転停止位置Ｘｅに一致するようにスクリュ位置Ｘに対するフィードバック制御が行われる。
【００４５】
この場合、計量開始からスクリュ回転停止位置Ｘｅの手前近辺までは、スクリュ２の後退速度に対するリミット値ＶＬが大きく設定されるため、基本的には、圧力制御（背圧制御）が行われる。即ち、図７（ｂ），（ｃ）に示すように、予測する後退速度パターンＡｂには定速区間Ａｂｃが残存するため、この定速区間Ａｂｃの後退速度（最大値）がリミット値ＶＬとして設定され、位置制御量Ｄｘが圧力制御量Ｄｐに対して相対的に大きくなる。一方、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅの手前近辺に達した以降は、図７（ｄ）に示すように、スクリュ２の後退に伴って後退速度パターンＡｂの定速区間Ａｂｃが無くなり、減速区間Ａｂｓのみが残る状態となるため、後退速度パターンＡｂの最大値が減速区間Ａｂｓに沿って低下し、リミット値ＶＬも低下する。この結果、リミット値ＶＬは、図８に示すＶＬａ，ＶＬｂ，ＶＬｃ，ＶＬｄ…のように、スクリュ２の後退に伴って次第に低下するように設定される。これにより、スクリュ２の後退速度はリミット値ＶＬにより規制されるため、スクリュ回転停止位置Ｘｅの手前近辺からスクリュ回転停止位置Ｘｅに至るまでは、位置制御量Ｄｘが圧力制御量Ｄｐよりも相対的に小さくなる場合が発生する。
【００４６】
なお、実際には、背圧に対する圧力制御量Ｄｐ（圧力偏差）もかなり小さくなっており、位置に対するフィードバック制御と圧力に対するフィードバック制御のどちらが選択されているかは明確でない。しかし、制御量のより小さい方が選択されることにより、スクリュ２に対する回転停止制御に関係して後退を停止させる制御の応答性及び安定性を高めることができるとともに、僅かな距離区間での確実かつ正確な背圧制御を実現することができる。
【００４７】
そして、このようなスクリュ２に対する後退制御は、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達するまで行うとともに、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達したなら、後退制御（背圧制御）を維持しつつ、スクリュ２の後退速度Ｖｄの監視を行う（ステップＳＢ７，ＳＢ８）。なお、後退速度Ｖｄの監視とは、後退方向のみの速度を監視する意味ではなく、後退制御における前後方向の移動速度を監視する意味である。スクリュ２の回転を停止させた際には、付与される背圧によりスクリュ２が一時的に前進方向に移動することがあるが、このときの前進方向の速度も監視する後退速度Ｖｄに含まれる。
【００４８】
この場合、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達することにより回転が停止したとしても、樹脂圧が残存するため、スクリュ２の後退は、スクリュ２の回転停止と同時には停止しない。したがって、スクリュ回転停止位置Ｘｅにおいてスクリュ２の後退を停止させた場合には、樹脂圧のバラツキもそのまま残存することになる。このため、スクリュ２がスクリュ回転停止位置Ｘｅに達しても、スクリュ２の後退制御についてはそのままの状態を維持し、スクリュ２の後退速度Ｖｄを監視するようにした。
【００４９】
一方、スクリュ２の後退速度Ｖｄを監視し、図９に示すように、スクリュ２が予め設定した所定速度Ｖｄｓになったなら、この時点でスクリュ２の後退を停止、即ち、サーボモータ２８に対する回転停止制御を行い、さらに、サーボロックを行うとともに、背圧付与を停止させる制御を行う（ステップＳＢ９，ＳＢ１０）。したがって、この状態でスクリュ２の後退速度Ｖｄがゼロとなる。この場合、所定速度Ｖｄｓは、０．０１〜０．１〔ｍｍ／ｓ〕の範囲に設定することが望ましい。これにより、樹脂密度（樹脂圧）の均一性を十分に確保しつつスクリュ２の後退を停止させる制御を確実かつ安定に行うことができる。なお、前述したように、スクリュ２の回転を停止させた際に、付与される背圧によりスクリュ２が一時的に前進方向に移動する場合もあるが、この場合には、前進方向の速度が所定速度Ｖｄｓになったならスクリュ２の後退（移動）を停止させる制御を行う。図７（ｅ）は、この状態を示し、実際に検出される後退速度Ｖｄに基づく後退速度パターンとなる。また、図９は、横軸をスクリュ位置Ｘとしたスクリュ２の後退速度Ｖｄを表したものである。
【００５０】
他方、コントローラ本体３２ｍでは、スクリュ２に対する回転停止制御により回転が停止したスクリュ位置（第一停止位置Ｘ１）とスクリュ２に対する後退停止制御により後退が停止したスクリュ位置（第二停止位置Ｘ２）を検出するとともに、第一停止位置Ｘ１と第二停止位置Ｘ２の偏差Ｘａを求め、この偏差Ｘａにより、上述した計量工程の後に行われる射出工程の成形条件、具体的には、射出速度の設定切換位置，射出圧力の設定切換位置，射出完了位置の少なくとも一つを補正する。即ち、これらの位置に対して偏差Ｘａを加算又は減算する補正を行う。この補正は、別途選択可能な補正モードを設け、オペレータが任意に選択できるようにすることが望ましい。したがって、オペレータは、後述するディスプレイ３に表示される偏差Ｘａを確認し、補正を行うか否かを判断できる。これにより、スクリュ２の停止位置のバラツキを射出工程の成形条件に反映して成形品質をより高めることができる。また、得られた偏差Ｘａは、ディスプレイ３に表示する。これにより、オペレータは、偏差Ｘａを容易に把握することができ、成形品質への影響度合等を判断し、上述した補正モードの選択をはじめ、成形条件や制御条件を変更するなど、適切に対処できる利点がある。
【００５１】
さらに、図９に示すように、スクリュ２を後退速度Ｖｓにより一定距離だけ後退させて圧抜きを行うサックバック処理を、スクリュ２に対する回転停止制御により回転が停止し、かつスクリュ２に対する後退停止制御により後退が停止した後に行うことができる。本発明に係る制御方法により計量工程の制御を行えば、計量精度を高度に確保した状態で次工程に移行させることができるため、サックバック処理に基づく射出工程でのバラツキ（成形品のバラツキ）を排除することができる。
【００５２】
このように、スクリュ進退用サーボモータ２８側の作動制御においては、スクリュ２が後退する仮想の後退速度パターンＡｂを設定するとともに、所定時間Ｔｓ間隔毎にスクリュ２の後退速度Ｖｄを検出し、検出した後退速度Ｖｄから残りの後退速度パターンＡｂを演算により予測するとともに、後退速度に対するリミット値ＶＬ（ＶＬａ…）を設定し、かつ予測時における背圧制御を行う圧力制御量Ｄｐ又はスクリュ回転停止位置Ｘｅに対して位置制御を行う位置制御量Ｄｘのいずれか小さい制御量Ｄｐ又はＤｘを選択してスクリュ２を後退制御すれば、スクリュ２に対する回転停止制御に関係して後退を停止させる制御の応答性及び安定性を高めることができるとともに、僅かな距離区間での確実かつ正確な背圧制御を実現することができる。
【００５３】
また、このようなスクリュ進退用サーボモータ２８側の作動制御と前述したスクリュ回転用サーボモータ２０側の作動制御を同時に行うことにより、スクリュ２の回転及び後退の双方を適確な条件で停止させることができるため、樹脂密度が均一化された高度の計量精度を確保できる。この結果、近時において特に高度の計量精度が要求される厚さの薄い光ディスク等の成形にも十分に対応することができる。
【００５４】
以上、最良の実施形態について詳細に説明したが、本発明は、このような実施形態に限定されるものではなく、細部の構成，数量，数値，手法等において、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更，追加，削除することができる。
【００５５】
例えば、射出成形機Ｍは、サーボモータ２０，２８を利用した電動タイプを例示したが、油圧シリンダやオイルモータを利用した油圧駆動タイプ等、他の駆動タイプであってもよい。また、回転速度パターンＡｒに、少なくとも、スクリュ２の回転速度が一定となる定速区間Ａｒｃとこの定速区間Ａｒｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｒｓを含ませるとともに、後退速度パターンＡｂに、少なくとも、スクリュ２の後退速度が一定となる定速区間Ａｂｃとこの定速区間Ａｂｃの終端から所定の減速率により減速する減速区間Ａｂｓを含ませる場合を挙げたが、いずれの場合も所定の減速率により減速する場合に限定されるものではなく、減速区間Ａｒｓ及びＡｂｓの減速パターンは任意に設定できる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の最良の実施形態に係る射出成形機の制御方法におけるスクリュ後退時の処理手順を示すフローチャート、
【図２】同制御方法におけるスクリュ回転時の処理手順を示すフローチャート、
【図３】同制御方法を実施できる射出成形機の一部断面平面図、
【図４】同射出成形機に備えるコントローラの主要機能部のブロック系統図、
【図５】同制御方法を実施した際における時間に対するスクリュの回転速度の特性図（回転速度パターン図）、
【図６】同制御方法を実施した際におけるスクリュ位置に対するスクリュの回転速度の特性図（回転速度パターン図）、
【図７】同制御方法を実施した際における時間に対するスクリュの後退速度の特性図（後退速度パターン図）、
【図８】同制御方法を実施した際におけるスクリュの後退速度に対するリミット値の変更原理の説明図、
【図９】同制御方法を実施した際におけるスクリュ位置に対するスクリュの後退速度の特性図（後退速度パターン図）、
【符号の説明】
【００５７】
２      スクリュ
３      ディスプレイ
Ｍ      射出成形機
Ｐｄ    背圧
Ｘｅ    スクリュ回転停止位置
Ｘｅｓ  停止目標位置
Ｘ      スクリュ位置
Ｘ１    第一停止位置
Ｘ２    第二停止位置
Ｌｓ    所定距離
ＶＬ    リミット値
ＶＬａ…  リミット値
Ｖｄ    後退速度
Ｖｄｓ  所定速度
Ａｒ    回転速度パターン
Ａｒｃ  定速区間
Ａｒｓ  減速区間
Ａｂ    後退速度パターン
Ａｂｃ  定速区間
Ａｂｓ  減速区間
Ｄｐ    圧力制御量
Ｄｘ    位置制御量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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