(57)【要約】【課題】耐光性及び吸光係数に優れ、青色レーザー光を用いた光記録にも対応可能な光学記録媒体の記録層形成用のシッフ塩基金属錯体化合物系色素を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体からなることを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素。2007090768.tif 000018 （式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１５族又は１６族原子の１価のアニオンを有する基を表し、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、それぞれ置換基を有していても良い芳香環又は非芳香族性炭化水素基を表すが、Ｘ１又はＸ２の少なくとも一方は、置換基を有していても良い芳香環である。Ｘ３は、水素原子又は１価の基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体からなることを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素。
【化１】
2007090768.tif 000016
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１５族又は１６族原子の１価のアニオンを有する基を表し、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、それぞれ置換基を有していても良い芳香環又は非芳香族性炭化水素基を表すが、Ｘ１又はＸ２の少なくとも一方は、置換基を有していても良い芳香環である。Ｘ３は、水素原子又は１価の基を表す。）
【請求項２】
２価アニオンのシッフ塩基が下記一般式（２）で表されるものであることを特徴とする請求項１に記載の記録層形成用色素。
【化２】
2007090768.tif 000017
（式中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環を表すが、環Ａ及び環Ｂの少なくとも一方は置換基を有していてもよいベンゼン環である。Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１５族又は１６族原子の１価のアニオンを有する基を表し、Ｒ１は環Ａのｏ−位に、Ｒ２は環Ｂのｏ−位に結合している。Ｘ３は、水素原子又は１価の基を表す。）
【請求項３】
温度５０℃、湿度５５％、キセノン光強度０．５５Ｗ／ｍ２の条件で４０時間の耐光性試験を行った際の色素残存率が９０％以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録層形成用色素。
【請求項４】
基板上に少なくとも記録層が設けられており、該記録層が請求項１ないし３のいずれかに記載の記録層形成用色素を含むことを特徴とする光学記録媒体。
【請求項５】
請求項４に記載の光学記録媒体に、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザー光を照射して情報の記録を行うことを特徴とする光学記録媒体の記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学記録媒体の記録層の形成に用いられるシッフ塩基金属錯体系色素に関するものである。特に、本発明は青色レーザー光対応の光学記録媒体に用いられる色素に関するものである。本発明はまた、このような色素を用いた記録層を有する光学記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高密度での情報の記録保存／再生が可能なことから、レーザー光を用いた光学記録媒体、特に光ディスクについての開発が取り進められている。また、光ディスクへの記録の高密度化のため、記録に用いるレーザー光の波長を従来の半導体レーザーの発光波長である７８０ｎｍを中心としたものから、４０５ｎｍ前後以下の青色光領域へと短波長化することが検討されつつある。
光ディスクの中でも最近注目を集めているものに、書き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）がある。ＣＤ−Ｒは、通常、案内溝を有する円形のプラスチック基板上に、色素を主成分とする記録層、金属反射膜及び保護膜が順次積層された構造を有している。ＣＤ−Ｒへの情報の記録は、レーザー光を照射し、その照射エネルギーが記録層で吸収されることにより、レーザー光照射部分の記録層、反射層又は基板に分解、蒸発、溶解等の熱的変形を生じさせる方法（ヒートモード）や、レーザー光照射部分の記録層に含まれる色素の構造を可逆的に変化させる方法（フォトンモード）などにより行なわれる。また、記録された情報の再生は、レーザー光照射による上記の熱的変形や色素構造の変化が起きている部分と起きていない部分とのレーザー光に対する反射率の差を読み取ることにより行われる。従って、光学記録媒体の記録層はレーザー光のエネルギーを効率よく吸収する必要があり、記録層には一般的にレーザー光吸収色素が用いられている。そして色素のレーザー光に対する吸光係数が大きいほど、情報の記録を効率的に行うことができるので、吸光係数の大きい色素が求められている。
【０００３】
レーザー光吸収色素として有機色素を利用した光学記録媒体は、有機色素溶液を塗布するという簡単な方法で記録層を形成し得るため、安価な光学記録媒体として今後益々普及することが期待されている。
また、情報の読み出しも、レーザー光によって行なわれるが、読み出しに用いられるレーザー光は記録に用いられるレーザー光より強度が弱いものが用いられる。しかし、光学記録媒体の記録層を形成する色素の耐光性が劣る場合には、読み出し光である弱いレーザー光照射によっても色素が分解され、記録データの読み出しを行う際にデータエラーを生じる原因となる。また、光学記録媒体の記録面に太陽光や照明等が長時間照射される場合にも、色素が耐光性に劣ると色素が分解されるので、光学記録媒体の記録データを長期保存することが困難になる。従って、光学記録媒体の記録層形成用色素は耐光性に富むことが必要である。
【０００４】
シッフ塩基及びその誘導体は、その合成の簡便さ及び主に３００〜５００ｎｍ付近に極大吸収を有することから、青色レーザー光対応の光学記録媒体への応用が期待される化合物の１つである。（例えば特許文献１〜４参照。）しかしながら、これらの特許文献に記載のシッフ塩基金属錯体は耐光性が不十分であった。
このため、シッフ塩基金属錯体は、青色レーザー光対応光学記録媒体として有用な吸収波形を持ちながらも、従来は光学記録媒体用色素として用いることはできないと考えられていた。
【特許文献１】特開２００３−２６６９３９号公報
【特許文献２】特表２００５−５０９６９４号公報
【特許文献３】特表２００５−５１５９１４号公報
【特許文献４】国際公開２００４−１０２５５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、吸光係数が大きく、耐光性に優れ、青色レーザー光を用いた光記録にも対応可能な光学記録媒体の記録層形成用のシッフ塩基金属錯体系色素を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体は、吸光係数及び耐光性に著しく優れ、これを記録層に用いた光学記録媒体は青色レーザー光で良好に記録できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
即ち、本発明の要旨は、下記一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体からなることを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素に存する。
【０００８】
【化１】
2007090768.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１５族又は１６族原子の１価のアニオンを有する基を表し、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、それぞれ置換基を有していても良い芳香環又は非芳香族性炭化水素基を表すが、Ｘ１又はＸ２の少なくとも一方は、置換基を有していても良い芳香環である。Ｘ３は、水素原子又は１価の基を表す。）
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る光学記録媒体の記録層形成用色素は、耐光性、成膜性及び青色レーザー記録感度に優れている。従って、この色素を光学記録媒体の記録層に用いることにより、青色レーザー光による記録特性に優れ、かつ耐光性も良好な高密度光学記録媒体を、良好な成膜性のもとに、安価に提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
【００１２】
［記録層形成用色素］
本発明に係る光学記録媒体の記録層形成用色素を形成する２価アニオンのシッフ塩基は下記一般式（１）で表される。 
【００１３】
【化２】
2007090768.tif 000003
【００１４】
また、本発明において、「置換基を有していてもよい」とは、置換基を１以上有していても良いことを意味する。
｛Ｒ１、Ｒ２｝
一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１５族又は１６族原子の１価のアニオンを有する基を表す。具体的には、＝Ｎ-、＝Ｐ-、などの１５族原子の１価アニオン、−Ｎ-−Ｒ３、−Ｐ-−Ｒ３、
【００１５】
【化３】
2007090768.tif 000004
【００１６】
などの１５族原子の１価アニオンを含む基、−Ｏ-、−Ｓ-、−Ｓｅ-などの１６族原子の１価アニオン、
【００１７】
【化４】
2007090768.tif 000005
【００１８】
などの１６族原子の１価アニオンを含む基などが挙げられる。
【００１９】
Ｒ３は、水素原子又は１価の基を表す。
具体的には、炭素数が通常１〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルキル基；炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルケニル基；炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルキニル基；炭素数が６〜２０、好ましくは６〜１２のアリール基、炭素数が３〜２０、好ましくは５〜８のシクロアルキル基、炭素数が３〜２０、好ましくは５〜８のシクロアルケニル基などの炭化水素環基；５又は６員環の単環又は２〜６縮合環、好ましくは単環又は２〜３縮合環であり、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるものを含んでいるヘテロアリール基、５又は６員環の単環又は２〜６縮合環、好ましくは単環又は２〜３縮合環であり、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるものを含んでいるヘテロシクロアルキル基などの複素環基；炭素数が通常２〜１８、好ましくは２〜８のアルキルカルボニル基；炭素数が通常１〜１８、好ましくは２〜８のアルキルスルホニル基などが挙げられる。
これらのなかでもＲ３としては、鎖状アルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基が好ましい。
【００２０】
なかでも、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１６族原子の１価アニオン又は１６族原子の１価アニオンを含む基であると、シッフ塩基金属錯体の安定性が向上するので好ましく、特に酸素原子の１価アニオン又は酸素原子の１価アニオンを含む基であると、シッフ塩基金属錯体の合成が容易であるので好ましい。
Ｒ１、Ｒ２が結合しているＸ１、Ｘ２が芳香環である場合には、Ｒ１、Ｒ２とＣ＝Ｎ結合とが近接する位置関係にあることが、錯形成の際に安定な錯体を形成できるので好ましい。Ｒ１、Ｒ２とＣ＝Ｎ構造との間の原子数は２〜３であるのが好ましく、原子数が２であるのが最も好ましい。
また、Ｒ１、Ｒ２が結合しているＸ１、Ｘ２が非芳香族性の炭化水素基の場合には、Ｒ１、Ｒ２とＣ＝Ｎ構造との位置関係は、Ｒ１、Ｒ２とＣ＝Ｎ構造との間の原子数が１〜２であるのが好ましい。
Ｒ１とＲ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。
【００２１】
｛Ｘ１、Ｘ２｝
一般式（１）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環又は置換基を有していても良い非芳香族性の炭化水素基を表す。但し、Ｘ１、Ｘ２の少なくとも一方は置換基を有していてもよい芳香環を表す。
【００２２】
Ｘ１及びＸ２で表される芳香環とは、芳香族性を有する環、すなわち（４ｑ＋２）π電子系（ｑは自然数）を有する環を意味する。５又は６員環の、単環又は２〜６縮合環からなる芳香環であり、炭素数が通常５〜１６のアリール基、炭素数が通常５〜１６のヘテロアリール基などが挙げられる。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。
【００２３】
Ｘ１及びＸ２で表される芳香環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環等の５員環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環等の６員環、ナフタレン環、フェナンスレン環、アズレン環、ピレン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、ベンゾフラン環、カルバゾール環、ジベンゾチオフェン環、アントラセン環等の５又は６員環の縮合環等が挙げられる。これらのうち、合成しやすいという点から単環が好ましく、さらに好ましいのは６員環、特に好ましいのはベンゼン環である。
【００２４】
Ｘ１及びＸ２で表される非芳香族性の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などの鎖状アルキル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、ビニル基、１−プロペニル基などの鎖状アルケニル基などが挙げられる。また、環内にヘテロ原子や二重結合を含む非芳香族炭化水素環も挙げられる。
【００２５】
Ｘ１及びＸ２で表される非芳香族性の炭化水素基が、非芳香族性の炭化水素環である場合、環内に含んでいてもよいヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。非芳香族性の炭化水素環としては、例えば、次に示す構造が挙げられる。
【００２６】
【化５】
2007090768.tif 000006
【００２７】
これらのなかでも、ｃの部分がＲ１又はＲ２への結合位置であり、ｄの部分がＣ＝Ｎ構造への結合位置であるのが好ましい。
非芳香族性の炭化水素基としては、錯形成の際安定な錯体を構築しうる点で炭素数１〜３のものが好ましく用いられる。
【００２８】
＜Ｘ１及びＸ２が有していてもよい置換基＞
Ｘ１及びＸ２で表される芳香環及び非芳香族性の炭化水素基に置換していてもよい基としては、鎖状アルキル基、鎖状アルケニル基、鎖状アルキニル基、炭化水素環基、複素環基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、（ヘテロ）アリールオキシ基、（ヘテロ）アラルキルオキシ基、置換基を有していても良いアミノ基、ニトロ基、シアノ基、エステル基、置換基を有していても良いカルバモイル基、ハロゲン原子、水酸基などが挙げられる。
【００２９】
鎖状アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基などの炭素数が通常１〜２０、好ましくは１〜１０の直鎖又は分岐状のものが挙げられる。
鎖状アルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０の直鎖又は分岐状のものが挙げられる。
鎖状アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２−メチル−１−プロピニル基、ヘキシニル基、オクチニル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０の直鎖又は分岐状のものが挙げられる。
【００３０】
炭化水素環基としては、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、テトラデカヒドロアントラニル基などの炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１０のシクロアルキル基、シクロヘキセニル基などの炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１０のシクロアルケニル基、フェニル基、アントラニル基、フェナンスリル基、フェロセニル基などの炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０のアリール基などが挙げられる。
【００３１】
複素環としては、５〜６員環の単環又は２〜６縮合環からなるヘテロアリール基、５〜６員環の単環又は２〜６縮合環からなるヘテロシクロアルキル基が挙げられ、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。具体的には、チエニル基などの５員環、ピリジル基、２−ピペリジニル基、２−ピペラジニル基などの６員環、ベンゾチエニル基、カルバゾリル基、オクタヒドロキノリニル基、キノリニル基などの５又は６員環の２〜６縮合環などが挙げられる。
【００３２】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基などの炭素数が通常１〜９、好ましくは２〜８のものが挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基などの炭素数が通常２〜１８、好ましくは２〜８のものが挙げられる。
【００３３】
（ヘテロ）アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０のアリールオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−フリルオキシ基、２−キノリルオキシ基等の炭素数が通常５〜１８、好ましくは５〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアリールオキシ基などが挙げられる。
（ヘテロ）アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ナフチルメトキシ基等の炭素数が通常７〜１８、好ましくは７〜１２のアラルキルオキシ基、２−チエニルメトキシ基、２−フリルメトキシ基、２−キノリルメトキシ基等の炭素数が通常６〜１８、好ましくは６〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアラルキルオキシ基などが挙げられる。
【００３４】
置換基を有していても良いアミノ基としては、アミノ基、アルキルアミノ基、（ヘテロ）アリールアミノ基などが挙げられる。
アルキルアミノ基としては、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ピペリジノ基などの炭素数が２〜２０、好ましくは３〜１０のものが挙げられる。
【００３５】
（ヘテロ）アリールアミノ基の例としては、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基、ナフチルフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基などの炭素数が６〜３０、好ましくは６〜１５のアリールアミノ基、ジ（２−チエニル）アミノ基、ジ（２−フリル）アミノ基などの炭素数が５〜３０、好ましくは６〜１５で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロアリールアミノ基、フェニル（２−チエニル）アミノ基などの炭素数が１１〜３０、好ましくは１２〜１６のアリールヘテロアリールアミノ基などが挙げられる。
【００３６】
置換基を有していても良いカルバモイル基としては、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基などが挙げられる。
アルキルカルバモイル基としては、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル基などの炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のものが挙げられる。
【００３７】
エステル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などの炭素数が２〜２０、好ましくは２〜１０のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられる。
【００３８】
Ｘ１又はＸ２で表される芳香環が２つ以上の置換基を有する場合、置換基同士が結合してヘテロ原子を含んでいても良い環状構造を形成していてもよい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。例えば、Ｘ１又はＸ２がベンゼン環である場合、ベンゼン環が有する置換基同士が結合してヘテロ原子を含んでいても良い環状構造を形成している例として次に示す構造が挙げられる。なかでも、ａの部分がＲ１又はＲ２への結合位置であり、ｂの部分がＣ＝Ｎ構造への結合位置であるのが好ましい。
【００３９】
【化６】
2007090768.tif 000007
【００４０】
Ｘ１又はＸ２で表される芳香環又は非芳香族性の炭化水素基が置換基を有していると、記録層を形成する際に用いる溶剤に対する色素の溶解性が向上するので好ましい。
特に、溶媒としてテトラフルオロプロパノールやメチルセロソルブなどの極性溶媒を用いる場合には、Ｘ１又はＸ２で表される芳香環はＮ，Ｎ−二置換カルバモイル基やエステル基などの極性置換基を有するのが好ましく、溶媒として塩化メチレン、ジブチルエーテルやメチルシクロヘキサンなどの非極性溶媒を用いる場合には、Ｘ１又はＸ２で表される芳香環又は非芳香族性の炭化水素基はアルキル基やアルコキシ基などの非極性置換基を有するのが好ましい。
また、Ｘ１又はＸ２で表される芳香環又は非芳香族性の炭化水素基が置換基を有していないと、シッフ塩基の合成が容易であるという点で好ましい。
【００４１】
＜Ｘ１及びＸ２の分子量＞
Ｘ１及びＸ２で表される置換基を有していても良い芳香環又は置換基を有していても良い非芳香族性の炭化水素基の分子量は、７００以下が好ましい。Ｘ１及びＸ２で表される基の分子量が大きすぎると、吸光度の低下による記録感度の低下が起きる恐れがある。
【００４２】
＜Ｘ１及びＸ２の好ましい組み合わせ＞
Ｘ１及びＸ２の少なくともいずれか一方は、吸収極大波長を光学記録形成用色素として適切な位置に合わせる理由から、置換基を有していても良い芳香環であることが必要である。Ｘ１及びＸ２の両方が芳香環であると合成の観点から好ましく、Ｘ１及びＸ２のいずれか一方が置換基を有していても良い非芳香族性の炭化水素基であると、得られる色素の吸収極大波長を短波長側にシフトさせやすいので好ましい。
【００４３】
｛Ｘ３｝
一般式（１）中、Ｘ３は、水素原子又は１価の基を表す。
Ｘ３で表される１価の基としては、置換基を有していても良い炭素数６〜１２のアリール基、５〜６員環の単環又は２〜６縮合環でヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含み、置換基を有していても良いヘテロアリール基などの置換基を有していても良い芳香環基；ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数が通常１〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルキル基；炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルケニル基；炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜８の鎖状アルキニル基；炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１６のシクロアルキル基、炭素数が通常３〜２０、好ましくは５〜１０のシクロアルケニル基などの非芳香族性の炭化水素環基；５〜６員環の単環又は２〜６縮合環、好ましくは単環又は２〜３縮合環で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子などから選ばれるものを含むヘテロシクロアルキル基；炭素数が通常１〜９、好ましくは２〜６のアルコキシ基；炭素数が通常２〜１８、好ましくは２〜１０のアルキルカルボニル基；炭素数が通常５〜１８、好ましくは５〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるものを含んでいてもよい、（ヘテロ）アリールオキシ基；炭素数が通常５〜１８、好ましくは６〜１０で、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれるものを含んでいてもよい、（ヘテロ）アラルキルオキシ基；アミノ基、炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のアルキルアミノ基、炭素数が通常５〜３０、好ましくは６〜１５の（ヘテロ）アリールアミノ基などの置換基を有していても良いアミノ基；カルバモイル基、炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のアルキルカルバモイル基などの置換基を有していてもよいカルバモイル基；炭素数が通常２〜２０、好ましくは２〜１０のエステル基；ニトロ基；シアノ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などのハロゲン原子；水酸基などが挙げられる。
【００４４】
Ｘ３が置換基を有していても良い芳香環である場合、芳香環が有していても良い置換基としては、Ｘ１又はＸ２として表される芳香環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。
また、Ｘ３が置換基を有していても良い芳香環である場合において、Ｘ３で表される芳香環が２つ以上の置換基を有するとき、置換基同士が結合してヘテロ原子を含んでいても良い環状構造を形成してもよい。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。例えば、Ｘ３がベンゼン環である場合、ベンゼン環が有する置換基同士が結合してヘテロ原子を含んでいても良い環状構造を形成している例として次に示す構造が挙げられる。なかでも、ｅの部分がＣ＝Ｎ構造への結合位置であるのが好ましい。
【００４５】
【化７】
2007090768.tif 000008
【００４６】
Ｘ３が水素原子であるとシッフ塩基が合成しやすく、Ｘ３が１価の基であると得られる色素は成膜性が改善される傾向にある。Ｘ３の分子量は、５００以下、特に１００以下が好ましい。Ｘ３の分子量が大きすぎると、吸光度の低下による記録感度の低下が起きる恐れがある。これらのなかでも、Ｘ３としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基などが特に好ましい。
【００４７】
本発明に係るシッフ塩基の代表的なものは、下記の一般式（２）又は一般式（３）で表されるものである。
【００４８】
【化８】
2007090768.tif 000009
【００４９】
式中、環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、置換基を有していても良い芳香環を表すが、環Ａ及び環Ｂの少なくとも一方は置換基を有していてもよいベンゼン環である。好ましくは、環Ａ及び環Ｂの一方は置換基を有していてもよいベンゼン環を表し、他方は置換基を有していてもよいベンゼン環、ピリジン環、チオフェン環又はキノン環を表す。
Ｒ１及びＲ２は、一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２と同義であり、Ｒ１は環Ａのｏ−（オルト）位に、Ｒ２は環Ｂのｏ−（オルト）位に結合している。
Ｘ３は、一般式（１）におけるＸ３と同義である。
【００５０】
【化９】
2007090768.tif 000010
【００５１】
式中、Ｘ３は、一般式（１）におけるＸ３と同義である。
Ｘ４及びＸ５の一方は置換基を有していてもよいベンゼン環を表し、他方は置換基を有していてもよい鎖状炭化水素基又は置換基を有していてもよい非芳香族性の環状炭化水素基を表す。なお環状炭化水素基は環内にヘテロ原子を含んでいてもよい。
Ｒ１及びＲ２は、一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２と同義であり、ベンゼン環に結合しているＲ１又はＲ２はベンゼン環のｏ−（オルト）位に結合している。また、鎖状炭化水素又は環状炭化水素基に結合しているＲ１又はＲ２は、Ｃ＝Ｎ構造との間に１〜２個の原子を介して結合している。
【００５２】
｛遷移金属カチオン｝
シッフ塩基と結合して本発明に係るシッフ塩基金属錯体を形成する遷移金属カチオンとしてはシッフ塩基と金属錯体を形成し得るものであれば何でもよく、具体例としてはＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｅｒ等のカチオンが挙げられる。
シッフ塩基金属錯体を形成する遷移金属カチオンは、第４周期の遷移金属元素のカチオンであることが経済面から好ましく、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕのカチオンが更に好ましく、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｕのカチオンが特に好ましい。
【００５３】
本発明に係るシッフ塩基金属錯体は、シッフ塩基以外のアニオンや遷移金属カチオン以外のカチオンを含有していてもよい。
シッフ塩基以外のアニオンとしては、アルコール；フェノール；カルボン酸；ホスホン酸；ハロゲン；過塩素酸；過沃素酸；シアン酸；イソシアン酸；イソチオシアン酸；アジド；硝酸；炭酸；炭酸水素酸；硫酸、硫酸水素酸、メチル硫酸などの置換又は無置換の硫酸；メタンスルホン酸；トリフルオロメタンスルホン酸；トシル酸：リン酸、リン酸水素酸、リン酸二水素酸、フェニルリン酸などの置換又は無置換のリン酸、六フッ化リン、六フッ化アンチモン；ホスフィン酸、メチルホスフィン酸などの置換又は無置換のホスフィン酸；テトラフェニルボロン酸などの置換又は無置換のボロン酸；ベンゼンスルホン酸；酢酸；トリフルオロ酢酸などを、アニオン化したもの等が挙げられる。
シッフ塩基以外のアニオンとしては、分子量３００以下のものが好ましい。分子量が大きすぎると得られる色素の吸光度が低下して記録感度が低下する恐れがある。なかでも、過塩素酸アニオン、六フッ化リンアニオンは、得られる色素のレーザー感度が向上するので好ましい。
【００５４】
また、遷移金属カチオン以外のカチオンとしては、水素カチオン、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、置換又は無置換のアンモニウムカチオン（メチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオンなど）、置換又は無置換のホスホニウムカチオン（ホスホニウムカチオン、メチルイソプロピルホスホニウムカチオンなど）、Ｎ−置換ピリジニウムカチオン等が挙げられる。
遷移金属以外のカチオンも分子量３００以下のものが好ましい。分子量が大きすぎると得られる色素の吸光度が低下して記録感度が低下する恐れがある。なかでも、置換又は無置換のアンモニウムカチオン、Ｎ−置換ピリジニウムカチオンは、得られる色素のレーザー感度が向上するので好ましい。
本発明に係るシッフ塩基金属錯体は、カチオンの価数とアニオンの価数を合計すると０になる。
【００５５】
｛分子量｝
本発明に係る一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と遷移金属カチオンとからなり、且つ他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体からなる光学記録媒体の記録層形成用色素の分子量は、通常１，５００以下、好ましくは１，０００以下である。分子量が大きすぎると、色素の吸光度が低下し、記録感度が低下する恐れがある。
また、本発明に係る記録層形成用色素は、水に不溶性であるのが好ましい。
【００５６】
｛具体例｝
本発明に係る記録層形成用色素の具体例を以下に例示する。
【化１０】
2007090768.tif 000011
【化１１】
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【００５７】
本発明に係る記録層形成用色素は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００５８】
｛合成法｝
本発明に係る光学記録媒体の記録層形成用色素は、例えば以下の方法により容易に合成することができる。
即ち、カルボニル基を有する化合物とアミノ基を有する化合物を溶媒の存在もしくは非存在下常温から加熱条件で撹拌することによりシッフ塩基を合成し、さらに金属塩を溶媒の存在下もしくは非存在下で作用させることにより目的のシッフ塩基金属錯体を得ることができる。
【化１２】
2007090768.tif 000013
【００５９】
本発明に係る光学記録媒体の記録層形成用色素が耐光性に優れる理由は明らかではないが、該化合物中のシッフ塩基アニオンが２価のアニオンであり、２点で金属とイオン結合していること、Ｃ＝Ｎ構造の窒素原子が金属に配位していることによるものであると推定される。
【００６０】
［光学記録媒体］
本発明の光学記録媒体は、基板上に一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体からなる記録層形成用色素を含む記録層を形成したものである。記録層に占める本発明に係る記録層形成用色素の割合は、通常１０重量％以上、好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。
【００６１】
基板としては、ガラスやプラスチックなど、使用するレーザー光に対して透明なものが好ましく用いられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられるが、生産性、コスト、耐吸湿性などの点からポリカーボネート樹脂又はシクロオレフィン樹脂を射出成形したものが好ましい。
【００６２】
記録層はバインダーを含有していてもよい。バインダーを含有することにより成膜性を向上させることができる。バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート等既知のものが１種を単独で、或いは２種以上を混合して用いられる。記録層に占めるバインダーの割合が高すぎると記録感度が著しく低下するので、記録層に占める本発明に係る色素の割合が上記の範囲となるような量を用いる。
【００６３】
記録層は、安定性や耐光性を向上させるために、一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤などを含有していてもよい。
【００６４】
一重項酸素クエンチャーとしては、アセチルアセトナート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物などが挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれる金属系化合物等が挙げられ、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体のような有機金属化合物などが挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。金属原子の種類は特に限定されないが、遷移金属が好ましい。
【００６６】
一重項酸素クエンチャーは本発明に係る記録層形成用色素に対して通常５〜３０重量％、記録感度向上剤は本発明に係る記録層形成用色素に対して通常１０〜３０重量％の割合で用いられる。
【００６７】
記録層は、必要に応じて、本発明に係る記録層形成用色素以外の色素を含んでいてもよい。他の色素としては、記録用のレーザー光波長域に吸収を有し、照射されたレーザー光のエネルギーを吸収して、照射部分の記録層、反射層又は基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴うピットを形成させるものが好ましい。また、ＣＤ−Ｒ向けの７７０〜８３０ｎｍの範囲から選ばれた波長の近赤外レーザー光やＤＶＤ−Ｒ向けの６２０〜６９０ｎｍの範囲から選ばれた赤色レーザー光での記録に適する色素を併用して、複数の波長域のレーザー光での記録に対応する光学記録材料とすることもできる。他の色素としては、具体的には、含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられ、これらは１種を用いても、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
記録層の形成には、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の一般に行われている薄膜形成法を用いることができる。これらのうち、量産性、コスト面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法により記録層を成膜する場合、回転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコート後、必要に応じて、加熱又は溶媒蒸気にさらす等の処理を行ってもよい。
記録層の厚さは、特に限定されないが、通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは２０ｎｍ〜２μｍ、更に好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。色素を含む記録層が薄すぎると、熱拡散の影響を抑えられず、良好な記録が得られにくい。また、記録信号に歪みが発生しやすく、信号振幅を大きくするのが難しい。また、記録層が厚すぎると、反射率が小さくなり、再生信号特性が不良になりやすい。
【００６９】
記録層をドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等により形成する場合には、まず、本発明に係る記録層形成用色素、バインダー、一重項酸素クエンチャー、記録感度向上剤及び他の色素等を溶媒に溶解させ、塗布液を作成する。
溶媒としては、基板を侵さない溶媒であれば、特に限定されず、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル系溶媒等が挙げられる。なかでも、パーフルオロアルキルアルコール系溶媒が工業面から好ましく、現在一般にこの用途に工業的に用いられている溶媒であるＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）が特に好ましい。なお、これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７０】
塗布液に占める本発明に係る記録層形成用色素の割合は、色素の溶媒溶解性に応じて適宜決定されるが、通常０．７重量％以上、好ましくは１．０重量％以上であり、通常１０重量％以下、好ましくは３．０重量％以下である。塗布液に占める色素の割合が低すぎると、記録層の形成効率が悪くなる恐れがある。また、塗布液に占める色素の割合が高すぎると、成膜工程において、色素の結晶化等の問題が発生する恐れがある。
【００７１】
通常、基板上には、必要に応じて更に、反射層、保護層、下引き層などの記録層以外の層が設けられ、光学記録媒体として使用される。
【００７２】
反射層としては、金、銀、アルミニウム又はそれらの合金のような金属からなるもの等が挙げられるが、５５０ｎｍ以下の波長のレーザー光に対する反射率から、金やアルミニウムより、銀の方が好ましい。金属反射層は、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などによって記録層上に成膜される。ここで、金属反射層と記録層との間に層間の密着力を向上させるため、又は、反射率を高める等の目的で中間層を設けてもよい。反射層の膜厚は、通常５０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下の範囲である。
【００７３】
反射層の上に形成する保護層の材料は、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ（紫外線）硬化性樹脂等の有機物質、ＳｉＯ２、ＳｉＮ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等の無機物質などが挙げられる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。
ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独で又は混合して用いてもよいし、１層だけでなく多層膜にして用いてもよい。
【００７４】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、通常、０．１μｍ以上、１００μｍ以下の範囲である。
なお、各層間の接着力を高めるために、各層間に下引き層を用いても良い。下引き層の種類としては、各層の接着力を高め、かつ各層の性質に影響を与えない物であれば特に限定されないが、取扱いの容易さから有機層であることが好ましい。
【００７５】
更に、上記構成の光学記録媒体を接着層を介して２枚貼りあわせ、両面記録型光学記録媒体としてもよいし、記録層を基板の両面に設けてもよいし、片面に設けてもよい。
【００７６】
上述のようにして得られた光学記録媒体への情報の記録は、通常、記録層に０．４〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。記録層がレーザー光のエネルギーを吸収すると、レーザー光照射部分では、分解、発熱、溶融等の熱的変形が起こり、情報が記録される。記録された情報の再生は、レーザー光による上記熱的変形が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行う。
【００７７】
高密度記録のためには、使用するレーザー光の波長が短いほど好ましく、特に、波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例としては、例えば、中心波長４０５ｎｍ、４１０ｎｍなどの青色レーザー光、中心波長５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザー光が挙げられる。これら以外にも（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー光、又は（ｂ）半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザー光のいずれかを、第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによって得られる光なども挙げられる。
【００７８】
上記のＳＨＧとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合は、その倍波の波長４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、ＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ６結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の波長４３０ｎｍなどが挙げられる。
【００７９】
光学記録媒体が有する吸収波長及び吸光度のうち好ましいものは、記録に用いるレーザー光の種類に依存する。例えば、４０５〜４１０ｎｍを中心波長とする青色レーザーに対しては、光学記録媒体の吸収スペクトルの最大吸収波長（λｍａｘ）が３００〜４５０ｎｍであり、該λｍａｘにおけるモル吸光係数（ε）が１５，０００以上、特に２０，０００以上であること、また、４３０ｎｍを中心波長とする青色レーザーに対しては、光学記録媒体の吸収スペクトルの最大吸収波長（λｍａｘ）が３５０〜４９０ｎｍであり、該λｍａｘにおけるモル吸光係数（ε）が１５，０００以上で、特に２０，０００以上であることが好ましい。
【００８０】
本発明に係る一般式（１）で表されるシッフ塩基金属錯体からなる記録層形成用色素は、これらの青色レーザー光を用いた光学記録媒体に好適である。また、本発明に係るシッフ塩基金属錯体は合成が容易であることから、安価な光学記録媒体を提供することができる。
【００８１】
＜耐光性＞
このような光学記録媒体の記録層に用いられる、一般式（１）で表される２価アニオンのシッフ塩基と、遷移金属カチオンとからなり、且つ、他のアニオン及びカチオンを含有していてもよいシッフ塩基金属錯体に代表される、シッフ塩基骨格を有する２価のアニオンと遷移金属カチオンとが錯体を形成している化合物からなる光学記録媒体の記録層形成用色素は、温度５８℃、湿度５０％の条件下、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）の照射を４０時間行った際の色素残存率が通常９０％以上、特には９５％以上であり、耐光性に優れる。特に好ましい色素は、温度５８℃、湿度５０％の条件下、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）の照射を８０時間、特には１２０時間行っても、色素残存率が９５％以上である。
このような耐光性の試験は、まず、乾燥後の膜厚が約５０ｎｍとなるように、色素を含む溶液をプラスチック基板上に塗布した後、乾燥し、色素を含む層を得る。得られた色素を含む層に対して、温度５８℃、湿度５０％の条件下、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）の照射を所定時間行い、照射前後の吸収極大波長における吸光度を比較し、色素残存率を求める。
【００８２】
＜記録感度＞
また、本発明に係るシッフ塩基金属錯体からなる色素を記録層に含んだ光学記録媒体は、中心波長４０４ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の青色レーザー光を照射した場合に、レーザー強度１０ｍＷ以下、特に７．５ｍＷ以下においても良好な記録ピットの形成が可能であり、記録レーザー感度に優れる。
【００８３】
さらに、本発明に係るシッフ塩基金属錯体からなる色素は、スピンコート法により記録層を形成後、ディスク表面に化合物の結晶化に由来する白化現象が認められず成膜性に優れる。
【実施例】
【００８４】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、以下において、プロトンＮＭＲ分析は、Ｂｒｕｋｅｒ社製ＡＶ４００Ｍ核磁気共鳴分光測定装置（４００ＭＨｚ）を用い、重クロロホルム溶媒中で分析した。
ＤＥＩ−ＭＳ（脱離イオン化質量分析法）分析は、日本電子株式会社製ＪＭＳ−７００  ＭＳｔａｔｉｏｎ質量分析計を用い、加速電圧：１０ｋＶ、昇温条件：０〜０．９Ａ、１Ａ／分の条件で行った。
熱分析は、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製示差熱熱重量分析装置  ＥＸＳＴＡＲ６０００  ＴＧ−ＤＴＡを用い、試料量：２．０ｍｇ、温度上昇：１０℃／分、窒素流量：０．２Ｌ／分の条件で、アルミニウムパンを用いて測定を行った。熱分解温度は上記条件にて熱分析を行った際に、重量が１０％減少する温度とした。
【００８５】
［光学記録媒体の作製］
記録層形成用色素を塩化メチレンに１．０重量％となるように溶解させ、濾過によって微細なゴミを取り除いた後に、得られた溶液をシクロオレフィン樹脂（日本ゼオン株式会社「ゼオネックス」）を射出成形して得られた直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの基板上に滴下し、スピンコート法（４９００ｒｐｍ）により塗布し、８０℃で３０分間乾燥して透明な塗布膜（膜厚約５０ｎｍ）を形成し、光学記録媒体を得た。
【００８６】
得られた光学記録媒体に、中心波長４０４ｎｍ、ＮＡ＝０．８５の半導体レーザー光を照射し、良好な記録ピットの形成が確認された最高記録感度を測定した。
また、得られた光学記録媒体は耐光試験を行った。光学記録媒体に温度５８℃、湿度５０％の条件下、キセノンランプ（強度０．５５Ｗ／ｍ２）を塗布膜面に４０時間照射し、照射前後の吸収極大波長のける吸光度の変化を測定し、色素残存率を求めた。
【００８７】
［実施例１］
＜化合物（Ａ−１）の合成＞
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチルアルデヒド１．０ｇ（東京化成工業株式会社製の）と２−アミノフェノール０．５０ｇをエタノール１０ｍｌ中、還流条件にて１時間加熱撹拌した。得られた溶液に水酸化カリウム０．５０ｇを加え溶解させた後、塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物２．０ｇの飽和水溶液を滴下して、沈殿を生成させた。得られた沈殿を濾別し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物（Ａ−１）の黄色結晶（０．３０）を得た。
【００８８】
得られた化合物は、プロトンＮＭＲ、ＤＥＩ−ＭＳ分析及び熱分析により分析を行った。結果を以下に示す。
λｍａｘ：４０７ｎｍ
λｍａｘにおけるε（モル吸光系数）：１９，０００
熱分解温度：４３０℃
ＤＥＩ−ＭＳ：実測値：７７２（Ｍ＋）、計算値７７２
【００８９】
＜光学記録媒体の作製＞
得られた化合物（Ａ−１）を用いて、光学記録媒体を作成した。塗布膜に化合物の結晶化に由来する白化現象は確認されなかった。得られた光学記録媒体は、最高記録感度の測定及び耐光性試験を行った。結果を表−１に示す。
【００９０】
［実施例２］
＜化合物（Ａ−２）の合成＞
実施例１において、滴下する金属塩を無水塩化銅０．３５ｇに変更した以外は、同様の方法で化合物（Ａ−２）の黄色結晶（０．２７ｇ）を得た。
得られた化合物は、プロトンＮＭＲ、ＤＥＩ−ＭＳ分析及び熱分析により分析を行った。結果を以下に示す。
λｍａｘ：４２８ｎｍ
λｍａｘにおけるε：２４，０００
熱分解温度：３９０℃
ＤＥＩ−ＭＳ分析：実測値７７２（Ｍ＋）、計算値７７２
【００９１】
＜光学記録媒体の作製＞
得られた化合物（Ａ−２）を用いて、光学記録媒体を作成した。塗布膜に化合物の結晶化に由来する白化現象は確認されなかった。得られた光学記録媒体は、最高記録感度の測定及び耐光性試験を行った。結果を表−１に示す。
【００９２】
［実施例３］
＜化合物（Ａ−３）の合成＞
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチルアルデヒド１．０ｇと２−アミノフェノール０．５０ｇをエタノール１０ｍｌ中、還流条件にて１時間加熱撹拌した。得られた溶液にオルトチタン酸テトライソプロピル０．６ｍｌを滴下して、沈殿を生成させた。得られた沈殿を濾別し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化合物（Ａ−３）の赤色結晶（０．８５ｇ）を得た。
【００９３】
得られた化合物は、プロトンＮＭＲ、ＤＥＩ−ＭＳ分析及び熱分析により分析を行った。結果を以下に示す。
λｍａｘ：３３０ｎｍ
λｍａｘにおけるε：３７，０００ 
熱分解温度：３７０℃
ＤＥＩ−ＭＳ：実測値６９４（Ｍ＋）、計算値６９４
【００９４】
＜光学記録媒体の作製＞
得られた化合物（Ａ−３）を用いて、光学記録媒体を作成した。塗布膜に化合物の結晶化に由来する白化現象は確認されなかった。得られた光学記録媒体は、最高記録感度の測定及び耐光性試験を行った。結果を表−１に示す。
【００９５】
［実施例４］
＜例示化合物（Ａ−４）の合成＞
３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチルアルデヒド０．５０ｇとアントラニル酸０．３０ｇをエタノール１０ｍｌ中、還流条件にて２時間加熱撹拌した。得られた溶液にオルトチタン酸テトライソプロピル０．４ｍｌを滴下し、減圧条件下で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって化合物（Ａ−４）の橙色結晶（０．１２ｇ）を得た。
【００９６】
得られた化合物は、プロトンＮＭＲ及びＤＥＩ−ＭＳ分析により分析を行った。結果を以下に示す。
λｍａｘ： ３３３ｎｍ
ＤＥＩ−ＭＳ分析：実測値７５０（Ｍ＋）、計算値７５０
【００９７】
［比較例１］
特表２００５−５０９６９４号に記載の下記化合物（４）をオルトフェニレンジアミン（１当量）、サリチルアルデヒド（２当量）及び酢酸銅（II）（１当量）をエタノール中で加熱混合することにより得た。
得られた化合物（４）を用いて光学記録媒体を作成した。塗布膜に化合物の結晶化に由来する白化現象は観察されなかった。得られた光学記録媒体は、最高記録感度の測定及び耐光性試験を行った。結果を表−１に示す。
【００９８】
【化１３】
2007090768.tif 000014
【００９９】
【表１】
2007090768.tif 000015