(57)【要約】【課題】簡単な工程を用いて製造が容易で生産性に優れた基材上表面に２以上の積層薄膜を同時に形成できる方法を提供すること。【解決手段】基材表面に２以上の積層薄膜を同時に形成する積層薄膜の同時形成方法であって、前記積層薄膜の最下層を形成する分散液又は溶液の最下相液に浸漬された基材を停止させる工程と、その停止している間に、該最下相液上に分散液、溶液又は微粒子の何れか一つを順次滴下又は散布して互いに分離する相分離液を形成する工程と、該相分離液から基材を微速で引き上げる工程とから成る。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に２以上の積層薄膜を同時に形成する積層薄膜の同時形成方法であって、
前記積層薄膜の最下層を形成する分散液又は溶液の最下相液に浸漬された基材を停止させる工程と、
その停止している間に、該最下相液上に分散液、溶液又は微粒子の何れか一つを順次滴下又は散布して互いに分離する相分離液を形成する工程と、
該相分離液から基材を微速で引き上げる工程とから成ることを特徴とする積層薄膜の同時形成方法。
【請求項２】
前記互いに分離する相分離液が比重差に応じて分離相を形成することを特徴とする請求項１に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【請求項３】
前記最下相液が、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つから選ばれることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【請求項４】
前記相分離液が有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つ以上から選ばれることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【請求項５】
基材表面に形成される積層薄膜が、樹脂膜、微粒子膜又は微粒子を含む樹脂膜からなる２以上の多層薄膜であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【請求項６】
基材が無機材質、有機材質又は金属から選ばれ、かつ、ハニカム状、棒状又はシート状のものであることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【請求項７】
基材が連続長尺のものであって、連続的に走行せしめることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の積層薄膜の同時形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の液から構成された相分離液を適宜組み合わせて、該相分離液由来の薄膜層を多層状に積み重ねた積層薄膜の同時形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
物質の表面は、組成、構造、電子状態等バルクと異なることも多く、また、それらは温度や雰囲気によっても変化する等、様々な興味深い現象を発現することが知られている。
例えば、触媒作用、電極反応、濡れ、接着等々、物質の表面の変化の利用は、今日の重要な工業プロセスの基礎を担っているものが多い。
これらの表面化学の実際は、原子・分子レベルで起こる固体表面の化学反応によることが多く、表面原子・表面分子の構造や配向に依存している。つまり、表面における原子・分子の構造や配向を制御できれば、任意の機能を発現させることができるわけである。このような観点から、ある材料表面に目的とする機能性分子を薄膜として原子・分子の構造や配向を整えて修飾し、これを機能性材料として活用しようとされてきている。
【０００３】
従来知られている機能性分子を薄膜として基板表面に修飾する方法は、大きく別けて２つの方法があり、一つはドライプロセスであり、他はウエットプロセスに大別される。前者のドライプロセスは、分子を気化させた後、基板表面に付着させて修飾を行う方法である。後者のウエットプロセスは、目的とする機能性分子を溶媒に溶解又は分散させ、この溶液又は分散液を基板に塗布したり、溶液又は分散液中に基板を浸したりして表面修飾を行う方法である。
【０００４】
近年、撥水・撥油材料、接着剤、酸化防止膜、又は光・電子、バイオデバイス等、多様な有機薄膜材料の機能や物性は、薄膜の表面又はバルク構造と密接な関係があると指摘され、薄膜における構造形態やその制御は、材料の性能を左右するだけでなく、新しい機能の創出やこれまでに見られなかった優れた物性の発現にも重要な役割を果たすと考えられてきている。
【０００５】
これら薄膜を作製する技術として、たとえば、フォトレジストに代表されるリソグラフィー技術やマイクロコンタクトプリンティング法といったスタンプ技術、又は溶液キャスト法による自己組織化技術等数多くの方法が開発されてきている。
【０００６】
とりわけ、エネルギー変換効率の高効率化が課題である有機薄膜太陽電池において、有機半導体が分子レベルで３次元的なｐ−n接合を形成するナノ構造層をp―n接合界面に新たに導入することで、分子レベルでのp―n接合形成を可能とするナノp−n接合が多数形成され、光電変換層が拡大されることが見出されている。また、近年注目されている色素増感太陽電池では、用いられるTiO2粒子を数10nmのナノ粒子にすることで比表面積を非常に大きくしていることが効率上昇の点で重要となっており、現在は色素が光吸収しているが、半導体ナノ粒子は量子サイズ効果により、粒径を変えるだけで吸収スペクトルも変えることができるため、粒径分布のある粒子膜を作製することで太陽光の波長すべてを粒子が吸収するような電池の可能性もある。
【０００７】
また、発光層を両側から電極（陽極と陰極）で挟んだ構造を有する有機ELでは、電子や正孔といったキャリアを発光層まで移動して発光効率を上げるために注入層や輸送層が必要になり、材料の選択や生産性から鑑みて、多層構造が考えられる。薄膜形成には、塗布や印刷技術が用いられているが、安定して多層構造を形成でき、かつ、安価である製造法が求められている。
【０００８】
微粒子構造体を作製するのに、基板上に膜を形成し、膜を除去してパターン形成した部分に微粒子を付着させた後、すべての膜を除去して形成された微粒子配列パターンを成長の開始点とする引き上げ法によって微粒子を堆積して微粒子構造体膜を作製する方法が特開２００３−２９０６４８号公報に開示されている。
【０００９】
また、特開平９−２３９３１０号公報では、水面上に単分子膜を形成し、導電性の基板上にその単分子膜を累積させて薄膜を作成し、基板に所定の電圧を印加することにより基板上に累積する分子の配向を制御する分子累積膜の作製法が開示されている。同様に、電気化学的方法で互いに溶解しない複数の高分子を結合したブロック共重合体が一定方向に配向したミクロ相分離構造を作製する方法が特開２００５−３１４５２６号公報に開示されている。
【００１０】
一方、積層構造膜では、１回で形成する膜内は１種類の構造に限られるため、各層単位であり、一層の膜形成時間が長く、積層構造にするためには多大な時間を要していた。特開平７−１４２４６２号公報には、単分子膜を基板上に写し取る薄膜形成法において膜形成材料溶液中の成分分子と薄膜形成時の下層溶液中の成分分子の濃度平衡に関する相互作用を利用して形成される薄膜の成分濃度を制御する薄膜形成法が開示されており、この方法では、膜内の成分分子分布を層単位よりさらに細かな単位で制御でき、配向性のある膜を簡便に形成可能といわれているが、膜形成材料溶液中の成分分子と薄膜形成時の下層溶液中の成分分子の濃度平衡に関する相互作用が複雑である。
【００１１】
また、易溶性ホスト分子が溶解された下層液上に難溶性球状ゲスト分子を分散させ、気液界面において易溶性ホスト分子と難溶性ゲスト分子間に働くホスト−ゲスト相互作用により両親媒性超分子を調製せしめて気液界面に超分子膜を形成し、この超分子膜を基板上に移し取るという超分子薄膜の製造法が特開２００４−１０５８９６号公報に開示されている。
しかし、上述するような従来知られる方法は、いずれも基材上表面への単分子膜の形成であり、これらの方法では基材上表面に単分子膜しか形成されず、２以上の積層膜を同時に形成できる方法は知られていない。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−２９０６４８号公報
【特許文献２】特開平０９−２３９３１０号公報
【特許文献３】特開２００５−３１４５２６号公報
【特許文献４】特開平０７−１４２４６２号公報
【特許文献５】特開２００４−１０５８９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題点を解決するために、簡単な工程を用いて製造が容易で生産性に優れた基材上表面に２以上の積層薄膜を同時に形成できる方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明では、積層薄膜の最下層を形成する分散液や溶液に基材を微速に浸漬し、該分散液表面に分散液と混合しない相分離液の層を形成して該分散液や溶液から基材を微速で引き上げることにより基材表面に積層薄膜を形成させる方法を見出した。すなわち、互いに混合しない相を形成する最下相液及び相分離液として、最下相液は、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つから選ばれ、相分離液は、上記した有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つ以上から選ばれる。これらの最下相液及び相分離液の存在する液槽中に、ハニカム状、棒状、シート状の形状をした金属、その他の無機材質、有機材質からなる基材を浸漬し、微速で引き上げることにより基材表面に薄膜を同時的に形成する方法を見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
すなわち、本願の特許請求の範囲に記載の請求項１〜７に係る発明は、前記課題を達成するために以下の構成を特徴とする。
請求項１に係る発明は、基材表面に２以上の積層薄膜を同時に形成する積層薄膜の同時形成方法であって、前記積層薄膜の最下層を形成する分散液又は溶液の最下相液に浸漬された基材を停止させる工程と、その停止している間に、該最下相液上に分散液、溶液又は微粒子の何れか一つを順次滴下又は散布して互いに分離する相分離液を形成する工程と、該相分離液から基材を微速で引き上げる工程とから成ることを特徴とする。
請求項２に係る発明は、前記互いに分離する相分離液が比重差に応じて順次分離相を形成することを特徴とする。
請求項３に係る発明は、前記最下相液が、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つから選ばれることを特徴とする。
請求項４に係る発明は、前記相分離液が、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つ以上から選ばれることを特徴とする。
請求項５に係る発明は、基材表面に形成される積層薄膜が、樹脂膜、微粒子膜又は微粒子を含む樹脂膜からなる２以上の多層薄膜であることを特徴とする。
請求項６に係る発明は、基材が無機材質、有機材質又は金属から選ばれ、かつ、ハニカム状、棒状又はシート状のものであることを特徴とする。
請求項７に係る発明は、基材が連続長尺のものであって、連続的に走行せしめることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
従来技術の積層薄膜を形成させる手段として知られる電極反応を用いる場合は、分散液の導電性や積層薄膜を形成させる基材の材質等を考慮しなければ実用性に乏しいのに対して、本発明の積層薄膜の同時形成方法によれば、基材を最下相液及び相分離液に浸漬した後微速で引き上げる操作により基材の材質や形状にかかわりなく、基材の表面に２以上の積層薄を同時に形成することができる。
【００１７】
本発明では、最下相液及び相分離液を適宜組み合わせて、微速の浸漬処理の可能な浸漬法を採用することによって、基材上に目的とする複数の薄膜を同時に簡単に形成できる。また、基材を含む各層ないし各膜の間の接着性には全く問題がない。
また、得られた積層薄膜形成した製品は、撥水・撥油材料、接着剤、酸化防止膜、又は光・電子、バイオデバイス等、多様な有機薄膜の安価な製造法として期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
上述したように、従来の積層薄膜の形成法では、積層薄膜形成材料溶液の成分分子と薄膜形成時の下層溶液中の成分分子の濃度平衡に関する相互作用を利用したり、易溶性ホスト分子が溶解された下層液上に難溶性球状ゲスト分子を分散させ、気液界面において易溶性ホスト分子と難溶性ゲスト分子間に働くホスト−ゲスト相互作用により両親媒性超分子を調製して気液界面に超分子膜を形成させるように積層膜間の相互作用が積層薄膜形成の大きな因子となっており、積層薄膜形成方法として複雑になり、薄膜形成成分の制約も大きい。
【００１９】
本発明による層薄膜の同時形成方法では、薄膜形成時の最下相液及び相分離液との相互の界面で互いに混じり合わないこと、相互に比重の差あること、そして、膜を形成する物質同士の親和力が大きいことを利用して複数の薄膜をきわめて容易に形成する方法であり、基材の形状にも影響されない。
【００２０】
すなわち、基材を最下相液及び相分離液中に浸漬し、相分離液より比重の大きな分散液又は溶液によって積層薄膜の最下相液を形成すると同時に、該最下相液の上に互いに混じり合わない相分離液の相からなる薄膜層を形成し、得られた2つ以上の薄膜層を有する最下相液及び相分離液中から基材を微速で引き上げることによって基材表面に同時に２以上の液から形成された薄膜を積層形成させることが本発明の方法の最も特徴的なところである。
【００２１】
なお、「最下相液」は相分離液と比べて最も比重が大きいもので、最初に浴槽に注がれて最も下の液相を形成するものを意味し、そして、「相分離液」はその「最下相液」上に比重差に応じて１以上の分散液、溶液等が順次注がれて、分離液の相を形成するものを意味している。
そして、発明の詳細な説明で、「相」は液槽中の液体間の異なる外見のことを意味し、「層」は基材に積層された薄膜間の異なる外見のことを意味している。
【００２２】
本発明における積層薄膜の層の数は、使用する最下相液として有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つを、そして、相分離液として水、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つ以上を選択することにより任意の成分及び層数の薄膜積層体を形成することが可能である。
【００２３】
本発明で用いる最下相液は、有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つが用いられる。有機溶剤は、例えば、トルエン、四塩化炭素、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロロエタン等の単品或いは混合したもの等が、水溶液は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性色素等の単品或いは混合したものを水に溶かしたもの等が、有機溶剤溶液は、例えば、ポリビニルカルバゾール、ナイロン、塩化ビニル、アクリル等の単品或いは混合したものを有機溶剤に溶かしたもの等が、有機又は無機の微粒子分散水溶液は、例えば、水或いは水溶液に微粒子を分散させたもの等が、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液は、例えば、有機溶剤或いは有機溶剤溶液に微粒子を分散させたもの等が挙げられる。
【００２４】
本発明で用いる相分離液は、上記最下相液で述べた有機溶剤、水溶液、有機溶剤溶液、有機又は無機の微粒子、有機又は無機の微粒子分散水溶液、有機又は無機の微粒子分散有機溶剤溶液の何れか一つ以上が用いられる。前記相分離液の例として、上記最下相液で記述して示したものが挙げられる。
【００２５】
基材が連続長尺のものであって連続的に走行せしめる場合、例えば、プリント基板に用いられている金属箔の電鋳の場合には、よく知られている連続製造方法を応用し、ゆっくり回転しているドラムの一部を本発明の最下相液及び相分離液に浸積させて、ドラムに沿った基材を引上げる等連続的に該最下相液及び相分離液から微速で引き上げる工程を加えることで目的が達せられる。
【００２６】
本発明では、溶液又は分散液に各種形状の基材を浸漬する際に、基材表面に気泡を有した状態で浸漬すると、基材表面に積層むらを生じることになり、このような積層むらを生じないためには、基材を溶液又は分散液に微速で浸漬した後、微速で引き上げることが必要である。また、基材表面を清浄にするために予め洗浄処理しておくことが効果的である。さらには、基材表面に付着する気泡を除去するために、溶液又は分散液に浸漬した基材に超音波振動等の機械的振動を与えてから微速で引き上げるとさらに好都合である。
【００２７】
基材表面に形成される積層薄膜は、樹脂膜、微粒子膜又は微粒子を含む樹脂膜からなる２以上の多層薄膜である。例えば、樹脂膜としてはフォトレジスト膜、ポリビニルカルバゾール膜、ナイロン膜、ポリビニルアルコール膜、ポリスチレン膜等、微粒子膜は酸化チタン粒子膜、アルミニウム粒子膜、銅粒子膜等、微粒子を含む樹脂膜はPMMA（ポリメタクリル酸メチル）粒子を含むポリビニルアルコール膜、銅粒子を含むポリスチレン膜等が挙げられる。
【００２８】
（実施例）
以下、本発明の積層膜形成法について実施例を挙げてより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例１】
【００２９】
TiO2粉末（富士チタン(株)製、TA-100、粒径300nm）10ｇとグリセリン２mlを蒸留水20mlに入れ、30分間の超音波撹拌により酸化チタン分散液を調製した。超微速浸漬処理機であるディップコーター（(株)SDI社製、ND-0407）を浸漬速度10mm/sec、停止時間60sec、引き上げ速度２mm/secに設定した。
基材は、濃硫酸に一日浸して、蒸留水で洗浄する前処理を施したガラス基板（26×10×1mm）を使用した。
相分離液として、フォトレジスト液（(株)プリンテック社製、MT-UV-6602(ネガ型）、組成：アクリル樹脂15〜25%、アクリルモノマー5〜15%、光重合開始剤１〜５%、メチルエチルケトン49%以下及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20〜25%)からなるものを使用した。
【００３０】
上記酸化チタン分散液に、ガラス基板を微速（浸漬速度10mm/sec）で浸漬させ、ガラス基板が完全に浸漬状態となった後の停止時間中（停止時間60sec）に上記フォトレジスト液を微速で滴下させて相分離液を調製した。
得られた相分離液の中からガラス基板を2mm/secで引き上げた。
引き上げたガラス基板を一昼夜自然乾燥し、SEM（日立ハイテク(株)製、TM-1000）により基板断面を観察した。
【００３１】
その結果、ガラス基板上にTiO2層が最下層として存在し、その上にフォトレジストの薄い層が積層していることが観察された。
ガラス表面と酸化チタンの層及びその上のフォトレジスト層の接着性は全く問題なかった。
【実施例２】
【００３２】
TiO2粉末（富士チタン(株)製、TA-100,粒径300nm）10gを蒸留水20mlに加え、30分間超音波撹拌を行い、酸化チタン分散液を調製した。
実施例1で用いた超微速浸漬処理機のディップコーターを浸漬速度5mm/sec、停止時間30sec、引き上げ速度5μm/secに設定した。
【００３３】
実施例1と同様の前処理を施したガラス基板をTiO2分散液に5mm/secで浸漬させた。ガラス基板が完全に浸漬した後の停止時間中に、TiO2分散液に対してアルミニウム粉末を水面上に散布させた相分離液から、ガラス基板を5μm/secの速度で引き上げた。
引き上げた基板を一昼夜自然乾燥した後、実施例1と同様にSEM観察したところ、ガラス基板上にTiO2の層が存在し、その上にアルミニウム粉末の層が薄く積層した積層膜が形成されていた。
ガラス表面と酸化チタンの層及びその上のアルミニウム粉末の層の接着性は全く問題なかった。
【実施例３】
【００３４】
実施例1で用いたディップコーターを浸漬速度10mm/sec、停止時間60sec、引き上げ速度15μm/secに設定した。
予め蒸留水、濃硫酸と0.1mol/Ｌ苛性ソーダ溶液にそれぞれ30秒間入れて洗浄したアルミニウム箔基板（30 × 20 × 0.012mm）を実施例1で用いたフォトレジスト溶液に浸漬させた。
アルミニウム箔基板をフォトレジスト溶液中に上記浸漬条件下で浸漬し、停止している間に溶液表面に銅粉末を微速で溶液表面に散布させる。上記停止時間経過後に、アルミニウム箔基板を15μm/secで引き上げた。
【００３５】
引き上げが終わったアルミニウム箔基板を一昼夜自然乾燥した。
得られたアルミニウム基板の断面をSEM観察したところ、アルミニウム基板上にフォトレジスト層と銅粉末層がそれぞれ薄く積層膜を形成していることが認められた。
アルミニウム箔基板の表面、フォトレジスト層及び銅粉末層の各層の接着性は全く問題なかった。
【実施例４】
【００３６】
実施例1で使用した微速浸漬処理機のディップコーターを浸漬速度5mm/sec、停止時間60sec、引上げ速度0.1μm/secに設定した。
濃硫酸で一日浸して、蒸留水で洗浄するという前処理を行ったガラス基板（26×10×1mm）を、1%ポリスチレン粒子（（株）モリテックス，蛍光粒子Ｇ830, 粒径830nm）を水に分散させた分散液に浸漬させた。ガラス基板が完全に浸漬した状態で停止している間、分散液表面にＭＥＫ（メチルエチルケトン）にＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子（粒径820nm）の1%を分散させた相分離液を微速で滴下し、分散させた。
【００３７】
分散終了後に、ガラス基板を引上げた。
引上げが終わった後、一昼夜自然乾燥した。ガラス基板上にポリスチレンの単粒子膜が得られ、その上にＰＭＭＡの最密充填六方格子単粒子膜が得られた。
ガラス基板の表面、ポリスチレン膜及びＰＭＭＡの各膜の接着性は全く問題なかった。
【実施例５】
【００３８】
実施例1で用いたディップコーターを浸漬速度が10mm/sec、停止時間が60sec、引き上げ速度が5mm/secに設定した。
ITO基板（26×10×1mm）の表面を界面活性剤及び有機溶媒を用いて超音波洗浄を行った。
ITO基板を、ポリビニルカルバゾールを3%溶かしたジクロロエタン溶液中に上記浸漬条件下で浸漬し、基板が浸漬液中に停止している間に溶液表面にポリビニルアルコールの3%を溶かした水溶液を滴下させ、次に、ポリスチレンの3%をトルエンに溶かしたトルエン溶液を滴下させ、ジクロロエタン／水／トルエンの三相からなる相分離を配置した。上記停止時間の経過後に、基板を5mm/sec で引き上げた。
【００３９】
一昼夜自然乾燥して得られたITO基板の断面をSEM観察したところ、ITO基板上にポリビニルカルバゾール層、ポリビニルアルコール層とポリスチレン層がそれぞれ薄い積層膜を形成していることが認められた。
各層の接着性は全く問題なかった。
【実施例６】
【００４０】
実施例1で用いたディップコーターを浸漬速度が1mm/sec、停止時間が60sec、引き上げ速度が10mm/secに設定した。
ITO基板（26×10×1mm）の表面を界面活性剤及び有機溶媒を用いて超音波洗浄を行った。
ITO基板を、ナイロンの3%を四塩化炭素溶液に溶かした最下相液中に上記浸漬条件下で浸漬し、基板が浸漬液中に停止している間に溶液表面に水、ポリスチレンの3%を酢酸エチル溶液に溶かした相分離液を順次に滴下させ、四塩化炭素／水／酢酸エチルの三相からなる相分離を配置した。上記停止時間の経過後に、基板を10mm/sec で引き上げた。
【００４１】
一昼夜自然乾燥して得られたITO基板の断面をSEM観察したところ、ITO基板上にナイロン層とポリスチレン層がそれぞれ薄い積層膜を形成していることが認められた。
各層の接着性は全く問題なかった。
【００４２】
以上の実施例の結果によれば、薄膜形成時の最下相液及び相分離液として、液の相互の界面で互いに混じり合わないこと、相互に比重の差あること、そして、膜を形成する物質同士の親和力が大きいことの三つの条件を満たすものを用いること、そして、微速による浸漬処理の可能なディップコーターを用いることによって、基板上に目的とする薄い積層膜を同時に簡単に形成できることが分かった。また、基板を含む各層ないし各膜の間の接着性には全く問題がなかった。
得られた薄膜積層体は、適宜基板から剥離することも可能で、撥水撥油材料、接着剤、酸化防止膜、又は光・電子、バイオデバイス等の多様な有機薄膜の安価な製造法として期待できる。
【００４３】
以上の実施例１〜６に用いられた基材、最下層液、相分離液の名称と、実験により得られた結果を表１に示す。
【表１】
2007260666.tif 000002