(57)【要約】【課題】安価で簡便に保護層またはスタンパー受容層を形成することができ、歩留りも良好な光記録媒体製造用シートを提供する。【解決手段】エネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物を基材１２に塗布し、得られた塗布膜にエネルギー線を照射してエネルギー線硬化性成分を半硬化させることにより、接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であるエネルギー線硬化性層１１を形成し、そのエネルギー線硬化性層１１に基材１２’を貼付し、これを光記録媒体（光ディスク）製造用シート１とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材に積層されたエネルギー線硬化性層とを備えた光記録媒体製造用シートであって、
前記エネルギー線硬化性層は、半硬化状態にあり、かつ接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上である
ことを特徴とする光記録媒体製造用シート。
【請求項２】
前記エネルギー線硬化性層は、重合性の二重結合を有するエネルギー線硬化性成分を主成分とする材料がエネルギー線の照射によって半硬化したものであり、前記エネルギー線の照射による前記エネルギー線硬化性成分の二重結合の消失割合が２０〜９０％であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項３】
前記エネルギー線硬化性層は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーを主成分とする材料が半硬化したものであることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項４】
前記基材の前記エネルギー線硬化性層と接触する側の面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項５】
前記エネルギー線硬化性層の両面に基材が積層されており、前記両基材の前記エネルギー線硬化性層と接触する側の面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項６】
前記エネルギー線硬化性層は、光記録媒体の保護層を形成するものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項７】
前記エネルギー線硬化性層は、スタンパー受容層を形成するものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。
【請求項８】
エネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物を基材に塗布し、得られた塗布膜にエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性成分を半硬化させて、接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であるエネルギー線硬化性層を形成することを特徴とする光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項９】
前記塗布膜に別の基材を貼付してからエネルギー線を照射することを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項１０】
前記形成されたエネルギー線硬化性層に別の基材を貼付することを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項１１】
前記エネルギー線硬化性成分が重合性の二重結合を有し、前記エネルギー線の照射により、前記二重結合を２０〜９０％消失させることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項１２】
前記エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーを主成分とすることを特徴とする請求項８〜１１のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項１３】
前記エネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物は、溶剤を含まないことを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載の光記録媒体製造用シートの製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜７のいずれに記載の光記録媒体製造用シートにおけるエネルギー線硬化性層の一方の面を露出させた状態とし、
前記エネルギー線硬化性層の露出面を光記録媒体の記録層に貼付し、
前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させることにより、保護層を形成する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれに記載の光記録媒体製造用シートにおけるエネルギー線硬化性層の一方の面を露出させた状態とし、
前記エネルギー線硬化性層の露出面を光記録媒体の記録層に貼付し、
前記エネルギー線硬化性層の他方の面を露出させて当該露出面にスタンパーを圧着し、
前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させてから前記スタンパーを剥離することにより、前記スタンパーの凹凸パターンが転写・固定されたスタンパー受容層を形成する
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜７のいずれに記載の光記録媒体製造用シートを使用して製造されたことを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体における保護層またはスタンパー受容層を形成し光記録媒体を製造することのできる光記録媒体製造用シートおよびその製造方法、ならびにかかる光記録媒体製造用シートを使用して製造した光記録媒体およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体の一種であるブルーレイディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ）では、一般的に保護層を通して記録層にレーザを照射することで情報を記録・再生している。その際、保護層のレターデーションが高いと波面収差が発生し、信号特性を悪化させる。レターデーションの低い保護層を形成する方法としては、
（１）高い膜厚精度を有する低レターデーションのフィルム基材を粘着剤または接着剤により記録層上に貼り合せる方法（特許文献１,２）
（２）光硬化性接着剤フィルムを記録層上に貼り合せる方法（特許文献３）
が報告されている。
【特許文献１】特許第３３３８６６０号公報
【特許文献２】特開２００４−６２９５９号公報
【特許文献３】特開２００２−２５１１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、（１）の方法では、フィルム基材が高価であり、かつ光記録媒体の製造方法として工程数が多いため、コストの低減が困難である。また、（２）の方法でも、抜き加工工程において材料の特性に起因すると思われる接着剤のはみ出し、変形等が発生し易いため、歩留りの向上が困難である。
【０００４】
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、安価で簡便に保護層またはスタンパー受容層を形成することができ、歩留りも良好な光記録媒体製造用シートおよびその製造方法、ならびにかかる光記録媒体製造用シートを使用して製造した光記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、第１に本発明は、基材と、前記基材に積層されたエネルギー線硬化性層とを備えた光記録媒体製造用シートであって、前記エネルギー線硬化性層は、半硬化状態にあり、かつ接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする光記録媒体製造用シートを提供する（請求項１）。
【０００６】
なお、本明細書における「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録・再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体（例えば、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＬＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ、ＨＤ  ＤＶＤ、ＭＯ等；いわゆる光ディスク（光磁気ディスクを含む））が該当するが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【０００７】
また、本明細書における「半硬化」とは、未硬化と完全硬化の間の状態であって、かつ、エネルギー線硬化性層が記録層に接着し得る接着力を発揮する状態をいう。また、本明細書におけるエネルギー線硬化性層の接着力は、後述する試験例に従って測定した値で表すものとする。
【０００８】
上記発明（請求項１）によれば、保護層として高価なフィルム基材を使用することなく、安価で簡便に保護層を形成することができ、また、抜き加工時にはみ出し、変形等が生じないため、歩留りも良好である。
【０００９】
上記発明（請求項１）において、前記エネルギー線硬化性層は、重合性の二重結合を有するエネルギー線硬化性成分を主成分とする材料がエネルギー線の照射によって半硬化したものであり、前記エネルギー線の照射による前記エネルギー線硬化性成分の二重結合の消失割合が２０〜９０％であることが好ましい（請求項２）。
【００１０】
上記発明（請求項１，２）において、前記エネルギー線硬化性層は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーを主成分とする材料が半硬化したものであることが好ましい（請求項３）。かかる発明（請求項３）によれば、材料の塗布時に溶剤を使用する必要がなく、したがって、溶剤の揮発に起因する気泡の発生を防止することができる。
【００１１】
上記発明（請求項１〜３）においては、前記基材の前記エネルギー線硬化性層と接触する側の面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であること（請求項４）、あるいは前記エネルギー線硬化性層の両面に基材が積層されており、前記両基材の前記エネルギー線硬化性層と接触する側の面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下であること（請求項５）が好ましい。
【００１２】
上記発明（請求項１〜５）において、前記エネルギー線硬化性層は、光記録媒体の保護層を形成するものであってもよいし（請求項６）、スタンパー受容層を形成するものであってもよい（請求項７）。
【００１３】
第２に本発明は、エネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物を基材に塗布し、得られた塗布膜にエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性成分を半硬化させて、接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であるエネルギー線硬化性層を形成することを特徴とする光記録媒体製造用シートの製造方法を提供する（請求項８）。
【００１４】
上記発明（請求項８）においては、前記塗布膜に別の基材を貼付してからエネルギー線を照射してもよいし（請求項９）、前記形成されたエネルギー線硬化性層に別の基材を貼付してもよい（請求項１０）。
【００１５】
上記発明（請求項８〜１０）においては、前記エネルギー線硬化性成分が重合性の二重結合を有し、前記エネルギー線の照射により、前記二重結合を２０〜９０％消失させることが好ましい（請求項１１）。
【００１６】
上記発明（請求項８〜１１）において、前記エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーを主成分とすることが好ましい（請求項１２）。
【００１７】
上記発明（請求項８〜１２）において、前記エネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物は、溶剤を含まないことが好ましい（請求項１３）。
【００１８】
第３に本発明は、上記光記録媒体製造用シート（請求項１〜７）におけるエネルギー線硬化性層の一方の面を露出させた状態とし、前記エネルギー線硬化性層の露出面を光記録媒体の記録層に貼付し、前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させることにより、保護層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する（請求項１４）。
【００１９】
第４に本発明は、上記光記録媒体製造用シート（請求項１〜７）におけるエネルギー線硬化性層の一方の面を露出させた状態とし、前記エネルギー線硬化性層の露出面を光記録媒体の記録層に貼付し、前記エネルギー線硬化性層の他方の面を露出させて当該露出面にスタンパーを圧着し、前記エネルギー線硬化性層に対しエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性層を硬化させてから前記スタンパーを剥離することにより、前記スタンパーの凹凸パターンが転写・固定されたスタンパー受容層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法を提供する（請求項１５）。
【００２０】
第５に本発明は、上記光記録媒体製造用シート（請求項１〜７）を使用して製造されたことを特徴とする光記録媒体を提供する（請求項１６）。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、安価で簡便に光記録媒体の保護層またはスタンパー受容層を形成することができ、光記録媒体製造用シートまたは光記録媒体の製造における歩留りも良好である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。本実施形態に係る光ディスク製造用シート１は、エネルギー線硬化性層１１と、エネルギー線硬化性層１１の両面に積層された基材１２，１２’とからなる。ただし、基材１２，１２’は、光ディスク製造用シート１の使用時に剥離されるものである。
【００２３】
エネルギー線硬化性層１１は、光ディスクの記録層を保護する保護層、または光ディスクにおいて、スタンパーに形成されている凹凸パターンが転写され、ピットまたはグルーブ／ランドが構成されるスタンパー受容層を構成することのできる層である。
【００２４】
このエネルギー線硬化性層１１は、半硬化状態にある。したがって、この光ディスク製造用シート１を光ディスクの形状に抜き加工する際に、エネルギー線硬化性層１１がはみ出したり、変形したりするおそれがなく、歩留りを高く維持することができる。
【００２５】
このエネルギー線硬化性層１１は、基材１２，１２’のいずれか一方（例えば基材１２）の表面上に、重合性の二重結合を有するエネルギー線硬化性成分を主成分とする組成物（以下「エネルギー線硬化性組成物」という。）を塗布し、得られた塗布膜にエネルギー線を照射してエネルギー線硬化性組成物を半硬化させることにより形成することができる。
【００２６】
なお、他方の基材（例えば基材１２’）は、エネルギー線照射前に上記塗布膜に貼付してもよいし、エネルギー線照射後、形成されたエネルギー線硬化性層１１に貼付してもよい。この基材１２’の貼付により、エネルギー線硬化性層１１の表面に傷が付くことを防ぐことができる。
【００２７】
エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーを主成分とすることが好ましい。エネルギー線硬化性組成物を塗布するときに溶剤を使用すると、乾燥時に溶剤の揮発に起因してエネルギー線硬化性層１１に気泡ができてしまうことがあるが、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーは粘度が低いため、それを主成分とするエネルギー線硬化性組成物は塗布時に溶剤を必要とせず、したがって気泡のないエネルギー線硬化性層１１を形成することができる。
【００２８】
エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーとしては、多価アルコールと重合性の二重結合を有する（メタ）アクリル酸とのエステルを使用することが好ましい。かかるエネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマーとしては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能性アクリル酸エステル類、ウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の多官能性アクリル酸エステル類、ポリエステルオリゴ（メタ）アクリレート、ポリウレタンオリゴ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのエネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマーは、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００２９】
エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーの質量平均分子量は、７０〜１０,０００であることが好ましく、特に２００〜５,０００であることが好ましい。
【００３０】
エネルギー線硬化性成分は、エネルギー線硬化性ポリマーを含有してもよい。エネルギー線硬化性ポリマーとしては、側鎖にエネルギー線硬化性基が導入された（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体を使用することが好ましい。この（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体は、官能基含有モノマー単位を有する（メタ）アクリル系共重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させることにより得られる。
【００３１】
アクリル系共重合体（ａ１）は、官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを共重合することにより得られる。官能基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等が挙げられ、（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチルメタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３２】
不飽和基含有化合物（ａ２）としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。
【００３３】
エネルギー線硬化性ポリマーの質量平均分子量は、２０,０００〜２,５００,０００であることが好ましく、特に５０,０００〜１,０００,０００であることが好ましい。
【００３４】
エネルギー線硬化性ポリマーの含有量は、エネルギー線硬化性組成物中、０．５〜６０質量％であることが好ましい。エネルギー線硬化性組成物がエネルギー線硬化性ポリマーをこの範囲で含有することにより、比較的厚膜のエネルギー線硬化性層を形成する場合でも、エネルギー線硬化性組成物を塗布して所望の厚さにすることが容易となる。
【００３５】
エネルギー線硬化性層１１を硬化させるためのエネルギー線として紫外線を用いる場合には、エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましく、この光重合開始剤の使用により、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
【００３６】
光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、エネルギー線硬化性層１１に照射する紫外線の波長と同じ吸収領域を有する光重合開始剤を使用することが好ましい。
【００３７】
光重合開始剤は、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマー（エネルギー線硬化性ポリマーを配合する場合には、エネルギー線硬化性モノマーおよび／またはオリゴマーおよびエネルギー線硬化性ポリマーの合計量１００質量部）１００質量部に対して０．１〜１０質量部、特には０．５〜６質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。
【００３８】
エネルギー線硬化性組成物は、エネルギー線非硬化性ポリマーを含有してもよい。エネルギー線非硬化性ポリマーとしては、例えば、安価で透明性に優れたアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂を使用することが好ましい。
【００３９】
アクリル樹脂としては、例えば、官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを共重合することにより得られるものを使用することができる。官能基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等が挙げられ、（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチルメタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
エネルギー線非硬化性ポリマーの質量平均分子量は、２０,０００〜２,５００,０００であることが好ましく、特に５０,０００〜１,０００,０００であることが好ましい。
【００４１】
エネルギー線非硬化性ポリマーの含有量は、エネルギー線硬化性組成物中、０．５〜６０質量％であることが好ましい。エネルギー線硬化性組成物がエネルギー線非硬化性ポリマーをこの範囲で含有することにより、比較的厚膜のエネルギー線硬化性層を形成する場合でも、エネルギー線硬化性組成物を塗布して所望の厚さにすることが容易となる。
【００４２】
また、エネルギー線硬化性組成物は、当該エネルギー線硬化性組成中に官能基を有するポリマーを含む場合、架橋剤を含有してもよい。架橋剤としては、例えば、イソシアナート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を使用することができる。
【００４３】
架橋剤の含有量は、エネルギー線硬化性ポリマーおよびエネルギー線非硬化性ポリマーの合計量１００質量部に対して０．０１〜３０質量部であることが好ましく、特に０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００４４】
また、エネルギー線硬化性組成物は、無機フィラーを含有してもよい。無機フィラーとしては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化ゲルマニウム、酸化セリウム等が挙げられる。
【００４５】
無機フィラーの平均粒径は、通常０．００１〜２００μｍである。また、無機フィラーを使用する場合、その含有量は、エネルギー線硬化性組成物中、０．１〜４０質量％である。
【００４６】
さらに、エネルギー線硬化性組成物は、光記録媒体の記録層に対するエネルギー線硬化性層１１の接着力を向上させるために、接着性向上剤を含有してもよい。接着性向上剤としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、２−アクリロイロキシエチルコハク酸等を使用することが好ましい。
【００４７】
接着性向上剤の含有量は、エネルギー線硬化性組成物中、０．００１〜１０質量％であることが好ましく、特に０．００５〜１質量％であることが好ましい。
【００４８】
さらに、エネルギー線硬化性組成物は、種々の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、エネルギー線硬化性層１１の表面平滑性を向上させるためのレベリング剤の他、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、可塑剤、増粘剤、シランカップリング剤、帯電防止剤、粘着付与剤等を使用することができる。これらの添加剤の配合量は特に限定されず、エネルギー線硬化性組成物中、０〜３０質量％程度の範囲で適宜決定される。
【００４９】
前述した通り、エネルギー線硬化性組成物を塗布するときには、溶剤を使用しないことが好ましい。エネルギー線硬化性組成物の塗布方法としては、均一な膜厚の塗膜を形成することのできるナイフコーター、ロールナイフコーター、キスロールコーター、リバースロールコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することが好ましい。これらの塗布方法によれば、膜厚精度の高いエネルギー線硬化性層１１を形成することができる。なお、スピンコーターを使用すると、均一な膜厚の塗膜が得られ難い。
【００５０】
エネルギー線硬化性組成物を半硬化させてエネルギー線硬化性層１１を得るには、上記塗膜に対して、エネルギー線を照射する。エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線硬化性組成物を半硬化させることができれば特に限定されないが、例えば紫外線の場合には、光量で１０〜２００mJ/cm２が好ましく、特に３０〜１００mJ/cm２が好ましい。
【００５１】
ここで、エネルギー線硬化性組成物を半硬化させるときに、エネルギー線硬化性成分の二重結合を２０〜９０％消失させることが好ましく、特に３０〜８０％消失させることが好ましい。二重結合の消失割合が９０％を超えると、エネルギー線硬化性層１１の表面の接着性が低くなり、光ディスクの記録層に対する接着力が低下するおそれがある。一方、二重結合の消失割合が２０％未満では、エネルギー線硬化性層１１の硬化が不十分となり、光ディスク製造用シート１を光ディスクの形状に抜き加工する際に、エネルギー線硬化性層１１がはみ出したり、変形したりするおそれがある。また、その結果、エネルギー線硬化性層１１の厚み精度が低下することがある。
【００５２】
エネルギー線硬化性層１１の接着力は１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であり、好ましくは３０〜１００００ｍＮ／２５ｍｍであり、より好ましくは５０〜１０００ｍＮ／２５ｍｍである。エネルギー線硬化性層１１の接着力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上であることにより、エネルギー線硬化性層１１を光ディスクの記録層に確実に接着することができる。
【００５３】
エネルギー線硬化性層１１の厚さは、エネルギー線硬化性層１１の使用目的を考慮して適宜決定され、一般的には０．５〜６００μｍであることが好ましく、特に３〜１５０μｍであることが好ましく、さらには１５〜１２０μｍであることが好ましい。
【００５４】
エネルギー線硬化性層１１の１ｍ２中の膜厚精度は、目標膜厚の±１０％以下であることが好ましく、特に±５％以下であることが好ましい。±１０％を超えると、レーザの焦点がずれ、正常に信号を読み取ることができないおそれがある。なお、エネルギー線硬化性層１１に対し、さらにエネルギー線を照射して硬化を進行させた後も、上記膜厚精度は十分に維持される。
【００５５】
エネルギー線硬化性層１１の硬化後（半硬化状態のエネルギー線硬化性層１１にさらにエネルギー線を照射した後）のレターデーションは、２０ｎｍ以下であることが好ましく、特に１５ｎｍ以下であることが好ましい。エネルギー線硬化性層１１のレターデーションが２０ｎｍを超えると、得られる光ディスクの信号特性が低下するおそれがある。
【００５６】
エネルギー線硬化性層１１の硬化後（半硬化状態のエネルギー線硬化性層１１にさらにエネルギー線を照射した後）の透過性は、４０５ｎｍ分光透過率が８０％以上であることが好ましく、特に８５％以上であることが好ましい。４０５ｎｍ分光透過率が８０％未満では、得られる光ディスクの信号特性が低下するおそれがある。
【００５７】
エネルギー線硬化性層１１の硬化後（半硬化状態のエネルギー線硬化性層１１にさらにエネルギー線を照射した後）の接着力は、５０〜１００００ｍＮ／２５ｍｍであることが好ましく、特に１００〜５０００ｍＮ／２５ｍｍであることが好ましい。エネルギー線硬化性層１１の硬化後の接着力がこの範囲にあることにより、層間剥離の生じ難い光ディスクが得られる。
【００５８】
基材１２，１２’としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムや、それら樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤、長鎖アルキル系剥離剤、アルキド樹脂系剥離剤等で剥離処理した剥離フィルムを使用することができる。なお、基材１２または基材１２’を通してエネルギー線としての紫外線を照射することがある場合には、その基材１２または基材１２’は透明な材料からなる必要がある。
【００５９】
基材１２，１２’は、エネルギー線硬化性層１１に平滑性を付与するために、エネルギー線硬化性層１１と接触する側の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、特に０．０５μｍ以下であることが好ましい。基材１２，１２’の表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍを超えると、エネルギー線硬化性層１１の表面粗さが大きくなり、得られる光ディスクの信号特性が低下するおそれがある。基材１２，１２’の厚さは、通常１０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１００μｍ程度である。
【００６０】
なお、基材１２，１２’のうち、エネルギー線硬化性層１１から先に剥離する方は軽剥離タイプのものとし、後に剥離する方は重剥離タイプのものとするのが好ましい。また、基材１２，１２’のうち、一方を未処理の樹脂フィルム、他方を剥離フィルムとしてもよい。
【００６１】
次に、上記光ディスク製造用シート１を保護層として使用した光ディスクＤ１（片面１層式）の製造方法の一例について説明する。図２（ａ）〜（ｄ）は上記光ディスク製造用シート１を用いた光ディスクＤ１の製造方法の一例を示す断面図である。
【００６２】
なお、光ディスク製造用シート１は、あらかじめ抜き加工を行い、光ディスクＤ１の形状に形成しておく。抜き加工は常法によって行えばよく、例えば、打ち抜き装置等を使用して行うことができる。光ディスク製造用シート１のエネルギー線硬化性層１１は半硬化しているため、この抜き加工において、エネルギー線硬化性層１１がはみ出したり、変形したりするおそれがなく、歩留りを高く維持することができる。
【００６３】
最初に、図２（ａ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造する。この光ディスク基板２は、通常、ポリカーボネートからなり、射出成形等の成形法によって成形することができる。
【００６４】
上記光ディスク基板２の凹凸パターン上には、図２（ｂ）に示すように、記録層３を形成する。この記録層３は、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、例えば、下から順に反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜からなる積層体によって構成される。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００６５】
次に、図２（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート１の一方の基材（例えば基材１２）を剥離除去してエネルギー線硬化性層１１を露出させ、エネルギー線硬化性層１１を光ディスク基板２上の記録層３表面に圧着する。
【００６６】
この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、基材１２’側または光ディスク基板２側からエネルギー線硬化性層１１に対してエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化性層１１を硬化させて、保護層とする。
【００６７】
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で１５０〜３０００mJ/cm２程度が好ましく、２００〜１０００mJ/cm２がより好ましい。また、電子線の場合には、１０〜１０００krad程度が好ましい。
【００６８】
エネルギー線を照射した後、図２（ｄ）に示すように、基材１２’を剥離することにより、光ディスクＤ１が得られる。以上の方法により光ディスクＤ１を製造することにより、保護層として高価なフィルム基材を使用することなく、安価で簡便に保護層を形成することができ、また、歩留りも良好である。
【００６９】
なお、上記の光記録媒体製造方法では、上記光ディスク製造用シート１を使用して片面１層式の光ディスクを製造したが、これに限定されることなく、例えば、上記光ディスク製造用シート１を使用して片面２層式の光ディスクを製造することもできる。
【００７０】
次に、上記光ディスク製造用シート１をスタンパー受容層として使用した光ディスクＤ２（片面２層式）の製造方法の一例について説明する。図３（ａ）〜（ｇ）は上記光ディスク製造用シート１を用いた光ディスクＤ２の製造方法の一例を示す断面図である。
【００７１】
なお、この場合も、光ディスク製造用シート１は、あらかじめ抜き加工を行い、光ディスクＤ２の形状に形成しておく。抜き加工は常法によって行えばよく、例えば、打ち抜き装置等を使用して行うことができる。光ディスク製造用シート１のエネルギー線硬化性層１１は半硬化しているため、この抜き加工において、エネルギー線硬化性層１１がはみ出したり、変形したりするおそれがなく、歩留りを高く維持することができる。
【００７２】
最初に、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、グルーブおよびランドからなる凹凸パターンを有する光ディスク基板２を製造し、その光ディスク基板２の凹凸パターン上に第１の記録層３Ａを形成する。ここまでは、上記光ディスクＤ１の製造方法と同様にして行うことができる。
【００７３】
次に、図３（ｃ）に示すように、光ディスク製造用シート１の基材１２を剥離除去して露出させたエネルギー線硬化性層１１を光ディスク基板２の記録層３Ａに対面させ、図３（ｄ）に示すように、エネルギー線硬化性層１１を光ディスク基板２上の記録層３Ａ表面に圧着する。
【００７４】
そして、エネルギー線硬化性層１１上に積層されている基材１２’を剥離除去した後、図３（ｅ）に示すように、露出したエネルギー線硬化性層１１の表面にスタンパーＳを圧着し、エネルギー線硬化性層１１にスタンパーＳの凹凸パターンを転写する。この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、スタンパーＳ側または光ディスク基板２側からエネルギー線硬化性層１１に対してエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化性層１１を硬化させる。
【００７５】
スタンパーＳは、ニッケル合金等の金属材料やノルボネン樹脂等の透明樹脂材料から構成される。なお、図３（ｅ）に示すスタンパーＳの形状は板状であるが、これに限定されるものではなく、ロール状であってもよい。
【００７６】
エネルギー線硬化性層１１が硬化してスタンパーＳの凹凸パターンが転写・固定され、グルーブおよびランドが形成されたら、スタンパーＳをエネルギー線硬化性層１１から分離する。そして、図３（ｆ）に示すように、エネルギー線硬化性層１１の凹凸パターン上に、第２の記録層３Ｂを形成する。この第２の記録層３Ｂは、通常、無機系材料からなる膜または当該膜の積層体によって構成され、特に、下から順に反射膜（半透明膜）、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜からなる積層体によって構成されることが多い。また、反射膜（半透明膜）の下側にさらに誘電体膜が形成されることもある。これらの膜は、スパッタリング等の手段によって形成することができる。
【００７７】
最後に、図３（ｇ）に示すように、上記第２の記録層３Ｂ上に接着剤４を介して保護シート５を積層し、光ディスクＤ２とする。この保護シート５は、光ディスクの受光面やラベル面など、光ディスクＤ２の一部を構成するものであり、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン等の樹脂かならなるシート（フィルム）が用いられる。接着剤４としては、例えば、アクリル系紫外線硬化型接着剤等を用いることができる。
【００７８】
以上のように光ディスク製造用シート１を使用すれば、歩留まり良く光ディスクＤ２を製造することができる。
【００７９】
なお、上記の光記録媒体製造方法では、上記光ディスク製造用シート１を使用して片面２層式の光ディスクを製造したが、これに限定されることなく、例えば、上記光ディスク製造用シート１を使用して片面１層式の光ディスクを製造することもできる。
【００８０】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【００８１】
例えば、光ディスク製造用シート１における基材１２または基材１２’の一方はなくてもよい。
【実施例】
【００８２】
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００８３】
〔実施例１〕
エネルギー線硬化性成分としてのｐ−クミルフェノキシエチルアクリレート（新中村化学工業社製，ＮＫエステルＡＣＭＰ−１Ｅ，固形分濃度１００質量％，単官能）５０質量部およびエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学工業社製，ＮＫエステルＡＢＥ−３００，固形分濃度１００質量％，二官能）５０質量部と、光重合開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製，イルガキュア１８４，固形分濃度１００質量％）３質量部と、接着性向上剤としての２−アクリロイロキシエチルコハク酸（新中村化学工業社製，ＮＫエステルＡ−ＳＡ，固形分濃度１００質量％）０．１質量部とを混合した。
【００８４】
得られたエネルギー線硬化性組成物を、ポリエチレンテレフタレート製の透明な基材（東レ（株）製，ルミラーＴ６０，厚さ：５０μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．００１μｍ；以下「ＰＥＴ基材」という。）上に、エネルギー線硬化性層（半硬化状態）の膜厚（目標膜厚）が１００μｍとなるようにナイフコーターを用いて塗布し、さらにエネルギー線硬化性層の表面に、もう一方の基材としての剥離フィルム（リンテック（株）製，ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，厚さ：３８μｍ，表面粗さ（Ｒａ）：０．０２９μｍ）を貼り合わせた。なお、基材の表面粗さ（Ｒａ）は、表面粗さ測定機（ミツトヨ社製，ＳＶ−３１００）を使用して測定した。
【００８５】
そして、上記塗膜に対して紫外線照射装置（アイグラフィックス社製，ＥＣＳ−４０１ＧＸ，高圧水銀ランプＨ０４−Ｌ４１を使用）により照度２５０mW/cm2、光量７０mJ/cm2の紫外線をＰＥＴ基材側から照射し、半硬化したエネルギー線硬化性層を形成した。このようにして得られた積層体を光ディスク製造用シートとした。なお、光量は、光量計（アイグラフィックス社製，ＵＶ ＭＥＴＥＲ  ＵＶＰＦ−３６）を使用して測定した。
【００８６】
〔実施例２〕
エネルギー線硬化性成分としてウレタンアクリレート（大日本インキ化学工業社製，ユニディックＲＳ２４−１５６，固形分濃度１００質量％，二官能）５０質量部をさらにエネルギー線硬化性組成物に配合する以外、実施例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物を調製し、光ディスク製造用シートを作製した。
【００８７】
〔実施例３〕
エネルギー線非硬化性樹脂としての２−エチルヘキシルアクリレートとイソブチルアクリレートとメチルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートとを２０：６５：１０：５の質量比で共重合してなるアクリル樹脂（日本合成化学社製，コーポニールＮ３０８５，固形分濃度４０質量％，質量平均分子量３０万）１０質量部と、イソシアナート系架橋剤（東洋インキ社製，ＢＨＳ−８５１５，固形分濃度３７．５質量％）０．１質量部をさらにエネルギー線硬化性組成物に配合する以外、実施例１と同様にしてエネルギー線硬化性組成物を調製し、光ディスク製造用シートを作製した。
【００８８】
〔比較例１〕
実施例１と同様にしてＰＥＴ基材上に塗布した塗膜に対して、エネルギー線硬化性成分の二重結合消失割合が９２％になるまで紫外線を照射し（照度２５０mW/cm2、光量２５０mJ/cm2）、略硬化したエネルギー線硬化性層を形成する以外、実施例１と同様にして光ディスク製造用シートを作製した。
【００８９】
〔試験例〕
（１）二重結合消失割合の測定
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートについて、フーリエ変換赤外分光分析装置（Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社製，Ｓｐｅｃｔｒｕｍ  Ｏｎｅ）を使用したダイヤモンドＡＴＲ法により、エネルギー線硬化性層のＰＥＴ基材側における８１０ｃｍ−１の吸収ピークの減少割合により、エネルギー線硬化性成分の二重結合消失割合を判断した。エネルギー線を照射していないエネルギー線硬化性成分の吸収ピーク面積を１００％、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製，ＥＣＳ−４０１ＧＸ，高圧水銀ランプＨ０４−Ｌ４１を使用）により照度２５０mW/cm2、光量５００mJ/cm2の紫外線を照射したエネルギー線硬化性層の吸収ピーク面積を０％として換算した。ここで、吸収ピーク面積と二重結合の数は正比例の関係にあるとした。結果を表１に示す。
【００９０】
（２）接着力の測定
（ａ）エネルギー線硬化性層の接着力
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートの剥離フィルムを剥離してエネルギー線硬化性層を試験板（ＳＵＳ３０４）に圧着し、ＪＩＳ  Ｚ０３２７に準じて１８０°引き剥がし粘着力を接着力として測定した。結果を表１に示す。
（ｂ）硬化後の接着力
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートの剥離フィルムを剥離してエネルギー線硬化性層を試験板（ＳＵＳ３０４）に圧着した後、照度２５０mW/cm2、光量５００mJ/cm2の紫外線を照射し、ＰＥＴ基材を剥離除去した後、ＪＩＳ  Ｚ０３２７に準じて、硬化したエネルギー線硬化性層の１８０°引き剥がし粘着力を接着力として測定した。結果を表１に示す。
【００９１】
（３）膜厚精度の測定
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートについて、デジタルマイクロメーター（ニコン社製，ＭＨ−１５Ｍ）を使用して、１ｍ２の大きさのエネルギー線硬化性層の膜厚を１００点で測定し、下記式により１ｍ２の膜厚精度を算出した。結果を表１に示す。
膜厚精度（％）＝{（目標膜厚と膜厚差が最大の点における膜厚−目標膜厚）／目標膜厚}×１００
【００９２】
（４）レターデーションの測定
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートのエネルギー線硬化性層に、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製，ＥＣＳ−４０１ＧＸ，高圧水銀ランプＨ０４−Ｌ４１を使用）により照度２５０mW/cm2、光量５００mJ/cm2の紫外線を照射し、ＰＥＴ基材および剥離フィルムを剥離した後、位相差測定装置（王子計測器社製，ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）によりレターデーションを測定した。結果を表１に示す。
【００９３】
（５）４０５ｎｍ分光透過率の測定
エネルギー線硬化性層に、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製，ＥＣＳ−４０１ＧＸ，高圧水銀ランプＨ０４−Ｌ４１を使用）により照度２５０mW/cm2、光量５００mJ/cm2の紫外線を照射し、ＰＥＴ基材および剥離フィルムを剥離した後、分光光度計（島津製作所社製，ＵＶ−３１００ＰＣ）により４０５ｎｍ分光透過率を測定した。結果を表１に示す。
【００９４】
（６）スタンパー受容層としての凹凸パターン転写特性の評価
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートを、剥離フィルムを剥離して厚さ２ｍｍのポリカーボネート板に貼付した。次いで、ＰＥＴ基材を剥離し、ラミネートローラー（ＧＭＰ社製，Ｅｘｃｅｌａｍ３５５Ｑ）を用いて、ローラーの移動速度０．９４ｍ／ｍｌｎ、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃の条件で、スタンパー（ピット長：５００ｎｍ，ピット深さ：５０ｎｍ，ニッケル合金製）をエネルギー線硬化性層に圧着した。
【００９５】
この状態で、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製，ＥＣＳ−４０１ＧＸ，高圧水銀ランプＨ０４−Ｌ４１を使用）により照度２５０mW/cm2、光量５０mJ/cm2の紫外線をポリカーボネート板側から照射してエネルギー線硬化性層を硬化させた後、スタンパーを分離した。
【００９６】
スタンパーの凹凸パターン（ピット）が転写された面を走査電子顕微鏡（日立製作所社製，Ｓ４７００）によって観察し、転写されたピット長が４２５〜５００ｎｍにあるものを○とした。結果を表１に示す。
【００９７】
（７）抜き加工適性の評価
実施例および比較例で得られた光ディスク製造用シートを、打ち抜き装置（マークアンディー社製，マークアンディー９１０）を用いて直径１２０ｍｍの円形状に打ち抜き、打ち抜かれたシートの周縁部におけるエネルギー線硬化性層のはみ出しの有無を目視により評価した。結果を表１に示す。
【００９８】
【表１】
2007305220.tif 000003
【００９９】
表１から明らかなように、実施例で作製した光記録媒体製造用シートのエネルギー線硬化性層は、二重結合消失割合が２０〜９０％の範囲にあり、光ディスクの保護層およびスタンパー受容層として好適な接着力、膜厚精度、レターデーション、透過性、凹凸パターン転写特性、および抜き加工適性を有していた。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明は、安価で簡便に、かつ良好な歩留まりで光記録媒体を生産するのに有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の一実施形態に係る光記録媒体製造用シートの断面図である。
【図２】同実施形態に係る光記録媒体製造用シートを使用した光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】同実施形態に係る光記録媒体製造用シートを使用した光ディスク製造方法の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１…光記録媒体製造用シート
１１…エネルギー線硬化性層
１２，１２’…基材
２…光ディスク基板
３…記録層
４…接着剤
５…保護シート
【図１】
2007305220.tif 000004
【図２】
2007305220.tif 000005
【図３】
2007305220.tif 000006