(57)【要約】      （修正有）【課題】少ない活性エネルギー線の照射量で硬化し、特に密着性など優れた硬化物物性を有するアンカーコート層を用いることで、有機物からなる基材層に無機物を積層した場合でも、高度な密着性を有する積層体およびその製造方法を提供すること。【解決手段】有機物からなる基材層（Ａ）、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）をこの順に積層させてなる積層体。【選択図】図１
2007118396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機物からなる基材層（Ａ）、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）をこの順に積層させてなる積層体。
【請求項２】
酸発生剤が、スルホニウム塩であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
酸発生剤が、下記一般式（１）で表されるスルホニウム塩であることを特徴とする請求項１または２記載の積層体。
【化１】
2007118396.tif 000026
一般式（１）
（ただし、Ｒ1は、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、および、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基より選ばれる基を、
Ｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、および、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、および置換基を有してもよいヘテロアリール基より選ばれる基を、
Ｒ3 は、酸素原子もしくは孤立電子対を示す。
また、Ｒ1 とＲ2 、もしくはＲ2同士は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
また、Ｘ-は、任意のアニオンを示す。）
【請求項４】
Ｒ1が、下記一般式（２）で表されるカルボニル基が置換したメチル基、または下記一般式（３）で表されるメチル基であることを特徴とする請求項３記載の積層体。
【化２】
2007118396.tif 000027
一般式（２）
【化３】
2007118396.tif 000028
一般式（３）
(Ａｒは、一般式（２）および一般式（３）に共通して、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいヘテロアリール基のいずれかを表す。) 
【請求項５】
アニオンＸ-が、下記一般式（４）で表されるボレートアニオンであることを特徴とする請求項３または４記載の積層体。
【化４】
2007118396.tif 000029
一般式（４）
（ただし、Ｙは、フッ素または塩素原子、
Ｚは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、およびトリフルオロメチル基の中から選ばれる基で２つ以上置換されたフェニル基、
ｍは０から３の整数、ｎは１から４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。）
【請求項６】
カチオン重合性化合物が、分子内に少なくとも１個のエポキシ基、または分子内に少なくとも１個のオキセタニル基を有する化合物であることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載の積層体。
【請求項７】
有機物からなる基材層（Ａ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、活性エネルギー線を照射し当該層をアンカーコート層（Ｂ）とし、その後アンカーコート層面に、無機物層（Ｃ）を積層することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項８】
有機物からなる基材層（Ａ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、アンカーコート層面に、無機物層（Ｃ）を積層し、その後活性エネルギー線を照射することを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項９】
無機物層（Ｃ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、アンカーコート層面に、有機物からなる基材層（Ａ）を積層し、その後活性エネルギー線を照射することを特徴とする積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体に関し、更に詳しくは、有機物からなる基材層と、該基材層と無機物の双方に対して、優れた接着性(密着性)を有するアンカーコート層、および無機物とからなる積層体、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
包装材料等に用いられるフィルムやシート(以下、フィルム等ともいう)には、水、水蒸気、各種ガス、光、香り、臭気などに対するバリア性、引っ張り強度、衝撃強度、突刺強度等の各種機械的強度、耐熱性、耐寒性などの安定性、衛生性、安全性、作業性、外観、経済性等の種々の品質特性が要求される。今日種々のフィルム等が供給されているとはいえ、１種類の物質のみからなるフィルム等によってはこれらの品質特性の全てを満足させることは不可能である。このような問題に対する対策として、種類の異なる２以上の物質を積層し複合して用いることは良く知られている。
【０００３】
例えば、樹脂性フィルム上に酸化金属膜を真空製膜法により製膜して、ガスバリア性フィルムもしくは反射防止膜などの用途に用いることが知られている。具体的には、ガスバリア性を有する膜を高分子樹脂基材上に乾式製膜する方法として、プラズマＣＶＤ法等の乾式製膜法を用いて酸化珪素膜(シリカ膜)や酸化アルミニウム膜(アルミナ膜)を形成する方法等が報告されている(特許文献１〜３)。
【０００４】
しかしながら、このように樹脂性フィルム上に酸化金属膜を蒸着させる場合、有機物上に無機物が直接積層されることになり、両者の密着性に問題が生じる場合があった。
【０００５】
上記密着性の問題を改良する目的で、樹脂性フィルム上にあらかじめ、アンカーコート層を積層し、この上に酸化金属膜からなる蒸着膜を製膜する方法が行われている。
【０００６】
代表的なアンカーコート材料としては、イソシアネート系材料、有機チタン系材料、ポリブタジエン系材料、ポリエチレンイミン系材料等を挙げることができる。なかでもポリエチレンイミン形アンカーコート材料は、耐水性が十分ではないものの、加工後のエージングが不要、ポットライフが比較的長いということで広く用いられているが、加熱すると容易に褐色に着色するために、経済的価値を損なうという問題がある。
【０００７】
一方、活性エネルギー線硬化型アンカーコート材料についても近年報告があるものの、まだまだ満足のいく密着性が得られたとは言い難く、更なる開発が望まれるところである(特許文献４，５)。
【０００８】
【特許文献１】特開平８−１７６３２６号公報
【特許文献２】特開平１１−３０９８１５号公報
【特許文献３】特開２０００−６３０１号公報
【特許文献３】特開２０００−２２９６４２号公報
【特許文献３】特開２００２−２８５０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、少ない活性エネルギー線の照射量で硬化し、特に密着性など優れた硬化物物性を有するアンカーコート層を用いることで、有機物からなる基材層に無機物を積層した場合でも、高度な密着性を有する積層体およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するため、本発明者は、鋭意研究の結果、上記課題をすべて解決する材料を開発するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は、有機物からなる基材層（Ａ）、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）をこの順に積層させてなる積層体に関する。
【００１２】
更に本発明は、酸発生剤が、スルホニウム塩であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００１３】
更に本発明は、酸発生剤が、下記一般式（１）で表されるスルホニウム塩であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００１４】
一般式（１）
【化５】
2007118396.tif 000003
【００１５】
（ただし、Ｒ1は、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、および、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基より選ばれる基を、
Ｒ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、および、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、および置換基を有してもよいヘテロアリール基より選ばれる基を、
Ｒ3 は、酸素原子もしくは孤立電子対を示す。
また、Ｒ1 とＲ2 、もしくはＲ2同士は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
また、Ｘ-は、任意のアニオンを示す。）
【００１６】
更に本発明は、Ｒ1が、下記一般式（２）で表されるカルボニル基が置換したメチル基、または下記一般式（３）で表されるメチル基であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００１７】
一般式（２）
【化６】
2007118396.tif 000004
【００１８】
一般式（３）
【化７】
2007118396.tif 000005
【００１９】
(Ａｒは、一般式（２）および一般式（３）に共通して、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいヘテロアリール基のいずれかを表す。) 
【００２０】
更に本発明は、アニオンＸ-が、下記一般式（４）で表されるボレートアニオンであることを特徴とする上記積層体に関する。
【００２１】
一般式（４）
【化８】
2007118396.tif 000006
（ただし、Ｙはフッ素または塩素原子、
Ｚは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、およびトリフルオロメチル基の中から選ばれる基で２つ以上置換されたフェニル基、
ｍは０から３の整数、ｎは１から４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。）
【００２２】
更に本発明は、カチオン重合性化合物が、分子内に少なくとも１個のエポキシ基または分子内に少なくとも１個のオキセタニル基を有する化合物であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００２３】
また本発明は、有機物からなる基材層（Ａ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、活性エネルギー線を照射し当該層をアンカーコート層（Ｂ）とし、その後アンカーコート層面に、無機物層（Ｃ）を積層することを特徴とする積層体の製造方法に関する。
【００２４】
また本発明は、有機物からなる基材層（Ａ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、当該層面に、無機物層（Ｃ）を積層し、その後活性エネルギー線を照射することを特徴とする積層体の製造方法に関する。
【００２５】
また本発明は、無機物層（Ｃ）に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを含む重合性組成物で層を形成した後、当該層面に、有機物からなる基材層（Ａ）を積層し、その後活性エネルギー線を照射することを特徴とする積層体の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の積層体は、有機物からなる基材層と無機物とからなる積層体の間に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物とを重合させてなるアンカーコート層を用いることで、基材層とアンカーコート層、アンカーコート層と無機物との密着性が良好であることから、積層体としての密着性を極めて良好なものとすることが出来る。したがって、このような積層体がフレキシブル性を要求される包装材等の用途に用いられた場合であっても、無機物の剥離に伴うバリア性といった各種機能性の低下が生じることがないといった効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、詳細にわたって本発明の実施形態を説明する。
【００２８】
本発明の積層体について、図面を用いて具体的に説明する。図１は、本発明の積層体の構成の一例を示す概略断面図である。
図１に示すように、この例の積層体は、有機物からなる基材層（Ａ）と、当該基材層（Ａ）の表面上に積層した、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）と、当該アンカーコート層（Ｂ）の表面上に積層した、無機物層（Ｃ）とから構成されている。
以下、有機物からなる基材層（Ａ）、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤とカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）について、それぞれ説明する。
【００２９】
〔有機物からなる基材層（Ａ）〕
本発明における、有機物からなる基材層（Ａ）は、後述するオニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）を保持することが出来る材料であれば特に限定されるものではない。
【００３０】
具体的には、エチレン、プロピレン、ブテンなどの単独共重合体または共重合体等のポリオレフィン樹脂(ＰＯ)樹脂、環状ポリレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂(ＡＰＯ)、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥＴ)、ポリエチレン２,６−ナフタレート(ＰＥＮ)等のポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド系(ＰＡ)樹脂、ポリビニルアルコール(ＰＶＡ)樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体(ＥＶＯＨ)等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド(ＰＩ)樹脂、ポリエーテルイミド(ＰＥＩ)樹脂、ポリサルホン(ＰＳ)樹脂、ポリエーテルサルホン(ＰＥＳ)樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(ＰＥＥＫ)樹脂、ポリカーボネート(ＰＣ)樹脂、ポリビニルブチラート(ＰＶＢ)樹脂、ポリアリレート(ＰＡＲ)樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体(ＥＴＦＥ)、三フッ化塩化エチレン(ＰＦＡ)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(ＦＥＰ)、フッ化ビニリデン(ＰＶＤＦ)、フッ化ビニル(ＰＶＦ)、パーフルオロエチレン−パーフルオロプロピレン−パーフルオロビニルエーテル共重合体(ＥＰＡ)等のフッ素樹脂等を用いることが出来る。
【００３１】
また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂およびこれらの混合物等を用いることも可能である。さらに、これらの樹脂の１または２種以上をラミネート、コーティングなどの手段によって積層したものを基材層として用いることも可能であるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
また、本発明の有機物からなる基材層（Ａ）には公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、熱安定剤、フィラー、抗菌剤、耐ブロッキング剤などが添加されていても良い。
【００３３】
本発明の有機物からなる基材層（Ａ）は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材層を製造することができる。また、未延伸の基材層を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材層の流れ(縦軸)方向、または基材層流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより、延伸基材層を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材層の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することができるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【００３４】
有機物からなる基材層（Ａ）は、ロール状に巻き上げられた長尺品が便利である。有機物からなる基材層（Ａ）の厚さは、得られる積層体の用途によって異なるので、一概には規定できないが１〜１０００μｍが好ましく、一般的な包装材料やパッケージ材料用の基材層として用いる場合には、１〜２５０μｍが好ましい。
【００３５】
また、本発明の有機物からなる基材層（Ａ）は、アンカーコート層を積層する前に、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の表面処理を行ってもよい。
【００３６】
〔アンカーコート層（Ｂ）〕
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する、酸発生剤とカチオン重合性化合物とについて、詳細に説明する。
【００３７】
＜酸発生剤＞
本発明の酸発生剤について説明する。本発明の酸発生剤は活性エネルギー線の照射により酸を発生する材料であり、酸発生剤から発生した酸がカチオン重合性化合物のカチオン重合による架橋を開始かつ促進させる機能を有している。
【００３８】
本発明の酸発生剤を構成するオニウムカチオンとは、スルホニウム、スルホキソニウム、セレノニウム、ホスホニウム、アンモニウム、ヨードニウムの他、ピリジニウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ベンゾオキサゾリウム、ベンゾチアゾリウム等の複素環カチオンをあげることができる。
【００３９】
この内、本発明の酸発生剤として好ましいオニウムカチオンの構造としては、一般式(５)〜一般式（１２）から選ばれるオニウムカチオンをあげることができる。
【００４０】
【化９】
2007118396.tif 000007
【００４１】
【化１０】
2007118396.tif 000008
【００４２】
（ただし、Ｒ1は、一般式（５）〜一般式（１０）に共通して、それぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基より選ばれる基を、
Ｒ2は、一般式（５）〜一般式（６）に共通して、それぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、および、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、および置換基を有してもよいヘテロアリール基より選ばれる基を、
Ｒ3 は、一般式（５）または一般式（１１）に共通して、それぞれ独立に、酸素原子もしくは孤立電子対を示す。
Ｒ4は、水素、メルカプト基あるいは、置換基を有してもよいアルキル基、または、置換基を有してもよいアルキルチオ基から選ばれる基を表す。
Ｒは、一般式（７）〜一般式（１０）に共通して、それぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、カルバモイル基に加え、以下の有機残基から選ばれる基を表す。ここで有機残基とは、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいへテロアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいヘテロアリールチオ基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基、置換基を有してもよいアシルオキシ基のいずれかを表す。
Ａｒは、一般式（１１）〜一般式（１２）に共通して、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいヘテロアリール基のいずれかを表す。
Ｙは、酸素もしくは硫黄原子を表す。ｉは０〜５の整数を表す。
ｊは、一般式（８）〜一般式（１０）に共通して、０〜４の整数を表す。ｋは、一般式（８）〜一般式（９）に共通して、０〜３の整数を表す。
さらに、隣接した、Ｒ同士、Ｒ2同士、Ａｒ同士、もしくは、Ｒ1とＲ2、Ｒ1とＲ4、Ｒ1とＲは、互いに共有結合によって環構造を形成していてもよい。）
【００４３】
この内、より好ましいオニウムカチオンの構造としては、スルホニウムカチオン、あるいは、一般式（５）、一般式（７）、一般式（１１）および一般式（１２）から選ばれるオニウムカチオンであり、最も好ましいオニウムカチオンの構造としては、一般式（５）で表されるオニウムカチオンである。
【００４４】
この理由として、上に説明したオニウムカチオンは、概して、その還元電位が高いこと、すなわち、電子受容性が高いことがあげられる。そのため、活性エネルギー線、ことに光の照射によって、分解し、容易に酸を発生する。それは、特に増感剤と組み合わせた場合に顕著な結果として認められる。
【００４５】
その中でも特に、一般式（５）で表されるオニウムカチオンの置換基Ｒ1が、一般式（３）で表されるカルボニル基が置換したメチル基、または一般式（４）で表されるメチル基である酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）は、有機物からなる基材層（Ａ）または、無機物層（Ｃ）との密着性が非常に優れていることから、最も好ましいオニウムカチオンである。
【００４６】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（１０）における置換基Ｒ4、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４−デシルシクロヘキシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４７】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルケニル基が挙げられ、それらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、１，３−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（２）〜一般式（３）および、一般式（１１）〜一般式（１２）における置換基Ａｒ、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数６から２４の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アンスリル基、９−アンスリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、２−フルオレニル基、９−フルオレニル基、３−ペリレニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，５−キシリル基、メシチル基、ｐ−クメニル基、ｐ−ドデシルフェニル基、ｐ−シクロヘキシルフェニル基、４−ビフェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、ｍ−カルボキシフェニル基、ｏ−メルカプトフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｍ−ニトロフェニル基、ｍ−アジドフェニル基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（３）〜一般式（４）および、一般式（１１）〜一般式（１２）における置換基Ａｒは、上記以外の置換位置で一般式（１）、一般式（５）、一般式（１１）の硫黄原子、一般式（６）のリン原子、一般式（１２）のヨウ素原子、一般式（２）〜一般式（３）の炭素原子と結合していてもよく、また、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒは、上記以外の置換位置で炭素原子と結合していてもよく、それらも本発明のＲ2、Ａｒ、Ｒで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００４９】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（２）〜一般式（３）および、一般式（１１）〜一般式（１２）における置換基Ａｒ、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいヘテロアリール基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族あるいは脂肪族のヘテロアリール環が挙げられ、２−チエニル基、２−ベンゾチエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、３−チアントレニル基、２−チアンスレニル基、２−フリル基、２−ベンゾフリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、２−アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、３−フェニキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基、４−キノリニル基、４−イソキノリル基、３−フェノチアジニル基、２−フェノキサチイニル基、３−クマリニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（２）〜一般式（３）および、一般式（１１）〜一般式（１２）における置換基Ａｒは、上記以外の置換位置で一般式（１）、一般式（５）、一般式（１１）の硫黄原子、一般式（６）のリン原子、一般式（１２）のヨウ素原子、一般式（３）〜一般式（４）の炭素原子と結合していてもよく、また、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒは、上記以外の置換位置で炭素原子と結合していてもよく、それらも本発明のＲ2、Ａｒ、Ｒで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５０】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ1とＲ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1とＲにおける置換基を有してもよいアルコキシル基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４−デシルシクロヘキシルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ1とＲ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1とＲにおける置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数４〜１８の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基と酸素原子が上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲ1、Ｒ2、Ｒで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５２】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ1とＲ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1とＲにおける置換基を有してもよいヘテロアリールオキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、ヘテロアリール基と酸素原子が上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲ1、Ｒ2、Ｒで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５３】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１０）における置換基Ｒ4、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアルキルチオ基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５４】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアリールチオ基としては、炭素数４〜１８の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、９−アンスリルチオ基、９−フェナントリルチオ基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基と硫黄原子は上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲ4、Ｒで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５５】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいヘテロアリールチオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環または縮合多環ヘテロアリールチオ基が挙げられ、具体例としては、２−フリルチオ基、２−チエニルチオ基、２−ピロリルチオ基、６−インドリルチオ基、２−ベンゾフリルチオ基、２−ベンゾチエニルチオ基、２−カルバゾリルチオ基、３−カルバゾリルチオ基、４−カルバゾリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、ヘテロアリール基と硫黄原子は、上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５６】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアシル基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニル基、炭素数６から１８の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環または縮合多環ヘテロアリール基が結合したカルボニル基が挙げられ、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、シンナモイル基ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、９−アンスリルカルボニル基、３−フロイル基、２−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基とカルボニル基、ヘテロアリール基とカルボニル基は、それぞれ上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００５７】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜１９の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基が挙げられ、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、オクタデカンオキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、フルオロメトキシカルボニル基、クロロメトキシカルボニル基、ブロモメトキシカルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、トリクロロメトキシカルボニル基、トリブロモメトキシカルボニル基、ヒドロキシメトキシカルボニル基、カルボキシメトキシカルボニル基、メルカプトメトキシカルボニル基、シアノメトキシカルボニル基、ニトロメトキシカルボニル基、アジドメトキシカルボニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５８】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基としては、炭素数７〜１９の単環、縮合多環アリールオキシカルボニル基が挙げられ、具体的には、フェノキシカルボニル基、１ーナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、９−アンスリルオキシカルボニル基、９−フェナントリルオキシカルボニル基、１−ピレニルオキシカルボニル基、５−ナフタセニルオキシカルボニル基、１−インデニルオキシカルボニル基、２−アズレニルオキシカルボニル基、１−アセナフチルオキシカルボニル基、９−フルオレニルオキシカルボニル基、ｏ−トリルオキシカルボニル基、ｍ−トリルオキシカルボニル基、ｐ−トリルオキシカルボニル基、２，３−キシリルオキシカルボニル基、２，５−キシリルオキシカルボニル基、メシチルオキシカルボニル基、ｐ−クメニルオキシカルボニル基、ｐ−シクロヘキシルフェノキシカルボニル基、４−フェニルフェノキシカルボニル基、ｏ−フルオロフェノキシカルボニル基、ｍ−クロロフェノキシカルボニル基、ｐ−ブロモフェノキシカルボニル基、ｐ−ヒドロキシフェノキシカルボニル基、ｍ−カルボキシフェノキシカルボニル基、ｏ−メルカプトフェノキシカルボニル基、ｐ−シアノフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｍ−アジドフェノキシカルボニル基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５９】
本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素数６から１８の単環状あるいは縮合アリール基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環または縮合多環ヘテロアリール基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、３−フロイルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、９−アンスロイルオキシ基、５−ナフタセノイルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、アリール基とカルボニルオキシ基、ヘテロアリール基とカルボニルオキシ基は、それぞれ上記以外の位置で結合していてもよく、それらも本発明のＲで表記される置換基の範疇に含まれる。
【００６０】
上述した、本発明で用いられる酸発生剤を構成する一般式（１）および、一般式（５）〜（１０）における置換基Ｒ1、一般式（１）および、一般式（５）〜（６）における置換基Ｒ2におけるベンジル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜（１０）における置換基Ｒ1、一般式（１）および、一般式（５）〜（６）における置換基Ｒ2におけるフェナシル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜（１０）における置換基Ｒ1におけるアリル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜（６）における置換基Ｒ2、一般式（１０）における置換基Ｒ4、一般式（７）〜（１０）における置換基Ｒにおけるアルキル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるアルケニル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜（６）における置換基Ｒ2、一般式（２）〜一般式（３）および、一般式（１１）〜（１２）における置換基Ａｒ、一般式（７）〜（１０）における置換基Ｒにおけるアリール基、
一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（３）〜一般式（４）および、一般式（１１）〜一般式（１２）における置換基Ａｒ、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるヘテロアリール基、
一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1、一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるアルコキシル基、
一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1、一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるアリールオキシ基、
一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（１０）における置換基Ｒ1、一般式（１）および、一般式（５）〜一般式（６）における置換基Ｒ2、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるヘテロアリールオキシ基、
一般式（１０）における置換基Ｒ4、一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおけるアルキルチオ基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアリールチオ基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいヘテロアリールチオ基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアシル基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、
一般式（７）〜一般式（１０）における置換基Ｒにおける置換基を有してもよいアシルオキシ基は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、へテロアリール基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基等を挙げることができる。
【００６１】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４−デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００６２】
アリール基としては、炭素数６〜１８の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、１ーナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナフチル基、９−フルオレニル基等が挙げられる。
【００６３】
ヘテロアリール基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環または縮合多環ヘテロアリール基が挙げられ、具体例としては、２−フラニル基、２−チエニル基、２−インドリル基、３−インドリル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−アクリジニル基等が挙げられる。
【００６４】
アシル基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、炭素数６から１８の単環状あるいは縮合多環状アリール基が結合したカルボニル基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状あるいは縮合多環状ヘテロアリール基が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、シンナモイル基、３−フロイル基、２−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、９−アンスロイル基、５−ナフタセノイル基等が挙げられる。
【００６５】
アルコキシル基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状あるいは縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４−デシルシクロヘキシルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基、２−テトラヒドロフラニルオキシ基等が挙げられる。
【００６６】
アリールオキシ基としては、炭素数６〜１８の単環状または縮合多環状アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−インデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基等が挙げられる。
【００６７】
ヘテロアリールオキシ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状または縮合多環状ヘテロアリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基、２−カルバゾリルオキシ基、３−カルバゾリルオキシ基、４−カルバゾリルオキシ基、９−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。
【００６８】
アシルオキシ基としては、水素原子または炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、炭素数６から１８の単環状または縮合多環状アリール基が結合したカルボニルオキシ基、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状または縮合多環状ヘテロアリール基が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、３−フロイルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、９−アンスロイルオキシ基、５−ナフタセノイルオキシ基等が挙げられる。
【００６９】
アルキルチオ基としては、炭素数１から１８の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
【００７０】
アリールチオ基としては、炭素数６〜１８の単環状または縮合多環状アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、１−ナフチルチオ基、２−ナフチルチオ基、９−アンスリルチオ基、９−フェナントリルチオ基等が挙げられる。
【００７１】
ヘテロアリールチオ基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、炭素数４〜１８の単環状または縮合多環状ヘテロアリールチオ基が挙げられ、具体例としては、２−フリルチオ基、２−チエニルチオ基、２−ピロリルチオ基、６−インドリルチオ基、２−ベンゾフリルチオ基、２−ベンゾチエニルチオ基、２−カルバゾリルチオ基、３−カルバゾリルチオ基、４−カルバゾリルチオ基等が挙げられる。
【００７２】
以下に、本発明の酸発生剤を構成する、一般式（５）〜一般式（１２）で表されるオニウムカチオンの構造の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００７３】
一般式（５）に該当するオニウムカチオン（スルホニウムカチオン）：
【００７４】
ベンジルスルホニウムカチオンの例：ジメチル（ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロベンジル）スルホニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニルメチル）スルホニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニルメチル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチル）ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルフィニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−アセチルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカルボニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（２−ナフチルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホニウム、ジエチル（ベンジル）スルホニウム、メチルエチル（ベンジル）スルホニウム、メチルフェニル（ベンジル）スルホニウム、ジフェニル（ベンジル）スルホニウム、ジイソプロピル（ベンジル）スルホニウム等。
【００７５】
フェナシルスルホニウムカチオンの例：ジメチル（フェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニルメチル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルフィニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−アセチルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（２−ナフトイルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−アンスロイルメチル）スルホニウム、ジエチル（フェナシル）スルホニウム、メチルエチル（フェナシル）スルホニウム、メチルフェニル（フェナシル）スルホニウム、ジフェニル（フェナシル）スルホニウム、ジイソプロピル（フェナシル）スルホニウム、テトラメチレン（フェナシル）スルホニウム、ペンタメチレン（フェナシル）スルホニウム、ヘキサメチレン（フェナシル）スルホニウム、エチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、ジエチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、エチレンジチオ（フェナシル）スルホニウム等。
【００７６】
アリルスルホニウムカチオンの例：ジメチル（アリル）スルホニウム、ジメチル（２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（２−アセチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）スルホニウム等。
【００７７】
アルコキシスルホニウムカチオンの例：ジメチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウム等。
【００７８】
アリールオキシスルホニウムカチオンの例：ジメチル（フェノキシ）スルホニウム、ジメチル（１ーナフチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ナフチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（９−アンスリルオキシ）スルホニウム、ジメチル（９−フェナントリルオキシ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−トリルオキシ）スルホニウム、ジメチル（２，３−キシリルオキシ）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｍ−カルボキシフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メルカプトフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（ｍ−アジドフェノキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロ−１−ナフチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１１−ニトロ−５−ナフタセニル）スルホニウム等。
【００７９】
ベンジルスルホキソニウムカチオンの例：ジメチル（ベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−ニトロベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−アセチルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メトキシベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（２−ナフチルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホキソニウム、ジエチル（ベンジル）スルホキソニウム、メチルエチル（ベンジル）スルホキソニウム、メチルフェニル（ベンジル）スルホキソニウム、ジフェニル（ベンジル）スルホキソニウム、ジイソプロピル（ベンジル）スルホキソニウム等。
【００８０】
フェナシルスルホキソニウムカチオンの例：ジメチル（フェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（２、４、６−トリブロモフェニルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（２−ナフチルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（９−アンスリルメチル）スルホキソニウム、ジエチル（フェナシル）スルホキソニウム、メチルエチル（フェナシル）スルホキソニウム、メチルフェニル（フェナシル）スルホキソニウム、ジフェニル（フェナシル）スルホキソニウム、ジイソプロピル（フェナシル）スルホキソニウム、テトラメチレン（フェナシル）スルホキソニウム等。
【００８１】
アリルスルホキソニウムカチオンの例：ジメチル（アリル）スルホキソニウム、ジメチル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジメチル（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジメチル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジメチル（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）スルホキソニウム等。
【００８２】
アルコキシスルホキソニウムカチオンの例：ジメチル（エトキシ）スルホキソニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホキソニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホキソニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホキソニウム等。
【００８３】
アリールオキシスルホキソニウムカチオンの例：ジメチル（フェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−トリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−カルボキシフェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキソニウム等。
【００８４】
一般式（６）に該当するオニウムカチオン（ホスホニウムカチオン）：
【００８５】
ベンジルホスホニウムカチオンの例：トリメチルベンジルホスホニウム、トリエチルベンジルホスホニウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニル（ｐ−フルオロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−クロロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ブロモベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−シアノベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ニトロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−ヒドロキシベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−アセチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ベンゾイルベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−メチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−イソプロポキシベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）ホスホニウム、トリフェニル（１−ナフチルメチル）ホスホニウム、トリフェニル（９−アンスリルメチル）ホスホニウム等。
【００８６】
フェナシルホスホニウムカチオンの例：トリメチルフェナシルホスホニウム、トリエチルフェナシルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウム、トリフェニル（ｐ−フルオロフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−クロロフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ブロモフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−シアノフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ニトロフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−ヒドロキシフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−アセチルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ベンゾイルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−メチルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−イソプロポキシフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−メトキシカルボニルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（１−ナフチロイルメチル）ホスホニウム、トリフェニル（９−アンスロイルメチル）ホスホニウム等。
【００８７】
アリルホスホニウムカチオンの例：トリフェニルアリルホスホニウム、トリフェニル（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル（２−ヘキシル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル（２−アセチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホスホニウム等。
【００８８】
アルコキシホスホニウムカチオンの例：トリフェニルメトキシホスホニウム、トリフェニルブトキシホスホニウム、トリフェニルオクタデシルオキシホスホニウム、トリフェニルイソプロポキシホスホニウム、トリフェニル（２−クロロエトキシ）ホスホニウム、トリフェニル（４−シアノブトキシ）ホスホニウム等。
【００８９】
アリールオキシホスホニウムカチオンの例：トリフェニルフェノキシホスホニウム、トリフェニル（１−ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（２−ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（９−アンスリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−トリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（２，３−キシリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−カルボキシフェノキシ）ホスホニウム等。
【００９０】
一般式（７）に該当するオニウムカチオン（ピリジニウムカチオン）：
【００９１】
ベンジルピリジニウムカチオンの例：Ｎ−ベンジルピリジニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスリルメチル）ピリジニウム、２−クロロ−１−ベンジルピリジニウム、２−シアノ−１−ベンジルピリジニウム、２−メチル−１−ベンジルピリジニウム、２−ビニル−１−ベンジルピリジニウム、２−フェニル−１−ベンジルピリジニウム、１，２−ジベンジルピリジニウム、２−メトキシ−１−ベンジルピリジニウム、２−フェノキシ−１−ベンジルピリジニウム、２−アセチル−１−ベンジルピリジニウム、２−メトキシカルボニル−１−ベンジルピリジニウム、３−フルオロ−１−ベンジルピリジニウム、４−メチル−１−ベンジルピリジニウム等。
【００９２】
フェナシルピリジニウムカチオンの例：Ｎ−フェナシルピリジニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェナシル）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスロイルメチル）ピリジニウム、２−クロロ−１−フェナシルピリジニウム、２−シアノ−１−フェナシルピリジニウム、２−メチル−１−フェナシルピリジニウム、２−ビニル−１−フェナシルピリジニウム、２−フェニル−１−フェナシルピリジニウム、１，２−ジフェナシルピリジニウム、２−メトキシ−１−フェナシルピリジニウム、２−フェノキシ−１−フェナシルピリジニウム、２−アセチル−１−フェナシルピリジニウム、２−メトキシカルボニル−１−フェナシルピリジニウム、３−フルオロ−１−フェナシルピリジニウム、４−メチル−１−フェナシルピリジニウム等。
【００９３】
アリルピリジニウムカチオンの例：Ｎ−アリルピリジニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリジニウム、Ｎ−（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリジニウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ピリジニウム、Ｎ−（２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）ピリジニウム等。
【００９４】
Ｎ−アルコキシピリジニウムカチオンの例：Ｎ−メトキシピリジニウム、Ｎ−オクチルオキシピリジニウム、Ｎ−オクタデシルオキシピリジニウム、Ｎ−イソプロポキシピリジニウム、Ｎ−シクロヘキシルオキシピリジニウム、１−エトキシ−２−メチルピリジニウム、Ｎ−（２−クロロエトキシ）ピリジニウム等。
【００９５】
Ｎ−アリールオキシピリジニウムカチオンの例：Ｎ−フェノキシピリジニウム、Ｎ−（２−ナフチルオキシ）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）ピリジニウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキシ）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）ピリジニウム等。
【００９６】
一般式（８）に該当するオニウムカチオン（キノリニウムカチオン）：
【００９７】
ベンジルキノリニウムカチオンの例：Ｎ−ベンジルキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシベンジル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルメチル）キノリニウム、２−クロロ−１−ベンジルキノリニウム、２−シアノ−１−ベンジルキノリニウム、２−メチル−１−ベンジルキノリニウム、２−ビニル−１−ベンジルキノリニウム、２−フェニル−１−ベンジルキノリニウム、１，２−ジベンジルキノリニウム、２−メトキシ−１−ベンジルキノリニウム、２−フェノキシ−１−ベンジルキノリニウム、２−アセチル−１−ベンジルキノリニウム、２−メトキシカルボニル−１−ベンジルキノリニウム、３−フルオロ−１−ベンジルキノリニウム、４−メチル−１−ベンジルキノリニウム等。
【００９８】
フェナシルキノリニウムカチオンの例：Ｎ−フェナシルキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェナシル）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスロイルメチル）キノリニウム、２−クロロ−１−フェナシルキノリニウム、２−シアノ−１−フェナシルキノリニウム、２−メチル−１−フェナシルキノリニウム、２−ビニル−１−フェナシルキノリニウム、２−フェニル−１−フェナシルキノリニウム、１，２−ジフェナシルキノリニウム、２−メトキシ−１−フェナシルキノリニウム、２−フェノキシ−１−フェナシルキノリニウム、２−アセチル−１−フェナシルキノリニウム、２−メトキシカルボニル−１−フェナシルキノリニウム、３−フルオロ−１−フェナシルキノリニウム、４−メチル−１−フェナシルキノリニウム等。
【００９９】
アリルキノリニウムカチオンの例：Ｎ−アリルキノリニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）キノリニウム、Ｎ−（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）キノリニウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）キノリニウム、Ｎ−（２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）キノリニウム等。
【０１００】
Ｎ−アルコキシキノリニウムカチオンの例：Ｎ−メトキシキノリニウム、Ｎ−オクチルオキシキノリニウム、Ｎ−オクタデシルオキシキノリニウム、Ｎ−イソプロポキシキノリニウム、Ｎ−シクロヘキシルオキシキノリニウム、１−エトキシ−２−メチルキノリニウム、Ｎ−（２−クロロエトキシ）キノリニウム等。
【０１０１】
Ｎ−アリールオキシキノリニウムカチオンの例：Ｎ−フェノキシキノリニウム、Ｎ−（２−ナフチルオキシ）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）キノリニウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキシ）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）キノリニウム等。
【０１０２】
一般式（９）に該当するオニウムカチオン（イソキノリニウムカチオン）：
【０１０３】
ベンジルイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ−ベンジルイソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルベンジル）イソキノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルメチル）イソキノリニウム、１，２−ジベンジルイソキノリニウム等。
【０１０４】
フェナシルイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ−フェナシルイソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェナシル）イソキノリニウム、Ｎ−（９−アンスロイルメチル）イソキノリニウム等。
【０１０５】
アリルイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ−アリルイソキノリニウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム、Ｎ−（２−イソプロピル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）イソキノリニウム、Ｎ−（２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）イソキノリニウム等。
【０１０６】
Ｎ−アルコキシイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ−メトキシイソキノリニウム、Ｎ−オクチルオキシイソキノリニウム、Ｎ−オクタデシルオキシイソキノリニウム、Ｎ−イソプロポキシイソキノリニウム、Ｎ−シクロヘキシルオキシイソキノリニウム等。
【０１０７】
Ｎ−アリールオキシイソキノリニウムカチオンの例：Ｎ−フェノキシイソキノリニウム、Ｎ−（２−ナフチルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（９−アンスリルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−トリルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（２，３−キシリルオキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−ブロモフェノキシ）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）イソキノリニウム等。
【０１０８】
一般式（１０）に該当するオニウムカチオン（ベンゾオキサゾリウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン）：
【０１０９】
ベンゾオキサゾリウムカチオンの例：Ｎ−ベンジルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロベンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−フェナシルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェナシル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェナシル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−アリルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−メトキシベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｔ−ブトキシ）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（３−ブロモプロポキシ）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−フェノキシベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（１−ナフチルオキシ）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフェノキシ）ベンゾオキサゾリウム、２−メルカプト−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム、２−メチル−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム、２−メチルチオ−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム、６−ヒドロキシ−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム、７−メルカプト−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−ベンジルベンゾオキサゾリウム等。
【０１１０】
ベンゾチアゾリウムカチオンの例：Ｎ−ベンジルベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロベンジル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノベンジル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−フェナシルベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェナシル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェナシル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェナシル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−アリルベンゾチアゾリウム、Ｎ−（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−メトキシベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｔ−ブトキシ）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（３−ブロモプロポキシ）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−フェノキシベンゾチアゾリウム、Ｎ−（１−ナフチルオキシ）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフェノキシ）ベンゾチアゾリウム、２−メルカプト−３−ベンジルベンゾチアゾリウム、２−メチル−３−ベンジルベンゾチアゾリウム、２−メチルチオ−３−ベンジルベンゾチアゾリウム、６−ヒドロキシ−３−ベンジルベンゾチアゾリウム、７−メルカプト−３−ベンジルベンゾチアゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−ベンジルベンゾチアゾリウム等。
【０１１１】
一般式（１１）に該当するオニウムカチオン（トリアリールスルホニウムカチオン）：
【０１１２】
トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウム、トリフェニルスルホキソニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホキソニウム、トリス（フェニル）スルホキソニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホキソニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホキソニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホキソニウム等。
【０１１３】
一般式（１２）に該当するオニウムカチオン（ジアリールヨードニウム塩）：
【０１１４】
ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）スルホニウム、ビス（２，６−ジメチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−シアノフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム、ｐ−トリル−（４−イソプロピルフェニル）−ヨードニウム等。
【０１１５】
次に、本発明の酸発生剤を構成するアニオンＸ-について説明する。
【０１１６】
本発明の酸発生剤を構成するアニオンＸ-は原理的に特に限定されるものではないが、非求核性アニオンが好ましい。アニオンＸ-が非求核性アニオンの場合、分子内に共存するカチオンや併用される各種材料における求核反応が起こりにくいため、結果として酸発生剤自身やそれを用いた組成物の経時安定性を向上させることが可能である。ここでいう非求核性アニオンとは、求核反応を起こす能力が低いアニオンを指す。このようなアニオンとしては、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＢｉＣｌ5-、ＳｎＣｌ6-、ＣｌＯ4-、ジチオカルバメートアニオン、ＳＣＮ-などが挙げられる。
【０１１７】
なかでも、アニオンＸ-としては、以下の一般式（４）で示されるボレートアニオンが、比較的容易に合成でき、発生する酸が非常に強く、高い溶解度と高い安全衛生性を有するため、特に好ましく使用できる。
【０１１８】
一般式（４）
【化１１】
2007118396.tif 000009
【０１１９】
（ただし、Ｙは、フッ素または塩素原子、
Ｚは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、およびトリフルオロメチル基の中から選ばれる基で２つ以上置換されたフェニル基、
ｍは０から３の整数、ｎは１から４の整数を表し、ｍ＋ｎ＝４である。）
一般式（４）における置換基Ｚとしては、３，５−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，３，４，６−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２，４−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジニトロフェニル基、２，４，６−トリフルオロ−３，５−ジニトロフェニル基、２，４−ジシアノフェニル基、４−シアノ−３，５−ジニトロフェニル基、４−シアノ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基等があげられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２０】
したがって、一般式（４）で表記されるのボレートアニオンの構造として、具体的には、ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルトリフルオロボレート、ビス（ペンタフルオロフェニル）ジフルオロボレート、ビス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ジフルオロボレート、トリス（ペンタフルオロフェニル）フルオロボレート、トリス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］フルオロボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート等があげられる。
【０１２１】
この内、一般式（１）で表記されるアニオンとして特に好ましいものは、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレートである。
【０１２２】
その理由として、比較的容易に合成でき、発生する酸が非常に強く、高い溶解度と高い安全衛生性を有することが挙げられる。
【０１２３】
本発明で用いられる酸発生剤は、上記で例示したオニウムカチオンと各種アニオンの組み合わせからなる。
【０１２４】
以下に好ましい酸発生剤の具体的な構造を示すが、本発明の酸発生剤の構造はそれらに限定されるものではない。
【０１２５】
【化１２】
2007118396.tif 000010
【０１２６】
【化１３】
2007118396.tif 000011
【０１２７】
【化１４】
2007118396.tif 000012
【０１２８】
【化１５】
2007118396.tif 000013
【０１２９】
【化１６】
2007118396.tif 000014
【０１３０】
【化１７】
2007118396.tif 000015
【０１３１】
【化１８】
2007118396.tif 000016
【０１３２】
ただし、上記構造式中のＸ-は、以下に示した構造から選ばれるアニオンいずれであってもよい。
【０１３３】
【化１９】
2007118396.tif 000017
【０１３４】
これらの中では、Ｒ2が置換基を有してもよいアルキル基である場合が、入手のしやすさ、合成のしやすさ、カチオン重合性化合物に対する溶解度の点で好ましい。さらに、好ましくは、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、さらに、好ましくは、炭素数１または２のアルキル基である。
【０１３５】
本発明で用いられる酸発生剤の使用量は、１００重量部のカチオン重合性化合物に対して、０．０１重量部〜２０重量部の範囲内が好ましく、特に好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。酸発生剤の添加量が０．０１重量部未満の場合、カチオン重合による重合または架橋が十分に進行せず、良好な密着力が得られない場合がある。また、酸発生剤の添加量が２０重量部より多い場合、アンカーコート層（Ｂ）中の低分子成分が多すぎるため、十分な凝集力や密着力が得られない場合があること、アンカーコート層（Ｂ）中にイオン物質が多量に残ることによる懸念やコストアップにつながる点で実用的ではない。
【０１３６】
＜カチオン重合性化合物＞
次にカチオン重合性化合物について説明する。カチオン重合性化合物は、活性エネルギー線の照射により酸発生剤から発生する酸により架橋する。カチオン重合性化合物は、分子内にカチオン重合性の官能基、例えば、ビニルエーテル基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、オキセタニル基、エピスルフィド基、エチレンイミン基、水酸基を有する種々のモノマー、オリゴマーまたはポリマーを用いることができる。また、これらの官能基を有するポリマーについても限定されず、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリエーテル系、天然ゴム、ブロック共重合体ゴム、シリコーン系などの各ポリマーを用いることができる。
【０１３７】
上記カチオン重合性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上併用されてもよい。上記カチオン重合性化合物としては、好ましくは、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基を有する化合物が用いられる。特に好ましくは、エポキシ基、オキセタニル基を有する化合物が用いられる。これらの官能基の重合は比較的反応性が高く、かつ硬化時間が短いため、硬化工程の短縮を図ることができる。
【０１３８】
エポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、異節環状型エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂などのアルコール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂などのハロゲン化エポキシ樹脂、ゴム変成エポキシ樹脂、ウレタン変成エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、エポキシ基含有ポリエステル樹脂、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂等を挙げることができる。これらのエポキシ樹脂は常温で液体であっても良いし、固体であっても良い。また、エポキシ基含有オリゴマーも好適に用いることができ、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシオリゴマー（例えば、油化シェルエポキシ社製、エピコート１００１、１００２等）を挙げることができる。さらに、上記エポキシ基含有モノマーやオリゴマーの付加重合体を用いてもよく、例えば、グリシジル化ポリエステル、グリシジル化ポリウレタン、グリシジル化アクリル等を挙げることができる。
【０１３９】
なかでも、光カチオン重合性がより高く、少ない光量でもより効率的に光硬化が進行することから、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が好適に用いられる。これらのエポキシ基を有する化合物は、単独で用いられても良いし、２種類以上が併用されても良い。
【０１４０】
上記脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、１，２：８，９−ジエポキシリモネン、４−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチレン）アジペート、ビス−（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、（２，３−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ジシクロペンタジエンジオキサイド、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、２，２−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキシ）シクロヘキシル］ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポキシ樹脂（軟化点７１℃）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４１】
脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、例えば１，４−ブタンジオールジクリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４２】
オキセタニル基を有する化合物としては、例えば、フェノキシメチルオキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−｛［３−（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１４３】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）は、活性エネルギー線の照射前は粘着性を示し、活性エネルギー線を照射し、十分な硬化後には粘着性を示さない必要がある。酸発生剤とカチオン重合性化合物との組成物で十分な粘着性が得られない場合は、粘着性ポリマーを添加しても良い。
【０１４４】
上記粘着性ポリマーとしては、常温での粘着性と凝集力とを与えることができるものであれば特に限定されず、例えばアクリル系ポリマー、ポリエステル類、ポリウレタン類、シリコーン類、ポリエーテル類、ポリカーボネート類、ポリビニルエーテル類、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、ポリイソブチレン類、有機多価イソシアナート類、有機多価イミン類などが挙げられる。また、上記粘着性ポリマーは、上記ポリマーの主成分としてのモノマーを含む共重合体であっても良い。なかでも、従来から優れた初期粘着力を発揮するため、粘着剤の主成分として慣用されており、かつ、粘着物性の制御が容易であることから、アクリル系ポリマーまたはポリエステル類が好ましい。
【０１４５】
粘着性ポリマーは、アンカーコート層（Ｂ）の全量１００重量部に対して、０〜２０００重量部が好ましい。
【０１４６】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）には、カップリング剤として、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤を用いることもできる。これらを用いることで、本発明のアンカーコート層（Ｂ）と有機物からなる基材層（Ａ）または無機物層（Ｃ）との密着性を高めることができる。
【０１４７】
ここで、シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のビニルシラン、さらに、エポキシ系、アミノ系、ビニル系の高分子タイプのシラン等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
特に、エポキシシラン、アミノシラン、メルカプトシランが好ましい。
【０１４８】
一方、チタネートカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル・アミノエチル）チタネート、ジイソプロピルビス（ジオクチルホスフェート）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１４９】
これらのカップリング剤は、単独で使用しても良いし、２種類以上を混合して使用することもできる。このときカップリング剤の使用量は、カチオン重合性化合物全量に対して０．１〜１重量部の範囲が好ましい。
【０１５０】
また、本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤は、増感剤を用いなくとも活性エネルギー線の照射に対して非常に迅速かつ確実に硬化することが可能であるが、必要に応じて増感剤を併用して用いてもよい。
【０１５１】
本発明と併用することができる増感剤の例としては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、ナフタセン誘導体、ペリレン誘導体、ペンタセン誘導体等の縮合多環芳香族誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、カルコン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、フェノチアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、カルバゾール誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体等があげられ、その他さらに具体的には大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）、フォトポリマー懇話会編、「感光材料リストブック」（１９９６年、ぶんしん出版）に記載の色素および増感剤があげられるがこれらに限定されるものではなく、これらは必要に応じて任意の比率で二種以上用いてもかまわない。
【０１５２】
これらの増感剤のうち、好ましいものとしては、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体の縮合多環芳香族誘導体および、フェノチアジン誘導体、カルバゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体があげられ、中でも特に好ましいものとして、アントラセン誘導体があげられる。
【０１５３】
これらの具体例としては、アントラセン、１−アントラセンカルボン酸、２−アントラセンカルボン酸、９−アントラセンカルボン酸、９−アントラアルデヒド、９，１０−ビス（クロロメチル）アントラセン、９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−ブロモアントラセン、１−クロロ−９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、９，１０−ジメチルアントラセン、９，１０−ジブチルアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ジ−ｐ−トリルアントラセン、９，１０−ビス（ｐ−メトキシフェニル）アントラセン、２−ヒドロキシメチルアントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−メチルアントラセン、９−フェニルアントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジフェノキシアントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸ナトリウム、１，４，９，１０−テトラヒドロキシアントラセン、２，２，２−トリフルオロー１−（９−アンスリル）エタノール、１，８，９−トリヒドロキシアントラセン、１，８−ジメトキシ−９，１０−ビス（フェニルエチニル）アントラセン、９−ビニルアントラセン、９−アントラセンメタノール、９−アントラセンメタノールのトリメチルシロキシエーテル、フェノチアジン、Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン。１，４−ジメトキシナフタレンなどが挙げられる。
【０１５４】
上記増感剤を併用する場合の添加量は特に限定されないが、本発明の酸発生剤１００重量部に対し、０〜１００重量部が好ましい。
【０１５５】
本発明で用いられる酸発生剤は酸発生剤として十分高い感度を有しているが、他の酸発生剤と併用して用いることも可能である。酸発生剤と併用することが可能な酸発生剤は特に限定されず、「ＰＡＧ」、「酸発生剤」、「光酸発生剤」、「光重合開始剤」、「カチオン重合開始剤」、「重合触媒」等の名称で業界公知の材料を適宜選択して使用することできる。また、他の酸発生剤を使用する場合は、単独または複数組み合わせて使用することも可能である。
【０１５６】
本発明で用いられる酸発生剤と併用することが可能な他の酸発生剤としては、ニトロベンジルスルホナート類、アルキルまたはアリール−Ｎ−スルホニルオキシイミド類、ハロゲン化されていてもよいアルキルスルホン酸エステル類、１，２−ジスルホン類、オキシムスルホナート類、ベンゾイントシラート類、β−ケトスルホン類、β−スルホニルスルホン類、ビス（アルキルスルホニル）ジアゾメタン類、イミノスルホナート類、イミドスルホナート類、トリハロメチルトリアジン類などのトリハロアルキル基を有する化合物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１５７】
本発明で用いられる酸発生剤と併用する他の酸発生剤の比率は特に限定されないが、本発明の酸発生剤１００重量部に対して０〜９９重量部の範囲で使用することが好ましい。
【０１５８】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）は、耐熱性、密着性、硬度などの特性を向上する目的で充填剤を配合してもよい。具体的には、溶融シリカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ、ジルコン、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリウム、ジルコニア、タルク、クレー、水酸化アルミニウム、等の粉体、またはこれらを球形化したビーズ、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化ケイ素、アルミナ等の単結晶繊維、ガラス繊維等を１種類以上配合して用いることができる。これら充填剤の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。その使用量は、アンカーコート層（Ｂ）全量１００質量部に対して０〜２０００質量部が好ましい。また、充填剤は予め充分混合しておくことが好ましい。
【０１５９】
さらに必要に応じて、接着性をより向上させるための接着性付与剤、粘度を調整するための粘度調整剤、チキソトロープ性（揺変性）を付与するためのチキソトロープ剤（揺変性付与剤）、引張り特性等を改善されるための物性調整剤、熱安定剤、難燃剤、帯電防止剤、光（活性エネルギー線）硬化性を向上させるための「ラジカル重合性不飽和基を有する化合物と光ラジカル開始剤」等を用いても良い。
【０１６０】
上記難燃剤としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化錫、水酸化錫、酸化モリブテン、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミン酸カルシウム等の無機難燃剤、テトラブロモ無水フタル酸、ヘキサブロモベンゼン、デカブロモビフェニルエーテル等の臭素系難燃剤、トリス（トリブロモフェニル）ホスフェート等のリン酸系難燃剤等、従来公知のものが挙げられる。その使用量は、アンカーコート層（Ｂ）全量１００重量部に対して０〜１００重量部が好ましい。
【０１６１】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして有機物からなる基材層（Ａ）上に塗布して用いることができる。ここで使用する溶媒は、本発明の接着剤組成物を均一に溶解できるものであれば特に限定されない。具体例としては１，１，２，２−テトラクロロエタン、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルメトキシプロピオナート、エチルエトキシプロピオナート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、エチレングリコールモノエチルエ一テルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ一テル、プロピレングリコールモノメチルエ一テルアセテート、トルエン、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸メチル、乳酸エチル、エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ，Ｎ一ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ一ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどが好ましく、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
【０１６２】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）の酸発生剤から酸を発生させ、カチオン重合性化合物を重合または架橋させるために使用する活性エネルギー線は、酸発生剤が吸収して分解し、酸を発生できるものであり、被着体にダメージを与えないものであれば特に限定されない。このような活性エネルギー線の例としては、紫外線や近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線等の光の他、電子線をあげることができる。これらの各活性エネルギー線の定義は久保亮五ら編「岩波理化学辞典第４版」（１９８７年、岩波書店）によった。具体的には、は、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマーレーザー、発光ダイオード、ＣＲＴ光源、プラズマ光源、電子線照射器等の各種光源を挙げることができる。これらの活性エネルギー線の中では、紫外線や可視光が装置の面で使用しやすく好ましい。また、有機物からなる基材層（Ａ）を劣化させない範囲で必要に応じて、例えば加熱硬化等の他の硬化手段を併用しても良い。上記加熱硬化を併用する場合の加熱温度は特に限定されるものではないが、５０〜２００℃であることが好ましい。
【０１６３】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を有機物からなる基材層（Ａ）または、無機物層（Ｃ）へ塗布する場合には公知のいかなる方法も使用することができる。例えば、バーコーター、アプリケーター、カレンダー法、押し出し塗工、コンマコーター、ダイコーター、リップコーター等による塗工、ディスペンス法、スタンピング法、スクリーン印刷法などの塗布方法が挙げられる。また、本発明のアンカーコート層（Ｂ）は溶剤を含んでいてもよく、塗布した後に適当な乾燥器をへて、溶媒を除去した状態でフィルム状にすることも可能である。
【０１６４】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）の厚さは、本発明の積層体の用途により適宜選択でき、特に限定されるものではないが、通常は０．０１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜５０μｍ、さらに好ましくは０．２μｍ〜１０μｍである。アンカーコート層（Ｂ）の厚さが０．０１μｍ未満であると、塗布ムラができて、密着性に悪影響を及ぼす。また逆に厚さが１００μｍを超えると硬化時間が過度に長くなることがある。
【０１６５】
〔無機物層（Ｃ）〕
本発明の無機物層（Ｃ）は、上述したアンカーコート層（Ｂ）状に積層された層である。この無機物層（Ｃ）は、例えばガスバリアフィルムであれば、ガスバリア性を有する層が形成され、また反射防止フィルムであれば、反射防止性を有する層が形成されるものであり、その機能により種々の無機物層を形成することが出来る。
【０１６６】
無機物層（Ｃ）を形成する材料としては、アルミニウム、珪素、チタン、ジルコニウム、マグネシウム、錫、銅、鉄等の金属や、これら金属の酸化物、窒化物、フッ化物、硫化物などが挙げられ、具体的には、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）、アルミナ、マグネシア、硫化亜鉛、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化セリウム、酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化クロム、酸化コバルト、酸化錫、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化バリウム、あるいはこれらの混合物、酸化窒化膜、ＩＴＯ膜等が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。さらに、無機物層（Ｃ）は、１層でもあるいは２層以上の積層体であってもよい。
【０１６７】
無機物層（Ｃ）の形成方法は特に限定されず、ゾル−ゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ）、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法（ＣＶＤ）、めっき法、転写法、加熱溶融押し出しラミネート法等の公知の方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１６８】
無機物層（Ｃ）の膜厚は、本発明の積層体の用途、要求特性により、適宜選択でき、特に限定されるものではないが、通常は１〜５００ｎｍ、好ましくは５〜２００ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍ〜１００ｎｍである。無機物層（Ｃ）の膜厚が５００ｎｍを超えると、曲げ等によってクラックが発生しやすくなり、界面での剥離が起こりやすくなったりするために好ましくない。また１ｎｍ未満では十分な特性、例えばガスバリア性が得られない恐れがあり、好ましくない。
【０１６９】
本発明の積層体の製造方法について説明する。
【０１７０】
本発明の積層体は、基材層（Ａ）とアンカーコート層（Ｂ）、アンカーコート層（Ｂ）と無機物層（Ｃ）がそれぞれ接触するように積層されるものであるが、その層が形成される順番は特に限定はない。
本発明の積層体の一般的な製造方法としては、有機物からなる基材層（Ａ）上に、酸発生剤とカチオン重合性化合物とからなる重合性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射することで、アンカーコート層（Ｂ）を形成する。その後、アンカーコート層（Ｂ）上に無機物層（Ｃ）を積層する。さらに必要に応じて、再度の活性エネルギー線照射や、有機物からなる基材層（Ａ）を劣化させない範囲で加熱してもよい。
【０１７１】
もう一つの方法として、有機物からなる基材層（Ａ）上に、酸発生剤とカチオン重合性化合物とからなる重合性組成物を塗布した後、この組成物上に無機物層（Ｃ）を積層し、その後、活性エネルギー線照射を行うことで、アンカーコート層（Ｂ）を形成する。さらに必要に応じて、有機物からなる基材層（Ａ）を劣化させない範囲で加熱してもよい。
【０１７２】
さらに、無機物層（Ｃ）上に、酸発生剤とカチオン重合性化合物とからなる重合性組成物を塗布した後、この組成物上に有機物からなる基材層（Ａ）を積層し、その後、活性エネルギー線照射を行うことで、アンカーコート層（Ｂ）を形成する。さらに必要に応じて、有機物からなる基材層（Ａ）を劣化させない範囲で加熱してもよい。
【０１７３】
活性エネルギー線の照射は、アンカーコート層（Ｂ）上に無機物層（Ｃ）を積層する前に行う場合、アンカーコート層に直接照射することが好ましく、アンカーコート層（Ｂ）上に無機物層（Ｃ）を積層した後に行う場合は、有機物からなる基材層（Ａ）または無機物層（Ｃ）のいずれかが透明な層である場合、その透明層側から活性エネルギー線を照射することが好ましく、もし、有機物からなる基材層（Ａ）と無機物層（Ｃ）がどちらも不透明な場合、有機物からなる基材層（Ａ）と無機物層（Ｃ）との隙間から活性エネルギー線を照射することも可能である。
【０１７４】
また、本発明の積層体を製造する際、有機物からなる基材層（Ａ）または、無機物層（Ｃ）に直接酸発生剤とカチオン重合性化合物とからなる重合性組成物を塗布するのではなく、フィルム状にしたアンカーコート層（Ｂ）を、有機物からなる基材層（Ａ）または、無機物層（Ｃ）に貼り付けても構わない。
なお、請求項８および９では、「アンカーコート層面」と記載したのは、正確には、未硬化である、アンカーコート層の前駆体である、重合性組成物の層のある面という意味である。
【実施例】
【０１７５】
以下、実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみになんら限定されるものではない。
本発明の実施例に使用した酸発生剤および増感剤の構造を以下に示した。
【０１７６】
【化２０】
2007118396.tif 000018
【０１７７】
【化２１】
2007118396.tif 000019
【０１７８】
【化２２】
2007118396.tif 000020
【０１７９】
(実施例１)
酸発生剤として、化合物（１）を２重量部と、カチオン重合性化合物としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名「エピコート８２８」、ジャパンエポキシレジン社製）を１００重量部とを混合した重合性組成物を、厚さ５０μｍのポリプロピレンフィルム上に、バーコーターを用いて塗工後の厚みが１０μｍとなるように、上記重合性組成物を上記ポリプロピレンフィルム上に塗工した後、メタルハライドランプを使用した光照射装置（４．８ｋＷ、１灯）にて、波長３６５ｎｍの紫外線の照射量が１０００ｍJ / ｃｍ2となるように照射して、上記重合性組成物を硬化させることで、アンカーコート層を積層した。続いて、上記アンカーコート層上に、真空蒸着法にて膜厚５００オングストロームのアルミニウム蒸着層を積層することで、積層体を得た。
【０１８０】
得られた積層体の密着性の評価は、碁盤目密着試験をＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定し、測定結果は非剥離碁盤目数／全碁盤目数で分数表示した。この分数が大きいほど密着性が良いことを示す。評価結果は表１に示した。
【０１８１】
(実施例２〜１７)
実施例１の酸発生剤２重量部を、表１に示した酸発生剤それぞれ２重量部、増感剤を表１に記載の化合物および添加量に置き替えた他は、実施例１と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表１に示した。
【０１８２】
(比較例１)
実施例１の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア１８４」)へ、実施例１のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例１と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表１に示した。
【０１８３】
(比較例２)
実施例１の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤２−メチル−〔４−(メチルチオ)フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」)へ、実施例１のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例１と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表１に示した。
【０１８４】
【表１】
2007118396.tif 000021
【０１８５】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤として、スルホニウムカチオンと、ボレートアニオンを有する酸発生剤を用いた場合、低露光量でも高い密着性を有する積層体が得られた(実施例１〜５)。また、他のオニウムカチオン(実施例７〜１７)や他のアニオン(実施例１２〜１７)を有する酸発生剤を用いた場合でも、ある程度の密着性を有する、積層体が得られた。一方、アンカーコート層（Ｂ）にラジカル発生剤を用いた場合、十分な密着性を有する積層体は得られなかった(比較例１〜２)。
【０１８６】
(実施例１８)
酸発生剤として、化合物（１）を２重量部と、カチオン重合性化合物としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名「エピコート８２８」、ジャパンエポキシレジン社製）を１００重量部とを混合した重合性組成物を、厚さ５０μｍのポリプロピレンフィルム上に、バーコーターを用いて塗工後の厚みが１０μｍとなるように、上記重合性組成物を上記ポリプロピレンフィルム上に塗工した後、メタルハライドランプを使用した光照射装置（４．８ｋＷ、１灯）にて、波長３６５ｎｍの紫外線の照射量が２４００ｍJ / ｃｍ2となるように照射して、上記重合性組成物を硬化させることで、アンカーコート層を積層した。続いて、上記アンカーコート層上に、真空蒸着法にて膜厚５００オングストロームのアルミニウム蒸着層を積層することで、積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表２に示した。
(実施例１９〜３４)
実施例１８の酸発生剤２重量部を、表２に示した酸発生剤それぞれ２重量部、増感剤を表２に記載の化合物および添加量に置き替えた他は、実施例１８と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表２に示した。
【０１８７】
(比較例３)
実施例１８の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア１８４」)へ、実施例１８のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例１８と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表２に示した。
【０１８８】
(比較例４)
実施例１８の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤２−メチル−〔４−(メチルチオ)フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」)へ、実施例１８のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例１８と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表２に示した。
【０１８９】
【表２】
2007118396.tif 000022
【０１９０】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤として、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤を用いた場合、十分な露光を行うことで、高い密着性を有する積層体が得られた(実施例１８〜３４)。一方、アンカーコート層（Ｂ）にラジカル発生剤を用いた場合、同露光量でも十分な密着性を有する積層体は得られなかった(比較例３〜４)。
【０１９１】
(実施例３５)
酸発生剤として、化合物（１）を２重量部と、カチオン重合性化合物としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名「エピコート８２８」、ジャパンエポキシレジン社製）を１００重量部とを混合した重合性組成物を、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート(以下、ＰＥＴ)フィルム上に、バーコーターを用いて塗工後の厚みが１０μｍとなるように、上記重合性組成物を上記ＰＥＴフィルム上に塗工した後、上記重合組成物上に膜厚５００ｎｍのアルミニウム箔を貼り付け、その後、メタルハライドランプを使用した光照射装置（４．８ｋＷ、１灯）にて、波長３６５ｎｍの紫外線の照射量が２４００ｍJ / ｃｍ2となるように照射して、上記重合性組成物を硬化させることで、積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表３に示した。
(実施例３６〜５１)
実施例３５の酸発生剤２重量部を、表３に示した酸発生剤それぞれ２重量部、増感剤を表３に記載の化合物および添加量に置き替えた他は、実施例３５と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表３に示した。
【０１９２】
(比較例５)
実施例３５の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア１８４」)へ、実施例３５のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例３５と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表３に示した。
【０１９３】
(比較例６)
実施例３５の酸発生剤２重量部を、ラジカル発生剤２−メチル−〔４−(メチルチオ)フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」)へ、実施例３５のカチオン重合性化合物をアクリレート系オリゴマーへと置き換えた他は、実施例３５と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体の密着性の評価結果を表３に示した。
【０１９４】
【表３】
2007118396.tif 000023
【０１９５】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤として、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤を用いた場合、十分な露光を行うことで、積層と露光の順番に関わらず、高い密着性を有する積層体が得られた(実施例３５〜５１)。一方、アンカーコート層（Ｂ）にラジカル発生剤を用いた場合、同様の法方では十分な密着性を有する積層体は得られなかった(比較例５〜６)。
【０１９６】
(実施例５２)
酸発生剤として、化合物（１）を２重量部と、カチオン重合性化合物としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名「エピコート８２８」、ジャパンエポキシレジン社製）を１００重量部とを混合した重合性組成物を、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート(以下、ＰＥＴ)フィルム上に、バーコーターを用いて塗工後の厚みが１０μｍとなるように、上記重合性組成物を上記ＰＥＴフィルム上に塗工した後、メタルハライドランプを使用した光照射装置（４．８ｋＷ、１灯）にて、波長３６５ｎｍの紫外線の照射量が２４００ｍJ / ｃｍ2となるように照射して、上記重合性組成物を硬化させることで、アンカーコート層を積層した。続いて、上記アンカーコート層上に、真空蒸着法にて膜厚５００オングストロームの酸化珪素蒸着層を積層することで、積層体を得た。
【０１９７】
得られた積層体のガス透過試験は、酸素ガス透過率は、酸素ガス透過率測定装置(ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０)を用い、２３℃、ドライ(０％Ｒｈ)の条件で測定した。水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置(ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１)を用い、３７，８℃、１００％Ｒｈの条件で測定した。
【０１９８】
(実施例５３〜６８)
実施例５２の酸発生剤２重量部を、表４に示した酸発生剤それぞれ２重量部、増感剤を表４に記載の化合物および添加量に置き替えた他は、実施例５２と全く同一の所作にて積層体を得た。得られた接着体のガス透過試験の評価結果を表４に示した。
【０１９９】
【表４】
2007118396.tif 000024
【０２００】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤として、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤を用いた場合、ガスバリア性に優れた積層体が得られた(実施例５２〜６８)。この理由として、本発明の酸発生剤の反応性が高いため、十分にカチオン重合が進行したこと、さらに、ラジカル重合と比較して、基材との密着性が優れていること、硬化収縮が起こりにくいために、無機物層にクラックが生じにくい事が考えられる。
【０２０１】
(実施例６９)
実施例３５で作製した積層体を１２０℃で８時間加熱後、積層体の着色の程度(外観)を確認した。結果を表５に示した。
【０２０２】
(実施例７０〜８５)
実施例３６〜５１で作製した積層体を、１２０℃で８時間加熱後、各々の積層体の着色の程度(外観)を確認した。結果を表５に示した。
【０２０３】
(比較例７)
本発明のアンカーコート層（Ｂ）の代わりに、ポリアリルアミン(ＰＡＡ：日東紡社製、分子量１０，０００)を用いたアンカーコート材料を用いて、順番に、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート(以下、ＰＥＴ)フィルムと、塗工後の厚みが１０μｍとなるアンカーコート材料と、膜厚５００ｎｍのアルミニウム箔とからなる積層体を得た。その後、実施例６９と同様の方法で積層体の着色の程度(外観)を確認した。結果を表５に示した。
【０２０４】
(比較例８)
本発明のアンカーコート層（Ｂ）の代わりに、ポリエチレンイミン(ＰＥＩ：株式会社日本触媒製、エポミンＰ−１０００、分子量７０，０００)を用いたアンカーコート材料を用いて、順番に、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート(以下、ＰＥＴ)フィルムと、塗工後の厚みが１０μｍとなるアンカーコート材料と、膜厚５００ｎｍのアルミニウム箔とからなる積層体を得た。その後、実施例６９と同様の方法で積層体の着色の程度(外観)を確認した。結果を表５に示した。
【０２０５】
【表５】
2007118396.tif 000025
【０２０６】
本発明のアンカーコート層（Ｂ）を構成する酸発生剤として、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤を用いた場合、高温環境時でも変色することがない積層体が得られた(実施例６８〜８５)。一方、アンカーコート層（Ｂ）に従来公知のアンカーコート材料を用いた場合、積層体は変色してしまった(比較例７〜８)。
【産業上の利用可能性】
【０２０７】
本発明の積層体は、有機物からなる基材層と無機物とからなる積層体の間に、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層を用いることで、基材層とアンカーコート層、アンカーコート層と無機物との密着性が良好であることから、積層体としての密着性を極めて良好なものとすることが出来るため、例えば、フレキシブル性が必要な種々の用途に用いることができる。具体的には、ガスバリア性フィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、金属層積層による反射フィルム・遮光フィルム、および導電性フィルム等の用途を挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【０２０８】
【図１】図１は、本発明の積層体の構成の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０２０９】
（Ａ）  基材層
（Ｂ）  アンカーコート層
（Ｃ）  無機物層
【図１】
2007118396.tif 000030