(57)【要約】      （修正有）【課題】輸送環境信頼性、保存信頼性、梱包信頼性が高い光記録媒体を提供すること。【解決手段】８０℃６０分での有機物質ガス発生量が６．４μｇ／ｇ以下、かつ紫外線硬化樹脂層の総厚が６２μｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。【選択図】図２
2007109371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
８０℃６０分での有機物質ガス発生量が６．４μｇ／ｇ以下、かつ紫外線硬化樹脂層の総厚が６２μｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記有機物質ガスが、シクロヘキサノン化合物、アルデヒド化合物、ベンゾフェノン化合物の総計であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記有機物質ガスが、シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノンの総計であることを特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記光記録媒体の光記録層が２層以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記光記録媒体の光記録層の少なくとも１層が相変化記録層であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザー光を照射することにより、情報の再生あるいは記録が可能であるＣＤ−ＤＡ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＶＩＤＥＯ−ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＶＩＤＥＯ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ等に利用できる光記録媒体に関する。特に、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙの記録層２層以上の光記録媒体や、カートリッジのない記録層単層のＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙの光記録媒体に関し、光記録媒体を利用するものに応用される。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１（特開平１０−１３０６０１号公報）には、貼り合せディスクの保護コート剤にベンゾフェノンが光重合開始剤あるいは硬化促進剤として使用されている光記録媒体が記載され、ベンゾフェノンの量は、実施例からすると２００ｐｐｍ程度と考えられる。本発明の熱処理によってどの程度放出されるかは不明である。アセトアルデヒド、シクロヘキサノンの記載はなし。
また、特許文献２（特開２００１−１３１５１８号公報）には、貼り合せディスクの接着剤にベンゾフェノンが光ラジカル発生剤として使用されている光記録媒体が記載され、ベンゾフェノンの量は、実施例からすると１００ｐｐｍ程度と考えられる。本発明の熱処理によってどの程度放出されるかは不明である。アセトアルデヒド、シクロヘキサノンの記載はなし。
【０００３】
レーザー光を照射することにより、情報の再生あるいは記録が可能であるＣＤ−ＤＡ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＶＩＤＥＯ−ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＶＩＤＥＯ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ等が商品化されている。しかし、これまで、ｐｐｂオーダーの発生率で、光記録媒体の腐食欠陥が発生することがあった。腐食の箇所は、色素ディスクおよび相変化ディスクのＡｇ反射層の酸化であったり、相変化ディスクのＺｎＳ・ＳｉＯ２の酸化であった。同一ロットで連続生産した１０枚の光記録媒体であっても１枚だけ腐食欠陥が発生したりと、極めて理解しにくい現象であった。また、これら光記録媒体は、室温においてもガスの発生を伴い、人によっては不快感をもたらした。特に、大量の光記録媒体を密閉場所で取り扱う場合には、作業環境への影響が懸念された。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−１３０６０１号公報
【特許文献２】特開２００１−１３１５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、輸送環境信頼性、保存信頼性、梱包信頼性が高い光記録媒体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために鋭意検討した結果、これに合致する光記録媒体を見出した。
すなわち上記課題は、本発明の（１）〜（５）により解決される。
（１）「８０℃６０分での有機物質ガス発生量が６．４μｇ／ｇ以下、かつ紫外線硬化樹脂層の総厚が６２μｍ以下であることを特徴とする光記録媒体」
（２）「前記有機物質ガスが、シクロヘキサノン化合物、アルデヒド化合物、ベンゾフェノン化合物の総計であることを特徴とする前記第（１）項に記載の光記録媒体」
（３）「前記有機物質ガスが、シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノンの総計であることを特徴とする前記第（２）項に記載の光記録媒体」
（４）「前記光記録媒体の光記録層が２層以上であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項のいずれかに記載の光記録媒体」
（５）「前記光記録媒体の光記録層の少なくとも１層が相変化記録層であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（４）項のいずれかに記載の光記録媒体」
【発明の効果】
【０００７】
８０℃６０分での有機物質ガス発生量が６．４μｇ／ｇ以下、かつ紫外線硬化樹脂層の総厚が６２μｍ以下とすることで、腐食欠陥の発生しない、かつ不快な匂いのない光記録媒体を提供できる。
また、有機物質ガスを特定することで、光記録媒体の生産プロセスを管理しやすくなり、より腐食欠陥の発生しない、かつ不快な匂いのない光記録媒体を提供できる。
さらに、光記録層の少なくとも１層を相変化記録層とすることで、腐食欠陥の発生しない、かつ不快な匂いがなく、より大容量の光記録媒体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
ｐｐｂオーダーの極めて頻度の少ない腐食欠陥は、光記録媒体一枚一枚のそれぞれの生産、梱包形態、保管、輸送、使用等の周辺環境の違いに基くと考えられた。実際に、光記録媒体は一枚ずつ生産される。その生産プロセスでは、クリーン環境とはいえ、若干のダストが光記録媒体に載り、欠陥の原因となる。その後、一枚入りのプラスチックケースに入れられたり、１０枚〜１００枚のスピンドルケースに入れられたり、プラスチックフィルムのバルク梱包に入れられたりと様々な形態が存在する。また、これら光記録媒体は、生産後、トラック輸送、鉄道輸送、船舶輸送、空輸と様様な形態で輸送される。さらに、各種記録あるいは再生装置に搭載された光記録媒体は、場合によっては７０℃もの高温度の環境下にさらされる。
以上のように、それぞれの光記録媒体の周辺環境とのかかわりは一様ではない。生産、梱包形態、保管、輸送、使用等のプロセス周辺環境と、光記録媒体の腐食欠陥の関係を鋭意検討した結果、腐食欠陥の要因は以下のとおりであった。
【０００９】
１）光記録媒体中の有機ガス成分の残留。
２）シュリンクフィルムなどによる光記録媒体の密閉保管。
３）光記録媒体への微小なダストの埋没。
また、不快と感じる原因は、上記有機ガス成分に起因するものであった。
以上のような状況証拠と、腐食欠陥の分析の結果から、腐食欠陥のメカニズムは、以下のように考えられた。
【００１０】
１）生産プロセスにおいて、数μｍの微小なダストが光記録媒体に埋没する。
２）光記録媒体に存在する有機ガス成分が、微小なダストに吸着・濃縮される。
３）シュリンクフィルムなどの密閉保管状態等による高湿度環境下で、有機ガス成分が光記録媒体を腐食する。
【００１１】
表１に、８０℃６０分の熱処理で発生する有機ガス成分量と、腐食欠陥発生試験結果を示す。使用した光記録媒体は、８倍速記録用ＤＶＤ＋ＲＷを用いた。層構成は、ポリカーボネート基板／ＺｎＳ・ＳｉＯ２／ＧｅＧａＳｂＳｎ／ＺｎＳ・ＳｉＯ２／ＴｉＣ・ＴｉＯ２／Ａｇ／樹脂保護層／接着層／ポリカーボネート／印刷層とした。
樹脂保護層、接着層および印刷層は、光開始重合剤４重量％のアクリル系紫外線硬化樹脂を用いた。残留有機ガス成分は、樹脂保護層、接着層、印刷層の膜厚によって調整した。有機ガス成分は、ガスクロマトグラフ／質量分析装置によって定量した。腐食欠陥発生試験は、シュリンクフィルム梱包で１ヶ月室温放置後、さらに２５℃９５％ＲＨ９時間−４０℃９５％９時間のヒートサイクル６回の試験を行なった。腐食欠陥発生の確認は、光学顕微鏡観察およびオシロスコープによるＲＦ信号のノイズ観察によって行なった。
【００１２】
【表１】
2007109371.tif 000003
【００１３】
表１から、少なくとも光記録媒体からの有機ガス発生量が６．４μｇ／ｇ以下において、腐食欠陥が発生しないことがわかる。シクロヘキサノン、ベンズアルデヒドおよびベンゾフェノン（一部メチルベンゾフェノンを含む）は、それぞれポリカーボネート基板や紫外線硬化樹脂の重合開始剤が発生源と考えられる。シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノン（一部メチルベンゾフェノン）が、高湿度によって酸に変わり、腐食を生じることが考えられる。あるいは、ガス成分の物理的な凝集が進み、光記録媒体に内部ストレスを生じ、その結果として光記録媒体を構成する膜のはがれおよび吸湿などによる酸化によって腐食欠陥が発生すると考えられる。
【００１４】
上記結果から推察されるように、腐食欠陥を撲滅するためには、残留有機ガス成分を低減させる必要がある。対策としては、
１）光開始重合剤の量を低減させる。具体的には、光重合開始剤の重量は、４重量％以下、さらには３重量％以下が望まれる。（従来：５重量％を超える量）
２）保護層の厚さを低減させる。具体的には保護層の厚さは、５μｍ以下、さらには４μｍ以下が望まれる。さらには保護層を無くすことが有効である。
３）印刷層の層数を低減させる。印刷層１層以下、さらには印刷層なしが望ましい。
４）紫外線硬化樹脂形成後、熱処理を行ない、有機ガス成分を除去する。
有機ガス成分を除去するための上記「熱処理」は、８０℃６０分で発生する有機ガス成分の融点より高い温度で、かつ基板として慣用されるポリカーボネートのガラス転移点より低い温度が設定される。具体的には、ベンゾフェノンの融点が４８℃であることから、ベンゾフェノン使用の場合、少なくとも５０℃以上の熱処理が必要となる。処理時間は、基板の厚さや残留有機ガス成分量によって異なる。所望のガス発生量（μｇ／（ｇ・分））以下となるように設定される。処理温度と時間は、上記条件とディスク特性に及ぼす悪影響から決定され、具体的には、処理温度７０〜１１０℃、処理温度５〜２０分が好適である。さらには、処理温度８０〜１００℃、処理温度１０〜１５分が望ましい。
【００１５】
本発明の形態の一例を図２〜５に示す。
図２、図３は、片面記録層一層型および二層型の色素記録層を有する光記録媒体である。図４、図５は、片面記録層一層型および二層型の相変化記録層を有する光記録媒体である。
基本的な構成は、案内溝を有する情報基板上に記録層と反射層をそれぞれ一層ないし二層有する。相変化光記録媒体は、記録層の上下に無機の保護層が形成されている。さらに、必要に応じて、樹脂保護層、接着層、印刷層が形成される。
【００１６】
本発明は、微小な腐食欠陥に影響される高速度記録または高密度記録のための光記録媒体に特に効果的である。特に、米国特許第５７６１１７９号明細書、米国特許第５７３２０６２号明細書、米国特許第６６２８５９５号明細書、米国特許第６６３１１０９号明細書、米国特許第６４５９６６６号明細書、米国特許第６７４１５４７号明細書、米国特許第６７５７２３２号明細書等に記載されている光記録パルス列のような矩形波で記録するＤＶＤ８倍速以上の高速記録可能なＤＶＤ＋ＲＷやＤＶＤ−ＲＷ、１０ＧＢ以上の高密度記録可能なＨＤ−ＤＶＤやＢｌｕ−ｒａｙにより効果的である。
【００１７】
情報基板およびカバー基板の材料は、通常ガラス、セラミックスあるいは樹脂であり、樹脂基板が成型性、コストの点で好適である。樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、成型性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
情報基板には、光記録・再生のためにレーザー光を案内する溝が形成されている。また、情報基板には、ランドプレピットやウオブルの変調等によって光記録媒体の種類や特性、アドレスに関する情報が記録されている。
本発明の光記録媒体をＤＶＤ−ＲＯＭ互換が可能な書き換え型光記録媒体に応用する場合には、以下のような特定の条件が付与されることが望ましい。その条件は、使用する基板に形成される案内溝の幅が０．１０〜０．４０μｍ、好適には０．１５〜０．３５μｍである。その案内溝の深さが１５〜４５ｎｍ、好適には２０〜４０ｎｍとなっていることである。記録再生のためのレーザー光入射側の情報基板の厚さは、ＣＤ系、ＤＶＤ系、Ｂｌｕ−ｒａｙ系でそれぞれ１．２ｍｍ、０．６ｍｍ、０．１ｍｍと異なる。
【００１８】
色素記録層として、シアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素、ニトロソ化合物、アゾ系色素、フタロシアニン系色素等の記録波長に吸収を有する材料、およびこれらの混合物が使用できる。また、必要に応じて、バインダー、光安定剤等を含有させることができる。色素記録層の膜厚は、１０〜５００ｎｍ、好ましくは５０〜３００ｎｍである。膜厚が薄くなると、記録信号振幅や記録感度が低下してしまう。膜厚が厚くなると、反射率が低下してしまう。これらのバランスによって光記録層の膜厚が決められる。色素記録層は、有機溶媒に色素系光吸収材料が溶解され、スピンコートの回転数により、所定の膜厚にコントロールされる。
【００１９】
相変化記録層としては、単に記録・消去できるだけでなく、高密度、高線速度領域で記録したときの信号の再生安定性や信号の寿命（信頼性）も同時に要求される。これらを総合的に満足できる相変化記録層として、ＡｇＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＩｎＳｂＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、ＧａＧｅＳｂＴｅ系、ＧａＧｅＳｂＳｎ系等が優れている。さらには、これら記録層材料に、Ｇａ，Ｇｅ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｂｉ，Ｃ，Ｎ，Ｏ，Ｓｉ，Ｓなどの元素を添加することで，記録・消去感度や信号特性，信頼性などを制御することができる。該元素の添加比率は、０．１〜２０ａｔ％、好適には０．１〜１５ａｔ％とするのが良い。２０ａｔ％より多くすると、初期化（結晶化）を良好に行なうことができなくなる。
さらに望ましくは、初期化後の未記録の状態での結晶構造が等方的な結晶構造である立方格子結晶構造、好適にはＮａＣｌ型結晶構造を有する材料が、同様に等方性の高いと考えられるアモルファス相とばらつきの少ない相変化を起こすことができ、記録（アモルファス化）および消去（結晶化）を高速かつ均一に行なうことができるため適している。相変化記録層の膜厚としては５〜３０ｎｍ、好適には７〜２０ｎｍとするのが良い。さらにジッター等の初期特性、オーバーライト特性、量産効率を考慮すると、好適には１０〜１８ｎｍとするのが良い。５ｎｍより薄いと光吸収能が著しく低下し、その役割を果たさなくなる。また、３０ｎｍより厚いと高速で均一な相変化がおこりにくくなる。
このような相変化記録層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。なかでも、スパッタリング法が量産性、膜質等に優れている。
このほかの光記録層としては、ＦｅＴｂＣｏなどの光磁気記録材料が使用される。
【００２０】
これら各種記録層は、単層で用いられることが望ましいが、多層化することもできる。その際、誘電体層を介在させて、光記録層を多層化することも可能である。多層化の際、相変化記録層と色素記録層、相変化記録層と光磁気記録層といった異種光吸収層の多層化も可能である。これらの光吸収層の多層化により、異種光記録装置で記録再生が可能となる。
【００２１】
反射層材料としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｉおよびその合金が使用できる。合金のための添加元素としては、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｄなどが使用される。添加元素量は、反射層の反射率の確保、保存信頼性の向上、粒界ノイズの低減を考慮して決められる。具体的には、０．１ｗｔ％以上２．０ｗｔ％以下が望ましい。さらには、０．３ｗｔ％以上１．０ｗｔ％以下が望ましい。
【００２２】
反射層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。合金または金属層の膜厚としては、５０〜２００ｎｍ、好適には７０〜１６０ｎｍとするのが良い。また、合金または金属層を多層化することも可能である。多層化した場合では、各層の膜厚は少なくとも１０ｎｍ以上必要で、多層化膜の合計膜厚は５０〜１６０ｎｍとするのが良い。多層記録層の半透明反射層として利用する際には、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好適である。
【００２３】
下部保護層および上部保護層の材料としては、ＳｉＯ，ＳｉＯ２，ＺｎＯ，ＳｎＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＭｇＯ，ＺｒＯ２などの金属酸化物、Ｓｉ３Ｎ４，ＡｌＮ，ＴｉＮ，ＢＮ，ＺｒＮなどの窒化物、ＺｎＳ，Ｉｎ２Ｓ３，ＴａＳ４などの硫化物、ＳｉＣ，ＴａＣ，Ｂ４Ｃ，ＷＣ，ＴｉＣ，ＺｒＣなどの炭化物やダイヤモンド状カーボン、あるいはそれらの混合物が挙げられる。下部保護層の膜厚は、反射率、変調度や記録感度に大きく影響する。良好な信号特性を得るためには、下部保護層を４５〜１２０ｎｍとすることが好適である。上部保護層の膜厚としては、５〜４５ｎｍ、好適には６〜４０ｎｍとするのがよい。５ｎｍより薄くなると耐熱性保護層としての機能を果たさなくなる。また、記録感度の低下を生じる。一方、４５ｎｍより厚くなると、界面剥離を生じやすくなり、繰り返し記録性能も低下する。
【００２４】
必要に応じて、記録再生光の入射側を下としたときに、記録層の上または下、反射層の上または下に、界面層を形成することができる。記録層の上または下に界面層を形成すると、オーバーライト性能が向上する。反射層の上または下に界面層を形成すると、反射層との界面が化学的に安定化されて保存信頼性が向上する。
界面層材料としては、ＴｉＣ，ＴｉＯ２，ＴａＣ、Ｔａ２Ｏ５，ＺｒＣ，ＺｒＯ２，Ｃ，Ｓｉ，ＳｉＣ，ＳｉＮ，ＳｉＯ，ＳｉＯ２等の高温安定性に優れ、化学的不活性な物質を含む材料が望ましい。これらの材料は、単体で界面層とすることもできるが、互いの混合物としてもよい。また、必要に応じて添加物を含んでもよい。界面層の膜厚としては、１〜２０ｎｍ、好適には２〜１０ｎｍ、さらに好適には３〜７ｎｍである。このような下部保護層および上部保護層は、各種気相成長法、たとえば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。なかでも、スパッタリング法が、量産性、膜質等に優れている。
【００２５】
反射層の上には、その酸化防止のためにオーバーコート層が形成される。オーバーコート層としては、スピンコートで作製した紫外線硬化型樹脂が好適である。その厚さは、３〜１５μｍが適当である。３μｍより薄くすると、オーバーコート層上に印刷層を設ける場合、エラーの増大が認められることがある。一方、１５μｍより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。
ハードコート層としては、スピンコートで作製した紫外線硬化型樹脂が一般的である。その厚さは、２〜６μｍが適当である。２μｍより薄くすると、十分な耐擦傷性が得られない。６μｍより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。その硬度は、布でこすっても大きな傷がつかない鉛筆硬度Ｈ以上とする必要がある。必要に応じて、導電性の材料を混入させ、帯電防止を図り、埃等の付着を防止することも効果的である。
印刷層は、耐擦傷性の確保、ブランド名などのレーベル印刷、インクジェットプリンタに対するインク受容層の形成などを目的としており、紫外線硬化型樹脂をスクリーン印刷法にて形成するのが好適である。その厚さは、３〜５０μｍが適当である。３μｍより薄くすると、層形成時にムラが生じてしまう。５０μｍより厚くすると、内部応力が大きくなってしまい、ディスクの機械特性に大きく影響してしまう。
【００２６】
接着層としては、紫外線硬化型樹脂、ホットメルト接着剤、シリコーン樹脂などの接着剤を用いることができる。このような接着層の材料は、オーバーコート層または印刷層上に、材料に応じて、スピンコート、ロールコート、スクリーン印刷法などの方法により塗布し、紫外線照射、加熱、加圧等の処理を行なって反対面のディスクと貼り合わせる。反対面のディスクは、同様の単板ディスクでも透明基板のみでも良く、反対面ディスクの貼り合わせ面については、接着層の材料を塗布してもしなくても良い。また、接着層としては、粘着シートを用いることもできる。接着層の膜厚は特に制限されるものではないが、材料の塗布性、硬化性、ディスクの機械特性の影響を考慮すると５〜１００μｍ、好適には７〜５０μｍである。接着面の範囲は特に制限されるものではないが、ＤＶＤおよび／またはＣＤ互換が可能な書き換え型ディスクに応用する場合、高速記録を可能とするためには、接着強度を確保するために、内周端の位置がΦ１５〜４０ｍｍ、好適にはΦ１５〜３０ｍｍであることが望ましい。また、接着層のガラス転移温度は、光記録媒体の落下耐久性を確保するために１００℃以下が望ましい。
【実施例】
【００２７】
［実施例１］
溝幅０．２５μｍ、溝深さ２７ｎｍの案内溝を有する０．６ｍｍ厚ポリカーボネート基板を射出成型し、この基板上に、下部保護層、光記録層、上部保護層、界面層および光反射層を順次スパッタリング法により積層した。下部保護層および上部保護層にはＺｎＳＳｉＯ２（２０ｍｏｌ％）を用い、膜厚はそれぞれ６０ｎｍ、７ｎｍとした。光記録層はＧａＧｅＳｂＳｎを用い、厚さ１５ｎｍとした。界面層は、６ｎｍのＴｉＣ・ＴｉＯ２膜を用いた。反射層は、Ｉｎを０．５ｗｔ％添加した純度９９．９９ｗｔ％のＡｇ合金を使用し、厚さ２００ｎｍとした。その結果、ポリカ基板／ＺｎＳＳｉＯ２（６０ｎｍ）／ＧａＧｅＳｂＳｎ（１５ｎｍ）／ＺｎＳＳｉＯ２（７ｎｍ）／ＴｉＣＴｉＯ２（６ｎｍ）／９９．５ｗｔ％Ａｇ−０．５ｗｔ％Ｉｎ（２００ｎｍ）という層構成を形成した。
次いで、ポリカーボネートの貼りあわせ基板を光重合開始剤３ｗｔ％含有した紫外線硬化型接着剤４５μｍで貼りあわせて、さらに、光重合開始剤３ｗｔ％含有した紫外線硬化樹脂からなる印刷層１５μｍを形成し、図４の構成から樹脂保護層を除いた光記録媒体を得た。これらの重合開始剤には、フェニルケトン系を使用した。次に大口径ＬＤ（ビーム径７５×１μｍ）を有する初期化装置によって、線速度２０ｍ／ｓ、電力２０００ｍＷ、送り３６μｍで、内周から外周にむけて、線速度一定で全面結晶化した。このようにして得られた光記録媒体は、特に気になるような匂いは感じられなかった。
【００２８】
ガスクロマトグラフ／質量分析装置によって定量した有機ガス成分は、シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノン、その他がそれぞれ０．３μｇ／ｇ、０．４μｇ／ｇ、０．０μｇ／ｇ、１．２μｇ／ｇであった。有機ガス成分の総計は、１．９μｇ／ｇであった。
【００２９】
腐食欠陥発生試験は、シュリンクフィルム梱包で１ヶ月室温放置後、さらに２５℃９５％ＲＨ９時間−４０℃９５％９時間のヒートサイクル６回の試験を行なった。腐食欠陥発生の確認は、光学顕微鏡観察およびオシロスコープによるＲＦ信号のノイズ観察によって行った。その結果、腐食欠陥は観察されなかった。
【００３０】
［実施例２］
溝幅０．２５μｍ、溝深さ１５０ｎｍの案内溝を有する０．５８ｍｍ厚ポリカーボネート基板を射出成型し、この基板上に、アゾ色素のアルコール溶媒のスピンコートにより記録層を形成した。次いで、その上に、反射層として、Ｉｎをそれぞれ０．５ｗｔ％添加した純度９９．５ｗｔ％の１０ｎｍ厚Ａｇを形成した。その結果、ポリカ基板／アゾ色素／９９．５ｗｔ％Ａｇ−０．５ｗｔ％Ｉｎという層構成を形成した（ディスクＡ）。
【００３１】
一方、溝幅０．３０μｍ、溝深さ３３ｎｍの案内溝を有する０．５８ｍｍ厚ポリカーボネート基板上に、反射層として、Ｉｎをそれぞれ０．５ｗｔ％添加した純度９９．５ｗｔ％の１０ｎｍ厚Ａｇを１５０ｎｍ形成した。この反射層上にアゾ色素のアルコール溶媒のスピンコートにより記録層を形成した。ついで、この色素記録層上に、屈折率２．３の誘電体層を１５０ｎｍ形成した（ディスクＢ）。ついで、ディスクＡとディスクＢを記録層が向かい合うように接着した。接着剤は、５ｗｔ％のフェニルケトン系を光開始重合剤を含有した紫外線硬化樹脂を４５μｍに形成し、さらに３ｗｔ％のフェニルケトン系のものを光開始重合剤を含有した印刷層１０μｍ形成し、図３の構成から樹脂保護層を除いた光記録媒体を得た。このようにして得られた光記録媒体は、特に気になるような匂いは感じられなかった。
【００３２】
ガスクロマトグラフ／質量分析装置によって定量した有機ガス成分は、シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノン、その他がそれぞれ０．３μｇ／ｇ、０．３μｇ／ｇ、０．０μｇ／ｇ、１．２μｇ／ｇであった。有機ガス成分の総計は、１．８μｇ／ｇであった。
【００３３】
腐食欠陥発生試験は、シュリンクフィルム梱包で１ヶ月室温放置後、さらに２５℃９５％ＲＨ９時間−４０℃９５％９時間のヒートサイクル６回の試験を行なった。腐食欠陥発生の確認は、光学顕微鏡観察およびオシロスコープによるＲＦ信号のノイズ観察によって行なった。その結果、腐食欠陥は観察されなかった。
【００３４】
［実施例３］
溝幅０．２５μｍ、溝深さ２７ｎｍの案内溝を有する０．６ｍｍ厚ポリカーボネート基板を射出成型し、この基板上に、第一下部保護層、第一相変化記録層、第一上部保護層、反射透過層、放熱層を順次スパッタリング法により積層し、５μｍの紫外線樹脂保護層（光重合開始剤３ｗｔ％）をスピンコートし、第一情報光記録媒体とした。第一下部保護層および第二上部保護層にはＺｎＳＳｉＯ２（２０ｍｏｌ％）を用い、膜厚はそれぞれ６０ｎｍ、１０ｎｍとした。第一相変化記録層にはＩｎＳｂＴｅを用い、膜厚は９ｎｍとした。反射透過層はＣｕ−Ａｇ合金を用い、膜厚は９ｎｍとした。放熱層には、ＳｎＯ２を用い、厚さ９０ｎｍとした。一方、第二情報光記録媒体は、溝幅０．５０μｍ、溝深さ２７ｎｍの案内溝を有する０．６ｍｍ厚ポリカーボネート基板を射出成型し、この基板上に、反射層、第二上部保護層、第二相変化記録層、第二下部保護層を順次スパッタリング法により積層した。反射層は、Ａｇ−Ｉｎ合金を１４０ｎｍ形成した。第二上部保護層は１２ｎｍのＳｉ３Ｎ４を用いた。第二相変化記録層には、１１ｎｍのＧｅＩｎＳｂＴｅを用いた。第二下部保護層は６５ｎｍのＺｎＳＳｉＯ２（２０ｍｏｌ％）を用いた。次いで、第一情報光記録媒体と第二情報光記録媒体を、光重合開始剤３ｗｔ％含有した紫外線硬化型接着剤３０μｍで貼りあわせて、さらに、光重合開始剤３ｗｔ％含有した紫外線硬化樹脂からなる印刷層１５μｍを形成し、図５の構成からからなる光記録媒体を得た。紫外線硬化樹脂の総厚は５０μｍとした。これらの光重合開始剤には、フェニルケトン系を使用した。次に大口径ＬＤ（ビーム径７５×１μｍ）を有する初期化装置によって、線速度５ｍ／ｓ、電力１３００ｍＷ、送り３６μｍで、内周から外周にむけて、線速度一定で全面結晶化した。このようにして得られた光記録媒体は、特に気になるような匂いは感じられなかった。
【００３５】
ガスクロマトグラフ／質量分析装置によって定量した有機ガス成分は、シクロヘキサノン、ベンズアルデヒド、ベンゾフェノン、その他がそれぞれ０．３μｇ／ｇ、０．４μｇ／ｇ、０．０μｇ／ｇ、１．２μｇ／ｇであった。有機ガス成分の総計は、１．９μｇ／ｇであった。
【００３６】
腐食欠陥発生試験は、シュリンクフィルム梱包で１ヶ月室温放置後、さらに２５℃９５％ＲＨ９時間−４０℃９５％９時間のヒートサイクル６回の試験を行なった。腐食欠陥発生の確認は、光学顕微鏡観察およびオシロスコープによるＲＦ信号のノイズ観察によって行った。その結果、腐食欠陥は観察されなかった。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】光記録媒体のシュリンク包装を示す図である。
【図２】本発明の光記録媒体の層構成を示す図である。
【図３】本発明の光記録媒体の他の層構成を示す図である。
【図４】本発明の光記録媒体の他の層構成を示す図である。
【図５】本発明の光記録媒体の他の層構成を示す図である。
【図１】
2007109371.tif 000004
【図２】
2007109371.tif 000005
【図３】
2007109371.tif 000006
【図４】
2007109371.tif 000007
【図５】
2007109371.tif 000008