(57)【要約】【課題】レターデーション値が大きく、高湿環境下でも面状が良好な優れたセルロースアシレートフィルム、上記特性に優れたセルロースアシレートフィルムを支持体とする光学補償フィルム及び偏光板、並びに上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供する。【解決手段】重量平均分子量が６００以上３０００以下である重合体を少なくとも一つ含有し、レターデーション調整剤を少なくとも一つ含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量が６００以上３０００以下である重合体を少なくとも一つ含有し、レターデーション調整剤を少なくとも一つ含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
【請求項２】
前記レターデーション調整剤が液晶性化合物であることを特徴とする請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項３】
前記重合体が二塩基酸とグリコールの共重合体であることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項４】
前記重合体がエチレン性不飽和モノマーの重合単位を繰り返し単位とすることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項５】
前記レターデーション調整剤が下記数式（１）および（２）を満たすことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のフィルムを延伸したセルロースアシレートフィルム。
（１）（Ｒe（Ａ）−Ｒe（０））／Ａ≧５．０
（２）  ０．０１≦Ａ≦３０
ここで、数式（１）は原料セルロースアシレートを１００質量部、トリフェニルホスフェートを１２質量部及びレターデーション調整剤を数式（２）で表されるＡ質量部のみを含有するセルロースアシレートフィルムを用いて１５％の固定一軸延伸を施した場合に得られる波長５９０ｎｍにおけるＲeを表し、
Ｒe（Ａ）：レターデーション調整剤をＡ質量部含有したフィルムのＲe（ｎｍ）
Ｒe（０）：レターデーション調整剤を含有しないフィルムのＲe（ｎｍ）
Ａ：フィルム原料セルロースアシレートを１００質量部としたときのレターデーション調整剤の質量部、である。
【請求項６】
前記レターデーション調整剤が少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物または少なくとも３つの置換基を有する環状化合物からなる化合物であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項７】
前記レターデーション調整剤が、下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（Ｉ）：Ａｒ1−Ｌ1−Ａｒ2
上記一般式（Ｉ）において、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ1は単なる結合または２価の連結基を表す。
【請求項８】
前記レターデーション調整剤が、下記一般式（ＩＩ）で表される少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物であることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【化１】
2007119737.tif 000039
上記一般式（ＩＩ）において、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ1及びＬ2は、単なる結合または２価の連結基を表す。Ｌ1及びＬ2は同一であっても異なっていてもよい。ｎは３以上の整数を表す。
【請求項９】
波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590およびＲｔｈ590が、それぞれ下記数式（３）および（４）を満たすことを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（３）：２０≦Ｒｅ590≦２００
数式（４）：１００ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
【請求項１０】
セルロースアシレートフィルムのヘイズが０．０１〜２．０％であることを特徴とする請求項１ないし９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１１】
セルロースアシレートフィルムの波長５９０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（６）の関係を満たす請求項１〜１０のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（６）：｜Ｒｅ590（ｍａｘ）−Ｒｅ590（ｍｉｎ）｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ590（ｍａｘ）−Ｒｔｈ590（ｍｉｎ）｜≦１０
｛式中、Ｒｅ59０（ｍａｘ）、Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長５９０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ59０（ｍｉｎ）、Ｒｔｈ59０（ｍｉｎ）は波長５９０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝
【請求項１２】
セルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレートのアシル置換度が２.５０〜３．００であり、その平均重合度が１８０〜７００である請求項１〜１１のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１３】
セルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレートのアシル置換基が実質的にアセチル基のみからなり、その全置換度が２．５０〜２．９５であり、その平均重合度が１８０〜５５０である請求項１〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１４】
セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１〜１３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１５】
セルロースアシレートフィルムが延伸されて得られたものであり、該延伸倍率が、搬送方向に対して垂直な方向（幅方向）に１％以上１００％以下である請求項１〜１４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１６】
偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が請求項１〜１５のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１７】
液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板からなり、少なくとも１枚の偏光板が請求項１６に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１８】
液晶セルが、ＯＣＢモードまたは垂直配向モードの液晶セルであることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースアシレートフィルム及びその製造方法、該フィルムを支持体に用いた光学補償フィルム及び偏光板、さらには該偏光板を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において、視野角の拡大、画像着色の改良、及びコントラストの向上のため光学補償フィルムを使用することは広く知られた技術である。最新の表示モードであるＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）等では特にレターデーションＲｅの大きい光学補償フィルムが求められている。
セルロースアシレートフィルムのレターデーション調整技術としては、平面性の高い分子構造を有する低分子化合物を添加することで広い範囲でのレターデーション調整が可能で特に有用であり、例えば、特許文献１、特許文献２）などに具体例が開示されている。しかし、これらの化合物を用いてもレターデーションＲｅの上昇効果が不十分であり、さらなるレターデーション調整範囲の拡大技術が望まれていた。
一方、セルロースアシレートフィルムは偏光板保護フイルム等に利用する場合、柔軟性や疎水性を付与するために可塑剤を使用している。しかし、従来用いられてきた低分子可塑剤は、高温高湿環境下において可塑剤がフィルム外に析出または揮発し、その結果として面状の劣化や光学性能の低下を引き起こす懸念があった。最近の光学部材にはさらなる環境耐性など、より厳しい性能が求められており、可塑剤としてもより保留性の高いものが求められていた。これらの対策として、ポリエステル、ポリアクリレート等の高分子可塑剤を用いる技術が特許文献３及び特許文献４に開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１１１９１４号公報
【特許文献２】欧州特許第０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献３】特開平５−１９７０７３号公報
【特許文献４】特開２００３−１２８５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、レターデーション値（Ｒｅ）が大きく、高湿環境下でも面状が良好な優れたセルロースアシレートフィルムを提供することにある。
本発明の他の目的は、上記特性に優れたセルロースアシレートフィルムを支持体とする光学補償フィルム及び偏光板を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、上記偏光板を用いた表示品質の良好な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは鋭意検討した結果、レターデーション調整剤と特定分子量範囲の重合体を共存させること、さらには延伸処理を施すことにより、レターデーション発現性を促進できるという驚くべき顕著な相乗効果を有することを見出した。
さらに、従来の低分子可塑剤とレターデーション調整剤の併用時には高湿環境下で面状故障が起こる場合があるが、レターデーション調整剤と特定分子量範囲の重合体との併用により、フィルム面状故障を少なくできることを見出した。
【０００６】
すなわち、本発明の課題は以下の構成によって解決される。
〔１〕
重量平均分子量が６００以上３０００以下である重合体を少なくとも一つ含有し、レターデーション調整剤を少なくとも一つ含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
〔２〕
前記レターデーション調整剤が液晶性化合物であることを特徴とする〔１〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔３〕
前記重合体が二塩基酸とグリコールの共重合体であることを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔４〕
前記重合体がエチレン性不飽和モノマーの重合単位を繰り返し単位とすることを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔５〕
前記レターデーション調整剤が下記数式〔１〕および〔２〕を満たすことを特徴とする〔１〕ないし〔４〕のいずれかに記載のフィルムを延伸したセルロースアシレートフィルム。
（１）（Ｒe（Ａ）−Ｒe（０））／Ａ≧５．０
（２）  ０．０１≦Ａ≦３０
ここで、数式（１）は原料セルロースアシレートを１００質量部、トリフェニルホスフェートを１２質量部及びレターデーション調整剤を数式（２）で表されるＡ質量部のみを含有するセルロースアシレートフィルムを用いて１５％の固定一軸延伸を施した場合に得られる波長５９０ｎｍにおけるＲeを表し、
Ｒe（Ａ）：レターデーション調整剤をＡ質量部含有したフィルムのＲe（ｎｍ）
Ｒe（０）：レターデーション調整剤を含有しないフィルムのＲe（ｎｍ）
Ａ：フィルム原料セルロースアシレートを１００質量部としたときのレターデーション調整剤の質量部、である。
〔６〕
前記レターデーション調整剤が少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物または少なくとも３つの置換基を有する環状化合物からなる化合物であることを特徴とする〔１〕ないし〔５〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
〔７〕
前記レターデーション調整剤が、下記一般式（Ｉ）で表される少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物であることを特徴とする〔１〕ないし〔６〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（Ｉ）：Ａｒ1−Ｌ1−Ａｒ2
上記一般式（Ｉ）において、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ1は単なる結合または２価の連結基を表す。
〔８〕
前記レターデーション調整剤が、下記一般式（ＩＩ）で表される少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物であることを特徴とする〔１〕ないし〔７〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
【０００７】
【化１】
2007119737.tif 000002
【０００８】
上記一般式（ＩＩ）において、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ1及びＬ2は、単なる結合または２価の連結基を表す。Ｌ1及びＬ2は同一であっても異なっていてもよい。ｎは３以上の整数を表す。
〔９〕
波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590およびＲｔｈ590が、それぞれ下記数式（３）および（４）を満たすことを特徴とする〔１〕ないし〔８〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（３）：２０≦Ｒｅ590≦２００
数式（４）：１００ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
〔１０〕
セルロースアシレートフィルムのヘイズが０．０１〜２．０％であることを特徴とする〔１〕ないし〔９〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
〔１１〕
セルロースアシレートフィルムの波長５９０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（６）の関係を満たす〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（６）：｜Ｒｅ590（ｍａｘ）−Ｒｅ590（ｍｉｎ）｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ590（ｍａｘ）−Ｒｔｈ590（ｍｉｎ）｜≦１０
｛式中、Ｒｅ59０（ｍａｘ）、Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長５９０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ59０（ｍｉｎ）、Ｒｔｈ59０（ｍｉｎ）は波長５９０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝
〔１２〕
セルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレートのアシル置換度が２.５０〜３．００であり、その平均重合度が１８０〜７００である〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔１３〕
セルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレートのアシル置換基が実質的にアセチル基のみからなり、その全置換度が２．５０〜２．９５であり、その平均重合度が１８０〜５５０である〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
〔１４〕
セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである〔１〕〜〔１３〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
〔１５〕
セルロースアシレートフィルムが延伸されて得られたものであり、該延伸倍率が、搬送方向に対して垂直な方向（幅方向）に１％以上１００％以下である〔１〕〜〔１４〕のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
〔１６〕
偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が〔１〕〜〔１５〕のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
〔１７〕
液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板からなり、少なくとも１枚の偏光板が〔１６〕に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
〔１８〕
液晶セルが、ＯＣＢモードまたは垂直配向モードの液晶セルであることを特徴とする〔１７〕に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、レターデーション値が高くかつ高湿環境下での面状故障が少ない。これらセルロースアシレートフィルムを支持体とする光学補償フィルム及び偏光板を用いた液晶表示装置は表示品質に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」及び「（数値１）乃至（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。  
【００１１】
［重量平均分子量が６００以上３０００以下である重合体］
本発明の重量平均分子量が６００以上３０００以下である重合体について詳細に説明する。
本発明の重合体は二塩基酸とグリコールの共重合体、またはエチレン性不飽和モノマーの重合単位を繰り返し単位とする重合体であることが好ましい。本発明の重合体は二塩基酸とグリコールの共重合体であることがより好ましい。
また、特開平５−１９７０７３号公報に開示されているポリエステルエーテル、ポリエステルウレタン、ポリエステルを用いてもよい。
【００１２】
本発明の重合体の重量平均分子量は、６００以上３０００以下であり、８００以上２５００以下がより好ましい。重量平均分子量が３０００より大きいとセルロースアシレートとの相溶性が小さく好ましくない。また重量平均分子量が６００よりも小さいと、レターデーション発現性の向上効果、面状故障の低減効果が十分に発揮されない。
【００１３】
二塩基酸とグリコールの共重合体について説明する。
二塩基酸としては、脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸が好ましく、例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸などが挙げられる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコールなどを用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して用いても良い。また重合体の末端を炭素数２〜２０のアルコールで封鎖することもできる。
【００１４】
二塩基酸とグリコールの共重合体は下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が好ましい。
一般式（ＩＩＩ）
ＲＯ（ＣＯ−Ｂ−ＣＯＯ―Ｇ−Ｏ−）ｍＣＯ―Ｂ−ＣＯＯＲ
一般式（ＩＩＩ）中、Ｂは炭素数の平均が２〜１０の二塩基酸残基であり、Ｇは炭素数の平均が２〜６のグリコール残基であり、Ｒは炭素数の平均が２〜２０のアルコール残基である。ｍは１以上の整数である。
【００１５】
Ｂの炭素数の平均は２〜８であることが好ましく、４〜６であることがさらに好ましい。Ｇの炭素数の平均は２〜４であることが好ましい
【００１６】
二塩基酸としては、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸が好ましく、コハク酸、アジピン酸、およびフタル酸がより好ましい。
【００１７】
以下に二塩基酸とグリコールの共重合体の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
ＰＥ−１（コハク酸と１，４−ブチレングリコールからなるポリエステルポリオール、グリコールの炭素数の平均は３．３、二塩基酸の炭素数は４）、ＰＥ−２（アジピン酸と１，４−ブチレングリコール及びエチレングリコールからなるポリエステルポリオール、グリコールの炭素数の平均は３．３、二塩基酸の炭素数は６）、ポリサイザーＷ−２０４０、ポリサイザーＷ−２０５０、ポリサイザーＷ−１６００、ポリサイザーＷ−２０（大日本インキ社製）、アデカサイザーＰＮ１５０、アデカサイザーＰＮ１６０、アデカサイザーＰＮ７７（旭電化工業社製）、Ｄ６４３、Ｄ６３３、Ｄ６２０、Ｄ６７１（ジェイ・プラス社製）、コスモール１０２（日清オイリオ社製）。
【００１８】
エチレン性不飽和モノマーの重合単位を繰り返し単位とする重合体について説明する。ここで、重合単位とは、モノマーが重合後に形成した重合体中での単位をいう。該重合体は共重合体であってもよい。
エチレン性不飽和モノマーは（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１９】
アクリレートとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸−ｐ−ヒドロキシメチルフェニル、アクリル酸−ｐ−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、メタクリレートとして、上記アクリレートをメタクリル酸エステルに変えたもの、さらに、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−メチルシクロヘキシル）、アクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）、メタクリル酸（４−エチルシクロヘキシル）等が挙げられる。
【００２０】
また、（メタ）アクリレートモノマーは芳香環を有していてもよく、例えば、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸（２または４−クロロフェニル）、メタクリル酸（２または４−クロロフェニル）、アクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、メタクリル酸（２または３または４−エトキシカルボニルフェニル）、アクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、メタクリル酸（ｏまたはｍまたはｐ−トリル）、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル、メタクリル酸フェネチル、アクリル酸（２−ナフチル）等を挙げることが出来る。
【００２１】
芳香環を有する（メタ）アクリレートモノマーは重合体中に０以上２０質量％未満であることが好ましく、０以上１０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００２２】
以下に（メタ）アクリレートモノマーからなる重合体の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
例えば、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１０１０、ＵＰ−１０２１、ＵＰ−１０４１、ＵＰ−１０６１、ＵＨ−２０３２、ＵＨ−２０４１（東亜合成社製）、アデカスタブＦＣ−１１２、ＦＣ−１１３（旭電化工業社製）、下記一般式ＰＡ−１〜ＰＡ−１３で表される化合物等を挙げることができる。
【００２３】
【化２】
2007119737.tif 000003
【００２４】
【化３】
2007119737.tif 000004
【００２５】
【化４】
2007119737.tif 000005
【００２６】
ＰＡ−１３
【化５】
2007119737.tif 000006
【００２７】
本発明の重合体は、これを含有するセルロースアシレートフィルムが以下の数式（８）および（９）を満たすことが好ましい。
（８）（Ｔｇ（０）−Ｔｇ（Ａ））／Ａ≧０．５
（９）  ０．０１≦Ａ≦３０
ここでＴｇは後述の動的粘弾性測定装置で求めたガラス転移温度であり、
Ｔｇ（Ａ）：重合体をＡ％含有したフィルムのＴｇ（℃）
Ｔｇ（０）：重合体を含有しないフィルムのＴｇ（℃）
Ａ：フィルム原料セルロースアシレートを１００質量部としたときの重合体の質量（％）、である。
数式（８）の値は１．５以上が好ましく、２．０以上であることがより好ましい。
【００２８】
本発明の重合体の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、５〜１４質量％であることが特に好ましい。
【００２９】
本発明の重合体は、単独で用いても、２種以上を任意の比で混合して用いてもよい。
【００３０】
本発明の重合体を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００３１】
［レターデーション調整剤］
以下に本発明のレターデーション調整剤について説明する。
本発明のレターデーション調整剤は、セルロースアシレートフィルムに添加した際に下記数式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
数式（１）（Ｒe（Ａ）−Ｒe（０））／Ａ≧１．０
数式（２）  ０．０１≦Ａ≦３０
ここで、数式（１）は原料セルロースアシレートを１００質量部、トリフェニルホスフェートを１２質量部及びレターデーション調整剤を数式（２）で表されるＡ質量部のみを含有するセルロースアシレートフィルムを用いて１５％の固定一軸延伸を施した場合に得られる波長５９０ｎｍにおけるＲeを表し、
Ｒe（Ａ）：レターデーション調整剤をＡ質量部含有したフィルムのＲe（ｎｍ）
Ｒe（０）：レターデーション調整剤含有しないフィルムのＲe（ｎｍ）
Ａ：フィルム原料セルロースアシレートを１００質量部としたときのレターデーション調整剤の質量部、である。
【００３２】
数式（１）の値は、５．０以上であることが好ましく、１０．０以上であることがより好ましく、２０．０以上２００以下がさらに好ましい。
【００３３】
本発明に用いられるレターデーション調整剤は、２５０乃至４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【００３４】
本発明に用いられるレターデーション調整剤は、少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物または少なくとも３つの置換基を有する環状化合物であることが好ましい。より好ましくは少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物である。
【００３５】
本発明に用いられるレターデーション調整剤は液晶性化合物であることが好ましい。液晶相は、ネマチック相、ディスコチックネマチック相、スメクチック相、カラムナー相、その他高次液晶相などが挙げられるが、ネマチック相、ディスコチックネマチック相、スメクチック相であることが好ましい。液晶相を示す温度は５０℃以上３００℃以下のいずれかであることが好ましく、７０℃以上２５０℃以下のいずれかであることがより好ましく、１００℃以上２００℃以下のいずれかであることがさらに好ましい。
【００３６】
レターデーション調整剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１乃至３０質量部であることが好ましく、０．０５乃至２０質量部であることがより好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．２乃至５質量部の範囲で使用することが最も好ましい。
【００３７】
二種類以上のレターデーション調整剤を併用してもよい。
【００３８】
以下に少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物について説明する。
少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物は一様配向した場合に光学的正の１軸性を発現することが好ましい。
少なくとも２つ以上の芳香環を有する化合物からなるレターデーション調整剤の分子量は、３００ないし１２００であることが好ましく、４００ないし１０００であることがより好ましい。
【００３９】
少なくとも二つの芳香族環を有する化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）：Ａｒ1−Ｌ1−Ａｒ2
上記一般式（Ｉ）において、Ａｒ1およびＡｒ2は、それぞれ独立に、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基である。
本明細書において、環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
【００４０】
アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【００４１】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチル
ウレイド基）、アルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）および非芳香族性複素環基（例、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。
【００４２】
置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。
アルキル置換アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。
【００４３】
一般式（Ｉ）において、Ｌ1は、単なる結合または二価の連結基を表し、二価の連結基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基を挙げることができる。
【００４４】
一般式（Ｉ）のレターデーション調整剤は下記一般式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
【００４５】
【化６】
2007119737.tif 000007
【００４６】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3はそれぞれ独立に環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ1、Ｌ2は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表す。複数のＡｒ2及びＬ2は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。
【００４７】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００４８】
【化７】
2007119737.tif 000008
【００４９】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54は水素原子または置換基を表す。Ａｒ2は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基（アリール基または芳香族ヘテロ環）を表し、Ｌ2、Ｌ3は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、Ａｒ2、Ｌ2はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。
【００５０】
以下に、本発明に用いられる一般式（ＩＩ）で表される化合物に関して詳細に説明する。
【００５１】
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基（アリール基または芳香族ヘテロ環）を表し、Ａｒ1及びＡｒ3は一価の基であり、Ａｒ2は二価の基であることが好ましい。
【００５２】
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3で表される基が有する芳香環として好ましくは炭素数６〜３０の芳香環であり、単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
Ａｒ1及びＡｒ3としての一価の芳香環基は、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。
【００５３】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3で表される芳香環は、環骨格にヘテロ原子を有する芳香環基（芳香族ヘテロ環）であってよく、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であればいずれのヘテロ環でもよいが、好ましくは５ないし６員環の酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。また、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００５４】
芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン、ピロロトリアゾール、ピラゾロトリアゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾールである。
【００５５】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ1及びＬ2は単なる結合、または２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ47−（Ｒ47は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２ＮＲ47−、−ＮＲ47ＳＯ２−、−ＣＯＮＲ47−、−ＮＲ47ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基であり、最も好ましくは−ＣＯＮＲ47−、−ＮＲ47ＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基である。
【００５６】
本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物において、Ａｒ2はＬ1およびＬ2と結合するがＡｒ2がフェニレン基である場合、Ｌ1−Ａｒ2−Ｌ2、およびＬ2−Ａｒ2−Ｌ2は互いにパラ位（１,４−位）の関係にあることが最も好ましい。
【００５７】
ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３ないし７であり、より好ましくは３ないし５である。
【００５８】
一般式（ＩＩ）のうち好ましくは一般式（ＩＩＩ）であり、ここで一般式（ＩＩＩ）について詳しく説明する。
【００５９】
Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ａｒ2は環骨格にヘテロ原子を有していてもよい芳香環基を表し、Ｌ2、Ｌ3は単なる結合、または２価の連結基を表す。ｎは３以上の整数を表し、複数のＡｒ2及びＬ2は、それぞれ同一であっても異なっていても良い。
【００６０】
Ａｒ2、Ｌ2、およびｎは一般式（ＩＩ）の例と同一であり、Ｌ3は単なる結合、または２価の連結基を表し、２価の連結基の例として好ましくは、−ＮＲ47−（Ｒ47は水素原子、置換基を有していても良いアルキル基またはアリール基を表す）で表される基、アルキレン基、置換アルキレン基、−Ｏ−、およびこれらの２価基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ47−、−ＮＲ47ＳＯ２−、および−ＮＲ47ＣＯ−である。
【００６１】
Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45およびＲ46はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基など）、炭素数６〜１２のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。
【００６２】
Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基）である。
【００６３】
以下に、置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２-エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、
【００６４】
アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル）、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、
【００６５】
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００６６】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、
【００６７】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイルベンゾイル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。
【００６８】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００６９】
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
以下に一般式（Ｉ）、一般式（ＩＩ）および一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００７０】
【化８】
2007119737.tif 000009
【００７１】
【化９】
2007119737.tif 000010
【００７２】
【化１０】
2007119737.tif 000011
【００７３】
【化１１】
2007119737.tif 000012
【００７４】
【化１２】
2007119737.tif 000013
【００７５】
【化１３】
2007119737.tif 000014
【００７６】
【化１４】
2007119737.tif 000015
【００７７】
【化１５】
2007119737.tif 000016
【００７８】
【化１６】
2007119737.tif 000017
【００７９】
【化１７】
2007119737.tif 000018
【００８０】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば特開２００６−１６９３０３号公報に記載の方法等、公知の合成法で合成することができる。
【００８１】
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物について説明する。少なくとも３つの置換基を有する環状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有してもよい。
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物は一様配向した場合に光学的負の１軸性を発現することが好ましい。
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物からなるレターデーション調整剤の分子量は、３００ないし１０００であることが好ましく、３５０ないし８００であることがより好ましい。
【００８２】
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として好ましく用いられる。
【００８３】
前記少なくとも３つの置換基を有する環状化合物が有する芳香族環の数は、２乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であることがより好ましく、２乃至８であることがさらに好ましく、２乃至６であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【００８４】
（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。
【００８５】
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
【００８６】
（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【００８７】
芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。
【００８８】
アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基および２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および１−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、２乃至８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基および１−ヘキシニル基が含まれる。
【００８９】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。
【００９０】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。
【００９１】
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として下記一般式（ＩＶ）で表されるトリアジン化合物を用いることがより好ましい。
【００９２】
一般式（ＩＶ）
【００９３】
【化１８】
2007119737.tif 000019
【００９４】
上記一般式（ＩＶ）中：
Ｒ１２は、各々独立に、オルト位、メタ位およびパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環または複素環を表す。
Ｘ１１は、各々独立に、単結合または−ＮＲ１３−を表す。ここで、Ｒ１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
【００９５】
Ｒ１２が表す芳香族環は、フェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ１２が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基およびアシル基が含まれる。
【００９６】
Ｒ１２が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子または酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジルまたは４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Ｘ１１が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例、Ｏ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
【００９７】
【化１９】
2007119737.tif 000020
【００９８】
一般式（ＩＶ）中、Ｘ１１は単結合または−ＮＲ１３−を表す。Ｒ１３は独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。
Ｒ１３が表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基が好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基がより好ましい。アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）およびアシルオキシ基（例、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。
【００９９】
Ｒ１３が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
Ｒ１３が表す芳香族環基および複素環基は、Ｒ１２が表す芳香族環および複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基および複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ１２の芳香族環および複素環の置換基と同様である。
【０１００】
以下に本発明で使用される一般式（Ｉ）で表されるレターデーション上昇剤の具体例を示す。各例に示す複数のＲは、同一の基を意味する。Ｒの定義は具体例番号と共に式の後に示す。
【０１０１】
【化２０】
2007119737.tif 000021
【０１０２】
（１）フェニル
（２）３−エトキシカルボニルフェニル
（３）３−ブトキシフェニル
（４）ｍ−ビフェニリル
（５）３−フェニルチオフェニル
（６）３−クロロフェニル
（７）３−ベンゾイルフェニル
（８）３−アセトキシフェニル
（９）３−ベンゾイルオキシフェニル
（１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
（１１）３−メトキシフェニル
（１２）３−アニリノフェニル
（１３）３−イソブチリルアミノフェニル
（１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１７）３−メチルフェニル
（１８）３−フェノキシフェニル
（１９）３−ヒドロキシフェニル
【０１０３】
（２０）４−エトキシカルボニルフェニル
（２１）４−ブトキシフェニル
（２２）ｐ−ビフェニリル
（２３）４−フェニルチオフェニル
（２４）４−クロロフェニル
（２５）４−ベンゾイルフェニル
（２６）４−アセトキシフェニル
（２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２９）４−メトキシフェニル
（３０）４−アニリノフェニル
（３１）４−イソブチリルアミノフェニル
（３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３５）４−メチルフェニル
（３６）４−フェノキシフェニル
（３７）４−ヒドロキシフェニル
【０１０４】
（３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３９）３，４−ジブトキシフェニル
（４０）３，４−ジフェニルフェニル
（４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
（４２）３，４−ジクロロフェニル
（４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（４４）３，４−ジアセトキシフェニル
（４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（４７）３，４−ジメトキシフェニル
（４８）３，４−ジアニリノフェニル
（４９）３，４−ジメチルフェニル
（５０）３，４−ジフェノキシフェニル
（５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
（５２）２−ナフチル
【０１０５】
（５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
（５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
（５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（５７）３，４，５−トリクロロフェニル
（５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
（６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
（６４）３，４，５−トリメチルフェニル
（６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１０６】
【化２１】
2007119737.tif 000022
【０１０７】
（６７）フェニル
（６８）３−エトキシカルボニルフェニル
（６９）３−ブトキシフェニル
（７０）ｍ−ビフェニリル
（７１）３−フェニルチオフェニル
（７２）３−クロロフェニル
（７３）３−ベンゾイルフェニル
（７４）３−アセトキシフェニル
（７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（７７）３−メトキシフェニル
（７８）３−アニリノフェニル
（７９）３−イソブチリルアミノフェニル
（８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（８３）３−メチルフェニル
（８４）３−フェノキシフェニル
（８５）３−ヒドロキシフェニル
【０１０８】
（８６）４−エトキシカルボニルフェニル
（８７）４−ブトキシフェニル
（８８）ｐ−ビフェニリル
（８９）４−フェニルチオフェニル
（９０）４−クロロフェニル
（９１）４−ベンゾイルフェニル
（９２）４−アセトキシフェニル
（９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（９５）４−メトキシフェニル
（９６）４−アニリノフェニル
（９７）４−イソブチリルアミノフェニル
（９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１０１）４−メチルフェニル
（１０２）４−フェノキシフェニル
（１０３）４−ヒドロキシフェニル
【０１０９】
（１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（１０５）３，４−ジブトキシフェニル
（１０６）３，４−ジフェニルフェニル
（１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
（１０８）３，４−ジクロロフェニル
（１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
（１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
（１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（１１３）３，４−ジメトキシフェニル
（１１４）３，４−ジアニリノフェニル
（１１５）３，４−ジメチルフェニル
（１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
（１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
（１１８）２−ナフチル
【０１１０】
（１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
（１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
（１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
（１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
（１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
（１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
（１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１１１】
【化２２】
2007119737.tif 000023
【０１１２】
（１３３）フェニル
（１３４）４−ブチルフェニル
（１３５）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１３６）４−（５−ノネニル）フェニル
（１３７）ｐ−ビフェニリル
（１３８）４−エトキシカルボニルフェニル
（１３９）４−ブトキシフェニル
（１４０）４−メチルフェニル
（１４１）４−クロロフェニル
（１４２）４−フェニルチオフェニル
（１４３）４−ベンゾイルフェニル
（１４４）４−アセトキシフェニル
（１４５）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１４６）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１４７）４−メトキシフェニル
（１４８）４−アニリノフェニル
（１４９）４−イソブチリルアミノフェニル
（１５０）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１５１）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１５２）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１５３）４−フェノキシフェニル
（１５４）４−ヒドロキシフェニル
【０１１３】
（１５５）３−ブチルフェニル
（１５６）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１５７）３−（５−ノネニル）フェニル
（１５８）ｍ−ビフェニリル
（１５９）３−エトキシカルボニルフェニル
（１６０）３−ブトキシフェニル
（１６１）３−メチルフェニル
（１６２）３−クロロフェニル
（１６３）３−フェニルチオフェニル
（１６４）３−ベンゾイルフェニル
（１６５）３−アセトキシフェニル
（１６６）３−ベンゾイルオキシフェニル
（１６７）３−フェノキシカルボニルフェニル
（１６８）３−メトキシフェニル
（１６９）３−アニリノフェニル
（１７０）３−イソブチリルアミノフェニル
（１７１）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１７２）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（１７３）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１７４）３−フェノキシフェニル
（１７５）３−ヒドロキシフェニル
【０１１４】
（１７６）２−ブチルフェニル
（１７７）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１７８）２−（５−ノネニル）フェニル
（１７９）ｏ−ビフェニリル
（１８０）２−エトキシカルボニルフェニル
（１８１）２−ブトキシフェニル
（１８２）２−メチルフェニル
（１８３）２−クロロフェニル
（１８４）２−フェニルチオフェニル
（１８５）２−ベンゾイルフェニル
（１８６）２−アセトキシフェニル
（１８７）２−ベンゾイルオキシフェニル
（１８８）２−フェノキシカルボニルフェニル
（１８９）２−メトキシフェニル
（１９０）２−アニリノフェニル
（１９１）２−イソブチリルアミノフェニル
（１９２）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１９３）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（１９４）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１９５）２−フェノキシフェニル
（１９６）２−ヒドロキシフェニル
【０１１５】
（１９７）３，４−ジブチルフェニル
（１９８）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（１９９）３，４−ジフェニルフェニル
（２００）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２０１）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２０２）３，４−ジメチルフェニル
（２０３）３，４−ジクロロフェニル
（２０４）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２０５）３，４−ジアセトキシフェニル
（２０６）３，４−ジメトキシフェニル
（２０７）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２０８）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２０９）３，４−ジフェノキシフェニル
（２１０）３，４−ジヒドロキシフェニル
【０１１６】
（２１１）３，５−ジブチルフェニル
（２１２）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２１３）３，５−ジフェニルフェニル
（２１４）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（２１５）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（２１６）３，５−ジメチルフェニル
（２１７）３，５−ジクロロフェニル
（２１８）３，５−ジベンゾイルフェニル
（２１９）３，５−ジアセトキシフェニル
（２２０）３，５−ジメトキシフェニル
（２２１）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２２２）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（２２３）３，５−ジフェノキシフェニル
（２２４）３，５−ジヒドロキシフェニル
【０１１７】
（２２５）２，４−ジブチルフェニル
（２２６）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２２７）２，４−ジフェニルフェニル
（２２８）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２２９）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（２３０）２，４−ジメチルフェニル
（２３１）２，４−ジクロロフェニル
（２３２）２，４−ジベンゾイルフェニル
（２３３）２，４−ジアセトキシフェニル
（２３４）２，４−ジメトキシフェニル
（２３５）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２３６）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２３７）２，４−ジフェノキシフェニル
（２３８）２，４−ジヒドロキシフェニル
【０１１８】
（２３９）２，３−ジブチルフェニル
（２４０）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２４１）２，３−ジフェニルフェニル
（２４２）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（２４３）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（２４４）２，３−ジメチルフェニル
（２４５）２，３−ジクロロフェニル
（２４６）２，３−ジベンゾイルフェニル
（２４７）２，３−ジアセトキシフェニル
（２４８）２，３−ジメトキシフェニル
（２４９）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２５０）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（２５１）２，３−ジフェノキシフェニル
（２５２）２，３−ジヒドロキシフェニル
【０１１９】
（２５３）２，６−ジブチルフェニル
（２５４）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２５５）２，６−ジフェニルフェニル
（２５６）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（２５７）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（２５８）２，６−ジメチルフェニル
（２５９）２，６−ジクロロフェニル
（２６０）２，６−ジベンゾイルフェニル
（２６１）２，６−ジアセトキシフェニル
（２６２）２，６−ジメトキシフェニル
（２６３）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２６４）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（２６５）２，６−ジフェノキシフェニル
（２６６）２，６−ジヒドロキシフェニル
【０１２０】
（２６７）３，４，５−トリブチルフェニル
（２６８）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２６９）３，４，５−トリフェニルフェニル
（２７０）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（２７１）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（２７２）３，４，５−トリメチルフェニル
（２７３）３，４，５−トリクロロフェニル
（２７４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（２７５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（２７６）３，４，５−トリメトキシフェニル
（２７７）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２７８）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（２７９）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（２８０）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
【０１２１】
（２８１）２，４，６−トリブチルフェニル
（２８２）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２８３）２，４，６−トリフェニルフェニル
（２８４）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（２８５）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（２８６）２，４，６−トリメチルフェニル
（２８７）２，４，６−トリクロロフェニル
（２８８）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（２８９）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（２９０）２，４，６−トリメトキシフェニル
（２９１）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２９２）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（２９３）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（２９４）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
【０１２２】
（２９５）ペンタフルオロフェニル
（２９６）ペンタクロロフェニル
（２９７）ペンタメトキシフェニル
（２９８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２９９）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３００）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３０１）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３０２）３−メトキシ−２−ナフチル
（３０３）１−エトキシ−２−ナフチル
（３０４）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３０５）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３０６）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（３０７）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３０８）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル（３０９）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３１０）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
【０１２３】
（３１１）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（３１２）２−メトキシ−１−ナフチル
（３１３）４−フェノキシ−１−ナフチル
（３１４）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（３１５）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（３１６）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（３１７）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（３１８）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（３１９）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（３２０）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（３２１）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（３２２）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
【０１２４】
（３２３）メチル
（３２４）エチル
（３２５）ブチル
（３２６）オクチル
（３２７）ドデシル
（３２８）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
（３２９）ベンジル
（３３０）４−メトキシベンジル
【０１２５】
【化２３】
2007119737.tif 000024
【０１２６】
（３３１）メチル
（３３２）フェニル
（３３３）ブチル
【０１２７】
【化２４】
2007119737.tif 000025
【０１２８】
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物として下記一般式（Ｖ）で表されるトリフェニレン化合物を好ましく用いることもできる。
【０１２９】
一般式（Ｖ）
【０１３０】
【化２５】
2007119737.tif 000026
【０１３１】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9が各々表す置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１３２】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【０１３３】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１３４】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１３５】
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9が各々表す置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。
【０１３６】
以下に一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。
【０１３７】
【化２６】
2007119737.tif 000027
【０１３８】
【化２７】
2007119737.tif 000028
【０１３９】
【化２８】
2007119737.tif 000029
【０１４０】
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物である、一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば特開２００３―３４４６５５号公報に記載の方法、一般式（Ｖ）で表される化合物は、例えば特開２００５―１３４８８４号公報に記載の方法等、公知の方法により合成することができる。
【０１４１】
また、本発明のレターデーション調整剤と共にＵＶ吸収剤を併用してもよい。ＵＶ吸収剤の使用量はレターデーション調整剤に対して質量比で１０％以下が好ましく、３％以下がさらに好ましい。
【０１４２】
次に本発明の製造の対象であり、かつ光学補償フィルム、偏光板で使用するセルロースアシレートフィルムについて詳しく説明する。
【０１４３】
〔セルロースアシレート〕
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【０１４４】
［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明において好適なセルロースアシレートについて記載する。
本発明に用いられるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素数が２のアセチル基から炭素数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明においてセルロースアシレートにおける、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【０１４５】
上記のように、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることが好ましく、２．８５〜３．００であることがより好ましい。
【０１４６】
セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。最も好ましい基はアセチルである。
【０１４７】
上記のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００であることが好ましく、より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。
上記のセルロースアシレートのアシル置換基が、アセチル基のみからなる場合においては、その全置換度が２．５０〜２．９５の場合が好ましい。
【０１４８】
［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が該上限値以下であれば、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなりすぎることがなく流延によるフィルム作製が容易にできるので好ましい。重合度が該下限値以上であれば、作製したフィルムの強度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定できる。この方法は特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
【０１４９】
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜４．０であることがさらに好ましく、２．３〜３．４であることが最も好ましい。
【０１５０】
［セルロースアシレートフィルムの製造］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造する。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記した好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。
【０１５１】
炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１５２】
０℃以上の温度（常温または高温）で処理することからなる一般的な方法で、セルロースアシレート溶液を調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【０１５３】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【０１５４】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１５５】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１５６】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０１５７】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）による測定によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保持する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０１５８】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープには前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
【０１５９】
本発明では、ドープ（セルロースアシレート溶液）をバンド上に流延する場合、剥ぎ取り前乾燥の前半において１０秒以上９０秒以下、好ましくは１５秒以上９０秒以下の時間、実質的に無風で乾燥する工程を行う。また、ドラム上に流延する場合、剥ぎ取り前乾燥の前半において１秒以上１０秒以下、好ましくは２秒以上５秒以下の時間、実質的に無風で乾燥する工程を行う。
本発明において、「剥ぎ取り前乾燥」とはバンドもしくはドラム上にドープが塗布されてからフィルムとして剥ぎ取られるまでの乾燥を指すものとする。また、「前半」とはドープ塗布から剥ぎ取りまでに要する全時間の半分より前の工程を指すものとする。「実質的に無風」であるとは、バンド表面もしくはドラム表面から２００ｍｍ以内の距離において０．５ｍ／ｓ以上の風速が検出されない（風速が０．５ｍ／ｓ未満である）ことである。
剥ぎ取り前乾燥の前半は、バンド上の場合通常３０〜３００秒程度の時間であるが、その内の１０秒以上９０秒以下、好ましくは１５秒以上９０秒以下の時間、無風で乾燥する。ドラム上の場合は通常５〜３０秒程度の時間であるが、その内の１秒以上１０秒以下、好ましくは２秒以上５秒以下の時間、無風で乾燥する。雰囲気温度は０℃〜１８０℃が好ましく、４０℃〜１５０℃がさらに好ましい。無風で乾燥する操作は剥ぎ取り前乾燥の前半の任意の段階で行うことができるが、好ましくは流延直後から行うことが好ましい。無風で乾燥する時間が、バンド上の場合に１０秒未満（ドラム上の場合に１秒未満）であると、添加剤がフィルム内に均一に分布することが難しく、９０秒を超えると（ドラム上の場合１０秒を超えると）乾燥不十分で剥ぎ取られことになり、フィルムの面状が悪化する。
剥ぎ取り前乾燥における無風で乾燥する以外の時間は、は不活性ガスを送風することにより乾燥を行なうことができる。このときの風温は０℃〜１８０℃が好ましく、４０℃〜１５０℃がさらに好ましい。
【０１６０】
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【０１６１】
得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１６２】
調整したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０乃至４０％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【０１６３】
二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および、特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することもできる。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。
【０１６４】
また、二個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【０１６５】
従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０１６６】
セルロースアシレートフィルムには機械的物性を改良するために、以下の可塑剤を用いることができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースアシレートの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【０１６７】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、効果の発現及びフィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）の抑制の観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。
特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１６８】
（マット剤微粒子）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、マット剤として微粒子を含有することが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１６９】
これらの微粒子は、通常、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの二次粒子を形成しており、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在して、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０１７０】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７２」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」、「アエロジルＲ９７４」、「アエロジルＲ８１２」、「アエロジル２００」、「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジル３００」、「アエロジルＲ２０２」、「アエロジルＯＸ５０」、「アエロジルＴＴ６００」｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７６」及び「アエロジルＲ８１１」｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１７１】
これらの中では「アエロジル２００Ｖ」及び「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１７２】
本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るため、微粒子の分散液を調製する際に、いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液を予め作製し、この微粒子分散液を、別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。他にも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの、二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０１７３】
使用される溶媒は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０１７４】
［延伸］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。更には、積極的に幅方向に延伸する方法もあり、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、および特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている。これは、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とするために、製造したフィルムを延伸する。
フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度を挟む±２０℃であることが好ましい。これは、ガラス転移温度より極端に低い温度で延伸すると、破断しやすくなり所望の光学特性を発現させることができない。また、ガラス転移温度より極端に高い温度で延伸すると、延伸により分子配向したものが熱固定される前に、延伸時の熱で緩和し配向を固定化することができず、光学特性の発現性が悪くなる。
【０１７５】
さらに、延伸ゾーン（例えばテンターゾーン）において、フィルムを噛み込み、搬送し最大拡幅率を経た後に、通常緩和させるゾーンを設ける。これは軸ずれを低減するのに必要なゾーンである。通常の延伸ではこの最大拡幅率を経た後の緩和率ゾーンでは、テンターゾーンを通過させるまでの時間は１分より短く、フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸でもよく同時あるいは逐次２軸延伸でもよい。延伸は１〜２００％の延伸が行われる。好ましくは１〜１００％の延伸が、特に好ましくは１から８０％延伸を行う。光学フィルムの複屈折は幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また、延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、残留溶剤量（残留溶剤量／（残留溶剤量＋固形分量））が２乃至５０％で好ましく延伸することができる。
また本発明のセルロースアシレートフィルムは、二軸延伸をおこなってもよい。
二軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法があるが、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、ドープを流延した後、バンドもしくはドラムよりフィルムを剥ぎ取り、幅方向（長手方法）に延伸した後、長手方向（幅方向）に延伸される。
【０１７６】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【０１７７】
［セルロースアシレートフィルムの表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光子との接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
【０１７８】
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオン濃度は０．１乃至３．０モル／リットルの範囲にあることが好ましく、０．５乃至２．０モル／リットルの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲にあることが好ましく、４０乃至７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１７９】
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社１９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１８０】
［フィルムのレターデーション］
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【０１８１】
本発明のセルロースアシレートフィルムは波長５９０ｎｍにおけるＲｅ590およびＲｔｈ590が、それぞれ下記数式（３）および（４）を満たすことが好ましい。
数式（３）：２０≦Ｒｅ590≦２００
数式（４） ：１００ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
【０１８２】
本発明のセルロースアシレートフィルムは偏光板の保護フィルムとして用いられ、特に、様々な液晶モードに対応した位相差フィルムとしても好ましく用いることができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムを位相差フィルムとして用いる場合、セルロースアシレートフィルムの好ましい光学特性は液晶モードによって異なる。
ＯＣＢモード用としては、Ｒｅは２０〜１００のものが好ましく、２０〜７０のものがさらに好ましい。Ｒｔｈは１００〜３００のものが好ましく１００〜２５０のものがさらに好ましい。
ＶＡモード用としてはＲｅは２０〜１５０のものが好ましく、５０〜１３０のものがより好ましく、７０〜１２０のものがさらに好ましい。Ｒｔｈは１００〜３００のものが好ましく、１２０〜２８０のものがより好ましく、１５０〜２５０のものがさらに好ましい。
ＯＣＢモード用では前記レターデーション値を有するセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を塗布して光学補償フィルムとして使用できる。
【０１８３】
本発明のセルロースアシレートフィルムの波長５９０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（５）の関係を満たすことが好ましい。
数式（５）：０．５≦｜Ｒｔｈ590／Ｒｅ590｜≦５０
（但しＲｅ590≧１）
【０１８４】
なお、セルロースアシレートフィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至〜０．００２μｍの範囲にあることが好ましい。また、支持体フィルムおよび対向フィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００乃至〜０．０４の範囲にあることが好ましい。
【０１８５】
（セルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつき）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その波長５９０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（６）の関係を満たすことが好ましく、下記数式（６−１）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（６）：｜Ｒｅ５９０（ｍａｘ）−Ｒｅ５９０（ｍｉｎ）｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）−Ｒｔｈ59０（ｍｉｎ）｜≦１０
数式（６−１）：｜Ｒｅ59０（ｍａｘ）−Ｒｅ59０（ｍｉｎ）｜≦３で、且つ｜Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）−Ｒｔｈ59０（ｍｉｎ）｜≦５
｛式中、Ｒｅ59０（ｍａｘ）、Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長５９０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ５９０（ｍｉｎ）、Ｒｔｈ５９０（ｍｉｎ）は波長５９０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝
【０１８６】
（フィルムのヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムのヘイズは、０．０１〜２．０％であることが好ましい。より好ましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらに好ましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝を用いＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０１８７】
（分光特性、分光透過率）
セルロースアシレートフィルムの試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計“Ｕ−３２１０”｛（株）日立製作所｝にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。
【０１８８】
［光弾性］
本発明のセルロースアシレートの光弾性係数は６０×１０−８ｃｍ２／Ｎ以下が好ましく、２０×１０−８ｃｍ２／Ｎ以下がさらに好ましい。光弾性係数はエリプソメーターにより求めることができる。
【０１８９】
［ガラス転移温度］
本発明のセルロースアシレートのガラス転移温度は１２０℃以上が好ましく、更に１４０℃以上が好ましい。
ガラス転移温度は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めることができる。
また、ガラス転移温度の測定は、以下の動的粘弾性測定装置を用いて求めることもできる。本発明のセルロースアシレートフィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に動的粘弾性測定装置（バイブロン：DVA-225（アイティー計測制御(株)製））で、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２５０℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる貯蔵弾性率の急激な減少を固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点を、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であるため、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とする。
【０１９０】
（フィルムの平衡含水率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。平衡含水率が４％以下であれば、光学補償フィルムの支持体として用いる際に、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがなく好ましい。
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【０１９１】
（フィルムの透湿度）
フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８をもとに、６０℃、９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算することによって求められる。
透湿度は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ小さくなり、膜厚が薄ければ大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも、基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、下記数式（１３）に従って行うことができる。
数式（１３）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚（μｍ）／８０（μｍ）。
【０１９２】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁「蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）」に記載の方法を適用することができる。
具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを、２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置“ＫＫ−７０９００７”｛東洋精機（株）製｝にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、下記数式（１４）に従って求めた。
数式（１４）：透湿度＝調湿後質量−調湿前質量
【０１９３】
本発明のセルロースアシレートフィルムの透湿度は、４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。透湿度が２０００ｇ／ｍ2・２４ｈ以内であれば、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超えるなどの不都合が生じることがなく、また、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超えることがないので好ましい。さらにこのようなフィルムを用いて作製された光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こすことがないので好ましい。一方、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ2・２４ｈ以上であれば、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられることがなく、優れた接着性を発揮するので好ましい。
【０１９４】
（フィルムの寸度変化）
本発明のセルロースアシレートフィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０.５％以下であることが好ましい。より好ましくは０.３％以下であり、さらに好ましくは０.１５％以下である。
【０１９５】
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ｛新東科学（株）製｝にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ0）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ1）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ2）を測定した。全ての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定し、下記数式（１５）及び（１６）に従って寸度変化率を求めた。
数式（１５）：６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ0−Ｌ1｜／Ｌ0｝×１００、
数式（１６）：９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ0−Ｌ2｜／Ｌ0｝×１００。
【０１９６】
（フィルムの弾性率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ／ｍｍ2であることが好ましい、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ2であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ2である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン（株）製万能引っ張り試験機“ＳＴＭ  Ｔ５０ＢＰ”を用い、２３℃、７０ＲＨ％雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。
【０１９７】
［フィルム表面の性状］
本発明セルロースアシレートフィルムの表面は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１−１９９４に基づく表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。
【０１９８】
［フィルムの化合物保留性］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、フィルムに添加されたレターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの各種化合物の保留性が要求される。
【０１９９】
（フィルム加熱処理後の化合物揮散量）
本発明のセルロースアシレートフィルムに添加された、レターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの化合物は、８０℃、２４０時間処理したフィルムからのそれらの揮散量が３０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは２５質量％以下であり、２０質量％以下であることがさらに好ましい。なお、フィルムからの化合物の揮散量は、８０℃、２４０時間処理したフィルム及び未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に浸漬し、浸漬後の溶媒を液体高速クロマトグラフィーにて分析して、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記数式（１７）により算出した。
数式（１７）：揮散量（％）＝｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝／（未処理品中の残存化合物量）×１００。
【０２００】
（フィルム高温高湿処理後の化合物保留性）
本発明のセルロースアシレートフィルムに添加された、レターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの化合物のフィルム高温高湿処理後の保留性、具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルムを、８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置したときのフィルムの質量変化が、０〜５質量％であることが好ましい。より好ましくは０〜３質量％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
【０２０１】
（保留性の評価方法）
セルロースアシレートフィルム試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、次いで８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、下記数式（１８）に従って高温高湿処理後の化合物の保留性を計算した。
数式（１８）：高温高湿処理後の化合物保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００
【０２０２】
［フィルムの力学特性］
（カール）
本発明のセルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムには後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際の、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、フィルムの幅方向のカール値が上記の範囲内であれば、フィルムのハンドリングに支障をきたしてフィルムの切断が起きるなどの問題が生じることがない。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触して発塵し、フィルム上への異物付着が多くなって光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えるなどの問題も生じることがない。さらにカールを上記の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができるので好ましい。
【０２０３】
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【０２０４】
（引裂き強度）
フィルムの引裂き強度は、ＪＩＳ  Ｋ−７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基づく方法（エルメンドルフ引裂き法）により測定される。本発明のセルロースアシレートフィルムの引裂き強度は、膜厚２０〜８０μｍの範囲において２ｇ以上であることが好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。また６０μｍ換算では８ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、セルロースアシレートフィルム試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に、軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０２０５】
［フィルムの吸湿膨張係数］
本発明のセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることがより好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
【０２０６】
次に本発明の偏光板について詳しく説明する。
（偏光板の構成）
まず、本発明の偏光板を構成する保護フィルム、偏光子について説明する。
本発明の偏光板は、偏光子や保護フィルム以外にも、粘着剤層、セパレートフィルム、保護フィルムを構成要素として有していても構わない。
【０２０７】
（１）保護フィルム
本発明の偏光板は偏光子の両側に１ずつ合計２枚の保護フィルムを有し、少なくとも１枚は本発明のセルロースアシレートフィルムである。また、２枚の保護フィルムのうち、少なくとも一枚は位相差フィルムとしての機能を合わせてもつことが好ましい。液晶表示装置に本発明の偏光板を用いる場合、液晶セルの両側に配置される二枚の偏光板の少なくとも一方が、本発明の偏光板であることが好ましい。
本発明において用いられる保護フィルムはノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリスルフォン、セルロースアシレートなどから製造されたポリマーフィルムであることが好ましく、セルロースアシレートフィルムであることが最も好ましい。
【０２０８】
（２）偏光子
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７に記載されているようにＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
【０２０９】
ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。
ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。
ＰＶＡのシンジオタクティシティーは特許２９７８２１９号に記載されているように耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許第３３１７４９４号公報に記載されている４５〜５２．５％も好ましく用いることができる。
【０２１０】
ＰＶＡはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造方法は、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。ＰＶＡフィルムの製造は、特許第３３４２５１６号、特開平０９−３２８５９３号、特開２００１−３０２８１７号、特開２００２−１４４４０１号を参考にして行うことができる。
ＰＶＡフィルムの結晶化度は、特に限定されないが、特許第３２５１０７３号公報に記載されている平均結晶化度（Ｘｃ）５０〜７５質量％や、面内の色相バラツキを低減させるため、特開２００２−２３６２１４号公報に記載されている結晶化度３８％以下のＰＶＡフィルムを用いることができる。
【０２１１】
ＰＶＡフィルムの複屈折（Δｎ）は小さいことが好ましく、特許第３３４２５１６号公報に記載されている複屈折が１．０×１０−３以下のＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開２００２−２２８８３５号公報に記載されているように、ＰＶＡフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、ＰＶＡフィルムの複屈折を０.０２以上０.０１以下としてもよいし、特開２００２−０６０５０５号公報に記載されているように（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚの値を０．０００３以上０．０１以下としてもよい。ＰＶＡフィルムのレターデーション（面内）は０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、ＰＶＡフィルムのＲｔｈ（膜厚方向）は０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がさらに好ましい。
【０２１２】
この他、本発明の偏光板には、特許３０２１４９４号公報に記載されている１、２−グリコール結合量が１.５モル％以下のＰＶＡフィルム、特開２００１−３１６４９２号公報に記載されている５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ２当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム、特開２００２−０３０１６３号公報に記載されているフィルムのＴＤ方向の熱水切断温度範囲が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム、さらにグリセリンなどの３〜６価の多価アルコ−ルを１〜１００質量部したり、特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。
【０２１３】
ＰＶＡフィルムの延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。特開２００２−２３６２１２号公報に記載されているように水中において４倍から６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。
【０２１４】
二色性分子は、Ｉ３−やＩ５−などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や工業材料、第２８巻、第７号、p．３９〜ｐ．４５に記載されているように、ヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液およびホウ酸水溶液の少なくともいずれかの液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。
【０２１５】
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
【０２１６】
このような二色性染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３７、  Ｃｏｎｇｏ  Ｒｅｄ（Ｃ．Ｉ．  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２８）、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １２、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９０、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２２、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５１、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  １等のベンジジン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４４、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２３、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ７９等のジフェニル尿素系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２等のスチルベン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３１等のジナフチルアミン系、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８１、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７８等のＪ酸系を挙げることができる。
これ以外にも、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １６８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２０２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２３６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２４９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２７０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ８５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １９５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２１０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  ５４等が、さらに特開昭６２−７０８０２号、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開平１−２４８１０５号、特開平１−２６５２０５号、特開平７−２６１０２４号、の各公報記載の二色性染料等も好ましく使用することができる。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開２００２−０８２２２２号に記載されているように吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。
【０２１７】
フィルム中の該二色性分子の含有量は、偏光度及び単板透過率を高く維持する観点から、通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、０.０１質量％から５質量％の範囲に調整される。
偏光子の好ましい膜厚としては、５μｍ乃至〜４０μｍが好ましく、さらに好ましくは１０μｍ乃至〜３０μｍである。偏光子の厚さと後述する保護フィルムの厚さの比を、特開２００２−１７４７２７号公報に記載されている０．０１≦Ａ（偏光子膜厚）／Ｂ(保護フィルム膜厚)≦０．１６の範囲とすることも好ましい。
保護フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸の交差角は、任意の値でよいが、平行もしくは４５±２０゜の方位角であることが好ましい。
【０２１８】
（偏光板の製造工程）
次に、本発明の偏光板の製造工程について説明する。
本発明における偏光板の製造工程は、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程から構成されることが好ましい。染色工程、硬膜工程、延伸工程の順序を任意に変えること、また、いくつかの工程を組み合わせて同時に行っても構わない。また、特許第３３３１６１５に記載されているように、硬膜工程の後に水洗することも好ましく行うことができる。
【０２１９】
本発明では、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、前述の工程中あるいは後にオンライン面状検査工程を設けても構わない。
【０２２０】
膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平１０−１５３７０９号公報に記載されているように、光学性能の安定化及び、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。
また、膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、１０℃以上６０℃以下、５秒以上２０００秒以下が好ましい。
染色工程は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
【０２２１】
二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストな偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素は０．０５〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは３〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２０００が好ましい範囲である。染色時間は１０〜１２００秒が好ましく、液温度は１０〜６０℃が好ましい。さらに好ましくは、ヨウ素は０．５〜２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは３０〜１２０ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は３０〜１２０がよく、染色時間は３０〜６００秒、液温度は２０〜５０℃がよい。
また、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加しても良い。
【０２２２】
硬膜工程は、架橋剤溶液に浸漬、または溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平１１−５２１３０号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。
【０２２３】
架橋剤としては米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、特許第３３５７１０９号公報に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。
硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加しても良い。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００−３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の変わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。
【０２２４】
本発明では、塩化亜鉛を添加したホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液を作製し、ＰＶＡフィルムを浸漬させて硬膜を行うことが好ましく行われる。ホウ酸は１〜１００ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜１２０ｇ／ｌ、塩化亜鉛は０．０１〜１０ｇ／ｌ、硬膜時間は１０〜１２００秒が好ましく、液温度は１０〜６０℃が好ましい。さらに好ましくは、ホウ酸は１０〜８０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは５〜１００ｇ／ｌ、塩化亜鉛は０．０２〜８ｇ／ｌ、硬膜時間は３０〜６００秒がよく、液温度は２０〜５０℃がよい。
【０２２５】
延伸工程は、米国特許２、４５４、５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍以上１２倍以下であり、さらに好ましくは３倍以上１０倍以下である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている（保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（保護フィルム貼合時の偏光子幅/最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５とすることも好ましく行うことができる。
【０２２６】
乾燥工程は、特開２００２−８６５５４号公報で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特許第３１４８５１３号公報に記載されているように、水中退色温度を５０℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平０７−３２５２１５号公報や特開平０７−３２５２１８号公報に記載されているように温湿度管理した雰囲気でエージングすることも好ましく行うことができる。
【０２２７】
保護フィルム貼り合わせ工程は、乾燥工程を出た前述の偏光子の両面を２枚の保護フィルムで貼合する工程である。貼合直前に接着液を供給し、偏光子と保護フィルムを重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせる方法が好ましく使用される。また、特開２００１−２９６４２６号公報及び特開２００２−８６５５４号公報に記載されているように、偏光子の延伸に起因するレコードの溝状の凹凸を抑制するため、貼り合わせ時の偏光子の水分率を調整することが好ましい。本発明では０．１％〜３０％の水分率が好ましく用いられる。
【０２２８】
偏光子と保護フィルムとの接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１乃至〜５μｍが好ましく、０．０５乃至〜３μｍが特に好ましい。
【０２２９】
また、偏光子と保護フィルムの接着力を向上させるために、保護フィルムを表面処理して親水化してから接着することが好ましく行われる。表面処理の方法は特に制限は無いが、アルカリ溶液を用いてケン化する方法、コロナ処理法など公知の方法を用いることができる。また、表面処理後にゼラチン下塗り層等の易接着層を設けても良い。特開２００２−２６７８３９号に記載されているように保護フィルム表面の水との接触角は５０°以下が好ましい。
貼り合わせ後乾燥条件は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法に従うが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特開平０７−３２５２２０号公報に記載されているように温湿度管理をした雰囲気でエージングすることも好ましい。
【０２３０】
偏光子中の元素含有量は、ヨウ素０.１〜３.０ｇ／ｍ２、ホウ素０.１〜５.０g/ｍ２、カリウム０.１〜２.００ｇ／ｍ２、亜鉛０〜２.００ｇ／ｍ２であることが好ましい。また、カリウム含有量は特開２００１−１６６１４３号に記載されているように０．２質量％以下であってもよいし、偏光子中の亜鉛含有量を特開２０００−０３５５１２号公報に記載されている０．０４質量％〜０．５質量％としてもよい。
【０２３１】
特許第３３２３２５５号公報に記載されているように、偏光板の寸法安定性をあげるために、染色工程、延伸工程および硬膜工程のいずれかの工程において有機チタン化合物および／または有機ジルコニウム化合物を添加使用し、有機チタン化合物および有機ジルコニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の化合物を含有することもできる。また、偏光板の色相を調整するために二色性染料を添加しても良い。
【０２３２】
（偏光板の特性）
（１）透過率および偏光度
本発明の偏光板の好ましい単板透過率は４２．５％以上４９．５％以下であるが、さらに好ましくは４２．８％以上４９．０％以下である。式１で定義される偏光度の好ましい範囲は９９．９００％以上９９．９９９％以下であり、さらに好ましくは９９．９４０％以上９９．９９５％以下である。平行透過率の好ましい範囲は３６％以上４２％以下であり、直交透過率の好ましい範囲は、０．００１％以上０．０５％以下である。式２で定義される二色性比の好ましい範囲は４８以上１２１５以下であるが、さらに好ましくは５３以上５２５以下である。
【０２３３】
【数１】
2007119737.tif 000030
【０２３４】
【数２】
2007119737.tif 000031
【０２３５】
上述の透過率はＪＩＳＺ８７０１に基づいて、下記数式３で定義される。
【０２３６】
【数３】
2007119737.tif 000032
【０２３７】
ここで、Ｋ、Ｓ（λ）、ｙ（λ）、τ（λ）は以下の通りである。
【０２３８】
【数４】
2007119737.tif 000033
【０２３９】
Ｓ（λ）：色の表示に用いる標準光の分光分布
ｙ（λ）：ＸＹＺ系における等色関数
τ（λ）：分光透過率
【０２４０】
ヨウ素濃度と単板透過率は特開２００２−２５８０５１号公報に記載されている範囲であってもよい。
平行透過率は、特開２００１−０８３３２８号公報や特開２００２−０２２９５０号公報に記載されているように波長依存性が小さくてもよい。偏光板をクロスニコルに配置した場合の光学特性は、特開２００１−０９１７３６号公報に記載されている範囲であってもよく、平行透過率と直交透過率の関係は、特開２００２−１７４７２８号公報に記載されている範囲内であってもよい。
【０２４１】
特開２００２−２２１６１８号公報に記載されているように、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の平行透過率の標準偏差が３以下で、且つ、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の（平行透過率／直交透過率）の最小値が３００以上であってもよい。
【０２４２】
偏光板の波長４４０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、平行透過率、波長５５０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、波長６１０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率が、特開２００２−２５８０４２号公報や特開２００２−２５８０４３号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２４３】
（２）色相
本発明の偏光板の色相は、ＣＩＥ均等知覚空間として推奨されているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度指数Ｌ＊およびクロマティクネス指数ａ＊とｂ＊を用いて好ましく評価される。
Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊は、上述のＸ、Ｙ、Ｚを用い使って式５で定義される。
【０２４４】
【数５】
2007119737.tif 000034
【０２４５】
ここでＸ０、Ｙ０、Ｚ０は、照明光源の三刺激値を表し、標準光Ｃの場合、Ｘ０＝９８．０７２、Ｙ０＝１００、Ｚ０＝１１８．２２５であり、標準光Ｄ６５の場合、Ｘ０＝９５．０４５、Ｙ０＝１００、Ｚ０＝１０８．８９２である。
【０２４６】
偏光板単枚の好ましいａ＊の範囲は−２.５以上０.２以下であり、さらに好ましくは−２.０以上０以下である。偏光板単枚の好ましいｂ＊の範囲は１.５以上５以下であり、さらに好ましくは２以上４.５以下である。２枚の偏光板の平行透過光のａ＊の好ましい範囲は−４.０以上０以下であり、さらに好ましくは−３.５以上−０.５以下である。２枚の偏光板の平行透過光のｂ＊の好ましい範囲は２.０以上８以下であり、さらに好ましくは２.５以上７以下である。２枚の偏光板の直交透過光のａ＊の好ましい範囲は−０.５以上１.０以下であり、さらに好ましくは０以上２以下である。２枚の偏光板の直交透過光のｂ＊の好ましい範囲は−２.０以上２以下であり、さらに好ましくは−１.５以上０.５以下である。
【０２４７】
色相は、前述のＸ、Ｙ、Ｚから算出される色度座標(ｘ，ｙ)で評価しても良く、例えば、２枚の偏光板の平行透過光の色度（ｘｐ、ｙｐ）と直交透過光の色度（ｘｃ、ｙｃ）は、特開２００２−２１４４３６号公報、特開２００１−１６６１３６号公報や特開２００２−１６９０２４号公報に記載されている範囲にしたり、色相と吸光度の関係を特開２００１−３１１８２７号公報に記載されている範囲内にすることも好ましく行うことができる。
【０２４８】
（３）視野角特性
偏光板をクロスニコルに配置して波長５５０ｎｍの光を入射させる場合の、垂直光を入射させた場合と、偏光軸に対して４５度の方位から法線に対し４０度の角度で入射させた場合の、透過率比やｘｙ色度差を特開２００１−１６６１３５号公報や特開２００１−１６６１３７号公報に記載された範囲とすることも好ましい。また、特開平１０−０６８８１７号公報に記載されているように、クロスニコル配置した偏光板積層体の垂直方向の光透過率（Ｔ０）と、積層体の法線から６０°傾斜方向の光透過率（Ｔ６０）との比（Ｔ６０／Ｔ０）を１００００以下としたり、特開２００２−１３９６２５号公報に記載されているように、偏光板に法線から仰角８０度までの任意な角度で自然光を入射させた場合に、その透過スペクトルの５２０〜６４０ｎｍの波長範囲において波長域２０ｎｍ以内における透過光の透過率差を６％以下としたり、特開平０８−２４８２０１号公報に記載されている、フィルム上の任意の１ｃｍ離れた場所における透過光の輝度差が３０％以内とすることも好ましい。
【０２４９】
（４）耐久性
（４−１）湿熱耐久性
６０℃、９５％ＲＨの雰囲気に５００時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率が絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下であることが好ましい。また、特開平０７−０７７６０８号公報に記載されているように８０℃、９０％ＲＨ、５００時間放置後の偏光度が９５％以上、単体透過率が３８％以上であることも好ましい。
【０２５０】
（４−２）ドライ耐久性
８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率も絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に、光透過率の変化率は２％以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。
【０２５１】
（４−３）その他の耐久性
さらに、特開平０６−１６７６１１号公報に記載されているように８０℃で２時間放置した後の収縮率が０．５％以下としたり、ガラス板の両面にクロスニコル配置した偏光板積層体を６９℃の雰囲気中で７５０時間放置した後のｘ値及びｙ値が特開平１０−０６８８１８号公報に記載されている範囲内としたり、８０℃、９０％ＲＨの雰囲気中で２００時間放置処理後のラマン分光法による１０５ｃｍ−１及び１５７ｃｍ−１のスペクトル強度比の変化を、特開平０８−０９４８３４号公報や特開平０９−１９７１２７号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２５２】
（５）配向度
ＰＶＡの配向度は高い程良好な偏光性能が得られるが、偏光ラマン散乱や偏光ＦＴ−ＩＲ等の手段によって算出されるオーダーパラメーター値として０．２乃至〜１．０が好ましい範囲である。また、特開昭５９−１３３５０９号公報に記載されているように、偏光子の全非晶領域の高分子セグメントの配向係数と染料分子の配向係数（０.７５以上）との差を少なくとも０.１５としたり、特開平０４−２０４９０７号公報に記載されているように偏光子の非晶領域の配向係数が０．６５〜０．８５としたり、Ｉ３−やＩ5−の高次ヨウ素イオンの配向度を、オーダーパラメーター値として０．８乃至〜１．０と１．０とすることも好ましく行うことができる。
【０２５３】
（６）その他の特性
特開２００２−００６１３３号公報に記載されているように、８０℃３０分加熱したときの単位幅あたりの吸収軸方向の収縮力が４．０Ｎ／ｃｍ以下としたり、特開２００２−２３６２１３号公報に記載されているように、偏光板を７０℃の加熱条件下に１２０時間置いた場合に、偏光板の吸収軸方向の寸法変化率及び偏光軸方向の寸法変化率を、共に±０．６％以内としたり、偏光板の水分率を特開２００２−０９０５４６号公報に記載されているように３質量％以下とすることも好ましく行うことができる。さらに、特開２０００−２４９８３２号公報に記載されているように延伸軸に垂直な方向の表面粗さが中心線平均粗さに基づいて０．０４μｍ以下としたり、特開平１０−２６８２９４号公報に記載されているように透過軸方向の屈折率ｎ０を１．６より大きくしたり、偏光板の厚みと保護フィルムの厚みの関係を特開平１０−１１１４１１号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０２５４】
（偏光板の機能化）
本発明の偏光板は、ＬＣＤの視野角拡大フィルム、反射型ＬＣＤに適用するためのλ／４板等の位相差フィルム、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。
本発明の偏光板と上述の機能性光学フィルムを複合した構成例を図１に示した。偏光板５の片側の保護フィルムとして機能性光学フィルム３と偏光子２を粘着層を介して接着しても良いし（図１（Ａ））、偏光子２の両面に保護フィルム１ａ、１ｂを設けた偏光板５に粘着層４を介して機能性光学フィルム３を接着しても良い（図１（Ｂ））。前者の場合、もう一方の保護フィルム１には任意の透明保護フィルムを使用してもよい。また、本発明の偏光板においては、保護フィルムに光学機能層を粘着層を介して貼り合わせ、機能性光学フィルム３として、図１（Ａ）の構成とすることも好ましい。機能層や保護フィルム等の各層間の剥離強度は特開２００２−３１１２３８号公報に記載されている４．０Ｎ／２５ｍｍ以上とすることも好ましい。機能性光学フィルムは、目的とする機能に応じて液晶モジュール側に配置したり、液晶モジュールとは反対側、すなわち表示側もしくはバックライト側に配置することが好ましい。
【０２５５】
以下に本発明の偏光板と複合して使用される機能性光学フィルムについて説明する。
（１）視野角拡大フィルム
本発明の偏光板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードに提案されている視野角拡大フィルムと組み合わせて使用することができる。
【０２５６】
ＴＮモード用の視野角拡大フィルムとしては、日本印刷学会誌第３６巻第３号（１９９９）ｐ．４０〜４４、月刊ディスプレイ８月号（２００２）ｐ．２０〜２４、特開平４−２２９８２８、特開平６−７５１１５、特開平６−２１４１１６号、特開平８−５０２０６等に記載されたＷＶフィルム（富士写真フイルム（株）製）を好ましく組み合わせて使用される。
ＴＮモード用の視野角拡大フィルムの好ましい構成は、前述の透明なポリマーフィルム上に配向層と光学異方性層をこの順に有したものである。視野角拡大フィルムは粘着剤を介して偏光板と貼合され、用いられてよいが、ＳＩＤ’００  Ｄｉｇ．、ｐ．５５１(２０００)に記載されているように、前記偏光子の保護フィルムの一方も兼ねて使用されることが薄手化の観点から特に好ましい。
【０２５７】
配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成のような手段で設けることができる。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向層も知られているが、ポリマーのラビング処理により形成する配向層が特に好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより好ましく実施される。偏光子の吸収軸方向とラビング方向は実質的に平行であることが好ましい。配向層に使用するポリマーの種類は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を好ましく使用することができる。配向層の厚さは０．０１乃至〜５μｍであることが好ましく、０．０５乃至〜２μｍであることがさらに好ましい。
【０２５８】
光学異方性層は液晶性化合物を含有していることが好ましい。本発明に使用される液晶性化合物はディスコティック化合物（ディスコティック液晶）を有していることが特に好ましい。ディスコティック液晶分子は、Ｄ−１のトリフェニレン誘導体のように円盤状のコア部を有し、そこから放射状に側鎖が伸びた構造を有している。また、経時安定性を付与するため、熱、光等で反応する基をさらに導入することも好ましく行われる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。
【０２５９】
【化２９】
2007119737.tif 000035
【０２６０】
ディスコティック液晶分子は、配向層付近ではラビング方向にプレチルト角を持ってほぼフィルム平面に平行に配向しており、反対の空気面側ではディスコティック液晶分子が面に垂直に近い形で立って配向している。ディスコティック液晶層全体としては、ハイブリッド配向を取っており、この層構造によってＴＮモードのＴＦＴ−ＬＣＤの視野角拡大を実現することができる。
【０２６１】
上記光学異方性層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向層上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、ＵＶ光の照射等により重合させ、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマチック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【０２６２】
また、上記光学異方性層に添加するディスコティック化合物以外の化合物としては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に好ましい傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）、含フッ素トリアジン化合物等の空気界面側の配向制御用添加剤が、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレート等のポリマーを挙げることができる。これらの化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％の添加量にて使用される。
光学異方性層の厚さは、０．１乃至〜１０μｍであることが好ましく、０．５乃至〜５μｍであることがさらに好ましい。
【０２６３】
視野角拡大フィルムの好ましい態様は、透明基材フィルムとしてのセルロースアシレートフィルム、その上に設けられた配向層、および該配向層上に形成されたディスコティック液晶からなる光学異方性層から構成され、かつ光学異方性層がＵＶ光照射により架橋されている。
【０２６４】
また、上記以外にも視野角拡大フィルムと本発明の偏光板を組み合わせる場合、例えば、特開平０７−１９８９４２号公報に記載されているように板面に対し交差する方向に光軸を有して複屈折に異方性を示す位相差板と積層したり、特開２００２−２５８０５２号公報に記載されているように保護フィルムと光学異方性層の寸法変化率が実質的に同等とすることも好ましく行うことができる。また、特開平１２−２５８６３２号公報に記載されているように視野角拡大フィルムと貼合される偏光板の水分率を２．４％以下としたり、特開２００２−２６７８３９号公報に記載されているように視野角拡大フィルム表面の水との接触角を７０°以下とすることも好ましく行うことができる。
【０２６５】
ＩＰＳモード液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印状態の黒表示時において、基板面に平行配向した液晶分子の光学補償および偏光板の直交透過率の視野角特性向上に用いる。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。しかし斜めから観察した場合は、透過軸の交差角が９０°ではなくなり、漏れ光が生じてコントラストが低下する。本発明の偏光板をＩＰＳモード液晶セルに用いる場合は、漏れ光を低下するため特開平１０−５４９８２号公報に記載されているような面内の位相差が０に近く、かつ厚さ方向に位相差を有する視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。
【０２６６】
ＯＣＢモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界印加により液晶層中央部で垂直配向し、基板界面付近で傾斜配向した液晶層の光学補償を行い、黒表示の視野角特性を改善するために使用される。本発明の偏光板をＯＣＢモード液晶セルに用いる場合は、米国特許５８０５２５３号明細書に記載されたような円盤状の液晶性化合物をハイブリット配向させた視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。
【０２６７】
ＶＡモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印加状態で液晶分子が基板面に対して垂直配向した状態の黒表示の視野角特性を改善する。このような視野角拡大フィルムしては特許番号第２８６６３７２号公報に記載されているような面内の位相差が０に近く、かつ厚さ方向に位相差を有するフィルムや、一様配向した場合に負の１軸性を発現する化合物が基板に平行に配列したフィルムや、同じ面内レターデーション値を有する延伸フィルムを遅相軸が直交になるように積層配置したフィルムや、偏光板の斜め方向の直交透過率悪化防止のために液晶分子のような一様配向した場合に正の１軸性を発現する化合物からなるフィルムを積層したものと好ましく組み合わせて用いられる。
【０２６８】
（２）位相差フィルム
本発明の偏光板は、位相差層を有することが好ましい。本発明における位相差層としてはλ／４板が好ましく、本発明の偏光板とλ／４板とを積層させることで、円偏光板として使用することができる。円偏光板は入射した光を円偏光に変換する機能を有しており、反射型液晶表示装置やＥＣＢモードなどの半透過型液晶表示装置、あるいは有機EL素子等に好ましく利用されている。
【０２６９】
本発明に用いるλ／４板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の１／４のレターデーション（Ｒｅ）を有する位相差フィルムであることが好ましい。「可視光の波長の範囲において概ね１／４のレターデーション」とは、波長４００から７００ｎｍにおいて長波長ほどレターデーションが大きく、波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ４５０）が８０乃至〜１２５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ５９０）が１２０乃至〜１６０ｎｍである関係を満足する範囲を示す。Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが特に好ましい。
【０２７０】
本発明で用いるλ／４板は上記の条件を満たしていれば特に制限はないが、例えば、特開平５−２７１１８号公報、特開平１０−６８８１６号公報、特開平１０−９０５２１号公報に記載された複数のポリマーフィルムを積層したλ／４板、ＷＯ００／６５３８４号公報、ＷＯ００／２６７０５号公報に記載された１枚のポリマーフィルムを延伸したλ／４板、特開２０００−２８４１２６号公報、特開２００２−３１７１７号公報に記載されたポリマーフィルム上に少なくとも１層以上の光学異方性層を設けたλ／４板など公知のλ／４板を用いることができる。また、ポリマーフィルムの遅相軸の方向や光学異方性層の配向方向は液晶セルに合わせて任意の方向に配置することができる。
【０２７１】
円偏光板において、λ／４板の遅相軸と上記偏光子の透過軸は、任意の角度で交差できるが、４５゜±２０°の範囲で交差されることが好ましい。但し、λ／４板の遅相軸と上記偏光子の透過軸は上記以外の範囲で交差されても構わない。
【０２７２】
λ／４板をλ／４板およびλ／２板を積層して構成する場合は、特許番号第３２３６３０４号公報や特開平１０−６８８１６号公報に記載されているように、λ／４板およびλ／２板の面内の遅相軸と偏光板の透過軸とがなす角度が実質的に７５°および１５゜となるように貼り合わせることが好ましい。
【０２７３】
（３）反射防止フィルム
本発明の偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１.５％程度のフィルム、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報, ｖｏｌ．３８, Ｎｏ．１，ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０２７４】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０２７５】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０２７６】
含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
【０２７７】
含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０２７８】
低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０２７９】
中屈折率層および高屈折率層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用する（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０２８０】
マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。
【０２８１】
反射防止フィルムのヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０２８２】
（４）輝度向上フィルム
本発明の偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明の偏光板と組み合わせることができる。
【０２８３】
異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式（ＷＯ９５／１７６９１号、ＷＯ９５／１７６９２号、ＷＯ９５／１７６９９号の各明細書記載）やコレステリック液晶方式（欧州特許６０６９４０Ａ２号明細書、特開平８−２７１７３１号公報記載）が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはＤＢＥＦ−Ｅ、ＤＢＥＦ−Ｄ、ＤＢＥＦ−Ｍ（いずれも３Ｍ社製）、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはＮＩＰＯＣＳ（日東電工（株）製）が本発明で好ましく使用される。ＮＩＰＯＣＳについては、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，ｍａｙ，２０００，１９頁〜２１頁などを参考にすることができる。
【０２８４】
また、本発明ではＷＯ９７／３２２２３号、ＷＯ９７／３２２２４号、ＷＯ９７／３２２２５号、ＷＯ９７／３２２２６号の各明細書および特開平９−２７４１０８号、同１１−１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムとを組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ−Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。
本発明の偏光板と輝度向上フィルムは、粘着剤を介して貼合された形態、もしくは偏光板の保護フィルムの一方を輝度向上フィルムとした一体型として使用することが好ましい。
【０２８５】
（５）他の機能性光学フィルム
本発明の偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは視野角補償フィルムにおける光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側および偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０２８６】
（５−１）ハードコート層
本発明の偏光板は耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び熱の少なくともいずれかの手段による硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ００／４６６１７号公報等記載のものを好ましく使用することができる。
ハードコート層の膜厚は、０．２〜１００μｍであることが好ましい。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０２８７】
ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。また、市販化合物としては、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０２８８】
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０２８９】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明のハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、１ｎｍないし２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０２９０】
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０２９１】
ハードコート層は、熱または活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
【０２９２】
（５−２）前方散乱層
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学の技術レポート「光機能性フィルム」３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
【０２９３】
（５−３）アンチグレア層
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等を好ましく使用することができる。
【０２９４】
５．（偏光板を使用する液晶表示装置）
次に本発明の偏光板が使用される液晶表示装置について説明する。
図２は、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置の一例である。
【０２９５】
図２に示す液晶表示装置は、液晶セル（１０〜１３）、および液晶セル（１０〜１３）を挟持して配置された上側偏光板６と下側偏光板１７とを有する。偏光板は偏光子および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図２中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。液晶セルは、上側基板１０および下側基板１３と、これらに挟持される液晶分子１２から形成される液晶層からなる。液晶セルは、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行う液晶分子の配向状態の違いで、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードに分類されるが、本発明の偏光板は透過および反射型によらず、いずれの表示モードにも使用できる。
【０２９６】
基板１０および１３の液晶分子１２に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、配向膜上に施されたラビング処理等により、電界無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子１２の配向が制御されている。また、基板１０および１３の内面には、液晶分子１２からなる液晶層に電界を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。
【０２９７】
ＴＮモードのラビング方向は上下基板で互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後焼成して形成する。液晶層のねじれ角（ツイスト角）の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル剤により決まる。ここではツイスト角が９０°になるようにするためピッチ６０μｍ程度のカイラル剤を添加する。
なお、ツイスト角は、ノートパソコンやパソコンモニタ、テレビ用の液晶表示装置の場合は９０°近傍（８５から９５°）に、携帯電話などの反射型表示装置として使用する場合は０から７０°に設定する。またＩＰＳモードやＥＣＢモードでは、ツイスト角が０°となる。ＩＰＳモードでは電極が下側基板８のみに配置され、基板面に平行な電界が印加される。また、ＯＣＢモードでは、ツイスト角がなく、チルト角を大きくされ、ＶＡモードでは液晶分子１２が上下基板に垂直に配向する。
【０２９８】
ここで液晶層の厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎｄの大きさは白表示時の明るさを変化させる。このため最大の明るさを得るために表示モード毎にその範囲を設定する。
上側偏光板６の吸収軸７と下側偏光板１７の板１７の吸収軸１８の交差角は一般に概略直交に積層することで高コントラストが得られる。液晶セルの上側偏光板６の吸収軸７と上側基板１０のラビング方向の交差角は液晶表示モードによってことなるが、ＴＮ、ＩＰＳモードでは一般に平行か垂直に設定する。ＯＣＢ、ＥＣＢモードでは４５°に設定することが多い。ただし、表示色の色調や視野角の調整のために各表示モードで最適値が異なり、この範囲に限定されるわけではない。
【０２９９】
本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、図２の構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光子との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、液晶セルと偏光板との間に、別途、前述した視野角拡大フィルム８、１５を配置することもできる。偏光板６、１７と視野角拡大フィルム８、１５は粘着剤で貼合した積層形態で配置されてもよいし、液晶セル側保護フィルムの一方を視野角拡大に使用した、いわゆる一体型楕円偏光板として配置されてもよい。
【０３００】
また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置できる。また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けてもよい。
【実施例】
【０３０１】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。しかしながら、本発明は実施例に限定されることはない。
＜レターデーションの測定＞
Ｒｅ、及びＲｔｈは明細書記載の方法により自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用い、測定波長５９０ｎｍ、２５℃６０％ＲＨで測定した。
【０３０２】
〔実施例１〕
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート（平均重合度３１０）
１００．０質量部
ポリサイザーＷ−２０４０                              １２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                                ６０．０質量部
【０３０３】
（マット剤溶液の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
＜マット剤溶液組成＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子                          ２．０質量部
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                              １１．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                          １０．３質量部
なお、シリカ粒子の調液後の二次粒径は０．３μｍであった。
【０３０４】
（レターデーション調整剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション調整剤溶液を調製した。
＜レターデーション調整剤溶液組成＞
レターデーション調整剤（例示番号Ｂ−（１））          １４．１質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                            １２．８質量部
【０３０５】
（セルロースアセテートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、レターデーション上昇剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて１０ｍ／ｍｉｎの速度で流延した。レターデーション調整剤のセルロースアセテートに対する質量比は３．５％であった。露点−１０℃の風で残留溶剤量３０％まで乾燥した後フィルムをバンドから剥離した。さらに、１４０℃の条件で、残留溶剤量が４０質量％のフィルムをテンターを用いて１８％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま１４０℃で３０秒間保持した。その後、クリップを外して１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は９２μｍであった。
本発明において、支持体上形成されたフィルム中の残留溶剤量は次式で表される。
残留溶剤量＝（残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量）×１００％
尚、残存揮発分質量はフィルムを１１５℃で１時間加熱処理したとき、加熱処理前のフィルム質量から加熱処理後のフィルム質量を引いた値である。
【０３０６】
重合体（または低分子可塑剤）及びレターデーション調整剤を下記表１に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム１０２〜１１６を作製した。
【０３０７】
セルロースアセテートフィルム試料（１０２）〜（１１６）の膜厚は、何れも７９．５〜８０．５μｍの範囲であった。また試料（１０１）〜（１１６）では、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの厚さの最大値と最小値の差は、厚さの平均値に対し何れも５％以内であった。
【０３０８】
上記セルロースアセテートフィルム試料に使用した本発明のレターデーション調整剤の前記数式（１）の値は、Ａが２質量部のとき、Ｂ−（１）が３１、Ｂ−（５２）が２０、Ｅ−（３３４）が１５であった。
また、Ｒｅ、Ｒｔｈ、ヘイズを前述の方法で測定し、表１に示した。
【０３０９】
［高湿環境下での面状故障］
得られたセルロースアセテートフィルム試料をロール状に巻き取り、この元巻きを３５℃、９０％ＲＨで２ヶ月間保存した。各セルロースアセテートフィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに裁断し、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で倍率３０倍で観察し、異物発生箇所の個数で下記の評価を行った。
○：異物の個数０〜１０個
△：異物の個数１１〜５０個
×：異物の個数５１個以上
【０３１０】
【表１】
2007119737.tif 000036
【０３１１】
レターデーション調整剤Ｂ−(１)は１３０℃以上でネマチック相を示し、Ｂ−（５２）は５０℃〜１４０℃で高次液晶相を示した（降温時）。Ｅ−（３３４）は非液晶であった。
【０３１２】
分子量５０００以上の重合体、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１０８０を使用した場合、セルロースアセテートとの相溶性が小さくブリードアウトが発生した。ブリードアウトはフィルム表面を目視で観察し、表面の異物の有無により評価した。
【０３１３】
上記セルロースアセテートフィルム試料のレターデーションの面内ばらつきは、いずれの試料においても、数式（６）における｜Ｒｅ５９０（ｍａｘ）−Ｒｅ５９０（ｍｉｎ）｜≦２であり、｜Ｒｔｈ59０（ｍａｘ）−Ｒｔｈ59０（ｍｉｎ）｜≦３であった。
【０３１４】
表１の結果から、本発明のレターデーション調整剤は低分子可塑剤とともに使用するより、本発明の重合体と併用することでより大きなＲｅを得ることができることが分かる。また、本発明のレターデーション調整剤と重合体の併用によれば、面状故障がなく好ましいことが分かる。
また、液晶性化合物であるＢ-(１)、Ｂ-（５２）と重量平均分子量が６００異常３０００以下である重合体との併用によるＲｅの増加が、非液晶性化合物であるＥ−（３３４）より大きいことが分かる。重合体は低分子可塑剤に比べてレターデーション調整剤との相溶性が小さく、フィルム中でのポリマーマトリクス内で液晶相を経由した配向性の向上が促進されていると推定している。
【０３１５】
〔実施例２〕
(鹸化処理)
実施例１で作製したセルロースアセテートフィルム１０１上に下記組成の液を５．２ｍｌ／ｍ２塗布し、６０℃で１０秒間乾燥させた。フィルムの表面を流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルム表面を乾燥させた。
＜鹸化液組成＞
イソプロピルアルコール                                  ８１８質量部
水                                                      １６７質量部
プロピレングリコール                                    １８７質量部
水酸化カリウム                                            ８０質量部
【０３１６】
（配向膜の形成）
ケン化処理したセルロースアセテートフィルム（１０１）のバンド面側に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して配向膜を形成した。
次に、セルロースアセテートフィルム（１０１）の延伸方向（遅相軸と一致）と４５゜の方向に形成した配向膜にラビング処理を実施した。
【０３１７】
＜配向膜塗布液組成＞
下記構造の変性ポリビニルアルコール                        ２０質量部
水                                                      ３６０質量部
メタノール                                              １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            １．０質量部
【０３１８】
【化３０】
2007119737.tif 000037
【０３１９】
（光学異方性層の形成及び光学補償フィルムの作製）
上記配向膜上に、下記ディスコティック化合物９１質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１質量部を、２１４．２質量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーコーターで５．２ｍｌ／ｍ２塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、ディスコティック化合物を配向させた。次に、９０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成すると共に、ハイブリッド型光学補償フィルム（１０１）を作製した。
【０３２０】
【化３１】
2007119737.tif 000038
【０３２１】
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
次に、作製した光学補償フィルム（１０１）の透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸および偏光膜の透過軸が平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を前記と同様にケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側（光学補償フィルムを貼り付けなかった側）に貼り付けた。
このようにして、楕円偏光板（２０１）を作製した。
【０３２２】
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
【０３２３】
（液晶表示装置の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した楕円偏光板（２０１）を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する配向膜のラビング方向とが反平行となるように配置した。
セルロースアセテートフィルム（１０４）及び（１０５）についても同様にして、これを使用した光学補償フィルムつき楕円偏光板を貼り付けた液晶表示装置を作製し、黒表示での点欠陥、しみ等の表示故障を調べた。
本発明のセルロースアセテートフィルムを使用した液晶表示装置は表示上の欠陥が少なく、良好な画像が得られることがわかった。
【０３２４】
〔実施例３〕
(鹸化処理)
実施例１で作製したセルロースアセテートフィルム１０１を、１．４モル／リットルの水酸化カリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１モル／リットルの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１１０℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフィルムの表面をケン化した。
さらに市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化し、以下の試料作製に供した。
【０３２５】
（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理したセルロースアセテートフィルム１０１を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアセテートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに実施例２で鹸化処理したフジタックＴＤ８０ＵＦをポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板（３０１）を作製した。
【０３２６】
〔ＶＡ液晶表示装置の作成と評価２〕
図３の液晶表示装置を作製した。即ち、観察方向（上）から上側偏光板３０、ＶＡモード液晶セル３１（上基板、液晶層、下基板）、下側偏光板３２を積層し、さらにバックライト光源を配置した。以下の例では、上側偏光板に市販品の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８）を用いて、下側偏光板に本発明の偏光板を使用している。
【０３２７】
＜液晶セルの作製＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のリターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
【０３２８】
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図３）の上側偏光板に、市販品のスーパーハイコントラスト品（株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８）を、下側偏光板に作製した偏光板（３０１）を、実施例１のセルロースアシレートフィルム（１０１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、バックライト側に貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
本発明の液晶表示装置は点欠陥がなく、かつ連続点灯しても光漏れが小さく、優れた表示品位を有していることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０３２９】
【図１】本発明の偏光板と機能性光学フィルムとを複合した構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の偏光板が使用されている液晶表示装置の一例を模式的に示す見取り図である。
【図３】実施例７で作製したＶＡ液晶表示装置の概略断面図である。
【符号の説明】
【０３３０】
１、１ａ、１ｂ  保護フィルム
２              偏光子
３              機能性光学フィルム
４              粘着層
５              偏光板
６              上偏光板
７              上偏光板吸収軸
８              上光学異方性層
９              上光学異方性層配向制御方向
１０              液晶セル上電極基板
１１              上基板配向制御方向
１２              液晶分子
１３              液晶セル下電極基板
１４              下基板配向制御方向
１５              下光学異方性層
１６              下光学異方性層配向制御方向
１７              下偏光板
１８              下偏光板吸収軸
３０              上側偏光板
３１              ＶＡモード液晶セル
３２              下側偏光板
３３              セルロースアシレートフィルム
３４              偏光子
【図１】
2007119737.tif 000040
【図２】
2007119737.tif 000041
【図３】
2007119737.tif 000042