(57)【要約】【課題】テーブル外からテーブルに配線・配管されるケーブル類がテーブルに与える力を低減することができるステージ装置等を提供する。【解決手段】ステージ装置ＷＳＴは、少なくとも第一方向（Ｘ）及び第一方向と交差する第二方向（Ｙ）に移動可能な移動部材６３と、湾曲部Ｃ２を介して一端が固定部ＦＣに接続され、他端が第一方向に沿って延びるほぼ直線状部分Ｃ１を介して移動部材６３に接続された線状部材Ｃと、移動部材６３とは独立して設けられ、線状部材Ｃにおける直線状部分Ｃ１の少なくとも一部を保持して第一方向に移動可能な案内部材と、を備える。【選択図】図２
2007305778.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第一方向及び前記第一方向と交差する第二方向に移動可能な移動部材と、
湾曲部を介して一端が固定部に接続され、他端が前記第一方向に沿って延びるほぼ直線状部分を介して前記移動部材に接続された線状部材と、
前記移動部材とは独立して設けられ、前記線状部材における前記直線状部分の少なくとも一部を保持して前記第一方向に移動可能な案内部材と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
移動部材は、前記第一方向及び前記第二方向に移動可能なテーブルと、前記テーブルの移動により発生した反力により前記テーブルの移動方向と反対方向に移動するカウンタマスとを含み、
前記線状部材の他端は、前記テーブル又は前記カウンタマスとのいずれか一方に接続されていることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記案内部材は、前記固定部に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記案内部材は、前記第二方向への移動が規制されていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記案内部材は、前記線状部材の前記移動部材との接続部と前記案内部材における前記線状部材の一部を保持する保持部とに接続されて前記接続部と前記案内部材との距離をほぼ一定に維持する第一部材を含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記案内部材は、前記固定部に設置された第二部材と、前記線状部材を保持して前記第二部材に対して移動可能な第三部材とを含み、
前記第一部材は前記接続部と前記第二部材とに互いに回転可能に接続されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記カウンタマスは、前記第一方向及び前記第二方向に移動可能であるとともに、前記第一方向と前記第二方向に直交する第三方向回りに回転可能であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記固定部は、前記移動部材の少なくとも一部が搭載されているベースであることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記線状部材は、前記移動部材に接続されたケーブルを含むことを特徴とする請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記直線状部分は、前記第一方向及び前記第二方向と交叉する方向に、複数の線状部材を帯状に束ねられていることを特徴とする請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項１１】
基板ステージ上に保持された基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、
前記基板ステージに請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
マスクステージ上に保持されたマスクパターンを基板ステージ上に保持された基板に形成する露光装置であって、
前記マスクステージと前記基板ステージの少なくとも一方に請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項１１又は請求項１２に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１４】
少なくとも第一方向及び前記第一方向と交差する第二方向に移動可能な移動部材との間に連結される線状部材の配線方法であって、
前記線状部材を、湾曲部を介して一端を固定部に接続し、他端を前記第一方向に沿って延びるほぼ直線状部分をさらに介して前記移動部材に接続すると共に、
前記移動部材とは独立して設けられた前記第一方向に移動可能な案内部材によって、前記線状部材の一部を保持することを特徴とする配線方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法、配線方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、投影光学系を介して半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するリソグラフィ工程では、マスク（又はレチクル）のパターンの像を感光剤が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の感光性の物体上の複数のショット領域の各々に転写するステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。
【０００３】
この種の投影露光装置では、マスクや感光剤（レジスト）が塗布された基板をステージ上のテーブルに載置して移動させている。これらのテーブルには、例えば、マスク又は基板を吸着する真空吸着チェック、テーブルを駆動する駆動部、各種センサ類など配置されており、これらに接続するパイプ・チューブや各種ケーブル等（以下、ケーブル類という）がテーブルとベースとの間に配線・配管されている。
【０００４】
ところで、集積回路の高集積化や高い生産性を実現するために、テーブルの位置決め精度の高精度化や高速化が要請されている。テーブルの高位置決め精度化や高速化を実現する際には、テーブルとベースとの間に配線・配管されるケーブル類の影響を無視することができない。
このため、例えば、テーブルがケーブル類から受ける力をセンサで検出して、駆動部をフィードフォワード制御することで、ケーブル類から受ける力の影響を排除する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−２０８４１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した技術では、テーブルが停止している場合であっても、ケーブル類から受ける力を打ち消すための駆動力をモータ等が常に出力し続ける必要があるため、ランニングコスト（消費電力）の上昇を招いてしまうという問題がある。また、上記の出力に十分耐えるために、より高性能なモータを必要とするので、コストの上昇を招いてします。また、テーブルがケーブル類から受ける力を検出するセンサを配置することによる装置コストの上昇も問題となる。
【０００６】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、テーブル外からテーブルに配線・配管されるケーブル類がテーブルに与える力を低減することができるステージ装置、これを用いた露光装置、デバイスの製造方法、配線方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法、配線方法では、上記課題を解決するために、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００８】
第一の発明に係るステージ装置（ＷＳＴ）は、少なくとも第一方向（Ｘ）及び前記第一方向と交差する第二方向（Ｙ）に移動可能な移動部材（６３）と、湾曲部（Ｃ２）を介して一端が固定部（ＦＣ）に接続され、他端が前記第一方向に沿って延びるほぼ直線状部分（Ｃ１）を介して前記移動部材に接続された線状部材（Ｃ）と、前記移動部材とは独立して設けられ、前記線状部材における前記直線状部分の少なくとも一部を保持して前記第一方向に移動可能な案内部材（３０）と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
第二の発明は、基板ステージ（ＷＳＴ）上に保持された基板（Ｗ）に所定のパターン形成する露光装置（ＥＸ）であって、前記基板ステージに、第一の発明のステージ装置を用いるようにした。
また、マスクステージ（ＲＳＴ）上に保持されたマスクパターン（ＰＡ）を基板ステージ（ＷＳＴ）上に保持された基板（Ｗ）に形成する露光装置（ＥＸ）であって、前記マスクステージと前記基板ステージの少なくとも一方に第一の発明のステージ装置を用いるようにした。
【００１０】
第三の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において第二の発明の露光装置（ＥＸ）を用いるようにした。
【００１１】
第四の発明は、少なくとも第一方向（Ｘ）及び前記第一方向と交差する第二方向（Ｙ）に移動可能な移動部材（６３）との間に連結される線状部材（Ｃ）の配線方法であって、前記線状部材を、湾曲部（Ｃ２）を介して一端を固定部（ＦＣ）に接続し、他端を前記第一方向に沿って延びるほぼ直線状部分（Ｃ１）をさらに介して前記移動部材に接続すると共に、前記移動部材とは独立して設けられた前記第一方向に移動可能な案内部材（３０）によって、前記線状部材の一部を保持することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
少なくとも二次元に移動可能な移動部材に線状部材を配線・配管した際に、移動部材が線状部材から受ける力を案内部材が受け止めるので、線状部材が移動部材に悪影響を与えることがなくなる。これにより、移動部材の位置制御を効率的かつ高精度に行うことが可能となる。また、モータの駆動力（出力）を抑えることができるのでモータのコストを抑えることができる。
したがって、このようなステージ装置を備えた露光装置は、ランニングコストを抑えることができる。そして、安価で高性能なデバイスを製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明のステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法、配線方法の実施形態について図を参照して説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。
露光装置ＥＸは、レチクルＲとウエハＷとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成されたパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによりレチクルＲを照明する照明光学系ＩＬ、レチクルＲを保持して移動可能なレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬ、ウエハＷをウエハホルダＷＨを介して保持しつつ移動可能なウエハステージＷＳＴ、露光装置ＥＸを統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴ等を備える。
なお、以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ方向、Ｚ方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＸ方向、Ｚ方向及びＸ方向に垂直な方向（非走査方向）をＹ方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ及びθＺ方向とする。
【００１４】
照明光学系ＩＬは、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲを露光光ＥＬで照明するものであり、露光光ＥＬを射出する露光用光源、露光用光源から射出された露光光ＥＬの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ＥＬによるレチクルＲ上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクルＲ上の所定の照明領域は、照明光学系ＩＬにより均一な照度分布の露光光ＥＬで照明される。
【００１５】
照明光学系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。
【００１６】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを保持して移動可能であって、レチクルホルダＲＨによりレチクルＲを真空吸着して保持している。
レチクルステージＲＳＴは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわち、ＸＹ平面内で２次元移動可能及びθＺ方向に微小回転可能である。
レチクルステージＲＳＴは、リニアモータ等のレチクルステージ駆動部ＲＳＴＤにより駆動される。そして、レチクルステージ駆動部ＲＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００１７】
レチクルステージＲＳＴ上には、移動鏡５１が設けられている。また、移動鏡５１に対向する位置には、レーザ干渉計５２が設けられている。これにより、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲの２次元方向（ＸＹ方向）の位置及びθＺ方向の回転角（場合によってはθＸ、θＹ方向の回転角も含む）は、レーザ干渉計５２によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計５２の計測結果は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計５２の計測結果に基づいてレチクルステージ駆動部ＲＳＴＤを駆動することでレチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲの位置を制御する。
【００１８】
投影光学系ＰＬは、レチクルＲのパターンを所定の投影倍率βでウエハＷに投影露光するものである。投影光学系ＰＬは、ウエハＷ側の先端部に設けられた光学素子を含む複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒ＰＫで支持されている。投影光学系ＰＬは、投影倍率βが、例えば１／４、１／５、あるいは１／８の縮小系である。
なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬの先端部の光学素子は鏡筒ＰＫに対して着脱（交換）可能に設けられる。
【００１９】
ウエハステージＷＳＴは、ウエハＷを支持しつつ移動するものであって、ウエハＷをウエハホルダＷＨを介して保持して、Ｚ方向、θＸ方向及びθＹ方向の３自由度方向に微小駆動するＺテーブル６１、Ｚテーブル６１を支持しつつ、Ｙ方向に連続移動及びＸ方向にステップ移動するＸＹテーブル６２を備えている。
ウエハステージＷＳＴ（Ｚテーブル６１，ＸＹテーブル６２）は、リニアモータ等のウエハステージ駆動部ＷＳＴＤ（リニアモータ７０，８２，８４、図２参照）により駆動される。ウエハステージ駆動部ＷＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御される。そして、Ｚテーブル６１を駆動することにより、Ｚテーブル６１上のウエハホルダＷＨに保持されているウエハＷのＺ方向における位置（フォーカス位置）等が制御される。また、ＸＹテーブル６２を駆動することにより、ウエハＷのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。
【００２０】
ＸＹテーブル６２をＸＹ平面内で移動可能に支持するウエハ定盤６３等は、床面Ｆ上に載置されたベースプレートＦＣ上に不図示のエアベアリング（エアパッド）を介して浮上支持されている。ウエハ定盤６３がベースプレートＦＣ上に浮上支持されるのは、ＸＹテーブル６２の移動により発生した反力によりウエハ定盤６３をカウンタマスとして逆方向（Ｘ方向、Ｙ方向、θｚ方向）に移動させて、この反力を運動量保存の法則により相殺するためである。
【００２１】
また、ウエハ定盤６３をベースプレートＦＣの所定範囲内でＸ方向、Ｙ方向、θＺ方向に移動するアクチュエータ９０，９１，９２（トリムモータ等）が設けられている。アクチュエータ９０，９１は、ウエハ定盤６３に設けられた可動子９０Ａ，９１Ａと、ベースプレートＦＣに設けられた固定子９０Ｂ，９１Ｂを有しており、ウエハ定盤６３をＸ方向に移動可能であると共に、ウエハ定盤６３をθＺ方向に移動可能である。アクチュエータ９２は、ウエハ定盤６３に設けられた可動子９２Ａと、ベースプレートＦＣに設けられた固定子９２Ｂを有しており、ウエハ定盤６３をＹ方向に移動可能である。リニアモータ７０，８２，８４の駆動によるＸＹテーブル６２の移動による反力によって、ウエハ定盤６３が移動したものをもとに戻すように、アクチュエータ９０，９１，９２が制御される。
【００２２】
Ｚテーブル６１上には、移動鏡５３が設けられている。また、移動鏡５３に対向する位置には、レーザ干渉計５４が設けられている。これにより、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷの２次元方向の位置及び回転角はレーザ干渉計５４によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計５４の計測結果に基づいてウエハステージ駆動部ＷＳＴＤを介してウエハステージＷＳＴを駆動することで、ウエハステージＷＳＴに支持されているウエハＷのＸ軸、Ｙ方向及びθＺ方向の位置決めを行う。
【００２３】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面に対するウエハＷ表面の位置（フォーカス位置）を検出するフォーカス検出系５６を備えている。フォーカス検出系５６は、ウエハＷ表面に対して斜め方向より検出光を投射する投光部５６Ａと、ウエハＷ表面で反射した検出光（反射光）を受光する受光部５６Ｂとを備えている。
受光部５６Ｂの受光結果は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴは、フォーカス検出系５６の検出結果に基づいてウエハステージ駆動部ＷＳＴＤを介してウエハステージＷＳＴ（Ｚテーブル６１）を駆動することで、ウエハＷ表面の位置を投影光学系ＰＬの焦点深度内に収める。すなわち、Ｚテーブル６１は、ウエハＷのフォーカス位置及び傾斜角を制御してウエハＷの表面をオートフォーカス方式及びオートレベリング方式で投影光学系ＰＬの像面に合わせ込む。
【００２４】
次に、ウエハステージＷＳＴについて詳述する。図２は、ウエハステージＷＳＴの構成を示す平面図である。図３は、ケーブル類Ｃの拡大斜視図である。
上述したように、ウエハステージＷＳＴは、Ｚテーブル６１、ＸＹテーブル６２、ウエハ定盤６３を備える。ＸＹテーブル６２の側面には、Ｙ方向に貫通する開口（不図示）が設けられ、この開口にはＹガイドバー７２が挿入される。ＸＹテーブル６２をＹ方向に貫通する開口の壁面には、板状の永久磁石が配置され、一方、Ｙガイドバー７２には、複数のコイル巻き線（電機子）がＹ方向に沿って収納されている。この永久磁石及びＹガイドバー７２によって、Ｚテーブル６１及びＸＹテーブル６２をＹ方向に大きく移動させるリニアモータ７０が構成される。
【００２５】
ウエハ定盤６３のＹ方向の両端には、Ｚテーブル６１及びＸＹテーブル６２をＸ方向に大きく移動させるリニアモータ８２，８４が設けられる。
リニアモータ８２，８４は、Ｙガイドバー７２の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子８２Ａ，８４Ａ（不図示）と、可動子８２Ａ，８４ＡのＺ方向の面に対向し、かつＸ方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子８２Ｂ，８４Ｂとを組み合わせて構成される。
固定子８２Ｂ，８４Ｂは、ウエハ定盤６３に固定され、前述の如く、ウエハ定盤６３は、リニアモータ７０，８２，８４の駆動による反力（反力には、Ｘ，Ｙ，θＺ方向の成分がある）を相殺するように、Ｘ方向，Ｙ方向，θＺ方向に移動するカウンタマス機能を有している。
【００２６】
ウエハ定盤６３におけるリニアモータ８２側の側面には、ベースプレートＦＣに向けて配線・配管（配線・配管）された電源・信号ケーブル類やパイプ・チューブ類（以下、ケーブル類Ｃと言う）が接続されている。
ケーブル類Ｃには、エアベアリング（エアパッド）に圧搾空気を送るチューブ、リニアモータ７０，８２，８４等に電源を供給する電力ケーブル、リニアモータ７０，８２，８４等を温調（冷却）するための冷媒供給パイプ及び排出パイプ、ウエハホルダＷＨの保持面を真空吸引する吸引用チューブ、各種センサからの信号を送信する信号ケーブル等が含まれる。更に露光装置ＥＸが液浸型の場合には、純水を流すパイプ類も含まれる。
【００２７】
図３に示すように、ウエハ定盤６３とベースプレートＦＣとの間に配線・配管されたるケーブル類Ｃは、複数のパイプ・チューブ及びケーブルからなり、これらがＺ方向に一列に帯形状に束ねられている。Ｚ方向に一列に帯形状に束ねることにより、Ｕ字形に折り曲げやすくなる等、その取り扱いが容易になる。帯形状に束ねられたケーブル類Ｃの帯幅は、例えば３００ｍｍ程度である。
ケーブル類Ｃは、ウエハ定盤６３におけるリニアモータ８２側の側面を−Ｘ方向に沿って、クランプ１２，１４により固定されつつ配線・配管される。クランプ１２，１４は、ウエハ定盤６３に固定されている。更に、ケーブル類Ｃは、ベースプレートＦＣ上に設けられたクランプ１６により固定される。
図２では、ウエハ定盤６３がストロークの中立位置から若干＋Ｙ方向に移動した様子を平面視しており、ケーブル類ＣがゆるいＳ字形を描くように−Ｘ方向に向かって延びて配置されている（以下、この部分を直線状部分Ｃ１という）。そして、ケーブル類Ｃは、更に、−Ｘ方向に所定距離だけ直線状に延びて配置された後に、図３に示すように、Ｕ字形に折り曲げられ、更に＋Ｘ方向に直線形に延びて配置される（以下、このＵ字形に折り曲げられた部分を湾曲部Ｃ２という）。
ケーブル類Ｃは、その後、ベースプレートＦＣ上に設けられたクランプ１８により固定され、更にコンプレッサー（不図示）や制御装置ＣＯＮＴ等の各種機器に接続されるように配線・配管されている。
【００２８】
クランプ１６は、ベースプレートＦＣ上をＸ方向に延びる直線ガイド部材３０（ガイドレール３１、スライダ３２）上に設けられている。つまり、クランプ１６は、ガイドレール３１に沿ってＸ方向に移動するスライダ３２に固定されている。直線ガイド部材３０は、耐磨耗性、耐衝撃性、自己潤滑性のあるものが好ましく、またレールタイプの他、シャフトタイプであってもよい。なお、後述するが、直線ガイド部材３０は、ケーブル類ＣからＹ方向の力を受けるため、Ｙ方向の剛性が強いものが用いられる。
【００２９】
ケーブル類Ｃは、Ｘ方向（ケーブル類Ｃの長さ方向）に関しては強い剛性を持つが、Ｙ方向（ケーブル類Ｃの長さ方向と交差する方向）に関しては柔軟に変形するように構成されている。材質は、例えばポリウレタン等である。本実施形態では、ケーブル類Ｃは、Ｚ方向に一列に帯状に束ねられているので、複数のケーブルを束ねていてもＹ方向に柔軟に変形する。ＸＹテーブル６２のＹ方向の移動による反力によりウエハ定盤６３がＹ方向に移動した場合には、ケーブル類Ｃの直線状部分Ｃ１がＹ方向に柔軟に変形する。この時、ケーブル類ＣによるＹ方向のテンションは、ケーブル類Ｃの湾曲部Ｃ２によるＹ方向のテンションに比べて極めて小さい。前述の如く、例えば復元力が約６０Ｎだとすると、湾曲部Ｃ２によるテンションは約３Ｎから５Ｎと、約１／１０から１／２０に低減される。このため、ケーブル類Ｃがウエハ定盤６３の移動に対して悪影響を与えることは殆どない。また、ケーブル類Ｃの直線状部分Ｃ１のＹ方向のテンションは極めて小さいので、ウエハ定盤６３の位置を調整するアクチュエータ９０，９１，９２を小型で低出力なモータとすることができる。これにより、安価で発熱の影響や制御外乱の小さなモータとすることが可能となる。
【００３０】
一方、ウエハ定盤６３がＸＹテーブル６２の移動に伴ってＸ方向に移動した場合には、ケーブル類Ｃにおける直線状部分Ｃ１を介してクランプ１６にＸ方向の力が伝わり、クランプ１６がケーブル類Ｃと共に直線ガイド部材３０上をＸ方向に移動する。クランプ１６は、ガイドレール３１に沿ってＸ方向に円滑に移動する。この際、ケーブル類Ｃにおける湾曲部Ｃ２がＸ方向に移動するが、Ｚ方向に一列に帯形状に束ねられていることから、柔軟に移動する。このため、ケーブル類Ｃがウエハ定盤６３の移動に対して悪影響を与えることは殆どない。
ところで、ケーブル類Ｃにおける湾曲部Ｃ２、すなわち所定半径で曲げた部分には、曲げを元に戻そうとする大きな復元力が生じている。例えば、Ｙ方向に約６０Ｎ程度の復元力が発生している。この復元力は、ケーブル類Ｃの曲げ半径が小さいほど大きくなる。しかしながら、ケーブル類Ｃにおける湾曲部Ｃ２の両端は、ベースプレートＦＣ上に設けられたクランプ１６，１８により固定されている。クランプ１６はＹ方向にはベースプレートＦＣ上に高い剛性で支持されている。したがって、ケーブル類Ｃの復元力がウエハ定盤６３に伝わることはない。
【００３１】
上述したように、ウエハ定盤６３は不図示のエアベアリングを介してベースプレートＦＣ上浮上支持されている。また、ウエハ定盤６３には、アクチュエータ９０，９１，９２（ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）、三相リニアモータ、回転モータ等）が取り付けられており、ベースプレートＦＣの所定範囲内で移動するように制御している。
従来は、ウエハ定盤６３とベースプレートＦＣとの間に配線・配管されているケーブル類Ｃがウエハ定盤６３に対してその移動を阻害する力を与えていたため、この影響を排除するように常にアクチュエータ（ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）等）を駆動し続ける必要があった。
しかし、本実施形態によれば、ベースプレートＦＣとウエハ定盤６３との間に配線・配管されるケーブル類Ｃがウエハ定盤６３の移動を阻害することは殆どない。特に、ケーブル類Ｃの湾曲部Ｃ２に生じるＹ方向の復元力がウエハ定盤６３に伝達することがないので、ウエハ定盤６３をベースプレートＦＣの所定範囲内で移動させる不図示のアクチュエータを常に駆動する必要がなくなる。これにより、ウエハステージＷＳＴ、ひいては露光装置ＥＸのランニングコスト（消費電力）を低減することが可能となる。
【００３２】
なお、ウエハステージＷＳＴのメンテナンスを行う場合には、ウエハ定盤６３をＸ方向に大きく移動させる必要がある。本装置では、ウエハ定盤６３をベースプレートＦＣから浮上させるエアベアリングのガイドをベースプレートＦＣの端までＸ方向に長く延ばしているので、ウエハ定盤６３をベースプレートＦＣ上で移動させることができる。この場合においても、この場合においても、ケーブル類Ｃがウエハ定盤６３の移動を阻害することがないので、ウエハ定盤６３をＸ方向に大きく移動させて（投影光学系ＰＬの下方から引き出して）メンテナンスを行うことが容易となる。
【００３３】
また、図２に示すように、クランプ１６とクランプ１４との間には、ケーブル類Ｃにおける直線状部分Ｃ１の座屈を防止するために、座屈防止シャフト３５を設けてもよい。座屈防止シャフト３５は、剛性のある金属製のシャフトであり、座屈防止シャフト３５の両端は、それぞれクランプ１４とスライダ３２（クランプ１６）に対してピン結合されており、θＺ方向に回転自在に支持されている。これにより、直線ガイド部材３０上のクランプ１６とウエハ定盤６３に固定されたクランプ１４とのＸ方向の距離が、略一定に保たれるようになっている。
そして、特に、ウエハ定盤６３が−Ｘ方向に移動した際には、座屈防止シャフト３５を介してクランプ１４からスライダ３２（クランプ１６）に対して−Ｘ方向の力が伝えられるので、ケーブル類Ｃにおける直線状部分Ｃ１に圧縮力が加わって、座屈してしまうことが防止される。
また、座屈防止シャフト３５は、クランプ１４及びスライダ３２（クランプ１６）に対してθＺ方向に回転自在に支持されているので、ウエハ定盤６３のＹ方向の移動を阻害することもない。
【００３４】
ウエハ定盤６３に接続された直線状部分Ｃ１のケーブルには、リニアモータ８２用のケーブルが含まれている。ウエハ定盤６３に接続された後、リニアモータ８２用に分岐されたケーブルのテンションがＸＹテーブル６２に悪影響を与えないように、リニアモータ８２の移動子８２ＡのＸ方向の移動に伴って、リニアモータ８２用のケーブル類（不図示）をＸ方向に移動するモータ用ケーブル移動機構を追加してもよい。スペースを考えて、ケーブル類Ｃを移動するガイド３１の上部に仕切り板を設け、その上にモータ８２用ケーブル移動機構を配置するようにしてもよい。
また、上述の実施形態では、ケーブル類Ｃは、ベースプレートＦＣ上に設けられたクランプ１６により固定されることとしたが、リニアモータ８２の固定子８２ＢやＸＹテーブル６２に固定してもよい。
【００３５】
図４に、ＸＹテーブル６２にケーブル類Ｃを固定した例を示す。
ケーブル類Ｃの一端は、ＸＹテーブル６２に固定されたクランプ１２ａに接続される。ケーブル類Ｃの他端は、クランプ１０１，１００、スライダ３２に固定されたクランプ１６ａを介して、ベースプレートＦＣに固定されたクランプ１８に接続される。
図４に示すように、クランプ１２ａとクランプ１０１との間の直線部分Ｃ２、クランプ１０１とクランプ１００との直線部分Ｃ４、クランプ１００とクランプ１６ａとの間の直線部分Ｃ５が形成されている。クランプ１００と１０１は、ウエハ定盤６３やベースプレートＦＣには固定されておらず、直線状部分Ｃ３，Ｃ４，Ｃ５全体が、図２の直線状部分Ｃ１に相当する。本実施形態でも、湾曲部Ｃ２の両端はベースプレートＦＣに設けられたクランプ１６ａ，１８により固定されている。クランプ１０１とクランプ１００の間に座屈防止シャフト３５ａを設けるようにしてもよい。
【００３６】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。
本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
【００３７】
ケーブル類Ｃとしては、クランプ１４からクランプ１８までは、連続して繋がったものについて説明したが、途中で連結するものであってもよい。クランプ１４からクランプ１８の間には耐屈曲ケーブル等を用いることが好ましい。このため、メンテナンス時において、ケーブル類Ｃにおけるクランプ１４からクランプ１８までの間の部分を取り換え可能とするために、コネクタ類を介して複数のケーブル類Ｃを連結するようにしてもよい。
【００３８】
ウエハステージＷＳＴＤとベースプレートＦＣとの間に設けられたウエハ定盤６３をカウンタマスとしたが、ウエハステージＷＳＴＤの回りを囲む枠状のカウンタマスとして、該枠状のカウンタマスとウエハステージＷＳＴＤとをベースプレートＦＣ上で移動するようにしてもよい。また、枠状のカウンタマスとウエハステージＷＳＴＤとを別々のベースプレート上を移動するようにしてもよい。
【００３９】
上述した実施形態においては、ベースプレートＦＣからウエハ定盤６３へのケーブル類Ｃの配線・配管について説明してきたが、ウエハ定盤６３からＸＹテーブル６２へのケーブル類Ｃの配線・配管についても適用可能である。
また、レチクルステージＲＳＴにおいても適用しても良い。更に、上述した実施形態では露光装置ＥＸについて説明してきたが、例えば、工作機械等のステージ装置についても適用することができる。
【００４０】
露光装置ＥＸとしては、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に液体を配置しつつ、この液体を解してウエハＷの露光を行う液浸型露光装置であってもよい。
露光装置ＥＸの用途としては、半導体製造用の露光装置や、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
また、レチクルを用いる代わりにデジタルピクセルデバイス（ＤＭＤ）等を用いて、ウエハＷ上にパターンを直接転写する所謂マスクレス露光装置にも適用できる。
【００４１】
本実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。
なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００４２】
そして、半導体デバイスは、図５に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ、ガラスプレート）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりレチクルＲのパターンをウエハＷに露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るウエハステージＷＳＴの構成を示す平面図である。
【図３】ケーブル類Ｃの拡大斜視図である。
【図４】ＸＹテーブル６２にケーブル類Ｃを固定した例を示す平面図である。
【図５】本発明の実施形態に係るマイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００４４】
１４…クランプ（接続部）
１６…クランプ（保持部）
１８…クランプ
３０…直線ガイド部材（案内部材）
３１…ガイドレール（第二部材）
３２…スライダ（第三部材）
３５…座屈防止シャフト（第一部材）
６３…ウエハ定盤（移動部材）
ＦＣ…ベースプレート（固定部）
Ｃ…ケーブル類（線状部材）
Ｃ１…直線状部分
Ｃ２…湾曲部
ＥＸ…露光装置
Ｒ…レチクル（マスク）
ＰＡ…パターン（マスクパターン）
ＲＳＴ…レチクルステージ（マスクステージ）
Ｗ…ウエハ（基板）
ＷＳＴ…ウエハステージ（ステージ装置、基板ステージ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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