(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板において問題となる異物を、研磨液から適切に除去する。【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板を準備する基板準備工程と、ガラス基板を鏡面研磨する基板研磨工程とを備え、基板研磨工程は、磁石フィルタ１０６を通して研磨液を循環させつつガラス基板を研磨する。磁石フィルタは、研磨液に、磁束密度で少なくとも５０００ガウス以上の磁場を印加する。【選択図】図１
2007207393.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記ガラス基板を鏡面研磨する基板研磨工程と
を備え、
前記基板研磨工程は、磁石フィルタを通して研磨液を循環させつつ前記ガラス基板を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記磁石フィルタは、前記研磨液に、磁束密度で少なくとも５０００ガウス以上の磁場を印加することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記研磨液は、平均粒径が０．０１〜１．５μｍの研磨砥粒を含み、
前記基板研磨工程は、前記研磨砥粒よりも大きなパーティクルを捕集する濾過フィルタを更に通して前記研磨液を循環させることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記基板研磨工程で鏡面研磨された前記ガラス基板を化学強化する化学強化工程を更に備えることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項６】
請求項５に記載の磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク用の基板としてガラス基板が用いられている。また、磁気ヘッドの方も高密度記録化に伴って、薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきている。従って、ガラス基板を用いた磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生することが、これからの大きな潮流となると考えられる。
【０００３】
磁気ディスク用の基板としてガラス基板を用いた場合、ガラス基板上にパーティクルが存在すると、磁気ディスクの表面に凸部が形成され、サーマル・アスペリティ（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｓｐｅｒｉｔｙ）の原因となる場合がある。そのため、従来、サーマル・アスペリティの防止を目的として、ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面を研磨する方法が知られている（例えば、特許文献１、２参照。）。
【特許文献１】特開平１１−２２１７４２号公報
【特許文献２】特開２０００−１８５９２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ガラス基板の研磨は、例えば、研磨ブラシ又は研磨パッドを用いて、被研磨部位に研磨液を供給しつつ行われる。ガラス基板の製造コストの低減や、廃液量の低減のためには、研磨液を、循環ポンプ等を用いて循環利用するのが好ましい。
【０００５】
ここで、ガラス基板の研磨を行う雰囲気中には、例えば研磨機等から発生した粉塵等の異物が含まれている。そのため、研磨液を循環利用する場合、研磨液に含まれる異物が徐々に増加するおそれがある。そのため、研磨液を循環利用する場合、雰囲気中から研磨液に混入する異物を取り除く必要がある。また、サーマル・アスペリティの原因となるパーティクルの発生を抑えるためには、研磨液に含まれる研磨砥粒と同程度以下の大きさの異物を取り除く必要がある。研磨液中の異物を取り除く方法としては、例えば濾過フィルタを用いる方法等が考えられる。
【０００６】
しかし、このような大きさの異物を濾過フィルタを用いて除去しようとすると、研磨砥粒も濾過フィルタに捕集されることとなる。研磨砥粒が捕集されると、研磨砥粒の粒度分布が乱れ、研磨の条件等が変わってしまう。また、濾過フィルタが目詰まりしてしまい、研磨液の循環も停止してしまう。そのため、従来、研磨液中の異物を適切に除去するのは困難であった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明者は、磁気ディスク用ガラス基板においては、鉄系の異物（コンタミ）が特に問題となるという性質に着目して、循環させる研磨液中の異物を除去する方法について鋭意研究を行った。そして、鉄系の異物等の磁化し得る異物を適切に除去できれば、必ずしも研磨砥粒と同程度の大きさの異物を全て除去しなくても、十分な品質のガラス基板を製造できることを見出した。本発明は、上記鋭意研究の結果なされたものであり、以下の構成を有する。
【０００９】
（構成１）磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板を準備する基板準備工程と、ガラス基板を鏡面研磨する基板研磨工程とを備え、基板研磨工程は、磁石フィルタを通して研磨液を循環させつつガラス基板を研磨する。基板研磨工程は、例えば、ガラス基板の主表面、内周端面、及び外周端面のうちの少なくとも何れかを鏡面研磨する。磁石フィルタは、例えば粒子径１μｍ以上、より好ましくは、０．５μｍ以上、更に好ましくは０．２μｍ以上の磁化し得る異物を除去する。
【００１０】
このようにすれば、例えば鉄系の異物等の、磁気ディスク用ガラス基板において特に問題となる磁化し得る異物を選択的かつ効率的に除去できる。また、非磁性の研磨砥粒は捕集されないため、研磨液中の研磨砥粒の粒度分布が乱れることもない。更には、研磨砥粒と同程度の大きさの異物を濾過により除去する必要がないため、濾過フィルタの目詰まり等の問題も生じない。そのため、研磨液中の異物を適切に除去できる。また、これにより、サーマル・アスペリティの原因となるパーティクルの発生を適切に抑えることができる。更には、研磨液を適切に循環させることができるため、磁気ディスク用ガラス基板の製造コストを低減できる。また、研磨液を循環利用することにより、廃液処理の負担を低減できる。
【００１１】
尚、この磁気ディスク用ガラス基板は、例えば、２．５インチ径、又は１．８インチ径、１インチ径等の２．５インチ径未満の磁気ディスク用ガラス基板である。このような小径の磁気ディスク用ガラス基板においては、より小さな異物が問題になる。しかし、構成１のようにすれば、研磨液中の異物を適切に除去できる。そのため、サーマル・アスペリティの原因となるパーティクルの発生を適切に抑えることができる。
【００１２】
また、この磁気ディスク用ガラス基板は、例えば、携帯端末等（例えば携帯音楽プレーヤ、ノートパソコン等）の使用時に衝撃を受けやすい用途に用いられる磁気ディスク用ガラス基板であってよい。この磁気ディスク用ガラス基板は、例えば磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気記録型ヘッド（ＧＭＲヘッド）用の磁気ディスク用ガラス基板であってよい。また、垂直磁気記録ディスク用の磁気ディスク用ガラス基板であってよい。この磁気ディスク用ガラス基板は、例えば、回転数５４００ｒｐｍ以上の磁気ディスク用ガラス基板であってよい。
【００１３】
（構成２）磁石フィルタは、研磨液に、磁束密度で少なくとも５０００ガウス以上の磁場を印加する。このようにすれば、磁化し得る異物を適切に除去できる。磁石フィルタが研磨液に印加する磁場は、好ましくは７０００ガウス以上、更に好ましくは９０００ガウス以上である。
【００１４】
磁石フィルタに利用される磁石としては、永久磁石であっても、電磁石であってもよい。永久磁石を用いると、外部電源が必要ないので、簡便である。また、永久磁石であれば、高い磁場を創生できるので好ましい。永久磁石としては、希土類元素を含む永久磁石が特に好ましい。希土類系磁石は高い磁場を創生できるからである。希土類元素を含む永久磁石としては、サマリウム磁右（ＳｍＣｏ化合物磁石、例えばＳｍＣｏ５化合物磁石）や、ネオジウム磁石（ＮｄＦｅＢ化合物磁石、例えばＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ化合物磁石）が好適である。取り分け高い磁場を創生できるネオジウム磁石を選択することが特に好ましい。
【００１５】
（構成３）研磨液は、平均粒径が０．０１〜１．５μｍの研磨砥粒を含み、基板研磨工程は、研磨砥粒よりも大きなパーティクルを捕集する濾過フィルタを更に通して研磨液を循環させる。
【００１６】
このようにすれば、非磁性の異物も適切に除去できる。また、磁気ディスク用ガラス基板において特に問題となる磁化し得る異物が磁石フィルタにより除去されるため、研磨砥粒の平均粒径と比べて目開きが十分に大きな濾過フィルタを用いることができる。そのため、このようにすれば、濾過フィルタの目詰まりを防ぐことができる。また、研磨砥粒の粒度分布を乱すこともない。
【００１７】
（構成４）基板研磨工程で鏡面研磨されたガラス基板を化学強化する化学強化工程を更に備える。鉄系の異物等が存在する場合に、化学強化工程を行うと、ガラス基板への異物の付着が促進される。そのため、化学強化工程を行う場合、鉄系の異物の存在が特に問題となる。しかし、構成４のようにすれば、化学強化工程の前に鉄系の異物等を適切に除去できる。また、これにより、適切に化学強化工程を行うことができる。
【００１８】
（構成５）構成１から４の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。このようにすれば、構成１から４と同様の効果を得ることができる。
【００１９】
（構成６）構成５に記載の磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。このようにすれば、構成５と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、磁気ディスク用ガラス基板において問題となる異物を、研磨液から適切に除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で使用される研磨システム１００の構成の一例を示す。研磨システム１００は、研磨液を循環させつつガラス基板の鏡面研磨を行う研磨システムであり、タンク１０２、ポンプ１０４、磁石フィルタ１０６、及び研磨機１０８を備える。
【００２２】
タンク１０２は、研磨機１０８の下流に設けられており、研磨に用いられた研磨液を研磨機１０８から受け取り、貯蔵する。ポンプ１０４は、タンク１０２と磁石フィルタ１０６との間に設けられており、タンク１０２から研磨液を汲み上げて、磁石フィルタ１０６に供給する。
【００２３】
磁石フィルタ１０６は、ポンプ１０４と研磨機１０８との間に設けられており、ポンプ１０４を介してタンク１０２から受け取る研磨液の異物を除去して、研磨機１０８に供給する。磁石フィルタ１０６は、濾過フィルタの機能を更に有してもよい。この場合、濾過フィルタの目開きは、研磨液に含まれる研磨砥粒の平均粒径より大きくするのが好ましい。例えば、研磨砥粒の平均粒径が０．０１〜１．５μｍの場合、濾過フィルタの目開きは、例えば２〜５０μｍである。このように構成すれば、研磨砥粒の粒度分布を乱すことなく、非磁性の異物を適切に除去できる。尚、研磨システム１００は、磁石フィルタ１０６とは別に、濾過フィルタを更に備えてもよい。この場合、濾過フィルタは、例えば、磁石フィルタ１０６と研磨機１０８との間に設けられる。
【００２４】
研磨機１０８は、磁石フィルタ１０６から受け取る研磨液を用いて、ガラス基板の研磨を行う。研磨機１０８は、例えば、このガラス基板の主表面、外周端面、又は内周端面を鏡面研磨する。これにより、研磨システム１００は、磁石フィルタ１０６を通して研磨液を循環させつつガラス基板を研磨する。
【００２５】
ここで、本例において、磁気ディスク用ガラス基板は、基板準備工程、内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、主表面研磨工程、及び化学強化工程を経て製造される。内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、主表面研磨工程は、基板研磨工程の一例である。また、内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、主表面研磨工程のそれぞれは、例えば、研磨を行う部分に応じた構成の研磨機１０８を備える研磨システム１００を用いて、ガラス基板の鏡面研磨を行う。以下、上記の各工程について更に詳しく説明する。
【００２６】
基板準備工程は、中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を準備する工程である。基板準備工程は、例えば、研削及び所定の粗さへのラッピング加工がなされたガラス基板を準備する。
【００２７】
内周端面研磨工程は、ガラス基板の内周端面を鏡面研磨する工程であり、内周端面を、例えば、算術平均表面粗さＲａで０．５μｍ以下である鏡面に研磨する。また、内周端面研磨工程は、内周端面を、例えば、最大高さＲｍａｘで５μｍ以下である鏡面に研磨する。
【００２８】
外周端面研磨工程は、ガラス基板の外周端面を鏡面研磨する工程であり、外周端面を、例えば、算術平均表面粗さＲａで０．５μｍ以下である鏡面に研磨する。また、外周端面研磨工程は、外周端面を、例えば、最大高さＲｍａｘで５μｍ以下である鏡面に研磨する。
【００２９】
主表面研磨工程は、ガラス基板の主表面を鏡面研磨する工程であり、主表面を、例えば、算術平均表面粗さＲａで０．５ｎｍ以下（例えば０．１〜０．５ｎｍ）、より好ましくは０．４ｎｍ以下、更に好ましくは０．３ｎｍ以下である鏡面に研磨する。また、主表面研磨工程は、主表面を、例えば、最大高さＲｍａｘで５ｎｍ以下（例えば１〜５ｎｍ）、より好ましくは４ｎｍ以下、更に好ましくは３ｎｍ以下である鏡面に研磨する。
【００３０】
化学強化工程は、ガラス基板を化学強化する工程である。化学強化工程は、例えば、ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン径の処理液中のイオンに置換することによりガラス基板を強化する。
【００３１】
以上の工程を経て、ガラス基板は完成する。そして、完成したガラス基板は、磁気ディスクの製造に用いられる。磁気ディスクの製造工程においては、ガラス基板上に少なくとも磁気記録層が形成される。
【００３２】
図２は、磁石フィルタ１０６の構成の一例を示す。磁石フィルタ１０６は、クランプ２０６、筐体２０２、及びインサート部２０４を備える。クランプ２０６は、インサート部２０４を筐体２０２に固定するための部材である。
【００３３】
筐体２０２は、研磨液を内部に通す円筒状体であり、研磨液をポンプ１０４から受け取る入口３０２と、研磨機１０８に研磨液を供給する出口３０４とを有する。筐体２０２の下端は、内部に研磨液が溜まるように、下面により塞がれている。また、筐体２０２の上端は、インサート部２０４を挿入するために、開口している。また、本例において、出口３０４は、入口３０２よりも上方に設けられている。
【００３４】
インサート部２０４は、蓋部３０８及び磁石部３０６を有する。蓋部３０８は、筐体２０２の上端の開口を塞ぐ部分である。磁石部３０６は、筐体２０２の内部に挿入される部分であり、蓋部３０８の下面から筐体２０２の下端方向へ棒状に延伸する。本例において、磁石部３０６は、ネオジウム（Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ）磁石を用いて磁場を発生する。磁石部３０６は、例えば、棒状のネオジウム磁石と、このネオジウム磁石を内部に収容する金属円筒とで構成される。
【００３５】
ここで、磁石フィルタ１０６の各部のサイズ、及び磁場の強さについて更に詳しく説明する。本例において、磁石フィルタ１０６の高さｈ１は、例えば２５０〜４００ｍｍ、筐体２０２の高さｈ２は、例えば２００〜３５０ｍｍ、インサート部２０４の挿入高さｈ３は、例えば１５０〜２５０ｍｍである。尚、インサート部２０４の挿入高さｈ３とは、例えば、インサート部２０４の下端から出口３０４の中心軸までの距離である。
【００３６】
また、筐体２０２の直径は、外径で例えば３０〜７０ｍｍ、磁石部３０６の直径は、外径で例えば１５〜４０ｍｍ、入口３０２及び出口３０４の直径は、内径で例えば１０〜３０ｍｍである。
【００３７】
また、磁石フィルタ１０６は、研磨液に、磁束密度で５０００ガウス以上の磁場を印加する。磁石フィルタ１０６が印可する磁場は、より好ましくは、７０００ガウス以上、更に好ましくは、９０００ガウス以上である。磁石フィルタ１０６が印可する磁場とは、例えば、磁石部３０６が発生する磁場のうち、磁石フィルタ１０６において最も磁場が弱い領域を通過する研磨液が受ける磁場であり、例えば、筐体２０２の表面における残留磁束密度である。以上のように構成すれば、研磨システム１００（図１参照）において循環する研磨液から、例えば粒子径０．２μｍ以上の、鉄系の異物等の磁化し得る異物を適切に除去できる。
【００３８】
以下、本発明を、実施例及び比較例を用いて更に詳しく説明する。
（実施例１）
以下の工程を経て、実施例１に係るガラス基板を製造した。
（１）基板準備工程
以下の工程により、円孔を有するガラス基板を準備した。最初に、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研削砥石で直径６６ｍｍφ、厚さ１．１ｍｍの円盤状にそれぞれ切り出したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径６５ｍｍ（２．５インチ）φ、厚さ０．６ｍｍに成形した。この場合、ダウンドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス基板を得てもよい。アルミノシリケイトガラスとしては、モル％表示で、ＳｉＯ２を５７〜７４％、ＺｒＯ２を０〜２．８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、ＬｉＯ２を７〜１６％、Ｎａ２Ｏを４〜１４％を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
【００３９】
次いで、ガラス基板に砂掛け加工を施した。この砂掛け工程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。砂掛け加工は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒度を＃４００として行った。詳しくは、粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１で測定）６μｍ程度にラッピングした。
【００４０】
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中心部に円孔（直径２０ｍｍφ）を開けるとともに、外周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板の内外周端面の表面粗さは、Ｒｍａｘで１４μｍ程度であった。
【００４１】
（２）内周端面研磨工程
図１を用いて説明したのと同様の研磨システムにより、ガラス基板の内周端面を鏡面研磨した。内周端面研磨工程で用いた研磨機では、回転ブラシをガラス基板の円孔に挿入して、円孔内に研磨液を供給しつつ回転ブラシを回転させた。研磨液としては、酸化セリウム研磨砥粒を含む研磨液を用いた。
【００４２】
（３）外周端面研磨工程
図１を用いて説明したのと同様の研磨システムにより、ガラス基板の外周端面を鏡面研磨した。外周端面研磨工程で用いた研磨機では、回転ブラシをガラス基板の外周端面に接触させて、外周端面に研磨液を供給しつつ回転ブラシを回転させた。研磨液としては、酸化セリウム研磨砥粒を含む研磨液を用いた。
【００４３】
（４）主表面研磨工程
以下の第一研磨工程及び第二研磨工程を行った。この第一研磨工程は、砂掛け工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするものであり、研磨機として、上定盤と下定盤との間にガラス基板を挟んで研磨を行う研磨機を用いた。詳しくは、ポリシャ（研磨パッド、研磨布）として硬質ポリシャを用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施した。
研磨液：酸化セリウム＋水
荷重：３００ｇ／ｃｍ２（Ｌ＝２３８ｋｇ）
研磨時間：１５分
除去量：３０μｍ
下定盤回転数：４０ｒｐｍ
上定盤回転数：３５ｒｐｍ
内ギア回転数：１４ｒｐｍ
外ギア回転数：２９ｒｐｍ
【００４４】
また、上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【００４５】
次に、第一研磨工程で使用した研磨機を用い、ポリシャを硬質ポリシャから軟質ポリシャに替えて、第二研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム研磨砥粒と水を含む研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程と同様とした。また、上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。
【００４６】
（５）化学強化工程
次に、ガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱し、３００℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
【００４７】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００〜２００μｍであった。
【００４８】
また、上記化学強化を終えたガラス基板を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持した。上記急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。更に上記硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。
【００４９】
ここで、内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、及び主表面研磨工程において、研磨液は、平均粒径が０．５〜１．５μｍの研磨砥粒を含むものを用いた。この実施例では、鏡面研磨工程である、内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、及び主表面研磨工程において、研磨砥粒を含む研磨液に対して磁場を印加することにより、研磨液に含有される磁化し得る異物の除去処理を行った。この実施例では、全ての研磨工程において、本発明になる異物除去処理を行ったが、少なくとも１つの研磨工程において、本発明になる異物除去処理を施しても効果が得られる。少なくともガラス基板の最終研磨工程において、本発明による異物除去処理を実施することが好ましい。
【００５０】
磁石部には、ネオジウム磁石を用いた。この磁石による、筐体の表面における残留磁束密度は、９０００ガウスであった。尚、筐体はステンレスで形成した。
【００５１】
（比較例１）
内周端面研磨工程、外周端面研磨工程、及び主表面研磨工程において磁石フィルタを用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例１に係るガラス基板を製造した。
【００５２】
（評価）
研磨液中に含まれる磁化し得る異物の推移を調査する手段として、研磨液中に含まれる鉄（Ｆｅ）元素の推移をモニタした。鉄及びその化合物は代表的な磁性物質であり、Ｆｅ元素を指標としてモニタすることで、研磨液中に含まれる磁化し得る物質の量の推移をモニタできるからである。具体的には、ガラス基板に供給される研磨液の一定量を抜き取り、乾燥させてから、元素分析を行い、Ｆｅ元素の質量を分析する。尚、研磨液に主成分として含まれる研磨砥粒である酸化セリウムは非磁性物質である。
【００５３】
【表１】
2007207393.tif 000003
表１は、研磨液１ｋｇに含まれるＦｅ元素の質量を、磁場曝露前と磁場曝露後で比較したものである。研磨液を磁場曝露処理することにより、研磨液に含まれるＦｅ及びＦｅ化合物を、Ｆｅ元素量で、１０６０ｍｇから７３７ｍｇに低減することができた。百分率では３０質量％低減することができた。研磨液に磁場曝露処理することにより、異物除去処理作用が働き、研磨液を清浄化処理できていることが分かった。
【００５４】
次に、前記した実施例１において、ガラス基板に供給されている研磨液に含有されているＦｅ元素の質量を調査した。結果、何れの研磨工程においても、研磨液１ｋｇ当りに含まれるＦｅ元素の量は、９００ｍｇ以下であった。取り分け、最終の研磨工程である第二研磨工程においては、８００ｍｇ以下となるように磁石フィルタを制御した。
【００５５】
比較例１においてガラス基板に供給されている研磨液に含有されるＦｅ元素の質量を調査した。結果、何れの研磨工程においても、研磨液１ｋｇ当りに含まれるＦｅ元素の量は、１０００ｍｇ以上であった。最終研磨工程である第二研磨工程においては、１１００ｍｇのＦｅ元素を検出した。
【００５６】
次に、実施例１、比較例１で得られたガラス基板の検査を行った。実施例１のガラス基板を検査すると、表面状態は鏡面であり、均一な表面に仕上がっていた。主表面の表面粗さはＲａで０．４ｎｍであった。またＲｍａｘは４ｎｍであった。
【００５７】
比較例１のガラス基板を検査すると、微小な異物が発見された。この異物を分析すると、Ｆｅを主成分とし、一部若干量のＣｒを含有するものもあった。分析結果から磁性を有するステンレス合金であると判断された。これら異物が付着しているので、ガラス基板の表面粗さは実施例１よりも大きかった。
【００５８】
次に、実施例１、比較例１で得られたガラス基板の表面に下地層、磁性層、保護層、潤滑層を順次成膜して、磁気ディスクを製造した。具体的には、第１下地層としてＣｒＴｉ層、第２下地層としてＡｌＲｕ層、第３下地層としてＣｒＭｏ層、磁性層としてＣｏＣｒＰｔＢ磁性層、保護層として水素化炭素層、潤滑層としてパーフルオロポリエーテル化合物層を成膜した。得られた磁気ディスクをハードディスクドライブに搭載し、記録再生試験を実施した。磁気ヘッドとして、浮上量が７ｎｍであるものを用いた。再生素子は、磁気抵抗効果を利用した再生素子である。具体的にはＴＭＲ素子（トンネル磁気抵抗効果素子）を搭載する磁気ヘッドを利用した。磁気抵抗効果を利用した再生素子としては、ＴＭＲに限らず、ＧＭＲ素子、ＡＭＲ素子を用いてもよい。
【００５９】
結果、実施例１のガラス基板を利用した磁気ディスクからは、エラー信号は検出されず、正常な記録再生動作を行うことが確認された。他方で、比較例１のガラス基板を利用した磁気ディスクからは、エラー信号として、サーマルアスペリティ信号が検出された。エラー信号の検出箇所を分析すると、Ｆｅ系の異物が検出された、尚、この例では再生素子としてＴＭＲ素子を搭載する磁気ヘッドを用いた。ＴＭＲ素子は再生感度に優れるからである。しかし、サーマルアスペリティ信号も生じやすいという傾向にある。従って、本発明によるガラス基板は、取り分けＴＭＲ再生素子で再生される磁気ディスク用のガラス基板の製造方法として特に好適である。
【００６０】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００６１】
本発明には以下の発明の構成も含まれる。
（構成Ａ−１）
ガラス基板の表面に研磨液を供給し、前記ガラス基板の表面を研磨する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨処理に際して、予め、前記研磨液を磁場曝露処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−２）
前記研磨液は、非磁性の研磨砥粒を含むものであることを特徴とする、構成Ａ−１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−３）
前記磁場曝露処理により、前記研磨液の中に含まれる、磁化し得る異物を選択的に除去することを特徴とする、構成Ａ−１又は構成Ａ−２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−４）
前記研磨処理は、ガラス基板の表面に研磨液を供給し、ガラス基板と研磨用具とを接触させ、前記研磨用具と前記ガラス基板とを相対的に移動させる処理であることを特徴とする、構成Ａ−１ないし構成Ａ−３の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−５）
前記研磨用具は、研磨パッド、研磨ブラシ、研磨テープの中から選択される少なくとも１の手段であることを特徴とする、構成Ａ−１ないし構成Ａ−４の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−６）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面は鏡面に研磨されることを特徴とする、構成Ａ−１ないしＡ−５の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−７）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面に、表面粗さがＲａで０．５ｎｍ以下である所望の均一な表面が創生されることを特徴とする構成Ａ−１ないしＡ−６の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ａ−８）
構成Ａ−１ないし構成Ａ−７の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、７ｎｍ以下の浮上量である磁気ヘッドで記録再生される磁気ディスク対応の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００６２】
（構成Ｂ−１）
複数の研磨処理により所望の表面が創生される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記複数の研磨処理の少なくとも１の処理は、
ガラス基板の表面に研磨液を供給し、前記ガラス基板の表面を研磨する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の研磨処理であって、この研磨処理に際して、予め、前記研磨液を磁場曝露処理することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−２）
前記研磨液は、非磁性の研磨砥粒を含むものであることを特徴とする、構成Ｂ−１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−３）
前記磁場曝露処理により、前記研磨液の中に含まれる、磁化し得る異物を選択的に除去することを特徴とする、構成Ｂ−１又は構成Ｂ−２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−４）
前記研磨処理は、ガラス基板の表面に研磨液を供給し、ガラス基板と研磨用具とを接触させ、前記研磨用具と前記ガラス基板とを相対的に移動させる処理であることを特徴とする、構成Ｂ−１ないし構成Ｂ−３の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−５）
前記研磨用具は、研磨パッド、研磨ブラシ、研磨テープの中から選択される少なくとも１の手段であることを特徴とする、構成Ｂ−１ないし構成Ｂ−４の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−６）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面は鏡面に研磨されることを特徴とする、構成Ｂ−１ないしＢ−５の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−７）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面に、表面粗さがＲａで０．５ｎｍ以下である所望の均一な表面が創生されることを特徴とする構成Ｂ−１ないしＢ−６の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｂ−８）
構成Ｂ−１ないし構成Ｂ−７の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、７ｎｍ以下の浮上量である磁気ヘッドで記録再生される磁気ディスク対応の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【００６３】
（構成Ｃ−１）
ガラス基板の表面に研磨液を供給し、前記ガラス基板の表面を研磨する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板に供給される研磨液に含まれるＦｅ元素の質量は、研磨液１ｋｇ当り９００ｍｇ以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−２）
ガラス基板の表面に研磨液を供給し、前記ガラス基板の表面を研磨する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨処理に際して、予め、前記研磨液を清浄化処理することにより、前記ガラス基板に供給される研磨液に含まれるＦｅ元素の質量を、研磨液１ｋｇ当り９００ｍｇ以下とすることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−３）
前記研磨液は、非磁性の研磨砥粒を含むものであることを特徴とする、構成Ｃ−１又はＣ−２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−４）
前記研磨処理は、ガラス基板の表面に研磨液を供給し、ガラス基板と研磨用具とを接触させ、前記研磨用具と前記ガラス基板とを相対的に移動させる処理であることを特徴とする、構成Ｃ−１ないし構成Ｃ−３の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−５）
前記研磨用具は、研磨パッド、研磨ブラシ、研磨テープの中から選択される少なくとも１の手段であることを特徴とする、構成Ｃ−１ないし構成Ｃ−４の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、
（構成Ｃ−６）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面は鏡面に研磨されることを特徴とする、構成Ｃ−１ないしＣ−５の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−７）
前記研磨処理により、ガラス基板の表面に、表面粗さがＲａで０．５ｎｍ以下である所望の均一な表面が創生されることを特徴とする構成Ｃ−１ないしＣ−６の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（構成Ｃ−８）
構成Ｃ−１ないし構成Ｃ−７の何れか１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、７ｎｍ以下の浮上量である磁気ヘッドで記録再生される磁気ディスク対応の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
本発明は、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の一実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で使用される研磨システム１００の構成の一例を示す図である。
【図２】磁石フィルタ１０６の構成の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６６】
１００・・・研磨システム、１０２・・・タンク、１０４・・・ポンプ、１０６・・・磁石フィルタ、１０８・・・研磨機、２０２・・・筐体、２０４・・・インサート部、２０６・・・クランプ、３０２・・・入口、３０４・・・出口、３０６・・・磁石部、３０８・・・蓋部
【図１】
2007207393.tif 000004
【図２】
2007207393.tif 000005