(57)【要約】【課題】露光時に液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減する技術の提供。【解決手段】基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置であって、前記光学部材の周囲に配された、前記間隙に前記液体を供給する第１供給ノズルと、前記第１供給ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記液体を回収する第１回収ノズルと、前記第１回収ノズルの外側から気体を供給する第２供給ノズルと、前記第１供給ノズルによる液体の供給量をＱ１、前記第１回収ノズルから回収される液体と気体の回収量の和をＱ２とすると、Ｑ１＜Ｑ２の関係を満たすように前記第１供給ノズルによる液体の供給量と、第１回収ノズルによる液体及び気体の回収量とを制御する制御手段とを具備する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配された、前記間隙に前記液体を供給する第１供給ノズルと、
前記第１供給ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記液体を回収する第１回収ノズルと、
前記第１回収ノズルの外側から気体を供給する第２供給ノズルと、
前記第１供給ノズルによる液体の供給量をＱ１、前記第１回収ノズルから回収される液体と気体の回収量の和をＱ２とすると、Ｑ１＜Ｑ２の関係を満たすように前記第１供給ノズルによる液体の供給量と、第１回収ノズルによる液体及び気体の回収量とを制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１供給ノズルは前記光学部材における前記基板に対する対向面を囲むように設けられ、前記第１回収ノズルは前記第１供給ノズルを囲むように設けられ、前記第２供給ノズルは前記第１回収ノズルを囲むように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２供給ノズルの外側であって当該第２供給ノズルを囲むように、前記光学部材における前記基板に対する対向面側から前記基板側に第１壁部が立設されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２供給ノズルの外側であって当該第２供給ノズルを囲むように、前記第２供給ノズルから供給された気体を回収する第２回収ノズルを設けたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第２供給ノズルと前記第１壁部の間、あるいは前記第１壁部の外側に、前記第２供給ノズルを囲むように、前記第２供給ノズルから供給された気体を回収する第２回収ノズルを設けたことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記第２供給ノズルによる気体の供給量をＱ３、前記第２回収ノズルによる気体の回収量をＱ４とすると、Ｑ３＜Ｑ４の関係を満たすように前記第２供給ノズルによる気体の供給量と、第２回収ノズルによる気体の回収量とを制御することを特徴とする請求項４又は５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２供給ノズルに代えて、前記第１回収ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記気体を回収する第２回収ノズルを設けたことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項８】
前記第２回収ノズルの外側であって当該第２回収ノズルを囲むように、前記光学部材における前記基板に対する対向面側から前記基板側に第１壁部が立設されていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第２回収ノズルの外側であって当該第２回収ノズルを囲むように、気体を供給する第２供給ノズルを設けたことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２回収ノズルと前記第１壁部の間、あるいは前記第１壁部の外側に、前記第２回収ノズルを囲むように、気体を供給する第２供給ノズルを設けたことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記液体から蒸発する蒸気を含む間隙を制限するために、前記基板面に略平行に前記光学部材の周囲に第２壁部を設け、
前記第２供給ノズルが前記基板を囲むように前記基板を保持するステージに設けられて、前記第２壁部に向けて気体を供給することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記基板の位置を検出する計測手段と、
前記光学部材のフォーカス位置に対する前記基板の露光面の位置を検出する位置検出手段と、を備え、
前記計測手段の計測光と前記位置検出手段の計測光とが通過する前記第２壁部に、前記計測光を透過する部材を設けたことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第２供給ノズルに代えて、前記気体を回収する第２回収ノズルを設けたことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
互いに垂直するＸ方向及びＹ方向に駆動可能な前記基板を保持するステージと、
前記ステージのＸ方向の位置を計測する第１レーザ干渉計と、
前記ステージのＹ方向の位置を計測する第２レーザ干渉計と、
前記ステージに設けられ、前記第１レーザ干渉計から照射される計測光を反射する第１反射ミラーと、
前記ステージに設けられ、前記第２レーザ干渉計から照射される計測光を反射する第２反射ミラーと、
前記第１反射ミラー若しくは第２反射ミラーに対向する方向から空調気体を吹き込む空調手段とを備え、
前記第１及び第２反射ミラーのうち、少なくとも前記空調手段に対向していない反射ミラー近傍に、前記第２供給ノズル、前記第２回収ノズル、及び前記第２壁部の少なくともいずれかを設けたことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２供給ノズルから供給される気体は、前記空調気体と同じ組成であって、同じ温度及び湿度に調整された気体であることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第２供給ノズルから供給される気体は、前記空調気体と同じ組成であって、同じ温度に調整され、更に当該空調気体より湿度が低く調整された気体であることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１レーザ干渉計の計測光の光路近傍及び前記第２レーザ干渉計の計測光の光路近傍の少なくともいずれかに、気体の湿度を測定する湿度センサを少なくとも１つ設け、
前記制御手段は、前記湿度センサの測定結果に基づいて、前記各光路近傍の湿度が予め決められた値となるように、前記第２供給ノズルから供給される気体の湿度を制御することを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１８】
基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配された、前記間隙に前記液体を供給する供給ノズルと、
前記供給ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記液体を回収する回収ノズルと、
前記回収ノズルの隣り且つ最も外側に配されたノズルとしての、流体を吸引する吸引ノズルと、を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置の制御方法であって、
前記光学部材の周囲に配された第１供給ノズルから前記間隙に前記液体を供給する第１供給工程と、
前記第１供給ノズルの周囲に配された第１回収ノズルにより前記間隙から前記液体を回収する第１回収工程と、
前記第１回収ノズルの外側から気体を供給する第２供給工程と、
前記第１供給ノズルによる液体の供給量をＱ１、前記第１回収ノズルから回収される液体と気体の回収量の和をＱ２とすると、Ｑ１＜Ｑ２の関係を満たすように前記第１供給ノズルによる液体の供給量と、第１回収ノズルによる液体及び気体の回収量とを制御する制御工程とを備えることを特徴とする制御方法。
【請求項２０】
請求項１乃至１８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系と基板との間の間隙を液体で満たした状態で原版及び投影光学系を介して基板を露光する露光技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンで構成される半導体デバイスの製造工程において、マスクに形成されたパターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して転写する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体デバイスにおける集積密度の向上に伴いパターンの更なる微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
【０００３】
露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長を短くする方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくする方法とが一般的である。
【０００４】
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から２４８ｎｍ付近の発振波長を有するＫｒＦエキシマレーザ光に移行しつつあり、更には１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザの開発が進んでいる。更に、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザの開発も行なわれている。
【０００５】
一方、これらとは全く別の解像力向上技術として液浸法が注目されつつある。従来は、投影光学系の最終面と露光対象基板（例えば、ウエハ）面との間の空間は気体で満たされていたが、液浸法では、この空間を液体で満たして投影露光を実施する。液浸法の利点は、例えば、投影光学系とウエハとの間の空間に提供される液体を純水（屈折率１．４４）とし、ウエハに結像する光線の最大入射角が液浸法と従来法で等しいと仮定した場合において、同一波長の光源を用いても、液浸法の解像力が従来法の１．４４倍に向上することである。これは従来法の投影光学系のＮＡを１．４４倍にすることと等価であり、液浸法によれば、従来法では不可能なＮＡ＝１以上の解像力を得ることが可能である。
【０００６】
近年、この液浸法を露光装置に適用する試みがなされているが、液浸法を露光装置に適用した従来例には、例えば、特許文献１に記載された露光装置がある。図１７（ａ）は上記特許文献１に開示された露光装置の構成図であるが、図１７（ａ）において、液槽（チャンバ）１０９内に液体１３０を満たすことによって、投影光学系１０４の最終面（光学素子７）とウエハ１０２の間の空間が液体１３０で満たされている。また、液槽１０９の中に、ウエハカセット１１０からウエハを搬入しウエハチャック１１２上にセットするためのウエハ搬送装置、粗位置決め装置１１１−１〜１１１−４の一部もしくは全体、ウエハチャック１１２、ＸＹステージ１１３、及び微動ステージ１１４がある。１１５はレーザ干渉計、１１６は微動ステージ１１４上にＸ及びＹ方向（Ｙ方向は不図示）に取り付けられ、微動ステージ１１４の位置を計測するためにレーザ干渉計１１５の光を反射する参照ミラー、１１７はレーザ干渉計１１５の光を通過させるため液槽１０９に設けられた窓、１１８は液槽１０９の外側に設けられ、外部との熱的遮断を保つ断熱材である。
【０００７】
また、上記特許文献１に記載された露光装置では、図１７（ｂ）に示すように、ウエハチャック１１２を含む部分のみを液槽１０９内に配置し、あるいは液槽１０９の底面にウエハチャック１１２を直接構成し、微動ステージ１１４上に液槽１０９を配置した構成例も示されている。すなわち、上記特許文献１に記載された露光装置では、投影光学系１０４の最終面とウエハ１０２全体を液槽１０９の中に配置する方法が提案されている。
【０００８】
液浸法を露光装置に適用した他の例として特許文献２がある。この特許文献２に記載された露光装置では、投影光学系とウエハ面とで挟まれた空間だけに液体を流し、投影光学系とウエハ面の間の空間を液体で満たす方法が記載されている。
【０００９】
ところで、ステージの位置計測にはレーザ干渉計が用いられているが、レーザ干渉計による計測では、その計測光路上の気体（以下、雰囲気ガスと称す）の組成、温度、湿度が変化すると、計測光路上の気体の屈折率に変化が生じ、レーザ干渉計での計測に誤差が生じる。
【００１０】
例えば、雰囲気ガスの湿度の変化を考えた場合、湿度の変化による屈折率の変化量Δnは、係数Ｋeと湿度の変化量Δe（％）を用いて、Δn＝Ke・Δeと表される。ここで係数Keは雰囲気ガスの種類や使用するレーザの波長に依存する定数である。例えば、雰囲気ガスが空気であり、レーザにＨｅ−Ｎｅを用いた場合、Ｋｅ＝１Ｅ−８程度である。従って、雰囲気ガスの湿度が１％変化した場合、屈折率の変化量は、
Δｎ＝１Ｅ−８＊１＝１Ｅ−８
となる。この時、レーザ干渉計の計測光路の長さを１ｍとすると、計測誤差ΔＬは、
ΔＬ＝１Ｅ−８＊１＝１０ｎｍ
となる。
【００１１】
従って、従来の液浸法を適用した露光装置では、レーザ干渉計の計測精度が雰囲気ガスの屈折率変化の影響を受けないようにすること、あるいはレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率変化を低減するため、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの温度、湿度の変動の低減が図られている。
【００１２】
例えば、上記特許文献１に記載された露光装置では、図１７（ｃ）に示すように、図１７（ａ）の構成において、レーザ干渉計１１５を液槽１０９の側面に直接取り付け、レーザ干渉計１１５の計測精度が雰囲気ガスの屈折率変化の影響を受けないようにすることが記載されている。
【００１３】
また、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの温度、湿度の変動の低減が図られている例としては、特許文献３がある。図１８は、特許文献３に開示された露光装置の構成図であるが、図１８において、ウエハＷを保持するホルダテーブルＷＨの外周部全体には一定の高さで壁部ＬＢが設けられ、この壁部ＬＢの内側には液体ＬＱが所定の深さで満たされている。上記特許文献３には、レーザ干渉計が参照ビームＢＳｒを投影レンズ系ＰＬの参照ミラーＭＬに投射するような露光方式の場合、参照ビームＢＳｒの光路と液体ＬＱとの間にカバー板２８７を配置し、液体ＬＱから上昇する蒸気流を遮断して参照ビームＢＳｒの光路で発生する揺らぎを防止することが記載されている。
【特許文献１】特開平６−１２４８７３号公報
【特許文献２】国際公開第９９／０４９５０４号パンフレット
【特許文献３】特開平１０−３０３１１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上記の通り、液浸法を適用した露光装置においては、レーザ干渉計の計測精度が雰囲気ガスの屈折率変化の影響を受けないようにすること、あるいは計測光路上の気体の温度、湿度の変動の低減が図られている。
【００１５】
しかし、上記特許文献１に記載の露光装置では、レーザ干渉計の計測精度が雰囲気ガスの屈折率変化の影響を受けないようにするためには、図１７（ｃ）に示すように、レーザ干渉計１１５を液槽１０９の側面に直接取り付ける必要があり、ウエハ１０２、粗位置決め装置１１１−１〜１１１−４の一部もしくは全体と、ウエハチャック１１２、ＸＹステージ１１３、及び微動ステージ１１４を、液槽１０９内に構成する必要がある。そのため、装置が複雑かつ大型化し、装置のコストアップにつながるという欠点があった。また、図１７（ｂ）のように、ウエハ１０２とウエハチャック１１２のみを液槽１０９内に設けた場合は、レーザ干渉計１１５の計測光路は、液体１３０から蒸発する蒸気によって、計測光路上の雰囲気ガスの組成が変動するため、雰囲気ガスの屈折率が変動し、レーザ干渉計１１５の計測精度が悪化する欠点がある。特に、液体１３０に純水を用いる場合は、雰囲気ガスの組成が変動するだけでなく、雰囲気ガスの湿度が大きく変動するため、さらに屈折率の変動が大きくなり、レーザ干渉計１１５の計測に到底許容できない計測誤差が生じる欠点がある。
【００１６】
以下では、説明を簡略化するため、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率が変動すると表現するが、これは、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの組成あるいは湿度、あるいはその両方が変動することで、雰囲気ガスの屈折率が変動することを意味する。また、投影光学系とウエハ面の間の空間の液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上に流出し、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率が変動することを、投影光学系とウエハ面の間の空間の液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすと表現する。
【００１７】
また、上記特許文献２に記載の露光装置では、投影光学系とウエハ面の間の空間の液体から蒸発する蒸気については何ら考慮されておらず、投影光学系とウエハ面の間の空間の液体から蒸発する蒸気によって、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率が変動し、レーザ干渉計に計測誤差が生じていた。従って、製造された半導体素子に欠陥品が多くなり、装置の生産性を悪化させる原因となる。
【００１８】
また、上記特許文献３に記載の露光装置では、カバー板２８７を配置しているため、参照ビームＢＳｒの光路で発生する揺らぎを防止することはできるが、計測用ビームＢＳｍが、液体ＬＱから蒸発する蒸気の影響を受けることには変わりなく、根本的な解決にはなっていない。
【００１９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされ、その目的は、露光時に液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減する露光技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明の露光装置は、基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置であって、前記光学部材の周囲に配された、前記間隙に前記液体を供給する第１供給ノズルと、前記第１供給ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記液体を回収する第１回収ノズルと、前記第１回収ノズルの外側から気体を供給する第２供給ノズルと、前記第１供給ノズルによる液体の供給量をＱ１、前記第１回収ノズルから回収される液体と気体の回収量の和をＱ２とすると、Ｑ１＜Ｑ２の関係を満たすように前記第１供給ノズルによる液体の供給量と、第１回収ノズルによる液体及び気体の回収量とを制御する制御手段とを具備する。
【００２１】
また、本発明の露光装置は、基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置であって、前記光学部材の周囲に配された、前記間隙に前記液体を供給する供給ノズルと、前記供給ノズルの周囲に配された、前記間隙から前記液体を回収する回収ノズルと、前記回収ノズルの隣り且つ最も外側に配されたノズルとしての、流体を吸引する吸引ノズルと、を具備する。
【００２２】
また、本発明の露光装置の制御方法は、基板に対向する光学部材を有し、前記基板と前記光学部材との間隙を液体で満たした状態で原版及び前記光学部材を介して基板を露光する露光装置の制御方法であって、前記光学部材の周囲に配された第１供給ノズルから前記間隙に前記液体を供給する第１供給工程と、前記第１供給ノズルの周囲に配された第１回収ノズルにより前記間隙から前記液体を回収する第１回収工程と、前記第１回収ノズルの外側から気体を供給する第２供給工程と、前記第１供給ノズルによる液体の供給量をＱ１、前記第１回収ノズルから回収される液体と気体の回収量の和をＱ２とすると、Ｑ１＜Ｑ２の関係を満たすように前記第１供給ノズルによる液体の供給量と、第１回収ノズルによる液体及び気体の回収量とを制御する制御工程とを備える。
【００２３】
更に、本発明は、上記露光装置を用いて基板を露光するステップを有するデバイス製造方法にも適用できる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明によれば、液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の光路に及ぼす影響を低減することできるので、例えば、ウエハステージの位置決めを高精度に行うことができ、微細な回路パターンが高精度に露光できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下に、添付図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２６】
尚、以下に説明する実施の形態は、本発明の実現手段としての一例であり、本発明が適用される装置の構成や各種条件によって適宜修正又は変更されるべきものである。
【００２７】
また、本発明は、後述する実施形態である液浸媒体供給制御方法や露光方法を実現するソフトウェアのプログラムコードを記憶した記憶媒体（または記録媒体）を、システムあるいは装置に供給し、そのシステムあるいは装置のコンピュータ（またはCPUやMPU）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出し実行することによっても、達成されることは言うまでもない。
［第１の実施形態］
図１は、本発明に係る実施形態のステップ・アンド・スキャン型投影露光装置の模式的側面図である。
【００２８】
図１において、ＡｒＦエキシマレーザやＦ２エキシマレーザなどの露光光源（不図示）から射出された光が照明光学系１に提供される。照明光学系１は、上記露光光源から提供された光を用いて、レチクル（原版）２の一部をスリット光（スリットを通過したような断面形状を有する光）により照明する。スリット光によってレチクル２を照明している間、レチクル２を保持しているレチクルステージ（原版ステージ）３とウエハ（基板）６を保持しているウエハステージ（基板ステージ）７は、一方が他方に同期しながらスキャン移動する。このような同期スキャンを通して、結果としてレチクル２上のパターン全体が投影光学系４を介してウエハ６上に連続的に結像し、ウエハ６表面に塗布されたレジストを感光させる。
【００２９】
図１において、１８はウエハステージ７に固設されたＸ方向計測用ミラー、１９はウエハステージ７のＸ方向の位置計測をするＸ方向レーザ干渉計である。また、図２に示すように、Ｙ方向にも同様に、ウエハステージ１０に固設されたＹ方向計測用ミラー２０、Ｙ方向の位置計測をするＹ方向レーザ干渉計２１が設けられ、ウエハステージ７の位置計測が行われる。ここで図２は、図１の露光装置を光学素子５より上方で切断し、見下ろした平面図である。またレチクルステージ３にも同様に、計測用ミラー（不図示）が設けられ、レチクルステージ３の位置計測をするレーザ干渉計（不図示）によって、レチクルステージ３の位置計測がなされる。
【００３０】
レチクルステージ３やウエハステージ７の位置はリアルタイムに計測され、この計測値に基づいて制御装置（不図示）により、レチクル２（レチクルステージ３）やウエハ６（ウエハステージ７）の位置決めや同期制御を行う。ウエハステージ７には、ウエハ６の上下方向（鉛直方向）の位置や回転方向、傾きを調整、変更或いは制御する駆動装置が内蔵されており、露光時は、この駆動装置により投影光学系４の焦点面にウエハ６上の露光領域が常に高精度に合致するようにウエハステージ７が制御される。ここで、ウエハ６上の面の位置（上下方向位置と傾き）は、不図示の光フォーカスセンサーによって計測され、制御装置（不図示）に提供される。
【００３１】
また、露光装置本体は、不図示の環境チャンバの中に設置されており、露光装置本体を取り巻く環境が所定の温度に保たれる。さらに、図２に示すように、Ｙ方向計測用ミラー２０の反射面と対向する位置には、ガスを吹き込む空調装置２３が設けられ、空調装置２３から温度と湿度が制御された空調気体２４が、レーザ干渉計１９、２１を取り巻く空間に向かって吹き込まれて、レーザ干渉計１９，２１の計測光路上の雰囲気ガスの温度、湿度がさらに高精度に維持される。図示していないが、レチクルステージ３にも同様の空調装置が設けられ、レチクルステージ３の位置計測を行うレーザ干渉計（不図示）を取り巻く空間の環境温度が高精度に維持される。
【００３２】
また、液体を供給する第１供給ノズル９は、光学素子５の外周を囲むように設けられ、供給管１２を介して液体供給装置１５と接続されている。液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０は、第１供給ノズル９を囲むように設けられ、回収管１３を介して液体及び気体回収装置１６と接続されている。ここで、光学素子５と第１供給ノズル９、及び第１回収ノズル１０は同一平面内に設けられている。
【００３３】
液体供給装置１５は、例えば、液体を貯めるタンク、液体を送り出す圧送装置、液体の供給流量の制御を行う流量制御装置を含み得る。液体供給装置１５には、更に、液体の供給温度を制御するための温度制御装置を含むことが好ましい。液体及び気体回収装置１６は、例えば、回収した液体と気体を分離し、液体を一時的に貯めるタンク、液体及び気体を吸い取る吸引装置、液体及び気体の回収流量を制御するための流量制御装置を含みうる。
【００３４】
液浸用の液体は、露光光の吸収が少ないものから選ばれ、更に石英や蛍石などの屈折系光学素子とほぼ同程度の屈折率を有することが望まれる。具体的には、液浸用の液体としては、純水、機能水、フッ化液（例えば、フルオロカーボン）などが候補として掲げられる。液浸用の液体は、予め脱気装置を用いて溶存ガスが十分に取り除かれたものが好ましい。これは、気泡の発生を抑制し、また、気泡が発生しても即座に液体中に吸収できるからである。例えば、環境気体中に多く含まれる窒素、酸素を対象とし、液体に溶存可能なガス量の８０％以上を除去すれば、十分に気泡の発生を抑制することができる。もちろん、不図示の脱気装置を露光装置に備えて、常に液体中の溶存ガスを取り除きながら液体供給装置１５に液体を供給してもよい。脱気装置としては、例えば、ガス透過性の膜を隔てて一方に液体を流し、もう一方を真空にして液体中の溶存ガスをその膜を介して真空中に追い出す、真空脱気装置が好適である。
【００３５】
また、１１はウエハやウエハステージ近傍に向かって気体を供給する第２供給ノズルであり、第２供給ノズル１１は、第１回収ノズル１０を囲むように設けられ、供給管１４を介して気体供給装置１７に接続されている。気体供給装置１７は、例えば、気体を貯めるタンク、気体の供給流量を制御するための流量制御装置、気体の供給温度や湿度の制御を行う制御装置を含みうる。この第２供給ノズル１１は、第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０と必ずしも同一平面上にある必要はなく、第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０が形成されている面より高くてもよいし、低くてもよい。
【００３６】
本実施形態の露光装置において、第１供給ノズル９から供給される液体によって、投影光学系４の最終面の光学素子５とウエハ６との間の空間は液体２２で満たされる。また、液体２２は第１回収ノズル１０によって回収される。さらに、第２供給ノズル１１から供給される気体によってエアカーテンが形成される。また、第１供給ノズル９から供給される液体の流量をＱ１、第１回収ノズル１０から回収される液体の流量と気体の流量の和をＱ２とした時に、液体供給装置１５と液体及び気体回収装置１６とに設けられた制御装置によって、Ｑ１＜Ｑ２となるように制御される。これにより、第２供給ノズル１１から、第１回収ノズル１０へと向かう気体の流れを確実に作り出すことができ、液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができる。このような流量制御は、以下に示す第１の実施形態の変形例や第２乃至第４の実施形態として示す露光装置でも同様に適用できる。
【００３７】
第２供給ノズル１１から供給される気体の流量をＱ３とした時に、液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができるＱ１、Ｑ２、Ｑ３は、光学素子５、第１供給ノズル９、第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１と、ウエハ６とのギャップによって異なるが、例えば光学素子５と第１供給ノズル９、第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１が全て同一平面上にあり、ウエハ６とのギャップが１ｍｍの場合、Ｑ１＝１Ｌ／ｍｉｎ、Ｑ２＝３Ｌ／ｍｉｎ、Ｑ３＝２Ｌ／ｍｉｎであれば、液体２２から蒸発する蒸気がウエハステージ周辺に及ぼす影響を十分に低減することができる。
［変形例１］
より効果的に、第２供給ノズル１１から第１回収ノズル１０へと向かう気体の流れを作り出すためには、図３に示すように、第２供給ノズル１１の外側で、第２供給ノズル１１を囲むように第１壁部２８を立設すればよい。ここで、図３は第１の実施形態の変形例で、ウエハステージ付近の概略構成を示す側面図である。図３において、図１及び図２と同様の構成要素には同一の符号を付して示している。図３に示す露光装置は、図１及び図２の露光装置の構成に加え、さらに第２供給ノズル１１を囲むように、第１壁部２８を立設した点が図１及び図２の露光装置と異なる。
【００３８】
図３の露光装置において、第１壁部２８とウエハ６とのギャップは、第２供給ノズル１１とウエハ６のギャップよりも狭く保たれている。このように第１壁部２８を設けると、第２供給ノズル１１から第１回収ノズル１０へと向かう気体の流れを積極的に作り出すことができ、液体２２から蒸発する蒸気が、ウエハステージ周辺に流出することを、より確実に防ぐことができる。
［変形例２］
ここで、図１乃至図３に示す露光装置において、液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上に流出することを防ぐことができたとしても、第２供給ノズル１１から供給される気体によって、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの組成が変動し、雰囲気ガスの屈折率に変動が生じることも考えられる。このような変動を低減させるためには、図４に示すように、第２供給ノズル１１を囲むように、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けてもよい。ここで、図４は第１の実施形態の変形例２で、ウエハステージ７付近の概略構成を示す側面図である。図４において、図１及び図２と同様の構成要素には、同一符号を付して示している。図４の露光装置は、図１及び図２の露光装置の構成に加え、さらに第２供給ノズル１１を囲むように、第２回収ノズル２５を設けた点が図１及び図２の露光装置と異なる。
【００３９】
図４の露光装置において、第２回収ノズル２５は回収管２６を介して気体回収装置２７と接続されている。気体回収装置２７は、気体を回収するための真空発生装置、気体の回収流量を制御するための流量制御装置を含み得る。なお、気体を回収する真空発生装置は、第２回収ノズル２５近傍の気体の性能に影響を与えない点で、できるだけ脈動（圧力変動）のないタイプを採用すべきである。例えばスクロールタイプの真空ポンプや圧力気体を利用して真空を発生させる真空エジェクタ等が好適であり、あるいはタンクを用いて脈動を抑制させても良い。
【００４０】
図４の露光装置では、第２供給ノズル１１から供給された気体を、第２回収ノズル２５で回収することができるため、レーザ干渉計の計測光路上に流出する気体の量を低減することができ、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに生じる密度変動を低減することができる。
【００４１】
また、第２回収ノズル２５から回収される気体の流量をＱ４とした時に、Ｑ４は、第２供給ノズル１１から供給される気体の流量Ｑ３に対して、Ｑ３＜Ｑ４となるように制御することが好ましい。このように制御することで、第２供給ノズル１１から供給された気体のほとんど全てを第２回収ノズル２５で回収することができ、第２供給ノズル１１から供給された気体はレーザ干渉計の計測光路上には流出せず、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができる。
【００４２】
図４の露光装置のような第２回収ノズル２５は、図３の露光装置に適用できることは明らかであり、図３の露光装置に第２回収ノズル２５を適用する場合、第２回収ノズル２５は、第２供給ノズル１１と第１壁部２８の間に設けてもよいし、第１壁部２８の外側に設けてもよい。
【００４３】
なお、第２供給ノズル１１から供給される気体によって生じる、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率変動を低減するためには、第２供給ノズル１１から供給される気体に、空調装置２３から吹き込まれる空調気体２４と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整された気体を用いてもよい。第２供給ノズル１１から供給される気体に、空調装置２３から吹き込まれる空調気体２４と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整された気体を用いると、第２供給ノズル１１から供給された気体が、レーザ干渉計の計測光路上に流出しても、流出した気体とレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスは、同じ組成で、同じ温度、湿度であるため、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの組成、温度、湿度に変化はなく、したがってレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができる。
【００４４】
もちろん、図４の露光装置において、Ｑ３＜Ｑ４となるように流量が制御され、第２供給ノズル１１から供給された気体の全てを第２回収ノズル２５で回収でき、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じない場合は、第２供給ノズル１１から供給される気体は、必ずしも空調気体２４と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整する必要はなく、例えば窒素などの不活性ガスを用いてもよい。
【００４５】
また、第２供給ノズル１１から供給される気体に、空調装置２３から吹き込まれる空調気体２４と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整された気体を用いたとしても、分子拡散の作用により、第１回収ノズル１０から第２供給ノズル１１へと液体２２から蒸発する蒸気が伝わり、その結果、第２供給ノズル１１から供給される気体の湿度が上昇するため、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの湿度が変動し、雰囲気ガスに屈折率変動が生じることも考えられる。このような変動が生じた場合は、予め液体２２から蒸発する蒸気による、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの湿度上昇を測定し、上昇分だけ（例えば１％）、第２供給ノズル１１から供給される気体の湿度を低くすれば良い。これによって、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスで生じる屈折率変動を低減することができる。
【００４６】
また、Ｘ方向レーザ干渉計１９あるいはＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路近傍に湿度センサを設け、湿度センサの測定結果に基づいて、Ｘ方向レーザ干渉計１９あるいはＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路近傍の雰囲気ガスの湿度が、予め決められた値となるように、気体供給装置１７内に設けられた制御装置（不図示）により、第２供給ノズル１１から供給される気体の湿度を制御してもよい。これにより、Ｘ方向レーザ干渉計１９あるいはＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路上の雰囲気ガスの湿度を常に一定に保つことができ、より確実に液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防ぐことができる。
【００４７】
次に、図１から図４の露光装置に用いられる第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１、あるいは図２回収ノズル２５の形状について説明する。図５（ａ）は、図１及び図２の露光装置において、光学素子５と第１供給ノズル９、第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１の構成のみを示した平面図である。図５（ｂ）及び（ｃ）は、図５（ａ）の部分Ａ内を拡大して示したものであり、第２供給ノズル１１の形状の一例を示した図である。第２供給ノズル１１は、供給流量の場所ムラを少なくするという観点から、図５（ｂ）に示すような、小さな孔を円周上に複数列配置することが望ましい。また、図５（ｃ）に示すように、小さな孔を円周上に一列に配置してもよい。また、フィルタ等に利用されている金属や樹脂あるいは無機質からなる焼結材、発泡材、繊維材等の多孔質体を用いてもよいし、微小な隙間からガスを吹き出すスリットノズルを用いてもよい。図５では、第２供給ノズル１１の形状について示しているが、第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０、あるいは図２回収ノズル２５の形状についても同様に、液体やガスの供給流量あるいは回収流量の場所ムラを少なくするという観点から、図５（ｂ）及び（ｃ）に示すノズル、あるいは多孔質体やスリットノズルを用いればよい。また、このような第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１、あるいは図２回収ノズル２５の形状は、以下に示す第２乃至第４の実施形態でも同様である。
【００４８】
また、図１から図４の露光装置において、第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０、第２供給ノズル１１、第２回収ノズル２５は円形状の部材を用いたが、ノズルの形状はこれに限定されず、例えば矩形形状の場合でも本実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
なお、本実施形態の露光装置の場合、第１供給ノズル９を、光学素子５とウエハ６の間の空間を囲むように設けているため、この空間を液体２２で満たす工程を行う場合、第１供給ノズル９全域から液体２２を供給すると、光学素子５とウエハ６の間の空間に気泡ができてしまうことが考えられる。この場合、第１供給ノズル９を分割（例えば４分割）し、それぞれのノズルごとに液体供給装置を設け、あるいはそれぞれのノズルにバルブを設けてその開閉を制御することで、分割したノズルの一つから液体２２を供給し、光学素子５とウエハ６の間の空間を液体２２で満たしてやればよい。また、このとき、第１回収ノズル１０を分割し、それぞれのノズルごとに回収を制御してもよい。このようにすると、光学素子５とウエハ６の間の空間を液体２２で満たす工程をスムーズに行うことができる。もちろん、第１供給ノズル９や第１回収ノズル１０とは別に、光学素子５とウエハ６の間の空間を液体２２で満たすためのノズルを設けてもよい。本実施形態で示した流量制御は、光学素子５とウエハ６の間の空間を液体２２で満たした後に行えばよいことは明らかである。
［第２の実施形態］
次に、本発明に係る第２の実施形態の露光装置について、図６を参照して説明する。
【００５０】
図６は第２の実施形態の露光装置におけるウエハステージ７付近の概略構成図であり、光学素子５より上方で切断した平面図である。図６において、第１の実施形態の露光装置と同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。本実施形態では、第２供給ノズル１１をＸ方向計測用ミラー１８付近にのみ設けた点が図１及び図２の露光装置と異なる。
【００５１】
図６の露光装置では、空調装置２３から吹き出される空調気体２４の流れを利用して、Ｙ方向レーザ干渉計２０の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができるため、第２供給ノズル１１は、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設け、液体から蒸発する蒸気がＸ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防いでいる。
【００５２】
このように、ウエハステージ７の周辺に空調気体２４の流れが存在する場合は、その流れを利用することで、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ第２供給ノズル１１を設けるという簡単な構成で、Ｘ方向レーザ干渉計１９及びＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができる。
【００５３】
なお、図６の露光装置のように、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ第２供給ノズル１１を設ける構成は、第１の実施形態の変形例である図３及び図４の露光装置に対しても適用できることは明らかである。図４の露光装置に適用する場合は、第２回収ノズル２５に対して、図６の露光装置の空調装置２３と第２供給ノズル１１の位置関係を適用すればよく、もちろん、第２供給ノズル１１と第２回収ノズル２５の両方に適用してもよい。
［第３の実施形態］
次に、本発明に係る第３の実施形態の露光装置について、図７を参照して説明する。
【００５４】
図７は第３の実施形態の露光装置の模式的な側面図であり、図７において、第１及び第２の実施形態の露光装置と同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。本実施形態では、第２供給ノズル１１の代わりに第２回収ノズル２５を設けた点のみが図１及び図２の露光装置と異なる。
【００５５】
本実施形態の露光装置では、第１回収ノズル１０を囲むように、第２回収ノズル２５を設けているため、液体２２から蒸発する蒸気を確実に回収することができ、液体２２から蒸発した蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができる。
【００５６】
また、より効果的にウエハステージ７周辺から第２回収ノズル２５へと向かう気体の流れを作り出し、液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上に及ぼす影響をさらに低減するためには、第１の実施形態の変形例である図３の露光装置と同様の第１壁部を、第２回収ノズル２５の外側で、第２回収ノズル２５を囲むように設けることが望ましい。
【００５７】
また、第２回収ノズル２５へと向かう気体の流れを作り出すためには、図８に示すように、第２回収ノズル２５を囲むように、第２供給ノズル１１を設けてもよい。ここで、図８は、本実施形態の露光装置の変形例で、ウエハステージ７付近の概略構成を示す側面図である。図８において、図１から図７の露光装置と同様の構成要素には同一の符号を付して示している。図８の露光装置は、図７の露光装置の構成に加え、さらに第２回収ノズル２５を囲むように、第２供給ノズル１１を設けた点のみが図７の露光装置と異なる。
【００５８】
図８の露光装置では、第２供給ノズル１１から気体を供給することで、第２供給ノズル１１から２回収ノズル２５へと向かう気体の流れをより確実に作り出すことができる。この流れは液体２２から蒸発する蒸気に対向し、抵抗となるため、より確実に、液体２２から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防ぐことができる。
【００５９】
なお、図７の露光装置に第１壁部を設けた場合に第２供給ノズル１１を設けるには、第２回収ノズル２５と第１壁部の間に第２供給ノズル１１を設けてもよいし、外側に設けてもよい。
【００６０】
また、この第２供給ノズル１１から供給される気体が原因で、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じる場合、第２供給ノズル１１から供給される気体には、空調装置２３から吹き込まれる空調気体２４と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整された気体を用いればよい。もちろん、第２供給ノズル１１のさらに外側で、第２供給ノズル１１を囲むように、新たに気体を回収する回収ノズルを設けてもよい。
【００６１】
さらに、図７の露光装置において、第２回収ノズル２５は、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設けてもよい。図７の露光装置においても、第２の実施形態の露光装置と同様にウエハステージ７周辺には、空調気体２４の流れが存在する。従って、空調気体２４の流れを利用して、Ｙ方向レーザ干渉計２０の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができるため、第２回収ノズル２５は、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設け、液体２２から蒸発する蒸気がＸ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防げばよい。
【００６２】
このように、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ第２回収ノズル２５を設ける構成は、図８の露光装置にも適用できることは明らかである。図８の露光装置に適用する場合は、第２供給ノズル１１を、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設けてもよく、もちろん、第２回収ノズル２５と第２供給ノズル１１の両方をＸ方向計測用ミラー１８付近にのみ設けてもよい。
［第４の実施形態］
次に、本発明に係る第４の実施形態の露光装置について、図９を参照して説明する。
【００６３】
図９は第４の実施形態の露光装置の模式的な側面図であり、ウエハステージ７付近の概略構成図である。図９において、第１乃至第３の実施形態の露光装置と同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。本実施形態では、第２供給ノズル１１をウエハステージ７に設け、更に投影光学系４の全周に亘って第２壁部２９を設けた点が図１及び図２の露光装置と異なる。
【００６４】
本実施形態の露光装置において、第２供給ノズル１１は、図１０に示すように、ウエハステージ７上においてウエハ６を囲むように設けられている。ここで、図１０は図９の露光装置をウエハ６より上方で切断したときの平面図である。また、第２壁部２９は、投影光学系４の全周に亘ってウエハ６と略平行になるように設けられ、金属あるいは樹脂、セラミックス等の材料を円盤状に成形して得られる。
【００６５】
第２供給ノズル１１から供給される気体によってエアカーテンが形成され、エアカーテンと第２壁部２９とにより、ウエハステージ７周辺の空間と、液体２２から蒸発する蒸気を含む空間（多湿ガス空間）とを仕切って分離することができる。従って、液体２２から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができる。なお、第２壁部２９は、ウエハ６のエッジ付近の露光を行っている場合でも、ノズル１１から供給された気体がエアカーテンを形成できるように、十分に大きく形成される。
【００６６】
また、投影光学系４付近に、ウエハ６の位置を検出するアライメント計測手段や、投影光学手段のフォーカス位置に対するウエハ６の露光面の位置を検出するための光フォーカスセンサが設けられている場合などは、第２壁部２９がアライメント計測手段の計測光や光フォーカスセンサの計測光を遮ってしまう場合がある。この場合は、図１１に示すように、計測光が通過する第２壁部２９の一部にガラスを用いて、計測光を透過させればよい。ここで図１１は、図９及び図１０の露光装置において、第２壁部２９の一部にガラス３４を設け、光フォーカスセンサ３３からの計測光を通過させた場合の構成を示すウエハ６付近の概略図である。図１１において、図９及び図１０の露光装置と同様の構成要素には同一の符号を付して示している。なお、図１１では光フォーカスセンサ３３の計測光を通過させる構成しか示していないが、アライメント計測手段の計測光に対しても、計測光が通過する第２壁部２９の一部にガラスを用いて、計測光を透過させればよいことは明らかである。
【００６７】
また、本実施形態の露光装置では、ウエハ６を囲むように第２供給ノズル１１が設けられ、さらに第２壁部２９が投影光学系４の全周に設けられているが、第２供給ノズル１１と第２壁部２９は、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設けてもよい。本実施形態の露光装置においても、ウエハステージ７周辺には空調気体２４の流れが存在する。従って、空調気体２４の流れを利用して、Ｙ方向レーザ干渉計２０の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができるため、第２供給ノズル１１と第２壁部２９は、Ｘ方向計測用ミラー１８付近にのみ設け、液体２２から蒸発する蒸気がＸ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防げばよい。
【００６８】
また、本実施形態の露光装置では、ウエハステージ７に第２供給ノズル１１を設けているが、第２供給ノズル１１の代わりに、第２回収ノズルを設けてもよい。第２回収ノズルを設けて、液体２２から蒸発する蒸気を回収することで、Ｘ方向レーザ干渉計１９及びＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができ、本実施形態と同様の効果を得ることができる。
［上記各実施形態の効果］
以下に、上記各実施形態の露光装置が奏する効果について説明する。
（態様１）
第１の実施形態では、投影光学系の最終面の光学素子５を囲むように、液体２２を供給する第１供給ノズル９を設け、この第１供給ノズル９を囲むように、液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０を設け、更に、第１回収ノズル１０を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１を設け、第１供給ノズル９から供給される液体の流量をＱ１、第１回収ノズル１０から回収される液体の流量と気体の流量の和をＱ２としたときに、Ｑ１＜Ｑ２となるように制御する。
【００６９】
ここで、図１２及び図１３を参照して、上記態様（１）の効果について説明する。
【００７０】
図１２及び図１３は液体を供給する第１供給ノズル９と液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０及びＸ方向レーザ干渉計１９付近の拡大図であり、図１２は、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けなかった場合における、液体２２から蒸発する蒸気の流れ３０を示す模式図であり、図１３は、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けた場合における、液体２２から蒸発する蒸気の流れ３０及び第２供給ノズル１１から供給される気体の流れ３１を示す模式図である。
【００７１】
図１２に示すように、第２供給ノズル１１を設けなかった場合、液体２２から蒸発する蒸気は、液体２２からウエハステージ７周辺へ向かって流出する。その結果、レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率に変動が生じることとなる。特に、ウエハステージ７がステップ動作やスキャン動作を行う場合は、粘性の効果により、液体２２がウエハ６に引きずられて動いてしまい、その結果、ウエハステージ７周辺において、液体２２から蒸発する蒸気の濃度に大きな分布が生じ、レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率に、さらに大きな変動が生じることとなる。図１２では、Ｘ方向レーザ干渉計１９について示しているが、Ｙ方向についても同様である。
【００７２】
一方、図１３に示すように、第１回収ノズル１０の外側で、第１回収ノズル１０を囲むように気体を供給する第２供給ノズル１１を設けた場合、第２供給ノズル１１から供給される気体は、エアカーテンを形成するため、ウエハステージ７周辺の空間と、液体２２から蒸発する蒸気を含む空間（多湿ガス空間）とを分離することができ、液体２２から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができる。さらに、Ｑ１＜Ｑ２とすることで、エアカーテンを形成する気体の一部、あるいは全てを第１回収ノズル１０から回収することができ、第２供給ノズル１１から、第１回収ノズル１０へ向かう気体の流れ３１を確実に作り出すことができる。この流れは、液体２２から蒸発する蒸気の流れ３０に対向し、抵抗となるため、ウエハステージ７がステップ動作やスキャン動作を行う場合でも、液体２２から蒸発する蒸気を含む空間（多湿ガス空間）とを分離することができ、液体２２から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができ、あるいは影響を及ぼすことを防ぐことができる。
（態様２）
第１の実施形態の変形例１は、上記態様（１）の第２供給ノズル１１の外側に、第２供給ノズル１１を囲むように、投影光学系の下端部から基板に向かって第１壁部２８を設けたものである。
【００７３】
このように第１壁部を設けると、第１壁部２８が気体の流れに対して抵抗となるため、第２供給ノズル１１から供給される気体の圧力を高くすることができ、第２供給ノズル１１から第１回収ノズル１０へと向かう気体の流れを積極的に作り出すことができる。従って、液体から蒸発する蒸気が、ステージ周辺に流出することを、より確実に防ぐことができ、液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響をさらに低減することができ、あるいは影響を及ぼすことをより確実に防ぐことができる。また、この第１壁部には、液体から飛散した液滴が、基板や前記ステージの周辺に付着することを防ぐ効果もある。
（態様３）
第１の実施形態の変形例２では、上記態様（１）の第２供給ノズル１１の外側に、第２供給ノズル１１を囲むように、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けている。
【００７４】
このように、第２供給ノズル１１を囲むように、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けると、第２供給ノズル１１から供給される気体を、第２回収ノズル２５から回収することができるため、第２供給ノズル１１から供給される気体がレーザ干渉計の計測光路上に流出し、計測光路上の雰囲気ガスの組成が変動することによって生じる屈折率変動を低減することができる。
（態様４）
第１の実施形態の他の例は、上記態様（２）における第２供給ノズル１１と第１壁部２８の間、あるいは第１壁部２８の外側に、第２供給ノズル１１を囲むように、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けたものである。
【００７５】
上記態様（２）の露光装置において、第２供給ノズル１１から供給される気体を回収するために、気体を回収する第２回収ノズル２５を設ける場合、第２回収ノズル２５は、第２供給ノズル１１と第１壁部２８の間あるいは第１壁部２８の外側のどちらに設けても、第２供給ノズル１１から供給される気体を回収できることに代わりはなく、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの屈折率変動を低減することができる。
（態様５）
第１の実施形態の他の例では、上記態様（３）あるいは（４）の第２供給ノズル１１から供給される気体の流量をＱ３、上記態様（３）あるいは（４）の第２回収ノズル２５から回収される気体の流量をＱ４としたときに、Ｑ３＜Ｑ４となるように制御する。
【００７６】
このようにＱ３＜Ｑ４とすると、第２供給ノズル１１から供給された気体のほとんど全てを、第２回収ノズル２５で回収することができるため、第２供給ノズル１１から供給された気体はレーザ干渉計の計測光路上には流出しない。従って、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができる。
【００７７】
以上説明した態様（１）から（５）は、液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けた構成である。
【００７８】
以下の態様（６）から（９）は、第２供給ノズル１１の代わりに、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けた構成である。即ち、
（態様６）
第３の実施形態では、投影光学系の最終面の光学素子５を囲むように、液体を供給する第１供給ノズル９を設け、第１供給ノズル９を囲むように、液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０を設け、更に、第１回収ノズル１０を囲むように、気体を回収する第２回収ノズル２５を設け、第１供給ノズル９から供給される液体の流量をＱ１、第１回収ノズル１０から回収される液体の流量と気体の流量の和をＱ２としたときに、Ｑ１＜Ｑ２となるように制御する。
【００７９】
ここで、図１４を参照して、上記態様（６）の効果について説明する。
【００８０】
図１４は液体を供給する第１供給ノズル９、液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０、気体を回収する第２回収ノズル２５及びＸ方向レーザ干渉計１９付近の拡大図であり、液体２２から蒸発する蒸気の流れ３０及び第２回収ノズル２５付近の気体の流れ３２を示す模式図である。
【００８１】
図１４に示すように、第１回収ノズル１３を囲むように、第２回収ノズル２５を設けると、液体２２から蒸発する蒸気を第２回収ノズル２５で回収することができ、液体２２から蒸発する蒸気がウエハステージ７周辺に流出し、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに生じる屈折率変動を低減することができる、あるいは屈折率変動が生じることを防ぐことができる。また、第２回収ノズル２５の周辺では、ウエハステージ７周辺から第２回収ノズル２５へと向かう気体の流れ３２が生じる。この気体の流れ３２は液体２２から蒸発する蒸気の流れ３０に対向し、抵抗となるため、気体の流れ３２にも、液体２２から蒸発する蒸気が、ウエハステージ７周辺に流出することを、防ぐあるいは低減する効果がある。
【００８２】
さらに、Ｑ１＜Ｑ２とすることで、第１回収ノズル１３から液体２２を全て回収することができるため、液体２２は第１回収ノズル１３を越えて第２回収ノズル２５に向かって広がることはなく、液体２２から蒸発する蒸気の発生源を第１回収ノズル１３付近に限定することができる。従って、第２回収ノズル２５では、液体２２から発生する蒸気を確実に回収することができる。
（態様７）
第３の実施形態を変形した例では、上記態様（６）の第２回収ノズル２５の外側に、第２回収ノズル２５を囲むように、投影光学系の下端部から基板に向かって第１壁部２８を設けている。
【００８３】
このように第１壁部を設けると、第１壁部が気体の流れに対して抵抗となり、ウエハステージ周辺から第２回収ノズルへと向かう気体の流れが均一になるため、ステージ周辺の気体の流れや前記ステージの移動などにかかわりなく、ステージ周辺から第２回収ノズルへと向かう気体の流れを作り出すことができ、液体から蒸発する蒸気が、ステージ周辺に流出することを、より確実に防ぐことができる。従って、液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響をさらに低減することができ、あるいは影響を及ぼすことをより確実に防ぐことができる。また、この第１壁部には、液体から飛散した液滴が、基板やステージの周辺に付着することを防ぐ効果もある。
（態様８）
第３の実施形態の他の例は、上記態様（６）の第２回収ノズル２５の外側に、第２回収ノズル２５を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けたものである。
【００８４】
このように、第２回収ノズル２５の外側に、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けると、第２供給ノズル１１から第２回収ノズル２５へと向かう気体の流れをより確実に作り出すことができる。この流れは液体から蒸発する蒸気に対向し、抵抗となるため、より確実に、液体から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響をさらに低減することができ、あるいは影響を及ぼすことをより確実に防ぐことができる。
（態様９）
第３の実施形態の他の例は、上記態様（７）の露光装置であって、第２回収ノズル２５と第１壁部２８の間、あるいは第１壁部２８の外側に、第２回収ノズル２５を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１を設けたものである。
【００８５】
上記態様（７）の露光装置に、気体を供給する第２供給ノズル１１を設ける場合、第２供給ノズル１１は、第２回収ノズル２５と第１壁部２８の間、あるいは第１壁部２８の外側のどちらに設けても、第２供給ノズル１１から第２回収ノズル２５へと向かう気体の流れを作り出せること代わりはなく、液体から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響をさらに低減することができ、あるいは影響を及ぼすことをより確実に防ぐことができる。
【００８６】
以上説明した態様（１）から（９）は、気体を供給する第２供給ノズル１１、あるいは気体を回収する第２回収ノズル２５を投影光学系に設けた構成である。
【００８７】
以下の態様（１０）から（１２）は、第２供給ノズル１１、あるいは第２回収ノズル２５を、基板６を保持するステージ７に設けたものである。即ち、
（態様１０）
第４の実施形態では、投影光学系の最終面を囲むように、液体を供給する第１供給ノズル９を設け、第１供給ノズル９を囲むように、液体及び気体を回収する第１回収ノズル１０を設け、基板６を保持するステージ７に、基板を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１を設け、更に、液体から蒸発する蒸気を含む空間を限定するために、投影光学系の全周に、基板面に略平行な第２壁部２９を設けて、第２供給ノズル１１から第２壁部２９に向けて気体を供給し、第１供給ノズル９から供給される液体の流量をＱ１、第１回収ノズルから回収される液体の流量と気体の流量の和をＱ２としたときに、Ｑ１＜Ｑ２となるように制御する。
【００８８】
このように、基板６を保持するステージ７に、基板６を囲むように、気体を供給する第２供給ノズル１１と、投影光学系の全周に、基板面に略平行な第２壁部２９を設けることで、第２供給ノズル１１から供給される気体はエアカーテンを形成し、ステージ周辺の空間と、液体から蒸発する蒸気を含む空間（多湿ガス空間）とを分離することができるため、液体から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができ、あるいは影響を及ぼすことを防ぐことができる。
（態様１１）
第４の実施形態を変形した例では、上記態様（１０）において、基板位置を検出するアライメント計測手段と、投影光学手段のフォーカス位置に対する基板の露光面の位置を検出するフォーカス位置検出手段を備え、アライメント計測手段の計測光、及びフォーカス位置検出手段の計測光が通過する第２壁部２９に、計測光が透過する部材を用いている。
【００８９】
このように、計測光が通過する第２壁部２９に、計測光が透過する部材を用いることで、計測光が第２壁部に吸収されることを防ぐことができ、基板の位置検出及びフォーカス位置検出を高精度に行うことができる。
（態様１２）
第４の実施形態を変形した他の例は、上記態様（１０）及び（１１）に対して、第２供給ノズル１１の代わりに、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けたものである。
【００９０】
第２供給ノズル１１の代わりに、気体を回収する第２回収ノズル２５を設けることで、液体から蒸発する蒸気を第２回収ノズル２５で回収することができるため、ステージ周辺の空間と、液体から蒸発する蒸気を含む空間（多湿ガス空間）とを分離することができ、液体から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに及ぼす影響を低減することができ、あるいは影響を及ぼすことを防ぐことができる。
【００９１】
以上説明した態様（１）から（９）では、第２供給ノズル、あるいは第２回収ノズルを、第１回収ノズルを囲むように設けている。また、態様（１０）から（１２）では、第２供給ノズル、あるいは第２回収ノズルを、基板を囲むように設け、第２壁部は、投影光学系の全周に設けている。
【００９２】
以下の態様（１３）は、上記態様（１）から（１２）の露光装置において、基板を保持するステージが設けられた空間に向けて気体を吹き込む空調手段を設け、ステージ上に設けられたレーザ干渉計の計測用ミラー付近に、第２供給ノズルや第２回収ノズル、第２壁部を設けたものである。
（態様１３）
上記各実施形態に共通する態様として、互いに垂直なＸ方向及びＹ方向に駆動可能な基板を保持するステージと、Ｘ方向及びＹ方向の位置を計測するレーザ干渉計を有し、ステージ上に、Ｘ方向計測用ミラーとＹ方向計測用ミラーを、それぞれの反射面がレーザ干渉計のＸ方向の計測光路とＹ方向の計測光路のそれぞれと垂直になるように設け、更に、Ｘ方向あるいはＹ方向計測用ミラーの反射面と対向する位置に、気体を吹き込む空調手段を設け、少なくとも空調手段に対向しない計測用ミラー付近に、第２供給ノズル、第２回収ノズル、及び第２壁部の少なくともいずれかを設けている。
【００９３】
ここで、図１５及び図１６を参照して、Ｙ方向計測用ミラーの反射面と対向する位置に、気体を吹き込む空調手段を備え、Ｘ方向計測用ミラー付近に第２供給ノズルを設けた場合の効果について説明する。
【００９４】
図１５及び図１６は、光学素子５から上方で切断したウエハステージ７周辺の平面図であって、空調装置２３から吹き込まれる空調気体２４の流れによって生じる、Ｘ方向レーザ干渉計１９及びＹ方向レーザ干渉計２１の計測光路付近の雰囲気ガスの組成変化を示す模式図であり、色が濃い部分ほど雰囲気ガスの組成変化が大きく、薄い部分ほど雰囲気ガスの組成変化が小さく、白色は雰囲気ガスの組成には変化が生じていないことを示す。図１５は、第２供給ノズル１１を設けなかった場合における、雰囲気ガスの組成変化を示す模式図であり、図１６は、第２供給ノズル１１を設けた場合の、雰囲気ガスの組成変化を示す模式図である。
【００９５】
図１５及び図１６に示すように、Ｙ方向計測用ミラー２０の反射面と対向する位置に空調装置２３を設けた場合、空調装置２３により吹き込まれる空調気体２４の流れによって、光学素子５とウエハ６の間の液体から蒸発する蒸気を風下に追いやることができるため、Ｙ方向レーザ干渉計２１の計測光路上では、雰囲気ガスに組成変化は生じない。しかし、Ｘ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスの組成変化に着目すると、第２供給ノズル１１を設けなかった場合、図１５に示すように、Ｘ方向レーザ干渉計１９の計測光路上に蒸気が流出し、雰囲気ガスの組成に大きな分布が生じる。従って、Ｘ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスには屈折率変動が生じることとなる。
【００９６】
一方、図１６に示すように、Ｘ方向計測用ミラー１８付近に部分的に第２供給ノズル１１を設けた場合、第２供給ノズル１１から供給された気体はエアカーテンを形成し、また第２供給ノズル１１から第１回収ノズル１０へと向かう気体の流れを作り出すことができるため、液体から蒸発する蒸気がＸ方向レーザ干渉計１９の計測光路上付近に流出することを防ぐことができる。従って、Ｘ方向レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに組成変化は生じず、Ｘ方向レーザ干渉計１９の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができ、液体から蒸発する蒸気が、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防ぐことができる。
【００９７】
図１６では、Ｙ方向計測用ミラー２０の反射面と対向する位置に空調装置２３を設け、Ｘ方向計測用ミラー１８付近に第２供給ノズル１１を設けた場合について示したが、Ｘ方向計測用ミラー１８の反射面と対向する位置に空調装置２３を設け、Ｙ方向計測用ミラー２０付近に第２供給ノズル１１を設けた場合も同様の効果が得られる。
【００９８】
また、上記態様（３）から（５）のように、第２供給ノズル１１を囲むように第２回収ノズル２５を設けた場合、あるいは上記態様（６）及び（７）のように、第２供給ノズル１１の代わりに第２回収ノズル２５を設けた場合には、第２供給ノズル１１の代わりに第２回収ノズル２５に対して、図１６の空調装置２３と第２供給ノズル１１の位置関係を適用すればよい。
【００９９】
また、上記態様（１０）から（１２）の露光装置のように、第２供給ノズル１１をウエハステージ７に設けた場合には、第２供給ノズル１１と第２壁部２９に対して、図１６の空調装置２３と第２供給ノズル１１の位置関係を適用すればよい。もちろん、上記態様（１３）のように、第２供給ノズル１１の代わりに、ウエハステージ７に第２回収ノズル２５を設けた場合には、第２回収ノズル２５と第２壁部２９に対して、図１６の空調装置２３と第２供給ノズル１１の位置関係を適用すればよい。
【０１００】
以下に説明する態様（１４）は、上記態様（１３）において、第２供給ノズル１１から供給される気体に、空調手段から吹き込まれる空調気体と同じ気体を用いたものである。
（態様１４）
この態様は、基板を保持するステージの周辺の空間に向けて気体を吹き込む空調手段を備え、第２供給ノズルから供給される気体は、空調手段から吹き込まれる空調気体と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整されている。
【０１０１】
このように、第２供給ノズルから供給される気体に、空調手段から吹き込まれる気体と同じ組成で、同じ温度、湿度に調整された気体を用いると、前記第２供給ノズルから供給された気体が、レーザ干渉計の計測光路上に流出しても、流出した気体とレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスは、同じ組成で、同じ温度、湿度であるため、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの組成、温度、湿度に変化はなく、したがってレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに屈折率変動が生じることを防ぐことができる。
【０１０２】
以下の態様（１５）は、上記態様（１３）において、第２供給ノズルから供給される気体に、空調手段にから吹き込まれる空調気体よりも湿度が低い気体を用いたものである。
（態様１５）
この態様は、基板を保持するステージの周辺の空間に向けて気体を吹き込む空調手段を備え、第２供給ノズルから供給される気体は、空調手段から吹き込まれる気体と同じ組成で、同じ温度に調整され、更に、空調手段から吹き込まれる空調気体よりも湿度が低く調整された気体である。
【０１０３】
このように、第２供給ノズルから供給される気体に、空調手段から吹き込まれる気体と同じ組成で、同じ温度に調整され、更に空調手段から吹き込まれる気体よりも湿度が低く調整された気体を用いることで、分子拡散の作用によって、第１回収ノズルから第２供給ノズルへと、液体から蒸発する蒸気が伝わり、第２供給ノズルから供給される気体の湿度が上昇した場合でも、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに生じる湿度変動を低減することができ、したがって雰囲気ガスに生じる屈折率変動を低減することができる。
【０１０４】
以下の態様（１６）は、上記態様（１３）から（１５）において、第２供給ノズルから供給される気体の湿度の制御を行うものである。
（態様１６）
この態様では、Ｘ方向干渉計の計測光路近傍及び／又はＹ方向干渉計の計測光路近傍に、気体の湿度を測定する湿度センサを１つ以上設け、センサの測定結果に基づいて、Ｘ方向干渉計の計測光路近傍及び／又はＹ方向干渉計の計測光路の湿度が予め決められた値となるように、第２供給ノズルから供給される気体の湿度を制御する。
【０１０５】
このように、Ｘ方向あるいはＹ方向計測光路近傍の湿度を測定する湿度センサを設け、計測光路上の湿度があらかじめ決められた値となるように制御することで、レーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスの湿度は常に一定に保つことができ、より確実に液体から蒸発する蒸気がレーザ干渉計の計測光路上の雰囲気ガスに影響を及ぼすことを防ぐことができる。
［デバイス製造方法］
次に、上述した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形態を説明する。
【０１０６】
図１９は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップＳ２（露光制御データ作成）では設計した回路パターンに基づいて露光装置の露光制御データを作成する。一方、ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意した露光制御データが入力された露光装置とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップＳ７）される。
【０１０７】
図２０は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップＳ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では上記説明した露光装置によって回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップＳ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の投影露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】本発明に係る第１の実施形態の投影露光装置のウエハステージ近傍の概略構成を示す平面図である。
【図３】本発明に係る第１の実施形態の変形例１である投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の側面図である。
【図４】本発明に係る第１の実施形態の変形例２である投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の側面図である。
【図５】本発明に係る第１の実施形態の投影露光装置で用いられる第１供給ノズルや第１回収ノズル、第２供給ノズル、あるいは回収ノズルの形状を示す図である。
【図６】本発明に係る第２の実施形態の投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の平面図である。
【図７】本発明に係る第３の実施形態の投影露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図８】本発明に係る第３の実施形態の変形例である投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の側面図である。
【図９】本発明に係る第４の実施形態の投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の側面図である。
【図１０】本発明に係る第４の実施形態の投影露光装置の概略構成を示すウエハステージ近傍の平面図である。
【図１１】本発明に係る第４の実施形態の投影露光装置の概略構成を示すウエハ近傍の側面図である。
【図１２】ウエハ付近の蒸気の流れを示す模式図である。
【図１３】ウエハ付近の蒸気の流れと気体の流れを示す模式図である。
【図１４】ウエハ付近の蒸気の流れと気体の流れを示す模式図である。
【図１５】Ｘ方向レーザ干渉計及びＹ方向レーザ干渉計の計測光路付近の雰囲気ガスの組成変化を示す模式図である。
【図１６】Ｘ方向レーザ干渉計及びＹ方向レーザ干渉計の計測光路付近の雰囲気ガスの組成変化を示す模式図である。
【図１７】従来の液浸型露光装置を例示する図である。
【図１８】従来の液浸型露光装置を例示する図である。
【図１９】微小デバイスの製造フローを説明する図である。
【図２０】ウエハプロセスを説明する図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１  照明光学系
２  レチクル
３  レチクルステージ
４  投影光学系
５  光学素子
６  ウエハ
７  ウエハステージ
８  ウエハステージ定盤
９  第１供給ノズル
１０  第１回収ノズル
１１  第２供給ノズル
１２  供給管
１３  回収管
１４  供給管
１５  液体供給装置
１６  液体及び気体回収装置
１７  気体供給装置
１８  Ｘ方向計測用ミラー
１９  Ｘ方向レーザ干渉計
２０  Ｙ方向計測用ミラー
２１  Ｙ方向レーザ干渉計
２２  液体
２３  空調装置
２４  空調気体
２５  気体を回収する第２回収ノズル
２６  回収管
２７  気体回収装置
２８  第１壁部
２９  第２壁部
３０  蒸気の流れ
３１  気体の流れ
３２  気体の流れ
３３  光フォーカスセンサ
３４  ガラス
【図１】
2007109739.tif 000003
【図２】
2007109739.tif 000004
【図３】
2007109739.tif 000005
【図４】
2007109739.tif 000006
【図５】
2007109739.tif 000007
【図６】
2007109739.tif 000008
【図７】
2007109739.tif 000009
【図８】
2007109739.tif 000010
【図９】
2007109739.tif 000011
【図１０】
2007109739.tif 000012
【図１１】
2007109739.tif 000013
【図１２】
2007109739.tif 000014
【図１３】
2007109739.tif 000015
【図１４】
2007109739.tif 000016
【図１５】
2007109739.tif 000017
【図１６】
2007109739.tif 000018
【図１７】
2007109739.tif 000019
【図１８】
2007109739.tif 000020
【図１９】
2007109739.tif 000021
【図２０】
2007109739.tif 000022