(57)【要約】【課題】植物のエチレン発生抑制剤、及び栽培中の植物のエチレン発生抑制方法の提供。【解決手段】一般式（１）【化１】2007314474.tif 000007（式中、Ｒ1は炭素数１０〜２２の炭化水素基を示し、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示し、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示す。）で表される化合物（Ａ）を、１〜１００００ppm（重量濃度）含有する、植物のエチレン発生抑制剤組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2007314474.tif 000006
（式中、Ｒ1は炭素数１０〜２２の炭化水素基を示し、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示し、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示す。）で表される化合物（Ａ）を、１〜１００００ppm（重量濃度）含有する、植物のエチレン発生抑制剤組成物。
【請求項２】
請求項１記載の化合物（Ａ）１〜１００００ppm（重量濃度）と（Ｂ）界面活性剤を含有する植物のエチレン発生抑制剤組成物。
【請求項３】
請求項１記載の化合物（Ａ）１〜１００００ppm（重量濃度）を植物に施用する栽培中の植物のエチレン発生抑制方法。
【請求項４】
請求項１記載の化合物（Ａ）１〜１００００ppm（重量濃度）と（Ｂ）界面活性剤を含有する植物のエチレン発生抑制剤組成物を植物に施用する栽培中の植物のエチレン発生抑制方法。
【請求項５】
栽培が密閉空間で行われる請求項３又は４記載の栽培中の植物のエチレン発生抑制方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、栽培中の植物のエチレン発生抑制方法に関するものであり、栽培中の植物の生体内におけるエチレンの生成を抑制する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
エチレンは、植物が外傷、虫害、温度ストレス、塩ストレス、乾燥ストレス、接触刺激、機械ストレス、病気、生物学上不利な環境等のストレスを受けた場合、植物体内で合成される植物ホルモンである。また植物が老化する際にも特異的に生成されるホルモンとして知られている。エチレンの機能としては、植物に対し、落葉、発芽、果実の成熟、花や葉の老化を促進し、根茎葉の生長抑制、花芽形成抑制等の影響を及ぼす老化ホルモンとして知られている（非特許文献１）。これらのことから、エチレンを制御することは植物の老化を抑制する技術として極めて重要な技術である。特許文献１にはピロリドン等により栽培植物や切花のエチレン生成を抑制する技術が、特許文献２には代表的な切花鮮度保持剤として使用されているエチレン抑制剤であるチオ硫酸銀錯塩化合物が開示されている。
【０００３】
一方、植物が生育している段階では生体内において様々な植物ホルモンの相互作用が存在する。例えば、発根や細胞伸長を促進し生長に関与する植物ホルモンであるオーキシンが細胞内で発生した場合、老化を促進する植物ホルモンであるエチレンの発生が促進されることが知られている。また、細胞分裂、発芽を促進するサイトイニン、開花促進、細胞分裂、伸長を促進するジベレリン、休眠誘導、気孔閉鎖を促進するアブシジン酸もまたエチレンの発生を促進することが知られている。このように植物はホルモンの相互作用により生長をコントロールし、生育促進を制御し、あるいは生育抑制を解除することが考えられている。
【非特許文献１】テイツザイガー  植物生理学第３版（培風館発行）
【特許文献１】特開昭５６−１１０６０２号公報
【特許文献２】特開昭６２−５１６０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、肥料である窒素、りん酸、カリウムは植物の不可欠の生育元素でありながら、植物が生育する際、老化を促すエチレンをコントロールするか否かは知られていない。植物生長調節剤は、発芽、発根、伸長、花成り、着果等生育、形態形成反応の調節のために用いられているが、上述のとおりこれらの物質はエチレンの生成を促進し、生育低下、老化を促進してしまう。また切花鮮度保持用途に関してエチレンを抑制する剤は種々あるがこれらは、収穫された切花に対してのものであり、栽培中の植物に対してどのような作用をするかは知られていない。更に、栽培中の植物のエチレンを制御する技術として実際に応用されているものはない。
従って、本発明の目的は、植物のエチレン発生抑制剤、及び栽培中の植物のエチレン発生抑制方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで本発明者は、栽培中の植物のエチレン発生に影響を及ぼす成分を探索した結果、後記の化合物（Ａ）を１〜１００００ppmの濃度で植物に施用すると、栽培中の植物のエチレン発生が顕著に抑制されることを見出した。
【０００６】
すなわち、本発明は、一般式（１）
【０００７】
【化１】
2007314474.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒ1は炭素数１０〜２２の炭化水素基を示し、Ｒ2は水素原子、水酸基又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示し、Ｒ3は水素原子又は炭素数１〜２４の炭化水素基を示す。）で表される化合物（Ａ）を、１〜１００００ppm（重量濃度）含有する、植物のエチレン発生抑制剤組成物を提供するものである。
また本発明は、化合物（Ａ）１〜１００００ppmを植物に施用する栽培中の植物のエチレン発生抑制方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば栽培中の植物のエチレン発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の炭化水素基は、それぞれ飽和、不飽和の何れでも良く、好ましくは飽和であり、また直鎖、分岐鎖、環状の何れでも良く、好ましくは直鎖又は分岐鎖、特に好ましくは直鎖である。また、炭化水素基の総炭素数は奇数でも偶数でもよいが、偶数が好ましい。
また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3の炭素数の合計は、５０以下が好ましく、より好ましくは１２〜４８、更に好ましくは１６〜４４である。
【００１１】
一般式（１）において、Ｒ1の炭素数は１４〜２２が好ましく、より好ましくは１４〜２０、更に好ましくは１４〜１８である。また、一般式（１）で表される化合物は、総炭素数が１２〜４８、更に１６〜２８、特に１６〜２４であることが好ましい。更に、総炭素数が１２〜２４で水酸基を１個有するものが好ましく、特に総炭素数が１６〜２２で水酸基を１個有するものが好ましい。一般式（１）で表される化合物の具体例としては、以下のようなものが挙げられる。
【００１２】
（Ａ１）
ＣＨ3(ＣＨ2)o-1ＯＨ（ｏは１２〜２４、好ましくは１６〜２４、更に好ましくは１６〜２０の整数）で表される１−アルカノールが挙げられる。すなわち、一般式（１）で表される化合物として、炭素数１２〜２４の１価アルコールが挙げられる。具体的には、１−ドデカノール、１−トリデカノール、１−テトラデカノール、１−ペンタデカノール、１−ヘキサデカノール、１−ヘプタデカノール、１−オクタデカノール、１−ノナデカノール、１−イコサノール、１−ヘンイコサノール、１−ドコサノール、１−トリコサノール、１−テトラコサノールが挙げられる。
【００１３】
（Ａ２）
ＣＨ3ＣＨ(ＯＨ)(ＣＨ2)p-3ＣＨ3（ｐは１２〜２４、好ましくは１６〜２４、更に好ましくは１６〜２０の整数）で表される２−アルカノールが挙げられる。具体的には、２−ドデカノール、２−トリデカノール、２−テトラデカノール、２−ペンタデカノール、２−ヘキサデカノール、２−ヘプタデカノール、２−オクタデカノール、２−ノナデカノール、２−イコサノール等が挙げられる。
【００１４】
（Ａ３）
ＣＨ2＝ＣＨ(ＣＨ2)q-2ＯＨ（ｑは１２〜２４、好ましくは１６〜２４、更に好ましくは１６〜２０の整数）で表される末端不飽和アルコールが挙げられる。具体的には、１１−ドデセン−１−オール、１２−トリデセン−１−オール、１５−ヘキサデセン−１−オール等が挙げられる。
【００１５】
（Ａ４）
その他の不飽和長鎖アルコールとして、オレイルアルコール、エライジルアルコール、リノレイルアルコール、リノレニルアルコール、エレオステアリルアルコール（α又はβ）、リシノイルアルコール等が挙げられる。
【００１６】
（Ａ５）
ＨＯＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)(ＣＨ2)r-2Ｈ（ｒは１２〜２４、好ましくは１６〜２４、更に好ましくは１６〜２０の整数）で表される１，２−ジオールが挙げられる。具体的には、１，２−ドデカンジオール、１，２−テトラデカンジオール、１，２−ヘキサデカンジオール、１，２−オクタデカンジオール等が挙げられる。
【００１７】
上記（Ａ１）〜（Ａ５）のうち、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ４）、（Ａ５）が好ましく、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ４）がより好ましく、（Ａ１）、（Ａ４）が更に好ましく、（Ａ１）が特に好ましい。
【００１８】
本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物は、上記化合物（Ａ）を１〜１００００ppm（重量濃度、以下同様）、好ましくは１〜１０００ppm、より好ましくは５〜５００ppm含有する。この化合物（Ａ）の濃度は、植物に施用する際の濃度である。
【００１９】
また、本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物は、上記化合物（Ａ）と共に、更に、該化合物（Ａ）以外の界面活性剤（Ｂ）〔以下、成分（Ｂ）という〕を含有することが好ましい。更に肥料（Ｃ）〔以下、成分（Ｃ）という〕及びキレート剤（Ｄ）〔以下、成分（Ｄ）という〕の少なくとも１つを含有することが好ましい。特に成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を含有することがより好ましい。施用時期に肥料を必要とする場合は、例えば化合物（Ａ）に、成分（Ｂ）、及び成分（Ｃ）を併用するのが好ましい。また、施用時期に肥料を必要としない場合は、例えば化合物（Ａ）に成分（Ｂ）、又は化合物（Ａ）に成分（Ｂ）と成分（Ｄ）を併用するのが好ましい。
【００２０】
成分（Ｂ）としては、以下のような非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤を化合物（Ａ）の乳化、分散、可溶化又は浸透促進の目的で用いるのが好ましい。
【００２１】
非イオン界面活性剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、樹脂酸エステル、ポリオキシアルキレン樹脂酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、アルキル（ポリ）グリコシド、ポリオキシアルキレンアルキル（ポリ）グリコシド、アルキルアルカノールアミド、糖系脂肪酸アミド等が挙げられる。ここで、糖系脂肪酸アミドとしては、糖又は糖アルコールに疎水基がアミド結合した構造を有するもの、例えばグルコースやフルクトースの脂肪酸アミド等の糖系脂肪酸アミドが挙げられる。また、アミノ基を有する糖又は糖アルコールに疎水基がアミド結合した構造を有するもの、例えばＮ−メチルグルカミンの脂肪酸アミド等の糖系脂肪酸アミドを用いることもできる。ポリオキシアルキレン基としては、ポリオキシエチレン基又はポリオキシプロピレン基が好ましい。また脂肪酸残基はＣ6−Ｃ30脂肪酸残基が好ましい。非イオン界面活性剤としては、窒素原子を含まないエーテル基含有非イオン界面活性剤及びエステル基含有非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上が好ましい。具体的には、ポリオキシアルキレン（特にエチレン）ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン（特にエチレン）グリセリン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルが好ましい。
【００２２】
陰イオン界面活性剤としては、カルボン酸系、スルホン酸系、硫酸エステル系及びリン酸エステル系界面活性剤が挙げられるが、カルボン酸系及びリン酸エステル系界面活性剤から選ばれる１種以上が好ましい。
【００２３】
カルボン酸系界面活性剤としては、例えば炭素数６〜３０の脂肪酸又はその塩、多価カルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアミドエーテルカルボン酸塩、ロジン酸塩、ダイマー酸塩、ポリマー酸塩、トール油脂肪酸塩、エステル化化工澱粉等が挙げられる。中でもエステル化化工澱粉が好ましい。エステル化化工澱粉の中で、アルケニルコハク酸化デンプン（アルケニルコハク酸エステル化デンプン又はアルケニルコハク酸デンプンともいう）が好ましく、特に、オクテニルコハク酸化デンプンが好ましく、その市販品として例えばエマルスター＃３０〔松谷化学工業（株）製〕等が挙げられる。
【００２４】
スルホン酸系界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、ジフェニルエーテルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸の縮合物塩、ナフタレンスルホン酸の縮合物塩等が挙げられる。
【００２５】
硫酸エステル系界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、トリスチレン化フェノール硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル塩、アルキルポリグリコシド硫酸塩等が挙げられる。
【００２６】
リン酸エステル系界面活性剤として、例えばアルキルリン酸エステル塩、アルキルフェニルリン酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルリン酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルリン酸エステル塩等が挙げられる。
塩としては、例えば金属塩（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ等）、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩、脂肪族アミン塩等が挙げられる。
【００２７】
両性界面活性剤としては、アミノ酸系、ベタイン系、イミダゾリン系、アミンオキサイド系が挙げられる。
【００２８】
アミノ酸系としては、例えばアシルアミノ酸塩、アシルサルコシン酸塩、アシロイルメチルアミノプロピオン酸塩、アルキルアミノプロピオン酸塩、アシルアミドエチルヒドロキシエチルメチルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００２９】
ベタイン系としては、アルキルジメチルベタイン、アルキルヒドロキシエチルベタイン、アシルアミドプロピルヒドロキシプロピルアンモニアスルホベタイン、リシノレイン酸アミドプロピルジメチルカルボキシメチルアンモニアベタイン等が挙げられる。
【００３０】
イミダゾリン系としては、アルキルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、アルキルエトキシカルボキシメチルイミダゾリウムベタイン等が挙げられる。
【００３１】
アミンオキサイド系としては、アルキルジメチルアミンオキサイド、アルキルジエタノールアミンオキサイド、アルキルアミドプロピルアミンオキサイド等が挙げられる。
【００３２】
成分（Ｂ）は１種でも、２種以上混合して使用しても良い。また、これらの成分（Ｂ）がポリオキシアルキレン基を含む場合は、好ましくはポリオキシエチレン基を有し、その平均付加モル数が１〜３００、好ましくは５超１００以下であるものが好ましい。
また、成分（Ｂ）は、前記したグリフィンのＨＬＢが１０以上のものが好ましく、更に１２以上のものが好ましい。
【００３３】
なお、化合物（Ａ）として、炭素数１２〜２４の１価アルコールを用いる場合は、成分（Ｂ）としては、エステル基含有非イオン界面活性剤、窒素原子を含まないエーテル基含有非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、カルボン酸系陰イオン界面活性剤及びリン酸系陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上を用いるのが好ましい。特に、エステル基含有非イオン界面活性剤及び窒素原子を含まないエーテル基含有非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上が好ましい。すなわち、本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物としては、炭素数１２〜２４の１価アルコールと、エステル基含有非イオン界面活性剤、窒素原子を含まないエーテル基含有非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、カルボン酸系陰イオン界面活性剤及びリン酸系陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤とを含有するものが挙げられる。
【００３４】
また、成分（Ｃ）としては、具体的には、Ｎ、Ｐ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓ、Ｂ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｃｌ、Ｓｉ、Ｎａ等、特にＮ、Ｐ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇの供給源となる無機物及び有機物が挙げられる。そのような無機物としては、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、リン酸アンモニウム、硝酸ソーダ、尿素、炭酸アンモニウム、リン酸カリウム、過リン酸石灰、熔成リン肥（３ＭｇＯ・ＣａＯ・Ｐ2Ｏ5・３ＣａＳｉＯ2）、硫酸カリウム、塩カリ、硝酸石灰、消石灰、炭酸石灰、硫酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。また、有機物としては、鶏フン、牛フン、バーク堆肥、アミノ酸、ペプトン、ミエキ、発酵エキス、有機酸（クエン酸、グルコン酸、コハク酸等）のカルシウム塩、脂肪酸（ギ酸、酢酸、プロピオン酸、カプリル酸、カプリン酸、カプロン酸等）のカルシウム塩等が挙げられる。これら肥料成分は界面活性剤と併用することもできる。肥料成分は、稲や野菜の露地栽培のように、土壌中に元肥として肥料成分が十分施用されている場合にはあえて配合する必要はない。また、養液土耕や水耕栽培のように元肥の過剰施用を避け肥料成分をかん水と同じに与えるようなタイプの栽培形態には肥料成分を配合することが好ましい。
【００３５】
成分（Ｄ）として、以下のようなキレート能を有する有機酸又はその塩を併用すると、農作物の増収効果が更に改善される。具体的にはクエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、ヘプトン酸、シュウ酸、マロン酸、乳酸、酒石酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、グルタル酸等のオキシカルボン酸、多価カルボン酸や、これらのカリウム塩、ナトリウム塩、アルカノールアミン塩、脂肪族アミン塩等が挙げられる。また、有機酸以外のキレート剤の混合でも農作物の収量が改善される。混合するキレート剤としてＥＤＴＡ、ＮＴＡ、ＣＤＴＡ等のアミノカルボン酸系キレート剤が挙げられる。
【００３６】
本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物には、上記成分（Ｂ）を１〜１００００ppm（重量濃度、以下同様）、更に１〜５０００ppm、特に１〜１０００ppmで含有するのが好ましい。
【００３７】
本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物において、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）を併用する場合、各成分の比率は、化合物（Ａ）１００重量部に対して、成分（Ｂ）０．０１〜１０００００００重量部、更に０．０２〜１００００００重量部、特に０．１〜１０００００重量部；成分（Ｃ）０〜１，０００，０００重量部、更に０〜１００，０００重量部、特に１０〜１００，０００重量部；成分（Ｄ）０〜５０，０００重量部、特に１０〜５，０００重量部が好ましい。
また、本発明の植物のエチレン発生抑制剤組成物は、化合物（Ａ）１００重量部に対して、その他の栄養源（糖類、アミノ酸類、ビタミン類等）０〜５０００重量部、特に１０〜５００重量部を含有することもできる。
【００３８】
本発明の栽培中の植物のエチレン発生抑制方法としては色々な手段を使うことができる。例えば、前記植物のエチレン発生抑制剤組成物（以下、本発明組成物ともいう）を葉面、茎、果実等直接葉面に散布（葉面散布など）したり、土壌中に注入する方法（土壌灌注、土壌灌水など）、水耕栽培やロックウールのように根に接触している水耕液や供給水に希釈混合して供給する方法（養液栽培）が挙げられる。
【００３９】
養液栽培としては水耕、噴霧耕、固形培地耕などの方式が挙げられる。更に水耕方式は循環式湛液水耕方式、通気式湛液水耕方式、液面上下式湛液水耕方式、毛管式水耕方式やＮＦＴ（Nutrient Film Technique：薄膜水耕法）方式などに分類される。噴霧耕方式は噴霧水耕方式、噴霧耕方式などに分類される。固形培地耕方式は無機培地耕方式と有機培地耕方式に分類される。無機培地耕方式では、れき、砂、もみがらくん炭、バーミキュライト、パーライト、ロックウールなどが用いられる。有機培地耕方式では樹皮、ヤシガラ、ピートモス、おがくず、もみがらなどの天然有機物やポリウレタン、ポリフェノール、ビニロンなどの有機合成物が用いられる。なかでも養液の保持性向上と気相率向上の観点からロックウールを用いる無機培地耕方式が好ましい。
【００４０】
養液栽培における化合物（Ａ）の施用量は０．００５kg／１０ａ／１作〜１００kg／１０ａ／１作、更に０．００５kg／１０ａ／１作〜７５kg／１０ａ／１作が好ましい。この範疇の施用量となるように本発明組成物中の化合物（Ａ）の濃度や施用回数を調整することが好ましい。
【００４１】
本発明組成物の供給方法は、植物の種類や施用時期（育苗施用か本圃施用）により適切な方法を選定すればよい。
【００４２】
本発明では、育苗施用及び／又は本圃施用での施用における本発明組成物の施用回数は特に限定しないが、２回以上行う場合は、施用間隔がそれぞれ５０日以内であることが好ましく、１０日以内であることがより好ましい。
【００４３】
また、本圃施用を、植物の地下部と地上部に行うことが好ましい。地下部でも特に不定根が発生する部位（地下茎部）が特に好ましい。その場合、地下部への本発明組成物の施用間隔が５０日以内であり、地上部への本発明組成物の施用間隔が１０日以内であることが好ましい。
【００４４】
化合物（Ａ）の施用量は、０．００５kg／１０ａ／１作〜１００kg／１０ａ／１作、更に０．００５kg／１０ａ／１作〜７５kg／１０ａ／１作が好ましい。この範囲の施用量となるように本発明組成物の化合物（Ａ）の濃度や施用回数を調整することが好ましい。
【００４５】
本発明の対象となる植物として特に限定しないが、果菜類としては、キュウリ、カボチャ、スイカ、メロン、トマト、ナス、ピーマン、イチゴ、オクラ、サヤインゲン、ソラマメ、エンドウ、ダイズ（エダマメ）、トウモロコシ等が挙げられる。なかでも、トマト、キュウリ、イチゴ、ピーマン、ナスが好適であり、葉菜類では、ハクサイ、ツケナ類、チンゲンサイ、キャベツ、カリフラワー、ブロッコリー、メキャベツ、タマネギ、ネギ、ニンニク、ラッキョウ、ニラ、アスパラガス、レタス、サラダナ、セルリー、ホウレンソウ、シュンギク、パセリ、ミツバ、セリ、ウド、ミョウガ、フキ、シソ等が挙げられる。根菜類としては、ダイコン、カブ、ゴボウ、ニンジン、ジャガイモ、サトイモ、サツマイモ、ヤマイモ、ショウガ、レンコン等が挙げられる。その他に、稲、麦類、花卉類等にも使用が可能である。
【００４６】
本発明に用いられる植物は、栽培中であれば収穫前、収穫後など、特に限定されるものではないが、エチレン発生を効果的に抑制する観点から、収穫前の方が好ましい。
【００４７】
本発明は特に密閉空間で行われることが好ましい。密閉空間の密閉の程度は特に限定しないが、一般的な栽培方法において、例えば、温室栽培、ビニールハウス栽培、トンネル栽培、マルチ栽培、霜よけするために植物体をビニール等で1株ずつ覆う栽培など、通気性が露地栽培より低下する場合の栽培において特に効果を発揮する。
【実施例】
【００４８】
実施例１  トマト水耕栽培の地下部へ施用した場合のエチレン抑制試験
トマト品種：桃太郎［タキイ種苗（株）］
発芽用：５０穴セルトレイ
栽培ポット：２５０mLポリエチレンボトル
栽培環境条件：照度５０００Lux、温度２３℃、湿度５０％、照明時間１６時間
試験薬剤：脂肪族アルコール［花王（株）製カルコールシリーズ］、ＰＯＥ（20）ソルビタン脂肪酸エステル［花王（株）製レオドールTW-O120V］、オーキシン［和光純薬（株）］、サイトカイニン［和光純薬（株）］、チオ硫酸銀錯塩（STS）（クリザールAVB：STS200mMとして使用）（脂肪族アルコールの使用の際、界面活性剤を用いない試験液は予め１hr、３０℃で超音波により分散させたものを用いた。）
【００４９】
５０穴セルトレイへトマト種を播種し、二葉期に生育したトマトの地下部を水道水で洗浄し土を落とした後、１日間上記栽培条件にて水道水を吸水させた。それぞれ水道水に本発明品を表１の処理濃度に希釈調整した液約２５０mLをポリエチレンボトルに入れ、更に根部を洗浄したトマトをそれぞれ移植し試験を開始した。試験開始後７日のトマト１０株を試験液につけたまま、テドラーバック［５Ｌ用：近江オドエアーサービス（株）製］に包含した。５時間後、テドラーバッグ内の発生エチレンガス量をガス検知管（測定器：kitagawa製、検知管：ガステック製エチレンNo172L）により測定し、植物体生重量あたりのエチレン発生速度（mg/hr/ｇ）を測定した。結果を表１に示す。その結果、本発明品を根に施用した場合、比較品と比べ明らかにエチレン発生が抑制された。
【００５０】
実施例２  水耕栽培トマトの茎葉へ施用した場合のエチレン抑制試験
トマト品種：桃太郎［タキイ種苗（株）］
発芽用：５０穴セルトレイ
栽培ポット：２５０mLポリエチレンボトル
栽培環境条件：照度５０００Lux、温度２３℃、湿度５０％、照明時間１６時間
使用薬剤：実施例１と同様
【００５１】
５０穴セルトレイへトマト種を播種し、二葉期に生育したトマトの地下部を水道水で洗浄し土を落とした後、１日間上記栽培条件にて水道水を吸水させた。それぞれ水道水に液２５０mLをポリエチレンボトルに入れ、更に根部を洗浄したトマトを移植した。本発明品を表２の処理濃度に希釈調整した液をトマト１株あたり１０mL量スプレーにて茎葉部へ噴霧し試験を開始した。試験開始７日後のトマト１０株を水道水につけたまま、テドラーバック［５Ｌ用：近江オドエアーサービス（株）製］に包含した。５時間後、テドラーバッグ内の発生エチレンガス量をガス検知管（測定器：kitagawa製、検知管：ガステック製エチレンNo172L）により測定し、植物体生重量あたりのエチレン発生速度（mg/hr/ｇ）を測定した。結果を表２に示す。その結果、本発明品を茎葉に施用した場合、比較品と比べ明らかにエチレン発生が抑制された。
【００５２】
実施例３  キュウリ水耕栽培の地下部へ施用した場合のエチレン抑制試験
キュウリ品種：北進
発芽用：５０穴セルトレイ
栽培ポット：２５０mLポリエチレンボトル
栽培環境条件：照度５０００Lux、温度２３℃、湿度５０％、照明時間１６時間
使用薬剤：実施例1と同様
【００５３】
５０穴セルトレイへキュウリを播種し、二葉期に生育したキュウリの地下部を水道水で洗浄し土を落とした後、１日間上記栽培条件にて水道水を吸水させた。それぞれ水道水に本発明品を表３の処理濃度に希釈調整した液約２５０mLをポリエチレンボトルに入れ、更に根部を洗浄したキュウリをそれぞれ移植し試験を開始した。試験開始７日後のキュウリ１０株を試験液につけたまま、テドラーバック［５Ｌ用：近江オドエアーサービス（株）製］に包含した。５時間後、テドラーバッグ内の発生エチレンガス量をガス検知管（測定器：kitagawa製、検知管：ガステック製エチレンNo172L）により測定し、植物体生重量あたりのエチレン発生速度（mg/hr/ｇ）を測定した。結果を表３に示す。その結果、本発明品を根に施用した場合、比較品と比べ明らかにエチレン発生が抑制された。
【００５４】
【表１】
2007314474.tif 000003
【００５５】
【表２】
2007314474.tif 000004
【００５６】
【表３】
2007314474.tif 000005