(57)【要約】【課題】厚さが減少し電磁波放出経路の信頼性が向上した表示装置用光学フィルタを提供する。【解決手段】単一層の透明なベース基材と、ベース基材の一面に形成された反射防止層と、ベース基材の他面に形成された接着層とを含み、導電性コーティング膜２０の周辺部が露出するように接着層によって導電性コーティング膜２０上に付着している光学フィルム３０と、導電性コーティング膜２０が露出した領域に接触する導電性電極４０とを含む。【選択図】図２
2007288184.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性コーティング膜が一面に積層されている透明な支持基板と、
単一層の透明なベース基材と、前記ベース基材の一面に形成された反射防止層と、前記ベース基材の他面に形成された接着層とを含み、前記導電性コーティング膜の周辺部が露出するように前記導電性コーティング膜上に前記接着層で付着している光学フィルムと、
前記導電性コーティング膜が露出した領域に接触する導電性電極と、
を含むことを特徴とする表示装置用光学フィルタ。
【請求項２】
前記導電性コーティング膜は、前記支持基板上に直接コーティングされていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項３】
前記導電性コーティング膜が露出した領域の幅は４ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項４】
前記導電性電極は、前記導電性コーティング膜が露出した領域から前記支持基板の側壁およびこれと連結した前記支持基板の他面に沿って延長していることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項５】
前記導電性電極は銅膜および導電性接着層を含み、前記導電性電極は、前記導電性接着層を介して前記導電性コーティング膜が露出した領域、前記支持基板の側壁および前記支持基板の他面に付着していることを特徴とする請求項４に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項６】
前記接着層は色補正色素を含むことを特徴とする請求項５に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項７】
前記導電性コーティング膜は、少なくとも一つの導電性薄膜層および少なくとも一つの高屈折率透明薄膜層を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項８】
前記導電性薄膜層は銀または銀合金を含み、前記高屈折率透明薄膜層は酸化ニオブを含むことを特徴とする請求項7に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項９】
前記光学フィルムと重複するように前記支持基板の他面の周辺部に沿って形成された黒色セラミックパターンをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【請求項１０】
前記支持基板は強化ガラス基板であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用光学フィルタに関し、より詳細には、電磁波遮断機能を有する表示装置用光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
高度に情報化した現代社会において、光エレクトロニクスに関する部品および機器が進歩している。その中でも画像を表示する表示装置は、テレビ装置用やパソコンモニター装置用などとして広く普及している。
【０００３】
既存の表示装置を代表する装置として、ＣＲＴ（Cathode-Ray Tube）装置が挙げられる。しかし、ＣＲＴ装置は、表示装置の大型化や薄型化に対する市場の要求を十分に満たし得ない。そのため、プラズマ表示装置（Plasma Display Panel）、プラズマアドレス液晶表示装置（Plasma Address Liquid Crystal display panel）、電界放出表示装置（Field Emission Display）、液晶表示装置（Liquid Crystal Display）、有機EL表示装置（Organic Electro Luminescence）などの平板表示装置が、次世代を代表する表示装置として研究が進められている。この中でもプラズマ表示装置は、自発光型装置として視野角が優れており、大型化および薄型化が容易であるとして脚光を浴びているし、特に大型テレビ分野においては、ＣＲＴ装置はプラズマ表示装置によって代替されつつある趨勢にある。
【０００４】
このようなＰＤＰ装置は、ガスに高い電圧を加えたときに発生するガス放電現象を用いて画像を表示するものであるが、高い電圧が印加されることによって、人体に有害な電磁波（Electro Magnetic Interference）、リモコンの誤作動等を起こす近赤外線（Near Infrared Ray）及びオレンジ色で色純度に悪影響をおよぼすネオン光などが発生する。
【０００５】
前記のような電磁波、近赤外線、ネオン光などを遮断するために、ＰＤＰ装置前面には、表示装置用光学フィルタが装着されている。表示装置用光学フィルタは、電磁波遮断機能、近赤外線遮断機能、色補正機能を有する光学層を含んでいる。しかし、これらの機能を有する光学層を備えた光学フィルムを多数積層すると光学フィルタの厚さが増加するため、表示装置の薄型化に逆行し、製造過程も複雑になってしまう。したがって、光学フィルム数を最小限に抑えることで、光学フィルタの薄型化を実現することが求められている。
【０００６】
また、電磁波遮断機能を有する光学層の場合、表示装置から吸収した電磁波をグランドに放出できなかったり放出が遅延したりすると、前記光学層がアンテナの役割をして外部に電磁波を放出するようになる。よって、電磁波の放出しやすい経路を備えることも求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するために案出されたものであって、本発明の技術的課題は、厚さが減少し、電磁波放出経路の信頼性が向上した表示装置用光学フィルタを提供することを目的とする。
【０００８】
なお本発明の技術的課題は、上述した技術的課題に制限されるものではない。上述されていないさらに他の技術的課題は、下記の記載によって当業者が明確に理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前述の目的を達成し、上述した従来技術の問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係る表示装置用光学フィルタは、導電性コーティング膜が一面に積層されている透明な支持基板と、単一層の透明なベース基材と、ベース基材の一面に形成された反射防止層と、ベース基材の他面に形成された接着層とを含み、導電性コーティング膜の周辺部が露出するように導電性コーティング膜上に接着層によって付着している光学フィルムと、導電性コーティング膜が露出した領域に接着する導電性電極とを含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、支持基板上に導電性コーティング膜を直接コーティングすることで光学フィルム数が減少する。したがって、光学フィルタの厚さが減少し、反射率の増加が抑制される。また、製造工程が改善されて製造費用が節減する。
【００１１】
また、本発明によると、導電性電極と導電性コーティング膜の接触面積を十分に確保することができ、電磁波放出経路の信頼性が改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、添付の図面に基づき、本発明の好適な実施の形態を詳細に説明するが、本発明がこれらの実施形態によって制限または限定されることはない。図中、同じ参照符号は同じ部材を示す。
【００１３】
以下、本発明の一実施形態に係る表示装置用光学フィルタについて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る表示装置用光学フィルタの平面図であり、図２は、図１のＩ−II線に沿って切断した断面図である。
【００１４】
図１および図２を参照すると、表示装置用光学フィルタ１００は、支持基板１０と、支持基板１０上に積層されている導電性コーティング膜２０と、導電性コーティング膜２０上に付着している光学フィルム３０と、導電性コーティング膜２０に接触する導電性電極４０とを含む。
【００１５】
支持基板１０は、導電性コーティング膜２０や光学フィルム３０などを支持する役割をし、表示装置の表示画面と実質的に同じ形状を有する。例えば、表示装置の表示画面が正方形である場合には、これに対応して正方形状を有するようになる。
【００１６】
支持基板１０は、ディスプレイ装置の輝度を過度に減少しないように透明な材質で成される。例えば、透明度が優れているガラス基板、ポリエチレンテレフタレート（Polyethylene Terephthalate）、ポリビニルアルコール（polyvinyl Alcohol）、ポリカーボネート（Polycarbonate）、アクリル樹脂などが用いられ得るが、これに限定されるものではない。好ましくは、十分な強度を有しており、後述する導電性コーティング膜２０の積層工程にて高温に耐え得るガラス基板であっても良いし、大きな面でも十分な強度を有するために強化ガラス基板を用いても良い。
【００１７】
支持基板１０は、表示画面が覆われる程度の大きさを有する。例えば、４２インチの表示装置に適用される場合は、約９８４ｍｍ×５８４ｍｍの大きさを有し得る。支持基板１０の厚さは、支持基板１０の材質や大きさによって異なるが、例えば、支持基板１０がガラスからなり、約９８４ｍｍ×５８４ｍｍの大きさを有する場合には、約２．５〜３．５ｍｍの範囲を有し得る。
【００１８】
導電性コーティング膜２０は、表示装置の電磁波および／または近赤外線を遮断する役割をし、支持基板１０の前面に積層されている。導電性コーティング膜２０は単一層で成されても良いし、二層以上が積層された多層膜構造で成されても良い。導電性コーティング膜２０のさらに詳しい構造は、図３に示されている。
【００１９】
図３は、本発明の一実施形態に係る導電性コーティング膜２０の断面図である。図３に示すように、導電性コーティング膜２０は、導電性薄膜層２２と、高屈折率透明薄膜層２１、２３とを含む。
【００２０】
導電性薄膜層２２は、表示装置から放出される電磁波を吸収したり近赤外線を吸収または反射することで、これらの放出を遮断する。導電性薄膜層２２の材料は、導電性が高くて可視光線の通過度が相対的に高い銀（Ag）が用いられ得る。導電性薄膜層２２の物理的および化学的な安全性のために、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズなどの金属から選択された少なくとも一つを混合した銀合金が用いられても良い。前記のような導電性薄膜層２２の厚さは４〜３０ｎｍである。
【００２１】
高屈折率透明薄膜層２１、２３は、可視光領域における透明度を増加して可視光の反射を減少させる。すなわち、高屈折率透明薄膜層２１、２３と導電性薄膜層２２を交互に積層することで、導電性薄膜層２２のみを積層する場合と比べて全体的に可視光の通過度が増加する。高屈折率透明薄膜層２１、２３には、可視光に対する屈折率が１．６以上である材質が用いられ得る。例えば、ニオブ、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズまたはこれらの混合物などの酸化物が用いられても良いし、好ましくは、酸化ニオブ（Nb2O5）またはインジウムスズ酸化物（Indium Tin Oxide）などが用いられる。高屈折率透明薄膜層２１、２３の厚さは５〜２００ｎｍである。
【００２２】
このような導電性薄膜層２２および高屈折率透明薄膜層２１、２３は、図３に示すように互いに交互に積層されており、好ましくは、２回以上繰り返して積層される。また、前記薄膜層２１〜２３の間に他の層、例えば、ＡＺＯ（Aluminum Zinc Oxide）薄膜層が介在しても良い。
【００２３】
前記のような導電性薄膜層２２および高屈折率透明薄膜層２１、２３は、支持基板１０上にスパッタリングによる蒸着法などで直接コーティングされる。このとき、スパッタリングは、例えば１００℃以上の温度で進行されるが、支持基板１０がガラスからなる場合、前記温度によって高い信頼性で薄膜層２１〜２３をコーティングすることができる。
【００２４】
一方、導電性薄膜層２２は、別途のベース基材にコーティングされて接着されても良いが、前記のように支持基板１０上に直接コーティングすることで、光学フィルタ１００の厚さを減少することができる。また、追加的なベース基材および接着層を備える場合は、材質界面数の増加により反射率が増加し得るが、導電性薄膜層２２を支持基板１０上に直接コーティングする場合には、材質界面数が相対的に減少するため反射率の増加を抑制することができる。また、導電性薄膜層２２を支持基板１０上に直接コーティングする場合には、追加的な接合工程が省略されて製造工程が改善されて、製造費用を節減することができる。
【００２５】
再び図１および図２を参照すると、導電性コーティング膜２０の上には光学フィルム３０が付着している。光学フィルム３０は、色補正機能および／または反射防止機能を有しており、多層構造で成されても良い。以下、図４を参照して、光学フィルム３０の構造についてより詳しく説明する。
【００２６】
図４は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム３０の断面図である。図４に示すように、光学フィルム３０は、単一層の透明なベース基材３２と、ベース基材３２の一面に形成された反射防止層３３と、ベース基材３２の他面に形成された接着層３１とを含む。
【００２７】
ベース基材３２は、反射防止層３３などを支持する役割をし、透明度が優れた物質が用いられ得る。ここで、ベース基材３２は、支持基板１０によって支持されるため、支持基板１０ほどの強度は必要ない。また、ロール・トゥ・ロール（roll-to-roll）工程によって支持基板１０に付着する場合は、ある程度の延性を有する材質で成されることが好ましい。ベース基材３２を成す物質の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（Tri Acetyl Cellulose）、アクリル樹脂などが挙げられる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレートが用いられる。
【００２８】
反射防止層３２は、外部光の反射を防いで画質を改善する役割をする。反射防止層３３は、可視光領域で屈折率が１．５以下である物質、例えば、フッ素系透明高分子樹脂、シリコン系樹脂、酸化ケイ素、アクリル樹脂などを含み、これらの膜を二層以上備えても良い。反射防止層３３は、前記のような低屈折率物質以外の光学的特性を有する物質をさらに含んでも良いし、反射防止層３３上に保護層（図示せず）またはその他の機能性層をさらに備えても良い。
【００２９】
このような反射防止層３３は、ベース基材３２の前面に直接コーティングされて形成され得る。
【００３０】
接着層３１は、光学フィルム３０を支持基板１０に付着させる役割をする。すなわち、接着層３１は、ベース基材３２の他面に形成されて支持基板１０上の導電性コーティング膜２０に付着する。接着層３１は、例えば、バインダ樹脂、バインダ粘着樹脂および架橋剤を含む減圧粘着剤で成されても良い。また、接着層３１は、色補正色素をさらに含むことで、色補正機能を実行することもできる。この場合、追加的なベース基材が要求されないため、光学フィルタ１００の厚さを減少することができる。
【００３１】
光学フィルム３０は、付着工程の便宜性や付着力の信頼性などのために、支持基板１０より小さい。したがって、光学フィルム３０は、図１および図２に示すように、支持基板１０と同じ大きさの導電性コーティング膜２０より小さく、導電性コーティング膜２０の周辺部の少なくとも一部が露出する。好ましくは、導電性コーティング膜２０が正方形である場合、各辺から一定幅ｄを露出させる。例えば、支持基板１０の大きさ（面積）が９８４ｍｍ×５８４ｍｍである場合、光学フィルム３０の大きさ（面積）は９７６ｍｍ×５７６ｍｍであり得る。この場合、前記露出領域は４ｍｍの一定幅ｄを有する。
【００３２】
光学フィルム３０の厚さは、例えば０．０６〜０．６ｍｍである。
【００３３】
導電性コーティング膜２０の前記露出領域には、導電性電極４０が接触しており、導電性コーティング膜２０で吸収された電磁波を外部に放出する。導電性電極４０は、導電性コーティング膜２０の露出領域から支持基板１０の側壁および前記側壁と連結した支持基板１０の他面まで延長している。好ましくは、導電性コーティング膜２０が露出した領域、支持基板１０の側壁および支持基板１０の他面に付着する。このような導電性電極４０は、図２のＡ領域の拡大図である図５に示すように、伝導性が優れた銅膜４１および導電性接着層４２で成され得る。しかし、導電性電極４０は前記例に限定されるものではなく、銅粉末または銀粉末のペースト状で付着しても良い。また、銅膜以外に銀膜が用いられ得ることは言うまでもない。
【００３４】
このような導電性電極４０は、支持基板１０の他面で表示装置の接地部と連結する。したがって、表示装置から出射された電磁波の放出経路は、導電性コーティング膜２０から導電性電極４０および表示装置の接地部を経由するようになる。
【００３５】
一方、光学フィルムの付着力の信頼性という観点において、二層以上の光学フィルムが付着する場合は、上層部に付着する光学フィルムの大きさが下層部の光学フィルムより小さくなり、導電性コーティング膜２０が別途のベース基材上に形成される場合は、ベース基材の大きさが支持基板１０より小さくなる。例えば、９８４ｍｍ×５８４ｍｍの大きさを有する支持基板１０上に付着する導電性コーティング膜が形成された第１ベース基材の大きさは９８２ｍｍ×５８２ｍｍとなり得る。ここで、第１ベース基材上に付着する第２ベース基材の大きさが、本発明の一実施形態に係るベース基材３１の大きさ（９７６ｍｍ×５７６ｍｍ）と同じであると仮定すると、この例において導電性電極が導電性コーティング膜に接触する幅は３ｍｍとなり、本発明の一実施形態における４ｍｍより約１ｍｍ小さく、接触面積は約３１．３ｃｍ２とさらに小さくなる。
【００３６】
このように、導電性電極４０と導電性コーティング膜２０の接触面積は、接触の信頼性および電磁波放出経路の信頼性に関する因数（factor）であり、本発明の一実施形態の場合、接触の信頼性および電磁波放出経路の信頼性が改善され得ることを容易に理解できるであろう。
【００３７】
以下、本発明の他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタについて説明する。本実施形態では、本発明の一実施形態と同じ構成についての説明は省略ないし簡略化し、相違点を中心として説明する。図６は、本発明の他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタの断面図である。
【００３８】
図６を参照すると、本実施形態に係る表示装置用光学フィルタ１０１は、光学フィルム３０と重複するように支持基板１０の他面の周辺部に形成された黒色セラミックパターン５０をさらに含む。前記黒色セラミックパターン５０は、表示装置の表示領域の外側縁領域が黒色に見えるようにすることで、画像を相対的に浮刻させる。このような黒色セラミックパターン５０は、例えば、黒色顔料を含むガラスなどで成されても良い。一方、導電性電極４０は、本発明の一実施形態と同様、導電性コーティング膜２０の周辺部の露出領域から支持基板１０の側壁に沿って延長し、支持基板１０の他面側では黒色セラミックパターン５０上に配置される。
【００３９】
図７は、本発明のさらに他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタの断面図である。本実施形態では、本発明の一実施形態と同じ構成についての説明は省略ないし簡略化し、相違点を中心として説明する。
【００４０】
図７を参照すると、本実施形態に係る表示装置用光学フィルタ１０２は、導電性電極４０ａが導電性コーティング膜２０の露出領域に接触することは本発明の一実施形態と同様であるが、導電性電極４０ａが支持基板１０の側壁に沿って延長せずに上側に延長しているのが相違点である。すなわち、適用される表示装置の前側に位置するカバー（図示せず）に接地部が備わる場合、導電性電極４０ａは上側に延長して接地部と直接接触し得る。この場合も、導電性電極４０ａの導電性コーティング膜２０との接触面積は、本発明の一実施形態と同様に十分に保障され得ることは言うまでもない。
【００４１】
上述したように、本発明の好ましい実施形態を参照して説明したが、該当の技術分野において熟練した当業者にとっては、特許請求の範囲に記載された本発明の思想および領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正および変更させることができることを理解することができるであろう。すなわち、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲に基づいて定められ、発明を実施するための最良の形態により制限されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明に係る表示装置用光学フィルタは、表示装置の前面に装着されて用いられる。例えば、プラズマ表示装置、プラズマアドレス液晶表示装置、電界放出表示装置などの平板表示装置や陰極線管などに適用され、好ましくは、プラズマ表示装置に装着されて用いられる。しかし、前記例示に限定されず、電磁波遮断などが要求される多様な表示装置への使用が可能であることは自明である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施形態に係る表示装置用光学フィルタの平面図である。
【図２】図１のＩ―II線に沿って切断した断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る導電性コーティング膜の断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る光学フィルムの断面図である。
【図５】図２のＡ領域の拡大図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタの断面図である。
【図７】本発明のさらに他の実施形態に係る表示装置用光学フィルタの断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０：支持基板
２０：導電性コーティング膜
３０：光学フィルム
４０：導電性電極
５０：黒色セラミックパターン
１００：光学フィルタ
【図１】
2007288184.tif 000003
【図２】
2007288184.tif 000004
【図３】
2007288184.tif 000005
【図４】
2007288184.tif 000006
【図５】
2007288184.tif 000007
【図６】
2007288184.tif 000008
【図７】
2007288184.tif 000009