(57)【要約】【課題】ガラス部材の凹面に形成した多層反射膜を反射膜とする反射鏡を用いた光源装置が、反射鏡の多層反射膜の絶縁性が低下し導電性を有するようになった場合の問題点を解決し、光源に印加される電圧に対し絶縁性の確保された光源装置用の反射鏡を提供する。【解決手段】光源が発する光を反射し、光源装置の金属枠体に開口端部において当接する光源装置の反射鏡が、光源装置の金属枠体が当接した場合に、この金属枠体と前記凹状反射面に形成された反射膜とが電気的に絶縁されるように、反射鏡の開口端部に成膜された反射膜が少なくとも一部を除去する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源が発する光を反射し、凹状反射面の開口端部が光源装置の金属枠体と当接する光源装置用の反射鏡であって、
凹状反射面と凹状反射面の開口端部とを有するガラス基体と、
前記凹状反射面を含むガラス基体表面に形成された反射膜と、
前記凹状反射面に形成された前記光源から導出される導線を貫通させるための貫通孔とを有し、
前記凹状反射面の開口端部が前記光源装置の金属枠体と当接する場合に、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体との電気絶縁を確保するための電気絶縁処理されてなることを特徴とする反射鏡。
【請求項２】
前記凹状反射面と前記凹状反射面の開口端部との角部を面取りすることにより、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気絶縁処理されてなることを特徴とする請求項１記載の反射鏡。
【請求項３】
前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面を研削することにより、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気絶縁処理されてなることを特徴とする請求項１記載の反射鏡。
【請求項４】
前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面に絶縁塗料を塗布することにより、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気的に絶縁処理されてなることを特徴とする請求項１記載の反射鏡。
【請求項５】
前記絶縁塗料が、ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液であることを特徴とする請求項４記載の反射鏡。
【請求項６】
光源が発する光を反射し、凹状反射面の開口端部が光源装置の金属枠体と当接する光源装置用の反射鏡の製造方法であって、
溶融ガラスを凹状反射面を有する形状に成形するガラス成形工程と、
前記ガラス成形工程により成形された凹状反射面を含むガラス基体の表面に反射膜を成膜する反射膜成膜工程と、
前記光源から導出された導線が反射鏡を貫通するための貫通孔を、前記凹状反射面に形成する貫通孔形成工程と、
前記凹状反射面の開口端部が前記光源装置の金属枠体と当接する場合に、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体との電気絶縁を確保するための電気絶縁処理工程と
を有することを特徴とする反射鏡の製造方法。
【請求項７】
前記電気絶縁処理工程は、前記凹状反射面と前記凹状反射面の開口端部との角部を面取りする開口端部面取り工程であることを特徴とする請求項６記載の反射鏡の製造方法。
【請求項８】
前記電気絶縁処理工程は、前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面を研削する開口端部研削工程であることを特徴とする請求項６記載の反射鏡の製造方法。
【請求項９】
前記電気絶縁処理工程は、前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面に絶縁塗料を塗布する絶縁塗料塗布工程であることを特徴とする請求項６記載の反射鏡の製造方法。
【請求項１０】
前記絶縁塗料塗布工程で塗布される絶縁塗料として、ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液を用いることを特徴とする請求項９記載の反射鏡の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶プロジェクタなどの投影機器や照明機器の光源装置の反射鏡としての使用に適した反射鏡及び反射鏡の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
投影機器や照明機器などの光源装置に使用される反射鏡は、その基材として例えば特許文献１に記載されているような金属を用いるものや、特許文献２に記載されているようなガラスを用いたものがある。ガラスを用いた反射鏡は、回転放物面や回転楕円面をなす凹面を前面に有するガラス基材の凹面に、例えばＳｉＯ２膜とＴｉＯ２膜が交互に２５ないし５０層積層された誘電体多層反射膜がスパッタリングや真空蒸着などの方法によって成膜され、反射面が形成されている。この反射鏡の中央の首にあたる位置（首部）には、光源ランプの取り付け孔が形成されたものである。この反射鏡の側部には、光源に給電する導線を貫通させる貫通孔が形成されている。
【０００３】
光源ランプに対し貫通孔を貫通する導線と、光源ランプの取り付け孔の背後に設けた電極に接続した導線を通じてランプに給電することにより、光源ランプを点灯する。光源ランプが点灯すると、加熱により急激な温度上昇が生じるので、導線にはガラス部材と熱膨張係数のほぼ等しい導線として、例えばモリブデンの裸線が用いられる。
【０００４】
ところで、ガラス部材を用いた反射鏡の場合は、ガラス部材が絶縁性であり、ガラス部材の凹面に形成されたＳｉＯ２膜やＴｉＯ２膜の誘電体多層反射膜も従来から絶縁性と考えられてきたことから、この反射膜と導線との間には電気的な絶縁を設ける必要はないとされ、実際にこれらの間には電気的な絶縁がなされなかった。
【０００５】
本発明者らは、上記誘電体多層反射膜の電気的性質について詳細に研究を行った結果、上記誘電体多層反射膜は、投影装置を長期間使用することによる光源ランプの熱の影響や成膜条件等により、反射膜に空孔が生じる場合がある。そして、多少の空孔がある反射膜が湿度の高い環境に配置された場合などには、その空孔に水分が吸着することにより絶縁性が低下し、導電性を示すようになり得ることを見出した。
【０００６】
ガラス部材の凹面に形成した誘電体多層反射膜を用いた従来の反射鏡の構成において、誘電体多層反射膜が導電性を示すようになると、反射膜を通じ、導線と光源装置の金属枠体との間に導通が生じる可能性がある。光源ランプには比較的高い電圧が印加されるので、たとえ誘電体多層反射膜が導電性を示した場合でも、これらの間に導通が生じないよう、絶縁性を確保しておくことが肝要である。
【特許文献１】特開２００４−３０３４６８号公報
【特許文献２】特開２００４−３１３０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、誘電体多層反射膜に関する上述の新しい知見に基づいたものであって、ガラス部材の凹面に形成した誘電体多層反射膜を反射膜とする反射鏡を用いた光源装置において、反射鏡の誘電体多層反射膜の絶縁性が低下し導電性を有するようになった場合に生ずる問題点に着目し、これを解決した反射鏡とその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の反射鏡は、光源が発する光を反射し、凹状反射面の開口端部が光源装置の金属枠体と当接する光源装置用の反射鏡であって、凹状反射面と凹状反射面の開口端部とを有するガラス基体と、この凹状反射面を含むガラス基体表面に形成された反射膜と、この凹状反射面に形成された光源から導出される導線を貫通させるための貫通孔とを有し、この凹状反射面の開口端部が前記光源装置の金属枠体と当接する場合に、この凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体との電気絶縁を確保するための電気絶縁処理されてなることを特徴とする。
【０００９】
本発明の反射鏡は、凹状反射面と前記凹状反射面の開口端部との角部を面取りすることにより、前記凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気絶縁処理されてなるものであってもよい。
【００１０】
また本発明の反射鏡は、凹状反射面の開口端部における金属枠体との接触面を研削することにより、凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気絶縁処理されてなるものであってもよい。
【００１１】
また本発明の反射鏡は、凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面に絶縁塗料を塗布することにより、凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体とが電気的に絶縁処理されてなるものであってもよい。この絶縁塗料には、ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液を好ましく用いることができる。
【００１２】
本発明の反射鏡の製造方法は、光源が発する光を反射し、凹状反射面の開口端部が光源装置の金属枠体と当接する光源装置用の反射鏡の製造方法であって、溶融ガラスを凹状反射面を有する形状に成形するガラス成形工程と、このガラス成形工程により成形された凹状反射面を含むガラス基体の表面に反射膜を成膜する反射膜成膜工程と、光源から導出された導線が反射鏡を貫通するための貫通孔を、この凹状反射面に形成する貫通孔形成工程と、この凹状反射面の開口端部が前記光源装置の金属枠体と当接する場合に凹状反射面に形成された反射膜と前記金属枠体との電気絶縁を確保するための電気絶縁処理工程とを有することを特徴とする。
【００１３】
上記電気絶縁処理工程は、凹状反射面と凹状反射面の開口端部との角部を面取りする開口端部面取り工程であってもよい。
【００１４】
また、上記電気絶縁処理工程は、前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面を研削する開口端部研削工程であってもよい。
【００１５】
また、上記電気絶縁処理工程は、前記凹状反射面の開口端部における前記金属枠体との接触面に絶縁塗料を塗布する絶縁塗料塗布工程でであってもよい。この絶縁塗料塗布工程で塗布される絶縁塗料としては、ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液を好ましく用いることができる。
【発明の効果】
【００１６】
上述したように、本発明の反射鏡は、ガラス基体の凹状反射面に誘電体多層反射膜を設けてなる反射鏡であって、反射鏡の開口端部の反射膜が面取りや研削などによって電気絶縁処理されているので、反射膜の絶縁性が低下し導電性を有する場合にも、反射膜を通じ電流が光源装置の金属枠体に漏れることがない。このため、安全性が高く、光源には電圧を安定に供給することができる。なお、開口端部の反射膜の除去をするものの、光源装置の照度に寄与する凹状反射面上の反射膜を除去する必要はないので、反射鏡としての性能を低下させるおそれはない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面に基づいて、本発明の実施の形態を具体的に説明する。
【００１８】
図１の（ａ）〜（ｄ）は、本発明の反射鏡及び反射鏡が用いられる光源装置１００の一実施形態を模式的に示した図であって、図１の（ａ）はその全体図であり、（ｂ）および（ｃ）はそれぞれ、反射鏡１の開口端部９の付近および貫通孔６の付近を拡大した図であり、（ｄ）は開口端部９に対する本発明の一実施形態を示した図である。
【００１９】
図１（ａ）において、光源装置１００は、反射鏡１、反射鏡１の中央の首部に固定された光源ランプ２、光源ランプ２に電圧を供給するための導線３ａ，３ｂ、および反射鏡を当接し固定する金属枠体４で構成されている。なお、反射鏡１の凹状の反射面５には、光源ランプの導線３ａを貫通させる貫通孔６が設けられている。
【００２０】
この反射鏡１は、ホウケイ酸ガラスをプレス成形したガラス基体７の凹状の反射面５に反射膜８を設けたものである。また反射膜８は、ＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に３０層積層した多層にすることにより、可視光線を反射する膜である。この反射膜８は、反射面５に成膜されるが、その際に一部は反射面５の開口端部９にも成膜される。ここに開口端部９は、反射面５の最外周に位置する環状の部分であり、反射鏡１はこの開口端部９において金属枠体４と当接して固定されている。
【００２１】
また光源ランプ２の導線３ａは、反射鏡の貫通孔６を通り、貫通孔６にかしめられた金属製の端子１０に固定され、図には示されていない点灯装置に接続されている。
【００２２】
本発明の反射鏡１のガラス基体７には、上記のプレス成形したホウケイ酸ガラスのほかに、結晶化ガラスやアルミノシリケートガラスなどの耐熱性の高いガラスを使用することができる。
【００２３】
また反射膜８には、上記のＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に成膜した多層膜のほか、Ｔａ2Ｏ5／ＳｉＯ2系やＮｂ2Ｏ5／ＳｉＯ2系などの多層膜を使用することかできる。
【００２４】
さらに光源ランプ２には、高圧水銀放電ランプや高圧キセノン放電ランプなどが用いられる。また端子１０は省略されていてもよい。
【００２５】
例えば真空蒸着法などで成膜され多少空孔を有する反射膜８が、湿度の高い環境に配置されると空孔に水分が吸湿して電気的な絶縁性が低下し、導電性を示すことがある。この場合には、導線３ａと端子１０、端子１０と反射膜８、さらに反射膜８と金属枠体４との間が導通するようになり、例えば導線３ａと金属枠体とが同電位になる可能性が生じる。実際にパルス高給電する際には、この導線３ａの側を低電位側（例えば接地電位）にすることにより、金属枠体４は通常は高電位にならないようにできるものの、十分な安全を確保する上からは、導線３ａと金属枠体との間の絶縁性を確保しておくことが求められる。
【００２６】
図１の（ｂ）に示したように、反射鏡１の反射面５に成膜された反射膜８の延長が、反射鏡１の開口端部９を覆うように成膜されており、これに金属枠体４が当接されると、金属枠体４が反射膜８に接続される。従って導線３ａが貫通孔にて反射膜８に接続されており、反射膜８が導電性を持つようになると、金属枠体４は導線３ａと同電位を示すようになる可能性がある。
【００２７】
そこで図１の（ｄ）に示したように、反射鏡の開口端部に成膜された反射膜の少なくとも一部を除去することにより、金属枠体４と反射面５に形成された反射膜８とを電気的に絶縁することができる。
【００２８】
金属枠体４と反射面５に形成された反射膜８とを電気的に絶縁するための開口端部に成膜された反射膜の除去方法は、どのような方法であってもよく、例えば図に示した縁の部分を面取りするほか、金属枠体４が当接される面を研削するなどの方法を用いることができる。
【００２９】
（実施例１）
ホウケイ酸ガラスをプレス成形したガラス基体に、反射膜８として、ＴｉＯ2とＳｉＯ2の交互３０層の多層可視光線反射膜を真空蒸着法によって成膜することにより、図１に反射鏡１として示された構成のものを得た。この反射鏡１の反射膜８は、ガラス基体の凹状反射面に対し成膜を行ったものであるが、その際に凹状反射面の開口端部９にも成膜された。
【００３０】
この反射鏡の開口端部９の金属枠体に当接する面を研削し、この部分に成膜された反射膜を除去した。図２は、実施例１における反射膜除去の状況を示した図であり、反射鏡１の開口端部９の金属枠体４に当接する面を面研削し、この部分に形成された反射膜を除去した状況を模式的に示したものである。この面研削は、反射鏡１の開口端部９を回転砥石に押し付けることによって行い、反射膜を除去した。この面研削加工においては、膜除去時に研削粉が反射鏡１に付着するので、研削粉をクリーンな高圧エアによって吹き飛ばし、さらに洗浄機にて洗浄処理した。この結果、図２において、反射膜８と金属枠体４の間の接触が除かれた。
【００３１】
（実施例２）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、開口端部の面取り加工を行った。図３は実施例２において、開口端部９の反射面５と開口端部９との境界部を開口端部の全周にわたり１ｍｍ面取りした状況を示したものである。面取りは、砥石の先端工具を取り付けた小型のハンドリューターを使用して行った。この面取り加工の場合にも、研削粉が反射鏡１に付着するため、これをクリーンな高圧エアによって吹き飛ばし、さらに洗浄機にて洗浄処理した。
【００３２】
図３において、開口端部に形成された反射膜と金属枠体４の面状の接触はそのままであるが、反射面５の反射膜８と金属枠体４との直接の接触は除かれている。
【００３３】
（実施例３、実施例４）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、開口端部の面取り加工を行った。図４および図５はそれぞれ実施例３および実施例４の状況を模式的に示した図である。これらは、実施例２における面取り量が１ｍｍであるのに対し、面取り量をそれぞれ２ｍｍおよび３ｍｍと変えることにより、反射面５と開口端部９との境界部を面取りした形となったものである。
【００３４】
（実施例５）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、開口端部９の面研削と面取り加工との両方を行った。図６にはこの実施例５の状況を模式的に示した図であって、実施例１に示した面研削と実施例２に示した面取り１ｍｍとの両方を施した状況を模式的に示した。
【００３５】
（比較例）
上記した各実施例のような加工による開口端部の電気絶縁処理を行わない場合の反射鏡を上記各実施例に対する比較例とした。
【００３６】
これら実施例１〜５で加工した各反射鏡および比較例の反射鏡１を、図１に示した構造の光源装置の反射鏡１として組み込み、この反射鏡１を金属枠体４にセットし、絶縁抵抗測定を行った。絶縁抵抗計の一方（クリップ側の低電位側）を金属枠体４に挟み、もう一方（プローブ側の高電位側）を反射膜８の貫通孔６にかしめた端子１０に当てることによって測定した。この測定では、横河Ｍ＆C社のデジタル絶縁抵抗計２４０６Dを使用した。
【００３７】
以上の各実施例および比較例についての測定結果を表１に示す。
【表１】
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【００３８】
反射鏡の開口端部９の加工を行わない比較例では、絶縁抵抗が低いのに対し、開口端部９の反射膜を除去する加工を行った実施例１〜５では、いずれも反射膜８と金属枠体４との間の高い絶縁抵抗値を得ることができ、反射膜除去による絶縁の効果を確認することができた。これらの電気絶縁処理により、光源装置の安全性が高まり、また光源ランプを点灯させるために必要な電圧が確保されて点灯状態も安定することがわかった。
【００３９】
なお、表１には、このようにして求めた絶縁抵抗値のほかに、各実施例における反射鏡1個あたりの開口端部の加工処理（面研削または除去処理）に要する時間を計測し、これを処理時間として示した。この処理時間は実験段階のものであるが、いずれも短時間で処理できることがわかり、専用除去装置を製作して加工すれば、処理時間がさらに短縮でき、より効果の高い加工方法を適用することが可能となるものと考えられる。
【００４０】
（実施例６）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、図７に示したように、金属枠体４と当接する反射鏡１の開口端部９に絶縁塗料（ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液）を1度塗布し絶縁膜１１を形成した。
【００４１】
（実施例７）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、図７に示したように、金属枠体４と当接する反射鏡１の開口端部９への絶縁塗料（ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液）塗布を２度行い、絶縁膜１１を形成した。
【００４２】
（実施例８）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、図８に示したように、反射鏡１の開口端面９と金属枠体４との当接部に、絶縁シート１２としてシリコーンゴム製シートを挟み込んだ。
【００４３】
（実施例９）
実施例１と同じ方法で製作した反射鏡１について、図８における反射鏡１の開口端面９と金属枠体４との当接部に、絶縁シート１２として、フッ素ゴム製シートを挟み込んだ。
【００４４】
実施例６及び実施例７で用いた絶縁塗料（ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液）は、この溶液を塗布、硬化することにより、シリカ膜を形成することができる。実施例６および７では、ＡＺ  エレクトロニックマテリアルズ社製のアクアミカ  ＮＬ１２０Ａを用いた。塗布はディッピング法にて行い、電気炉で３００℃×１時間熱処理することにより、硬化膜を形成した。実施例６の絶縁塗料の硬化膜は厚さが０．７μｍであり、また実施例７の絶縁塗料の硬化膜は厚さが、１．３μｍであった。
【００４５】
実施例８及び実施例９では、厚さ０．５mmのシート１２を、開口端部の形状に合わせて切断加工したものを用いた。
【００４６】
これら実施例６〜９の各反射鏡を金属枠体にセットし、先の実施例１〜５の場合と同じ方法で絶縁性を測定した。なお、比較例は実施例１〜５との比較に用いたものと同じものである。
【００４７】
以上の実施例６〜９についての測定結果を比較例についての結果と共に表２に示す。
【表２】
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【００４８】
上記の結果から、いずれの実施例の場合も高い絶縁抵抗値が得られ、反射鏡の開口端部に対する電気絶縁処理の効果が確認できた。
【００４９】
（実施例１０）
実施例１で行った開口端部９の面研削加工に加えて、図９に模式的に示す通り、貫通孔６周辺に絶縁塗料１２を塗布し、反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５０】
（実施例１１）
実施例２で行った開口端部９の面取り加工に加えて、図９に模式的に示す通り、貫通孔６周辺に絶縁塗料を塗布して絶縁膜１２を形成し、反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５１】
実施例１０及び実施例１１では、貫通孔６周辺に塗布し絶縁する絶縁塗料として、ペルヒドロポリシラザンの有機溶媒溶液（ＡＺ  エレクトロニックマテリアルズ社製のアクアミカ  ＮＬ１２０Ａ）を用いた。この溶液を綿棒を用いて貫通孔６周辺に塗布し、電気炉にて３００℃×１時間熱処理を行って硬化することにより、シリカ膜の硬化膜（０．６μｍ）を形成した。
【００５２】
（実施例１２）
実施例１で行った開口端部９の面研削加工に加え、図１０に模式的に示す通り、貫通孔６にフッ素樹脂ＰＦＡ製の絶縁管１３を挿入し、反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５３】
（実施例１３）
実施例２で行った開口端部９の面取り加工に加え、図１０に模式的に示す通り、貫通孔６にフッ素樹脂ＰＦＡ製の絶縁管１３を挿入し、反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５４】
実施例１２及び実施例１３では、端子１０と反射膜１とが接触しないよう、絶縁管１３を貫通孔に挿入し、端子１０を絶縁管１３に挿入してから、かしめて取り付けた。
【００５５】
（実施例１４）
実施例１で行った開口端部９の面研削加工に加え、図１１に模式的に示す通り、貫通孔６の外側周辺の２ｍｍの反射膜を除去し、反射膜除去部１４を設けることにより反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５６】
（実施例１５）
実施例２で行った開口端部９の面取り加工に加え、図１１に模式的に示す通り、貫通孔の外側周辺の２ｍｍの反射膜を除去し、反射膜除去部１４を設けることにより反射膜８と導線３ａとの間の絶縁を行った。
【００５７】
実施例１４及び実施例１５では、ボール盤を用いて、反射膜が除去できる程度のザグリ加工を行った。
【００５８】
実施例１０〜１５で加工した各反射鏡を金属枠体にセットし、先の実施例１〜５の場合と同じ装置を用い、同じ方法にて、絶縁抵抗の測定を行った。測定結果を表３に示す。
【表３】
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【００５９】
表３に示されている通り、実施例１０〜１５の結果から、本発明の開口端部の面研削や面取り等の電気絶縁処理と併せて、貫通孔周辺の反射膜と導線との絶縁処理を行うことにより、絶縁抵抗値をさらに大きくすることができることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明によれば、ガラス基体の反射面に多層反射膜を設けた反射鏡の反射膜と反射鏡に当接する金属枠体との間の電気的絶縁性が確保される。このため、反射膜の絶縁性が低下し導電性を有した場合にも、光源に給電した際に反射膜を通じ電流が光源装置の金属枠体に漏れることがないので、安全性が高く、光源に対しては電圧を安定して印加することができる。従って産業上の利用可能性は大きい。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の反射鏡及び反射鏡が用いられる光源装置の一実施形態を模式的に示した図である。
【図２】実施例１における反射膜除去の状況を示した図であって、反射鏡の開口端部の金属枠体に当接する面を面研削し、この部分に形成された反射膜を除去した状況を模式的に示した図である。
【図３】実施例２における開口端部の反射面との境界部を１ｍｍ面取りした状況を模式的に示した図である。
【図４】実施例３の状況を模式的に示した図である。
【図５】実施例４の状況を模式的に示した図である。
【図６】実施例５の状況を模式的に示した図である。
【図７】実施例６および７の状況を模式的に示した図である。
【図８】実施例８および９の状況を模式的に示した図である。
【図９】実施例１０及び実施例１１における貫通孔周辺の状況を模式的に示した図である。
【図１０】実施例１２及び実施例１３における貫通孔周辺の状況を模式的に示した図である。
【図１１】実施例１４及び実施例１５における貫通孔周辺の状況を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…反射鏡、２…光源ランプ、３ａ，３ｂ…導線、４…金属枠体、５…反射面、６…貫通孔、７…ガラス基体、８…反射膜、９…開口端部、１０…端子、１１…絶縁膜、１２…絶縁塗料、１３…絶縁管、１４…反射膜除去部、１００…光源装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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