(57)【要約】【課題】液体原料に溶解した不活性ガスの量を低減できるガス分離装置及びこれを備える成膜装置を提供する。【解決手段】ガス分離装置５０は、不活性ガスＧ１によって圧送される液体原料Ｌ１を気化して原料ガスＧ２を生成する第１の気化装置４０と、原料ガスＧ２を用いて成膜を行うためのプロセスチャンバ２０とを備える成膜装置１０に用いられる。ガス分離装置５０は、液体原料Ｌ１を導入するための導入口６０ａと、液体原料Ｌ１を放出するための放出口６０ｂとが形成された分離チャンバ６０を備える。分離チャンバ６０は、液体原料Ｌ１から不活性ガスＧ１を分離するためのものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
不活性ガスによって圧送される液体原料を気化して原料ガスを生成する第１の気化装置と、前記原料ガスを用いて成膜を行うためのプロセスチャンバとを備える成膜装置に用いられ、
前記液体原料を導入するための導入口と、前記液体原料を放出するための放出口とが形成されており前記液体原料から前記不活性ガスを分離するための分離チャンバを備える、ガス分離装置。
【請求項２】
前記分離チャンバには、前記不活性ガスを排気するための排気口が形成されている、請求項１に記載のガス分離装置。
【請求項３】
前記排気口に接続された配管と、
前記配管に取り付けられたバルブと、
前記バルブを開けてから所定時間経過した後に前記バルブを閉める制御を行うコントローラと、
を更に備える、請求項２に記載のガス分離装置。
【請求項４】
前記排気口に接続された配管と、
前記配管に取り付けられたバルブと、
前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための液面センサと、
前記液面レベルが所定のレベルよりも上回っていることを示す信号を前記液面センサから受けた場合に、前記バルブを閉める制御を行うコントローラと、
を更に備える、請求項２に記載のガス分離装置。
【請求項５】
前記排気口に接続された配管と、
前記配管に取り付けられたニードルバルブと、
を更に備える、請求項２に記載のガス分離装置。
【請求項６】
前記排気口に接続された第１の配管と、
前記導入口に接続された第２の配管と、
前記放出口に接続された第３の配管と、
前記第１の配管に取り付けられた第１のバルブと、
前記第２の配管に取り付けられた第２のバルブと、
前記第３の配管に取り付けられた第３のバルブと、
前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための液面センサと、
前記液面レベルが所定のレベルよりも下回っていることを示す信号を前記液面センサから受けた場合に、前記第２のバルブ及び前記第３のバルブを閉めた後に前記第１のバルブを開け、開放された前記第１のバルブを閉めた後に前記第２のバルブ及び前記第３のバルブを開ける制御を行うコントローラと、
を更に備える、請求項２に記載のガス分離装置。
【請求項７】
前記分離チャンバは、前記排気口が形成されたドーム状の天井部を有する、請求項２〜６のいずれか一項に記載のガス分離装置。
【請求項８】
前記分離チャンバは、前記導入口が形成された底部を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のガス分離装置。
【請求項９】
前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための光センサを更に備え、
前記分離チャンバは、前記光センサからの光を透過させる窓部を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のガス分離装置。
【請求項１０】
前記放出口から放出される前記液体原料を気化する第２の気化装置を更に備え、
前記第２の気化装置に供給される前記液体原料の流量は、前記第１の気化装置に供給される前記液体原料の流量よりも大きい、請求項１〜９のいずれか一項に記載のガス分離装置。
【請求項１１】
不活性ガスによって圧送される液体原料を導入するための導入口と、前記液体原料を放出するための放出口とが形成されており前記液体原料から前記不活性ガスを分離するための分離チャンバを有するガス分離装置と、
前記放出口から放出される前記液体原料を気化して原料ガスを生成する気化装置と、
前記原料ガスを用いて成膜を行うためのプロセスチャンバと、
を備える、成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス分離装置及びこれを備える成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
四塩化チタン（ＴｉＣｌ４）ガスをプロセスチャンバ内に供給してＴｉ膜を形成するための成膜装置が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１０−２９８７６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
常温常圧において四塩化チタンは液体であるので、四塩化チタンガスを得るためには、液体の四塩化チタンを気化させる必要がある。四塩化チタンのような液体原料は、例えばヘリウム（Ｈｅ）ガス等の不活性ガスによって配管内を圧送され、気化装置に供給される。この気化装置では、液体原料が例えば熱により気化されることによって、原料ガスが生成される。
【０００４】
近年の成膜装置では、プロセスチャンバ内に供給される原料ガスの流量を高精度にコントロールする必要がある。このため、通常、液体原料の流量を計測するための液体流量計（ＬＦＭ：Liquid Flow Meter）が配置されている。
【０００５】
ところが、液体原料中にはヘンリーの法則に従って微量の不活性ガスが溶解しているため、圧力低下によって液体原料中に不活性ガスの気泡が発生する場合がある。この場合、気泡により液体流量計が誤動作することから、液体原料の流量を高精度に計測することは難しい。したがって、液体原料に溶解した不活性ガスの量を極力低減することが望ましい。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、液体原料に溶解した不活性ガスの量を低減できるガス分離装置及びこれを備える成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するため、本発明のガス分離装置は、不活性ガスによって圧送される液体原料を気化して原料ガスを生成する第１の気化装置と、前記原料ガスを用いて成膜を行うためのプロセスチャンバとを備える成膜装置に用いられ、前記液体原料を導入するための導入口と、前記液体原料を放出するための放出口とが形成されており前記液体原料から前記不活性ガスを分離するための分離チャンバを備える。
【０００８】
本発明のガス分離装置では、分離チャンバ内に導入された液体原料に溶解した不活性ガスが液体原料から分離される。その結果、導入口に導入される液体原料に溶解した不活性ガスの量に比べて、放出口から放出される液体原料に溶解した不活性ガスの量を低減することができる。
【０００９】
前記分離チャンバには、前記不活性ガスを排気するための排気口が形成されていることが好ましい。これにより、分離チャンバ内に蓄積される不活性ガスを排気することができるので、分離チャンバ内の圧力上昇が抑制される。
【００１０】
上記ガス分離装置は、前記排気口に接続された配管と、前記配管に取り付けられたバルブと、前記バルブを開けてから所定時間経過した後に前記バルブを閉める制御を行うコントローラとを更に備えることが好ましい。この場合、コントローラは、分離チャンバ内の液体原料が排気口から配管を通って放出される前にバルブを閉じることができる。
【００１１】
上記ガス分離装置は、前記排気口に接続された配管と、前記配管に取り付けられたバルブと、前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための液面センサと、前記液面レベルが所定のレベルよりも上回っていることを示す信号を前記液面センサから受けた場合に、前記バルブを閉める制御を行うコントローラとを更に備えることが好ましい。この場合、コントローラは、分離チャンバ内の液体原料が排気口から配管を通って放出される前にバルブを閉じることができる。
【００１２】
上記ガス分離装置は、前記排気口に接続された配管と、前記配管に取り付けられたニードルバルブとを更に備えることが好ましい。この場合、ニードルバルブにより分離チャンバ内の急激な圧力変動を防止することができる。よって、分離チャンバ内の液体原料が排気口から配管を通って放出されることを抑制できる。
【００１３】
上記ガス分離装置は、前記排気口に接続された第１の配管と、前記導入口に接続された第２の配管と、前記放出口に接続された第３の配管と、前記第１の配管に取り付けられた第１のバルブと、前記第２の配管に取り付けられた第２のバルブと、前記第３の配管に取り付けられた第３のバルブと、前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための液面センサと、前記液面レベルが所定のレベルよりも下回っていることを示す信号を前記液面センサから受けた場合に、前記第２のバルブ及び前記第３のバルブを閉めた後に前記第１のバルブを開け、開放された前記第１のバルブを閉めた後に前記第２のバルブ及び前記第３のバルブを開ける制御を行うコントローラとを更に備えることが好ましい。
【００１４】
これにより、液面レベルが低くなり過ぎた場合に、液体原料の輸送を一旦停止して、分離チャンバ内の不活性ガスを排気口から排気することができる。このとき、第２のバルブ及び第３のバルブが閉まっているので、分離チャンバ内の液体原料が排気口から第１の配管を通って放出されることを抑制できる。また、不活性ガスを分離チャンバから排気した後に、液体原料の輸送を再開することができる。
【００１５】
前記分離チャンバは、前記排気口が形成されたドーム状の天井部を有することが好ましい。この場合、分離チャンバ内の不活性ガスが天井部に残存し難くなるので、分離チャンバ内の不活性ガスを容易に排気することができる。
【００１６】
前記分離チャンバは、前記導入口が形成された底部を有することが好ましい。この場合、不活性ガスを分離チャンバ内に蓄積させ易いので、液体原料から不活性ガスを効率的に分離することができる。
【００１７】
上記ガス分離装置は、前記分離チャンバ内の前記液体原料の液面レベルを検出するための光センサを更に備え、前記分離チャンバは、前記光センサからの光を透過させる窓部を有することが好ましい。この場合、非接触で液体原料の液面レベルを検出することができる。
【００１８】
上記ガス分離装置は、前記放出口から放出される前記液体原料を気化する第２の気化装置を更に備え、前記第２の気化装置に供給される前記液体原料の流量は、前記第１の気化装置に供給される前記液体原料の流量よりも大きいことが好ましい。これにより、例えばメンテナンス時に分離チャンバ内の液体原料を短時間で除去することができる。また、除去した液体原料を気化することによって、液体原料をガスとして処理することができる。
【００１９】
本発明の成膜装置は、不活性ガスによって圧送される液体原料を導入するための導入口と、前記液体原料を放出するための放出口とが形成されており前記液体原料から前記不活性ガスを分離するための分離チャンバを有するガス分離装置と、前記放出口から放出される前記液体原料を気化して原料ガスを生成する気化装置と、前記原料ガスを用いて成膜を行うためのプロセスチャンバとを備える。
【００２０】
本発明の成膜装置では、ガス分離装置において、分離チャンバ内に導入された液体原料に溶解した不活性ガスが液体原料から分離される。その結果、導入口に導入される液体原料に溶解した不活性ガスの量に比べて、放出口から放出される液体原料に溶解した不活性ガスの量を低減することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、液体原料に溶解した不活性ガスの量を低減できるガス分離装置及びこれを備える成膜装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。
【００２３】
図１は、実施形態に係るガス分離装置を備えた成膜装置を模式的に示す図である。図１に示される成膜装置１０は、例えばＣＶＤ装置である。成膜装置１０は、ガス分離装置５０を備える。ガス分離装置５０は、不活性ガスＧ１によって圧送される液体原料Ｌ１から不活性ガスＧ１を分離するための分離チャンバ６０を有する。分離チャンバ６０には、液体原料Ｌ１を導入するための導入口６０ａと、液体原料Ｌ１を放出するための放出口６０ｂとが形成されている。導入口６０ａに導入される液体原料Ｌ１には微量の不活性ガスＧ１が溶解している。
【００２４】
液体原料Ｌ１としては、例えば四塩化チタン、ＴＥＯＳ等が挙げられる。不活性ガスＧ１としては、例えばヘリウム、アルゴン等の希ガス、窒素等が挙げられる。分離チャンバ６０は、例えば金属からなる。
【００２５】
成膜装置１０は、分離チャンバ６０の放出口６０ｂから放出される液体原料Ｌ１を気化して原料ガスＧ２を生成する第１の気化装置４０と、原料ガスＧ２を用いて成膜を行うためのプロセスチャンバ２０とを備える。気化装置４０とプロセスチャンバ２０とは、原料ガスＧ２を通す配管２９によって接続されている。
【００２６】
気化装置４０は、液体原料Ｌ１の流量を測定する液体流量計４２と、液体流量計４２よりも下流側に位置するインジェクションバルブ４４とを備えることが好ましい。液体流量計４２により、液体原料Ｌ１の流量を高精度に測定することができる。インジェクションバルブ４４は、例えば、液体原料Ｌ１の流量を調整するバルブと、液体原料Ｌ１を加熱するヒータとを有する。
【００２７】
気化装置４０は、液体流量計４２から得られる流量データに基づいてインジェクションバルブ４４に含まれるバルブの開閉を制御するコントローラ４６を備えることが好ましい。これにより、例えば、液体流量計４２から得られる流量データが所定範囲外の場合、バルブの開閉を調整することによって流量データを所定範囲内に調整することができる。コントローラ４６は、例えばコンピュータである。
【００２８】
プロセスチャンバ２０内には、基板ホルダ２２に支持された基板２４が収容されている。基板２４は例えばシリコンウェハ等の半導体基板である。原料ガスＧ２を用いると、基板２４上には膜２６が形成される。原料ガスＧ２が例えば四塩化チタンの場合、膜２６として例えばＴｉ膜やＴｉＮ膜を形成することができる。プロセスチャンバ２０には、成膜により生成される排ガスＧ３を排気するための配管２８が接続されている。
【００２９】
成膜装置１０は、導入口６０ａに液体原料Ｌ１を供給する液体原料供給源３０を備えていてもよい。液体原料供給源３０は、通常、分離チャンバ６０及び気化装置４０よりも下方に位置する。この場合、液体原料供給源３０において液体原料Ｌ１に加わる圧力が、分離チャンバ６０において液体原料Ｌ１に加わる圧力よりも高くなる。よって、分離チャンバ６０において液体原料Ｌ１から不活性ガスＧ１を分離し易くなる。
【００３０】
液体原料供給源３０は、液体原料Ｌ１を収容するためのチャンバ３２と、不活性ガスＧ１をチャンバ３２内に供給する不活性ガス供給源３６とを有する。不活性ガス供給源３６は、不活性ガスＧ１を通す配管３８によってチャンバ３２に接続されている。配管３８の一端３８ａは、チャンバ３２内に挿入されているが、液体原料Ｌ１に浸漬していない。配管３８からチャンバ３２内に供給される不活性ガスＧ１の圧力によって、チャンバ３２内の液体原料Ｌ１が押し出される。
【００３１】
分離チャンバ６０には、不活性ガスＧ１を排気するための排気口６０ｃが形成されていることが好ましい。排気口６０ｃには、第１の配管８６が接続されている。配管８６には、必要に応じて第１のバルブ７４及びニードルバルブ７６が取り付けられている。ニードルバルブ７６はバルブ７４よりも下流側に位置する。配管８６から、不活性ガスＧ１を含む排ガスＧ４が排気される。
【００３２】
導入口６０ａには第２の配管３９が接続されている。配管３９の一端３９ａは、チャンバ３２内に挿入され、液体原料Ｌ１に浸漬している。配管３９には、必要に応じて第２のバルブ７０が取り付けられている。
【００３３】
放出口６０ｂには第３の配管８４が接続されている。配管８４には、必要に応じて第３のバルブ７２が取り付けられている。配管８４は、気化装置４０に接続されている。配管８４からは、配管９０が分岐していてもよい。配管９０には、液体原料Ｌ１を気化する第２の気化装置９２に接続されていることが好ましい。気化装置９２に供給される液体原料Ｌ１の流量は、気化装置４０に供給される液体原料Ｌ１の流量よりも大きい。気化装置９２は、気化装置４０と同様に、液体流量計９４とインジェクションバルブ９６とコントローラ９５とを備える。
【００３４】
分離チャンバ６０はドーム状の天井部６４を有することが好ましい。天井部６４には排気口６０ｃが形成されている。また、分離チャンバ６０は底部６１を有しており、底部６１には導入口６０ａ及び放出口６０ｂが形成されていることが好ましい。天井部６４と底部６１とは、側壁６２によって接続されている。
【００３５】
ガス分離装置５０は、分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１の液面レベル（液面の高さ位置）を検出するための光センサ８０，８２（液面センサ）を備えることが好ましい。光センサ８０，８２は分離チャンバ６０外に設けられている。分離チャンバ６０は、光センサ８０，８２からの光をそれぞれ透過させる窓部６６，６８を有することが好ましい。窓部６６，６８は例えば石英からなる。窓部６６，６８は側壁６２に設けられている。光センサ８２は、光センサ８０よりも下方に位置し、窓部６８は窓部６６よりも下方に位置する。光センサ８０は液面レベルの上限を決定し、光センサ８２は液面レベルの下限を決定する。
【００３６】
ガス分離装置５０は、バルブ７０，７２，７４のうち少なくとも一つの開閉を制御するコントローラ７８を備える。コントローラ７８は、例えばコンピュータである。コントローラ７８は、光センサ８０，８２からの信号に基づいて、バルブ７０，７２，７４の開閉を制御することが好ましい。コントローラ７８は、バルブ７４を開けてから所定時間経過した後にバルブ７４を閉める制御を行うことができる。また、コントローラ７８は、液面レベルが所定のレベルよりも上回っていることを示す信号を光センサ８０から受けた場合に、バルブ７４を閉める制御を行うことができる。また、コントローラ７８は、液面レベルが所定のレベルよりも下回っていることを示す信号を光センサ８２から受けた場合に、バルブ７０，７２を閉めた後にバルブ７４を開け、その後、開放されたバルブ７４を閉めた後にバルブ７０，７２を開ける制御を行うことができる。
【００３７】
本実施形態のガス分離装置５０及び成膜装置１０では、分離チャンバ６０内に導入された液体原料Ｌ１に溶解した不活性ガスＧ１が液体原料Ｌ１から分離される。液体原料Ｌ１から分離された不活性ガスＧ１は、分離チャンバ６０内に蓄積される。その結果、導入口６０ａに導入される液体原料Ｌ１に溶解した不活性ガスＧ１の量に比べて、放出口６０ｂから放出される液体原料Ｌ１に溶解した不活性ガスＧ１の量を低減することができる。よって、液体流量計４２の誤作動が防止されるので、気化装置４０に供給される液体原料Ｌ１の流量を高精度に制御することができる。
【００３８】
分離チャンバ６０に排気口６０ｃが形成されていると、分離チャンバ６０内に蓄積される不活性ガスＧ１を排気することができるので、分離チャンバ６０内の圧力上昇が抑制される。よって、液体原料Ｌ１から不活性ガスＧ１を回収し易くなると共に分離チャンバ６０内に蓄積した不活性ガスＧ１を容易に取り出すことができる。
【００３９】
また、ガス分離装置５０が配管８６とバルブ７４とコントローラ７８とを備え、コントローラ７８がバルブ７４を開けてから所定時間経過した後にバルブ７４を閉める制御を行うことが好ましい。さらに、ガス分離装置５０が配管８６とバルブ７４と光センサ８０とコントローラ７８とを備え、コントローラ７８が、液面レベルが所定のレベルよりも上回っていることを示す信号を光センサ８０から受けた場合に、バルブ７４を閉める制御を行ってもよい。いずれの場合にも、分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１が排気口６０ｃから配管８６を通って放出される前にバルブ７４を閉じることができるので、液体原料Ｌ１が無駄にならない。さらに、コントローラ７８を用いると上記制御を自動化できる。
【００４０】
ガス分離装置５０がニードルバルブ７６を備えると、分離チャンバ６０内の急激な圧力変動を防止することができる。よって、分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１が排気口６０ｃから配管８６を通って放出されることを抑制できる。また、急激な圧力低下により不活性ガスＧ１の気泡が発生することを抑制できる。
【００４１】
ガス分離装置５０が配管３９，８４，８６とバルブ７０，７２，７４と光センサ８２とコントローラ７８とを備え、コントローラ７８が、液面レベルが所定のレベルよりも下回っていることを示す信号を光センサ８２から受けた場合に、バルブ７０，７２を閉めた後にバルブ７４を開け、開放されたバルブ７４を閉めた後にバルブ７０，７２を開ける制御を行うことが好ましい。これにより、液面レベルが低くなり過ぎた場合に、液体原料Ｌ１の輸送を一旦停止して、分離チャンバ６０内の不活性ガスＧ１を排気口６０ｃから排気することができる。このとき、バルブ７０，７２が閉まっているので、分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１が排気口６０ｃから配管８６を通って放出されることを抑制できる。また、不活性ガスＧ１を分離チャンバ６０から排気した後に、液体原料Ｌ１の輸送を再開することができる。さらに、コントローラ７８を用いると上記制御を自動化できる。
【００４２】
分離チャンバ６０がドーム状の天井部６４を有しており、天井部６４に排気口６０ｃが形成されていることが好ましい。この場合、分離チャンバ６０内の不活性ガスＧ１は、天井部６４に沿って上方に移動して排気口６０ｃに排気される。よって、不活性ガスＧ１が天井部６４に残存し難くなるので、分離チャンバ６０内の不活性ガスＧ１を容易に排気することができる。また、不活性ガスＧ１を排気口６０ｃから排気する際に、分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１が排気口６０ｃから放出されることを抑制できる。
【００４３】
分離チャンバ６０の底部６１に導入口６０ａが形成されていると、不活性ガスＧ１を分離チャンバ６０内に蓄積させ易いので、液体原料Ｌ１から不活性ガスＧ１を効率的に分離することができる。特に不活性ガスＧ１が空気よりも軽い場合に不活性ガスＧ１を分離チャンバ６０内に蓄積させ易い。また、配管３９に不活性ガスＧ１が蓄積されることを防止できる。
【００４４】
ガス分離装置５０が光センサ８０を備え、分離チャンバ６０が窓部６６を有すると、非接触で液体原料Ｌ１の液面レベルを検出することができる。同様に、ガス分離装置５０が光センサ８２を備え、分離チャンバ６０が窓部６８を有すると、非接触で液体原料Ｌ１の液面レベルを検出することができる。よって、液体原料Ｌ１が腐食性を有していても、光センサ８０，８２は腐食されない。また、液面レベルを検出する際に液体原料Ｌ１が汚染されないので、光センサ８０，８２を長期間安定して使用することができる。
【００４５】
ガス分離装置５０が気化装置９２を備え、気化装置９２に供給される液体原料Ｌ１の流量が気化装置４０に供給される液体原料Ｌ１の流量よりも大きいと、例えばメンテナンス時に分離チャンバ６０内の液体原料Ｌ１を短時間で除去することができる。よって、成膜装置１０の稼動停止期間を短縮することができる。また、除去した液体原料Ｌ１を気化することによって、液体原料Ｌ１を排ガスＧ５として処理することができる。このため、排ガスＧ５をプロセスチャンバ２０からの排ガスＧ３等と一緒に処理することができるので、排ガス処理を効率的に実施できる。
【００４６】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。
【００４７】
例えば、分離チャンバ６０には排気口６０ｃが形成されていなくてもよい。この場合、不活性ガスＧ１は分離チャンバ６０内に貯蔵される。さらに、排気口６０ｃは分離チャンバ６０の側壁６２に形成されていてもよい。また、分離チャンバ６０は平坦な天井部６４を有していてもよい。導入口６０ａ及び放出口６０ｂの少なくとも一方は、分離チャンバ６０の側壁６２又は天井部６４に形成されていてもよい。
【００４８】
また、配管８６にバルブ７４が取り付けられていなくてもよいし、配管８６にニードルバルブ７６が取り付けられていなくてもよい。さらに、ガス分離装置５０は光センサ８０を備えなくてもよい。この場合、窓部６６は必要なくなる。同様に、ガス分離装置５０は光センサ８２を備えなくてもよい。この場合、窓部６８は必要なくなる。また、ガス分離装置５０はコントローラ７８を備えなくてもよいし、気化装置９２を備えてなくてもよい。
【００４９】
上記いずれの場合であっても、液体原料Ｌ１に溶解した不活性ガスＧ１の量を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】実施形態に係るガス分離装置を備えた成膜装置を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０…成膜装置、２０…プロセスチャンバ、３９…第２の配管、４０…第１の気化装置、５０…ガス分離装置、６０…分離チャンバ、６０ａ…導入口、６０ｂ…放出口、６０ｃ…排気口、６１…底部、６４…天井部、６６，６８…窓部、７０…第２のバルブ、７２…第３のバルブ、７４…第１のバルブ、７６…ニードルバルブ、７８…コントローラ、８０，８２…光センサ（液面センサ）、８４…第３の配管、８６…第１の配管、９２…第２の気化装置、Ｇ１…不活性ガス、Ｇ２…原料ガス、Ｌ１…液体原料。
【図１】
2007314863.tif 000003