(57)【要約】      （修正有）【課題】  アモルファスカーボンやグラファイトなどの基板を振動板とし、その上にゾルゲル法より圧電体薄膜を形成する方法を提供する。【解決手段】振動板とする基板１において、ゾルゲル法により酸化物薄膜を結晶化し圧電体薄膜を形成する工程において、基板１がアモルファスカーボンまたはグラファイトで、不活性ガス中で焼成を行う工程を含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板とする基板上においてゾルゲル法により酸化物薄膜を結晶化し圧電体薄膜を形成する工程において、前記基板が、アモルファスカーボンまたはグラファイトで、不活性ガス中で焼成を行う工程を含むことを特徴とする圧電体素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の不活性ガス中で焼成を行う工程が、不活性ガスを95体積％以上含む雰囲気下であることを特徴とする圧電体素子の製造方法。
【請求項３】
ゾルゲル法に用いる塗工液が、Ｐｂ、Ｌａ、ＺｒまたはＴｉの少なくとも１種を構成元素として含む圧電体薄膜の構成成分を生成する原料成分を含有するものであることを特徴とする請求項１または２記載の圧電体素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の基板と圧電体薄膜との間に電極を設けることを特徴とする請求項1から3記載の圧電体素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１記載の圧電体薄膜の表面に電極を設けることを特徴とする請求項1から４記載の圧電体素子の製造方法。
【請求項６】
圧電体素子が、請求項1乃至5のいずれかに記載の製造方法により製造されたものであることを特徴とする圧電体素子。
【請求項７】
少なくとも、インク吐出口と、インク吐出口に連通する圧力室と、圧力室の一部を構成する振動板と、圧力室の外部に設けられた振動板に振動を付与するための圧電体薄膜と電極とを有し、振動板により生じる圧力室内の体積変化によって圧力室内のインクをインク吐出口から吐出するインクジェット式記録ヘッドにおいて、振動板、圧電体薄膜、電極が請求項6記載の圧電体素子よりなることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、強誘電性を有する金属酸化物を構成成分とする圧電体薄膜を備える圧電体素子およびこれを用いたインクジェット式記録ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電体素子は、強誘電性あるいは常誘電性の結晶化した圧電性セラミックスとその圧電性セラミックスが密着する振動板、電極により構成されている。圧電性セラミックスは、一般に、チタン酸ジルコニウム酸鉛（「ＰＺＴ」と表すことがある）を主成分とする二成分系、またはこの二成分系のＰＺＴにさらに第三成分を加えた三成分系セラミックスである。二成分系ＰＺＴを用いた強誘電体が、非特許文献１に記載されている。
【０００３】
これら金属酸化物系の強誘電体薄膜の製法としては、スパッタリング法、ＭＯＣＶＤ法、ゾルゲル法などが挙げられる。
【０００４】
ゾルゲル法は、原料となる各成分金属の加水分解性の化合物、その部分加水分解物またはその部分重縮合物を含有する溶液（塗工液と表すことがある）を基板に塗布し、その塗膜を乾燥させた後、空気中で加熱して金属酸化物の膜を形成し、さらにその金属酸化物の結晶化温度以上の温度で焼成して膜を結晶化させることにより強誘電体薄膜を成膜する方法である。原料の加水分解性の化合物としては、金属アルコキシド、その部分加水分解物または部分重縮合物といった有機化合物が一般に使用されている。ゾルゲル法は、安価に、また、簡便に強誘電体薄膜を成膜するのに適した方法である。
【０００５】
また圧電体素子に用いる振動板が開示されており、たとえば特許文献１には、インクジェット式記録ヘッドの吐出安定性を増すために用いることのできる振動板が開示されている。具体的には、シリコンウェハー材、カーボン材、金属材などが開示されている。
【０００６】
特許文献２には、圧電発音体として明瞭な音質を得るための振動板としてアモルファスカーボン材が開示されている。
【非特許文献１】”Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ    Ｌｅｔｔｅｒｓ”    １９９１．ｖｏｌ５８    Ｎｏ１１    ｐ．１１６１−１１６３
【特許文献１】特開平9-234864号公報
【特許文献２】特開2003-304596号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、インクジェット式記録ヘッドの吐出特性を安定させるためにカーボン材特にアモルファスカーボンを用いた振動板が提案されている。
【０００８】
しかしアモルファスカーボンを振動板として用いた場合、その上に設ける圧電体薄膜の成膜方法は限定されてしまっていた。
【０００９】
例えば、スパッタ法、水熱合成法などによりアモルファスカーボン上へ直接成膜する方法、あるいは強誘電体の粉末を焼成し、あらかじめ強誘電体薄膜を形成しておき、アモルファスカーボン上へ接着剤で貼り付ける方法などがある。
【００１０】
一方ゾルゲル法は、安価に、また、簡便に強誘電体薄膜を成膜するのに適した方法である。しかしその焼成工程において、空気中において550℃以上、好ましくは600℃以上の高温が必要である。そのためアモルファスカーボンの上にゾルゲル法により調製した塗工液を塗工した後焼成を行うと、アモルファスカーボンが強誘電体薄膜の焼成中に燃えてしまうという問題がある。
【００１１】
本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、アモルファスカーボン上においてゾルゲル法により強誘電体薄膜を成膜する方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によれば、前述の目的は（１）  振動板とする基板上においてゾルゲル法により酸化物薄膜を結晶化し圧電体薄膜を形成する工程において、前記基板が、アモルファスカーボンまたはグラファイトで、不活性ガス中で焼成を行う工程を含むことを特徴とする圧電体素子の製造方法によって達成される。
【００１３】
また本発明によれば、前述の目的は、（２）  圧電体薄膜を形成する工程において、不活性ガスを95vol％以上含む雰囲気下であることを特徴とする圧電体素子の製造方法によって達成される。
【００１４】
また本発明によれば、前述の目的は、（３）  ゾルゲル法に用いる塗工液が、Ｐｂ、Ｌａ、ＺｒまたはＴｉの少なくとも１種を構成元素として含む圧電体薄膜の構成成分を生成する原料成分を含有するものであることを特徴とする（１）または（２）記載の圧電体素子の製造方法によって達成される。
【００１５】
また本発明によれば、前述の目的は、（４）  （1）記載の基板と圧電体薄膜との間に電極を設けることを特徴とする（1）から（3）記載の圧電体素子の製造方法によって達成される。
【００１６】
また本発明によれば、前述の目的は、（５）  （１）記載の圧電体薄膜の表面に電極を設けることを特徴とする（1）から（４）記載の圧電体素子の製造方法によって達成される。
【００１７】
また本発明によれば、前述の目的は、（６）        圧電体素子が、上記（１）ないし（5）のいずれかに記載の製造方法により製造されたものであることを特徴とする圧電体素子によって達成される。
【００１８】
また本発明によれば、前述の目的は、（７）少なくとも、インク吐出口と、インク吐出口に連通する圧力室と、圧力室の一部を構成する振動板と、圧力室の外部に設けられた振動板に振動を付与するための圧電体薄膜と電極とを有し、振動板により生じる圧力室内の体積変化によって圧力室内のインクをインク吐出口から吐出するインクジェット式記録ヘッドにおいて、振動板、圧電体薄膜、電極が（6）記載の圧電体素子よりなることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドによって達成される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、アモルファスカーボンやグラファイトなどの基板を振動板とし、その上にゾルゲル法より圧電素子を提供することができる。また、その圧電素子の製造方法を提供することができる。さらに、本発明によれば、アモルファスカーボンやグラファイトなどの基板を振動板としたインクジェット式記録ヘッドを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００２１】
図１は、本発明の圧電体素子の概略を示す模式的断面図である。同図において、１は基板、２は下部電極、３は圧電体薄膜、４は上部電極である。
【００２２】
基板１としては、アモルファスカーボン、グラファイトが用いられる。
【００２３】
本発明の圧電体素子の下部電極２、上部電極４は、通常、５〜５００ｎｍ程度の厚みを有する導電性の層である。具体的には、下部電極２および上部電極４は、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｉｒ、Ｓｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉなどの金属、導電性カーボンまたはこれらの酸化物の１種または２種以上を積層して形成することができる。また上記基板が十分な導電性を有する場合下部電極を基板が兼ねても構わない。
【００２４】
下部電極２および上部電極４は、上記金属層をスパッタまたは蒸着等により、また、上記酸化物層は基板上にゾルゲル法等により塗工、焼成して形成しても良いし、スパッタ、蒸着などにより形成してもよい。また下部電極２、上部電極４とも所望の形状にパタンニングして用いても良い。
【００２５】
圧電体薄膜３は、Ｐｂ以外にＺｒ、Ｔｉの元素の少なくとも１種類を構成元素として含むものであり、ゾルゲル法により製造することができる。
【００２６】
本発明の圧電体素子をゾルゲル法によって製造する場合を例として以下に本発明の圧電体素子の製造方法について説明する。
【００２７】
上記ゾルゲル法においては、通常、圧電体薄膜３を構成する金属酸化物を生成する原料成分を含有する塗工液を調製し、これを基板へ塗布して、塗工膜を形成し、塗工膜を乾燥し、これをさらに焼成することにより圧電体素子を製造する。
【００２８】
圧電体薄膜の構成成分を生成する原料成分を含有する塗工液は、通常、Ｐｂ、Ｚｒ、Ｔｉ、などのアルコキシドまたはこれらの金属塩を溶剤に溶解した後、水を加え、加水分解反応を行い反応生成物（圧電体薄膜の構成成分を生成する原料成分）を調製し、所望の場合にはこの反応生成物に、他の添加剤等を加え調製することができる。
【００２９】
圧電体薄膜３には、Ｐｂ、Ｚｒ、Ｔｉ以外の微量の元素をドーピングしても良い。ドーピングすることのできる微量元素の具体的な例としては、たとえば、Ｌａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｎ、Ｔｈ、Ｙ、Ｓｍ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｃ、Ｍｇ、Ｍｎなどを挙げることができる。
【００３０】
その含有量は通常は、原子分率で０．０５以下である。
【００３１】
上記加水分解反応において用いることのできる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール系溶剤、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶剤、２−メトキシエタノール、２―エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等の多価アルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン系などのアミド系溶剤、アセトニトリル等のニトリル系溶剤が挙げられる。加水分解時に用いるこれらの溶剤量は、金属アルコキシドまたは金属塩に対して通常５倍モルから２００倍モルであり、好ましくは１０倍モルから１００倍モルである。溶剤の量が多すぎるとゲル化がおこりにくくなり、少なすぎると加水分解時の発熱が激しくなる。
【００３２】
またＰｂのアルコキシド化合物としては鉛２−エトキシエトキシド、鉛メトキシド、鉛エトキシド、鉛ｎ−プロポキシド、鉛ｉ−プロポキシド、鉛ｎ−ブトキシド、鉛ｉ−ブトキシド、鉛ｔ−ブトキシド、などの各種アルコキシドおよびそのアルキル置換体などが挙げられる。
【００３３】
またＰｂ塩としては、具体的には塩化物、硝酸塩、リン酸塩、硫酸塩などの無機塩化合物、また有機塩化合物としては、具体的にはギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩などの各種カルボン酸塩、ヒドロキシカルボン酸塩、またアセチルアセトナート錯体などを用いることができる。
Ｚｒ、Ｔｉについても、同様のアルコキシド化合物または金属塩を用いることができる。
【００３４】
Ｐｂ、Ｚｒ、Ｔｉ以外の微量の元素をドーピングする場合、たとえば、これらの金属を含む化合物を溶剤に溶かしてあるいは直接添加すればよい。
【００３５】
これらのアルコキシド化合物または金属塩の仕込み比は、例えば、Ｐｂ、Ｚｒ、Ｔｉのアルコキシド化合物または金属塩を用いる場合、圧電体薄膜を構成する金属酸化物の一般式Ｐｂ（ＺｒｙＴｉ１−ｙ）Ｏ３（式中、０≦ｙ≦１）から理論的に求められる仕込み比としてもよいが、焼成過程においてＰｂの消失がおこるため、あらかじめ消失量に見合うＰｂの量を増量しておくことが好ましい。具体的には、Ｐｂ（ＺｒｙＴｉ１−ｙ）Ｏ３（式中、０≦ｙ≦１）においてＰｂの仕込み量を上記一般式から求められる仕込量の５％〜３０％の範囲で増量するのが好ましい。
【００３６】
金属アルコキシドまたは金属塩の加水分解反応においては、水は、一般的には金属アルコキシドまたは金属塩の０．０５倍モル〜８倍モル用いられ、より好ましくは０．５倍モル〜４倍モル用いられる。
【００３７】
加水分解反応を行う際には、酸触媒または塩基触媒を用いることができる。例えば、金属塩、ハロゲン化物、硫酸、硝酸、塩酸などの鉱酸や酢酸、オクチル酸などの有機酸を用いることができる。これらのなかでは、オクチル酸、酢酸などの有機酸が好ましく用いられる。
【００３８】
加水分解反応条件は、とくに限定されないが、一般的には、反応温度は室温〜１００℃、反応時間１〜３０時間で加水分解反応を行うことができる。
【００３９】
上記金属組成の溶液を加水分解後、沸点１００℃以下の溶剤を完全に除去し、沸点１００℃以上の溶剤を投入し、加水分解反応生成物（圧電体薄膜の構成成分を生成する原料成分）の濃度が、溶剤と加水分解反応生成物の合計量をベースとして０．１〜３５質量％となるように調整して塗工液を調製するのが好ましい。
【００４０】
用いられる溶剤としては、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エトキシエタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノールなどのセロソルブ系、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、などの多価アルコール、テルピオネール、パイン油、ラベンダー油などの香料油があげられる。好ましくは、セロソルブ系溶剤である。またエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン誘導体などの高分子樹脂、ロジン、ロジン誘導体等を塗工性の向上の目的で用いても良い。
【００４１】
また市販されている圧電体薄膜形成用の塗工液を用いても構わない。
【００４２】
上記塗工液は、塗工工程により基板上または基板上に形成された下部電極の上に塗布される。塗布方法は、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレーコートなど公知の塗布方法を用いることができる。
【００４３】
塗工膜の乾燥時の１層あたりの膜厚は特に問わないが、０．０１μｍ〜５μｍが好ましい。
【００４４】
続いて塗工膜は、５００℃まで昇温し仮焼成を行い基板上に酸化物薄膜を形成する。この仮焼成工程には、乾燥機、ドライヤー、ホットプレート、管状路、電気炉、赤外イメージ炉などを組み合わせて用いることができる。仮焼成工程においては、通常の空気雰囲気下または酸素を多く含んだ雰囲気下が好ましい。またこの仮焼成の前に溶剤の乾燥のための乾燥工程を入れても良い。
【００４５】
更に５００℃〜８００℃の範囲で本焼成を行い、基板上に結晶性の金属酸化物を構成成分とする圧電体薄膜を形成する。この本焼成工程においては、酸素を極力除いた不活性ガス雰囲気中で行う。ここで述べる不活性ガスとは、ヘリウム、窒素、ネオン、アルゴンを指す。これらの不活性ガスは単独でも複数組み合わせて使っても良い。好ましい不活性ガスの濃度は本焼成時に基板が接触する部分の大気の95体積％以上が好ましい。95体積％以下では、基板としたアモルファスカーボンまたはグラファイトが燃えてしまい好ましくない。
【００４６】
本焼成工程には、電気炉、管状炉、赤外イメージ炉など密閉性がよくガス置換が可能な炉を用いることができる。
【００４７】
圧電体薄膜の結晶化は仮焼成工程の５００℃までで終了しているが、圧電性を十分に発現する結晶粒子には成長していない。さらに５００℃以上に加熱することで圧電性を発現する結晶粒子に成長する。
【００４８】
上記塗工工程から本焼成までの工程は、１回だけでも構わないが、必要に応じて複数回繰り返しても良い。
【００４９】
上記乾燥工程は各層ごとに行なうのが好ましいが、仮焼成、本焼成は各層ごとに行っても良いし数層おきにまとめて行っても良い。また本焼成は一番最後に行うだけでも良い。複数回塗工から本焼成まで行った際の総膜厚としては０.５μｍ〜３０μｍが好ましい。
【００５０】
また、仮焼成工程、本焼成工程においては、段階的に焼成温度を昇温してもよい。このような焼成により、有機成分がほぼ消失して、緻密な構造の圧電体薄膜を得ることができる。
【００５１】
図２は、本発明の圧電体素子を用いたインクジェット式プリンターヘッド用のアクチュエータの概略を示す模式的断面図であり、圧電体素子がアクチュエータに用いられたインクジェット式プリンターヘッドの一部を拡大して模式的に示した。
【００５２】
プリンターヘッドの基本構成は、従来と同様であり、ヘッド基台５と振動板７および圧電体素子とから構成されている。ここで用いる振動板7はアモルファスカーボンまたはグラファイトである。
【００５３】
ヘッド基台５には、インクを噴射する多数のインクノズル（図示せず）、それぞれのインクノズルに個別に連通する多数のインク経路（図示せず）およびそれぞれのインク経路に個別に連通する多数のインク室６が形成されており、ヘッド基台５の上面全体を覆うように振動板７が取り付けられ、この振動板７によってヘッド基台５の全てのインク室６の上面開口が閉塞されている。振動板７上には、それぞれのインク室６と個別に対応した位置に、振動板７に振動駆動力を与えるための圧電体素子８が被着形成されている。そして、多数の圧電体素子８の電源９を制御して、所望の選択された圧電体素子８に電圧を印加することにより、圧電体素子８を変位させて、その部分の振動板７を振動させる。これにより、振動板７の振動に対応した部分のインク室６の容積が変化し、インク経路を通ってインクノズルからインクが押し出されて印刷が行われることになる。
【００５４】
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
【００５５】
塗工液の作製
有機金属化合物原料としては、次のものを用いた。
【００５６】
Ｐｂ化合物：  酢酸鉛３水和物
Ｌａ化合物：  酢酸ランタン１．５水和物
Ｚｒ化合物：  ジルコニウムテトラｔ−ブトキシド
Ｔｉ化合物：  チタンテトライソプロポキシド
有機溶媒としてｎ−ブタノールを使用し、これに酢酸塩形態の有機金属化合物（Ｐｂ、Ｌａ化合物）を溶解させ、共沸蒸留により結晶水を除去した。その後、得られた溶液にアルコキシド形態の有機金属化合物（Ｚｒ、Ｔｉ化合物）を添加して溶解させ、溶液安定化のためアセチルアセトンを金属アルコキシドに対して２倍ｍｏｌ加えてPb／La／Zr／Ｔｉ＝1.1／0.01／0.52／0.48の  組成で、有機金属化合物の合計濃度が金属酸化物換算濃度で約20重量％の薄膜形成用溶液を調製した。
【実施例１】
【００５７】
図３および図４に示すような、裏面の一部がくり抜かれたアモルファスカーボンの基板（３ｃｍ角）の表面に白金よりなる下部電極をスパッタ法により形成した。
【００５８】
上記塗工液作製例で得られた塗工液を、スピンコート法によって下部電極上に塗布した（塗工工程）。この基板を、１００℃の温度まで加熱し、５分間乾燥した（乾燥工程）。その後、電気炉を用いて室温から500℃まで毎分50℃の速度で昇温させた。500℃に到達後その温度で10分間保持しその後室温まで冷却した（仮焼成工程）。なおこの仮焼成時には、電気炉内の雰囲気は、通常の室内と同じ組成の空気であった。更に上記塗工工程、乾燥工程、仮焼成工程をこの後4回繰り返し、合計5層の圧電体薄膜を積層した。
【００５９】
次に5層の圧電体薄膜を積層したアモルファスカーボン基板を500℃に加熱されている電気炉に入れた後、電気炉内を窒素ガスで置換した。この時の窒素濃度は、97％であった。さらに700℃まで毎分20℃の速さで昇温し、700℃到達後そのまま40分放置した。この40分間の窒素濃度は96％〜98％の間であった（本焼成工程）。40分経過後窒素濃度はそのままで室温まで冷却後基板を取り出した。
【００６０】
さらに下部電極と同様に白金の上部電極をスパッタ法で付け本発明の圧電体素子を得た。本実施例で得られた圧電体素子の概略を示す断面図を図５に示す。得られた圧電体薄膜の厚さは1.1umであった。
【実施例２】
【００６１】
実施例１においてアモルファスカーボンの代わりに、グラファイトを用いて同様に圧電体素子を得た。
【実施例３】
【００６２】
実施例１において、塗工液として（株）高純度化学研究所より市販されている圧電体薄膜形成用塗工液ＰＺＴ-20（Pb／Zr／Ｔｉ＝1.2／0.52／0.48の  組成で、有機金属化合物の合計濃度が金属酸化物換算濃度で約20重量％）を用いて同様に圧電体素子を得た。得られた圧電体薄膜の厚さは1.2umであった。
【００６３】
（比較例１）
実施例1において、本焼成工程時に窒素置換を行わないで空気をそのまま使用した。
【００６４】
その結果、振動板としたアモルファスカーボンが燃えてしまい圧電体素子の形成には至らなかった。
【００６５】
（評価）
実施例１〜3の圧電体素子およびインクジェット式記録ヘッドを以下のように評価した。
【００６６】
（１）変位量
上部電極と下部電極間に１０ｋＨｚ、１０Ｖの交流を印加して圧電体素子の変位量をレーザードップラー法により測定し、圧電体素子の変位量を評価した。結果を表1に示す。
【００６７】
【表１】
2007305779.tif 000003
（２）インクジェット式記録ヘッドの作製とその評価
（インクジェット式記録ヘッドの作製）
実施例１〜３で作製した圧電体素子に、図６で示すように、ノズルを取り付けさらにインクを導入するための導入管を設けてインクジェット式記録ヘッドを作製した。
【００６８】
（インクジェット式記録ヘッドの評価）
上記の方法で作製したインクジェット式記録ヘッドに導入管よりインクジェット用インクを導入しインク室を満たした。次に上部電極と下部電極間に１〜２０ｋＨｚ、１０Ｖの交流電圧を印加し、インクの吐出の様子を顕微鏡で観察した。
【００６９】
実施例１〜３のインクジェット式記録ヘッドは各周波数に追随しインク滴を吐出できた。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の圧電体素子の概略を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の圧電体素子を用いたインクジェット式プリンターヘッド用のアクチュエータの概略を示す模式的断面図である。
【図３】実施例１〜3で用いた基板の概略を示す斜視図である。
【図４】実施例１〜3で用いた基板の概略を示す断面図である。
【図５】本発明のインクジェット式記録ヘッドの概略を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【００７１】
１  基板
２  下部電極
３  圧電体薄膜
４  上部電極
５  ヘッド基台
６  インク室
７  振動板
８  圧電体素子
９  電源
10  ノズル
11  インク導入管
【図１】
2007305779.tif 000004
【図２】
2007305779.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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