(57)【要約】【課題】コイルに対するワニス処理の時間を短縮することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供すること。【解決手段】ステータ保持部１２によりスロットを立てた姿勢でステータ１１を保持し、このとき下側に位置するコイルエンド部の上面側にノズル３１からワニスを滴下する。次いで、ステータ移動・反転部１３によりステータ１１を上下反転させる。このとき、ノズル３１から滴下されてコイルエンド部の上面側（上下反転後には下面側になる）に付着したワニスが自然乾燥してワニス皮膜が形成される。そして、この状態で、ステータ１１の上側に位置するコイルエンド部に対してノズル３２からワニスを滴下してコイル１４内に含浸させる。【選択図】図１
2007288960.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステータコアのスロットに装着されたコイルに対してワニスを含浸させるワニス処理方法において、
前記スロットを立てた姿勢で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下する前処理工程と、
前記前処理工程で前記コイルに滴下されたワニスを硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程後に前記ステータコアを上下反転させる反転工程と、
前記反転工程後に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下して含浸させる本処理工程と、
を含むことを特徴とするワニス処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載するワニス処理方法において、
前記前処理工程では、高速硬化タイプのワニスを滴下することを特徴とするワニス処理方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載するワニス処理方法において、
前記本処理工程中に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下する第２前処理工程と、
前記第２前処理工程で前記コイルに滴下されたワニスを硬化させる第２硬化工程と、
前記第２硬化工程後に前記ステータコアを上下反転させる第２反転工程と、
前記第２反転工程後に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下して含浸させる第２本処理工程と、
を含むことを特徴とするワニス処理方法。
【請求項４】
請求項３に記載するワニス処理方法において、
前記第２前処理工程では、高速硬化タイプのワニスを滴下することを特徴とするワニス処理方法。
【請求項５】
ステータコアのスロットに装着されたコイルに対してワニスを含浸させるワニス処理装置において、
前記スロットを立てた姿勢で前記ステータコアを保持する保持機構と、
前記ステータコアを上下反転させる反転機構と、
前記ステータコアが前記保持機構に保持された状態で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下供給する第１ワニス供給手段と、
前記ステータコアが前記保持機構に保持された状態で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下供給する第２ワニス供給手段と、
前記保持機構に保持された状態で前記第１ワニス供給手段からワニスが滴下され、その後、前記ステータコアが上下反転させられた後、前記保持機構に保持された状態で前記第２ワニス供給手段からワニスが滴下されるように、前記保持機構、前記第１ワニス供給手段、前記上下反転機構、および前記第２ワニス供給手段のそれぞれの動作を制御する制御手段と、
を有することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載するワニス処理装置において、
前記制御手段は、前記第２ワニス供給手段からワニスが滴下されるときに、第１ワニス供給手段からもワニスが滴下され、その後、再度前記ステータコアが上下反転させらたときには、前記第２ワニス供給手段のみからワニスが滴下されるように、前記第１ワニス供給手段および前記第２ワニス供給手段のそれぞれの動作を制御することを特徴とするワニス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステータコアに装着されたコイルに対してワニス処理を行うワニス処理方法およびワニス処理装置に関する。より詳細には、ワニス処理時間を短縮することができるワニス処理方法およびワニス処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ステータのスロットに装着されたコイルに対して、耐久性および強度を確保するためにワニス処理が行われている。そして、このようなワニス処理として、一般的に、スロットを水平にした姿勢でステータを保持し、この状態でステータを回転させながら、コイルに対して滴下ノズルからワニスを滴下して含浸させ、コイル内に含浸させたワニスを硬化させている（特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１０２４０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記したワニス処理技術では、ステータを回転させながらワニスをコイル内部まで含浸させるため、コイルに対するワニスの含浸性を良くするためには硬化時間が長いワニスを使用する必要がある。そうすると、ワニスの硬化時間が長くなるため、ワニス処理時間が長くなってしまいステータの生産性が低いという問題があった。
ここで、スロットを立てた姿勢でステータを停止させてコイルに対してワニスを含浸すると、コイル内部（さらにはコイル下側）までワニスが含浸しやすくなる。ところが、この場合、余剰のワニスがコイルから染み出してステータコアに多量に付着するおそれがある。なお、余剰のワニスがコイルから染み出してステータコアに多量に付着することを回避するためには、コイルに対してワニスを少量ずつ滴下すればよいが、これではワニス処理時間が長くなりステータの生産性が低い。
【０００５】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、コイルに対するワニス処理の時間を短縮することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理方法は、ステータコアのスロットに装着されたコイルに対してワニスを含浸させるワニス処理方法において、前記スロットを立てた姿勢で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下する前処理工程と、前記前処理工程で前記コイルに滴下されたワニスを硬化させる硬化工程と、前記硬化工程後に前記ステータコアを上下反転させる反転工程と、前記反転工程後に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下して含浸させる本処理工程と、を含むことを特徴とする。
【０００７】
このワニス処理方法では、前処理工程にて、スロットを立てた姿勢で下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下する。そして、硬化工程にて、下側に位置するコイルエンド部の上面側に滴下されたワニスを硬化させる。これにより、下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニス皮膜が形成される。なお、硬化工程には、温風等を吹き付けてワニスを硬化させる場合の他、ワニスを自然乾燥させて硬化させる場合も含まれる。
【０００８】
そして、反転工程にて、ステータコアを上下反転させる。これで、ワニス皮膜が形成されたコイルエンド部が、ステータコアの上側に位置する。このとき、ワニス皮膜が形成された部分は、コイルエンド部の下面側に位置する。そしてこの状態で、本処理工程にて、コイルエンド部の上面側にワニスを滴下してコイル内に含浸させる。このとき、ワニスが滴下されるコイルエンド部の下面側にはワニス皮膜が形成されている。従って、ステータコアが反転された後に上側に位置するコイルエンド部の上面側から滴下されてコイル内に含浸されていくワニスが、コイルから染み出してステータコアに付着することを防止することができる。
【０００９】
このように本発明のワニス処理方法では、スロットを立てた姿勢でコイル内へワニスを含浸させるため、重力の作用を有効に利用してワニスの含浸速度を速くすることができる。このため、コイル内へのワニスの含浸処理を短時間で行うことができる。これにより、コイルに対するワニス処理の時間を短縮することができる。その結果として、ステータの生産効率が向上する。
また、ワニスの含浸速度が速いので、従来よりも硬化時間が短いワニスを使用することができるため、コイルに対するワニス処理の時間を更に短縮することができる。
【００１０】
ここで、前処理工程ではコイル表面にワニス被膜が形成されればよいので、高速硬化タイプのワニス（１分以内にゲル化するワニス）を使用することが好ましい。これにより、硬化工程に要する時間を短縮することができるからである。
【００１１】
また、本処理工程を実施した後に、反対側に位置するコイルに対して上記した工程を繰り返して行うようにしてもよい。
これにより、コイルの両側からワニスを含浸させることができるので、効率良くコイル内にワニスを含浸させることができる。このため、ワニス含浸時間を短縮することができる。
【００１２】
そして、本処理工程を実施した後に、反対側に位置するコイルに対して上記した工程を繰り返して行う場合には、前記本処理工程中に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下する第２前処理工程と、前記第２前処理工程で前記コイルに滴下されたワニスを硬化させる第２硬化工程と、前記第２硬化工程後に前記ステータコアを上下反転させる第２反転工程と、前記第２反転工程後に前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下して含浸させる第２本処理工程と、を含むことが望ましい。
【００１３】
このワニス処理方法では、本処理工程でワニスが含浸されたコイルと反対側のコイル内にワニスを含浸させる第２本処理工程を実施する前に必要となる第２前処理工程や第２硬化工程の少なくとも一部を、本処理工程を実施しているときに行う。つまり、第２前処理工程や第２硬化工程の少なくとも一部が、本処理工程と同時に行われる。従って、ワニス処理の時間を更に短縮することができる。
【００１４】
ここで、第２前処理工程でもコイル表面にワニス被膜が形成されればよいので、高速硬化タイプのワニス（１分以内にゲル化するワニス）を使用することが好ましい。これにより、第２硬化工程に要する時間を短縮することができるからである。
【００１５】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理装置は、ステータコアのスロットに装着されたコイルに対してワニスを含浸させるワニス処理装置において、前記スロットを立てた姿勢で前記ステータコアを保持する保持機構と、前記ステータコアを上下反転させる反転機構と、前記ステータコアが前記保持機構に保持された状態で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下供給する第１ワニス供給手段と、前記ステータコアが前記保持機構に保持された状態で前記コイルのうち前記ステータコアの端面から突出して上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下供給する第２ワニス供給手段と、前記保持機構に保持された状態で前記第１ワニス供給手段からワニスが滴下され、その後、前記ステータコアが上下反転させられた後、前記保持機構に保持された状態で前記第２ワニス供給手段からワニスが滴下されるように、前記保持機構、前記第１ワニス供給手段、前記上下反転機構、および前記第２ワニス供給手段のそれぞれの動作を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【００１６】
このワニス処理装置では、保持機構にスロットを立てた姿勢で保持された状態で下側に位置するコイルエンド部の上面側に対して、第１ワニス供給手段からワニスが滴下される。その後、コイルエンド部の上面側に滴下されたワニスが硬化して、下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニス皮膜が形成される。
ここで、第１ワニス供給手段から滴下するワニスは、コイル表面にワニス被膜が形成されればよいので、ワニス硬化時間を短縮することができる高速硬化タイプのワニス（１分以内にゲル化するワニス）を使用すればよい。また、自然乾燥によってワニスを硬化させるのではなく、温風等を吹き付けてワニスを硬化させるためのワニス硬化手段を設けても良い。このようなワニス硬化手段を設けることによっても、ワニスの硬化時間を短縮することができるからである。
【００１７】
その後、反転機構によって、ステータコアが上下反転させられる。これで、ワニス皮膜が形成されたコイルエンド部が、ステータコアの上側に位置する。このとき、ワニス皮膜が形成された部分がコイルエンド部の下面側に位置した状態で、ステータコアが保持機構に保持される。
そして、ステータコアが保持機構に保持された状態で上側に位置するコイルエンド部の上面側に対して、第２ワニス供給手段からワニスが滴下されコイル内に含浸されていく。このとき、ワニスが滴下されるコイルエンド部の下面側にはワニス皮膜が形成されている。従って、ステータコアが反転された後に上側に位置するコイルエンド部の上面側から滴下されてコイル内に含浸されていくワニスが、コイルから染み出してステータコアに付着することを防止することができる。
【００１８】
このように本発明のワニス処理装置では、スロットを立てた姿勢でコイル内へワニスが含浸されるため、重力の作用を有効に利用してワニスの含浸速度を速くすることができる。このため、コイル内へのワニスの含浸処理を短時間で行うことができる。これにより、コイルに対するワニス処理の時間を短縮することができる。その結果として、ステータの生産効率が向上する。
また、ワニスの含浸速度が速いので、従来よりも硬化時間が短いワニスを使用することができるため、コイルに対するワニス処理の時間を更に短縮することができる。
【００１９】
本発明に係るワニス処理装置においては、前記制御手段は、前記第２ワニス供給手段からワニスが滴下されるときに、第１ワニス供給手段からもワニスが滴下され、その後、再度前記ステータコアが上下反転させらたときには、前記第２ワニス供給手段のみからワニスが滴下されるように、前記第１ワニス供給手段および前記第２ワニス供給手段のそれぞれの動作を制御することが望ましい。
【００２０】
このワニス処理装置では、ワニス皮膜が形成された上側に位置するコイルエンド部に対して第２ワニス供給手段からワニスが滴下されているときに、反対側のコイルエンド部の上面側に第１ワニス供給手段からワニスが滴下される。このため、最初に行うコイルへのワニス含浸と、次に行う反対側コイルへのワニス含浸を実施する前に必要な反対側コイルエンド部におけるワニス皮膜の形成が同時に行われる。従って、ワニス処理の時間を更に短縮することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係るワニスの処理方法およびワニスの処理装置によれば、上記した通り、ステータコアのスロットに装着されたコイルに対するワニス処理の時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明のワニス処理装置およびワニス処理方法を具体化した最も好適な実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。そこでまず、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成について、図１を参照しながら説明する。図１は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す図である。
【００２３】
ワニス処理装置１０には、ステータ１１を保持するステータ保持部１２と、ステータ１１を移動させるとともに上下反転させるステータ移動・反転部１３と、ステータ１１に装着されたコイル１４にワニスを供給するワニス供給部１５と、ワニス処理装置１０を統括制御する制御部１６とが備わっている。
【００２４】
ステータ保持部１２には、ステータ１１に形成されたスロットを立てた状態でステータ１１を保持可能な保持台２１と、保持台２１を回転させる駆動部２２とが備わっている。これにより、ステータ保持部１２は、ステータ１１をスロットを立てた状態で保持しながら回転させることができるようになっている。なお、ステータ保持部１２の動作は、制御部１６によって制御される。
【００２５】
ステータ移動・反転部１３には、ステータ１１を側面（外周側）から把持する把持アーム２５ａ，２５ａが対向すように配置された把持部２５，２５と、把持部２５，２５を３軸方向（上下、左右、および前後方向）に移動させる移動部２６とが備わっている。そして、把持部２５には、アクチュエータ２７が備わっており、このアクチュエータ２７により各把持部２５が近接・離間するようになっている。これにより、把持部２５，２５によって、ステータ１１を保持することができるようになっている。そして、移動部２６により把持部２５，２５を移動させることにより、把持部２５，２５に把持されたステータ１１を任意の場所へ移動させることができるようになっている。また、把持部２５の把持アーム２５ａは回転可能となっている。これにより、把持部２５，２５に把持されたステータ１１の上下を反転させることができるようになっている。なお、ステータ移動・反転部１３の各種動作は、制御部１６によって制御される。
【００２６】
ワニス供給部１５には、ワニスを滴下するノズル３１，３１および３２，３２と、各ノズルにワニスを供給するワニス供給源３３とが備わっている。ここで、ノズル３１は、ステータ保持部１２に保持されたステータ１１の下側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下するものである。一方、ノズル３２は、ステータ保持部１２に保持されたステータ１１の上側に位置するコイルエンド部の上面側にワニスを滴下するものである。また、ノズル３１とノズル３２とからは異なるワニスが滴下される。具体的には、ノズル３１からは高速硬化タイプのワニス（１分以内にゲル化するワニス）が滴下され、ノズル３２からは従来のワニス処理に使用するものより硬化時間が短いワニスが滴下される。このため、ワニス供給源３３には２種類のワニスが貯蔵されており、ワニス供給源３３とノズル３１、ノズル３３とはそれぞれ別の配管で接続されている。なお、ワニス供給部１５の各動作は、制御部１６によって制御される。
【００２７】
ここで、ノズル３１から滴下するワニスとして、高速硬化タイプのワニス（１分以内にゲル化するワニス）を使用することができるのは、後述するようにノズル３１からワニスを滴下する前処理工程では、コイル１４内にワニスを含浸させる必要はなくコイル１４の表面にワニス皮膜が形成されればよいからである。また、ノズル３２から滴下するワニスとして、従来のワニス処理に使用するものより硬化時間が短いワニスを使用することができるのは、後述するようにノズル３２からワニスを滴下して含浸させる本処理工程では、スロットを立てた姿勢でコイル１４内へワニスを含浸させるため、重力の作用を有効に利用してワニスの含浸速度を速くすることができるからである。
【００２８】
次に、上記した構成を備えるワニス処理装置１０を使用したステータ１１のコイル１４に対するワニス処理方法について、図２〜図５を参照しながら説明する。図２は、反リード側コイルエンド部に対する前処理工程の実施状態を説明する説明図である。図３は、リード側コイルエンド部に対する前処理工程の実施状態を説明する説明図である。図４は、ステータのリード側における本処理工程の実施状態を説明する説明図である。図５は、ステータの反リード側における本処理工程の実施状態を説明する説明図である。
【００２９】
まず、ステータ１１を加熱する。このステータ１１の加熱は公知の加熱方法で行えば良く、例えばヒータ加熱された温風により加熱すればよい。
ステータ１１の加熱が終了すると、ステータ移動・反転部１３によってステータ１１がステータ保持部１２へ移動させられ、スロットを立てた姿勢でリード側が上になるようにステータ１１をステータ保持部１２に載置されて保持される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、把持部２５，２５がステータ１１を保持し、その状態で移動部２６が把持部２５，２５をステータ保持部１２へ移動させる。そして、把持部２５，２５がステータ１１をスロットを立てた姿勢で開放してステータ保持部１２に載置することにより、図２に示すように、リード側が上になってスロットが立った姿勢でステータ１１がステータ保持部１２に保持される。
【００３０】
ステータ１１がステータ保持部１２に保持されると、ステータ１１の反リード側コイルエンド部１４ｂの上面側にワニスを滴下する前処理工程が実施される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、図２に示すように、ノズル３１，３１がステータ１１の反リード側コイルエンド部１４ｂの上面側に配置される。そして、ノズル３１，３１から高速硬化タイプのワニスが滴下される。このとき、制御部１６からの指令により、駆動部２２によって保持台２１が回転させられる。これにより、ステータ１１を所定速度で回転させながらノズル３１，３１からワニスが滴下されるので、ステータ１１の反リード側コイルエンド部１４ｂの上面側の表面全域にワニスを付着させることができる。
【００３１】
ステータ１１の反リード側コイルエンド部１４ｂに対する前処理工程が終了すると、ステータ移動・反転部１３によってステータ１１が上下反転させられる。つまり、反転工程が実施される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、把持部２５，２５がステータ１１を保持し、その状態で把持アーム２５ａ，２５ａを１８０°回転させる。そして、把持部２５，２５がステータ１１を上下反転させた後に開放してステータ保持部１２に載置することにより、図３に示すように、反リード側が上になってスロットが立った姿勢でステータ１１がステータ保持部１２に保持される。
【００３２】
ステータ１１が上下反転されると、下側に位置するステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上面側にワニスを滴下する前処理工程が実施される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、図３に示すように、ノズル３１，３１がステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上面側に配置される。そして、ノズル３１，３１から高速硬化タイプのワニスが滴下される。このとき、制御部１６からの指令により、駆動部２２によって保持台２１が回転させられる。これにより、ステータ１１を所定速度で回転させながらノズル３１，３１からワニスが滴下されるので、ステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上面側の表面全域にワニスを付着させることができる。
【００３３】
ステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａに対する前処理工程が終了すると、ステータ移動・反転部１３によってステータ１１が再度上下反転させられる。つまり、反転工程が実施される。これにより、図４に示すように、リード側が上になってスロットが立った姿勢でステータ１１がステータ保持部１２に保持される。
【００３４】
そして、ステータ１１のリード側における本処理工程が実施される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、図４に示すように、ノズル３２，３２がステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上方に配置される。そして、ノズル３２，３２からワニスが滴下される。このとき、制御部１６からの指令により、駆動部２２によって保持台２１が回転させられる。
【００３５】
ここで、ノズル３２，３２から滴下されたワニスは、その自重により下方へ落下して、コイル１４に当たり付着する。コイル１４に付着したワニスは、コイル１４の表面を覆うとともに各巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。このとき、ステータ１１が回転させられているため、ノズル３２，３２から滴下されたワニスが当たる部分が常に変化し、ワニスはコイル１４に一様に含浸させられる。そして、スロットが立った姿勢でコイル１４にワニスを含浸させているので、ワニス含浸時間を短縮することができる。
【００３６】
このとき、前処理工程にてリード側コイルエンド部１４ａの上面側に滴下されたワニスが自然乾燥して硬化している。なぜなら、前処理工程では、高速硬化タイプのワニスを使用しているため、１分程度でワニスが硬化し始めるからである。このため、上下反転されたステータ１１において、リード側コイルエンド部１４ａの下面側にはワニス皮膜が形成されている。従って、ステータ１１のリード側から滴下されてコイル１４内に含浸されていくワニスが、コイル１４から染み出してステータコア１１ａに付着することを防止することができる。
【００３７】
その後、ステータ１１が上下反転させられ、ステータ１１の反リード側における本処理工程が実際される。具体的には、制御部１６からの指令に基づき、図５に示すように、ノズル３２，３２がステータ１１の反リード側コイルエンド部１４ｂの上方に配置される。そして、ノズル３２，３２からワニスが滴下される。このとき、制御部１６からの指令により、駆動部２２によって保持台２１が回転させられる。
【００３８】
ここで、ノズル３２，３２から滴下されたワニスは、その自重により下方へ落下して、コイル１４に当たり付着する。コイル１４に付着したワニスは、コイル１４の表面を覆うとともに各巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。このとき、ステータ１１が回転させられているため、ノズル３２，３２から滴下されたワニスが当たる部分が常に変化し、ワニスはコイル１４に一様に含浸させられる。そして、スロットが立った姿勢でコイル１４にワニスを含浸させているので、ワニス含浸時間を短縮することができる。
【００３９】
このとき、前処理工程にて反リード側コイルエンド部１４ｂの上面側に滴下されたワニスが自然乾燥して硬化している。なぜなら、前処理工程では、高速硬化タイプのワニスを使用しているため、１分程度でワニスが硬化し始めるからである。このため、上下反転されたステータ１１において、反リード側コイルエンド部１４ｂの下面側にはワニス皮膜が形成されている。従って、ステータ１１の反リード側から滴下されてコイル１４内に含浸されていくワニスが、コイル１４から染み出してステータコア１１ａに付着することを防止することができる。
【００４０】
このように、本実施の形態に係るワニス処理方法では、スロットを立てた姿勢でコイル１４内へワニスを含浸させるため、重力の作用を有効に利用してワニスの含浸速度を速くすることができる。このため、コイル１４内へのワニスの含浸処理を短時間で行うことができる。これにより、コイル１４に対するワニス処理の時間を短縮することができる。
また、コイル１４の両側（リード側、反リード側）からワニスを含浸させているので、効率良くコイル１４内にワニスを含浸させることができる。このため、ワニス含浸時間をさらに短縮することができる。
【００４１】
その後、公知の方法により、コイル１４に含浸させたワニスをゲル化・乾燥して、コイル１４に含浸させたワニスを硬化させる。かくして、ワニス処理が終了する。
【００４２】
そして、本実施の形態に係るワニス処理方法と、従来のステータを回転させながらワニスの含浸を行うワニス処理方法との処理時間をそれぞれ調べたところ、本実施の形態に係る方法によれば、従来の方法に比べ処理時間が約１／３短縮されていた。また、本実施の形態に係るワニス処理方法では、ステータコア１１ａに余分なワニスが付着しないので、余分なワニスを削り取る後処置が不要である。これらのことから、本実施の形態に係るワニス処理装置１０を使用したワニス処理方法を行うことにより、ステータ１１の生産効率を向上させることができる。
【００４３】
以上、詳細に説明したように本実施の形態に係るワニス処理装置１０によるワニス処理方法では、ステータ保持部１２によりスロットを立てた姿勢でステータ１１を保持し、このとき下側に位置するコイルエンド部の上面側にノズル３１から高速硬化タイプのワニスを滴下し、ステータ移動・反転部１３によりステータ１１を上下反転させた後、ステータ１１の上側に位置するコイルエンド部に対してノズル３２からワニスを滴下してコイル１４内に含浸させる。そして、ノズル３２からワニスを滴下するときには、ノズル３１から滴下されてコイルエンド部の上面側（上下反転後には下面側になる）に付着したワニスが自然乾燥してワニス皮膜が形成されている。
【００４４】
これにより、重力の作用を有効に利用してワニスの含浸速度を速くして、コイル１４内へのワニスの含浸処理を短時間で行うことができるとともに、コイル１４から余分なワニスが染み出してステータコア１１ａに付着することがないので後処理が不要となる。従って、コイル１４に対するワニス処理の時間を短縮して、ステータ１１の生産効率を向上させることができる。
【００４５】
ここで、反リード側コイルエンド部１４ｂに対する前処理工程を実施（図２参照）した後、図６に示すように、リード側コイルエンド部１４ａに対する前処理工程を実施する際に、ステータ１１のリード側における本処理工程を同時に実施するようにしてもよい。なお、図６は、リード側コイルエンド部に対する前処理工程と、ステータのリード側における本処理工程とを同時に実施した状態を説明する説明図である。
具体的には、制御部１６からの指令に基づき、ノズル３１，３１がステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上面側に配置されるとともに、ノズル３２，３２がステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上方に配置される。そして、ノズル３１，３１からは高速硬化タイプのワニスが滴下されるとともに、ノズル３２，３２からもワニスが滴下される。このとき、制御部１６からの指令により、駆動部２２によって保持台２１が回転させられる。
【００４６】
これにより、ノズル３１から滴下されたワニスを、ステータ１１のリード側コイルエンド部１４ａの上面側の表面全域に付着させるとともに、ノズル３２から滴下されたワニスを、コイル１４に一様に含浸させることができる。このとき、反リード側コイルエンド部１４ｂの下面側にはワニス皮膜が形成されているので、ステータ１１の反リード側から滴下されてコイル１４内に含浸されていくワニスが、コイル１４から染み出してステータコア１１ａに付着することはない。
【００４７】
そして、図４に示すステータ１１のリード側における本処理工程が上記したように実施された後、公知の方法により、コイル１４に含浸させたワニスをゲル化・乾燥して、コイル１４に含浸させたワニスを硬化させる。
【００４８】
このようなワニス処理方法によれば、リード側コイルエンド部に対する前処理工程と、ステータ１１のリード側における本処理工程とが同時に実施されるので、ワニス処理に要する時間を更に短縮することができる。
【００４９】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。例えば、上記した実施の形態では、ワニス滴下時にステータ１１を回転するようにしているが、ノズル３１，３２を回転させるようにしてもよい。
【００５０】
また、上記した実施の形態では、反リード側、リード側のコイルエンド部に対するそれぞれの前処理工程を実施した後に、リード側、反リード側からそれぞれ本処理工程を実施しているが、反リード側に対する前処理工程を実施して、リード側から本処理工程を実施した後、リード側に対する前処理工程を実施して、反リード側から本処理工程を実施（図２→図４→図３→図５の順で実施）するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】反リード側コイルエンド部に対する前処理工程の実施状態を説明する説明図である。
【図３】リード側コイルエンド部に対する前処理工程の実施状態を説明する説明図である。
【図４】ステータのリード側における本処理工程の実施状態を説明する説明図である。
【図５】ステータの反リード側における本処理工程の実施状態を説明する説明図である。
【図６】リード側コイルエンド部に対する前処理工程と、ステータのリード側における本処理工程とを同時に実施した状態を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０  ワニス処理装置
１１  ステータ
１１ａ  ステータコア
１２  ステータ保持部
１３  ステータ移動・反転部
１４  コイル
１４ａ  リード側コイルエンド部
１４ｂ  反リード側コイルエンド部
１５  ワニス供給部
１６  制御部
２１  保持台
２２  駆動部
２５  把持部
２５ａ  把持アーム
２６  移動部
２７  アクチュエータ
３１  ノズル
３２  ノズル
３３  ワニス供給源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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