(57)【要約】      （修正有）【課題】ホログラムや回折格子などのレリーフ構造を有しサーマルプリンターなどでヒビ割れや賭が発生しない転写箔およびそれを用いた画像形成物を提供する。【解決手段】高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性及び賦型スタンパの耐刷性がよく、かつ、サーマルプリンタなどによる転写でも高精細な画像を転写性（印字性）のよい転写箔及びそれを用いた画像形成物を提供するものであり、基材１１、剥離層１３、レリーフ形成層１５、反射層１７が、順次積層されている転写箔において、前記剥離層が少なくともガラス転移温度１２０℃〜２００℃の熱可塑性樹脂を含有し、かつ前記レリーフ形成層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなるようにしたことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、剥離層、レリーフ形成層、および反射層が、この順序で積層されている転写箔において、前記剥離層が少なくともガラス転移温度１２０℃〜２００℃の熱可塑性樹脂を含有し、かつ前記レリーフ形成層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなる、転写箔。
【請求項２】
上記熱可塑性樹脂が環状オレフィン系樹脂である、請求項１記載の転写箔。
【請求項３】
上記環状オレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂である、請求項１〜２のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項４】
上記レリーフ形成層がウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項５】
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、及び（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項６】
上記の電離放射線硬化性樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとメタクリル樹脂との混合物である、請求項４または５に記載の転写箔。
【請求項７】
上記の電離放射線硬化性樹脂の質量基準の割合が、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー：メタクリル樹脂＝１：２〜２：１である、請求項６に記載の転写箔。
【請求項８】
上記剥離層の厚みが０．１〜１．０μｍで、上記レリーフ形成層の厚みが０．３〜２．
５μｍであり、かつ剥離層とレリーフ形成層との厚み比が１：１〜１：２０である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項９】
上記基材の厚みが３．０〜８．０μｍである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項１０】
上記基材のレリーフ形成層と反対面へ耐熱保護層が設けられてなる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項１１】
上記反射層面へ、接着層が設けられてなる、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の転写箔。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の転写箔を用いて、被転写体へ熱転写してなることを特徴とする、画像形成物。
【請求項１３】
上記熱転写の手段がサーマルプリンタである、請求項１２記載の画像形成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写箔に関し、さらに詳しくは、ホログラム及び／又は回折格子などのレリーフ構造を有し、サーマルプリンターなどでヒビ割れや欠けが発生せず高精細に転写印刷できる転写箔及びそれを用いた画像形成物に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
なお、本明細書では、電離放射線硬化性樹脂とは電離放射線を照射しない硬化する前の前駆体又は組成物であり、電離放射線を照射して硬化させたものを電離放射線硬化樹脂と呼ぶ。
【背景技術】
【０００３】
（主たる用途）
本発明の転写箔の用途としては、ホログラム及び／又は回折格子などのレリーフ構造を、印字型やサーマルプリンターなどで高精細に転写印刷された画像形成物を得るためのものである。高精細な転写印刷とは、ヒビ割れ、欠け、及びバリなどの欠陥が極めて少なく、印字型又は印字情報を忠実に再現することである。なお、転写印刷とは結果として印字や印画であり、状況に応じて印字及び／又は印画と表記することもある。
本発明の転写箔を用いた画像形成物の主なる用途としては、ホログラム及び／又は回折格子などのレリーフ構造を高精細に印字した画像形成物を必要とする用途であれば、特に限定されるものではない。例えば、クレジットカード、ＩＤカード、プリペイドカード等のカード類、カラーコピーで再現出来ないために商品券、小切手、手形、株券、入場券、各種証明書等の紙券類、に転写して利用されている。
ホログラム、回折格子などのレリーフ構造を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できるので、包装材、書籍、パンフレット、ＰＯＰ等への利用され、また、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止として利用されている。
【０００４】
（背景技術）
ホログラムや回折格子などのレリーフ構造を物品に移行接着させる手段としては、転写箔を用いて転写印刷する方法が知られている。該転写箔は、基材上に剥離層、ホログラムや回折格子などのパターンが形成されたレリーフ形成層、反射層、接着層を順次積層してなるものである。該転写箔の転写印刷する方法としては、ホットスタンプ（箔押とも呼ばれる）、又は加熱ロールによる加熱転写が一般的である。該加熱転写は、金属の加熱された刻印又はロールと、被転写体の間に転写箔を配置し、転写箔を刻印又はロールで被転写体に押圧した後に、基材を剥離する。しかしながら、ホットスタンプ、又は加熱ロールによる転写法では、数ｍｍ角以下の微細な面積のドットや、近接したドットや微細な非転写部（同業者では白抜き部と呼ばれる）を有する画像を転写することはバリが発生し易いので極めて難しく、高精細な印字には不向きであるという問題点がある。
また、サーマルプリンタによる転写印刷では、転写時のヒビ割れなどの転写性（印字性）が悪いので、ヒビ割れ防止のためにレリーフを形成するレリーフ形成層の材料として耐熱性が求められる。しかしながら、耐熱性の材料ではレリーフを形成する製造工程において、賦型性が悪く、また賦型に用いるプレススタンパの耐刷性が低く、特にコンピュータグラフィックホログラムやコンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）などの機能性レリーフ構造では、賦型性及び耐刷性が著しく低下してしまい、レリーフ機能を十分に発現できなくなる恐れもある。
また、逆にレリーフ形成層の材料として耐熱性の低い材料では、耐刷性はよいが、レリーフの賦型性は悪く、転写印刷の際の熱などでレリーフが劣化し易く、バリが発生し易く転写性も悪いという問題点がある。
従って、ホログラム及び／又は回折格子などのレリーフ構造を有する転写箔は、高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性がよく、賦型スタンパの耐刷性がよく、効率よく製造できて、かつ、サーマルプリンタなどによる転写でも、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、高速でかつ低エネルギーで、高精細な画像をヒビ割れ、欠け及びバリが発生しにくく、転写性（印字性）がよく、正確に印画及び／又は印字できる転写箔が求められている。
【０００５】
（先行技術）
従来、熱溶融型又は染料昇華転写型のインクリボンを用いるサーマルプリンタで、該サーマルプリンタのサーマルヘッドを用いてドット状に転写する方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、高意匠性を有するホログラム及び／又は回折格子などのレリーフ構造を有する転写箔では、ヒビ割れや欠けが発生し易く、高精細な画像を正確に転写（印画）できず、逆にレリーフ形成層に耐熱性にやや低い材料を用いればヒビ割れや欠けが発生しないが、転写時の熱などでレリーフの形状が変化（劣化）して、ホログラム及び／又は回折格子などの意匠性が低下するという欠点がある。
また、本出願人は、サーマルプリンタで高精細印画できる転写箔を出願している（例えば、特許文献２〜４参照。）。しかしながら、高精細な画像を正確に転写（印画）させるためのものであり、レリーフ形成層の耐熱材料と、レリーフ構造の賦型性及び賦型スタンパの耐刷性、ヒビ割れ防止などの転写適性の両立については記載も示唆もされていない。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２２７３６８号公報
【特許文献２】特開２００４−９８４５５号公報
【特許文献３】特開２００４−１０１８３４号公報
【特許文献４】特開２００４−３６１６２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性及び賦型スタンパの耐刷性がよく、かつ、サーマルプリンタなどによる転写でも高精細な画像を転写性（印字性）のよい転写箔及びそれを用いた画像形成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる転写箔は、基材、剥離層、レリーフ形成層、反射層が、順次積層されている転写箔において、前記剥離層が少なくともガラス転移温度１２０℃〜２００℃の熱可塑性樹脂を含有し、かつ前記レリーフ形成層が電離放射線硬化性樹脂の硬化物からなるようにしたことを特徴とするものである。
請求項２の発明に係わる転写箔は、上記熱可塑性樹脂が環状オレフィン系樹脂であるように、したものである。
請求項３の発明に係わる転写箔は、上記環状オレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂であるように、したものである。
請求項４の発明に係わる転写箔は、上記レリーフ形成層がウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物であるように、したものである。
請求項５の発明に係わる転写箔は、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、及び（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるように、したものである。
請求項６の発明に係わる転写箔は、上記の電離放射線硬化性樹脂が、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとメタクリル樹脂との混合物であるように、したものである。
請求項７の発明に係わる転写箔は、上記の電離放射線硬化性樹脂の質量基準の割合が、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー：メタクリル樹脂＝１：２〜２：１であるように、したものである。
請求項８の発明に係わる転写箔は、上記剥離層の厚みが０．１〜１．０μｍで、上記レリーフ形成層の厚みが０．３〜２．５μｍであり、かつ剥離層とレリーフ形成層との厚み比が１：１〜１：２０であるように、したものである。
請求項９の発明に係わる転写箔は、上記基材の厚みが３．０〜８．０μｍであるように、したものである。
請求項１０の発明に係わる転写箔は、上記基材のレリーフ形成層と反対面へ耐熱保護層を設けるように、したものである。
請求項１１の発明に係わる転写箔は、上記反射層面へ、接着層を設けるように、したものである。
請求項１２の発明に係わる画像形成物は、請求項１〜９のいずれかに記載の転写箔を用いて、被転写体へ熱転写してなるように、したものである。
請求項１３の発明に係わる画像形成物は、上記熱転写の手段がサーマルプリンタであるように、したものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明者らは、高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性、賦型スタンパの耐刷性、転写性（印字性）を両立させることに注目し、本発明では、転写箔を構成する各層の材料、厚さ、厚さ比を限定することにより、（１）高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、（２）レリーフ構造の賦型性がよく、賦型スタンパの耐刷性がよく、効率よく製造できて、かつ、（３）サーマルプリンタなどによる転写でも、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、高速でかつ低エネルギーで、高精細な画像をヒビ割れ、欠け及びバリが発生しにくく、転写性（印字性）よく、転写印刷（印字及び／又は印画）できることを見出した。
【００１０】
請求項１〜３の本発明によれば、サーマルプリンタなどによる転写でも、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、高速でかつ低エネルギーで、高精細な画像をヒビ割れ、欠け及びバリが発生しにくく、転写性（印字性）がよく、正確に印画及び／又は印字できる転写箔が提供される。
請求項４〜５の本発明によれば、請求項１の転写箔から生じる効果に加えて、高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性がよく、賦型スタンパの耐刷性がよく、効率よく製造できる転写箔が提供される。
請求項６〜７の本発明によれば、請求項４の転写箔から生じる効果がより増大できる転写箔が提供される。
請求項８〜９の本発明によれば、高耐熱性材料のレリーフ形成層であっても、レリーフ構造の賦型性がよく、賦型スタンパの耐刷性がよく、効率よく製造できて、かつ、サーマルプリンタなどによる転写でも、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、高速でかつ低エネルギーで、高精細な画像をヒビ割れ、欠け及びバリが発生しにくく、転写性（印字性）がよく、正確に印画及び／又は印字できる転写箔が提供される。
請求項１０の本発明によれば、サーマルプリンタでの転写時に、転写リボンが印字ヘッドの受けロールへ密着せず、安定した印字操作ができる転写箔が提供される。
請求項１１の本発明によれば、被転写体に接着層を設けなくても、転写することのできる転写箔が提供される。
請求項１２〜１３の本発明によれば、サーマルプリンタなどによる転写でも、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、ヒビ割れ、欠け及びバリが極めて少なく、高精細な画像が形成された画像形成物が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示す転写箔の模式的な断面図である。
図２は、本発明の１実施例を示す転写箔の模式的な断面図である。
【００１２】
（転写箔の構成）
本発明の転写箔１は、図１に図示するように、基材１１の一方の面へ、剥離層１３、レリーフ形成層１５、反射層１７、接着層１９を設けてなり、基材１１／剥離層１３／レリーフ形成層１５／反射層１７／接着層１９の層構成である。なお、接着層１９は被転写体へ設けてもよいので必須ではないが、通常、転写箔へ設けるので、説明は接着層１９を設けた形で説明する。また、後述するように、図２に図示するように、基材１１の他方の面へ耐熱保護層２１を設けてもよい。
レリーフ形成層１５は電離放射線硬化樹脂、好ましくは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物であり、さらに好ましくは、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、及び（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。
剥離層１３は環状オレフィン系樹脂、好ましくはノルボルネン系樹脂である。
また、剥離層１３の厚みが０．１〜１．０μｍで、上記レリーフ形成層１５の厚みが０．３〜２．５μｍであり、かつ剥離層１３とレリーフ形成層１５との厚み比が１：１〜１：２０である。
【００１３】
（転写箔の基材）
基材１１としては、サーマルヘッドの熱に耐える耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンナフタレート・ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体・テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体・ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６・ナイロン６６・ナイロン６１０などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート・ポリメタアクリレート・ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリイミド・ポリアミドイミド・ポリエーテルイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート・ポリスルホン・ポリエーテルスルホン・ポリフェニレンエーテル・ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）・ポリアラミド・ポリエーテルケトン・ポリエーテルニトリル・ポリエーテルエーテルケトン・ポリエーテルサルファイトなどのエンジニアリング樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン・高衝撃ポリスチレン・ＡＳ樹脂・ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、セロファン・セルローストリアセテート・セルロースダイアセテート・ニトロセルロースなどのセルロース系フィルム、などがある。
【００１４】
該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフィルムが、耐熱性、機械的強度がよいため好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、２．５〜１２μｍが好適で、３〜８μｍが転写性の点で最適である。このような厚さで、これ以上の厚さでは、サーマルヘッドの熱の伝達が悪く、これ以下では、機械的強度が不足する。特に基材が薄い場合には、サーマルヘッドの熱が所定の画像周辺の非転写領域の接着層まで拡散伝達し、接着層が活性化してしまう。該接着層は被転写体とより密着して、箔切れ性を悪化させる。ところが、剥離層１３として環状ポリオレフィン系樹脂を主成分することによって、剥離層１３は基材１１及びレリーフ形成層と適度に接着する。
【００１５】
該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。充填剤としては、シリカ、炭酸カルシウムなどの体質顔料が適用できる。着色剤としては、分散染料が好ましく、モノアゾ、ビスアゾ、アントラキノン、ニトロ、スチリル、メチン、アロイレン、ベンズイミダゾール、アミノナフチルアミド、ナフトキノンイミド、クマリン誘導体などの分散染料が適用できる。帯電防止剤としては、非イオン系界面活性剤、陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤などや、ポリアミドやアクリル酸誘導体などが適用できる。
【００１６】
（剥離層）
剥離層１３の材料としては、一般的な熱可塑性樹脂でガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０〜２００℃のものが適用できる。使用可能な樹脂としては、環状オレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂（Ｔｇ；２００℃以下）、ポリエーテルイミド樹脂（Ｔｇ；２００℃以下）、ポリスルホン樹脂などが挙げられる。好ましくは環状オレフィン系樹脂であり、さらに好ましくはノルボルネン系樹脂である。また、剥離層の材料は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）であっても良い。環式構造を含有する環状オレフィン系樹脂としては、例えば、（ａ）ノルボルネン系重合体、（ｂ）単環の環状オレフィン重合体、（ｃ）環状共役ジエン系重合体、（ｄ）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（ａ）〜（ｄ）の水素化物等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性及び機械的強度に優れること等から、ノルボルネン系重合体水素化物、ビニル脂環式炭化水素重合体及びその水素化物が好ましく、ノルボルネン系重合体の水素化物がより好ましい。
本発明で記載するガラス転移温度（Ｔｇ）は、全てＪＩＳ  Ｋ  ７１２１−１９８７に基づきＤＳＣ曲線から求められるガラス転移点のことである。
【００１７】
ノルボルネン系樹脂は、例えば、（ａ−１）ノルボルネン系単量体の開環重合体、（ａ−２）ノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、（ａ−３）ノルボルネン系単量体の付加重合体、（ａ−４）ノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体、及び（ａ−１）〜（ａ−４）の水素化物等がある。
【００１８】
ノルボルネン系単量体としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：
ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，８−ジエン（慣用名：
ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（環に置換基を有するもの）等を挙げることができる。ここで、置換基としては、アルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は単独又は複数を組み合わせもよい。
【００１９】
ノルボルネン系単量体と共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。
これらの環状オレフィンは１種単独または２種以上組み合わせて用いることが出来る。
これらの環状オレフィンのなかで、ノルボルネン、トリシクロ［４．３．０．１２．５］−３−デセン、トリシクロ［４．４．０．１２．５］−３−ウンデセン、テトラシクロ［４．４．０．１２．５．１７．１０］−３−ドデセンが好ましい。
【００２０】
環状オレフィン系樹脂へは、基材との密着性をコントロールするために他の熱可塑性樹脂や、必要に応じて、充填剤、可塑剤、滑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００２１】
剥離層１３に用いる環状オレフィン系樹脂としては、耐熱性、低複屈折性、非晶性、溶媒可溶性（塗布性）、基材及びレリーフ形成層との密着性等の点でノルボルネン系樹脂、又はノルボルネン系樹脂を主成分とするものが好ましい。
また、剥離層１３に使用する熱可塑性樹脂は、適度なガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、そのTｇは１２０℃〜２００℃である。Ｔｇが２００℃より高い場合では転写画像の解像度が得られず、また、Ｔｇが１２０℃より低い場合では転写層全体の耐熱性が不足して、転写時の熱などでヒビ割れ等が発生し、高精細なホログラム画像形成物が得られない。
【００２２】
（レリーフ形成層）
レリーフ形成層１５を構成する材料としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂の硬化物（電離放射線硬化樹脂）が適用できる。また、電離放射線硬化樹脂は、これらの樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）であっても良い。電離放射線硬化性樹脂は、賦型性に優れ、適度な耐熱性を有するものが好ましい。
【００２３】
即ち、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物である。好ましくは、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、及び（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。
さらに好ましくは、イソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類が、イソホロンジイソシアネートの三量体およびイソホロンジイソシアネートと活性水素含有化合物との反応物から選ばれる少なくとも１種以上であるようにする。
【００２４】
また、イソシアネート類と、多官能（メタ）アクリレート類と、多価アルコ−ル類との反応については、（１）イソシアネート類と多価アルコール類をまず反応させた後、水酸基含有多官能（メタ）アクリレート類を反応させる、（２）イソシアネート類と水酸基含有多官能（メタ）アクリレート類をまず反応させた後、多価アルコール類を反応させる、（３）多価アルコール類と水酸基含有多官能（メタ）アクリレート類との混合物をイソシアネート類と反応させる、のいずれの方法も用いることができる。イソシアネート類、水酸基含有多官能（メタ）アクリレート類および多価アルコ−ル類のうち、少なくともいずれか１つに２種以上の化合物を用いて反応を行うと、反応生成物として２種以上のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの混合物が得られる。
【００２５】
イソシアネート類中のイソシアネート基１当量に対する、多価アルコール類と水酸基含有多官能（メタ）アクリレート類の合計水酸基当量は、０．９〜１．８当量が好ましい。合計水酸基当量が０．９当量未満では、反応後の樹脂組成物の安定性が低くなり、また、１．８当量を越えると、充分な硬化物性が得られない。
また、多官能（メタ）アクリレート類の使用モル比は、多価アルコール類１モルに対して５〜１５モルが好ましい。多官能（メタ）アクリレート類がこの範囲から外れて少ない場合は、ゲル化により充分な硬化適性が得られない。また、この範囲を超えて多い場合は、充分な硬化物性が得られない。
【００２６】
また、電離放射線硬化性樹脂として、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと他の樹脂との混合物を用いることができ、メタクリル樹脂との混合物が最適である。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとメタクリル樹脂との混合物としては、質量基準の割合が、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー：メタクリル樹脂＝１：２〜２：１であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーがこの範囲を超えて多い場合は、充分な賦型性が得られないという欠点があり、また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーがこの範囲から外れて少ない場合は、充分な耐熱性が得られないという欠点がある。
【００２７】
また、電離放射線で硬化させる以前の塗布状態ではべとつかず、レリーフ構造を容易に賦型した後に、電離放射線で硬化できるものが好ましく、融点が４０℃以上のイソシアネート化合物と、（メタ）アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基と反応し得る（メタ）アクリル化合物との反応生成物であって、軟化点が４０℃以上のものを含有する電離放射線硬化性樹脂を用いることが好ましい。さらに、レリーフ形成層１５を構成する電離放射線硬化樹脂の耐熱性としては、適度なガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、好ましくは１２０〜３００℃である。この範囲を越える過度の耐熱性では、層が硬くて賦型性が低下し、また、この範囲未満の低い耐熱性では、折角賦型したレリーフ構造が、転写時の熱などで変形し劣化して、性能が低下する。
【００２８】
さらに、レリーフ形成層１５へ、レリーフを形成（複製）する際には、レリーフ形成層１５面へ表面に凹凸レリーフが形成されているスタンパ（金属版、又は樹脂版）を圧着して、該凹凸レリーフをレリーフ形成層１５へ形成（複製）する。この時に、スタンパがレリーフ形成層１５から容易に引き剥がせるように、予めレリーフ形成層１５へ離型剤を含有させてもよい。該離型剤としては、公知の離型剤が適用でき、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス、弗素系、リン酸エステル系の界面活性剤、シリコーン等であり、特に好ましくは、離型剤は変性シリコーンである。具体的には、変性シリコーン側鎖型、変性シリコーン両末端型、変性シリコーン片末端型、変性シリコーン側鎖両末端型、トリメチルシロキシケイ酸を含有するメチルポリシロキサン（シリコーンレジンと称されている）、シリコーングラフトアクリル樹脂、及びメチルフェニルシリコーン等がある。
【００２９】
変性シリコーンには、反応性シリコーンと非反応性シリコーンがある。反応性シリコーンオイルとしては、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル基変性、カルビノール変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性、異種官能基変性等を使用できる。非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、高級脂肪酸変性、フッ素変性等を使用できる。
変性シリコーンとしては、レリーフ凹凸が形成されたレリーフ形成層１５と、そのレリーフ表面に設けた反射層１７との密着性を阻害しないものがよく、反応性シリコーン、シリコーンレジンが好ましい。
【００３０】
上記離型剤の使用量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部当たり約０．１〜５０質量部の範囲、好ましくは約０．５〜１０質量部の範囲で使用する。離型剤の使用量が上記範囲未満では、プレススタンパーと電離放射線硬化樹脂層との剥離が不十分であり、プレススタンパーの汚染を防止することが困難である。一方、離型剤の使用量が上記範囲を超えると、組成物の塗工時にはじきが発生して塗膜面の面が荒れたり、基材又は反射層との密着性が悪くなったり、転写時にレリーフ形成層１５皮膜が破壊（膜強度が弱くなりすぎる）を引き起こすので好ましくない。
【００３１】
（電離放射線）
上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（レリーフ形成層１５）となる。電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線（ＥＢ）などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００３２】
（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などが適用できる。また、必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤を添加する。該光増感剤、光重合促進剤としては、公知の光増感剤でよく、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン系化合物；アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；ベンジル；ジアセチル；アセトフェノン、ベンゾフェノン等のフェニルケトン化合物；ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド等のスルフィド化合物；α−クロルメチルナフタリン；アントラセンおよびヘキサクロロブタジエン、ペンタクロロブタジエン等のハロゲン化炭化水素、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどがある。このような光重合開始剤、及び光増感剤の含有量は、前記ウレタン変性アクリル系樹脂１００質量部当たり約０．５〜１０質量部の範囲で使用することが好ましい。
【００３３】
電離放射線硬化性樹脂組成物には、上記の各成分に加えて、ハイドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のフェノール類；ベンゾキノン、ジフェニルベンゾキノン等のキノン類；フェノチアジン等：銅類等の重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。また、スチレン−ブタジエンラバー等の高分子体を配合してもよい。
【００３４】
レリーフ形成層１５は電離放射線硬化性樹脂を電離放射線で硬化させた電離放射線硬化物であり、このレリーフ形成層１５の厚さは、通常は０．２〜１０．０μｍ程度、好ましくは０．３〜２．５μｍである。
【００３５】
（厚み及び厚み比）
剥離層１３とレリーフ形成層１５の厚み、及び厚み比により転写性が向上でき、即ち、剥離層１３の厚みを０．１〜１．０μｍとし、レリーフ形成層１５の厚みを０．３〜２．５μｍとし、かつ剥離層１３とレリーフ形成層１５との厚み比を１：１〜１：２０とすることで、剥離層とレリーフ形成層を含む転写層の剥離特性や転写箔の賦型適性などを、最適化することができ、サーマルプリンタなどによる転写性（印字性）、賦型性及び耐熱性を、向上させることができる。
剥離層１３の厚みが０．１μｍ未満では、転写性と賦型性が低下し、１．０μｍより厚い場合は、転写性が低下する。また、レリーフ形成層１５の厚みが０．３μｍ未満では、賦型性と耐熱性が低下し、２．５μｍより厚い場合では、転写性が低下する。また、剥離層１３とレリーフ形成層１５との厚み比が１：１〜１：２０の範囲外で、剥離層１３の厚みが薄く、レリーフ形成層１５が厚い場合には、転写層の基材に対する密着性が低くなるため、賦型性と転写性が低下する。また、剥離層１３が厚く、レリーフ形成層１５が薄い場合には、転写層中におけるレリーフ形成層の割合が相対的に低くなるため、賦型性が低下する。
転写性が低い場合には、サーマルプリンタなどによる印字適性が低下する可能性がある。また、耐熱性が低い場合には、印字後のひび割れなどが発生しやすくなり、精密かつ複雑なレリーフ構造を有する高精細な画像の印字後の画質を、低下させる可能性がある。
賦型性が低い場合には、レリーフ構造を十分に賦型できず、光学機能が低下することがあり、特に、レリーフ構造が光学機能性を付与したコンピュータグラフィックホログラムや、コンピュータジェネレーテッドホログラム（ＣＧＨ）などでは、精密かつ複雑なレリーフ構造を有するので、賦型性の低下により、十分にレリーフを賦型できない恐れがある。
【００３６】
（反射層）
ホログラム又は回折格子等のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層１５面のレリーフへ反射層１７を設けることにより、ホログラムの再生像及び／又は回折格子などが明瞭に視認できるようになる。該反射層１７として、光を反射する金属を用いると不透明タイプとなり、レリーフ形成層１５面と屈折率に差のある透明金属化合物を用いると透明タイプとなる。反射層１７としては、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。好ましい金属としてはアルミニウム、クロム、ニッケル、金、銀である。
【００３７】
（透明反射層）
また、透明タイプの反射層１７としては、レリーフ形成層１５面と屈折率に差のある透明金属化合物を用いる。その光学的な屈折率がレリーフ形成層のそれとは異なることにより、ほぼ無色透明な色相で、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラム等のレリーフを視認できる。該反射層１７の屈折率としては、レリーフ形成層１５面との屈折率の差が大きいほど効果があり、屈折率の差が０．３以上、好ましくは０．５以上、さらに好ましくは１．０以上である。例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ2、ＩＴＯ、等が適用でき、好ましくは、ＩＴＯ、又は酸化スズで、屈折率はいずれも２．０であり、充分な屈折率の差を有している。また、屈折率が小さいものでは、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ2などがある。なお、この透明とは、可視光が十分透過すれば良く、無色または有色で透明なものも含まれる。
【００３８】
上記の金属、又は透明金属化合物の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜５００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られる。反射層１７の厚さがこの範囲以上では、転写時にヒビ割れし易く、これ未満では反射効果が低い。
【００３９】
（接着層）
接着層１９は熱で溶融又は軟化して接着する熱接着型接着剤が適用でき、例えば、アイオノマー樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系・メタクリル系などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、マレイン酸樹脂、ブチラール系樹脂、アルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、フェノール系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、メラミン−アルキッド樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニールエーテル樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂などが適用でき、これらの樹脂を単独または複数を組み合せて使用する。
【００４０】
これらの接着層１９の樹脂は、接着力などの点で、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂が好ましい。さらに好ましくは、接着性の点で、マレイン酸−塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体である。
【００４１】
接着層１７の厚さは、通常は０．０５〜５．０μｍ程度、好ましくは０．１０〜０．２５μｍである。接着層１９の厚さは、この範囲未満では、被転写体との接着力が不足して脱落し、また、その以上では、接着効果は十分でその効果は変わらないのでコスト的に無駄であり、さらには、サーマルヘッドの熱を無駄に消費してしまう。さらにまた、接着層１９へは、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を、適宜加えてもよい。充填剤としては、シリカ、炭酸カルシウムなどの体質顔料が適用できる。特に体質顔料の添加は、箔切れを良化させる。帯電防止剤としては、非イオン系界面活性剤、陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤などや、ポリアミドやアクリル酸誘導体などが適用できる。
【００４２】
（耐熱保護層）
さらにまた、基材の剥離層又はレリーフ形成層と反対面へ、耐熱保護層２１を設けてもよい。耐熱保護層２１は、耐熱性のある熱可塑性樹脂バインダーと、熱離型剤または滑剤のはたらきをする物質とを、基本的な構成成分とする。耐熱性のある熱可塑性樹脂バインダーとしては、広い範囲から選ぶことが出来るが、好適な例をあげれば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、酢酸セルロース、フッ化ビニリデン樹脂、ナイロン、ポリビニルカルバゾール、塩化ゴム、環化ゴム及びポリビニルアルコールがある。これらの樹脂は、ガラス転移点が６０℃以上のもの、またはＯＨ基またはＣＯＯＨ基を有する熱可塑性樹脂にアミノ基を２個以上有する化合物またはジイソシアネートもしくはトリイソシアネートを加えて若干の架橋硬化を起させたものが好ましいことが経験的に知られている。
【００４３】
上記の熱可塑性樹脂に配合する、熱離型剤または滑剤は、ポリエチレンワックス、パラフィンワックスの様なワックス類、高級脂肪酸のアミド、エステル又は塩類、高級アルコール及びレシチン等のリン酸エステル類のような加熱により溶融してその作用をするものと、フッ素樹脂や無機物質の粉末のように、固体のままで役立つものとがある。尚、これらの滑剤又は熱離型剤に加えて、他の離型剤、例えば、フッ素含有樹脂の粉末、グアナミン樹脂の粉末及び木粉のいずれかを併用することも出来、この場合には更に高い効果が得られる。
【００４４】
耐熱保護層２１を形成する組成物は前記の熱可塑性樹脂バインダー１００質量部に対し、上記の滑剤又は熱離型剤の作用をする物質を１０〜１００質量部の割合で配合して形成する。基材への適用は、適宜の溶剤で練ってインキとし、一般のコーティング剤の塗布方法と同様に、例えばロールコーティング法、グラビアコーティング法，スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法等のコーティング法により、基材のレリーフ形成層でない面に、塗布し、乾燥することによって行えばよい。耐熱保護層２１の厚さは０．０１〜１．０μｍ程度、好ましくは０．１〜０．２μｍである。
【００４５】
基材シートと耐熱保護層２１の付着を確実にするために、予め基体１１上にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、基体１１の材料と耐熱保護層２１の熱可塑性樹脂バインダーの種類に応じて選択し、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体或いはポリオール／イソシアネート、エポキシ／イソシアネート、ポリオール／メラミンの組み合わせ等の材料を適用できる。プライマー層を形成する場合には、厚み０．０５〜０．５μｍ程度の層を形成することが好ましく、薄すぎると接着性が不充分で、一方厚すぎるとサーマルヘッドの感度や耐熱性の低下、凝集破壊による接着性の低下が生じるので好ましくない。プライマー層の塗布方法は、耐熱保護層２１の組成物の適用と同様に、適宜の溶剤を利用してインキ形態とし、任意の手法で実施すればよい。
【００４６】
このように、耐熱保護層２１を有する転写箔とすることで、被転写体の対象が拡大し、又は転写（印字、プリント）速度の高速化に伴って、該転写箔の耐熱保護層２１面からサーマルヘッドによる加熱印字を行なうときに、この操作を十分な転写効率を得るために必要とされる高エネルギーの下で行なっても、基体とサーマルヘッドとが熱融着してしまう所謂スティッキングが発生することがない。
【００４７】
（層構成、材料、厚み及び厚み比）
本発明の転写箔の層構成は、耐熱保護層２１（必要に応じて）／基材１１／剥離層１３／レリーフ形成層１５／反射層１７／接着層１９（必要に応じて）の層構成であり、好ましい各層の厚さは、耐熱保護層２１（０．１〜０．２μｍ）／基材１１（３〜８μｍ）／剥離層１３（０．１〜１．０μｍ）／レリーフ形成層１５（０．３〜２．５μｍ）／反射層１７（３０〜１０００ｎｍ）／接着層１９（０．１５〜０．２５μｍ）であり、剥離層１３とレリーフ形成層１５との厚み比を１：１〜１：２０である。このように、層構成、電離放射線硬化樹脂によるレリーフ形成層１５と環状オレフィン系樹脂を主成分とする剥離層１３との組合せに加えて、層の厚み及び厚み比を限定することで、高耐熱性材料のレリーフ形成層を用いても、レリーフ構造の賦型性がよく、賦型スタンパの耐刷性がよく、効率よく製造できて、かつ、サーマルプリンタなどで高精細に転写できる。
【００４８】
サーマルプリンタなどによる転写性は、剥離層とレリーフ形成層の厚みを一定の割合で保つことで、高精細に転写できる。また、レリーフ形成層１５の耐熱性が高いために、転写されたレリーフ形成層１５は、ヒビ割れず、よって、レリーフ形成層１５面に形成されている反射層１７もヒビ割れが極めて発生しにくく、高精細な画像が転写できる。厚み及び厚み比についての詳細は、実施例の中で述べる。さらにまた、高耐熱性材料のレリーフ形成層を用いているので、ホログラムや回折格子などの意匠及び／又は光学機能効果を維持したまま、高速でかつ低エネルギーで、高精細な画像をヒビ割れなく、かつ欠けやバリが発生しにくく、転写性（印字性）よく、転写印刷（印字及び／又は印画）できるのである。
【００４９】
（製造方法）
本発明の転写箔の製造方法は、（ａ）基材１１へ、環状ポリオレフィン系樹脂を含む剥離層１３を設け、（ｂ）該剥離層１３面へレリーフ形成層１５を設け、（ｃ）該レリーフ形成層１５へレリーフを賦形し、（ｄ）該レリーフ形成層１５へ電離放射線を照射し、（ｅ）レリーフ面へ反射層１７を設け、（ｆ）反射層１７面へ接着層１９を設ける公知の製造工程が適用できる。剥離層１３、レリーフ形成層１５、反射層１７、接着層１９の形成は同業者では公知であり省略し、（ｃ）レリーフ形成層１５へのレリーフの賦形、及び（ｄ）電離放射線の照射についてのみ説明する。
【００５０】
（ｃ：該レリーフ形成層１５へレリーフを賦形する工程）
基材上に塗工されたレリーフ形成層１５面へレリーフを賦形する。レリーフは、２次元及び／又は３次元画像を再生可能な表面凹凸パターンや、各種の光学機能を有する光回折パターンである凹凸のレリーフ構造である。この表面凹凸レリーフ構造としては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子、特殊な光学機能が設計されたコンピュータグラフィックホログラム、などがある。これらのホログラムおよび／または回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。
【００５１】
また、特殊な光学機能が設計されたコンピュータグラフィックホログラムは、レリーフ構造が複雑で高精細なレリーフ構造を有するので、賦型性が低下すると忠実にレリーフを賦型できない恐れが高いので、いかに忠実に賦形するかが、重要である。
コンピュータグラフィックホログラムやコンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）としては、特に限定されるものではないが、例えば、フーリエ変換ホログラム、ホログラフィックステレオグラム、３Ｄホログラムやホログラム光学素子などのレリーフ構造のものなどがある。
【００５２】
通常、賦形は、レリーフ形成層１５の表面に、レリーフが形成されているスタンパ（金属版、又は樹脂版）を圧着（所謂エンボス）をして、該レリーフをレリーフ形成層１５へ形成（複製）した後に、スタンパを剥離することで行う。レリーフを複製するスタンパは、マスターそのものも使用できるが、摩耗や損傷の恐れがあるため、アナログレコード等におけるのと同様、マスターに金属メッキまたは紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して硬化させて剥がす等の方法（当業者では２Ｐ法と呼ぶ）により、金属又は樹脂による複製を行ない、複製された型（スタンパ）を使用して商業的複製を行なう。
【００５３】
商業的複製の方法は、金型又は樹脂型のスタンパを用いて、レリーフ形成層１５の表面へエンボスしてレリーフを複製した後に電離放射線を照射するか、又は、エンボス中に電離放射線を照射してからスタンパを剥離することでレリーフを複製する。この商業的な複製は、長尺状で行うことで連続な複製作業ができる。
【００５４】
本発明では、前述したように、剥離層１３及びレリーフ形成層１５の材料、厚さ、その厚さ比を最適化することで、例えば、コンピュータグラフィックホログラムコンピュータジェネレーティッドホログラム等をエンボス賦型加工する時でも、スタンパが汚染せず、スタンパがレリーフ形成層１５からの剥離性を良好にし、スタンパを長期間連続して使用（反復エンボス性）できるので、耐刷性に優れる。
【００５５】
（ｄ：該レリーフ及び剥離層へ電離放射線を照射する工程）
レリーフ形成層１５の表面へ、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、若しくはエンボス中及びエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が既存設備が使え、安定した技術である面から好適である。
【００５６】
（プリンタ）
本発明の転写箔を好ましく使用できるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）について説明する、但し、従来の熱刻印によるホットスタンプ（箔押）にも使用できるのは言うまでもない。本発明の転写箔は、従来、通常に用いられている熱転写用のサーマルプリンタが使用できる。該サーマルプリンタは、感熱印字ヘッド（サーマルヘッド、プリンタヘッドともいう）とプラテンローラとが対向し、これらの間に、本発明の転写箔（ホロ転写リボンとも称す）と、必要に応じて受像層を設けた被転写体とが挟持されている。これらは、回転するプラテンローラによって、サーマルヘッドに押し付けられて、回転に応じて走行する。転写箔の接着層と、被転写体とが相対している。
【００５７】
（サーマルヘッド）
そして、サーマルヘッドの画像に応じた発熱素子が発熱して、選択的に加熱されて、レリーフ形成層１５／反射層１７／接着層１９が、被転写体に転写され、所定の画像が熱転写記録（印画）される。該印画の方式にはシリアル方式とライン方式がある。シリアル方式は、被転写体の走行方向と直角の方向にサーマルヘッドが走査されて、１行毎に印画される。ライン方式は、走行方向と直角の方向に列状で複数の発熱素子群を有するライン型サーマルヘッドを用いて、該ライン型サーマルヘッドを被転写体の走行方向に沿って固定し、印画動作（ホログラムリボンと被転写体とが走行）しながら、所定の発熱素子だけを発熱させて、幅方向全面に画像が印画される。なお、熱転写による所定の画像とは、特に限定されるものではなく、例えば文字、数字、画像、イラスト、写真などである。
【００５８】
サーマルヘッドは、レーザヒートモード熱ヘッド、光熱記録ヘッド、サーマルヘッドなどが適用できる。サーマルヘッドは、画像信号に応じてドット状の発熱素子を発熱させて、ホログラムリボンの転写層を被転写体に転写することにより、画像を印画する、最も一般的なサーマルヘッドである。本発明ではいずれのサーマルヘッドでもよく、該サーマルヘッドの好ましい解像度は、３００ｄｐｉ以上の解像度を持つ高精細型サーマルヘッドが適用でき、さらに好ましくは、６００ｄｐｉ以上である。
【実施例】
【００５９】
以下、実施例及び参考例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【００６０】
＜ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの作成＞
以下の実施例のレリーフ形成層用組成物で使用するウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、以下の条件にて作成した。
撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．０ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ  Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．０ｇを仕込み、８０℃に昇温して上記薬品を溶解させた溶液を作成した。溶液中に空気を吹き込んだ後に、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．０ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込み、８０℃で５時間反応させた後、酢酸エチル６８９．０ｇを添加して冷却した。赤外吸収スペクトル分析により、得られた反応生成液のイソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から溶剤を留去したものの軟化温度は、４３℃であった。
【００６１】
（実施例１）
・＜耐熱保護層用組成物＞
シリコーン変性アクリル樹脂（固形分２６％）          １０．０部
（商品名ポリアロイＮＳＡ−Ｘ５５  ナトコ（株）製）
トルエン／メチルエチルケトン（質量比１／１）        ４０．０部
・＜剥離層用組成物＞
ノルボルネン樹脂                                  ４０．０部
（商品名アートンＧ、ＪＳＲ社製）（Ｔｇ；１７１℃）
アクリルポリオール樹脂                            １０．０部
（商品名サーモラックＳＵ−１００Ａ、綜研化学（株）製）
トルエン／メチルエチルケトン（質量比７／３）      ５０．０部
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                      ５０．０部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー            ５０．０部
（上記に記載した条件で作成したウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
光重合開始剤                                        ５．０部
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                  １００部
基材として、厚さ６μｍのポリエステルテレフタレートフイルム（Ｆ−５３、東レ社製、商品名）を用いた。該基材の一方の面へ、上記耐熱保護層用組成物を、グラビアコート法で塗布し乾燥して、厚さが０．１５μｍの耐熱保護層を形成した。該耐熱保護層面と反対側の基材面へ、剥離層用組成物を、乾燥後の厚みが０．２μｍになるように、ロールコーターで塗工し８０℃で乾燥させて、剥離層１３を形成した。該剥離層１３面へ、フィルム速度５０ｍ／分でレリーフ形成層用組成物を、乾燥後の厚みが１．５μｍになるように、グラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、レリーフ形成層１５を形成し、得られたフイルムは常温ではべとつかず、巻取状態で保管や後加工ができる。該レリーフ形成層１５面へスタンパを加圧（エンボス）してレリーフを賦形する。別途、ＣＧＨから、２Ｐ法で複製した樹脂製スタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、１５０℃で相対するローラー間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させた。該レリーフ面へ真空蒸着法によりアルミニウムを厚さ４０ｎｍに蒸着して、反射型のレリーフ型ホログラムを形成した。該レリーフ面へ、マレイン酸−塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体の接着剤をグラビアコートで塗工し１００℃で乾燥して、厚さが０．２μｍの接着層を形成して、実施例１の転写箔を得た。
【００６２】
（実施例２〜６）
転写箔を層厚さを表１の如くした以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜６の転写箔を得た。
【００６３】
（実施例７）
レリーフ形成層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして実施例７の転写箔を得た。
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                    ３０．０部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー            ６０．０部
（上記に記載した条件で作成したウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
光重合開始剤                                        ５．０部
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                  １００部
【００６４】
（実施例８）
レリーフ形成層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして実施例８の転写箔を得た。
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                    ６０．０部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー            ３０．０部
（上記に記載した条件で作成したウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
光重合開始剤                                        ５．０部
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                  １００部
【００６５】
（実施例９）
耐熱保護層を設けない以外は、実施例１と同様にして実施例９の転写箔を得た。
【００６６】
（実施例１０〜１５）
転写箔を層厚さを表２の如くした以外は、実施例１と同様にして、実施例１０〜１５の転写箔を得た。
【００６７】
（実施例１６）
基材の厚みを２．５μｍにした以外は、実施例１と同様にして、実施例１６の転写箔を得た。
【００６８】
（実施例１７）
基材の厚みを９．０μｍにした以外は、実施例１と同様にして、実施例１７の転写箔を得た。
【００６９】
（実施例１８）
レリーフ形成層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして実施例１８の転写箔を得た。
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                    ２５．０部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー            ７５．０部
（上記に記載した条件で作成したウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
光重合開始剤                                        ５．０部
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                  １００部
【００７０】
（実施例１９）
レリーフ形成層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして実施例１９の転写箔を得た。
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                    ７５．０部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー            ２５．０部
（上記に記載した条件で作成したウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
光重合開始剤                                        ５．０部
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                  １００部
【００７１】
（比較例１）
剥離層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして比較例１の転写箔を得た。
＜剥離層用組成物＞
メチルメタアクリレート樹脂  （Ｔｇ；１０５℃）
（商品名ＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）        ６．０部
トルエン／２−ブタノール（質量比１／１）  ３０．０部
【００７２】
（比較例２）
剥離層用組成物の組成を下記の如くした以外は、実施例１と同様にして比較例２の転写箔を得た。
＜剥離層用組成物＞
ポリアミドイミド樹脂  （Ｔｇ；２５０℃）  １９．０部
ジメチルアセトイミド                      ４５．０部
トルエン                                  ３５．０部
【００７３】
（比較例３）  
レリーフ形成層用組成物の組成を下記の如くし、賦形後に、高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させる工程を除いた以外は、実施例１と同様にして比較例３の転写箔を得た。
・＜レリーフ形成層用組成物＞
メタクリル樹脂                                      １００部
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
シリコーン                                          １．０部
（商品名ＫＦ−８６０、信越化学工業（株）製）
メチルエチルケトン                                  １００部
【００７４】
【表１】
2007118563.tif 000003
【００７５】
【表２】
2007118563.tif 000004
【００７６】
【表３】
2007118563.tif 000005
【００７７】
（評価及び評価方法）
賦型性は、２Ｐ法で複製した樹脂製スタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラー間で、ロール温度１５０℃、速度１０ｍ／分で走行させて、賦形後直ちに高圧水銀灯で紫外線を照射して硬化させ、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。該賦型を連続して１０００ｍ行い、スタートと１０００ｍ時点での賦型を比較して、差のないものを「合格＝◎」とし、僅かな差のものを「合格＝○」とし、差の著しいものを「不合格＝×」とした。また、上記複製条件で、エンボスローラーの形状を充分に写し取れないものを「不合格＝×」とした。
転写性はサーマルヘッド（３００ｄｐｉ、４５００Ω）を有するサーマルプリンタを用いて、塩化ビニル製カードに０．５ｍｍ幅のストライプが０．５ｍｍ間隔で平行の並んだ模様を転写（印画）して、目視で評価した。ストライプに欠けがなく、ストライプ間の白抜き部が明確であるものを「合格＝◎」とし、ストライプに僅かに欠けがあるが実用上支障がなく、ストライプ間の白抜き部が明確であるものを「合格＝○」とし、ストライプに欠けがあるか、又は、ストライプ間の白抜き部が埋まっているものを「不合格＝×」とした。
耐熱性は、上記転写性評価における、ストライプを１００倍光学顕微鏡で観察して、反射層に割れが認められないものを「合格＝◎」とし、僅かに割れが認められるものの実用上支障がないものを「合格＝○」とし、明らかな割れが認められるものを「不合格＝×」とした。
【００７８】
（評価結果）
評価結果を、表１、表２及び表３に示す。
実施例１〜８では、賦型性、転写性、及び耐熱性の全てで「合格＝◎」であった。
実施例９〜１９では、評価項目のいずれかの項目に「合格＝○」を含むが、実用上は問題ないレベルであった。
比較例１〜３では、評価項目のいずれかの項目が不合格であった。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の１実施例を示す転写箔の模式的な断面図である。
【図２】本発明の１実施例を示す転写箔の模式的な断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１：転写箔
１１：基材
１３：剥離層
１５：レリーフ形成層
１７：反射層
１９：接着層
２１：耐熱保護層
【図１】
2007118563.tif 000006
【図２】
2007118563.tif 000007