(57)【要約】【課題】光学素子基板から取り出される光学素子の数を低減させることなく、製造される光アイソレータにおける有効径の中心高さを適切に設定することが可能な光アイソレータ製造装置および光アイソレータの製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る光アイソレータ製造装置Ｘ１は、基板４０を載置するための載置台１０と、１または複数の光学素子４１〜４３を保持するための保持手段２０と、保持手段２０に保持された光学素子４１〜４３により規定される光アイソレータの有効径の中心と載置台１０に載置された基板４０の下面４０ｃとの間の距離Ｈを制御するための制御手段３０とを備える。【選択図】図１
2007010825.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置するための載置台と、１または複数の光学素子を保持するための保持手段と、前記保持手段に保持された光学素子により規定される光アイソレータの有効径の中心と前記載置台に載置された基板の下面との間の距離を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする光アイソレータ製造装置。
【請求項２】
前記制御手段は、製造される各光アイソレータ間の前記距離を略一定に制御する、請求項１に記載の光アイソレータ製造装置。
【請求項３】
前記載置台は、熱源と、該熱源から発する熱を前記基板に伝達するための熱伝達部材と、前記熱源と前記熱伝達部材とを近接離間するための移動手段と、を備える、請求項１または２に記載の光アイソレータ製造装置。
【請求項４】
前記保持手段は、前記光学素子を吸着するための吸着機構を有する、請求項１〜３のいずれか一つに記載の光アイソレータ製造装置。
【請求項５】
前記保持手段に対して前記光学素子を供給するための供給手段を更に備える、請求項１〜４のいずれか一つに記載の光アイソレータ製造装置。
【請求項６】
前記供給手段は、前記基板に対する前記光学素子の取付け角度を調整するための角度調整機構を備える、請求項５に記載の光アイソレータ製造装置。
【請求項７】
上面に接着材料を有する基板の該上面に１または複数の光学素子を搭載してなる光アイソレータの製造方法であって、
前記基板の下面と前記複数の光学素子により規定される光アイソレータの有効径の中心との間の距離を制御する制御工程を含むことを特徴とする、光アイソレータの製造方法。
【請求項８】
前記制御工程は、製造される各光アイソレータ間の前記距離を略一定に制御することを特徴とする、請求項７に記載の光アイソレータの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば光源から出射された光を各種光学素子や光ファイバに導入する際に生じる戻り光を防止するための光アイソレータの製造装置および製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光源（例えばレーザ光源など）から各種光学素子や光ファイバに向けて出射した光は、該各種光学素子などに入射される際に、その一部が反射や散乱する。この反射や散乱した光の一部は光源側に戻り光として戻ってしまうため、この戻り光が光源に達するのを防止すべく、一般的に光アイソレータが採用される。光アイソレータは、順方向の光を透過し且つ逆方向の光を遮る光デバイスであり、光の共振原理を利用する類の発光素子（例えば半導体レーザなど）の動作を不安定にさせる戻り光を防止するための部材である。光アイソレータは、例えば２枚の偏光子およびファラデー回転子を備え、これら３つの部材をリング状の磁石内に部品ホルダを介して配置することによって構成されている。２つの偏光子は、それぞれの透過方向が回転方向において４５゜ずれるように構成されており、ファラデー回転子は、飽和磁界強度において所定の波長をもつ光の偏光面を４５゜回転する厚みを持つように構成されている。このような構成の光アイソレータは、２つの偏光子およびファラデー回転子を部材別にホルダに対して固定する必要があるために部品点数が多くなるのに加え、製品ごとに回転調整作業が必要であり組立工数も多くなる。なお、本構成の光アイソレータは、例えば特許文献１に開示されている。
【０００３】
そこで、部品点数および回転調整作業が低減された光アイソレータが開発されている。このような光アイソレータは、例えば特許文献２に開示されている。図５は、部品点数および回転調整作業が低減された光アイソレータの一例を表す斜視図である。光アイソレータ８０は、基板８１と、２つの偏光子８２，８３と、ファラデー回転子８４と、２つの磁石８５，８６とを備え、任意の実装モジュールに載置して使用されるものである。基板８１は平板状であり、金属材料、ガラス、セラミックスなどにより構成される。２つの偏光子８２，８３およびファラデー回転子８４は、それぞれ結晶軸に対して光軸方位が調整された板状の部材である。２つの磁石８５，８６は、ファラデー回転子８４に対して所定の磁界を印加するための部材である。
【特許文献１】特開１９９９−１０１９５３号公報
【特許文献２】特開２００１−０９１８９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板に搭載される各光学素子（偏光子やファラデー回転子）は、一般的に板状の光学素子基板から多数個取りされるが、その公差などに起因して各光学素子のサイズにはバラツキが生じる。図６は、従来型の光アイソレータ９０の表す斜視図である。光アイソレータ９０は、基板９１と、２つの偏光子９２，９３と、ファラデー回転子９４と、図示しない２つの磁石とを備える。基板９１は、２つの偏光子９２，９３およびファラデー回転子９４を搭載するための搭載面９１ａと、２つの磁石を搭載するための搭載面９１ｂとを有し、矢印ＣＤ方向に垂直な断面の形状が凸状である。２つの偏光子９２，９３およびファラデー回転子９４は、それぞれ結晶軸に対して光軸方位が調整された板状の部材であり、そのサイズはそれぞれ異なる。また、２つの偏光子９２，９３およびファラデー回転子９４は、それぞれの下面９２ａ，９３ａ，９４ａを基板９１の搭載面９１ａに設けられた接着剤９５に対して押し付けるようにして接着固定される。２つの磁石は、ファラデー回転子９４に対して所定の磁界を印加するための部材である。
【０００５】
しかしながら、従来型の光アイソレータ９０は、各基板９１における搭載面９１ａの高さｈのバラツキや、各光学素子（２つの偏光子９２，９３およびファラデー回転子９４）のサイズのバラツキにより、光アイソレータ９０における有効径の中心高さ（基板９１の下面９１ｃと最小サイズの光学素子（図２では偏光子９３）の有効径中心との間の距離）Ｈが、製造される光アイソレータ９０ごとに異なる場合があった。そのため、例えば最小サイズの光学素子が所望のサイズより小さい場合、有効径の中心高さＨを所望の高さとすることができない場合がある。そこで、製造される全ての光アイソレータ９０において有効径の中心高さＨを所望の高さに設定すべく、最小サイズの光学素子のサイズを大きくすると、その分所定のサイズの光学素子基板から取り出される光学素子の数が少なくなってしまう場合があった。
【０００６】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、光学素子基板から取り出される光学素子の数を低減させることなく、製造される光アイソレータにおける有効径の中心高さを適切に設定することが可能な光アイソレータ製造装置および光アイソレータの製造方法を提供することを、目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の側面に係る光アイソレータ製造装置は、基板を載置するための載置台と、１または複数の光学素子を保持するための保持手段と、保持手段に保持された光学素子により規定される光アイソレータの有効径の中心と載置台に載置された基板の下面との間の距離を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
好ましくは、制御手段は、製造される各光アイソレータ間の距離を略一定に制御する。
【０００９】
好ましくは、載置台は、熱源と、該熱源から発する熱を基板に伝達するための熱伝達部材と、熱源と熱伝達部材とを近接離間するための移動手段と、を備える。
【００１０】
好ましくは、保持手段は、光学素子を吸着するための吸着機構を有する。
【００１１】
好ましくは、保持手段に対して光学素子を供給するための供給手段を更に備える。
【００１２】
好ましくは、供給手段は、基板に対する光学素子の取付け角度を調整するための角度調整機構を備える。
【００１３】
本発明の第２の側面に係る光アイソレータの製造方法は、上面に接着材料を有する基板の該上面に１または複数の光学素子を搭載してなる光アイソレータを製造するための方法であって、基板の下面と複数の光学素子により規定される光アイソレータの有効径の中心との間の距離を制御する制御工程を含むことを特徴とする。
【００１４】
好ましくは、制御工程は、製造される各光アイソレータ間の距離を略一定に制御する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の第１の側面に係る光アイソレータ製造装置は、製造される光アイソレータの基板の下面と各光学素子により規定される光アイソレータの有効径の中心との間の距離（有効径中心高さ）を制御することができるため、例えば各基板の上面（光学素子の取付け面）に接着剤を介して光学素子を取り付ける場合、該基板の光学素子の取付け面における高さのバラツキや各光学素子のサイズのバラツキなどに起因する各光アイソレータの有効径中心高さのバラツキを抑制することができる。したがって、本光アイソレータ製造装置は、例えば光学素子基板から切り出された光学素子のうち最もサイズの小さい光学素子（最小サイズの光学素子）が従来型製造装置で有効径の中心高さを適切に設定できる限界のサイズより小さい場合でも、有効径の中心高さを適切に設定することができるのに加え、最小サイズの光学素子のサイズを大きくする必要がなくなるため、その分所定のサイズの光学素子基板から取り出される光学素子の数を低減させずに済む。
【００１６】
また、本光アイソレータ製造装置は、保持手段により複数の光学素子を保持し且つ該複数の光学素子を基板の上面に一括搭載することができるため、搭載時に一の光学素子により押し退けられる接着剤により他の光学素子の搭載位置がずれるのを抑制することができる。したがって、本光アイソレータ製造装置は、各光学素子の搭載位置のずれに起因するアイソレーションの劣化を抑制することができる。
【００１７】
さらに、本光アイソレータ製造装置は、接着剤としてフィラーを含有するものを採用する場合において、該接着剤中のフィラーの分布の偏りやサイズのバラツキに起因する光学素子の傾きの発生を防止することができる。したがって、本光アイソレータ製造装置は、各光学素子の傾きに起因してピーク波長が移動することによるアイソレーションの劣化を抑制することができる。
【００１８】
制御手段により製造される各光アイソレータ間の距離を略一定に制御する光アイソレータ製造装置は、製造される各光アイソレータ間における有効径中心高さを略一定にすることができるので、各光アイソレータの性能のバラツキをより抑制することができる。
【００１９】
載置台が熱源と、該熱源から発する熱を前記基板に伝達するための熱伝達部材と、熱源と熱伝達部材とを近接離間するための移動手段と、を備える光アイソレータ製造装置は、接着剤を溶融する際は移動手段により熱源と熱伝達部材とを当接させて、接着剤を硬化する際は移動手段により熱源と熱伝達部材とを離間させることができる。したがって、本光アイソレータ製造装置は、熱源と熱伝達部材とを離間させることにより、該熱伝達部材、ひいては熱伝達部材に基板を介して接する接着剤をより急速に冷却することができるので、各光学素子が位置ずれを起こす前に接着剤により固定することができるのである。
【００２０】
保持手段が光学素子を吸着するための吸着機構を有する光アイソレータ製造装置は、各光学素子を適切に保持するうえで好適である。
【００２１】
保持手段に対して光学素子を供給するための供給手段を更に備える光アイソレータ製造装置は、例えば保持手段に対して各光学素子を手で供給する場合に比べて、適切に且つ効率的に供給するうえで好適である。
【００２２】
供給手段が基板に対する光学素子の取付け角度を調整するための角度調整機構を備える光アイソレータ製造装置は、例えば各光学素子に入射する光の反射を低減するように所定の角度をつけて該各光学素子を基板に取付けるうえで好適である。
【００２３】
本発明の第２の側面に係る光アイソレータの製造方法は、各基板の上面（光学素子の取付け面）における高さのバラツキや各光学素子のサイズのバラツキなどに起因する各光アイソレータの有効径中心高さのバラツキを抑制することができる。したがって、本光アイソレータの製造方法は、例えば最小サイズの光学素子が所望のサイズより小さい場合でも、有効径の中心高さを適切に設定することができるのに加え、最小サイズの光学素子のサイズを大きくする必要がなくなるため、その分所定のサイズの光学素子基板から取り出される光学素子の数を低減させずに済む。
【００２４】
また、本光アイソレータの製造方法は、接着剤としてフィラーを含有するものを採用する場合において、該接着剤中のフィラーの分布（存在比）に偏りが生じていても、光学素子が該フィラーに片乗りすることに起因する光学素子の傾きの発生を防止することができる。したがって、本光アイソレータの製造方法は、各光学素子の傾きに起因してピーク波長が移動することによるアイソレーションの劣化を抑制することができる。
【００２５】
制御工程により製造される各光アイソレータ間の距離を略一定に制御する光アイソレータの製造方法は、製造される各光アイソレータ間における有効径中心高さを略一定にすることができるので、各光アイソレータの性能のバラツキをより抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る光アイソレータ製造装置Ｘ１を表す斜視図である。光アイソレータ製造装置Ｘ１は、載置台１０と、ホルダ２０と、Ｚステージ３０とを備え、光アイソレータＹを製造するためのものである。
【００２７】
ここで、光アイソレータ製造装置Ｘ１により製造される光アイソレータＹの構成について説明する。図２は、光アイソレータＹを表し、（ａ）その側面側から見た斜視図であり、（ｂ）はその正面側から見た斜視図である。光アイソレータＹは、基板４０と、２つの偏光子４１，４２と、ファラデー回転子４３と、２つの磁石４４，４５（図２（ａ）では省略）とを備える。基板４０は、２つの偏光子４１，４２、ファラデー回転子４３および２つの磁石４４，４５を搭載して一体化するための部材であり、搭載面（上面）４０ａ，４０ｂを有する。搭載面４０ａは、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を搭載するための部位である。搭載面４０ｂは、２つの磁石４４，４５を搭載するための部位である。基板４０を構成する材料としては、セラミックス、ガラス、ファラデー回転子４３の線膨張係数に近いＳＵＳ４３０などの金属などが挙げられる。搭載面４０ａと搭載面４０ｂとの間の（下面４０ｃからの）高さの相違は、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を搭載面４０ａに接着固定するために使用される接着剤４６と、２つの磁石４４，４５を搭載面４０ｂに接着固定するために使用される接着剤とが異なる場合において、互いに混ざり合わないようにすることが目的である。すなわち、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３と２つの磁石４４，４５とを同一の接着剤で接着固定する場合は、特に高さを異ならせる必要はない。接着剤４６としては、低融点ガラス、ハンダ、樹脂製接着剤などが挙げられるが、２つの磁石４４，４５より先に偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を接着固定する場合は、２つの磁石４４，４５を接着固定するための接着剤よりも硬化温度特性が高い（例えば３０℃以上）ものが好適である。なぜなら、２つの磁石４４，４５を接着固定する際の熱影響が先に取付けた偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３に及ぶのを抑制することができるからである。偏光子４１，４２は、所定角度の偏波方向の光を選択的に透過するための部材であり、光アイソレータＹにおいては偏光子４１の透光偏波方向と偏光子４２の透光偏波方向とは所定角度（例えば４５°）ずらして配されている。また、図２では明確ではないが、偏光子４１，４２は、それぞれ基板４０の側面４０ｄに対して偏光子４１，４２の側面４１ａ，４２ａが４〜１０°傾斜するように配されている。偏光子４１，４２としては、例えば偏光ガラスが挙げられる。偏光ガラスは、ガラス中において長く延伸された金属粒子を一方向に配列させることにより偏光特性を持たせた部材であり、金属粒子の延伸方向に垂直な偏波方向を有する光を透過し、該延伸方向に平行な偏波方向を有する光を吸収する。ファラデー回転子４３は、所定の磁界を印加することにより、入射される光の偏波方向を所定角度回転させる機能を担う部材であり、例えばビスマス置換ガーネット結晶により構成される。また、図２では明確ではないが、ファラデー回転子４３は、基板４０の側面４０ｄに対してファラデー回転子４３の側面４３ａが４〜１０°傾斜するように配されている。ファラデー回転子４３の厚さは、例えば入射される光の偏波方向が４５°回転するように設定される。マグネット４４，４５は、���ァラデー回転子４３に所定の磁界を印加するための部材であり、略矩形状である。
【００２８】
載置台１０は、ヒータプレート１１と、ヒータ１２と、第１移動機構（図示せず）とを備え、搭載面４０ａに所定量の接着剤４６を有する基板４０を位置決め固定するための部材である。
【００２９】
ヒータプレート１１は、吸引孔１１ａを有し、基板４０を位置決め固定するとともに後述するヒータ１２から発せられる熱を基板４０に伝達するための部材である。吸引孔１１ａは、その一端がヒータプレート１１の上面１１ｂにて開放しており、その他端がヒータプレート１１の側面１１ｃにて開放している。吸引孔１１ａの他端には、例えば金属製チューブを介してポンプ（図示せず）が連結されており、該ポンプによりエアを引くことにより吸引孔１１ａの一端において基板４０をエア吸着固定することができる。ヒータプレート１１を構成する材料としては、アルミ系合金（ジュラルミンなど）やステンレスなどが挙げられるが、温度制御性、熱伝導性、耐久性などの観点からアルミ系合金が好適である。
【００３０】
ヒータ１２は、ヒータプレート１１を介して基板４０、ひいては接着剤４６に熱を供給するための部材である。なお、ヒータ１２は、ヒータプレート１１を介して基板４０、ひいては接着剤４６から熱を吸収するための機能を更に有していてもよい。
【００３１】
上記第１移動機構は、ヒータプレート１１に対してヒータ１２を矢印ＡＢ方向に相対移動させるための機構であり、ヒータプレート１１に熱を供給（あるいはヒータプレート１１から熱を吸収）する際にはヒータプレート１１とヒータ１２とを当接させ、ヒータプレート１１に対する熱供給を止める（すなわちヒータプレート１１、ひいては接着剤４６を放熱する）際にはヒータプレート１１とヒータ１２とを離間するように駆動する。
【００３２】
図３は、ホルダ２０の下面図である。ホルダ２０は、吸引孔２０ａ，２０ｂ，２０ｃを有し、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を位置決め固定するための部材である。吸引孔２０ａは偏光子４１を吸着固定するための部位であり、吸引孔２０ｂは偏光子４２を吸着固定するための部位であり、吸引孔２０ｃはファラデー回転子４３を吸着固定するための部位である。吸着孔２０ａ〜２０ｃの一端は、ホルダ２０の下面２０ｄにて開放しており、吸着孔２０ａ〜２０ｃの他端は、ホルダ２０の側面２０ｅにて開放している。吸引孔２０ａ〜２０ｃの他端には、例えばナイロンチューブを介してポンプ（図示せず）が連結されており、該ポンプによりエアを引くことにより吸引孔２０ａ〜２０ｃの一端において偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３をエア吸着固定することができる。吸引孔２０ａ〜２０ｃは、回転防止の観点からそれぞれ複数箇所（本実施形態では吸引孔２０ａは３箇所、吸引孔２０ｂは３箇所、吸引孔２０ｃは２箇所）に設けられており、個別に制御可能に構成されている。ホルダ２０を構成する材料としては、ジュラルミンにアルマイト処理を施したもの、超合金、ステンレスなどの耐摩耗性材料が挙げられるが、吸引孔２０ａ〜２０ｃの孔加工性、下面２０ｄの平面度や表面粗さなどの観点からジュラルミンにアルマイト処理を施したものが好適である。なお、ホルダ２０の下面２０ｄにおける表面粗さＲａは、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を適切に吸着するうえで０．８以下に設定するのが好ましい。
【００３３】
Ｚステージ３０は、ホルダ２０に吸着固定（保持）された偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３により規定される光アイソレータＹの有効径Ｄの中心高さ（有効径Ｄの中心と基板４０の下面４０ｃとの間の距離）Ｈを制御しつつ、載置台１０に対してホルダ２０を矢印ＡＢ方向に相対移動させるための機構を有する。
【００３４】
本実施形態に係る光アイソレータ製造装置Ｘ１は、有効径Ｄの中心高さ（製造される光アイソレータＹの基板４０の下面４０ｃと光アイソレータＹの有効径の中心との間の距離）Ｈを制御することができるため、例えば各基板４０の搭載面４０ａに接着剤４６を介して偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を取り付ける場合、該搭載面４０ａにおける高さｈのバラツキや偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３のサイズのバラツキなどに起因する各光アイソレータＹの有効径Ｄの中心高さＨのバラツキを抑制することができる。したがって、光アイソレータ製造装置Ｘ１は、本実施形態において最小サイズの偏光子４２が所望のサイズより小さい場合でも、有効径Ｄの中心高さＨを適切に設定することができるのに加え、最小サイズの偏光子４２のサイズを大きくする必要がなくなるため、その分所定のサイズの偏光子基板から取り出される偏光子４２の数を低減させずに済む。
【００３５】
また、光アイソレータ製造装置Ｘ１は、ホルダ２０により偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を保持し且つ偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を基板４０の搭載面４０ａに一括搭載することができるため、搭載時に例えばファラデー回転子４３により押し退けられる接着剤４６により偏光子４１の搭載位置がずれるのを抑制することができる。したがって、光アイソレータ製造装置Ｘ１は、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３の搭載位置のずれに起因するアイソレーションの劣化を抑制することができる。
【００３６】
さらに、光アイソレータ製造装置Ｘ１は、接着剤４６としてフィラーを含有するものを採用する場合において、該接着剤４６中のフィラーの分布の偏りやサイズのバラツキに起因する偏光子４１，４２の傾きの発生を防止することができる。したがって、光アイソレータ製造装置Ｘ１は、偏光子４１，４２の傾きに起因してピーク波長が移動することによるアイソレーションの劣化を抑制することができる。
【００３７】
次に、本発明に係る光アイソレータＹの製造方法について、光アイソレータ製造装置Ｘ１を用いて説明する。
【００３８】
まず、基板４０の搭載面４０ａに所定量の接着剤４６を塗布する。接着剤４６の塗布量は、各基板４０における下面４０ｃと接着剤４６の上面４６ａとの距離が一定になるように、且つ、有効径Ｄの中心高さＨを所定の高さに設定できるように決定され、例えばその厚さが４０〜６０μｍとなるように決定される。なお、本実施形態においては、接着剤４６として低融点ガラスを採用して説明する。
【００３９】
次に、Ｚステージ３０を駆動させることにより、ホルダ２０を矢印Ａ方向に移動させる。
【００４０】
次に、偏光子４１の上面及び下面を拭きあげた後、図示しないエアピンセットにより吸着保持して運搬し、ホルダ２０の吸引孔２０ａに偏光子４１の上面を介して吸着保持させる。同様にして、偏光子４２およびファラデー回転子４３もホルダ２０の吸引孔２０ｂ，２０ｃにその上面を介して吸着保持させる。
【００４１】
次に、ヒータプレート１１の吸引孔１１ａに接着剤４６が塗布された基板４０の下面４０ｃを介して吸着保持させる。
【００４２】
次に、ヒータ１２によりヒータプレート１１を介して接着剤４６を溶融させた後、Ｚステージ３０を駆動させることにより、ホルダ２０を矢印Ｂ方向に所定位置まで移動させる。ここで、所定位置とは、ヒータプレート１１の上面１１ｂ（基板４０の下面４０ｃ）から所定距離（例えば有効径Ｄの中心高さＨに有効径Ｄの半分を加えた距離）離れた位置にホルダ２０の下面２０ｄが到達する位置を意味する。なお、所定距離には、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３のチッピングなどを考慮して、余裕分（例えば２０μｍ）を見込んでもよい。
【００４３】
次に、ホルダ２０による偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３の吸着保持を解除し、Ｚステージ３０によりホルダ２０を矢印Ａ方向に移動させる。
【００４４】
次に、ヒータプレート１１による基板４０の吸着保持を解除した後、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３が搭載された基板４０をピンセットによりヒータプレート１１から図示しないセラミック板上に移動して冷却する。
【００４５】
以上のようにして、図２に示す光アイソレータＹを製造することができる。なお、接着剤４６として、低融点ガラスに変えてハンダを採用する場合は、ホルダ２０により偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を吸着保持したまま、第１移動機構によりヒータ１２をヒータプレート１１から離間させることにより、ハンダを硬化させる。
【００４６】
図４は、本発明の第２の実施形態に係る光アイソレータ製造装置Ｘ２を表す斜視図である。光アイソレータ製造装置Ｘ２は、θステージ５０および供給装置６０を更に備える点において、光アイソレータ製造装置Ｘ１と異なる。光アイソレータ製造装置Ｘ２の他の構成については、光アイソレータ製造装置Ｘ１に関して上述したのと同様である。
【００４７】
θステージ５０は、ホルダ２０を矢印ＥＦ方向に回転させるための機構を有しており、ホルダ２０とＺステージ３０との間に介在する。すなわち、ホルダ２０は、θステージ５０ごとＺステージ３０により矢印ＡＢ方向に移動する。
【００４８】
供給装置６０は、αゴニオステージ６１および第２移動機構（図示せず）を有し、ホルダ２０の吸引孔２０ａ〜２０ｃに偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３をそれぞれ供給するための部材である。
【００４９】
αゴニオステージ６１は、供給口６０ａの角度を変えるための機構を有する。
【００５０】
上記第２移動機構は、供給装置６０を矢印ＣＤ方向に移動させるための機構であり、ホルダ２０の吸引孔２０ａ〜２０ｃに偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を供給する際には供給装置６０を矢印Ｄ方向に移動させ、該供給後には供給装置６０を矢印Ｃ方向に移動させる。
【００５１】
本実施形態に係る光アイソレータ製造装置Ｘ２は、例えばホルダ２０の吸引孔２０ａ〜２０ｃに対して偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を手で供給する場合に比べて、適切に且つ効率的に供給することができる。
【００５２】
また、光アイソレータ製造装置Ｘ２は、αゴニオステージ６１を備えるため、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３に入射する光の反射を低減するように所定の角度（例えば４〜１０°）をつけてホルダ２０の吸引孔２０ａ〜２０ｃ、ひいては基板４０の搭載面４０ａに取付けることができる。
【００５３】
次に、本発明に係る光アイソレータＹの製造方法について、光アイソレータ製造装置Ｘ２を用いて説明する。
【００５４】
まず、基板４０の搭載面４０ａに所定量の接着剤４６を塗布する。接着剤４６の塗布量は、各基板４０における下面４０ｃと接着剤４６の上面４６ａとの距離が一定になるように、且つ、有効径Ｄの中心高さＨを所定の高さに設定できるように決定され、例えばその厚さが４０〜１００μｍとなるように決定される。なお、本実施形態においては、接着剤４６として低融点ガラスを採用して説明する。
【００５５】
次に、Ｚステージ３０を駆動させることにより、ホルダ２０およびθステージ５０を矢印Ａ方向に移動させる。
【００５６】
次に、θステージ５０によりホルダ２０を矢印Ｅ方向に９０°回転させる（図５の実線で示す状態になる）。
【００５７】
次に、Ｚステージ３０により矢印ＡＢ方向の位置を調整しつつ、αゴニオステージ６１により供給口６０ａの角度を調整した後、上記第２移動機構により供給装置６０を矢印Ｄ方向に移動させて、ホルダ２０の吸引孔２０ａに偏光子４１の上面を介して吸着保持させる。同様にして、偏光子４２およびファラデー回転子４３もホルダ２０の吸引孔２０ｂ，２０ｃにその上面を介して吸着保持させる。
【００５８】
次に、上記第２移動機構により供給装置６０を矢印Ｃ方向に移動させるとともに、θステージ５０によりホルダ２０を矢印Ｆ方向に９０°回転させる（図５の二点差線で示す状態になる）。
【００５９】
次に、ヒータプレート１１の吸引孔１１ａに接着剤４６が塗布された基板４０の下面４０ｃを介して吸着保持させる。
【００６０】
次に、ヒータ１２によりヒータプレート１１を介して接着剤４６を溶融させた後、Ｚステージ３０を駆動させることにより、ホルダ２０およびθステージ５０を矢印Ｂ方向に所定位置まで移動させる。ここで、所定位置とは、ヒータプレート１１の上面１１ｂ（基板４０の下面４０ｃ）から所定距離（例えば有効径Ｄの中心高さＨに有効径Ｄの半分を加えた距離）離れた位置にホルダ２０の下面２０ｄが到達する位置を意味する。なお、所定距離には、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３のチッピングなどを考慮して、余裕分（例えば２０μｍ）を見込んでもよい。
【００６１】
次に、ホルダ２０による偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３の吸着保持を解除し、Ｚステージ３０によりホルダ２０を矢印Ａ方向に移動させる。
【００６２】
次に、ヒータプレート１１による基板４０の吸着保持を解除した後、偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３が搭載された基板４０をピンセットによりヒータプレート１１から図示しないセラミック板上に移動して冷却する。
【００６３】
以上のようにして、図２に示す光アイソレータＹを製造することができる。なお、接着剤４６として、低融点ガラスに変えてハンダを採用する場合は、ホルダ２０により偏光子４１，４２およびファラデー回転子４３を吸着保持したまま、第１移動機構によりヒータ１２をヒータプレート１１から離間させることにより、ハンダを硬化させる。
【００６４】
以上、本発明の具体的な実施形態を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の思想から逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。
【００６５】
次に、本発明の実施例および比較例について説明する。
【００６６】
［実施例］
＜偏光子の作製＞偏光子基板（縦１０．８ｍｍ×横１０．８ｍｍ×厚さ０．２ｍｍ）から偏光子（縦０．９ｍｍ×横０．９５ｍｍ×厚さ０．２ｍｍ）を１００枚切り出すことにより、所望の偏光子を作製した。
【００６７】
＜ファラデー回転子の作製＞１つのファラデー回転子基板（縦１０．８ｍｍ×横１０．８ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ）からファラデー回転子（縦０．９ｍｍ×横０．９５ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ）を１００枚切り出すことにより、所望の偏光子を作製した。
【００６８】
＜光アイソレータの作製＞本発明に係る光アイソレータ製造装置Ｘ２を用いて、セラミックス製基板に対して低融点ガラスにより２つの偏光子およびファラデー回転子を一括で接着固定することにより、光アイソレータを２５個作製した。
【００６９】
＜性能評価＞作製された光アイソレータの挿入損失およびアイソレーションを公知の手段により測定するとともに、２つの偏光子およびファラデー回転子間の角度の最大バラツキを測定した。その結果を表１に示した。
【表１】
2007010825.tif 000003
【００７０】
［比較例］
＜偏光子の作製＞偏光子基板（縦１０．８ｍｍ×横１０．８ｍｍ×厚さ０．２ｍｍ）から偏光子（縦０．９５ｍｍ×横１．０ｍｍ×厚さ０．２ｍｍ）を９０枚切り出すことにより、所望の偏光子を作製した。
【００７１】
＜ファラデー回転子の作製＞ファラデー回転子基板（縦１０．８ｍｍ×横１０．８ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ）からファラデー回転子（縦０．９５ｍｍ×横１．０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ）を９０枚切り出すことにより、所望の偏光子を作製した。
【００７２】
＜光アイソレータの作製＞従来方法にて、セラミックス製基板に対して低融点ガラスにより２つの偏光子およびファラデー回転子を１枚ずつ順に接着固定することにより、光アイソレータを２５個作製した。
【００７３】
＜性能評価＞作製された光アイソレータの挿入損失およびアイソレーションを公知の手段により測定するとともに、２つの偏光子およびファラデー回転子間の取付け角度の最大バラツキを測定した。その結果を表１に示した。
【００７４】
＜評価＞実施例の光アイソレータは、偏光子およびファラデー回転子のサイズが小さいにもかかわらず、比較例の光アイソレータに比べて、挿入損失が平均値で約５２％、偏差で約５８％低減し、アイソレーションが平均値で約９％、偏差で約５６％減少した。また、実施例の光アイソレータは、２つの偏光子およびファラデー回転子間の取付け角度の最大バラツキも、比較例の光アイソレータに比べて半分以下になった。したがって、本実施例における光アイソレータ製造装置は、比較例に比べて、偏光子基板から取り出される偏光子やファラデー回転子基板から取り出されるファラデー回転子の数を約１１％増加させるとともに、挿入損失やアイソレーションに優れ、取付け角度のバラツキが抑制された光アイソレータを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る光アイソレータ製造装置を表す斜視図である。
【図２】本発明に係る光アイソレータ製造装置により製造される光アイソレータを表し、（ａ）は側面側からの斜視図であり、（ｂ）は正面側からの斜視図である。
【図３】図１に示す光アイソレータ製造装置のホルダを表す下面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る光アイソレータ製造装置を表す斜視図である。
【図５】従来の光アイソレータ表す斜視図である。
【図６】従来の光アイソレータ表す斜視図である。
【符号の説明】
【００７６】
Ｘ１，Ｘ２    光アイソレータ製造装置
Ｙ    光アイソレータ
Ｄ    有効径
Ｈ    （有効径Ｄの）中心高さ
１０    載置台
２０    ホルダ（保持手段）
３０    Ｚステージ（制御手段）
４０    基板
４０ｃ    （基板４０の）下面
４１，４２    偏光子（光学素子）
４３    ファラデー回転子（光学素子）
【図１】
2007010825.tif 000004
【図２】
2007010825.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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