(57)【要約】【課題】  パターンデータ変換方法に関し、処理ツールを変更することなくデータ補正処理時間の不必要な増大を防止する。【解決手段】  描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターン１の向きを設定する。【選択図】          図１
2007127839.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターンの向きを設定することを特徴とするパターンデータ変換方法。
【請求項２】
上記描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、描画パターンに光近接効果補正を行うことを特徴とする請求項１記載のパターンデータ変換方法。
【請求項３】
上記設計データにおける図形パターンの向きを設定する工程において、上記図形パターンを、各個別パターン毎に、個別パターンの外周辺を一筆書きでベクトルに分解し、前記、ベクトルの向きと長さを利用して、前記個別パターンの縦／横の長さ比率を抽出する工程を備えていることを特徴とする請求項１または２に記載のデータパターン変換方法。
【請求項４】
上記個別パターンの縦／横の長さ比率を描画パターン全体として累積して、図形パターン全体の向きの変換を行うか否かを決定することを特徴とする請求項３記載のデータパターン変換方法。
【請求項５】
上記個別パターンの縦／横の長さ比率から、各個別パターン毎に図形パターンの向きの変換を行うか否かを決定することを特徴とする請求項３記載のデータパターン変換方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターンデータ変換方法に関するものであり、特に、レチクル上に描画するパターンを設計データから実際に露光する際の製造データに変換する際に、変換ツールを変換することなく変換速度を高速にするための手法に特徴のあるパターンデータ変換方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年の半導体集積回路装置の集積度の向上に伴って、高精度な半導体集積回路パターンを形成するためには、高精度パターン形成技術が必要であり、高精度パターン形成においては光近接効果補正（ＯＰＣ）等のパターンデータ補正処理が適用されている。
【０００３】
このパターンデータ補正処理は、レチクル上のパターンを光学的に補正し、目的とするウェーハ転写イメージを実現するため、マスクパターン上で補正パターンを発生する方法を採っている。
【０００４】
この補正処理には、通常の矩形作成処理に対して数倍〜数十倍の処理時間を要するため、既存リソース（設備・処理ライセンスなど）を有効活用しながら処理時間を短縮させる必要がある。
【０００５】
従来のパターンデータ補正処理では、設計者が作成した設計データに対して補正を行うパターンをルール化し、補正パターン発生ルールに基づいてレチクルパターンデータに補正パターンの発生を行っている。
【０００６】
このようなパターンデータ補正処理において、半導体集積回路パターンの微細化に伴って補正処理時間が大幅に増大するため、さらなる処理時間の短縮が求められている。
【０００７】
このような処理時間の短縮化のために、各種の提案がなされており、例えば、フォトマスクパターンデータから平面走査法により選択的に補正対象となる図形データの部分を従来より高速に抽出し、抽出された図形データの部分に対応した補正テーブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって高速に検索し、検索された補正値に基づいて補正を行うことが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
或いは、線幅が所定寸法以下となるマスクパターンのエッジを抽出し、抽出したエッジ間の中心を基準に所定寸法幅を有する中心図形を生成し、線幅が所定寸法以下となるマスクパターンを生成した中心図形で置き換えることにより、補正テーブル表を用いることなくパターン補正することによって処理時間を短縮することも提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−２８１８３６号公報
【特許文献２】特開２００４−２５２０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、データ補正処理を実施する際には、特に処理ツール（Ｔｏｏｌ）のアルゴリズム( 処理する際の得意性など) は意識せずに実施していたため、不得意なパターンを有する場合にはＴｏｏｌによっては膨大な処理時間がかかるといった問題が生じていた。
【００１０】
例えば、あるツールを用いて横方向パターンの多いパターンデータの補正処理に２．７３時間要していたものを、パターンの方向を９０°回転させて縦方向パターンの多いパターンデータに変換したのちに補正処理をした場合に、処理時間は２．４９時間に短縮されており、約一割程度短縮された。
【００１１】
即ち、縦方向のパターンデータの処理が得意な処理ツールを用いてデータ補正処理を行った場合、処理ツールのアルゴリズムを意識せずに横方向のパターンの多いパターンデータを処理した場合に、処理時間が不必要に増大することになる。
【００１２】
特に、半導体集積回路装置のパターンデータ補正処理には全体で数日間の処理時間を要するので、処理時間の不必要な増大は問題になり、製品コストの上昇として跳ね返ることになる。
【００１３】
したがって、本発明は、マスクパターンデータ作成において、処理ツールを変更することなくデータ補正処理時間の不必要な増大を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
図１は本発明の原理的構成図であり、ここで図１を参照して、本発明における課題を解決するための手段を説明する。
なお、図における符号４，５，６は、各々変換後の製造図形パターン、製造個別パターンである。
図１参照
上記課題を解決するために、本発明は、パターンデータ変換方法において、描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターン１の向きを設定することを特徴とする。
【００１５】
このように、パターンデータ変換に使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性を予め考慮し、パターンデータ処理ツールの得意な処理方向の図形パターン１が多くなるように図形パターン１の向きを設定することによって、データ処理時間の不必要な増大を防止することができる。
【００１６】
このようなパターンデータ変換方法は、描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、描画パターンに光近接効果補正を行う場合に好適となり、光近接効果補正に要する処理時間の不必要な増大を防止することができる。
【００１７】
この場合、設計データにおける図形パターン１の向きを設定する工程において、図形パターン１を、各個別パターン２，３毎に、個別パターン２，３の外周辺を一筆書きでベクトルに分解し、ベクトルの向きと長さを利用して、個別パターン２，３の縦／横の長さ比率を抽出する工程を備えていることが望ましく、簡単な手法で個別パターン２，３の縦／横の長さ比率を取得することができる。
【００１８】
また、取得した個別パターン２，３の縦／横の長さ比率に基づいて、描画パターン全体として累積して、図形パターン１全体の向きの変換を行うか否かを決定しても良いし、或いは、各個別パターン２，３毎に図形パターン１の向きの変換を行うか否かを決定しても良く、各個別パターン２，３毎に変換した場合には処理時間を確実に短縮することができる。
【００１９】
この場合、描画パターンの縦／横の長さ比率が、パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における縦／横の長さ比率が０．５以上の場合には、設計データにおける図形パターン１の向きの変換を行うようにしても良く、それによって、データ補正処理時間の不必要な増大を確実に防止することができる。
【００２０】
或いは、描画パターンの縦／横の長さ比率が、パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における縦／横の長さ比率が０．５未満の場合には、設計データにおける図形パターン１の向きの変換を行わないようにしても良く、図形データの向きの変換に要する処理時間とデータ変換処理時間の改善分とが相殺されることになる。
【００２１】
上述のパターンデータ変換方法を採用することによって、データ変換処理を常にパターンデータ処理ツールの有する最適速度で行うことができるパターンデータ変換システムを構築することができ、それによって、データ処理時間の不必要な増大を確実に防止することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明では、処理パターンデータの縦／横の比率を認識し、且つ、各処理ツールで高速で処理される方向にデータを回転させて補正処理を行うことで、従来の方法に比べ処理時間の不必要な増大をなくすことができ、レチクル作成の短手番化に寄与するところが大きい。
【００２３】
また、パターンデータ補正ツールによっては、得意とする方向で処理することによって、出力データ量を減らすことができるため、データのハンドリング（データ転送等）時間の短縮及び記憶媒体（ＤＩＳＫ）への保管にも有効となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明は、ＥＢデータ変換或いは光近接効果補正処理に際して、描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターンの向きを設定するものであり、その際、図形パターンを、各個別パターン毎に、個別パターンの外周辺を一筆書きでベクトルに分解し、ベクトルの向きと長さを利用して、個別パターンの縦／横の長さ比率を抽出し、抽出した個別パターンの縦／横の長さ比率に基づいて、描画パターン全体として累積して、図形パターン全体の向きの変換を行うか否かを決定するか、或いは、各個別パターン毎に図形パターンの向きの変換を行うか否かを決定するものである。
【００２５】
また、変換の決定を判断する際には、描画パターンの縦／横の長さ比率が、パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における縦／横の長さ比率が０．５以上の場合に設計データにおける図形パターンの向きの変換を行うようにしても良いし、或いは、描画パターンの縦／横の長さ比率が、パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における縦／横の長さ比率が０．５未満の場合には、設計データにおける図形パターンの向きの変換を行わないようにしても良いものである。
【実施例１】
【００２６】
ここで、図２乃至図９を参照して、本発明の実施例１のＥＢデータ変換方法を説明する。
図２及び図３参照  
図２及び図３は、本発明の実施例１のＥＢデータ変換方法の処理フローを示す図であり、まず、処理する際の各種情報( Ｄａｔａ情報，Ｔｏｐｆｉｇ情報，Ｌａｙｅｒ情報) を定義し、設計データを読み込む。
【００２７】
なお、Ｄａｔａ情報とは、設計データの版数（追番）を意味し、各設計データを識別するための情報であり、各種の設計データの内から選択した処理対象となる設計データを識別するために、このＤａｔａ情報を定義する。
【００２８】
また、Ｔｏｐｆｉｇ情報とは、ＦＩＧ（ストラクチャ・セル・ブロック）のツリー状に構成されるセル階層の一番上に位置するもので、データ変換処理に際しては、処理で指定するＴｏｐｆｉｇ情報を取得する必要がある。
【００２９】
図４参照  
図４は、ＦＩＧ構造の概念的説明図であり、各階層のセル・ブロックがツリー状に配置されており、その最上層を構成するセル・ブロックがＴｏｐｆｉｇとなる。
【００３０】
図５参照  
図５は、Ｔｏｐｆｉｇからみた図形パターンの説明図であり、ここでは、一例として風力記号状パターンからなるＵＮＩＴ−Ａ、微小矩形パターンからなるＵＮＩＴ−Ｂ、及び、凹状パターンからなるＵＮＩＴ−Ｃを示している。
【００３１】
また、Ｌａｙｅｒ情報とは、レイヤーのレベルコードを意味し、設計データ及びＦＩＧ内に複数のレイヤーがある場合、処理するレイヤーを指定するために取得する情報である。
【００３２】
図６参照  
次いで、パターンデータの縦／横の比率を抽出するが、このパターンデータの縦／横の比率については、パターンデータのベクトルの向きや長さによって判断するものであり、この場合、処理対象となる図形パターンの外周辺を一筆書きでベクトルに分解する。
【００３３】
次いで、ベクトルの向きと長さを利用して縦／横の比率を抽出するが、ベクトルの向きとしては、必ず、「横向の数＝縦向の数」となるので、縦／横の長さの比率を抽出する。
この時、ベクトルの向きが左右或いは上下のいづれか、即ち、縦か横かを識別して、上向／下向、左向／右向の区別は無視し、縦ベクトルの長さの合計と横ベクトルの合計との比を取る。
【００３４】
図６においては、ＵＮＩＴ−ＦのＦ字状パターンを一例として示しており、このパターンデータにおいては、ａ〜ｊまでの１０の辺が存在し、縦／横の比率は縦：横＝１０：１４となり、横向きの多い図形パターンと判定する。
なお、図においては説明を簡単にするために長さの単位を大まかにしているが、実際のパターンにおいては、もっと細かい数値を取るものである。
【００３５】
図７参照  
図７は、他のパターンデータの縦／横の比率の説明図であり、上段の図においては、縦＝横となり、中段の図においては、縦＜横となり、下段の図においては、縦＞横となる。
【００３６】
再び、図２及び図３参照  
また、ＥＢデータ変換処理のＴｏｏｌに関しては、事前に各Ｔｏｏｌが縦／横どちらを得意とするか等の情報( アルゴリズム的もの) を登録しておき、Ｔｏｏｌ選択した後のデータを回転( 縦／横の向きを変化) させるかを判断させる。
【００３７】
即ち、選択したＴｏｏｌの処理方向性の得意・不得意により、入力時の設計データを回転させずにそのままデータ変換処理を実施するケースもあれば、一度回転させた設計データをデータ変換処理の入力データとして用いることもあり、回転させた場合には、データ変換後の製造データを逆回転してデータの向きを戻し、データ出力することになる。
【００３８】
図８参照  
図８は、設計データを回転処理する場合の説明図であり、ここでは、設計データとして上述の図５の図形パターンを例に説明する。
この場合の全体の図形パターンの縦／横比は、ＵＮＩＴ−Ａが縦：横＝５４：８８で縦＜横、ＵＮＩＴ−Ｂが縦：横＝２０：１２で縦＞横、ＵＮＩＴ−Ｃが縦：横＝１２：１０で縦＞横となるが、全体としては縦：横＝９０：１１０であるので、縦＜横となる。
【００３９】
この時に、使用する処理ツールが、縦方向の処理が得意な場合には、図形パターンを９０°回転させて入力図形として、データ変換処理を行う。
なお、図においては右回りに９０°回転させているが、左回りに９０°回転させても良いものである。
【００４０】
この回転処理により、縦・横比が、９０：１１０から、１１０：９０になるので、横方向の処理時間が縦方向の処理時間のｘ倍である場合、（９０＋１１０ｘ）かかっていた時間が、（１１０＋９０ｘ）になり、（２０ｘ−２０）／（９０＋１１０ｘ）だけ改善されることになる。
因に、ｘ＝１．５の場合には、約４％改善され、ｘ＝２の場合には、約６．５％改善され、さらに、ｘ＝１０の場合には、約１５％改善される。
【００４１】
次いで、データ変換した製造データの図形パターンを９０°逆回転させてデータの向きを戻し、製造データとしてデータ出力することになる。
【００４２】
図９参照  
図９は、設計データを回転処理しない場合の説明図であり、ここでは、使用する処理ツールが横方向の処理が得意な場合とするので、縦：横＝９０：１１０である設計データの図形パターンは回転させることなく、そのまま図形入力して、データ変換された図形パターンをそのまま製造データとしてデータ出力する。
【００４３】
このように、本発明の実施例１においては、データ変換に使用する処理ツールの処理方向得意性を予め取得しておくことにより、データ変換する設計データの縦−横変換を処理ツールの処理方向得意性に応じて行うことにより、処理ツールの処理方向得意性を意識しないでランダムにデータ処理する場合に比べて、処理時間の不必要な増大をなくすことができる。
【実施例２】
【００４４】
次に、図１０乃至図１２を参照して、本発明の実施例２のＥＢデータ変換処理方法を説明する。
上記の実施例１の場合には、処理する領域としてチップ全面を対象としているが、この実施例２においては、各ＵＮＩＴ毎を対象とするものであり、縦／横比の取得方法及びデータ変換処理自体は上記の実施例１と全く同様である。
【００４５】
図１０参照  
図１０は、本発明の実施例２のＥＢデータ変換処理の要部フロー図であり、ＵＮＩＴ分割処理するか否かを判定する工程を設けたものであり、分割処理をしない場合には、上記の実施例１と全く同様になる。
この場合、ＵＮＩＴ毎の処理ｆｉｇｕｒｅ名を定義して、各ＵＮＩＴ毎のパターンに対するベクトルを抽出するものであり、ここでは、ＵＮＩＴ−Ａ，ＵＮＩＴ−Ｂ，ＵＮＩＴ−Ｃに分割する。
【００４６】
図１１参照  
図１１は、処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、縦＜横であるＵＮＩＴ−Ａのみを回転させて入力図形とし、データ変換処理後に、ＵＮＩＴ−Ａの製造データのみ９０°逆回転させたのち、全体のデータを製造データとしてデータ出力する。
【００４７】
この場合、縦横変換により、全体の縦・横比が、９０：１１０から、１２４：７６になるので、横方向の処理時間が縦方向の処理時間のｘ倍である場合、（９０＋１１０ｘ）かかっていた時間が、（１２４＋７６ｘ）になり、（３４ｘ−３４）／（９０＋１１０ｘ）だけ改善されることになる。
【００４８】
因に、ｘ＝１．５の場合には、約６．７％改善され、ｘ＝２の場合には、約１３％改善され、さらに、ｘ＝１０の場合には、約１２０％改善され、図形全体を回転させる上記の実施例１に比べて大きな改善効果が得られる。
但し、どの図形を回転させるかの判定時間が必要になる。
【００４９】
図１２参照  
図１２は、処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、縦＞横であるＵＮＩＴ−Ｂ及びＵＮＩＴ−Ｃを回転させて入力図形とし、データ変換処理後に、ＵＮＩＴ−Ｂ及びＵＮＩＴ−Ｃの製造データのみ９０°逆回転させたのち、全体のデータを製造データとしてデータ出力する。
【００５０】
この場合、縦横変換により、全体の縦・横比が、９０：１１０から、７６：１２４になるので、縦方向の処理時間が横方向の処理時間のｘ倍である場合、（９０ｘ＋１１０）かかっていた時間が、（７６ｘ＋１２４）になり、（１４ｘ−１４）／（９０ｘ＋１１０）だけ改善されることになる。
【００５１】
因に、ｘ＝１．５の場合には、約３％改善され、ｘ＝２の場合には、約６％改善され、さらに、ｘ＝１０の場合には、約５１％改善され、図形全体を全く回転させない実施例１、即ち、縦：横＝９０：１１０のまま変換する場合に比べて大きな改善効果が得られる。
【００５２】
このように、本発明の実施例２においては、各ＵＮＩＴ毎に回転するか否かを決定しているので、ＥＢデータ変換に要する時間を大幅に短縮することができる。
【実施例３】
【００５３】
次に、図１３を参照して、本発明の実施例３のＥＢデータ変換処理方法を説明する。
上記の実施例２の場合には、各ＵＮＩＴ毎を対象として、縦横比に応じて対応するＵＮＩＴを全て回転させるものであるが、この実施例３においては、特定のＵＮＩＴの縦横比がほぼ１：１であり、且つ、全体に占めるパターン比率が小さい場合に、特定のＵＮＩＴについては回転処理を行わないものである。
【００５４】
図１３参照  
この場合、図１２の場合と同様に、処理ツールが横方向処理を得意とするものとして、縦：横＝１２：１０のＵＮＩＴ−Ｂの回転は行わずにＵＮＩＴ−Ｃのみ回転させることにより、全体の縦・横比が、９０：１１０から、７８：１２２になり、上記の実施例２の７６：１２４と殆ど変わらなくなる一方、回転処理に要する時間不要になるので、全体として処理時間に実効的な差はなくなる。
【００５５】
この場合の回転するか否かの目処は、全体の図形データの縦・横比＝不得意方向／全方向が０．５未満であれば、設計データにおける図形パターンの向きの変換を行わないようにする。
【実施例４】
【００５６】
次に、図１４乃至図１７を参照して、本発明の実施例４のパターンデータ補正方法を説明するが、設計データに光近接効果補正を加えて製造データを出力するだけで、基本的な技術思想及び工程は上記の実施例１と同様である。
【００５７】
図１４及び図１５参照  
図１４及び図１５は、本発明の実施例４のパターンデータ補正方法のフロー図であり、まず、処理する際の各種情報( Ｄａｔａ情報，Ｔｏｐｆｉｇ情報，Ｌａｙｅｒ情報) を定義し、設計データを読み込む。
【００５８】
次いで、パターンデータの縦／横の比率を上記の実施例１と全く同様に抽出して、パターンデータの縦／横比情報を取得する。
【００５９】
次いで、予め取得して登録してある光近接効果補正を行うデータ補正処理のＴｏｏｌが縦／横どちらを得意とするか等の情報( アルゴリズム的もの) により、データを回転( 縦／横の向きを変化) させるかを判断させる。
【００６０】
即ち、選択したＴｏｏｌの処理方向性の得意・不得意により、入力時の設計データを回転させずにそのままデータ補正処理を実施するケースもあれば、一度回転させた設計データをデータ補正処理の入力データとして用いることもあり、回転させた場合には、データ補正後の製造データを逆回転してデータの向きを戻し、データ出力することになる。
【００６１】
図１６参照  
図１６は、処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、全体のデータを９０°回転させて入力図形とし、データ補正テーブルに基づいたデータ補正処理後に、補正されたデータを９０°逆回転させたのち、製造データとしてデータ出力する。
ここでは、Ｆ字状パターンのＵＮＩＴ−Ｆと凹状パターンのＵＮＩＴ−Ｕを用いて説明する。
【００６２】
なお、ここでは、説明及び図示を簡単にするためには、各角部において、アウターにおいては微小付加パターンを加え、インナーにおいては微小減算パターンで減算のみしているが、実際には、通常の光近接効果処理と全く同様に各ＵＮＩＴの近接状態に応じて、直線部の線幅を局所的に増大処理したり或いは局所的に減少処理するものである。
【００６３】
図１７参照  
図１７は、処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、全体のデータを回転させないでそのまま入力図形とし、データ補正テーブルに基づいたデータ補正処理後に、そのまま製造データとしてデータ出力する。
【００６４】
このように、設計データに光近接効果補正処理を行う場合にも、選択したデータ補正処理Ｔｏｏｌが得意と処理方向性を考慮することによって、データ補正処理時間の不必要な増大を防止することができる。
【実施例５】
【００６５】
次に、図１８乃至図２０を参照して、本発明の実施例５のパターンデータ補正方法を説明するが、基本的な技術思想及び工程は上記の実施例２と同様である。
図１８参照  
図１８は、本発明の実施例５のパターンデータ補正方法の要部フロー図であり、ＵＮＩＴ分割処理するか否かを判定する工程を設けたものであり、分割処理をしない場合には、上記の実施例４と全く同様になる。
この場合も、ＵＮＩＴ毎の処理ｆｉｇｕｒｅ名を定義して、各ＵＮＩＴ毎のパターンに対するベクトルを抽出するものであり、ここでは、ＵＮＩＴ−ＦとＵＮＩＴ−Ｕに分割する。
【００６６】
図１９参照  
図１９は、処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、縦＜横であるＵＮＩＴ−Ｆのみを回転させて入力図形とし、データ補正テーブルに基づいたデータ補正処理後に、ＵＮＩＴ−Ｆの製造データのみ９０°逆回転させたのち、全体のデータを製造データとしてデータ出力する。
【００６７】
図２０参照  
図２０は、処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図であり、縦＞横であるＵＮＩＴ−Ｕのみを回転させて入力図形とし、データ補正処理後に、ＵＮＩＴ−Ｕの製造データのみ９０°逆回転させたのち、全体のデータを製造データとしてデータ出力する。
【００６８】
このように、本発明の実施例５においては、実施例２と同様に各ＵＮＩＴ毎に回転するか否かを決定しているので、パターンデータ補正に要する時間を大幅に短縮することができる。
【実施例６】
【００６９】
次に、本発明の実施例６のパターンデータ補正方法を説明するが、実質的には、上記の実施例３と同様であるので図示は省略する。
この実施例６の場合には、ＵＮＩＴ−Ｂに相当する図形パターンも加えてデータ補正する場合であり、図１２の場合と同様に、処理ツールが横方向処理を得意とするものとして、縦：横＝１２：１０のＵＮＩＴ−Ｂの回転は行わずにＵＮＩＴ−Ｕのみ回転させることにより入力図形としてパターンデータ補正処理を行うものである。
【００７０】
この場合の回転するか否かの目処も、全体の図形データの縦・横比＝不得意方向／全方向が０．５未満であれば、設計データにおける図形パターンの向きの変換を行わないようにする。
【実施例７】
【００７１】
次に、図２１を参照して、本発明の実施例７のデータ補正処理システムを説明するが、このデータ補正処理システムに行われる処理フローは上記の実施例４と全く同様である。
図２１参照  
図２１は、本発明の実施例７のパターンデータ補正システムのシステム構成図であり、作成依頼情報に基づいて、定義するために必要な各種情報( Ｄａｔａ情報，Ｔｏｐｆｉｇ情報，Ｌａｙｅｒ情報) 、各種情報から定義された設計データを読み込む機構、各種処理ツール（Ｔｏｏｌ−Ａ，Ｔｏｏｌ−Ｂ，Ｔｏｏｌ−Ｃ）、作成依頼情報に基づいて備えられた各種処理ツールから、処理するデータの特性に応じて使用する処理ツールを選択する機構、光近接効果補正のために予め設定されたデータ補正テーブル、及び、読み込まれた設計データからパターン縦／横比率を抽出するパターン縦／横比率抽出機能、抽出したパターン縦／横比率情報を格納する機能、使用する処理ツールの得意処理方向情報を格納する機能、処理ツールの得意処理方向情報と抽出したパターン縦／横比率情報を対比してパターンを回転させるパターン回転機能、所定の向きに設定した入力図形をテータ補正テーブルによりデータ補正を行って製造データに変換する描画データ変換処理機能の各種機能を備えた情報処理機構から構成され、変換された製造データは情報処理機構から出力データとして出力されることになる。
【００７２】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載された構成・条件等に限られるものではなく各種の変更が可能であり、例えば、上記の実施例６においては、実施例４に対応するシステム構成図しか示していないが、実施例１〜３，５，６に対するシステムも同様に構成するものである。
【００７３】
即ち、図２１のシステム構成図のパターン回転機構にＵＮＩＴ毎の回転機能を持たせることによって、実施例５に対応するシステム構成図が得られ、さらに、特定のＵＮＩＴの縦横比がほぼ１：１であり、且つ、全体に占めるパターン比率が小さい場合に、特定のＵＮＩＴについては回転処理を行わない機能を持たせると実施例６に対応するシステム構成図が得られる。
【００７４】
また、データ補正テーブルを使用せずに、そのままＥＢデータ変換処理を行うとともに、パターン回転機構が有する機能に応じて、実施例１乃至実施例３に対応するシステム構成図が得られる。
【００７５】
また、上記の実施例１或いは実施例４において、全体の図形データの縦・横比＝不得意方向／全方向が０．５以上であれば、必ず回転処理を行っているが、縦・横比＝不得意方向／全方向が０．５未満であれば回転させる必要は必ずしもなく、回転に要する時間と、データ変換による改善させた処理時間とが相殺されることになる。
【００７６】
ここで再び図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
再び、図１参照  
（付記１）  描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターン１の向きを設定することを特徴とするパターンデータ変換方法。
（付記２）  上記描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、描画パターンに光近接効果補正を行うことを特徴とする付記１記載のパターンデータ変換方法。
（付記３）  上記設計データにおける図形パターン１の向きを設定する工程において、上記図形パターン１を、各個別パターン２，３毎に、個別パターン２，３の外周辺を一筆書きでベクトルに分解し、前記ベクトルの向きと長さを利用して、前記個別パターン２，３の縦／横の長さ比率を抽出する工程を備えていることを特徴とする付記１または２に記載のデータパターン変換方法。
（付記４）  上記個別パターン２，３の縦／横の長さ比率を描画パターン全体として累積して、図形パターン１全体の向きの変換を行うか否かを決定することを特徴とする付記３記載のデータパターン変換方法。
（付記５）  上記個別パターン２，３の縦／横の長さ比率から、各個別パターン２，３毎に図形パターン１の向きの変換を行うか否かを決定することを特徴とする付記３記載のデータパターン変換方法。
（付記６）  上記描画パターンの縦／横の長さ比率が、上記パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における比が０．５以上の場合には、前記設計データにおける図形パターン１の向きの変換を行うことを特徴とする付記３乃至５のいずれか１に記載のパターンデータ変換方法。
（付記７）  上記描画パターンの縦／横の長さ比率が、上記パターンデータ処理ツールの不得意な処理方向における比が０．５未満の場合には、前記設計データにおける図形パターン１の向きの変換を行わないことを特徴とする付記３乃至５のいずれか１に記載のパターンデータ変換方法。
（付記８）  付記１乃至７のいずれか１に記載のパターンデータ変換方法を採用したことを特徴とするパターンデータ変換システム。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明の活用例としては、半導体集積回路装置のレチクルの製造工程が典型的なものであれば、半導体集積回路装置用に限られるものではなく、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置の駆動回路形成用のレチクル、超伝導デバイス用のレチクルの製造工程にも適用されるものであり、さらには、レチクルの製造工程に限られるものではなく、各種のパターンデータの変換工程に適用されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の実施例１のＥＢデータ変換方法の途中までの処理フロー図である。
【図３】本発明の実施例１のＥＢデータ変換方法の図２以降の処理フロー図である。
【図４】ＦＩＧ構造の概念的説明図である。
【図５】Ｔｏｐｆｉｇからみた図形パターンの説明図である。
【図６】パターンデータの縦／横の比率の抽出工程の説明図である。
【図７】他のパターンデータの縦／横の比率の説明図である。
【図８】設計データを回転処理する場合の説明図である。
【図９】設計データを回転処理しない場合の説明図である。
【図１０】本発明の実施例２のＥＢデータ変換処理の要部フロー図である。
【図１１】処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図１２】処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図１３】本発明の実施例３のＥＢデータ変換処理方法の説明図である。
【図１４】本発明の実施例４のパターンデータ補正方法の途中までの処理フロー図である。
【図１５】本発明の実施例４のパターンデータ補正方法の図１４以降の処理フロー図である。
【図１６】処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図１７】処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図１８】本発明の実施例５のパターンデータ補正方法の要部フロー図である。
【図１９】処理ツールが縦方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図２０】処理ツールが横方向処理を得意とする場合の回転処理方法の説明図である。
【図２１】本発明の実施例７のパターンデータ補正システムのシステム構成図である。
【００７９】
１  図形パターン
２  個別パターン
３  個別パターン
４  製造図形パターン
５  製造個別パターン
６  製造個別パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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