(57)【要約】【課題】  シリコンウェハーの厚みや外形寸法の変更に対応して処理水の水切りを確実に行い、シリコンウェハー同士のくっつきによるしみ発生を防止する。【解決手段】  走行台車３３と、走行台車３３に昇降シリンダー３４を介して昇降自在に設けられる昇降プレート３６と、プレート３６に設けられバスケットＢをクランプするクランプ部３８とを備え、クランプ部３８を昇降プレート３６に設けられる支持板３９，４０間に回転軸４１を介して揺動可能に支持すると共に、昇降プレート３６にクランプ部３８を水平位置から揺動傾斜位置に揺動させる傾斜用シリンダー４８を設ける一方、傾斜シリンダー４８とクランプ部３８の連結位置を変更可能にする連結位置変更手段５０を設け、該変更手段５０による傾斜シリンダー４８とクランプ部３８の連結位置の変更により傾斜用シリンダー４８が伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にした。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理手段に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、移動手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ機構をもつクランプ部とを備え、クランプ部が昇降プレートに設けられる支持板間に回転軸を介して揺動可能に支持されると共に、昇降プレートにクランプ部を水平位置から揺動傾斜位置に揺動させる傾斜用シリンダーが設けられている一方、傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置を変更可能にする連結位置変更手段が設けられ、該変更手段により傾斜用シリンダーにおけるシリンダーロッドが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしたことを特徴とする請求項１に記載のシリコンウェハー用洗浄装置。
【請求項２】
洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理手段に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、移動手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ機構をもつクランプ部とを備え、クランプ部が昇降プレートに設けられる支持板間に回転軸を介して揺動可能に支持されると共に、昇降プレートにクランプ部を水平位置から揺動傾斜位置に揺動させる傾斜用シリンダーが設けられている一方、傾斜用シリンダーにこれのシリンダーロッドの伸長量を調整可能にする伸長量調整手段が設けられ、該伸長量調整手段により傾斜用シリンダーにおけるシリンダーロッドが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしたことを特徴とするシリコンウェハー用洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理手段に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  通常、シリコンウェハー用洗浄装置においては、最終槽の後部の搬出コンベアに乾燥装置を併設するか、搬出コンベアと最終槽の間に独立した乾燥装置を設け、洗浄後直ちに仕上げ乾燥を行うように構成されている。このとき、付着水量が多いと乾燥に時間を要し生産効率に支障がでることになり、またウェハー同士がくっつくと乾燥ムラが生じウェハー品質を損なうことになる。このため乾燥装置に搬入するシリコンウェハーはできるだけ付着水が少なく、またシリコンウェハー同士がくっつかないことが求められている。そこで、本出願人は、先に移送手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ機構をもつクランプ部とを備え、クランプ部を昇降プレートに設けられる支持板間に回転軸を介して揺動可能に支持すると共に、昇降プレートにクランプ部を揺動傾斜させる傾斜用シリンダーを設けて、洗浄後、傾斜用シリンダーを伸長させることにより昇降プレートに対しクランプ部を揺動傾斜させるように構成したシリコンウェハー用洗浄装置を提案し出願した。かかるシリコンウェハー用洗浄装置によれば、洗浄後、バスケットを上方に持ち上げたとき、積極的にシリコンウェハーがバスケットにおける収容溝の一方の側壁に整然ともたれかかって隣り合うシリコンウェハーの間隔が常に一定間隔に保たれることになり、その結果、シリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を防止しながらシリコンウェハー間に残ろうとする処理液の水切りも確実に行えるものである。
【特許文献１】    特開２００５−２６５９６号  公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】  ところで、乾燥時間を短くし生産効率を高めるためにはシリコンウェハー付着水を減らす必要があり、傾斜角度が少ないほど付着水は落下しやすい。しかし、傾斜が少ないとシリコンウェハー同士がくっつきやすくなり、反対に傾斜角度が大きいとシリコンウェハー同士のくっつきは少ないが付着水の落下は悪くなる。そして、シリコンウェハーの厚さや外形寸法変わると、シリコンウェハーのたわみやすさが変わる。そのため、シリコンウェハーの厚さや外形寸法が変わることによって、付着水が少なくてシリコンウェハー同士がくっつかない適正傾斜角度が変わるといった問題を有していた。【０００４】  そこで、本発明は、シリコンウェハーの厚みや外形寸法の変更に対してクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を迅速かつ適切な傾斜角度に変更し、処理水の水切りを常に確実に行いかつシリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を防止できるシリコンウェハー用洗浄装置の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】  上記問題を解決するため本願の請求項１に記載の発明は、洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理手段に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、移動手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ機構をもつクランプ部とを備え、クランプ部が昇降プレートに設けられる支持板間に回転軸を介して揺動可能に支持されると共に、昇降プレートにクランプ部を水平位置から揺動傾斜位置に揺動させる傾斜用シリンダーが設けられている一方、傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置を変更可能にする連結位置変更手段が設けられ、該変更手段による傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置の変更により傾斜用シリンダーが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしたことを特徴とする。【０００６】  また、本願の請求項２に記載の発明は、洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理手段に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、移動手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ機構をもつクランプ部とを備え、クランプ部が昇降プレートに設けられる支持板間に回転軸を介して揺動可能に支持されると共に、昇降プレートにクランプ部を水平位置から揺動傾斜位置に揺動させる傾斜用シリンダーが設けられている一方、傾斜用シリンダーにこれのシリンダーロッドの伸長量を調整可能にする伸長量調整手段が設けられ、該伸長量調整手段により傾斜用シリンダーにおけるシリンダーロッドが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしたことを特徴とする。【０００７】  本願の請求項１の発明によれば、洗浄後、傾斜用シリンダーを伸長させることにより、昇降プレートに対しクランプ部を揺動傾斜させるのであり、これにより、バスケットを上方に持ち上げたとき、シリコンウェハーがバスケットにおける収容溝の一方の側壁に整然ともたれかかることになり、隣り合うシリコンウェハーの間隔が常に一定間隔に保たれることになる。その結果、シリコンウェハー間に残ろうとする処理液の水切りを確実に行うことができ、シリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を防止でき、また、シリコンウェハー間の水の流れがよいことから洗浄性を著しく高めることができると共に、洗浄工程中の歩留まりの向上も図れる。しかも、傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置を変更可能にする連結位置変更手段が設けられ、該変更手段による傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置の変更により傾斜用シリンダーが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしているから、シリコンウェハーの厚みや外形寸法が変更されても、上記連結位置変更手段により傾斜用シリンダーとクランプ部の連結位置を変更するだけでクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を適切な傾斜角度に簡単かつ迅速に変更することができ、その結果、処理水の水切りを常に確実に行いかつシリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を確実に防止することができる。【０００８】  本願の請求項２の発明によれば、請求項１の発明と同様にシリコンウェハー間に残ろうとする処理液の水切りを確実に行うことができ、シリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を防止でき、また、シリコンウェハー間の水の流れがよいことから洗浄性を著しく高めることができると共に、洗浄工程中の歩留まりの向上も図ることができ、しかも、傾斜用シリンダーにこれのシリンダーロッドの伸長量を調整可能にする伸長量調整手段が設けられ、該伸長量調整手段により傾斜シリンダーにおけるシリンダーロッドが伸長したときのクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしているから、シリコンウェハーの厚みや外形寸法が変更されても、上記伸長量変更手段によりクランプ部の揺動傾斜位置における傾斜角度を迅速かつ適切な傾斜角度に変更することができ、その結果、処理水の水切りを常に確実に行いかつシリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】  以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１及び図２は、本発明に係るシリコンウェハー用洗浄装置を示すもので、この洗浄装置１は、種々の処理液を貯留した複数の処理槽（図では６個）２ａ…２ｆを一列に備え、洗浄されるべきシリコンウェハーＷを多数枚収容したバスケットＢを移送手段３によりこれら処理槽２ａ…２ｆに順次浸漬させて自動的に洗浄するようになされている。なお、各処理槽２ａ…２ｆにはそれぞれの洗浄液を回収・精製する機能をもつ適宜循環機４が備えられている。【００１０】  移送手段３は、図１〜図３に示すように上記各処理槽２ａ…２ｆにおける循環機構４の上方で列方向に配設されるラック３１ａ付き走行レール３１と、この走行レール３１に走行自在に設けられ、処理槽の上部側に延びる片持ち状の支持フレーム３２を備えた走行台車３３と、該支持フレーム３２に昇降シリンダー（昇降機構）３４と複数のガイド杆３５，３５を介して昇降自在に設けられる昇降プレート３６と、このプレート３６の下部にバスケットＢを開放自在にクランプするクランプ開閉機構３７をもつクランプ部３８とを備えている。【００１１】  走行台車３３の支持フレーム３２には、走行レール３１の上面との対向位置に配設される複数のガイドローラー３３ａ，３３ａと、ラック３１ａに噛合する駆動モータ３３ｂとが設けられている。【００１２】  昇降シリンダ３４ーは、図３に示すように支持フレーム３２に固定され、また、ガイド杆３５，３５は昇降シリンダー３４の両側に配置されると共に昇降プレート３６に固定され、かつ支持フレーム３２に摺動自在に貫通支持されている。【００１３】  クランプ部３８は、図４に示すように昇降プレート３６の前後に下方に向かって設けられる前後の支持板３９，４０と、これら支持板３９，４０間に回転軸４１を介して揺動可能に支持される上下壁４２ａ，４２ｂと前後壁４２ｃ，４２ｄとを備えたクランプ枠４２と、このクランプ枠４２内にクランプ開閉軸４３，４３を介して開閉揺動可能に支持される一対のクランプ片付きＬ字状レバー４４，４４と、クランプ枠４２内に設けられるクランプ開閉用シリンダー４５とを備え、クランプ開閉機構３７を構成するクランプ開閉用シリンダー４５の伸縮ピストンの先端部に連結軸４６ａを有する連結板４６を設けると共に、連結板４６の連結軸４６ａに上記レバー４４，４４の遊端部が連結され、上記シリンダー４５におけるピストンの伸縮動作により図５に示すように連結板４６を介して上記Ｌ字状レバー４４，４４が開閉揺動するようになされている。【００１４】  また、クランプ枠４２を支持板間に揺動可能に支持する回転軸４１を、クランプ枠４２のクランプ中心よりも側方に偏心した位置に該クランプ枠４２と一体的に固設すると共に、該回転軸４１上にブラケット４７を突設する一方、昇降プレート３６に傾斜用シリンダー４８を設けて、該シリンダー４８にブラケット４７の遊端部を連結し、該シリンダー４８の伸縮動作により図６に示すようにブラケット４７を揺動してクランプ枠４２を水平位置から揺動傾斜位置に傾斜させるように構成している。【００１５】  そして、本発明では、傾斜用シリンダー４８とブラケット４７の連結位置を変更可能にする連結位置変更手段５０を設け、該変更手段５０による傾斜用シリンダー４８とブラケット４７の連結位置の変更により傾斜用シリンダー４８が伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能に構成している。【００１６】  具体的には、図４に示すように上記クランプ部４２のブラケット４７に、クランプ部３８が水平位置のとき、傾斜用シリンダー取付軸５１を中心とする円弧より形成される円弧状溝５２を設けると共に、該円弧状溝５２に連結ピン５３を円弧状溝５２の任意の位置に位置変更可能に取り付け、かつ該連結ピン５３に傾斜用シリンダー４８におけるシリンダーロッド４９の先端部を回転自由に連結する構成にして、上記ブラケット４７の円弧溝５２に傾斜用シリンダー４８におけるシリンダーロッド４９の先端部を固定する連結ピン５３の円弧状溝５２に対する取付位置を変更することにより、シリンダーロット４９が伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしている。【００１７】  一方、多数枚のシリコンウェハーＷを収容するバスケットＢは図８において平面から見た図で示すように多数枚のシリコンウェハーＷを僅かな隙間をおいて多数縦方向に列設された収容溝ｂ…ｂ内に縦置き状に収容する構造となされている。【００１８】  また、図１に示すように第１処理槽２ａの手前搬入部には、シリコンウェハーＷを多数収容したバスケットＢを搬送する搬入コンベア５５が設けられている。一方、最終処理槽２ｆの上方には、最終処理槽２ｆから洗浄されたバスケットＢを上方に取り出し、最終処理槽２ｆの前方側乾燥位置に移動待機する乾燥用移送手段５６を備えると共に、最終処理槽２ｆの前方搬出部には、乾燥移送手段５６で乾燥処理されたバスケットＢを受け止めて適宜収容部（図示せず）に搬出する搬出コンベア５７が設けられている。なお、乾燥用移送手段５６は上述の移送手段３と同様の構造であるのでその構造の説明を省略する。【００１９】  さらに、図１中、符号５８は適宜振動又は揺動機構（図示せず）付きのバスケット支持枠で、浸漬されたバスケットＢを各処理槽内にて振動又は揺動させて洗浄効果を高めるためのものである。なお、走行台車３３における駆動モータの制御、クランプ部３８におけるクランプ開閉用シリンダー４５及び傾斜用シリンダ４８の制御は、図示していないがコントローラにより自動的に行われる。【００２０】  次に、以上のように構成されるシリコンウェハー用洗浄装置の作用について説明する。【００２１】  シリコンウェハーＷを多数枚収容したバスケットＢを洗浄する場合、まず、搬入コンベア５５によりバスケットＢを搬入部に供給する。搬入部に供給されたバスケットＢの上方位置に走行台車３３を移動させ、昇降シリンダ３４によりクランプ部３８を下降させると共に、クランプ開閉機構３７によりクランプ片付Ｌ字状レバー４４，４４を拡げてバスケットＢをクランプする。その後、昇降シリンダ３４によりクランプ部３８を上昇させてバスケットＢを持ち上げ、そのうえで、走行台車３３を前方に移動させて、図１に示すように第１処理槽２ａ直上に位置させる。そして、その位置で昇降シリンダー３４によりクランプ部３８を降下させて図７に示すように第１処理槽２ａにバケットＢを浸漬する。その後、クランプ開閉機構３７によりＬ字状レバー４４，４４を狭めてバスケットＢのクランンプを開放し、昇降シリンダー３４によりクランプ部３８を上昇させて待機位置に位置させる。かかる状態で第１処理槽２ａにてバスケット支持枠５８で振動又は揺動させながら洗浄を行う。【００２２】  そして、第１処理槽２ａでの洗浄後、昇降シリンダー３４によりクランプ部３８を下降させ、クランプ開閉機構３７によりＬ字レバー４４，４４を拡げてバスケットＢをクランプし、その上で昇降シリンダー３４によりクランプ部３８と共にバスケットＢを上昇させる。【００２３】  その場合、シリコンウェハーＷ間に残ろうとする処理液の水切りを確実に行うため、図６に示すように傾斜用シリンダー４８を伸長させ、昇降プレート３６に対しクランプ部３８を第１処理槽２ａ内にて水平位置から揺動傾斜位置に揺動傾斜させる。これにより、図８に示すようにバスケットＢにおける収容溝ｂの一方の側壁に整然ともたれかかることになり、隣り合うシリコンウェハーＷの間隔が近接することなく常に一定間隔に保たれることになる。これにより、シリコンウェハーＷに残ろうとする処理上の水切りを確実に行うことができ、シリコンウェハーＷ同士のくっつきによるしみの発生を防止できる。つまり、図９のＡ部分で示すように隣り合うシリコンウェハーＷ間が接近して、水の表面張力（毛細管現象）が強く働いて水きりができなくなるのを防止できる。また、シリコンウェハーＷ間の水の流れがよいことから洗浄性を著しく高めることができると共に、洗浄工程中の歩留まりの向上も図れる。【００２４】  しかも、本発明では、特にクランプ枠４２のブラケット４７に、クランプ部３８が水平位置のとき、傾斜用シリンダー取付軸５１を中心とする円弧より形成される円弧状溝５２を設けると共に、該円弧状溝５２に連結ピン５３を円弧状溝５２の任意の位置に位置変更可能に取り付け、かつ該連結ピン５３に傾斜用シリンダー４８におけるシリンダーロッド４９の先端部を回転自由に連結して、上記ブラケット４７の円弧溝５２に上記シリンダーロッド４９の先端部を連結する連結ピン５３の円弧状溝５２に対する取付位置を変更することにより、シリンダーロッドが伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にした構成としたから、シリコンウェハーＷの厚みや外形寸法が変更されて、例えばバスケットＢの傾斜角度が小さくなるように変更したい場合には、図４の仮想線で示すように上記ブラケット４７に上記シリンダーロッド４９を連結する連結ピン５３の円弧状溝５２に対する取付位置を上方位置（回転軸４１に近付く位置）に変更する。これにより傾斜用シリンダー４８によるクランプ部３８の揺動時には、図６の仮想線で示すように、クランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を小さく抑えた傾斜角度に簡単かつ迅速に変更することができる。また、バスケットＢの傾斜角度が大きくなるように変更したい場合には、図示していないが連結ピン５３の円弧状溝５２に対する取付位置を下方位置（回転軸４１に近付く位置）に変更する。このようにシリコンウェハーＷの厚みや外形寸法が変更されても、上記連結位置変更手段５０によりクランプ枠４２の揺動傾斜位置における傾斜角度を迅速かつ適切な傾斜角度に変更することができ、その結果、その処理水の水切りを常に確実に行いかつシリコンウェハー同士のくっつきによるしみの発生を確実に防止することができる。【００２５】  また、クランプ部３８を揺動傾斜させるタイミングとしては、上述したように第１処理槽２ａ内にて揺動傾斜させる他、クランプ部３８を第１処理槽２ａ上に持ち上げるとき、あるいは持ち上げた後に揺動傾斜させてもよい。【００２６】  その後、上述のようにバスケットＢを持ち上げて水切りを確実に行った後、傾斜用シリンダー４８を短縮させて、昇降プレート３６に対しクランプ部３８を復帰揺動させて元の水平状態となるよう戻す。その上で走行台車３３を残りの各処理槽２ｂ、…２ｆの直上に順次移動させ、各処理槽２ｂ…２ｆにおいても第１処理槽の場合と同様にバケットを浸漬させて洗浄する。そして、洗浄後には上述したようにバスケットＢを傾斜させながら持ち上げて水切りを行うことになる。【００２７】  なお、例えば第２処理槽２ｂで洗浄されたバケットＢを第３処理槽２ｃに移送して浸漬洗浄する際、その洗浄の間に走行台車３３を第１処理槽２ａに後退移動させて第１処理槽２ａで洗浄されたバスケットＢを空になった第２処理槽２ｂに移送する。一方、これにより空になった第１処理槽２ａに搬入部に待機する搬入コンベア５５上のバスケットＢを移送させて順繰りに浸漬し洗浄することになる。【００２８】  また、図９及び図１０は、上述した実施形態と同様のシリコンウェハー洗浄装置におけるクランプ部３８の別の実施の形態を示すもので、上記した実施形態と同様としたクランプ部３８における傾斜用シリンダー４８にこれのシリンダーロッド４９の伸長量を調整可能にする伸長量調整手段６０を設けたものであり、該伸長量調整手段６０によるシリンダーロッド４９の伸長量の調整によりシリンダーロッド４９が伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を調整可能にしたものである。【００２９】  具体的には、傾斜用シリンダー４８の前部と後部にそのシリンダー４８内に高圧エアーを送入する第１、第２ポート６１，６２が設けられ、第１ポート６１にエアーを送入することにより第２ポート６２からエアーを排出してシリンダーロッド４９を短縮させる一方、第２ポート６２に高圧エアーを送入することにより第１ポート６１からエアーを排出してシリンダーロッド４９を伸長させるように構成されていると共に、シリンダーロッド４９が伸長したときのピストン位置と短縮したときのピストン位置を検知するオートスイッチ６３，６４を備えている。つまりシリンダーロッド４９が伸びているか縮んでいるかを検出するために傾斜用シリンダー４８に内蔵されたピストン部（図示せず）にマグネットを設ける一方、傾斜用シリンダー４８の外側にピストンの磁力を検知する上記オートスイッチ（センサー）６３，６４を設けるのである。そして、シリンダーロッド４９が伸長したときのピストン位置を検知するオートスイッチ６３をシリンダーに対し位置変更可能に設置できるようにして、このオートスイッチ６３の位置変更に基づくシリンダーロッド４９の伸長量の調整によりシリンダーロッド４９が伸長したときのクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を任��に調整可能に構成したのである。【００３０】  また、傾斜用シリンダー４８にエアーを送入あるいは排出するための電磁弁（図示せず）が用いられる。この電磁弁としては、一方のポート６１にエアーを送入し、他方のポート６２からエアーを排出する状態、逆に他方のポート６２にエアーを送入し、一方のポート６１から高圧エアーを排出する状態、さらにはどちらのポートからもエアーを排出及び送入しない３つの状態に制御するいわゆる３位置電磁弁を用いるのがよい。【００３１】  また、図１０の点線で示すように第１ポート６１及び第２ポート６２のいずれにもエアーを送入及び排出しない状態のとき、シリンダーロッド４９にブレーキをかけるこができるブレーキ用シリンダー６５を設けるようにすれば、クランプ部３８の傾斜状態がより安全に維持されると共に傾斜位置での停止精度も良くなるので好ましい。さらに図１０中、符号６６はブレーキ用シリンダー６５へのエアー送入ポートである。なお、その他の構造は上述した実施形態と同様であるので同様の符号を付し、またその説明は省略する。【００３２】  上記したクランプ部３８の構成により、クランプ枠４２を傾斜させるときは、第２ポート６２よりエアーを送入し第１ポート６１よりエアーを排出する。シリンダーロッド４９が任意の長さ伸びたときオートスイッチ６３によりピストン位置が検知され、電磁弁を第１ポート６１及び第２ポート６２のいずれにもエアーを送入及び排出しない状態にする。これによってクランプ枠４２は任意の傾斜角度に維持される。水切りが終われば電磁弁を第１ポート６１よりエアーを送入し第２ポート６２よりエアーを排出する状態にし、シリンダーロッド４９を縮めクランプ枠４２を水平位置にする。【００３３】  そして、シリコンウェハーＷの厚みや外形寸法が変更されて、例えばバスケットＢの傾斜角度が小さくなるように変更したい場合には、図９及び図１０の仮想線で示すようにシリンダーロッド４９が伸長したときのピストン位置を検知するオートスイッチ６３を傾斜用シリンダー４８の前方位置から後方側位置６３Ａに位置変更する。これにより傾斜用シリンダー４８によるクランプ部３８の揺動時には、図１０の仮想線で示すように、クランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を小さく抑えた傾斜角度に簡単かつ迅速に変更することができる。また、反対にバスケットＢの傾斜角度が大きくなるように変更したい場合には、上記オートスイッチ６３Ａを傾斜用シリンダー４８の後方位置から前方側位置に位置変更すればよい。このようにシリコンウェハーＷの厚みや外形寸法が変更されても、上記伸長量変更手段６０によりクランプ部３８の揺動傾斜位置における傾斜角度を迅速かつ適切な傾斜角度に変更することができ、その結果、その処理水の水切りを常に確実に行いかつシリコンウェハーＷ同士のくっつきによるしみの発生を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】  本発明のシリコンウェハー用洗浄装置全体の概略側面図である。
【図２】  同洗浄装置の一部省略正面図である。
【図３】  同移送手段の要部の側面図である。
【図４】  同移送手段の要部の一部切り欠き正面図である。
【図５】  クランプ開閉機構の開放動作を示す一部切り欠き正面図である。
【図６】  クランプ部の傾斜動作を示す一部切り欠き正面図である。
【図７】  クランプ部の下降状態を示す一部切り欠き正面図である。
【図８】  バスケットの傾斜時におけるシリコンウェハーの姿勢を示す一部省略平面図である。
【図９】  バスケットの水平時におけるシリコンウェハーの姿勢を示す説明図である。
【図１０】  クランプ部の別の実施の形態を示す一部切り欠き正面図である。
【図１１】  同クランプ部の傾斜動作を示す一部切り欠き正面図である。
【符号の説明】
【００３５】  １            シリコンウェハー用洗浄機
２ａ〜２ｆ    処理槽
３            移送手段
３１          走行レール
３３          走行台車
３４          昇降シリンダー
３６          昇降プレート
３７          クランプ開閉機構
３８          クランプ部
３９          支持板
４０          支持板
４１          回転軸
４８          傾斜用シリンダー
４９          シリンダーロッド
５０          連結位置変更手段
６０          伸長量調整手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2007305949.tif 000006
【図５】
2007305949.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007305949.tif 000009
【図８】
2007305949.tif 000010
【図９】
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【図１０】
2007305949.tif 000012
【図１１】
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