(57)【要約】【課題】回折素子が良好な特性を呈し得るようにする。【解決手段】回折素子２０は、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａにおける外側部分ＡＲｏに液溜部２０Ｃｒを設けたことにより、外側部分ＡＲｏにおける容積を増加させ外側部分質量Ｑを増加させることができるので、当該外側部分質量Ｑが吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位を上回るよう設計されることが容易となり、製造時における品質低下を未然に防止することができる。【選択図】図６
2007293953.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に光ビームを透過させるベース層と、
上記ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層と
を有する光学素子であって、
上記ベース層は、
上記一端面における上記有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有する
ことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
上記液溜部は、
上記一端面から所定深さだけ反対端面側に近接した略環状平面でなる底面部と、上記一端面及び上記底面部を結び略円錐台側面状でなる壁部とにより形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
上記ベース層の上記一端面には、回折格子が形成され、
上記カバー層は、当該回折格子と隙間無く接合される
ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項４】
上記カバー層は、
紫外線硬化樹脂でなる
ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項５】
略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に対して、所定の光源から出射された光ビームを透過させるベース層と、
上記ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層と
を有する光学素子が設けられ、当該光学素子及び所定の対物レンズを介して上記光ビームを所定の照射対象に照射する光ピックアップであって、
上記光学素子の上記ベース層は、
上記一端面における上記有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有する
ことを特徴とする光ピックアップ。
【請求項６】
略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に対して、所定の光源から出射された光ビームを透過させるベース層と、
上記ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層と
を有する光学素子が設けられ、当該光学素子及び所定の対物レンズを介して上記光ビームを光ディスクへ照射する光ディスク装置であって、
上記光学素子の上記ベース層は、
上記一端面における上記有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有する
ことを特徴とする光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学素子、光ピックアップ及び光ディスク装置に関し、例えば複数の層が接合されてなる回折素子に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ディスク装置の光ピックアップにおいて、光ビームの収差を補正するなどの目的で回折素子が用いられている。回折素子は、透明な板状の素子基板の表面に微細な溝状の回折格子を形成し、当該回折格子の山及び谷を通過する際の光路差によって光ビームを回折させるものである。
【０００３】
この回折素子のなかには、屈折率が異なる２種類の材料が接合され、その接合面に回折格子が形成されることにより、所望の回折角を得るようになされたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−３３９７６２公報（第９頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、かかる回折素子の一例として、薄い円柱状でなるベース層の上面に回折格子が形成され、その上側に所定厚さでなるカバー層が接合されたものがある。
【０００５】
このような回折素子の製造手法として、ベース層の上面に液状のカバー材料を塗布し、当該カバー材料の上方からベース層の上面と所定間隔をなすよう平板状の型を押し当てながら当該カバー材料を硬化させることにより、ベース層に対して所定厚さのカバー層を接合させるものがある。
【０００６】
この製造手法では、カバー材料を塗布する吐出装置における塗布量の調整単位が限られるため、カバー材料の実際の塗布量が理想的な塗布量と異なる可能性がある。このため、カバー材料が多過ぎて型を押し当てた際にベース層からはみ出させたり、或いはカバー材料の塗布量が少な過ぎてベース層を覆い切れなくなる危険性がある。
【０００７】
一方、回折素子では、一般に光軸の中心から所定半径までの内側部分にのみ光ビームを透過させるため（以下、光ビームを透過させる部分を有効部分と呼ぶ）、少なくともこの透過部分がカバー層により覆われていれば良く、当該有効部分の外側（以下、これを外側部分と呼ぶ）については、当該カバー層に覆われていなくても良い。
【０００８】
すなわち回折素子は、外側部分の容積によりカバー材料の塗布量の過不足をある程度吸収するできることになる。
【０００９】
ここで、光ディスク装置を小型化する等の理由により、回折素子を小型化したいといった要求がある。
【００１０】
しかしながら、回折素子は、小型化された場合、外側部分の絶対的な幅が狭くなるため容積も小さくなり、カバー材料の塗布量の過不足を当該外側部分の容積では吸収しきなくなる可能性があった。
【００１１】
このとき回折素子では、カバー材料がベース層の外側まではみ出し、或いは有効部分において当該カバー材料に覆われない部分が生じる危険性があり、このような場合に回折素子として十分な特性を呈し得ない危険性がある、という問題があった。
【００１２】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、良好な特性を呈し得る回折素子、光ピックアップ及び光ディスク装置を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
かかる課題を解決するため本発明の回折素子においては、略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に光ビームを透過させるベース層と、ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層とを有する光学素子であって、ベース層は、一端面における有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有するようにした。
【００１４】
これにより、光学素子において液状でなる材料の一部を液溜部に逃がすことができるので、ベース層の厚さを維持したまま、塗布する材料を不用意に削減して有効部分を覆いきれなくなる危険性を招くことなく、当該材料がベース層からはみ出す危険性を低減することができる。
【００１５】
また本発明の光ピックアップにおいては、略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に対して、所定の光源から出射された光ビームを透過させるベース層と、ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層とを有する光学素子が設けられ、当該光学素子及び所定の対物レンズを介して光ビームを所定の照射対象に照射する光ピックアップであって、光学素子のベース層は、一端面における有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有するようにした。
【００１６】
これにより液状でなる材料の一部を液溜部に逃がすことができるので、ベース層の厚さを維持したまま、塗布する材料を不用意に削減して有効部分を覆いきれなくなる危険性を招くことなく、当該材料がベース層からはみ出す危険性を低減することができ、光ピックアップにおける光学的な特性の低下を未然に防止できる。
【００１７】
さらに本発明の光ディスク装置においては、略円柱状に形成され両端面における中心同士を仮想的に結ぶ中心軸から所定半径以内の有効部分に対して、所定の光源から出射された光ビームを透過させるベース層と、ベース層の一端面に塗布された液状の材料が所定厚さに形成されたカバー層とを有する光学素子が設けられ、当該光学素子及び所定の対物レンズを介して光ビームを光ディスクへ照射する光ディスク装置であって、光学素子のベース層は、一端面における有効部分の外側が反対端面側へ掘り下げられてなる液溜部を有するようにした。
【００１８】
これにより、光学素子において液状でなる材料の一部を液溜部に逃がすことができるので、ベース層の厚さを維持したまま、塗布する材料を不用意に削減して有効部分を覆いきれなくなる危険性を招くことなく、当該材料がベース層からはみ出す危険性を低減することができ、光ディスク装置における光学的な特性の低下を未然に防止できる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、液状でなる材料の一部を液溜部に逃がすことができるので、ベース層の厚さを維持したまま、塗布する材料を不用意に削減して有効部分を覆いきれなくなる危険性を招くことなく、当該材料がベース層からはみ出す危険性を低減することができ、かくして良好な特性を呈し得る回折素子を実現できる。
【００２０】
また本発明によれば、液状でなる材料の一部を液溜部に逃がすことができるので、ベース層の厚さを維持したまま、塗布する材料を不用意に削減して有効部分を覆いきれなくなる危険性を招くことなく、当該材料がベース層からはみ出す危険性を低減することができるので、光学的な特性の低下を未然に防止でき、かくして良好な特性を呈し得る光ピックアップ及び光ディスク装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。
【００２２】
（１）光ディスク装置の構成
（１−１）光ディスク装置の全体構成
図１において、光ディスク装置１は、ＣＤ（Compact Disc）方式、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）方式又はＢＤ（Blu-ray Disc、登録商標）方式といった３方式のいずれかでなる光ディスク１００を再生し得るようになされている。
【００２３】
この光ディスク装置１は、制御部２によって全体を統括制御するようになされており、光ディスク１００が装填された状態で、図示しない外部機器からの再生指示等を受け付けると、当該制御部２から駆動部３及び信号処理部４を制御することにより当該光ディスク１００に記録された情報を読み出すようになされている。
【００２４】
実際上、信号処理部４は、制御部２の制御に基づき、光ピックアップ７により対物レンズユニット９から所定の光ビームを光ディスク１００の信号記録面に照射させる。
【００２５】
これと同時に駆動部３は、制御部２の制御に基づき、スピンドルモータ５により光ディスク１００を所定の回転速度で回転させ、スレッドモータ６により光ピックアップ７を光ディスク１００の径方向であるトラッキング方向へ大きく移動させ、さらに２軸アクチュエータ８により対物レンズユニット９を光ディスク１００に対して近接又は離隔させる方向であるフォーカス方向及びトラッキング方向の２方向へそれぞれ細かく移動させることにより、所望のトラックに対して光ビームを合焦させる。
【００２６】
これに応じて信号処理部４は、光ディスク１００の信号記録面において光ビームが反射されてなる反射光を検出し、その検出結果を基に再生信号を生成して、制御部２を介してこの再生信号を図示しない外部機器へ送出させる。
【００２７】
光ピックアップ７は、いわゆる３波長対応型となっており、対物レンズユニット９から、ＣＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＣＤ方式ディスク１００ｃと呼ぶ）に対して波長約７８０［ｎｍ］の光ビームを照射し、またＤＶＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＤＶＤ方式ディスク１００ｄと呼ぶ）に対して波長約６５０［ｎｍ］の光ビームを照射し、さらにＢＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＢＤ方式ディスク１００ｂと呼ぶ）に対して波長約４０５［ｎｍ］の光ビームを照射するようになされている。
【００２８】
このように光ディスク装置１は、ＣＤ方式、ＤＶＤ方式、又はＢＤ方式でなる光ディスク１００に対してそれぞれの方式に適した光ビームを照射することにより、当該光ディスク１００を再生し得るようになされている。
【００２９】
（１−２）光ピックアップの構成
図２に示すように、光ピックアップ７は、光ビームの光源として、ＣＤ方式用の波長約７８０［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＣＤ用光ビームＬｃと呼ぶ）及びＤＶＤ方式用の波長約６５０［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＤＶＤ用光ビームＬｄと呼ぶ）を出射し得るレーザダイオード１１と、ＢＤ方式用の波長約４０５［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＢＤ用光ビームＬｂと呼ぶ）を出射し得るレーザダイオード１２とを有している。
【００３０】
カップリングレンズ１３は、レーザダイオード１１から出射された光ビームの光学倍率を変換するようになされている。
【００３１】
ビームスプリッタ１４は、反射透過面１４Ａにおいて、光ビームをその波長に応じて反射又は透過させるようになされており、当該反射透過面１４Ａにおいて、波長約７８０［ｎｍ］でなるＣＤ用光ビームＬｃ及び波長約６５０［ｎｍ］でなるＤＶＤ用光ビームＬｄを反射させ、また波長約４０５［ｎｍ］でなるＢＤ用光ビームＬｂを透過させるようになされている。
【００３２】
偏光ビームスプリッタ１５は、偏光面１５Ａにおいて、光ビームをその偏光方向により反射又は透過させるようになされており、ビームスプリッタ１４側から入射された光ビームを透過させ、また偏光方向が調整された上でコリメータレンズ１６側から入射された光ビームを反射させるようになされている。
【００３３】
コリメータレンズ１６は、偏光ビームスプリッタ１５から入射され発散光でなる光ビームを平行光に変換し、また立ち上げミラー１７から入射され平行光でなる光ビームを収束光に変換するようになされている。
【００３４】
立ち上げミラー１７は、コリメータレンズ１６から入射される水平方向の光ビームを反射して垂直方向、すなわち光ディスク１００に対してほぼ垂直に入射させる方向に立ち上げ、また１／４波長板１８からほぼ垂直に入射された光ビームを水平方向に反射させるようになされている。
【００３５】
１／４波長板１８は、光ビームにおける一部成分の位相を１／４波長分遅延させることにより、立ち上げミラー１７から入射される光ビームを直線偏光から円偏光へ変換し、或いは対物レンズユニット９から入射される光ビームを円偏光から直線偏光に変換するようになされている。
【００３６】
対物レンズユニット９は、図３に斜視図を示すように、略筒状でなる鏡筒部１９（図３では一部切断面を示す）の下部に扁平な円盤状でなる回折素子２０が取り付けられていると共に、当該鏡筒部１９の上部から中央部にかけて、当該回折素子２０とほぼ同様の大きさでなる扁平な円盤状部の下面に当該円盤よりも若干小径の紡錘形部が一体に形成されたような形状でなる対物レンズ２１が取り付けられている。
【００３７】
対物レンズユニット９は、１／４波長板１８から入射され平行光でなる光ビームを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これを光ディスク１００の信号記録面に合焦させるようになされている。
【００３８】
また光ピックアップ７は、光ディスク１００の信号記録面において反射され発散光となった光ビームを、対物レンズユニット９の対物レンズ２１及び回折素子２０により平行光に変換し、１／４波長板１８により円偏光から直線偏光に変換し、立ち上げミラー１７により水平方向、すなわち偏光ビームスプリッタ１５が設けられている方向へ反射させ、コリメータレンズ１６により平行光から収束光に変換した後、偏光ビームスプリッタ１５へ入射させる。
【００３９】
この場合、偏光ビームスプリッタ１５は、光ビームの偏光方向に応じて偏光面１５Ａにおいて当該光ビームを反射し、これをコンバージョンレンズ２２へ入射させる。
【００４０】
コンバージョンレンズ２２は、ＣＤ用光ビームＬｃ及びＤＶＤ用光ビームＬｄとＢＤ用光ビームＬｂとの光学倍率の変換を行うようになされている。また光軸合成素子２３は、レーザダイオード１１から出射されたＣＤ用光ビームＬｃ及びＤＶＤ用光ビームＬｄの光軸とレーザダイオード１２から出射されたＢＤ用光ビームＬｂの光軸とを一致させるようになされている。
【００４１】
フォトディテクタ２４は、その上面（すなわちコンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３を通過した光ビームが照射される面）においてそれぞれ所定形状でなる複数の検出領域がそれぞれ所定の位置に形成されており、照射された光ビームの光量をそれぞれ検出して光電変換することにより複数の検出信号を生成し、これを信号処理部４（図１）へ供給するようになされている。
【００４２】
これに応じて信号処理部４は、フォトディテクタ２４（図２）からの検出信号を用いた所定の演算処理等を行うことにより再生ＲＦ信号を生成し、当該再生ＲＦ信号を基に所定の復号化処理や復調処理等を経て再生信号を生成するようになされている。
【００４３】
また信号処理部４（図１）は、フォトディテクタ２４（図２）からの検出信号を用いた所定の演算処理等を行うことにより、トラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成し、これらを制御部２へ供給するようになされている。これに応じて制御部２は、駆動部３を介してトラッキング制御やフォーカス制御等を行い、光ディスク１００に対する光ビームの照射状態を調整して所望のトラックに追従させ、再生信号を正常に生成し得るようになされている。
【００４４】
（１−２−１）ＣＤ方式ディスクの場合
実際上、制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＣＤ方式ディスク１００ｃであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１１の発光点１１Ａから発散光でなるＣＤ用光ビームＬｃを発射させ、カップリングレンズ１３を介してビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００４５】
光ピックアップ７は、ビームスプリッタ１４によりＣＤ用光ビームＬｃを反射透過面１４Ａにおいて反射させ、偏光ビームスプリッタ１５を透過させて、コリメータレンズ１６により発散光から平行光に変換し、立ち上げミラー１７により水平方向から垂直方向に立ち上げ、１／４波長板１８により直線偏光から円偏光に変換した後、当該ＣＤ用光ビームＬｃを対物レンズユニット９へ入射させる。
【００４６】
対物レンズユニット９は、１／４波長板１８から入射されたＣＤ用光ビームＬｃを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面に合焦させる。
【００４７】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面において反射され発散光となったＣＤ用光ビームＬｃを、対物レンズ２１及び回折素子２０により平行光に変換し、１／４波長板１８へ入射させる。
【００４８】
その後光ピックアップ７は、１／４波長板１８に入射されたＣＤ用光ビームＬｃを円偏光から直線偏光に変換させ、立ち上げミラー１８により水平方向へ反射させ、コリメータレンズ１６により平行光から収束光に変換させた後、偏光ビームスプリッタ１５により偏光面１５Ａにおいて反射させ、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３を順次通過させてフォトディテクタ２４へ照射させる。
【００４９】
フォトディテクタ２４は、照射されたＣＤ用光ビームＬｃの光量を複数の検出領域によりそれぞれ検出して複数の検出信号を生成し、これを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００５０】
これに応じて信号処理部４は、複数の検出信号を基に再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００５１】
（１−２−２）ＤＶＤ方式ディスクの場合
制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＤＶＤ方式ディスク１００ｄであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１１の発光点１１Ｂから発散光でなるＤＶＤ用光ビームＬｄを発射させ、カップリングレンズ１３を介してビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００５２】
その後、光ピックアップ７は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＤＶＤ用光ビームＬｄをカップリングレンズ１３、ビームスプリッタ１４、偏光ビームスプリッタ１５、コリメータレンズ１６、立ち上げミラー１７及び１／４波長板１８の順に通過又は反射させ、対物レンズユニット９において当該ＤＶＤ用光ビームＬｄを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面に合焦させる。
【００５３】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面において反射され発散光となったＤＶＤ用光ビームＬｄを、対物レンズ２１、回折素子２０により平行光に変換した後、１／４波長板１８、立ち上げミラー１７、コリメータレンズ１６、偏光ビームスプリッタ１５、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３の順に通過又は反射させ、フォトディテクタ２４へ照射させる。
【００５４】
フォトディテクタ２４は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、照射されたＤＶＤ用光ビームＬｄの光量を複数の検出領域によって検出することにより複数の検出信号を生成し、これらを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００５５】
これに応じて信号処理部４は、再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００５６】
（１−２−３）ＢＤ方式ディスクの場合
制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＢＤ方式ディスク１００ｂであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１２の発光点１２Ａから発散光でなるＢＤ用光ビームＬｂを発射させ、ビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００５７】
この場合、ビームスプリッタ１４は、ＢＤ用光ビームＬｂを反射透過面１３Ａにおいて透過させ、これを偏光ビームスプリッタ１５へ入射させる。
【００５８】
その後光ピックアップ７は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＢＤ用光ビームＬｂを偏光ビームスプリッタ１５、コリメータレンズ１６、立ち上げミラー１７及び１／４波長板１８の順に通過又は反射させ、対物レンズユニット９において当該ＢＤ用光ビームＬｂを対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面に合焦させる。
【００５９】
因みに対物レンズユニット９の回折素子２０は、ＢＤ用光ビームＬｂを回折せずそのまま透過させるようになされている（詳しくは後述する）。
【００６０】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面において反射され発散光となったＢＤ用光ビームＬｂを、対物レンズ２１により平行光に変換した後、１／４波長板１８、立ち上げミラー１７、コリメータレンズ１６、偏光ビームスプリッタ１５、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３の順に通過又は反射させ、フォトディテクタ２４へ照射させる。
【００６１】
フォトディテクタ２４は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、照射されたＢＤ用光ビームＬｂの光量を複数の検出領域によって検出することにより複数の検出信号を生成し、これらを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００６２】
これに応じて信号処理部４は、再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００６３】
このように光ピックアップ７は、光ディスク１００がＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ或いはＢＤ方式ディスク１００ｂのいずれであっても、対物レンズユニット９により、ＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ又はＢＤ用光ビームＬｂを当該光ディスク１００の信号記録面に合焦させ得ると共に、その反射光をフォトディテクタ２４により検出し得るようになされている。
【００６４】
（１−３）対物レンズユニットの構成
次に、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ及びＢＤ方式ディスク１００ｂと、対物レンズユニット９との拡大断面図を図４に示す。
【００６５】
因みに、対物レンズユニット９には２軸アクチュエータ８（図１）が取り付けられているものの、図４では省略している。
【００６６】
一般に、ＣＤ方式、ＤＶＤ方式及びＢＤ方式では、互換性等の観点から、情報を読み出すための光ビームの波長、当該光ビームを集光する際の開口数、及び各光ディスク１００における下面から信号記録面までの部分（いわゆるカバー層）の厚みがそれぞれ規格により規定されている。
【００６７】
具体的にＣＤ方式では、波長が約７８０［ｎｍ］、開口数が約０．４５、カバー層の厚みが１．２［ｍｍ］と規定されており、またＤＶＤ方式では、波長が約６５０［ｎｍ］、開口数が約０．６、カバー層の厚みが０．６［ｍｍ］と規定されており、さらにＢＤ方式では、波長が約４０５［ｎｍ］、開口数が約０．８５、カバー層の厚みが０．１［ｍｍ］と規定されている。
【００６８】
また対物レンズユニット９では、対物レンズ２１の特性上、当該対物レンズ２１からＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂがそれぞれ照射される場合の焦点距離がそれぞれ異なっている。
【００６９】
このため光ディスク装置１では、実際には光ディスク１００の高さを固定したまま２軸アクチュエータ８（図１）を介して対物レンズユニット９の高さ（すなわち光ディスク１００との間隔）を調整することにより、各光ビームを各光ディスクの信号記録面に合焦させるようになされている。
【００７０】
因みに図４では、説明の都合上、対物レンズユニット９を固定し光ディスク１００の高さを変化させている。このため図４では、各光ディスクの下面の高さが異なっている。また図４では、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ及びＢＤ方式ディスク１００ｂについて、いずれもカバー層のみを表している。
【００７１】
ところで対物レンズ２１は、ＢＤ用光ビームＬｂの相対的な強度やＢＤ方式で規定されている開口数等の観点から、ＣＤ用光ビームＬｃやＤＶＤ用光ビームＬｄよりも優先して当該ＢＤ用光ビームＬｂに最適化された設計となっている。
【００７２】
このため対物レンズユニット９の対物レンズ２１は、当該対物レンズ２１の下側からＢＤ用光ビームＬｂが平行光として入射されると、当該ＢＤ用光ビームＬｂを収束光に変換し、ＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面に合焦させることができる。
【００７３】
しかしながら対物レンズ２１は、ＢＤ用光ビームＬｂに最適化されているため、仮にＣＤ用光ビームＬｃ又はＤＶＤ用光ビームＬｄが対物レンズ２１の下側から平行光として入射された場合、収束光に変換することはできるものの、収差が発生してしまうため光ディスク１００の信号記録層に正しく合焦させることができない。
【００７４】
そこで対物レンズユニット９は、回折素子２０によりＣＤ用光ビームＬｃ又はＤＶＤ用光ビームＬｄのみを選択的に回折させ非平行光として対物レンズ２１に入射させると共に、ＢＤ用光ビームＬｂを平行光のまま当該対物レンズ２１に入射させるようになされている。
【００７５】
具体的に回折素子２０は、ＣＤ用光ビームＬｃを回折すると共にＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂを回折しないようなホログラムでなるＣＤ用回折格子ＤＧｃが上層部２０Ａに形成されており、図４に示したように、当該ＣＤ用回折格子ＤＧｃによってＣＤ用光ビームＬｃをやや外方へ回折させるようになされている。
【００７６】
すなわち回折素子２０の上層部２０Ａは、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂをそのまま透過させてＣＤ用光ビームＬｃのみを選択的に回折させることができ、換言すれば、ＣＤ用光ビームＬｃの収差のみを補正するレンズとして機能することになる。
【００７７】
これに応じて対物レンズ２１は、図４に示したように、回折素子２０から入射されるＣＤ用光ビームＬｃをその下面及び上面においてそれぞれ屈折させ、収束光に変換する。この結果、対物レンズユニット９は、ＣＤ用光ビームＬｃの収差を補正することができ、対物レンズ２１から照射するＣＤ用光ビームＬｃをＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面に合焦させることができる。
【００７８】
また回折素子２０は、ＤＶＤ用光ビームＬｄを回折すると共にＣＤ用光ビームＬｃ及びＢＤ用光ビームＬｂを回折しないようなホログラムでなるＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが下層部２０Ｂに形成されており、図４に示したように、当該ＤＶＤ用回折格子ＤＧｄによってＤＶＤ用光ビームＬｄをわずかに外方へ回折させるようになされている。
【００７９】
すなわち回折素子２０の下層部２０Ｂは、ＣＤ用光ビームＬｃ及びＢＤ用光ビームＬｂをそのまま透過させ、ＤＶＤ用光ビームＬｄのみを選択的に回折させることができ、換言すれば、ＤＶＤ用光ビームＬｄの収差のみを補正するレンズとして機能することになる。
【００８０】
これに応じて対物レンズ２１は、図４に示したように、回折素子２０から入射されるＤＶＤ用光ビームＬｄをその下面及び上面においてそれぞれ屈折させ、収束光に変換する。この結果、対物レンズユニット９は、ＤＶＤ用光ビームＬｄの収差を補正することができ、対物レンズ２１から照射するＤＶＤ用光ビームＬｄをＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面に合焦させることができる。
【００８１】
このように対物レンズユニット９は、回折素子２０の上層部２０ＡによりＣＤ用光ビームＬｃのみを回折させて収差を補正し、また回折素子２０の下層部２０ＢによりＤＶＤ用光ビームＬｄのみを回折させて収差を補正することにより、ＢＤ用光ビームＬｂに最適化された対物レンズ２１から照射するＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂを、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ、及びＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面にそれぞれ合焦させ得るようになされている。
【００８２】
（１−４）回折素子の構成
回折素子２０は、図５（Ａ）に示すように、全体的に扁平な円盤状に形成されたベース層２０Ｃを中心に構成されており、上述したように上層部２０ＡにＣＤ用回折格子ＤＧｃが形成され、また下層部２０ＢにＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが形成されている。
【００８３】
ベース層２０Ｃは、所定の屈折率を有する透明な樹脂材料でなり、屈折率の異なる他の物質や空気との境界面において、光ビームを屈折させるようになされている。
【００８４】
上層部２０Ａは、図５（Ｂ）に部分拡大断面図を示すように、ベース層２０Ｃの上面に階段状でなるＣＤ用回折パターンＰＴｃが周期的に形成されており、その上側に透明な樹脂材料でなるカバー層２０Ｄが接合されている。
【００８５】
ＣＤ用回折パターンＰＴｃは、３段の階段状に形成されており、全体の高さ、すなわち１段目と３段目との距離は１２［μｍ］とされ、またＣＤ用回折パターンＰＴｃごとの周期は最短１８［μｍ］とされている。またＣＤ用回折パターンＰＴｃは、図３に示したように、回折素子２０の上面における、中心から外径の半分程度までの範囲に同心円状に形成されている。
【００８６】
カバー層２０Ｄは、ベース層２０Ｃと異なる屈折率を有する透明な材料によって構成されており、その下面がＣＤ用回折パターンＰＴｃと隙間無く接合するように形成されると共に、その上面が平面状に形成されている。因みに、カバー層２０Ｄの厚さ、すなわちカバー層２０Ｄの上面からＣＤ用回折パターンＰＴｃの最上段までの間隔が、約２０［μｍ］となるようになされている。
【００８７】
このように回折素子２０の上層部２０Ａは、ベース層２０Ｃの上面に階段状でなるＣＤ用回折パターンＰＴｃが周期的に形成され、その上側に当該ベース層２０Ｃと異なる屈折率を有するカバー層２０Ｄが接合されており、これにより光ビームをその波長に応じて回折又は透過させ、結果的にＣＤ用光ビームＬｃのみを回折させるＣＤ用回折格子ＤＧｃとして機能するようになされている。
【００８８】
一方、下層部２０Ｂは、図５（Ｃ）に部分拡大断面図を示すように、平面状に形成されたベース層２０Ｃの下面に、ＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが形成された回折パターン層２０Ｅが接合されている。
【００８９】
回折パターン層２０Ｅは、透明な樹脂材料でなると共にベース層２０Ｃとほぼ同等の屈折率を有しており、階段状でなるＤＶＤ用回折パターンＰＴｄが下面側に周期的に形成されている。なお回折パターン層２０Ｅの下面は、他の物質に覆われていないため、直接空気に触れるようになされている。
【００９０】
ＤＶＤ用回折パターンＰＴｄは、５段の階段状に形成されており、全体の高さ、すなわち１段目と５段目との距離は６［μｍ］となされ、またＤＶＤ用回折パターンＰＴｄごとの周期は１７０［μｍ］となされている。またＤＶＤ用回折パターンＰＴｄは、図３に示したように、回折素子２０の下面における、中心から外径の２／３程度までの範囲に同心円状に形成されている。
【００９１】
このように回折素子２０の下層部２０Ｂは、ベース層２０Ｃの下面に接合された回折パターン層２０Ｅに階段状でなるＤＶＤ用回折パターンＰＴｄが周期的に形成されており、これにより光ビームをその波長に応じて回折又は透過させ、結果的にＤＶＤ用光ビームＬｄのみを回折させるＤＶＤ用回折格子ＤＧｄとして機能するようになされている。
【００９２】
（２）回折素子の詳細構成
（２−１）回折素子の製造
ところで回折素子２０は、製造される際、射出成型により生成されたベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに紫外線硬化樹脂でなるカバー材料ＭＣが塗布され、紫外線が照射されることにより当該カバー材料ＭＣが硬化してカバー層２０Ｄとなる、いわゆるＵＶ（Ultra Violet ray）レプリカが行われるようになされている。
【００９３】
実際上、回折素子２０を製造する製造装置６０は、まず図６（Ａ）に断面図を示すように、所定の金型に所定の透明な樹脂材料（例えばポリオレフィン系樹脂）を充填し射出成型することにより、ベース層２０Ｃを製造する。因みにベース層２０Ｃは、図３における回折素子２０と同様に全体として扁平な円盤状に形成されている。
【００９４】
ここでベース層２０Ｃは、上面に複数の回折パターンＰＴでなる回折格子ＤＧが形成されており、さらに上面２０Ｃａの外側部分は、当該上面２０Ｃａが下方向に掘り下げられてなる液溜部２０Ｃｒを形成している。
【００９５】
この液溜部２０Ｃｒは、ベース層２０ＣのうちＢＤ用光ビームＬｂ（図４）を透過させる部分である有効部分ＡＲａよりも外側の外側部分ＡＲｏに設けられている。当該液溜部２０Ｃｒの下側境界面は、上面２０Ｃａから高さＲｈだけ下側の位置に平面状に形成されており、全体として環状平面を形成している。
【００９６】
また当該液溜部２０Ｃｒの内側境界面は、下方へ行くにつれ外側へ広げられており、全体として円錐台の側面のような形状となっている。この内側境界面は、液溜部２０Ｃｒの下側境界面を延長した仮想下面との間に角度Ｒθをなすようになされている。
【００９７】
次に製造装置６０は、図６（Ｂ）に示すように、台６１の上にベース層２０Ｃを置載し、吐出装置６２からベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに紫外線硬化樹脂でなる液状のカバー材料ＭＣを所定量滴下する。
【００９８】
続いて製造装置６０は、図６（Ｃ）に示すように、台６１上においてベース層２０Ｃの周囲に所定高さでなる支柱６３Ａ及び６３Ｂを設置した上で、ガラス板６４をカバー材料ＭＣの上側から押し当てる。因みに、支柱６３Ａ及び６３Ｂの高さは、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａとガラス板６４の下面との間隔を厚さＴｆとするように調整されている。
【００９９】
このときカバー材料ＭＣは、ガラス板６４が押し当てられることにより外側へ押し出されていき、有効部分ＡＲａに相当する空間を満たした上で、外側部分ＡＲｏに相当する空間に押し出され、その一部が液溜部２０Ｃｒにも流入することになる。
【０１００】
さらに製造装置６０は、ガラス板６４をカバー材料ＭＣの上側から押し当てたまま、当該ガラス板６４を介して紫外線を照射することにより、当該カバー材料ＭＣを硬化させる。
【０１０１】
この結果、図６（Ｄ）に示すように、ベース層２０Ｃに厚さＴｆ（実際には約２０［μｍ］）でなるカバー層２０Ｄが接合されることになる。
【０１０２】
このように製造装置６０は、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに所定量のカバー材料ＭＣを塗布し、ガラス板６４を押し当てた状態で硬化させることにより、当該ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに厚さＴｆでなるカバー層２０Ｄを形成し得るようになされている。
【０１０３】
（２−２）液溜部によるカバー層外径の調整
ところで回折素子２０は、図３に示したように、鏡筒部１９に対して、当該回折素子２０の側面が鏡筒部１９の内側面に接するよう取り付けられる。このため、仮にカバー材料ＭＣがベース層２０Ｃよりもはみ出して硬化された場合、回折素子２０は、鏡筒部１９に対して中心軸がずれる等、正しく取り付けられなくなる可能性がある。
【０１０４】
一方、回折素子２０は、図４に示したように、所望の回折作用を呈するために、少なくともＢＤ用光ビームＬｂが透過する部分、すなわち有効部分ＡＲａに関して、カバー層２０Ｄによって一様に覆われ当該カバー層２０Ｄの上面がほぼ平坦に形成されている必要がある。
【０１０５】
すなわち回折素子２０のカバー層２０Ｄは、当該回折素子２０の外径からはみ出さず、且つ有効部分Ｒａを確実に満たすこと、換言すれば当該カバー層２０Ｄの外周部分が外側部分ＡＲｏに収まっていることが望ましい。このため製造装置６０では、吐出装置６２からのカバー材料ＭＣの吐出量を、カバー層２０Ｄの外周部分が外側部分ＡＲｏに収めるように予め算出されるようになされている。
【０１０６】
ここで、回折素子の外径を１０、８、６、４、３及び２［ｍｍ］としたときの、有効外径Ｒａ、外側部分幅Ｒｄ、カバー層２０Ｄの厚さＴｆを図７に示す。因みに、有効外径Ｒａは、光ピックアップ７（図２）における各光学素子の特性や仕様等に応じて定められている。
【０１０７】
これらの回折素子については、有効外径Ｒａ等が判明しているため、カバー層２０Ｄにおける有効部分ＡＲａに相当する空間の容積、及び外側部分ＡＲｏに相当する空間の容積が算出され得る。さらにカバー材料ＭＣの比率を１．２とすることにより、各回折素子における有効部分ＡＲａ内のカバー材料ＭＣの質量を表す有効部分質量Ｐ０を求めることができる（図７）。
【０１０８】
まず比較対象として、仮にベース層２０Ｃの上面２０Ｃａの外側が掘り下げられず液溜部２０Ｃ（図６（Ａ））が設けられなかった場合における、外側部分ＡＲｏ内のカバー材料ＭＣの質量を表す外側部分質量Ｑ０を算出した（図７）。この算出結果を見ると、各回折素子の外径が小さくなるに連れて、外側部分質量Ｑ０も小さくなっていることがわかる。
【０１０９】
この外側部分質量Ｑ０に着目すると、外径が４［ｍｍ］の回折素子（以下、これを回折素子（４）と呼ぶ、他の外径の回折素子も同様とする）では当該外側部分質量Ｑ０が２３．６［μｇ］であるのに対して、回折素子（３）では当該外側部分質量Ｑ０が１３．３［μｇ］となっている。
【０１１０】
ここで、仮に吐出装置６２（図６（Ｂ））におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位が２０［μｇ］であった場合、所望の吐出量に対して２０［μｇ］以内の誤差が生じる可能性があることになる。
【０１１１】
従って、回折素子（４）については、当該吐出量の調整によりカバー層２０Ｄの外周部分を外側部分ＡＲｏに確実に収め得ることになるものの、回折素子（３）については、当該吐出量の調整によりカバー層２０Ｄの外周部分を外側部分ＡＲｏに収め得ず、例えばカバー層２０Ｄがベース層２０Ｃからはみ出し、いわゆるバリを形成してしまう可能性があることになる。
【０１１２】
すなわち製造装置６０は、回折素子の製造品質を考慮すると、吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位が２０［μｇ］であった場合、外径が４［ｍｍ］以上の回折素子を製造できるものの、外径が３［ｍｍ］以下の回折素子を製造できないことになる。このため、液溜部２０Ｃｒが設けられておらず外径が３［ｍｍ］以下の回折素子を製造するには、製造装置６０の吐出装置６２をより高精度なものに変更する必要があった。
【０１１３】
これに対して、実際のベース層２０Ｃには、図６（Ａ）に示したように、上面２０Ｃａの外側が掘り下げられることにより液溜部２０Ｃｒが設けられている。これによりベース層２０Ｃは、カバー材料ＭＣの一部を当該液溜部２０Ｃｒに逃がすことができるので、当該カバー材料ＭＣの塗布量における誤差の吸収範囲を広げることができる。
【０１１４】
ここで液溜部２０Ｃｒの高さＲｈを５０［μｍ］とし、角度Ｒθを４５［°］とした場合における、外側部分ＡＲｏに相当する空間の容積をカバー材料ＭＣの質量に換算した外側部分質量Ｑ１を算出した（図７）。
【０１１５】
このとき各回折素子においては、カバー材料ＭＣを逃がし得る空間である液溜部２０Ｃｒが設けられることにより、外側部分ＡＲｏに相当する空間の容積が増加されることになるため、外側部分質量Ｑ１が外側部分質量Ｑ０よりも大きい値となる。
【０１１６】
例えば回折素子（３）に着目すると、液溜部２０Ｃｒが設けられなかった場合の外側部分質量Ｑ０が１３．３［μｇ］であったのに対し、液溜部２０Ｃｒが設けられた場合の外側部分質量Ｑ１が２５．８［μｇ］となっている。これにより、吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位が２０［μｇ］であった場合、液溜部２０Ｃｒが設けられなければ充分な品質の回折素子（３）を製造し得ないものの、液溜部２０Ｃｒが設けらたことにより充分な品質の回折素子（３）を製造し得ることになる。
【０１１７】
このように回折素子は、液溜部２０Ｃｒが設けられることにより、外側部分ＲＡｏによってカバー材料ＭＣの誤差を吸収し得る範囲を広げることができるので、製造装置６０に対する制約を緩和することができる。
【０１１８】
さらに、液溜部２０Ｃｒの角度Ｒθを６０［°］とした場合における、外側部分ＡＲｏに相当する空間の容積をカバー材料ＭＣの質量に換算した外側部分質量Ｑ２を算出した（図７）。
【０１１９】
このとき各回折素子においては、外側部分ＡＲｏに相当する空間の容積がさらに増加されることになるため、外側部分質量Ｑ２が外側部分質量Ｑ１よりもさらに大きい値となる。
【０１２０】
例えば回折素子（２）に着目すると、角度Ｒθが４５［°］とされた場合の外側部分質量Ｑ１が６．８［μｇ］であったのに対し、角度Ｒθが６０［°］とされた場合の外側部分質量Ｑ２が１９．８［μｇ］となっている。これにより、吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位が２０［μｇ］であった場合、角度Ｒθが４５［°］であれば充分な品質の回折素子（２）を製造し得ないものの、角度Ｒθが６０［°］とされることによりほぼ充分な品質の回折素子（２）を製造し得ることになる。
【０１２１】
このように回折素子２０は、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａにおける外側部分ＡＲｏに液溜部２０Ｃｒが設けられることにより、当該外側部分ＡＲｏに充填可能なカバー材料ＭＣの質量が増加されるため、吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位による影響を吸収することができ、製造装置６０により製造される際の品質低下を防止することができる。
【０１２２】
（３）動作及び効果
以上の構成において、回折素子２０は、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａにおける外側部分ＡＲｏに、当該上面Ｃａから高さＲｈだけ掘り下げられた下側境界面と、当該下側境界面を延長した仮想面との間に角度Ｒθをなすような内側境界面とによって形成される液溜部２０Ｃｒを設けるようにした。
【０１２３】
従って回折素子２０は、外側部分ＡＲｏにおける容積を増加させることができるので、当該外側部分ＡＲｏに充填可能なカバー材料ＭＣの質量、すなわち外側部分質量Ｑを増加させることができる。
【０１２４】
このため回折素子２０は、当該外側部分質量Ｑが吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位を上回るよう設計されることが容易となり、カバー層２０Ｄの厚さＴｆを維持したまま、当該カバー材料ＭＣの吐出量を削減することなく、当該カバー材料ＭＣがベース層２０Ｃの外側にはみ出す危険性を大幅に低減することができ、製造装置６０による製造時における品質低下を未然に防止することができる。
【０１２５】
このとき回折素子２０は、液溜部２０Ｃｒが外側部分ＡＲｏに設けられているため、、ＢＤ用光ビームＬｂ等の透過に影響を及ぼすことがなく、光学的特性を低下させずに済む。
【０１２６】
また回折素子２０は、液溜部２０Ｃｒが設けられ外側部分質量Ｑが増加されることにより、例えばカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位が比較的大きい、すなわち比較的精度が低い吐出装置６２が用いられたとしても、カバー層２０Ｄの外周部分が外側部分ＡＲｏに収まり充分な品質を満たすように製造され得る。
【０１２７】
これにより、製造装置６０に要求される精度等を下げることができるため、当該製造装置６０において比較的低コストでなる低精度の吐出装置を用いることができ、結果的に回折素子２０の製造コストを引き下げることができる。
【０１２８】
以上の構成によれば、回折素子２０は、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａにおける外側部分ＡＲｏに液溜部２０Ｃｒを設けたことにより、外側部分ＡＲｏにおける容積を増加させ外側部分質量Ｑを増加させることができるので、当該外側部分質量Ｑが吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位を上回るよう設計されることが容易となり、製造時における品質低下を未然に防止することができ、良好な特性を呈することができる。
【０１２９】
（４）他の実施の形態
なお上述した実施の形態においては、ベース層２０Ｃにおける液溜部２０Ｃｒの高さＲｈを５０［μｍ］とし、角度Ｒθを４５［°］又は６０［°］とした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、当該高さＲｈ及び角度Ｒθをそれぞれ任意の値としても良い。この場合、回折素子２０の外径や厚さ等の値が考慮された上で、外側部分質量Ｑが吐出装置６２におけるカバー材料ＭＣの吐出量の調整単位を上回るように設計されていれば良い。
【０１３０】
また上述した実施の形態においては、ベース層２０Ｃにおける液溜部２０Ｃｒを下側境界面及び内側境界面により形成するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば液溜部２０Ｃｒを断面形状が略円弧状となる境界面により形成されるようにしても良い。
【０１３１】
さらに上述した実施の形態においては、ベース層２０Ｃの上面に階段状の回折パターンＰＴでなる回折格子ＤＧが設けられるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば他の形状の回折パターンでなる回折格子が設けられるようにしたり、或いは所定形状の凹凸が設けられるようにしたり、さらには当該ベース層２０Ｃの上面が平坦に形成されるようにしても良い。
【０１３２】
さらに上述した実施の形態においては、カバー材料ＭＣが紫外線硬化樹脂でなるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、当該カバー材料ＭＣが例えば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂など、光を透過し液状から硬化する他の種々の材料でなるようにしても良い。
【０１３３】
さらに上述した実施の形態においては、ベース層２０Ｃがポリオレフィン系樹脂でなり製造装置６０により射出成型されることにより製造されるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、当該ベース層２０Ｃが他の種々の透明な材料でなり、また他の種々の製造手法によって製造されるようにしても良い。
【０１３４】
さらに上述した実施の形態においては、カバー層２０Ｄの厚さＴｆを約２０［μｍ］とするようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、当該カバー層２０Ｄの厚さＴｆを例えば５００［ｎｍ］〜１０［ｍｍ］程度等、様々な値となるようにしても良い。またカバー層２０Ｄの上面は平坦でなくても良い。この場合、製造装置６０によりカバー層２０Ｄの厚さＴｆを設計値通りとなるよう製造できれば良い。
【０１３５】
さらに上述した実施の形態においては、光ピックアップ７（図２）の対物レンズユニット９に組み込まれる回折素子２０に本発明を適用するようにした場合について述べたが、これに限らず、光学素子を構成するベース層に所望の厚さでなるカバー層を形成する場合に本発明を適用するようにしても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１３６】
本発明は、光学素子を構成するベース層に所望の厚さでなるカバー層を形成する場合に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】光ディスク装置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】光ピックアップの構成を示す略線図である。
【図３】対物レンズユニットの構成を示す略線的斜視図である。
【図４】対物レンズユニット内の光路を示す略線図である。
【図５】回折素子の構成を示す略線図である。
【図６】回折素子の作成の様子を示す略線図である。
【図７】回折素子の外径とベース材料の質量との関係を示す略線図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１……光ディスク装置、７……光ピックアップ、９……対物レンズユニット、１９……鏡筒部、２０……回折素子、２０Ａ……上層部、２０Ｂ……下層部、２０Ｃ……ベース層、２０Ｃａ……上面、２０Ｃｒ……液溜部、２０Ｄ……カバー層、２０Ｅ……回折パターン層、２１……対物レンズ、６０……製造装置、６２……吐出装置、６４……ガラス板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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