(57)【要約】【課題】異常放電を起こさないようにすると共に、前記オフセット直流電圧値の低下を極力抑え、プラズマの安定性を図り、極力洗浄能力を低下させないプラズマ洗浄装置を提供すること。【解決手段】扉体９裏面に設けられたアルミニウム製の収納トレイ８上面に絶縁物であるアルミナセラミックス板７を貼付して、プリント基板６を前記アルミナセラミックス板７を介して積載した前記収納トレイ８を下部電極３の上方に所定間隔を存するように、真空チャンバー１内に扉体９を介して出し入れ可能に構成する。【選択図】図２
2007313468.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の平行な上部電極及び下部電極が配設されたチャンバー内を真空状態として、プラズマ反応性ガスを両電極間に供給すると共に、前記下部電極に高周波電源により高周波電圧を印加して前記ガスをプラズマ化し、このプラズマ中のプラスイオンが前記下部電極上方に配設されるプリント基板に衝突することによりエッチングするプラズマ洗浄装置において、前記プリント基板を絶縁物を介して積載した収納トレイを前記下部電極の上方に設けたことを特徴とするプラズマ洗浄装置。
【請求項２】
前記収納トレイを前記チャンバーの開口を開閉する扉体の裏面に設け、前記収納トレイを前記扉体の開閉により前記チャンバー内に出し入れ可能に構成したことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の平行な上部電極及び下部電極が配設されたチャンバー内を真空状態として、プラズマ反応性ガスを両電極間に供給すると共に、前記下部電極に高周波電源により高周波電圧を印加して前記ガスをプラズマ化し、このプラズマ中のプラスイオンが前記下部電極上方に配設されるプリント基板に衝突することによりエッチングするプラズマ洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の洗浄装置は、例えば特許文献１などに開示されている。一般的には、下部電極上に絶縁物であるアルミナセラミックス板を敷いて、このアルミナセラミックス板と所定間隔を存してプリント基板を配設するように構成して、プラズマの安定化を図り、凹凸部を有するプリント基板に生じ易い異常放電対策としている。
【０００３】
しかし、下部電極上にアルミナセラミックス板を敷くと、洗浄の良好に影響を与える下部電極に生じるマイナスのオフセット直流電圧（Ｖｄｃ）が約１００Ｖ（ボルト）低下するので、異常放電は無くなるものの、洗浄能力が低下してしまう。
【特許文献１】特開２００２−１５３８３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで本発明は、異常放電を起こさないようにすると共に、前記オフセット直流電圧値の低下を極力抑え、プラズマの安定性を図り、極力洗浄能力を低下させないプラズマ洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
このため第１の発明は、一対の平行な上部電極及び下部電極が配設されたチャンバー内を真空状態として、プラズマ反応性ガスを両電極間に供給すると共に、前記下部電極に高周波電源により高周波電圧を印加して前記ガスをプラズマ化し、このプラズマ中のプラスイオンが前記下部電極上方に配設されるプリント基板に衝突することによりエッチングするプラズマ洗浄装置において、前記プリント基板を絶縁物を介して積載した収納トレイを前記下部電極の上方に設けたことを特徴とする。
【０００６】
第２の発明は、第１の発明に係るプラズマ洗浄装置において、前記収納トレイを前記チャンバーの開口を開閉する扉体の裏面に設け、前記収納トレイを前記扉体の開閉により前記チャンバー内に出し入れ可能に構成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は、異常放電を起こさないようにすると共に、オフセット直流電圧値の低下を極力抑え、プラズマの安定性を図り、極力洗浄能力を低下させないプラズマ洗浄装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図１のプラズマ洗浄装置の概念図を参照して、先ず本発明の第１の実施形態に係るプラズマ洗浄装置について説明する。１は図示しない真空ポンプによって所定の真空状態とされる直方体形状の真空チャンバーで、この真空チャンバー内には一対の平行な上部電極２及び下部電極３を配設する。即ち、上部電極２は上部の電極支持部材４を介して前記真空チャンバー１の上壁下面に固定し、下部電極３は下部の電極支持部材５を介して前記真空チャンバー１の底壁上面に固定する。
【０００９】
そして、収納トレイ８上面に絶縁物であるアルミナセラミックス板７が貼付され、プリント基板６を前記アルミナセラミックス板７を介して積載したアルミニウム製の収納トレイ８を前記下部電極３の上方に所定間隔ｄを存するように前記真空チャンバー１内に出し入れ可能に構成する。即ち、前記真空チャンバー１の前面開口を開閉する扉体９裏面下部に設けられた左右一対のロッド１０が前記真空チャンバー１の底面下部に設けられた左右一対のロッド案内部材１１に貫通して摺動可能に構成すると共に、同じく扉体９裏面中間部に固定された前記収納トレイ８の両側面部に回転可能に設けられた案内ローラー１３が前記下部電極３両側部に固定されたガイド体１４上を回転摺動するように構成し、前記扉体９の把手１５を持って前後に扉体９及び収納トレイ８を移動可能とする。
【００１０】
従って、作業者は扉体９の把手１５を持って手前側に引くと、ロッド１０がロッド案内部材１１に案内されながら、且つ案内ローラー１３がガイド体１４上を回転摺動し、ロッド１０後端部に設けられたストッパー１６がロッド案内部材１１に係止するまで、手前側に前記扉体９及び収納トレイ８が移動することとなる。
【００１１】
なお、収納トレイ８は案内ローラー１３を介して下部電極３の上方に間隔ｄを存して位置することになり、この間隔ｄは例えば１ｍｍ程度である。また、前記下部電極３両側部に固定されたガイド体１４は絶縁物であり、下部電極３と収納トレイ８とは導通はしないこととなるが、導通しない構成についてはこのような構成に限らない。
【００１２】
そして、前記電極支持部材４及び上部電極２を貫通してプラズマ反応性ガス、例えばアルゴン等の不活性ガスが上部電極２と下部電極３との間に供給される。
【００１３】
２０はアースに接続された高周波電源で、前記下部電極３に自動整合器２１を介して高周波電圧を印加して前記プラズマ反応性ガスをプラズマ化させるものである。そして、生成されたプラズマ中のプラスイオンが収納トレイ８上に敷かれた前記アルミナセラミックス板７上に載置されたプリント基板６に衝突することにより、プリント基板６の表面をエッチングして、汚染物質を取り除き、洗浄する。
【００１４】
前記高周波電源２０に接続された前記自動整合器２１は自動整合回路及び測定回路とが配設されている。自動整合回路は、前記高周波電源２０のパワーを最大限前記真空チャンバー１内に供給するために、前記高周波電源２０のインピーダンスと前記下部電極３のインピーダンスとの整合を自動的に行なう回路である。測定回路はＡ／Ｄ回路及びＤ／Ａ回路を備え、前記高周波電源２０により高周波電圧が印加されている下部電極３に生じるマイナスのオフセット直流電圧（Ｖｄｃ）を常時測定する回路である。
【００１５】
そして、図示しない制御装置が前記測定回路からの測定されたオフセット直流電圧（Ｖｄｃ）と予め設定された基準電圧との偏差に応じて前記高周波電圧を変化させるようにＰＩＤ制御又はオンとオフを一定周期で繰り返すオン／オフ制御を使用して前記高周波電源２０を制御する。即ち、オフセット直流電圧（Ｖｄｃ）は、汚れたプリント基板６の状態（含有せる水分量）により影響を受けるが、高周波電圧値によっても影響を受けるので、オフセット直流電圧（Ｖｄｃ）と基準電圧との偏差に応じて高周波電圧を変化させるように高周波電源２０を制御するものである。
【００１６】
即ち、オフセット直流電圧（Ｖｄｃ）の絶対値が基準電圧より大きければその偏差に応じて高周波電圧を減少させ、オフセット直流電圧（Ｖｄｃ）の絶対値が基準電圧より小さければ高周波電圧を増大させ、偏差が小さくなるように制御する。このように制御するのであれば、その他の手法のフィードバック制御であってもよい。
【００１７】
ここで、前記ＰＩＤ制御とは、比例制御（Ｐｒｏｐｏｒｔｉｏｎａｌ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）、積分制御（Ｉｎｔｅｇｒａｌ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）、微分制御（Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）を組み合わせて設定値に収束させる制御をいう。
【００１８】
以上の構成により、以下動作について説明する。図示しない真空ポンプによって真空チャンバー１が所定の真空状態とされ、高周波電源２０からの高周波電圧が前記下部電極３に自動整合器２１を介して高周波電圧を印加される。すると、電極支持部材４及び上部電極２を貫通してこの上部電極２と下部電極３との間に供給されているプラズマ反応性ガスであるアルゴンガス等はプラズマ化される。このとき、自動整合器２１の自動整合回路は高周波電源２０のパワーを最大限前記真空チャンバー１内に供給するために、前記高周波電源２０のインピーダンスと前記下部電極３のインピーダンスとの整合を自動的に行なう。
【００１９】
以上のように、生成されたプラズマ中のプラスイオンが前記下部電極３上方のプリント基板６に衝突することにより、プリント基板６の表面をエッチングして、汚染物質を取り除き、洗浄する。
【００２０】
そして、前記高周波電源２０により高周波電圧が印加されている下部電極３に生じるマイナスのオフセット直流電圧は、常時測定回路により測定される。従って、この測定されたオフセット直流電圧値が入力された制御装置は、前記測定回路からのオフセット直流電圧と予め設定された基準電圧との偏差に応じて前記高周波電圧を変化させるようにＰＩＤ制御又はオン／オフ制御を使用して前記高周波電源５を制御する。
【００２１】
即ち、前記偏差を無くして、測定されたオフセット直流電圧値が基準電圧と同じとなるように、制御装置は前記高周波電源２０を制御し、高周波電源２０により出力される高周波電圧値を増減させながら、このプラズマ洗浄装置の運転が継続される。
【００２２】
従って、収納トレイ８上面に絶縁物であるアルミナセラミックス板７を貼付して、プリント基板６を前記アルミナセラミックス板７を介して積載したアルミニウム製の収納トレイ８を前記下部電極３の上方に設けたから、異常放電を起こさないようにすると共に、異常放電が起こり易い凹凸のある収納トレイ８やプリント基板６に対して、前記オフセット直流電圧値の低下を極力抑え、プラズマの安定性を図り、極力洗浄能力を低下させないプラズマ洗浄装置を提供することができる。
【００２３】
以上のように本発明の実施態様について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】プラズマ洗浄装置の横断平面図である。
【図２】プラズマ洗浄装置の縦断側面図である。
【符号の説明】
【００２５】
１      真空チャンバー
２      上部電極
３      下部電極
６      プリント基板
７      アルミナセラミックス板
８      収納トレイ
９      扉体
【図１】
2007313468.tif 000003
【図２】
2007313468.tif 000004