(57)【要約】【課題】  結合剤のない針状貯蔵燐光体パネルにおいて、良好な内部湿分耐性を有するものを提供する。【解決手段】  蒸着装置のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法であって、前記方法が（１）前記プリカーサ原材料をるつぼユニットに加え、そして（２）前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越える、工程を含み、前記燐光体層の「活性化剤被覆重量数」が少なくとも７０００の値に達する。【選択図】  図２
2007121298.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着装置における一つ以上のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法であって、るつぼユニットがるつぼ容器及び蒸発煙突を含み、前記方法が（１）前記燐光体プリカーサ原材料を前記るつぼユニットに加え、そして（２）前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越える、工程を含む場合において、前記燐光体層についての「活性化剤被覆重量数」が少なくとも７０００の値に達し、前記「活性化剤被覆重量数」がマトリックス成分に対する活性化剤のｐ．ｐ．ｍ．（μｇ／ｇ）で表示される前記燐光体層に存在する平均活性化剤量と、ｍｇ／ｃｍ２で表示される前記燐光体層における被覆された燐光体の重量との積として規定されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記燐光体層に存在する平均活性化剤量が少なくとも７０ｐ．ｐ．ｍ．であり、前記被覆された燐光体の重量が１００ｍｇ／ｃｍ２より小さく、前記燐光体層が２００μｍより小さい平均厚さを有する請求項１に記載の方法。
【請求項３】
蒸着装置における一つ以上のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法であって、るつぼユニットがるつぼ容器及び蒸発煙突を含み、前記方法が（１）前記燐光体プリカーサ原材料を前記るつぼユニットに加え、そして（２）前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越える、工程を含む場合において、前記燐光体層についての「活性化剤被覆重量数」が少なくとも２００００の値に達し、前記「活性化剤被覆重量数」がマトリックス成分に対する活性化剤のｐ．ｐ．ｍ．（μｇ／ｇ）で表示される前記燐光体層に存在する平均活性化剤量と、ｍｇ／ｃｍ２で表示される前記燐光体層における被覆された燐光体の重量との積として規定されることを特徴とする方法。
【請求項４】
前記燐光体層に存在する平均活性化剤量が少なくとも２００ｐ．ｐ．ｍ．であり、前記被覆された燐光体の重量が少なくとも１００ｍｇ／ｃｍ２であり、前記燐光体層が少なくとも２００μｍの平均厚さを有する請求項３に記載の方法。
【請求項５】
るつぼ容器における温度に対してるつぼユニットの蒸発煙突における温度を増大させる工程をさらに含み、プリカーサ原材料を含有するるつぼにおける温度に対してるつぼユニットの蒸発煙突における温度を増大させることがボート又はるつぼにおける液体形態の前記プリカーサ原材料を温度Ｔ１まで加熱し、前記煙突における蒸発された形態の前記プリカーサ原材料を温度Ｔ２まで加熱する工程によって行なわれ、正の温度差［Ｔ２−Ｔ１］が維持される請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
複数の蒸発工程がそれらの間にクリーニング工程なしに前記るつぼを補充することによって実施される請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記プリカーサ原材料がマトリックス成分としてＣｓＸであり、活性化剤成分としてＥｕＸ２，ＥｕＸ３，ＥｕＯＸ又はそれらの混合物であり、ＸがＣｌ，Ｂｒ，Ｉ又はそれらの組み合わせを表わす請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記プリカーサ原材料がＣｓｘＥｕｙＸ′（ｘ＋αｙ）であり、ｘ，ｙ及びαが整数であり、ｘ／ｙが０．２５より大きく、αが少なくとも２であり、Ｘ′がＣｌ，Ｂｒ，Ｉ又はそれらの組み合わせを表わす請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記貯蔵燐光体がＣｓＢｒ：Ｅｕである請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
蒸着がバッチ法又は連続法で行なわれる請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は蒸着された貯蔵燐光体プレートの製造方法に関する。特に、本発明はいかなる表面保護層が上部に存在しなくても時間の関数として前記貯蔵燐光体プレートのスピードの安定化を与える方法に関し、前記貯蔵燐光体は、通常環境湿度に極めて敏感なマトリックス成分を有する結合剤のない針状燐光体層に存在する。
【背景技術】
【０００２】
燐光体の良く知られた使用はＸ線像の生成である。従来の放射線写真システムではＸ線放射線写真は、Ｘ線を対象物に像に従って透過し、それをいわゆる増感スクリーン又はＸ線変換スクリーンにおける対応する強度の光に変換することによって得られ、前記スクリーンでは燐光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、それらを可視光及び／又は紫外線に変換する。写真フィルムはＸ線の直接衝撃に対してより可視光及び／又は紫外線に敏感である。
【０００３】
例えばＵＳ−Ａ  ３８５９５２７に開示されたようなＸ線パターンを記録及び再生する別の方法によれば、パネルに混入される光刺激性燐光体として知られる特別なタイプの燐光体が使用され、それは入射パターンに従って変調されたＸ線ビームに露光され、その結果としてＸ線放射線パターンに含まれるエネルギーを一時的に貯蔵する。露光後、ある間隔で、可視又は赤外光のビームが貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激し、その光を検出して逐次電気信号に変換し、それを処理して可視像を生成することができる。この目的のため、燐光体は入射Ｘ線エネルギーをできるだけ多く貯蔵すべきであり、走査ビームによって刺激されるまで貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出するべきである。これは「デジタル放射線写真」又は「コンピュータ放射線写真」と称される。
【０００４】
両方の種類の放射線写真において、温度及び湿度のような外部影響に対する感受性に悩まされる必要がなくスピード及び像品質に基づいて使用される燐光体を選択できることが好ましい。
【０００５】
特に、湿度に対する感受性は例えばアルカリ金属塩に対してあてはまることが知られている。マトリックス成分としてかかる塩を使用する光刺激性又は貯蔵燐光体は例えばＵＳ−Ａ  ６８０２９９１に示されるように過去５年間で増大した重要性を取り戻しているので、克服すべき最初の問題の一つは前記パネルを保護層で、例えばＵＳ−Ａ  ６７１０３５６及びＵＳ出願２００３／００３８２４９及び２００５／００４０３４０のように耐湿性パリレン（ポリ−ｐ−キシリレン）層で、ＵＳ出願２００４／０１８３０２９のように撥水層でカバーすることによって、又はＵＳ出願２００３／０１５２６９２のような封止法によって湿分からかかる貯蔵燐光体プレートを保護することであった。
【０００６】
前記保護を最適化するためのそれと関連したさらなる手段はＵＳ出願２００５／００６７５８４に開示され、それはＵＳ−Ａ  ６８２２２４３及びＵＳ出願２００３／０１４６３９５及び２００３／０１５１００１のように保護層を与えること及び／又はＵＳ出願２００４／００７０３２８に記載されたようにかかるパネルのための包装を与えることである。保護層に使用され、例えばそれに積層される材料として、ポリアルキレンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースアセテートフィルムなどを使用してもよく、例えばポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどが透明度及び強度の側面から好ましい。保護層として、湿分及び酸素の低い透過性を有する材料は例えばシリカ及び／又はアルミナがＵＳ  ２００４／０１０８４６４に記載されたように蒸着されるフィルムである。
【０００７】
当業者に極めて良く知られているように及びＵＳ出願２００５／０１４５８０８で認識されているように、光刺激性燐光体が湿分を吸収するとき潜像の退行になる。結果として、後で湿分に対する外部保護手段を適用する前に燐光体自体に湿分に対する内部の保護を与えるための極めて好適なツールを持つことが望ましいが、前記貯蔵燐光体パネルの使用中の物理的損傷に対して十分な耐性がなお存在しているので、かかる外部保護手段を無視しないことが望ましい。
【０００８】
蒸着技術に関して、ＵＳ−Ａ  ７０７０６５８では、燐光体又はシンチレータシート又はパネルの均一性をさらに改良する目的を達成するために蒸着ユニットの特定の部分について情報を与えられている。前記シート又はパネルは大きなシート又はパネルを所望のフォーマットで切断する前又は後にアルカリハロゲン化物ベースの貯蔵燐光体の劣化に対する耐湿層を与えられてもよい。
【０００９】
対流部材及び蒸着が実施される支持体の約１２０℃の温度表示を有する特定のるつぼ構成を別として、ＵＳ−Ａ  ２００５／０１０３２７３ではアルカリハロゲン化物ベースの燐光体の湿分安定性を改良することについての示唆は全く見出すことができない。
【００１０】
ＥＰ−Ａ  １５６８７５１及び対応するＵＳ−Ａ  ２００５／１８６３２９においてもるつぼの温度に関する特別に詳細にした情報は、ＣｓＸ：Ｅｕ燐光体を支持体上に蒸着することによって与える工程によって結合剤のない燐光体スクリーン又はパネルを製造する方法を与えることを別として、さらに与えられていない。この文献では製造されたＣｓＢｒ：Ｅｕスクリーン又はパネルの湿分に対する耐性の改良は蒸着工程を実施するための出発成分として選択された安定したＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙ錯体を使用することによって与えられる。
【００１１】
しかしながら、これらの文献のいずれも、湿分感受性に対して燐光体の安定性をさらに改良し、従って貯蔵燐光体スクリーンスピードを少ない程度に減少する、即ちこれまで可能であったものより良好な方法で高スクリーンスピードを維持するための外部保護被覆又は安定した出発原材料以外の他の手段を言及していない。
【００１２】
本発明の目的は結合剤のない針状貯蔵燐光体パネルを提供することであり、そこではドープされたアルカリハロゲン化物燐光体、特にＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体は良好な内部湿分耐性、長期間の使用にわたってほとんど一定の高いスピード及びずっと永続する良好な画像品質を生成する。
【発明の開示】
【００１３】
上述の有利な効果は請求項１に述べられた製造工程を含む方法によって実現され、それによって少なくともるつぼ容器及び蒸発煙突を含む一つ以上のるつぼユニットからマトリックス及びドーパント又は活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせの燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの内部湿分安定性を増大するための前記ドーパント又は活性化剤の内蔵を強化する。
【００１４】
本発明の好ましい実施態様のためのさらに特別な特徴は従属請求項に述べられている。
【００１５】
本発明のさらなる利点及び実施態様は以下の記述及び図面から明らかになるだろう。
【００１６】
定義
用語「活性化剤被覆重量数（ＡＣＷＮ）」は本明細書では、マトリックス成分に対する活性化剤のｐ．ｐ．ｍ．（μｇ／ｇ）で表示される前記燐光体層に存在する平均活性化剤量と、ｍｇ／ｃｍ２で表示される前記燐光体層における被覆された燐光体の重量との積として規定される。
【００１７】
図面の簡単な記述
図１は煙突ヒータ（１）、内部加熱された煙突（２）、煙突入口（３）及び出口（３′）、及びるつぼ、トレー又はボート（４）を示し、構成Ａでは一つだけのランプが縦方向の加熱要素として存在し、構成Ｂでは三つのランプがそらせ板として作用するために配置された縦方向の加熱要素として存在し、それによって燐光体層が蒸着される支持体材料上へのるつぼユニットからの飛び跳ねを避ける。
【００１８】
図２は３０℃及び８０％相対湿度で１４０時間状態調節室で全く保護層なしで貯蔵されたときの「活性化剤被覆重量数」（Ｅｕ含有量（ｐ．ｐ．ｍ．）と燐光体の被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）の積）の関数としての貯蔵燐光体プレートについての減衰百分率を示す。
【００１９】
図３はマンモグラフィ用途に使用するために特に好適なパネルの貯蔵燐光体プレートの支持体上に蒸着された未保護のＣｓＢｒ：Ｅｕ針状燐光体層についての被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）とＥｕ活性化剤量（ｐ．ｐ．ｍ．）の積の関数としての３０℃及び８０％の相対湿度の雰囲気において１０４時間状態調節した後のＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体層を有する貯蔵燐光体スクリーンについて測定されたスピード減衰百分率を示す。
【００２０】
図４は汎用放射線写真用途に使用するために特に好適なパネルの貯蔵燐光体プレートの支持体上に蒸着された未保護のＣｓＢｒ：Ｅｕ針状燐光体層についての被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）とＥｕ活性化剤量（ｐ．ｐ．ｍ．）の積の関数としての３０℃及び８０％の相対湿度の雰囲気において１４０時間状態調節した後のスピード減衰百分率を示す。
【００２１】
図５は上で規定した計算された「活性化剤被覆重量数（ＡＣＷＮ）」の関数としての３５℃及び８０％の相対湿度のより厳しい雰囲気において４４時間状態調節した後のスピード減衰百分率を表わす。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の有利な効果として、本発明の方法に従って変更された蒸着工程における同じ被覆量の燐光体について、蒸着された結合剤のない燐光体のために一つ以上の保護層を与えることなく、相対的に高い温度及び高い（熱帯）湿度を有する雰囲気において長時間エージング法をした後に２０％未満になるように努力したスピード損失として表示される内部湿度安定性において燐光体スピードが維持されることを予期せぬことに見出した。
【００２３】
蒸着装置において一つ以上のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法において、前記るつぼユニットがるつぼ容器及び蒸発煙突を含み、前記方法が（１）前記燐光体プリカーサ原材料を前記るつぼユニットに加え、そして（２）前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越える、工程を含む場合において、前記燐光体層についての「活性化剤被覆重量数」が少なくとも７０００の値に達し、前記「活性化剤被覆重量数」がマトリックス成分に対する活性化剤のｐ．ｐ．ｍ．（μｇ／ｇ）で表示される前記燐光体層に存在する平均活性化剤量と、ｍｇ／ｃｍ２で表示される前記燐光体層における被覆された燐光体の重量との積として規定されることを特徴とする。
【００２４】
製造方法は一つのるつぼユニット又はそれより多いるつぼユニットを使用することによって実施される。
【００２５】
本発明の方法による一つの実施態様では前記「活性化剤被覆重量数」は少なくとも７０００の値に達する。
【００２６】
これは本発明による方法では前記燐光体層に存在する平均活性化剤量は少なくとも７０ｐ．ｐ．ｍ．である。
【００２７】
本発明による方法では前記被覆された燐光体の重量は１００ｍｇ／ｃｍ２未満であり、前記燐光体層は２００μｍ未満の平均厚さを有する。これは特にマンモグラフィ用途に使用するために好適な貯蔵燐光体パネルが考えられるときに有利にあてはまる。
【００２８】
本発明の方法による別の実施態様では燐光体層の蒸着が与えられ、そこでは「活性化剤被覆重量数」は２００００より大きい値、好ましくは４００００より大きい値に達し、さらに好ましくは前記「活性化剤被覆重量数」は６００００より多い値に達する。
【００２９】
本発明の方法ではこれは特に前記燐光体層に存在する平均活性化剤量が少なくとも２００ｐ．ｐ．ｍ．であるときにあてはまる。
【００３０】
その場合において本発明による方法では被覆された燐光体の重量は少なくとも１００ｍｇ／ｃｍ２であり、前記燐光体層は少なくとも２００μｍの平均厚さを有する。
【００３１】
この第二実施態様は特に汎用放射線写真用途に使用するために好適な貯蔵燐光体パネルが考えられるときに有利にあてはまる。
【００３２】
前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越えることは、好ましい実施態様では前記るつぼ容器における前記温度が前記溶融温度に対して少なくとも７５℃、さらには少なくとも８０℃増大されること、即ちマトリックス原材料の溶融温度より７０℃高く設定された参照温度に対してそれぞれ５℃及び１０℃増大されることを意味する。実際には前記マトリックス原材料プリカーサ成分又は化合物の溶融温度に対して約８０℃の温度差が考えられる。
【００３３】
特別な実施態様では前記るつぼ容器における温度に対して前記るつぼユニットの蒸発煙突における温度を増大しかつ正の温度差を維持するさらなる工程が適用される。
【００３４】
本発明によれば、前記方法はるつぼ容器における温度に対してるつぼユニットの蒸発煙突における温度を増大させる工程をさらに含み、プリカーサ原材料を含有するるつぼにおける温度に対してるつぼユニットの蒸発煙突における温度を増大させることがボート又はるつぼにおける液体形態の前記プリカーサ原材料を温度Ｔ１まで加熱し、前記煙突における蒸発された形態の前記プリカーサ原材料を温度Ｔ２まで加熱する工程によって行なわれ、正の温度差［Ｔ２−Ｔ１］が維持される。前記温度は熱電対によって制御されることが好ましい。特に前記温度は熱電対によって制御及び操縦されるが、熱電対によって前記温度を操縦することは反結合機構によって行なうことが有利である。さらに、一組の結合された熱電対は前記るつぼの底部をカバーする原材料に存在することが好ましい。温度Ｔ１を測定及び操縦するために一組の結合された熱電対を前記るつぼの底部と接触してるつぼの外側に存在させることが特に好ましい。さらに、温度Ｔ２を測定及び操縦するために一組の結合された熱電対を前記煙突における蒸発された原材料に存在させることが特に好ましい。
【００３５】
本発明の方法では、親又はマトリックス成分としてＭ１ＸａＭ２Ｘ′２ｂＭ３Ｘ′′３が使用され、式中、Ｍ１はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ及びＣｓからなる群から選択されるアルカリ金属を表わし、Ｍ２はＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｃｕ及びＮｉからなる群から選択される二価金属を表わし、Ｍ３はＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ及びＩｎからなる群から選択される三価金属を表わし、Ｘ，Ｘ′及びＸ′′の各々はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されるハロゲンを表わし、ａ及びｂの各々は０≦ａ＜０．５及び０≦ｂ＜０．５を表わし、活性化剤成分としてＡが使用され、ＡはＥｕ，Ｔｂ，Ｂｉ，Ｉｎ，Ｇａ，Ｃｓ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ及びＭｇからなる群から選択される金属を表わす。
【００３６】
本発明の方法が適用される蒸着装置で得られる被覆された燐光体に関して、前記燐光体は一つの実施態様では光刺激性燐光体である。本発明の方法が適用される蒸着装置においてうまく蒸着される極めて重要な光刺激性（貯蔵）燐光体としてＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体が選択される。ＣｓＢｒ：Ｅｕ貯蔵燐光体プレート又はパネルの製造に使用される原材料はマトリックス成分としてのＣｓＢｒ及びドーパント又は活性化剤成分としての１０−３〜５ｍｏｌ％のユウロピウム化合物であり、前記ユウロピウム化合物はＥｕＸ′２，ＥｕＸ′３及びＥｕＯＸ′からなる群から選択され、Ｘ′はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されるハロゲン化物である（ＰＣＴ出願ＷＯ  ０１／０３１５６に開示された製造方法で使用）。ＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒ原材料から選択されたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の結合剤のない被覆がさらに好ましく、前記燐光体はその特定の針状形態を特徴とする。前記貯蔵燐光体の高い結晶化度はＵＳ出願２００１／０００７３５２に示されるように特定のＸＲＤスペクトルを与えるＸ線回折技術によって容易に分析される。
【００３７】
本発明による方法の一つの特別な実施態様ではＣｓＸがマトリックス成分であり、ＥｕＸ２，ＥｕＸ３，ＥｕＯＸ又はそれらの混合物が活性化剤成分であり、ＸはＣｌ，Ｂｒ，Ｉ又はそれらの組み合わせを表わす。
【００３８】
本発明による方法の別の特別な実施態様ではＣｓｘＥｕｙＸ′（ｘ＋αｙ）は活性化剤プリカーサ材料であり、ｘ，ｙ及びαは整数であり、ｘ／ｙは０．２５より大きく、αは少なくとも２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ，Ｉ又はそれらの組み合わせを表わす。
【００３９】
本発明の方法が適用される蒸着装置における一つの実際の実施態様では、手順は燐光体プリカーサとして、前記のような活性化剤プリカーサ材料として少なくともＣｓｘＥｕｙＸ′（ｘ＋αｙ）を含むるつぼにおいて混合された原材料を加えることで開始する。
【００４０】
別の実際の実施態様では原材料の混合物は例えばＵＳ出願２００５／０１８４２５０及び２００５／０１８６３２９のように、燐光体プリカーサとして少なくともＣｓＢｒ及びＣｓｘＥｕｙＸ′（ｘ＋αｙ）を含む。
【００４１】
本発明の方法によれば貯蔵燐光体パネルが提供され、そこでは前記貯蔵燐光体はＣｓＢｒ：Ｅｕである。かかるＣｓＢｒ：Ｅｕ貯蔵燐光体パネルを蒸着によって作るとき、温度Ｔ１は前述のように、所望のＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を蒸着している間、６４０℃より高く、好ましくは少なくとも６８０℃であることが推奨される。さらに、温度Ｔ２は前述のようにＴ１との正の温度差を維持するために６４０℃より高くすべきである。所望のＣｓＢｒ：Ｅｕ貯蔵燐光体パネルを作るためにかかる実際の蒸着では、Ｔ１は例えば少なくとも７１０℃、より好ましい実施態様では少なくとも７２０℃にすべきであり、７５０℃より高い温度は除外されない。従って、Ｔ２は少なくとも７５０℃より高くすべきであり、さらに好ましくは８００℃〜８５０℃の範囲にすべきである。本発明による方法における特別な実施態様では少なくとも８０℃の温度差［Ｔ２−Ｔ１］が維持される。さらに、有利には１３０℃までの温度差（即ち、５０℃過剰の範囲）を維持すべきである。
【００４２】
蒸着装置で維持される圧力に関して、０．０１から最大３Ｐａの圧力で不活性雰囲気、好ましくはＡｒ雰囲気で行なうことが推奨される。
【００４３】
本発明による方法は増大した湿度安定性を与え、それは３０℃の温度及び８０％の相対湿度で状態調節された部屋において１４０時間にわたって２０％未満、より好ましくは１５％未満の前記パネルのスピードの損失を測定することによって測定される。
【００４４】
本発明の方法による一つの実施態様では、前記蒸着はバッチ法で行なわれる。
【００４５】
本発明の方法による別の実施態様では、前記蒸着は連続法で行なわれる。
【００４６】
連続及びバッチ蒸着法がどのように実施されるかについてのさらなる詳細はＥＰ−Ａ  １４６０６４２及びＥＰ−Ａ  １４６０６４３及び対応するＵＳ出願２００４／０２１９２８９及び２００４／０２２４０８４及びＵＳ−Ａ  ６８０２９９１のそれぞれに見出すことができる。
【００４７】
多数の蒸発は一つの同じるつぼ又は複数のるつぼから、多数の連続蒸発工程において、前記多数の連続蒸発工程を実施している間、同じ又は異なる組成を有するプリカーサ原材料又はそれらの組み合わせを蒸発することとしてここではさらに規定される。前記連続工程は燐光体蒸着のためのプリカーサとして前記原材料を漸進的に蒸着する結果としてるつぼ内容物の消耗を補償するために前記原材料又はそれらの組み合わせを加える一つ以上の工程を特徴とする。時間を節約するために連続蒸発工程間では空の又はほとんど空のるつぼのクリーニングが行なわれないことが理解される。るつぼのこの種の「補給」がときどき要求される理由は、るつぼの全体積、前記るつぼが（例えば飛び跳ねを避けるために）原材料で充填されてもよい体積及び前記燐光体が蒸着法によって蒸着される支持体上への燐光体層の被覆厚さと関連する。あるいは補給はＵＳ−Ａ  ２００４／０２２４０８４に記載のように実施されてもよく、そこでは厚さ方向に組成の変化が全くないことが望ましいときであっても、るつぼが物理蒸着工程中に消耗されること及びるつぼの「補給」がさらなる蒸発工程中に均一性（そうでなければ被覆工程がさらに行なわれている間、ドーパント（ユウロピウム）濃度の差が出現しうる）を維持するために、粉末の形態で、粒子もしくは結晶の形で、又は固められた粉末又は粒子混合物を含有するトローチ剤の形で原材料成分を添加することによって与えられるべきであることは明らかである。るつぼを「補給」するために言及され適用可能な方法は、例えばＵＳ−Ａ  ４４３０３６６，ＤＥ−Ａ  １９８５２３６２及びＵＳ−Ａ  ２００３／００２４４７９に記載されている。
【００４８】
本発明の方法によれば、多数の蒸発の工程は間にクリーニング工程なしで前記るつぼを補給することによって実施される。多数の蒸発の工程を加えることによって提供される利点はより多くの燐光体を蒸着する能力に関連し、これは大きな支持体表面がカバーされなければならないときに重要である。それとは別に組成の変化は、例えばマトリックス成分及び活性化剤成分の原料混合物の組成を徐々に変化する多数の添加が、例えば支持体から蒸着された燐光体層の上部までのドーパント又は活性化剤の徐々に変化する量に導きうる点で実現可能である。
【００４９】
アニールは追加のエネルギー処理が蒸着の終了後に与えられる方法としてさらに知られる。追加のエネルギー処理として熱処理が最も多く実施され、それは蒸着後に実施される。ＵＳ−Ａ  ６７３０２４３のようなアニール法を適用してもよく、そこでは冷却後、プレートは８０℃〜２２０℃の温度にもたらされ、１０分〜１５時間その温度で維持される。ＵＳ−Ａ  ２００３／１８６０２３のように別の実施態様では燐光体層の加熱が不活性ガス雰囲気又は少量の酸素もしくは水素を含有する不活性ガス雰囲気において３００℃未満５０℃以上の温度で１〜８時間行なわれる方法を適用してもよい。さらに、ＵＳ−Ａ  ２００３／０２１８１３９のようにアニールは５０〜６００℃の温度で少なくとも一時間実施されてもよい。ＵＳ−Ａ  ２００５／００４０３４０のようにアニール工程は８０〜３００℃の温度、より好ましくは１００℃〜２００℃の温度で実施されてもよい。さらに、蒸着法が完了した後にＵＳ−Ａ  ２００５／０１３３７３１に記載のように、蒸着された層は熱処理（アニール）を受けてもよく、それは一般に少量の酸素ガス又は水素ガスを含有してもよい不活性ガス雰囲気下で１００〜３００℃の温度で０．５〜３時間、好ましくは１５０〜２５０℃の温度で０．５〜２時間実施される。あるいは、ＥＰ−Ａ  １４４３５２５及びＵＳ  ２００５／００７７４７７のように放射線露光処理は少なくとも１０ｍＪ／ｍｍ２のエネルギーで１５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲で短い紫外線を放出する放射線源からエネルギーを与えられてもよい。追加エネルギー処理として熱処理が最も多く実施され、それは蒸着後に実施される。アニール工程として熱処理は例えば１７０℃で４時間蒸着後に実施されることが有利である。
【００５０】
本発明の有利な効果として、本発明の方法に従って変更された蒸発工程における同じ被覆量の燐光体について、一つの同じるつぼユニットから多い及び少ない揮発性プリカーサ原材料がともに蒸発されるときであっても、かくして作られた貯蔵燐光体プレートに対して増大した燐光体スピードが測定されることが予期せぬことに発見された。
【００５１】
それとは独立して本発明による方法が適用される蒸着装置において、前記装置はさらに、好ましい実施態様では、煙突出口に対して装着され、かつ前記原材料からの蒸発された粒子が煙突スロット出口を通って逃避するための直接的な通路が全くないように位置される三つの線状煙突加熱要素（煙突ヒータ）を有する。かかる配置はプリカーサ原材料の飛び跳ねを避けるために特に要求され、そこでは煙突ヒータはそらせ板として作用する。別の実施態様では、耐火プレート、例えばタンタルプレートはそらせ煙突ヒータの下でるつぼの内部に装着される。前記るつぼ及び前記プレートは燐光体又はシンチレータ材料の均一な蒸着のために、熱伝導性組立体全体にわたってさらなる均一な加熱を与えるためにさらに電極対の間に装着される。
【００５２】
本発明による方法が適用される蒸着装置では、前記（制御可能な）スロット出口（３′）は図１に示されたように矩形のスロット出口である。本発明による方法が適用される蒸着装置では、前記線状煙突加熱要素（１）は−同じ図１参照−上方又は下方の位置に移動可能である。
【００５３】
蒸着装置が、一方のキャリアローラが制御された態様でその軸のまわりのモータによって回転する能力を与え、他方のローラが前記一方のローラの動きによって回転し、さらに回転中、ローラ上の可撓性支持体の位置は前記可撓性支持体の位置調整を与える圧力調整シリンダに結合された光学位置センサーによって制御される場合には、燐光体層はＵＳ−Ａ  ２００４／０２１９２８９及びＵＳ−Ａ  ２００４／０２２４０８４に記載のように連続蒸着工程で作られる。
【００５４】
別の実施態様では前記支持体はバッチ蒸着装置に存在するるつぼユニットから逃避する蒸気流に対して良く規定された角度で傾斜しているか又はそれと平行な軸のまわりに回転する。あるいは、支持体は固定された位置であってもよく、るつぼユニットは前記支持体に垂直な軸に対して良く規定された角度で傾斜しているか又はそれと平行な軸のまわりに回転されてもよい。
【００５５】
シンチレータ又は燐光体材料が本発明の方法による蒸着装置において蒸着される支持体材料として、ガラス、セラミック材料、ポリマー材料又は金属、より好ましくはガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、炭素繊維補強プラスチックシート、アルミニウム、Ｐｙｒｅｘ（登録商標）、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、サファイア、セレン化亜鉛、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、セラミック層及びアルミニウム、鋼、真ちゅう、チタン及び銅から選択された金属又は合金を使用することができる。原則としてそれらに限定されるべきではなく、本発明の被覆工程で一般に適用されるような程度までエネルギーを付与した後に例えば溶融による不可逆性の変形に耐えるいかなる金属又は合成材料も使用のために好適である。本発明の方法において可撓性支持体として特に好ましいものは支持体全体にわたって完全に均一な温度を可能とする極めて良好な熱伝導性材料としてのアルミニウムである。特に有用なアルミニウム支持体として、限定されないが、増白された陽極酸化アルミニウム、アルミニウム鏡及び酸化物パッケージ及び所望によりパリレン層を有する陽極酸化アルミニウム、銀鏡及び酸化物パッケージ及び所望によりパリレン層を有する陽極酸化アルミニウム（ＡＬＡＮＯＤ，ドイツから入手可能）が推奨される。好ましい可撓性支持体として保護箔でカバーされた陽極酸化アルミニウム支持体層が推奨される。かかる陽極酸化アルミニウム支持体層は５０〜５００μｍの範囲、より好ましくは２００〜３００μｍの範囲の厚さを有してもよい。かかる陽極酸化アルミニウム支持体は蒸着された燐光体又はシンチレータに関する接着特性に対して特に好ましいことが示され、５００μｍ〜１０００μｍの厚さを有するシンチレータ層で被覆された可撓性アルミニウム支持体が曲げられた場合であってもシンチレータ又は燐光体「フレーク」の「クラック」又は変形を起こさない。本発明の方法が適用される蒸着装置で作られるとき望ましくないクラックの発生に関して問題に遭遇することは全くない。
【００５６】
蒸着が行なわれている間、前記支持体の温度は約２００℃のターゲット温度を考えて、調節可能なヒータによって及び支持体に沿って設置されたアドレス可能冷却ユニットによって１５０℃〜３００℃の範囲、より好ましくは１５０℃〜２５０℃、さらにより好ましくは１８０℃〜２２０℃の範囲で維持される。ヒータとして、赤外ヒータが有利に使用される。特に、反射スクリーンを背後に有する前記支持体に沿って水平に、例えば縦方向に配置された大きな石英ランプが使用される。
【００５７】
本発明の方法が適用される蒸着装置の容器（るつぼ）における原材料の組成が所望の最終組成又は被覆組成を与えるために選択され、前記組成が存在する原材料の比率によって決定されることは明らかである。原材料の比率は蒸発された原材料の蒸着後に所望の燐光体又はシンチレータの化学組成を与えるために選択される。固体粉末、粒子又は顆粒の形で、又は移動する支持体材料上に被覆された所望の燐光体を与えるために所望の比率の原材料に対応する組成を有するトローチ錠として、るつぼにおいて均一な原料混合物を得るために原材料を混合することが望ましい。微粉砕法が蒸発前の高度の均一性を与えるために好ましく、従って推奨される。異なる成分を既に前に提案したように直列又は並列又は組み合わされた配置で配置された異なるるつぼから蒸発させてもよい。但し、均一な蒸気雲が蒸気流を介して可撓性支持体に与えられ、前記支持体上への凝縮によって付着されることが条件である。同じ又は異なる原材料含有物又は原材料混合物を有する二つの細長いワンパートボートは例えばウェブの移動方向に直列に存在させてもよい。別の実施態様では、もし均一な被覆プロファイルを与えるなら、ボートは支持体の移動方向に垂直な一つの軸又はそれより多くの軸に並列に配置されてもよい。但し、重なり合う蒸気雲は再び、前記燐光体又はシンチレータの均一な厚さ、組成及び被覆量を有する燐光体又はシンチレータ層において支持体上に蒸着する蒸気流を与えることが条件である。一つより多いるつぼの存在は単位時間あたりに蒸着される燐光体又はシンチレータ材料のより多い量を供給する能力に有利であり、可撓性支持体が支持体の極めて高い温度増加を避けるために十分に高い速度で蒸気流を通過すべきであるときはより一層そうである。支持体が容器を通過する速度は十分な冷却手段が凝縮のために存在しない限り、蒸着を不可能にする支持体の望ましくない局所的な加熱に照らして遅すぎないようにすべきである。それゆえ自己支持又は被支持の支持体は所望の最適な特性を有する蒸着された燐光体又はシンチレータ層を得るために５０℃〜３００℃の温度を有することが好ましい。
【００５８】
エネルギーはるつぼ、トレー又はボートとしても知られる一つ以上の容器に供給され、そこに存在する原材料の蒸気流を起こし、それを封止された真空領域で蒸発させるべきであることは明らかである。エネルギーは熱、電気、又は電磁エネルギー源によってそれに与えられる。電磁エネルギー源の一例としてダイオード、カソードアーク、レーザビーム、電子ビーム、イオンビーム、磁気放射線又は無線周波数を使用してもよく、それはパルス化されてもされなくてもよい。また、それらに限定されない。電気エネルギーは一般に抵抗加熱によって与えられ、それは熱エネルギーに変換するための構成で容器又はるつぼのまわりに巻かれた抵抗コイルを使用し、それによって蒸発されるべき原材料を充填された容器又はるつぼへの熱伝達を与える。容器又はるつぼを５５０℃−９００℃の範囲の温度まで加熱する程度のエネルギー供給が極めて望ましい。それらの温度では、容器は腐食抵抗性を有するべきであることは明らかであり、従って耐火容器が好ましい。好ましい容器又はるつぼ材料はタングステン、タンタル、モリブデン及び他の好適な耐火金属である。前述のようなエネルギー供給源はるつぼ中の原材料の混合物を４５０℃以上、好ましくは５５０℃以上、さらにより好ましくは５５０℃〜９００℃、例えば約７００℃に加熱する。
【００５９】
ターゲット原材料から生じる蒸発された材料の雲は容器又はるつぼからの移動する支持体の方向の流れの形の雲として逃避し、被覆された層は凝縮によって形成される。上記から、考えられるような均一な被覆プロファイルを得るために、均一性が液化原材料に与えられるときに均一な雲が実現されうるにすぎないことは明らかである。結果として、容器に対して供給されたエネルギーの均一な分布は厳しい要求である。好ましい実施態様では、均一性のために、るつぼは前記るつぼ上を移動する可撓性支持体の幅に相当する最大寸法を有する単一の細長い「ボート」の形であり、従ってその表面領域の各点において瞬間的な速度の大きさは一定である。もし蒸着工程中又は後に必要なら、酸素を不活性（アルゴン）ガス入口を介して酸素ガスの形で真空蒸着室中に導入することができる。特に、二つの蒸着工程間又は燐光体蒸着の終わりのアニール工程は有用でありうる。
【００６０】
本発明の方法が適用される蒸着装置において支持体上で得られる被覆プロファイルに関する重要な要因は容器と移動する支持体の間の距離である。その距離は可撓性支持体の位置の蒸気雲のプロファイルを決定するからである。るつぼと支持体の間の最小距離の平均値は５〜１０ｃｍの範囲であることが好ましい。但し、２０〜２５ｃｍのさらなる距離は支持体の好ましい温度制御として除外されない。距離が大きすぎると、材料の損失及び工程の収率の低下に導き、一方距離が小さすぎると、支持体の高すぎる温度に導くだろう。さらに、「スポットエラー」又は「ピット」を避けることに関して注意を払うべきであり、それらは加熱された容器に存在する液化原材料の飛び跳ねによる燐光体又はシンチレータの不均一な蒸着を生じる。それゆえ、図１、特に詳細には図１Ｂに示された手段、特にそらせ板として使用されるランプを有する手段、より好ましくはスロット出口に対して装着され、前記原材料から蒸発された粒子が前記スロット出口を通って逃避するための直接的な通路を持たないように位置された三つの線状煙突加熱要素を有する手段をとる。
【００６１】
本発明の方法が適用される蒸着装置では前記燐光体又はシンチレータ組成物の蒸着は一つ以上のるつぼからの原材料の蒸気流によって開始され、前記蒸気流は熱、電気、又は電磁エネルギー又はそれらの組み合わせによって前記原材料及び前記容器にエネルギーを加えることによって発生される。前記燐光体又はシンチレータ組成物の蒸着は物理蒸着、化学蒸着又は物理蒸着と化学蒸着の組み合わせによって行なうことが有利である。
【００６２】
本発明の方法が適用される蒸着装置において針状燐光体として蒸着後に得られた好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体は針状結晶間の間隙を特徴とする。それらの間隙を満たすためには、間隙がポリマー化合物で部分的に充填されるＵＳ出願２００３／０１６８６１１に記載のように、好ましいβ−Ｃｕ−フタロシアニンナノ結晶染料化合物のように蒸着された顔料が前記間隙を満たしているＵＳ出願２００３／０１８３７７７のように、又は間隙がシラザン及びシロキサザン型ポリマー化合物、それらの混合物及び前記シラザン又はシロキサザン型ポリマー化合物と適合しうるポリマー化合物の混合物からなる群から選択されるポリマー化合物で少なくとも部分的に満たされるＵＳ出願２００４／０２２８９６３のように手段をとることができる。特に、前記染料又は顔料に関して、その蒸着は本発明による製造方法の構成に使用される真空蒸着室で実施されることができる。
【００６３】
蒸着のときに、本発明の方法が適用される蒸着装置で作られる好ましい刺激性燐光体又はシンチレータ層は結合剤のない層である。これは十分に理解することができる。なぜならばそれらの高い温度では、容器中の燐光体又はシンチレータ原材料に加えて追加の結合剤の存在は実際的でないからである。しかしながら、例えば支持体と燐光体又はシンチレータ層の間又は被覆層における好ましい燐光体又はシンチレータ針状結晶の間で結合剤材料として作用するために蒸発される能力を示すポリマーを使用することは除外されない。さらに、ポリマー層を蒸着された層上に積層するとき、ポリマー材料がそれらの針状結晶間の間隙を少なくとも部分的に満たすことは除外されない。さらに、燐光体又はシンチレータシート又はパネルに所望のフォーマットに切断する前又は切断した後に、耐湿性層を与え、湿分感受性の燐光体層を劣化から保護することは除外されない。特に好ましい層は例えばＵＳ-Ａ  ６７１０３５６に記載されたようにパリレン（ｐ−キシリレン）層であり、それはＵＳ出願２００４／０１６４２５１に記載されたようにシラザン又はシロキサザン型ポリマー化合物又はそれらの混合物の透明有機層で上塗りされてもされなくてもよい。保護パリレン層を燐光体又はシンチレータ被覆に「パリレン層」として適用する方法では、ハロゲン含有層が好ましい。より好ましくは前記「パリレン層」はパリレンＤ、パリレンＣ及びパリレンＨＴ層からなる群から選択される。特別な場合において架橋ポリマー層は燐光体スクリーン材料上に形成されることが有利であり、前記ポリマー材料層は少なくとも一つの成分の反応によって形成され、それによって自己縮合ポリマーを形成する。反応性モノマーは支持体上に所望の縮合ポリマーを形成するために加熱された蒸気の形で与えられ、前記縮合ポリマーは燐光体スクリーン支持体上のｐ−キシリレン又は「パリレン」層の形である。これらの「パリレン」層の例はポリ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｎ）、ポリモノクロロ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｃ）及びポリジクロロ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｄ）である。顔料をＪＰ−Ａ  ６２−１３５５２０に記載されたようにポリ−ｐ−キシリレンの薄膜に存在させてもよい。
【００６４】
光刺激性燐光体層を別として、即発ルミネセント燐光体を本発明の方法が適用される蒸着装置において被覆することができる。かかるルミネセント燐光体は例えばスクリーン／フィルム放射線写真に使用される増感スクリーンに使用するために好適である。
【００６５】
本発明の方法によって本発明による方法のさらなる工程において実質的に改良された内部湿度安定性（保護層又は被覆の不存在下でのその安定性を表わす）が達成されるが、前記燐光体層は保護層で被覆される。本発明による前記貯蔵燐光体パネルにポリマー層、より好ましくは保護層を与えることが有利である。特にポリｐ−キシリレン又は「パリレン」層が望ましい。別の実施態様では貯蔵燐光体パネルは燐光体層と支持体の間に中間層を与えられる。ポリマー層が好ましく、湿分保護層として使用するために特に好適なものとしてさらに好ましいものは、湿分に対する保護の見地からだけでなく、損傷に対する保護の見地から、ポリｐ−キシリレン又は「パリレン」層である。かかる外部に適用される有機層は例えばＥＰ−Ａ  １２８６３６４及び対応するＵＳ−Ｐ  ６７１０３５６に記載され、それはＥＰ−Ａ  １４５３０６５及び１４５３０６６並びに対応するＵＳ出願２００４／０２２８９６３及び２００４／０１６４２５１に記載のようにシラザン又はシロキサザン型ポリマー化合物又はそれらの混合物の透明有機層と接触してもしなくてもよく、スクラッチに対するさらなる保護を与える。
【００６６】
ＣＲ及びＤＲと関連した特定の用途に関して、画像品質、特にシャープネスに照らして、前述のような結合剤のない燐光体又はシンチレータ層が好ましいことは明らかである。それに関して、所望のシンチレータ又は燐光体層を形成するために、本発明の方法が適用される蒸着装置における原材料の蒸発が好ましい技術であることは明らかである。但し、層は可撓性支持体上に蒸着されることが条件であり、そこでは特定のＣＲ及びＤＲ用途のために適した、すぐ使用できる平坦なシート又はパネルを得るために可撓性支持体を変形することが考えられる。本発明の方法に従って有利に製造される好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体に加えて他の吸湿性燐光体又はシンチレータ層は例えば増感スクリーンに使用されるＢａＦＣｌ：Ｅｕ，ＢａＦＢｒ：Ｅｕ及びＧｄＯＢｒ：Ｔｍ、例えばＢａＦＢｒ：Ｅｕ，ＢａＦＩ：Ｅｕ，（Ｂａ，Ｓｒ）Ｆ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ，ＲｂＢｒ：Ｔｌ，ＣｓＢｒ：Ｅｕ，ＣｓＣｌ：Ｅｕ及びＲｂＢｒ：Ｅｕのようなコンピュータ放射線写真（ＣＲ）に使用するために好適なシンチレータパネル及び貯蔵燐光体に適用されるＣｓＩ：Ｎａ、又はＵＳ出願２００４／０２６２５３６及び２００５／０００２４９０のそれぞれに開示されるようなＤＲカセットに使用するために特に好適であるＣｓＩ：Ｔｌ，Ｌｕ２Ｏ２Ｓ：ｘＭ及びＬｕ２Ｏ５Ｓｉ：ｘＭ（式中、ＭはＥｕ，Ｐｒ及びＳｍからなる希土類元素からなる群から選択され、ｘは０．０００１〜０．２である）である。
【実施例】
【００６７】
本発明はその好ましい実施態様と関連して以下に記載されるが、本発明をそれらの実施態様に限定することを意図しないことが理解されるだろう。
【００６８】
実施例１
可撓性の陽極酸化されたアルミニウムを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンを、原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して熱蒸着工程によって真空室で作った。前記可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体上への前記蒸着工程は前記支持体が速度の瞬間的な大きさがその面積の各点において一定であるように回転するような方法で実施された。
【００６９】
電気加熱されたオーブン及び耐火トレー又はボート（４）に１６０〜２００ｇ（一つ又はそれより多い追加工程、多数の蒸発ではより多くの追加）のＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（９９．５重量％／０．５重量％のＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの百分率割合）を原材料として存在させ、蒸発した。
【００７０】
るつぼ（４）（図１参照）は６０ｍｍの長さ、４５ｍｍの幅及び４０ｍｍの高さを有する細長いボートであり、それは０．５ｍｍの厚さを有する「タンタル」から構成され、三つの集積部分：るつぼ容器（４）、内部加熱される煙突（２）及び煙突入口（３）及び制御可能なスロット出口（３′）から構成された。長手方向の部分は漏れを克服するために一つの連続的なタンタルベースプレートから折り曲げられ、ヘッド部分は溶接された。  
【００７１】
真空室へのアルゴンガスの連続入口によって維持された真空圧力（２×１０−３ｍｂａｒに等価な２×１０−１Ｐａの圧力）下で、そして蒸気源（７６０℃）及び煙突の十分に高い温度で、得られた蒸気を移動するシート支持体の方に向け、前記支持体が蒸気流上で回転している間に連続的にその上に付着した。蒸気源の前記温度は前記るつぼの底部の下で押されかつその外側に存在する熱電対及びるつぼ及び煙突に存在するタンタル保護された熱電対によって測定された。
【００７２】
２８０μｍの厚さ、１０ｃｍの幅及び１０ｃｍの長さを有する陽極酸化されたアルミニウム支持体を、支持体とるつぼ蒸発出口スリットの間を２２ｃｍの距離にして燐光体が蒸着される側に位置させた。
【００７３】
異なる厚さの燐光体層を有する燐光体プレートに導く、異なる蒸着時間を実施した後に蒸着装置からプレートを取り出した（厚さ−原材料の蒸発及び燐光体形成ブロックへの変形−の関数として、工程を継続して厚い燐光体層を作ることができるために余分の原材料を添加することを開始することが要求された）。
【００７４】
層の各々について、Ｅｕドーパント量（ｐ．ｐ．ｍ．量として表示−グラムあたりのμグラム）、燐光体の被覆重量とユウロピウムドーパント量の積（「活性化剤被覆重量数」（ＡＣＷＮ））及びスピード（ＳＡＬ％）、並びに新しく作られた非保護パネルと上部に保護層なしで３０℃の温度及び８０％の相対湿度の部屋で１４０時間状態調節した後の同じパネルとの間のスピードの損失。
【００７５】
上述のデータは表１に述べられ、そこでは相対スピード（ＳＡＬ％）はＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーによって製造されたＭＤ１０（登録商標）参照用光刺激性燐光体スクリーンの参照スピードと比較したスクリーンの各々のスピードとして規定される
【００７６】
2007121298.tif 000003
【００７７】
表１から最も低いスピードの損失（％ＳＡＬ値の％減衰）−上述の厳しい状態調節条件後の最も高い達成可能なスピードも生じる−は最も厚いプレート−最も高い被覆重量に対して見出され、それは同時に最も高いＥｕドーパント量を有することは明らかである。
【００７８】
高い被覆重量及び高い量のドーパント又は活性化剤は最良の妥協を与えることが結論づけられ、あるいはそれは他の方法では燐光体被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２で表示）とマトリックスに対するパネル中の活性化剤の濃度（ｐ．ｐ．ｍ．（μｇ／ｇ）で表示）との積として計算される最も高い値の「活性化剤被覆重量数」に対して表示される。
【００７９】
第二量のプリカーサ原材料を加えることによる多数の蒸発工程が有利であることはさらに結論づけられる。それは増大した燐光体被覆量（ＣＢ２２８０１とＣＢ２２７０５の比較）を可能とするだけでなく、それは予期せぬことに増大した活性化剤ドーパント量（ＣＢ２２７０５（二つの添加工程）とＣＢ２２７１１（二つの代わりに一つだけの添加及び一つだけの蒸発工程）の比較）に導く。
【００８０】
表１では２００００〜３００００の範囲の「活性化剤被覆重量数」ＡＣＷＮについての値は約３００−４００ｐ．ｐ．ｍ．のＥｕドーパントの量を有するパネルに対して達成され、前記ＡＣＷＮは約１６０ｍｇ／ｃｍ２の燐光体被覆重量を有するパネルについて６００００よりさらに多く、そのパネルは汎用放射線写真に使用するために極めて好適であり、周囲雰囲気湿度に対して保護を与える、例えばポリパラキシリレン又はパリレンのような保護層の不存在下で温度（３０℃）及び相対湿度（８０％ＲＨ）のかなり厳しい条件において状態調節した後に、その内部安定性は充分で満足すべきものであり、他の方法で表現するとスピードの損失は極めて低く、１５％より低いか又は多くても約１５％である。
【００８１】
図２は前述の条件においてＡＣＷＮの関数として減衰百分率の差を明らかに示す。
【００８２】
かかる燐光体プレートは、「パリレン」として知られる例えばポリ−ｐ−キシリレン被覆層のような保護被覆でカバーされるとき、特に湿度安定性に関して長く続く寿命を有することは明らかである。さらに、優れたスピードとシャープネスの関係を与えるかかるプレートが求められる放射線写真における適用タイプによって、プレート又はパネルの厚さの選択は主要な関心事であることは明らかである。なぜならば専用のプレートで得られる前記スピードと前記シャープネスの両方は患者の露光の結果として最小のＸ線量を捕獲した後に前記燐光体プレートを読み出した後のコンピュータ放射線写真画像で得られる結果に対して決定的であるからである。
【００８３】
実施例２
可撓性の陽極酸化されたアルミニウムを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンを、原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して熱蒸着工程によって真空室で作った。前記可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体上への前記蒸着工程（ＥＰ  １４６０６４２  Ａ１に開示のように実施）は前記支持体が速度の瞬間的な大きさがその面積の各点において一定であるように回転するような方法で実施された。
【００８４】
電気加熱されたオーブン及び耐火トレー又はボートに３００ｇのＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（９９．５重量％／０．５重量％のＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの百分率割合）を原材料として存在させ、蒸発した。
【００８５】
１００ｍｍの長さ、３５ｍｍの幅及び４５ｍｍの高さを有する細長いボートからなり、０．５ｍｍの厚さを有する「タンタル」から構成されたるつぼを使用した。その三つの集積部分はるつぼ容器、内部加熱される煙突及び制御可能な出口から構成された。長手方向の部分は漏れを克服するために一つの連続的なタンタルベースプレートから折り曲げられ、ヘッド部分は溶接された。
【００８６】
真空室へのアルゴンガスの連続入口によって維持された真空圧力（２×１０−３ｍｂａｒに等価な２×１０−１Ｐａの圧力）下で、そして蒸気源（７６０℃）及び煙突の十分に高い温度で、得られた蒸気を移動するシート支持体の方に向け、前記支持体が蒸気流上で回転している間に連続的にその上に付着した。蒸気源の前記温度は前記るつぼの底部の下で押されかつその外側に存在する熱電対及びるつぼ及び煙突に存在するタンタル保護された熱電対によって測定された。２８０μｍの厚さ、１０ｃｍの幅及び１０ｃｍの長さを有する陽極酸化されたアルミニウム支持体を、支持体とるつぼ蒸発出口スリットの間を１９５ｍｍの距離にして燐光体が蒸着される側に位置させた。
【００８７】
異なる厚さの燐光体層を有する燐光体プレートに導く異なる蒸着時間を実施した後に蒸着装置からプレートを取り出した（厚さ−原材料の蒸発及び燐光体形成ブロックへの変形−の関数として、工程を継続して厚い燐光体層を作ることができるために余分の原材料を添加することを開始することが要求された）。層の各々について、Ｅｕドーパント量（ｐ．ｐ．ｍ．量として表示−グラムあたりのμグラム）、燐光体の被覆重量とユウロピウムドーパント量の積（「活性化剤被覆重量数」（ＡＣＷＮ））及びスピード（ＳＡＬ％）、並びに新しく作られた非保護パネルと上部に保護層なしで３５℃の温度及び８０％の相対湿度の部屋で１４０時間状態調節（より厳しい条件）した後の同じパネルとの間のスピードの損失（ＳＡＬの％減衰）。
【００８８】
上述のデータは表２に述べられ、そこでは相対スピード（ＳＡＬ％）はＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーによって製造されたＭＤ１０（登録商標）参照用光刺激性燐光体スクリーンの参照スピードと比較したスクリーンの各々のスピードとして規定される
【００８９】
2007121298.tif 000004
【００９０】
表２にまとめられたデータから２００μｍのほとんど同じ燐光体被覆厚さについて最高のユウロピウム量が保護防水性被覆の不存在下で最も安定した燐光体プレートを与えることが結論づけられる：７０００の被覆重量とＥｕ含有量の積の値からプレートの安定性が満足する。これはさらに図３に示され、そこではパネルの貯蔵燐光体プレートの支持体上に蒸着された未保護のＣｓＢｒ：Ｅｕ針状燐光体層についてのユウロピウム活性化剤量（ｐ．ｐ．ｍ．）及び被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）の積の関数として３５℃の雰囲気及び８０％の相対湿度において１０４時間厳しい状態調節した後であってもＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体層を有する貯蔵燐光体スクリーンについて測定されたスピード減衰百分率は「活性化剤被覆重量数」が７０００の値を越えるとすぐに、許容可能な、安定した又は一定のスピードの減衰を示す。
【００９１】
マンモグラフィ用途に関する薄い貯蔵燐光体層はもし例えば汎用放射線写真用途と比較するなら前述のようなタイプの貯蔵燐光体プレートについてのスピード不安定性又は不均一性に対してより敏感であるが、本発明の教示の適用は汎用放射線写真用途で要求されるような厚い貯蔵燐光体層に対して得られた安定性又は均一性と少なくとも同等か又はそれより良好なものに導くことが理解される。
【００９２】
実施例３
可撓性の陽極酸化されたアルミニウムを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンを、原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して熱蒸着工程によって真空室で作った。前記可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体上への前記蒸着工程は前記支持体が速度の瞬間的な大きさがその面積の各点において一定であるように回転するような方法で実施された。
【００９３】
電気加熱されたオーブン及び耐火トレー又はボートに１６０〜２００ｇのＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（９９．５重量％／０．５重量％のＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの百分率割合）を原材料として存在させ、蒸発した。
【００９４】
６０ｍｍの長さ、４５ｍｍの幅及び４０ｍｍの高さを有する細長いボートからなり、０．５ｍｍの厚さを有する「タンタル」から構成されるるつぼを使用した。三つの集積部分はるつぼ容器、内部加熱される煙突及び制御可能な出口である。長手方向の部分は漏れを克服するために一つの連続的なタンタルベースプレートから折り曲げられ、ヘッド部分は溶接された。
【００９５】
真空室へのアルゴンガスの連続入口によって維持された真空圧力（２×１０−３ｍｂａｒに等価な２×１０−１Ｐａの圧力）下で、そして蒸気源（７６０℃）及び煙突の十分に高い温度で、得られた蒸気を移動するシート支持体の方に向け、前記支持体が蒸気流上で回転している間に連続的にその上に付着した。蒸気源の前記温度は前記るつぼの底部の下で押されかつその外側に存在する熱電対及びるつぼ及び煙突に存在するタンタル保護された熱電対によって測定された。
【００９６】
２８０μｍの厚さ、１０ｃｍの幅及び１０ｃｍの長さを有する陽極酸化されたアルミニウム支持体を、支持体とるつぼ蒸発出口スリットの間を２２ｃｍの距離にして燐光体が蒸着される側に位置させた。
【００９７】
異なる厚さの燐光体層を有する燐光体プレートに導く異なる蒸着時間を実施した後に蒸着装置からプレートを取り出した（厚さ−原材料の蒸発及び燐光体形成ブロックへの変形−の関数として、工程を継続して厚い燐光体層を作ることができるために余分の原材料を添加することを開始することが要求された）。
【００９８】
ＣｓＢｒ：Ｅｕ層の各々について、Ｅｕドーパント量（ｐ．ｐ．ｍ．量として表示−μｇ／ｇ）、燐光体の被覆重量とユウロピウムドーパント量の積（「活性化剤被覆重量数」（ＡＣＷＮ））及びスピード（ＳＡＬ％）、並びに新しく作られたパネルの非保護燐光体層と上部に保護層なしで３０℃の温度及び８０％の相対湿度の部屋で１４０時間状態調節した後の同じパネルとの間のスピードの損失。
【００９９】
上述のデータは表４に述べられ、そこでは相対スピード（ＳＡＬ％）はＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーによって製造されたＭＤ１０（登録商標）参照用光刺激性燐光体スクリーンの参照スピードと比較したスクリーンの各々のスピードとして規定され、スピードの損失は新しい及びエージング又は状態調節したパネルから計算された相対スピード値ＳＡＬ％の百分率差から計算される。
【０１００】
「Ａｄｄ１」についてだけ原材料混合物のグラムで表示される量が与えられるとき、それは多数の蒸発が全く起こらないことを意味する。しかしながら、もし「Ａｄｄ２」についても原材料混合物のグラムで表示される量が与えられるなら、これは多数の蒸発工程が適用されることを表わす。
【０１０１】
2007121298.tif 000005
【０１０２】
表４のデータから結論づけられるように、湿分に対する（保護層のない）Ｅｕドープされた燐光体層の内部安定性はもし２００μｍより多い燐光体層厚さを有する厚い燐光体層において十分に高いドーパント又は活性化剤濃度、即ち約３００ｐ．ｐ．ｍ．〜約４００ｐ．ｐ．ｍ．の範囲であるなら達成されるにすぎない。
【０１０３】
保護層のない本発明の被覆（ＣＢ２２７１１，ＣＢ２２７０５及びＣＢ２２８０１）においてだけ２００００より多い「活性化剤被覆重量数」（ＡＣＷＮ）が効果的に達成され、考えられるような内部湿度安定性を生じる。３０℃及び８０％ＲＨで１４０時間後の減衰百分率として表示されるスピードの損失（ＳＡＬ％）は図４に示されるように明らかに２０％未満、さらには１５％未満に明らかに減少される。
【０１０４】
実施例５
別の電気加熱されたオーブン及び耐火トレー又はボートに６００ｇのＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（９９．５重量％／０．５重量％のＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの百分率割合）を原材料として存在させ、蒸発した。１５０ｍｍの長さ、６０ｍｍの幅及び３５ｍｍの高さを有する細長いボートからなり、０．５ｍｍの厚さを有する「タンタル」から構成されたるつぼが使用された。
【０１０５】
実施例４と同じ手順が実施され、かくして作られたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体プレートに対して得られた結果は表５にまとめられる。
【０１０６】
2007121298.tif 000006
【０１０７】
表５から、厚い（約２００ｍｇ／ｃｍ２）未保護の燐光体層を内部的に安定させるために、３５℃及び８０％ＲＨで１４０時間厳しい状態調節をした後のスピードの損失を２５％未満にするように莫大な量の活性化剤又はドーパント（約４００ｐ．ｐ．ｍ．及びさらに多く）で形成することが必要であることは明らかである。さらに厳しい条件はスピード損失の増大に導く傾向を有するが、７００００の値を越え約１０００００までの高いＡＣＷＮを生じる、より多くのドーパント又は活性化剤でドープされた厚い層が被覆されるときに減少されることができる。上述のような条件における減衰百分率の数字は図５においてＡＣＷＮ値に対してプロットされている。
【０１０８】
汎用放射線写真に使用するための専用の厚い貯蔵燐光体層は物理的モルフォロジーの観点から前記貯蔵燐光体プレートについての均一性及び感度に関して安定していることが期待されるが、例えばマンモグラフィ用途のために使用されるような貯蔵燐光体プレートにおける薄い燐光体層に匹敵しうる安定性を持つためには十分な活性化剤成分が汎用放射線写真に使用するために好適な厚いプレートであっても実際に形成されるべきであることが理解される。
【０１０９】
本発明の好ましい実施態様を詳細に記載したが、添付の特許請求の範囲に規定された本発明の範囲から逸脱せずに多数の変更をその中でなしうることが当業者に明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】煙突ヒータ（１）、内部加熱された煙突（２）、煙突入口（３）及び出口（３′）、及びるつぼ、トレー又はボート（４）を示す。
【図２】３０℃及び８０％相対湿度で１４０時間状態調節室で全く保護層なしで貯蔵されたときの「活性化剤被覆重量数」（Ｅｕ含有量（ｐ．ｐ．ｍ．）と燐光体の被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）の積）の関数としての貯蔵燐光体プレートについての減衰百分率を示す。
【図３】マンモグラフィ用途に使用するために特に好適なパネルの貯蔵燐光体プレートの支持体上に蒸着された未保護のＣｓＢｒ：Ｅｕ針状燐光体層についての被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）とＥｕ活性化剤量（ｐ．ｐ．ｍ．）の積の関数としての３０℃及び８０％の相対湿度の雰囲気において１０４時間状態調節した後のＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体層を有する貯蔵燐光体スクリーンについて測定されたスピード減衰百分率を示す。
【図４】汎用放射線写真用途に使用するために特に好適なパネルの貯蔵燐光体プレートの支持体上に蒸着された未保護のＣｓＢｒ：Ｅｕ針状燐光体層についての被覆重量（ｍｇ／ｃｍ２）とＥｕ活性化剤量（ｐ．ｐ．ｍ．）の積の関数としての３０℃及び８０％の相対湿度の雰囲気において１４０時間状態調節した後のスピード減衰百分率を示す。
【図５】上で規定した計算された「活性化剤被覆重量数（ＡＣＷＮ）」の関数としての３５℃及び８０％の相対湿度のより厳しい雰囲気において４４時間状態調節した後のスピード減衰百分率を表わす。
【符号の説明】
【０１１１】
（１）  煙突ヒータ
（２）  内部加熱される煙突
（３）  煙突入口（３′）煙突スロット出口
（４）  るつぼ、トレー又はボート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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