(57)【要約】      （修正有）【課題】少ない工程数で容易に製造可能であり、且つ表示特性の良好な半透過型液晶表示装置及び該液晶表示装置の製造に有用な転写材料を提供する。【解決手段】特定の液晶性化合物を含有する層、又は該化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する少なくとも一層の光学異方性層を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置。また、該光学異方性層と感光性樹脂層とを有する転写材料。【選択図】図１
2007279688.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
任意形状にパターニングされ、下記一般式(Ｉ)もしくは一般式(II)で表される化合物を含有する、又は下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層を有することを特徴とする光学素子：
一般式（Ｉ）
【化１】
2007279688.tif 000047
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；ｎは０〜２の整数を表し；
一般式（ＩＩ）
【化２】
2007279688.tif 000048
式中、ＭＧ1及びＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ1及びＭＧ2を構成する環状基の１つは、Ｌ11及びＬ12で置換され；Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ11及びＬ12はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ1及びＭＧ2に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
式（ＩＩ）−ＬＡ
【化３】
2007279688.tif 000049
式（ＩＩ）−ＬＢ
【化４】
2007279688.tif 000050
式中、＊はＭＧ1を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ1と連結する位置を表し；Ａ11、Ａ13及びＡ14はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ2−を表し；Ａ12は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は、＊＝ＣＨ−Ｐ11−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ11−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ11は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ1は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−Ｎ＝を表し；Ｐ11は上記Ｐ11と同義である。
【請求項２】
前記光学異方性層が、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記光学異方性層が、転写材料から転写された層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記光学異方性層が、前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物を、インクジェット式の吐出ヘッドから表面に吐出して液晶相とした後、露光して該組成物を硬化させて形成された層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項５】
前記光学異方性層が、前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物を、表面に塗布して液晶相を形成した後、露光工程及び現像工程を経ることにより形成された層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項６】
任意形状にパターニングされた光学異方性層を有する半透過型液晶表示装置であって、前記光学異方性層が、下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物を含有する層、又は下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有することを特徴とする半透過型液晶表示装置：
一般式（Ｉ）
【化５】
2007279688.tif 000051
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；ｎは０〜２の整数を表す；
一般式（ＩＩ）
【化６】
2007279688.tif 000052
式中、ＭＧ1及びＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ1及びＭＧ2を構成する環状基の１つは、Ｌ11及びＬ12で置換され；Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ11及びＬ12はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ1及びＭＧ2に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
式（ＩＩ）−ＬＡ
【化７】
2007279688.tif 000053
式（ＩＩ）−ＬＢ
【化８】
2007279688.tif 000054
式中、＊はＭＧ1を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ1と連結する位置を表し；Ａ11、Ａ13及びＡ14はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ2−を表し；Ａ12は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は、＊＝ＣＨ−Ｐ11−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ11−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ11は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ1は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−Ｎ＝を表し；Ｐ11は上記Ｐ11と同義である。
【請求項７】
前記光学異方性層が、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする請求項６に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項８】
前記光学異方性層が、λ／４板であることを特徴とする請求項６又は７に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項９】
一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記光学異方性層が、前記一対の透明基板の一方の内側に設けられていることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１０】
反射領域と透過領域とを含み、前記光学異方性層が、前記反射領域に形成されていることを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１１】
前記光学異方性層が、１軸もしくは２軸性であることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１２】
前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を、面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層であることを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１３】
さらに、少なくとも一層の視野角補償層を有することを特徴とする請求項６〜１３のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１４】
一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記一対の透明基板の一方の表面上に反射層を有し、且つ該透明基板の前記反射層を有する表面と反対の表面上に前記視野角補償層を有することを特徴とする請求項１３に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１５】
前記視野角補償層が、円盤状液晶性化合物又は棒状液晶性化合物を含有する重合性組成物を重合して形成された層を有することを特徴とする請求項１３又は１４に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１６】
液晶モードがＥＣＢ、ＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢモードであることを特徴とする請求項６〜１５のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置。
【請求項１７】
支持体と、該支持体上に、下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物を含有する、又は下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層と、少なくとも一層の感光性樹脂層と、を有する転写材料：
一般式（Ｉ）
【化９】
2007279688.tif 000055
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく、ｎは０〜２の整数を表す。
一般式（ＩＩ）
【化１０】
2007279688.tif 000056
式中、ＭＧ1及びＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ1及びＭＧ2を構成する環状基の１つは、Ｌ11及びＬ12で置換され；Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ11及びＬ12はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ1及びＭＧ2に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
式（ＩＩ）−ＬＡ
【化１１】
2007279688.tif 000057
式（ＩＩ）−ＬＢ
【化１２】
2007279688.tif 000058
式中、＊はＭＧ1を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ1と連結する位置を表し；Ａ11、Ａ13及びＡ14はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ2−を表し；Ａ12は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は、＊＝ＣＨ−Ｐ11−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ11−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ11は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ1は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−Ｎ＝を表し；Ｐ11は上記Ｐ11と同義である。
【請求項１８】
前記光学異方性層が、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする請求項１７に記載の転写材料。
【請求項１９】
前記光学異方性層が、λ／４板であることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の転写材料。
【請求項２０】
前記光学異方性層が、１軸もしくは２軸性であることを特徴とする請求項１７〜１９のいずれか１項に記載の転写材料。
【請求項２１】
前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層である請求項１７〜２０のいずれか１項に記載の転写材料。
【請求項２２】
前記光学異方性層が、光軸をもたない層であることを特徴とする請求項１７〜２１のいずれか１項に記載の転写材料。
【請求項２３】
前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が１００〜２００ｎｍ、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として層平面の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい請求項１７〜２２のいずれかに記載の転写材料。
【請求項２４】
請求項１７〜２２のいずれか１項に記載の転写材料から、少なくとも光学異方性層を転写する工程を含む請求項６〜１５のいずれか１項に記載の半透過型液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられる光学素子、半透過型液晶表示装置、及びこれらの製造に有用な転写材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話や携帯音楽プレイヤー、Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ（ＰＤＡ）等のモバイル用電子機器向け表示装置の用途に、屋外での視認性が高く、低消費電力化が可能な半透過型液晶表示装置が注目されている。この液晶表示装置は、外部からの入射光を反射板で反射させて表示を行う反射部と、バックライトからの光をスイッチングして表示を行う透過部とを一つの画素内に設けたものであり、強烈な太陽光下でも視認性が高く、暗い屋内でも鮮やかな表示が可能で、必要のないときはバックライトを切ることで消費電力を節約できるため、透過型液晶表示装置に比べて長時間駆動が可能になるといった利点がある。
【０００３】
半透過型の液晶表示装置の基本的な構成は、例えば下記特許文献１及び２に開示されている。
従来の半透過型の液晶表示装置は、一般的には、一対の液晶セル用基板の一方の対向面に、反射率の高い材料により形成された反射電極と、透過率の高い材料により形成された透明電極とを有し、他方の基板の対向面に対向電極を有し、反射電極及び透明電極と対向電極との間に、液晶材料からなる液晶層を備えている。反射電極及び透明電極を有する基板の対向面と反対側の表面には、λ／４板と、λ／２板と、偏光板とがこの順で積層されている。
【０００４】
上記構成の液晶表示装置では、表示面となる基板側の全面に位相差層としてλ／４層を備えることにより、反射表示を実現している。一方、透過表示を実現する際には、本来λ／４層等の位相差層は不要であるが、反射表示のために表示面となる基板側の全面にλ／４層が存在するので、このλ／４層での位相差を補償するために後面の基板側にλ／４層を用いる必要がある。すなわち、透過表示では本来不要であるにもかかわらず、反射表示用に表示面にλ／４層が存在するために、この位相差を補償するために後面にも１枚追加しなければならなかった。また、λ／２層も両面に設けられているが、これも本来、λ／４層が持つ波長分散の影響による色相変化の抑制に必要なもので、Ｒ，Ｇ，Ｂの色毎に最適なλ／４層を提供することが困難であったために、設けられている。そして、これら偏光板、λ／２層、λ／４層は、貼り合わせる際の光軸方向がそれぞれ異なっており、ロールｔｏロールによる大量生産ができず、小片に切断後に１枚ずつ重ねるために、生産性が非常に悪くなっている。
このように、従来の半透過型液晶表示装置は、反射型液晶表示装置や透過型液晶表示に比べて位相差層の使用枚数が多く、コストが上昇することや、セルの厚みが増大する等の不都合な問題を抱えている。
【０００５】
このような問題に対して、位相差層を基板の内側（インセル）に形成することで解決する方法が提案されている（特許文献３）。この方法では、最適化なλ／４層をパターン化して設けることで、反射部に対応する領域にのみ必要な位相差をもたせることで、余分なλ／２層、λ／４層を省けることが示されている。該特許文献３には、材料として液晶性化合物を用い、且つフォトリソグラフィ−の方法を利用して、最適なλ／４層をパターン形成することが開示されている。
【特許文献１】特開２０００−２９０１０号公報
【特許文献２】特開２０００−３５５７０号公報
【特許文献３】特開２００３−３２２８５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献３に記載の方法では、λ／４層のレターデーションの波長分散特性に起因する色ずれが発生するという問題があった。この問題の解決方法として、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれに最適なレターデーションを持つλ／４層をパターニングする方法も提案されているが、そのためには、多くの工程を必要とするという問題点があった。たとえば、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれに最適なλ／４層を形成する場合、配向層形成（配向材塗布、焼成、ラビング）、液晶性化合物の形成（液晶性化合物塗布、配向焼成）、パターニング（レジスト塗布、露光、アルカリ現像、焼成、溶剤現像）という工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色毎に、反射領域と透過領域とに繰り返し形成するため、Ｒ，Ｇ，Ｂ各色２回、さらに透過部にも位相差層を設ける場合は、合計６回の光学異方性層の形成工程を経なければならず、コスト増大の要因となるといった問題点があった。
【０００７】
本発明はこのような問題点を解決するものであり、少ない工程数により容易に製造可能で、且つ表示特性の良好な半透過型液晶表示装置及びかかる液晶表示装置に有用な光学素子を提供することを課題とする。
また、本発明は、前記半透過型液晶表示装置及び光学素子等を作製するのに有用な転写材料を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  任意形状にパターニングされ、下記一般式(Ｉ)もしくは一般式(II)で表される化合物を含有する、又は下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層を有することを特徴とする光学素子：
【０００９】
一般式（Ｉ）
【化１】
2007279688.tif 000003
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し；Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表し；Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表し、ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよく；ｎは０〜２の整数を表し；
【００１０】
一般式（ＩＩ）
【化２】
2007279688.tif 000004
式中、ＭＧ1及びＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ1及びＭＧ2を構成する環状基の１つは、Ｌ11及びＬ12で置換され；Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ11及びＬ12はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ1及びＭＧ2に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
【００１１】
式（ＩＩ）−ＬＡ
【化３】
2007279688.tif 000005
【００１２】
式（ＩＩ）−ＬＢ
【化４】
2007279688.tif 000006
式中、＊はＭＧ1を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ1と連結する位置を表し；Ａ11、Ａ13及びＡ14はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ2−を表し；Ａ12は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は、＊＝ＣＨ−Ｐ11−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ11−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ11は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ1は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−Ｎ＝を表し；Ｐ11は上記Ｐ11と同義である。
【００１３】
［２］  前記光学異方性層が、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする［１］の光学素子。
［３］  前記光学異方性層が、転写材料から転写された層であることを特徴とする［１］又は［２］の光学素子。
［４］  前記光学異方性層が、前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物を、インクジェット式の吐出ヘッドから表面に吐出して液晶相とした後、露光して該組成物を硬化させて形成された層であることを特徴とする［１］又は［２］の光学素子。
［５］  前記光学異方性層が、前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有する液晶組成物を、表面に塗布して液晶相を形成した後、露光工程及び現像工程を経ることにより形成された層であることを特徴とする［１］又は［２］の光学素子。
【００１４】
［６］  任意形状にパターニングされた光学異方性層を有する半透過型液晶表示装置であって、前記光学異方性層が、前記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物を含有する層、又は前記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
［７］  前記光学異方性層が、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする［６］の半透過型液晶表示装置。
［８］  前記光学異方性層が、λ／４板であることを特徴とする［６］又は［７］の半透過型液晶表示装置。
［９］  一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記光学異方性層が、前記一対の透明基板の一方の内側に設けられていることを特徴とする［６］〜［８］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１０］  反射領域と透過領域とを含み、前記光学異方性層が、前記反射領域に形成されていることを特徴とする［６］〜［９］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１１］  前記光学異方性層が、１軸もしくは２軸性であることを特徴とする［６］〜［１０］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１２］  前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を、面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層であることを特徴とする［６］〜［１１］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１３］  さらに、少なくとも一層の視野角補償層を有することを特徴とする［６］〜［１３］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１４］  一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記一対の透明基板の一方の表面上に反射層を有し、且つ該透明基板の前記反射層を有する表面と反対の表面上に前記視野角補償層を有することを特徴とする［１３］の半透過型液晶表示装置。
［１５］  前記視野角補償層が、円盤状液晶性化合物又は棒状液晶性化合物を含有する重合性組成物を重合して形成された層を有することを特徴とする［１３］又は［１４］の半透過型液晶表示装置。
［１６］  液晶モードがＥＣＢ、ＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、又はＯＣＢモードであることを特徴とする［６］〜［１５］のいずれかの半透過型液晶表示装置。
［１７］  支持体と、該支持体上に、前記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物を含有する、又は前記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層と、少なくとも一層の感光性樹脂層と、を有する転写材料。
【００１５】
［１８］  前記光学異方性層が、可視光の波長領域において、波長４５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（４５０ｎｍ）と、波長５５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（５５０ｎｍ）と、波長６５０ｎｍで測定した位相差△ｎｄ（６５０ｎｍ）とが、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする［１７］の転写材料。
［１９］  前記光学異方性層が、λ／４板であることを特徴とする［１７］又は［１８］の転写材料。
［２０］  前記光学異方性層が、１軸もしくは２軸性であることを特徴とする、［１７］〜［１８］のいずれかの転写材料。
［２１］  前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層である［１７］〜［２０］のいずれかの転写材料。
［２２］  前記光学異方性層が、光軸をもたない層であることを特徴とする［１７］のいずれかの転写材料。
［２３］  前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が１００〜２００ｎｍ、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として層平面の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい［１７］の転写材料。
［２４］  ［１７］〜［２３］のいずれかの転写材料から、少なくとも光学異方性層を転写する工程を含む［１］〜［５］のいずれかの光学素子の製造方法。
［２５］  ［１７］〜［２３］のいずれかの転写材料から、少なくとも光学異方性層を転写する工程を含む［６］〜［１６］のいずれかの半透過型液晶表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、少ない工程数で容易に製造可能で、且つ表示特性の良好な半透過型液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１７】
以下、本発明を適用した液晶表示装置及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また本明細書において、Ｒｅレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）は平行ニコル法により、波長λｎｍの光を光学異方性層の法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１８】
図１に本発明の実施形態である半透過型液晶表示装置の概略断面図を示す。
図１に示す半透過型液晶表示装置は、対向する２枚の透明基板（１２１）と、該２枚の透明基板（１２１）とに挟まれた液晶材料からなる液晶層（１３１）とを有する。透明基板（１２１）の一方の対向面上には、アルミや銀などを使った反射率の高い材料により形成された反射板（１３５）が配置され、これらを覆って、ＩＴＯなどの透明導電膜からなる透明電極（１２５）と、配向膜（１２６）とが形成されている。また、該基板（１２１）の反対側の表面上には、偏光板（１３６）と、液晶層の残留レターデーションを補償する光学異方性層として、所定の面内レターデーションを有する（例えば３８ｎｍ程度）Ａ−ｐｌａｔｅ（光軸を面内に方向に有する位相差板）が補償板（１３２）として配置されている。以下、こちらの面を背面側とする。また、対向する透明基板（１２１）の対向面上には、Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のカラーフィルタ層（１２３）と、ブラックマトリクス（１２２）、前記反射領域に対応した位置にλ／４層である位相差層（１２４：光学異方性層）が配置され、その上に電極（１２５）と、配向膜（１２６）とが配置されている。該基板の対向面と反対側の表面上には、偏光板（１３３）が配置されている。以下、こちらの面を正面側とする。
【００１９】
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色の画素領域のそれぞれは、反射板（１３５）が形成された反射領域（１２８）と、透過領域（１２７）とを含み、λ／４層である位相差層（１２４）は、反射領域（１２８）にのみに形成され、透過領域（１２７）には形成されていない。即ち、位相差層（１２４）は、反射領域の形状に応じてパターニングされている。
【００２０】
２枚の偏光板（１３３、１３６）は、その透過軸を直交にして配置されている。λ／４層位相差層（１２４）及び補償板（１３２）の遅相軸方向は、偏光板（１３３、１３６）の透過軸に対してそれぞれ、所定の角度（ここでは、４５°、１３５°）をなすように設定されている。対向する２枚の透明基板（１２１）の間には、液晶層（１３１）が、挟持されている。図１では、液晶層は、遅相軸が偏光板の透過軸に対して４５°の角度をなすように配向処理されたＥＣＢモード（電解複屈折モードＥｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）である。また、透過領域（１２７）及び反射領域（１２８）での液晶層中の液晶分子の配向方向が同一になるように構成されている。液晶層の面内レターデーションは透過領域でλ／２の２７５ｎｍ、反射領域でλ／４の１３７．５ｎｍとなるようにするのが好ましい。
【００２１】
液晶層は、透過型液晶表示素子で用いられているＴＮモードにすることも可能である。この場合、透過表示時に高いコントラストを得ることができる。さらに、視野角特性に優れたＩＰＳモード、ＶＡモード、応答速度に優れるＯＣＢモードの使用も可能である。
この場合、補償層（１３２）として、１軸あるいは２軸性の、面内方向に異常光線の光学軸がある光学異方性層（ａ−ｐｌａｔｅ  と呼ぶ）、あるいは異常光線の光学軸が面に垂直な方向にある光学異方性層（ｃ−ｐｌａｔｅ  と呼ぶ）、などから最適なものを選ぶことが望ましい。
【００２２】
液晶モードがＥＣＢモードの場合、このλ／４層は正の１軸性Ａ−Ｐｌａｔｅとすることが望ましい。液晶モードがＴＮの場合も同様に適用できる。ＴＮの場合、円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させることによって形成したものが、さらに望ましい。
また、液晶モードがＶＡの場合は、負のＣ−ｐｌａｔｅあるいは、そのＡ−Ｐｌａｔｅの複合体、あるいは２軸Ａ−Ｐｌａｔｅとすることが望ましく、ＩＰＳモードの場合は、２軸Ａ−Ｐｌａｔｅ、あるいは正のＣ−ｐｌａｔｅとすることが望ましい。
【００２３】
上述した図１に示す半透過型液晶表示装置で実際に画像表示を行う場合の基本原理について、図２を参照して説明する。簡略化のため、カラーフィルタ層と補償層の説明は省く。
まず白表示とする場合について説明する。
液晶層に対する電圧印加を閾値以下とする。この時、反射部では、正面側から入射した周囲光は、まず偏光板で直線偏光になり、反射領域のλ／４層で右回転の円偏光となる。液晶層はλ／４の位相差を持つので、再度直線偏光に変換されて反射板に到達する。反射板で反射された直線偏光は再び液晶層を通過して同じ回転方向の円偏光となり、λ／４層を通過して入射光と同じ振動方向の直線偏光となり、偏光板を通過する。入射光が反射されて出てくるので、この部分の表示は白（あるいは明）となる。
透過部では、基板背面からバックライトにより照射された光が、偏光板でその透過軸に一致した直線偏光となる。この直線偏光が液晶層に入ると、レターデーションがλ／２となっているため振動方向が９０°傾いて正面側の偏光板の透過軸に平行な直線偏光になり、これを通過する。
【００２４】
つぎに、暗表示を行う場合について説明する。
液晶層に十分な電圧を印加し、液晶分子が基板面に対して垂直にたつようにして正面から見たレターデーションをほぼ０にする。
反射部では、正面側から入射した周囲光が、まず偏光板で直線偏光になり、反射領域のλ／４層で右回転の円偏光となる。液晶層のレターデーションはほぼ０なので、光はその偏光状態を維持したまま反射板に到達して反射される。このとき偏光の回転方向が逆転し、再び液晶層を通過してλ／４層を通過すると、偏光板の透過軸と直交する直線偏光に変換され、透過できないので黒表示になる。透過部では、背面側から入射した光が偏光板でその透過軸に一致した直線偏光となる。この直線偏光がそのまま、正面側の偏光板に到達するが、透過軸に直交する直線偏光なので透過できず、黒表示になる。
【００２５】
上述の説明では、電圧印加時に黒表示、無印加時に白表示となるような構成について説明したが、偏光板（１３３、１３６）の透過軸が平行になるように設定し、その逆となるような構成にしてもかまわない。
【００２６】
この形態では、反射領域に逆波長分散特性を持つλ／４層（１２４）が形成されており、背面側に透過部の残留レターデーションを補償してコントラストを向上させるための補償層を設けている。つまり、反射部でのλ／４層の波長分散による色ずれの心配がないため、λ／２層が不要になっている。
【００２７】
そもそも色相変化が生じる主原因は、位相差板などの光学異方性物質のもつレターデーションの波長分散特性にある。レターデーションの波長分散特性は、通常、波長が長くなるほどレターデーションが小さくなるもので、例えば、半透過型液晶表示装置でλ／４板は、直線偏光と円偏光を変換する機能を担うが、波長Ｇ（５５０ｎｍ）におけるレターデーションがλ／４の１３７．５ｎｍのものを使った場合、波長Ｒ（６００ｎｍ）に対してはそれより小さく、逆に波長Ｂ（４５０ｎｍ）に対してはそれよりも大きくなってしまう。本発明では、この問題を解決するため、△ｎｄ（４５０ｎｍ）＜△ｎｄ（５５０ｎｍ）＜△ｎｄ（６５０ｎｍ）を満足する、即ち、可視光域において、位相差が波長に対して逆分散特性（波長が長いほど位相差が大きくなる性質）の光学異方性層を、λ／４板等として用いている。
【００２８】
なお、前記では、光学異方性層をλ／４板として用いた態様について主に説明したが、本発明でいう光学異方性層は、位相差を測定したときにＲｅが実質的に０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はない。液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。
また、前記光学異方性層の厚さについては特に制限はないが、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．２〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．３〜１０μｍであることがよりさらに好ましい。
【００２９】
本発明者は、前記問題を解決するため、逆波長分散特性をもつ光学異方性物質についても探求し、最適な構造、製造方法を鋭意検討した。前記特性を満足する光学異方性層は、後述する所定の化合物を用いることで、容易に製造することができる。
また、任意形状にパターニングされた光学異方性層を有する本発明の光学素子及び半透過型液晶表示装置は、転写材料から光学異方性層を転写した後、パターン露光、現像工程によりパターンを形成する方法；所望の光学異方性を発現する流体をインクジェット式で所定の領域に吐出し、パターンを形成する方法；所望の光学異方性を発現する流体を所定の基板に塗布及び乾燥して液晶相を形成した後、パターン露光、現像工程を経ることにより、製造することができる。
【００３０】
本発明において、「任意形状にパターニングされた」とは、一表面上に少なくとも、光学異方性層が形成された領域と形成されていない領域が規則的にまたは不規則的に配置されている状態をいい、例えば、上記実施形態で説明したように、半透過液晶表示装置において、反射部のみに形成された光学異方性層や、ＲＧＢ画素領域のみに形成された光学異方性層、など種々の態様が挙げられる。
また、本発明では、任意形状にパターニングされた逆分散特性の光学異方性層とは別に、前記逆波長分散特性を有するパターニングされていない一様な光学異方性層を、例えば、液晶セル内の背面側又は液晶セル外に有していてもよい。
【００３１】
［転写法による光学異方性層の形成］
まず、上記機能を満足する逆波長分散特性を有する、任意形状にパターニングされた光学異方性層を、転写材料を用いて形成する実施の形態について説明する。
［転写材料］
本発明の液晶表示装置の製造方法の一例として、前記光学異方性層を、転写材料から転写して形成することを含む方法が挙げられる。転写材料を用いて光学異方性層を形成することにより、工程数を軽減して、簡易な方法で良好な表示特性の液晶表示装置を作製することができる。ここで、転写材料とは、支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と、少なくとも一層の感光性樹脂層とを有し、前記光学異方性層と前記感光性樹脂層を、他の基板上に転写するのに用いられる材料である。図３に本発明の転写材料のいくつかの例の概略断面図を示す。図３（ａ）に示す本発明の転写材料は、透明又は不透明な仮支持体１１上に光学異方性層１２と感光性樹脂層１３とを有する。転写材料は他の層を有していてもよく、例えば、図３（ｂ）に示す様に、支持体１１と光学異方性層１２との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層１４を有していてもよいし、また、図３（ｃ）に示す様に、光学異方性層１２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層１５が配置されてもよいし、さらに図３（ｄ）に示す様に双方の層を有していてもよい。また、図３（ｅ）に示す様に、感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層１６を設けてもよい。
【００３２】
［支持体］
本発明でいう転写材料に用いられる支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステル及びノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００３３】
［液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層］
前記光学異方性層は、上記の様に、液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な光学補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば、液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足する態様も本発明でいう範囲に含まれる。また、転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、液晶セル基板上に転写される過程において実施される露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
【００３４】
前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する組成物から形成されることが好ましい。一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００３５】
液晶化合物は通常、下記式（０）で表されるΔｎの波長分散性を持たない。
式（０）：  Δｎ（４５０ｎｍ）／Δｎ（５５０ｎｍ）＜１．０
式（０）を満足するΔｎの波長分散性を発現させるためには、少なくとも２種類の吸収波長と遷移モーメントの方向を調整する必要がある。Δｎは異常光の屈折率から常光の屈折率を差し引いた値であるため、異常光の屈折率の波長分散性よりも、常光の波長分散性が、より右肩下がり（右を長波長側、左を短波長側とおいたときのΔｎの傾き）であれば、その差し引いた値は、式（０）を満足する。屈折率の波長分散性は、Ｌｏｒｅｎｔｚ−Ｌｏｒｅｎｚの式で表されているように、物質の吸収に密接な関係があるため、常光の波長分散性をより右肩下がりにするためには、常光方向の吸収波長をより長波化できれば、式（０）を満たす分子を設計することができる。
【００３６】
常光の方向は、例えば棒状液晶では分子の幅方向であり、そのような分子の幅方向の吸収遷移波長を長波化することは非常に困難なことである。吸収の遷移を長波化するためには、通常π共役系を広げることにより達成することが可能であるが、そのような方法を用いようとすると、分子の幅を広げることになり、液晶性は消失してしまうからである。
このような液晶性の低下を防ぐためには、Ｗｉｌｌｉａｍ  Ｎ．  Ｔｈｕｒｍｓ  らが報告（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ、２５巻、１４９頁、１９９８年）している２つの棒状液晶を側方方向でつないだ骨格を用いることが可能である。この骨格は、２つの棒状液晶をエチニル基で連結するため、棒状液晶を構成するベンゼン環のπ共役系がエチニル基のπ結合と共役した形（トラン骨格）となるため、液晶性を損なわずに分子の幅方向の吸収波長を長波化することができる。しかし、このトラン骨格は、分子の長軸方向（光軸方向）に対して、約６０°しか傾いていないため、換言すれば吸収の遷移方向が約６０°しか傾いていないため、常光方向の吸収波長だけでなく、異常光方向の吸収波長も長波化するため、結果として波長分散性にはほとんど寄与しない。
【００３７】
常光の波長分散性のみをより右肩下がりにするためには、分子の長軸方向（光軸方向）に対して、好ましくは、吸収の遷移方向が７０〜９０°さらに好ましくは、８０〜９０°傾いている必要があることがわかった。傾き角が９０°に近くなるほど、異常光方向の吸収がなくなるため、常光の波長分散性のみを右肩下がりにすることができ好ましい。
以上のように、異常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移よりも、常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移の方が長波長であり、且つ常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾いている分子が好ましい。常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向（光軸方向）に対して、７０〜９０°傾けるためには、６員環と奇数員環（３員環、５員環、７員環、９員環等）が縮環した部分構造を有することが好ましいことが分かった。
【００３８】
具体的には、下記一般式（Ｉ）又は後述する一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物が挙げられる。これらの液晶性化合物は、添加剤として光学異方性層中に単分子構造のまま含有されていてもよいし、これらの液晶性化合物が重合性基を有する場合は、これらの液晶性化合物から誘導される繰り返し単位を有する高分子の状態で、前記光学異方性層中に含有されていてもよい。
【００３９】
一般式（Ｉ）
【化５】
2007279688.tif 000007
【００４０】
式中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3は各々独立に置換基を表す。Ｘは第１４
〜１６族の非金属原子を表す（ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい）。ｎは０〜２の整数を表す。
【００４１】
特に下記一般式（Ｉ'）で表される液晶化合物が好ましい。
【００４２】
一般式（Ｉ'）
【化６】
2007279688.tif 000008
【００４３】
一般式（Ｉ'）中、Ｌ1及びＬ2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。Ａ1及び
Ａ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、−Ｓ−及び
−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立に置
換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。
【００４４】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）において、Ｌ1及びＬ2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。
【化７】
2007279688.tif 000009
【００４５】
さらに好ましくは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−である。
【００４６】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）において、Ｒ1は置換基であり、複数存在する場合は同じで
も異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。
【００４７】
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、
【００４８】
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、
【００４９】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、
【００５０】
シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【００５１】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、
【００５２】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、
【００５３】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、
【００５４】
アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、
【００５５】
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【００５６】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【００５７】
Ｒ1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
【００５８】
Ｒ2、Ｒ3は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましくは置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
【００５９】
Ｒ4、Ｒ5は各々独立に置換基を表す。例としては上記Ｒ1の例があげられる。好ましく
は、ハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σｐ値が０〜１．５の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、Ｒ４とＲ５とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσｐ、σｍに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」（丸善）、日本化学会編「新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応Ｖ」２６０５頁（丸善）、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」２１７頁（東京化学同人）、ケミカル  レビュー，９１巻，１６５〜１９５頁（１９９１年）等の成書に詳しく解説されている。
【００６０】
Ａ1及びＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子又は置換基）、−Ｓ−及び−ＣＯ−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる。）又は−Ｓ−である。
【００６１】
Ｘは第１４〜１６族の非金属原子を表す。ただし、Ｘには水素原子又は置換基が結合してもよい。Ｘは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ、＝Ｃ（Ｒ）Ｒが好ましい（ここでＲは置換基を表し、例としては上記Ｒ1の例が挙げられる。）。
ｎは０〜２の整数を表し、好ましくは０、１である。
【００６２】
前記一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物が、重合性基を有していると、光学異方性層の光学特性が熱等によって変動しないので、好ましい。重合性基としては、後述する一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が有する置換基Ｑの例示と同様である。なお、前記一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物は、例えば、Ｒ2及び／又はＲ3の置換基として重合性基を有していてもよい。
【００６３】
以下に、一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧（  ）内の数字にて例示化合物（Ｘ）と示す。
【００６４】
【化８】
2007279688.tif 000010
【００６５】
【化９】
2007279688.tif 000011
【００６６】
【化１０】
2007279688.tif 000012
【００６７】
【化１１】
2007279688.tif 000013
【００６８】
【化１２】
2007279688.tif 000014
【００６９】
一般式（Ｉ）又は（Ｉ'）で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物（１）は、下記スキームに従って合成することができる。
【００７０】
【化１３】
2007279688.tif 000015
【００７１】
前記スキーム中、化合物（１−Ａ）から化合物（１−Ｄ）までの合成は、"Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ"（１９９７）；２７（９）；ｐ．５１５−５２６．に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物（１−Ｅ）のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物（１−Ｄ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物（１）を得ることができる。
【００７２】
また、前記光学異方性層の形成には、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物を用いるのも好ましい。
【００７３】
一般式（ＩＩ）
【化１４】
2007279688.tif 000016
式中、ＭＧ1及びＭＧ2はそれぞれ独立に、２〜８個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく；ＭＧ1及びＭＧ2を構成する環状基の１つは、Ｌ11及びＬ12で置換され；Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、及びＲ14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり；Ｌ11及びＬ12はそれぞれ独立に、液晶コア部ＭＧ1及びＭＧ2に置換する連結基であり、下記式（ＩＩ）−ＬＡ又は式（ＩＩ）−ＬＢで表され；
【００７４】
式（ＩＩ）−ＬＡ
【化１５】
2007279688.tif 000017
【００７５】
式（ＩＩ）−ＬＢ
【化１６】
2007279688.tif 000018
式中、＊はＭＧ1を構成する環状基に置換する位置を表し；＃はＰ1と連結する位置を表し；Ａ11、Ａ13及びＡ14はそれぞれ独立に、―Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＣＨ2−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ2−を表し；Ａ12は−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の一方が、式（ＩＩ）−ＬＢで表される基で、他方が式（ＩＩ）−ＬＡで表される基の場合、置換基Ｐ1は、＊＝ＣＨ−Ｐ11−＃、又は＊＝Ｎ−Ｐ11−＃で表され（＊は式（ＩＩ）−ＬＢで表される基との連結位置を表し、＃は式（ＩＩ）−ＬＡで表される基との連結位置を表す）；Ｐ11は単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、１，４−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し；Ｌ11及びＬ12の双方が式（ＩＩ）−ＬＢで表される基の場合、置換基Ｐ1は、二重結合、＝ＣＨ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｐ11−Ｎ＝を表し；Ｐ11は上記Ｐ11と同義である。
【００７６】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物については、特開２００５−２８９９８０号公報の［００２６］〜［００８３］詳細な説明があり、またその例示化合物も同公報の［００８５］〜［００９８］に例示があり、それらを使用することができる。
【００７７】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物とともに、順波長分散特性を持つ棒状又は円盤状の液晶性化合物を、光学異方性層の形成に用いてもよい。
順波長分散特性をもつ、棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。
【００７８】
一般式（ＶＩ）：Ｑ61−Ｌ61−Ａ61−Ｌ63−Ｍ−Ｌ64−Ａ62−Ｌ62−Ｑ62
式中、Ｑ61及びＱ62はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63及びＬ64はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ63及びＬ64の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ61及びＡ62はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００７９】
以下に、上記一般式（ＶＩ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ61及びＱ62は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００８０】
【化１７】
2007279688.tif 000019
【００８１】
Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63及びＬ64で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ62−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ62−、−ＮＲ62−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ62−、−ＮＲ62−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ62−ＣＯ−ＮＲ62−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ62は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ63及びＬ64の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）である。前記式（ＶＩ）中、Ｑ61−Ｌ61及びＱ62−Ｌ62−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００８２】
Ａ61及びＡ62は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２のアルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００８３】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＶＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＶＩＩ）：−（−Ｗ61−Ｌ65）n−Ｗ62−
式中、Ｗ61及びＷ62は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ65は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（ＶＩ）中、Ｌ61〜Ｌ64で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及び−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【００８４】
Ｗ61及びＷ62としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００８５】
前記一般式（ＶＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００８６】
【化１８】
2007279688.tif 000020
【００８７】
以下に、前記一般式（ＶＩ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（ＶＩ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００８８】
【化１９】
2007279688.tif 000021
【００８９】
【化２０】
2007279688.tif 000022
【００９０】
【化２１】
2007279688.tif 000023
【００９１】
順波長分散特性をもつ液晶性化合物の他の態様として、ディスコティック液晶性化合物が挙げられる。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層であってもよい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００９２】
下記一般式（ＶＩＩＩ）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（ＶＩＩＩ）：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００９３】
前記式（ＶＩＩＩ）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００９４】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００９５】
【化２２】
2007279688.tif 000024
【００９６】
【化２３】
2007279688.tif 000025
【００９７】
【化２４】
2007279688.tif 000026
【００９８】
【化２５】
2007279688.tif 000027
【００９９】
【化２６】
2007279688.tif 000028
【０１００】
【化２７】
2007279688.tif 000029
【０１０１】
【化２８】
2007279688.tif 000030
【０１０２】
【化２９】
2007279688.tif 000031
【０１０３】
【化３０】
2007279688.tif 000032
【０１０４】
【化３１】
2007279688.tif 000033
【０１０５】
【化３２】
2007279688.tif 000034
【０１０６】
光学異方性層は、前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物、及び所望により他の液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９  Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。
【０１０７】
前記光学異方性層が一軸性の場合、上下いずれかの偏光板保護フィルムの光学異方性を最適化することにより、ＶＡモードもしくはＩＰＳモードもしくは半透過モードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。いずれの場合においても、色視野角特性改良に対しては、偏光板保護フィルムのレターデーション波長分散が一般的、即ち波長が長くなるにつれてレターデーションが小さくなることで、液晶セルに対して広い波長域で正確に光学補償できる。
前記光学異方性層は、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物を、液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製してもよい。このような配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。
【０１０８】
前記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される液晶性化合物は、層中において、水平配向、垂直配向、傾斜配向、及びねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。水平配向については、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。
【０１０９】
液晶性化合物からなる光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て一般式（Ｉ）で表される液晶性化合物を利用して形成した層の積層体、全て一般式（ＩＩ）で表される液晶性化合物を利用して形成した層の積層体、前記一般式（Ｉ）の化合物と一般式（ＩＩ）の化合物とをそれぞれ利用して形成した層の積層体のいずれであってもよい。また、その他、円盤状液晶性化合物を利用して形成した層、及び／又は棒状性液晶性化合物を利用して形成した層との積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【０１１０】
光学異方性層は、液晶性化合物及び下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１１１】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１１２】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１１３】
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
以下、下記一般式（１）〜（３）について、順に説明する。
【０１１４】
一般式（１）
【化３３】
2007279688.tif 000035
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2及びＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【０１１５】
一般式（２）
【化３４】
2007279688.tif 000036
【０１１６】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【０１１７】
一般式（３）
【化３５】
2007279688.tif 000037
【０１１８】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−９９２４８号公報の段落番号［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【０１１９】
前記一般式（１）〜（３）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１２０】
［配向層］
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上又は該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
【０１２１】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。
【０１２２】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。
【０１２３】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成工業（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【０１２４】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１２５】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【０１２６】
光学異方性層は、液晶性化合物を仮配向層上で配向させ、その配向を固定化した後、透明支持体に粘着剤を用いるなどして転写することもできるが、生産性の観点からは転写なしに直接形成することが好ましい。
【０１２７】
［感光性樹脂層］
本発明でいう転写材料に用いられる感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、マスク等を介して光照射した際に露光部と未露光部に基板への転写性の差が生じればポジ型でもネガ型でもよく特に限定はない。前記感光性樹脂層は、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマー又はオリゴマーと、（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。また、基板上にカラーフィルタと同時に光学異方性層を形成する態様においてはさらに加えて、（４）染料又は顔料のような着色剤を含む着色樹脂組成物から形成するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（４）の成分について説明する。
【０１２８】
（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【０１２９】
（２）モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【０１３０】
更に特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【０１３１】
（３）光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【０１３２】
（４）着色剤
前記着色樹脂組成物には、公知の着色剤（染料、顔料）を添加することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。
【０１３３】
本発明における着色剤としては、上記の着色剤の中でも、（ｉ）Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ｉｉ）Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（ｉｉｉ）Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。更に上記顔料は組み合わせて用いてもよい。
【０１３４】
本発明において、併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・
レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、又は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
【０１３５】
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
【０１３６】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１３７】
本発明で用いる着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値を言う。
【０１３８】
着色画素のコントラストは、分散されている顔料の粒径を小さくすることで向上させることができる。粒径を小さくするには、顔料分散物の分散時間を調節することで達成できる。分散には、上記記載の公知の分散機を用いることができる。分散時間は好ましくは１０〜３０時間であり、更に好ましくは１８〜３０時間、最も好ましくは２４〜３０時間である。分散時間が１０時間未満であると、顔料粒径が大きく、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下することがある。一方、３０時間を越えると、分散液の粘度が上昇し、塗布が困難になることがある。また、２色以上の着色画素のコントラストの差を６００以内にするには、顔料粒径を調節して、所望のコントラストとすればよい。
【０１３９】
前記感光性樹脂層より形成されるカラーフィルタの各着色画素のコントラストは、２０００以上が好ましく、より好ましくは２８００以上、更に好ましくは３０００以上であり、最も好ましくは３４００以上である。カラーフィルタを構成する各着色画素のコントラストが２０００以下だと、これを有する液晶表示装置の画像を観察すると、全体に白っぽい印象となり、見難く好ましくない。また、各着色画素のコントラストの差が、好ましくは６００以内であり、より好ましくは４１０以内であり、更に好ましくは３５０以内、最も好ましくは２００以内である。各着色画素のコントラストの差が６００以内であると、黒表示時における各着色画素部からの光漏れ量が大きく相違しない為、黒表示の色バランスがよいため好ましい。
【０１４０】
本明細書において、「着色画素のコントラスト」とは、カラーフィルタを構成するＲ、Ｇ、Ｂについて、色毎に個別に評価されるコントラストを意味する。コントラストの測定方法は次の通りである。被測定物の両側に偏光板を重ねて、偏光板の偏光方向を互いに平行にした状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ１を測定する。次に偏光板を互いに直交させた状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ２を測定する。得られた測定値を用いて、コントラストはＹ１／Ｙ２で算出される。尚、コントラスト測定に用いる偏光板は、該カラーフィルタを使用する液晶表示装置に用いる偏光板と同一のものとする。
【０１４１】
感光性樹脂層により形成されるカラーフィルタにおいては、表示ムラ（膜厚変動による色ムラ）を効果的に防止するという観点から、該着色樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。本発明に用いる好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、及び／又はシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。
【０１４２】
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）及び、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。
【０１４３】
【化３６】
2007279688.tif 000038
【０１４４】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、ｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。
【０１４５】
特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣmＦ2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。ＣmＦ2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ1は水素原子又はメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ2及びＲ3は、各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4は水素原子又は炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐ及びｑは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐ及びｑは好ましくは２〜８である。
【０１４６】
また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。
【０１４７】
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、更には５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）及び一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、更には、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、及びその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
【０１４８】
モノマー（ａ）及び（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、アミノスチレン等のスチレン及びその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。
【０１４９】
特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。更に、特に好ましい界面活性剤は、分子構造及び／又はモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。
【０１５０】
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、及びポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有することにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させカラーフィルタを作製すると、表示ムラが改良される点で好ましい。
【０１５１】
好ましいフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開２００４−１６３６１０号公報の段落番号［００５４］〜［００６３］に記載の化合物が挙げられる。また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、又は、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。本発明においては、一般式（ａ）で表されるモノマーを含まないフッ素系界面活性剤である、特開２００４−３３１８１２号公報の段落番号［００４６］〜［００５２］に記載の化合物を用いることも好ましい。
【０１５２】
［その他の層］
転写材料の、支持体と光学異方性層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために熱可塑性樹脂層を形成することが好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１５３】
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【０１５４】
前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を１層にすることが好ましい。
【０１５５】
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フィルム材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【０１５６】
光学異方性層及び感光性樹脂層、及び所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層及び中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１５７】
［転写材料を用いた光学異方性層の形成方法］
本発明でいう転写材料を基板上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記光学異方性層及び感光性樹脂層を同時に転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明でいう転写材料を、感光性樹脂層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方性層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。
【０１５８】
転写材料を転写する被転写材料である基板は、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。被転写材料はまた透明支持体上にベタの光学異方性層等の層が設けられたものであってもよい。また、被転写材料は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂層との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、７００〜１２００μｍが一般的に好ましい。
【０１５９】
反射領域にλ／４層を形成するためには、転写後にパターン露光を行う。パターン露光は、被転写材料上に形成された感光性樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスクを介してマスク上方から露光してもよいし、レーザや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして露光してもよい。現像によって、特定の樹脂層と光学異方性層との積層体が、所定の位置に基板上に配置されたパターンが形成される。半透過型液晶表示装置の場合、反射領域に対応する形状のマスクでこの工程を実施することにより、反射領域にλ／４層を有する基板を得ることができる。ここで、前記露光の光源としては、樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【０１６０】
また、露光後の現像工程に用いられる現像液としては特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、上記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１６１】
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１６２】
［インクジェット法による光学異方性層の形成］
次に、上記逆波長分散特性を有する、反射領域のみに任意形状にパターニングされた光学異方性層を、インクジェットを用いて形成する実施の形態について説明する。
本実施の形態では、所定の光学異方性を発現する溶液等の流体を、インクジェット装置を用いて吐出して、微細領域内（例えば、Ｒ画素、Ｇ画素及びＢ画素上）に前記流体からなる層を形成する。前記流体は、液晶性化合物の少なくとも一種を含有するのが好ましく、中でも前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有していることが好ましい。乾燥後に液晶相を形成するように調製されたものが好ましい。インクジェットにより吐出可能であればよく、液晶性化合物等の材料の一部又は全部が分散した分散液を用いてもよいが、溶液であるのが好ましい。
【０１６３】
本態様においても、前記光学異方性層を配向膜上に形成してもよい。即ち、あらかじめ配向膜を形成し、該配向膜の微細領域に、前記流体を吐出させてもよい。本実施の形態に利用可能な配向膜は、前記転写法の実施の形態に利用可能な配向膜の例と同様である。前記配向膜の形成方法については特に制限されないが、本実施の形態では、光学異方性層の形成と同様、インクジェット法により形成するのが好ましい。
前記流体の吐出が完了した後、所望により該流体の層の乾燥を行い、液晶相を形成し、露光することによって硬化させて、光学異方性層を形成する。液晶相を形成するために、所望により加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。
【０１６４】
前記流体は、硬化可能であるのが好ましく、即ち、硬化性組成物を溶液等の流体として調製したものであるのが好ましい。硬化性組成物中に含有させる重合開始剤等については、転写方法の実施の形態にて説明した種々の重合開始剤を用いることができる。また、前記流体中には、配向制御剤等の添加剤を含有させてもよく、これらの例についても転写方法の実施の形態にて説明した種々の添加剤の例と同様である。また、前記流体の調製に使用する溶媒の例についても、転写法の実施の形態にて塗布液の調製に使用可能な溶媒の例と同様である。
【０１６５】
前記光学異方性層を形成する際のインク等の射出条件については特に制限されないが、光学異方性層形成用の流体の粘度が高い場合は、室温あるいは加熱下（例えば、２０〜７０℃）において、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インク等の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こすため、インク等の温度をできるだけ一定に保つのが好ましい。
【０１６６】
前記方法に用いられるインクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう）は、特に制限されず、公知の種々のものを使用することができる。コンティニアスタイプ、及びドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号公報に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。ヘッドは組成物の温度が管理できるよう、温調機能を持つものが好ましい。前記流体の射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるよう流体温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、1〜５００ｋＨｚで稼動することが好ましい。
【０１６７】
［現像法による光学異方性層の形成］
次に、上記逆波長分散特性を有する光学異方性層を、現像法、即ち、塗布、露光、現像工程を用いて形成する実施の形態について説明する。
本実施の形態では、所定の光学異方性を発現する溶液等の流体を、表面に塗布し、所望により乾燥して、液晶相とする。前記容液等の流体は、液晶性化合物の少なくとも一種を含有しているのが好ましく、中でも、前記一般式(Ｉ)又は一般式(II)で表される化合物を少なくとも一種含有していることが好ましい。乾燥後に液晶相を形成するように調製されたものが好ましい。液晶相とした後、画像様に露光して、露光部を硬化し又は露光部を可溶化し、現像することで、所定形状にパターニングされた光学異方性層を形成できる。
【０１６８】
前記流体は、現像可能なように、ポジ型又はネガ型の感光性組成物を溶液等の流体として調製したものであるのが好ましい。従って、前記流体は、液晶性化合物とともに、感光性材料、例えば、前記転写法の実施の形態に利用される転写材料の感光性樹脂層の作製に使用可能な材料、具体的には、（１）アルカリ可溶性樹脂、（２）モノマー又はオリゴマー及び（３）光重合開始剤又は光重合系開始剤を含有していてもよい。これらの好ましい例については、前記した通りである。
【０１６９】
前記流体中には、配向制御剤等の添加剤を含有させてもよく、これらの例については、転写方法の実施の形態にて説明した種々の添加剤の例と同様である。また、前記流体の調製に使用する溶媒の例についても、転写法の実施の形態にて塗布液の調製に使用可能な溶媒の例と同様である。
【０１７０】
前記流体の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
前記流体を上記方法により表面に塗布し、その後、所望により乾燥して、液晶相を形成する。液晶相を形成するために、所望により加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。また、本実施の形態においても、前記流体を配向膜上に塗布して、配向膜の配向制御能を利用して、液晶相を形成してもよい。本実施の形態に利用可能な配向膜は、前記転写法の実施の形態に利用可能な配向膜の例と同様である。
【０１７１】
液晶相を形成した後、画像様に露光する。画像様の露光は、例えば、フォトマスクを使用して行なうことができる。その後、現像により、露光部もしくは未露光部を除去して、所定の形状の光学異方性層を得る。現像方法については、露光されなかった部分を水溶液あるいは有機溶媒により除去する方法あるいは露光されなかった部分を液晶の等方相転移温度以上に加熱し、異方性を消失させた後、未硬化の重合性液晶を重合させて硬化させることにより等方相を形成する方法を用いることが好ましい。
【０１７２】
本発明の光学素子は、所定形状にパターニングされた、上記逆分散特性を有する光学異方性層を有することを特徴とする。本発明の光学素子の例には、基板上に前記光学異方性層を有するカラーフィルタ基板、液晶セル用基板等、種々の例が含まれる。
【０１７３】
本発明は、所定形状にパターニングされた、前記一般式一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物を含有する層、又は下記一般式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層を有する半透過型液晶表示装置にも関する。本発明の半透過型液晶表示装置は、以下の他の構成部材を有していてもよい。
［その他の構成部材］
本発明の液晶表示装置は、反射層を含む反射領域、透過領域、カラーフィルタ層、及び視野角補償層をさらに有していてもよい。前記液晶表示装置が有する、反射層を含む反射領域、透過領域、カラーフィルタ層、及び視野角補償層は、従来公知の種々の方法で形成することができる。前記カラーフィルタ層又は視野角補償層についても、転写材料を利用して形成してもよい。また、カラーフィルタの製造においては、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。また、視野角補償層は、前記一般式（ＶＩ）で表される棒状液晶性化合物、又は前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される円盤状液晶性化合物を含有する重合性組成物を、配向膜等の表面に塗布して、液晶性分子を配向させた後、該配向状態に重合により固定して形成するのが好ましい。前記重合性組成物中に用いられる材料、固定化方法、塗布液の調製、配向膜についての具体例は、本発明の転写材料が有する光学異方性層の形成時に用いられる材料及び方法と同様である。
【実施例】
【０１７４】
以下に本発明の液晶表示装置の作製方法について具体例を説明する。以下の例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明でいう趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明でいう範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１７５】
＜実施例１＞
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
──────────────────────────────────――――――
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――――――
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製）                        ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製）    ０．５５
メタノール                                                    １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ６．４３
メチルエチルケトン                                            ５２．９７
──────────────────────────────────――――――
【０１７６】
（中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）            ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ  Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製）    １．４８
蒸留水                                                        ５２．１
メタノール                                                    ４３．２１
──────────────────────────────────――
【０１７７】
（配向層用塗布液ＡＬ−２の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。変性ポリビニルアルコールは特開平９−１５２５０９号公報記載のものを用いた。
───────────────────────────────────
配向層用塗布液組成                                  （質量％）
─────────────────────────────────――
変性ポリビニルアルコールＡＬ−１−１                  ４．０１
水                                                  ７２．８９
メタノール                                          ２２．８３
グルタルアルデヒド（架橋剤）                          ０．２０
クエン酸                                              ０．００８
クエン酸モノエチルエステル                            ０．０２９
クエン酸ジエチルエステル                              ０．０２７
クエン酸トリエチルエステル                            ０．００６
───────────────────────────────────
【０１７８】
【化３７】
2007279688.tif 000039
【０１７９】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｘの調製）
下記の組成物を調製後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｘとして用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＬＣ−Ｘ−１                                                  １９．１６
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．５７
増感剤（カヤキュアＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                  ０．１９
ＬＣ−Ｘ−２                                                    ０．０８
クロロホルム                                                  ８０．０
──────────────────────────────────――
【０１８０】
【化３８】
2007279688.tif 000040
【０１８１】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン  ３０．００
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                      ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                    １．９０
メチルエチルケトン                                            ６８．００
──────────────────────────────────――
水平配向剤（ＬＣ−１−１）はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。光重合開始剤（ＬＣ−１−２）はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ  ２１に記載の方法により合成した。
【０１８２】
【化３９】
2007279688.tif 000041
【０１８３】
（光学補償層用塗布液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学補償層用塗布液ＬＣ−２を調製した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
例示化合物ＴＥ−８（Ｒ：８、ｍ＝４）                          ３２．４３
ディスコティック化合物記載
エチレングリコール変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学工業（株）製）                        ３．６０
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）                  ０．７２
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１．０８
増感剤（カヤキュアＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                  ０．３６
メチルエチルケトン                                            ６１．８１
──────────────────────────────────――
【０１８４】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万）                                      ５．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４．０万）                                      ２．４５
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                    ３．２
ラジカル重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．７５
増感剤（カヤキュアＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                  ０．２５
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２７．０
メチルエチルケトン                                            ５３．０
シクロヘキサノン                                                ９．２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ化学工業（株）製）      ０．０５
──────────────────────────────────――
【０１８５】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１として用いた。調整方法は、まずＫ顔料分散物、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
──────────────────────────────────――
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｋ１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物                                                  ２５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）  ８．０
メチルエチルケトン                                            ５３．４９４
バインダ１                                                      ９．１
ＤＰＨＡ溶液                                                    ４．２
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−プロモフェニル］−ｓ−トリアジン                      ０．１６０
ハイドロキノンモノメチルエーテル                                ０．００２
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）              ０．０４４
──────────────────────────────────――
【０１８６】
上記表中の組成物は以下の通りである。
［Ｋ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ２５０）
１３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万）                                      ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．５３
──────────────────────────────────――
【０１８７】
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万）                                        ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１８８】
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                  ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１８９】
（ブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。更に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂層を設け、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となったブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料Ｋ−１を作製した。
【０１９０】
［実施例１］
（感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−Ｘを＃５．５のワイヤーバーコータで塗布し、平面照射型遠赤外線ヒータ（１６φ、長さ５００ｍｍ、０．７ｋＷ）で照射しながら１２５℃３分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ１．９μｍの光学異方性層を形成した。
最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−１を塗布、乾燥させて０．７μｍ厚の感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂転写材料ＲＥＴ−１を作製した。
【０１９１】
［参考例１］
（感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を＃３のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ０．９μｍの光学異方性層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−１を塗布、乾燥させて１．７μｍの感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂転写材料ＲＥＴ−２を作製した。
【０１９２】
（位相差測定）
上記実施例１及び参考例１で作製した転写材料のそれぞれを、透明ガラス基板上に転写し、フィルム仮支持体を剥離した後、４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、２００℃のオーブンで大気雰囲気中、１時間のベーク処理を行った。室温まで放冷して、位相差板を作製した。それをファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける正面レターデーションＲｅを測定した。Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれに対応する波長λとして、６５０ｎｍ、５５０ｎｍ、４５０ｎｍのレターデーションを測定した。位相差測定結果を以下の表に示す。
【０１９３】
【表１】
2007279688.tif 000042
【０１９４】
実施例１の転写材料から形成した光学異方性層は、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５９）を満足し、ほぼそれぞれの波長に対してλ／４板になっていることが確認できた。
【０１９５】
［実施例２：インクジェット法］
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた棒状液晶を、例示化合物（１１０）の棒状液晶に変更し、メチルエチルケトンをクロロホルムに変更した以外は、同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を調製した。
【０１９６】
（光学異方性層の作製）
ガラス基板状に配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−２をピエゾ方式のヘッドを用いて打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＵＶ光を照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１０００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方性層を固定化し、厚さ２．９μｍの光学異方性層Ｉ−２を形成した。形成した光学異方性層が、微細パターンとして形成されていることを確認した。
【０１９７】
[参考例２］
光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた棒状液晶を、特開２００６−６４８５８号公報記載の下記式（但し、ｘ＝４）で表される棒状液晶に変更した以外は同様にして塗布液ＬＣ−３を調製し、実施例２と同様にして光学異方性層Ｉ−３を形成した。形成した光学異方性層が、微細パターンとして形成されていることを確認した。
【０１９８】
【化４０】
2007279688.tif 000043
【０１９９】
（Δｎ測定）
作成した光学異方性層の光学異方性を自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いてＲｅの光入射角度依存性を測定して求め、別途求めた膜厚
よりΔｎを求めた。Δｎ測定結果を下記表に示す。
【０２００】
【表２】
2007279688.tif 000044
【０２０１】
［実施例３：現像法］
ガラス基板上に、スリット状ノズルを用いて、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を＃５．５のワイヤーバーコータで塗布し、１４０℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、フォトマスクを介して、ＵＶ光を照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１０００ｍＪ／ｃｍ2）して、アセトン溶液に浸漬し、未露光部分の液晶膜を除去した。
形成した光学異方性層が、微細パターンとして形成されていることを確認した。
【０２０２】
［実施例４］
（半透過型ＬＣＤ１の作製）
実施例４では、図１に示した液晶表示装置１と光学的な構成が同一のフルカラーのパネルを作製した。
まず、次の方法により半透過用カラーフィルタ１を作製した。
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ−６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度０．４ｍ／分でラミネートした。
保護フィルムを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（ＵＳＨＩＯ電機株式会社製ＵＸ−１０００ＳＭ）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）をセットした状態で、露光マスクのパターン面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
【０２０３】
−レッド（Ｒ）グリーン（Ｇ）ブルー（Ｂ）画素の形成−
ＦＵＪＩＦＩＬＭ  ＲＥＳＥＡＲＣＨ  ＆  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴ  Ｎｏ．４４（１９９９）の２５頁に記載のトランサーシステム（富士フイルム（株）製）を用い、上記ブラックマトリクスを形成した基板上の、ＲＧＢ画素部に相当する部分に、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層を形成した。各色層の厚さは、それぞれ、１．８μｍ、だった。
【０２０４】
−反射領域の光学異方性層の形成−
次に、実施例１で作製した転写材料ＲＥＴ−１を、上記基板上に前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で転写し、反射領域に対応する部分にＵＶ光が照射されるようにデザインしたフォトマスクを、感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、反射領域の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光した。この基板を２２０℃で５０分ベークして、目的の基板が得られた。
【０２０５】
（透明電極の形成）
上で作製したカラーフィルタ１及びλ／４層の上に、厚さ１０００ÅのＩＴＯ透明電極膜を真空スパッタリング法により形成した。
成膜：真空チャンバー内で１０-5Ｐａ程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を２４０度に加熱、１０-1Ｐａのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からＩＴＯを飛ばし、１０００Åの厚さになるまで堆積させた。
フォトリソグラフ：スピンコート法により、フォトレジスト（東京応化製）を２μｍの厚さに均一にコートした。１００℃のベーク炉でプリベークを行った後、露光装置で所望のパターンのフォトマスクを使ってパターンを焼きこんだ。露光量と露光時間は設備の最適条件を適宜選んで決定した。露光後の基板を現像液（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド含有：東京応化製）で現像後、１２０℃のベーク炉でポストベークを行い、残留溶剤を飛ばして形を固定した。次にＩＴＯのエッチング液（塩化第２鉄含有：関東化学製）を揺動するシャワーヘッドで吹きかけながらエッチングを行い、ＩＴＯ膜が十分溶けきったのを確認して、純水シャワーでエッチング液を洗い落とし、乾燥エアーを使った高圧エアナイフで水を切って乾燥させた。次にレジストを剥離した。レジスト剥離液（２−アミノエタノール、ＮＭＰ含有：東京応化製）をシャワーヘッドで吹きかけながら、ロールブラシをかけてレジストを剥離した。剥離液は、温水シャワーとエアナイフで流して飛ばした。
【０２０６】
（配向層の形成）
さらにその上にポリイミドの配向膜を設けた。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＡＬ１２５４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５ｕｍの配向層を得た。この配向膜をラビング装置により配向処理を行った。ラビング布はコットン、回転数５００ｒｐｍ、押しこみ深さ０．３ｍｍとした。
【０２０７】
（対向側基板）
カラーフィルタ基板と実質的に同じ材質、サイズのガラス基板を準備した。
【０２０８】
（反射パターンの形成）
洗浄：
２５℃に調整した純水をシャワーにより吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、乾燥エアーを使ったエアナイフで水を切って乾燥させた。
成膜：
真空スパッタ成膜装置で行った。真空チャンバー内で１０-4Ｐａ程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を２００度に加熱、１０-1Ｐａのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からＡＬを飛ばし、１０００Åの厚さになるまで堆積させた。
フォトリソグラフ：
スピンコート法により、フォトレジスト（東京応化製）を２μｍの厚さに均一にコートした。１００℃のベーク炉でプリベークを行った後、露光装置で所望のパターンのフォトマスクを使ってパターンを焼きこんだ。露光後の基板を現像液（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド含有：東京応化製）で現像後、１２０℃のベーク炉でポストベークを行い、残留溶剤を飛ばして形を固定した。次にＡＬのエッチング液（燐酸含有：関東化学製）を揺動するシャワーヘッドで吹きかけながらエッチングを行い、膜が十分溶けきったのを確認して、純水シャワーでエッチング液を洗い落とし、乾燥エアーを使った高圧エアナイフで水を切って乾燥させた。次にレジストを剥離した。レジスト剥離液（２−アミノエタノール、ＮＭＰ含有：東京応化製）をシャワーヘッドで吹きかけながら、ロールブラシをかけてレジストを剥離した。剥離液は、温水シャワーとエアナイフで流して飛ばした。
上記方法により、図1に示した通り、対向側基板の、λ／４層が形成された位置と対向する位置にのみ反射層を形成した。
【０２０９】
（透明電極の形成）
反射層が形成された基板の表面に、ＩＴＯ透明導電膜を真空スパッタ法で形成した。真空チャンバー内で１０-5Ｐａ程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を２００度に加熱、１０-1Ｐａのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からＩＴＯを飛ばし、１０００Åの厚さになるまで堆積させた。
【０２１０】
（突起用感光性転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が２．５μｍの液晶配向制御用突起用感光性樹脂層を設けた。
────────────────────────────────────────突起用塗布液組成（％）
────────────────────────────────────────ＦＨ−２４１３Ｆ（富士フイルムエレクトロマテリアルズ（株）製）５３．３
メチルエチルケトン                                            ４６．６６
メガファックＦ−１７６ＰＦ                                      ０．０４
────────────────────────────────────────
更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料を作製した。
【０２１１】
（突起の形成）
上で作製した突起用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記対向基板の透明電極膜を設けた側の表面とを重ね合わせ、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度２．２ｍ／分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2でプロキシミティー露光した。その後、１％トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて３０℃で３０秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃３０秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部（未硬化部）を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に、高さ２．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。
【０２１２】
（対向側配向層の形成）
透明導電層の上にはカラーフィルタ基板と同様にポリイミド配向層を形成した。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＡＬ１２５４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５ｕｍの配向層を得た。この配向膜をラビング装置により配向処理を行った。ラビング布はコットン、回転数５００ｒｐｍ、押しこみ深さ０．３ｍｍの条件とした。ラビング方向は、カラーフィルタ基板の配向方向に対してアンチパラレル方向になるように設定した。
【０２１３】
（シールパターンの形成）
対向基板の周囲にシールパターンを形成した。粒子径６．８ｕｍのシールスペーサを１．０ｗｔ％含有したエポキシ樹脂（日産化学製ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ）をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷した。これを８０℃で３０分仮焼きした。
【０２１４】
（重ね合わせ）
カラーフィルタ基板１と対向基板が正しい位置で重なるように調整した。その状態で０．０３ＭＰａの圧力をかけながら、貼り合わされたガラス基板を１８０℃、６０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。焼成にはバルーンタイプの装置を使用した。
【０２１５】
（液晶注入）
このガラス基板積層体に液晶注入装置を使って液晶材を注入した。液晶材は屈折率異方性０．５５の棒状ネマチック液晶で、これを液晶皿に入れ、基板積層体とともに真空チャンバー内で１０-1Ｐａの真空下で６０分保持して脱気した。十分真空に引いた後、シールに設けた注入口の部分を液晶に浸すようにした上で大気圧に戻して１８０分保持して、ガラス基板の間隙に液晶を満たした。その後、注入装置から基板積層体を取り出し、注入口の部分をＵＶ硬化性のエポキシ接着剤を塗布・硬化して液晶セルを得た。
【０２１６】
（偏光板貼り付け）
この液晶セルの背面側に、残留レターデーション補償用のフィルムとして、位相差３８ｎｍの１軸性位相差フィルムを、遅相軸が液晶の配向方向と直交する方向に貼り付け、さらに両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を、偏光板吸収軸が液晶の配向方向と直交する配置で貼り付けて液晶パネルを得た。
（透過部レターデーション測定）
この液晶セルの透過領域におけるレターデーションを大塚電子製光学材料検査装置（ＲＥＴＳ−１００）で、電圧無印加の状態でのレターデーション測定を測定したところ、ほぼ２６５ｎｍであった。
【０２１７】
（実施例５：半透過ＬＣＤ２の作製）
実施例５では、透過部の光学補償板として、支持体上に円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させて、これを重合した透過部用光学補償板を作製し、パネル背面側基板と偏光板の間に配置した。この実施例では、透過部の光学特性に優れると言う効果が期待できる。
（透過部用光学補償板の作製）
《セルロースエステルフィルムの片面ケン化処理》
市販のセルロースアセテートフィルムであるフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて１４ｍｌ／ｍ2で塗布した。そして、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒータ（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒滞留させた後に、同じバーコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
────────────────────────────―
アルカリ溶液組成                                質量％
────────────────────────────―
水酸化カリウム                                  ４．７
水                                            １４．７
イソプロパノール                              ６４．８
プロピレングリコール                          １４．８
界面活性剤（ＳＦ−１）                          １．０
────────────────────────────―
【０２１８】
【化４１】
2007279688.tif 000045
【０２１９】
前述の通りに片面ケン化した透明支持体上に配向層用塗布液ＡＬ−２を＃１４のワイヤーバーコータで塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して厚さ１．０μｍの配向層を形成した。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を＃５のワイヤーバーコータで塗布し、１２５℃で３分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した後、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ３．１μｍの光学異方性層を形成し、透過部用の光学補償板を作製した。なお、光学異方性層中において円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向状態に固定されていたことを確認した。
【０２２０】
実施例４と同様の手順でブラック（Ｋ）画像の形成及びレッド（Ｒ）グリーン（Ｇ）ブルー（Ｂ）画素と転写材料ＲＥＴ−１を使ったλ／４光学異方性層を有するカラーフィルタ基板を形成した。
さらに、実施例４と同様の手順で、反射パターンの形成、続いて、透明電極の形成、突起用感光性転写材料の作製、突起の形成、対向側配向層の形成、シールパターンの形成、重ね合わせ、液晶注入までを行った。
【０２２１】
（透過部補償層の形成）
上記基板背面側に、前記透過部用光学補償板を、光学異方性層を上記基板面に向け、粘着剤を貼り付けた。この時、前記光学補償板のラビング方向と、前記基板のラビング方向は、アンチパラレルとなるようにした。さらに液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を、偏光板吸収軸が液晶の配向方向と直交する配置で貼り付けて液晶パネルを得た。
【０２２２】
（参考例３：比較用半透過ＬＣＤの作製）
参考例３でも、図１に示す液晶表示装置と光学的な構成が同じとされたフルカラーのパネルを作製した。但し、比較のため、参考例１で作製した転写材料を用いてλ／４層を形成した。具体的には以下の方法で作製した。
ブラック（Ｋ）画像の形成及びレッド（Ｒ）グリーン（Ｇ）ブルー（Ｂ）画素の形成を、実施例４と同様に行った。
−反射領域の光学異方性層の形成−
次に、参考例１で作製した転写材料ＲＥＴ−２を、上記基板上に前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１と同様の工程で転写形成した。さらに透明電極の形成、配向層の形成を実施例５と同様に行いカラーフィルタ基板２を得た。対向側基板も実施例５と同様に作製した。この対向基板とカラーフィルタ基板を実施例４と同様の方法で、重ねて合わせて焼成後、液晶材を注入して、比較用半透過液晶セルを作製した。
（偏光板貼り付け）
この液晶セルの背面側に、残留レターデーション補償用のフィルムとして、位相差３８ｎｍの１軸性位相差フィルムを、遅相軸が液晶の配向方向と直交する方向に貼り付けた。そのさらに両側に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けて、比較用半透過液晶パネルを得た。
（透過部レターデーション測定）
この液晶セルの透過領域におけるレターデーションを実施例４と同様に測定したところ、ほぼ２６７ｎｍであった。
【０２２３】
（半透過型ＬＣＤのコントラスト評価）
実施例４、５及び参考例３で作製した半透過型ＬＣＤのそれぞれを、暗室内に置き、Ｃ光源から取り出した平行光を、パネル面に対して５°傾けた方向から入射させ、パネルを白表示（電圧０Ｖ）、黒表示（電圧３Ｖ）における反射光強度を、輝度計（ＴＯＰＣＯＭ製  ＢＭ５）により測定し、コントラスト値を求めた。さらに斜め方向から目視観察した際の色見を合わせて観察した。結果を下記表に示す。
【０２２４】
【表３】
2007279688.tif 000046
【０２２５】
またこの時の黒表示状態における反射輝度スペクトルを図４に示す。実施例４及び５のＬＣＤは、参考例３のＬＣＤと比較して漏れ光が少なくなっていることが確認できた。
【０２２６】
また、実施例４及び５のＬＣＤについて、透過部分のコントラスト視野角特性を測定した。
それぞれのＬＣＤを暗室内に置き、Ｃ光源をバックライトとして背面から入射させ、パネルを白表示（電圧０Ｖ）及び黒表示（電圧３Ｖ）させ、それぞれの表示時の透過光を視野角−コントラスト特性測定装置（ＥＬＤＩＭ製  ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ）により測定した。実施例４のＬＣＤの結果を図５に、実施例５のＬＣＤの結果を図６に示す。円盤状液晶化合物を使った透過部補償層を利用した実施例５の液晶表示装置は、実施例４に比べてより良好な視野角コントラスト特性を示すことが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０２２７】
【図１】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の動作原理を説明するのに用いた概略模式図である。
【図３】本発明の転写材料のいくつかの例の概略断面図である。
【図４】実施例４、５及び参考例３で作製した半透過型液晶表示装置の黒表示時の反射スペクトルを示す図である。
【図５】実施例４で作製した半透過型液晶表示装置の透過部のコントラスト視野角特性を示す図である。
【図６】実施例５で作製した半透過型液晶表示装置の透過部のコントラスト視野角特性を示す図である。
【符号の説明】
【０２２８】
１１    仮支持体
１２    光学異方性層
１３    感光性樹脂層
１４    力学特性制御層
１５    配向制御層
１６    保護層
１２１  透明基板
１２２  ブラックマトリクス
１２３  カラーフィルタ層
１２４  位相差層（光学異方性層）
１２５  透明電極層
１２６  配向層
１２７  透過領域
１２８  反射領域
１３１  液晶層
１３２  透過部補償板
１３３  偏光層Ａ
１３５  反射板
１３６  偏光層Ｂ
【図１】
2007279688.tif 000059
【図２】
2007279688.tif 000060
【図３】
2007279688.tif 000061
【図４】
2007279688.tif 000062
【図５】
2007279688.tif 000063
【図６】
2007279688.tif 000064