(57)【要約】【課題】記録媒体の保護層の厚み誤差に対応する球面収差量やディスクチルトに対応するコマ収差量を液晶素子により検出し、その液晶素子により、補正量を制御する。【解決手段】この発明によれば、光検出器２７の検出領域に案内される反射光ビームは、対物レンズ２５とコリメートレンズ２２との間に位置され、屈折率が制御可能な液晶素子２６により、光ディスクＤの保護層の厚み誤差に対応する球面収差量および光ディスクのディスクチルトに対応するコマ収差量に応じて結像特性が変化される。これにより、液晶素子を通過した反射光ビームが所定の条件で光検出器２７に結像されるよう、液晶素子に印加する電圧を制御することで、単一の素子により、コマ収差および球面収差の検出とその影響の補正が可能である。【選択図】図１
2007179676.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体の記録面で反射された光を捕捉する対物レンズと、
前記対物レンズにより捕捉された光を、記録媒体の記録面を保護する保護層の厚さの変化＜＜球面収差＞＞または記録媒体の記録面の回転時のゆれ＜＜コマ収差＞＞の少なくとも一方の影響を含む状態で透過させ、前記保護層の厚さの変化または前記記録面の回転時のゆれの程度に応じて前記光の平行性の変化と関連付ける位相制御部材と、
前記位相制御部材を透過した光を任意数の検出セルで検出して前記位相制御部材の制御量を設定可能な出力を得る光検出器と、
を有することを特徴とする光ヘッド装置。
【請求項２】
前記位相制御部材は、印加される電圧に応じて屈折率が部分的に変化される液晶素子であって、前記保護層の厚さの変化または前記記録面の回転時のゆれの程度に応じて前記光の平行性を変化させることを特徴とする請求項１記載の光ヘッド装置。
【請求項３】
前記位相制御部材は、印加される電圧に応じて屈折率が部分的に変化される液晶素子であって、印加される電圧に応じて、前記光の平行性を変化させることを特徴とする請求項１記載の光ヘッド装置。
【請求項４】
前記位相制御部材は、印加される電圧に応じて屈折率が部分的に変化される液晶素子であって、印加される電圧に応じて、前記光の平行性を変化させることを特徴とする請求項２記載の光ヘッド装置。
【請求項５】
記録媒体の記録面で反射された光を捕捉する対物レンズと、対物レンズにより捕捉された光を、記録媒体の記録面を保護する保護層の厚さの変化＜＜球面収差＞＞または記録媒体の記録面の回転時のゆれ＜＜コマ収差＞＞の少なくとも一方の影響を含む状態で透過させ、保護層の厚さの変化または記録面の回転時のゆれの程度に応じて光の平行性の変化と関連付ける位相制御部材と、位相制御部材を透過した光を任意数の検出セルで検出して位相制御部材の制御量を設定可能な出力を得る光検出器と、を有することを特徴とする光ヘッド装置を用いたディスクチルト制御方法において、
対物レンズを、記録媒体の記録面の記録層の任意の位置で、オンフォーカス状態に制御し、
対物レンズを、トラックエラー信号が最大となる位置で、オントラック状態に制御し、
記録媒体を少なくとも一周回転させ、トラックエラー信号の大きさが変動しなくなるよう、液晶素子に印加するチルト補正量を設定する
ことを特徴とするディスクチルト制御方法。
【請求項６】
トラックエラー信号が最大となる位置は、トラックエラー信号をモニタしながら、位相制御部材により提供されるディスクチルト補償量が−１°相当となる電圧から＋１°相当となる電圧を順に位相制御部材に印加することにより特定されることを特徴とする請求項５記載のディスクチルト制御方法。
【請求項７】
記録媒体の記録面で反射された光を捕捉する対物レンズと、対物レンズにより捕捉された光を、記録媒体の記録面を保護する保護層の厚さの変化＜＜球面収差＞＞または記録媒体の記録面の回転時のゆれ＜＜コマ収差＞＞の少なくとも一方の影響を含む状態で透過させ、保護層の厚さの変化または記録面の回転時のゆれの程度に応じて光の平行性の変化と関連付ける位相制御部材と、位相制御部材を透過した光を任意数の検出セルで検出して位相制御部材の制御量を設定可能な出力を得る光検出器と、を有することを特徴とする光ヘッド装置を用いた厚みむら補正方法において、
対物レンズを、記録媒体の記録面の記録層の任意の位置で、オンフォーカス状態に制御し、
対物レンズを、トラックエラー信号が最大となる位置で、オントラック状態に制御し、
記録媒体を少なくとも一周回転させ、トラックエラー信号の大きさが変動しなくなるよう、液晶素子に印加するチルト補正量を設定し、
記録媒体を少なくとも一周させる間のチルトの変化に合わせてフォーカスエラー検出時に、オフセット量が最小となるよう、液晶素子に印加する電圧を設定する
ことを特徴とする厚みむら補正方法。
【請求項８】
液晶素子に印加する電圧は、トラックエラー信号をモニタしながら、位相制御部材の厚さまたは屈折率を、フォーカスエラー量に換算して、−２０μｍから＋２０μｍに相当する範囲で変化させた場合に、光検出器の再生信号に対応する出力が最大値になる補償量であることを特徴とする請求項７記載の厚みむら補正方法。
【請求項９】
記録媒体の記録面で反射された光を捕捉する対物レンズと、前記対物レンズにより捕捉された光を、記録媒体の記録面を保護する保護層の厚さの変化＜＜球面収差＞＞または記録媒体の記録面の回転時のゆれ＜＜コマ収差＞＞の少なくとも一方の影響を含む状態で透過させ、前記保護層の厚さの変化または前記記録面の回転時のゆれの程度に応じて前記光の平行性の変化と関連付ける位相制御部材と、前記位相制御部材を透過した光を任意数の検出セルで検出して前記位相制御部材の制御量を設定可能な出力を得る光検出器と、を含む光ヘッド装置と、
前記光検出器により検出された信号から記録媒体の記録面に記録されている情報に対応する再生出力を得る信号処理回路と、
を有することを特徴とする光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学的情報記録媒体である光ディスクに情報を記録し、または光ディスクから情報を再生する光ディスク装置ならびにその光ディスク装置に組み込まれる光ヘッド装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ビームを用いて非接触で情報が記録可能で、あるいは既に記録されている情報を再生できる光ディスク、および光ディスクに情報を記録し、または光ディスクから情報を再生する光ディスク装置（光ディスクドライブ装置）が実用化されて久しい。なお、ＣＤ規格やＤＶＤ規格と呼ばれる複数種類の記録密度の光ディスクが既に広く普及している。
【０００３】
近年、記録層に記録されている情報の再生に、青色または青紫色の波長の短い光ビームを用いることにより、ＨＤ規格の映像データと高品質のサラウンドオーディオデータとを一枚のディスクに保存できる超高密度光ディスク（High Definition Digital Versatile Disc，以下、ＨＤ  ＤＶＤと略称する）も既に実用化されている。
【０００４】
ところで、ＤＶＤ規格の光ディスクやＨＤ  ＤＶＤ規格の光ディスク、特に、ＨＤ  ＤＶＤ規格の光ディスクにおいては、記録マーク列の密度が高められたことに依存して記録マークそのものの大きさが非常に小さいため、記録媒体の記録層を保護する保護する層の厚みの変動の影響を受け易く、情報の再生が不安定になることが知られている。
【０００５】
このため、光源と記録媒体との間に液晶素子を配置し、記録層を保護する保護層の厚みが変動した場合に、液晶素子を動作させて、保護層の厚みの変化により生じる球面収差の影響を低減する光ヘッド装置が報告されている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
なお、液晶素子を用いて保護層の厚みのばらつきの影響を補正するために、互いに直交した電極を設けた液晶層を２つ重ねた液晶デバイスが報告されている（例えば、特許文献２）。
【０００７】
また、特許文献３には、記録媒体が回転される際に生じるディスクチルトにより生じるコマ（coma）収差の影響を低減するために、光路中に、液晶素子を挿入したチルトサーボ装置が報告されている。
【特許文献１】特開２００４−１７８７７３
【特許文献２】特開２０００−２５１３０３
【特許文献３】特開平１０−７９１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１あるいは特許文献２に記載された装置においては、球面収差を検出するために、独立した検出セルとその検出セルに光ビームを案内するための検出系が必要である。
【０００９】
また、特許文献３に示されたチルトサーボ装置においては、独立したチルトセンサーを必要とするとともに、液晶パネルの位相差の特性に合わせた複雑な液晶駆動回路が必要である。
【００１０】
このため、それぞれの文献に示された光ヘッド装置、液晶デバイス、チルトサーボ装置を用いる場合においても、光ヘッド装置（ピックアップユニット）の大きさが大きくなるとともに、信号処理系が複雑になる問題がある。
【００１１】
また、いずれの文献に記載された光ヘッド装置（ピックアップユニット）においても、レーザ光の波面を分割してその一部を用いるため、光利用効率が低く、ゲインが小さい問題がある。
【００１２】
本発明の目的は、記録媒体（光ディスク）の保護層の厚み誤差に対応する球面収差量やディスクチルトに対応するコマ収差量を、収差制御用液晶素子により検出して、その補正量を制御することのできる光ヘッド装置および光ディスク装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明は、上記問題点に基づきなされたもので、記録媒体の記録面で反射された光を捕捉する対物レンズと、前記対物レンズにより捕捉された光を、記録媒体の記録面を保護する保護層の厚さの変化＜＜球面収差＞＞または記録媒体の記録面の回転時のゆれ＜＜コマ収差＞＞の少なくとも一方の影響を含む状態で透過させ、前記保護層の厚さの変化または前記記録面の回転時のゆれの程度に応じて前記光の平行性の変化と関連付ける位相制御部材と、前記位相制御部材を透過した光を任意数の検出セルで検出して前記位相制御部材の制御量を設定可能な出力を得る光検出器と、を有することを特徴とする光ヘッド装置、を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、記録媒体（光ディスク）の保護層の厚み誤差に対応する球面収差量やディスクチルトに対応するコマ収差量を、収差制御用液晶素子により検出して、同一の液晶素子により、その補正量を制御することができる。従って、光ヘッド装置がコンパクトになる。また、この光ヘッド装置を用いることにより再生信号が安定化され、光ディスク装置としての信頼性も向上される。さらに、レーザ光の光利用効率が向上されることにより、出力信号が、ノイズの影響を受けにくい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明の実施の形態が適用可能な情報記録再生装置（光ディスク装置）の構成の一例を示す。
【００１７】
図１に示す光ディスク装置１は、記録媒体（光ディスク）Ｄの図示しない記録層（有機膜あるいは金属膜もしくは相変化膜）に情報を記録し、あるいは記録層に記録されている情報を読み出し、もしくは記録層に記録されている情報を消去可能な光ピックアップ装置（光ヘッド装置）１１を含む。なお、詳述しないが、光ディスク装置１は、光ヘッド装置１１に加え、光ヘッド装置１１を、光ディスクＤの記録面に沿って移動させる図示しないヘッド移動機構や光ディスクＤを所定の速度で回転させるディスクモータ（図示せず）等の機構要素を有する。また、光ディスク装置１は、後段に説明するが、光ヘッド装置１１に組み込まれる光検出器の出力を処理する信号処理部および光ヘッド装置１１の機構要素を制御する制御部等を含む。
【００１８】
光ヘッド装置１１は、光源、例えば半導体レーザ素子であるレーザダイオード（ＬＤ）すなわち光源２１を含む。レーザダイオード（ＬＤ）２１から出力される光ビームの波長は、例えば４００〜４１０ｎｍで、好ましくは４０５ｎｍである。
【００１９】
レーザダイオード２１から出力された光ビームは、コリメートレンズ（ＣＬ）２２によりコリメート（平行光化）され、集光素子である対物レンズ（ＯＬ）２５により所定の集束性が与えられて、光ディスクＤの記録面の記録層に集光される。なお、対物レンズ２５は、例えばプラスチック製で、その開口数ＮＡは、例えば０．６５である。
【００２０】
光ディスクＤの記録層には、例えば０．３４μｍ〜１．６μｍのピッチで、案内溝すなわちトラックまたは記録マーク（記録済みデータ）列が、同心円またはスパイラル状に形成されている。なお、記録済みデータ（記録マーク）列については、ディスク成型時に、例えばエンボス加工により一体的に成型されることもある。
【００２１】
ＬＤ２１からの光ビームは、例えばコリメートレンズ２２によりコリメートされる前段で、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）２３に案内され、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）２３により、波面の偏光面が特定の方向に方向付けられる。
【００２２】
偏光ビームスプリッタ２３を透過した光ビームは、対物レンズ２５に入射される前に、波面分割素子すなわちホログラム回折素子（ＨＯＥ）２４を透過する。なお、ホログラム回折素子（ＨＯＥ）２４は、光ディスクＤの記録面の記録層で反射された反射光ビームに対してのみ作用する特性のホログラムが片面に与えられるとともに、その厚さが、周知のλ／４板として機能する厚さに規定されている。波面分割素子２４を通過し、対物レンズ２５により所定の集束性が与えられた光ビームは、光ディスクＤの記録層（あるいはその近傍）に集光される（光ビームは、対物レンズ２５に固有の焦点位置で最小光スポットを呈する）。
【００２３】
コリメートレンズ２２とホログラム回折素子２４との間、もしくはホログラム回折素子２４と対物レンズ２５との間（図１では、コリメートレンズ２２とホログラム回折素子２４との間に設けられた例を示している）には、光ディスクＤの記録層を保護する図示しない保護層の厚み（厚さ）の変動（ばらつき）の影響が、後段に説明するＲＦ（再生）信号の強度に影響を与える程度を低減するための、厚さおよび屈折率の少なくとも一方が任意に設定可能な液晶素子２６が設けられている。
【００２４】
対物レンズ２５（光ヘッド装置１１）は、例えば駆動コイルとマグネットを含む、図示しない対物レンズ駆動機構により、光ディスクＤの記録層の記録マーク列またはトラックＴを横切る（矢印Ｔで示す）トラック方向の所定位置、かつ記録層の厚さ方向である（矢印Ｆで示す）フォーカス方向の所定位置に位置される。なお、対物レンズ２５をトラック方向に移動させて、記録マーク列（トラック）の中心に光ビームの最小光スポットを一致させるための対物レンズ２５の位置制御が、トラッキング制御と呼ばれる。また、対物レンズ２５をフォーカス方向に移動させて、記録層と対物レンズ２５との間の距離を、対物レンズ２５の焦点距離に一致させるための対物レンズ２５の位置制御が、フォーカス制御と呼ばれる。
【００２５】
液晶素子２６は、図示しないが、印加される電圧に応じて屈折率が変化可能に、所定の電極パターンが与えられ、液晶駆動回路７から所定の電圧が印加されることにより、予め決められている厚さまたは屈折率を呈する。なお、液晶素子２６に与えられるパターンは、例えば図１に拡大して示すように、Ｒａｄ方向とＴａｎ方向のそれぞれの交点を中心とした概ね同心円であり、例えば最も中心に規定される領域Ａとその次の領域Ｂとを通過する光ビームにより、球面収差すなわち光ディスクＤの保護層の厚さのばらつきの影響を補正するために利用される。また、領域Ｂの外側の領域Ｃを透過する光ビームをＲａｄ方向と直交するＴａｎ方向に関して２分割して利用することで、コマ収差成分すなわち光ディスクＤのディスクチルトの影響を補正することができる。
【００２６】
光ディスクＤの記録面で反射された反射光ビームは、対物レンズ２５により捕捉されたのち概ね平行な断面ビーム形状に変換され、波面分割素子（ＨＯＥ）２４に戻される。
【００２７】
波面分割素子２４に戻された反射光ビームは、波面分割素子２４に与えられたパターンに従って、フォーカス制御のためのフォーカスエラー信号（ＦＥ）、トラッキング制御のためのトラックエラー信号（ＴＥ）、およびＲＦ信号として利用される成分のそれぞれに、所定の回折特性が与えられる。また、波面分割素子２４を通過した反射光ビームは、その厚さにより位相差が与えられ、偏光面の方向が、９０°回転される。
【００２８】
波面分割素子２４により偏光面の方向が９０°回転され、所定の回折成分が与えられた反射光ビームは、液晶素子２６、コリメートレンズ２２を順に通過され、偏光ビームスプリッタ２３の偏光面において、光検出器（Photo Detector，ＰＤ）２７に向けて反射される。なお、コリメートレンズ２２に戻される反射光ビームは、光ディスクＤの保護層の厚みに変動がある場合や、光ディスクＤが回転される際の記録面のゆれを含む場合、平行光とはならない。
【００２９】
光検出器２７から出力された電流は、図示しないＩ／Ｖアンプにより電圧に変換された後、ＲＦ（再生）信号、フォーカスエラー信号ＦＥ、およびトラックエラー信号ＴＥとして、信号処理部２から出力される。なお、ＲＦ信号は、制御部３（または図示しないデータ処理部）により所定の信号形式に変換され、バッファ４を経由して、例えば一時記憶装置または外部記憶装置あるいは情報表示再生装置（パーソナルコンピュータやモニタ装置等）に出力される。厚みむら信号ｔｈは、ＲＦ信号またはトラックエラー信号ＴＥの最大値を探すことにより得られる。
【００３０】
また、信号処理部２から出力のうち、対物レンズ２５の位置に関するフォーカスエラー信号ＦＥおよびトラックエラー信号ＴＥは、対物レンズ２５の位置を補正するフォーカス制御信号ＦＣおよびトラッキング制御信号ＴＣの生成に利用され、ＦＥ，ＴＥに基づいて設定されたＦＣおよびＴＣが、レンズ駆動回路５を通じて、図示しないフォーカスコイルおよびトラックコイルに、供給される。
【００３１】
フォーカスエラー信号ＦＥは、対物レンズ２５の位置を、対物レンズ２５と光ディスクＤの記録層との間の距離が対物レンズ２５の焦点距離に一致されるよう、光ディスクＤの記録層を含む面と直交するフォーカス（光軸）方向に移動させるフォーカス制御信号ＦＣの制御量を設定するために利用される。
【００３２】
トラックエラー信号ＴＥは、対物レンズ２５を、記録層のトラック（記録マーク）Ｔが延びる方向と直交する［Ｒａｄ方向］に、移動させるためのトラック制御信号ＴＣの制御量を設定するために利用される。
【００３３】
また、信号処理部２から出力のうち、光ディスクＤの保護層の厚みむらを示す厚みむら信号ｔｈは、液晶素子２６の厚さまたは屈折率を変化させるための制御量（電圧値）ｔｈｃの生成に利用され、ｔｈに基づいて設定されたｔｈｃが、液晶駆動回路７を通じ、液晶素子２６の図示しない電極に印加される。
【００３４】
また、信号処理部２の出力のうちのＬＤ（レーザダイオード）２１から出射される光の強度に関する信号に対応して規定されるレーザ駆動信号が、レーザ駆動回路６を通じて、ＬＤ２１に供給される。なお、レーザ駆動信号には、制御部３（または図示しないデータ制御部）を通じて入力される記録データ、あるいは再生もしくは消去に対応する駆動電流の大きさが、逐次、重畳される。
【００３５】
なお、フォーカスエラー、トラックエラー、厚みむらの検出方法としては、周知のさまざまな方法が利用可能であることはいうまでもない。また、特に、トラックエラー検出法としては、ＤＰＤ（Differential Phase Detection，位相差検出法）とＰＰ（Push Pull，プッシュプル法）を想定しているが、ＨＤ  ＤＶＤディスクにおいては、トラックピッチが狭いため、対物レンズ２５のレンズシフトの影響も考慮する必要があり、ＣＰＰ（Compensated Push Pull，補償トラックエラー検出法）によるトラックエラーの検出も併用している。
【００３６】
次に、液晶素子２６を用いて、光ディスクＤの保護層の厚みむらの影響を補正する方法および、液晶素子２６を用いて光ディスクＤの保護層の厚みむらを検出する方法について説明する。
【００３７】
ＬＤ２１から光ビームＬは、ＰＢＳ２３を透過し、ＣＬ２２を透過することで平行光に波面変換される。光ビームＬは、その後、液晶素子２６ならびに波面分割素子２４を順に透過して対物レンズ２５に入射し、対物レンズ２５により、所定の集束性が与えられて、光ディスクＤの記録面の所定の位置すなわち記録層の記録マーク列あるいは案内溝に集光される。
【００３８】
液晶素子２６は、図１に拡大して示したように、光ビームＬが入射する側（コリメートレンズ２２側）および出射側（対物レンズ２５側）の少なくとも一方に、透明電極が形成されている。透明電極のうちの入射側または出射側（もしくは両方）には、複数の分割された領域が形成されている。
【００３９】
液晶素子２６のある分割領域の透明電極に電圧が印加されることで、その領域を通る光ビームＬの特定の偏光面に対して電圧量に応じた位相差が発生する。すなわち、ＬＤ２１から発光した光ビームの偏光方向を、液晶素子２６で位相差が発生する偏光方向と揃えることにより、入射光ビームに対して位相差が発生する。
【００４０】
これにより、個々の分割された領域に異なる電圧を付加することで、分割領域ごとに、異なる位相差を与えることが可能になる。従って、液晶素子２６は、入射光ビームの波面の任意の領域に対して、分割された領域に応じた位相変化すなわち波面変換を発生させることができる。
【００４１】
すなわち、液晶素子２６を通過した出射光ビームの波面は、透明電極の分割領域に対応して入射光ビームの波面が波面変換された状態となる。また、液晶素子２６の個々の電極に印加される駆動電圧の大きさを制御することで、透明電極の分割領域毎に、波面変換量を制御することができる。
【００４２】
液晶素子２６により波面変換された出射光ビームＬは、対物レンズ２５に入射し、対物レンズ２５により（集束光に）波面変換されて、光ディスクＤの記録または再生面の所定の位置に、所定の大きさの光スポットとして集光される。
【００４３】
光ディスクＤの記録または再生面で反射された発散性の反射光ビームＲは、対物レンズ２５で捕獲され、概ね平行光に波面変換されて、液晶素子２６に戻される。なお、ＨＯＥ（波面変換素子）２４を通過することにより、反射光ビームＲには、光検出器２７の検出領域（セル）の配列に併せた所定の回折パターンが与えられることはいうまでもない。反射光ビームＲには、また、偏光ビームスプリッタ２３により、光検出器２７に向けて反射可能に、所定の位相差が与えられる。
【００４４】
液晶素子２６に戻された反射光ビームＲは、液晶素子２６により、ＬＤ２１から光ディスクＤに向かう際に与えられた波面変換とは逆向きの波面変換を受ける。
【００４５】
このとき、光ディスクＤの保護層に厚みむらがある場合、あるいは光ディスクＤが回転される際に、記録面のゆれがある場合には、液晶素子２６から出射された反射光ビームＲは、厚みむら成分あるいはディスクチルトの影響によるコマ収差成分を含む、非平行光として、コリメートレンズ２２に戻される。
【００４６】
コリメートレンズ２２に戻された反射光ビームＲは、厚みむら成分あるいはディスクチルトの影響によるコマ収差成分を含んだ状態で、偏光ビームスプリッタ２３により光検出器２７に向けて反射される。
【００４７】
次に、液晶素子２６により、コマ収差すなわち光ディスクＤが回転される際に記録面のゆれが生じていること、あるいは光ディスクＤの任意の位置で、記録層を保護する保護層の厚さにばらつきが生じていることを検出できる原理を、図２に示すフローチャートに従って、以下に説明する。
【００４８】
第１に、レーザダイオード（ＬＤ）２１からの光ビームＬにより、対物レンズ２５と光ディスクＤの記録面の記録層の任意の位置で、対物レンズ２５をオンフォーカス状態に、制御する（フォーカス制御、Ｓ１１）。
【００４９】
次に、オンフォーカス状態で、対物レンズ２５をオントラック状態に制御する（トラック制御、Ｓ１２）。なお、トラック制御に利用するトラックエラー信号ＴＥは、ディスクチルトの大きさの影響を受けるため、トラック制御は、トラックエラー信号ＴＥが最大となる位置において実行する。
【００５０】
このため、トラック制御においては、液晶素子２６の電極に印加する電圧および極性を変化させ、ディスクチルトが最小となる位置を特定する（Ｓ２１）。すなわち、トラックエラー信号ＴＥの大きさをモニタしながら、液晶素子２６により提供されるディスクチルト補償量が［−１°］相当となる電圧から［＋１°］相当となる電圧を順に液晶素子２６に印加し、トラックエラー信号ＴＥが最大となる電圧（補償量）を求める（Ｓ２２）。なお、この段階で、光ディスクＤの保護層の厚みむらとディスクチルトは、一時的に補償された状態となる。
【００５１】
以下、液晶素子２６に印加する電圧を、ステップＳ２２で求められた大きさ（電圧）に固定した状態で、トラックエラー信号ＴＥを設定する（ここまでを、ステップＳ１２と呼ぶこともできる）。
【００５２】
次に、光ディスクＤを少なくとも一周以上、所定の速度で回転させながら、引き続き、トラックエラー信号ＴＥをモニタする（Ｓ１３）。
【００５３】
ステップＳ１３において、トラックエラー信号ＴＥの大きさが変動した場合、その変動の大きさが、光ディスクＤのディスクチルトの大きさおよびチルトの分布状態を反映することから、トラックエラー信号ＴＥの大きさが変動しなくなるよう、チルト補正量ｔｈｃを設定することで、以降チルト補正が実行される（Ｓ１４）。
【００５４】
なお、ステップＳ１３においては、ディスクチルトが無い光ディスクについては、検出した結果に、液晶素子２６へ入射する前と後の波面変化は生じない。一方、ディスクチルトが＋側（または−側）にある光ディスクに記録もしくは再生する場合には、検出される反射光ビームＲは、コリメートレンズ２２に対して非平行光として入射されることから、液晶駆動回路７により、コリメートレンズ２２に戻される反射光ビームＲが平行光となるように、所定の電圧が印加されることになる。すなわち、一例として、ディスクチルトが「＋」の場合に、液晶素子２６からコリメートレンズ２２に向かう反射レーザ光が拡散光である場合には、液晶素子２６に、屈折率が強くなる方向の液晶素子２６の変位（変化）を生じさせることのできる電圧が印加される。ディスクチルトが「−」の場合、液晶素子２６からコリメートレンズ２２に向かう反射レーザ光が集束性である場合には、液晶素子２６に、屈折率が弱くなる方向の液晶素子２６の変位（変化）を生じさせることのできる電圧が印加される。
【００５５】
なお、光ディスクＤの半径方向の複数の位置で、上述したチルト量を求めることで、光ディスクＤのディスクチルトの影響を、より安定に除去（補正）できる。また、例えばＣＤ規格向けの波長（７８５ｎｍ）の光ビームや、ＤＶＤ規格向けの波長（６５５ｎｍ）の光ビームを出射するＬＤが一体的に、もしくは独立に設けられている場合においては、それぞれの光ビーム毎にディスクチルト量を求めることで、異なる規格の光ディスクが装着可能な光ディスク装置として製造された場合の再生安定性（互換性）が高められる。
【００５６】
また、感度を大きくしたい場合には、液晶素子２６における復路の補償量を、往路の補償量に対して、正負を逆にした値に設定することにより実現される。例えば、液晶素子２６の両面に電極を設け、一方の面の電極には、往路のみに作用する電圧を与え、他の一方の面の電極に、復路のみに作用する電圧を与えることで、往路と復路との屈折率の変化を与えることができる。
【００５７】
図３は、図２のフローチャートに従ってディスクチルトの影響が除去された状態で、光ディスクの記録層を保護する保護層の厚みが不均一であるような光ディスクについて厚みむらの影響を除去する例を示す。なお、厚みむら補正においては、ディスクチルトの影響は、予め除去可能に、図２に示したような光ディスクの周回とチルトの関係が求められているものとする。
【００５８】
第１に、レーザダイオード（ＬＤ）２１からの光ビームＬにより、対物レンズ２５と光ディスクＤの記録面の記録層の任意の位置で、対物レンズ２５をオンフォーカス状態に、制御する（フォーカス制御、Ｓ１１１）。
【００５９】
次に、オンフォーカス状態で、対物レンズ２５をオントラック状態に制御する（トラック制御、Ｓ１１２）。なお、トラック制御に利用するトラックエラー信号ＴＥは、ディスクチルトの大きさの影響を受けるため、トラック制御は、トラックエラー信号ＴＥが最大となる位置において実行する。
【００６０】
このため、トラック制御においては、液晶素子２６の電極に印加する電圧および極性を変化させ、ディスクチルトが最小となる位置を特定する（Ｓ１２１）。すなわち、トラックエラー信号ＴＥの大きさをモニタしながら、液晶素子２６によるディスクチルト補償量が［−１°］相当となる電圧から［＋１°］相当となる電圧を順に、液晶素子２６に印加し、トラックエラー信号ＴＥが最大となる電圧（補償量）を求める（Ｓ１２２）。なお、この工程により、光ディスクＤの保護層の厚みむらとディスクチルトは、一時的に補償された状態となる。
【００６１】
以下、液晶素子２６に印加する電圧を、ステップＳ１２２で求められた大きさ（電圧）に固定した状態で、トラックエラー信号ＴＥを設定する（ここまでが、全体でステップＳ１１２）。
【００６２】
次に、光ディスクＤを少なくとも一周以上、所定の速度で回転させながら、引き続き、トラックエラー信号ＴＥをモニタする（Ｓ１１３）。
【００６３】
ステップＳ１１３において、トラックエラー信号ＴＥの大きさが変動した場合、その変動の大きさが、光ディスクＤのディスクチルトの大きさおよびチルトの分布状態を反映することから、トラックエラー信号ＴＥの大きさが変動しなくなるようチルト補正量ｔｈｃを設定することで、以降チルト補正が実行される（Ｓ１１４）。
【００６４】
続いて、チルト補正すなわち、光ディスクの１周の間のチルトの変化に合わせてフォーカスエラー検出時に、オフセット量が最小となるよう、液晶素子２６の補償量（液晶素子に印加される電圧）が、所定のルーティンに従って、順次変化される（１１５）。
【００６５】
すなわち、ＲＦ信号の振幅が最大になる液晶素子２６への印加電圧が求められる（Ｓ２０１）。例えば、トラックエラー信号またはＲＦ振幅最大値をモニタしながら、液晶素子２６の厚さまたは屈折率を、フォーカスエラー量に換算して、［−２０μｍ］から［＋２０μｍ］に相当する範囲で変化させる（印加電圧を制御する）。この際に、ＲＦ振幅最大値になる補償量（印加電圧）が最適な収差補正量となる。
【００６６】
なお、ステップＳ１１５においては、保護層の厚みむらが無い光ディスクについては、検出した結果に、液晶素子２６へ入射する前と後の波面変化は生じない。一方、厚みむらが＋側（または−側）にある光ディスクに記録もしくは再生する場合には、検出される反射光ビームＲは、コリメートレンズ２２に対して非平行光として入射されることから、液晶駆動回路７により、コリメートレンズ２２に戻される反射光ビームＲが平行光となるように、所定の電圧が印加されることになる。すなわち、一例として、保護層の厚みむらが「＋」の場合に、液晶素子２６からコリメートレンズ２２に向かう反射レーザ光が拡散光である場合には、液晶素子２６に、屈折率が強くなる方向の液晶素子２６の変位（変化）を生じさせることのできる電圧が印加される。また、保護層の厚みむらが「−」の場合、液晶素子２６からコリメートレンズ２２に向かう反射レーザ光が集束性である場合には、液晶素子２６に、屈折率が弱くなる方向の液晶素子２６の変位（変化）を生じさせることのできる電圧が印加される。
【００６７】
なお、光ディスクＤの半径方向の複数の位置で、上述した厚みむら量を求めることで、光ディスクＤの記録面の部分的な保護層の厚みむらの影響を、より安定に除去（補正）できる。また、例えばＣＤ規格向けの波長（７８５ｎｍ）の光ビームや、ＤＶＤ規格向けの波長（６５５ｎｍ）の光ビームを出射するＬＤが一体的に、もしくは独立に設けられている場合においては、それぞれの光ビーム毎に厚みむら量を求めることで、異なる規格の光ディスクが装着可能な光ディスク装置として製造された場合の再生安定性（互換性）が高められる。また、感度を大きくしたい場合には、復路のＬＣＤ補償量を、往路のＬＣＤ補償量に対して正負を逆にした値に設定することにより実現される。例えば、先に示したと同様に、液晶素子２６の両面に電極を設け、一方の面の電極には、往路のみに作用する電圧を与え、他の一方の面の電極に、復路のみに作用する電圧を与えることで、往路と復路との屈折率の変化を与えることができる。
【００６８】
このように、本願発明によれば、光源と対物レンズとの間に位置される屈折率あるいは厚さが変化可能な液晶素子を通過した反射光ビームの平行性（拡散または集束）を、信号検出に用いる光検出器により検出し、検出される反射光ビームが概ね平行光になるよう、液晶素子の厚さまたは屈折率を制御することにより、専用の検出系を追加することなく、光ディスクの保護層の厚みむらおよび光ディスクのディスクチルトを検出し、さらに補正できる。
【００６９】
図４は、図１に示した光ヘッド装置において、波面分割素子（ＨＯＥ）に、特別な分割パターンを与えることにより、ＲＦ（再生）信号（トラックエラー信号またはフォーカスエラー信号を含む）のゲインを高めることのできる一例を示す。なお、図１を用いて既に説明した要素（構成）と同一または類似した要素（構成）には、同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００７０】
図４に示す光ヘッド装置１０１においては、光源（レーザダイオード）２１からの光ビームＬは、コリメートレンズ２２により平行光化され、液晶素子２６、波面分割素子（ＨＯＥ）１２４を順に通過され、対物レンズ２５により光ディスクＤの記録面の記録層に、所定のサイズの光スポットとして集光される。
【００７１】
光ディスクＤの記録面の記録層で反射された反射光ビームＲは、対物レンズ２５により捕捉され、平行光化されて、波面分割素子１２４に戻される。なお、波面分割素子１２４は、図４に部分拡大として示すように周知のナイフエッジ法に類似した波面分割パターンを有し、反射光ビームＲに所定の分割パターンを与える。もちろん、波面分割素子１２４は、λ／４板として、反射光ビームＲと（光ディスクに向かう）光ビームＬとの位相差、すなわち波面の偏光の方向を９０°回転させる機能を有する。
【００７２】
反射光ビームＲは、光ディスクＤの保護層の厚みむらあるいは光ディスクＤのディスクチルトが存在する場合は、非平行光として液晶素子２６に戻され、コリメートレンズ２２に案内される。
【００７３】
コリメートレンズ２２を通過した反射レーザ光Ｒは、所定の受光パターンが与えられた光検出器１２７に向けて、偏光ビームスプリッタ２３により、反射される。
【００７４】
なお、光検出器１２７は、波面分割素子（ＨＯＥ）１２４に、周知のナイフエッジ法に類似した特性を示す偏光パターンが与えられている場合を想定し、図５（ａ）ないし図５（ｃ）ならびに図６（ａ）ないし図６（ｃ）に示すように、ＨＯＥ１２４の分割線１２４Ｒが投影された状態で、その分割線１２４Ｒを区分線とみなすことのできるように２つの受光セルが隣接して配置されたものであって、それぞれの受光セルに、例えば領域ＦＡで回折された成分（反射光ビームＲｆ）と領域ＦＢで回折された成分（反射光ビームＲｆ）が入射される。
【００７５】
４つのトラックエラー向け光ビームＲｔに対応する光検出器１２７の受光セルのパターンは、フォーカスエラー検出のために用意されるセルと重ならないよう、かつＨＯＥ１２４の４つの領域で分割（回折）されたそれぞれの成分を独立に検出可能に、４箇所に規定される。それぞれの受光セルが配置される位置と、例えばＨＯＥ１２４の分割線１２４Ｒおよび１２４Ｔの交点を投影した状態で、その交点を中心とみなした場合の中心からの距離は、ＨＯＥ１２４のパターンに応じて規定されることは既に説明した通りである。
【００７６】
２つのトラックエラー補正信号向け光ビームＲｃに対応する光検出器１２７の受光セルのパターンは、フォーカスエラー検出のために用意されるセルおよびトラックエラー検出のために用意されるセルのいずれとも重ならないよう、かつＨＯＥ１２４の分割線１２４Ｔにより分割（回折）されたそれぞれの成分を独立に検出可能に、（少なくとも）２箇所に規定される。それぞれの受光セルが配置される位置と、例えばＨＯＥ１２４の分割線１２４Ｒおよび１２４Ｔの交点を投影した状態で、その交点を中心とみなした場合の中心からの距離は、ＨＯＥ１２４のパターンに応じて任意に規定されることは、既に説明した通りである。
【００７７】
なお、反射光ビームのうちのＲＦ信号向け光ビームは、ＨＯＥ１２４の任意の（または総ての）回折パターンにより回折され、予め規定された、対応する受光セルにより、信号変換される。従って、光検出器１２７の任意の受光セルの出力を加算することで、ＲＦ信号が得られる。
【００７８】
なお、図５（ａ）ないし図５（ｃ）に示した波面分割素子１２４に与えられる偏光パターンは、より詳細には、光ディスクＤの記録層で反射された反射光ビームを、２つのフォーカスエラー向け光ビームＲｆおよび４つのトラックエラー向け光ビームＲｔおよび２つのトラックエラー補正信号向け光ビームＲｃに分割し、所定の方向に回折させることができる。
【００７９】
ＨＯＥ１２４は、反射光ビームＲの光スポット断面において、概ね中心と一致される部分を交点とする、例えば十字型の分割線（１２４Ｔおよび１２４Ｒ）により２分割もしくは４分割されている。
【００８０】
詳細には、ＨＯＥ１２４に与えられる粗分割Ｆ領域は、例えば分割線１２４Ｒと平行に規定されたパターンである。なお、粗分割Ｆ領域は、帯状に規定された複数の細長い領域が所定の間隔で配列された細分割ＦＡ，ＦＢ領域からなり、分割線１２４Ｒのそれぞれを境界として２つの領域ＦＡ，ＦＢに区分される。
【００８１】
また、ＨＯＥ１２４に与えられる粗分割Ｔ領域は、例えば粗分割Ｆ領域や粗分割Ｃ領域を除いた領域で規定されたパターンである。なお、粗分割Ｔ領域は、分割線１２４Ｔと分割線１２４Ｒのそれぞれを境界として４つの領域ＴＡ，ＴＢ，ＴＣおよびＴＤに、区分される。
【００８２】
なお、それぞれの粗分割領域のうちの、例えば粗分割Ｆ領域は、フォーカスエラー信号（ＦＥ）を生成するために利用される。また、粗分割Ｔ領域は、トラックエラー信号（ＴＥ（ＤＰＤ），ＴＥ（ＰＰ））を生成するために利用される。さらに、粗分割Ｃ領域は、対物レンズ２５のオフセットの影響が含まれる系において、そのオフセットの影響を除去するためのトラックエラー補正信号（ＴＥ（ＣＰＰ））を生成するために利用される。
【００８３】
一方、円弧状の分割線ＣＲおよびＣＬは、粗分割Ｔ領域と粗分割Ｃ領域との円弧状の境界であり、光ディスクの規格に従って固有のトラックもしくは記録マーク列Ｔのピッチが異なる任意の２以上の光ディスクからの反射光ビームを検出する場合を想定したもので、ＨＯＥ１２４に到達した反射光ビームのスポットを１２４−０とするとき、トラックピッチＴｐが広いディスクからの光ビームの回折光（±１次）であっても、トラックピッチＴｐが狭いディスクからの光ビームの回折光（±１次）であっても、常にスポット１２４−０と重なる範囲を含む。
【００８４】
また、図５（ｃ）において、点線で区分したグループ１（Ｇ，大文字表示）とグループ２（ｇ，小文字表示）は、光ディスクに固有のトラックもしくは記録マーク列Ｔのピッチが異なる場合に、任意の２つのピッチの光ディスクからの反射光ビームを検出する場合に対応される。なお、トラックもしくは記録マーク列Ｔのピッチは、現行のＤＶＤ規格の光ディスクにおいて、０．６８μｍで、ＨＤ  ＤＶＤ規格の光ディスクにおいて、０．４μｍである。
【００８５】
より詳細には、波面分割素子（ＨＯＥ）１２４に与えられる回折パターンとしては、図５（ａ）に示すように規定され、図５（ｂ）に示す方向に、反射光ビームＲｆおよびＲｔおよびＲｃが偏向される。なお、図５（ｃ）は、対応する光検出器１２７の受光セルの配列の一例を示す。
【００８６】
従って、反射光ビームが実際に波面分割される分割数は、
領域１２４-ＦＡによる成分（光スポット）［１］、    
領域１２４-ＦＢによる成分（光スポット）［２］、    
領域１２４-ＴＡによる成分（光スポット）［３］、    
領域１２４-ＴＢによる成分（光スポット）［４］、    
領域１２４-ＴＣによる成分（光スポット）［５］、    
領域１２４-ＴＤによる成分（光スポット）［６］、    
領域１２４-ＣＡによる成分（光スポット）［７］、    
領域１２４-ＣＢによる成分（光スポット）［８］、    
で、合計８個である。光スポット［１］および［２］は、フォーカス検出法として、例えばナイフエッジ法を使用する場合には、１成分につき２つの受光セルが必要になるため、光検出器の受光セルの個数は１０個になる。
【００８７】
ＨＯＥ１２４による分割領域と光検出器２７の受光領域（受光セル）の関係は以下のようになる。
【００８８】
ＨＯＥ領域１２４−ＦＡにより分割された成分（光スポット）［１］    
→  光検出器領域［ＦＡ］，［ＦＢ］    
ＨＯＥ領域１２４−ＦＢにより分割された成分（光スポット）［２］    
→  光検出器領域［ＦＣ］，［ＦＤ］    
ＨＯＥ領域２４−ＴＡにより分割された成分（光スポット）［３］    
→  ：光検出器領域１２７−［ＴＡ］    
ＨＯＥ領域２４−ＴＢにより分割された成分（光スポット）［４］    
→  ：光検出器領域１２７−［ＴＢ］    
ＨＯＥ領域１２４−ＴＣにより分割された成分（光スポット）［５］    
→  ：光検出器領域１２７−［ＴＣ］    
ＨＯＥ領域１２４−ＴＤにより分割された成分（光スポット）［６］    
→  ：光検出器領域１２７−［ＴＤ］    
ＨＯＥ領域１２４−ＣＡにより分割された成分（光スポット）［７］    
→  ：光検出器領域１２７−［ＣＡ］    
ＨＯＥ領域１２４−ＣＢにより分割された成分（光スポット）［８］
→  ：光検出器領域１２７−［ＣＢ］
図５（ｃ）から、フォーカスエラー信号（ＦＥ）は、光検出器１２７の個々の受光セルからの出力を、それぞれ、ｐ［＊＊］、＊＊は対応する受光セルの識別名、とすると、
ＦＥ＝  ｐ［ＦＡ］−ｐ［ＦＢ］    
または、    
ＦＥ＝  ｐ［ＦＢ］−ｐ［ＦＡ］    
もしくは、    
ＦＥ＝  ｐ［ＦＣ］−ｐ［ＦＤ］    
または、    
ＦＥ＝  ｐ［ＦＤ］−ｐ［ＦＣ］    
のいずれかにより、求めることができる。
【００８９】
なお、互いに対となる出力を足し算してもかまわないことはいうまでもない。
【００９０】
同様に、図５（ｃ）から、トラックエラー信号（ＴＥ）は、ＤＰＤ法においては、    
ＴＥ（ＤＰＤ）＝    
ｐｈ（ｐ［ＴＡ］＋ｐ［ＴＣ］）−ｐｈ（ｐ［ＴＢ］＋ｐ［ＴＤ］）    
または、    
ＴＥ（ＤＰＤ）＝    
ｐｈ（ｐ［ＴＢ］＋ｐ［ＴＤ］）−ｐｈ（ｐ［ＴＡ］＋ｐ［ＴＣ］）    
により、求めることができる。
【００９１】
また、図５（ｃ）から、トラックエラー信号（ＴＥ）は、ＰＰ法においては、    
ＴＥ（ＰＰ）＝（ｐ［ＴＡ］＋ｐ［ＴＤ］）−（ｐ［ＴＢ］＋ｐ［ＴＣ］）    
または、    
ＴＥ（ＰＰ）＝（ｐ［ＴＢ］＋ｐ［ＴＣ］）−（ｐ［ＴＡ］＋ｐ［ＴＤ］）    
により、求めることができる。
【００９２】
なお、対物レンズのレンズシフトが含まれる場合の補償プッシュプル（ＣＰＰ）は、
ＴＥ（ＣＰＰ）＝ＴＥ（ＰＰ）−Ｋ＊（ｐ［ＣＡ］−ｐ［ＣＢ］）    
または、    
ＴＥ（ＣＰＰ）＝ＴＥ（ＰＰ）−Ｋ＊（ｐ［ＣＢ］−ｐ［ＣＡ］）    
により、求めることができる。
【００９３】
ここで、Ｋは使用するＬＤや粗分割領域Ｔ、Ｃなど複数の要因からもとまる補正係数であり、正負どちらの場合もありうる。
【００９４】
図６（ａ）ないし図６（ｃ）は、図５（ａ）に示したような偏光（回折）パターンが与えられた波面分割素子１２４および液晶素子２６を透過した反射光ビームＲを図５（ｃ）示す配列の受光セル（光検出器１２７）により受光した際の個々のセルへの結像パターンと光ディスクＤの保護層の厚みのばらつきあるいはディスクチルトの程度との関係を説明している。
【００９５】
図６（ａ）に示すように、光ディスクＤの保護層の厚みむらｔｈが「ｔｈ＝０」すなわち基準値である場合は、光検出器１２７の４分割の領域ＦＡ〜ＦＤに結像されるパターンは、それぞれ、領域ＦＡと領域ＦＢとの間の中間点（分割線上）となる。従って、４つの検出セルによる出力の所定の足し算（加算）あるいは引き算（減算）により、合計出力を「０」とすることができる。
【００９６】
図６（ｂ）に示す通り、光ディスクＤの保護層の厚みむらｔｈが「ｔｈ＞０」すなわち基準値よりも厚い場合、光検出器１２７の４分割の領域ＦＡ〜ＦＤに結像されるパターンは、それぞれ、領域ＦＡおよび領域ＦＣ側に突出する。従って、４つの検出セルによる出力の所定の足し算、または引き算による合計出力を「０」以外とすることができる。
【００９７】
図６（ｃ）に示す通り、光ディスクＤの保護層の厚みむらｔｈが「ｔｈ＜０」すなわち基準値よりも薄い場合、光検出器１２７の４分割の領域ＦＡ〜ＦＤに結像されるパターンは、それぞれ、領域ＦＢおよび領域ＦＤ側（領域ＦＡおよび領域ＦＣを基準に考えた場合に、対角側となる）に突出する。従って、４つの検出セルによる出力の所定の足し算、または引き算による合計出力を「０」以外とすることができる。
【００９８】
なお、光ディスクＤの記録層を保護する保護層の厚みむらの検出および補正、ディスクチルト（コマ収差）の検出および補正のルーティンは、図２および図３に示したフローと実質的に同一であるから、詳細な説明は省略する。
【００９９】
以上説明したように、この発明によれば、記録媒体（光ディスク）の保護層の厚み誤差に対応する球面収差量やディスクチルトに対応するコマ収差量を、収差制御用液晶素子により検出して、同一の液晶素子により、その補正量を制御することができる。従って、光ヘッド装置がコンパクトになる。また、この光ヘッド装置を用いることにより、１）光利用効率が向上し、２）迷光が減少し、３）受光セルの数が低減できる。従って、再生信号が安定化され、光ディスク装置としての信頼性も向上される。
【０１００】
なお、この発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々な変形もしくは変更が可能である。また、個々の実施の形態は、可能な限り適宜組み合わせて実施されてもよく、その場合、組み合わせによる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明が適用可能な光ディスク装置の一例を示す概略図。
【図２】図１に示した光ディスク装置において、液晶素子により、光ディスクのコマ収差（ディスクチルト）を検出する手順を説明するフローチャート。
【図３】図１に示した光ディスク装置において、液晶素子により、光ディスクの保護層の厚みむらを検出する手順を説明するフローチャート。
【図４】図１に示した光ディスク装置の別の実施の形態を説明する概略図。
【図５】図４に示した光ヘッド装置に用いられる波面分割素子の回折（偏光）パターンと光検出器の検出領域で受光した出力の組み合わせの一例を説明する概略図。
【図６】図１に示した光ヘッド装置において、光検出器の受光領域に結像される結像パターンと光ディスクの保護層の厚みのばらつき、あるいはディスクチルトの程度との関係を説明する概略図。
【符号の説明】
【０１０２】
１…光ディスク装置（情報記録再生装置）、１１…光ヘッド（光ピックアップ）装置、２１…ＬＤ（半導体レーザ素子、光源）、２２…コリメートレンズ、２３…偏光ビームスプリッタ（分離手段）、２４，１２４…波面光分割素子（分割手段，偏光素子）、２５…対物レンズ、２６…液晶素子（収差制御部材）、２７，１２７…光検出器、Ｄ…光ディスク（記録媒体）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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