(57)【要約】【課題】二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段により照射される四つのレーザ光の配列を特定することのできる画像形成装置及びその方法を提供すること。【解決手段】二つのレーザ光照射手段により照射される四つのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の位相差と，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４のうち二番目のレーザ光Ｌ２を除く三つのレーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４の位相差と，を検出する（ステップＳ３，ステップＳ５）。その後，ステップＳ６，Ｓ７，Ｓ６１において，前記検出結果（位相差）に基づいて前記四つのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する（Ｓ８，Ｓ６２）。【選択図】図５
2007261017.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段と，前記二つのレーザ光照射手段により照射され，所定方向に位相差を有して配列された四つのレーザ光を所定の像担持体に向けて走査させるレーザ光走査手段と，を備えてなる画像形成装置であって，
前記四つのレーザ光の位相差を検出する第一の位相差検出処理手段と，
前記四つのレーザ光のうち前記所定方向における二番目或いは三番目のレーザ光を除く三つのレーザ光を前記レーザ光走査手段に照射する選択照射手段と，
前記選択照射手段により前記レーザ光走査手段に照射された三つのレーザ光の位相差を検出する第二の位相差検出処理手段と，
前記第一の位相差検出処理手段及び前記第二の位相差検出手段による検出結果に基づいて前記四つのレーザ光の配列を特定するレーザ光配列特定手段と，
を備えてなることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記レーザ光走査手段によるレーザ光の走査範囲内の所定位置においてレーザ光の照射を検知するレーザ光検知手段を更に備えてなり，
前記第一の位相差検出処理手段及び／又は前記第二の位相差検出処理手段が，前記レーザ光検知手段によるレーザ光の検知間隔に基づいて前記レーザ光走査手段により走査されるレーザ光の位相差を算出するものである請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段と，前記二つのレーザ光照射手段により照射され，所定方向に位相差を有して配列された四つのレーザ光を所定の像担持体に向けて走査させるレーザ光走査手段と，を備えてなる画像形成装置に適用される前記四つのレーザ光の配列特定方法であって，
前記四つのレーザ光の位相差を検出する第一の位相差検出処理工程と，
前記四つのレーザ光のうち前記所定方向における二番目或いは三番目のレーザ光を除く三つのレーザ光を前記レーザ光走査手段に照射する選択照射工程と，
前記選択照射工程において前記レーザ光走査手段に照射された三つのレーザ光の位相差を検出する第二の位相差検出処理工程と，
前記第一の位相差検出処理工程及び前記第二の位相差検出工程における検出結果に基づいて前記四つのレーザ光の配列を特定するレーザ光配列特定工程と，
を有するレーザ光の配列特定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段を有する光学系を備えた画像形成装置に関するものであり，特に，前記二つのレーザ光照射手段により照射される四つのレーザ光の配列を特定する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示されたマルチビームプリンタ装置では，図１２に示すように，四つのレーザ発光素子１１１〜１１４からポリゴンミラー（回転多面鏡）２に向けて四つのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が照射される。そして，前記ポリゴンミラー２で反射した四つのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４が，感光体ドラム３上で破線矢印方向に走査されることにより，該感光体ドラム３に静電潜像が書き込まれる。ここで，前記感光体ドラム３に照射される前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４は，相互間の影響を除去するために位相差α１０１〜α１０３が設けられた状態で順に配列されている。
前記マルチビームプリンタ装置では，一走査毎に前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４をレーザ光検知センサ（所謂ビームディテクトセンサ）４で順に検知することにより発生する四つのレーザ光検知信号に基づいて，前記四つのレーザ発光素子１１１〜１１４各々への画像データの出力に用いられるクロック信号各々が制御される。例えば，前記レーザ光Ｌ２を照射するレーザ発光素子１１２への画像データの出力は，前記レーザ光検知センサ４による一番目のレーザ光検知から二番面のレーザ光検知までの時間だけ，前記レーザ光Ｌ１を照射するレーザ発光素子１１１よりも遅れて行われる。
【０００３】
ところで，図３及び図４に示すように，前記四つのレーザ発光素子１１１〜１１４に換えて，二つのレーザ光を照射する二つのモノリシックレーザデバイス１１，１２を用いる構成も周知である。
ここで，従来より，図３及び図４に示すように，両端のレーザ光Ｌ１，Ｌ４の位置は変わらないが，レーザ光Ｌ２，Ｌ３の配列には２パターンが考えられる。具体的には，図３に示すように前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列される場合と，図４に示すように前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が，前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列される場合がある。この配列は，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２を有するＬＳＵ（レーザスキャンユニット）の設計時や製造時などに決定される事項であり，その違いは前記ＬＳＵに付される製品番号やロット番号などで該ＬＳＵの製品毎に特定される。
そして，プリンタ装置や複写機などの画像形成装置では，前記ＬＳＵの製造番号やロット番号などを参照して，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を設定することによって，前記のようにレーザ光検知センサ４で順に発生する四つのレーザ光検知信号によって，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２への四つの画像データ各々の出力タイミングを制御することができる。
【特許文献１】特開２０００−２８０５２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら，前記のように前記ＬＳＵの製造番号やロット番号などを参照して前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を設定する作業は製造ラインや市場サービスマンにとって手間である。また，前記画像形成装置において前記ＬＳＵの製造番号やロット番号などを自動的に読み取る構成にはスキャナ装置などが必要となり，コストの増大や装置サイズの拡大という問題が生じる。
従って，本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり，その目的とするところは，二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段により照射される四つのレーザ光の配列を特定することのできる画像形成装置及びその方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために本発明は，二つのレーザ光を照射する二つのレーザ光照射手段と，前記二つのレーザ光照射手段により照射され，所定方向に位相差を有して配列された四つのレーザ光を所定の像担持体に向けて走査させるレーザ光走査手段と，を備えてなる画像形成装置に適用されるものであって，前記四つのレーザ光の位相差と，前記四つのレーザ光のうち前記所定方向における二番目或いは三番目のレーザ光を除く三つのレーザ光を前記レーザ光走査手段に照射して該三つのレーザ光の位相差と，を検出し，その検出結果に基づいて前記四つのレーザ光の配列を特定することを特徴とする画像形成装置又はレーザ光の配列特定方法である。
一般に，複数のレーザ光を用いるマルチビーム方式が採用された画像形成装置には，各々に対応する画像データの出力タイミングを調整するために，前記レーザ光走査手段によるレーザ光の走査範囲内の所定位置においてレーザ光の照射を検知するレーザ光検知手段が設けられている。したがって，前記レーザ光検知手段によるレーザ光の検知間隔に基づいて前記レーザ光走査手段により走査されるレーザ光の位相差を算出することができるため，本発明では，特別な構成要素の追加によるコストの増大や装置サイズの拡大という問題を招来することなく，前記レーザ光の配列を特定することができる。また，従来のような前記レーザ光の配列設定にかかる製造ラインや市場サービスマンの手間も省かれる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば，特別な構成要素の追加によるコストの増大や装置サイズの拡大という問題を招来することなく，前記レーザ光の配列を特定することができる。また，従来のような前記レーザ光の配列設定にかかる製造ラインや市場サービスマンの手間も省かれる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下添付図面を参照しながら，本発明の実施の形態について説明し，本発明の理解に供する。尚，以下の実施の形態は，本発明を具体化した一例であって，本発明の技術的範囲を限定する性格のものではない。
ここに，図１は本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘの概略構成を示すブロック図，図２は前記画像形成装置Ｘに設けられたＬＳＵ１の概略構成図，図３は前記ＬＳＵ１におけるレーザ光の配列の一例を示す概念図，図４は前記ＬＳＵ１におけるレーザ光の配列の他の例を示す概念図，図５は前記画像形成装置Ｘにおいて制御部１００により実行されるレーザ光配列特定処理の手順の一例を説明するためのフローチャート，図６及び図７は前記レーザ光配列特定処理を説明するためのレーザ光照射の概念図である。
図１に示すように，本発明の実施の形態に係る画像形成装置Ｘは，ＣＰＵ及びＲＯＭ，ＲＡＭ等の周辺装置からなり前記ＲＯＭに格納された所定のプログラムに従った処理を実行することにより当該画像形成装置Ｘを統括的に制御する制御部１００と，当該画像形成装置Ｘにおいて各種の情報の表示や入力操作を行う液晶ディスプレイ，タッチパネルなどの操作表示部１０１と，原稿台（不図示）に載置された原稿或いは自動原稿送り装置（ＡＤＦ，不図示）により搬送された原稿の画像を読み取る画像読取部１０２と，前記画像読取部１０２によって読み取られた画像データ或いは外部から入力された画像データに対して各種の画像処理を施す画像処理部１０３と，不図示の給紙カセットから供給された用紙に前記画像データに基づいて画像を形成する画像形成部１０４と，を備えて概略構成されている。前記画像形成装置Ｘは，例えば複写機やファクシミリ装置，プリンタ装置，これらの複合機などである。
【０００８】
前記画像形成部１０４は，図外の帯電装置により所定電位に一様に帯電される感光体ドラム３（所定の像担持体の一例，図２参照）と，前記感光体ドラム３に向けてレーザ光を照射することにより該感光体ドラム３の表面上に静電潜像を形成するＬＳＵ１（図２参照）と，前記感光体ドラム３の表面上に形成された静電潜像をトナーカートリッジから供給されるトナーによって現像する現像装置１０５と，前記現像装置１０５によって前記感光体ドラム３の表面上に形成されたトナー像を用紙に転写する転写装置１０６と，前記トナー像が転写された用紙に該トナー像を定着させる定着装置１０７と，を備えて構成されている。
【０００９】
次に，図２を用いて，前記ＬＳＵ１の構成について説明する。
図２に示すように，前記ＬＳＵ１は，二つのレーザ光を照射する二つのモノリシックレーザデバイス１１，１２（レーザ光照射手段の一例，図３及び図４参照）が搭載されたレーザ基板１０と，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２から照射されたレーザ光を反射させると共に，図外の駆動モータによって回転駆動されることにより前記レーザ光を所定方向に走査させるポリゴンミラー２（レーザ光走査手段の一例）と，前記ポリゴンミラー２により走査されるレーザ光の走査経路上の端部に設けられた反射面４ａによって反射されたレーザ光を検知するレーザ光検知センサ４（レーザ光検知手段の一例）と，前記ポリゴンミラー２で反射されたレーザ光を前記感光体ドラム３に導くレンズ５及び６とを備えて概略構成されている。
前記レーザ光検知センサ４は，前記レーザ光の入射を検知する毎に，レーザ光検知信号を前記制御部１００に対して入力するものである。
このように構成された前記ＬＳＵ１では，図３に示すように前記モノリシックレーザデバイス１１，１２から照射される四つのレーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に，或いは図４に示すように前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されている。また，図３及び図４に示すように，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４には位相差α１〜α３が設けられている。なお，図３及び図４は，説明の便宜上用いる概念図であって，前記レンズ５及び６の図示を省略している。
【００１０】
従来，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列は，例えば前記ＬＳＵ１に付される製造番号やロット番号などによって特定されていた。しかしながら，本発明の実施の形態に係る前記画像形成装置Ｘでは，前記制御部１００によって下記のレーザ光配列特定処理（図５のフローチャート参照）が実行されることにより，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定することが可能である。
以下，図３，４及び図６，７を参照しつつ，図５のフローチャートに従って前記画像形成装置Ｘにおいて前記制御部１００によって実行されるレーザ光配列特定処理の手順の一例について説明する。ここに，図中のＳ１，Ｓ２，…は処理手順（ステップ）番号を表す。
なお，当該レーザ光配列特定処理は，例えば，当該画像形成装置Ｘの初期動作時，前記ＬＳＵ１の装着時，ユーザによる前記操作表示部１０１への開始要求操作が行われた時などに実行される。
【００１１】
まず，ステップＳ１では，前記制御部１００によって不図示の駆動モータが駆動されることにより，前記ポリゴンミラー２の回転が開始される。
続くステップＳ２では，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２から前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の全てが照射されるように，前記制御部１００によって前記モノリシックレーザデバイス１１，１２が制御される。したがって，前記ＬＳＵ１では，図３及び図４に示すように，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２から照射された前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記ポリゴンミラー２に反射して前記感光体ドラム３上で破線矢印方向へ走査される。このとき，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の一走査毎に，前記レーザ光検知センサ４によるレーザ光の検知により発生する四つのレーザ検知信号が所定間隔毎に前記制御部１００へ入力される。
【００１２】
そして，ステップＳ３では，前記制御部１００によって，前記レーザ光検知センサ４から所定間隔毎に入力される四つのレーザ検知信号の間隔に基づいて前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４に設けられた位相差α１〜α３が算出される。なお，前記α１〜α３は前記制御部１００のＲＡＭなどに記憶される。ここに，かかる算出処理を実行することにより前記位相差α１〜α３を検出するときの前記制御部１００が第一の位相差検出処理手段に相当する。
具体的には，図３に示すように，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されている場合には，前記位相差α１は前記レーザ光Ｌ１，Ｌ２の間，前記位相差α２は前記レーザ光Ｌ２，Ｌ３の間，前記位相差α３は前記レーザ光Ｌ３，Ｌ４の間の位相差である。一方，図４に示すように，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されている場合には，前記位相差α１は前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３の間，前記位相差α２は前記レーザ光Ｌ３，Ｌ２の間，前記位相差α３は前記レーザ光Ｌ２，Ｌ４の間の位相差である。
【００１３】
次に，ステップＳ４では，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２から前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４のうちレーザ光Ｌ２を除くレーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４が照射されるように，前記制御部１００によって前記モノリシックレーザデバイス１１，１２が制御される。ここに，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２を制御することにより，前記レーザ光Ｌ２を除くレーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を前記ポリゴンミラー２に照射する処理を実行するときの前記制御部１００が選択照射手段に相当する。
これにより，図６又は図７に示すように前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４が前記感光体ドラム３上に走査される。この場合には，前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４の一走査毎に，前記レーザ光検知センサ４によるレーザ光の検知により発生する三つのレーザ検知信号が所定間隔毎に前記制御部１００へ入力される。
【００１４】
そして，ステップＳ５では，前記制御部１００によって，前記レーザ光検知センサ４から所定間隔毎に入力される三つのレーザ検知信号の間隔に基づいて，前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３の位相差α１１，前記レーザ光Ｌ３，Ｌ４の位相差α１２が算出される。なお，前記α１１，α１２は前記制御部１００のＲＡＭなどに記憶される。ここに，かかる算出処理を実行することにより前記位相差α１１，α１２を検出するときの前記制御部１００が第二の位相差検出処理手段に相当する。
このとき，図６及び図７に示すように，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されている場合（図３参照）と，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されている場合（図４参照）とでは，異なる位相差α１１，α１２が検出される。
【００１５】
その後，ステップＳ６では，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致するか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致すると判断された場合（Ｓ６のＹｅｓ側）には，処理はステップＳ７に移行する。
次に，ステップＳ７では，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しているか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しないと判断された場合（Ｓ７のＮｏ側）には，処理はステップＳ８に移行する。
ステップＳ８では，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致しており（Ｓ６のＹｅｓ側），前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致していない（Ｓ７のＮｏ側）ことから，前記レーザ光Ｌ２が前記レーザ光Ｌ１の次に位置しているのではなく，前記レーザ光Ｌ３が前記レーザ光Ｌ１の次に位置していること（図７参照），即ち前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が，前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されていること（図４参照）が前記制御部１００によって特定される。なお，前記画像形成装置Ｘでは，前記特定された前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列にしたがって従来と同様に，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２への四つの画像データの出力タイミングが制御される。
【００１６】
一方，前記ステップＳ７において，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致すると判断された場合（Ｓ７のＹｅｓ側）には，当該レーザ光配列特定処理が正常に行われていない場合があるため，処理が前記ステップＳ１から再度実行される。なお，当該レーザ光配列特定処理を再度実行しても前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致し（Ｓ６のＹｅｓ側），且つ前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致すると判断された場合（Ｓ７のＹｅｓ側）には，例えば前記操作表示部１０１に対して異常を表示した後，当該レーザ光配列特定処理を終了してもよい。
【００１７】
また，前記ステップＳ６において，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致しないと判断された場合（Ｓ６のＮｏ側）には，処理はステップＳ６１に移行する。
ステップＳ６１では，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しているか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致すると判断された場合（Ｓ６１のＹｅｓ側）には，処理はステップＳ６２に移行する。
ステップＳ６２では，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致しておらず（Ｓ６のＮｏ側），前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致している（Ｓ６１のＹｅｓ側）ことから，前記レーザ光Ｌ２が前記レーザ光Ｌ１の次に位置していること（図６参照），即ち前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されていること（図３参照）が前記制御部１００によって特定される。
【００１８】
しかし，前記ステップＳ６１において，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しないと判断された場合（Ｓ６１のＮｏ側）には，当該レーザ光配列特定処理が正常に行われていない場合があるため，処理が前記ステップＳ１から再度実行される。なお，当該レーザ光配列特定処理を再度実行しても前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致せず（Ｓ６のＮｏ側），且つ前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しないと判断された場合（Ｓ７のＮｏ側）には，例えば前記操作表示部１０１に対して異常を表示した後，当該レーザ光配列特定処理を終了してもよい。
【００１９】
以上説明したように，前記画像形成装置Ｘでは，前記制御部１００により前記レーザ光配列特定処理（図５のフローチャート参照）が実行されることによって，前記位相差α１〜α３（図３及び図４参照）と，前記位相差α１１，α１２（図６及び図７参照）とに基づいて前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列が特定される。ここに，かかる処理を実行するときの前記制御部がレーザ光配列特定手段に相当する。
したがって，従来のような前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列設定にかかる製造ラインや市場サービスマンの手間を省くことができる。しかも，前記画像形成装置Ｘでは，前記位相差α１〜α３や前記位相差α１１，α１２の算出に，一般的な画像形成装置に設けられている既設のレーザ光検知センサ４を利用しているため，特別な構成要素を追加する必要がなく，コストの増大や装置サイズの拡大という問題を招来しない。
【００２０】
また，本実施の形態では，前記レーザ光配列特定処理（図５のフローチャート参照）において，前記位相差α１と前記位相差α１１との一致の判断（Ｓ６）及び前記位相差α３と前記位相差α１２との一致の判断（Ｓ６１，Ｓ７）の両方の結果に応じて，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する処理例について説明した。
しかし，いずれか一方だけを判断することで，前記制御部１００により実行される処理手順を削減して処理速度を速めることも可能である。
具体的には，前記ステップＳ６において，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致しているか否かの判断（前者），或いは前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致しているか否かの判断（後者）を行い，その判断結果に応じて前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定することができる。
例えば，前者の場合，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致している場合には，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されていると特定することができ，前記位相差α１と前記位相差α１１とが一致していない場合には，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されていると特定することができる。また，後者の場合には，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致している場合には，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されていると特定することができ，前記位相差α３と前記位相差α１２とが一致していない場合には，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されていると特定することができる。
【実施例１】
【００２１】
ここに，図８は前記レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのフローチャート，図９及び図１０は前記レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのレーザ光照射の概念図である。
前記実施の形態では，前記ステップＳ４（図５参照）において前記レーザ光Ｌ２を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を照射させる例について説明したが，前記レーザ光Ｌ２に換えて前記レーザ光Ｌ３を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４を照射させることも他の実施例として考えられる。
具体的には，図８のフローチャートに示すように，前記ステップＳ３に続いて前記制御部１００によって実行されるステップＳ１４において，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２が制御されることにより，前記レーザ光Ｌ３を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４の照射が開始される。ここに，前記モノリシックレーザデバイス１１，１２を制御することにより，前記レーザ光Ｌ３を除くレーザ光Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４を前記ポリゴンミラー２に照射する処理を実行するときの前記制御部１００が選択照射手段に相当する。
そして，続く前記ステップＳ１５では，前記制御部１００によって，前記レーザ光検知センサ４から所定間隔毎に入力される三つのレーザ検知信号の間隔に基づいて，前記レーザ光Ｌ１，Ｌ２の位相差β１１，前記レーザ光Ｌ２，Ｌ４の位相差β１２が算出される。なお，前記β１１，β１２は前記制御部１００のＲＡＭなどに記憶される。ここに，かかる算出処理を実行することにより前記位相差β１１，β１２を検出するときの前記制御部１００が第二の位相差検出処理手段に相当する。
このとき，図９及び図１０に示すように，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されている場合（図３参照）と，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されている場合（図４参照）とでは，異なる位相差β１１，β１２が検出される。
【００２２】
その後，ステップＳ１６では，前記位相差α１と前記位相差β１１とが一致するか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α１と前記位相差β１１とが一致すると判断された場合（Ｓ１６のＹｅｓ側）には，処理はステップＳ１７に移行する。
次に，ステップＳ１７では，前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致しているか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致しないと判断された場合（Ｓ１７のＮｏ側）には，処理はステップＳ８に移行する。
ステップＳ１８では，前記位相差α１と前記位相差β１１とが一致しており（Ｓ１６のＹｅｓ側），前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致していない（Ｓ１７のＮｏ側）ことから，前記レーザ光Ｌ３が前記レーザ光Ｌ１の次に位置しておらず，前記レーザ光Ｌ２が前記レーザ光Ｌ１の次に位置していること（図９参照），即ち前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４がこの順に配列されていること（図３参照）が前記制御部１００によって特定される。
【００２３】
また，前記ステップＳ１６において，前記位相差α１と前記位相差β１１とが一致しないと判断された場合（Ｓ１６のＮｏ側）には，処理はステップＳ１６１に移行する。
ステップＳ１６１では，前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致しているか否かが前記制御部１００によって判断される。ここで，前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致すると判断された場合（Ｓ１６１のＹｅｓ側）には，処理はステップＳ１６２に移行する。
ステップＳ１６２では，前記位相差α１と前記位相差β１１とが一致しておらず（Ｓ１６のＮｏ側），前記位相差α３と前記位相差β１２とが一致している（Ｓ１６１のＹｅｓ側）ことから，前記レーザ光Ｌ３が前記レーザ光Ｌ１の次に位置していること（図１０参照），即ち前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４が前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４の順に配列されていること（図４参照）が前記制御部１００によって特定される。
【実施例２】
【００２４】
ここに，図１１は前記レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのフローチャートである。なお，図５及び図８に示すレーザ光配列特定処理と同様の処理手順については同じ符号を付してその説明を省略する。
前記実施の形態及び前記実施例１では，前記レーザ光Ｌ２を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を照射させることにより前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する処理と，前記レーザ光Ｌ３を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を照射させることにより前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する処理と，のいずれか一方が実行される場合を例に挙げて説明した。
一方，前記二つの処理を共に実行することによって，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列の特定結果の信頼性を高めることが可能である。以下，具体的に説明する。
【００２５】
この場合，図１１に示すように，前記ステップＳ５に続いて，前記ステップＳ１４，Ｓ１５の処理が実行されることにより，前記レーザ光Ｌ２を除くレーザ光を照射した時の前記位相差α１１，α１２と，前記レーザ光Ｌ３を除くレーザ光を照射した時の前記位相差β１１，β１２とが共に算出される。
そして，前記ステップＳ６以後の処理が実行され，前記ステップＳ８又は前記ステップＳ６２において，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列が特定されるが，その後，さらにステップＳ１６以後の処理において，前記位相差α１〜α３と前記位相差β１１，β１２とに基づいて前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列が再度特定される。
【００２６】
その後，ステップＳ９では，前記位相差α１１，α１２を用いた場合と，前記位相差β１１，β１２を用いた場合とで，特定された前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列が一致しているか否かが前記制御部１００によって判断される。
ここで，特定結果が一致していると判断された場合（Ｓ９のＹｅｓ側）には，処理はステップＳ１０に移行して，前記制御部１００によって前記特定結果が確定されるように処理され，一致していないと判断された場合（Ｓ９のＮｏ側）には，いずれかの特定結果が誤りであるため，処理はステップＳ１に移行して当該レーザ光配列特定処理が再度実行される。
このように，前記レーザ光Ｌ２を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を照射させることにより前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する処理と，前記レーザ光Ｌ３を除く前記レーザ光Ｌ１，Ｌ３，Ｌ４を照射させることにより前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列を特定する処理とを共に実行することによって，前記レーザ光Ｌ１〜Ｌ４の配列の特定結果の信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘの概略構成を示すブロック図。
【図２】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘに設けられたＬＳＵ１の概略構成図。
【図３】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘに設けられたＬＳＵ１におけるレーザ光の配列の一例を示す概念図。
【図４】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘに設けられたＬＳＵ１におけるレーザ光の配列の他の例を示す概念図。
【図５】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘにおいて制御部１００により実行されるレーザ光配列特定処理の手順の一例を説明するためのフローチャート。
【図６】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘにおいて制御部１００により実行されるレーザ光配列特定処理を説明するためのレーザ光照射の概念図。
【図７】本発明の実施形態に係る画像形成装置Ｘにおいて制御部１００により実行されるレーザ光配列特定処理を説明するためのレーザ光照射の概念図。
【図８】レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのフローチャート。
【図９】レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのレーザ光照射の概念図。
【図１０】レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのレーザ光照射の概念図。
【図１１】レーザ光配列特定処理の他の例を説明するためのフローチャート。
【図１２】従来装置におけるレーザ光の配列の一例を示す概念図。
【符号の説明】
【００２８】
１…ＬＳＵ
２…ポリゴンミラー（レーザ光走査手段の一例）
３…感光体ドラム（所定の像担持体の一例）
４…レーザ光検知センサ（レーザ光検知手段の一例）
５，６…レンズ
１０…レーザ基板
１１，１２…モノリシックレーザデバイス（レーザ光照射手段の一例）
１００…制御部
１０１…操作表示部
１０２…画像読取部
１０３…画像処理部
１０４…画像形成部
１０５…現像装置
１０６…転写装置
１０７…定着装置
Ｌ１〜Ｌ４…レーザ光
Ｓ１，Ｓ２，，，…処理手順（ステップ）番号
α１〜α３，α１１，α１２，β１〜β３，β１１，β１２…位相差
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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