(57)【要約】【課題】表示パネルの構造物をフォトリソグラフィ法によって形成する製造方法における従来の問題点を解決する。【解決手段】表示パネルの基板Ｐ１上に形成された感光性材料層Ｌ１に対して露光マスクＭを介して第１回目の露光工程が行われ、この後、この同じ露光マスクＭが移動されて感光性材料層Ｌ１との間のギャップが変更されて次の第２回目の露光工程が行われることにより、第２露光部分Ｌ１ｂが第１露光部分Ｌ１ａと重なり合った状態で、露光工程が繰り返して行われる。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に感光性材料によって形成されたパターン形成対象層に対して露光マスクを介して露光が行われ、この後に現像が行われて基板上に所要の形状の構造物が成形される表示パネルの製造方法において、
前記パターン形成対象層に対する露光工程が、同じ露光マスクにより、この露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップが一回ごとに変更されながら、露光部分が前の露光工程における露光部分と重なり合った状態で、複数回行われることを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記露光工程が二回行われ、２回目の露光工程が、露光マスクの位置が一回目の露光工程における露光マスクの位置よりもパターン形成対象層との間のギャップが小さくなるように変更されて行われる請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記露光工程が二回行われ、２回目の露光工程が、露光マスクの位置が一回目の露光工程における露光マスクの位置よりもパターン形成対象層との間のギャップが大きくなるように変更されて行われる請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記複数回の露光工程のそれぞれの位置における露光マスクの開口部の中心位置が、互いに一致されている請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記パターン形成対象層が、表示パネルの構造物を形成する感光性材料層である請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記パターン形成対象層が、フォトレジストである請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やフィールド・エミッション・ディスプレイパネル（ＦＥＤ）等の平面型表示パネルの製造工程においては、パネルの基板上に所要の形状の各種構造物を形成する際に、フォトリソグラフィ法が用いられる。
【０００３】
このフォトリソグラフィ法は、パネルの基板上に感光性材料層が形成された後、露光工程において、形成する構造物の形状に対応したパターンの開口部を有する露光マスクを介して感光性材料層が露光され、この露光工程の終了後、現像工程において、感光性材料層の露光によって架橋により硬化した部分以外の未架橋部分が除去されて、基板上に所要の形状の構造物が成形される。
【０００４】
このようなフォトリソグラフィ法における露光工程において、露光量が多い場合には、感光性材料層の架橋反応が過度に進行することによって、硬化した感光性材料層内に応力が残留し、このままの状態で焼成を行うと、感光性材料層が収縮することでエッジ部に反りや剥がれが生じて、構造物を所定の形状に成形出来なくなる。
【０００５】
また、露光量が少ない場合には、感光性材料の架橋が十分に行われず、強度不足が生じて、焼成時に構造物が断線するといった問題が生じる。
【０００６】
このようなフォトリソグラフィ法を用いた表示パネルの製造方法における問題点の解決策として、従来、図１に示されるような、異なるパターンの開口部を有する複数枚のフォトマスクを用いて露光工程を複数回行う方法が提案されている。
【０００７】
この従来のフォトリソグラフィ法による表示パネルの製造方法は、先ず図１（Ａ）に示されるように、基板Ｐ上に、感光性ペーストが均一に塗布されて感光性材料層Ｌが形成された後、図１（Ｂ）に示されるように、成形する構造物の形状に対応した所要の開口部Ｍ１ａを有する第１露光マスクＭ１が、基板Ｐに対して所要のギャップを介して、平行に対向される。
【０００８】
この状態で、図１（Ｃ）に示されるように、紫外光Ｕが照射されて、第１露光マスクＭ１を介して感光性材料層Ｌに対する第１回目の露光が行われ、この露光によって、感光性材料層Ｌのうち第１露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａに対向する部分Ｌａが露光される。
【０００９】
この後、図１（Ｄ）に示されるように、第１露光マスクＭ１とは別のパターンの開口部Ｍ２ａを有する第２露光マスクＭ２が、第１露光マスクＭ１に代えて、所要のギャップを介して基板Ｐに対向される。
【００１０】
この第２露光マスクＭ２の開口部Ｍ２ａは、第１露光マスクＭ１を介して行われた感光性材料層Ｌの露光部分Ｌａの縁部の一部とオーバ・ラップするように形成されている。
【００１１】
この後、図１（Ｅ）に示されるように、紫外光Ｕが照射されて、第２露光マスクＭ２を介して感光性材料層Ｌに対する第２回目の露光が行われて、この露光によって、感光性材料層Ｌのうち第２露光マスクＭ２の開口部Ｍ２ａに対向する部分Ｌｂが露光される。
【００１２】
このとき、感光性材料層Ｌの第１回目の露光工程によって露光された部分Ｌａと第２露光マスクＭ２の開口部Ｍ２ａがオーバ・ラップする部分Ｌｃが、二重露光される。
【００１３】
この後、現像工程において感光性材料層Ｌの未露光部分（未架橋部分）が除去されて、基板Ｐ上に所要の形状の構造物が成形される。
【００１４】
この従来のフォトリソグラフィ法による表示パネルの製造方法によれば、成形された構造物に欠陥や反り，剥がれ等が生じるのが防止されるとされている（例えば、特許文献１参照）。
【００１５】
しかしながら、この従来のフォトリソグラフィ法による表示パネルの製造方法は、二回の露光工程が、それぞれ異なるパターンの開口部を有する二枚の露光マスクを用いて行われるため、露光マスクの枚数が増加してその資材コストや管理コストが高くなり、さらに、製造工程においてマスク交換等の工程数が増加して、表示パネルの製造コストが上昇するといった新たな問題が発生する。
【００１６】
【特許文献１】特開２００４−３４２３４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
この発明は、上記のような従来の表示パネルの製造方法における問題点を解決することをその技術的課題の一つとしている。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
この発明による表示パネルの製造方法は、上記目的を達成するために、基板上に感光性材料によって形成されたパターン形成対象層に対して露光マスクを介して露光が行われ、この後に現像が行われて基板上に所要の形状の構造物が成形される表示パネルの製造方法において、前記パターン形成対象層に対する露光工程が、同じ露光マスクにより、この露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップが一回ごとに変更されながら、露光部分が前の露光工程における露光部分と重なり合った状態で、複数回行われることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
この発明は、ＰＤＰ等の表示パネルの基板上に感光性材料によって形成されたパターン形成対象層に対して露光マスクを介して露光工程が行われ、この後、この同じ露光マスクが移動されてパターン形成対象層との間のギャップが変更されて次の露光工程が行われることにより、露光部分が前の露光工程における露光部分と重なり合った状態で、露光工程が複数回繰り返して行われる表示パネルの製造方法を、その最良の実施形態としている。
【００２０】
この実施形態による表示パネルの製造方法によれば、紫外光を照射して露光マスクを介してパターン形成対象層を露光する際に、露光マスクの開口部を通過する紫外光が回折することにより、パターン形成対象層上の露光面積が露光マスクの開口部の開口面積よりも拡大し、この露光面積の拡大率は露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップが小さいほど小さくなるので、複数回の露光工程が、露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップを露光工程毎に変更して行われることにより、パターン形成対象層に、重複露光部分と、この重複露光部分に隣接する一重露光部分とが形成される。
【００２１】
これにより、パターン形成対象層の一重露光部分によって形成される露光パターンのエッジ部に過露光によって反りや剥がれが発生するのが防止されて、所要の形状および寸法の構造物を成形することが出来るようになるとともに、露光パターンの中央部においては、露光が重複して行われることにより、十分な強度の構造物を成形することが出来るようになる。
【００２２】
そして、上記表示パネルの製造方法によれば、複数回の露光工程が一枚の露光マスクによって行われるので、従来の製造方法に比べて露光マスクの資材コストと管理コストの増加を抑えることが出来るとともに、マスク交換のための工程が必要なく、その分、表示パネルの製造コストを低減することが出来るようになる。
【００２３】
上記実施形態による表示パネルの製造方法において、露光工程が二回行われ、２回目の露光工程が、露光マスクの位置が１回目の露光工程における露光マスクの位置よりもパターン形成対象層との間のギャップが小さくなるように変更されて行われる場合には、パターン形成対象層の１回目の露光工程による露光部分の面積よりも２回目の露光工程による露光部分の面積が小さくなり、この２回目の露光工程による露光部分が１回目の露光工程による露光部分と重なって重複露光部分となる。
【００２４】
また、上記において２回目の露光工程が、露光マスクの位置が１回目の露光工程における露光マスクの位置よりもパターン形成対象層との間のギャップが大きくなるように変更されて行われる場合には、パターン形成対象層の１回目の露光工程による露光部分の面積よりも２回目の露光工程による露光部分の面積が大きくなり、１回目の露光工程による露光部分が２回目の露光工程による露光部分と重なって重複露光部分となる。
【００２５】
上記実施形態による表示パネルの製造方法において、前記複数回の露光工程のそれぞれの位置における露光マスクの開口部の中心位置が互いに一致される場合には、パターン形成対象層の各露光工程によって露光される部分の中心位置が一致することによって、重複露光部分の周囲を取り囲むように一重露光部分を形成することができ、これによって、さらに、所要の形状および寸法の構造物を成形することが出来るようになる。
【００２６】
上記実施形態による表示パネルの製造方法において、パターン形成対象層が、表示パネルの構造物を形成する感光性材料層である場合には、この感光性材料層によって所要の形状および寸法の構造物を成形することが出来るようになり、フォトレジストである場合には、このフォトレジストを介して所要の形状および寸法の構造物を成形することが出来るようになる。
【実施例】
【００２７】
以下、この発明の実施形態における一実施例を、図面を参照しながら説明する。
【００２８】
なお、この発明は、フォトリソグラフィ法によって構造物が形成される種々の平面型表示パネルの製造方法に適用することが可能であるが、以下においては、表示パネルとしてプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）を例に挙げて説明を行う。
【００２９】
図２は、この発明による表示パネルの製造方法が適用されるＰＤＰの構成の一例を示す斜視図である。
【００３０】
この図２に示されるＰＤＰは、表示面である前面ガラス基板１の背面に、行電極ＸとＹが対になった複数の行電極対（Ｘ，Ｙ）が、前面ガラス基板１の行方向に延びるとともに列方向に並設されており、各行電極Ｘ，Ｙは、それぞれ行方向に幅広の透明電極Ｘａ，Ｙａとこの透明電極Ｘａ，Ｙａの基端側部分に接続されたバス電極Ｘｂ，Ｙｂとから構成されている。
【００３１】
この前面ガラス基板１の背面には、さらに、行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層２が形成されており、この誘電体層２の背面側にはＭｇＯからなる保護層３が形成されて、誘電体層２の背面が被覆されている。
【００３２】
一方、前面ガラス基板１と平行に対向される背面ガラス基板４の表示側の面上には、複数の列電極Ｄが、それぞれ列方向に延びるとともに行方向に所定の間隔を開けて並設されている。
【００３３】
さらに、背面ガラス基板４の前面ガラス基板１に対向する表示側の面上には、互いに隣接する列電極Ｄの中間位置において、それぞれ列方向に延びる複数の隔壁５が形成されている。
【００３４】
この各隔壁５間の背面ガラス基板４上と両側の隔壁５の側面に、赤，緑，青の蛍光体層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂが、行方向に順に並ぶように形成されていて、各列電極Ｄが蛍光体層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂによってそれぞれ被覆されている。
【００３５】
この前面ガラス基板１と背面ガラス基板４の間に形成される放電空間には、キセノンを含む放電ガスが封入される。
【００３６】
上記のような構成のＰＤＰにおいて、例えば、行電極Ｘ，Ｙの透明電極Ｘａ，Ｙａおよびバス電極Ｘｂ，Ｙｂ，列電極Ｄ等は、形状に高い精度が要求されるため、その成形にフォトリソグラフィ法が用いられる。
【００３７】
なお、以下に述べるフォトリソグラフィ法による表示パネルの製造方法は、電極の他、ＰＤＰの他の構造物の成形にも適用することが出来るが、以下においては、ＰＤＰの行電極，列電極等の各種電極を成形する場合を例に挙げて説明を行う。
【００３８】
図３ないし７は、この実施例における電極の成形工程を順に示す工程図である。
【００３９】
先ず、図３に示されるように、基板（前面ガラス基板１または背面ガラス基板４）Ｐ１上に、有機化合物に銀（Ａｇ）などのフィラ材料が含有された感光性ペーストが塗布されて、感光性材料層Ｌ１が形成される。
【００４０】
次に、図４に示されるように、形成する電極の形状に対応した形状の開口部Ｍａを有するフォトマスクＭが、基板Ｐ１上に形成された感光性材料層Ｌ１に対して、予め設定されている第１ギャップｇ１を開けて平行に対向される。
【００４１】
次に、図５に示されるように、露光装置ＥＸから露光マスクＭに向けて紫外光Ｕが照射されて、感光性材料層Ｌ１に対して、第１回目の露光工程が実施される。
【００４２】
この実施例においては、露光装置ＥＸとして、フォトマスクと被露光物との間にギャップが設けられる近接露光に用いられるプロキシミティ露光装置が使用され（この場合、第１ギャップｇ１はプロキシ・ギャップと呼ばれる）、このプロキシミティ露光装置の超高圧水銀灯から、紫外光Ｕが露光マスクＭに向けて照射されて、感光性材料層Ｌ１の開口部Ｍａに対向する部分（以下、第１露光部分という）Ｌ１ａが露光される。
【００４３】
このとき、露光装置ＥＸから照射された平行な紫外光Ｕは、露光マスクＭの開口部Ｍａを通過する際に回折して、第１ギャップｇ１内を通過する際に開口部Ｍａよりも少し外側に拡がることにより、感光性材料層Ｌ１上の第１露光部分Ｌ１ａの面積は、開口部Ｍａの開口面積よりも拡大される。
【００４４】
この紫外光Ｕの開口部Ｍａを通過する際の回折角度は、紫外光Ｕの波長によって異なり、波長が長い程大きくなるので、第１ギャップｇ１は、紫外光Ｕの波長と、予め設定された第１露光部分Ｌ１ａの露光面積とによって設定される。
【００４５】
次に、図６に示されるように、第１回目の露光工程と同じ露光マスクＭが感光性材料層Ｌ１に接近する側に移動されて、感光性材料層Ｌ１との間の第２ギャップｇ２が第１回目の露光工程の第１ギャップｇ１よりも短くなるとともに、開口部Ｍａが、感光性材料層Ｌ１上の第１露光部分Ｌ１ａの中央位置に対向するように位置決めされる。
【００４６】
この第２ギャップｇ２は、後述する第２回目の露光工程による露光面積が第１回目の露光工程における第１露光部分Ｌ１ａの面積よりも小さくなる任意の大きさに設定される。
【００４７】
例えば、第１ギャップｇ１が５００μｍに設定され、第２ギャップｇ２が１５０μｍに設定される。
【００４８】
次に、図７に示されるように、第１回目の露光工程の場合と同様に、露光装置ＥＸから紫外光Ｕが照射されることにより、第２回目の露光工程が実施されて、感光性材料層Ｌ１の開口部Ｍａに対向する部分（以下、第２露光部分という）Ｌ１ｂが露光される。
【００４９】
このとき、露光装置ＥＸから照射された平行な紫外光Ｕは、前述したように露光マスクＭの開口部Ｍａを通過する際に回折して、第２ギャップｇ２内を通過する際に開口部Ｍａよりも少し外側に拡がるが、第２ギャップｇ２が第１回目の露光工程における第１ギャップｇ１よりも小さいため、第１回目の露光工程時よりも拡がりが小さくなって、第２露光部分Ｌ１ｂの面積が第１露光部分Ｌ１ａの面積よりも小さくなる。
【００５０】
したがって、露光マスクＭの開口部Ｍａが第１露光部分Ｌ１ａの中央位置に対向されていることにより、この第２露光部分Ｌ１ｂが第１露光部分Ｌ１ａの内側の中央位置に重なるように位置されて、この第１露光部分Ｌ１ａの第２露光部分Ｌ１ｂと重なる部分が二重露光される。
【００５１】
この二重露光される部分の面積およびこの二重露光部分を囲む一重露光部分（第１露光部分Ｌ１ａの第２露光部分Ｌ１ｂと重なっていない部分）の面積は、成形する電極の種類や形状に対応して任意に設定される。
【００５２】
上記第１回目の露光工程における露光量は、感光性材料層Ｌ１に形成される露光パターンのエッジ部（一重露光部分）に剥がれや反りが発生するのを防止できる大きさに設定され、第２回目の露光工程における露光量は、感光性材料層Ｌ１に形成される露光パターンの二重露光部分の強度を確保するのに必要な任意の大きさに設定される。
【００５３】
図８は、この第１回目の露光工程における露光量と第２回目の露光工程における露光量とを示しており、図中、グラフａが第１露光部分Ｌ１ａにおける露光範囲と露光量を示しており、グラフｂが第２露光部分Ｌ１ｂにおける露光範囲と露光量を示している。
【００５４】
そして、グラフｃは、グラフａとグラフｂを合成したもので、第１回目と第２回目の露光工程におけるそれぞれの露光量の合計値とその範囲を示している。
【００５５】
このグラフｃによって示されるように、感光性材料層Ｌ１上に形成された露光パターンのうち、エッジ部（第１露光部分Ｌ１ａのうち第２露光部分Ｌ１ｂと重なっていない一重露光部分）の露光量は、グラフａによって示される第１露光工程による露光量となり、中央部分（第１露光部分Ｌ１ａと第２露光部分Ｌ１ｂが重なる二重露光部分）の露光量は、グラフａによって示される第１露光工程による露光量にグラフｂによって示される第２露光工程による露光量が加算された値になる。
【００５６】
この図８において、破線αは、この破線αのレベルよりも露光量が大きい場合に現像後に露光パターンが残り、露光量が小さい場合には現像によって露光パターンが除去されてしまう値を示す現像閾値を示している。
【００５７】
感光性材料層Ｌ１に形成された露光パターンのうち、第２露光部分Ｌ１ｂの周囲を囲む第１露光部分Ｌ１ａの一重露光部分が露光パターンのエッジ部を形成するが、このエッジ部の露光量は、グラフａによって示される第１回目の露光工程における露光量となる。
【００５８】
このため、グラフａのうち、第２露光部分Ｌ１ｂの周囲を囲む第１露光部分Ｌ１ａの一重露光部分に対応する部分のほぼ中間部分が、破線αが交差するように、第１回目の露光工程における露光量が設定される。
【００５９】
これによって、第１回目の露光工程において、露光不足によって現像により一重露光部分が全て除去されてしまったり、また、過露光によって現像後にエッジ部に反りや剥がれが生じてしまうことのない露光量の最適値が設定される。
【００６０】
そして、第１露光部分Ｌ１ａと第２露光部分Ｌ１ｂが重なる二重露光部分においては、感光性材料層Ｌ１が充分に架橋して強度を保つことが出来る露光量が確保される。
【００６１】
以上のような二回の露光工程が終了した後、現像工程と焼成工程を経て感光性材料層Ｌ１が成形されて、基板Ｐ１上に所要の形状の電極が形成される。
【００６２】
上記表示パネルの製造方法によれば、一枚の露光マスクＭを用いて、この露光マスクＭと感光性材料層Ｌ１間のギャップを第１回目の露光工程と第２回目の露光工程とで変更し、照射する紫外光の回折作用を利用して第１回目と第２回目の露光工程における露光面積を変更して、中央部分の二重露光部分とその周囲を囲む一重露光部分とを形成することにより、露光パターンのエッジ部において過露光により反りや剥がれ発生するのを防止して、所要の形状および寸法の電極を成形することが出来るようになるとともに、露光パターンの中央部においては、感光性材料層Ｌ１の架橋を促進して電極の十分な強度を確保することが出来るようになる。
【００６３】
そして、上記表示パネルの製造方法によれば、二回の露光工程が一枚の露光マスクによって行われるので、従来の製造方法に比べて露光マスクの資材コストと管理コストの増加を抑えることが出来るとともに、マスク交換のための工程が必要なく、その分、表示パネルの製造コストを低減することが出来るようになる。
【００６４】
なお、上記においては、露光工程を二回行う実施例について説明を行ったが、露光マスクと感光性材料層間のギャップを変更しながら、三回以上の露光工程を繰り返すようにしても良い。
【００６５】
また、上記においては、露光マスクと感光性材料層間のギャップを第１回目の露光工程のときよりも第２回目の露光工程のときの方を小さくする実施例について説明を行ったが、これと反対に、露光マスクと感光性材料層間のギャップを、第１回目の露光工程のときよりも第２回目の露光工程のときの方を大きくするようにしても良い。
【００６６】
また、上記においては、感光性ペーストによって形成される感光性材料層の露光を行う実施例について説明を行ったが、この発明による表示パネルの製造方法は、フォトレジストの露光を行う場合についても適用することが出来る。
【００６７】
上記実施例の表示パネルの製造方法は、表示パネルの基板上に感光性材料によって形成されたパターン形成対象層に対して露光マスクを介して露光工程が行われ、この後、この同じ露光マスクが移動されてパターン形成対象層との間のギャップが変更されて次の露光工程が行われることにより、露光部分が前の露光工程における露光部分と重なり合った状態で、露光工程が複数回繰り返して行われる表示パネルの製造方法を、その上位概念の実施例としている。
【００６８】
この上位概念を構成する表示パネルの製造方法によれば、紫外光を照射して露光マスクを介してパターン形成対象層を露光する際に露光マスクの開口部を通過する紫外光が回折することにより、パターン形成対象層上の露光面積が露光マスクの開口部の開口面積よりも拡大し、この露光面積の拡大率は露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップが小さいほど小さくなるので、複数回の露光工程が、露光マスクとパターン形成対象層との間のギャップを露光工程毎に変更して行われることにより、パターン形成対象層に、重複露光部分と、この重複露光部分に隣接する一重露光部分とが形成される。
【００６９】
これによって、パターン形成対象層の一重露光部分によって形成される露光パターンのエッジ部に、過露光によって反りや剥がれが発生するのが防止され、所要の形状および寸法の構造物を成形することが出来るようになるとともに、露光パターンの中央部においては、露光が重複して行われることにより、十分な強度の構造物を形成することが出来るようになる。
【００７０】
さらに、上記表示パネルの製造方法によれば、複数回の露光工程が一枚の露光マスクによって行われるので、従来の製造方法に比べて露光マスクの資材コストと管理コストの増加を抑えることが出来るとともに、マスク交換のための工程が必要なく、その分、表示パネルの製造コストを低減することが出来るようになる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】従来の表示パネルの製造方法を示す説明図である。
【図２】この発明が適用される表示パネルの一例を示す斜視図である。
【図３】この発明の実施例において基板上に感光性材料層が形成された状態を示す工程説明図である。
【図４】同実施例において、第１回目の露光工程における露光マスクの位置決め状態を示す工程説明図である。
【図５】同実施例において、第１回目の露光工程を示す工程説明図である。
【図６】同実施例において、第２回目の露光工程における露光マスクの位置決め状態を示す工程説明図である。
【図７】同実施例において、第２回目の露光工程を示す工程説明図である。
【図８】同実施例において、第１回目と第２回目の露光工程における露光量を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７２】
１        …前面ガラス基板（基板）
４        …背面ガラス基板（基板）
ＥＸ      …露光装置
Ｍ        …露光マスク
Ｍａ      …開口部
Ｐ１      …基板
Ｌ１      …感光性材料層（パターン形成対象層）
Ｌ１ａ    …第１露光部分
Ｌ１ｂ    …第２露光部分
Ｕ        …紫外光
ｇ１      …第１ギャップ（ギャップ）
ｇ２      …第２ギャップ（ギャップ）
α        …現像閾値
【図１】
2007128810.tif 000003
【図２】
2007128810.tif 000004
【図３】
2007128810.tif 000005
【図４】
2007128810.tif 000006
【図５】
2007128810.tif 000007
【図６】
2007128810.tif 000008
【図７】
2007128810.tif 000009
【図８】
2007128810.tif 000010