(57)【要約】    【課題】      耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れたＤＬＣを用いた定着ローラを実用化可能なものにすること。    【解決手段】  ローラ状の素管からなるローラ基体２１１の表面に、アモルファスカーボンを主成分とする膜厚が５〜５０μｍの均一なコーティング層２１２を形成する。これにより、ローラ基体２１１の表面に形成されたコーティング層２１２の膜厚が均一で厚いので、耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れた実用化可能な定着ローラ２１０を得ることができる。  【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローラ状の素管からなるローラ基体の表面に、アモルファスカーボンを主成分とする膜厚が５〜５０μｍの均一なコーティング層を形成した定着ローラ。
【請求項２】
前記ローラ基体は、中空円筒状の金属素管からなり、
前記金属素管の内面にも前記コーティング層を形成した請求項１記載の定着ローラ。
【請求項３】
前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、前記ローラ基体の熱膨張により前記コーティング層に加わる応力を吸収するためのチタンおよびシリコンを含有するバッファー層を形成した請求項１または請求項２記載の定着ローラ。
【請求項４】
複数のローラ基体を収容する接地状態の真空容器内にＣＶＤガスを充満させ、前記複数のローラ基体に同時にパルス高周波電圧とパルスバイアス電圧を重畳して前記複数のローラ基体の周囲にプラズマを発生させるとともに前記プラズマ中のイオンを前記複数のローラ基体に引き付けて前記複数のローラ基体の表面にアモルファスカーボンを主成分とするコーティング層を形成する定着ローラの製造方法であって、
前記複数のローラ基体に前記コーティング層を形成する際、前記複数のローラ基体のそれぞれを内部に収納するように前記真空容器内に配置された中空円筒体からなる複数の接地部材を接地状態とし、前記複数のローラ基体の数が多くなるに従って前記複数のローラ基体に流入する前記パルスバイアス電圧の平均電流が大きくなるように前記パルスバイアス電圧を制御する定着ローラの製造方法。
【請求項５】
前記複数のローラ基体は中空円筒体からなり、前記複数のローラ基体に前記コーティング層を形成する際、前記複数のローラ基体のそれぞれの内部に挿入されるように前記真空容器内に配置された複数の第２の接地部材を接地状態とした請求項４記載の定着ローラの製造方法。
【請求項６】
前記複数のローラ基体のそれぞれの表面に、炭化水素系ガスのプラズマＣＶＤにより前記コーティング層を形成する請求項４または請求項５記載の定着ローラの製造方法。
【請求項７】
前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマＣＶＤによりバッファー層を形成する請求項６記載の定着ローラの製造方法。
【請求項８】
前記複数のローラ基体のそれぞれの表面に、炭化水素系ガスのプラズマイオン注入方式により前記コーティング層を形成する請求項４または請求項５記載の定着ローラの製造方法。
【請求項９】
前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマイオン注入方式によりバッファー層を形成する請求項８記載の定着ローラの製造方法。
【請求項１０】
所定の定着温度に加熱した定着ローラにより未定着トナーを加熱溶融して用紙にトナー像を定着させる定着装置であって、
前記定着ローラとして、請求項１から請求項３のいずれかに記載の定着ローラを用いた定着装置。
【請求項１１】
前記定着ローラを加熱するための熱源として、電磁誘導加熱方式の電磁誘導加熱装置を用いる請求項１０記載の定着装置。
【請求項１２】
用紙に未定着トナー像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段により前記用紙に形成された前記未定着トナー像を前記用紙に定着させる定着手段と、を備えた画像形成装置であって、
前記定着手段として、請求項１０記載の定着装置を用いた画像形成装置。
【請求項１３】
前記画像形成手段により前記未定着トナー像を形成するためのトナーとして、低温定着トナーである重合トナーを用いる請求項１２記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の複写機やプリンタなどに用いられる定着ローラおよびその製造方法、それを用いた定着装置および画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置においては、一般に、ハロゲンランプや電磁誘導加熱（ＩＨ；induction heating）方式の電磁誘導加熱装置などで所定の定着温度に加熱した定着ローラ（加熱ローラ）により用紙に転写された未定着トナーを加熱溶融して用紙にトナー像を定着させている。
【０００３】
このような加熱方式の定着装置においては、溶融したトナーの粘着力により用紙が定着ローラに巻き付きやすい。
【０００４】
そこで、この種の定着装置では、定着ローラの表面にフッ素コーティング層を設けるとともにシリコンオイルを塗布して、定着時におけるトナーの付着（オフセット）を抑えて用紙の剥離性を向上させるようにしている。
【０００５】
しかしながら、このような定着ローラは、耐摩耗性に低く、また繰り返し塗布されるシリコンオイルにより表面のフッ素コーティング層が劣化しやすいため、耐久性が劣るという問題があった。
【０００６】
また、この種の定着ローラとして、内面に黒色塗料を塗布して内部に配設した熱源からの輻射熱を効率よく吸収するようにしたものがあるが、この定着ローラでは、表面のフッ素コーティングと黒色塗料の塗布との２段階のコーティング処理を行うため製造に手間がかかるという問題があった。
【０００７】
一方、この種の定着ローラとして、熱伝導支持パイプの表面に成膜した有機弾性体（シリコンゴム、弗化シリコンゴムなど）の上に、真空中グロー放電プラズマによりプラズマ重合膜を堆積させて耐久性を向上させたヒートローラが知られている（特許文献１参照）。
【０００８】
また、定着ローラの内面（および表面）にプラズマＣＶＤ法（化学蒸着法）によりダイヤモンド状薄膜を形成して耐久性を向上させたものが知られている（特許文献２参照）。
【０００９】
また、金属等の被処理物の表面改質方法として、被処理物に高電圧パルスを印加するための導体に高周波電力を印加し、被処理物の周囲にプラズマを発生させて被処理物へのイオン注入効率を向上させる方法が知られている（特許文献３参照）。
【００１０】
さらに、基材自体の温度上昇を抑えつつ、胴や真鍮等の基材表面に、プラズマＣＶＤ法により高密着で厚くかつ均一なダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ：Diamond Like Carbon）膜を成膜する成膜方法が知られている（特許文献４参照）。
【００１１】
ＤＬＣ膜は、３配位した炭素原子と４配位した炭素原子が混在したアモルファス構造や水素を含むアモルファスカーボンなどの構造が複雑に入り混じったものと考えられている。
【００１２】
その中で４配位したｓｐ３（正四面体）構造の炭素原子が主体となって比較的欠陥（ダングリングボンド）の少ないアモルファスカーボンは、熱伝導度が非常に大きく、高硬度で耐摩耗性に優れ、摩擦係数が低く離型性に優れていることから、工業的に有用なコーティング膜として様々な分野での応用が期待されている。
【特許文献１】特開昭６４−８４２６９号公報
【特許文献２】特開平３−２６６８７４号公報
【特許文献３】特開２００１−２６８８７号公報
【特許文献４】特開２００４−３２３９７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、アモルファスカーボン膜は、高密着力を得られる素材（被コーティング部材）が限定されるため、広く実用化されていないのが現状である。例えば、ＳＫ鋼は、膜の剥離処理時に素材の面粗度が損なわれる場合がある。
【００１４】
また、ＤＬＣ膜は、硬く摩耗性に優れている反面、膜厚が非常に薄く応力も高いため衝撃に弱く、強い衝撃が加わると膜が剥離しやすい。
【００１５】
また、ＤＬＣ膜は、例えば、４００℃以上の高温下では大気中の酸素と結合して膜が減少してしまうという問題がある。
【００１６】
また、前記従来の成膜方法では、中空円筒状の金属素管（以下、これを「ローラ基体」という）の表面にＤＬＣ膜をコーティングした定着ローラを製造するにあたり、従来のプラズマＣＶＤ法により多数のローラ基体に膜形成処理を行った場合、成膜用原料ガスの回り込み具合や各ローラ素管を収容する真空容器等との位置関係に起因して、各ローラ基体への成膜状態のばらつきが各ローラ基体内あるいは各ローラ基体間で発生するという問題がある。
【００１７】
このような成膜状態のばらつきの発生は、多数の定着ローラを同時に製造する場合に、各ローラ基体の表面に形成されたＤＬＣ膜の膜厚ムラを起こす原因となる。
【００１８】
このような膜厚ムラが発生した定着ローラは、発熱温度ムラや、加圧のムラによる定着不良を起こすおそれがある。
【００１９】
このようなことから、従来の成膜方法によりローラ基体の表面にＤＬＣ膜をコーティングした定着ローラでは、画像形成装置における定着装置のヒートローラとして実用化することが難しいという問題があった。
【００２０】
本発明は、係る問題点に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れた実用化可能な定着ローラおよびその製造方法、それを用いた定着装置および画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
かかる課題を解決するため、本発明の定着ローラは、ローラ状の素管からなるローラ基体の表面に、アモルファスカーボンを主成分とする膜厚が５〜５０μｍの均一なコーティング層を形成した構成を採る。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、ローラ基体の表面に形成されたコーティング層の膜厚が均一で厚いので、耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れた実用化可能な定着ローラを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の第１の態様に係る定着ローラは、ローラ状の素管からなるローラ基体の表面に、アモルファスカーボンを主成分とする膜厚が５〜５０μｍの均一なコーティング層を形成した構成を採る。
【００２４】
この構成によれば、ローラ基体の表面に膜厚が厚く均一なコーティング層（アモルファスカーボン層）を形成したので、ローラ基体の表面の耐摩耗性および離型性が向上し、耐久性の高い実用化可能な定着ローラを得ることができる。
【００２５】
本発明の第２の態様に係る定着ローラは、第１の態様において、前記ローラ基体は、中空円筒状の金属素管からなり、前記金属素管の内面にも前記コーティング層を形成した構成を採る。
【００２６】
この構成によれば、第１の態様の効果に加え、中空円筒状の金属素管の表面（外周面）および内面にコーティング層を形成したので、金属素管の内部に熱源を配設した定着ローラにおいては、内面のコーティング層により熱吸収性が著しく向上し、加熱に要する時間（立ち上がり時間）を短縮できるとともにエネルギー消費も抑えることができる。
【００２７】
本発明の第３の態様に係る定着ローラは、第１または第２の態様において、前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、前記ローラ基体の熱膨張により前記コーティング層に加わる応力を吸収するためのチタンおよびシリコンを含有するバッファー層を形成した構成を採る。
【００２８】
この構成によれば、第１または第２の態様の効果に加え、ローラ基体とコーティング層との間にチタンおよびシリコンを含有するバッファー層を形成したので、ローラ基体の熱膨張によりコーティング層に加わる応力をバッファー層で吸収してコーティング層の耐剥離性を向上させることができる。
【００２９】
本発明の第４の態様に係る定着ローラの製造方法は、複数のローラ基体を収容する接地状態の真空容器内にＣＶＤガスを充満させ、前記複数のローラ基体に同時にパルス高周波電圧とパルスバイアス電圧を重畳して前記複数のローラ基体の周囲にプラズマを発生させるとともに前記プラズマ中のイオンを前記複数のローラ基体に引き付けて前記複数のローラ基体の表面にアモルファスカーボンを主成分とするコーティング層を形成する定着ローラの製造方法であって、前記複数のローラ基体に前記コーティング層を形成する際、前記複数のローラ基体のそれぞれを内部に収納するように前記真空容器内に配置された中空円筒体からなる複数の接地部材を接地状態とし、前記複数のローラ基体の数が多くなるに従って前記複数のローラ基体に流入する前記パルスバイアス電圧の平均電流が大きくなるように前記パルスバイアス電圧を制御する。
【００３０】
この方法によれば、複数のローラ基体を成膜する場合であっても、各ローラ基体へ流入するパルスバイアス電圧の実効値を適切にできるので、各ローラ基体の成膜状態のばらつきを減少させることができ、複数のローラ基体のそれぞれの表面に膜厚が均一で厚いコーティング層を形成することができる。
【００３１】
本発明の第５の態様に係る定着ローラの製造方法は、第４の態様において、前記複数のローラ基体は中空円筒体からなり、前記複数のローラ基体に前記コーティング層を形成する際、前記複数のローラ基体のそれぞれの内部に挿入されるように前記真空容器内に配置された複数の第２の接地部材を接地状態とした。
【００３２】
この方法によれば、第４の態様の効果に加え、複数のローラ基体のそれぞれの外面および内面に、１回のコーティング処理により、膜厚が均一で厚いコーティング層を同時に形成することができる。
【００３３】
本発明の第６の態様に係る定着ローラの製造方法は、第４または第５の態様において、前記複数のローラ基体のそれぞれの表面に、炭化水素系ガスのプラズマＣＶＤにより前記コーティング層を形成する。
【００３４】
この方法によれば、第４または第５の態様の効果に加え、複数のローラ基体のそれぞれの表面に炭化水素系ガスのプラズマＣＶＤによりコーティング層を形成するので、複数のローラ基体に対して最適な条件下でコーティング層を形成することが可能となる。
【００３５】
本発明の第７の態様に係る定着ローラの製造方法は、第６の態様において、前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマＣＶＤによりバッファー層を形成する。
【００３６】
この方法によれば、第６の態様の効果に加え、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマＣＶＤによりローラ基体とコーティング層との間に形成したバッファー層により、ローラ基体の加熱時の熱膨張によりコーティング層に加わる応力を吸収することができるので、コーティング層の耐剥離性を向上させることができる。
【００３７】
本発明の第８の態様に係る定着ローラの製造方法は、第４または第５の態様において、前記複数のローラ基体のそれぞれの表面に、炭化水素系ガスのプラズマイオン注入方式により前記コーティング層を形成する。
【００３８】
この方法によれば、第４または第５の態様の効果に加え、複数のローラ基体のそれぞれの表面に炭化水素系ガスのプラズマイオン注入方式によりコーティング層を形成するので、複数のローラ基体に対して最適な条件下でコーティング層を形成することが可能となる。
【００３９】
本発明の第９の態様に係る定着ローラの製造方法は、第８の態様において、前記ローラ基体と前記コーティング層との間に、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマイオン注入方式によりバッファー層を形成する。
【００４０】
この方法によれば、第８の態様の効果に加え、チタン含有ガスおよびシリコン含有ガスのプラズマイオン注入方式によりローラ基体とコーティング層との間に形成したバッファー層により、ローラ基体の加熱時の熱膨張によりコーティング層に加わる応力を吸収することができるので、コーティング層の耐剥離性を向上させることができる。
【００４１】
本発明の第１０の態様に係る定着装置は、所定の定着温度に加熱した定着ローラにより未定着トナーを加熱溶融して用紙にトナー像を定着させる定着装置であって、前記定着ローラとして、第１から第３のいずれかの態様に係る定着ローラを用いた構成を採る。
【００４２】
この構成によれば、定着ローラとして、第１から第３のいずれかの態様に係る定着ローラを用いるので、耐久性に優れた長期使用可能な定着装置を得ることができる。
【００４３】
本発明の第１１の態様に係る定着装置は、第１０の態様において、前記定着ローラを加熱するための熱源として、電磁誘導加熱方式の電磁誘導加熱装置を用いる構成を採る。
【００４４】
この構成によれば、第１０の態様の効果に加え、定着ローラを加熱するための熱源として電磁誘導加熱方式の電磁誘導加熱装置を用いるので、定着ローラが立ち上がるまでの加熱時間をより短縮でき、エネルギー消費をさらに抑制することができる。
【００４５】
本発明の第１２の態様に係る画像形成装置は、用紙に未定着トナー像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段により前記用紙に形成された前記未定着トナー像を前記用紙に定着させる定着手段と、を備えた画像形成装置であって、前記定着手段として、第１０の態様に係る定着装置を用いた構成を採る。
【００４６】
この構成によれば、定着手段として、第１０の態様に係る定着装置を用いるので、用紙へのトナー像の定着性が長期に亘り安定した画像形成装置を得ることができる。
【００４７】
本発明の第１３の態様に係る画像形成装置は、第１２の態様において、前記画像形成手段により前記未定着トナー像を形成するためのトナーとして、低温定着トナーである重合トナーを用いる構成を採る。
【００４８】
この構成によれば、第１２の態様の効果に加え、未定着トナー像を形成するためのトナーとして低温定着トナーである重合トナーを用いるので、用紙へのトナーの転写効率が高くなってトナー消費を抑制できるとともに、定着温度を低く設定してエネルギー消費を抑えることができる。
【００４９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一の構成または機能を有する構成要素及び相当部分には、同一の符号を付してその説明は繰り返さない。
【００５０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラを備えた定着装置を搭載するのに適した画像形成装置の全体構成を示す概略構成図である。
【００５１】
図１に示すように、画像形成装置１００は、装置本体１０１の内部にＯＨＰシートや印字用紙などの用紙Ｐに未定着トナー像を形成（印刷）する画像形成手段としての画像形成ユニット１１０が配設されている。
【００５２】
画像形成ユニット１１０は、感光体ドラム１１１、レーザー光学ユニット１１２、帯電器１１３、現像ユニット１１４、転写ローラ１１５、クリーニングユニット１１６などで構成されている。
【００５３】
現像ユニット１１４は、マグネットロール１１４ａを備えた磁気ブラシ接触型の２成分現像方式の現像装置で構成されている。
【００５４】
装置本体１０１の下部には、画像形成ユニット１１０に向けて用紙Ｐを給紙する給紙ユニット１２０が配設されている。給紙ユニット１２０は、積層された用紙Ｐを収納する給紙カセット１２１、給紙カセット１２１から用紙Ｐを給紙する給紙ローラ１２２、給紙ローラ１２２により給紙された用紙Ｐを一枚ずつ分離する分離ローラ１２３などで構成されている。
【００５５】
一方、装置本体１０１の上部には、装置本体１０１の上面のコンタクトガラス１０２上に原稿を自動給紙するための、装置本体１０１に対して開閉自在に構成された原稿自動給紙装置（ＡＤＦ：Automatic Document Feeder）１３０が配設されている。
【００５６】
原稿自動給紙装置１３０の下部には、コンタクトガラス１０２上にセットされた原稿の画像情報を読み取るためのフラットベットスキャナ１４０が配設されている。
【００５７】
ここで、原稿自動給紙装置１３０により原稿を自動給紙して原稿の画像情報を読み取る場合には、閉鎖した状態の原稿自動給紙装置１３０の原稿載置トレイ１３１上に原稿をセットする。
【００５８】
また、原稿自動給紙装置１３０により自動給紙できない原稿の画像情報を読み取る場合には、原稿自動給紙装置１３０を開放してコンタクトガラス１０２上に直接原稿をセットする。
【００５９】
原稿のセット後、装置本体１０１の上部に設けられた図示しない操作部のスタートボタンを押すと、コンタクトガラス１０２上に自動給紙または直接セットされた原稿の画像情報がフラットベットスキャナ１４０により読み取られる。
【００６０】
フラットベットスキャナ１４０が読み取った原稿の画像情報は、図示しない制御部のメモリに一旦蓄積される。なお、ここで、フラットベットスキャナ１４０が読み取った原稿の画像情報は、制御部のメモリに蓄積せずに、レーザー光学ユニット１１２により感光体ドラム１１１に直接露光するようにしてもよい。
【００６１】
そして、フラットベットスキャナ１４０が読み取った原稿の画像情報を給紙ユニット１２０により給紙される用紙Ｐに印刷する場合には、周知の電子写真方式による画像形成プロセスが感光体ドラム１１１の周囲で実行される。
【００６２】
図１において、画像形成プロセスが開始されると、まず、感光体ドラム１１１の表面が、帯電器１１３によって、約−７００Ｖ程度に帯電される。その後、感光体ドラム１１１の表面には、レーザー光学ユニット１１２によってレーザー光が照射され、フラットベットスキャナ１４０が読み取った画像情報に応じた静電潜像が形成される。
【００６３】
感光体ドラム１１１は、レーザー光学ユニット１１２で静電潜像を書き込まれた際に、その画像露光部の表面電位が、−１００Ｖ以下程度にまで除電される。
【００６４】
一方、現像ユニット１１４のマグネットロール１１４ａ上に存在するトナーの帯電量は、概ね−２０〜−３０μＣ／ｇ程度である。この現像ユニット１１４においては、ＡＣ＋ＤＣの現像電圧を印加して現像が実施されるが、この現像電圧は、ＡＣが４ｋＨｚ、１．６ｋＶｐｐで、ＤＣが−２５０Ｖ程度である。また、現像電圧としてＤＣ成分のみを用いる場合もある。
【００６５】
これにより、−１００Ｖ以下程度にまで除電された感光体ドラム１１１上には、その画像露光部にトナーが付着することでトナー像が形成される。
【００６６】
この間に、給紙ユニット１２０の給紙カセット１２１に収納された用紙Ｐが、給紙ローラ１２２により給紙されてレジストローラ１１７に送り込まれる。
【００６７】
その後、感光体ドラム１１１上に形成されたトナー像は、レジストローラ１１７により所定のタイミングで再給紙され、転写ローラ１１５によって約＋５００Ｖ程度に帯電した用紙Ｐ上に転写される。
【００６８】
このようにして用紙Ｐに転写された未定着トナー像は、定着装置２００の定着ローラ２１０により熱を加えられることによって一旦溶融した後、定着ローラ２１０に圧接する加圧ローラ２２０により用紙Ｐに押し付けられる。これにより、用紙Ｐ上にトナー像が定着（固着）される。
【００６９】
このようにしてトナー像が定着された用紙Ｐは、排紙ローラ１１８により、装置本体１０１の胴部に設けられた胴内排紙トレイ１１９上に排紙される。
【００７０】
次に、画像形成装置１００に搭載されている定着装置２００の構成について説明する。図２は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラを用いた定着装置の構成を示す概略断面図である。
【００７１】
図２に示すように、定着装置２００は、定着ローラ２１０および加圧ローラ２２０と、排紙ローラ１１８とをユニット化した構成を有している。
【００７２】
定着ローラ２１０および加圧ローラ２２０は、ユニット筐体２０１にそれぞれ回転自在に軸支されている。加圧ローラ２２０は、図示しないバネなどの加圧手段により定着ローラ２１０に圧接している。
【００７３】
定着ローラ２１０の外周面には、分離爪２３０が当接している。分離爪２３０は、用紙Ｐに転写された未定着トナー像の定着時における定着ローラ２１０への用紙Ｐの巻き付きを阻止して、用紙Ｐを排紙ローラ１１８に向けてガイドするは働きをする。
【００７４】
定着ローラ２１０は、図示しないハロゲンランプやＩＨ方式の電磁誘導加熱装置などからなる加熱手段（熱源）によって加熱されるように構成されている。
【００７５】
定着ローラ２１０の近傍には、熱源による定着ローラ２１０の加熱温度を検知するための温度センサ２５０が配設されている。
【００７６】
定着ローラ２１０の加熱温度は、温度センサ２５０の検知温度に基づいて、図示しない温度制御手段により所定の定着温度になるように制御されている。
【００７７】
また、本定着装置には、定着ローラ２１０の外周面に付着したトナーやチリなどを除去するためのクリーニング装置を設置する場合もある。
【００７８】
次に、定着装置２００に用いられる本例の定着ローラ２１０について説明する。図３（ａ）は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラの部分破断概略正面図である。図３（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラの概略側面図である。図３（ｃ）は、図３（ａ）に示すＡ部の拡大断面図である。
【００７９】
図３（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、本例の定着ローラ２１０は、ローラ状の素管からなるローラ基体２１１の表面に、アモルファスカーボンを主成分とする膜厚が５〜５０μｍの均一なコーティング層２１２を形成した構成を有している。
【００８０】
ここで、ローラ基体２１１の表面とは、少なくとも未定着トナー像が転写された用紙Ｐに対して定着ローラ２１０が接触する面、つまり定着ローラ２１０の定着可能領域面をいう。
【００８１】
本例の定着ローラ２１０の表面に形成されるコーティング層２１２は、アモルファスカーボンを主成分とし、膜厚が５〜５０μｍと厚く、また均一な膜厚を有している。
【００８２】
このように、本例の定着ローラ２１０は、ローラ基体２１１の表面に、厚く均一な膜厚のコーティング層（アモルファスカーボン層）２１２が形成されているので、ローラ基体２１１の表面の耐摩耗性および離型性を向上させることができ、耐久性が高く実用化可能なものとなる。
【００８３】
また、本例の定着ローラ２１０は、図３（ｃ）に示すように、ローラ基体２１１の表面（外周面）の他、ローラ基体２１１の内面にもコーティング層２１２を形成した構成を有している。また、図７（ｃ）に示すように、コーティング層２１２のローラ基体境界部は、耐剥離性を向上させるためにバッファー層７０１を含むものであってもよい。
【００８４】
この定着ローラ２１０は、ローラ基体２１１の内部に熱源を配設した場合に、内面のコーティング層２１２によりローラ基体２１１の内面の熱源からの輻射熱の吸収効率が向上し、加熱に要する時間（立ち上がり時間）を短縮できるとともにエネルギー消費も抑えることができる。
【００８５】
次に、図４および図５を参照して、本例の定着ローラ２１０の製造方法について説明する。図４は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラのローラ基体の表面にＣＶＤ膜を成膜するＣＶＤ成膜装置の構成を示す概略構成図である。図５は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラの製造行程を示すフローチャートである。
【００８６】
図４に示すように、ＣＶＤ成膜装置４００は、真空チャンバー４０１、基体ホルダー４０２、パルス高周波電源４０３、パルス高圧電源４０４、重畳装置４０５、フィードスルー４０６、ゲートバルブ４０７、真空ポンプ４０８、ガス導入管４０９、流量計４１０などで構成される。
【００８７】
図５に示すように、定着ローラ２１０の製造にあたって、まず、ローラ基体２１１の基体加工が行われる（ステップＳＴ５０１）。
【００８８】
ステップＳＴ５０１の基体加工においては、加熱定着時における用紙Ｐの皺の発生を防止するために、定着ローラ２１０の外径形状を鼓形状に形成するためのローラ基体２１１に対する切削加工が行われる。具体的には、ローラ基体２１１の外周面が、端部と中央部とで５０〜２００μｍ程度の外径差を有する鼓形状となるように切削加工される。
【００８９】
次いで、ローラ基体２１１の表面に付着している異物を除去するために、ローラ基体２１１の基体洗浄が行われる（ステップＳＴ５０２）。
【００９０】
一方、図４および図５に示すように、真空チャンバー４０１を開き（ステップＳＴ５０３）、洗浄を終えたローラ基体２１１を基体ホルダー４０２に保持して真空チャンバー４０１内に収容（基体装着）する（ステップＳＴ５０４）。
【００９１】
その後、真空チャンバー４０１を閉じ（ステップＳＴ５０５）、ゲートバルブ４０７を開いて真空ポンプ４０８により排気し、真空チャンバー４０１内を高真空状態とする（ステップＳＴ５０６）。
【００９２】
次いで、ガス導入管４０９を通して、流量計４１０で監視しながら所定量の水素ガス、あるいはアルゴンガスを真空チャンバー４０１内に導入する（ステップＳＴ５０７）。
【００９３】
そして、パルス高周波電源４０３からパルス高周波電圧と、パルス高圧電源４０４から−１〜２０ｋＶのパルスバイアス電圧とを、重畳装置４０５により重畳してローラ基体２１１に印加し、ローラ基体２１１の表面をクリーニング処理する（ステップＳＴ５０８）。このクリーニング処理を行うことで、ローラ基体２１１の表面に付着した異物等を除去することができ、ローラ基体２１１の表面と、後述する成膜処理により形成されるコーティング層２１２との密着性をより一層向上させることができる。
【００９４】
次いで、ゲートバルブ４０７を開いて、ステップＳＴ５０８のクリーニング処理で用いたガスを真空ポンプ４０８により排気する（ステップＳＴ５０９）。
【００９５】
その後、ガス導入管４０９を通して、ＣＶＤガスとして所定量の炭化水素系ガスを真空チャンバー４０１内に導入する（ステップＳＴ５１０）。
【００９６】
そして、真空チャンバー４０１の内部に炭化水素系ガスが充満した状態で、パルス高周波電源４０３のパルス高周波電圧と、パルス高圧電源４０４の負のパルスバイアス電圧とを重畳装置４０５により重畳した電圧を、ローラ基体２１１に印加して成膜処理を行う（ステップＳＴ５１１）。
【００９７】
本成膜処理においては、まず、ローラ基体２１１にパルス高周波電圧を印加して、真空チャンバー４０１内の炭化水素系ガスをプラズマ化する。図６は、本ＣＶＤ成膜装置４００におけるプラズマ発生領域６０１を示している。
【００９８】
これにより、図６に示すように、基体ホルダー４０２に保持されたローラ基体２１１の表面を囲むように発生したプラズマ中の電子と炭化水素系ガスとが衝突し炭化水素系ガスが分解されてイオンが生成される。
【００９９】
この状態で、ローラ基体２１１に−１〜２０ｋＶのパルスバイアス電圧を印加する。これにより、パルス高周波電圧の印加によって生成されたイオンがローラ基体２１１に引き付けられる。
【０１００】
この結果、ローラ基体２１１の表面に、膜厚が５〜５０μｍと厚く、均一な膜厚のアモルファスカーボンを主成分としたコーティング層２１２が形成される。
【０１０１】
その後、真空チャンバー４０１内のガスをリーク（放出）し（ステップＳＴ５１２）、真空チャンバー４０１を開いて（ステップＳＴ５１３）、ローラ基体２１１を真空チャンバー４０１から取り出す（ステップＳＴ５１４）。
【０１０２】
このようにして表面に膜厚が厚く均一なコーティング層２１２が形成されたローラ基体２１１は、図２に示した定着装置２００の定着ローラ２１０として組み立てられる（ステップＳＴ５１５）。
【０１０３】
（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２に係る定着ローラについて説明する。図７（ａ）は、本発明の実施の形態２に係る定着ローラの部分破断概略正面図である。図７（ｂ）は、本発明の実施の形態２に係る定着ローラの概略側面図である。図７（ｃ）は、図７（ａ）に示すＢ部の拡大断面図である。
【０１０４】
図７（ａ），（ｂ），（ｃ）に示すように、本例の定着ローラ７１０は、実施の形態１に係る定着ローラ２１０のローラ基体２１１とコーティング層２１２との間に、チタンおよびシリコンを含有するバッファー層７０１を形成した構成を有している。
【０１０５】
本例の定着ローラ７１０の表面に形成されるコーティング層２１２は、実施の形態１に係る定着ローラ２１０のコーティング層２１２と同様、アモルファスカーボンを主成分とし、膜厚が５〜５０μｍと厚く、また均一な膜厚を有している。
【０１０６】
また、本例の定着ローラ７１０のローラ基体２１１とコーティング層２１２との間に形成されるバッファー層７０１は、コーティング層２１２よりも薄い、チタンおよびシリコンを含有する均一な薄膜で形成されている。
【０１０７】
このように、本例の定着ローラ７１０は、ローラ基体２１１とコーティング層２１２との間に薄膜からなるバッファー層７０１が形成されているので、加熱時におけるローラ基体２１１の熱膨張でコーティング層２１２に加わる応力をバッファー層７０１により吸収することができ、コーティング層２１２の耐剥離性を向上させることができる。
【０１０８】
なお、本例の定着ローラ７１０では、図７（ｃ）に示すように、ローラ基体２１１の外面および内面にコーティング層２１２およびバッファー層７０１を形成した構成としているが、コーティング層２１２およびバッファー層７０１は、少なくともローラ基体２１１の外面に形成されていればよい。
【０１０９】
ただし、ローラ基体２１１の外面および内面にコーティング層２１２およびバッファー層７０１を形成することで、ローラ基体２１１の内面の熱源からの輻射熱の吸収効率を向上させることができるとともに、内面のコーティング層２１２の熱応力による剥離を抑えることができる。
【０１１０】
次に、図４および図８を参照して、本例の定着ローラ７１０の製造方法について説明する。図８は、本発明の実施の形態２に係る定着ローラの製造行程を示すフローチャートである。
【０１１１】
本例の定着ローラ７１０は、実施の形態１に係る定着ローラ２１０と同様、図４に示したＣＶＤ成膜装置４００を用いて製造することができる。
【０１１２】
本例の定着ローラ７１０は、図８に示すように、その製造にあたり実施の形態１に係る定着ローラ２１０と同様のローラ基体２１１の基体加工が行われる（ステップＳＴ８０１）。
【０１１３】
次いで、ローラ基体２１１の表面に付着している異物を除去するために、ローラ基体２１１の基体洗浄が行われる（ステップＳＴ８０２）。
【０１１４】
一方、図４および図８に示すように、真空チャンバー４０１を開き（ステップＳＴ８０３）、洗浄を終えたローラ基体２１１を基体ホルダー４０２に保持して真空チャンバー４０１内に収容（基体装着）する（ステップＳＴ８０４）。
【０１１５】
その後、真空チャンバー４０１を閉じ（ステップＳＴ８０５）、ゲートバルブ４０７を開いて真空ポンプ４０８により排気し、真空チャンバー４０１内を高真空状態とする（ステップＳＴ８０６）。
【０１１６】
次いで、ガス導入管４０９を通して、流量計４１０で監視しながら所定量の水素ガス、あるいはアルゴンガスを真空チャンバー４０１内に導入する（ステップＳＴ８０７）。
【０１１７】
そして、パルス高周波電源４０３からパルス高周波電圧と、パルス高圧電源４０４から−１〜２０ｋＶのパルスバイアス電圧とを、重畳装置４０５により重畳してローラ基体２１１に印加し、ローラ基体２１１の表面をクリーニング処理する（ステップＳＴ８０８）。
【０１１８】
ローラ基体２１１のクリーニング処理後、ゲートバルブ４０７を開いて、ステップＳＴ８０８のクリーニング処理で用いたガスを真空ポンプ４０８により排気する（ステップＳＴ８０９）。
【０１１９】
次いで、ガス導入管４０９を通して、シリコン（Ｓｉ）含有ガス、チタン（Ｔｉ）含有ガスなどの所定量のバッファー層形成ガスを真空チャンバー４０１内に導入する（ステップＳＴ８１０）。
【０１２０】
そして、真空チャンバー４０１の内部にバッファー層形成ガスが充満した状態で、パルス高周波電源４０３のパルス高周波電圧と、パルス高圧電源４０４の負のパルスバイアス電圧とを重畳装置４０５により重畳した電圧を、ローラ基体２１１に印加してバッファー層７０１の成膜処理を行う（ステップＳＴ８１１）。
【０１２１】
バッファー層７０１の成膜処理においては、まず、ローラ基体２１１にパルス高周波電圧を印加して、真空チャンバー４０１内のバッファー層形成ガスをプラズマ化する。
【０１２２】
これにより、実施の形態１に係る定着ローラ２１０の製造時と同様、基体ホルダー４０２に保持されたローラ基体２１１の表面を囲むようにプラズマが発生し、プラズマ中の電子とバッファー層形成ガスとが衝突しバッファー層形成ガスが分解されてイオンが生成される。
【０１２３】
この状態で、ローラ基体２１１に−１〜２０ｋＶのパルスバイアス電圧を印加する。これにより、パルス高周波電圧の印加によって生成されたイオンがローラ基体２１１に引き付けられる。
【０１２４】
この結果、ローラ基体２１１の表面に、チタンおよびシリコンを含有する均一な薄膜からなるバッファー層７０１が形成される。
【０１２５】
その後、ゲートバルブ４０７を開いて、バッファー層７０１の成膜処理で用いたガスを真空ポンプ４０８により排気する（ステップＳＴ８１２）。
【０１２６】
次いで、ガス導入管４０９を通して、ＣＶＤガスとして所定量の炭化水素系ガスを真空チャンバー４０１内に導入する（ステップＳＴ８１３）。
【０１２７】
そして、真空チャンバー４０１の内部に炭化水素系ガスが充満した状態で、パルス高周波電源４０３のパルス高周波電圧と、パルス高圧電源４０４の負のパルスバイアス電圧とを重畳装置４０５により重畳した電圧を、ローラ基体２１１に印加してコーティング層２１２の成膜処理を行う（ステップＳＴ８１４）。
【０１２８】
なお、ステップＳＴ８１４の成膜処理は、実施の形態１に係る定着ローラ２１０のローラ基体２１１へのコーティング層２１２の成膜処理と同じであるので、ここでの説明は省略する。
【０１２９】
ただし、本例の定着ローラ７１０の製造時におけるコーティング層２１２の成膜処理においては、プラズマイオン注入方式によりコーティング層２１２を形成するようにしてもよい。
【０１３０】
プラズマイオン注入方式によりコーティング層２１２を形成する場合には、ローラ基体２１１に実効値の高い負のパルスバイアス電圧を印加する。これにより、パルス高周波電圧の印加によって生成されたイオンは、ローラ基体２１１に引き付けられるとともに、その一部がローラ基体２１１の表面に形成されたバッファー層７０１に注入される。
【０１３１】
すなわち、プラズマイオン注入方式では、バッファー層７０１に炭素が注入され、バッファー層７０１に単にコーティング層２１２が付着するのでなく、バッファー層７０１にミキシング層（遷移層）を伴ってコーティング層２１２が形成される。これにより、ローラ基体２１１の表面に、より密着性に優れた膜厚５〜５０μｍの、イオン注入層を伴うアモルファスカーボンを主成分とするコーティング層２１２が形成される。
【０１３２】
次いで、コーティング層２１２の成膜処理後、真空チャンバー４０１内のガスをリークし（ステップＳＴ８１５）、真空チャンバー４０１を開いて（ステップＳＴ８１６）、ローラ基体２１１を真空チャンバー４０１から取り出す（ステップＳＴ８１７）。
【０１３３】
このようにしてバッファー層７０１およびコーティング層２１２が形成されたローラ基体２１１は、図２に示した定着装置２００の定着ローラ２１０として組み立てられる（ステップＳＴ８１８）。
【０１３４】
図９に、ローラ基体表面にアモルファスカーボンを主成分とするコーティング層（ＤＬＣコート）を形成した本発明に係る定着ローラと、ローラ基体表面にフッ素コートを施した従来の定着ローラとの特性の比較結果を示す。
【０１３５】
図９（ａ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとのすべり性（摩擦係数変化）の比較結果を示す比較表である。図９（ａ）の比較結果から明らかなように、プリント枚数が３００Ｋに達したころから、従来のフッ素コートを施した定着ローラは、すべり性が悪化したが、本発明に係る定着ローラは良好であった。
【０１３６】
図９（ｂ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの耐傷性（傷の状態）の比較結果を示す比較表である。図９（ｂ）の比較結果から明らかなように、従来のフッ素コートを施した定着ローラは、プリント枚数が１００Ｋに達したころから耐傷性が悪化し、プリント枚数が３００Ｋに達したころでは耐傷性が最悪の状態となった。これに対し、本発明に係る定着ローラは良好であった。
【０１３７】
図９（ｃ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの耐摩耗性（膜厚変化）の比較結果を示す比較表である。図９（ｃ）の比較結果から明らかなように、プリント枚数が３００Ｋに達した時点で、従来のフッ素コートを施した定着ローラは、耐摩耗性が悪化したが、本発明に係る定着ローラは、耐摩耗性に変化が見られなかった。
【０１３８】
図９（ｄ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの定着性（耐オフセット）の比較結果を示す比較表である。図９（ｄ）の比較結果から明らかなように、プリント枚数が３００Ｋに達したころから、従来のフッ素コートを施した定着ローラは、オフセットが生じるようになったが、本発明に係る定着ローラは、オフセットが生じなかった。
【０１３９】
ところで、本実施の形態に係る定着ローラ２１０，７１０の製造に際しては、実際にはＣＶＤ成膜装置４００の真空チャンバー４０１内に、一度に複数個のローラ基体２１１を収容し、各ローラ基体２１１に対して同時にパルスバイアス電圧とパルス高周波電圧とを重畳したパルス電圧を印加して、複数のローラ基体２１１に対してコーティング層２１２を同時に成膜するようにしている。
【０１４０】
しかしながら、この製造方法においては、ローラ基体２１１の数が多くなるに従って、ローラ基体２１１の表面に形成されるコーティング層２１２に膜厚むらが生じて成膜の品質が低下するおそれがある。つまり、近接するローラ基体間の電界の影響を受け、均一な膜ができなくなる場合がある。そこで、図１０に示すような接地電極を設け膜厚ムラの防止を行なった。図１０において、中空円筒体からなる接地部材１００１は、内部にローラ基体２１１を収容し、図４で示す、真空チャンバー４０１に接地するものである。また、第２の接地部材１００２は、中空円筒体からなる接地部材１００１と同様、真空チャンバー４０１の接地されるもので、ローラ基体２１１の内側に設けるものである。これにより、ローラ基体２１１の周辺の電界強度が均一化され、プラズマ状態が安定し、均一な膜が得られるものである。
【０１４１】
さらに、本発明者らの研究結果、ローラ基体２１１の数が多くなるに従い、出力パルス電圧の上昇がゆるくなり、つまりローラ基体一本あたりに流入するパルスバイアス電圧の実効値が下がり、ローラ基体２１１に十分なパルスバイアス電圧がかからなくなることによってコーティング層２１２に十分な膜厚が得られないことがわかった。
【０１４２】
そこで、複数のローラ基体２１１に対してコーティング層２１２を同時に成膜する場合には、ローラ基体２１１の本数に応じて、ローラ基体２１１に印加するパルスバイアス電圧を変化させる、つまりローラ基体２１１の本数の増加に応じて、パルス高圧電圧電源４０４が出力するパルスバイアス電圧の絶対値を大きくするように制御するようにした。
【０１４３】
この結果、複数ローラ基体２１１の表面に均一な膜厚のコーティング層２１２を同時に形成することが可能となった。
【０１４４】
なお、ここで、基体ホルダー４０２にローラ基体２１１の装着の有無を検知するセンサを配置して、同時に成膜するローラ基体２１１の本数を自動的に検知し、検知したローラ基体２１１の本数に応じて、ローラ基体２１１に流入するパルスバイアス電圧の実効値を調整する変圧器を設けるようにしてもよい。
【０１４５】
このように、複数のローラ基体２１１の表面にコーティング層２１２を同時に形成して製造した定着ローラ２１０（および７１０）を用いて、１０００枚プリントした後のローラ基体２１１とコーティング層２１２との密着性を評価した結果、同時に成膜したローラ基体２１１の本数にかかわらず、いずれの定着ローラもローラ基体２１１とコーティング層２１２との密着性が良好に保たれていることが分かった。
【０１４６】
なお、ここでは、パルス高圧電源４０４が出力するパルスバイアス電圧のパルス幅を一定にし、ローラ基体２１１の本数に応じてパルスバイアス電圧の絶対値の大きさを制御するようにしたが、パルスバイアス電圧の絶対値の大きさを一定にし、パルス幅を制御して、各ローラ基体２１１へ流入するパルスバイアス電圧の実効値を制御するようにしてもよい。これは、ローラ基体２１１の本数が多くてもパルスバイアス電圧のパルス幅を大きくすることにより、ローラ基体２１１に十分な実効値のパルスバイアス電圧が印加されることに着目したものである。
【０１４７】
また、ローラ基体２１１の本数が多くなるに従って、パルス高圧電源４０４のパルスバイアス電圧の繰り返し周波数を大きくしても、各ローラ基体２１１へ流入するパルスバイアス電圧の実効値を適切にでき、ローラ基体２１１の成膜の品質を適切に保つことができる。
【０１４８】
また、ローラ基体２１１としては、アルミニウムなどの中空円筒状の金属素管で構成することが、加工の容易性、定着ローラ２１０の軽量化、および低コスト化などの面で好ましい。
【０１４９】
また、本実施の形態に係る定着ローラ２１０，７１０は、表面にアモルファスカーボンを主成分とするコーティング層２１２が形成されているので、定着ローラ表面の表面自由エネルギーが低下しトナーに対する離型性に優れている。
【０１５０】
従って、これらの定着ローラ２１０，７１０を用いた定着装置２００を搭載する画像形成装置１００においては、画像形成ユニット１１０により未定着トナー像を形成するためのトナーとして、例えば、乳化重合法により形成した低温定着トナーである重合トナーを用いることも可能になる。
【０１５１】
未定着トナー像を形成するためのトナーとして低温定着トナーである重合トナーを用いることにより、用紙Ｐへのトナーの転写効率が高くなってトナー消費を抑制できるとともに、定着温度を低く設定してエネルギー消費を抑えることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１５２】
本発明に係る定着ローラは、ローラ基体の表面に形成されたコーティング層の膜厚が均一で厚く、耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れた実用化可能なものであるので、電子写真方式の複写機やプリンタなどに用いられる定着ローラとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１５３】
【図１】本発明の実施の形態１に係る定着ローラを備えた定着装置を搭載するのに適した画像形成装置の全体構成を示す概略構成図
【図２】本発明の実施の形態１に係る定着ローラを用いた定着装置の構成を示す概略断面図
【図３】（ａ）は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラの部分破断概略正面図、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る定着ローラの概略側面図、（ｃ）は、（ａ）に示すＡ部の拡大断面図
【図４】本発明の実施の形態１に係る定着ローラのローラ基体の表面にＣＶＤ膜を成膜するＣＶＤ成膜装置の構成を示す概略構成図
【図５】本発明の実施の形態１に係る定着ローラの製造行程を示すフローチャート
【図６】図４に示すＣＶＤ成膜装置におけるプラズマ発生領域を示す概略図
【図７】（ａ）は、本発明の実施の形態２に係る定着ローラの部分破断概略正面図、（ｂ）は、本発明の実施の形態２に係る定着ローラの概略側面図、（ｃ）は、（ａ）に示すＢ部の拡大断面図
【図８】本発明の実施の形態２に係る定着ローラの製造行程を示すフローチャート
【図９】（ａ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとのすべり性（摩擦係数変化）の比較結果を示す比較表、（ｂ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの耐傷性（傷の状態）の比較結果を示す比較表、（ｃ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの耐摩耗性（膜厚変化）の比較結果を示す比較表、（ｄ）は、本発明に係る定着ローラと従来の定着ローラとの定着性（耐オフセット）の比較結果を示す比較表
【図１０】（ａ）は、本発明の実施の形態１および実施の形態２に係る定着ローラのローラ基体の表面にＣＶＤ膜を成膜する際に用いる接地部材の構成を示す概略断面図、（ｂ）は、図１０（ａ）のＸ−Ｘ断面図
【符号の説明】
【０１５４】
１００  画像形成装置
１０１  装置本体
１１０  画像形成ユニット
２００  定着装置
２１０，７１０  定着ローラ
２１１  ローラ基体
２１２  コーティング層
２２０  加圧ローラ
４００  ＣＶＤ成膜装置
４０１  真空チャンバー
４０２  基体ホルダー
４０３  パルス高周波電源
４０４  パルス高圧電源
４０５  重畳装置
４０６  フィードスルー
４０７  ゲートバルブ
４０８  真空ポンプ
４０９  ガス導入管
４１０  流量計
６０１  プラズマ発生領域
７０１  バッファー層
Ｐ  用紙
【図１】
2007034073.tif 000003
【図２】
2007034073.tif 000004
【図３】
2007034073.tif 000005
【図４】
2007034073.tif 000006
【図５】
2007034073.tif 000007
【図６】
2007034073.tif 000008
【図７】
2007034073.tif 000009
【図８】
2007034073.tif 000010
【図９】
2007034073.tif 000011
【図１０】
2007034073.tif 000012