(57)【要約】【課題】  優れた信頼性を有する多層型の光記録媒体を提供すること。【解決手段】  光記録媒体１は、第１の基板２１と第２の基板２２との間に第１及び第２の記録層３１，３２が積層された構造を有している。第１の記録層３１と第２の記録層３２との間には、光入射側から順に第１の反射層４１、中間層１５及び保護層７が形成されている。この保護層７は、ＣｅＯ２を含み、且つ、２０ｎｍ以下の厚さを有している。また、中間層１５は、第１の樹脂層３及び１５０℃以上のＴｇを有する第２の樹脂層５が光入射側から順に積層された２層構造を有している。さらに、第２の記録層３２と第２の基板２２との間には、第２の反射層４２が設けられている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機色素を含む記録層が複数積層された光記録媒体であって、
一方の面側が、記録光又は再生光が入射される光入射側とされ、
隣り合う前記記録層間に、前記光入射側から順に、反射層、中間層及び保護層を備えており、
前記保護層は、ＣｅＯ２を含み、且つ、２０ｎｍ以下の厚さを有する層である、
ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記中間層は、１５０℃以上のガラス転移温度を有する層を少なくとも含むことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体、より詳しくは、複数の記録層を備える光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の色素を含む記録層を有する光記録媒体は、大容量の情報を記録できると共にランダムアクセスが可能である。したがって、コンピュータのような情報処理装置における外部記録装置として広く認知され、普及している。
【０００３】
近年では、取り扱う情報量の増大に伴い、光記録媒体の記録容量をより大容量化することが求められている。かかる大容量化に対応し得る光記録媒体としては、まず、基板の両側に記録層を設けた両面記録型のものが知られている。しかし、このような両面記録型の光記録媒体は、記録又は再生時に媒体を反転させる必要があるため、取り扱い性があまり良好ではなかった。
【０００４】
そこで、近年では、基板上に記録層を複数積層することによって、記録容量の大容量化を図った片面多層型の光記録媒体が開発されている。この多層型の光記録媒体によれば、片面側（光入射側）から記録又は再生光を入射することで、各記録層への情報の記録、及び、各記録層に記録された情報の読み出しを行うことができる。したがって、上述したように媒体を反転させる必要がない。
【０００５】
多層型の光記録媒体においては、隣り合う記録層の間に、両者を接着するための樹脂等からなる中間層が設けられる。また、記録又は再生光の十分な反射を確保しつつ、複数の記録層への光の到達を可能とするために、記録層の光入射側と反対側には当該層に密着した半透明の反射層が形成される。ところが、このような構造を有する多層型の光記録媒体においては、記録層がこれと接している中間層と反応してしまう場合があり、これにより記録層の劣化が生じることがあった。
【０００６】
そこで、かかる不都合を低減することを目的として、中間層と記録層との間に、例えばＺｎＳ・ＳｉＯ２等からなる保護層を設けることが試みられている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−２５３０８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、本発明者らが検討を行ったところ、上述したような保護層を設けた場合、保護層の種類によっては光記録媒体としての十分な特性が得られなくなる場合があることが判明した。特に、長時間放置後の特性劣化が著しい場合があるなど、信頼性が不十分となることが多かった。
【０００８】
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、優れた信頼性を有する多層型の光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の光記録媒体は、有機色素を含む記録層が複数積層された光記録媒体であって、一方の面側が、記録光又は再生光が入射される光入射側とされ、隣り合う記録層間には、光入射側から順に、反射層、中間層及び保護層が設けられており、保護層は、ＣｅＯ２を含み、且つ、２０ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする。
【００１０】
上記本発明の光記録媒体において、保護層に含まれるＣｅＯ２は、光記録媒体の通常の使用条件において安定であり、保護層に隣接している記録層に影響を及ぼすことが少ない。さらに、このＣｅＯ２を含む保護層は、紫外光を吸収する特性も有している。このため、このような保護層を有する光記録媒体は、かかる保護層によって良好に記録層が保護されており、優れた信頼性を有するものとなる。また、本発明の光記録媒体は、保護層の厚さが２０μｍ以下であることから当該保護層による記録層への影響が極めて小さくされており、記録層が本来有している記録・再生特性が良好に維持されたものとなる。
【００１１】
また、本発明の光記録媒体において、中間層は、１５０℃以上のガラス転移温度を有する層を少なくとも含むことがより好ましい。
【００１２】
上述の如く、本発明の光記録媒体において、保護層は２０μｍ以下と薄いことから、中間層が大きく変形した場合には、これが保護層を介して記録層にも影響を与え、当該記録層の特性の変化を引き起こす場合がある。そこで、本発明においては、上記のように中間層の保護層に接している領域を１５０℃以上のガラス転移温度を有する層とすることによって、光記録媒体の製造又は使用時に想定される温度域での中間層の形状変化を抑制する。その結果、本発明の光記録媒体は、高温等に晒された場合であっても、記録層の変形等に基づく特性劣化が生じ難く、より優れた信頼性を有するものとなる。このような効果を良好に得る観点からは、中間層は、１５０℃以上のガラス転移温度を有する層を、保護層と接するように備えていることがより好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、優れた信頼性を有するほか、記録層本来の特性が十分に維持されており良好な記録・再生特性を有する多層型の光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
［光記録媒体］
【００１５】
図１は、好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。図示されるように、光記録媒体１は、第１の基板２１と第２の基板２２との間に第１及び第２の記録層３１，３２が積層された構造を有する多層型の光記録媒体である。この光記録媒体１は、第１の基板２１側から図中ｈνで表される記録又は再生光が入射されて、各記録層３１，３２への記録又はこれらに記録された情報の再生が行われる。つまり、第１の基板２１側が光入射側となる。
【００１６】
光記録媒体１においては、第１の記録層３１と第２の記録層３２との間に、光入射側から順に第１の反射層４１、中間層１５及び保護層７が形成されている。中間層１５は、第１の樹脂層３及び第２の樹脂層５が光入射側から順に積層された２層構造を有している。また、第２の記録層３２と第２の基板２２との間、すなわち、第２の記録層３２の光入射側に対して反対側には、第２の反射層４２が設けられている。
【００１７】
上記構造を有する光記録媒体１は、換言すれば、第１の基板２１、第１の記録層３１及び第１の反射層４１をこの順に備える第１の積層構造体１１と、第２の基板２２、第２の反射層４２、第２の記録層３２及び保護層７を備える第２の積層構造体１２とが、各基板２１，２２がそれぞれ外側になるように中間層１５を介して接着された構成を有する。以下、光記録媒体１の各構成についてそれぞれ説明する。
【００１８】
（基板）
第１及び第２の基板２１，２２は、直径６４〜２００ｍｍ程度、厚さ０．６ｍｍ程度のディスク形状を有するものである。この第１及び第２の基板２１，２２は、樹脂、ガラス、セラミックス等からなるものを適用でき、樹脂からなるものが好ましい。樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂等が好ましい。なお、光入射側の第１の基板２１は、少なくとも記録・再生光に対して透明であり、具体的には、これらの光に対する透過率が８８％以上であると好ましい。一方、第２の基板２２は、必ずしも透明な材料からなる必要はない。
【００１９】
第１の基板２１の第１の記録層３１側の面には、溝状のトラッキング用のグルーブ２１Ｇが形成されている。グルーブ２１Ｇは、第１の基板２１を平面視した場合にスパイラル状に連続して形成されている。このグルーブ２１Ｇの深さは０．１〜０．２５μｍ、幅は０．２０〜０．５０μｍ、グルーブピッチは０．６〜１．０μｍであると好ましい。第２の基板２２の第２の反射層４２側の面にも、第１の基板２１と同様のグルーブ２２Ｇが形成されている。このグルーブ２２Ｇの深さは０．０２５〜０．０４５μｍ、幅は０．２０〜０．５０μｍ、グルーブピッチは０．６〜１．０μｍであると好ましい。グルーブ２１Ｇ，２２Ｇの形状をこのようにすることで、グルーブの反射レベルを低下させることなく良好なトラッキング信号を得ることが可能となる。
【００２０】
（記録層）
第１及び第２の記録層３１，３２は、それぞれ有機色素を含む層である。第１及び第２の記録層３１，３２の好適な厚さ（特に、グルーブ２１Ｇ又はグルーブ２２Ｇの部分の厚さ）は、５０〜３００ｎｍである。これらの層を構成する有機色素は、記録波長の光（レーザー光等）を照射されて構造、物性等の変化を生じ、これによって非照射部分との屈折率差を生じることで情報の記録が可能なものである。
【００２１】
有機色素としては、例えば、アゾ金属錯体色素、インドアニリン金属錯体色素、エチレンジアミン金属錯体色素、アゾメチン金属錯体色素、フェニルヒドロキシアミン金属錯体色素、フェナントロリン金属錯体色素、ニトロソアミノフェノール金属錯体色素、ピリジルトリアジン金属錯体色素、アセチルアセトナート金属錯体色素、メタロセン金属錯体色素、ポルフィリン金属錯体色素等の金属錯体色素や、シアニン色素、スクアリウム色素、クロコニウム色素、アズレニウム色素、キサンテン色素、メロシアニン色素、トリアリールアミン色素、アントラキノン色素、アゾメチン色素、オキソノ−ル色素、分子間型ＣＴ色素等の非金属錯体色素が挙げられる。
【００２２】
第１又は第２の記録層３１，３２を構成する有機色素は、用いる記録・再生光の波長に好適な吸収極大波長を有するものを選択することができる。上述したなかでも、短波長の光による記録・再生が可能なアゾ金属錯体色素又はシアニン色素が好ましく、アゾ金属錯体色素とシアニン色素との組み合わせがより好ましい。なお、第１の記録層３１と第２の記録層３２とは、同じ有機色素を含む層であってもよく、異なる有機色素を含む層であってもよい。
【００２３】
（反射層）
第１の反射層４１は、第１の記録層３１の光入射側に対して反対側に設けられた層であり、第１の記録層３１に入射した記録・再生光を反射する層である。ただし、多層型の光記録媒体１においては、光入射側からの記録・再生光を第２の記録層３２にも到達させる必要があることから、第１の反射層４１は、記録・再生光をある程度透過し得る半透明の層（半透過反射層）となっている。２つの記録層３１，３２において記録・再生を良好に行う観点からは、第１の反射層４１は、記録・再生光に対する光透過率が４０〜４５％であると好ましい。
【００２４】
第１の反射層４１としては、反射率の高い金属又は合金の薄膜からなるものが挙げられる。このような金属又は合金としては、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、希土類金属等の金属や半金属、あるいは合金が挙げられる。なかでも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ又はこれらの合金は、良好な反射率を有することから第１の反射層４１の材料として適している。
【００２５】
第１の反射層４１の構成材料としては、上述したなかでも、Ａｇを５０％以上含有する合金、例えば、Ａｇ−Ｂｉ合金等が好ましい。Ａｇ−Ｂｉ合金としては、Ａｇの濃度が９８〜９９.５原子％程度であるものがより好ましい。なお、第１の反射層４１は、上述した成分を主成分とする以外に、他の成分を更に含んでいてもよい。
【００２６】
第１の反射層４１の厚さは、５０ｎｍ以下であると好ましく、３０ｎｍ以下であるとより好ましく、２０ｎｍ以下であると更に好ましい。第１の反射層４１の厚さが５０ｎｍ以下であると、記録・再生光に対して良好な透過率が得られる傾向にある。ただし、中間層１５の第１の記録層３１への影響を低減するために、両層に挟まれる第１の反射層４１は、ある程度の厚さを有していることが好ましい。この厚さは、例えば、３ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００２７】
一方、第２の反射層４２は、第２の記録層３２の光入射側に対して反対側に設けられた層であり、第２の記録層３２に入射した記録・再生光を反射する層である。かかる第２の反射層４２は、第２の記録層３２を透過した記録・再生光をほぼ完全に反射してもよく、ある程度透過してもよい。第２の反射層４２の記録・再生光に対する好適な反射率は、８５〜９７％程度である。
【００２８】
第２の反射層４２としては、上記の反射率を有する金属や合金からなるものが挙げられる。この金属や合金としては、例えば、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ＡｇＣｕなどが挙げられる。また、第２の反射層４２の厚さは、１０〜３００ｎｍであると好ましい。
【００２９】
（保護層）
保護層７は、第２の記録層３２の光入射側に当該記録層３２と接するように設けられた層である。かかる保護層７は、ＣｅＯ２を含む層であり、ＣｅＯ２を３０％以上含む層であると好ましい。ＣｅＯ２の含有量が３０％未満であると、保護層７による第２の記録層３２を保護する効果が不十分となる傾向にある。またこの場合、ＣｅＯ２以外の材料によっては、記録・再生光に対する透明性が低下するため、第２の記録層３２への記録・再生光の照射量が不十分となることもある。
【００３０】
保護層７は、ＣｅＯ２を上記の条件で含むほか、その他の成分を更に含んでいてもよい。保護層７のその他の成分としては、例えば、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｖ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｇ等の金属の酸化物が挙げられる。特に、保護層７は、ＣｅＯ２とこれらの金属酸化物との複合物から構成されていると好ましい。この場合の金属酸化物としては、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ等が好適である。
【００３１】
この保護層７は、２０ｎｍ以下の厚さを有する層である。保護層７の記録層への影響を低減するとともに、保護層７の透明性を良好に維持する観点からは、保護層７の厚さは１５ｎｍ以下であると好ましく、１０ｎｍ以下であるとより好ましい。ただし、保護層７は、薄すぎると第２の記録層３２を保護する効果が不十分となる場合があることから、１ｎｍ以上の厚さを有していることが望ましい。なお、保護層７は、必ずしも第２の記録層３２と接している必要はなく、保護層７と第２の記録層３２との間には他の層が設けられていてもよい。ただし、第２の記録層３２の保護を良好に行う観点からは、保護層７は、第２の記録層３２と接していることがより好ましい。
【００３２】
（中間層）
中間層１５は、第１の積層構造体１１と第２の積層構造体１２との間、より具体的には第１の反射層４１と保護層７との間に設けられた層である。かかる中間層１５は、第１の積層構造体１１と第２の積層構造体１２とを接着する接着層として、また、これらを所定の間隔に隔離するスペーサとしての機能を有している。この中間層１５は、上述の如く、光入射側から第１の樹脂層３及び第２の樹脂層５が順に積層された２層構造となっている。
【００３３】
第１及び第２の樹脂層３，５は、第１の積層構造体１１と第２の積層構造体１２とを十分に接着し得る接着力を有するとともに、第２の記録層３２に十分な記録・再生光を照射し得る程度の透明性を有することが好ましい。このような第１及び第２の樹脂層３，５としては、例えば、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂（特に紫外線硬化性樹脂）の硬化物によって構成された層が挙げられる。なかでも、紫外線硬化性樹脂が、優れた接着性及び透明性を得やすいほか、光記録媒体１の製造時の作業性を良好にできることから好適である。
【００３４】
第２の樹脂層５は、第１の樹脂層３よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する層である。例えば、第１の樹脂層３よりも好ましくは１００℃、より好ましくは１３０℃高いＴｇを有している。より具体的には、第１の樹脂層３が好ましくは４５〜１００℃、より好ましくは５０〜８０℃のＴｇを有しており、第２の樹脂層５が好ましくは１５０℃以上、より好ましくは１６０〜２２０℃のＴｇを有している。第１及び第２の樹脂層３，５のＴｇは、各層の構成材料を変えるか、又は、各層を同様の材料から構成する場合は硬化による架橋の割合を変えること等によって調整することができる。
【００３５】
第１の樹脂層３のＴｇが１００℃を超える場合、当該層３が製造時等における応力を保持したままの状態となり易くなり、これが光記録媒体１の反り等を生じる原因となる場合がある。一方、第１の樹脂層３のＴｇが４５℃未満であると、通常想定される温度範囲内で第１の樹脂層３が変形する可能性があり、光記録媒体１の特性変化が生じ易くなる傾向にある。
【００３６】
ここで、第１及び第２の樹脂層３，５のＴｇは、例えば、動的粘弾性試験によって求めることができる。具体的には、第１の樹脂層３及び第２の樹脂層５の構成材料を所定形状に成形して試験片を作製し、これについて３℃／分の昇温速度で昇温しながらこの試験片の動的粘弾性を測定し、これにより得られる粘弾性曲線における損失正接（Ｔａｎδ）のピーク温度を、各試験片の構成材料のＴｇとして求めることができる。
【００３７】
このように、第２の樹脂層５が、第１の樹脂層３よりも高いＴｇを有することで、高温条件下において、中間層を第１の樹脂層３のみからなる構成とした場合に比して、少なくとも第２の記録層３２に近い部分での中間層１５の変形が生じ難くなる。このため、光記録媒体１が高温条件に晒された場合であっても、中間層１５の変形に伴う第２の記録層３２の形状変化等が極めて生じ難くなり、第２の記録層３２の記録・再生特性が良好に維持される。特に、通常の光記録媒体は、基板等の材料の耐熱性の観点から１５０℃以下の条件で製造・使用等されることから、上記のように第２の樹脂層５のＴｇを１５０℃以上とすることによって、通常の製造や使用の条件下において第２の記録層３２の特性を良好に維持することが可能となる。
［光記録媒体の製造方法］
【００３８】
次に、上述した構成を有する光記録媒体１の好適な製造方法について説明する。
【００３９】
光記録媒体１は、例えば、第１の積層構造体１１及び第２の積層構造体１２を準備し、これらを中間層１５を介して張り合わせる工程を含む方法、いわゆるインバース法によって好適に製造することができる。
【００４０】
第１の積層構造体１１の製造においては、まず、第１の基板２１を準備する。グルーブ２１Ｇを有する第１の基板２１は、第１の基板２１を構成するための樹脂を用いて射出成形等を行うことにより形成可能である。また、平板状の基板を製造した後、その上に２Ｐ法等によりグルーブ２１Ｇとなる凹部を有する樹脂層を形成し、平板状の基板と樹脂層との複合基板を製造することによっても得ることができる。
【００４１】
次に、第１の基板２１上に、第１の記録層３１を形成する。第１の記録層３１は、当該層を形成するための有機色素やその他の成分を含む塗布液を塗布した後、塗布液に含まれる溶媒等を除去することによって形成することができる。塗布液は、有機色素やその他の成分を、アルコール系溶媒（ケトアルコール系溶媒、エチレングリコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系を含む）、脂肪族炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、ハロゲン化アルキル系溶媒等の溶媒に溶解又は分散させたものである。溶媒としては、なかでも、アルコール系溶媒又は脂肪族炭化水素系溶媒やこれらの組み合わせが好ましい。
【００４２】
第１の基板２１上に塗布液を塗布する方法としては、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法などが挙げられる。なかでも、簡便な方法であり均一な層を形成できることから、スピンコート法が好ましい。塗布後の溶媒除去は、例えば、塗布液を塗布された第１の基板２１を大気中に放置するか、第１の基板２１や塗布液中の色素が劣化しない程度に加熱することで行うことができる。
【００４３】
それから、第１の記録層３１上に第１の反射層４１を形成することによって、第１の積層構造体１１を得る。第１の反射層４１は、例えば、当該反射層４１を構成する金属や合金を、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等により第１の記録層３１上に堆積させることにより形成することができる。
【００４４】
一方、第２の積層構造体１２の製造においては、まず、第２の基板２２を、第１の基板２１と同様にして準備する。次に、第２の基板２２上に、第２の反射層４２及び第２の記録層３２を形成する。これらはそれぞれ、第１の反射層４１及び第１の記録層３１における場合と同様にして形成することができる。
【００４５】
次いで、第２の記録層３２上に保護層７を形成して、第２の積層構造体１２を得る。保護層７は、例えば、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法等の気相成長法により第２の記録層３２上にＣｅＯ２を堆積させることにより形成することができる。この気相成長法の際の基板（第２の基板２２、第２の反射層４２及び第２の記録層３２からなる積層体）の温度は、各層の劣化が生じない程度の温度とする。
【００４６】
このようにして第１及び第２の積層構造体１１，１２を準備した後、これらを、第１の基板２１及び第２の基板２２がそれぞれ外側となるように中間層１５を介して張り合わせる。
【００４７】
かかる貼り合わせにおいては、好適な場合、まず、第２の積層構造体１２における保護層７上に、第２の樹脂層５を形成する。第２の樹脂層５は、当該層の原料（当該層を構成する硬化物が硬化する前の樹脂材料）を、保護層７上に塗布した後、硬化させることによって形成することができる。硬化は、上記原料が熱硬化性樹脂である場合は加熱によって、紫外線硬化性樹脂の場合は紫外光の照射によってそれぞれ行うことができる。
【００４８】
次に、第１の積層構造体１１と、第２の樹脂層５が形成された第２の積層構造体１２とを、それぞれの反射層４と第２の樹脂層５とが向き合うように配置し、第１の樹脂層３の原料（樹脂材料）が間に挟まれるようにしてこれらを接着させる。この接着は、第１の樹脂層３の原料を反射層４上及び／又は第２の樹脂層５上に予め塗布してから行ってもよく、この原料がテープ状等に成形されている場合は当該テープを間に挟みながら行ってもよい。
【００４９】
その後、第１の樹脂層３の原料を硬化させて第１の樹脂層３を形成する。硬化は、例えば、第１の樹脂層３の原料が紫外線硬化性樹脂である場合、紫外光の照射により行うことができる。このようにして第１の積層構造体１１と第２の積層構造体１２とが中間層１５を介して貼り合わされ、図１に示す構造の光記録媒体１が得られる。
【００５０】
以上、光記録媒体１の構成及び製造方法について説明を行ったが、本発明は必ずしも上述した実施形態の構成に限定されず、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を行ってもよい。
【００５１】
例えば、光記録媒体１としては、２層の記録層を有する多層型の光記録媒体を例示したが、記録層は２層以上としてもよい。この場合であっても、光入射側から２層目以降の記録層は、光入射側に上述したような保護層を有することとなるため、良好な記録・再生が可能であるとともに、記録層の特性を長期間維持することが可能となる。また、中間層１５は必ずしも上記の２層構造である必要はなく、１層のみ、又は、３層以上の構成としてもよい。ただし、第２の樹脂層５による上述したような効果を得るためには、中間層１５は少なくとも１５０℃以上のＴｇを有する層を備えていると好ましく、かかる層を保護層７と接するように備えているとより好ましい。さらに、本発明の光記録媒体は、上記の実施形態の積層構造に限定されず、上述した各層間に、必要に応じてその他の層を更に備えていてもよい。
【００５２】
また、上記実施形態では、光記録媒体１を、第１の積層構造体１１と第２の積層構造体１２とを貼りあわせる方法によって製造したが、例えば、一方の基板上に各層を順に積層する方法（いわゆる２Ｐ法）によって製造してもよい。ただし、この場合、第２の記録層３２に溝状のグルーブを転写するため、第２の記録層３２の積層後に樹脂スタンパ等を用いる必要がある。このため、かかる方法では、工程が煩雑となるほか、製造コストが大きくなりやすい。
【００５３】
これに対し、上記実施形態の方法によれば、第２の記録層３２に第２の基板２２のグルーブ２２Ｇを転写することができることから、樹脂スタンパを用いる必要がなく、２層目の記録層を簡便に製造することができるほか、光記録媒体１の製造コストを低減することも可能となる。
【実施例】
【００５４】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［光記録媒体の作製］
【００５５】
（実施例１）
まず、表面にグルーブが形成されているポリカーボネート基板（第１の基板）上に、下記化学式（１ａ）で表される金属錯体色素と下記化学式（１ｂ）で表されるシアニン色素とを重量基準で６：４となる比で含む塗布液を塗布した後、この塗布液に含まれる溶媒を除去して記録層（第１の記録層）を形成させた。次に、この第１の記録層上にＡｇＢｉからなる層をスパッタリング法により成膜し、これにより反射層（第１の反射層）を形成して、第１の積層構造体を得た。
【化１】
2007179688.tif 000003
【００５６】
また、表面にグルーブが形成されているポリカーボネート基板（第２の基板）上に、ＡｇＰｄＣｕからなる層をスパッタリング法により成膜して反射層（第２の反射層）を形成した。次いで、第２の反射層上に下記化学式（２ａ）で表される金属錯体色素と下記化学式（２ｂ）で表されるシアニン色素とを塩交換により一体とした色素と、下記化学式（２ｃ）で表されるシアニン色素とを、重量基準で４：６となる比で含む塗布液を塗布した後、この塗布液に含まれる溶媒を除去して記録層（第２の記録層）を形成させた。更に、第２の記録層上にスパッタリング法によりＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３からなる層を１０ｎｍの厚さとなるように堆積させて保護層を形成し、第２の積層構造体を得た。
【化２】
2007179688.tif 000004
【００５７】
それから、第２の積層構造体における保護層上に、トリメチロールプロパントリアクリレート（「ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ」、新中村化学工業株式会社製、以下、「ＴＭＰＴＡ」と略す）を積層した後に硬化して、ＴＭＰＴＡからなる厚さ５μｍの第２の樹脂層を形成した。このＴＭＰＴＡについて動的粘弾性試験を行い、ガラス転移温度（Ｔｇ）を算出したところ、Ｔｇは２００℃まで観測できなかった。このことから、ＴＭＰＴＡは２００℃以上のＴｇを有していることが確認された。
【００５８】
その後、第１の積層構造体と第２の積層構造体とを、これらの第１の反射層と第２の樹脂層とが向き合うように配置し、紫外線硬化性接着剤（大日本インキ株式会社製、製品名：ＳＤ６８３０）を介してこれらを貼り合わせた。その後、紫外線硬化性接着剤を硬化させて第１の樹脂層を形成し、図１に示す構造の光記録媒体を得た。
【００５９】
（実施例２）
ＴＭＰＴＡに代えて紫外線硬化性樹脂（大日本インキ株式会社製、製品名：ＳＤ３１８）を用いて、厚さ１０μｍの第２の樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を得た。この紫外線硬化性樹脂のＴｇは、１５０℃であった。
【００６０】
（比較例１）
ＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３に代えてＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を得た。
【００６１】
（比較例２）
ＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３に代えてＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる保護層を形成したこと以外は、実施例２と同様にして光記録媒体を得た。
［信頼性評価］
【００６２】
実施例１〜２及び比較例１〜２の光記録媒体をそれぞれ用い、以下に示す方法によりこれらの信頼性評価を行った。すなわち、まず、光記録媒体に対し、波長６５０ｎｍのレーザー光（記録光）を用いて第２の記録層に記録を行った。この際、レーザー光の照射は第１の基板側から行い、記録速度は２倍速とした。この記録が行われた直後の光記録媒体に対し、波長６５０ｎｍのレーザー光（再生光）を用いて１倍速で第２の記録層の再生を行い、このときの再生光の反射率（％）、変調度（％）及びジッター（％）を測定した。これらの結果を初期特性（Ｐ１）とした。
【００６３】
次に、初期特性を測定した後の光記録媒体を、８０℃、８０％ＲＨの条件に５０時間放置する耐環境試験を行った。その後、この光記録媒体を用いて上記と同様の条件で再生を行い、反射率、変調度及びジッターを測定した。これらの結果を、耐環境試験後の特性（Ｐ２）とした。そして、初期特性と耐環境試験後の特性とを比較して、光記録媒体の信頼性を評価した。得られた結果をまとめて表１に示す。
【表１】
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［光記録媒体の作製］
【００６４】
（実施例３〜５及び比較例３〜４）
ＣｅＯ２−Ａｌ２Ｏ３からなる保護層の厚さを、１ｎｍ、５ｎｍ、２０ｎｍ、２５ｎｍ及び４０ｎｍにそれぞれ変えたこと以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を製造した。なお、保護層の厚さを１ｎｍ、５ｎｍ及び２０ｎｍとした場合がそれぞれ実施例３、４及び５に該当し、保護層の厚さを２５ｎｍ及び４０ｎｍとした場合がそれぞれ比較例３及び４に該当する。
［光記録媒体の初期特性の評価］
【００６５】
実施例１、実施例３〜５及び比較例３〜４の光記録媒体をそれぞれ用いて、上記「信頼性評価」と同様にしてこれらの初期特性（Ｐ１、反射率、変調度及びジッター）をそれぞれ測定した。得られた結果を表２にまとめて示す。
【表２】
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【００６６】
表１より、実施例１〜２の光記録媒体は、比較例１〜２の光記録媒体に比して、耐環境試験後の特性（Ｐ２）の初期特性（Ｐ１）に対する低下が少なく、高い信頼性を有していることが確認された。また、表２より、保護層の膜厚がそれぞれ２５ｎｍ及び４０ｎｍである比較例３及び４の光記録媒体は、保護層の膜厚が２０ｎｍ以下であった実施例１及び３〜５の光記録媒体に比して初期特性が劣っていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…光記録媒体、３…第１の樹脂層、５…第２の樹脂層、７…保護層、１１…第１の積層構造体、１２…第２の積層構造体、１５…中間層、２１…第１の基板、２２…第２の基板、３１…第１の記録層、３２…第２の記録層、４１…第１の反射層、４２…第２の反射層。
【図１】
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