(57)【要約】【課題】磁気ディスク基板をハンドリングする際に静電気による疵の発生を防止する。【解決手段】磁気ディスク基板（Ｓ）を支持するハンドリング装置(6)(14)において、前記磁気ディスク基板（Ｓ）に直接接触する接触部材(26)(28)(14)が体積抵抗率１×１０10Ω・ｍ以下の材料で形成されていることを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク基板を支持するハンドリング装置において、前記磁気ディスク基板に直接接触する接触部材の体積抵抗率が１×１０10Ω・ｍ以下であることを特徴とする磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【請求項２】
前記接触部材はポリアセタールで形成されている請求項１に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【請求項３】
磁気ディスク基板を支持するハンドリング装置において、前記磁気ディスク基板に直接接触する接触部材がアースされていることを特徴とする磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【請求項４】
前記接触部材は、周面に溝を備え、該溝において磁気ディスク基板の周端面を支持するローラである請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置
【請求項５】
前記接触部材は、磁気ディスク基板の一面側外縁部および／または内縁部を受ける載置台である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【請求項６】
前記磁気ディスク基板は、Ｎｉ−Ｐめっきをした後に研磨加工したアルミニウム基板である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【請求項７】
磁気ディスク基板の表面検査装置において、請求項１〜６のいずれか１項に記載された磁気ディスク基板のハンドリング装置を備えることを特徴とする磁気ディスク基板の表面検査装置。
【請求項８】
請求項７に記載された表面検査装置を用い、磁気ディスク基板の表面検査を行う磁気ディスク基板の表面検査方法。
【請求項９】
請求項８に記載の磁気ディスク基板の表面検査方法を工程に含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁気ディスク基板の製造方法によって製造された磁気ディスク基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク基板の表面欠陥を検査する表面検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度高容量化が進む磁気ディスク装置においては、ディスクの製作途中工程における基板の微小な疵さえも最終的に磁気記録膜を付加した磁気ディスクの品質に重大な影響を与える欠陥となる。このため、製作途中においても種々の表面検査を行っている。
【０００３】
例えば、磁気ディスク基板の製作においては、Ｎｉ−Ｐめっきをしたアルミニウム基板（以下、「Ｎｉ−Ｐめっき基板」と称する）を研磨した後に、光学測定により表面欠陥（疵）を検査し不良品を選別する作業を行っている。
【０００４】
通常、磁気ディスクの製造工程では、複数枚のディスクがカセットケースに納められ、各工程間はケース単位で搬送される。図１に例示する磁気ディスク基板の表面検査装置(1)においても、搬送されてきた磁気ディスク基板（Ｓ）をカセットケース（Ｃ１）から取出し、インデックステーブル(2)にセットして所定の検査を行い、検査結果に応じて合格品と不良品とに選別し、別々のケース（Ｃ２）に納める。この間の磁気ディスク基板（Ｓ）の移動はロボットハンドによって行い、磁気ディスク基板（Ｓ）が直接接触する部分には、接触疵の発生を防止するためにＭＣナイロン等の軟質樹脂が用いられている。
【０００５】
ディスクや基板のハンドリングについては種々提案されている。例えば、特許文献１に記載されたディスクのクランプ装置は、ディスク接触部分にめっき等の導電性皮膜が形成されたものであり、ディスク端面の切削加工時に導電性皮膜によってディスクとの摩擦力を向上させるとともに、静電気を逃がすようにしたものである。また特許文献２に記載された基板の固定台は、基板の製造工程で発生する静電気を除去するために荷電粒子を生成する機構を備えたものであり、素子の破壊防止を目的とするものである（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開平６−１３１７８２号公報
【特許文献２】特開２０００−２１６２２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した表面検査装置によるＮｉ−Ｐめっき基板の表面検査において、金属的または化学的な製造プロセスに起因する表面組織上の欠陥や、機械的接触では説明のつかない種類の疵が発生することがあった。
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１は切削加工時に発生する静電気を逃がす技術であり、また特許文献２は素子の破壊防止技術であって、切削加工でもなく素子も存在しないＮｉ−Ｐめっき基板の光学的測定による表面検査において生じる問題点の解決策とはなり得ない。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
発明者らは、表面検査時に発生する疵について鋭意研究した結果、磁気ディスク基板をハンドリングする際に電気的衝撃（放電）によって表面組織が破壊されることを発見し、本発明の完成に至った。
【０００９】
即ち、本発明の磁気ディスク基板のハンドリング装置は下記［１］〜［６］に記載の構成を有する。
【００１０】
［１］  磁気ディスク基板を支持するハンドリング装置において、前記磁気ディスク基板に直接接触する接触部材の体積抵抗率が１×１０10Ω・ｍ以下であることを特徴とする磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【００１１】
［２］  前記接触部材はポリアセタールで形成されている前項１に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【００１２】
［３］  磁気ディスク基板を支持するハンドリング装置において、前記磁気ディスク基板に直接接触する接触部材がアースされていることを特徴とする磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【００１３】
［４］  前記接触部材は、周面に溝を備え、該溝において磁気ディスク基板の周端面を支持するローラである前項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置
［５］  前記接触部材は、磁気ディスク基板の一面側外縁部および／または内縁部を受ける載置台である前項１〜４のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【００１４】
［６］  前記磁気ディスク基板は、Ｎｉ−Ｐめっきをした後に研磨加工したアルミニウム基板である前項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ディスク基板のハンドリング装置。
【００１５】
また、本発明の磁気ディスク基板の表面検査装置および表面検査方法は下記［７］［８］に記載の構成を有する。
【００１６】
［７］  磁気ディスク基板の表面検査装置において、前項１〜６のいずれか１項に記載されたハンドリング装置を備えることを特徴とする磁気ディスク基板の表面検査装置。
【００１７】
［８］  前項７に記載された表面検査装置を用い、磁気ディスク基板の表面検査を行う磁気ディスク基板の表面検査方法。
【００１８】
また、本発明の磁気ディスク基板およびその製造方法は下記［９］［１０］に記載の構成を有する。
【００１９】
［９］  前項８に記載の磁気ディスク基板の表面検査方法を工程に含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【００２０】
［１０］  前項９に記載の磁気ディスク基板の製造方法によって製造された磁気ディスク基板。
【発明の効果】
【００２１】
［１］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、接触部材を導電性材料で構成することにより磁気ディスク基板のハンドリング時の静電気発生を防止し、静電気に起因する疵の発生を防止できる。
【００２２】
［２］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、特に静電気発生防止効果が大きい。また、軟質樹脂であるから接触疵も回避できる。
【００２３】
［３］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、接触部材をアースすることによって静電気の発生を防止し、静電気に起因する疵の発生を防止できる。
【００２４】
［４］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、磁気ディスク基板を把持する際の静電気発生を防止できる。
【００２５】
［５］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、磁気ディスク基板を載置する際の静電気発生を防止できる。
【００２６】
［６］の発明にかかる磁気ディスク基板のハンドリング装置によれば、研磨加工されたＮｉ−Ｐめっき基板のハンドリング時の静電気発生を防止し、静電気に起因する疵の発生を防止できる。
【００２７】
［７］の発明にかかる表面検査装置によれば、検査工程における磁気ディスク基板のハンドリング時の静電気発生を防止し、静電気に起因する疵の発生を防止できる。
【００２８】
［８］の発明にかかる表面検査方法によれば、磁気ディスク基板に静電気に起因する疵を発生させることなく表面検査を行うことができる。
【００２９】
［９］の発明にかかる磁気ディスク基板の製造方法によれば、静電気に起因する疵のない磁気ディスク基板を製造できる。
【００３０】
［１０］の発明にかかる磁気ディスク基板は、静電気に起因する疵のない磁気ディスク基板である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
従来の接触部材においては、背景技術の欄で述べたように、接触疵の防止を目的としてＭＣナイロン等の軟質樹脂が多用されている。しかしながら、ＭＣナイロンは体積抵抗率が１×１０17Ω・ｍ程度の高い絶縁性を有するものであり、往々として静電気が帯電し、導電性材料である磁気ディスク基板との間に通常では感知できないほどの微小な電気スパークを発生し、疵の原因となっていることが判明した。特許文献１、２として例示したように、静電気によって磁気記録データや半導体部品が電気的に破壊されることはよく知られており、その防止対策をとることも当然の処置として行われている。しかしながら、Ｎｉ−Ｐめっき基板のように磁気記録データや半導体部品が無い場合には静電気防止対策は実施されていなかった。
【００３２】
本発明は、Ｎｉ−Ｐめっき基板の表面検査において、微小な静電気の放電が基板の表面組織を破壊して疵の原因となることを究明し、ハンドリング装置における静電気の発生を確実に防止することによって疵の発生防止対策をしたものである。
【００３３】
本発明にかかる磁気ディスク基板の表面検査装置の一実施形態について、図１に装置構成の概略を示し、図２〜図６に要部拡大図を示す。
【００３４】
表面検査装置(1)は、検査に供する磁気ディスク基板（Ｓ）を載置するインデックステーブル(2)と、前記インデックステーブル(2)に載置された磁気ディスク基板（Ｓ）に対し、光学的測定により表面検査を行う光学部(3)と、検査結果に基づいて検査済みの磁気ディスク基板（Ｓ）を分別する仕分けテーブル(4)と、検査に供する磁気ディスク基板（Ｓ）をカセットケース（Ｃ１）から前記インデックステーブル(2)に移動させるローダハンド(5)と、検査済みの磁気ディスク基板（Ｓ）を仕分けテーブル(4)上のカセットケース（Ｃ２）に移動させるアンローダハンド(6)と、前記インデックステーブル(2)上の磁気ディスク基板（Ｓ）の表裏を反転させる反転ユニット(7)とを備える。前記インデックステーブル(2)、光学部(3)、仕分けテーブル(4)、ローダハンド(5)、アンローダハンド(6)および反転ユニット(7)の動作は、装置下部の制御部(8)によって制御されている。
【００３５】
また、磁気ディスク基板（Ｓ）はカセットケース（Ｃ１）内に複数枚が納められ、カセットケース単位で図外のローダ部から表面検査装置(1)に搬送され、検査結果に基づいて分別された磁気ディスク基板（Ｓ）は再びカセットケース（Ｃ２）に納められて図外のアンローダ部に搬送される。磁気ディスク基板（Ｓ）はカセットケース（Ｃ１）（Ｃ２）内において立てた状態で納められている。
【００３６】
図１および図２に示すように、前記インデックステーブル(2)の上面に、磁気ディスク基板（Ｓ）を所定位置で支持するための複数個のスピンドル部(10)が設置されている（図１では３個のみを図示）。前記各スピンドル部(10)において、磁気ディスク基板（Ｓ）を支持する概略円柱形のアダプタ治具(11)が垂直に設置されている。前記アダプタ治具(11)の先端部は小径部(12a)と大径部(12b)とが階段状に形成され、磁気ディスク基板（Ｓ）の中心孔（ＳH）に小径部(12a)を貫通させ大径部(12b)で受けることによって、該磁気ディスク基板（Ｓ）が水平に支持される。また、前記アダプタ治具(11)と同心の位置に、長方形の枠体(13)の両短辺部上に固定された一対のディスクガイド(14)(14)が配置されている。これらのディスクガイド(14)(14)の対向面には磁気ディスク基板（Ｓ）の一面側外縁部を受ける段部(15)が設けられている。また、前記枠体(13)は一端部がブラケット(16)を介して昇降可能なシャフト(17)に取り付けられ、前記アダプタ治具(11)の先端面よりも高い位置から大径部(12b)よりも低い位置までの間を昇降するものとなされている。
【００３７】
前記構成により、枠体(13)が高い位置にあるときには、前記ディスクガイド(14)(14)上に磁気ディスク基板（Ｓ）を載置することができる。また、前記枠体(13)を下降させると、前記アダプタ治具(11)の小径部(12a)が磁気ディスク基板（Ｓ）の中心孔（ＳH）に貫通し、さらに下降させると磁気ディスク基板（Ｓ）がディスクガイド(14)(14)から離れ、アダプタ治具(11)の大径部(12b)が該磁気ディスク基板（Ｓ）を受け止め、アダプタ治具(11)のみで磁気ディスク基板（Ｓ）を支持する。なお、図２は枠体(13)を上昇させてディスクガイド(14)(14)上に磁気ディスク基板（Ｓ）を載置した状態を示している。
【００３８】
また、前記インデックステーブル(2)は回転テーブルであり、回転により前記スピンドル(10)を光学部(3)下に移動させ、あるいはローダハンド(5)、アンローダハンド(6)、反転ユニット(7)の近傍に移動させることができる。
【００３９】
前記仕分けテーブル(4)は回転テーブルであり、検査により仕分けされた磁気ディスク基板（Ｓ）を納めるカセットケース（Ｃ２）が配置されている。
【００４０】
前記光学部(3)は、光反射測定、光干渉測定、光散乱測定等により磁気ディスク基板（Ｓ）の表面欠陥の有無や欠陥の大きさ等を検査し、検査結果に基づいて良否を判定する。
【００４１】
前記ローダハンド(5)およびアンローダハンド(6)はインデックステーブル(2)の両脇に配置されている。前記ローダハンド(5)は、検査に供する磁気ディスク基板（Ｓ）をカセットケース（Ｃ１）から１枚ずつ取り出して前記スピンドル部(10)のディスクガイド(14)(14)上に移動させる。また、前記アンローダハンド(6)は、前記スピンドル部(10)のディスクガイド(14)(14)上に載置された検査済みの磁気ディスク基板（Ｓ）を仕分けテーブル(4)上のカセットケース（Ｃ２）内に納める。
【００４２】
図３〜図５Ｂに示すように、前記アンローダハンド(6)は、Ｘ軸（前後方向）、Ｙ軸（左右方向）およびＺ軸（上下方向）に沿って自在に移動する支持部(20)の先端に取り付けられ、かつリンク機構によって自在に回転するものとなされている。
【００４３】
図５Ａおよび図５Ｂに示すように、前記アンローダハンド(6)は、上下に配置される外側用部材(21)および内側用部材(22)を有し、これらの外側用部材(21)および内側用部材(22)はそれぞれのリンク(23)(24)により上下にスライドし、間隔が拡縮されるものとなされている。前記外側用部材(21)の前面には下方に延びるブラケット(25)が取り付けられ、該ブラケット(25)の下端部に２つのローラ(26)(26)を取り付けられている。また、前記内側用部材(22)の前面にも下方に延びるブラケット(27)が取り付けられ、該ブラケット(27)の下端部には１つのローラ(28)が取り付けられている。３つのローラ(26)(26)(28)は外周面にテーパ溝(29)が形成された同一形状ローラであり、溝底が同一平面内に存在するように配置され、外側用部材(21)の２つのローラ(26)(26)で磁気ディスク基板（Ｓ）の外周端面を支持し、内側用部材(22)のローラ(28)で中心孔（ＳH）の内周端面を支持するものとなされている。
【００４４】
前記アンローダハンド(6)において、リンク(23)(24)の駆動により外側用部材(21)および内側用部材(22)をスライドさせると、外側用の２つのローラ(26)(26)と内側用の１つのローラ(28)の間隔が拡縮される。前記間隔を縮小することにより磁気ディスク基板（Ｓ）を３つのローラ(26)(26)(28)で把持し、逆に拡大することにより磁気ディスク基板（Ｓ）を解放することができる。また、前記アンローダハンド(6)は、Ｘ軸（前後方向）、Ｙ軸（左右方向）およびＺ軸（上下方向）に沿って自在に移動可能な支持部(20)に取り付けられ、かつリンク機構によって自在に回転するものとなされているから、支持部(20)の駆動範囲内の任意位置に移動し、磁気ディスク基板（Ｓ）を任意の角度で把持しあるいは解放することができる。
【００４５】
前記ローダハンド(5)は、前記アンローダハンド(6)とは左右対称に配置され、同一の構造と機能を有するものであるから説明を省略する。
【００４６】
図６に示すように、前記反転ユニット(7)は２本の反転用アーム(30)(30)を有し、アームの長さ方向に沿ってそれぞれ２個のローラ(31)(31)が取り付けられている。前記各ローラ(31)は、アンローダハンド(6)のローラ(26)(28)と同じく外周面にテーパ溝が形成されたものであり、溝底で磁気ディスク基板（Ｓ）を把持し得るものである。また、前記反転用アーム(30)(30)は支持軸部材(32)上にスライド可能に取り付けられ、２本の反転用アーム(30)(30)の間隔を拡縮することができる。前記間隔を縮小するすることにより４つのローラ(31)で磁気ディスク基板（Ｓ）をその外周端面で把持し、逆に拡大することにより磁気ディスク基板（Ｓ）を解放することができる。また、前記支持軸部材(32)は、昇降可能かつ長さ方向の中心で回転可能なされている。
【００４７】
上記前記反転ユニット(7)の構造により、２本の反転用アーム(30)(30)でスピンドル部(10)に支持された磁気ディスク基板（Ｓ）を把持し、支持軸部材(32)を上昇させて１８０°回転させ、次いで支持軸部材(32)を下降させてスピンドル部(10)に磁気ディスク基板（Ｓ）を支持させて解放する、という一連の動作により、スピンドル部(10)上の磁気ディスク基板（Ｓ）の表裏を反転させることができる。
【００４８】
前記表面検査装置(1)において、上述した各部の動作を組み合わせることにより磁気ディスク基板（Ｓ）の表面検査を連続的に行うことができる。以下（ａ）〜（ｊ）に連続動作の一例を示す。
（ａ）スピンドル部(10)の一つがローダハンド(5)の位置にある。ローダハンド(5)により、未検査磁気ディスク基板（Ｓ）をカセットケース（Ｃ１）からディスクガイド(14)(14)上に移動させる。
（ｂ）スピンドル部(10)の枠体(13)を下降させ、磁気ディスク基板（Ｓ）をアダプタ治具(11)で支持する。
（ｃ）インデックステーブル(2)を回転させてアダプタ治具(11)上の磁気ディスク基板（Ｓ）を光学部(3)に移動させ、磁気ディスク基板（Ｓ）の一面について所定の表面検査を行う。
（ｄ）スピンドル部(10)の枠体(13)を上昇させて磁気ディスク基板（Ｓ）をディスクガイド(14)(14)上に載置する。
（ｅ）インデックステーブル(2)を回転させ、磁気ディスク基板（Ｓ）を反転ユニット(7)の位置に移動させる。
（６）反転ユニット(7)により磁気ディスク基板（Ｓ）の表裏を反転させる。
（ｆ）スピンドル部(10)の枠体(13)を下降させ、磁気ディスク基板（Ｓ）をアダプタ治具(11)で支持する。
（ｇ）インデックステーブル(2)を回転させてアダプタ治具(11)上の磁気ディスク基板（Ｓ）を光学部(3)に移動させ、磁気ディスク基板（Ｓ）の他の面について所定の表面検査を行う。また、両面の検査結果に基づいて磁気ディスク基板（Ｓ）の良否を判断する。
（ｈ）スピンドル部(10)の枠体(13)を上昇させて磁気ディスク基板（Ｓ）をディスクガイド(14)(14)上に載置する。
（ｉ）インデックステーブル(2)を回転させ、磁気ディスク基板（Ｓ）をアンローダハンド(6)の位置に移動させる。
（ｊ）アンローダハンド(6)により、両面検査済みの磁気ディスク基板（Ｓ）を、良品と不良品を分別しつつ仕分けテーブル(4)上のカセットケース（Ｃ２）に納める。
【００４９】
上述した磁気ディスク基板の表面検査装置(1)において、ローダハンド(5)、アンローダハンド(6)、反転ユニット(7)およびディスクガイド(14)は本発明の磁気ディスク基板のハンドリング装置に対応する。さらに、ローダハンド(5)のローラ、アンローダハンド(6)のローラ(26)(28)、反転用アーム(30)のローラ(31)は本発明における接触部材に対応する。また、ディスクガイド(14)は本発明における接触部材に対応し、かつ載置台に対応する。
【００５０】
これらの接触部材の材料として体積抵抗率が１×１０10Ω・ｍ以下の材料を用いることにより静電気放電を抑制し、ひいては静電気に起因する疵の発生を防止することができる。前記体積抵抗率は従来用いられていたＭＣナイロンの１×１０17Ω・ｍよりも遙かに低いものであり、このような導電性材料を用いることで静電気の発生を防止することができる。特に好ましい体積抵抗率は１×１０8Ω・ｍ以下である。上記範囲の体積抵抗率を満足する材料として樹脂を例示できる。樹脂は、所望形状への成型が容易であり、また軟質のものが多く接触疵を防止できる点でも好ましい。具体的にはポリアセタール、超高分子量ポリエチレン、ポリアミドイミド等の樹脂、あるいはこれらの樹脂をベースとしてノンカーボン系の各種導電性材料を添加した樹脂組成物からなるノンカーボン系帯電防止材を例示できる。これらの樹脂のうちでも特にポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物からなる帯電防止材を推奨できる。ポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物は、上記範囲の体積抵抗率を有して静電気放電を確実に防止でき、かつ軟質樹脂であって接触疵防止の観点からも好ましい。
【００５１】
また、本発明は接触部材の材料に関するものであるから、従来のハンドリング装置の該当部材のみを交換すれば良く、装置の全体構成を変更することなく疵の発生を防止できる。
【００５２】
上記実施形態は接触部材に特定の材料を用いて静電気を防止するものであるが、前記接触部材にアースをとることによっても静電気を防止し、ハンドリング中の疵の発生を防止することができる。この方法であれば接触部材として多様な材料を用いることができる。
【００５３】
本発明の磁気ディスク基板のハンドリング装置は、磁気ディスク基板に直接接触した状態でハンドリングするものであれば上記実施形態に限定されず、ローダハンド、アンローダハンド、反転ユニット、ディスクガイドは本発明のハンドリング装置の一例である。また、接触部材もローラや載置台に限定されないし、形状も図示例に限定されない。
【００５４】
本発明のハンドリング装置は表面検査装置に限らず、磁気ディスク基板のハンドリング中に静電気を避ける必要のあるあらゆる場面で用いることができる。特に、高度の表面品質が要求されるＮｉ−Ｐめっき基板、あるいは研磨加工後のＮｉ−Ｐめっき基板のハンドリングに適している。
【００５５】
また、本発明の磁気ディスク基板の表面検査装置は本発明のハンドリング装置を組み込んだものであり、欠陥の検出手段、各部間の磁気ディスク基板の移動手段（上記実施形態ではインデックステーブル(2)）、検査手順等を任意に組み合わせて装置を構成することができる。
【００５６】
さらに、本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、本発明の表面検査方法を工程に含むものであるから、静電気に起因する疵のない磁気ディスク基板を製造できる。かかる磁気ディスク基板は表面品質が優れているため、磁気記録膜を付加した磁気ディスクとして高い品質を確保できる。
【実施例】
【００５７】
図１〜図６に示す磁気ディスク基板の表面検査装置(1)において、接触部材の材料を変えて比較試験を行った。接触部材は、ローダハンド(5)のローラ、アンローダハンド(6)のローラ(26)(28)、反転ユニット(7)のローラ(31)、ディスクガイド(14)である。本発明の表面検査装置では、前記各ローラ（符号なし）(26)(28)(31)の材料として体積抵抗率が１×１０8Ω・ｍのポリアセタールベースの帯電防止材を用い、ディスクガイド(14)の材料として体積抵抗率が１×１０4Ω・ｍの超高分子量ポリエチレンベースの帯電防止材を用いた。一方、比較例の表面検査装置では全ての接触部材の材料として体積抵抗率が１×１０17Ω・ｍのＭＣナイロンを用いた。
【００５８】
試験用磁気ディスク基板として、直径９５ｍｍのアルミニウム基板にＮｉ−Ｐめっきを施し、さらに研磨加工したものを用いた。
【００５９】
各表面検査装置において、それぞれ８４００枚の磁気ディスク基板の両面を検査した。その結果、本発明の表面検査装置では検査中に静電気によって疵が発生したものは無かった。一方、比較例の表面検査装置では５５枚の磁気ディスク基板に疵が発生し、疵発生率は０．６５％であった。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明のハンドリング装置は静電気の発生を防止しうるものであるから、表面検査装置等の磁気ディスク基板をハンドリングする種々の場面で使用し、静電気に起因する疵の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の磁気ディスク基板の表面検査装置の一実施形態の概略装置構成を示す斜視図である。
【図２】図１の表面検査装置のスピンドル部を示す斜視図である。
【図３】図１の表面検査装置のアンローダハンドおよびその支持部の概略を示す斜視図である。
【図４】図３のアンローダハンドの要部拡大図である。
【図５Ａ】図３のアンローダハンドの正面図である。
【図５Ｂ】図３のアンローダハンドの側面図である。
【図６】図１の表面検査装置の反転ユニットを示す平面図である。
【符号の説明】
【００６２】
１…磁気ディスク基板の表面検査装置
５…ローダハンド（磁気ディスク基板のハンドリング装置）
６…アンローダハンド（磁気ディスク基板のハンドリング装置）
７…反転ユニット（磁気ディスク基板のハンドリング装置）
14…ディスクガイド（磁気ディスク基板のハンドリング装置、接触部材、載置台）
26,28,31…ローラ（接触部材）
29…テーパ溝（溝）
【図１】
2007179651.tif 000003
【図２】
2007179651.tif 000004
【図３】
2007179651.tif 000005
【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2007179651.tif 000008
【図６】
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