(57)【要約】【課題】パターンに適切な補正値を設定することが可能なパターン補正方法を提供する。【解決手段】集積回路装置の設計データ、設計データを図形加工処理したデータのうちの１つより、パターンの辺を複数に分割し（Ｓ１１）、分割された辺毎に、その辺に対応するパターンの幅、その辺に対応するパターンと隣接するパターンまでの距離を複数箇所で測定する（Ｓ１２）。この測定された複数箇所でのパターンの幅、隣接パターンまでの距離に基づき、補正テーブルから複数の移動量を抽出し（Ｓ１３）、この抽出された複数の移動量に基づき、分割された辺の補正値を算出する（Ｓ１４）。この算出された補正値に基づき、パターンを補正する（Ｓ１５）。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積回路装置の設計データ、前記設計データを図形加工処理したデータのうちの１つより、パターンの辺を複数に分割し、
前記分割された辺毎に、その辺に対応する前記パターンの幅、その辺に対応する前記パターンと隣接するパターンまでの距離を複数箇所で測定し、
前記測定された複数箇所でのパターンの幅、隣接パターンまでの距離に基づき、補正テーブルから複数の移動量を抽出し、
前記抽出された複数の移動量に基づき、前記分割された辺の補正値を算出し、
前記算出された補正値に基づき、前記パターンを補正する
ことを特徴とするパターン補正方法。
【請求項２】
集積回路装置の設計データ、前記設計データを図形加工処理したデータのうちの１つより、パターンの辺を複数に分割し、
分割された辺毎に属性を設定し、
前記分割された辺毎に、その辺に対応する前記パターンの幅、その辺に対応する前記パターンと隣接するパターンまでの距離を複数箇所で測定し、
前記測定された複数箇所でのパターンの幅、隣接パターンまでの距離に基づき、補正テーブルから複数の移動量を抽出し、
前記抽出された複数の移動量に基づき、前記分割された辺の補正値を算出し、
前記算出された補正値に基づき、前記パターンを補正する
ことを特徴とするパターン補正方法。
【請求項３】
前記補正値の算出は、前記複数の移動量の平均値を求めることを特徴とする請求項１又は２記載のパターン補正方法。
【請求項４】
前記パターンと隣接するパターンまでの距離は、前記パターンから隣接するパターンまで斜めに測定されることを特徴とする請求項２記載のパターン補正方法。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載のパターン補正方法をコンピュータに実行させるプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路装置の設計データを補正するための補正方法に係わり、特に光近接効果補正（Optical Proximity Correction : OPC）、図形加工に使用されるパターン補正方法及びそのプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近時、半導体素子の微細化に伴い、パターンの寸法制御に対する要求が益々厳しくなってきている。このため、プロセスの誤差に起因する寸法変動、すなわち、設計寸法と仕上がり寸法の差を補正する手段として種々のＯＰＣ手法が開発されている（例えば非特許文献１参照）。ＯＰＣ手法とは、ウェハのトータルプロセスを考慮したり、光学シミュレーションを駆使して部分的にマスクパターンの幅を広くしたり、ダミーパターンを配置する手法である。特にプロセスの誤差に起因する光近接効果、つまり、パターンの疎密による寸法差を補正するＯＰＣ手法が数多く提案されている。これらＯＰＣ手法では、実験やシミュレーションによりマスクパターンを補正するための補正テーブルが作成され、この補正テーブルに従って、パターンデータが補正される。しかし、現在、ＯＰＣ以前の設計データの段階において、パターンを補正することが要求されている。
【０００３】
従来のパターン補正方法は、次の工程を含んでいる。あるパターンの辺から隣接パターンまでの距離が変わる位置において、その辺を分割する工程、分割された辺毎に隣接パターンまでの距離を測定する工程、参照テーブルから辺の移動量としての補正値を参照する工程、及びこの補正値に基づいて図形を補正する工程。
【０００４】
しかし、この方法の次のような問題点を有している。第１の問題点は、二次元パターンに対する距離の測定方法、及び距離の認識方法がパターン形状に係わらず一意に決められてしまう。すなわち、例えば複数の一次元のパターンが隣接して配置されている場合において、複数の一次元のパターンのうちの１つのパターンから他のパターンまでを測定した距離と、一次元のパターンと二次元のパターンが隣接して配置されている場合において、一次元のパターンから二次元のパターンまでを測定した距離とが、同一である場合、これら異なるパターン形状に対して同じ補正値が設定されてしまう。このため、異なるパターン形状に対して適切に補正値を設定することが困難である。特に、ライン端部、斜めのライン、あるいは二次元のパターン、例えばＴ字形状、Ｌ字形状に対する補正値を適切に設定することが困難であった。
【０００５】
第２の問題点は、モデルベースＯＰＣへの前処理として図形加工を行う場合において、斜めの線を含む図形の場合、補正後のパターンが細かい段差形状となる。このため、後続のモデルベースＯＰＣ処理に不適切となる。
【非特許文献１】L. W. Liebman, Optical Proximity Correction, a First Look at Manufacture SPIE Vol.232 Photo Mask Technology and Management (1994), IBM
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、パターンに適切な補正値を設定することが可能なパターン補正方法及びそのプログラムを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のパターン補正方法の第１の態様は、集積回路装置の設計データ、前記設計データを図形加工処理したデータのうちの１つより、パターンの辺を複数に分割し、前記分割された辺毎に、その辺に対応する前記パターンの幅、その辺に対応する前記パターンと隣接するパターンまでの距離を複数箇所で測定し、前記測定された複数箇所でのパターンの幅、隣接パターンまでの距離に基づき、補正テーブルから複数の移動量を抽出し、前記抽出された複数の移動量に基づき、前記分割された辺の補正値を算出し、前記算出された補正値に基づき、前記パターンを補正することを特徴とする。
【０００８】
本発明のパターン補正方法の第２の態様は、集積回路装置の設計データ、前記設計データを図形加工処理したデータのうちの１つより、パターンの辺を複数に分割し、分割された辺毎に属性を設定し、前記分割された辺毎に、その辺に対応する前記パターンの幅、その辺に対応する前記パターンと隣接するパターンまでの距離を複数箇所で測定し、前記測定された複数箇所でのパターンの幅、隣接パターンまでの距離に基づき、補正テーブルから複数の移動量を抽出し、前記抽出された複数の移動量に基づき、前記分割された辺の補正値を算出し、前記算出された補正値に基づき、前記パターンを補正することを特徴とする。
【０００９】
さらに、上記第１、第２の態様のパターン補正方法をコンピュータに実行させるプログラム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、パターンに適切な補正値を設定することが可能なパターン補正方法及びそのプログラムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１２】
（第１の実施形態）
図２は、本実施形態が適用される補正処理装置の一例を示している。この補正処理装置は、例えばパーソナルコンピュータにより構成されている。図２において、第１の記憶部１１には、ＣＡＤにより設計された集積回路の設計データ（パターンデータとも言う）が記憶されている。第２の記憶部１２には、前記設計データを図形として加工処理したデータが記憶されている。第３の記憶部１３には、パターンを補正するための移動量が記憶されている。演算部１４は、例えば第１、第２、第３の記憶部１１に記憶された各データに基づいて、パターンの補正値を算出し、この算出した補正値に基づき、例えば第１の記憶部１１に記憶された設計データを補正する。本実施形態において、演算部１４は、第１の記憶部１１に記憶された設計データと、第２の記憶部１２に記憶された図形加工処理されたデータのいずれからも補正値を演算することができ、また、両方のデータを用いて補正値を演算することも可能である。演算部１４により補正されたデータは、第４の記憶部１５に記憶される。この第４の記憶部１５に記憶されたデータは、例えばモデルベースＯＰＣ装置１６に供給される。
【００１３】
図３は、第３の記憶部に記憶された補正テーブルの一例を示している。この補正テーブルは、例えば後述するパターンの幅Ｌに対応した複数のテーブルＴＢ１〜ＴＢｎを有している。各テーブルは、複数の距離Ｓの範囲が設定され、これら距離の範囲に対応してパターンの移動量（バイアス）が設定されている。
【００１４】
上記構成において、図１、図４を参照して補正テーブルに基づくパターン補正方法について説明する。図１は、図２の動作を示すフローチャートであり、図４は、パターンの一例を示している。
【００１５】
図４に示すようなパターンＰ１に隣接してパターンＰ２、Ｐ３、Ｐ４が配置されている場合において、パターンＰ１のパターンＰ３、Ｐ４側の辺Ｅｐを補正する場合について説明する。
【００１６】
先ず、例えば第１の記憶部１１に記憶された設計データが演算部１４に供給される。演算部１４は、図４に示すパターンＰ１の処理対象としての辺Ｅｐを複数の範囲に分割する（Ｓ１１）。この辺Ｅｐの分割は、設計データにおけるラインの最小設計寸法以上の間隔で分割される。つまり、最小設計寸法が例えば８０ｎｍである場合、８０ｎｍ以上の間隔で分割される。この場合、辺Ｅｐの左端、２７０°の角度を有する角から８０ｎｍ毎に分割される。分割により、残りの辺の長さが８０ｎｍ以下となる場合は、その部分は分割されない。また、分割は、等間隔に限定されるものではなく、異なる長さで分割してもよい。このようにして、辺Ｅｐが複数の辺Ｅｐ１、Ｅｐ２、Ｅｐ３、Ｅｐ４に分割される。
【００１７】
次に、上記のようにして分割された複数の辺それぞれにおいて、対応するパターンの幅Ｌと隣接パターンまでの距離Ｓが複数個所で測定される（Ｓ１２）。例えば図４に示すように、測定対象の辺Ｅｐ２において、パターンの幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が測定されるとともに、これら幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３に対応して、隣接パターンＰ３までの距離Ｓ１、隣接パターンＰ４までの距離Ｓ２、Ｓ３が測定される。このようにして各辺Ｅｐ１、Ｅｐ２、Ｅｐ３、Ｅｐ４において、パターンの幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及び隣接パターンまでの距離Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３が測定される。
【００１８】
この後、分割された辺毎に測定された幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、距離Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３に基づき、図３に示す補正テーブルが検索され、パターンの補正量としての移動量が抽出される（Ｓ１３）。例えば測定された幅Ｌ１が１３５ｎｍ以上で１４５ｎｍより狭い場合、図３のテーブルＴＢ１が参照され、このテーブルＴＢ１において、距離Ｓ１が２３５ｎｍ以上で２５５ｎｍより短い場合、移動量Ｂ１として３０ｎｍの値が検索される。このようにして、幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３毎に移動量が検索され、１つの辺に対して３つの移動量Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３が検索される。
【００１９】
次に、上記求められた移動量Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３からパターンの補正値が算出される（Ｓ１４）。この補正値は、移動量Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３の例えば平均値（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３）／３として算出される。
【００２０】
尚、補正値の算出は、移動量の平均値に限定されるものではなく、例えば各辺に対応して検索された複数の移動量のうちの最大値又は最小値を補正値として選択してもよい。
【００２１】
この後、上記算出された補正値に基づき、分割された辺Ｅｐ２のパターンが補正される（Ｓ１５）。すなわち、前記設計データの補正対象データが補正値に基づき補正される。
【００２２】
図５は、辺Ｅｐ２に対して補正を行なった状態を示している。このような処理が、分割された辺Ｅｐ１〜Ｅｐ４に対して順次行なわれる。
【００２３】
上記第１の実施形態によれば、パターンの辺を複数の辺に分割し、分割された各辺に対応するパターンの幅を複数個所で測定するとともに、各幅の測定点において、隣接パターンまでの距離を測定している。この測定された複数の幅と、複数の距離に基づき補正テーブルを参照して幅毎に移動量を検索し、これら複数の移動量の平均値より補正値を算出している。そして、この補正値により設計データを補正している。このため、分割された各辺に対して最適な補正値を設定することができる。
【００２４】
しかも、分割された各辺の複数個所で幅と距離を測定し、移動量を求めているため、隣接パターンが一次元の場合、及び二次元の場合に対応して最適な補正値を設定することができる。
【００２５】
すなわち、図６（ａ）（ｂ）は、従来の補正方法によりパターンを補正した場合を示している。従来の場合、パターンの辺から隣接パターンまでの距離が変化する位置において辺を分割し、この分割された辺の例えば中央部の１箇所において、パターンの幅や隣接パターンとの距離を測定する。この測定した幅と、距離に基づき補正テーブルを検索して補正値としての移動量を求め、この移動量に応じてパターンを補正している。このため、図６（ａ）に示すように、被補正パターンＰ１０に対して、複数の一次元の隣接パターンＰ５−１、Ｐ５−２、Ｐ５−３が配置されている場合と、図６（ｂ）に示すように、被補正パターンＰ１０に対して、二次元の隣接パターンＰ６が配置されている場合とで、設計データの相違を区別することができない。したがって、補正後のパターンＰ１１とパターンＰ１２とが同一となり、最適な補正を行なうことが困難であった。
【００２６】
これに対して、図７（ａ）（ｂ）に示す第１の実施形態の場合、図７（ａ）に示すように、被補正パターンＰ１０に対して複数の一次元の隣接パターンＰ５−１、Ｐ５−２、Ｐ５−３が配置されている場合と、図７（ｂ）に示すように、被補正パターンＰ１０に対して二次元の隣接パターンＰ６が配置されている場合とで、設計データの相違を区別することができる。したがって、第１の実施形態によれば、図７（ａ）（ｂ）に示すように、補正後のパターンＰ１３とＰ１４とを相違させることができ、最適な補正を行なうことができる。
【００２７】
（第２の実施形態）
上記第１の実施形態は、パターンの最小設計寸法に基づいて辺を複数に分割し、分割された各辺の複数個所でパターンの幅、及び隣接パターンとの距離を測定した。これに対して、第２の実施形態は、分割された辺に属性を設定し、この属性毎に辺の幅、及び隣接パターンとの距離を複数個所で測定し、補正値を算出する。
【００２８】
図８は、第２の実施形態に係るパターン補正方法を示している。第２の実施形態において、先ず、パターンの辺が分割される（Ｓ２１）。
【００２９】
図９は、パターンの辺の分割方法の例を示しており、例えばＴ字形のパターンＰ１１と、このパターンＰ１１に隣接してパターンＰ１２が配置された場合を示している。パターンＰ１１は、複数の角Ｃ１〜Ｃ８を有している。パターンＰ１１の辺は、次のようにして分割される。例えばパターンＰ１１の角Ｃ１、Ｃ２から最小設計寸法以上の長さで辺が分割される。Ｅｐ１１、Ｅｐ１２は、角Ｃ１に基づき分割された辺を示し、Ｅｐ１３、Ｅｐ１４は、角Ｃ２に基づき分割された辺を示している。また、パターンＰ１２のように、パターンＰ１１に隣接するパターンがある場合、パターンＰ１２の角からパターン１１の例えば近い辺に垂線ｌ１、ｌ２を引く。この垂線ｌ１、ｌ２と直交する辺を垂線の位置から、最小設計寸法以上の長さに基づいて分割する。Ｅｐ１６、Ｅｐ１７は、垂線ｌ１に基づき分割された１番目、２番目の辺を示している。
【００３０】
尚、第１の実施形態と同様に、分割によって残りの辺の長さが最小設計寸法以下となる場合、その部分は分割されない。また、分割は、等間隔、及び異なる長さのいずれでもよい。
【００３１】
この後、これら分割された辺毎に属性が設定される（ＳＴ２２）。
【００３２】
図１０は、パターンＰ１１に関する属性の一例を示している。例えば図９に示す辺Ｅｐ１１、Ｅｐ１３は、角Ｃ１、Ｃ２からそれぞれ１番目の分割辺であり、例えばアウターコーナの属性が設定される。辺Ｅｐ１２、Ｅｐ１４は、角Ｃ１、Ｃ２からそれぞれ２番目の分割辺であり、たとえば配線の属性が設定される。また、辺Ｅｐ１５は、Ｔ字の属性が設定される。辺Ｅｐ１６は、垂線から１番目の分割辺であり、例えば隣接パターンの属性がそれぞれ設定される。辺Ｅｐ１７は、垂線から２番目の分割辺であり、例えばアウターコーナとしての属性が設定される。
【００３３】
図１１（ａ）〜（ｄ）は、分割されない辺の例を示している。図１１（ａ）に示す辺Ｅｐ２１は、図９に示すアウターコーナとしての角Ｃ１、Ｃ３の間の辺やアウターコーナとしての角Ｃ２、Ｃ４の間の辺のように、辺の両側が１８０°未満の角に挟まれている。図１１（ｂ）（ｃ）に示す辺Ｅｐ２２、Ｅｐ２３は、辺の両側が１８０°より大きい角に挟まれている。図１１（ｄ）に示す辺Ｅｐ２４は、辺の一方側が１８０°未満の角で、他方側が１８０°より大きい角に挟まれている。これら辺Ｅｐ２１〜Ｅｐ２４を区別する属性も設定される。図１１（ａ）に示す辺は、図１０に示すように、例えばライン端の属性が設定される。
【００３４】
この後、分割された辺毎に、対応するパターンの幅、及びこのパターンに隣接するパターンまでの距離が複数箇所で測定される（Ｓ２３）。この幅及び距離の測定は、属性毎に測定方向が定められている。
【００３５】
図１２は、Ｔ字の属性が設定された辺Ｅｐ１５に対応するパターンの幅、及びこのパターンに隣接するパターンＰ３１までの距離を測定する場合を示している。この場合、例えば辺Ｅｐ１５の両端及び中央部で、パターンの幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が測定される。さらに、辺Ｅｐ１５の中央部とパターンＰ３１までの距離Ｓ１は、辺Ｅｐ１５に垂直に測定され、辺Ｅｐ１５の両端とパターンＰ３１までの距離Ｓ２、Ｓ３は、辺Ｅｐ１５に対して斜めに測定される。すなわち、距離Ｓ２は、辺Ｅｐ１５に対して例えば１３５°の角度とされ、距離Ｓ３は、辺Ｅｐ１５に対して例えば４５°の角度とされている。
【００３６】
図１３は、第２の実施形態に係るパターンの測定方法の他の例を示すものであり、他の属性が設定された辺の測定方向を示している。アウターコーナの属性を有する辺Ｅｐ１３において、アウターコーナに対応する辺の右端と隣接パターンＰ４１との距離Ｓ３は、辺Ｅｐ１３に対して例えば４５°の角度に設定されている。また、インナーコーナに対応した属性を有する辺Ｅｐ３１の幅Ｌ３は、辺Ｅｐ３１に対して例えば４５°の角度に設定されている。
【００３７】
次に、上記のように、測定された複数の幅、距離に応じて補正テーブルが検索され、各辺に対して複数の移動量が抽出される（Ｓ２４）。補正テーブルは、図３に示す構成と同様である。しかし、これに限定されるものではなく、例えば属性毎に幅と距離の関係が相違する補正テーブルを設けることも可能である。
【００３８】
次に、上記求められた移動量からパターンの補正値が算出される（Ｓ２５）。この補正値は、第１の実施形態と同様に複数の移動量の平均値として算出される。あるいは、複数の移動量の最大値、最小値を補正値とすることも可能である。
【００３９】
この後、上記算出された補正値に基づき、分割された辺のパターンが補正される（Ｓ２６）。すなわち、前記設計データの補正対象データが補正値に基づき補正される。
【００４０】
図１４は、第２の実施形態の方法により、図１２に示すＴ字の属性を有する辺Ｅｐ１５を補正した場合を示しており、図１５は従来の方法により補正した場合の例を示している。図１４に示すように、第２の実施形態の方法によると、補正されたパターンと隣接パターンＰ３１との距離は、図１５に示す従来の場合に比べて広くなる。すなわち、第２の実施形態の場合、辺に設定した属性に応じて補正値を設定しているため、属性に対応した辺に最適な補正値を設定できる。したがって、隣接パターンとのスペースを十分確保でき、ショートマージンを維持することができる。
【００４１】
図１６は、第２の実施形態の方法により、斜めの辺を有するパターンＰ５１の補正結果を示している。斜めの辺の場合も上述したように、斜めの辺が複数の辺に分割される。図１６は、分割された辺Ｅｐ５１の補正を示している。この分割された辺Ｅｐ５１は、斜めの辺Ｅｐ５１は、例えば配線の属性が設定される。この属性において、この辺Ｅｐ５１と対応するパターンの幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及び隣接パターンまでの距離Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３（図示せず）が複数個所で測定される。この測定された複数の幅、及び距離に基づき補正テーブルが検索され、複数の移動量が抽出される。この抽出された移動量が演算され、補正値が算出される。この補正値に基づき設計データを補正することにより、図１６に示すように、パターンが補正される。この結果、分割された辺は、適正な補正値により補正される。このため、補正値の境界は、分割された配線の境界のみに現れる。
【００４２】
これに対して、図１７は、従来の方法により補正した場合を示している。従来の補正方法の場合、パターンの辺から隣接パターンまでの距離が変化する位置において辺を分割し、この分割された辺の例えば中央部の１箇所において、パターンの幅や隣接パターンとの距離を測定する。この測定した幅と、距離に基づき補正テーブルを検索して補正値としての移動量を求め、この移動量に応じてパターンを補正している。このため、結果的に細かい段差形状が生じるため、例えば後続のモデルベースＯＰＣ処理に不適切な補正となる。
【００４３】
上記第２の実施形態によれば、分割された辺に属性を設定し、この属性に応じてパターンの幅、隣接パターンまでの距離を複数箇所で測定し、この測定された幅、及び距離に従って補正テーブルを検索して移動量を抽出し、この移動量から補正値を算出している。このため、属性に応じて適切な補正値を算出することができるため、パターンを適確に補正することができる。
【００４４】
しかも、アウターコーナ、Ｔ字の属性が設定された辺において、隣接パターンとの距離を斜めに測定し、インナーコーナの属性が設定された辺において、パターンの幅を斜めに測定している。このため、隣接パターンまでの距離や、パターンの幅を属性の形状に合わせて測定できるため、最適な移動量を求めることが可能であり、属性に応じてパターンを適確に補正することができる。
【００４５】
さらに、上記第１、第２の実施形態によれば、二次元パターンの形状を区別して補正でき、最適な補正ができるため、本補正方法による処理をモデルベースＯＰＣの代替として使用することが可能である。したがって、ＯＰＣの計算量を大幅に削減することが可能であり、処理時間を短縮することが可能である。
【００４６】
また、上記第１、第２の実施形態に係る補正方法のプログラムを記憶媒体に記憶することにより、この記憶媒体に記憶されたプログラムを例えばパーソナルコンピュータにインストールすることにより、容易にパターンの補正を行なうことが可能となる。
【００４７】
尚、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変えない範囲において種々変形実施可能なことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】第１の実施形態に係るパターン補正方法を示すフローチャート。
【図２】本実施形態が適用される補正処理装置の一例を示す構成図。
【図３】図２に示す補正テーブル部の一例を示す図。
【図４】パターンの一例を示す図。
【図５】第１の実施形態により辺を補正した例を示す図。
【図６】図６（ａ）（ｂ）は、従来の補正方法によりパターンを補正した場合を示す図。
【図７】図７（ａ）（ｂ）は、第１の実施形態の補正方法によりパターンを補正した場合を示す図。
【図８】第２の実施形態に係るパターン補正方法を示すフローチャート。
【図９】第２の実施形態に係る辺の分割方法の例を示す図。
【図１０】パターンの属性の一例を示す図。
【図１１】図１１（ａ）〜（ｄ）は、分割されない辺の例を示す図。
【図１２】第２の実施形態に係るパターンの測定の一例を示す図。
【図１３】第２の実施形態に係るパターンの測定の他の例を示す図。
【図１４】第２の実施形態の補正方法により、Ｔ字の属性を有する辺を補正した例を示す図。
【図１５】従来の方法により補正した例を示す図。
【図１６】第２の実施形態の補正方法により、斜めの辺を補正した例を示す図。
【図１７】従来の方法により、斜めの辺を補正した例を示す図。
【符号の説明】
【００４９】
１１、１２、１３、１５…第１、第２、第３、第４の記憶部、１４…演算部、ＴＢ１〜ＴＢｎ…補正テーブル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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