(57)【要約】【課題】低透湿フィルムを用いた偏光板の安定な製造方法を提供すること。そのような製造方法により得られる、優れた偏光特性および耐久性を有する偏光板を提供すること。【解決手段】第一の700g/m2・24h以下の透湿度を有する樹脂層を少なくとも含むフィルムと第二のフィルムとを水系接着剤を用いて偏光子の両面に貼り合わせて積層体を形成した偏光板の作成方法であって、第一のフィルムと第二のフィルムを逐次に貼合することを特徴とする偏光板の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
700g/m2・24h以下の透湿度を有する樹脂層を少なくとも含む第一のフィルムと、第二のフィルムとを水系接着剤を用いて偏光子の両面に貼り合わせて積層体を形成した偏光板の作成方法であって、第一のフィルムと第二のフィルムを逐次に貼合することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項２】
逐次貼合において最初の貼合により形成された積層体の含水量が7％以下となった状態で次の貼合が行われることを特徴とする請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項３】
逐次貼合が、最初の貼合により形成された積層体を巻き取ることなしに連続で行われることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光板の製造方法。
【請求項４】
第一のフィルムが、前記樹脂層として、ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項５】
第二のフィルムがセルロースエステルフィルムを主成分とするフィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項６】
前記ポリエステル樹脂がスルホン酸又はその塩から選ばれる基を有することを特徴とする請求項４または５に記載の偏光板の製造方法。
【請求項７】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムにおいて、前記ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面がコロナ放電処理されていることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項８】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムにおいて、前記ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面がグロー放電処理されていることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項９】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが、ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面に易接着層を含むことを特徴とする請求項４〜８のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１０】
前記易接着層が、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックスから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項９に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１１】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが、前記易接着層上にさらに親水性高分子を含有する層を含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１２】
表面ヘイズが５〜７０％であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１３】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムの３８０ｎｍの透過率が０〜５０％であり、６００ｎｍの透過率が８０〜１００％であることを特徴とする請求項４〜１２のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１４】
前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする請求項４〜１３のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１５】
前記紫外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％が１０％以下である紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする請求項１４に記載の偏光板の製造方法。
【請求項１６】
前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも一種であることを特徴とする特徴とする請求項１４または１５に記載の偏光板の製造方法。
【化１】
2007279243.tif 000018
式中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1は、それぞれ独立して、置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環基を示し、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1のうち少なくとも一つは下記構造式（Ａ）で示される置換基を表す。
【化２】
2007279243.tif 000019
式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基もしくはその塩またはスルホ基もしくはその塩を表す。隣り合うＲ1およびＲ2が連結して環を形成してもよい。
【請求項１７】
第二のフィルムが視野角補償機能を有することを特徴とする請求項１〜１６のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１８】
第二のフィルムが光学異方性層を有することを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載の方法で作成された偏光板。
【請求項２０】
液晶セルを挟む偏光板のうち少なくとも一方が請求項１９に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２１】
表示モードがＴＮモードであることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は偏光板の製造方法、該製造方法により得られる偏光板及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報産業の著しい発達に伴って、各所で表示装置が活用されるようになっている。特に液晶表示装置の発達はめざましく、様々な機器に搭載されるようになった。
【０００３】
これら液晶表示装置において、設置環境での表示品質の安定性は重要な項目となっている。
【０００４】
通常、偏光板は２枚の保護フィルムで偏光子をサンドイッチして作られており、偏光板保護フィルムとしてはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好ましく用いられている。
【０００５】
しかしながら、ＴＡＣは水分をある程度透過させるため長期間の高湿状態や低湿状態にさらされると光漏れ等が発生し、表示品質が保てず特にＴＮモードでは問題となる場合がある。
【０００６】
また、近年偏光板の薄型化の要求があり、偏光板を薄くするために、保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）を薄くすると透湿性が悪化したり、寸法安定性が低下するといった問題があり、特に４０μｍ未満の薄膜フィルムでは著しい物性低下が起こるために、偏光板に十分な耐久性を付与することが困難であった。
【０００７】
偏光板の耐久性向上のために、偏光板保護フィルムとしてセルロースエステル樹脂の代わりに、ポリエステル樹脂を主成分とする保護フィルムを用いることが開示されている。（特許文献１）
しかしながら、低透湿フィルムを用いる場合には偏光子との接着に用いる接着剤の乾燥が遅いという問題があり,偏光子の片面に保護フィルムを貼り合わせて積層体を巻き取らずに、その後保護フィルムが貼り合わされていない偏光子の面に次の保護フィルムを貼り合わせる方法 (特許文献２参照)等があった。
しかし、この方法では、貼り合せがうまくいかない場合が発生していた。
【特許文献１】特開２００４−２１９６２０号公報
【特許文献２】ＷＯ２００５/０９３４７２  Ａ１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来の課題を解決するためになされたものであり、低透湿フィルムを用いた偏光板の安定な製造方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、そのような製造方法により得られる、優れた偏光特性および耐久性を有する偏光板を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、そのような偏光板を用いた画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の発明者は、第一の低透湿のフィルムと第二のフィルムとを、水系接着剤を用い、逐次に偏光子に貼り合せることにより、安定に偏光板を製造できることを見出した。特に、最初の保護フイルムの貼り合わせ後に、該保護フィルムと偏光子とからなる積層体の含水量を一定量以下にすることによって、従来生じていた貼り合せの不具合を解消できる
ことを知見した。
即ち、本発明は以下の通りである。
【００１０】
（１）700g/m2・24h以下の透湿度を有する樹脂層を少なくとも含む第一のフィルムと、第二のフィルムとを水系接着剤を用いて偏光子の両面に貼り合わせて積層体を形成した偏光板の作成方法であって、第一のフィルムと第二のフィルムを逐次に貼合することを特徴とする偏光板の製造方法。
（２）逐次貼合において最初の貼合により形成された積層体の含水量が7％以下となった状態で次の貼合が行われることを特徴とする上記（１）に記載の偏光板の製造方法。
（３）逐次貼合が、最初の貼合により形成された積層体を巻き取ることなしに連続で行われることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の偏光板の製造方法。
（４）第一のフィルムが、前記樹脂層として、ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムであることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（５）第二のフィルムがセルロースエステルフィルムを主成分とするフィルムであることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（６）前記ポリエステル樹脂がスルホン酸又はその塩から選ばれる基を有することを特徴とする上記（４）または（５）に記載の偏光板の製造方法。
（７）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムにおいて、前記ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面がコロナ放電処理されていることを特徴とする上記（４）〜（６）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（８）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムにおいて、前記ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面がグロー放電処理されていることを特徴とする上記（４）〜（６）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（９）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが、ポリエステル樹脂を主成分とする層の少なくとも一方の面に易接着層を含むことを特徴とする上記（４）〜（８）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１０）前記易接着層が、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックスから選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする上記（９）に記載の偏光板の製造方法。
（１１）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが、前記易接着層上にさらに親水性高分子を含有する層を含むことを特徴とする上記（９）または（１０）に記載の偏光板の製造方法。
（１２）表面ヘイズが５〜７０％であることを特徴とする上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１３）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムの３８０ｎｍの透過率が０〜５０％であり、６００ｎｍの透過率が８０〜１００％であることを特徴とする上記（４）〜（１２）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１４）前記ポリエステル樹脂を主成分とする層を少なくとも含むフィルムが紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする上記（４）〜（１３）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１５）前記紫外線吸収剤が、窒素ガス下、３００℃の温度に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％が１０％以下である紫外線吸収剤を含有していることを特徴とする上記（１４）に記載の偏光板の製造方法。
（１６）前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも一種であることを特徴とする特徴とする上記（１４）または（１５）に記載の偏光板の製造方法。
【００１１】
【化１】
2007279243.tif 000002
【００１２】
式中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1は、それぞれ独立して、置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環基を示し、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1のうち少なくとも一つは下記構造式（Ａ）で示される置換基を表す。
【００１３】
【化２】
2007279243.tif 000003
【００１４】
式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基もしくはその塩またはスルホ基もしくはその塩を表す。隣り合うＲ1およびＲ2が連結して環を形成してもよい。
（１７）第二のフィルムが視野角補償機能を有することを特徴とする上記（１）〜（１６）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１８）第二のフィルムが光学異方性層を有することを特徴とする上記（１）〜（１７）のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
（１９）上記（１）〜（１８）のいずれかに記載の方法で作成された偏光板。
（２０）液晶セルを挟む偏光板のうち少なくとも一方が上記（１９）に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
（２１）表示モードがＴＮモードであることを特徴とする上記（２０）に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、特に、最初の保護フィルムの貼り合わせ後に、該フィルムと偏光子とからなる積層体の含水量を一定量以下にすることにより、透湿度の小さい保護フィルムを用いた場合でも、偏光板を安定に作製することが出来るようになった。その結果、優れた耐久性および偏光特性を有する偏光板が優れた生産性で得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
偏光板は、通常、偏光子と該偏光子の両面に透明保護フィルムとを有してなる。
本発明の偏光板は、偏光子の両面に貼り付けられる透明保護フィルムとして、700g/m2・24h以下の透湿度を有する樹脂層を少なくとも含む第一のフィルム（以下、「第一の透明保護フィルム」とも称する）と第二のフィルム（以下、「第二の透明保護フィルム」とも称する）を有し、第一のフィルムと第二のフィルムを逐次に貼合することにより得られる。
第一のフィルムと第二のフィルムを貼り合せる順番は特に限定されるものではなく、それぞれのフイルムの特性により適宜調整される。
なお、本発明では偏光板の透明保護フィルムは、該透明保護フィルムを支持体として更に他の層、例えば、光散乱層、光学異方性層等を積層した機能フィルムであっても良い（以下、透明保護フィルムを「（透明）支持体」と称することもある）。
【００１７】
[偏光板の製造方法]
以下、本発明の偏光板の製造方法の好ましい一例について説明する。
まず、偏光子の製造方法について説明する。ここでは、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子の製造方法について説明する。このような偏光子は、例えば、膨潤工程と染色工程と架橋工程と延伸工程とを含む製造方法によって製造される。
膨潤工程においては、ポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬し、当該フィルムを膨潤させる。水に浸漬して水洗することにより、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができる。さらに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることにより、染色のムラなどの不均一を防止する効果がある。染色工程においては、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素等の二色性物質や二色性染料等の染料の入った浴中にて染色する。
架橋工程においては、ポリビニルアルコール系フィルムをホウ酸やホウ砂等の架橋剤の入った浴巾にて架橋する。
延伸工程においては、ポリビニルアルコール系フィルムを元長の3-7倍に延伸する。これらの工程の順番は特に限定されるものではなく、また、いくつかの工程を同時に行ってもよい。例えば、延伸はヨウ素で染色した後に行ってもよく、染色しながら延伸してもよく、延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００１８】
次に、偏光子と透明保護フィルムとを貼り合わせる。本発明の製造方法においては、上記第一の透明保護フィルムおよび上記第二の透明保護フィルムを、偏光子の片面ずつ別々に貼り合わせる。上記第一の透明保護フィルムおよび上記第二の透明保護フィルムは、それぞれ異なる特性(例えば、弾性率、透湿度)を有するので、偏光子と2枚の透明保護フィルムとを3枚同時に貼り合わせると、カールや剥がれが生じる場合があるためである。
【００１９】
張り合わせる順番はそれぞれのフイルムの特性により適宜調整する。さらに、本発明の製造方法においては、透明保護フィルムを偏光子の一方の面に貼り合わせて積層体を形成した後、乾燥処理により当該積層体の含水量が７質量％以下好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは３質量％以下に乾燥させた状態で、次の透明保護フィルムを偏光子の他方の面に貼り合わせて偏光板を得る。これにより、剥がれ、カール等の問題が解消される。PVAに二番目に張り合わされるフィルムは、一番目に貼り合せた積層体を一度巻き取った後に貼り合せても良いし、巻き取らずに連続で貼り合せても良いが、巻き取らずに張り合わせたほうが生産効率の点で好ましい。
【００２０】
乾燥処理の条件(例えば、乾燥温度、乾燥時間、乾燥方法)は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、乾燥温度は40-90℃であり、乾燥時間は1-10分である。好ましくは、上記偏光子と第一の透明保護フィルムとの貼り合わせ、および、上記積層体と第二の透明保護フィルムとの貼り合わせは、貼り合わせ後の状態がフラットになるような処理を施しながら行われる。本発明においては、貼り合わせ後の状態がフラットか否かは、カール量を基準にして判断される。積層体または偏光板のカール量は、小さければ小さいほど貼り合わせ後の状態がフラットであり好ましい。具体的には、カール量は、好ましくは5mm以下であり、さらに好ましくは3mm以下である。
【００２１】
上記貼り合わせ後の状態がフラットになるような処理の代表例としては、偏光子と第一の透明保護フィルムとを、偏光子および第一の透明保護フィルムに張力を付与した状態で貼り合わせる方法が挙げられる。この方法は、積層体と第二の透明保護フィルムとの貼り合わせにも同様に適用される。張力を付与する方法としては、例えば、偏光子および透明保護フィルムを搬送するガイドロールの周速差を利用する方法が挙げられる。より具体的には、例えば偏光子と第一の透明保護フィルムを貼り合わせる場合には、巻き取り側のロールの回転速度を送り出し側のロールの回転速度よりも速くすればよい。ロールの回転速度は、目的や所望の張力に対応して適宜設定され得る。
【００２２】
上記偏光子と上記第一または第二の透明保護フィルムとの貼り合わせは、代表的には、接着剤を用いて行われる。接着剤としては、偏光子および透明保護フィルムに対して良好な接着性を有する任意の適切な接着剤が採用され得るが、特に本発明においては水系接着剤が用いられる。水系接着剤とは、水に溶解または分散された成分が水が乾燥することにより接着力を発現する接着剤である。
水系接着剤としては、例えば、偏光子がポリビニルアルコール(PVA)系フィルムである場合には、PVA系樹脂を含む接着剤が好ましい。偏光子との接着性に特に優れるからである。
PVA系樹脂としては、任意の適切なPVA系樹脂が採用され得る。代表例としては、無置換のPVA、反応性の高い官能基を有するPVAが挙げられる。反応性の高い官能基を有するPVAが特に好ましい。得られる偏光板の耐久性がさらに顕著に向上し得るからである。
反応性の高い官能基を有するPVAの具体例としては、アセトアセチル基変性したPVA樹脂が挙げられる。接着剤のバインダー樹脂(例えば、PVA樹脂)の重合度は、好ましくは100〜3000である。このような範囲の重合度を有することにより、偏光子および透明保護フィルムとの接着性が特に良好になり得る。
【００２３】
接着剤層の厚みは、偏光板が用いられる画像表示装置の目的や用途に応じて適宜設定され得るが、好ましくは30〜300nm、さらに好ましくは50〜150nmである。なお、接着剤層は、接着剤水溶液を塗布および乾燥して形成される。好ましくは、接着剤は、架橋剤をさらに含有し得る。架橋剤は、好ましくは水溶性架橋剤である。
水溶性架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等が挙げられる。必要に応じて、接着剤は、任意の適切な添加剤(例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤)および/または触媒(例えば、酸)をさらに含有し得る。
【００２４】
偏光子の２枚の透明保護フィルムのうち、第二のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は視野角補償機能を有し、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【００２５】
本発明の製造方法により得られる偏光板（以下、「本発明の偏光板」とも称する）を液晶表示装置等とともに用いる際には、液晶セルと反対側の視認側に第一のフィルムが配置されることが好ましい。
【００２６】
以下、第一のフィルムについて詳細に説明する。
（透湿度700g/m2・24h以下の樹脂層）
本発明の第一のフィルムは、透湿度が700g/m2・24h以下の樹脂層を少なくとも含むフィルムである。樹脂層の透湿度は好ましくは300g/m2・24h以下、より好ましくは100g/m2・24h以下である。
透湿度が低いことにより、偏光板に加工し液晶表示装置に使用した際に、高湿低湿の環境下であっても光漏れ、偏光度の低下等の不具合が発生しづらい。
【００２７】
このような透湿度を有する樹脂フィルムを形成する代表的な材料としては、非晶性ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
非晶性ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのような環状オレフィンの重合単位を有する樹脂、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体からなる樹脂などが挙げられる。
また、側鎖に置換および/または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換および/または非置換フェニル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物から形成されたフィルムであってもよい。樹脂組成物は、オレフィン成分を有していてもよい。具体例としては、N一メチルグルタルイミドとメチルメタクリレートからなるグルタルイミド共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物の高分子フィルム、イソブチレンとN一メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物の高分子フィルム等が挙げちれる。
【００２８】
《ポリエステル樹脂を主成分とする層》
透湿度700g/m2・24h以下の樹脂層としては、ポリエステル樹脂を主成分として含む層（以下、「ポリエステル樹脂層」あるいは「ポリエステルフィルム」とも称する）が好ましい。ここでいう「主成分」とは、重量％で８０％以上を意味する。
ポリエステル樹脂は特に構造的な限定はないが、その中で特に望ましいものは、芳香族系ジカルボン酸と、脂肪族系グリコールを用い縮重合させて得られる樹脂である。
【００２９】
芳香族ジカルボン酸としてはテレフタル酸のほか、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などがあり、またこれらの低級アルキルエステル（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を使用することができる。
【００３０】
脂肪族系グリコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ｐ−キシリレングリコールなどがある。
なかでもテレフタル酸とエチレングリコールの反応により得られたポリエチレンテレフタレートを主成分とすることが好ましい。
【００３１】
主成分がポリエチレンテレフタレートであるとは、ポリエチレンテレフタレートの繰返し単位が８０モル％以上の共重合体、あるいはブレンドされている場合は、ポリエチレンテレフタレートを８０質量％以上含有していることをいう。
【００３２】
本発明では、ポリエステル樹脂中にスルホン酸又はその塩から選ばれる基を有することが好ましい。該基を樹脂中に導入することにより偏光板の接着力が高まる効果が得られる。
本発明において用いられる、ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために用いられるスルホン酸およびその塩から選ばれる基を有する芳香族ジカルボン酸としては、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、２−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホイソフタル酸、４−ナトリウムスルホ−２，６−ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体、およびこれらのナトリウムを他の金属（例えばカリウム、リチウムなど）で置換した化合物が用いられる。
【００３３】
また、グリコール中にスルホン酸およびその塩から選ばれる基を導入したものを用いてもよいが、ポリエステル中にスルホン酸基を含有させるために化合物として好ましいのは、前記スルホン酸基またはその塩を有する芳香族ジカルボン酸を用いることである。
【００３４】
これらのスルホン酸基またはその塩を有する芳香族ジカルボン酸成分が製造時に用いられる全芳香族ジカルボン酸の１０モル％を越えると延伸性が劣ったり、機械的強度が劣ったものとなる場合があり、また１モル％未満では、十分な乾燥性が得られない場合がある。
【００３５】
本発明で用いられるポリエステルには、本発明の効果を阻害しない範囲で、さらに他の成分が共重合されていても良いし、他のポリマーがブレンドされていても良い。
【００３６】
上記以外の他の芳香族ジカルボン酸又はその誘導体として、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸及びその低級アルキルエステル（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）を用いることができる。また製造の際、シクロプロパンジカルボン酸、シクロブタンジカルボン酸及びヘキサヒドロテレフタル酸などの脂環式ジカルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステル等のエステル形成可能な誘導体）、アジピン酸、コハク酸、シュウ酸、アゼライン酸、セバシン酸及
びダイマー酸などの脂肪族ジカルボン酸及びその誘導体（無水物、低級アルキルエステルなどのエステル形成可能な誘導体）を全ジカルボン酸の１０モル％以下の量で使用しても良い。
【００３７】
本発明で使用することができる上記以外のグリコールとしてはエチレングリコールおよび前記のグリコールの他、トリメチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールＡ、ｐ，ｐ′−ジヒドロキシフェニルスルフォン、１，４−ビス（β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ポリアルキレン（例、エチレン、プロピレン）グリコール、及びｐ−フェニレンビス（ジメチロールシクロヘキサン）などを挙げることができ、これらは用いられるグリコールの１０モル％以下の量で使用しても良い。
【００３８】
本発明に用いられるポリエステルは、例えば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、ベンジルオキシ安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの１官能性化合物によって末端の水酸基および／またはカルボキシル基を封鎖したものであってもよく、あるいは、例えば極く少量のグリセリン、ペンタエリスリトールの如き３官能、４官能エステル形成化合物で実質的に線状の共重合体が得られる範囲内で変性されたものでもよい。
【００３９】
また、本発明に用いられるポリエステルには、フィルムの耐熱性を向上する目的で、ビスフェノール系化合物、ナフタレン環又はシクロヘキサン環を有する化合物を共重合することができる。
また、本発明に用いられるポリエステルはガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上であることが好ましく、更に９０℃以上であることが好ましい。８０℃未満では得られたフィルムの高温高湿下での寸法安定性に劣る場合がある。Ｔｇは動的粘弾性測定のｔａｎδのピークより求めた。
【００４０】
〔酸化防止剤〕
本発明に用いられるポリエステルフィルムには、酸化防止剤が含有されていてもよい。特にポリエステルが、ポリオキシアルキレン基を有する化合物を含む場合に効果が顕著となる。含有させる酸化防止剤はその種類につき特に限定はなく、各種の酸化防止剤を使用することができるが、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等の酸化防止剤を挙げることができる。中でも透明性の点でヒンダードフェノール系化合物の酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の含有量は、通常、ポリエステル樹脂固形分に対して０．０１〜２質量％、好ましくは０．１〜０．５質量％である。
【００４１】
本発明のポリエステルフィルムには、必要に応じて易滑性を付与することもできる。易滑性付与手段としては、特に限定はないが、ポリエステルに不活性無機粒子を添加する外部粒子添加方法、ポリエステルの合成時に添加する触媒を析出させる内部粒子析出方法、或いは界面活性剤等をフィルム表面に塗布する方法等が一般的である。
【００４２】
〔紫外線吸収剤〕
本発明のポリエステルフィルムには、偏光子および液晶の劣化防止のため必要に応じて紫外線吸収剤を添加することもできる。
【００４３】
紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、紫外線吸収剤としては、紫外線吸収剤を添加したポリエステルフィルムの、波長３８０ｎｍの透過率が０〜５０％、好ましくは０〜３０％、より好ましくは０〜１０％、６００ｎｍの透過率が８０〜１００％、好ましくは８５〜１００％、より好ましくは９０〜１００％であるものが好ましく用いられる。
【００４４】
本発明では、下記（ａ）〜（ｃ）のいずれかの性能を有する紫外線吸収剤を少なくとも一種、樹脂中に練りこむことが好ましい。
（ａ）窒素ガス雰囲気下、３００℃の温度に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％が１０％以下である揮散性の少ない紫外線吸収剤、
（ｂ）紫外線吸収剤が、該紫外線吸収剤を０．４質量％含み、含水率が５０ｐｐｍ以下のポリエステル樹脂を３００℃で１分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値と、前記ポリエステル樹脂を８分加熱した後、厚さ１．５ｍｍに成形した板のｂ値との差が３．０以下であるような紫外線吸収剤、
（ｃ）前記揮散性および耐熱性に関する性能を併せもつ紫外線吸収剤
【００４５】
窒素ガス下、３００℃の温度に到達するまで１０℃／分の昇温速度で昇温した場合の質量減量％が１０％以下である揮散性の少ない紫外線吸収剤を用いると、透明ポリエステル樹脂に該紫外線吸収剤を添加して溶融混練した後、ダイ部から排出された直後のフィルムから紫外線吸収剤が揮散することが少ないため、紫外線吸収能の低下が防がれ、あるいは多量の紫外線吸収剤の使用を不要とする。また、紫外線吸収剤が多量に揮散すると、製造ラインにおいて揮散（昇華）した紫外線吸収剤がラインを汚し、これがまた、ライン中を進む支持体フィルムに付着するなどを起こすことにもなるが、本発明においてはこのようなことも回避することができる。前記の質量減量は好ましくは５％以下、さらには１％以下にすることがより好ましい。一般的に紫外線吸収剤の分子量を４００以上とすることにより、質量減量を５％以下に抑制することができる。
前記の特性を有する紫外線吸収剤としては、下記一般式（１）に示される構造式を有する紫外線吸収剤のほか、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレート系、ベンゾオキサジン系、トリアジン−クマリン共重合体系又、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤、特開２００２−３１７１５号公報の高分子紫外線吸収剤も用いられる。
【００４６】
また、前記のごとき耐熱性を示す紫外線吸収剤は、ポリエステル樹脂と溶融混練する際の樹脂温度（たとえば３００℃）においても安定であり熱分解しないため、ポリエステル樹脂フィルムに用いた場合、紫外線吸収剤の分解に基づく樹脂フィルムの黄色化や紫外線吸収能の低下を抑制することができる。また、紫外線吸収剤の分解に起因して生ずるポリエステル樹脂の分解（ポリエステル樹脂の低分子量化）を防ぐこともできる。前記ｂ値の差が好ましくは２．０以下、さらには１．０以下にすることが好ましい。前記の特性を有する紫外線吸収剤としては、下記一般式（１）に示される構造式を有する紫外線吸収剤のほか、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００４７】
また、前記（ａ）および（ｂ）の２つの特性を併せ持つ紫外線吸収剤（ｃ）を用いることにより、前記の効果を併せ発揮することが可能となる。このような特性を有する紫外線吸収剤としては、下記一般式（１）に示される構造式を有する紫外線吸収剤のほか、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤等が挙げられる。
さらに、前記のごとき揮散性および／または耐熱性を有する紫外線吸収剤を、フィルムを成膜する際に、同時に混練せしめて、紫外線吸収能を有するフィルムを容易に作製することができる。
【００４８】
以下、一般式（１）で示される紫外線吸収剤について詳細に説明する。
下記一般式（１）で示される紫外線吸収剤は、高温において安定でありかつ揮散性が少ないので、ポリエステル樹脂に前記紫外線吸収剤を添加して溶融混練する際の樹脂温度（たとえば３００℃）においても安定であり熱分解せず、また、ダイ部から出た直後において揮散することもない。したがって、フィルムの黄色化や紫外線吸収能の低下を抑制することができる。また、前記の工程簡素化等の効果を有することも勿論である。
【００４９】
【化３】
2007279243.tif 000004
【００５０】
式中、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1は、それぞれ独立して、置換もしくは無置換の、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはヘテロ環基を示し、Ｘ1、Ｙ1およびＺ1のうち少なくとも一つは下記構造式（Ａ）で示される置換基を表す。
【００５１】
【化４】
2007279243.tif 000005
【００５２】
式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基もしくはその塩またはスルホ基もしくはその塩を表す。隣り合うＲ1およびＲ2が連結して環を形成してもよい。
【００５３】
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルキル基は、炭素数１〜２０が好ましく、置換基〔例えば、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、フッ素）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、フェノキシエトキシ）、アリーロキシ基（例えばフェノキシ）、エステル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル）、カルボニルオキシ基（例えば、エチルカルボニルオキシ、ヘプチルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルオキシ）、アミノ基（例えば、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ）、アリール基（例えば、フェニル、トリル、４−メトキシフェニル）、カルボンアミド基（例えば、メチルカルボニルアミド、フェニルカルボニルアミド）、カルバモイル基（例えば、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド）、スルファモイル基（例えば、ブチルスルファモイル、フェニルスルファモイル、メチルオクチルアミノスルホニル）、カルボキシル基およびその塩、スルホ基およびその塩〕を有していてもよい。具体的には、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル、フェネチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ビシクロ［２，２，２］オクチル等の基及び上述の置換基を有するこれらの基を挙げることができる。
【００５４】
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリール基は、炭素数６〜１０が好ましく、置換基〔例えばアルキル基（メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ｔ−ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル）及び前記のアルキル基が有してもよい置換基として挙げた基〕を有していてもよい。アリール基として具体的には、フェニル、ナフチルを挙げることができる。
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルコキシ基は、炭素数１〜２０が好ましく、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｎ−オクトキシ、イソオクトキシ、ドデシルオキシ、ベンジルオキシ、オクタデシルオキシ等を挙げることができ、これらは前記したアルキル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリールオキシ基は、炭素数６〜１０が好ましく、例えばフェノキシ、ナフトキシを挙げることができ、これらは前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されて
いてもよい。
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアルキルチオ基は、炭素数１〜２０が好ましく、例えば、メチルチオ、ヘキシルチオ、オクチルチオ、ヘキサデシルチオ等を挙げることができる。
【００５５】
前記一般式（１）および構造式（Ａ）におけるＸ1、Ｙ1、Ｚ1、Ｒ1およびＲ2のアリールチオ基は、炭素数６〜１０が好ましく、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオを挙げることができる。これらのアルキルチオ基及びアリールチオ基は前記したアルキル基又はアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記一般式（１）におけるＸ1、Ｙ1およびＺ1のヘテロ環基は、フラン、チオフェン、インドール、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ピリジン等を挙げることができ、前記したアリ−ル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のアルケニル基は、炭素数３〜２０が好ましく、アリル、２−ブテニル、３−ブテニル、オレイルを挙げることができ、これらは前記アルキル基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
【００５６】
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のアシルオキシ基は、炭素数２〜２０が好ましく、アセチルオキシ、ヘキサノイルオキシ、デカノイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ等を挙げることができ、前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のアミノ基は、炭素数０〜４０の置換もしくは無置換のアミノ基が好ましく、例えば無置換のアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、オクチルアミノ、ジヘキシルアミノ、ジステアリルアミノ、ジイソブチルアミノ、アニリノ、ジフェニルアミノ、メチルフェニルアミノ、ホルムアミド、アセチルアミノ、ヘキサノイルアミノ、デカノイルアミノ、ステアロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ノナンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ドデカンスルホンアミド、オクタデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、カルバモイルアミノ、シクロヘキシルカルバモイルアミノ、ジエチルカルバモイルアミノ等を挙げることができ、前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のアシル基は、炭素数１〜２０が好ましく、アセチル、ブタノイル、ピバロイル、オクタノイル、ヘキサデカノイル、ベンゾイル等を挙げることができ、前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のオキシカルボニル基は、炭素数２〜２０が好ましく、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル等を挙げることができ、前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
【００５７】
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のカルバモイル基は、炭素数１〜２０が好ましく、例えば無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、オクチルカルバモイル、ドデシルカルバモイル、ヘキサデシルカルバモイル、オクタデシルカルバモイル、フェニルカルバモイル等を挙げることができ、前記したアリール基が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のスルファモイル基は、炭素数０〜２０が好ましく、無置換のスルファモイル、エチルスルファモイル、ブチルスルファモイル、ヘプチルスルファモイル、テトラデシルスルファモイル、ジブチルスルファモイル、オクタデシルスルファモイル、フェニルスルファモイル等を挙げることができ、前記したアリール基
が有してもよい置換基として挙げた基で置換されていてもよい。
前記構造式（Ａ）におけるＲ1およびＲ2のハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素等を挙げることができる。
【００５８】
また、前記一般式（１）で示される紫外線吸収剤の分子量は４００以上であることが好ましい。分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、特に揮散性が低いので製造ラインを汚すことなく、低添加量で必要な紫外線吸収能を与えることができる。
【００５９】
ベンズオキサジンの具体例としては下記の分子（BO-1）が挙げられる。
【００６０】
分子（BO-1）
【００６１】
【化５】
2007279243.tif 000006
【００６２】
（ポリエステルの合成方法）
本発明に用いるポリエステルの合成方法は、特に限定があるわけではなく、前述したように従来公知のポリエステルの製造方法に従って製造できる。例えば、ジカルボン酸成分をジオール成分と直接エステル化反応させる直接エステル化法、初めにジカルボン酸成分としてジアルキルエステルを用いて、これとジオール成分とでエステル交換反応させ、これを減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去することにより重合させるエステル交換法を用いることができる。この際、必要に応じてエステル交換触媒或いは重合反応触媒を用い、或いは耐熱安定剤を添加することができる。この際、共重合成分である金属スルホネート基を有する芳香族ジカルボン酸類やポリエチレングリコールをエステル交換反応後に添加し、重縮合を行うことが好ましい。また、合成時の各過程で着色防止剤、酸化防止剤、結晶核剤、すべり剤、安定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、粘度調節剤、消泡剤、透明化剤、帯電防止剤、ｐＨ調整剤、染料、顔料等を添加させてもよい。
【００６３】
（ポリエステルフィルムの製造方法）
次に本発明のポリエステルフィルムの製造方法について説明する。
本発明においてポリエステルフィルムは、二軸延伸製膜されたポリエステルフィルムであることが好ましい。
上記ポリエステルフィルムを得るには、従来公知の方法で行うことができ、特に限定されないが、以下の様な方法で行うことができる。この場合、縦方向とは、フィルムの製膜方向（長手方向）を、横方向とはフィルムの製膜方向と直角方向のことをいう。
【００６４】
先ず、原料のポリエステルをペレット状に成型し、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔダイよりシート状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸シートを得る。次いで、得られた未延伸シートを複数のロール群及び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してポリエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸する方法である。
【００６５】
次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたポリエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｍ（融点）の温度範囲内で、横延伸し次いで熱固定する。
【００６６】
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながら、これらの処理を行うことが、フィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。
【００６７】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するポリエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整して決定すればよい。
【００６８】
また、上記フィルム製造に際し、延伸の前及び／又は後で帯電防止層、易滑性層、接着層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、グロー放電処理、大気圧プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
【００６９】
カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
【００７０】
（膜厚）
本発明のポリエステルフィルムの厚みは５〜２００μｍ、好ましくは５〜１００μｍ、さらに好ましくは膜厚４０〜１００μｍである。
【００７１】
（弾性率）
本発明のポリエステルフィルムの弾性率は３〜７ＧＰａであることが好ましい。
弾性率がこの範囲であると、偏光板に加工し液晶表示装置に使用した際に、高湿低湿の環境下であっても光漏れ、偏光度の低下等の不具合が発生しづらい。
【００７２】
（含水率）
本発明のポリエステルフィルムの含水率は１％以下であることが好ましい。
含水率がこの範囲であると、偏光板に加工し液晶表示装置に使用した際に、高湿低湿の環境下であっても光漏れ、偏光度の低下等の不具合が発生しづらい。
【００７３】
本発明の第一のフィルムは、上記ポリエステルフィルムからなる単独（単層）のフィルムでもよいが、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記ポリエステルからなる層を少なくとも１層含む、複数の樹脂層からなる多層フィルムとしてもよい。上記ポリエステル層をＡ、その他の樹脂層をＢ及びＣとすると、例えばＡ／Ｂ、Ａ／Ｂ／Ａ、Ｂ／Ａ／Ｂ、Ｂ／Ａ／Ｃのように構成できる。もちろん４層以上の構成にすることもできる。この様に多層構成にすることで、例えば、強度や水バリアー性の高いフィルムをコア層や外層に積層することにより、複数の機能を同時に付与することができる。
樹脂層としては、易接着層や親水性高分子を少なくとも含む層が挙げられる。また、光学機能を発生する層として、光散乱層や反射防止層などを付与しても良い。
【００７４】
また、滑り性を付与するためマット剤等の微粒子を添加する場合は、最外層のみに添加すれば効果が得られるので、透明性等を劣化させずに機能付与することが可能となる。
【００７５】
（添加できる微粒子）
添加できる微粒子としては特に限定はされないが、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
【００７６】
無機化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
【００７７】
二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、
Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル社製）等の市販品が使用できる。
【００７８】
酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル社製）等の市販品が使用できる。
【００７９】
有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
【００８０】
上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン社製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００８１】
《光散乱層》
光散乱層は、本発明で好適に用いられるポリエステル樹脂を用いたフィルムに発生し易い複屈折干渉による虹状ムラを散乱により低減し、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成される。
【００８２】
光散乱性（防眩性）を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号公報記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号公報記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号公報記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。
本発明で用いることができる光散乱層は好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダー、光散乱性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
マット粒子の分散によって形成される光散乱層は、バインダーとバインダー中に分散された透光性粒子とからなる。光散乱性を有する光散乱層は、光散乱性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
【００８３】
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
【００８４】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で光散乱性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに光散乱性フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、光散乱性フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、光散乱性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【００８５】
上記マット粒子は、形成された光散乱層中のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００
ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００８６】
光散乱層の膜厚は、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜８μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。
【００８７】
表面散乱にて、虹状ムラを抑える場合は、全ヘイズは１０％〜８０％が好ましく、２０％〜７０％であることがより好ましい。また、表面ヘイズが５％〜７０％であることが好ましく、１０％〜２０％であることがより好ましい。
さらに、光散乱層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は１０％〜８０％であることが好ましく、更に好ましくは１５％〜７０％であり、最も好ましくは２０％〜６０％である。
本発明にかかる光散乱層を有するフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。
【００８８】
一方、光散乱層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０〜０．４０μｍの範囲が好ましい。０．４０μｍを超えると、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、透過画像鮮明度の値は、５〜６０％とするのが好ましい。
【００８９】
光散乱層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００９０】
〔高屈折率層、中屈折率層〕
本発明にかかる透明保護フィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
【００９１】
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。
【００９２】
支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５乃至１．８０であることが好ましい。
【００９３】
高屈折率層および中屈折率層に用いるＴｉＯ2を主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子の分散において、分散剤の存在下で分散媒体中に分散する。
【００９４】
本発明に用いる高屈折率層および中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、後述する電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層および中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【００９５】
さらに、高屈折率層および中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時または塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層および中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層および中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【００９６】
高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５〜８０質量％添加する。
【００９７】
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【００９８】
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。
【００９９】
高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。
【０１００】
〔低屈折率層〕
さらに透明保護フィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を積層することが好ましい。
【０１０１】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％
以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
【０１０２】
硬化性組成物は、（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機粒子、（Ｃ）オルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
【０１０３】
低屈折率層には、微粒子を分散・固定するためにバインダーが用いられる。バインダーとしては、バインダー自身の屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱または電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０１０４】
〔帯電防止層、導電性層〕
本発明においては、帯電防止層を設けることがフィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、支持体に直接又は支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
【０１０５】
帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、１０5〜１０12Ω／ｓｑであることが好ましく、１０5〜１０9Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０5〜１０8Ω／ｓｑであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
【０１０６】
帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
本発明の帯電防止層は、強度が優れており、具体的な帯電防止層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１０７】
〔防汚層〕
透明保護フィルムの最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを下げ、親水性あるいは親油性の汚れを付きにくくするものである。
防汚層には含フッ素ポリマーや防汚剤を用いて形成することができる。
防汚層の厚さは２〜１００ｎｍであることが好ましく、５〜３０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１０８】
＜密着＞
本発明では上記光散乱層および偏光板の偏光子との密着を向上させるため、本発明の偏
光板透明保護フィルムではポリエステルフィルム上にコロナ放電処理、グロー放電処理を行って密着性を向上させることが出来る。
【０１０９】
《易接着層》
本発明ではさらに密着を向上させるために易接着層を形成することが好ましい。
易接着層としては、偏光子とポリエステルフィルムとの密着を向上させるものであれば特に限定されるものではないが、ポリエステルフィルム上に、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックスからなる易接着層を形成することが好ましい。また、このラテックスは、（ａ）ジオレフィン系単量体、（ｂ）ビニル単量体、（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル又はアリル基を有する単量体からなる単量体混合物に対し、（ｄ）α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤とからなる重合連鎖移動剤の存在下において、水性媒体中で乳化重合して得られる共重合体ラテックスでも良い。
【０１１０】
共重合体を形成する一方の単量体である（ａ）ジオレフイン単量体には、共役ジエンであるブタジエン、イソプレン、クロロプレン、等を挙げることができ、とりわけブタジエンが好ましく用いられる。
【０１１１】
本発明に用いられる共重合体の第２成分である（ｂ）ビニル単量体としては、ビニル基を固有する単量体なら何でもよいが、好ましくは下記に示すものであり、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸メチル、塩化ビニル、酢酸ビニル及びこれらの誘導体、アクリル酸のアルキルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクロレイン、メタアクロレイン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、Ｎ−メチロール化アクリルアミド、Ｎ−メチロール化メタクリルアミド、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等を挙げることができる。
【０１１２】
上記スチレンの誘導体としては、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等を挙げることができる。
【０１１３】
アクリル酸のエステルの中で好ましいものとしては、アクリル酸エステル、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【０１１４】
また、本発明に用いられる共重合体の第３成分である（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体としては、ジビニルベンゼン、１，５−ヘキサジエン−３−イン、ヘキサトリエン、ジビニルエーテル、ジビニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアリルカルビノール、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート等の通常ビニル単量体の重合の際に添加されるいわゆる架橋剤を挙げることができる。
【０１１５】
本発明の共重合体中の（ａ）ジオレフイン系単量体の含有量が共重合体全体の１０〜６
０質量％、特に１５〜４０質量％であることが好ましい。（ｂ）ビニル単量体としては全体の９０〜４０質量％であるが、特に、上記ビニル単量体、とりわけスチレン類が共重合全体の７０〜４０質量％であることが好ましい。（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体は、（ａ）ジオレフイン単量体と（ｂ）ビニル単量体との合計に対して０．０１〜１０質量％、特に０．１〜５質量％であることが好ましい。
【０１１６】
（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーとしては、異性体として、（イ）２−４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、（ロ）２−４−ジフェニル−４−メチル−２−ペンテン、（ハ）１−１−３−トリメチル−３−フェニルインダンがある。α−メチルスチレンダイマーとして好ましい組成は、（イ）成分が４０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が６０質量％以下、さらに好ましくは（イ）成分が５０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が５０質量％以下、特に好ましくは（イ）成分が７０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が３０質量％以下である。（イ）成分の組成比率が増加するに従って連鎖移動効果に優れる。
【０１１７】
α−メチルスチレンダイマーは、本発明の目的を損なわない範囲で、不純物、例えば、未反応のα−メチルスチレン、前記（イ）、（ロ）、（ハ）成分以外のα−メチルスチレンオリゴマー、α−メチルスチレンポリマーを含むものであってもよい。α−メチルスチレンダイマーを使用する場合、その目的を損なわないものであれば、α−メチルスチレンダイマーを合成後、これを未精製の状態で使用することができる。
【０１１８】
（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーの割合は２〜１００質量％、好ましくは３〜１００質量％、さらに好ましくは５〜９５質量％である。このα−メチルスチレンダイマーの割合が２質量％未満では接着強度と耐ブロッキング性に優れた共重合体ラテックスを得ることができない。また、α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤との併用により、重合時における反応性を高めることができる。
【０１１９】
（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量は、単量体混合物１００質量部当たり、０．３〜１０質量部、好ましくは０．５〜７質量部である。この（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量が０．３質量部未満では耐ブロッキング性が劣り、一方１０質量部を越えると接着強度が低下して好ましくない。なお、α−メチルスチレンダイマーの使用量については、単量体混合物の１００質量部当り、０．１〜５質量部の範囲で使用することが好ましい。
【０１２０】
次に、（ｄ）重合連鎖移動剤におけるα−メチルスチレンダイマーと併用する他の連鎖移動剤としては、一般の乳化重合に使用されている公知の重合連鎖移動剤を使用することができる。具体的には、例えば、オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタンなどのメルカプタン類；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィドなどのキサントゲンジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウラムジスルフィド類；四塩化炭素、臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素類；ペンタフェニルエタンなどの炭化水素類；およびアクロレイン、メタクロレイン、アリルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテンなどを挙げることができる。これらは単独でも、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらのうち、メルカプタン類、キサントゲンジスルフィド類、チウラムジスルフィド類、四塩化炭素などが好適に使用される。
【０１２１】
本発明における共重合体ラテックスは、上記の単量体混合物及び重合連鎖移動剤を使用
する点を除けば、従来公知の乳化重合法によって製造することができる。すなわち、水等の水性媒体に単量体混合物及び重合開始剤、乳化剤、重合連鎖移動剤等を加えて乳化重合を行うことによって得られる。
【０１２２】
上記の共重合体ラテックスは、ポリエステルフィルム上に下塗層として塗布される。塗布膜厚は５０〜１０００ｎｍが好ましく、５０〜３００ｎｍがより好ましく、さらに好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍである。
【０１２３】
本発明において、ポリエステルフィルム上に下塗層を形成する際に、共重合体ラテックスに対してジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤を併用することが好ましい。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の併用により常湿条件下、高湿条件下、低湿条件下での接着力が著しく向上し、低湿条件下での亀裂が生じなくなり、その他、帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等に優れた効果を付与できる。
【０１２４】
本発明に使用されるジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤は、下記に示すものが好ましい。
【０１２５】
一般式（３）
【０１２６】
【化６】
2007279243.tif 000007
【０１２７】
（一般式（３）中、Ａはアルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、金属、水素原子である。）
【０１２８】
及び／又は一般式（４）
【０１２９】
【化７】
2007279243.tif 000008
【０１３０】
（一般式（４）中、Ｒ1、Ｒ2は、水素、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、−ＮＨＲ3（Ｒ3はアルキル基、アシル基、アリール基）、Ｒ1とＲ2は結合してもよく、また、Ｏ、Ｓ、Ｎ−Ｒ4（Ｒ4はアルキル基）を含む５または６員の環を形成していてもよい。）
【０１３１】
これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤は、単量体混合物100質量部に対して０．１〜１００質量部添加することができる。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が０．１質量部より少ないと、接着力の向上が不充分となり、その他、低湿条件下での亀裂防止効果や帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等効果が不充分となり易い。一方、ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が１００質量部を超えると、未反応の架橋剤が多量に残り、上層のゼラチン層に移行して過硬膜となり、乳剤又はバック層との接着性が低下し、好ましくない。
【０１３２】
これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の具体例としては、次に示すものがある。
【０１３３】
【化８】
2007279243.tif 000009
【０１３４】
〔親水性高分子を主成分とする層〕
本発明において、上記の下塗層上に親水性ポリマーを主バインダーとする第２の下塗層を設けることが望ましい。
層中において、親水性ポリマーは80質量％〜100質量％で含まれる事が好ましく、より好ましくは85質量％〜100質量％である。
【０１３５】
ここで、親水性ポリマーとして、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチン等のアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしくはアミド等をゼラチンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルアミド等の単独もしくは共重合体、あるいはそれらの部分加水分解物等合成もしくは天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独または混合して使用される。好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはその誘導体である。
【０１３６】
本発明に係る下塗液は、一般によく知られた塗布方法、例えば、ディップコート法、エアナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョン法等により塗布することができる。
【０１３７】
易接着層の厚みとしては０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍより薄いと十分な接着性が得られ難く、また、１．０μｍより厚いと接着性の効果は飽和する。
親水性高分子を含有する層の厚みとしては、０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍより薄いと十分な接着性が得られ難く、また、１．０μｍより厚いと接着性の効果は飽和する。
【０１３８】
易接着層、親水性高分子を含有する層には、必要に応じて紫外線吸収剤を添加することもできる。
紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、紫外線吸収剤としては、各層に紫外線吸収剤を添加した後の偏光板透明保護フィルム全体での、波長３８０ｎｍの透過率が０〜５０％、好ましくは０〜３０％、より好ましくは０〜１０％、６００ｎｍの透過率が８０〜１００％、好ましくは８５〜１００％、より好ましくは９０〜１００％であるものが好ましく用いられる。
【０１３９】
〔カール防止層〕
本発明の透明保護フィルム（透明樹脂フィルム）には、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フィルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。
カール防止層は透明樹脂フィルムの光散乱層または反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フィルムの片面にカール防止層として易接着層を塗設する場合もあり、また逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。
【０１４０】
カール防止加工の具体的方法としては、溶剤塗布によるもの、溶剤とセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。溶剤による方法とは、具体的には偏光板用保護フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムを溶解させる溶剤または膨潤させる溶剤を含む組成物を塗布することによって行われる。これらのカールを防止する機能を有する層の塗布液は従ってケトン系、エステル系の有機溶剤を含有するものが好ましい。好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸エチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−ｎ−プ
ロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトン等であり、好ましいエステル系の有機溶剤の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。しかしながら、用いる溶剤としては溶解させる溶剤および／または膨潤させる溶剤の混合物の他、さらに溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物および塗布量を用いて行う。この他にも、透明ハード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。
【０１４１】
〔プライマー層・無機薄膜層〕
支持体と支持体上に設けられた層との間に、公知のプライマー層または無機薄膜層を設置することでガスバリアー性を高めたりすることができる。
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることが可能であるが、本発明においてはこのプライマー層として有機無機ハイブリッド層を、無機薄膜層として無機蒸着層またはゾルーゲル法による緻密な無機コーティング薄膜が好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。
【０１４２】
〔硬化〕
支持体上に硬化層（例えば光散乱層等）を有するフィルムの形成は、溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線および／または熱により、各種硬化層を形成しうる各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
【０１４３】
本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０１４４】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０１４５】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【０１４６】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を、電離放射線を照射しかつ電離放射線照射開始から０．５秒以上の間、膜面温度６０℃以上に加熱した状態で、酸素濃度１０体積％以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。
また電離放射線照射と同時および／または連続して酸素濃度３体積％以下の雰囲気で加
熱されることも好ましい。
特に最外層であり、かつ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
【０１４７】
電離放射線を照射する時間については０．７秒以上６０秒以下が好ましく、０．７秒以上１０秒以下がより好ましい。０．５秒以下では、硬化反応が完了することができず、十分な硬化を行うことができない。また長時間低酸素条件を維持することは、設備が大型化し、多量の不活性ガスが必要であり好ましくない。
【０１４８】
酸素濃度は６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。必要以上に酸素濃度を低減するためには、窒素などの不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。
【０１４９】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１５０】
硬化の際、フィルム面が６０℃以上１７０℃以下で加熱されることが好ましい。６０℃未満では加熱の硬化は少なく、１７０℃を超えると支持体の変形などの問題が生じる。更にこの好ましい温度は６０℃〜１００℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムが前記温度になる時間は、ＵＶ照射開始から０．１秒以上、３００秒以下が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。フィルム面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎると、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を促進できず、逆に長すぎてもフィルムの光学性能が低下し、また設備が大きくなるなどの製造上の問題も生じる。
【０１５１】
加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許２５２３５７４号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。
【０１５２】
紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０１５３】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも２回の電離放射線が酸素濃度３体積％を超えることのない連続した反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。
特に高生産性のため製造速度をあげた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。
【０１５４】
また、硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線および／または熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。
【０１５５】
〔ハンドリング〕
本発明のフィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０１５６】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
本発明のフィルムを作成するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１５７】
〔第二のフィルム〕
本発明の偏光板の第二のフィルムとしては特に限定されないが、透湿度が７００〜３０００ｇ／ｍ2・ｄａｙの偏光板保護フィルムを張り合わることが好ましく、さらに好ましくは１０００〜１７００ｇ／ｍ2・ｄａｙである。特に、セルロースエステルを主成分（好ましくはフィルム固形分に対して70〜100質量％、より好ましくは80〜100質量％）とするフィルムが好ましい。本発明においては、通常使用されているＴＡＣは好適に用いられる。
通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いても良い。
更には、本発明の偏光板において、第二のフィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであっても良い。
また、本発明の偏光板において、第二のフィルムがＲｅが０〜１０ｎｍ、Ｒｔｈが２０〜２０ｎｍであるフィルム（たとえば、特開２００５−３０１２２７号公報段落番号［００９５］参照）であっても良い。
【０１５８】
《液晶表示装置》
本発明の偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
【０１５９】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。
【０１６０】
＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１６１】
＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  Ｔｅｃｈ．  Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１６２】
＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１６３】
＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０１６４】
＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０１６５】
＜輝度向上フィルム＞
輝度向上フィルム（ＤＢＥＦ  ３Ｍ製）を使用している液晶表示装置の場合には、本発明にかかる偏光板は視認側の偏光板にのみ使用し、バックライト側には通常のＴＡＣを用いた偏光板を使用することが好ましい。該構成により、虹ムラ、色味変化が大幅に抑えられる。
【０１６６】
＜タッチパネル＞
本発明の偏光板は、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０１６７】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明の偏光板は、有機ＥＬ素子等の基板（基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【０１６８】
《測定法》
以下、本明細書に記載のある各種の量を測定する方法について、説明する。
【０１６９】
〔透湿度〕
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。
【０１７０】
〔Ｔｇ〕
Ｔｇは動的粘弾性測定で得られるｔａｎδのピーク温度から決定する。動的粘弾性測定装置はＤＶＡ−２２５（アイティー計測制御（株）社製）を用いｔａｎδは測定周波数１Ｈｚでの測定する。
【０１７１】
〔弾性率〕
東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ  Ｔ５０ＢＰを用い、２５℃・６０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求める。
【０１７２】
〔含水量〕
フィルムサンプルを120度で120分間乾燥させ、乾燥前後の重量差を水分量とし、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
【０１７３】
〔レターデーション〕
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが1軸または2軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。
【０１７４】
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーシ
ョンの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA  21ADHまたはWRが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりRthを算出することもできる。
【０１７５】
式（１）
【０１７６】
【数１】
2007279243.tif 000010
【０１７７】
注記：
上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値をあらわす。
式（１）におけるnxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnx及びnyに直交する方向の屈折率を表す。
【０１７８】
式（２）
Rth＝(（nx+ny）/2 - nz) x d
【０１７９】
測定されるフィルムが1軸や2軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis）がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−50度から＋50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて11点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHまたはWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx-nz）/(nx-ny)が更に算出される。
【０１８０】
〔表面粗さ〕
中心線平均粗さ（Ｒａ）の測定は、ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて行うことができる。
【０１８１】
〔ヘイズ〕
本発明にかかるフィルムのヘイズはＪＩＳ−Ｋ７１０５に規定されたヘイズ値のことであり、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１で規定された測定法に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−１００１ＤＰ」を用いて測定したヘイズ＝（拡散光／全透過光）×１００（％）として自動計測される値を全ヘイズとした。
フィルムにシリコンオイルを滴下し、表面ヘイズをキャンセルした状態で上記条件で測定した値を内部ヘイズとした。表面ヘイズは全ヘイズから内部ヘイズを差し引いた値とした。
【０１８２】
〔カール量〕
貼り合わせで得られた積層体または偏光板を偏光子の吸収軸に対して45度の方向に100mm×100mmの大きさに打ち抜いてサンプルとし、当該サンプルを平坦面に置いたときに当該平坦面から持ち上がった空間距離Pをいう。
【０１８３】
〔硬度〕
＜鉛筆硬度＞
本発明のフィルムの強度は、ＪＩＳ―Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で評価することが出来る。
鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１８４】
また、特開２００４−３５４８２８号公報記載のナノインデンテーションによって表面硬度をもとめることができ、この場合の硬度としては２ＧＰａ〜４ＧＰａ、ナノインデンテーション弾性率は１０ＧＰａ〜３０ＧＰａであることが好ましい。
【０１８５】
〔密着性評価〕
フィルムの層間、あるいは支持体と支持体上に設けられた塗布層との密着性は以下の方法により評価することが出来る。
塗布層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）を圧着し、２４時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察する。
１００個の升目中、剥がれが１０升以内であることが好ましく、２升以内であることが更に好ましい。
【０１８６】
〔分光特性〕
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所）にて、波長３００〜800ｎｍにおける透過率を測定した。
ｂ値は、日本電色工業（株）製 SZ-Σ９０型色差計により測定した。
【実施例】
【０１８７】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０１８８】
＜原料樹脂合成＞
ポリエチレンテレフタレートの合成は常法によりポリエステルＡを得た。
また、スルホン酸基を含むものは以下の方法により合成した。
【０１８９】
〔スルホン酸基を含有したポリエチレンテレフタレートの合成〕
テレフタル酸ジメチル１００質量部、エチレングリコール６４質量部に酢酸カルシウム水和物０．１質量部を添加し、常法によりエステル交換反応を行なった。
得られた生成物に５−ナトリウムスルホジ（β−ヒドロキシエチル）イソフタル酸のエチレングリコール溶液（濃度３１質量％）３５質量部（６．３モル％／全ジカルボン酸成分）、ポリエチレングリコール（数平均分子量３０００）５．８質量部（５質量％／生成したポリエステル）、三酸化アンチモン０．０５質量部、リン酸トリメチルエステル０．１３質量部を添加した。
次いで徐々に昇温、減圧にし、２８０℃、４０Ｐａで重合を行ない、ポリエステルＳを得た。
【０１９０】
実施例１
〔偏光板保護フィルムの作製〕
（偏光板保護フィルム１）
＜ポリエステルフィルムの作成＞
上記ポリエステルＡのチップ材料を、ヘンシェルミキサーおよびパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を２８０度〜３００度に設定した押し出し機内で溶融させた。溶融させたポリエステル樹脂を、ダイ部より静電印加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを得た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．３倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．９倍に延伸し、厚さ100μｍのポリエステルフィルムを作成した。
【０１９１】
＜下塗り層Ｓ１＞
上記ポリエステルフィルムの一方の面（光散乱層との接着界面となる面）に、塗布直前にコロナ放電処理を行い、以下の塗布液を乾燥膜厚が９０ｎｍとなるように塗布（Ｓ１）した。
【０１９２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
スチレンブタジエンラテックス（固形分４３％）                  ３００ｇ
２，４−ジクロロ−６ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩（８％）
４９ｇ
蒸留水                                                    １６００ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９３】
＜光散乱層形成＞
（ゾル液ａ−２の調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシオキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液ａ−２を１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は３０％であった。
また1Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、得られた物質の構造は、以下の一般式で表される構造であった。
【０１９４】
【化９】
2007279243.tif 000011
【０１９５】
更に、29Ｓｉ−ＮＭＲ測定による縮合率αは０．５６であった。この分析結果から、本シランカップリング剤ゾルは直鎖状構造部分が大部分であることが分かった。
また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは５％以下の残存率であった。
【０１９６】
（１）光散乱層用塗布液の調製
────────────────────────────────────
光散乱層（防眩性ハードコート層）用塗布液Ａ−１の組成
────────────────────────────────────
ＰＥＴ−３０                                                ５０．０ｇ
イルガキュア１８４                                            ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％）                                        １．５ｇ
架橋アクリル−スチレン粒子（３０％）                        １３．０ｇ
ＳＰ−１４                                                  ０．７５ｇ
ゾル液ａ−２                                                  ９．５ｇ
トルエン                                                    ３８．５ｇ
────────────────────────────────────
【０１９７】
上記塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層用塗布液Ａ−１を調製した。
【０１９８】
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・ＳＸ−３５０：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子［屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ［屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・ＳＰ−１４：フッ素系表面改質剤
【０１９９】
フッ素系表面改質剤
【０２００】
【化１０】
2007279243.tif 000012
【０２０１】
（２）光散乱層の塗設
下塗り層（S1）を設けたポリエステルフィルムをロール形態で巻き出してＳ１を塗布してある面に直接、光散乱層塗布液を線数１３５本／インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。
この光散乱層の特性は全ヘイズが５５％、表面ヘイズが１７％、内部ヘイズが３８％であった。
【０２０２】
＜偏光子用下塗り＞
偏光子との接着面に以下の処方の下塗りを行った。
【０２０３】
＜下塗り層ＳＳ１＞
前記光散乱層を設けたポリエステルフィルムのＳ１塗布の反対面に、コロナ放電処理を行い、以下の塗布液を乾燥膜厚が９０ｎｍとなるように塗布（ＳＳ１）した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
スチレンブタジエンラテックス（固形分４３％）                  ３００ｇ
２，４−ジクロロ−６ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩（８％）
４９ｇ
蒸留水                                                      １６００ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０４】
＜親水性高分子層ＳＳ２＞
さらに、ＳＳ１の塗布乾燥後、ＳＳ１塗布層の上に、コロナ放電処理を行い、次の親水性高分子を含む層を乾燥膜厚１００ｎｍとなるように塗布（ＳＳ２）を行い偏光板保護フィルム１を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ゼラチン                                                        ３０ｇ
酢酸（２０％）                                                  ２０ｇ
蒸留水                                                      １９００ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０５】
（他の偏光板保護フィルム）
光学異方性層が塗布されているＷＶフィルム（富士写真フイルム（株）製）を５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に１２０秒間浸漬した後、水洗乾燥した。
【０２０６】
〔偏光板の作製〕
（偏光板１）
厚み75μm、重合度2400のポリビニルアルコールを30℃の純水に1分間浸漬しながら2.5倍に延伸した。次いで、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の染色浴巾に30℃で1分間浸漬しながら1.2倍に延伸した。次いで、60℃4%のホウ酸浴中に2分間浸漬しながら2倍に延伸した。さらに、ヨウ化カリウム濃度5%の水溶液に30℃で5秒間浸漬した後、35℃で5分間乾燥し、偏光子を得た。この偏光子の片面にPVA系接着剤を用いて偏光板保護フィルム１のＳＳ２を施した面側を貼り合せて、積層体を形成した。貼り合わせに際しては、得られる積層体がフラットになるように張力を制御して貼り合わせた。得られた積層体を60℃で３分間乾燥処理をし、積層体の含水量が７％となった後、引き続いて(すなわち、積層体を巻き取って保存することなく)、偏光子のもう一方の面にPVA系接着剤を用いて上記鹸化したＷＶフィルムの光学異方性層が塗布されていない面を貼り合わせ、70℃で７分間乾燥して偏光板１を得た。貼り合わせに際しては、得られる偏光板がフラットになるように張力を制御して貼り合わせた。得られた偏光板の接着性試験である60℃温水浸漬試験に供した。
結果を下記表２に示す。
【０２０７】
(60℃温水浸漬試験)
偏光板を25×50mmにカットし、60℃の温水の巾に浸漬し、偏光板の保護フィルムがはがれるまでの時間（ｈ）を測定した（表２参照）。
【０２０８】
〔偏光板保護フィルムの作製〕
（偏光板保護フィルム２〜７）
偏光板保護フィルム１と同様の作成方法により、表１に示す様に、偏光板保護フィルム１に代え、光散乱層塗布液に散乱粒子（ＳＸ−３５０、架橋アクリル−スチレン粒子）を入れないで塗布した偏光板保護フィルム２、ポリエステルフィルムの原料ポリエステルをポリエステルＳ変更した偏光板保護フィルム３、紫外線吸取剤を混錬した偏光板保護フィルム４、また、40μｍのポリエステルフィルムを用いた偏光板保護フィルム５を作製した。
【０２０９】
紫外線吸収剤を入れたPET４は以下の様に作成した。
下記化合物１２と１３を１：１で樹脂固形分量の０．５質量％をポリエステル樹脂に練り込んだチップの形態とし、ポリエステルAのチップとブレンドした。このチップ材料を、ヘンシェルミキサーおよびパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を２８０度〜３００度に設定した押し出し機内で溶融させた。溶融させたポリエステル樹脂を、ダイ部より静電印加されたチラーロール上に吐出させ、非結晶ベースを得た。この非結晶ベースをベース流れ方向に延伸比３．３倍に延伸後、ベース幅方向に延伸比３．９倍に延伸し、厚さ100μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの
紫外線吸収剤の染み出しは観察されなかった。紫外線吸収剤染み出しはフィルムシート６０度・９０％相対湿度雰囲気下に１０日間放置し、表面の紫外線吸収剤の染み出し（ブリードアウト）を目視観察した。
フィルムの質量減少は０．６％であり、380nmと600nmの透過率はそれぞれ４０，８５％であった。
【０２１０】
【化１１】
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【０２１１】
【化１２】
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【０２１２】
また、以下の様にノルボルネンを用いた偏光板保護フイルム６を作成した。
ノルボルネン系フィルム(目本ゼオン社製、商品名「ZEONOR」、100μm)の片面を200w・min/m2の放電量でコロナ処理した。次いで、その処理面にシリコンプライマー(目本ユニカ社製、商品名「APZ-6601」5wt%)を流延した後、120℃で30分間加熱処理して、透湿度３g/m2・24hの偏光板保護フイルム６を得た。
【０２１３】
偏光板保護フィルム７として、セルロースアシレートフィルム（富士写真フイルム株式会社製、商品名「TD80」、80μｍ、透湿度1400g/m2・24h）を用いた。
【０２１４】
【表１】
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【０２１５】
〔偏光板の作製〕
（偏光板２〜15、TD,Z,N,TP1,TP2、TP3）
偏光板１と同様にして、表２の様に各種偏光板保護フィルムを用い乾燥条件（積層体含水量）、貼合条件（逐次、同時）を変化させ偏光板２〜15、TD、Z、N、TP1、TP2、TP3を作製し、60℃温水浸漬試験を実施した。（表２参照）
【０２１６】
「ＴＤ８０」とは、富士写真フイルム（株）製のTACであり、「Z−TAC」は富士写真フイルム（株）製の低レターデーションＴＡＣである（透明）。
【０２１７】
【表２】
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【０２１８】
実施例２
〔液晶表示装置の性能〕
（液晶表示装置１）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＭＲＴ−１９１Ｓ、三菱電機  製）に設けられている偏光板を剥がし、代わりに本発明の偏光板１を、ポリエステル樹脂フィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付けた。暗室にて、液晶表示装置を表示して、種々の視角から目視により以下の特性を評価したところ良好な結果を得た。
【０２１９】
＜高湿および低湿処理後の光漏れ評価（額縁ムラ評価）＞
液晶表示装置を６０℃９０％ＲＨ５０時間、または７０℃１０％ＲＨ５０時間処理後に、２５℃６０％ＲＨの環境下で２時間放置した後、液晶表示装置を黒表示させ、正面からの光漏れを複数の観察者により目視評価したところ光漏れは観察されず良好な結果を得た。
下記評価基準に従い、高湿・低湿での光漏れを評価した。画面の観察は、光の入らない暗室で、画面を黒表示させた状態を目視観察した。
◎：光漏れがほとんど分からない。
○：光漏れが抑制されている。
×：光漏れが観察される。
【０２２０】
〔液晶表示装置の性能〕
（液晶表示装置２〜２５）
液晶表示装置１と同様にして、偏光板１の代わりに偏光板２〜13、TD,Z,TP1,TP2、TP3を用いたものについても、同様の評価を行なった。
【０２２１】
さらに、ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−２６ＧＤ３  シャープ株式会社製）に設けられている偏光板を位相差膜を残したまま剥がし、代わりに本発明の偏光板TDをポリエステル樹脂フィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。また、同様に偏光板１２、１３を用いた物についてもノルボルネン側が外側にくるようにして液晶表示装置を作成した。
ＩＰＳ型液晶表示装置（ＴＨ−２６ＬＸ３００  松下電器産業株式会社製）に設けられている偏光板を剥がし、代わりに本発明の偏光板Zをポリエステル樹脂フィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。また、同様に偏光板１２、１３を用いた物についてもノルボルネン側が外側にくるようにして液晶表示装置を作成した。
また、ＩＰＳ型液晶表示装置（３２ＬＣ１００  株式会社東芝製）に設けられている偏光板を表側の位相差膜を残し、裏側の位相差膜は剥がし、代わりに本発明の偏光板Zをポリエステル樹脂フィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けた。また、同様に偏光板１２、１３を用いた物についてもノルボルネン側が外側にくるようにして液晶表示装置を作成した。
これらについても、高湿・低湿での光漏れを評価した。（表３参照）
また、虹ムラの発生はノルボルネンでは起こらず、光散乱層を付与したPETでも、十分に虹ムラが低減できていた。
【０２２２】
【表３】
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