(57)【要約】      （修正有）【課題】最もウエハ側のレンズの光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）がレンズ表面を伝って、最もウエハ側のレンズの下側の空間に侵入するのを防止できる投影光学系を備える露光装置を提供する。【解決手段】複数の光学素子を有し、該各光学素子のうちの感光性基板Ｗ側の特定光学素子ＬＳ７の光射出面側の光路空間に液浸領域ＬＴ１を形成し、マスクＲに形成されたパターンを前記感光性基板Ｗに投影する投影光学系ＰＬを備える露光装置において、前記特定光学素子ＬＳ７の光入射面側の有効領域外に前記特定光学素子の縁部に沿って設けられた境界形状５０と、前記境界形状の外側の前記特定光学素子の表面の少なくとも一部に設けられた撥液膜５１とを備える。【選択図】図２
2007096254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学素子を有し、該各光学素子のうちの感光性基板側の特定光学素子の光出射面側の光路空間に液浸領域を形成し、マスクに形成されたパターンを前記感光性基板に投影する投影光学系を備える露光装置において、
前記特定光学素子の光入射面側の有効領域外に前記特定光学素子の縁部に沿って設けられた境界形状と、
前記境界形状の外側の前記特定光学素子の表面の少なくとも一部に設けられた撥液膜と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記撥液膜は、撥水膜であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記境界形状は、前記特定光学素子の表面に対する段差形状であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記境界形状は、前記特定光学素子の表面に対する凹形状であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の露光装置。
【請求項５】
前記境界形状は、前記特定光学素子の表面に対する凸形状であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の露光装置。
【請求項６】
前記境界形状は、研削加工で形成されることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記境界形状は、ブラスト加工で形成されることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７の何れか一項に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光光の光軸方向に沿って形成される複数の光路空間のうち特定の光路空間に液浸領域が形成される投影光学系を備える露光装置、及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の露光装置として、例えば特許文献１に記載の露光装置が提案されている。特許文献１の露光装置は、露光光源から出射された露光光をフォトマスク、レチクル等のマスクに照射させる照明光学系と、マスクに形成された露光パターンを感光性材料（レジスト）の塗布されたウエハ、ガラスプレート等の基板に投影させる投影光学系とを備えている。照明光学系及び投影光学系は鏡筒をそれぞれ有しており、各鏡筒内にはそれぞれ少なくとも１つの光学素子（レンズなど）が収容されている。
【０００３】
また、特許文献１の露光装置においては、デバイスの高密度化及び基板上に形成されるパターンの微細化に対応すべく、投影光学系と基板との間の空間である光路空間に気体よりも屈折率の高い液体（純水）を供給して、液浸領域を形成している。そのため、投影光学系を通過した露光光は、液浸領域内を通過した後に基板を照射する。
【特許文献１】国際公開第９９／４９５０４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上述のような液浸型の露光装置においては、投影光学系を構成するレンズのなかで、ウエハ側から数えて１枚目（最もウエハ側）と２枚目の間の光路空間にも液浸領域を形成することが考えられるが、このような露光装置においては、最もウエハ側のレンズの光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）がレンズ表面を伝って、最もウエハ側のレンズの下側の空間に浸入するのを防止する必要がある。
【０００５】
本発明の課題は、最もウエハ側のレンズの光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）がレンズ表面を伝って、最もウエハ側のレンズの下側の空間に浸入するのを防止することができる投影光学系を備える露光装置及び該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明の露光装置は、複数の光学素子を有し、該各光学素子のうちの感光性基板Ｗ側の特定光学素子ＬＳ７の光出射面側の光路空間に液浸領域ＬＴ１を形成し、マスクＲに形成されたパターンを前記感光性基板Ｗに投影する投影光学系ＰＬを備える露光装置１１において、前記特定光学素子ＬＳ７の光入射面側の有効領域外に前記特定光学素子の縁部に沿って設けられた境界形状５０と、前記境界形状の外側の前記特定光学素子の表面の少なくとも一部に設けられた撥液膜５１とを備える。
【０００７】
この発明の露光装置によれば、境界形状の外側の特定光学素子の表面の少なくとも一部に撥液膜が形成されているため、光学素子の光学特性を悪化させることなく、最もウエハ側のレンズの光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）がレンズ表面を伝って、最もウエハ側のレンズの下側の空間に浸入するのを防止することができる。
【０００８】
また、この発明のマイクロデバイスの製造方法は、この発明の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とする。このマイクロデバイスの製造方法によれば、良好なマイクロデバイスの製造を行うことができる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、境界形状の外側の特定光学素子の表面の少なくとも一部に撥液膜が形成されているため、光学素子の光学特性を悪化させることなく、最もウエハ側のレンズの光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）がレンズ表面を伝って、最もウエハ側のレンズの下側の空間に浸入するのを防止することができる。また、良好なマイクロデバイスの製造を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態に係る露光装置について説明する。図１に示すように、本実施の形態の露光装置１１は、マスクとしてのレチクルＲと基板としてのウエハＷとを一次元方向（ここでは、図１における紙面内左右方向）に同期移動させつつ、レチクルＲに形成された回路パターンを、投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の各ショット領域に転写する。即ち、本実施の形態の露光装置１１は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光措置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
【００１１】
露光装置１１は、露光光源（図示略）、照明光学系１２、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及びウエハステージＷＳＴなどを備えている。そして、レチクルステージＲＳＴはレチクルＲを保持すると共に、ウエハステージＷＳＴはウエハＷを保持する。また、本実施の形態の露光光源には、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を露光光ＥＬとして発光する光源が用いられている。
【００１２】
照明光学系１２は、図示しないフライアイレンズやロッドレンズなどのオプティカルインテグレータ、リレーレンズ、及びコンデンサレンズなどの各種レンズ系及び開口絞りなどを含んで構成されている。そして、図示しない露光光源から出射された露光光ＥＬは、照明光学系１２を通過することにより、レチクルＲ上のパターンを均一に照明するように調整される。
【００１３】
レチクルステージＲＳＴは、照明光学系１２と投影光学系ＰＬとの間に、レチクルＲの載置面が光路と略直交するように配置されている。すなわち、レチクルステージＲＳＴは、投影光学系ＰＬの物体面側（露光光ＥＬの入射側であって、図１では上側）に配置されている。
【００１４】
投影光学系ＰＬは、複数（図１では７枚のみ図示）のレンズエレメントＬＳ１，ＬＳ２，ＬＳ３，ＬＳ４，ＬＳ５，ＬＳ６，ＬＳ７を備えている。これら各レンズエレメントＬＳ１〜ＬＳ７のうち最もウエハＷ側のレンズエレメント（以下、第１特定レンズエレメントという。）ＬＳ７以外のレンズエレメントＬＳ１〜ＬＳ６は、鏡筒１３内に保持されている。そして、鏡筒１３内における各レンズエレメントＬＳ１〜ＬＳ６間は、パージガス（例えば窒素）が充填されている。また、鏡筒１３の下端部には、第１特定レンズエレメント（第１特定光学素子）ＬＳ７を保持するためのレンズホルダ１４が配設されている。なお、各レンズエレメントＬＳ１〜ＬＳ７は、露光光ＥＬが入射する光入射面と、入射した露光光ＥＬが射出する光射出面とを有している。そして、各レンズエレメントＬＳ１〜ＬＳ７は、光軸が略一致すると共に、それぞれの光入射面側及び光射出面側に光路空間が形成されるように配置されている。
【００１５】
ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの像面側において、ウエハＷの載置面が露光光ＥＬの光路と略直交するように配置されている。そして、露光光ＥＬにて照明されたレチクルＲ上のパターンの像が、投影光学系ＰＬを通して所定の縮小倍率に縮小された状態で、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷに投影転写される。
【００１６】
ここで、本実施の形態に係る露光装置１１は、露光光ＥＬを実質的に短波長化して解像度を向上させると共に焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用したいわゆる液浸露光装置である。そのため、露光装置１１には、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光射出面側の光路空間１５及び光入射面側の光路空間１６に純水ＬＱを個別に供給するための第１液体供給装置１７及び第２液体供給装置１８が設けられている。また、露光装置１１には、光路空間１５及び光路空間１６に供給された純水ＬＱを個別に回収するための第１液体回収装置１９及び第２液体回収装置２０が設けられている。
【００１７】
図２に示すように、第１特定レンズエレメントＬＳ７とウエハＷとの間の光路空間１５には、第１液体供給装置１７から純水ＬＱが供給されることにより、液浸領域ＬＴ１が形成される。そして、液浸領域ＬＴ１を形成する純水ＬＱは、第１液体回収装置１９の駆動に基づき光路空間１５から回収される。また、第１特定レンズエレメントＬＳ７と、第１特定レンズエレメントＬＳ７に対して投影光学系ＰＬの物体面側に配置されたレンズエレメント（第２特定光学素子）ＬＳ６との間の光路空間１６には、第２液体供給装置１８から純水ＬＱが供給されることにより、液浸領域ＬＴ２が形成される。すなわち、レンズエレメントＬＳ６は、第１特定レンズエレメントＬＳ７に次いで投影光学系ＰＬの像面に近い第２特定レンズエレメントとして構成されている。そして、この液浸領域ＬＴ２を形成する純水ＬＱは、第２液体回収装置２０の駆動に基づき光路空間１６から回収される。
【００１８】
ここで、第２特定レンズエレメントＬＳ６は、屈折力（レンズ作用）を有する光学素子であって、その下面ＬＳ６ｃは平面状であり、その上面ＬＳ６ｂは投影光学系ＰＬの物体面側に向かって凸状に形成され、正の屈折力を有している。また、第２特定レンズエレメントＬＳ６は、上面視略円形状をなしており、その上面ＬＳ６ｂの外径は下面ＬＳ６ｃの外径よりも大きく形成されている。すなわち、第２特定レンズエレメントＬＳ６は、その中央部分が露光光ＥＬを通過させる露光光通過部（有効領域）ＬＳ６Ａであると共に、その露光光通過部ＬＳ６Ａの外周側にフランジ部ＬＳ６Ｂが形成されている。そして、フランジ部ＬＳ６Ｂを介して第２特定レンズエレメントＬＳ６は鏡筒１３に支持されている。
【００１９】
また、第１特定レンズエレメントＬＳ７は、露光光ＥＬを透過可能な無屈折力の平行平板であって、その下面ＬＳ７ｃと上面ＬＳ７ｂとは平行である。また、第１特定レンズエレメントＬＳ７は、上面視略円形状をなしており、その上面ＬＳ７ｂの外径は下面ＬＳ７ｃの外径よりも大きく形成されている。すなわち、第１特定レンズエレメントＬＳ７は、その中央部分が露光光ＥＬを通過させる露光光通過部（有効領域）ＬＳ７Ａであると共に、その露光光通過部ＬＳ７Ａの外周側にフランジ部ＬＳ７Ｂが形成されている。そして、フランジ部ＬＳ７Ｂを介して第１特定レンズエレメントＬＳ７はレンズホルダ１４に支持されている。
【００２０】
本実施の形態の投影光学系ＰＬにおいて、鏡筒１３とレンズホルダ１４との間には、環状をなすノズル部材（以下、ウエハＷ側から２つ目の光路空間１６に純水ＬＱを供給するものであるから「第２ノズル部材」という。）２１が露光光ＥＬの光路を囲むように配設されている。この第２ノズル部材２１は、鏡筒１３の下端部にねじ（図示略）によって固定されている。そして、第２ノズル部材２１の下面側にレンズホルダ１４が複数本（図２では２本のみ図示）のねじＳＣによって固定されている。
【００２１】
また、第２ノズル部材２１は、図２に示すように、その内側面２１ｂが第２特定レンズエレメントＬＳ６の下面ＬＳ６ｃと下面ＬＳ６ｄとの間の側面ＬＳ６ａと対向すると共に、その上面２１ｃが第２特定レンズエレメントＬＳ６の下面ＬＳ６ｄと対向するように配置されている。ここで、第２ノズル部材２１の上面２１ｃには、環状をなす凸部２１ｄが形成されており、この凸部２１ｄにより、凸部２１ｄの上面と第２特定レンズエレメントＬＳ６の下面ＬＳ６ｄとの間には、極めて狭い隙間が形成されている。即ち、第２ノズル部材２１は、その内側面２１ｂと第２特定レンズエレメントＬＳ６の側面ＬＳ６ａとの間、及び第２ノズル部材２１の凸部２１ｄの上面と第２特定レンズエレメントＬＳ６の下面ＬＳ６ｄとの間に隙間を形成することにより、第２特定レンズエレメントＬＳ６と接触しないように配置される。
【００２２】
また、第２特定レンズエレメントＬＳ６の側面ＬＳ６ａ及びフランジ部ＬＳ６Ｂの下面ＬＳ６ｄ、即ち、第２特定レンズエレメントＬＳ６の有効領域外の表面には、撥液機能膜である撥水機能膜２８が形成されている。図３に示すように、撥水機能膜２８は、第２特定レンズエレメントＬＳ６の側面ＬＳ６ａ及び下面ＬＳ６ｄの表面に形成された遮光膜２８ａと、この遮光膜２８ａの表面に形成された撥液膜である撥水膜２８ｂとにより構成されている。ここで、撥水機能膜２８を構成する撥水膜２８ｂは、低温で成膜可能なフッ素樹脂材料、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料またはシリコン系樹脂材料により形成され、撥水機能膜２８を構成する遮光膜２８ａは、光学濃度ＯＤ１以上の金属膜または金属酸化膜である。金属膜は、具体的には、Ａｕ，Ｐｔ，Ａｇ，Ｎｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｄ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｓｉ及びＣｒからなる群から選ばれた少なくとも１種の金属により形成される膜である。また、金属酸化膜は、具体的には、ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，ＴｉＯ２，Ｔａ２Ｏ５，ＳｉＯ及びＣｒ２Ｏ３からなる群から選ばれた少なくとも１種の物質、または前記群から選ばれた物質の混合物により形成される膜である。
【００２３】
撥水機能膜２８は、第２特定レンズエレメントＬＳ６の表面に形成された遮光膜２８ａを有するため、撥水膜２８ｂに露光光ＥＬであるレーザ光が照射されるのを防止することができる。従って、撥水膜２８ｂのレーザ光照射による劣化を防止することができる。ここで遮光膜２８ａに金属膜を用いる場合には、金属膜が反射膜であるため、遮光膜２８ａのエネルギー吸収を抑制でき、遮光膜２８ａの温度上昇に伴う第２特定レンズエレメントＬＳ６の光学特性の悪化を防止することができる。また、遮光膜２８ａに金属酸化膜を用いる場合には、金属酸化膜が吸収膜であるため、迷光の発生を防止することができる。
【００２４】
第２ノズル部材２１は、液体供給管２２を介して第２液体供給装置１８に連結されている。第２ノズル部材２１内には液体供給管２２と連通する液体供給通路２３が形成されており、液体供給管２２及び液体供給通路２３を流動した純水ＬＱは、第２ノズル部材２１の内側面２１ｂ側に形成された供給用開口部２４を介して光路空間１６内に流入する。また、第２ノズル部材２１は、液体回収管２５を介して第２液体回収装置２０に連結されている。第２ノズル部材２１内には、液体回収管２５と連通する液体回収通路２６が形成されている。そして、光路空間１６内で液浸領域ＬＴ２を形成する純水ＬＱは、第２ノズル部材２１の内側面２１ｂ側において供給用開口部２４と対向する側に形成された回収用開口部２７を介して第２液体回収装置２０に回収される。なお、回収用開口部２７は、液浸領域ＬＴ２よりも物体面側（図２では上方）に形成されている。
【００２５】
また、レンズホルダ１４とウエハＷとの間には、環状をなすノズル部材（以下、ウエハＷ側から１つ目の光路空間１５に純水ＬＱを供給するものであるから「第１ノズル部材」という。）３０が露光光ＥＬの光路を囲むように配設されている。そして、第１ノズル部材３０は、図示しない支持部材によって第１特定レンズエレメントＬＳ７及びレンズホルダ１４に当接しないように支持されている。
【００２６】
また、第１ノズル部材３０は、その内側面３０ｂが第１特定レンズエレメントＬＳ７における下面ＬＳ７ｃと下面ＬＳ７ｄとの間の側面ＬＳ７ａと対向すると共に、その上面３０ｃが第１特定レンズエレメントＬＳ７におけるフランジ部ＬＳ７Ｂの下面ＬＳ７ｄと対向するように配置されている。そして、第１ノズル部材３０は、その内側面３０ｂと第１特定レンズエレメントＬＳ７の側面ＬＳ７ａとの間に隙間を形成することにより、第１特定レンズエレメントＬＳ７と接触しないように配置される。
【００２７】
ここで第１特定レンズエレメントＬＳ７の上面の周縁部ＬＳ７ｅ、即ち、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光入射面側の有効領域外に第１特定レンズエレメントＬＳ７の縁部に沿って設けられた円周状の境界形状である段差形状５０と、円周状の段差形状５０の外側の第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面に形成された低温で成膜可能なフッ素樹脂により構成される撥水膜５１とを備えている。
【００２８】
ここで、第１特定レンズエレメントＬＳ７の縁部に沿って設けられた円周状の境界形状である段差形状５０は、研削加工またはブラスト加工により形成される。そして、形成された段差形状５０上に、スピンコート法などを用いて撥水膜５１が形成される。撥水膜５１は、第１特定レンズエレメントＬＳ７の縁部に沿って設けられた円周状の境界形状である段差形状５０部分にのみ形成されるため、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光学特性を悪化させることなく、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）が第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面を伝って、第１特定レンズエレメントＬＳ７の下側の空間に浸入するのを防止することができる。なお、境界形状は、純水ＬＱが供給される部分の形状によって変更できる。例えば、液体供給管２２と液体回収管２５が配置される方向へ伸びた長円などの形状としてもよい。
【００２９】
第１ノズル部材３０は、液体供給管３１を介して第１液体供給装置１７に連結されている。第１ノズル部材３０内には液体供給管３１と連通する液体供給通路３２が形成されると共に、第１ノズル部材３０の下面側には液体供給通路３２と連通する供給用開口部３３が環状をなすように形成されている。また、第１ノズル部材３０は、液体回収管３４を介して第１液体回収装置１９に連結されている。第１ノズル部材３０内には液体回収管３４と連通する液体回収通路３５が形成されると共に、第１ノズル部材３０の下面側には液体回収通路３５に連通する回収用開口部３６が環状をなすように形成されている。この回収用開口部３６は、供給用開口部３３の外側に供給用開口部３３を包囲するように形成されている。なお、回収用開口部３６には、多数の孔が形成されてなる多孔部材３７が設けられている。
【００３０】
次に、本実施の形態の露光装置１１の各光路空間１５，１６に純水ＬＱを供給した際の作用について説明する。ウエハステージＷＳＴに載置されたウエハＷが露光光ＥＬの光路上に配置されると、第１液体供給装置１７及び第２液体供給装置１８が駆動を開始する。すると、第１液体供給装置１７から純水ＬＱが供給され、この純水ＬＱは、液体供給管３１及び液体供給通路３２内を流動して、供給用開口部３３を介して光路空間１５内に供給される。同時に、第２液体供給装置１８から純水ＬＱが供給され、この純水ＬＱは、液体供給管２２及び液体供給通路２３内を流動して、供給用開口部２４を介して光路空間１６内に供給される。
【００３１】
そして、第１液体供給装置１７は、所定容量の純水ＬＱを光路空間１５内に供給すると、その駆動を停止する。その結果、光路空間１５内には、純水ＬＱからなる液浸領域ＬＴ１が形成される。また、第２液体供給装置１８は、所定容量の純水ＬＱを光路空間１６内に供給すると、その駆動を停止する。その結果、光路空間１６内には、純水ＬＱからなる液浸領域ＬＴ２が形成される。
【００３２】
この際に、光路空間１６内における純水ＬＱが、第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面を伝って、第１特定レンズエレメントＬＳ７の下側の空間に浸入するのを、撥水膜５１の撥水効果により防止することができる。純水ＬＱが第１特定レンズエレメントＬＳ７の下側の空間に浸入した場合、第１ノズル部材３０の上面３０ｃなどに光路空間１６内に満たした純水ＬＱが漏れ落ちてしまい、第２液体供給装置１８から絶えず供給し続けないと液浸領域ＬＴ２を維持できない。また、光路空間１６内から漏れ落ちた純水ＬＱが第２ノズル部材２１の下側に配置された第１ノズル部材３０を含む他の部材の上面に滴下して、他の部材の性能を低下させる要因になる。これを回避する方策として、滴下する純水ＬＱを回収する機構を設けることも考えられるが、その機構を設けるために余分なスペースが消費されてしまう。よりコンパクトな方策で回避するためには、撥水膜５１が必要になる。
【００３３】
なお、上述の実施の形態においては、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光入射面側の縁部に沿って境界形状として段差形状５０を形成したが、図４に示すように、第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面に境界形状として円周状の凹形状５０ａを設けてもよく、図５に示すように、第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面に境界形状として円周状の凸形状５０ｂを設けてもよい。ここで図４に示す円周状の凹形状５０ａは、研削加工またはブラスト加工により形成される。また、図５に示す円周状の凸形状５０ｂは、第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面に樹脂等を付着させることにより形成する。そして、形成された境界形状の外側にスピンコート法などを用いて撥水膜５１を形成する。撥水膜５１は、第１特定レンズエレメントＬＳ７の縁部に沿って設けられた境界形状の外側部分にのみ形成されるため、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光学特性を悪化させることなく、第１特定レンズエレメントＬＳ７の光入射面側に形成された液浸領域の液体（純水）が第１特定レンズエレメントＬＳ７の表面を伝って、第１特定レンズエレメントＬＳ７の下側の空間に浸入するのを防止することができる。
【００３４】
上述の実施の形態にかかる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル）Ｒを照明し（照明工程）、投影光学系ＰＬを用いてマスクＲに形成された転写用のパターンを感光性基板（ウエハ）Ｗに転写する（転写工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのウエハＷ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図６のフローチャートを参照して説明する。
【００３５】
先ず、図６のステップＳ３０１において、１ロットのウエハＷ上に金属膜が蒸着される。次のステップＳ３０２において、そのｌロットのウエハＷ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップＳ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスクＲ上のパターンの像がその投影光学系ＰＬを介して、その１ロットのウエハＷ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップＳ３０４において、その１ロットのウエハＷ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ３０５において、その１ロットのウエハＷ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスクＭ上のパターンに対応する回路パターンが、各ウエハＷ上の各ショット領域に形成される。
【００３６】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いているため、微細なパターンをウエハに良好に露光することができる。なお、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０５では、ウエハＷ上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、ウエハＷ上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００３７】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図７のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図７において、パターン形成工程Ｓ４０１では、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクＲのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２へ移行する。
【００３８】
次に、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２の後に、セル組み立て工程Ｓ４０３が実行される。セル組み立て工程Ｓ４０３では、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程Ｓ４０３では、例えば、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００３９】
その後、モジュール組み立て工程Ｓ４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いているため、微細なパターンをウエハに良好に露光することができる。
【００４０】
なお、上述の実施の形態において、第１特定レンズエレメントＬＳ７と第２特定レンズエレメントＬＳ６とを一体的に形成し、一体的に形成された光学素子の光射出面側の空間のみに液浸領域を形成すると共に、一体的に形成された光学素子の有効領域外の表面の少なくとも一部に撥液機能膜を備えるようにしてもよい。
【００４１】
また、上述の実施の形態において、露光光源としては、Ｆ2 レーザ（１５７ｎｍ）の他、例えばＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｋｒ2 レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ2 レーザ（１２６ｎｍ）等を用いてもよい。
【００４２】
また、上述の実施の形態において、液体は、純水ＬＱ以外のものであってもよい。例えば、露光光源がＦ2 レーザである場合には、Ｆ2 レーザ光が純水ＬＱを透過しないことから、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）やフッ素系オイルなどのフッ素系液体であることが望ましい。この場合に要求されるのは、フッ素系液体を弾く機能膜であり、用いる液体に対する接触角が高い物質からなる撥液機能膜を備える必要がある。また、照明光学系１２あるいは投影光学系ＰＬを構成する光学素子の１枚あるいは複数の光学素子を、露光光ＥＬの有効領域外の表面に遮光膜と撥液膜を有する撥液機能膜を有する構成としてもよい。
【００４３】
また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク（ステンシルマスク、メンバレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】実施の形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】実施の形態に係る露光装置の一部を拡大した概略構成図である。
【図３】実施の形態に係る撥水機能膜の構成を示す図である。
【図４】実施の形態に係る他の境界形状の構成を説明するための図である。
【図５】実施の形態に係る他の境界形状の構成を説明するための図である。
【図６】実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図７】実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４５】
１１…露光装置、１３…鏡筒、１４…レンズホルダ、１５…光路空間、１６…光路空間、１７…第１液体供給装置、１８…第２液体供給装置、１９…第１液体回収装置、２０…第２液体回収装置、２１…第２ノズル部材、２８…撥水機能膜、２８ａ…遮光膜、２８ｂ…撥水膜、３０…第１ノズル部材、５０，５０ａ，５０ｂ…境界形状、５１…撥水膜、ＥＬ…露光光、ＬＳ１〜ＬＳ５…レンズエレメント、ＬＳ６…第２特定レンズエレメント、ＬＳ７…第１特定レンズエレメント、ＬＴ１，ＬＴ２…液浸領域、ＬＱ…純水（液体）、ＰＬ…投影光学系、Ｒ…レチクル（マスク）、Ｗ…ウエハ。
【図１】
2007096254.tif 000003
【図２】
2007096254.tif 000004
【図３】
2007096254.tif 000005
【図４】
2007096254.tif 000006
【図５】
2007096254.tif 000007
【図６】
2007096254.tif 000008
【図７】
2007096254.tif 000009