(57)【要約】【課題】基板の反りなどの変形の発生を低減でき、組立作業性のよい液晶表示パネル用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る液晶表示パネル用基板の製造方法は、電極形成用透明基板１０２Ａ上にマイクロレンズアレイ２００を形成するステップと、電極形成用透明基板１０２Ａのうち、マイクロレンズアレイ２００が形成された面に対向するように、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに固定するステップと、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに固定した後に、電極形成用透明基板１０２Ａの板厚が薄肉化されるように、電極形成用透明基板１０２Ａのうち、マイクロレンズアレイ２００が形成された面と反対側の面を研磨またはエッチングするステップとを含む。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを備えた表示パネル用基板の製造方法であって、
第１の基板上に、複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを形成するステップと、
上記第１の基板のうち、上記マイクロレンズアレイが形成された面に対向するように、第２の基板を上記第１の基板に固定するステップと、
上記第２の基板を上記第１の基板に固定した後に、上記第１の基板の板厚が薄肉化されるように、上記第１の基板のうち、上記マイクロレンズアレイが形成された面と反対側の面を研磨またはエッチングするステップとを含む表示パネル用基板の製造方法。
【請求項２】
上記マイクロレンズアレイの外周に沿って、上記マイクロレンズアレイよりも突出して枠状に形成された外枠部を形成するステップを更に含み、
上記第２の基板を上記第１の基板に固定するステップでは、上記外枠部に上記第１の基板を固定する請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項３】
上記外枠部および上記マイクロレンズアレイは同一の材料により同時に形成する請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項４】
上記第２の基板を上記第１の基板に固定した後に、上記外枠部が形成された領域内に設定された切断線に沿って、上記第１および第２の基板を所定の形状に切断するステップを更に含む請求項２に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項５】
上記マイクロレンズアレイの軟化点は、上記第１の基板の歪点よりも低い請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項６】
上記第１および第２の基板は同一材料により形成された請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項７】
上記表示パネルは、液晶表示パネルである請求項１〜６のいずれかに記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル用基板の製造方法に関し、特に、複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを備えた表示パネル用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置において、高輝度化及び高視野角化を達成するためにマイクロレンズアレイを用いた技術が提案されている。この技術によれば、透明基板の背面側にマイクロレンズアレイを形成することによって、バックライト光を透明基板に形成されたＴＦＴ素子やブラックマトリクスを避けるように集光させることができ、光の利用効率を高め、高輝度化を達成することが可能となる。
【０００３】
特許文献１には、ガラス基板上に、ガラスよりなるマイクロレンズアレイを形成する方法が開示されている。特許文献１に記載された方法では、ガラス粉末と感光性樹脂からなる感光性ガラスペーストの膜を基板上に形成し、露光・現像・熱処理を行うことによってマイクロレンズアレイを形成している。
【特許文献１】特開平８−１６６５０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、携帯電話など、多くの小型電子機器に高繊細画像（Video Graphics Array（以下、ＶＧＡと称する））方式の液晶表示装置が搭載されている。
このＶＧＡ方式の液晶表示装置は、各画素の大きさが非常に小さいため、各画素に対応して開口径を大きくすることができない。このため、ＶＧＡ方式の液晶表示装置では、視野角を大きくするため、液晶表示パネル用基板の板厚を小さくしようとする試みがなされている。
【０００５】
ところが、特許文献１に記載の技術に従って、例えば、板厚が約５００μｍ以下の液晶表示パネル用基板上にマイクロレンズアレイを形成しようとした場合、液晶表示パネル用基板が極めて薄い板であるため、感光性ガラスペーストの露光や現像や熱処理などの各工程において、液晶表示パネル用基板が熱変形してしまい、この結果、液晶表示パネル用基板に反りが生じてしまうという問題が発生した。
このような液晶表示パネル用基板の反りによって、マイクロレンズを透過する光に悪影響を与える。特に反りのある液晶表示パネル用基板を液晶表示装置に用いることにより、液晶表示装置の表示品質を悪化させるという問題が発生した。
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、基板の反りなどの変形の発生を低減でき、組立作業性のよい表示パネル用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る表示パネル用基板の製造方法は、複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを備えた表示パネル用基板の製造方法であって、第１の基板上に、複数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイを形成するステップと、第１の基板のうち、マイクロレンズアレイが形成された面に対向するように、第２の基板を第１の基板に固定するステップと、第２の基板を第１の基板に固定した後に、第１の基板の板厚が薄肉化されるように、第１の基板のうち、マイクロレンズアレイが形成された面と反対側の面を研磨またはエッチィングするステップとを含むものである。このような製造方法を採用することにより、基板の反りなどの変形の発生を低減しつつ、組立作業性を向上できる。
【０００８】
また、マイクロレンズアレイの外周に沿って、マイクロレンズアレイよりも突出して枠状に形成された外枠部を形成するステップを更に含み、第２の基板を第１の基板に固定するステップでは、外枠部に第１の基板を固定する。外枠部およびマイクロレンズアレイは同一の材料により同時に形成することが好ましい。これにより、一度の作業で簡単に外枠部とマイクロレンズアレイを形成できる。
【０００９】
また、第２の基板を第１の基板に固定した後に、外枠部が形成された領域内に設定された切断線に沿って、第１および第２の基板を所定の形状に切断するステップを更に含んでもよい。これにより、第１および第２の基板を簡単に切断できる。また、マイクロレンズアレイの軟化点は、第１の基板の歪点よりも低くする。また、第１および第２の基板は同一材料により形成するのが好ましい。これにより、基板の反りなどの変形の発生をより低減することができる。なお、表示パネルは、液晶表示パネルであってもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基板の反りなどの変形の発生を低減しつつ、組立作業性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
発明の実施の形態．
複数のマイクロレンズを有する液晶表示装置について、図に基づいて説明する。図１は、複数のマイクロレンズを有する液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
図１に示されるように、液晶表示装置は、液晶表示パネル１００と、偏光板１０９とを備えている。液晶表示パネル１００は、内面に透明電極１０６などが形成された２枚の電極形成用透明基板１０１、１０２Ａの内面が相対向して配置され、この２枚の電極形成用透明基板１０１、１０２Ａの内面間に液晶層１０３が挟持されて構成されている。
【００１２】
また、電極形成用透明基板１０２Ａの背面には、複数のマイクロレンズ２００ａを有するマイクロレンズアレイ２００と、外枠部としてのリム２０１とが形成されている。電極形成用透明基板１０２Ａの背面、すなわち、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１が形成された面に対向して、補強用透明基板1０２Ｂが配置され、当該補強用透明基板1０２Ｂが透明基板１０２Ａの背面にリム２０１を介して固定されている。なお、液晶表示パネル用基板５００は、第１の基板としての電極形成用透明基板１０２Ａと、第２の基板としての補強用透明基板１０２Ｂと、マイクロレンズアレイ２００と、リム２０１とから構成されている。補強用透明基板１０２Ｂは、電極形成用透明基板１０２Ａを補強し、マイクロレンズアレイ２００を保護するために、取り付けられている。
【００１３】
図１に示されるように、電極形成用透明基板１０１、１０２Ａの間には、液晶層１０３の高さ（セルギャップ）を制御するためのスペーサ１１０が散布されている。電極形成用透明基板１０１、１０２Ａは、電極形成用透明基板１０１、１０２Ａの外周縁に沿って塗布されるシール材１１１により貼り合わされている。液晶表示パネル１００の両外面上には、偏光板１０９がそれぞれ取り付けられている。
【００１４】
図１に示されるように、電極形成用透明基板１０１は矩形状の薄板により形成されており、電極形成用透明基板１０１の材料にはガラスやポリカーボネートやアクリル樹脂などが用いられる。また、図１に示されるように、電極形成用透明基板１０１の内面には、カラーフィルタ層１０４、透明電極１０６および配向膜１０７が順次積層されて形成されている。また、カラーフィルタ層１０４の各画素間には、遮光膜としてのブラックマトリックス１０５が形成されている。
【００１５】
図１に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂはそれぞれ矩形状の薄板により形成されており、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂの材料にはガラスが用いられる。また、図１に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａの内面には、ＴＦＴ素子１０８、透明電極１０６および配向膜１０７が順次積層されて形成されている。なお、透明電極１０６の材料には、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が用いられている。配向膜１０７の材料には、例えば、ポリイミド薄膜が用いられている。
【００１６】
ここで、電極形成用透明基板１０２Ａは、ガラス中にアルカリ金属酸化物が含有されていると、熱処理時に成膜された半導体物質中にアルカリイオンが拡散し、膜特性の劣化を招くため、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないことが好ましい。また、電極形成用透明基板１０２Ａは、フォトエッチング工程において使用される種々の酸、アルカリ等の薬品によって劣化しないような耐薬品性を有することが望ましい。さらに、成膜等の液晶製造工程でガラス基板が熱収縮してパターンずれを起こさないように、高い歪点、具体的には、６００℃以上の歪点を有することが望ましい。さらにまた、ガラス中に基板として好ましくない溶融欠陥が発生しないよう溶融性に優れていることが好ましい。
【００１７】
電極形成用透明基板１０２Ａの熱膨張係数は、ガラス材料の種類によって異なるが、例えば、３０×１０−７（／℃）以上５０×１０−７（／℃）以下とする。なお、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂを同一材料により形成するのが好ましい。このようにすることにより、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂの熱変形による反りの発生を低減することができる。
【００１８】
また、図１に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａの外面には、ガラスを主成分とするマイクロレンズアレイ２００とリム２０１とが形成されている。後述の通り、マイクロレンズアレイ２００とリム２０１は、ガラス粉末（ガラスパウダー）と感光性樹脂（レジスト）からなる感光性ガラスペーストの膜を電極形成用透明基板１０２Ａ上に成膜し、露光・現像を行なった後、焼成をすることにより形成される。
【００１９】
ここで、電極形成用透明基板１０２Ａの板厚について、詳細に説明する。図２は、透明基板上にマイクロレンズを形成したときの透明基板の板厚と視野角の関係を示す図であって、ＶＧＡ方式の液晶表示装置の場合について示している。このとき、液晶表示パネル１００の各画素の開口径を５０μｍとし、マイクロレンズの外径を７５μｍとした。
【００２０】
図２に示されるように、液晶表示パネル１００の各画素の開口径を固定して視野角を大きくしようとすると、透明基板の板厚を薄くする必要が生じる。すなわち、より大きい視野角を確保するには、透明基板の板厚をより薄くする必要がある。
ここで、携帯電話機などの小型機器での使用を想定し、当該小型機器の表示部からの両目間の中心部までの距離を３５ｃｍとした場合、視野角は一般的に中心軸に対して±２０°以上があるのが望ましい。図２に示されるように、視野角を±２０°以上にするには、透明基板の板厚を約２７０μｍ以下にする必要があることがわかる。
【００２１】
次に、液晶表示パネル５００のマイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の配置関係を図に基づいて説明する。図３は、液晶表示パネル用基板をマイクロレンズアレイ形成面側から見たときの平面透視図である。
図３に示されるように、マイクロレンズアレイ２００は、千鳥格子状に配列された複数のマイクロレンズ２００ａにより構成されている。各マイクロレンズ２００ａは、外径数ｍｍ以下に形成されており、液晶表示パネル１００の画素に対応して設けられている。
【００２２】
図１および図３に示されるように、外枠部としてのリム２０１は、マイクロレンズアレイ２００の外周縁に沿って、マイクロレンズアレイ２００よりも突出して枠状に形成されている。すなわち、図１に示されるように、リム２０１はマイクロレンズアレイ２００の凸部頂点より高く形成されている。このリム２０１は、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに取り付けるために設けられている。なお、液晶表示パネル用基板５００は、図４に示される大型のマザー基板１０００により多面取りされる。
【００２３】
液晶表示パネル用基板５００を多面取りするためのマザー基板１０００について、図に基づいて説明する。図４はマザー基板をマイクロレンズアレイが形成される面側から見たときの平面透視図である。
図４に示されるように、マザー基板１０００には、複数のマイクロレンズアレイ２００が一定間隔をもって、マトリクス状に配列されている。すなわち、図４に示されるように、複数のマイクロレンズアレイ２００のうち、隣接するマイクロレンズアレイ２００は互いに離間して配置されている。また、各リム２０１が各マイクロレンズアレイ２００の外周に沿ってマイクロレンズアレイ２００よりも突出して枠状に形成されている。そして、図４に示されるように、隣り合うマイクロレンズアレイ２００の間には、隣り合う各マイクロレンズアレイ２００の外周に形成された各リム２０１が接合するように形成されている。
【００２４】
また、図４に示されるように、隣接するマイクロレンズアレイ２００間のリム２０１の形成領域内に、切断線Ｘ１―Ｘ１、Ｘ２―Ｘ２、・・・、Ｘｎ−Ｘｎ、Ｙ１―Ｙ１、Ｙ２―Ｙ２、Ｙ３−Ｙ３が設定されており、これらの切断線Ｘ１―Ｘ１等に沿ってマザー基板１０００を切断することにより、マザー基板１０００から液晶表示パネル用基板５００を多面取りすることができる。
【００２５】
次に、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネル用基板の製造方法について説明する。図５は、本発明の実施の形態にかかる液晶表示パネル用基板の製造方法を示す図である。マザー基板１０００のマイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の形成領域における断面を模式的に示している。
まず、図５（ａ）に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａを用意して、複数のマイクロレンズ２００ａからなるマイクロレンズアレイ２００およびリム２０１を形成する。具体的には、図６に示されるように、複数のマイクロレンズ２００ａからなるマイクロレンズアレイ２００およびリム２０１を形成する。
【００２６】
図６は、マイクロレンズアレイ２００の製造方法を示す図である。なお、図６で示す例では、感光性ガラスペースト中の感光性樹脂には、感光部分が硬化する、いわゆるネガ型フォトレジストを用いている。塗布方法には、スピンコートやスリットコートがある。また、図６では、便宜上、リム２０１を表示していない。
まず、図６（ａ）に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａを準備した。電極形成用透明基板１０２Ａには例えば４００μｍ〜５００μｍ厚のガラス基板を用いた。
【００２７】
次に、図６（ｂ）に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａの片面の全域に亘って、感光性ガラスペーストを塗布し、成膜することによって、レンズ形成層２０を形成する。ここで、感光性ガラスペーストは、ガラス粉末（ガラスパウダー）と感光性樹脂（レジスト）を主成分としている。感光性ガラスペーストを作成するためには、まず、ガラスブロックを粉砕し、１０μｍ以下に微粒子化する。その後、シラン処理を行い、ガラス粉末と感光性樹脂を混錬し、ガラス粉末を感光性樹脂中に分散させる。これにより感光性ガラスペーストを作成できる。
【００２８】
次に、図６（ｃ）に示されるように、レンズ形成層２０を形成した面の反対側に、グレイスケールマスク３０を配置して、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の形成領域内を露光する。このとき、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の形成領域内において、グレイスケールマスク３０側から照射された露光光は、グレイスケールマスク３０のレンズ形成用領域によって強度変調が加えられる。
【００２９】
詳細には、マイクロレンズ２００ａの形成用領域の中心部を最大として同心円状に露光強度が減少するように、強度変調が加えられる。グレイスケールマスク３０のレンズ形成用領域によって強度変調の加えられた露光光によって、レンズ形成層２０はレンズ形状に硬化する。また、リム２０１の形成領域内も露光することによって、リム形状に硬化する。このように、複数のマイクロレンズ２００ａおよびリム２０１を、同一材料により、同一のグレイスケールマスクを用いて同時に形成することにより、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１を電極形成用透明基板１０２Ａ上に効率よく形成することができる。
【００３０】
次に、図６（ｄ）に示されるように、レンズ形成層２０の露光が完了した後、レンズ形成層２０を現像することによって未硬化部分を除去する。このとき、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の形成領域以外の領域では、露光および現像の処理が行われていないので、この領域においてレンズ形成層２０は完全に除去される。
【００３１】
さらに、図６（ｅ）に示されるように、ガラスの軟化温度以上の温度で熱処理（焼成）を行った後に徐冷をして、図４に示されるマイクロレンズアレイ２００の形成領域内に複数のマイクロレンズ２００ａを形成し、同時に、図４に示されるリム２０１の形成領域にリム２０１を形成する。このとき、例えばマイクロレンズ２００ａの高さは約１５μｍ、リム２０１の高さは約２０μｍに形成する。焼成工程で感光性樹脂は焼失するので、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１はガラスのみの成分で形成される。このとき、電極形成用透明基板１０２Ａが熱変形しないように、マイクロレンズアレイ２００の軟化点が電極形成用透明基板１０２Ａの歪点よりも低くなるようにする必要がある。例えば、マイクロレンズアレイ２００の軟化点を５９０℃、電極形成用透明基板１０２Ａの歪点を６５０℃とする。
【００３２】
次に、図５（ｂ）に示されるように、ガラス製の補強用透明基板１０２Ｂを準備する。そして、電極形成用透明基板１０２Ａのうち、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１が形成された面に対向するように、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに重ね合わせて配置する。このとき、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂは、同一材料により形成するのが好ましい。これにより、各透明基板１０２Ａ、１０２Ｂの熱変形などによる反りを低減できる。
【００３３】
次に、図５（ｃ）に示されるように、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに固定する。具体的には、電極形成用透明基板１０２Ａ上に形成されたリム２０１と補強用透明基板１０２Ｂとを、レーザーで融着して貼り合せる。このとき、リム２０１の軟化点を補強用透明基板１０２Ｂの軟化点よりも低く設定する必要がある。なお、レーザーによる融着に代えて、軟化点がリム２０１の軟化点よりも低いガラスを、リム２０１および補強用透明基板１０２Ｂの間に挿入して加熱融着してもよい。
【００３４】
次に、図５（ｄ）に示されるように、電極形成用透明基板１０２Ａのうち、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１が形成された面と反対側の面を研磨またはエッチングして、電極形成用透明基板１０２Ａを薄肉化する。
ここでは、図２で説明した内容に従って、例えば、電極形成用透明基板１０２Ａの板厚を約２８０μｍ以下になるように、研磨またはエッチングして、電極形成用透明基板１０２Ａを薄肉化する。
【００３５】
このように、マイクロレンズアレイ２００およびリム２０１の形成工程（図５（ａ））や、補強用基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａに固定する固定工程（図５（ｃ））の後に、電極形成用透明基板１０２Ａを研磨またはエッチングにより薄肉化することにより、薄肉化後の電極形成用透明基板１０２Ａに熱が加わらないようにすることができ、各基板の反りなどの変形の発生を低減でき、組立作業性の向上を図ることができる。
【００３６】
そして、図４に示される、液晶表示パネル用基板５００のマザー基板１０００を得ることができる。なお、電極形成用透明基板１０２Ａのうち、マイクロレンズ２００およびリム２０１が形成された面の反対側の面上には、図１に示されるように、透明電極１０６、ＴＦＴ素子１０８および配向膜１０７が更に形成される。
【００３７】
次に、図５（ｅ）に示されるように、リム２０１の形成領域内であって、リム２０１の延在方向（一点鎖線Ｚ−Ｚ）に沿って、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂをリム２０１と共に所定の形状に切断する。具体的には、図４に示されるように、隣接するマイクロアレイ２００間に設けられ、リム２０１の形成領域内に設定された切断線Ｘ１−Ｘ２、・・・、Ｙ１−Ｙ１、・・・に沿って、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂを切断する。
【００３８】
なお、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂの切断には、例えばスクライバ・ブレーク方式を用いる。スクライバ・ブレーク方式では、スクライバによりスクライブラインを形成した後、ブレークバーを用いてスクライブライン上を加圧することにより、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂを分断する。
【００３９】
このように、補強用透明基板１０２Ｂを電極形成用透明基板１０２Ａにリム２０１を介して固定した状態で、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂを、リム２０１の形成領域内の設定された切断線に沿って、リム２０１と共に同時に切断するので、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂを簡単に切断できる。
【００４０】
なお、電極形成用透明基板１０２Ａおよび補強用透明基板１０２Ｂの切断は、液晶表示パネル５００のマザー基板１０００単体で切断する場合のほか、マザー基板１０００に、図１に示された複数の電極形成用透明基板１０１を多面取りするための別のマザー基板（不図示）をシール材１１１により貼り合せた後に、双方のマザー基板を同時に切断する場合や、マザー基板１０００と別のマザー基板とをシール材１１１により貼り合わせ、両マザー基板およびシール材１１１に囲われた空間内に液晶を注入して封止した後に、双方のマザー基板を同時に切断する場合が考えられる。なお、上記別のマザー基板上の透明電極１０６の形成領域は、マザー基板１０００上の透明電極１０６の形成領域に対応している。
【００４１】
以上の説明は、本発明を実施の形態を説明するものであり、本発明が以上の実施の形態に限定されるものではない。また、当業者であれば、以上の実施の形態の各要素を、本発明の範囲において、容易に変更、追加、変換することが可能である。上記実施態様におけるマイクロレンズとは、凸や凹形状の通常のレンズのみならず、シリンドリカルレンズ、フレネルレンズ、プリズムを含む概念である。上記実施態様では、感光性ガラスペースト中の感光性樹脂にネガ型フォトレジストを用いたが、感光部分が分解し、溶剤に対する溶解性が向上する、ポジ型フォトレジストを用いてもよい。
【００４２】
また、上記実施態様では、マイクロレンズアレイおよびリムを同一材料により形成する説明をしたが、マイクロレンズアレイおよびリムを異なる材料により形成してもよい。また、上記実施態様では、マイクロレンズアレイおよびリムを同一のグレイスケールマスクを用いて形成する説明をしたが、別のグレイスケールマスクを用いて形成してもよい。なお、上記実施態様では、リムを透明基板上に形成する説明をしたが、リムを単体で作製してもよく、また、補強用透明基板１０２Ｂ側に一体に形成してもよい。上記実施態様では、液晶表示パネル用基板５００は、液晶表示装置に用いる説明をしたが、これに限らず、他の用途にも用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】複数のマイクロレンズを有する液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】透明基板上にマイクロレンズを形成したときの透明基板の板厚と視野角の関係を示す図である。
【図３】液晶表示パネル用基板をマイクロレンズアレイ形成面側から見たときの平面透視図である。
【図４】液晶表示パネル用基板のマザー基板をマイクロレンズアレイが形成される面側から見たときの平面透視図である。
【図５】本発明の実施の形態にかかる液晶表示パネル用基板の製造方法を示す図である。
【図６】マイクロレンズアレイの製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１００  液晶表示パネル
１０１  電極形成用透明基板
１０２Ａ  電極形成用透明基板
１０２Ｂ  補強用透明基板
１０３  液晶層
１０４  カラーフィルタ層
１０５  ブラックマトリックス
１０６  透明電極
１０７  配向膜
１０８  ＴＦＴ素子
１０９  偏光板
１１０  スペーサ
１１１  シール材
２００  マイクロレンズアレイ
２００ａ  マイクロレンズ
２０１  リム
５００  液晶表示パネル用基板
【図１】
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【図２】
2007279222.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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