(57)【要約】【課題】液晶表示装置、特にＩＰＳモードやＦＦＳモードの液晶表示装置の斜め方向、例えば６０°からの漏れ光および色み変化の軽減に寄与するとともに、正面コントラストの改善に寄与する光学補償シート等を提供する。【解決手段】少なくとも２種類の、１分子中に１以上の重合性基を有する液晶性化合物を含有する光学異方性層を有し、前記液晶性化合物は、それぞれ、有する重合性基の数が異なっている、光学補償シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２種類の、１分子中に１以上の重合性基を有する液晶性化合物を含有する光学異方性層を有し、前記液晶性化合物は、それぞれ、有する重合性基の数が異なっている、光学補償シート。
【請求項２】
前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層の配向秩序度をＳ（ｍ、ｎ）、該光学異方性層から、重合性基の数がｎである液晶性化合物を除いた光学異方性層の配向秩序度をＳ（ｍ）とすると、Ｓ（ｍ、ｎ）＞Ｓ（ｍ）である、請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層の重合度をＰ（ｍ、ｎ）、該光学異方性層から、重合性基の数がｎである液晶性化合物を除いた光学異方性層の重合度をＰ（ｍ）とすると、Ｐ（ｍ、ｎ）＜Ｐ（ｍ）である、請求項１または２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記液晶性化合物が有する重合性基が、アクリレート基および／またはメタクリレート基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物が有する重合性基の数が１〜４の整数である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層に含まれる液晶化合物の質量部をＷ（ｍ）およびＷ（ｎ）とすると、Ｗ（ｍ）≧Ｗ（ｎ）を満たすときの光学異方性層と支持体の密着度が、ＪＩＳ Ｋ ５４００規定の試験で６以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
さらに、支持体を有し、前記光学異方性層は、前記液晶性化合物がホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ハイブリッド配向、コレステリック液晶配向および一軸傾斜配向のいずれかで配向している、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
さらに、支持体を有し、前記液晶性化合物が棒状液晶性化合物であり、かつ、該棒状液晶性化合物がホメオトロピック配向している、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項９】
前記液晶化合物が４０〜１００℃の範囲で配向固定され、かつ、前記光学異方性層が、０．１２≦Ｒｔｈ／ｄ≦０．２４（但し、Ｒｔｈは光学異方性層の厚み方向のレターデーション、ｄは液晶化合物の膜厚）を満たす、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１０】
前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
一般式（１）
【化１】
2007121996.tif 000055
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5は、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。）
【請求項１１】
前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位とフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の繰り返し単位を含むポリマーを含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
一般式（１）
【化２】
2007121996.tif 000056
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5は、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基、およびアリーレン基
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。）
【請求項１２】
前記光学異方性層が、オニウム塩を少なくとも一種含有する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１３】
さらに、支持体を有し、前記支持体の法線方向から測定したＲｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍで、前記支持体のＲｔｈが１００ｎｍ〜３００ｎｍであり、かつ、前記光学異方性層のＲｅが２０ｎｍ以下で、前記光学異方性層のＲｔｈが−４００ｎｍ〜−８０ｎｍである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学補償フィルムと、偏光膜とを有する偏光板。
【請求項１５】
少なくとも、請求項１３に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有し、かつ、前記光学異方性層、前記支持体および前記偏光膜の順で積層された偏光板であって、前記支持体の遅相軸方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に直交している偏光板。
【請求項１６】
少なくとも、請求項１３に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有し、かつ、前記光学異方性層、前記支持体および前記偏光膜の順で積層された偏光板であって、前記支持体の遅相軸方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に平行である偏光板。
【請求項１７】
一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶性分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セルと、第１の偏光板と、第２の偏光膜とを有し、
前記第１の偏光板は、請求項１５に記載の偏光板であり、
前記一対の基板の一方の外側に、前記第１の偏光板が、該光学異方性層側が基板側になるように設けられており、かつ、前記支持体の遅相軸と黒表示時の液晶性分子の長軸方向とが実質的に平行になるように配置され、
さらに、前記一対の基板の他方の外側に、前記第２の偏光膜が前記第１の偏光板の偏光膜の吸収軸と互いに直交するように設けられている液晶表示装置。
【請求項１８】
一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶性分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、第１の偏光板と、第２の偏光膜とを有し、
前記第１の偏光板は、請求項１６に記載の偏光板であり、
前記一対の基板の一方の外側に、前記第１の偏光板が、該光学異方性層側が基板側になるように設けられており、かつ、前記支持体の遅相軸と黒表示時の液晶性分子の長軸方向とが実質的に平行になるように配置され、
さらに、前記一対の基板の他方の外側に、前記第２の偏光膜が前記第１の偏光板の偏光膜の吸収軸と互いに直交するように設けられている液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第２の偏光膜と前記基板との間には実質的に等方な接着剤層及び／又は実質的に等方な透明保護フィルムのみが含まれる請求項１７または１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記透明保護フィルムが下記式（Ｉ）及び（II）を満たすセルロースアセテートフィルムである請求項１９に記載の液晶表示装置：
（Ｉ）：０≦Ｒｅ(630)≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
（II）：｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である］。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シート、ならびにこれを用いた偏光板および液晶表示装置の分野に属する。本発明は、さらに、液晶性化合物の配向秩序度を制御する方法の技術分野にも属する。また、本発明は液晶表示装置の技術分野に関し、特に水平方向に配向した液晶性化合物に横方向の電界を印加することにより表示を行う、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードやＦＦＳモードの液晶表示装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、２枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶性化合物による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して、液晶性化合物がハイブリッド配向したフィルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性化合物を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での諧調反転が抑えきれないという問題を生じていた。
【０００３】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるＩＰＳモードやＦＦＳモードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、テレビ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００４】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳやＦＦＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示または中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特許文献１参照）。また、光学補償フィルムとして複屈折が正で光学軸がフィルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフィルムの法線方向にある膜とを組み合わせる方法（特許文献２参照）、レターデーションが二分の一波長の二軸性の光学補償シートを使用する方法（特許文献３参照）、偏光板保護膜として負のレターデーションを有する膜を使い、この表面に正のレターデーションを有する光学補償層を設ける方式（特許文献４参照）が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献２】特開平１１−１３３４０８号公報
【特許文献３】特開平１１−３０５２１７号公報
【特許文献４】特開平１０−３０７２９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、延伸複屈折ポリマーフィルムからなる光学補償シートを用いてＩＰＳモードやＦＦＳモード液晶セルを光学補償する場合は、複数のフィルムを用いる必要があり、その結果、光学補償シートの厚さが増し、表示装置の薄形化に不利である。また、この問題を解決したディスコティック液晶性化合物等から形成された光学異方性層を利用して、液晶をオフする方法においても、ディスコティック液晶性化合物を基板面に対し水平配向させる場合には配向欠陥が発生しやすく、また、液晶表示装置に用いた場合、バックライトの拡散光で斜めから入射した光は正面Ｒｅが大きな膜では偏光解消して正面に抜けやすく、黒表示時に光漏れが発生し、消光度の低い位相差膜を作製してもコントラスト低下等の不具合が発生していた。
【０００７】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、液晶表示装置、特にＩＰＳモードやＦＦＳモードの液晶表示装置の斜め方向、例えば６０°からの漏れ光および色み変化の軽減に寄与するとともに、正面コントラストの改善に寄与する光学補償シートおよび偏光板を提供することを課題とする。また、本発明は、黒輝度が低く、正面コントラスト比が改善された液晶表示装置、特にＩＰＳモードの液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
（１）少なくとも２種類の、１分子中に１以上の重合性基を有する液晶性化合物を含有する光学異方性層を有し、前記液晶性化合物は、それぞれ、有する重合性基の数が異なっている、光学補償シート。
（２）前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層の配向秩序度をＳ（ｍ、ｎ）、該光学異方性層から、重合性基の数がｎである液晶性化合物を除いた光学異方性層の配向秩序度をＳ（ｍ）とすると、Ｓ（ｍ、ｎ）＞Ｓ（ｍ）である、（１）に記載の光学補償シート。
（３）前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層の重合度をＰ（ｍ、ｎ）、該光学異方性層から、重合性基の数がｎである液晶性化合物を除いた光学異方性層の重合度をＰ（ｍ）とすると、Ｐ（ｍ、ｎ）＜Ｐ（ｍ）である、（１）または（２）に記載の光学補償シート。
（４）前記液晶性化合物が有する重合性基が、アクリレート基および／またはメタクリレート基である、（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（５）前記液晶性化合物が有する重合性基の数が１〜４の整数である（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（６）前記光学異方性層は、前記液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有し（ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである）、前記光学異方性層に含まれる液晶化合物の質量部をＷ（ｍ）およびＷ（ｎ）とすると、Ｗ（ｍ）≧Ｗ（ｎ）を満たすときの光学異方性層と支持体の密着度が、ＪＩＳ Ｋ ５４００規定の試験で６以上である、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（７）さらに、支持体を有し、前記光学異方性層は、前記液晶性化合物がホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ハイブリッド配向、コレステリック液晶配向および一軸傾斜配向のいずれかで配向している、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（８）さらに、支持体を有し、前記液晶性化合物が棒状液晶性化合物であり、かつ、該棒状液晶性化合物がホメオトロピック配向している、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（９）前記液晶化合物が４０〜１００℃の範囲で配向固定され、かつ、前記光学異方性層が、０．１２≦Ｒｔｈ／ｄ≦０．２４（但し、Ｒｔｈは光学異方性層の厚み方向のレターデーション、ｄは液晶化合物の膜厚）を満たす、（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１０）前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマーを含有する、（１）〜（９）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
一般式（１）
【化１】
2007121996.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5は、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。）
（１１）前記光学異方性層が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位とフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の繰り返し単位を含むポリマーを含有する、（１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
一般式（１）
【化２】
2007121996.tif 000003
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5は、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基、およびアリーレン基
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。）
（１２）前記光学異方性層が、オニウム塩を少なくとも一種含有する、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１３）さらに、支持体を有し、前記支持体の法線方向から測定したＲｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍで、前記支持体のＲｔｈが１００ｎｍ〜３００ｎｍであり、かつ、前記光学異方性層のＲｅが２０ｎｍ以下で、前記光学異方性層のＲｔｈが−４００ｎｍ〜−８０ｎｍである、（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１４）（１）〜（１３）のいずれか１項に記載の光学補償フィルムと、偏光膜とを有する偏光板。
（１５）少なくとも、（１３）に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有し、かつ、前記光学異方性層、前記支持体および前記偏光膜の順で積層された偏光板であって、前記支持体の遅相軸方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に直交している偏光板。
（１６）少なくとも、（１３）に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有し、かつ、前記光学異方性層、前記支持体および前記偏光膜の順で積層された偏光板であって、前記支持体の遅相軸方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に平行である偏光板。
（１７）一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶性分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セルと、第１の偏光板と、第２の偏光膜とを有し、
前記第１の偏光板は、（１５）に記載の偏光板であり、
前記一対の基板の一方の外側に、前記第１の偏光板が、該光学異方性層側が基板側になるように設けられており、かつ、前記支持体の遅相軸と黒表示時の液晶性分子の長軸方向とが実質的に平行になるように配置され、
さらに、前記一対の基板の他方の外側に、前記第２の偏光膜が前記第１の偏光板の偏光膜の吸収軸と互いに直交するように設けられている液晶表示装置。
（１８）一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶性分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、第１の偏光板と、第２の偏光膜とを有し、
前記第１の偏光板は、（１６）に記載の偏光板であり、
前記一対の基板の一方の外側に、前記第１の偏光板が、該光学異方性層側が基板側になるように設けられており、かつ、前記支持体の遅相軸と黒表示時の液晶性分子の長軸方向とが実質的に平行になるように配置され、
さらに、前記一対の基板の他方の外側に、前記第２の偏光膜が前記第１の偏光板の偏光膜の吸収軸と互いに直交するように設けられている液晶表示装置。
（１９）前記第２の偏光膜と前記基板との間には実質的に等方的な接着剤層及び／又は実質的に等方な透明保護フィルムのみが含まれる（１７）または（１８）に記載の液晶表示装置。
（２０）前記透明保護フィルムが下記式（Ｉ）及び（II）を満たすセルロースアセテートフィルムである（１９に記載の液晶表示装置：
（Ｉ）：０≦Ｒｅ(630)≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(630)｜≦２５
（II）：｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である］。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、重合性基の異なる液晶性化合物を添加することにより、液晶性化合物の配向秩序度を制御することができる。また、オニウム塩およびポリマーＡを併用することにより、光学補償機能に優れ、かつ画像表示装置に適用した場合に、正面コントラストが向上し、広い視野角拡大性能を有する新規な光学補償シートを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
また、本明細書において「実質的に直交」および「実質的に平行」とは、それぞれの位置関係を角度で限定した際に、９０°±５°及び０°±５°の範囲で許容される位置関係を表わし、厳密に幾何学的な位置関係である９０°及び０°であることを意味しない。
【００１２】
さらにまた、本明細書において、実質的に等方とは、どの方向においても位相差の絶対値が５ｎｍ以下であることを意味する。
【００１３】
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHまたはWRが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりRthを算出することもできる。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHまたはWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１４】
式（１）
【化３】
2007121996.tif 000004
上記のRe(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値（Ｒｅ）を表す。
【００１５】
式（２）
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）ｘｄ
【００１６】
また、本明細書において、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」および「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１７】
以下、本発明の光学補償シートの実施形態について詳細に説明する。
本発明の光学補償シートにおける、光学異方性層の好ましい構成は、特定の液晶性化合物を含有する光学異方性層を有する光学補償シートである。特に、支持体上に光学異方性層を配置した光学補償シートであることが好ましい。
本発明の光学補償シートにおける、液晶性化合物は円盤状のディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物を用いることが好ましく、棒状液晶性化合物を用いることがより好ましい。液晶性化合物の配向形態は、ホメオトロピック配向、ホモジニアス配向、ハイブリッド配向および一軸傾斜配向のいずれかが好ましい。ここで、ハイブリッド配向は、例えば、液晶性化合物の長軸（ディスコティック液晶性化合物では円盤面）と支持体の面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（支持体に垂直な）方向に増加または減少しているものをいう。また、一軸傾斜配向とは、例えば、液晶性化合物の長軸（ディスコティック液晶性化合物では円盤面）と支持体の面との角度、すなわち傾斜角θ（０＜θ＜９０°）が、光学異方性層の深さ（支持体に垂直な）方向で一定であることをいう。
本発明では棒状液晶性化合物からなり、配向形態はホメオトロピック配向またはハイブリッド配向であることがより好ましく、ホメオトロピック配向であることがより好ましい。
【００１８】
［液晶性化合物］
本発明の光学補償シートに採用する液晶性化合物は、少なくとも２種類であり、１分子中に１以上の重合性基を有する液晶性化合物を含有する。さらに、該液晶性化合物は、それぞれ、有する重合性基の数が異なっている。重合性基を有する液晶性化合物の種類は、特に限定されないが、それぞれ、アクリレート基および／またはメタクリレート基を、１〜５つを有する液晶性化合物が好ましく、１〜４つを有する液晶性化合物がより好ましく、アクリレート基および／またはメタクリレート基を１〜２つを有する液晶性化合物がさらに好ましい。それぞれ、アクリレート基を有する棒状液晶性化合物が特に好ましい。１つ以上とすることにより、配向秩序度は減少するものの重合性基が多くなるため、密着性が向上し好ましい。５つ以下とすることにより、配向秩序度が増加する傾向にあり好ましい。また、光学異方性層は、同じ重合性基を有している液晶性化合物を含有していることが好ましく、アクリレート基を１〜４つの重合性基の異なる棒状液晶化合物を２つ以上有することが好ましく、１〜２つの重合性基の異なる棒状液晶化合物を２つ以上有することがより好ましい。
【００１９】
本発明における液晶性化合物は、該液晶性化合物が有する重合性基の数が、ｍおよびｎである２種類の液晶性化合物を含有することが好ましい。ここで、ｍおよびｎは、それぞれ、正の整数であり、かつ、ｍ＞ｎである。さらに、重合性基の数がｎの化合物の含量は、重量比で、重合性基の数がｍの化合物の含量の５０重量％以下であることが好ましく、１．０〜１０重量％であることがより好ましい。特に、２つのアクリレート基を有する棒状液晶性化合物に１つのアクリレート基を有する液晶性化合物を棒状液晶性化合物の全重量に対し５０％より多く添加しても配向秩序度は向上するが、２つのアクリレート基を有する棒状液晶性化合物の含量が少なくなった分、光学異方性層の重合度が減少し、支持体との密着が悪化する傾向にある。よって密着性を保持する上で棒状液晶性化合物の全重量に対し、１つのアクリレート基を有する棒状液晶性化合物を０．５〜５０重量％添加することが好ましく、０．５〜２０重量％にすることがより好ましく、またこれによる重合度は少なくとも８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい値となる。
また、本発明における液晶性化合物は、高分子液晶性化合物でも低分子液晶性化合物であってもよい。さらに、配向状態に固定されていることが好ましい。本発明における液晶性化合物には光学異方性層を形成する際に架橋され、そのご液晶を示さなくなったものも含まれる。
【００２０】
［棒状液晶性化合物］
本発明における棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、本発明において棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、ならびに、液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【００２１】
［重合性液晶性化合物］
重合性液晶性化合物は、重合反応により固定化されるものであれば特に限定されない。たとえば特開２００４−３３９１９３号公報の段落番号〔００４９〕〜〔００５０〕の〔化１１〕、〔化１２〕の重合性基を有する液晶性化合物であることが好ましい。中でもアクリレート基および／またはメタクリレート基を有する液晶性化合物が特に好ましい。アクリレート基および／またはメタクリレート基を１つあるいは２つ有する棒状液晶性化合物の具体例としては、特開平８−３１１１号公報の段落番号〔００８２〕〜〔０１０５〕、特開平９−２８１３３１号公報の段落番号〔００２２〕〜〔００４０〕、特開２０００−２８１６２８号公報の段落番号〔０１１５〕〜〔０１２８〕、特開２００２−２２０４２１号公報の段落番号〔０２５０〕〜〔０４００〕、特開２００３−４８９０３号公報の段落番号〔００５６〕〜〔００７５〕に記載された化合物等が挙げられる。２つもしくはそれ以上の重合性液晶化合物については、特開２００２−３００４２号公報に記載された化合物があげられる。但し本発明に用いられるアクリレート基および／またはメタクリレート基を１つあるいは２つ有する棒状液晶性化合物はこれらに限定されるものではない。
【００２２】
本発明における液晶化合物は溶剤に溶解させ溶液とし、支持体上に塗布するが、前記溶媒を除去する工程上５０〜１５０℃の範囲にネマチック液晶相を呈する化合物であることが好ましい。液晶化合物のネマチック液晶相を呈する範囲が５０〜１５０℃である必要はなく、５０〜１５０℃の温度範囲でネマチック液晶を呈する化合物であれば限定されない。
【００２３】
［配向秩序度］
本発明における配向秩序度（以下Ｓと表記することがある）は、高分子フィルムの配向度、液晶配向度を表す使用として用いられ０≦Ｓ≦１の範囲で定義される。Ｓ＝０であれば、液体状態のように完全にランダムな状態を示す。Ｓ＝１であれば結晶のように分子の揺らぎがなく１方向に完全に配向している状態を示す。一般に結晶性高分子フィルムの配向秩序度を測定するのにＸ線回折パターンにより測定されるが、ネマチック液晶性を有するフィルムを測定する場合、この方法では感度が悪く測定方法としては好ましくない。本明細書における配向秩序度は東京インスツルメンツ社製「Ｎａｎｏｆｉｎｄｅｒ」測定条件は、励起レーザー波長を５３２ ｎｍ、励起レーザー出力を試料部で約４００ｕＷとして、分光器前に偏光解消子を取り付けることで測定を行った。測定方法はフィルムを約１〜２度で斜めに切削し、フィルム中の液晶材料層のうち表面または界面付近の偏光ラマン測定を行った。フィルムを回転し、フィルム面の方位と入射レーザー偏光の電場方向がなす角度を変えていくつかの角度で測定を行い、散乱光の成分のうち入射レーザー偏光電場と平行な偏光成分I平行と垂直な偏光成分I垂直を、検光子を用いてそれぞれ分光検出した。さらに液晶性化合物の骨格に由来するピークをもつバンドに対し、理論的に導いた式により配向オーダーパラメータＰ２、Ｐ４をパラメータとして最小二乗法に基づくフィッティング解析を行い、配向秩序度を得た。
【００２４】
本発明の配向秩序度は、前記光学異方性層がネマチック液晶性を示す場合は、０．３≦Ｓ≦０．７であることが好ましく、０．４５≦Ｓ≦０．６５であることがより好ましい。配向秩序度がこの範囲にあれば前記光学異方性層を液晶表示装置に貼り合わせた場合の正面コントラストの向上に寄与する。前記光学異方性層がスメクチック液晶性を示す場合は、０．５≦Ｓ≦０．９０であることが好ましく、０．６５≦Ｓ≦０．９０であることがより好ましい。
【００２５】
［配向膜］
本発明における配向膜に使用される具体的なポリマーの種類については、それ自体架橋可能なポリマーおよび架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。また、これらを組み合わせたものも使用することができる。本発明における配向膜に使用されるポリマーの例として、例えば、特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載の化合物が挙げられる。好ましくは水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が挙げられ、この中でもゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。
【００２６】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましく、８５〜９５％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００であることが好ましい。
【００２７】
変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−５６３１０号公報の段落番号［００７４］、同２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【００２８】
［ポリマーＡ］
本発明では、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー（以下、ポリマーＡという）を含有することが好ましく、下記一般式（１）で表される繰り返し単位とフルオロ脂肪族基含有モノマー由来の繰り返し単位を含むポリマーを含むことがより好ましい。ポリマーＡは、主として、光学異方性層の空気界面において、前記液晶性化合物の分子を垂直配向させるのに寄与する。
【００２９】
一般式（１）
【化４】
2007121996.tif 000005
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基または下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−（Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ5）−（Ｒ5は、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。）
【００３０】
一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、好ましくは、それぞれ、水素原子または下記置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００３１】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００３２】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００３３】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが特に好ましく、Ｒ2およびＲ3が水素原子で、Ｒ1が水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していても良い。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【００３４】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲ4−のＲ4は、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素原子またはアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲ5）−のＲ5はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒ4およびＲ5がアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同義である。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ4−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、単結合、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲ4−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることがより好ましく、単結合であることがさらに好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1〜Ｒ3における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００３５】
【化５】
2007121996.tif 000006
【００３６】
【化６】
2007121996.tif 000007
【００３７】
前記一般式（１）中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、さらに好ましいのはカルボキシル基またはスルホ基であり、最も好ましいのは、カルボキシル基である。
【００３８】
本発明に使用可能な前記ポリマーＡに含まれる前記一般式（１）に対応するモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【００３９】
【化７】
2007121996.tif 000008
【００４０】
【化８】
2007121996.tif 000009
【００４１】
【化９】
2007121996.tif 000010
【００４２】
前記ポリマーＡは、前記一般式（１）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また前記ポリマーＡは、前記フルオロ脂肪族基含有モノマー由来の繰り返し単位を１種または２種以上有していてもよい。好ましくは、特開２００４−３３３８５２号公報に記載の一般式［１］で記載されているフルオロ脂肪族基含有モノマーを含むことが好ましい。さらに、前記ポリマーＡは上記以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。前記ポリマーＡは、好ましくは、特開２００４−４６０３８号公報の［００２６］〜［００３３］に記載のモノマー群から選ばれるモノマーから誘導される繰り返し単位の１種または２種以上を含有していることが好ましい。
【００４３】
さらにまた、前記ポリマーＡは、特開２００４−３３３８５２号公報に記載されている一般式[２]で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位を含んでいるも好ましい。
【００４４】
前記ポリマーＡのフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５質量％以上であるのが好ましく、１０質量％以上であるのがより好ましく、３０質量％以上であるのがさらに好ましい。前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位において、前記一般式（１）で表される繰り返し単位の量は、該フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位の構成モノマー総量の０．５質量％以上であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましく、１〜１０質量％であるのがさらに好ましく、１〜５質量％であるのが最も好ましい。
【００４５】
本発明に用いる前記ポリマーＡの質量平均分子量は１，０００，０００以下であるのが好ましく、５００，０００以下であるのがより好ましく、５，０００〜５０，０００であるのがさらに好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
【００４６】
前記ポリマーＡを製造する際に採用される重合方法については、特に限定されるものではないが、特開２００４−４６０３８号公報の［００３５］〜［００４１］に記載の方法を用いることが好ましい。
【００４７】
なお、前記ポリマーＡは、ディスコティック液晶性化合物、あるいは棒状液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【００４８】
以下に、前記ポリマーＡとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＴＳＫ  Ｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫ  Ｇｅｌ  Ｇ４０００  ＨｘＬ、ＴＳＫ  Ｇｅｌ  Ｇ２０００  ＨｘＬ  （いずれも東ソー（株）の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した質量平均分子量である。
【００４９】
【化１０】
2007121996.tif 000011
【００５０】
【化１１】
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【００５１】
【化１２】
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【００５２】
【化１３】
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【００５３】
【化１４】
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【００５４】
【化１５】
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【００５５】
【化１６】
2007121996.tif 000017
【００５６】
【化１７】
2007121996.tif 000018
【００５７】
【化１８】
2007121996.tif 000019
【００５８】
本発明に用いられる前記ポリマーＡは、上記した様に、公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有するモノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【００５９】
光学異方性層形成用組成物中における前記ポリマーＡの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位の添加量を０．００５質量％以上とすることにより、より効果的であり、８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行われなることの抑止により効果的であり、また、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）がより向上する傾向にある。
【００６０】
[オニウム塩]
本発明における光学異方性層は、オニウム塩の少なくとも一種を含有するのが好ましい。オニウム塩は配向膜界面側において棒状液晶性化合物の分子を垂直配向させるのに寄与する。また、前記オニウム塩の例には、窒素原子を含むアンモニウム塩、硫黄原子を含むスルホニウム塩、リン原子を含むホスホニウム塩等が含まれる。
【００６１】
前記オニウム塩としては、好ましくは、４級オニウム塩であり、より好ましくは第４級アンモニウム塩である。
第４級アンモニウム塩は、一般に、第３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンなど）または含窒素複素環（ピリジン環、ピコリン環、２，２’−ビピリジル環、４，４’−ビピリジル環、１，１０−フェナントロリン環、キノリン環、オキサゾール環、チアゾール環、Ｎ−メチルイミダゾール環、ピラジン環、テトラゾール環など）をアルキル化（メンシュトキン反応）、アルケニル化、アルキニル化あるいはアリール化して得られる。
【００６２】
第４級アンモニウム塩としては、含窒素複素環からなる第４級アンモニウム塩が好ましく、特に好ましくは第４級ピリジニウム塩である。
より具体的には、前記第４級アンモニウム塩は、下記一般式（３ａ）または後述する一般式（３ｂ）で表される第４級ピリジニウム塩から選ばれるのが好ましい。
【００６３】
【化１９】
2007121996.tif 000020
【００６４】
一般式（３ａ）中、Ｒ8は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｄは水素結合性基を表し、ｍは１〜３の整数を表し、Ｘ-はアニオンを表す。
【００６５】
一般式（３ａ）中、Ｒ8で表されるアルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜８の置換もしくは無置換のアルキル基である。これらは、直鎖状、分岐鎖状もしくは環状であってもよい。これらアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ネオペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基およびシクロプロピル基等が挙げられる。
【００６６】
アルキル基の置換基の例としては、以下のものを挙げることができる。炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニル基（例えば、ビニル基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルキニル基（例えば、エチニル基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基）；ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基）；
【００６７】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）；炭素数７〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、ナフトキシカルボニル基）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基、メトキシフェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、アセチルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、エチルチオカルバモイルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、クロロアセチルアミノ基、メチルスルホニルアミノ基）；
【００６８】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピロリジノカルバモイル基）；無置換のスルファモイル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例えば、メチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基）；シアノ基；ニトロ基；カルボキシ基；水酸基；ヘテロ環基（例えば、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環）。アルキル基の置換基としては、特に好ましくは、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基である。
【００６９】
上記Ｒ8で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、１，３−ブタジエニル基等が挙げられる。
アルケニル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものを例示でき、好ましい範囲も同義である。
【００７０】
上記Ｒ8で表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル基、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００７１】
上記Ｒ8で表されるアラルキル基は、炭素数７〜１８の置換もしくは無置換のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、ビフェニルメチル基、ナフチルメチル基等が好ましい。アラルキル基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００７２】
上記Ｒ8で表されるアリール基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基等が挙げられる。アリール基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。またこれらの他に、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、アルキニル基、ベンゾイル基も好ましい。
【００７３】
上記Ｒ8で表される複素環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和の複素環が好ましい。これら複素環基の例としては、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環およびクマリン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよく、その場合の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。Ｒ8で表される複素環基としては、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環が特に好ましい。
【００７４】
上記Ｒ8は好ましくは、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素環基である。
【００７５】
Ｄは水素結合性基を表す。水素結合は、電気的に陰性な原子（例えば、Ｏ、Ｎ、Ｆ、Ｃｌ）と、同じように電気的に陰性な原子に共有結合した水素原子間に存在する。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．  Ｕｎｅｙａｍａ  ａｎｄ  Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｄｉｔｉｏｎ  Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。
【００７６】
好ましい水素結合性基としては、メルカプト基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。さらに好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、ピリジル基を挙げることができ、特に好ましくは、アミノ基、カルバモイル基、ピリジル基を挙げることができる。
【００７７】
Ｘ-で表されるアニオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホネートイオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。
Ｘ-は、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。なおＸ-は１価のアニオンである必要はなく、２価以上のアニオンであってもよく、かかる場合は、前記化合物中のカチオンとアニオンとの比率も１：１である必要はなく、適宜決定される。
【００７８】
前記一般式（３ａ）中、ｍは好ましくは１である。ｍが２以上のとき、それぞれのＤは同一であっても異なっていてもよい。
【００７９】
次に、前記一般式（３ｂ）について説明する。
【化２０】
2007121996.tif 000021
【００８０】
式（３ｂ）中、Ｒ9およびＲ10は、それぞれ、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素環基を表し、Ｘ-はアニオンを表す。
Ｒ9およびＲ10でそれぞれ表される置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換の複素環基は、前記一般式（３ａ）中、Ｒ8で表される基と同義であり、好ましい範囲も同一である。Ｘ-で表されるアニオンは、前記一般式（３ａ）中、Ｘ-で表されるアニオンと同義であり、その好ましい範囲も同一である。上述した様に、Ｘ-は１価のアニオンである必要はなく、２価以上のアニオンであってもよく、かかる場合は、前記化合物中のカチオンとアニオンとの比率も１：２である必要はなく、適宜決定される。
【００８１】
以下に、一般式（３ａ）または（３ｂ）で表される第４級ピリジニウム塩、その他本発明で好ましく用いられるオニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明に用いられるオニウム塩はこれらに限定されるものではない。
【００８２】
【化２１】
2007121996.tif 000022
【００８３】
【化２２】
2007121996.tif 000023
【００８４】
【化２３】
2007121996.tif 000024
【００８５】
【化２４】
2007121996.tif 000025
【００８６】
【化２５】
2007121996.tif 000026
【００８７】
【化２６】
2007121996.tif 000027
【００８８】
【化２７】
2007121996.tif 000028
【００８９】
【化２８】
2007121996.tif 000029
【００９０】
【化２９】
2007121996.tif 000030
【００９１】
【化３０】
2007121996.tif 000031
【００９２】
前記光学異方性層中におけるオニウム塩の含有量は、その種類によって好ましい含有量が変動するが、通常は、併用される液晶性化合物の含有量に対して、０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、０．０５〜７質量％であるのがより好ましく、０．０５〜５質量％であるのがさらに好ましい。オニウム塩は二種類以上用いてもよいが、かかる場合は、使用する全種類のオニウム塩の含有量の合計が前記範囲であるのが好ましい。
【００９３】
本発明における光学異方性層中には、液晶性化合物、ポリマーＡおよびセルロースエステルの他、他の添加剤を含有させてもよい。他の添加剤の例には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどが含まれる。これらの添加剤は、液晶性化合物等の必須成分に対し相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の制御に寄与するか、または配向を阻害しないものであることが好ましい。
【００９４】
［光学異方性層の製造方法］
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物および所望により他の添加剤を含有する組成物（通常は塗布液）を、例えば、支持体表面、好ましくは配向膜表面に塗布して、液晶性化合物の分子を配向させ、該配向状態を固定することで作製できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれ、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。さらに、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。均一性の高い光学フィルムを作製する場合には、塗布液の表面張力は、２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。
【００９５】
塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施でき、ワイヤーバーコーティング法、ダイコーティング法による塗布が好ましい。
【００９６】
固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応および光重合開始剤を用いる光重合反応が含まれ、光重合反応が好ましい。塗布液中には、液晶性化合物の固定化に寄与する、重合性モノマーや重合開始剤を含有させることが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して、１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％であるのがより好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が３以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができ、より好ましい。
【００９７】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号の各明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分に対し０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【００９８】
液晶性化合物（液晶性分子）の配向固定の光照射には、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。配向固定する温度はＲｔｈ／ｄを０．１２以上にするためにが、少なくとも１００℃以下とすることが好ましく、８０℃以下にすることがより好ましい。また液晶層と支持体との密着性を維持するために４０℃以上で硬化することが好ましい。
【００９９】
この様にして形成された光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることがさらに好ましい。また、光学異方性層上に、保護層を設けてもよい。
【０１００】
［支持体］
本発明では、前記光学異方性層を、支持体上に形成してもよい。支持体は透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。支持体は、波長分散が小さいのが好ましく、具体的には、Ｒｅ400／Ｒｅ700の比が１．２未満であることが好ましい。中でも、ポリマーフィルムが好ましい。前記光学異方性層の支持体は、位相差膜の一部であってもよく、また、位相差膜の全部であってもよい。また、前記光学異方性層の支持体は、本発明における、偏光板の保護膜（偏光板保護膜）として機能していてもよい。
【０１０１】
支持体の光学異方性は小さい方が好ましく、面内レターデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、位相差膜を兼ねる場合は、Ｒｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、４０ｎｍ〜１１５ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜９５ｎｍであるのがさらに好ましい。また、Ｎｚが１．５〜７であって、２．０〜５．５であるのがより好ましく、２．５〜５．０であるのがさらに好ましい。
【０１０２】
支持体となるポリマーフィルムの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートのフィルムが含まれる。セルロースエステルフィルムが好ましく、セルロースアセテートがより好ましい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがさらに好ましい。支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜または光学異方性層）との接着を改善するため、支持体に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、支持体が重合性基を有するポリマー等のフィルムである場合も、光学異方性層との密着性が向上するので好ましい。また、支持体や長尺の支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒子サイズが１０〜１００ｎｍの無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１０３】
本発明の光学補償シートは、単独で液晶表示装置の部材等に用いることができるが、偏光板と一体化して、偏光板中の一部材として液晶表示装置に組み込むこともできる。本発明の光学補償シートが一体化された偏光板は、偏光機能を有するのみならず、液晶表示装置の視野角の拡大にも寄与する。また、偏光膜の保護膜として本発明の光学補償シートを用いてもよく、このような構成とすると、液晶表示装置の薄型化にも寄与する。
【０１０４】
以下、本発明の光学補償シートを用いた偏光板について詳細に説明する。
［偏光板］
偏光板は一般に、基材フィルムに二色性物質を吸着、配向させて作製された偏光膜と、該偏光膜の少なくとも片面に貼合された保護膜とを有する。偏光膜の基材フィルムに使用されるポリマーとしては、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡ）系ポリマーが一般的である。二色性物質としてはヨウ素あるいは、二色性染料が単独、あるいは組み合わせて用いられる。
【０１０５】
ここで偏光膜に用いるＰＶＡは、通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。ＰＶＡのケン化度は特に限定されないが、溶解性、偏光性、耐熱、耐湿性等の観点から８０〜１００モル％が好ましく、９０〜１００モル％が特に好ましい。また、ＰＶＡの重合度は特に限定されないが、フィルム強度や耐熱、耐湿性、延伸性などから１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００がより好ましい。また、ＰＶＡのシンジオタクチシチーについては特に限定されず、目的に応じ任意の値をとることもできる。
【０１０６】
ＰＶＡを染色、延伸して偏光膜を作製する手順には、原反となるＰＶＡフィルムを乾式または湿式で延伸した後、ヨウ素または二色性染料の溶液に浸漬する方法、ヨウ素または二色性染料の溶液中でＰＶＡフィルムを延伸し配向させる方法、ヨウ素または二色性染料にＰＶＡフィルムを浸漬後、湿式または乾式で延伸し配向させる方法などがある。また、ＰＶＡ原反を溶液製膜法により製膜する際、ＰＶＡ溶液中に二色性物質をあらかじめ含有させる手法も採用できる。
【０１０７】
代表的な偏光板の湿式延伸による製造方法を以下に述べる。まず、原反ＰＶＡフィルムを水溶液で予備膨潤する。次いで二色性物質の溶液に浸漬し、二色性物質を吸着させる。さらにホウ酸等のホウ素化合物の水溶液中で進行方向に一軸延伸する。必要に応じ色味調整浴、硬化浴等をこの後に設けてもよい。ある程度乾燥したところでＰＶＡ等の接着剤を用い保護膜を貼合する。さらに乾燥して偏光板が得られる。
【０１０８】
予備膨潤液中には、各種有機溶媒、無機塩、可塑剤、ホウ酸類等を水溶液中に添加してもよい。
【０１０９】
染色液は、二色性物質としてヨウ素を用いる場合、例えば、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液を用いることができる。ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液は、ヨウ素が０．１〜２０ｇ／リットル、ヨウ化カリウムが１〜１００ｇ／リットル、ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１〜１００であることが好ましい。染色時間は３０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜５０℃が好ましい。染色液中にホウ素化合物等ＰＶＡを架橋する化合物を含有させることも好ましい。延伸浴中のホウ素化合物は、ホウ酸が特に好ましい。ホウ酸濃度は、好ましくは１〜２００ｇ／リットルであり、さらに好ましくは１０〜１２０ｇ／リットルである。延伸浴には、ホウ素化合物の他にヨウ化カリウム等の無機塩、各種有機溶媒、または二色性染料等を含むことができる。色味調整浴、硬化浴には二色性染料のほか、ヨウ化カリウム等の無機塩、ホウ素化合物等を必要に応じ含有させる。
【０１１０】
ＰＶＡの延伸工程としては、上に例示した如く連続フィルムの進行方向に張力を付与し、進行方向にフィルムを延伸、配向させる方法の他、いわゆるテンター方式等の延伸手段でフィルムの幅手方向に張力を付与し、幅手方向に配向させる方法も適用可能である。延伸は一軸方向に３倍以上行うことが好ましく、４．５倍以上がより好ましい。偏光膜の使用目的により二軸延伸を行ってもよい。延伸後の膜厚は特に限定されないが、取り扱い性、耐久性、経済性の観点より、５〜１００μｍが好ましく、１０〜４０μｍがより好ましい。延伸時の温度は延伸条件によって異なるが、好ましくは１０〜２５０℃である。１００℃以上の温度で乾式延伸する場合は、窒素等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。また、予め延伸したフィルムを染色する前には、１００℃以上の温度で結晶化処理を行うことが好ましい。
【０１１１】
染色方法としては上に例示した浸漬法だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、既に述べた液層吸着のみでなく、寄贈による吸着も必要に応じ行うことができる。二色性色素で染色することも好ましい。二色性色素の具体例としては、例えばアゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素、アントラキノン系色素等の色素系化合物をあげることができる。水溶性のものが好ましいが、この限りではない。又、これらの二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入されていることが好ましい。
【０１１２】
二色性分子の代表的なものとしては、例えばシー．アイ．ダイレクト．イエロー１２、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ３９、シー．アイ．ダイレクト．オレンジ７２、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８、シー．アイ．ダイレクト．レッド３９、シー．アイ．ダイレクト．レッド７９、シー．アイ．ダイレクト．レッド８１、シー．アイ．ダイレクト．レッド８３、シー．アイ．ダイレクト．レッド８９、シー．アイ．ダイレクト．バイオレット４８、シー．アイ．ダイレクト．ブルー６７、シー．アイ．ダイレクト．ブルー９０、シー．アイ．ダイレクト．グリーン５９、シー．アイ．アシッド．レッド３７等が挙げられる。さらに、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開２０００−４８１０５号、特開２０００−６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報に記載の色素等を挙げることができる。特に、シー．アイ．ダイレクト．レッド２８（コンゴーレッド）は古くよりこの用途に好ましいとして知られている。これらの二色性分子は遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として用いられる。
【０１１３】
これらの二色性分子は２種以上を配合することにより、各種の色相を有する偏光子を製造することができる。偏光素子または偏光板として偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）や黒色を呈するように各種の二色性分子を配合したものが単板透過率、偏光率とも優れており好ましい。
【０１１４】
偏光膜の耐熱、耐湿性を高める観点から、偏光膜の製造工程においてＰＶＡに架橋させる添加物を含ませることが好ましい。架橋剤としては、米国再発行特許第２３２８９７号に記載のものが使用できるが、ホウ酸、ホウ砂が実用的に好ましく用いられる。また、亜鉛、コバルト、ジルコニウム、鉄、ニッケル、マンガン等の金属塩を偏光膜に含有させることも、耐久性を高めることが知られており好ましい。これら架橋剤、金属塩は、上に述べた予備膨潤浴、二色性物質染色浴、延伸浴、硬化浴、色調整浴等のいずれの工程に含有させても良く、工程の順序は特に限定されない。保護膜と偏光膜を接着する接着剤としては特に限定はなく、ＰＶＡ系、変性ＰＶＡ系、ウレタン系、アクリル系等、公知のものを任意に用いることができる。接着層の厚みは０．０１〜２０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍがさらに好ましい。
【０１１５】
本発明の偏光板として、好ましくは、偏光膜の一方の表面に、本発明の光学補償シート（より好しくは、支持体を有する光学補償シートの支持体表面が偏光膜と接する様に）貼合し、その反対側の表面には、セルロースアシレート等からなるポリマーフィルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフィルムの配置とする）のが好ましい。
【０１１６】
本発明の光学補償シートは、種々の液晶表示装置に用いることができる。特にＩＰＳモードの液晶表示装置に用いるのが好ましい。本発明の光学補償シートは、液晶セルと、該液晶セルを挟持する一対の偏光膜とを有する液晶表示装置に配置する場合は、前記一対の偏光膜の少なくとも一方と前記液晶セルとの間に配置するのが好ましい。本発明の光学補償シートは、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように、光学異方性層の光学特性を決定するのが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なるので、前記光学異方性層の光学特性の好ましい範囲も、用途によって異なる。液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２のＰ４１１〜４１４等に記載されている。
【０１１７】
本発明の光学補償シートの光学特性は、前記した様に、その用途、例えば、いずれのモードの液晶セルの光学補償に用いられるかによって、好ましい範囲が異なる。ＩＰＳモード液晶表示装置には、光学異方性層のＲｅは−５〜５ｎｍであるのが好ましく、−３〜３ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈは−８０〜−４００ｎｍであるのが好ましく、−１５０〜−３５０ｎｍであるのがより好ましい。かかる光学特性を示す光学異方性層を形成するには、例えば、棒状液晶性化合物を用い、垂直配向（棒状分子の長軸方向を光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向）させて、垂直配向状態に固定するのが好ましい。また、支持体のＲｅは２０〜１５０ｎｍであるのが好ましく、２０〜１００ｎｍであるのがより好ましい。Ｎｚは、１．５〜７．０であるのが好ましく、２．０〜６．０であるのがより好ましい。
【０１１８】
ＩＰＳモードの液晶表示装置については、特開２００３−２０７７９７号公報、特開２００５−１２８４９８号公報等に詳細が記載されていて、その内容を本発明に適用することができる。
【実施例】
【０１１９】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１２０】
［比較例１−１］
（ＩＰＳモード液晶セル１の作製）
図１に示す様に、一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極２および３を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。２枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、２枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９および誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶性化合物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３８０ｎｍであった。尚、図１中、１は液晶素子画素領域を、２は画素電極を、３は表示電極を、４は            ラビング方向を、５ａおよび５ｂは黒表示時の液晶化合物のダイレクターを、６ａおよび６ｂは    白表示時の液晶化合物のダイレクターをそれぞれ示している。
【０１２１】
（ポリマー基材（支持体）の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子サイズ４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（アドバンテック製、Ｎｏ．６３）を０．５ＭＰａ（５ｋｇ／ｃｍ2）以下で用いてろ過した。
【０１２２】
──────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成物
──────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                    １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
──────────────────────────────────
【０１２３】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤Ａを１６質量部、レターデーション上昇剤Ｂを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、溶液Ａを調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該溶液Ａを４０質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０１２４】
【化３１】
2007121996.tif 000032
【０１２５】
【化３２】
2007121996.tif 000033
【０１２６】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてフィルムを作製した。
【０１２７】
このようにして得られたポリマー基材の厚さは８０μｍであった。作製したポリマー基材について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定した。Ｒｅが６０ｎｍ、Ｒｔｈが２００ｎｍであること、さらに、これからＮｚが３．８であることが分かった。
【０１２８】
（光学補償シートの作製）
作製したポリマー基材の表面のケン化処理を行い、このフィルム上に、下記の組成の配向膜形成塗布液をｐＨ６．０になるように水酸化カリウムで調整した。前記配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜を得た。
【０１２９】
（配向膜形成塗布液の組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                            ２０質量部
水酸化カリウム                                        ０．０５質量部
グルタルアルデヒド                                      ０．５質量部
水                                                      ３６０質量部
メタノール                                              １２０質量部
【０１３０】
【化３３】
2007121996.tif 000034
【０１３１】
（光学異方性層の形成）
まず、下記組成を、１０２ｇのメチルエチルケトンに溶解した光学異方性層形成溶液を調製した。
（光学異方性層の組成）
下記アクリレート基を２つ有する棒状液晶性化合物  （Ａｃ−２）  ４５．０７質量部
下記オニウム塩（１）                                            ０．４５質量部
ポリマーＡ（上記例示化合物Ｐ−１５）                            ０．１８質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）          １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                ０．４５質量部
【０１３２】
化合物Ａｃ−２
【化３４】
2007121996.tif 000035
【０１３３】
オニウム塩（１）
【化３５】
2007121996.tif 000036
【０１３４】
この塗布液を前記配向膜の表面に、ワイヤーバーでそれぞれ塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、７０℃の恒温槽中で１．５分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯により、２０秒間ＵＶ照射し棒状液晶性化合物を架橋して、その後、室温まで放冷して光学異方性層を作製した。作製した光学異方性層について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、Ｒｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２６０ｎｍであった。また、光学異方性層は、ホメオトロッピック配向を示した。Ｒｔｈ／ｄは０．１４になることがわかった。
【０１３５】
（光学異方性層の配向秩序度の評価）
東京インスツルメンツ社製「Ｎａｎｏｆｉｎｄｅｒ」を用いて、Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＩＤＷ'０４ , ６５１（２００４）の６５１〜 ６５４頁に記載されている手法を参考に配向秩序度を算出した。結果を表１に示した。
【０１３６】
（光学異方性層の重合度測定）
光学異方性層の重合度は、Ｎｉｃｏｌｅｔ社製、７１０  ＦＴ−ＩＲ  ＳＰＥＣＴＲＯＭＥＴＥＲを用いて測定した。アクリレート基に由来する８１０ｃｍ-1のピークとエステル基に由来する１６００ｃｍ-1付近のピークの面積比から、残存アクリレート基の組成を算出し、さらに光学異方性層の重合度を算出した。結果を表２に示した。
【０１３７】
（光学補償シートの密着性評価）
光学補償シートの密着性は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００の８．５．２基盤目テープ法に順じて試験片を作製し評価した。但し、評価には日東電工製ポリエステル粘着テープＮＯ３１ＲＨを使用した。結果を表２に示した。
【０１３８】
（低Ｒｅセルロースアセテートの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
（セルロースアセテート溶液Ａの組成）
置換度２．８６のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール                                        １１質量部
【０１３９】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１を調製した。
（添加剤溶液Ｂ−１の組成）
メチレンクロライド                        ８０質量部
メタノール                                ２０質量部
下記のレターデーション低下剤              ４０質量部
【０１４０】
【化３６】
2007121996.tif 000037
【０１４１】
セルロースアセテート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂ−１の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの偏光板保護膜１（低Reセルロースアセテートフィルム）を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、光学特性を算出したところ、Ｒｅが１ｎｍ、Ｒｔｈが３ｎｍであることが確認できた。また、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜は２ｎｍであり、｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜は１０ｎｍであった。
【０１４２】
（偏光膜（１）を有する偏光板）
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜（１）を製作した。偏光膜（１）の表面に保護膜に用いるため、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝４５ｎｍ）をケン化処理した。該ケン化処理した保護膜を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜（１）の片面に貼り付け偏光板（１）を形成した。
偏光板（１）にポリビニルアルコール系接着剤を用い、上記により作製した光学補償シートを、ポリマー基材（支持体）が偏光膜側となるように、かつ、偏光膜（１）の透過軸とポリマー基材の遅相軸が垂直になるように貼り付け偏光板（１）を形成した。
【０１４３】
（偏光膜（２）を有する偏光板）
偏光板（１）の保護膜を貼り付けていない側の面に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、低Reセルロースアセテートフィルムを貼り付け偏光板（２）を形成した。
【０１４４】
上記ＩＰＳモード液晶セル１の一方に、ポリマー基材の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように、かつ光学異方性層が液晶セル側になるように貼り付け偏光板（１）を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう一方の側に偏光板（２）を偏光板（１）の保護膜側が液晶セル側になるように、かつ偏光板（１）とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。得られた光学補償シートを観察したところ、光学異方性層の垂直配向性が維持されているため、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、配向ムラ、配向欠陥は検出されなかった。
以下表１に示すとおり、実施例１−Ａ〜１−Ｈの液晶表示装置を作製した。ここで、実施例１−Ａ、１−Ｂ、１−Ｃ、１−Ｄは、それぞれ、光源側から順に、偏光膜（２）、低Ｒｅセルロースアセテートフィルム、液晶層、光学異方性層、ポリマー基材、偏光膜（１）の順に積層しており、実施例１−Ｅ、１−Ｆ、１−Ｇ、１−Ｈは、それぞれ、光源側から順に、偏光膜（２）、ポリマー基材、光学異方性層、液晶層、低Ｒｅセルロースアセテートフィルム、偏光膜（１）の順に積層した。
これらについて、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、液晶表示装置の正面コントラストおよび色味変化を測定した。どの場合も正面コントラスト及び色味変化は良好な結果を得た。
【０１４５】
【表１】
2007121996.tif 000038
【０１４６】
［実施例１−２〜１−４］
比較例１−１において、下記アクリレートを１つ含有する化合物（以下、化合物Ａｃ−１と示す）の添加量を表２のようにした以外は比較例１−１と同様にして偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した。
化合物Ａｃ−１
【化３７】
2007121996.tif 000039
【０１４７】
[比較例２−１、実施例２−２〜２−４]
比較例１−１および実施例１−２〜１−４で用いたオニウム塩を下記オニウム塩（２２）に変えた以外は、比較例１−１および実施例１−２〜１−４と、それぞれ、同様にして偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した（順に、比較例２−１、実施例２−２、実施例２−３、実施例２−４と示す。）。光学異方性層の垂直配向性が維持されているため、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、配向ムラ、配向欠陥は検出されなかった。
【０１４８】
オニウム塩（２２）
【化３８】
2007121996.tif 000040
【０１４９】
[比較例３−１、実施例３−２〜３−４、比較例４−１、実施例４−２〜４−４]
レターデーション上昇剤ＡまたはＢの量を変えた以外、比較例１−１、実施例１−２〜１−４と同様にして、８種類の光学補償シートを作製した（順に、比較例３−１、実施例３−２〜３−４、比較例４−１、実施例４−２〜４−４とする）。得られた光学補償シートのＲｅ光入射角度依存性を、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて測定した。
比較例３−１および実施例３−２〜３−４で得られた光学補償シートは、Ｒｅが５４ｎｍ、Ｒｔｈが１７５ｎｍ（Ｎｚ＝３．５）であった。比較例４−１および実施例４−２〜４−４で得られた光学補償シートは、Ｒｅが５５ｎｍ、Ｒｔｈが２００ｎｍ（Ｎｚ＝４．１）であった。これらの光学補償シートを、それぞれ、比較例１−１と同様に偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した。
レターデーション値の違う８種類の光学補償シート結果から、支持体のＲｅ、Ｒｔｈが変わっても、アクリレート基を１つ有する液晶性化合物の含量の増加により垂直配向性（配向秩序度）が増大傾向にあることが確認された。
【０１５０】
［比較例５−１、実施例５−２〜５−４、比較例６−１、実施例６−２〜６−４、比較例７−１、実施例７−２〜７−４］
光学異方性層に含まれるアクリレート基を２つ有する棒状液晶性化合物の種類を下記の化合物（Ａｃ−２−５）、（Ａｃ−２−６）、（Ａｃ−２−７）に変えた以外は比較例１−１および実施例１−２〜１−４と同様に光学補償シートを作製し、液晶表示装置を作製した（順に、比較例５−１、実施例５−２〜５−４、比較例６−１、実施例６−２〜６−４、比較例７−１、実施例７−２〜７−４とする）。液晶性化合物の種類が変わっても、アクリレート基を１つ有する液晶性化合物の含量の増加により垂直配向性（配向秩序度）が増大傾向にあることが確認された。
【０１５１】
（Ａｃ−２−５）
【化３９】
2007121996.tif 000041
【０１５２】
（Ａｃ−２−６）
【化４０】
2007121996.tif 000042
【０１５３】
（Ａｃ−２−７）
【化４１】
2007121996.tif 000043
【０１５４】
［比較例８−１、実施例８−２〜８−４、比較例９−１、実施例９−２〜９−４、比較例１０−１、実施例１０−２〜１０−４、］
光学異方性層に含まれるアクリレート基を１つ有する棒状液晶性化合物の種類を下記の化合物（Ａｃ−１−８）、（Ａｃ−１−９）、（Ａｃ−１−１０）にした以外は比較例１−１と同様に光学補償シートを作製し、液晶表示装置を作製した。
【０１５５】
（Ａｃ−１−８）
【化４２】
2007121996.tif 000044
【０１５６】
（Ａｃ−１−９）
【化４３】
2007121996.tif 000045
【０１５７】
（Ａｃ−１−１０）
【化４４】
2007121996.tif 000046
【０１５８】
[実施例１−５、比較例１−６]
比較例１−１において、アクリレート基を２つ有する液晶性化合物およびアクリレート基を１つ有する液晶性化合物を、それぞれ、表３に示したとおり変更し、他は同様に行った。
[実施例８−５、比較例８−６]
比較例１−１において、アクリレート基を２つ有する液晶性化合物およびアクリレート基を１つ有する液晶性化合物を、それぞれ、表３に示したとおり変更し、他は同様に行った。
【０１５９】
【表２】
2007121996.tif 000047
【０１６０】
上記の結果からもわかるように１分子中にアクリレート基を２つ含有する液晶性化合物に１分子中にアクリレート基を１つ含有する液晶性化合物を添加することで、配向秩序度が増加するため液晶の揺らぎが小さくなりコントラストが向上した。
【０１６１】
【表３】
2007121996.tif 000048
【０１６２】
また、上記表から明らかなとおり、アクリレート基を２つ有する液晶化合物の含量（重量部）≧アクリレート基を１つ有する液晶化合物の含量（重量部）では、密着性にはほとんど影響を及ぼさない。但しアクリレート基を２つ有する液晶化合物の含量（重量部）≦アクリレート基を１つ有する液晶化合物の含量（重量部）で、密着性が悪化傾向にあることが分かった。
【０１６３】
[実施例１１]
上述の配向膜形成塗布液をｐＨ１０．０になるように水酸化カリウムで調整し、配向膜をラビングし、さらに上記オニウム塩（１）を除いた以外は比較例１−１、実施例１−２〜１−４と同様にして偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した。光学異方性層はハイブリッド配向を形成し、配向性が維持されているため、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、配向ムラ、配向欠陥は検出されなかった。さらに、液晶性化合物が垂直配向からハイブリッド配向になっても、アクリレート基を１つ有する液晶性化合物の含量の増加により配向性（配向秩序度）が増大傾向にあることが分かった。
【０１６４】
[実施例１２]
配向膜をラビングし、さらに上記オニウム塩（１）およびポリマーＡ（Ｐ−１５）を除いて、下記構造式１２−Ａを添加した以外は比較例１−１、実施例１−２〜１−４と同様にして偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した。光学異方性層はホモジニアス配向を形成し、配向性が維持されているため、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、配向ムラ、配向欠陥は検出されなかった。液晶性化合物がホモジニアス配向になっても、アクリレート基を１つ有する液晶性化合物の含量の増加により配向性（配向秩序度）が増大傾向にあることが分かった。
【化４５】
2007121996.tif 000049
【０１６５】
[実施例１３]
上述の配向膜形成塗布液をｐＨ３．５になるように水酸化カリウムで調整し、配向膜をラビングし、さらに上記オニウム塩（１）およびポリマーＡ（Ｐ−１５）を除き、環状カイラル構造を有するジアクリルロイル化合物を加えた以外は比較例１−１、実施例１−２〜１−４と同様にして偏光板を作製し、液晶表示装置を作製した。光学異方性層は液晶性化合物の遅相軸が透明基板上に平行であるコレステリック液晶を形成した。配向性が維持されているため、正面、および法線から６０度まで傾けた方向から見ても、配向ムラ、配向欠陥は検出されなかった。液晶性化合物がコレステリック液晶になっても、アクリレート基を１つ有する液晶性化合物の含量の増加により配向性（配向秩序度）が増大傾向にあることが分かった。
【０１６６】
[実施例１４]
実施例１−２において、光学異方性層に含まれるアクリレート基を２つ有する棒状液晶性化合物を、下記アクリレート基を４つ有する棒状液晶性化合物（Ａｃ−１４）に変えた以外は実施例１−２と同様に光学補償シートを作製し、液晶表示装置を作製した。この場合の配向秩序度Ｓ（４）は０．４９、Ｓ（４、２）は０．５３であり、Ｐ（４）は９９．２％、Ｐ（４，２）は９８．４％であった。
【０１６７】
【化４６】
2007121996.tif 000050
【０１６８】
[実施例１５]
実施例１−２において、光学異方性層に含まれるアクリレート基を２つ有する棒状液晶性化合物を下記アクリレート基を６つ有する棒状液晶性化合物（Ａｃ−１４Ｈ）に変えた以外は実施例１−２と同様に光学補償シートを作製し、液晶表示装置を作製した。この場合の配向秩序度Ｓ（６）は０．４０、Ｓ（６、２）は減少傾向で０．４２であり、Ｐ（６）は９８．６％、Ｐ（６，２）は９８．４％であった。
【０１６９】
【化４７】
2007121996.tif 000051
【０１７０】
実施例１４と実施例１５の正面リターデーションＲｅと、光学異方性層の膜厚は表４のようになった。アクリレート基の数を増やすと、光学異方性層の膜厚は厚くなる方向に変化した。光学異方性層の厚さは10μm以下であればよいが、液晶性化合物の配向を考慮した場合、膜厚が厚くなると配向しにくくなる傾向にあるので、アクリレート基の数は４までがより好ましいことが示唆された。
【表４】
2007121996.tif 000052
【０１７１】
[実施例１６−１]
実施例１−２において、光学異方性層の形成方法を、比較例１−１に記載の光学異方性層の形成方法であって、加熱を７０℃、９０秒とし、かつ配向固定温度を８０℃に変更した以外は、同様に行い、光学補償シートを作製した。得られたサンプルはホメオトロピック配向を形成し、溶剤残り、ポリマー基材の収縮による面状故障ない光学補償シートになることがわかった。Ｒｔｈ／ｄは０．１２で密着性良好のサンプルになることが認められた。
【０１７２】
[比較例１５−１〜２、実施例１６−２〜４]
配向固定温度を３０、５０、７０、９０、１１０℃に変更した以外は実施例１５と同様に光学補償シートを作製し、Ｒｔｈ／ｄ、密着性を評価し、表３にまとめた。
【０１７３】
[実施例１５−３〜４、実施例１６−５〜８]
配向固定温度を３０、５０、７０、９０、１１０℃に変更し、アクリレート基を２つ有する重合性液晶を下記化合物（Ａｃ−１５） に変更した以外は実施例１６−１と同様に光学補償シートを作製し、Ｒｔｈ／ｄ、密着性を評価し、表３にまとめた。
【０１７４】
【化４８】
2007121996.tif 000053
【０１７５】
【表５】
2007121996.tif 000054
【０１７６】
[比較例１５−５]
実施例１５において、光学異方性層の形成方法を、比較例１−１であって、加熱温度を３０℃に変更した以外は、実施例１５と同様にして光学補償シートを作製した。得られたサンプルは溶剤残っているためサンプル評価不可能であった。
【０１７７】
[比較例１５−６]
実施例１５において、光学異方性層の形成方法を、比較例１−１であって、加熱温度を１９０℃に変更した以外は、実施例１５と同様にして光学補償シートを作製した。得られたサンプルはポリマー基材が収縮したことにより面状が悪くサンプル評価不可能であった。
【図面の簡単な説明】
【０１７８】
【図１】比較例１−１で作製したＩＳＰモードの液晶セルの概略図を示す。
【符号の説明】
【０１７９】
１            液晶素子画素領域
２            画素電極
３            表示電極
４            ラビング方向
５ａ、５ｂ    黒表示時の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ    白表示時の液晶化合物のダイレクター
【図１】
2007121996.tif 000057