(57)【要約】 【課題】  四辺形基板の洗浄仕上がりの質の向上と、洗浄作業効率の向上を達成することのできる四辺形基板洗浄装置を提供することを目的とする【解決手段】  四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置において、四辺形の相対する２辺で基板Ｗを支持するエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄであって、基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１と、側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材と、基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄する、エル字形支持部材の鉛直方向上方に配置された回転する表面洗浄ロール４０２とを備える。【選択図】  図１
2007184629.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置において；
前記四辺形の相対する２辺で前記基板を支持するエル字形支持部材であって、前記基板の底面を支持する底面支持部と、側面を支持する側面支持部とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材と；
前記基板の表面を洗浄する、前記エル字形支持部材の鉛直方向上方に配置された表面洗浄具とを備える；
四辺形基板洗浄装置。
【請求項２】
前記エル字形支持部材で支持される２辺以外の２辺を含む基板の側面を洗浄する側面洗浄具を備える、請求項１に記載の四辺形基板洗浄装置。
【請求項３】
前記底面支持部には、該底面支持部で前記基板を支持したときに、該底面支持部と前記基板との接触面を最小とするような角度が付けられた、請求項１または請求項２に記載の四辺形基板洗浄装置。
【請求項４】
前記エル字形支持部材には、前記底面支持部および側面支持部の少なくとも一方に、洗浄液を吐出する洗浄液吐出口が設けられた、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の四辺形基板洗浄装置。
【請求項５】
前記エル字形支持部材を取り付けて、前記表面洗浄具に対して相対的に往復運動をする揺動テーブルを備える、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の四辺形基板洗浄装置。
【請求項６】
四辺形の基板の前記四辺形の相対する２辺において前記基板の底面と側面とを支持する工程と；
前記基板の上方または側方から洗浄液を散布する工程と；
前記基板の表面をスクラブ洗浄する工程と；
前記基板の支持される２辺以外の２辺を含む基板の側面をスクラブ洗浄する工程とを備える；
四辺形基板の洗浄方法。
【請求項７】
前記基板を表裏反転および９０度回転させる回転工程と；
前記基板の裏面をスクラブ洗浄する工程と；
前記回転工程の前に支持されていた２辺を含む基板の側面をスクラブ洗浄する工程とを備える；
請求項６に記載の四辺形基板の洗浄方法。
【請求項８】
前記基板の底面を支持する底面支持部または側面を支持する側面支持部を洗浄する工程を備える；
請求項６または請求項７に記載の四辺形基板の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置、四辺形基板の洗浄方法に関し、特に研磨装置により研磨された四辺形の基板の砥液等を除去し洗浄する四辺形基板洗浄装置、四辺形基板の洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
四辺形形状の基板を研磨する場合は、外周が円形のホルダーに四辺形の穴を加工し、この穴に四辺形基板を嵌め込んだ状態で、一枚の円盤状の基板として、研磨、洗浄を行っていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
以上のような四辺形基板の研磨において、ホルダーに四辺形基板を嵌め込んだ状態で、研磨装置により研磨すると、ホルダーの穴と四辺形基板との間の隙間にスラリーが入り込み四辺形基板にスラリーが付着してしまう。したがって、そのまま洗浄装置に搬送して洗浄を行っても基板の側面、裏面に付着しているスラリーをきれいに除去することができなかった。そのため、研磨装置による処理の後に、人手によりホルダーから基板を外して基板を洗浄する洗浄工程が必ず必要となり、また、基板を取り外したホルダーの底面、および内側側面に残留した砥液を人手により除去しなければならず、このため洗浄仕上がりが十分ではなく、また洗浄作業効率も十分ではなかった。
【０００４】
そこで、本発明は、四辺形基板の洗浄仕上がりの質の向上と、洗浄作業効率の向上を達成することのできる四辺形基板洗浄装置、四辺形基板の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明による四辺形基板洗浄装置４０１は、図１（Ａ）、図２に示すように、四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置において；前記四辺形の相対する２辺Ｈ１で基板Ｗを支持するエル（Ｌ）字形支持部材４０４Ａ〜Ｄであって、基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１と、側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと；基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄する、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの鉛直方向上方に配置された表面洗浄具４０２とを備える。
【０００６】
このように構成すると、少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと表面洗浄具４０２とを備えるので、底面支持部４１１で基板Ｗの底面Ｗ３を支持し、側面支持部４１２で基板Ｗの相対する側面Ｗ２をそれぞれ支持し、よって少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで基板Ｗを安定して支持し、表面洗浄具４０２で基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄することができる。また、表面洗浄具４０２の回転による基板Ｗを水平方向にずらす力を側面支持部４１２により受け、洗浄中の基板Ｗを安定して支持することができるように側面支持部４１２を配置することが好ましい。エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄは、相対する２辺Ｈ１の各辺に１個ずつの少なくとも２個であるが、好ましくは各辺Ｈ１に２個ずつの合計４個とするとよい。
【０００７】
請求項２に係る発明による四辺形基板洗浄装置は、請求項１に記載の四辺形基板洗浄装置において、図１（Ａ）、図２に示すように、前記エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄する、側面洗浄具４０３を備える。
【０００８】
このように構成すると、側面洗浄具４０３を備えるので、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む四辺形基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することができる。また、側面洗浄具４０３が、支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することにより発生する基板Ｗの側面Ｗ２に直角な水平方向の力を、側面支持部４１２により受けることができるように、側面支持部４１２を配置することが好ましい。このようにすると基板Ｗをエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に安定して支持し、基板Ｗの洗浄を行うことができる。
【０００９】
請求項３に係る発明による四辺形基板洗浄装置は、請求項１または請求項２に記載の四辺形基板洗浄装置おいて、図１（Ａ）に示すように、底面支持部４１１には、該底面支持部４１１で基板Ｗを支持したときに、該底面支持部４１１と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度が付けられている。
【００１０】
このように構成すると、底面支持部４１１に該底面支持部４１１と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度（所定の角度）が付けられているので、底面支持部４１１と基板Ｗの底面Ｗ３との摩擦によって基板Ｗの底面Ｗ３に傷が付くのを最小にすることができる。また、側面支持部４１２に該底面支持部４１２と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度（所定の角度）を付けるのが好ましい。この場合、側面支持部４１２と基板Ｗの側面Ｗ２との摩擦によって基板Ｗの側面Ｗ２に傷が付くのを最小にすることができる。
【００１１】
請求項４に係る発明による四辺形基板洗浄装置は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の四辺形基板洗浄装置おいて、図１（Ａ）、図４に示すように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄには、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に、洗浄液を吐出する洗浄液吐出口４３６が設けられている。
【００１２】
このように構成すると、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に、洗浄液を吐出する洗浄液吐出口４３６が設けられているので、洗浄液吐出口４３６から吐出された洗浄液によって、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に付着した汚れを洗い流す洗浄を行うことができる。このようにすると、少なくともフォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３と底面支持部４１１との摩擦による傷の発生、または側面Ｗ２と側面支持部４１２との摩擦による傷の発生を防ぐことができる。
【００１３】
請求項５に係る発明による四辺形基板洗浄装置は、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の四辺形基板洗浄装置おいて、図１（Ａ）に示すように、前記エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄを取り付けて、表面洗浄具４０２に対して相対的に往復運動をする揺動テーブル４０９を備える。
【００１４】
このように構成すると、表面洗浄具４０２に対して相対的に往復運動をする揺動テーブル４０９を備えるので、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に基板Ｗを載置し、揺動テーブル４０９を往復運動させることにより、表面洗浄具４０２によって基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄することができる。揺動テーブル４０９は、典型的には、さらに側面洗浄具４０３に対しても相対的に往復運動をする。このようにすれば、側面洗浄具４０３によって基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することができる。
【００１５】
典型的には、側面支持部４１２は、揺動テーブル４０９の往復運動により基板Ｗに生じる揺動方向の力を受け、この力に対抗し、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが基板Ｗを安定して支持するよう配置される。また、典型的には、揺動テーブル４０９は、表面洗浄具４０２が、基板Ｗの表面Ｗ１全体を端から端まで洗浄するよう揺動する。また、好ましくは、さらに揺動テーブル４０９は、側面洗浄具４０３が、基板Ｗの側面Ｗ２全体を端から端まで洗浄するよう揺動する。
【００１６】
上記目的を達成するために、請求項６に係る発明による四辺形基板の洗浄方法は、図１（Ａ）、図２に示すように、四辺形の基板の前記四辺形の相対する２辺Ｈ１において前記基板Ｗの底面Ｗ３と側面Ｗ２とを支持する工程と；基板Ｗの上方または側方から洗浄液を散布する工程と；基板Ｗの表面Ｗ１をスクラブ洗浄する工程と；基板Ｗの支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２をスクラブ洗浄する工程を備える。
【００１７】
スクラブ洗浄は、典型的には、表面洗浄具４０２、側面洗浄具４０３を基板Ｗの表面Ｗ１、側面Ｗ２に押し付け回転することにより行う回転スクラブ洗浄である。
【００１８】
請求項７に係る発明による四辺形基板の洗浄方法は、請求項６に記載の四辺形基板の洗浄方法において、基板Ｗを表裏反転および９０度回転させる回転工程と；基板Ｗの裏面をスクラブ洗浄する工程と；前記回転工程の前に支持されていた２辺Ｈ１を含む基板Ｗの側面Ｗ２をスクラブ洗浄する工程とを備える。
【００１９】
請求項８に係る発明による四辺形基板の洗浄方法は、請求項６または請求項７に記載の四辺形基板の洗浄方法において、基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１または側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２を洗浄する工程を備える。
【発明の効果】
【００２０】
以上のように本発明によれば、少なくとも２個のエル字形支持部材と表面洗浄ロールとを備えるので、底面支持部で基板Ｗの底面を支持し、側面支持部で基板の側面を支持し、表面洗浄ロールで基板Ｗの表面Ｗを洗浄することができる。また、表面洗浄ロールの回転による基板Ｗを水平方向にずらす力を側面支持部により受け、洗浄中の基板Ｗを安定して支持することができる。本発明の四辺形基板洗浄装置によって洗浄をすることができるので、手作業による洗浄等が不要であり、四辺形基板の洗浄仕上がりの質の向上と、洗浄作業効率の向上を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、各図において互いに同一あるいは相当する部材には同一符号または類似符号を付し、重複した説明は省略する。
【００２２】
図１（Ａ）は、本発明による四辺形基板洗浄装置４０１の正面図であり、図１（Ｂ）は、後述の側面洗浄ロール４０３の先端部の拡大図である。図２は平面図である。図１（Ａ）、（Ｂ）を参照し、適宜図２を参照し、四辺形基板洗浄装置４０１の構成を説明する。
【００２３】
四辺形基板洗浄装置４０１は、基板としての正四辺形のフォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１を回転しながら洗浄する、表面洗浄具としての表面洗浄ロール４０２と、フォトマスク基板Ｗの相対する側面Ｗ２をそれぞれ洗浄する、回転しながら洗浄する、側面洗浄具としての一対の側面洗浄ロール４０３と、フォトマスク基板Ｗを水平に載置して保持する４個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが取り付けられた揺動テーブル４０９と、揺動テーブル４０９を揺動する揺動部４０５と、揺動部４０５を駆動する減速機４０６Ｇ付きの第１電動モータ４０６と、表面洗浄ロール４０２を回転させる減速機４０７Ｇ付きの第２電動モータ４０７と、側面洗浄ロール４０３を回転させる減速機４０８Ｇ付きの第３電動モータ４０８を含んで構成される。
【００２４】
なお、４個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄは、同一形状であり、同じ高さに配置されている。また、フォトマスク基板Ｗの四辺形のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄによって支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む側面Ｗ２が側面洗浄ロール４０３によって洗浄される。
【００２５】
搬送ロボット５０１（図７参照）の搬送ハンド５０２（図７参照）が、図２中、下側からアクセスし、フォトマスク基板Ｗをエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に載置する。載置されたフォトマスク基板Ｗの四辺形は、１辺が１５２ｍｍの正方形であるが、その他長方形であってもよい。フォトマスク基板Ｗは、主として四角形であればよく、角部を直線で落としたり（形式的には、八角形と見ることもできる）丸みを付けてもよい。なお、フォトマスク基板Ｗは、シリコン基板であってもよく、液晶基板であってもよい。
【００２６】
図３（Ａ）に示すように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄは、フォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１と、底面支持部４１１の上側に配置され、フォトマスク基板Ｗの側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２とを有する。底面支持部４１１の上部には底面Ｗ３が接触する底面支持面４１３が加工され、底面支持面４１３は水平面に対し、側面支持部４１２から遠ざかるにしたがい底面Ｗ３から離れる方向に所定の角度（例えば２．５度から１０度、好ましくは５度）で傾斜している。側面支持部４１２の側部には側面Ｗ２が接触する側面支持面４１４が加工され、側面支持面４１４は鉛直面に対し、底面支持部４１１から遠ざかるにしたがい、側面Ｗ２から離れる方向に所定の角度（例えば２．５度から１０度、好ましくは５度）で傾斜する。側面支持面４１４は、側面支持部４１２の上部に近い部分では同じ方向に約４５度の角度で傾斜し、フォトマスク基板Ｗがずれて搬送された場合、フォトマスク基板Ｗの揺動方向に垂直な中心軸線（不図示）に向けてガイドする。
【００２７】
４個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄのうち２個のエル字形支持部材４０４Ａ、Ｂは、フォトマスク基板Ｗの一方の側面Ｗ２を支持し、残りの２個のエル字形支持部材４０４Ｃ、Ｄは、前述の支持されている一方の側面に相対する他方の側面Ｗ２を支持するように配置されている。すなわち前２個のエル字形支持部材４０４Ａ、Ｂの側面支持面４１４と、後２個のエル字形支持部材４０４Ｃ、Ｄの側面支持面４１４とが、それぞれ相対するように配置されている（図２参照）。
【００２８】
なお、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄに支持された相対する側面Ｗ２は、この支持状態では側面洗浄ロール４０３によって洗浄されず、他の支持されていない相対する側面Ｗ２が側面洗浄ロール４０３によって洗浄される。洗浄されない相対する側面Ｗ２は、後述の四辺形基板反転装置２０１（図７参照）によってフォトマスク基板Ｗが後述のように表裏反転、９０度回転されてエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄに載置された後に側面洗浄ロール４０３によって洗浄される。
【００２９】
エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上にフォトマスク基板Ｗを載置した場合であって、しかも一方の側面Ｗ２がエル字形支持部材４０４Ｃ、Ｄのそれぞれの側面支持面４１４に最も近づいて一部接触している場合は、他方の側面Ｗ２とエル字形支持部材４０４Ａ、Ｂの側面支持面４１４との距離は、図３（Ａ）に示すように側面支持面４１４の所定の角度の傾斜を有する部分の最下部で、０．５ｍｍである。底面支持面４１３と側面支持面４１４との境界線ＬＢから、底面支持面４１３のフォトマスク基板Ｗの中心軸線方向に最も入り込んだ部分までの長さは水平方向に測って３ｍｍである。なお、フォトマスク基板Ｗの角部には面取り加工がなされており、側面Ｗ２が側面支持面４１４に最も近づいて、一部接触している状態を図３（Ｂ）に示す。
【００３０】
底面支持面４１３が、フォトマスク基板Ｗの自重と、表面洗浄ロール４０２の洗浄による下方向の押し付け力Ｆ１（図８参照）とを受け、自重とこの力Ｆ１に対抗している。また、側面支持面４１４が、揺動テーブル４０９の揺動によりフォトマスク基板Ｗが揺動方向に移動してエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄから脱落しないように、フォトマスク基板Ｗを支持している。側面支持面４１４は、表面洗浄ロール４０２の回転洗浄によるフォトマスク基板Ｗを水平方向に移動させようとする力Ｆ２（図８参照）を受け、さらに側面洗浄ロール４０３の回転洗浄によるフォトマスク基板Ｗを水平方向に移動させようとする力Ｆ３（Ｆ３は、搬送ハンド５０２のアクセス側とは反対側に向かう（図８参照））を受け、これらの力に対抗し、フォトマスク基板Ｗをエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に安定して支持している。
【００３１】
底面支持面４１３が水平面に対し所定の角度で傾斜し、側面支持面４１４が鉛直面に対して所定の角度で傾斜しているので、砥液が付着したフォトマスク基板Ｗが、底面支持面４１３、側面支持面４１４に接触した場合、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄとフォトマスク基板Ｗとの間に砥液が入り込み、洗浄中の摩擦によってフォトマスク基板Ｗに傷が付くのを最小限にすることができる。
【００３２】
エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの材質は、本実施の形態では、ＰＣＴＦＥを採用したが、溶出特性、清浄性、フォトマスク基板Ｗへの非攻撃性等を損なわず、本発明の目的を逸脱しない用途で、金属、樹脂、ゴム等の他の材料を選択できる。
【００３３】
図１（Ａ）、（Ｂ）、図２に戻って説明を続ける。揺動テーブル４０９は、水平に配置された長方形の支持板４１５を上部に有し、水平断面が円形の凹部４１６（図１（Ａ）中、破線にて表示）が加工された底部円板４１７を下部に有する。支持板４１５上には、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが取り付けられ、さらに表面洗浄ロール４０２が一時的に待避するガラス製の待避板４２６が取り付けられている。待避板４２６は、支持板４１５の、フォトマスク基板Ｗが搬送ハンド５０２（図７参照）に載置されてアクセスされる側とは反対側に取り付けられている。
【００３４】
表面洗浄ロール４０２は、移動機構（不図示）を有し、移動機構により上下移動可能であり、フォトマスク基板Ｗを洗浄する洗浄位置と、待避板４２６上の待避位置との間を水平状態を保ったまま上下移動する。なお、表面洗浄ロール４０２は上下移動のみ行い、水平方向の移動は行わない。
【００３５】
揺動テーブル４０９は、不図示のガイドに案内され水平方向であるＬ３方向に約２００ｍｍのストロークで往復運動可能なように構成されている。なお、エル字形支持部材４０４Ａ、Ｂと、エル字形支持部材４０４Ｃ、Ｄとが、支持板４１５の中心軸線（揺動方向に垂直）を通り支持板４１５に垂直な面（不図示）に対して対称であり、エル字形支持部材４０４Ａ、Ｃと、エル字形支持部材４０４Ｂ、Ｄとが、支持板４１５の前記中心軸線に直角な他の中心軸線を通り支持板４１５に垂直な面（不図示）に対して対称となるように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが配置されている。
【００３６】
また、エル字形支持部材４０４Ａの底面支持面４１３（図３（Ａ）参照）と、エル字形支持部材４０４Ｂの底面支持面４１３とが、水平面に対し所定の角度傾き表面洗浄ロール４０２の中心線軸に対して平行な一平面上にあり、エル字形支持部材４０４Ｃの底面支持面４１３と、エル字形支持部材４０４Ｄの底面支持面４１３とが水平面に対し所定の角度傾き、表面洗浄ロール４０２の中心線軸に対して平行な一平面上にあるように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが配置されている。
【００３７】
エル字形支持部材４０４Ａの側面支持面４１４（図３（Ａ）参照）と、エル字形支持部材４０４Ｂの側面支持面４１４とが、鉛直面に対し所定の角度傾き、表面洗浄ロール４０２の中心線軸に対して平行な一平面上にあり、エル字形支持部材４０４Ｃの側面支持面４１４と、エル字形支持部材４０４Ｄの側面支持面４１４とが鉛直面に対し所定の角度傾き、表面洗浄ロール４０２の中心線軸に対して平行な一平面上にあるように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが配置されている。
【００３８】
揺動部４０５は、水平面上を揺動する揺動アーム４１８と、鉛直軸回りの回転運動を水平方向の揺動運動に変換する変換機４１９とを含んで構成される。揺動アーム４１８は、図２中、下側に最も振れた状態を実線と一部破線にて表示し、図２中、上側に最も振れた状態を二点鎖線にて表示する。揺動アーム４１８の先端には、凹部４１６に係合する係合ピン４２０が取り付けられている。変換機４１９は水平に配置されたベース板４２１の上面に取り付けられている。また、ベース板４２１の下面には、変換機４１９を介して揺動アーム４１８を揺動する、第１電動モータ４０６が取り付けられている。ベース板４２１には、第１電動モータ４０６に接続された減速機４０６Ｇの出力軸（不図示）と、変換機４１９の入力軸（不図示）とを接続することができるよう開口部（不図示）が形成されている。揺動アーム４１８が、第１電動モータ４０６に変換機４１９を介して駆動され揺動することにより、係合ピン４２０を介して揺動テーブル４０９が前述のようにＬ３方向に往復運動する。
【００３９】
揺動テーブル４０９が、Ｌ３方向に往復運動をすると、フォトマスク基板Ｗが表面洗浄ロール４０２の下側に表面Ｗ１を接触させ、側面洗浄ロール４０３の脇に側面Ｗ２を接触させた状態で往復運動をする。よって、表面洗浄ロール４０２は、フォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１全体を相対的に往復運動して洗浄し、側面洗浄ロール４０３が側面Ｗ２全体を相対的に往復運動して洗浄する。Ｌ３方向は、フォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１、洗浄される相対する側面Ｗ２に平行である。
【００４０】
図４に示すように、支持板４１５と、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄとの内部に、それぞれ洗浄液としての純水が通る流路４３４と、流路４３５とが形成されている。流路４３４は流路４３５に繋がっている。流路４３４は、支持板４１５に形成された純水入口孔４３４Ａを有し、流路４３５は、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの底部支持面４１３、側面支持面４１４に形成された洗浄液吐出口としての純水出口孔４３６を有している。純水入口孔４３４Ａには、純水供給源（不図示）に繋がる純水供給ライン（不図示）が接続され、純水が供給されている。純水入口孔４３４Ａに供給された純水は、純水出口孔４３６から出ていく。
【００４１】
図１（Ａ）、（Ｂ）、図２に戻って説明を続ける。表面洗浄ロール４０２は、水平にかつ揺動方向に対して直角に配置されている。表面洗浄ロール４０２は、純水が軸方向に通る流路４２２（図１（Ａ）中、破線にて表示）が内部に形成された円柱形状の心棒４２３（図１（Ａ）中、破線にて表示）と、心棒４２３を覆う中空円柱形状のロールスポンジ４２４とを含んで構成される。心棒４２３は、流路４２２の純水入口孔４２２Ａを有する。心棒４２３は減速機４０９Ｇの出力軸に接続され第２電動モータ４０７によって中心軸線回りに回転駆動され、心棒４２３の回転運動によりロールスポンジ４２４も同様に回転する。
【００４２】
心棒４２３の円周表面に多数の純水出口孔４２５が形成され、それぞれの純水出口孔４２５は流路４２２に連通している。純水供給源（不図示）より純水供給ライン（不図示）を介して純水入口孔４２２Ａから流路４２２に純水が圧送され、純水出口孔４２５からロールスポンジ４２４を経て、フォトマスク基板Ｗへ純水が供給される。表面洗浄ロール４０２の中心軸線は、フォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１に平行である。表面洗浄ロール４０２は、ロールスポンジ４２４が表面Ｗ１に接触すると僅かに圧縮され、ロールスポンジ４２４が回転し、表面Ｗ１を擦ることができる高さに配置され、ベース板４２１に取り付けられた支持部材（不図示）により回転可能に支持されている。
【００４３】
図５に示すように、表面洗浄ロール４０２の真上には、洗剤ノズル４３８と純水ノズル４３９とが配置されている。洗剤ノズル４３８、純水ノズル４３９にはそれぞれ洗剤入口孔（不図示）、純水入口孔（不図示）が形成されている。洗剤入口孔には、洗浄液としての洗剤を供給する洗剤供給ライン（不図示）が接続され、洗剤供給ラインは洗剤供給源（不図示）に接続される。純水入口孔には、洗浄液としての純水を供給する純水供給ライン（不図示）が接続され、純水供給ラインは純水供給源（不図示）に接続される。
【００４４】
洗剤ノズル４３８と純水ノズル４３９には、複数の洗剤吐出孔４４０、純水出口孔４４１が形成され、表面洗浄ロール４０２の周囲に洗剤（薬液であってもよい）、純水を散布し、揺動テーブル４０９（図１（Ａ）参照）と共に往復運動するフォトマスク基板Ｗに洗剤、純水が降り掛かるように構成されている（図８参照）。洗剤ノズルを設けず、洗剤を供給することなく純水のみで洗浄を行ってもよい。なお、図中、フォトマスク基板Ｗが最も左側に振れた状態を実線で、最も右側に振れた状態を二点鎖線にて示す。
【００４５】
再び図１（Ａ）、（Ｂ）、図２に戻って説明を続ける。側面洗浄ロール４０３は、鉛直に配置され、純水が軸方向に通る流路４２７（図１（Ａ）中、破線にて表示）が内部に形成された心棒４２８（図１（Ａ）中、破線にて表示）と、心棒４２８の一部を覆う心棒カバー４２９と、心棒カバー４２９に覆われていない心棒４２８の上端を含んだ部分を覆う中空円柱形状のロールスポンジ４３０とを含んで構成される。心棒４２８は、流路４２７の純水入口孔４２７Ａを下端に有する。心棒４２８のロールスポンジ４３０に覆われている部分には、複数の純水出口孔４４２（図１（Ｂ）中、破線にて表示）が形成され、それぞれの純水出口孔４４２は流路４２７に連通している。純水供給源（不図示）より純水供給ライン（不図示）を介して純水入口孔４２７Ａから流路４２７に純水が圧送され、純水出口孔４４２からロールスポンジ４３０を介してフォトマスク基板Ｗの側面Ｗ２へ純水が供給される。
【００４６】
心棒４２８を覆う心棒カバー４２９は、ベース板４２１に固定されている。心棒４２８は心棒カバー４２９からさらに下側に突出しベース板４２１を貫通する。ベース板４２１を貫通し下側に出た心棒４２８の下端には、歯車４３１が取り付けられている。二つの歯車４３１のうち一方は、第３電動モータ４０８に接続された減速機４０８Ｇの出力軸に取り付けられた歯車４３２に、歯車４３１の残りの他方は、歯車４３２に噛み合う遊星歯車４３３に噛み合っている。よって、第３電動モータ４０８の回転は、心棒４２８を介してロールスポンジ４３０に伝達され、二つのロールスポンジ４３０は互いに反対方向に回転する。
【００４７】
表面洗浄ロール４０２、側面洗浄ロール４０３、揺動テーブル４０９、揺動部４０５等は、保護壁４３７に囲まれ、純水、洗剤が保護壁４３７外に飛び散らないようになっている。
【００４８】
本実施の形態では、ロールスポンジ４２４、ロールスポンジ４３０の材質は、ＰＶＡスポンジを採用したが、溶出特性、清浄性、フォトマスク基板Ｗへの非攻撃性などを損なわず、本発明の目的を逸脱しない用途で、樹脂、ゴム等の他の材料を選択できる。
【００４９】
また、本実施の形態では、洗浄具は、回転する表面洗浄ロール、回転する側面洗浄ロールであり、ロールスポンジを有するとして説明したが、ブラシ等を有する他の洗浄具てあってもよく、さらには、超音波振動を加印した洗浄液の噴射等を行う、他の洗浄手段を用いることもできる。
【００５０】
図１（Ａ）、（Ｂ）を参照し、適宜図７を参照して、四辺形基板洗浄装置４０１の作用を説明する。四辺形基板洗浄装置４０１の作用を説明するにあたり、理解を容易にするため四辺形基板反転装置２０１、搬送ロボット５０１の作用を合わせて説明する。図７は、四辺形基板洗浄装置４０１、四辺形基板反転装置２０１、搬送ロボット５０１を示す平面図である。
【００５１】
搬送ロボット５０１は、研磨装置（不図示）により研磨され砥液の付着したフォトマスク基板Ｗを搬送ハンド５０２に載置して搬送通路１００３上を移動し、四辺形基板洗浄装置４０１の前で停止する。この位置で、搬送ハンド５０２は最も搬送ロボット５０１側に引っ込んだ位置にある。搬送ロボット５０１は、この位置からＹ方向に搬送ハンド５０２を延ばし、四辺形基板洗浄装置４０１の保護壁４３７（図２参照）の搬送ハンド５０２のアクセス側に設けられた基板出入口（不図示）を通過し、フォトマスク基板Ｗがエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの真上に位置し、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄに載置できる位置で停止する。このとき、揺動アーム４１８は図２中にＧ１で示す位置（搬送ハンド５０２のアクセス側）にある。
【００５２】
次に、搬送ロボット５０１は、搬送ハンド５０２を真下に下げ、フォトマスク基板Ｗが、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄに接触して載置される。さらに、搬送ハンド５０２が、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄのフォトマスク基板Ｗを載置する底面支持部４１１の底面支持面４１３（図３（Ａ）参照）より低い位置まで下がるので、フォトマスク基板Ｗは搬送ハンド５０２から離れる。このとき、搬送ハンド５０２の幅ＬＸ２（図２参照）は、エル字形支持部材４０４Ａ、Ｂの間隔ＬＸ３（図２参照）より短いので、搬送ハンド５０２はエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと干渉せず、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの間に挟まれた位置にある。その後、搬送ロボット５０１は、搬送ハンド５０２を反Ｙ方向に移動させ、搬送ハンド５０２は搬送ロボット５０１側の最も引っ込んだ位置に来る。そして、フォトマスク基板Ｗが出入りする前述の基板出入口（不図示）が閉められる。
【００５３】
エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの底面支持部４１１の底面支持面４１３（図３（Ａ）参照）が、載置されたフォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３を支持し、側面支持部４１２の側面支持面４１４（図３（Ａ）参照）が、フォトマスク基板Ｗの相対する側面Ｗ２をそれぞれ支持している。
【００５４】
次に、洗剤ノズル４３８（図５参照）の洗剤吐出孔４４０（図５参照）と、純水ノズル４３９（図５参照）の純水出口孔４４１（図５参照）とから、それぞれ洗剤と純水が、鉛直方向上方からフォトマスク基板Ｗに散布され、供給される。エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの純水出口孔４３６からは、純水が供給されている。この純水の供給は、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄにフォトマスク基板Ｗが載置される前から、行われている。よって、フォトマスク基板Ｗが載置された時点で、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの底面支持面４１３（図３（Ａ）参照）、側面支持面４１４（図３（Ａ）参照）は、純水によって十分に洗浄としてのセルフクリーニングがなされており、汚れ、砥液が洗い流されている。したがって、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄは常に清潔に保たれ、載置されたフォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３と底面支持面４１３、側面Ｗ２と側面支持面４１４との摩擦により傷が付くのを防いでいる。
【００５５】
また、表面洗浄ロール４０２の純水入口孔４２２Ａ、側面洗浄ロール４０３の純水入口孔４２７Ａに純水が供給される。純水は、それぞれ流路４２２、流路４２７を通り、純水出口孔４２５、純水出口孔４４２を経て、ロールスポンジ４２４、ロールスポンジ４３０からしみ出る。ロールスポンジ４２４は、しみ出た純水をフォトマスク基板Ｗに上方から散布し、ロールスポンジ４３０は、同純水をフォトマスク基板Ｗに側方から散布する。
【００５６】
次に、第２電動モータ４０７、第３電動モータ４０８が回転し、回転が減速機４０７Ｇ、減速機４０８Ｇによって減速され、表面洗浄ロール４０２、側面洗浄ロール４０３が回転する。そして、さらに第１電動モータ４０６が回転し、回転運動が減速機４０６Ｇによって減速され、変換機４１９によって回転運動が水平方向の揺動運動に変換され、揺動アーム４１８が揺動する。揺動アーム４１８が揺動することにより、係合ピン４２０が揺動し、係合ピン４２０が係合する凹部４１６が加工された底部円板４１７を有する揺動テーブル４０９が揺動、すなわち往復運動を行う。なお、揺動テーブル４０９の往復運動は、直線往復運動である。
【００５７】
揺動テーブル４０９が往復運動を行うので、これに伴いフォトマスク基板Ｗも往復運動を行い、よってフォトマスク基板Ｗは、表面洗浄ロール４０２、側面洗浄ロール４０３に対して相対運動を行い、このとき洗剤が洗剤ノズル４３８から、純水が純水ノズル４３９から、同じく純水がロールスポンジ４２４、ロールスポンジ４３０から、フォトマスク基板Ｗに降り注がれるので、フォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１、側面洗浄ロール４０３に接触し、相対する側面Ｗ２のスクラブ洗浄が行われる。
【００５８】
フォトマスク基板Ｗの洗浄中にも、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの純水出口孔４３６から、純水がしみ出ているので、この純水は、フォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３、側面Ｗ２、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの底面支持面４１３（図３（Ａ）参照）、側面支持面４１４（図３（Ａ）参照）に付着した汚れを洗い流す。よって、フォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３、側面Ｗ２に底面支持面４１３、側面支持面４１４との摩擦による傷が付きにくい。
【００５９】
フォトマスク基板Ｗの洗浄が所定時間（例えば２．５分程度）行われた後、第１電動モータ４０６が回転を停止し、揺動テーブル４０９が往復運動を停止する。第１電動モータ４０６の停止は、制御装置（不図示）により揺動テーブル４０９が、搬送ハンド５０２がアクセスする側に最も近い位置で停止するように制御されている。
【００６０】
次に、搬送ハンド５０２がＹ方向に移動してエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄに載置されているフォトマスク基板Ｗにアクセスし、フォトマスク基板Ｗの真下で停止する。そして、搬送ハンド５０２が真上に上昇しフォトマスク基板Ｗを受け取って載置し、搬送ロボット５０１側の最も引っ込んだ位置に向かって反Ｙ方向に移動する。そして搬送通路１００３上を移動し、四辺形基板反転装置２０１の前で停止する。この状態の搬送ロボット５０１を図７中、二点鎖線にて示す。
【００６１】
そして、搬送ハンド５０２は再びＹ方向に移動する。このとき、四辺形基板反転装置２０１のアーム２４１は、Ｑ１／Ｑ２方向に回動して開いている。搬送ハンド５０２は受け渡し位置に来たときに停止し、その後アーム２４１が反Ｑ１／反Ｑ２方向に回動して閉じ、フォトマスク基板Ｗを挟持する。そして、搬送ハンド５０２は反Ｙ方向に移動した後に、アーム２４１が中心軸線Ｌ２の回りに反転する。中心軸線Ｌ２は、搬送ハンド５０２の中心軸線Ｌ１に対して４５度の角度を成すので、フォトマスク基板Ｗは表裏反転し、さらにフォトマスク基板Ｗの中心を通り、フォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１に垂直な軸（不図示）の回りに９０度回転している。
【００６２】
したがって、フォトマスク基板Ｗの四辺形のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄによって９０度回転前に支持されていた相対する２辺Ｈ１と、洗浄された側面Ｗ２に含まれていた相対する２辺Ｈ２との位置関係が図２中で入れ代わっている。
【００６３】
再び、搬送ハンド５０２はＹ方向に移動し、フォトマスク基板Ｗの真下の受け渡し位置で停止し、その後アーム２４１がＱ１／Ｑ２方向に回動して開き、フォトマスク基板Ｗは、僅かに落下し搬送ハンド５０２に載置される。その後、搬送ハンド５０２は搬送ロボット５０１の最も引っ込んだ位置に来る。そして搬送ロボット５０１は、搬送通路１００３上を移動し、再び四辺形基板洗浄装置４０１の前で停止する。
【００６４】
一方、フォトマスク基板Ｗの一回目の洗浄が終了し、揺動テーブル４０９の往復運動が停止した後、表面洗浄ロール４０２は移動機構（不図示）により、真下に下降し、ガラス製の待避板４２６に接触し、こすりつけられる（図６参照）。このとき、表面洗浄ロール４０２は回転を継続しており、ロールスポンジ４２４から純水がしみ出し、洗剤ノズル４３８（図５参照）から洗剤が必要に応じて供給され、純水ノズル４３９（図５参照）から純水が供給されているので、表面洗浄ロール４０２のロールスポンジ４２４の汚れを落とす、表面洗浄ロール４０２のより精密なセルフクリーニングが可能である。なお、待避板４２６の長さＬＸ１（図２参照）は、表面洗浄ロール４０２の長さより僅かに長く、表面洗浄ロール４０２が待避板４２６に待避し回転した場合、表面洗浄ロール４０２の全面に渡り、セルフクリーニングが行われる。
【００６５】
前述のように表裏反転され、９０度回転されたフォトマスク基板Ｗが、搬送ハンド５０２によって再びエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に載置され、搬送ハンド５０２が引っ込んだ後に、表面洗浄ロール４０２は移動機構（不図示）により、待避板４２６を離れて真上に上昇し洗浄位置に戻る。
【００６６】
次に、第１電動モータ４０６が回転し、揺動テーブル４０９が揺動を開始し、前回洗浄された表面Ｗ１の反対側の表面Ｗ１（裏面）、前記洗浄されなっかた相対する側面Ｗ２のスクラブ洗浄が行われる。フォトマスク基板Ｗの洗浄中には、前述と同様に洗剤、純水の供給が行われる。
【００６７】
本実施の形態の四辺形基板洗浄装置４０１によれば、正四辺形のフォトマスク基板Ｗの洗浄を外周が円形のホルダー（不図示）を使用せずに行うことができ、人手に頼っていたホルダーを洗浄する洗浄工程と、ホルダーにフォトマスク基板Ｗを取り付け、さらに取り外す工程とを省き、洗浄工数を大幅に削減することができ、洗浄作業の効率化と、洗浄性能の向上を同時に達成することができる。また、フォトマスク基板Ｗを搬送する搬送ロボット５０１で、フォトマスク基板Ｗを１回の反転動作で、表裏反転し、かつフォトマスク基板Ｗの表面Ｗ１に垂直な軸の回りに９０度回転させることができる四辺形基板反転装置２０１に搬送することにより、フォトマスク基板Ｗの表裏２面、側面４面のスクラブ洗浄を行うことができる。
【００６８】
なお、図３（Ａ）、（Ｂ）において、それぞれ底面支持面４１３が水平面に対し５度傾く場合、側面支持面４１４が鉛直面に対し５度傾く場合で示してある。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】図１（Ａ）は、本発明の実施の形態である四辺形基板洗浄装置の正面図である。図１（Ｂ）は、側面洗浄ロールの先端部の拡大図である。
【図２】図１（Ａ）の四辺形基板洗浄装置の平面図である。
【図３】図３（Ａ）は、エル字形支持部材の詳細を説明する図面である。図３（Ｂ）は、フォトマスク基板の接触状態を示す拡大図である。
【図４】エル字形支持部材に加工された流路の詳細を説明する図面である。
【図５】揺動テーブルの支持板の、フォトマスク基板を洗浄している間の動きを説明する図面である。
【図６】表面洗浄ロールの待避、エル字形支持部材のセルフクリーニングを説明する部分断面図である。
【図７】表面洗浄ロールとフォトマスク基板の動きを説明する矢視図である。
【図８】フォトマスク基板、表面洗浄ロール、側面洗浄ロール、搬送ハンドの位置関係を説明する矢視図である。
【符号の説明】
【００７０】
４０１  四辺形基板洗浄装置
４０２  表面洗浄ロール
４０３  側面洗浄ロール
４０４Ａ〜Ｄ  エル字形支持部材
４０５  揺動部
４０６  第１電動モータ
４０７  第２電動モータ
４０８  第３電動モータ
４０９  揺動テーブル
４１１  底面支持部
４１２  側面支持部
４１３  底面支持面
４１４  側面支持面
４１５  支持板
４１６  凹部
４１７  底部円板
４１８  揺動アーム
４１９  変換機
４３６  純水出口孔
Ｈ１、Ｈ２  辺
Ｗ  フォトマスク基板
Ｗ１  表面
Ｗ２  側面
Ｗ３  底面
【図１】
2007184629.tif 000003
【図２】
2007184629.tif 000004
【図３】
2007184629.tif 000005
【図４】
2007184629.tif 000006
【図５】
2007184629.tif 000007
【図６】
2007184629.tif 000008
【図７】
2007184629.tif 000009
【図８】
2007184629.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成19年3月6日(2007.3.6)
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四辺形の基板の四辺形の相対する２辺において前記基板の底面と側面とを支持する工程と；  前記基板の上方または側方から洗浄液を散布する工程と；  前記基板の表面をスクラブ洗浄する工程と；  前記基板の支持される２辺以外の２辺を含む前記基板の側面をスクラブ洗浄する工程と；  前記基板を表裏反転および前記基板の表面に垂直な軸の回りに９０度回転させる反転工程と；  前記基板の前記表裏反転前に底面であった面をスクラブ洗浄する工程と；  前記反転工程の前に支持されていた２辺を含む前記基板の側面をスクラブ洗浄する工程とを備える；  四辺形基板の洗浄方法。
【請求項２】
前記基板の底面を支持する底面支持部または側面を支持する側面支持部を洗浄する工程を備える；  請求項１に記載の四辺形基板の洗浄方法。
【請求項３】
四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置を備え； 前記四辺形基板洗浄装置は、 前記四辺形の相対する２辺で前記基板を支持するエル字形支持部材であって、前記基板の底面に接触し前記底面を支持する底面支持面が形成された底面支持部と、側面を支持する側面支持部とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材と、 前記基板の表面を洗浄する、前記エル字形支持部材の鉛直方向上方に配置された表面洗浄具と、  前記エル字形支持部材で支持される２辺以外の２辺を含む前記基板の側面を洗浄する側面洗浄具とを有し； さらに、前記基板を表裏反転および前記基板の表面に垂直な軸の回りに９０度回転させる反転装置と； 洗浄後の前記基板を受け取って前記反転装置に搬送し、前記表裏反転および前記回転後の前記基板を前記四辺形基板洗浄装置に搬送し、前記少なくとも２個のエル字形支持部材上に載置する搬送ロボットとを備え； 前記表面洗浄具は、前記表裏反転および前記回転後に、前記基板の前記表裏反転前に底面であった面を洗浄し、前記側面洗浄具は、前記表裏反転および前記回転後に、前記基板の前記表裏反転および前記回転前に支持されていた２辺を含む前記基板の側面を洗浄するように構成された； 四辺形基板洗浄システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】 上記目的を達成するために、請求項１に係る発明による四辺形基板の洗浄方法は、図１（Ａ）、図２、図４に示すように、四辺形の基板Ｗの前記四辺形の相対する２辺Ｈ１において基板Ｗの底面Ｗ３と側面Ｗ２とを支持する工程と；基板Ｗの上方または側方から洗浄液を散布する工程と；基板Ｗの表面Ｗ１をスクラブ洗浄する工程と；基板Ｗの支持される２辺以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２をスクラブ洗浄する工程と；基板Ｗを表裏反転および基板Ｗの表面Ｗ１に垂直な軸の回りに９０度回転させる反転工程と；基板Ｗの前記表裏反転前に底面であった面をスクラブ洗浄する工程と；前記反転工程の前に支持されていた２辺Ｈ１を含む基板Ｗの側面Ｗ２をスクラブ洗浄する工程とを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】 スクラブ洗浄は、典型的には、表面洗浄具４０２、側面洗浄具４０３を基板Ｗの表面Ｗ１、側面Ｗ２に押し付け回転することにより行う回転スクラブ洗浄である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】  請求項２に係る発明による四辺形基板の洗浄方法は、請求項１に記載の四辺形基板の洗浄方法において、基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１または側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２を洗浄する工程を備える。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】 上記目的を達成するために、請求項３に係る発明による四辺形基板洗浄システム１００２は、図１（Ａ）、図２、図４に示すように、四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置４０１を備え；四辺形基板洗浄装置４０１は、前記四辺形の相対する２辺Ｈ１で基板Ｗを支持するエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄであって、基板Ｗの底面Ｗ３に接触し底面Ｗ３を支持する底面支持面４１３が形成された底面支持部４１１と、側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと、基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄する、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの鉛直方向上方に配置された表面洗浄具４０２と、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで支持される２辺以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄する側面洗浄具４０３とを有し；さらに、基板Ｗを表裏反転および基板Ｗの表面Ｗ１に垂直な軸の回りに９０度回転させる反転装置２０１と；洗浄後の基板Ｗを受け取って反転装置２０１に搬送し、前記表裏反転および前記回転後の基板Ｗを四辺形基板洗浄装置４０１に搬送し、前記少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に載置する搬送ロボット５０１とを備え；表面洗浄具４０２は、前記表裏反転および前記回転後に、基板Ｗの前記表裏反転前に底面Ｗ３であった面を洗浄し、側面洗浄具４０３は、前記表裏反転および前記回転後に、基板Ｗの前記表裏反転および前記回転前に支持されていた２辺Ｈ１を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄するように構成される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】 基板の表面Ｗ１、相対する側面Ｗ２の洗浄を行った後、基板Ｗを搬送する搬送ロボット５０１で、基板Ｗを、表裏反転し、かつ基板Ｗの表面Ｗ１に垂直な軸の回りに９０度回転させることができる四辺形基板反転装置２０１に搬送し、表裏反転され、９０度回転された基板Ｗが、搬送ロボット５０１によって再びエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に載置され、前記表裏反転および前記回転前に洗浄されなかった、基板Ｗの前記表裏反転前に底面Ｗ３であった面の洗浄を行い、前記表裏反転および前記回転前に洗浄されなかった、基板Ｗの前記表裏反転および前記回転前に支持されていた２辺Ｈ１を含む基板Ｗの側面Ｗ２の洗浄を行うことにより、基板Ｗの表面底面の２面、側面４面のスクラブ洗浄を行うことができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】 上記目的を達成するために、四辺形基板洗浄装置４０１は、図１（Ａ）、図２に示すように、四辺形の基板を洗浄する四辺形基板洗浄装置において；前記四辺形の相対する２辺Ｈ１で基板Ｗを支持するエル（Ｌ）字形支持部材４０４Ａ〜Ｄであって、基板Ｗの底面Ｗ３を支持する底面支持部４１１と、側面Ｗ２を支持する側面支持部４１２とをそれぞれ有する少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと；基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄する、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄの鉛直方向上方に配置された表面洗浄具４０２とを備えるものであってもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】 このように構成すると、少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄと表面洗浄具４０２とを備えるので、底面支持部４１１で基板Ｗの底面Ｗ３を支持し、側面支持部４１２で基板Ｗの相対する側面Ｗ２をそれぞれ支持し、よって少なくとも２個のエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで基板Ｗを安定して支持し、表面洗浄具４０２で基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄することができる。また、表面洗浄具４０２の回転による基板Ｗを水平方向にずらす力を側面支持部４１２により受け、洗浄中の基板Ｗを安定して支持することができるように側面支持部４１２を配置することが好ましい。エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄは、相対する２辺Ｈ１の各辺に１個ずつの少なくとも２個であるが、好ましくは各辺Ｈ１に２個ずつの合計４個とするとよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】 さらに、四辺形基板洗浄装置は、図１（Ａ）、図２に示すように、前記エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄する、側面洗浄具４０３を備えるものであってもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】 このように構成すると、側面洗浄具４０３を備えるので、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄで支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む四辺形基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することができる。また、側面洗浄具４０３が、支持される２辺Ｈ１以外の２辺Ｈ２を含む基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することにより発生する基板Ｗの側面Ｗ２に直角な水平方向の力を、側面支持部４１２により受けることができるように、側面支持部４１２を配置することが好ましい。このようにすると基板Ｗをエル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に安定して支持し、基板Ｗの洗浄を行うことができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】 さらに、四辺形基板洗浄装置は、図１（Ａ）に示すように、底面支持部４１１には、該底面支持部４１１で基板Ｗを支持したときに、該底面支持部４１１と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度が付けられているものであってもよい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】 このように構成すると、底面支持部４１１に該底面支持部４１１と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度（所定の角度）が付けられているので、底面支持部４１１と基板Ｗの底面Ｗ３との摩擦によって基板Ｗの底面Ｗ３に傷が付くのを最小にすることができる。また、側面支持部４１２に該底面支持部４１２と基板Ｗとの接触面を最小とするような角度（所定の角度）を付けるのが好ましい。この場合、側面支持部４１２と基板Ｗの側面Ｗ２との摩擦によって基板Ｗの側面Ｗ２に傷が付くのを最小にすることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】 さらに、四辺形基板洗浄装置は、図１（Ａ）、図４に示すように、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄには、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に、洗浄液を吐出する洗浄液吐出口４３６が設けられているものであってもよい。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】 このように構成すると、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に、洗浄液を吐出する洗浄液吐出口４３６が設けられているので、洗浄液吐出口４３６から吐出された洗浄液によって、底面支持部４１１および側面支持部４１２の少なくとも一方に付着した汚れを洗い流す洗浄を行うことができる。このようにすると、少なくともフォトマスク基板Ｗの底面Ｗ３と底面支持部４１１との摩擦による傷の発生、または側面Ｗ２と側面支持部４１２との摩擦による傷の発生を防ぐことができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】 さらに、四辺形基板洗浄装置は、図１（Ａ）に示すように、前記エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄを取り付けて、表面洗浄具４０２に対して相対的に往復運動をする揺動テーブル４０９を備えるものであってもよい。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】  このように構成すると、表面洗浄具４０２に対して相対的に往復運動をする揺動テーブル４０９を備えるので、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄ上に基板Ｗを載置し、揺動テーブル４０９を往復運動させることにより、表面洗浄具４０２によって基板Ｗの表面Ｗ１を洗浄することができる。揺動テーブル４０９は、典型的には、さらに側面洗浄具４０３に対しても相対的に往復運動をする。このようにすれば、側面洗浄具４０３によって基板Ｗの側面Ｗ２を洗浄することができる。  典型的には、側面支持部４１２は、揺動テーブル４０９の往復運動により基板Ｗに生じる揺動方向の力を受け、この力に対抗し、エル字形支持部材４０４Ａ〜Ｄが基板Ｗを安定して支持するよう配置される。また、典型的には、揺動テーブル４０９は、表面洗浄具４０２が、基板Ｗの表面Ｗ１全体を端から端まで洗浄するよう揺動する。また、好ましくは、さらに揺動テーブル４０９は、側面洗浄具４０３が、基板Ｗの側面Ｗ２全体を端から端まで洗浄するよう揺動する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】 以上のように本発明の四辺形基板洗浄方法によって洗浄をすることができるので、手作業による洗浄等が不要であり、四辺形基板の洗浄仕上がりの質の向上と、洗浄作業効率の向上を達成することができる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】  図１（Ａ）、（Ｂ）を参照し、適宜図７を参照して、四辺形基板洗浄装置４０１の作用を説明する。四辺形基板洗浄装置４０１の作用を説明するにあたり、理解を容易にするため四辺形基板反転装置２０１、搬送ロボット５０１の作用を合わせて説明する。図７は、四辺形基板洗浄装置４０１、四辺形基板反転装置２０１、搬送ロボット５０１を備える四辺形基板洗浄システム１００２を示す平面図である。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
【図１】図１（Ａ）は、本発明の実施の形態である四辺形基板洗浄装置の正面図である。図１（Ｂ）は、側面洗浄ロールの先端部の拡大図である。
【図２】図１（Ａ）の四辺形基板洗浄装置の平面図である。
【図３】図３（Ａ）は、エル字形支持部材の詳細を説明する図面である。図３（Ｂ）は、フォトマスク基板の接触状態を示す拡大図である。
【図４】エル字形支持部材に加工された流路の詳細を説明する図面である。
【図５】揺動テーブルの支持板の、フォトマスク基板を洗浄している間の動きを説明する図面である。
【図６】表面洗浄ロールの待避、エル字形支持部材のセルフクリーニングを説明する部分断面図である。
【図７】四辺形基板洗浄装置、四辺形基板反転装置、搬送ロボットを備える四辺形基板洗浄システムを示す平面図である。
【図８】フォトマスク基板、表面洗浄ロール、側面洗浄ロール、搬送ハンドの位置関係を説明する矢視図である。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】４０１  四辺形基板洗浄装置４０２  表面洗浄ロール４０３  側面洗浄ロール４０４Ａ〜Ｄ  エル字形支持部材４０５  揺動部４０６  第１電動モータ４０７  第２電動モータ４０８  第３電動モータ４０９  揺動テーブル４１１  底面支持部４１２  側面支持部４１３  底面支持面４１４  側面支持面４１５  支持板４１６  凹部４１７  底部円板４１８  揺動アーム４１９  変換機４３６  純水出口孔１００２  四辺形基板洗浄システムＨ１、Ｈ２  辺Ｗ  フォトマスク基板Ｗ１  表面Ｗ２  側面Ｗ３  底面