(57)【要約】【課題】有機プラスチック及び金属に容易に粘着性であり、かつ上述した不利な点を示さず、かつ記載された要求特性を発揮する付加架橋性シリコーンエラストマー材料を提供することが課題であった。【解決手段】前記課題は、粘着性の付加架橋性シリコーン組成物であって（Ａ）ジオルガノポリシロキサン少なくとも１つ、（Ｂ）定義された残基部分を含有するＳｉＨ含有架橋剤少なくとも１つ、但し、このオルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）の粘度は、２５℃で測定して５ｍＰａ．ｓ〜５Ｐａ．ｓであるとの条件付きである、（Ｃ）オルガノヒドロオリゴシロキサン少なくとも１つ、及び（Ｄ）ヒドロシリル化触媒少なくとも１つを含有する粘着性付加架橋性シリコーン組成物により解決される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
粘着性の付加架橋性シリコーン組成物であって、
（Ａ）一般式（１）
【化１】
2007302893.tif 000015
［前記式中、
Ｒ1は、ヒドロキシル残基、又は一価の、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい炭化水素残基であり、前記残基は１〜２０個の炭素原子を有し、かつ脂肪族不飽和基を有しない、
Ｒ2は、一価の、脂肪族不飽和の、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい炭化水素残基であり、前記残基は２〜１０個の炭素原子を有する、
ｂは、０．０００３〜２の値を示す］
のジオルガノポリシロキサン少なくとも１つ、但し１．５＜（ａ＋ｂ）≦３．０であり、一分子当たり平均して少なくとも２つの脂肪族不飽和残基Ｒ2が存在し、かつジオルガノポリシロキサン（Ａ）の粘度は、２５℃で測定して１ｍＰａ．ｓ〜４００００Ｐａ．ｓであるとの条件付きである、
（Ｂ）一般式（２）
【化２】
2007302893.tif 000016
［前記式中、
Ｒ3は、一価の、脂肪族飽和の、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
Ｒ4  （ａ）は、ハロゲン置換されていてよい、一価の、６〜２０個の炭素原子を有する炭化水素残基であり、前記残基は少なくとも１つの芳香族Ｃ6環を含有する、及び／又は
（ｂ）は、ハロゲン置換された、飽和の、一価の、Ｏ又はＮ原子を含有してよい、２〜２０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
Ｒ5は、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい、６〜２４個の炭素原子を有する炭化水素残基であり、前記残基は、二価でありかつ両末端でＳｉ結合している、
ｃ及びｆは、正の数である、かつ
ｄ及びｅは、０又は正の数である］
のオルガノヒドロポリシロキサン少なくとも１つ、但し、ｄ及びｅは、同時に０になることができず、かつオルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）の粘度は、２５℃で測定して５ｍＰａ．ｓ〜５Ｐａ．ｓであるとの条件付きである、
（Ｃ）一般式（３）、（４）、（５）、（６）又は（７）
【化３】
2007302893.tif 000017
［前記式中、
Ｒ6は、一価の、ハロゲン置換されていてよい、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
ｎは、４、５、６、７、８である、
ｍは、４、５、６である、
ｏは、３、４、又は５である、かつ
ｐは、３、４、又は５である、
但し、ｏ≧ｐとの条件付きである］
のオルガノヒドロオリゴシロキサン少なくとも１つ及び
（Ｄ）ヒドロシリル化触媒少なくとも１つ
を含有する粘着性の付加架橋性シリコーン組成物。
【請求項２】
阻害剤、安定剤、触媒、充填剤、例えば強化性及び非強化性充填剤、可塑剤、付着促進剤、溶解性染料、有機及び無機顔料、溶媒、殺カビ剤、芳香剤、分散助剤、レオロジー助剤、腐食阻害剤、酸化阻害剤、光安定剤、熱安定剤、難燃剤、及び電気的特性に影響を及ぼすための剤を含むグループから選択される更なる構成成分（Ｅ）を更に含有する、請求項１記載のシリコーン組成物。
【請求項３】
請求項１又は２記載のシリコーン組成物を４０〜２５０℃に加熱することを含む、付加架橋したシリコーンエラストマー又は複合材料を製造するための方法。
【請求項４】
請求項３記載の方法により得られる、付加架橋したシリコーンエラストマー又は複合材料。
【請求項５】
複合材料、造形品を製造するための、電気的及び電子的部品の封入のための及び接着のための、又は複合成形体を製造するための、付加架橋性シリコーン組成物の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粘着性の付加架橋性シリコーン組成物、付加架橋したシリコーンエラストマーの製造方法、及び複合材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
付加架橋したシリコーンエラストマーの、様々な基材、例えばプラスチック、金属及びガラスへの付着は低く、しばしば、前記基材からの前記シリコーンエラストマーの自然な剥離さえも観察されることが知られている。しかしながら、多くの適用においては、シリコーンエラストマーの強固で、持続的な基材付着が非常に重要であるので、基材とシリコーンエラストマーとの間の強固な結合を達成するために、多くの特別な処置が提案されている。
【０００３】
原則的に、付加架橋性シリコーンエラストマー組成物を担持する前に基材及び／又は基材表面の化学的及び／又は物理的特性を適当に改変することにより、シリコーンエラストマー／基材アセンブリーの付着を上昇させることができる。このことは、例えば基材表面を付着促進添加剤（いわゆるプライマー）で前処理することにより、基材表面のプラズマ処理により、基材中に特別な添加剤を混合することにより、基材のモルフォロジーを特異的に調節することにより、そして表面粗度の増加により行うことができる。これら全ての処置の不利な点は、付加的な方法工程が必要となるか又は基材の性質に関して特別な要求が課せられなくてはならないというものである。
【０００４】
更に、未架橋のシリコーンコンパウンド中に混和される１種以上の添加剤により、様々な基材に対する付加架橋性シリコーンエラストマーの付着が改善されることができる。この種の添加剤は、極めて反応性の官能基、例えばアルコキシ、エポキシ、カルボキシル及びアミノ基を含有する化合物を含み、例えばこれらの基は一般的には、付着促進剤が、基材とそしてシリコーンエラストマー構成成分との両方に反応できる能力を有するように選択される。いくつかの場合において、このような付着促進剤により、基材の前処理無しで済ませることも可能であるが、達成されるこの付着性はそれにもかかわらず、しばしば課せられる要求を満たすことができない。更に、これらの付着促進剤のより高いレベルにより付着性を増加させることは、限られた程度でのみ可能であり、というのもこの付着促進剤が含有する前記の極めて反応性の基は、使用特性、例えば貯蔵安定性、架橋特性（阻害）及び毒性学的許容性に関して増加する不利な影響を与えるからである。従って、付着促進剤の量を最小限にすべく努力されている。
【０００５】
特許公報EP 0 875 536 A2は、粘着性の付加架橋性シリコーンゴムブレンドを記載し、その際特徴的にＳｉＨ架橋剤（ａ）は、少なくとも２０個のＳｉＨ基（残りの残基は脂肪族飽和している）を含有し、エポキシ官能性アルコキシシラン及び／又はアルコキシシロキサンｄ）、選択的に過酸化物ｇ）が存在する。特に、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（Glymo）の使用がこの関連において有利である。特許公報EP 0 875 536 A2に記載されるシリコーンゴムブレンドは、特に、シリコーンエラストマー及び有機ポリマーからなる複合成形品の製造のために適する。ここで説明される組成物はしかしながら、適当な付着が、一分子当たり平均して少なくとも２０個のＳｉＨ基を有する極めてＳｉＨリッチな架橋剤を使用した場合にのみ得られるとの不利な点を有する。確かに、この実施例においては、一分子当たり３０個のＳｉＨ基を有する架橋剤が使用される。この種の高い官能性の架橋剤の使用は、付加架橋性シリコーンゴム混合物の貯蔵安定性を無視できない程に減少させる：つまり、流動性は相当に損なわれ、このコンパウンドを剛化すらさせてしまう可能性があり、この結果、前記コンパウンドの適した加工、例えば射出成形による加工はもはや可能でない。更に、高いレベルの付着を得るためには、比較的大量のエポキシ官能性アルコキシシラン／−シロキサンを使用することが必要であり、これにより、この架橋率をかなり減少させる。これは、特許公報EP 0 875 536 A2で説明されているように過酸化物の使用により部分的に補償されることができるものの、にもかかわらず、この目的に適した唯一の過酸化物は、必要とされる低い架橋温度を考慮する（この有機ポリマーの軟化）と、低い開始温度を有する過酸化物であるという事態であり、例えば２，４−ジクロロベンゾイルペルオキシドが記載されていて、そしてこの種の過酸化物は一方では、放出される開裂生成物及び二次生成物（ＰＣＢ問題）のために、非常に毒性学的に支障のあるものであり、そして他方ではこのコンパウンドの貯蔵安定性を更に損なう。エポキシ官能性アルコキシシラン／−シロキサンの使用から生じる不利な点は、アルコール基の脱離、反応性かつ極性の基の使用、そして官能性アルコキシシランの場合には、風解及び滲出の問題である。アルコールの脱離は、一方では効果的な付着にとって致命的である可能性があり、というのもアルコールがシリコーンの表面で蓄積し、それから基材に向かった面上で蓄積し、これによりシリコーンと表面との間の接触を損ない、そして他方では、毒性であると分類されているメタノールを放出するメトキシシランの使用が好ましいからである。更に揮発性の開裂生成物の放出（アルコール脱離）は、無視できるものでないシリコーンエラストマーの収縮の観察を伴い、これは一般的には不所望である。
【０００６】
反応性エポキシド及び／又はアルコキシ基の使用は、これらの基の極性を考慮すると、もはや液状でないチキソトロープなシリコーンゴム組成物を生じ、そして第二に、これら反応基は、貯蔵の間に反応さえし、従って付着の展開のために利用できない可能性がある。官能性アルコキシシランが使用される場合には、反応により消費されていないシラン分子は、架橋の間に次第にシリコーンエラストマーの表面に移行し、ここで前記分子は加水分解をうけ、かつ縮合してシルセスキオキサンを形成し、この形成は表面上での風解として現れ、かつ前記エラストマーの曇りを生じる。更に、前記分子が表面へと移行するために、前記分子は射出成形の過程で型付着物を生じ、これによりこの射出成形ユニットの増加した洗浄努力及びより長い休止時間を生じさせる。
【０００７】
ドイツ国特許出願DE 102 04 893 A1は、特徴的に、次の条件を満たすために必要とされるオルガノヒドロシロキサン架橋剤ｂ）少なくとも１つを含有する、粘着性の付加架橋性シリコーン混合物を記載する：ｉ）前記オルガノヒドロシロキサンの１つは、７ｍｍｏｌ  ＳｉＨ／ｇより多く含有し、ｉｉ）前記オルガノヒドロシロキサンの１つは、少なくとも１つの芳香族基を分子中に含有し、そしてｉｉｉ）  ｉ）及びｉｉ）は、同じオルガノヒドロシロキサン又は異なるオルガノヒドロシロキサン中で実現されてよい。この特異的な架橋剤ｂ）にもかかわらず、効果的な付着はまだなお、いずれの場合にも少なくとも１つのエポキシ基を同様に含有する、少なくとも１つのアルコキシシラン及び／又はアルコキシシロキサンを要求する。ここでも、従って、アルコキシ／エポキシ付着促進剤で既に説明したのと同じ問題が存在する。
【０００８】
特許公報EP 0 686 671 A2は、特異的な付着促進剤を使用しない粘着性の付着架橋性材料を記載し、この付着促進性構成成分は、平均して一分子当たり少なくとも２つのＳｉＨ基を有し、かつこの一価のＳｉ−結合した残基の少なくとも１２mol％が芳香族環を有する炭化水素残基であるオルガノヒドロポリシロキサン（芳香族環を有する有機残基の量が１２mol％未満の場合には、満足のいく付着が達成されないことが明示されている）、又は平均して一分子当たり少なくとも１つのＳｉＨ基を有し、かつ２つの芳香族基からなる基を含有する化合物であり、その際、前記の２つの芳香族環は相互に、
【化１】
2007302893.tif 000002
により隔てられていて、前記残基Ｒ13及びＲ14は一価の炭化水素残基を示す。前記付着促進性構成成分は従って、シリコーンエラストマーコンパウンドの架橋剤と同じであってよい。前記組成物は、有機ポリマー、特にアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）コポリマーに対して効果的な付着を産出するが、しかしながら同時に、著しく容易な金属からの取り出しを示す。ＳｉＨを含有する付着促進性の構成成分中の芳香族環を含有する残基の、１２mol％を上回る高いレベルはしかしながら、付加架橋性シリコーンエラストマーコンパウンドのその他の構成成分とのかなりの程度の非相容性が存在することを意味する。これは一方では、貯蔵の間の部分的な分離（滲出）を生じ、これは使用前の前記構成成分を含有する成分の繰り返した均質化を必要とする。この非相容性は、これは既に未架橋コンパウンドの部分での乳濁した曇りから既に明らかであるが、前記コンパウンドから製造されるシリコーンエラストマー部分の部分での著しく減少した透明度の点でも明らかである。仮に前記付着促進性構成成分が、同時にシリコーンエラストマー組成物のための架橋剤として機能する場合には、この非相容性は加硫欠損を生じ、これは次いで均質でないネットワークの形成及びこの加硫物の部分での不十分な機械的特性を生じる。これらの加硫欠損を回避するために、付着促進性のＳｉＨ含有構成成分の他に、シリコーンエラストマーコンパウンドと十分に相容性であるＳｉＨ含有架橋剤を使用することが必要であるが、この結果、その他の不利な点、例えば増加した圧縮永久歪値及び付着促進性構成成分の増加した滲出傾向を生じる。ＳｉＨを含有する付着促進性構成成分中の芳香族環を含有する残基の１２mol％を上回る高いレベルは、シリコーンエラストマーコンパウンド中での無視できない程の構造的粘度及びチキソトロピーをも生じ、これは多くの適用において不所望であり、この例は液状シリコーンゴムの射出成形である。特許公報EP 0728 825 B1は、粘着性シリコーンゴムを記載し、前記シリコーンゴムは架橋剤として
【化２】
2007302893.tif 000003
［前記式中、ｎは少なくとも３であり、かつｌ＝３又は４である］を、そして特異的な付着促進剤を含有する。前記付着促進剤は、少なくとも１つの脂肪族不飽和基及び少なくとも２つのフェニレン基を含有する分子である。
【０００９】
特許公報EP 1 106 662 B1は、特異的なＳｉ−Ｈ架橋剤（Ｂ）及び有機ケイ素化合物（Ｃ）（エポキシド基及び加水分解可能な基を有する）の組み合わせから得られる相乗効果の結果としての効果的な付着を可能にする粘着性の付加架橋性材料を記載する。この特許公報は、架橋剤の観点においての解決を提供するものの、付着促進添加剤（Ｃ）の観点ではいまだ不利な点を示す。
【００１０】
要約すると、従来の付加架橋性シリコーンエラストマー組成物のいずれも、特に、複合成形体の製造又は電気／電子的部品の封入のために使用される粘着性シリコーンエラストマー材料に課せられた要求を満足のいくように発揮しないことが述べられ、この要求とは次のものを含む：
ａ）高い流動性（たとえあるにしても非常に低いチキソトロピー）及び高い貯蔵安定性
ｂ）比較的低温での高い架橋率
ｃ）有機ポリマー及び金属への高い付着
ｄ）未架橋成分の貯蔵及び引き続く処理の後ですらの高い付着
ｅ）貯蔵の後ですらの複合材料の高い付着
ｆ）食品又は食品類似分野における使用のための毒性学的許容性及び適性
ｇ）高いレベルの使用特性（透明度、非腐食性、機械的特性プロファイル）
ｈ）たとえあるにしても、前記射出成形型中に最小限に堆積する
ｉ）射出成形でのエラストマー部分の最小限の収縮。
【特許文献１】特許公報EP 0 875 536 A2
【特許文献２】ドイツ国特許出願DE 102 04 893 A1
【特許文献３】特許公報EP 0 686 671 A2
【特許文献４】特許公報EP 0728 825 B1
【特許文献５】特許公報EP 1 106 662 B1
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って、有機プラスチック及び金属に容易に粘着性であり、かつ上述した不利な点を示さず、かつ前述の要求特性を発揮する付加架橋性シリコーンエラストマー材料を提供することが課題であった。この要求は、意外にも、本発明の組成物により満たされる。
【００１２】
この課題は本発明の粘着性の付加架橋性組成物により達成され、この組成物の効果的な粘着性質は、ＳｉＨ含有架橋剤と、ＳｉＨ含有オリゴシロキサンとの組み合わせにより達成されている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、粘着性の付加架橋性シリコーン組成物であって、
（Ａ）一般式（１）
【化３】
2007302893.tif 000004
［前記式中、
Ｒ1は、ヒドロキシル残基、又は一価の、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい炭化水素残基であり、前記残基は１〜２０個の炭素原子を有し、かつ脂肪族不飽和基を有しない、
Ｒ2は、一価の、脂肪族不飽和の、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい炭化水素残基であり、前記残基は２〜１０個の炭素原子を有する、
ｂは、０．０００３〜２の値を示す］
のジオルガノポリシロキサン少なくとも１つ、但し１．５＜（ａ＋ｂ）≦３．０であり、一分子当たり平均して少なくとも２つの脂肪族不飽和残基Ｒ2が存在し、かつジオルガノポリシロキサン（Ａ）の粘度は、２５℃で測定して１ｍＰａ．ｓ〜４００００Ｐａ．ｓであるとの条件付きである、
（Ｂ）一般式（２）
【化４】
2007302893.tif 000005
［前記式中、
Ｒ3は、一価の、脂肪族飽和の、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
Ｒ4  （ａ）は、ハロゲン置換されていてよい、一価の、６〜２０個の炭素原子を有する炭化水素残基であり、前記残基は少なくとも１つの芳香族Ｃ6環を含有する、及び／又は
（ｂ）は、ハロゲン置換された、飽和の、一価の、Ｏ又はＮ原子を含有してよい、２〜２０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
Ｒ5は、ハロゲン置換されていてよい、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよい、６〜２４個の炭素原子を有する炭化水素残基であり、前記残基は二価でありかつ両末端でＳｉ結合している、
ｃ及びｆは、正の数である、かつ
ｄ及びｅは、０又は正の数である］
のオルガノヒドロポリシロキサン少なくとも１つ、但し、ｄ及びｅは、同時に０になることができず、かつオルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）の粘度は、２５℃で測定して５ｍＰａ．ｓ〜５Ｐａ．ｓであるとの条件付きである、
（Ｃ）一般式（３）、（４）、（５）、（６）又は（７）
【化５】
2007302893.tif 000006
［前記式中、
Ｒ6は、一価の、ハロゲン置換されていてよい、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素残基である、
ｎは、４、５、６、７、８である、
ｍは、４、５、６である、
ｏは、３、４、又は５である、かつ
ｐは、３、４、又は５である、
但し、ｏ≧ｐとの条件付きである］
のオルガノヒドロオリゴシロキサン少なくとも１つ、及び
（Ｄ）ヒドロシリル化触媒少なくとも１つ
を含有する粘着性の付加架橋性シリコーン組成物を提供する。
【００１４】
オルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）及びオルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）は架橋剤として作用し、かつ同時に、全く意外にも、相乗作用により、付着促進剤として作用する。
【００１５】
前記シリコーン組成物の有利な特性は、粘着が、いかなる場合にも付着架橋性材料中に存在する構成成分により達成されるとの、即ち、化合物（Ｃ）と組み合わせたＳｉＨ含有架橋剤（Ｂ）により達成されるとの事実に基づき、この際ＳｉＨ架橋剤（Ｂ）は前記材料の残りの構成成分との（主として、ジオルガノポリシロキサンとの）相容性を低下させる少数の基のみを含有することを必要とする。これらの基は更に、反応性の官能基でなく、この結果前記材料の毒性学的な許容性（例えば、飲料水承認、ＢｆＲ／ＦＤＡ承認）が保存され、加硫の欠損が無く、貯蔵安定性が適当であり、この架橋したシリコーンエラストマーの透明度が保存され、ガス発生性の、滲出性の、又は抽出可能な構成成分が添加されない。減少した相容性のＳｉＨ架橋剤（Ｂ）とオルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）との組み合わせは、ＳｉＨ架橋剤中の非相容性の基のレベルを低く維持することを可能にする。構成成分（Ｂ）及び（Ｃ）の両者の組み合わせによってのみ、これらの２つの構成成分の粘着性作用の相乗作用を導く。
【００１６】
本発明による組成物は、特に、次の事実のために注目に値する
ａ）架橋率が減少されず、いくつかの場合においては実際には増加する、
ｂ）機械的なエラストマー特性の点で不利な改変を受け入れる必要がない、
ｃ）粘着促進性構成成分（Ｂ）及び（Ｃ）が、同時に架橋剤として機能する（付加的なＳｉＨ架橋剤が必要でない）、
ｄ）金属の加硫型からの取り出しを妨げることなしに強力な粘着が金属に対してですら得られる（金属に対する付着は、架橋の直後にはシリコーンエラストマーの部分の取り出しを可能にするが、この付着したシリコーンエラストマー／金属アセンブリーが貯蔵される場合に、前記シリコーンエラストマーは短い時間内に、強固にかつ耐久性を有して金属表面に連結することが見出された）、
ｅ）未架橋材料の流動性は、ほとんど全く不利に影響されることがない、
ｆ）透明度が更なる付着促進剤により低下されることがない、
ｇ）開裂生成物−毒性の可能性のある−が放出されない、
ｈ）揮発性構成成分が収縮に関する不利な作用を有しない、
ｉ）得られるエラストマーが、食品類似及び医薬品適用に適する。
【００１７】
本発明の付着促進性構成成分（Ｂ）は、混合による混和の過程における曇りから明白であるように、材料のその他の構成成分との減少した相容性を示すが、この曇りは、それにもかかわらず、前記材料が架橋の目的のために加熱されると完全に消失する；これは、架橋の際の架橋剤分子の前記材料中への均質な分配を示す。
【００１８】
架橋促進性のＳｉＨを含有する構成成分（Ｂ）が、この残基の少なくとも１２mol％でフェニル基を含有する場合には、対照的に、この曇りは、典型的な架橋温度ですら維持され、不均質なネットワーク形成を示し、これはまた、光学的特性、架橋特性及び機械的特性からも実証されてよい。
【００１９】
成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は、１つの化合物又は異なる化合物の混合物を構成してよい。
【００２０】
残基Ｒ1の例は、アルキル残基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、２，２，４−トリメチルペンチル、ｎ−ノニル、及びオクタデシル残基；シクロアルキル残基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチルエチル又はボルニル残基；アリール又はアルカリール残基、例えばフェニル、エチルフェニル、トリル、キシリル、メシチル、又はナフチル残基；アラルキル残基、例えばベンジル、２−フェニルプロピル又はフェニルエチル残基、及びハロゲン化されかつ／又は有機基で官能化された上記残基の誘導体でもあり、例えば３，３，３−トリフルオロプロピル、３−ヨードプロピル、３−イソシアナト−プロピル、アミノプロピル、メタクリロイルオキシメチル又はシアノエチル残基である。有利な残基Ｒ1は、１〜１０個の炭素原子及び、また場合により、ハロゲン置換基をも含有する。特に有利な残基Ｒ1は、メチル、フェニル、及び３，３，３−トリフルオロプロピル残基、特にメチル残基である。
【００２１】
残基Ｒ2は、ヒドロシリル化反応の影響を受ける。この例は、アルケニル及びアルキニル残基、例えばビニル、アリル、イソプロペニル、３−ブテニル、２，４−ペンタジエチル、ブタジエニル、５−ヘキセニル、ウンデセニル、エチニル、プロピニル及びヘキシニル残基：シクロアルケニル残基、例えばシクロペンテニル、シクロヘキセニル、３−シクロヘキセニルエチル、５−ビシクロヘプテニル、ノルボルネニル、４−シクロオクテニル又はシクロオクタジエニル残基；アルケニルアリール残基、例えばスチリル又はスチリルエチル残基、及び上記残基のハロゲン化され、かつ異種原子を含有する誘導体でもあり、例えば２−ブロモビニル、３−ブロモ−１−プロピニル、１−クロロ−２−メチルアリル、２−（クロロメチル）アリル、スチリルオキシ、アリルオキシプロピル、１−メトキシビニル、シクロペンテニルオキシ、３−シクロヘキセニルオキシ、アクリロイル、アクリロイルオキシ、メタクリロイル又はメタクリロイルオキシ残基である。有利な残基Ｒ2は、ビニル、アリル及び５−ヘキセニル残基、特にビニル残基である。
【００２２】
一般式（１）のジオルガノポリシロキサン（Ａ）にとっては、粘度は、２５℃で決定して、有利には１００ｍＰａ．ｓ〜３００００Ｐａ．ｓである。特に有利には、この粘度範囲は１〜３００００Ｐａ．ｓである。付加架橋性組成物の性質に依存して、様々な粘度範囲が特に有利である。ＲＴＶ−２（室温加硫シリコーンゴム）として公知である材料にとっては、粘度１００〜１００００ｍＰａ．ｓが特に有利である；ＬＳＲ（液状シリコーンゴム）にとっては、１〜１００Ｐａ．ｓ、ＨＴＶ（高温加硫シリコーンゴム）にとっては、２０００〜４００００Ｐａ．ｓである。
【００２３】
Ｒ3の例は、アルキル残基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、及びオクタデシル残基、及びまたシクロアルキル残基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル又はボルニル残基でもある。有利な残基Ｒ3は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素残基である。特に有利な残基Ｒ3は、メチル残基である。
【００２４】
Ｒ4の例は、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニリル、アントリル、インデニル、フェナントリル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル又はフェニルプロピル残基であり、及びまた、ハロゲン化されかつ／又は有機基で官能化された上記残基の誘導体でもあり、例えばｏ−、ｍ−及びｐ−クロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、ブロモトリル、トリフルオロトリル、フェノキシ、ベンジルオキシ、ベンジルオキシエチル、ベンゾイル、ベンゾイルオキシ、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシプロピル、４−ニトロフェニル、キノリル又はペンタフルオロベンゾイルオキシ残基である。
【００２５】
２〜２０個の炭素原子を有する炭化水素残基Ｒ4（ｂ）の例は、例えば３−クロロプロピル、３−ブロモプロピル、３，３，３−トリフルオロプロピル、２−フルオロエチル、１，１−ジヒドロペルフルオロドデシル又は２−シアノエチル残基である。有利な残基Ｒ4は、フェニル残基及び３，３，３−トリフルオロプロピル残基である。
【００２６】
特に有利な残基Ｒ4は、フェニル残基である。
【００２７】
有利な残基Ｒ5は、一般式（６）
【化６】
2007302893.tif 000007
［前記式中、
ｓ、ｔ、ｕ及びｗは、相互に独立して、０、１又は２の値である、
Ｒ7は、それぞれの出現の際に、同一又は相違してよく、かつ二価の、ハロゲンにより置換されていてよい炭化水素残基であり、前記残基は、Ｏ、Ｎ、Ｓ又はＰ原子を含有してよく、脂肪族不飽和基を有さず、かつ１〜１０個の炭素原子を有し、例えば、
【化７】
2007302893.tif 000008
であり、
−（Ｘ）−は、
【化８】
2007302893.tif 000009
、シクロヘキシレン又はノルボルニレン（−Ｐｈ−はフェニレン基を示す）から選択される二価の残基である］
で示される。
【００２８】
特に有利な残基Ｒ5は、フェニレン残基である。
【００２９】
オルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）は、一分子当たり少なくとも２つ、有利には少なくとも５つのＳｉＨ基を有する。その他の有利な実施態様は、一分子当たり、５〜１８つのＳｉＨ基を有する。構成成分（Ｂ）の粘度は、２５℃で測定して、有利には５ｍＰａ．ｓ〜１Ｐａ．ｓである。
【００３０】
ＳｉＨ基の不安定性のために、構成成分（Ｂ）は、調整の結果として、少量の、典型的には＜１００質量ｐｐｍのＳｉ結合ＯＨ基を含んでよい。
【００３１】
炭化水素残基Ｒ6の例は、アルキル残基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、２，２，４−トリメチルペンチル、及びｎ−ノニル残基；アリール残基、例えばフェニル、エチルフェニル、トリル、キシリル、メシチル又はナフチル残基；アラルキル残基、例えばベンジル、フェニルエチル又はフェニルプロピル残基、及び、また上記残基のハロゲン置換したか又は異種原子を含有する誘導体、例えば３−クロロプロピル、３−ブロモプロピル、（ｐ−クロロメチル）フェニル、（ｐ−クロロメチル）フェネチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、アセチル、アセトキシメチル、アセトキシエチル、アセトキシプロピル、３−フェノキシプロピル、ベンゾイルオキシプロピル残基である。有利な残基Ｒ6は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピル残基である。特に有利な残基Ｒ6は、メチル及びフェニル残基であり、前記残基のうちメチル基が特に有利な残基である。
【００３２】
オルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）は有利には、式（３）及び（５）の化合物、より有利には式（３）の化合物を構成する。式（３）の化合物に関しては、ｎの値４〜６が有利であり、特に有利には５及び６であり、というのもこの場合においては、型粘着性は、ｎが４である場合よりも低く、かつ同時にこの付着が最適化されるからである。ｎが８より大きい場合には、逆に、この付着は実質的に損なわれ、かつ付着に関して（Ｂ）及び（Ｃ）の相乗作用を観察することがもはや可能ではない。
【００３３】
ジオルガノポリシロキサン（Ａ）１００質量部の使用のために、オルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）０．１〜３０重量部、有利には０．５〜１０質量部、特に１〜５質量部が使用される。オルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）を、０．０２〜９質量部、有利には０．１〜３質量部、特に０．１〜１．０質量部を使用することが典型的である。オルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）の量が、０．０２質量部より少ない場合には、相乗効果が観察されない。この完全な効果は、０．１質量部のレベルから出発して観察される。９質量部を上回る量の場合には、（Ｂ）対（Ｃ）の比に依存してこの相乗効果は、再度相当に弱くなる。更に、比較的高いショアーＡ硬度（４５より高い）を有するシリコーンエラストマーを得ることがもはやほとんど可能ではない。更に、オルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）の量が増加するにつれ、型粘着性に増加があり、これは加工に不利に影響を及ぼす。
【００３４】
ＳｉＨ基の全体量対Ｓｉ−ビニル基の全体量の比は、０．５〜１５、有利には１．０〜７、特に１．２〜４．５の範囲内で変動してよい。
【００３５】
ヒドロシリル化触媒（Ｄ）は、付加反応のための触媒として働き、前記反応は、ジオルガノポリシロキサン（Ａ）の脂肪族不飽和炭化水素残基Ｒ2と、オルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）及びオルガノヒドロオリゴシロキサン（Ｃ）のケイ素に結合した水素原子との間でのヒドロシリル化として参照されるものである。多数の適したヒドロシリル化触媒が、文献中で説明されている。原則的に、付加架橋性シリコーンゴム材料中で使用される、公知技術に相当する全てのヒドロシリル化触媒を使用することが可能である。
【００３６】
ヒドロシリル化触媒（Ｄ）に関しては、金属及びこの化合物を使用することが可能であり、例えば白金、ロジウム、パラジウム、ルテニウム及びイリジウム、有利には白金及びロジウムである。前記金属は、適切な場合には、微細に分割された支持材料、例えば活性炭、金属酸化物、例えば酸化アルミニウム又は二酸化ケイ素に固定されていてよい。白金及び白金化合物を使用することが有利である。ポリオルガノシロキサン中に溶解性である白金化合物が特に有利である。使用されてよい溶解性の白金化合物は、例えば、式（ＰＴＣｌ2・オレフィン）2及びＨ（ＰｔＣｌ3・オレフィン）の白金−オレフィン錯体を含み、２〜８つの炭素原子を有するアルケン、例えばエチレン、プロピレン、ブテン及びオクテンの異性体、又は５〜７個の炭素原子を有するシクロアルケン、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン及びシクロヘプテンを使用することが有利である。更に、溶解性の白金触媒は、式（ＰｔＣｌ2Ｃ3Ｈ6）2の白金−シクロプロパン錯体、ヘキサクロロ白金酸とアルコール、エーテル及びアルデヒド又はこれらの混合物との反応生成物、又はヘキサクロロ白金酸とメチルビニルシクロテトラシロキサンとの、エタノール溶液中での炭酸水素ナトリウムの存在下での反応生成物である。リン配位子、硫黄配位子及びアミン配位子を有する白金触媒も使用されてよく、例えば（Ｐｈ3Ｐ）2ＰｔＣｌ2である。特に有利には、ビニルシロキサン、例えばｓｙｍ−ジビニルテトラメチルジシロキサンを有する白金錯体である。
【００３７】
使用されるヒドロシリル化触媒（Ｄ）の量は、所望の架橋率により、また経済的な観点にもより左右される。典型的には、ジオルガノポリシロキサン（Ａ）１００質量部につき、白金金属として計算して、１×１０-5〜５×１０-2質量部、有利には１×１０-4〜１×１０-2質量部、特に５×１０-4〜５×１０-3質量部の白金触媒が使用される。
【００３８】
粘着性の付加架橋性シリコーン組成物は、適当な場合には、阻害剤、安定剤、触媒、充填剤、例えば強化性及び非強化性充填剤、可塑剤、付着促進剤、溶解性染料、有機及び無機顔料、溶媒、殺カビ剤、芳香剤、分散助剤、レオロジー助剤、腐食阻害剤、酸化阻害剤、光安定剤、熱安定剤、難燃剤、及び電気的特性に影響を及ぼすための剤を含有するグループから選択される更なる構成成分（Ｅ）を含有してよい。
【００３９】
架橋したシリコーンゴムの部分に関して十分に高い機械的強度を達成するために、積極的に強化性である充填剤を構成成分（Ｆ）として付加架橋性シリコーン組成物中に混和することが有利である。使用される積極的に強化性である充填剤（Ｆ）は、特に、沈殿及び煙霧シリカ、及びまたこれらの混合物でもある。これらの積極的に強化性である充填剤の比表面積は、ＢＥＴ方法により決定して、少なくとも５０ｍ2／ｇの値に、又は有利には１５０〜４００ｍ2／ｇの範囲内にあることが望ましい。この種の積極的に強化性である充填剤は、シリコーンゴム分野において非常によく知られた材料である。
【００４０】
粘着性の付加架橋性シリコーン組成物の配合は、上述の成分を任意の順番で混合することにより達成される。
【００４１】
シリコーンエラストマー及び複合材料を形成するための粘着性付加架橋性シリコーン組成物の架橋は、有利には加熱により、有利には４０〜２５０℃での、より有利には少なくとも５０℃での、特に少なくとも８０℃での、有利には２００℃以下での、特に１８０℃以下での加熱により達成される。
【００４２】
本発明はまた、付加架橋したシリコーンエラストマー及び複合材料を提供する。
【００４３】
複合材料を製造するための方法において、前記シリコーン組成物を基材に設け、引き続き有利には４０〜２５０℃での加熱により架橋させ、複合材料を形成させる。
【００４４】
粘着性付加架橋性シリコーン組成物は、特に、付加架橋したシリコーンエラストマーと基材、有利には有機ポリマー、金属又はガラスからなる基材との間での効果的な付着が望まれる限りは有利に使用されてよい。前記基材は、成形体、フィルム又はコーティングの形状をとってよい。粘着性の付加架橋性シリコーン組成物は、被覆、接着又は封入により複合材料を製造するため、かつ造形品を製造するために適する。粘着性の付加架橋性シリコーン組成物は、とりわけ、電気的及び電子的部品の封入及び接着のために、かつ複合成形体の製造のためにも適する。複合成形体とは、本明細書において、前記シリコーン組成物から製造されるシリコーンエラストマー部分及び少なくとも１つの基材からなり、固い、永久的な結合が前記の２つの部分の間に存在する複合材料を含有する一体型の造形品が意味される。この種の複合成形体は、有利には、有機ポリマーを加工して造形品を形成して、次いで前記シリコーン組成物を前記成形体に接合させ、そして架橋を実施することにより製造され、これは、例えば、射出成形方法において、押出により、又はプレス成形として公知の方法において為されてよい。複合材料、特に、複合成形体は、任意の非常に多様な適用分野において利用されてよく、例えばエレクトロニクス、家庭電化製品、消費財、建築及び自動車産業、医用工学、及びスポーツ及び余暇物品の製造において利用されて
よい。
【実施例】
【００４５】
実施例
以下の例において、その他に記載がない場合にはそれぞれの場合に
全ての圧力は０．１０ＭＰａ（absolute）、及び
全ての温度は２３℃である。
【００４６】
基材
本発明による、そして本発明によらない付加架橋したシリコーンエラストマーの付着を、次の基材に対して試験した：
ａ）ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタラート）：Ultradur(R) B4300G6（BASF AG, Ludwigshafen, Germany）；３０％ガラス繊維強化した（ＧＦ）
ｂ）ＰＢＴ：Pocan(R) B3235（Bayer AG, Leverkusen, Germany）；３０％（ＧＦ）
ｃ）ポリアミド６：Durethan(R) BKV 30（Bayer AG, Leverkusen, Germany）；３０％（ＧＦ）
ｄ）アルミニウム（工業等級；下塗されていない）
ｅ）鋼：ＶＡ鋼（工業等級）。
【００４７】
付着の特性決定
寸法６０×２５×２ｍｍの基材ストリップを、ステンレス鋼圧縮型中に挿入し、この型を試験すべき付加架橋性シリコーンエラストマー材料で充填した。引張試験での前記シリコーンエラストマーの過剰な伸長を妨げるべく、テキスタイルのバンドを架橋により前記シリコーンエラストマー中に混和した。プレス加硫が１７０℃の温度及び３０トンの圧力で３分間行われた。この積層体の引き続く除去及び室温での少なくとも１６時間の貯蔵後に、堅個な基材体を固く取り付け、付着性のシリコーンエラストマーストリップを剥離試験において引き離させるために必要とされる最大分割力を測定した。分割力（ＰＦ）を、DIN ISO 813にそって決定し、Ｎ／ｍｍで示した。個々の例について、４つの積層体を測定し、この分割力を平均値として決定し、凝集破壊の割合をパーセンテージとして決定した。凝集破壊（ＣＦ）０％とは、前記シリコーンエラストマーが基材表面から、残留物なしに完全に引き離されたことを意味する。凝集破壊１００％は、前記シリコーンエラストマー内の亀裂生長のみにより離層が生じたことを意味する。
【００４８】
例１（本発明による）
ベースコンパウンド１（ＢＣ）：
実験室配合機に、２００００ｍＰａ．ｓ（２５℃）の粘度を有するビニル−ジメチルシロキシ末端を有するポリジメチルシロキサン１５６ｇを装入し、この初期装入物を１５０℃に加熱し、比表面積３００ｍ2／ｇ及び４．２質量％の炭素含有量を有する疎水性煙霧シリカ１１６ｇを混合した。この粘度の高いコンパウンドを引き続き前述のポリジメチルシロキサン１４１ｇで希釈した。減圧下（１０mbar）での１５０℃での混練は、１時間のうちに揮発性成分を取り除いた。
【００４９】
Ａ成分の調整：
ベースコンパウンド１  １００ｇを、メチルビニル−シロキシ基を有し、ビニル含有量２．５mmol／ｇ及び粘度３５０ｍｍ2／ｓを有するジメチル−ビニルシロキシ末端キャッピング化したポリジメチルシロキサン１．０ｇ及びＰｔ含有量１質量％を有する白金溶液０．２ｇと混合し、これは白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体をシリコーンポリマー中に含有する。
【００５０】
Ｂ成分の調整：
ベースコンパウンド１  ７９．５ｇを、１−エチニル−１−シクロヘキサノール０．１ｇ、粘度２００００ｍＰａ．ｓ（２５℃）を有する、ビニルジメチルシロキシ末端を有するポリジメチルシロキサン１５ｇ、ジメチルシロキシ、メチルヒドロシロキシ、フェニルシロキシ及びトリメチルシロキシ単位からなり、粘度６５ｍｍ2／ｓ及びＳｉ−Ｈ含有量０．９％を有するコポリマー４．８ｇ、及びテトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇと混合した。
【００５１】
例２（本発明によらない）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン０．５ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５２】
例３（本発明によらない）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、メチルヒドロシロキシ及びトリメチルシロキシ単位からなり、平均で３０個のメチルＳｉＨ−Ｏ基及び平均で１５mmol／ｇのＳｉ−Ｈ含有量（ＳｉＨ含有量約１．５質量％に相当）を有するコポリマー０．５ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５３】
例４（本発明によらない）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、例１に示したコポリマー全部で５．８ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５４】
例５（本発明による）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、テトラメチルシクロテトラシロキサン全部で１．０ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５５】
例６（本発明による）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、平均で５個のＳｉ−Ｈ基を含有するトリメチル−シロキシ−末端キャッピング化したＳｉ−Ｈシロキサン１．０ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５６】
例７（本発明による）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、ジメチルシロキシ、メチル−ヒドロシロキシ、メチルフェニルシロキシ及びトリメチルシロキシ末端基からなり、粘度３４ｍｍ2／ｇ及びＳｉ−Ｈ含有量０．７９質量％を有するコポリマー５．２ｇを、ジメチルシロキシ、メチルヒドロシロキシ、フェニルシロキシ及びトリメチルシロキシ末端基からなるコポリマー４．８ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５７】
例８（本発明による）
ＧＭ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、メチルヒドロシロキシ、ジフェニルシロキシ及びトリメチルシロキシ末端基からなり、粘度６９ｍｍ2／ｇ及びＳｉ−Ｈ含有量０．８質量％を有する別のコポリマー５．２ｇを、コポリマー４．８ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５８】
例９（本発明による）
ＧＭ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、メチルヒドロシロキシ、−Ｏｓｉ（Ｍｅ）2−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ（Ｍｅ）2Ｏ−及びトリメチルシロキシ末端基からなり、粘度７３ｍｍ2／ｇ及びＳｉ−Ｈ含有量０．８２質量％を有するコポリマー５．０ｇを、コポリマー４．８ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００５９】
例１０（本発明による）
ＢＣ１、成分Ａ及びＢの調整を、成分Ｂの点で、平均で６個のＳｉ−Ｈ基を含有し、かつＳｉ−Ｈ含有量１．６質量％を有するヒドロ−ジメチルシロキシ末端キャッピング化したＳｉ−Ｈ−シロキサン０．５ｇを、テトラメチルシクロテトラシロキサン０．５ｇの代わりに使用した以外は例１と同様に行った。
【００６０】
付着試験のために、それぞれの場合に成分Ａ及びＢを１：１の比で混合し、それぞれの基材上で上述したように架橋させた。様々な基材（ｓｕｂ．）ａ）〜ｅ）に対する分割力（ＰＦ）測定（Ｎ／ｍｍ）及び凝集破壊（ＣＦ）（％）についての例（ｅｘ．）１〜１０の結果を第１表及び第２表に示した。
【００６１】
【表１】
2007302893.tif 000010
*本発明による
−測定せず。
【００６２】
第１表及び第２表に示した値は、プレス加硫の場合の、本発明による付加架橋したシリコーンエラストマー（例１）及び有機ポリマー又は金属からなる積層体の高い付着の証拠である。本発明によるシリコーンゴムブレンドを用いて、破壊現象なしに高い付着値が、検査した全ての基材に対して達成可能であった。個々の付着（ＰＦ）（Ｎ／ｍｍ）の総計においても同様に、本発明によるシリコーンゴムブレンドは、ある程度の差で最も良好に機能した。
【００６３】
例２から明白であるように、付着促進剤（例えばグリシジル−オキシプロピルトリメトキシシラン）と組み合わせた構成成分（Ｂ）単独の存在は、全体的には良好な付着値を生じた。しかしながら、これらの値は、本発明によるシリコーンゴムブレンドの値よりはかなり低い。更に、Ｐｏｃａｎ  ｂ）に対する付着は非常に並み程度である。極めてＳｉ−Ｈリッチな、長鎖の架橋剤と構成成分（Ｂ）との組み合わせは、例３から明らかであるように、非常に並み程度である付着値を生じるに過ぎない。例４から見受けられるように、構成成分（Ｂ）の単独の存在もまた、高い付着強度を生じるものでなく、これは代わりに、本発明による構成成分（Ｃ）との関連においてのみ達成される。これは、付着促進性構成成分（Ｂ）及び本発明によるシリコーンゴム材料（Ｃ）との間での相乗効果を実証するものである。
【００６４】
付着したアセンブリーの安定性を検査すべく、４つのアセンブリー試験体をＲＴ及び湿度８０％で４週間の間貯蔵し、次いで上記したように付着調査にかけた。この結果は第３表中に見受けることができる。
第３表
【表２】
2007302893.tif 000011
*本発明による。
【００６５】
例１から明らかであるように、アセンブリーの貯蔵後に付着値に変化は実質的に生じなかった。対照的に、本発明によらない材料の場合には、幾つかの基材に対する付着が大幅に減少した。
【００６６】
Ａ及びＢ成分のそれぞれの安定性の影響を、この組成物をＲＴで製造後４週間貯蔵し、この後に上記した工程に従って付着させたアセンブリーを製造することにより検査し、これらのアセンブリーを付着に関して検査した。これらの結果は第４表中に見受けることができる。
第４表
【表３】
2007302893.tif 000012
*本発明による。
【００６７】
例１から明らかであるように、未架橋のＡ及びＢ成分の貯蔵後にすら付着値に変化は実質的に生じなかった。本発明によらない材料の場合には、対照的に、特定の基材に対する付着が大幅に減少した。
【００６８】
第５表は、レオメーターを用いて剪断速度Ｄ＝０．９８で測定した例１〜４のＢ成分の粘度［Ｐａ*ｓ］を示す。粘度を、混合物が調整された直後に、また前記成分を室温で２週間貯蔵した後にも測定した。
第５表
【表４】
2007302893.tif 000013
*本発明による。
【００６９】
第５表から明らかであるように、例１からの本発明によるシリコーンゴム混合物は、最も低い粘度及び貯蔵後の最も少ない粘度増加を有する。
【００７０】
第６表は、例１〜４の機械的特性を再現する。
第６表
【表５】
2007302893.tif 000014
*本発明による。
【００７１】
第６表から明らかであるように、本発明によるシリコーンゴム混合物の機械的特性は極めて良好であり、かつ均衡がとれている。特に、前記材料は、高い破断伸び及び高い引張強さと、高い引裂抵抗とが組み合わさっている。
【外国語明細書】
2007302893.tif 000018
2007302893.tif 000019
2007302893.tif 000020
2007302893.tif 000021
2007302893.tif 000022
2007302893.tif 000023
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2007302893.tif 000049