(57)【要約】      （修正有）【課題】透明性に優れたディスプレイ用複合フィルタ、及び、短い工程で、設備や余分な材料の負担を少なくして、メッシュ開口部への気泡の混入を防ぎ、透明性の高い複合フィルタを歩留まり良く、安価に得ることができる複合フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１１の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層１２、粘着剤層２２、光学フィルタ２１がこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層１２における該メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つ該粘着剤層２２が、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が  Ｅ’≦９．５×１０５である粘着剤により形成されているディスプレイ用複合フィルタ。【選択図】図１
2007096111.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されているディスプレイ用複合フィルタ。
【請求項２】
（Ａ）透明基材の一方の面に、ライン部の高さが３μｍ以下、開口部の間口幅が１５０μｍ以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
（Ｂ）光学フィルタの一方の面に、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、
（Ｃ）上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽（シールド）する電磁波遮蔽用シートと光学フィルタとを含んでなるディスプレイ用複合フィルタ及びディスプレイ用複合フィルタの製造方法に関し、さらに詳しくは、気泡の混入が少なく、透明性に優れたディスプレイ用複合フィルタ、及び生産性が高い当該ディスプレイ用複合フィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；ＥＭＩ）が増え、陰極線管（ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰという）などのディスプレイでも電磁波が発生する。プラズマディスプレイパネルは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、近赤外線、及び熱が大量に発生する。
【０００３】
通常、電磁波を遮蔽するためにプラズマディスプレイパネルの前面に、電磁波遮蔽用シートが前面板として設けられる。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおいて３０ｄＢ以上の機能が必要である。さらに、ディスプレイの表示画像を視認しやすくするため、電磁波遮蔽用の金属メッシュ（ライン部）部分が見えにくく、また、メッシュパターン精度がよくメッシュの乱れがなく、適度な透明性（可視光透過性）を有することが必要である。
【０００４】
また、ディスプレイ前面より発生する波長８００〜１，１００ｎｍの近赤外線も、他のＶＴＲなどの機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。更に、画像表示装置から発生する特定波長の不要な光を遮蔽したり、画像表示装置に必要とされる各種機能を付与したりする機能が求められる場合がある。
上記機能をできるだけ少ない層構成で実現するために、上記電磁波遮蔽用シートと、近赤外線吸収フィルタ等を含んで成る光学フィルタ層とを積層して、画像表示装置から発生する不要な電磁波及び特定波長の光を遮蔽し、且つ画像表示装置に必要とされる各種機能を付与することができる複合フィルタをディスプレイパネルの前面板として用いることが検討されている。
【０００５】
従来、メッシュ状の金属層を有する電磁波遮蔽用シートの製造方法としては、透明プラスチック基材に接着層を介して金属箔を貼り合わせた後に、金属箔をケミカルエッチングプロセス（フォトリソグラフィー工程）によって幾何学図形を形成する方法が知られている。しかしながら、この方法によれば、メッシュのパターン精度はよいものの、異種材料が積層されているために、反りが発生しやすい。また、メッシュ開口部の接着剤の表面には、金属箔の粗さが転写され凹凸状に残っているために、該粗さで光が乱反射して、メッシュ開口部の透明性が悪いという欠点がある。また、上記電磁波遮蔽用シートと光学フィルタを積層する工程では、上記電磁波遮蔽用シートの開口部がへこんでいるため、接着剤を用いて直接光学フィルタを積層すると、メッシュ開口部内に気泡が混入し、該気泡の光散乱により複合フィルタの透明性が悪化する恐れがある。金属箔を接着する方式を選択する以上、金属箔が接着工程において破断しないだけの強度を維持する為には金属箔の膜厚を１０μｍ以上は確保する必要がある。それは即ちメッシュ開口部の深さ（段差）が１０μｍ以上になることを意味する。そのため、従来、メッシュ開口部の接着剤表面の粗さを埋めるため、及び／又は気泡の混入を防止して透明化するため、透明化工程としてメッシュ開口部を予め平坦化樹脂と称される透明樹脂で充填して平坦化層を設ける工程の追加が必要であった。このような透明化工程は余分な材料が必要な上、工程も増加するので省略が望まれていた。
【０００６】
一方で、接着剤の物性を改良することにより、気泡が混入する問題を解消する研究も進められている。例えば、特許文献１には、電磁波シールド性、透明性・非視認性、接着性等を同時に十分満たす接着フィルムを得ることを目的として、導電性金属により描かれた幾何学図形を有する電磁波シールドフィルムの導電性金属側を、貯蔵弾性率が２５℃で特定の値以上、且つ８０℃で特定の値以下の接着剤で被覆した電磁波シールド性接着フィルムが提案されている。上記電磁波シールド性接着フィルムの接着剤は、室温で自由に位置あわせするためにタックフリー（非粘着性）とし、８０℃での加熱ラミネートによって導電性金属側に接着剤を被覆することが前提となっており、室温ラミネートによる積層には不向きである。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２９４９８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、透明性に優れたディスプレイ用複合フィルタ、及び、短い工程で、設備や余分な材料の負担を少なくして、メッシュ開口部への気泡の混入を防ぎ、透明性の高い複合フィルタを歩留まり良く、高温に熱すること無く、安価に得ることができる複合フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、特定の形状寸法の導電体メッシュ層と特定の粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる複合フィルタが、上記目的を達成することができるという知見を見出し、本発明を完成させるに到った。
すなわち、本発明のディスプレイ用複合フィルタは、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法は、（Ａ）透明基材の一方の面に、ライン部の高さが３μｍ以下、開口部の間口幅が１５０μｍ以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、（Ｂ）光学フィルタの一方の面に、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、（Ｃ）上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成ることを特徴とする。
【００１１】
特定の形状寸法のメッシュ状領域と特定の粘着剤層を組み合わせて用いることにより、メッシュ面への透明化工程、及びオートクレーブ処理の様な真空吸引工程や、積層時の加熱を省略しながら、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュ状領域の開口部内に気泡が混入することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。
【００１２】
本発明の製造方法によれば上記メリットに加え、特に、電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域の中の中央部を中心とする特定形状、寸法の領域にのみに光学フィルタを積層する場合においては、粘着剤層を予めメッシュ状領域に塗工して、その後更に光学フィルタと積層する方法と比べて、粘着剤層が光学フィルタ貼着領域の外に滲み出し難いというメリットも有する。これは、粘着剤層をメッシュ状領域上に塗工する場合は、溶剤希釈して低粘度化した粘着剤を塗工する為、塗工領域（光学フィルタ貼着部）外にも粘着剤が流出することは必至であるのに対し、粘着剤層を光学フィルタ上に塗工する場合は、溶剤を乾燥除去して高粘度化した粘着剤層をメッシュ状領域上に積層する為、光学フィルタ貼着部外に粘着剤が流出し難くなる為である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のディスプレイ用複合フィルタは、気泡の混入がないため、透明性に優れた、生産性の高いものである。また、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法によれば、高温度（例えば８０℃）以上に加熱せずとも、短い工程で設備や余分な材料の負担を少なくしても気泡の混入を防ぐことができるため、透明性が高い複合フィルタを歩留まり良く、安価に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のディスプレイ用複合フィルタは、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を有する導電体メッシュ層、粘着剤層、光学フィルタがこの順に少なくとも設けられてなるディスプレイ用複合フィルタであって、当該導電体メッシュ層における該メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、該メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つ該粘着剤層が、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されていることを特徴とする。
【００１５】
本発明のディスプレイ用複合フィルタは、厚みが比較的薄く、比較的広い開口部の間口幅を有するメッシュ状導電体層を備えた電磁波遮蔽シートと、特定の貯蔵弾性率Ｅ’を有する粘着剤により形成されている粘着剤層を有する粘着性光学フィルタとを組み合わせることによって、メッシュ状導電体層の開口部内の隅々にまで粘着剤層が行き渡り、且つ、粘着剤層が気泡を取り込み難いため、大気圧雰囲気下で加圧部分を高温に加熱することなく積層しても、気泡混入を抑制し、透明性を向上することができる。
【００１６】
〔層構成〕
先ず、図１は本発明によるディスプレイ用複合フィルタについて、基本的な形態を例示する断面図である。
図１（Ａ）は、透明基材１１上に導電体メッシュ層１２が形成され、更に該透明基材１１の導電体メッシュ層１２が形成された面と光学フィルタ２１とが、粘着剤層２２を介して積層されている構成である。なお、光学フィルタ２１とは、例えば、シートや板状或いは塗膜状の、反射（含む防眩）防止フィルタ、近赤外吸収フィルタ等の各種フィルタ機能を有する層である。該光学フィルタは、通常は、導電体メッシュ層の保護フィルムとしての機能も兼ねる。なお、本発明において、上記導電体メッシュ層１２には、電解メッキするための下地層となる導電性を有する薄層である導電処理層１３、金属層１４及び導電性を有するその他の層が含まれる。
【００１７】
また、図１（Ｂ）は電解メッキ法で複合フィルタを形成された場合の層構成の例示であり、透明基材１１上に電解メッキが可能になるだけの導電性を付与する為に導電処理層１３が形成され、更にその上に電解メッキ法により金属層１４が積層され、更に該透明基材１１上の金属層１４が形成された面と光学フィルタ２１とが粘着剤層２２を介して積層されている構成である。
【００１８】
また、本発明の複合フィルタは、上記導電体メッシュ層の表裏面上に必要に応じて更に黒化層及び／又は防錆層が積層されてなるものであっても良く、例えば、光の反射率が低減され、コントラスト感を出すことによりディスプレイの画像の視認性を向上するため、本発明の複合フィルタは、図１（Ｃ）に示すように、前記金属層１４と前記粘着剤層２２の間に黒化層が設けられてなるものであってもよい。
【００１９】
図２は、図１（Ｃ）の複合フィルタのうち、透明基材層１１、導電処理層１３及び金属層１４のみを例示した斜視図であり、電磁波遮蔽シートの一例である。導電処理層１３及び金属層１４は、開口部１０３が密に配列したメッシュ状であり、該メッシュ状領域１０１は開口部１０３と枠をなしているライン部１０４から構成されている。金属層１４の表面上に設けられた黒化層（図示せず）は、導電処理層１３及び金属層１４と一体となって、メッシュ状領域１０１を形成する。
【００２０】
図３は、図２のＡＡ断面図、及びＢＢ断面図である。図３（Ａ）は開口部を横断するＡＡ断面を示し、開口部１０３とライン１０４が交互に構成され、図３（Ｂ）はライン１０４を縦断するＢＢ断面を示し、金属層１４及び導電処理層１３からなるライン部１０４が連続して形成されている。尚、図１に示した、複合フィルタの断面図はいずれもＡＡ断面図に該当する。
尚、以上の例示は、本発明の複合フィルタの態様を限定するものではない。本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００２１】
以下、本発明の複合フィルタについて、透明基材から、各層毎に順に説明する。
［透明基材］
透明基材は、機械的強度が弱い銅メッシュ層を補強するための層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂等の有機材料からなる板及びシート（乃至フィルム。以下同様。）等、並びに、ガラス等の無機材料からなる板等である。
【００２２】
上記有機材料からなる板及びシート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００２３】
なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、また層的には、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００２４】
また、上記ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率が小さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。
なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常１２〜１０００μｍ程度であるが、好ましくは５０〜５００μｍである。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常１〜５ｍｍ程度が好適である。いずれの材料においても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
【００２５】
また、透明基材は、前面基板及び背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良いが、前面基板の前に配置する前面フィルタとして電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートが優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも樹脂シートが優れている。
この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性が良い。
【００２６】
［導電体メッシュ層］
導電体メッシュ層は、導電性を有する層であって、電磁波遮蔽機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であるが、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波遮蔽性能と光透過性を両立させている。
該導電体メッシュ層には、金属層の他、例えば、１０μｍ未満の薄い金属層の形成が容易な電解メッキ法により金属層を形成する場合に必要な、該金属層の下地層となる導電性を有する薄層（導電処理層）や、導電性を有する黒化層及び／又は防錆層等が含まれる。例えば、図１（Ｃ）において、黒化層１５が導電性を有する場合は、導電体メッシュ層には導電処理層１３、金属層１４及び黒化層１５が含まれる。一方、黒化層１５が導電性を有しない場合は、導電体メッシュ層には導電処理層１３及び金属層１４のみが含まれる。
【００２７】
導電体メッシュ層の平面視形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状としては正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられる。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部１０４の幅、即ちライン幅Ｗは２５μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下であることが好ましい。但し、電磁波遮蔽効果の発現、破断防止のためには、少なくとも５μｍ以上確保することが好ましい。また、開口部の間口幅は（ラインピッチＰ）−（ライン幅Ｗ）で表され、本発明においては１５０μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上とするのが、光透過性、及び後述する粘着性光学フィルタとの積層時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大３０００μｍ以下とする。
【００２８】
また、本発明においては、導電体メッシュ層の最終的に得られるメッシュ状領域の厚み、すなわち、開口部間のライン部１０４の高さＨを３μｍ以下とする。このような場合には、粘着性光学フィルタ層との積層前にメッシュ開口部を予め平坦化樹脂と称される透明樹脂で充填して平坦化層を設ける平坦化工程を省略した場合であっても、メッシュ状領域と粘着剤層の積層及び接着時にメッシュ状領域の開口部内に粘着剤層が均一に入り易く、開口部内に気泡が残留し難いからである。この場合には、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高いディスプレイ用複合フィルタを生産効率良く得ることができる。但し、導電体メッシュ層の厚みが薄くなり過ぎると、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすくなる。電磁波遮蔽機能の点を考慮すると、メッシュ状領域の開口部形状が前記の範囲であるとき、メッシュ層の厚みは１μｍ以上必要である。よって、メッシュ状領域のライン部の高さは、１〜３μｍとなるようにすることが更に好ましい。上記メッシュ状領域のライン部の高さがこれ以下の厚さでは、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすく、これ以上の厚さでは、メッシュに加工した際にライン部と開口部の段差が大きくなり、接着剤層を積層する際に気泡が残留し易くなる。
【００２９】
なお、メッシュ状領域のライン部の高さは、導電体メッシュ層１２と、更に積層された導電性を有しない層のうち、開口部を形成されてライン部１０４を形成する層の厚みを全て含む総厚みをいう。また、メッシュ状領域のバイアス角度（メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
【００３０】
（導電処理層）
上記導電処理層としては、公知の導電性を持つ材料の薄膜が良く、その材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、或いはこれらの金属の合金から成る。また、酸化スズ、ＩＴＯ、ＡＴＯなどの透明な金属酸化物でもよい。該導電処理層は単層或いは多層であってもよい。該導電処理層の厚さは、メッキ時に必要な導電性が得られれば良いので、０．００１〜１μｍ程度の極薄い層であることが好ましい。
【００３１】
（金属層）
該金属層１４の材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなど充分に電磁波を遮蔽できる程度の導電性を持つ金属、或いはこれら金属を含む合金が適用できる。金属層１４は単体でなくても、多層であってもよい。本発明においては、上述のようにメッシュ状領域のライン部の高さを１〜３μｍとするため、該金属層１４の厚さは1〜２μｍ程度であることが好ましい。
導電体メッシュ層の表裏面上には、必要に応じて更に黒化層及び／又は防錆層が積層されてなるものであってもよい。これらは導電性を有する場合に導電体メッシュ層に含まれるが、導電性の有無に関わらず、導電体層と一体となってメッシュ状領域を形成する。
【００３２】
（黒化層）
電磁波遮蔽用シートへの外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、本発明の複合フィルタは、前記金属層と前記粘着剤層の間に黒化層が設けられてなることが、コントラスト向上の点から好ましい。
なお、黒化層の中には、該層表面が粗面となり密着強化が図れるものもある。
黒化層としては、黒等の暗色を呈する層であれば良く、密着性等の基本的物性を満足するものであれば良く、公知の黒化層を適宜採用し得る。また、黒化層の導電性の有無は問わない。
【００３３】
従って、黒化層としては、金属等の無機材料、黒着色樹脂等の有機材料等を用いることができ、例えば無機材料としては、金属、合金、金属酸化物、金属硫化物の金属化合物等の金属系の層として形成する。金属系の層の形成法としては、従来公知の各種黒化処理法を適宜採用できる。なかでも、メッキ法による黒化処理は密着性、均一性、容易性等で好ましい。メッキ法の材料は、例えば、銅、コバルト、ニッケル、亜鉛、モリブデン、スズ、クロム等の金属や金属化合物等を用いる。これらは、密着性、黒さ等の点でカドミウム等による場合よりも優れている。
また、黒化層として、黒色クロム、黒色ニッケル、ニッケル合金等も好ましく、該ニッケル合金としては、ニッケル−亜鉛合金、ニッケル−スズ合金、ニッケル−スズ−銅合金である。特に、ニッケル合金は黒色度合いと導電性が良い上、黒化層に防錆機能も付与でき（黒化層兼防錆層となる）、防錆層を省略することもできる。しかも、通常、黒化層の粒子は針状のために、外力で変形して外観が変化しやすいが、ニッケル合金による黒化層では粒子が変形し難く、後加工工程で外観が変化し難くい利点も得られる。
【００３４】
該黒化層の好ましい黒濃度は０．６以上である。なお、黒濃度の測定方法は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（キモト社製、商品名）を用いて、観察視野角１０度、観察光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩＴに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定する。また、該黒化層の光線反射率としては５％以下が好ましい。光線反射率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーターＨＭ１５０（村上色彩社製、商品名）を用いて測定する。また、反射率の測定に換えて、色差計により反射のＹ値で表わしてもよく、この際にはＹ値として１０以下が好ましい。
【００３５】
（防錆層）
更に、金属層１４の少なくとも片面を覆うように、また、黒化層を設けた場合には、黒化層１５Ａ及び／又は１５Ｂの少なくとも片面を覆うように、防錆層１６Ａ及び／又は１６Ｂを設けることができる。
該防錆層１６Ａ、１６Ｂは、防錆機能と黒化層の脱落や変形を防止するために、少なくとも、黒化層上に設けることが好ましい。該防錆層１６Ｂとしては、ニッケル、亜鉛、及び／又は銅の酸化物、又はクロメート処理層が適用できる。厚さとしては、０．００１〜１μｍ程度、好ましくは０．００１〜０．１μｍである。
【００３６】
黒化層１５Ａ、１５Ｂ、及び防錆層１６Ａ、１６Ｂは、少なくとも観察側に設ければよく、コントラストが向上してディスプレイの画像の視認性が良くなる。また、他方の面、即ちディスプレイ面側に設けてもよく、ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。
【００３７】
［粘着剤層］
本発明に係る粘着剤層は励振周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）は
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されている。
用いられる粘着剤の貯蔵弾性率が上記範囲内の場合には、上記導電体メッシュ層のメッシュ状領域の開口部に気泡が混入することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇価（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタが得られる。該貯蔵弾性率が上記範囲を超える場合には、気泡が混入しやすくなり透明性が不十分となる恐れがある。
【００３８】
ここで、貯蔵弾性率Ｅ’は、一般の動的粘弾性測定により求めることができる、試料の外部応力による変形歪のし難さ、或いは歪変形時の復元力の大きさ表す指標である。貯蔵弾性率Ｅ’は、例えば以下のような方法で求めることができる。粘着剤を丸めて直径５ｍｍの球状にした後、約３ｍｍの厚みにカットしたものを、動的粘弾性測定装置（レオメトリック・サイエンティフィック社製、商品名「固体粘弾性アナライザーＲＳＡ−II」、測定アタッチメント；パラレルプレートフィクスチャー  ＲＳＡ−ＳＬ−ＰＰ４．７５ＨＴ）を用いて、測定周波数１Ｈｚ、測定温度１０〜３０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎの制御下で、動的粘弾性測定を行い、２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）を求めることができる。
【００３９】
（粘着剤）
本発明に用いられる粘着剤とは、接着剤の１種をいい、接着剤のうち、接着の際には単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線（紫外線や電子線等）照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。又、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。このような粘着剤としては、特に制限は無く、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、上記特定の貯蔵弾性率と共に、適度な粘着性（接着力）、透明性、塗工適性を有し、本発明において使用する光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択する。
【００４０】
本発明に係る粘着剤は、２０℃における貯蔵弾性率が上記範囲を満たしていれば良く、それ自体２０℃で上記貯蔵弾性率を有する天然ゴムや合成樹脂、或いは重合反応性モノマー中にその重合体が溶解しているようなシロップ型の粘着剤であってもよい。２０℃で上記貯蔵弾性率を有する重合反応性モノマーを含有する粘着剤であって、積層後に光及び／又は熱により硬化させる形態をとる粘着剤であっても良い。
【００４１】
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。
【００４２】
ここで使用される（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸n-プロピル、（メタ）アクリル酸sec-プロピル、（メタ）アクリル酸n-ブチル、（メタ）アクリル酸sec-ブチル、（メタ）アクリル酸tert-ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸n-ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸n-オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸2-エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル及び（メタ）アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、通常はアクリル系粘着剤中に３０〜９９.５重量部の量で共重合されている。
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
【００４３】
更に、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸2-ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸2-ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー；（メタ）アクリルアミド、N-メチル（メタ）アクリルアミド及びN-エチル（メタ）アクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー；N-メチロール（メタ）アクリルアミド及びジメチロール（メタ）アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー；アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。 
【００４４】
さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα,β-不飽和二塩基酸のジエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；ビニルエーテル；スチレン、α-メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物；（メタ）アクリロニトリル等を挙げることができる。
【００４５】
また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を２個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ-ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
【００４６】
さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、（メタ）アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸2-メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸3-メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸2-メトキシブチル、（メタ）アクリル酸4-メトキシブチル、（メタ）アクリル酸2-エトキシエチル、（メタ）アクリル酸3-エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸4-エトキシブチルなどを挙げることができる。
【００４７】
また、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体であっても良い。例えば、（メタ）アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸オクチル等が挙げられる。
アクリル酸エステル単位２種以上を含む共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル共重合体等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−エチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
【００４８】
又、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などの中から選ばれた少なくとも１種を含有するものが用いられる。
本発明の粘着剤の市販品としては、例えば、商品名：ＴＵ−４１Ａ改（巴川製紙所製）、商品名：ＰＤ−Ｓ１（パナック製）等が好適に用いられる。
【００４９】
また、粘着剤層には、酸化防止剤を配合することが好ましい。得られる複合フィルタの粘着剤層と導電体メッシュ層との界面で、接着剤に含まれる酸成分によって導電体層が酸化され、色変化が起きるのを防ぐことができる。
更に、粘着剤層には、所望に応じて、粘着付与剤、シランカップリング剤、充填剤等を配合することができる。
【００５０】
また、当該粘着剤層中には、後述のような近赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、及び／又は、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。このようにすることにより、複数のフィルタ（層）の機能を１層で兼務し、且つこれを粘着剤層とも統合することができるため、複合フィルタの総厚み、工程数、原価を低減することが可能となり、好ましい。その場合、近赤外線吸収フィルタ機能を付与する為には、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域における光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、ネオン光吸収フィルタ機能を付与する為には、５６０〜６３０ｎｍの波長域における光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下となるようにすることが好ましい。又、紫外線吸収フィルタ機能を付与する為には、３８０ｎｍ以下の波長域における光線透過率が１０％以下とすることが好ましい。
【００５１】
本発明において、このような粘着剤層の膜厚は、５〜４０μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、特に、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとを積層及び接着する際に電磁波遮蔽シートにおけるメッシュの凹凸を良好に平坦化することが可能となるからである。更に好ましくは、１０〜３０μｍである。
【００５２】
［光学フィルタ］
本発明のディスプレイ用複合フィルタを構成する光学フィルタは、例えば、シートや板状或いは塗膜状の、反射（含む防眩）防止フィルタ、近赤外吸収フィルタ等の各種フィルタ機能を有する層から成る。
光学フィルタとしては、特に限定されないが例えば、近赤外線吸収フィルタ、ネオン光吸収フィルタ、紫外線吸収フィルタ、反射防止フィルタ、更に防眩フィルタ等が挙げられる。光学フィルタは１層でも２層以上でもよく、各層が複数の異なるフィルタ機能を兼ね備えていても良い。
【００５３】
ディスプレイ用複合フィルタの製造方法によっては、光学フィルタの層構成は単一層であっても良いし、透明基材を支持基材として、その上にフィルタ機能を有する層を積層した形態でも良いし、フィルタ機能を有する層と透明基材とが相互に積層された構成もあり得る。
また、各フィルタの層間に、それぞれ粘着剤層が設けられていても良い。透明基材、粘着剤層の各々も単層の場合もあるし多層の場合もある。
【００５４】
近赤外線吸収フィルタとしては、近赤外線吸収剤を有する市販フィルム（例えば、東洋紡績社製、商品名Ｎｏ２８３２）を用いたり、近赤外線吸収色素をバインダへ含有させた組成物を製膜したり、或いは組成物を透明基材上に塗布して積層してもよい。近赤外線吸収色素としては、光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に適用する場合、プラズマディスプレイパネルが放出するキセノンガス放電に起因して生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するものを用いる。該帯域の近赤外線の透過率が２０％以下、更に１０％以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収フィルタは、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。
【００５５】
近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を１種、又は２種以上を併用することができる。また、バインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が用いられる。又バインダ樹脂の乾燥、硬化方式としては、溶液（又はエマルジョン）からの溶媒（又は分散媒）の乾燥による乾燥固化方式、熱、紫外線、電子線などのエネルギーによる重合、架橋反応を利用した硬化方式、或いは樹脂中の水酸基、エポキシ基等の官能基と硬化剤中のイソシアネート基などとの架橋、重合等の反応を利用した硬化方式などが適用できる。
【００５６】
ネオン光吸収フィルタは、光学フィルタがプラズマディスプレイ用として用いられる際に、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光、即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収するべく設置される。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍの為、ネオン光吸収フィルタの分光透過率は波長５５０〜６４０ｎｍにおいて５０％以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収フィルタは、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素として従来から利用されてきた色素を近赤外線吸収フィルタのところに挙げたようなバインダ樹脂に分散させて形成することができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。
【００５７】
また、紫外線吸収フィルタとしては、例えば、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させて形成することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。当該バインダ樹脂としては、上記近赤外線吸収フィルタのところに挙げたような樹脂を用いることができる。
【００５８】
また、反射防止（ＡＲ）フィルタとしては、例えば、低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式法で、或いは塗工等の湿式法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。
また、防眩（ＡＧ）フィルタとしては、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形シートや賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、下記ハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適には使用される。
【００５９】
尚、必要に応じて、導電体メッシュ層、及び光学フィルタ層の表面に、これら層を、擦り傷、汚染から保護する為の、保護フィルムを積層しても良い。保護フィルムとしては、ハードコート層（ＨＣ層）、防汚層等が挙げられる。
保護フィルムのうち、ハードコート層としては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成するとことができる。なおここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。
【００６０】
また、保護フィルムのうち、防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止フィルタの低屈折率層をＳｉＯ2により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
尚、光学フィルタを構成する透明基材及び粘着剤層は、上述した電磁波遮蔽シートで用いられる材料を適宜用いることができる。
【００６１】
次に、本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法について説明する。
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法は、（Ａ）透明基材の一方の面に、ライン部の高さが３μｍ以下、開口部の間口幅が１５０μｍ以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、（Ｂ）光学フィルタの一方の面に、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する工程と、（Ｃ）上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させる工程とを有する、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層体から成ることを特徴とする。
【００６２】
＜（Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程＞
まず、透明基材の一方の面に、ライン部の高さが３μｍ以下、開口部の間口幅が１５０μｍ以上のメッシュ状領域を有する導電体メッシュ層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する。
【００６３】
はじめに、透明基材を準備する。透明基材として、上述した基材の中から選択して用いることができる。
電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材が樹脂基材である場合、メッシュ層形成等の少なくとも製造初期の段階においては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。
なお、透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００６４】
次に、透明基材上に導電体メッシュ層を形成する。本発明において、導電体メッシュ層の形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の複合フィルタにおける各種形成方法を適宜採用できる。本発明においては特に、本発明における所望の薄いメッシュの厚みにすることが可能であって、短い工程で歩留まりが良く安価に製造できる点から、透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属層として金属層を形成した透明基材を準備し、該金属メッキした透明基材の金属層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする方法(例えば、特許第３５０２９７９号公報、特開２００４−２４１７６１号公報)を用いることが特に好ましい。この方法によれば、透明性及びメッシュ精度に優れる複合フィルタが得られる。そこで、上記方法によりメッシュ状領域を有する電磁波遮蔽用シートを準備する方法を、詳細に説明する。
【００６５】
上記のような透明基材に、後述する金属の電解メッキに先立ち導電処理を行い、導電処理層を形成する。該導電処理の方法としては、上述した公知の導電性を持つ材料の薄膜を形成すればよい。該導電処理は単層あるいは多層であってもよく、これらの材料を公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッキ法などの方法で形成し導電処理層とする。
【００６６】
次に、該導電処理層の面へ電解メッキ法により金属層を形成する。該金属層の材料としては、上述の通り充分に電磁波を遮蔽できる程度の導電性を持つ金属、或いはこれら金属を含む合金が適用できる。金属層は単体でなくても、多層であってもよく、電解メッキのしやすさと導電性から銅又は銅合金が好ましい。また、導電性の黒化層及び／又はクロメート（処理）層を設ける場合には、金属層と黒化層又はクロメート層との接着力などからも銅又は銅合金が好ましい。
【００６７】
また、図４（Ａ）に示されるように、金属層１４の表面、裏面、或いは表裏両面に必要に応じて、黒化層１５Ａ及び／又は１５Ｂを設ける。該黒化層は金属層１４面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する（黒化する）か、或いは両者を併用するか、何れかにより行なう。また、透明基材１１面に黒化層１５Ａを設ける場合には、該透明基材へ導電処理を行い、黒色メッキ層を設けた後に、金属層１４を設ければよい。
【００６８】
黒化層１５Ａ、１５Ｂとしては、金属酸化物、金属硫化物の形成や種々の手法が適用できる。鉄の場合には、通常スチーム中、４５０〜４７０℃程度の温度で、１０〜２０分間さらして、１〜２μｍ程度の酸化膜（黒化膜）を形成するが、濃硝酸などの薬品処理による酸化膜（黒化膜）でもよい。また、銅の場合には、銅を硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、陰極電解処理を行って、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好ましい。該カチオン性粒子を設けることでより粗化し、同時に黒色が得られる。記カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、好ましくは銅‐コバルト合金の粒子である。該カチオン性粒子の粒径は、黒濃度の点から、平均粒径０．１〜１μｍ程度が好ましい。カソーディック電着法では、付着させるカチオン性粒子の平均粒子径０．１〜１μｍに揃えられる点でも好ましい。
なお、黒化層の材料として、ニッケル合金を用いる場合、該黒化層の形成方法は公知の電解または無電解メッキ法でよく、ニッケルメッキを行った後に、ニッケル合金を形成してもよい。
【００６９】
さらに、防錆層１６Ｂを黒化層１５Ｂ上に設ける場合には、防錆層１６Ｂの材料として適用されるニッケル、亜鉛、及び／又は銅の酸化物の形成は、公知のメッキ法を用いる。また、防錆層１６Ａを、透明基材１１面の黒化層１５Ａ面に設ける場合には、透明基材へ導電処理を行い、上記の１６Ｂと同様の材料及び方法で防錆層１６Ａを設ければよい。この場合には、該防錆層１６Ａ面へ、黒色メッキ層（黒化層１５Ａに相当する）、金属層１４、さらに必要に応じて、黒化層１５Ｂ、防錆層１６Ｂを順次設ける。
以上より、図４（Ａ）に示すように、透明基材上に導電処理層１３、金属層１４、黒化層１５及び防錆層１６が設けられてなる積層体２を得る。
【００７０】
次に、上述のように設けられた透明基材上の導電体層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする工程について説明する。
まず、上記のように準備した透明基材上の導電体層、例えば透明基材上の金属層１４面へ、レジスト層をメッシュパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分の金属層１４をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去する所謂フォトリソグラフィー法で、メッシュ状の金属層とする。なお、その際、導電体層以外に、その他の導電性を有しない層も積層されている場合は、開口部に対応する領域においては、その他の層も導電体層と共にエッチング除去する。
【００７１】
この工程も、帯状で連続して巻き取られたロール状の積層体を加工していく（巻取り加工、ロールツーロール加工という）ことが好ましい。該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、緩みなく伸張した状態で、マスキング、エッチング、レジスト剥離する。透明基材１１としてガラスを用いる場合には、１枚毎に加工する（枚葉加工、枚葉工程という）。既存の設備を使用し、これらの製造工程の多くを連続的に行うことで、品質がよく、かつ、生産効率が高く歩留りがよく、安価に生産できる。
【００７２】
以下、フォトリソグラフィー法について説明する。
まず、マスキングは、例えば、金属層側の最表面へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクにて密着露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングする。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可である。感光性レジストがネガ型の場合は、フォトマスクのメッシュパターンはライン部が透明なものを用いる。又感光性レジストがポジ型の場合は、フォトマスクのメッシュパターンは開口部が透明ものを用いる。又、露光パターンとしては、電磁波遮蔽用シートとして所望のパターンであり、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。
【００７３】
上記感光性レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体２を連続又は間歇で搬送させながら、金属層面へ、カゼイン、ＰＶＡ、ゼラチンなどのレジストをディッピング（浸漬）、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。ベーキングはカゼインレジストの場合、２００〜３００℃で行うが、積層体の反りを防止するために、できるだけ低温度が好ましい。
【００７４】
マスキング後にエッチングを行う。該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ２０〜８０μｍの薄板をエッチングするカラーＴＶのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備、工程と基本的に同様である。透明基材１１としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。このようにして、メッシュ開口部に透明基材が露出する。
以上より、図４（Ｂ）に示すような電磁波遮蔽シート３を得る。
【００７５】
＜（Ｂ）粘着性光学フィルタを準備する工程＞
次に、光学フィルタの一方の面に、周波数１Ｈｚにおける動的粘弾性の２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）が
Ｅ’≦９．５×１０５
である粘着剤により形成されている粘着剤層が積層されてなる粘着性光学フィルタを準備する。図５に本発明で用いられる粘着性光学フィルタ４の一例の断面図を示す。
【００７６】
本発明に係る光学フィルタ２１は、上述の通り反射防止フィルタや近赤外線吸収フィルタ等の機能を１以上有するフィルタであって１層以上からなるものである。これらは従来公知の方法によって準備することができる。光学フィルタの形状は、電磁波遮蔽シートと積層する方法に応じて、連続帯状としても枚葉形状としてもよい。
【００７７】
上記粘着剤層２２は、上記特定の貯蔵弾性率Ｅ’を有する粘着剤に必要に応じて添加剤や色素、更に必要に応じて溶剤を加えた粘着剤層形成用塗工液を上記光学フィルタ２１の少なくとも一方の表面に、公知の層形成法、例えばロールコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコート等の塗工法、或いは、任意形状での部分形成が容易なスクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用して形成するか、或いは、シート状の粘着剤を準備して光学フィルタとラミネートする等して形成することができる。粘着加工後の光学フィルタは、必要に応じて、その粘着面を公知のセパレータ等で保護しておくと良い。セパレータとしては、シリコーン等で表面を離型処理した２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂シート等を使用すれば良い。
【００７８】
＜（Ｃ）電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタを積層する工程＞
最後に、上記粘着性光学フィルタの粘着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体メッシュ層側に向け、積層させ、本発明のディスプレイ用複合フィルタを得る。
図６は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタを積層することにより、ディスプレイ用複合フィルタを得る模式図である。
上記電磁波遮蔽シート３と粘着性光学フィルタ４を、図６（Ａ）に示すように、粘着性光学フィルタ４の上記特定の貯蔵弾性率Ｅ’を有する粘着剤層２２側を電磁波遮蔽シート３のメッシュ状領域１０１側に向かい合うように配置し、積層することにより、図６（Ｂ）に示すような複合フィルタ１を得ることができる。
【００７９】
光学フィルタ２１上に積層された粘着剤層２２と電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域を接着及び積層し、複合フィルタを製造する方法としては、特に限定されないが、加圧ロール等の加圧部分を備えるラミネーターを用いて、透明基材１１側及び光学フィルタ２１側から同時に加圧することにより、接着及び積層させる方法が挙げられる。本発明においては、上述のような特定の寸法を有するメッシュ状領域と、上述のような特定の粘着剤により形成されている粘着剤層を積層させるため、大気圧雰囲気下で、加圧部分を特に加熱することなく室温下で積層しても気泡の混入を防ぐことが可能である。本発明によれば、加熱する場合であっても、６０℃程度にロール等を加熱する程度で十分であり、特に粘着剤層側からの真空吸引、或いは８０℃以上の高温加熱は不要である。いずれにしても本発明によれば、例えばオートクレーブ処理の様な特殊な設備を用いる必要が無く、短い工程で設備負担を少なくすることができ、また、混入した気泡を消失させる処理も不要である。勿論、透明化処理等の余分な材料を用いる工程を追加する必要も無い。
【００８０】
しかしながら、場合によっては、更に加熱も併用した方が、より高速で、より確実に気泡混入を防止して積層が可能になる場合も多いため、本発明は例えば８０℃以上の高温加熱、オートクレーブ処理や平坦化工程の適用を阻害しているものではない。
【００８１】
また、その積層する例を更に示せば、連続帯状の光学フィルタ用の樹脂シートの粘着剤層側と、メッシュ状領域を形成してある連続帯状の電磁波遮蔽シートの導電体層側を、ロールツーロール方式でロール式ラミネーターを用いて積層する方法が挙げられる。
ロールツーロール方式を用いる積層方法は生産効率が良く、低コストであるため好ましいが、電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタのいずれか一方、又は両方を枚葉形状として、各種ラミネーターを用いて積層しても良い。
【００８２】
ラミネーターは、ロール式、平板式等、電磁波遮蔽シート及び粘着性光学フィルタに対して加圧することができるものであればかまわないが、ロールツーロール方式に対応すること及び気泡の混入を防ぐことが容易である点や、連続生産が可能な点からロール式ラミネーターを用いることが好ましい。
積層時の加圧は特に限定されないが、例えばロール式ラミネーターを用いる場合、線圧で１〜２０ｋｇｆ／ｃｍが好ましい。積層時の加圧部分の温度も特に限定されないが、設備負担の点からは低温であるほうが好ましく、特別加熱無しで通常の室温領域２０〜４０℃程度であるほうが好ましい。尚、室温とは日本国を始めとする温帯地方の通常の室内温度であり、前記温度範囲である。但し、冬季にこの温度範囲を下回る場合、或いは、更に高速で積層しても確実に気泡混入を防止したい場合には、必要に応じて４０℃を超える温度に加熱しても良い。加熱する場合は、光熱費及び設備投資の節減、作業時の安全性確保、熱による光学フィルタの劣化防止等の観点から、通常、４０〜６０℃程度とする。
【００８３】
図７は、ラミネーターを用いた電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層工程の一例である。ラミネーターの第１給紙部３１に電磁波遮蔽シートを巻き取ったものを配置し、且つ第２給紙部３２に離型フィルム／粘着剤層／光学フィルタからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで第１給紙部３１から、電磁波遮蔽シートを繰り出しながら、一方、第２給紙部３２から離型フィルム／粘着剤層／光学フィルタからなる積層シートを繰り出すと同時に離型フィルムを巻取りロール３４に巻取り、電磁波遮蔽シートと粘着剤層付光学フィルタを第１ラミネートユニット３５で、１対の加圧ローラ間に挟んで線圧約１０ｋｇｆ／ｃｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット３６で約１０ｋｇｆ／ｃｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール３７に巻き取って、電磁波遮蔽シート／粘着剤層／光学フィルタの積層シートからなる複合フィルタを得ることができる。
【００８４】
なお、本発明の複合フィルタの製造方法は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８５】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。
【００８６】
＜実施例１＞
図１（Ｃ）に示す層構成の複合フィルタを次の様にして作製した。
（１）電磁波遮蔽シートの製造
まず、透明基材１１として厚さ１００μｍで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
この透明基材のプライマー層上に、スパッタ法で、順次、厚さが０．１μｍのニッケル−クロム合金層及び厚さが０．２μｍの銅層（導電体層の一部）を設けて導電処理層１３とした。
【００８７】
該導電処理層面に、硫酸銅浴を用いた電解メッキ法で厚さが２．０μｍの銅の金属層１４（導電体層の残りの部分）を設け、これら導電処理層１３及び金属層１４の両層を導電体層１２として形成して、透明基材上に導電体層が接着剤層を間に介さずに、直接形成された銅貼り積層シートを作製した。
【００８８】
次いで、該導電体層上に黒化層１５を形成した。具体的には、アノードにニッケル板を使用し、硫酸ニッケルアンモニウム水溶液と硫酸亜鉛水溶液とチオシアン酸ナトリウム水溶液との混合水溶液からなる黒化処理メッキ浴に、上記メッシュ状の導電体層が透明基材上に形成された積層シートを、浸漬して電解メッキを行って黒化処理して、ニッケル−亜鉛合金からなる黒化層１５を、露出している導電体層全面に被覆形成して、導電体層１２（導電処理層１３、金属層１４、及び黒化層１５）が積層されたシートを得た。
次いで、上記積層シートに対して、その導電体層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部１０３及びライン部１０４とから成るメッシュ状領域１０１を形成した。
【００８９】
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対してマスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの導電体層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、黒化層を含む導電体層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００９０】
メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は１０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは２．３μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該長方形の長辺に対する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。また、メッシュ状領域１０１は、完成された複合フィルタを画像表示装置（ディスプレイ）前面に装着した際に、該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分が存在し、又該メッシュ状領域の周縁部には、電磁波遮蔽シートを四角形の枚葉シートに切断した時に、その四辺外周に接地用領域として開口部が無い幅１５ｍｍの額縁部を残す様なパターンに設計した。このようにして、平坦化層の無い、実施例１の電磁波遮蔽用シートを得た。
【００９１】
（２）枚葉化粘着性光学フィルタ（粘着性光学フィルタ）の製造
次いで、上記電磁波遮蔽用シート上に積層すべき枚葉化粘着性光学フィルタ（粘着性光学フィルタ）を用意した。光学フィルタの層構成としては、反射防止フィルタ／紫外線吸収フィルタ／粘着剤層２２（粘着剤層２２は近赤外線吸収フィルタ、ネオン光吸収フィルタを兼用）の構成のものを準備した。
該紫外線吸収フィルタとしては、紫外線吸収剤を練込んで成る透明な、厚さ５０μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムであるテトロンフィルム（帝人（株）製、商品名「ＨＢタイプ」）を用いた。又該紫外線吸収フィルタは、反射防止フィルタを塗工形成する為の基材としても利用する。
【００９２】
該反射防止フィルタは、該紫外線吸収フィルタの上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した物から構成した。
ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物（ＪＳＲ（株）製、商品名「ＫＺ７９７３」）の厚さ３μｍ、屈折率１．６９の硬化物層から成る。
又、低屈折率樹脂層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂（製造元；ＪＳＲ（株）、商品名「ＴＭ０８６」）の厚さ１００ｎｍ、屈折率１．４１の硬化物から成る。
【００９３】
又該紫外線吸収剤層の反射防止フィルタとは反対側に粘着剤層２２を形成した。粘着剤としては、剥離紙／粘着剤層２５μｍ／剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤（製造元：巴川製紙所、商品名：「ＴＵ−４１Ａ改」、２０℃における貯蔵弾性率：４．７２×１０５Ｐａ）を用いた。このシート状の粘着剤の剥離紙のうち一方を剥がし、露出された粘着剤層と、上記光学フィルタの紫外線吸収フィルタとを互いに接着積層した。この際の積層条件としては、室温２０℃にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの線圧で加圧して積層した。
上記のような構成の粘着性光学フィルタを、電磁波遮蔽シートのメッシュ上領域の画像表示領域と対峙する部分（長方形）と同形状で、且つ寸法は縦横共に４ｍｍずつ大きく裁断し、１枚の枚葉化粘着性光学フィルタとした。
【００９４】
（３）複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用フィルタと該枚葉化粘着性光学フィルタとを、該粘着剤層が導電体メッシュ層の該メッシュ状領域と対向する向きで、且つ該枚葉化粘着性光学フィルタが、該メッシュ状領域の画像表示領域と対峙する部分を全部被覆する様に位置合わせした上で、互いに接着積層した。この際の積層条件としては、室温２０℃にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの線圧で加圧して積層した。斯くして、実施例１のディスプレイ用複合フィルタを製造した。
【００９５】
＜実施例２＞
実施例１の複合フィルタにおいて、粘着剤を、剥離紙／粘着剤層２５μｍ／剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；パナック、商品名；「ＰＤ−Ｓ１」、２０℃における貯蔵弾性率：９．２９×１０５Ｐａ）に換えた。その他は実施例１と同様にして、実施例２の複合フィルタを製造した。
【００９６】
＜比較例１＞
実施例１の複合フィルタにおいて、粘着剤を、剥離紙／粘着剤層２５μｍ／剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所、商品名；「ＴＤ−０６Ａ」、２０℃における貯蔵弾性率：９．８７×１０５Ｐａ）に換えた。その他は実施例１と同様にして、比較例１の複合フィルタを製造した。
【００９７】
＜比較例２＞
実施例１の複合フィルタにおいて以下のように、導電体層の厚みを１０μｍに換えた。その他は実施例１と同様にして、比較例２の複合フィルタを製造した。
（１）電磁波遮蔽シートの製造
図１に示す電磁波遮蔽シートを次のようにして作製した。先ず、導電体層１２とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層１５Ａが形成された厚さ１０μｍの連続帯状の電解銅箔を用意した。
また、透明基材１１として厚さ１００μｍで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層１６Ａ、１６Ｂを形成した。
【００９８】
次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材プライマー層上に、主剤が平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部から、又硬化剤がキシレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部とから成る透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、５０℃、３日間養生して、銅箔（防錆層）と透明基材間に厚さ１０μｍの透明接着剤層を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。
次いで、上記銅貼積層シートに対して、その導電体層及び黒化層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部１０３及びライン部１０４とから成るメッシュ状領域１０１を形成した。
エッチング工程は実施例１と同様である。メッシュ状領域のライン部の高さは１０μｍであるが、その他のメッシュ状領域の形状、寸法は、実施例１と同様である。
このようにして、比較例２の電磁波遮蔽用シートを得た。
【００９９】
（２）枚葉化粘着性光学フィルタの製造
実施例１と同様にして、枚葉化粘着性光学フィルタ（粘着性光学フィルタ）を得た。
（３）複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用シートの該メッシュ上領域上に、実施例１と同様にして、枚葉化粘着性光学フィルタを、接着、積層した。
このようにして、比較例２の複合フィルタを得た。
【０１００】
〔性能評価方法〕
上記、各実施例、及び比較例に対して、以下の点を評価した。評価結果を表１に示す。
（１）粘着剤の動的粘弾性
剥離紙／粘着剤層２５μｍ／剥離紙の層構成を有するシート状のアクリル系粘着剤の粘着剤層を丸めて直径５ｍｍの球状にした後、約３ｍｍの厚みにカットしたものを、動的粘弾性測定装置（レオメトリック・サイエンティフィック社製、商品名「固体粘弾性アナライザーＲＳＡ−II」、測定アタッチメント；パラレルプレートフィクスチャー  ＲＳＡ−ＳＬ−ＰＰ４．７５ＨＴ）を用いて、測定周波数１Ｈｚ、測定温度１０〜３０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎの昇温制御下で、動的粘弾性測定を行い、２０℃における貯蔵弾性率Ｅ’（Ｐａ）を求めた。
【０１０１】
（２）複合フィルタの透明性
複合フィルタを目視にて透視して比較した。
白濁（曇り）、或いは気泡の存在が認められ無いもの；○
白濁（曇り）、或いは気泡の存在が認められるもの；×
【０１０２】
【表１】
2007096111.tif 000003
【０１０３】
＜結果のまとめ＞
以上の実施例及び比較例から以下のことがわかる。
実施例１及び２で得られた本発明の複合フィルタはオートクレーブ等の真空引きを行うことなく、室温（２０℃）で加圧ラミネートしたにもかかわらず、メッシュ状領域に気泡の混入がなく、透明性に優れていた。
【０１０４】
一方、粘着剤の貯蔵弾性率が本発明の範囲を超える比較例１で得られた複合フィルタには気泡の存在が認められ、透明性が不十分だった。
また、メッシュ状領域のライン部の高さが本発明の範囲を超える比較例２で得られた複合フィルタにも気泡の存在が認められ、透明性が不十分だった。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明のディスプレイ用複合フィルタの一例の断面図である。
【図２】本発明の電磁波遮蔽シートの一例の斜視図である。
【図３】本発明の電磁波遮蔽シートの一例を示す断面図である。
【図４】本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの工程の一例を示す断面図である。
【図５】本発明に用いられる粘着性光学フィルタの一例を示す断面図である。
【図６】本発明のディスプレイ用複合フィルタの一例を示す断面図である。
【図７】本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法のうち、電磁波遮蔽シートと粘着性光学フィルタの積層工程の一例を示す工程図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１  ディスプレイ用複合フィルタ
２  積層体
３  電磁波遮蔽シート
４  粘着性光学フィルタ
１１  透明基材
１２  導電体メッシュ層（導電体層）
１３  導電処理層
１４  金属層
１５  黒化層
１６  防錆層
２１  光学フィルタ
２２  粘着剤層
３１  第１給紙部
３２  第２給紙部
３４  離型フィルム巻取りロール
３５  第１ラミネートユニット
３６  第２ラミネートユニット
３７  巻取りロール
１０１  メッシュ状領域
１０３  開口部
１０４  ライン部
【図１】
2007096111.tif 000004
【図２】
2007096111.tif 000005
【図３】
2007096111.tif 000006
【図４】
2007096111.tif 000007
【図５】
2007096111.tif 000008
【図６】
2007096111.tif 000009
【図７】
2007096111.tif 000010