(57)【要約】【課題】非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する、データ記録で使用される磁気媒体を提供する。【解決手段】磁気ディスク２０２は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面２０４を有する。ディスク２０２は、より薄い非磁性ギャップ４０４によって分離された磁気トラック部分４０２を有する。トラック部分４０２は、したがって、トラック幅（ＴＷ）を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分４０４は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅなどの材料を包含する。非磁性部分は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、Ｓｉ３Ｎ４、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘなどの材料を包含するか、または単に、部分４０４の磁性材料がトラック部分４０２に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスクと、
前記ディスク上に形成された、複数の同心の隆起部分を備えて形成された表面と、
前記ディスクの前記表面上の磁性体層とを備えるデータ記録システムで使用される磁気媒体。
【請求項２】
前記複数の同心の隆起部分が同心の陥凹部分によって互いに分離されている請求項１に記載の磁気媒体。
【請求項３】
前記磁性体層が前記隆起部分および前記陥凹部分を覆っている請求項２に記載の磁気媒体。
【請求項４】
表面を有するディスクと、
前記ディスクの前記表面上に形成された、非磁性体の同心環によって互いに分離された磁性材料の複数の同心環とを備える磁気データ記録システムで使用される磁気媒体。
【請求項５】
表面を有するディスクと、
同心環として形成された複数の隆起部分と、
前記表面の少なくとも一部を覆う磁性材料の層とを備える磁気データ記録システムで使用される磁気媒体。
【請求項６】
前記隆起部分が、同心環として形成された陥凹部分によって互いに分離されている請求項５に記載の磁気媒体。
【請求項７】
表面を有するディスクであって、第２の材料の同心環によって互いに分離された第１の材料の複数の同心環を含み、前記第２の磁性材料の前記同心環がディスクの前記表面で窪んでいるディスクと、
前記ディスクの前記表面の少なくとも一部を覆う磁性材料の層とを備えるデータ記録システムで使用される磁気媒体。
【請求項８】
前記磁性材料の層が、前記第１および第２の材料の両方の上に形成された請求項７に記載の磁気媒体。
【請求項９】
前記磁性材料の層が、前記第１の材料の上ではなく前記第２の材料の上に形成された請求項７に記載の磁気媒体。
【請求項１０】
蒸着チャンバを提供する工程と、
前記蒸着チャンバ内に、自軸の周りで回転できるようにチューブ材を載置する工程と、
前記蒸着チャンバ内に、第１の材料からなる第１のターゲットを載置する工程と、
前記蒸着チャンバ内に、前記第１の材料とは異なる第２の材料を有し、前記第１の材料のエッチング速度とは異なるエッチング速度を有する第２の材料からなる第２のターゲットを載置する工程と、
前記チューブ材を回転させながら、前記チューブ材上に前記第１および第２のターゲットから材料をスパッタ蒸着する工程と、
前記チューブ材を切り出して少なくとも１つのディスクを得る工程と、
反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を用いて前記少なくとも１つのディスクをエッチングして、隆起部分および陥凹部分を備えた表面を形成する工程と、
前記表面上に磁性材料を蒸着する工程とを含む、データ記録システムで使用される磁気媒体の製造方法。
【請求項１１】
磁性材料を蒸着した後、化学的機械的研磨プロセス（ＣＭＰ）を行う工程をさらに含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記隆起部分および陥凹部分の両方が同心環として形成される請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記蒸着チャンバ内に、前記第１および第２のターゲットの間に配置されるディバイダを提供する工程をさらに含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のターゲットがアルミナを含み、前記第２のターゲットが、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘ、およびＴａからなる群から選択された材料を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１および第２のターゲットからの前記材料が順次蒸着されて、第１の材料および第２の材料の交互の層を形成する請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記交互の層が互いに同心である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
同心円として形成された複数の隆起部分を備えて構成された表面を有するダイを作成する工程と、
表面を有する被加工ディスクを提供する工程と、
前記ダイの前記表面を前記被加工ディスクの前記表面上にプレスして、複数の同心の陥凹部分を備えた前記被加工ディスクの表面を形成する工程とを含む、データ記録システムで使用される磁気媒体の製造方法。
【請求項１８】
前記ダイの前記表面を前記被加工ディスクの前記表面上にプレスする前に、磁性材料を前記被加工ディスクの前記表面上に蒸着する工程をさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ダイの前記表面を前記被加工ディスクの前記表面上にプレスした後、磁性材料を前記被加工ディスクの前記表面上に蒸着する工程をさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
磁性材料を前記被加工ディスクの前記表面上に蒸着する工程と、化学的機械的研磨プロセスを行う工程をさらに含む請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
前記被加工ディスクの前記表面が前記ダイの前記表面に対してプレスされる前に、前記磁性材料が蒸着される請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
第１の材料を含む第１のターゲット、第２の材料を含む第２のターゲット、およびチューブ材を収容する蒸着チャンバを提供する工程と、
前記チューブ材を自軸の周りで回転させながら、前記第１および第２のターゲットから材料を前記チューブ材上に順次蒸着する工程と、
前記チューブ材および蒸着された材料に反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）を行って、同心の陥凹部分によって分離された同心の隆起部分を有するダイ表面を形成する工程と、
前記ダイの前記表面を被加工ディスクの表面に対してプレスする工程とを含む、データ記録システムで使用される磁気媒体の製造方法。
【請求項２３】
前記被加工物の前記表面上に磁性材料の層を蒸着する工程をさらに含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記被加工ディスクの前記表面上に磁性材料の層を蒸着する工程と、化学的機械的研磨処理を行う工程とをさらに含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記第１の材料がアルミナを含み、前記第２の材料が、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘ、およびＴａからなる群から選択された材料を含む請求項７に記載の磁気媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気データ記録に関し、より具体的には、ディスクドライブシステムで使用される、非磁性体またはギャップによって分離された、磁性材料の同心環の形態のデータトラックを備えて形成された磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータの長期記憶の中心となるのは、磁気ディスクドライブと称されるアセンブリである。磁気ディスクドライブは、回転する磁気ディスク、回転する磁気ディスクの表面に隣接するサスペンションアームによって吊り下げられる書込みおよび読取りヘッド、ならびにサスペンションアームを揺動して、回転するディスクの選択された円形トラック上に読取りおよび書込みヘッドを配置するアクチュエータを包含する。読取りおよび書込みヘッドは、空気軸受面（ＡＢＳ）を有するスライダ上に直接位置付けられる。サスペンションアームは、ディスク表面に向けてスライダを付勢し、また、ディスクが回転すると、ディスク表面に隣接する空気はディスクと共に移動する。スライダは、ディスク表面の上の非常に低い高さ（浮上高）で、この移動する空気上で浮揚する。この浮上高はナノメートルのオーダーである。スライダが空気軸受に乗っている時に、書込みおよび読取りヘッドは、回転するディスクに磁気転移を書込み、またそこから磁気転移を読出すのに使用される。読取りおよび書込みヘッドは、コンピュータプログラムによって作動して書込みおよび読取りの機能を実施する処理回路構成に接続される。
【０００３】
共通の書込みヘッド構成は、第１、第２、および第３の絶縁層（絶縁スタック）に埋め込まれたコイル層を包含し、絶縁スタックは、第１および第２の磁極片層の間に挟まれる。ギャップは、書込みヘッドの空気軸受面（ＡＢＳ）で、ギャップ層によって第１および第２の磁極片層の間に形成され、これらの磁極片層はバックギャップで接続される。コイル層に導通された電流は、上述の回転するディスク上の円形トラックなどの、動いている媒体上のトラックに上述の磁気印加を書込む目的で、磁極片中の磁束を誘導して、書込みギャップにおける磁界をＡＢＳでフリンジさせる。
【０００４】
近年の読取りヘッド設計では、回転する磁気ディスクから磁界を感知するために、巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）センサとも称されるスピンバルブセンサが使用されている。このセンサは、以下にスペーサ層と称される非磁性導電層を包含し、これは固着層および自由層と以下に称される第１および第２の強磁性層の間に挟まれる。第１および第２のリード線は、スピンバルブセンサに接続され、そこを通して感知電流が導通される。固着層の磁化は空気軸受面（ＡＢＳ）に垂直にピン止めされ、自由層の磁気モーメントはＡＢＳと平行にバイアスされるが、外部磁界に応じて自由に回転する。固着層の磁化は、典型的には、反強磁性層との交換結合によってピン止めされる。
【０００５】
スペーサ層の厚さは、センサを通る伝導電子の平均自由行程よりも小さくなるように選択される。この構成により、スペーサ層と固着層および自由層それぞれとの界面近くで、伝導電子の一部が散乱される。固着層および自由層の磁化が互いに対して平行の場合、散乱は最小であり、また、固着層および自由層の磁化が反平行の場合、散乱は最大限にされる。θが固着層および自由層の磁化間の角度のとき、散乱の変化によって、スピンバルブセンサの抵抗はｃｏｓθに比例して変化する。読取りモードでは、スピンバルブセンサの抵抗は、回転するディスクからの磁界の大きさに比例して変わる。感知電流がスピンバルブセンサを介して導通される場合、抵抗の変化によって、再生信号として検出され処理される電位の変化が生じる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
データ率およびデータ容量の増加が推進され続けたことで、磁気ディスク上のトラック幅の減少およびトラック密度の増加が継続的に推進されてきた。ディスク上のデータトラックがより小さくかつより近接するにしたがって、隣接するトラックの干渉は一層問題となる。隣接トラックからの信号が、対象とするトラック信号の読取りに干渉すると、隣接トラック干渉が生じる。隣接トラックの書込みもまた問題である。書込みエレメントからの信号は、信号を書込むことが意図されるトラックに隣接するトラックに影響する恐れがある。
【０００７】
したがって、ディスクドライブシステムにおける隣接トラック干渉および隣接トラックの書込みを回避する手段が強く求められている。隣接トラック干渉および隣接トラックの書込みを回避するような機構は、費用効率が高く、且つ製造が容易であることが好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、データ記録システムで使用される磁気媒体を提供する。磁気媒体は、ギャップまたは非磁性部分によって分離された同心の磁気トラック部分を有する。磁気媒体は、ディスクの形態であり、ディスクの表面上の同心環として形成されたトラック部分を有する。
【０００９】
磁気ディスクは、同心環として形成された隆起部分と、同心環として形成された陥凹部分とを有してもよい。表面を磁性材料で覆うことができるので、隆起部分はトラックを規定し、陥凹部分はトラック間のギャップを規定する。
【００１０】
磁気ディスクはまた、非磁性体の同心環によって分離された複数の磁性環を包含する平面として形成されてもよい。磁性環および非磁性環は同一平面の表面を有していてもよい。
【００１１】
本発明による磁気ディスクにより、トラックの位置および幅をディスク自体によって規定し、あらゆる隣接トラック干渉をなくすことができるようになる。したがって、トラック幅が非常に小さく且つトラックピッチが高い場合でも、トラック間干渉なしで、非常に明瞭なデータ信号の記録および読取りが可能である。
【００１２】
本発明のこれらおよび他の利点ならびに特徴は、以下の詳細な説明を図面と併せ読むことによって明らかになるであろう。
本発明の本質および利点、ならびに好ましい使用形態に対するより十分な理解のため、以下の詳細な説明を添付図面と併せて参照されたい。ただし、図面は縮尺によらない。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する磁気媒体を低価格で得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下の説明は、本発明を実施するために現在考慮される最良の実施形態である。この記載は、本発明の一般的な原理を例証する目的でなされるものであり、本発明で請求する発明概念を制限することを意図しない。
【００１５】
ここで図１を参照すると、本発明を具体化するディスクドライブ１００が示される。図１に示されるように、少なくとも１つの回転可能な磁気ディスク１１２はスピンドル１１４上で支持され、ディスクドライブモータ１１８によって回転される。各ディスク上への磁気記録は、磁気ディスク１１２上における同心のデータトラック（図示なし）の環状パターンの形状をとる。
【００１６】
少なくとも１つのスライダ１１３が磁気ディスク１１２の近くに位置付けられ、各スライダ１１３は１つまたは複数の磁気ヘッドアセンブリ１２１を支持する。磁気ディスクが回転すると、スライダ１１３はディスク表面１２２上で半径方向内向きまたは外向きに移動し、それにより、磁気ヘッドアセンブリ１２１が、所望のデータが書込まれる磁気ディスクの異なるトラックに接近してもよい。各スライダ１１３は、サスペンション１１５を介してアクチュエータアーム１１９に取り付けられる。サスペンション１１５は、ディスク表面１２２に対してスライダ１１３を付勢する僅かなばね力を提供する。各アクチュエータアーム１１９はアクチュエータ手段１２７に取り付けられる。図１に示されるようなアクチュエータ手段１２７は、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）であってもよい。ＶＣＭは、固定の磁界内で移動可能なコイルを備え、コイルの移動方向および速度は、コントローラ１２９によって供給されるモータ電流信号によって制御される。
【００１７】
ディスク記憶システムの動作中、磁気ディスク１１２の回転により、スライダ１１３とディスク表面１２２との間に、スライダに上向きの力または揚力を働かせる空気軸受が生成される。空気軸受は、したがってサスペンション１１５の僅かなばね力を平衡させて、通常動作の間、小さくかつ実質的に一定の間隔だけ、スライダ１１３をディスク表面から離してその僅かに上で支持する。
【００１８】
ディスク記憶システムの様々な構成要素は、アクセス制御信号および内部クロック信号などの、制御ユニット１２９で生成される制御信号によって、動作中制御される。典型的には、制御ユニット１２９は論理制御回路、格納手段およびマイクロプロセッサを備える。制御ユニット１２９は、駆動モータ制御信号などの様々なシステム操作を制御するための制御信号を電力線１２３上で、またヘッド位置制御信号およびシーク制御信号を電力線１２８上で生成する。電力線１２８上の制御信号は、スライダ１１３をディスク１１２上の所望のデータトラックに最適に移動させて位置付けるための、所望の電流プロファイルを提供する。書込みおよび読取り信号は、記録チャネル１２５を介して書込みおよび読取りヘッド１２１間と通信される。
【００１９】
図２を参照すると、磁気ディスクドライブ装置で使用される磁気ディスク２０２は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面２０４を有する。図３を参照すると、表面２０４は、それぞれがデータのデータトラックを規定する、磁性材料の同心環２０６を有していることがわかる。これは、ディスク２０２の表面２０４の一部を拡大し、より詳細に示している図４を参照すると、より明瞭にわかる。図４からわかるように、ディスクは、より薄い非磁性ギャップ４０４によって分離された磁気トラック部分４０２を有する。トラック部分４０２は、したがって、トラック幅（ＴＷ）を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分４０４は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅなどの材料を包含してもよい。非磁性部分は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、Ｓｉ３Ｎ４、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘなどの材料を包含してもよく、または単に、部分４０４の磁性材料がトラック部分４０２に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。
【００２０】
図５〜１１を参照すると、そのようなディスク媒体を作成するいくつかの可能な方法が記載される。図５を特に参照すると、方法は、スパッタ蒸着チャンバ５０２を使用することを包含する。チャンバ５０２は、少なくとも１つ、好ましくは２つの２つのイオンビームガン５０４と、第１のターゲット５０６および第２のターゲット５０８とを包含する。ロッド５１０は、自軸の周りで回転できるようにして、チャンバ内に保持される。
【００２１】
第１のターゲット５０６および第２のターゲット５０８は、例えば反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）に曝されたときに、異なる材料除去速度を有する材料で作成される。例えば、第１のターゲット５０６をアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で作成することができ、また第２のターゲットをＳｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘ、Ｔａなどの材料で作成することができる。
【００２２】
材料蒸着は、ロッド５１０を回転させながら行われる。これは、ロッド５１０を回転させながら、イオンビームガン５０４を起動することによって達成される。イオンビームガン５０４からのイオンビーム５１２は、ターゲット５０６および５０８から移動される、原子、および／またはイオン５１４および５１６を生じさせる。次に、原子またはイオン５１４および５１６は、回転するロッド５１０上に蒸着される。一度にターゲット５０６および５０８の１つのみからの材料が、ロッド５１０の所与の部分上に蒸着されるように、ディバイダ５１８がターゲットの間に設けられてもよい。
【００２３】
図からわかるように、図５を参照して説明した材料蒸着スキームにより、２つの異なる材料を順次重ねて蒸着することができるようになる。これにより、材料が交互になった一連の同心の層を有するロッドが得られる。図６を参照すると、蒸着の後、このロッド５１０を切り出してディスク６０２を得ることができる。
【００２４】
図７は、ディスク６０２の一部分のみの断面図である。ディスクは、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）などの従来の研磨技術を用いて研磨することができる。図７に示すように、ディスク６０２は、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）７０２などの材料除去プロセスを受ける。上述したように、図５に記載されるようなターゲット５０６および５０８から蒸着された材料７０４および７０６は、異なるエッチング速度を有する。例えば、第１の材料７０４はアルミナで作成することができ、それは、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２、Ｓｉ（ＯＮ）Ｘ、Ｔａなどで作成してもよい第２の材料よりも大幅に遅い速度でエッチングされる。これにより、第２の材料７０６の顕著な凹部が得られる。反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）７０２は、例えば、ＣＨＦ３、ＣＦ４、ＣＦ６などのようなフッ素化学を用いて行うことができる。そのようなＲＩＥ７０２を用いて、材料７０４および７０６は非常に異なるエッチング速度を有する。例えば、Ｓｉ３Ｎ４とアルミナのエッチング速度は、１０：１の比を有する。
【００２５】
図７に記載されたディスク６０２では、エッチング速度がより遅い材料７０４は、ディスクのトラック幅を制御する幅Ｗを有する。図８を参照すると、磁性材料８０２の薄層が蒸着される。磁性材料は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅＰｔ、ＣｏＦｅＢ、またはディスクの製造に使用された他の何らかの材料などの材料であることができ、また好ましくは、化学蒸着、原子層蒸着などのコンフォーマル蒸着方法によって蒸着される。エッチング速度がより遅い材料７０４の頂部の両端間における磁性材料の幅（ＴＷ）は、トラック幅を規定する。図からわかるように、磁性材料は、第１の材料７０４の隣接する層間の凹部まで下に延びて、ディスク６０２の磁性表面のギャップ８０４を提供する。
【００２６】
次に図９を参照すると、本発明の代替実施形態では、エッチング速度がより速い材料を第１組の材料層（トラック幅規定層）９０２に使用し、エッチング速度がより遅い材料を第２組の材料層（ギャップ規定層）９０４に使用することができる。反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）により、第１の層９０２の凹部が得られる。ＲＩＥは、図７を参照して上述したような化学的性質を有することができる。次に、ＮｉＦｅまたはＣｏＦｅなどの磁性材料９０６が、好ましくは、化学蒸着、原子層蒸着などのコンフォーマル蒸着方法によって蒸着される。
【００２７】
次に図１０を参照すると、化学的機械的研磨プロセスを行って、ディスク６０２の表面１００２を平坦にすることができる。この化学的機械的研磨プロセスにより、第２の（ギャップ規定）材料９０４の範囲の上ではなく、第１の（トラック幅規定）材料９０２の範囲の上にのみ、磁性体層を有する表面１００２が得られる。したがって、図からわかるように、トラック幅規定材料９０２の層の幅は、ディスク６０２のトラック幅（ＴＷ）を規定する。
【００２８】
次に図１１を参照すると、ディスクを作成する別の方法が示され、この方法は、ナノインプリント技術と称される技術を使用する。この実施形態は、上述の方法では費用がかかり過ぎるなど、より大きなスループットが求められる場合に有用であり得る。この実施形態では、ディスク１１０２は、図５、６、および７（または図５、６、および８）を参照して説明した蒸着およびエッチング方法などによって作成されるが、磁性材料がディスク１１０２の上に蒸着されない点が異なる。この実施形態は、隆起した同心環１１０４を有する表面を備えたディスク（ダイ）１１０２を形成する。次に、第２のディスク（被加工物）１１０６が提供されるが、その表面上には薄い磁性体層が形成されてもよい。次に、第１のテクスチャ加工されたディスク１１０２をダイとして用いて、第２のディスク１１０６上に所望の表面形状をインプリントすることができる。２つのディスクは互いに向き合うように配置され、次に大きな圧力で互いに押し付けられて、ディスク１１０６の表面上に一連の同心環がインプリントされる。ディスク１１０２および１１０６を互いに押し付ける前に、被加工ディスク１１０６が薄い磁性表面層を備えて形成される場合、その磁性表面は、ディスク１１０２および１１０６を押し付けている間、第１のディスク（ダイ）１１０２の方に向けられる。あるいは、被加工ディスク１１０６は磁性被膜なしで提供することができる。次に、ディスク１１０２および１１０６は、互いに押し付けられて、第２のディスク（被加工ディスク）１１０６上に所望のテクスチャが形成され、また、ディスク１１０２および１１０６を互いに押し付け、第２のディスク１１０６上に所望のテクスチャを形成した後に、テクスチャ加工された表面上に磁性材料を蒸着することができる。
【００２９】
その後、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）などの研磨プロセスを行って、陥凹部分には磁性体層を残してディスクの隆起部分からのみ磁性材料を除去することができる。これは、図９および１０を参照して説明したプロセスに類似する。あるいは、研磨工程は除外することができる。その場合、陥凹部分は、図８を参照して説明したディスクに類似する、磁気トラック部分間のギャップを提供する。
【００３０】
様々な実施形態を上記に記載してきたが、それらは例証としてのみ示されているものであり、制限を目的とするものではないことを理解すべきである。本発明の範囲内にある他の実施形態もまた、当業者には明白になるであろう。したがって、本発明の広がりおよび範囲は、上述の代表的実施形態のいずれによっても制限されるべきではなく、請求項およびそれらの等価物のみにしたがって定義されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の実施が可能なディスクドライブシステムの概略図である。
【図２】本発明の一実施形態によるディスクの図である。
【図３】図２の線３−３で取った図である。
【図４】図３の円４で取った拡大図である。
【図５】本発明の一実施形態による蒸着システムの概略図である。
【図６】交互になった同心の材料層を有する筒状体の図である。
【図７】図６の筒状体から切り出されたディスクの拡大断面図である。
【図８】磁性材料の層が蒸着された図７に類似する断面図である。
【図９】本発明の代替実施形態によるディスクの拡大断面図である。
【図１０】研磨プロセス後の図９のディスクの断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態によるディスクを製造する代替方法を示す概略図である。
【符号の説明】
【００３２】
１００…ディスクドライブ、
１１２…磁気ディスク、
１１３…スライダ、
１１４…スピンドル、
１１５…サスペンション、
１１８…ディスクドライブモータ、
１１９…アクチュエータアーム、
１２１…磁気ヘッドアセンブリ、
１２２…ディスク表面、
１２３、１２８…電力線、
１２５…データ記録チャネル、
１２７…アクチュエータ手段、
１２９…制御ユニット、
２０２…磁気ディスク、
２０４、１００２…表面、
２０６…同心環、
４０２…トラック部分、
４０４…磁性部分、
５０２…チャンバ、
５０４…イオンビームガン、
５０６…第１のターゲット、
５０８…第２のターゲット、
５１０…ロッド、
５１２…イオンビーム、
５１４、５１６…イオン、
５１８…ディバイダ、
６０２、１１０６…ディスク、
１１０２…ディスク（ダイ）、
７０４、７０６…材料、
８０２…磁性材料、
８０４…ギャップ、
９０２…第１組の材料層（トラック幅規定層）、
９０４…第２組の材料層（ギャップ規定層）、
９０６…磁性材料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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