(57)【要約】【課題】着色層を平坦に形成することが可能な液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器を提供すること。【解決手段】画素を構成する複数のサブ画素に対応して形成された複数の着色層を有するカラーフィルタを備えた液晶装置の製造方法であって、複数の着色層１６Ｂ，１６ＥＧ，１６Ｒ，１６ＹＧのうち少なくとも一つの着色層の膜厚が異なり、複数の着色層のうち膜厚が薄い順に、複数の着色層を形成する工程を備えたことを特徴とする。【選択図】図４
2007279101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を構成する複数のサブ画素に対応して形成された複数の着色層を有するカラーフィ
ルタを備えた液晶装置の製造方法であって、
前記複数の着色層のうち少なくとも一つの着色層の膜厚が異なり、
前記複数の着色層のうち膜厚が薄い順に、前記複数の着色層を形成する工程を備えたこ
とを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
スピンコート法により、前記基板上に前記複数の着色層を構成する着色材を塗布するこ
とを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
ラミネート法より、前記基板上に前記複数の着色層を形成することを特徴とする請求項
１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の液晶装置の製造方法により製造されたこ
とを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
前記サブ画素内に、反射表示領域と、透過表示領域とを備え、
前記反射表示領域に形成された着色層の膜厚と前記透過表示領域に形成された着色層の
膜厚とが異なることを特徴とする請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、携帯電話等の表示部として搭載される液晶装置は、液晶層を挟持して対向配置
され、液晶層に電圧を印加するための電極を具備する一対の基板から構成されている。こ
のような液晶装置では、一対の基板の一方の基板上にカラーフィルタが形成されている。
このカラーフィルタは、例えば、透明ガラスから成る基材上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（
青）の３色の着色要素が、所定の配列となるように形成されている。
【０００３】
また、液晶装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、例えば、スピンコー
ト法を用いたものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）この特許文献１に記載
のカラーフィルタ製造方法は、基板上に各画素領域の外枠を囲むブラックマトリックスを
形成した後、ブラックマトリックス間に、透過領域及び反射領域の着色画素の膜厚を制御
し、濃度の異なる着色画素領域を形成し易くするための透明パターン層を設ける。その後
、スピンナーにより赤色感光性レジストを全面に塗布する。そして、露光、現像等のパタ
ーニングを行って、ガラスの所定位置に赤色着色画素を形成する。次に、緑色感光性レジ
スト，青色感光性レジストを順に塗布し、緑色着色画素，青色着色画素を形成する。
【特許文献１】特開２００３−２９５１８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載の液晶装置のカラーフィルタの製造方法では、各
着色感光性レジストを塗布する順番を考慮していないため、２色目以降の塗布を行う際、
前のカラーフィルタパターンに起因する塗布不良が発生する。すなわち、基板の中央に滴
下した各着色感光性レジストが、スピンナーの回転に伴い、基板の中央から外方に向かっ
て放射状のスジ状のムラとなる場合が生じる。これにより、液晶装置の表示特性の低下を
もたらすことになる。
【０００５】
また、スピンコート法を用いる場合の他、例えば、ラミネート法を用いて、各着色層の
順番を考慮せずにカラーフィルタを作製する際にも、カラーフィルタを構成する材料の基
板への密着性が低下するという問題が発生する。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、着色層を平坦に形成す
ることが可能な液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする
。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
【０００８】
本発明の液晶装置の製造方法は、画素を構成する複数のサブ画素に対応して形成された
複数の着色層を有するカラーフィルタを備えた液晶装置の製造方法であって、前記複数の
着色層のうち少なくとも一つの着色層の膜厚が異なり、前記複数の着色層のうち膜厚が薄
い順に、前記複数の着色層を形成する工程を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明に係る液晶装置の製造方法では、本発明に係る液晶装置の製造方法では、まず、
複数の着色層のうち膜厚が薄い着色層を形成した後、この膜厚より膜厚の厚い着色層を形
成する。ここで、複数の着色層のうち膜厚の厚い着色層を先に形成すると、膜厚が厚いも
のの間に、膜厚の薄い着色層を形成することになる。この方法の場合、薄い着色層は、隣
接する着色層により段差の大きい凹部が形成されるため、平坦膜にならず、中央部分が薄
くなってしまう。しかしながら、本発明の製造方法では、薄い着色層が、従来に比べ深さ
の浅い凹部を形成することになり、その凹部に膜厚の厚い着色層が形成されるため、着色
層を平坦に形成することが可能となる。
【００１０】
なお、複数の着色層のうち膜厚が同じ着色層は、形成する順番を問わない。
【００１１】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、スピンコート法により、前記基板上に前記複数
の着色層を構成する着色材を塗布することが好ましい。
【００１２】
本発明に係る液晶装置の製造方法では、スピンコート法により基板上の略全面に一括し
て着色層を構成する着色材を塗布することができる。これにより、複数の画素に対して、
容易かつ迅速に着色材を塗布することが可能になる。
【００１３】
また、複数の着色層のうち膜厚の薄い着色層を形成した後、この膜厚より膜厚の厚い着
色層を形成するため、膜厚の厚い着色層を先に形成した場合に比べ、次に形成する着色層
の凹部の隣接した着色層により形成される段差となる部分が小さくなる。これにより、基
板上に精度良く着色材を塗布することができる。
【００１４】
また、本発明の液晶装置の製造方法は、ラミネート法より、前記基板上に前記複数の着
色層を形成することが好ましい。
【００１５】
本発明に係る液晶装置の製造方法では、複数の着色層をフィルム状に形成することで、
ラミネート法により、基板上に着色層を均一な膜厚で形成することができる。また、複数
の着色層のうち膜厚が薄い着色層を形成した後、この膜厚より膜厚の厚い着色層を形成す
るため、膜厚の厚い着色層を先に形成した場合に比べ、着色層間の凹部の深さが浅くなる
。これにより、基板上に形成される着色層の密着性を良好にすることが可能となる。
【００１６】
本発明の液晶装置は、上記の液晶装置の製造方法により製造されたことを特徴とする。
【００１７】
本発明に係る液晶装置では、複数の着色層が、複数の着色層のうち膜厚が薄い順に形成
されているため、基板上に着色層を平坦に形成することが可能となる。
【００１８】
また、本発明の液晶装置は、前記サブ画素内に、反射表示領域と、透過表示領域とを備
え、前記反射表示領域に形成された着色層の膜厚と前記透過表示領域に形成された着色層
の膜厚とが異なることが好ましい。
【００１９】
まず、半透過反射型の液晶装置では、透過表示領域は、光源から射出された光が、着色
層を１回透過し、反射表示領域は、光源から射出された光が、着色層を２回透過する。こ
れにより、透過表示領域及び反射表示領域の層の膜厚を同じに形成すると、２回透過する
反射表示領域から射出される光の色純度が悪くなってしまう。そこで、反射表示領域の着
色層の膜厚を透過表示領域の着色層の膜厚に比べて薄くすることにより、反射表示領域か
ら射出される光と透過表示領域から射出される光との色純度や明るさを同一にすることが
できる。これにより、本発明に係る液晶装置では、膜厚が異なる着色層を形成する際、着
色層のうち薄い着色層から順に形成することにより、性能の優れたカラーフィルタを得る
ことが可能となる。
【００２０】
このような、反射型と透過型とを兼ね備えた表示方式を採用することにより、周囲の明
るさに応じて反射モード、透過モードのいずれかの表示方式に切り替えることで消費電力
を低減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができ、例えば、携帯機器の表示
部に好適なものにすることが可能である。
【００２１】
本発明の電子機器は、上記の液晶装置を備えたことを特徴とする。
【００２２】
この構成により、液晶装置が、良好な状態のカラーフィルタを有しているため、より鮮
明な画像表示を行うことが可能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明に係る液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器の実
施形態について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとす
るために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００２４】
まず、本発明の液晶装置の製造方法の説明に先立ち、本発明に係る液晶装置の構造につ
いて説明する。
［液晶装置の全体構成］
図１は、本第１実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面構成図であり、図２は、図１
のＨ−Ｈ’線に沿う断面構成図であり、図３は、液晶装置の回路構成を示す図であり、図
４は、図１の液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【００２５】
図１及び図２に示すように、本実施形態の液晶装置１は、一対の基板，ＴＦＴアレイ基
板４と、カラーフィルタ基板５とからなる液晶パネル１０が平面視略矩形枠状のシール材
７を介して貼り合わされ、このシール材７に囲まれた領域内に、正の誘電率異方性を有す
るＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶層８が封入された構成になっている。
【００２６】
シール材７内周側に沿って平面視矩形枠状の周辺見切り９が形成され、この周辺見切り
の内側の領域が表示領域１００となっている。また、液晶装置１は、図２に示すように、
液晶パネル１０にバックライトとして光を照射させる光源ユニット３０を備えている。
【００２７】
表示領域１００内には、画素領域（画素）Ａがマトリクス状に設けられている。この画
素領域Ａは、図２に示すように、表示領域１００の最小単位となる４つのサブ画素Ｂから
構成されている。
【００２８】
また、シール材７の外側の領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路実装端子１
０２がＴＦＴアレイ基板４の１辺（図示下辺）に沿って形成されており、この１辺に隣接
する２辺に沿ってそれぞれ走査線駆動回路１０４が形成されて周辺回路を構成している。
【００２９】
ＴＦＴアレイ基板４の残る１辺（図示上辺）には、表示領域１００の両側の走査線駆動
回路１０４間を接続する複数の配線１０５が設けられている。また、カラーフィルタ基板
５の各角部においては、ＴＦＴアレイ基板４とカラーフィルタ基板５との間の電気的導通
をとるための基板間導通材１０６が配設されている。本実施形態の液晶装置１は、透過型
の液晶装置として構成され、ＴＦＴアレイ基板４側に配置された光源（図示略）からの光
を変調し、カラーフィルタ基板５側から表示光として射出するようになっている。
【００３０】
図３は、上記の液晶装置の等価回路図である。  
【００３１】
同図に示すように、液晶装置の表示領域１００には、複数の画素領域Ａがマトリクス状
に配置されており、これら画素領域Ａのサブ画素Ｂには、それぞれ画素電極１１が配置さ
れている。また、その画素電極１１の側方にはＴＦＴ素子１２が形成されている。ＴＦＴ
素子１２は、該画素電極１１への通電制御を行うスイッチング素子である。このＴＦＴ素
子１２のソース側にはデータ線６ａが接続されている。各データ線６ａには、例えばデー
タ線駆動素子から画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが供給されるようになっている。
【００３２】
また、ＴＦＴ素子１２のゲート側には走査線３ａが接続されている。走査線３ａには、
例えば走査線駆動素子から所定のタイミングでパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍ
が供給されるようになっている。また、ＴＦＴ素子１２のドレイン側には画素電極１１が
接続されている。
【００３３】
走査線３ａから供給された走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍにより、スイッチング素子で
あるＴＦＴ素子１２が一定期間だけオンにされると、データ線６ａから供給された画像信
号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが、画素電極１１を介して画素領域Ａのサブ画素Ｂに所定のタイ
ミングで書き込まれるようになっている。
【００３４】
画素領域Ａのサブ画素Ｂに書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは
、画素電極１１と後述する共通電極との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。
なお、保持された画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎがリークするのを防止するため、画素電
極１１と容量線３ｂとの間に蓄積容量１４が形成され、液晶容量と並列に配置されている
。このように、液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の
配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光源光が変調されて、画像光が生成さ
れるようになっている。
【００３５】
次に、液晶パネル１０の詳細について説明する。
【００３６】
ＴＦＴアレイ基板４の液晶層８側の面には、図２に示すように、マトリクス状に複数の
走査線（図示略）と複数のデータ線（図示略）とが形成され、これら走査線とデータ線と
に囲まれた画素領域Ａのサブ画素Ｂ毎に画素電極１１が設けられている。この走査線とデ
ータ線とが交差する位置にＴＦＴ素子１２が設けられ、ＴＦＴ素子１２を介して各画素電
極１１がデータ線に接続されている。これにより、走査線とデータ線に対して信号を印加
すると、ＴＦＴ素子１２がオン・オフして画素電極１１への信号の書き込みが行われるよ
うになっている。これらのＴＦＴ素子１２及び画素電極１１等上の全面にはラビング処理
が施された水平配向の配向膜１３が形成されている。
【００３７】
カラーフィルタ基板５の液晶層８側の面には、図２に示すように、カラーフィルタ１６
と、オーバーコート層１７，共通電極１８，水平配向の配向膜１９とがこの順に積層され
て形成されている。
【００３８】
また、カラーフィルタ１６は、遮光部１６ａと赤色，黄緑色（イエロッシュグリーン）
，エメラルドグリーン色，青色の各着色部（着色層）１６Ｒ，１６ＹＧ，１６ＥＧ，１６
Ｂとを備え、遮光部１６ａは各着色部１６Ｒ，１６ＹＧ，１６ＥＧ，１６Ｂを区画するよ
うにしてマトリクス状に形成されている。
【００３９】
また、赤色の波長帯域は６００ｎｍ以上であり、黄緑色の波長帯域は５２０ｎｍ〜５７
０ｎｍであり，エメラルドグリーン色の波長帯域は４９０ｎｍ〜５２０ｎｍであり，青色
の波長帯域は４００ｎｍ〜４９０ｎｍである。
【００４０】
さらに、赤色の着色部１６Ｒの膜厚は２．２μｍ、黄緑色の着色部１６ＹＧの膜厚は２
．３μｍ、エメラルドグリーン色の着色部１６ＥＧの膜厚は２．３μｍ、青色の着色部１
６Ｂの膜厚は２．０μｍとなっている。さらに、カラーフィルタ１６は、着色部１６Ｂ，
着色部１６Ｒ，着色部１６ＥＧ，着色部１６ＹＧの順に形成されている。
【００４１】
また、遮光部１６ａは、例えば、黒色感光性樹脂膜からなっている。なお、配向膜１３
，１９は、液晶層８の液晶分子が初期配向状態において水平配向となるように、ラビング
処理が施されている。
【００４２】
また、画素電極１１及び共通電極１８は、ＩＴＯなどの透光性導電材料によって形成さ
れており、配向膜１３，１９は、ポリイミド等によって形成されている。さらに、ＴＦＴ
アレイ基板４及びカラーフィルタ基板５は、例えば、ガラスなどの透明材料からなる光透
過性基板である。
［液晶装置の製造方法］
次に、液晶装置の製造方法について説明する。なお、ＴＦＴアレイ基板４の製造方法に
ついては周知の方法により製造しているため説明を省略し、カラーフィルタ基板５の製造
方法についてのみ説明する。また、本実施形態では、カラーフィルタをスピンコート法に
より製造する場合について説明する。
【００４３】
まず、ガラス基板５１上に、黒色感光性樹脂膜を、スピンコート等の方法で所定の厚さ
に塗布し、フォトリソグラフィー技術を用いてパターニングして、遮光部１６ａを形成す
る。
【００４４】
次に、着色部１６Ｒ，１６ＹＧ，１６ＥＧ，１６Ｂのうち膜厚が最も薄い（膜厚２．０
μｍ）青色の着色部１６Ｂの形成を行う。
【００４５】
スピンナー（図示略）により、図４（ａ）に示すように、遮光部１６ａを含む基板５１
上全面を覆うように青色のレジストを塗布して、青色レジスト層５２Ｂを形成する。そし
て、この青色レジスト層５２Ｂ上に、所定の形状のフォトマスク５３を設置した状態で、
例えば、紫外光Ｒをフォトマスク５３から基板５１に向けて照射する。その後、現像を行
い、図４（ｂ）に示すように、基板５１上に青色の着色部１６Ｂが形成される。
【００４６】
このとき、着色部１６Ｂにより、基板５１上に凹部５５が形成される。
【００４７】
次に、２番目に膜厚の薄い（膜厚２．２μｍ）赤色の着色部１６Ｒの形成を行う。この
着色部１６Ｒは、青色の着色部１６Ｂと同様にスピンナーにより、赤色のレジストを塗布
した後、露光，現像を行い、図４（ｃ）に示すように、基板５１上に赤色の着色部１６Ｒ
が形成される。このとき、着色部１６Ｂ，１６Ｒにより、基板５１上には凹部５６が形成
される。
【００４８】
次に、着色部１６Ｒ，１６ＹＧ，１６ＥＧ，１６Ｂのうち最も膜厚の厚い（膜厚２．３
μｍ）着色部１６ＥＧ，１６ＹＧの形成を行う。まず、着色部１６ＥＧの形成を行う。こ
の着色部１６ＥＧも、青色の着色部１６Ｂと同様にスピンナーにより、エメラルドグリー
ン色のレジストを塗布した後、露光，現像を行い、基板５１上にエメラルドグリーン色の
着色部１６ＥＧが凹部５６に形成される。
【００４９】
次に、着色部１６ＹＧの形成を行う。この着色部１６ＹＧも、青色の着色部１６Ｂと同
様にスピンナーにより、黄緑色のレジストを塗布した後、露光，現像を行い、図４（ｄ）
に示すように、基板５１上に黄緑色の着色部１６Ｒが凹部５６に形成される。なお、エメ
ラルドグリーン色の着色部１６ＥＧと黄緑色の着色部１６ＹＧとの膜厚は、同じであるた
め、形成する順番はどちらが先であっても良い。
【００５０】
次に、カラーフィルタ１６が、形成された後、カラーフィルタ１６上の全面を覆うよう
に、光透過性を有する樹脂からなるオーバーコート層１７をスピンコート法等により形成
する。そして、オーバーコート層１７上に、例えばスパッタ法等の物理気相成長法により
透明なＩＴＯを共通電極１８として成膜する。さらに、この共通電極１８上に、例えば、
ポリイミド溶液を塗布した後に焼成することによって配向膜１９を形成する。この配向膜
１９に、配向処理、例えばラビング処理を施す。このようにして、カラーフィルタ基板５
が形成される。
【００５１】
本実施形態に係る液晶装置１の製造方法では、膜厚が薄い順（着色部１６Ｂ，１６Ｒ，
１６ＥＧ，１６ＹＧの順）に形成することにより、従来に比べて低い凹部５５を形成する
ことになる。すなわち、図５に示す従来の製造方法では、例えば、膜厚が厚い着色部１６
ＥＧ，１６ＹＧを先に形成した場合、着色部１６ＥＧ，１６ＹＧ間の凹部６０の深さは、
本実施形態の凹部５５，５６の深さに比べて深くなっている。これにより、従来の方法で
は、着色部の中央部が窪んで形成されてしまう。しかしながら、本発明は、従来に比べて
深さの浅い凹部５５，５６に着色部１６Ｂ，１６ＥＧ，１６ＹＧを形成しているため、着
色部１６Ｂ，１６Ｒ，１６ＥＧ，１６ＹＧを平坦に形成することが可能となる。
【００５２】
なお、上述した製造方法によりカラーフィルタ１６を形成する際、隣接する着色部１６
Ｒ，１６ＥＧ，１６Ｂ，１６ＹＧの端面は接触することが好ましいが、各着色部１６Ｒ，
１６ＥＧ，１６ＹＧが、遮光部１６ａ間に必ず形成されるように、図６に示すように、着
色部の端部１６ｂ，１６ｃが重なるように形成されている。
【００５３】
この構成の場合、膜厚の薄い着色部１６Ｂ，１６Ｒの上に、膜厚の厚い着色部１６ＥＧ
，１６ＹＧを形成するため、隣接する着色部１６Ｂの端部と着色部１６ＥＧの端部とが重
なる部分、あるいは、隣接する着色部１６Ｒの端部と着色部１６ＹＧの端部とが重なる部
分における段差が、膜厚が厚い着色層の上に膜厚が薄い着色層を形成する場合に比べて小
さくなる。したがって、平坦な着色層を形成することができる。
［第２実施形態］
次に、本発明に係る第２実施形態について、図７から図９を参照して説明する。なお、
以下に説明する各実施形態において、上述した第１実施形態に係る液晶装置１と構成を共
通とする箇所には同一符号を付けて、説明を省略することにする。
【００５４】
本実施形態に係る液晶装置は、半透過反射型の液晶装置である点において第１実施形態
と異なる。また、本実施形態では、パッシブマトリクス型の半透過反射の液晶装置につい
て説明する。
【００５５】
図７は、本実施形態の半透過反射型液晶装置に備えられたカラーフィルタ、遮光層を液
晶層側から見たときの概略平面図であり、図８は、本実施形態の半透過反射型液晶装置の
部分概略断面図であり、図９は、カラーフィルタ基板の要部拡大図ある。
【００５６】
本実施形態の半透過反射型液晶装置７０は、図８に示すように、液晶層８５を挟持して
対向配置されたカラーフィルタ基板８１と対向基板８２とから構成された液晶パネル７８
と、液晶パネル７８の視認側と反対側に配置された光源ユニット９０とを備えて構成され
ている。
【００５７】
カラーフィルタ基板８１、対向基板８２には、図７に示すように、各々、ストライプ状
に配列され、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等からなる複数の透明電極９１、９２が形成
されており、カラーフィルタ基板８１の透明電極９１と対向基板８２の透明電極９２とは
互いに交差する方向に延在している。そして、カラーフィルタ基板８１の透明電極９１と
対向基板８２の透明電極９２とが交差する矩形状の部分及びその周辺部が各ドット９３に
なっており、多数のドット９３がマトリクス状に配列した領域が表示領域となっている。
【００５８】
より詳細には、カラーフィルタ基板８１において、基板本体８１ａの液晶層８５側には
、図８に示すように、アルミニウム、銀、銀合金等の光反射性材料からなり、各ドット９
３の略中心部に形成されたスリット状の開口部９５ａと、各ドット９３の周縁部に形成さ
れた開口部９５ｂとを具備する半透過反射層９５が形成されている。この半透過反射層９
５においては、開口部９５ａが光を透過する光透過部、開口部９５ａ、９５ｂが形成され
た部分を除く領域が光を反射する光反射部として機能する。
【００５９】
また、半透過反射層９５の液晶層８５側には、半透過反射層９５の光透過部（開口部９
５ａ）に対応して透過表示領域のカラーフィルタ７１が形成されていると共に、半透過反
射層９５の光反射部（開口部９５ａ、９５ｂが形成された部分を除く領域）に対応して、
透過表示領域のカラーフィルタ７１とは膜厚の異なる反射表示領域のカラーフィルタ７２
が形成されている。
【００６０】
ここで、透過表示領域のカラーフィルタ７１は、赤（Ｒ）の着色部７１Ｒ、緑（Ｇ）の
着色部７１Ｇ、青（Ｂ）の着色部７１Ｂにより構成されており、各着色部は、各ドット９
３に対応して所定のパターンで形成されている。また、反射表示領域のカラーフィルタ７
２は、透過表示領域のカラーフィルタ７１と同様に、赤（Ｒ）の着色部７２Ｒ、緑（Ｇ）
の着色部７２Ｇ、青（Ｂ）の着色部７２Ｂにより構成されており、各着色部は、各ドット
９３に対応して所定のパターンで形成されている。
【００６１】
また、半透過反射層９５の開口部９５ｂ内には、カーボン粒子等の黒色粒子を含有する
黒色樹脂、クロム等の金属や金属化合物等の遮光性材料からなり、半透過反射層９５より
も厚い遮光層（ブラックマトリクス）７３が形成されている。
【００６２】
また、透過表示領域のカラーフィルタ７１及び反射表示領域のカラーフィルタ７２の膜
厚は、図９に示すように、赤色透過領域の着色部７１Ｒの膜厚が１．８μｍ，赤色反射領
域の着色部７２Ｒの膜厚が１．０μｍ、緑色透過領域の着色部７１Ｇの膜厚が１．９μｍ
，緑色反射領域の着色部７２Ｇの膜厚が０．９μｍ、青色透過領域の着色部７１Ｂの膜厚
が１．８μｍ，青色反射領域の着色部７２Ｂの膜厚が１．１μｍである。
【００６３】
このカラーフィルタ７１，７２を製造する方法としては、着色部のうち膜厚の薄い順、
すなわち、着色部７２Ｇ，７２Ｒ，７２Ｂ，７１Ｒ，７１Ｂ，７１Ｇの順に形成する。
【００６４】
また、緑色反射領域の着色部７２Ｇから射出される光は、観察者側での視認度が高いた
め、緑色反射領域の着色部７２Ｇから射出される光を淡くしたいので、最も薄い膜厚とな
っている。
【００６５】
また、図８においては、透過表示領域のカラーフィルタ７１、反射表示領域のカラーフ
ィルタ７２、遮光層７３が形成された基板本体８１ａの表面が平坦であるように図示して
いるが、実際には、図９においては、凹凸を有するものとなっている。そこで、透過表示
領域のカラーフィルタ７１、反射表示領域のカラーフィルタ７２、遮光層７３の液晶層８
５側には、これらが形成された基板本体８１ａの表面を平坦化すると共に、透過表示領域
のカラーフィルタ７１、反射表示領域のカラーフィルタ７２を保護するために、有機膜等
からなるオーバーコート層７６が形成されている。
【００６６】
また、オーバーコート層７６の液晶層８５側には、透明電極９１が形成されており、基
板本体８１ａの液晶層８５側最表面には、液晶層８５内の液晶分子の配向を規制するため
の配向膜７７が形成されている。配向膜７７としては、例えば、ポリイミド等の配向性高
分子からなり、表面にラビング処理を施されたものを例示することができる。また、実際
には、基板本体８１ａの液晶層８５と反対側に、位相差板と偏光子とが順次貼着されてい
るが、図示を省略している。
【００６７】
一方、対向基板８２において、基板本体８２ａの液晶層８５側には、図８に示すように
、透明電極９２と配向膜９６とが順次形成されている。また、実際には、基板本体８２ａ
の液晶層８５側と反対側に、位相差板と偏光子とが順次貼着されているが、図示を省略し
ている。なお、配向膜９６の構造は、カラーフィルタ基板８１の配向膜７７と同様である
ので、説明は省略する。
【００６８】
また、カラーフィルタ基板８１と対向基板８２との間（液晶層８５内）には、液晶パネ
ル７８のセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、樹脂等からなる球状のスペーサ
３１が多数配置されている。
【００６９】
本実施形態に係る液晶装置７０の製造方法では、着色部を形成する順番は、着色部の膜
厚の薄い順（着色部７２Ｇ，７２Ｒ，７２Ｂ，７１Ｒ，７１Ｂ，７１Ｇ）の順に形成する
。これにより、すべての着色部７２Ｇ，７２Ｒ，７２Ｂ，７１Ｒ，７１Ｂ，７１Ｇを平坦
に形成することが可能となる。したがって、性能の優れたカラーフィルタを用いることに
より、表示特性の優れた液晶装置７０を提供することができる。
［電子機器］
図１０は、上記一実施形態の液晶装置１を搭載した電子機器の一例を示す図である。図
１０に示す携帯電話２００は、上記実施形態の液晶装置１を表示部２０１として備えて構
成されている。このような構成により、良好な状態のカラーフィルタ１６を有しているた
め、より鮮明な画像表示を行うことが可能な電子機器を提供することができる。
【００７０】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００７１】
例えば、スピンコート法により、カラーフィルタを製造したが、ラミネート法を用いて
も良い。この方法の場合、各着色部の着色材をフィルム状に形成し、この着色部を基板に
転写する。ここで、従来の製造方法では、着色層のうち膜厚の厚い着色層を先に形成した
後、薄い着色部の着色材３０３を形成すると、図１１（ａ）に示すように、凹部３０１の
端部３０１ａにおける基板３０２と着色材３０３との密着が悪くなってしまう。しかしな
がら、本発明は、図１１（ｂ）に示すように、従来に比べ浅い凹部３０５に着色部の着色
材３０６を形成しているため、基板３０７と着色材３０６との密着性が良く、基板３０７
上に着色部を均一な膜厚で形成することができる。
【００７２】
また、ラミネート法を用いた場合も、深さの浅い着色部間の凹部に着色部を形成するた
め、基板と着色部との密着性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置を示す平面図である。
【図２】図１の液晶装置のＨ−Ｈ’線における断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の回路構成を示す図である。
【図４】図１の液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【図５】従来の液晶装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図６】図１の液晶装置のカラーフィルタを示す要部拡大図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る液晶装置に備えられたカラーフィルタ、遮光層を液晶層側から見たときの概略平面図である。
【図８】本発明の液晶装置の部分概略断面図である。
【図９】本発明の液晶装置のカラーフィルタ基板の要部拡大図ある。
【図１０】本発明の電子機器の全体構成を示す斜視図である。
【図１１】上記各実施形態における着色層をラミネート法により形成する場合の平面図である。
【符号の説明】
【００７４】
Ａ…画素領域（画素）、Ｂ…サブ画素、１…液晶装置、１６…カラーフィルタ、１６Ｂ
，１６ＥＧ，１６Ｒ，１６ＹＧ…着色部（着色層）、２００…携帯電話（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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