(57)【要約】【課題】液晶表示装置の対向基板間の勘合ずれによる開口率のロスの防止。【解決手段】ＴＦＴ基板側の一絵素７０を長辺方向に沿って二等分し、その二つのサブ領域（１）、（２）に、平面視、短辺に平行な光配向を、向きを反対にして施し、カラーフィルタ８０側では、その長辺方向に沿って四等分し、分割四領域の真ん中の二つを合体して一つの領域［２］とし、それに隣接する領域［１］、［３］とで形成する三つの領域に、平面視、絵素７０の長辺に平行な光配向をその向きを互い違いにして施し、絵素７０側のサブ領域（１）、（２）の境界２ａに走査線２が重なるように配設し、（１）の上半分と下半分の境界７ａと、（２）の上半分と下半分の境界８ａのそれぞれに補助容量線９、１０が重なるように配設する。両基板に勘合ずれがあっても、カラーフィルタ８０側の配向分割線９、１０が絵素７０側の補助容量線７、８の幅内に含まれる。【選択図】図３
2007298842.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の表面に走査線と信号線とが縦横に交差して配設され、スイッチング素子のＴＦＴが接続された矩形の絵素電極がマトリクス状に配設され、それらを覆って配向膜が積層されたＴＦＴ基板と、
透明基板の表面に配向膜が積層された対向基板とが、
前記配向膜の形成された面を対向させ、間に液晶層を挟んでなる液晶表示装置において、
前記矩形の絵素電極の短辺方向が走査線に平行であり、光配向により、一絵素における配向方向の異なる領域が、前記矩形の絵素の短辺に平行に分割されて形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
上記ＴＦＴ基板の光配向の照射パターン境界が、電圧印加時に光を透過しない領域にアライメントされていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記対向基板の光配向の照射パターン境界が、電圧印加時に光を透過しない領域にアライメントされていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
上記光配向の照射方向と液晶分子の平均配向方向とが４５°の角度を持つことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記矩形の絵素電極の短辺と長辺の比Ｃが１：３＞Ｃ≧１：６であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置を備えた液晶テレビジョンもしくは液晶モニタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は液晶表示装置に係り、詳しくは、その開口率の向上に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は軽量、薄型で低消費電力であるため、テレビ、携帯電話等の表示装置として広く利用され、特にテレビ等の大型表示装置については、従来、表示装置の主流であったＣＲＴ（ブラウン管）よりも上記の点で格段に有利であるので、急速にＣＲＴにとって代わりつつある。
【０００３】
特に、スイッチング素子として、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）ともいう）を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示装置は高速応答に優れ、高精細化にも適していて、ディスプレイ画面の高画質化、大型化およびカラー画像化を実現するのに優れた方式となっている。
【０００４】
そのカラー表示のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、ガラスなどの透明基板上に信号線と走査線が交差して配設され、その信号線と走査線とで仕切られて規定される矩形の絵素領域内に絵素電極が形成され、その絵素電極の一つ一つにＴＦＴが接続されたＴＦＴ基板と、そのＴＦＴ基板に対向配置され、ＴＦＴ基板上の前記配線や電極に対応する共通電極とカラーフィルタとが、同じくガラスなどの透明基板上に配設されたカラーフィルタ基板との間に液晶層を挟持した構成を採っている。
【０００５】
なお、ＴＦＴ基板では、通常、走査線が画面の横方向に沿って配設され、信号線がこれに交差して縦方向に配設され、その走査線と信号線とで仕切られて規定される絵素も、通常、その矩形の短辺が走査線に沿い、長辺が信号線に沿う形となっている。
【０００６】
そのようなＴＦＴ基板の絵素電極とカラーフィルタ基板の共通電極に互いに異なる電圧を印加して電界を形成し、そのことにより、液晶分子の配列を変化させ、光の透過率を調節して画像を表示するものである。
【０００７】
それらＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の液晶層に接する側の面には、前記各電気配線やカラーフィルタを覆って、液晶分子の配向を制御するための配向膜が積層されている。そのような液晶表示装置において、開発上の大きなテーマの一つとなっているのが、表示装置の視野角の改善、すなわち、視野角を広げることである。
【０００８】
この視野角の改善については様々なアプローチの仕方がある。４ＤＲＴＮ（４Ｄｏｍｅｉｎ  Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｔｗｉｓｕｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードもその一つであるが、その説明の前に、従来のＲＴＮ（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｔｗｉｓｕｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードについて、図４を参照して説明する。
【０００９】
このＲＴＮモードでは、ＴＦＴ基板側の絵素４０と、それに対応するカラーフィルタ基板側の絵素５０の配向膜における配向の方向（図中、矢印で示すチルドの方向）は、それぞれ絵素４０、５０の矩形の一辺に平行になっているとともに、両基板のチルドの方向が互いに直交したものとなっている。そのような両基板で液晶層を挟持すると、層内の液晶分子６０は、電界オフの状態では、図４（ａ）のように、層の厚み方向に直立していて表示は黒となるが、電界オン時には、図４（ｂ）のように傾いた状態となり、表示が白となるとともに、（ｃ）に示したように、両基板間に挟持される液晶層の厚み方向中間位置の液晶分子６０の配向方向は、基板の法線方向から眺めると、すなわち、平面視すると、絵素の矩形の一つの辺を基準として、その基準の辺に対して４５°を成すようになる。
【００１０】
従来の光配向によるＶＡモードを図５を使い説明する。図５（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板側の各絵素を十字割にした四つの領域（サブ領域）に分け、それぞれのサブ領域において、配向の向きを図の矢印のようにして、隣接するものが異なるようにする。そして、カラーフィルタ基板側の各カラーフィルタの領域においても、図５（ｂ）に示すように、そのＴＦＴ基板側のサブ領域に対応して十字割の四つの領域に分けて、その四つの領域同士では配向の向きが異なるようにする。その際、ＴＦＴ基板側のサブ領域と、それに対応するカラーフィルタ基板側の領域の間では配向方向が反対の方向にする。
【００１１】
そうすると、液晶層の厚み方向中間位置において、図５（ｃ）に示すように、絵素の矩形の一つの辺を基準とし、その辺に対して、４５°、１３５°、２２５°、３１５°の向きを向いた四つの領域が形成される。この液晶分子の配向の向きの異なる四つの領域（以下、ドメインともいう）の存在によって液晶分子の見え方が絵素内で平均化され、視野角が拡大される。
【００１２】
他方、４ＤＲＴＮモードでは、そのような四つのドメインを形成するのに、図６に示したような形態の配向処理を施す。図６の（ａ）はＴＦＴ基板側、（ｂ）はカラーフィルタ基板側で、それぞれ一つの絵素７０と、それに対応する一つのカラーフィルタ８０を平面視したものである。いずれも配向膜表面に接している位置の液晶分子の配向の向き（チルドの向き）を太い矢印で示している。なお、図６（ｂ）に示したカラーフィルタ基板側の配向の形態については、配向膜が形成されている面とは反対側の面から基板を透視した状態で配向方向を描いている。
【００１３】
ＴＦＴ基板側では、図６（ａ）に示すように、一つの絵素７０が左右縦割りに二等分されたサブ領域について、図の左側のサブ領域では上向きに、右側のサブ領域では下向きに配向処置が施されている。
【００１４】
そして、カラーフィルタ基板側では、図６（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板側の一つの絵素７０に対応する領域、すなわち、カラーフィルタ基板側のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の一つに対応する領域８０が図の上下に等分割され、その分割された上側の領域では右向きに、下側の領域では左向きに配向処置が施されている。
【００１５】
そのような配向処置が施されたＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とで液晶層を挟持すると、ＴＦＴ基板側に近いものは、ＴＦＴ基板の配向膜表面に接して図６（ａ）の矢印の向きに配向している液晶分子により、また、カラーフィルタ基板側に近いものは、そのカラーフィルタ基板の配向膜表面に接して図６（ｂ）の矢印の向きに配向している液晶分子により、それらに隣接するものから順次、その姿勢が伝播してゆき、液晶層の厚み方向中央にある分子は、図６（ｃ）に示すように、平面視、絵素７０の一辺に対して４５°の方向を向くようになる。
【００１６】
そして、液晶層の厚み方向中間位置では、それを平面視した際、絵素７０の一辺に対して４５°の方向に配向する領域が、図６（ｃ）のように、絵素を十字割りにした形で四つ形成される。この四つの領域を仕切る、平面視、十字のラインは配向分割線となり、表示上は、光を通さない黒表示となる。その十字の配向分割線で仕切られる四つの領域がドメインであって、その四つの各ドメインでは液晶層厚み方向中間位置の液晶分子の配向の向きが、それぞれ、絵素７０の矩形の一辺に対して、４５°、１３５°、２２５°、３１５°の向きを向いたものとなる。
【００１７】
こうして、４ＤＲＴＮモードにあっても、従来のＲＴＮモードと同様、一つの絵素７０において液晶分子の向きが異なる四つのドメインを得ることができるが、チルドの向きを定めるのに、ＲＴＮモードならＴＦＴ基板、カラーフィルタ基板併せて８回の配向処理が必要なところ、４ＤＲＴＮモードでは、それぞれの基板での配向分割が半分であるので、配向処理もその半分の４回で済む、という利点がある。
【００１８】
なお、これら図６（ａ）、（ｂ）におけるＴＦＴ基板の絵素７０、カラーフィルタ基板のカラーフィルタ８０の光配向の方向（図中、矢印で示すチルドの方向）は一例であって、ＴＦＴ基板側が図の左右方向に沿って、また、カラーフィルタ基板側は図の上下方向に沿って、というように上記と逆の場合であってもよい。それは任意である。要するに、ＴＦＴ基板側のサブ領域と、それに対応するカラーフィルタ基板側の領域で、その配向方向が互いに直交するものであればよい。
【００１９】
ちなみに、上記配向処理の一法として光配向がある。光配向は基板の配向を施す面、すなわち、配向膜が形成された面の法線方向に対して斜め方向から、例えば、ＵＶ光（紫外線）を照射して行うものであり、その照射方向を平面視したものが、上記図６（ａ）、（ｂ）の矢印である。この光配向は、通常のラビング処理のように基板に傷を付けたり、粉塵を散らしたりすることが無い、という利点がある。
【００２０】
この光配向を行う際、隣接する領域で光の照射の向きを変えるには、ある向きに光配向を施そうとする領域の他方の領域にマスクを施す。そして、その状態で、マスクのされていない一方の領域に光を照射し、その後、マスクを付け替えて、先に光を照射しなかった他方の領域に対して、反対の向きの光照射を行う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
ところで、これらＲＴＮモードや４ＤＲＴＮモードは視野角を改善するための技術であるが、四つのドメインの境界部分は、液晶分子の倒れる方向が異なり、偏光軸に平行な方向（絵素の矩形の一辺に対して０°、９０°、１８０°、２７０°）に液晶分子が倒れるため、光の透過しない黒表示の部分（配向分割線）となり、実質、開口率が低下する、という欠点がある。
【００２２】
ここで、ＲＴＮモードや４ＤＲＴＮモードと同様に四つのドメインを得る技術として一般的に利用される技術であるところの「ＭＶＡ（マルチドメインＶＡ）」方式についても説明すると、これは、基板を平面視した場合に、図７に示したように、絵素７０の面上、絵素７０の矩形の辺に対して４５°の方向にジグザグに突起１１、もしくは、突起１１と電気的に等価な電極の切り欠き１２を形成し、その突起１１や切り欠き１２によって、４５°、１３５°、２２５°、３１５°の向きに液晶分子を倒す力を伝搬させて四つのドメインを得るものである。
【００２３】
この方法では、ジグザグ状の形成物（上記突起１１や切り欠き１２）の間隔が広すぎると、液晶分子を倒す力の伝搬効率が低下して、液晶分子が正常に倒れることができなくなるので、設計上、その形成物の間隔は狭くせざるを得ない。したがって、四つのドメインの境界部分の密度が大きくなり、この場合も、実質、開口率が低下する。
【００２４】
他方、ＲＴＮモードや４ＤＲＴＮモードでは、液晶分子を倒す方向を、液晶分子の分子挙動の伝搬によるのではなく、配向膜におけるプレチルトによって導くので、四つのドメインの設計を自由に行うことができ、「ＭＶＡ（マルチドメインＶＡ）」方式よりは開口率のロスの小さい液晶表示装置を得ることができる。しかしながら、やはり、黒表示となる配向分割線が形成されるので、それによって開口率が低下することは否めない。
【００２５】
そこで、配向分割によって視野角を拡大する場合、今述べた、その配向分割による黒表示の配向分割線の生成によって開口率が低下するのを少しでも抑制するため、ＴＦＴ基板側とカラーフィルタ基板側に生じる配向分割線が、両基板を合わせて平面視した際、できるだけ重なるように設計する。
【００２６】
しかしながら、液晶表示装置の製造工程でＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを合わせる際、その基板面に沿う方向のずれ（勘合ずれ）が生じると、ＴＦＴ基板側とカラーフィルタ基板側とで重ねていた配向分割線が分離され、一方の基板側の、本来、光が透過する領域に他方の基板の配向分割線が侵入して開口率にロスが生じる、という問題がある。このＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板同士のずれというのは制御しにくいものであり、光配向の際のマスクの作製に比べると、その誤差のオーダも大きいものである。
【００２７】
そこで、本発明は、ＲＴＮモードや４ＤＲＴＮモードの液晶表示装置について、その配向処理の行われた対向基板（典型はＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板）同士を組み合わせる際、対向基板同士がその面方向に沿ってずれた際に生じる開口率のロスを抑制することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
上記課題を達成するため、本発明は、透明基板の表面に走査線と信号線とが縦横に交差して配設され、スイッチング素子のＴＦＴが接続された矩形矩形の絵素電極がマトリクス状に配設され、それらを覆って配向膜が積層されたＴＦＴ基板と、透明基板の表面に配向膜が積層された対向基板とが、前記配向膜の形成された面を対向させ、間に液晶層を挟んでなる液晶表示装置において、
前記矩形の絵素電極の短辺方向が走査線に平行であり、光配向により、一絵素における配向方向の異なる領域が、前記矩形の絵素の短辺に平行に分割されて形成されている構成を採用したのである。
ここで、矩形とは、本来の絵素電極に対して、アクティブ素子部分を避けたり、基板間隔を決めるスペーサ部分での基板間の電気的短絡を回避するためなどの理由で、細部に切り欠きや、凸部がある場合も含めて、本明細書では単に矩形という。
【００２９】
その際、上記ＴＦＴ基板の光配向の照射パターン境界が、電圧印加時に光を透過しない領域にアライメントされている構成を採用することができる。
【００３０】
さらに、その際、上記対向基板の光配向の照射パターン境界が、電圧印加時に光を透過しない領域にアライメントされている構成を採用することができる。
【００３１】
このような構成によれば、例えば、後出の実施形態の図１や図３に示したもので説明すると、先ず、ＴＦＴ基板側の配向分割線（黒表示となる部分）は走査線に重ねて配設しているので、元々、基板の接着時の基板同士の勘合ずれの影響は受けないが、対向基板であるカラーフィルタ基板側の一つ目と二つ目の領域の境界の配向分割線を、平面視、ＴＦＴ基板側の一つ目の補助容量線の上に、また、二つ目と三つ目の領域の境界の配向分割線もＴＦＴ基板側の二つ目の補助容量線の上に含ませる。この補助容量線は、それにカップリング容量を持たせるため、その幅は広いものであり、対向基板同士の勘合の際のずれが生じても、そのズレのオーダを吸収してしまう程度のものである。
【００３２】
従って、この両基板のずれのオーダの程度で両基板の勘合ずれが生じても、カラーフィルタ基板側の配向分割線がＴＦＴ基板側の透過領域に侵入することがない。
【００３３】
上記各構成において、光配向の照射方向と、液晶分子の平均配向方向が４５°の角度を持つ構成を採用することができる。
【００３４】
そのような構成を採用すれば、光照射の回数を半減できるため、本発明品の生産性が向上する。
【００３５】
上記矩形の絵素電極の短辺と長辺の比Ｃが１：３＞Ｃ≧１：６である構成を採ることができる。
【発明の効果】
【００３６】
この発明は上記のように構成したので、４ＤＲＴＮモードやＲＴＮモードなどの配向分割が施されたアクティブマトリクス型の液晶表示装置において、ＴＦＴ基板とその対向基板（例えばカラーフィルタ基板）との間で勘合ずれが生じても、対向基板側の配向分割線がＴＦＴ基板側の透過領域（開口領域）に侵入することがなく、その点において、開口率のロスを防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。図１は、（ａ）に、本実施形態の液晶表示装置のＴＦＴ基板の一絵素７０周りの電気配線の構成と、配向方向の異なる領域の分割形態を示し、（ｂ）に、その一絵素７０に対応するカラーフィルタ基板側の領域、すなわち、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）などの一つのカラーフィルタ８０について、配向方向の異なる領域の分割形態を模式的に示したものである。先ず、その構成について説明する。なお、以下の実施形態では、配向膜に対する配向処理は「光配向」に拠るものとする。
【００３８】
通常、液晶表示装置の一つの絵素は、表示面の縦方向に配設される信号線と、水平方向に配設される走査線とで仕切られる縦長の矩形の領域で規定され、その矩形の領域内に一対一で絵素電極が形成されているのであるが、本実施形態では、その通常の場合の信号線と走査線とで規定される矩形の絵素を、その矩形の短辺に沿って短辺の二分の一だけ移動し、かつ、長辺に沿って長辺の二分の一だけ移動した領域を新たな絵素７０と規定している。本実施形態では、この絵素７０が基準となり、前記した通常の場合の絵素とは異なるものであるが、以下、単に絵素と言うときは、この新たに規定された絵素７０のことを言う。
【００３９】
そのようにしたので、前記した通常の液晶表示装置の信号線１が新たな絵素７０の短辺の中央を走る形となり、絵素７０はその信号線１によって縦割りに二等分された形となる。そして、本実施形態では、その縦割りに二等分された信号線１の両側の領域のそれぞれに絵素電極３、４が形成されており、それぞれの絵素電極３、４にＴＦＴ５、６が接続された構成を採っている。
【００４０】
また、そのような本実施形態の絵素７０の形態によって、本実施形態の走査線２も、通常のように絵素７０の短辺に沿うものではなく、絵素７０の長手方向中央を、絵素７０の短辺に平行に走るようになっている。そして、その走査線２に前記ＴＦＴ５、６のゲート電極が接続された構成となっている。
【００４１】
さらに、その信号線１に直交して、基準の絵素７０が走査線２で区分けされた上下の領域のそれぞれの基準の絵素７０の長手方向中間に、基準の絵素７０の短辺に平行に第１、第２の補助容量線７、８が配設されている。この第１、第２の補助容量線７、８は、ともに、ここにカップリング容量をもたせるため、信号線１や走査線２の幅よりも広いものとなっている。
【００４２】
その信号線１、走査線２および二本の補助容量線７、８は勿論、図で代表させた基準の絵素７０の上下左右に隣接する全ての絵素７０に対応するものである。以下、この図で代表させた絵素７０に関する構成は、他のあらゆる絵素７０に共通するので、この図の一つの絵素７０について説明を進めてゆく。
【００４３】
この信号線１の両側に配設された絵素電極３、４は、後述するように、一つの絵素７０において、その絵素７０に対応するカラーフィルタ基板側の「Ｒ」（赤）、「Ｇ」（緑）、「Ｂ」（青）のカラーフィルタ８０の一つを、明るい部分と暗い部分とで表示しようとするものであって、本実施形態では図の信号線１の左側を、明るい表示を行う「明部」、右側を、暗い表示を行う「暗部」としている。無論、左右のどちらの絵素電極３、４を「明部」に対応させるか「暗部」に対応させるかは任意である。
【００４４】
この一つの絵素７０の色表示を「明部」と「暗部」で表示することについては後述することとし、先ず、本発明の主要なテーマである、液晶表示装置作製時の対向基板（ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板）間の「勘合ずれ」に基づく開口率の低下を阻止するための構成について、図１から図３を参照して述べる。
【００４５】
本実施形態では、視野角改善のためのマルチドメインの形成形態として、先ず、図１（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板側では、絵素７０の長手方向の中央を走る前記走査線２で絵素を図の上下に分けて、それぞれが配向処理の異なるサブ領域としている。その走査線２で分割された上下のサブ領域に、それぞれ（１）、（２）の符号を付す。
【００４６】
次に、カラーフィルタ基板側では、今述べたＴＦＴ基板側の一つの絵素７０に対応する一つのカラーフィルタ８０におけるマルチドメインの形成形態として、配向処理の異なる領域を図１（ｂ）に示すような構成にしている。
【００４７】
すなわち、カラーフィルタ８０の上縁からその長辺に沿って下縁に向かう途中、長辺の四分の一の位置を配向の向きの異なる領域の境界９としている。この境界は、ＴＦＴ基板側の前記第１の補助容量線７の幅中心７ａに一致している。
【００４８】
そして、次の境界１０は、その境界線９から、同じくカラーフィルタの長辺に沿って、長辺の二分の一下った位置に定めている。この境界１０は、ＴＦＴ基板側の前記第２の補助容量線８の幅中心８ａに一致している。
【００４９】
このような二つの境界線９、１０で区分けされたカラーフィルタ８０の三つの領域に対して、図の上から下に順番に、[１]〜[３]の符号を付す。次に、以上のような配向分割領域（１）、（２）、[１]〜[３]に対する配向の様子を図２に示す。配向は、冒頭で述べたように、光配向によるものとする。
【００５０】
先ず、ＴＦＴ基板側では、図２（ａ）に矢印で示すように、（１）のサブ領域では図の右から左に向かう配向処理を行い、（２）のサブ領域では、図の左から右に向かう配向処理を行っている。
【００５１】
他方、カラーフィルタ基板側の[１]〜[３]の領域の配向膜には、図２（ｂ）に矢印で示すように、ＴＦＴ基板側の配向方向と直交する方向、すなわち、平面視、上下方向の光配向を施されており、その向きが[１]〜[３]で異なっている。
【００５２】
[１]の領域では平面視下向きの配向が成されており、隣接する[２]は上向きの配向、そして[２]の下に隣接する[３]の領域には、再び、[１]と同じ下向きの配向が成されている。このカラーフィルタ８０の領域では、各領域の境界９、１０が配向分割線９、１０となり、表示上は光を通さない黒線の表示となる。
【００５３】
以上のような構成の（ａ）のＴＦＴ基板と（ｂ）のカラーフィルタ基板を作製するには、先ず、ＴＦＴ基板では、基板上に前記信号線１、走査線２、補助容量線７、８、絵素電極３、４およびＴＦＴ５、６を形成した後、また、カラーフィルタ基板側では、共通電極とカラーフィルタ８０を形成した後、それぞれ、その上にポリシロキサン系物質のような紫外線感応性の垂直配向膜を形成する。
【００５４】
そして、ＴＦＴ基板側では、例えば、先ず、（２）のサブ領域に横方向にフォトマスクを施す。勿論、このフォトマスクは、先述したように、一つの絵素７０に対してだけでなく、左右に隣接する行方向、および縦に隣接する列方向の全ての絵素７０にわたって配設する。そうすると、（ａ）における（１）のサブ領域のみが露出した状態となる。
【００５５】
その状態のＴＦＴ基板に対して斜め上方から、かつ、平面視、図の右から左へ偏向ＵＶ光（紫外線）を照射する。そうすると、各絵素７０の（１）のサブ領域に平面視、左向きの光配向が施される。
【００５６】
次に、フォトマスクを取り除き、最初にＵＶ光を照射した全絵素７０の（１）のサブ領域に、横方向にフォトマスクを施す。そうすると、図２（ａ）における（２）のサブ領域のみが露出した状態になる。
【００５７】
その状態のＴＦＴ基板に対して斜め上方から、かつ、平面視、図の左から右へ偏向ＵＶ光を照射する。そうすると、各絵素７０の（２）のサブ領域に、平面視、右向きの光配向が施される。こうして、最終的に図２（ａ）のようなパターンの光配向を形成する。
【００５８】
続いて、同じような要領で、このようなマスク、光照射を施して、カラーフィルタ基板側のカラーフィルタ８０の配向膜にも図２（ｂ）のようなパターンの光配向を形成する。ここで、図２（ａ）は、ＴＦＴ基板の配向膜の面を上から眺め、図２（ｂ）はカラーフィルタ基板の配向膜が形成されたのとは反対側の面から眺めて配向膜の形成された面を透視したような形で描いている。
【００５９】
以上のような形態で配向膜に光配向が施されたＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを、それぞれのその光配向が施された面を対向させ、間に液晶層を挟んで封止すると、背景技術の項でも述べたように、一つの絵素７０における液晶層の中間位置の液晶分子の配向の向きは、電界をかけた際、平面視、図２（ｃ）の太い矢印のようになる。
【００６０】
すなわち、「明部」と「暗部」それぞれにおいて、平面視、液晶分子の配向の向きの異なる四つの領域が「明部」、「暗部」とも、その矩形の領域を縦長の方向に四等分した形で形成される。そして、それら四つの領域での液晶分子の配向の向きは、各領域の基準とした一辺に対して４５°、１３５°、２２５°、３１５°の向きとなる。本実施形態の場合は、「明部」と「暗部」それぞれにおいて、このような形態で４ＤＲＴＮモードが形成されることとなる。このような「明部」と「暗部」それぞれにおける４ＤＲＴＮモードの形成形態の意義については後述する。
【００６１】
さて、本発明の目的は、そのような４ＤＴＲモードの液晶表示装置を作製する際の、両基板同士の勘合の際の基板面に沿う方向の「勘合ずれ」に基づく、カラーフィルタ８０側の配向分割線９、１０（表示上、黒線となる）の、ＴＦＴ基板側の絵素７０の光透過領域への侵入を防ぐことにあるが、そのための本発明の構成と作用について、再び、図１を参照して説明する。
【００６２】
図１（ａ）に示したように、ＴＦＴ基板側の配向膜が形成された面では、一つの絵素７０が二等分された二つのサブ領域（１）、（２）の境界線２ａが配向分割線となっていて、先述したように、そこは表示上、光を通さない黒表示となる部分である。それゆえ、ＴＦＴ基板では、この黒表示となる部分を、元々光を通さない走査線２の幅中心２ａに重ねて、開口部のロスを防いでいる。
【００６３】
他方、カラーフィルタ基板側では、一つのカラーフィルタ８０の配向膜の面を、図１（ｂ）に示すように、[１]〜[３]の符号を付した三つの領域に分けている。この三つの分割領域のそれぞれの縦寸法は、１：２：１となっていて、その「１」に対応する寸法が絵素７０側の縦方向寸法を四分割した（１）の上半分の領域のそれと等しいことは既に述べた通りである。このカラーフィルタ８０においても、[１]と[２]および[２]と[３]の二つの境界線９、１０が配向分割線となっていて、表示上は光を通さない黒表示となる部分である。
【００６４】
ここで、ＴＦＴ基板の一つの絵素７０と、それに対応するカラーフィルタ基板の一つのカラーフィルタ８０の外形の上辺を横に等しく並べて描いている。すなわち、両基板を、その配向膜側の面を対向させて貼り合わせる際に、それら両基板の間に「ずれ」が無い場合の状態に対応している。
【００６５】
この時、カラーフィルタ８０側の[１]と[２]の境界の配向分割線９は、絵素７０側の（１）のサブ領域の上半分と下半分の境界７ａ（一点鎖線で示す）と一直線上にあり、また、カラーフィルタ８０側の[２]と[３]の境界の配向分割線１０は、絵素７０側の（２）のサブ領域の上半分と下半分の境界８ａ（一点鎖線で示す）と一直線上にある。
【００６６】
これを言い換えると、カラーフィルタ８０側の[１]と[２]の境界の配向分割線９は、絵素７０側の第１の補助容量線７の幅中心７ａと一直線上にあり、カラーフィルタ８０側の[２]と[３]の境界の配向分割線１０は、絵素７０側の第２の補助容量線８の幅中心８ａと一直線上にある。この図１の状態で、図の右のカラーフィルタ基板を図の下方にずらしたとする（図中、「ずれ」をαで示している）。それが図３の状態である。
【００６７】
この図３を参照すると、カラーフィルタ８０側の二つの配向分割線９、１０は、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板がずれたとしても、ともに、それぞれ絵素７０側の第１の補助容量線７と第２の補助容量線８の幅方向に含まれるようになっている。図では、絵素７０の第１、第２の補助容量線７、８を二点鎖線でカラーフィルタ８０側の図にまで延長し、カラーフィルタ８０側の配向分割線９、１０が、その第１、第２の補助容量線７、８の幅の中に含まれる様子を示している。
【００６８】
これは、先述したように、第１、第２の補助容量線７、８は、一般的に、ここにカップリングの容量を持たせるため、その幅が走査線２よりも太めに設定されており、その幅は、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の勘合の際のずれが生じても、そのズレのオーダを吸収してしまう程度のものであり、本発明は、この形態を利用したものである。
【００６９】
従って、カラーフィルタ８０側の配向分割形態が図２（ｂ）のような構成のカラーフィルタ基板では、ＴＦＴ基板との間に勘合ずれ（ずれ：α）があっても、その配向分割線９、１０が絵素７０側の第１、第２の補助容量線７、８の幅に含まれて、光の透過領域に侵入してくることがなく、開口率のロスが発生するおそれはない。
【００７０】
他方、絵素７０側の配向分割線２ａは、そのＴＦＴ基板上に形成される走査線２に重ねて形成され、その走査線２は元々光を通さない部分であるので、カラーフィルタ基板との相対的な「ずれ」αによって、これらが元の開口率に影響を及ぼすことは無い。
【００７１】
そして、ＴＦＴ基板の走査線２、あるいはその走査線２に重ねられる配向分割線２ａに対して、それらに対応するカラーフィルタ８０側の[２]の領域には配向分割線は全く無いので、この[２]の領域にはＴＦＴ基板側の光の透過領域に浸入する黒表示の要素は全くない。こうして、本発明を適用した本実施形態の液晶表示装置は、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の勘合の際の「ずれ」が生じても、開口率のロスが発生するおそれがない。以上の構成は本発明の請求項１に対応するものである。
【００７２】
次に、本実施形態の構成の一つである、前記した各絵素７０を縦割りに二等分して、その縦割りにされた二つの領域のそれぞれに対応する絵素電極３、４によって、一つの絵素７０において「明」と「暗」の表示を行うことについて述べる。
【００７３】
この構成の「明」と「暗」の表示というのは、一つの絵素７０に対応するカラーフィルタ基板側の「Ｒ」（赤）、「Ｇ」（緑）、「Ｂ」（青）のカラーフィルタ８０の内の一つを、明暗の差をつけて、その平均の明るさで表示しようとするものであり、そのことにより、表示面を斜めから見た場合の「色」に関する視野角依存性を改善しようとするものである。
【００７４】
従来、そのように、一つの絵素７０を二つの領域に分割して一方を「明部」、他方を「暗部」とするのに、図８（ａ）に示したように、絵素７０を長辺方向（図の上下方向）に分けて「明部」と「暗部」を形成していたが、そのようにすると、絵素７０の短辺方向に隣接する絵素７０の間では「明部」の中心たる「光学重心」（図中、黒丸で示す）のずれが生じて、図に模式的に示したように、「光学重心」が絵素７０の短辺方向に沿って波打ち、表示ぼけが生じていた。
【００７５】
そこで、本実施形態では、「明部」と「暗部」を上下（矩形の絵素の長辺方向）に分けるのではなく、図８（ｂ）に示したように、左右（矩形の絵素の短辺方向）に分けて、その「光学重心」（図中、黒丸で示す）のずれを解消しているのである。「明部」と「暗部」を左右に分けると、各絵素の「光学重心」たる「明部」の中心が絵素７０の長辺方向中間に位置して、絵素７０の短辺方向に一直線上に並ぶので、絵素７０の短辺方向では「光学重心」のずれがなくなり、表示ぼけが生じることがないからである。
【００７６】
ちなみに、この縦割り方式でも、絵素７０の長辺方向においては「光学重心」のずれＢが生じるが、そのずれの程度は短辺方向の「光学重心」のずれＡの三分の一となり、表示装置全体としては、その表示ぼけの程度を大幅に低減できる。
【００７７】
なお、この縦割り方式における「明部」と「暗部」の表示のための電気的駆動方法として、走査線２における一つの信号で二種類の電圧を持たせるようにしている。すなわち、二つの補助容量線７、８に異なる電圧を印加して、片方は明るく、片方は暗く、といった表示にしているのである。
【００７８】
以上は、本実施形態の「明部」と「暗部」の表示により視野角を拡大するための構成であるが、その「明部」と「暗部」それぞれにおける配向モードについて、先述したような形態で４ＤＲＴＮモードの配向処理が生成されたことの意義について述べる。
【００７９】
その４ＤＲＴＮモードの形態とは、「明部」、「暗部」それぞれにおいて生成される四つの領域は、「明部」、「暗部」それぞれの短辺に平行な境界線によって、長辺方向に四等分され、この三つの境界線が配向分割線に対応して黒表示となるものであった。このような形で四つの領域が形成されたのは、図２に示したような配向形態を採ったからである。
【００８０】
しかるに、この「明部」、「暗部」それぞれの領域に四つの配向形態の異なる領域を形成するのに、その「明部」、「暗部」それぞれに、図６５（ａ）、（ｂ）に示したような形態の配向処理を施すと、その時の「明部」、「暗部」それぞれにおける配向分割線は、図６５（ｃ）に示したように十字形状となる。この十字形状による黒表示の総計の長さは、「明部」、「暗部」それぞれの縦寸法と横寸法の和となる。
【００８１】
他方、上述の、本実施形態のような配向処理の形態を採ると、「明部」と「暗部」それぞれにおける配向分割線は、その「明部」と「暗部」の矩形の短辺に平行なもののみとなり、それら黒表示となる配向分割線の全長は、短辺の三倍の長さのみとなり、この長さは、先ほどの十字形状の黒表示の総計の長さより短い。すなわち、本実施形態の配向処理形態の方が開口率のロスが小さくなる。
【００８２】
また、十時形状に配向分割した場合に比べて、ＴＦＴ基板と対向基板がずれて貼り合わされた場合に生じる透過率のロスも小さく、本発明の効果がより発揮される。この構成は矩形の絵素電極の短辺と長辺の比Ｃは、１：３＞Ｃ≧１：６となり、本発明の請求項５に対応するものである。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は、アクティブマトリクス型液晶表示装置一般、さらに、それを備えた液晶テレビジョンもしくは液晶モニタに広く適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】は、（ａ）に、本実施形態の液晶表示装置のＴＦＴ基板の一絵素周りの電気配線の構成と光配向形成のための領域の分割形態を示し、（ｂ）に、その絵素に対応するカラーフィルタ基板側の一つのカラーフィルタについて、光配向形成のための領域の分割形態を模式的に示したものである。
【図２】は、（ａ）、（ｂ）それぞれに、本実施形態における４ＤＲＴＮモード生成のための両基板に対する光配向処理のパターンと、（ｃ）に、その光配向処理に基づく、両基板間の液晶層中間位置の液晶分子の配向パターンを模式的に示した平面図である。
【図３】は、本実施形態の利点を示した模式図である。
【図４】は、ＲＴＮモードにおける液晶の配向の様子を（ａ）に電界オフの状態で、（ｂ）に電界オンの状態で模式的に示した斜視図である。
【図５】は、（ａ）、（ｂ）それぞれに、従来の光配向によるＶＡモード生成のための両基板に対する光配向処理のパターンを示し、（ｃ）に（ａ）、（ｂ）の処理に基づく液晶層厚み方向中間位置の液晶分子の配向状態を平面視して、模式的に示したものである。
【図６】は、（ａ）、（ｂ）それぞれに、４ＤＲＴＮモード生成のための両基板に対する光配向処理のパターンを示し、（ｃ）に（ａ）、（ｂ）の処理に基づく液晶層厚み方向中間位置の液晶分子の配向状態を平面視して、模式的に示したものである。
【図７】は、ＭＶＡ方式を模式的に示したものである。
【図８】は、（ａ）、（ｂ）それぞれに、「光学重心」のゆれの様子を模式的に示したものである。
【符号の説明】
【００８５】
１    信号線
２    走査線
２ａ    境界（走査線の幅中心）
３、４    絵素電極
５、６    ＴＦＴ
７    第１の補助容量線
８    第２の補助容量線
７ａ、８ａ    境界線（補助容量線の幅中心）
９、１０    配向分割線
１１    突起
１２    切り欠き
７０    絵素
８０    カラーフィルタ
α    対向基板（カラーフィルタ基板）のＴＦＴ基板に対する相対ずれ量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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