(57)【要約】【課題】  ノジュール欠陥がない反射防止フィルム成形用エンボスロールを製造する上で有利な反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法を提供する。【解決手段】  軸有りの鉄ロール１１に電析銅めっきによって加工層１５を形成した。この加工層１５の研磨面を、粒子経５０〜１５０μｍ程度の炭化珪素を用いて約４時間ブラスト処理を行い、加工層１５の表面に微細な凹凸を形成した。この加工層１５の表面に発生したノジュール欠陥を検査し、ノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。この面に引続き電析クロムめっきを行い約１０μｍめっきし表面を保護した。さらに、この保護めっき層１６の表面検査を行い、クロムめっきを行う前に取りきれなかったノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法であって、
金属製のロールの表面に第１のめっき層を形成する工程と、
前記第１のめっき層の表面に微細な凹凸を形成する工程と、
前記微細な凹凸が形成された前記第１のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することにより前記ノジュール欠陥を除去する工程と、
前記ノジュール欠陥が除去された前記第１のめっき層の表面に第２のめっき層を形成する工程と、
前記第２のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することにより前記ノジュール欠陥を除去する工程と、
を含むことを特徴とする反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法。
【請求項２】
前記レーザー光の照射による前記ノジュール欠陥の除去はレーザーアブレーション加工の作用によるものであることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法。
【請求項３】
前記第１のめっき層の形成は、電析銅めっき、電析ニッケルめっき、無電解ニッケルめっき、電析亜鉛めっきの何れかによってなされることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法。
【請求項４】
前記第２のめっき層の形成は、電析クロムめっきによってなされることを特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶テレビ、パソコンなどに用いる液晶表示装置などの表示装置の表面に対する外光の写りこみを防止する反射防止フィルムを作製する為の反射防止フィルム成形用エンボスロールの表面欠陥の低減方法と欠陥の修復に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、金型表面に生じた欠陥の修正方法として、金型部材を変形させることなく肉盛によって修正する技術（特許文献１参照）、あるいは、溶接によって肉盛を行いこの溶接材の仕上げ加工を行う技術が知られている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２０００-６１９６０号公報
【特許文献２】特開２００２-２１９５６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、めっきを用いて反射防止フィルム成形用エンボスロール(金型)を作製する時に点状の瘤欠陥（以下、ノジュール欠陥と記す）が発生した場合、この欠陥数を完全に撲滅するのは困難であった。
そこで、本発明の目的は、ノジュール欠陥がない反射防止フィルム成形用エンボスロールを製造する上で有利な反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上述の目的を達成するため、本発明では、反射防止フィルム成形用エンボスロールの芯材（金属製のロール）にまずめっきにより下地層を形成し、この面を砥石研磨し、さらに剥離処理を行い、加工層をめっきにより形成させる。
この方式により、加工層がフィルム生産によって傷がついたり、他の不具合により再生する必要が出てきた場合は、この加工層を機械的に剥離して、下地を研磨によって整え剥離処理を行い、さらに加工層を再びめっきによって形成する。
反射防止フィルム成形用エンボスロールの芯材は、軸が無いものと有るものを利用することができる。この材質もアルミニウムまたは鉄のいずれでも良い。
下地層のめっきは、電析ニッケルめっき、電析銅めっきなどにより、めっき厚５０〜２００μｍの範囲で形成することができる。
加工層のめっきは、電析ニッケルめっき、無電解ニッケルめっき、電析亜鉛めっき、電析銅めっきなどのいずれかを利用し、めっき厚５０〜２００μｍの範囲でめっきする。
【０００５】
反射防止フィルム成形用エンボスロールへの凹凸形成方法は、セラミックビーズを用いたブラスト処理技術またはフォトリソグラフィ技術を利用したものを用いることができる。フォトリソグラフィ技術としてはレーザー製版技術を応用することができる。表面に凹凸を形成後、硫酸、塩酸、硝酸、硫酸-過酸化水素、過硫酸アンモニウム液、塩化銅液、または塩化鉄液のいずれかのエッチング性溶液を用いて凹凸面を滑らかにする。
【０００６】
本発明は、反射防止フィルム成形用エンボスロール製造途中において、欠点を調べ、レーザー光により修復しめっきを行う方法であり、また、最終的に発生したノジュール欠陥にレーザー光を照射することによってこれを除去し修復するものである。
本発明によれば、反射防止フィルム成形用エンボスロール表面上に発生したノジュール欠陥を修復し、反射防止フィルム等を連続的に無欠陥で安定して生産する方法を提供できる。
【０００７】
請求項１の発明は、反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法であって、金属製のロールの表面に第１のめっき層を形成する工程と、前記第１のめっき層の表面に微細な凹凸を形成する工程と、前記微細な凹凸が形成された前記第１のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することにより前記ノジュール欠陥を除去する工程と、前記ノジュール欠陥が除去された前記第１のめっき層の表面に第２のめっき層を形成する工程と、前記第２のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することにより前記ノジュール欠陥を除去する工程とを含むことを特徴とする反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法である。
請求項２の発明は、前記レーザー光の照射による前記ノジュール欠陥の除去はレーザーアブレーション加工の作用によるものであることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法である。
請求項３の発明は、前記第１のめっき層の形成は、電析銅めっき、電析ニッケルめっき、無電解ニッケルめっき、電析亜鉛めっきの何れかによってなされることを特徴とする請求項１または２記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法である。
請求項４の発明は、前記第２のめっき層の形成は、電析クロムめっきによってなされることを特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、凹凸形成工程でどうしても発生してしまうノジュール欠陥を、つまり、極めて微細な欠陥部分のみをレーザー光によって修正し、無欠陥の反射防止フィルム成形用エンボスロールを作製することができる。このことによって、欠陥のない反射防止フィルムを安定してエンボス生産できるようになった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下に、図１を用いて本発明を詳細に説明する。
本発明は、予めエンボスロール芯材（金属製のロール）の上にめっきを行ってから砥石研磨で表面を整え、剥離処理を行いめっきし（加工層を形成し）、砥石研磨で表面を整えた面をサンドブラスト技術またはフォトリソグラフィ技術を利用し、微細な凹凸を形成し、さらに表面の耐久性を向上するための金属めっきを行い（保護めっき層を形成し）、発生したノジュール欠陥等を修正し無欠点のエンボスロールを作製する方法に関する。
【００１０】
このエンボスロールを作製する工程において、ロール表面上に直径数十ミクロンの突起（瘤）が発生し、これを発生した工程で修復し、次の工程で加工を行えば最終のエンボスロール表面に無欠陥のものができる。
上記の突起の除去にレーザーを用いる場合には、アブレーション加工の作用を用いる。
レーザーアブレーションとは、固体にレーザー光を照射したとき、固体材料を構成する元素が種々の形態で爆発するように放出され、固体表面のレーザー光照射部分がえぐられる現象である。別の表現をすれば、レーザーを固体表面に照射したときに発生するプラズマ発光と衝撃波を伴った固体表面の爆発的な剥離現象である。
使用されるレーザーのエネルギーとパルス幅、波長により、昇華を伴うもの、蒸発によるもの、溶融を伴うもの、衝撃波による破砕をともなうものなどがあるが、本発明においては、加工部周辺の変質や加工領域の拡大のない溶融を伴わない昇華や破砕のアブレーション加工が適している。
このようにして作製したロール表面の微細な凹凸を適性にフィルム（反射防止フィルム）に施すことができれば、ヘイズを低くでき、表示パネルの視認性を向上できる。
【００１１】
（実施例１）
本実施例を図１、図２により説明する。
軸有りの鉄ロール１１（金属製のロール）を砥石研磨して電析ニッケルめっき１２を行い、さらに電析銅めっき１３を約２００μｍ行った。
この面をバーチカル研磨により整面し、銀の置換めっき１４を行って剥離層を形成した。
さらに、電析銅めっきを行い、バーチカル研磨により表面粗さRa０.００１〜０.００５μｍになるように研磨した。言い換えると、鉄ロール１１の表面に電析銅めっきによって加工層１５、すなわち第1のめっき層を形成した。
この加工層１５の研磨面を、粒子経５０〜１５０μｍ程度の炭化珪素を用いて約４時間ブラスト処理を行い、加工層１５の表面に微細な凹凸を形成した後、塩化鉄液によってエッチングして表面の凹凸を軽減した。すなわち、第1のめっき層の表面に微細な凹凸を形成した。
この加工層１５の研磨面を水滴が残らないようにエアガンで乾燥させ、表面（加工層１５の研磨面）に発生したノジュール欠陥を検査し、図１に示すように、ノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。すなわち、微細な凹凸が形成された第１のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することによりノジュール欠陥を除去した。
この際のレーザー光の照射条件は、ビーム直径を約１０μｍとし、ロール表面（研磨面１５）とレーザー加工機２１のレーザー光２２照射用のレンズとの間の距離を約２５mmとし、レーザー出力値を１〜３mWとした。この照射条件は昇華、破砕の両方が混在するアブレーション条件である。
この面に引続き電析クロムめっきを行い約１０μｍめっきし表面を保護した。すなわち、ノジュール欠陥が除去された第１のめっき層の表面に電析クロムめっきによって保護めっき層１６、すなわち第２のめっき層を形成した。
さらに、この保護めっき層１６の表面検査を行い、図２に示すように、クロムめっきを行う前に取りきれなかったノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。すなわち、第２のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することによりノジュール欠陥を除去した。
この際のレーザー光の照射条件は、ビーム直径を約１０μｍとし、ロール表面（保護めっき層１６の表面）とレンズ間との距離を約２５mmとし、レーザー出力値を１〜３mWとした。
このようにして得られた反射防止フィルム成形用エンボスロール１を使用することによって、ポリエステルフィルムと紫外線硬化樹脂から無欠陥のフィルムシート（反射防止フィルム）を作製することができた。
【００１２】
（実施例２）
軸無しのアルミロール１１を砥石研磨して亜鉛の置換めっき（ジンケート処理）を行い、さらに電析ニッケルめっき１２を行い、電析銅めっき１３を約２００μｍ行った。
この面をバーチカル研磨により整面し、銀の置換めっき１４を行って剥離層を形成した。
さらに、電析銅めっき１５を行い、バーチカル研磨により表面粗さRa０.００１〜０.００５μｍになるように研磨した。すなわち、アルミロール１１の表面に電析銅めっきによって加工層１５、すなわち第1のめっき層を形成した。
この加工層１５の研磨面を、粒子経５０〜１５０μｍ程度のジルコニアを用いて約４時間ブラスト処理を行い、微細な凹凸を形成した後、塩化銅液によってエッチングして表面の凹凸を軽減した。すなわち、第1のめっき層の表面に微細な凹凸を形成した。
この面（加工層１５の研磨面）を水滴が残らないようにエアガンで乾燥させ、表面（加工層１５の研磨面）に発生したノジュール欠陥を検査し、図１に示すように、ノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。すなわち、微細な凹凸が形成された第１のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することによりノジュール欠陥を除去した。
この際のレーザー光の照射条件は、ビーム直径を約１０μｍとし、ロール表面（研磨面１５）とレーザー加工機２１のレンズとの間の距離を約２５mmとし、レーザー出力値を１〜３mWとした。この照射条件は昇華、破砕の両方が混在するアブレーション条件である。
この面を引続き電析クロムめっき１６を約８μｍめっきし表面を保護した。すなわち、ノジュール欠陥が除去された第１のめっき層の表面に電析クロムめっきによって保護めっき層１６、すなわち第２のめっき層を形成した。
さらに、この保護めっき層１６の表面検査を行い、図２に示すように、クロムめっきを行う前に取りきれなかったノジュール欠陥にレーザー加工機２１からレーザー光２２を照射することによりノジュール欠陥を取り除いた。すなわち、第２のめっき層の表面でノジュール欠陥が生じた箇所にレーザー光を照射することによりノジュール欠陥を除去した。
さらに、この保護めっき層１６の表面検査を行い、クロムめっきを行う前に取りきれなかったノジュール欠陥をレーザー加工機（２１）（ビーム直径約１０μｍ、ロール表面とレンズ間の距離約２５mm、レーザー出力値１〜３mW）を用いて取り除いた。
このようにして得られた反射防止フィルム成形用エンボスロール１を使用することによって、ポリエステルフィルムと紫外線硬化樹脂から無欠陥のフィルムシート（反射防止フィルム）を作製することができた。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施例で行った銅めっきエッチング面のレーザー光によるノジュール欠陥の修正図である。
【図２】本発明の実施例で行った最終保護めっき面のレーザー光によるノジュール欠陥の修正図である。
【符号の説明】
【００１４】
１……反射防止フィルム用エンボスロール、１１……ロール芯材、１２……密着層、１３……下地めっき層、１４……剥離層、１５……加工層、１６……保護めっき層、２１……レーザー加工機、２２……レーザー光。
【図１】
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【図２】
2007313694.tif 000004