(57)【要約】【課題】表示装置を構成する一対の基板の間における位置ずれ量を容易に且つ高精度に測定する。【解決手段】互いに対向して配置された第１基板及び第２基板を備えた液晶表示装置３０ａであって、第１基板の外周部には、線状の第１ベースマーク１１ａ、及びその第１ベースマーク１１ａに直交する線状の第２ベースマーク１１ｂがそれぞれ設けられ、第２基板は、外周部において、第１ベースマーク１１ａと４５°未満の角度で交差すると共に第２ベースマーク１１ｂと交差するように線状に設けられ、その第２ベースマーク１１ｂの延びる方向に沿った位置ずれ量を強調するための第１強調用マーク２１ａを有している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された第１基板及び第２基板を備えた表示装置であって、
上記第１基板の外周部には、線状の第１ベースマーク、及び該第１ベースマークに所定角度で交差する線状の第２ベースマークがそれぞれ設けられ、
上記第２基板は、外周部において、上記第１ベースマークと４５°未満の角度で交差すると共に上記第２ベースマークと交差するように線状に設けられ、該第２ベースマークの延びる方向に沿った位置ずれ量を強調するための第１強調用マークを有していることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、上記第１基板の端縁に沿ってそれぞれ設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１強調用マークは、上記第２基板の端縁に対して４５°未満の角度で交差するように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、長さ方向に沿って所定ピッチで配列された目盛りをそれぞれ有していることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載された表示装置において、
上記目盛りは、上記各ベースマークと同一層に同一材料により形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、直交していることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載された表示装置において、
上記第１基板及び第２基板は、上記第１ベースマークと上記第１強調用マークの中点とが重なるときに位置ずれがない状態であることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項２に記載された表示装置において、
上記第１基板及び第２基板は、矩形状であり、
上記第１基板の一方の対向する各辺には、上記第１ベースマークがそれぞれ設けられ、
上記第１基板の他方の対向する各辺には、上記各第１ベースマークと直交する上記第２ベースマークがそれぞれ設けられ、
上記第２基板の一方の対向する各辺には、上記各第２ベースマークとそれぞれ交差する上記第１強調用マークが一対設けられ、
上記第２基板の他方の対向する各辺は、対応する上記第２ベースマークと４５°未満の角度で交差すると共に上記各第１ベースマークとそれぞれ交差するように線状に設けられ、該第１ベースマークの延びる方向に沿った位置ずれ量を強調するための一対の第２強調用マークを有し、
上記第１基板及び第２基板は、上記各第１ベースマークと対応する上記一対の第１強調用マークの各中点とが重なると共に、上記各第２ベースマークと対応する上記一対の第２強調用マークの各中点とが重なるときに位置ずれがない状態であることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関し、特に、一対の基板を貼り合わせることにより作製される表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、互いに対向して配置された一対の基板と、それら両基板の間に設けられた液晶層とを備え、その液晶層を挟むように各基板に設けられた電極の間に電圧を印加することによって、液晶層の配向状態を変化させて画像を表示するように構成されている。また、液晶表示装置には、画像の最小単位である画素がマトリクス状に複数設けられている。そして、一対の基板の各表面には、各画素に対応して画像表示のための電極などがパターン形成されているので、液晶表示装置を製造する際には、一対の基板を精度よく貼り合わせる必要がある。
【０００３】
例えば、特許文献１には、一対の基板（部材）の貼り合わせ後の位置ずれ量を容易に数値として読める表示装置（表示パネル）が開示されている。
【特許文献１】特開平９−２３０８００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、図８及び図９は、特許文献１に開示された表示装置を構成するコモン側基板１１０及びセグメント側基板１２０をそれぞれ模式的に示した平面図である。
【０００５】
コモン側基板１１０の各角部には、端縁に沿って主尺目盛り１１１がそれぞれ設けられている。また、セグメント側基板１２０の各角部には、コモン側基板１１０に重ね合わされたときに、主尺目盛り１１１と互いに重なるように、端縁に沿って複尺目盛り１２１がそれぞれ設けられている。そして、この表示装置では、アライメントマークとして、主尺目盛り１１１及び複尺目盛り１２１をノギスのように利用して、貼り合わせ後の位置ずれ量を測定することができる。
【０００６】
しかしながら、上記のような主尺目盛り１１１及び複尺目盛り１２１は、フォトリソグラフィなどを利用して、目盛り自体を高精度にパターン形成する必要があるので、位置ずれ量が目盛り自体の形成精度に影響してしまうおそれがある。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示装置を構成する一対の基板の間における位置ずれ量を容易に且つ高精度に測定することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、第１基板に線状の第１ベースマーク、及びその第１ベースマークと所定角度で交差する線状の第２ベースマークがそれぞれ設けられ、第２基板に第１ベースマーク及び第２ベースマークとそれぞれ交差する線状の第１強調用マークが設けられるようにしたものである。
【０００９】
具体的に本発明にかかる表示装置は、互いに対向して配置された第１基板及び第２基板を備えた表示装置であって、上記第１基板の外周部には、線状の第１ベースマーク、及び該第１ベースマークに所定角度で交差する線状の第２ベースマークがそれぞれ設けられ、上記第２基板は、外周部において、上記第１ベースマークと４５°未満の角度で交差すると共に上記第２ベースマークと交差するように線状に設けられ、該第２ベースマークの延びる方向に沿った位置ずれ量を強調するための第１強調用マークを有していることを特徴とする。
【００１０】
上記の構成によれば、例えば、図５に示すように、第１基板の外周部にそれぞれ線状に設けられた第１ベースライン（１１ａ）及び第２ベースライン（１１ｂ）が９０°で交差する場合には、第２基板の外周部に線状に設けられた第１強調用マーク（２１ａ）が第１ベースマーク（１１ａ）に対してθ（０°＜θ＜４５°）の角度で交差すると、ｔａｎθ＝ｄｙ／ｄｘであるので、第２ベースマーク（１１ｂ）の延びる方向（ｙ方向）に沿ったずれ量ｄｙが第１ベースマーク（１１ａ）の延びる方向（ｘ方向）にｄｘ（＝ｄｙ／ｔａｎθ）としてｔａｎθの逆数分だけ拡大されて表示される。ここで、角度θが０°よりも大きく且つ４５°よりも小さいことにより、ｔａｎθが０よりも大きく且つ１よりも小さくなるので、ｔａｎθの逆数（１／ｔａｎθ）は、常に１より大きくなる。したがって、第２ベースマークの延びる方向のずれ量が第１ベースマークの延びる方向に拡大されて表示されるので、第１基板及び第２基板の間、すなわち、表示装置を構成する一対の基板の間における位置ずれ量が容易に且つ高精度に測定される。
【００１１】
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、上記第１基板の端縁に沿ってそれぞれ設けられていてもよい。
【００１２】
上記の構成によれば、第２ベースマークに沿った第１基板の端縁の延びる方向における位置ずれ量が第１ベースマークに沿った第１基板の端縁の延びる方向における長さに拡大表示される。
【００１３】
上記第１強調用マークは、上記第２基板の端縁に対して４５°未満の角度で交差するように設けられていてもよい。
【００１４】
上記の構成によれば、第１強調用マークが第２基板の端縁に対して４５°未満の角度で交差しているので、第１ベースマーク及び第２ベースマークが第１基板の端縁に沿ってそれぞれ設けられている場合には、第１強調用マークが第１ベースマークと４５°未満の角度で交差することになり、本発明の作用効果が具体的に奏される。
【００１５】
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、長さ方向に沿って所定ピッチで配列された目盛りをそれぞれ有していてもよい。
【００１６】
上記の構成によれば、第１ベースマーク及び第２ベースマークの交点と第１ベースマーク及び第１強調用マークの交点との間の目盛りの個数をカウントすることにより、第２ベースマークに沿った位置ずれ量に対応する第１ベースマークに沿った長さが実測されるので、第２ベースマークに沿った位置ずれ量が測定される。
【００１７】
上記目盛りは、上記各ベースマークと同一層に同一材料により形成されていてもよい。
【００１８】
上記の構成によれば、各ベースマークをパターン形成する際に目盛りも同時に形成されるので、製造工程を追加することなく、各ベースマークの目盛りが形成される。
【００１９】
上記第１ベースマーク及び第２ベースマークは、直交していてもよい。
【００２０】
上記の構成によれば、第１ベースマークに沿った第１基板の端縁、及び第２ベースマークに沿った第１基板の端縁が直交することになるので、第１基板及び第２基板が矩形状になり、一般的な表示装置を構成する矩形状の基板同士を貼り合わせる際の位置合わせにおいて、本発明に作用効果が有効に奏される。
【００２１】
上記第１基板及び第２基板は、上記第１ベースマークと上記第１強調用マークの中点とが重なるときに位置ずれがない状態であってもよい、
上記の構成によれば、第１ベースマークと第１強調用マークの中点とを重ねるように、第１基板及び第２基板を互いに対向して配置させることにより、第１基板及び第２基板を位置ずれなく重ね合わせることが可能になる。
【００２２】
上記第１基板及び第２基板は、矩形状であり、上記第１基板の一方の対向する各辺には、上記第１ベースマークがそれぞれ設けられ、上記第１基板の他方の対向する各辺には、上記各第１ベースマークと直交する上記第２ベースマークがそれぞれ設けられ、上記第２基板の一方の対向する各辺には、上記各第２ベースマークとそれぞれ交差する上記第１強調用マークが一対設けられ、上記第２基板の他方の対向する各辺は、対応する上記第２ベースマークと４５°未満の角度で交差すると共に上記各第１ベースマークとそれぞれ交差するように線状に設けられ、該第１ベースマークの延びる方向に沿った位置ずれ量を強調するための一対の第２強調用マークを有し、上記第１基板及び第２基板は、上記各第１ベースマークと対応する上記一対の第１強調用マークの各中点とが重なると共に、上記各第２ベースマークと対応する上記一対の第２強調用マークの各中点とが重なるときに位置ずれがない状態であってもよい。
【００２３】
上記の構成によれば、第１基板の一方の対向する各辺の第１ベースマークと対応する第２基板の一対の第１強調用マークの各中点とを重ねると共に、第１基板の他方の対向する各辺の第２ベースマークと対応する第２基板の一対の第２強調用マークの各中点とを重ねるように、第１基板及び第２基板を互いに対向して配置させることにより、第１基板及び第２基板を位置ずれなく重ね合わせることが具体的に可能になる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、第１基板に線状の第１ベースマーク、及びその第１ベースマークと所定角度で交差する線状の第２ベースマークがそれぞれ設けられ、第２基板に第１ベースマーク及び第２ベースマークとそれぞれ交差する線状の第１強調用マークが設けられているため、表示装置を構成する一対の基板の間における位置ずれ量を容易に且つ高精度に測定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の各実施形態では、表示装置として、パッシブ駆動方式の液晶表示装置を例に説明するが、本発明は、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置であってもよい。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００２６】
《発明の実施形態１》
図１〜図６は、本発明にかかる液晶表示装置の実施形態１を示している。ここで、図１は、本実施形態の液晶表示装置３０ａの平面図であり、図２は、図１中のII−II線に沿った液晶表示装置３０ａの断面図である。
【００２７】
液晶表示装置３０ａは、図２に示すように、互いに対向して配置された第１基板１０ａ及び第２基板２０ａと、それら両基板１０ａ及び２０ａの間に設けられた液晶層１５とを備えている。
【００２８】
第１基板１０ａは、図２に示すように、矩形状のガラス基板１ａと、ガラス基板１ａ上に設けられたカラーフィルタ層２と、カラーフィルタ層２を覆うように設けられたオーバーコート層３と、オーバーコート層３上に互いに平行に（ストライプ状に）延びる複数の第１透明電極４と、各第１透明電極４を覆うように設けられた配向膜５ａとを備えている。
【００２９】
第２基板２０ａは、図２に示すように、矩形状のガラス基板１ｂと、ガラス基板１ｂ上に第１基板１０ａの各第１透明電極４と直交する方向に互いに平行に（ストライプ状に）延びる複数の第２透明電極６と、各第２透明電極６を覆うように設けられた配向膜５ｂとを備えている。
【００３０】
液晶表示装置３０ａでは、各第１透明電極４及び各第２透明電極６の交差部分毎に画像の最小単位である画素が形成されており、それらの各画素がマトリクス状に配置されて表示領域Ｄを構成している。
【００３１】
カラーフィルタ層２は、各画素に対応して、赤、緑及び青のうちの１色が配設された着色層と、各着色層の間に設けられたブラックマトリクスとを備えている。
【００３２】
オーバーコート層３は、カラーフィルタ層２の保護やカラーフィルタ層２による段差の平滑化のための有機絶縁層である。
【００３３】
液晶層１５は、電気光学特性を有するネマチック液晶材料などにより構成されている。
【００３４】
第１基板１０ａの外周部（表示領域Ｄの外側）には、図３に示すように、基板の端縁（図中の上辺及び下辺）に沿って延びる線状の第１ベースマーク１１ａと、その第１ベースマーク１１ａに９０°で交差して、基板の端縁（図中の左辺及び右辺）に沿って延びる線状の第２ベースマーク１１ｂがそれぞれ設けられている。
【００３５】
第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂは、長さ方向に沿って、例えば、１０μｍの所定ピッチで配列された目盛り１３をそれぞれ有している。
【００３６】
第２基板２０ａの外周部（表示領域Ｄの外側）における一方の対向する各辺（図中の上辺及び下辺）には、図４に示すように、第１ベースマーク１１ａと４５°未満の角度θで交差すると共に各第２ベースマーク１１ｂと（９０°−θ）の角度でそれぞれ交差する一対の第１強調用マーク２１ａが設けられている。
【００３７】
一対の第１強調用マーク２１ａは、図中左側の第２ベースマーク１１ｂと交差する一方の線状部分と、図中右側の第２ベースマーク１１ｂと交差する他方の線状部分とが連結してＶ字状に形成されている。
【００３８】
また、各第１強調用マーク２１ａは、図５に示すように、第２ベースマーク１１ｂの延びる方向（ｙ方向）に沿った位置ずれ量ｄｙを強調するためのものである。
【００３９】
ここで、図５において、第２ベースマーク１１ｂの延びる方向（ｙ方向）に沿った位置ずれ量をｄｙとする。そして、第１ベースマーク１１ａと第１強調用マーク２１ａとは、角度θ（０°＜θ＜４５°）で交差しているので、ｔａｎθ＝ｄｙ／ｄｘにより、ｄｘ＝ｄｙ／ｔａｎθとなる。そして、θが０°よりも大きく且つ４５°よりも小さいことにより、ｔａｎθが０よりも大きく且つ１よりも小さくなるので、ｔａｎθの逆数（１／ｔａｎθ）は、常に１より大きくなる。そのため、第２ベースマーク１１ｂの延びる方向（ｙ方向）に沿ったずれ量ｄｙが第１ベースマーク１１ａの延びる方向（ｘ方向）にｄｘ（＝ｄｙ／ｔａｎθ）としてｔａｎθの逆数分だけ拡大されて表示されることになる。
【００４０】
例えば、角度θが５．７°の場合には、ｔａｎθが０．１となり、ｄｘがｄｙの１０倍になって、ｙ方向のずれ量ｄｙがｘ方向にｄｘとして１０倍に拡大して表示される。そして、第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂの目盛りのピッチを１０μｍとした場合には、第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂの交点と第１ベースマーク１１ａ及び第１強調用マーク２１ａの交点との間の目盛りの個数をカウントすることにより、ｘ方向の大きさ（ｄｘ）が１０μｍ単位で計測できるので、ｙ方向のずれ量ｄｙを１μｍ単位まで求めることができる。
【００４１】
第２基板２０ａの外周部（表示領域Ｄの外側）における他方の対向する各辺（図中の左辺及び右辺）には、図４に示すように、第２ベースマーク１１ｂと４５°未満の角度θで交差すると共に各第１ベースマーク１１ｂと（９０°−θ）の角度でそれぞれ交差する一対の第２強調用マーク２１ｂが設けられている。
【００４２】
一対の第２強調用マーク２１ｂは、第１強調用マーク２１ａと同様に、図中上側の第１ベースマーク１１ａと交差する一方の線状部分と、図中下側の第１ベースマーク１１ａと交差する他方の線状部分とが連結してＶ字状に形成されている。
【００４３】
また、各第２強調用マーク２１ｂは、第１ベースマーク１１ａの延びる方向（ｘ方向）に沿った位置ずれ量を強調するためのものである。したがって、第１ベースマーク１１ａ、第２ベースマーク１１ｂ、第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マーク２１ｂを利用して、ｘ方向及びｙ方向の双方における位置ずれ量を測定することができる。なお、液晶表示装置３０ａにおいて、ベースマークと強調用マークとが交差する各角度θは、一定でなくてもよい。
【００４４】
さらに、第１基板１０ａ及び第２基板２０ａは、例えば、図１において、上側の第１ベースマーク１１ａと対応する上側の第１強調用マーク２１ａの各中点ｍ１及びｍ２とが、下側の第１ベースマーク１１ａと対応する下側の第１強調用マーク２１ａの各中点ｍ５及びｍ６とが、右側の第２ベースマーク１１ｂと対応する右側の第２強調用マーク２１ｂの各中点ｍ３及びｍ４とが、及び左側の第２ベースマーク１１ｂと対応する左側の第２強調用マーク２１ｂの各中点ｍ７及びｍ８とが、それぞれ重なるときに位置ずれがない状態となる。なお、第１基板１０ａ及び第２基板２０ａを貼り合わせる際に、各ベースマークと重なる各強調用マークの基準となる位置は、上記のような各強調用マークの中点に限らず、各強調用マークの予め設定した位置であってもよい。
【００４５】
上記構成の液晶表示装置３０ａでは、第１基板１０ａの各第１透明電極４と第２基板２０ａの各第２透明電極６とに時系列的に所定の電圧をかけていくことにより、特定の第１透明電極４及び第２透明電極６の交差部分の画素のみの液晶層１５に電圧が選択的に印加され、液晶層１５の配向状態が変化して画像が表示される。
【００４６】
次に、図２の断面図、及び図６のフローチャートを参照し、本実施形態の液晶表示装置３０ａを製造する方法について説明する。なお、本実施形態の製造方法では、ガラス基板上に各々が液晶表示装置を構成する複数のセル単位を同時に形成させて、複数の液晶表示装置を一度に製造する方法を例示する。
【００４７】
まず、Ｓｔ１では、一方のガラス基板１ａ上の基板全体に、染色法、電着法、印刷法などにより、カラーフィルタ層２をセル単位毎に形成する。
【００４８】
続いて、Ｓｔ２では、カラーフィルタ層２が形成された基板全体にアクリル系樹脂などを塗布して、オーバーコート層３を形成する。
【００４９】
さらに、Ｓｔ３では、オーバーコート層３が形成された基板全体に、スパッタリング法により、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を成膜して、透明導電膜を形成する。
【００５０】
そして、Ｓｔ４では、形成された透明導電膜をフォトリソグラフィ法などによりパターン形成して、第１透明電極４、並びに目盛り１３を有する第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂをセル単位毎に形成する。これによれば、目盛り１３が第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂをパターン形成する際に同時に形成されるので、製造工程を追加することなく、第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂの目盛り１３を形成することができる。
【００５１】
その後、Ｓｔ５では、第１透明電極４などが形成された基板の少なくとも表示領域Ｄに、ポリイミド系樹脂を塗布及び焼成し、配向膜５ａを形成する。
【００５２】
続いて、Ｓｔ６では、形成された配向膜５ａに対し、ラビング処理などにより、配向処理を行う。
【００５３】
さらに、Ｓｔ７では、配向処理が行われた基板にセル単位毎にシール剤を液晶注入口を有する枠形状に印刷する。
【００５４】
また、Ｓｔ８では、他方のガラス基板１ｂ上の基板全体に、スパッタリング法により、ＩＴＯ膜を成膜して、透明導電膜を形成する。
【００５５】
続いて、Ｓｔ９では、形成された透明導電膜をフォトリソグラフィ法などによりパターン形成して、第２透明電極６、第１強調用マーク１２ａ及び第２強調用マーク１２ｂをセル単位毎に形成する。
【００５６】
さらに、Ｓｔ１０では、第２透明電極６などが形成された基板の少なくとも表示領域Ｄに、ポリイミド系樹脂を塗布及び焼成し、配向膜５ｂを形成する。
【００５７】
そして、Ｓｔ１１では、形成された配向膜５ｂに対し、ラビング処理などにより、配向処理を行う。
【００５８】
その後、Ｓｔ１２では、配向処理が行われた基板の配向膜５ｂの表面に、球状のスペーサを散布する。
【００５９】
続いて、Ｓｔ１３では、Ｓｔ７でシール剤が印刷された基板（第１基板１０ａ）と、Ｓｔ１２でスペーサが散布された基板（第２基板２０ａ）とを、各ベースマーク１１ａ及び１１ｂと各強調用マーク２１ａ及び２１ｂの中点とが重なるように位置合わせると共に貼り合わせて、パネルを作製する。
【００６０】
さらに、Ｓｔ１４では、作製されたパネルをセル単位毎に分断した後に、各セルに減圧法などにより液晶材料を注入する。
【００６１】
最後に、Ｓｔ１５では、液晶材料が注入された各セルに対して、加圧などにより厚さを調整した後に、液晶注入口を樹脂などで封止する。
【００６２】
以上のようにして、液晶表示装置３０ａを製造することができる。その後、製造された液晶表示装置３０ａの第１ベースマーク１１ａ、第２ベースマーク１１ｂ、第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マークの位置関係に基づいて基板のｘ方向及びｙ方向のずれ量を測定及び評価すると共に、製造条件にフィードバックすることができる。
【００６３】
以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置３０ａによれば、図５に示すように、第１基板１０ａの外周部に端縁に沿ってそれぞれ線状に設けられた第１ベースライン１１ａ及び第２ベースライン１１ｂが９０°で交差していると共に、第２基板２０ａの外周部に線状にそれぞれ設けられた第１強調用マーク２１ａが第１ベースマーク１１ａに対してθ（０°＜θ＜４５°）の角度で交差しているので、第２ベースマーク１１ｂの延びる方向（ｙ方向）に沿ったずれ量ｄｙが第１ベースマーク１１ａの延びる方向（ｘ方向）にｄｘ（＝ｄｙ／ｔａｎθ）としてｔａｎθの逆数分だけ拡大されて表示される。したがって、第２ベースマーク１１ｂの延びる方向のずれ量が第１ベースマーク１１ａの延びる方向に拡大されて表示されるので、液晶表示装置３０ａを構成する第１基板１０ａ及び第２基板２０ａの間における位置ずれ量を容易に且つ高精度に測定することができる。
【００６４】
また、液晶表示装置３０ａによれば、位置ずれ量が拡大して表示されるので、大掛かりな測定装置を用いることなく、位置ずれ量を測定することができる。
【００６５】
さらに、液晶表示装置３０ａによれば、第１ベースライン１１ａ及び第２ベースライン１１ｂの目盛り１３によって、位置ずれ量及び方向が目視で容易に確認できる。
【００６６】
また、本実施形態では、第１ベースライン１１ａ、第２ベースライン１１ｂ、第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マーク２１ｂを、各基板を構成する透明電極を形成する際の透明導電膜によって形成させたが、各基板を構成する配向膜などによって形成させてもよい。
【００６７】
さらに、本実施形態では、第１ベースライン１１ａ及び第２ベースライン１１ｂを第１基板１０ａに、第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マーク２１ｂを第２基板２０ａにそれぞれ形成させたが、これとは反対に、第１ベースライン１１ａ及び第２ベースライン１１ｂを第２基板２０ａに、第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マーク２１ｂを第１基板１０ａにそれぞれ形成させてもよい。
【００６８】
《その他の実施形態》
本発明は、上記実施形態１について、以下のような構成としてもよい。
【００６９】
図７は、本実施形態の液晶表示装置３０ｂの平面図である。
【００７０】
液晶表示装置３０ｂは、図７に示すように正六角形状をしており、上記実施形態１の第１基板１０ａの第１ベースマーク１１ａ及び第２ベースマーク１１ｂに対応するベースマーク１１が基板の端縁に沿って正六角形状に形成され、第２基板２０ａの第１強調用マーク２１ａ及び第２強調用マーク２１ｂに対応する強調用マーク２１がベースマーク１１の各線状部分に対してＶ字状に形成されている。
【００７１】
ベースマーク１１は、各線状部分（第１ベースマーク及び第２ベースマーク）がその両端で１２０°で交差して連結するように構成されている。
【００７２】
強調用マーク２１は、各線状部分（第１強調用マーク及び第２強調用マーク）が、ベースマーク１１の１つの線状部分に角度θで交差すると共に、その隣り合った線状部分に交差するように構成されている。
【００７３】
本実施形態の液晶表示装置３０ｂによれば、上記実施形態１の液晶表示装置３０ａと同様に、各辺に沿ったベースマーク１１の目盛りをカウントすることにより、各辺に直交する方向、すなわち、図７中のα方向、β方向及びγ方向の位置ずれを容易に且つ高精度に測定することができる。
【００７４】
上記各実施形態では、表示装置として、ＬＣＤ（liquid crystal display；液晶表示ディスプレイ）にかかるものを例示したが、本発明は、ＰＤ（plasma display；プラズマディスプレイ）、ＰＡＬＣ（plasma addressed liquid crystal display；プラズマアドレス液晶ディスプレイ）、有機ＥＬ（organic electroluminescence ）、無機ＥＬ（inorganic electoluminescence ）、ＦＥＤ（field emission display；電界放出ディスプレイ）、又は、ＳＥＤ（surface-conduction electron-emitter display；表面電界ディスプレイ）など、一対の基板を貼り合わせることにより作製される表示装置にも適用することができる。
【００７５】
また、上記各実施形態では、ベースマーク及び強調用マークを用いて、第１基板及び第２基板の位置ずれ量が測定される液晶表示装置を例示したが、例えば、第１基板１０ａにおいて、第１透明電極４と同一層に同一材料によりベースマークを形成すると共に、配向膜５ａと同一層に同一材料により強調用マークを形成することにより、第１基板１０ａにおける第１透明電極４と配向膜５ａとの位置関係を高精度に測定及び評価することができる。さらに、本発明は、上記のような表示装置に限らず、基板上に複数の膜が積層された配線基板などにおいて、各膜にベースマーク又は強調用マークを形成して、各膜間の位置関係を測定及び評価することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７６】
以上説明したように、本発明は、一対の基板の間の位置ずれ量を高精度に測定することができるので、一対の基板を貼り合わせることにより作製される表示装置について有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】実施形態１にかかる液晶表示装置３０ａの平面図である。
【図２】図１中のII−II線に沿った液晶表示装置３０ａの断面図である。
【図３】液晶表示装置３０ａを構成する第１基板１０ａの平面図である。
【図４】液晶表示装置３０ａを構成する第２基板２０ａの平面図である。
【図５】液晶表示装置３０ａの角部を拡大した平面模式図である。
【図６】液晶表示装置３０ａの製造工程を示すフローチャートである。
【図７】実施形態２にかかる液晶表示装置３０ｂの平面図である。
【図８】従来の表示装置を構成するコモン側基板１１０の平面図である。
【図９】従来の表示装置を構成するセグメント側基板１２０の平面図である。
【符号の説明】
【００７８】
ｍ１〜ｍ８    中点
１０ａ    第１基板
１１      ベースマーク
１１ａ    第１ベースマーク
１１ｂ    第２ベースマーク
１３      目盛り
２０ａ    第２基板
２１      強調用マーク
２１ａ    第１強調用マーク
２１ｂ    第２強調用マーク
３０ａ，３０ｂ    液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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