(57)【要約】【課題】  補助容量の大きさを必要最小限とし、且つ、ディスクリネーション発生領域を十分に遮光する。【解決手段】  補助容量ライン６の左側の引出部６ｂの上面には絶縁膜を介して画素電極４の左辺部が設けられている。画素電極４の左辺部上面には、データライン３と同一の材料（クロム）によって同時に形成された遮光膜１５が設けられている。そして、画素電極４の左辺部におけるディスクリネーション発生領域は、画素電極４の左辺部と重ね合わされた補助容量ライン６および遮光膜１５によって十分に遮光される。この場合、ディスクリネーション発生領域が大きくなっても、それに応じて遮光膜１５の面積を大きくすればよく、ひいては補助容量の大きさを必要最小限とすることができ、且つ、ディスクリネーション発生領域を十分に遮光することができる。【選択図】  図２
2007034090.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査ラインとデータラインとがマトリクス状に設けられた基板上における前記走査ラインと前記データラインとで囲まれた領域内に画素電極がスイッチング素子を介して前記走査ラインおよび前記データラインに接続されて設けられ、前記画素電極との間で補助容量部を形成するための補助容量ラインが前記画素電極の周辺部と重ね合わされて設けられた液晶表示装置において、前記基板上における前記画素電極の上側または下側にディスクリネーション発生領域を遮光するための遮光膜が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発明において、前記遮光膜は、前記画素電極と接続されて、且つ、前記補助容量ラインと電気的に絶縁されて設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の発明において、前記遮光膜は、前記画素電極の一辺部に対応する位置に設けられ、且つ、前記画素電極の一辺部と重ね合わされた前記補助容量ラインと一部重ね合わされていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の発明において、前記遮光膜は前記画素電極の上面または下面に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発明において、前記遮光膜は前記データラインと同一の材料によって形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のアクティブマトリクス型の液晶表示装置には、アクティブ基板上にマトリクス状に設けられた走査ラインとデータラインとで囲まれた領域内に画素電極がスイッチング素子としての薄膜トランジスタを介して走査ラインおよびデータラインに接続されて設けられ、且つ、アクティブ基板上に画素電極との間で補助容量部を形成するための補助容量ラインが画素電極の所定の周辺部と重ね合わされて設けられたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１６１１０２号公報
【０００４】
上記特許文献１に記載の液晶表示装置では、画素電極の左下角部が切り欠かれ、この切り欠かれた部分に薄膜トランジスタのゲート電極が配置され、薄膜トランジスタのゲート電極が画素電極の下側に配置された走査ラインに接続され、薄膜トランジスタのドレイン電極が画素電極の左側に配置されたデータラインに接続され、補助容量ラインが画素電極の主として上側に配置されている。
【０００５】
ところで、上記のような液晶表示装置が捩じれネマティク型である場合には、ある条件下において、画素電極の左辺部にディスクリネーションが発生する。このディスクリネーションが発生した領域は、光漏れが生じて白抜けを起こす異常表示部となり、表示品質が低下してしまう。
【０００６】
そこで、上記特許文献１に記載の液晶表示装置では、補助容量ラインの所定の一部に遮光部を形成し、この遮光部を画素電極と重ね合わせ、この重ね合わせた部分によってディスクリネーション発生領域を十分に遮光するようにしている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記液晶表示装置では、補助容量ラインの所定の一部に形成された遮光部を画素電極と重ね合わせているので、この重ね合わせた部分によっても補助容量部が形成されることになる。この結果、ディスクリネーション発生領域が大きくなると、遮光部の面積も大きくなり、補助容量が必要以上に大きくなり、薄膜トランジスタの駆動能力が不足し、これを補うために薄膜トランジスタのサイズを大きくすると、開口率が低下してしまう。
【０００８】
そこで、この発明は、補助容量の大きさを必要最小限とし、且つ、ディスクリネーション発生領域を十分に遮光することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明は、上記目的を達成するため、走査ラインとデータラインとがマトリクス状に設けられた基板上における前記走査ラインと前記データラインとで囲まれた領域内に画素電極がスイッチング素子を介して前記走査ラインおよび前記データラインに接続されて設けられ、前記画素電極との間で補助容量部を形成するための補助容量ラインが前記画素電極の周辺部と重ね合わされて設けられた液晶表示装置において、前記基板上における前記画素電極の上側または下側にディスクリネーション発生領域を遮光するための遮光膜が設けられていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、画素電極の上側または下側にディスクリネーション発生領域を遮光するための遮光膜を設けているので、ディスクリネーション発生領域が大きくなっても、それに応じて遮光膜の面積を大きくすればよく、ひいては補助容量の大きさを必要最小限とし、且つ、ディスクリネーション発生領域を十分に遮光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図１はこの発明の一実施形態としての液晶表示装置の要部の断面図を示し、図２は同液晶表示装置のアクティブ基板側の一部の透過平面図を示す。この場合、図１は図２のＡ−Ａ線に沿う部分の断面図に相当する。この液晶表示装置はアクティブ基板１および対向基板２１を備えている。
【００１２】
まず、図２を参照して説明する。アクティブ基板１上には走査ライン２およびデータライン３がマトリクス状に設けられている。この場合、複数の走査ライン２は行方向に延びて設けられ、複数のデータライン３は列方向に延びて設けられている。アクティブ基板１上において走査ライン２とデータライン３とで囲まれた領域内には画素電極４が設けられている。
【００１３】
画素電極４はスイッチング素子としての薄膜トランジスタ５を介して走査ライン２およびデータライン３に接続されている。アクティブ基板１上には複数の補助容量ライン６が行方向に延びて設けられている。ここで、図２を明確にする目的で、画素電極４の縁部に斜めの短い実線のハッチングが記入されている。
【００１４】
次に、図１および図２を参照して説明する。アクティブ基板１の上面の所定の箇所にはゲート電極７および該ゲート電極７に接続された走査ライン２が設けられている。アクティブ基板１の上面の他の所定の箇所には補助容量ライン６が設けられている。ゲート電極７等を含むアクティブ基板１の上面にはゲート絶縁膜８が設けられている。
【００１５】
ゲート電極７上におけるゲート絶縁膜８の上面の所定の箇所には真性アモルファスシリコンからなる半導体薄膜９が設けられている。半導体薄膜９の上面ほぼ中央部にはチャネル保護膜１０が設けられている。チャネル保護膜１０の上面両側およびその両側における半導体薄膜９の上面にはｎ型アモルファスシリコンからなるオーミックコンタクト層１１、１２が設けられている。
【００１６】
一方のオーミックコンタクト層１１の上面を含むゲート絶縁膜８の上面の所定の箇所にはＩＴＯからなる画素電極４が設けられている。画素電極４の所定の一部を含む一方のオーミックコンタクト層１１の上面にはソース電極１３が設けられている。他方のオーミックコンタクト層１２の上面にはドレイン電極１４が設けられている。ゲート絶縁膜８の上面の所定の箇所にはデータライン３がドレイン電極１４に接続されて設けられている。
【００１７】
ここで、ゲート電極７、ゲート絶縁膜８、半導体薄膜９、チャネル保護膜１０、オーミックコンタクト層１１、１２、ソース電極１３およびドレイン電極１４により、薄膜トランジスタ５が構成されている。
【００１８】
画素電極４の左辺部上面の所定の箇所には遮光膜１５がデータライン３と平行するように設けられている。遮光膜１５は、同一の材料（例えばクロム）により、データライン３、ソース電極１３およびドレイン電極１４の形成と同時に形成されている。画素電極４の所定の大部分を除く上面全体にはオーバーコート膜１６が設けられている。画素電極４およびオーバーコート膜１６の上面には配向膜１７が設けられている。なお、遮光膜１５は、導電性を有し、画素電極４と電気的に接続されているが、画素電極４以外とはどことも電気的に接続されていないので、別に支障はない。
【００１９】
ここで、図２に示すように、画素電極４の左下角部は切り欠かれ、この切り欠かれた部分に薄膜トランジスタ５のゲート電極７が配置されている。そして、薄膜トランジスタ５のゲート電極７は、画素電極４の下側に配置された走査ライン２に接続されている。薄膜トランジスタ５のドレイン電極１４は、画素電極４の左側に配置されたデータライン３に接続されている。
【００２０】
画素電極４との間で補助容量部を形成するための補助容量ライン６は、基本的には、当該画素電極４の上側に配置されているが、この実施形態では、当該画素電極４の上辺部に対応する位置において走査ライン２と平行するように設けられたライン部６ａと、このライン部６ａから当該画素電極４の左辺部および右辺部に沿ってそれぞれ引き出された引出部６ｂ、６ｃとからなっている。
【００２１】
この場合、ライン部６ａのうちの当該画素電極４と対応する部分の下側は当該画素電極４の上辺部と重ね合わされている。左側の引出部６ｂの右側は当該画素電極４の左辺部と重ね合わされている。右側の引出部６ｃの左側は当該画素電極４の右辺部と重ね合わされている。そして、これらの重ね合わされた部分により補助容量部が形成されている。
【００２２】
なお、左側の引出部６ｂは、当該画素電極４の左側に配置された画素電極４の右側の引出部６ｃと一体となっている。右側の引出部６ｃは、当該画素電極４の右側に配置された画素電極４の左側の引出部６ｂと一体となっている。
【００２３】
遮光膜１５の上端部は補助容量ライン６のライン部６ａの下側と重ね合わされている。遮光膜１５の左側は補助容量ライン６の左側の引出部６ｂの右側と重ね合わされている。そして、これらの重ね合わされた部分と、遮光膜１５における補助容量ライン６のライン部６ａの下側からはみ出した部分および左側の引出部６ｂの右側からはみ出した部分により、遮光膜１５と補助容量ライン６との間からの光漏れが防止されている。
【００２４】
一方、対向基板２１の下面にはブラックマトリクス２２、カラーフィルタ２３、対向電極２４および配向膜２５が設けられている。そして、アクティブ基板１と対向基板２１とは図示しないシール材を介して貼り合わされ、その各配向膜１７、２５間には液晶２６が封入されている。
【００２５】
ここで、図２において画素電極４よりもやや小さめの二点鎖線で示すものは、対向基板２１のブラックマトリクス２２の開口部２２ａを示す。この場合、遮光膜１５の上端および左端は、図２において開口部２２ａの縁部よりもやや内側に位置するように図示しているが、開口部２２ａの縁部と同じ位置であってもよい。
【００２６】
ところで、この液晶表示装置が捩じれネマティク型である場合には、ある条件下において、すなわち、アクティブ基板１の配向膜１７のラビング方向が図２において実線の矢印で示すように平面的に見て左上から右下に向かう方向であり、対向基板２１の配向膜２５のラビング方向が図２において点線の矢印で示すように平面的に見て左下から右上に向かう方向であると、画素電極４の左辺部にディスクリネーションが発生する。
【００２７】
しかし、このディスクリネーション発生領域は、画素電極４の左辺部と重ね合わされた補助容量ライン６および遮光膜１５によって十分に遮光される。この場合、ディスクリネーション発生領域が大きくなっても、それに応じて遮光膜１５の面積を大きくすればよく、ひいては補助容量の大きさを必要最小限とすることができ、且つ、ディスクリネーション発生領域を十分に遮光することができる。
【００２８】
ところで、遮光膜１５を設けずに、この遮光膜１５の役目をブラックマトリクス２２に持たせることが考えられる。この場合、図２において開口部２２ａの左縁部は遮光膜１５の右端に位置することになる。一方、アクティブ基板１上に形成する各パターンの合わせ精度は１μｍ未満であるのに対し、両基板１、２１の貼り合わせ精度は数μｍ単位である。この結果、図２において開口部２２ａの左縁部を遮光膜１５の右端に確実に位置させることはかなり困難であり、上記精度差を考慮すると、設計上、開口部２２ａの左縁部を遮光膜１５の右端よりもやや右側に位置させることとなり、開口率が低下し、好ましくない。
【００２９】
なお、上記実施形態では、遮光膜１５を画素電極４の左辺部上面の所定の箇所に設けているが、これに限らず、例えば、図３に示すこの発明の他の実施形態のように、画素電極４の左辺部下面の所定の箇所に画素電極４と接続して設けるようにしてもよい。この場合、一方のオーミックコンタクト層１１の上面にソース電極１１が設けられ、ソース電極１１の上面に画素電極４の一部が設けられている。そして、遮光膜１５は、同一の材料（例えばクロム）により、データライン３、ソース電極１３およびドレイン電極１４の形成と同時に形成されている。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】この発明の一実施形態としての液晶表示装置の要部の断面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置のアクティブ基板側の一部の透過平面図。
【図３】この発明の他の実施形態としての液晶表示装置の要部の断面図。
【符号の説明】
【００３１】
１  アクティブ基板
２  走査ライン
３  データライン
４  画素電極
５  薄膜トランジスタ
６  補助容量ライン
１５  遮光膜
１６  オーバーコート膜
１７  配向膜
２１  対向基板
２２  ブラックマトリクス
２２ａ  開口部
２３  カラーフィルタ
２４  対向電極
２５  配向膜
２６  液晶
【図１】
2007034090.tif 000003
【図２】
2007034090.tif 000004
【図３】
2007034090.tif 000005