(57)【要約】【課題】  付着した指紋が速やかに目立たなくなり、ディスプレイの良好な視認性を得ることができるディスプレイ用表面材及びそれを備えたディスプレイを提供する。【解決手段】  ディスプレイ用表面材１０は、ディスプレイの表面に配置されて用いられる。ディスプレイ用表面材１０を構成する透明基材１１の表面、該透明基材１１上に設けられる凹凸層１３の表面又は該凹凸層１３上に設けられる被覆層１６の表面は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍに設定される。さらに、透明基材１１、凹凸層１３又は被覆層１６中にはフッ素原子を含有しないか、又はフッ素原子の含有量が０．０５質量％以下に設定される。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイの表面に配置されて用いられるディスプレイ用表面材であって、透明基材の表面、該透明基材上に設けられる凹凸層の表面又は該凹凸層上に設けられる被覆層の表面がＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍであり、かつ透明基材、凹凸層又は被覆層中にはフッ素原子を含有しないか、又はフッ素原子の含有量が０．０５質量％以下であることを特徴とするディスプレイ用表面材。
【請求項２】
前記凹凸層は、下記（１）〜（３）の工程に基づいて設けられるものであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用表面材。
（１）アルミニウムアルコキシド、有機溶剤及びキレート化剤からなる混合溶液に水を加えてアルミナゾル液を調製する工程。
（２）前記アルミナゾル液を透明基材上に塗布し、乾燥してアモルファスアルミナよりなるアルミナ層を形成する工程。
（３）前記アルミナ層を、電気伝導率が２００μＳ／ｃｍ以下の温水に浸漬し、アルミナ層の表面を凹凸化する工程。
【請求項３】
表面に請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用表面材が配置されて構成されていることを特徴とするディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば自動現金引出し預け入れ装置（ＡＴＭ：Automatic Teller Machine）、現金自動支払機（ＣＤ：Cash Dispenser）、ナビゲーション装置等のディスプレイ（表示装置）の表面に設けられるディスプレイ用表面材及びそれを備えたディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の情報端末、例えば自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機、ナビゲーション装置、セキュリティーシステム端末、パーソナルコンピュータ等には、入出力部にディスプレイが装着されている。ところが、これらの情報端末の使用時には、ディスプレイの表面に指を触れて操作するため、その表面に皮脂等の生体由来脂質成分による指紋等（以下、単に「指紋」ともいう）が付着し、それが目で認識されて入出力の操作がし難くなっていた。
【０００３】
そのため、指紋がディスプレイの表面に付着するのを防止する対策が提案されている。例えば、加水分解性金属アルコキシド、それと反応するフッ素化合物及び密着性向上剤からなる表面処理剤が知られている（例えば、特許文献１を参照）。また、生体由来脂質成分に対する親油性を有する被膜よりなる汚れ目立ち防止被膜が知られている（例えば、特許文献２を参照）。
【特許文献１】再公表特許（国際公開）Ｗ０２００２／０７７１１６号公報（第２頁及び第５頁）
【特許文献２】特開２００１−３５３８０８号公報（第２頁及び第７頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載された表面処理剤では、指紋を拭き取りやすいという利点を有するが、指紋の主成分である脂質を完全には弾くことができず、指紋の付着による汚れが目立ち、ディスプレイ表面の視認性について実用レベルで満足できないという問題があった。一方、特許文献２に記載された汚れ目立ち防止被膜では、指紋を形成する脂質が被膜上に付着した後、拡散してそれが目立たなくなるまでには相当な時間を要する。従って、そのような汚れ目立ち防止被膜は、実用上の使用に適合するものではないという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明の目的とするところは、付着した指紋が速やかに目立たなくなり、ディスプレイの良好な視認性を得ることができるディスプレイ用表面材及びそれを備えたディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明における第１の発明のディスプレイ用表面材は、ディスプレイの表面に配置されて用いられるディスプレイ用表面材であって、透明基材の表面、該透明基材上に設けられる凹凸層の表面又は該凹凸層上に設けられる被覆層の表面がＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍであり、かつ透明基材、凹凸層又は被覆層中にはフッ素原子を含有しないか、又はフッ素原子の含有量が０．０５質量％以下であることを特徴とするものである。
【０００７】
第２の発明のディスプレイ用表面材は、第１の発明において、前記凹凸層は、下記（１）〜（３）の工程に基づいて設けられるものであることを特徴とするものである。
（１）アルミニウムアルコキシド、有機溶剤及びキレート化剤からなる混合溶液に水を加えてアルミナゾル液を調製する工程。
【０００８】
（２）前記アルミナゾル液を透明基材上に塗布し、乾燥してアモルファスアルミナよりなるアルミナ層を形成する工程。
（３）前記アルミナ層を、電気伝導率が２００μＳ／ｃｍ以下の温水に浸漬し、アルミナ層の表面を凹凸化する工程。
【０００９】
第３の発明のディスプレイは、表面に第１又は第２の発明のディスプレイ用表面材が配置されて構成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明のディスプレイ用表面材では、透明基材の表面、該透明基材上に設けられる凹凸層の表面又は該凹凸層上に設けられる被覆層の表面がＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍという微細な凹凸に設定されている。このため、ディスプレイ用表面材の表面に付着した指紋を形成する生体由来脂質成分が微細に形成された凹凸の凹部に速やかに入り込む結果、指紋が視認され難くなる。さらに、透明基材、凹凸層又は被覆層中にはフッ素原子が実質上ほとんど含まれておらず、フッ素原子に基づく生体由来脂質成分の液滴化が回避され、指紋が目立つのを抑制することができる。従って、付着した指紋が速やかに目立たなくなり、ディスプレイの良好な視認性を得ることができる。
【００１１】
第２の発明のディスプレイ用表面材では、ディスプレイ用表面材は、第１の発明において、凹凸層が前記（１）〜（３）の工程に基づいて設けられることから、第１の発明の効果に加えて、凹凸層の微細な凹凸を精度良く、容易に形成することができる。
【００１２】
第３の発明のディスプレイでは、表面に第１又は第２の発明のディスプレイ用表面材が配置されて構成されていることから、ディスプレイの表面で第１又は第２の発明の効果を奏することができ、ディスプレイの機能を十分に発揮させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。
本実施形態のディスプレイ用表面材１０は種々の態様に具体化されるが、代表的には図１（ａ）〜（ｄ）に示すように構成されている。図１（ａ）に示すように、透明基材１１上にはアルミナ層により表面に凹凸部１２を有する凹凸層１３が設けられるとともに、裏面には粘着剤層１４が設けられている。また、図１（ｂ）に示すように、上記図１（ａ）のディスプレイ用表面材１０において、透明基材１１と凹凸層１３との間には機能層１５が設けられている。図１（ｃ）に示すように、透明基材１１の表面がプラズマ放電によって凹凸状に形成されるとともに、裏面には粘着剤層１４が設けられている。図１（ｄ）に示すように、前記図１（ａ）のディスプレイ用表面材１０において、凹凸層１３の表面には指紋を形成する生体由来脂質成分になじむ樹脂による被覆層１６が設けられている。
【００１４】
前記透明基材１１としては、ガラス、透明樹脂等特に制限されるものではない。透明基材１１の形状としては、例えば板状、シート状、フィルム状等が採用されるが、生産性及び運搬性の点からフィルム状のものが好ましい。フィルムの厚さとしては１０〜５００μｍであることが透明性及び作業性の点より好ましい。また、フィルムとしては樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、再生セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン３元共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ナイロン、ポリエチレン、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ノルボルネン系樹脂等が挙げられる。これらの中では、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート等の透明性の高いものが好ましい。
【００１５】
前記透明基材１１、凹凸層１３及び被覆層１６の表面、つまり凹凸部１２は、透明基材１１、凹凸層１３及び被覆層１６の透明性を維持し、指紋による視認性の低下を抑制するために、表面粗さが次のように設定される。すなわち、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍに設定されている。これらの算術平均粗さ（Ｒａ）及び凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）は、原子間力顕微鏡により面積５μｍｘ５μｍの形状像を測定し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に従って測定される値である。好ましくはＲａが３０〜１５０ｎｍ、Ｓｍが１０〜５５０ｎｍであり、より好ましくはＲａが３５〜１００ｎｍ、Ｓｍが２０〜５００ｎｍである。
【００１６】
前記Ｒａが２０ｎｍより小さい場合又はＳｍが５ｎｍより小さい場合及び６００ｎｍより大きい場合には、指紋を形成する生体由来脂質成分とのなじみが不十分となり、指紋が目立ってしまう。一方、Ｒａが２００ｎｍより大きい場合には透明性が悪化する傾向にある。さらに、前記透明基材１１、凹凸層１３又は被覆層１６中にはフッ素原子を含有しないか、又はフッ素原子の含有量が０．０５質量％以下、好ましくは０．０１質量％以下に設定される。フッ素原子は、その影響を避けるため、全く含まないことが最も好ましい。言い換えれば、透明基材１１、凹凸層１３又は被覆層１６は、フッ素原子以外の原子で構成されるか、又はフッ素原子以外の原子の含有量が９９．９５質量％以上に設定される。
【００１７】
凹凸層１３を形成する成分は有機成分又は無機成分ともに特に制限なく使用することができる。しかしながら、凹凸層１３を形成する成分は汚れ成分となじむことで、より汚れ成分の目立ち防止につながるため、その表面エネルギーが３０〜７０ｍＮ／ｍであることが好ましい。この範囲を外れると、ディスプレイ用表面材１０の表面に付着した指紋を形成する生体由来脂質成分のなじみが極端に悪くなり、付着した生体由来脂質成分がはじかれることにより、付着した指紋がより見やすくなる現象を呈する。表面エネルギーについて具体的には、アルミナでは３８〜５０ｍＮ／ｍ、酸化シリコンでは３５ｍＮ／ｍ、ポリエチレンテレフタレートでは３９〜４７ｍＮ／ｍ等である。
【００１８】
前記凹凸層１３は、以下の３段階の工程を経て形成することが好ましい。
（１）アルミニウムアルコキシド、有機溶剤及びキレート化剤からなる混合溶液に水を加えてアルミナゾル液を調製する工程。
【００１９】
（２）前記アルミナゾル液を透明基材上に塗布、乾燥してアモルファスアルミナよりなるアルミナ層を形成する工程。
（３）前記アルミナ層を、電気伝導率（導電率）が２００μＳ／ｃｍ以下の温水に浸漬し、アルミナ層の表面を凹凸化する工程。
【００２０】
前記（１）工程におけるアルミニウムアルコキシドとしては、例えばアルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム-n-ブトキシド、アルミニウム-sec-ブトキシド、アルミニウム-tert-ブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート等が挙げられる。
【００２１】
キレート化剤としては、例えばアセチルアセトン、ジピバロイルメタン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン等のβ−ジケトン化合物類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸−ｉｓｏ−プロピル、アセト酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル、アセト酢酸−ｉｓｏ−ブチル、アセト酢酸−２−メトキシエチル、３−ケト−ｎ−バレリック酸メチル等のβ−ケトエステル化合物類；さらには、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類等が挙げられる。
【００２２】
有機溶剤としては、アルコール類、脂肪族系又は脂環族系の炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、ケトン類、エーテル類、塩素化炭化水素類、非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。これらの有機溶剤のうち、アルミナゾル液の安定性の観点からアルコール類を使用することが好ましい。
【００２３】
また、アルミニウムアルコキシドとキレート化剤からアルミナゾル液を調製する際には、水を添加する。水の添加量は特に制限されないが、アルミニウムアルコキシド１モルあたり１〜４モル程度にすることが好ましい。水を前記混合溶液に直接添加してもよいが、有機溶剤との混合液を添加する方が好ましい。
【００２４】
前記アルミナゾル液には、アルコキシ基の加水分解を促進したり、脱水縮合反応を促進するための触媒を添加することができる。触媒の代表的なものとしては、硝酸、塩酸、硫酸、燐酸、酢酸、アンモニア等が挙げられる。触媒類の添加量としては、幅広く設定できるが、アルミニウムアルコキシド１モルに対して、０．０００１〜１モルであることが好ましい。
【００２５】
さらに、アルミナゾル液に、必要に応じて水溶性有機高分子、界面活性剤又は無機塩を添加することができる。水溶性有機高分子は、温水への浸漬によってゲル膜中から容易に溶出し、これにより温水との反応表面積が増大し、低温かつ短時間での微細凹凸の形成を可能にすることができる。また、添加する水溶性有機高分子、界面活性剤又は無機塩の種類や分子量を変化させることにより、形成される微細凹凸組織の形状を制御することが可能になる。
【００２６】
アルミニウムアルコキシド、有機溶剤、キレート化剤及び水の好ましい混合割合（モル比）としては、アルミニウムアルコキシド：有機溶剤：キレート化剤：水＝１：１〜１００：０．５〜２：０〜５である。
【００２７】
また、（２）工程における乾燥条件としては、室温で３０分程度である。必要に応じ、加熱して乾燥させることも可能である。
さらに、（３）工程では、作製したアモルファスアルミナよりなるアルミナ層を温水に浸漬することによりアルミナ層の表面に微細な凹凸を形成することができる。温水に使用する水の電気伝導率は好ましくは２００μＳ／ｃｍ以下、さらに好ましくは１５０μＳ／ｃｍ以下、最も好ましくは１００μＳ／ｃｍ以下である。温水の電気伝導率を２００μＳ／ｃｍ以下に設定することで、アモルファスアルミナ層からアモルファスアルミナが溶け出しやすくなり、温水中で結晶化されアモルファスアルミナ層の表面に付着されやすくなるものと推測される。温水の電気伝導率が２００μＳ／ｃｍより大きい場合には、微細な凹凸部１２の形成が阻害されやすくなる。また、温水の温度は好ましくは２０〜１００℃、より好ましくは５０〜１００℃である。温水の温度は、透明基材１１の耐熱性等を考慮して決定されるが、温度が低いほど凹凸部１２を完全に形成するためには長い時間を必要とする。なお、アルミナ層よりなる凹凸層１３の厚さは任意に設定されるが、５〜１０００００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
次に、凹凸部１２を形成する第２の方法として、透明基材１１の少なくとも片面に無機硬質層を形成する工程と、該無機硬質層の表面を炭素及びフッ素を含むガス中でプラズマ放電処理を行い、微小な凹凸部１２を形成する方法が挙げられる。前記無機硬質層としては、シリコンを含む酸化膜又は窒化膜であることが好ましい。それらをターゲットとしたスパッタリング法により透明基材１１上に無機硬質層を作製することができる。
【００２９】
無機硬質層の厚さは０．０２〜１０μｍであることが好ましい。無機硬質層の厚さがこの範囲であれば、層の可視光域での光透過性を妨げることがない。得られた無機硬質層表面を凹凸化するプラズマ放電処理は放電電力密度０．５〜２０ｗ／ｃｍ２の強度にて１〜２０分間処理を行う。放電電力密度及び処理時間がこの範囲を越えると、凹凸部１２が大きくなり過ぎて、透明性が悪化する。
【００３０】
続いて、凹凸部１２を形成する第３の方法として、金属アルコキシド、コロイダルシリカ、シラン化合物、希釈溶剤及び水を含む混合液を透明基材上に塗布し、加熱する方法が挙げられる。金属アルコキシドを形成する金属又は半金属（準金属）の種類としては、アルミニウム、ケイ素、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、亜鉛、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、カドミウム、タンタル等のアルコキシドを形成し得る金属が挙げられる。
【００３１】
また、アルコキシドの種類は特に限定されず、例えばメトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド等が挙げられ、さらにはアルコキシ基の一部をβ−ジケトン、β−ケトエステル、アルカノールアミン、アルキルアルカノールアミン等で置換したアルコキシド誘導体であってもよい。金属アルコキシドとして具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、アルミニウムブトキシド、チタンイソプロポキシド等が好ましく、この中でもテトラエトキシシランが常温で液体であり、汎用性の面から特に好ましい。
【００３２】
コロイダルシリカは、薄層表面に微細な凹凸部１２を形成させるために用いられるものであり、その平均粒子径は通常１〜１５０ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍである。コロイダルシリカは、例えば高分子無機珪酸の超微粒子を水又は有機溶剤中に分散せしめたコロイド溶液として入手でき、代表例として日産化学工業（株）製の「スノーテックス」、触媒化成工業（株）製の「ＯＳＣＡＬ」等を挙げることができる。コロイダルシリカの添加量は、上記金属アルコキシドに対して、通常１０〜７０質量％、好ましくは２０〜６０質量％である。コロイダルシリカの添加量が１０質量％未満の場合には表面に微細な凹凸部１２を十分に形成することができず、７０質量％より多い場合には被膜の強度が低下する傾向にある。
【００３３】
シラン化合物としては、フッ素原子を含まない公知のものを使用することができる。シラン化合物として好ましくは、指紋を形成する生体由来脂質成分となじみやすいという観点から長鎖アルキル基含有シラン化合物である。
【００３４】
希釈溶剤は混合液を均質なものにし、加水分解反応を円滑に進行させるためのものであり、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類等の有機溶剤が主に用いられる。その他に、金属アルコキシドを溶解するエチレングリコール、エチレンオキシド、トリエタノールアミン、キシレン等の有機溶剤も使用され、金属アルコキシドを溶解するものであれば制限されない。
【００３５】
水は金属アルコキシドを加水分解するために必要である。添加量としては特に制限されないが、金属アルコキシドに対して２倍モル量以上添加することが好ましい。金属アルコキシドの加水分解反応を促進させる目的で触媒を加えることができる。そのような触媒として例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸等の酸が使用され、アルカリとしては処理後に揮発により除去できるアンモニアが使用される。
【００３６】
さらに、金属アルコキシドの加水分解時におけるキレート化剤を添加することができる。係るキレート化剤として例えばアセチルアセトン、ジピバロイルメタン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタン等のβ−ジケトン化合物類；アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸tert―ブチル、アセト酢酸イソブチル、アセト酢酸２−メトキシエチル、３−ケト−ｎ−バレリック酸メチル等のβ―ケトエステル化合物類；さらには、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類等が挙げられる。
【００３７】
以上の混合液を透明基材１１上に塗布することにより、金属アルコキシドより形成された金属酸化物をマトリックスとし、その中にコロイダルシリカが分散され、表面に微細な凹凸が形成される。そして、コロイダルシリカの表面に存在する水酸基がマトリックスと反応することによりコロイダルシリカをマトリックス中に強固に固定し、さらにシラン化合物とも反応するため、指紋を形成する生体由来脂質成分とのなじみが良好である。その厚さは任意に設定できるが、５〜１０００００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００３８】
次いで、凹凸部１２を形成する第４の方法として、透明基材１１表面を直接プラズマエッチングすることにより微細な凹凸部１２を形成する方法が挙げられる。プラズマエッチングは、放電電力密度０．５〜２０ｗ／ｃｍ２の強度で１〜２０分間の条件にて行われる。放電電力密度及び処理時間がこの範囲を越えると、凹凸部１２が大きくなりすぎて、透明性が悪化する傾向を示す。
【００３９】
次に、凹凸部１２を形成する第５の方法として、高分子材料の溶剤による抽出を利用した方法が挙げられる。この場合、微細な凹凸部１２を形成するために、溶剤に溶解しないマトリックスとしての高分子材料と、溶剤に溶解する高分子材料が組合せて用いられ、後者はマトリックス中で微細に相分離している。後者の高分子材料としてブロック共重合体等が使用される。ブロック共重合体の製造方法、構成成分及び組成等は特に制限されず、常法に従って行われる。
【００４０】
次いで、凹凸部１２を形成する第６の方法として、型により透明基材１１上にその型の形状を直接転写するいわゆるナノプリント法を利用する方法が挙げられる。この方法は、まずシリコン基板等の表面に微小なパターンを有するスタンパを作製する。これとは別の基板上に透明樹脂フィルムを設ける。そして、加熱、加圧機構を有するプレス装置を用い、透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度にて、所定の圧力でスタンパを透明樹脂フィルム上にプレスする。その後、冷却、硬化させる。スタンパと基板を剥離して、スタンパの微細なパターンを基板上の透明樹脂フィルムに転写する。また、加熱成形する工程の代わりに、光硬化性樹脂を用い、成形後に、光硬化性樹脂に光を照射し、樹脂を硬化させてもよい。さらに、ガラス等の光透過性のスタンパを用い、プレス後に、光透過性のスタンパの上方より光を照射して、光硬化性樹脂を光硬化させてもよい。また、透明樹脂フィルム側から光を照射して硬化してもよい。
【００４１】
次に、前記透明基材１１と凹凸層１３との間には、一層以上の機能層を設けることができる。その機能としては、硬度の向上、耐擦傷性の向上、防眩性の向上、ニュートンリング（同心円状の明暗）の形成防止、密着性の向上、特定波長の光の遮断、導電性向上、帯電性の防止等の少なくとも一種が挙げられる。特に、硬度の向上、密着性及び耐擦傷性の向上を目的とした機能層を形成することが好ましい。この機能層は無機物、有機物又はそれらの混合物を用いて形成することができる。その厚さは０．００５〜１００μｍが好ましい。また、機能層の形成方法は特に限定されず、ドライコーティング法又はウェットコーティング法を用いることができる。
【００４２】
例えば、耐擦傷性を向上させるためには、透明基材１１と凹凸層１３の間の層の硬度を高くする方法と軟質化する方法とがある。前記機能層の材料としては、本発明の効果を損なわない限り特に限定されず、従来公知のものを使用することができる。例えば有機物、無機物及びその混合物を用いることができる。特に硬度を上げるために（例えば、ハードコート層用に）、架橋性の硬化性単量体を含むことが好ましい。硬化性単量体としては、加熱により又は紫外線、電子線等の活性エネルギー線照射により短時間に硬化するものが好ましい。硬化性単量体として例えば単官能又は多官能（メタ）アクリル酸エステル、テトラエトキシシラン等の珪素化合物が挙げられる。多官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）、テトラメチロールメタントリアクリレート（ペンタエリスリトールトトアクリレート）、トリメチロルプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコール誘導体、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンアクリレート等が挙げられる。また、無機物としてはシリカゲル超微粒子等を用いることができる。
【００４３】
次に、前記被覆層１６について説明する。この被覆層１６は、指紋を形成する生体由来脂質成分に良好ななじみ性を有する指紋なじみ層である。そのような生体由来脂質成分とのなじみが良好であることの指標として、被覆層１６を構成する樹脂の平坦膜でのオレイン酸に対する接触角を６０°以下に設定することが好ましく、５０°以下であることがより好ましく、１〜３５°であることが特に好ましい。接触角を６０°を越えると、生体由来脂質成分が被覆層１６上で微小液滴を形成しやすく、光がその微小液滴に反射して指紋が認識される傾向を示す。被覆層１６を構成する樹脂として、例えば活性エネルギー線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が使用可能である。その中でも、生産性及び諸物性の観点から活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。これらの樹脂は、フッ素原子以外の原子で構成され、フッ素原子を含まないものである。
【００４４】
活性エネルギー線硬化型樹脂を被覆層１６用のコーティング剤とする場合、そのコーティング剤の構成成分として重合性成分が必須である。すなわち、重合性成分は、単官能単量体、多官能単量体、（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー及び（メタ）アクリロイル基を有する重合体の中から一種又は二種以上が選択して使用される。その他必要に応じ、重合開始剤、（メタ）アクリロイル基を含まないオリゴマー、（メタ）アクリロイル基を含まない重合体、界面活性剤、希釈溶剤、光増感剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤等を添加してもよい。
【００４５】
熱可塑性樹脂をコーティング剤とする場合、そのコーティング剤構成成分は、上記活性エネルギー線硬化型樹脂の場合に用いられる単官能単量体を重合して得られる重合体、（メタ）アクリロイル基を含まない重合体が必須であり、その他として必要に応じ、界面活性剤、希釈溶剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤や酸化防止剤等を添加してもよい。
【００４６】
単官能単量体としては、公知の単官能単量体が全て使用可能であるが、効果的である単官能単量体として例えば次の単官能単量体が好ましい。すなわち、炭素数が１〜２０であるアルコールとのエステル化合物であり、さらにフッ素原子を含まない（メタ）アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、フマル酸エステル、炭素数が１〜１０であるアミンとのアミド化合物であり、フッ素原子を含まない（メタ）アクリル酸アミド、スチレン及びフッ素原子を含まない置換スチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン及びフッ素原子を含まない置換Ｎ−ビニル−２−ピロリドンが挙げられる。
【００４７】
具体的には以下の単官能単量体を例示することができる。すなわち、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸セチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ペンタメチルピペリジル、（メタ）アクリル酸ヘキサヒドロフタル酸エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピルフタル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、スチレン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミドを含むことが好ましい。
【００４８】
これら好ましい単官能単量体は、１種又は２種以上を用いることができるが、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂中に占める割合は、３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、７５質量％以上が最も好ましい。この割合が３０質量％未満では、生体由来脂質成分とのなじみが劣る傾向を示す。
【００４９】
多官能単量体としては、被膜強度向上や入手性の点から、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ジエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、トリ（メタ）アクリル酸ポリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール、ヘキサメチレンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、トリレンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、アダクト変性イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体が好ましい。
【００５０】
アクリル系官能基を含まないオリゴマーとしては、アクリルオリゴマー、ポリエステルオリゴマー、エポキシオリゴマー、ウレタンオリゴマー、ポリエーテルオリゴマー、アルキッドオリゴマー、ポリブタジエンオリゴマー、ポリチオールポリエンオリゴマー及びスピロアセタールオリゴマーの各オリゴマー、多価アルコールの多官能（メタ）アクリル酸エステルからなるオリゴマーが挙げられる。
【００５１】
（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマーとしては、上記オリゴマーに（メタ）アクリロイル基を付加させたオリゴマーが挙げられる。（メタ）アクリロイル基を含まない各種重合体としては、上記（メタ）アクリロイル基を含まないオリゴマーの重合体タイプが挙げられる。（メタ）アクリロイル基を有する重合体としては、上記（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマーの重合体タイプが挙げられる。
【００５２】
これらオリゴマー及び重合体については、各種機能を発揮させることができるように、又は隣り合う層との密着性を向上させることができるように選択することが好ましい。例えば、密着性について言えば、隣り合う層を形成している樹脂と親和性のある樹脂を選択することが好ましい。すなわち、前記活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂と親和性のある重合体と、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂と隣り合う層と親和性のある重合体の両重合体からなるブロック共重合体やグラフト共重合体等のセグメント化共重合体を選択するのがより好ましい。
【００５３】
重合開始剤としては、紫外線や光等の活性エネルギー線照射により重合を開始する公知の化合物が挙げられ、例えばベンゾフェノン類、アセトフェノン類、チオキサントン類が挙げられる。
【００５４】
活性エネルギー線硬化型樹脂をコーティング剤とする場合、重合性成分に対する重合開始剤の配合割合は、０．０１〜２０質量％であることが望ましい。この配合割合が０．０１質量％未満の場合には、同コーティング剤から得られる被膜が完全には硬化し難く、硬化が不十分となるため好ましくない。一方、２０質量％を越える場合には、硬化は十分であるが、それ以上の効果は望めず、不必要に多い量であり無駄である。
【００５５】
界面活性剤は、各種原料を配合したときの相溶化の目的や、被膜の平滑性を向上させる目的に用いられ、特に限定されないが、例えばポリシロキサン系化合物が挙げられる。ポリシロキサン系化合物としては直鎖状又は分岐状のポリジオルガノシロキサン系化合物が好ましく、ポリオルガノシロキサン基含有共重合体であってもよい。界面活性剤のコーティング剤中に占める配合割合は、通常０．０１〜１０質量％であり、０．０１〜５質量％が好ましい。この配合割合が１０質量％を越える場合には、相溶化又は被膜の平滑性を発現するのに必要以上の量であり意味がない。一方、０．０１質量％未満の場合には、十分な効果が得られなくなる傾向にあり好ましくない。
【００５６】
希釈溶媒は、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂を形成するためのコーティング剤を塗布する際に塗布液の粘度を調整するために用いられ、非重合性のものであれば特に限定されないが、例えばトルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルセルソルブ、エチルアルコール等が挙げられる。光増感剤としては、上記重合開始剤用の公知である物質が挙げられ、例えば、トリブチルアミン、トリエチルアミン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。
【００５７】
また、上記よりなるエネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂のうち、フッ素原子の占める割合が０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがさらに好ましく、全く含まないことが最も好ましい。この割合が０．０５％を越える場合には、フッ素原子は低表面自由エネルギー成分となり、ディスプレイ用表面材の最表面上で、生体由来脂質成分が微小液滴化する傾向となるため、付着した指紋が目立ち易くなって指紋付着後の視認性を低下させるため好ましくない。
【００５８】
上記被覆層１６形成用のコーティング剤を凹凸層１３上に塗布する方法としては、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、ハケ塗り法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンフローコート法、リバースコート法、キスコート法、コンマコート法等公知のいかなる方法でもよい。塗布に際しては、必要に応じて層間密着性を向上させるために、あらかじめコロナ放電等の何らかの前処理を施してもよい。
【００５９】
活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化に用いられる活性エネルギー線源としては、例えば、高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザ、電子線加速装置、放射性元素等の線源等が使用される。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ2未満の場合には、コーティング剤の硬化が不十分となるため、好ましくない。一方、５０００ｍＪ／ｃｍ2を越える場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂が着色する傾向を示すため、好ましくない。
【００６０】
前述のように透明基材１１の裏面に粘着剤層１４を形成することにより、ディスプレイ用表面材１０をタッチパネルの表面上に接着することが容易になる。このような粘着剤層１４を形成する粘着剤としては、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等を用いることができるが、透明性の点でアクリル系粘着剤を用いるのが好ましく、また再剥離性の点でシリコーン系粘着剤を用いるのが好ましい。これら粘着剤中には、粘着性樹脂成分のほか、可塑剤、粘着付与剤等を含ませることができるが、透明性を損なわないように使用することがより望ましい。
【００６１】
アクリル系粘着剤の主成分である粘着性樹脂としては、（メタ）アクリル酸のアルキルエステルと官能基含有不飽和単量体との共重合体が好ましい。（メタ）アクリル酸のアルキルエステルとしては、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソオクチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル等の炭素数が１〜１０のアルキル基のアルコールと（メタ）アクリル酸とのアルキルエステルが挙げられる。官能基含有不飽和単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等の官能基含有不飽和単量体との共重合体が挙げられる。ゴム系粘着剤の主成分である粘着剤としては、スチレン−ブタジエンランダム共重合体、スチレン−イソプレン系ブロック共重合体、天然ゴム等が挙げられる。これらの成分による粘着剤層の厚さは、５〜１００μｍであることが好ましい。
【００６２】
以上説明したディスプレイ用表面材１０は、ディスプレイの表面に配置されて使用される。ディスプレイとしては、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＬＣＤ（液晶表示装置）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）、ＥＬＤ（エレクトロルミネッセンスディスプレイ）、プロジェクションディスプレイ、タッチパネル及びタッチパネル付きのディスプレイのほか、ガラスケース、プラスチックケース等の展示用ディスプレイ等が挙げられる。
【００６３】
タッチパネルは上記のような各種ディスプレイに組み込まれた一体型の場合や、各種ディスプレイの表示面上に配置されるセパレート型がある。タッチパネルの方式としては公知の方式が何れも使用可能であり、特に限定されない。具体的には、超音波方式、抵抗膜方式、静電容量方式、電気歪み方式、磁気歪み方式、赤外線方式及び電磁誘導方式等の方式が挙げられる。消費電力及び製造コストの観点からは抵抗膜方式のタッチパネルが好ましく、分解能の観点からは電磁誘導方式のタッチパネルが好ましい。
【００６４】
図２（ａ）に示すように、抵抗膜方式のタッチパネル２０は、片面に透明導電性薄膜２１、２２が設けられた固定側（図中下側）及び可動側（図中上側）の透明樹脂シートよりなる基材２３、２４を透明導電性薄膜２１、２２同士が対向するように配置し、周囲を接着用補強材２５で接着して一定間隔を保持できるように構成されている。一方の透明導電性薄膜２１上には多数の絶縁スペーサ２６が点状に設けられ、対向する透明導電性薄膜２１、２２間が絶縁される構造となっている。上記基材２３、２４、透明導電性薄膜２１、２２、絶縁スペーサ２６等によりタッチパネル本体が構成されている。可動側の基材２４上には、前記ディスプレイ用表面材１０が設けられている。或いは、図２（ｂ）に示すタッチパネル２０は、図２（ａ）の構成において、可動側の基材２４表面には、粘着剤層１４によって透明基材１１が接着され、その表面に凹凸層１３が設けられている。そして、入力ペン２７又は指でディスプレイ用表面材１０を押圧することにより、可動側の透明導電性薄膜２２を固定側の透明導電性薄膜２１に接触させ電気的に導通させて入力できるように構成されている。
【００６５】
電磁誘導方式のタッチパネル２０は、図３に示すように、基材２４の表面には、粘着剤層１４によって透明基材１１が接着され、その表面に凹凸層１３が設けられている。基材２４の裏面には液晶素子（ＬＣＤ）に受信回路が張り巡らされたペン位置検出器２８が設けられて構成されている。さらに、図示しない送信コイルが内蔵された電磁型の入力ペン２７が備えられている。そして、入力ペン２７で凹凸層１３を押圧することにより、電磁誘導が引き起こされて発生した電磁波がペン位置検出器２８で検出されて入力位置が記録されるように構成されている。前記抵抗膜方式及び電磁誘導方式のいずれのタッチパネル２０においても、入力操作等に際して指、手等がディスプレイ用表面材１０の表面に接触し、生体由来脂質成分が付着する。
【００６６】
ディスプレイ表面の視認性を損なわないという観点から、全光線透過率は好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上である。全光線透過率が８０％未満であると、ディスプレイ表面に暗さを感じ、視認性が悪くなる。また、ヘイズ値は好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。ヘイズ値が５％を越える場合、不透明感を感じて視認性が悪くなる。
【００６７】
さて、本実施形態の作用について説明すると、ディスプレイ用表面材１０は、例えば透明基材１１の表面にアルミナ層よりなる凹凸層１３を形成し、それを温水に浸漬して表面を凹凸化することにより製造される。その凹凸層１３の表面には、算術平均粗さ（Ｒａ）が２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）が５〜６００ｎｍという微細な凹凸部１２が形成されている。このディスプレイ用表面材１０をディスプレイとしてのタッチパネル２０表面に配置して使用する場合、ディスプレイ用表面材１０の表面を入力ペン２７で押圧することでタッチパネル２０の操作が行われる。この操作に際して指等がディスプレイ用表面材１０の表面に接触する。
【００６８】
従って、ディスプレイ用表面材１０の表面には指紋を形成する生体由来脂質成分が付着し、タッチパネル２０の視認性が低下する。ところが、ディスプレイ用表面材１０の表面には前記のようなナノオーダーの微細な凹凸部１２が形成されていることから、指紋を形成する生体由来脂質成分がその凹凸部１２の凹部１２ａに毛細管現象によって速やかに入り込む。従って、指紋の生体由来脂質成分による乱反射が抑えられ、指紋が視認されなくなってタッチパネル２０の画像の視認性を向上させることができる。
【００６９】
以上の実施形態によって発揮される効果について、以下にまとめて記載する。
・  本実施形態のディスプレイ用表面材１０では、透明基材１１の表面、該透明基材１１上に設けられる凹凸層１３の表面又は該凹凸層１３上に設けられる被覆層１６の表面がＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として２０〜２００ｎｍ、凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）として５〜６００ｎｍという微細な凹凸に設定されている。このため、ディスプレイ用表面材１０の表面に付着した指紋を形成する生体由来脂質成分が微細に形成された凹凸部１２の凹部１２ａに迅速に入り込む結果、指紋が視認され難くなる。さらに、透明基材１１、凹凸層１３又は被覆層１６中にはフッ素原子が実質上ほとんど含まれておらず、フッ素原子に基づく生体由来脂質成分の液滴化が回避され、指紋が目立つのを抑制することができる。従って、付着した指紋が速やかに目立たなくなり、ディスプレイの良好な視認性を得ることができる。
【００７０】
・  また、上記の凹凸層１３が前記（１）〜（３）の工程に基づいてアルミナ層によって形成されることにより、凹凸層１３の微細な凹凸部１２を精度良く、容易に形成することができる。しかも、凹凸部１２を実用強度をもって、広い面積で形成することができる。
【００７１】
・  さらに、タッチパネル２０等のディスプレイの表面に、前述のディスプレイ用表面材１０を備えることにより、ディスプレイの表面でディスプレイ用表面材１０の効果を奏することができ、ディスプレイの機能を十分に発揮させることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明する。各例における指紋視認性評価、表面粗さ並びに全光線透過率及びヘイズ値は次に示す方法によって測定した。
【００７３】
１）指紋視認性評価
基材とその上に形成した被膜上に跨るように指紋を付着させ、基材側に付着した指紋との比較により、その視認性について目視による官能評価を下記の５段階にて行った。
【００７４】
５：全く見えない、４：指紋の一部が薄く見える、３：基材側より薄いが指紋が見える、２：基材側と同程度に指紋が見える、１：基材側より指紋が濃く見える。
２）表面粗さ
原子間力顕微鏡（セイコインスツルメント社製、商品名：ＳＰＡ  ４００）を用いて縦５μｍ、横５μｍの範囲を測定し、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４の規定に基づいて算術平均粗さ（Ｒａ）及び凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）を算出した。
【００７５】
３）全光線透過率及びヘイズ値
直読ヘイズメーター〔東洋精機製作所社製、商品名：直読ヘイズメーター（Ｎｏ．２０６）〕を使用して、全光線透過率（％）及びヘイズ値（％）を測定した。
（実施例１）
アルミニウム-sec-ブトキシド［Ａｌ（Ｏ−ｓｅｃ−Ｂｕ）３］、イソプロピルアルコ−ル［ＩＰＡ］及びアセト酢酸エチル［ＥＡｃＡｃ］を混合、攪拌した。さらに、水とイソプロピルアルコールの混合液を加え、モル比で、Ａｌ（Ｏ−ｓｅｃ−Ｂｕ）３：ＩＰＡ：ＥＡｃＡｃ：Ｈ２Ｏ＝１：１０：１：４の割合とし、約１時間室温で攪拌しアルミナゾル液を調製した。
【００７６】
得られたアルミナゾル液を用いてディップコーティングし、さらに乾燥して透明基材１１として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基板上にアモルファスアルミナよりなるアルミナ層を作製した。次いで、６０℃に調製した電気伝導率１．５μＳ／ｃｍの温水中にアルミナ層を１時間浸漬した後、１５０℃オーブンにて乾燥し、凹凸層１３を得た。その凹凸層１３の厚さは２００ｎｍであった。
【００７７】
凹凸層１３表面の算術平均粗さ（Ｒａ）及び凹凸間の平均間隔（Ｓｍ）はそれぞれ、３９ｎｍ及び３０８ｎｍであった。次に、ＰＥＴフィルムの凹凸部１２と反対側の面に、シリコーン系粘着剤による粘着剤層１４を形成し、ディスプレイ用表面材１０を作製した。得られたディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。さらに、このディスプレイ用表面材１０がタッチパネル本体の前面に貼り合わされたタッチパネル２０を作製した。
（実施例２）
透明基材１１としてＰＥＴフィルムの代わりにガラス基板を使用する以外は実施例１と同様の操作にて製膜を行い、ディスプレイ用表面材１０を作製し、さらにタッチパネル２０を作製した。形成された凹凸層１３の厚さ、Ｒａ及びＳｍはそれぞれ、２１０ｎｍ、３８ｎｍ及び３４０ｎｍであった。また、ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例３、透明基材１１と凹凸層１３との間に機能層１５としてのハードコート層を形成）
ハードコート液として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０質量部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０質量部、１，６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン１０質量部、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバガイギー（株）製）４質量部、イソプロパノール１００質量部を混合して調製した。そのハードコート液を厚さが１００μｍのＰＥＴフィルムの上にバーコーターで乾燥膜厚が４μｍ程度になるように塗布し、紫外線照射装置（岩崎電気（株）製）により１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化し、ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。このハードコート処理ＰＥＴフィルムを透明基材１１として使用した以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル２０を作製した。形成された凹凸層１３の膜厚、微小な凹凸のＲａ及びＳｍはそれぞれ、２１０ｎｍ、４５ｎｍ及び３１０ｎｍであった。また、ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例４、凹凸層１３表面に被覆層１６を形成）
メチルメタクリレート（ＭＭＡ）の単独重合体をラジカル重合により合成し、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（表面張力：４５ｍＮ／ｍ）を得た。その１％メチルエチルケトン溶液を調製し、コーティング液とした。そのコーティング液を実施例１で得られたディスプレイ用表面材１０の表面にコーティングすること以外は実施例１と同様にしてディスプレイ用表面材１０及びタッチパネル２０を作製した（フッ素含有量：０％）。形成された凹凸層１３のＲａ及びＳｍはそれぞれ、４０ｎｍ及び３０５ｎｍであった。また、ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例５）
まず、ＰＥＴフィルムを真空容器内に入れ、０．６Ｐａに保持したアルゴンガス中で、ＲＦ放電電力５００ＷでＳｉＯ２ターゲットをスパッタリングし、ＰＥＴフィルム上に厚さ３μｍの酸化シリコン膜を形成した。その酸化シリコン膜の表面を炭素及びフッ素を含むガスをＰＥＴフィルムの表面にシャワー状に供給しながら、放電電力密度１．５Ｗ／ｃｍ2のプラズマ放電によって酸化シリコン膜上を５分間エッチングし、凹凸層１３を形成した。
【００７８】
形成された凹凸層１３のＲａ及びＳｍはそれぞれ、１００ｎｍ及び３５０ｎｍであった。次に、ＰＥＴフィルムの凹凸部１２と反対側の面に、アクリル系粘着剤による粘着剤層１４を形成し、ディスプレイ用表面材１０を作製した。さらに、このディスプレイ用表面材１０がタッチパネル本体の前面に貼り合わされたタッチパネル２０を作製した。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例６）
テトラエトキシシラン１００．０質量部、コロイダルシリカ（日産化学（株）製、商品名：スノーテックＩＰＡ−ＳＴ、３０％イソプロパノール溶液、平均粒径：１２ｎｍ）５０．０質量部、オクタデシルトリエトキシシラン２５．０質量部及び０．１Ｎ塩酸水溶液１９．３質量部を攪拌して混合液を得た。それをディップコーティング法により厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に製膜し、１００℃にて１時間加熱した。形成された凹凸層１３の厚さ、Ｒａ及びＳｍはそれぞれ、２５０ｎｍ、５０ｎｍ及び３０７ｎｍであった。次に、ＰＥＴフィルムの凹凸部１２と反対側の面に、シリコーン系粘着剤による粘着剤層１４を形成し、ディスプレイ用表面材１０を作製した。このディスプレイ用表面材１０がタッチパネル本体の前面に貼り合わされたタッチパネル２０を作製した。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例７）
厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面に酸素を含むガスをシャワー状に供給しながら、放電電力密度１．５Ｗ／ｃｍ2のプラズマ放電によって５分間エッチングし、凹凸層１３を形成した。形成された凹凸層１３のＲａ及びＳｍはそれぞれ、３５ｎｍ及び３６０ｎｍであった。次に、ＰＥＴフィルムの凹凸部１２と反対側の面に、アクリル系粘着剤による粘着剤層１４を形成し、ディスプレイ用表面材１０を作製した。さらに、このディスプレイ用表面材１０がタッチパネル本体の前面に貼り合わされたタッチパネル２０を作製した。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（実施例８）
一辺が２００ｎｍの正方形で深さ４００ｎｍの凹所がピッチ２００ｎｍで均等に並んだパターンを有するスタンパをシリコンウエハ上に作製した。スタンパを、透明基材１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上にセットした。次に、０．１Ｔｏｒｒ以下に減圧後、１５０℃に加熱し、１２ＭＰａの圧力で１０分間保持し、ＰＥＴフィルム上にスタンプし、１００℃以下になるまで放冷後、大気開放を行い、ＰＥＴフィルム上に凹凸層１３を作製した。
【００７９】
形成された凹凸層１３のＲａ及びＳｍはそれぞれ、１９８ｎｍ及び４０５ｎｍであった。次に、ＰＥＴフィルムの凹凸部１２と反対側の面に、アクリル系粘着剤による粘着剤層１４を形成し、ディスプレイ用表面材１０を作製した。さらに、このディスプレイ用表面材１０がタッチパネル本体の前面に貼り合わされたタッチパネル２０を作製した。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表１に示した。
（比較例１）
メチルメタクリレート（ＭＭＡ）９９．８質量％とパーフルオロオクチルエチルアクリレート（ＦＡ）０．２質量％との共重合体をメチルエチルケトンに１質量％となるように溶解し、コーティング液とした。そのコーティング液により、実施例１で得られたディスプレイ用表面材１０の表面を処理すること以外は実施例１と同様にしてタッチパネル２０を作製した（コーティング液による凹凸層１３のフッ素原子の含有量：０．１２質量％）。形成された凹凸層１３のＲａ及びＳｍはそれぞれ、３７ｎｍ及び３００ｎｍであった。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表２に示した。
（比較例２）
処理する温水の電気伝導率が２５０μＳ／ｃｍである以外は実施例１と同様な手法にてディスプレイ用表面材１０を作製した。凹凸層１３の厚さ、表面のＲａ及びＳｍはそれぞれ、２１０ｎｍ、３ｎｍ及び１４０ｎｍであった。このディスプレイ用表面材１０をタッチパネル本体の前面に貼り合わせてタッチパネル２０を作製した。前記ディスプレイ用表面材１０について、指紋視認性評価並びに全光線透過率及びヘイズ値の測定を行い、それらの結果を表２に示した。
【００８０】
【表１】
2007034027.tif 000003
【００８１】
【表２】
2007034027.tif 000004
表１に示した結果より、実施例１〜８では指紋視認性評価が良好であった。実施例４では凹凸層１３の上に指紋になじむ被覆層１６を設けたことから、実施例１〜３に比べて指紋視認性評価が向上した。また、実施例８では表面における凹凸層１３のＲａが１９８ｎｍで好ましい範囲を外れていたため、指紋視認性評価は実施例１〜７に比べて低下した。一方、表２に示した結果より、比較例１では凹凸層１３に含まれるフッ素原子の割合が０．１２質量％であったため、指紋視認性は指紋が基材側より濃く見える状態であった。さらに、比較例２では表面における凹凸のＲａが３ｎｍという小さい表面粗さであったため、指紋視認性は指紋が基材側と同程度に濃く見える結果であった。
【００８２】
なお、本実施形態は、次のように変更して実施することも可能である。
・  指紋以外の生体由来脂質成分に対してディスプレイ用表面材１０の視認性を向上させるように構成することができる。
【００８３】
・  透明基材１１の裏面に粘着剤層１４を設けることなく、接着剤等を用いてディスプレイ用表面材１０をディスプレイの表面に取付けるように構成することもできる。
さらに、前記実施形態より把握される技術的思想について以下に記載する。
【００８４】
・  前記被覆層は、指紋を形成する生体由来脂質成分に親和性を示す指紋なじみ層であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用表面材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果を向上させることができる。
【００８５】
・  前記透明基材と凹凸層との間には、ディスプレイ用表面材としての機能を発現する機能層を設けることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用表面材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果に加えて、機能層に基づく機能を発揮することができる。
【００８６】
・  前記透明基材の裏面には粘着剤層が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のディスプレイ用表面材。このように構成した場合、請求項１又は請求項２に係る発明の効果に加え、ディスプレイ用表面材をディスプレイの表面に容易に貼着することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は実施形態における４種類のディスプレイ用表面材を示す断面図。
【図２】（ａ）は抵抗膜方式のタッチパネルを模式的に示す断面図、（ｂ）は別の形態の抵抗膜方式のタッチパネルを模式的に示す断面図。
【図３】電磁誘導方式のタッチパネルを模式的に示す断面図。
【符号の説明】
【００８８】
１０…ディスプレイ用表面材、１１…透明基材、１２…凹凸部、１３…凹凸層、１６…被覆層、２０…ディスプレイとしてのタッチパネル。
【図１】
2007034027.tif 000005
【図２】
2007034027.tif 000006
【図３】
2007034027.tif 000007