(57)【要約】【課題】  簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化し、該表面上に均一な撥インク層を形成することができるノズルプレートの製造方法を提供すること。【解決手段】  ノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程とを有することをノズルプレートの製造方法。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、
該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項２】
前記撥インク膜が形成されたノズルプレート基材にレーザー光を照射することによりノズル孔を形成することを特徴とする請求項１に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項３】
前記撥インク膜が形成された面とは反対面に対してレーザー光を照射することによりノズル孔を形成することを特徴とする請求項２に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項４】
前記撥インク膜の上に保護シートを設け、前記撥インク膜が形成された面とは反対面に対してレーザー光を照射するとともに該保護シートを貫通しないことを特徴とする請求項３に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項５】
前記粗面化されたノズルプレート基材にノズル孔を形成する工程と、
該ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の該粗面化された表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを特徴とする請求項１に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項６】
ノズルプレート基材にノズル孔を形成する工程と、
該ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、
該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項７】
前記レーザー光が紫外線レーザー光であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項８】
前記ノズルプレート基材が樹脂であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のノズルプレートの製造方法により製造されたことを特徴とするノズルプレート。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のノズルプレートの製造方法により製造されたノズルプレートを有することを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート及びインクジェット記録ヘッドに関し、詳しくは、インクジェット記録ヘッドに用いられるノズルプレートの製造方法、ノズルプレート及びそれを有するインクジェット記録ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録ヘッドにおいて、ノズルプレートのノズル孔周縁部に不均一なインクの溜りがあると、吐出するインク滴が正規の飛翔方向から離脱したり、さらには上記インク溜りによりインク滴形成時のメニスカスの安定性が低下して吐出異常になり良好な記録が行なえなくなる。
【０００３】
このような問題を解決する手段として、ノズルプレートのノズル孔周囲の濡れ性を改善するために、ノズルプレートのノズル孔の周囲にフッ素系樹脂でできた撥インク剤を塗布し、ノズル孔周囲に撥インク膜を形成する技術も知られている。しかし、撥インク膜とノズルプレートの密着性が問題となっている。
【０００４】
そこで、ノズルプレートの表面をプラズマエッチングにより表面加工して微細な凹凸を形成し、該表面上に撥インク膜を形成する技術が開示されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平４−１７６６５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に開示されたプラズマエッチングによりノズルプレート表面に微細な凹凸を形成する技術では、表面の微細な凹凸が不均一になりやすく、その不均一な凹凸の上に均一な撥インク層を形成することができず、十分にインクをはじくことができない場合があった。
【０００６】
また、プラズマエッチングは、真空系の処理装置を用いるので、生産効率が低い。
【０００７】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化し、該表面上に均一な撥インク膜を形成することができ、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートの製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
また、簡易な工程により、ノズルプレートの表面が均一に粗面化され、該表面上に均一な撥インク膜が形成された、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートを提供することを目的とする。
【０００９】
また、簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化され、該表面上に均一な撥インク層が形成され、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の目的は、以下のような構成により達成される。
（１）
ノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、
該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
（２）
前記撥インク膜が形成されたノズルプレート基材にレーザー光を照射することによりノズル孔を形成することを特徴とする（１）に記載のノズルプレートの製造方法。
（３）
前記撥インク膜が形成された面とは反対面に対してレーザー光を照射することによりノズル孔を形成することを特徴とする（２）に記載のノズルプレートの製造方法。
（４）
前記撥インク膜の上に保護シートを設け、前記撥インク膜が形成された面とは反対面に対してレーザー光を照射するとともに該保護シートを貫通しないことを特徴とする（３）に記載のノズルプレートの製造方法。
（５）
前記粗面化されたノズルプレート基材にノズル孔を形成する工程と、
該ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の該粗面化された表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを（１）に記載のノズルプレートの製造方法。
（６）
ノズルプレート基材にノズル孔を形成する工程と、
該ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、
該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程と
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
（７）
前記レーザー光が紫外線レーザー光であることを特徴とする（１）乃至（６）のいずれか１つに記載のノズルプレートの製造方法。
（８）
前記ノズルプレート基材が樹脂であることを特徴とする（１）乃至（７）のいずれか１つに記載のノズルプレートの製造方法。
（９）
（１）乃至（８）のいずれか１つに記載のノズルプレートの製造方法により製造されたことを特徴とするノズルプレート。
（１０）
（１）乃至（８）のいずれか１つに記載のノズルプレートの製造方法により製造されたノズルプレートを有することを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化し、該表面上に均一な撥インク膜を形成することができ、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートの製造方法を提供することができる。
【００１２】
また、簡易な工程により、ノズルプレートの表面が均一に粗面化され、該表面上に均一な撥インク膜が形成された、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートを提供することができる。
【００１３】
また、簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化され、該表面上に均一な撥インク層が形成され、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッドを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に本発明に関する実施の形態の例を示すが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１６】
図１は本発明の製造方法で製造されたノズルプレート及び該ノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッドを示す概略説明図である。
【００１７】
本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、ノズルプレートのノズル孔からインク滴を吐出するように構成されたものであれば、インクを吐出するエネルギーを発生するための構造はどのようなタイプでもよいが、ここではインクチャネルを構成する側壁が分極された圧電性材料により形成され、この側壁に電界を印加することにより側壁をせん断変形させてインクチャネル内のインクを吐出する、いわゆるシェヤーモードタイプの記録ヘッドを例に挙げて説明する。
【００１８】
図１は、インクジェットヘッドの一例であるマルチチャネル型インクジェットヘッドの構造例を示す一部破断斜視図である。
【００１９】
同図において、１はヘッドチップ、２はノズルプレート、３はバックプレート、４はインクマニホールドである。
【００２０】
同図に示すヘッドチップ１は、アクチュエータ基板１１と、該アクチュエータ基板１１の上面に接合されたカバー基板１２とにより構成されている。
【００２１】
アクチュエータ基板１１は、電界を印加することにより変形を生じる２枚の圧電材料基板１１ａ、１１ｂを、分極方向を互いに反対に向けてエポキシ系接着剤等を用いて上下に接合されてなり、それら２枚の圧電材料基板１１ａ、１１ｂに亘って円盤状の砥石（ダイシングブレード）等の公知の研削機を用いて所定ピッチで互いに平行な複数列の溝が加工されることにより、チャネル１３と隔壁１４とが交互に形成されている。
【００２２】
各隔壁１４の壁面には該隔壁１４に電界を印加するための金属電極（図示せず）が形成されている。この金属電極の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、めっき法等の公知の手段を用いることができる。図示する態様では、隔壁１４は分極方向の異なる２枚の圧電材料基板１１ａ、１１ｂからなるため、各金属電極は、それら両圧電材料基板１１ａ、１１ｂを駆動させるべく、少なくとも各隔壁１４を構成している圧電材料基板１１ａ及び１１ｂに亘る側面の全面に形成されている。
【００２３】
カバー基板１２は、アクチュエータ基板１１のチャネル１３が形成されている上面にエポキシ系接着剤等を用いて接合される。このカバー基板１２には、アクチュエータ基板１１に用いられているものと同じ圧電材料基板を脱分極して使用すると、貼り合せた時にソリ、変形、熱膨張係数の差による剥離等が起こらないために好ましい。
【００２４】
ヘッドチップ１の前端面には、ヘッドチップ１の複数のチャネル１３に対応するように形成されたインク吐出用のノズル孔２１を有するノズルプレート２が、また、ヘッドチップ１の後端面には、インク導入孔３１を有するバックプレート３を介してチャネル１３内にインクを供給するインクマニホールド４が接着剤を用いてそれぞれ接合されている。
【００２５】
次に、本発明の特徴である上記ノズルプレート２の製造工程及び該ノズルプレート２を有するインクジェット記録ヘッドの製造工程について説明する。
【００２６】
第１の工程は、複数のノズルプレートが作製可能なシート状のノズルプレート基材の片面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程である。
【００２７】
ここで、複数のノズルプレートが作製可能な、というのは、インクジェット記録ヘッド複数個分の大きさであることを意味する。複数ヘッド分の大きさのノズルプレート基材に粗面化処理を効率的に行うことができる。予め、１枚分の大きさに加工されたノズルプレートに対して粗面化処理をしても良い。
【００２８】
図３には、シート状のノズルプレート基材２００が示されており、このノズルプレート基材２００は、３つのノズルプレート２ａ、２ｂ、２ｃに分割可能な大きさであり（図中の破線は、後述の切断加工の仮想線）、記録ヘッド３個分の大きさより若干大きなサイズを有している。
【００２９】
ノズルプレート基材２００の材料としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルイミド、ポリアミド、アロマティツクポリアミドなどの樹脂シートを好ましく用いることができる。金属、セラミック、ガラス、シリコン等の無機材料を用いることも可能である。本実施形態では、ポリイミドを用いている。
【００３０】
またノズルプレート基材２００はシート状に形成されるため、その厚さは、例えば５０〜１３０μｍの範囲が好ましい。
【００３１】
図２に示すように、ノズルプレート基材２００の表面２００Ａ側よりエキシマレーザー光３００を照射し、粗面化を行なう。この時の照射エネルギーは、ノズル孔の加工時の照射エネルギーより小さなエネルギーを照射し、レーザ加工機の光路中に用いられるマスクに開けられた開口は、ノズル穴加工時に用いたマスクの開口をより大きくしたものを用い、レーザー光が広い面積に照射されるようにする。即ち、エキシマレーザー光がノズルプレート基材２００全体に照射されるようなマスク４００を用いればよい。
【００３２】
また、粗面化処理は、撥インク膜が形成される領域と同等以上の領域に行えば良く、例えば、ノズルプレート基材のノズル孔の周囲のみに撥インク膜を形成する場合は、撥インク膜を形成する領域のみか、あるいは、それより広い領域、例えば本実施形態のようにノズルプレート基材全面に粗面化処理すればよい、後者の場合は、ノズル孔周辺が撥インク処理され、その回りが粗面化により親水化処理されたノズルプレートを容易に作製できる。
【００３３】
一般にノズルプレート基材２００として上述のような樹脂を用いた場合、それらの樹脂の分子間は強い結合力に結びついている。しかし、このレーザー光照射領域では、エキシマレーザー光の照射により分子間の結合が断ち切れた状態となり均一に粗面化される。この状態のノズルプレート基材２００の表面に、撥インク膜を形成すれば、均一な撥インク膜が形成できる。
【００３４】
レーザーとしては、エキシマレーザー、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー等が例示されるが、エキシマレーザー等の紫外線レーザーが好ましい。エキシマレーザー等の紫外線レーザーを使用して粗面化加工すると、前述のようにアブレーション加工と呼ばれる分子の結合を切って、物質を蒸散・除去させる加工が行われるため、従来の熱加工で見られる熱影響が無く、レーザー光を照射した箇所だけの高品質な加工が可能となる。
【００３５】
また、レーザー照射は、所定以上の酸素ガスの雰囲気下で、ノズルプレート基材２００Ａ側からレーザー光を照射し、粗面化することがこのましい。
【００３６】
酸素ガスは、孔加工面１ｃｍ2あたり０．１１／ｍｉｎ（２０℃）以上吹きかけながら、レーザー光を照射して加工することが好ましい。
【００３７】
レーザー光を照射してノズルプレート基材を粗面化する時に発生するススが酸化してできたガスを取り除き、レーザー光を照射して発生する飛散物の吹き出し部分に、常に消費される以上の酸素ガスを供給することが重要である。
【００３８】
また、レーザー光を照射して粗面化する時に発生するススが、所定以上の酸素ガスの雰囲気下で燃焼して除去され、粗面化後にノズルプレート基材を洗浄することが不要になり、その分加工コストを削減することができる。また、粗面化された凹みにススが詰まることがなくなり、粗面化の品質精度が向上する。
【００３９】
第２の工程は、該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程である。
【００４０】
図３に示すノズルプレート基材２００の粗面化された片面（図面では上面２００Ａ）は、撥インク膜が形成されるが、かかる撥インク膜の形成の方法としては、例えば撥インク剤のコーティングなどが採用される。コーティング剤としては、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡ、パーフルオロシクロポリマー等のフッ素樹脂が好ましい。
【００４１】
第３の工程は、前記ノズルプレート基材の撥インク処理面に保護シートの貼り付けを行う工程である。
【００４２】
図４に示すように、撥インク処理されたノズルプレート基材２００に、撥インク処理面２００Ａの面に粘着剤２０１を介して保護シート２０２を貼付けることによりノズルプレート材２０３を得る。なお、図４は、図３に示すＸ方向から見た図である。
【００４３】
保護シート２０２は、ノズルプレート基材２００より面積が大きく、ノズルプレート基材２００に貼り付けられた状態で、ノズルプレート基材２００からはみ出るタグ部２０２Ａ、２０２Ｂを有していることが好ましい。
【００４４】
タグ部２０２Ａ、２０２Ｂを有していると、その後の各工程でタグ部をつかんで作業ができるので、ノズルプレート基材２００の保護シートが無い側の汚れを低減できる。また最後の保護シートを剥離する際も、タグ部をつかんで容易に剥離することができる。
【００４５】
保護シート２０２としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が用いられ、厚さは、粘着剤２０１の厚さと保護シート２０２の厚さの合計で、例えば５０〜３００μｍの範囲が好ましく、１５０〜３００μｍがより好ましい。後述する切断工程やノズル孔加工工程においては、保護シート２０２を貫通させないことが重要であり、厚めに設定することが好ましい。また、保護シート２０２は、一枚のシートに限らず、シート材料を複数枚積層して所望の厚みになるように形成しても良い。
【００４６】
粘着剤２０１としては、ゴム系粘着剤が好ましく用いられる。
【００４７】
また、保護シート２０２は粘着剤付きシートであってもよく、その場合、紫外線照射等によって粘着力が低下する粘着剤付きシートであることが好ましい。保護シート２０２を剥離する時に、保護シートに紫外線を照射することで粘着剤の粘着力が低下し、容易に保護シート２０２のみを剥離することができ、作業性が向上する効果を有する。また撥インク膜上の粘着剤残りや、撥インク膜のはがれも防止できる。
【００４８】
また、保護シート２０２は、熱により粘着力が低下する粘着剤付きシートであることも好ましい。
【００４９】
このように熱や紫外線などの付加的処理により粘着力が低下する粘着剤で保護シート２０２を貼りつければ、剥離が容易になり、撥インク膿上の粘着剤残りや、撥インク膜のはがれも防止できる。
【００５０】
なお、この第３の工程は必ずしも必要ではないが、この第３の工程を有することにより、その後のノズル孔加工工程において、精度良くノズル孔を形成できるので好ましい。特に本発明の粗面化処理により、均一な撥インク膜が形成できるので、この保護シートとの密着性が向上し、精度良くノズル孔を形成できる。
【００５１】
第４の工程は、前記ノズルプレート基材を複数のノズルプレートに切断加工する工程である。
【００５２】
図５に示すように、ノズルプレート基材２００側からエキシマレーザー光２０５を照射し、ノズルプレート材２０３の外形の切断加工を保護シート２０２を貫通しない位置まで行う。この切断加工の位置３０５を基準として、その後のノズル孔加工を精度良く行うことができる。なお、図５は、図３に示すＸ方向から見た図である。
【００５３】
ノズルプレート２ａ、２ｂ、２ｃの外形加工に使用するレーザは、後述する孔加工と同様にエキシマレーザ等の紫外線レーザが適している。
【００５４】
なお、第１の工程で、予め、１枚分の大きさに加工されたノズルプレートに対して粗面化処理を行う場合は、この第４の工程は不要である。
【００５５】
第５の工程は、撥インク膜が形成されたノズルプレート基材にノズル孔加工を行う工程である。
【００５６】
図６に示すように、ノズルプレート材２０３の保護シート２０２の貼付面の反対面、即ちノズルプレート基材２００底面からノズル孔加工を行うことが好ましい。なお、図６は、ノズル孔２１の位置の断面を図３に示すＸ方向から見た図である。また、図６において、３個のノズル孔２１が表示されているが、紙面の奥行き方向に所定の間隔で、それぞれ７個のノズル孔が設けられ、計２１個のノズル孔２１が加工される。
【００５７】
ノズル孔加工は、レーザー加工により行うことが好ましい。本発明においては、ノズル孔加工の方法はレーザー加工以外に、プレス加工やエッチング加工など何でも良く、特に制限されない。
【００５８】
ノズルプレート材２０３のノズル孔加工に使用するレーザは、前述の理由によりエキシマレーザ等の紫外線レーザが適している。所定以上の酸素ガスの雰囲気下で、ノズルプレート基材２００側からエキシマレーザー光２０５を照射し、ノズルプレート基材２００、粘着剤２０１を貫通して保護シート２０２に至るまでノズル孔加工を行い、ノズル孔２１を形成する。この際、保護シート２０２を貫通しないようにすることで、その後の各工程でノズル孔２１内へのゴミの進入を低減することができる。
【００５９】
また、切断から孔加工までレーザー加工で連続的に行えるので効率が良い。
【００６０】
酸素ガスは、孔加工面１ｃｍ2あたり０．１１／ｍｉｎ（２０℃）以上吹きかけながら、エキシマレーザー光２０５を照射して加工することが好ましい。
【００６１】
エキシマレーザー光２０５を照射してノズル孔２１を加工する時に発生するススが酸化してできたガスを取り除き、レーザー光２０５を照射して発生する飛散物の吹き出し部分に、常に消費される以上の酸素ガスを供給することが重要である。このように、エキシマレーザー光２０５を照射して、ノズル孔２１がノズルプレート基材２００、粘着剤２０１を貫通して保護シート２０２にまで加工され、ノズル孔２１を高精度に加工することができる。
【００６２】
このように、エキシマレーザー光２０５を照射して、ノズル孔２１がノズルプレート基材２００、粘着剤２０１を貫通して保護シート２０２にまで加工されるが、ノズル孔２１の奥側端部２１ａを粘着剤２０１により保持した状態で加工することで、奥側端部２１ａが確実に切断された状態になりノズル孔２１を高精度に加工することが可能である。
【００６３】
また、エキシマレーザー光２０５を照射してノズル孔２１を加工する時に発生するススが、所定以上の酸素ガスの雰囲気下で燃焼して除去され、加工後にノズルプレート材２０３を洗浄することが不要になり、その分加工コストを削減することができる。また、ノズル孔２１にススが詰まることがなくなり、ノズル孔加工の品質精度が向上する。
【００６４】
なお、このノズル孔加工工程は、後述の第７の工程の後に行うようにしても良い。即ち、前記ノズルプレートをインク流路を有するアクチュエータ基板に接着する工程の後に、ノズルプレート基材にインク吐出側からレーザー光を照射することによりノズル孔を加工する。ノズル孔の位置とインクチャネルの位置との相対的な位置精度が向上する。
【００６５】
また、このノズル孔加工工程は、前述の第１の工程の前に行っても良い。この場合、ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化される。従って、ノズル孔の内面も同時に粗面化して親水化処理することができる。また、ノズル孔加工工程と粗面化工程を連続して行うことも可能になる。
【００６６】
また、このノズル孔加工工程は、前述の第１の工程と第２の工程の間に行っても良い。この場合、粗面化されたノズルプレート基材にノズル孔を形成することになる。この場合も、ノズル孔加工工程と粗面化工程を連続して行うことも可能になる。
【００６７】
このように、本発明においては、ノズル孔の加工の順番については特に制限しない。
【００６８】
第６の工程は、保護シート２０２を剥がすことにより、図７に示すように、３個分のノズルプレート２ａ、２ｂ、２ｃが得られる。
【００６９】
この第６の工程までが、ノズルプレートの製造工程である。
【００７０】
第７の工程は、前記ノズルプレート２の撥インク膜２０１が形成されていない側の面をインク流路を有するアクチュエータ基板に接着する工程である。
【００７１】
図８に示すように、第６の工程で得られた記録ヘッド１個分の大きさのノズルプレート２をアクチュエータ基板１１に貼り付ける。
【００７２】
該貼り付けは前記ノズルプレート２の撥インク膜２０１が形成されていない側の面をインク流路部材の一例であるアクチュエータ基板１１に接着することにより行う。
【００７３】
アクチュエータ基板１１とノズルプレート２との接合に用いられる接着剤には、大別して熱硬化型接着剤、例えば熱硬化エポキシ接着剤、熱可塑性樹脂接着剤、加熱硬化シリコーン接着剤、フェノール樹脂系接着剤、付加型シリコーン接着剤等と、常温硬化型接着剤、例えば２液混合エポキシ接着剤、紫外線硬化接着剤、シアノアクリレート接着剤、溶剤揮発型接着剤、ＲＴＶシリコーン接着剤等とがあり、本発明においてはそのいずれを用いることもできる。
【００７４】
以上のように、ノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程とを有することをノズルプレートの製造方法、あるいは、ノズルプレート基材にノズル孔を形成する工程と、該ノズル孔が形成されたノズルプレート基材の表面にレーザー光を照射することにより該表面を粗面化する工程と、該粗面化されたノズルプレート基材の表面に撥インク膜を形成する工程とを有することをノズルプレートの製造方法のいずれかにより本発明のノズルプレートが製造される。
【００７５】
このようなノズルプレートの製造方法により、簡易な工程により、ノズルプレートの表面を均一に粗面化し、該表面上に均一な撥インク膜を形成することができ、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れたノズルプレートの製造方法を提供することができる。
【００７６】
また、このようなノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッドは、ノズルプレートの表面が均一に粗面化され、該表面上に均一な撥インク層を形成されているので、撥インク膜の密着性及び撥インク性に優れ、インクの吐出安定性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】マルチチャネル型インクジェットヘッドの構造例を示す一部破断斜視図である。
【図２】ノズルプレート基材にエキシマレーザー光を照射し、粗面化処理する工程を示す図である。
【図３】ノズルプレート基材の粗面化処理された面に撥インク膜を形成する工程を示す図である。
【図４】撥インク膜の上に保護シートを貼り付ける工程を示す図である。
【図５】ノズルプレート基材をエキシマレーザーにより複数枚のノズルプレートに切断する工程を示す図である。
【図６】エキシマレーザー光によりノズル孔加工をする工程を示す図である。
【図７】保護シートを剥がし、複数枚のノズルプレートに分離する工程を示す図である。
【図８】ノズルプレートを記録ヘッドのアクチュエーター基板に接着する工程を示す図である。
【符号の説明】
【００７８】
１  ヘッドチップ
２  ノズルプレート
２１  ノズル孔
２１ａ  奥側端部
３  バックプレート
４  インクマニホールド
１１  アクチュエータ基板（インク流路部材）
１２  カバー基板
１３  チャネル（インク室）
１４  隔壁
２００  ノズルプレート基材
２００Ａ  撥インク処理面
２０１  粘着剤
２０２  保護シート
２０２Ａ、２０２Ｂ  タグ部
２０３  ノズルプレート材
３００  エキシマレーザー光
【図１】
2007069415.tif 000003
【図２】
2007069415.tif 000004
【図３】
2007069415.tif 000005
【図４】
2007069415.tif 000006
【図５】
2007069415.tif 000007
【図６】
2007069415.tif 000008
【図７】
2007069415.tif 000009
【図８】
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