(57)【要約】【課題】近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成し得る近赤外線吸収性組成物、及び、該組成物によって構成される近赤外線吸収材、並びに、このような近赤外線吸収材を用いた光学フィルターを提供する。【解決手段】近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、上記近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、
該近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含むことを特徴とする近赤外線吸収性組成物。
【請求項２】
前記吸収波長領域拡張化合物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を５％以上拡張する化合物であることを特徴とする請求項１記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項３】
前記吸収波長領域拡張化合物は、イオン性化合物であることを特徴とする請求項１又は２記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項４】
前記吸収波長領域拡張化合物は、ホウ酸イオンを有する塩であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項５】
前記吸収波長領域拡張化合物は、有機カチオンを有する塩であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項６】
近赤外線吸収色素と有機カチオンを有する塩とを含んで構成されることを特徴とする近赤外線吸収性組成物。
【請求項７】
前記有機カチオンは、有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダソリウム、キノリニウム、ピロリジニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることを特徴とする請求項５又は６記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項８】
前記有機カチオンは、電子吸引性基を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項９】
前記近赤外線吸収性組成物は、樹脂を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の近赤外線吸収性組成物によって構成されることを特徴とする近赤外線吸収材。
【請求項１１】
請求項１０記載の近赤外線吸収材を用いてなることを特徴とする薄型ディスプレー用光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収性組成物及び近赤外線吸収材に関する。より詳しくは、薄型ディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層を形成することができる近赤外線吸収性組成物及びこれにより構成される近赤外線吸収材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近赤外線吸収性組成物は、熱線である近赤外線を吸収する性質を有するフィルムやコーティング膜を形成することができるものである。このようなフィルムやコーティング膜は、近年注目されている大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ等に広く用いられており、重要な機能を有している。すなわちプラズマディスプレイ等においては、画面から近赤外線が放射されることから、これが近赤外線を利用するリモコン機器等の周辺の電子機器に作用して誤作動を起こす原因となる。プラズマディスプレイは、多くの層状の材料により形成されているが、近赤外線を吸収し、可視光線を透過する近赤外線吸収層を近赤外線吸収性組成物により形成することにより、画面から放射される近赤外線が遮断されることになる。
【０００３】
このような近赤外線吸収性組成物には、近赤外線吸収色素が含まれている。従来より、近赤外吸収色素としては、シアニン系、ポリメチン系、スクアリリウム系、ポルフィリン系、ジチオール金属錯体系、フタロシアニン系、ジイモニウム系等の色素が用いられている。特に、ジイモイウム系色素は波長９００ｎｍ以上の近赤外線の吸収能が高く、これは他の色素には見られない特徴であり、また、可視光線波長領域での透明性が高いことから広く用いられている。
【０００４】
しかしながら、ジイモニウム色素は、耐久性に劣ることが知られている。すなわち、プラズマディスプレイ等の電子機器等の用途においては、ジイモニウム系色素は、モジュールの前に設置されることから、熱、水分、光等の影響を受けやすく、変質してしまい、ジイモニウム系色素自身の近赤外線吸収能が低下する、黄色に着色する等の問題が生じることが知られている。このようなジイモニウム系色素の劣化は、ディスプレイとして使用する場合は、重大な問題となりうる。
【０００５】
これに対しては、ジイモニウム系色素の耐久性を向上し、近赤外線吸収性能を持続させるための技術が検討されてきた。このような技術としては、ジイモニウムカチオンに、シアノ置換アルキル基を有するアミノ基を置換基として導入したジイモニウム塩化合物が挙げられる（例えば、特許文献１参照。）。また、特定の化学構造式で示される少なくとも一種の化合物（ジイモニウム塩）を含有する近赤外線吸収フィルタが開示されている（例えば、特許文献２参照。）。これらは、ジイモニウム系色素が劣化することを抑制し、優れた耐熱性を発揮することができるようにしたものであるが、その耐久性向上の効果は、充分なものではなかった。
【０００６】
ところで、近赤外線吸収色素として、少なくともジイモニウム化合物、含フッ素フタロシアニン系化合物及びニッケル錯体系化合物のいずれか２種類以上の色素を含有し、更に、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系一次酸化防止剤及び燐系２次酸化防止剤を含有するポリマー組成物を基材上に積層してなる赤外線吸収フィルタが開示されている（例えば、特許文献３参照。）。これは、少なくとも２種類以上の近赤外線吸収色素が混合されていることで近赤外線領域に広く吸収があり、可視光線領域でも高い透過率を有し、熱的に安定な近赤外線吸収フィルタを提供するものである。また、特許文献４には、特定の構造を有するジイモニウム塩を含む近赤外線吸収色素が開示されている。これには、従来のジイモニウム色素よりも近赤外線の短波長側を吸収することができるため、別種の近赤外線吸収色素を加える必要がない旨が記載されている。しかしながら、これのみでは、近赤外線吸収波長領域の８００ｎｍ付近の吸収が充分ではなく、別の近赤外線吸収色素を複数添加することが必要であった。このように、近赤外線吸収色素の劣化を抑制して、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に好適に適用することができ、他に添加する近赤外線吸収色素の種類や添加量を低減し、より安価に近赤外線吸収領域の遮蔽性能を持続するためには、未だ工夫の余地があった。
【特許文献１】特開２０００−８００７１号公報（第１−２頁）
【特許文献２】特開２００３−９６０４０号公報（第１−２頁）
【特許文献３】特開平１１−２３１１２６号公報（第１−２頁）
【特許文献４】特開２００５−３２５２９２号公報（第１−２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成し得る近赤外線吸収性組成物、及び、該組成物によって構成される近赤外線吸収材、並びに、このような近赤外線吸収材を用いた光学フィルターを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、近赤外線吸収色素を含んでなり、プラズマディスプレイ等の電子機器等における近赤外線吸収層に適用することができる近赤外線吸収性組成物について種々検討したところ、プラズマディスプレイ等の電子機器からの熱や、近赤外線吸収性組成物中に含有される水分等が、近赤外線吸収層に含まれる近赤外線吸収色素を劣化させ、この近赤外線吸収色素の劣化により近赤外線の吸収能の低下や色素の着色等が生じること、及び、近赤外線の吸収能を防止するため複数の近赤外線吸収色素を用いると、経済上好ましいとはいえないことに着目した。そこで、このような問題を解決するために、近赤外線吸収色素に様々な化合物を加えた近赤外線吸収性組成物を調製し、近赤外線吸収色素の吸収能や該色素の耐久性、可視光線波長領域の透過率について検討したところ、特定の化合物と近赤外線吸収色素とを含む近赤外線吸収性組成物とすると、従来の近赤外線吸収色素よりも大幅に吸収領域が広いため、添加する他の近赤外線吸収色素の種類を減らすことができ、又は、近赤外線吸収色素の添加量を減らすことができることを見いだした。しかも、このような近赤外線吸収性組成物が耐久性等に優れることを見いだし、更に、この近赤外線吸収性組成物が、可視光線波長領域において高い透過率を有することも見いだした。すなわち、特定の化合物を含有することにより、近赤外線吸収性組成物中の近赤外線吸収色素の吸収波長領域を極めて拡張することができ、高い耐久性と可視光線領域での高い透過率とを両立することができることから、プラズマディスプレイ等の電子機器等における近赤外線吸収層に好適に適用することが可能であることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【０００９】
すなわち本発明は、近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収性組成物であって、上記近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物である。
本発明はまた、近赤外線吸収色素と有機カチオンを有する塩とを含んで構成される近赤外線吸収材組成物でもある。
以下に本発明を詳述する。
【００１０】
本発明の近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収色素と、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物又は有機カチオンを有する塩とを含んでなるものである。なお、これらの構成成分は、それぞれ、単独で使用されてもよいし、２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００１１】
上記近赤外線吸収性組成物において、上記近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張する化合物（本明細書中、「吸収波長領域拡張化合物」又は「拡張化合物」ともいう。）は、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を５％以上拡張する化合物であることが好ましい。吸収波長領域を５％以上拡張することにより、近赤外線吸収色素の添加量を削減することができ、また、複数の色素を用いることなく単独の色素で近赤外線吸収層を形成することができる。吸収波長領域を５％未満しか拡張できなければ、添加する色素の種類を減らすことができなかったり、色素の添加量を充分に削減することができず、コストダウンメリットが少ない。より好ましくは８％以上であり、更に好ましくは１０％以上である。この場合は、近赤外線吸収色素の添加量を削減できたり、また、複数の色素を用いることなく単独の色素で形成された近赤外線吸収性組成物をプラズマディスプレイ等の電子機器の近赤外線吸収層とすることができるため、簡便で確実に近赤外線吸収層を形成することができる。
【００１２】
上記吸収波長領域の拡張割合（％）は、以下のように計算することが好ましい。
拡張割合（％）＝（拡張化合物を添加した系の透過率３５％以下の近赤外線の吸収波長領域−拡張化合物を添加しない系の透過率３５％以下の近赤外線の吸収波長領域）／（拡張化合物を添加しない系の透過率３５％以下の近赤外線の吸収波長領域）×１００
【００１３】
上記吸収波長領域拡張化合物としては、近赤外線吸収色素の吸収波長領域を拡張することができる物質であれば特に限定されないが、有機カチオンを有する塩であることが好ましい。中でも、このような有機カチオンが、電子吸引性基を有するものであることがより好適である。これらの場合、従来の近赤外線吸収色素よりも大幅に吸収領域を拡張する効果を有するため、添加する他の近赤外線吸収色素の種類を減らすことができ、また、近赤外線吸収色素の添加量を減らすことができる。なお、有機カチオンを有する塩については、後述するとおりである。
【００１４】
上記拡張化合物はまた、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオンとしては特に限定されないが、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンズスルホン酸イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドイオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドイオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、トリフルオロメタンスルホンヘブタフルオロプロパンスルホンイミドイオン、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、１，３ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオン等の１種又は２種以上が使用できる。好ましくは、ホウ酸イオンである。このように、上記吸収波長領域拡張化合物がホウ酸イオンを有する塩である形態もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
【００１５】
上記ホウ酸イオンは、下記式（１）；
〔ＢＲ１ｍＲ２４−ｍ〕−            （１）
（式中、Ｒ１は電子吸引性基を有するアリール基を表す。Ｒ２は有機基、ハロゲン基、又は、水酸基を表す。ｍは１〜４の整数を表す。）で表されるものであることが好ましい。
【００１６】
上記ホウ酸イオンは、電子吸引性基を有するアリール基をホウ素原子に結合させることで、近赤外線吸収色素の耐久性を向上させることができる。
上記一般式（１）中のＲ１は、電子吸引性基を有するアリール基であれば、特に限定されるものではないが、炭素数６〜１２のアリール基に電子吸引性基が結合したものであることが好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基に電子吸引性基が結合したもの等が挙げられる。より好ましくは、フェニル基に電子吸引性基が結合したもの（すなわち、Ｒ１が、電子吸引性基を有するフェニル基であること）である。好ましくは、Ｒ１は、ペンタフルオロフェニル基（−Ｃ６Ｆ５）、−Ｃ６ＨＦ４、−Ｃ６Ｈ２Ｆ３、−Ｃ６Ｈ３Ｆ２、−Ｃ６Ｈ４Ｆ、−Ｃ６Ｆ４ＣＦ３、−Ｃ６Ｆ３（ＣＦ３）２、−Ｃ６Ｆ２（ＣＦ３）３、−Ｃ６Ｆ（ＣＦ３）４、−Ｃ６（ＣＦ３）５等であり、ペンタフルオロフェニル基であることがより好ましい。
【００１７】
上記一般式（１）中のＲ２で示される置換基は、有機基、ハロゲン原子又は水酸基であればよく、該有機基としては電子吸引性基を有していてもよい。
上記有機基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基）、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基等が挙げられるが、特に限定されるものではない。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖、分岐鎖、脂環式のアルキル基等が挙げられる。有機基がアルキル基である場合には、電子吸引性基を有していることが好ましく、水素原子の全部、又は、一部がフッ素原子で置換されていることがより好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ等が挙げられるが、−Ｆが好ましい。
【００１８】
上記一般式（１）中のｍは、１〜４であれば特に制限はないが、好ましくは４、すなわち、［Ｂ（Ｒ１）４］−で表される構造を有するものである。なお、本発明においてｍが２以上の場合には複数のＲ１がホウ酸イオンに含まれるが、この場合に複数のＲ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００１９】
上記ホウ酸イオンとしては、例えば、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４］−（テトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオン）、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）４］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（Ｃ６Ｈ５）］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２（Ｃ６Ｈ５）２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）（Ｃ６Ｈ５）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３Ｆ］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２Ｆ２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）Ｆ３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（ＣＦ３）］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２（ＣＦ３）２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）（ＣＦ３）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）３Ｆ］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）２Ｆ２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）Ｆ３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）３（ＣＦ３）］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）２（ＣＦ３）２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ４ＣＦ３）（ＣＦ３）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３（Ｃ６Ｈ１３）］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２（Ｃ６Ｈ１３）２］−、［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）（Ｃ６Ｈ１３）３］−、［Ｂ（Ｃ６Ｈ４ＣＦ３）４］−、及び［Ｂ（Ｃ６Ｈ３Ｆ２）４］−等が挙げられる。本発明では上記例示のホウ酸イオンのうち、下記一般式（２）；
【００２０】
【化１】
2007279676.tif 000002
【００２１】
で表される［Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４］−がより好ましい。なお、本発明において、上記ホウ酸イオンは、１種を単独で使用されてもよいし、２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００２２】
上記吸収波長領域拡張化合物の添加量は特に限定されるものではないが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分１００質量部に対して、０．０１質量部以上とすることが好ましく、また、３０質量部以下とすることが好ましい。０．０１質量部未満であると、波長拡張効果が充分に発現しないため、色素の添加量の削減効果が薄く、３０質量部を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でないうえ、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。より好ましくは、０．０５質量部以上であり、また、２５質量部以下であり、更に好ましくは、０．１質量部以上であり、また、２０質量部以下である。
【００２３】
上記近赤外線吸収性組成物において、有機カチオンを有する塩としては、例えば、以下の塩等を使用することができる。
ｎ−ブチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリイソプロピルアンモニウム、トリ−ｎ−ブチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム等のアンモニウム塩；Ｎ−メチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−メチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリニウム、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアニリニウム等のアニリニウム塩；ピリジニウム、Ｎ−メチルピリジニウム、Ｎ−ブチルピリジニウム、Ｎ−メチル−４−メチル−ピリジニウム、Ｎ−ベンジルピリジニウム、３−メチル−Ｎ−ブチルピリジニウム、２−メチルピリジニウム、３−メチルピリジニウム、４−メチルピリジニウム、２，３−ジメチルピリジニウム、２，４−ジメチルピリジニウム、２，６−ジメチルピリジニウム、３，４−ジメチルピリジニウム、３，５−ジメチルピリジニウム、２，４，６−トリメチルピリジニウム、２−ヒドロキシピリジニウム、３−ヒドロキシピリジニウム、４−ヒドロキシピリジニウム、２，３−ジヒドロキシピリジニウム、２，４−ジヒドロキシピリジニウム、２−メチル−５−エチルピリジニウム、２−クロロ−３−シアノピリジニウム、４−カルボキサミドピリジニウム、４−カルボキシアルデヒドピリジニウム、２−フェニルピリジニウム、３−フェニルピリジニウム、４−フェニルピリジニウム、２，６−ジフェニルピリジニウム、４−ニトロピリジニウム、４−メトキシピリジニウム、４−ビニルピリジニウム、４−メルカプトピリジニウム、４−ｔ−ブチルピリジニウム、２，６−ジｔ−ブチルピリジニウム、２−ベンジルピリジニウム、３−アセチルピリジニウム、４−エチルピリジニウム、２−カルボン酸ピリジニウム、４−カルボン酸ピリジニウム、２−ベンゾイルピリジニウム等のピリジニウム塩；イミダゾリウム、１−メチル−イミダゾリウム、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウム、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウム、１−メチル−３−オクチルイミダゾリウム、１−メチル−Ｎ−ベンジルイミダゾリウム、１−メチル−３−（３−フェニルプロピル）イミダゾリウム、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム塩；１−エチル−１−メチル−ピロリジニウム、１−ブチル−１−メチル−ピロリジニウム等のピロリジニウム塩；キノリニウム、イソキノリニウム等のキノリニウム塩、トリフェニルカルベニウム、トリ−４−メトキシフェニルカルベニウム等のカルベニウム塩；ジメチルフェニルフォスフォニウム、トリフェニルフォスフォニウム、テトラエチルフォスフォニウム、テトラフェニルフォスフォニウム等のフォスフォニウム塩；トリメチルスルフォニウム、トリフェニルスルフォニウム、等のスルフォニウム塩；ジフェニルヨードニウム、ジ−４−メトキシフェニルヨードニウム等のヨードニウム塩等が使用できる。なお、本発明において、上記有機カチオンを有する塩は、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。また、上記塩が有する有機カチオンは、１種のものを単独で使用してもよいし、２種以上のものを使用してもよい。
【００２４】
これらの中でも、上記有機カチオンを有する塩としては、有機アンモニウム塩、フェニル基を含有する塩、窒素を含有する塩、具体的には有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダゾリウム、キノリニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることが好ましい。すなわち、上記有機カチオンは、有機アンモニウム、ピリジニウム、アニリニウム、イミダソリウム、キノリニウム、ピロリジニウム及びカルベニウムからなる群より選択されるカチオンであることが好ましい。特に好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−メチルアニリニウム塩、トリフェニルカルベニウム塩である。
【００２５】
上記有機カチオンとしてはまた、電子吸引性基を有するものであることが好ましい。電子吸引性基としては特に限定されるものではないが、具体的には、−ＣｐＦ２ｐ＋１（ｐは自然数）、−ＮＯ２、−ＣＮ、−Ｆ、−Ｃｌ及び−Ｂｒからなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基であることがより好ましく、−ＣＦ３、−Ｃ２Ｆ５及び−Ｆからなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基であることが更に好ましく、−Ｆであることが特に好ましい。
【００２６】
上記電子吸引性基を有する有機カチオンを有する塩としては、特に限定されないが、例えば、２−フルオロピリジニウム、３−フルオロピリジニウム、４−フルオロピリジニウム、２，６−ジフルオロピリジニウム、２，３，４，５，６―ペンタフルオロピリジニウム、２−クロロピリジニウム、３−クロロピリジニウム、４―クロロピリジニウム、２，３−ジクロロピリジニウム、２，５−ジクロロピリジニウム、２，６−ジクロロピリジニウム、３，５−ジクロロピリジニウム、３，５−ジクロロ−２，４，６−トリフルオロピリジニウム、２−ブロモピリジニウム、３−ブロモピリジニウム、４−ブロモピリジニウム、２，５−ジブロモピリジニウム、２，６−ジブロモピリジニウム、３，５−ジブロモピリジニウム、２−シアノピリジニウム、３−シアノピリジニウム、４−シアノピリジニウム、等が使用できる。好ましくは、２−クロロピリジニウム、２−フルオロピリジニウム塩、４−シアノピリジニウム塩等が挙げられる。
【００２７】
なお、本発明の近赤外線吸収性組成物が上記近赤外線吸収色素と上記有機カチオンを有する塩とを含んで構成されるものである場合には、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽することができ、また、近赤外線吸収色素の劣化を抑制することにより、耐久性が優れ、しかも可視光線波長領域の透過率が高い近赤外線吸収層を形成することができることとなる。
【００２８】
上記近赤外線吸収性組成物において、近赤外線吸収色素としては、７８０〜１２００ｎｍに極大吸収波長を有する色素であることが好ましく、該近赤外線吸収色素の吸収波長領域は、波長が８００〜１１５０ｎｍであることがより好適である。この波長領域は、プラズマディスプレイ等において、プラズマ放電の際に発生する近赤外線領域と重複するため、この範囲内の波長を吸収する近赤外線吸収色素を用いると、プラズマディスプレイ等からの近赤外線を吸収することができ、家電用のリモコンの誤作動を誘発することを防止することができる。更に好ましくは、８００〜１０００ｎｍである。
【００２９】
上記近赤外線吸収色素としてはまた、有機溶剤への溶解性を有する色素、すなわち有機溶剤可溶性の近赤外線吸収色素を用いることが好ましい。色素が有機溶剤に可溶であると、バインダー樹脂等の樹脂中へ容易に溶解することができるため、プラズマディスプレイ等の電子機器の近赤外線吸収層として近赤外線吸収性組成物を用いた場合に、該近赤外線吸収性組成物の作製が容易になる。一方、色素が溶解性に乏しいと樹脂への混合が難しくなるため、近赤外線吸収性組成物の作製も困難となる。本発明では、有機溶剤に対する溶解度として、有機溶剤を１００質量％とした溶解度が０．０１質量％以上である近赤外線吸収色素を用いることが好適である。有機溶剤可溶性における有機溶剤としては特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、プロピレングリコールメチルエーテル等のアルコール系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルホルムアミド等の１種又は２種以上が挙げられる。
【００３０】
上記近赤外線吸収色素の種類としては、例えば、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニトロソ色素及びその金属錯塩、シアニン系色素、スクワリリウム系色素、チオールニッケル錯塩系色素、アミノチオールニッケル錯塩系色素、トリアリールメタン系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、アミノ色素等の有機物質；無機物質であるカーボンブラックや、酸化アンチモン又は酸化インジウムをドーブした酸化錫；周期表の４族、５族又は６族に属する金属の酸化物、炭化物又はホウ化物；イモニウム系色素；ジイモニウム系色素；アミニウム塩系色素等が挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、及び、金属チオール系色素からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。より好ましくは、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素、又は、シアニン系色素である。フタロシアニン系色素は、耐久性に優れるものであり、ジイモニウム系色素及びシアニン系色素は、可視光線波長領域の透明性に優れている。
【００３１】
上記フタロシアニン系色素又はナフタロシアニン系色素としては、近赤外線吸収能に優れるものであれば特に制限されず、公知のフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物が使用できるが、下記一般式（３）；
【００３２】
【化２】
2007279676.tif 000003
【００３３】
で表されるフタロシアニン系化合物、又は、下記式（４）；
【００３４】
【化３】
2007279676.tif 000004
【００３５】
で表されるナフタロシアニン系化合物が好適に使用される。
【００３６】
上記一般式（３）において、Ａ１〜Ａ１６は、官能基を表し、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボン酸基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。Ａ１〜Ａ１６の官能基は、同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。Ｍ１は、２個の水素原子、２価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。
なお、本明細書において、「アシル基」とは、日刊工業新聞社発行の第三版科学技術用語大辞典の１７頁に記載される定義と同様であり、具体的には、有機酸からヒドロキシル基が除去された基であり、式：ＲＣＯ−（Ｒは、脂肪基、脂環基又は芳香族基である）で表される基である。
【００３７】
（末端がアミノ基以外の官能基の場合）
上記一般式（３）において、官能基Ａ１〜Ａ１６としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３９】
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉｓｏ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉｓｏ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ｎ−ヘプチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ基、３−ヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
また上記一般式（３）において、官能基Ａ１〜Ａ１６のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００４３】
（末端がアミノ基である官能基の場合）
上記一般式（３）において、官能基Ａ１〜Ａ１６の置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は０個、１個、２個存在していてもよく、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が２個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
【００４４】
上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基等に更に存在してもよい置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００４５】
上記金属Ｍ１として２価の金属の例としては、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｒｕ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｐｄ（ＩＩ）、Ｐｔ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩ）、Ｂｅ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ｈｇ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
３価の置換金属原子の例としては、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ａｌ−Ｃ６Ｈ５、Ａｌ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ６Ｈ５）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ３）３〕、Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００４６】
４価の置換金属原子の例としては、ＣｒＣｌ２、ＳｉＦ２、ＳｉＣｌ２、ＳｉＢｒ２、ＳｉＩ２、ＺｒＣｌ２、ＧｅＦ２、ＧｅＣｌ２、ＧｅＢｒ２、ＧｅＩ２、ＳｎＦ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＢｒ２、ＴｉＦ２、ＴｉＣｌ２、ＴｉＢｒ２、Ｇｅ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｚｒ（ＯＨ）２、Ｃｒ（Ｒ１）２、Ｇｅ（Ｒ１）２、Ｓｉ（Ｒ１）２、Ｓｎ（Ｒ１）２、Ｔｉ（Ｒ１）２｛Ｒ１は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す｝Ｃｒ（ＯＲ２）２、Ｇｅ（ＯＲ２）２、Ｓｉ（ＯＲ２）２、Ｓｎ（ＯＲ２）２、Ｔｉ（ＯＲ２）２、｛Ｒ２は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、及び、その誘導体を表す｝、Ｓｎ（ＳＲ３）２、Ｇｅ（ＳＲ３）２｛Ｒ３は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す｝等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００４７】
上記一般式（４）において、Ｂ１〜Ｂ２４は官能基を表し、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ヒドロキシスルホニル基、カルボン酸基、チオール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルスルホニル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基を表す。Ｂ１〜Ｂ２４の官能基は同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよく、官能基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。Ｍ２は２個の水素原子、２価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子又はオキシ金属を表す。
【００４８】
（末端がアミノ基以外の官能基の場合）
上記一般式（４）において、官能基Ｂ１〜Ｂ２４は官能基としてのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、ジフェニルメチルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルチオ基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールチオ基としては、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアラルキルチオ基としては、ベンジルチオ基、フェネチルチオ基、ジフェニルメチルチオ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５０】
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉｓｏ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉｓｏ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチルスルホニル基、ｎ−ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、ｎ−ヘプチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキルスルホニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数６〜２０個のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよいアラルキルスルホニル基としては、ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基、ジフェニルメチルスルホニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
置換されていてもよい炭素原子数１〜２０個のアシル基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、フェニルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンゾイル基等のアラルキルカルボニル基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルオキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル、ナフチルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルオキシカルボニル基としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基、ジフェニルメチルオキシカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ｎ−ヘプチルカルボニルオキシ基、３−ヘプチルカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数７〜２０個のアリールカルボニルオキシ基としては、ベンゾイルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数８〜２０個のアラルキルカルボニルオキシ基としては、ベンジルカルボニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
置換されていてもよい炭素原子数２〜２０個の複素環基としては、ピロール基、イミダゾール基、ピペリジン基、モルホリン基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５３】
上記一般式（４）において、官能基Ｂ１〜Ｂ２４は官能基としてのアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アラルキルカルボニルオキシ基、複素環基に場合によっては存在する置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５４】
（末端がアミノ基である官能基の場合）
上記一般式（４）において、官能基Ｂ１〜Ｂ２４は、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルカルボニル基、３−ヘプチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基等のアリールカルボニル基、ベンジルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらの置換基は更に置換基で置換されていてもよい。これらの置換基は０個、１個、２個存在していてもよく、２個存在する場合にはお互いが同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基が２個の場合は連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５５】
上記置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいアミノスルホニル基、置換されていてもよいアミノカルボニル基への置換基であるアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカルボニル基等に更に存在してもよい置換基として、例えば、ハロゲン原子、アシル基、アルキル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アリールアミノ基、アリールカルボニルアミノ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシスルホニル基、アルキルチオ基、カルバモイル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、複素環基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの置換基は複数個存在していてもよく、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであってもよく、同種の場合においても同一若しくは異なっていてもよい。また、置換基同士が連結基を介して繋がっていてもよい。
【００５６】
上記金属Ｍ２として２価の金属の例としては、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｎｉ（ＩＩ）、Ｒｕ（ＩＩ）、Ｒｈ（ＩＩ）、Ｐｄ（ＩＩ）、Ｐｔ（ＩＩ）、Ｍｎ（ＩＩ）、Ｍｇ（ＩＩ）、Ｔｉ（ＩＩ）、Ｂｅ（ＩＩ）、Ｃａ（ＩＩ）、Ｂａ（ＩＩ）、Ｃｄ（ＩＩ）、Ｈｇ（ＩＩ）、Ｐｂ（ＩＩ）、Ｓｎ（ＩＩ）等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
３価の置換金属原子の例としては、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｉ、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｆ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ａｌ−Ｃ６Ｈ５、Ａｌ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）、Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ６Ｈ５）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ３）３〕、Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００５７】
４価の置換金属原子の例としては、ＣｒＣｌ２、ＳｉＦ２、ＳｉＣｌ２、ＳｉＢｒ２、ＳｉＩ２、ＺｒＣｌ２、ＧｅＦ２、ＧｅＣｌ２、ＧｅＢｒ２、ＧｅＩ２、ＳｎＦ２、ＳｎＣｌ２、ＳｎＢｒ２、ＴｉＦ２、ＴｉＣｌ２、ＴｉＢｒ２、Ｇｅ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｚｒ（ＯＨ）２、Ｃｒ（Ｒ１）２、Ｇｅ（Ｒ１）２、Ｓｉ（Ｒ１）２、Ｓｎ（Ｒ１）２、Ｔｉ（Ｒ１）２｛Ｒ１は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、及び、その誘導体を表す｝、Ｃｒ（ＯＲ２）２、Ｇｅ（ＯＲ２）２、Ｓｉ（ＯＲ２）２、Ｓｎ（ＯＲ２）２、Ｔｉ（ＯＲ２）２｛Ｒ２は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、及び、その誘導体を表す｝、Ｓｎ（ＳＲ３）２、Ｇｅ（ＳＲ３）２｛Ｒ３は、アルキル基、フェニル基、ナフチル基、又は、その誘導体を表す｝等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００５８】
具体的には、（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタチオフェノキシ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラヘキシルアミノ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅、（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（ベンジルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅、（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ−フルオロ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ−トリ（１−フェニルエチルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）バナジウムオキサイド等が挙げられる。 
【００５９】
上記ジイモニウム系色素とは、下記一般式（５）；
【００６０】
【化４】
2007279676.tif 000005
【００６１】
で表されるジイモニウムカチオン及びカウンターアニオンを含む色素である。
上記一般式（５）において、Ｒ３〜Ｒ１０で示す置換基としては、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は、置換基を有する炭素数１〜１０のアルキル基である。
上記ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
【００６２】
上記炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、等の直鎖、分岐状、脂環式アルキル基等が挙げられる。
【００６３】
上記置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基に結合しうる置換基としては、シアノ基；ヒドロキシル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等の炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；アリルオキシ基；フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基；メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基等がある。具体的にはＲ３〜Ｒ１０はトリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３，−トリフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基等が挙げられる。
本発明では、Ｒ３〜Ｒ１０は、同一であっても、異なるものであってもよいが、すべて同じであることが好ましい。また、ジアミンの結合位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｐ−位であるものが合成上は簡便であるが、特に限定されるものではない。
【００６４】
上記カウンターアニオンは、特に制限されないが、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドイオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミドイオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、トリフルオロメタンスルホンヘプタフルオロプロパンスルホンイミドイオン、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドイオン、１，３−ジスルホニルヘキサフルオロプロピレンイミドイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルフィン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、一水素二リン酸イオン、二水素一リン酸イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、硫酸イオン、バナジン酸イオン、ホウ酸イオン等が使用できる。
【００６５】
なお、この際、ジイモニウムカチオンは、上記式（５）で示されるように、２価の陽イオンであるため、例えば、塩化物イオン等の１価のアニオンを使用する場合には、本発明によるジイモニウム系色素は、ジイモニウムカチオン１個に対して、２個のアニオンが結合する形態である。上記塩のうち、ジイモニウムカチオンと、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドイオン、及び／又は、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオンとの塩が本発明では好ましく使用される。
【００６６】
上記近赤外線吸収性組成物における近赤外線吸収色素の配合量は、用途によって適宜選択することができるが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜８質量部である。この際、イオン性の近赤外線吸収色素の配合量が０．１質量部未満であると、色素の配合量が少なすぎて、充分な近赤外線吸収能が達成できなくなる可能性がある。逆に１０質量部を超えると、添加に見合う効果が得られず経済的でない上、逆に可視領域での透明性が損なわれる可能性がある。
【００６７】
本発明の近赤外線吸収性組成物としてはまた、樹脂を含むことが好ましい。樹脂としては、一般に光学材料に使用しうるものであれば特に制限されないが、できるだけ透明性の高いものが好ましく、より具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、カルボキシル化ポリオレフィン、塩素化ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、アクリル酸エステル系ポリマー、メタクリル酸エステル系ポリマー、酢酸ビニル系ポリマー、ハロゲン化ビニル系ポリマー、ポバール等のビニル系ポリマー、ナイロン等のポリアミド系、ポリウレタン系、ＰＥＴ等のポリエステル系、ポリカーボネート系、エポキシ樹脂系、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系等が挙げられる。
これらのうち、溶融又は溶液化が可能であるものが好ましく使用される。この際、溶融が可能な高Ｔｇの樹脂を使用すると、成形加工が可能な近赤外線吸収性組成物が得られる。例えば、溶融が可能でＴｇが８０℃以上の樹脂は、近赤外線吸収色素を練りこむことで成形材料とすることができる。このような樹脂として好適なものはポリメタクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エステル共重合体等のメタクリル系ポリマー、ポリカーボネート、ブチラール樹脂、シクロポリオレフィンポリマー、アートン（日本合成ゴム製）、ゼオノア（日本ゼオン製）、Ｏ−ＰＥＴ（鐘紡製）、スミペックス（住友化学製）、オプトレックス（日立化成工業製）が挙げられる。
【００６８】
上記溶液化が可能な樹脂は、近赤外線吸収性組成物を溶液化することで、コーティング剤とすることができる。コーティング材用の樹脂として好適なものは、例えば、メタクリル酸エステル系ポリマー、アートン（日本合成ゴム製）、ゼオノア（日本ゼオン製）、Ｏ−ＰＥＴ（鐘紡製）が挙げられる。特に好ましくはメチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート等の炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、脂環式、多環性脂環式アルキル基を有するメタクリル酸エステルを共重合した重合体（ポリマー）である。これらは、１種のメタクリル酸エステル単量体からなるポリマーであってもよいし、複数のメタクリル酸エステル単量体からなる共重合体であってもよい。
【００６９】
上記ポリマーとしてはまた、上記のメタクリル酸エステル以外の単量体と共重合したポリマーであってもよい。他の単量体としてはスチレン、メチルスチレン等の芳香族系モノマー、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体、メタクリル酸、アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体、炭素数１〜１５のアルキル基を有するアクリル酸エステル、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート等のヒドロキシ基を有する単量体等も使用できる。上記のメタクリル酸エステル以外の単量体の使用量としては、全単量体成分１００質量％中、好ましくは５０質量％未満、より好ましくは３０質量％未満、更に好ましくは１０質量％未満である。具体的には、スミペックス（住友化学製）、オプトレックス（日立化成工業製）、ハルスハイブリッドＩＲ（日本触媒製）等が挙げられる。また、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８５℃よりも高い樹脂は、熱や水分による色素の劣化を効果的に抑制することができるため、このような樹脂もまた好適である。また、樹脂の割れを充分に抑制するためには、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５万以上であることが好ましい。より好ましくは、１０万以上である。
【００７０】
本発明の近赤外線吸収性組成物は、Ｔｇが８５℃以下であっても耐久性は良好である。このようなＴｇを示す近赤外線吸収性組成物に好ましく含有される樹脂の種類は特に限定されず、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が使用できる。割れにくさと高い耐久性とを両立させるためには、樹脂のＴｇは６５〜８５℃であることが好ましく、７０〜８０℃であることがより好ましい。
なお、上記ガラス転移温度（Ｔｇ）としては、例えば、「ＰＯＬＹＭＥＲ  ＨＡＮＤＢＯＯＫ  第３版」（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．発行）に記載された各ホモポリマーのＴｇ（単位：Ｋ）を元にして、下記式で計算により簡単に求められる他、ＤＳＣ（示差走査熱量測定装置）やＤＴＡ（示差熱分析装置）によって求めることができる。
【００７１】
【数１】
2007279676.tif 000006
【００７２】
上記樹脂としてはまた、粘着剤若しくは接着剤、又は、これらの混合物であってもよい。粘着剤や接着剤を用いた本発明の近赤外線吸収性組成物は、他の機能性フィルムと貼り合わせることができるため、簡便かつ経済的に光学フィルターを製造することが可能となる。
【００７３】
上記粘着剤として好適な樹脂としては、アクリル系、シリコン系、ＳＢＲ系等が挙げられる。特に好ましくは、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート等を主成分として重合したポリマーであり、具体的にはアクリセットＡＳＴ（日本触媒社製）等が挙げられる。中でも、Ｔｇが−８０℃以上、０℃以下であることが好ましい。より好適な粘着剤としては、シクロヘキシル基、イソボルニル基等の脂環式アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合したアクリル系粘着剤である。脂環式アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合する際の当該エステルの使用量は特に制限されないが、粘着剤のＴｇが−８０℃以上、０℃以下となるような量であることが好ましい。
【００７４】
上記粘着剤として好適な樹脂としてはまた、カルボキシル基等の酸性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られるものであってもよいが、このような場合、耐湿性の向上を目的として、（メタ）アクリル酸エステルの共重合量は、樹脂の酸価が、好ましくは３０以下、より好ましくは１５以下、最も好ましくは５以下となるような量であることが好ましい。
なお、本明細書において、「酸価」とは、樹脂固形分１ｇを中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ量をいう。
【００７５】
上記接着剤として好適な樹脂としては、一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系、エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化ポリオレフィン、塩素化ポリオレフィン等のポリオレフィン系が挙げられる。
【００７６】
上記近赤外線吸収性組成物にはまた、波長３８０〜７８０ｎｍの可視域に極大吸収波長を有する色素を添加してもよい。このような色素としては、シアニン系、テトラアザポルフィリン系、アズレニウム系、スクアリリウム系、ジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、オキサジン系、アジン系、チオピリリウム系、ビオローゲン系、アゾ系、アゾ金属錯塩系、ビスアゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、ニトロソ系、金属チオール錯体系、インジコ系、アゾメチン系、キサンテン系、オキサノール系、インドアニリン系、キノリン系等の従来公知の色素を広く使用することができる。例えば、旭電化工業社製、商品名アデカアークルズＴＷ−１３６７、アデカアークルズＳＧ−１５７４、アデカアークルズＴＷ１３１７、アデカアークルズＦＤ−３３５１、アデカアークルズＹ９４４、林原生物化学研究所製、商品名ＮＫ−５４５１、ＮＫ−５５３２、ＮＫ−５４５０等が挙げられる。
上記近赤外線吸収性組成物における上記色素の配合量は、用途によって適宜選択することができるが、例えば、上記近赤外線吸収性組成物が樹脂を含む形態においては、該樹脂の固形分１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは１〜８質量部である。
【００７７】
上記近赤外線吸収性組成物はまた、その性能を失わない範囲でイソシアネート化合物、チオール化合物、エポキシ化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、オキサゾリン化合物、シランカップリング剤、ＵＶ硬化剤等の樹脂硬化剤を含んでいてもよい。ただし、硬化剤を使用しない近赤外線吸収性組成物の方が、コーティング液のポットライフが長くエージングが不要になるため、より好ましい。
【００７８】
上記近赤外線吸収性組成物は更に、フィルムやコーティング剤等に使用される公知の添加剤を含んでいてもよく、このような添加剤としては、例えば、分散剤、レベリング剤、消泡剤、粘性調整剤、つや消し剤、粘着付与剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収材、光安定化剤、消光剤、硬化剤、ブロッキング防止剤、滑り剤等が挙げられる。
【００７９】
本発明はまた、上記近赤外線吸収性組成物によって構成される近赤外線吸収材でもある。このような近赤外線吸収材は、固体、液体、フィルム、積層膜等、いずれの形態を有していてもよい。以下、本発明の近赤外線吸収材の好ましい形態を説明する。
【００８０】
上記近赤外線吸収材としては、近赤外線吸収色素と吸収領域を拡張する化合物又は有機カチオンを有する塩とが、それぞれ、固体（例えば、粉末、ペレット）の形態で混合されたものであってもよい。上記近赤外線吸収材を構成する近赤外線吸収性組成物が溶融可能な樹脂を含む場合は、融点以上の温度に加熱することで、任意の形状に加工することができる。加工にはプレス機、押し出し成形機等が使用できる。
コーティング法により、基材上に、上記近赤外線吸収性組成物を含む近赤外線吸収層を形成させる場合は、溶媒を使用して上記近赤外線吸収性組成物を溶解、分散、懸濁させて液状にすることが好ましい。この際使用できる溶剤としては、例えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族系、トルエン、キシレン等の芳香族系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系、アセトニトリル等のニトリル系、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル系、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル系、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系が使用できる。これらを単独で使用しても混合して使用してもよい。色素の耐久性を向上させるためにはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の沸点が１００℃以下の溶媒が好適である。また、コーティング時の塗膜外観を向上させるためにはトルエン、メチルイソブチルケトン、酢酸ブチル等沸点が１００〜１５０℃の溶媒が好適である。塗膜の耐クラック性を向上させるにはブチルセロソルブ、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の沸点が１５０〜２００℃の溶媒が好適である。
【００８１】
上記近赤外線吸収材は、上記近赤外線吸収性組成物をフィルム上に成形したものであってもよいし、透明基材上に上記近赤外線吸収性組成物を含む塗膜を積層したものであってもよい。透明基材としては、一般に光学材に使用し得るものであって、実質的に透明であれば特に制限はない。具体的な例としてはガラス、シクロポリオレフィン、非晶質ポリオレフィン等のオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のメタクリル系ポリマー、酢酸ビニルやハロゲン化ビニル等のビニル系ポリマー、ＰＥＴ等のポリエステル、ポリカーボネート、ブチラール樹脂等のポリビニルアセタール、ポリアリールエーテル系樹脂等が挙げられる。また、上記透明基材は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。上記基材樹脂は、公知の添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができ、公知の射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法等を用い、フィルム又はシート状に成形される。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていてもよく、また他の基材と積層されていてもよい。
【００８２】
コーティング法で近赤外線吸収フィルム（フィルム状の近赤外線吸収材）を得る場合の透明基材としてはＰＥＴフィルムが好ましく、特に易接着処理をしたＰＥＴフィルムが好適である。具体的にはコスモシャインＡ４３００（東洋紡績製）、ルミラーＵ３４（東レ製）、メリネックス７０５（帝人デュポン製）等が挙げられる。また、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルム、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム、紫外線吸収フィルム等の機能性フィルムも使用できる。これにより、簡便にプラズマディスプレー用や光半導体素子用の光学フィルターを作製することができる。フィルムを使用することが好ましい。これらのうち、ガラス、ＰＥＴフィルム、易接着性ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、反射防止フィルム及び電磁波シールドフィルムが透明基材として好ましく使用される。
上記透明基材として、ガラス等の無機基材を使用する場合には、近赤外線吸収色素の耐久性の観点から、アルカリ成分が少ないものが好ましい。
【００８３】
上記近赤外線吸収材の厚みは、一般に０．１μｍ〜１０ｍｍ程度であることが好ましいが、目的に応じて適宜決定される。また、上記近赤外線吸収性組成物に含まれる近赤外線吸収色素の含有量も目的に応じて、適宜決定される。
【００８４】
上記近赤外線吸収材は、例えば、光学用、農業用、建築用、車両用、画像記録用等のフィルムやシート、冷凍・冷蔵ショーケース、色素増感型太陽電池等太陽電池、半導体レーザー光等を光源とする感光材料、光ディスク用等の情報記録材料、眼精疲労防止材、感光紙等の光熱変換材、接着材等として使用できる。特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）用、ＣＣＤ（電荷結合素子）用等の光学フィルムやシート、光ディスク用等の情報記録材料、感光紙等の光熱変換材、粘接着材としての使用が好ましい。
【００８５】
上記近赤外線吸収材を作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、次の方法が利用できる。すなわち、（ア）樹脂に本発明の近赤外線吸収性組成物を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法；（イ）本発明の近赤外線吸収性組成物とモノマー又はオリゴマーとを重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法；（ウ）本発明の近赤外線吸収性組成物を上記の透明基材上にコーティングする方法；（エ）離型性のある基材上に本発明の近赤外線吸収性組成物を塗布した後に、上記の透明基材上へ張り合わせる方法；（オ）本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上に塗布した後に、他の透明基材上に張り合わせ硬化させる方法等である。
【００８６】
上記（ア）の方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化（樹脂板化）条件等が多少異なるが、通常、本発明の近赤外線吸収性組成物を基材樹脂の粉体又はペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、押し出し機によりフィルム化（樹脂板化）する方法等が挙げられる。本発明の近赤外線吸収性組成物の添加量は、作製する樹脂板又はフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率等によって異なるが、一般的にバインダー樹脂の質量１００質量％に対して、０．０１〜３０質量％、好ましくは０．０３〜１５質量％の量で使用される。
【００８７】
上記（イ）の方法、すなわち、本発明の近赤外線吸収性組成物とモノマー又はオリゴマーとを重合触媒の存在下にキャスト重合し、作製する方法においては、これらの混合物を型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は、金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、その様な樹脂の具体例としてアクリル樹脂、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。
【００８８】
上記重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量１００質量％に対して、一般的に０．０１〜５質量％である。熱重合における加熱温度は、一般的に４０〜２００℃であり、重合時間は、一般的に３０分〜８時間程度である。また、熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も利用できる。
【００８９】
上記（ウ）の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上にコーティングする方法や、本発明の近赤外線吸収性組成物を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を透明基材上にコーティングする方法等がある。
上記基材に近赤外線吸収性組成物を塗布する際には公知の塗工機が使用できる。例えば、コンマコーター等のナイフコーター、スロットダイコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、マイクログラビアコーター等のキスコーター、グラビアコーター、リバースロールコーター等のロールコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターが挙げられる。塗布前にコロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の方法で基材の表面処理を行ってもよい。乾燥、硬化方法としては、熱風、遠赤外線、ＵＶ硬化等公知の方法が使用できる。乾燥、硬化後は公知の保護フィルムとともに巻き取ってもよい。
【００９０】
上記（エ）の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を離型性の基材上にコーティングした後に、透明基材上へ張り合わせる方法や、本発明の近赤外線吸収性組成物を微粒子に固定化し、該微粒子を分散させた塗料を離型性の基材上にコーティングした後に、透明基材上へ張り合わせる方法等がある。
この方法で製造する場合は、樹脂として粘着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、更に粘着付与剤、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。
上記離型性の基材としてはシリコン系、オレフィン系、オイル系、フッ素系等の離型剤を塗布した紙やフィルム、フッ素系基材、オレフィン系基材等が用いられる。また、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
【００９１】
上記（オ）の方法としては、本発明の近赤外線吸収性組成物を透明基材上に塗布した後に、他の透明基材上に張り合わせ硬化させる方法等である。
この方法で製造する場合は、樹脂として接着剤を使用した近赤外線吸収性組成物を使用することが好ましい。必要に応じて、硬化剤を近赤外線吸収性組成物に配合してもよい。なお、透明基材や塗工機は上記のものが使用できる。
【００９２】
また上記（ウ）〜（オ）の方法において、上記近赤外線吸収性組成物をコーティング剤又は塗料として使用する場合には、塗料中の本発明の近赤外線吸収性組成物の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂１００質量％に対して一般的に０．１〜１０質量％である。
【００９３】
本発明の近赤外線吸収材は、可視領域の透明性と近赤外線の吸収能が高い優れた光学フィルターの構成材料となりうる。従来の近赤外線吸収材と比べて耐久性、特に耐熱性と耐湿熱性が高いため、長期間の保管や使用でも外観と近赤外線吸収能が維持される。更に、シートやフィルム状にするのが容易なため、薄型ディスプレー用や光半導体素子用に有用である。その他、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば断熱フィルム、サングラス、光記録材料等にも好適に使用することができる。中でも、光学フィルターに特に好適に用いることができる。
【００９４】
上記近赤外線吸収材を用いてなる光学フィルターは、可視領域の全光線透過率が４０％以上であることが好適であり、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは６０％以上である。また、波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線の透過率が３０％以下であることが好適であり、より好ましくは１５％以下、更に好ましくは５％以下である。
【００９５】
上記光学フィルターは、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層の他に、電磁波遮蔽層、反射防止層、ぎらつき防止（アンチグレア）層、傷付き防止層、色調整層、ガラス等の支持体が設けられていてもよい。
上記光学フィルターの各層の構成は任意に選択すればよいが、好ましくは、反射防止層及びぎらつき防止層のうちどちらか一層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層との少なくとも２層を組み合わせたものが好ましく、より好ましくは、更に電磁波遮蔽層を組み合わせた少なくとも３層を有する光学フィルターである。なお、このような少なくとも３層を有する光学フィルターである場合、反射防止層又はぎらつき防止層が人側の最表層となることが好ましく、また、近赤外線吸収層及び電磁波遮蔽層の組み合わせは任意である。また、少なくとも３つの層の間には、傷付き防止層、色調整層、衝撃吸収層、支持体、透明基材等の他の層が挿入されていてもよい。
【００９６】
上記光学フィルターにおいては、上記各層を粘着剤や接着剤を使用しても張り合わせてもよいし、近赤外線吸収層については層自体が粘着剤、接着剤であってもよい。特に、Ｔｇが−８０℃以上０℃以下の粘着剤や接着剤と混合して得た本発明の近赤外線吸収材は他の透明基材との接着性に優れるため、反射防止フィルム、ぎらつき防止フィルム、衝撃吸収フィルム、電磁波シールドフィルム等に、この近赤外線吸収材を介して他の層等を接着することで、容易に本発明の光学フィルター（好ましくはプラズマディスプレー用光学フィルター）を作製することができる。なお、各層を張り合わせる際には、コロナ処理、プラズマ処理等の物理的な処理をしてもよいし、ポリエチレンイミン、オキサゾリン系ポリマー、ポリエステル、セルロース等の公知の高極性ポリマーをアンカーコート剤として使用してもよい。
【００９７】
上記反射防止層は、表面の反射を抑えて、表面への蛍光灯等の外光の写り込みを防止するためのものである。反射防止層は、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物の薄膜からなる場合と、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層又は多層に積層させたものからなる場合とがあり、前者の場合には、蒸着やスパッタリング法を用いて単層又は多層の形態で、透明基材上に形成させる方法がある。また、後者の場合は、透明フィルム上に、コンマコーター等のナイフコーター、スロットコーター、リップコーター等のファウンテンコーター、グラビアコーター、フローコーター、スプレーコーター、バーコーターを用いて透明基材の表面に反射防止コーティングを塗布する方法がある。
【００９８】
上記ぎらつき防止層は、シリカ、メラミン樹脂、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化し、従来公知の塗布法で、本発明の光学フィルターのいずれかの層上に塗布し、熱又は光硬化させることにより形成される。また、アンチグレア処理したフィルムを該フィルター上に貼りつけてもよい。
【００９９】
上記電磁波遮蔽層は、エッチング、印刷等の手法で金属のメッシュをフィルム上にパターニングしたものを樹脂で平滑化したフィルムや、繊維メッシュの上に金属を蒸着させたものを樹脂中に抱埋したフィルムが好適に使用される。
【０１００】
上記傷付き防止層としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を有機溶剤に溶解又は分散させた塗布液を従来公知の塗布法で、本発明のフィルターのいずれかの層上に、好ましくは、最外層に位置するように、塗布し、乾燥させ、光硬化させることにより形成される。
【０１０１】
上記衝撃吸収層は、表示装置を外部からの衝撃から保護するためのものであり、支持体を使用しない光学フィルターで使用することが好適である。衝撃吸収材としては、例えば、特開２００４−２４６３６５号公報、特開２００４−２６４４１６号公報に示されているような、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系ポリマー、ポリ塩化ビニル、ウレタン系、シリコン系樹脂等が使用できるが、これらに限定されるものではない。
【０１０２】
上記反射防止層又はぎらつき防止層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層とを有する光学フィルターは、反射防止フィルム又はぎらつき防止フィルムの裏面に本発明の近赤外線吸収材からなる層を積層させることで得られる。積層させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材と反射又はぎらつき防止フィルムとを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材を反射又はぎらつき防止フィルムの裏面に直接塗布してもよい。反射又はぎらつき防止フィルムの裏面に近赤外線吸収層を設ける場合には、紫外線による色素の劣化を抑えるために、透明基材として紫外線吸収フィルムを使用するのが好ましい。
【０１０３】
上記電磁波遮蔽層と、上記近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収層との２層を有する光学フィルターは、電磁波防止材料と近赤外線吸収材とを複合化することで得られる。複合化させる方法としては、フィルム状にした本発明の近赤外線吸収材と電磁波遮蔽フィルムとを粘着剤で張り合わせてもよいし、溶液化した本発明の近赤外線吸収材を電磁波遮蔽フィルムの裏面に直接塗布してもよい。また、フィルム上の金属のメッシュを平滑化する樹脂として近赤外線吸収材を使用することもできる。また、金属を蒸着した繊維を抱埋する樹脂として、本発明の近赤外線吸収性組成物を使用することもできる。
【０１０４】
上記近赤外線吸収層、反射又はぎらつき防止層及び電磁波遮蔽層の３層を有する光学フィルターとしては、本発明の近赤外線吸収材からなる近赤外線吸収フィルム、反射又はぎらつき防止フィルム、及び、電磁波遮蔽フィルムの３枚を粘着剤で張り合わせたものが使用できる。必要に応じてガラス等の支持体や色調整フィルム等の機能性フィルムを張り合わせてもよい。
【０１０５】
なお、光学フィルターの製造工程やフィルム構成を簡略化するためには、複数の機能を有する複合化フィルムを使用するのがよい。例えば、近赤外線吸収層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムを粘着剤で電磁波遮蔽フィルムに張り合わせた光学フィルターや、近赤外線吸収層と電磁波遮蔽層とを含む複合化フィルムを粘着剤で反射又はぎらつき防止フィルムに張り合わせた光学フィルター、電磁波遮蔽層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムを粘着剤で近赤外線吸収フィルムに張り合わせた光学フィルターが挙げられる。電磁波遮蔽層と反射又はぎらつき防止層とを含む複合化フィルムについては、近赤外線吸収材が粘着剤であってもよい。
【０１０６】
上記光学フィルターとしては、薄型ディスプレー用光学フィルターであることが特に好適であり、このように、上記近赤外線吸収材を用いてなる薄型ディスプレー用光学フィルターもまた、本発明の１つである。中でも、特にプラズマディスプレー用光学フィルターであることが特に好適である。
上記プラズマディスプレー用光学フィルターには、画面を見やすくするために、反射防止層又はぎらつき防止層を人側の最表層に設けることが好ましく、また、パネルから発生する電磁波を除去するために、電磁波遮蔽層を設けることが好ましい。
【０１０７】
上記プラズマディスプレー用光学フィルターは、表示装置から離して設置してもよいし、表示装置に直接貼り付けてもよい。表示装置から離して設置する場合は、支持体としてガラスを使用するのが好ましい。表示装置に直接張り合わせる場合には、ガラスを使用しない光学フィルターが好適である。
【０１０８】
本発明の近赤外線吸収材を積層した光学フィルターをプラズマディスプレーに搭載することにより、長期間にわたり良好な画質が維持されることになる。したがって、上記近赤外線吸収材及び上記光学フィルターは、プラズマディスプレーの構成要素として用いる形態が特に好適である。このような形態においては、表示体に、直接、光学フィルターを張り合わせたプラズマディスプレーとすると、更に鮮明な画質が得られることになる。光学フィルターを直接張り合わせる場合は、表示体のガラスが強化ガラスを使用するか、衝撃吸収層を設けた光学フィルターを使用するのが好適である。
【０１０９】
上記表示装置に貼り付ける際の粘着剤としては、例えば、スチレンブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等が挙げられ、これらは単独に用いてもよいが、更に粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したものを用いてもよい。また、特開２００４−２６３０８４号公報で示されているように衝撃吸収能を有する粘着剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
上記粘着層の厚みは、通常５〜２０００μｍ、好ましくは１０〜１０００μｍである。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しないように、プラズマディスプレーの表面に張り付けるまで粘着剤層を保護するのもよい。この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業が行いやすくなる。
【発明の効果】
【０１１０】
本発明の近赤外線吸収性組成物は、上述の構成よりなり、近赤外線吸収色素を用いて、プラズマディスプレイ等の電子機器における近赤外線吸収層に要求される近赤外線吸収領域をすべて遮蔽できるとともに、近赤外線吸収色素の劣化を充分に抑制でき、耐久性や、可視光線波長領域の透過性に優れた近赤外線吸収層を形成することができるものである。そして、このような近赤外線吸収性組成物により構成される近赤外線吸収材は、種々の用途に有用であり、特に、薄型ディスプレイ用、ＣＣＤ用等の光学フィルムやシート、光ディスク用等の情報記録材料、感光紙等の光熱変換材、粘接着材に好適に適用できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１１１】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は「質量％」を意味するものとする。
【０１１２】
（近赤外線吸収色素の合成）
合成例１
（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタチオフェノキシ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラヘキシルアミノ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅（色素Ａ）の合成
【０１１３】
窒素気流下で５０ｍｌの４ツ口フラスコに、４，５−ビス（チオフェノキシ）−３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−６−フルオロフタリロニトリル１０ｇ（０．０２１モル）と塩化第一銅０．５４ｇ（０．００５４モル）及びｎ−オクタノール１５ｇを投入し、攪拌しながら１５０℃で約２．５時間反応させた。冷却後、ベンゾニトリル約５ｇ投入し、吸引ろ過により析出物をろ過した。その後、ろ紙上の析出物を５０ｍｌの４ツ口フラスコに移し、ベンゾニトリル３０ｇを加え攪拌しながら、一旦１５０℃に加熱後、８０℃になるまで冷却し、ヘキシルアミン８．４ｇ（０．０８３モル）を投入し、８０℃で約２時間反応させた。
【０１１４】
その後室温まで冷却し、約４００ｍｌのメタノール中に投入し結晶を析出させた。得られた結晶を吸引ろ過した後、再び約２００ｍｌのメタノール中で攪拌洗浄することで洗浄、精製を行った。その後再び、吸引ろ過で結晶を取り出し、取り出した結晶を約６０℃で一晩、真空乾燥し（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタチオフェノキシ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラヘキシルアミノ−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅（色素Ａ）６．３ｇ｛４，５−ビス（チオフェノキシ）−３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−６−フルオロフタリロニトリルに対する収率約５２モル％｝が得られた。
【０１１５】
合成例２
３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロフタリロニトリルの合成
【０１１６】
５００ｍｌの４ツ口セパラブルフラスコに、テトラフルオロフタロニトリル６０ｇ（０．３０モル）、フッ化カリウム４１．８ｇ（０．７２モル）及びアセトン１６０ｍｌを仕込み、更に滴下ロートに２，５−ジクロロフェノール９７．８ｇ（０．６０モル）及びアセトン１１０ｍｌを仕込む。−１℃で攪拌しながら滴下ロートより２，５−ジクロロフェノール／アセトン混合溶液を約２時間かけて滴下した後、約２時間攪拌を続ける。その後、反応温度を室温までゆっくり上げながら、一晩中攪拌する。
【０１１７】
次に、このフラスコに２，６−ジメチルフェノール３６．６ｇ（０．３０モル）、フッ化カリウム２０．９ｇ（０．３６モル）及びアセトン１５．０ｍｌを仕込み、４０℃で攪拌下１０時間を保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をロータリーエバポレータでアセトンを留去し、メタノールを加えて再結晶を行った。得られた結晶をろ過し、真空乾燥により、３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロフタリロニトリル１４４．８ｇ（収率８２．１モル％）が得られた。
【０１１８】
合成例３
（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（ベンジルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅（色素Ｂ）の合成
【０１１９】
３００ｍｌの４ツ口フラスコに合成例２で得られた３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロフタリロニトリル３０ｇ（５１．０ミリモル）、塩化銅１．５２ｇ（１５．３ミリモル）、及び、ｎ−オクタノール４５ｍｌを仕込み、窒素バブリング下１７０℃攪拌下約４時間保った。その後空気雰囲気下とし、ＰｈＣＨ２ＮＨ２２１．９ｇ（２０４．０ミリモル）とベンゾニトリル１８０ｍｌを加え、次いで９０℃で５時間保った。冷却後反応液をろ過し、ろ液をアセトニトリルと水の混合溶液中に滴下晶析させ、更にアセトニトリルと水の混合溶液で洗浄を行った。真空乾燥により、（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（ベンジルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）銅（色素Ｂ）２２．６ｇ｛３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリルに対する収率６４．２モル％｝が得られた。
【０１２０】
合成例４
（２，３，９，１０，１６，１７，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ−フルオロ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ−トリ（１−フェニルエチルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）バナジウムオキサイド（色素Ｃ）の合成
【０１２１】
３００ｍｌの４ツ口フラスコに三酸化二バナジウム１．４３ｇ（９．５３ミリモル）、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物３．６４ｇ（１９．１ミリモル）及びベンゾニトリル６０ｍｌを仕込み、次いで、１７０℃で攪拌下約３時間保った。その後、還流温度まで昇温し３−（２，６−ジメチルフェノキシ）−４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロフタロニトリル３０ｇ（５１．０ミリモル）を追加し、窒素雰囲気下還流温度で４時間保った。その後冷却して空気雰囲気下として、Ｄ，Ｌ−１−フェニルエチルアミン１２．４ｇ（１０２．３ミリモル）とベンゾニトリル１６３ｍｌを加え、ついで、６０℃で６時間、７０℃で２時間保った。冷却後、反応液をろ過し、ろ液をイソプロピルアルコールと水の混合溶液中に滴下晶析させ、更にイソプロピルアルコールと水の混合溶液で洗浄を行った。真空乾燥により、（２，３，９，１０，１６，２３，２４−オクタ（２，５−ジクロロフェノキシ）−Ｃ−フルオロ−Ｃ，Ｃ，Ｃ，Ｃ−テトラ（２，６−ジメチルフェノキシ）−Ｃ，Ｃ，Ｃ−トリ（１−フェニルエチルアミノ）−２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２）バナジウムオキサイド（色素Ｃ）を２４．４９ｇ、｛３−（２，６−ジメチルフェノキシ）４，５−ビス（２，５−ジクロロフェノキシ）−６−フルオロニトリルに対する収率７０．５モル％｝が得られた。
【０１２２】
（近赤外線吸収色素溶液の調整）
合成例１で得られた色素Ａ５部をメチルエチルケトン９５部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液１を調整した。
合成例３で得られた色素Ｂ３部をメチルエチルケトン９７部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液２を調整した。
合成例４で得られた色素Ｃ５部をメチルエチルケトン９５部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液３を調整した。
ジイモニウム色素  Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラキス（ｐ‐ジブチルアミノフェニル）、ｐ‐フェニレンジアミン‐ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）イモニウム塩５部をメチルエチルケトン９５部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液４を調整した。
ジイモニウム色素  Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラキス（ｐ‐ジブチルアミノフェニル）、ｐ‐フェニレンジアミン‐ビス（ヘキサフルオロアンチモン酸）イモニウム塩２．５部と合成例４で得られた色素Ｃ２．５部をメチルエチルケトン９５部に溶解し、近赤外線吸収色素溶液５を調整した。
【０１２３】
（有機カチオン塩溶液の調整）
表１に示すように各種有機カチオン塩（有機カチオンを有する塩）１０部をメチルエチルケトン９０部に溶解し、有機カチオン塩溶液（１）〜（４）を調整した。表１において、有機カチオン塩は、カウンターアニオンにテトラキスペンタフルオロフェニルホウ酸イオンを有する塩である。
【０１２４】
【表１】
2007279676.tif 000007
【０１２５】
実施例１
バインダーとしてハルスハイブリッドＩＲ−Ｇ２０５（日本触媒社製  固形分２９％）を使用し、バインダー６９部、近赤外線吸収色素溶液１１．９部、有機カチオン塩溶液（１）６部、及び、メチルエチルケトン１３．１部を混合し、塗料固形分２１％の近赤外線吸収性組成物１（固形分比：バインダー／色素／有機カチオン塩＝１００／３／３）を得た。
得られた近赤外線吸収性組成物をバーコーター（Ｎｏ．３４）で易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製  コスモシャインＡ４３００）上に塗工し１５０℃の熱風乾燥器中で３分間乾燥させ、近赤外線吸収材１を得た。これを５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、試験片とした。この試験片の可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。測定にはＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用した。近赤外線吸収能の評価は、波長８００ｎｍから１０００ｎｍの透過率の最小値、最小値と最大値の差、及び、可視領域（５００ｎｍ）の透過率を評価した。結果は表２に示す。
【０１２６】
【表２】
2007279676.tif 000008
【０１２７】
実施例２、３
有機カチオン塩溶液を表２のように変更した以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収材２〜３を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図１及び２に、それぞれ実施例２で得られた初期及び耐久性試験５日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
【０１２８】
実施例４、５
ハルスハイブリッドＩＲ−Ｇ２０５（日本触媒社製、固形分２９％）を６９．１部、近赤外線吸収色素溶液２を１９．８部、有機カチオン塩溶液（１）を５．９部、メチルエチルケトン５．２部混合し、塗料固形分２１％の近赤外線吸収性組成物４及び５（固形分比：バインダー／色素／有機カチオン塩＝１００／３／３）を得た。実施例１と同様にして近赤外線吸収材４、５を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
【０１２９】
実施例６
ハルスハイブリッドＩＲ−Ｇ２０５（日本触媒社製  固形分２９％）を６７部、近赤外線吸収色素溶液３を９．６部、有機カチオン塩溶液（４）を５．８部、メチルエチルケトン１７．６部混合し、塗料固形分２１％の近赤外線吸収性組成物６（固形分比：バインダー／色素／有機カチオン塩＝１００／２．５／３）を得た。その後、実施例１と同様にして近赤外線吸収材６を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色素の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。
【０１３０】
実施例７
ハルスハイブリッドＩＲ−Ｇ２０５（日本触媒社製  固形分２９％）を６９．１部、近赤外線吸収色素溶液４を１２．４部、有機カチオン塩溶液（４）を５部、メチルエチルケトン１３．５部混合し、塗料固形分２１％の近赤外線吸収性組成物１（固形分比：バインダー／色素／有機カチオン塩＝１００／３．７５／２．５）を得た。実施例１と同様にして近赤外線吸収材７を作成し、試験片を切り出して可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。図３及び４に、それぞれ実施例７で得られた初期及び耐久性試験５日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
【０１３１】
実施例８
モノマーとして２−エチルヘキシルアクリレート（３９３．６部）、シクロヘキシルメタクリレート（２０４．６部）、ヒドロキシエチルアクリレート（１．８部）を秤量し、充分に混合し、モノマー混合物を得た。モノマー混合物（２４０部）と、酢酸エチル（１６７部）とを、温度計、攪拌機、不活性ガス導入管、還流冷却器、及び、滴下ロートを備えたフラスコに添加した。モノマー混合物（３６０部）、酢酸エチル（１６部）、及び、重合開始剤であるナイパーＢＭＴ−Ｋ４０（０．３６部）からなる滴下用モノマー混合物を滴下ロートに入れ、よく混合した。窒素ガスを２０ｍｌ／分で流通させながら、フラスコの内温を８５℃まで上昇させ、重合開始剤であるナイパーＢＭＴ−Ｋ４０（０．４８部）をフラスコに投入し、重合反応を開始させた。
【０１３２】
重合開始剤の投入から１０分後に、滴下ロートに入れた滴下用モノマー混合物の滴下を開始した。滴下用モノマー混合物は、９０分かけて、均等に滴下した。滴下終了後、酢酸エチル（７４．６部）をフラスコに投入した。ＡＢＮ−Ｅ（０．６部）と酢酸エチル（３０部）とを混合してブースター溶液を調整し、滴下終了後９０分後から３０分毎に４回に分けて投入した後、５．３時間熟成した。
【０１３３】
反応終了後、不揮発分が約４９％になるように酢酸エチルで、反応液を希釈し、粘着剤Ａを得た。粘着剤Ａを５７．９部、近赤外線吸収色素溶液１を１．４部、有機カチオン塩溶液（２）を９．４部、メチルエチルケトン２１．３部を混合し、塗料固形分３０％の近赤外線吸収性組成物６（固形分比：バインダー／色素／有機カチオン塩＝１００／２／３．３）を得た。
【０１３４】
得られた近赤外線吸収性組成物をアプリケーターで易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製  コスモシャインＡ４３００）上に乾燥後の膜厚が２０μｍとなるように塗工し１５０℃の熱風乾燥器中で３分間乾燥させた。得られた塗工面をコスモシャインＡ４３００で覆い、近赤外線吸収材７を得た。これを５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、試験片とした。この試験片について、可視−近赤外スペクトル及び色差の測定を行い、近赤外線吸収能を評価した。測定にはＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用した。
【０１３５】
実施例９〜１１
近赤外線吸収溶液、有機カチオン塩溶液をそれぞれを表２のように使用すること以外は、実施例７と同様にして近赤外線吸収材９〜１１を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。図５及び６に、それぞれ実施例１１で得られた初期及び耐久性試験５日後の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
【０１３６】
比較例１
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収材１２を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
【０１３７】
比較例２
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例４と同様にして近赤外線吸収材１３を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
【０１３８】
比較例３
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例６と同様にして近赤外線吸収材１４を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
【０１３９】
比較例４
有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例７と同様にして近赤外線吸収材１５を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
【０１４０】
比較例５
近赤外線吸収色素溶液５を使用し、有機カチオン塩溶液を添加しないこと以外は実施例６と同様にして近赤外線吸収材１６を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
【０１４１】
比較例６
粘着剤Ａ５９．５部、近赤外線吸収色素溶液５を１４．７部、メチルエチルケトン２５．０部混合し、塗料固形分３０％の近赤外線吸収性組成物１７を得た。実施例８と同様にして近赤外線吸収材１７を作成し、試験片を切り出して、同様の評価を行った。
図７〜１１に、比較例１〜４及び６で得られた初期の可視−近赤外線吸収スペクトルを示す。
【０１４２】
実施例及び比較例で得た試験片について、以下のようにして、吸収波長領域の拡張割合及び耐久性を評価した。結果を表２に示す。
＜拡張割合＞
吸収波長領域の拡張割合は、上述した計算式に基づいて計算した。
＜耐久性＞
試験体を１００℃で１２０時間オーブンに静置し、試験前後での可視−近赤外スペクトルと色差（Ｃ光源２°視野でのΔｂ＊）を測定した。測定にはＵＶ−３７００（島津製作所製）を使用した。なお、耐久性試験後の透過率、色差の変化は小さいほど良く、好ましくはΔｂ＊＜３である。
【０１４３】
実施例１〜１１の８００−１０００ｎｍの透過率の最大値と最小値の差は、４．５〜１９．６の範囲内にあり、一方、有機カチオン塩溶液を添加していない比較例１〜６の８００−１０００ｎｍの透過率の最大値と最小値の差は、比較例５を除いて、４０．２〜６６．９の範囲内にある。このことから、近赤外線吸収性組成物に有機カチオン塩を添加すると、近赤外線吸収色素の吸収波長領域（８００−１０００ｎｍ）を拡張する効果を有することを確認することができた。
また、本発明の近赤外線吸収組成物は、粘着剤を含む近赤外線吸収組成物であっても吸収波長領域を拡張する効果の耐久性が高いことがわかる。通常、色素の耐久性は樹脂のＴｇに依存するため、樹脂に粘着剤を用いた比較例６は初期（耐久性試験前）からジイモニウム色素が劣化してしまい、長波長側の近赤外線を充分には吸収できないのに対し、実施例８では耐久性試験を行った後でも充分に近赤外線を吸収しており、また色の変化（Δｂ＊）も小さいことがわかる。
【０１４４】
表２の結果より、本発明の構成のように有機カチオン塩等の近赤外線吸収色素の吸収波長領域拡張領域を拡張する化合物を含む近赤外線吸収性組成物は、近赤外線吸収波長色素の吸収波長領域を拡張するのみならず、優れた耐久性を有することを確認することができた。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
本発明の近赤外線吸収性組成物及びこれから構成される近赤外線吸収材は、近赤外線吸収能と可視領域の透明性が高く、耐熱性、耐湿熱性に優れることから、薄型ディスプレー用の光学フィルター、光半導体素子用光学フィルターとして有用である。また、光情報記録材料としても使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１４６】
【図１】図１は、実施例２で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図２】図２は、実施例２で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（５日後）を示す図である。
【図３】図３は、実施例７で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図４】図４は、実施例７で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（５日後）を示す図である。
【図５】図５は、実施例１１で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図６】図６は、実施例１１で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（５日後）を示す図である。
【図７】図７は、比較例１で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図８】図８は、比較例２で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図９】図９は、比較例３で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図１０】図１０は、比較例４で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図１１】図１１は、比較例６で得られた可視−近赤外線吸収スペクトル（初期）を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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