(57)【要約】【課題】より長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置および電子機器、有機ＥＬ発光装置の製造方法を提供すること。【解決手段】有機ＥＬ発光装置１０は、トップエミッション型の有機ＥＬ発光装置であって、光透過性を有する陽極５ｃ，５ｄ，５ｆと有機発光層７を含む機能層Ｋと半透過反射性を有する陰極９とが順次積層された発光素子Ｌが複数形成された素子基板１と、複数の発光素子Ｌに対応する各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂが形成された封止基板２とが接着層１１を介して接合されている。接着層１１に面する素子基板１側と封止基板２側の両方に、光透過性が高く気体透過性が低い酸化窒化シリコンからなるガスバリア層１６，１７を設けた。【選択図】図１
2007128741.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介して接合された有機ＥＬ発
光装置であって、
前記接着層に面する前記素子基板側または前記封止基板側のいずれかにガスバリア層を
設けたことを特徴とする有機ＥＬ発光装置。
【請求項２】
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介して接合された有機ＥＬ発
光装置であって、
前記接着層に面する前記素子基板側と前記封止基板側の両方にガスバリア層を設けたこ
とを特徴とする有機ＥＬ発光装置。
【請求項３】
前記封止基板には、前記色要素を覆う有機膜からなる平坦化層を有していることを特徴
とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ発光装置。
【請求項４】
前記ガスバリア層が、酸化窒化シリコンからなることを特徴とする請求項１ないし３の
いずれか一項に記載の有機ＥＬ発光装置。
【請求項５】
前記ガスバリア層において、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、４０％
以上８０％未満であることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ発光装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ発光装置を備えたことを特徴とする
電子機器。
【請求項７】
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを備えた有機ＥＬ発光装置の製造方法で
あって、
複数の前記発光素子が形成された前記素子基板の表面または前記色要素が形成された前
記封止基板の表面を覆うようにガスバリア層を形成する工程と、
前記素子基板と前記封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴と
する有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【請求項８】
有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成された素子基板と、複数の前記発
光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを備えた有機ＥＬ発光装置の製造方法で
あって、
前記色要素が形成された前記封止基板の表面を覆うように第１ガスバリア層を形成する
工程と、
複数の前記発光素子が形成された前記素子基板の表面を覆うように第２ガスバリア層を
形成する工程と、
前記素子基板と前記封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴と
する有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【請求項９】
前記ガスバリア層または第１ガスバリア層を形成する工程の前に、前記色要素を覆うよ
うに有機膜からなる平坦化層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項７または８
に記載の有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記ガスバリア層、前記第１ガスバリア層および前記第２ガスバリア層が酸化窒化シリ
コンからなるように形成することを特徴とする請求項７または８に記載の有機ＥＬ発光装
置の製造方法。
【請求項１１】
前記ガスバリア層、前記第１ガスバリア層および前記第２ガスバリア層において、含有
する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、４０％以上８０％未満となるように形成す
ることを特徴とする請求項１０に記載の有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）素子を有する有機ＥＬ発光装置、およ
び有機ＥＬ発光装置を備えた電子機器、有機ＥＬ発光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子とホール（正孔）が注入され、それらの再結合により発光中心が励起される有機Ｅ
Ｌ素子は、水分や有機溶媒成分が吸着することによって、黒い斑点状のダークスポットが
発生する。そして、ダークスポットが成長することにより発光寿命が低下する。
【０００３】
このような問題を改善するために、基板上にカラーフィルタと、カラーフィルタを覆っ
て平坦化する有機層と、透明電極（ホール注入電極）と、有機発光層を含む機能層と、陰
極（電子注入電極）とが順次積層され、有機層と透明電極との間に窒化シリコンを含有す
るパッシベーション層を備えた有機ＥＬ素子が知られている（特許文献１）。
【０００４】
このような有機ＥＬ素子は、カラーフィルタや有機層に含まれる水分や有機溶媒成分の
ガスが放出されることをパッシベーション層を設けることにより防止し、発光機能が低下
することを低減したものである。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１３４２６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記有機ＥＬ素子においては、陰極側から水分や有機溶媒成分が吸着す
ることが考えられる。また、カラーフィルタが形成された封止基板と有機ＥＬ素子が形成
された素子基板とを接合したトップエミッション型の有機ＥＬ発光装置では、封止基板か
ら放出される水分や有機溶剤成分のガスを効率よく遮蔽して、有機発光層を含む機能層の
発光機能の低下を防止する必要があるという課題がある。
【０００７】
本発明は、上記課題を考慮してなされたものであり、より長い発光寿命を有する有機Ｅ
Ｌ発光装置および電子機器、有機ＥＬ発光装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の有機ＥＬ発光装置は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形成さ
れた素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層を介
して接合された有機ＥＬ発光装置であって、接着層に面する素子基板側または封止基板側
のいずれかにガスバリア層を設けたことを特徴とする。
【０００９】
この構成によれば、素子基板と封止基板とを接合する接着層に面して素子基板側または
封止基板側のいずれかに気体を透過しにくいガスバリア層が設けられているので、少なく
とも色要素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に
吸着して発光素子の発光寿命が短くなることを抑制することができる。ゆえに、より長い
発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置を提供することができる。
【００１０】
本発明の他の有機ＥＬ発光装置は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が複数形
成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とが接着層
を介して接合された有機ＥＬ発光装置であって、接着層に面する素子基板側と封止基板側
の両方にガスバリア層を設けたことを特徴とする。
【００１１】
この構成によれば、素子基板と封止基板とを接合する接着層に面して素子基板側と封止
基板側の両方に気体を透過しにくいガスバリア層が設けられているので、少なくとも色要
素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に吸着して
発光素子の発光寿命が短くなることを抑制することができる。ゆえに、素子基板と封止基
板のうちいずれか一方にガスバリア層を設ける場合に比べて、より長い発光寿命を有する
有機ＥＬ発光装置を提供することができる。
【００１２】
これらの発明の有機ＥＬ発光装置において、上記封止基板には、色要素を覆う有機膜か
らなる平坦化層を有していることを特徴とする。
【００１３】
この構成によれば、色要素を覆う有機膜からなる平坦化層を有しているので、発光素子
からの発光が色要素の表面の凹凸によって散乱して輝度が低下することを抑制することが
できる。また、ガスバリア層は、少なくとも平坦化層と発光素子との間に設けられるので
、有機膜からなる平坦化層に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成さ
れた発光素子に吸着して発光素子の発光寿命が短くなることも抑制することができる。ゆ
えに、発光輝度が高く、より長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置を提供することがで
きる。
【００１４】
また、上記ガスバリア層が、酸化窒化シリコンからなることが好ましい。これによれば
、酸化窒化シリコンは、高い光透過性を有する一方で低い気体透過性を有しているので、
ガスバリア層を透過する発光素子の発光の色相や輝度の変化が起こり難く、少なくとも色
要素に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなること
を抑制することができる。
【００１５】
また、上記ガスバリア層において、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、
４０％以上８０％未満であることが好ましい。酸化窒化シリコンは、酸素の割合が増加す
るとガスバリア層としての光透過率は上昇する傾向となる。しかし、気体透過率も上昇し
てガスバリア層としての機能が低下する。これによれば、酸素の割合が、４０％以上８０
％未満であれば、気体透過率が低い状態を維持して、比較的に高い光透過率を得ることが
できる。すなわち、発光素子からの発光に比較的に影響を与えずにガスバリア層としての
機能を維持することができる。
【００１６】
本発明の電子機器は、上記発明の有機ＥＬ発光装置を備えたことを特徴とする。これに
よれば、より長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置を備えているので、長期に渡って使
用することが可能な高い信頼性を有する電子機器を提供することができる。
【００１７】
本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法は、有機発光層を含む機能層を有する発光素子が
複数形成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板とを
備えた有機ＥＬ発光装置の製造方法であって、複数の発光素子が形成された素子基板の表
面または色要素が形成された封止基板の表面を覆うようにガスバリア層を形成する工程と
、素子基板と封止基板とを接着層を介して接合する工程とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
この方法によれば、ガスバリア層を形成する工程では、複数の発光素子が形成された素
子基板の表面または色要素が形成された封止基板の表面を覆うようにガスバリア層が形成
される。その後、素子基板と封止基板とが接着層を介して接合される。したがって、接着
層に面して素子基板側または封止基板側のいずれか一方にガスバリア層が形成される。ゆ
えに、少なくとも色要素に含まれる水分や溶剤成分の気体分子が発光素子に吸着して発光
寿命が短くなることを抑制した長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置を製造することが
できる。
【００１９】
本発明の他の有機ＥＬ発光装置の製造方法は、有機発光層を含む機能層を有する発光素
子が複数形成された素子基板と、複数の発光素子に対応する色要素が形成された封止基板
とを備えた有機ＥＬ発光装置の製造方法であって、色要素が形成された封止基板の表面を
覆うように第１ガスバリア層を形成する工程と、複数の発光素子が形成された素子基板の
表面を覆うように第２ガスバリア層を形成する工程と、素子基板と封止基板とを接着層を
介して接合する工程とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
この方法によれば、第１ガスバリア層を形成する工程では、封止基板側に第１ガスバリ
ア層が色要素を覆うように形成される。第２ガスバリア層を形成する工程では、素子基板
側に第２ガスバリア層が発光素子を覆うように形成される。その後、素子基板と封止基板
とが接着層を介して接合される。したがって、接着層に面して素子基板側と封止基板側の
両方にガスバリア層が形成される。ゆえに、少なくとも色要素に含まれる水分や溶剤成分
の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなることを抑制したことにより長い発光
寿命を有する有機ＥＬ発光装置を製造することができる。
【００２１】
これらの本発明の有機ＥＬ発光装置の製造方法において、上記ガスバリア層または第１
のガスバリア層を形成する工程の前に、色要素を覆うように有機膜からなる平坦化層を形
成する工程を備えたことを特徴とする。
【００２２】
この方法によれば、ガスバリア層は、色要素を覆うように平坦化層が形成された後に、
形成される。したがって、発光素子からの発光が色要素の表面の凹凸によって散乱して輝
度が低下することを平坦化層で抑制することができる。また、ガスバリア層または第１ガ
スバリア層は、少なくとも平坦化層と発光素子との間に設けられるので、有機膜からなる
平坦化層に含まれる水分や溶媒成分の気体分子が素子基板に複数形成された発光素子に吸
着して発光素子の発光寿命が短くなることも抑制することができる。ゆえに、発光輝度が
高く、より長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置を製造することができる。
【００２３】
また、上記ガスバリア層、第１ガスバリア層および第２ガスバリア層が酸化窒化シリコ
ンからなるように形成することが好ましい。これによれば、酸化窒化シリコンは、高い光
透過性を有する一方で低い気体透過性を有しているので、ガスバリア層を透過する発光素
子の発光の色相や輝度の変化が起こり難く、少なくとも色要素に含まれる水分や溶媒成分
の気体分子が発光素子に吸着して発光寿命が短くなることを抑制することが可能である。
ゆえに、優れた機能を有するガスバリア層、第１ガスバリア層および第２ガスバリア層を
形成することができる。
【００２４】
また、上記ガスバリア層、第１ガスバリア層および第２ガスバリア層において、含有す
る酸素と窒素の総量に対する酸素の割合が、４０％以上８０％未満となるように形成する
ことが好ましい。酸化窒化シリコンは、酸素の割合が増加するとガスバリア層の光透過率
は上昇する傾向となる。しかし、気体透過率も上昇してガスバリア層としての機能が低下
する。これによれば、酸素の割合が、４０％以上８０％未満であれば、気体透過率が低い
状態を維持して、比較的に高い光透過率を得ることができる。すなわち、発光素子からの
発光に比較的に影響を与えずに本来の機能を維持したガスバリア層、第１ガスバリア層お
よび第２ガスバリア層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の実施形態は、発光素子としての有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ発光装置を例に
説明する。尚、説明に用いる各図面は、構成を明確にするために適宜拡大または縮尺して
いる。
【００２６】
＜有機ＥＬ発光装置＞
図１は、有機ＥＬ発光装置を示す概略断面図である。図１に示すように、本実施形態の
有機ＥＬ発光装置１０は、発光素子Ｌが複数形成された素子基板１と、各色要素１２ｒ，
１２ｇ，１２ｂが形成された封止基板２とを備えている。素子基板１と封止基板２とは、
各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂが各発光素子Ｌに対応するように接着層１１を介して接
合されている。接着層１１に面する封止基板２側の表面には、第１ガスバリア層としての
ガスバリア層１６が設けられ、同じく素子基板１側の表面には、第２ガスバリア層として
のガスバリア層１７が設けられている。すなわち、２つのガスバリア層１６，１７が互い
に対向する状態で接着層１１を介して素子基板１と封止基板２とが接合されている。色要
素１２ｒは赤色（Ｒｅｄ）系、色要素１２ｇは緑色（Ｇｒｅｅｎ）系、色要素１２ｂは青
色（Ｂｌｕｅ）系を指す。
【００２７】
各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂに対応する発光素子Ｌは、光反射性を有する反射層３
と、光透過性を有する陽極５ｃ，５ｄ，５ｆと、有機発光層７を含む機能層Ｋと、陽極５
ｃ，５ｄ，５ｆに対向して配置される半透過反射性を有する陰極９とが、素子基板１に順
次積層されたものである。また、反射層３と陰極９との間で光共振器が構成されている。
このような発光素子Ｌを備えた有機ＥＬ発光装置１０は、発光素子Ｌの発光が封止基板２
側から出射される所謂トップエミッション型と呼ばれるものである。
【００２８】
封止基板２は、透明なガラス基板あるいはプラスチック等の樹脂基板を用いることがで
きる。３種の異なる色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂは、遮光部１３によって区画されてお
り、例えば色要素材料としての顔料を含む感光性樹脂を塗布して露光現像することにより
形成される。遮光部１３は、例えばＣｒやブラック樹脂などからなるシャドウマスク上に
各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂのいずれか２つが重なったものである。これらの色要素
１２ｒ，１２ｇ，１２ｂと遮光部１３とを覆うと共に、その表面の凹凸を緩和するために
平坦化層１４が形成されている。平坦化層１４は、有機膜であり、例えばアクリル等の透
明な樹脂材料を用いることができる。遮光部１３によって区画された領域が、異なる発光
色の光が出射される領域となっている。
【００２９】
素子基板１は、透明なガラス基板あるいは不透明なセラミックやシリコン基板等を用い
ることができる。素子基板１には、各発光素子Ｌを駆動するための複数のＴＦＴ（Thin  
Film  Transistor）素子（図示省略）と、各発光素子Ｌに電流を流すための複数の配線１
５と、各発光素子Ｌとが、異なる発光色の光が出射される領域に対応して形成されている
。複数の配線１５の一方は、陽極５ｃ，５ｄ，５ｆにそれぞれ接続され、他方は、複数の
ＴＦＴ素子のゲート電極またはソース電極にそれぞれ接続されている。
【００３０】
反射層３は、Ａｌを主成分とする材料から構成されている。尚、反射層３を構成する材
料の主成分は、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｍｇ、ＩＴＯ、ＩＺＯの中から選
択することができる。
【００３１】
また、配線１５を構成する材料の主成分は、反射層３を構成する材料と同じ材料を採用
することが望ましい。そうすれば、同一の工程にて成膜し、所望の形状にパターニングす
ることが可能である。
【００３２】
色要素１２ｒに対応する発光素子Ｌの陽極５ｆは、透明なＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide
）からなり、反射層３を覆う厚みおよそ５０ｎｍの透明なシリコン窒化膜からなる保護層
４の上に、膜厚が３０ｎｍのＩＴＯ膜５ａと、同じく３５ｎｍのＩＴＯ膜５ｂと、同じく
３０ｎｍのＩＴＯ膜５ｃとが積層されたものである。これにより陽極５ｆの総膜厚が９５
ｎｍとなっている。
【００３３】
同様にして色要素１２ｇに対応する発光素子Ｌの陽極５ｄは、ＩＴＯ膜５ｂとＩＴＯ膜
５ｃとが積層され、総膜厚が６５ｎｍとなっている。色要素１２ｂに対応する発光素子Ｌ
の陽極としてのＩＴＯ膜５ｃの膜厚は、３０ｎｍである。以降、これを陽極５ｃと呼ぶ。
すなわち、異なる発光色の光が出射される領域に対応して各陽極５ｃ，５ｄ，５ｆが異な
る膜厚で形成されている。これにより、各発光素子Ｌの光共振器における光学的距離が異
なって、封止基板２の各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂに対応した異なったピーク波長の
光が出射される。
【００３４】
機能層Ｋは、各陽極５ｃ，５ｄ，５ｆの上に、正孔輸送層６、有機発光層７、電子輸送
層８を順次積層したものである。形成方法としては、各層を構成する材料をスピンコート
法などにより塗布する方法や真空中で蒸着する方法が挙げられる。
【００３５】
正孔輸送層６、有機発光層７、電子輸送層８を形成する材料としては公知の材料を用い
ればよい。尚、この場合、有機発光層７は、単色（白色）発光が可能となるように異なる
発光色を発光する複数種の有機発光材料が積層されている。
【００３６】
陰極９は、Ｍｇ・Ａｇの薄膜を蒸着法により、機能層Ｋから発光した光の一部を透過し
、一部を反射するように厚みおよそ１０ｎｍとして、機能層Ｋを覆うように形成されてい
る。すなわち、陰極９は、半透過反射性を有したハーフミラー状態となっている。
【００３７】
各ガスバリア層１６，１７は、酸化窒化シリコンからなり、酸化シリコンと窒化シリコ
ンをそれぞれターゲットとして真空中で同時スパッタリングすることにより、素子基板１
と封止基板２のそれぞれの表面に形成されている。酸化窒化シリコンは、酸化シリコンの
高い光透過性と、窒化シリコンの低い気体透過性とを兼ね備えている。したがって、発光
素子Ｌからの発光を減衰させることなく、水分や溶剤成分などの気体が透過することを抑
制可能である。
【００３８】
酸化窒化シリコンの薄膜においては、酸素の含有量が増加すると光透過率が上昇する。
一方で気体透過率も上昇してしまう。この場合、ガスバリア層１６，１７における酸素と
窒素の総量に対する酸素の含有率は、４０％以上８０％未満となっている。さらには、お
よそ５０％程度が好ましい。これによれば、高い光透過率を維持して低い気体透過率を得
ることができる。
【００３９】
また、ガスバリア層１６，１７としての機能は、当然ながらその膜厚にも依存する。た
だし、膜厚が厚すぎると成膜時または成膜後にクラックが生じやすく本来の機能が果たせ
ないので、膜厚は１００ｎｍ以上〜８００ｎｍ未満が好ましい。この場合、封止基板２側
のガスバリア層１６の膜厚はおよそ４００ｎｍであり、素子基板１側のガスバリア層１７
の膜厚はおよそ１００ｎｍである。すなわち、封止基板２側のガスバリア層１６の膜厚を
厚くすることにより、封止基板２に形成された各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂおよび平
坦化層１４から水分や溶剤成分の気体が拡散することをより抑制する構造となっている。
【００４０】
素子基板１と封止基板２とを接合する接着層１１は、例えば熱硬化型の透明なエポキシ
樹脂接着剤を用いることができる。積層形成された発光素子Ｌが硬化時の収縮によって浮
き等が発生しないように常温硬化するタイプの接着剤を用いることが好ましい。
【００４１】
このような有機ＥＬ発光装置１０は、各発光素子Ｌにおいて、反射層３と陰極９との間
で光共振器が構成されている。したがって、各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂに対応した
ピーク波長を有する光が発光し、各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂを通過することにより
、高い色純度の発光が封止基板２側から出射される。また、封止基板２側と素子基板１側
とに各ガスバリア層１６，１７が設けられ接着層１１を介して接合されているので、各色
要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂおよび平坦化層１４から水分や溶剤成分の気体が拡散して発
光素子Ｌに吸着し、時間の経過と共に発光の輝度が低下する所謂発光寿命の低下を抑制す
ることが可能である。
【００４２】
尚、本実施形態では、封止基板２側と素子基板１側の両方にガスバリア層１６，１７を
設けたが、封止基板２側と素子基板１側のうちいずれか一方、好ましくは封止基板２側の
みにガスバリア層１６を設ける構造としてもよい。また、封止基板２に形成された各色要
素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂは、３色に限定されず、多色の構成としてもよい。さらには、
平坦化層１４は必ずしも必要としない。各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂの表面の凹凸が
数十ｎｍ程度ならば、ガスバリア層１６が平坦化層１４を兼ねるように成膜することも可
能である。
【００４３】
＜有機ＥＬ発光装置の製造方法＞
次に本実施形態の有機ＥＬ発光装置の製造方法について図２および図３を基に説明する
。図２は有機ＥＬ発光装置の製造方法を示すフローチャート、図３（ａ）〜（ｄ）は有機
ＥＬ発光装置の製造方法を示す概略断面図である。尚、図示しないが、素子基板１には、
発光素子Ｌを駆動するための駆動素子としてのＴＦＴ素子が形成されている。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬ発光装置１０の製造方法は、封止基板２に形成された各色要素１
２ｒ，１２ｇ，１２ｂを覆うように平坦化層１４を形成する工程（ステップＳ１）と、各
色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂが形成された封止基板２の表面を覆うように第１ガスバリ
ア層としてのガスバリア層１６を形成する工程（ステップＳ２）とを備えている。さらに
、複数の発光素子Ｌが形成された素子基板１の表面を覆うように第２ガスバリア層として
のガスバリア層１７を形成する工程（ステップＳ３）と、各ガスバリア層１６，１７が形
成された封止基板２と素子基板１とを接着層１１を介して接合する基板接合工程（ステッ
プＳ４）とを備えている。
【００４５】
図２のステップＳ１は、平坦化層１４を形成する工程である。ステップＳ１では、図３
（ａ）に示すように、封止基板２に形成された各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂを覆うよ
うにアクリル系樹脂材料を用いて平坦化層１４を形成する。形成方法としては、スピンコ
ート法、ロールコート法などによりアクリル系樹脂をコーティングして乾燥させる方法が
挙げられる。また、感光性アクリル樹脂をコーティングしてから紫外光を照射して硬化さ
せる方法も採用することができる。そして、ステップＳ２へ進む。
【００４６】
図２のステップＳ２は、ガスバリア層１６を形成する工程である。ステップＳ２では、
図３（ｂ）に示すように、封止基板２に形成された平坦化層１４の表面を覆うようにガス
バリア層１６を形成する。より具体的には、平坦化層１４が形成された封止基板２を真空
チャンバー内に配置し、酸化シリコンと窒化シリコンの２つのターゲットを用いて同時ス
パッタリングすることで、平坦化層１４の表面に酸化窒化シリコンの薄膜からなるガスバ
リア層１６を成膜する。膜厚が、およそ４００ｎｍとなるように成膜する。また、形成さ
れた酸化窒化シリコンの薄膜における酸素と窒素の総量に対して酸素の割合が４０％以上
８０％未満、好ましくは５０％程度となるように各ターゲットのスパッタリング速度や導
入する不活性ガス等のガス分圧を調整する。そして、ステップＳ３へ進む。
【００４７】
図２のステップＳ３は、ガスバリア層１７を形成する工程である。ステップＳ３では、
図３（ｃ）に示すように、素子基板１に形成された複数の発光素子Ｌを覆うようにガスバ
リア層１７を形成する。形成方法は、ステップＳ２と同様である。この場合の膜厚は、１
００ｎｍである。そして、ステップＳ４へ進む。
【００４８】
図２のステップＳ４は、両基板１，２を接合する基板接合工程である。ステップＳ４で
は、図３（ｄ）に示すように、まず、素子基板１の表面に透明なエポキシ樹脂を主成分と
する接着剤を塗布して接着層１１を形成し、その上にガスバリア層１６が形成された封止
基板２を隙間が発生しないように押圧する。そして、各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂと
各発光素子Ｌとが対応するように位置決めして硬化させる。好ましくは、対向配置される
各ガスバリア層１６，１７と接着層１１との間に気泡が含まれないように、減圧下で素子
基板１と封止基板２とを接合させる。接着層１１は、熱硬化型のエポキシ樹脂でもよいが
、硬化時の熱収縮が少ない常温硬化型のほうがより好ましい。
【００４９】
このような有機ＥＬ発光装置１０の製造方法によれば、素子基板１と封止基板２の両方
にガスバリア層１６，１７が設けられた高い信頼性を有すると共に、色純度が高い有機Ｅ
Ｌ発光装置１０を製造することが可能である。尚、ガスバリア層１６を形成する工程、ガ
スバリア層１７を形成する工程のいずれか一方を行ってもよい。好ましくは封止基板２側
にガスバリア層１６を形成する工程を採用するほうがよい。これによれば、より単純な構
造で高い信頼性を得ることが可能である。
【００５０】
（電子機器）
次に本発明の有機ＥＬ発光装置を備えた電子機器について図４を基に説明する。図４は
、電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図である。
【００５１】
図４に示すように、本実施形態の電子機器としての携帯電話機１００は、数字や文字、
記号等を入力可能な入力ボタン１０２を有する本体１０１と、本体１０１に対して折りた
たみ可能な状態に取り付けられた表示部１０３とを備えている。表示部１０３には、高い
色純度と長い発光寿命を有する自発光型のカラー表示が可能な有機ＥＬ発光装置１０が搭
載されている。
【００５２】
上記実施形態の効果は、以下の通りである。
（１）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０は、各発光素子Ｌにおいて反射層３と陰極
９との間に光共振器が構成され、接着層１１に面する封止基板２側と素子基板１側の両方
にガスバリア層１６，１７が設けられている。ガスバリア層１６，１７は、光透過性が高
く気体透過性が低い酸化窒化シリコンにより構成されているので、封止基板２に設けられ
た有機膜からなる各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂおよび平坦化層１４から水分や有機溶
剤の気体分子が拡散することを抑制することができる。したがって、これらの水分や有機
溶剤の分子が発光素子Ｌに吸着して発光寿命が短くなることを抑制することができる。す
なわち、高い色純度とより長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置１０を提供することが
できる。
【００５３】
（２）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０およびその製造方法において、接着層１１
に面する封止基板２側と素子基板１側の両方に形成されたガスバリア層１６，１７は、酸
化窒化シリコンから構成されている。そして、含有する酸素と窒素の総量に対する酸素の
含有率が４０％以上８０％未満、好ましくは５０％程度となっているので、高い光透過性
を有する一方で低い気体透過性を得ることができる。すなわち、発光素子Ｌからの発光を
減衰させないガスバリア機能を有する。
【００５４】
（３）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０の製造方法は、各色要素１２ｒ，１２ｇ，
１２ｂとこれを覆う平坦化層１４が形成された封止基板２の表面に酸化窒化シリコンのガ
スバリア層１６を形成する工程と、複数の発光素子Ｌが形成された素子基板１の表面に酸
化窒化シリコンのガスバリア層１７を形成する工程とを備えている。したがって、ガスバ
リア層１６，１７により、封止基板２に設けられた有機膜からなる各色要素１２ｒ，１２
ｇ，１２ｂおよび平坦化層１４から水分や有機溶剤の分子が発光素子Ｌに吸着して発光寿
命が短くなることを抑制することができる。すなわち、より長い発光寿命を有する有機Ｅ
Ｌ発光装置１０を製造することができる。
【００５５】
（４）上記実施形態の携帯電話機１００は、高い色純度と長い発光寿命を有する自発光
型のカラー表示が可能な有機ＥＬ発光装置１０を備えているので、高い信頼性品質を有す
る携帯電話機１００を提供することができる。
【００５６】
上記実施形態以外の変形例は、以下の通りである。
（変形例１）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０において、各発光素子Ｌは、反射層
３と陰極９との間に光共振器が構成される構造に限定されない。例えば、光共振器を構成
せず、各機能層Ｋの有機発光層７がそれぞれ白色（単色）発光するものでもよい。
【００５７】
（変形例２）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０において、ガスバリア層１６，１７
は、それぞれ単層に限定されない。例えば、ガスバリア層１６と平坦化層１４の間に透明
なＩＴＯなどの薄膜等が設けられた複層構造としてもよい。これによれば、各色要素１２
ｒ，１２ｇ，１２ｂおよび平坦化層１４からの水分や有機溶剤の分子の拡散をより低減す
ることができる。
【００５８】
（変形例３）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０およびその製造方法において、接着
層１１の配置は、これに限定されない。例えば、接着層１１を複数の発光素子Ｌを取り囲
むように額縁状に配置し、ガスバリア層１６，１７が所定の間隔（空間）をおいて対向す
るように素子基板１と封止基板２とを減圧下で接合してもよい。これによれば、減圧下で
接合されるので、当該空間に水分などが存在しない状態で接合され、ガスバリア層１６，
１７の機能は損なわれない。
【００５９】
（変形例４）上記実施形態の有機ＥＬ発光装置１０が搭載される電子機器は、携帯電話
機１００に限定されない。例えば、ＰＤＡ（Personal  Digital  Assistants）と呼ばれ
る携帯型情報機器や携帯端末機器、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車
載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型の
ビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプ
ロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等々の画像表示手段として
好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】は、有機ＥＬ発光装置を示す概略断面図。
【図２】は、有機ＥＬ発光装置の製造方法を示すフローチャート。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は、有機ＥＬ発光装置の製造方法を示す概略断面図。
【図４】は、電子機器としての携帯電話機を示す概略斜視図。
【符号の説明】
【００６１】
１…素子基板、２…封止基板、５ｃ，５ｄ，５ｆ…陽極、７…有機発光層、９…陰極、
１０…有機ＥＬ発光装置、１１…接着層、１２ｒ，１２ｇ，１２ｂ…色要素、１４…平坦
化層、１６…第１ガスバリア層としてのガスバリア層、１７…第２ガスバリア層としての
ガスバリア層、１００…電子機器としての携帯電話機、Ｋ…機能層、Ｌ…発光素子。
【図１】
2007128741.tif 000003
【図２】
2007128741.tif 000004
【図３】
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【図４】
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