(57)【要約】【課題】  射出装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】射出原料が射出金型に流れるように導くノズルと、前記ノズルの一部に形成されるマイクロ波透過部と、前記ノズルと近接して設置され、マイクロ波を生成して前記マイクロ波透過部に照射するマイクロ波生成部とを備える。これによれば、前記射出金型に流入した射出原料における加硫反応が均一に且つ迅速に行われるため、良質の射出品が得られると同時に、射出作業時間を短縮することが可能になる。【選択図】  図１
2007261264.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
射出原料が射出金型に流れるように導くノズルと、
前記ノズルの一部に形成されるマイクロ波透過部と、
前記ノズルと近接して設置され、マイクロ波を生成して前記マイクロ波透過部に照射するマイクロ波生成部と、
を備えることを特徴とする、射出装置。
【請求項２】
前記マイクロ波透過部に連結されて、前記マイクロ波を前記マイクロ波透過部に導く案内部材をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の射出装置。
【請求項３】
前記案内部材は、前記ノズルの一部を収容すると同時に、前記マイクロ波生成部と連通して、マイクロ波を共振させる共振チャンバーで構成されることを特徴とする、請求項２に記載の射出装置。
【請求項４】
前記案内部材は、前記共振チャンバーと前記マイクロ波生成部とを連通させる導波管をさらに備えることを特徴とする、請求項３に記載の射出装置。
【請求項５】
前記ノズルは、前記射出原料の流入する流入孔を含む第１のノズル部と、前記第１のノズル部と連結され、前記マイクロ波透過部を構成する第２のノズル部と、前記第２のノズル部と連結され、前記射出金型と連通する連通孔を含む第３のノズル部と、を備えることを特徴とする、請求項３または４に記載の射出装置。
【請求項６】
前記マイクロ波生成部は、前記マイクロ波を生成するマグネトロンと、前記マグネトロンで生成されたマイクロ波が逆流するのを防止する逆流防止装置と、を備えることを特徴とする、請求項１に記載の射出装置。
【請求項７】
前記共振チャンバーは、前記第２のノズル部を包囲するように配置され、前記共振チャンバーの内部に流入したマイクロ波は共振されて前記第２のノズル部に照射されることを特徴とする、請求項３に記載の射出装置。
【請求項８】
前記共振チャンバーは中空のボックス形状で構成され、前記第２のノズル部は前記共振チャンバーの上面と下面を貫通し、前記共振チャンバーの各側壁は前記第２のノズルと一定間隔だけ離れていることを特徴とする、請求項７に記載の射出装置。
【請求項９】
前記第２のノズル部は、石英材質からなることを特徴とする、請求項５に記載の射出装置。
【請求項１０】
前記ノズルの周りに設けられて、前記ノズルを通過する射出原料の急激な温度上昇を防止する温度調節部をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の射出装置。
【請求項１１】
前記温度調節部は、前記第１のノズル部の周りに設置される第１の温度調節部と、第３のノズル部の周りに設置される第２の温度調節部とを備えることを特徴とする、請求項１０に記載の射出装置。
【請求項１２】
前記第１の温度調節部は、冷却水が流動できる冷却水管で構成され、前記第２の温度調節部は、前記第３のノズル部を冷却できる熱交換器で構成されることを特徴とする、請求項１１に記載の射出装置。
【請求項１３】
前記マグネトロンに接続して、該マグネトロンの作動を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、電源を供給する電源供給装置と、マイクロ波の出力を変形させるマイクロ波出力可変装置とを備えることを特徴とする、請求項６に記載の射出装置。
【請求項１４】
射出プランジャーと、該射出プランジャーによって加圧された射出原料を射出金型に導くノズルと、前記ノズルの一部に形成されるマイクロ波透過部と、前記ノズルに近接して設置され、マイクロ波を生成して前記マイクロ波透過部に照射するマイクロ波生成部と、前記マイクロ波生成部の作動を制御する制御部とを備える射出装置の制御方法であって、
前記射出プランジャーが前記射出原料を加圧すると、前記マイクロ波生成部を駆動させてマイクロ波を生成するステップと、
前記ノズルの内部を流動する射出原料の温度を検出して、前記マイクロ波の出力を変化させるステップと、
前記射出原料が前記射出金型に完全に充填されると、前記マイクロ波生成部の作動を停止するステップと、を含むことを特徴とする、射出装置の制御方法。
【請求項１５】
前記マイクロ波の出力を変化させるステップでは、前記マイクロ波が前記ノズル内の射出原料に照射される場合、前記射出原料の温度が加硫反応の起きうるような温度範囲内に含まれるように、前記マイクロ波の出力を可変することを特徴とする、請求項１４に記載の射出装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、射出装置に係り、より詳細には、射出作業に当たり、射出金型に注入される射出原料において加硫反応が起きる際、該加硫反応が射出金型の内部において均一に且つ迅速に起きるようにすることによって、射出製品のクォリティを向上させると同時に射出作業の速度を増大させることができる射出装置を提供することにある。
【背景技術】
【０００２】
射出装置とは、高温で流動性を有するゴムやプラスチック材質のような原料を、一定の形状を有する射出金型に注入し冷却することによって、ユーザーの希望する形状の製品を製造する装置のことをいう。
【０００３】
従来の射出装置には、上部フレーム、下部フレーム、上部フレームと下部フレームとの間に設けられる射出金型、及び上部フレームの一側に設けられる射出原料供給装置で構成され、上部フレームには、射出原料注入装置によって上部フレームへ流入した射出原料が収容される射出チャンバーと、射出原料が射出金型へ移動するように導くノズルが設けられたものが提案されたことがある（例えば、特許文献１）。
【０００４】
ノズルの上側には、射出チャンバーに流入した射出原料がノズル内に注入されるように圧力を加える射出プランジャーと、射出プランジャーが上下に動けるように駆動力を発生させる射出シリンダーとが配備される。
【０００５】
上部フレームの下部には上部ヒーターが設置され、下部フレームの上部には上部ヒーターが設置され、この上部ヒーターと下部ヒーターとの間に金型が設けられる。なお、この金型は、上部金型と下部金型とに分けられ、上部金型は上部ヒーターに、下部金型は下部ヒーターに密着する。
【０００６】
このような構成において、射出装置が稼働すると、射出原料供給装置によって射出原料が射出チャンバーに流入し、以降射出シリンダーが作動すると射出プランジャーが下降し、射出原料はノズルの内部に流入する。
【０００７】
この射出原料はノズルに沿って移動して、ノズル末端に連結された金型に注入される。この場合、上述したように、金型の上部と下部にはヒーターが設けられており、これらのヒーターが作動して発熱すると、ヒーターの熱は金型を通じて金型内の射出原料に伝達される。このとき、ヒーターの発熱温度は、金型内の射出原料、例えば、ゴム材料において加硫反応が起きるのに好適な温度とする。
【０００８】
加硫反応は、ゴムの組織に硫黄を結合させることによってゴムに弾性を与える反応で、単純にゴムに混合された硫黄がゴムの組織と化学的結合をするためには一定の熱が必要となり、従来の射出装置では、このように加硫反応に必要とされる熱を上記のヒーターによって供給されてきたわけである。
【特許文献１】韓国登録実用新案第２０−０１６９０６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、射出原料、特にゴムの熱伝導率は比較的低いため、金型内部と面接している部分の射出原料にはヒーターの熱か金型に沿って円滑に伝達されるが、金型の中心部に位置している射出原料には熱が円滑に伝導されず、温度のばらつきが生じてしまう。
【００１０】
したがって、金型内部の全体において加硫反応が起きるためには、金型の中心部に熱が伝達されるまで待たなければならず、作業時間が増加するという問題点があった。
【００１１】
なお、射出製品の外側部では所望の弾性が得られるが、射出原料の内側部にまで熱がうまく伝逹されないため、射出製品の内側部では所望の弾性が得られず、品質の均一化を図ることができないという問題もあった。
【００１２】
しかも、射出原料の低い熱伝導率によって金型の内部においては局所的な過熱がおき、これによる局所的加硫の促進によってフローマーク（ｆｌｏｗ  ｍａｒｋ）のような外観上の欠陥が引き起こるという問題点もあった。
【００１３】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、射出金型に注入される射出原料の加硫反応が均一で迅速に行われるようにする射出装置を提供することにある。
【００１４】
本発明の他の目的は、射出金型の内部で加硫反応が局所的に起きるのを防止することによって、製品の外観上、フローマークのような欠陥が生じるのを予防し、製品の品質を向上させることができる射出装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明は、射出原料が射出金型に流れるように導くノズルと、前記ノズルの一部に形成されるマイクロ波透過部と、前記ノズルと近接して設置され、マイクロ波を生成して前記マイクロ波透過部に照射するマイクロ波生成部と、を備えることを特徴とする射出装置を提供する。
【００１６】
上記射出装置は、前記マイクロ波透過部に連結されて、前記マイクロ波を前記マイクロ波透過部に導く案内部材をさらに備えることを特徴とする。
【００１７】
前記案内部材は、前記ノズルの一部を収容すると同時に、前記マイクロ波生成部と連通して、マイクロ波を共振させる共振チャンバーで構成されることを特徴とする。
【００１８】
前記案内部材は、前記共振チャンバーと前記マイクロ波生成部とを連通させる導波管をさらに備えることを特徴とする。
【００１９】
前記ノズルは、前記射出原料の流入する流入孔を含む第１のノズル部と、前記第１のノズル部と連結され、前記マイクロ波透過部を構成する第２のノズル部と、前記第２のノズル部と連結され、前記射出金型と連通する連通孔を含む第３のノズル部と、を備えることを特徴とする。
【００２０】
前記マイクロ波生成部は、前記マイクロ波を生成するマグネトロンと、前記マグネトロンで生成されたマイクロ波が逆流するのを防止する逆流防止装置と、を備えることを特徴とする。
【００２１】
前記共振チャンバーは、前記第２のノズル部を包囲するように配置され、前記共振チャンバーの内部に流入したマイクロ波は共振されて前記第２のノズル部に照射されることを特徴とする。
【００２２】
また、前記共振チャンバーは中空のボックス形状で構成され、前記第２のノズル部は前記共振チャンバーの上面と下面を貫通し、前記共振チャンバーの各側壁は前記第２のノズルと一定間隔だけ離れていることを特徴とする。
【００２３】
また、前記第２のノズル部は、石英材質からなることを特徴とする。
【００２４】
また、上記射出装置は、前記ノズルの周りに設けられて、前記ノズルを通過する射出原料の急激な温度上昇を防止する温度調節部をさらに備えることを特徴とする。
【００２５】
前記温度調節部は、前記第１のノズル部の周りに設置される第１の温度調節部と、第３のノズル部の周りに設置される第２の温度調節部とを備えることを特徴とする。
【００２６】
前記第１の温度調節部は、冷却水が流動できる冷却水管で構成され、前記第２の温度調節部は、前記第３のノズル部を冷却できる熱交換器で構成されることを特徴とする。
【００２７】
上記射出装置は、前記マグネトロンに接続して、該マグネトロンの作動を制御する制御部をさらに備え、前記制御部は、電源を供給する電源供給装置と、マイクロ波の出力を変形させるマイクロ波出力可変装置とを備えることを特徴とする。
【００２８】
また、上記目的を達成するために、本発明は、射出プランジャーと、該射出プランジャーによって加圧された射出原料を射出金型に導くノズルと、前記ノズルの一部に形成されるマイクロ波透過部と、前記ノズルに近接して設置され、マイクロ波を生成して前記マイクロ波透過部に照射するマイクロ波生成部と、前記マイクロ波生成部の作動を制御する制御部とを備える射出装置の制御方法であって、前記射出プランジャーが前記射出原料を加圧すると、前記マイクロ波生成部を駆動させてマイクロ波を生成するステップと、前記ノズルの内部を流動する射出原料の温度を検出して、前記マイクロ波の出力を変化させるステップと、前記射出原料が前記射出金型に完全に充填されると、前記マイクロ波生成部の作動を停止するステップと、を含むことを特徴とする。
【００２９】
前記マイクロ波の出力を変化させるステップでは、前記マイクロ波が前記ノズル内の射出原料に照射される場合、前記射出原料の温度が加硫反応の起きうるような温度範囲内に含まれるように、前記マイクロ波の出力を可変することを特徴とする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、射出原料が加硫反応適正温度に到達した状態で射出金型に注入されるため、射出金型に流入すると直ちに加硫反応が起きる。このため、射出金型に射出原料が注入されてから加熱によって加硫反応が起きるまでの時間が省かれ、全体的に射出作業にかかる時間を短縮することが可能になる。
【００３１】
すなわち、既存の発明では、射出原料が射出金型に流入し、ヒーターの加熱によって射出原料の温度が上昇して加硫反応適正温度に達したのち加硫反応が起き、反応時間が相対的に遅延する問題点があったが、本発明によるとかかる問題が解消される。
【００３２】
なお、射出原料が全体として加硫反応適正温度に達した状態で射出金型内に流入するため、射出金型の内部全体で加硫反応が均一に起き、全体として均一な品質を有する製品が得られる。
【００３３】
すなわち、熱伝導率の極低いゴムが射出原料として使われる場合、従来、射出金型内の中央部に位置する射出原料にまでは熱エネルギーがよく伝達されず、その部分における加硫反応が足りないという問題点があったが、本発明は、金型内部のいずれの位置においても均一に加硫反応適正温度に達した状態で存在するため、射出原料の不均一な加硫反応といった問題点を解決することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好適な実施例について説明する。
【００３５】
図１乃至図４は、本発明の第１の実施例による射出装置を示すものである。図１に示すように、本発明による射出装置１は、上部フレーム１０と下部フレーム９０とで構成され、この上部フレーム１０には、射出原料が注入される射出チャンバー１９が形成され、この射出チャンバー１９の上部には、射出プランジャー１６及び該射出プランジャー１６を上下に運動させるシリンダー１３が配備される。
【００３６】
また、上部フレーム１０の一側には、射出チャンバー１９の一側と連通し、射出チャンバー１９の内部に射出原料を供給する射出原料供給装置４５が設置される。この射出原料供給装置４５の内部には、射出原料を射出チャンバー１９側に円滑に移動させる移送スクリュー４８が設けられている。
【００３７】
そして、射出チャンバー１９にはノズル２１が設置される。このノズル２１は、一端が射出チャンバー１９の内部に位置し、他端が上部フレーム１０と下部フレーム９０との間に設けられる射出金型７０に連結され、よって、ノズル２１の案内によって射出原料は射出チャンバー１９から射出金型７０の内部に移動可能である。
【００３８】
ノズル２１は上部フレーム１０の内部に垂直に配置され、このノズル２１を囲むように第１の温度調節部３２と第２の温度調節部３４が設けられて、ノズル２１の内部に流れる射出原料の温度が過度に上昇するのを防止する。
【００３９】
また、ノズル２１の近傍にはマイクロ波生成部５０が設置され、このマイクロ波生成部５０によって生成されたマイクロ波は、ノズル２１に照射される。
【００４０】
また、上部フレーム１０の内部には、ノズル２１の一部を収容できる共振チャンバー３８が設けられる。この共振チャンバー３８は、マイクロ波生成部５０と連結されて、マイクロ波生成部５０から生成されたマイクロ波が共振チャンバー３８へ移動しその内部で共振しながらノズル２１の内部に流れる射出原料中の水分を分子振動させ、射出原料の温度を上昇させる機能を担う。
【００４１】
一方、上部フレーム１０の下部には真空カバー６６と、この真空カバー６６を上下に移動させる真空ラム６９が設けられ、この真空カバー６６と真空ラム６９は、射出作業の開始とともに下降して射出金型７０の外部を包囲することによって真空カバー６６の内部空間を外部からシールドする。
【００４２】
その後、真空カバー６６の内部を真空状態とするために真空ポンプ（図示せず）が作動し、このような動作によって真空カバー６６の内部の空気を完全に除去し、射出作業時に気泡による製品の不良を予防できるようにする。
【００４３】
図２に示すように、ノズル２１は、第１のノズル部２３と、第２のノズル部２５と、第３のノズル部２７とで構成される。第１のノズル部２３は、その端部に形成された流入孔２３ａを介して射出チャンバー１９と連通し、第２のノズル部２５は、第１のノズル部２３と連通する構造であり、第３のノズル部２７は、第２のノズル部２５の下端部と連結され、射出金型７０と連通している構造となっている。
【００４４】
第２のノズル部２５は、共振チャンバー３８に受容されるもので、マイクロ波が透過しうるような材質で構成され、好ましくは石英とする。
【００４５】
そして、第１のノズル部２３と第３のノズル部２７の周りには、それぞれの部分を移動する射出原料が摩擦や分子振動によって過度に温度上昇するのを防ぐ第１の温度調節部３２と第２の温度調節部３４がそれぞれ設けられる。
【００４６】
第１の温度調節部３２と第２の温度調節部３４は、冷却水の流れる冷却水管や熱交換器で構成されることが好ましい。
【００４７】
一方、共振チャンバー３８の一側にはマイクロ波生成部５０が設置され、このマイクロ波生成部５０の内部には、マイクロ波を生成するマグネトロン５２と、共振チャンバー３８側に移動したマイクロ波が逆流するのを防止する逆流防止装置５６とが設けられている。
【００４８】
また、上部フレーム１０の外側には、マグネトロン５２の作動を制御する制御部５８が配備され、この制御部５８は、マグネトロン電源供給装置５８ｂと、マイクロ波の出力を状況に応じて変形させるマイクロ波出力可変装置５８ａとを備える。
【００４９】
上部フレーム１０の内部を示す図３を参照すると、第２のノズル２５が共振チャンバー３８の内部に収容され、この場合、第２のノズル部２５は共振チャンバー３８の側壁から一定の間隔だけ離れている。
【００５０】
共振チャンバー３８は、中空のボックス形状となっているが、これは、共振チャンバー３８に流入するマイクロ波の共振効果を向上させて、第２のノズル部２５を通過する射出原料をより效果的に発熱させるためである。
【００５１】
以下、添付図面を参照して、本発明の第１の実施例による射出装置の動作について説明する。
【００５２】
図１に示すように、射出原料が射出チャンバー１９に注入される前には、射出プランジャー１６は射出チャンバー１９の内側上部に位置しており、真空ラム６９と真空カバー６６は下部フレーム９０から離れており、マイクロ波生成部５０は停止状態になっている。
【００５３】
以降、図４に示すように、射出原料が射出チャンバー１９に注入されると、射出プランジャー１６が下部に移動して射出原料を加圧し、これにより、射出原料は第１、２、３のノズル２３，２５，２７を順に通過するようになる。
【００５４】
このとき、射出原料にはペースト状のゴムが使われ、このようなペースト状のゴムが第１のノズル２３を通過しつつ摩擦がおきて急激な温度上昇を招くおそれがあるが、第１のノズルの周りに設けられた第１の温度調節部３２の作動によって、温度は一定範囲に維持される。
【００５５】
このように、温度が適正範囲に維持された状態で射出原料は第２のノズル部２５に移動して発熱過程を経る。
【００５６】
具体的に、射出原料が第２のノズル部２５に進入する前に既にマグネトロン５２は作動していたので、第２のノズル部２５に位置している射出原料は、マグネトロン５２で生成されたマイクロ波によって発熱される。このような発熱現象は、マイクロ波による射出原料中の水分子の振動によって発生する。
【００５７】
このとき、マイクロ波によって発熱する射出原料の温度は、１００℃〜１３０℃とすることが好ましい。これは原料物質の加硫反応に好適な温度である。
【００５８】
このような発熱によって射出原料が加硫反応の起きうるような温度まで上昇した状態で第３のノズル部２７に移動する際、第３のノズル部２７での摩擦熱によって加硫反応に適正な温度以上と上昇するのを防ぐために第２の温度調節部３４が作動する。
【００５９】
この第２の温度調節部３４は、冷却水の流れうる管の形態または熱交換器とすることが好ましい。
【００６０】
このように第１のノズル部２３から第３のノズル部２７まで移動しつつ発熱及び冷却過程を経た射出原料は、最終的に射出金型７０の内部に流入する。
【００６１】
このとき、射出金型７０の上下部には上部ヒーター６０と下部ヒーター６３が設置されており、これらは、射出金型７０の内部に流入した射出原料の加硫反応が持続的で安定的に起きるように熱エネルギーを供給する役割を担う。
【００６２】
射出金型７０の内部の射出原料は、既に加硫反応が起きうるような温度に達した状態で流入したため、上部ヒーター６０と下部ヒーター６３による熱エネルギー供給以前にも加硫反応がおきることができる。したがって、本発明は、上部ヒーター６０と下部ヒーター６３からの熱エネルギー供給が単純に、既に始まっている加硫反応を持続させるためのものであるという点が、従来の技術と違っている。
【００６３】
一方、射出作業の開始とともに真空カバー６６の下端部は下部フレーム９０の上部まで下降して射出金型７０を包囲し、射出金型７０を外部空気からシールドして射出金型７０の周囲を真空状態とすることによって、気泡による製品の不良を防止する。
【００６４】
以降、射出金型７０の内部に射出原料が完全に充填されると、マグネトロン５２の作動が停止してマイクロ波の生成が中断される一方、上部ヒーター６０と下部ヒーター６３は射出金型７０中の射出原料の加硫反応が完了するまで作動するようになる。
【００６５】
射出原料の加硫反応が完了すると、上部ヒーター６０と下部ヒーター６３の作動は中断され、真空カバー６６は真空ラム６９によって上部に移動する。
【００６６】
以降、射出金型７０が適正温度以下に冷却されると、射出金型７０を上下に分離し、射出金型７０内から射出品を取り出せば良い。
【００６７】
図５乃至図８は、本発明の第２の実施例による射出装置を示すもので、上記の第１の実施例と同じ構成については同一の参照符号を共通使用するものとする。
【００６８】
図５乃至図７に示すように、射出装置１の上部を形成する上部フレーム１０にはノズル２１が形成され、このノズル２１は、第１のノズル部２３と、第２のノズル部２５と、第３のノズル部２７とから構成される。
【００６９】
第２のノズル部２５は、共振チャンバー３８の内部に配置され、共振チャンバー３８は、上部フレーム１０の側面外部まで延びる導波管５７と連結される。
【００７０】
マイクロ波生成部５０は、その内部にマグネトロン５２と、マイクロ波の逆流を防止する逆流防止装置５６とを備えており、マグネトロン５２は、その作動を制御する制御部５８と接続されている。
【００７１】
第２の実施例は、マイクロ波生成部５０が上部フレーム１０の外部に配備されている点と、マイクロ波生成部５０と共振チャンバー３８とを連通させる導波管５７が存在する点が、上記第１の実施例と異なり、それ以外の構成は第１の実施例と同一なので、その説明は省略するものとする。
【００７２】
本発明の第２の実施例による射出装置の動作は、第２のノズル部２５を通過する射出原料を発熱させるために、マグネトロン５２で生成されたマイクロ波が導波管５７の案内によって共振チャンバー３８に達し、この共振チャンバー３８内に流入したマイクロ波は共振チャンバー３８の内部で共振を起こして第２のノズル部２５中の射出原料の水分子を振動させることによって発熱作用を誘発する以外は、上記の第１の実施例と同様である。
【００７３】
したがって、上部フレーム１０の一側に配備されたマイクロ波生成部５０の作動も、上記第１の実施例のそれと同様であり、その説明は省略される。
【００７４】
以下、本発明による射出装置を制御する方法について説明する。
【００７５】
図９に示すように、本発明の制御部５８は、その入力側に、ノズルを通過する射出原料の温度を検出する温度センサー８０と、電源を入力する電源部８３が接続されており、その出力側には、マグネトロン５２から出力されるマイクロ波の周波数を可変させるマイクロ波出力可変装置５８ａと、マグネトロン５２に電源を供給するマグネトロン電源供給装置５８ｂが接続されている。
【００７６】
したがって、温度センサー８０によって射出原料の温度が検出されると、この検出温度に基づいて制御部５８では、射出原料が加硫温度に到達しうるようにマグネトロン５２で生成されるマイクロ波の周波数を可変させるが、このような周波数可変動作は、マイクロ波出力可変装置５８ａが担当する。
【００７７】
また、マグネトロン電源供給装置５８ｂは、射出作業の開始及び終了に応じてマグネトロン５２の電源をオン／オフする役割を担う。
【００７８】
図１０に、本発明による射出装置を制御するフローチャートを示す。
【００７９】
まず、射出原料供給装置によって射出チャンバーに射出原料が流入し射出作業が始まる（Ｓ１０１）。このように射出チャンバーに射出原料が流入すると、射出プランジャーが射出シリンダーの作動によって下降し、射出原料を加圧してノズル側に移動するようにする（Ｓ１０２）。
【００８０】
一方、射出プランジャーが下降すると同時にマグネトロンが作動してマイクロ波を生成し（Ｓ１０３）、生成されたマイクロ波は第２のノズル部に向かって照射される。このとき、初期段階にマグネトロンではマイクロ波を生成しながらマイクロ波出力可変装置によってマイクロ波の出力周波数が調整される（Ｓ１０４）。
【００８１】
その後、ノズルに流れる射出原料の温度を検出し、該温度が加硫反応を起こすのに適切な温度に達しているか否か判断し（Ｓ１０５）、適切な温度範囲内にあると出力周波数をそのまま維持する（Ｓ１０６）。しかし、射出原料の温度が適正水準以下であると出力周波数を増大させるようにし、その温度が適正水準以上であると出力周波数を減少させるようにする過程を経る。本発明において加硫反応適正温度は１００℃〜１３０℃とすることが好ましい。
【００８２】
以降、射出金型に射出原料が完全に充填される（Ｓ１０７）。このとき、射出金型に充填された射出原料は既に加硫反応適正温度に至ったものであるため、射出金型内の中心部でも活発に加硫反応が起きる。
【００８３】
このように射出原料の充填が完了すると、マグネトロンの作動は停止してそれ以上マイクロ波を生成しなく（Ｓ１０８）、射出プランジャーは次の射出作業のために上昇して元来の位置に戻る（Ｓ１０９）。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１の実施例による射出装置を示す正断面図である。
【図２】図１のＡ部分を示す拡大図である。
【図３】図２のI−I’線に沿った平断面図である。
【図４】本発明の第１の実施例による射出装置の動作を示す正断面図である。
【図５】本発明の第２の実施例による射出装置を示す正断面図である。
【図６】図５のＢ部分を示す拡大図である。
【図７】図６のII−II’線に沿った平断面図である。
【図８】本発明の第２の実施例による射出装置の動作を示す正断面図である。
【図９】本発明による射出装置の制御ブロック図である。
【図１０】本発明による射出装置の制御流れ図である。
【符号の説明】
【００８５】
１９      射出チャンバー
２３      第１のノズル部
２５      第２のノズル部
２７      第３のノズル部
３２      第１の温度調節部
３４      第２の温度調節部
３８      共振チャンバー
５０      マイクロ波生成部
５２      マグネトロン
５６      逆流防止装置
５７      導波管
５８      制御部
【図１】
2007261264.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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