(57)【要約】【課題】 本発明は簡単な接地構造を有するディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置を提供する。【解決手段】本発明は、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルムと、前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタ及び前記導電層と接続する接地部材を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波遮蔽膜と、
前記電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルムと、
前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層と
を含むディスプレイ用フィルタ。
【請求項２】
前記１つ以上のフィルムは前記電磁波遮蔽膜上に形成されることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項３】
前記ディスプレイ用フィルタはフィルムフィルタであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項４】
前記１つ以上のフィルムは反射防止膜であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項５】
反射防止膜をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項６】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない１つ以上のフィルム領域に形成されることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項７】
前記導電層は銀又は銅を含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項８】
前記電磁波遮蔽膜はメッシュ部を含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項９】
近赤外線遮蔽膜をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項１０】
色補正膜をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルムフィルタ。
【請求項１１】
近赤外線遮蔽／色補正膜をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項１２】
前記貫通穴の直径が、１ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項１３】
前記導電層の膜厚は、前記貫通穴の深さ以上であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイフィルタ。
【請求項１４】
プラズマディスプレイパネルと、
電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルム、及び前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、
前記導電層と接続する接地部材と
を含むプラズマディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記接地部材はフィンガースプリングであることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記接地部材は異方性導電フィルム又は導電性接着剤であることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記ディスプレイ用フィルタは反射防止膜をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない１つ以上のフィルム領域に形成されることを特徴とする請求項１７に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記貫通穴の直径は１ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項２０】
電磁波遮蔽膜と、
前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された１つ以上のフィルムと
を含むことを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【請求項２１】
前記貫通穴の直径は１ｍｍ以上５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項２０に記載のディスプレイ用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置は、放電セル内に主放電気体と不活性ガスとが充填されたプラズマディスプレイパネルを含む。高周波電圧がプラズマディスプレイパネルの電極に供給されると、不活性ガスは、真空紫外線（Ｖａｃｕｕｍ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｒａｙｓ）を発生し、真空紫外線は、プラズマディスプレイパネルの隔壁の間に形成された蛍光体を発光させる。
【０００３】
プラズマディスプレイ装置は、フレームを構成するサブフィールドごとに画像を表示する。各サブフィールドは、放電セルを初期化させるためのリセット期間、放電されるセルを選択するためのアドレス期間、及び放電回数に応じて階調を具現するサステイン期間を含む。
【０００４】
リセット期間のセットアップ期間には、スキャン電極にセットアップパルスが供給される。セットアップパルスにより、弱い暗放電が放電セルで起きる。セットアップパルスによる暗放電により、プラズマディスプレイパネルのアドレス電極とサステイン電極上には、正極性壁電荷が蓄積され、スキャン電極上には、負極性の壁電荷が蓄積される。
【０００５】
リセット期間のセットダウン期間には、スキャン電極にセットダウンパルスが供給される。セットダウンパルスにより、スキャン電極に過度に形成された壁電荷の一部が消去され、放電セルの壁電荷が均一になる。
【０００６】
アドレス期間には、スキャンパルスがスキャン電極に供給され、アドレス電極にデータパルスが供給される。スキャンパルスとデータパルスとの電圧差と、リセット期間に生成された壁電圧とが加算されることにより、放電セルが選択される。
【０００７】
サステイン期間には、スキャン電極等とサステイン電極にサステインパルスが供給され、アドレス期間において選択された放電セルからサステイン放電が発生する。これにより、プラズマディスプレイ装置は画像を表示する。
【０００８】
プラズマディスプレイ装置の駆動部は、リセット期間、アドレス期間及びサステイン期間において、駆動パルスをプラズマディスプレイパネルの電極に供給する。すなわち、駆動部は、リセット期間のセットアップパルス及びセットダウンパルス、アドレス期間のデータパルス及びスキャンパルス、及びサステイン期間のサステインパルスを供給する。
【０００９】
プラズマディスプレイ装置は、プラズマ放電のための高周波数高電圧により画像を具現することから、プラズマディスプレイパネルの前面に電磁波が放出される。また、プラズマディスプレイ装置は、不活性ガスにより近赤外線（ＮＩＲ）を放出する。プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルから放出される電磁波や近赤外線などを低減又は除去するために、プラズマディスプレイ装置は、ディスプレイ用フィルタを含む。
【００１０】
ディスプレイ用フィルタは、電磁波を低減又は除去するために、電磁波遮蔽膜を含む。電磁波遮蔽膜が電磁波を低減又は除去するためには、接地されなければならず、簡単な接地構造を有する電磁波遮蔽膜がますます求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、簡単な接地構造を有するディスプレイ用フィルタ及びプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るディスプレイ用フィルタによれば、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルムと、前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含む。
【００１３】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るプラズマディスプレイ装置によれば、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルム、及び前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、前記導電層と接続する接地部材とを含む。
【００１４】
上記の目的を達成すべく、本発明に係るディスプレイフィルタによれば、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された１つ以上のフィルムとを含む。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、導電層が充填された貫通穴を形成することによって、簡単な接地構造を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【００１７】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルムと、前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層とを含む。
【００１８】
前記１つ以上のフィルムは前記電磁波遮蔽膜上に形成されることができる。
【００１９】
前記ディスプレイ用フィルタはフィルムフィルタであり得る。
【００２０】
前記１つ以上のフィルムは反射防止膜であり得る。
【００２１】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、反射防止膜をさらに含むことができる。
【００２２】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない１つ以上のフィルム領域に形成されることができる。
【００２３】
前記導電層は銀又は銅を含むことができる。
【００２４】
前記電磁波遮蔽膜は、メッシュ部を含むことができる。
【００２５】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、近赤外線遮蔽膜をさらに含むことができる。
【００２６】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、色補正膜をさらに含むことができる。
【００２７】
本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、近赤外線遮蔽／色補正膜をさらに含むことができる。
【００２８】
前記貫通穴の直径は１ｍｍ以上５ｍｍ以下であり得る。
【００２９】
前記貫通穴の長さは前記導電層の長さ以下であり得る。
【００３０】
本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、電磁波遮蔽膜、該電磁波遮蔽膜に接触する１つ以上のフィルム、及び前記１つ以上のフィルムに形成された貫通穴に充填された導電層を含み、前記プラズマディスプレイパネル上に形成されたディスプレイ用フィルタと、前記導電層と接続する接地部材とを含むことができる。
【００３１】
前記接地部材はフィンガースプリングであり得る。
【００３２】
前記接地部材は異方性導電フィルム又は導電性接着剤であり得る。
【００３３】
前記ディスプレイ用フィルタは反射防止膜をさらに含むことができる。
【００３４】
前記貫通穴は前記反射防止膜と重ならない１つ以上のフィルム領域に形成されることができる。
【００３５】
前記貫通穴の直径は１ｍｍ以上５ｍｍ以下であり得る。
【００３６】
本発明の他の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタは、電磁波遮蔽膜と、前記電磁波遮蔽膜に接触し、貫通穴が形成された１つ以上のフィルムとを含む。
【００３７】
前記貫通穴の直径は１ｍｍ以上５ｍｍ以下であり得る。
【００３８】
以下、本発明の好ましい具体的な実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
【００３９】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、ディスプレイ用フィルタ１００及びプラズマディスプレイパネル２００を含む。ディプレイ用フィルタ１００は、プラズマディスプレイパネル２００の前面（または上面）に配置される。本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置のディスプレイ用フィルタ１００は、フィルムフィルタである。
【００４０】
ディスプレイ用フィルタ１００は、電磁波遮蔽膜１１０、電磁波遮蔽膜１１０に接触する１つ以上のフィルム１２０、１つ以上のフィルム１２０に形成された貫通穴１５０に充填された導電層１３０、及び１つ以上のフィルム１２０上に形成された反射防止膜１４０を含む。同図では、１つのフィルム１２０に導電層１３０が形成されるが、複数のものが積層されたフィルムに導電層１３０が形成されることもできる。貫通穴１５０は、１つ以上のフィルム１２０の上面から下面まで貫通されている。
【００４１】
１つ以上のフィルム１２０は、光が透過できる材質からなる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸又はこれらの共重合体などがフィルム１２０として用いられることができる。
【００４２】
１つ以上のフィルム１２０の厚さは、７５μｍ以上１５０μｍ以下であり得る。複数のフィルムが積層される場合、積層されたフィルムの全体厚が７５μｍ以上１５０μｍ以下であり得る。１つ以上のフィルム１２０の厚さが、７５μｍ以上１５０μｍ以下であると、ディスプレイ用フィルム１００は、プラズマディスプレイパネル２００上に形成されることができる程度の強度と共に、可撓性を有する。
【００４３】
電磁波遮蔽膜１１０は、銀又は銅などの導電性の高い金属を含むことができる。電磁波遮蔽膜１１０は、メッシュタイプ遮蔽膜又は導電膜タイプ遮蔽膜であり得る。メッシュタイプ遮蔽膜は、導電性メッシュが形成されたメッシュ部１１１、及びメッシュ部１１１の外郭領域を取り囲むように形成される金属フレーム１１３を含む。メッシュタイプ遮蔽膜の金属フレーム１１３は、メッシュ部１１１の外郭領域を取り囲むことによりメッシュ部１１１を支持する。金属フレーム１１３は、貫通穴１５０に充填された導電層１３０と電気的に接続される。メッシュ部１１１は、プラズマディスプレイパネル２００から放出される光の透過率を確保し、電磁波を吸収する。電磁波遮蔽膜１１０は、メッシュ部のみを含むことができ、この場合、メッシュ部の導電性メッシュが導電層１３０と接触することができる。
【００４４】
電磁波遮蔽膜１１０は、スパッタリング法、電解メッキ法、無電解メッキ法などにより形成されることができる。無電解メッキ法により銅層を形成するためには、フィルム１１５に金属の結晶成長を促進する触媒金属を付着する工程と、銅塩、還元剤、着火剤、ｐＨ調節剤、ｐＨ緩衝剤及び改良剤を含むメッキ溶液にフィルムを浸漬する工程が含まれる。
【００４５】
触媒金属は、銀又はパラジウムなどの金属を含む。銅塩は、フィルムに銅イオンを供給する機能を果たす。例えば、銅塩は、銀銅塩化物、窒酸塩、硫酸塩化合物を含むことができる。還元剤は、フィルム上の金属イオンを還元する機能を果たす。還元剤は、ＮａＢＨ４、ＫＢＨ４、ヒドラジン、ホルマリン又はブドウ糖のような多糖類化合物を含む。着火剤は、アルカリ性溶液における水酸化物の沈殿を防止し、遊離した金属イオンの濃度を調節することにより、金属塩の分解防止及びメッキ速度を調節する機能を果たす。着火剤は、アンモニア溶液、酢酸、グアニン酸、酒石酸塩、ＥＤＴＡなどのキレート剤又は、有機アミン化合物を含む。ｐＨ調節剤は、メッキ液のｐＨを調節する機能を果たす。ｐＨ調節剤は、酸又は塩基化合物を含む。ｐＨ緩衝剤は、メッキ液のｐＨ変動を抑制し、各種有機酸、弱酸性の無機化合物を含む。改良剤は、コーティング特性及び平坦化特性を改善させる。改良剤は、界面活性剤又は結晶成長に妨害となる成分を吸着することができる吸着性物質を含む。
【００４６】
無電解メッキ法を利用して、銀層を形成するためには、銀塩、還元剤、着火剤、ｐＨ調節剤、ｐＨ緩衝剤及び改良剤を含むメッキ溶液にフィルム１１５を浸漬して形成する。メッキ溶液の成分及び成分の機能は、上述したものと同じである。
【００４７】
フィルムの全面に金属層が形成されると、フォトリソグラフィ（Ｐｈｏｔｏ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）工程により、金属層に導電性メッシュのフォトレジスタパターンが形成され、フォトレジストパターンをマスクとして金属層がエッチングされることにより、メッシュ部１１１と金属フレーム１１３が形成される。
【００４８】
メッシュ部１１１は、交差構造の導電性メッシュ１１１ａを含み、導電性メッシュ１１１ａにより、可視光透過のためにバイアス角度（Ｂｉａｓ  Ａｎｇｌｅ）に傾いたホールが形成される。バイアス角度は、プラズマディスプレイパネルの解像度により変わることができる。
【００４９】
図１の反射防止膜１４０は、可視領域において屈折率が１．５以下であり得る。例えば、反射防止膜１４０は、屈折率が１．４以下であり、単一層であるフッ素系透明高分子樹脂、シリコン系樹脂、酸化シリコン薄膜などで形成されることができる。また、反射防止膜１４０は、高屈折率層と低屈折率層の積層により形成されることもできる。高屈折率層と低屈折率層は、それぞれ金属酸化物、弗化物、硅化物、硼化物、炭化物、窒化物、硫化物などの無機化合物又はシリコン系樹脂、アクリル樹脂などの有機化合物を含む。
【００５０】
単層の反射防止膜は製造が容易であり、複層の反射防止膜は反射防止性が優れており、広い波長領域にわたって反射防止能力を有し、フィルムの光学特性による光学設計の制限をあまり受けない。反射防止膜１４０の可視光線の反射率は、２％であり得る。
【００５１】
反射防止膜１４０は外部に露出されるため、ハードコーティング膜を含むことができる。ハードコーティング膜は、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型又は光硬化型樹脂により形成されることができる。
【００５２】
反射防止膜１４０は、外部の可視光線がプラズマディスプレイパネル２００の表面から反射して眩しい現象が発生するのを防止することにより、プラズマディスプレイパネル２００のコントラスト及び色純度を向上させる。
【００５３】
図２は、本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの平面図であり、図３は、本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの断面図である。１つ以上のフィルム１２０に形成された貫通穴１５０は、電磁波遮蔽膜１１０と接地部材（図示せず）とを電気的に接続する導電層が充填される空間である。貫通穴１５０の直径は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下であり得る。貫通穴１５０の直径は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下であれば、導電層の充填が容易、かつ、電磁波遮蔽膜１１０の形成に邪魔にならない。図２及び図３に示すように、貫通穴１５０が形成される領域は、フィルム１２０のエッジ、すなわち反射防止膜１４０が形成されないフィルム１２０の一部領域に形成されることができる。これに伴い、図１に示すように、貫通穴１５０の長さ（深さ）Ｌ１は、導電層１３０の長さ（膜厚）Ｌ２以下であり得る。言い換えれば、導電膜１３０の膜厚Ｌ２は、貫通穴１５０の深さＬ１以上であり得る。
【００５４】
図１に示すように、貫通穴１５０に充填される導電層１３０は、銀又は銅を含むことができる。導電層１３０を介した安定した接地のために、導電層１３０は、図３の貫通穴１５０の内部のみならず、貫通穴１５０の外部、すなわちフィルム１２０の上面にも形成されることができる。導電層１３０の充填は、金属ペーストを塗布する方法又はメッキ法が用いられることができる。
【００５５】
図４は、本発明の第２の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、貫通穴１５０に導電層１３０を充填する前に、成長核１６０が貫通穴１５０の内部に形成される。
【００５６】
電磁波遮蔽膜１１０が形成される前に貫通穴１５０が予め形成される場合、スクリーンプリントなどの方法により、成長核１６０が電磁波遮蔽膜１１０上に形成され、電磁波遮蔽膜１１０とフィルム１２０とが結合される過程において、成長核１６０が貫通穴１５０の内部の一部に充填される。貫通穴１５０の内部の一部に成長核１６０が充填されると、メッキ法による導電層１３０を形成する際、成長核１６０により導電層１３０が早く充填され得る。
【００５７】
図５は、本発明の第３の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。同図に示すように、本発明の第３の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、近赤外線遮蔽膜１７０又は色補正膜１８０のうちの少なくとも１つ以上をさらに含むことができる。
【００５８】
近赤外線遮蔽膜１７０は、プラズマディスプレイパネル２００から発生した８００ｎｍ〜１０００ｎｍ帯域の近赤外線を吸収することによって、プラズマディスプレイ装置のリモートコントローラーなどから発生する制御用赤外線が近赤外線の妨害なしでプラズマディスプレイ装置に含まれた赤外線受信部（図示せず）に正常に入力され得るようにする。
【００５９】
色補正膜１８０は、色調節染料を含んで色調を調節することによって、プラズマディスプレイ装置の色純度を向上させる。色補正膜は、近赤外線遮蔽膜が色補正機能を果たす場合、省略することができる。
【００６０】
同図に示す反射防止膜１４０、近赤外線遮蔽膜１７０及び色補正膜１８０の積層順序は変更可能である。例えば、電磁波遮蔽膜１１０下に反射防止膜１４０の形成が可能である。また、電磁波遮蔽膜１１０、色補正膜１８０及び近赤外線遮蔽膜１７０の順に積層可能である。
【００６１】
図６は、本発明の第１の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置におけるディスプレイ用フィルタと接地部材とを示した図である。同図に示すように、接地部材１９０は、導電層１３０とプラズマディスプレイ装置のケース１９５とを電気的に接続する。接地部材１９０は、フィンガースプリングを含むことができる。同図に示す接地部材１９０は、フィンガースプリング、又はフィンガースプリングの代りに異方性導電フィルム若しくは導電性接着剤を含むこともできる。
【００６２】
図７は、本発明の第４の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示したのである。図１に示す貫通穴１５０は、反射防止膜１４０とは別に備えられた１つ以上のフィルム１２０に形成されたが、図７に示すように、本発明の第４の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置は、貫通穴１５０が形成された反射防止膜１４０を含む。すなわち、本発明の第４の実施の形態では、貫通穴１５０が反射防止膜１４０に形成され、貫通穴１５０の内部に導電層１３０が充填される。導電層１３０は、電磁波遮蔽膜１１０と接触する。
【００６３】
本発明は、貫通穴１５０に導電層を形成することによって、簡単な接地構造を提供することができる。
【００６４】
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るディスプレイ用フィルタの断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置におけるディスプレイ用フィルタと接地部材とを示す図である。
【図７】本発明の第４の実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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