(57)【要約】【課題】  プラズマディスプレイ表示装置における外光映り込みの低減と自然な反射色を両立させ、視認性の優れた表示装置を提供する。【解決手段】    空気層を介して設置された光学フィルターの表層に反射防止層が配置され、さらに別の空気層との界面に、表層の反射防止層と最低反射率波長の異なる反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置を提供する。【選択図】図１
2007279462.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイに空気層を介して設置する光学フィルターの観察者側をＡ面、それに対する裏面の発光側をＢ面とした場合、Ａ面およびＢ面に反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置であって、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置。
【請求項２】
プラズマディスプレイに空気層を介して設置する光学フィルターの観察者側をＡ面、それに対する裏面の発光側をＢ面、空気層に面した前面ガラス面をＣ面とした場合、Ａ面とＢ面とＣ面に反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置であって、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面あるいはＣ面のどちらか少なくとも一方の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置。
【請求項３】
Ａ面に配置する反射防止層の可視光平均反射率が２％以下かつ最低反射率が１％以下であることを特徴とした請求項１または２記載のプラズマディスプレイ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイへの外光反射を低減し、自然な反射色を両立する事で画像を明視化したプラズマディスプレイ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を用いたプラズマディスプレイ表示装置は、テレビなどの大型・薄型の表示装置として注目されている。このプラズマディスプレイ表示装置は、視認性の向上や耐衝撃性を高める目的で光学フィルターを前面に装着することが有効とされている。しかし、照明や窓から差し込む太陽光など輝度の高い外光がディスプレイの光学フィルター表面や空気層を介した内部の前面ガラスで反射して画面を見にくくする問題がある。この問題に対して、光学フィルターの前面側やその裏面に反射防止層を設けることも試みられているが、反射を完全に除去することができず、かつその反射色も青や紫色が強く生じる事で充分な効果を上げるには至っていない。特許文献１には、複数の機能性フィルムを要した光学フィルターにおいて実施例１では、市販の反射防止フィルムを光学フィルターの表裏に貼り付ける例が示されている。しかしながら本発明者らの検討によるとこの例では反射防止が十分ではなく、またその反射色に紺色が入ってくることが分かった。一方特許文献２には、前面ガラスに光拡散機能および低反射機能を有する光学フィルムを併用することで外光の映り込み低減と二重映りを防止する提案もある。しかし、光拡散機能を付与することにより画質の解像度が低下し、画質の向上と映り込み防止の両立には至っていない。さらに光学フィルター表面や裏面に貼る反射防止層について具体的な記載がされていないため、特許文献１のような市販されている反射防止層を用いると考えると、反射防止が不十分であり、またその反射色も青や紫色が強く生じることになる。
【特許文献１】特許第３７１０７２１号
【特許文献２】特開２０００−１５６１８２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、プラズマディスプレイを構成する空気層界面で生じる反射を、出力画質の解像度を低下させることなく低減し、自然な反射色を維持し視認性の向上したプラズマディスプレイ表示装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は上記課題を解決するため、プラズマディスプレイに空気層を介して設置する光学フィルターの観察者側をＡ面、それに対する裏面の発光側をＢ面、空気層に面した前面ガラス面をＣ面とした場合、
（１）Ａ面およびＢ面に反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置であって、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置である。
（２）Ａ面とＢ面とＣ面に反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置であって、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面あるいはＣ面のどちらか少なくとも一方の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置である。
（３）Ａ面に配置する反射防止層の可視光平均反射率が２％以下かつ最低反射率が１％以下であることを特徴とした請求項１または２記載のプラズマディスプレイ表示装置である。
【発明の効果】
【０００５】
本発明のプラズマディスプレイ表示装置は、空気層界面での反射が低減されており、自然な反射色を維持しているため画像鑑賞が容易である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明について、図１を例に説明する。
図１はプラズマディスプレイ表示装置の光学フィルター２とプラズマディスプレイパネル（以後ＰＤＰと記載）８からなり、ＰＤＰ８は前面ガラス５、プラズマ発光領域６、後面ガラス７からなる。プラズマ発光領域６は、一対のガラス基板間（５と７）で放電空間が形成され、放電により発光する蛍光体層が設けられている。この動作原理上、ＰＤＰは強度の電磁波、近赤外線を発生するため、これらを遮蔽する必要がある。例えば、電磁波の場合は、銅箔を格子状にエッチング処理したメッシュ層により遮蔽することができ、近赤外線や紫外線は吸収剤を粘着材やフィルムに混入させることにより遮蔽することができる。一方、表示装置は、明所でのコントラストを得るためにある一定の透過率を有する光学フィルターが必要であり、表示色との調整も含めて前面に色素層を設けて調整されている。したがってＰＤＰの光学フィルターとしては電磁波、近赤外線などの遮蔽や、色調調整、コントラスト調整をする機能を有するものである。さらにＰＤＰの表示部は強度が一般的に低いため、それを保護する必要があり、この保護層としての機能も光学フィルターは有している。このように多機能性を要求される光学フィルターは、ＰＤＰ表面に直接貼り合せる場合もあるが、ＰＤＰ表示部の保護という観点からＰＤＰの前面に空気層を介して光学フィルターとして設ける場合が多い。本発明は空気層を介して光学フィルターを設置したプラズマディスプレイ表示装置について、図１においる光学フィルター２の観察者側をＡ面、光学フィルターのＡ面に対する裏面（発光側）をＢ面、前面ガラス５の空気層側をＣ面と表現する。
【０００７】
本発明は、Ａ面およびＢ面に反射防止層が配置されたプラズマディスプレイ表示装置であって、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴とするプラズマディスプレイ表示装置である。
反射防止層としては、１層または多層構造のものが知られている。これらのうちスパッタリングや真空蒸着法などドライプロセスによる多層構造のものは、光学特性は優れているものの工程が煩雑であるとともに生産性が低いという欠点がある。本発明においてドライプロセスのものも用いてもよいが、工業的な生産性を考慮すると塗工によるウェットプロセスのものが好ましい。ウェットプロセスによる反射防止膜で１層または2層構造によって反射防止性能の優れた反射防止膜を提供することができる。
【０００８】
本発明においてＡ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にある。最低反射率の波長を５００〜６００ｎｍにすることにより反射色が自然光に近くなり、また反射防止性能も優れたものになる。この内反射色の自然光により近くするという観点および観察する角度が広くなった場合の反射色の色からより好ましい波長は５２０〜５８０ｎｍである。
Ａ面に配置する反射防止層の可視光平均反射率が２％以下かつ最低反射率が１％以下であることは好ましい態様である。可視光平均反射率はさらに１％以下が好ましく、可視光平均反射率が低いと可視光線全域での反射率が低いため反射防止性能が高く、また偏っていないため、反射色が自然光に近いため好ましい。また最低反射率波長が５００〜６００ｎｍであり、その最低反射率が低いものは人の視感度という観点から反射防止性能に優れていて好ましい。これらのうち最低反射率は０．５％以下のものが反射防止性能に特に優れている。
【０００９】
一方、Ａ面の反射防止層は表示装置として最表面になるため、その機械強度は強いものが好ましい。鉛筆硬度はＨ以上のものが好ましく特に２Ｈ以上が好ましく用いられる。また最表面であるため、その表面に埃などが付き難いように静電防止されているものがこのましい。これはＡ面の反射防止層の表面抵抗率を１０１５Ω／□以下にすることにより達成できる。
Ａ面の反射防止層としては、透明基材／ハードコート／高屈折率層／低屈折率層または透明基材／ハードコート／低屈折率層とし、これを粘着剤を用いてＡ面に貼り付けることによってＡ面に配置することができる。
【００１０】
透明基材としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテート系フィルム、延伸したポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボネン系フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアリレート系フィルムなどである。これら透明基材のうち、可視光平均反射率を低減するという観点から、屈折率が１．４５以上１．５５以下の基材は好ましく用いられ、ＴＡＣフィルム（屈折率１．４９）は最も好ましく用いられる。
透明基材の厚さは、低屈折率層の厚みの均一性、光学基材としての取扱性という観点から２５μｍ以上が好ましい。好ましい上限は、光線透過率、光の利用効率の観点から２００μｍである。
【００１１】
透明基材上にはハードコート層を設けるのが好ましい。ハードコート層を設けることで、光学フィルターの表層を強固にすることができ、傷つきにくいものとすることができる。ハードコートとしてはＪＩＳＫ５４００に従う鉛筆硬度試験で、鉛筆強度がＨ以上になるものが好ましく用いられ、特に２Ｈ以上のもが好ましく用いられる。
ハードコートの代表的な材料としては、メラミン系、アクリルラジカル系、アクリルシリコーン系、アルコキシシラン系が好ましく、これらのハードコート材料をマトリックスとして有機および／又は無機の微粒子を分散したもの（以下、有機・無機粒子分散系と称する）を用いることも可能である。
【００１２】
上記のハードコート材料のうち、アクリルラジカル系は多官能アクリレートオリゴマー、及び／又は、多官能アクリレートモノマーを重合したものが好ましい。多官能アクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
多官能アクリレートオリゴマーとしては、ノボラック型やビスフェノール型エポキシ樹脂をアクリレート変性したエポキシアクリレート、ポリイソシアネートとポリオールを反応させて得られるウレタン化合物のアクリレート変性物であるウレタンアクリレート、ポリエステル樹脂をアクリレート変性したポリエステルアクリレート等が挙げられる。
【００１３】
また、アクリルシリコーン系では、シリコーン樹脂上にアクリル基を共有結合により結合させたものが好ましい。
また、アルコキシシラン系では、アルコキシシランを加水分解重縮合させることにより得られたシラノール基を有する縮合体を含んでいるものが好ましい。塗布後の熱硬化等により、シラノール基がシロキサン結合に変換されて硬化膜が得られる。
ハードコート層は、熱硬化や紫外線硬化、電子線硬化が行えるハードコート材料であることが好ましい。尚、ハードコート材料は硬化方法に応じて、光重合開始剤や熱重合開始剤、添加剤、溶剤等を含んでいることが好ましい。
【００１４】
上記の有機・無機粒子分散系に用いる無機粒子の例としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が挙げられる。有機粒子の例としては、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー、シリコーン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポリフッ化エチレンが挙げられる。これらの粒子の平均粒子径は、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．３μｍであることがさらに好ましい。有機粒子、無機粒子は各々複数種を混合して用いても構わず、有機粒子と無機粒子を混合して用いて構わない。
【００１５】
本発明に用いることができる有機粒子、無機粒子はマトリックスとして用いられるハードコート材料と化学結合していてもしていなくてもかまわない。上記の有機・無機粒子分散系のハードコート材料は、上記の粒子がハードコート材中に分散することでハードコート層の硬度を高くし、硬化収縮を抑える機能がある。
無機粒子分散系の具体例としては、無機微粒子を分散させたアクリルラジカル系、無機微粒子を分散させた有機高分子系、無機微粒子を分散させたオルガノアルコキシシラン系等が挙げられ、アクリル系樹脂にシリカや酸化チタン、アルミナ等を分散させたものが好ましい。また、シリカ粒子の表面にアクリロイル基等を修飾した微粒子を用いることも好ましい。
【００１６】
ハードコート層には、さらに、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤や改質用樹脂を添加してもよい。
帯電防止剤としては、界面活性剤、イオン性ポリマーなどの公知の帯電防止剤や導電性微粒子などをバインダーに分散させたものが用いられる。導電性微粒子としては、例えばインジウム、亜鉛、スズ、モリブデン、アンチモン、ガリウムなどの酸化物あるいは複合酸化物微粒子、銅、銀、ニッケル、低融点合金（ハンダなど）の金属微粒子、金属を被覆したポリマー微粒子、各種のカーボンブラック、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマー粒子、金属繊維、炭素繊維など、公知のものを用いることができる。この中でも特にＩＴＯ（スズ含有酸化インジウム）粒子、ＡＴＯ（スズ含有酸化アンチモン）粒子、五酸化アンチモン粒子が、高い透明性と導電性を発現させることができるので好ましい。
ハードコート層が表面改質処理をされている場合も好ましい。表面改質処理はコロナ処理、ｄｅｅｐ−ＵＶ照射、エキシマランプ照射、真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、電子線照射等を用いての処理やシランカップリング剤等を含有するプライマー処理等が好ましい。
【００１７】
ハードコート層の塗工は、上記のハードコート材料に必要に応じて添加物を添加した組成物を、必要に応じて溶媒を用いた塗布溶液として透明プラスチック基板上への塗布成膜・硬化することによって製造することが可能である。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル等のエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類の溶媒、好ましくはトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノール等を用いることができる。
【００１８】
ハードコート層は塗布乾燥後、８０〜１５０℃で加熱して硬化させることにより、或いは、光や電子線を用いて硬化させることにより得ることができる。
以上、本発明に用いることができるハードコート材料について説明したが、本発明に用いることができるハードコート材料としては、市販のシリコーン系ハードコート、（メタ）アクリル系ハードコート、エポキシ系ハードコート、ウレタン系ハードコート、エポキシアクリレート系ハードコート、ウレタンアクリレート系ハードコートなど、公知のものを用いることができる。具体的には、信越化学工業株式会社製ＵＶ硬化型シリコーンハードコート剤Ｘ−１２シリーズ、ＧＥ東芝シリコーン株式会社製ＵＶ硬化型シリコーンハードコート剤ＵＶＨＣシリーズや熱硬化型シリコーンハードコート剤ＳＨＣシリーズ、株式会社日本ダクロシャムロック製熱硬化性シリコーンハードコート剤ソルガードＮＰシリーズ、日本化薬株式会社製ＵＶ硬化型ハードコート剤ＫＡＹＡＮＯＶＡ  ＦＯＰシリーズが好ましい。この他、多官能モノマーなどと重合開始剤を含む塗布液を塗布し、多官能モノマーなどを重合させることによっても形成できる。ハードコート層の厚さは、通常、０．１μｍ〜５μｍに設定される。
【００１９】
塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーターおよびキャップコーターが好ましく用いられる。
透明基材の屈折率が１．４５〜１．５５の基材を用い、透明基材／ハードコート／低屈折率層の構成にする場合、ハードコートの屈折率は反射率の観点から１．４５〜１．５５にするのが好ましい。この構成の場合、帯電防止機能をハードコートに設けるのは好ましい対応である。導電性微粒子と低屈折率微粒子を混合することにより帯電防止機能と屈折率の調整が可能であり、鉛筆強度も２Ｈ以上とすることが可能である。一方、透明基材／ハードコート／高屈折率層／低屈折率層の構成にする場合、ハードコート層の屈折率は、反射率の観点から１．５５〜１．７０に調整するのが好ましい。この構成の場合は、高屈折率層に帯電防止機能を付与することもできる。
【００２０】
Ａ面の反射防止層の低屈折率層としては、その屈折率を１．２０〜１．４０、特に１．２０〜１．３５に調整するのが好ましい。このような屈折率を有するため可視光平均反射率を小さくでき、表層での外光の移りこみを大きく低減することができる。
このような低屈折率層は、バインダとして屈折率が１．５３以下のものが好ましく用いられる。屈折率の小さなバインダは屈折率を低くするのに有用である。また、中空シリカ微粒子のような低屈折率微粒子を混合するのは好ましい対応である。バインダの屈折率と中空シリカ微粒子のような低屈折率微粒子を混合することで、低屈折率層の屈折率を調整することができる。
【００２１】
中空シリカ微粒子とは、内部に空洞を有する微粒子であり、この中空シリカ微粒子自体が低屈折率（例えば、屈折率＝１．１０〜１．３５）を有している。上記の空洞は、外殻によって包囲されているので、この空洞にバインダが侵入することはない。そしてこの空洞が存在していることによって低屈折率化を図ることができるものであり、また空洞内へのバインダの侵入が阻止されていることによって屈折率の増加を防止することができ、反射防止膜としての機能を実現できるものである。
具体的に、中空シリカ微粒子としては、屈折率が１．１０〜１．３５および平均粒子径が３０〜３００ｎｍのもの、特に４０〜２００ｎｍのものを用いるのが好ましい。中空シリカ微粒子の屈折率は、粒子そのものの強度の観点から、１．１０以上が好ましい。また屈折率は、充分な反射防止性機能を得るという観点から、１．３５以下が好ましく、１．３０以下がより好ましく、１．２６以下がもっとも好ましい。中空シリカ微粒子の屈折率は、空洞の空隙率により調整でき、外殻の厚さや粒子サイズによって調整できる。
【００２２】
また中空シリカ微粒子の外径（平均粒子径）は、分散性、得られる層の表面性、反射防止性能、強度の観点から、３０ｎｍ以上が好ましい。中空シリカ微粒子の外径の上限は、反射防止性能、透視像の解像度、視認性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましい。また中空シリカ微粒子と粒子径２０ｎｍ以下のシリカなどの超微粒子を混合して用いるのも好ましい対応である。超微粒子との混合により低屈折率層の強度を向上させることができる。
低屈折率層のバインダとしては、単独でも複数を組み合わせてもよい。好ましいバインダとしては、以下のものが挙げられる。
【００２３】
（１）テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ（ｉ−プロポキシ）シラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジ（ｉ−プロポキシ）シラン、メトキシシラン、エトキシシラン、メチルメトキシシラン、メチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルジエチルメトキシシラン、メチルジエチルエトキシシラン、メチルジエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、メチルジプロピルメトキシシラン、メチルジプロピルエトキシシラン、メチルジプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、エチルジメチルエトキシシラン、エチルジメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、エチルジプロピルメトキシシラン、エチルジプロピルエトキシシラン、エチルジプロピル（ｉ−プロポキシ）シラン、プロピルジメチルメトキシシラン、プロピルジメチルエトキシシラン、プロピルジメチル（ｉ−プロポキシ）シラン、プロピルジエチルメトキシシラン、プロピルジエチルエトキシシラン、プロピルジエチル（ｉ−プロポキシ）シラン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリメトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）プロパン、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラキス（トリクロロアセトキシ）シラン、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）シラン、トリアセトキシシラン、トリス（トリクロロアセトキシ）シラン、トリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルジアセトキシシラン、メチルビス（トリクロロアセトキシ）シラン、メチルビス（トリフルオロアセトキシ）シラン、ジメチルビス（トリクロロアセトキシ）シラン、ジメチルビス（トリフルオロアセトキシ）シラン、メチルアセトキシシラン、メチル（トリクロロアセトキシ）シラン、メチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、ジメチルアセトキシシラン、ジメチル（トリクロロアセトキシ）シラン、ジメチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、トリメチルアセトキシシラン、トリメチル（トリクロロアセトキシ）シラン、トリメチル（トリフルオロアセトキシ）シラン、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラフルオロシラン、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリフルオロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルジクロロシラン、メチルジブロモシラン、メチルジフルオロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメチルジフルオロシラン、メチルクロロシラン、メチルブロモシラン、メチルフルオロシラン、ジメチルクロロシラン、ジメチルブロモシラン、ジメチルフルオロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルフルオロシランなどの加水分解性シラン類を反応させたものである。反応は、中空シリカ微粒子を用いる場合は反応させた後に脱水縮合させるのが好ましい。
【００２４】
（２）３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリス（トリクロロアセトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリス（トリフルオロアセトキシ）シラン、３−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、３−アクリロキシプロピルトリフルオロシラン、３−メタクリロキシプロピルトリクロロシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、３−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、３−グリシドキシプロピルトリクロロシラン、３−グリシドキシプロピルトリブロモシラン、３−グリシドキシプロピルトリフルオロシランなどの、同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類であり、これらを反応させたものである。反応させる上で、これらを中空シリカ微粒子などの無機微粒子と共有結合させた後に重合性官能基部分を重合させることができる。
【００２５】
（３）ケイ酸、トリメチルシラノール、トリフェニルシラノール、ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、シラノール末端ポリジメチルシロキサン、シラノール末端ポリジフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルラダーシロキサン、シラノール末端ポリフェニルラダーシロキサン、オクタヒドロキシオクタシルセスキオキサンなどの、シラノール基を含有するケイ素化合物。
【００２６】
（４）水ガラス、オルトケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸カリウム、オルトケイ酸リチウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、メタケイ酸リチウム、オルトケイ酸テトラメチルアンモニウム、オルトケイ酸テトラプロピルアンモニウム、メタケイ酸テトラメチルアンモニウム、メタケイ酸テトラプロピルアンモニウムなどのケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカ。
【００２７】
（５）ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル類、ポリアクリルアミド誘導体、ポリメタクリルアミド誘導体、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）、ポリ（Ｎ−アシルエチレンイミン）などのアミド類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸誘導体、ポリメタクリル酸誘導体、ポリカプロラクトンなどのエステル類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリ尿素類、ポリカーボネート類などの有機ポリマー。これら有機ポリマーの末端や主鎖中に、重合性官能基を有していてもよい。
【００２８】
（６）アルキル（メタ）アクリレート、アルキレンビス（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどのアクリル系モノマーを重合したもの。アルキレンビスグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジエポキシドなどの重合性モノマー。ここで（メタ）アクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を指す。これらの重合物である。
【００２９】
（７）公知の硬化性樹脂。一例を挙げると、（メタ）アクリル系ＵＶ硬化性樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ノボラック樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂などが挙げられる。
【００３０】
（８）上記（１）〜（７）のアルキル基や水素基はフッ素に置換されたものを用いることができる。フッ素に置換されたものは屈折率が小さく、光学的性能に優れている。しかしながら単独では機械的に弱い場合もあるため、無機の微粒子と混合して用いることができる。
バインダは単独で用いても、複数を併用しても構わない。特に、（２）で列挙した同一分子内に重合性官能基およびシリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン類を併用することや、（６）で列挙した重合性モノマーを併用することは、機械強度の向上に効果的である。
【００３１】
重合性モノマーの種類は、反応の形態、速度などに応じて適宜選択される。重合性モノマーまたは官能基を有するものを用いる場合には、さらに添加物として重合開始剤を添加することが有効である。重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤、熱酸発生剤、光酸発生剤など公知のものを、上記の重合性官能基や重合性モノマーの反応形態に合わせて選ぶことができる。
【００３２】
熱／光ラジカル発生剤の具体例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社より市販されているイルガキュア（登録商標）、ダロキュア（登録商標）と呼ばれるアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系の各重合開始剤、チオキサントン系重合開始剤、ジアゾ系重合開始剤、ｏ−アシルオキシム系重合開始剤などが挙げられる。これらの中でもイルガキュア（登録商標）９０７、イルガキュア（登録商標）３６９、イルガキュア（登録商標）３７９等の分子内にアミノ基および／またはモルホリノ基を有する重合開始剤が特に好ましい。また熱／光酸発生剤の具体例としては、三新化学工業株式会社より市販されているサンエイド（商標）ＳＩシリーズ、和光純薬工業株式会社より市販されているＷＰＩシリーズ、ＷＰＡＧシリーズ、シグマアルドリッチジャパン株式会社より市販されているＰＡＧｓシリーズに代表される、スルホニウム系、ヨードニウム系、ジアゾメタン系の各重合開始剤などが挙げられる。
【００３３】
（１）や（２）で表されるシラン類は、部分加水分解・脱水縮合させて用いるのが好ましい。部分加水分解・脱水縮合反応は、加水分解性シランを水と反応させることによって行うが、触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類、アンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類、ジラウリン酸ジブチルスズなどのスズ化合物などを用いてもよい。その場合、中空シリカ微粒子などの無機粒子を用いる場合はこれら無機粒子の存在下で加水分解・脱水縮合反応を行うのが好ましい。このように無機粒子の存在下で加水分解を行うことで、無機粒子との共有結合を確実に多くつくることが可能になり、低屈折率層の機械強度を向上させることができる。
【００３４】
低屈折率層の厚みとしては、可視光領域での反射防止性能の観点から、通常、５０〜２００ｎｍ、より好ましくは５０〜１５０ｎｍである。このような範囲のなかで、最低反射率波長が５００〜６００ｎｍになるように低屈折率層の屈折率に合わせて調整することができる。なお最低反射率の波長は、他の層（ハードコートなど）の屈折率などによっても調整はできる。
低屈折率層を製造する方法は限定されず、塗布組成物を用いて光学基材上に塗布する際に、中空シリカ微粒子など無機粒子の含有量、塗布液の濃度、バインダおよび添加物の種類およびそれらの濃度、塗布方法、塗布条件などを制御することによって、製造することができる。
【００３５】
塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーターおよびキャップコーターが好ましく用いられる。
上記の塗布組成物を塗布した後は、分散媒を揮発させたり、シリカ粒子間およびバインダ成分を縮合、架橋させるために加熱を行うのが有効である。加熱温度と時間は基材の耐熱性によって決定される。例えば、光学基材として、プラスチック基板を用いる場合、加熱温度は５０℃〜２００℃、時間は１秒〜１時間の間から選ばれ、好ましくは８０℃〜１５０℃、１０秒間〜３分間の範囲である。また上記バインダが放射線硬化性を有する場合は、紫外線、電子線などを公知の方法によって照射する。
【００３６】
低屈折率層は、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、レベリング剤、色素、金属塩、界面活性剤、離型剤など種々の添加物を、含有させることも可能である。
反射防止層表面に滑り性や防汚性などを付与するために、被覆層を設けてもよい。被覆層は、例えばフッ素樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂、２酸化ケイ素、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリル系ＵＶ硬化性樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ノボラック樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂など、公知の任意の材料で形成される。被覆層の膜厚は、通常、５０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上５ｎｍ以下である。被覆層は単層または複数層で構成されていてもよい。防汚効果を発現させるために、上記の中でも、フッ素樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂および熱硬化型シリコーン樹脂が好ましい。
【００３７】
低屈折率層の直下に高屈折率層を設けることも可能である。高屈折率層としては例えば、チタン、ジルコニウム、亜鉛、アンチモン、インジウム、スズ、セリウム、タンタル、イットリウム、ハフニウム、アルミニウム、マグネシウムなどの金属からなる酸化物または複合酸化物など公知の無機微粒子を、バインダに分散させたものが用いられる。バインダは、低屈折率層のバインダとして上記（１）〜（８）に列挙したものを用いることができるが、その中でも好ましいのは（５）に記載の有機ポリマーのうち側鎖や末端に重合性官能基を有するもの、（６）に記載の重合性モノマー、（７）に記載の硬化性樹脂である。これらバインダの種類と量は、目的の屈折率、強度、耐光性、黄変性などによって公知のものを用いることができる。高屈折率層としての屈折率は１．５５〜１．６８のものが反射防止性能上好ましく、特に１．５７〜１．６５が好ましい。高屈折率層の厚さは、５０〜３００ｎｍ、特に１２０ｎｍ〜１８０ｎｍの厚さが好ましい。厚さの制御により反射率の制御と、反射防止膜の色の制御も可能になる。
【００３８】
本発明において、Ａ面とＢ面に反射防止層が配置される場合、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴としている。Ｂ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いため、反射光に青や紫色が強く生じることなく、映り込みを低減することができる。Ａ面の最低反射率波長とＢ面の最低反射率波長が近いと、可視光の短波長および長波長の強度が、最低反射率波長に比較して相対的に高くなるため、わずかな可視光の反射率でも人の目には着色して見えやすくなる。
【００３９】
Ｂ面の反射防止層としては、その可視光平均反射率が２％以下かつ最低反射率が１％以下であることは好ましく、特に最低反射率が０．５％以下であるのは好ましい態様である。可視光平均反射率が低いと可視光線全域での反射率が低く、反射防止性能が高く、また偏っていないため自然色に近い反射色になる。また、最低反射率が１％以下であり、その最低反射率波長がＡ面の反射防止膜に比べて５０〜１５０ｎｍ短いため、Ａ面との相互作用による色の偏りがなく、反射性能を発揮する。
Ｂ面の反射防止層に要求される機能として、Ａ面とは異なり、機械強度や防汚性はＡ面に比較して少なくてもよい。したがって、層構成として、透明基材／低屈折率層という単純な構成を用いるのも好ましい態様の一つである。Ａ面の反射防止層と同様の層構成を有してもよいが、単純な層構成とするのが生産効率を大きく向上させることができる。透明基材としては、Ａ面の反射防止層と同様のものを用いることができる。また、透明基材／ハードコート／低屈折率という層構成を用いてもよく、その場合ハードコート層の厚さは２μ以下でも使用でき、好ましくは０．２μ〜１．５μの範囲で用いられる。ハードコート層としてはＡ面の反射防止層と同様のものを用いることができる。
【００４０】
Ｂ面の反射防止層の低屈折率層として、機械的強度が低くても容易に用いることができるため、低屈折率層は緻密でなくてもよく、多孔質状のものでもよい。低屈折率層はＡ面の反射防止層の低屈折率層と同様の材料を用いることができる。屈折率はＡ面と同様の範囲のものを用いることができる。
Ｂ面の反射防止層として、鉛筆強度としては６Ｂ〜４Ｈのものを用いてもよい。また表面抵抗率として１０１６Ω／□以上でも用いることができる。プラズマディスプレイ表示装置を組み立てる際の埃の付着と傷つき防止に注意が必要であるものの、いったん組み立てたものについてはＢ面に物理的な外力は加わらないため、単純な構造を採用してもよい。
【００４１】
本発明において、Ａ面とＢ面とＣ面に反射防止層が配置される場合、Ａ面の反射防止層の最低反射率波長が５００〜６００ｎｍの範囲にあり、Ｂ面あるいはＣ面のどちらか少なくとも一方の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の反射防止層の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いことを特徴としている。Ｂ面またはＣ面の反射防止層の最低反射率波長がＡ面の最低反射率波長よりも５０〜１５０ｎｍ短いため、反射光に青や紫色が強く生じることなく、映り込みを低減することができる。Ａ面の最低反射率波長とＢ面またはＣ面の最低反射率波長が近いと、可視光の短波長および長波長の強度が、最低反射率波長に比較して相対的に高くなるため、わずかな可視光の反射率でも人の目には着色して見えやすくなる。Ｂ面の反射防止層とＣ面の反射防止層の最低反射率波長はほぼ同様であってもよいが、好ましくはＡ面、Ｂ面、Ｃ面の最低反射率波長がそれぞれ５０〜１５０ｎｍずれているのは好ましい態様である。その大小関係としては  Ｃ＜Ｂ＜Ａ、Ｂ＜Ｃ＜Ａ、Ｃ＜Ａ＜Ｂ、Ｂ＜Ａ＜Ｃのいずれかが好ましく用いられる。
【００４２】
Ｂ面およびＣ面の反射防止層としては、その可視光平均反射率が２％以下かつ最低反射率が１％以下であることは好ましく、特に最低反射率が０．５％以下であるのは好ましい態様である。可視光平均反射率が低いと可視光線全域での反射率が低く、反射防止性能が高く、また偏っていないため自然色に近い反射色になる。また、最低反射率が１％以下であり、その最低反射率波長がＡ面の反射防止膜に比べてＢ面またはＣ面の反射防止層は５０〜１５０ｎｍ異なっているため、Ａ面との相互作用による色の偏りがなく、反射性能を発揮する。
Ｂ面およびＣ面の反射防止層に要求される機能として、Ａ面とは異なり、機械強度や防汚性はＡ面に比較して少なくてもよい。したがって、層構成として、透明基材／低屈折率層という単純な構成を用いるのも好ましい対応である。Ａ面の反射防止層と同様の層構成を有してもよいが、単純な層構成とするのが生産効率を大きく向上させることができる。層構成として、透明基材／ハードコート／低屈折率層という層構成を用いる場合、そのハードコート層の厚さは２μ以下でも使用でき、好ましくは０．２μ〜１．５μの範囲で用いられる。ハードコート層としてはＡ面の反射防止層と同様のものを用いることができる。また、透明基材としては、Ａ面の反射防止層と同様のものを用いることができる。
【００４３】
Ｂ面およびＣ面の反射防止層の低屈折率層として、機械的強度が低くても容易に用いることができるため、低屈折率層は緻密でなくてもよく、多孔質状のものでもよい。低屈折率層はＡ面の反射防止層の低屈折率層と同様の材料を用いることができる。屈折率はＡ面と同様の範囲のものを用いることができる。
Ｂ面およびＣ面の反射防止層として、鉛筆強度としては６Ｂ〜４Ｈのものを用いてもよい。また表面抵抗率として１０１６Ω／□以上でも用いることができる。プラズマディスプレイ表示装置を組み立てる際の埃の付着と傷つき防止に注意が必要であるものの、いったん組み立てたものについてはＢ面およびＣ面に物理的な外力は加わらないため、単純な構造を採用してもよい。
【００４４】
一方、Ｃ面に配置される反射防止層においてはプラズマ発光領域に近いため、配置する際に粘着剤を用いる場合はＴｇが８０℃以上のものを用いるのが好ましい。また、粘着剤または透明基材にＵＶ吸収剤を含有するものが耐久性の観点から好ましく用いられる。
反射防止層を光学フィルターや前面ガラスへの取り付けは、低屈折率層を形成した面とは異なる透明基材面にアクリル系やシリコーン系、ゴム系の透明性の高い粘着剤を設置し空気抜きながらロールラミネートやプレスなどの方法により取り付けられる。
以下、本発明を一層明確にするために実施例を挙げて説明する。
【実施例】
【００４５】
［各種測定方法］
（１）反射防止層の反射率の測定；ガラス板にアクリル系光学用粘着剤で、反射防止層の透明基材側を貼り、ガラス板の裏面（低屈折率層がない面）の反射光をカットするため、裏面を紙やすりで荒した後に黒色インクで塗りつぶした。その後、分光光度計ＵＶ−２４５０／ＭＰＣ２２００型５°絶対反射率測定装置（島津製作所株式会社製）を用いて、波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の反射率スペクトルを０．５ｎｍ間隔で測定した。
ここでの一番低い反射率を最低反射率とし、その時の波長を最低反射率波長とした。可視光平均反射率は、波長λ４００〜７００ｎｍでの反射率の平均値を用いた。
（２）屈折率の推定方法；既知のシート上にサンプルを種々の厚さに塗工し、その３００ｎｍ〜８００ｎｍの反射率をＦＥ３０００型反射分光計（大塚電子株式会社製）を用いて測定し、ＦＥ３０００の付属ソフトであるシミュレーションによりサンプルの屈折率を推定した。
（３）表面抵抗率の測定；測定装置として東亜ディーケーケー社製超絶縁計ＳＭ−８２１０、電極としては平板試料用電極ＳＭＥ−８３１１を用い、ＪＩＳ  Ｋ６９１１に規定される方法によって表面抵抗率を測定した。（２０℃、６５ＲＨ％）
（４）鉛筆硬度は、ＪＩＳＳ６００６が規定する試験用鉛筆を用いて、ＪＩＳＫ５４００に規定される鉛筆硬度の評価方法に従い、５００ｇ荷重における鉛筆硬度を評価した。
（５）視認性の評価；プラズマディスプレイ表示装置にディジタル信号で文字表示を行った。この表面から１ｍ離れた位置に蛍光灯ＦＰＬ２７ＥＸ−Ｎ（Ｎａｔｉｏｎａｌ製）を光源として設置して外光の映り込みモデルとした。プラズマディプレイ表示装置に対して１ｍ離れた位置から目視で０〜２０°の角度で観察し、出力した文字表示の視認性と、映り込んだ蛍光灯の反射光を評価した。
評価は用いたプラズマディスプレイ表示装置をブランクとしてこれとの対比で目視での感覚評価とした。ランクは、ブランクと同等のものを△とし、それより良好のものを○、◎、それ以下のものを×、××と評価した。
【００４６】
（反射防止層１）
透明基材として富士写真フィルム社製のＵＶ吸収剤入りのＴＡＣフィルム（厚み８０μ）ＴＤＹ８０ＵＬを用いた。ハードコートとして日本化薬社製ＫＤ２００Ｍを用いてＴＡＣフィルム上に１．５μ厚みに塗工・硬化（高圧水銀灯使用）させた。低屈折率層として、バインダにＪＳＲ社製ＴＵ２０８５（屈折率１．４０）、触媒化成社製中空シリカ微粒子（平均直径６０ｎｍ、外殻厚み約７ｎｍ、屈折率１．２５）を用いて屈折率１．３２、厚み１００〜１１０ｎｍの層を塗工・硬化（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ使用）させて、反射防止層１を得た。低屈折率層を透過型電子顕微鏡で観察したところ、層は緻密な構造だった。
得られた反射防止層をガラスにリンテック社製粘着剤ＬＳ０２８０を用いて貼り付け、裏面処理をして反射率を測定したところ、最低反射率の波長は５３０〜５４０ｎｍで、最低反射率は０．５％、可視光平均反射率は０．８％だった。
【００４７】
（反射防止層２）
透明基材として富士写真フィルム社製のＵＶ吸収剤入りのＴＡＣフィルム（厚み８０μ）ＴＤＹ８０ＵＬを用いた。ハードコート層は設けず、低屈折率層として、バインダにＪＳＲ社製ＴＵ２０８５（屈折率１．４０）、触媒化成社製中空シリカ微粒子（平均直径６０ｎｍ、外殻厚み約７ｎｍ、屈折率１．２５）を用いて屈折率１．２９、厚み９０〜１００ｎｍの層を塗工・硬化（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ使用）させて、反射防止層２を得た。低屈折率層を透過型電子顕微鏡で観察したところ、層は緻密ではなく、中空シリカ微粒子間に隙間のあるところが見られた。
得られた反射防止層をガラスにリンテック社製粘着剤ＬＳ０２８０を用いて貼り付け、裏面処理をして反射率を測定したところ、最低反射率の波長は４５５〜４６５ｎｍで、最低反射率は０．３％、可視光平均反射率は０．６％だった。
【００４８】
（反射防止層３）
透明基材として富士写真フィルム社製のＵＶ吸収剤入りのＴＡＣフィルム（厚み８０μ）ＴＤＹ８０ＵＬを用いた。ハードコート層は設けず、低屈折率層として、バインダにＪＳＲ社製ＴＵ２０８５（屈折率１．４０）、触媒化成社製中空シリカ微粒子（平均直径６０ｎｍ、外殻厚み約７ｎｍ、屈折率１．２５）を用いて屈折率１．２９、厚み１１５〜１２５ｎｍの層を塗工・硬化（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ使用）させて、反射防止層３を得た。低屈折率層を透過型電子顕微鏡で観察したところ、層は緻密ではなく、中空シリカ微粒子間に隙間のあるところが見られた。
得られた反射防止層をガラスにリンテック社製粘着剤ＬＳ０２８０を用いて貼り付け、裏面処理をして反射率を測定したところ、最低反射率の波長は６１５〜６２５ｎｍで、最低反射率は０．３％、可視光平均反射率は０．８％だった。
【００４９】
［実施例１］
空気層を介して光学フィルターが設置されているプラズマディスプレイ表示装置を用い、光学フィルターの表層にリンテック株式会社ＬＳＯ２８０アクリル系粘着剤により反射防止膜１を綺麗に設置した（Ａ面の反射防止層）。次いで光学フィルター裏面に反射防止層２をＬＳＯ２８０粘着剤により設置した（Ｂ面の反射防止層）。さらに、プラズマディスプレイの前面ガラスへ反射防止層３をＬＳＯ２８０粘着剤により設置した（Ｃ面の反射防止層）。この３つの反射防止層を設置したものについて視認性を評価した。その結果を表１に要約した。
【００５０】
［実施例２］
プラズマディスプレイ表示装置の前面ガラス面に反射防止層２を設置した（Ｃ面の反射防止層）以外は、実施例１と同じ処理を行った。このものについて視認性の評価を行い、その結果を表１に要約した。
［実施例３］
プラズマディスプレイ表示装置の前面ガラス面（Ｃ面）に反射防止層を設けなかった以外は、実施例１と同じ処理を行った。このものについて視認性の評価を行い、その結果を表１に要約した。
［実施例４］
プラズマディスプレイ表示装置の前面ガラス面へ設置する反射防止層を反射防止層１とする以外は、実施例１と同じ処理を行った。このものについて視認性の評価を行い、その結果を表１に要約した。
【００５１】
［比較例１］
実施例１で用いたプラズマディスプレイ表示装置そのものについて視認性の評価を行った。その結果を表１に要約した。
［比較例２］
実施例１で用いたプラズマディスプレイ表示装置の光学フィルターに反射防止層１をリンテック株式会社ＬＳＯ２８０アクリル系粘着剤により綺麗に設置した（Ａ面の反射防止層）。次いで光学フィルター裏面に反射防止層１をＬＳＯ２８０粘着剤により設置した（Ｂ面の反射防止層）。この反射防止層を設置したものについて視認性を評価した。その結果を表１に要約した。
［比較例３］
プラズマディスプレイ表示装置の前面ガラスへ反射防止層１をＬＳＯ２８０粘着剤により設置した（Ｃ面の反射防止層）。Ａ面およびＢ面については比較例２と同様に行った。この反射防止層を設置したものについて視認性を評価した。その結果を表１に要約した。
【００５２】
【表１】
2007279462.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明のプラズマディスプレイ表示装置は、空気層界面での反射が低減しているため、自然な反射色が維持され、画像鑑賞が容易である。
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【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明のプラズマディズプレイ表示装置を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５５】
１：反射防止層（Ａ面）
２：光学フィルター
３：反射防止層（Ｂ面）
４：反射防止層（Ｃ面）
５：前面ガラス
６：プラズマ発光領域
７：後面ガラス
８：プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
【図１】
2007279462.tif 000004