(57)【要約】      （修正有）【課題】塑性変形量が大きいフォトスペーサー与えるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物であって、該光重合性化合物（Ｂ）が式（Ｉ）で表される化合物を含有し、式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して質量分率で、５〜６０質量％であるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物。2007293241.tif 000020【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物であって、該光重合性化合物（Ｂ）が式（Ｉ）で表される化合物を含有し、式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して質量分率で、５〜６０質量％であるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物。
2007293241.tif 000018
［式（Ｉ）中、Ｒａ〜Ｒｆは、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基を表す。
2007293241.tif 000019
ただし、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも４つの基は、式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基であり、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも１つの基は式（Ｉ−２）または式（Ｉ−３）でで表される基である。］
【請求項２】
バインダー樹脂（Ａ）が、（Ａ２）〜（Ａ５）の構成成分のいずれか２種（（Ａ２）、（Ａ３）、（Ａ４）、（Ａ５）をそれぞれ１種と称する。）以上を含む化合物を共重合させた高分子からなる樹脂である請求項１に記載のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物。
（Ａ２）；（Ａ４）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ａ３）；不飽和結合を有するカルボン酸
（Ａ４）；一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
（Ａ５）；酸無水物
ただし、（Ａ２）〜（Ａ５）は、それぞれ、互いに同一ではない。
【請求項３】
光重合開始剤（Ｃ）が、トリアジン化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、オキシム化合物およびアシルホスフィンオキサイド化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する請求項１または２に記載のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物で形成されることを特徴とするフォトスペーサー。
【請求項５】
請求項４に記載のフォトスペーサーを含むことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置やタッチパネルなど、表示装置を構成するカラーフィルタとアレイ基板との間には、両基板の間隔を保持するためにスペーサーが設けられている。このスペーサーとしては、球形粒子を散布する代わりに、感光性樹脂組成物を用いてスペーサーを形成するフォトスペーサー法が提案されている。
【０００３】
このフォトスペーサーの形成に用いられる感光性樹脂組成物としては、バインダー樹脂としてメタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体を、光重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを、光重合開始剤として２，４−ビス−（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジンを、溶剤としてメチルエチルケトンと１−メトキシ−２−プロピルアセテートとメタノールを有してなるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、スペーサーの塑性変形量を適正な範囲に規定することで、液晶表示ムラのない高品質な画像を表示可能な液晶表示素子を提供できるとされている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３０２６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載されたフォトスペーサー用樹脂組成物では、塑性変形量が十分ではないことを、本発明者は見いだした。
【０００６】
本発明の目的は、塑性変形量が大きいフォトスペーサー与えるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、前記の課題を解決しうる新たな手段について鋭意検討の結果、特定の光重合性化合物を含む感光性樹脂組成物が前述の課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
【０００８】
すなわち本発明は、バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）および溶剤（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物であって、該光重合性化合物（Ｂ）が式（Ｉ）で表される化合物を含有し、式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計量に対して質量分率で、５〜６０質量％であるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【０００９】
2007293241.tif 000002
【００１０】
［式（Ｉ）中、Ｒａ〜Ｒｆは、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基を表す。
【００１１】
2007293241.tif 000003
【００１２】
ただし、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも４つの基は、式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基であり、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも１つの基は式（Ｉ−２）または式（Ｉ−３）で表される基である。］
【００１３】
また、本発明は、前記のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を用いて形成されるフォトスペーサーを具備する表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の感光性樹脂組成物は貯蔵安定性が良好であり、感度が高く、当該感光性樹脂組成物により塑性変形量の大きいフォトスペーサーを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、さらに任意にその他の添加剤（Ｆ）が、溶剤（Ｄ）に溶解または分散されており、光重合性化合物（Ｂ）が式（Ｉ）で表される化合物である。
【００１６】
バインダー樹脂（Ａ）としては、アルカリ溶解性を有する樹脂、またはアルカリ可溶性を有し、かつ光や熱の作用による反応性を有する樹脂が好ましい。
【００１７】
そのようなバインダー樹脂（Ａ）としては、以下の（Ａ２）〜（Ａ５）の構成成分のいずれか２種（（Ａ２）、（Ａ３）、（Ａ４）、（Ａ５）をそれぞれ１種と称する。例えば、（Ａ２）に属する異なる２つの化合物は１種とする。）以上を含む化合物を共重合させた高分子からなる樹脂が挙げられる。
（Ａ２）；（Ａ４）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ａ３）；不飽和結合を有するカルボン酸
（Ａ４）；一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物
（Ａ５）；酸無水物
ただし、（Ａ２）〜（Ａ５）は、それぞれ、互いに同一ではない。
【００１８】
（Ａ４）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物（Ａ２）としては、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートおよびアミノエチル（メタ）アクリレートのような不飽和カルボン酸の無置換または置換アルキルエステル；
シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、メンチル（メタ）アクリレート、シクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキセニル（メタ）アクリレート、シクロヘプテニル（メタ）アクリレート、シクロオクテニル（メタ）アクリレート、メンタジエニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ピナニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ノルボルネニル（メタ）アクリレート、ピネニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートのような不飽和カルボン酸の脂環式基を含むエステル化合物；
オリゴエチレングリコールモノアルキル（メタ）アクリレートのようなグリコール類のモノ飽和カルボン酸エステル化合物；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレートのような不飽和カルボン酸の芳香環を含むエステル化合物；
スチレン、α−メチルスチレン、α−フェニルスチレンおよびビニルトルエンのような芳香族ビニル化合物；
酢酸ビニルおよびプロピオン酸ビニルのようなカルボン酸ビニルエステル；
（メタ）アクリロニトリルおよびα−クロロアクリロニトリルのようなシアン化ビニル化合物；
Ｎ−シクロヘキシルマレイミドやＮ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドのようなＮ−置換マレイミド化合物などが挙げられる。これらは、それぞれ単独で、または組合せて用いることができる。
ここで、本明細書中における（メタ）アクリレートの記載は、アクリレートおよびメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。また、（メタ）アクリル酸の記載は、アクリル酸およびメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。
【００１９】
不飽和結合を有するカルボン酸（Ａ３）としては、具体的には、アクリル酸およびメタクリル酸が挙げられる。アクリル酸およびメタクリル酸は、それぞれ単独で、または両者を組合せて用いることができる。また、これらのアクリル酸やメタクリル酸に加えて、その他の不飽和基を有するカルボン酸を併用することができる。その他の不飽和基を有するカルボン酸としては、具体的に、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。また、α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基およびカルボキシル基を含有する不飽和基を有するカルボン酸を併用することもできる。
【００２０】
一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物（Ａ４）としては、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸−β−メチルグリシジル、（メタ）アクリル酸−β−エチルグリシジル、（メタ）アクリル酸−β−プロピルグリシジル、α−エチルアクリル酸−β−メチルグリシジル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸−３−エチル−３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸−４−メチル−４，５−エポキシペンチル、（メタ）アクリル酸−５−メチル−５，６−エポキシヘキシル、グリシジルビニルエーテルなどが挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル酸グリシジルが挙げられる。
【００２１】
酸無水物（Ａ５）は、分子中に酸無水物基を１個有する化合物であり、具体的には、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、イタコン酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、トリメリット酸無水物などが挙げられ、好ましくはテトラヒドロフタル酸無水物が挙げられる。
【００２２】
本発明におけるバインダー樹脂（Ａ）としては、前記の各成分を任意に共重合させて得ることができるが、好ましくは、（Ａ２）と（Ａ３）との共重合体、（Ａ２）と（Ａ３）との共重合体における（Ａ３）に由来するカルボキシル基の部位でさらに（Ａ４）を反応させた共重合体、（Ａ２）および（Ａ４）を共重合させて共重合体１を得て、得られた共重合体１と（Ａ３）とを共重合体１の（Ａ４）に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体２を得て、さらに得られた共重合体２と（Ａ５）とを共重合体１の（Ａ４）と（Ａ３）の反応により生成した少なくとも一部の水酸基の部位に反応させて得られる（Ａ２）〜（Ａ５）共重合体などが挙げられる。
【００２３】
（Ａ２）と（Ａ３）との共重合体は、工業的に通常行われる条件下で得られる。例えば、撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコに、（Ａ２）と（Ａ３）との合計量に対して質量基準で、０．５〜２０倍量の溶剤が導入され、フラスコ内雰囲気が空気から窒素に置換される。その後、溶剤が４０〜１４０℃に昇温された後、所定量の（Ａ２）と（Ａ３）、（Ａ２）と（Ａ３）との合計量に対して質量基準で、０〜２０倍量の溶剤、およびアゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイドなどの重合開始剤を、（Ａ２）と（Ａ３）との合計モル数に対して、０．１〜１０モル％添加した溶液（室温または加熱下にて撹拌溶解）が滴下ロートから０．１〜８時間かけて前記のフラスコに滴下され、さらに４０〜１４０℃の温度範囲で１〜１０時間撹拌される。なお、上記の工程において、重合開始剤の一部または全量がフラスコ側に仕込まれてもよいし、（Ａ２）と（Ａ３）との一部または全量がフラスコ側に仕込まれてもよい。また、分子量や分子量分布を制御するために、α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物が連鎖移動剤として使用されてもよい。α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物の使用量は、（Ａ２）と（Ａ３）との合計量に対して、質量基準で、通常は０．００５〜５％である。なお、上記した重合条件は、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
それぞれから導かれる構成成分の比率としては、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ２）から導かれる構成単位；５〜９５モル％
（Ａ３）から導かれる構成単位；５〜９５モル％
【００２４】
また、前記の構成成分の比率が以下の範囲であると、より好ましい。
【００２５】
（Ａ２）から導かれる構成単位；１０〜９０モル％
（Ａ３）から導かれる構成単位；１０〜９０モル％
【００２６】
前記の構成比率が、上記の範囲にあると、現像性が良好である。
【００２７】
また、前記の（Ａ２）と（Ａ３）との共重合体と（Ａ４）とを、前記共重合体の（Ａ３）に由来するカルボキシル基の部位で反応させて得られた共重合体において、（Ａ４）の付加量は、前記共重合体の（Ａ３）に由来するカルボキシル基に対して、５〜６０モル％、好ましくは１０〜５０モル％である。
（Ａ４）の組成比が上記範囲内にあると、現像性に優れ、十分な光硬化性や熱硬化性が得られ、信頼性に優れるので好ましい。
【００２８】
また、前記の（Ａ２）および（Ａ４）を共重合させて共重合体１を得て、得られた共重合体１と（Ａ３）とを共重合体１の（Ａ４）に由来するエポキシ基の部位で反応させて共重合体２を得て、さらに得られた共重合体２と（Ａ５）とを共重合体１の（Ａ４）と（Ａ３）の反応により生成した水酸基の部位に反応させて得られる（Ａ２）〜（Ａ５）共重合体が挙げられ、好ましい。
【００２９】
前記の（Ａ２）〜（Ａ５）共重合体は、次のようにして製造することができる。
まず、共重合体１を得るために、（Ａ２）および（Ａ４）を共重合させる。この共重合時は、通常の条件下で行なわれる。例えば、撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を備えたフラスコに、（Ａ２）および（Ａ４）の合計量に対して、質量基準で、０．５〜２０倍量の溶剤を導入し、フラスコ内雰囲気を空気から窒素に置換する。その後、溶剤を４０〜１４０℃に昇温した後、（Ａ２）および（Ａ４）の所定量、（Ａ２）および（Ａ４）の合計量に対して、質量基準で、０〜２０倍量の溶剤、およびアゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイドなどの重合開始剤を、（Ａ２）および（Ａ４）の合計モル数に対して、０．１〜１０モル％添加した溶液（室温または加熱下にて撹拌溶解）を滴下ロートから０．１〜８時間かけて前記のフラスコに滴下し、さらに４０〜１４０℃で１〜１０時間撹拌する。
【００３０】
なお、上記の工程において、重合開始剤の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよいし、（Ａ２）および（Ａ４）の一部または全量をフラスコ側に仕込んでもよい。また、分子量や分子量分布を制御するために、α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物を連鎖移動剤として使用してもよい。α−メチルスチレンダイマーやメルカプト化合物の使用量は、（Ａ２）〜（Ａ３）の合計量に対して、質量基準で、０．００５〜５％である。なお、上記した重合条件は、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
【００３１】
それぞれから導かれる構成成分の比率としては、前記の共重合体１を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
【００３２】
（Ａ２）から導かれる構成単位；２〜９７モル％
（Ａ４）から導かれる構成単位；３〜９８モル％
【００３３】
また、前記の構成成分の比率が以下の範囲であると、より好ましい。
【００３４】
（Ａ２）から導かれる構成単位；１５〜８５モル％
（Ａ４）から導かれる構成単位；１５〜８５モル％
【００３５】
前記の構成比率が、上記の範囲にあると、可とう性および耐熱性のバランスが良好であり、好ましい幹ポリマーが得られる。
【００３６】
次に、前記の共重合体１に（Ａ３）を付加してバインダー樹脂（Ａ）に光硬化性や熱硬化性を付与する。
【００３７】
共重合体１と（Ａ３）との反応は、例えば、特開２００１−８９５３３号公報に記載の条件で行われることができる。具体的には、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、前記共重合体１の（Ａ４）から導かれる構成単位に対して、モル分率で、５〜１００モル％の（Ａ３）、カルボキシル基とエポキシ基の反応触媒として、例えば、トリスジメチルアミノメチルフェノールを（Ａ２）〜（Ａ４）の合計量に対して、質量基準で、０．０１〜５％、および重合禁止剤として、例えば、ハイドロキノンを（Ａ２）〜（Ａ４）の合計量に対して、質量基準で、０．００１〜５％をフラスコ内に入れて、６０〜１３０℃で、１〜１０時間反応することにより、前記の共重合体１と（Ａ３）とを反応させることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
【００３８】
（Ａ３）の付加量は、（Ａ２）および（Ａ４）を共重合させて得られた樹脂中のエポキシ基（（Ａ４）成分に由来）に対して、５〜１００モル％、好ましくは１０〜９５モル％である。
（Ａ４）の組成比が上記範囲内にあると、十分な光硬化性や熱硬化性が得られ、信頼性に優れるので好ましい。
【００３９】
次に、前記共重合体２と（Ａ５）とを反応させてバインダー樹脂（Ａ）にアルカリ溶解性を付与する。
【００４０】
共重合体２と（Ａ５）との反応は、例えば、特開２００１−８９５３３号公報に記載の条件で行われることができる。具体的には、前記共重合体２の（Ａ３）から導かれる構成単位に対してモル分率で、５〜１００モル％の（Ａ５）、反応触媒として、例えば、トリエチルアミンを（Ａ２）〜（Ａ４）の合計量に対して質量基準で、０．０１〜５％をフラスコ内に入れて、６０〜１３０℃の温度範囲で、１〜１０時間反応することにより、前記の共重合体２と（Ａ５）とを反応させることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等などを考慮し、仕込み方法や反応温度を適宜調整してもよい。
【００４１】
（Ａ５）の付加量は、共重合体２のアルコール性水酸基のモル数（Ａ３成分に由来）に対して、５〜１００モル％、好ましくは１０〜９５モル％である。
【００４２】
より具体的には、バインダー樹脂（Ａ）が、構成単位（Ｕ１）、（Ｕ２）および（Ｕ３）からなる共重合体（Ａ１）ならびに構成単位（Ｕ１）、（Ｕ２）および（Ｕ４）からなる共重合体（Ａ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の共重合体であることが好ましい。
【００４３】
2007293241.tif 000004
【００４４】
［構成単位（Ｕ１）は、構成単位（Ｕ１−１）および構成単位（Ｕ１−２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を表す。
Ｒ１は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基、ヒドロキシメチル基のいずれかを表す。
Ｒ２は、Ｒ５基で置換されていてもよいフェニル基または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｒ５基を表す。
Ｒ３は、酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（Ｒ５）−基を表す。
Ｒ４は、下記の２価の基を表す。
【００４５】
2007293241.tif 000005
【００４６】
Ｒ５は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アダマンチル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニルオキシエチル基、ジシクロペンテニルオキシエチル基、水酸基のいずれかを表す。ただし、（Ｕ１−１）におけるＲ５では、水素原子以外を表す。］
【００４７】
バインダー樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００であり、より好ましくは５，０００〜３０，０００である。バインダー樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性が良好であり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に未露光部分の抜け性が良好である傾向にあり、好ましい。
【００４８】
バインダー樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．５〜６．０であり、より好ましくは１．８〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れるので好ましい。
【００４９】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物に用いられるバインダー樹脂（Ａ）の含有量は、フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％である。バインダー樹脂（Ａ）の含有量が、前記の範囲にあると、現像液への溶解性が十分であり、未露光部分の基板上に現像残渣が発生しにくく、また現像時に露光部の画素部分の膜減りが生じにくく、未露光部分の抜け性が良好な傾向にあり、好ましい。
【００５０】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物（Ｂ）は、式（Ｉ）で表される化合物を含む。
【００５１】
2007293241.tif 000006
【００５２】
［式（Ｉ）中、Ｒａ〜Ｒｆは、それぞれ独立に、水素原子または式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基を表す。
【００５３】
2007293241.tif 000007
【００５４】
ただし、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも４つの基は、式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される基であり、Ｒａ〜Ｒｆの少なくとも１つの基は式（Ｉ−２）または式（Ｉ−３）でで表される基である。］
【００５５】
式（Ｉ）で表される化合物として、Ｒａ〜Ｒfの６つの基のうち、２つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、２つの基が（Ｉ−２）であり、２つの基が（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、��つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、５つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、５つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、５つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、４つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物。４つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、４つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、５つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、６つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、５つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、４つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式��Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−２）であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、６つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物などが挙げられ、好ましくは２つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、５つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、４つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が水素原子であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、５つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、４つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、３つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、２つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、１つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−１）であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、６つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、５つの基が式（Ｉ−２）であり、１つの基が式��Ｉ−３）で表される化合物、４つの基が式（Ｉ−２）であり、２つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、３つの基が式（Ｉ−２）であり、３つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、２つの基が式（Ｉ−２）であり、４つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、１つの基が式（Ｉ−２）であり、５つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物、６つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物が挙げられ、より好ましくは６つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物、６つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物が挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物としては、６つの基が式（Ｉ−２）で表される化合物であるＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−６０（商品名）（日本化薬（株）製）、６つの基が式（Ｉ−３）で表される化合物であるＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（商品名）（日本化薬（株）製）等の市販のものを用いることができる。
【００５６】
本発明においては、本発明のバインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）以外の重合性化合物として、本発明の効果を損なわない範囲であれば、単官能モノマーの他、２官能、その他の多官能モノマー（ただし、式（Ｉ）で表される化合物を除く。）を併用することができる。
【００５７】
単官能モノマーの具体例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドンなどが挙げられる。
【００５８】
また２官能モノマーの具体例としては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５９】
その他の多官能モノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。中でも、２官能以上の多官能モノマーが好ましく用いられる。
【００６０】
光重合性化合物（Ｂ）の含有量は、フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物中のバインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）の合計１００質量部に対して、好ましくは１〜７０質量部、より好ましくは５〜６０質量部である。光重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記の範囲にあると、フォトスペーサーの塑性変形量が大きい、表面平滑性が良好になる傾向があり、好ましい。
【００６１】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤（Ｃ）としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム系化合物、トリアジン系化合物が用いられる。前記の光重合開始剤と、光重合開始助剤（Ｃ−１）とを併用することで、感光性樹脂組成物は更に高感度となり、これを用いてパターンを形成する際の生産性が向上するので、好ましい。しかし、光重合開始助剤（Ｃ−１）の吸収波長が光重合開始剤（Ｃ）の吸収波長よりも長波長側にある場合、形成した膜の透過率が低くなるので、本発明の効果を損なわない程度であれば使用することができる。
【００６２】
前記のアセトフェノン系化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、アセトフェノン系としては、具体的には、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられる。
【００６３】
前記のビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報など参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報など参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報など参照。）などが挙げられ、好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。
【００６４】
前記のオキシム系化合物としては、Ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、式（ａ）で表される化合物、式（ｂ）で表される化合物などが挙げられる。
【００６５】
2007293241.tif 000008
【００６６】
前記のトリアジン系化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００６７】
また、本発明の効果を損なわない程度であれば、この分野で通常用いられている光重合開始剤等をさらに併用することができ、例えば、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物などの光重合開始剤が挙げられる。
【００６８】
より具体的には以下のような化合物を挙げることができ、これらをそれぞれ単独で、または２種以上組合せて用いることができる。
【００６９】
前記のベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
【００７０】
前記のベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００７１】
前記のチオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
【００７２】
前記のアントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。
【００７３】
その他にも、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などの光重合開始剤を併用することができる。
【００７４】
また、連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されているものを併用することができる。
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤としては、例えば、下記式（２）〜（７）で表される化合物が挙げられる。
【００７５】
2007293241.tif 000009
【００７６】
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤は、共重合体１の構成成分（Ａ２）として使用することができる。そして、（Ａ２）を用いて得られるバインダー樹脂（Ａ）は、本発明のバインダー樹脂に併用することができる。
【００７７】
また、光重合開始剤に光重合開始助剤（Ｃ−１）を組合せて用いることもできる。光重合開始助剤としては、アミン化合物および下記のカルボン酸化合物が好ましく、アミン化合物は芳香族アミン化合物がより好ましい。しかし、光重合開始助剤（Ｃ−１）の吸収波長が光重合開始剤（Ｃ）の吸収波長よりも長波長側にある場合、形成した膜の透過率が低くなるので、本発明の効果を損なわない程度であれば使用することができる。
光重合開始助剤の具体例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどの脂肪族アミン化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。
【００７８】
前記のカルボン酸化合物としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸などの芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。
【００７９】
光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）および光重合性化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対して、好ましくは０．１〜４０質量部、より好ましくは１〜３０質量部である。
【００８０】
また、光重合開始助剤（Ｃ−１）を用いる場合、その含有量は、前記の基準で、好ましくは０．１〜５０質量部、より好ましくは０．１〜４０質量部である。
【００８１】
光重合開始剤（Ｃ）の含有量が前記の範囲にあると、フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物が高感度となり、前記のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を用いて形成したフォトスペーサーの表面における平滑性が良好になる傾向があり、好ましい。前記に加えて、光重合開始助剤（Ｃ−１）の量が前記の範囲にあると、得られるフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物の感度がさらに高くなり、前記のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を用いて形成するパターン基板の生産性が向上する傾向にあり、好ましい。
【００８２】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物は溶剤（Ｄ）を含む。前記の溶剤（Ｄ）としては、感光性樹脂組成物の分野で用いられている各種の有機溶剤を用いることができる。その具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテルおよびエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
メチルセロソルブアセテートおよびエチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテートおよびメトキシペンチルアセテートなどのアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレンのような芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールおよびグリセリンなどのアルコール類；
３−エトキシプロピオン酸エチルおよび３−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類；
γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは上記溶剤の中で沸点が１００〜２００℃の有機溶剤が挙げられ、より好ましくは、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、３−エトキシプロピオン酸エチルおよび３−メトキシプロピオン酸メチルのようなエステル類が挙げられ、とりわけ好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。
これらの溶剤（Ｄ）は、それぞれ単独で、または２種類以上混合して用いることができる。
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物における溶剤（Ｄ）の含有量は、フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは６０〜９５質量％、より好ましくは７０〜９０質量％である。溶剤（Ｄ）の含有量が、前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター（ダイコーター、カーテンフローコーターとも呼ばれることがある。）、インクジェットなどの塗布装置で塗布したときに塗布性が良好になる傾向があり、好ましい。
【００８３】
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止材、凝集剤、連鎖移動剤などのその他の化合物（（Ｅ）成分）を併用することもできる。
【００８４】
充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナなどが例示される。
【００８５】
他の高分子化合物としては、エポキシ樹脂（市販品としては、三井化学（株）テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名）、住友化学（株）製スミエポキシシリーズ（商品名）、ジャパンエポキシレジン（株）製エピコートシリーズ（商品名）等を入手することがきる。）、マレイミド樹脂などの硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂などが例示される。
界面活性剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性などの界面活性剤などが挙げられ、それぞれ単独でまたは２種以上を組合せて用いられる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等のほか、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ソルスパース（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（EFKA  CHEMICALS社製）、ＰＢ８２１（味の素（株）製）などが挙げられる。
【００８６】
密着促進剤として具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００８７】
酸化防止剤として具体的には、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが挙げられる。
【００８８】
紫外線吸収剤として具体的には、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００８９】
また凝集剤として具体的には、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００９０】
連鎖移動剤としては、ドデシルメルカプタン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテンなどが挙げられる。
【００９１】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物は、特許文献１に記載されるような樹脂成分を含まないので、貯蔵前の粘度に対する貯蔵後の粘度の変化率が小さく、好ましい。
【００９２】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物は、前記（Ａ）〜（Ｄ）の各成分、必要に応じて（Ｅ）成分を任意の順序で混合するなどの方法により、容易に調整することができる。
【００９３】
フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物は、例えば、以下のようにして基材上に塗布し、光硬化および現像を行って、パターンを形成することができる。まず、この組成物を基板（通常はガラスやフィルム）または先に形成された感光性樹脂組成物の固形分からなる層の上に塗布する。塗布は、スピンコーター、スリットコーター、カーテンフローコーター、バーコーターなど、公知の装置を用いて行われる。
【００９４】
塗布された感光性樹脂組成物層は、プリベークすることにより溶剤などの揮発成分が除去されて、平滑な塗膜を得る。このときの塗膜の厚さは、通常、１〜６μｍ程度である。このようにして得られた塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して紫外線を照射する。この際、露光部全体に均一に平行光線が照射され、かつマスクと基板の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナーやステッパーなどの装置を使用するのが好ましい。さらにこの後、硬化の終了した塗膜をアルカリ水溶液に接触させて非露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状が得られる。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を適当な角度に傾けてもよい。現像後、水洗を行い、さらに必要に応じて１５０〜２３０℃の温度範囲で１０〜６０分保持してポストベークを施すこともできる。
【００９５】
パターニング露光後の現像に使用する現像液は、通常、アルカリ性化合物と界面活性剤を含む水溶液である。
アルカリ性化合物は、無機および有機のアルカリ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどが挙げられる。
【００９６】
また、有機アルカリ性化合物の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどが挙げられる。これらの無機および有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独でまたは２種以上組合せて用いることができる。アルカリ現像液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。
【００９７】
またアルカリ現像液中の界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤またはカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
【００９８】
ノニオン系界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられる。
【００９９】
アニオン系界面活性剤の具体例としては、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類などが挙げられる。
【０１００】
カチオン系界面活性剤の具体例としては、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩または第四級アンモニウム塩などが挙げられる。
【０１０１】
これらの界面活性剤は、それぞれ単独で用いることも、また２種以上組合せて用いることもできる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、通常、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【０１０２】
以上のようなフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物の塗布、乾燥、得られる乾燥塗膜へのパターニング露光、そして現像という各操作を経て、基板上あるいはカラーフィルタ基板上あるいは液晶駆動用基板上にフォトスペーサーを形成することができる。
【０１０３】
また、この硬化樹脂パターンは、液晶表示装置に使用されるフォトスペーサーとして有用である。また、液晶表示装置のうち、視野角を改善したＭｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ（以下、ＭＶＡ）液晶表示装置は、配向膜の下地に、局所的に構造物を設けて突起が形成され、このような構造物としても本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンは有用である。また、乾燥塗膜へのパターニング露光の際に、ホール形成用フォトマスクを使用すれば、ホールを形成することができ、層間絶縁膜として有用である。さらに、乾燥塗膜への露光の際に、フォトマスクを使用せず露光および加熱硬化、あるいは加熱硬化のみで樹脂膜を形成することができ、この樹脂膜は、オーバーコートとして有用である。
【０１０４】
そして、本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を用いて製造されたフォトスペーサーは、面内の膜厚差が小さく、例えば１〜６μｍの膜厚で、面内膜厚差を０．１５μｍ以下、さらには０．０５μｍ以下とすることができる。したがって、こうして得られるフォトスペーサーは、平滑性に優れたものであり、またこれをカラー液晶表示装置に組み込むことにより、優れた品質の液晶表示装置を高い歩留りで製造することができる。
【０１０５】
液晶表示装置を製造するには、下記の方法が例示される。
配向膜の形成工程、ラビング工程を経たＴＦＴアレイ基板に、本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥し、得られる基板上の乾燥塗膜へのパターニング露光、そして現像という操作を経て、フォトスペーサー付き基板を製造する。そして、ＩＴＯ膜付きカラーフィルタとフォトスペーサー付き基板を、ＩＴＯ膜形成面とフォトスペーサー形成面が向き合うように貼り合わせ、カラーフィルタとＴＦＴアレイ基板の間のフォトスペーサーにより形成された空間に液晶を注入し、周囲をシールすることにより、液晶表示装置を製造することができる。
【実施例】
【０１０６】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【０１０７】
実施例１に使用したバインダー樹脂Ａａの構造およびモル比等を、式（Ｘ）および表１に示す。表１中、ａ〜ｄは、モル比を示す。
【０１０８】
2007293241.tif 000010
【０１０９】
構成単位の説明
ａ：共重合体１における（Ａ２）から導かれる構成単位。
ｂ：共重合体１における（Ａ２）から導かれる構成単位。
ｃ：共重合体１における（Ａ４）から導かれる構成単位に、（Ａ３）を反応させて導かれる構成単位。
ｄ：共重合体２における（Ａ３）に由来する部位に（Ａ５）を反応させて導かれる構成単位。
【０１１０】
【表１】
2007293241.tif 000011
【０１１１】
上記のバインダーポリマーのポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）の測定については、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；ＨＬＣ-８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム；ＴＳＫ−ＧＥＬＧ４０００ＨＸＬ＋ＴＳＫ−ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ（直列接続）
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
注入量；５０μＬ
検出器；ＲＩ
測定試料濃度；０．６質量％（溶媒；ＴＨＦ）
校正用標準物質；ＴＳＫ  ＳＴＡＮＤＡＲＤ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ  Ｆ−４０、Ｆ−４、Ｆ−１、Ａ−２５００、Ａ−５００（東ソー（株）製）
上記で得られた重量平均分子量および数平均分子量の比を分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）とした。
【０１１２】
実施例および比較例の配合組成を表２に示す。表２中の数値は質量部数を表す。
【０１１３】
【表２】
2007293241.tif 000012
【０１１４】
２インチ角のガラス基板（＃１７３７；コーニング社製）を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物（表２）を、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ）で露光し、現像、水洗、ポストベーク後の膜厚が４．７μｍになるようにスピンコートし、次にクリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスク（一辺が１０μｍである正方形とスペース部の間隔が１００μｍのパターンを有する）との間隔を１５０μｍとし、超高圧水銀ランプ（ＵＳＨ−２５０Ｄ；ウシオ電機（株）製）を用いて大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ）で光照射した。その後、非イオン系界面活性剤０．１２質量％と水酸化カリウム０．０５質量％を含む水系現像液に上記塗膜を２３℃で撹拌（マグネティクスターラーで３００ｒｐｍ）している現像液中で８０秒間浸漬して現像し、水洗後、２２０℃で３０分間ポストベークを行って、硬化樹脂パターンを得た。
【０１１５】
得られた硬化樹脂パターンの下記の項目において測定等を行った結果を表３に示す。
【０１１６】
【表３】
2007293241.tif 000013
【０１１７】
（表３中の説明）
表面平滑性；表面平滑性の基準は、目視により表面を観察して、光沢があると○、白濁（不透明）していると×を表す。
線幅；パターンのボトム部における二辺の寸法を、ＳＥＭ（型番Ｓ−４１００；（株）日立製作所製）を用いて測定し、得られた二辺の平均値を求めた。
形状；パターンの基板等に対して垂直な断面に対する断面を、上記と同じＳＥＭを用いて観察した。基板に対してパターンの稜線が９０度より小さければ順テーパー、９０度より大きければ逆テーパーとして記載した。
総変位量；ダイナミック超微小硬度計（ＤＵＨ−Ｗ２０１Ｓ；（株）島津製作所製）を用いて、総変位量（μｍ）を以下の条件で測定した。ここで、一般的に、塑性変形量が大きいと、総変位量も大きいと言える。
【０１１８】
試験モード    ；負荷−除荷試験
試験力        ；５ｇｆ（ＳＩ単位換算値；０．０４９Ｎ）
負荷速度      ；０．４５ｇｆ／秒（ＳＩ単位換算値；０．００４４Ｎ／秒）
保持時間      ；５秒
圧子          ；円錐台圧子（直径５０ｍｍφ）
【０１１９】
保存安定性；２３℃で３ヶ月保管前後の粘度変化率を次式によって求めた。
粘度変化率（％）＝［（保管後粘度）／（保管前粘度）］×１００
【０１２０】
線膨張係数；４インチシリコンウエハに、感光性樹脂組成物をポストベーク後に０．３μｍになるように成膜した。このとき、フォトマスクを使用しないことおよび現像工程を省略すること以外は、２インチ角のガラス基板に成膜したときと同様の操作を行った。
得られた塗膜を、斜入射Ｘ線分析装置（Ｘ’ＰｅｒｔＭＲＤ；フィリップス製）を使用して、３０℃から２００℃における膜厚変化を測定した。なお、Ｘ線出力；４５ｋＶ／４０ｍＡ、Ｘ線；ＣｕＫα１線、雰囲気；窒素で実施した。
なお線膨張係数の単位は、１０−６／℃である。
【０１２１】
熱分析；硬化樹脂パターンを形成する操作において、フォトマスクを使用しないで全面露光すること以外は、同様の操作を行い、膜厚３μｍの硬化塗膜を得た。硬化塗膜を剃刀で削り取り、２４０℃×１時間における加熱減量（サンプル温度が２４０℃に到達したときの重量を１００として、２４０℃×１時間保温後の質量を、百分率で表す）を測定した。
装置；示差熱熱重量同時測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ２２０；セイコーインスツルメンツ（株）製）
測定雰囲気；窒素
窒素ガス流量；３００ｍＬ／分
【０１２２】
式（１）で表される光重合性化合物を含有した実施例１および２のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物では、総変位量が大きく、さらに、表面平滑性、パターン形状に優れるフォトスペーサーが得られることがわかるが、式（１）で表される光重合性化合物を含有しない比較例１のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物では、総変位量が小さい。
【０１２３】
実施例３、比較例２、比較例３
実施例３、比較例２および比較例３において、バインダー樹脂（Ａ）として使用した樹脂の構造Ａｂ、組成等を、式（Ｙ）および表４に示す。表４中、ａ〜ｄは、モル比を示す。
表５に示す組成で、実施例１と同様にして、評価を行った。その結果を表６に示す。
【０１２４】
2007293241.tif 000014
【０１２５】
構成単位の説明
ａ：共重合体１における（Ａ２）から導かれる構成単位。
ｂ：共重合体１における（Ａ２）から導かれる構成単位。
ｃ：共重合体１における（Ａ２）から導かれる構成単位。
ｄ：共重合体１における（Ａ３）から導かれる構成単位。
ｅ：共重合体１における（Ａ３）から導かれる構成単位に、（Ａ４）を反応させて導かれる構成単位。
【０１２６】
【表４】
2007293241.tif 000015
【０１２７】
樹脂Ａｂのポリスチレン換算重量分子量分子量および数平均分子量の測定は、実施例１と同様にして行った。
【０１２８】
＜フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物の調製＞
実施例および比較例の配合組成を表５に示す。表５中の数値は質量部数を表す。
【０１２９】
【表５】
2007293241.tif 000016
【０１３０】
評価結果を表６に示す。
【０１３１】
【表６】
2007293241.tif 000017
【０１３２】
接着性試験
硬化樹脂パターンを形成したガラス基板（♯１７３７；コーニング社製）を１ｃｍ×５ｃｍにカットし、同サイズのガラス基板（♯１７３７；コーニング社製）を、硬化樹脂パターンを介して、十字状に重ね合わせた後（貼り合わせた面積は１ｃｍ２）、３００Ｐａの圧力下、１５０℃で１時間の条件で圧着した。
試験片を取り出し、室温に冷却後、貼り合わせた基板を引きはがしたところ、実施例１〜３の組成物を用いて形成された硬化樹脂パターンでは基板が接着していたのに対し、比較例１の組成物を用いて形成された硬化樹脂パターンでは基板が接着していなかった。なお比較例２〜３の組成物では、硬化樹脂パターンを形成できなかった（非露光部に膜残りあり）ので、試験できなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物で形成されたフォトスペーサーは、総変位量が大きく、さらに、表面平滑性が優れ、３〜５０μｍの微細なパターンまで解像可能であることから抜け性が良好で、フォトスペーサーのようなパターンを残すことに適している。
本発明のフォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物は、液晶表示装置におけるフォトスペーサーの形成に用いることができるほか、絶縁膜（コンタクトホール形成）、オーバーコート（平坦化膜）、液晶配向制御用の突起形成材の形成にも用いることができる。さらに、それらの接着に用いられる接着剤として使用しうる。