(57)【要約】      （修正有）【課題】気泡の混入が防止され、厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板及びマイクロレンズ基板の製造方法を提供する。【解決手段】遮光性材料層３２’と粘着剤層３１とが接触するように、遮光性材料転写シート１３を粘着剤層３１に貼り合わせる工程を、減圧真空装置を用いて減圧状態で行う。【選択図】図７
2007187843.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数のマイクロレンズを有する基板本体を備えたマイクロレンズ基板を製造する方法であって、
製造すべき前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物にシート材を密着させる密着工程と、
前記組成物を固化させる固化工程とを有し、
前記組成物と前記シート材との間が減圧された減圧状態で、前記密着工程を行うことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
真空チャンバを用いることにより、前記組成物および前記シート材の全体を含む空間を前記減圧状態とする請求項１に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
シール材を用いることにより、前記組成物と前記シート材との間の空間のみを選択的に前記減圧状態とする請求項１に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層を形成する粘着剤層形成工程と、
前記基板本体を介して前記粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる光照射工程と、
前記粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる貼着工程と、
貼り合わされた前記遮光性材料転写シートを前記粘着剤層から剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に選択的に前記遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程とをさらに有し、
前記粘着剤層と前記遮光性材料転写シートとの間が減圧された減圧状態で、前記貼着工程を行う請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記粘着剤層形成工程は、前記基板本体上に、感光性粘着剤で構成された粘着剤シートを貼り合わせることにより行うものであり、
前記粘着剤層形成工程を、前記基板本体と前記粘着剤シートとの間が減圧された減圧状態で行う請求項４に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、拡散板を貼り合わせて拡散部を形成する拡散部形成工程をさらに有し、
前記拡散部形成工程を、前記基板本体と前記拡散板との間の空間が減圧された減圧状態で行う請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記減圧状態における圧力が、１×１０−２〜１×１０５Ｐａである請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記シート材の厚さは、２０〜２００μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記シート材は、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものである請求項１ないし８のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１２】
光の出射側にフレネルレンズが設けられたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記マイクロレンズ基板とを備えた請求項１１に記載の透過型スクリーン。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズを備えたレンズ基板（レンチキュラレンズ基板）を備えたものが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズ基板を備えた透過型スクリーンでは、左右の視野角が大きいが上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００３】
このような問題を解決するものとして、レンチキュラレンズに代えてマイクロレンズを備えたレンズ基板（マイクロレンズ基板）を用いた透過型スクリーンがある。
このようなレンズ基板（レンズアレイシート、レンズシート）の製造方法としては、多数の凹部が設けられたガラス基板の凹部が設けられた面に未硬化の樹脂を供給し、該樹脂を硬化させることにより、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズを形成する方法が用いられている（例えば、特許文献１参照）。そして、上記のようなレンズ基板では、マイクロレンズの焦点距離が数十μｍと短いため、より薄型のマイクロレンズ基板を得るために、例えばフォトポリマー法（２Ｐ法）等により、レンズ形状をフィルム材に転写することが行われている。
【０００４】
しかしながら、上記ガラス基板上に樹脂を供給し延ばす場合に、凹部（マイクロレンズ用凹部）が２次元的に配されているため、樹脂の流動が規制される。これにより、フィルム材と樹脂との間に気泡が残留したり、樹脂が均等に延ばされず部分的に厚くなったりする等の問題が発生する。その結果、マイクロレンズの焦点位置にばらつきを生じたり、マイクロレンズ基板中に気泡が存在したりすることにより、マイクロレンズ基板の光学特性が著しく低下することがあった。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３７６９４号公報（段落番号００１８〜００２２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を提供すること、前記マイクロレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、多数のマイクロレンズを有する基板本体を備えたマイクロレンズ基板を製造する方法であって、
製造すべき前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物にシート材を密着させる密着工程と、
前記組成物を固化させる固化工程とを有し、
前記組成物と前記シート材との間が減圧された減圧状態で、前記密着工程を行うことを特徴とする。
これにより、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を効率良く製造することができるマイクロレンズ基板の製造方法を提供することができる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、真空チャンバを用いることにより、前記組成物および前記シート材の全体を含む空間を前記減圧状態とすることが好ましい。
これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、成形型上に付与された組成物をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物とシート材との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。
【０００９】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、シール材を用いることにより、前記組成物と前記シート材との間の空間のみを選択的に前記減圧状態とすることが好ましい。
これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、成形型上に付与された組成物をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物とシート材との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、比較的単純で小型の装置を用いて、密着工程を行うことができる。
【００１０】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層を形成する粘着剤層形成工程と、
前記基板本体を介して前記粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる光照射工程と、
前記粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる貼着工程と、
貼り合わされた前記遮光性材料転写シートを前記粘着剤層から剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に選択的に前記遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程とをさらに有し、
前記粘着剤層と前記遮光性材料転写シートとの間が減圧された減圧状態で、前記貼着工程を行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、製造されるマイクロレンズ基板において、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
【００１１】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記粘着剤層形成工程は、前記基板本体上に、感光性粘着剤で構成された粘着剤シートを貼り合わせることにより行うものであり、
前記粘着剤層形成工程を、前記基板本体と前記粘着剤シートとの間が減圧された減圧状態で行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、製造されるマイクロレンズ基板において、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
【００１２】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、拡散板を貼り合わせて拡散部を形成する拡散部形成工程をさらに有し、
前記拡散部形成工程を、前記基板本体と前記拡散板との間の空間が減圧された減圧状態で行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記減圧状態における圧力が、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであることが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記シート材の厚さは、２０〜２００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができるとともに、密着工程において、シート材にしわが発生するのをより効果的に防止することができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
【００１５】
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記シート材は、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであることが好ましい。
ポリエチレンテレフタレートは、好適な光学特性を有するとともに、適度な可撓性を有しており、密着工程を効率良く行うことができる。また、組成物として用いられる各種材料との親和性にも優れており、製造されるマイクロレンズ基板の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止された透過型スクリーンを提供することができる。
【００１７】
本発明の透過型スクリーンでは、光の出射側にフレネルレンズが設けられたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記マイクロレンズ基板とを備えたことが好ましい。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止された透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止されたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
【００１９】
本発明のマイクロレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、マイクロレンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
まず、本発明のマイクロレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００２０】
マイクロレンズ基板１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２と、ブラックマトリックス（遮光膜）３と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部４とを備えている。
基板本体２は、通常、主として光透過性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性や、後述するブラックマトリックス３との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００２１】
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２２】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜１．９であるのが好ましく、１．４０〜１．７５であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２３】
特に、基板本体２は、後に詳述するような方法により製造されたものであるため、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたものとなっている。これにより、マイクロレンズ基板１の光学特性は優れたものとなり、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生を十分に防止することができる。
また、基板本体２の不本意な厚さのばらつきが抑制されているため、基板本体２が備えている各マイクロレンズ２１の焦点距離を均一なものとすることができ、後述するような方法により、ブラックマトリックス３の開口部３３の大きさのばらつきを防止することができ、画像を表示した際における色ムラ等の発生をより確実に防止することができる。
また、基板本体２は、シート材２４を用いて製造されたものであるため、基板本体２の表面（光の出射側の表面）における不本意な凹凸の発生が効果的に防止されている。これにより、マイクロレンズ基板１としての光学特性を設計通りのものにコントロールし易くなる。
【００２４】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２５】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２７】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２８】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが設けられている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００３０】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３１】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が設けられている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３３】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして設けられており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３３の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３３近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３３の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板１を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３４】
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス（遮光膜）３が設けられている。
ブラックマトリックス３は、粘着剤層３１と遮光層３２とを備えている。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３３を有している。これにより、画像形成用の光を十分に透過させつつ、不要な光を遮断することができる。その結果、ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。
【００３５】
粘着剤層３１の厚さは、４〜３０μｍが好ましく、５〜２５μｍがより好ましい。粘着剤層３１の厚さが前記範囲内の値であると、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
粘着剤層３１の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料等を用いることができる。
粘着剤層３１を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂（アクリル系粘着剤を含む）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００３６】
粘着剤層３１の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．１５〜２．１であるのが好ましく、１．３０〜１．８５であるのがより好ましい。粘着剤層３１の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３７】
また、基板本体２の構成材料の屈折率（絶対屈折率）をｎ１、粘着剤層３１の構成材料の屈折率（絶対屈折率）をｎ２としたとき、−０．２０≦ｎ１−ｎ２≦０．２０の関係を満足するのが好ましく、−０．１０≦ｎ１−ｎ２≦０．１０の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、万が一、画像形成用の光が粘着剤層３１に入射した場合であっても、粘着剤層３１に入射した光を、出射側に好適に出射することができ、高コントラストで好適な画像を形成することができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３８】
また、遮光層３２の厚さは、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．８〜７μｍであるのがより好ましく、１．４〜６μｍであるのがさらに好ましい。遮光層３２の厚さが前記範囲内の値であると、画像形成用の光が遮光層３２で遮られてしまう（いわゆる「ケラレ」が発生する）という問題が発生するのをより効果的に防止しつつ、ブラックマトリックス３全体としての遮光性を特に優れたものとすることができる。その結果、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３９】
遮光層３２は、遮光性を有する材料で構成されている。
遮光層３２を構成する材料は、特に限定されないが、各種顔料、各種染料等の着色剤（例えば、インク等）を用いることができる。
また、遮光層３２は、樹脂材料等を構成成分として含むものであってもよい。これにより、粘着剤層３１との密着性を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
開口部３３は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、ブラックマトリックス３の開口部３３以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
ブラックマトリックス３の開口部３３は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３３が略円形である場合、開口部３３の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜１００μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、２０〜７０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００４１】
また、平面視したときの開口部３３のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、５〜５０％であるのが好ましく、１０〜３５％であるのがより好ましく、１５〜２５％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【００４２】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００４３】
また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．７〜４ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００４４】
本発明のマイクロレンズ基板は、後に詳述するような方法で製造されたものであるため、気泡の混入等による欠陥が効果的に防止されており、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６５％以上であるのが好ましく、７５％以上であるのがより好ましく、８５％以上であるのがさらに好ましい。
【００４５】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
【００４６】
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が設けられた面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部３３を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４７】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（成形型）を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６〜図８は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図、図９〜図１１は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図５〜図１１中の下側を「（光の）入射側」、図５〜図１１の上側を「（光の）出射側」と言う。また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４８】
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（成形型）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材（成形型）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部６１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、マイクロレンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４９】
凹部付き部材（成形型）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００５０】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００５１】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５２】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５３】
また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００５４】
また、凹部６１の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が設けられている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５５】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５６】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５７】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００５８】
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８２を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜８１を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８１に初期孔８２を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜８１および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００５９】
マスク形成用膜８１は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８２を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８１（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００６０】
かかる観点からは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８１（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６１】
上記のように、マスク形成用膜８１（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８１は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８１を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜８１（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６２】
マスク形成用膜８１の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８１（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８１（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６３】
マスク形成用膜８１（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８２の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８２を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８１（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８１（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６４】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８１（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８１の形成と同時に、マスク形成用膜８１と同様に設けることができる。
【００６５】
次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８１に、複数個の初期孔（開口部）８２を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８２は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８２の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８２を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８２をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８２）を形成することができる。
【００６６】
また、レーザ光の照射により初期孔８２を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６７】
本工程で形成する初期孔８２は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８２が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８２が扁平形状のものである場合、初期孔８２の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６８】
また、本工程で形成する初期孔８２が扁平形状のものである場合、初期孔８２の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
【００６９】
＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８２が設けられたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７０】
初期孔８２が設けられたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８２に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に設けられた初期孔８２が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
【００７１】
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
マスク８（マスク形成用膜８１）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７２】
＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
【００７３】
また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００７４】
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に設けられた凹部付き部材６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００７５】
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８２）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、マイクロレンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８２の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８２の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７６】
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
［マイクロレンズ基板の製造方法の第１実施形態］
＜Ｂ１＞まず、凹部付き部材６の凹部６１が設けられた側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与する（組成物付与工程。図６（ａ）参照）。
【００７７】
＜Ｂ２＞次に、凹部付き部材６上に付与された組成物２３上に、シート材（基材フィルム）２４を載せ、このシート材２４と組成物２３とを密着させる（密着工程。図６（ｂ）、図６（ｃ）参照）。
密着工程は、例えばシート材２４上に平板（押圧部材）を配し、この平板を用いて行ってもよいし、加圧ローラーを用いて行ってもよい。
【００７８】
ここで、密着工程は、組成物２３とシート材２４との間が減圧された減圧状態で行う。
特に、本実施形態では、密着工程を、図６（ｂ）、図６（ｃ）に示すような減圧真空装置１１を用いて、真空チャンバ１１１内で行う。この減圧真空装置１１は、真空チャンバ１１１と、真空チャンバ１１１に接続された真空ポンプ１１２とを備えている。真空ポンプ１１２により排気することで、凹部付き部材６、組成物２３、およびシート材２４を収納する真空チャンバ１１１内は、減圧状態とされる。
【００７９】
このように、組成物２３とシート材２４との密着を、減圧状態下で行うことで、組成物２３とシート材２４との間に存在する気泡を確実に除去することができるとともに、組成物２３中に存在する気泡も確実に除去することができる。また、組成物２３とシート材２４との間にゴミ等の異物の混入を防止することができる。その結果、基板本体２を厚みムラなく得ることができる。これにより透過率をばらつきなく全面にわたって均一なものとすることができる。また、後述するように（後述するような方法により）ブラックマトリックス３をセルフアライメントにより形成する際に、開口部３３の大きさをばらつきなく均一に形成することができる。その結果、表示される画像における色ムラ、輝度ムラ等の発生をより効果的に防止することができる。
【００８０】
本実施形態のように、組成物２３とシート材２４との密着を、真空チャンバ内で行うことで、より好適に減圧状態を作り出すことができ、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間等に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、例えば平板（押圧部材）や加圧ローラー等を用いて押圧する場合に、それらの操作を容易に行うことができる。また、押圧の際に、組成物２３とシート材２４との間に存在する気泡を逃がすために、大きな圧力を加えたり、加圧ローラーの移動方向を考慮したりする必要がなくなり、気泡の除去をより容易に行うことができる。
【００８１】
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであるのが好ましく、１×１０１〜１×１０３Ｐａであることがより好ましい。減圧状態における圧力（雰囲気圧）が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生したり、組成物２３中や組成物２３とシート材２４との間等に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス３の開口部３３の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００８２】
シート材２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、シート材２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。
シート材２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは、好適な光学特性を有するとともに、適度な可撓性を有しており、密着工程を効率良く行うことができる。また、組成物２３として用いられる各種材料との親和性にも優れており、製造されるマイクロレンズ基板１の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００８３】
また、シート材２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
シート材２４の厚さは、特に限定されないが、２０〜２００μｍであるのが好ましく、３５〜７５μｍであるのがより好ましい。シート材２４の厚さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１中に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができるとともに、本工程において、シート材２４にしわが発生するのをより効果的に防止することができ、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
【００８４】
また、例えば、シート材２４の組成物２３と対向する側の面には、図示しない溝が設けられていてもよい。シート材２４が溝を有することにより、加圧時（組成物２３にシート材２４からの圧力がかかる際）に、組成物２３を均等に延ばすことができるとともに、溝がガス流路として機能し、組成物２３中または組成物２３とシート材２４との間に存在する気泡をより確実に逃がすことができる。その結果、基板本体２の厚みムラをより効果的に防止することができる。これにより、マイクロレンズ基板１の各部位での透過率のばらつきをより確実に防止することができるとともに、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を表示することができる。また、後述するように（後述するような方法により）ブラックマトリックス３をセルフアライメントにより形成する際に、開口部３３の大きさをばらつきなくより均一に形成することができる。その結果、表示される画像における色ムラ、輝度ムラ等の発生をより効果的に防止することができる。
【００８５】
シート材２４に設けられる溝は、１本でもよいし、複数本であってもよいが、複数本であるのが好ましい。これにより、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００８６】
シート材２４が複数本の溝を有するものである場合、シート材２４は、互いに略平行に設けられた溝を有するものであるのが好ましい。これにより、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００８７】
また、隣接する溝同士のピッチＰは、１０〜２００μｍであるのが好ましく、５０〜１５０μｍであるのがより好ましい。溝のピッチが前記範囲内の値であると、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００８８】
溝の形成方向としては、特に限定されないが、凹部付き部材６上において、組成物２３の流れやすい方向に形成することが好ましい。これにより、加圧時に組成物２３をより均等に延ばすことができるとともに、気泡をより確実に逃がすことができる。例えば、凹部付き部材６が上記のような形状の凹部を有するものである場合、溝の長手方向は、凹部６１の短軸方向に一致するものであるのが好ましい。これにより、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００８９】
溝の断面形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、半円形状、矩形状、台形状、三角形状等、種々の形状が挙げられるが、半円形状であるのが好ましい。これにより、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００９０】
溝の深さＤは、特に限定されないが、２０〜２００μｍであるのが好ましく、５０〜１００μｍであるのがより好ましい。溝の深さが前記範囲内の値であると、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００９１】
溝の幅（溝の開口部における幅）Ｗは、特に限定されないが、２０〜２００μｍであるのが好ましく、５０〜１００μｍであるのがより好ましい。溝の幅が前記範囲内の値であると、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００９２】
シート材２４の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、１０〜２００％であるのが好ましく、５０〜１５０％であるのがより好ましい。溝が占める投影面積の割合が前記範囲内の値であると、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１（基板本体２）において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００９３】
シート材２４が溝を有するものである場合、シート材２４は、溝が、形成されるマイクロレンズ２１の集光部以外の部位に存在するものとなるように、載置されるものであるのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１において、組成物２３の固化物と、シート材２４との界面での画像形成用の光の不本意な屈折等が発生するのを確実に防止することができ、マイクロレンズ基板１の光学特性をより確実にコントロールすることができる。また、凹部付き部材６が、万が一、所定の形状を有していない不良凹部を有する場合であっても、後述するような方法において、当該不良凹部に対応する部位にブラックマトリックス３の開口部３３が形成されるのを防止することができる。その結果、表示される画像において、不本意な輝点が生じるのを効果的に防止することができ、表示される画像の画質の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００９４】
また、密着工程は、例えば、凹部付き部材６と、シート材２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６とシート材２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられた側の面に、付与する組成物２３として予めスペーサーが分散されたものを用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００９５】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００９６】
＜Ｂ３＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｄ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
特に、シート材２４が上述したような溝を有するものである場合、組成物２３の固化物とシート材２４との接触面積は、大きいものとなる。このため、製造される基板本体２において、組成物２３の固化物とシート材２４との密着性は優れたものとなり、基板本体２の耐久性、信頼性は特に優れたものとなる。
また、必要に応じて組成物２３および／またはシート材２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／またはシート材２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００９７】
＜Ｂ４＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６を取り外す（凹部付き部材除去工程。図７（ｅ）参照）。
本工程で除去された凹部付き部材６は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００９８】
＜Ｂ５＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、ブラックマトリックスの形成を、基板本体にポジ型感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成する第１の工程（粘着剤層形成工程）と、基板本体２を介して粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる第２の工程（光照射工程）と、粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる第３の工程（貼着工程）と、貼り合わされた遮光性材料転写シートを粘着剤層から剥離し、感光性粘着剤の非感光部に選択的に遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する第４の工程（遮光膜形成工程）とを経て行う。
【００９９】
＜Ｂ５−１＞まず、図７（ｆ）、図７（ｇ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、感光部分は粘着性が低下し、非感光部分は粘着性を維持する特性を示すポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層３１を形成する（粘着剤層形成工程）。
粘着剤層３１の形成方法は、特に限定されないが、本実施形態では、ポジ型の感光性粘着剤で構成されたシート状の粘着剤シート３１’を用いて形成する。
【０１００】
感光性粘着剤は、例えば、粘着性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤等で構成されるものを用いることができる。
粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられるが、耐久性、接着性の観点から優れるアクリル系粘着剤が好適である。
【０１０１】
アクリル系粘着性樹脂は、例えば、アクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体とを共重合して得られるアクリル系共重合樹脂を主成分とする。
アクリル酸アルキルエステルとしては、そのアルキル基の炭素数が４〜１５のものが好適に用いられ、例えば、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０２】
他の単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、官能性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸ヒドロキシルエチル、メタクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリル酸プロピレングリコール、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−tert−ブチルアミノエチル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０３】
また、側鎖に光反応性基、例えば、不飽和二重結合を有するアクリル系共重合樹脂を用いてもよい。
アクリル系共重合樹脂におけるアクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体の構成比（重量％）は、特に限定されないが、７０〜９９：０〜２０：０．０１〜２０であるのが好ましく、８０〜９５：０〜１０：０．１〜１５であるのがより好ましい。また、アクリル系共重合樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、２０万〜１２０万であるのが好ましく、４０万〜１００万であるのがより好ましい。
【０１０４】
また、アクリル系粘着剤は、上記のアクリル系共重合樹脂の他に、例えば、室温架橋型または加熱架橋型架橋剤等の架橋剤、粘着付与剤等を含むものであってもよい。
室温架橋型架橋剤としては、例えば、多価イソシアネートのポリイソシアネート化合物及びこれらポリイソシアネート化合物の３量体、上記ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー、これらのポリイソシアネート化合物、これらポリイソシアネート化合物の３量体が挙げられる。多価イソシアネートの具体例としては、２，４−トリレンジイソシアネート、２，５−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、３−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，４′−ジイソシアネート、リジンイソシアネート等が挙げられる。また、架橋剤としては、例えば、アルミニウムやチタン等の金属キレート化合物や多官能エポキシ化合物を用いてもよい。
【０１０５】
室温架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．００５〜２０重量部の割合で添加されるのが好ましく、０．０１〜１０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
加熱架橋型架橋剤としては、例えば、ホルムアルデヒドと、メラミン、ベンゾグアミン、尿素等を反応させて得られるメチロール基含有化合物、およびそれらのメチロール基の一部または全部を脂肪族アルコールでエーテル化したもの等が挙げられる。
加熱架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．０１〜２５重量部の割合で添加されるのが好ましく、特に０．１〜２０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
【０１０６】
粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、キシレン系樹脂等が挙げられる。
光重合性化合物は、重合形式により、例えば、光ラジカル重合性化合物、光カチオン重合性化合物、光アニオン重合性化合物、光二量化を経由して重合を開始する化合物等が挙げられるが、材料の選択範囲、重合反応性等から光ラジカル重合性化合物が好ましい。
【０１０７】
光ラジカル重合性化合物としては、例えば、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ化合物が挙げられ、例えば、不飽和カルボン酸、およびその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド結合物等が挙げられる。より具体な例として、以下に、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーを挙げる。アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、フェノールエトキシレートモノアクリレート、２−（ｐ−クロロフェノキシ）エチルアクリレート、ｐ−クロロフェニルアクリレート、フェニルアクリレート、２−フェニルエチルアクリレート、ビスフェノールＡの（２−アクリルオキシエチル）エーテル、エトキシ化されたビスフェノールＡジアクリレート、２−（１−ナフチルオキシ）エチルアクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレート、９，９−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシトリエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシジプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ-３-エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ−３，５−ジメチル）フルオレン等が挙げられる。
【０１０８】
また、硫黄含有アクリル化合物を使用することもでき、例えば、４，４’−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４’−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン、４，４’−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）−３，３’,５，５’−テトラブロモジフェニルケトン、２，４−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン等を用いることができる。
【０１０９】
また、メタクリル酸エステルとしては、例えば、上記アクリル酸エステル化合物名のうち、「アクリレート」が「メタクリレート」に、「アクリロキシ」が「メタクリロキシ」に、「アクリロイル」が「メタクリロイル」になる化合物が具体例として挙げられる。
これらの光重合性化合物は１種もしくは２種以上の混合物として使用することもできる。
【０１１０】
光重合性化合物は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して０．１〜２００重量部の割合で添加されるのが好ましく、１０〜１５０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
光重合開始剤としては、上記光重合性化合物の重合方式により適宜選択される。光ラジカル重合性化合物に対して使用できる光重合開始剤としては、例えば、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（t−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（t−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム（商品名イルガキュア７８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が例示される。また、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物等も使用することができ、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（4−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５−トリアジン化合物等が挙げられる。
【０１１１】
これらの光重合開始剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．５〜２０重量部の割合で配合されるのが好ましく、１〜１５重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
感光性粘着剤を感光させるために使用する露光光源波長への感度を向上させることを目的として、さらに増感色素を使用することもできる。増感色素としては、例えば、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、シアニン系色素、キノリン系色素、クマリン系色素、ケトクマリン系色素、キサントン系色素、チオキサントン系色素、ローダミン系色素、シクロペンタノン系色素、シクロヘキサノン系色素等が挙げられる。
【０１１２】
これらの増感色素は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．０１〜１５重量部の割合で配合されるのが好ましく、０．１〜５重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
その他、例えば、粘着性の制御や後述するコーティング適性改良を目的として、各種可塑剤、界面活性剤等を用いてもよい。
【０１１３】
感光性粘着剤としては、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に規定される１８０°剥離強度測定より得られる感光部の粘着性が、非感光部の粘着性に対して５０％以上低下するものを使用することが特に好ましい。このような感光性粘着剤を使用することで、所望の部位に開口部を有する遮光層を容易かつ確実に形成することができる。
感光性粘着剤としては、例えば、上述したようなアクリル系共重合樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、また、必要に応じて添加される室温架橋型または加熱架橋型架橋剤、粘着付与剤、増感色素、その他添加剤を、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル、エタノール、イソプロパノール等の溶剤で希釈したもの（溶剤型粘着剤）を用いることができる。感光性粘着剤中における固形分の含有率は、１５〜５０重量％であるのが好ましく、２０〜３５重量％であるのがより好ましい。また、例えば、感光性粘着剤が液状の場合は、溶剤に溶解せず、そのまま用いることができる。
【０１１４】
基板本体２上への感光性粘着剤の付与方法は、特に限定されず、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法を用いることができるが、支持基材上に感光性粘着剤で構成された粘着剤層を有するシート（粘着剤シート３１’）を用いて、前記粘着剤層を基板本体２上に転写することもできる。
【０１１５】
本実施形態では、基板本体２上に粘着剤シート３１’を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置１１を用いて、減圧状態で行う。これにより、基板本体２と粘着剤シート３１’との貼り合わせ時に、基板本体２と粘着剤シート３１’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体２と粘着剤シートとの間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板１を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１１６】
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであるのが好ましく、１×１０１〜１×１０３Ｐａであることがより好ましい。減圧状態における圧力（雰囲気圧）が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板１中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス３の開口部３３の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【０１１７】
＜Ｂ５−２＞次に、マイクロレンズ２１が設けられた面側から基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する（光照射工程）。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の粘着剤層３１を構成する感光性粘着剤が感光され、それ以外の部分の感光性粘着剤は感光されないか、または感光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の感光性粘着剤のみが感光して感光部３１９を形成する（図７（ｈ）参照）。この感光性粘着剤はポジ型であるので、これにより、感光部３１９の粘着性が低下し、それ以外の部分（非感光部）では粘着性を維持する。
基板本体２に照射する光は、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３３の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、表示される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
【０１１８】
＜Ｂ５−３＞次に、図７（ｉ）、図８（ｊ）に示すように、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層３２’を有する遮光性材料転写シート１３を貼り合わせる（貼着工程）。
遮光性材料転写シート１３は、転写シート基材１３１上に遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層３２’が設けられたものである。転写シート基材１３１の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレート‐イソフタレート共重合体、テレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体等のポリエステル系樹脂、セルロース系フィルム、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト等を用いることができる。これらの材料は、機械的強度に優れ、耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、屈曲性等に優れている。
【０１１９】
遮光層形成用材料は、通常、着色剤を含むものであり、必要に応じて、樹脂材料を含んでいてもよい。樹脂材料として、熱可塑性樹脂を用いて場合、転写性が特に優れたものとなる。遮光層形成用材料を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
【０１２０】
着色剤としては、例えば、各種顔料、各種染料等を用いることができるが、カーボンブラックが好ましい。
本工程では、遮光性材料層３２’と粘着剤層３１とが接触するように、遮光性材料転写シート１３を粘着剤層３１に貼り合わせる。
本実施形態では、粘着剤層３１上に遮光性材料転写シート１３を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置１１を用いて、減圧状態で行う。これにより、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との貼り合わせ時に、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板１を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１２１】
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであるのが好ましく、１×１０１〜１×１０３Ｐａであることがより好ましい。減圧状態における圧力（雰囲気圧）が前記範囲内の値であると、気泡の混入をより確実に防止しつつ、より均一な圧力で粘着剤層３１の各部位を加圧することができ、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板１中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。
【０１２２】
＜Ｂ５−４＞その後、図８（ｋ）に示すように、粘着剤層３１から、遮光性材料転写シート１３を剥離しする。これにより、転写シート基材１３１とともに感光部３１９上の粘着剤層３１が、粘着剤層３１上から除去され、粘着剤層３１のうち粘着性を維持している部分（非感光部）のみに遮光層形成用材料が転写され、開口部３３を有する遮光層３２が形成される（遮光膜形成転写工程）。
【０１２３】
＜Ｂ６＞次に、図８（ｌ）、図８（ｍ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成する（拡散部形成工程）。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
拡散部４は、例えば、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することもできるが、予め、板状に成形された拡散板４’を接合することにより形成することができる。
【０１２４】
特に、本実施形態では、基板本体２上に拡散板４’を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置１１を用いて、減圧状態で行う。
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであるのが好ましく、１×１０１〜１×１０３Ｐａであることがより好ましい。減圧状態における圧力（雰囲気圧）が前記範囲内の値であると、気泡の混入をより確実に防止しつつ、より均一な圧力で遮光層３２の各部位を加圧することができ、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板１中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。
【０１２５】
［マイクロレンズ基板の製造方法の第２実施形態］
次に、マイクロレンズ基板１の製造方法の他の一例（第２実施形態）について説明する。この方法では、前述した方法と同様に、凹部付き部材６を用いてマイクロレンズ基板１（基板本体２）を製造する。
図９〜図１１は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図９〜図１１中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
以下、第２実施形態のマイクロレンズ基板の製造方法について、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
【０１２６】
＜Ｂ１’＞前述した第１実施形態の＜Ｂ１＞と同様（組成物付与工程。図９（ａ）参照）。ただし、本実施形態では、凹部付き部材６の周縁部付近に、後に詳述するシール部材１２を配した状態で付与する。
＜Ｂ２’＞次に、凹部付き部材６上に付与された組成物２３上に、シート材（基材フィルム）２４を載せ、このシート材２４と組成物２３とを密着させる（密着工程。図９（ｂ）、図９（ｃ）参照）。
【０１２７】
上述した実施形態（第１の実施形態）では、減圧真空装置１１（真空チャンバ１１１）を用いて、凹部付き部材６、組成物２３、およびシート材２４を収納する空間全体（真空チャンバ１１１内）を減圧状態として、組成物２３とシート材２４との貼り合わせを行ったが、本実施形態では、図９（ｂ）、図９（ｃ）に示すように、シール部材１２を用いて、組成物２３とシート材２４との貼り合わせを行う。すなわち、組成物２３とシート材２４との間の空間のみを選択的に減圧状態として、組成物２３とシート材２４との貼り合わせを行う。これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、凹部付き部材６上に付与された組成物２３をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物２３とシート材２４との間等に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、比較的単純で小型の装置を用いて、密着工程を行うことができる。
【０１２８】
上述したように、本実施形態では、密着工程に先立ち、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、シール部材１２を配している。このシール部材１２は、例えば、所定の大きさ（例えば、スクリーンの大きさ）を有する四角形状の枠型に形成されており、一部に孔（排気口）１２１が設けられている。この孔には、真空ポンプ１４が接続されている。
【０１２９】
本工程では、まず、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面上であって、シール部材１２で囲まれた部分に組成物２３を付与し、シール部材１２上にシート材２４を掛け渡すように載置する。
そして、真空ポンプ１４によって排気すると、シール部材１２、組成物２３およびシート材２４で囲まれた空間２９が減圧状態となる。すると、大気圧によりシート材２４が押圧されて中央部付近が組成物２３に密着する（図９（ｂ）参照）。排気を続けると、組成物２３とシート材２４との密着部位は、シート材２４の中央部付近から周縁部へと広がっていき、シート材２４の全体が、組成物２３に密着する（図９（ｃ）参照）。
【０１３０】
減圧状態を上記のように作り出した場合であっても、第１実施形態で説明したのと同様な効果が得られる。さらに、本実施形態では、組成物２３とシート材２４との間の空間を選択的に減圧状態とするため、比較的単純で小型の装置を用いて、より効率よく減圧状態とすることができる。これにより、組成物２３とシート材２４との貼り合わせ時に、組成物２３中または組成物２３とシート材２４との間に存在する気泡をさらに確実に除去することができる、また、組成物２３とシート材２４との間にゴミ等の異物の混入をさらに確実に防止することができる。
【０１３１】
また、本方法によれば、凹部付き部材６上へ組成物２３を付与する際、シール部材１２が配されていることで、組成物２３の供給量を容易に管理することができる。これにより、得られる基板本体２の厚みを容易に管理することができる。
また、本方法によれば、大気圧によって組成物２３およびシート材２４を押圧するため、押圧部材を用いて機械的にシート材を押圧する場合に比べて、全体をより均一に加圧することができる。これにより、基板本体２において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
【０１３２】
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、１×１０−２〜１×１０５Ｐａであるのが好ましく、１×１０１〜１×１０３Ｐａであることがより好ましい。減圧状態における圧力が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１において不本意な厚さのばらつきが発生したり、組成物２３中や組成物２３とシート材２４との間等に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス３の開口部３３の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【０１３３】
＜Ｂ３’＞前述した第１実施形態の＜Ｂ３＞と同様（固化工程。図９（ｄ）参照）。
＜Ｂ４’＞前述した第１実施形態の＜Ｂ４＞と同様（凹部付き部材除去工程。図１０（ｅ）参照）。
ただし、本実施形態では、例えば、凹部付き部材６に密着した基板本体２のうち、シール部材１２が配されている端部を切断することにより、所定の大きさのシート形状の基板本体２を得ることができる。
【０１３４】
＜Ｂ５’＞前述した第１実施形態の＜Ｂ５＞（＜Ｂ５−１＞〜＜Ｂ５−４＞）と同様（図１０（ｆ）、図１０（ｇ）、図１０（ｈ）、図１１（ｉ）参照）。
ただし、基板本体２と粘着剤シート３１’との貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材１２を用いて、作り出してもよい。これにより、基板本体２と粘着剤シート３１’との貼り合わせ時に、基板本体２と粘着剤シート３１’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体２と粘着剤シート３１’との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板１を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１３５】
また、粘着剤層３１上に遮光性材料転写シート１３を貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材１２を用いて、作り出してもよい。これにより、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との貼り合わせ時に、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、粘着剤層３１と遮光性材料転写シート１３との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板１を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１３６】
＜Ｂ６’＞前述した第１実施形態の＜Ｂ６＞と同様（拡散部形成工程。図１１（ｊ）参照）。
ただし、基板本体２（ブラックマトリックス３）上に拡散板４’を貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材１２を用いて、作り出してもよい。これにより、基板本体２と拡散板４’との貼り合わせ時に、基板本体２と拡散板４’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体２と拡散板４’との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板１を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１３７】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１２は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ４００は、投写光学ユニット４１０と、導光ミラー４２０と、透過型スクリーン１０とが筐体４４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ４００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、色ムラ、輝度ムラが防止され、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【０１３８】
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ４００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１３９】
例えば、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
また、マイクロレンズ基板の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、マイクロレンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
【０１４０】
また、前述した実施形態では、密着工程に加え、貼着工程、粘着剤層形成工程、および拡散部形成工程を、減圧状態で行うものとして説明したが、本発明においては、少なくとも密着工程を減圧状態で行うものであればよく、貼着工程、粘着剤層形成工程、拡散部形成工程は、減圧状態で行わなくてもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置されたシート材）に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
【０１４１】
また、前述した実施形態では、ポジ型の感光性粘着剤を基板本体上に付与した後、光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させ、感光部以外の部位上に、遮光性材料を付与することにより、開口部を有するブラックマトリックス（遮光膜）を形成するものとして説明したが、遮光膜形成用材料としてポジ型のフォトポリマーを用いて、光を照射する処理を施し、感光部を現像することにより、開口部を有するブラックマトリックス（遮光膜）を形成してもよい。
【０１４２】
また、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料（反転現像材料）を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部（遮光領域）とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光（エネルギー線）を照射することにより、マイクロレンズにより集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有するブラックマトリックス（遮光膜）としてもよい。
【０１４３】
また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際に、凹部付き部材を取り外した状態で光（露光用光）を照射するものとして説明したが、凹部付き部材が基板本体に取り付けられた状態で、ブラックマトリックスを形成してもよい。すなわち、遮光膜形成用材料に光を照射する際に、凹部付き部材を介して光を照射してもよい。
【０１４４】
また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、マイクロレンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材（凹部付き基板）を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の凹部付き部材を用いて製造してもよい。
【０１４５】
また、前述した実施形態では、予め、板状に成形された拡散板を接合することにより、拡散部を形成するものとして説明したが、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させることにより形成してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１４６】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、基板本体と、ブラックマトリックス（遮光膜）と、拡散部とを有するものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板は、遮光膜や拡散部を備えていなくてもよい。例えば、本発明のマイクロレンズ基板は、実質的に基板本体のみで構成されるものであってもよい。
また、マイクロレンズ基板を構成する基板本体は、マイクロレンズが設けられた側の表面付近に、染色により形成された着色部を有するものであってもよい。
【０１４７】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板を構成する基板本体が凸レンズとしてのマイクロレンズを備えるものであり、成形型として、凸レンズに対応する形状の凹部を備えた凹部付き部材を用いるものとして説明したが、基板本体は凹レンズとしてのマイクロレンズを備えるものであってもよい。このような場合、成形型としては、凹レンズに対応する形状の凸部を備えた凸部付き部材を用いることができる。
【０１４８】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のマイクロレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１４９】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【０１５０】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１５１】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。
【０１５２】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は４０μｍ、深さは４０μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１５３】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
【０１５４】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与した。
次に、凹部付き部材上に付与された組成物の上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成されたシート材（厚さ：０．０７５ｍｍ）を載せた。シート材を構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．６５６であった。また、シート材としては、組成物と対向する側の面に多数の溝が形成されたものを用いた。シート材が有する溝は、互いに平行であり、断面形状が半円形状、開口幅が３０μｍ、深さが１５μｍ、ピッチが３０μｍのものであった。また、シート材の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、５０％であった。また、シート材は、溝の長手方向が凹部付き部材の凹部の短軸方向と平行となるように載置した。また、シート材は、溝が、形成されるマイクロレンズの集光部以外の部位に存在するものとなるように載置した。
【０１５５】
組成物上にシート材を載せる工程は、真空チャンバ内において、減圧状態で行った。この時の真空チャンバ内の雰囲気圧は、１０Ｐａであった。
その後、減圧状態を保持した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１５６】
次に、基板本体から凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成した。
粘着剤層の形成は、真空チャンバ内において、減圧状態（１５Ｐａ）で、ポジ型の感光性粘着剤（アクリル系感光性粘着剤）で構成されたシート状の粘着剤シートを、組成物上に載せることにより行った。
【０１５７】
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、ＭＡ６アライナー（ズース・マイクロテック）を用いて、６０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。
照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、粘着剤層において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。なお、粘着剤層の剥離強度を、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に基づき測定したところ、感光部で５００ｇｆ／インチ、非感光部で３０ｇｆ／インチであった。
【０１５８】
次に、部分的に露光された粘着剤層の表面に、転写シート基材と遮光性材料層とで構成された遮光性材料転写シートを貼り合わせた。なお、粘着剤層上に遮光性材料転写シートを貼り合わせる工程は、真空チャンバ内において、減圧状態（１００Ｐａ）で行った。
その後、転写シート基材を粘着剤層から剥離した。これにより、粘着剤層の非感光部のみに遮光性材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し（転写され）、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部を有する遮光層が形成された。開口部は、略円形であり、直径が２５μｍであった。また、形成された遮光層の厚さは２μｍであった。また、遮光性材料転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光性材料層が設けられたものを用いた。
【０１５９】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を、真空チャンバ内において、減圧状態（１００Ｐａ）で接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１６０】
（実施例２〜４）
減圧状態における雰囲気圧を、表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例５）
シート材として、表面に溝が形成されていないものを用いた以外は、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１６１】
（実施例６）
まず、前記実施例１と同様にして凹部付き部材を製造した。
次に、図８（ａ）に示すように、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、四角形の枠型に形成されたシール部材を配し、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与した。
【０１６２】
次に、シール部材の上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成されたシート材（厚さ：５０ｍｍ）を載せた。シート材を構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．６５６であった。また、シート材としては、組成物と対向する側の面に多数の溝が形成されたものを用いた。シート材が有する溝は、互いに平行であり、断面形状が半円形状、開口幅が６０μｍ、深さが３０μｍ、ピッチが１００μｍのものであった。また、シート材の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、６０％であった。また、シート材は、溝の長手方向が凹部付き部材の凹部の短軸方向と平行となるように載置した。また、シート材は、溝が、形成されるマイクロレンズの集光部以外の部位に存在するものとなるように載置した。
【０１６３】
シール部材に接続された真空ポンプで排気することにより、シール部材、組成物およびシート材で囲まれた空間を減圧状態（１０Ｐａ）とした。その結果、大気圧により押圧されることで、シート材は組成物上に密着した。
その後、減圧状態を保持した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１６４】
次に、基板本体から凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成した。
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、ＭＡ６アライナー（ズース・マイクロテック）を用いて、６０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。
【０１６５】
照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、粘着剤層において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。なお、粘着剤層の剥離強度を、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に基づき測定したところ、感光部で５００ｇｆ／インチ、非感光部で５０ｇｆ／インチであった。
【０１６６】
次に、部分的に露光された粘着剤層の表面に、転写シート基材と遮光性材料層とで構成された遮光性材料転写シートを圧着し、ラミネータを用いて８０℃の温度にて５ｋｇ／ｃｍ２の圧力でラミネートを行い、その後、転写シート基材を粘着剤層から剥離した。これにより、粘着剤層の非感光部のみに遮光性材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し（転写され）、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部を有する遮光層が形成された。開口部は、略円形であり、直径が４０μｍであった。また、形成された遮光層の厚さは３μｍであった。また、遮光性材料転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光性材料層が設けられたものを用いた。
【０１６７】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を、真空チャンバ内において、減圧状態（１０Ｐａ）で接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１６８】
（実施例７〜９）
減圧状態における雰囲気圧を、表１に示すように変更した以外は、前記実施例６と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例１０）
シート材として、表面に溝が形成されていないものを用いた以外は、前記実施例６と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１６９】
（比較例）
すべての工程を大気圧下で行い、密着工程を、平板状の押圧部材を用いた押圧により行った以外は、前記実施例１０と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および比較例について、減圧状態における条件（減圧方法、減圧時圧力）を表１にまとめて示す。
【０１７０】
【表１】
2007187843.tif 000003
【０１７１】
［透過率の評価］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンについて、透過率の評価を行った。
透過率の評価は、分光光度計（大塚電子株式会社製、瞬間マルチ測光システム「ＭＣＰＤ−１０００（２８Ｃ）」）を用い、マイクロレンズ基板のマイクロレンズ形成領域に対し、波長４００ｎｍの光の透過率を測定した。
【０１７２】
その結果を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：透過率が９０％以上。
○：透過率が８０％以上９０％未満。
△：透過率が７０％以上８０％未満。
×：透過率が７０％未満。
【０１７３】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンを用いて、図１２に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［色ムラ、輝度ムラの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、色ムラ、輝度ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：色ムラ、輝度ムラが全く認められない。
○：色ムラ、輝度ムラがほとんど認められない。
△：色ムラ、輝度ムラがわずかに認められる。
×：色ムラ、輝度ムラが顕著に認められる。
【０１７４】
［コントラストの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１７５】
［視野角の測定］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向（上下方向）および水平方向（左右方向）での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
【０１７６】
［回折光の評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光（モアレを含む）の発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光が全く認められない。
○：回折光がほとんど認められない。
△：回折光がわずかに認められる。
×：回折光が顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１７７】
【表２】
2007187843.tif 000004
【０１７８】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、高い透過率を有するとともに、色ムラ、輝度ムラの発生が抑制された画像を表示することができた。また、本発明では、高コントラストで、視野角特性に優れていた。また、本発明では、回折光のない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１７９】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図９】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１８０】
１…マイクロレンズ基板  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（凸レンズ）  ２１１…中心  ２３…組成物  ２４…シート材（基材フィルム）  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ２９…空間  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…粘着剤層  ３１’…粘着剤シート  ３１９…感光部  ３２…遮光層  ３２’…遮光性材料層  ３３…開口部  ４…拡散部  ４’…拡散板  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７…基板  ８…マスク  ８１…マスク形成用膜  ８２…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  １０…透過型スクリーン  １１  減圧真空装置  １１１…真空チャンバ  １１２…真空ポンプ  １２…シール部材  １２１…孔（排気口）  １３…遮光性材料転写シート  １３１…転写シート基材  １４…真空ポンプ  ４００…リア型プロジェクタ  ４１０…投写光学ユニット  ４２０…導光ミラー  ４４０…筐体  Ｌａ…光  Ｌｂ…光（露光用光）
【図１】
2007187843.tif 000005
【図２】
2007187843.tif 000006
【図３】
2007187843.tif 000007
【図４】
2007187843.tif 000008
【図５】
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【図６】
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【図７】
2007187843.tif 000011
【図８】
2007187843.tif 000012
【図９】
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【図１０】
2007187843.tif 000014
【図１１】
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【図１２】
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