(57)【要約】【課題】  ワークが加熱されながら搬送されるヒーターレール内のワーク搬送路を効率的、性能的有利に非酸化雰囲気に保つワーク搬送装置。【解決手段】  ヒーターレール３０内のワーク搬送路３２でワーク（リードフレーム）１を搬送し、上部レール３０ｂに設けた作業用開口３５からワーク１に対して半田供給などの作業をするワーク搬送装置で、下部レール３０ａに形成した第一ガス流路４１から上部レール３０ｂに形成した第二ガス流路４２に酸化防止ガスを送給し、上部レール３０ｂの下面で作業用開口３５のワーク搬送方向での前後両側に形成したガス吹出口４３からワーク搬送路３２に真下に吹出して、開口３５の真下空間を非酸化雰囲気にし、この非酸化雰囲気で半田供給などの作業をする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部レールと上部レール間に形成したトンネル状ワーク搬送路にワークを加熱しながら搬送するヒーターレールと、前記ワーク搬送路に酸化防止ガスを送給するガス送給機構を有し、前記上部レールに部分的に貫通させた作業用開口を利用して前記ワークに対して作業をするワーク搬送装置において、
前記ガス送給機構は、前記下部レール内に形成した第一ガス流路と、この第一ガス流路に連通させて前記上部レール内に形成した第二ガス流路と、この第二ガス流路に連通させて前記上部レールの下面で前記作業用開口のワーク搬送方向での前後両側に形成したガス吹出口を具備し、前記酸化防止ガスを前記第一ガス流路から第二ガス流路を介し前記ガス吹出口に送給することを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項２】
前記上部レールに複数の前記作業用開口をワーク搬送方向に並べて形成し、各作業用開口のそれぞれの前後両側に前記ガス吹出口を形成したことを特徴とする請求項１に記載のワーク搬送装置。
【請求項３】
前記ヒーターレールの前記作業用開口の無い領域でのワーク搬送路に、前記下部レール側より酸化防止ガスを送給することを特徴とする請求項１または２に記載のワーク搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リードフレームなどのワークをヒーターレールで加熱しながら非酸化雰囲気中を搬送するワーク搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
リードフレームを使って半導体装置を製造する製造工程に、リードフレームの複数のアイランドに半田を供給して溶融させ、溶融した半田上に半導体チップをマウントする工程がある。この工程の製造装置は、リードフレームを加熱しながら非酸化雰囲気中を間欠搬送するヒーターレールを使用したワーク搬送装置が一般的である。
【０００３】
上記ヒーターレールの一例を図８に示す。同図のヒーターレール１０は、下部レール１０ａと上部レール１０ｂを合体させた中空レールである。下部レール１０ａは、ワーク搬送方向に長尺な水平レールで、上面の幅方向両側に側壁部１０ｃを一体に有する。両側壁部１０ｃ上に上部レール１０ｂの下面両側部分を着脱自在に載置して、下部レール１０ａと上部レール１０ｂの間に矩形断面のワーク搬送路１２を形成する。下部レール１０ａの下面にヒーター１３が装着される。ヒーター１３で下部レール１０ａを加熱して、ワーク搬送路１２に送り込まれたリードフレーム（ワーク）１を半田融点程度の適温に加熱する。上部レール１０ｂにワーク搬送方向に一列に並べて複数、例えば３つの作業用開口１５が、上部レール１０ｂを板厚方向に貫通させて形成される。各作業用開口１５は、図８では同一サイズの矩形穴を示すが、形状やサイズは様々である。３つの作業用開口１５は、例えばワーク搬送方向で上流側から半田供給用開口１５ａ、半田たたき用開口１５ｂ、チップ供給用開口１５ｃである。これら各作業用開口１５ａ〜１５ｃの上方には図示しない半田供給ツール、半田たたきツール、チップ供給ツールが、それぞれ単独に上下動可能に配設される。
【０００４】
リードフレーム１は、長手方向に等間隔で複数のアイランドを有する。このアイランドは、作業用開口１５から特定の作業を受ける部所である。ヒーターレール１０の片端からワーク搬送路１２にリードフレーム１が挿入され、アイランドの配列ピッチで間欠搬送される。ワーク搬送路１２におけるリードフレーム１の間欠搬送は、図示しない送り爪を使って行われ、ヒーターレール１０には送り爪が挿入されるスリット（図示せず）が形成される。リードフレーム１の１つのアイランドが最初の半田供給用開口１５ａの真下に搬送されて停止すると、開口１５ａを半田供給ツールが下降してアイランド上に定量の半田が供給される。供給された半田は、リードフレーム１の熱で溶融する。半田供給を受けたアイランドが次の半田たたき用開口１５ｂの真下に搬送されて停止すると、開口１５ｂを半田たたきツールが下降してアイランド上の溶融半田を平坦に押し広げる作業（たたき作業）をして、半導体チップと同程度の大きさに整形する。半田たたきを受けたアイランドが次のチップ供給用開口１５ｃの真下に搬送されて停止すると、開口１５ｃをチップ供給ツールが下降してアイランド上の整形された溶融半田上に半導体チップを供給する。
【０００５】
ヒーターレール１０のワーク搬送路１２は、半田が溶融する程度の高温雰囲気であることから、リードフレーム自体とリードフレーム１に供給された半田の酸化を防止するために、ワーク搬送路１２に酸化防止ガスを連続して送給している。酸化防止ガスは、例えば窒素ガスなどの不活性ガスと水素ガスなどの還元ガスの混合ガスである。ワーク搬送路１２への酸化防止ガスの送給は、ヒーターレール１０の全長に亘りに組み込まれた図示しないガス送給機構で行われる。ガス送給機構は、ワーク搬送路１２の底面から酸化防止ガスを吹き込む下吹きタイプ（例えば、特許文献１参照）と、ワーク搬送路１２の天面から酸化防止ガスを吹き込む上吹きタイプ（例えば、特許文献１２参照）と、ワーク搬送路１２の両側方から酸化防止ガスを吹き込む横吹きタイプ（例えば、特許文献３参照）に大別される。
【０００６】
下吹きタイプのガス送給機構の概要を図９に示す。ワーク搬送路１２の底面となる下部レール１０ａの上面に複数のガス吹出穴１７の吹出口を形成する。下部レール１０ａの全長に亘り形成された複数のガス吹出穴１７に共通のガス供給源１６から酸化防止ガスを送給し、ワーク搬送路１２を非酸化雰囲気にする。図９のリードフレーム１は、アイランドなどの断面部分が示される。ワーク搬送路１２を間欠送りされて停止したリードフレーム１は、アイランドなどの断面部分がガス吹出穴１７の真上から外れる。ガス吹出穴１７から吹き出された酸化防止ガスは、リードフレーム１のアイランド周辺に設けた空隙からワーク搬送路１２内に吹き込まれる。
【０００７】
上吹きタイプのガス送給機構の概要を図１０に示す。上部レール１０ｂの複数箇所に板厚方向に貫通させてガス吹出穴１８を形成する。上部レール１０ｂの上面に複数のガス吹出穴１８と連通するガス流路を形成するガス流路蓋１９を固定し、ガス流路蓋１９にガス配管２０を連接する。ガス配管２０にガス供給源１６から送給した酸化防止ガスをガス流路蓋１９内のガス流路に送り、ガス吹出穴１８からワーク搬送路１２内に吹き込む。
【０００８】
横吹きタイプのガス送給機構の概要を図１１に示す。下部レール１０ａの両側壁部１０ｃにレール幅方向に貫通させて複数のガス吹出穴２１を形成する。ガス吹出穴２１は、ワーク搬送路１２を搬送されるリードフレーム１より上位にある。各ガス吹出穴２１に共通のガス供給源１６から酸化防止ガスを送給して、リードフレーム１の上方に酸化防止ガスを吹き込む。
【特許文献１】特開平０１５−９０３１０号公報（図４）
【特許文献２】特開平０９−１１２９６１５１５号公報（図１）
【特許文献３】特開１２００１２−１７０８３０号公報（図１２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図９の上吹きタイプのガス送給機構は、下部レール１０ａにおけるガス吹出穴１７の形成箇所をリードフレーム１の品種に対応させる必要がある。すなわち、ワーク搬送路１２を間欠送りされて停止したリードフレーム１は、アイランド周辺に設けた空隙がガス吹出穴１７の真上に位置する必要がある。このようなリードフレーム１におけるガス吹出用空隙の位置、大きさは、リードフレームの品種が異なると相違することから、リードフレームの品種毎に下部レールのガス吹出穴の位置や数を設計する必要がある。そのため、ヒーターレールの製作コストが高くなり、複数種類あるリードフレームに対応させてヒーターレールを複数種類用意しなければならない不具合がある。
【００１０】
図１０の下吹きタイプと図１１の横吹きタイプのガス送給機構は、リードフレーム１の上方に酸化防止ガスを送給するため、リードフレーム１に対応した設計が不要であり、複数種類のリードフレーム１に共通に使用できる有利さがある。しかし、図１０のガス送給機構の場合、上部レール１０ｂの上面側に設置した多数本のガス配管２０が、作業用開口１５に出入りして各種の作業をする周辺ユニットと干渉し易く、ワーク搬送設備全体の設計が難しくなる。また、ガス配管２０は、金属管とゴムホースを接続して構成されるが、メンテナンス時にゴムホースの着脱などの作業が必要であり、メンテナンス性が悪い。また、図１１のガス送給機構は、リードフレーム１の両側方から吹き込まれた酸化防止ガスがリードフレーム１の幅方向中央部上で乱流となって合流するため、アイランド上での非酸化雰囲気が不安定になり易い不具合がある。
【００１１】
また、以上の従来のガス送給機構は、ワーク搬送路を全体的に非酸化雰囲気に保つようにしている。ワーク搬送路で最も安定した非酸化雰囲気が要求されるのは半田供給などが行われる作業用開口の真下の領域である。そこで、作業用開口の領域を良好な非酸化雰囲気に保つために、ワーク搬送路の高さを大きめに設定して断面積を大きくし、ワーク搬送路に多めの酸化防止ガスを連続して送給している。そのため、酸化防止ガスの消費量が増え、ランニングコストを低減させることが難しい。また、作業用開口のサイズが大きくなるほど、作業用開口から外気が侵入し易くなり、この外気侵入を防止するためにもガス消費量を増やす必要があり、さらにランニングコストが増大するという不具合がある。
【００１２】
本発明の目的とするところは、中空のヒーターレール内のワーク搬送路を効率的、性能的有利に非酸化雰囲気に保つ、しかも、酸化防止ガスのガス消費量を低減させ得るワーク搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、下部レールと上部レール間に形成したトンネル状ワーク搬送路にワークを加熱しながら搬送するヒーターレールと、ワーク搬送路に酸化防止ガスを送給するガス送給機構を有し、上部レールに部分的に貫通させた作業用開口を利用してワークに対して作業をするワーク搬送装置において、ガス送給機構は、下部レール内に形成した第一ガス流路と、この第一ガス流路に連通させて上部レール内に形成した第二ガス流路と、この第二ガス流路に連通させて上部レールの下面で作業用開口のワーク搬送方向での前後両側に形成したガス吹出口を具備し、酸化防止ガスを第一ガス流路から第二ガス流路を介しガス吹出口に送給し、ガス吹出し口からワーク搬送路に吹き込むことを特徴とする。
【００１４】
ここで、ワークは、非酸化雰囲気中で製造される電気部品、機械部品であり、例えば半導体製造設備に使用されるリードフレーム、電気部品を製造するプリント基板が適用される。ヒーターレールの下部レールと上部レールは、レールの下部と上部の意味であり、下部レールの上面がワーク搬送路の底面となり、上部レールの下面がワーク搬送路の天面となる。上部レールの下面のガス吹出し口は、作業用開口の前後両側で作業用開口から等距離の箇所に形成され、ガス吹出し口から酸化防止ガスがワーク搬送路のワークに向けて下吹きで送給される。作業用開口の前後両側のガス吹出し口からのガス吹出し量、吹出し速度は同じで、吹き出された酸化防止ガスは作業用開口の真下のワーク上で合流して整流状態で作業用開口へと真上に流れ、作業用開口を抜け出る。ワーク上で整流化された酸化防止ガス流は、ワーク上方に安定した非酸化雰囲気を作成し、ワーク上の作業環境を安定した非酸化雰囲気に保つ。この安定した非酸化雰囲気は、作業用開口のサイズの大小を問わず良好に保たれるため、ワーク搬送路の高さを低くして断面積を小さくするようにして、酸化防止ガスの消費量を低減させ、ランニングコストを低下させることができる。また、上部レール下面のガス吹出し口への酸化防止ガスの送給を、下部レール内の第一ガス流路と上部内の第二ガス流路を介して行うことで、上部レールにガス配管を配備する必要がなくなり、ヒーターレールを構造簡単でメンテナンス性良好なものにすることができる。
【００１５】
本発明においては、上部レールに複数の作業用開口をワーク搬送方向に並べて形成し、各作業用開口のそれぞれの前後両側にガス吹出口を形成することができる。この場合、隣接する作業用開口の間に設けるガス吹出し口は、隣接する両作業用開口に共通のもの、または、両作業用開口のそれぞれに専用のものが適用できる。この隣接する両作業用開口に共通のガス吹出し口、それぞれに専用のガス吹出し口の選択は、隣接する作業用開口の離間距離、サイズに基づいて行えばよい。また、作業用開口の前後両側のガス吹出し口は、レール幅方向に長いスリット形状にする他、小孔状の複数の吹出し口をレール幅方向に一列または複数列に配置して形成することができる。
【００１６】
本発明においては、ヒーターレールにおける作業用開口の無い領域のワーク搬送路に下部レール側より酸化防止ガスを送給することができる。この場合、ヒーターレールの作業用開口の在る領域のワーク搬送路には、上部レールの下面のガス吹出し口から酸化防止ガスが送給され、このガス吹出し口の無い領域には下部レール側から酸化防止ガスを送給するようにして、ワーク搬送路を安定した非酸化雰囲気に保つ。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のワーク搬送装置によれば、ヒーターレールのワーク搬送路を加熱されながら搬送されるワークが上部レールの作業用開口の真下に移動すると、作業用開口の前後両側に設けたガス吹出し口から吹き出される酸化防止ガスが作業用開口真下のワーク上で合流して安定した非酸化雰囲気を作成するので、ワークへの半田供給といった作業が常に安定した非酸化雰囲気で行え、ワーク搬送路に酸化防止ガスを供給するガス送給機構の信頼性改善が図れるという優れた効果を奏し得る。また、ワーク搬送路での作業用開口の在る作業領域での安定した非酸化雰囲気の確保で、ワーク搬送路を断面積の小さなものにして、使用する酸化防止ガスの消費量を低減させ、ランニングコストを低下させることができるという効果がある。
【００１８】
さらに、上部レールのガス吹出し口へのガス供給を下部レール内の第一ガス流路から上部レール内の第二ガス流路を介して行うので、上部レール上にガス配管を設置する必要がなくなり、上部レールの作業用開口の数や形状の設計や、上部レールの上方スペースに設置される作業ユニットなどの周辺設備の設計の自由度が増すという効果も奏し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を添付の図１〜図７を参照して説明する。
【００２０】
図１〜図６は発明を実施する形態の一例であって、搬送対象のワークは図８〜図１１のリードフレーム１である。図１にリードフレーム１の部分平面図を示す。リードフレーム１は、ワーク搬送方向に長尺な平板で、半導体チップがマウントされる複数のアイランド２を等間隔で有する。図１に示されるアイランド２は矩形で、アイランド２の周辺にリード３が形成され、これらはタイバー４で一体化される。
【００２１】
図１および図２のワーク搬送装置は、略水平なヒーターレール３０と、ヒーターレール３０に組み付けた二種類のガス送給機構４０、５０を備える。ヒーターレール３０は、下部レール３０ａと上部レール３０ｂを上下に合体させた矩形断面の中空レールである。下部レール３０ａは、ワーク搬送方向（図１で右方向）に長尺な水平レールで、上面の幅方向両側に側壁部３０ｃを一体に有する。両側壁部３０ｃの上面に、上部レール３０ｂの両側下面がパッキング６１を介して載置される。パッキング６１は省略することもできる。下部レール３０ａと上部レール３０ｂの間に、矩形断面のワーク搬送路３２を形成する。下部レール３０ａの下面に装着されたヒーター３３で下部レール３０ａを加熱して、ワーク搬送路３２に送り込まれたリードフレーム１を半田融点程度の適温に加熱する。
【００２２】
上部レール３０ｂにワーク搬送方向に一列に並べて３つの作業用開口３５が、上部レール３０ｂを板厚方向に貫通させて形成される。３つの各作業用開口３５は、図８と同様な矩形穴である。例えば、ワーク搬送方向で上流側から半田供給用開口３５ａ、半田たたき用開口３５ｂ、チップ供給用開口３５ｃである。図５は半田たたき用開口３５ｂの断面が示される。各作業用開口３５ａ〜３５ｃの上方には、図２と図６の鎖線で示す半田供給ツール７１、半田たたきツール７２、チップ供給ツール７３の各作業ユニットが、それぞれ単独に上下動可能に配設される。各作業用開口３５ａ〜３５ｃの配列ピッチは、リードフレーム１の隣接するアイランド２の配列ピッチに設定され、この配列ピッチでリードフレーム１がワーク搬送路３２を間欠搬送される。
【００２３】
ヒーターレール３０のワーク搬送方向での領域を、３つの作業用開口３５ａ〜３５ｃの在る作業領域Ｗ２と、この作業領域Ｗ２よりワーク搬送方向で上流側の上流領域Ｗ１、下流側の下流領域Ｗ３の３領域に分けると、上流領域Ｗ１と下流領域Ｗ３に同じタイプのガス送給機構５０が設置され、作業領域Ｗ２に異なるタイプのガス送給機構４０が設置される。
【００２４】
まず、作業領域Ｗ２のガス送給機構４０の構造例を説明する。ガス送給機構４０は、下部レール３０ａの両側壁部３０ｃの内部に形成した第一ガス流路４１と、第一ガス流路４１に連通させて上部レール３０ｂの内部に形成した第二ガス流路４２と、第二ガス流路４２に連通させて上部レール３０ｂの下面に形成したガス吹出し口４３を有する。
【００２５】
側壁部３０ｃの第一ガス流路４１は、側壁部３０ｃ内をワーク搬送方向に作業領域Ｗ２の長さで延在する直線状のガス通路で、両端部と中央部の２箇所の計４箇所が側壁部３０ｃの上面へと貫通し、上部レール３０ｂの第二ガス流路４２と連通する。この連通は、パッキング６１に部分的に形成した穴を通して行われる。パッキング６１は、第一ガス流路４１から第二ガス流路４２に流通する酸化防止ガスの洩れを阻止し、外気侵入を阻止して、ワーク搬送路３２での非酸化雰囲気をより良好に保つ。第一ガス流路４１の中央部が、側壁部３０ｃの外面に連結されたガス管３７に連通する。ガス管３７は、外部のガス供給源３６に配管される。
【００２６】
上部レール３０ｂの第二ガス流路４２は、上部レール３０ｂの両側で作業領域Ｗ２の長さで延在する直線状のガス通路４２ａと、この両側のガス通路４２ａの両端部と中央部２箇所を連通させる４条の平行なガス通路４２ｂを有する。両側のガス通路４２ａが対応する第一ガス流路４１に４箇所で連通する。４条のガス通路４２ｂは、３つの作業用開口３５ａ〜３５ｃのそれぞれの前後両側に形成される。１つの作業用開口３５ａのワーク搬送方向で前後に一対のガス通路４２ｂが配置され、同様にして他の作業用開口３５ｂ、３５ｃのワーク搬送方向前後に一対のガス通路４２ｂが配置される。図１においては、隣接する一組の作業用開口３５ａ、３５ｂの間に共通の１条のガス通路４２ｂが形成され、隣接する他の一組の作業用開口３５ｂ、３５ｃの間に共通の１条のガス通路４２ｂが形成される。これら４条の各ガス通路４２ｂの底面の複数箇所に上部レール３０ｂの下面に達する貫通穴が形成され、この貫通穴の下端開口がガス吹出し口４３となる。各ガス吹出し口４３は、ワーク搬送路３２に直交するガス吹出角度の孔で、ワーク搬送路３２内に直交する真上から酸化防止ガスを吹き出す。１条のガス通路４２ｂにおけるガス吹出し口４３の口径と形成箇所は、作業用開口３５のサイズ、形状に対応させて設計され、この設計でガス吹出し口４３から吹き出された酸化防止ガスは作業用開口３５の真下で適宜に合流して整流された状態で作業用開口３５から外部に放出される。
【００２７】
次に、上流領域Ｗ１と下流領域Ｗ２のガス送給機構５０の構造例を説明する。図４に、上流領域Ｗ１のガス送給機構５０の断面を示す。このガス送給機構５０は、下部レール３０ａ側からワーク搬送路３２に酸化防止ガスを送給するもので、下部レール３０ａの両側壁部３０ｃの内部にワーク搬送方向に形成したガス通路５３と、ガス通路５３から側壁部３０ｃの内面に向けて貫通させたガス吹出し穴５４を有する。ガス通路５３の一部が、側壁部３０ｃの外面に連結されたガス管５２に連通する。ガス管５２は、外部のガス供給源３６’に配管される。ガス吹出し穴５４は、ワーク搬送路３２のリードフレーム１より上位にあり、リードフレーム１の上方に酸化防止ガスを吹き出す。なお、下流領域Ｗ３のガス送給機構５０は、上流領域Ｗ１のガス送給機構５０と同一構造でよく、詳細説明は省略する。
【００２８】
以上の実施の形態のワーク搬送装置によるワーク搬送と、半田供給などの各種作業を説明する。
【００２９】
図１で左側からリードフレーム１がヒーターレール３０のワーク搬送路３２に挿入され、送り爪（図示せず）を使って図１で右方向に間欠搬送される。リードフレーム１がワーク搬送路３２の上流領域Ｗ１を搬送される間、横吹きタイプのガス送給機構５０からリードフレーム１の上方に酸化防止ガスが供給され、下部レール３０ａで加熱されながら搬送されるリードフレーム１の酸化を防止する。リードフレーム１が３つの作業用開口３５ａ〜３５ｃの在る領域Ｗ２に入ると、下吹きタイプのガス送給機構４０で、図６に示すようにリードフレーム１の上方からリードフレーム１上に向けて酸化防止ガスが吹き出される。
【００３０】
リードフレーム１の１つのアイランド２が最初の作業用開口３５ａの真下に移動して停止すると、作業用開口３５ａの前後両側にあるガス吹出し口４３からアイランド２の前後両側に向けて酸化防止ガスが下吹きされる。アイランド２の前後両側に下吹きされた酸化防止ガスはリードフレーム１とワーク搬送路３２の底面で流れが水平方向に変わり、アイランド２の上方で合流しながら整流化されて、作業用開口３５ａへと上方に流れ、作業用開口３５ａから放出される。この酸化防止ガスのアイランド２周辺での下吹きと、アイランド２上方での水平流れからの上吹きのガス流で、アイランド２の上方空間が非酸化雰囲気に保たれる。作業用開口３５ａのサイズ、形状に対応させてアイランド２の前後両側でのガス量と、前後のガス量のバランスを制御することで、アイランド２の上方空間の非酸化雰囲気が安定して保たれる。このような安定した非酸化雰囲気の確保は、半田たたき用開口３５ｂとチップ供給用開口３５ｃの真下空間においても同様である。
【００３１】
なお、作業用開口３５ａの前後両側から酸化防止ガスを下吹きすると共に、下部レール３０ａの側壁部３０ｃの内面からも酸化防止ガスを横吹きすることも考えられる。しかし、ここでの横吹きは、下吹きによるアイランド２上でのガス合流を乱す要因となり、アイランド２の上方空間の非酸化雰囲気が不安定になる。
【００３２】
作業用開口３５ａ内の安定した非酸化雰囲気で、アイランド２に対して定量の半田供給の作業が行われる。例えば、半田供給ツール７１が開口３５ａを下降してアイランド２上に定量の半田５を供給すると、半田供給ツール７１が上昇する。アイランド２上に供給された半田５は、アイランド２の熱で溶融する。開口３５ａの真下は安定した非酸化雰囲気にあるので、半田５はアイランド２に良好に接合し、表面の酸化が防止されて後の半導体チップ６のマウント性を良好なものにする。
【００３３】
半田供給を受けたアイランド２が次の半田たたき用開口３５ｂの真下に移動すると、半田たたきツール７２が下降して、アイランド２上で溶融した半田５を押し広げて整形する。この半田たたき作業も安定した非酸化雰囲気の中で行われるので、整形される半田５の酸化が防止される。半田たたき作業を受けたアイランド２が、次のチップ供給用開口３５ｃの真下に移動すると、チップ供給ツール７３が下降して、アイランド２上で整形された半田５に半導体チップ６を供給する。このチップ供給も安定した非酸化雰囲気の中で行われて、半導体チップ６のマウントを良好に行うことができる。
【００３４】
なお、本発明のワーク搬送装置は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【００３５】
例えば、上記の実施の形態は、ヒーターレール３０の作業領域Ｗ２を除く上流領域Ｗ１と下流領域Ｗ３のガス送給機構５０を横吹きタイプであるが、図７に示すような下吹きタイプであってもよい。図７のガス送給機構５０は、下部レール３０ａの上面両側に形成した凸段部３０ｄに上下に貫通させてガス吹出し穴５５を形成している。ガス吹出し穴５５は外部のガス供給源３６’に配管される。ガス吹出し穴５５の上端が凸段部３０ｄの上面に開口して、酸化防止ガスを真上に吹き出す。ヒーターレール３０の上流領域Ｗ１と下流領域Ｗ３は作業用開口の無い領域であり、ワーク搬送路３２に酸化防止ガスを多少乱流させて送給しても問題ないことから、ここでのガス送給機構５０は図４の横吹きタイプ、図７の上吹きタイプのいずれであっても有効に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施の形態を示す部分断面を含む部分平面図である。
【図２】図１装置の正面図である。
【図３】図１のＴ１−Ｔ１線に沿う拡大断面図である。
【図４】図１のＴ２−Ｔ２線に沿う拡大断面図である。
【図５】図１のＴ３−Ｔ３線に沿う拡大断面図である。
【図６】図１装置におけるヒーターレールの作業領域断面図である。
【図７】他の実施の形態を示すヒーターレールの断面図である。
【図８】ヒーターレールの部分斜視図である。
【図９】従来のワーク搬送装置におけるヒーターレールの断面図である。
【図１０】他の従来のワーク搬送装置におけるヒーターレールの断面図である。
【図１１】他の従来のワーク搬送装置におけるヒーターレールの断面図である。
【符号の説明】
【００３７】
１    ワーク、リードフレーム
２    アイランド
５    半田
６    半導体チップ
３０    ヒーターレール
３０ａ    下部レール
３０ｂ    上部レール
３０ｃ    側壁部
３０ｄ    凸段部
３２    ワーク搬送路
３３    ヒーター
３５    作業用開口
３６    ガス供給源
３７    ガス管
４０    ガス送給機構
４１    第一ガス流路
４２    第二ガス流路
４３    ガス吹出口
５０    ガス送給機構
５２    ガス管
５３    ガス通路
６１    パッキング
Ｗ１    上流領域
Ｗ２    作業領域
Ｗ３    下流領域
【図１】
2007157904.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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