(57)【要約】【課題】この発明は、比較的安価な方法によりゲッタ材のガス吸着性能を高めることができ真空外囲器の真空度を長期間にわたって良好に維持できる表示装置の製造方法、および製造装置を提供することを課題とする。【解決手段】蛍光体スクリーンおよびゲッタ層１９を有する前面基板１１と複数の電子放出素子を有する背面基板１２とを一定のギャップを介して対向させ、両者の間に不活性ガスを流通させつつゲッタ層１９を焼成し、両基板を封着して真空引きする。【選択図】      図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の蛍光体層を有する前面基板と、上記複数の蛍光体層に対応した複数の電子放出素子を有する背面基板と、を用意する工程と、
上記前面基板と背面基板とを一定のギャップを介して対向させた状態で、このギャップを通して不活性ガスを流通させつつ、上記前面基板と背面基板が対向する内面に形成されたゲッタ材を焼成して活性化させる活性化工程と、
上記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着する封着工程と、
この封着工程で封着した真空外囲器の内部を真空引きする真空引き工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
上記封着工程では、上記活性化工程における上記ギャップ内の不活性ガス雰囲気を維持したまま上記前面基板と背面基板の周縁部同士を封着することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
複数の蛍光体層を有するとともにその内面にゲッタ材を形成した前面基板と、上記複数の蛍光体層に対応した複数の電子放出素子を有する背面基板と、を一定のギャップを介して対向させた状態で保持する保持機構と、
上記ギャップを通して不活性ガスを流通させるガス流通装置と、
上記ギャップを通して不活性ガスを流通させた状態で、上記ゲッタ材を焼成して活性化させるベーク装置と、
上記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着する封着装置と、
周縁部を封着した真空外囲器の内部を真空引きする真空引き装置と、
を有することを特徴とする表示装置の製造装置。
【請求項４】
上記封着装置は、上記ガス流通装置にて上記ギャップを通して不活性ガスを流通させた状態を維持したまま、上記前面基板と背面基板の周縁部同士を封着することを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造装置。
【請求項５】
上記保持機構は、上記対向させた状態の前面基板および背面基板を収容する第１チャンバを有し、
上記ガス流通装置は、上記ギャップに対向して上記第１チャンバの壁に設けられたガス流入口を介して不活性ガスを上記第１チャンバ内へ送り込み、上記ギャップを挟んで上記ガス流入口に対向して上記第１チャンバの壁に設けられたガス流出口を介して不活性ガスを上記第１チャンバから排出することを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造装置。
【請求項６】
上記第１チャンバを包囲する第２チャンバをさらに有し、
上記ガス流通装置は、上記ガス流入口に対向して上記第２チャンバの壁に設けられた吸気孔を介して上記第２チャンバの外側から上記第１チャンバ内へ不活性ガスを送り込み、上記ガス流出口から排出された不活性ガスを上記第２チャンバの壁に設けられた排気孔を介して上記第２チャンバの外側へ排気することを特徴とする請求項５に記載の表示装置の製造装置。
【請求項７】
上記排気孔は、上記ガス流出口から離間した位置に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の表示装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、背面基板に設けた電子放出素子から電子を放出させて前面基板に設けた蛍光体層を励起発光させることによりカラー画像を表示する表示装置の製造方法、および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、陰極線管（以下、ＣＲＴと称する）に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々な平面型表示装置が開発されている。このような平面型表示装置には、液晶の配向を利用して光の強弱を制御する液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと称する）、プラズマ放電の紫外線により蛍光体を発光させるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称する）、電界放出型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導電子放出ディスプレイ（以下、ＳＥＤと称する）などがある。
【０００３】
例えばＦＥＤやＳＥＤでは、一般に、一定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有する。これらの基板は、周縁部同士を封着されて真空外囲器を構成している。前面基板の内面には３色の蛍光体層が形成され、背面基板の内面には、蛍光体層を励起する電子源として、各画素に対応する多数の電子放出素子が配列されている。各電子放出素子は、電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の電極等で構成されている。
【０００４】
このようなＦＥＤやＳＥＤでは、表示装置の厚さを数ｍｍ程度にまで薄くすることができ、現在のテレビやコンピュータのディスプレイとして使用されているＣＲＴと比較して、軽量化、薄型化を達成することができるとともに、省電力化を達成することができる。
【０００５】
上記のような表示装置において、電子放出素子を安定して動作させるためには、前面基板および背面基板の間の空間、すなわち真空外囲器内を、高い真空度に維持することが重要となる。真空度が低い場合、電子放出素子の寿命、ひいては装置の寿命が低下してしまう。
【０００６】
このため、真空外囲器内を長期間に渡って高真空に維持する目的で、放出ガスを吸着する各種ゲッタ材を真空外囲器内に設ける技術が知られている。ゲッタ材を真空外囲器内に設ける方法として、従来、ゲッタ材のガス吸着特性を向上させるため、真空チャンバ内でゲッタ材を前面基板または背面基板の内面、あるいはその他の構造物に蒸着し、両基板を真空中で封着して真空外囲器を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。また、この他に、前面基板が背面基板に対向する内面にゲッタ材を取り付けて、前面基板を加熱することでゲッタ材を焼成して活性化させ、両基板を封着後、内部を真空引きする方法も提案されている。
【０００７】
しかし、真空雰囲気中でゲッタ材を蒸着させる場合、高真空に維持された真空チャンバが必要となりプロセスへの負荷が大きく、製造コストが高くなる問題がある。また、ゲッタ材を前面基板の内面に形成して活性化させる方法では、そのまま両基板を封着するために基板を近接対向させた状態で基板を焼成するため、前面基板を加熱することで蛍光体層およびゲッタ材自体から放出される有機ガスが両基板間の微小な隙間空間に残り、この残った放出ガスが活性化されたゲッタ材によって吸着されてゲッタ材の吸着性能が低下する問題があった。
【特許文献１】特開２００１−２２９８２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
この発明の目的は、比較的安価な方法によりゲッタ材のガス吸着性能を高めることができ真空外囲器の真空度を長期間にわたって良好に維持できる表示装置の製造方法、および製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、この発明の表示装置の製造方法は、複数の蛍光体層を有する前面基板と、上記複数の蛍光体層に対応した複数の電子放出素子を有する背面基板と、を用意する工程と、上記前面基板と背面基板とを一定のギャップを介して対向させた状態で、このギャップを通して不活性ガスを流通させつつ、上記前面基板と背面基板が対向する内面に形成されたゲッタ材を焼成して活性化させる活性化工程と、上記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着する封着工程と、この封着工程で封着した真空外囲器の内部を真空引きする真空引き工程と、を有する。
【００１０】
また、この発明の表示装置の製造装置は、複数の蛍光体層を有するとともにその内面にゲッタ材を形成した前面基板と、上記複数の蛍光体層に対応した複数の電子放出素子を有する背面基板と、を一定のギャップを介して対向させた状態で保持する保持機構と、上記ギャップを通して不活性ガスを流通させるガス流通装置と、上記ギャップを通して不活性ガスを流通させた状態で、上記ゲッタ材を焼成して活性化させるベーク装置と、上記前面基板および背面基板の周縁部同士を封着する封着装置と、周縁部を封着した真空外囲器の内部を真空引きする真空引き装置と、を有する。
【００１１】
上記発明によると、前面基板と背面基板とを一定のギャップを介して対向させた状態で、このギャップを通して不活性ガスを流通させつつ、ゲッタ材を焼成して活性化させるようにした。これにより、高価な真空チャンバを必要とせず、焼成により放出されたガスが活性化されたゲッタ材に吸着されてしまう不具合を防止でき、ゲッタ材をフレッシュな状態に維持できガス吸着性能を高めることができる。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によると、比較的安価な方法によりゲッタ材のガス吸着性能を高めることができ真空外囲器の真空度を長期間にわたって良好に維持できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係る表示装置について、表面伝導型の電子放出素子を備えたＳＥＤを例にとって説明する。
【００１４】
図１および図２に示すように、このＳＥＤは、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１１、および背面基板１２を備え、これらの基板は１〜３ｍｍの隙間を置いて対向配置されている。そして、前面基板１１および背面基板１２は、矩形枠状の側壁１３を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された扁平な矩形状の真空外囲器１０を構成している。
【００１５】
真空外囲器１０の内部には、前面基板１１および背面基板１２に加わる大気圧荷重を支えるため、複数のスペーサ１４が設けられている。各スペーサ１４は、細長い帯状に形成され、あるいは柱状に形成され、前面基板１１、背面基板１２、および側壁１３により囲まれた空間内で各基板１１、１２の内面に立位で当接して配設されている。
【００１６】
前面基板１１の内面上には、画像表示面として、赤、緑、青の蛍光体層１６とマトリクス状の遮光層１７とを有した蛍光体スクリーン１５が形成されている。これらの蛍光体層１６はストライプ状あるいはドット状に形成してもよい。この蛍光体スクリーン１５上には、ゲッタ層１９が形成されている。
【００１７】
背面基板１２の内面上には、蛍光体スクリーン１５の蛍光体層１６を励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１８が設けられている。これらの電子放出素子１８は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１８は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。また、背面基板１２の内面には、電子放出素子１８に電位を供給する多数本の配線２１がマトリック状に設けられ、その端部は真空外囲器１０の外部に引出されている。
【００１８】
このようなＳＥＤを動作させて画像を表示する場合、蛍光体スクリーン１５にアノード電圧を印加して、電子放出素子１８から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーン１５へ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン１５の蛍光体層１６が励起されて発光し、カラー画像を表示する。
【００１９】
なお、蛍光体スクリーン１５上に形成したゲッタ層１９は、ＳＥＤを動作させた際に経時的に蛍光体層１６などから放出されるガス成分を吸着して、真空外囲器１０内を長期間にわたって高真空に維持するように機能する。真空外囲器１０内を高真空に維持することで、電子放出素子１８の電子ビームの放出特性を安定化させることができ、装置寿命を延長できる。
【００２０】
次に、上記構造のＳＥＤを製造する方法、および製造装置１００について説明する。図３には、上記ＳＥＤの製造装置１００の概略構造を示してある。また、図４には、ＳＥＤの製造方法を説明するためのフローチャートを示してある。さらに、図５には、製造装置１００内を通して基板１１、１２を搬送するためのカート２０の概略構造の断面図を示してある。
【００２１】
まず、予め蛍光体スクリーン１５およびゲッタ層２０の設けられた前面基板１１を用意し、電子放出素子１８および配線２１が設けられているとともに側壁１３およびスペーサ１４が接合された背面基板１２を用意する（図４、ステップ１）。ゲッタ層１９は、例えば、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｆｅ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｈ，Ｎｉ，Ｍｎの内の１種類以上の金属または合金からなる非蒸発ゲッタにより形成されている。
【００２２】
そして、用意した前面基板１１と背面基板１２を図５に示すカート２０に位置決めしてセットして、図３に示す製造装置１００に投入する（ステップ２）。このとき、前面基板１１の蛍光体スクリーン１５が形成された内面と背面基板１２の電子放出素子１８が形成された内面が一定のギャップを介して対向するように各基板１１、１２を位置決めしてカート２０にセットする。一定のギャップとは、背面基板１２に接合した側壁１３が前面基板から十分に離れた距離とされる。
【００２３】
図５に示すように、カート２０には、複数組（本実施の形態では２組）の基板１１、１２がセットされる。すなわち、カート２０は、複数組の基板１１、１２をそれぞれ一定のギャップを介して対向させた状態で保持する保持機構２５を有する。保持機構２５は、各組の前面基板１１の周縁部をその内面を上向きにした姿勢で支持する複数本の支持ピン２６ａ、および各組の背面基板１２の周縁部をその内面を下向きにした姿勢で支持する複数本の支持ピン２６ｂを有するとともに、これら支持ピン２６を固設した筐体２７を有する。各支持ピン２６は、筐体２７に対してその突出量を調整可能に設けられており、基板１１、１２間のギャップを調整可能となっている。筐体２７は、基板１１、１２を収容する本実施の形態の第１チャンバとして機能し、カート２０の移動により後述する熱処理炉２２内を通して搬送される。
【００２４】
筐体２７の向かい合う側壁２７ａ、２７ｂには、筐体２７内に収容配置した各組の基板１１、１２間にそれぞれ不活性ガスを流通させるためのガス流入口２７１、およびガス流出口２７２が設けられている。カート２０が後述する熱処理炉２２を通して搬送されて筐体２７が後述するベーク装置２２ｃ内に配置されたとき、熱処理炉２２の外側から後述するガス流通装置３０のガス流入管２８ａが筐体２７のガス流入口２７１に挿通され、ガス流出管２８ｂがガス流出口２７２に挿通されるようになっている。
【００２５】
ステップ２で製造装置１００に基板１１、１２が投入されると、カート２０は、図中矢印方向に移動されて熱処理炉２２を通して搬送される。熱処理炉２２では、各組の前面基板１１のゲッタ層１９の活性化処理、基板１１、１２の封着処理、および真空引き処理を行う。すなわち、熱処理炉２２は、カート２０の搬送方向（図中矢印方向）に沿って、投入チャンバ２２ａ、予備加熱チャンバ２２ｂ、ベーク装置２２ｃ、封着装置２２ｄ、真空引き装置２２ｅ、冷却チャンバ２２ｆ、および排出チャンバ２２ｇを有する。
【００２６】
具体的には、投入チャンバ２２ａを介してカート２０が熱処理炉２２へ投入され、予備加熱チャンバ２２ｂで基板１１、１２が所定温度まで加熱され、ベーク装置２２ｃで基板が所定温度まで加熱されて焼成され、ゲッタ層１９が活性化される（ステップ３）。このステップ３の活性化工程では、後述するように両基板１１、１２間に不活性ガスを流通させた状態で基板１１、１２、特に、ゲッタ層１９を加熱して焼成し、焼成により蛍光体層１６やゲッタ層１９自体から放出される有機ガスを押し流す。これにより、基板１１、１２間に留まった放出ガスが活性化されたゲッタ層１９に吸着されてしまう不具合を防止でき、ゲッタ層１９をフレッシュな状態に維持できる。
【００２７】
ゲッタ層１９が活性化されると、カート２０が封着装置２２ｄへ移送され、前面基板１１と背面基板１２の周縁部同士が封着される（ステップ４）。ステップ４の封着工程では、ステップ３の活性化工程における不活性ガス雰囲気を維持したまま両基板１１、１２を封着する。例えば、カート２０がベーク装置２２ｃから封着装置２２ｄへ移送されるとき、基板１１、１２間に常に不活性ガスを流通させ、封着時にもこの不活性ガス雰囲気を維持する。具体的には、ベーク装置２２ｃに設けた後述するガス流通装置３０を封着装置２２ｄにも配置し、封着時にも不活性ガスを基板１１、１２間に流通させるようにする。或いは、ベーク装置２２ｃと封着装置２２ｄを同じチャンバにして活性化工程および封着工程を通して不活性ガスを流通させるようにしても良い。これにより、ベーク装置２２ｃから封着装置２２ｄへ基板１１、１２が移送される際に、基板間に不所望なガス成分が侵入することを防止でき、封着後の真空外囲器１０内の不活性ガス雰囲気の純度を高めることができ、ゲッタ層１９をフレッシュな状態に維持できる。
【００２８】
このように基板周縁部を封着した後、カート２０を真空引き装置２２ｅへ移送し、例えば側壁１３の内側であって背面基板１２の周縁部に貫通して形成された排気孔（図示せず）を介して、真空外囲器１０の内部を真空引きする（ステップ５）。これにより、真空外囲器１０内の不活性ガスが排気される。
【００２９】
さらにこの後、カート２０を冷却チャンバ２２ｆへ移送して基板１１、１２を所定温度まで冷却し（ステップ６）、排出チャンバ２２ｇを介してカート２０を熱処理炉２２から排出させる。そして、カート２０を排気管処理ステージ２３へ搬送し、真空外囲器１０の上述した排気孔に接続されている図示しない排気管をカットして封止する（ステップ７）。さらに、カート２０を取り出しステージ２４へ搬送して、製品としての真空外囲器１０を製造装置１００から取り出す（ステップ８）。カート２０は、再び熱処理炉２２へ搬送されて循環使用される。
【００３０】
図６には、ベーク装置２２ｃに設けられたガス流通装置３０の要部の構造を簡略化して示してある。つまり、ここでは、説明を分かり易くするため、保持機構２５の筐体２７内にセットした１組の基板１１、１２のみを図示してある。また、ここでは、ベーク装置２２ｃのヒータ等の図示も省略してある。
【００３１】
ガス流通装置３０は、アルゴンなどの純度の高い不活性ガスを貯留した貯留タンク３１、貯留タンク３１から延出したガス流入管２８ａ、ガス流入管２８ａの途中に設けられたバルブ３２、ガス流入管２８ａを介して筐体２７内に流入された不活性ガス（図中矢印で図示）を基板１１、１２間に導入する偏向板３３、基板１１、１２間のギャップを通過した不活性ガスをガス流出管２８ｂが挿通配置されたガス流出口２７２に指向させる偏向板３４、および基板１１、１２間のギャップに対向するよう図中手前側と奥側に設けられた図示しない規制板を有する。
【００３２】
ベーク装置２２ｃにおける基板１１、１２の焼成時には、貯留タンク３１内の不活性ガスがバルブ３２を開くことでガス流入管２８ａを介して筐体２７内に流入され、偏向板３３によって基板１１、１２間のギャップへ流入される。このとき、偏向板３３の作用により、筐体２７内に導入された大部分の不活性ガスは基板１１、１２間のギャップを流通され、一部の不活性ガスが基板１１、１２の外の筐体２７内に流入する。この現象により、基板１１、１２間のギャップにおける不活性ガスの純度が高められ、基板１１、１２の外側も不活性ガスで満たされる。
【００３３】
このように基板間のギャップに高純度の不活性ガスを流通させた状態で、基板１１、１２を焼成すると、蛍光体層１６およびゲッタ層１９から触媒成分が分解されてガスが放出されても、その放出ガスが不活性ガスによって押し流されて、基板間のギャップに放出ガスが滞留することがなくなる。これにより、放出ガスが活性化された直後のフレッシュな状態のゲッタ層１９に吸着されてしまう不具合を防止でき、ゲッタ層１９の吸着特性が劣化することを防止できる。反面、ゲッタ層１９は、一定温度を超えて不活性ガス雰囲気あるいは真空雰囲気で加熱されると活性化されて放出ガスを吸着する性質を有するため、活性化により放出したガスが基板間にそのまま滞留しているとゲッタ層１９に吸着されてしまう。このため、本実施の形態のように、基板間に不活性ガスを流通させながら基板１１、１２を焼成することが有効となる。
【００３４】
特に、本実施の形態では、基板間に高純度の不活性ガスを流通させるとともに、基板１１、１２を配置した筐体２７内も不活性ガスで満たすようにしたため、筐体２７内の酸素濃度を低くでき、ゲッタ層１９の特性劣化を確実に防止できる。また、この場合、筐体２７の容積をできるだけ小さくすることが望ましい。
【００３５】
以上のように、本実施の形態によると、高価な真空チャンバを用いることなく、真空外囲器１０を封着、真空引きでき、ＳＥＤの製造コストを低減できる。つまり、基板１１、１２の封着は、真空中で行うと最も良い特性をえることができるが、大型の真空チャンバを用意する必要がありコストが高くなる。このため、本実施の形態のように、大気中で基板同士を封着し、その後、真空外囲器１０内部を真空引きすることで、ＳＥＤの製造コストを低減できる。
【００３６】
また、本実施の形態によると、ゲッタ層１９を活性化するため基板を焼成する際に、基板間のギャップに不活性ガスを流通させるようにしたため、焼成により放出されたガスが活性化されたゲッタ層１９に吸着される不具合を防止でき、ゲッタ層１９をフレッシュな状態に維持できる。このため、基板封着後の真空外囲器１０の真空度を長期間にわたって良好に維持でき、ＳＥＤの表示性能を長期間にわたって良好に維持できる。
【００３７】
図７には、図６で説明したガス流通装置３０の変形例を示してある。なお、ここでは、上述した装置３０と同様に機能する構成要素に同一符号を付すとともに要部の構成のみを概略的に図示し、装置３０と同様に機能する構成要素についてはその詳細な説明を省略する。また、図７では、不活性ガスの流れを変える上述した偏向板３３、３４や規制板の図示を省略してある。
【００３８】
このガス流通装置４０は、基板１１、１２を配置した筐体２７の外側に、この発明の第２チャンバとして機能する外側筐体４１を有する。そして、外側筐体４１の一側壁４１ａには、上述したガス流入管２８ａを通すための吸気孔４２が設けられている。また、この外側筐体４１の他の壁４１ｂには、内側の筐体２７から排気されたガスを外部へ排気するための排気孔４３が形成されている。この排気孔４３は、内側の筐体２７の側壁２７ｂに形成されたガス流出口２７２から離間した位置に形成されている。
【００３９】
しかして、ガス流入管２８ａを介して内側筐体２７内に流入された不活性ガスは、ガス流入管２８ａの出口付近に設けられたファン４４によって基板１１、１２間へ強制的に送り込まれ、ガス流出管２８ｂを介して内側筐体２７から排気される。不活性ガスを基板間に強制的に流すためのファン４４を設けることで、基板間に残留した放出ガスをより効果的に押し流すことができる。そして、内側筐体２７から排気された不活性ガスは、ガス流出口２７２から離間した排気孔４３を介して外側筐体４１の外部へ排気される。
【００４０】
以上のように、この変形例によると、基板間を流通される不活性ガスの純度をより高くすることができる。つまり、基板間を流れた不活性ガスが内側筐体２７を充満した後、さらに外側筐体４１を満たすように不活性ガスが流れるため、排気に至る不活性ガスの流路を長くでき、基板間の不活性ガス濃度を高くできる。特に、内側筐体２７のガス流出口２７２から外側筐体４１の排気孔４３までの距離を長くすることで、不活性ガスの流路を長くできるため効果的である。
【００４１】
なお、この発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施の形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００４２】
例えば、ゲッタ材は、前面基板１１に限らず、真空外囲器１０内に位置した他の構成部材に形成してもよい。またゲッタ材の形成方法は、スクリーン印刷、インクジェット、蒸着など他の方法も選択可能である。また、この発明は、ＦＥＤに限らず、ＰＤＰ等の他の表示装置の製造に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】この発明の実施の形態に係る表示装置の一例を示す外観斜視図。
【図２】図１の表示装置を線II−IIに沿って切断した断面を部分的に拡大して示す部分拡大断面図。
【図３】図１の表示装置の製造装置を示す概略図。
【図４】図３の製造装置による表示装置の製造方法を説明するためのフローチャート。
【図５】図３の製造装置で使うカートの概略構造を示す断面図。
【図６】図３の製造装置のベーク装置に設けられたガス流通装置の概略図。
【図７】図６のガス流通装置の変形例を示す断面図。
【符号の説明】
【００４４】
１０…真空外囲器、１１…前面基板、１２…背面基板、１３…側壁、１４…スペーサ、１５…蛍光体スクリーン、１６…蛍光体層、１７…遮光層、１８…電子放出素子、１９…ゲッタ層、２０…カート、２２…熱処理炉、２２ｃ…ベーク装置、２２ｄ…封着装置、２２ｅ…真空引き装置、２５…保持機構、２７…筐体、３０、４０…ガス流通装置、４１…外側筐体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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