(57)【要約】【課題】焼き網等の洗浄対象物の洗浄効率の向上を図るとともに、この対象物に付着した汚れを十分に洗い落とすことができる洗浄装置および洗浄方法を提供する。【解決手段】焼き網に順次処理を施すことによってこの焼き網を洗浄する。処理のうち一ないし複数の処理を施す処理ステーション３ａ〜３ｆが配設された処理基台３と、焼き網を支持するとともにこの焼き網を処理基台３の所定の処理ステーション３ａ〜３ｆに順次搬送する回転テーブル４および支持アーム５とを備える。処理基台３は、焼き網を加熱する加熱ステーション３ｃと、この加熱ステーション３ｃにおいて加熱された焼き網をブラッシング処理するブラッシングステーション３ｄ，３ｅとを少なくとも含む。加熱ステーション３ｃに誘導加熱によって焼き網を加熱する加熱装置８が設けられている。【選択図】図２
2007196123.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物に順次処理を施すことによって該対象物を洗浄する洗浄装置において、
上記処理のうち一ないし複数の処理を施す処理ステーションが配設された処理基台と、上記対象物を支持するとともにこの対象物を上記処理基台の所定の処理ステーションに順次搬送する搬送手段とを備え、
上記処理基台は、上記対象物を加熱する加熱ステーションと、この加熱ステーションにおいて加熱された対象物をブラッシング処理するブラッシングステーションとを少なくとも含み、上記加熱ステーションに誘導加熱によって上記対象物を加熱する誘導加熱手段が設けられていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
上記処理基台の各処理ステーションは円周方向に沿って所定間隔おきに配設され、上記搬送手段は間歇的に回転することにより上記対象物を各処理ステーションに搬送するように構成されていることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
上記処理基台は、上記ブラッシングステーションを２個以上含み、各ブラッシングステーションに上記対象物をブラッシングするブラッシング手段が配設され、該ブラッシング手段は互いに上記対象物を異なる方向に沿ってブラッシングするように構成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
上記誘導加熱手段は、高周波電流を発生させる電源と、この高周波電流が印加される誘導コイルとを有することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
上記誘導加熱手段は、上記搬送手段に支持された対象物に接離可能に構成されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
上記処理基台には、上記加熱ステーションの前に粗洗浄ステーションが設けられ、粗洗浄ステーションには上記対象物をブラッシングする第２のブラッシング手段が配設されていることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項７】
上記処理基台には、その処理ステーションとして、上記対象物を供給する供給ステーションと、上記対象物を取り出す取出ステーションとを含み、上記供給ステーションに昇降することにより上記対象物を上記搬送手段に支持させる昇降手段が配設されるとともに、上記取出ステーションに昇降することにより上記対象物を上記搬送手段の支持状態を開放する第２の昇降手段が配設されていることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項８】
対象物に順次処理を施すことによって該対象物を洗浄する洗浄方法において、
上記処理には、上記対象物を加熱する加熱工程と、この加熱工程により加熱された対象物に対してブラッシング処理を施すブラッシング工程とを含み、上記加熱工程では、誘導加熱により上記対象物を加熱することを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、焼肉等に用いられる焼き網や鉄板、或いは鍋などを洗浄する洗浄装置および洗浄方法に関し、例えば、調理に伴って対象物に付着した炭化物等の汚れを洗い落とす洗浄装置および洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に焼肉店等においては、ロースター上に焼き網や鉄板などが設置され、この調理器具としての焼き網や鉄板上に食材を載置することにより該食材を焼き調理している。この焼き網などの調理器具は、使用に伴い炭化物等が頑固な汚れとしてこびりつくことから、使用の度に洗浄処理が行われるのが通常である。
【０００３】
例えば、このような洗浄処理として、これらの焼き網などの調理器具を高濃度のアルカリ洗剤中に浸漬させて上記汚れを浮かしてから束子などでブラッシング処理を施すことにより、該調理器具を洗浄することが行われている。
【０００４】
しかしながら、上記方法によれば、ブラッシング処理時に洗いむらができるだけでなく、ブラッシングに伴い調理器具に付着した高濃度のアルカリ洗剤が飛散し、ブラッシング処理の作業者の目に入るなどする場合があるとともに、洗浄に伴い排出される高濃度アルカリ洗剤の処分について環境問題の上からみて十分な配慮が必要になるという問題が生じる。
【０００５】
一方、このような焼き網について洗浄処理を施す洗浄装置についても提案されている（特許文献１参照）。この特許文献１に記載の洗浄装置は、略円形状の焼き網の半径よりも少し長い直径を有した第１および第２洗浄ブラシで、支持機構で回転可能に支持した焼き網の直径上の周縁外側から中心を過ぎた範囲を挟持し、第１および第２洗浄ブラシの回転力で焼き網を回転させながら洗浄するように構成されたものが知られている。
【特許文献１】特開平１１−１９６００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載の装置では、第１および第２洗浄ブラシを焼き網の焼き面の略全域に当接させることができるものの、焼き網を十分に洗浄することができず、なお不満の残るものであった。
【０００７】
すなわち、焼き網等に付着する汚れは頑固にこびり付いていることが多いことから、第１および第２洗浄ブラシによる回転洗浄力だけではこの焦げ等の頑固な汚れを十分に洗い落とすことができず、洗浄装置から排出された焼き網についてなお汚れが付着している場合があった。このように洗い残しがある焼き網等を次回使用するのは不衛生であるばかりでなく、焼けムラが生じる等の問題がある。
【０００８】
この点、焼き網等に付着する汚れを可及的に洗い落とすためには、高濃度のアルカリ洗剤を使用したり、この第１および第２洗浄ブラシによるブラッシング期間を延長したりせざるを得ず、高濃度アルカリ洗剤の処理、或いはブラッシング期間の延長に伴ってこの洗浄処理を効率的に行うことができないという新たな問題が生じる。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑み、焼き網等の洗浄対象物の洗浄効率の向上を図るとともに、この対象物に付着した汚れを十分に洗い落とすことができる洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る洗浄装置は、対象物に順次処理を施すことによって該対象物を洗浄する洗浄装置において、上記処理のうち一ないし複数の処理を施す処理ステーションが配設された処理基台と、上記対象物を支持するとともにこの対象物を上記処理基台の所定の処理ステーションに順次搬送する搬送手段とを備え、上記処理基台は、上記対象物を加熱する加熱ステーションと、この加熱ステーションにおいて加熱された対象物をブラッシング処理するブラッシングステーションとを少なくとも含み、上記加熱ステーションに誘導加熱によって上記対象物を加熱する誘導加熱手段が設けられていることを特徴とするものである。
【００１１】
この発明によれば、上記処理基台は、上記対象物を加熱する加熱ステーションを有するので、この加熱ステーションで汚れが付着した対象物を加熱することによりこの対象物の表面と汚れとの間の油脂成分等が溶融してこの付着状態が不安定になり、汚れを上記対象物の表面から浮かすことができる。しかも、この加熱ステーションに誘導加熱によって上記対象物を加熱する誘導加熱手段が設けられているので、対象物の表面だけを効果的に加熱することができ、これにより加熱処理期間を可及的に短くすることができる。この状態で、対象物は上記搬送手段によって処理基台のブラッシングステーションに搬送されるので、上記対象物の表面から浮き上がった上記汚れを効果的に落とすことができ、該装置による洗浄力を向上させることができる。しかも、対象物の洗浄にあたって、高濃度のアルカリ洗剤を使用する必要もなく、環境的にも優れたものとなる。また、このように浮き上がった汚れを効果的に落とすことができるので、ブラッシングステーションにおけるブラッシング処理を可及的に迅速に行うことができ、上記加熱処理を含めても一連の洗浄処理に要する時間を短くすることができ、焼き網等の洗浄対象物の洗浄効率をも向上させることができる。
【００１２】
上記処理基台における処理ステーションの配置態様は特に限定されるものではなく、例えば、各処理ステーションがその処理に応じて順番に所定の方向に直線的或いは曲線的に列設されているものであってもよいが、上記処理基台の各処理ステーションは円周方向に沿って所定間隔おきに配設され、上記搬送手段は間歇的に回転することにより上記対象物を各処理ステーションに搬送するように構成されているのが好ましい（請求項２）。
【００１３】
このように構成すれば、各処理ステーションが円周方向に沿って配設されているので、この洗浄装置を比較的コンパクトに形成することができる。
【００１４】
上記処理基台に設けられるブラッシングステーションの数およびその具体的構成は特に限定されるものではなく、単一のブラッシングステーションを設けるものであってもよいが、上記処理基台は、上記ブラッシングステーションを２個以上含み、各ブラッシングステーションに上記対象物をブラッシングするブラッシング手段が配設され、該ブラッシング手段は互いに上記対象物を異なる方向に沿ってブラッシングするように構成されているのが好ましい（請求項３）。
【００１５】
このように構成すれば、上記対象物を異なる方向に沿ってブラッシング処理を施すことができ、この洗浄装置による洗浄力をより一層向上させることができる。
【００１６】
上記誘導加熱手段の具体的構成は特に限定されるものではないが、上記誘導加熱手段は、高周波電流を発生させる電源と、この高周波電流が印加される誘導コイルとを有するのが好ましく（請求項４）、また、この誘導加熱手段および上記搬送手段との少なくともいずれか一方は両者の相対位置を変更可能に構成されているのが好ましく、中でも、上記誘導加熱手段は、上記搬送手段に支持された対象物に接離可能に構成されるのが好ましい（請求項５）。
【００１７】
このように構成すれば、上記誘導加熱手段を上記対象物に接離可能に構成されることによりこの誘導加熱手段と対象物との相対位置関係を、表皮効果が生じる最適な位置に設定することができ、上記対象物の表面を効率的に加熱することができる。中でも、誘導加熱手段について上記対象物に接離可能に構成されていれば、上記搬送手段に支持された対象物を誘導加熱手段に対して接離可能に構成されている場合に比べて、洗浄装置の全体構成を簡略化することができる。
【００１８】
この発明において、上記搬送手段は、その処理ステーションの配置態様について具体的に限定されるものではなく、例えば上記搬送手段に支持されている対象物を直ちに上記加熱ステーションに搬送されるように処理ステーションを配置するものであってもよいが、例えば、上記処理基台には、上記加熱ステーションの前に粗洗浄ステーションが設けられ、粗洗浄ステーションには上記対象物をブラッシングする第２のブラッシング手段が配設されるように構成されるものであってもよい（請求項６）。
【００１９】
このように構成すれば、上記対象物が上記搬送手段によって粗洗浄ステーションに搬送されることにより、加熱ステーションで加熱されるのに先立って当該対象物の粗汚れを落とすことができ、加熱ステーションでの加熱効率を向上させることができる。
【００２０】
また、この発明において、上記処理基台には、その処理ステーションとして、上記対象物を供給する供給ステーションと、上記対象物を取り出す取出ステーションとを含み、上記供給ステーションに昇降することにより上記対象物を上記搬送手段に支持させる昇降手段が配設されるとともに、上記取出ステーションに昇降することにより上記対象物を上記搬送手段の支持状態を開放する第２の昇降手段が配設されているのが好ましい（請求項７）。
【００２１】
このように構成すれば、上記対象物を上記搬送手段に簡易に支持、或いはこの支持状態を開放させることができ、この洗浄装置の自動化を図ることができる。
【００２２】
この発明に係る洗浄方法は、対象物に順次処理を施すことによって該対象物を洗浄する洗浄方法において、上記処理には、上記対象物を加熱する加熱工程と、この加熱工程により加熱された対象物に対してブラッシング処理を施すブラッシング工程とを含み、上記加熱工程では、誘導加熱により上記対象物を加熱することを特徴とするものである。
【００２３】
この発明によれば、上記処理には、上記対象物を加熱する加熱工程が含まれるので、この加熱工程で汚れが付着した対象物を加熱することによりこの対象物の表面と汚れとの接合状態が不安定にさせることができ、当該汚れを上記対象物の表面から浮かすことができる。しかも、この加熱工程では、誘導加熱によって上記対象物を加熱するように構成されているので、上記対象物の表面だけを効果的に加熱することができ、これにより加熱処理期間を可及的に短くすることができる。この状態で、対象物はこの加熱された対象物に対してブラッシング処理を施すブラッシング工程に移行することにより、上記対象物の表面から浮き上がった上記汚れを効果的に落とすことができ、上記対象物に対する洗浄力を向上させることができる。また、このように浮き上がった汚れを効果的に落とすことができるので、ブラッシング工程に要する時間を可及的に抑えることができ、上記加熱工程を含めても一連の洗浄処理に要する時間を短くすることができ、焼き網等の洗浄対象物の洗浄効率をも向上させることができる。
【発明の効果】
【００２４】
この発明に係る洗浄装置によれば、加熱ステーションで汚れが付着した対象物の表面だけを効率的に加熱することができ、この加熱により汚れを対象物から浮かすことができるという利点がある。この状態で、対象物は上記搬送手段によって処理基台のブラッシングステーションに搬送されるので、上記対象物の表面から浮き上がった上記汚れを効果的に落とすことができ、該装置による洗浄力を向上させることができる。また、上記加熱処理も誘導加熱によって対象物の表面だけを効率的に加熱することができるとともに、このように浮き上がった汚れを効果的に落としてブラッシングステーションにおけるブラッシング処理を可及的に迅速に行うことができ、これらの一連の洗浄処理に要する時間を短くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面に基づいて本発明の洗浄装置の一実施形態について説明する。図１は当実施形態に係る洗浄装置の概略図を示す縦断面図であり、図２は図１のII−II線断面図である。この洗浄装置は、ロースターなどの上に載置され、焼肉を焼くための略矩形状の焼き網を洗浄するための装置であるが、本発明の洗浄装置は、その他、略円形の焼き網、各種鉄板や各種鍋などの磁性を有する対象物を洗浄する洗浄装置としても適用可能である。
【００２６】
洗浄装置は、焼き網Ｂを回転テーブル４の支持アーム５に支承させ、この焼き網Ｂに対して、粗洗浄、加熱、第１ブラッシング、第２ブラッシングの各処理を順次施すことにより炭化物等の汚れが付着した焼き網Ｂを洗浄するものである。すなわち、この洗浄装置は、処理基台３と、この処理基台３に回転自在に支持された回転テーブル４と、この回転テーブル４の周方向に沿って等間隔置き（当実施形態では６０度置き）に支持された支持アーム５とを備え、支持アーム５に焼き網Ｂを支持させた状態で回転テーブル４を間歇的に回転させることにより処理基台３に設けられた複数個のステーション３ａ〜３ｆに焼き網Ｂを順次搬送して、各ステーション３ａ〜３ｆにおいて焼き網Ｂに各種処理を施して該焼き網Ｂを洗浄するように構成されている。従って、この洗浄装置では、所定のステーション３ａにおいて支持アーム５に焼き網Ｂを支承させ、回転テーブル４が一周回転することにより各ステーション３ｂ〜３ｅにおいて上記対象物に各種処理が施され、最後のステーション３ｆに到達したときに焼き網Ｂの洗浄が完了されるように構成されている。
【００２７】
処理基台３には、第１から第６までの６つのステーション３ａ〜３ｆが所定の円周に沿って支持アーム５の支持間隔と同一の間隔置き、すなわち等間隔置き（当実施形態では６０度置き）に配置されている。
【００２８】
第１ステーション３ａ（供給ステーション）では、焼き網Ｂを支持アーム５に支承させるように構成され、第２ステーション３ｂ（荒ブラッシングステーション）では、焼き網Ｂをブラッシングすることにより焼き網Ｂに付着した肉片などの比較的大きな汚れを掻き落とすように構成されている。また、第３ステーション３ｃ（加熱ステーション）では、後述する加熱装置８によって焼き網Ｂを加熱するように構成され、この第３ステーション３ｃで加熱されることにより焼き網Ｂから浮き上がった汚れを第４および第５ステーション３ｄ，３ｅでブラッシングすることにより掻き落とすように構成されている。この第４および第５ステーション３ｄ，３ｅでは、各々ブラッシングによる掻き落とし方向が略直交するように設定され、各ステーション３ｄ，３ｅで異なる方向からブラッシングするように構成されている。そして、第６ステーション３ｆ（取出ステーション）では、支持アーム５に支持された焼き網Ｂを取出可能に構成されている。
【００２９】
具体的には、この処理基台３は、図１および図２に示すように、略正方形状の底壁台３１と、この底壁台３１上に固定されたハウジング３２とを備え、このハウジング３２の内部であって底壁台３１の略中央部に回転テーブル４が設置されるとともにこの回転テーブル４を中心に同心円上に各種装置等が搭載されている。この回転テーブル４を含む各種装置は、処理基台３に隣接配置された制御部１００によって各種動作等が制御されるものとなされている。
【００３０】
より具体的には、図２に示すように、処理基台３の底壁台３１の略中央部に回転テーブル４が配設されている。この回転テーブル４は、略円形板状体として構成され、底壁台３１の略中央部に配設された回転駆動装置４１によって、間歇的に回転するように構成され、これにより回転テーブル４の周縁部に等間隔に取り付けられた支持アーム５に支持された焼き網Ｂを順次隣接するステーション３ａ〜３ｆに搬送して各ステーション３ａ〜３ｆで所定期間停止させるように構成されている。回転テーブル４は、その上面に放射状のリブ４２が突設されて該上面が６等分され、これらの各区分の上面に支持アーム５が外側に突出した状態で取り付けられている。
【００３１】
支持アーム５は、全体が略矩形状の板状に形成され、その長手方向が回転テーブル４の径方向に沿ってその先端部５３が該テーブル４の外縁から外側に突出した状態で配設されている。この支持アーム５は、その先端部５３がガラスエポキシ樹脂等の非磁性体によって形成され、この先端部に焼き網Ｂよりも一回り大きい略矩形状の保持孔５１が開口されるとともに、図３に示すように、この保持孔５１の下端開口部に内側に突出する支承部５２が設けられ、この支承部５２で保持孔５１に配設された焼き網Ｂを支承するように構成されている。従って、この支承部５２によって支承された焼き網Ｂは、保持孔５１によって水平方向の移動が拘束されて保持孔５１に嵌め込まれた状態となる。なお、保持孔５１は、図２に示すように、円形状の回転テーブル４の接線方向と略平行な方向に細長く形成されている。
【００３２】
図２に示すように、この処理基台３の第１ステーション３ａには、焼き網Ｂを支持アーム５の保持孔５１に供給して支承部５２で支承させるための供給装置６が配設されている。図３はこの供給装置６を拡大して示す縦断面図である。
【００３３】
供給装置６は、ハウジング３２の外部から供給された焼き網Ｂを支持アーム５まで案内し、該焼き網Ｂを支持アーム５の保持孔５１内にセットするものである。具体的には、この供給装置６は、下端が底壁台３１の上面にボルト止めされた脚部６１と、脚部６１の上端部に固定された支持テーブル６２と、この支持テーブル６２上に固定されたガイドレール部６３と、支持テーブル６２の内端部にブラケット６４を介して取り付けられた昇降駆動部６５と、昇降駆動部６５の出力プランジャー６５１の先端に固定された昇降テーブル６７とを備え、昇降テーブル６７を上昇位置に待機させ、ガイドレール部６３に案内されて送り込まれた焼き網Ｂを昇降テーブル６７で受け取り、この昇降テーブル６７を下降させることにより、昇降テーブル６７上の焼き網Ｂを支持アーム５の保持孔５１内にセットするように構成されている。なお、当実施形態では、ガイドレール部６３に焼き網Ｂを手動で装填することによって昇降テーブル６７に焼き網Ｂを供給するように構成されているが、コンベヤ機構等によって機械的に供給するように構成するものであってもよい。
【００３４】
ガイドレール部６３は、処理基台３のハウジング３２の外側から支持アーム５の保持孔５１に対応する位置まで焼き網Ｂをガイドするものであり、ハウジング３２の外側から支持アーム５の保持孔５１に対応して延出し、その延出方向が略水平になるように設置されている。このガイドレール部６３は、上下２枚の板状体６３１，６３２が側壁６３３によって離間配置され、これら板状体６３１，６３２間に焼き網Ｂを挿通させることにより該焼き網Ｂをガイドするように構成されている。上下２枚の板状体６３１，６３２は、正対位置に対して、上側の板状体６３１が下側の板状体６３２に対して支持アーム５側に偏位した状態で固定されている。従って、このガイドレール部６３は、その外端部（ハウジング３２の外側の端部）が上方に開口されてこの開口部６３６を通じて板状体６３１，６３２間に焼き網Ｂを挿入可能に構成されるとともに、その内端部（保持孔５１に対応する端部）が下方に開口されてこの開口部６３７を通じて後述する上昇位置にある昇降テーブル６７上に焼き網Ｂを供給できるように構成されている。
【００３５】
なお、上側板状体６３１は、その幅方向略中央部に延出方向に延びる貫通孔６３５（図２参照）が設けられ、例えば焼き網Ｂがガイドレール部６３に引っ掛かった場合にはこの貫通孔６３５を通して焼き網Ｂの姿勢を補正し得るようになっているとともに、その先端部にストッパ６３４が設けられ、このストッパ６３４に焼き網Ｂが当接することによりその姿勢を適正に補正するものとなされている。
【００３６】
昇降駆動部６５は、当実施形態ではエアシリンダとして構成され、上下方向に進退する出力プランジャー６５１を有する。なお、この昇降駆動部は、エアポンプ等から構成される駆動部（図示しない）および回路や制御弁等から構成される気圧制御部（図示しない）によって出力プランジャー６５１を伸縮駆動するものとなされている。
【００３７】
この出力プランジャー６５１の上端部には、略矩形状の昇降テーブル６７が固定されている。従って、この昇降テーブル６７は、この昇降駆動部６５によって上下昇降可能に構成されている。
【００３８】
この昇降テーブル６７は、図２に示すように、その平面視の大きさが保持孔５１よりも小さく形成されるとともに、第１ステーション３ａに配設された支持アーム５の支承部５２と干渉しない大きさに設定されている。従って、この昇降テーブル６７は、図３に二点鎖線で示すように、支持アーム５の保持孔５１内を挿通して上昇可能に構成され、この上昇位置においてガイドレール部６３の内端開口部６３７に対向配置されることによりガイドレール部６３の内端開口部６３７を通じて供給された焼き網Ｂを支承させることができるように構成されている。そして、昇降駆動部６５によって昇降テーブル６７を下降させ、この下降行程で焼き網Ｂの周縁部が支持アーム５の支承部５２に係合することにより該焼き網Ｂが保持孔５１内にセットされる。
【００３９】
さらに、この昇降テーブル６７は、下降位置において支持アーム５と干渉しない位置に移動可能に構成されている。従って、この回転テーブル４の回転に伴ってこの昇降テーブル６７或いは昇降駆動部６５の出力プランジャー６５１が支持アーム５と干渉することが有効に防止されている。
【００４０】
図２に戻って、この処理基台３の第２ステーション３ｂには、支持アーム５に支持された焼き網Ｂを粗洗浄、すなわち焼き網Ｂに付着した比較的大きな汚れを掻き落とす粗洗浄装置７が配設されている。この粗洗浄装置７は、第４ステーション３ｄに配設される第１ブラッシング装置９と同様に構成されているので、その具体的構成は第１ブラッシング装置９として後に説明する。
【００４１】
また、図２に示すように、この処理基台３の第３ステーション３ｃには、支持アーム５に支持された焼き網Ｂを加熱する加熱装置８が配設されている。この加熱装置８は、高周波電流を流すことにより発生した磁束によって対象物を加熱する、いわゆる誘導加熱装置として形成されている。図４は、この加熱装置を拡大して示す概略図である。
【００４２】
すなわち、この加熱装置８は、高周波交流電流を発生させる電源８１およびこの電源８１に接続され磁束を発生させる誘導コイル８２を含む加熱ユニット８３と、この加熱ユニット８３を昇降させる昇降部８４と、加熱ユニット８３を水平移動させる水平移動部８５とを備え、昇降部８４と水平移動部８５とによって加熱ユニット８３をＴ軸方向（回転テーブル４の接線方向と平行な方向），Ｒ軸方向（回転テーブル４の径方向），Ｚ軸方向（上下方向）の各軸方向に移動させることにより誘導コイル８２と支持アーム５に支承された焼き網Ｂとの相対距離および相対位置を調整して該焼き網Ｂの表面を満遍なく加熱可能に構成されている。
【００４３】
加熱ユニット８３は、誘導コイル８２による誘導加熱によって焼き網Ｂの表面を加熱するものであり、その電源８１は誘導コイル８２によって少なくとも焼き網Ｂの表面をその表面に付着している油脂成分の融点を超え、この油脂成分等がこげつかない程度に加熱可能に構成されている。具体的には、電源８１は、例えば焼き網Ｂの表面を２７０度程度に加熱できるように、その周波数が比較的高く設定されるとともにその出力等が適宜設定される。この電源８１は、加熱ユニットハウジング８６内に収納されている。
【００４４】
加熱ユニットハウジング８６は、その天板８６１がガラスエポキシ樹脂などの非磁性体により形成され、その上面が平滑面として形成されることにより天板８６１の上面に付着した汚れを払拭し易いように構成されている。この天板８６１は適宜省略するものであってもよいが、焼き網Ｂから滴下する汚れの誘導コイル８２に対する付着を防止する観点から、当実施形態のように天板８６１を設けるのが好ましい。この天板８６１の下面には、誘導コイル８２が固定されている。
【００４５】
誘導コイル８２は、図５に示すように、銅管などの導電性チューブが同一平面内で略矩形状の渦巻き型に巻回されることにより形成されている。この誘導コイル８２は、その各端部が電源８１に電気的に接続されるとともに、その内部空間が冷却水を循環供給する冷却水供給装置１５（図２参照）に接続されている。従って、誘導コイル８２は、冷却水供給装置１５によってその内部に冷却水が循環流通されることからそれ自体の発熱を抑制しつつ、焼き網Ｂを効率的に加熱することができる。
【００４６】
この加熱ユニット８３は、その下端部において上下方向に昇降する昇降部８４に支持されている。この昇降部８４は、上下方向に進退する出力プランジャー８４２を有するエアシリンダとしての昇降駆動部８４１を含み、この昇降駆動部８４１は制御部１００からの信号を受けて駆動する。出力プランジャー８４２の上端には加熱ユニット８３が取り付けられ、これにより加熱ユニット８３が昇降部８４によって上下昇降可能になっている。この昇降部８４は、水平移動部８５の上面にフランジ接合により取り付けられている。
【００４７】
水平移動部８５は、回転テーブル４の接線方向と平行な方向であるＴ軸方向に相対移動可能なＴ軸移動部８７と、回転テーブル４の径方向であるＲ軸方向に相対移動可能なＲ軸移動部８８とを備え、このＲ軸移動部８８が底壁台３１上にフランジ接合されるとともにこのＲ軸移動部８８上にＴ軸移動部８７が接合され、該Ｔ軸移動部８７上に昇降部８４が取り付けられている。これらのＴ軸移動部８７およびＲ軸移動部８８は、その配設方向が異なるだけでその具体的構成は略同じであるので、ここではＴ軸移動部８７を例にとって説明する。
【００４８】
図４に示すように、Ｔ軸移動部８７は、Ｔ軸方向に延び、上方に開口した断面視略コ字状のガイド部材８７１と、このガイド部材８７１の上方からＴ軸方向に相対移動可能に取り付けられたスライド部材８７２と、ガイド部材８７１に取り付けられるとともに出力プランジャー８７４がスライド部材８７２から垂下する垂直壁８７５に接合されることによりスライド部材８７２をガイド部材８７１に対してＴ軸方向にスライド移動させるスライド駆動部８７３とを備える。なお、ガイド部材８７１に対するスライド部材８７２のスライド機構は公知の機構が採用されており、ここではその具体的な説明は省略する。
【００４９】
Ｔ，Ｒ軸移動部８７，８８の各スライド駆動部８７３は、エアシリンダとして構成されるとともに、制御部１００に接続され該制御部１００によってその駆動が制御されている。この制御部１００による誘導コイル８２の移動軌跡等についてはこの装置の機能とともに後述する。
【００５０】
図２に戻って、この処理基台３の第４ステーション３ｄには、第３ステーション３ｃにおいて加熱された焼き網Ｂに対してブラッシングする第１ブラッシング装置９が配設されている。図６および図７は、この第１ブラッシング装置９を示す縦断面図および平面図である。
【００５１】
この第１ブラッシング装置９は、焼き網Ｂの長手方向、すなわち回転テーブル４の接線方向と平行な方向（Ｔ軸方向）に沿って回転軸９１１，９２１が配設された上下回転ブラシ９１，９２を有し、これらの回転ブラシ９１，９２で焼き網Ｂを挟み込み、この焼き網Ｂに対して回転テーブル４の径方向（Ｒ軸方向）に沿って掻き落とし力が作用するように構成されている。
【００５２】
具体的には、第１ブラッシング装置９は、下端が底壁台３１の上面にボルト止めされた脚部９３と、この脚部９３の上端部に固定されたガイド部材９４と、このガイド部材９４上にＲ軸方向にスライド自在に支持され上下回転ブラシ９１，９２を有するブラッシングユニット９５と、このガイド部材９４とブラッシングユニット９５との間に介在しガイド部材９４に対してブラッシングユニット９５をスライド移動させる予スライド駆動部９６および主スライド駆動部９７とを備え、予スライド駆動部９６を駆動させることによりブラッシングユニット９５をＲ軸方向に沿って待機位置（回転する支持アーム５と干渉しない位置）からブラッシング位置（支持アーム５に支承された焼き網Ｂに回転ブラシ９１，９２が対向する位置）に移動させるとともに、回転ブラシ９１，９２で焼き網Ｂを挟み込んで主スライド駆動部９７を駆動させることによりこのブラッシング位置にあるブラッシングユニット９５をＲ軸方向に往復移動させて上記回転ブラシ９１，９２によって焼き網ＢをＲ軸方向にブラッシングするように構成されている。
【００５３】
ガイド部材９４は、Ｒ軸方向に延びる断面視略コ字状の部材であり、左右両側壁の上縁に沿ってブラッシングユニット９５をスライド移動させるものである。また、ガイド部材９４は、その外端部に予スライド駆動部９６の出力プランジャー９６ａの先端が接合される立設壁９４１が設けられている。予スライド駆動部９６は、Ｒ軸方向に進退する複数本（当実施形態では２本）の出力プランジャー９６ａを有するエアシリンダとして構成され、主スライド駆動部９７ともにガイド部材９４およびブラッシングユニット９５から独立した支持壁９８に取り付けられている。主スライド駆動部９７は、ブラッシングユニット９５をＲ軸方向に沿って反復移動させるものであり、予スライド駆動部９６と同様に、Ｒ軸方向に進退する複数本（当実施形態では２本）の出力プランジャー９７ａを有するエアシリンダとして構成され、この出力プランジャー９７ａの先端がブラッシングユニット９５から垂下する垂下壁９５１に接合されている。従って、予スライド駆動部９６が駆動することにより、主スライド駆動部９７および支持壁９８とともにブラッシングユニット９５もＲ軸方向に沿ってスライド移動し、主スライド駆動部９７が駆動することにより、この予スライド駆動部９６による停止位置においてブラッシングユニット９５をＲ軸方向に沿って反復移動させることになる。なお、予スライド駆動部９６と主スライド駆動部９７との取付位置は互いに入れ換えられているものであってもよく、この場合は主スライド駆動部が予スライド駆動部も反復移動させることになる。また、これらのスライド駆動部９６，９７は、ともに制御部１００によってその駆動が制御される。
【００５４】
ブラッシングユニット９５は、上下回転ブラシ９１，９２で焼き網Ｂを挟み込み、この状態で主スライド駆動部９７を駆動させてＲ軸方向に沿ってさらに反復移動させることにより、焼き網ＢをＲ軸方向に沿ってブラッシングするように構成されている。
【００５５】
具体的には、ブラッシングユニット９５は、Ｒ軸方向に沿ってガイド部材９４にスライド自在に支持されたブラッシングユニットハウジング（以下、「ＢＵハウジング」という）９５２と、回転軸９１１，９２１がこのＢＵハウジング９５２に対して上下スライド可能に軸支された回転ブラシ９１，９２と、この回転ブラシ９１，９２を上下スライド移動させる上下ブラシ昇降機構９５３，９５４と、上側回転ブラシ９１とともにこの上側ブラシ昇降機構９５３によって上下昇降し下降状態において焼き網Ｂの上面に当接して該焼き網Ｂの姿勢を安定させる押圧プレート９５５と、回転ブラシ９１，９２を回転させるブラシ回転駆動機構９５６とを備える。
【００５６】
ＢＵハウジング９５２は、図７に示すように、略矩形状の底板９５２ａと、底板９５２ａのＴ軸方向両端縁に立設された側壁９５２ｂと、底板９５２ａのＲ軸方向略中央部下面に垂設された垂下壁９５１とを備える。底板９５２ａは、ブラッシングによって掻き落とされた汚れを排出するための汚れ排出孔９５８を有し、この汚れ排出孔９５８に向かって傾斜するように形成されている。この汚れ排出孔９５８には、図示しないが、汚れ排出ダクトが接続され、このダクトが処理基台３の脇に設けられた集塵機１６に接続されている。この集塵機１６は、ハウジング３２内の空気とともに汚れを吸引回収するとともに、この空気を脱臭して再び処理基台３のハウジング３２内に戻すように構成されている。
【００５７】
図８は、回転ブラシを示す斜視図である。この上下各回転ブラシ９１，９２はその配置態様が上下反転しているだけでその具体的構成は同様に形成されているので、ここでは上側回転ブラシ９１について説明する。
【００５８】
回転ブラシ９１は、図７および図８に示すように、回転軸９１１と、この回転軸９１１周りにスパイラル状に設けられたブラシ部９１２とを備え、この回転軸９１１がＢＵハウジング９５２の側壁９５２ｂに設けられた上下長孔９５２ｄにスライド自在に挿入されている。この回転軸９１１はその両端部がスライド軸受９１３に回転自在に軸支され、このスライド軸受９１３は側壁９５２ｂの外側に突設されたガイドレール９５９に上下スライド自在に支持されている。
【００５９】
この左右スライド軸受９１３の上側には、このスライド軸受９１３を上下昇降させる昇降駆動部９６０が設けられている。この昇降駆動部９６０は、その出力軸９６０ａの先端がスライド軸受９１３に接続され、この出力軸９６０ａが進退することによってスライド軸受９１３をガイドレール９５９に沿って上下昇降させるように構成されている。すなわち、このスライド軸受９１３、ガイドレール９５９および昇降駆動部９６０がブラシ昇降機構９５３（９５４）を構成している。なお、左右スライド軸受９１３，９１４は、互いに同期して上下するように構成されており、このスライド軸受９１３，９１４に支持される回転軸９１１，９２１が略水平に軸支されるようになっている。
【００６０】
また、この回転軸９１１は、その一端部（図７で手前側の端部）がブラシ回転駆動機構９５６に接続され、このブラシ回転駆動機構９５６によって回転駆動するように構成されている。すなわち、回転軸９１１の一端部は、マルチリンク部９６１を介して伝動ギヤ９６２に接続されている。このマルチリンク部９６１は、上下スライド移動する回転軸９１１に対して回転駆動力を伝えるためのものであり、複数の軸部がリンク結合されることにより構成されている。伝動ギヤ９６２は、駆動モータ９６３からプーリ機構９６４を介して回転駆動する駆動ギヤ９６５に歯合して回転駆動するものとなされている。従って、回転ブラシ９１の回転軸９１１は、駆動モータ９６３によって回転駆動される。当実施形態では、この駆動モータ９６３の回転方向が主スライド駆動部９７の駆動と関連付けられ、主スライド駆動部９７の出力プランジャー９７ａの進退が変化することにより、駆動モータ９６３の回転方向も変化するように構成されている。なお、駆動モータ９６３は、ＢＵハウジング９５２の上端部に設けられたモータ台部９６６の上面に取り付けられている。また、この駆動モータ９６３およびブラシ昇降機構９５３は、制御部１００に接続されており、この制御部１００によってその駆動が制御される。
【００６１】
また、上下回転ブラシ９１，９２は、図６に示すように、ともに同方向に回転駆動するように構成されており、従ってこれらの回転ブラシ９１，９２によって挟み込まれる焼き網Ｂは上下各面に反対方向の掻き落とし力が作用することになる。このようにこのブラッシングユニット９５では、ブラッシング対象である焼き網Ｂの上下各面に異なる方向の掻き落とし力を作用させることにより、焼き網Ｂに作用する総掻き落とし力が相殺されるように構成され、これによりブラッシングに伴う焼き網Ｂの姿勢を安定させることができるようになっている。
【００６２】
回転ブラシ９１（９２）は、図８に示すように、ブラシ部９１２が回転軸９１１に対して螺旋状に巻回され、この螺旋の傾き方向が回転軸９１１の中央部を境界に異なる方向となるように形成されている。すなわち、ブラシ部９１２は、正面視において、ハの字状になるように形成されている。この上下回転ブラシ９１，９２は、その長さが焼き網Ｂの長手方向の長さに応じて形成されている。従って、上下回転ブラシ９１，９２は、この上下回転ブラシ９１，９２を焼き網Ｂの短手方向に沿って往復移動させることで焼き網Ｂの全領域がブラッシングされるように構成されている。
【００６３】
押圧プレート９５５は、その両端部が左右の上側スライド軸受９１３に接合され、この上側スライド軸受９１３の昇降に伴って昇降するものとなされている。この押圧プレート９５５は、具体的には図示しないが、枠状形状を有し、この中央開口部から上側回転ブラシ９１の周縁部が突出するように構成されている。そして、上側回転ブラシ９１が焼き網Ｂに当接することにより、この押圧プレート９５５も焼き網Ｂの上面に弾性的に当接して回転ブラシ９１，９２によるブラッシング時に焼き網Ｂを押圧してその姿勢を安定させるものとなされている。
【００６４】
なお、上記したように、粗洗浄装置７は、当実施形態ではこの第１ブラッシング装置９と同様に形成されているが、この第１ブラッシング装置９に比べて簡略化するものであってもよい。例えば、粗洗浄装置について、下側回転ブラシ９２を省略して焼き網Ｂの表面だけをブラッシングする上側回転ブラシ９１だけを設けるようにしてもよい。
【００６５】
図２に戻って、この処理基台３の第５ステーション３ｅには、第４ステーション３ｄと同様に、第３ステーション３ｃにおいて加熱された焼き網Ｂに対してブラッシングする第２ブラッシング装置１０が配設されている。この第２ブラッシング装置１０は、第１ブラッシング装置９のブラッシング方向と異なる方向沿って焼き網Ｂをブラッシングすることにより焼き網Ｂの汚れをより確実に掻き落とすものである。図９および図１０は、この第２ブラッシング装置を示す縦断面図および平面図である。
【００６６】
この第２ブラッシング装置１０は、第１ブラッシング装置９と異なり、焼き網Ｂの短手方向、すなわち回転テーブル４の径方向（Ｒ軸方向）に沿って回転軸１０１１，１０２１が配設された上下回転ブラシ１０１，１０２を二対有し、これらの回転ブラシ１０１，１０２で焼き網Ｂを挟み込み、回転テーブル４の接線方向と平行な方向（Ｔ軸方向）に沿って掻き落とし力が作用するように構成されている。すなわち、この第２ブラッシング装置１０は、第１ブラッシング装置９の掻き落とし方向と直交する方向に沿って掻き落とし力が作用するように構成されている。
【００６７】
ここで、この第２ブラッシング装置１０について上下回転ブラシ１０１，１０２が二対設けられているのは、短時間で焼き網Ｂをブラッシングするためである。すなわち、この第２ブラッシング装置１０では、後述するように回転ブラシ１０１，１０２を焼き網Ｂの長手方向に沿って往復移動させるため、一対の上下回転ブラシだけでは往復移動距離が長くなって比較的長いブラッシング時間を要することになる。従って、この第２ブラッシング装置１０では、焼き網Ｂをその長手方向に沿って２領域に分けて、各領域に対応して上下回転ブラシ１０１，１０２を配設して回転ブラシ１０１，１０２の移動距離を短くすることにより短時間で焼き網Ｂをブラッシングできるように工夫されている。
【００６８】
具体的には、この第２ブラッシング装置１０は、二対の上下回転ブラシ１０１，１０２を有する第２ブラッシングユニット１０３と、この第２ブラッシングユニット１０３をＴ軸方向に沿ってスライド移動可能に支持するＴ軸スライド移動部１０４と、このＴ軸スライド移動部１０４とともに第２ブラッシングユニット１０３をＲ軸方向に沿ってスライド移動可能に支持するＲ軸スライド移動部１０５と、上端がこのＲ軸スライド移動部１０５に取り付けられ下端が底壁台３１の上面にボルト止めされた脚部１０６とを備え、Ｒ軸スライド移動部１０５によって第２ブラッシングユニット１０３をＲ軸方向に沿って待機位置（回転する支持アーム５との干渉を回避可能な位置）からブラッシング位置（支持アーム５に支承された焼き網Ｂに回転ブラシ１０１，１０２が対向する位置）に移動させるとともに、上下回転ブラシ１０１，１０２で焼き網Ｂを挟み込み、Ｔ軸スライド移動部１０４によってこのブラッシング位置にある第２ブラッシングユニット１０３をＴ軸方向に往復移動させて上下回転ブラシ１０１，１０２によって焼き網Ｂをブラッシングするように構成されている。
【００６９】
第２ブラッシングユニット１０３は、二対の上下回転ブラシ１０１，１０２で焼き網Ｂを挟み込み、この状態でＴ軸方向に反復移動させることにより、焼き網Ｂの全領域をＴ軸方向に沿ってブラッシングするように構成されている。
【００７０】
具体的には、第２ブラッシングユニット１０３は、Ｔ軸スライド移動部１０４にスライド移動可能に支持された第２ブラッシングユニットハウジング（以下、「第２ＢＵハウジング」という）１０３１と、回転軸１０１１，１０２１がこの第２ＢＵハウジング１０３１に対して上下スライド可能に軸支された二対の上下回転ブラシ１０１，１０２と、この回転ブラシ１０１，１０２を上下スライド移動させる上下ブラシ昇降機構１０３３，１０３４と、この上側ブラシ昇降機構１０３３によって回転ブラシ１０１，１０２とともに上下昇降し下降状態において焼き網Ｂの上面に当接して該焼き網Ｂの姿勢を安定させる押圧プレート１０３５と、回転ブラシ１０１，１０２を回転させるブラシ回転駆動機構１０３６とを備える。
【００７１】
第２ＢＵハウジング１０３１は、図９および図１０に示すように、略矩形状の底板１０３１ａと、底板１０３１ａのＲ軸方向両端縁に配設された側壁１０３１ｂと、底板１０３１ａのＴ軸方向略中間部下面に垂設された垂下壁１０３１ｃとを備える。底板１０３１ａは、ブラッシングによって掻き落とされた汚れを排出するための汚れ排出孔１０３７を有し、この汚れ排出孔１０３７に向かって傾斜するように形成されている。この汚れ排出孔１０３７には、図示しないが、第１ブラッシング装置９と同様に、汚れ排出ダクトが接続され、このダクトが集塵機１６に接続されている。
【００７２】
上下各回転ブラシ１０１，１０２は、図１０に示すように、その長さが焼き網Ｂの短手方向（図１０でＲ軸方向）の長さに対応して形成され、その回転軸１０１１，１０２１が該短手方向に沿って配設されている。各対の上下回転ブラシ１０１，１０２の離間距離は、Ｔ軸方向に沿って焼き網Ｂの長手方向の長さの半分よりも短い距離に設定されている。従って、この上下回転ブラシ１０１，１０２をＴ軸方向に沿って移動させることにより焼き網Ｂの全領域をブラッシングできるようになっている。これらの上下各回転ブラシ１０１，１０２は、上記第１ブラッシング装置９の回転ブラシ９１，９２と同様に、上下ブラシ昇降機構１０３３，１０３４によって上下昇降可能に構成されており、また、この昇降するこれらの回転ブラシ１０１，１０２にブラシ回転駆動機構１０３６から回転駆動力を伝達させる駆動力伝達機構についても上記第１ブラッシング装置９と同様に形成されているので、ここでは図９および図１０に第１ブラッシング装置９と同一の符号を付すことによってその説明を省略する。
【００７３】
Ｔ軸スライド移動部１０４とＲ軸スライド移動部１０５は、ともにエアシリンダによって構成されるスライド駆動部１０４１，１０５１の出力プランジャーが進退移動することにより、第２ブラッシングユニット１０３をＴ軸或いはＲ軸に沿って移動させるものであり、その具体的構成は、第１ブラッシング装置９の予スライド駆動部９６や主スライド駆動部９７を含むスライド機構や、加熱装置８のＴ軸およびＲ軸移動部８７，８８と同様に形成されているので、ここでは、具体的な説明を省略する。
【００７４】
また、図２に戻って、この処理基台３の第６ステーション３ｆには、第４および第５ステーション３ｄ，３ｅでブラッシングされて汚れが落とされた焼き網Ｂを支持アーム５から取り出す取出装置１１が配設されている。図１１はこの取出装置を示す縦断面図である。
【００７５】
取出装置１１は、支持アーム５の保持孔５１内に支承されている焼き網Ｂを取り出して処理基台３のハウジング３２の外部に排出するものである。具体的には、この取出装置１１は、下端が底壁台３１の上面にボルト止めされた脚部１１１と、この脚部１１１の上端部に固定された支持テーブル１１２と、この支持テーブル１１２上に固定された排出用ガイドレール部１１３と、支持テーブル１１２の内端部にブラケット１１４を介して取り付けられた昇降駆動部１１５と、昇降駆動部１１５の出力プランジャー１１５１の先端に固定された傾斜テーブル１１７とを備え、傾斜テーブル１１７を上昇させることによりこの傾斜テーブル１１７で焼き網Ｂを保持孔５１から押し出し、この傾斜テーブル１１７の上面から排出用ガイドレール部１１３に焼き網Ｂが案内されるように構成されている。
【００７６】
排出用ガイドレール部１１３は、支持アーム５の保持孔５１に対応する位置から処理基台３のハウジング３２の外側にまで延出するとともに、その延出方向がハウジング３２の外側に向かって下方に傾斜するように設置され、傾斜テーブル１１７によって案内された焼き網Ｂがこの排出用ガイドレール部１１３に沿って滑り落ちるように形成されている。この排出用ガイドレール部１１３は、図１１に示すように、幅が焼き網Ｂの長辺に対応して形成されその幅方向両端部に側壁が立設されたガイド板１１３１を有し、このガイド板１１３１上を焼き網Ｂが滑り落ちるように形成されている。このガイド板１１３１は、その内端部が支持アーム５の外端部の外側に該支持アーム５の上面よりも僅かに低い位置に配置され、傾斜テーブル１１７から滑り落ちる焼き網Ｂをその上面に導くように設定されている。このガイド板１１３１の先端部には、焼き網Ｂの上方への飛び出しを防止するためのフード１１３２が設けられ、このフード１１３２の先端部は平面視において保持孔５１の外縁部にまで延出している。
【００７７】
昇降駆動部１１５は、当実施形態ではエアシリンダとして構成され、上下方向に進退する出力プランジャー１１５１を有する。この昇降駆動部１１５は、エアポンプ等から構成される駆動部（図示しない）および回路や制御弁等から構成される気圧制御部（図示しない）によって出力プランジャー１１５１を進退させるものである。
【００７８】
この出力プランジャー１１５１の上端部には、傾斜テーブル１１７が固定されている。従って、この傾斜テーブル１１７は、この昇降駆動部１１５によって上下昇降可能に構成されている。
【００７９】
この傾斜テーブル１１７は、図２に示すように、その平面視の大きさが保持孔５１よりも小さく形成されるとともに、第６ステーション３ｆに配設された支持アーム５の支承部５２と干渉しない大きさに設定されている。従って、この傾斜テーブル１１７は、図１１に二点鎖線で示すように、支持アーム５の保持孔５１内を挿通して上昇可能に構成されている。また、この傾斜テーブル１１７は、その上面が排出用ガイドレール部１１３側に向かって下方に傾斜する傾斜ガイド面１１７１として構成され、これにより傾斜テーブル１１７の上昇に伴って焼き網Ｂを保持孔５１内から押し出し、この傾斜ガイド面１１７１に沿ってその上面の焼き網Ｂが滑り落ちるように形成されている。
【００８０】
なお、この傾斜テーブル１１７は、下降位置において支持アーム５と干渉しない位置に移動可能に構成されている。従って、この回転テーブル４の回転に伴ってこの傾斜テーブル１１７或いは昇降駆動部１１５の出力プランジャー１１５１が支持アーム５に干渉することが有効に防止されている。
【００８１】
以上のように構成された洗浄装置による焼き網Ｂの洗浄方法を、この装置の動作や作用とともに説明する。なお、これらの動作制御は専らＣＰＵやメモリ等によって構成される制御部１００によって行われている。
【００８２】
まず、この洗浄装置のメインスイッチをＯＮにする前に、供給装置６のガイドレール部６３に複数枚の焼き網Ｂを装填する。すなわち、この供給装置６では、ガイドレール部６３の外端開口部６３６を通じて新たな焼き網Ｂを装填することによりこのガイドレール部６３に装填されている焼き網Ｂを新たに装填された焼き網Ｂによって押し出して先頭から順番に内端開口部６３７に供給されるように構成されており、このためガイドレール部６３内に予め所定枚数の焼き網Ｂを装填して新たな焼き網Ｂを装填することによってガイドレール部６３から内端開口部６３７に焼き網Ｂを供給されるように準備しておく必要がある。当実施形態では、このガイドレール部６３に４枚の焼き網Ｂを装填可能に構成されているため、この４枚の焼き網Ｂを順次ガイドレール部６３の外端開口部６３６を通じて装填する。
【００８３】
そして、この状態で洗浄装置のメインスイッチをＯＮにすると、回転駆動装置４１および各ステーション３ａ〜３ｆに配設された装置６，７，８，９，１０，１１が一斉に駆動を開始する。各装置４１，６等は、図１２に示すタイムチャートに従って制御部１００によってそれぞれ駆動されるように設定されているが、これらの各装置による作用を一枚の焼き網Ｂの洗浄工程に従って順次説明する。なお、各ステーション３ａ〜３ｆでは、図１２のタイムチャートに示すように、時間ｔ０〜時間ｔ１０までの行程が反復実行される。また、当実施形態では時間ｔ０〜ｔ１０は、それぞれ単位時間ｔの整数倍（ｔｎ＝ｎ×ｔ）に設定されている。
【００８４】
洗浄装置のメインスイッチをＯＮにすると、供給ステーション（第１ステーション）３ａでは、昇降駆動部６５が駆動して、その出力プランジャー６５１が上方に進出することにより昇降テーブル６７がガイドレール部６３の内端開口部６３７に対向した上昇位置に移動される（時間ｔ０〜ｔ１）。この昇降テーブル６７は時間ｔ７までの間この上昇位置で停止しているため、この時間ｔ１から時間ｔ７までの間に、外端開口部６３６を通じてガイドレール部６３に手動で新たな焼き網Ｂを装填し、これによりガイドレール部６３の内端開口部６３７を通じて既にこのガイドレール部６３に装填されている焼き網Ｂのうち先頭の焼き網Ｂを、内端開口部６３７を通じて昇降テーブル６７上に供給する。
【００８５】
時間ｔ７になると、昇降駆動部６５がその出力プランジャー６５１を退入させることによって昇降テーブル６７が下降し、この下降行程でテーブル６７上に載置されている焼き網Ｂの周縁部が支持アーム５の支承部５２に係合することによって焼き網Ｂが支持アーム５の保持孔５１内にセットされる。
【００８６】
そして、昇降テーブル６７が支持アーム５と干渉しない退避位置に下降した後（時間ｔ８）、回転駆動装置４１が駆動して時間ｔ１０までの間に、この供給ステーション３ａで支持アーム５に供給された焼き網Ｂを次のステーションである粗洗浄ステーション（第２ステーション）３ｂに回転搬送する。この粗洗浄ステーション３ｂにおける粗洗浄装置７の具体的な作用は、第１ブラッシングステーション３ｄの第１ブラッシング装置９と同様であるので、第１ブラッシング行程として後述する。
【００８７】
なお、この粗洗浄ステーション３ｂでは、時間ｔ１から時間ｔ８までの間にブラッシングユニット（９３）が支持アーム５側に進出し、回転ブラシ（９１，９２）でブラッシングすることにより焼き網Ｂに付着した大きな汚れ、例えば肉片や野菜片を掻き落とすものとされている。そして、ブラッシングユニット（９３）が支持アーム５と干渉しない退避位置に移動した後（時間ｔ８）、回転駆動装置４１が駆動して時間ｔ１０までの間に、この粗洗浄ステーション３ｂから次のステーションである加熱ステーション（第３ステーション）３ｃに焼き網Ｂを回転搬送する。
【００８８】
この加熱ステーション３ｃでは、回転駆動装置４１の回転が停止した後（時間ｔ０）、昇降部８４の出力プランジャー８４２が進出して加熱ユニット８３を上昇させる。この加熱ユニット８３が上昇位置に移動すると（時間ｔ１）、誘導コイル８２が通電されて加熱処理が開始される。この誘導コイル８２は、初期位置では焼き網Ｂの内側端部の隅部に配設されており、この状態からＲ軸移動部８８のスライド駆動部８７３を駆動して焼き網Ｂの短手方向に沿って移動させ（時間ｔ１〜ｔ２１）、その後Ｔ軸移動部８７のスライド駆動部８７３を駆動して焼き網Ｂの長手方向に沿って移動させ（時間ｔ２１〜ｔ４）、そして順次Ｒ軸移動部８８、Ｔ軸移動部８７を駆動させて初期位置に戻るように移動される（ｔ４〜ｔ７）。すなわち、Ｔ軸移動部８７およびＲ軸移動部８８によって誘導コイル８２を焼き網Ｂの周縁に沿って矩形経路に沿って移動させることにより、この誘導コイル８２で焼き網Ｂを満遍なく加熱する。
【００８９】
この加熱によって焼き網Ｂの表面温度が上昇し、この温度上昇に伴って焼き網Ｂの表面に付着している油脂成分も加熱される。この油脂成分は焼き網Ｂと焦げなどの汚れとの間に介在し加熱装置８によって融点以上で焦げない程度に加熱されて溶融することから、焦げなどの汚れが焼き網Ｂから浮き上がった状態となる。また、加熱装置８は誘導加熱により焼き網Ｂを加熱するように構成されていることから、焼き網Ｂを効率的に加熱することができ、この加熱処理を迅速に行うことができる。
【００９０】
誘導コイル８２が焼き網Ｂの周縁部に沿って経路を一周循環すると（時間ｔ７）、誘導コイル８２への通電がＯＦＦされて加熱処理が終了し（時間ｔ７）、続いて昇降部８４の出力プランジャー８４２が退入して加熱ユニット８３を下降させる。加熱ユニット８３が下降すると（時間ｔ８）、再び回転駆動装置４１が駆動して回転テーブル４に支持された支持アーム５によって、この加熱装置８で加熱された焼き網Ｂが、次のステーションである第１ブラッシングステーション（第４ステーション３ｄ）に搬送される。
【００９１】
この第１ブラッシングステーション３ｄでは、回転駆動装置４１の回転が停止した時間ｔ０において予スライド駆動部９６が駆動することにより、ブラッシングユニット９５をＲ軸方向に沿って移動させ、このブラッシングユニット９５を時間ｔ１までに待機位置からブラッシング位置に移動する。同時に、ブラッシングユニット９５の上下昇降駆動部９６０も駆動して、上下回転ブラシ９１，９２をそれぞれ下降ないしは上昇させ、ブラッシングユニット９５がブラッシング位置に配置されたとき（時間ｔ１）に、これらの回転ブラシ９１，９２によって支持アーム５に支承された焼き網Ｂが挟み込まれるようになっている。このとき、スライド軸受９１３に支持された押圧プレート９５５も下降して焼き網Ｂの上面に弾性的に当接して焼き網Ｂの姿勢を保持する。
【００９２】
そして、時間ｔ１から駆動モータ９６３を駆動させて回転ブラシ９１，９２を回転駆動させるとともに、主スライド駆動部９７を駆動させ、その出力プランジャー９７ａを進出させる。この出力プランジャー９７ａの進出に伴い、上下回転ブラシ９１，９２がＲ軸方向に沿って移動し、焼き網Ｂの表面に浮き上がった焦げなどの汚れをＲ軸方向に沿って掻き落とす。この上下回転ブラシ９１，９２は、初期位置、すなわち時間ｔ１における位置は焼き網Ｂの短手方向の一端（外端）側に位置しており、出力プランジャー９７ａの進出に伴って焼き網Ｂの短手方向他端側に移動する。このとき、上下回転ブラシ９１，９２は上記したように、ともに時計方向に回転駆動しており、焼き網Ｂに作用する摩擦力が上下で相殺される。
【００９３】
そして、時間ｔ４に至ると、主スライド駆動部９７の出力プランジャー９７ａが限界まで進出し、このとき回転ブラシ９１，９２は焼き網Ｂの短手方向他端側に位置している。続いて、この出力プランジャー９７ａの進退が反転すると、この出力プランジャー９７ａの進退反転に伴って回転ブラシ９１，９２の回転方向も逆方向に回転するように制御される。この回転ブラシ９１，９２の復路では、回転ブラシ９１，９２が逆方向に回転され、この回転ブラシ９１，９２のブラシ部９１２が螺旋状に巻回されていることと相俟って、回転ブラシ９１，９２の往路とは異なる角度から焼き網Ｂの網同士が交差する交差部にブラシ部９１２が当接することによってこの焼き網Ｂ、特に上記交差部が細やかにブラッシングされる。
【００９４】
このように、この洗浄装置では、加熱ステーション３ｃで焼き網Ｂを加熱した後、第１ブラッシングステーション３ｄにおいて第１ブラッシング装置９により焼き網Ｂをブラッシングするように構成されているので、ブラッシングによる洗浄効果を向上させることができる。すなわち、加熱装置８によって焼き網Ｂの表面が加熱されることにより、この焼き網Ｂと汚れとの間に介在する油脂成分が溶融して、汚れが焼き網Ｂから浮き上がった状態となり、第１ブラッシング装置９によって汚れを効果的に落とすことができる。従って、高濃度のアルカリ洗剤等を使用する必要がなく、またこのアルカリ洗剤等の後処理を不要とすることができ環境問題への配慮を軽減することができる。しかも、短期間で汚れを落とすことができることから、焼き網Ｂの洗浄効率を向上させることができる。
【００９５】
この回転ブラシ９１，９２が再び焼き網Ｂの短手方向一端側に戻ると（時間ｔ７）、駆動モータ９６３の駆動が停止するとともに、上下ブラシ昇降駆動部９６０の出力軸９６０ａが上昇或いは下降して上下回転ブラシ９１，９２が互いに離間する。同時に、予スライド駆動部９６の出力プランジャー９６ａも退入して第１ブラッシングユニット９５を待機位置に移動させる。この第１ブラッシングユニット９５が待機位置に移動すると（時間ｔ８）、再び回転駆動装置４１が駆動して回転テーブル４に支持された支持アーム５によって、第１ブラッシング装置９でブラッシングされた焼き網Ｂが、次のステーションである第２ブラッシングステーション（第５ステーション）３ｅに搬送される。
【００９６】
この第２ブラッシングステーション３ｅでは、回転駆動装置４１の回転が停止した時間ｔ０においてＲ軸スライド駆動部１０５１が駆動することにより、第２ブラッシングユニット１０３をＲ軸方向に沿って移動させ、この第２ブラッシングユニット１０３を時間ｔ１までに待機位置からブラッシング位置に移動する。同時に、第２ブラッシングユニット１０３の上下昇降駆動部（９６０）も駆動して、上下回転ブラシ１０１，１０２をそれぞれ下降ないしは上昇させ、第２ブラッシングユニット１０３がブラッシング位置に配置されたとき（時間ｔ１）に、これらの回転ブラシ１０１，１０２によって支持アーム５に支承された焼き網Ｂが挟み込まれるようになっている。このとき、回転ブラシ１０１，１０２の回転軸１０１１,１０２１を上下スライド自在に軸支するスライド軸受（９１３）に支持された押圧プレート１０３５も下降して焼き網Ｂの上面に弾性的に当接して焼き網Ｂの姿勢を保持する。
【００９７】
そして、時間ｔ１からブラシ回転駆動機構１０３６の駆動モータ（９６４）を駆動させて回転ブラシ１０１，１０２を回転駆動させるとともに、Ｔ軸スライド駆動部１０４１を駆動させ、その出力プランジャーを進出させる。この出力プランジャーの進出に伴い、上下回転ブラシ１０１，１０２がＴ軸方向に沿って移動し、焼き網Ｂの表面に浮き上がった焦げなどの汚れをＴ軸方向に沿って掻き落とす。この上下回転ブラシ１０１，１０２は、初期位置、すなわち時間ｔ１における位置は、各対について焼き網Ｂの長手方向の一端（外端）側および中央部に位置しており、出力プランジャーの進出に伴って焼き網Ｂの長手方向他端側に向かって移動する。このとき、上下回転ブラシ１０１，１０２は、ともに時計方向に回転駆動しており、焼き網Ｂに作用する摩擦力が上下で相殺される。
【００９８】
そして、時間ｔ４に至ると、Ｔ軸スライド駆動部１０４１の出力プランジャーが限界まで進出し、このとき回転ブラシ１０１，１０２はそれぞれ焼き網Ｂの長手方向略中央部と、その長手方向他端側に位置している。続いて、この出力プランジャーの進退が反転すると、この出力プランジャーの進退反転に伴って回転ブラシ１０１，１０２の回転方向も逆方向に回転するように制御される。この回転ブラシ１０１，１０２の復路では、回転ブラシ１０１，１０２が逆方向に回転され、この回転ブラシ１０１，１０２のブラシ部（９１２）が螺旋状に巻回されていることと相俟って、回転ブラシ１０１，１０２の往路とは異なる角度から焼き網Ｂの網同士が交差する交差部にブラシ部（９１２）が当接することによってこの焼き網Ｂ、特に上記交差部が細やかにブラッシングされる。
【００９９】
このように、この洗浄装置では、加熱ステーション３ｃで焼き網Ｂを加熱した後、第２ブラッシングステーション３ｅにおいて第２ブラッシング装置１０により焼き網Ｂをブラッシングするように構成されているので、第１ブラッシングステーション３ｄと同様に、ブラッシングによる洗浄効果を向上させることができる。しかも、この第２ブラッシングステーション３ｅでは、第２ブラッシング装置１０が、第１ブラッシング装置９によるブラッシング方向に直交する方向に沿ってブラッシングするように構成されているので、焼き網Ｂに対して異なる方向に沿ってブラッシング処理を施すことができ、洗い残しの発生を抑制してこの洗浄装置による洗浄力をより一層向上させることができる。
【０１００】
この回転ブラシ１０１，１０２が再び初期位置に戻ると（時間ｔ７）、ブラシ回転駆動機構１０３６の駆動モータ（９６４）の駆動が停止するとともに、上下ブラシ昇降機構１０３３，１０３４における駆動部（９６０）の出力軸（９６０ａ）が上昇或いは下降して上下回転ブラシ１０１，１０２が互いに離間する。同時に、Ｒ軸スライド駆動部１０５１の出力プランジャーも退入して第２ブラッシングユニット１０３を待機位置に移動させる。この第２ブラッシングユニット１０３が待機位置に移動すると（時間ｔ８）、再び回転駆動装置４１が駆動して回転テーブル４に支持された支持アーム５によって、第２ブラッシング装置１０でブラッシングされた焼き網Ｂが、次のステーションである取出ステーション（第６ステーション）３ｆに搬送される。
【０１０１】
この取出ステーション３ｆでは、昇降駆動部１１５が駆動して、その出力プランジャー１１５１が上方に進出することにより傾斜テーブル１１７が支持アーム５の保持孔５１を通じて上昇する。この上昇行程では傾斜テーブル１１７の上面（傾斜ガイド面１１７１）で支承部５２に支承されている焼き網Ｂが押し上げられ、傾斜テーブル１１７が上昇位置に移動することにより（時間ｔ１）、この傾斜ガイド面１１７１と排出用ガイドレール部１１３のガイド板１１３１の上面とが略面一となって焼き網Ｂが排出用ガイドレール部１１３に沿って滑り落ちる。
【０１０２】
このように、この洗浄装置では、焼き網Ｂが各ステーション３ａ〜３ｆを順次搬送されて排出用ガイドレール部１１３から排出されることにより、この焼き網Ｂを、十分に、かつ、迅速に洗浄することができる。また、この洗浄装置では、各ステーション３ａ〜３ｆの間隔に合わせて、支持アーム５が回転テーブル４に支持されているので、供給ステーション３ａにおいて、回転テーブル４が回転されて停止されるたびに、支持アーム５に焼き網Ｂを供給することができる。従って、この回転テーブル４が停止されるたびに支持アーム５に焼き網Ｂを供給することによって、取出ステーション３ｆにおいても回転テーブル４が停止されるたびに、洗浄処理が施された焼き網Ｂを得ることができ、効率的に焼き網Ｂを洗浄することができる。
【０１０３】
すなわち、この洗浄装置によれば、処理基台３は、焼き網Ｂを加熱する加熱ステーション３ｃを有するので、この加熱ステーション３ｃで汚れが付着した焼き網Ｂを加熱することによりこの焼き網Ｂの表面と汚れとの間の油脂成分等を溶融させてこの付着状態を不安定にすることができ、この汚れを焼き網Ｂの表面から浮かすことができる。しかも、この加熱ステーション３ｃに誘導加熱によって焼き網Ｂを加熱する加熱装置８が設けられているので、焼き網Ｂの表面だけを効果的に加熱することができ、これにより加熱処理期間を可及的に短くすることができる。この状態で、焼き網Ｂは回転テーブル４によって処理基台３の第１および第２ブラッシングステーション３ｄ，３ｅに搬送されるので、焼き網Ｂの表面から浮き上がった上記汚れを効果的に落とすことができ、該洗浄装置による洗浄力を向上させることができる。また、このように浮き上がった汚れを効果的に落とすことができるので、第１および第２ブラッシングステーション３ｄ，３ｅにおけるブラッシング処理を可及的に迅速に行うことができ、加熱処理を含めても一連の洗浄処理に要する時間を短くすることができ、焼き網Ｂの洗浄効率をも向上させることができる。
【０１０４】
なお、以上に説明した洗浄装置、および洗浄方法は、本発明に係る装置、方法の一実施形態であって、装置や方法の具体的構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能であり、この変形例を以下に説明する。
【０１０５】
（１）上記実施形態では、処理基台３に第１〜第６ステーション３ａ〜３ｆが設けられ、これらの各ステーション３ａ〜３ｆに各種装置６〜１０が搭載されているが、この処理基台３には第１〜第６ステーション３ａ〜３ｆの全てを設ける必要がなく、粗洗浄ステーション３ｂおよび粗洗浄装置７を省略したり、第２ブラッシングステーション３ｅおよび第２ブラッシング装置１０を省略したりすることもできる。
【０１０６】
ただし、上記実施形態のように、粗洗浄ステーション３ｂを設けてこの粗洗浄ステーション３ｂにおいて粗洗浄装置７によって焼き網Ｂに付着した粗汚れを掻き落とすことにより、加熱ステーション３ｃで加熱される汚れを含めた焼き網Ｂの熱容量を小さくすることができ、より効率的に加熱することができるという利点がある。
【０１０７】
また、上記実施形態のように、第２ブラッシングステーション３ｅを設けてこの第２ブラッシングステーション３ｅにおいて第２ブラッシング装置１０によって焼き網Ｂを第１ブラッシング装置９によるブラッシング方向と異なる方向に沿ってブラッシングするように構成することにより、焼き網Ｂをより一層丁寧に洗浄することができる。特に、洗浄対象物が焼き網Ｂのように格子状に組まれたものである場合にはブラッシング方向を変更することによってより丁寧に洗浄することができるという利点がある。
【０１０８】
また、これとは反対に例えば処理基台３に、例えば焼き網Ｂに付着した粉末等を洗い流すための液体洗浄ステーションを取出ステーション３ｆの前に設けるなど、所定のステーションを新設するものであってもよい。
【０１０９】
（２）上記実施形態では、供給装置６が、手動で焼き網Ｂを支持アーム５の保持孔５１に供給するように構成されていたが、例えば、ガイドレール部６３の外端部に、焼き網Ｂを複数枚保持する焼き網カセットが設けられ、この焼き網カセットから焼き網が自動的に送り込まれるように構成されるものであってもよい。この場合、ガイドレール部６３における焼き網Ｂを円滑に搬送させるために、例えば貫通孔６３５からガイドレール部６３の内部に搬送用コンベヤの周縁部を突出した状態で設置し、この搬送用コンベヤによって焼き網Ｂを送り出すように構成されるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明に係る光学製品成形装置の一実施形態を概略的に示す断面図である。
【図２】図１のII−II線断面図である。
【図３】供給装置を拡大して示す断面図である。
【図４】加熱装置を拡大して示す断面図である。
【図５】同加熱装置を示す平面図である。
【図６】第１ブラッシング装置を拡大して示す断面図である。
【図７】同第１ブラッシング装置を示す平面図である。
【図８】同第１ブラッシング装置における回転ブラシ等を概略的に示す斜視図である。
【図９】第２ブラッシング装置を拡大して示す断面図である。
【図１０】同第２ブラッシング装置を示す平面図である。
【図１１】取出装置を拡大して示す断面図である。
【図１２】各ステーションに配設された各種装置による各種処理工程等を示すタイムチャートである。
【符号の説明】
【０１１１】
Ｂ  焼き網
３  処理基台
３ａ  供給ステーション（第１ステーション）
３ｂ  粗洗浄ステーション（第２ステーション）
３ｃ  加熱ステーション（第３ステーション）
３ｄ  第１ブラッシングステーション（第４ステーション）
３ｅ  第２ブラッシングステーション（第５ステーション）
３ｆ  取出ステーション（第５ステーション）
４  回転テーブル（搬送手段に相当）
４１  回転駆動装置（搬送手段に相当）
５  支持アーム（搬送手段に相当）
６  供給装置
６５  昇降駆動部（昇降手段に相当）
７  粗洗浄装置（第２のブラッシング手段に相当）
８  加熱装置
８１  電源
８２  誘導コイル
８３  加熱ユニット（誘導加熱手段に相当）
９  第１ブラッシング装置（ブラッシング手段に相当）
９１，９２  回転ブラシ
１０  第２ブラッシング装置（ブラッシング手段に相当）
１０１，１０２  回転ブラシ
１１  取出装置
１１５  昇降駆動部（第２の昇降手段に相当）
【図１】
2007196123.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007196123.tif 000009
【図８】
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【図９】
2007196123.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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