(57)【要約】      （修正有）【課題】ダイコート法による塗膜形成に用いても基板外周部に塗膜の膜厚差が生じ難く、表面平滑性に優れた塗膜を形成できる光散乱膜用組成物の提供、および中心部と外周部で膜厚差が小さく、表面平滑性に優れた光散乱膜の製造方法の提供。【解決手段】透明樹脂と、微粒子と、有機溶剤と、レベリング剤とを含有する光散乱膜用組成物であって、該光散乱膜用組成物の１００ｍｓにおける動的表面張力（Ｉ）と１０００ｍｓにおける動的表面張力（II）とが、下記関係式（１）を満たす光散乱膜用組成物、および基板上に、ダイコート方式の塗布装置を用いて前記光散乱膜用組成物を塗布し、光散乱膜を形成する光散乱膜の製造方法。        [｛（Ｉ）−（II）｝／（Ｉ）]×１００≦７．０  ・・・・・（１）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂と、該透明樹脂と屈折率の異なる微粒子と、有機溶剤と、レベリング剤とを含有する光散乱膜用組成物であって、該光散乱膜用組成物の１００ｍｓにおける動的表面張力（Ｉ）と１０００ｍｓにおける動的表面張力（II）とが、下記関係式（１）を満たすことを特徴とする光散乱膜用組成物。
[｛（Ｉ）−（II）｝／（Ｉ）]×１００≦７．０  ・・・・・（１）
【請求項２】
レベリング剤がシリコン系レベリング剤であることを特徴とする請求項１記載の光散乱膜用組成物。
【請求項３】
シリコン系レベリング剤が下記式（２）で示される化合物であることを特徴とする請求項２記載の光散乱膜用組成物。
【化１】
2007187824.tif 000005
（式中、ｍは５〜３０の整数であり、ｎは５０〜１００の整数であり、ｘは１〜２０の整数である。）
【請求項４】
さらに、エチレン性不飽和化合物を含むことを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載の光散乱膜用組成物。
【請求項５】
２５℃における粘度が6ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする請求項１ないし４いずれか記載の光散乱膜用組成物。
【請求項６】
基板上に、ダイコート方式によって請求項１ないし５いずれか記載の光散乱膜用組成物を塗布し、光散乱膜を形成することを特徴とする光散乱膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置を構成する光散乱膜の形成に用いられる光散乱膜用組成物、およびそれを用いた光散乱膜の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置の普及、大型化や野外使用化に伴い、その使用条件下での耐候性、視認性、防汚性、耐熱性等が求められている。中でも、表示装置の視認性向上は表示装置の主機能に関わる重要な課題であり、視認性向上のための様々な技術が検討されている。
例えば、反射型あるいは半透過型の液晶表示装置においては、視認性向上のため、基材樹脂中に基材樹脂とは異なる屈折率の微粒子を分散させてなる、反射防止膜、光拡散膜、光散乱膜等を設け、光の反射、拡散、散乱を制御することが行われている。
【０００３】
具体的には、反射型あるいは半透過型の液晶表示装置には、装置に入射した室内光や外光等の光を反射する反射板が必要であり、この反射板には光の反射機能及び光散乱機能の２つの機能が要求される。光散乱機能を持たせる部材としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等の透明樹脂中に異屈折率の微粒子を混ぜて散乱性を出す光散乱膜が用いられている。この光散乱膜には優れた光の散乱性と光透過性が要求され、光散乱膜は、基材樹脂と微粒子の屈折率差が大きいほど優れた散乱特性を示し、更に微粒子の粒子径、及び粒度分布にも大きく影響を受ける。
【０００４】
また、光散乱膜の製造においては、塗布液を透明基板上に塗布し、乾燥時の膜厚が約１〜３μmの均一な塗膜を形成する必要がある。塗布方式としては、スピンコート法が一般的に用いられている（例えば、特許文献１参照）。
スピンコート法は、透明基板を一定の回転数で回転させながら、透明基板上に塗布液を滴下し、遠心力によって塗布液を薄く延ばし、塗布液粘度や回転数等によって決まる膜厚の塗膜を透明基板の表面に形成する塗布方法である。
【０００５】
スピンコート法では、透明基板の上に滴下した塗布液のうち透明基板の表面に塗布されるのは数％に過ぎず、残りの９０数％の塗布液は透明基板から排出されるため、無駄が多いという欠点があり、近年の基板サイズの大型化に伴って、この欠点が大きな問題となっている。
このようなスピンコート法の欠点を解消するため、近年はダイコート法が検討されている（例えば、特許文献２〜４参照）。ダイコート法は、スピンコート法に比べて塗布液の無駄が少ないことに加え、塗布ヘッド先端まで、塗布液の供給回路がすべて密閉系であるという長所を有する。
【特許文献１】特開２００５−１８１３８２号公報
【特許文献２】特開平７−１６８０１５号公報
【特許文献３】特開２０００−１９３８１８号公報
【特許文献４】特開２００１−１９５００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ダイコート法では基板外周部の塗膜が盛り上がり、基板中心部の塗膜に比べて厚くなる、いわゆるツノが生じるという欠点がある。近年のパネルの大型化に伴い、基板の端まで大きなパネルとして使用するためには、基板外周部に膜厚差が生じているのは好ましくない。この問題は、中心部と周縁部との膜厚差が小さく、表面平滑性に優れた塗膜を形成しうるように開発されたスピンコート用の組成物を用いたのでは、求められる特性が異なるため解決することが難しい。
そこで、本発明は、ダイコート法による塗膜形成に用いても基板外周部に塗膜の膜厚差が生じ難く、表面平滑性に優れた塗膜を形成できる光散乱膜用組成物の提供を目的とする。
また、本発明は、中心部と外周部で膜厚差が小さく、表面平滑性に優れた光散乱膜の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の光散乱膜用組成物は、透明樹脂と、該透明樹脂と屈折率の異なる微粒子と、有機溶剤と、レベリング剤とを含有する光散乱膜用組成物であって、該光散乱膜用組成物の１００ｍｓにおける動的表面張力（Ｉ）と１０００ｍｓにおける動的表面張力（II）とが、下記関係式（１）を満たすことを特徴とする。
[｛（Ｉ）−（II）｝／（Ｉ）]×１００≦７．０  ・・・・・（１）
また、本発明の光散乱膜の製造方法は、基板上に、ダイコート方式によって本発明の光散乱膜用組成物を塗布し、光散乱膜を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光散乱膜用組成物は、１００ｍｓにおける動的表面張力と１０００ｍｓにおける動的表面張力の変化率が７％以下であるため、これを用いることにより、基板外周部にツノがなく、基板外周部と基板中心部の膜厚差が小さく、塗布ムラがない、均一な塗膜を形成することができる。
従って、本発明の光散乱膜用組成物を用いて光散乱膜を形成することにより、光散乱膜を歩留まりよく製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
まず、本発明における光散乱膜用組成物について具体的に説明する。
本発明の光散乱膜用組成物は、透明樹脂と、該透明樹脂と屈折率の異なる微粒子と、有機溶剤と、レベリング剤とを含有する光散乱膜用組成物であって、該光散乱膜用組成物であって、該光散乱膜用組成物の１００ｍｓにおける動的表面張力（Ｉ）と１０００ｍｓにおける動的表面張力（II）とが、下記関係式（１）を満たすことを特徴とするものである。
[｛（Ｉ）−（II）｝／（Ｉ）]×１００≦７．０  ・・・・・（１）
左辺の値が７．０より大きい光散乱膜用組成物を用いて塗膜を形成した場合には、基板外周部の塗膜が、基板中心部の塗膜に比べて厚く盛り上がり、ツノが生じる。
【００１０】
本発明の光散乱膜用組成物に含まれるレベリング剤としては、シリコン系レベリング剤、特に下記一般式（２）で示される化合物が好適に用いられる。
【化２】
2007187824.tif 000002
式中、ｍは５〜３０、好ましくは１０〜２０の整数であり、ｎは５０〜１００、好ましくは６０〜９０の整数であり、ｘは１〜２０、好ましくは５〜１５の整数である。
【００１１】
上記一般式（２）で示される化合物からなる市販のシリコン系レベリング剤としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３３０」（式（２）において、ｍは１４、ｎは７７、ｘは１０である。）が挙げられる。また、他の市販のシリコン系レベリング剤としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３３３」が挙げられる。レベリング剤は、１種を単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
レベリング剤は、光散乱膜用組成物中の微粒子１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．０５〜５重量部を量で用いることができる。
【００１２】
光散乱膜には、高屈折率透明樹脂と低屈折率微粒子を組み合わせた凹レンズ型と、低屈折率透明樹脂と高屈折率微粒子を組み合わせた凸レンズ型があり、透明樹脂としては、光散乱膜の型に応じて高屈折率透明樹脂または低屈折率透明樹脂が用いられる。透明樹脂の可視光（４００〜７００ｎｍ）の全波長領域における透過率は、８０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。
光散乱膜の光散乱能は、透明樹脂と微粒子の屈折率差が大きいほど優れており、透明樹脂と微粒子の屈折率差は、０．０５以上が望ましい。
本発明の光散乱膜用組成物に含まれる透明樹脂は、散乱膜用組成物中の微粒子１００重量部に対して、３０〜１０００重量部、好ましくは６０〜６００重量部の量で用いることができる。
【００１３】
高屈折率透明樹脂は、屈折率が１．５０以上１．７０以下の透明樹脂であり、例えば、アクリル系樹脂(屈折率１．５０〜１．５５)、フルオレン樹脂（屈折率約１．６）、フェノール樹脂（屈折率約１．７）、セルロース（屈折率約１．５４）、ユリア樹脂（屈折率約１．５７）、ポリ酢酸ビニル（屈折率約１．５３）、ポリ塩化ビニル（屈折率約１．５４）、ポリエーテルエーテルケトン（屈折率約１．６８）、ポリエチレンテレフタレート（屈折率約１．６７）、ポリスチレン（屈折率約１．５９）、ポリカーボネート（屈折率約１．５８）、ポリアミド（屈折率約１．５３）ポリアリレート（屈折率約１．６０）等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。高屈折率透明樹脂は、２種以上を混合して用いることもできる。
また、低屈折率透明樹脂は、屈折率が１．３５以上１．５０未満の透明樹脂であり、例えば、フッ素含有アクリル樹脂（屈折率約１．４５）、酢酸ビニル樹脂（屈折率約１．４５）、シリコーン樹脂（屈折率約１．４５）、フッ素樹脂（屈折率約１．３５）等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。低屈折率透明樹脂は、２種以上を混合して用いることもできる。
【００１４】
本発明の光散乱膜用組成物に含まれる微粒子としては、光散乱膜の型に応じて、有機または無機の高屈折率微粒子、あるいは有機または無機の低屈折率微粒子を用いることができる。
高屈折率微粒子は、屈折率が１．５０以上３．００以下の微粒子であり、有機の高屈折率微粒子としては、メラミン樹脂（屈折率約１．５７）、スチレン樹脂（屈折率約１．５９）、ジビニルベンゼン樹脂（屈折率約１．５７）、ベンゾグアナミン樹脂（屈折率約１．５７）、アクリル−スチレン樹脂（屈折率約１．５４）、ポリカーボネート樹脂（屈折率約１．５７）、フェノール樹脂（屈折率約１．７０）、塩化ビニリデン樹脂（屈折率約１．６３）、ポリ塩化ビニル樹脂（屈折率約１．６０）等の微粒子が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。また、無機の高屈折率微粒子としては、酸化セリウム（屈折率約１．６３）、ＳｉＯ2（屈折率約２．００）、ＴｉＯ2（屈折率約２．７０）、ＺrＯ2（屈折率約２．０５）、Ａｌ2Ｏ3（屈折率約１．６３）、シリカ−チタニア系粒子（屈折率約１．６７）等の微粒子が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。高屈折率微粒子は、２種以上を混合して用いることもできる。
【００１５】
低屈折率微粒子は、屈折率が１．３０以上１．５０未満の微粒子であり、有機の低屈折率微粒子としては、フッ素樹脂（屈折率約１．３５）、シリコーン樹脂（屈折率約１．４５）、塩化ビニル樹脂（屈折率約１．４５）、酢酸ビニル樹脂（屈折率約１．４６）、ポリプロピレン樹脂（屈折率約１．４９）、セルロースアセテートプロピオネート（屈折率約１．４７）等の微粒子が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。また、無機の低屈折率微粒子としては、ホロシリケイト（屈折率約１．４３）の微粒子が挙げられるが、特にこれに限定されるものではない。低屈折率微粒子は、２種以上を混合して用いることもできる。
微粒子としては、中空の微粒子も使用できる。
【００１６】
本発明の光散乱膜用組成物に含まれる微粒子の平均粒子径は０．０１〜２０μｍであることが好ましく、要求される光散乱能および光散乱膜の膜厚により決定される。一般的に平均粒子径が大きいほど、光散乱能は大きくなるが、光散乱膜の平滑性が悪くなる。
微粒子の平均粒子径は、粒子を光学顕微鏡にて観察し、画像解析・計測ソフトウェアを用い、粒子１００個の直径を実測して算出されるものである。
【００１７】
本発明の光散乱膜用組成物に含まれる有機溶剤としては、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミル、酢酸ｎ−アミル、メチルイソブチルケトン、ｎ−ブチルアルコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２，３−トリクロロプロパン、ｏ−クロロトルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、１，３−ブタンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ジイソブチルケトン、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ｐ−クロロトルエン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｎ−ブチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール等が挙げられる。これらは、単独でまたは２種以上混合して用いられる。有機溶剤は、光散乱膜用組成物中の微粒子１００重量部に対して、２００〜４０００重量部、好ましくは４００〜２５００重量部の量で用いることができる。
【００１８】
光散乱膜用組成物には、該組成物を活性エネルギー線により硬化させて光散乱膜を形成する場合、あるいは光散乱膜をリソグラフィ法によりパターニングして形成する場合には、エチレン性不飽和化合物を含有させ、さらに該組成物を紫外線により硬化させる場合には、光重合開始剤を含有させる。
また、光散乱膜用組成物をリソグラフィ法によりパターニングする際にアルカリ現像する場合には、透明樹脂として、アルカリ可溶性のもの、例えば、フルオレン樹脂や、カルボキシル基を有するアクリル系樹脂等を用いることが好ましい。
【００１９】
本発明の光散乱膜用組成物に含まれるエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和二重結合を1個または２個以上有する化合物であり、モノマー、オリゴマー、感光性樹脂を用いることができる。モノマーおよびオリゴマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１, ６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、エステル（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等の各種アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられ、感光性樹脂としては、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等に公知の方法でエチレン性不飽和二重結合を導入したものが挙げられる。
エチレン性不飽和化合物は、１種を単独で、あるいは２種以上を混合して用いられる。エチレン性不飽和化合物の量は微粒子１００重量部に対して１〜３００重量部であることが好ましい。
【００２０】
光重合開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光重合開始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、イミダゾール系光重合開始剤等が用いられる。光重合開始剤は、光散乱膜用組成物中の微粒子１００重量部に対して、５〜２００重量部、好ましくは１０〜１５０重量部の量で用いることができる。
【００２１】
上記光重合開始剤は、単独でまたは２種以上混合して用いることができるが、増感剤として、α−アシロキシムエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を併用することもできる。増感剤は、光散乱膜用組成物中の光重合開始剤１００重量部に対して、０．１〜６０重量部の量で用いることができる。
【００２２】
光散乱膜用組成物には、塗工性向上、感度の向上、密着性の向上、貯蔵安定性などを目的として、連鎖移動剤、界面活性剤、シランカップリング剤、分散剤、貯蔵安定剤等の添加剤を添加しても良い。
界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどのノニオン性界面活性剤；アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物などのカオチン性界面活性剤；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００２３】
シランカップリング剤としては、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン類、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリルシラン類、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン類、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のチオシラン類、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリロキシ系等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００２４】
貯蔵安定剤としては、例えばベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ−ブチルピロカテコール、テトラエチルホスフィン、テトラフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
分散剤としては、ポリウレタン、ポリアクリレートなどのポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、酸基を含む共重合物のアルキロールアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩などの油性分散剤、（メタ）アクリル酸−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、燐酸エステル系等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【００２５】
各種添加剤の量は、微粒子１００重量部に対して０．０１〜５０重量部が好ましい。
光散乱膜用組成物は、各成分を混合し、シェーカー、デスパー、サンドミル、アトライター等の各種分散装置を用いて分散することにより製造することができる。
光散乱膜用組成物は、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子および混入した塵の除去を行うことが好ましい。
また、本発明の光散乱膜用組成物は、塗布ムラを発生することなく、均一な塗膜を得るために、Ｅ型粘度計を用いて回転数２０ｒｐｍで測定した２５℃における粘度が６ｍＰａ・ｓ以下になるように調整することが好ましく、２ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下になるように調整することがより好ましい
【００２６】
つぎに、本発明の光散乱膜用組成物を用いた光散乱膜の製造方法について説明する。
光散乱膜は、ダイコート方式によって本発明の光散乱膜用組成物を塗布することにより、基板上に形成される。
ダイコート方式による光散乱膜用組成物の塗布は、公知のダイコータを使用して行うことができ、その際の塗布条件は、光散乱膜用組成物の組成、製造する光散乱膜の種類などによって適宜選択すればよい。例えば、ノズル先端のリップ幅は５０〜５００μｍとし、ノズル先端と基板面との間隔は３０〜３００μｍとするのが好ましい。塗布膜厚を調整するには、リップ走行速度やリップからの塗出量を調整すればよい。
【００２７】
光散乱膜の基板としては、可視光に対して透過率の高いソーダ石灰ガラス、低アルカリ硼珪酸ガラス、無アルカリアルミノ硼珪酸ガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板が用いられる。また、ガラス板や樹脂板の表面には、パネル化後の液晶駆動のために、酸化インジウム、酸化錫などからなる透明電極が形成されていてもよい。
塗布後、乾燥し、必要に応じて活性エネルギー線を照射することにより光散乱膜を作成する。光散乱膜をパターニングにより形成する場合には、光散乱膜用組成物を塗布、乾燥後に、フォトマスクを介して組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射し、溶剤またはアルカリ現像液に漬浸するかスプレーなどにより現像液を噴霧して未照射部、すなわち未硬化部を除去して現像を行い、所望の形状のパターンを形成する。
【００２８】
光散乱膜用組成物の塗布膜厚は、０．２〜５．０μｍ（乾燥時）の範囲であることが好ましく、塗工性と光散乱特性のバランスが良好なことから０．５〜３．５μｍの範囲であることがより好ましい。
フォトリソグラフィー法によれば、印刷法より精度の高い光散乱膜が製造できる。
塗布膜を乾燥させる際には、減圧乾燥機、コンベクションオーブン、ＩＲオーブン、ホットプレート等を使用してもよい。
現像に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。
【００２９】
なお、活性エネルギー線による露光感度を上げるために、光散乱膜用組成物を塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ可溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し、酸素による重合阻害を防止する膜を形成した後、組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射することもできる。
活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。組成物塗布面側から照射する電子線の線源には、熱電子放射銃、電界放射銃等を使用することができる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライド灯、ガリウム灯、キセノン灯、カーボンアーク灯等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度が安定であることから、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。組成物塗布面側から照射する活性エネルギー線量は、５〜１０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい２０〜３００ｍＪの範囲であることが好ましい。
【実施例】
【００３０】
以下に、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例「％」とは「重量％」をそれぞれ意味する。
［実施例１］
下記の光散乱膜用組成物処方の組成物をマルチシェーカー（アイラー社製「ＭＭＳ-３１０」）を用いて混合し、光散乱膜用組成物を調製した。
【００３１】
[光散乱膜用組成物処方] 
アクリル樹脂微粒子                                                    ６．７％
（綜研化学（株）製「ＦＸＳ−１８０ＣＦ」、平均粒子径１．８μm、屈折率１．４５）
フルオレン樹脂（屈折率１．６、重量平均分子量4000）のプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート溶液（固形分60％）                      ５１．５％
ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート
（東亞合成（株）製「アロニックスM-402」）                               ７．５％
光重合開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア９０７」）                ０．９％
シリコン系レベリング剤（ビックケミー社製「ＢＹＫ−３３０」の２％エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート希釈溶液）                      １．０％
シクロヘキサノン                                                    ３２．４％
【００３２】
［実施例２〜４および比較例１］
レベリング剤を表１に示す品名に変更した以外は、実施例1と同様にして調整した光散乱膜用組成物を得た。
【表１】
2007187824.tif 000003
【００３３】
シリコン系レベリング剤Ａ：ビックケミー社製「ＢＹＫ−３３０」の２％
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート希釈溶液
シリコン系レベリング剤Ｂ：ビックケミー社製「ＢＹＫ−３２３」の１％
シクロヘキサノン希釈溶液
シリコン系レベリング剤Ｃ：ビックケミー社製「ＢＹＫ−３３３」の１％
シクロヘキサノン希釈溶液
シリコン系レベリング剤Ｄ：ビックケミー社製「ＢＹＫ−３２０」の１％
シクロヘキサノン希釈溶液
フッ素系レベリング剤Ｅ：大日本インキ化学工業社製「ＢＬ−２０」５％
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート希釈溶液
【００３４】
実施例１〜４および比較例１で得られた光散乱膜用組成物の１００ｍｓにおける動的表面張力（Ｉ）と１０００ｍｓにおける動的表面張力（II）を動的表面張力計（クルス社製）で測定し、[｛（Ｉ）−（II）｝／（Ｉ）]×１００の値を算出した。また、得られた光散乱膜用組成物の２５℃における粘度をＥ型粘度計（トキメック社製）を用い回転数２０ｒｐｍで測定した。また、得られた光散乱膜用組成物を図１に示すダイコート方式の塗布装置を用いて、図２に示すように３６０ｍｍ×４６５ｍｍサイズのガラス基板上に平均膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、得られた塗布基板を７０℃で２０分間プレベークして乾燥塗膜を得た。得られた乾燥塗膜の短辺中央より塗工方向に１０ｃｍまで５ｍｍおきに膜厚を測定した。その時の最大膜厚をＴmax、最小膜厚をＴmin、平均膜厚をＴavgとする。下式（３）により膜厚の均一性Ｕ（Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）が、１％未満を◎、１％以上２％未満を〇、２％以上５％未満を△、５％以上を×として評価を行った。
Ｕ[％]＝（Ｔmax−Ｔmin）／（Ｔavg×２）  ・・・・・・（３）
また、上記塗布基板について、白色透過光にて塗布ムラ評価を行った。目視によって塗布ムラがない場合を○、塗布ムラがわずかに観察された場合を△、塗布ムラがハッキリと観察された場合を×とした。膜厚均一性および塗布ムラ評価の結果を表２に示す
【表２】
2007187824.tif 000004
【００３５】
実施例１〜４の光散乱膜用組成物を用いて形成された塗膜、特に上記式（２）で示されるシリコン系レベリング剤を含有する実施例１の光散乱膜用組成物を用いて形成された塗膜は、基板端面部と基板中心部の膜厚差が小さく、均一な塗膜であった。一方、比較例１のレジスト材を用いて形成された塗膜は、基板端面部と基板中心部の膜厚差が大きかった。
また、実施例１〜４の光散乱膜用組成物を用いて形成された塗膜には塗布ムラは見られなかったが、比較例１の光散乱膜用組成物を用いて形成された塗膜には、塗布ムラが観察された。
また、実施例１〜４で得られた光散乱膜用組成物をダイコート法にて３６０ｍｍ×４６５ｍｍサイズのガラス基板上に塗布し、上記に示したフォトリソグラフィー法で光散乱膜の製造を行った。基板外周部にツノがなく、塗布ムラがない光散乱膜を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】実施例で用いたダイコート方式の塗布装置の概略図。
【図２】図１の塗布装置（ダイコータ）による塗布状態を示す斜視図。
【符号の説明】
【００３７】
１：塗布ヘッド
２：フロントリップ
３：リアリップ
４：マニホールド
５：スリット
６：配管
７：バルブ
８：定量ポンプ
９：フィルタ
１０：塗布液タンク
１１：塗膜
１２：塗工基板
１３：搬送ステージ
【図１】
2007187824.tif 000006
【図２】
2007187824.tif 000007