(57)【要約】【課題】  成形条件の設定を簡易画面により簡便に行うことができる転写装置の制御装置の提供を目的とする。【解決手段】  制御装置３００は、微細転写装置１内の検出部１１０の各センサからの検出信号を直接またはＡ／Ｄ変換して受け取るインターフェイスユニット３０２と、各制御対象に対する指令値を設定表示するヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）ユニット３０３と、全データ画面用の第１データエリア３０４−１と簡易画面用の第２データエリア３０４−２ならびに、実稼動用設定値をストアする第３データエリア３０４−３を有するデータメモリ（ＤＭ）部３０４と、第３データエリア３０４−３の設定データに対応させて前記各制御対象１００へのドライブ指令を生成するシーケンスプログラムおよび前記ＨＭＩユニット３０３における画面操作を支援する成形条件設定支援プログラムをストアするメモリエリアを有するプログラムメモリ（ＰＧＭ）３０５を備える。【選択図】  図１
2007196581.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の成形材料に対し原盤金型を所定位置まで相対的に対向接近させて前記基板上の成形材料に前記原盤金型に形成されている微細形状を反映させ、しかる後、前記原盤金型の微細形状面を前記成形材料から離すように、前記原盤金型もしくは前記成形材料を動作せしめるサーボモータ駆動手段を備えた転写装置における制御装置であって、
前記サーボモータ駆動手段を含む前記微細転写装置内の制御対象に対応して設けられたドライブユニットと、
前記微細転写装置内の各制御対象に対応して設けられたセンサからの検出信号を直接またはＡ／Ｄ変換して受け取るインターフェイスユニットと、
前記各制御対象に対する指令値を設定表示するための画面を表示する表示手段を有するヒューマンインターフェイス部と、
少なくとも、前記各制御対象の全ての制御項目に対応する設定値をストアする全データ画面用の第１データエリアと各制御対象の限定された制御項目に対応する設定値をストアする簡易画面用の第２データエリアならびに、実稼動用設定値をストアする第３データエリアを有するデータメモリ部と、
少なくとも、前記第３データエリアの設定データに対応させて前記各制御対象へのドライブ指令を生成するシーケンスプログラムおよび前記ＨＭＩ部における画面操作を支援する成形条件設定支援プログラムをストアするメモリエリアを有するプログラムメモリ部と、
前記各プログラムの指令に基づき所定の演算を行う主ＣＰＵと、
前記インターフェイスユニット、ヒューマンインターフェイス部、データメモリ部およびプログラムメモリ部と主ＣＰＵとの間を接続するバスラインと、
を有する制御装置。
【請求項２】
請求項１で、制御対象がさらにヒータ群を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項３】
請求項１で、制御対象がさらにピエゾハンマー群を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項４】
請求項１で、制御対象がさらにピエゾアクチュエータ群を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項５】
請求項１で、制御対象がさらに真空度調整装置を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項６】
請求項１で、制御対象がさらにUV光強度調整装置を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項７】
請求項１で、制御対象がさらに窒素ガスなどの流量調整弁群を有することを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項８】
請求項１で、ヒューマンインターフェイス部の画面は、成形条件設定用の他にさらにモニター等の工程監視用画面であることを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項９】
請求項１で、ヒューマンインターフェイス部の画面は、成形条件設定用の他にさらに生産管理用の画面であることを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項１０】
請求項１で、簡易画面用データエリアは複数設けられていることを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項１１】
請求項１で、前記インターフェイスユニットは外部からの成形データを受信可能であることを特徴とする転写装置における制御装置。
【請求項１２】
請求項１で、前記第３データエリアは第２データを受け入れた後、画面を全画面に切り換えることにより、第１データエリアとして設定可能にすることを特徴とする転写装置における制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、型の表面に形成された凹凸パターンを被成形品の表面に転写する転写装置の制御装置に関するものであり、特に、成形条件を画面表示しながら設定する転写装置の制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に微細なパターンを形成して型（テンプレート、スタンパ）を作成し、被成形品として被転写基板表面に形成されたレジスト膜に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成されたパターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（非特許文献１参照）。
【０００３】
前記ナノインプリント技術に基づいた微細転写装置は、基板上の成形材料に対し、例えば金型原盤をプレスすることによって当該成形材料を所望の形状に成形するという、文字通り微細な転写を行うものである。その機械的な動作は大まかに言えば、一対の基板と金型原盤とを相対的に接近および離間させることであるが、介在する成形材料の種類は、用途に応じて多岐にわたっており、例えば、ピックアップレンズ用のガラス、コンパクトディスク（ＣＤ）やデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）用の樹脂、半導体におけるフォトマスク用の光硬化性樹脂等がある。
【０００４】
これら成形材料の問題に加え、微細転写では、プレス動作と引き抜き動作を首尾よく行うためには、介在するいろいろなパラメータ、例えば、プレス力、プレス力の切換位置、時間、基板側および原盤側の金型温度、不活性ガス流量、成形室の真空度等などを制御しなければならない。微細転写装置による成形では、これらパラメータの設定の良し悪しが成形品の品質に直接影響するという点で、成形条件を正しく設定する必要がある。しかし、一方、設定すべきデータの数は非常に多く、且つ各データの数値をどのように決定するかは当該分野で熟練を要するという事情があり、これまでのところ微細転写用の制御装置としては、パソコンをベースとした、当該熟練者が種々のパラメータを自由に操作して設定が可能となるようにするものが主流であった。
【０００５】
また、一部には、ガラス成形機において、工作機械に多用されているＣＮＣ制御装置をベースにして位置制御を行うものも使用されている（下記特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平０７−１７２８５０号公報
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、微細転写装置の需要が増大化傾向にある現在、当該微細転写装置用のパソコンによる制御装置の場合では上述の状態のため熟練者の絶対的不足を招き、また、ＣＮＣ制御装置の場合では、各種パラメータの設定、修正操作に数値制御に固有なコマンドを理解しているオペレータが必要であるなどの事情がネックとなっている。したがって、一般の、非熟練者であるオペレータによる成形条件の設定操作を可能とすることが強く求められている。
【０００７】
本発明は、こうした問題を解決するものとしてなされたものであり、成形条件の設定を簡易画面により簡便に行うことのできる転写装置の制御装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る転写装置における制御装置は、前記課題を解決するために、基板上の成形材料に対し原盤金型を所定位置まで相対的に対向接近させて前記基板上の成形材料に前記原盤金型に形成されている微細形状を反映させ、しかる後、前記原盤金型の微細形状面を前記成形材料から離すように、前記原盤金型もしくは前記成形材料を動作せしめるサーボモータ駆動手段を備えた転写装置における制御装置であって、前記サーボモータ駆動手段を含む前記微細転写装置内の制御対象に対応して設けられたドライブユニット部と、前記微細転写装置内の各制御対象に対応して設けられたセンサからの検出信号を直接またはＡ／Ｄ変換して受け取るインターフェイスユニットと、前記各制御対象に対する指令値を設定表示するための画面を表示する表示手段を有するヒューマンインターフェイス部と、少なくとも、前記各制御対象の全ての制御項目に対応する設定値をストアする全データ画面用の第１データエリアと各制御対象の限定された制御項目に対応する設定値をストアする簡易画面用の第２データエリアならびに、実稼動用設定値をストアする第３データエリアを有するデータメモリ部と、少なくとも、前記第３データエリアの設定データに対応させて前記各制御対象へのドライブ指令を生成するシーケンスプログラムおよび前記ＨＭＩ部における画面操作を支援する成形条件設定支援プログラムをストアするメモリエリアを有するプログラムメモリ部と、前記各プログラムの指令に基づき所定の演算を行う主ＣＰＵと、前記インターフェイスユニット（ｉ／Ｆ）、ヒューマンインターフイェース（ＨＭＩ）部、データメモリ部およびプログラムメモリ部と主ＣＰＵとの間を接続するバスラインとを有する。
【０００９】
前記転写装置における制御装置は、制御対象としてさらにヒータ群を有するのが好ましい。また、制御対象としてさらにピエゾハンマー群を有するのが好ましい。
【００１０】
また、前記転写装置における制御装置は、制御対象としてさらにピエゾアクチュエータ群を有するのが好ましい。また、制御対象としてさらに真空度調整装置を有するのが好ましい。
【００１１】
また、前記転写装置における制御装置は、制御対象としてさらにUV光強度調整装置を有するのが好ましい。また、制御対象としてさらに窒素ガスなどの流量調整弁群を有するのが好ましい。
【００１２】
また、前記転写装置における制御装置では、ヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）部の画面は、成形条件設定用の他にさらにモニター等の工程監視用画面であるのが好ましい。また、ヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）部の画面は、成形条件設定用の他にさらに生産管理用の画面であるのが好ましい。
【００１３】
また、前記転写装置における制御装置では、簡易画面用データエリアは複数設けられているのが好ましい。
【００１４】
また、前記転写装置における制御装置では、インターフェイスユニット（ｉ／Ｆ）は外部からの成形データを受信可能であることが好ましい。
【００１５】
また、前記転写装置における制御装置では、第３データエリアは第２（ＮＩＬ：Nano Inprint Lisography）データを受け入れた後、画面を全画面に切り換えることにより、第１データエリアとして設定可能にすることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、成形条件の設定を簡易画面により簡便に行うことができる。したがって、一般の、非熟練者であるオペレータによる成形条件の設定操作を可能とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は微細転写装置１と、その微細転写装置１における制御装置３００の機能ブロック図である。微細転写装置１は、基板上の成形材料に対し原盤金型を所定位置まで相対的に対向接近させて前記基板上の成形材料に前記原盤金型の微細形状面に形成されている微細形状を反映させ、しかる後、前記原盤金型の微細形状面を前記成形材料から離すように、前記原盤金型もしくは前記成形材料を動作せしめるサーボモータ駆動手段（サーボモータ群）を含む制御対象１００を備える。また、微細転写装置１は、制御対象１００に含まれる後述の複数の各制御対象に対応して設けられたセンサ群を有する検出部１１０を備える。
【００１９】
制御装置３００は、微細転写装置１の動作を制御する。例えば、微細転写装置１の一対の基板と金型原盤とを相対的に接近および離間させる動作に対し、プレス動作と引き抜き動作を首尾よく行わせるために、介在するいろいろなパラメータ、例えば、プレス力、プレス力の切換位置、時間、基板側および原盤側の金型温度、不活性ガス流量、成形室の真空度等などを制御する。
【００２０】
制御装置３００は、微細転写装置１内の制御対象１００に対応して設けられたドライブユニット３０１と、微細転写装置１内の検出部１１０の各センサからの検出信号を直接またはＡ／Ｄ変換して受け取るインターフェイス（ｉ／Ｆ）ユニット３０２と、前記各制御対象に対する指令値を設定表示するヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）ユニット３０３とを備える。
【００２１】
また、制御装置３００は、全データ画面用の第１データエリア３０４−１と簡易画面用の第２データエリア３０４−２ならびに、実稼動用設定値をストアする第３データエリア３０４−３を有するデータメモリ（ＤＭ）部３０４を備える。
【００２２】
また、制御装置３００は、第３データエリア３０４−３の設定データに対応させて前記各制御対象１００へのドライブ指令を生成するシーケンスプログラムおよび前記ＨＭＩユニット３０３における画面操作を支援する成形条件設定支援プログラムをストアするメモリエリアを有するプログラムメモリ（ＰＧＭ）３０５を備える。
【００２３】
また、制御装置３００は、プログラムメモリ３０５にストアされた各プログラムの指令に基づいて所定の演算を行うＣＰＵ３０６を備える。また、制御装置３００は、インターフェイス（ｉ／Ｆ）ユニット３０２、ヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）ユニット３０３、データメモリ部３０４およびプログラムメモリ部３０５と主ＣＰＵ３０６との間を接続するバスライン３０７を備える。この制御装置３００の詳細については後述する。
【００２４】
図２は微細転写装置１の制御対象１００を詳細に示した図である。制御対象１００としては、まず、サーボモータ群（Ｘ；Ｙ；Ｚ）１０１がある。このサーボモータ群１０１は、基板上の成形材料に対し原盤金型を所定位置まで相対的に対向接近させて前記基板上の成形材料に前記原盤金型の微細形状面に形成されている微細形状を反映させ、しかる後、前記原盤金型の微細形状面を前記成形材料から離すように、前記原盤金型もしくは前記成形材料を動作せしめる。ここで、軸Ｘ，Ｙは基板用テーブル、またＺは原盤金型のプレス方向を示す。この基板用テーブルは後述の図４の可動テーブル１１と同一である。
【００２５】
また、制御対象１００としては、ヒータ群（金型  上；下）１０２、ピエゾハンマー群１０３、ピエゾアクチュエータ群１０４、真空度調整装置１０５、ＵＶ光強度調整装置１０６、Ｎ２ガス等の流量調整弁群（窒素ガスなどの流量調整弁群）１０７がある。これら、制御対象については図３〜図８を用いて具体例を説明する。
【００２６】
さらに、検出部１１０は、制御対象１００であるサーボモータ群１０１、ヒータ群１０２、ピエゾハンマー群１０３、ピエゾアクチュエータ群１０４、真空度調整装置１０５、ＵＶ光強度調整装置１０６、Ｎ２ガスなどの流量調整装弁群用のセンサ群１０７に対応して設けられたセンサ群である、ロードセル、エンコーダ等の各種検出器を備えている。
【００２７】
図３〜図５は、微細転写装置１の全体構成を示す図である。図３は微細転写装置の左側面図であり、図４は正面図であり、図５は平面図である。図３、図４において符号１は微細転写装置、３は本体フレームである。本体フレーム３は、側面視した場合の形状は概ねL字型をしており、下部側にベースフレームとしての四角形状の下部フレーム７が一体的に取り付けられている。下部フレーム７の４隅には、それぞれタイバ９が本体フレーム３の垂直部と平行に立設され、タイバ９の上端には、駆動手段を支持するための支持フレームとしての四角形状の上部フレーム５が取り付けられている。タイバ９には、前記上部フレーム５と下部フレーム７との間において、四角形状の可動体１９がタイバ９に沿う方向すなわち上下に移動自在に遊嵌されている。
【００２８】
本体フレーム３の上部は、上部フレーム５及び可動体１９の左右両側面における前後方向のほぼ半分（中間）の位置に達するように前方に突出し、その先端には上下に伸びるリニアガイド（案内手段）２１が取り付けられている。上部フレーム５と可動体１９の左右両側面には、リニアガイド２１に係合して、例えば零クリアランスの状態で上下に精密に案内移動されるスライダ２３，２４が取り付けられている。
【００２９】
上記説明より理解されるように、前記本体フレーム３は、前記下部フレーム（ベースフレーム）７を支持するフレーム支持部３Ａを一端側（下端側）に備えることにより、側面視したときに、概ねＬ字形を呈するものである。そして、前記本体フレームリニアガイド２１を備えたガイドフレーム３Ｂを前方に突出して備えることにより、上端側（他端側）に凹部を形成した構成である。
【００３０】
そして、前記上部フレーム５及び前記可動体１９は、図５に示すように、本体フレーム３における左右の前記ガイドフレーム３Ｂの間に配置してあり、前記上部フレーム５，可動体１９に備えた前記スライダ２３，２４は、上部フレーム５，可動体１９の前後方向（図３，図５において左右）及び左右方向（図３において紙面に垂直な方向、図５において上下方向）の中心を中心として対称的な位置において前記リニアガイド２１に移動可能に係合してある。なお、図３には、前記リニアガイド２１は、前記スライダ２３，２４にそれぞれ対応したリニアガイドを別個に設けることも可能である。しかし、加工の容易性、互いに平行度の加工精度を考慮すると、スライダ２３，２４に対してリニアガイド２１を共通に設けることが望ましいものである。
【００３１】
ここで、上部フレーム５は、タイバ９を介して下部フレーム７及び本体フレーム３に固定されているが、後述する型の押し付け力や温度変化等によりタイバ９が縮小したとき、上部フレーム５の上下動を許すと共に、タイバ９の曲がりや伸縮によって生じるタイバ９と垂直な面内における上部フレーム５の位置ずれ（横ずれ）を防止するために、上記リニアガイド２１とスライダ２３が設けられている。これは、上部フレーム５の位置ずれ（横ずれ）をより確実に防止するためのものであり、上部フレーム５は、本体フレーム３から切り離し、タイバ９により下部フレーム７に連結固定するのみでもよい。
【００３２】
可動体１９は、上記のようにタイバ９には遊嵌されているため、リニアガイド２１とスライダ２４により上下方向への移動を精密に案内される。
【００３３】
上記リニアガイド２１及びスライダ２３，２４は、上部フレーム５及び可動体１９自体の温度変化による位置ずれ（横ずれ）を防止するため、上部フレーム５及び可動体１９の前後左右の中心に対して対称の位置に配置することが好ましい。
【００３４】
下部フレーム７の上面中央には、上に向かって垂直に伸びる固定台１０が取り付けられている。固定台１０の上には、図４に示すように、Ｘ，Ｙテーブル等のＸ，Ｙ方向（前後左右方向）への移動可能かつ微調整して位置決め可能な可動テーブル１１が設けられ、この可動テーブル１１の上には、被成形品１３を支持する支持台１５が設けられている。なお、可動テーブル１１は、リニアガイドとスライダにより案内され、図１及び図２に示した制御対象１００に含まれるサーボモータ群１０１により可動されるもので、公知の構成であるため、詳述を避ける。
【００３５】
被成形品１３は、例えば、シリコン、ガラス、セラミック等の適宜な材料よりなる基板の上面に紫外線硬化樹脂等からなる被成形層（図示せず）を数１０ｎｍ乃至数μｍの厚さに塗布した薄膜を備えた構成である。なお、この上記被成形層は、熱可塑性樹脂よりなるレジストを用いる場合もあるため、支持台１５には、上記被成形層を加熱軟化させて成形を容易にするための、図１などに示した制御対象１００に含まれるヒータ群１０２のような加熱手段（図示せず）を内蔵させてもよい。
【００３６】
図４に示すように、可動体１９の下面中央（前記ベースフレームに対向した対向面の中央）には、検出部１１０の各センサー群を構成するロードセル４６を介して旋回台４７が可動体１９の下面中央を中心として旋回可能かつ所定の角度位置に固定可能に取り付けられている。この旋回台４７には、ジンバル機構４５を介して型支持プレート４３が取り付けられ、この型支持プレート４３に型４１が着脱可能に装着される。
【００３７】
ジンバル機構４５は、型４１の型表面（図４において下面）中央を中心とする球面を有し、詳細な図示は省略するが、この球面を空気軸受で支持し、型４１を上記型表面の中央を中心として自在に傾動可能にすると共に、空気軸受を負圧にして型４１の姿勢を不動状態に固定可能な構成となっている。
【００３８】
型４１は、型表面（図４において下面）にリソグラフィ技術を用いて微細な凹凸のパターンが形成されており、この実施形態においては紫外線を透過し易い透明の石英ガラスからなっている。
【００３９】
上記型支持プレート４３、ジンバル機構４５、旋回台４７及びロードセル４６は、いずれも中央に貫通穴４３Ａ等を有し、可動体１９には、紫外線光源４２から光ファイバ４２Ａ及び反射ミラー４２Ｂを介して紫外線を上記貫通穴から型４１の背面へ導く貫通穴４２Ｃが設けられている。すなわち導光路が備えられている。紫外線光源４２が発生した紫外線は、図１などに示した制御対象１００に含まれるＵＶ光強度調整装置１０６によって強度が調整される。
【００４０】
支持フレームとしての前記上部フレーム５には、前記可動体１９を移動するための駆動手段の一例としてのサーボモータ３３が装着支持されている。このサーボモータ３３はサーボモータ群１０１に含まれる。サーボモータ３３の出力軸３５は、軸受２９により上部フレーム５に回転のみ自在に取り付けられた中空軸３１に連結され、中空軸３１の下端には、ボールネジ機構２５を構成するボールネジナット２６が取り付けられている。このボールネジネット２６には、可動体１９の前後左右の中央部（中心）に垂直に取り付け固定されたボールネジ軸２７が係合し、可動体１９を所定の速度及びトルクで上下に移動させるようになっている。なお、参照符号３３Ａはサーボモータ３３の回転位置を検出するロータリーエンコーダである。
【００４１】
上部フレーム５には、バランス取り手段の一例としてのバランスシリンダ５０が、図５に示すように、可動体１９の中心を中心として対称な位置に複数設けられている。これらのバランスシリンダ５０のビストンロッド５２は、それぞれ可動体１９に連結され、重力による可動体１９の下向きの荷重を相殺するようになっている。
【００４２】
可動体１９の下面には、型支持プレート４３等を囲むリング状の上カバー５４が取り付けられている。他方、下部フレーム７側には、下端を固定台１０の周面に移動可能に係合され、上端を上記上カバー５４の下端に当接可能に形成されて可動テーブル１１等を囲む同じくリング状の下カバー５６が取り付けられている。この下カバー５６は、下部フレーム７に取り付けられた上下動用アクチュエータの一例としての複数のシリンダ５８により上下に移動され、上カバー５４とにより、型支持プレート４３及び可動テーブル１１の周囲に開閉可能な成形室６０を形成するようになっている。
【００４３】
次いでこの転写装置の作用について説明する。上下動用アクチュエータとしてのシリンダ５８により下カバー５６を下降させて成形室６０を開き、型４１を型支持プレート４３に取り付け、型４１の中央を中心とする水平な回転方向の取付角度（型の方向性）を旋回台４７により微調整する。なお、この型４１の取付角度調整は、型取付時のみでなく、マークを用いた公知の位置合わせ手段により、支持台１５上にセットされた被成形品１３に合わせてその都度、自動的に微調整するようにしてもよい。
【００４４】
上記のように型４１をセットした後、上面に紫外線硬化樹脂からなる被成形層を塗布した被成形品１３を支持台１５上にセットする。
【００４５】
次いでシリンダ５８により下カバー５６を上昇させて成形室６０を閉じ、サーボモータ３３のトルクを比較的小さな値に設定した状態で可動体１９を下降させて型４１を被成形品１３に接近移動し、型４１を被成形品１３の上面に比較的小さな押し付け力で押圧する。
【００４６】
このとき、可動体１９は、左右両側方に配置されたリニアガイド２１及びスライダ２４により、移動方向に対して直交する方向への位置ずれ（横ずれ）をより小さく抑えられて下降し、被成形品１３の所定位置に向けて押し付けられる。また、このとき、可動体１９は、バランスシリンダ５０により重力による下向きの荷重を相殺されているため、サーボモータ３３はより小さなトルクで作動可能であり、トルク及び速度をより正確に制御されて下降する。
【００４７】
型４１が被成形品１３に押し付けられる際、両者の当接面（接触面）の平行度にずれがあると、型４１はジンバル機構４５により傾動自在に支持されているため、被成形品１３の上面に倣って型４１の全面が均一な面圧で押し付けられる。このとき、ジンバル機構４５は、型４１の型表面（図２において下面）中央を中心とする球面により、型表面の中央を中心として傾動するため、横方向（水平方向）の位置ずれを生じない。
【００４８】
上記押し付け力は、ロードセル４６により検出され、サーボモータ３３にフイードバックされて所定の値に保たれる。このときにも、可動体１９の荷重は、バランスシリンダ５０により相殺され、サーボモータ３３のトルクはより小さな値であるため、トルク制御がより正確に行われる。
【００４９】
こうして比較的小さな押し付け力による押し付けが完了したところで、ジンバル機構４５の空気軸受を負圧にして型４１の姿勢を不動状態に固定した後、サーボモータ３３のトルクを増加させる。このトルク増加により型４１は、被成形品１３の上面に塗布された紫外線硬化樹脂からなる被成形層に強く押し付けられ、型４１の表面に形成された微細な凹凸のパターンを被成形品１３の被成形層に転写する。
【００５０】
この型４１の強い押し付け力により、タイバ９は極くわずかではあるが伸び、上部フレーム５を上方向へ変位させる。この上部フレーム５の変位はリニアガイド２１とスライダ２３により吸収され、本体フレーム３の上部を図１において左方へ反らせるような不具合は生じない。そこで、型４１の押し付けに伴う型４１の移動方向に対して直交する方向の位置ずれ（横ずれ）が抑えられる。
【００５１】
また、上部フレーム５は、上記リニアガイド２１とスライダ２３により支持されているため、複数のタイバ９の伸びに差が生じるような場合にも、上部フレーム５の位置ずれ（横ずれ）は小さく抑えられ、型４１の位置ずれ（横ずれ）を小さく抑える。
【００５２】
なお、このタイバ９の伸びの差は、型４１の押し付け力が比較的小さい場合には、極めてわずかであるため、上記リニアガイド２１とスライダ２３による上部フレーム５の案内手段は省略してもよい。
【００５３】
上記転写の後、紫外線光源４２から光ファイバ４２A及び反射ミラー４２B等よりなる導光路を通して紫外線を型４１の背面へ所定時間照射する。型４１の背面へ照射された紫外線は、型４１が透明の石英ガラスからなっているため、これを透過して被成形品１３の上面に塗布された紫外線硬化樹脂からなる被成形層に照射され、この被成形層を硬化させる。
【００５４】
こうして被成形層を硬化させた後、型４１の姿勢を固定したままサーボモータ３３により可動体１９を上昇させて型４１を被成形品１３から離す。次いでシリンダ５８により下カバー５６を下降させて成形室６０を開き、被成形品１３を取り出して一連の転写動作を終了する。
【００５５】
図６〜図８は、前記ジンバル機構４５の部分の詳細を示す。
【００５６】
図６はジンバル機構４５の垂直方向縦断面図、図７は図６におけるZ矢視図、図８は図６のB−B線矢視図である。
【００５７】
図６において、それぞれ中心部に貫通孔を備えて、凸球面部を有する下側ジンバル部材２０１と凹球面部を有する上側ジンバル部材２０３が対接配置されている。下側ジンバル部材２０１の下面には断熱材２０７を介して型保持体２０５が固定されている。同型保持体２０５の下面には型４１が取付けられている。またその内部にはヒータ２０９が内蔵されている。また内部にヒータ２０９に加え、冷却装置（図示せず）を内蔵することも可能である。
【００５８】
上側ジンバル部材２０３には前記対接面に開口する吸引用管路２１１が形成され、真空引き装置（負圧発生手段）２１５へ真空度調整装置２１７（図２に示した真空度調整装置１０５と同一）を介して接続されている。この吸引用管路２１１の詳細が図８に例示されている。さらに、上側ジンバル部材２０３には浮上用管路２１３が設けられており、同管路２１３には圧縮エア供給源からラインL１を通り圧縮エアが下側ジンバル部材２０１の凸球面部に隣接して形成された張出し部の傾斜面２１９（浮上面）に噴射するようになっている。
【００５９】
より詳細には、前記傾斜面２１９は、図６に示すように、下側ジンバル部材２０１の軸心に対して上側が離反するように傾斜した傾斜面又は上部側が大径となるテーパ面に形成してある。そして、前記浮上用管路２１３のエア噴出孔は、前記傾斜面２１９に対向して上側ジンバル部材２０３に形成した傾斜面又はテーパ面に開口してある。
【００６０】
なお、参照符号２１８は調整ライナであって、傾斜面２１９と下側ジンバル部材２０１の対向面との間隔を調整するものである。
【００６１】
参照符号２２１はピエゾハンマー（図２に示したピエゾハンマー群に含まれる）であってそのフレーム２２１Fは上側ジンバル部材２０５の下方傾斜面Sの周囲３ケ所に均等配置して取付けられる。図示のように、ピエゾハンマー２２１は、エアシリンダ２２３のロツドに大きい慣性体２２７と先端部にハンマ２３１を取付けた小さい慣性体２２５を有し、両慣性体の間にはピエゾ（圧電）素子２２９が接続結合されている。従って、ピエゾ素子２２９に所定のパルス状電圧を与えることにより、両慣性体の慣性の差に基づいてハンマ２３１が瞬時に下側ジンバル部材２０１の前記傾斜面に配置してある硬質材の埋込みブロック２３３を打つようになっている。これにより下側ジンバル部材２０１の傾斜面２１９がハンマ２３１により軸方向に変位するとその分だけエアシリンダ２２３によりピエゾ素子２２９及び両慣性体が変位するようになっている。このような構成によりピエゾハンマー２２１は比較的少ない積層によるピエゾ素子であっても大きなストロークを移動可能である。
【００６２】
上側ジンバル部材２０３の上面には回動部材２３５が固定されており、同回動側部材２３５の内周側には回転軸受２３７を介して内側固定部材２３９が配設されている。さらに、内側固定部材２３９の上面にはプレート２４１が取り付け固定されている。前記プレート２４１及び内側固定部材２３９にはラインL２を介して圧縮エアを導入する管路２４３が形成されている。この圧縮エアは図示の如く回動部材２３５を静圧的に浮上させている。
【００６３】
図７に示されているように、回動部材２３５は一対のピエゾハンマー２２１A、２２１Bにより時計方向及び反時計方向に回動されることが可能である。なお、ピエゾハンマー２２１A、２２１Bはそのフレームがプレート２４１に固定されている。
【００６４】
なお、前記ピエゾハンマー２２１、２２１A、２２１Bに代えて、圧電素子を積層した所謂、ピエゾアクチュエータ（図２に示したピエゾアクチュエータ群１０４に含まれる）を用いることも可能である。その場合にはピエゾハンマーとは異なり、ピエゾアクチュエータの先端部位置を電気的に保存することが可能でありジンバル機構の姿勢を再現することが可能である。
【００６５】
図６において、プレート２４１の上面にはロードセル４６が設けられている。参照符号４６Aは信号取出し用端子である。可動体１９の内部には、図４で説明したように、紫外線発生装置４２から紫外線強度調整装置２５５（図２に示したＵＶ光強度調整装置１０６と同一）を介して光ファイバ４２Aの束がレンズ系２５３に導かれ、ここで均一な紫外線分布に形成され反射ミラー４２Bに照射されるようになっている。同ミラー４２Bで反射された紫外線はシール用のガラス材２５１を経てジンバル機構４５の中心軸axに同心状に形成された貫通孔４３Aを通って下方に向かうようになっている。紫外線硬化形の樹脂を成形材料とする場合は、前記型保持体２０５及び型４１は石英などの紫外線透過が可能な材料により形成されることは当然である。また、その場合には前記ヒータ２０９（図２に示したヒータ群１０２に含まれる）は不要である。
【００６６】
なお、参照符号２６１は下側ジンバル部材２０１の貫通孔内周に形成したネジ部である。貫通孔４３A上方からの紫外線は完全に平行ではないためある程度広がりを有する。従って、下方へ向かう紫外線が特に下側ジンバル部材２０１の貫通孔内周面にて反射しながら型４１を通過すると当該紫外線の分布が不均一となるのでこれを避けるため、前記ネジ部２６１のネジ面にて下方への反射を阻止するものである。その場合、当該ネジ面を反射率の少ない材料でコーティングしておくことが好ましい。
【００６７】
上述した貫通孔４３A及びレンズ系２５３、紫外線発生装置４２等は成形材料である樹脂が紫外線硬化形の場合に利用されるが、紫外線硬化形樹脂を使用しない場合にはこれら貫通孔４３A及びレンズ系２５３、紫外線発生装置４２等はなくてもよい。
【００６８】
上述のピエゾハンマー２２１及びピエゾハンマー２２１A、２２１Bはそれぞれオプションとして設けることができる。即ち、ジンバル機構４５の旋回、回動をさせる必要がない場合は前記回動部材２３５、内側固定部材２３９及びピエゾハンマー２２１A、２２１Bを省略することが可能である。また、３つのピエゾハンマー２２１による下側ジンバル部材２０１の姿勢調整を行なわない場合はこのピエゾハンマー２２１を省略することが可能である。
【００６９】
以下、前記ピエゾハンマー２２１及び前記回動部材２３５、内側固定部材２３９及びピエゾハンマー２２１A、２２１Bを装備していない場合の動作について説明する。
【００７０】
この場合には、成形品は、典型的には、CD、DVDなどのように円周上に微細な凹凸を形成されたもので、中心点が一致しておればその回転方向位置の影響を受けない成形品が好適である。可動テーブル１１上に配置された基板の中心をジンバル機構４５の中心軸axと一致するように当該テーブル１１をX，Y方向に位置決めする。可動体１９を下降させる際には、ジンバル機構の吸引力を最大にして下側ジンバル部材２０１を上側ジンバル部材２０３に吸着した状態とする。
【００７１】
この状態で、型４１が基板上の樹脂に接触する直前の所定位置まで降下したとき、下降速度を低速にすると共に真空引きの吸引力を弱め、下側ジンバル部材２０１をフリーな状態にして成形圧力をゆっくり与える。即ち、下側ジンバル部材２０１に取付け固定されている型保持体２０５及び型４１は下側ジンバル部材２０１と共に前記テーブル上面に配置された基板上の樹脂を下方へ押し付けつつ最終的には基板と平行な姿勢に倣うようになっている。その場合ジンバル機構４５の凸及び凹の球面中心がジンバル機構の中心軸ax上で型の下端面に一致するように配置されているのでこの押圧成形過程では水平方向のずれが生じない。
【００７２】
ところで、前述のように真空引きの吸引力を弱めて下側ジンバル部材２０１をフリーな状態にするとき、上側ジンバル部材２０３の凹球面部に開口したエア噴出口（図示省略）から下側ジンバル部材２０１に向けて少量のエアを噴出する構成とすることが望ましい。このような構成とすることにより、上側ジンバル部材２０３と下側ジンバル部材２０１との間の摩擦抵抗がより小さくなり、下側ジンバル部材２０１をより軽く円滑に動かすことができ、型４１の転写面を基板に対して平行にすることが容易であって、基板上の樹脂に対する押圧がより正確に行われるようになるものである。
【００７３】
また、図８に示した複数の吸引用管路２１１を個別に、又は適宜の複数組み毎にグループ化して、上側ジンバル部材２０３の凹球面部に形成された複数の環状溝の適数本に選択的に吸引力を作用するようにする。例えば小さな真空度での吸引力の場合には例えば奇数番目の環状溝あるいは少数の環状溝に吸引力を作用し、大きな真空度での吸引力の場合には多数の又は全ての環状溝に吸引力を作用するようにする。
【００７４】
すなわち、吸引力を作用する環状溝の本数を選択する構成（各吸引用管路２１１を個別にあるいはグループ毎に、真空引き装置に対してバルブ等によって連通遮断自在な構成とする）とすることにより、真空引きによる吸引力の調整を行うことができるものである。
【００７５】
なお、前記型４１が基板上の樹脂に接触する直前の所定位置の検出のためにサーボモータ３３に結合されているロータリーエンコーダ３３Aの信号を利用するが、たとえば、テーブル１１または型保持体２０５上に、電気的な導通・非導通を行なわせる部材を設けて検出することも可能である。
【００７６】
また、オプションとしてピエゾハンマー２２１を装着した場合、このピエゾハンマー２２１を機能させるのは、例えば、次のような場合である。即ち、基板上に樹脂を供給する前に、ジンバル機構４５を前述と同様に、吸着状態で下降し、型４１を基板に押し当てて接触させる。このときその接触状態が完全に平行でなく不均一である場合、吸引カを弱めた状態でその不均一な状態を修正するために３つのピエゾハンマー２２１に適宜の数の電圧パルスを与えて修正を行なう。このように、予め微調整を行うことにより均一状態となったときにジンバル機構を吸着状態に戻したのち、成形動作を開始する。また、成形品の成形後、型を樹脂から離形する場合にピエゾハンマー２２１を高い周波数で振動させながら上方へ引き上げると離形動作をスムーズに行なうことが可能である。この場合、振動の振幅は超音波等に比べ格段に小さいので離形中に成形された樹脂を損傷することもない。
【００７７】
一方、ジンバル機構４５を旋回、回動させるための一対のピエゾハンマー２２１A、２２１Bを備える場合には、このピエゾハンマーを機能させるのは例えば次のような場合である。即ち、基板がテーブル上で、Ｘ，Y方向に一致せず回転成分を有する場合であって、且つ中心点が一致していてもその回転方向位置の影響を受けるような成形品の場合である。この場合にはその回転方向位置即ち、角度を予め測定しておけば、その値に対応する電圧パルスをピエゾハンマー２２１A、２２１Bに与えてジンバル機構４５を旋回した状態で吸着させるのである。
【００７８】
次に、制御装置３００の詳細な構成について図１、図９〜図１２を参照して説明する。図９はヒューマンインターフェイスユニット３０３の詳細図である。図１０はデータメモリの詳細図である。図１１はデータメモリ内の実稼動用設定データエリアＤＭ８と簡易画面用データエリアＤＭ１、２及び全データ画面用データエリアＤＭ６との関係を示す図である。図１２はプログラムメモリ３０５の詳細図である。
【００７９】
制御装置３００は、微細転写装置１の一対の基板と金型原盤とを相対的に接近および離間させる動作に対し、プレス動作と引き抜き動作を首尾よく行うためには、介在するいろいろなパラメータ、例えば、プレス力、プレス力の切換位置、時間、基板側および原盤側の金型温度、不活性ガス流量、成形室の真空度等などを制御する。特に、この制御装置３００は、成形条件に関するパラメータを画面表示しながら設定することのできる制御装置である。
【００８０】
制御装置３００のドライブユニット３０１は、サーボモータ群１０１を含む微細転写装置１内の制御対象１００、詳細にはヒータ群（金型  上；下）１０２、ピエゾハンマー群１０３、ピエゾアクチュエータ群１０４、真空度調整装置１０５、ＵＶ光強度調整装置１０６、Ｎ２ガス等の流量調整弁群（窒素ガスなどの流量調整弁群）１０７に対応して設けられている。
【００８１】
インターフェイスユニット３０２は、微細転写装置１内の各制御対象に対応して設けられた検出部１１０の各センサからの検出信号を直接またはＡ／Ｄ変換器３０２−１によりＡ／Ｄ変換して受け取り、バスＢＳ３０７を介してメインＣＰＵ３０６に送出する。また、バスＢＳ３０７からのディジタル信号をＤ／Ａ変換器３０２−２によりアナログ信号に変換してからドライブユニット群３０１の各種ドライブユニットを介して微細転写装置１の各制御対象１００へ送出する。さらに、インターフェイスユニット（ｉ／Ｆ）３０２は外部からの成形データを受信可能である。他の微細転写装置において好適な成形データをインターフェイスユニット３０２を介して入手できる。
【００８２】
ヒューマンインターフェイスユニット３０３は、図９に示すように、制御対象１００の各制御対象１０１〜１０７に対する指令値を設定表示するための画面３０３−１を表示する表示装置３０３−２を有する。つまり、このヒューマンインターフェイスユニット３０３の画面３０３−１は、微細転写装置１の成形条件設定用画面３０３−１Ａに用いられる。また、工程監視用画面３０３−１Ｂとして用いられてもよい。また、生産管理用の画面３０３−１Ｃとして用いられてもよい。
【００８３】
また、ＨＭＩユニット３０３ではデータメモリＤＭ１の中に各種画面が用意されている。その場合、各種画面のデータは、データメモリＤＭ側の簡易画面用設定データエリアＤＭ１あるいはＤＭ２（第２データエリア３０４−２）のデータが転送されるようになっている。したがって、後述するように簡易画面によるデータを全画面データとして利用できる。
【００８４】
データメモリ部３０４は、図１０に示すように、簡易画面（NIL1）用データエリアＤＭ１を備える。これは、各制御対象の限定された制御項目に対応する設定値をストアする簡易画面用の第２データエリア３０４−２に相当する。また、簡易画面（NIL2）用データエリアＤＭ２も備える。このように簡易画面用データエリアは複数設けられている。この簡易画面のデータは、例えば微細転写装置メーカ側で予め用意することができる。もちろん、ユーザ側で、熟練者が設定してもよい。微細転写装置メータ側で予め用意した簡易画面データによって成形を行ったとき成形品が良品となるように配慮されている。
【００８５】
データメモリ部３０４は、またＧＭＰ(ガラス成形)画面用データエリアＤＭ５と、全データ画面（Free）用データエリアＤＭ６とを備える。この全データ画面（Free）用データエリアＤＭ６は、各制御対象の全ての制御項目に対応する設定値をストアする全データ画面用の第１データエリア３０４−１に相当する。
【００８６】
また、実稼動用設定データエリアＤＭ７も備える。この実稼動用設定データエリアＤＭ７は、実稼動用設定値をストアする第３データエリア３０４−３に相当する。この第３データエリア３０４−３に相当するＤＭ７は第２（ＮＩＬ：Nano Inprint Lisography）データを受け入れた後、画面を全画面に切り換えることにより、第１データエリア３０４−１として設定可能にする。簡易画面によるデータを全画面データとして利用できる。
【００８７】
図１１はデータメモリ内の実稼動用設定データエリアＤＭ８を示している。簡易画面用データエリアＤＭ１、２及び全データ画面用データエリアＤＭ６との関係が説明できる。プレス設定項目は８段からなり、フラグビットが０である１〜３段目までは簡易画面で設定表示される。フラグビットが１である４〜８段目までは設定不可とされ、また簡易画面には表示もされない。プレス設定項目のすぐ下段から始まるフラグビット０の下段４つは簡易画面で設定表示される。温度設定項目（上金型）の８段のうち、ＴＵ１〜ＴＵ３はフラグビットが０，０，１であるが簡易画面で設定表示される。フラグビットが１であるＴＵ４〜ＴＵ８は設定不可であり、また表示もされない。温度設定項目のすぐ下段から始まるフラグビット０の下段２つは簡易画面で設定表示される。
【００８８】
データメモリ部３０４は、パラメータ群データエリアＤＭ８、センサ群検出データエリアＤＭ９、出力データエリアＤＭ１０も備える。また、記録・保存データエリアＤＭ２０も備える。これは、インターフェイスユニット３０２を介して外部装置との成形データ送受信するときに用いられる。これにより、記録保存データエリア（ＤＭ２０）には、成形結果が良好であった場合の成形条件データを記録できる。また、他の微細転写装置において好適な成形データをインターフェイスユニットを介して入手できるようになっている。
【００８９】
さらに、データメモリ部３０４は、フラグデータエリア（項目限定）ＤＭ３０を有している。
【００９０】
プログラムメモリ３０５は、少なくとも、前記実稼動用設定データエリアＤＭ７に相当する第３データエリア３０４−３の設定データに対応させて各制御対象１０１〜１０７へのドライブ指令を生成するシーケンスプログラムおよびＨＭＩユニット３０３における画面操作を支援する成形条件設定支援プログラムをストアするメモリエリアを有する。
【００９１】
具体的には図１２に示すように、システムプログラムＰＧ０、全体シーケンスプログラムＰＧ１、成形条件設定操作支援プログラムＰＧ２、その他（１）ＰＧ３、その他（２）ＰＧ２を備える。
【００９２】
全体シーケンスプログラムＰＧ１には仮想ラダー回路演算部が破線で示すように接続されていてもよい。
【００９３】
そして、主ＣＰＵ３０６は、プログラムメモリ３０５に格納された各プログラムの指令に基づいて所定の演算を実行し、バスライン３０７を介してインターフェイスユニット（ｉ／Ｆ）３０２、ヒューマンインターフェイス（ＨＭＩ）ユニット３０３、データメモリ部３０４およびプログラムメモリ部３０５を制御する。
【００９４】
以下に、オペレータが、ヒューマンインターフェイスユニット３０３を操作して、例えばNIL簡易画面表示により制御対象を設定したいという場合の制御装置３００における処理動作について説明する。まず、制御装置３００は、プログラムメモリ３０５のシステムプログラムＰＧ０をＣＰＵ３０６にて実行しており、既にNIL簡易画面表示をオペレータに選択させる処理を行っているものとする。この状態からオペレータがNIL簡易画面表示を選択すると、ＣＰＵ３０６は全体シーケンスプログラムＰＧ１及び成形条件設定支援プログラムＰＧ２を実行し、NIL簡易画面表示に遷移してから、各制御対象１０１〜１０７へのドライブ指令を、支援プログラムによってオペレータの画面操作を支援しながら生成する。シーケンスプログラムＰＧ１は、前述したように、データメモリ３０４の実稼動用設定データエリアＤＭ７（第３データエリア３０４−３）の設定データに対応させて各制御対象１０１〜１０７へのドライブ指令を生成する。この場合、データメモリ３０４の簡易画面（NIL1）用データエリアＤＭ１、簡易画面（NIL2）用データエリアＤＭ２に各種画面が用意されているのでこれらデータがＨＭＩユニット３０３に転送されるようになっている。
【００９５】
また、ＨＭＩ３０３では、NIL簡易画面表示のほか、ＧＭＰ（ガラス成形）画面表示、全データ画面（Free）表示も選択される。これらの各種画面用データも前述したように図１０のＧＭＰ（ガラス成形）画面用データエリアＤＭ５、全データ画面（Free）データエリアＤＭ６に格納されている。また、実際に、各画面表示から制御対象に対する設定を行うときには、実稼動用設定データエリアＤＭ７、パラメータ群データエリアＤＭ８、センサ群検出データエリアＤＭ９、出力データエリアＤＭ１０、記録・保存データエリアＤＭ２０、フラグデータエリア（項目限定）ＤＭ３０から各データがＣＰＵ３０６による制御に応じて演算されたり、あるいはＨＭＩ３０３に送信される。
【００９６】
図１３は、ヒューマンインターフェイスユニット３０３の具体例となる画面仕様を示す図である。上部３１０には、位置を固定して、日時、成形条件情報、エラー情報を表示する。左部（図面上の左部であり、図面に向かって右部になる）には、位置固定で、画面表示のダイレクトキーをダイレクト選択部３１１として表示する。左下（図面上の左下であり、向かって右下になる）には、位置固定で、成形条件のショートカットに登録するか否かを選択する成形条件ショートカット３１２を設けている。また、残りの大部分には、成形条件設定エリア３１３がダイレクト選択により選択した画面を表示するために設けられている。
【００９７】
ダイレクト選択部３１１には、「一覧」、「プレス」、「温度」、「波形」、「記憶」、「工程監視」、「生産管理」、「オプション」、「テーブル」という選択項目がある。
【００９８】
このヒューマンインターフェイスユニット３０３の一覧画面は、成形条件で最低限必要な設定項目を表示し、予め設定した成形プロファイルを実行する。
【００９９】
一覧画面は、次の３種類を用意する。簡易設定画面（ＮＩＬ：Nano Inprint Lisography）と、ＧＭＰ設定画面と、Ｆｒｅｅ設定画面である。「一覧」が選択されると、「ＮＩＬ」、「ＧＭＰ」、「Ｆｒｅｅ」という画面切換えボタンの選択が可能となる。
【０１００】
各画面への切換えは、成形条件設定エリア右上の［ＮＩＬ］、［ＧＭＰ］、［Ｆｒｅｅ］ボタンを押すことにより切り換える。各プロファイルを実行するためには、［実行］ボタンを押す。これは、成形中に誤ってボタンを押してしまった場合、成形条件が切り換わってしまうのを防ぐためである。
【０１０１】
図１４にはＮＩＬ一覧画面を示す。また、図１５及び図１６にはガラス成形用の「一覧画面」を示す。現在のプロセス画面を基本とし、必要な設定を表示するものである。温度、プレス力の設定は頻繁に設定変更が考えられるため、設定器を固定し、その他の設定を、画面内で表示切り換えする。
【０１０２】
図１７には全データ一覧画面を示す。成形プロファイルの任意設定が可能な一覧画面とする。温度（ヒータ）プロファイルと圧力（プレス）プロファイルの設定を基本とする。
【０１０３】
図１８及び図１９にはプレス条件設定画面を示す。特に、図１８はガラス成形機用型昇降設定画面であり、図１９は簡易画面の型昇降設定画面を示す。
【０１０４】
図２０及び図２１にはプレス条件設定画面を示す。ダイレクト選択の［プレス］を選択することにより表示する。図２０のプレス条件設定画面では、型昇降設定、プレス設定、ＵＶ照射設定、ＳＴ動作設定をする。型開閉動作については、ガラス成形機とＮＩＬ装置で動作方向が異なるため画面を２種類用意する。図２１は温度条件設定画面を示す。
【０１０５】
プレス制御は、シーケンスプログラムで、プレス信号をＯＮすることにより、設定プロファイルにしたがって、プレス動作を行う。プレス信号がＯＦＦした場合、その場でプレス動作を停止する。プレス段数は、標準８圧とし、１圧ごとにプレス信号、プレス完了信号があり、シーケンスで制御する。
【０１０６】
温度条件設定画面を用いた温度制御では、シーケンスプログラムにより、プレス温度制御信号をＯＮし、設定プロファイルにしたがって、温度制御を行う。温度信号がＯＦＦした場合、待機温度（ＴＷ）に温度制御する。待機温度制御も、待機温度制御信号がＯＮした場合行う。
【０１０７】
プレス条件設定、温度条件設定、波形表示、生産管理およびオプションでは、成形条件設定エリアをスプリット仕様とし、上部は様々なツールエリアとし、下部を条件設定エリアとする。
【０１０８】
図２２及び図２３には、窒素ガス（Ｎ２ガス）設定画面及び波形表示画面を示す。窒素ガス設定による窒素ガスの制御タイミングは温度制御と同一とする。窒素ガスのゾーンは、Ｕ０１，Ｕ０２，Ｕ０３，Ｕｉ，Ｌ０１，Ｌ０２，Ｌ０３，Ｌｉの８ゾーンとする。
【０１０９】
各窒素ガスゾーンに対して、温度と同一タイミングで窒素ガスの有無を設定する。窒素ガスの設定は、数字で行うものとし、“０”設定の場合、使用せず、“１”以上の場合、使用する出力をする。オプションで流量表示および流量制御対応を行う。流量制御使用時には、設定値が出力流量となり、流量制御装置へＤ／Ａ出力する。流量制御装置と流量検出装置のゼロ／スパン調整はパラメータにより設定する。
【０１１０】
また、窒素ガスのパージ時間を設定する。パージはＴ１設定を使用する。パージ時間スタート信号によりカウントを開始し、タイムアップ後パージ時間タイムアウト信号を出力する。オプションでチャンバ内圧表示を行う。チャンバ内圧センサのゼロ／スパンはパラメータにより設定する。
【０１１１】
また、図２３の波形表示画面は、ダイレクト選択の［波形］を選択することにより表示する。波形表示画面では、波形表示、波形保存条件設定をする。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】微細転写装置と、その微細転写装置における制御装置の機能ブロック図である。
【図２】微細転写装置の制御対象を詳細に示した図である。
【図３】微細転写装置の左側面図である。
【図４】微細転写装置の正面図である。
【図５】微細転写装置の平面図である。
【図６】ジンバル機構の垂直方向縦断面図である。
【図７】図６におけるZ矢視図である。
【図８】図６のB−B線矢視図である。
【図９】ヒューマンインターフェイスユニットの詳細図である。
【図１０】データメモリの詳細図である。
【図１１】データメモリ内の実稼動用設定データエリアＤＭ８の詳細図である。
【図１２】プログラムメモリの詳細図である。
【図１３】ヒューマンインターフェイスユニット３０３の具体例となる画面仕様を示す図である。
【図１４】ＮＩＬ一覧画面を示す図である。
【図１５】ガラス成形用の「一覧画面」を示す図である。
【図１６】ガラス成形用の「一覧画面」を示す図である。
【図１７】全データ一覧画面を示す図である。
【図１８】ガラス成形機用型昇降設定画面を示す図である。
【図１９】簡易画面の型昇降設定画面を示す図である。
【図２０】プレス条件設定画面を示す図である。
【図２１】温度条件設定画面を示す図である。
【図２２】窒素ガス（Ｎ２ガス）設定画面を示す図である。
【図２３】波形表示画面を示す図である。
【符号の説明】
【０１１３】
１・・・微細転写装置
１００・・・制御対象
１１０・・・検出部
３００・・・制御装置
３０１・・・ドライブユニット
３０２・・・インターフェイスユニット
３０３・・・ヒューマンインターフェイスユニット
３０４・・・データメモリ
３０５・・・プログラムメモリ
３０６・・・ＣＰＵ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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