(57)【要約】【課題】高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す膜形成材料層の保護フィルムとして利用可能な自己密着性カバーフィルム、及びその自己密着性カバーフィルムを貼着してなる保護積層体を提供する。【解決手段】自己密着性カバーフィルム６は、基材フィルム５の少なくとも一方の表面に微粘着層４を担持し、自己密着時間が１００秒以下である。保護積層体１は、基材シート２１と、その一方の表面上に担持された膜形成材料層２２とからなる積層シート２３の前記膜形成材料層の上に、自己密着性カバーフィルム６を貼着してなる。【選択図】図１
2007045102.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の表面に微粘着層を担持し、自己密着時間が１００秒以下であることを特徴とする、自己密着性カバーフィルム。
【請求項２】
前記微粘着層担持表面側のガラスに対する粘着力が５００ｍＮ／５０ｍｍ以下である、請求項１に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項３】
微粘着層がシリコーンエラストマーを含む、請求項１又は２に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項４】
基材シートと、その一方の表面上に担持された膜形成材料層とからなる積層シートの前記膜形成材料層用の保護フィルムである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項５】
前記膜形成材料層の貯蔵弾性率が、２３℃で５０〜５００ＭＰａである、請求項４に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項６】
前記膜形成材料層の粘着力が、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下である、請求項４又は５に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項７】
前記膜形成材料層のボールタックが、３以下である、請求項４〜６のいずれか一項に記載の自己密着性カバーフィルム。
【請求項８】
基材シートと、その一方の表面上に担持された膜形成材料層とからなる積層シートの前記膜形成材料層の上に、請求項１〜７のいずれか一項に記載の自己密着性カバーフィルムを貼着してなる、保護積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自己密着性カバーフィルム、及びその自己密着性カバーフィルムを貼着してなる保護積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板状の蛍光表示体であるプラズマディスプレイの製造工程においては、電極上に誘電体層を焼成して形成する際に、最近は、グリーンシートが使用されている。最初に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構造と製造工程を簡単に説明すると、図２（模式的断面図）に示すように、交流型プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）１０は、対向配置されたガラス基板１１，１２と隔壁１３とによりセルが形成されている。各ガラス基板１１，１２には、バス電極１４とアドレス電極１５とがそれぞれ固定されており、セル内には蛍光物質１６が保持されている。また、ガラス基板１１の内側表面には、バス電極１４を被覆するように誘電体層１７が形成され、その上に、例えば酸化マグネシウムよりなる保護層１８が形成されている。
【０００３】
前記誘電体層１７は、一般に、ガラス焼結体であり、その膜厚は、例えば、２０〜５０μｍ程度である。この誘電体層１７の形成方法としては、例えば、ガラス粉末を含有するペースト状組成物を調製し、このペースト状組成物をスクリーン印刷法によりガラス基板１１の表面に塗布して乾燥することにより膜形成材料層を形成し、次いでこの膜形成材料層を焼成することにより有機物質を除去して、ガラス粉末を焼結させる方法が知られている。しかしながら、スクリーン印刷法によると、必要な層厚を得るには、複数回の塗布操作が必要であり、しかも均一な層厚を得ることが困難である。こうした欠点は、プラズマディスプレイパネルの大型化に伴って、ますます顕著化してきている。
【０００４】
こうした欠点を解消する手段として、ガラス粉末とアクリル酸エステル系樹脂と溶剤とを含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布、乾燥して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する方法が提案されている（特許文献１）。ここで、前記膜形成材料層を支持フィルム上に担持したシートを「グリーンシート」と称している。
【０００５】
例えば、図３（模式的断面図）に示すように、従来のグリーンシート２０は、基材シート２１の上に膜形成材料層２２を担持する積層シート（転写シート）２３と、その積層シート２３上の膜形成材料層２２を保護する保護フィルム２６とからなり、その保護フィルム２６は、基材フィルム２５の表面上に剥離剤層２４を担持している。グリーンシート２０を使用する場合には、最初に、保護フィルム２６を剥離して膜形成材料層２２を露出させ、その膜形成材料層２２をバス電極１４及びガラス基板１１（図２参照）に上に載置して密着させてから、基材シート２１を剥離することによって、バス電極１４及びガラス基板１１上に膜形成材料層２２を転写し、転写された膜形成材料層２２を焼成することにより、前記ガラス基板１１の表面に誘電体層１７を形成することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−１８５０２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記転写シートのような積層シートを製造する際には、基材シート上に膜形成材料層を塗工する。この膜形成材料層を構成する膜形成材料は、粘着剤成分（例えば、アクリル酸エステル系樹脂）の他にガラス粉末を含有しているために、通常の粘着剤層とは物性が異なる。すなわち、常温で高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す。こうした高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す膜形成材料層の上に、保護フィルムを貼着（ラミネート）するのは一般に困難である。低粘着力層を相互に貼着する場合には、加熱下にラミネートする技術が一般に知られているが、前記積層シートに前記保護フィルムを加熱下にラミネートすると、積層シートの基材シート及び／又は保護フィルムの基材フィルムにシワが発生し、電極表面への均一な層厚の提供が困難になる。また、加熱によって膜形成材料層の弾性率が低下し、加熱下でのラミネート時に打痕が発生してしまう問題もある。
従って、本発明の課題は、高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す膜形成材料層の上に、保護フィルムを貼着（ラミネート）する際に、加熱の必要がなく、常温下で貼着することができ、しかも転写の際など使用時には容易に剥離可能な物性を示す保護フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の課題は、本発明により、基材フィルムの少なくとも一方の表面に微粘着層を担持し、自己密着時間が１００秒以下であることを特徴とする、自己密着性カバーフィルムによって解決することができる。
【０００９】
本発明による自己密着性カバーフィルムの好ましい態様においては、前記微粘着層担持表面側のガラスに対する粘着力が５００ｍＮ／５０ｍｍ以下である。
本発明による自己密着性カバーフィルムの別の好ましい態様においては、微粘着層がシリコーンエラストマーを含む。
本発明による自己密着性カバーフィルムの別の好ましい態様においては、基材シートと、その一方の表面上に担持された膜形成材料層とからなる積層シートの前記膜形成材料層用の保護フィルムである。
【００１０】
前記保護フィルムとしての好ましい態様においては、前記膜形成材料層の貯蔵弾性率が、２３℃で５０〜５００ＭＰａである。
前記保護フィルムとしての別の好ましい態様においては、前記膜形成材料層の粘着力が、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下である。
前記保護フィルムとしての更に別の好ましい態様においては、前記膜形成材料層のボールタックが、３以下である。
【００１１】
また、本発明は、基材シートと、その一方の表面上に担持された膜形成材料層とからなる積層シートの前記膜形成材料層の上に、前記自己密着性カバーフィルムを貼着してなる、保護積層体にも関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の自己密着性カバーフィルムは、自己密着時間が１００秒以下である微粘着層を担持しているため、高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す膜形成材料層の上に常温下で貼着することができ、しかも、容易に剥離することができる。
また、本発明の自己密着性カバーフィルムは、プラズマディスプレイの製造工程において使用するグリーンシートの保護フィルムとして有効であるだけでなく、同様の物性を有するその他の膜形成材料層を担持するシート、例えば、ドライフィルムレジストを担持するシート、又はビルドアップ基板用絶縁材料を担持するシートの保護フィルムとしても有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
最初に、本発明による自己密着性カバーフィルムの典型的な構造を図１（模式的断面図）に沿って説明する。
図１に示すように、本発明による自己密着性カバーフィルム６は、基材フィルム５の表面上に微粘着層４を担持している。この本発明による自己密着性カバーフィルム６は、一般には、図１に示すように、基材シート２１の上に膜形成材料層２２を担持する積層シート２３上の前記膜形成材料層２２を保護する保護フィルムとして使用することができる。図１に示すように、積層シート２３の膜形成材料層２２の上に自己密着性カバーフィルム６を貼着した構造の積層体１を、本明細書においては保護積層体と称する。
【００１４】
図１に示す前記保護積層体１を使用して、例えば、図２に示すプラズマディスプレイパネルの製造に利用する場合には、従来のグリーンシートと同様に、最初に、自己密着性カバーフィルム６を剥離して膜形成材料層２２を露出させ、その膜形成材料層２２をバス電極１４及びガラス基板１１に上に載置して密着させてから、基材シート２１を剥離することによって、バス電極１４及びガラス基板１１上に膜形成材料層２２を転写し、転写された膜形成材料層２２を焼成することにより、前記ガラス基板１１の表面に誘電体層１７を形成することができる。
【００１５】
本発明による自己密着性カバーフィルムに用いる基材フィルムにおいて、その材料や厚さは、特に限定されない。
基材フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ポリアミド、又はセルロースなどを挙げることができる。好ましい材料は、ポリエチレンテレフタレートである。基材フィルムと微粘着層との密着性を向上させるため、基材フィルムの表面にプライマー層を設けたり、基材フィルム表面にコロナ処理を行ってもよい。基材フィルムの厚さは、例えば、１０〜２００μｍである。
【００１６】
本発明による自己密着性カバーフィルムに用いる微粘着層は、この微粘着層に求められる物性を示す材料である限り、特に限定されない。
具体的には、例えば、シリコーンエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ポリオレフィンエラストマー、又はアクリル系粘着剤を用いることができる。
【００１７】
シリコーンエラストマーは、オルガノポリシロキサンを架橋することにより得ることができる。オルガノポリシロキサンは特に限定されず、例えば、付加型オルガノポリシロキサンや縮合型オルガノポリシロキサンを使用することができる。
付加型オルガノポリシロキサンとしては、例えば、シロキサン結合を主骨格として少なくとも２つのアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン及びオルガノハイドロジェンポリシロキサンからなる付加型オルガノポリシロキサンと白金触媒とを構成成分として含むシリコーンゴムを使用することができる。
このシロキサン結合を主骨格としてアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンは、具体的には、次の平均単位式（１）：
Ｒ１ａＳｉＯ（４−ａ）／２        （１）
（式中、Ｒ１は互いに同一又は異種の炭素数１〜１２、好ましくは１〜８の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、ａは１．５〜２．８の範囲の正数である）
で示される化合物である。
【００１８】
上記Ｒ１で示される珪素原子に結合した非置換又は置換の１価炭化水素基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、又はオクテニル基等のアルケニル基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、又はナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、又はフェニルプロピル基等のアラルキル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子、臭素原子、若しくは塩素原子等のハロゲン原子、又はシアノ基等で置換したもの、例えば、クロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、又はシアノエチル基等を挙げることができる。アルケニル基としては、硬化性が良好なことからビニル基が好ましい。
【００１９】
オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、分子中にＳｉＨ基を有しており、シロキサン結合を主骨格としアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンのアルケニル基との間で付加反応し、シリコーンゴムが硬化する。
【００２０】
白金触媒としては、白金黒、塩化第２白金、塩化白金酸、又は塩化白金酸と１価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフェン類との錯体、あるいは白金ビスアセトアセテート等を例示することができる。
白金触媒は、前記付加型オルガノポリシロキサン１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜２質量部の範囲で使用するのがより好ましい。
この白金触媒の前記付加型オルガノポリシロキサン１００質量部に対する使用量が０．０１質量部未満では、硬化不足のため、再剥離性が劣ることがあり、３．０質量部を超えると、貼付性が悪くなり、また、付加反応によるゲル化が速く、透明基材フィルムへの塗布が困難になる場合がある。
【００２１】
前記シリコーンエラストマーは、縮合型オルガノポリシロキサンを架橋することにより得ることもできる。縮合型オルガノポリシロキサンとしては、例えば、シロキサン結合を主骨格とし、分子内に少なくとも２つのシラノール基を有するオルガノポリシロキサン（ベースポリマー）を用いることができ、このベースポリマーを、加水分解性官能基を有するシラン化合物（架橋剤）によって縮合架橋してシリコーンエラストマーを調製することができる。
【００２２】
縮合架橋反応としては、例えば、脱アルコール型反応、脱酢酸型反応、脱オキシム型反応、脱アミド型反応、脱ヒドロキシアミン型反応、又は脱アセトン型反応を挙げることができる。架橋剤は、前記縮合架橋反応の種類に応じて適宜選択することができる。脱アルコール型反応の場合は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、又はビニルトリエトキシシランなどを、脱酢酸型反応の場合は、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、又はビニルトリアセトキシシランなどを、脱オキシム型反応の場合は、メチルトリ（ブタンオキシム）シランなどを、それぞれ用いることができる。前記の架橋反応には、必要により、触媒を用いることができる。例えば、前記脱アルコール型反応及び前記脱アセトン型反応には、触媒として、金属脂肪酸塩、金属アルコラート、又はアミン化合物を用いることができる。
【００２３】
縮合型オルガノポリシロキサンから調製するシリコーンエラストマーとしては、架橋剤や触媒の組合せとベースポリマーとを別々にしておく２液型、あるいは全成分を予め混合しておく１液型を挙げることができる。２液型の代表例は、アルコキシ官能性架橋剤を用いる脱アルコール型、又は脱ヒドロキシアミン型であり、両液を室温で混合すると、数時間〜数日で硬化させることができる。加水分解性アルコキシ官能基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、又はｎ−プロポキシ基等を挙げることができる。
【００２４】
１液型としては、脱酢酸型、脱オキシム型、脱アミド型、又は脱アルコール型を挙げることができる。例えば、脱酢酸型で使用される架橋剤のアセトキシ基（ケイ素結合加水分解性基）は、水（加水分解）及びシラノール基（架橋反応）とは容易に反応するのに対し、アセトキシ基は相互間で反応しない性質を利用し、ベースポリマーを完全にアセトキシ基官能性とし、無水状態で密閉保存することにより、未硬化状態としておく。これを大気中の湿気に曝すと、アセトキシ官能基が加水分解してシラノール基が発生し、アセトキシ基官能性ベースポリマーと縮合反応を起こし、シリコーンエラストマーを生成することができる。
【００２５】
ポリウレタンエラストマーとしては、長鎖ポリオールを主成分とするソフトセグメントとジイソシアネートと鎖延長剤からなるハードセグメントで構成された公知のポリウレタンエラストマーを用いることができる。長鎖ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、又はポリエーテルポリオールが主に使用され、ジイソシアネートとしては、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、ピュアＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）、又はＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）などが用いられる。鎖延長剤としては、低分子多価アルコール、又は芳香族ジアミンなどが用いられる。
【００２６】
ポリウレタンエラストマーの種類としては、長鎖ポリオールとＴＤＩ又はＭＤＩなどのジイソシアネートを高分子化して得られる熱可塑性ポリウレタンエラストマーを有機溶剤で希釈した一液型のもの、あるいはポリイソシアネートを別系にて後から添加して硬化させる二液型のものを挙げることができる。その他、空気中の湿気でイソシアネートを反応させる湿気硬化型、熱溶融押出タイプのホットメルト型のポリウレタンエラストマーでもよい。
【００２７】
ポリオレフィンエラストマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ソフトセグメントとして、ポリエチレン、エチレンと少量のジエンとの共重合体、又は、これらの部分架橋物等を有し、ハードセグメントとしてポリプロピレン等を有するブロック共重合体や、エチレンとプロピレンとのエチレンを主体とするランダム共重合体等からなるポリエチレン系エラストマーや、プロピレンと少量のジエンとの共重合体やプロピレンとエチレンとのプロピレンを主体とするランダム共重合体等からなるポリプロピレン系エラストマー等を挙げることができる。
【００２８】
アクリル系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、官能基としてのカルボキシル基をもつアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、若しくは無水マレイン酸、官能基としての水酸基をもつヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノマーを共重合したポリマーを用いることができる。前記ポリマーは、更に架橋剤によって架橋されていてもよい。
前記シリコーンエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ポリオレフィンエラストマー、又はアクリル系粘着剤を、単独で用いることも、あるいはそれらを組み合わせて用いることもできる。
【００２９】
なお、必要に応じて、前記微粘着層に有機粉体又は無機粉体などの充填剤、芳香族エステル、塩素化パラフィンなどの可塑剤、ＵＶ吸収剤、酸化防止剤、又は着色剤などが含まれていてもよい。
前記微粘着層の塗布量は、この微粘着層に求められる物性を示す塗布量である限り、特に限定されないが、通常、０．３ｇ／ｍ２〜２００ｇ／ｍ２である。塗布量は、前記微粘着層を構成する材料によって適宜選択することができるが、シリコーンエラストマーからなる微粘着層の場合には、塗布量の下限は、好ましくは０．５ｇ／ｍ２、より好ましくは１．０ｇ／ｍ２である。塗布量が０．５ｇ／ｍ２未満になると、粘着力が不足し、自己密着性を得ることが困難になる。この場合、前記微粘着層の厚さの下限は、好ましくは１μｍ、より好ましくは５μｍである。前記微粘着層の厚さが０．５μｍ未満になると、粘着力が不足し、自己密着性を得ることが困難になる。
【００３０】
前記微粘着層の塗布量の上限は、シリコーンエラストマーからなる微粘着層の場合には、好ましくは５０ｇ／ｍ２であり、より好ましくは２５ｇ／ｍ２である。塗布量が５０ｇ／ｍ２を超えると、粘着力が大きくなりすぎるか、あるいは塗布量の増加に伴う物性変化が認められなくなる。この場合、前記微粘着層の厚さの上限は、好ましくは５０μｍ、より好ましくは２５μｍである。前記微粘着層の厚さが５０μｍを超えると、粘着力が大きくなりすぎるか、あるいは塗布量の増加に伴う物性変化が認められなくなる。
【００３１】
前記微粘着層の自己密着時間は、１００秒以下であり、好ましくは８０秒以下、より好ましくは６０秒以下である。本明細書において「自己密着時間」は、ガラス表面に、測定対象となる自己密着性カバーフィルムのサンプルを、その微粘着層が接するように載せ、完全密着状態になるまでの時間を意味する。充分な自己密着性を有するフィルムは、ガラス表面と微粘着層との間隙から空気層を徐々に排出しながら、全体が相互に完全に密着した状態になり、その完全密着状態（ガラス表面と微粘着層との間隙に空気層が存在しない状態）は肉眼で簡単に識別することができる。こうした完全密着状態では、自己密着性カバーフィルムを擦っても、横にずれることがない。一方、充分な自己密着性を有していないフィルムの場合は、ガラス表面と微粘着層との間隙から空気層を完全に排除することができないか、その排除に長時間を必要とし、前記非密着状態も、肉眼で簡単に識別することができる。
【００３２】
前記「自己密着時間」は、具体的には、以下の方法で測定する。表面をエタノールで洗浄して乾燥させたソーダライムガラスの表面に、測定対象となる自己密着性カバーフィルムのサンプル（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を、その微粘着層が接するように載せる。試験は、２３℃及び相対湿度６５％の条件下で行う。前記サンプルの全体が、ガラス表面に対して完全密着状態になるまでの時間を肉眼で観察して測定する。
【００３３】
前記微粘着層のガラスに対する粘着力は、好ましくは５００ｍＮ／５０ｍｍ以下、より好ましくは５〜３００ｍＮ／５０ｍｍ、更に好ましくは１０〜５０ｍＮ／５０ｍｍである。本明細書において、粘着力は、ＪＩＳ  Ｚ０２３７によって測定した値である。前記微粘着層の粘着力が５ｍＮ／５０ｍｍ未満になると、充分な自己密着性を得ることが困難になり、５００ｍＮ／５０ｍｍを超えると、剥離性が低下する。
【００３４】
本発明による自己密着性カバーフィルムは、通常の方法で製造することができる。例えば、微粘着層を形成する材料を含む塗布液を、基材フィルムの表面に塗布した後、塗膜を乾燥させることによって製造することができる。前記塗布液は、例えば、前記シリコーンエラストマー、ポリウレタンエラストマー、ポリオレフィンエラストマー、及び／又はアクリル系粘着剤と、場合によりそれらの適当な溶媒を含む。溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、メチルブチルケトン、酢酸エチル、又はイソプロピルアルコールなどが例示される。
【００３５】
本発明による自己密着性カバーフィルムは、例えば、基材シートと、その一方の表面上に担持された膜形成材料層とからなる積層シートの前記膜形成材料層の保護フィルムとして用いることができる。基材シートは、耐熱性及び耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂シートであることが好ましい。基材シートが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。基材シートを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ポリアミド、又はセルロースなどを挙げることができる。基材シートの厚さは、例えば、２０〜１００μｍである。
【００３６】
膜形成材料層としては、具体的には、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の製造工程に用いるグリーンシート、プリント配線板製造工程に用いるドライフィルムレジストやビルドアップ基板用絶縁材料を挙げることができる。
【００３７】
前記グリーンシートは、従来公知の材料から従来公知の方法で製造することができる。グリーンシートは、通常、離型フィルム上に設けられ、転写シートとして用いられる。離型フィルムは、基材シートにシリコーンなどの離型剤を塗布して得られる。
【００３８】
前記転写シートを構成する膜形成材料層は、ガラス粉末、バインダーポリマー、及び溶剤を含有するペースト状組成物を前記基材シート上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することによって形成することができる。
【００３９】
前記ペースト状組成物に含まれるガラス粉末としては、例えば、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）の混合物、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）の混合物、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３系）の混合物、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＳｉＯ２系）の混合物などを挙げることができる。
【００４０】
前記ペースト状組成物に含まれるバインダーポリマーとしては、アクリル酸エステル系樹脂やセルロース系樹脂などを挙げることができる。好ましいバインダーポリマーとしては、適度な粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成材料層の焼成処理（４００〜５００℃）によって完全に酸化除去されるものから選択され、具体的には、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、又はメタクリル酸２−エチルヘキシルの単独重合体あるいは共重合体を例示することができる。
【００４１】
前記ペースト状組成物に含まれる溶剤としては、前記ペースト状組成物に適度な粘性（例えば５００〜１０，０００ｃｐ）を付与することができ、乾燥処理によってペースト状組成物から容易に蒸発除去できるものであることが好ましく、例えば、テレビン油、セロソルブ（エチルセロソルブ）、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、ベンジルアルコール、乳酸メチル、トルエン、メチルブチルケトン、又は乳酸エチルなどを好適に用いることができる。
【００４２】
前記ペースト状組成物には、前記必須成分のほかに、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任意成分として含有されていてもよい。
【００４３】
ドライフィルムレジストは、写真法によって基板上に回路を形成するのに使用される感光性樹脂であり、バインダーポリマー、光重合性モノマーあるいは光重合性オリゴマー、光重合開始剤などを含んでいる。バインダーポリマーとしては、アクリル酸エステル共重合体等を挙げることができ、光重合性モノマーあるいは光重合性オリゴマーとしては、多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００４４】
ビルドアップ基板用絶縁材料は、支持基板上に導体層と絶縁層を交互に積み上げて製造するビルドアップ法において絶縁層を形成する材料であり、エポキシ樹脂やフェノール樹脂などを含む絶縁材料からなる。
ドライフィルムレジストやビルドアップ基板用絶縁材料は、通常、離型フィルム上に形成され、転写シートとして使用される。
【００４５】
本発明による自己密着性カバーフィルムの微粘着層を貼着する対象となる膜形成材料層は、特に限定されるものではないが、例えば、その貯蔵弾性率が、２３℃において好ましくは５０〜５００ＭＰａ、より好ましくは１００〜３００ＭＰａである。ここで、貯蔵弾性率は、粘弾性測定装置（オリエンテック社製、ＤＤＶ−II−ＥＰ）を用いて、周波数３．５Ｈｚで測定する。測定に用いる膜形成材料層の厚さは３００μｍとする。
【００４６】
本発明による自己密着性カバーフィルムの微粘着層を貼着する対象となる膜形成材料層の粘着力も特に限定されるものではないが、好ましくは１００ｍＮ／２５ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍＮ／２５ｍｍ以下である。
ここで、粘着力は、以下の測定方法で測定した値である。
すなわち、アクリル系粘着剤〔日本合成化学工業（株）製；商品名「コーポニール  Ｎ−２２６０」〕１００質量部に硬化剤〔三井武田ケミカル（株）製；商品名「タケネート  Ｄ１１０Ｎ」〕７質量部を加えて調製した塗布液を、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム〔東洋紡績（株）製；商品名「Ａ−４１００」〕に塗布し、乾燥して厚さ２０μｍの粘着剤層を有する粘着シートを作成する。これとは別に、剥離フィルム〔リンテック（株）製；商品名「ＳＰ−ＰＥＴ５０１０３１」〕に厚さ５５μｍの膜形成材料層を設け、前記粘着シートの粘着剤層面と膜形成材料層とを貼り合わせた後、剥離フィルムを剥離して測定用試料とする。この測定用試料の膜形成材料層面を、ソーダライムガラス〔エヌ・エス・ジー  プレシジョン（株）製〕に圧着し、ＪＩＳ  Ｚ０２３７の１８０度引きはがし法に準じて粘着力を測定する。
【００４７】
本発明による自己密着性カバーフィルムの微粘着層を貼着する対象となる膜形成材料層のボールタックも特に限定されるものではないが、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。
ここで、ボールタックは、以下の測定方法で測定した値である。
すなわち、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに厚さ５５μｍの膜形成材料層を設けて測定用試料とし、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準じてボールタックを測定する。傾斜角度は３０度とする。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
【００４９】
《実施例１》
アルケニル基としてビニル基を有するオルガノジメチルポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとからなる付加型オルガノポリシロキサン〔信越化学（株）製；商品名「ＫＳ−８４７Ｈ」；固形分３０質量％〕１００質量部に、トルエンとメチルエチルケトンとの混合溶剤（質量比で６：４）２５００質量部と、白金触媒〔信越化学（株）製；商品名「ＰＬ−５０Ｔ」〕１質量部とを添加して調製した塗工液（固形分１３質量％）を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム〔三菱化学ポリエステルフィルム（株）製；商品名「Ｔ−１００」〕に、マイヤーバー＃４を用いて塗布し、１３０℃で３０秒間乾燥させ、塗布量１．０ｇ／ｍ２（厚さ１μｍ）のシリコーンエラストマーからなる微粘着層を有するカバーフィルムを製造した。
【００５０】
《実施例２》
マイヤーバー＃８を用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、塗布量２．０ｇ／ｍ２（厚さ２μｍ）の微粘着層を有するカバーフィルムを製造した。
【００５１】
《実施例３》
アルケニル基としてビニル基を有するオルガノジメチルポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとからなる付加型オルガノポリシロキサン〔東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製；商品名「ＳＤ−４５８４」；固形分６０質量％〕２０質量部、アルケニル基としてビニル基を有するオルガノジメチルポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとからなる付加型オルガノポリシロキサン〔信越化学（株）製；商品名「ＫＳ−８４７Ｈ」；固形分３０質量％〕１００質量部、及び白金触媒〔東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製；商品名「ＳＲＸ−２１２」〕１質量部を混合し、更に溶剤としてトルエンを加えて調製した塗工液（固形分３０質量％）を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム〔東洋紡績（株）製；商品名「Ａ−４１００」〕の易接着面にダイコーターを用いて塗布し、１３０℃で６０秒間乾燥させ、塗布量２０．０ｇ／ｍ２のシリコーンエラストマーからなる微粘着層を有するカバーフィルムを製造した。
【００５２】
《比較例１》
ポリエチレンテレフタレートフィルムにシリコーン剥離剤を塗布した剥離フィルム〔リンテック（株）製；商品名「ＳＰ−ＰＥＴ−３８０１」〕をカバーフィルムとした。
【００５３】
〔物性評価〕
（１）ガラス板に対する自己密着性
表面をエタノールで洗浄して乾燥させたソーダライムガラス〔エヌ・エス・ジー  プレシジョン（株）製〕の表面に、実施例１〜３及び比較例１の自己密着性カバーフィルムから裁断したサンプル（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を、その微粘着層が接するように載せた。試験は、２３℃及び相対湿度６５％の条件下で実施した。前記サンプルの全体が、ガラス表面に対して完全密着状態になるまでの時間（秒）を肉眼で観察して測定した。結果を表１に示す。
【００５４】
（２）ガラス板に対する粘着力
実施例１〜３及び比較例１のカバーフィルムからサンプル（５０ｍｍ×２００ｍｍ）を裁断し、表面をエタノールで洗浄して乾燥させたソーダライムガラス〔エヌ・エス・ジー  プレシジョン（株）製〕に、ゴムローラ（押圧２ｋｇ；ゴム硬度７５）を用いて圧着し、貼合させた。３０分間放置した後、引張り試験機（オリエンテック社製；テンシロン）を用い、剥離角度１８０度及び剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離して、各カバーフィルムの粘着力を測定した。なお、カバーフィルムの貼合及び粘着力測定は、２３℃及び相対湿度６５％の条件下で行った。結果を表１に示す。
【００５５】
（３）膜形成材料層に対する密着性
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の製造に用いるグリーンシートを製造し、実施例１〜３及び比較例１のカバーフィルムの密着性を評価した。
具体的には、剥離フィルム〔リンテック（株）製；商品名「ＳＰ−ＰＥＴ５０１０３１」〕の表面上に、膜形成材料層となるスラリーを塗布し、乾燥（１００℃、２分間）して転写シートを製造し、その膜形成材料層の上に、実施例１〜３及び比較例１のカバーフィルムを貼着した。
【００５６】
前記スラリーは、バインダー成分として、メタクリル酸２−エチルヘキシル９７質量部とアクリル酸３質量部との共重合体（数平均分子量２０万）、ガラス成分として、酸化鉛（ＰｂＯ）６０質量％、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）１０質量％、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）２５質量％、及び酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）５質量％の混合物、そして、溶剤としてトルエンを含み、それらの比率は、バインダー成分：ガラス成分：溶剤の比率で、５０：１００：７０（質量比）であった。膜形成材料層の厚さは、５５μｍであった。
【００５７】
こうして形成された前記膜形成材料層の２３℃における貯蔵弾性率は、１９８ＭＰａであり、粘着力（ＪＩＳ  Ｚ０２３７）は、１０ｍＮ／２５ｍｍであり、ボールタック（ＪＩＳ  Ｚ０２３７）は、２未満であった。
【００５８】
膜形成材料層にカバーフィルムを貼着した際の条件は、温度２３℃及び貼合圧力４ｋｇｆで、ゴムロール（ゴム硬度８０）と金属鏡面ロールとの貼合ロールを用いて、塗布速度１０ｍ／ｍｉｎで実施した。得られた各グリーンシートには、シワの発生は全く認められなかった。
【００５９】
密着性の評価は、カバーフィルムを貼合したグリーンシートを、２０ｃｍ×２０ｃｍの大きさに裁断し、１８０度方向に折り曲げたときの状態を目視で観察し、次の３段階の基準で評価した。結果を表１に示す。
◎：カバーフィルムの剥離や浮きは発生しない。
○：貼合はできているが、折り曲げるとカバーフィルムの浮きが発生する（実用上問題なし）。
×：貼合できず、カバーフィルムが浮いていた（密着していない）。
【００６０】
（４）膜形成材料層に対する剥離性
前項（３）の「膜形成材料層に対する密着性」の試験で用いたグリーンシートを使用して、カバーフィルムの剥離性を以下の３段階の基準で評価した。結果を表１に示す。
◎：貼合後の剥離力の経時変化が無く、容易に剥離できる状態を維持している。
○：貼合直後は容易に剥離できるが、経時で剥離力がやや重くなる（剥離は可能）。
【００６１】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明による自己密着性カバーフィルムは、高弾性、低粘着力、及び低タックの物性を示す膜形成材料層の保護フィルムとして用いることができ、具体的には、例えば、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の製造工程に用いるグリーンシートの保護フィルム、プリント配線板製造工程に用いるドライフィルムレジストの保護フィルム、ビルドアップ基板用絶縁材料の保護フィルムなどとして用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明による自己密着性カバーフィルムを、転写シートの膜形成材料層上に貼着した状態を示す模式的断面図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの構造を示す模式的断面図である。
【図３】従来のグリーンシートの構造を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【００６４】
１・・・保護積層体；
４・・・微粘着層；
５・・・基材フィルム；
６・・・自己密着性カバーフィルム；
１０・・・交流型プラズマディスプレイパネル；
１１，１２・・・ガラス基板１１；
１３・・・隔壁；
１４・・・バス電極；
１５・・・アドレス電極；
１６・・・蛍光物質；
１７・・・誘電体層；
１８・・・保護層；
２０・・・グリーンシート；
２１・・・基材シート；
２２・・・膜形成材料層；
２３・・・積層シート；
２４・・・剥離剤層；
２５・・・基材フィルム；
２６・・・保護フィルム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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