(57)【要約】【課題】気体ばね式の防振支持装置Ａにおいて、被支持体１のレベル調整の精度やそれに要する時間を適宜、設定できるようにするとともに、十分な減衰力が容易に得られ、且つクリーンルームでの使用にも適したものとする。【解決手段】気体ばね２のピストン４を上側及び下側ピストン部材４０，４１に分割し、上側ピストン部材４０は、基台ケース３の天板３２の上方に配置して金属製ベローズ４２により上下動可能に連結し、このベローズ４２内に第１液室Ｆ１を形成する。一方、下側ピストン部材４１は、天板３２の下面に金属製ベローズ４３により連結し、このベローズ４３内に第２液室Ｆ２を形成する。天板３２に貫通孔３２ａを形成して第１、第２液室Ｆ１，Ｆ２を連通させ、この連通路を介しての液体の流動により、上側及び下側ピストン部材４０，４１の受ける荷重やその変位を相互に伝達させる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台の内部に気体室を設け、その上部にピストンを配置して、これにより被支持体の荷重を支持するようにした気体ばね式の防振支持装置であって、
前記ピストンは、前記基台の上壁の上方に配置されて被支持体の荷重を受ける上側ピストン部材と、該基台上壁の下方にて下部が気体室の内圧を受ける下側ピストン部材と、に分割され、
前記上側ピストン部材を基台上壁に上下動可能に連結するとともに、両者間に第１の液室を形成する環状の第１可撓性部材と、
前記下側ピストン部材を基台上壁に上下動可能に連結するとともに、両者間に第２の液室を形成する環状の第２可撓性部材と、を備え、
前記基台上壁には、これを貫通して前記第１及び第２液室同士を連通する連通路が形成されていることを特徴とする防振支持装置。
【請求項２】
第１液室に臨む上側ピストン部材の下部の有効径が、第２液室に臨む下側ピストン部材の上部の有効径よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の防振支持装置。
【請求項３】
第１液室に臨む上側ピストン部材の下部の有効径が、第２液室に臨む下側ピストン部材の上部の有効径よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の防振支持装置。
【請求項４】
気体室に臨む下側ピストン部材の下部の有効径がその上部の有効径よりも大きいことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の防振支持装置。
【請求項５】
第１及び第２可撓性部材は、それぞれ、環状の金属製薄板を複数枚、重ね合わせてその外周側及び内周側を交互に溶接してなる金属製ベローズであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の防振支持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被支持体の荷重を気体ばねにより支持するようにした防振支持装置に関し、特に、揺れを抑える減衰機能を備えたものに係る。
【背景技術】
【０００２】
従来より、各種の計測機器や精密製造装置等の被支持体に床から伝わる振動を低減するために、それを気体ばねにより支持するようにした防振支持装置は公知である。気体ばねは一般に極めて柔らかいばね特性を有することから、高い除振性能が得られるとともに、内圧の調整によって支持高さを変更することができ、これにより精密製造装置等のレベル調整が可能になる。
【０００３】
但し、そうして極めて柔らかいばねによって支持することから、精密製造装置等の作動に伴い支持荷重が変化すると、それが僅かなものであっも高さが大きく変化してしまい、揺れが収まり難いばかりか、場合によっては干渉等の問題を生じる虞れもある。
【０００４】
これに対し、例えば特許文献１に開示される空気ばね式防振装置では、空気室内にシリコンオイル等、適度の粘性を有する液体を貯留し、そこに浸漬したダンピングプレートを空気ばねのピストンに連結して、このピストンの変位に対し液体の粘性による抵抗を付与するようにしている。これによりピストンの変位を制限するとともに、その揺れを減衰させることができる。
【特許文献１】実公平６−０１４０９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記従来例の防振支持装置では、単にダンピングプレートによるオイルの攪拌抵抗を利用するのみであるから、大きな減衰力を得ることは難しい。また、そうして攪拌されることで発生したオイルミストが気体室から排気とともに排出されることになるので、クリーンルームでの使用には適さない。
【０００６】
さらに、前記従来例の防振支持装置においては、気体ばねの内圧を調整して支持高さを変更する際に、その内圧の変化、即ち気体室への気体の給排に対する支持高さの変化の割合が、ピストンの受圧面積によって概ね決まってしまうことから、レベル調整に時間が掛かり過ぎたり、或いはその精度が不足したりすることがある。
【０００７】
すなわち、気体ばねによる最大支持荷重が十分に大きくなるように、比較的受圧面積の大きなピストンを用いた場合、これを上下させるのに必要な気体の給排量は、受圧面積の小さなものに比べて多くなるから、その分、レベル調整のための時間が長くなることは避けられない。
【０００８】
反対にピストンの受圧面積が比較的小さい場合は、気体の給排量に対する高さの変化が相対的に大きくなるから、その分、レベル調整に必要な時間は短くなる反面、微妙なレベル調整のためには気体の給排量を高精度に制御しなくてはならず、そのための設備を用意できない場合には、レベル調整の精度が不足することになるのである。
【０００９】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、防振支持装置における気体ばねのピストンの構成に工夫を凝らして、被支持体のレベル調整の精度やそれに要する時間をそれぞれの要求に応じて適切に設定できるようにするとともに、十分な減衰力が容易に得られ、且つクリーンルームでの使用にも適したものとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記の目的を達成するために、本発明では、気体ばねのピストンを、被支持体の荷重を受ける上側ピストン部材と気体室に臨む下側ピストン部材とに分割するとともに、両者の間に上下２つの液室とこれを連通する連通路とを設けて、液体の流動により、上下のピストン部材の受ける荷重やその変位を相互に伝達させるようにした。
【００１１】
具体的に、請求項１に係る発明は、基台の内部に気体室を設け、その上部にピストンを配置して、これにより被支持体の荷重を支持するようにした気体ばね式の防振支持装置を対象とする。そして、前記ピストンを、前記基台の上壁の上方に配置されて被支持体の荷重を受ける上側ピストン部材と、該基台上壁の下方にて下部が気体室の内圧を受ける下側ピストン部材とに分割した上で、その上側ピストン部材を、下方の基台上壁との間に第１の液室が形成されるようにして、環状の第１可撓性部材により基台上壁に上下動可能に連結する一方、下側ピストン部材は、上方の基台上壁との間に第２の液室が形成されるようにして、環状の第２可撓性部材により基台上壁に上下動可能に連結する。さらに、そうして基台上壁の上下両側に形成された第１及び第２の液室同士を連通するように、当該基台上壁を貫通する連通路を形成する。
【００１２】
前記の構成により、まず、防振支持装置に精密製造装置等の被支持体が搭載されて、その支持荷重が上側ピストン部材に加わると、この上側ピストン部材の下部が臨む第１液室の圧力が高まり、液体が連通路を介して第２液室に流動する。これにより第２液室の圧力が高まり、下側ピストン部材を押し下げることにより、気体室の容積が減少して気体圧が高くなる。こうして高くなった気体圧により下側ピストン部材を持ち上げる力が、前記第２液室の液圧による押し下げ力と釣り合うと、下側ピストン部材は停止し、上側ピストン部材も停止して、気体ばねにより荷重が支持される状態になる。
【００１３】
そうして被支持体の荷重が支持された状態で、その作動等に伴い支持荷重の大きさが変化すると、これを受ける上側ピストン部材が上下いずれかに変位しようとするが、これに伴い前記のような連通路を介しての液体の流動が生じることから、その流動抵抗によって上側ピストン部材の急激な変位は抑制され、被支持体の過大な変位が防止されるとともに、その揺れが減衰されるようになる。この減衰の度合いは、液体の粘性や連通路の長さ、或いは断面積等によって適切に設定することができる。
【００１４】
そのように連通路を流動して、気体ばねのピストン（第１、第２ピストン部材）の上下方向変位に流動抵抗を付与する液体が、第１、第２液室及び連通路内に密閉されているので、気体ばねの外部は勿論、気体室内にもオイルミストが発生することはなく、従って、前記構成の防振支持装置はクリーンルームでの使用にも適している。
【００１５】
また、前記気体室に外部から気体を給排して、その内圧を調整し、これにより被支持体の高さを変更する際に、その内圧の変化、即ち気体室への気体の給排に対する下側ピストン部材の上下方向変位は、該下側ピストン部材の気体圧の受圧面積によって概ね決まってしまうが、これに対する上側ピストン部材の上下方向変位、即ち被支持体の高さの変化の割合は、上側及び下側ピストン部材のそれぞれが液室に臨んで液圧を受ける受圧面積を異ならせることで、変更することができる。よって、被支持体のレベル調整の精度やそれに要する時間をそれぞれの要求に応じて適宜、設定することができる。
【００１６】
例えば、上側の第１液室に臨む上側ピストン部材の下部の有効径を、下側の第２液室に臨む下側ピストン部材の上部の有効径よりも小さくすれば（請求項２の発明）、下側ピストン部材の変位量に対して上側ピストン部材の変位量が相対的に大きくなるので、所要の搭載能力を確保すべく下側ピストン部材の受圧面積（気体圧の受圧面積）を比較的大きくした場合に、それを上下させるのに必要な気体の給排量が相対的に大きくなっても、その気体の給排量に対する上側ピストン部材の上下方向変位、即ち被支持体の高さの変化の割合はあまり小さくはならない。よって、レベル調整のための時間が掛かり過ぎることはなくなる。
【００１７】
反対に、上側ピストン部材の下部の有効径を、下側ピストン部材の上部の有効径よりも大きくすれば（請求項３の発明）、下側ピストン部材の変位量に対して上側ピストン部材の変位量が相対的に小さくなるので、気体の給排量に対する上側ピストン部材の上下方向変位、即ち被支持体の高さの変化の割合を小さくすることができる。このため、微妙なレベル調整のために要求される気体の給排量制御の精度があまり高くならず、レベル調整の精度を確保する上で有利になる。
【００１８】
要するに、本発明では、気体ばねのピストンを上下、２つの部材に分割したことで、搭載能力等の要求により下側ピストン部材の大きさが大体、決まってしまっても、そのことによって、気体の給排に対する被支持体の高さの変化割合が一律に決まってしまうことはなく、被支持体である装置等の要求に応じて、防振支持装置のレベル調整の精度やそれに要する時間を或る程度、自由に設定することができる。
【００１９】
さらに、前記下側ピストン部材において気体室に臨む下部の有効径（気体圧の受圧面積に対応）を、第２液室に臨む上部の有効径（液圧の受圧面積に対応）よりも大きくすれば、該下側ピストン部材に作用する気体圧よりも第２液室の液圧が高くなり、いわば、下側ピストン部材において気体圧を増幅して、液圧に変換することができるようになるので、防振支持装置の搭載能力を確保する上で有利になる（請求項４の発明）。
【００２０】
また、好ましいのは、前記上下の両ピストン部材と基台上壁との間にそれぞれ液室を形成する環状可撓性部材として、環状の金属製薄板を複数枚、重ね合わせて、その外周側及び内周側を交互に溶接してなる金属製ベローズを用いることである（請求項５の発明）。すなわち、気体ばねにおいて一般に用いられるゴムのダイヤフラムやベローズは、ゴムの表面から水分や有機物質等が僅かながら放出されるというアウトガスの問題があるが、金属製ベローズにはそのような問題はないので、クリーンルームでの使用にさらに好適なものとなるのである。
【発明の効果】
【００２１】
以上のように、本発明に係る気体ばね式の防振支持装置によると、気体ばねのピストンを上下、２つのピストン部材に分割して、両者間で液体の流動により荷重や変位を相互に伝達するようにしたことで、気体圧を受ける下側ピストン部材の受圧面積に一律に制約されることなく、気体の給排に対する被支持体の高さの変化割合を或る程度、自由に設定することができるようになり、被支持体である装置等の要求に応じて、防振支持装置のレベル調整に時間が掛かり過ぎないようにしたり、或いはその精度の確保を容易にすることができる。
【００２２】
また、そうして気体圧を受ける下側ピストン部材下部の有効径を、その上部の有効径よりも大きくすることで、気体圧を増幅して液圧に変換することができるので、防振支持装置の搭載能力を確保する上で有利になる。
【００２３】
さらに、前記上側及び下側ピストン部材の変位に応じて液体が流動する通路をオリフィスとして機能させることで、十分な減衰力が容易に得られるとともに、その際に、従来例（特許文献１）のようにオイルミストが発生することもないので、クリーンルームでの使用にも適している。
【００２４】
加えて、ピストン部材を取り付ける可撓性部材として金属製ベローズを用いれば、ゴムのダイヤフラムやベローズのようなアウトガスの問題がなくなり、クリーンルームでの使用にさらに好適なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。尚、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。
【００２６】
図１は、本発明に係る防振支持装置Ａを、図示しない液晶パネル製造装置等の支持に用いる例を示す。この防振支持装置Ａは、精密製造装置や各種の計測機器を定盤１（仮想線で示す）上に搭載し、これに床から伝わる振動を低減すべく、空気ばね２（気体ばね）により支持するようにしたものである。通常、定盤１は３個以上の防振支持装置Ａによって支持し、各防振支持装置Ａにおいては定盤１及びその上の搭載装置が被支持体になる。各防振支持装置Ａに加わる被支持体の分担荷重は静止状態でもそれぞれ若干、異なっており、さらに搭載装置の作動に伴い、変化する。
【００２７】
図に断面で示すように、空気ばね２は、内部に空気室Ｇが形成された概略矩形箱状の基台ケース３と、その上部に配置されて、定盤１の載置されるピストン４とからなる。基台ケース３は、床面に略水平に置かれた金属製のベース板３０と、金属製板材を折り曲げて扁平な矩形筒状とし、これをベース板３０上に配設してなる側壁部３１と、この側壁部３１の上に略水平に配設された金属製の天板３２（上壁）とからなり、この天板３２には、その厚み方向（上下方向）に貫通する貫通孔３２ａが形成されている。
【００２８】
前記基台ケース３の側壁部３１には、一端が空気室Ｇに臨むようにしてエアバルブ３３が配設されており、これを介し空気室Ｇとの間で空気の給排を行うように、給排設備６が接続されている。すなわち、エアバルブ３３には配管を介して流量制御弁６１が接続されており、この制御弁６１によって、リザーバタンクやポンプ等の空気圧源６２から空気室Ｇに供給する圧縮空気の流量を調整し、或いは空気室Ｇから排気する空気の流量を調整するようになっている。
【００２９】
そうして制御弁６１により空気ばね２に対する圧縮空気の供給及び排気流量を調整することで、空気ばね２の内圧を調整して、被支持体の高さ調整、即ちレベル調整を行うことができる。図の例では、定盤１に付設されて床面に対する相対位置を検出する位置センサ６３からの信号がコントローラ６０に入力し、これに応じて、該コントローラ６０により制御弁６１が制御されるようになっている。尚、コントローラ６０は、マイクロコンピュータ、Ｉ／Ｏインタフェース、データバスの他、ＲＡＭ、ＲＯＭ、或いはＨＤＤ等のメモリを備えた従来周知のものである。
【００３０】
前記ピストン４の構成は、本発明の特徴部分であり、前記基台ケース３の天板３２を挟んで上下に配置された２つのピストン部材４０，４１が設けられている。この２つのピストン部材４０，４１はいずれも円盤状とされた本体部４０ａ，４１ａを有し、その前面から突出するようにして、内周側に比較すれば小径の円盤状厚肉部４０ｂ，４１ｂが設けられたものである。この例では、本体部４０ａ，４１ａ及び厚肉部４０ｂ，４１ｂは、例えば鋳造により一体成形されている。
【００３１】
上側のピストン部材４０は、その前面を下向きにして基台ケース３の天板３２の上方に配置されていて、その下面（前面）の外周側の部位に全周に亘って金属製ベローズ４２（第１可撓性部材）の上端が接合されている。一方、該金属製ベローズ４２の下端は基台ケース３の天板３２の上面に接合されており、この金属製ベローズ４２により囲まれて天板３２及びその上方の上側ピストン部材４０の間に区画される空間に、オイルが封入されている。
【００３２】
つまり、前記上側ピストン部材４０は、金属製ベローズ４２によって基台ケース３の天板３２に上下動可能に連結され、その上面（後面）が定盤１の下面に当接して、被支持体の荷重を受ける一方、その下面（前面）は、基台ケース３の天板３２との間に形成された液室Ｆ１（第１液室）に臨んでいる。そして、その下面から下方に突出する厚肉部４０ｂは、上側ピストン部材４０の下方への変位を制限するストッパとして機能する。
【００３３】
尚、前記金属製ベローズ４２は、図２に一部を切り欠いて示すように、金属製薄板材を打ち抜いて成形した円環状のコア４２ａ、４２ａ、…を複数枚、重ね合わせ、上下に隣接するものの外周縁及び内周縁を交互に溶接したものであり、ゴムダイヤフラム等と同様に大きな伸縮性及び屈曲性を有し、ピストン部材４０の揺動を許容するものである。また、金属製ベローズ４２は、コア４２ａの表面を精密に研磨し且つ洗浄することにより異物の放出が殆ど完全になくなり、仮に高真空下のように気圧の低い環境で使用しても、アウトガスの問題は生じない。
【００３４】
一方、下側のピストン部材４１は、その前面を上向きにして基台ケース３の天板３２の下方に配置されていて、前記した上側ピストン部材４０と同様に、外周側の部位において金属製ベローズ４３（第２可撓性部材）により基台ケース３の天板３２に上下動可能に連結されている。この金属製ベローズ４３によって、天板３２と下側ピストン部材４１との間にはオイルの封入された液室Ｆ２（第２液室）が形成されており、そこに下側ピストン部材４１の上面（前面）が臨む一方、該下側ピストン部材４１の下面（後面）は空気室Ｇに臨んで、空気圧を受けるようになっている。
【００３５】
そして、前記第１及び第２液室Ｆ１，Ｆ２は、基台ケース３の天板３２の貫通孔３２ａにより互いに連通されていて、例えば被支持体の分担荷重の変化に伴い第１液室Ｆ１の圧力や容積が変化したり、或いは給排設備６による空気室Ｇへの空気の給排によって、第２液室Ｆ２の圧力や容積が変化したりすると、オイルが貫通孔３２ａを通って２つの液室Ｆ１，Ｆ２間を流動するようになっている。
【００３６】
そのように２つの液室Ｆ１，Ｆ２間でオイルが流動することにより、上側及び下側の２つのピストン部材４０，４１の間で荷重及び変位が相互に伝達され、これにより、２つのピストン部材４０，４１が一体となって、空気ばね２のピストンとして機能するようになる。すなわち、上側ピストン部材４０に作用する被支持体の分担荷重は、第１、第２液室Ｆ１，Ｆ２及び貫通孔３２ａに満たされているオイルを介して下側ピストン部材４１に伝達され、空気室Ｇの空気圧により、つまり空気ばね２によって支持されるのである。
【００３７】
特にこの実施形態では、第１液室Ｆ１に臨む上側ピストン部材４０の下面の有効径Ｄ１が、第２液室Ｆ２に臨む下側ピストン部材４１の上面の有効径Ｄ２よりも小さいため、前記のようにオイルの流動によって相互に伝達される下側ピストン部材４１の変位量と上側ピストン部材４０の変位量とを比較すると、相対的に有効径の小さな上側ピストン部材４０の変位量の方が大きくなる。
【００３８】
このことは、例えば給排設備６から空気室Ｇへ圧縮空気を供給して、空気ばね２の内圧を高め、これにより被支持体の支持高さを高くするときに、その圧縮空気の供給により直接、持ち上げられる下側ピストン部材４１の上方への変位量よりも上側ピストン部材４０の上方への変位量の方が大きくなるということであり、その分、空気室Ｇへの空気の給排に対する被支持体の高さの変化の割合が大きくなる、ということである。
【００３９】
また、前記のように２つの液室Ｆ１，Ｆ２間の貫通孔３２ａをオイルが流動するときには、その貫通孔３２ａがオイルの流れを絞るオリフィスとして機能し、流動抵抗によりピストン部材４０，４１の動作に減衰が付与されることになる。この減衰の度合いは貫通孔３２ａの長さや断面積によって適切に設定することができ、必要に応じて十分に大きな減衰力が容易に得られる。しかも、オイルは第１、第２液室Ｆ１，Ｆ２及び貫通孔３２ａ内に密閉されていて、空気室Ｇ外は勿論、その内部にもオイルミストが発生することはないから、この実施形態の防振支持装置Ａはクリーンルームでの使用にも適している。
【００４０】
以下、上述の如く構成された防振支持装置Ａの作動について説明する。まず、定盤１上に精密製造装置等の被支持体が搭載されて、その分担荷重を上側ピストン部材４０が受けると、この上側ピストン部材４０の下面が臨む第１液室Ｆ１の圧力が高まり、オイルが貫通孔３２ａを介して第２液室Ｆ２に流動する。これにより第２液室Ｆ２の圧力が高まり、下側ピストン部材４１を押し下げることで、空気室Ｇの容積が減少して、空気圧が高くなる。こうして高くなった空気圧により下側ピストン部材４１を持ち上げる力が第２液室Ｆ２の液圧による押し下げ力と釣り合うと、下側ピストン部材４１は停止し、上側ピストン部材４０も停止して、空気ばね２により被支持体の分担荷重が支持される状態になる。
【００４１】
そうして分担荷重が支持されている状態で、被支持体である液晶パネル製造装置等の作動に伴い分担荷重の大きさが変化すると、これを受ける上側ピストン部材４０が上下いずれかに変位しようとするが、これに伴い上述の如く第１及び第２液室Ｆ１，Ｆ２間で貫通孔３２ａを介してのオイルの流動が生じることになり、その流動抵抗によって上側ピストン部材４０の急激な変位は抑制される。こうして被支持体の過大な変位が防止されるとともに、その揺れが減衰されるようになる。
【００４２】
次に、被支持体のレベル調整のために、空気ばね２の空気室Ｇに給排設備６から圧縮空気を供給して、その支持高さを例えば高くするときには、そうして供給される圧縮空気により気体室Ｇの圧力が高まり、これを受ける下側ピストン部材４１が上昇して、その上面が臨む第２液室Ｆ２からオイルが貫通孔３２ａを介して第１液室Ｆ１に流動する。これにより第１液室Ｆ１の圧力が高まり、上側ピストン部材４０を押し上げることで、被支持体の支持高さが高くなる。
【００４３】
その際、前記のように空気室Ｇへ供給される圧縮空気の供給量に対して、下側ピストン部材４１の上下方向変位の割合は空気圧の受圧面積によって概ね決まってしまうが、これに対して上側ピストン部材４０の上下方向変位、即ち被支持体の支持高さが変化する割合は、上下２つのピストン部材４０，４１の有効径Ｄ１，Ｄ２の比率に応じて異なるものとなる。この実施形態では、Ｄ１＜Ｄ２であるから、被支持体の支持高さの変化割合は下側ピストン部材４１の上下方向変位よりも大きくなる。
【００４４】
従って、防振支持装置Ａの搭載能力を確保するために、空気圧を受ける下側ピストン部材４１の下部の受圧面積を比較的大きくした場合に、その結果として、該下側ピストン部材４１を上下させるのに必要な空気の給排量が大きめになったとしても、その空気の給排に対する上側ピストン部材４１の上下方向変位、即ち被支持体の高さの変化の割合はあまり小さくはならないから、そのレベル調整のための時間が掛かり過ぎることはない。
【００４５】
それとは反対に、仮に前記上側ピストン部材４０の下部の有効径Ｄ１を下側ピストン部材４１の上部の有効径Ｄ２よりも大きくした場合は（図４を参照）、下側ピストン部材４１の上下方向変位に対して上側ピストン部材４０の上下方向変位が相対的に小さくなるので、空気室Ｇへの空気の給排に対する被支持体の高さの変化割合を小さくすることができ、こうすれば、微妙なレベル調整のために要求される空気の給排量制御の精度があまり高くはならないので、レベル調整の精度を確保する上で有利になる。
【００４６】
つまり、この実施形態の防振支持装置Ａによると、空気ばね２のピストン４を上側及び下側ピストン部材４０，４１に分割して、それぞれ液室Ｆ１，Ｆ２に臨む有効径Ｄ１，Ｄ２を適切に設定することで、被支持体のレベル調整の精度やそれに要する時間等を適宜、設定することができるようになり、被支持体である装置側の要求に応じて、レベル調整に時間が掛かり過ぎないようにしたり、或いはその精度の確保を容易にしたりすることができる。
【００４７】
−変形例１−
図３には、防振支持装置Ａの基台ケース３の天板３２に、上側及び下側ピストン部材４４，４５をそれぞれ連結する可撓性部材として、ゴムダイヤフラム４６，４７を用いた変形例１を示す。ゴムダイヤフラム４６，４７は、それぞれ、中央部分が上側及び下側ピストン部材４４，４５に接着される一方、外周フランジ部が基台ケース３の天板３２に接着されて、締付けリング４８、４９により挟持されている。
【００４８】
そして、この変形例１では、前記のように可撓性部材としてゴムダイヤフラム４６，４７を用いているため、使用環境によってはアウトガスの問題が生じ得るが、この点を除けば、上述した実施形態のものと同じ作用効果が得られるものである。尚、図の例では、上側及び下側ピストン部材４４，４５のそれぞれが液室Ｆ１，Ｆ２に臨む有効径を同じにしているが、これは被支持体側の要求に応じて種々、変更することができる。
【００４９】
−変形例２−
続いて図４には、上述の実施形態とは反対に上側ピストン部材４０の下部の有効径Ｄ１を下側ピストン部材４１の上部の有効径Ｄ２よりも大きくするとともに、その下側ピストン部材４１を下方から支持するようにして、基台ケース３内にダイヤフラム式の空気ばね２０を設けた変形例２を示す。この空気ばね２０の構造は、前記変形例１のものと同様であり、ピストン部材２１に中央部分が接着されたゴムダイヤフラム２２の外周フランジ部を、ベース板３０の上面に締付けリング２３により挟持して、内部に空気室Ｇを形成している。
【００５０】
そして、この変形例２の防振支持装置Ａでは、前記下側ピストン部材４１と空気ばね２０のピストン部材２１とを一体的に動作させるとともに（以下、これを下側ピストン部材５とも呼ぶ）、空気室Ｇに臨む当該下側ピストン部材５の下部の有効径Ｄ３を、第２液室Ｆ２に臨む上部の有効径Ｄ２よりも大きく設定することにより、この下側ピストン部材５において空気圧を増幅して液圧に変換するようにしている。
【００５１】
すなわち、この変形例２のように上側ピストン部材４０の有効径Ｄ１を、下側ピストン部材４１の有効径Ｄ２に比べて大きくすれば、上述したようにレベル調整の精度を確保する上では有利になるが、反面、下側ピストン部材４１における空気圧の受圧面積も小さくなってしまい、最大支持荷重を十分に大きくすることができない虞れがある。
【００５２】
これに対し、前記のように下側ピストン部材４１に別のピストン部材２１を組み合わせて一体化すれば、この一体化した下側ピストン部材５において空気室Ｇに臨む下部の有効径Ｄ３を、第２液室Ｆ２に臨む上部の有効径Ｄ２に制約されずに設定することができるので、空気圧の受圧面積を大きくして、最大支持荷重を十分に大きくすることができるのである。
【００５３】
つまり、この変形例２によれば、上側ピストン部材４０との比較において相対的に下側ピストン部材５の液室に臨む有効径を小さくして（Ｄ１＞Ｄ２）、これにより、レベル調整の精度を容易に確保できるようにしながら、その下側ピストン部材５が空気圧を受ける下部の有効径Ｄ３は相対的に大きくすることによって（Ｄ３＞Ｄ２）、防振支持装置Ａの搭載能力を確保する上で有利になるのである。
【００５４】
尚、上述した実施形態及びその変形例の防振支持装置Ａでは、いずれも、コントローラ６０により制御弁６１を制御して、空気ばね２，２０の内圧を調整し、これにより被支持体のレベル調整を行うようにしているが、これに限らず、機械式のレベリングバルブによってレベル調整を行うようにしてもよい。
【００５５】
また、前記実施形態及び変形例では、いずれも基台ケース３の天板３２を上下に直線的に貫通する貫通孔３２ａによって、第１及び第２液室Ｆ１，Ｆ２同士を連通する連通路を構成しているが、その形状は直線状でなくてもよく、必要に応じて自由に設定することができる。
【００５６】
さらに、前記変形例２では、下側ピストン部材４１と別のピストン部材２１とを組み合わせて、一体的に下側ピストン部材５を構成するようにしているが、両者を一体に成形してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
以上、説明したように、本発明に係る防振支持装置は、被支持体の揺れを速やかに減衰させることができるとともに、そのレベル調整の精度やそれに要する時間等を適宜、設定可能であり、さらにクリーンルームでの使用にも適しているので、精密製造装置等の支持装置として特に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施形態に係る防振支持装置の構成を示す断面図である。
【図２】同防振支持装置の分解斜視図である。
【図３】変形例１に係る図１相当図である。
【図４】変形例２に係る図１相当図である。
【符号の説明】
【００５９】
Ａ      防振支持装置
Ｆ１    第１液室
Ｆ２    第２液室
Ｇ      空気室（気体室）
１      定盤（被支持体）
２，２０  空気ばね（気体ばね）
３      基台ケース（基台）
３２    天板（上壁）
３２ａ  貫通孔（連通路）
４      ピストン
４０，４４  上側ピストン部材
４１，４５  下側ピストン部材
４２    金属ベローズ（上側可撓性部材）
４３    金属ベローズ（下側可撓性部材）
４６    ゴムダイヤフラム（上側可撓性部材）
４７    ゴムダイヤフラム（下側可撓性部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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