(57)【要約】【課題】ＣＡＤデータと電子顕微鏡ステージのステージリンク精度を向上させる。【解決手段】複数のアライメントポイントを記憶し、ステージ移動に伴い、現在のステージ位置１８（２２）に見合った、妥当な局部領域のアライメントポイント１９，２０，２１（２３，２４，２５）を自動的に選択してアライメント補正値を更新する。【選択図】図５
2007080695.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を保持して移動するステージと、
前記ステージの移動を制御するステージ制御部と、
前記ステージに保持された試料に電子線を照射する電子線照射部と、
電子線照射によって試料から放出された試料信号を検出する検出器と、
前記検出器の出力から試料像を形成する像形成部と、
試料のＣＡＤデータを保持する記憶部と、
前記像形成部によって形成された試料像及び／又は前記ＣＡＤデータを表示する表示部と、
前記ステージの座標と前記ＣＡＤデータの座標とを対応付けたアライメントポイントを複数記憶したアライメントポイント記憶手段と、
前記アライメント記憶手段に記憶された複数のアライメントポイントの中からアライメント補正値計算用のアライメントポイントの組を選択し、前記選択したアライメントポイントの組を用いてアライメント補正値を計算する制御部とを備え、
前記制御部は、新たなステージ位置にステージ移動した時、あるいはＣＡＤデータ上の新たな座標位置に移動したとき、前記アライメントポイントの組を再選択し、前記再選択したアライメントポイントの組を用いてアライメント補正値を更新することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記制御部は、前記アライメントポイントの組の再選択に当たり、直線的に整列するようなアライメントポイントの組を避けることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記制御部は、前記アライメントポイントの組の再選択に当たり、前記新たなステージ位置あるいはＣＡＤデータ上の新たな座標位置に対して一方向に偏ったアライメントポイントの組を避けることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記制御部は、前記アライメントポイントの組の再選択に当たり、相互に予め定めた距離以上離れたアライメントポイントの組を選択することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、アライメント補正値計算用のアライメントポイントの組が変更されたとき、報知する報知手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項５記載の荷電粒子線装置において、前記報知手段による報知の後、変更されたアライメントポイントの組を許容するか否かの入力を受け付けることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記制御部によるアライメント補正値の更新を行わせるか否かを選択する選択手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記制御部は、前記更新したアライメント補正値が予め設定した閾値を超えているとき、別のアライメントポイントの組を選択してアライメント補正値の更新をやり直すことを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項１記載の荷電粒子線装置において、前記アライメントポイント記憶手段に記憶したアライメントポイントの一覧を、現在選択されているアライメントポイントにマークを付して表示する手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子線装置に関し、特にＣＡＤ装置とのステージリンク精度を向上させた荷電粒子線装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子顕微鏡において、ＣＡＤデータとステージ移動をリンクさせることが行われている。そこでは、観察中の試料に関するＣＡＤデータを移動した場合、新しいＣＡＤデータを表示すると共に、電子顕微鏡のステージを移動してそのＣＡＤデータに対応する試料の画像を表示させる、又は、電子顕微鏡のステージを移動して新しい試料像を表示した場合、ステージの移動量に相当するＣＡＤデータの移動を行い、試料像に対応するＣＡＤデータを表示させることを行うが、ＣＡＤデータとステージとのリンク精度が常に問題となっている。
【０００３】
ステージリンク精度の妨げとなる要素は、ステージの歪であり、要因として機構の寸法誤差、左右が均一でないために起こる台形歪／局部歪、モータの回転を直進運動に変換する機構の送り誤差、組立て段階で起こるネジの締め付け誤差等である。これら歪の要因を取り除く方法として、機構（モータ、ネジ、その他）そのものの寸法精度を上げる方法と、調整によって精度を上げる方法がある。また、ステージ完成後は、予め定められた位置をアライメント点として登録（３点アライメントが代表的である）して、操作開始の初期段階で一回のみアライメントを行う方法が一般的である。
【０００４】
【特許文献１】特開2000-058410号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の方法でステージリンク精度を向上させるには、ステージの製作段階で機差（個人差）を無くすため膨大な組立て時間が必要であり、又は、高価な機構（ハード）を採用する必要があり、製品価格が上がるという問題がある。また、ステージ製作後の調整・検査にも多大な時間と労力を要していた。
【０００６】
本発明は、特別な機構を採用することなく、また、膨大な製作・調整・検査時間を必要とすることなく、ステージリンク精度を向上した荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明では、予め複数のアライメントポイントを記憶しておき、ステージ移動に伴い、現在のステージ位置に見合った、適切な局部領域のアライメントポイントの組を自動的に選択する。そして、その選択したアライメントポイントの組を用いてアライメント補正値を更新することで、ステージリンク精度を向上する。
【０００８】
すなわち、本発明による荷電粒子線装置は、試料を保持して移動するステージと、ステージの移動を制御するステージ制御部と、ステージに保持された試料に電子線を照射する電子線照射部と、電子線照射によって試料から放出された試料信号を検出する検出器と、検出器の出力から試料像を形成する像形成部と、試料のＣＡＤデータを保持する記憶部と、像形成部によって形成された試料像及び／又はＣＡＤデータを表示する表示部と、ステージの座標とＣＡＤデータの座標とを対応付けたアライメントポイントを複数記憶したアライメントポイント記憶手段と、アライメント記憶手段に記憶された複数のアライメントポイントの中からアライメント補正値計算用のアライメントポイントの組を選択し、選択したアライメントポイントの組を用いてアライメント補正値を計算する制御部とを備え、制御部は、新たなステージ位置にステージ移動した時、あるいはＣＡＤデータ上の新たな座標位置に移動したとき、アライメントポイントの組を再選択し、再選択したアライメントポイントの組を用いてアライメント補正値を更新することを特徴とする。
【０００９】
制御部は、アライメントポイントの組の再選択に当たり、直線的に整列するようなアライメントポイントの組を避ける。また、新たなステージ位置あるいはＣＡＤデータ上の新たな座標位置に対して一方向に偏ったアライメントポイントの組を避ける。更に、相互に予め定めた距離以上離れたアライメントポイントの組を選択するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高価なステージ機構を採用する必要もなく、また、ステージの組立て・調整・検査に膨大な時間をかけることなく、ステージリンク精度の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。以下では、荷電粒子線装置の例として走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を例にとって説明するが、本発明は、ＳＥＭ以外にも、電子線を用いた外観検査装置、集束イオンビーム装置等、ＣＡＤデータが存在する試料に対して計測、検査、加工を行う荷電粒子線装置一般に対して適用することができる。
【００１２】
図１は、電子顕微鏡（ＳＥＭ）とＣＡＤシステム装置とを組み合せた場合の、本発明のシステム構成例を示す図である。
【００１３】
本システムは、ＳＥＭの鏡体部１、ＳＥＭとＣＡＤデータのリンクを行う必須機器であるモータドライブステージ２、制御部３、画像表示部４、マン・マシン・インターフェースとなるＰＣ又はＷＳ５を備える。ＣＡＤシステム装置を構成する機器としては、ＣＡＤデータを記憶し、ＣＡＤデータから所望のデータを取り出すＣＡＤデータ制御部（ＰＣ又はＷＳ）６及びＣＡＤデータ表示部７を備える。ＳＥＭ及びＣＡＤシステムは、ネットワーク接続機器（ＨＵＢ等）８等を用いて接続される。なお、大規模なシステムになると、外部ネットワーク９経由で大型サーバからＣＡＤデータのリンクを行うケースもある。
【００１４】
図２は、荷電粒子線装置としてのＳＥＭの構成例を示す図である。電子銃５１より放出された一次電子線５４は、アノード５２により制御・加速され、コンデンサレンズ５３および対物レンズ５６によって試料ステージ５７上に保持された半導体ウェーハ等の試料５８に収束・照射される。一次電子線５４の経路には、偏向器５５が設けてあり、一次電子線５４は偏向器５５の作用によって試料の表面を二次元的に走査する。ステージ制御部５９によって試料ステージ５７を制御することで、試料上の任意の領域を観察することができる。試料に電子線を照射することで発生した二次電子６０は、二次電子検出器６１によって検出される。
【００１５】
電子銃５１、コンデンサレンズ５３、対物レンズ５６、偏向器５５、ステージ制御部５９など、ＳＥＭの各部は制御部３によって制御される。また、制御部３は、ＳＥＭの検出器から出力された情報信号をデジタル信号に変換したのち画像データとして記憶するフレームメモリ、画像データをモニタ４に表示する表示回路を備える。ＣＡＤデータにはＩＣ・ＬＳＩを作成する回路図、レイアウトデータ、ネットリストデータ、スケマティックデータ、ウェーハデータ、ＥＢ露光データ等がある。ＣＡＤデータは座標値を持ち、ＳＥＭのステージ座標を介して、ＣＡＤデータとＳＥＭ画像データをリンクさせることが可能である。ＣＡＤデータは、専用のＣＡＤデータ表示器７へ表示したり、ＳＥＭの画像表示器４にＳＥＭ像と重ね合わせて表示したりＳＥＭ像と並べて表示したりすることができる。
【００１６】
本システムは、ＩＣ・ＬＳＩの不良箇所等、試料上の目的とする位置を簡単に素早く特定し観察可能とするために、ＣＡＤデータとＳＥＭの画像データとの相互リンクを行い、ＣＡＤ図面上で指示することにより、その座標位置に対応したＳＥＭ画像を表示することができる。あるいは、その逆に、ＳＥＭの画像データからＣＡＤ図面上の位置を特定することも可能である。よって、ＣＡＤデータとＳＥＭの画像データとの相互リンク精度は、本システムの重要な要素であり、リンク精度がシステムの性能を決めるポイントとなる。ＣＡＤデータとＳＥＭの画像データとの相互リンクは、ＣＡＤデータの座標とＳＥＭのステージ座標とを対応付けることにより可能となる。
【００１７】
ＣＡＤデータとＳＥＭの画像データのリンク処理に関して、図３を用いて説明する。ＣＡＤデータの絶対座標値１０に対して、ＳＥＭのステージの絶対座標値１１は、同一倍率であれば理論上は一対一となるはずであるが、ステージの製作精度・組立て精度・材質の精度等により、必ずしも一対一とはならない。よって、相互の互換性を保つために、予め決められた位置（オリフィス等）のアライメントを行う、又は初期段階で数点のアライメントポイントを用いる基本アライメント処理を行い、相互の距離関係を補正する定数（アライメント補正値）を求める。図３は、３点アライメントの例を示している。すなわち、ＣＡＤデータの基本１アライメント位置１２とＳＥＭの基本１アライメント位置１３、ＣＡＤデータの基本２アライメント位置１４とＳＥＭの基本２アライメント位置１５、ＣＡＤデータの基本３アライメント位置１６とＳＥＭの基本３アライメント位置１７を対応させる。
【００１８】
本発明では、ＣＡＤデータの座標とＳＥＭのステージ座標とを対応付けるためのアライメントポイントを複数設定し、各アライメントポイントにおけるＣＡＤデータの座標とＳＥＭのステージ座標との対応関係を予め計測して登録しておく。図４は、予め登録されてメモリに記憶されている複数のアライメントポイントを一覧表示した例を示す図である。図中のSEM:X，SEM:YはＳＥＭのステージ座標を表し、CAD:X，CAD:YはＣＡＤデータ上の座標を表す。一覧表中の各行の（SEM:X，SEM:Y）と（CAD:X，CAD:Y）は、同一のアライメントポイントに対応するＳＥＭのステージ座標とＣＡＤデータ上の座標を表している。
【００１９】
本発明では、図５に示すように、ＳＥＭのステージが動作中でも、現在ステージ位置１８へ移動した場合、予め登録されている複数のアライメントポイントの中から現在ステージ位置１８の近くのアライメントポイント１９，２０，２１を最適なアライメントポイントとして自動的に選択し、それまでのアライメント補正値を廃棄し、新たなアライメント補正値を自動的に算出して変更を行うことで、より精度の高いステージリンクを実現するものである。同様に、ステージ位置２２へ移動した場合には、予め登録されている複数のアライメントポイントの中からステージ位置２２に近いアライメントポイント２３，２４，２５を最適アライメントポイントとして自動的に選択し、そのアライメントポイント２３，２４，２５を用いてアライメント補正値を算出し直す。
【００２０】
アライメントポイント自動更新（アライメント補正値自動算出）に当たっては、ステージリンク精度を高めるために、現在ステージ位置の近傍のアライメントポイントを単純に採用するのではなく、アライメントポイントの選択チェック処理を行う。その一例を図６、図７を用いて説明する。
【００２１】
ＣＡＤデータを移動した場合、予め登録されている複数のアライメントポイントの中から移動後の位置に最も近い順に３ポイントを選択し、そのアライメントポイントを用いてアライメント補正値を計算し直す。そして、再計算されたアライメント補正値を用いてＣＡＤデータの座標に対応するＳＥＭのステージ座標を計算する。このとき、図６に示すように、現在のＣＡＤデータ中心２６に対して、選択しようとする３点のアライメントポイント２７，２８，３０が直線状又は、直線に近い並びにある場合には、採用をやめ（図の場合、ＣＡＤデータの不採用アライメントポイント３０）、別のアライメントポイント２９を選択する。このときＣＡＤデータ中心の座標と比較する座標は、アライメントポイントのＣＡＤ座標値である。なお、ＳＥＭのステージを移動した場合には、ＳＥＭの現在ステージ位置をもとにアライメントポイントを選択する。その時、現在のステージ座標と比較されるのは、アライメントポイントのステージ座標である。
【００２２】
図８のフローチャートを参照して、この直線上データの不採用処理について説明する。本処理では、同一ライン上に位置するようなアライメントポイントを採用しても、正しいアライメント補正値を算出することが不可能であることから、直線上データの不採用処理を行う。ステップ１１では、登録されているアライメントポイントの中から現在のステージ位置に最も近い３つのアライメントポイントを選択する。図６の例の場合、現在のステージ位置２６に最も近い３つのアライメントポイントとして、ポイント２７，２８，３０が選択されることになる。次に、ステップ１２において、選択した３つのポイントが一直線上にあるかどうかを判定する。その方法としては、例えば、選択した３つのアライメントポイントのうち相互の距離が最も遠い２点を結ぶ直線を引き、第３のポイントからその直線に降ろした垂線の長さを計算する。第３のポイントからその直線に降ろした垂線の長さが予め定めた閾値α以下であれば、選択した３つのポイントは一直線上にあるとみなす。アライメントポイントが一直線上にある場合には、ステップ１３に進み、別のアライメントポイントを選択する。図の例では、ポイント３０に代えてポイント２９を選択する。その後、ステップ１２に進んで再度チェックを実施し、アライメントポイントが一直線上に位置しないようにする。
【００２３】
別の選択チェックの例として、図７は３点間の相互距離による比率の制限を示している。本例では、現在ステージ位置３１に対して、登録されている複数のアライメントポイントの中では、アライメントポイント３２，３５，３６が最も近傍に存在するが、相互間の距離が所定の比率以下で接近しているため、例えばアライメントポイント３５，３６を不採用とし、代わりにアライメントポイント３３，３４を採用することでステージリンク精度の向上を図る。
【００２４】
次に、図７及び図９のフローチャートを参照して、一方向に偏ったデータの不採用処理の例について説明する。現在のステージ位置から偏った方向（図７の場合には左方向）のアライメントポイントばかりを選択すると、逆方向のリンク精度が劣るため、片方向データ不採用処理を行う。ステップ２１において、登録されたアライメントポイントのうち現在のステージ位置に最も近い３つのアライメントポイントを選択する。次に、ステップ２２において、現在のステージ位置と選択した第1のアライメントポイントのＸ軸座標値とを比較する。現在のステージ位置のＸ軸座標値が大きければワーク定数Ａを１とし（ステップ２３）、小さければワーク定数Ａを０とする（ステップ２４）。ステップ２５では、現在のステージ位置と、選択した第２のアライメントポイントのＸ軸座標値とを比較する。現在のステージ位置のＸ軸座標値が大きければワーク定数Ｂを１とし（ステップ２６）、小さければワーク定数Ｂを０とする（ステップ２７）。同様に、ステップ２８では、現在のステージ位置と選択した第３のアライメントポイントのＸ軸座標値とを比較する。現在のステージ位置のＸ軸座標値が大きければワーク定数Ｃを１とし（ステップ２９）、小さければワーク定数Ｃを０とする（ステップ３０）。
【００２５】
次に、ステップ３１において、ワーク定数Ａ，Ｂ，Ｃを比較し、Ａ＝Ｂ＝Ｃであれば、選択したアライメントポイントが全てステージ位置に対して一方向に偏っていると判断し、ステップ３２において別のアライメントポイントを選択し、ステップ２２に戻って再度同じチェックを実行する。Ｙ軸方向についても同様にチェックを行い、ステージ位置に対して一方向に偏ったアライメントポイントの採用を避ける。
【００２６】
図１０は、近傍データの不採用処理の例を示したフローチャートである。現在のステージ位置に対して近傍のアライメントポイントを採用した場合、補正値が少なく、ステージリンクが正しく行われない。よって、現在のステージ位置に対して近傍のデータを避ける処理を行う。ステップ４１において、登録されている複数のアライメントポイントの中から現在のステージ位置に最も近い３つのアライメントポイントを選択する。図７の例の場合、ステージ位置３１に対して、３つのアライメントポイント３２，３５，３６が選択される。次に、ステップ４２において、現在のステージ位置のＸ座標値と選択したアライメントポイントのステージ座標のＸ座標値の差、及び現在のステージ位置のＹ座標値と選択したアライメントポイントのステージ座標のＹ座標値の差がいずれも閾値（±α）内であるかどうか判定し、閾値内であれば、ステップ４３に進んで不採用とし、別のアライメントポイントを選択する。現在のステージ位置と選択したアライメントポイントのステージ座標が、Ｘ座標値の差とＹ座標値の差の少なくとも一方が閾値を越えていれば、そのアライメントポイントは現在のステージ位置の近傍にはないため、ステップ４４に進んで採用する。この処理を、ステップ４５で３つのアライメントポイントが選択されたと判定されるまで続ける。
【００２７】
以上、ＳＥＭのステージを移動した場合の例を主に説明したがＣＡＤデータを移動した場合も同様な判断を行い、より精度の高いアライメントポイントを自動選択する。なお、アライメントポイントの選択方法は、以上に例示した方法以外の方法によってもよい。
【００２８】
また、算出したアライメント補正値が予め設定した閾値を越えている場合には、精度の悪いアライメントポイントが登録されていると判断される。この場合の対応としては、登録されているアライメントポイントの中から別のアライメントポイントを選択する方法と、使用者に適切なアライメントポイントの登録を促す方法とがある。
【００２９】
図１１、図１２を用いて、操作方法の一例を説明する。図１１はＳＥＭの表示部４における表示例を示し、図１２は操作ウインドウ３９の詳細図である。
【００３０】
図１１の例では、ＳＥＭの表示部４には、ＳＥＭ像表示ウインドウ３８とアライメントシステム操作ウインドウ３９とが表示されている。ＳＥＭ像表示ウインドウ３８は通常はＳＥＭ像表示のために使われるが、ＳＥＭ像の表示に代えてＣＡＤデータ（レイアウトデータ）の表示、あるいはＳＥＭ像とＣＡＤデータの同時表示も行うことができる。図では、ＳＥＭ像表示ウインドウ３８に、ＳＥＭ像とそれに対応するＣＡＤデータ（レイアウトデータ）を重ねて表示した例を示している。
【００３１】
アライメントポイント自動選択機能は、図１２に示すアライメントシステム操作ウインドウ３９において、アライメントポイント自動更新のＯＮ／ＯＦＦボタン４０をＯＮにすることで有効になる。通常はＯＮ状態で良いが、アライメント精度が悪い場合（ＳＥＭのアライメント位置とＣＡＤデータのアライメント位置の関係が大幅にずれている場合）は、このボタン４０をＯＦＦにすれば補正を行わないことも可能となる。アライメントポイント自動更新メッセージ表示ボタン４１は、操作者にアライメントポイントが自動選択機能により変更されたことを知らしめるメッセージ表示をするか否かを決めるボタンである。このボタンをＯＮにしておくと、アライメントポイントが自動選択機能により変更されたとき、表示部４にメッセージダイアログを表示することにより、あるいはブザー等により操作者に報知する。この機能は、アライメントに敏感な操作者への対応として、より操作性の良いシステムの構築に有効である。なお、上記メッセージ表示後、アライメント補正値を更新する場合には更新ボタン４２を押することで、半自動的な更新操作を実現する。ボタン４５を押すと、閾値の設定等を行うメニューが表示される。ボタン４３，４４を押すと、図４に示すアライメントポイントの一覧表４６が表示され、そこでアライメントポイントの追加、修正、削除を行うことができる。アライメントポイント一覧表４６を用いて、本発明の前提となる基本アライメントポイントに加え、複数点のアライメントポイントの登録・修正を行うことができる。なお、基本アライメントは安全のため削除できないように、プロテクトをかけるのも効果がある。更に、現在用いられているアライメントポイントには“＊”等のマークが表示される。それによって、操作者は、使用中のアライメントポイントの座標値を確認することができる。
【００３２】
図１３は、ステージが移動したとき、アライメントポイントを更新（アライメント補正値自動算出）する処理の概要を示したフローチャートである。ステージ移動を行い、目的位置で停止すると、本発明の自動アライメント機能がＯＮ状態であるかどうかをチェックをする（ステップ５１）。自動アライメント機能がＯＮ状態であれば、複数のアライメントポイントデータが登録されているかをチェックする（ステップ５２）。複数のアライメントポイントデータが登録されていれば、適切なアライメントポイントを、前述した手順に従って選択し、アライメント補正値を算出する（ステップ５３）。その後、操作者へのメッセージ表示機能がＯＮかどうかを判定し（ステップ５４）、ＯＮであれば、アライメントポイントが変更されたことを通知して（ステップ５５）、アライメントポイント（アライメント補正値）の更新を行う（ステップ５６）。メッセージ表示機能がＯＦＦであれば、ステップ５５のメッセージ表示をスキップしてステップ５６に進み、アライメントポイント（アライメント補正値）の更新を行う。また、ステップ５１の判定で自動アライメント機能がＯＦＦの場合には、ベースアライメントを使用した通常のアライメントを行う。図１３はステージが移動したときの処理であるが、ＣＡＤデータが移動したときにも同様の処理を実行してアライメント補正値を更新することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】ＳＥＭとＣＡＤシステム装置を組み合せた場合のシステム構成例を示す図。
【図２】ＳＥＭの構成例を示す図。
【図３】ＣＡＤデータの絶対座標値とＳＥＭステージの絶対座標値の関係を示す図。
【図４】アライメントポイントの一覧表を示す図。
【図５】ステージ位置に基づいて局部領域のアライメントポイントを選択する様子を示す図。
【図６】アライメントポイントの選択チェック処理の例を示す説明図。
【図７】アライメントポイントの選択チェック処理の例を示す説明図。
【図８】直線上データの不採用処理の例を示すフローチャート。
【図９】片方向データの不採用処理の例を示すフローチャート。
【図１０】近傍データの不採用処理の例を示すフローチャート。
【図１１】ＳＥＭの表示部における表示例を示す図。
【図１２】操作ウインドウの詳細図。
【図１３】アライメントポイント更新処理の概要を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００３４】
１：ＳＥＭの鏡体部
２：モータドライブステージ
３：制御部
４：ＳＥＭの画像表示部
５：ＰＣ又はＷＳ
６：ＣＡＤデータ制御部
７：ＣＡＤデータ表示部
８：ネットワーク接続機器
９：外部ネットワーク
１０：ＣＡＤデータの絶対座標値
１１：ＳＥＭのステージの絶対座標値
１８：現在ステージ位置
２２：現在ステージ位置
２６：現在ステージ位置
３１：現在ステージ位置
３８：ＳＥＭ像表示ウインドウ
３９：操作ウインドウ
５１：電子銃
５２：アノード
５３：コンデンサレンズ
５４：一次電子線
５５：偏向器
５６：対物レンズ
５７：試料ステージ
５８：試料
５９：ステージ制御部
６０：二次電子
６１：二次電子検出器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2007080695.tif 000011
【図１０】
2007080695.tif 000012
【図１１】
2007080695.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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