(57)【要約】【課題】矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置の提供を目的とする。【解決手段】矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８が収容される処理カップ２と、フォトマスク基板８を保持するとともに、フォトマスク基板８を回転させる回転板３と、長手方向の長さがフォトマスク基板８の対角長の１／２より長く、かつ、回転するフォトマスク基板８の外周部から中心部を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板８の表面を接触洗浄するロールブラシ４とを具備した構成としてある。【選択図】  図１
2007225810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形基板を洗浄するスピン洗浄方法において、
長手方向の長さが前記基板の対角長の１／２より長いロールブラシを、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、前記基板の表面を接触洗浄することを特徴とするスピン洗浄方法。
【請求項２】
前記ロールブラシを、該ロールブラシの長手軸を回転中心として回転させながら洗浄することを特徴とする請求項１記載のスピン洗浄方法。
【請求項３】
前記基板を、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転させ、かつ、前記ロールブラシを、前記基板と前記ロールブラシの接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄することを特徴とする請求項２記載のスピン洗浄方法。
【請求項４】
前記ロールブラシを、前記基板上で揺動させながら洗浄することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のスピン洗浄方法。
【請求項５】
前記基板を、長辺が３００ｍｍ以上のフォトマスク基板としたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のスピン洗浄方法。
【請求項６】
矩形基板を洗浄するスピン洗浄装置において、
前記基板が収容される処理室と、
前記基板を保持するとともに、前記基板を回転させる回転板と、
長手方向の長さが前記基板の対角長の１／２より長く、かつ、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接し、前記基板の表面を接触洗浄するロールブラシと
を具備したことを特徴とするスピン洗浄装置。
【請求項７】
前記ロールブラシが、長手軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転し、かつ、前記回転板が、該回転板の回転軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転することを特徴とする請求項６記載のスピン洗浄装置。
【請求項８】
前記ロールブラシの一端に、昇降自在な回動軸が設けられており、前記ロールブラシの他端が、回転する前記基板の中心部を挟むように揺動することを特徴とする請求項６又は７記載のスピン洗浄装置。
【請求項９】
前記ロールブラシが、該ロールブラシに液体を供給する一又は二以上のノズルを備えたことを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載のスピン洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピン洗浄方法及びスピン洗浄装置に関し、特に、長手方向の長さが矩形基板の対角長の１／２より長いロールブラシを、回転する基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、基板の表面を接触洗浄し、基板中央部における洗浄品質を向上させることができるスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ用フォトマスクやＬＣＤ用大型フォトマスク等のフォトマスクは、製造プロセス中にさまざまな汚染にさらされるため、製造プロセス中又は最終製品において洗浄される。この洗浄方法としては、一般的に、ディップ式の洗浄方法が用いられていた。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽，リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合わせが用いられる。
【０００３】
上記ディップ式の洗浄方法は、例えばＬＳＩ用フォトマスク等のマスクサイズが小さい基板に対しては、一度に複数枚の基板を処理することができるため、スループットも高く適しているが、ＬＣＤ用大型フォトマスク等の大型基板に対しては、各槽が大型化し、薬液も大量に必要となるなどの問題があった。ましてや、近年、液晶表示パネル等の表示パネルやそれらを製造するためのフォトマスクの基板サイズは、さらに大型化する傾向にある。すなわち、例えば、液晶パネルの製造においては、多面取りや大画面化の傾向にあることから液晶パネル基板が大型化し、それにともない、液晶パネルを製造するためのフォトマスクも大型化している。このように基板が大型化し、また高精度化する傾向にあるなか、大型の薬液槽において清浄な洗浄液で洗浄しようとすると、多大な量の薬液が必要となるため、ディップ方式の洗浄を行うのが困難となってきたのが実状である。
【０００４】
上記実情を解決する技術として、枚葉式スピン洗浄法が注目され開発されている。この枚葉式スピン洗浄法は、回転する基板保持部材にフォトマスク基板等を保持し、回転させながら、洗浄、リンス、乾燥を連続的に行う方法である。すなわち、まず処理室内において水平に保持した基板を回転させながら、該基板に対し、処理液として洗浄液を噴出するなどして洗浄する薬液洗浄、ブラシ等によるスクラブ洗浄（接触洗浄）、供給する処理液や純水に超音波を与える超音波洗浄等の洗浄を行った後、純水等でリンスを行い、次いで、基板を所定時間だけ高速回転させることにより乾燥を行う。この方法によれば、上記のディップ方式に比べ、同じ処理室内で一連の処理が可能となるため装置が小型化でき、洗浄液が少なくてすみ、かつ洗浄時間も短くてすむという利点がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、上記接触洗浄として、たとえば、液晶表示装置用の長方形のガラス基板に対し、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）製のディスクブラシやロールブラシを基板上に配置して揺動させることにより洗浄する基板洗浄装置及び洗浄方法の技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９０９３４号公報
【特許文献２】特開２００２−２３３８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献２に記載された技術では、矩形基板に対し全面を効果的に接触洗浄することができず、洗浄残りが発生するといった問題があった。特に、基板の中央部分には、異物が除去されない液溜りが発生し、洗浄残りになるといった問題があった。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄方法は、矩形基板を洗浄するスピン洗浄方法において、長手方向の長さが前記基板の対角長の１／２より長いロールブラシを、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接させて、前記基板の表面を接触洗浄する方法としてある。
このようにすると、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、基板の中央部分に対しても、接触洗浄が行われるので、基板中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
【０００９】
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記ロールブラシを、該ロールブラシの長手軸を回転中心として回転させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、基板の回転中心付近に対する洗浄性を向上させることができる。
【００１０】
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記基板を、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転させ、かつ、前記ロールブラシを、前記基板と前記ロールブラシの接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
なお、基板とロールブラシの接触相対速度とは、基板表面とロールブラシの毛先（線状部材の先端部）が接触する際の相対速度をいい、接触相対速度が速くなる方向とは、基板表面の回転移動方向に対して、ロールブラシの毛先（線状部材の先端部）が逆方向に回転移動する方向をいう。
【００１１】
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記ロールブラシを、前記基板上で揺動させながら洗浄する方法としてある。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
【００１２】
また、本発明のスピン洗浄方法は、前記基板を、長辺が３００ｍｍ以上のフォトマスク基板とした方法としてある。
このようにすると、基板中央部における洗浄品質が低下する、長辺が３００ｍｍ以上の大型矩形基板に対しても、洗浄性を向上させることができる。
【００１３】
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄装置は、矩形基板を洗浄するスピン洗浄装置において、前記基板が収容される処理室と、前記基板を保持するとともに、前記基板を回転させる回転板と、長手方向の長さが前記基板の対角長の１／２より長く、かつ、回転する前記基板の外周部から該基板の回転中心を越える部分にまで当接し、前記基板の表面を接触洗浄するロールブラシとを具備した構成としてある。
このように、本発明はスピン洗浄装置としても有効であり、基板が一回転すると、基板の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
【００１４】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシが、長手軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転し、かつ、前記回転板が、該回転板の回転軸を回転中心として、時計回り方向及び反時計回り方向の少なくとも一方向に回転する構成としてある。
このようにすると、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
【００１５】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシの一端に、昇降自在な回動軸が設けられており、前記ロールブラシの他端が、回転する前記基板の中心部を挟むように揺動する構成としてある。
このようにすると、ロールブラシに対する相対速度が遅い基板中央部に対しても、ロールブラシを効果的に接触させることができるので、基板中央部に対する洗浄性を向上させることができる。また、ロールブラシを昇降させることにより、ロールブラシの押し圧を調整することができるので、洗浄性を向上させることができる。
【００１６】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ロールブラシが、該ロールブラシに液体を供給する一又は二以上のノズルを備えた構成としてある。
このようにすると、接触洗浄の効果を増大させることができ、洗浄性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置によれば、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
［スピン洗浄装置］
図１は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
同図において、スピン洗浄装置１は、処理カップ２，回転板３，ロールブラシ４及びコントローラ（図示せず）を備えた直方体状の筐体構造としてある。
なお、スピン洗浄装置１は、投入回収手段（図示せず）を備えており、洗浄前のフォトマスク基板８がスピン洗浄装置１に投入され、洗浄後のフォトマスク基板８が回収される。また、フォトマスク基板８は、フォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【００１９】
（処理カップ）
処理カップ２は、円筒状の容器としてあり、スピン洗浄装置１のほぼ中央部に設置されている。この処理カップ２は、フォトマスク基板８が収容される処理室を形成している。
【００２０】
（回転板）
回転板３は、処理カップ２の中央部に、回転自在に突設されている。この回転板３は、一対の位置決めピン（図示せず）などの保持手段が設けられた円板としてあり、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材（図示せず）を保持する。スピン洗浄装置１は、回転板３を回転させるための駆動手段（図示せず）を備えており、この駆動手段は、コントローラによって回転方向，回転速度及び回転時間などが制御され、洗浄工程の諸条件に応じて、回転板３を回転させる。
【００２１】
（ロールブラシ）
ロールブラシ４は、図２に示すように、長手方向の長さ（寸法Ｌ）が、矩形のフォトマスク基板８の対角長（対角線の長さ）の１／２（寸法Ｗ）より長く（Ｌ>Ｗ）、かつ、回転板３によって回転されるフォトマスク基板８の外周部から、回転されるフォトマスク基板８の回転中心を越える部分にまで当接し、フォトマスク基板８の表面を接触洗浄する。すなわち、ロールブラシ４は、フォトマスク基板８の外周部から、回転されるフォトマスク基板８の回転中心を通り、フォトマスク基板８の回転中心を通りすぎた部分にまで当接する。このようにすると、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止する。特に、フォトマスク基板８の中央部分（中心部分）に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板８の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止する。
【００２２】
ロールブラシ４は、図３に示すように、両端に設けられた長手軸（長手方向の軸）が軸受（図示せず）を介して、アーム４１に回転自在に軸支されており、さらに、ロールブラシ４の一方の端部が動力伝達手段を介して可変速モータ４３と連結されている。この可変速モータ４３は、回転方向及び回転速度が制御可能な構成としてあり、コントローラによって制御される。これにより、長手軸を回転中心として、ロールブラシ４を所定の一方向に回転させながら洗浄したり、前記回転方向と反対方向に回転させながら洗浄することができ、フォトマスク基板８上に形成された、異物が除去されにくい複雑なパターンに対して、接触洗浄性が大幅に向上する。
【００２３】
アーム４１は、ロールブラシ４の軸支された側と反対側の端部が、回動軸４４と連結されており、昇降自在かつ回動自在に支持されている。この回動軸４４は、図示してないが、下方端部が、アーム４１を水平方向に回動させるための回動手段（図示せず）と連結されている。また、この回動手段は、図示してないが、アーム４１を昇降させるための昇降手段（図示せず）によって昇降される。
【００２４】
上記昇降手段は、コントローラによって制御され、フォトマスク基板８の板厚や指定されたロールブラシ４の押圧力などに応じて、ロールブラシ４をフォトマスク基板８に対する最適な当接高さに位置決めする。また、回動手段は、コントローラによって制御され、ロールブラシ収納室４０上方と回転板３上方との間で、アーム４１を回動させる。
【００２５】
ここで、好ましくは、アーム４１を回動させる上記回動手段が、図２に示すように、ロールブラシ４の中央側端部が、回転するフォトマスク基板８の中心を挟むように揺動する構成とするとよい。このようにすると、ロールブラシ４に対する相対速度が遅いフォトマスク基板８の中央部に対しても、ロールブラシ４を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板８の中央部に対する洗浄性が向上する。
なお、本実施形態では、アーム４１を回動させることにより、ロールブラシ４を揺動させる構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、アーム４１を往復移動させることにより、ロールブラシ４を揺動させる構成としてもよい。
【００２６】
また、ロールブラシ４は、図３に示すように、ロールブラシ４に薬液や純水などの液体（図示せず）を供給する二本のノズル４５を、ロールブラシ４の両側斜め上方に備えている。このノズル４５は、長手方向に沿って液体を噴出する噴出孔（図示せず）が複数箇所に穿設されている。このようにすると、接触洗浄の効果を増大させることができ、洗浄性が向上する。
【００２７】
（コントローラ）
スピン洗浄装置１は、コントローラ（図示せず）が設けてある。このコントローラは、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、スピン洗浄装置１を制御する。また、コントローラは、洗浄等に関する制御も行い、たとえば、回転板３の回転数，回転方向や、ロールブラシ４の回転数，回転方向，高さ位置（フォトマスク基板８に対する押圧力），揺動の有無などの制御を行う。すなわち、スピン洗浄装置１は、コントローラに制御されることにより、複数の洗浄工程（たとえば、薬液洗浄，スクラブ洗浄，リンス，乾燥など）を自動的に実施する。
【００２８】
次に、上記構成のスピン洗浄装置１における洗浄の一例について、図面を参照して説明する。
図４は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の洗浄例を説明するための概略フローチャート図を示している。
まず、スピン洗浄装置１は、投入回収手段によって、基板保持部材８１に保持されたフォトマスク基板８が投入される（ステップＳ１）。すなわち、フォトマスク基板８が保持された基板保持部材が回転板３に保持され、処理カップ２に収容される。
【００２９】
次に、シャワーパイプ（図示せず）からフォトマスク基板８の上面に薬液が噴出するとともに、フォトマスク基板８が時計回り方向に回転し、薬液洗浄が行われる（ステップＳ２）。続いて、フォトマスク基板８の回転が停止し、シャワーパイプからの薬液の噴出が停止する。
【００３０】
次に、ロールブラシ４が、フォトマスク基板８上に移動し、フォトマスク基板８と当接する。ここで、ロールブラシ４は、図２に示すように、長手方向の長さ（寸法Ｌ）が、矩形のフォトマスク基板８の対角長（対角線の長さ）の１／２（寸法Ｗ）より長く（Ｌ>Ｗ）、かつ、回転板３によって回転されるフォトマスク基板８の外周部から、回転されるフォトマスク基板８の回転中心を越える部分にまで当接する。続いて、ノズル４５から純水が噴出するとともに、ロールブラシ４及びフォトマスク基板８が回転し、接触洗浄が行われる（ステップＳ３）。すなわち、本発明の接触洗浄は、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。また、トマスク基板８の中央部に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板８の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
【００３１】
また、本実施形態では、ロールブラシ４を、ロールブラシ４の長手軸を回転中心として回転させながら洗浄する。このようにすると、周速の遅いフォトマスク基板８の中央部（フォトマスク基板８の回転中心付近）に対する洗浄性を向上させることができる。
【００３２】
また、本実施形態では、まず、フォトマスク基板８を（上方から見て）時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）反時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行い、続いて、フォトマスク基板８を（上方から見て）時計回り方向に回転させたまま、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行う。
ここで、フォトマスク基板８を（上方から見て）時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）反時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板８とロールブラシ４の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ４を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ４の毛先（線状部材の先端部）と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
【００３３】
次に、フォトマスク基板８を（上方から見て）反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行い、続いて、フォトマスク基板８を（上方から見て）反時計回り方向に回転させたまま、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）反時計回り方向に回転させた状態で接触洗浄を行う。
ここで、フォトマスク基板８を（上方から見て）反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ４を（回動軸４４側方向から見て）時計回り方向に回転させた状態での接触洗浄は、フォトマスク基板８とロールブラシ４の接触相対速度が速くなる方向に、ロールブラシ４を回転させた接触洗浄であり、ロールブラシ４の毛先（線状部材の先端部）と基板表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
このように、フォトマスク基板８とロールブラシ４の回転方向の組合わせを変更して洗浄すると、フォトマスク基板８に対するロールブラシ４の接触状態を変化させることができ、フォトマスク基板８のパターン形状が複雑な場合であっても、接触洗浄品質を向上させることができる。
なお、本実施形態では、フォトマスク基板８に対するロールブラシ４の接触状態を四種類に変化させているが、四種類を常に必要としない場合、一又は二以上の種類の接触状態で洗浄してもよい。
【００３４】
さらに、上記接触洗浄を行う際、ロールブラシ４の中央側端部が、回転するフォトマスク基板８の回転中心を挟むように揺動させるとよい。このようにすると、ロールブラシ４に対する相対速度が遅いフォトマスク基板８の中央部に対しても、ロールブラシ４を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板８の中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
次に、ロールブラシ４及びフォトマスク基板８の回転が停止し、ノズル４５から純水の噴出が停止し、アーム４１が回動し、フォトマスク基板８の上方から移動する。
【００３５】
次に、スピン洗浄装置１は、シャワーパイプ（図示せず）から純水が噴出するとともに、フォトマスク基板８が時計回り方向に回転し、純水によるリンスが行われる（ステップＳ４）。続いて、シャワーパイプからの純水の噴出が停止し、フォトマスク基板８の回転が停止する。
【００３６】
次に、スピン洗浄装置１は、エアーノズル（図示せず）からフォトマスク基板８にエアーが吹きかけられ、さらに、フォトマスク基板８が回転することにより、フォトマスク基板８を乾燥させる（ステップＳ５）。続いて、フォトマスク基板８の回転が停止し、エアーの供給が停止する。
【００３７】
次に、スピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が搬送手段に保持され、搬送手段が、フォトマスク基板８をスピン洗浄装置１から回収し（ステップＳ６）、スピン洗浄装置１は、洗浄工程を終了する。
【００３８】
このように、本実施形態のスピン洗浄装置１によれば、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、フォトマスク基板８の中央部分に対しても、接触洗浄が効果的に行われるので、フォトマスク基板８の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。すなわち、スピン洗浄装置１によれば、矩形の大型基板に対して、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
【００３９】
［スピン洗浄方法］
また、本発明は、スピン洗浄方法としても有効であり、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄方法は、矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄方法において、長手方向の長さがフォトマスク基板８の対角長（対角線の長さ）の１／２より長いロールブラシ４を、回転するフォトマスク基板８の外周部から、回転するフォトマスク基板８の回転中心を越える部分にまで当接させて、フォトマスク基板８の表面を接触洗浄する方法としてある。
【００４０】
また、ロールブラシ４を、ロールブラシ４の長手軸を回転中心として回転させながら洗浄するとよい。このようにすると、フォトマスク基板８の中央部（回転中心付近）に対する洗浄性を向上させることができる。
さらに、フォトマスク基板８を、時計回り方向及び／又は反時計回り方向に回転させ、かつ、ロールブラシ４を、フォトマスク基板８とロールブラシ４の接触相対速度が速くなる方向に回転させながら洗浄するとよい。このようにすると、ロールブラシ４の毛先（線状部材の先端部）とフォトマスク基板８の表面が強く当たるので、異物を除去しにくい複雑なパターンに対して、洗浄性を向上させることができる。
【００４１】
さらに、ロールブラシ４を、フォトマスク基板８上で揺動させながら洗浄するとよい。このようにすると、ロールブラシ４に対する相対速度が遅いフォトマスク基板８の中央部に対しても、ロールブラシ４を効果的に接触させることができるので、フォトマスク基板８の中央部に対する洗浄性を向上させることができる。
【００４２】
また、被処理体を、長辺が３００ｍｍ以上のフォトマスク基板８としてある。このようにすると、フォトマスク基板８の中央部における洗浄品質が低下する、長辺が３００ｍｍ以上の大型矩形基板に対しても、洗浄性を向上させることができる。なお、フォトマスク基板８は、フォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【００４３】
このように、本実施形態のスピン洗浄方法によれば、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の全面を接触洗浄することができ、洗浄残りが発生するといった不具合を防止することができる。特に、フォトマスク基板８の中央部分に対しても、接触洗浄が行われるので、フォトマスク基板８の中央部に洗浄残りが発生するといった不具合を効果的に防止することができる。
【００４４】
以上、本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、スピン洗浄装置１は、一つのロールブラシ４を有する構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、二以上のロールブラシ４を備えた構成としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、フォトマスク基板を洗浄する構成に限定されるものではなく、セラミック板や、金属板などの洗浄装置及び洗浄方法に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
【図２】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、接触洗浄状態を説明するための、概略平面図を示している。
【図３】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、ロールブラシの概略図であり、（ａ）は平面図を、（ｂ）は正面図を、（ｃ）は中央側側面図を示している。
【図４】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の洗浄例を説明するための概略フローチャート図を示している。
【符号の説明】
【００４７】
１  スピン洗浄装置
２  処理カップ
３  回転板
４  ロールブラシ
８  フォトマスク基板
４１  アーム
４３  可変速モータ
４４  回動軸
４５  ノズル
【図１】
2007225810.tif 000003
【図２】
2007225810.tif 000004
【図３】
2007225810.tif 000005
【図４】
2007225810.tif 000006