(57)【要約】【課題】機能液の吐出位置に関する制約が少なく、かつ色要素に空隙部が生じにくいカラーフィルタ基板の製造方法、同じく発光層に空隙部が生じにくいエレクトロルミネッセンス基板の製造方法、カラーフィルタ基板、エレクトロルミネッセンス基板、電気光学装置、電子機器を提供すること。【解決手段】カラーフィルタ基板２０の製造方法は、ガラス基板２１上に、列方向に沿った隔壁４５を形成する工程（図２（ａ））と、ガラス基板２１の表面と隔壁４５とによって形作られた凹部に、液滴吐出装置を用いて色要素材料を含む機能液４０Ａを吐出する工程と、機能液４０Ａを乾燥させて色要素４０を形成する工程（図２（ｂ））と、色要素４０の表面であって行方向に延びた帯状の領域に電磁波を照射して色要素４０を変質させることにより、光の透過率が色要素４０より低い遮光部４６を形成する工程（図２（ｃ））とを包含する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の色要素を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記基板上に、前記列方向に沿った隔壁を形成する工程と、
前記基板の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に、液滴吐出装置を用いて色要素材料を含む機能液を吐出する工程と、
前記機能液を乾燥させて前記色要素を形成する工程と、
前記色要素のうち、前記行方向に延びた帯状の領域に電磁波を照射して前記色要素の一部を変質させることにより、光の透過率が前記色要素より低い遮光部を形成する工程と
を包含することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記電磁波はレーザー光であることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記色要素は感光材料を含み、
前記遮光部を形成する工程は、前記色要素に光を照射して前記感光材料を変質させる工程を包含することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有するエレクトロルミネッセンス基板の製造方法であって、
前記基板上に、前記画素ごとに画素電極を形成する工程と、
前記基板上に、前記列方向に沿った隔壁を形成する工程と、
前記基板又は前記画素電極の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に、液滴吐出装置を用いて発光材料を含む機能液を吐出する工程と、
前記機能液を乾燥させて発光層を形成する工程と、
前記発光層のうち、前記行方向に延びた帯状の領域であって前記画素電極の形成されていない領域を含む領域に電磁波を照射して前記発光層の一部を変質させることにより、発光輝度が前記発光層より低い低輝度発光部を形成する工程と
を包含することを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法であって、
前記電磁波はレーザー光であることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板の製造方法。
【請求項６】
基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の色要素を有するカラーフィルタ基板であって、
前記基板と、
前記基板上に、前記列方向に沿って配置された隔壁と、
前記基板の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に配置された色要素と、
少なくとも前記色要素の表面を含む領域であって前記行方向に延びた帯状の領域に形成された、光の透過率が前記色要素より低い遮光部と
を備えることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項７】
基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有するエレクトロルミネッセンス基板であって、
前記基板と、
前記基板上に、前記画素ごとに配置された画素電極と、
前記基板上に、前記列方向に沿って配置された隔壁と、
前記基板又は前記画素電極の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に配置された発光層と、
前記発光層の一部を変質させて形成された低輝度発光部であって、前記画素電極の形成されていない領域を含む前記行方向に延びた帯状の領域に形成された、発光輝度が前記発光層より低い低輝度発光部と
を備えることを特徴とするエレクトロルミネッセンス基板。
【請求項８】
請求項６に記載のカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項７に記載のエレクトロルミネッセンス基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法及びエレクトロルミネッセンス基板の製造方法、カラーフィルタ基板、エレクトロルミネッセンス基板、これらのいずれかを備えた電気光学装置、及び当該電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等の電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板は、色要素がマトリクス状に配置された構成を有するのが一般的である。ここで色要素とは、入射した光のうち特定の波長の光を吸収することによって透過光を所定の色（例えば赤、緑、青等）とすることが可能な物質である。こうしたカラーフィルタ基板の製造方法の一つに、インクジェット装置等の液滴吐出装置を用いて色要素を形成する工程を含む方法が知られている。具体的には、基板上に格子状の隔壁を形成し、これによってできた矩形の凹部に、色要素材料を含んだ機能液を液滴吐出装置によって吐出し、当該機能液を乾燥させて色要素を形成するものである。
【０００３】
こうした製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板においては、色要素に空隙部が生じることがあり、その部位において透過光が着色されない、いわゆる「白抜け」が起こるという問題点があった。これは、上記凹部の隅に機能液が濡れ広がらない結果、色要素が形成されるべき部位に形成されないことによって起こる。この問題点を解決する手段として、隔壁に凹凸を持たせること等により、上記凹部の形状を、機能液が濡れ広がりやすいように調整する技術が知られている（特許文献１参照）。
【０００４】
なお、上記の問題点及び解決手段は、液滴吐出装置を用いて発光層を形成するエレクトロルミネッセンス基板の製造過程においても当てはまる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２６６０１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、こうした解決手段をとったとしてもなお、機能液を凹部に均一に濡れ広がらせるためには、機能液の吐出位置を矩形の凹部内で細かく制御する必要がある。すなわち、周囲を隔壁で囲まれた矩形の凹部に機能液を均一な厚さに配置し、かつその厚さが異なる凹部間で異ならないようにするためには、各凹部の所定の位置に所定の量だけ機能液を吐出する必要がある。そして、その実施のためには、液滴吐出装置を細かくかつ正確に制御しなければならず、その困難性のために歩留まりが低下したり、液滴吐出装置の調整のために工程所要時間が長くなるという問題点があった。
【０００７】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、機能液の吐出位置に関する制約が少なく、かつ色要素に空隙部が生じにくいカラーフィルタ基板の製造方法、及び機能液の吐出位置に関する制約が少なく、かつ発光層に空隙部が生じにくいエレクトロルミネッセンス基板の製造方法を提供すること、また、当該製造方法によって製造されたカラーフィルタ基板、エレクトロルミネッセンス基板、これらのいずれかを備えた電気光学装置、及び当該電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の色要素を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記基板上に、前記列方向に沿った隔壁を形成する工程と、前記基板の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に、液滴吐出装置を用いて色要素材料を含む機能液を吐出する工程と、前記機能液を乾燥させて前記色要素を形成する工程と、前記色要素のうち、前記行方向に延びた帯状の領域に電磁波を照射して前記色要素の一部を変質させることにより、光の透過率が前記色要素より低い遮光部を形成する工程とを包含することを特徴とする。
【０００９】
上記製造方法によれば、隔壁を形成する工程において、隔壁は列方向に形成されるので、機能液を吐出する工程において機能液が配置されるべき凹部は、列方向に延びた細長い溝状の凹部となる。そして、当該凹部に吐出された機能液は、列方向については遮る隔壁がないため、容易に均一に濡れ広がる。このため、機能液を乾燥させて形成される色要素に空隙部が生じにくい。加えて、こうした凹部の形状により、液滴吐出装置による機能液の吐出位置には、特に列方向についての制約が少ない。これは、列方向については凹部が隔壁で区切られていないため、隔壁で区切られている場合と比較して吐出位置及び吐出量にばらつきがあっても、機能液が溝状の凹部全体に行きわたりやすいためである。また、色要素の表面に電磁波を照射して遮光部を形成することにより、色要素のマトリクス状の配列における行、列いずれの方向についても、色要素間の領域における遮光性が確保される。すなわち、色要素の隣接する列の間の領域における遮光性は隔壁によって確保され、色要素の隣接する行の間の領域における遮光性は遮光部によって確保される。このように、上記製造方法によれば、機能液の吐出位置に関する制約が少ない製造工程によって、色要素に空隙部が生じにくいカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００１０】
上記カラーフィルタ基板の製造方法において、前記電磁波はレーザー光であることが好ましい。このような製造方法によれば、遮光部の形成工程において、色要素の一部にレーザー光が照射され、当該レーザー光に起因する熱エネルギーが与えられる。そして、この部位の色要素は当該熱エネルギーによって炭化等の化学変化を起こし、光の透過率が前記色要素より低い遮光部となる。この遮光部によって、色要素の隣り合う行の間の領域における遮光性が確保される。
【００１１】
上記カラーフィルタ基板の製造方法においては、前記色要素は感光材料を含み、前記遮光部を形成する工程は、前記色要素に光を照射して前記感光材料を変質させる工程を包含することが好ましい。このような製造方法によれば、遮光部の形成工程において、色要素に含まれる感光材料に光が照射される。そして、この感光材料が当該光に起因する化学変化を起こし、光の透過率が前記色要素より低い遮光部となる。この遮光部によって、色要素の隣り合う行の間の領域における遮光性が確保される。
【００１２】
本発明のエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有するエレクトロルミネッセンス基板の製造方法であって、前記基板上に、前記画素ごとに画素電極を形成する工程と、前記基板上に、前記列方向に沿った隔壁を形成する工程と、前記基板又は前記画素電極の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に、液滴吐出装置を用いて発光材料を含む機能液を吐出する工程と、前記機能液を乾燥させて発光層を形成する工程と、前記発光層のうち、前記行方向に延びた帯状の領域であって前記画素電極の形成されていない領域を含む領域に電磁波を照射して前記発光層の一部を変質させることにより、発光輝度が前記発光層より低い低輝度発光部を形成する工程とを包含することを特徴とする。
【００１３】
上記製造方法によれば、隔壁を形成する工程において、隔壁は列方向に形成されるので、機能液を吐出する工程において機能液が配置されるべき凹部は、列方向に延びた細長い溝状の凹部となる。そして、当該凹部に吐出された機能液は、列方向については遮る隔壁がないため、容易に均一に濡れ広がる。このため、機能液を乾燥させて形成される発光層に空隙部が生じにくい。加えて、こうした凹部の形状により、液滴吐出装置による機能液の吐出位置には、特に列方向についての制約が少ない。これは、列方向については凹部が隔壁で区切られていないため、隔壁で区切られている場合と比較して吐出位置及び吐出量にばらつきがあっても、機能液が溝状の凹部全体に行きわたりやすいためである。また、発光層の表面に電磁波を照射して低輝度発光部を形成することにより、マトリクス状の画素配列における行、列いずれの方向についても、画素間の領域における不必要な発光が低減される。すなわち、画素の隣接する列の間の領域においては隔壁があることによって発光層が配置されていないため発光が行われず、画素の隣接する行の間の領域においては低輝度発光部が形成されていることによって不必要な発光が低減される。このように、上記製造方法によれば、機能液の吐出位置に関する制約が少ない製造工程によって、発光層に空隙部が生じにくいエレクトロルミネッセンス基板を製造することができる。
【００１４】
上記エレクトロルミネッセンス基板の製造方法において、前記電磁波はレーザー光であることが好ましい。このような製造方法によれば、低輝度発光部の形成工程において、発光層の一部にレーザー光が照射され、当該レーザー光に起因する熱エネルギーが与えられる。そして、この部位の発光層は当該熱エネルギーによって炭化等の化学変化を起こし、エレクトロルミネッセンス現象をほとんど起こさないようになる。すなわち、発光輝度が前記発光層より低い低輝度発光部となる。この低輝度発光部によって、画素の隣接する行の間の領域において不必要な発光が低減される。
【００１５】
本発明のカラーフィルタ基板は、基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の色要素を有するカラーフィルタ基板であって、前記基板と、前記基板上に、前記列方向に沿って配置された隔壁と、前記基板の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に配置された色要素と、少なくとも前記色要素の表面を含む領域であって前記行方向に延びた帯状の領域に形成された、光の透過率が前記色要素より低い遮光部とを備えることを特徴とする。
【００１６】
上記構成のカラーフィルタ基板は、前記凹部が列方向については隔壁で区切られていないため、当該凹部に配置される色要素に空隙部が生じにくい。このため、上記構成によれば、色要素の空隙に起因する白抜け等の不具合の少ないカラーフィルタ基板が得られる。
【００１７】
本発明のエレクトロルミネッセンス基板は、基板上に複数の行及び列に沿ってマトリクス状に配列された複数の画素を有するエレクトロルミネッセンス基板であって、前記基板と、前記基板上に、前記画素ごとに配置された画素電極と、前記基板上に、前記列方向に沿って配置された隔壁と、前記基板又は前記画素電極の表面と前記隔壁とによって形作られた凹部に配置された発光層と、前記発光層の一部を変質させて形成された低輝度発光部であって、前記画素電極の形成されていない領域を含む前記行方向に延びた帯状の領域に形成された、発光輝度が前記発光層より低い低輝度発光部とを備えることを特徴とする。
【００１８】
上記構成のエレクトロルミネッセンス基板は、前記凹部が列方向については隔壁で区切られていないため、当該凹部に配置される発光層に空隙部が生じにくい。このため、上記構成によれば、発光層の空隙に起因する表示不良の少ないエレクトロルミネッセンス基板が得られる。
【００１９】
本発明の電気光学装置は、上記カラーフィルタ基板を備えることを特徴とする。このような電気光学装置は、色要素の空隙に起因する白抜け等の不具合の少ないカラーフィルタ基板を用いることにより、高品位の表示又は発光を行うことができる。
【００２０】
本発明の電気光学装置は、上記エレクトロルミネッセンス基板を備えることを特徴とする。このような電気光学装置は、発光層の空隙に起因する表示不良の少ないエレクトロルミネッセンス基板を用いることにより、高品位の表示又は発光を行うことができる。
【００２１】
本発明の電子機器は、上記電気光学装置を備えることを特徴とする。このような電子機器は、上記電気光学装置によって高品位の表示又は発光を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００２３】
（第１の実施形態）
＜Ａ．カラーフィルタ基板＞
本実施形態は、本発明に係るカラーフィルタ基板及びカラーフィルタ基板の製造方法についてのものである。図２（ｃ）は、本発明の実施形態に係るカラーフィルタ基板２０の構造を示す概略平面図である。この図に示すように、カラーフィルタ基板２０は、「基板」としてのガラス基板２１の表面に、赤、緑、青にそれぞれ対応する複数の色要素領域２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ（以下ではこれらをまとめて「色要素領域２」とも呼ぶ）を有している。各々の色要素領域２は、隔壁４５及び遮光部４６によって区画されている。各色要素領域２には、赤、緑、青にそれぞれ対応する色要素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ（以下ではこれらをまとめて「色要素４０」とも呼ぶ）が形成されている。各色要素４０は、同色の色要素４０同士が列をなすように配置されている。すなわち、カラーフィルタ基板２０は、ストライプ状に配列された色要素４０を備えている。
【００２４】
ここで色要素４０は、色要素領域２ごとに、異なる色要素材料を含む３種（色）の機能液を吐出して乾燥させることにより形成されている。このような機能液としては、公知の材料を用いればよく、例えば、色要素材料として無機あるいは有機顔料を用い、これにより着色したアクリル樹脂やポリウレタン樹脂等からなる機能液を用いることができる。本稿では、色要素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂの形成に用いる機能液をそれぞれ機能液４０ＲＡ，４０ＧＡ，４０ＢＡ（図３（ｂ）参照）と表記する。また、上記隔壁４５は遮光性を有する樹脂である。遮光部４６は、色要素４０を炭化させた黒色の物質であって、色要素４０より光の透過率が低い。換言すれば、遮光部４６も、隔壁４５と同様に遮光性を有する。
【００２５】
図２（ｃ）のカラーフィルタ基板２０をＣ−Ｃ線で切断したときの断面図を図３（ｄ）に示す。この図に示すように、ガラス基板２１及び隔壁４５は凹部を形作っており、各色要素４０は当該凹部に配置されている。また、遮光部４６は、各色要素４０の上部に積層される形で配置されている。これは、遮光部４６が、色要素４０の上層部を炭化させたものであることに起因する。図２（ｃ）のカラーフィルタ基板２０をＤ−Ｄ線で切断したときの断面図を図４（ａ）に示す。この図に示すように、色要素４０（４０Ｇ）は、列方向に隣接した複数の色要素領域２にわたって連続的に配置されており、色要素領域２は、色要素４０（４０Ｇ）の表面に形成された遮光部４６によって区画されているに過ぎない。ただし、図４（ｂ）のように、遮光部４６を色要素４０（４０Ｇ）の全ての厚さ方向にわたって形成することもできる。なお、図２（ｃ）のカラーフィルタ基板２０を、Ｃ−Ｃ線に平行でかつ遮光部４６を含まない位置で切断したときの断面図は、図３（ｃ）に相当する。
【００２６】
こうした構成のカラーフィルタ基板２０によれば、各色要素領域２において、透過光を赤、緑、又は青に着色可能であるとともに、隣接する色要素領域２間においては隔壁４５及び遮光部４６によって透過光が遮光されるため、混色等が生じない、高品位な光学特性が実現される。
【００２７】
＜Ｂ．カラーフィルタ基板の製造方法＞
続いて、上記カラーフィルタ基板２０の製造方法について説明する。
【００２８】
＜Ｂ−１．液滴吐出装置の全体構成＞
まず、カラーフィルタ基板２０の製造に用いる液滴吐出装置３００の全体構成について図５を用いて説明する。図５に示す液滴吐出装置３００は、基本的には液状の材料１１１（機能液４０ＲＡ）を吐出するためのインクジェット装置である。より具体的には、液滴吐出装置３００は、液状の材料１１１を保持するタンク１０１と、チューブ１１０と、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０３と、ステージ１０６と、第１位置制御装置１０４と、第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、支持部１０４ａとを備えている。なお、色要素４０Ｇ，４０Ｂの色要素材料を含む機能液４０ＧＡ，４０ＢＡを吐出するための液滴吐出装置（不図示）は、吐出する材料が異なることを除けば液滴吐出装置３００の構造および機能と基本的に同じであるので、説明は省略する。
【００２９】
吐出ヘッド部１０３は、ヘッド１１４（図６参照）を保持している。このヘッド１１４は、制御部１１２からの信号に応じて、液状の材料１１１の液滴を吐出する。なお、吐出ヘッド部１０３におけるヘッド１１４は、チューブ１１０によってタンク１０１に連結されており、このため、タンク１０１からヘッド１１４に液状の材料１１１が供給される。
【００３０】
ステージ１０６はガラス基板２１を固定するための平面を提供している。さらにステージ１０６は、吸引力を用いてガラス基板２１の位置を固定する機能も有する。
【００３１】
第１位置制御装置１０４は、支持部１０４ａによって、グランドステージＧＳから所定の高さの位置に固定されている。この第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０３をＸ軸方向と、Ｘ軸方向に直交するＺ軸方向と、に沿って移動させる機能を有する。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで吐出ヘッド部１０３を回転させる機能も有する。ここで、本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。
【００３２】
第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、ステージ１０６をグランドステージＧＳ上でＹ軸方向に移動させる。ここで、Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方と直交する方向である。
【００３３】
上記のような機能を有する第１位置制御装置１０４の構成と第２位置制御装置１０８の構成とは、リニアモータまたはサーボモータを利用した公知のＸＹロボットを用いて実現できる。このため、ここでは、それらの詳細な構成の説明を省略する。
【００３４】
さて上述のように、第１位置制御装置１０４によって、吐出ヘッド部１０３はＸ軸方向に移動する。そして、第２位置制御装置１０８によって、ガラス基板２１はステージ１０６と共にＹ軸方向に移動する。これらの結果、ガラス基板２１に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図６参照）は、ステージ１０６に固定されたガラス基板２１に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。「相対移動」または「相対走査」とは、液状の材料１１１を吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部）の少なくとも一方を他方に対して相対移動することを意味する。
【００３５】
制御部１１２は、液状の材料１１１の液滴を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２は、受け取った吐出データを内部の記憶装置に格納するとともに、格納された吐出データに応じて、第１位置制御装置１０４と、第２位置制御装置１０８と、ヘッド１１４と、を制御する。なお、吐出データとは、ガラス基板２１上に、液状の材料１１１を所定パターンで付与するためのデータである。本実施形態では、吐出データはビットマップデータの形態を有している。
【００３６】
上記構成を有する液滴吐出装置３００は、吐出データに応じて、ヘッド１１４のノズル１１８をガラス基板２１に対して相対移動させるとともに、被吐出部に向けてノズル１１８から液状の材料１１１を吐出する。
【００３７】
＜Ｂ−２．ヘッド＞
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、液滴吐出装置３００におけるヘッド１１４は、複数のノズル１１８を有するインクジェットヘッドである。具体的には、ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズル１１８の開口を規定するノズルプレート１２８と、を備えている。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、液たまり１２９が位置しており、この液たまり１２９には、図示しない外部タンクから孔１３１を介して供給される液状の材料１１１が常に充填される。
【００３８】
また、振動板１２６とノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁部１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、一対の隔壁部１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、一対の隔壁部１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状の材料１１１が供給される。なお、本実施形態では、ノズル１１８の直径は、約２７μｍである。
【００３９】
さて、振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、それぞれの振動子１２４が位置する。振動子１２４のそれぞれは、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂとを含む。制御部１１２が、この一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状の材料１１１の液滴Ｄが吐出される。ここで、ノズル１１８から吐出される材料の体積は、０ｐｌ以上４２ｐｌ（ピコリットル）以下の間で可変である。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状の材料１１１の液滴Ｄが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００４０】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００４１】
＜Ｂ−３．制御部＞
次に、制御部１１２の構成を説明する。図７に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶装置２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８とを備えている。入力バッファメモリ２００と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と、記憶装置２０２と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８とは、図示しないバスによって相互に通信可能に接続されている。
【００４２】
走査駆動部２０６は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、ヘッド１１４と相互に通信可能に接続されている。
【００４３】
入力バッファメモリ２００は、液滴吐出装置３００の外部に位置する外部情報処理装置（不図示）から、液状の材料１１１の液滴を吐出するための吐出データを受け取る。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶装置２０２に格納する。図７では、記憶装置２０２はＲＡＭである。
【００４４】
処理部２０４は、記憶装置２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、吐出周期と、に応じたステージ駆動信号を第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置が変わる。一方、処理部２０４は、記憶装置２０２に記憶された吐出データに基づいて、液状の材料１１１の吐出に必要な吐出信号をヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状の材料１１１の液滴Ｄが吐出される。
【００４５】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータである。したがって、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００４６】
＜Ｂ−４．液状の材料＞
上述の「液状の材料１１１」とは、ヘッド１１４のノズル１１８から液滴Ｄとして吐出されうる粘度を有する材料をいう。ここで、液状の材料１１１が水性であると油性であるとを問わない。ノズル１１８から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。ここで、液状の材料１１１の粘度は１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であるのが好ましい。粘度が１ｍＰａ・ｓ以上である場合には、液状の材料１１１の液滴Ｄを吐出する際にノズル１１８の周辺部が液状の材料１１１で汚染されにくい。一方、粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下である場合は、ノズル１１８における目詰まり頻度が小さく、このため円滑な液滴Ｄの吐出を実現できる。なお、「液状の材料１１１」は、被吐出部に付与された後に固有の機能を果たすことから、「機能液」とも呼ぶ。
【００４７】
本実施形態で用いる４０ＲＡ，４０ＧＡ，４０ＢＡは、上述の条件を満たす液状の材料１１１（機能液）である。機能液４０ＲＡ，４０ＧＡ，４０ＢＡは、それぞれ赤、緑、青の色要素材料を溶媒に溶解させた液体である。色要素材料としては、顔料や染料等の着色剤を用いることができ、溶媒としては、アクリル樹脂等を用いることができる。
【００４８】
＜Ｂ−５．製造方法＞
続いて、図１から図４を参照しながら、上述の液滴吐出装置３００を用いたカラーフィルタ基板２０の製造方法について説明する。図１は、カラーフィルタ基板２０の製造方法を示す工程図であり、図２は、当該製造方法の各工程におけるカラーフィルタ基板２０の平面図、図３及び図４は、当該製造方法の各工程におけるカラーフィルタ基板２０の断面図である。
【００４９】
まず、工程Ｐ１１では、ガラス基板２１上に樹脂有機薄膜を塗付し、これをフォトリソグラフィー法によってパターニングすることによって、図２（ａ）に示すように隔壁４５を形成する。図２（ａ）中のＡ−Ａ線における断面図が図３（ａ）である。これらの図に示すように、隔壁４５は、外周となるべき領域を除けば、列方向に沿ってのみ形成される。この結果、ガラス基板２１上に、ガラス基板２１の表面を底部とし、隔壁４５を側壁とする、列方向に長い長矩形の凹部が形成される。
【００５０】
次に、工程Ｐ１２では、上記凹部の底部に、色要素４０Ｒの材料となる色要素材料を含んだ機能液４０ＲＡを吐出する（図３（ｂ）参照）。具体的には、まず、隔壁４５が形成されたガラス基板２１が、液滴吐出装置３００のステージ１０６に運ばれる。そして、液滴吐出装置３００は、上記凹部の底部に、ヘッド１１４の吐出部１２７から機能液４０ＲＡを吐出する。このとき、機能液４０ＲＡが吐出される凹部には、列方向については遮る隔壁がないため、機能液４０ＲＡが容易に均一に濡れ広がる。また、凹部が長矩形であることにより、機能液４０ＲＡの吐出位置には、特に列方向についての制約が少ない。すなわち、列方向については凹部が隔壁４５で区切られていないため、隔壁４５で区切られている場合と比較して吐出位置及び吐出量にばらつきがあっても、機能液４０ＲＡが溝状の凹部全体に行きわたりやすい。この後、乾燥若しくは低温（例えば６０℃）での焼成によるプレベーク（仮焼成）を行うことによって、吐出された機能液４０ＲＡは、仮固化若しくは仮硬化される。
【００５１】
同様にして、工程Ｐ１３では機能液４０ＧＡが、また工程Ｐ１４では機能液４０ＢＡが、それぞれ異なる凹部に吐出される。それぞれの吐出工程後には、機能液４０ＲＡの場合と同様、プレベークが行われる。
【００５２】
続く工程Ｐ１５では、機能液４０ＲＡ，４０ＧＡ，４０ＢＡ（以下ではこれらをまとめて「機能液４０Ａ」とも呼ぶ）が吐出されたガラス基板２１を高温環境下に放置して焼成を行う。当該焼成工程を経た後は、機能液４０Ａ中の溶媒が蒸発し、図２（ｂ）に示すように、当該機能液４０Ａが吐出された領域に色要素４０がそれぞれ形成される。図２（ｂ）中のＢ−Ｂ線における断面図が図３（ｃ）に相当する。上述したように、機能液４０Ａは、凹部が長矩形である結果、当該凹部に均一に塗れ広がっているので、工程Ｐ１５において焼成、乾燥された後の色要素４０には空隙部が生じにくい。
【００５３】
次に、工程Ｐ１６では、色要素４０の表面の所定の領域にレーザー光を照射する。ここで所定の領域とは、行方向の帯状の領域であって、隣接する色要素領域２の間の領域を含む領域である。換言すれば、色要素領域２を列方向について区画するときの区画領域である。色要素４０のうちレーザー光を照射された部位は、レーザー光の熱エネルギーによって変質し、透過率が色要素４０より低い遮光部４６となる。より具体的には、色要素４０は、前記熱エネルギーによって炭化されて、黒色の遮光部４６となる（図２（ｃ）参照）。前述したように、図２（ｃ）中のＣ−Ｃ線における断面図が図３（ｄ）に相当し、Ｄ−Ｄ線における断面図が図４（ａ）に相当する。このように遮光部４６を形成することにより、色要素４０のマトリクス状の配列における行、列いずれの方向についても、色要素４０間の領域における遮光性が確保される。すなわち、色要素４０の隣り合う列の間の領域における遮光性は隔壁４５によって確保され、色要素４０の隣り合う行の間の領域における遮光性は遮光部４６によって確保される。
【００５４】
以上の工程を経て、カラーフィルタ基板２０が完成する。このような製造方法によれば、機能液４０ＲＡの吐出位置に関する制約が少ないにも関わらず、色要素４０に空隙部が生じにくいカラーフィルタ基板２０を製造することができる。
【００５５】
（電気光学装置への適用例）
本発明を適用したカラーフィルタ基板２０は、例えば、図８に示すような「電気光学装置」としての液晶表示装置１に用いることができる。液晶表示装置１は、ＴＦＴ素子をスイッチング素子とするアクティブマトリクス方式の表示装置であり、シール剤３５を介して互いに対向して固着された素子基板１０、カラーフィルタ基板２０を有している。シール剤３５は、カラーフィルタ基板２０の外縁部近傍に形成されている。素子基板１０、カラーフィルタ基板２０、シール剤３５が作る空間には液晶（不図示）が封入されている。また、素子基板１０上には、液晶を駆動するためのドライバ３９が実装されている。
【００５６】
このような構成の液晶表示装置１は、液晶の作用により透過光を変調し、表示領域３２において表示を行う装置である。表示領域３２は、マトリクス状に配列された画素からなり、ドライバ３９はこれらの各々の画素に対して液晶を所望の状態に駆動させるための駆動信号を出力する。ここで、カラーフィルタ基板２０の色要素領域２の形状は、液晶表示装置１の画素の形状と略等しくなっている。これにより、表示に用いられる透過光は、カラーフィルタ基板２０の色要素４０を透過し、その際に着色される。ここで、カラーフィルタ基板２０の色要素４０には上述したように空隙が少ないため、当該空隙に起因する白抜け等の不具合が少ない。このため、液晶表示装置１は、白抜け等の不具合の少ない、高品位の表示を行うことができる。
【００５７】
なお、カラーフィルタ基板２０は、上記液晶表示装置１以外にも種々の液晶表示装置に適用することが可能であり、例えば、ＴＦＤ（Thin Film Diode）をスイッチング素子とするもの、パッシブマトリクス駆動方式のもの、液晶モードがＴＮ（Twisted Nematic）モードのもの、またはＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードのもの等のいずれにも適用することができる。さらに、液晶表示装置以外にも、有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネル、およびＤＭＤ（Digital Micromirror Device）等のカラーフィルタ基板を有する種々の電気光学装置に適用することが可能である。
【００５８】
（電子機器への搭載例）
カラーフィルタ基板２０を備えた上記液晶表示装置１は、例えば、図９に示すような「電子機器」としての携帯電話機５００に搭載して用いることができる。携帯電話機５００は、表示部５１０および操作ボタン５２０を有している。表示部５１０は、内部に組み込まれた液晶表示装置１によって、操作ボタン５２０で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について、画素内における白抜け等のない、高品位な表示を行うことができる。
【００５９】
なお、本発明を適用した液晶表示装置１は、上記携帯電話機５００の他、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器、プロジェクタなどの各種電子機器に用いることができる。
【００６０】
（第２の実施形態）
＜Ａ．エレクトロルミネッセンス基板＞
本実施形態は、本発明に係るエレクトロルミネッセンス基板及びエレクトロルミネッセンス基板の製造方法についてのものである。図１１（ｄ）は、本実施形態のエレクトロルミネッセンス基板３０の構造を示す概略平面図である。この図に示すように、エレクトロルミネッセンス基板３０は、「基板」としてのガラス基板２１の表面に、赤、緑、青にそれぞれ対応する複数の画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ（以下ではこれらをまとめて「画素３」とも呼ぶ）を有している。各々の画素３は、隔壁４５及び低輝度発光部４７によって区画されている。各画素３には、赤、緑、青のそれぞれの色の光を発する発光層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ（以下ではこれらをまとめて「発光層４１」とも呼ぶ）が形成されている。各発光層４１は、同色の発光層４１同士が列をなすように配置されている。すなわち、エレクトロルミネッセンス基板３０は、ストライプ状に配列された発光層４１を備えている。
【００６１】
完成したエレクトロルミネッセンス基板３０を、発光層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂを含む線分で切断したときの断面図は、図１２（ｆ）に相当する。この図に示すように、ガラス基板２１と発光層４１との間にはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透明な画素電極３１が形成されている。隔壁４５は画素電極３１の上から形成されているため、一部が画素電極３１に重なっている。そして、発光層４１は、画素電極３１と隔壁４５とが形作る凹部に配置されている。また、隔壁４５及び発光層４１を覆って、金属からなる陰極３７及び樹脂からなる封止部材３８がこの順に重ねて形成されている。なお、ガラス基板２１の表面には、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子等を含む回路素子層がさらに形成されているが、本稿では図示を省略した。
【００６２】
発光層４１は、エレクトロルミネッセンス現象を発現する有機発光物質の層であり、画素電極３１と陰極３７との間に印加された電圧に応じて発光層４１に電流が流れると、当該電流の大きさに応じた輝度で発光する。発光層４１からの光は、一部は画素電極３１及びガラス基板２１を透過し、一部は陰極３７によって反射されてから画素電極３１及びガラス基板２１を透過する。いずれにせよ、発光層４１からの光はガラス基板２１の側から射出される。
【００６３】
発光層４１は、画素３ごとに、異なる発光材料を含む３種（色）の機能液を吐出して乾燥させることにより形成されている。このような機能液としては、公知の材料を用いればよく、例えば、発光材料としてポリフルオレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）等の有機発光材料を用い、これを溶解又は拡散させたアクリル樹脂やポリウレタン樹脂等からなる機能液を用いることができる。本稿では、発光層４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂの形成に用いる機能液をそれぞれ機能液４１ＲＡ，４１ＧＡ，４１ＢＡと表記する。
【００６４】
上記隔壁４５は遮光性を有する樹脂である。また、低輝度発光部４７は、発光層４１を変質させた物質であって、発光層４１より発光効率が著しく低いという特徴を有する。ここで発光効率とは、発光輝度の、素子に流れる電流に対する比をいう。低輝度発光部４７は、主に画素電極３１の配置されていない領域に形成されるが、こうした領域にも画素電極３１からの電界が回りこんで電流が流れる場合がある。また、低輝度発光部４７は、一部画素電極３１にかかって形成されるので、こうした領域には発光層４１と同様の電流が流れる。このように、低輝度発光層４７には電流が流れる可能性がある。しかし、発光層４１が発光している状況であっても発光輝度が低いか全く発光しないので、観察者は隔壁４５と同様、画素３を区画するブラックマスクとして認識する。
【００６５】
このように、上記構成のエレクトロルミネッセンス基板３０は、各画素３において、赤、緑、又は青の発光が可能であるとともに、隣接する画素３間においては隔壁４５及び低輝度発光部４７の存在によって発光がなされないか又はごく僅かであるため、隣接画素３の間で混色等が生じない、高品位な光学特性が実現される。
【００６６】
＜Ｂ．エレクトロルミネッセンス基板の製造方法＞
続いて、図１０から図１３を参照しながら、エレクトロルミネッセンス基板３０の製造方法について説明する。図１０は、エレクトロルミネッセンス基板３０の製造方法を示す工程図であり、図１１は、当該製造方法の各工程におけるエレクトロルミネッセンス基板３０の平面図、図１２及び図１３は、当該製造方法の各工程におけるエレクトロルミネッセンス基板３０の断面図である。
【００６７】
まず、工程Ｐ２１では、ガラス基板２１上の回路素子層（不図示）に積層して、画素３に対応する領域に、公知の成膜技術を用いてＩＴＯからなる画素電極３１を形成する（図１１（ａ）参照）。図１１（ａ）中のＥ−Ｅ線における断面図が図１２（ａ）である。画素電極３１は、回路素子層中のＴＦＴ素子（不図示）に電気的に接続された状態で形成される。
【００６８】
次に、工程Ｐ２２では、ガラス基板２１上に樹脂有機薄膜を塗付し、これをフォトリソグラフィー法によってパターニングすることによって、図１１（ｂ）に示すように隔壁４５を形成する。図１１（ｂ）中のＦ−Ｆ線における断面図が図１２（ｂ）である。これらの図に示すように、隔壁４５は、外周となるべき領域を除けば、列方向に沿ってのみ形成される。また、各々の隔壁４５の幅は、画素電極３１の隣接する列の間の領域の幅より広い。すなわち、隔壁４５は、画素電極３１に一部が重なった状態で形成される。この結果、ガラス基板２１上に、画素電極３１及びガラス基板２１の表面を底部とし、隔壁４５を側壁とする、列方向に長い長矩形の凹部が形成される。
【００６９】
次に、工程Ｐ２３では、上記凹部の底部に、発光層４１Ｒの材料となる発光材料を含んだ機能液４１ＲＡを吐出する（図１２（ｃ）参照）。具体的には、まず、隔壁４５が形成されたガラス基板２１が、液滴吐出装置３００のステージ１０６に運ばれる。そして、液滴吐出装置３００は、上記凹部の底部に、ヘッド１１４の吐出部１２７から機能液４１ＲＡを吐出する。このとき、機能液４１ＲＡが吐出される凹部には、列方向については遮る隔壁がないため、機能液４１ＲＡが容易に均一に濡れ広がる。また、凹部が長矩形であることにより、機能液４１ＲＡの吐出位置には、特に列方向についての制約が少ない。すなわち、列方向については凹部が隔壁４５で区切られていないため、隔壁４５で区切られている場合と比較して吐出位置及び吐出量にばらつきがあっても、機能液４１ＲＡが溝状の凹部全体に行きわたりやすい。この後、乾燥若しくは低温（例えば６０℃）での焼成によるプレベーク（仮焼成）を行うことによって、吐出された機能液４１ＲＡは、仮固化若しくは仮硬化される。
【００７０】
同様にして、工程Ｐ２４では機能液４１ＧＡが、また工程Ｐ２５では機能液４１ＢＡが、それぞれ異なる凹部に吐出される。それぞれの吐出工程後には、機能液４１ＲＡの場合と同様、プレベークが行われる。
【００７１】
続く工程Ｐ２６では、機能液４１ＲＡ，４１ＧＡ，４１ＢＡ（以下ではこれらをまとめて「機能液４１Ａ」とも呼ぶ）が吐出されたガラス基板２１を高温環境下に放置して焼成を行う。当該焼成工程を経た後は、機能液４１Ａ中の溶媒が蒸発し、図１１（ｃ）に示すように、当該機能液４１Ａが吐出された領域に発光層４１がそれぞれ形成される。図１１（ｃ）中のＧ−Ｇ線における断面図が図１２（ｄ）に相当する。上述したように、機能液４１Ａは、凹部が長矩形である結果、当該凹部に均一に塗れ広がっているので、工程Ｐ２６において焼成、乾燥された後の発光層４１には空隙部が生じにくい。
【００７２】
次に、工程Ｐ２７では、発光層４１の表面の所定の領域にレーザー光を照射する。ここで所定の領域とは、行方向の帯状の領域であって、隣接する画素３の間の領域を含む領域である。換言すれば、画素３を列方向について区画するときの区画領域である。発光層４１のうちレーザー光を照射された部位は、レーザー光の熱エネルギーによって変質し、発光効率が発光層４１より著しく低い低輝度発光部４７となる（図１１（ｄ）参照）。より具体的には、発光層４１が前記熱エネルギーによって炭化することによって、発光層４１からエレクトロルミネッセンス現象を発現する機能を滅失させ、その部位を低輝度発光部４７とする。図１１（ｄ）中のＨ−Ｈ線における断面図が図１２（ｅ）であり、Ｉ−Ｉ線における断面図が図１３である。これらの図に示すように、レーザー光を照射された部位の発光層４１は、そのすべての厚さ方向にわたって低輝度発光部４７に変質する。これは、発光層４１が厚さ０．１μｍから０．２μｍ程度の非常に薄い層であることに起因する。
【００７３】
このように低輝度発光部４７を形成することにより、画素３のマトリクス状の配列における行、列いずれの方向についても、画素３間の領域における不必要な発光が低減される。すなわち、画素３の隣接する列の間の領域においては隔壁４５があることによって発光層４１が配置されていないため発光が行われず、画素３の隣接する行の間の領域においては低輝度発光部４７が形成されていることによって不必要な発光が低減される。
【００７４】
続く工程Ｐ２８では、隔壁４５及び発光層２１の全体を覆って金属からなる陰極３７を形成する。そして、その後の工程Ｐ２９において、陰極３７を覆って樹脂からなる封止部材３８を形成し、エレクトロルミネッセンス基板３０が完成する（図１２（ｆ）参照）。
【００７５】
以上の工程を経て、エレクトロルミネッセンス基板３０が完成する。このような製造方法によれば、機能液４１ＲＡの吐出位置に関する制約が少ないにも関わらず、発光層４１に空隙部が生じにくいエレクトロルミネッセンス基板３０を製造することができる。また、こうして得られたエレクトロルミネッセンス基板は、駆動回路等と組み合わせて有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プリンタのラインヘッド、スキャナ用光源等の電気光学装置として用いることができ、当該電気光学装置は第１の実施形態と同様、種々の電子機器に搭載して用いることができる。
【００７６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００７７】
（変形例１）
上記各実施形態は、色要素４０又は発光層４１にレーザー光を照射することによって遮光部４６又は低輝度発光部４７を形成するものであるが、照射する電磁波はレーザー光に限られない。例えば、色要素４０又は発光層４１に感光材料を混入しておき、当該感光材料が反応する波長の光を照射することによって色要素４０又は発光層４１を変質させて遮光部４６又は低輝度発光部４７を形成してもよい。
【００７８】
（変形例２）
上記第１の実施形態のカラーフィルタ基板２０は、必要に応じて最表面に透明樹脂等からなるオーバーコートが形成されていてもよい。こうした構成によれば、色要素４０を保護することができるとともに、色要素４０および隔壁４５の高さの不均衡による表面の凹凸を平坦化することができる。
【００７９】
（変形例３）
上記第１の実施形態のカラーフィルタ基板２０は、赤、緑、青の３色の色要素４０および色要素領域２を有するが、これに代えて、４色以上の色要素および色要素領域を有する構成であってもよい。例えば、赤、緑、青、シアンの４色による構成とすることができる。また、これらの構成において、色の並び順は上記したものに限られず、任意の並び順とすることができる。
【００８０】
（変形例４）
上記第２の実施形態のエレクトロルミネッセンス基板３０は、発光層４１の上層又は下層に、電子注入層、電子輸送層、電子ブロック層、正孔注入層、正孔輸送層のうちの１つ又は２つ以上が積層された構成であってもよい。発光層４１にこれらを含めた層も、本発明における「発光層」に含まれる。したがって、本発明の実施形態に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法は、例えば発光層４１上に積層された電子輸送層にレーザー光を照射することによって低輝度発光部４７を形成する工程を含んでいてもよい。
【００８１】
（変形例５）
上記各実施形態は、色要素４０又は発光層４１に、ガラス基板２１とは反対側の面からレーザー光を照射するものであるが、レーザー光はガラス基板２１の側から照射することもできる。こうした方法によっても遮光部４６又は低輝度発光部４７を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の実施形態に係るカラーフィルタ基板の製造方法の工程図。
【図２】（ａ）から（ｃ）は、カラーフィルタ基板の製造工程における平面図。
【図３】（ａ）から（ｄ）は、カラーフィルタ基板の製造工程における断面図。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は、カラーフィルタ基板の製造工程における断面図。
【図５】液滴吐出装置を示す模式斜視図。
【図６】液滴吐出装置におけるヘッドの一部を示し、（ａ）は模式斜視図、（ｂ）は断面図。
【図７】液滴吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図８】本発明の電気光学装置の実施形態に係る液晶表示装置の模式斜視図。
【図９】本発明の電子機器の実施形態に係る携帯電話機の模式斜視図。
【図１０】本発明の実施形態に係るエレクトロルミネッセンス基板の製造方法の工程図。
【図１１】（ａ）から（ｄ）は、エレクトロルミネッセンス基板の製造工程における平面図。
【図１２】（ａ）から（ｆ）は、エレクトロルミネッセンス基板の製造工程における断面図。
【図１３】エレクトロルミネッセンス基板の製造工程における断面図。
【符号の説明】
【００８３】
１…液晶表示装置、２，２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ…色要素領域、３，３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ…画素、２０…カラーフィルタ基板、２１…「基板」としてのガラス基板、３０…エレクトロルミネッセンス基板、３１…画素電極、３７…陰極、３８…封止部材、４０，４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ…色要素、４０Ａ，４０ＲＡ，４０ＧＡ，４０ＢＡ…機能液、４１，４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ…発光層、４１Ａ，４１ＲＡ，４１ＧＡ，４１ＢＡ…機能液、４５…隔壁、４６…遮光部、４７…低輝度発光部、３００…液滴吐出装置、５００…携帯電話機。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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