(57)【要約】【課題】  ディスプレイに内在した水分によって発光素子が変性することがない電気光学装置及び電子機器を提供することにある。【解決手段】  発光パネル２内の第２層間絶縁層１２Ｂ上に画素電極１６の周囲を囲うようにして還元層１７を設けた。また、封止層２２を、高密度プラズマ成膜法を用いて形成した窒化シリコン（ＳｉＮｘ）で構成した。【選択図】      図２
2007080716.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成され、データ信号に応じた電流または電圧を供給する配線を備えた配線形成層と、
前記配線形成層上に形成され、前記基板の表示エリア上に区画形成された複数の領域に配置される複数の画素電極と、
前記複数の画素電極上に形成され、前記各画素電極に対して供給される前記データ信号に応じて発光する発光層を含む機能層と、
前記各機能層を被覆するように前記表示エリアに対して全面に渡って形成された共通電極と、
前記共通電極を覆って配置される封止層と
を備えた電気光学装置において、
前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた、前記配線形成層と前記封止層との間に還元性材料からなる還元層を設けたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記配線形成層上に設けたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記機能層上に設けたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記共通電極上に設けたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記還元層は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項５に記載の電気光学装置において、
前記還元層は、アルカリ土類金属であるカルシウム、マグネシウムのいずれかであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記共通電極及び前記封止層は、光透過性材料で構成され、
前記発光層は、前記表示エリアに対して全面に渡って形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記封止層は、窒素化合物で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、有機材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、前記発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の少なくともいずれかを含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）を備えた有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）が、軽量、高輝度、高視野角、高コントラスト比で他の電気光学装置より優れているとして注目されている。しかし、有機ＥＬディスプレイは、その有機ＥＬ素子の発光輝度が経時的に低下し、その結果、例えば、ダークスポットといった非発光領域が発生してしまう虞がある。
【０００３】
このような発光輝度の低下の原因としては、外部から水分や酸素が侵入することによって有機ＥＬ素子の発光層や電子注入層等が酸化分解されて変性することが考えられる。そこで、上記発光層や電子注入層等の酸化分解を抑制するために、シリカゲルといった吸湿剤を充填した中空構造を成す封止層を、有機ＥＬ素子等を収容するように基板上に接着固定している。このようにすることで、外部から侵入した酸素や水分を吸湿剤でトラップし、発光層や電子注入層に到達させないようにしている（たとえば、特許文献１，２参照）。
【０００４】
ところで、近年のディスプレイの大型化、薄型及び軽量化の要求に伴って、外部応力に耐えうるパネル強度を備えたディスプレイ構造が要求されている。このため、ディスプレイを前記中空構造からソリッド構造に変更することが要求されている。そこで、上記封止層を、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＡｌＯｘ膜等といったガスバリア性に優れた薄膜で形成することで、吸湿剤を必要としない、ソリッド構造のディスプレイが実現可能と考えられている。
【特許文献１】特開平７−１６９５６７号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記したように、封止層を、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＡｌＯｘ膜で形成することで、外部から酸素や水分が侵入させないようにすることができるが、元々、基板内に酸素や水分が内在している場合では、封止層がガスバリア性に優れているために、その酸素や水分が内部に滞ってしまう。これは、たとえば、製造工程中に基板等に酸素や水分が付着し、その後、除去しきれなかった場合等に起因する。その結果、その内在した酸素や水分によって、発光層や電子注入層等が酸分解されてしまい、発光輝度が低下してしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、ディスプレイ内部に内在した水分によって発光素子が変性することがない電気光学装置及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電気光学装置は、基板と、前記基板上に形成され、データ信号に応じた電流または電圧を供給する配線を備えた配線形成層と、前記配線形成層上に形成され、前記基板の表示エリア上に区画形成された複数の領域に配置される複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に形成され、前記各画素電極に対して供給される前記データ信号に応じて発光
する発光層を含む機能層と、前記各機能層を被覆するように前記表示エリアに対して全面に渡って形成された共通電極と、前記共通電極を覆って配置される封止層とを備えた電気光学装置において、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた、前記配線形成層と前記封止層との間に還元性材料からなる還元層を設けた。
【０００８】
これによれば、基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分は、還元層にトラップされるので還元される。従って、機能層が酸素及び水分によって酸化分解されて変性してしまう材料で構成された場合であっても、基板、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分が、機能層に到達することはない。この結果、長寿命の電気光学装置を実現することができる。
【０００９】
また、機能層に内在する酸素及び水分は、還元層にトラップされるので還元される。従って、機能層が酸素及び水分によって酸化分解されて変性してしまうことはない。この結果、長寿命の電気光学装置を実現することができる。
【００１０】
この電気光学装置において、前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記配線形成層上に設けてもよい。
これによれば、還元層は、画素電極を形成するときに同時に作り込むことができる。そして、その配線形成層上に設けられた還元層によって、基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分がトラップされることで還元される。また、機能層に内在する酸素及び水分は、この配線形成層上に設けられた還元層によってトラップされることで還元される。
【００１１】
この電気光学装置において、前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記機能層上に設けてもよい。
これによれば、還元層は、機能層上に設けられている。そして、その機能層上に設けられた還元層によって、基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分がトラップされることで還元される。また、機能層に内在する酸素及び水分は、この機能層上に設けられた還元層によってトラップされることで還元される。
【００１２】
この電気光学装置において、前記還元層は、前記複数の画素電極が区画形成された前記複数の領域を除いた前記共通電極上に設けてもよい。
これによれば、還元層は、機能層上に設けられている。そして、その機能層上に設けられた還元層によって、基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分がトラップされることで還元される。また、機能層に内在する酸素及び水分は、この機能層上に設けられた還元層によってトラップされることで還元される。
【００１３】
この電気光学装置において、前記還元層は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であってもよい。
これによれば、アルカリ金属であるリチウム（Ｌｉ）やナトリウム（Ｎａ）等、または、アルカリ土類金属であるカルシウム（Ｃａ）やマグネシウム（Ｍｇ）等は、スパッタ法や蒸着法で容易に形成することができる。従って、スパッタ法や蒸着法を使用することによって還元層を簡単に形成することができる。
【００１４】
この電気光学装置において、前記還元層は、アルカリ土類金属であるカルシウム、マグネシウムのいずれかであってもよい。
これによれば、カルシウム（Ｃａ）またはマグネシウム（Ｍｇ）は、取り扱いが容易であるので、高度な設備を要せずに還元層を低コストで形成することができる。
【００１５】
この電気光学装置において、前記共通電極及び前記封止層は、光透過性材料で構成され
、前記発光層は、前記表示エリアに対して全面に渡って形成されていてもよい。
これによれば、発光層にて発せられた光は封止層を介して外部に出射される、所謂トップエミッション構造の電気光学装置に対して発光層の発光輝度が基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分によって低下しない長寿命の電気光学装置を実現することができる。
【００１６】
また、還元層は、画素電極上を除く配線形成層と封止層との間に設けられているので、ある所定の発光層から発せられた光と隣接した他の発光層から発せられた光とが干渉した光は、還元層によって遮られ封止層を介して外部に出射されない。つまり、還元層をブラックマトリクスとして作用することができる。この結果、長寿命、かつ、高精細な画像を表示する電気光学装置を実現することができる。
【００１７】
この電気光学装置において、前記封止層は、窒素化合物または窒素酸化化合物で構成されていてもよい。
これによれば、高密度プラズマ成膜法（例えば、イオンプレーティング、ＥＣＲプラズマスパッタ、ＥＣＲプラズマＣＶＤ、表面波プラズマＣＶＤ、ＩＣＰ−ＣＶＤ等）を用いて形成された窒素化合物は、ガスバリア性に優れた薄膜（ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＮｘ、ＡｌＯｘ膜）であるので、外部からの封止層を介して水分や酸素が発光層に到達することはない。従って、発光層に水分や酸素を到達させないようにすることができる。
【００１８】
この電気光学装置において、前記機能層は、有機材料で構成されていてもよい。
これによれば、機能層が低分子有機材料で構成した場合では、真空蒸着法によって機能層を形成することができる。そして、真空蒸着法によって、例えば、単色の光を発する発光層を構成する材料を基板に対して全面に形成し、また、還元層を蒸着し、さらに、公知のカラーフィルタを設けることで、長寿命、かつ、カラー表示の可能な電気光学装置を実現することができる。
【００１９】
また、機能層が高分子有機材料で構成した場合では、発光層を構成する材料（有機材料）を所定の溶媒に溶解または分散させてなる液状体を、基板上に吐出させ、その後、その溶媒を除去することで発光層を形成する、所謂インクジェット法やスピンコート法といった方法を用いて形成することができる。また、インクジェット法を使用することで、赤、緑、青色等の発光層を個別に形成することができる。
【００２０】
この電気光学装置において、前記機能層は、前記発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。
これによれば、発光層は発光効率が高いものとなる。従って、長寿命、かつ高輝度な電気光学装置を実現することができる。
【００２１】
本発明の電子機器は上記記載の電気光学装置を備えている。
これによれば、発光輝度が基板、機能層、画素電極、共通電極、配線形成層及び封止層に内在する酸素及び水分によって低下しない長寿命の電気光学装置を備えた電子機器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態を有機ＥＬディスプレイに具体化した場合について説明する。
【００２３】
図１は、本発明の電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイの概略斜視図である。
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、発光パネル２と、カラーフィルタ３と
を備えている。
【００２４】
発光パネル２は、透明の基板Ｓを有し、そのＺ矢印方向側の一側面に配線形成層が形成されている。配線形成層の上面に光を出射する画素が形成され、発光パネル２のＺ矢印方向側の面を光出射面Ｍとしている。そして、その光出射面Ｍ上にカラーフィルタ３が貼り合わされている。即ち、有機ＥＬディスプレイ１は、基板Ｓと反対側の面を光出射面Ｍとした、所謂トップエミッション構造の有機ＥＬディスプレイである。
【００２５】
発光パネル２は、中央に表示エリアＨを備えている。表示エリアＨには、行方向（図１中Ｘ矢印方向）に沿ってｎ本の走査線ＬＹ１，ＬＹ２，ＬＹ３，…，ＬＹｎが形成されているとともに、各走査線ＬＹ１〜ＬＹｎと交差するように列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿ってｍ本のデータ線ＬＸ１，ＬＸ２，ＬＸ３，…，ＬＸｍが形成されている。
【００２６】
また、表示エリアＨには、各走査線ＬＹ1〜ＬＹnとデータ線ＬＸ1〜ＬＸmとの交差部に対応した位置に単色光（白色の光）を出射する画素８を備えている。つまり、表示エリアＨには、ｎ×ｍ個の画素８がマトリクス状に配置されている。さらに、表示エリアＨには、各画素８に電源を供給するための図示しない電源線が形成されている。
【００２７】
尚、説明の便宜上、画素８を区別する場合、表示エリアＨの左端（図１中反Ｘ方向側）に列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って配置されたｎ個の画素８群から数えて１列目、４列目、…、ｍ−２列目に配置された各画素８を第１画素８という。また、表示エリアＨの左端に列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って配置されたｎ個の画素８群から数えて２列目、５列目、…、ｍ−１列目に配置された各画素８を第２画素８という。さらに、表示エリアＨの左端に列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って配置されたｎ個の画素８群から数えて３列目、６列目、…、ｍ列目に配置された各画素８を第３画素８という。
【００２８】
表示エリアＨ以外のエリア（以降、「非表示エリア」という）Ｑには、表示エリアＨを囲むように基板Ｓの周囲に沿って矩形状をした陰極用配線Ｌｏが形成されている。陰極用配線Ｌｏには、共通電位が供給されるようになっている。
【００２９】
また、非表示エリアＱには、図示しない走査線駆動回路が形成されている。この走査線駆動回路は、それぞれ走査線ＬＹ１〜ＬＹｎに接続され、各走査線ＬＹ１〜ＬＹｎに走査信号を出力する。さらに、非表示エリアＱには、データ線ＬＸ１〜ＬＸｍの一部が延設されて、図示しない外付けのデータ線駆動回路に接続されている。そして、このデータ線駆動回路からデータ線ＬＸ１〜ＬＸｍにデータ信号が供給されるようになっている。
【００３０】
カラーフィルタ３は、発光パネル２の光出射面Ｍ上に、表示エリアＨに対向するように配置されている。カラーフィルタ３は、升目状に形成された遮光用のブラックマトリックスＢＭで囲まれた空間に、赤色に着色された赤用透明着色層６Ｒと、緑色に着色された緑用透明着色層６Ｇと、青色に着色された青用透明着色層６Ｂとを備えている。赤用透明着色層６Ｒは画素８から出射した白色の光を赤色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第１画素８に相対向するように配置されている。緑用透明着色層６Ｇは画素８から出射した白色の光を緑色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第２画素８に相対向するように配置されている。青用透明着色層６Ｂは画素８から出射した白色の光を青色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第２画素８に相対向するように配置されている。そして、行方向（図１中Ｘ矢印方向）に沿って隣接した赤用着色層６Ｒ、緑用着色層６Ｇ及び青用着色層６Ｂを一つの組とする３つの画素８によって１組のカラー画素を構成する。
【００３１】
図２（ａ）は、有機ＥＬディスプレイ１の表示エリアＨの断面図であり、図２（ｂ）は
、その上面図である。
図２（ａ）に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、基板Ｓ上に、配線形成層１０、画素電極１６、機能層２０、共通電極２１、封止層２２が積層されている。
【００３２】
基板Ｓは、例えばガラス板である。基板Ｓは、本実施形態では、純水加圧スプレーによって洗浄し、その後、乾燥することで、表面に吸着した水分を除去している。
配線形成層１０は、酸化膜１１、第１層間絶縁層１２Ａ及び第２層間絶縁層１２Ｂを備え、基板Ｓ側から酸化膜１１、第１層間絶縁層１２Ａ、第２層間絶縁層１２Ｂの順に積層されている。そして、酸化膜１１は基板Ｓ上に形成され、基板Ｓ上には、その酸化膜１１をゲート酸化膜とした駆動トランジスタ１５が形成されている。駆動トランジスタ１５は、後記するように、データ線ＬＸ1〜ＬＸmを介して供給される前記データ信号に応じた電流（駆動電流）を生成するためのトランジスタである。尚、本実施形態では、駆動トランジスタ１５は、ｎチャネル型ＴＦＴである。
【００３３】
酸化膜１１上には、ゲート電極１５ｇ及び第１層間絶縁層１２Ａが形成されている。ゲート電極１５ｇは、駆動トランジスタ１５と同様にして形成される図示しないスイッチングトランジスタを介してデータ線ＬＸ１〜ＬＸｍ（図１参照）に接続されている。第１層間絶縁層１２Ａ上には、駆動トランジスタ１５のソース電極１５ｓ及びドレイン電極１５ｄが形成されている。尚、第１層間絶縁層１２Ａには、図示しないが、前記走査線ＬＹ１〜ＬＹｎ及びデータ線ＬＸ１〜ＬＸｍが形成されている。
【００３４】
また、第１層間絶縁層１２Ａ上には、ソース電極１５ｓ及びドレイン電極１５ｄ上に渡って、第２層間絶縁層１２Ｂが形成されている。第２層間絶縁層１２Ｂ上（基板Ｓの表示エリアＨ上）には、複数の領域１６ａが区画形成され、その複数の領域１６ａ上に複数の画素電極１６が形成されている。図２（ｂ）に示すように、画素電極１６は、第２層間絶縁層１２Ｂ上にマトリクス状に配置されている。画素電極１６は、光透過性を有した導電材料で形成されている。本実施形態では、光透過性を有した導電材料として、錫−インジウム酸化物（ＩＴＯ）で形成されている。尚、この画素電極１６は、ＵＶオゾン処理を行うことにより、その仕事関数が所望の値となるように調整されている。
【００３５】
第２層間絶縁層１２Ｂには、コンタクトホール１３が形成されている。そして、このコンタクトホール１３によって、画素電極１６と、第１層間絶縁層１２Ａに形成された駆動トランジスタ１５のソース電極１５ｓとが電気的に接続されている。そして、データ線ＬＸ１〜ＬＸｍを介して供給されたデータ信号がゲート電極１５ｇに供給されると、そのデータ信号によってドレイン電極１５ｄとソース電極１５ｓとの間に流れる電流（駆動電流）が制御され、その結果、コンタクトホール１３を介して画素電極１６に駆動電流が供給される。
【００３６】
また、第２層間絶縁層１２Ｂには、画素電極１６に対応した位置に反射層１８が形成されている。反射層１８は、アルミニウム（Ａｌ）といった光反射率の高い材料で形成されている。
【００３７】
さらに、第２層間絶縁層１２Ｂ上には還元性材料からなる還元層１７が形成されている。還元層１７は、各画素電極１６が区画形成された領域１６ａを除いた配線形成層１０上に設けられている。つまり、図２（ｂ）に示すように、還元層１７は、上面から見て各画素電極１６を囲むように配置されている。尚、本実施形態では、画素電極１６と還元層１７とが同じ層（第２層間絶縁層１２Ｂ）上に形成されているので、図２（ｂ）では、説明の便宜上、画素電極１６と還元層１７が同じ層に形成されている意味で実線で示し、さらに、他の層と区別するために還元層１７を斜線で示している。
【００３８】
還元層１７は、還元材料から形成されている。本実施形態の還元層１７は、カルシウム（Ｃａ）から形成されている。従って、還元層１７の周囲に水分及び酸素が内在する場合、その水分及び酸素は還元層１７によってトラップされる。尚、還元層１７は、第２層間絶縁層１２Ｂ上にマスク等を使用して蒸着法を用いて形成されている。
【００３９】
さらにまた、第２層間絶縁層１２Ｂ上には、各画素電極１６及び還元層１７であって、表示エリアＨに対して全面に渡って、機能層２０が形成されている。機能層２０は、その拡大部５０に示すように、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅが画素電極１６側から順に積層されている。機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、それぞれ公知の低分子の有機材料で構成されたものであって、酸素や水分によって分解して変性されやすい。尚、本実施形態では、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、真空蒸着法を使用することで、それぞれの層２０ａ〜２０ｅを構成する低分子有機材料を所定の位置に選択的に蒸着することで形成している。
【００４０】
機能層２０上には、該機能層２０を被覆するように表示エリアＨに対して全面に渡って共通電極２１が形成されている。共通電極２１は、光透過性材料であって、かつ導電材料で構成されている。本実施形態では、マグネシウム−銀化合物（Ｍｇ−Ａｇ）で形成されている。共通電極２１は、陰極用配線Ｌｏ（図１参照）に接続され、共通電位が供給されるようになっている。
【００４１】
そして、所定の画素電極１６に駆動電流が供給されると、その画素電極１６から機能層２０中の発光層２０ｃに前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）が供給され、共通電極２１からのキャリア（電子）と再結合することで光が発せられる。このとき、機能層２０の発光層２０ｃと画素電極１６との間には、正孔注入層２０ａ及び正孔輸送層２０ｂが形成されているので、前記駆動電流を荷うキャリア（正孔）は効率良く発光層２０ｃに供給される。また、機能層２０の発光層２０ｃと共通電極２１との間には、電子輸送層２０ｄ及び電子注入層２０ｅが形成されているので、電子が効率良く発光層２０ｃに供給される。従って、発光層２０ｃには、各電極１６，２１から効率良くキャリアが供給されるので、発光効率が良好で、高輝度で白色の光を発する。
【００４２】
機能層２０上には、封止層２２が形成されている。この封止層２２は、機能層２０、画素電極１６、共通電極２１及び配線形成層１０を収容可能にするように、基板Ｓに対向配置されている。また、封止層２２は、共通電極２１全面に渡って該共通電極２１を覆うように密着して形成されている。
【００４３】
封止層２２は、光透過性を有し、かつ、水分や酸素を完全に遮断することの可能なガスバリア性に優れた材料で構成されている。本実施形態の封止層２２は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または窒素酸化シリコン（ＳｉＯＮｘ）で構成されている。尚、この窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または窒素酸化シリコン（ＳｉＯＮｘ）は、高密度プラズマ成膜法（例えば、イオンプレーティング、ＥＣＲプラズマスパッタ、ＥＣＲプラズマＣＶＤ、表面波プラズマＣＶＤ、ＩＣＰ−ＣＶＤ）を用いて形成することで、水分や酸素を完全に遮断することの可能な薄膜に形成することができる。
【００４４】
そして、画素電極１６と該画素電極１６に対向した共通電極２１と、画素電極１６と共通電極２１との間に配置される機能層２０とで有機ＥＬ素子２５が形成される。また、有機ＥＬ素子２５及び該有機ＥＬ素子２５に駆動電流を供給するための駆動トランジスタ１５を含む各種電子素子とで前記した一つ画素８が構成される。
【００４５】
カラーフィルタ３は、前記したように、赤、緑及び青用着色層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂを備えている。各赤、緑及び青用着色層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂは、各画素８に対向する位置に配置さ
れている。また、各赤、緑及び青用着色層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂは、その各着色層６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの境界が還元層１７上に沿うように配置されている。
【００４６】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１は、各画素８の発光層２０ｃにて発せられた白色の光が、共通電極２１及び封止層２２を介してカラーフィルタ３を透過することで、赤色、緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに変換される。また、発光層２０ｃから基板Ｓ側に向かって発せられた白色の光は、反射層１８によって反射され、画素電極１６を透過してカラーフィルタ３を透過することで、赤色、緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに変換される。そして、その変換された赤色、緑色、青色の光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢが合成されて、カラーフィルタ３上に所望の画像が表示される。
【００４７】
上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、発光パネル２内の第２層間絶縁層１２Ｂ上であって、画素電極１６（画素８）を囲むよう還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１中に内在する水分及び酸素をトラップして、その水分及び酸素を機能層２０に到達させないようにする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１からの水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００４８】
（２）本実施形態によれば、発光パネル２内の第２層間絶縁層１２Ｂ上であって、画素電極１６（画素８）を囲むように還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、機能層２０内に内在する水分及び酸素をトラップする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００４９】
（３）また、本実施形態によれば、封止層２２は、高密度プラズマ成膜法（例えば、イオンプレーティング、ＥＣＲプラズマスパッタ、ＥＣＲプラズマＣＶＤ、表面波プラズマＣＶＤ、ＩＣＰ−ＣＶＤ）を用いて形成した窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または窒素酸化シリコン（ＳｉＯＮｘ）で構成した。従って、発光パネル２の外部にある酸素及び水分が発光パネル２の内部に侵入することはない。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅが、発光パネル２の外部から侵入してきた酸素及び水分によって分解して変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
（４）本実施形態によれば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または窒素酸化シリコン（ＳｉＯＮｘ）で封止層２２を構成した。従って、発光パネル２の外部にある酸素及び水分が発光パネル２の内部に侵入させないようにするとともに、第２層間絶縁層１２Ｂ上に還元層１７を設けることによって発光パネル２の配線形成層１０、画素電極１６、機能層２０及び共通電極２１中に内在する水分及び酸素をトラップすることができる。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅに水分及び酸素を完全に到達させないようにすることができる。
【００５０】
（５）本実施形態によれば、還元層１７をカルシウム（Ｃａ）で構成した。従って、カルシウム（Ｃａ）から成る薄膜はスパッタ法や蒸着法を用いて形成することができるので、還元層１７を容易に形成することができる。また、カルシウム（Ｃａ）は、取り扱いが比較的容易であるので、高度な設備を要せずに還元層１７を形成することができるので、低コストで還元層１７を形成することができる。
【００５１】
（６）本実施形態によれば、封止層２２は、共通電極２１全面に渡って密着して形成した。従って、従来のように、封止層と共通電極との間に酸化還元剤を充填するための空間
を有した中空構造ではなく、ソリッド構造である。従って、ディスプレイ１を外部応力に対して耐えうる強固なパネル備えたディスプレイとすることができる。
【００５２】
（７）本実施形態によれば、還元層１７は、各画素電極１６を囲むように、第２層間絶縁層１２Ｂ上に配置した。従って、所定の画素電極１６に対応した位置にある発光層２０ｃから発せられた光と隣接する他の画素電極１６に対応した位置にある発光層２０ｃから発せられた光とが干渉した光が、還元層１７によって遮られカラーフィルタ３に出射されない。従って、高精細な画像を表示させることができる。
【００５３】
（８）本実施形態によれば、第２層間絶縁層１２Ｂの画素電極１６に対応した位置に、反射層１８を形成した。そして、反射層１８を、アルミニウム（Ａｌ）といった光反射率の高い材料で形成した。従って、発光層２０ｃから発せられた光は、反射層１８によって反射され、光出射面Ｍ側からカラーフィルタ３に向かって出射される。このとき、還元層１７は、各画素電極１６を囲むように、第２層間絶縁層１２Ｂ上に配置されているので、所定の画素８の発光層２０ｃから発せられた光は、還元層１７によって遮られ隣接する他の画素８からカラーフィルタ３に出射されることはない。従って、高精細な画像を表示させることができる。
【００５４】
（９）本実施形態によれば、機能層２０は、発光層２０ｃの他に、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ及び電子注入層２０ｅを備えている。従って、画素電極１６に供給された駆動電流を荷うキャリアが、効率良く機能層２０中の発光層２０ｃに供給されるので、酸素や水分によって発光輝度が低下せず、かつ高い発光効率を有した有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図３に従って説明する。この第２実施形態においては、前記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００５５】
図３（ａ）は、第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１Ａの断面図であり、図３（ｂ）は、その上面図である。
図３（ａ）に示すように、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１Ａは、その還元層１７が、第２層間絶縁層１２Ｂ上ではなく、各画素電極１６が区画形成された領域１６ａを除いた機能層２０上に形成されている。そして、図３（ｂ）に示すように、還元層１７は、上面から見て各画素電極１６を囲むように、機能層２０上に配置されている。尚、本実施形態では、画素電極１６と還元層１７とは異なった層上に形成されているので、図３（ｂ）では、説明の便宜上、画素電極１６を鎖線で示し、さらに、他の層と区別するために還元層１７を斜線で示している。
【００５６】
上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、発光パネル２内の機能層２０上に、上面から見て画素電極１６（画素８）を囲むように還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１中に内在する水分及び酸素をトラップして、その水分及び酸素を機能層２０に到達させないようにする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１からの水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００５７】
（２）本実施形態によれば、発光パネル２内の機能層２０上であって、画素電極１６（画素８）を囲むように還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、機能層２０内に内在する水分及び酸素をトラップする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅ
は、水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００５８】
（３）本実施形態によれば、還元層１７は、各画素電極１６を囲むように、機能層２０上に配置した。従って、所定の画素電極１６に対応した位置にある発光層２０ｃから発せられた光と隣接する他の画素電極１６に対応した位置にある発光層２０ｃから発せられた光とが干渉した光は、還元層１７によって遮られカラーフィルタ３に出射されない。従って、高精細な画像を表示させることができる。
（第３実施形態）
次に、本発明を具体化した第３実施形態を図４に従って説明する。この第３実施形態においては、前記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００５９】
図４は、第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ１Ｂの断面図である。
図４に示すように、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１Ｂは、還元層１７が、第２層間絶縁層１２Ｂ上ではなく、各画素電極１６が区画形成された領域１６ａを除いた共通電極２１上に形成されている。還元層１７は、上面から見て各画素電極１６を囲むように共通電極２１上に配置されている。
【００６０】
上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、発光パネル２内の共通電極２１上に、上面から見て画素電極１６（画素８）を囲むように還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１中に内在する水分及び酸素をトラップして、その水分及び酸素を機能層２０に到達させないようにする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、配線形成層１０、画素電極１６及び共通電極２１からの水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００６１】
（２）本実施形態によれば、発光パネル２内の共通電極２１上であって、画素電極１６（画素８）を囲むように還元層１７を設けた。従って、還元層１７は、機能層２０内に内在する水分及び酸素をトラップする。この結果、機能層２０を構成する各層２０ａ〜２０ｅは、水分及び酸素によって変性されることはないので、発光輝度が低下しない長寿命の有機ＥＬディスプレイ１を実現することができる。
【００６２】
（３）本実施形態によれば、還元層１７は機能層２０に接触していないので、画素電極１６から機能層２０に注入された駆動電流を荷うキャリアの分布が還元層１７によって偏ることなく画素電極１６上の機能層２０（発光層２０ｃ）に一様に供給される。従って、発光層２０ｃは、その画素８Ｒ，８Ｇ，８Ｂの中央部で強く発光する。この結果、発光効率を高くすることができる。
（第４実施形態）
次に、上記第１〜第３実施形態で説明した有機ＥＬディスプレイ１，１Ａ，１Ｂを備えた電子機器の適用について図５に従って説明する。有機ＥＬディスプレイ１，１Ａ，１Ｂは、モバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話、デジタルカメラ等種々の電子機器に適用できる。
【００６３】
図５は、携帯電話６０の斜視図である。この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１，１Ａ，１Ｂを用いた表示ユニット６１と、複数の操作ボタン６２とを備えている。この場合でも、表示ユニット６１は、上記実施形態と同様な効果を発揮する。従って、酸素や水分によって発光輝度が低下しない長寿命の表示ユニット６１を備えた携帯電話６０を提供できる。
【００６４】
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第１実施形態では還元層１７を配線形成層１０上に、上記第２実施形態では還元層１７を機能層２０上に、上記第３実施形態では還元層１７を共通電極２１上に、それぞれ設けたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、還元層１７を、各配線形成層１０、機能層２０及び共通電極２１上にそれぞれ設けるようにしてもよい。このようにすることで、還元層１７の容積が大きくなるので、より多くの水及び酸素をトラップさせることができる。
【００６５】
・上記第１実施形態では、還元層１７を画素電極１６が形成された領域を除いた配線形成層１０上に形成したが、これを、機能層２０を構成する正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ及び電子注入層２０ｅのうちの少なくともいずれかの層上に設けてもよい。つまり、還元層１７を、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ及び電子注入層２０ｅ上の全てに設けてもよいし、たとえば、各層２０ａ〜２０ｅのうちの一つの層上にのみ設けるようにしてもよい。
【００６６】
・上記各実施形態では、有機ＥＬディスプレイ１，１Ａ，１Ｂは、それぞれ機能層２０を介して配線形成層１０が形成された側と反対側にあるカラーフィルタ３上に所望の画像が表示される、所謂トップエミッション構造を有したディスプレイであったが、本発明は、これに限定されるものではない。機能層２０を介して配線形成層１０が形成された側にカラーフィルタを設け、その配線形成層１０が形成された側から光を取り出してカラーフィルタ上に所望の画像が表示されるようにした、所謂ボトムエミッション構造を有したディスプレイにおいても適用可能である。
【００６７】
・上記各実施形態では、還元層１７は、カルシウム（Ｃａ）で構成したが、本発明は、これに限定されるものではく、カルシウム（Ｃａ）以外のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の元素で構成してもよい。たとえば、マグネシウム（Ｍｇ）であってもよい。
【００６８】
・上記各実施形態では、発光層２０ｃを白色単色の光を発する低分子有機材料で構成したが、本発明は、これに限定されるものではく、白以外の他の色の光を発する低分子有機材料で構成してもよい。この場合においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
・上記各実施形態では、機能層２０を構成する正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅをそれぞれ低分子の有機材料で構成するようにしたが、本発明は、これに限定されるものではない。有機材料をそれぞれ所定の溶媒に溶解または分散して得られた液状の組成物を、公知の液滴吐出ヘッドを使用して吐出し前気溶媒を除去することで形成する、所謂インクジェット法によって形成されたものであってもよい。
【００６９】
・上記各実施形態では、発光素子として有機ＥＬ素子２５を用いた有機ＥＬディスプレイ１に適用したが、これを有機ＥＬ素子以外の発光素子（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子）を用いたディスプレイであっても本発明は適用可能である。
【００７０】
・上記各実施形態では、機能層２０は、正孔注入層２０ａ、正孔輸送層２０ｂ、発光層２０ｃ、電子輸送層２０ｄ、電子注入層２０ｅから構成されていたが、本発明はこれに限定されたものではなく、上記各層２０ａ〜２０ｅのうち、発光層２０ｃ以外の他の層のいずれかまたは全てが含まれていないものであってもよい。要は、機能層２０は、発光層２０ｃを含んでいればよい。
【００７１】
・上記実施形態では、電子機器として携帯電話６０について説明したが、これに限定さ
れるものではなく、モバイル型のパーソナルコンピュータ、デジタルカメラ等のディスプレイを備えた電子機器に広く適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】有機ＥＬディスプレイの斜視図。
【図２】（ａ）は、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断面図、（ｂ）は、その有機ＥＬディスプレイの上面図。
【図３】（ａ）は、第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断面図、（ｂ）は、その有機ＥＬディスプレイの上面図。
【図４】第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断面図。
【図５】電子機器としての携帯電話の斜視図。
【符号の説明】
【００７３】
Ｓ…基板、１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１０…配線形成層、１５…駆動トランジスタ、１６…画素電極、１６ａ…領域、１７…還元層、２０…機能層、２０ａ…正孔注入層、２０ｂ…正孔輸送層、２０ｃ…発光層、２０ｄ…電子輸送層、２０ｅ…電子注入層、２１…共通電極、２２…封止層、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
2007080716.tif 000003
【図２】
2007080716.tif 000004
【図３】
2007080716.tif 000005
【図４】
2007080716.tif 000006
【図５】
2007080716.tif 000007