(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶装置が備えるシール材を硬化させる際に、酸素を含む空気による劣化やシール材中に気泡が含まれる等の不具合を低減する。【解決手段】シール材５２ａを介して貼り合せられたＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、チャンバー２０３ｂ内が真空状態に維持された状態で搬入され、ステージ２０７ｂ上に載置される。シール材５２ａは、チャンバー２０３ｂ内に設けられたＵＶランプ２０５からＵＶ照射を受け、硬化する。これにより、硬化したシール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が相互に接着される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板及び前記第１基板に対向配置される第２基板を相互に貼り合わせるために前記第１基板上における表示領域の周囲に沿ったシール領域に塗布されたシール材を真空中で硬化させる硬化工程と、
前記表示領域内に液晶を供給するための供給口に真空中で前記液晶を供給する供給工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記硬化工程に先んじて、真空中で前記シール領域に前記シール材を塗布する塗布工程と、真空中で前記シール材を介して前記第１基板及び前記第２基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と
を備えたことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記硬化工程は、前記シール材にＵＶ光を照射する照射工程を含むこと
を特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
第１基板及び前記第１基板に対向配置される第２基板を相互に貼り合わせるために前記第１基板上における表示領域の周囲に沿ったシール領域に塗布されたシール材を真空中で硬化させる硬化手段と、
前記表示領域内に液晶を供給するための供給口に真空中で前記液晶を供給する供給手段と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造装置。
【請求項５】
前記硬化手段は、前記シール材が塗布された第１基板及び前記第２基板を収容する真空チャンバーと、前記シール材にＵＶ光を照射する照射手段と
を備えたことを特徴とする請求項４に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項６】
前記照射手段は、前記真空チャンバー内に配設されたＵＶ光源であること
を特徴とする請求項５に記載の液晶装置の製造装置。
【請求項７】
前記真空チャンバーは、前記ＵＶ光を透過させる窓部を有しており、
前記照射手段は、前記窓部に臨むように前記真空チャンバーの外側に配置されたＵＶ光源であること
を特徴とする請求項５に記載の液晶装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶注入法を用いて形成される液晶パネル等の液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法、及びこのような液晶装置を製造する際に用いられる液晶装置の製造装置の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置の一例である液晶パネルでは、相対向するように配置された一対の基板間に液晶層を封止し、液晶層の駆動によって画像表示が行われる表示領域が形成される。液晶層は、一対の基板を相互に接着するシール材の内側に液晶を注入することによって形成されており、シール材の内側に規定された表示領域に設けられている。特許文献１及び２は、一対の基板を相互に接着するためにシール材を硬化させる技術を開示している。
【０００３】
【特許文献１】特開平５−１７３１５１号公報
【特許文献２】特開平２０００−６６１６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、樹脂等の有機材料からなるシール材を大気圧下で硬化させた場合には、硬化後のシール材に気泡が残留し、液晶パネルの動作時、及び非動作時に装置外部からシール材を介して水分等の異物が浸入してしまう問題点がある。特に、大気下では、酸素によってシール材の硬化が阻害される問題点もある。加えて、硬化後のシール材が一対の基板を相互に接着する接着力が十分えられず、シール材及び基板を密着させることが困難となる問題点も生じる。また、大気圧下でシール材を硬化させた場合には、硬化時にシール材から発生したガス等の不純物が基板に付着し、液晶パネルの品質を低下させてしまう問題点もある。特許文献１及び２に開示された技術によれば、大気圧下でシール材が硬化されているため、上述の問題点を解決することは技術的に困難である。
【０００５】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、シール材の硬化に伴って生じる各種問題点を一挙に解消し、高品質の液晶パネルを製造できる液晶装置の製造方法、及びそのような液晶装置の製造方法に応用可能な液晶装置の製造装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、第１基板及び前記第１基板に対向配置される第２基板を相互に貼り合わせるために前記第１基板上における表示領域の周囲に沿ったシール領域に塗布されたシール材を真空中で硬化させる硬化工程と、  前記表示領域内に液晶を供給するための供給口に真空中で前記液晶を供給する供給工程とを備える。
【０００７】
本発明に係る液晶装置の製造方法では、第１基板は、例えばガラス基板上に、画素スイッチング用のトランジスタや走査線、データ線等の配線が積層された積層構造を有している。第２基板は、例えばガラス基板からなる。第１基板上には例えばＩＴＯ膜等の透明導電膜からなる透明な画素電極が例えばマトリクス状に配列され、第２基板上には例えばＩＴＯ膜等の導電膜からなる対向電極が画素電極に対向して設けられる。第１基板及び第２基板を備える液晶装置を動作させない状態で、例えばポリイミド等の有機材料或いは例えばシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料からなる配向膜及び対向電極上に設けられた配向膜における表面形状効果により、液晶は一対の第１及び第２基板間で所定の配向状態をとる。液晶装置の動作時には、画素電極及び対向電極間の液晶層に画像信号に基づく電圧が印加され、液晶分子の配向状態が変化する。このような液晶分子の配向状態の変化によって画素毎の光の透過率が変化する。これにより液晶層を通過する光が画像信号に応じて変化し、表示領域において画像表示が行われる。
【０００８】
硬化工程では、シール材は、シール領域に塗布され、当該シール材を介して第１基板及び第２基板が貼り合わされた状態で硬化され、第１基板及び第２基板を相互に接着する。シール材を硬化する際には、紫外線（ＵＶ光）等を照射してもよいし、熱を加える熱硬化を用いてもよい。また、これら紫外線及び熱を同時に、或いは相前後して加えることによってシール材を硬化させてよい。但し、本発明に係る液晶装置の製造方法では、シール材の硬化は、真空中で実施される。真空中でシール材を硬化させることにより、シール材の硬化過程において、シール材に含まれる空気等のガスが徐々にシール材から抜けるため、最終的に硬化されたシール材は、気泡を含まない状態として形成される。したがって、大気中でシール材を硬化させた場合に比べて、気泡を含んでいない分、シール性が高くなり、装置外部から浸入する水分等の異物を低減できる。加えて、シール材を硬化する過程において、シール材が酸素に触れないため、シール材を構成する有機材料等の構成材料が酸素と反応することを抑制できる。したがって、シール材の構成材料自身の劣化も低減でき、且つ酸素によってシール材の硬化が阻害されることもない。また、真空中でシール材を硬化させることによって、硬化過程でシール材から発生するガス等の不純物を、第１基板及び第２基板に付着しないように逃がすことができる。したがって、ガス等の不純物が第１基板及び第２基板に付着することによって生じる不具合を低減でき、高品位の液晶装置を良好な歩留まりで製造できる。
【０００９】
供給工程では、例えば第１基板上においてシール材が形成されていない領域に設けられた供給口に真空中で液晶が供給される。液晶は、このままでは、シール材によって囲まれた表示領域に入り込まないが、供給口に液晶を供給した状態で当該第１基板及び第２基板を大気中に搬出することにより、表示領域及び外気の気圧差に応じて、液晶が供給口から表示領域内に充填されることになる。
【００１０】
よって、本発明に係る液晶装置の製造方法によれば、大気中でシール材を硬化させることによって生じる各種不具合を低減でき、簡便な手法を用いて高品位の液晶装置を良好な歩留まりで製造できる。
【００１１】
本発明に係る液晶装置の製造方法の一の態様では、前記硬化工程に先んじて、真空中で前記シール領域に前記シール材を塗布する塗布工程と、真空中で前記シール材を介して前記第１基板及び前記第２基板を貼り合わせる貼り合わせ工程とを備えていてもよい。
【００１２】
この態様によれば、シール材を硬化させる前の工程において、シール材に酸素等のガスが噛み込まれることを低減できる。より具体的には、シール領域にシール材を塗布する塗布工程、及び塗布工程に続いて行われる貼り合わせ工程を真空中で行うことにより、シール材に酸素等のガスが噛みこむ機会をなくすことが可能である。したがって、この態様によれば、シール材が塗布されてから硬化されるまでの何れの工程においても、シール材に酸素等のガスが触れることがないため、気泡を含まず、且つ硬化が阻害されていないシール材を形成することが可能である。
【００１３】
本発明に係る液晶装置の製造方法の他の態様では、前記硬化工程は、前記シール材にＵＶ光を照射する照射工程を含んでいてもよい。
【００１４】
この態様によれば、シール材はＵＶ光が照射される際に、酸素等に触れないため、硬化が阻害されず、シール材中に残留する酸素等のガスが低減される。なお、ＵＶ光の光源は、真空中でシール材を硬化可能なように、シール材を硬化させるためのチャンバー内、或いはチャンバーの外部の何れに配置されていてもよい。光源が、チャンバーの外部に配置されている場合には、ＵＶ光は、チャンバーに設けられた透明な窓部を介してチャンバー内のシール材に照射される。
【００１５】
本発明に係る液晶装置の製造装置は上記課題を解決するために、第１基板及び前記第１基板に対向配置される第２基板を相互に貼り合わせるために前記第１基板上における表示領域の周囲に沿ったシール領域に塗布されたシール材を真空中で硬化させる硬化手段と、  前記表示領域内に液晶を供給するための供給口に前記真空中で前記液晶を供給する供給手段とを備える。
【００１６】
本発明に係る液晶装置の製造装置によれば、上述の液晶装置の製造方法と同様に、大気中でシール材を硬化させることによって生じる各種不具合を低減でき、簡便な手法を用いて高品位の液晶装置を、良好な歩留まりで製造できる。
【００１７】
本発明に係る液晶装置の製造装置の一の態様では、前記硬化手段は、前記シール材が塗布された第１基板及び前記第２基板を収容する真空チャンバーと、前記シール材にＵＶ光を照射する照射手段とを備えていてもよい。
【００１８】
この態様によれば、酸素を含む空気がシール材に触れない状態で、シール材をＵＶ光によって硬化させることが可能である。ここで、照射手段は、真空中でシール材を硬化可能なように、例えばシール材を硬化させるためのチャンバー内、或いはチャンバーの外部の何れに配置されていてもよい。照射手段が、チャンバーの外部に配置されている場合には、ＵＶ光は、チャンバーに設けられた透明な窓部を介してチャンバー内のシール材に照射される。
【００１９】
この態様では、前記照射手段は、前記真空チャンバー内に配設されたＵＶ光源であってもよい。この態様によれば、真空チャンバー内でシール材に直接ＵＶ光源からＵＶ光を照射できる。したがって、ＵＶ光源から照射されたＵＶ光のエネルギーロスを低減できる。
【００２０】
本発明に係る液晶装置の製造装置の他の態様では、前記真空チャンバーは、前記ＵＶ光を透過させる窓部を有しており、前記照射手段は、前記窓部に臨むように前記真空チャンバーの外側に配置されたＵＶ光源であってもよい。
【００２１】
この態様によれば、真空チャンバー内にＵＶ光源を設置することなく、シール材をＵＶ硬化させることが可能である。窓部は、ＵＶ光を透過させるように、例えばガラス等の透明材料で構成されている。したがって、既存のＵＶ光源及びチャンバーを組み合わせることによって簡便な装置構成によって真空中でシール材を硬化できる。
【００２２】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照しながら本発明に係る液晶装置の製造方法、及び液晶装置の製造装置の各実施形態を説明する。
【００２４】
＜１−１：液晶装置の構成＞
先ず、図１及び図２を参照しながら本実施形態に係る液晶装置の製造方法によって製造される液晶装置の構成の一例を説明する。
【００２５】
図１は、本発明に係る「第１基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０をその上に形成された各構成要素と共に本発明に係る「第２基板」の一例である対向基板２０の側から見た電気光学装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´断面図である。本実施形態では、液晶装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置１を例に挙げる。
【００２６】
ＴＦＴアレイ基板１０は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板等からなり、対向基板２０は、例えば、石英基板、ガラス基板等からなる。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、複数の画素が配列されてなる、本発明に係る「表示領域」の一例としての画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域５２ａに設けられたシール材５２により相互に貼り合わされており、シール材５２及び液晶封止部１５６により、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶層５０が封止されている。特に、液晶供給口１６０では、液晶供給口１６０に供給された液晶が漏れないように液晶封止部１５６によって液晶供給口１６０が封止されている。
【００２７】
図１において、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域５２ａの外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域５２ａよりも内側に、サンプリング回路７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００２８】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、外部回路接続端子１０２と、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、上下導通端子１０６等とを電気的に接続するための引回配線９０が形成されている。  
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域１０ａには、画素スイッチング用ＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上層にＩＴＯ膜からなる画素電極９ａが設けられている。画素電極９ａ上には、配向膜が形成されている。他方、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜２３が形成されている。そして、遮光膜２３上に、画素電極９ａと同様にＩＴＯ膜からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向して形成されている。対向電極２１上には配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００２９】
尚、ここでは図示しないが、ＴＦＴアレイ基板１０上には、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。
【００３０】
＜１−２：液晶装置の製造方法＞
次に、図３を参照しながら本実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明する。図３は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法における主要な工程を示したフローチャートである。なお、以下では、上述の液晶装置１を製造する場合を例に挙げている。
図３において、真空中でＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域に未硬化のシール材を塗布する（Ｓ１０）。次に、真空中において、未硬化のシール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせる（Ｓ２０）。尚、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせる基板貼り合わせ工程は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の相対的な位置合わせを精度良く行うアライメント工程を含んでいる。ここで、シール材５２の塗布工程と、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合せる基板貼り合せ工程とが真空中で行われているため、後述する硬化工程の前段階の工程で、シール材５２に空気が触れることない。したがって、塗布されたシール材５２に空気が含まれることがなく、且つ空気に含まれる酸素によってシール材が変質することをなくすことができる。
次に、真空中でシール材５２を硬化させ、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を硬化したシール材５２を介して相互に接着する（Ｓ３０）。シール材５２は、紫外線（ＵＶ光）等が照射されることによって硬化されていてもよいし、熱を加える熱硬化によって硬化されてもよい。また、ＵＶ硬化及び熱硬化を順次連続して行うことによって、硬化されてもよい。このように、真空中でシール材を硬化させることにより、シール材の硬化過程において、シール材に含まれる空気等のガスが徐々にシール材から抜けるため、最終的に硬化されたシール材は、気泡を含まない状態として形成される。
したがって、大気中でシール材５２を硬化させた場合に比べて、気泡を含んでいない分、シール材５２のシール性が高くなり、装置外部から浸入する水分等の異物を低減できる。加えて、シール材５２を硬化する過程において、シール材５２が酸素に触れないため、シール材５２を構成する有機材料等の構成材料が酸素と反応することを抑制できる。したがって、シール材５２の構成材料自身の劣化も低減でき、且つ酸素によってシール材５２の硬化が阻害されることもない。また、真空中でシール材５２を硬化させることによって、硬化過程でシール材５２から発生するガス等の不純物は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０に付着しないように逃がされる。したがって、ガス等の不純物がＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０に付着することによって生じる不具合を低減でき、高品位の液晶装置を良好な歩留まりで製造できる。
次に、真空中で液晶供給口１６０に液晶を供給する（Ｓ４０）。その後、液晶供給口１６０に液晶が供給された状態の液晶装置１を大気中に搬送する（Ｓ５０）。これにより、大気中の圧力、及び液晶層５０が形成されるべき画像表示領域１０ａ内の圧力差に応じて、画像表示領域１０ａに液晶が引き込まれ、液晶層５０が形成される。その結果、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶層５０が挟持された液晶装置１が形成される。
このように本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、大気中でシール材を硬化させることによって生じる各種不具合を低減でき、簡便な手法を用いて高品位の液晶装置を、良好な歩留まりで製造できる。
【００３１】
＜１−３：液晶装置の製造装置＞
次に、図４を参照しながら上述の液晶装置の製造方法に応用可能な液晶装置の製造装置の実施形態を説明する。図４は、本実施形態に係る液晶装置の製造装置２００の構成を示した図である。
図４において、液晶装置の製造装置２００（以下、製造装置２００と称する。）は、制御部２０１、供給量調整部２０２、複数のチャンバー２０３a、２０３ｂ及び２０３ｃ、ＵＶランプ２０５、液晶供給ノズル２０４、ディスペンサ２０６、ステージ２０７ａ、２０７ｂ及び２０７ｃ、開閉弁２０９ａ、２０９ｂ及び２０９ｃ、ポンプ２１０ａ、２１０ｂ及び２１０ｃを備えている。
チャンバー２０３ａ内は、制御部２０１に制御下で動作するポンプ２１０ａ及び開閉弁２０９ａによって真空に維持されている。ＴＦＴアレイ基板１０のシール領域には、ＴＦＴアレイ基板１０がステージ２０７ａに載置された状態で、ディスペンサ２０６からシール材が塗布され、未硬化のシール材５２ａが形成される。対向基板２０は、不図示のアライメント機構によってＴＦＴアレイ基板１０との相対的な位置合わせが精度良く行われた状態でシール材５２ａを介してＴＦＴアレイ基板１０に貼り合せられる。したがって、シール材を塗布する塗布工程及び基板を貼り合せる基板貼り合わせ工程において、シール材が空気に触れることがなく、後述する硬化手段と組み合わせることによって、高品位の液晶装置を形成できる。
チャンバー２０３ｂ、ＵＶランプ２０５、開閉弁２０９ｂ及びポンプ２１０ｂは、本発明に係る「硬化手段」の一例を構成している。シール材５２ａを介して貼り合せられたＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、制御部２０１の制御下において動作する開閉弁２０８及びポンプ２１０ｂによってチャンバー２０３ｂ内が真空状態に維持された状態でチャンバー２０３ｂ内に搬送され、ステージ２０７ｂ上に載置される。シール材５２ａは、チャンバー２０３ｂ内に設けられたＵＶランプ２０５からＵＶ照射を受け、硬化する。これにより、硬化したシール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が相互に接着された液晶装置１ａが形成される。ここで、チャンバー２０３ｂ内は真空に維持されているため、シール材５２が硬化する過程で、酸素を含む空気がシール材５２に触れることない。したがって、硬化過程において、酸素を含む空気によってシール材５２が劣化することがなく、硬化が阻害されることもない。加えて、シール材５２に気泡が含まれることがないため、シール材５２のシール性を高めることが可能となる。尚、この段階で、液晶装置１ａには液晶が供給されていない。また、シール材５２は、ＵＶ光によって硬化される場合に限定されるものではなく、ＵＶ硬化、及びＵＶ硬化と相前後して行われる熱硬化の双方を組み合わせることによって硬化されていてもよい。
チャンバー２０３ｃ、供給量調整部２０２、液晶供給ノズル２０４、開閉弁２０９ｃ及びポンプ２１０ｃは、本発明に係る「供給手段」の一例を構成している。液晶装置１ａは、制御部２０１の制御下において動作する開閉弁２０９ｃ及びポンプ２１０ｃによってチャンバー２０３ｃ内が真空状態に維持された状態でチャンバー２０３ｃ内に搬送され、ステージ２０７ｃ上に載置される。供給量調整部２０２は、制御部２０１の制御下で所定量の液晶を液晶ノズル２０４に供給する。液晶ノズル２０４は、制御部２０１の制御下で液晶を、図１に示した液晶供給口１６０に供給する。
このようにして液晶供給口１６０に液晶が供給された液晶装置１ａは、チャンバー２０３ｃから大気中に搬送されることによって、当該液晶供給口１６０に供給された液晶が画像表示領域１０ａ及び装置外部の圧力差に応じて、画像表示領域１０ａに引き込まれ、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、液晶封止部１５６によって画像表示領域１０ａ内に封止され、液晶装置１が形成される。
以上、説明したように本実施形態に係る液晶装置の製造装置２００によれば、シール材５２に気泡が含まれることなく、且つ硬化過程でシール材が空気に触れないため、硬化が阻害されておらず、且つシール性の高いシール材５２が形成される。したがって、装置外部から浸入する水分等の異物を低減できる。加えて、シール材５２を硬化する際に、発生するガスがＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０に付着しないように開閉弁２０９ｂ及びポンプ２１０ｂが、発生したガス等の不純物をチャンバー２０３ｂの外部に排気する。したがって、これら基板が不純物によって汚染されることがなく、最終的に完成された液晶装置において、シール材５２の硬化過程で基板に付着した不純物によって不具合が生じることもない。
（変形例）
次に、図５を参照しながら本実施形態に係る液晶装置の製造装置の変形例を説明する。図５は、本例に係る液晶装置の製造装置３００の構成を示す図である。尚、以下では、上述の製造装置２００と共通する部分に共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。
図５において、液晶装置の製造装置３００（以下、製造装置３００と称する。）は、制御部２０１、供給量調整部２０２、チャンバー２０３ｂ及び２０３ｃ、ＵＶランプ２０５ａ、液晶供給ノズル２０４、窓部２１２、開閉弁２０９ｂ、及びポンプ２１０ｂを備えている。
【００３２】
チャンバー２０３ｂ、ＵＶランプａ２０５、窓部２１２、開閉弁２０９ｂ及びポンプ２１０ｂは、本発明に係る「硬化手段」の一例を構成している。
【００３３】
チャンバー２０３ｂ内に搬送された液晶装置１ａは、チャンバー２０３ｂに搬送されるまでに真空中、又は大気中でシール材の塗布工程、及び基板貼り合わせ工程が行われている。液晶装置１ａはチャンバー２０３ｂ内でステージ２０７ｂに載置される。未硬化のシール材は、チャンバー２０３ｂの外部に設けられたＵＶランプ２０５ａからガラス等の透明材料で構成された窓部２１２を介してＵＶ光が照射されることによって硬化し、シール材５２が形成される。このように、チャンバー２０３ｂの外部に設けられたＵＶランプ２０５ａによれば、チャンバー２０３ｂ内にＵＶランプを配置する必要がないため、チャンバー２０３ｂとは別個の装置であるＵＶランプ２０５ａと、チャンバー２０３ｂとを組み合わせることによって、チャンバー２０３ｂ内にＵＶランプを設ける場合に比べて既存の装置をそのまま利用してシール材を硬化させることが可能である。
チャンバー２０３ｃ、供給量調整部２０２、液晶供給ノズル２０４、開閉弁２０９ｃ及びポンプ２１０ｂは、本発明に係る「供給手段」の一例を構成している。チャンバー２３０ｂ及び２０３ｃを相互に連結する搬送路２１１を介してチャンバー２０３ｂからチャンバー２０３ｃに搬送される。ここで、搬送路２１２は、チャンバー２０３ｂ及び２０３ｃの気密性が損なわないようにその内部の空間が密閉されている。したがって、チャンバー２０３ｂに接続された開閉弁２０９ｂ及びポンプ２１０ｂによってチャンバー２０３ｂ及び２０３ｃの両方のチャンバー内を真空状態に設定可能である。これにより、チャンバー毎に当該チャンバー内を真空状態に設定するための開閉弁及びポンプを設ける必要がなく、製造装置３００は、製造装置２００に比べてその構成が簡略化されている。チャンバー２０３ｃ内に搬送された液晶装置１ａは、製造装置２００と同様に、液晶供給ノズル２０４から供給される液晶が液晶供給口１６０に供給される。その後、チャンバー２０３ｃから大気中に搬送された液晶装置１ａでは、その画像表示領域１０ａ内に液晶が圧力差に応じて引き込まれることによって液晶層５０が形成される。
尚、本例の製造装置３００では、塗布工程及び基板貼り合せ工程を実施するためのチャンバーが別に設けられている場合を例として挙げたが、上述の製造装置２００と同様にシール材の塗布及び基板貼り合せを行うためのチャンバー及びディスペンサ、並びに基板相互の位置合わせ等のアライメントを行うアライメント機構を備えていてもよいことは言うまでもない。
【００３４】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置の製造装置によれば、上述の液晶装置の製造方法と同様に、大気中でシール材を硬化させることによって生じる各種不具合を低減でき、簡便な手法を用いて高品位の液晶装置を良好な歩留まりで製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の製造方法における主要な工程を示したフローチャートである。
【図４】本実施形態に係る液晶装置の製造装置の構成を示す図である。
【図５】本実施形態に係る液晶装置の製造装置における変形例の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００３６】
１、１ａ・・・液晶装置、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、２０・・・対向基板、５２・・・シール材、２００、３００・・・製造装置、２０３あ、２０３ｂ、２０３ｃ・・・チャンバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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