(57)【要約】【課題】トップエミッション型有機ＥＬ発光装置で、発光光の色純度の向上と水分や酸素等の侵入による発光層の劣化を抑制し、色再現性に優れ、かつ長寿命化を図った有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】絶縁基板ＳＵＢの主面に配置された第１の電極ＣＤと、この電極ＣＤ上に配置された多層構造の有機ＥＬ層ＯＬＥと、この有機ＥＬ層ＯＬＥ上に配置された透明な第２の電極ＡＤを備え、この電極ＡＤ上に樹脂層からなる第１の封止膜ＳＥＬ１と、無機材料からなる多層構造の第２の封止膜ＳＥＬ２を順次積層し、この第２の封止膜ＳＥＬ２を屈折率の異なる層ＳＬ、ＳＨを交互に積層した構成とした。【選択図】図３
2007280901.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板の主面に配置された第１の電極と、この第１の電極の上に配置された多層構造の有機ＥＬ層と、この有機ＥＬ層の上層に配置された第２の電極と、該第２の電極の外面に配置された第１の封止膜と、この第１の封止膜の外面に配置された多層構造の第２の封止膜を有し、
この第２の封止膜は積層する層のうち隣接する層相互で屈折率が異なることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第２の封止膜は前記第１の封止膜に接する第１層目の屈折率がこの第１層目の外側に接する第２層目より低屈折率であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第２の封止膜の最外層は隣接する層より低屈折率で、前記第１層目の屈折率と同一であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第２の封止膜は５層以上の奇数層からなる多層構造であることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第２の封止膜は奇数層目の屈折率が偶数層目の屈折率より低屈折率で、かつ全ての奇数層目の屈折率が同一屈折率であることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記第２の封止膜は偶数層目の屈折率が奇数層目の屈折率より高屈折率で、かつ全ての偶数層目の屈折率が同一屈折率であることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記第２の封止膜は青色と緑色の発光光の中間の中心波長に対し最大の光遮断特性を有することを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第２の封止膜は緑色と赤色の発光光の中間の中心波長に対し最大の光遮断特性を有することことを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記第２の封止膜は光学的に透明な無機材料の多層膜からなることを特徴とする請求項１乃至８の何れかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に係り、特に色純度の向上と長寿命化を図った有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル型の表示装置として液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電界放出型表示装置（ＦＥＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）などが実用化ないしは実用化研究段階にある。中でも、有機ＥＬ表示装置は薄型・軽量の自発光型表示装置の典型としてこれからの表示装置として極めて有望な表示装置である。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置には、所謂ボトムエミッション型とトップエミッション型とがある。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、ガラス基板を好適とする絶縁基板上に、第１の電極または一方の電極としての透明電極（ＩＴＯ等）、電界の印加で発光する多層の有機膜（有機発光層とも言う）、第２の電極または他方の電極としての反射性の金属電極を順次積層した発光機構で有機ＥＬ素子が構成される。この有機ＥＬ素子をマトリクス状に多数配列し、それらの積層構造を覆って封止缶と称する他の基板あるいは封止膜を設け、上記発光構造を外部の雰囲気から遮断している。そして、例えば透明電極を陽極とし、金属電極を陰極として両者の間に電界を印加することで有機多層膜にキャリア（電子と正孔）が注入され、該有機多層膜が発光する。この発光をガラス基板側から外部に出射する構成となっている。
【０００４】
一方、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、上記した一方の電極を反射性を有する金属電極とし、他方の電極をＩＴＯ等の透明電極とし、両者の間に電界を印加することで発光層が発光し、この発光を上記他方の電極側から出射する構成を特徴としている。トップエミッション型では、駆動回路上も発光エリアとして利用できる特徴を有している。又、トップエミッション型では、ボトムエミッション型における封止缶として、ガラス板を好適とする透明板が使用される。
【０００５】
このような有機ＥＬ表示装置では、陰極や有機層中に水分や酸素等が侵入することで劣化が起こり，輝度低下，ダークスポットやエッジグロース等の欠陥を引き起こす問題がある。この水分や酸素などの浸入を防止するため、陰極や有機層を保護するための封止が必須であり，この封止手段としては、次のような構成が提案されている。すなわち、
（１）回路及び発光部を形成した基板を封止用基板で挟み込み封止する手段。
（２）ガス透過性の低い有機物（樹脂）や無機化合物，金属などの薄膜を回路及び発光部上全体に，単層または組み合わせにより複層成膜することにより封止する手段。
【０００６】
一方、フルカラー有機EL表示装置としては，エネルギーロスの少ないＲＧＢの3色発光層を設ける方法が一般的である。
【０００７】
この種の有機ＥＬ表示装置に関し、特許文献１では色フィルタ（ＲＧＢカラーフィルタ）を封止層上に被覆形成する技術が、又特許文献２ではボトムエミッション型で透明基板の有機ＥＬ層とは反対側（外面）にマゼンタ色カラーフィルター（着色膜）を形成する技術がそれぞれ開示されている。
【特許文献１】特開２００４−２２０８０４号公報
【特許文献２】特開２０００−１０６２７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前述したような従来の有機ＥＬ表示装置では、陰極や有機層中に水分や酸素等が侵入することで劣化が起こり、輝度低下，ダークスポットやエッジグロース等の欠陥を引き起こし、長寿命化を阻害する問題があった。
【０００９】
又、ＲＧＢの各発光スペクトルは帯域が広くしかもなだらかな裾形状を呈することから所望の発光に対し不要発光光が含まれ、各色の色純度が低く色再現性が十分ではないという問題があった。
【００１０】
本発明の目的は、上述した問題を解決し、優れた色純度と高輝度発光の有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【００１１】
又、本発明の他の目的は、陰極や有機層中への水分や酸素等の侵入を防ぎ、小型軽量で長寿命の有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するため、本発明は、発光部上に第１及び第２の封止膜を配置し、前記第２の封止膜を多層膜構造とし、この多層膜の積層する層の層（膜）厚と層数を制御し光干渉効果を用いたバンドカットフィルタとすることで，不要発光光の出射を低減し各発光光の色純度を向上させると共に、水分や酸素等の侵入を防止する機能を共有させたものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は発光部上に第１及び第２の封止膜を配置し、前記第２の封止膜を多層膜構造としたことにより、
（１）積層封止膜のバンドカットフィルタ効果により、不要な出射光を遮蔽できるため青、緑、赤成分の光が出射される割合が増加し、ＲＧＢ各発光光の色純度が向上する。（２）水分や酸素等の侵入を防止でき、長寿命化を図ることができる。（３）封止膜自体に機能を持たせることで、カラーフィルタ等の色素による光吸収手段を別途用いなくても所期の目的が達成できる。（４）封止にガラスなどの基板を使用しないため、素子を薄くできる。（５）フルカラー有機ＥＬ表示装置としての色再現範囲が拡大する。（６）封止膜のみによる効果であるため、他の光吸収手段を形成する工程が必要なくコストが抑えられる。（７）素子が薄くなり更に軽量化されるため，適用できる製品範囲が拡大できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態につき、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００１５】
図１乃至図３は、本発明の有機ＥＬ表示装置の一実施例の概略構造を説明する模式図で、図１は要部断面図、図２及び図３は図１の要部拡大断面図である。図１乃至図３において、発光素子部を構成するＴＦＴ基板ＳＵＢ上には駆動用回路を構成する配線ＷＬ、トランジスタＴＲＳ等が配置され、その上に平坦化膜ＦＬＭが配置されている。又、この平坦化膜ＦＬＭ上には金属電極ＣＤ、有機ＥＬ発光部ＯＬＥ、透明電極ＡＤ、第１の封止膜ＳＥＬ１、第２の封止膜ＳＥＬ２が順次積層配置されている。ＢＡＫはバンクである。
【００１６】
上記構成で、前記透明電極ＡＤは陽極として機能し、金属電極ＣＤは陰極及び光反射面として機能する。又、前記第１の封止膜ＳＥＬ１は、透明電極ＡＤの外側に配置され、水分及び酸素等の侵入を遮断すると共に，機械的衝撃に対して緩衝機能を有する。この第１の封止膜ＳＥＬ１は、有機物による樹脂層からなり、この樹脂層としては、例えばウレタン系、アクリル系、エポキシ系、ポリオレフィン系などが用いられる。又、同様の効果が得られるものであれば他の材料を用いることもできる。
【００１７】
更に、樹脂層からなる前記第１の封止膜ＳＥＬ１上に配置された第２の封止膜ＳＥＬ２は、更に水分及び酸素の遮断効果が高く、機械的強度も高い無機物層から構成されている。この第２の封止膜ＳＥＬ２は光学的に透明な無機材料で、屈折率の異なる材料からなる層を交互に積層した構成である。
【００１８】
次に、図２に詳細を示す有機ＥＬ発光層ＯＬＥは、ＴＦＴ基板ＳＵＢの主面に成膜された金属電極ＣＤ上に順に、電子輸送層ＥＴＬ、発光層ＬＭ、ホール輸送層ＨＴＬ、ホール注入層ＨＩＬ、透明電極ＡＤが積層されている。
【００１９】
前記発光層ＬＭと電子輸送層ＥＴＬは、兼用できる材料を用いることで１層としてもよい。又、有機ＥＬ素子の構造としては、この他にホール注入層とホール輸送層を兼用できる材料を用いてもよい。
【００２０】
陽極である透明電極ＡＤには仕事関数の高い透明な電極材料を用いれば良く、ＩＴＯが一般的であるが他の透明な導電物質であっても良い。陰極である金属電極ＣＤには、仕事関数の低いＡｌ、Ｍｇ、Ｍｇ/Ａｇ合金やＡｌ/Ｌｉ合金等などを用いることができる。又、特性向上のためＡｌ単体ではなく，有機層との間に極薄いフッ化リチウムＬｉＦなどのアルカリ金属化合物などを用いても良い。なお、金属電極ＣＤは、発光層から出射した光の利用効率向上のため、光の反射率が高い材料から構成されることが望ましい。
【００２１】
発光層ＬＭは、陽極である透明電極ＡＤと陰極である金属電極ＣＤとの間に所定の電圧が印加されたとき，所望の色で発光する材料を用いる。発光層ＬＭの材料としては、赤色発光用として、例えば発光層はＡｌｑ３（トリス(８−キノリノレート)アルミニウム）に、ＤＣＭ−１（４−(ジシアノメチレン)−２−メチル−６−(ｐ−ジメチルアミノスチリル)−４Ｈ−ピラン）を分散したもの、緑色発光用として、例えばＡｌｑ３，Ｂｅｂｑ，キナクリドンでドーピングしたＡｌｑ３、青色発光用として、例えばＤＰＶＢｉ（４,４'−ビス(２,２−ジフェニルビニル)ビフェニル）や、これとＢＣｚＶＢｉ（４,４'−ビス(２−カルバゾールビニレン)ビフェニル）からなる材料、或いはジスチリルアリレーン誘導体をホストとし、ジスチリルアミン誘導体をゲストとしてドーピングしたものを用いることができる。
【００２２】
又、それぞれの発光層ＬＭにおいて、ホール注入層ＨＩＬはＣｕＰｃ（銅フタロシアニン），ホール輸送層はα−ＮＰＤ（Ｎ,Ｎ'−ジ(α−ナフチル)−Ｎ,Ｎ'−ジフェニル１,１'−ビフェニル−４,４'−ジアミン）や、トリフェニルジアミン誘導体ＴＰＤ（Ｎ,Ｎ'−ビス(３−メチルフェニル)１,１'−ビフェニル−４,４'−ジアミン）、電子輸送層ＥＴＬはＡｌｑ３を用いることができる。更に、上記低分子系の材料の他にポリマー系の材料を用いることもできる。
【００２３】
このような構成の有機ＥＬ発光部ＯＬＥを備えた有機ＥＬ素子では、陽極である透明電極ＡＤと陰極である金属電極ＣＤとに直流電源を接続し、両電極間に直流電圧を印加すると、透明電極ＡＤから注入されたホールと、金属電極ＣＤから注入された電子がそれぞれ発光層に到達し，電子−ホールの再結合が生じ所定の波長の発光が生じるものである。
【００２４】
次に、図３に詳細を示す第１、第２の封止膜は、透明電極ＡＤ上に第１の封止膜ＳＥＬ１を配置する。この第１の封止膜ＳＥＬ１は例えば熱硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし１００℃で加熱硬化させて形成した。このときの膜厚は5μｍとした。この第１の封止膜ＳＥＬ１の成膜方法としては、上述したスピンコート方法の他に、スリットコート方法、印刷方法、蒸着方法等が挙げられ，用いられる材料の特性に合わせ適宜選択することができる。
【００２５】
又、同様の特性が得られるのであれば，上記以外の成膜方法であっても特に制限されない。更に、前記第１の封止膜ＳＥＬ１の膜厚は０．５μｍ〜１００μｍが望ましい。０．５μｍ未満では衝撃に対する干渉機能が十分に得られない恐れがあり、又水分や酸素等に対する耐透過性が不足する恐れがある。一方、１００μｍを越えると平坦性を確保することが難しくなり、更に硬化自体が困難となる恐れがある。
【００２６】
この第１の封止膜ＳＥＬ１上に第２の封止膜ＳＥＬ２を配置している。この第２の封止膜ＳＥＬ２は光学的に透明な無機材料からなり、低屈折率無機材料層と高屈折率無機材料層を交互に積層した多層構造からなっている。この構成において前記低屈折率及び高屈折率無機材料の屈折率をそれぞれｎＬ、ｎＨとすると、
１ <ｎＬ <ｎＨ
の関係にある。
【００２７】
この第２の封止膜ＳＥＬ２を構成する無機材料としては、ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＧａＮ等の窒化物、ＳｉＯ２、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＧｅＯ等の酸化物、ＳｉＯＮ等の酸化窒化物、ＳｉＣＮ等の炭化窒化物、金属フッ素化合物等が上げられる。同様の効果が得られるものであれば他の材料を用いることもできる。
【００２８】
又、成膜方法としては各種真空蒸着方法，スパッタリング方法等のＰＶＤ（物理気相成膜法）やＣＶＤ（化学気相成膜法）がある。封止膜に用いる材料や有機ＥＬ素子の特性を考慮し各手法から適宜選択することができる。これも同様の特性が得られるのであれば，上記以外の成膜方法であっても特に制限されない。
【００２９】
上述の如く、光学的に透明で屈折率の異なる無機材料の層を交互に積層する構成では、低屈折率及び高屈折率の無機材料の層厚をそれぞれＤＬ、ＤＨとすると下記式（１）で表される。
【００３０】
DL＝λ（２s―１）／４ｎＬ,  DH＝λ（２s―１）／４ｎＨ・・・式（１）
λ：不要な光を除去する領域の中心波長
ｎＬ，ｎＨ：低屈折率及び高屈折率無機材料の各屈折率
ｓ：１以上の整数
又、第１の封止膜ＳＥＬ１を構成する樹脂層の上に積層される低屈折率及び高屈折率の無機物の積層構造は下記で表される。
【００３１】
樹脂層／[(ＤＬ／２) ＤＨ (ＤＬ／２)]P
Ｐ：繰り返し回数で，Ｐ＝２ｑ＋１（ｑは正の整数）で表される（例：Ｐ＝３(ｑ＝１の場合以下を意味する)。
【００３２】
樹脂層／｛（ＤＬ／２） ＤＨ (ＤＬ／２)｝3⇒樹脂層／（ＤＬ／２） ／ＤＨ ／（ＤＬ／２） ／(ＤＬ／２) ／ＤＨ／(ＤＬ／２) ／(ＤＬ／２)／ＤＨ ／(ＤＬ／２) ⇒樹脂層／(ＤＬ／２) ／ＤＨ／ＤＬ／ＤＨ／ＤＬ／ＤＨ／(ＤＬ／２)
第２の封止膜ＳＥＬ２を構成する積層構造を以下に示すように繰り返すことで、2箇所以上の領域で不要な光を除去できる。
【００３３】
（例）樹脂層１／[(ＤＬ1／２) ＤＨ1 (ＤＬ1／２)]P /樹脂層２／[(ＤＬ2／２) ＤＨ2 (ＤＬ2／２)]P'
ＤＬ1≠ＤＬ2，ＤＨ1≠ＤＨ2とする。
【００３４】
このような関係の下で、例えば青色と緑色の発光光の中間である４９０ｎｍの光波長を中心とする領域の発光光を遮断するには、前述したＤＬ、ＤＨを算出する式（１）からS=２，Ｐ＝５とし、必要な層厚を求めたところ、ＤＬ＝２５０ｎｍ、ＤＨ＝１５５ｎｍとなった。
【００３５】
これをもとに前述の如くＳｉＯ2とＴｉＯ2をそれぞれスパッタにて前述のように交互に１１層積層した。層数はＳｉＯ2が６層、ＴｉＯ2が5層である。
【００３６】
この実施例では、１１層の多層構造からなり、この多層構造で前記第１の封止膜ＳＥＬ１に接する第１層ＳＬ１と、最外層ＳＬ１１及びこれらを含む奇数層をＳｉＯ2材を用いて形成し、前記第１層ＳＬ１及び最外層ＳＬ１１をそれぞれ層厚１２５ｎｍ、残りの奇数層ＳＬ３，ＳＬ５，ＳＬ７，ＳＬ９をそれぞれ層厚２５０ｎｍとしてＳｉＯ2材層を合計で６層構成した。
【００３７】
一方、第２層ＳＨ２を含む偶数層ＳＨ４、ＳＨ６、ＳＨ８及びＳＨ１０を前記ＳｉＯ2材より高屈折率のＴｉＯ2材によりそれぞれ層厚１５５ｎｍとして５層構成している。すなわち、奇数層を偶数層より低屈折率の材料で構成し、この低屈折率層と高屈折率層を交互に積層した構成とした。
【００３８】
この層構造で、ＲＧＢにおける各発光光のＣＩＥ色度（ｘ，ｙ）は、Ｒが（０．６８７、０．３３１）、Ｇが（０．１５６，０．６０９）、Ｂが（０．１３１、０．１４３）で、色再現範囲はＮＴＳＣ比で５５％であった。
【００３９】
一方、比較例として図４に示すように、バンドストップフィルタ効果のない封止膜として、始めに熱硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし１００℃で加熱硬化させ第１の封止膜ＳＥＬ１を形成した。このときの膜厚は５μｍであった。
【００４０】
この第１の封止膜ＳＥＬ１上にスパッタ法にて，無機材料として選択したＴｉＯ2、ＳｉＯ2を順に成膜し、層ＳＨ４１、ＳＬ４１をそれぞれ形成した。このときの層厚はＴｉＯ2、ＳｉＯ2の2層のみであることから、２層共に水分及び酸素の侵入を遮断する効果が得られる５００ｎｍとした。
【００４１】
このような構成の第２の封止膜ＳＥＬ２４を備えた構成では、ＲＧＢにおける各発光光のＣＩＥ色度（ｘ，ｙ）は、Ｒが（０．６５４、０．３５６）、Ｇが（０．２７４，０．６０５）、Ｂが（０．１５２、０．１７７）で、色再現範囲はＮＴＳＣ比で５０％であった。
【００４２】
この図４に示す比較例の封止膜と、図３に示す本発明の実施例とを比較すると、約１０％色再現範囲が拡大し本発明の効果が確認できた。
【００４３】
図５は実施例１の第２の封止膜ＳＥＬ２の透過スペクトルを示し、横軸に波長、縦軸に透過率をそれぞれ示している。図５からも明らかなように、透過スペクトル形状が急峻となり、バンドストップフィルタ効果が顕著に現れている。
【実施例２】
【００４４】
図６は、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施例２の概略構造を説明する模式断面図で、前述した図と同じ部分には同一記号を付してある。図６において、バンドストップフィルタ効果を有する封止膜として，始めに熱硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし１００℃で加熱硬化させ第１の封止膜ＳＬ１を形成した。このときの膜厚は５μｍであった。
【００４５】
この第１の封止膜ＳＬ１上にバンドストップ効果が得られるよう，実施例１と同じく低屈折率層にＳｉＯ2、高屈折率層にＴｉＯ2を選択肢した。緑色と赤色の発光光の中間である５７０ｎｍの光波長を中心とする領域の発光光を遮断するため、Ｓ＝２，Ｐ＝５とし、必要な膜厚を求めたところ、ＤＬ＝２９０ｎｍ、ＤＨ＝１８０ｎｍであった。
【００４６】
この層厚をもとにＳｉＯ2とＴｉＯ2をスパッタにて交互に積層し合計１１層の多層膜構造とした。層数はＳｉＯ2層が6層で、この６層中、第１の封止膜ＳＥＬ１上に接する第１層ＳＬ１と、最外層ＳＬ１１を層厚１４５ｎｍとし、残りの奇数層を２９０ｎｍとした。一方、ＴｉＯ2層は各層厚１８０ｎｍで5層として偶数層に配置した。
【００４７】
実施例２のＲＧＢにおける各発光光のＣＩＥ色度（ｘ，ｙ）は、Ｒが（０．６５６，０．３５５）、Ｇが（０．３４２，０．６１３）、Ｂが（０．１８４，０．１５７）であり、色再現範囲はＮＴＳＣ比で５５％であり、前述の比較例のバンドストップフィルタ効果のない封止膜と比較し約４０％色再現範囲が拡大し本発明の効果が確認できた。
【００４８】
図７は、本発明の第２の封止膜ＳＥＬ２の積層数と透過スペクトルとの関係を説明するための図で、横軸に波長、縦軸に透過率をそれぞれ示している。図７において、Ｐ＝５のスペクトルは実施例１の層数１１を、又Ｐ＝３のスペクトルは層数７の特性をそれぞれ示している。図７から明らかなように、層数が７層のものも効果が見られるが、１１層では更に顕著な効果が明らかである。
【００４９】
この顕著な効果が見られる１１層を更に詳細に検討した結果を表１に示す。この表１は本発明の１１層の実施例での構成と特性を、使用する無機材料、成膜方法等を可変して示すものである。
【表１】
2007280901.tif 000003
【００５０】
表１から明らかなように、透過阻止波長域の中心波長が４９０ｎｍ、すなわち青と緑の間の波長帯域の中心波長及び５８０ｎｍ、すなわち緑と赤の発光光の中間波長の遮断に効果が顕著であり、更にＮＴＳＣ比も比較例に比べて何れも改善されている。
【００５１】
図８は、本発明における第２の封止膜ＳＥＬ２の積層数を説明する図で、横軸に積層数を、又縦軸に透過率及び透過率差をそれぞれ示している。図８において、黒の菱形印は、波長４５０ｎｍの光の無機積層膜における透過率を示したグラフである。この波長は、青色の波長帯域の中心波長である。グラフが示すとおり、３層では干渉効果によって、光の強度が１層の場合に比べて低くなっているが、層数が増加すると透過率が増加している。具体的には、層数が７を超えると透過率が８０％を越え、層数９を超えると８５％を越え、その後、層数１１、１３、１５、１７、１９としても透過率８５〜９０％の間の透過率になって略一定となっている。つまり、層数９以上にすることで実質的にピークの透過率を得られる。
【００５２】
又、黒の四角印は、波長４９０ｎｍの光の無機積層膜における透過率を示したグラフである。この波長は、透過率を下げたい青と緑の間の波長帯域の中心波長である。グラフが示すとおり、積層数が増加するほど透過率は低下する傾向にある。具体的には、層数が５を超えると透過率が４０％と、膜がない場合の半分以下の光強度となる。そもそも人間の目では認識しづらい色ではあるが、輝度が５０％以上も変われば、人間の目でも大きな色純度の改善が見られるようになる。又、層数が７を超えると透過率２０％以下、更に層数が９を超えると透過率が１０％以下、層数が11を越えると透過率が５％以下となる。また、９層になると傾きが鈍化し、１１層を超えると略一定化していることがわかる。
【００５３】
更に、白の三角印は波長４５０ｎｍと４９０ｎｍの光の無機積層膜における透過率差（４５０ｎｍ−４９０ｎｍ差）を示したグラフである。図９はこのグラフを単独に示したものである。この値が大きいことは、青色光の透過率と色純度の両方の効果を効率良く得ることができる範囲である。１１層以上になると、ある一定幅で安定する。つまり、１１層以上にすれば、干渉効果を最大限に得ることができる。
【００５４】
この図８、図９を含め前述した実施例等からも明らかなように、本発明では第２の封止膜の層数は３層以上の奇数層数で効果が得られ、これが５層以上で更に顕著な効果が期待できる。又、７層以上ではより一層効果が顕著である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の実施例１の概略構造を説明する模式断面図である。
【図２】図１の要部拡大断面図である。
【図３】図１の要部拡大断面図である。
【図４】比較例の構造を説明する要部断面図である。
【図５】透過スペクトルを示す図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ表示装置の実施例２の概略構造を説明する模式断面図である。
【図７】積層数毎の透過スペクトルを示す図である。
【図８】積層数と透過率、透過率差の関係を示す図である。
【図９】積層数と透過率差の関係を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
ＳＵＢ・・・ＴＦＴ基板、ＳＥＬ１・・・第１の封止膜（樹脂層）、ＳＥＬ２・・・第２の封止膜、ＯＬＥ・・・有機ＥＬ発光部、ＳＬ１〜１１・・・低屈折率層、ＳＨ２〜１０・・・高屈折率層、ＡＤ・・・金属電極、ＣＤ・・・透明電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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