(57)【要約】【課題】電気光学装置において、互いに隣接するサブ画素間での光漏れを防止し、且つ表示の色づきを視覚的に補正する。【解決手段】液晶層１２を挟持する一対の基板７ａ及び８ａと、一対の基板７ａ及び８ａ上に設けられた複数のサブ画素Ｄと、基板８ａ上に設けられた光反射膜３２と、基板８ａ上であって、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の間の境界に沿って設けられた青色の画素間着色膜３７とを有する電気光学装置である。光反射膜３２で反射した光Ｌ２を画素間着色膜３７によって青色光とすることができる。このような青色光Ｌ２は液晶表示装置の表示において黒に近い光に視認できるので、互いに隣接するサブ画素Ｄ間から光が漏れ出すことを防止でき、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。【選択図】図５
2007225848.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を挟持して電気光学物質層を形成する一対の基板と、該一対の基板上に設けられた複数のサブ画素と、該一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた光反射膜と、前記一方の基板上であって、互いに隣接するサブ画素同士の間の境界に沿って設けられた青色の画素間着色膜とを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１記載の電気光学装置において、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間であって個々の前記サブ画素内には、異なる色の着色膜がそれぞれ設けられ、前記青色の画素間着色膜は異なる色のサブ画素間に設けられることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項２記載の電気光学装置において、前記サブ画素内の着色膜と前記青色の画素間着色膜とは同一基板上に設けられ、前記サブ画素内の着色膜と当該着色膜に隣接する前記青色の画素間着色膜とは互いに隣接する端部が重なることなく接触していることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜は部分的に幅の広い部分を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項４記載の電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜のうちの幅が広い部分に対応する位置には、前記一対の基板間の間隔を保持するスペーサが設けられることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の電気光学装置において、前記一方の基板を挟んで前記電気光学物質層の反対には、当該電気光学物質層に光を供給する照明手段を有し、前記サブ画素は、前記光反射膜によって反射した反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、前記照明手段から発せられて前記光反射膜が無い領域を透過した光を用いて表示を行う透過表示領域とを有し、前記青色の画素間着色膜は、互いに隣接する前記反射表示領域の間に設けられ、前記透過表示領域の間には設けられていないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６記載の電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜と前記照明手段との間には遮光膜が設けられることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項６又は請求項７記載の電気光学装置において、前記サブ画素内の着色膜は、前記透過表示領域内に設けられ、前記反射表示領域内には設けられないことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の電気光学装置において、互いに隣接する前記サブ画素間に設けられた前記電気光学物質層の層厚が厚い部分を有し、該部分に対応する前記青色の画素間着色膜上には、他の色の着色膜が少なくとも１つ積層されることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９記載の電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜に積層される前記他色の着色膜は、少なくとも赤色又は緑色のどちらか一方の着色膜であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０のいずれかに記載の電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜の青色のＣＩＥ色度図上における座標範囲は、
（ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれかに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等の電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成する電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等の各種の電子機器では、当該電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、電気光学装置が用いられている。この電気光学装置としては、例えば、電気光学物質である液晶によって光を変調することにより文字、数字、図形等の像を表示する液晶表示装置等が多く用いられている。
【０００３】
液晶表示装置は、一般に、それぞれが電極を有する一対の基板間にシール材によって囲まれた空間を形成し、その空間内に液晶を封止する構造を有する。それらの電極を平面的に重ねて見ると、電極が重なる領域が行方向及び列方向にマトリクス状に並び、各領域がサブ画素を構成する。これらのサブ画素が、表示が行われるときのその表示の最小単位である。そして、個々のサブ画素内に存在する液晶に印加する電圧を画素ごとに制御して液晶の配向を制御することにより表示が行われる。
【０００４】
この液晶表示装置には、光反射膜によって反射された反射光を用いて反射型の表示を行うものがある。また、個々のサブ画素には異なる色、例えば青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）のうちの１つの着色膜がそれぞれ設けられ、それらの着色膜によってカラー表示が行われるものもある。このような電気光学装置として、従来、互いに隣接するサブ画素同士の間に遮光部材を設けたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３２５５２８号公報（第８頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１に開示された電気光学装置においては、サブ画素間の遮光部材を、例えば黒色樹脂や反射率が低い金属を用いて形成していた。しかしながら、これらの黒色樹脂や低反射率の金属は、遮光機能は有しているものの、表示される色を補正する機能は有していなかった。
【０００７】
また、特許文献１に開示された電気光学装置では、光反射膜の材料特性に起因して表示が色づく、例えば表示が黄色に色づくおそれがあった。また、電気光学装置を構成する基板上においては絶縁膜等の透明樹脂膜が用いられ、この透明樹脂膜の材料特性によっても表示が色づくおそれがあった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、電気光学装置において、互いに隣接するサブ画素間の光漏れを防止し、且つ表示の色づきを視覚的に補正することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を挟持して電気光学物質層を形成する一対の基板と、該一対の基板上に設けられた複数のサブ画素と、該一対の基板のうちの一方の基板上に設けられた光反射膜と、前記一方の基板上であって、互いに隣接する前記サブ画素同士の間の境界に沿って設けられた青色の画素間着色膜とを有することを特徴とする。
【００１０】
本発明に係る電気光学装置は、光反射膜によって反射する光を用いて行う表示、いわゆる反射型表示を行うことができる電気光学装置である。このような電気光学装置としては、例えば反射型表示のみを行う全反射型、又は反射表示領域と透過表示領域とを備え、反射型表示と透過型表示の両方を行う半透過反射型の構成がある。具体的には、（１）全反射型で着色膜を設けた構造がある。また、（２）全反射型で着色膜を設けない構造がある。また、（３）半透過反射型で透過表示領域に着色膜を設けて反射表示領域に着色膜を設けない構造がある。また、（４）半透過反射型で透過表示領域と反射表示領域の両方に同じ色の着色膜を設けた構造がある。また、（５）半透過反射型で色相が同じで濃度が異なる２種類の着色膜を透過表示領域と反射表示領域に１種類ずつ設けた構造がある。
【００１１】
本発明に係る電気光学装置では、互いに隣接するサブ画素同士の境界に沿って青色の画素間着色膜を設けた。これにより、互いに隣接するサブ画素の境界において光反射膜で反射した光を青色光とすることができる。このような青色光は電気光学装置の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光に視認でき、互いに隣接するサブ画素同士の境界に、例えば黒色樹脂や反射率が低い金属等を用いて遮光部材を設ける場合と同様の遮光効果を得ることができる。すなわち、互いに隣接するサブ画素間において光が漏れ出すことを防止できる。それ故、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。
【００１２】
また、光反射膜で反射する光はその光反射膜の材料である金属の色、例えば黄色に色づく傾向にある。そのため、反射光を用いて表示を行う反射型表示においては、その表示が不快感色、例えば黄色をおびることがある。本発明の電気光学装置では、互いに隣接するサブ画素の境界において光反射膜で反射した光を青色光とすることができ、この青色光は好感色であるので、反射型表示、特に視覚的に白い表示を行うときに光反射膜に起因して表示が不快感色に色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを補正できる。
【００１３】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記一対の基板のうちの他方の基板と前記光反射膜との間の個々の前記サブ画素内には、異なる色の着色膜がそれぞれ設けられ、前記青色の画素間着色膜は異なる色のサブ画素間に設けられることが望ましい。サブ画素内に設けられる着色膜は、カラーフィルタを構成する着色膜である。個々のサブ画素がそれぞれ異なる色の着色膜を有する電気光学装置は、カラー表示を行うことができる。
【００１４】
本発明に係る電気光学装置において、個々のサブ画素内に設けられる着色膜としては、例えば青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の着色膜を用いることができる。また、互いに隣接するサブ画素同士の境界に設けられる青色の画素間着色膜は、上記のサブ画素内に設けられる着色膜のうちの青色の着色膜を用いることができる。すなわち、サブ画素内の青色着色膜と青色の画素間着色膜とは同じ材料を用いて同時に形成することができる。それ故、例えば黒色樹脂や金属等から成る遮光部材を別途設ける必要がなくなる。
【００１５】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記サブ画素内の着色膜と前記青色の画素間着色膜とは同一基板上に設けられ、前記サブ画素内の着色膜と当該着色膜に隣接する前記青色の画素間着色膜とは互いに隣接する端部が重なることなく接触していることが望ましい。こうすれば、青色の画素間着色膜の端部及びサブ画素内の着色膜の端部から反射光の漏れがなくなり、電気光学装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。
【００１６】
また、青色の画素間着色膜に他の色の着色膜が重なると、重なった部分は透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制されるので、青色光を得られなくなる。これに対し本発明態様では、青色の画素間着色膜に他の着色膜、すなわちサブ画素内の着色膜が重ならないので、光反射膜で反射する光を確実に青色光とすることができる。また、青色の画素間着色膜とサブ画素内の着色膜とが重なると、重なった部分では着色膜の膜厚が厚くなり、電気光学物質層の層厚、すなわちセルギャップが薄くなる。これに対し本発明態様では、画素間着色膜にサブ画素内の着色膜が重ならないので、当該部分において着色膜が局所的に高くなることがなくなり、セルギャップを均一にすることができる。
【００１７】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜は部分的に幅の広い部分を有することができる。そして、この幅が広い部分に対応する位置には、前記一対の基板間の間隔を保持するスペーサが設けられることが望ましい。このスペーサは、フォトスペーサであり、例えば透光性の樹脂をフォトリソグラフィ処理等によってパターニングすることにより設けることができる。このスペーサは、一般に表示を妨げない位置に設けられることが多い。
【００１８】
本発明態様においては、画素間着色膜に部分的に幅の広い部分を設けたので、当該部分にスペーサを設ければ、スペーサに強い光が入らなくなり、当該スペーサが電気光学装置の表示を妨げることがなくなる。また、スペーサを透過する光は青色の画素間着色膜を透過した青色光であるので、スペーサから強い光が抜けることによって生じるコントラストの低下を防止できる。また、画素間着色膜は青色の着色膜のみの１つの層によって形成することができる。このように画素間着色膜を１つの層によって形成すれば、画素間着色膜が設けられた部分の画素間着色膜の膜厚は基板上の他の領域に比べて調節が容易である。従って、スペーサを画素間着色膜に対応する位置に設ければ、一対の基板間の間隔、すなわち電気光学物質層の層厚を全域で一定に保持することを容易に実現できる。
【００１９】
次に、本発明に係る電気光学装置において、（１）前記一方の基板を挟んで前記電気光学物質層の反対には、当該電気光学物質層に光を供給する照明手段を有し、（２）前記サブ画素は、前記光反射膜によって反射した反射光を用いて表示を行う反射表示領域と、前記照明手段から発せられて前記光反射膜が無い領域を透過した光を用いて表示を行う透過表示領域とを有し、（３）前記青色の画素間着色膜は、互いに隣接する前記反射表示領域の間に設けられ、前記透過表示領域の間には設けられないことが望ましい。
【００２０】
本発明態様は、いわゆる半透過反射型の電気光学装置に本発明を適用するものである。半透過反射型の電気光学装置において反射表示領域に青色の画素間着色膜を設ければ、反射型表示の場合であって、特に視覚的に白い色を表示するときに光反射膜に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。他方、透過表示領域には青色の画素間着色膜を設けないので、透過表示領域内の着色膜と青色の画素間着色膜とが重なることがない。そのため、透過表示領域内において着色膜が局所的に高くなることがなくなり、セルギャップを均一にすることができる。
【００２１】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜と前記照明手段との間には遮光膜が設けられることが望ましい。半透過反射型の電気光学装置において、照明手段は透過表示領域に光を供給するものであるが、照明手段からの光は透過表示領域に限らず、反射表示領域及びサブ画素間にも照射される。このサブ画素間に光を遮光するもの、例えば光反射膜等が無い場合には照明手段から照射された強い光がサブ画素間から抜けることになる。
【００２２】
本発明態様では、画素間着色膜と照明手段の間に遮光膜を設けた。この構成により、透過型表示を行うときに、互いに隣接する反射表示領域の間から照明手段からの光の漏れを防止できるので、表示のコントラストが低下を防止できる。
【００２３】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記サブ画素内の着色膜は、前記透過表示領域内に設けられ、前記反射表示領域内には設けられないことが望ましい。本発明態様は、半透過反射型であって、反射型表示では視覚的に白色と黒色とを表示する白黒表示を行い、透過型表示ではカラー表示を行うことができる電気光学装置、いわゆる反射白黒透過カラー型の電気光学装置に本発明を適用するものである。従来の反射白黒透過カラー型の電気光学装置では、カラーフィルタを形成する着色膜が反射表示領域内に設けられていないので、反射型表示の場合に白い色を表示するとき、光反射膜に起因した表示の色づきが発生し易かった。この色づきは、一般に見る者に不快感を与える傾向にあった。本発明態様においては、好感色である青色の画素間着色膜を互いに隣接するサブ画素同士の境界に設けたので、反射型表示で白い色を表示する場合に光反射膜に起因して表示が不快感色に色づくことを補正できる。
【００２４】
次に、本発明に係る電気光学装置は、互いに隣接する前記サブ画素間に設けられた前記電気光学物質層の層厚が厚い部分を有する。電気光学物質層の層厚が厚い部分に対応する前記青色の画素間着色膜上には、他の色の着色膜が少なくとも１つ積層されることが望ましい。このように電気光学物質層の層厚が厚い部分としては、例えば配向膜の膜厚を表示領域の全域で均一に形成するために、配向膜の塗布の際に配向膜を流し入れる溝等がある。電気光学物質層の層厚が厚い部分の青色の画素間着色膜に他の色の着色膜を積層すれば、当該部分の電気光学物質層の層厚を薄くして他の部分の層厚に近づけることができる。従って、電気光学物質層の層厚を基板上の全域において均一に近づけることができ、電気光学装置の表示を鮮明にすることができる。
【００２５】
また、電気光学物質層の層厚が厚い部分では、光反射膜で反射した光が強く抜けることが考えられる。これは電気光学物質の層厚が厚い部分において基板上に積層された膜要素、例えば樹脂膜等を除去しているためと考えられる。この場合、青色の画素間着色膜だけでは電気光学物質層の層厚が厚い部分を抜ける光を十分に遮光することができないおそれがある。本発明態様では、電気光学物質層の層厚が厚い部分に設けられた青色の画素間着色膜に他の色の着色膜を積層するので、その積層部分を透過できる光の波長が狭く制限されることになり、そのため、透過光の光量が小さくなるように規制され、色相的には黒色に近い色となるように規制される。このように着色膜の積層部分において透過光の波長が狭く制限されることにより、光反射膜によって反射した光のうちの電気光学物質層の層厚が厚い部分を抜けようとする光を確実に遮光できる。
【００２６】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色の画素間着色膜に積層される前記他色の着色膜は、赤色又は緑色の少なくともどちらか一方であることが望ましい。青色の画素間着色膜に赤色又は緑色の着色膜を積層すれば画素間着色膜を透過した光をより黒色に近くできるので、画素間着色膜を抜けようとする光を確実に遮光できる。また、赤色及び緑色は一般的にカラーフィルタに用いられる色なので、青色の画素間着色膜と赤色の着色膜又は青色の画素間着色膜と緑色の着色膜とは、サブ画素内に着色膜を形成する際に同時に積層でき、製造上有利である。
【００２７】
次に、本発明に係る電気光学装置において、前記青色画素間着色膜の青色のＣＩＥ（Commission Internationale de l'Eclairage：国際照明委員会）色度図上における座標範囲は、
（ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
であることが望ましい。この範囲の青色を画素間着色膜に用いれば、反射型表示において、白表示が黄色に色づくことを補正できる。
【００２８】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置は、互いに隣接するサブ画素同士の境界に沿って青色の画素間着色膜を設けたことにより、互いに隣接するサブ画素の境界において光反射膜で反射した光を青色光とすることができた。このような青色光は電気光学装置の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光として視認できるので、互いに隣接するサブ画素同士の境界に、例えば黒色樹脂や反射率が低い金属等で遮光部材を設ける場合と同様の遮光効果を得ることができる。それ故、電気光学装置の表示のコントラスト低下を防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、表示のコントラスト低下を防止できる。
【００２９】
また、本発明に係る電気光学装置は、互いに隣接するサブ画素の境界において光反射膜で反射した光を青色光とすることにより、反射型表示、特に白表示において光反射膜に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。従って、本発明に係る電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（電気光学装置の第１実施形態）
以下、電気光学装置の一例である液晶表示装置を例示して本発明に係る電気光学装置の実施形態を説明する。本実施形態で例示する液晶表示装置は、ＴＦＤ（Thin Film Diode）駆動方式であり、液晶モードとしてＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence：電界制御複屈折）モードを採用した液晶表示装置である。また、本実施形態の液晶表示装置は、半透過反射型であり、特に、反射型表示において白黒表示を行い透過型表示においてカラー表示を行う液晶表示装置である。
【００３１】
なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示す場合がある。
【００３２】
図１は、本発明に係る液晶表示装置の全体の側面断面構造を示している。また、図２は、図１において矢印Ｚ１で示す部分を拡大して示している。また、図３は、図２の矢印Ａに従った平面構造を示している。また、図４は、図３の平面構造が完成する前の途中の段階であって基板上にカラーフィルタの着色膜を形成した段階の状態を示している。また、図５（ａ）は、図３のＺ２−Ｚ２線に従った断面図であり、図５（ｂ）は、図３のＺ３−Ｚ３線に従った断面図である。
【００３３】
図１において、電気光学装置としての液晶表示装置１は、電気光学パネルである液晶パネル２と、この液晶パネル２に付設された照明手段としての照明装置３とを有する。この液晶表示装置１に関しては矢印Ａが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置３は液晶パネル２に関して観察側と反対側に配置されてバックライトとして機能する。
【００３４】
液晶パネル２は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形で環状のシール材６によって互いに貼り合わされた一対の基板７及び８を有する。一方の基板７はスイッチング素子が形成される素子基板である。また、他方の基板８はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板である。本実施形態では、観察側に素子基板７が配置され、観察側から見て背面にカラーフィルタ基板８が配置される。
【００３５】
シール材６は素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に間隙（セルギャップ）Ｇを形成する。シール材６はその一部に液晶注入口（図示せず）を有し、液晶注入口を介して素子基板７とカラーフィルタ基板８との間に電気光学物質の液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップＧ内で電気光学物質層としての液晶層１２を形成する。液晶注入口は液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。液晶の注入方法としては、上記のような液晶注入口を通して行う方法以外に、液晶注入口を持たない連続する環状のシール材６によって囲まれる領域内に液晶を滴下する方法も採用できる。なお、本実施形態では、ＥＣＢ駆動を念頭において、正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いることができる。
【００３６】
次に、セルギャップＧの間隔（液晶層１２の層厚）は、セルギャップＧ内に設けられる複数のスペーサ９によって一定に維持される。このスペーサ９は、フォトリソグラフィ処理によって所定の位置に柱状に形成できる。また、このスペーサ９に代えて、複数の球状の樹脂部材を素子基板７又はカラーフィルタ基板８の表面上にランダム（無秩序）に置くこともできる。このスペーサ９に関しては後に詳しく説明する。
【００３７】
照明装置３は、光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）１３と、導光体１４とを有する。光源には、ＬＥＤ等の点状光源以外に、冷陰極管等の線状光源を用いることもできる。導光体１４は、例えば、透光性を有する樹脂を材料とする成形加工によって形成され、ＬＥＤ１３に対向する側面が光入射面１４ａであり、液晶パネル２に対向する面が光出射面１４ｂである。矢印Ａで示す観察側から見て必要に応じて、導光体１４の背面に、光反射層１６、導光体１４の光出射面１４ｂに、光拡散層１７が設けられる。
【００３８】
素子基板７は、第１の透光性基板７ａを有する。この第１透光性基板７ａは、例えば、透光性のガラスやプラスチック等によって形成される。この第１透光性基板７ａの外側表面には偏光板１８ａが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板１８ａ以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第１透光性基板７ａの内側表面には、矢印Ｚ１で示す部分の拡大図である図２にも示すように、データ線１９が列方向Ｙに延びて形成されている。そして、スイッチング素子として機能する非線形抵抗素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子２１がデータ線１９に接続して形成されている。データ線１９は複数本が紙面垂直方向（行方向Ｘ）に間隔を空けて互いに平行に設けられている。また、ＴＦＤ素子２１は複数個が各データ線１９に沿って等間隔に設けられている。
【００３９】
基板７ａ上にはＴＦＤ素子２１に接続された画素電極２２が形成されている。１つの画素電極２２は矢印Ａ方向から見てドット状に形成されており、さらに、複数の画素電極２２が図１の矢印Ａ方向から見て行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並べられている。これらの画素電極２２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウムスズ酸化物）等の金属酸化物をフォトエッチング処理によって所定のドット形状にパターニングして形成されている。
【００４０】
図２において、ＴＦＤ素子２１は、互いに電気的に直列につながれた一対のＴＦＤ要素２３ａ及び２３ｂで形成されている。第１のＴＦＤ要素２３ａは、第１素子電極２４、絶縁膜２５、第２素子電極２６ａをその順で重ねて形成されている。また、第２のＴＦＤ要素２３ｂは、第１素子電極２４、絶縁膜２５、第２素子電極２６ｂをその順で重ねて形成されている。第１素子電極２４は、例えば、Ｔａ（タンタル）又はＴａ合金で形成される。Ｔａ合金としては、例えば、ＴａＷ（タンタル・タングステン）を用いることができる。絶縁膜２５は、例えば、陽極酸化処理によって形成される。第２素子電極２６ａ，２６ｂは、例えばＣｒ（クロム）、ＭｏＷ（モリブデン・タングステン）合金で形成される。
【００４１】
第１ＴＦＤ要素２３ａ内の第２素子電極２６ａは図３に示すようにデータ線１９から延びている。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂ内の第２素子電極２６ｂは画素電極２２に接続されている。データ線１９から画素電極２２へ信号が伝送されるとき、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂは電気的に逆極性である２つのＴＦＤ要素が直列に接続される。この構造はバック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれる。本実施形態では、バック・ツー・バック構造のＴＦＤ素子を用いたが、単一のＴＦＤ要素によってＴＦＤ素子を形成しても良い。
【００４２】
図２において、データ線１９、ＴＦＤ素子２１、及び画素電極２２を覆うように第１透光性基板７ａの上に配向膜２７ａが、例えば、ポリイミド等を印刷等によって塗布して形成される。この配向膜２７ａにラビング処理が施されて、素子基板７の近傍の液晶層１２の配向が決まる。なお、本実施形態において液晶分子の配向は、ＥＣＢ駆動を念頭において、液晶に電界を印加していない状態で水平配向になるように設定されている。
【００４３】
図１において、素子基板７に対向するカラーフィルタ基板８は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の第２の透光性基板８ａを有する。この第２透光性基板８ａは、例えば、透光性のガラスやプラスチック等で形成される。第２透光性基板８ａの外側表面には偏光板１８ｂが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板１８ｂ以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。なお、本実施形態においては、偏光板１８ａと１８ｂとをクロスニコル配置としている。液晶表示装置の表示モードは、ノーマリホワイトモード、すなわち液晶に電界印加時には白表示になり、電界印加時には黒表示になる表示モードに設定されている。
【００４４】
第２透光性基板８ａの内側表面には、図２にも示すように、樹脂膜３１が形成され、その上に光反射膜３２と着色膜３３と青色の画素間着色膜３７とが形成され、これら光反射膜３２及び着色膜３３の上に平坦化膜３４が形成されている。そして平坦化膜３４によって平坦化された表面に層厚調整膜３５が形成され、その上に帯状電極３６、配向膜２７ｂの順に形成されている。この配向膜２７ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、カラーフィルタ基板８の近傍における液晶分子の配向が決められる。
【００４５】
樹脂膜３１、平坦化膜３４及び層厚調整膜３５は、透光性、感光性、絶縁性等を有する樹脂、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等をフォトリソグラフィ処理によってパターニングして形成している。また、光反射膜３２は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等の光反射性材料をフォトエッチング処理によってパターニングして形成している。
【００４６】
樹脂膜３１の表面には複数の凹部及び凸部が上記のフォトリソグラフィ処理の際に形成され、凹部及び凸部によって凹凸パターンが形成されている。表面に凹凸パターンを備えた樹脂膜３１の表面上に一定の膜厚の光反射膜３２を設けることにより、光反射膜３２に凹凸パターンを付与できる。こうして光反射膜３２に凹凸パターンを付与することにより、光反射膜３２で反射する光に散乱性、指向性等といった光学特性を付与できる。
【００４７】
着色膜３３は、個々が矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形のドット状に形成され、さらに、複数個の着色膜３３が矢印Ａ方向から見て行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並べられている。帯状電極３６は、例えば、ＩＴＯをフォトエッチング処理によって所定の帯形状にパターニングして形成している。１本の帯状電極３６は行方向Ｘ（図２の紙面垂直方向）に延びている。そして、複数の帯状電極３６が列方向Ｙ（図２の左右方向）に所定間隔をおいて互いに平行に並べられている。
【００４８】
液晶パネル２を矢印Ａ方向から見た場合、素子基板７上において行方向Ｘに並ぶ複数のドット状の画素電極２２と、カラーフィルタ基板８上において行方向Ｘへ延びる帯状電極３６とは、平面的に重なっている。両電極が重なる領域は表示のための最小単位であるサブ画素Ｄを構成する。図１において、複数のサブ画素Ｄが平面内で行方向Ｘ及び列方向Ｙにマトリクス状に並ぶことにより、表示領域Ｖが形成される。この表示領域Ｖ内に文字、数字、図形等の像が表示され、矢印Ａ方向から観察者によって視認される。
【００４９】
図２において、光反射膜３２はサブ画素Ｄのうちの一部の領域Ｒに設けられており、残りの領域Ｔには設けられていない。領域Ｒは図３に示すようにサブ画素Ｄ内の一部の長方形状の領域であり、領域Ｔはサブ画素Ｄ内の残りの長方形状の領域である。光反射膜３２が存在する領域Ｒが反射表示領域であり、光反射膜３２が存在しない領域Ｔが透過表示領域である。反射表示領域Ｒはサブ画素Ｄの片側の領域であり、透過表示領域Ｔはサブ画素Ｄの残りの片側の領域である。矢印Ａで示す観察側から入射した外部光Ｌ０は反射表示領域Ｒにおいて光反射膜３２で反射する。こうして得られた反射光Ｌ０は光反射膜３２の凹凸パターンに従って散乱性又は指向性を有する。一方、図１の照明装置３の導光体１４から出射した図２の光Ｌ１は、透過表示領域Ｔを透過する。
【００５０】
層厚調整膜３５は反射表示領域Ｒ内に設けられており、透過表示領域Ｔ内には設けられていない。このため、反射表示領域Ｒ内の液晶層１２の層厚ｔ０は、透過表示領域Ｔ内の液晶層１２の層厚ｔ１よりも薄くなっている。望ましくはｔ０＝ｔ１／２になっている。液晶層１２の層厚の調整は、反射表示領域Ｒ内で光Ｌ０が液晶層１２を２回通過する反射表示の場合と、透過表示領域Ｔ内で光Ｌ１が液晶層１２を１回しか通過しない透過表示の場合とで、液晶層１２のリタデーション（Δｎｄ）を均一にして鮮明な表示を得るために行われるものである。但し、“Δｎ”は屈折率異方性、“ｄ”は液晶層厚を示している。
【００５１】
また、層厚調整膜３５には、図５（ａ）に示すように、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界に沿って列方向Ｙ（図５（ａ）の紙面垂直方向）に延びる溝のスリット３８が形成されている。このスリット３８はサブ画素Ｄの全ての境界部分に設けられているのではなく、全ての境界部分のうちの必要となる一部分に設けられている。スリット３８は、層厚調整膜３５をフォトリソグラフィ処理によってパターニングする際に同時に形成できる。
【００５２】
スリット３８は、図３に示すように、層厚調整膜３５が設けられていない透過表示領域Ｔと繋がっている。すなわち、層厚調整膜３５は、スリット３８と透過表示領域Ｔに囲まれた島状に形成されている。図５（ａ）において、スリット３８には、層厚調整膜３５上に配向膜２７ｂを形成する際に配向膜２７ｂの材料が流れ込むことができる。このように配向膜２７ｂの材料をスリット３８に流し込むめば、表示領域Ｖ（図１参照）の全域で配向膜２７ｂを均一の膜厚に形成することができる。なお、スリット３８が形成された部分では、スリット３８の所で配向膜２７ｂが窪む分だけ液晶層１２の層厚が厚くなっている。また、スリット３８は、複数在るサブ画素Ｄ間の境界のうちの一部、図３において３個のサブ画素Ｄごと、すなわち１つの画素ごとに在る境界に沿って形成されている。
【００５３】
次に、図５（ａ）において青色の画素間着色膜３７は、光反射膜３２上の互いに行方向Ｘで隣接するサブ画素Ｄ同士の間に設けられている。この青色画素間着色膜３７は、図３に示すように、行方向Ｘで隣接するサブ画素Ｄ同士の間に沿って列方向Ｙに不連続に延びる帯状に形成されている。また、スリット３８が設けられた部分に対応して設けられた青色画素間着色膜３７上には、図５（ａ）に示すように、青色以外の色の着色膜３９が積層されている。青色画素間着色膜３７については、後に詳しく説明する。
【００５４】
次に、図４において、個々の着色膜３３は、１つのサブ画素Ｄのうちの透過表示領域Ｔに対応して配置され、さらに青色、緑色、赤色の１つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色の着色膜を３３Ｂ、緑色の着色膜を３３Ｇ、赤色の着色膜を３３Ｒで示している。それら青色の着色膜３３Ｂ、緑色の着色膜３３Ｇ、及び赤色の着色膜３３Ｒは所定の配列、例えばストライプ配列に並べられている。ストライプ配列とは、列方向ＹにＢ，Ｇ，Ｒの同色が並び、それと直交する行方向ＸにＢ，Ｇ，Ｒが交互に順番に並ぶ配列である。
【００５５】
なお、着色膜３３の配列はストライプ配列以外の任意の配列とすることができ、例えば、モザイク配列、デルタ配列等とすることもできる。また、着色膜３３の光学的特性はＢ，Ｇ，Ｒの３色に限られず、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色を通過させる特性とすることもできる。
【００５６】
本実施形態のように、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色の着色膜３３を用いてカラー表示を行う場合は、Ｂ，Ｇ，Ｒの３色に対応する３つの着色膜３３に対応する３つのサブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の２色でモノカラー表示を行う場合は、１つのサブ画素Ｄによって１つの画素が形成される。
【００５７】
次に、図１において、素子基板７を構成する第１透光性基板７ａはカラーフィルタ基板８の外側へ張り出す張出し部４１を有している。この張出し部４１の表面には、配線４２がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線４２は矢印Ａ方向から見て複数本形成されており、紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並べられている。また、張出し部４１の辺端には複数の外部接続用端子４３が紙面垂直方向に沿って互いに間隔を空けて並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子４３が設けられた張出し部４１の辺端に、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：可撓性プリント回路）基板（図示せず）が接続される。
【００５８】
複数の配線４２は、シール材６に囲まれた領域内に向けて列方向Ｙに延びるように形成されている。配線４２の一部は、シール材６で囲まれた領域内に向けて列方向Ｙに延びてデータ線１９に繋がっている。また、複数の配線４２の他の一部は、シール材６の中に含まれる導通材４４を介してカラーフィルタ基板８上の各帯状電極３６につながっている。
【００５９】
張出し部４１の表面には、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）４５を用いたＣＯＧ（Chip On Glass）技術によって、駆動用ＩＣ４６が実装されている。駆動用ＩＣ４６は、データ線１９へデータ信号を伝送し、帯状電極３６へ走査信号を伝送する。駆動用ＩＣ４６は１つのＩＣチップで形成しても良いし、必要に応じて複数のＩＣチップで形成しても良い。駆動用ＩＣ４６を複数のＩＣチップによって構成する場合には、それらのＩＣチップは張出し部４１上で図１の紙面垂直方向に並べて実装される。
【００６０】
以上のように液晶表示装置１によれば、液晶表示装置１が明るい室外や室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等の外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置１が暗い室外や室内に置かれる場合は、照明装置３をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。なお、本実施形態において、反射型の表示が行われる場合には、図２の光反射膜３２で反射する光Ｌ０は着色膜３３を通過しないので、白色及び黒色の表示（以下、白黒表示という）が行われる。一方、透過型の表示が行われる場合には、透過表示領域Ｔを透過する光Ｌ１は着色膜３３を通過するのでカラー表示が行われることになる。
【００６１】
上記の反射型表示を行う場合、図２において、観察側である矢印Ａの方向から素子基板７を通して液晶パネル２内へ入射した外部光Ｌ０は、液晶層１２を通過してカラーフィルタ基板８内へ入った後、反射表示領域Ｒにおいて光反射膜３２で反射して再び液晶層１２へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図１の照明装置３の光源１３が点灯し、光が導光体１４の光入射面１４ａから導光体１４へ導入され、さらに、光出射面１４ｂから面状の光として出射する。この出射光は、図２の符号Ｌ１で示すように透過表示領域Ｔ（光反射膜３２が存在しない領域）を通って液晶層１２へ供給される。
【００６２】
以上のように、液晶層１２へ光が供給される間、素子基板７側の画素電極２２とカラーフィルタ基板８側の帯状電極３６との間には、走査信号およびデータ信号によって規定される所定の電圧が印加され、液晶層１２内の液晶分子の配向がサブ画素Ｄごとに制御される。この結果、液晶層１２に供給された光がサブ画素Ｄごとに変調される。この変調された光が、素子基板７側の偏光板１８ａ（図１参照）を通過するとき、偏光板１８ａの偏光特性に従ってサブ画素Ｄごとに通過を規制され、素子基板７の表面に文字、数字、図形等の像が表示され、矢印Ａ方向から視認される。
【００６３】
以下、図２及び図５（ａ）に示す画素間着色膜３７及びスペーサ９について詳しく説明する。まず、図５（ａ）において、光反射膜３２上の互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の間に青色の画素間着色膜３７が設けられている。この青色画素間着色膜３７は、図４に示すように、隣接するサブ画素Ｄ間に沿って列方向Ｙに不連続に延びる帯状に形成されている。なお、帯状に形成された青色画素間着色膜３７の行方向Ｘの幅ａは５μｍ〜１５μｍであることが望ましい。
【００６４】
この青色画素間着色膜３７は、行方向Ｘで互いに隣接する反射表示領域Ｒ同士の間に設けられている。他方、青色画素間着色膜３７は、互いに隣接する透過表示領域Ｔ同士の間には設けられていない。なお、互いに隣接する透過表示領域Ｔに設けられた着色膜３３同士は、それらの境界において隙間を空けずに接触している。
【００６５】
また、本実施形態の液晶表示装置において、光反射膜３２は、図５（ａ）に示すように複数のサブ画素Ｄにわたって行方向Ｘに連続して設けられている。すなわち、互いに隣接する反射表示領域Ｄの間には光反射膜３２が設けられている。従って、隣接する反射表示領域Ｒ間においては照明装置３（図１参照）からの光Ｌ３が光反射膜３２によって遮光される。こうして、透過型表示の際に照明装置３からの光が青色画素間着色膜３７を通って反射表示領域Ｒに漏れ出ることを防止できるので、表示コントラストが低下がなくなる。
【００６６】
また、図４に示すように、各画素間着色膜３７には、部分的に幅が広く形成された幅広部分３７’が設けられている。そして図３に示すように、これらの幅広部分３７’の一部のものに平面的に重なる状態でスペーサ９が設けられている。本実施形態において幅広部分３７’は、図４に示すように、帯状に形成された青色画素間着色膜３７の列方向Ｙの略中央に、平面的に見て略円形状に形成されている。この幅広部分３７’は、青色画素間着色膜３７の行方向Ｘの両側に隣接するサブ画素Ｄに円の一部分が突出した形状に形成されている。なお、この突出した部分の形状は、円の一部分の形状に限られることはなく、例えば楕円形状の一部分、長円形状の一部分、又はひし形の一部分とすることもできる。
【００６７】
また、図３において、スペーサ９は底面が正方形又はひし形の角柱形状に形成されている。青色画素間着色膜３７の幅広部分３７’の幅ｂ（図４参照）は、平面的に見て、スペーサ９の底面が幅広部分３７’の領域内に収まる広さに設定されている。幅広部分３７’に対応する位置にスペーサ９を設ければ、スペーサ９が液晶表示装置１（図１参照）の表示品質を低下を防止できる。また、図５（ａ）において、光反射膜３２で反射してスペーサ９から抜ける光Ｌ２を青色画素間着色膜３７によって青色光にできるので（透過光量を下げることができるので）、スペーサ９から強い光が抜け出ることを防止できる。
【００６８】
また、青色画素間着色膜３７は青色の着色膜のみの１つの層によって形成されているので、青色画素間着色膜３７が設けられた部分の青色画素間着色膜３７の膜厚は調節が容易である。従って、スペーサ９を青色画素間着色膜３７に対応する位置に設ければ、スペーサ９の頂部までの高さの調節も容易にできるので、セルギャップＧを全域で一定に保持することを容易に実現できる。
【００６９】
なお、図３において、スペーサ９は一部の画素間着色膜３７上に設けられている。本実施形態では、３つのサブ画素Ｄ、すなわち１つの画素に対して１つのスペーサ９が設けられている。必要に応じて、スペーサ９の数を変えることもできる。例えば、２つのサブ画素Ｄに対して１個のスペーサ９を設けても良いし、全てのサブ画素Ｄに対してスペーサ９を設けても良い。また、青色画素間着色膜３７の幅広部分３７’は、スペーサ９を設ける設けないにかかわらず、全ての青色画素間着色膜３７に設けられることが望ましい。各サブ画素Ｄに対する青色画素間着色膜３７の面積を均一にできるので、表示領域Ｖ（図１参照）の全域において表示色を均一に補正できる。
【００７０】
図５（ａ）に示すように、複数の青色画素間着色膜３７のうちの一部は、スリット３８に対向して設けられている。このスリット３８に対向して設けられた画素間着色膜３７上には、青色以外の色の着色膜３９が積層されている。着色膜３９としては、赤色着色膜３９Ｒ又は緑色着色膜３９Ｇを用いることができる。これらの赤色着色膜３９Ｒ又は緑色着色膜３９Ｇを青色画素間着色膜３７に積層することにより、サブ画素Ｄ間の遮光能力を高めることができ、サブ画素Ｄ間に設けられた着色膜の色が黒色に近くなっている。
【００７１】
また、青色画素間着色膜３７及び着色膜３９の上には平坦化膜３４が設けられているが、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界では、それらの画素間着色膜３７又は着色膜３９の膜厚に応じて平坦化膜３４の表面がわずかながら突出している。この平坦化膜３４の突出部分の高さは、青色画素間着色膜３７に赤色着色膜３９Ｒ又は緑色着色膜３９Ｇを積層した部分をｈ１とし、青色画素間着色膜３７のみを設けた部分をｈ２としたとき、
ｈ１＞ｈ２
である。
【００７２】
このように、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界のうちの青色画素間着色膜３７に着色膜３９を積層した部分、すなわちスリット３８が設けられた部分では、平坦化膜３４の突出部分の高さｈ１を高くできる。その結果、層厚調整膜３５に設けられたスリット３８の深さを浅くすることができる。こうすれば、スリット３８における液晶層１２の層厚ｔ２を反射表示領域Ｒの液晶層１２の層厚ｔ０に近づけることができる。それ故、スリット３８が設けられた部分と反射表示領域Ｒとの間で液晶層１２のリタデーション（Δｎｄ）が大きく異なることを防止でき、表示ムラが生じることを防止できる。
【００７３】
なお、本実施形態では、赤色着色膜３９Ｒ又は緑色着色膜３９Ｇのいずれか一方を画素間着色膜３７に積層する構造としているが、赤色着色膜３９Ｒ及び緑色着色膜３９Ｇの両方を積層する構造としても良い。両方を積層すれば遮光をより確実に行うことができる。また、２層を積層すれば、膜厚がより厚くなるので液晶層１２の層厚をスリット３８と他の部分との間をより一定に近づけることができる。
【００７４】
青色画素間着色膜３７は、サブ画素Ｄの透過表示領域Ｔ内に設けられてカラーフィルタを構成する着色膜３３のうちの青色の着色膜３３Ｂをパターニングする際に、青色着色膜３３Ｂと同じ材料を用いて同時に形成することができる。また、スリット３８に対向して設けられた青色画素間着色膜３７に積層される着色膜３９は、サブ画素Ｄ内の着色膜３３のうちの赤色着色膜３３Ｒ又は緑色着色膜３３Ｇをパターニングする際に、それらの赤色着色膜３３Ｒ又は緑色着色膜３３Ｇと同じ材料を用いて同時に形成できる。
【００７５】
従来の液晶表示装置では、互いに隣接するサブ画素Ｄ間の遮光部材を、例えば黒色樹脂や反射率が低い金属を用いて形成していた。しかしながら、これらの黒色樹脂や低反射率の金属は、液晶表示装置を構成する他の要素には用いられていない材料である場合が多い。この場合には、液晶表示装置を製造する際に、遮光部材をパターニングする工程を１つ増やさなければならないという問題があった。
【００７６】
また、従来の液晶表示装置では、光反射膜の材料特性に起因して表示が色づく、例えば表示が黄色に色づくおそれがあり、平坦化膜や層厚調整膜等といった樹脂膜の材料特性によっても表示が色づくおそれがあった。従来は、これらの色づきを補償する方策が講じられていないという問題があった。
【００７７】
これらの問題に対し、本実施形態の液晶表示装置では、図５（ａ）に示すように、第２透光性基板８ａ上に設けられた光反射膜３２上であって、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界に沿った部分に青色の画素間着色膜３７を設けた。これにより、互いに隣接するサブ画素Ｄの境界において光反射膜３２で反射した光Ｌ２を青色光とすることができる。青色光Ｌ２は液晶表示装置１（図１参照）の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光に視認でき、従来のように遮光部材を設けて互いに隣接するサブ画素Ｄ間を遮光する場合と同様の遮光効果を得ることができる。すなわち、互いに隣接するサブ画素Ｄ間からの光漏れを防止でき、液晶表示装置１の表示のコントラスト低下を防止できる。
【００７８】
また、互いに隣接するサブ画素Ｄの境界において光反射膜３２で反射した光Ｌ２を好感色である青色光とすることができるので、反射型表示において光反射膜３２に起因して表示が不快感色に色づくこと、例えば黄色に色づくことを補正できる。
【００７９】
（電気光学装置の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を説明する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図１と同じである。図６は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図１において矢印Ｚ１で示す部分、すなわちサブ画素部分を拡大して示している。また、図７は、図６の矢印Ａに従った平面構造を示している。また、図８は、図７の平面構造が完成する前の途中の段階であって基板上にカラーフィルタの着色膜を形成した段階の状態を示している。また、図９（ａ）は、図７のＺ４−Ｚ４線に従った断面図であり、図９（ｂ）は、図７のＺ５−Ｚ５線に従った断面図である。
【００８０】
既述の第１実施形態では、図２に示したように、カラーフィルタを構成する着色膜３３を透過表示領域Ｔ内に設け、反射表示領域Ｒには設けない構造の液晶表示装置、すなわち、反射型表示で白黒表示を行い、透過型表示でカラー表示を行う半透過反射型の液晶表示装置を例示している。これに対し、本実施形態では、図６に示すように、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの両方にわたって着色膜５３を設けている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置は、反射型表示と透過型表示の両方においてカラー表示を行う半透過反射型の液晶表示装置である。
【００８１】
なお、本実施形態において、着色膜５３及び青色の画素間着色膜３７以外の液晶表示装置１の構成要素は、図２、図３、図４及び図５で示した第１実施形態の場合と同じものを用いることにして、それらの説明は省略する。
【００８２】
図６において、個々の着色膜５３は、１つのサブ画素Ｄの全域に設けられている。すなわち個々のサブ画素Ｄ内では、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで同じ色の着色膜５３が設けられている。個々の着色膜５３は青色、緑色、赤色の１つを通過させる光学的特性に設定されている。図では青色、緑色、赤色の着色膜をそれぞれ５３Ｂ、５３Ｇ、５３Ｒで示している。それらの着色膜５３Ｂ、５３Ｇ、５３Ｒは矢印Ａ方向から見て所定の配列、例えばストライプ配列に並べられている。
【００８３】
なお、着色膜５３の配列はストライプ配列以外の任意の配列とすることができ、例えば、モザイク配列、デルタ配列等とすることもできる。また、着色膜５３の光学的特性は青色、緑色、赤色の３原に限られず、シアン、マゼンタ、イエローの３色を通過させる特性とすることもできる。
【００８４】
個々の着色膜５３に関して、光反射膜３２に平面的に重なる領域内の一部には、着色膜５３が設けられていない領域Ｑが設けられている。図８に示すように、この領域Ｑは平面的に見て円形状に形成されている。この領域Ｑは、必要に応じて円形状以外の任意の形状、例えば、楕円形状、長円形状、方形状等に形成することもできる。着色膜５３が設けられていないこの領域Ｑでは光の波長選択は行われず、入射した光が強度を減衰させることなくこの領域Ｑを通過する。このため、本実施形態では、図６の光反射膜３２において反射する光を用いた反射型表示時に明るい画像を表示できる。
【００８５】
図７において、行方向Ｘで互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界であって互いに隣接する反射表示領域Ｒ同士の境界には、青色の画素間着色膜３７が設けられている。一方、行方向Ｘで互いに隣接する透過表示領域Ｔの境界には、青色画素間着色膜３７は設けられていない。透過表示領域の断面図である図９（ｂ）に示すように、透過表示領域Ｔに設けられた各着色膜５３は、図５（ｂ）の実施形態における着色膜３３と同じく、互いに隣接する透過表示領域Ｔに設けられた着色膜５３同士が境界において隙間を空けずに接触する。
【００８６】
図８において、青色画素間着色膜３７は、緑色着色膜５３Ｇが設けられたサブ画素Ｄと赤色着色膜５３Ｒが設けられたサブ画素Ｄとの間において、それらのサブ画素Ｄの境界に沿って独立した形状に設けられている。この独立した形状の青色画素間着色膜３７は、図８の上下方向（列方向Ｙ）に不連続に延びる帯状に設けられている。一方、青色着色膜５３Ｂに隣接する画素間着色膜３７は、当該青色着色膜５３Ｂと一体に形成されている。すなわち、青色着色膜５３Ｂは平面的な形状が緑色着色膜５３Ｇ及び赤色着色膜５３Ｒと異なり、青色着色膜５３Ｂの両端部が当該青色着色膜５３Ｂの両側に隣接するサブ画素Ｄに突出する形状に形成されている。
【００８７】
図９（ａ）に示すように、行方向Ｘで互いに隣接する反射表示領域Ｒの境界であってスリット３８が設けられた部分を除く部分では、着色膜５３とそれに隣接する画素間着色膜３７とが重なることなく、それらの端部が互いに接触している。
【００８８】
なお、層厚調整膜３５に設けられたスリット３８に対向する部分では、画素間着色膜３７に他の色の着色膜が積層されている。図９（ａ）では、スリット３８に対向する青色の画素間着色膜３７に、当該画素間着色膜３７に隣接する赤色着色膜５３Ｒが積層されている部分を示している。
【００８９】
本実施形態のように、画素間着色膜３７と他の色の着色膜５３とが重なる構成は、例えば画素間着色膜３７と他の色の着色膜５３とが重なるようにそれらをパターニングすることにより実現できる。または、画素間着色膜３７と、当該画素間着色膜３７と同一平面上に設けられた他の色の着色膜とが不可避的に重なる場合がある。具体的には、青色以外の色の着色膜５３Ｇ，５３Ｒをフォトリソグラフィ処理によってパターニングするときに、これらのフォトリソグラフィ処理の位置が所定の位置からずれた場合に、画素間着色膜３７の一部と他の色の着色膜５３Ｇ，５３Ｒの一部とが重なる場合がある。
【００９０】
本実施形態の液晶表示装置では、図９（ａ）に示すように、第２透光性基板８ａ上に設けられた光反射膜３２上であって、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界に沿った部分に青色の画素間着色膜３７を設けた。これにより、互いに隣接するサブ画素Ｄの境界において光反射膜３２で反射した光Ｌ２を青色光とすることができる。青色光Ｌ２は液晶表示装置１（図１参照）の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光に視認でき、従来の遮光部材を設けて互いに隣接するサブ画素Ｄ間を遮光する場合と同様の遮光効果を得ることができる。すなわち、互いに隣接するサブ画素Ｄ間からの光漏れを防止でき、液晶表示装置１の表示のコントラスト低下を防止できる。
【００９１】
また、本実施形態では、スリット３８以外の部分で青色画素間着色膜３７にサブ画素Ｄ内にある他の色の着色膜５３Ｇ又は５３Ｒが重ならないので、光反射膜３２で反射する光Ｌ２を確実に青色光とすることができる。この青色光によって、従来のように遮光部材を設けて互いに隣接するサブ画素Ｄ間を遮光する場合と同様の遮光効果を得ることができ、且つ光反射膜３２に起因して表示が不快感色に色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを補正できる。また、仮に青色画素間着色膜３７とサブ画素Ｄ内の着色膜５３とが重なった場合、その重なった部分では、着色膜の膜厚が厚くなり液晶層１２の層厚が薄くなるおそれがあった。本実施形態の液晶表示装置では青色画素間着色膜３７にサブ画素Ｄ内の着色膜５３が重ならないので、表示領域Ｖ（図１参照）の全域で液晶層１２の層厚を均一にすることができる。
【００９２】
（電気光学装置の第３実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の第３の実施形態を説明する。本実施形態においても、電気光学装置の実施形態として液晶表示装置を例示して説明する。本実施形態に係る液晶表示装置の外観形状は、概ね、図１と同じである。図１０は、本発明に係る液晶表示装置の主要部を示しており、図３のＺ２−Ｚ２線に従った部分に相当する部分、すなわち、反射表示領域の断面構造を示している。
【００９３】
既述の第１実施形態では、図１の照明装置３と図５（ａ）の青色の画素間着色膜３７の間に光反射膜３２が設けられている。そのため、互いに隣接するサブ画素Ｄの間においては、照明装置３からの光Ｌ３は光反射膜３２によって遮光されるので、透過型表示において照明装置３からの透過光がサブ画素Ｄの間から漏れ出ることがない。しかしながら、液晶表示装置の中には互いに隣接するサブ画素Ｄ間に光反射膜が設けられない場合がある。本実施形態はそのような液晶表示装置を考えられ、この構成の液晶表示装置では、透過型表示において照明装置からの光がサブ画素間を透過し、その透過光が青色画素間着色膜によって青色光になり、その結果、透過型表示の青色が視覚的に強くなるおそれがある。
【００９４】
これに対し本実施形態では、図１０に示すように、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の間であって、青色画素間着色膜３７と照明装置３との間、具体的には第２透光性基板８ａの表面に遮光膜６１を設けている。この遮光膜６１は、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｃｒ、Ｃｒ合金等の金属をフォトエッチング処理によってパターニングして形成できる。この遮光膜６１は、画素間着色膜３７に平面視で重なる位置に設けられている。
【００９５】
このように、青色画素間着色膜３７と照明装置３との間に遮光膜６１を設ければ、透過型表示の際に反射表示領域Ｒに隣接するサブ画素Ｄ間からの光漏がなくなるので、透過型表示の色が青色に偏ることを防止できる。また、遮光膜６１は光反射性を有した材料、例えばＡｌ（アルミニウム）やＡｌ合金等で形成することが望ましい。こうすれば、反射型表示において互いに隣接するサブ画素Ｄ間で光Ｌ２が反射して青色画素間着色膜３７を透過することにより青色光が得られるので、光反射膜３２に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことをその青色光によって補正できる。
【００９６】
（電気光学装置に関するその他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００９７】
例えば、上記の実施形態では、図２において光反射膜３２と着色膜３３とを同じ基板８ａ上に設けた構造の電気光学装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、光反射膜３２と着色膜３３とをそれぞれ別の基板上に設ける構造の電気光学装置に適用することもできる。
【００９８】
また、上記の実施形態は、半透過反射型であって、透過表示領域にのみ着色膜を設けた構造（図４参照）、又は透過表示領域と反射表示領域の両方に同じ色で同じ濃度の着色膜を設けた構造（図８参照）の電気光学装置に本発明を適用したものである。しかしながら、本発明は、半透過反射型であって、色相が同じで濃度が異なる着色膜を透過表示領域と反射表示領域のそれぞれに設けた構造の電気光学装置に適用することもできる。また、本発明は、透過型表示を行うことなく反射型表示のみを行う全反射型の電気光学装置であって各サブ画素に対応して着色膜を設けた構造の電気光学装置に適用することもできる。また、本発明は、全反射型の電気光学装置であって各サブ画素に対応して着色膜を設けない構造の電気光学装置に適用することもできる。
【００９９】
また、上記の実施形態は、２端子型のスイッチング素子のＴＦＤ素子２１（図２参照）を用いる電気光学装置に本発明を適用したものであるが、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子等といった３端子型のスイッチング素子を用いる電気光学装置にも適用できる。例えば、チャネルエッチ型あるいは、それ以外の構造のアモルファスシリコンＴＦＴ素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、アモルファスシリコンＴＦＴ素子以外のＴＦＴ素子、例えば高温ポリシリコンＴＦＴ素子や、低温ポリシリコンＴＦＴ素子等をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。
【０１００】
また、上記の各実施形態では、ＥＣＢ方式の液晶モードを採用した液晶表示装置に本発明を適用したものであるが、例えばＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モードや、ＶＡ（Vertically Aligned）モード等の液晶モードを採用した液晶表示装置にも適用できる。
【０１０１】
（電子機器の第１実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【０１０２】
図１１は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置１０１と、これを制御する制御回路１０２とを有する。制御回路１０２は、表示情報出力源１０５、表示情報処理回路１０６、電源回路１０７及びタイミングジェネレータ１０８によって構成される。そして、液晶表示装置１０１は液晶パネル１０３及び駆動回路１０４を有する。
【０１０３】
表示情報出力源１０５は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０８により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０６に供給する。
【０１０４】
次に、表示情報処理回路１０６は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０４へ供給する。ここで、駆動回路１０４は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０７は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
【０１０５】
液晶表示装置１０１は、例えば、図１に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図１の液晶表示装置１は、図３において、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界に沿って青色の画素間着色膜３７を設けることにしたので、互いに隣接するサブ画素Ｄ間の光反射膜３２で反射した光Ｌ２（図５（ａ）参照）を青色光とすることができる。このような青色光は液晶表示装置１の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光に視認でき、隣接するサブ画素Ｄ間に遮光部材を設けて当該部分を遮光する場合と同様の遮光効果を得ることができる。それ故、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示のコントラストが低下することを防止できる。
【０１０６】
また、図１の液晶表示装置１は、図５（ａ）に示すように、互いに隣接するサブ画素Ｄ間の光反射膜３２で反射した光Ｌ２を青色光とすることにより、反射型表示、特に白表示において光反射膜３２に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。
【０１０７】
（電子機器の第２実施形態）
図１２は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機１１０は、本体部１１１と、開閉可能に設けられた表示体部１１２とを有する。液晶表示装置等の電気光学装置によって構成された表示装置１１３は、表示体部１１２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１１２において表示画面１１４によって視認できる。本体部１１１には操作ボタン１１５が配列されている。
【０１０８】
表示体部１１２の一端部にはアンテナ１１６が伸縮自在に取付けられている。表示体部１１２の上部に設けられた受話部１１７の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部１１１の下端部に設けられた送話部１１８の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置１１３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１１１又は表示体部１１２の内部に格納される。
【０１０９】
表示装置１１３は、例えば、図１に示した液晶表示装置１を用いて構成できる。図１の液晶表示装置１は、図３において、互いに隣接するサブ画素Ｄ同士の境界に沿って青色の画素間着色膜３７を設けることにしたので、互いに隣接するサブ画素Ｄ間の光反射膜３２で反射した光Ｌ２（図５（ａ）参照）を青色光とすることができる。このような青色光は液晶表示装置１の表示において赤色光や緑色光に比べて黒に近い光に視認でき、隣接するサブ画素Ｄ間に遮光部材を設けて当該部分を遮光する場合と同様の遮光効果を得ることができる。それ故、液晶表示装置の表示のコントラストが低下することを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、その電子機器の表示のコントラストが低下することを防止できる。
【０１１０】
また、図１の液晶表示装置１は、図５（ａ）に示すように、互いに隣接するサブ画素Ｄ間の光反射膜３２で反射した光Ｌ２を青色光とすることにより、反射型表示、特に白表示において光反射膜３２に起因して表示が色づくこと、例えば表示が黄色に色づくことを防止できる。従って、この液晶表示装置を用いた電子機器においても、その電子機器の表示が黄色に色づくことを防止できる。
【０１１１】
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【実施例】
【０１１２】
（比較例１）
【０１１３】
従来装置、すなわち、図５（ａ）において青色の画素間着色膜３７に代えて青色着色膜以外の遮光部材を用いる構成の液晶表示装置１を作製した。その液晶表示装置１によって反射型表示で白表示を行った。つまり、Ｒ，Ｇ，Ｂの全ての画素を点灯させる表示を行った。その結果、図１３に示すＣＩＥ（Commission Internationale de l'Eclairage：国際照明委員会）色度図上において符号Ｙで示す表示が得られた。この符号Ｙの座標は、
（ｘ，ｙ）＝（０．３４５，０．３６５）
である。この符号Ｙで示す表示は黄色味を帯びていた。
（実施例１）
【０１１４】
図１に示す構成の液晶表示装置１を作製し、表示の評価を行った。その際、青色の画素間着色膜３７に使用する材料の色特性は、図１３に示すＣＩＥ色度図上において符号Ｃで示す範囲のものとした。この範囲Ｃの座標は、
（ｘ，ｙ）＝（０．１３０〜０．２３０，０．０３０〜０．２５０）
である。また、照明装置３の光源１３をＣＩＥの昼光標準光源Ｄ６５とした。このＣＩＥ昼光標準光源Ｄ６５の座標は図１２の色度座標上において
（ｘ，ｙ）＝（０．３１２７，０．３２９０）
である。
【０１１５】
以上の液晶表示装置１によって反射型表示で白表示を行った。つまり、Ｒ，Ｇ，Ｂの全ての画素を点灯させる表示を行った。その結果、表示の色は符号Ｙから矢印Ｚの方向へシフトした。すなわち、Ｄ６５に近い白色の表示が得られた。この結果、ＣＩＥ色度図上で符号Ｃの範囲の青色着色膜を用いて図１の液晶表示装置１を作製により、黄色味のない鮮明な表示が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態を示す側面断面図である。
【図２】図１において矢印Ｚ１で示す部分を拡大して示す断面図である。
【図３】図２の矢印Ａに従って画素近傍の構造を示す平面図である。
【図４】図３のカラーフィルタ基板の内部構造を示す平面図である。
【図５】（ａ）は図３のＺ２−Ｚ２線に従った断面図であり、（ｂ）は図３のＺ３−Ｚ３に従った断面図である。
【図６】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図７】図６の矢印Ａに従って画素近傍の構造を示す平面図である。
【図８】図７のカラーフィルタ基板の内部構造を示す平面図である。
【図９】（ａ）は図７のＺ４−Ｚ４線に従った断面図であり、（ｂ）は図７のＺ５−Ｚ５に従った断面図である。
【図１０】本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の要部を示す断面図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１２】本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る電気光学装置で用いる着色膜の特性を示すＣＩＥ色度図である。
【符号の説明】
【０１１７】
１．液晶表示装置（電気光学装置）、  ２．液晶パネル（電気光学パネル）、
３．照明装置（照明手段）、  ６．シール材、  ７．素子基板、  
７ａ．第１透光性基板、  ８．カラーフィルタ基板、  ８ａ．第２透光性基板、
９．スペーサ、  １２．液晶層（電気光学物質層）、  １３．ＬＥＤ、  １４．導光体、
１４ａ．光入射面、  １４ｂ．光出射面、  １６．光反射層、  １７．光拡散層、
１８ａ，１８ｂ．偏光板、  １９．データ線、  ２１．ＴＦＤ素子、  ２２．画素電極、
２３ａ．第１ＴＦＤ要素、  ２３ｂ．第２ＴＦＤ要素、  ２４．第１素子電極、
２５．絶縁膜、  ２６ａ，２６ｂ．第２素子電極、  ２７ａ，２７ｂ．配向膜、
３１．樹脂膜、  ３２．光反射膜、  ３３，３９，５３．着色膜、  
３３Ｂ，５３Ｂ．青色着色膜、  ３３Ｇ，３９Ｇ，５３Ｇ．緑色着色膜、  
３３Ｒ，３９Ｒ，５３Ｒ．赤色着色膜、  ３４．平坦化膜、  ３５．層厚調整膜、  
３６．帯状電極、  ３７．青色画素間着色膜、  ３７’．幅広部分、  ３８．スリット、
３９．着色膜、  ４１．張出し部、  ６１．遮光膜、  
１０１．液晶表示装置（電気光学装置）、  １０２．制御回路、  １０３．液晶パネル、
１０４．駆動回路、  １１０．携帯電話機（電子機器）、  １１１．本体部、  
１１２．表示体部、  １１３．表示装置、  １１４．表示画面、  Ｄ．サブ画素、  
Ｇ．セルギャップ、  Ｌ０，Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３．光、  Ｒ．反射表示領域、  
Ｔ．透過表示領域、  Ｖ．表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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