(57)【要約】【課題】簡単な工程でメタルバスラインを形成して電極配線の低抵抗化を図り、容易な工程で表示品位の高い有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。【解決手段】陽極、有機化合物からなる有機発光材料層、及び陰極からなる積層体が形成される基板と、少なくとも有機発光材料層上の一部又は全部に積層形成される陰極と、基板上において、陽極又は陰極に電気的に接続されて形成される導電性を有する接続ラインとを備え、接続ラインは、陰極と同一の材料により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子で構成される。【選択図】図１
2007012630.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極、有機化合物からなる有機発光材料層、及び陰極からなる積層体が形成される基板と、
少なくとも前記有機発光材料層上の一部又は全部に積層形成される陰極と、
前記基板上において、前記陽極又は陰極に電気的に接続されて形成される導電性を有する接続ラインと、
を備え、
前記接続ラインは、前記陰極と同一の材料により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子。
【請求項２】
前記接続ラインは、前記陰極とほぼ同一の厚さで形成されることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光材料を用いた表示素子である有機エレクトロルミネセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来有機発光材料を用いた表示素子として図４に示す有機エレクトロルミネセンス素子（以下有機ＥＬ素子）がある。有機ＥＬ素子は、電流注入型の素子であるため、素子の発光効率は、電極ラインの低抵抗化に大きく依存する。したがって、電極ラインの抵抗が高いと、流れる電流によって大きな電圧降下が起こり、輝度ムラを生じ表示品位を損ねる。
【０００３】
よって、基板上での電極の配線は、抵抗の低い材料を用いる必要があるが、特に陽極として用いられるＩＴＯなどの透明電極は、シート抵抗が高く問題となっていた。
【０００４】
そこで、電極どうしの配線には、抵抗値の小さい金属膜（以降この金属膜をメタルバスラインと呼ぶ）を用いて低抵抗化を図っていた。即ち、基板上にパターン化された陽極、有機化合物からなる有機発光材料層、陰極を順次積層し、さらに、メタルバスラインを基板上に陽極と接続されるように形成していた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、この工程は、陽極とメタルバスラインの２層をそれぞれパターニングするという複雑なものであり、したがって、コストが高くなるといった欠点があった。
【０００６】
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、簡単な工程でメタルバスラインを形成して電極配線の低抵抗化を図り、容易な工程で表示品位の高い有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明は、陽極、有機化合物からなる有機発光材料層、及び陰極からなる積層体が形成される基板と、少なくとも有機発光材料層上の一部又は全部に積層形成される陰極と、基板上において、陽極又は陰極に電気的に接続されて形成される導電性を有する接続ラインとを備え、接続ラインは、陰極と同一の材料により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子で構成される。
【０００８】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス素子において、接続ラインは、陰極とほぼ同一の厚さで形成されることを特徴とする。
【０００９】
本発明は以上のように構成したので、陰極形成時に、メタルバスラインを同時に形成することができ、簡単な工程で、輝度ムラがなく表示品位の高い有機ＥＬ素子を実現できる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は以上のように構成したため、陰極形成時に、メタルバスラインを同時に形成することができ、簡単な工程で、輝度ムラがなく表示品位の高い有機ＥＬ素子を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
次に、本発明の各実施形態について図に基づいて以下に説明する。図１は、本発明の第１の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される過程を示す図である。
【００１２】
先ず、透光性を有するガラスなどの基板１上に、例えばＩＴＯなどを用いた第１電極（陽極）２を所定の形状にパターニングする（図１（ａ））。
【００１３】
この場合に、後述するバスラインを接続する接続部２ａも同時に形成する。
【００１４】
次に、少なくとも表示パターンを覆う領域に、例えばＴＰＤ／Ａｌｑ3からなる有機層３を形成する（図１（ｂ））。この際、有機層３の形状は、図１（ｂ）に示すように、第１電極（陽極）の接続部２ａを避けて形成する。
【００１５】
次に、第２電極（陰極）４とメタルバスライン５を同時に形成する（図１（ｃ））。これは、例えば、第２電極（陰極）４とメタルバスライン５の材料としてＡｌを用いて蒸着を行うことにより、第１電極（陽極）２上に有機層が形成された領域に、さらにＡｌ第２電極（陰極）４が蒸着積層されて、素子の発光表示領域を形成し、その他のＡｌ蒸着部分がメタルバスライン５を含んで形成される。
【００１６】
また、この場合に、先に形成した接続部２ａ上にメタルバスライン５の一部が蒸着されるので接続部２ａとメタルバスライン５が同時に電気的に接続される。
【００１７】
以上により、本発明の第１の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される。
【００１８】
次に、本発明の第２の実施形態について述べる。図２〜図３は、本発明の第２の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される過程を示す図であり、図３は図２に続く過程を示している。
【００１９】
先ず、図２において、透光性を有するガラスなどの基板６上に、例えばＩＴＯなどを用いた第１電極（陽極）７をそれぞれ所定の形状にパターニングする（図２（ａ））。
【００２０】
この場合に、第１電極（陽極）７の各形状は、図２（ａ）に示すように、必ずしも同一形状でなくても良いが、後述するバスラインを接続する接続部７ａをそれぞれ備えて形成される。
【００２１】
次に、図２（ａ）の基板上に例えばＳｉＯ2などを用いた絶縁層８を積層形成する（図２（ｂ））。絶縁層８の形状は、図２（ｂ）に示すように、素子の発光表示領域を型取る抜け部分と、第１電極（陽極）７と後述するバスラインを接続するためのスルーホールに対応する開口部８ａを除いて、基板６上に形成される。
【００２２】
次に、図３（ａ）において、少なくとも第１電極（陽極）７上であって、素子の発光表示領域を型取る絶縁層８の抜け部分を覆う領域に、例えば、ＴＰＤ／Ａｌｑ3からなる有機層９を形成する（図３（ａ））。この際、有機層９の形状は、開口部８ａを避け、且つ、少なくとも素子の発光表示領域を覆うように形成する。
【００２３】
次に、第２電極（陰極）１０とメタルバスライン１１を同時に形成する（図３（ｂ））。これは、例えば、第２電極（陰極）１０とメタルバスライン１１の材料としてＡｌを用いて蒸着を行うことにより、第１電極（陽極）７上に有機層９が形成された領域に、さらにＡｌ第２電極（陰極）１０が蒸着積層されて、素子の発光表示領域を形成し、その他のＡｌ蒸着部分がメタルバスライン１１を含んで形成される。
【００２４】
また、この場合に、先に形成した接続部７ａ上にメタルバスライン１１の一部が蒸着されるので接続部７ａとメタルバスライン１１が同時に電気的に接続される。また、先に形成した開口部８ａにおいても、接続部７ａとメタルバスライン１１が同時に電気的に接続される。以上により、本発明の第２の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の第１の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される過程を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される過程を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施形態における有機ＥＬ素子が形成される過程を示す図である（図２の過程の続き）。
【図４】従来の有機ＥＬ素子の構造図である。
【符号の説明】
【００２６】
１    基板
２    第１電極（陽極）
２ａ    接続部
３    有機層
４    第２電極（陰極）
５    メタルバスライン
６    基板
７    第１電極（陽極）
７ａ    接続部
８    絶縁層
８ａ    開口部
９    有機層
１０    第２電極（陰極）
１１    メタルバスライン
【図１】
2007012630.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2007012630.tif 000006