(57)【要約】【課題】環境中に存在する成分に対する耐性を有し、十分な電磁波遮蔽機能を発現可能な透明積層フィルムを提供すること。また、上記透明積層フィルムを有する光学フィルター、プラズマディスプレイを提供すること。【解決手段】透明高分子フィルムの片面または両面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有し、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されている透明積層フィルムとする。また、これを有する光学フィルター、プラズマディスプレイとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明高分子フィルムの片面または両面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有し、
フィルム側端面のうち、少なくとも前記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されていることを特徴とする透明積層フィルム。
【請求項２】
前記接地用電極層は、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含むことを特徴とする請求項１に記載の透明積層フィルム。
【請求項３】
前記接地用電極層は、導電性ペーストを塗工することにより形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の透明積層フィルム。
【請求項４】
前記金属酸化物層は、チタンの酸化物を含む層であり、前記金属層は、銀を含む層であることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の透明積層フィルム。
【請求項５】
請求項１から４の何れかに記載の透明積層フィルムを有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項６】
請求項１から４の何れかに記載の透明積層フィルム、または、請求項５に記載の光学フィルターを有することを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明積層フィルム、光学フィルターおよびプラズマディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、例えば、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel、以下「ＰＤＰ」という。）など、表示装置に関する分野などでは、電磁波遮蔽機能、近赤外線遮蔽機能などの諸機能を備えた透明積層フィルムが広く用いられている。
【０００３】
上記透明積層フィルムとしては、例えば、特許文献１には、ＰＥＴフィルム上に、ＩＴＯ薄膜と銀薄膜とが交互に積層された積層構造を有する透明積層フィルムが開示されている。
【０００４】
このような構造を有する透明積層フィルムをＰＤＰに用いる場合、通常、上記積層構造の最表面縁部に、額縁状の電極が形成される。そして、この電極と、アース接続されたＰＤＰの金属筐体とを、導電性テープや導電性ガスケットなどを介して電気的に接続することにより、透明積層フィルムが接地される。
【０００５】
例えば、上記特許文献１には、上記透明積層フィルムの最表面縁部に、銀ペーストをスクリーン印刷し、乾燥させて額縁状の電極を形成し、この額縁状の電極をＰＤＰの筐体に電気的に接続して接地する点が開示されている。
【０００６】
ところで、上記透明積層フィルムは、環境中に存在する成分により品質が低下することが知られている。とりわけ、積層構造中に銀を含んでいる場合には、銀原子と空気中の塩素イオンとが反応し、白色欠陥を生じることが知られている。
【０００７】
そのため、最近では、環境中に存在する成分が積層構造中へ侵入するのを防止するため、様々な提案がなされている。
【０００８】
例えば、特許文献２には、透明高分子フィルム上に、金属薄膜層と透明高屈折率薄膜層とを交互に積層し、その最表面上に透明樹脂層を形成することにより、環境中に存在する成分に対する耐性を持たせた透明積層フィルムが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００１−９２３６３号公報（実施例１、図面）
【特許文献２】特開２００５−２７７２２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところが、この種の透明樹脂層を有する透明積層フィルムは、以下の点で問題があった。
【００１１】
すなわち、上記透明樹脂層を有する透明積層フィルムをＰＤＰに用いようとした場合、上述したように、積層構造の最表面の縁部、つまり、透明樹脂層表面の縁部に、額縁状の電極を形成し、この額縁状の電極とＰＤＰの金属筐体とを電気的に接続することにより、透明積層フィルムを接地する必要がある。
【００１２】
しかしながら、本発明者らの研究によれば、このような接地を行うと、透明積層フィルムの重要な機能の一つである、電磁波遮蔽機能が低下することが判明した。
【００１３】
そのため、せっかく、環境中に存在する成分に対して耐性を持たせるべく透明樹脂層を追加しても、ＰＤＰへの組み付け後に、十分に電磁波遮蔽機能を発揮することができないといった問題があった。
【００１４】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、環境中に存在する成分に対する耐性を有し、さらに、十分な電磁波遮蔽機能を発現可能な透明積層フィルムを提供することにある。
【００１５】
また、他の課題は、上記透明積層フィルムを有する光学フィルター、上記透明積層フィルムまたは光学フィルターを有するプラズマディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するため、本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの片面または両面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有し、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されていることを要旨とする。
【００１７】
ここで、上記接地用電極層は、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいると良い。
【００１８】
また、上記接地用電極層は、導電性ペーストを塗工することにより形成されていると良い。
【００１９】
また、上記金属酸化物層は、チタンの酸化物を含む層であり、上記金属層は、銀を含む層であると良い。
【００２０】
一方、本発明に係る光学フィルターは、上記透明積層フィルムを有することを要旨とする。
【００２１】
また、本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルム、または、上記光学フィルターを有することを要旨とする。
【発明の効果】
【００２２】
上記透明積層フィルムは、積層構造の最表面に透明樹脂層が積層されているので、環境中に存在する成分が、透明樹脂層より下層に侵入するのを抑制することができる。そのため、環境中に存在する成分に対する耐性に優れる。
【００２３】
さらに、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面が、接地用電極層により被覆されている。そのため、ＰＤＰに組み付ける際に、この接地用電極層と、アース接続されたＰＤＰの金属筐体などとを、導電性テープや導電性ガスケットなどの導電性部材を任意に介して電気的に接続すれば接地することができる。
【００２４】
それゆえ、上記透明積層フィルムは、十分に接地が考慮されているので、吸収した電磁波を電流として外部に流し出しやすく、積層構造の最表面に絶縁性の透明樹脂層があっても、十分な電磁波遮蔽機能を発現することができる。
【００２５】
ここで、上記接地用電極層が、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいる場合には、接地用電極層が導電性に優れるので、透明積層フィルムを十分に接地させやすく、電磁波遮蔽機能に優れる。
【００２６】
また、上記接地用電極層が、導電性ペーストの塗工により形成されている場合には、比較的簡単に接地用電極層を形成することができる。
【００２７】
また、上記金属酸化物層がチタンの酸化物を含む層であり、上記金属層が銀を含む層である場合には、可視光透過性、導電性、赤外線反射性などに優れる。
【００２８】
また、本発明に係る光学フィルターは、上記透明積層フィルムを有しているので、環境因子に対する耐久性、電磁波遮蔽機能などに優れる。
【００２９】
また、本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルムまたは上記光学フィルターを有しているので、信頼性などに優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本実施形態に係る透明積層フィルム（以下、「本フィルム」という。）、光学フィルター（以下、「本フィルター」という。）およびプラズマディスプレイ（以下、「本ディスプレイ」という。）について詳細に説明する。
【００３１】
１．本フィルム
本フィルムは、透明高分子フィルムの表面に、複数の薄膜の層が積層された積層構造を有し、さらに、フィルム側端面に接地用電極層を有している。以下、各構成について詳細に説明する。
【００３２】
１．１  透明高分子フィルム
本フィルムにおいて、透明高分子フィルムは、上記積層構造を形成するためのベース基材となるものである。その材料としては、可視光領域において透明性を有し、その表面に薄膜の層を支障なく形成できるものであれば、何れのものであっても用いることができる。
【００３３】
透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料を例示することができる。
【００３４】
これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性などの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマーなどを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００３５】
また、透明高分子フィルムの厚みは、用いる材料などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１０μｍ、２５μｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、５００μｍ、２５０μｍなどを例示することができる。
【００３６】
１．２  積層構造
本フィルムにおいて、上記積層構造は、透明高分子フィルムの何れか一方面に形成されていても良いし、透明高分子フィルムの両面に形成されていても良い。
【００３７】
上記積層構造は、具体的には、金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層されて構成されている。したがって、積層構造における、透明高分子フィルムから最も遠い層には、透明樹脂層が位置していることになる。
【００３８】
上記積層構造のうち、金属酸化物層と金属層とが積層されている部分に含まれる基本単位としては、例えば、透明高分子フィルム側から、金属酸化物層│金属層、金属層│金属酸化物層などを例示することができる。これら基本単位は、単数または複数繰り返し積層されていても良い。
【００３９】
この際、上記積層構造において、透明樹脂層のすぐ下の層は、金属層を劣化し難くする、透明性を確保しやすいなどの観点から、金属酸化物層であると良い。したがって、この場合に、上記金属酸化物層│金属層の基本単位を用いるときには、上記透明高分子フィルム側から、金属酸化物層│金属層の基本単位が、単数または複数繰り返された後、最上層の金属層の上に、さらに、金属酸化物層、透明樹脂層がこの順に積層されることになる。
【００４０】
また、金属酸化物層、金属層は、複数の分割層が積層されて一つの層として構成されていても良い。この場合、その分割数は、各層ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。
【００４１】
また、金属層の構成元素が金属酸化物層中へ拡散するのを抑制するなど観点から、金属層の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア層が形成されていても良い。
【００４２】
金属酸化物層と金属層とが積層されている部分の積層数は、金属酸化物層、金属層などの材料や膜厚、要求される光学特性、電磁波遮蔽能などを考慮して適宜選択することができる。金属酸化物層、金属層を１層として数えれば、その積層数としては、具体的には、例えば３〜９層などを例示することができる。
【００４３】
なお、金属酸化物層、金属層が、複数の分割層よりなる場合には、複数の分割層よりなる金属酸化物層、金属層をそれぞれ１層として数える。また、金属層に接してバリア層が形成されている場合には、バリア層を含めた金属層を１層として数える。
【００４４】
上記積層構造において、金属酸化物層、金属層の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、金属酸化物層、金属層が複数の分割層を有する場合も同様である。
【００４５】
また、上記積層構造において、金属酸化物層、金属層の厚みは、それぞれほぼ同一であっても良いし、各層ごとに異なっていても良い。
【００４６】
以下、上記積層構造を主に構成する金属酸化物層、金属層、透明樹脂層について詳細に説明する。
【００４７】
１．２．１  金属酸化物層
本フィルムにおいて、金属酸化物層は、可視光領域において透明性を有し、高屈折率層として機能する。なお、本フィルムにおける屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率をいう。
【００４８】
上記金属酸化物層中に主に含まれる金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物およびセリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。また、金属酸化物は、２種以上の金属酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
【００４９】
上記金属酸化物層中に含まれる金属酸化物としては、とりわけ、可視光に対する屈折率が比較的大きいなどの観点から、酸化チタン（IV）（ＴｉＯ２）、ＩＴＯ、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５０】
また、金属酸化物層は、必要な屈折率を確保でき、かつ、光学特性などに悪影響を及ぼさない範囲内であれば、金属酸化物以外にも、他の成分を含んでいても良い。
【００５１】
例えば、金属酸化物の合成時に使用した金属酸化物の前駆体、具体的には、金属アルコキシドや、金属アシレート、金属キレートなどの金属有機化合物や、金属の炭酸塩、水酸化物などの金属無機化合物などを１種または２種以上含んでいても良い。なお、金属アルコキシドなど、金属有機化合物を少量含んでいる場合には、透明積層フィルムの柔軟性が向上するなどの利点がある。
【００５２】
また、金属酸化物の合成時に使用した各種の添加剤、不可避不純物などの物質を１種または２種以上含んでいても良い。上記添加剤としては、具体的には、例えば、アルコール可溶性ポリアミドなどを例示することができる。
【００５３】
ゾル−ゲル法と紫外線照射法とを組み合わせて金属酸化物層が形成される場合に、アルコール可溶性ポリアミドが出発組成物中に添加されていると、成膜時に亀裂の発生を抑制しやすい利点がある。また、アルコール可溶性ポリアミドは、上記積層構造中に含まれる金属酸化物層のうち、少なくとも１層以上に含まれておれば良い。なお、上記アルコール可溶性ポリアミドについて、詳しくは、「２．本フィルムの製造方法」の項にて後述する。
【００５４】
また、上記金属酸化物層の厚みは、透明性や色調などを考慮して種々調節することができる。金属酸化物層の厚みとしては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、１０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１５０ｎｍ、１００ｎｍなどを例示することができる。
【００５５】
１．２．２  金属層
本フィルムにおいて、金属層は、主として電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層として機能するものである。
【００５６】
金属層中に主に含まれる金属（合金も含む）としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウムおよびインジウムなどの金属や、これら金属を１種以上含む合金などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５７】
上記金属としては、導電性、赤外線反射性、積層時の可視光透過性などに優れるなどの観点から、とりわけ、銀を好適に用いることができる。また、熱、光、水蒸気などの環境に対する安定性を向上させるなどの観点から、必要に応じて、金、白金、パラジウム、銅などの金属を１種以上銀に加えた銀合金を用いても良い。この場合、銀合金中の銀以外の金属としては、金属層が耐久性に優れるなどの観点から、金、パラジウムなどを好適に用いることができる。
【００５８】
また、銀合金を用いる場合、銀以外の金属の割合としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、０．１重量％、０．５重量％などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０重量％、１０重量％などを例示することができる。
【００５９】
また、上記金属層の厚みは、表面抵抗（電磁波遮蔽能と関係がある）と可視光透過率とのバランスなどを考慮して種々調節することができる。金属層の厚みとしては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、５ｎｍ、１０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、３０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。
【００６０】
１．２．３  透明樹脂層
本フィルムにおいて、透明樹脂層は、塩素イオンなどのハロゲンイオン、水分、硫黄イオンなどの環境中に存在する成分が、下層（透明高分子フィルム側）へ侵入するのを抑制する役割を主として有している。
【００６１】
上記透明樹脂層中に主に含まれる透明樹脂としては、具体的には、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６２】
上記透明樹脂としては、とりわけ、透明性、耐久性、加工性などの観点から、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などを好適に用いることができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６３】
また、透明樹脂層の厚みは、環境中に存在する成分に対する耐性、透明性、加工性などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、５ｎｍ、１０ｎｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１０μｍ、５μｍなどを例示することができる。
【００６４】
１．３  接地用電極層
本フィルムにおいて、接地用電極層は、本フィルムが吸収した電磁波を電流として外部に流し出すために必要な接地を行うためのコンタクト領域としての機能を主として有している。
【００６５】
ここで、上記接地用電極層は、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面の部分を覆うように形成されておれば良い。もっとも、上記積層構造は、薄膜の層が積層されたものであるので、非常に薄い。そのため、形成容易性などの観点から、上記接地用電極層は、積層構造の側端面のみならず、さらに、透明高分子フィルムの側端面の部分をも覆うように形成されていても良い。また、上記接地用電極層は、上記積層構造の最表面の縁部、つまり、透明樹脂層表面の縁部や、透明高分子フィルムの裏面の縁部などを覆うように形成されていても良い。
【００６６】
なお、上記接地用電極層は、上記の通り、接地を行うためのコンタクト領域として主に機能すれば良い。したがって、フィルム側端面を見た場合に、上記接地用電極層は、必ずしも連続性を有している必要はなく、部分的に被覆されていない部分があるなど、不連続な部分を有していても良い。
【００６７】
また、接地用電極層の材料としては、導電性材料であれば、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、金、銀、白金属（白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、オスミウム）、銅などの金属、これら金属を１種または２種以上含む合金や、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２などの導電性を有する金属酸化物や、カーボンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００６８】
上記接地用電極層は、とりわけ、導電性に優れ、本フィルムを十分に接地させやすくするなどの観点から、金、銀、白金属および銅から選択される少なくとも１種の金属成分を含んでいると良い。
【００６９】
また、上記接地用電極層の厚みは、導通信頼性などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１μｍ、５μｍ、１０μｍなどを例示することができる。また、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２００μｍ、１５０μｍ、１００μｍなどを例示することができる。
【００７０】
また、上記接地用電極層は、比較的簡単に形成可能などの観点から、上述した導電材料などを含む導電性ペーストの塗工により形成されていると良い。
【００７１】
２．本フィルムの製造方法
次に、上記構成を有する本フィルムの製造方法（以下、「本製法」という。）について説明する。
【００７２】
本製法としては、例えば、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、少なくとも金属酸化物層と金属層とが積層されるとともに、最表面に透明樹脂層が積層された積層構造を有するフィルム体を準備し、このフィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも前記積層構造の側端面を、接地用電極層により被覆する工程を有する方法などを例示することができる。
【００７３】
以下、本製法について詳細に説明する。
【００７４】
本製法において、フィルム体を準備するにあたり、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、金属酸化物層を形成する、金属層を形成するには、例えば、以下の通りに行えば良い。
【００７５】
２．１  金属酸化物層の形成
金属酸化物層の形成方法としては、後述する気相法または液相法のいずれを用いても良いが、気相法に比較して、真空引きしたり、大電力を使用したりする必要がなく、コスト的に有利であり、生産性に優れるなどの観点から、液相法によるのが好ましい。
【００７６】
液相法としては、具体的には、例えば、電解めっき、無電解めっきなどのめっき法、陽極酸化法、ゾル−ゲル法などを例示することができる。上記積層構造中の各金属酸化物層は、これら液相法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【００７７】
金属酸化物層の形成方法としては、とりわけ、比較的簡単かつ低温で形成できるなどの観点から、ゾル−ゲル法を好適に用いることができる。
【００７８】
ゾル−ゲル法による場合、出発組成物は、金属酸化物層中の金属酸化物を構成する金属の金属化合物を適当な溶媒に溶解して調製すれば良い。この際、金属化合物としては、例えば、チタン、亜鉛、インジウム、スズ、マグネシウム、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、セリウム、シリコン、ハフニウム、鉛などの金属の有機化合物、無機化合物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００７９】
上記金属有機化合物としては、例えば、上記金属の金属アルコキシド、金属アシレート、金属キレートなどを例示することができる。一方、上記金属無機化合物としては、例えば、上記金属の炭酸塩、水酸化物、硝酸塩などを例示することができる。
【００８０】
上記金属化合物としては、とりわけ、高屈折率を有する金属酸化物になり得る金属の金属化合物を好適に用いると良い。このような金属化合物としては、例えば、チタンの化合物などを例示することができる。
【００８１】
チタンの化合物としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアルコキシドや、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンのアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトネート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンのキレートなどといった有機チタン化合物を例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００８２】
また、上記金属化合物を溶解させる溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類、水などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００８３】
上記出発組成物は、例えば、所定割合となるように秤量した金属化合物と、適当な量の溶媒と、必要に応じて添加される他の成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により調製することができる。この場合、各成分の混合は、１度に混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。
【００８４】
また、上記出発組成物を膜状に塗工する方法としては、グラビアコート法、ディップコート法、バーコート法、スピンコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法などの各種の塗工方法を例示することができる。
【００８５】
また、上記溶液を塗工、乾燥させて形成した前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段としては、加熱、電子線照射、紫外線照射など、各種の手段を適宜選択して用いれば良い。本フィルムは、熱劣化など、熱による負荷を受けやすい透明高分子フィルムを用いている。そのため、他の手段と比較して、比較的低温、短時間で金属酸化物を効率良く生成できるなどの観点から、紫外線照射を好適に用いることができる。
【００８６】
この際、紫外線照射機としては、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。
【００８７】
また、照射する紫外線の光量は、前駆体層を主に形成している金属化合物の種類などを考慮して種々調節することができる。一般的に、照射する紫外線の光量が過度に小さすぎると、金属酸化物層の高屈折率化を図り難くなる。一方、照射する紫外線の光量が過度に大きすぎると、紫外線照射の際に生じる熱により透明高分子フィルムが変形したり、得られる金属酸化物層に亀裂が発生することがある。したがって、これらに留意すると良い。
【００８８】
照射する紫外線の光量としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２、５００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、８０００ｍＪ／ｃｍ２、５０００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。
【００８９】
また、前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段として紫外線照射を用いる場合、上記出発組成物中に、紫外線吸収性の官能基を有する添加剤を添加すると良い。出発溶液に紫外線吸収性の官能基を導入しておけば、予め紫外線吸収性キレートが形成されたところに紫外線照射がなされるので、未反応成分がより少なくなり、高い屈折率を有し、かつ、安定性の高い金属酸化物層を得やすくなるからである。
【００９０】
紫外線吸収性の官能基を有する添加剤としては、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。また、アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。また、アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００９１】
上記紫外線吸収性の官能基を有する添加剤の配合割合としては、上記金属化合物１モルに対して、例えば、０．１〜２０倍モルの範囲などを例示することができる。
【００９２】
また、上記出発組成物中にアルコール類を含み、さらに、前駆体層を加水分解・縮合反応させる手段として紫外線照射を用いる場合、上記出発組成物中に、アルコール可溶性ポリアミドを添加しておくと良い。金属酸化物の生成量をできる限り多くし、高屈折率を得るなどの目的で、紫外線照射量を比較的多くしても、得られる金属酸化物層に亀裂が発生し難いからである。
【００９３】
上記アルコール可溶性ポリアミドとしては、具体的には、例えば、Ｎ−メトキシメチル−ポリアミドなどのアミド基部位がアルコキシメチル化されたポリアミド、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００９４】
これらアルコール可溶性ポリアミドのうち、好ましくは、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドを好適に用いることができる。
【００９５】
アルコール可溶性ポリアミドの含有量としては、亀裂抑制効果と屈折率とのバランスに優れるなどの観点から、出発組成物中の金属化合物中に含まれるチタン重量に対して、５〜５０重量％、より好ましくは、１０〜３０重量％の範囲内を例示することができる。
【００９６】
２．２  金属層の形成
金属酸化物層の形成方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤなどといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法、導電性ペーストを塗工し、焼結する方法などを例示することができる。上記積層構造中の各金属層は、これら形成方法のうち何れか１つの方法を用いて形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の方法を用いて形成されていても良い。
【００９７】
より具体的には、例えば、真空蒸着法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、抵抗加熱、レーザ加熱、電子ビーム加熱などにより、金属を加熱蒸着させて金属層を形成すれば良い。
【００９８】
また、例えば、スパッタリング法を用いる場合には、ターゲットとして所望の金属を用いるとともに、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスを用い、ターゲットと透明基体との間に直流（ＤＣ）電圧（ＤＣスパッタリング法）または高周波（ＲＦ）電圧（ＲＦスパッタリング法）を印加し、金属層を形成すれば良い。成膜速度を速くする観点から、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法を用いても良い。
【００９９】
また、例えば、イオンプレーティング法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、真空蒸着装置内に低圧ガスを導入し電界をかけてプラズマを発生させ、蒸発源からの蒸発粒子をイオン化しながら蒸着させ、金属層を形成すれば良い。
【０１００】
なお、必要に応じて、例えば、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させる反応性スパッタリング法などの気相法を用いて、金属層の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア層を形成しても良い。
【０１０１】
上記バリア層を主として形成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。好ましくは、チタンの酸化物を含んでいると良い。
【０１０２】
２．３  金属酸化物層と金属層との積層方法
本製法において、フィルム体を準備するにあたり、上記金属酸化物層の形成方法、金属層の形成方法とを組み合わせ、透明高分子フィルムの表面に、金属酸化物層と、金属層とを順次積層していく方法としては、具体的には、例えば、次のような方法を例示することができる。
【０１０３】
すなわち、透明高分子フィルムの表面上に、例えば、上記調製した出発組成物を塗工し、乾燥させて前駆体層を形成し、これに必要光量の紫外線を照射して金属酸化物層を形成した後、これをロールに巻き取る。この際、金属酸化物層を複数の分割層より形成する場合には、上記操作を分割数だけ繰り返せば良い。
【０１０４】
次いで、このロールを、上述した気相法による薄膜形成装置の成膜室内に装着し、ロールを繰り出しながら、金属酸化物層の表面上に金属層を形成し、これを再びロールに巻き取る。
【０１０５】
このような操作を所望回数繰り返し行えば、金属酸化物層と金属層とを順次積層することができる。なお、バリア層は、金属層を形成する前後などに、金属層の積層に準じて形成すれば良い。
【０１０６】
２．４  透明樹脂層の形成
本製法において、フィルム体を準備するにあたり、金属酸化物層と金属層とを積層した後に、さらに層最表面上に透明樹脂層を形成するには、例えば、以下の通りに行えば良い。
【０１０７】
すなわち、透明高分子フィルムの表面に金属酸化物層と金属層とを積層した後の層最表面上に、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類などの適当な溶媒に上記透明樹脂を溶解して調製した組成物を、上記した各種塗工法を用いて膜状に塗工し、乾燥させるなどすれば良い。
【０１０８】
また、上記透明樹脂が紫外線硬化型であれば、上記乾燥後に、紫外線照射を行えば良い。照射する紫外線の光量は、用いる透明樹脂の種類などによっても異なるが、一般には、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１００ｍＪ／ｃｍ２、２００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０００ｍＪ／ｃｍ２、１０００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。
【０１０９】
２．５  接地用電極層の被覆
本製法において、準備したフィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面を、接地用電極層により被覆するには、例えば、以下の通りに行えば良い。
【０１１０】
すなわち、所望の導電性材料を含む導電性ペーストを、スクリーン印刷法、ロールコート法、刷毛塗り法などの各種の塗工方法により、フィルム側端面のうち、少なくとも上記積層構造の側端面を含むように膜状に塗工し、乾燥させるなどすれば良い。
【０１１１】
３．本フィルター
本フィルターは、本フィルムを用いている。すなわち、本フィルターは、透明支持基体の少なくとも一方面に、粘着剤層を介して本フィルムを積層した構成を有している。
【０１１２】
ここで、透明支持基体の材料は、透明性に優れ、十分な機械的強度を有するものであれば、特に限定されることなく使用することができる。具体的には、例えば、半強化ガラス、強化ガラスなどのガラスや、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの高分子材料などを例示することができる。
【０１１３】
また、透明支持基体の厚みは、機械的強度や剛性などを考慮して、種々調節することができる。一般的には、１．０〜５．０ｍｍの範囲などを例示することができる。
【０１１４】
また、粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。このうち、透明性および耐熱性に優れるなどの観点から、アクリル系粘着剤などを好適に用いることができる。また、粘着剤の形態としては、シート状、液状などを例示することができる。
【０１１５】
また、粘着剤の厚みは、特に限定されるものではなく、一般的には、５〜１００μｍの範囲などを例示することができる。
【０１１６】
そして、例えば、シート状の粘着剤を用いて本フィルターを製造する場合には、透明支持基板および／または本フィルムにシート状の粘着剤を貼り付けた後、両者をラミネートするなどして貼り合わせれば良い。また、液状の粘着剤を用いて本フィルターを製造する場合には、例えば、透明支持基板および／または本フィルムに粘着剤を塗布して両者を貼り合わせた後、室温に放置したり、加熱したりするなどして粘着剤を硬化させれば良い。
【０１１７】
なお、液状の粘着剤を塗布する塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法などの塗布方法が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量などを考慮して適宜選択すれば良い。
【０１１８】
また、光学特性を著しく損なわない限度内で、必要に応じて、反射防止機能、防眩機能、衝撃吸収機能、耐環境機能、調色機能などの各種の機能を有する機能性フィルムを、本フィルターの片面または両面に、上述した粘着剤層を介して１つまたは２つ以上さらに貼り合わせても良い。
【０１１９】
４．本ディスプレイ
本ディスプレイは、上記本フィルムまたは上記本フィルターを有している。
【０１２０】
上記本ディスプレイは、例えば、次のようにして得ることができる。すなわち、前者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本フィルムの表面に、上記した粘着剤層を形成したり、必要に応じて、反射防止機能などを有する機能性フィルムを粘着剤層を介して貼り付けたりした後、これをＰＤＰの前面表示部に直接貼り付ける。一方、後者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本フィルターを、空気層を介してプラズマディスプレイ本体の前面側に配設する。
【０１２１】
そして、両ディスプレイの場合とも、本フィルムの接地用電極と、アース接続されたＰＤＰの裏面金属筐体や本体外装、接地端子などとを、導電性テープや
導電性ガスケットなどの導電性部材を任意に介して、電気的に接続すれば、本ディスプレイを得ることができる。
【０１２２】
本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
【０１２３】
例えば、本フィルムは、表示装置用途以外にも、例えば、熱線カットガラス、融雪ガラス、車両用ガラス、冷却ショーケース用ガラス、暖房用パネルヒーター、調理用パネルヒータなどの電熱性用途や、計測機器用ガラス窓、インテリジェントビルガラス、車両用ガラスなどの電磁波遮蔽用途など、導電機能および／または近赤外線遮蔽機能、可視光透過性が要求される各種の用途に使用することができる。
【実施例】
【０１２４】
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
【０１２５】
（実施例１）
初めに、以下の手順により、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製、「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）の片面に、チタン酸化物層とＡｇ層とが積層されるとともに、最表面にアクリル樹脂層が積層された積層構造を有するフィルム体を準備した。なお、上記チタン酸化物層は、ゾル−ゲル法により形成した。上記Ａｇ層は、直流マグネトロンスパッタリング法により形成した。
【０１２６】
１．フィルム体の準備
１．１  出発組成物の調製
先ず、チタン酸化物層の形成に用いる出発組成物を調製した。すなわち、チタンの有機化合物であるテトラブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」）６ｇに対し、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトン３ｇを添加し、攪拌機にて１分間撹拌した。その後、これをｎ−ブタノール６１ｇとイソプロパノール３０ｇとの混合溶媒により希釈し、さらに１０分間撹拌して第１出発組成物を調製した。
【０１２７】
次いで、上記テトラブトキシチタン４量体５．６２ｇに対し、アセチルアセトン２．８１ｇを添加し、攪拌機にて１分間撹拌した。その後、これをｎ−ブタノール６１．５７ｇと混合して希釈し、さらに１０分間撹拌して溶液Ａを調製した。また、アルコール可溶性ポリアミドとして、Ｃ３８ダイマー酸とジアミンとの重縮合により形成されたポリアミド（ハリマ化成（株）製、「ニューマイド８２５」）０．３４ｇを、イソプロパノール３０ｇに添加後、攪拌機にて３０分間撹拌し、溶液Ｂを調製した。
【０１２８】
その後、これら溶液Ａ、Ｂを混合し、攪拌機にて１０分間撹拌することにより、第２出発組成物を調製した。
【０１２９】
１．２  フィルム体の作製
次に、表１に示す積層構造を有するフィルム体を作製した。
【０１３０】
【表１】
2007196552.tif 000003
【０１３１】
ここで、この表１における「ＴｉＯ２」の表記は、その層が、第１出発組成物を用いて作製されており、チタン酸化物（ＴｉＯ２）を主に含み、かつ、アルコール可溶性ポリアミドを含有していないことを表している。また、「ＴｉＯ２＋ＰＡ」の表記は、その層が、第２出発組成物を用いて作製されており、チタン酸化物（ＴｉＯ２）を主に含み、かつ、アルコール可溶性ポリアミドも含有していることを表している。また、「Ａｇ」の表記は、その層が銀を主に含んでいることを表している。
【０１３２】
表１中、１、３、５、７層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、上記調製した第１出発組成物あるいは第２出発組成物を、ダイレクトグラビアコータを用いて、成膜速度３ｍ／分で塗工した後、この塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥し、前駆体層を形成した。
【０１３３】
次いで、ＰＥＴフィルムを７８℃に加温した状態で、ＵＶランプ〔高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）、出力１００％〕を用いて、上記前駆体層に対して紫外線を１回照射し、チタン酸化物層を形成した。
【０１３４】
この際、３、５層目については、チタン酸化物層を２分割して形成した。また、３層目上層、５層目上層、７層目については、紫外線照射速度を３ｍ／分とした。一方、１層目、３層目下層、５層目下層については、紫外線照射速度を２ｍ／分とした。
【０１３５】
また、表１中、２、４、６層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、ターゲットに純銀（純度：４Ｎ）、スパッタガスにアルゴンガスを用い、直流マグネトロンスパッタリング法を用いてＡｇ層を形成した。
【０１３６】
この際、スパッタ条件は、２、６層目については、投入電力１．７Ｗ／ｃｍ２、真空到達圧５×１０−６ｔｏｒｒ、ガス圧２．５×１０−３ｔｏｒｒとした。また、４層目については、投入電力２．２Ｗ／ｃｍ２ とした以外は、２、６層目と同条件とした。
【０１３７】
また、表１中、８層目については、以下の手順に従って成膜した。すなわち、紫外線硬化型アクリル樹脂（サイデン化学（株）製、「サイビノールＸ１０５−１３０Ｖ」）５０ｇと、１−ブタノール２５ｇと、１−ヘキサノール２５ｇとを、攪拌機にて１０分間撹拌し、第３組成物を調製した。
【０１３８】
次いで、上記調製した第３組成物を、ダイレクトグラビアコータを用いて、成膜速度３ｍ／分で７層目の上に塗工した後、この塗工膜を１００℃で８０秒間乾燥し、前駆体層を形成した。
【０１３９】
次いで、ＰＥＴフィルムを２４℃に加温した状態で、ＵＶランプ〔高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）、出力５０％〕を用いて、上記前駆体層に対して紫外線を、紫外線照射速度３ｍ／分で１回照射し、アクリル樹脂層を形成した。
【０１４０】
以上により、フィルム体（幅１３００ｍｍ）を準備した。
【０１４１】
２．接地用電極層の被覆
次に、ガラス基板（縦５６５ｍｍ×横９７５ｍｍ×厚み２．５ｍｍ）の一方面に、粘着剤層（日東電工（株）製、「ＣＳ９６２１」）を介して、準備したフィルム体のＰＥＴフィルム側を貼り合わせ、フィルム体の側端面がガラス基板の側端面から１ｍｍ内側になるようにカットした。
【０１４２】
次いで、上記フィルム側端面のうち、積層構造の側端面を含むように、ナイロンメッシュを用いたスクリーン印刷により、Ａｇペースト（太陽インキ（株）製、「ＡＦ４８１０」）を塗布した。この際、Ａｇペーストは、積層構造の側端面の他、ＰＥＴフィルムの側端面、アクリル樹脂層の層表面縁部の一部にも塗布された。
【０１４３】
その後、この塗布層を９０℃で３０分間乾燥させた。これにより、フィルム体のフィルム側端面のうち、少なくとも積層構造の側端面が、接地用電極層（２５μｍ）により被覆された、実施例１に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。
【０１４４】
（比較例１）
上記実施例１に係る透明積層フィルムおよび光学フィルターの作製において、上記Ａｇペーストによるスクリーン印刷により、アクリル樹脂層の層表面縁部に、幅約５ｍｍ、厚み７５μｍの額縁状電極を形成し、フィルム側端面に接地用電極層を形成しなかった以外は同様にして、比較例１に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。
【０１４５】
（比較例２）
上記比較例１に係る透明積層フィルムおよび光学フィルターの作製において、８層目のアクリル樹脂層を形成しなかった以外は同様にして、比較例２に係る透明積層フィルムおよびこれを用いた光学フィルターを作製した。
【０１４６】
３．評価
３．１  電磁波遮蔽性能
上記作製した実施例１、比較例１および比較例２に係る光学フィルターを用いて、電磁波遮蔽性能の評価を行った。
【０１４７】
すなわち、先ず、図１に示すように、実施例１に係る光学フィルターについては、透明積層フィルム１０の積層構造１２の最表面縁部から、光学フィルター１４の側端面を通って、ガラス基板１６の裏面に至るまで、導電性アルミテープ１８（厚み１２５μｍ、テラオカ（株）製、「テラオカ８３０」）を貼り付けた。これにより、接地用電極層２０は、導電性アルミテープ１８と接触している。
【０１４８】
一方、図２に示すように、比較例１、２に係る光学フィルターについては、透明積層フィルム３０の積層構造３２の最表面縁部に形成された額縁状電極３４から、光学フィルター３６の側端面を通って、ガラス基板１６の裏面に至るまで、導電性アルミテープ１８を貼り付けた。これにより、額縁状電極３４は、導電性アルミテープ１８と接触している。
【０１４９】
なお、図１および図２は、ＰＥＴフィルム２２とガラス基板１６との間の粘着剤層は、省略されている。
【０１５０】
次いで、市販のプラズマディスプレイテレビ（松下電産（株）製、「ＴＨ−４２ＰＨＤ６」）の既設の光学フィルターを取り外し、代わりに、上記導電性アルミテープを貼り付けた実施例および比較例に係る光学フィルターをそれぞれ取り付けた。
【０１５１】
この際、これら光学フィルターは、ガラス基板裏面の導電性アルミテープが、プラズマディスプレイテレビの導電性ガスケットに接触されている。そして、この導電性ガスケットは、光学フィルター固定用の金属板、裏面金属筐体などを介してアースに電気的に接続されている。
【０１５２】
次いで、実施例および比較例に係るプラズマディスプレイテレビにつき、ＶＣＣＩ試験標準に準拠して、電磁波遮蔽機能の調査した。
【０１５３】
この際、既設の光学フィルター取り付け時のプラズマディスプレイテレビの妨害波電界強度の測定値を基準値とした。そして、実施例および比較例に係る光学フィルター取り付けた、実施例および比較例に係るプラズマディスプレイテレビの妨害波電界強度の測定値と、上記基準値との差が、測定周波数４０ＭＨｚ、６０ＭＨｚ、１３０ＭＨｚにおいて、１ｄＢ以上大きくなった場合を不合格と判定し、一方、１ｄＢより小さかった場合を、十分な電磁波遮蔽機能を発現できているとして合格と判定した。
【０１５４】
３．２  耐性
次に、実施例および比較例に係る透明積層フィルムにつき、塩素イオンに対する耐性を有するか否か試験を行った。
【０１５５】
すなわち、先ず、ＮａＣｌを１０００ｐｐｍ含有するイオンクロマトグラフ用試薬（和光純薬工業（株）製）を純水で希釈し、ＮａＣｌを１０ｐｐｍ含有する溶液を調製した。
【０１５６】
次いで、実施例および比較例に係る透明積層フィルムの各積層構造の最表面上へ、上記溶液を５μｌ滴下した。
【０１５７】
次いで、各透明積層フィルムを、３０℃に設定されたオーブンで乾燥した後、さらに、湿度９０％ＲＨ、温度６０℃に設定された湿熱槽で２４時間保持した。
【０１５８】
次いで、上記溶液の滴下箇所を、マイクロスコープ（（株）キーエンス製、「ＶＨＸ−１００ｆ」）（倍率×５０）にて確認した。
【０１５９】
その結果、直径０．３ｍｍ以上の白点が発生した場合を、耐性がないとして不合格とし、直径０．３ｍｍ未満の白点または白点がなかった場合を、耐性があるとして合格とした。
【０１６０】
３．３  その他
なお、参考データとして、各光学フィルターについて、非接触抵抗率計（コペル電子（株）製、「ＳＮ２０３０８１」）を用いて表面抵抗値の測定を行った。また、各透明積層フィルムの作製において、７層目を形成後、上記マイクロスコープ（倍率×４５０）を用いて、表面を確認することにより、亀裂の有無を確認した。
【０１６１】
以上の評価結果を、表２に示す。
【０１６２】
【表２】
2007196552.tif 000004
【０１６３】
４．考察
以上の結果から次のことが分かる。すなわち、比較例２は、透明積層フィルムにおける積層構造の最表面にアクリル樹脂層がない。そのため、積層構造の最表面縁部に形成されている額縁状電極を介して接地しても、十分な電磁波遮蔽性能を有している。しかしながら、積層構造の最表面からの塩素イオンの侵入を抑制することができず、環境中に存在する成分に対する耐性を有していないことが分かる。
【０１６４】
また、比較例１は、透明積層フィルムにおける積層構造の最表面にアクリル樹脂層を有している。そのため、塩素イオンの侵入を抑制でき、環境中に存在する成分に対する耐性を有している。しかしながら、絶縁性のアクリル樹脂層の表面縁部に形成された額縁状電極を介して接地しているので、吸収した電磁波を電流として外部に流し難く、十分な電磁波遮蔽機能を発現できないことが分かる。
【０１６５】
これらに対し、実施例１は、積層構造の最表面にアクリル樹脂層が積層されているので、環境中に存在する成分が、アクリル樹脂層より下層に侵入するのを抑制することができる。そのため、環境中に存在する成分に対する耐性に優れる。
【０１６６】
さらに、積層構造の側端面が接地用電極層により被覆されている。それゆえ、十分に接地が考慮されており、吸収した電磁波を電流として外部に流し出しやすく、積層構造の最表面に絶縁性のアクリル脂層があっても、十分な電磁波遮蔽機能を発現できていることが分かる。
【０１６７】
したがって、実施例１に係る透明積層フィルムによれば、環境中に存在する成分に対する耐性を有し、さらに、十分な電磁波遮蔽機能を発現可能なことが確認できた。また、実施例１に係る透明積層フィルムを有する光学フィルター、プラズマディスプレイも得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】市販のプラズマディスプレイテレビに組み込む前の、実施例１に係る透明積層フィルムを有する光学フィルターの一端部付近を模式的に示した断面図である。
【図２】市販のプラズマディスプレイテレビに組み込む前の、比較例１および比較例２に係る透明積層フィルムを有する光学フィルターの一端部付近を模式的に示した断面図である。
【符号の説明】
【０１６９】
１０  透明積層フィルム
１２  積層構造
１４  光学フィルター
１６  ガラス基板
１８  導電性アルミテープ１８
２０  接地用電極層２０
２２  ＰＥＴフィルム
【図１】
2007196552.tif 000005
【図２】
2007196552.tif 000006