(57)【要約】【課題】  過熱水蒸気の排気が容易となり、過熱水蒸気による被加熱物の加熱を低コストにて行うことができる加熱処理装置を提供する。【解決手段】  被加熱物を加熱処理する加熱処理装置において、羽根部１を底部に有し羽根部１の回転により内部に上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生可能な本体２と、本体２内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気供給手段３と、本体２の中央上部に一端が本体２の所定の高さ位置まで挿入され他端が本体外に露出する中空筒にて形成され上昇渦流気流Ａ、Ｂの働きにより本体２内の被加熱物以外の空気および過熱水蒸気の排気を行う排気部４と、本体２内に被加熱物を供給する供給部５と、本体４内から被加熱物を排出する排出部６とを備えたものである。【選択図】        図１
2007054679.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を加熱処理する加熱処理装置において、羽根部を底部に有し上記羽根部の回転により内部に上昇渦流気流を発生可能な本体と、上記本体内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気供給手段と、上記本体の中央上部に一端が上記本体の所定の高さ位置まで挿入され他端が上記本体外に露出する中空筒にて形成され上記上昇渦流気流の働きにより上記本体内の上記被加熱物以外の空気および過熱水蒸気の排気を行う排気部と、上記本体内に上記被加熱物を供給する供給部と、上記本体内から上記被加熱物を排出する排出部とを備えたことを特徴とする加熱処理装置。
【請求項２】
上記排気部の中空筒形状の径の大きさは、上記本体の内径の大きさの略２分の１ないし略３分の１の範囲にて構成されていることを特徴とする請求項１に記載の加熱処理装置。
【請求項３】
上記本体の内側壁は、下部から所定高さ位置まで略同一径に形成された垂直部と、上記所定高さ位置より高い部分は中心部に向かって傾斜させて上記垂直部より狭いテーパ形状にて成る傾斜部とを備えていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の加熱処理装置。
【請求項４】
上記羽根部は、上記本体内の底部の中心を軸として３枚の羽根を略１２０度間隔にて配設されて水平方向に回転し、上記各羽根は水平方向から上方に２０度ないし４５度傾斜して構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の加熱処理装置。
【請求項５】
上記排出部は上記本体の下部に形成され、外部に曝露することのない密閉空間にて構成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の加熱処理装置。
【請求項６】
上記本体内にドライエアを供給するドライエア供給手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の加熱処理装置。
【請求項７】
上記本体の下部側壁に、側壁近傍を撹拌する撹拌手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の加熱処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の加熱処理装置を用いた加熱方法において、上記本体内の過熱水蒸気の供給するとともに上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら上記本体を予備加熱する工程と、上記予備加熱終了後に上記過熱水蒸気の供給および上記羽根部の回転を停止して上記本体内に上記被加熱物を供給する工程と、上記被加熱物供給後に上記本体内の上記羽根部を回転させ上記被加熱物に上記上昇渦流気流を発生させる工程と、上記上昇渦流気流が発生した後に上記過熱水蒸気を所定時間供給して上記被加熱物を加熱処理する工程とを備えたことを特徴とする加熱処理装置を用いた加熱方法。
【請求項９】
請求項６に記載の加熱処理装置を用いた加熱方法において、上記本体内の過熱水蒸気の供給するとともに上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら上記本体を予備加熱する工程と、上記予備加熱終了後に上記過熱水蒸気の供給および上記羽根部の回転を停止して上記本体内に上記被加熱物を供給する工程と、上記被加熱物供給後に上記本体内の上記羽根部を回転させ上記被加熱物に上記上昇渦流気流を発生させる工程と、上記上昇渦流気流が発生した後に上記過熱水蒸気を所定時間供給して上記被加熱物を加熱処理する工程と、上記過熱水蒸気を所定時間供給を終了した後に上記過熱水蒸気の供給を停止して上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら１００℃以下のドライエアを供給して上記被加熱物を乾燥冷却する工程とを備えたことを特徴とする加熱処理装置を用いた加熱方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の加熱処理装置を用いた加熱方法において、上記本体内の過熱水蒸気の供給するとともに上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら上記本体を予備加熱する工程と、上記予備加熱終了後に上記過熱水蒸気の供給および上記羽根部の回転を停止して上記本体内に上記過熱水蒸気の熱にて溶融する物質を含有する上記被加熱物を供給する工程と、上記被加熱物供給後に上記本体内の上記羽根部を回転させ上記被加熱物に上昇渦流気流を発生させるとともに上記撹拌手段にて撹拌を行う工程と、上記上昇渦流気流が発生した後に上記過熱水蒸気を所定時間供給して上記被加熱物を加熱して造粒を行う工程と、上記過熱水蒸気を所定時間供給を終了した後に上記過熱水蒸気の供給を停止して上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら１００℃以下のドライエアを供給して上記被加熱物を乾燥冷却する工程とを備えたことを特徴とする加熱処理装置を用いた加熱方法。
【請求項１１】
上記過熱水蒸気の上記本体内に供給される供給温度と、上記排気部から排気させる排気温度とを測定し、上記供給温度および上記排気温度の差により上記過熱水蒸気の上記本体内への供給時間を設定することを特徴とする請求項８ないし請求項１０のいずれかに記載の加熱処理装置を用いた加熱方法。
【請求項１２】
上記被加熱物の処理終了後に、上記羽根部を回転させながら上記被加熱物を上記排出口より排出する工程を備えたことを特徴とする請求項８ないし請求項１１のいずれかに記載の加熱処理装置を用いた加熱方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、過熱水蒸気を用いて被加熱物の加熱を行う際の、この過熱水蒸気の排気を容易に行うことができ低コストとなる加熱処置装置および加熱処理装置を用いた加熱方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の殺菌装置は、分散装置にて過熱水蒸気により被殺菌物を殺菌処理した後に、サイクロンにて被殺菌物と気体とを分離して排気するものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３２０６６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の加熱処理装置は、加熱処理工程の１つである殺菌処理を行う工程と、気体を排気する工程とを別工程で行っておりそれぞれに装置が必要であり高コストとなるという問題点があった。また、殺菌処理を行う工程と排気する行程とを連続した工程にて行わなければ成らないため、殺菌処理すなわち加熱を行う時間を自由に決定することが困難であるという問題点があった。
【０００５】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、排気を行いながら被加熱物の加熱処理を行うことができる加熱処理装置および加熱処理装置を用いた加熱方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明は、被加熱物を加熱処理する加熱処理装置において、羽根部を底部に有し羽根部の回転により内部に上昇渦流気流を発生可能な本体と、本体内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気供給手段と、本体の中央上部に一端が本体の所定の高さ位置まで挿入され他端が本体外に露出する中空筒にて形成され上昇渦流気流の働きにより本体内の被加熱物以外の空気および過熱水蒸気の排気を行う排気部と、本体内に被加熱物を供給する供給部と、本体内から被加熱物を排出する排出部とを備えたものである。
【発明の効果】
【０００７】
この発明の加熱処理装置は、被加熱物を加熱処理する加熱処理装置において、羽根部を底部に有し羽根部の回転により内部に上昇渦流気流を発生可能な本体と、本体内に過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気供給手段と、本体の中央上部に一端が本体の所定の高さ位置まで挿入され他端が本体外に露出する中空筒にて形成され上昇渦流気流の働きにより本体内の被加熱物以外の空気および過熱水蒸気の排気を行う排気部と、本体内に被加熱物を供給する供給部と、本体内から被加熱物を排出する排出部とを備えたので、過熱水蒸気の排気が容易となり、過熱水蒸気による被加熱物の加熱を低コストにて行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
実施の形態１．
以下、本願発明の実施の形態について説明する。図１はこの発明の実施の形態１における加熱処理装置の構成を示す図、図２は図１に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図、図３は図１に示した加熱処理装置の本体内における上昇渦流気流の状態を説明するための図、図４は図１に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った殺菌処理の結果を示す図である。尚、本願で言う過熱水蒸気とは常圧で１００℃より高い温度で、ドライで熱量が大きく、ほとんど酸素を含まない蒸気のことを示している。特に１７０℃以上になるとその特性が十分に発揮できものである。図において、羽根部１を底部に有し羽根部１の回転により内部に上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生可能な本体２を有する。
【０００９】
上昇渦流気流Ａ、Ｂとは図３に示すように、羽根部１の水平回転により中心を軸とした回転気流が上昇（Ａ）しながらかつその上昇気流に対して中心方向に回転（Ｂ）する気流である。羽根部１は図２に示すように、例えば本体２内の底部の中心を軸として３枚の羽根１０、１１、１２を略１２０度間隔にて配設させ水平方向に回転するように、一端が回転軸１４に固定され、他端には本体２の壁面に沿った垂直方向部分を有している。さらに、羽根１０、１１、１２は水平方向から上方に３０度傾斜して構成されている。このように羽根１０、１１、１２を傾斜させて形成すると、上昇渦流気流Ａ、Ｂが形成されやすく、被加熱物の撹拌が容易となる。この羽根１０、１１、１２の傾斜角度は３０度に限られることはなく、２０度ないし４５度の範囲であれば有効である。傾斜角度が２０度より小さいと上昇渦流気流Ａ、Ｂが形成されにくくなり、４５度より大きいと被加熱物を必要以上に破壊してしまう可能性があるために設定された値である。また、羽根部１はモータ１３により本体２の底部の中心の回転軸１４を回転させることにより回転するものである。また、上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させるための羽根部１の回転速度は、羽根１０、１１、１２の周速で３ｍ／秒〜２０ｍ／秒程度である。３ｍ／秒以下であると上昇渦流気流Ａ、Ｂがほとんど発生しなくなり、２０ｍ／秒以上であると羽根１０、１１、１２が被加熱物に対して空回り状態となる。
【００１０】
本体２の内側壁は、下部から所定高さ位置まで略同一径に形成された垂直部２０と、所定高さ位置より高い部分は中心部に向かって傾斜させて垂直部２０より狭いテーパ形状にてなる傾斜部２１とにてなる。これは垂直部２０にて回転気流を発生させ、それを傾斜部２１に沿って上昇させることにより上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させやすくするとともに、被加熱物が傾斜部２１に接触して重力により下方に落下するため、被加熱物と排気（空気および過熱水蒸気）との分離が確実となる。さらに、本体２には本体２内温度を測定するための本体内温度測定手段２２と、本体２内に過熱水蒸気を配管１１０および流路切換手段１００を介して供給するボイラ３０および過熱水蒸気発生手段３１にてなる過熱水蒸気供給手段３とを有する。ボイラ３０にて作成された飽和水蒸気（１００℃：常圧）を過熱水蒸気発生手段３１にて例えば高周波誘導加熱方式（例えば、周波数２０ＫＨｚ）にて加熱して過熱水蒸気（１００℃より高く４００℃程度までの間の温度：蒸気圧力が０．０５から０．１８ＭＰａ）を生成している。
【００１１】
さらに、配管１００の本体２の近傍には本体２内に供給される過熱水蒸気の供給温度を測定するための供給温度測定手段８と、本体２の中央上部に一端が本体２の所定の高さ位置まで挿入され、他端が本体２外に露出する中空筒にて形成され、上昇渦流気流Ａ、Ｂの働きにより本体２内の被加熱物以外の空気および過熱水蒸気の排気を行う排気部４とを有する。排気部４が排気を行う場合にはバルブ１０３が開放され加熱処理装置外に排気される。そして、排気部４の中空筒形状の径ｄの大きさは、本体２の内径Ｄ（本体２の内径Ｄとは垂直部２０における大きさを示すものである）の大きさの略２分の１にて構成されている。中空筒の径ｄは内径Ｄの大きさの略２分の１ないし略３分の１の範囲であれば有効である。これは排気部４の中空筒の径ｄが本体２の内径Ｄの２分の１より大きいと被加熱物まで一緒に排気してしまう可能性が高くなり、３分の１より小さいと上昇渦流気流Ａ、Ｂの働きにより排気を行うことが難しくなるためである。
【００１２】
また、排気部４の本体２の中央上部に一端が本体２の所定の高さ位置まで挿入されている、所定高さ位置であるが、これは本体２の容量および被加熱物の容量などにより適宜設定されるものである。例えば本体２の容量の半分の容量の被加熱物を加熱処理する場合には、本体２の中央上部に一端が本体２の所定の高さ位置ｈは本体２の高さＨの３分の１±２０％の長さ分挿入され形成される。これは長すぎると、被加熱物を一緒に排気してしまう可能性があり、短すぎると効率よく排気を行うことができなくなるためである。よって、本体２の容量と被加熱物の容量とにより適宜設定する必要がある。また、排気部４の円柱筒内には簡単なフィルタ例えばバグフィルタ４０が設置されており、排気部４への異物の挿入を防止している。また、排気部４には本体２の近傍に本体２内から排気（空気や過熱水蒸気など）される排気温度を測定するための排気温度測定手段９が配設されている。
【００１３】
さらに、本体２内に被加熱物を供給する供給部５は本体２上部に形成されている本体２の蓋体にてなる。よって、排気部４の本体２の外部の一部にフレキシブル部４１を形成し供給部５の開閉に対応しているものである。また、供給部５には蓋体の一部を開口可能な予備供給部５０を形成し、供給部５を開閉しなくとも、例えば少量の追加被加熱物ならば、予備供給部５０から本体２内に供給することができる。さらに、本体２内から被加熱物を排出する排出部６を有している。この排出部６は本体２の下部に形成された開閉可能な排出口部６０と、この排出口部６０の開閉を行う例えばシリンダにてなる駆動部６１と、排出口部６０に連通管６２にて連通して外部に曝露することのない密閉空間部６３にてなる。
【００１４】
さらに、本体２内にドライエアを供給するドライエア供給手段７を有し、配管１１０および流路切換手段１００を介して過熱蒸気発生手段３１から過熱水蒸気を熱源として供給して空気を加熱して、１００℃以下、例えば５０℃〜８０℃程度の温度のドライエアを作成し、配管１１１およびバルブ１０１を介して本体２内にドライエアを供給するものである。また、ドライエアを生成している際には、バルブ１０２が開放され加熱処理装置外に排気部４から過熱水蒸気が排気される。尚、上記にて示した各箇所において、被加熱物が接する箇所は、例えば耐腐食性に優れたステンレス材にて形成されている。
【００１５】
次に上記のように構成された実施の形態１の加熱処理装置を用いた加熱方法について説明する。ここで本願発明における被加熱物の加熱処理とは、乾燥処理、殺菌処理、造粒処理など加熱により行う処理が様々存在し、適宜対応することができる。まず、過熱水蒸気供給手段３のボイラ３０および過熱水蒸気供給手段３を用いて過熱水蒸気を発生させ、配管１１０および流路切換手段１００を介して本体２内に過熱水蒸気を供給する。これとともにモータ１３により回転軸１４を回転させて羽根部１を本体２内を水平方向に回転させ上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させ本体２内を予備加熱する。そして、過熱水蒸気は排気部４から羽根部１の回転により得られる上昇渦流気流Ａ、Ｂにより効率よく加熱処理装置外に排気される。そしてこの加熱は本体内温度測定手段２２にて測定することにより確認する。この予備加熱の際に本体２内に上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させていないと、本体２内の過熱水蒸気がうまく排気されず、本体２内に過熱水蒸気が残存して結露の原因となることが考えられる。次に、流路切換手段１００にて過熱水蒸気の流路を切り換えて過熱水蒸気供給手段３からの過熱水蒸気の供給を停止して、ドライエア供給手段７に過熱水蒸気を供給し、ドライエア供給手段７から配管１１１およびバルブ１０１を介してドライエアを例えば数分程度供給する。これは本体２の内の結露などを完全確実に防止するための工程で、仕様や環境によっては必要ない場合も存在する。また、本体２は一旦温められているため、数分程度ドライエアを供給したとしても必要以上に冷却されることはない。
【００１６】
次に、予備加熱が終了した後にドライエア供給手段７からのドライエアの供給および羽根部１の回転を停止して、供給部５を開放して本体２内に被加熱物を供給する。尚、加熱処理する被加熱物の容量であるが、本体２の容量の半分程度の容量であれば、上昇渦流気流Ａ、Ｂを効率よく発生させることができる。次に、被加熱物を供給した後に供給部５を閉じて、本体２内の羽根部１を回転させ、被加熱物に上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させる。例えば、３０秒程度回転すれば上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させることができる。これは、上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生していない状態から過熱水蒸気を供給すると被加熱物の一部にのみ過熱水蒸気が接触し、不具合を生じる可能性があるためである。次に、上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生した後に、過熱水蒸気供給手段３から過熱水蒸気を所定時間供給して被加熱物を加熱処理を行う。このように上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生した状態にて加熱処理を行っているため、図３に示すように排気は上昇（Ａ）しながら、被加熱物は回転（Ｂ）と重力とにより落下して、排気と被加熱物とは分離されて排気のみが排気部４から排気される。また、この際決定される所定時間は、例えば、供給温度測定手段８にて測定される過熱水蒸気の本体２内に供給される供給温度と、排気温度測定手段９にて測定される排気部４から排気させる排気温度とを測定し、供給温度および排気温度の差により過熱水蒸気の本体内への供給時間を設定する方法が考えられる。
【００１７】
例えば、この供給温度および排気温度の差がほぼなくなれば供給を終了する方法、供給温度および排気温度の差がほぼなくなってから所定時間供給した後に終了する方法などが考えられる。次に、過熱水蒸気の所定時間供給が終了した後に過熱水蒸気の供給を停止して、羽根部１を回転させながらドライエア供給手段７から１００℃以下のドライエアを供給して被加熱物を冷却乾燥する。この際のドライエアの供給時間は数分程度が考えられる。そしてこの冷却は本体内温度測定手段２２にて測定することにより確認する。ここで言う冷却とは被加熱物を１００℃以下にすることを目的とするものであり、例えば８０℃程度に冷却すれば、被加熱物は排出口６０から排出された後に容易に室温程度まで冷却することが可能である。次に、ドライエアの供給を停止して、羽根部１を低速回転させながら被加熱物を排出部６の排出口部６０を駆動部６１により開放し、羽根部１の回転による遠心力により被加熱部は排出口部６０から排出され連通管６２を介して密閉空間部６３に排出される。よって、この工程においては羽根部１は上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生しない程度に回転していることとなる。
【００１８】
上記のような加熱処理装置を用いた加熱処理方法により行った具体例を図４に示す。（但し、図４における具体例ではドライエアによる冷却乾燥工程は実施していない。）これは加熱処理として殺菌処理を目的として行った例である。図からも明らかなように、過熱水蒸気の供給時間が数十秒にて殺菌処理が十分に可能であることが確認できる。
【００１９】
上記のように構成された実施の形態１の加熱処理装置によれば、加熱を行う工程と排気を行う工程とを同一の装置にて行うことができるため、加熱時間を自由に調整することができるため、被加熱物を効率的な加熱処理が可能となるのはもちろんのこと、過熱水蒸気の排気を容易に行うことができる。よって被加熱物の加熱処理を低コストにて行うことができる。
【００２０】
尚、上記実施の形態１における予備加熱や、ドライエアにより冷却乾燥は加熱処理の仕様によっては必要がない場合も考えられる。予備加熱の工程は連続して加熱処理を行い、すでに本体が加熱されているような場合などは必要がなく、また、ドライエアによる冷却乾燥工程は、過熱水蒸気のみの乾燥であっても十分可能である仕様の場合もある。また、各温度測定手段により温度を測定して制御を行う例を示したがこれに限られることはなく、経験値や実験値などから適宜制御を行うことも可能である。
【００２１】
実施の形態２．
図５はこの発明の実施の形態２における加熱処理装置の構成を示す図、図６は図５に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図、図７は図５に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った造粒処理の結果を示す図である。図において上記実施の形態１と同様の部分は同一符号を付して説明を省略する。本体２の下部側壁に、側壁近傍を撹拌する撹拌手段２００を備えた。図６に示すように撹拌手段２００はモータ２０１により本体２内を垂直方向を軸として回転する。
【００２２】
次に上記のように構成された実施の形態２の加熱処理装置を用いた加熱方法について説明する。ここで本願発明における被加熱物の加熱処理の内、特に造粒処理による場合について説明する。まず、上記実施の形態１と同様に、過熱水蒸気供給手段３のボイラ３０および過熱水蒸気供給手段３を用いて過熱水蒸気を発生させ、配管１１０および流路切換手段１００を介して本体２内に過熱水蒸気を供給する。これとともにモータ１３により回転軸１４を回転させて羽根部１を本体２内を水平方向に回転させ上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させ本体２内を予備加熱する。そして、過熱水蒸気は排気部４から羽根部１の回転により得られる上昇渦流気流Ａ、Ｂにより効率よく加熱処理装置外に排気される。そしてこの加熱は本体内温度測定手段２２にて測定することにより確認する。次に、流路切換手段１００にて過熱水蒸気の流路を切り換えて過熱水蒸気供給手段３からの過熱水蒸気の供給を停止して、ドライエア供給手段７に過熱水蒸気を供給し、ドライエア供給手段７から配管１１１およびバルブ１０１を介してドライエアを例えば数分程度供給する。
【００２３】
次に、予備加熱が終了した後にドライエア供給手段７からのドライエアの供給および羽根部１の回転を停止して、供給部５を開放して本体２内に過熱水蒸気の熱にて溶融する物質（バインダー）を含有する被加熱物を供給する。次に、被加熱物を供給した後に供給部５を閉じて、本体２内の羽根部１を回転させ、被加熱物に上昇渦流気流Ａ、Ｂを発生させるとともに、モータ２０１により撹拌手段２００にて撹拌を行う。この際の撹拌手段２００における回転速度は、例えば、５００ｒｐｍ〜２５００ｒｐｍ程度である。この撹拌手段２００による撹拌は本体２の外周底部でかつ羽根部１の水平方向と異なる垂直方向を軸として回転して撹拌することが望ましい。これは撹拌手段２００の撹拌により、バインダーにて必要以上に固まりとなった被加熱物をほぐすことが目的であり、所望の造粒形状を得るために行うためである。次に、上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生した後に、過熱水蒸気供給手段３から過熱水蒸気を所定時間供給して被加熱物の過熱水蒸気の熱にて溶融する物質が溶融して被加熱物の造粒処理を行う。このように上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生した状態にて加熱処理を行っているため、図３に示すように排気は上昇（Ａ）しながら、被加熱物は回転（Ｂ）と重力とにより落下して、排気と被加熱物とは分離されて排気のみが排気部４から排気される。また、この際決定される所定時間は、例えば、供給温度測定手段８にて測定される過熱水蒸気の本体２内に供給される供給温度と、排気温度測定手段９にて測定される排気部４から排気させる排気温度とを測定し、供給温度および排気温度の差により過熱水蒸気の本体内への供給時間を設定する方法が考えられる。
【００２４】
例えば、この供給温度および排気温度の差がほぼなくなれば供給を終了する方法、供給温度および排気温度の差がほぼなくなってから所定時間供給した後に終了する方法などが考えられる。次に、過熱水蒸気の所定時間供給が終了した後に過熱水蒸気の供給を停止して、羽根部１を回転させながらドライエア供給手段７から１００℃以下のドライエアを供給して被加熱物を冷却乾燥する。次に、ドライエアの供給を停止して、羽根部１を上昇渦流気流Ａ、Ｂが発生しない程度の低速回転させながら被加熱物を排出部６の排出口部６０を駆動部６１により開放し、羽根部１の回転による遠心力により被加熱部は排出口部６０から排出され連通管６２を介して密閉空間部６３に排出される。
【００２５】
上記のような加熱処理装置を用いた加熱処理方法により行った造粒処理の具体例を図７に示す。これは造粒処理を目的として行った例である。図からも明らかなように、過熱水蒸気の供給時間が１分にて造粒処理が十分に可能であることが確認できる。
【００２６】
上記のように構成された実施の形態２の加熱処理装置によれば、上記実施の形態１と同様効果を奏するのはもちろんのこと、被加熱物を効率よく加熱処理でき、過熱水蒸気の熱にて溶融する物質（バインダー）を含有する被加熱物の場合には、容易に造粒を行うことが可能となる。よって被加熱物の加熱処理を低コストにて行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】この発明の実施の形態１の加熱処理装置の構成を示す図である。
【図２】図１に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図である。
【図３】図１に示した加熱処理装置の本体内における上昇渦流気流の状態を説明するための図である。
【図４】図１に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った殺菌処理の結果を示す図である。
【図５】この発明の実施の形態１の加熱処理装置の構成を示す図である。
【図６】図５に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図である。
【図７】図５に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った殺菌処理の結果を示す図である。
【符号の説明】
【００２８】
１，１０，１１，１２  羽根部、２  本体、３  過熱水蒸気供給手段、４  排気部、
５  供給部、６  排出部、７  ドライエア供給手段、８  供給温度測定手段、
９  排気温度測定手段、２０  垂直部、２１  傾斜部、２００  撹拌手段。
【図１】
2007054679.tif 000003
【図２】
2007054679.tif 000004
【図３】
2007054679.tif 000005
【図４】
2007054679.tif 000006
【図５】
2007054679.tif 000007
【図６】
2007054679.tif 000008
【図７】
2007054679.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月12日(2005.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2007054679.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成18年10月3日(2006.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【図１】この発明の実施の形態１の加熱処理装置の構成を示す図である。
【図２】図１に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図である。
【図３】図１に示した加熱処理装置の本体内における上昇渦流気流の状態を説明するための図である。
【図４】図１に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った殺菌処理の結果を示す図である。
【図５】この発明の実施の形態１の加熱処理装置の構成を示す図である。
【図６】図５に示した加熱処理装置の本体の内部構成を説明するための部分断面斜視図である。
【図７】図５に示した加熱処理装置を用いた加熱方法により行った造粒処理の結果を示す図である。
【手続補正書】
【提出日】平成18年11月13日(2006.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
上記本体の下部側壁に、側壁近傍を撹拌する撹拌手段を備えた請求項６に記載の加熱処理装置を用いた加熱方法において、上記本体内の過熱水蒸気の供給するとともに上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら上記本体を予備加熱する工程と、上記予備加熱終了後に上記過熱水蒸気の供給および上記羽根部の回転を停止して上記本体内に上記過熱水蒸気の熱にて溶融する物質を含有する上記被加熱物を供給する工程と、上記被加熱物供給後に上記本体内の上記羽根部を回転させ上記被加熱物に上昇渦流気流を発生させるとともに上記撹拌手段にて撹拌を行う工程と、上記上昇渦流気流が発生した後に上記過熱水蒸気を所定時間供給して上記被加熱物を加熱して造粒を行う工程と、上記過熱水蒸気を所定時間供給を終了した後に上記過熱水蒸気の供給を停止して上記羽根部を回転させ上記上昇渦流気流を発生させながら１００℃以下のドライエアを供給して上記被加熱物を乾燥冷却する工程とを備えたことを特徴とする加熱処理装置を用いた加熱方法。