(57)【要約】【課題】長期にわたり安定した発光を得る有機発光表示装置を提供する。【解決手段】少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属少なくとも一つを有する脱水・脱酸材料を形成し、同脱水・脱酸材料に隔壁内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させた構成とする。【選択図】図１
2007280746.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基体の一部に第１の電極を露出して形成し、該第１の電極の露出面の上に、有機化合物層と第２の電極を積層する有機発光表示装置の製造方法において、
少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料を形成する工程と、
前記脱水・脱酸素材料に基体内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させる工程と、
有機化合物層と第２の電極を積層する工程と、
からなることを特徴とする、有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２】
脱水・脱酸素材料は、基体及び第１の電極の上面に形成することを特徴とする、請求項１に記載した有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３】
有機化合物層と第２の電極は、酸素や水を捕獲させた脱水・脱酸素材料の上に積層することを特徴とする、請求項１に記載した有機発光表示装置の製造方法。
【請求項４】
少なくとも基体の一部に第１の電極を露出して形成し、該第１の電極の露出面の上に、有機化合物層と第２の電極を積層する有機発光表示装置において、
少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料を形成し、同脱水・脱酸素材料に基体内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させた構成であることを特徴とする、有機発光表示装置。
【請求項５】
脱水・脱酸素材料は基体と有機化合物層の層間に形成した構成であることを特徴とする、請求項４に記載した有機発光表示装置。
【請求項６】
脱水・脱酸素材料は第１の電極と有機化合物層の層間に形成した構成であることを特徴とする、請求項４又は５に記載した発明に有機発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも基体の一部に第１の電極を露出して形成し、該第１の電極の露出面の上に、有機化合物層と第２の電極を積層する有機発光表示装置及びその製造方法の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
現在、開発が進められている有機発光素子の構成は、第１の電極／有機化合物／第２の電極の積層構成を基本としている。代表的な構成の一つは、ガラス板などを用いた基板上に透明な第１の電極を複数本の帯状に形成し、直交する方向に複数の隔壁を形成した後、隔壁の間に有機化合物と第２の電極を短冊状に開口した金属マスクを用いて形成する構成である。この構成の駆動方式は印加する電極を、第１の電極と第２の電極とで時間をずらせて選択するパッシブマトリックス方式である。この場合、発生する光は基板側から取り出すボトムエミッション型が一般的である（特許文献１参照）。
【０００３】
また近年、基板上の発光素子ごとに駆動用トランジスタを設け、平坦化膜と個別電極を形成したアクティブマトリックス方式の検討も進んでいる。この方式では基板側より光を取り出す場合、駆動回路および駆動回路用の配線部が光を遮るため、画素の開口率（素子内で実際に発光する部分の面積比）が小さくなるという問題がある。そのため、第２の電極側から光を取り出すいわゆるトップエミッション型の素子構成が試みられている（特許文献２参照）。
【０００４】
上記のボトムエミッション型およびトップエミッション型の素子構成ともに、発光素子を独立に駆動するために隔壁を形成する構成が一般的である。しかし、必ずしも隔壁が必須ではない。特にアクティブマトリクス駆動方式を採用する場合には画素に対応した電極を設ければよい。
【０００５】
これらの有機発光表示装置の一つの大きな課題は、発光効率の向上であり、有機発光材料そのものの開発や積層構造に様々な提案がある（特許文献３参照）。
【０００６】
また、別の大きな課題は長期にわたり変化のない安定した発光特性を如何にして得るかであり、これも有機発光材料そのものの開発が行われていると同時に、有機発光層を外部環境から保護する封止技術の開発も盛んである（特許文献４参照）。
【０００７】
なお本発明では一般的な基板に対し、有機化合物を堆積する対象を「第１の電極が露出した基体」と呼称する。基体は一般的な基板でも良いし、アクティブマトリクス駆動回路を形成し平坦化膜を設けたものでも良い。また、基板上に第１電極を形成し、その一部を何らかの手段により覆ったものでも良い。この場合には、露出した第１電極以外が基体となる。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１３４９６４号公報
【特許文献２】特開２００４−２６５７７６号公報
【特許文献３】特開平１０−１２５４７４号公報
【特許文献４】特開２００５−１３５７０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このような有機化合物を用いた有機発光素子の基本的な特長として、酸素や水の存在が有機発光素子の寿命を低下させるという問題がある。その影響は極めて敏感であり、第１の電極および基体の表面に吸着した微少な酸素や水でも問題となる。特に、平坦化膜および第１の電極および隔壁の形成にフォトリソグラフィ技術を用いる場合には、水処理を伴うため、その影響を低減することは容易ではない。さらに、平坦化膜や隔壁には窒化珪素などの無機材料以外に、アクリルやポリイミドなどの有機樹脂を用いる場合もあり、この場合には無機材料よりも内部に酸素や水を含むため、その影響を低減する必要がある。
【００１０】
対策として、有機発光素子を覆うアルカリ金属酸化物のバリア層の形成（前出、特許文献４参照）や、真空中での加熱処理や、減圧酸素雰囲気中で紫外線照射によるオゾン処理等が知られているが、必ずしも十分な対策ではない。
【００１１】
本発明の目的は、基体に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料を形成し、同脱水・脱酸素材料に基体内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させることで、有機発光素子を長寿命化することができる、有機発光表示装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記背景技術の課題を解決するための手段として、請求項１に記載した発明に係る有機発光表示装置の製造方法は、
少なくとも基体の一部に第１の電極を露出して形成し、該第１の電極の露出面の上に、有機化合物層と第２の電極を積層する有機発光表示装置の製造方法において、
少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料を形成する工程と、
前記脱水・脱酸素材料に基体内及び表面に付着する酸素や水を捕獲させる工程と、
有機化合物層と第２の電極を積層する工程と、
からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る有機発光表示装置及びその製造方法は、少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料を形成し、同脱水・脱酸素材料に基体内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させた。そのため、有機化合物層の変質を防止でき、長期にわたり安定した表示が可能となる。特に、高温環境時においても基体から酸素や水の発生が少なくできるため、信頼性が向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
＜実施形態１＞
本発明に係る有機発光表示装置及びその製造方法の実施形態を説明する。
【００１５】
図１に前記有機発光装置の構成を模式図で示す。（ａ）が平面図であり、（ｂ）が対応する側面図である。なお、図１では発光表示画素を４点で示しているが、目的に応じてその大きさおよび個数を選択できる。
【００１６】
ガラス等の基材１０１の上面に、透明導電体からなる陰極（第１の電極）１０２を複数本の帯状に形成する。次に、第１の電極１０２の上面（図１では周辺領域も含む。）に、発光領域を開口１０３ａした絶縁性の隔壁１０３を形成する。ちなみに、隔壁１０３はフォトリソグラフィ技術を用いて形成しても良く、また、印刷やマスキングにより形成しても良い。
【００１７】
隔壁１０３及び同隔壁１０３の開口１０３ａから露出する第１の電極１０２の上面に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料１０４を周囲の端子部を除いて面状に形成する。脱水・脱酸素材料１０４は非常に活性であり、真空中で蒸着やスパッタリングにより形成するのが良い。脱水・脱酸素材料１０４の厚みは１ｎｍから１００ｎｍが適当であり、より好ましくは５ｎｍから５０ｎｍ程度が良い。
【００１８】
脱水・脱酸素材料１０４まで形成した基材１０１を例えば真空中で加熱し、脱水・脱酸素材料１０４に隔壁１０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させて、同脱水・脱酸素材料１０４の組成を変化させる。本出願人が、２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）などを利用して脱水・脱酸素材料１０４を組成分析した。その結果、第１の電極１０２上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ｂに比べて、隔壁１０３上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａの酸素濃度が高くなっていることが確認できた。つまり、第１の電極１０２上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ｂに比べて、隔壁１０３上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａは隔壁１０３と直接接するため、酸素や水を活発に捕獲するのである。このように、隔壁１０３の上面に形成された脱水・脱酸素材料１０４ａに隔壁１０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させることが、本発明の特徴である。なお、隔壁１０３上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａは、隣接する画素領域間で絶縁性であることが望ましい。
【００１９】
第１の電極１０２の上面に形成された脱水・脱酸素材料１０４ｂは組成が変化しても良いし、解析上変化が認められなくとも本発明の目的は達成できる。また、上記した真空中での加熱は一つの方法であり、大気圧でも酸素分圧や水蒸気分圧を低く保った状態で加熱しても良い。紫外線や赤外線などを照射しても同様の効果を得ることも可能である。
【００２０】
酸素や水を捕獲させた脱水・脱酸素材料１０４ａ、１０４ｂの上面に、有機化合物層１０５、第２の電極１０６を、短冊状に開口した金属マスクを用いて第１の電極１０２と直交する方向に帯状に形成する。その結果、脱水・脱酸素材料１０４ａは隔壁１０３と有機化合物層１０５の層間に形成される。有機化合物層１０５も活性であり、酸素や水と反応しやすいため、上記したように脱水・脱酸素材料１０４ａを隔壁１０３と有機化合物層１０５の層間に形成した構造とすると良好である。有機化合物層１０５は酸素や水と反応すると、点状の非発光部（ダークスポット）や画素周囲の発光輝度が低下する現象が発生することがあり、その頻度によっては画像の表示に品質上の問題を引き起こすからである。
【００２１】
有機化合物層１０５は不図示の電子輸送層、発光層、ホール輸送層から構成されている。但し、有機化合物層１０５の構成はこれに限られるものではない。発光層を兼ねた輸送層を用いることで有機化合物層１０５を２層構成にし、あるいはホール注入層や電子注入層を設けることで、有機化合物層１０５の構成を４層、５層構成にするなど目的に応じて層構成を決める。
【００２２】
外部からの酸素や水を遮断するために吸湿材（不図示）を付けた封止缶１０８で封止すると、有機発光表示装置が完成する。この有機発光表示装置は、通例の有機発光表示装置と同様に、電力供給点１０７と電力供給点１０９から電力を供給することにより、電極１０２と１０６で挟まれた発光領域（開口１０３ａ内）の画素が発光し、画像が表示される。
【００２３】
上記した製造方法で作成された有機発光表示装置は、隔壁１０３に接するように、脱水・脱酸素材料１０４を形成し、同脱水・脱酸素材料１０４に隔壁１０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させた構成となる。そのため、有機化合物層１０５の変質を防止でき、長期にわたり安定した表示が可能となる。特に、高温環境時においても隔壁１０３から酸素や水の発生が少なくできるため、信頼性が向上できる。
【００２４】
＜実施形態２＞
本発明に係る有機発光表示装置及びその製造方法の異なる実施形態を説明する。なお、本実施形態も、上記した実施形態１と同一の技術的思想に基づくものであるため、特徴部分のみを説明する。
【００２５】
図２に前記有機発光表示装置の構成を模式図で示す。（ａ）が平面図であり、（ｂ）が対応する側面図である。図２において、２０２ａは第１の絶縁層、２０２ｂは半導体層、２０２ｃはゲート電極、２０２ｄは第２の絶縁層、２０２ｅはソース電極、２０２ｆはドレイン電極、２０２ｇはアクリル樹脂からなる平坦化膜、２０２ｈは金属クロムの第１の電極である。ソース電極２０２ｅは第１の電極２０２ｈを通じて有機化合物層２０５と電気的に接続している。ドレイン電極２０２ｆは第２の電極２０６と接続している。ソース電極、ゲート電極、ドレイン電極は不図示の駆動回路を通じて駆動用の端子部２０７から制御される。
【００２６】
本実施形態の有機発光表示装置及びその製造方法は、駆動用の薄膜トランジスタ回路２０２を形成したガラス基材２０１の上面に、発光領域を開口２０３ａした絶縁性の隔壁２０３を形成している。この隔壁２０３の上面のみにアルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料２０４を面状に形成している。この場合、有機化合物層２０５が直接、隔壁２０３と接する部分が生じるが、脱水・脱酸素材料２０４は隔壁２０３と直接接するため、同脱水・脱酸素材料２０４に隔壁２０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させることができる。なお、酸素や水を捕獲させた脱水・脱酸素材料２０４は必ずしも絶縁性である必要はない。
【００２７】
上記した実施形態１、２の脱水・脱酸素材料は、第１の電極及び隔壁の上面、又は隔壁の上面のみに形成しているが、少なくとも隔壁内及び表面に付着した酸素や水を捕獲できる程度の接触面積を隔壁と有していれば良い。そのため、脱水・脱酸素材料は面状に形成しなくても良く、形態は特に限定されない。
【００２８】
上記した実施形態１、２は隔壁が形成された有機発光表示装置を対象としているが隔壁が形成されていない有機発光表示装置でも略同様に実施できる。この場合、脱水・脱酸素材料は少なくとも第１の電極が露出していない基体の一部に接するように形成される。
【実施例】
【００２９】
＜実施例１＞
本発明に係る有機発光表示装置及びその製造方法の実施例を説明する。
【００３０】
ガラス基材１０１の上面に、酸化インジウムスズからなる透明電極層を酸素ガス雰囲気中での反応性真空蒸着法により成膜する。透明電極層の膜厚は１５０ｎｍである。次に、フォトリソグラフィー技術により、透明電極層を複数の帯状にパターニングして第１の電極１０２を形成する。今回はウェットエッチングにより加工したが、第１の電極１０２のパターニングにはドライエッチングを用いても良い。
【００３１】
第１の電極１０２の上面（図１では周辺領域も含む。）を、０．５μｍの厚みの感光性ポリイミド樹脂でコートし、やはりフォトリソグラフィー技術により第１の電極１０２の一部を発光領域として露出させる開口１０３ａをパターニングして隔壁１０３を形成する。隔壁１０３の材料はアクリル等の樹脂でも良いし、窒化珪素や酸化珪素などの無機材料を利用しても良い。この隔壁１０３は発光する領域を制限する機能と、光領域以外での第１の電極１０２と第２の電極１０６の短絡を防止する機能がある。
【００３２】
隔壁１０３の上面及び同隔壁１０３の開口１０３ａから露出する第１の電極１０２の上面に、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料１０４として、金属ストロンチウム膜をＤＣスパッタリングにより１０ｎｍの厚みに形成する。このとき、第１の電極１０２の端部に電力供給点１０７を確保するべく、当該領域は金属マスクを用いて遮蔽した。脱水・脱酸素材料１０４はカルシウムやリチウムなどその他のアルカリ金属又はアルカリ土類金属でも良いし、合金でも良い。また金属以外にも酸化物でも良い。酸化物の場合は化学量論的に安定な酸化物ではなく、酸素が欠乏した反応性の高い酸化物であることが必要である。脱水・脱酸素材料１０４の形成方法はＤＣスパッタリングに限るものではなく、高周波スパッタリングや真空蒸着法も利用できる。さらに真空装置内に反応ガスを導入した反応性の形成方法も利用できる。
【００３３】
脱水・脱酸素材料１０４まで作成したガラス基材１０１を露点−９０℃の窒素雰囲気の装置内で赤外線ランプにより２２０℃に１０分間加熱して、脱水・脱酸素材料１０４に隔壁１０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させて、同脱水・脱酸素材料１０４の組成を変化させる。第２の電極１０６を形成した後、２次イオン質量分析法により深さ方向にエッチングしながら脱水・脱酸素材料１０４の組成分析をした結果、隔壁１０３上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａと、第１の電極１０２上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ｂとで酸素濃度のシグナルが約２倍異なる。つまり、隔壁１０３上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａは、第１の電極１０２上で組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ｂに比べて、隔壁１０３との十分な接触面積を有するので、酸素や水を捕獲していることが確認できた。また、脱水・脱酸素材料１０４ａで隣接する画素領域間が電気的に絶縁されていることも確認できた。
【００３４】
組成変化させた脱水・脱酸素材料１０４ａ、１０４ｂの上面に、有機化合物層１０５の電子輸送層としてトリス（８−キノリノール）アルミニウム（以下Ａｌｑ３）を、さらにホール輸送層としてＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４−４’−ジアミン（以下ＴＰＤ）を、順次蒸着マスクを介して第１の電極１０２に直交する方向に帯状に形成する。このとき、脱水・脱酸素材料１０４の領域から外周にはみ出すことのないようにパターニングした。有機化合物層１０５の形成方法は真空蒸着法を用い、蒸着時の真空度は２×１０-8Ｐａであり、成膜速度は０．２〜０．３ｎｍ／ｓとした。Ａｌｑ３、ＴＰＤの膜厚はそれぞれ５０ｎｍである。
【００３５】
有機化合物層１０５の上面に、第２の電極１０６として金属クロムを真空蒸着法により蒸着マスクを介して第１の電極１０２に直交する方向に帯状に形成する。このとき、封止缶１０８の外まで達するパターンとし、電力供給点１０９を確保した。金属クロムの膜厚は１００ｎｍである。
【００３６】
この後、市販のゲッター材をつけた封止缶１０８で、電力供給点１０７、１０９を露出するように封止すると、有機発光表示装置が完成する。
【００３７】
本発明に係る製造方法で作成された有機発光表示装置は、８０℃、２４０時間の高温環境放置試験の前後で発光特性に変化はみられず、安定した発光表示状態であった。
【００３８】
＜比較例１＞
比較例１では、上記実施例１で形成した脱水・脱酸素材料を形成することなく、また、その後の真空中での加熱工程を経ることなく、それ以外は実施例１と全く同じ工程で、有機発光表示装置を作成した。
【００３９】
８０℃、７２時間の高温環境放置試験後に発光状態を観察したところ、脱水・脱酸素材料を形成しなかった有機発光表示装置は、脱水・脱酸素材料を形成した有機発光表示装置に比べて、発光画素の周辺で発光強度が著しく低下していることが確認された。
【００４０】
＜実施例２＞
本発明に係る有機発光表示装置及びその製造方法の異なる実施例を説明する。
【００４１】
駆動用の薄膜トランジスタ回路２０２を形成したガラス基材２０１に感光性アクリル樹脂をコートし、フォトリソグラフィー技術を用いて発光領域に開口２０３ａを設けたパターンの隔壁２０３を形成する。
【００４２】
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料２０４として、金属カルシウム膜を真空蒸着により、帯状に開口した金属マスクを用いて帯状のパターンを形成する。さらに、金属マスクを９０度回転させ、先の帯状のパターンに直交する帯状のパターンを形成し、この２回の蒸着により隔壁２０３の上面にのみ脱水・脱酸素材料２０４を形成する。他の材料や他の作成方法が利用できる点は実施例１と同様である。
【００４３】
脱水・脱酸素材料２０４まで作成したガラス基材２０１を１０-3Ｐａの圧力の真空装置内で赤外線ランプにより１８０℃に３０分間加熱して、脱水・脱酸素材料２０４に隔壁２０３内及び表面に付着した酸素や水を捕獲させて、同脱水・脱酸素材料２０４の組成を変化させる。このとき、脱水・脱酸素材料２０４の表面の反射率を顕微鏡観察したところ反射率が徐々に低下し、酸素や水を捕獲していることが確認できた。
【００４４】
有機化合物層２０５のホール輸送層としてＴＰＤを、電子輸送層としてＡｌｑ３を、形成する。作成方法は真空蒸着法を用い、蒸着時の真空度は２×１０-8Ｐａであり、成膜速度は０．２〜０．３ｎｍ／ｓとした。Ａｌｑ３、ＴＰＤの膜厚はそれぞれ５０ｎｍである。
【００４５】
第２の電極２０６として酸化インジウム亜鉛をＤＣスパッタリングにより形成する。このとき、ドレイン電極２０２ｆと接続できるパターンとした。なお、酸化インジウム亜鉛の膜厚は７０ｎｍである。
【００４６】
この後、薄膜トランジスタ回路２０２及び第２の電極２０６の上面に、窒化珪素からなる保護膜２０８をプラズマＣＶＤで６μｍの厚みに形成する。さらに保護ガラス２１０を接着剤２０９で貼り付けると、有機発光表示装置が完成する。
【００４７】
上記した製造方法で作成された有機発光表示装置も、８０℃、２４０時間の高温環境放置試験の前後で発光特性に変化はみられず、安定した発光表示状態であった。
【００４８】
＜比較例２＞
比較例２では、上記実施例２で形成した脱水・脱酸素材料を形成することなく、また、その後の真空中での加熱工程を経ることなく、それ以外は実施例２と全く同じ工程で、有機発光表示装置を作成した。
【００４９】
８０℃、２４時間の高温環境放置試験後に発光状態を観察したところ、脱水・脱酸素材料を形成しなかった有機発光表示装置は、脱水・脱酸素材料を形成した有機発光表示装置に比べて、発光画素の周辺で発光強度が著しく低下していることが確認された。
【００５０】
＜実施例３＞
第１の電極をメタルマスクを用いた真空蒸着でパターニングして形成し、隔壁を形成することなく、有機化合物層を形成した以外は実施例２と同様に作製した。
【００５１】
上記した製造方法で作成された有機発光表示装置も、８０℃、２４０時間の高温環境放置試験の前後で発光特性に変化はみられず、安定した発光表示状態であった。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】（ａ）は本発明に係る有機発光表示装置の一例を示す平面図である。（ｂ）は本発明に係る有機発光表示装置の一例を示す側面図である。
【図２】（ａ）は本発明に係る有機発光表示装置の別の一例を示す平面図である。（ｂ）は本発明に係る有機発光表示装置の別の一例を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０１  基材
１０２  第１の電極
１０３  隔壁
１０３ａ  隔壁の開口
１０４  アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料
１０５  有機化合物層
１０６  第２の電極
１０７  第１の電極の電力供給点
１０８  封止缶
１０９  第２の電極の電力供給点
２０１  基材
２０２  薄膜トランジスタ回路及び第１の電極
２０３  隔壁
２０３ａ  隔壁の開口
２０４  アルカリ金属又はアルカリ土類金属の少なくとも一つを有する脱水・脱酸素材料
２０５  有機化合物層
２０６  第２の電極
２０７  駆動用の端子部
２０８  保護膜
２０９  接着剤
２１０  保護ガラス
【図１】
2007280746.tif 000003
【図２】
2007280746.tif 000004