(57)【要約】      （修正有）【課題】マイクロレンズ基板が備えた遮光膜の開口部の大きさ・形状等を容易に均一なものとすることが可能な遮光膜の補修方法を提供すること。【解決手段】マイクロレンズ基板の遮光膜の画像を撮影しＳ１、画像処理により不良開口部の位置を特定する位置特定工程Ｓ２と、位置が特定された不良開口部と、基準の大きさ・形状を有する基準開口部とを比較して不良の程度を検査する検査工程Ｓ４と、位置特定工程および検査工程で得られた情報を基に、所望の形状ではないと判定された不良開口部を補修する補修工程Ｓ５とを有し、補修工程において、不良開口部が基準開口部よりも大きい場合には、不良開口部に対して遮光性を有する遮光材料を付与しＳ６、不良開口部の大きさを適正な大きさに補修し、不良開口部が基準開口部よりも小さい場合には、不良開口部に対してレーザを照射し、不良開口部の大きさを適正な大きさに補修するＳ７。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する遮光膜を備えたマイクロレンズ基板の、前記開口部が所望の形状に開口していない不良開口部を補修する遮光膜の補修方法であって、
前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の画像を撮影し、画像処理することにより、前記不良開口部の位置を特定する位置特定工程と、
位置が特定された前記不良開口部と、基準の大きさ・形状を有する基準開口部とを比較して、不良の程度を検査する検査工程と、
前記位置特定工程および前記検査工程で得られた情報を基に、所望の形状に開口していないと判定された前記不良開口部を補修する補修工程とを有し、
前記補修工程において、前記不良開口部が前記基準開口部よりも大きい場合には、前記不良開口部に対して遮光性を有する遮光材料を付与して、前記不良開口部の大きさを適正な大きさに補修し、
前記不良開口部が前記基準開口部よりも小さい場合には、前記不良開口部に対してレーザを照射し、前記不良開口部の開口を拡げ、前記不良開口部の大きさを適正な大きさに補修することを特徴とする遮光膜の補修方法。
【請求項２】
前記不良開口部が前記基準開口部よりも大きい場合において、前記不良開口部に前記遮光性材料を付与して、前記不良開口部を塞いだ後、レーザを照射して適正な大きさの開口部を形成する請求項１に記載の遮光膜の補修方法。
【請求項３】
開口部を有する遮光膜を備えたマイクロレンズ基板の、前記開口部が所望の形状に開口していない不良開口部を補修する遮光膜の補修方法であって、
前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の画像を撮影し、画像処理することにより、前記不良開口部の位置を特定する位置特定工程と、
位置が特定された前記不良開口部に対して、前記不良開口部に遮光性を有する遮光材料を付与して、前記不良開口部を塞いだ後、レーザを照射して適正な大きさの開口部を形成することを特徴とする遮光膜の補修方法。
【請求項４】
前記位置特定工程において、前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面全体の画像を撮影し、該画像と前記遮光膜の基準開口パターンの画像とを画像処理により比較して、前記不良開口部の位置を特定する請求項１ないし３のいずれかに記載の遮光膜の補修方法。
【請求項５】
前記位置特定工程において、前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の所定の範囲の画像を撮影し、該画像と前記遮光膜の基準開口パターンの画像とを画像処理により比較して、前記不良開口部の位置を特定する請求項１ないし３のいずれかに記載の遮光膜の補修方法。
【請求項６】
前記補修工程において、インクジェット法により前記遮光材料を付与する請求項１ないし５のいずれかに記載の遮光膜の補修方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光膜の補修方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ（レンズ部）を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板（レンズシート）でにおいて、画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ部が設けられた側とは反対側に遮光性層が設けられている。
【０００３】
このようなレンズ基板（レンズシート）の製造においては、一般的に、レンズ部での集光を利用して、開口部（光透過性部分）を有する遮光膜が形成されている（例えば、特許文献１参照）。このようなセルフアライメントを用いた方法で、遮光膜を形成することにより、レンズ部の焦点に対応する部位に開口部（光透過性部分）を形成することができるため、コントラストの向上を図る上で有利である。
【０００４】
しかしながら、形成される遮光膜は、一般に、開口部の大きさや形状にばらつきがあったり、開口部が形成されているべき箇所に開口部が形成されていなかったりして、色ムラやコントラストの低下等の原因となっていた。
このような不良を検査する方法として、レンチキュラレンズの遮光膜の欠陥部位を画像処理により検出する方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
しかしながら、近年のディスプレイ、スクリーンの大型化等に伴い、レンズ基板自体も大きくなり、このような大型のレンズ基板においては、上記のような不良の発生率が非常に高かった。このため、検査のみで、不良品を除外してしまうと、その歩留りは、非常に悪くなり、レンズ基板の生産性、製造コストに大きな影響を与えてしまう。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３４７７６８号公報
【特許文献２】特開平７−１８１１４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、マイクロレンズ基板が備えた遮光膜の開口部の大きさ・形状等を容易に均一なものとすることが可能な遮光膜の補修方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の遮光膜の補修方法は、開口部を有する遮光膜を備えたマイクロレンズ基板の、前記開口部が所望の形状に開口していない不良開口部を補修する遮光膜の補修方法であって、
前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の画像を撮影し、画像処理することにより、前記不良開口部の位置を特定する位置特定工程と、
位置が特定された前記不良開口部と、基準の大きさ・形状を有する基準開口部とを比較して、不良の程度を検査する検査工程と、
前記位置特定工程および前記検査工程で得られた情報を基に、所望の形状に開口していないと判定された前記不良開口部を補修する補修工程とを有し、
前記補修工程において、前記不良開口部が前記基準開口部よりも大きい場合には、前記不良開口部に対して遮光性を有する遮光材料を付与して、前記不良開口部の大きさを適正な大きさに補修し、
前記不良開口部が前記基準開口部よりも小さい場合には、前記不良開口部に対してレーザを照射し、前記不良開口部の開口を拡げ、前記不良開口部の大きさを適正な大きさに補修することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ基板が備えた遮光膜の不良開口部を容易に補修することができ、開口部の大きさ・形状等を均一なものとすることができる。
【０００８】
本発明の遮光膜の補修方法では、前記不良開口部が前記基準開口部よりも大きい場合において、前記不良開口部に前記遮光性材料を付与して、前記不良開口部を塞いだ後、レーザを照射して適正な大きさの開口部を形成することが好ましい。
これにより、遮光膜の開口部に対して、より精密な補修を施すことができる。
本発明の遮光膜の補修方法は、開口部を有する遮光膜を備えたマイクロレンズ基板の、前記開口部が所望の形状に開口していない不良開口部を補修する遮光膜の補修方法であって、
前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の画像を撮影し、画像処理することにより、前記不良開口部の位置を特定する位置特定工程と、
位置が特定された前記不良開口部に対して、前記不良開口部に遮光性を有する遮光材料を付与して、前記不良開口部を塞いだ後、レーザを照射して適正な大きさの開口部を形成することを特徴とする。
これにより、開口部の大きさ・形状等を容易に均一なものとすることができる。
【０００９】
本発明の遮光膜の補修方法では、前記位置特定工程において、前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面全体の画像を撮影し、該画像と前記遮光膜の基準開口パターンの画像とを画像処理により比較して、前記不良開口部の位置を特定することが好ましい。
これにより、効率良く不良開口部の位置を特定することができる。
【００１０】
本発明の遮光膜の補修方法では、前記位置特定工程において、前記マイクロレンズ基板の前記遮光膜が設けられている側の面の所定の範囲の画像を撮影し、該画像と前記遮光膜の基準開口パターンの画像とを画像処理により比較して、前記不良開口部の位置を特定することが好ましい。
これにより、より効率良く不良開口部の位置を特定することができ、ムラのない補修を行うことができる。
【００１１】
本発明の遮光膜の補修方法では、前記補修工程において、インクジェット法により前記遮光材料を付与することが好ましい。
これにより、不良開口部に対してより確実に遮光材料を付与することができる。また、遮光材料の付与を高速化できるとともに、有効に遮光材料を利用することができ、省資源の観点からも好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の遮光膜の補修方法について、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の遮光膜の補修方法について説明する前に、ブラックマトリックス（遮光膜）を備えたマイクロレンズ基板の一例について説明する。
図１は、ブラックマトリックスを備えたマイクロレンズ基板の一例を示す縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。なお、以下の説明では、図１中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
マイクロレンズ基板１は、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光膜）３とを備えている。
【００１３】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００１４】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４〜１．５８であるのが好ましく、１．５〜１．５６であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１５】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００１６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００１７】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００１８】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００１９】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２０】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２１】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向（マイクロレンズ２１の短軸方向）に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２２】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９５〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
【００２３】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するようなブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００２４】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、後述するブラックマトリックス（遮光層）３に設けられた開口部（非遮光部）３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部６からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００２５】
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。なお、粘着層の構成材料等については、後に詳述する。
【００２６】
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。特に、開口部３１は、本発明の遮光膜の補修方法により、開口部の形状等が最適なものとされているため、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部３１は、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
【００２７】
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜８０μｍであるのが好ましく、１５〜６０μｍであるのがより好ましく、２０〜５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００２８】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．６〜５μｍであるのがより好ましく、０．８〜１．５μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができる。
【００２９】
また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、６０〜９７％であるのが好ましく、７０〜９５％であるのがより好ましく、７５〜９０％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【００３０】
次に、本発明の遮光膜（ブラックマトリックス）の補修方法の第１実施形態について説明する。
図３は、本発明の遮光膜の補修方法に用いられる補修装置の第１実施形態を模式的に示した図、図４は、本発明の遮光膜の補修方法の第１実施形態を示すフローチャート、図５、図６は、本発明の遮光膜の補修方法の工程の一例を示す図である。なお、図３中、上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言う。
【００３１】
まず、本発明の遮光膜の補修方法に用いられる補修装置の第１実施形態について説明する。
図３に示すように、補修装置１５０は、ＣＣＤカメラ１５１と、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１５２と、レーザ照射ヘッド１５３と、マイクロレンズ基板１を載置する載置台１５４と、移動ステージ１５５と、画像処理部を内蔵した制御装置１５６と、光源１５７とを有している。
【００３２】
ＣＣＤカメラ１５１は、マイクロレンズ基板１のブラックマトリックス３が形成されている側の面の画像を撮影する機能を有している。
また、液滴吐出ヘッド１５２は、開口部３１が所望の形状に開口していない不良開口部３２に対して、遮光性を有する遮光材料を吐出する機能を有している。
また、レーザ照射ヘッド１５３は、不良開口部３２に対して、レーザを照射する機能を有している。
【００３３】
移動ステージ１５５は、ＣＣＤカメラ１５１、液滴吐出ヘッド１５２、および、レーザ照射ヘッド１５３をそれぞれ載置台１５４に対して平面的（Ｘ−Ｙ方向、Ｒ−θ方向等）に移動するものである。
また、制御装置１５６は、ＣＣＤカメラ１５１によってブラックマトリックス３全体の画像が入力されると、これを画像処理して、ブラックマトリックス３の不良開口部３２が検出された場合には、不良開口部３２の位置を記憶する機能を有している。さらに、制御装置１５６は、ＣＣＤカメラ１５１によって不良開口部３２の画像が入力されると、これを画像処理して、予め入力されていた開口部の基準（基準開口部）と比較し、不良開口部３２の不良の程度を記憶する機能を有している。
【００３４】
また、制御装置１５６は、画像処理によって得られた情報を基に、液滴吐出ヘッド１５２、レーザ照射ヘッド１５３に信号を送り、遮光材料の吐出やレーザの照射を制御可能となっている。
また、光源１５７は、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が設けられている側に対して光を照射する機能を有しており、ＣＣＤカメラ１５１によるブラックマトリックスの撮影を補助する機能を有している。
【００３５】
次に、前述したような補修装置を用いた遮光膜の補修方法（本発明の遮光膜の補修方法）の各工程について、添付図面を参照しつつ、詳細に説明する。
［１］まず、図３に示すように、マイクロレンズ基板１（補修されていないマイクロレンズ基板１）を、ブラックマトリックス３とＣＣＤカメラ１５１とが対向するように設置する。
【００３６】
［２］次に、光源１５７より、マイクロレンズ基板１に対して光を照射する。
［３］次に、ＣＣＤカメラ１５１により、ブラックマトリックス３全体を撮影し、制御装置１５６に入力する（図４中のステップＳ１）。
［４］次に、制御装置１５６において、予め入力されていた適正な大きさ・形状の開口部が形成された開口パターン（基準開口パターン）の画像と、ステップＳ１で得られた画像とを、画像処理により比較し、不良開口部３２の位置を特定し、記憶する（図４中のステップＳ２、位置特定工程）。なお、不良開口部３２とは、基準となる開口部との形状・大きさのずれが所定の範囲を超えた開口部のことを言う。また、不良開口部３２には、目的とする位置に開口部が形成されていないものも含む。すなわち、制御装置１５６は、目的とする位置に開口部が形成されていない位置も、不良開口部３２の位置として記憶する。
【００３７】
［５］次に、記憶した不良開口部３２の位置に、ＣＣＤカメラ１５１を移動させ、不良開口部３２を撮影し、制御装置１５６に入力する（図４中のステップＳ３）。
［６］次に、制御装置１５６において、予め入力されていた適正な大きさ・形状の開口部（基準開口部）の画像と、ステップＳ３で得られた画像とを、画像処理により比較し、不良開口部３２の不良の程度を検査し、記憶する（図４中のステップＳ４、検査工程）。
【００３８】
［７］次に、制御装置１５６において、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きいか小さいかを判断する（図４中のステップＳ５）。
そして、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きいか小さいかにより、以下に示すような補修工程を行う。
まず、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きい場合について説明する。
【００３９】
［８］不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きいと判断した場合、制御装置１５６より液滴吐出ヘッド１５２に対して信号を送り、図５（ａ）に示すように、不良開口部３２に、液滴吐出ヘッド１５２により、遮光材料３３を付与する（図４中のステップＳ６）。
このように遮光材料３３を付与することにより、不良開口部３２は塞がれる（図５（ｂ）参照）。
【００４０】
遮光材料３３の付与方法としては、特に限定されないが、インクジェット法を適用するのが好ましい。インクジェット法によれば、不良開口部３２に対してより確実に遮光材料３３を付与することができる。また、インクジェット法によれば、遮光材料３３の付与を高速化できるとともに、有効に遮光材料３３を利用することができ、省資源の観点からも好ましい。
遮光材料３３としては、遮光性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、暗色（例えば、黒色、濃青色等）のインク等が挙げられる。
［９］次に、制御装置１５６よりレーザ照射ヘッド１５３に対して信号を送り、遮光材料３３を付与した部位に対して、レーザを照射する（図４中のステップＳ７）。
これにより、図５（ｃ）に示すように、レーザが照射された部位の遮光材料３３が除去され、適正な大きさ・形状の開口部３１に補修される。
【００４１】
次に、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも小さい場合について説明する。
［８’］不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも小さい（図６（ａ）参照）と判断した場合、制御装置１５６よりレーザ照射ヘッド１５３に対して信号を送り、図６（ｂ）に示すように、不良開口部３２に対して、レーザを照射する（図４中のステップＳ７）。
これにより、レーザが照射された部位のブラックマトリックス３の構成材料が除去され、適正な大きさ・形状の開口部３１に補修される。
【００４２】
以上説明したように、本発明によれば、マイクロレンズ基板が備えた遮光膜の不良開口部を容易に補修することができ、開口部の大きさ・形状等を均一なものとすることができる。その結果、コントラストに優れた画像が得られ、光の利用効率に優れたマイクロレンズ基板とすることができる。
また、本発明によれば、レーザを用いて開口部の形状・大きさを調整するので、遮光膜に対して、より精密な補修を施すことができる。
【００４３】
また、本発明によれば、制御装置によって、遮光膜の補修を自動化することができるため、人手の負担を軽減し、高い品質保証を行うことも可能となる。
特に、本実施形態のような方法で補修を行うことにより、不良開口部の不良の程度をより精密に測定することができるため、開口部の形状・大きさをより適正なものに補修することができる。
また、本実施形態のように、一旦遮光膜全体の画像を撮影した後に、不良箇所を絞り込んで行くことにより、効率良く不良開口部の位置を特定することができる。
【００４４】
次に、本発明の遮光膜（ブラックマトリックス）の補修方法の第２実施形態について説明する。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と異なる部分を中心に説明し、同様の部分はその説明を省略する。
図７は、本発明の遮光膜の補修方法の第２実施形態を示すフローチャートである。
本実施形態では、前述した第１実施形態と同様の補修装置を用いて、ブラックマトリックス３の補修を行う。
【００４５】
［１］まず、前述した実施形態と同様に、マイクロレンズ基板１（補修されていないマイクロレンズ基板１）を、ブラックマトリックス３とＣＣＤカメラ１５１とが対向するように設置し、光源１５７より、マイクロレンズ基板１に対して光を照射する。
［２］次に、ブラックマトリックス３を複数のエリアに分け、ＣＣＤカメラ１５１により、各エリアを撮影し、各エリアの画像を制御装置１５６に入力する（図７中のステップＳ１’）。
【００４６】
［３］次に、制御装置１５６において、入力された各エリアの画像と、予め入力されていた各エリアに対応する基準開口パターンの画像とを画像処理により比較し、各エリアにおける不良開口部３２の位置を特定し、記憶する（図７中のステップＳ２’、位置特定工程）。
［４］次に、各エリアの画像中における記憶された位置での不良開口部３２の画像と、基準開口部の画像とを画像処理により比較し、不良の程度を検査し、記憶する（図７中のステップＳ３’）。
【００４７】
［５］次に、制御装置１５６において、各エリア毎に、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きいか小さいかを判断する（図７中のステップＳ５）。
そして、不良開口部３２の大きさが、基準開口部の大きさよりも大きいか小さいかにより、各エリア毎に、前述した第１実施形態と同様にして補修を行う。
本実施形態の方法によれば、エリア毎に分けて検査・補修するので、より効率良く不良開口部の位置を特定することができ、ムラのない補修を行うことができる。
【００４８】
次に、本発明の遮光膜（ブラックマトリックス）の補修方法の第３実施形態について説明する。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態および第２実施形態と異なる部分を中心に説明し、同様の部分はその説明を省略する。
図８は、本発明の遮光膜の補修方法の第３実施形態を示すフローチャートである。
本実施形態では、前述した第１実施形態と同様の補修装置を用いて、ブラックマトリックス３の補修を行う。
【００４９】
［１］まず、前述した実施形態と同様に、マイクロレンズ基板１（補修されていないマイクロレンズ基板１）を、ブラックマトリックス３とＣＣＤカメラ１５１とが対向するように設置し、光源１５７より、マイクロレンズ基板１に対して光を照射する。
［２］次に、前述した第１実施形態と同様に、ＣＣＤカメラ１５１により、ブラックマトリックス３全体を撮影し、制御装置１５６に入力する（図８中のステップＳ１”）。
【００５０】
［３］次に、前述した第１実施形態と同様に、制御装置１５６において、予め入力されていた基準開口パターンの画像と、ステップＳ１で得られた画像とを、画像処理により比較し、不良開口部３２の位置を特定し、記憶する（図８中のステップＳ２”、位置特定工程）。
［４］次に、制御装置１５６より液滴吐出ヘッド１５２に対して信号を送り、上記工程で記憶した不良開口部３２の位置に、液滴吐出ヘッド１５２により、遮光材料３３を付与する（図８中のステップＳ３”）。
なお、不良開口部３２が、開口が形成されていないものである場合には、遮光材料３３が吐出されないよう構成されていてもよい。
【００５１】
［５］次に、制御装置１５６よりレーザ照射ヘッド１５３に対して信号を送り、記憶した不良開口部３２の位置（遮光材料３３を付与した位置）に、レーザを照射する（図８中のステップＳ４”）。
これにより、レーザが照射された部位のブラックマトリックス３の構成材料、遮光材料が除去され、適正な大きさ・形状の開口部３１に補修される。
本実施形態の方法によれば、工程数を少なくすることができ、より効率良く遮光膜の補修を行うことができる。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００５２】
例えば、本発明の遮光膜の補修方法が適用されるマイクロレンズ基板は、上記のようなものに限定されず、マイクロレンズ基板を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
また、本発明の遮光膜の補修方法に適用される補修装置は、前述した実施形態で説明したものに限定されない。
【００５３】
また、本発明の遮光膜の補修方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、本発明の遮光膜の補修方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、不良開口部が基準開口部よりも大きい場合において、遮光材料を付与した後、レーザ照射によって開口部の形状等を適正なものに補修するものとして説明したが、レーザ照射を行わずに、遮光材料の付与によって、開口部の形状等を適正なものに補修するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】ブラックマトリックスを備えたマイクロレンズ基板の一例を示す縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】本発明の遮光膜の補修方法に用いられる補修装置の第１実施形態を模式的に示した図である。
【図４】本発明の遮光膜の補修方法の第１実施形態を示すフローチャートである。
【図５】本発明の遮光膜の補修方法の工程の一例を示す図である。
【図６】本発明の遮光膜の補修方法の工程の一例を示す図である。
【図７】本発明の遮光膜の補修方法の第２実施形態を示すフローチャートである。
【図８】本発明の遮光膜の補修方法の第３実施形態を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５５】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（凸レンズ）  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…開口部  ３２…不良開口部  ３３…遮光材料  １５０…補修装置  １５１…ＣＣＤカメラ  １５２…液滴吐出ヘッド  １５３…レーザ照射ヘッド  １５４…載置台  １５５…移動ステージ  １５６…制御装置  １５７…光源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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