(57)【要約】【課題】半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルにおいて、ラビング不足による表示品位の低下を低減する。【解決手段】ＴＦＴ基板２０に設けられたコンタクトホール２０ａを、対向基板４０に設けられた凸部４０ａに対してラビング処理方向下流側の側面に対向する位置に配置する。コンタクトホール２０ａの内側の領域Ａおよび凸部４０ａの頂部に対してラビング方向の下流側の傾斜部およびその近傍の領域Ｂではラビングが不足するため表示品位が低下するが、領域Ａおよび領域Ｂが重なるため表示品位が低下する領域を低減することができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、対向する前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟まれた液晶層とを備えるとともに、前記第１の基板の前記液晶層に対向する側に穴が形成され、前記第１の基板または前記第２の基板の前記液晶層に対向する側に、前記第１の基板に平行な頂部を有する透明絶縁膜からなる凸部が形成され、前記第１の基板および前記第２の基板の前記液晶層に対向する側の表面が、所定方向にラビング処理が施された液晶表示パネルにおいて、
前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側近傍に配置されたことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記凸部が前記第２の基板に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側の側面に対向する位置に配置されたことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記凸部が前記第１の基板に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側の側面に隣接する位置に配置されたことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
１個の画素内に透過領域と反射領域とを有し、前記凸部は前記液晶の厚さが前記反射領域において前記透過領域よりも薄くなるように形成され、前記第１の基板が画素電極およびスイッチング素子を備えたスイッチング素子基板、前記第２の基板が対向基板であり、前記穴が前記画素電極と前記スイッチング素子とが接触するコンタクトホールであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の液晶表示パネルを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルおよびそれを備えた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルを備えた液晶表示装置は薄型で低消費電力であるため、パーソナルコンピュータ等のＯＡ機器、電子手帳や携帯電話機等の携帯情報端末機器、カメラ一体型ＶＴＲなどに広く用いられている。このような液晶表示装置には、透過型や反射型のものがある。
【０００３】
透過型の液晶表示装置は、液晶表示パネルをバックライトで照明して表示を行うために、明るくて高コントラストを有する表示を行うことができるが、消費電力が大きくなる。一方、反射型の液晶表示装置は、液晶表示パネルを周囲の光を反射して照明するため、バックライトを使用しないので消費電力を小さくできるが、周囲の明るさによってコントラストが変化する問題がある。
【０００４】
このため、反射型のように周囲の光を反射して照明するとともに、透過型のようにバックライトの光により照明することのできる半透過型の液晶表示装置が実用化されている。
【０００５】
半透過型の液晶表示装置は、透過光と反射光の液晶層内を通過する光路長を同一にして光の特性を揃えるため、反射部分のセルギャップを透過部分のセルギャップの１／２とする必要がある。そのため、対向基板もしくはスイッチング素子基板であるＴＦＴ基板の反射領域部分に凸部を設け、この凸部上に反射用の画素電極を設ける。対向基板およびＴＦＴ基板には、液晶分子の配向を揃えるためにラビングが施されているが、このとき凸部のラビング方向下流側領域にラビング不足が発生し、このラビングが不足した領域では表示品位が低下する。特許文献１ではこのラビング不足による表示品位低下を抑制するため、表示品位低下領域を遮光する方法が提案されている。
【特許文献１】特開２００４−３２５７１５号公報（第８頁−第１２頁、図１、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、半透過型の液晶表示装置において、透過光と反射光の液晶層内を通過する光路長を同一にするために、対向基板もしくはＴＦＴ基板の反射領域に凸部が形成される。また、一般にＴＦＴ基板にはＴＦＴと画素電極を接続するためのコンタクトホールが形成される。
【０００７】
図５に従来の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの一例の概略構成図を示す。液晶表示パネル１１０は、ＴＦＴ基板１２０と対向基板１４０との間に液晶層１５０を備える構造であり、対向基板１４０の反射領域ＲにＴＦＴ基板１２０に平行な頂部を有する凸部１４０ａが設けられている。ＴＦＴ基板１２０は、第１の透明絶縁基板１２１上に、ベースコート膜１２２、半導体層１２３、ゲート絶縁膜１２４が順に設けられている。半導体層１２３はベースコート膜１２２の一部に設けられており、ゲート絶縁膜１２４はベースコート膜１２２の全体を覆うように設けられている。ゲート絶縁膜１２４上には、ゲート配線１２５およびＣＳ（補助容量）配線１２６が図５の紙面に対して垂直な方向に平行に設けられ、これらの配線を完全に覆うように第１の層間絶縁膜１２７が設けられている。第１の層間絶縁膜１２７上にはドレイン電極１２８およびソース配線（不図示）が設けられている。ドレイン電極１２８は、ゲート絶縁膜１２４と第１の層間絶縁膜１２７とを貫通するように設けられた開口部１２４ａおよび開口部１２７ａを通じて半導体層１２３と直接接触している。ソース配線は、ゲート配線１２５およびＣＳ配線１２６に対して垂直すなわち図５の紙面に平行に配置されており、ドレイン電極１２８と同様にゲート絶縁膜１２４と第１の層間絶縁膜１２７とを貫通するように設けられた開口部（不図示）で半導体層１２３と直接接触している。さらに、ドレイン電極１２８を完全に覆うように第２の層間絶縁膜１３１が設けられ、第１の層間絶縁膜１２７および第２の層間絶縁膜１３１の上に、透明絶縁膜１３４が全面に設けられている。透明絶縁膜１３４上には第１の透明導電膜１３６が設けられており、透明絶縁膜１３４および第２の層間絶縁膜１３１を貫通するように設けられたコンタクトホール１２０ａでドレイン電極１２８と直接接触している。第１の透明導電膜１３６の反射領域Ｒに相当する部分の上には反射用金属膜１３７が設けられ、第１の透明導電膜１３６、反射用金属膜１３７および透明絶縁膜１３４の露出している部分の上には第１の配向膜１３８が設けられている。ここで、第１の透明導電膜１３６および反射用金属膜１３７はそれぞれ透過領域Ｔの画素電極、反射領域Ｒの画素電極として機能する。
【０００８】
一方、対向基板１４０は、第２の透明絶縁基板１４１上にカラーフィルタ１４２が設けられ、反射領域Ｒに凸部１４０ａを形成する透明膜１４３が設けられている。透明膜１４３と第２の透明絶縁基板１４１とはカラーフィルタ１４２に設けられた開口部１４２ａで直接接触している。透明膜１４３およびカラーフィルタ１４２の透明膜１４３に覆われていない部分の上には第２の透明導電膜１４４が設けられており、その上には第２の配向膜１４５が設けられている。
【０００９】
第１の配向膜１３８および第２の配向膜１４５は、液晶層１５０の液晶分子１５０ａを所定の方向に配向させるようにローラなどによってラビングが施されている。図５に矢印で示した方向にラビングを施した場合、第１の配向膜１３８ではコンタクトホール１２０ａの内側の領域Ｗにおいて、第２の配向膜１４５では凸部１４０ａの頂部に対してラビング方向の下流側の凸部傾斜部およびその近傍の領域Ｘにおいて、凸部１４０ａの頂部などの他の部分と比べてローラなどが接触しない、または接触しにくいためラビングが不足する。
【００１０】
図６に従来の半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの他の一例の概略構成図を示す。図６に示す液晶表示パネルは、凸部をＴＦＴ基板側に設けた点が図５に示したものと異なり、実質上同一の部分には同一の符号を付してある。図６に示す液晶表示パネルのＴＦＴ基板１２０は、第１の透明絶縁基板１２１から第２の層間絶縁膜１３１までは図５に示したものと同じ構造である。第２の層間絶縁膜１３１の反射領域Ｒに相当する部分の上には反射用金属膜１３２が形成され、第２の層間絶縁膜１３１に設けられた開口部１３１ａでドレイン電極１２８と直接接触している。第１の層間絶縁膜１２７、第２の層間絶縁膜１３１および反射用金属膜１３２の上にはカラーフィルタ１３３が全面に設けられている。カラーフィルタ１３３上には透明絶縁膜１３４が全面に設けられており、透明絶縁膜１３４上の反射領域Ｒに相当する部分の上には凸部１２０ｂを形成する透明膜１３５が設けられている。透明絶縁膜１３４および透明膜１３５の上には第１の透明導電膜１３６が設けられており、透明絶縁膜１３４、透明膜１３５およびカラーフィルタ１３３を貫通するように設けられたコンタクトホール１２０ａでドレイン電極１２８と直接接触している。さらに第１の透明導電膜１３６および透明絶縁膜１３４の露出している部分の上には第１の配向膜１３８が設けられている。ここで、第１の透明導電膜１３６および反射用金属膜１３２はそれぞれ透過領域Ｔの画素電極、反射領域Ｒの画素電極として機能する。
【００１１】
一方、対向基板１４０は、第２の透明絶縁基板１４１上に第２の透明導電膜１４４および第２の配向膜１４５が順に設けられている。
【００１２】
図６に示した液晶表示パネル１１０でも、第１の配向膜１３８および第２の配向膜１４５はラビングが施されている。第２の配向膜１４５には凹凸がないため、全体に均一にラビングが施される。しかし、第１の配向膜１３８では、図６に矢印で示した方向にラビングを施した場合、コンタクトホール１２０ａの内側の領域Ｙと、凸部１２０ｂの頂部に対してラビング方向の下流側の凸部傾斜部およびその近傍の領域Ｚではローラなどが接触しない、または接触しにくいため、凸部１２０ｂの頂部など、他の部分と比べてラビングが不足する。
【００１３】
特許文献１で提案された液晶表示装置では、凸部の頂部に対してラビング方向下流側でのラビング不足による表示品位低下領域に対して遮光部を形成し表示品位の低下を防いでいるものの、コンタクトホール部分で発生するラビング不足による表示品位の低下は防ぐことができない。また、コンタクトホール部分での表示品位低下領域に対して遮光部を形成したとしても遮光部によって開口率が低下し、液晶表示装置において表示される画像が暗くなる。
【００１４】
そこで本発明では、開口率を低下させることなくＴＦＴ基板に設けられたコンタクトホールに起因する表示品位の低下を低減することができる、液晶表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために本発明は、第１の基板と、第２の基板と、対向する前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟まれた液晶層とを備えるとともに、前記第１の基板の前記液晶層に対向する側に穴が形成され、前記第１の基板または前記第２の基板の前記液晶層に対向する側に、前記第１の基板に平行な頂部を有する透明絶縁膜からなる凸部が形成され、前記第１の基板および前記第２の基板の前記液晶層に対向する側の表面が、所定方向にラビング処理が施された液晶表示パネルにおいて、前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側近傍に配置されたことを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、上記構成の液晶表示パネルにおいて、前記凸部が前記第２の基板に形成されたことを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、上記構成の液晶表示パネルにおいて、前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側の側面に対向する位置に配置されたことを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、上記構成の液晶表示パネルにおいて、前記凸部が前記第１の基板に形成されたことを特徴とする。
【００１９】
また本発明は、上記構成の液晶表示パネルにおいて、前記穴が、前記凸部の頂部に対して前記ラビング処理方向下流側の側面に隣接する位置に配置されたことを特徴とする。
【００２０】
また本発明は、上記構成の液晶表示パネルにおいて、１個の画素内に透過領域と反射領域とを有し、前記凸部は前記液晶の厚さが前記反射領域において前記透過領域よりも薄くなるように形成され、前記第１の基板が画素電極およびスイッチング素子を備えたスイッチング素子基板、前記第２の基板が対向基板であり、前記穴が前記画素電極と前記スイッチング素子とが接触するコンタクトホールであることを特徴とする。
【００２１】
また本発明に係る液晶表示装置は、上記構成の液晶表示パネルを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
第１の基板または第２の基板に設けられた凸部の頂部に対してラビング処理方向下流側のラビング処理が不足した領域と、第１の基板に設けられた穴は、表示品位が低下する領域であるが、本発明によると、穴が凸部の頂部に対してラビング処理方向下流側近傍に配置されているため、表示品位が低下する領域を最小限にすることができ、液晶パネルの表示品位の低下を低減することができる。また、遮光部を形成しないので開口率を低下させることがなく、また、製造プロセスを増加させることもない。
【００２３】
また、本発明によると、凸部を第２の基板に設け、穴を凸部の頂部に対してラビング処理方向下流側の側面に対向する位置に配置することにより、表示品位が低下する領域を穴とラビング処理方向下流側の側面の重複した領域に留め、液晶パネルの表示品位の低下を低減することができる。
【００２４】
また、本発明によると、凸部を第１の基板に設け、穴を凸部の頂部に対してラビング処理方向下流側の側面に隣接する位置に配置することにより、表示品位が低下する領域を穴とラビング処理方向下流側の側面の連続した領域に留め、液晶パネルの表示品位の低下を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
＜第１の実施形態＞
本発明の第１の実施形態について図を用いて説明する。図１は第１の実施形態に係る半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルのスイッチング素子基板であるＴＦＴ基板の部分平面図、図２は液晶表示パネルの図１のＩＩ‐ＩＩ位置での断面図である。
【００２６】
本実施形態に係る液晶表示パネル１０はＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｇｅｎｃｅ）モードの半透過型液晶表示パネルである。まず、液晶表示パネル１０の構成について説明する。液晶表示パネル１０は、ＴＦＴ基板２０と対向基板４０との間に液晶層５０を備える構造であり、対向基板４０の反射領域Ｒに、ＴＦＴ基板２０に平行な頂部を有する透明絶縁膜からなる凸部４０ａが設けられている。
【００２７】
ＴＦＴ基板２０は、ガラス等からなる第１の透明絶縁基板２１上に、ＳｉＯ2からなるベースコート膜２２がＣＶＤによって形成されている。ベースコート膜２２上には、ソース、ドレインおよびチャネル領域を有するＳｉからなる半導体層２３、およびゲート絶縁膜２４が順にＣＶＤによって形成されている。半導体層２３はベースコート膜２２の一部に設けられており、ゲート絶縁膜２４はベースコート膜２２の全体を覆うように設けられている。ゲート絶縁膜２４上には、平行に配置された、同じ金属からなるゲート配線２５およびＣＳ配線２６がスパッタによって形成され、これらの配線を完全に覆うように第１の層間絶縁膜２７が設けられている。第１の層間絶縁膜２７上には、同じ金属からなるドレイン電極２８およびソース配線２９がスパッタによって形成されている。ドレイン電極２８は、ゲート絶縁膜２４と第１の層間絶縁膜２７とを貫通するように設けられた開口部２４ａおよび開口部２７ａで半導体層２３と直接接触している。ソース配線２９は、ゲート配線２５およびＣＳ配線２６に対して垂直に配置されており、ドレイン電極２８と同様にゲート絶縁膜２４と第１の層間絶縁膜２７とを貫通するように設けられた開口部２４ｂおよび開口部２４ｂで半導体層２３と直接接触している。さらに、ドレイン電極２８を完全に覆うように、第２の層間絶縁膜３１がＣＶＤによって形成され、第１の層間絶縁膜２７および第２の層間絶縁膜３１の上に、透明絶縁膜３４が全面に設けられている。透明絶縁膜３４上には第１の透明導電膜３６が設けられており、透明絶縁膜３４および第２の層間絶縁膜３１を貫通するように設けられたコンタクトホール２０ａでドレイン電極２８と電気的に接続している。第１の透明導電膜３６の反射領域Ｒに相当する部分の上にはＡｌ等からなる反射用金属膜３７がスパッタにより形成され、さらに第１の透明導電膜３６、反射用金属膜３７および透明絶縁膜３４の露出している部分の上には第１の配向膜３８が印刷されている。
【００２８】
ここで、ソース配線２９およびゲート配線２５で囲まれた部分は１個の画素を構成し、第１の透明導電膜３６の反射用金属膜３７に覆われていない部分は透過領域Ｔの画素電極、反射用金属膜３７は反射領域Ｒの画素電極として動作する。また、ソース配線２９とゲート配線２５との交差部には、各画素のＯＮ／ＯＦＦの切り替えを行うアクティブスイッチング素子としてのＴＦＴ３０が、ゲート配線２５に設けられたゲート電極２５ａ、ソース配線２９およびドレイン電極２８によって構成されている。なお、図１ではＴＦＴ基板２０の電極の配置を明確に示すため、ゲート絶縁膜２４、第１の層間絶縁膜２７、第２の層間絶縁膜３１、透明絶縁膜３４、第１の透明導電膜３６および第１の配向膜３８は省略しており、反射用金属膜３７は１箇所を除いて一点鎖線で示している。
【００２９】
一方、対向基板４０は、ガラス等からなる第２の透明絶縁基板４１上に赤・緑・青のカラーフィルタ４２が設けられ、反射領域Ｒに凸部４０ａを形成する絶縁性の透明膜４３が設けられている。凸部４０ａは、透過光と反射光の液晶層５０内を通過する光路長を同一にして光の特性を揃えるために、反射領域Ｒのセルギャップｄ２を透過領域Ｔのセルギャップｄ１の１／２とするものであり、ポジ型の透明材料にて形成する。本実施形態では透過領域Ｔのセルギャップｄ１を５．０μｍとしているため、反射領域Ｒのセルギャップｄ２は２．５μｍとしている。したがって凸部４０ａの高さは２．５μｍとした。透明膜４３と第２の透明絶縁基板４１とはカラーフィルタ４２に設けられた開口部４２ａで直接接触している。透明膜４３およびカラーフィルタ４２の透明膜４３に覆われていない部分の上には対向基板の画素電極として第２の透明導電膜４４がスパッタにより形成されており、その上には第２の配向膜４５が印刷されている。
【００３０】
第１の配向膜３８および第２の配向膜４５は、液晶層５０の液晶分子５０ａを所定の方向に配向させるようにローラなどによって図１および図２において矢印で示した方向にラビングが施されている。
【００３１】
このような構成のＴＦＴ基板２０と対向基板４０は、その間に液晶層５０となる液晶が塗布され、対向基板４０の凸部４０ａのラビング方向下流側の斜面およびその近傍とコンタクトホール２０ａの位置が対向するように貼り合わされ、液晶表示パネル１０を構成している。液晶表示パネル１０を備える液晶表示装置は、液晶表示パネル１０をＴＦＴ基板２０側からＬＥＤなどからなるバックライト（不図示）によって照明することにより透過領域Ｔで表示し、周囲の光を反射用金属膜３７で反射することにより反射領域Ｒで表示する。
【００３２】
図２に矢印で示した方向にラビングを施した場合、第１の配向膜３８ではコンタクトホール２０ａの内側の領域Ａにおいて、第２の配向膜４５では凸部４０ａの頂部に対してラビング方向の下流側の凸部傾斜部およびその近傍の領域Ｂにおいて、ローラなどが接触しない、または接触しにくいため、凸部４０ａの頂部など他の部分と比べてラビングが不足する。本実施形態では、コンタクトホール２０ａは領域Ｂと対向する位置に設けられており、領域Ａと領域Ｂとは対向している。ここで、コンタクトホールの直径は３μｍであり領域Ｂのラビング方向の幅より狭いため、ラビングが不足している領域、すなわち液晶表示パネル１０において表示の品位が低下している部分は領域Ｂの幅となる。したがって、本実施形態に係る液晶表示パネル１０では、製造プロセスを増加させることなく表示の品位が低下する領域を領域Ｂの範囲に留めることができ、表示品位の低下を低減することができる。また、遮光部を設けないため、開口率を低下させることもない。なお、本実施形態において、領域Ａのラビング方向の幅が領域Ｂのラビング方向の幅よりも広くても構わない。その場合は、表示の品位が低下している部分は領域Ａの幅となる。
【００３３】
＜第２の実施形態＞
次に本発明の第２の実施形態について図を用いて説明する。図３は第２の実施形態に係る半透過型液晶表示装置の液晶表示パネルの断面図である。第２の実施形態に係る液晶表示パネルは、凸部をＴＦＴ基板側に形成した点が異なる以外は第１の実施形態とほぼ同様であり、実質上同一の部分には同一の符号を付している。また、図３は図２に相当する位置での断面図である。
【００３４】
本実施形態に係る液晶表示パネル１０のＴＦＴ基板２０は、第１の透明基板２１から第２の層間絶縁膜３１までは図２に示した第１の実施形態と同様の構成である。第２の層間絶縁膜３１の反射領域Ｒに相当する部分の上には反射用金属膜３２が形成され、第２の層間絶縁膜３１に設けられた開口部３１ａでドレイン電極２８と直接接触している。第１の層間絶縁膜２７、第２の層間絶縁膜３１および反射用金属膜３２の上には透明絶縁膜３４が全面に設けられている。反射領域Ｒでは透明絶縁膜３４上に、ＴＦＴ基板２０に平行な頂部を有する凸部２０ｂを形成する透明膜３５が設けられている。透明絶縁膜３４および透明膜３５の上には第１の透明導電膜３６が設けられており、透明絶縁膜３４に設けられたコンタクトホール２０ａでドレイン電極２８と直接接触している。さらに第１の透明導電膜３６および透明絶縁膜３４の露出している部分の上には第１の配向膜３８が設けられている。
【００３５】
一方、対向基板４０は、第２の透明絶縁基板４１上にカラーフィルタ４２、第２の透明導電膜４４および第２の配向膜４５が順に設けられている。透明膜３５と第２の透明絶縁基板４１とはカラーフィルタ４２に設けられた開口部４２ａで直接接触している。
【００３６】
第１の配向膜３８および第２の配向膜４５は、図３において矢印で示した方向にラビングが施されている。この場合、第１の配向膜３８ではラビングが不足している領域はないが、第２の配向膜４５では、コンタクトホール２０ａの内側の領域Ｃおよび凸部２０ｂの頂部に対してラビング方向の下流側の凸部傾斜部の領域Ｄにおいてラビングが不足する。
【００３７】
本実施形態において、コンタクトホール２０ａは、凸部２０ｂのラビング方向下流側の傾斜部と連続するように、すなわち凸部２０ｂとラビング方向下流側で接するように設けられている。図６の従来の液晶表示パネルに示したようにコンタクトホールを凸部２０ｂを形成する透明膜３５に設けた場合にはラビングが不足している領域が２箇所に分かれており、表示の品位が低下する領域が広かった。しかし、本実施形態ではラビングが不足している領域を１箇所にまとめて、表示の品位が低下する領域を狭くすることができる。したがって、本実施形態に係る液晶表示パネル１０では、製造プロセスを増加させることなく表示の品位が低下する領域を領域Ｃおよび領域Ｄを合わせた範囲に留めることができ、表示品位の低下を低減することができる。また、遮光部を設けないため、開口率を低下させることもない。
【００３８】
なお、本実施形態において、図４に示す第２の実施形態の別の態様に係る液晶表示パネルの断面図のように、カラーフィルタがＴＦＴ基板側に設けられていてもよい。図４に示す液晶表示パネル１０では、第１の層間絶縁膜２７、第２の層間絶縁膜３１および反射用金属膜３２の上にはカラーフィルタ３３が全面に設けられており、その上に透明絶縁膜３４が全面に設けられている。また、対向基板４０は第２の透明絶縁基板４１上に第２の透明導電膜４４および第２の配向膜４５が順に設けられている。
【００３９】
液晶表示パネル１０をこのように構成した場合でも、製造プロセスを増加させることなく表示の品位が低下する領域を領域Ｃおよび領域Ｄを合わせた範囲に留めることができ、表示品位の低下を低減することができる。また、遮光部を設けないため、開口率を低下させることもない。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶表示パネルのＴＦＴ基板の部分平面図
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ部分における液晶表示パネルの断面図
【図３】本発明の第２の実施形態に係る液晶表示パネルの断面の概略構成図
【図４】本発明の第２の実施形態の別の態様に係る液晶表示パネルの断面の概略構成図
【図５】対向基板に凸部が形成された従来の液晶表示パネルの断面の概略構成図
【図６】ＴＦＴ基板に凸部が形成された従来の液晶表示パネルの断面の概略構成図
【符号の説明】
【００４１】
１０      液晶表示パネル
２０      ＴＦＴ基板
２０ａ    コンタクトホール
２０ｂ    凸部
３０      ＴＦＴ
４０      対向基板
４０ａ    凸部
５０      液晶層
Ｒ      反射領域
Ｔ      透過領域
【図１】
2007187697.tif 000003
【図２】
2007187697.tif 000004
【図３】
2007187697.tif 000005
【図４】
2007187697.tif 000006
【図５】
2007187697.tif 000007
【図６】
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