(57)【要約】【課題】  本発明は、再生制御に優れる光記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明の光記録媒体は、記録層と、記録層の光入射側に形成され、光重合開始剤および光重合性化合物を含有する再生制御層と、を具備することを特徴とする。【選択図】  図１
2007080428.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層と、
前記記録層の光入射側に形成され、光重合開始剤および光重合性化合物を含有する再生制御層と、を具備することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記再生制御層は、熱重合性化合物および熱可塑性化合物のいずれかを含有することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記再生制御層は、３次元架橋ポリマーマトリクス構造を有することを特徴とする請求項１乃至２のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記再生制御層の層厚は、0.01ｍｍ以上0.05ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記再生制御層は、複数の前記記録層に挟まれ、
連続する情報は、複数の前記記録層に、交互に記録されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に係わる。
【背景技術】
【０００２】
光ビームを照射して情報の記録再生を行う光ディスクは、大容量性、高速アクセス性、媒体の可搬性を兼備し、安価に製造が可能で、データの記録、頒布等に幅広く利用されている。中でもＣＤ−ＲＯＭ（Compact Disc-Read-Only Memory）、ＤＶＤ−ＲＯＭ（Digital Versatile Disc-Read-Only Memory）
に代表される再生専用形は、プログラムや音楽ソフト、映像ソフト等の同一コンテンツの大量頒布に適している。
【０００３】
しかし、このようなコンテンツの大量頒布により、情報の無制限な拡散や違法コピーなどが生じ、著作権保護の面で大きな問題を生じている。
【０００４】
情報の無制限な拡散や違法コピーなどを解決する方法として、再生（視聴）可能時間、回数を制限できる光ディスクが提案されている。代表的なものとしては、米国Flexplay Technologies社が商用化したＤＶＤ「EZ-D（商品名）」が挙げられる（非特許文献１参照。）。
【０００５】
「EZ-D（商品名）」で用いられる再生制御技術は、酸素と反応して黒色化する色素を、基板に含有することが特徴である。再生前においては、光ディスクは酸素バリア機能を有するパッケージに梱包されている。再生時にパッケージを開封すると、光ディスクに酸素が浸透する。酸素が浸透すると、色素が黒色化し、ＤＶＤの再生光波長（650nm）を吸収し、記録層の情報を取り出すことができなくなる。すなわち、「EZ-D（商品名）」では、基板中の酸素の拡散速度によって、パッケージ開封後の再生可能時間が決まる。
【非特許文献１】Flexplay Technologies、“Flexplay”、[online]、[平成１７年９月２日検索]、インターネット＜URL：http://www.flexplay.com＞、＜URL：http://www.flexplay.com/how-flexplay-works.htm＞
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、機械的強度や転写性能などの要請から、数時間程度で酸素が拡散できる基板材料を見出すことは困難であった。したがって、「EZ-D（商品名）」に使用される技術では、数１０時間程度のおおまかな再生可能時間等の制御は出来るが、数時間の再生可能時間、数回の再生可能回数などのより微細な制御は不可能であった。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みて、再生制御に優れる光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の光記録媒体は、記録層と、記録層の光入射側に形成され、光重合開始剤および光重合性化合物を含有する再生制御層と、を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、再生制御に優れる光記録媒体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、実施の形態を通して共通の構成には同一の符号を付すものとし、重複する説明は省略する。また、各図は発明の説明とその理解を促すための模式図であり、その形状や寸法、比などは実際の装置と異なる個所があるが、これらは以下の説明と公知の技術を参酌して適宜、設計変更することができる。
【００１１】
また、以下、主として青色レーザを用いるＤＶＤについて説明するが、本発明の範囲は、これに限られるものではなく、赤色レーザを用いるＤＶＤや、ホログラム記録媒体等の他の光記録媒体についても適用可能である。
【００１２】
また、以下、再生制御層内の光重合開始剤および光重合性化合物は、再生光に感度を持つものについて説明するが、再生光に限らず、サーボ光等など、再生時に光記録媒体に入射する光に感度を持つものでもかまわない。
【００１３】
まず、本実施の形態の概要について、説明する。
【００１４】
本実施の形態に係る光記録媒体は、光記録媒体の再生を制御できる再生制御層を有する。再生制御層は、情報が記録された記録層の再生光の入射側に形成されており、再生光に感度を有する光重合開始剤および光重合性化合物を含有することを特徴とする。
【００１５】
本実施の形態によれば、情報を再生すると、再生制御層内で再生光を吸収した光重合開始剤がラジカル、カチオン等の活性種を発生する。この活性種により、光重合性化合物が光重合する。この光重合により屈折率分布や透過率分布が生じる。この分布によって光が散乱し、再生性能が低下する。これにより、再生時間や回数が制限でき、再生制御層による再生制御が可能となる。
【００１６】
この再生制御技術によれば、光重合開始剤や光重合性化合物の組成の変更により再生可能時間の細かな調整が可能である。
【００１７】
また、本実施の形態は、再生制御に光散乱を利用しているため、再生制御層の層厚は0.01ｍｍ以上0.05ｍｍ以下の薄膜で、再生制御が可能である。なお、再生制御層は、再生性能に影響を及ぼさない範囲で層厚を厚くできる。例えば、図４に示すような、張り合わせ方式を採る二層型の光ディスクであれば、0.6mmまで可能である。図１に示すような、一層型の光ディスクであれば、0.1mmまで可能である。
【００１８】
これに対し、「EZ-D（商品名）」では、約600μｍ厚さの基板に色素を含有させている。一般に、酸素との反応前後における色素の再生光吸収率の変化量、基板への色素含有率には限界がある。このため、「EZ-D（商品名）」に用いる再生制御技術では、色素を含有させる層に、数百μｍオーダーの厚さが必要になると考えられる。
【００１９】
また、本実施の形態は、パッケージは、再生光を散乱により遮断できればよいため、色素等の添加物は少量でよく、簡便な構成が可能である。
【００２０】
これに対し、「EZ-D（商品名）」では、再生前には酸素バリア機能を有するパッケージが必須である。
【００２１】
特に、張り合わせ方式をとる光ディスクであるＤＶＤやＨＤ−ＤＶＤにおいては、張り合わせ層（中間層）に光重合性化合物を分散することにより、張り合わせ層に再生制御の機能を持たせることが可能である。このとき、基板、記録層等の要求項目が大きい部位への影響は少ないため、この形態は、既存の材料との整合性に優れる。
【００２２】
次に、図１を参照し、本実施の形態を詳細に説明する。
【００２３】
図１は、本実施形態の一例を示す光記録媒体の断面模式図である。
【００２４】
光記録媒体１は、下から順に、基板５、反射層４、再生制御層３、再生光に対して透明な保護層２の積層体から構成されている。基板５は、情報が微小な凹凸形状によって予め記録されている。反射層４は、基板５の凹凸形状に沿うように形成されている。情報の再生は、対物レンズ６を用いて、再生光７を反射層４に照射することによって行う。このとき、再生制御層３は、情報を記録している反射層４の光入射側に形成されているため、再生光７の光照射を受ける。なお、ここでは、反射層４が記録層の役割を担う。
【００２５】
基板５を構成する材料としては、ガラス、ポリカーボネイト樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、及びそれらの組み合わせが挙げられる。基板の厚さは特に限定されるものではないが光学特性や機械的強度の面から0.3〜1.2mm程度の厚さが適当である。基板５に対する微小な凹凸形状による情報の記録に関しては、特に制限は無いが、例えば、金属スタンパーを用いての射出成形やインプリント、ガラススタンパーを用いての２Ｐ法等の手法が挙げられる。
【００２６】
保護層２を構成する材料としては前述の基板５を構成する材料と同じ物が挙げられる。保護層２を設ける場合、その厚さは特に限定されるものではないが光学特性や機械的強度の面から0.1〜1.2mm程度の厚さが適当である。
【００２７】
再生制御層３は、再生光に感度を有する光重合開始剤、および光重合性化合物を含有する。光重合開始剤は、光を吸収して光重合性化合物に重合反応を開始させる化合物である。光重合性化合物は、光重合開始剤により、重合が開始し、重合することにより、屈折率、透過率などの光学特性が変化する。一般的にフォトポリマーと呼ばれるものが代表的である。
【００２８】
また、再生制御層３は、光重合開始剤、光重合性化合物に加えて、接着性能を有し体積を保持するための化合物を含むことが好ましい。
【００２９】
反射層４は、一般に光ディスクに用いられている反射膜材料と同様であり、金、銀、アルミニウムなどの金属や、それらの金属を含む合金から構成されている。
【００３０】
本実施の形態の再生制御メカニズムを、図２（ａ）〜（ｃ）を参照し、説明する。
【００３１】
図２（ａ）〜（ｃ）は、再生制御層３の再生制御メカニズムを説明するための模式図である。
【００３２】
図２（ａ）に示すように、再生制御層３は、体積を保持するための化合物８（図２では、３次元架橋ポリマーマトリクス構造を模している。）と光重合性化合物９とを含有する。この再生制御層３下端の反射層４表面（図示しない。）に、再生光７が集光される。
【００３３】
図２（ｂ）に示すように、再生光７が照射された光強度の強い箇所において、光重合性化合物９の重合が始まる。すると、再生光強度の弱い部分にある光重合性化合物９は拡散によって再生光強度の強い部分に供給される。
【００３４】
図２（ｃ）に示すように、光重合性化合物９の光重合と拡散による供給とが繰り返された結果、再生制御層３内に高屈折率部分１０と低屈折率部分１１が形成される。再生光７は、この空間的な屈折率分布により散乱し、再生性能が低下する。
【００３５】
次に、再生制御層３の有する材料について、具体的に説明する。
【００３６】
再生制御層３は、光重合開始剤、光重合性化合物、接着性能を有し体積を保持するための化合物に加えて、バインダー等を含有していることが好ましい。以下、光重合開始剤、光重合性化合物、接着性能を有し体積を保持するための化合物、バインダーについて、順に説明する。
【００３７】
○  光重合開始剤
光重合開始剤は、光照射に起因してラジカル、カチオン等の活性種を発生し、光重合性化合物を重合させることができる。
【００３８】
光重合開始剤は、ラジカル重合性化合物に対しては光ラジカル重合開始剤を用い、カチオン重合性化合物に対しては光カチオン重合開始剤を用いる。光重合開始剤は、再生光の波長に応じて、適宜選択する。
【００３９】
光ラジカル重合開始剤は、例えば、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンジルメトキシエチルエーテル、２，２’−ジエチルアセトフェノン、２，２’−ジプロピルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、チオキサントン、１−クロロチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、３，３’４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）１，３，５−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）１，３，５−トリアジン、２−［（ｐ−メトキシフェニル）エチレン］−４，６−ビス（トリクロロメチル）１，３，５−トリアジン、ジフェニル-(２，４，６―トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド、チバスペシャルティケミカルズ社製のイルガキュア１４９、１８４、３６９、６５１、７８４、８１９、９０７、１７００、１８００、１８５０など各番号のもの、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシフタレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、デカノイルーパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、およびシクロヘキサノンパーオキサイド等が挙げられる。
【００４０】
再生光が青色半導体レーザの場合、光ラジカル重合開始剤として上述のうち、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、（チバスペシャルティケミカルズ）、ジフェニル-(２，４，６―トリメチルベンゾイル) ホスフィンオキサイドなどが、吸光係数、ラジカル発生効率などの面から適している。また、再生光波長に対して光ラジカル重合開始剤の吸光係数が低い場合は、増感色素を混合し再生光波長での感度を増加させることもできる。
【００４１】
光カチオン重合開始剤は、例えば、オニウム塩やジフェニルヨウドニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、テトラアリルスルホニウム塩などが挙げられる。また、再生光波長に対して光カチオン重合開始剤の吸光係数が低い場合は、増感色素を混合し再生光波長での感度を増加させることもできる。
【００４２】
○  光重合性化合物
光重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物が挙げられる。
【００４３】
ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物が挙げられる。
【００４４】
具体的には、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸エステル、不飽和カルボン酸アミド、ビニル化合物などが挙げられる。具体的には、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ビシクロペンテニルアクリレート、アクリル酸フェニル、２，４，６−トリブロモフェニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、アクリル酸アダマンチル、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フェニル、フェノキシエチルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、メタクリル酸アダマンチル、イソボルニルメタクリレート、N-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-メチレンビスアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ビニルピリジン、スチレン、ブロモスチレン、クロロスチレン、トリブロモフェニルアクリレート、トリクロロフェニルアクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、トリクロロフェニルメタクリレート、ビニルベンゾエート、3,5-ジクロロビニルベンゾエート、ビニルナフタレン、ビニルナフトエート、ナフチルメタクリレート、ナフチルアクリレート、N-フェニルメタクリルアミド、N-フェニルアクリルアミド、N-ビニルピロリジノン、N-ビニルカルバゾール、1-ビニルイミダゾール、ビシクロペンテニルアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールトリメタクリレート、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテートなどが挙げられる。
【００４５】
再生制御層に対するラジカル重合性化合物の含有量は、体積保持や接着性の面から２０重量％以下が望ましい。また、上述のラジカル重合性化合物を単体で用いてもよいし、これらの混合物を用いても構わない。
【００４６】
カチオン重合性化合物としては、例えば、エポキシ、オキセタン、イソブテン、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
【００４７】
○  接着性能を有し、体積を保持するための化合物
接着性能を有し、体積を保持するための化合物としては、無機材料ではゾルゲルガラス、有機材料では熱重合性化合物、熱可塑性高分子などが挙げられる。
【００４８】
熱重合性化合物としては、次に示す熱重合により生じた化合物が挙げられる。
【００４９】
すなわち、エポキシ―アミン段階重合、エポキシ―酸無水物段階重合、エポキシ―メルカプタン段階重合、不飽和エステル―アミン段階重合(マイケル付加による)、不飽和エステル―メルカプタン段階重合(マイケル付加による)、ビニル―シリコンヒドリド段階重合(ヒドロシリル化)、イソシアナート―ヒドロキシル段階重合(ウレタン形成)およびイソシアネート―アミン段階反応(ウレア形成)などである。
【００５０】
この中でも既存の材料、構成等との整合性に優れ、好適なのは、エポキシ化合物と硬化剤とを反応させて得られる硬化樹脂である。
【００５１】
エポキシ化合物としては、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ジエポキシオクタン、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル、３、４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’、４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、およびエポキシプロポキシプロピル末端のポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。
【００５２】
エポキシ化合物を硬化させる化合物（硬化剤）としては、エポキシの硬化剤として知られているアミン類、フェノール類、有機酸無水物、およびアミド類などが挙げられる。具体的には、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ヘキサメチレンジアミン、メンセンジアミン、イソフォロンジアミン、ビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタン、ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ｍ−キシリレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、１，３，６−トリスアミノメチルヘキサン、ジメチルアミノプロピルアミン、アミノエチルエタノールアミン、トリ（メチルアミノ）ヘキサン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジエチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、無水マレイン酸、無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ドデセニルこはく酸無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ポリビニルフェノール、テルペンフェノール樹脂、およびポリアミド樹脂等が挙げられる。
【００５３】
特に、体積保持に優れる３次元架橋ポリマーマトリクス構造を形成するために、反応部位を３箇所以上有する硬化剤が好ましい。
【００５４】
熱可塑性高分子としては、例えば、酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂などが挙げられる。
【００５５】
○  バインダー
バインダーは、体積変化を低減する役割を担う。また、その屈折率によっては、空間的な屈折率分布を顕著にし、より微細な再生制御に寄与することもできる。
【００５６】
再生制御層がバインダーを含む場合の再生制御メカニズムを、図３（ａ）〜（ｃ）を参照し、説明する。
【００５７】
図３（ａ）〜（ｃ）は、バインダーを含む場合の再生制御層３の再生制御メカニズムを説明するための模式図である。
【００５８】
図３（ａ）に示すように、再生制御層３は、体積を保持するための化合物８（ここでは、３次元架橋ポリマーマトリクス構造を模している。）と光重合性化合物９とバインダー１２を含有する。この再生制御層３下端の反射層４表面（図示しない。）に、再生光７が集光される。
【００５９】
図３（ｂ）に示すように、再生光７が照射された光強度の強い箇所において、光重合性化合物９の重合が始まる。すると、再生光強度の弱い部分にある光重合性化合物９は拡散によって再生光強度の強い部分に供給される。逆に、バインダー１２は、光重合性化合物９に押し出される形で再生光強度の弱い部分に移動する。
【００６０】
図３（ｃ）に示すように、光重合性化合物９の光重合とバインダー１２の移動とが繰り返された結果、再生制御層３内に高屈折率部分１０と低屈折率部分１１が形成される。再生光７は、この空間的な屈折率分布により散乱し、再生性能が低下する。また、バインダー１２は、光重合性化合物９が低減した部位に移動するので、再生制御層３の体積変化を低減できる。
【００６１】
なお、図３では、バインダー１２は、重合後の光重合性化合物９に対し、低屈折率である場合を示した。
【００６２】
バインダーとしては、再生時に不活性である有機化合物、あるいは無機微粒子を用いる。
【００６３】
このような有機化合物としては、少なくとも再生光に不活性であることが要求される。次に、再生制御層３中にラジカル重合性化合物を有する場合は、ラジカル不活性であることが要求される。再生制御層３中にカチオン重合性化合物を有する場合は、カチオン不活性であることが要求される。
【００６４】
バインダーに用いる有機化合物としては、光重合性化合物に比べて屈折率差の大きなものが好ましい。光重合性化合物に比べて低屈折率である化合物としては、フッ素化合物やスベルイミノ酸ジメチルなどが挙げられる。光重合性化合物に比べて高屈折率である化合物としては、芳香族硫黄化合物、芳香族ハロゲン化合物、フェニルナフタレンなどが挙げられる。
【００６５】
バインダーに用いる無機微粒子としては、SiO2、TiO2、Al2O3などの金属酸化物が挙げられる。無機微粒子の直径としては光散乱が生じにくい再生光波長の５分の１以下の球状が望ましい。
【００６６】
以下、再生制御層３が、体積を保持する化合物を有さない場合について説明する。
【００６７】
光重合性化合物は、光重合により接着性が向上する材料でもあり、接着性能と再生制御性能を併せ持つ。作成時に、一面光照射をし、一部の光重合性化合物を重合させ、再生制御層３に接着性を持たせる。このときの重合は、光が散乱しない程度に調整する。その後、再生時に、光重合性化合物の残部を重合させ、再生を制御する。
【００６８】
この場合、再生制御層３形成時に、体積保持に十分な硬さを得るための光照射が必要である。しかしながら、一般的な重合反応においては光照射を停止した後も連鎖的に重合反応が進行する。このため、再生時には、重合反応が過度に進行している可能性がある。この場合、再生制御性能が損なわれてしまう。
【００６９】
したがって、再生制御層３に体積を保持する化合物を含有させない場合は、体積保持のための光照射後、速やかに重合反応を停止させるための重合禁止剤を添加することが望ましい。
【００７０】
ここで、カチオン重合性化合物に対しては適当な重合禁止剤が存在しないため、光重合性化合物としてはラジカル重合性化合物を用いることが望ましい。
【００７１】
ラジカル重合性化合物に適用できる重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、p-t-ブチルカテコール、モノ-t-ブチルヒドロキノン等のヒドロキノン類、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ジ-p-クレゾール等のフェノール類、p-ベンゾキノン、ナフトキノン、p-トルキノン等のキノン類、又はナフテン銅などが挙げられる。
【００７２】
また、このとき、ラジカル重合性化合物は３次元架橋ポリマーマトリクスを形成することがより好ましい。そのためには、再生制御層３の前駆体は、エチレン性不飽和結合を２つ以上有する化合物を含有することがより好ましい。具体的には、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールトリメタクリレート、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテートなどが挙げられる。
【００７３】
（変形例）
本発明は、多層型光記録媒体にも用いることが出来る。
【００７４】
図４は、本発明を、張り合わせ型の片面２層光記録媒体に適用した場合の断面模式図である。
【００７５】
図４に示すように、光記録媒体１は情報が微小凹凸形状によって予め記録されている透明基板２及び基板５を有する。反射層４ａ及び部分的に再生光を反射・透過する半透明層４ｂは、夫々、基板５、透明基板２の微小凹凸に沿うように形成されている。反射層４ａおよび半透明層４ｂの間に、再生制御層３が形成されている。
【００７６】
透明基板２、基板５を有し、反射層４ａ、再生制御層３を構成する材料は図１に示した光記録媒体と同様のものを用いる。半透明層４ｂに関しては、金、銀、アルミニウムなどの金属やそれらを含む合金、あるいはSiO2、TiO2、Al2O3、ZiOなどの酸化物からなる薄膜、若しくはそれらの多層膜で構成されている。
【００７７】
このように、張り合わせ方式をとる光ディスクに本発明を適用する場合、所謂張り合わせ層に再生制御能を持たせることができるため、他の構成要素との整合性に優れ、好ましい。
【００７８】
この光記録媒体に対し、情報の再生を行うと前述のように再生制御層は再生光により光重合し散乱を生じ、結果、基板５に予め記録されていた情報は再生できなくなる。一方、透明基板２に予め記録されていた情報は、再生光が再生制御層３を通らないため再生が可能である。このため、多層光記録媒体に本発明を適用した場合、再生光入射側の記録層は再生制御層の機能にかかわらず再生が可能になってしまう。
【００７９】
そこで、再生制御層を利用して入射側の第一層に記録された情報の再生を制限するために、次のシステムが考えられる。トラック情報やセッション情報を記録するリードインエリアを第二層以降に設ける。第一層の情報を暗号化し、その暗号を復号化するのに必要な暗号鍵を第二層以降に記録する。連続する情報を、交互に複数の前記記録層に記録する。
【００８０】
なお、光記録媒体の形状は、円盤状、カード状などであるが、形状はこれらに限られない。
【実施例】
【００８１】
以下に実施例を説明するが、本発明の主旨を超えない限り、本発明は以下に掲載される実施例に限定されるものでない。
【００８２】
（実施例１）
本実施例では、以下の方法により、図１に示す光記録媒体１を作製した。
【００８３】
＜再生制御層前駆体の調製＞
まず、ラジカル重合性モノマーであるＮ−ビニルカルバゾール３．８６ｇに光ラジカル重合開始剤であるジフェニル-(２，４，６―トリメチルベンゾイル) ホスフィンオキサイド０．１９ｇを加えて攪拌しモノマー溶液Ａを調製した。次にエポキシ化合物である1，4−ブタンジオールジグリシジルエーテル１０．１ｇと、硬化剤であるジエチレントリアミン３．６ｇを混合してエポキシ溶液Ｂを調製した。Ａのモノマー溶液１．５ｍｌとＢのエポキシ溶液８．５ｍｌを混合、脱泡して再生制御層前駆体を調製した。
【００８４】
＜基板・反射膜の作製＞
８／１６変調信号が微小なピット（トラック幅0.37μm）によって設けられたディスク状のポリカーボネイト基板（厚さ0.6mm）を金属スタンパーにより射出成形し、その上に反射層としてアルミニウムをマグネトロンスパッタで100nmの厚さに形成した。
【００８５】
＜光記録媒体の形成＞
次に、上述のポリカーボネイト基板の変調信号が記録された面上にスピンコートにより前述の再生制御層前駆体を20μmの厚さに塗布した、その上に変調信号が記録されていないダミー基板（厚さ0.6mm）を配し密着させた後、６０℃の恒温槽で２時間加熱することにより硬化させ光記録媒体を得た。
【００８６】
なお、一連の作業は、記録領域４が感光しないように、波長500nmより短い光が遮光されている室内で行った。
【００８７】
＜再生制御性能の評価＞
＜初回の再生＞
評価には、開口数ＮＡ＝０．６５の対物レンズと波長４０５ｎｍの半導体レーザを備えた光ディスク評価装置を用いた。再生光強度を０．８ｍＷとし、上記、光記録媒体に対して初回の再生評価を行ったところジッタは６．０％であり再生性能は良好であった。
【００８８】
＜２回目以降の再生＞
初回の再生以降、１０分間隔で同様の再生評価を４回行った。各評価でのジッタを表１に示す。このように、３回目以降の再生では信号のジッタが大きくなり情報の再生が不可能になった。
【表１】
2007080428.tif 000003
【００８９】
（実施例２）
本実施例では、以下の方法により光記録媒体を作製した。
【００９０】
＜再生制御層前駆体の調製＞
再生制御層前駆体は他の実施例と同様に調製した。
【００９１】
＜基板・反射膜の作製＞
８／１６変調信号が微小なピット（トラック幅0.37μm）によって設けられたディスク状のポリカーボネイト基板（厚さ1.1mm）を金属スタンパーにより射出成形し、その上に反射層としてアルミニウムをマグネトロンスパッタで100nmの厚さに形成した。
【００９２】
＜光記録媒体の形成＞
次に、上述のポリカーボネイト基板の変調信号が記録された面上にスピンコートにより前述の再生制御層前駆体を20μmの厚さに塗布した後、その上にポリカーボネイトフィルム（厚さ0.1mm）を配し密着させた後、６０℃の恒温槽で２時間加熱することにより接着した。
【００９３】
なお、一連の作業は、記録領域４が感光しないように、波長500nmより短い光が遮光されている室内で行った。
【００９４】
＜再生制御性能の評価＞
評価には開口数ＮＡ＝０．８５の対物レンズと波長４０５ｎｍの半導体レーザを備えた光ディスク評価装置を用い、再生光強度を０．８ｍＷとし、上記、光記録媒体に対して複数回の再生評価を行った。試験結果を表２に示す。
【表２】
2007080428.tif 000004
【００９５】
（実施例３）
本実施例では、以下の方法により光記録媒体１を作製した。なお、ここで作製した光記録媒体１は、図１において記録層２を除去した場合の断面模式図で説明できる。
【００９６】
＜再生制御層前駆体の調製＞
まず、ラジカル重合性モノマーであるＮ−ビニルカルバゾール３．５ｇとジエチレングリコールジアクリレート０．３６ｇ、に光ラジカル重合開始剤であるジフェニル-(２，４，６―トリメチルベンゾイル) ホスフィンオキサイド０．１８ｇ、ラジカル重合禁止剤であるヒドロキノンを０．０１ｇ加えて攪拌し再生制御層前駆体を調製した。
【００９７】
＜基板・反射膜の作製＞
８／１６変調信号が微小なピット（トラック幅0.37μm）によって設けられたディスク状のポリカーボネイト基板（厚さ0.6mm）を金属スタンパーにより射出成形し、その上に反射層としてアルミニウムをマグネトロンスパッタで100nmの厚さに形成した。
【００９８】
＜光記録媒体の形成＞
次に、上述のポリカーボネイト基板の変調信号が記録された面上にスピンコートにより前述の再生制御層前駆体を20μmの厚さに塗布した後、発光ダイオードアレイ（中心波長４０７ｎｍ、総出力１００ｍＷ）を用いて基板全面に対して均一に５秒間照射した。さらに、その上に変調信号が記録されていないダミー基板（厚さ0.6mm）を配し密着させた後、室温において暗所で２時間放置することにより硬化させ光記録媒体を得た。
【００９９】
＜光記録媒体の形成＞
次に、上述のポリカーボネイト基板の変調信号が記録された面上にスピンコートにより前述の再生制御層前駆体を100μmの厚さに塗布した後、媒体表面を整えるための平坦なポリカーボネイト板を密着させ、その状態で６０℃の恒温槽で２時間加熱することにより硬化させ、最後にポリカーボネイト板を剥離することにより光記録媒体を得た。
【０１００】
なお、一連の作業は、記録領域４が感光しないように、波長500nmより短い光が遮光されている室内で行った。
【０１０１】
＜再生制御性能の評価＞
評価には開口数ＮＡ＝０．６５の対物レンズと波長４０５ｎｍの半導体レーザを備えた光ディスク評価装置を用い、再生光強度を０．８ｍＷとし、上記、光記録媒体に対して複数回の再生評価を行った。結果を表３に示す。
【表３】
2007080428.tif 000005
【０１０２】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれらに限られず、特許請求の範囲に記載の発明の要旨の範疇において様々に変更可能である。また、本発明は、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。さらに、上記実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることにより種々の発明を形成できる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】光記録媒体の断面模式図
【図２】再生制御層３の再生制御メカニズムを説明するための模式図
【図３】バインダーを含む場合の再生制御層３の再生制御メカニズムを説明するための模式図
【図４】張り合わせ型の光記録媒体の断面模式図
【符号の説明】
【０１０４】
１・・・光記録媒体
２・・・保護層
３・・・再生制御層
４・・・反射層
５・・・基板
６・・・対物レンズ
７・・・再生光
８・・・体積を保持するための化合物
９・・・光重合性化合物
１０・・・高屈折率部分
１１・・・低屈折率部分
１２・・・バインダー
４ａ・・・反射層
４ｂ・・・半透明層
【図１】
2007080428.tif 000006
【図２】
2007080428.tif 000007
【図３】
2007080428.tif 000008
【図４】
2007080428.tif 000009