(57)【要約】  【課題】  高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵させることが可能な半導体ＩＣ内蔵基板及びその製造方法を提供する。  【解決手段】  半導体ＩＣ１５のスタッドバンプ１６に対応したコア基板１０上の所定の位置に位置決め用穴１３を形成し、スタッドバンプ１６が樹脂基板１１にめり込むようにコア基板１０上に半導体ＩＣ１５を搭載した後、コア基板１０上にプレス基板１７をプレスして半導体ＩＣ１５をコア基板１０内に埋め込む。これにより、半導体ＩＣ１５の位置ずれを防止することができ、高精度に位置決めされた半導体ＩＣ１５を内蔵する半導体ＩＣ内蔵基板を製造することができる。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性突起物を有する半導体ＩＣと、前記半導体ＩＣが内蔵された積層基板とを少なくとも備え、
前記積層基板は、第1の樹脂層と、前記第1の樹脂層の前記一方の表面側に設けられた第２の樹脂層とを少なくとも含み、
前記半導体ＩＣは、前記導電性突起物が前記第1の樹脂層にめり込み、固定された状態で前記第１の樹脂層及び第２の樹脂層間に埋め込まれていることを特徴とする半導体ＩＣ内蔵基板。
【請求項２】
前記第１の樹脂層が熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の半導体ＩＣ内蔵基板。
【請求項３】
第1の樹脂層の一方の主面に位置決め用穴を形成する工程と、
導電性突起物を有する半導体ＩＣを用意し、前記導電性突起物を前記第1の樹脂層にめり込ませることによって前記第1の樹脂層上に前記半導体ＩＣを搭載する工程と、
前記第1の樹脂層の前記一方の主面側から第２の樹脂層をプレスすることにより、前記半導体ＩＣを前記第１及び第２の樹脂層間に埋め込む工程とを含むことを特徴とする半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の樹脂層が熱可塑性樹脂を含むことを特徴とする請求項３に記載の半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法。
【請求項５】
前記第１の樹脂層の少なくとも片面に金属板があらかじめ張り付けられていることを特徴とする請求項３に記載の半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法。
【請求項６】
前記第２の樹脂層の片面に金属板があらかじめ張り付けられていることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法。
【請求項７】
前記半導体ＩＣを第１及び第２の樹脂層間に埋め込んだ後のいずれかの工程に先立って、前記第２の樹脂層の前記金属板を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項６のいずれか１項に記載の半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法。
【請求項８】
前記第２の樹脂層に張り付けられた前記金属板を最終工程まで残存させることを特徴とする請求項６に記載の半導体ＩＣの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ＩＣ内蔵基板及びその製造方法に関し、特に、高精度に位置決めされた半導体ＩＣが内蔵された半導体ＩＣ内蔵基板及びその製造方法に関する。
【０００２】
近年、半導体ＩＣ搭載モジュールに対する小型化・薄型化の要求を満たすべく、搭載する半導体ＩＣをベアチップの状態で回路基板に搭載する提案が数多くなされている。しかしながら、回路基板の表面に半導体ＩＣを搭載すると、回路基板表面の一部が半導体ＩＣによって占有されてしまうことから、回路基板の使用効率が低下するという問題があった。また、回路基板上に半導体ＩＣが搭載されているため、モジュール全体を薄くすることが困難であるという問題もあった。
【０００３】
これを解決する方法としては、特許文献１に記載されているように、回路基板にキャビティを形成し、その内部にベアチップ状態の半導体ＩＣを埋め込むことによって半導体ＩＣ内蔵基板を構成する方法が考えられる。
【特許文献１】特開平９−３２１４０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載された方法では、半導体ＩＣを収容するためのキャビティを回路基板上に形成する必要があり、回路基板にある程度の厚みが必要となるため、回路基板全体の薄型化が困難である。また、半導体ＩＣをキャビティ内に埋め込む場合には、キャビティと半導体ＩＣとの間に隙間ができるため、半導体ＩＣの位置ずれが生じるという問題がある。このように、半導体ＩＣの実装位置にずれがあった場合には、半導体ＩＣと内部配線との相対的な位置関係にずれが生じ、半導体ＩＣ内蔵基板の製品としての歩留まりが著しく低下するという問題がある。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵する半導体ＩＣ内蔵基板を提供することにある。
【０００６】
本発明の目的はまた、高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵させることが可能な半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、導電性突起物を有する半導体ＩＣと、半導体ＩＣが内蔵された積層基板とを少なくとも備え、積層基板は、第1の樹脂層と、第1の樹脂層の一方の表面側に設けられた第２の樹脂層とを少なくとも含み、半導体ＩＣは、導電性突起物が第1の樹脂層にめり込み、固定された状態で第１の樹脂層及び第２の樹脂層間に埋め込まれていることを特徴とする半導体ＩＣ内蔵基板によって達成される。
【０００８】
本発明においては、第１の樹脂層が熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。これによれば、導電性突起物がめり込みやすく、半導体ＩＣを強固に固定することができると同時に絶縁層と接着層を別に設ける必要がなく、薄肉化や材料費、工程数を減らすことができる。ただし、熱硬化性樹脂であっても絶縁層上の接着層を形成すれば導電性突起物をめり込ませることができ、加熱して樹脂を軟化、溶融させることにより、固定することが可能である。
【０００９】
本発明の上記目的はまた、第1の樹脂層の一方の主面に位置決め用穴を形成する工程と、導電性突起物を有する半導体ＩＣを用意し、導電性突起物を第1の樹脂層にめり込ませることによって第1の樹脂層上に半導体ＩＣを搭載する工程と、第1の樹脂層の一方の主面側から第２の樹脂層をプレスすることにより、半導体ＩＣを第１及び第２の樹脂層間に埋め込む工程とを含むことを特徴とする半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法によっても達成される。
【００１０】
本発明においては、第１の樹脂層が熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。これによれば、導電性突起物がめり込みやすく、半導体ＩＣを強固に固定することができる。と同時に絶縁層と接着層を別に設ける必要がなく、薄肉化や材料費、工程数を減らすことができる。ただし、熱硬化性樹脂であっても絶縁層上の接着層を形成すれば導電性突起物をめり込ませることができ、加熱して樹脂を軟化、溶融させることにより、固定することが可能である。
【００１１】
本発明においては、第１の樹脂層の少なくとも片面に金属板が張り付けられていることが好ましい。これによれば、樹脂の硬化収縮による寸法変動、水分履歴による樹脂の膨張、収縮、ゆがみ等を防止することができ、半導体ＩＣの位置ずれを防止することができる。なお、金属板の張り付け方法としては、プリプレグ等の半硬化材料をプレス、ラミネートによって接着してもよく、粘着材を用いて張り付けてもよく、熱や紫外線で発泡するシートを介して張り付けてもよい。また、金属板を剥がす場合には、熱や紫外線により粘着力を落とす方法、加熱しながら剥がす方法、溶剤等により粘着材を落とす方法、エッチング可能なエッチャントで金属をエッチングする方法等があり、適時使い分けることができる。
【００１２】
本発明においては、第２の樹脂層の片面に金属板があらかじめ張り付けられていることが好ましい。これによれば、片面が金属板で補強されているのでハンドリングし易く、また第２の樹脂層をプレスする工程において樹脂の硬化収縮による寸法変動、水分履歴による樹脂の膨張、収縮、ゆがみ等を防止することができ、半導体ＩＣの位置ずれをより一層防止することができる。
【００１３】
本発明においては、半導体ＩＣを第１及び第２の樹脂層間に埋め込んだ後のいずれかの工程に先立って第２の樹脂層に張り付けられた金属板を除去してもよく、第２の樹脂層に張り付けられた金属板を最終工程まで残存させてもよい。第２の樹脂層の金属板を途中の工程で除去した場合には、その後のビアホール形成やめっき処理を容易に行うことができる。また、第２の樹脂層に張り付けられた金属板を最終工程まで残存させた場合には、当該金属板を放熱板として機能させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵する半導体ＩＣ内蔵基板を提供することができる。また、本発明によれば、高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵させることが可能な半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００１６】
図１乃至図１２は、本発明の好ましい実施の形態に係る半導体ＩＣ内蔵基板の製造方法を説明するための略断面図である。
【００１７】
図１に示すように、本実施形態に係る半導体ＩＣ内蔵基板の製造では、まずコア基板１０を用意する。コア基板１０としては、例えば、両面に銅箔１２があらかじめ張り付けられた樹脂基板１１（両面銅張り板）を用いることができる。樹脂基板１１の材料としては、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。これらの樹脂としては、特に限定される物ではないが、例えば、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂等を挙げることができる。また、熱硬化性樹脂層の上に前記熱可塑性樹脂を張り付けても良いし、熱硬化性樹脂であっても絶縁層上の接着層を形成すれば導電性突起物をめり込ませることができ、加熱して樹脂を軟化、溶融させることにより、固定することが可能である。また、ガラスクロス、アラミド、芳香族ポリエステル等の不織布に上記樹脂を含浸させた材料や上記樹脂にフィラーを含有させた材料を用いてもよい。樹脂基板１１の厚さは、１０〜５００μmであることが好ましく、銅箔１２の厚さは、３〜７０μｍであることが好ましい。なお、両側に貼り付けられる銅箔の厚みは異なっていてもよく、さらには材質や張り付け方法が異なっていてもかまわない。
【００１８】
次に、図２に示すように、コア基板１０の一方の主面（表面）にある銅箔１２をパターニングする。このときのパターニングはサブトラクティブ法により行ってもよく、セミアディティブ法により行ってもよい。このパターニングにより、コア基板１０の表面にはランドパターンや配線パターンといった導体パターン１２ａを形成する。
【００１９】
次に、図３（ａ）及び（ｂ）に示すように、半導体ＩＣ１５をコア基板１０上に搭載する。半導体ＩＣ１５の種類としては、例えば、ＣＰＵやＤＳＰのようなデジタルＩＣを挙げることができる。半導体ＩＣ１５の一方の主面にはパッド電極（不図示）が形成され、パッド電極上には導電性突起物の一種であるスタッドバンプ１６が設けられている。導電性突起物はスタッドバンプに限定されるものではなく、プレートバンプ、メッキバンプ、ボールバンプなどの各種のバンプを用いることができる。導電性突起物としてスタッドバンプを用いる場合には、銀や銅をワイヤボンディングにて形成することができ、プレートバンプを用いる場合には、メッキ、スパッタ又は蒸着によって形成することができる。また、メッキバンプを用いる場合には、メッキによって形成することができ、ボールバンプを用いる場合には、半田ボールをランド電極上に載置した後、これを溶融させるか、クリーム半田をランド電極上に印刷した後、これを溶融させることによって形成することができる。導電性突起物に使用可能な金属種としては特に限定されず、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル・クロム合金（Ｎｉ−Ｃｒ）、半田などを使用することができる。また、導電性材料をスクリーン印刷し、これを硬化させた円錐状、円柱状等のバンプや、ナノペーストを印刷し、加熱によりこれを焼結させてなるバンプを用いることもできる。
【００２０】
特に限定されるものではないが、半導体ＩＣ１５の厚さｔは、通常の半導体ＩＣ１５に比べて非常に薄くされている。半導体ＩＣの厚さｔについては、特に限定されないが、１００μｍ以下、例えば２０〜５０μｍ程度に設定することが好ましい。これは、半導体ＩＣ１５の厚さｔは、薄ければ薄いほど、半導体ＩＣ内蔵基板全体の厚みを低減できる一方、薄くしすぎると、半導体ＩＣ１５にクラックが発生したり、ハンドリングが著しく困難となるからである。これに対し、半導体ＩＣ１５の厚さｔを２０〜５０μｍ程度に設定すれば、半導体ＩＣ内蔵基板全体の厚みを十分に低減しつつ、クラックの発生やハンドリング性の著しい低下を防止することが可能となる。
【００２１】
本実施形態においては、このような半導体ＩＣ１５をコア基板１０上に搭載する際、スタッドバンプ１６を樹脂基板１１にめり込ませる。半導体ＩＣの搭載は一般的なマウンターを用いておこなうことができ、搭載時に半導体ＩＣへ加える荷重も、樹脂基板１１が熱可塑性樹脂であることから、通常の半導体ＩＣの搭載のときと同等の荷重で足りる。このようにして半導体ＩＣ１５は正確に位置決めされ、図３（ｂ）に示すように、半導体ＩＣ１５はコア基板１０上に仮固定される。
【００２２】
次に、図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、コア基板１０と同サイズのプレス基板１７を用意し、コア基板１０の上面にプレス基板１７を張り合わせる。プレス基板１７としては、リフロー耐久性を有する材料であれば熱硬化性、熱可塑性樹脂を問わず用いることができる。具体的にはエポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂（BTレジン）、フェノール樹脂、ビニルベンジル樹脂、ポリフェニレンエーテル（ポリフェニレンエーテルオキサイド）樹脂（PPE,PPO）、シアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリイミド樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂などを選択することができる。また、ガラスクロス、アラミド、芳香族ポリエステル等の不織布に上記樹脂を含浸させた材料や上記樹脂にフィラーを含有させた材料を用いてもよい。プレス基板１７の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましい。
【００２３】
このようなプレス基板１７をプレスしながら加熱することにより、プレス基板１７に含まれる熱硬化性樹脂が溶融、硬化するか、熱可塑性樹脂が溶融し、半導体ＩＣ１５がコア基板１０内に埋め込まれた状態となる。つまり、半導体ＩＣ１５は、樹脂基板１１によって構成される第１の樹脂層と、プレス基板１７によって構成される第２の樹脂層との間に挟み込まれた状態となる。このとき、半導体ＩＣ１５の各スタッドバンプ１６が樹脂基板１１にめり込んでいるので、半導体ＩＣ１５の位置ずれを防止することができる。このようにして、図４（ｂ）に示すように、半導体ＩＣ１５が埋め込まれた積層基板１０Ａが完成する。
【００２４】
次に、図５に示すように、積層基板１０Ａを上下反転させ、銅箔１２をエッチングして、ビアホールを形成すべき領域にある銅箔１２を選択的に除去する。銅箔１２の除去は、サブトラクティブ法又はセミアディティブ法によって行うことができる。これにより、開口パターン１２ｂ，１２ｃを形成する。
【００２５】
次に、図６に示すように、開口パターン１２ｂ、１２ｃの形成位置にビアホール１８を形成する。ビアホール１８の形成は、特に限定されるものではないが、レーザ加工によって行うことができ、炭酸ガスレーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ等を用いることができる。このときのレーザビームの径は、例えば５０μｍ程度に設定すればよい。
【００２６】
次に、図７に示すように、ビアホール１８の内部を含めた積層基板１０Ａの全面に下地導体層１９を形成する。下地導体層１９としては、例えば銅（Ｃｕ）を用いることができる。下地導体層１９の形成方法としては、特に限定されるものではないが、無電解メッキ法、スパッタ法、蒸着法等を用いることができる。下地導体層１９は、その後に行う電解メッキの下地となるため、その厚みとしては非常に薄く、例えば０．００５〜３μｍ程度で足りる。
【００２７】
次に、図８に示すように、積層基板１０Ａの全面にドライフィルム２０を張り付けた後、これをパターニングして、ビアホール１８が形成されている領域周辺にあるドライフィルム２０を部分的に除去する。このときのパターニングはサブトラクティブ法によって行うが、セミアディティブ法やフルアディティブ法を用いてもよい。これにより、ビアホール１８が形成されている領域周辺以外がドライフィルム２０で覆われた状態となる。
【００２８】
次に、図９に示すように、パターニングされたドライフィルム２０をマスクとして用い、電界メッキ法によりビアホール１８内を導電性材料２１で埋めると共に、ビアホール１８の上端部に導体パターン（ランドパターンあるいは配線パターン）を形成する。メッキ液の種類については適宜選択すればよく、例えば、導電性材料２１を銅（Ｃｕ）とする場合には、メッキ液として硫酸銅を用いることができる。なお、ビアホール１８内に空洞が残るような場合には、ビアホール１８内を導電性樹脂で埋めてもよい。このようにすれば、メッキ液の残留によるビアホール１８の腐食を防止することができる。
【００２９】
次に、図１０に示すように、ドライフィルム２０を剥離して、積層基板１０Ａ上の下地導体層１９を露出させた後、図１１に示すように、不要な下地導体層１９を除去し、個々の導体パターンを分離する。これにより、ランドパターンや配線パターンが形成された状態となる。
【００３０】
最後に、図１２に示すように、導体パターン間をレジスト２２で埋めて平坦化することにより、導体パターン間の十分な絶縁状態を確保する。以上により、本実施形態によるＩＣ内蔵基板２５が完成する。
【００３１】
以上説明したように、本実施形態によれば、スタッドバンプ１６を第1の樹脂層となるコア基板の樹脂基板にめり込ませることによってコア基板１０上に半導体ＩＣ１５を搭載した後、コア基板１０上に第２の樹脂層となるプレス基板１７をプレスすることにより、半導体ＩＣ１５を第１及び第２の樹脂層間に埋め込むこととしたので、半導体ＩＣ１５の位置ずれを防止することができ、高精度に位置決めされた半導体ＩＣを内蔵する半導体ＩＣ内蔵基板を製造することができる。
【００３２】
また、本実施形態によれば、半導体ＩＣ１５をコア基板１０上に搭載してからプレス基板１７のプレスによって積層基板１０Ａ内に埋め込むまでの間、コア基板１０には銅箔１２が張り付けられているので、樹脂の硬化収縮による寸法変動、水分履歴による樹脂の膨張、収縮、ゆがみ等を防止することができる。特に、コア基板１０の表面側の銅箔１２については、半導体ＩＣ１５の搭載領域を確保するため、パターニングによってその多くが除去されてしまうが、裏面側の銅箔１２については全面に形成されているため、樹脂基板１１の収縮等を抑制できる程度の強度・剛性を保っている。したがって、コア基板１０の寸法変動に伴う半導体ＩＣ１５の位置ずれを防止することができる。
【００３３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００３４】
例えば、上記実施形態においては、コア基板１０として両面銅張り板を用いる場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、片面銅張り板を用いてもよい。また、樹脂基板１１に張り付けられる金属としても銅箔に限定されず、種々の金属板を用いることができる。つまり、本発明では、少なくとも片面に金属板が張り付けられた樹脂基板をコア基板として用いることができる。さらに、本発明のコア基板は、金属板が張り付けられた樹脂基板に限定されず、他の方法によって寸法変動を抑制できるような場合には樹脂基板のみであってもかまわない。
【００３５】
また、上記実施形態においては、コア基板１０にのみ金属板が張り付けられており、プレス基板１７が樹脂のみで構成されている場合について説明したが、例えば、図１３に示すように、片面に銅箔１７ｘがあらかじめ張り付けられた樹脂基板（片面銅張り板）をプレス基板１７として用いることもできる。つまり、ハンドリングするときにプレス基板１７の片面が金属板で補強されていればよい。プレス基板１７にこのような片面銅張り板を用いた場合には、図１３に示す図６と同様のプレス工程においてハンドリングし易く、また樹脂の硬化収縮による寸法変動、水分履歴による樹脂の膨張、収縮、ゆがみ等を防止することができ、半導体ＩＣの位置ずれをより一層防止することができる。このようにして、図１３のプレス基板１７の片面（上側の面）にも金属板を張り付けた状態で半導体ＩＣを埋込んだ後、例えば図８に示したビアホール１８の形成前等、工程の途中のどこかで金属板１７ｘを剥離してもよく、あるいはプレス基板１７に張り付けた金属板１７ｘを最終工程までそのまま残して残存させて、最終的に図１４に示すように、ＩＣ内蔵基板２５の最下面で放熱板として機能させることも可能である。
【００３６】
また、上記実施形態においては、ビアホール１８の形成をレーザ加工によって行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、フォトリソグラフィ、ドライブラスト、ウェットブラスト等の他の方法を用いてもよい。
【００３７】
また、上記実施形態においては、半導体ＩＣ１５を埋め込むためのプレス用樹脂シートの一例としてプレス基板１７を用いる場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂シート等、他の樹脂シートを用いてもかまわない。
【００３８】
また、上記実施形態においては、銅箔１２をエッチングして、ビアホール１８を形成すべき領域に開口パターン１２ｂ，１２ｃを形成する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、銅箔１２全体を完全に除去してもかまわない。このようにしたとしても、積層基板１０Ａの内部にあるスタッドバンプ１６や導体パターンを透過的に参照しながらレーザ加工を行えば、ビアホール１８の形成位置を正確に特定することができる。
【００３９】
また、上記実施形態においては、スタッドバンプ１６の形成位置にもビアホール１８を形成しているが、スタッドバンプ１６の場合にはある程度の突起量を有するため、積層基板１０Ａの基板面の研磨又はブラストによってスタッドバンプ１６の先端部分を頭出しすることで、ビアホール１８の形成及びビアホール１８内への導電性材料２１の埋め込みに代えることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（コア基板の用意）を説明するための略断面図である。
【図２】図２は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（パターニング）を説明するための略断面図である。
【図３】図３は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（ＩＣ仮置き）を説明するための略断面図である。
【図４】図４は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（樹脂プレス）を説明するための略断面図である。
【図５】図５は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（銅箔エッチング）を説明するための略断面図である。
【図６】図６は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（ビアホール加工）を説明するための略断面図である。
【図７】図７は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（下地導体層の形成）を説明するための略断面図である。
【図８】図８は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（パターニング）を説明するための略断面図である。
【図９】図９は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（電界メッキ）を説明するための略断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（ドライフィルムの剥離）を説明するための略断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（下地導体層の除去）を説明するための略断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（レジストの形成）を説明するための略断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の他の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（樹脂プレス）を説明するための略断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の好ましい実施の形態に係るＩＣ内蔵基板の製造方法の一工程（最終工程）を説明するための略断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
１０    コア基板
１０Ａ    積層基板
１１    樹脂基板（第１の樹脂層）
１２    銅箔
１２ａ    導体パターン
１２ｂ    開口パターン
１２ｃ    開口パターン
１６    スタッドバンプ
１７    プレス基板（第２の樹脂層）
１７ｘ    銅箔（金属板）
１８    ビアホール
１９    下地導体層
２０    ドライフィルム
２１    導電性材料
２２    レジスト
２５    半導体ＩＣ内蔵基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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