(57)【要約】【課題】ワイピングシート交換のための作業効率の低下を抑えることができると同時に、２種類のワイピングを容易に行なうことができるワイピング装置を提供する。【解決手段】ワイピングエリア１６１に臨んだ機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２を個々に払拭する２台のワイピングユニット１０１,１０２と、２台のワイピングユニット１０１,１０２を選択的にワイピングエリア１６１に臨ませるシフト機構１００と、機能液滴吐出ヘッド１７と各のワイピングユニット１０１,１０２と、を相対的に払拭移動させるＹ軸テーブル１３と、２台のワイピングユニット１０１,１０２、シフト機構１００およびＹ軸テーブル１３を制御する制御コンピュータと、を備えたものである。【選択図】図１
2007275794.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイピングエリアに臨んだ機能液滴吐出ヘッドのノズル面を個々に払拭する２台のワイピングユニットと、
前記２台のワイピングユニットを選択的に前記ワイピングエリアに臨ませるシフト機構と、
前記機能液滴吐出ヘッドと前記ワイピングエリアに臨んだ一方の前記ワイピングユニットと、を相対的に払拭移動させる移動機構と、
前記２台のワイピングユニット、前記シフト機構および前記移動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするワイピング装置。
【請求項２】
前記シフト機構は、前記２台のワイピングユニットを支持する共通ベースと、
前記共通ベースを介して、前記２台のワイピングユニットを前記払拭移動の移動方向と直交する方向に往復動させる往復動機構と、を有していることを特徴とする請求項１に記載のワイピング装置。
【請求項３】
前記各ワイピングユニットは、ユニット本体と、前記ユニット本体に着脱自在に装着され前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、を有し、
前記制御手段は、前記ワイピングエリアに臨んでいる前記ワイピングシートの交換指令に基づいて、前記シフト機構を駆動することを特徴とする請求項１または２に記載のワイピング装置。
【請求項４】
前記機能液滴吐出ヘッドとして、相互に成分の異なる第１機能液および第２機能液をそれぞれ導入する第１機能液滴吐出ヘッドおよび第２前記機能液滴吐出ヘッドが用いられており、
前記２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、前記ワイピングシートに第１機能液に対応する第１洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、前記ワイピングシートに第２機能液に対応する第２洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、
前記制御手段は、前記ワイピング指令に基づいて、前記第１機能液滴吐出ヘッドに対し、前記第１のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、第１洗浄液を含浸させた前記ワイピングシートにより払拭動作させ、第２機能液滴吐出ヘッドに対し、前記第２のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、第２洗浄液を含浸させた前記ワイピングシートにより払拭動作させることを特徴とする請求項１または２に記載のワイピング装置。
【請求項５】
前記２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、前記ワイピングシートに洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートとを有し、
前記制御手段は、前記ワイピング指令に基づいて、前記第１のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、洗浄液を含浸させた前記ワイピングシートにより払拭動作させた後、前記第２のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、前記ワイピングシートにより乾拭きの払拭動作させることを特徴とする請求項１または２に記載のワイピング装置。
【請求項６】
前記２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、前記ワイピングシートに荒拭き用の副洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、前記ワイピングシートに仕上げ拭き用の主洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、
前記制御手段は、前記ワイピング指令に基づいて、前記第１のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、前記副洗浄液を含浸させた前記ワイピングシートにより払拭動作させた後、前記第２のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに導入し、前記主洗浄液を含浸させた前記ワイピングシートにより払拭動作させることを特徴とする請求項１または２に記載のワイピング装置。
【請求項７】
機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットおよび第２のワイピングユニット、を用いて行なうワイピング装置の運転方法であって、
前記第１のワイピングユニットをワイピングエリアに移動させて前記ノズル面を払拭するときは、前記第２のワイピングユニットを待機エリアに移動させて前記ワイピングシートの交換を行い、
前記第２のワイピングユニットを前記ワイピングエリアに移動させて前記ノズル面を払拭するときは、第１のワイピングユニットを待機エリアに移動させて前記ワイピングシートの交換を行うことを特徴とするワイピング装置の運転方法。
【請求項８】
相互に成分の異なる第１機能液および第２機能液をそれぞれ導入する第１機能液滴吐出ヘッドおよび第２機能液滴吐出ヘッドのそれぞれのノズル面を、第１機能液に対応する第１洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、第２機能液に対応する第２洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、
前記第１機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、前記第１のワイピングユニットにより払拭を行い、前記第２機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、前記第２のワイピングユニットにより払拭を行なうことを特徴とするワイピング方法。
【請求項９】
機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、ワイピングシートにより乾拭きで払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、
前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、前記第１のワイピングユニットにより払拭した後、前記第２のワイピングユニットにより払拭することを特徴とするワイピング方法。
【請求項１０】
機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、荒拭き用の副洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、仕上げ拭き用の主洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、
前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、前記第１のワイピングユニットにより払拭した後、前記第２のワイピングユニットにより払拭することを特徴とするワイピング方法。
【請求項１１】
請求項１ないし６のいずれかに記載のワイピング装置と、
前記機能液滴吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、また請求項１３に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワイピングシートにより、機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング装置、ワイピング装置の運転方法およびワイピング方法、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）を有した液滴吐出装置では、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に機能液やゴミ等が付着したり、機能液滴吐出ヘッドのインク流路内に増粘した機能液が溜まったりし、これに起因してノズルが詰まったり、描画品質に悪影響を及ぼしたりすることがある。そこで、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能を維持するためクリーニング機構を設け、定期的あるいは必要に応じて機能液滴吐出ヘッドの清掃が行なわれている。このクリーニング機構として、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにて拭払するワイピング装置や、機能液滴吐出ヘッドのノズルからインク流路内のインクを吸引する吸引装置が用いられる。
【０００３】
従来、このワイピング装置は、１台のワイピングユニットを備えており、このワイピングユニットは、ワイピングシートを繰り出す繰出しリールと、繰り出されたワイピングシートを巻き取る巻取りリールと、繰り出されたワイピングシートを機能液滴吐出ヘッドに押し付けるワイピングローラと、巻取りリールを巻取り回転させる巻取りモータと、を有している。そして、巻取りモータを駆動し、ワイピングシートを送りながらワイピングローラによりこれを機能液滴吐出ヘッドのノズル面に押し付けることにより、ワイピングシートがノズル面に摺接して払拭（ワイピング）動作が行なわれる（特許文献１参照）。
【０００４】
また、ワイピングシートのシート送り経路には、ワイピングローラの近傍に位置して洗浄液供給ヘッドが臨んでおり、ワイピングシートには、ノズル面を払拭する直前に洗浄液が散布され、機能液滴吐出ヘッドのノズル面のワイピングは、洗浄液を含浸したワイピングシートで行なわれるようになっている。
【特許文献１】特開２００５−２３１３４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような従来のワイピング装置におけるワイピングシートは、消耗品であり、使用して巻取りリールに全て巻き取られた段階で交換される。しかしながら、ワイピングシートの交換は一旦装置を止めて行なうため、作業効率が低下するという問題があった。また、１台のワイピングユニットでは機能液滴吐出ヘッドに対して容易に２種類のワイピングを行なうことができないという問題があった。
【０００６】
本発明は、ワイピングシート交換のための作業効率の低下を抑えることができると同時に、２種類のワイピングを容易に行なうことができるワイピング装置、ワイピング装置の運転方法およびワイピング方法、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のワイピング装置は、ワイピングエリアに臨んだ機能液滴吐出ヘッドのノズル面を個々に払拭する２台のワイピングユニットと、２台のワイピングユニットを選択的にワイピングエリアに臨ませるシフト機構と、機能液滴吐出ヘッドとワイピングエリアに臨んだ一方のワイピングユニットと、を相対的に払拭移動させる移動機構と、２台のワイピングユニット、前記シフト機構および上記移動機構を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この場合、シフト機構は、２台のワイピングユニットを支持する共通ベースと、共通ベースを介して、２台のワイピングユニットを上記払拭移動の移動方向と直交する方向に往復動させる往復動機構と、を有していることが好ましい。
【０００９】
これらの構成によれば、シフト機構により、２台のワイピングユニットをワイピングエリアに交互に導入して使用することにより、一方のワイピングユニットでワイピング動作を実行しているときに、他方のワイピングユニットのメンテナンス等を実行することが可能となる。これにより、機能液滴吐出ヘッド側では常時、ワイピングが可能となるため、作業効率を向上させることができる。また、２台のワイピングユニットにおけるワイピングシートやワイピングシートに含浸させる洗浄液等を、相違させることにより２種類のワイピング形態を実行させることができ、効率の良いワイピングが可能になる。
【００１０】
この場合、ワイピング装置の各ワイピングユニットは、ユニット本体と、前記ユニット本体に着脱自在に装着され前記ノズル面を払拭するワイピングシートと、を有し、制御手段は、ワイピングエリアに臨んでいるワイピングシートの交換指令に基づいて、前記シフト機構を駆動することが、好ましい。
【００１１】
また、本発明のワイピング装置の運転方法は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面をワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットおよび第２のワイピングユニット、を用いて行なうワイピング装置の運転方法であって、第１のワイピングユニットをワイピングエリアに移動させてノズル面を払拭するときは、第２のワイピングユニットを待機エリアに移動させてワイピングシートの交換を行い、第２のワイピングユニットをワイピングエリアに移動させてノズル面を払拭するときは、第１のワイピングユニットを待機エリアに移動させてワイピングシートの交換を行うことを特徴とする。
【００１２】
これらの構成によれば、第１のワイピングユニットをワイピングエリアに移動させてノズル面を払拭するときは、第２のワイピングユニットを待機エリアに移動させてワイピングシートの交換を行い、第２のワイピングユニットをワイピングエリアに移動させてノズル面を払拭するときは、第１のワイピングユニットを待機エリアに移動させてワイピングシートの交換を行うことにより、ワイピングシートの交換時に装置を停止する必要がないため、ワイピングシート交換のための作業効率の低下を抑えることができる。
【００１３】
上記のワイピング装置において、機能液滴吐出ヘッドとして、相互に成分の異なる第１機能液および第２機能液をそれぞれ導入する第１機能液滴吐出ヘッドおよび第２機能液滴吐出ヘッドが用いられており、２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに第１機能液に対応する第１洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに第２機能液に対応する第２洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、制御手段は、ワイピング指令に基づいて、第１機能液滴吐出ヘッドに対し、第１のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、第１洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭動作させ、第２機能液滴吐出ヘッドに対し、第２のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、第２洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭動作させることが、好ましい。
【００１４】
また、本発明のワイピング方法は、相互に成分の異なる第１機能液および第２機能液をそれぞれ導入する第１機能液滴吐出ヘッドおよび第２前記機能液滴吐出ヘッドのそれぞれのノズル面を、第１機能液に対応する第１洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、第２機能液に対応する第２洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、第１機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、第１のワイピングユニットにより払拭を行い、第１機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、第２のワイピングユニットにより払拭を行なうことを特徴とする。
【００１５】
これらの構成によれば、相互に成分の異なる２種類の機能液をそれぞれ導入する第１機能液滴吐出ヘッドおよび第２機能液滴吐出ヘッドに対し、２種類の機能液にそれぞれ対応した洗浄液を含浸されたワイピングシートによってワイピングを行なうため、機能液滴吐出ヘッド毎に適切なワイピングを実行することができる。なお、２種類の機能液には、例えば色彩の異なる機能液や粘性の異なる機能液等が、これに相当する。
【００１６】
上記のワイピング装置において、２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートとを有し、制御手段は、ワイピング指令に基づいて、第１のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭動作させた後、第２のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、ワイピングシートにより乾拭きの払拭動作させることが、好ましい。
【００１７】
また、上記のワイピング方法は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、ワイピングシートにより乾拭きで払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、第１のワイピングユニットにより払拭した後、第２のワイピングユニットにより払拭することを特徴とする。
【００１８】
これらの構成によれば、洗浄液を含浸したワイピングシートにより払拭した後に、洗浄液を含浸していないワイピングシートにより乾拭きすることにより、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対する良好なワイピングを行なうことができる。この場合、ワイピングシートも異なる専用のものを用いることが、より好ましい。
【００１９】
上記のワイピング装置において、２台のワイピングユニットのうち、第１のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに荒拭き用の副洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、第２のワイピングユニットは、ノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに仕上げ拭き用の主洗浄液を噴霧する噴霧機構とを有し、制御手段は、ワイピング指令に基づいて、第１のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、副洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭動作させた後、第２のワイピングユニットをワイピングエリアに導入し、主洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭動作させることが好ましい。
【００２０】
また、上記のワイピング方法において、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、荒拭き用の副洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第１のワイピングユニットと、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を、仕上げ拭き用の主洗浄液を含浸させたワイピングシートにより払拭する第２のワイピングユニットと、を用いて行なうワイピング方法であって、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対し、第１のワイピングユニットにより払拭した後、第２のワイピングユニットにより払拭することが好ましい。
【００２１】
これらの構成によれば、荒拭き用の副洗浄液を含浸したワイピングシートにより払拭した後に、仕上げ拭き用の主洗浄液を含浸したワイピングシートにより払拭することにより、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に対する良好なワイピングを行なうことができる。この場合、副洗浄液は機能液の溶媒を主体とし、主洗浄液はこの溶媒に親和性を有する揮発性の高いもの主体とすることが、好ましい。
【００２２】
本発明の液滴吐出装置は、上記のワイピング装置と、複数の機能液滴吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする。
【００２３】
この構成によれば、液滴吐出装置において、ワイピングシート交換のための作業効率の低下を抑えることができると同時に、機能液滴吐出ヘッドに対して２種類のワイピングを行なうことができ、機能液滴吐出ヘッドを常に良好な状態に維持しておくことができる。
【００２４】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２６】
これらの構成によれば、ワークに対する描画動作を適切に行うことができる液滴吐出装置を用いることで、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２７】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２８】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、添付の図面を参照して、本発明に係るワイピング装置を備えた液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等の基板上に機能液による成膜部を形成するものである。また、ワイピング装置は、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に付着した機能液による汚れを除去するものである。
【００３０】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置３と、機台２上で描画装置３に添設された吸引装置６１およびワイピング装置６２とから成るメンテナンス装置４と、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出不良を検査するための吐出検査装置５とを備え、吐出検査装置５の検査結果に基づいて、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７の機能維持・回復を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ（ワーク）上に機能液を吐出する描画処理を行うようにしている。また、液滴吐出装置１には、図示は省略するが、装置全体を統括制御する制御コンピュータが組み込まれている。
【００３１】
描画装置３は、基板Ｗを主走査（Ｘ軸方向に移動）させるＸ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載したヘッドユニット１５と、基板Ｗに形成された２つのアライメントマーク（図示省略）をそれぞれ画像認識する２台のアライメントカメラ５０とを備えている。
【００３２】
Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持されると共に、Ｘ軸方向に自在に移動するモータ駆動のＸ軸スライダ２１を有しており、Ｘ軸スライダ２１上には、載置ベース２５が搭載されている。載置ベース２５上には、吸着テーブル２３およびθテーブル２４等から成るセットテーブル２２と、上記の吐出検査装置５とが搭載されている。さらに、吸着テーブル２３の前後には、基板Ｗへの描画前後に機能液滴吐出ヘッド１７からの予備吐出を受ける一対のフラッシングボックス（図示省略）が設けられている。
【００３３】
Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２と同様に、Ｙ軸方向の駆動系を構成し、一対の走行レール上を走査するモータ駆動のＹ軸スライダ３１を有しており、これに上記のキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して構成されている。Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右一対の支柱３２に支持されており、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。
【００３４】
そして、Ｘ軸テーブル１２は、基板Ｗをセットする基板セットエリア５１と、Ｙ軸テーブル１３の直下部に位置する描画エリア５２との相互間で適宜移動させると共に、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、メンテナンス装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア５３と描画エリア５２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画動作を行う場合には、Ｘ軸テーブル１２は、描画エリア５２内において基板ＷをＸ軸方向に主走査させると共に、Ｙ軸テーブル１３は、描画エリア５２内において機能液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に副走査させる。また、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、Ｙ軸テーブル１３は、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア５３に臨ませる。
【００３５】
機能液滴吐出ヘッド１７は、図示しない機能液パック等から機能液が供給され、インクジェット方式（例えば圧電素子駆動）で機能液を吐出するものである。機能液滴吐出ヘッド１７は、複数（例えば１８０個）のノズル４１を列設したノズル面４２を有しており、ヘッドドライバ（図示省略）から駆動波形を印加することにより、各ノズル４１から機能液が吐出される。
【００３６】
２台のアライメントカメラ５０は、基板セットエリア５１の前後両側に臨むように配設され、セットテーブル２２に基板Ｗを位置決めした状態でセットするためにアライメントマークを撮像する。そして、制御コンピュータは、この撮像結果に基づいて、適宜セットテーブル２２を移動させ、アライメントマークの位置合わせを行う。
【００３７】
吐出検査装置４は、上記の載置ベース２５上に配設されており、機能液滴吐出ヘッド１７からの検査吐出を受ける検査シートＳと、上記のＹ軸テーブル１３に添設されたカメラ移動機構（図示省略）によりＹ軸方向に移動可能に搭載され、検査シートＳに吐出・着弾した機能液を画像認識する検査用カメラ（図示省略）とを有している。検査シートＳには、機能液滴吐出ヘッド１７から吐出した機能液滴が着弾するよう構成され、着弾した機能液滴を検査用カメラで画像認識し、この認識結果から、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出状態を検査する。このとき、機能液滴吐出ヘッド１７が吐出不良である場合には、ヘッドユニット１５を上記のメンテナンス装置４に臨ませて、吐出不良を解消し、再び吐出状態を検査する。
【００３８】
メンテナンス装置４は、メンテナンスエリア５３に配設され、機能液滴吐出ヘッド１７内で増粘した機能液を除去するための吸引を行う吸引装置６１と、吸引装置６１の描画エリア５１側に配設され、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２に付着した機能液等を除去するための払拭を行なうワイピング装置６２と、を備えている。吸引装置６１とワイピング装置６２とは、Ｙ軸テーブル１３によるヘッドユニット１５の移動軌跡上に設けられており、Ｙ軸テーブル１３により、吸引装置６１およびワイピング装置６２の直上部に機能液滴吐出ヘッド１７を臨ませることができるようになっている。なお、液滴吐出装置１の稼動開始時等におけるメンテナンス処理は、吸引装置６１による吸引処理を行なった後、ワイピング装置６２によるワイピング処理を行なう手順となっており、この後、上記の吐出検査装置５に臨んで、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出を検査する。そして、吐出不良があった場合は、再びワイピング装置６２に臨み、機能液滴吐出ヘッド１７をワイピングする構成となっている。
【００３９】
ここで、液滴吐出装置１による基板Ｗへの一連の描画処理について簡単に説明する。まず、基板セットエリア５１にセットテーブル２２を移動させ、アライメントマークに基づいて基板Ｗを位置決めした状態でセットする。続いて、基板Ｗを描画エリア５２に移動させると共に、基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に副走査させながら、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動させて基板Ｗに描画を行う。すなわち、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に往復動させながら、基板Ｗに対して機能液滴吐出ヘッド１７から機能液をそれぞれ吐出・着弾させる。
【００４０】
描画処理の最終段階では、吐出検査装置５を機能液滴吐出ヘッド１７に臨ませて、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出を検査する。すなわち、検査シートＳに機能液滴を吐出し、検査シートＳに着弾した機能液滴を、上記の検査用カメラをＹ軸方向に走査させながら、吐出結果を画像認識する。各ノズル４１に吐出不良が確認されなかった場合には、引き続き次の基板Ｗに対する描画処理が行われ、異常が確認された場合には、描画処理を行う前に、機能液滴吐出ヘッド１７（ヘッドユニット１５）をメンテナンス装置４に臨ませ、メンテナンス処理を行うようになっている。
【００４１】
次に図２および図３を参照して、ワイピング装置６２について詳細に説明する。ワイピング装置６２は、メンテナンスエリア５３上のワイピングエリア１６１に臨んだ機能液滴吐出ヘッド１７に対し、ワイピングシート１１２によりノズル面４２の払拭を行なうものであり、個々に機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２を払拭する第１ワイピングユニット（第１のワイピングユニット）１０１および第２ワイピングユニット（第２のワイピングユニット）１０２と、２台のワイピングユニット１０１,１０２を選択的にワイピングエリア１６１に臨ませるシフト機構１００と、を備えている。そして、第１ワイピングユニット１０１と第２ワイピングユニット１０２とは、同一の基本構造を有している。なお、上記のＹ軸テーブル１３は、請求項に言うワイピング装置６２の移動機構を兼ねている。
【００４２】
シフト機構１００は、２台のワイピングユニット１０１,１０２を支持する共通ベース１０３と、共通ベース１０３を介して２台のワイピングユニット１０１,１０２をＸ軸方向に移動させる往復動機構１０４と、を備えている。往復動機構１０４は、メンテナンスエリア（ワイピングエリア１６１）５３を挟んでＸ軸方向に延びるベーステーブル１０６を備えており、ベーステーブル１０６に備えられたモータ駆動の駆動スライダ（図示省略）により、ワイピングユニット１０１,１０２をＸ軸方向に往復動させる。詳細は後述するが、Ｘ軸方向において、ワイピングエリア１６１の両側はそれぞれ待機エリア１６２となっており、第１ワイピングユニット１０１は、一方の待機エリア１６２とワイピングエリア１６１との間で往復動し、第２ワイピングユニット１０２は、他方の待機エリア１６２とワイピングエリア１６１との間で往復動することになる。
【００４３】
図２および図３で示すように、第１・第２の各ワイピングユニット１０１，１０２は、それぞれ共通ベース１０３上に直接固定された装置カバー１１１により外型が形成されており、装置カバー１１１の内部には、ノズル面４２を拭払するワイピングシート１１２と、ワイピングシート１１２を着脱可能に装填し、ワイピングシート１１２の供給／巻取りを行なうシート供給機構１１３と、ワイピングシート１１２を機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２に押し付ける拭取り機構１１４と、ワイピングシート１１２に洗浄液を含浸させる噴霧機構１１５と、を備えている。装置カバー１１１には、機能液滴吐出ヘッド１７に対向する位置に開口部１１６を有しており、拭取り機構１１４はこの開口部１１６からワイピングシート１１２を突出させて、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２に摺接させる。
【００４４】
シート供給機構１１３は、ロール状のワイピングシート１１２を装填しワイピングシート１１２を繰り出す繰出しリール１２１と、繰り出されたワイピングシート１１２を巻き取る巻取りリール１２２と、巻取りリール１２２を巻取り回転させる巻取りモータ（図示省略）と、巻取りモータの動力を巻取りリール１２２に伝達する動力伝達機構（図示省略）と、ワイピングシート１１２の巻取り速度を検出する速度検出ローラ１２３と、拭取り機構１１４からのワイピングシート１１２を速度検出ローラ１２３に送る第１中間ローラ１２４と、速度検出ローラ１２３からのワイピングシート１１２を巻取りリール１１２に送る第２中間ローラ１２５と、を有している。
【００４５】
繰出しリール１２１および巻取りリール１２２は、装置カバー１１１に片持ちで、回転自在に軸支されている。また、繰出しリール１２１および巻取りリール１２２は、軸方向に着脱自在に構成されており、ワイピングシート１１２の交換時には、両リール１２１,１２２を離脱させるようになっている。
【００４６】
速度検出ローラ１２３は、装置カバー１１１に両手持ちで支軸され、自由回転するローラ本体１３１と、ローラ本体１３１の軸端に設けた速度検出装置であるエンコーダ１３２と、で構成されている。エンコーダ１３２によりワイピングシート１１２の送り速度が検出され、この検出結果に基づいて巻取りモータの駆動が制御される。また、第１中間ローラ１２４はおよび第２中間ローラ１２５も自由回転ローラであり、ワイピングシート１１２の経路が速度検出ローラ１２３の位置で略直角になるように配設されているため、速度検出ローラ１２３におけるワイピングシート１１２のスリップを抑えるような構成に為されている。なお、第１中間ローラ１２４と速度検出ローラ１２３の間には、これらの間に送られるワイピングシート１１２の有無（実際には、使用終了マーク）を検出するシート検出センサ（図示省略）が設けられている。
【００４７】
拭取り機構１１４は、自由回転ローラで構成され機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２にワイピングシート１１２を摺接させる拭取りローラ１４１と、拭取りローラ１４１を上下方向に回動自在に支持するローラ支持フレーム（図示省略）と、拭取りローラ１４１を回動させて上記の開口部１１６から出没させるローラ昇降機構（例えばエアーシリンダ：図示省略）と、を備えている。ローラ昇降機構は、ワイピング動作を行なうときに、拭取りローラ（ワイピングシート１１２）１４１を上昇させる。
【００４８】
噴霧機構１１５は、洗浄液を供給する洗浄液タンク（図示省略）と、ワイピングシート１１２に洗浄液タンクからの洗浄液を噴霧する噴霧ヘッド１５２と、噴霧ヘッド１５２および洗浄液タンクを接続する洗浄液供給チューブ（図示省略）と、噴霧ヘッド１５２をワイピングシート１１２の幅方向に水平に走査させるヘッド移動機構（図示省略）と、を備えている。噴霧ヘッド１５２を走査させながら、洗浄液をワイピングシート１１２に噴霧することにより、洗浄液をワイピングシート１１２に含浸させるようになっている。
【００４９】
図３に示すように、ワイピング処理は、拭取り機構１１４によりワイピングシート１１２を装置カバー１１１の開口部１１６から突出させた状態で、シート供給機構１１３によりワイピングシート１１２を送りながら或いは停止させた状態で、Ｙ軸テーブル（移動機構）１３により、ヘッドユニット１５（機能液滴吐出ヘッド１７）をワイピングエリア１６１上においてＹ軸方向に移動させることにより行なわれる。これにより、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２は、ワイピングシート１１２により払拭される。そして、払拭動作毎にワイピングシート１１２の汚れていない部分が送り込まれ、最終的に、上記のシート検出センサがシート無し（使用終了）を検出したところで、上記の制御コンピュータからシート交換の指令が発令される。
【００５０】
ここで、図１および図２を参照して、ワイピング装置６２のワイピング方法（稼動方法）およびワイピングシート１１２の交換方法について、簡単に説明する。まず、シフト機構１００により、第１ワイピングユニット１０１をワイピングエリア１６１に臨ませて装置の稼動を開始し、この状態で、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２に対しワイピング処理を行う。
【００５１】
ワイピング処理をし続け、上記のシート交換指令が発令されると、その時点のワイピング処理を完了した後、シフト機構１００により、第２ワイピングユニット１０２をワイピングエリア１６１に臨ませ、第２ワイピングユニット１０２によるワイピング処理を開始する。この時、第１ワイピングユニット１０１は第２ワイピングユニット１０２と共通ベース１０３により共に動くため、第２ワイピングユニット１０２はワイピングエリア１６１に、第１ワイピングユニット１０１は自身の待機エリア１６２に移動する。そして、この待機エリア１６２において、第１ワイピングユニット１０１のワイピングシート１１２の交換が行なわれる。
【００５２】
第２ワイピングユニット１０２によるワイピング処理を続行している場合も、上記と同様にシート交換の指令により、第２ワイピングユニット１０２と第１ワイピングユニット１０１のシフトが行なわれて、第２ワイピングユニット１０２のワイピングシート１１２の交換が行なわれる。なお、シート交換の指令の他、故障等によるメンテナンス指令が発令された場合も、上記と同様に、第１ワイピングユニット１０１と第２ワイピングユニット１０２とのシフトが行なわれる。
【００５３】
このように交互にワイピングユニット１０１,１０２を使用することにより、シート交換のために液滴吐出装置１を停止させる必要がなく、液滴吐出装置１の停止による作業効率の低下を抑えることができる。これにより、液滴吐出装置１を２４時間フル稼働させる場合に、特に有用である。
【００５４】
次に、図４を参照して、本発明の第２実施形態に係る液滴吐出装置について、特に異なる部分を主に説明する。この実施形態における液滴吐出装置１は、第１実施形態と同様に、機台２と、描画装置３とメンテナンス装置４と吐出検査装置５と、を備えており、メンテナンス装置４は、ワイピング装置６２と吸引装置６１を備えている。そして、この場合には、描画装置３のヘッドユニット１５には、２個の機能液滴塗出ヘッド１７が搭載されており、第１機能液滴吐出ヘッド１７Ａには粘性の高い第１機能液が導入され、第２機能液滴吐出ヘッド１７Ｂには粘性の低い第２機能液が導入されるようになっている。
【００５５】
これに対応して、ワイピング装置６２は、第１機能液滴吐出ヘッド１７Ａに対してワイピングを行う第１ワイピングユニット１０１と、第２機能液滴吐出ヘッド１７Ｂに対してワイピングを行う第２ワイピングユニット１０２と、２台のワイピングユニット１０１,１０２を選択的にワイピングエリアに臨ませるシフト機構１００と、を備えている。
【００５６】
第１ワイピングユニット１０１の噴霧機構１１５には、第１機能液に対応する第１洗浄液が導入され、そのワイピングシート１１２に第１洗浄液を噴霧し含浸させる。同様に、第２ワイピングユニット１０２の噴霧機構１１５には、第１機能液に対応する第１洗浄液が導入され、そのワイピングシート１１２に第１洗浄液を噴霧し含浸させる。なお、この場合のワイピングシート１１２の幅は、各機能液滴吐出ヘッド１７Ａ，１７Ｂの幅に対応している。
【００５７】
この場合のワイピング処理では、第１機能液滴吐出ヘッド１７Ａを使用した場合は、第１ワイピングユニット１０１をシフト機構１００によりワイピングエリア１６１に臨ませ、第１ワイピングユニット１０１にて行ない、第２機能液吐出ヘッド１７Ｂを使用した場合は、シフト機構１００により第２ワイピングユニット１０２をワイピングエリア１６１に臨ませ、第２ワイピングユニット１０２にて行なう。また、同時に使用をした場合には、第１ワイピングユニット１０１と第２ワイピングユニット１０２とを、交互にワイピングエリア１６１に臨ませて、対応する各機能液滴吐出ヘッド１７Ａ，１７Ｂのワイピングを行なう。
【００５８】
このようなワイピング方法によれば、相互に異なる２種類の機能液を使用したとしても、各機能液に適したワイピングを行なうことができる。したがって、粘性に限らず、異なる機能液を導入する液滴吐出装置１において、ワイピングを適切に行うことができる。
【００５９】
次に、本発明の第３実施形態に係る液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置１は、第１実施形態と同様（図１ないし図３参照）の構造を有しているが、そのワイピング装置６２において、第１ワイピングユニット１０１は、ワイピングシート１１２に洗浄液を含浸されて機能液滴吐出ヘッド１７を払拭する構造を有し、第２ワイピングユニット１０２は、ワイピングシート１１２により機能液滴吐出ヘッド１７を乾拭きする構造を有している。すなわち、第１ワイピングユニット１０１は、第１実施形態の各ワイピングユニット１０１，１０２と同一の構造を有し、第２ワイピングユニット１０２は、噴霧機構１１５の無い或いは使用しない構造となっている。
【００６０】
この場合のワイピング処理では、第１ワイピングユニット１０１をシフト機構１００によりワイピングエリア１６１に臨ませ、ワイピング処理を行なうことで本拭きをした後、第２ワイピングユニット１０２をシフト機構１００によりワイピングエリア１６１に臨ませ、ワイピング処理を行なうことで乾拭きを行なう。
【００６１】
このように、洗浄液を含浸させたワイピングシート１１２により払拭を行なった後、洗浄液を含浸させていないワイピングシート１１２により乾拭きを行なうことにより、良好なワイピングを行なうことができる。特に、揮発性の低い洗浄液を用いざるを得ない場合に有効である。
【００６２】
次に、本発明の第４実施形態を適用した液滴吐出装置について説明する。本実施形態の液滴吐出装置１は、第１実施形態と同様（図１ないし図３参照）の構造を有しているが、そのワイピング装置６２において、第１ワイピングユニット１０１は、機能液滴吐出ヘッド１７を荒拭き（払拭）する構造を有し、第２ワイピングユニット１０２は、機能液滴吐出ヘッド１７を仕上げ拭き（払拭）する構造を有している。すなわち、第１ワイピングユニット１０１は、その噴霧機構１１５に荒拭き専用の副洗浄液を導入して、ワイピングシート１１２に副洗浄液に含浸させ、第２ワイピングユニット１０２は、その噴霧機構１１５に仕上げ拭き専用の主洗浄液を導入して、ワイピングシート１１２に主洗浄液に含浸させる構造となっている。
【００６３】
この場合のワイピング処理では、第１ワイピングユニット１０１をシフト機構１００によりワイピングエリア１６１に臨ませ、ワイピング処理を行なうことで荒拭きをした後、第２ワイピングユニット１０２をシフト機構１００によりワイピングエリア１６１に臨ませ、ワイピング処理を行なうことで仕上げ拭きをする。
【００６４】
このように、荒拭き用の副洗浄液を含浸させたワイピングシート１１２にてワイピングを行なった後、仕上げ拭き用の主洗浄液を含浸させたワイピングシート１１２にてワイピングを行なうことにより、適切なワイピングを行なうことができる。特に、揮発性の高い機能液を使用した場合に、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４２に機能液の成分がこびり付き易くなるが、かかる場合にこの成分を、副洗浄液により溶解或いは軟化させ、主洗浄液で完璧に拭き取るようにする。
【００６５】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００６６】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図５は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図６は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図６（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００６７】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図６（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図６（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００６８】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００６９】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図６（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７０】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図６（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７１】
図７は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図６に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７２】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７３】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図７において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７４】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７５】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７６】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００７７】
図８は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００７８】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００７９】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８０】
図９は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８１】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８２】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８３】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８４】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８５】
次に、図１０は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００８６】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００８７】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００８８】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００８９】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９０】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９１】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９２】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９３】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９４】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００９５】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９６】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００９７】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１１〜図１９を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１１に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００９８】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１２に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１３に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【００９９】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１００】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１０１】
図１４に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１５に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１０２】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０３】
そして次に、図１６に示すように、各色のうちのいずれか（図１６の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０４】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１７に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１０５】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図１８に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０６】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１０７】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図１９に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１０８】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１０９】
次に、図２０は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１０】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１１】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１２】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１３】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１４】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１１５】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１１６】
次に、図２１は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１１７】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１１８】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１１９】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２０】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２１】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２２（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２２（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２２】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の概略上面図である。
【図２】実施形態に係るワイピング装置の概略斜視図である。
【図３】実施形態に係るワイピング装置の概略断面図である。
【図４】第２実施形態に係る液滴吐出装置の概略上面図である。
【図５】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図７】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図８】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１０】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１１】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１２】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１３】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１４】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１５】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１６】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１７】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１８】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２０】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２１】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２２】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２４】
１：液滴吐出装置、  １３：Ｙ軸テーブル、  １７：機能液滴吐出ヘッド、１７Ａ：第１機能液滴吐出ヘッド、  １７Ｂ：第２機能液滴吐出ヘッド、  ４２：ノズル面、  ６２：ワイピング装置、  １０１,１０２：ワイピングユニット、  １００：シフト機構、  １１２：ワイピングシート、  １０３：共通ベース、  １０４：往復動機構、  １１５：噴霧機構、  １６１：ワイピングエリア、  １６２：待機エリア  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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