(57)【要約】【課題】 本発明は、回転式の万能型洗浄装置であって、回転摺動部からの発塵の問題を排除した洗浄装置を提供することを目的とする。さらには、外気と完全に遮断した状態で洗浄及び乾燥処理を行うことが可能な洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被処理物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被処理物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、前記回転軸が前記排出部を貫通することを特徴とする。また、前記排出部から排出される洗浄液の流量を調節する流量制御手段を有することを特徴とし、さらには、前記排出部から排出される洗浄液自体により前記洗浄槽内部を外気から遮断する外気遮断手段を設けたことを特徴とする。【選択図】図１
2007027784.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙から排出される洗浄液の排出流量を調節するための流量制御手段を設けたことを特徴とする万能型洗浄装置。
【請求項２】
洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙の下方に、前記回転軸と共に回転し、前記間隙から排出される洗浄液を受けるための容器が前記回転軸に配設されていることを特徴とする万能型洗浄装置。
【請求項３】
洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙の下方に、上面を有しその中心が回転軸に溶接された円筒体と、液溜り部とを有することを特徴とする万能型洗浄装置。
【請求項４】
液面保持用排液配管を設けてあることを特徴とする請求項３に記載の万能型洗浄装置。
【請求項５】
前記間隙から排出される洗浄液の排出流量を調節するための流量制御手段を設けたことを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【請求項６】
前記間隙から排出される洗浄液自体により前記洗浄槽内部を外気から遮断するようにしたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【請求項７】
前記流量制御手段は、少なくとも２つの異なる外径を有する前記回転軸と、前記排出部と前記回転軸との軸方向の相対位置を変位させる変位手段とからなることを特徴とする請求項１又は５に記載の万能型洗浄装置。
【請求項８】
前記排出部は開口径が下方に行くに従い減少するテーパーを持ち、回転軸には、排出管のテーパーと同じ角度のテーパー部を有する大径部を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【請求項９】
前記流量制御手段は、前記回転軸又は排出部に凹凸、フィン、又は溝を配設し、前記回転軸の回転方向及び／又は回転速度により流出量を調節することを特徴とする請求項１又は５又は６のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【請求項１０】
前記容器に溜まる洗浄液を前記回転軸内を通してその下部から排出するように前記回転軸の少なくとも一部を中空にしたことを特徴とする請求項２に記載の万能型洗浄装置。
【請求項１１】
洗浄液の排出流量は洗浄液の供給量の１〜１０％になるように制御されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転式の万能型洗浄装置に係り、特に、摺動部から洗浄槽内へのごみの混入を防止した洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路のより一層の高集積化に伴い、半導体ウエハの表面に形成される回路パターンはより微細化・複雑化してきている。このため、微細な異物や微量の不純物であっても、半導体ウエハに付着していると、半導体回路の特性は劣化し、製造の歩留まりは低下することになる。従って、半導体製造工程において、洗浄プロセスは極めて重要である。
【０００３】
半導体ウエハの洗浄方法としては、洗浄槽内で半導体基板を回転しながら洗浄液あるいは不活性ガスを噴射して洗浄、乾燥する洗浄方法が用いられている。このための回転式洗浄装置では、基板保持部材の回転軸が装置を貫通し、軸受けによって支持されているが、この軸受けは洗浄槽内部に曝されるため、摺動による発塵が洗浄槽内の雰囲気を汚染するという問題がある。また、貫通部等から外気が混入し、洗浄槽内部ひいては被洗浄物を汚染するというという問題もある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
かかる状況に鑑み、本発明は、回転式の万能型洗浄装置であって、回転摺動部からの発塵の問題を排除した洗浄装置を提供することを目的とする。さらには、外気と遮断した状態で洗浄及び乾燥処理を行うことが可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙から排出される洗浄液の排出流量を調節するための流量制御手段を設けたことを特徴とする万能型洗浄装置である。
【０００６】
本発明は、洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙の下方に、前記回転軸と共に回転し、前記間隙から排出される洗浄液を受けるための容器が前記回転軸に配設されていることを特徴とする万能型洗浄装置である。
【０００７】
本発明は、洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥する洗浄装置であって、
前記回転軸は、前記回転軸と洗浄槽との間に間隙を設けて前記排出部を貫通させて配置し、
前記間隙の下方に、上面を有しその中心が回転軸に溶接された円筒体と、液溜り部とを有することを特徴とする万能型洗浄装置である。
【０００８】
液面保持用排液配管を設けてあることを特徴とする。
【０００９】
前記間隙から排出される洗浄液の排出流量を調節するための流量制御手段を設けたことを特徴とする。
【００１０】
前記間隙から排出される洗浄液自体により前記洗浄槽内部を外気から遮断するようにしたことを特徴とする。
【００１１】
前記流量制御手段は、少なくとも２つの異なる外径を有する前記回転軸と、前記排出管と前記回転軸との軸方向の相対位置を変位させる変位手段とからなることを特徴とする。
前記排出部は開口径が下方に行くに従い減少するテーパーを持ち、回転軸には、排出管のテーパーと同じ角度のテーパー部を有する大径部を有することを特徴とする。
【００１２】
前記流量制御手段は、前記回転軸又は排出部に凹凸、フィン、又は溝を配設し、前記回転軸の回転方向及び／又は回転速度により流出量を調節することを特徴とする。
前記容器に溜まる洗浄液を前記回転軸内を通してその下部から排出するように前記回転軸の少なくとも一部を中空にしたことを特徴とする。
【００１３】
洗浄液の排出流量は洗浄液の供給量の１〜１０％になるように制御されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
回転摺動部からの発塵の問題を回避することが可能となる。
洗浄工程中における、外部からごみ・不純物の混入防止効果は一層向上し、集積回路のより高集積化・高性能化が可能となるとともに、製造歩留まりを向上させることが可能となる。
【００１５】
排出される洗浄液の管理が容易となり、また装置の小型化が達成可能となる。
【００１６】
洗浄工程中に被洗浄物の表面は外気の影響を受けることなく、清浄な表面を維持することが可能となる。その結果、集積回路のより高性能化が達成可能となる。
【００１７】
一度に多数の基板等を処理することが可能となり、生産効率、洗浄液使用量の削減等製造コストの低減を図ることができる。
【００１８】
本発明は、半導体基板やフォトマスク等に限らず、あらゆる精密洗浄に適用可能であり、例えば大気と接触すると酸化してしまうような金属の洗浄等にも好適に適用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の半導体ウエハの洗浄乾燥装置の一例を図１及び図２に示し、これを用いてを本発明を説明する。
【００２０】
図１は本発明の洗浄装置の基本概念を示す概念図である。
【００２１】
図１において、１０１は洗浄槽、１０２は蓋、１０３は洗浄液供給管、１０４は半導体基板１０５の回転保持部材である。１０６は排出部であって、図の例では、洗浄槽１０１の底面の中央に配置され、下方にいくに従い開口径が減少するテーパーを持った配管が用いられている。この排出部１０６を回転軸１０７が貫通し、その一方が保持部材１０４、他方が駆動用のモータ１０９と連結されている。回転軸１０７には、排出部のテーパーと同じ角度のテーパー部を有する大径部１１０を有するとともに、回転軸と共に回転する洗浄液の受け容器１０８が設けられている。
【００２２】
図１に示すように、本発明の洗浄装置は、回転軸を支持する軸受けを洗浄槽内から排除したため、従来装置で問題となる回転軸と軸受け間等の摺動部での発塵の問題を回避することが可能となる。また、回転軸と排出部の間を流れる洗浄液により外部からごみ等の混入も防止することができる。
【００２３】
受け容器１０８に溜まる液は、例えば図３に示すように、受け容器１０８に排出パイプ３０２を取り付け、環状の排出液受け溝３０３に排液を排出する構造としても良い。この場合、排出パイプ３０２は回転時のバランスを考慮して複数本設けるのが好ましい。あるいは、受け溝３０３と同様環状にしても良い。
【００２４】
また、受け容器１０８に溜まる液は、例えば図４に説明するように、受け容器１０８を溢流する洗浄液を受ける容器４０２をさらに設けても良い。
【００２５】
さらには、図６に示すように、回転軸１０７の内部を、受け容器１０８から下の部分で中空にして、容器１０８に溜まる洗浄液を排出口６０１及び中空部６０２を通して回転軸１０７の下部から洗浄液を排出させる構造としても良い。また、例えば回転軸１０７の下端にバルブ６０３を設けることにより、排出量を調節することができる。
【００２６】
図２は、本発明の洗浄装置の好適な例を示す概念図である。
【００２７】
図２において、２０１は洗浄槽、２０２は蓋、２０３は複数の洗浄液供給管、２０４は不活性ガス供給管である。２０５はメガソニックの超音波振動子、２０６は半導体基板加熱用の赤外線ランプ、２０７は半導体基板２０８の回転保持部材である。また、洗浄槽２０１には半導体基板搬送装置（不図示）が接続され、大気に接することなく半導体基板を搬出・搬入可能な構造となっている。
【００２８】
２０９は洗浄液の排出部、２１０は図１と同様の構造の大径部２１１を有する回転軸である。この回転軸２１０は、回転保持部材２０７と駆動用のモータ２１７とに連結されており、軸受け２２０で支持されている。
【００２９】
２１２は排出部２０９や洗浄槽２０１内を外気から遮断する外気遮断手段であり、上面を有しその中心が回転軸２１０に溶接された円筒体２１３、液溜り部２１５、液面保持用排液配管２１６から構成される。また、２１４及び２１９は、それぞれ洗浄液を交換する際に液溜まり部２１５の洗浄液を排出するためのドレン用バルブ及び配管である。図２の洗浄装置は、軸受け２２０を設けた構成としているが、軸受け２２０で発生したごみ等は、液溜まり部２１５に溜まる洗浄液自体により遮断され、洗浄槽２０１内への混入は完全に防止される。
【００３０】
２１８は排出管２０９と回転軸と軸方向の相対位置を変位させる変位手段であり、２２１はモーター支持部材であり、これらはハウジング２２２内に収納される。なお、洗浄液の蒸気・ミストによる汚染を防止するために、ハウジング２２２内を乾燥Ｎ2ガス、清浄空気又は不活性ガス等を流すよう構成されている。
【００３１】
図２の装置を用いて、フッ酸、超純水リンス、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）洗浄、乾燥工程からなる半導体基板の洗浄方法を説明する。
【００３２】
（ａ）フッ酸洗浄まず、不図示の搬送装置によりシリコンウエハ２０８を保持部材２０７に設置する。
【００３３】
第１の洗浄液供給管２０３からフッ酸を洗浄槽２０１内に注ぎ、シリコンウエハを十分に覆った時点で、保持部材２０７を低速〜中速で回転（例えば３０〜５００ｒｐｍ）させ、超音波振動子２０５に電圧を印加して１〜５ＭＨｚのメガソニックの超音波をウエハに照射してウエハ洗浄を行う。メガソニックの超音波を印加することにより、洗浄効果は一層向上し、特に例えばトレンチ等の溝のごみ・不純物等も完全に除去することができる。
【００３４】
フッ酸は回転軸２１０の大径部２１１と排出部２０９との間隙と通って下方に流れ、液溜り部２１５から液面保持配管２１６を通って不図示の排液槽に排出される。従って、洗浄槽２０１の内部は、回転軸２１０の大径部２１１と排出部２０９との間隙並びに液溜まり部２１５に溜まる洗浄液自体によって、軸受け等で発生するごみ等から完全に遮断されることになる。
【００３５】
以上の洗浄においては、シリコンウエハに付着した不純物やごみ等は、ウエハの回転運動、フレッシュな洗浄液の供給、メガソニックの超音波の作用により、ウエハ表面から極めて効果的に除去され、上記の間隙を通って外部へ排出される。
【００３６】
なお、回転軸２１０の大径部２１１と排出管２０９との間隙の大きさにより、この間隙を通って液が排出される流量が決定されるが、供給量の１〜１０％とするのが好ましい。通常、この間隙は１〜１０ｍｍとされるが、液の粘度に応じて適宜決められる。
【００３７】
フッ酸洗浄が終了後、Ｎ2ガスを槽内に供給し、変位手段２１８により回転軸２１０を上方に移動させて排出部２０９と回転軸の大径部２１１との間隙を大きくして、フッ酸を落下させ外部に放出する。この場合でも、フッ酸は液溜り部２１５の部分に溜まるため、洗浄槽２０１及び排出管２０９の内部にごみ等が入り込むことはない。
【００３８】
（ｂ）超純水リンス洗浄続いて、超純水供給管から超純水を槽内に供給して、フッ酸洗浄と同様にして超純水リンス洗浄を行う。
【００３９】
（ｃ）ＩＰＡ洗浄及び乾燥ＩＰＡ供給管からＩＰＡを槽内に供給して、フッ酸洗浄と同様にして洗浄を行う。その後、Ｎ2ガスを供給しながら赤外線ランプ２０６でウエハ２０８を加熱しながら高速回転（１０００〜３６００ｒｐｍ）させ、ウエハに付着するＩＰＡを除去し乾燥させる。この工程においても、外部からごみの混入は防止されるため、ウエハは常時清浄雰囲気内に保持される。従って、高清浄なウエハ表面が保たれ、高い製造歩留まりを安定して得ることが可能となる。
【００４０】
なお、フッ酸等の無機系排液とＩＰＡ等の有機系排液を別個の排液槽に排出する場合には、上記超純水リンス洗浄後、排液用の配管２１６と接続した無機系排液槽を有機系の排液槽に切り替えればよい。また、各洗浄液を完全に分離するには、ドレン用配管２１９から、液溜り部２１５に溜まった洗浄液を排出するようにすれば良い。
【００４１】
また、洗浄液によっては、洗浄液を排液用の配管２１６、ドレン用配管２１９からフィルター等を介して供給管に戻す構造としても良い。
【００４２】
（実施態様例）
以上は、フッ酸洗浄、超純水リンス、ＩＰＡ洗浄・乾燥工程を図２の装置で連続して行う例について述べたが、本発明の洗浄装置は、これらの場合に限らず、更に他の洗浄液を用いた工程を付加することもできる。あるいは、例えばフッ酸洗浄・超純水リンス用の装置とＩＰＡ洗浄・乾燥用の装置のように１つの工程ごとに１つの装置を設け、これらの装置間で基板を搬送する方法を採用しても良い。
【００４３】
なお、本発明の洗浄装置は、例えば図２において回転軸又は排出部の角度を有する部分にＯリング等を組み込み回転軸を該Ｏリングに圧接させることにより、排液を完全に流さないようにすることができ、一般の洗浄槽として使用することも可能である。
【００４４】
また、本発明の洗浄装置は、洗浄液に基板を浸漬して洗浄する方法に限らず、スプレー等基板表面に洗浄液を噴射して洗浄する場合にも同様にして適用することができる。この場合も、回転軸と排出部との間隙の洗浄液及び／又は液溜まりに溜まる洗浄液自体により、同様に摺動部からのごみの侵入は防止され、また洗浄槽内を外気と遮断することができるので、高清浄雰囲気内での洗浄が可能となる。
【００４５】
さらに、本発明においては、基板が洗浄液に浸されていない時に、メガソニックの超音波を内在する洗浄液のジェット流を基板表面に吹き付けることにより洗浄を効果的に行うことができる。また、洗浄槽内に紫外線ランプを配設し、基板表面に紫外線を照射して洗浄液をラジカル活性化することにより、洗浄効果を一層高めることができる。
【００４６】
以下に、本発明の主要構成要素をより詳細に説明する。
【００４７】
＜流量制御手段＞
図２に示す流量制御手段は、外径が所定の角度をもって変化する大径部を有する回転軸と、これを軸方向に変位させる変位手段とからなるが、本発明の流量制御手段はこれに限らず、回転軸は少なくとも２つの異なる外径を有するものであれば良く、また、排出部もテーパー状でなく、直管であっても良い。但し、回転軸の外径を多段に変化させることにより、さらには連続に変化させることにより、幅広い粘性を有する種々の洗浄液に対しても適用することができ、洗浄液選択の自由度が増大し、また制御性も向上する。
【００４８】
また、変位手段は回転軸自体を移動させる代わりに洗浄槽及び排出部を移動させても良い。回転軸あるいは洗浄槽を移動させる変位手段としては、これらを機械的に移動させるものでも良いし、あるいは、回転軸の一部に永久磁石を配し、その周辺に配設したコイルに電流を流し、磁界の相互作用により移動させても良い。
【００４９】
本発明の流量制御手段としては、以上の他、流量を調節できるものであればどの様なものでもよく、例えばカメラの絞りがごとく内径を連続的又は段階的に変化させることができる部材を用い、これを排出部あるいは洗浄槽の底面開口部等に設けても良い。
【００５０】
好ましい流量制御手段の一態様としては、図３に示すように、回転軸１０７に螺旋状フィン３０１を配設したものが挙げられる。これにより、回転軸の回転速度を変化させることにより排液量を制御することができ、また逆方向に回転することにより排液を強制的に排出することができる。図３の例では、螺旋状フィンを設けた例を示したが、これに限らず、回転軸又は排出部に凹凸、溝等を設けてもよいし、回転速度又は回転方向により流量を調整できるものであれば、特に螺旋状に限る必要はない。
【００５１】
また、図３の方式を用いれば、上記変位手段等は不要となるが、併用しても良いことはいうまでもない。なお、図３においては、受け容器１０８に溜まる液は、前述したように排出パイプ３０２を通って環状の排液受け溝３０３に排出させる構造となっているが、図４、６の構造としても良いことはいうまでもない。
【００５２】
＜外気遮断手段＞
図２に示した構造により軸受け周辺の外気から洗浄槽内を遮断することができるが、この他に、例えば図４に示すように、図２の円筒体２１３を上下に逆さまに配置し、この円筒体４０１の内径を排出部（排出管）２０９の外径よりも大きくし、その軸方向で円筒体が排出管２０９と重なりを有する構成としても良い。この構成では、円筒体４０１に溜まる洗浄液により洗浄槽２０１内を常に外気と遮断することができる。
【００５３】
円筒体４０１から溢流する洗浄液は、洗浄槽等に固定した容器４０２で受け、配管４０３により外部に排出される。この場合、洗浄液が円筒体４０１の底面を伝って軸受け２２０側に落ちるのを防ぐために、底面に更に第２の円筒体４０４を設けるのが好ましい。
【００５４】
また、円筒体４０１に溜まる洗浄液を溢流させずに、図６に示すように、回転軸の内部を中空とし、円筒体に溜まる洗浄液をこの中空部を通って回転軸下部から排出させる構造としても良く、その場合回転軸下部にバルブを設けて排出する流量を調節できる構造としても良い。
【００５５】
＜洗浄槽＞
本発明においては、洗浄槽２０１内に、保持部材２０７を囲むようにその下端が洗浄槽の底面に固定された仕切板を設けるのが好ましい。仕切板を設け、供給する洗浄液の一部を溢流させて洗浄槽外部に取り出すことにより、比較的重いごみは、前述した排出部２０９と回転軸２１１の間隙を通って下方に流れる洗浄液とともに外部に放出され、軽いごみはこの仕切板を溢流する洗浄液とともに外部へ放出することができ、ごみの除去効果は一層向上する。また、この仕切板からの溢流する洗浄液は、フィルターを通した後、再び洗浄液供給管に戻すことにより洗浄液の使用量を節減することができる。
【００５６】
また、洗浄槽の底面は、排出部開口に向かって下方に傾斜させるのが好ましい。これにより、ごみ等が速やかに排出部開口に流れ、その排出がより効率的になる。
【００５７】
＜保持部材＞
図２では枚葉式の洗浄乾燥装置について説明したが、本発明の万能型洗浄装置は多数枚を一度に洗浄することも可能である。その一例を図５に示す。図５は、６個のウエハカセットを配置した保持部材の（ａ）概略平面図及び（ｂ）概略断面図である。
【００５８】
保持部材は、回転軸５０１に固定された円盤５０２とウエハ５０４を収納したウエハカセット５０５の保持部５０３とからなる。
【００５９】
図４に示すように、ウエハ収納カセット５０５を保持部５０３に嵌着等して取り付けし、枚葉式の場合と同様にして洗浄液を供給し、回転洗浄する。ウエハ面が水平に配置されるため、回転の遠心力により高い洗浄効果が得られる。
【００６０】
なお、カセットの取り付けは、枚葉式の場合と同様に搬送機構により、搬出入され、保持部に装着・脱着するのが好ましい。
【００６１】
＜加熱手段＞
加熱手段としては、基板を赤外線ランプ等で加熱するほか、保持部材に電熱ヒータ等を設けて直接加熱しても良く、あるいは加熱した不活性ガス等を基板に吹き付けるものでも良い。
【００６２】
＜材質その他＞
回転軸や槽の内壁、保持部材等、洗浄液と接する部材の材質としては、洗浄液に侵されず、且つ不純物等を発生しないものが用いられる。例えば、石英やステンレス等にシリコンゴム、ポリエチレンをコートし、更にテフロン（登録商標）をコートしたものが好適に用いられる。これらを用いることにより、フッ酸、Ｈ2ＳＯ4−Ｈ2Ｏ2、ＮＨ4ＯＨ−Ｈ2Ｏ2のような腐食性の高い洗浄液を用いた洗浄を行うことも可能となる。
【００６３】
また、回転軸は直接モータ等の回転駆動源に固定して回転しても良いし、また歯車・ベルトを介して回転しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の洗浄装置の概念を説明する概念図である。
【図２】本発明の洗浄装置の一例を示す概念図である。
【図３】本発明の洗浄装置の他の例を示す概念図である。
【図４】本発明の外気遮断手段の他の例を示す概念図である。
【図５】本発明の保持部材の一例を示す概念図である。
【図６】本発明の洗浄装置の他の例を示す概念図である。
【符号の説明】
【００６５】
１０１ 洗浄槽、
１０２ 蓋、
１０３ 洗浄液供給管、
１０４ 回転保持部材、
１０５ 半導体基板、
１０６ 排出部（排出管）、
１０７ 回転軸、
１０８ 排出液の受け容器、
１０９ モータ、
１１０ 回転軸の大径部、
２０１ 洗浄槽、
２０２ 蓋、
２０３ 複数の洗浄液供給管、
２０４ 不活性ガス供給管、
２０５ メガソニックの超音波振動子、
２０６ 半導体基板加熱用の赤外線ランプ、
２０７ 回転保持部材、
２０８ 半導体基板、
２０９ 排出部、
２１０ 回転軸、
２１１ 大径部、
２１２ 外気遮断手段、
２１３ 円筒体、
２１４ ドレン用バルブ、
２１５ 液溜まり部、
２１６ 液面保持配管、
２１７ モータ、
２１８ 変位手段、
２１９ ドレン用配管、
２２０ 軸受け、
２２１ モータ支持体、
２２２ ハウジング、
３０１ 螺旋状フィン、
３０２ 排出パイプ、
３０３ 環状排液受け溝、
４０１ 円筒体、
４０２ 容器、
４０３ 配管、
４０４ こぼれ落ち防止円筒体、
５０１ 回転軸、
５０２ 円盤、
５０３ カセット保持部、
５０４ ウエハ、
５０５ ウエハカセット
６０１ 排出口、
６０２ 中空部、
６０３ バルブ。
【図１】
2007027784.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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