(57)【要約】【課題】  耐アルカリ性の高い、カチオン重合エポキシ系感光性組成物をドライフィルム化して、貫通孔や凹部を有する基板上へのパターン形成を可能にする。該ドライフィルムを用いて、信頼性に優れたインクジェットヘッドを提供する。【解決手段】  バインダーとして、エポキシ環を有するフェノキシ樹脂を５〜６０ｗｔ％混合し、膜の皮膜性を高める。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルム。
【請求項２】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して５ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１記載の感光性ドライフィルム。
【請求項３】
エポキシ樹脂がエポキシ等量６００以下で且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項１、２記載の感光性ドライフィルム。
【請求項４】
エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項１，２，３記載の感光性ドライフィルム。
【請求項５】
エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項１，２，３記載の感光性ドライフィルム。
【請求項６】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項１，２，３，４，５記載の感光性ドライフィルム。
【請求項７】
発熱抵抗体を有する基板と、液流路を形成するための天板部材と、液体を吐出する吐出孔と、該吐出孔に連通するとともに、液体に気泡を発生させる気泡発生領域を有する液流路を備え、該発熱抵抗体の気泡発生時のエネルギーにより液体を吐出するインクジェットヘッドにおいて、
少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルムを用いて構成されるインクジェットヘッド。
【請求項８】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して５ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項７記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項９】
エポキシ樹脂がエポキシ等量６００以下で且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項７，８記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１０】
エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項７，８，９記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１１】
エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項７，８，９記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１２】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項７，８，９，１０，１１記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１３】
発熱抵抗体を有する基板と、液流路を形成するための天板部材と、液体を吐出する吐出孔と、該吐出孔に連通するとともに、液体に気泡を発生させる気泡発生領域を有する液流路と、気泡の成長に伴い変位する可動部材と、可動部材の変位を規制する上方変位規制部材とを備え、該発熱抵抗体の気泡発生時のエネルギーにより液体を吐出するインクジェットヘッドにおいて、
少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルムを用いて構成されるインクジェットヘッド。
【請求項１４】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して５ｗｔ％以上６０ｗｔ％以下であることを特徴とする請求項１３記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１５】
エポキシ樹脂がエポキシ等量６００以下で且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項１３，１４記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１６】
エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項１３，１４，１５記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１７】
エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が６０℃以上であることを特徴とする請求項１３，１４，１５記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【請求項１８】
エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項１３，１４，１５，１６，１７記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ドライフィルムに関するものであり、且つ極めて高い解像性を有しまた該感光性材料によるパターンが極めて耐熱性及び耐溶剤性に優れるドライフィルムに関するものであり、さらに、該ドライフィルムを用いたインクジェットヘッドに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、マイクロマシーン用の微細な立体構造物の形成に関しては、ポリメチルメタクリレート（PMMA）をレジストに適用し、シンクロトロン放射光による厚膜で微細なパターンを形成し、該パターンを用いて電鋳により形成する手段がLIGAプロセスとして適用されている。しかしながら、該プロセスでは、シンクロトロン放射光光源が極めて高価であることと、X-線マスクの形成が極めて煩雑な工程を要する課題を有していた。
【０００３】
該プロセスに対して、近年、ビスフェノール-A-ノボラック-エポキシ樹脂とカチオン光重合開始剤との構成からなるSU-８がIBM社より報告され（J.VAC.Sci.Technol. B13(6) 3012）、微細な構造物を形成している。該SU-8は極めてアスペクト比の高い微細なパターンが形成できるとともに、該パターンは耐熱性、および耐薬品性が優れ、そのままマイクロマシン用構造物として適用することが可能である。
【０００４】
更に、該パターンはその優れた耐熱性および耐薬品性の観点より、インクジェットヘッドの構造部材として適用することが可能である。
【０００５】
従来例としては、例えば特許文献１と特許文献２をあげることが出来る。
【特許文献１】特開平８−２８８６４５号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前述したSU-8は各研究機関で各種用途への適用が検討されているが、ドライフィルム化が困難である為、その使用方法が制限されている。本発明は、該課題に対して、SU-８に代表される光カチオン重合エポキシレジストのドライフィルムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
SU-8に代表される、低分子エポキシオリゴマーと光カチオン重合開始剤とから構成される感光性樹脂組成物は、極めて解像性が高く、また高いアスペクト比の膜厚パターンを形成できる。これは、微細な構造をフォトリソグラフィーにより形成するマイクロマシンおよびインクジェットヘッドに対しては極めて効果的な材料といえる。しかしながら、該感光性樹脂組成物をフィルム上に担持して構成されるドライフィルム化を行う場合には、極めて困難となる。
【０００８】
すなわち、低分子エポキシオリゴマーは皮膜の凝集力が低く、転写時に皮膜を全部基材に転写できず、皮膜の凝集破壊が生じてしまう。また、ドライフィルムの形成に関しても、フィルム上への塗布時に均一な塗膜が形成できない等の問題を有している。
【０００９】
エポキシ樹脂の汎用的なバインダーとしては、フェノキシ樹脂を挙げることができるが、該フェノキシ樹脂はエポキシ環を有しないため、微細パターンの形成時に現像液によって溶出してパターンにクラックが生じる場合が多い。
【００１０】
これらの問題は通常、高分子成分の添加により対策されるが、通常のエポキシ樹脂は分子の高分子化することが困難であるため、主材のエポキシ樹脂と相溶性が高いバインダーを見出すことが極めて難しい。
【００１１】
上記課題に対して、本発明者らが鋭意検討を行い本発明に至った。
【００１２】
主材のエポキシ樹脂としては、エポキシ等量が６００以下であり、融点が５０℃以上のものが好ましい。エポキシ等量が低く分子量が小さければ、パターンの解像性は極めて高いものとなり、スカム等の発生もほとんどない。また融点が５０℃以上であれば、レジスト塗膜が環境下で軟化することがなく、ドライフィルムの巻き圧による塗膜の皺なども発生しない。これらエポキシ樹脂としては、前記したSU-8に適用されるEPON（登録商標）  SU-8（シェルケミカル社）が最も好適に使用できるが、脂環式エポキシ樹脂EHPE-３１５０（ダイセル化学工業）等も好適に適用できる。また、同様なビスフェノール-ノボラックエポキシ樹脂として、
エピコート（登録商標）１５７S７０、１５７H７０シリーズ（油化シェルエポキシ社）オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂としてエピコート（登録商標）１８０S６５、１８０H６５シリーズ（油化シェルエポキシ社）も適用できる。
【００１３】
また、汎用的なビスフェノール-A型において、融点が５０℃以上の品番はエピコート（登録商標）１００１（油化シェルエポキシ社）以上のグレードになるが、これらビスフェノール-A-エポキシ樹脂はエポキシ等量が前述したエポキシ樹脂より、比較的高いため分子量分散度を小さくする必要がある。すなわち、パターン形成において、現像時に低分子成分が不具合を起こさないように所望の分子量分布を調整する必要がある。成分が反応しきれず、現像時に現像液に溶解して、微細パターンにクラックが発生したり、皮膜の剥離に至る。これら汎用的なエポキシ樹脂は使用する目的に応じて、そのまま使用しても良いし、また分子量分散度を狭めて用いても構わない。
【００１４】
またバインダーとしては、汎用的なエポキシ樹脂のバインダーであるフェノキシ樹脂を適用しても構わないが、該フェノキシ樹脂はエポキシ環を有しないため、微細なパターン形成においては、現像時にフェノキシ樹脂が溶出してパターンにクラックが入ったりパターンの剥離が起こる。もっとも好適にはエポキシ環を有するフェノキシ樹脂としてエピコート（登録商標）１２５６、エピコート（登録商標）４２５０、エピコート（登録商標）４２７５、エピコート（登録商標）YL6557等を使用することが望ましい。該フェノキシ樹脂は前記したように分子内にエポキシ環を残存しており主材のエポキシ樹脂と化学反応し重合することより、現像時の溶出が起こらない。もっとも、これらフェノキシ樹脂のエポキシ環含有量は少ないため、感度が非常に低く、少ない光照射量にてパターニングする場合は、低分子成分を除去して使用することが好ましい。
【００１５】
上市されている上記フェノキシ樹脂の分子量分散度は４〜５程度あるため、３以下に分子量分布を低下させて使用することにより好適なパターンを形成できる。
【００１６】
これら分子量分散度の低減は、汎用的な分別法にて行うことが可能であり、例えばメチルエチルケトン等の溶剤に前記した樹脂を溶解し、シクロヘキサンやイソプロパノール等の非溶剤を添加することによって再沈殿せしめて実施することが可能である。
【００１７】
バインダーの選択に際しては、エポキシ樹脂との相溶性が大きな選択の基準となる。EPON（登録商標）  SU-8エポキシ樹脂に対しては、汎用的なビスフェノールタイプのフェノキシ樹脂は、相溶しないため、上記したエピコート（登録商標）４２５０やエピコート（登録商標）４２７５等のビスフェノールF型フェノキシを適用することが望ましい。
【００１８】
これらバインダーのエポキシ主材に対する含有量は５〜５０部の比率が好ましい。バインダーの添加量を多くすれば、ドライフィルム作成時の塗布膜厚の均一性や高速塗布が可能であり、また転写特性およびビア上への膜形成も容易になるものの、感度や解像性の低下を引き起こす。汎用的には５〜２０部が更に好ましい範囲として使用できる。
【００１９】
またエポキシ樹脂としては脂環式エポキシ樹脂EHPE−３１５０を用いる場合、該樹脂はフェノキシ樹脂との相溶性が極めて高く、バインダーである該フェノキシ樹脂の種類の選択性が高まり、より皮膜特性の良いドライフィルムを形成できる。
【００２０】
光カチオン重合開始剤としては、VA族のオニウム塩、VIA族のオニウム塩および芳香族ハロニウム塩から選択される芳香族錯塩を適用することができる。
【００２１】
これら錯塩は、紫外線や電子線、X-線の照射によりエポキシ環を開環重合せしめる成分を発生する。該光カチオン重合開始剤の添加量はエポキシ樹脂およびバインダーの総量に対して０.５〜１０重量％、更に好ましくは１.０〜５重量％添加して使用できる。
【００２２】
好ましい芳香族錯塩の光開始剤は、芳香族ヨードニウム錯塩と芳香族スルフォニウム錯塩を挙げることができる。芳香族ヨードニウム錯塩の光重合開始剤としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ（４−メチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボーレート、フェニルー４−メチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ（４−ヘプチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ（３−ニトロフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォフェート、ジ（４−クロロフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（ナフチルヨードニウムテトラフルオロボーレート）、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（４−メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジ（４−フェノキシフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボーレート、フェニル−２−チエニルオニウムヘキサフルオロフォスフェート、３，５−ジメチルピラゾリル−４−フェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、２，２−ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ（２，４−ジクロロフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（４−ブロモフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（４−メトキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（３−カルボキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（３−メトキシスルフォニルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（４−アセタミドフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（２−ベンゾエチエニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート等を挙げることができる。本発明に最も好適に使用できる芳香族ヨードニウム塩としては、ジアリールヨードニウムヘキサフルオロフォスフェートあるいはジアリールヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートである。これら錯塩は汎用的な有機溶剤に対する溶解性が高く、エポキシ樹脂等とも広範囲に相溶し、また光に対する感度も極めて高い特性を有している。
【００２３】
また、本発明に使用できるスルフォニウム錯塩の例としては、トリフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、メチルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジメチルフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルナフチルスルフォニウムヘキサフルオロアルセナート、トリスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、アニシルジフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ブトキシフェニルジフェニウルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、４−クロロフェニスジフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４−フェノキシフェニル）スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（４−エトキシフェニル）メチルスルフォニウムヘキサフルオロアルセナート、４−アセトキシ−フェニルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、トリス（４−チオメトキシフェニル）スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ（メトキシスルフォニル）メチルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（メトキシフトチル）メチルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジ（カルボキシフェニル）メチルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、４−アセタミドフェニルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジメチルナフチルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフルオロメチルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、メチル（ｎ―メチルフェノチアジル）スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニルメチルベンジルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート等を挙げることができる。
【００２４】
本発明に最も好適に使用できる芳香族スルフォニウム錯塩としては、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェートのようなトリアリール置換された錯塩である。これらトリアリール置換された錯塩は保存安定性に優れ、また各種の染料による波長増感が可能である。一般的な芳香族ヨードニウムあるいはスルフォニウム錯塩の吸収波長は、３００ｎｍ以下にあり、芳香環を有するエポキシ樹脂を用いた場合に吸収波長が一致して厚膜のパターニングができない場合が多い。このような場合、紫外あるいは可視光線に吸収を有する染料を添加して、該波長の光でパターニングすることが可能となる。
【００２５】
カチオンを生成可能な光重合開始剤として商業的に入手可能な組成物は旭電化工業より上市されるＳＰ−１７０やＳＰ−１７２（トリアリールスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート）である。
【００２６】
これら感光性組成物には通常適用される、フィラーとしてシリカ、タルク、ガラスフィラー、硫酸バリウム、ピロジェニックシリカ等を添加して、粘度やチクソ性を調整しても構わない。また各種顔料やカーボン等の着色剤を添加することも構わない。更には基材との密着を向上する目的で、各種シランカップリング剤を添加して使用することも可能である。
【００２７】
これら感光性組成物は、汎用的なプラスチックフィルム上に塗布してドライフィルムとして使用される。プラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、あるいは該フィルム上にシリコーン樹脂を塗布、硬化せしめる離型処理を施した物が汎用的に使用できるが、ポリイミド、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ弗化ビニリデン等何れのフィルムを用いても構わない。
【００２８】
これら感光性組成物は汎用的な有機溶剤に溶解し、上記したフィルム上に塗布してドライフィルムとして使用される。
【００２９】
有機溶剤としては、エポキシ樹脂、バインダーおよび光カチオン重合開始剤等の組成物を溶解するものであれば何れも適用できる。また、塗布手段としてはグラビアコート法、ロールコート法、ナイフコート法、スロットダイ法等の汎用的塗布手段を用いることができる。
【００３０】
塗布形成したドライフィルムは通常巻き取られて使用されるが、感光性組成物のフィルムへの裏移りを防止するため、カバーフィルムを組成物表面にラミネートして巻き取ることが好ましい。これらカバーフィルムは組成物への密着性に劣るプラスチックフィルムを使用することが好ましく、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の炭化水素系のフィルム、表面にシリコーン樹脂等で離型処理したフィルム、テフロン（登録商標）や弗化ビニリデン等のフッ素を有するフィルム等が好適に使用される。
【００３１】
前記ドライフィルムを用いて、マイクロマシンの一例として、インクジェットヘッドを作成した。図２に該ドライフィルムを用いて形成されるインクジェットヘッドの外観模式図を示す。図３では、インク吐出部の断面図を示す。図４では、更に吐出効率を向上させた形態を示しており、吐出エレメントは、天板部材２、可動部材２０、密着向上層２１、上方変位規制部材２２、ヒーター基板５から成り立っている。該ヒーター基板５には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体が加熱され、インクが発泡したときのエネルギーで該可動部材２０を可動させる。該上方変位規制部材２２にて該可動部材２０の上方変位を規制することにより発泡エネルギーの効率化をはかっている。図２において、天板部材２の液室およびインク供給孔はＳｉ異方性エッチングやブラスト加工により形成される。
【００３２】
サーマルインクジェットのみならず、凸部、凹部を有する基板を用いて作成するインクジェットヘッドへ適用できることは言うまでもない。また、パターニングにて形成される形状であれば、インク流路のみならずインクジェットヘッドの構造部材として適用できることは言うまでもない。
【００３３】
以下、実施例を以って本発明を更に詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、光カチオン重合エポキシ樹脂レジストをドライフィルム化することにより、厚膜にて均一なパターンが形成できる。また、貫通孔や凹部を有するパターン上にもパターン形成可能である。該光カチオン重合エポキシ系レジストは、極めて高アスペクト比のシャープなパターン形成が可能であるとともに、アルカリ溶液や有機溶剤に対しても膨潤や剥離のないパターン形成が可能である。さらに、該ドライフィルムをインクジェットヘッドに適用することにより、長期信頼性に優れるインクジェットヘッドを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
（実施例１）
ダイセル化学工業株式会社製脂環式エポキシ樹脂ＥＨＰＥ−３１５０を７０部、油化シェルエポキシ株式会社製フェノキシ樹脂エピコート（登録商標）１２５６を３０部、光カチオン重合開始剤として旭電化工業株式会社製ＳＰ−１７０を1部、シランカップリング剤として日本ユニカー株式会社製Ａ−１８７を５部の比率で配合し、溶剤として１００部のシクロヘキサノンに溶解せしめた。該溶液を膜厚２５μｍのＰＥＴフィルム（帝人株式会社製）にグラビアコート法にて２５μｍの膜厚になるように塗布した。塗布装置は廉井精機株式会社製マイクログラビアコート装置を用いて、グラビアメッシュ＃１７０、フィルム送り速度は２ｍ／ｍｉｎ、乾燥温度は１００℃とした。また乾燥後のフィルムは旭化成工業株式会社製ポリエチレンフィルムPAC-3を塗布面にラミネートして巻き取った。該ドライフィルムをラミネーターにてシリコンウエハー上に転写した。転写圧力は、４ｋｇ／ｃｍ＾２、転写温度は１００℃、送り速度は０.２ｍ／ｍｉｎの条件にて実施した。ウエハーが室温になるのを待って、基材のＰＥＴフィルムを剥離し、キヤノン製ミラープロジェクションマスクアライナーＭＰＡ−６００ＦＡにてパターン露光を行った。露光量は２Ｊ／ｃｍ＾２とした。その後、ホットプレートにて９０℃にて３分間ベークを行った後、エチルセロソルブアセテートに３分間浸漬して現像を行った。
【００３６】
以上の結果、良好な形状のレジストパターンが形成できた。
【００３７】
（実施例２）
図1に示すような貫通孔形成したシリコンウエハー上に実施例１で作成したドライフィルムにてパターン形成を行った。酸化膜を１μｍ厚形成したシリコンウエハーを用いて、ポジ型レジストＯＦＰＲ−８００（東京応化工業製）を酸化膜上にパターン形成した。該レジストパターンをマスクとしてフッ酸にて酸化膜をエッチングした。該酸化膜をマスクに２０ｗｔ％ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）溶液にて60℃で１２時間エッチングすることによりシリコンウエハーに貫通孔を形成した。なお、シリコンウエハーは結晶方位（１１０）のウエハーを用いた。
【００３８】
該貫通孔を形成したウエハー上に実施例１にて作成したドライフィルムをラミネートして実施例１と同様のプロセスにてパターン形成した。本実施例においても、良好なレジストパターンが形成できた。
【００３９】
（実施例３）
実施例１に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート（登録商標）４２５０を用いて同様の検討を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
【００４０】
（実施例４）
実施例１に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート（登録商標）４２７５を用いて、バインダーとＥＨＰＥ５０部づつ、その他の成分を同様にしてパターン形成を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
【００４１】
（実施例５）
エポキシ樹脂としてシェルケミカル社のEPON（登録商標）  ＳＵ−８を９０部、フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のＥ４２５０を１０部、光カチオン重合開始剤としてＳＰ−１７０を１部、シランカップリング剤としてＡ−１８７を５部、溶剤としてシクロヘキサノンを１００部混合し、実施例１と同様にしドライフィルムを作成しパターン形成を行ったところ、良好なパターンが形成できた。
【００４２】
なお、本実施例に類似してエピコート（登録商標）４２５０を２０、３０部と増量したところ、パターン形成はできるものの、パターン形状は良好なものではなかった。これはEPON（登録商標）  ＳＵ−８とフェノキシ樹脂の相溶性が低い為である。
【００４３】
（実施例６）
本実施例は汎用的なビスフェノール-A型エポキシ樹脂である、油化シェルエポキシ社のエピコート（登録商標）１００１を適用した例を記述する。該エポキシをそのまま実施例１と同様にしてパターン形成を行っても構わないが、微細なパターンにクラックが入るため分子量分布を狭くした後適用を行った。
【００４４】
エピコート（登録商標）１００１をエチルメチルケトンに２０ｗｔ％の濃度にて溶解し、そのままイソプロピルアルコールを添加して樹脂を沈殿せしめた。このとき、樹脂の再沈殿の比率が初期重量に対して約８０％となるようにイソプロピルアルコールの添加量を調整した.再沈殿したエポキシ樹脂をそのままオーブンにて乾燥し、実施例１と同様にしてパターンを形成を行った。なお、フェノキシ樹脂にはエピコート（登録商標）１２５６を適用した。本実施例においても良好なパターンを形成することができた。
【００４５】
（実施例７）
インクジェットヘッドは、ヒーター基板５、天板部材２、オリフィスプレート４等から構成されている。ヒーター基板５には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁９を実施例１で作成したドライフィルムを用いて形成した（１０６）。天板部材２は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、得られた天板部材２とヒーター基板５を接合した後オリフィスプレート４を接合し、図２、図３記載のインクジェットヘッドを作成した。流路壁９（１０６）の高さは、ドライフィルムの膜厚に良好に対応するとともに、天板部材２と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
【００４６】
（実施例８）
実施例７に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例３を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００４７】
（実施例９）
実施例７に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例４を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００４８】
（実施例１０）
実施例７に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例５を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００４９】
（実施例１１）
実施例７に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例６を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００５０】
（実施例１２）
インクジェットヘッドは、ヒーター基板１、天板部材２、オリフィスプレート４等から構成されている。ヒーター基板１には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁９が形成されている。天板部材２は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、実施例１にて作成したドライフィルムをラミネートした。所望の形状をマスクにしＭＰＡ−６００ＦＡ（キヤノン製）にて該ドライフィルム層にλ＝３６５ｎｍのＵＶ光を２Ｊ／ｃｍ＾２照射し密着構造層２１を形成した後、さらにドライフィルムをラミネートし、上方変位規制部材２２の形状になるようＵＶ光を照射しＰＥＢ後、現像することにより上方変位規制部材２２の形状を得た。得られた天板部材２とヒーター基板１を接合した後オリフィスプレート４を接合し、図２、図４記載のインクジェットヘッドを作成した。上方変位規制部材２２の高さは、ドライフィルムＡの膜厚に良好に対応するとともに、密着向上層２１の膜厚も均一であり、流路５と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
【００５１】
（実施例１３）
実施例１２に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例３を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００５２】
（実施例１４）
実施例１２に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例４を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００５３】
（実施例１５）
実施例１２に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例５を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【００５４】
（実施例１６）
実施例１２に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例６を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明によるドライフィルムを用いて、貫通孔を有するシリコンウエハー上にパターン形成を行う工程フローを示す図である。  （ａ）は、ドライフィルムの基本的な態様を示す。  （ｂ）は、カバーフィルムを剥離し、貫通孔を有するシリコンウエハー上にラミネートした図である。  （ｃ）は、ドライフィルムの基材フィルムを剥離した図である。  （ｄ）は、パターン露光を示す図である。  （ｅ）は、現像後のパターンを示す図である。
【図２】本発明を用いたインクジェットヘッドの外観模式図である。
【図３】図２のインクジェットヘッドのインク吐出部の断面模式図である。
【図４】図２のインクジェットヘッドのインク吐出部断面模式図であり、図３よりも吐出効率を高めたヘッド形態である。
【符号の説明】
【００５６】
１０１  基材フィルム
１０２  感光性組成物
１０３  カバーフィルム
１０４  シリコンウエハー
１０５  シリコン酸化膜
１０６  レジストパターン
１０７  貫通孔
１  基板
２  天板
４  オリフィスプレート
５  発熱素子
９  液流路壁
１２  オリフィス
２０  可動部材
２１  密着向上層
２２  上方変位規制部材
【図１】
2007309995.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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