(57)【要約】【課題】製造が容易で開口率が低下しにくい液晶パネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】対向基板３のガラス基板上にカラーフィルタ層を作製する。カラーフィルタ層の赤色フィルタ部、緑色フィルタ部および青色フィルタ部と同じ材料で、ガラス基板上のカラーフィルタ層の外側に土手パターンを同一工程で形成する。土手パターンとカラーフィルタ層との間のバンクに遮光性材料を塗布して遮光層を形成する。カラーフィルタ層の周縁に連続して遮光層を形成できる。遮光層が液晶パネル１の画面部８内に重なりにくく開口率が低下しにくい。遮光層の製造工程が少なくなる。【選択図】図１
2007241219.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基板上に、画像を表示する表示領域に配置された複数色の着色層を備えたカラーフィルタ層を有する画素と、前記表示領域の外周に沿って配置された遮光領域を遮光する遮光層とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、
前記光透過性基板上に前記カラーフィルタ層を形成する際に、このカラーフィルタ層に用いた材料で前記カラーフィルタ層の周縁に受止パターンを形成し、
前記カラーフィルタ層の周縁にて遮光性材料を塗布して前記受止パターンで受け止めることで、前記カラーフィルタ層の外周を取り囲む前記遮光層を形成する
ことを特徴とした液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記遮光性材料をインクジェットで塗布して前記遮光層を形成する
ことを特徴とした請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
複数色の前記着色層で前記カラーフィルタ層を順次形成する際に、このカラーフィルタ層の最も外側に位置する前記着色層および前記受止パターンをそれぞれ異なる色の前記着色層を積層させて形成し、
これら積層された前記カラーフィルタ層の最も外側に位置する前記着色層と前記受止パターンとの間に前記遮光性材料を注入して前記遮光層を形成する
ことを特徴とした請求項１または２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
複数色の前記着色層で前記カラーフィルタ層を形成する際に、第１色の第１着色樹脂により、第１カラーフィルタ層と、前記遮光領域において前記表示領域の外周を取り囲むように互いに所定間隔をもって配設され前記受止パターンの一部をなす一対の隔壁下段部とを形成するとともに、第２色の第２着色樹脂により、第２カラーフィルタ層と、前記一対の隔壁下段部の少なくとも内周側の隔壁下段部の上面に前記受止パターンの他部をなす隔壁上段部とを形成し、
前記遮光層を形成する際に、前記一対の隔壁下段部の間でかつ前記光透過性基板の上面にインクジェットノズルから前記遮光性材料を有するインクを滴下する
ことを特徴とした請求項１または２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
複数色の前記着色層で前記カラーフィルタ層を形成する際に、第１色の第１着色樹脂により、第１カラーフィルタ層と、前記遮光領域において前記表示領域の外周を取り囲むように互いに所定間隔をもって配設され前記受止パターンの一部をなす一対の隔壁下段部とを形成するとともに、第２色の第２着色樹脂により、第２カラーフィルタ層と、前記一対の隔壁下段部の少なくとも内周側の隔壁下段部の上面に、この隔壁に沿って溝を備え前記受止パターンの他部をなす隔壁上段部とを形成し、
前記遮光層を形成する際に、前記一対の隔壁下段部の間でかつ前記光透過性基板の上面にインクジェットノズルから前記遮光性材料を有するインクを滴下する
ことを特徴とした請求項１または２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記インクジェットノズルからインクを滴下する際の前記インクジェットノズルの吐出口から前記隔壁上段部の上端までの距離を６０μｍ〜９０μｍに設定する
ことを特徴とした請求項４または５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記受止パターンが、前記遮光領域にて前記表示領域の外周を取り囲むように互いに所定間隔を持って配設され側面がテーパ面をなしている一対の隔壁であり、
前記遮光層を形成する際に、前記一対の隔壁の間でかつ前記光透過性基板の上面に前記インクジェットノズルから前記遮光性樹脂材料を有するインクを滴下する
ことを特徴とした請求項１ないし６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記光透過性基板は、マトリクス状に配置されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に接続され画素電極を備えたアレイ基板である
ことを特徴とした請求項１ないし７のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
光透過性基板上に、画像を表示する表示領域に配置されたカラーフィルタ層を有する画素と、前記表示領域の外周に沿って配置された遮光領域を遮光する遮光部と、を備える液晶表示装置において、
前記遮光部は、
前記カラーフィルタ層の周縁に形成された受止パターンと、
前記カラーフィルタ層の周縁にて前記光透過性基板上に塗布された遮光性材料が前記受止パターンにより受け止められて形成され、前記カラーフィルタ層の外周を取り囲む遮光層とを備えた
ことを特徴とした液晶表示装置。
【請求項１０】
前記遮光層は、前記カラーフィルタ層の周縁と前記受止パターンとの間に前記遮光性材料が塗布されて形成されている
ことを特徴とした請求項９記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記受止パターンは、前記遮光領域において前記表示領域の外周を取り囲むように互いに所定間隔をもって配設され、前記カラーフィルタ層を形成する着色樹脂からなる一対の隔壁であり、
前記遮光層は、前記一対の隔壁の間に前記遮光性材料を塗布して形成されている
ことを特徴とした請求項９または１０記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記カラーフィルタ層を形成する前記着色樹脂は、複数色の着色樹脂からなり、
前記一対の隔壁の少なくとも内周側の隔壁は、前記複数色の着色樹脂のうち、いずれか２色の着色樹脂を積層させて形成されている
ことを特徴とした請求項１１記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記一対の隔壁は、緑色樹脂および青色樹脂によって形成されている
ことを特徴とした請求項１２記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記一対の隔壁の線幅が、２０μｍ以上である
ことを特徴とした請求項１１ないし１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記光透過性基板は、マトリクス状に配置されたスイッチング素子と前記スイッチング素子に接続された画素電極とを備えたアレイ基板である
ことを特徴とした請求項９ないし１４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記一対の隔壁の少なくとも内周側の隔壁の上面に、この隔壁に沿って溝が形成されている
ことを特徴とした請求項１１ないし１５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記カラーフィルタ層を形成する前記着色樹脂は複数色の着色樹脂からなり、
前記一対の隔壁の少なくとも内周側の隔壁は、前記複数色の着色樹脂のうち、いずれか２色の着色樹脂を上下２段に積層して形成され、その上段部の上面にこの隔壁に沿って前記溝が形成されている
ことを特徴とした請求項１６記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記一対の隔壁の上端部側面は、上端に行くに従ってこれら隔壁の幅が変化するテーパ面をなしている
ことを特徴とした請求項１６または１７記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記カラーフィルタ層を形成する前記着色樹脂は複数色の着色樹脂からなり、
前記一対の隔壁は、前記複数色の着色樹脂の少なくともいずれか１色の着色樹脂を積層させてなり、
前記一対の隔壁の上端部側面は、上端に行くに従ってこれら隔壁の幅が変化するテーパ面をなしている
ことを特徴とした請求項１６ないし１８のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記着色樹脂が、光硬化性樹脂である
ことを特徴とした請求項９ないし１９のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記遮光性樹脂が、熱硬化性樹脂と光硬化性樹脂とのいずれかである
ことを特徴とした請求項９ないし２０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像を表示する表示領域の外周に沿って配置された遮光領域を遮光する遮光層を備えた液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、一般的に設けられている液晶表示装置は、アレイ基板と対向基板との間に液晶が介在されて構成されている。そして、これらアレイ基板と対向基板との周縁の液晶封止口を除く部分が接着剤で固定されており、この液晶封止口が封止剤にて封止されている。さらに、これらアレイ基板と対向基板との間には、これらアレイ基板と対向基板との間の距離を一定に保つためにスペーサとして粒径が均一なプラスチックビーズなどが散在されている。
【０００３】
さらに、これら液晶表示装置のうち、カラー表示が可能な液晶表示装置には、この液晶表示装置のアレイ基板および対向基板のいずれか一方にＲ(Red:赤)、Ｇ(Green:緑)およびＢ(Blue:青)の着色層にて構成されたカラーフィルタ層が形成されている。そして、この液晶表示装置の表示方式としては、例えばＴＮ(Twisted Nematic)形、ＳＴ(Stock Time)形、ＧＨ(Guest Host)形あるいはＥＣＢ(Electrically Controlled Birefringence)形や強誘電性液晶などが用いられている。また、封止剤としては、例えば熱にて硬化する熱硬化型や紫外線の照射にて硬化する紫外線硬化型のアクリル形またはエポキシ形の接着剤などが用いられている。
【０００４】
また、カラー表示可能な液晶表示装置としては、絶縁基板上に走査線および信号線が格子状に設けられ、これら走査線および信号線の交点に対応してアモルファスシリコン(ａ−Ｓｉ)を半導体層とした薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:ＴＦＴ)が設けられ、これら薄膜トランジスタに画素電極が電気的に接続されたアクティブマトリクス基板としてのアレイ基板を備えている。そして、このアレイ基板に対向して、対向電極が設けられた対向基板が配設されており、この対向基板の対向電極上にカラーフィルタ層が設けられている。また、このカラーフィルタ層の周縁には、遮光性を有する額縁部が設けられている。さらに、これらアレイ基板と対向基板との間の画面周辺部には、アレイ基板から対向基板へ電圧を印加するトランスファである電極転移材が配置されている。この電極転移材としては、導電性の銀粒子をバインダにてペースト状にした銀ペーストなどが用いられる。また、これらアレイ基板と対向基板とのそれぞれは偏光板にて挟持されており、光シャッタとしてカラー画像が表示可能に構成されている。
【０００５】
そして、この種の液晶表示装置においては、フォトリソグラフィにてカラーフィルタ層および額縁部をアレイ基板および対向基板のいずれかの一主面上に形成するのが一般的である（例えば、特許文献１参照。）が、このフォトリソグラフィは、塗布、露光、現像、焼成(ベーク)などの多くの処理工程が４工程ほど必要で、製造コストを下げることが容易ではない。そこで、インクジェットによる印刷でカラーフィルタ層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献２および３参照。）。
【０００６】
そして、このインクジェット方式としては、アレイ基板および対向基板のいずれかの一主面上に新たな受容層を設けて、この受容層上から染色する方法（例えば、特許文献４参照。）や、これらアレイ基板および対向基板のいずれかの一主面上に、この一主面より突出した別個の土手状のパターンを設けて、この土手状のパターンの間に着色層を塗布する方法（例えば、特許文献５参照。）などが知られている。
【特許文献１】特開２０００−１２２０７２号公報
【特許文献２】特開平１０−１７０７１２号公報
【特許文献３】特開２００２−５５２２３号公報
【特許文献４】特開平１０−１４８７１３号公報
【特許文献５】特開２０００−３５３５９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述のインクジェットによる印刷でカラーフィルタ層および額縁部を形成する場合には、土手状のパターンが必要となるから、液晶表示装置の開口率を低下させてしまうおそれがある。また、フォトリソグラフィを用いてカラーフィルタ層および額縁部を形成する場合には、これらカラーフィルタ層および額縁部を形成するための製造工程として４工程が必要となるから、製造が容易ではないという問題を有している。
【０００８】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、製造が容易で開口率が低下しにくい液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、光透過性基板上に、画像を表示する表示領域に配置された複数色の着色層を備えたカラーフィルタ層を有する画素と、前記表示領域の外周に沿って配置された遮光領域を遮光する遮光層とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記光透過性基板上に前記カラーフィルタ層を形成する際に、このカラーフィルタ層に用いた材料で前記カラーフィルタ層の周縁に受止パターンを形成し、前記カラーフィルタ層の周縁にて遮光性材料を塗布して前記受止パターンで受け止めることで、前記カラーフィルタ層の外周を取り囲む前記遮光層を形成するものである。
【００１０】
そして、光透過性基板上にカラーフィルタ層を形成する際に、このカラーフィルタ層に用いた材料でカラーフィルタ層の周縁に受止パターンを形成してから、このカラーフィルタ層の周縁にて遮光性材料を塗布して受止パターンで受け止めることで、カラーフィルタ層の外周を取り囲む遮光層を形成することにより、土手状のパターンなどを形成することなくカラーフィルタ層の周縁に遮光層を形成できるので、開口率が低下しにくい。また、フォトリソグラフィを用いて別途遮光層を形成する場合に比べ、製造工程が少なくなるので、液晶表示装置の製造を容易にできる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、光透過性基板上にカラーフィルタ層を形成する際に、このカラーフィルタ層に用いた材料でカラーフィルタ層の周縁に受止パターンを形成してから、このカラーフィルタ層の周縁にて遮光性材料を塗布して受止パターンで受け止めることで、カラーフィルタ層の外周を取り囲む遮光層を形成することにより、開口率が低下しにくい。また、製造工程を少なくできるから、液晶表示装置の製造を容易にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の液晶表示装置の第１の実施の形態の構成を図面を参照して説明する。
【００１３】
図１ないし図４において、１は平面表示装置としての液晶表示パネルである液晶パネルで、この液晶パネル１は、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:ＴＦＴ)を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示素子としての液晶表示装置である。そして、この液晶パネル１は、アクティブマトリクス基板としての光透過性基板である略矩形平板状のアレイ基板２と、このアレイ基板２に対向配置された対向基板３と、これらアレイ基板２と対向基板３との間に配置された液晶層４とを備え、アレイ基板２と対向基板３とは、液晶層４を挟持するための所定のギャップを形成しつつシール部材であるシール材５によって貼り合わせられている。
【００１４】
そして、液晶パネル１は、例えばアレイ基板２側から対向基板３側に向けて選択的に光を透過する透過型である。このため、透過型の液晶パネル１の背面(アレイ基板２の外面側)には、この液晶パネル１を背面から照明するバックライトユニットBLが設けられている。
【００１５】
アレイ基板２は、例えばＸＧＡ(eXtended Graphics Array)型の薄膜トランジスタ(ＴＦＴ)基板であって、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての光透過性基板すなわち透光性基板であるガラス基板７を有している。
【００１６】
さらに、このガラス基板７の一主面である表面上の中央部には、画像を表示する表示領域としての画像表示領域である画面部８が形成されている。そして、このガラス基板７上の画面部８には、複数の画素９がマトリクス状に設けられて配置され、これら画素９により画面部８が構成されている。これら複数の画素９は、ガラス基板７の縦方向に沿ってｎ個形成されており、このガラス基板７の横方向に沿ってｍ個形成されている。したがって、これら複数の画素９は、ガラス基板７上にｎ×ｍ個形成されている。さらに、これら画素９のそれぞれには、画素電極11、補助容量CSを形成する蓄積容量素子としての画素補助容量素子である補助容量素子12、および、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ13がそれぞれ１つずつ対応して配置されている。
【００１７】
また、ガラス基板７の表面には、画面部８において、電極配線としてのゲート電極配線である複数(ｍ本)の走査線15が、このガラス基板７の幅方向(画素電極11の行方向)に沿って配列されている。これら走査線15は、ガラス基板７の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。また、画面部８において、これら走査線15間のそれぞれには、電極配線としての画像信号配線である複数(ｎ本)の信号線16が、ガラス基板７の縦方向(画素電極11の列方向)に沿って配列されている。これら信号線16は、ガラス基板７の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。
【００１８】
したがって、これら走査線15および信号線16は、ガラス基板７上に交差して格子状であるマトリクス状に配線されている。そして、これら走査線15および信号線16の各交点に対応して、画素電極11、補助容量素子12および薄膜トランジスタ13のそれぞれが画素９毎に設けられている。
【００１９】
一方、このガラス基板７の画面部８周辺の周辺領域OAには、信号線16を駆動する駆動ＴＦＴを含む信号線駆動回路としての細長矩形平板状のＹドライバ回路18が配設されている。このＹドライバ回路18は、ガラス基板７の横方向に沿った一側縁に設けられている。さらに、このＹドライバ回路18は、ガラス基板７の縦方向に沿って設けられており、このガラス基板７上の各走査線15それぞれの一端部が電気的に接続されている。また、このガラス基板７の画面部８周辺の周辺領域OAの縦方向に沿った一端には、走査線15を駆動する駆動ＴＦＴを含む走査線駆動回路としての細長矩形平板状のＸドライバ回路19が配設されている。このＸドライバ回路19は、ガラス基板７の横方向に沿って設けられており、このガラス基板７上の各信号線16それぞれの一端部が電気的に接続されている。なお、これらＹドライバ回路18およびＸドライバ回路19は、Ｙドライバ回路18から各走査線15に供給される走査信号によって、薄膜トランジスタ13をオンオフさせるタイミングに同期して、Ｘドライバ回路19から各信号線16に画素信号を供給させることによって、アレイ基板２の画面部８に所定の画像を表示させる。また、これらＹドライバ回路18およびＸドライバ回路19に含まれる駆動ＴＦＴは、ポリシリコン半導体層を有するｎチャネル型薄膜トランジスタおよびｐチャネル型薄膜トランジスタによって構成されている。
【００２０】
さらに、このガラス基板７の表面には、シリコン窒化膜や酸化シリコン膜などにて構成された図示しないアンダーコート層(アンダーコーティング層)が積層されて成膜されている。このアンダーコート層上には、トップゲート型構造としてのトップゲートタイプの薄膜トランジスタ13が１画素構成要素として配設されている。すなわち、この薄膜トランジスタ13は、スイッチング素子であるとともに半導体素子としての画素ＴＦＴ素子であり、画面部８において、ｎ×ｍ個配設されている。そして、これら薄膜トランジスタ13は、アンダーコート層上に形成されたソース電極21およびドレイン電極22を備えている。これらソース電極21およびドレイン電極22は、所定の間隙を介して電気的に絶縁された状態で設けられ、ソース電極21には信号線16が、ドレイン電極22には補助容量素子12が、それぞれ電気的に接続されている。
【００２１】
さらに、これらソース電極21およびドレイン電極22の間には、半導体層としての活性層23が設けられている。この活性層23は、ソース電極21およびドレイン電極22を含むアンダーコート層上に設けられている。そして、この活性層23は、多結晶半導体としてのポリシリコン(ｐ−Ｓｉ)にて構成された多結晶半導体層としてのポリシリコン半導体層である。すなわち、この活性層23は、非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(ａ−Ｓｉ)をエキシマレーザ溶解結晶化であるアニールしてからパターニングして作成した島状のポリシリコン薄膜である。
【００２２】
また、この活性層23上には、導電性を有するゲート電極24が積層されて成膜されている。このゲート電極24は、走査線15の一側縁に一体的に接続されて、この走査線15の一部を構成する。ここで、このゲート電極24は、活性層23の長手方向に直交する長手方向を有している。また、このゲート電極24は、活性層23の幅寸法より小さな幅寸法を有しており、この活性層23上の中央部に設けられている。
【００２３】
さらに、アンダーコート層上の画面部８に対応する部分には、厚みが約３．０μｍの透明絶縁膜Ｔが形成され、この透明絶縁膜Ｔには、薄膜トランジスタ13のドレイン電極22を開口させた、上面視で２０×２０μｍサイズのコンタクトホールHAが形成されている。そして、コンタクトホールHAを含む透明絶縁膜Ｔ上には、画素ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)としての透明な画素電極11が積層されて設けられている。この画素電極11は、アンダーコート層上の薄膜トランジスタ13が設けられている部分に隣接して設けられており、この薄膜トランジスタ13のドレイン電極22に電気的に接続されている。すなわち、この画素電極11は、画面部８においてマトリクス状に配置された画素９にそれぞれ対応して設けられ、この画素電極11にドレイン電極22が電気的に接続されている薄膜トランジスタ13によって制御される。そして、この画素電極11は、補助容量素子12の補助容量電極12aと電気的に接続され、薄膜トランジスタ13のソース電極21および補助容量素子12の補助容量電極12aと同電位となっている。ここで、補助容量素子12の補助容量電極12aは、不純物ドープされたポリシリコン膜によって形成されている。また、補助容量素子12の補助容量線12bは、所定電位に設定されている。
【００２４】
また、アレイ基板２の画面部８のいずれかの画素９の画素電極11と薄膜トランジスタ13のソース電極21との間には、このアレイ基板２の厚さ方向に沿った長手方向を有する細長円柱状の柱状スペーサであるスペーサ25が突設されている。これらスペーサ25は、画面部８の縦方向および横方向のそれぞれに向けて所定個数、例えば３個の画素９を介した部分に位置する画素９のそれぞれに設けられている。すなわち、これらスペーサ25は、アレイ基板２の画面部８上に等間隔に離間されて設けられている。さらに、これらスペーサ25、画素電極11および薄膜トランジスタ13を含むアンダーコート層上の全面には、図示しない配向膜が積層されて形成されている。
【００２５】
対向基板３は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての光透過性基板すなわち透光性基板であるガラス基板32を備えている。このガラス基板32におけるアレイ基板２に対向した側の一主面である表面には、カラーフィルタ層33が積層されて設けられている。このカラーフィルタ層33は、ガラス基板32の表面より突出して設けられている。
【００２６】
具体的に、このカラーフィルタ層33は、少なくとも２色以上である１組の色単位、例えば赤(Red:Ｒ)色の着色層である赤色フィルタ部34と、緑(Green:Ｇ)色の着色層である第１カラーフィルタ層としての緑色フィルタ部35と、青(Blue:Ｂ)色の着色層である第２カラーフィルタ層としての青色フィルタ部36との３つのドットが対向基板３の縦方向および横方向のそれぞれに向けて繰り返し配置されて構成されている。
【００２７】
ここで、赤色フィルタ部34は、赤色の顔料を分散させ赤色成分の光を透過させる着色樹脂としての紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト、例えばＣＲＹ−Ｓ６２３Ｃ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)にて形成されている。また、緑色フィルタ部35は、緑色の顔料を分散させ緑色成分の光を透過させる着色樹脂としての紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト、例えばＣＧＹ−Ｓ６２４Ｄ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)にて形成されている。さらに、青色フィルタ部36は、青色の顔料を分散させ青色成分の光を透過させる着色樹脂としての紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト、例えばＣＢＹ−Ｓ６２５Ｃ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)にて形成されている。このとき、これら赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36のそれぞれは、例えば２．０μｍの等しい膜厚に形成されている。
【００２８】
そして、これら複数の赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36にて構成されたカラーフィルタ層33は、アレイ基板２に対向基板３を対向させた際に、このアレイ基板２の対応する色の画素９毎に対応して対向するように設けられている。さらに、このカラーフィルタ層33の表面には、画面部８において、共通電極としてのコモン電極である矩形平板状の対向電極37が積層されて設けられている。この対向電極37は、透明電極としてのＩＴＯ膜などの透過性導電部材によって構成されている。また、この対向電極37は、対向基板３の表面とアレイ基板２の表面とを対向させた際に、このアレイ基板２のガラス基板７の画面部８全体に亘って全ての画素９に対して共通に配置され、液晶層４を介してｎ×ｍ個の画素電極11全てに対向する矩形状の大きな電極である。言い換えると、この対向電極37は、アレイ基板２に対向基板３を対向させた際に、このアレイ基板２の画素電極11と相対するように配置されている。
【００２９】
さらに、対向基板３のガラス基板32上には、このガラス基板32上に設けられているカラーフィルタ層33の周縁を覆う土手状の受止パターンとしての隔壁である土手パターン38が積層されて設けられている。この土手パターン38は、カラーフィルタ層33の最外周部から所定距離離間させた位置に設けられている。すなわち、この土手パターン38は、カラーフィルタ層33の周囲である、画面部８の外周に額縁状に形成された遮光領域39を、液晶注入口40を除いて所定の間隔を介して連続して囲っている。
【００３０】
また、この土手パターン38は、カラーフィルタ層33の高さと同じ高さほど、ガラス基板32の表面より突出している。したがって、この土手パターン38は、この土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁部との間に断面凹状の間隙である溝部としてのバンクＡを形成させる。すなわち、この土手パターン38は、この土手パターン38とカラーフィルタ層33との間のバンクＡに液状の遮光インクＣを塗布した際に、この遮光インクＣを堰き止める枠として機能し、この遮光インクＣのカラーフィルタ層33の外側への傾れ（なだれ）を防止する。
【００３１】
さらに、この土手パターン38は、カラーフィルタ層33の最も外側に位置する着色層、例えば青色フィルタ部36と同一材料であるとともに、この青色フィルタ部36と同一工程で同時に形成されている。すなわち、この土手パターン38は、カラーフィルタ層33の赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36のいずれかに用いた材料と同じ材料で形成されている。
【００３２】
また、この土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁との間のガラス基板32上に形成された断面凹状のバンクＡには、液状の遮光インクＣが注入されて形成された額縁状の額縁部としての遮光層41が設けられている。この遮光層41は、遮光領域39を遮光するもので、インクジェットあるいはディスペンサによる液状の遮光インクＣの塗布にて設けられている。ここで、この遮光インクＣは、黒色顔料などが添加された樹脂などが用いられる。さらに、この遮光インクＣには、塗布性を向上させるために溶剤を適宜混合させることもできる。したがって、遮光層41は、土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁との間のバンクＡから硬化する以前の液状の遮光材料による漏れを防止するため、カラーフィルタ層33の厚さ寸法より小さな厚さ寸法を有している。また、この遮光層41および土手パターン38により、周辺領域OAにおいて画面部８の外周を取り囲んで遮光領域39に配設された遮光部42が構成されている。さらに、この遮光層41、土手パターン38および対向電極37のそれぞれを含んだガラス基板32上の全面には、図示しない配向膜が積層されて形成されている。
【００３３】
そして、対向基板３は、この対向基板３の対向電極37側をアレイ基板２の画素電極11側に対向させた状態で、アレイ基板２に取り付けられている。すなわち、この対向基板３は、アレイ基板２に設けられている各スペーサ25を対向基板３の対向電極37に当接させて、これらアレイ基板２と対向基板３との間に所定の間隔である液晶封止領域Ｂが形成されるように、平行に離間された状態で取り付けられている。
【００３４】
液晶層４は、これら対向基板３の配向膜とアレイ基板２の配向膜との間に、液晶材料としての誘電異方性が正である液晶組成物43が注入されて挟持されて形成された光変調層である。すなわち、この液晶層４は、対向基板３の配向膜とアレイ基板２の配向膜との間に液晶組成物43が液晶注入口40を介して介挿されて封止されて構成されている。さらに、この液晶層４は、アレイ基板２の画素電極11と対向基板３の対向電極37との間に補助容量素子12の補助容量CSと電気的に並列な液晶容量CLを形成させる。
【００３５】
また、シール材５は、アレイ基板２と対向基板３との間の周縁部にて、これらアレイ基板２と対向基板３との間の液晶封止領域Ｂに液晶層４を封止させる液晶封止部である。このシール材５は、アレイ基板２と対向基板３との間に接着されて固定されている。また、このシール材５は、アレイ基板２の画面部８の周縁を覆うように設けられており、このアレイ基板２の画面部８と対向基板３との間に液晶封止領域Ｂを形成させる。そして、このシール材５は、対向基板３の土手パターン38および遮光層41とアレイ基板２のガラス基板７の画面部８より外側の部分と間に設けられている。
【００３６】
さらに、このシール材５の周辺には、アレイ基板２から対向電極37に電圧を印加するための図示しない電極転移材が形成されている。この電極転移材は、アレイ基板２と対向基板３との間の図示しない画面周辺部に設けられている図示しない電極転移電極上に形成されている。
【００３７】
一方、これらアレイ基板２のガラス基板７の裏面すなわち外面と対向基板３のガラス基板32の裏面すなわち外面とのそれぞれには、略矩形平板状の偏光板44，45が積層されて取り付けられている。これら偏光板44，45は、アレイ基板２のガラス基板７の裏面および対向基板３のガラス基板32の裏面の略全面を覆っている。
【００３８】
次に、上記第１の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。
【００３９】
まず、成膜工程とパターニング工程とを繰り返してガラス基板７上の画面部８に画素電極11、補助容量素子12、薄膜トランジスタ13、走査線15および信号線16のそれぞれを形成してアレイ基板２を作製する。
【００４０】
次いで、ガラス基板32上に、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト、例えばＣＲＹ−Ｓ６２３Ｃ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)を図示しないスピンナにて塗布してから、このガラス基板32上の赤色を着色したい部分に光が照射されるような図示しないレジストマスクを形成する。
【００４１】
この後、このガラス基板32上に、レジストマスクを介して例えば３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外光を照射してフォトリソグラフィして画素パターンを形成してから、界面活性剤を含む水酸化カリウム(ＫＯＨ)の１％水溶液で２０秒間現像して、膜厚２．０μｍの赤色フィルタ部34を形成する。
【００４２】
さらに、この赤色フィルタ部34を形成する場合と同様にフォトリソグラフィして、例えばＣＧＹ−Ｓ６２４Ｄ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)を用いて、膜厚２．０μｍの緑色フィルタ部35を形成するとともに、例えばＣＢＹ−Ｓ６２５Ｃ(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)を用いて、膜厚２．０μｍの青色フィルタ部36を形成して、ガラス基板32の表示領域にカラーフィルタ層33を形成する。
【００４３】
このとき、この青色フィルタ部36を形成する工程で、図５に示すように、この青色フィルタ部36を形成する際に用いた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを用いて、ガラス基板32上のカラーフィルタ層33の外側に土手パターン38を同時に形成する。
【００４４】
この後、図６に示すように、この土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁との間のバンクＡに、インクジェットノズルまたはディスペンサである塗布手段47で、例えば溶剤、アクリル系モノマーなどを含む溶液中に黒色顔料を分散した遮光性樹脂を有する黒色顔料入り樹脂である遮光性材料としての遮光インクＣを塗布して、図７に示すように、これら土手パターン38とカラーフィルタ層33との間のバンクＡに遮光層として機能する膜厚１．８μｍの遮光層41を形成して、額縁付きカラーフィルタ基板を作製する。
【００４５】
次いで、このカラーフィルタ層33上に膜厚５００ｍ−１０(Å)のＩＴＯ膜をスパッタ法にて成膜してからパターニングして対向電極37を形成する。
【００４６】
さらに、アレイ基板２上に感光性アクリル性透明樹脂、例えばＮＮ６００(ＪＳＲ株式会社製)をスピンナ塗布してから９０℃で１０分間乾燥した後、図示しないフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長で８０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。
【００４７】
この後、このアレイ基板２をｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像してから、２００℃で６０分間焼成して、このアレイ基板２上に高さ５．２μｍスペーサ25を形成する。
【００４８】
次いで、これらスペーサ25が形成されたアレイ基板２上および対向基板３上それぞれの全面に、例えばＡＬ−３０４６(ＪＳＲ株式会社製)を配向膜材料として８００ｍ−１０(Å)塗布して、これらアレイ基板２上および対向基板３上のそれぞれに図示しない配向膜を形成する。
【００４９】
この後、液晶組成物43を注入する部分を除く対向基板３の配向膜の周縁に沿ってシール材５となる接着剤を印刷してから、アレイ基板２から対向電極37に電圧を印加するための図示しない電極転移材を接着剤の周辺の図示しない電極転移電極上に形成する。
【００５０】
次いで、アレイ基板２の配向膜と対向基板３の配向膜とを対向させてから加熱して接着剤を硬化させてシール材５とし、これらアレイ基板２と対向基板３とをシール材５にて貼り合わせる。
【００５１】
この後、これらアレイ基板２と対向基板３との間のシール材５にてシールされていない部分が注入口となり、この注入口から、例えばＺＬＩ−１５６５(メルク(ＭＥＲＣＫ)株式会社製)を誘電異方性が正である液晶組成物43として注入して、この液晶組成物43をアレイ基板２と対向基板３との間の液晶封止領域Ｂに介在させる。
【００５２】
この状態で、アレイ基板２と対向基板３との間の注入口を、紫外線硬化樹脂を封止剤として用いて封止して、カラー表示可能な液晶パネル１を作製する。
【００５３】
この後、この液晶パネル１を点灯評価したところ、優れた表示品位を有するとともに、遮光層41の遮光性を十分に確保できた。
【００５４】
上述したように、上記第１の実施の形態によれば、対向基板３のガラス基板32上にカラーフィルタ層33を作製する際に、このカラーフィルタ層33を構成する赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36のいずれかを形成する際に用いた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを用いて、ガラス基板32上のカラーフィルタ層33の外側に土手パターン38を同時に形成する。この後、この土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁との間のバンクＡに遮光インクＣを塗布して、これら土手パターン38とカラーフィルタ層33の周縁との間のバンクＡに遮光層41を形成する構成とした。
【００５５】
この結果、カラーフィルタ層33とは別個に二段に重ねた土手パターン38を形成し、これら土手パターン38間に遮光インクＣを塗布して遮光層を形成する場合に比べ、カラーフィルタ層33の周縁に連続させて遮光層41を形成できるので、この遮光層41が液晶パネル１の画面部８内に重なったり入り込んだりしにくくなるから、この液晶パネル１の開口率が低下しにくくなる。よって、大きな開口率を有する液晶パネル１にできる。
【００５６】
また、塗布、露光、現像および焼成(ベーク)などの多くの処理工程が必要なフォトリソグラフィを用いてカラーフィルタ層とは別個に遮光層41を形成する場合に比べ、この遮光層41の製造工程を少なくできるから、これらカラーフィルタ層33および遮光層41の製造を容易にできる。したがって、液晶パネル１の製造コストを低減できるとともに、点灯評価によって優れた表示品位であって遮光層41の遮光性を十分に確保できたから、高表示品位の液晶パネル１を安価に提供できる。
【００５７】
なお、上記第１の実施の形態では、カラーフィルタ層33の最も外側の周縁に位置する赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36のいずれかと同じ材料をカラーフィルタ層33の周縁より外側のガラス基板32上に積層させて土手パターン38を形成したが、図８に示す第２の実施の形態のように、アレイ基板２と対向基板３との間のセルギャップに応じて、これら赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36を順次作製する際に、これら赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36と同じ材料を多層に積層させて土手パターン38を形成することもできる。
【００５８】
すなわち、図８に示すように、ガラス基板32上に赤色フィルタ部34を形成する。この際に、この赤色フィルタ部34と同じ材料で、カラーフィルタ層33の周縁より外側に連続する位置と、このカラーフィルタ層33の周縁より外側に所定距離離間させた位置とのそれぞれに下層パターン51を形成する。
【００５９】
この後、この赤色フィルタ部34に隣接させて緑色フィルタ部35を形成した後に、これら緑色フィルタ部35と赤色フィルタ部34との間に青色フィルタ部36を形成する。この際に、この青色フィルタ部36と同じ材料を、下層パターン51上に積層させて上層パターン52を形成して、これら下層パターン51および上層パターン52にて積層構造を有する厚さ３．５μｍの土手パターン38を形成する。
【００６０】
次いで、図９に示すように、これら土手パターン38間のバンクＡに遮光インクＣを塗布して、図１０に示すように、これら土手パターン38間の間隙に、カラーフィルタ層33より厚い３μｍの遮光層41を形成して、額縁付きカラーフィルタ基板を作製する。
【００６１】
この結果、赤色フィルタ部34と同じ材料を同一工程でガラス基板32上に積層させた下層パターン51上に、青色フィルタ部36と同じ材料を同一工程で上層パターン52を積層させて土手パターン38を形成することにより、この土手パターン38の高さ寸法をカラーフィルタ層33の厚さ寸法より大きくできるから、この土手パターン38間に塗布される遮光層41の厚さをカラーフィルタ層33の厚さより厚くできるから、この遮光層41の遮光性をより向上できる。
【００６２】
さらに、この遮光層41を厚くできるから、この遮光層41として塗布される遮光インクＣへの黒色顔料の添加量を少なくできるので、この遮光インクＣの粘性を小さくできる。したがって、インクジェットあるいはディスペンサである塗布手段47では粘性の高い遮光インクＣを塗布するのが容易ではないから、この遮光インクＣをインクジェットあるいはディスペンサである塗布手段47に適した粘性にできるので、この塗布手段47にてより効率良く遮光層41を作製できる。また、点灯評価をしたところ、第１の実施の形態の液晶パネル１以上に、遮光層41の黒が濃く引き締まった状態となるので、より高品位画質な液晶パネル１にできる。
【００６３】
また、図１１に示す第３の実施の形態のように、カラーフィルタ層33をアレイ基板２上に形成することもできる。このカラーフィルタ層33は、薄膜トランジスタ13を含むアンダーコート層上に積層されて設けられている。そして、このカラーフィルタ層33の赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36のそれぞれには、これら赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36に対向して設けられている薄膜トランジスタ13のドレイン電極22を開口させたコンタクトホール61が形成されている。ここで、これらコンタクトホール61は、上面視で２０μｍ×２０μｍの大きさに形成されている。そして、これらコンタクトホール61を含む赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36上に、画素電極11が積層されて形成されている。この画素電極11は、コンタクトホール61を介して薄膜トランジスタ13のドレイン電極22に導通されて電気的に接続されている。
【００６４】
さらに、赤色フィルタ部34と緑色フィルタ部35との間に、スペーサ25が設けられている。このスペーサ25は、赤色フィルタ部34上の画素電極11と緑色フィルタ部35上の画素電極11との間に設けられており、これら赤色フィルタ部34上の画素電極11と緑色フィルタ部35上の画素電極11とを電気的に絶縁させている。そして、カラーフィルタ層33の周縁より外側のアンダーコート層上に、土手パターン38が設けられており、この土手パターン38とカラーフィルタ層33との間のバンクＡに遮光インクＣが塗布されて遮光層41が形成されている。
【００６５】
一方、対向基板３は、ガラス基板32上の全面に対向電極37が積層されており、この対向電極37とアレイ基板２の遮光層41および土手パターン38との間がシール材５にて接続されている。
【００６６】
この結果、アレイ基板２のガラス基板７上にカラーフィルタ層33を作製する際に土手パターン38を形成し、この土手パターン38とカラーフィルタ層33との間のバンクＡに遮光インクＣを塗布して遮光層41を形成できるから、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、カラーフィルタ層33をアレイ基板２側に形成したことにより、透明絶縁膜を別途作成する必要がなくなり製造コストが削減できた。そして、このアレイ基板２側にカラーフィルタ層33を設けた液晶パネル１を点灯評価したところ、上記第１の実施の形態と同様に、高い表示品位を得ることができた。
【００６７】
さらに、図１２および図１３に示す第４の実施の形態のように、カラーフィルタ層33の周縁より外側に土手パターン38を設けずに、図１２に示すように、このカラーフィルタ層33の周縁に遮光インクＣを塗布して、図１３に示すように、このカラーフィルタ層33の周縁に連続させて遮光層41を形成することもできる。すなわち、この遮光層41の外側が土手パターン38にて仕切られないから、この遮光層41が外側に流れてしまうので、この遮光層41のパターンが崩れてしまうおそれがあるが、形成時に剥がれなどがおきることがある土手パターン38を形成する必要がなくなるので、液晶パネル１の製造性をより向上できる。
【００６８】
なお、上記各実施の形態では、トップゲートタイプの薄膜トランジスタ13について説明したが、ボトムゲート型構造であるボトムゲートタイプの薄膜トランジスタ13や、コプラナ型の薄膜トランジスタ13であっても対応させて用いることができる。
【００６９】
さらに、アレイ基板２のガラス基板７の画面部８の周縁にＹドライバ回路18やＸドライバ回路19などの周辺駆動回路を作り込んだが、これらＹドライバ回路18やＸドライバ回路19などの周辺駆動回路をアレイ基板２と別個に形成して、このアレイ基板２に接続させてもよい。
【００７０】
次に、第５の実施の形態を図１４ないし図２５を参照して説明する。なお、上記各実施の形態と同様の構成および作用については、同一符号を付してその説明を省略する。
【００７１】
この第５の実施の形態の液晶パネル１は、カラーフィルタ層33がアレイ基板２側に設けられているものである。すなわち、アレイ基板２は、光透過性を有するガラス基板７上に、画素９毎に薄膜トランジスタ13を覆うように形成されたカラーフィルタ層33、このカラーフィルタ層33上に画素９毎に配置された画素電極11、カラーフィルタ層33上に形成されたスペーサ25、および、複数の画素電極11全体を覆うように形成された配向膜65などを備えている。
【００７２】
各画素電極11は、これらカラーフィルタ層33を貫通するスルーホール67を介して対応する薄膜トランジスタ13にそれぞれ接続されている。
【００７３】
各薄膜トランジスタ13は、例えばポリシリコン半導体層を有するｎチャネル型のコプラナ型ＴＦＴであり、図１５に、より詳細な構造を示すように、ポリシリコン膜によって形成された半導体層である活性層71を有している。この活性層71は、ガラス基板７上に配置されたアンダーコート層72上に配置され、チャネル領域73の両側にそれぞれ不純物をドープすることによって形成されたドレイン領域74およびソース領域75を有している。
【００７４】
各薄膜トランジスタ13のソース電極21は、ゲート絶縁膜77および層間絶縁膜78を貫通するコンタクトホール79を介して活性層71のソース領域75に電気的に接続されることによって形成されている。また、ソース電極21は、層間絶縁膜78、ドレイン電極22、および、ソース電極21を覆うカラーフィルタ層33に形成されたスルーホール67を介して画素電極11に電気的に接続されている。
【００７５】
また、各薄膜トランジスタ13のドレイン電極22は、信号線16と一体に形成され、ゲート絶縁膜77および層間絶縁膜78を貫通するコンタクトホール81を介して活性層71のドレイン領域74に電気的に接続されることによって形成されている。
【００７６】
さらに、各薄膜トランジスタ13のゲート電極24は、走査線15と一体に形成され、ゲート絶縁膜77を介して活性層71に対向して配置されている。
【００７７】
これにより、薄膜トランジスタ13は、走査線15および信号線16に接続され、走査線15からの駆動電圧により導通し、信号線16からの信号電圧を画素電極11に印加する。
【００７８】
補助容量素子12の補助容量電極12aは、活性層71と同層のアンダーコート層72上に配置され、ゲート絶縁膜77および層間絶縁膜78を貫通するコンタクトホール83を介してコンタクト電極84に電気的に接続されている。このコンタクト電極84は、カラーフィルタ層33を貫通するコンタクトホール85を介して画素電極11に電気的に接続されている。これにより、薄膜トランジスタ13のソース電極21、画素電極11、および補助容量電極12aは、同電位となる。一方、補助容量素子12の補助容量線12bは、その少なくとも一部がゲート絶縁膜77を介して補助容量電極12aに対向配置され、所定電位に設定されている。
【００７９】
図１４ないし図１６に示すように、遮光部42は、カラーフィルタ層33を構成する着色樹脂を２層積層させた受止パターンとしての土手パターンである一対の隔壁91，92と、この一対の隔壁91，92の間に形成されたバンクＡ内においてガラス基板７の上面に配設された遮光層41とを備えている。
【００８０】
より詳細には、一対の隔壁91，92は、その一部をなす隔壁下段部91a，92aと他部をなす隔壁上段部91b，92bが異なる色の着色樹脂(例えば、下段部91a，92aを緑色の着色樹脂、上段部91b，92bを青色の着色樹脂)から構成されており、液晶注入口40を除く遮光領域39に設けられている。これにより、一対の隔壁91，92の間には、液晶注入口40を除く遮光領域39を取り囲む溝状のバンクＡが形成され、このバンクＡ内には、黒色顔料を分散した黒色樹脂などの遮光性樹脂からなる遮光層41が形成されている。
【００８１】
スペーサ25は、例えば感光性樹脂によって形成されている。このスペーサ25は、遮光性を有する配線部に積層されたカラーフィルタ層33の各色フィルタ部34，35，36上に配置されている。配向膜65は、液晶層４に含まれる液晶分子をアレイ基板２に対して所定方向に配向する。
【００８２】
対向基板３は、ガラス基板32上に形成された対向電極37、この対向電極37を覆う配向膜94などを有している。配向膜94は、液晶層４に含まれる液晶分子を対向基板３に対して所定方向に配向する。
【００８３】
バックライトユニットBLから出射された光は、液晶パネル１におけるアレイ基板２側の偏光板44を通過し、液晶層４を介して変調され、対向基板３側の偏光板45によって選択的に透過される。これにより、液晶パネル１の画面部８に画像が表示される。
【００８４】
次に、上記液晶パネル１の製造方法について説明する。
【００８５】
アレイ基板２の製造工程では、まず、ガラス基板７上にアンダーコート層72を形成した後、薄膜トランジスタ13などのポリシリコンの活性層71および補助容量電極12aを形成する。続いて、ゲート絶縁膜77を形成した後、走査線15、補助容量線12b、および、走査線15と一体のゲート電極24などの各種配線を形成する。続いて、ゲート電極24をマスクとして、ポリシリコンの活性層71に不純物を注入し、ドレイン領域74およびソース領域75を形成した後、基板全体をアニールすることにより不純物を活性化する。続いて、層間絶縁膜78を形成した後、ゲート絶縁膜77および層間絶縁膜78を貫通して各コンタクトホール81，79，83を形成する。続いて、信号線16を形成するとともに、信号線16と一体に薄膜トランジスタ13のドレイン電極22、ソース電極21、およびコンタクト電極84を形成することで、図１７に示すような薄膜トランジスタ13と電極配線を形成したアレイ基板２が得られる。
【００８６】
次いで、各色の画素９毎に対応する色のカラーフィルタ層33の各色フィルタ部34，35，36を形成するとともに遮光領域39に一対の隔壁91，92を形成する。
【００８７】
より詳細には、スピンナにより、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを基板全面に塗布する。そして、このレジスト膜を、緑色画素に対応した部分および画面部８周縁における隔壁91，92に対応した部分に光が照射されるようなフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、このレジスト膜を、界面活性剤を含む水酸化カリウム(ＫＯＨ)の１％水溶液で１０秒間現像し、焼成する。これにより、図１８に示すように、３．０μｍの膜厚を有する緑色フィルタ部35を形成するとともに、緑色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる隔壁91，92の下段部91a，92aを形成する。
【００８８】
なお、隔壁91，92の下段部の幅寸法(線幅)は、この下段部の上面に形成される隔壁91，92の上段部91b，92bを形成できる幅寸法を確保できれば、特に限定されないが、例えば、本実施の形態では、図１９に示すように、内側(すなわち、画面部８側)に形成された隔壁91の下段部91aの幅寸法W1aを５０μｍ、この隔壁91の外周側に形成された隔壁92の下段部92aの幅寸法W2aを２５０μｍに設けている。また、隔壁91の下段部91aと隔壁92の下段部92aとの間隔の寸法Ｗは、製造する液晶パネル１において必要とされる遮光領域の寸法に対応させて適宜設定でき、例えば、本実施の形態では、寸法Ｗ＝２ｍｍに設定している。
【００８９】
次いで、同様の紫外線硬化型アクリル樹脂レジストの塗布、フォトリソグラフプロセスを繰り返すことにより、図２０に示すように、３．０μｍの膜厚を有する青色フィルタ部36を形成するとともに両隔壁91，92の下段部91a，92aの上面に青色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる隔壁91，92の上段部91b，92bを形成し、これにより、隔壁91，92の間には６．０μｍの深さを有する溝状のバンクＡが遮光領域39に形成される。
【００９０】
なお、隔壁91，92の上段部91b，92bの幅寸法は、この上段部91b，92bを構成する紫外線硬化型アクリル樹脂が所定の密着強度を確保できる限界解像度(線幅)以上の幅寸法であれば特に限定されることなく、例えば、本実施の形態では、図１９に示すように、内側の隔壁91の上段部91bの幅寸法W1bを２５μｍ、外周側の隔壁92の上段部92bの幅寸法W2bを１００μｍに設けている。
【００９１】
そして、同様の工程を繰り返すことにより、図２１に示すように、赤色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる３．０μｍの膜厚を有する赤色フィルタ部34を赤色画素に対応した部分に形成する。
【００９２】
なお、これらの各色フィルタ部34，35，36の形成工程では、スルーホール67およびコンタクトホール85も同時に形成する。
【００９３】
次いで、スパッタリング法により、カラーフィルタ層33上にＩＴＯを成膜し、所定の画素パターンにパターニングすることにより、薄膜トランジスタ13にコンタクトした画素電極11を形成する。次いで、この基板表面に、スピンナにより、例えば紫外線硬化性アクリル樹脂レジストを基板表面に所定の膜厚で塗布する。そして、この樹脂材料を加熱乾燥した後に、所定のパターン形状のフォトマスクを用いて所定露光量の紫外線により露光する。そして、この樹脂材料をアルカリ水溶液にて現像し、所定時間加熱し焼成することにより、図２２に示すように、基板表面の画素電極11上を避けてカラーフィルタ層33上の所定位置に、約５μｍの高さのスペーサ25を形成する。
【００９４】
次いで、図２３および図２４に示すように、隔壁91，92の間に形成されたバンクＡ内にインクジェットノズル95から遮光インクＣを滴下することでバンクＡ内に遮光インクＣを塗布する。そして、加熱焼成してアクリル系モノマーを硬化させることで、バンクＡ内に黒色樹脂からなる遮光層41を形成する。なお、本実施の形態では、加熱処理により硬化する熱硬化性樹脂を含有する遮光インクＣを用いたが、これに代えて、光照射により硬化する光硬化性樹脂を含有する遮光インクを用いてもよい。
【００９５】
次いで、基板全面に、配向膜材料ＡＬ−１０５１(ＪＳＲ(株)製)を塗布し、ラビング処理を行うことで、配向膜65を形成する。これにより、図２５に示すようなアレイ基板２が製造される。
【００９６】
一方、対向基板３の製造工程では、まず、スパッタリング法により、ＩＴＯを約１５０ｎｍの厚さに成膜し、パターニングすることによって対向電極37を形成した後、その上に配向膜65と同様の配向膜材料を塗布し、ラビング処理を行うことで、配向膜94を形成し、これにより、対向基板３が製造される。
【００９７】
液晶パネル１の製造工程では、シール材５を液晶注入口40を残してアレイ基板２の外縁に沿って印刷塗布し、さらに、アレイ基板２から対向電極37に電圧を印加するための電極転移材をシール材５の周辺の電極転移電極上に形成する。続いて、アレイ基板２の配向膜65と対向基板３の配向膜94とが互いに対向するようにアレイ基板２と対向基板３とを配置し、加熱してシール材５を硬化させて両基板を貼り合わせる。続いて、ＺＬＩ−１５６５(Ｅ．メルク社製)などの液晶組成物を液晶注入口40から注入し、さらに液晶注入口40を封止部材93によって封止することによって液晶層４を形成し、液晶表示パネルが製造される。
【００９８】
このように上記第５の実施の形態によれば、カラーフィルタ層33の形成工程において、画面部８内にカラーフィルタ層33を形成するとともに、遮光領域39内に遮光インクＣを堰き止めるバンクＡを形成する隔壁91，92を形成できるため、別途の工程を必要とすることなく、また、遮光インクＣがアレイ基板２の周縁部に広がることもなく、画面部８の外周部の所定位置にインクジェット方式によって遮光層41を形成でき、これにより、原料利用効率の向上および製造コストの削減を図ることができる。
【００９９】
また、遮光層41と画面部８の最外周に配置されたカラーフィルタ層33(本実施の形態では青色フィルタ部36)とが互いに隣接することがなく、両層間で混色が発生することもない。
【０１００】
なお、本実施の形態では、一対の隔壁91，92の下段部91a，92aと上段部91b，92bを緑色の着色樹脂と青色の着色樹脂でそれぞれ形成したが、本発明はこれに限定されるものでなく、カラーフィルタ層33の各色フィルタ部34，35，36を形成するいずれの色の着色樹脂で形成してもよい。
【０１０１】
また、本実施の形態において、いずれの隔壁91，92も異なる色の着色樹脂を階段状に２層積層させて構成しているが、例えば、図２６に示す第６の実施の形態のように、隔壁91，92の下段部91a，92aを被覆するように隔壁91，92の下段部91b，92bを形成してもよく、更にまた、図２７および図２８に示す第７の実施の形態のように、一対の隔壁91，92を１層または３層で構成したり、あるいは、図２９に示す第８の実施の形態のように内側の隔壁91を２層で構成し、外側の隔壁92を１層で構成したりするなど、着色樹脂の積層構成は特に限定されず、所望厚さの遮光層41が形成できるように両隔壁91，92の着色樹脂の積層構成を適宜設定できる。ここで、内側の隔壁91を２層で構成し、外側の隔壁92を１層で構成する第９の実施の形態の場合には、図３０に示すように、遮光インクＣが、外側の隔壁92を乗り上げるようにバンクＡ内に滴下することで、両隔壁91，92を２層で構成した場合と略同様の厚さの遮光層41を形成できる。
【０１０２】
また、本実施の形態では、アレイ基板２にカラーフィルタ層33と遮光部42を形成したが、対向基板３にカラーフィルタ層と上記のような遮光部を形成してもよい。
【０１０３】
次に、第１０の実施の形態を図３１ないし図４２を参照して説明する。なお、上記各実施の形態と同様の構成および作用については、同一符号を付してその説明を省略する。
【０１０４】
この第１０の実施の形態の液晶パネル１は、図３１に示すように、一対の隔壁91，92のうち、内周側(すなわち、画面部８側)の隔壁91の上段部91bに、隔壁91に沿って下方へ陥没する溝97が上段部91bの上面に形成されているものである。なお、内周側の隔壁91が光透過性を有する場合には、この隔壁91の下に遮光用のメタルパターン(不図示)を配設してもよい。
【０１０５】
そして、このような一対の隔壁91，92の間には、バンクＡが形成され、このバンクＡ上に遮光層41が形成されている。
【０１０６】
次に、上記液晶パネル１の製造方法について説明する。
【０１０７】
図３２に示すように、上記第５の実施の形態と同様の工程により、薄膜トランジスタ13と電極配線を形成したアレイ基板２を形成した後、各色の画素９毎に対応する色のカラーフィルタ層33の各色フィルタ部34，35，36を形成するとともに遮光領域39に一対の隔壁91，92を形成する。この際には、例えばスピンナにより、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストを基板全面に塗布し、このレジスト膜を、赤色画素に対応した部分に光が照射されるようにフォトマスクを介して３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光する。そして、このレジスト膜を界面活性剤を含む水酸化カリウム(ＫＯＨ)の０．０５％水溶液で４０秒間現像し、２３０℃で３分間焼成する。これにより、図３３に示すように、３．０μｍの膜厚を有する赤色フィルタ部34を形成する。
【０１０８】
次いで、同様の紫外線硬化型アクリル樹脂レジストに緑色の顔料を分散させたレジストをスピンナにより基板全面に塗布し、そして、このレジスト膜を緑色画素に対応した部分および画面部８周縁における隔壁91，92に対応した部分に光が照射されるようなフォトマスクを介して上記同様の条件で露光し、そして、現像および焼成を行うことにより、図３４に示すように、３．０μｍの膜厚を有する緑色フィルタ部35を形成するとともに、緑色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる隔壁91，92の下段部91a，92aを形成する。
【０１０９】
なお、隔壁91，92の下段部91a，92aの幅寸法(線幅)は、この下段部91a，92aの上面に形成される隔壁91，92の上段部91b，92bを形成できる幅寸法を確保できれば、特に限定されないが、例えば、本実施の形態では、図３５に示すように、下段部91a，92aの幅寸法W1a，W2aをそれぞれ７０μｍに設けている。また、隔壁91の下段部91aと隔壁92の下段部92aとの間隔の寸法Ｗは、製造する液晶パネル１において必要とされる遮光領域の寸法に対応させて適宜設定でき、例えば、本実施の形態では、寸法Ｗ＝１〜７ｍｍに設定している。
【０１１０】
次いで、同様の紫外線硬化型アクリル樹脂レジストの塗布、フォトリソグラフプロセスおよび焼成を繰り返すことにより、図３６に示すように、３．０μｍの膜厚を有する青色フィルタ部36を形成するとともに両隔壁91，92の下段部91a，92aの上面に青色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる隔壁91，92の上段部91b，92bを形成し、これにより、隔壁91，92の間には５．５μｍの深さを有する溝状のバンクＡを遮光領域39に形成する。ここで、内周側の下段部91aには、青色の顔料を分散させたアクリル樹脂からなる一対の樹脂層98，98を下段部91aの上面に所定間隔を隔てて配置することにより、下段部91a上に下方に陥没する溝97を有する上段部91bを形成する。
【０１１１】
なお、隔壁91，92の上段部91b，92bの幅寸法は、この上段部91b，92bを構成する紫外線硬化型アクリル樹脂が所定の密着強度を確保できる限界解像度(線幅)以上の幅寸法であれば特に限定されることなく、例えば、本実施の形態では、図３５に示すように、内側の隔壁91の上段部91bを構成する樹脂層98，98の幅寸法W2aを２０μｍに、樹脂層98，98の間隔W3を２０μｍに、外周側の隔壁92の上段部92bの幅寸法W2bを２０μｍに、それぞれ設けている。
【０１１２】
次いで、カラーフィルタ層33と隔壁91，92が形成されたアレイ基板２を２２０℃で６０分間焼成し、アクリル樹脂を完全に硬化させる。
【０１１３】
なお、これらの各色フィルタ部34，35，36の形成工程では、スルーホール67およびコンタクトホール85も同時に形成する。
【０１１４】
次いで、スパッタリング法により、カラーフィルタ層33上にＩＴＯを１５０ｎｍ成膜し、所定の画素パターンにパターニングすることにより、薄膜トランジスタ13にコンタクトした画素電極11を形成する。次いで、この基板表面に、スピンナにより、例えば紫外線硬化性アクリル樹脂レジストを基板表面に所定の膜厚で塗布する。そして、この樹脂材料を加熱乾燥した後に、所定のパターン形状のフォトマスクを用いて所定露光量の紫外線により露光する。そして、この樹脂材料をアルカリ水溶液にて現像し、所定時間加熱し焼成することにより、図３７に示すように、基板表面の画素電極11上を避けてカラーフィルタ層33上の所定位置に、５．５μｍの高さのスペーサ25を形成する。
【０１１５】
次いで、図３８に示すように、隔壁91，92の間に形成されたバンクＡ内にインクジェットノズル95から遮光インクＣを吐出することでバンクＡ内に遮光インクＣを塗布する。その際、インクジェットノズル95の吐出口から隔壁91，92の上段部91b，92b上端までの吐出方向の吐出距離Ｈが６０μｍ〜９０μｍに設定されるように、インクジェットノズル95が遮光インクＣを吐出する吐出位置を決定することが好ましい。そして、溶剤を減圧下で除去した後、加熱焼成してアクリル系モノマーを硬化させることで、図３９に示すように、バンクＡ内に黒色樹脂からなる遮光層41を形成し、上記第５の実施の形態と同様の工程で配向膜65を形成することにより、図４０に示すようなアレイ基板２が製造される。
【０１１６】
なお、本実施の形態では、加熱処理により硬化する熱硬化性樹脂を含有する遮光インクＣを用いたが、これに代えて、光照射により硬化する光硬化性樹脂を含有する遮光インクを用いてもよい。
【０１１７】
このように上記第１０の実施の形態によれば、カラーフィルタ層33の形成工程において、画面部８内にカラーフィルタ層33を形成するとともに、遮光領域39内に遮光インクＣを堰き止めるバンクＡを形成する隔壁91，92を形成できるため、別途の工程を必要とすることなく、また、遮光インクＣがアレイ基板２の周縁部に広がることもなく、画面部８の外周部の所定位置にインクジェット方式によって遮光層41を形成でき、これにより、原料利用効率の向上および製造コストの削減を図ることができる。
【０１１８】
また、内周側の隔壁91の上段部91bには溝97が設けられているため、インクジェットノズル95から吐出された遮光インクＣが内周側の隔壁91の上端に達した場合であっても、この遮光インクＣが、溝97に流れ込み分散されその勢いが弱められることで溝97内に堰き止められ、画面部８へ流出するのを防止できる。
【０１１９】
このことは、内周側の隔壁91の上段部91bに溝97が形成されている場合と、上段部91bに溝97が形成されていない場合において、インクジェットノズル95がバンクＡに遮光インクＣを吐出する際のインクジェットノズル95の吐出口から隔壁91，92の上段部91b，92b上端までの吐出方向の吐出距離Ｈと、遮光インクＣの吐出不良の有無の関係を示した図４１および図４２からも明らかである。
【０１２０】
すなわち、図４１に示す溝97が形成されていない場合では、吐出距離Ｈが８０μｍ以上で遮光インクＣが画面部８に流出することがなく、吐出距離Ｈが９０μｍ以下で遮光層41の成形不良が発生することがなく、よって、遮光インクＣの吐出不良が発生することがない吐出距離Ｈの範囲が８０μｍ〜９０μｍである。
【０１２１】
これに対し、図４２に示す溝97が形成されている場合では、吐出距離Ｈが６０μｍ以上で遮光インクＣが画面部８に流出することがなく、吐出距離Ｈが９０μｍ以下で遮光層41の成形不良が発生することがなく、遮光インクＣの吐出不良が発生することがない吐出距離Ｈの範囲が、溝97が形成されていない場合に比べ３倍の６０μｍ〜９０μｍとなり、装置条件や隔壁91，92の形状などのばらつきあっても安定して遮光インクＣが画面部８に流出することなく遮光層41を形成できる。
【０１２２】
さらに、遮光層41と画面部８の最外周に配置されたカラーフィルタ層33(本実施の形態では青色フィルタ部36)とが互いに隣接することがなく、両層間で混色が発生することもない。
【０１２３】
なお、上記した第１０の実施の形態では、一対の隔壁91，92の下段部91a，92aと上段部91b，92bを緑色の着色樹脂と青色の着色樹脂でそれぞれ形成したが、本発明はこれに限定されるものでなく、カラーフィルタ層33の色フィルタ部34，35，36を形成するいずれの色の着色樹脂で形成してもよい。
【０１２４】
また、図４３に示す第１１の実施の形態のように、上記第１０の実施の形態において、一対の隔壁91，92の上端部側面にあたる隔壁91，92の上段部91b，92bの側面が、ガラス基板７に対して２５度〜１５０度の角度をなすテーパ面99であってもよく、このような場合であっても、インクジェットノズル95から吐出された遮光インクＣが画面部８へ流出するのを防止できる。
【０１２５】
なお、上記各実施の形態では、赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35および青色フィルタ部36の３色の着色層を用いた例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、赤色フィルタ部34、緑色フィルタ部35、青色フィルタ部36、および、透明色フィルタ部の４色の着色層を用いて形成してもよい。
【０１２６】
次に、第１２の実施の形態を図４４に基づいて説明する。なお、上記第１０の実施の形態と同様の構成および作用については、同一符号を付してその説明を省略する。
【０１２７】
この第１２の実施の形態は、上記第１０の実施の形態において内周側の隔壁91の上段部91bに溝97が形成されていない点、および隔壁91，92の上段部91b，92bの側面がテーパ面99をなしている点で異なり、このテーパ面99は、ガラス基板７に対するテーパ角度θが、２５度〜１５０度、好ましくは９０度〜１２０度になるように形成されている。
【０１２８】
このようなテーパ面99のテーパ角度θは、露光後のレジスト膜の現像時間を制御することによって調整できるほか、レジスト材、露光量あるいは焼成条件などを制御することによっても調整できる。
【０１２９】
以上のように、本実施の形態では、隔壁91，92の上段部91b，92bの側面をテーパ面99に設けることで、インクジェットノズル95から吐出された遮光インクＣが画面部８へ流出するのを防止できる。
【０１３０】
なお、上記第１２の実施の形態において、いずれの隔壁91，92も異なる色の着色樹脂を階段状に２層積層させて構成しているが、隔壁91，92を１層または３層で構成したり、あるいは、内周側の隔壁91を２層で構成し、外周側の隔壁92を１層で構成したりするなど、着色樹脂の積層構成は特に限定されず、所望厚さの遮光層41が形成できるように両隔壁91，92の着色樹脂の積層構成を適宜設定できる。その際、最上段に形成される着色樹脂層の側面、すなわち、一対の隔壁91，92の上端部側面をテーパ面99に設けることにより、遮光インクＣが画面部８へ流出するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明の液晶表示装置の第１の実施の形態を示す斜視図である。
【図２】同上液晶表示装置を示す説明回路構成図である。
【図３】同上液晶表示装置を示す説明断面図である。
【図４】同上液晶表示装置を示す平面図である。
【図５】同上液晶表示装置の光透過性基板上に受止パターンを形成した状態を示す説明図である。
【図６】同上受止パターンとカラーフィルタ層との間に遮光性材料を塗布する状態を示す説明図である。
【図７】同上受止パターンとカラーフィルタ層との間に遮光層を形成した状態を示す説明図である。
【図８】本発明の液晶表示装置の第２の実施の形態の光透過性基板上に受止パターンを形成した状態を示す説明図である。
【図９】同上受止パターンとカラーフィルタ層との間に遮光性材料を塗布する状態を示す説明図である。
【図１０】同上受止パターンとカラーフィルタ層との間に遮光層を形成した状態を示す説明図である。
【図１１】本発明の液晶表示装置の第３の実施の形態を示す説明断面図である。
【図１２】本発明の液晶表示装置の第４の実施の形態のカラーフィルタ層の外側に遮光性材料を塗布する状態を示す説明図である。
【図１３】同上カラーフィルタ層の外側に遮光層を形成した状態を示す説明図である。
【図１４】本発明の液晶表示装置の第５の実施の形態を示す平面図である。
【図１５】同上液晶表示装置のアレイ基板の構造を示す説明断面図である。
【図１６】同上液晶表示装置を示す説明断面図である。
【図１７】同上液晶表示装置の光透過性基板上にスイッチング素子を形成した状態を示す説明図である。
【図１８】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層の一部と隔壁下段部とを形成した状態を示す説明図である。
【図１９】同上一対の隔壁間に塗布された遮光性材料を硬化させた状態を示す説明図である。
【図２０】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層の他の一部と隔壁上段部とを形成した状態を示す説明図である。
【図２１】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層のさらに他の一部を形成した状態を示す説明図である。
【図２２】同上カラーフィルタ層上に画素電極とスペーサとを形成した状態を示す説明図である。
【図２３】同上一対の隔壁間に遮光性材料を塗布する状態を示す説明図である。
【図２４】同上一対の隔壁間に遮光層を形成した状態を示す説明図である。
【図２５】同上光透過性基板上に配向膜を形成した状態を示す説明図である。
【図２６】本発明の液晶表示装置の第６の実施の形態を示す説明図である。
【図２７】本発明の液晶表示装置の第７の実施の形態の光透過性基板上に隔壁下段部を形成した状態を示す説明図である。
【図２８】同上液晶表示装置の光透過性基板上に隔壁を形成した状態を示す説明図である。
【図２９】本発明の液晶表示装置の第８の実施の形態を示す説明図である。
【図３０】本発明の液晶表示装置の第９の実施の形態を示す説明図である。
【図３１】本発明の液晶表示装置の第１０の実施の形態を示す説明断面図である。
【図３２】同上液晶表示装置の光透過性基板上にスイッチング素子を形成した状態を示す説明図である。
【図３３】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層の一部と隔壁下段部とを形成した状態を示す説明図である。
【図３４】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層の他の一部と隔壁上段部とを形成した状態を示す説明図である。
【図３５】同上一対の隔壁間に塗布された遮光性材料を硬化させた状態を示す説明図である。
【図３６】同上光透過性基板上にカラーフィルタ層のさらに他の一部を形成した状態を示す説明図である。
【図３７】同上カラーフィルタ層上に画素電極とスペーサとを形成した状態を示す説明図である。
【図３８】同上一対の隔壁間に遮光性材料を塗布する状態を示す説明図である。
【図３９】同上一対の隔壁間に遮光層を形成した状態を示す説明図である。
【図４０】同上光透過性基板上に配向膜を形成した状態を示す説明図である。
【図４１】同上インクジェットノズルの吐出距離と透光性材料の吐出不良の有無との関係を示すグラフであって、隔壁の上段部に溝が設けられていない場合を示すグラフである。
【図４２】同上インクジェットノズルの吐出距離と透光性材料の吐出不良の有無との関係を示すグラフであって、隔壁の上段部に溝が設けられている場合を示すグラフである。
【図４３】本発明の第１１の実施の形態を示す説明図である。
【図４４】本発明の第１２の実施の形態を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１    液晶表示装置としての液晶パネル
２    光透過性基板としてのアレイ基板
８    表示領域としての画面部
９    画素
11    画素電極
13    スイッチング素子としての薄膜トランジスタ
33    カラーフィルタ層
34    着色層としての赤色フィルタ部
35    着色層としての第１カラーフィルタ層である緑色フィルタ部
36    着色層としての第２カラーフィルタ層である青色フィルタ部
38    受止パターンとしての土手パターン
39    遮光領域
41    遮光層
42    遮光部
91，92    受止パターンとしての隔壁
91a，92a    隔壁下段部
91b，92b    隔壁上段部
95    インクジェットノズル
99    テーパ面
Ｃ    遮光性材料としての遮光インク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2007241219.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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