(57)【要約】【課題】  寸法安定性、長期保存性や走行耐久性に優れた支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が小さく、エラーレート少ない高密度磁気記録媒体とすることができる支持体を提供する。【解決手段】  ポリエステルフィルムの両面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）が設けられ、各Ｍ層の厚みがそれぞれ５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、各Ｍ層の赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）が０．５〜２．０の範囲内の磁気記録媒体用支持体とする。【選択図】図２
2007157244.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの両面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）が設けられ、各Ｍ層の厚みがそれぞれ５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、各Ｍ層の赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）がそれぞれ０．５〜２．０の範囲内にあることを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
【請求項２】
光学濃度が０．７〜７．０の範囲内にある、請求項１に記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項３】
各Ｍ層の緻密率がそれぞれ９０〜１００％の範囲内である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項４】
各Ｍ層のアルゴンイオンスパッタレートがそれぞれ１．５〜３．０ｎｍ／ｍｉｎの範囲内である、請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項５】
少なくとも一方の表面の中心線平均粗さＲａが０．５〜１０ｎｍの範囲内である、請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項６】
各Ｍ層がアルミニウム元素を含んでいる、請求項１〜５のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の少なくとも片面に磁性層が設けられた磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体を用いた磁性層を有する磁気記録媒体とに関する。
【背景技術】
【０００２】
二軸延伸ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。近年、磁気テープなどの磁気記録媒体は、機材の軽量化、小型化、大容量化のため高密度化が要求されている。高密度記録化のためには、記録波長を短くし、記録トラックを小さくすることが有用である。しかしながら、記録トラックを小さくすると、テープ走行時における熱やテープ保管時の温湿度変化による変形により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという問題がある。したがって、テープの使用環境および保管環境での寸法安定性といった特性の改善に対する要求がますます強まっている。
【０００３】
この観点から、支持体には、強度、寸法安定性の点で二軸延伸ポリエステルフィルムよりも優れた剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられることがある。しかしながら芳香族ポリアミドは高価格でコストがかかり、汎用記録媒体の支持体としては現実的ではない。
【０００４】
一方、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどを用いたポリエステルフィルムにおいても、延伸技術を用いて高強度化した磁気記録媒体用支持体が開発されている。しかしながら、温度や湿度に対する寸法安定性などの厳しい要求を満足することはいまだ困難である。
【０００５】
また、温度や湿度に対する寸法安定性を向上するために、ポリエステルフィルムの片面または両面に金属などの補強層を設ける方法も開示されている（特許文献１）。しかし、この文献に記載の方法では、補強層を設けるものの、期待されるほどには寸法安定性を向上することができない。
【０００６】
そこで鋭意検討した結果、寸法安定性には補強層の緻密さが重要であることを見出し、その緻密さを向上させるには補強層を酸化させるとともに適度に水酸化させることが必要であることを見出した。  
【０００７】
なお、水酸化度を制御した酸化金属層を蒸着する技術はガスバリア性フィルムで開示されている（特許文献２）。しかし、ガスバリア性フィルムは酸化金属層の厚みが５０ｎｍ以下と薄く、もともとポリエステルフィルムの膨張・収縮を抑制する効果が小さいものである。さらに、これらのガスバリア性フィルムは包装材料用途であるため、ベースフィルムの厚みが１０μm以上と厚く、また表面が平滑ではないため、容易に蒸着ができるのに対し、磁気記録媒体用支持体に用いられるポリエステルフィルムは一般的に厚みが薄く、平滑であるために、これらの方法のように工夫無く蒸着すると熱による変形などにより、蒸着中にフィルム破れが多発する。
【特許文献１】特開平７−２７２２４７号公報
【特許文献２】特開平１１−８０９３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記の問題を解決し、寸法安定性に優れた磁気記録媒体用支持体を提供することにある。詳しくは、磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、長期保存性や走行耐久性に優れた高密度磁気記録媒体とすることができる支持体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための本発明は、次の（１）〜（５）を特徴とするものである。
（１）ポリエステルフィルムの両面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）が設けられ、各Ｍ層の厚みがそれぞれ５０〜２００ｎｍである磁気記録媒体用支持体であって、各Ｍ層の赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）がそれぞれ０．５〜２．０の範囲内であることを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
（２）光学濃度が０．７〜７．０の範囲内である、上記（１）に記載の磁気記録媒体用支持体。
（３）各Ｍ層の緻密率がそれぞれ９０〜１００％の範囲内である、上記（１）または（２）に記載の磁気記録媒体用支持体。
（４）各Ｍ層のアルゴンイオンスパッタレートがそれぞれ１．５〜３．０ｎｍ／ｍｉｎの範囲内である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（５）少なくとも一方の表面の中心線平均粗さＲａが０．５〜１０ｎｍの範囲内である、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（６）各Ｍ層がアルミニウム元素を含んでいる、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体。
（７）上記（１）〜（６）のいずれかに記載の磁気記録媒体用支持体の少なくとも片面に磁性層が設けられた磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、寸法安定性に優れ、特に磁気記録媒体とした際に、環境変化による寸法変化が小さく、長期保存性や走行耐久性に優れた高密度磁気記録媒体とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、ポリエステルフィルムの両方の表面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）が形成されている。Ｍ層が片面にしか設けられていないと、ポリエステルフィルムとＭ層との収縮膨張応力の違いで大きくカールするため磁気テープにする際に問題となる。そのため、両面にＭ層が必要である。
【００１２】
本発明において、金属酸化物とは、例えば、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｖ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｇａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙ、Ｗなどの金属成分を酸化させたものであって、組成分析を行った場合の平均組成における酸素原子含有量が１０ａｔ．％以上となっているものをいう。なお、ａｔ．％とは、atomic%の略である。また、水酸化物とは金属と水酸基が結合したものであって、水酸化物を含むとは赤外分光法による金属−水酸基結合のピークを持つものをいい、金属−水酸基結合のピークを金属水酸化物のピークという。さらに、本発明でいう水とは、Ｍ層の金属酸化物に吸着した水をさし、水を含むとは赤外分光法による吸着水のピークを持つものをいう。Ｍ層に吸着した水のピークは３３００ｃｍ−１にあり、金属水酸化物のピークはそれより高波数側に表れる。
【００１３】
また、本発明の磁気記録媒体用支持体は、各Ｍ層の赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）がそれぞれ特定範囲内にある。赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（以下、水酸化物比率という）は金属水酸化物の量を表す指標である。通常赤外分光法はプリズムとサンプルの密着度合いによって、ピーク強度が一律に増減するため、絶対値よりも種々のピークを相対的に比較することが好ましい手法である。そのため、どのような膜でも大きく変化しない吸着水との比をとることで金属水酸化物の量を指標化できる。
【００１４】
各Ｍ層は、水酸化物比率が後述するような範囲内であれば、両表面で異なる金属成分を含んでいても良く、また、複数種の金属成分を混合して含んでいても構わないが、より好ましくは両表面で同一種の金属成分を含む方が良い。中でも、酸化度および水酸化度の制御性、寸法安定性、生産性、環境性の観点から、アルミニウム、銅、亜鉛、銀、珪素元素の少なくとも一種を含んでいることが好ましく、より好ましくはアルミニウム元素が主成分となっていることが好ましい。
【００１５】
各Ｍ層の厚みは、それぞれ５０〜２００ｎｍである必要がある。Ｍ層の厚みが５０ｎｍより小さい場合、補強効果が小さく、寸法安定性が改善されない。Ｍ層の厚みの下限は、好ましくは６０ｎｍ、より好ましくは７０ｎｍである。一方、Ｍ層の厚みが２００ｎｍより大きい場合は、クラックを生じやすく寸法安定性が悪化しやすい。また走行を繰り返すことで剥離や脱落が発生し易く、結果として寸法安定性が悪化する傾向にある。Ｍ層の厚みの上限は、好ましくは１８０ｎｍ、より好ましくは１５０ｎｍである。好ましい範囲としては、６０〜１８０ｎｍ、より好ましい範囲としては、７０〜１５０ｎｍである。
【００１６】
各Ｍ層は、赤外分光法による金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）が、０．５〜２．０の範囲内である必要がある。上記したようにＭ層の厚みを５０〜２００ｎｍとするとき、金属酸化物の層は隙間が多く緻密性の低い構造となり易い。その結果、期待されるほど十分な寸法安定性を発現することができない。しかしながら、金属酸化物とともに金属水酸化物および水でＭ層を構成すると、金属水酸化物および水が隙間を埋めることになり、結果的に緻密性の高い構造となる。その結果、寸法安定性を向上することができる。ただし、Ｍ層に含まれる水が多くなり水酸化物比率が０．５より小さくなると、M層が経時変化をおこしやすく寸法安定性が悪くなる。一方、水酸化物が多くなりすぎて、水酸化物比率が２．０より大きくなると、水酸化物は強度が低いため、環境変化に対するポリエステルフィルムの膨張や収縮を抑える効果が小さくなる。水酸化物比率の下限は、好ましくは０．６、より好ましくは０．７である。水酸化物比率の上限は、好ましくは１．９、より好ましくは１．８である。
【００１７】
Ｍ層の金属水酸化物と水のピーク強度は、後述するように、蒸着工程での水蒸気ガス導入量や高湿度下の巻き返し条件で制御することができる。金属水酸化物のピーク強度は水蒸気ガスの導入量の影響が大きく、水蒸気ガス導入量を増やすとピーク強度が大きくなる。水のピーク強度は高湿度下の巻き返し条件の影響が大きく、低温で高湿度であるほどピーク強度が大きくなる。つまり、水酸化物比率を大きくするには、水酸化物のピーク強度を大きくし、水のピーク強度を小さくするように制御すれば良く、水酸化物比率を小さくするには、その逆となる。
【００１８】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、光学濃度が０．７〜７．０であることが好ましい。光学濃度とは、ランベルト−ベールの法則より求められる数値で、下記式のように光線透過率と蒸着厚み（Ｍ層の総厚み）から算出される。光学濃度が小さいほど酸化が進んでいることを示し、大きいほど酸化が不完全であることを示す。
【００１９】
【数１】
2007157244.tif 000003
【００２０】
光学濃度が０．７より小さい場合、酸化が進みすぎているため、脆く割れやすいという問題がある。光学濃度の下限はより好ましくは０．８、さらに好ましくは０．９である。一方、７．０より大きい場合、酸化が不充分であるため、強度が弱く、補強効果が小さくなり寸法安定性が向上しない問題がある。光学濃度の上限はより好ましくは６．５、さらに好ましくは６．０である。
【００２１】
Ｍ層の緻密率は、両面共に９０〜１００％の範囲内であることが好ましい。緻密率とは、Ｍ層に空隙がなく、緻密に形成されていることを表す指標で、光電子分光法よりＭ層の組成を分析し、組成をなす物質の密度から理想的な密度を算出するとともに、Ｘ線反射率法によってＭ層の密度を測定し、実測密度／理想密度の比から緻密率を算出することで求められる。緻密率を９０％以上にするということは、Ｍ層の空隙を少なくし、寸法安定性をさらに高めることになる。緻密率はより好ましくは９２％以上、さらに好ましくは９４％以上である。緻密率は１００％が上限である。
【００２２】
各Ｍ層のアルゴンイオンスパッタレートはそれぞれ１．５〜３．０ｎｍ／ｍｉｎであることが好ましい。アルゴンイオンスパッタレートとは、アルゴンイオンビームをＭ層に照射し、それによって掘り進められる速度を表し、Ｍ層の材質が硬いほど、掘りにくくスパッタレートが小さくなる。スパッタレートが１．５ｎｍ／ｍｉｎより小さい場合、Ｍ層が硬すぎるため、湾曲や屈曲した時にクラックが入りやすくなってしまう。好ましくは１．７ｎｍ／ｍｉｎであり、より好ましくは１．９ｎｍ／ｍｉｎである。３．０ｎｍ／ｍｉｎより大きい場合、Ｍ層が柔らかすぎ、強度が低いため環境変化に対するポリエステルフィルムの膨張や収縮を抑える効果が小さくなる。好ましくは２．８ｎｍ／ｍｉｎで、より好ましくは２．６ｎｍ／ｍｉｎである。
【００２３】
そして、本発明の磁気記録媒体用支持体においては、磁性層を設ける側の表面（A）の中心線平均粗さＲａが０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましい。磁性層を設ける側の表面（A）のＲａが０．５ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、磁気ヘッドとの摩擦が大きくなり、磁気テープ特性が低下しやすい。また、Ｒａが１０ｎｍより大きい場合は、高密度記録の磁気テープとして用いる場合に、電磁変換特性が低下することがある。磁性層を設ける側の表面（A）のＲａの下限は、より好ましくは２ｎｍ、さらに好ましくは3ｎｍであり、上限は９ｎｍ、さらに好ましくは８ｎｍである。より好ましい範囲としては、２〜９ｎｍ、さらに好ましい範囲としては、3〜８ｎｍである。
【００２４】
一方、バックコート層側の表面（B）の中心線平均粗さＲａは３〜３０ｎｍであることが好ましい。バックコート層側の表面（B）のＲａが３ｎｍより小さい場合は、フィルム製造、加工工程などで、搬送ロールなどとの摩擦係数が大きくなり、工程トラブルを起こすことがあり、磁気テープとして用いる場合に、ガイドロールとの摩擦が大きくなり、テープ走行性が低下することがある。また、Ｒａが３０ｎｍより大きい場合は、フィルムロールやパンケーキとして保管する際に、表面突起が反対側の表面に転写し、電磁変換特性が低下する傾向がある。バックコート層側の表面（B）のＲａの下限は、より好ましくは５ｎｍ、さらに好ましくは7ｎｍであり、上限は２０ｎｍ、さらに好ましくは１５ｎｍである。より好ましい範囲としては、５〜２０ｎｍ、さらに好ましい範囲としては7〜１５ｎｍである。
【００２５】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、幅方向の湿度膨張係数が−３〜１０ｐｐｍ／％ＲＨであることも好ましい。湿度膨張係数が上記範囲内であることは、磁気記録媒体への加工工程や磁気記録媒体の記録再生時の高湿条件での寸法安定性の観点から好ましい。幅方向の湿度膨張係数の上限は、より好ましくは８ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは７ｐｐｍ／％ＲＨである。幅方向の湿度膨張係数の下限はより好ましくは−１ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましくは０ｐｐｍ／％ＲＨである。より好ましい範囲としては、−１〜８ｐｐｍ／％ＲＨ、さらに好ましい範囲としては０〜７ｐｐｍ／％ＲＨである。
【００２６】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、長手方向のヤング率が５〜１３ＧＰａであることが好ましい。長手方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、テープドライブ内での長手方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形により幅方向に収縮し、記録トラックずれという問題が発生しやすい。長手方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａ、さらに好ましくは７ＧＰａである。一方、長手方向のヤング率が１３ＧＰａより大きい場合、幅方向のヤング率を好ましい範囲に制御することが難しくなり、幅方向のヤング率が不足し、エッジダメージの原因となる。長手方向のヤング率の上限は、より好ましくは１２ＧＰａ、さらに好ましくは１１ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１２ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては７〜１１ＧＰａである。
【００２７】
本発明の磁気記録媒体用支持体は、幅方向のヤング率が５〜１３ＧＰａの範囲であることが好ましい。幅方向のヤング率が５ＧＰａより小さい場合、エッジダメージの原因となったりすることがある。幅方向のヤング率の下限は、より好ましくは６ＧＰａ、さらに好ましくは7ＧＰａである。一方、幅方向のヤング率が１３ＧＰａより大きい場合、長手方向のヤング率を好ましい範囲に制御することが難しくなり長手方向の張力により変形しやすくなったり、スリット性が悪化することがある。幅方向のヤング率の上限は、より好ましくは１２ＧＰａ、さらに好ましくは１１ＧＰａである。より好ましい範囲としては、６〜１２ＧＰａ、さらに好ましい範囲としては7〜１１ＧＰａである。
【００２８】
なお、本発明において、支持体の長手方向とは、一般的にＭＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の長手方向と同じ方向を指し、支持体の幅方向とは、一般的にＴＤ方向といわれる方向であって、ポリエステルフィルム製造工程時の幅方向と同じ方向を指す。
【００２９】
本発明において、ポリエステルフィルムとは、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものである。
【００３０】
芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００３１】
ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’−ビス（４’−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００３２】
ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４−ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノール、ｐ−アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。
【００３３】
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。また、これらの共重合体、および変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂との混合物でも良い。特に、上記ポリエステル樹脂とポリイミド系樹脂の混合物は混合割合によって耐熱性（ガラス転移温度）を制御できるため、使用条件に合わせたポリマー設計ができるため好ましい。ポリマーの混合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ−ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。
【００３４】
ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記一般式で示されるような構造単位を含有するものが好ましい。
【００３５】
【化１】
2007157244.tif 000004
【００３６】
ただし、式中のＲ１は、
【００３７】
【化２】
2007157244.tif 000005
【００３８】
【化３】
2007157244.tif 000006
【００３９】
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。また、式中のＲ２は、
【００４０】
【化４】
2007157244.tif 000007
【００４１】
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表している。
【００４２】
溶融成形性やポリエステルとの親和性などの点から、下記一般式で示されるような、ポリイミド構成成分にエーテル結合を含有するポリエーテルイミドが特に好ましい。
【００４３】
【化５】
2007157244.tif 000008
【００４４】
（ただし、上記式中Ｒ３は、６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ４は６〜３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２〜８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ３、Ｒ４としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。
【００４５】
【化６】
2007157244.tif 000009
【００４６】
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい
【００４７】
【化７】
2007157244.tif 000010
【００４８】
または
【００４９】
【化８】
2007157244.tif 000011
【００５０】
（ｎは２以上の整数、好ましくは２０〜５０の整数）
このポリエーテルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商品名で、ジーイープラスチックス社より入手可能である。
【００５１】
本発明において、ポリエステルフィルムは２層以上の積層構成であることが好ましい。特に、本発明の支持体は、磁気記録媒体に用いるため、一方の表面には、優れた電磁変換特性を得るための平滑さが求められ、他方の表面には、製膜・加工工程での搬送や、磁気テープの走行性や走行耐久性を付与するための粗さが求められる。そのため、ポリエステルフィルムを２層以上の積層構成にすることが好ましい。
【００５２】
ポリエステルフィルムには、その表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などが添加されていてもよい。粒子の粒径はＴＥＭなどによって調べることができ、粒子の添加量はＸ線マイクロアナライザーや熱分解ガスクロマト質量分析などによって調べることができる。
【００５３】
本発明において、支持体としての厚みは、用途に応じて適宜決定できるが、通常磁気記録媒体用途では２〜７μｍが好ましい。この厚みが２μｍより小さい場合、磁気テープにした際に電磁変換特性が低下することがある。一方、この厚みが７μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。したがって、高密度磁気記録媒体用途の場合、厚みの下限は、好ましくは３μｍ、より好ましくは4μｍであり、上限は、好ましくは６．５μｍ、より好ましくは６μｍである。より好ましい範囲としては３〜６．５μｍ、より好ましい範囲としては4〜６μｍである。
【００５４】
また、本発明の支持体を構成するポリエステルフィルムの厚みは、２〜６μmであることが好ましい。この厚みが２μｍより小さい場合は、磁気テープにした際にテープに腰がなくなるため、電磁変換特性が低下することがある。ポリエステルフィルムの厚みの下限は、より好ましくは３μm、さらに好ましくは４μmである。一方、ポリエステルフィルムの厚みが６μｍより大きい場合は、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量化が困難になる場合がある。ポリエステルフィルムの厚みの上限は、より好ましくは５．８μm、さらに好ましくは５．６μmである。より好ましい範囲としては３〜５．８μm、さらに好ましい範囲としては４〜５．６μmである。
【００５５】
上記したような本発明の磁気記録媒体用支持体は、たとえば次のように製造される。
【００５６】
まず、支持体を構成するポリエステルフィルムを製造する。ポリエステルフィルムを製造するには、たとえばポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。また、ポリエステルフィルムの表面に易滑性や耐摩耗性、耐スクラッチ性などを付与するため、無機粒子、有機粒子、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カリオン、タルク、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、熱硬化樹脂、シリコーン、イミド系化合物等を構成成分とする有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等によって析出する粒子（いわゆる内部粒子）などを添加することも好ましい。さらに、本発明を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。
【００５７】
続いて、上記シートを長手方向と幅方向の二軸に延伸した後、熱処理する。延伸工程は、特に限定されないが、各方向において２段階以上に分けることが好ましい。すなわち再縦、再横延伸を行う方法が高密度記録の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。
【００５８】
延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行うなどの逐次二軸延伸法や、同時二軸テンター等を用いて長手方向と幅方向を同時に延伸する同時二軸延伸法、さらに、逐次二軸延伸法と同時二軸延伸法を組み合わせた方法などが包含される。
【００５９】
特に同時二軸延伸法を用いることが好ましい。逐次二軸延伸法に比べて同時二軸延伸法は、製膜工程で長手方向、幅方向に結晶が均一に成長するため、安定して高倍率に延伸しやすい。なお、ここでいう同時二軸延伸とは、長手方向と幅方向の延伸が同時に行われる工程を含む延伸方式である。必ずしも、すべての区間で長手方向と幅方向が同時に延伸されている必要はなく、長手方向の延伸が先にはじまり、その途中から幅方向にも延伸を行い（同時延伸）、長手方向の延伸が先に終了し、残りを幅方向のみ延伸するような方式でもよい。延伸装置としては、例えば同時二軸延伸テンターなどが好ましく例示され、中でもリニアモータ駆動式の同時二軸テンターが破れなくフィルムを延伸する方法として特に好ましい。
【００６０】
次に、上記のようにして得られたポリエステルフィルムの両面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）を設ける。Ｍ層の形成方法としては、基本的に物理蒸着法や化学蒸着法を用いることができる。ポリエステルフィルムへの化学蒸着法にはプラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法などがあるが、化学蒸着法は成膜速度が遅く生産性が悪い問題がある。物理蒸着法には真空蒸着法、スパッタリング法があり、特に反応性の上げやすさから真空蒸着法が好ましく、さらに電子ビーム蒸着法が好ましい。このとき、水酸化物比率の値を上述のとおりとするために、金属と水とを積極的に反応させる必要があり、そのため、蒸着直後に高湿度下で巻き返したり蒸着中に酸素ガス以外の水蒸気を含むガスを供給する。さらに水と積極的に反応させるためには、蒸着された金属酸化物の反応性を高める必要がある。そのためには、蒸着時に導入する酸素ガスと金属蒸気との反応時間を短くすればよく、フィルム搬送速度を調整することで制御できる。
【００６１】
本発明の磁気記録媒体用支持体の光学濃度を制御するには、基本的には金属蒸発量と酸素ガス導入量を制御する必要がある。金属蒸発量が一定であれば、酸素ガス導入量を減らせば光学濃度が大きくなり、酸素ガス導入量を増やせば光学濃度が小さくなる。逆に酸素ガス導入量が一定であれば、金属蒸発量を減らせば光学濃度が小さくなり、金属蒸発量を増やせば光学濃度が大きくなる。このとき、酸素ガスは、蒸着源の真横から金属蒸気の流れる方向と同じ方向に供給することが好ましい。
【００６２】
また、Ｍ層の緻密率を制御するには、基本的に、水酸化物比率が関係しているため、水蒸気ガス導入量や高湿度下の巻き返しでの温湿度条件で制御することができる。具体的には、金属蒸気のエネルギーを高くしたり蒸着中の冷却効率を高めることで緻密率を高くすることができ、蒸着方式によって制御することができる。例えば金属蒸気のエネルギーを高めるためには、電子ビームによる高エネルギー供給によって蒸着をおこなう電子ビーム蒸着法などがあり、また蒸着チャンバ内にプラズマ発生装置を取り付け、プラズマ雰囲気中蒸着を行う方法などもある。冷却効率を高めるには、冷却ドラムとフィルムの密着性を高めれば良く、フィルムの表面粗さを平滑にすれば良い。
【００６３】
Ｍ層のアルゴンイオンスパッタレートを制御するには、基本的に、緻密さや酸化度によって変化するため、水蒸気ガスや酸素ガスの導入量を制御する必要がある。酸化度が高いほどスパッタレートは小さくなる。しかし、酸化度が高くても緻密さが低いとスパッタレートは大きくなってしまう。緻密さも同時に高めるためには蒸着時の水蒸気ガスと酸素ガスの導入量の比を制御する必要があり、水蒸気ガスを酸素ガスの２〜２０％程度含ませるとスパッタレートが小さくなる。
【００６４】
また、支持体の表面の中心線平均粗さＲａを上記範囲内とするためには、ポリエステルフィルムの表面粗さを変更することで制御できる。金属成分の種類やＭ層の膜厚、酸化度を変更することでも制御できる。ポリエステルフィルムの表面粗さは不活性粒子の粒径を大きくするか、添加量を増やすことで粗くすることができる。表面を粗くすれば、支持体表面の中心線平均粗さＲａも大きくなる。また、Ｍ層の膜厚を厚くすることでも支持体表面の中心線平均粗さＲａは大きくなる。Ｍ層の厚みを厚くするとＭ層の構造が柱状構造になりやすく、その結果、局部的に堆積成長した柱状構造が表面を粗くする。さらに、上記したように酸化度を高めることでも、支持体表面の中心線平均粗さＲａを大きくすることができる。中でもＭ層の厚みの影響が大きい。
【００６５】
支持体の湿度膨張係数は、Ｍ層の金属成分の種類や厚み、酸化度などで制御することができる。
【００６６】
支持体の長手方向のヤング率は、ポリエステルフィルムの長手方向のヤング率でほとんど決まる。一方、支持体の幅方向のヤング率も、ポリエステルフィルムの幅方向のヤング率でほとんど決まる。したがって、ポリエステルフィルムの長手方向、幅方向のヤング率を制御すればよい。ポリエステルフィルムのヤング率は、延伸倍率や延伸温度によって制御できる。基本的には、総面積延伸倍率を高くしたり、延伸温度を低くすれば、製造したポリエステルフィルムのヤング率は高くなる。
【００６７】
また、支持体のヤング率は、Ｍ層を構成する金属成分の種類やＭ層の厚み、酸化度によっても制御できる。Ｍ層自体の強度を高く、膜厚を厚くすることで支持体のヤング率を高めることができる。
【００６８】
なお、本発明においては、ポリエステルフィルムやそのポリエステルフィルムを用いて得られた支持体に、必要に応じて、熱処理、マイクロ波加熱、成形、表面処理、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチング、などの任意の加工を行ってもよい。
【００６９】
以下、本発明の支持体の製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。もちろん、本願はＰＥＴフィルムを用いた支持体に限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。
【００７０】
まず、ポリエチレンテレフタレートを準備する。ポリエチレンテレフタレートは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。ここで、エステル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用いて進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン化合物を添加する場合もある。
【００７１】
フィルムを構成するポリエステルに不活性粒子を含有させる場合には、エチレングリコールに不活性粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。不活性粒子を添加する際には、例えば、不活性粒子の合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル状態の粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。また、不活性粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、ＰＥＴに練り込む方法も有効である。不活性粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃度の不活性粒子のマスターペレットを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して不活性粒子の含有量を調節する方法が有効である。
【００７２】
次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０〜３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが好ましい。また、必要に応じて、定量供給性を向上させるためにギアポンプを設けてもよい。フィルムを積層する場合には、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層する。
【００７３】
次に、この未延伸フィルムを同時二軸延伸テンターに導いて、長手および幅方向に同時に二軸延伸を行う。延伸速度は長手、幅方向ともに１００〜２０，０００％／分の範囲で行うのが好ましい。より好ましくは、５００〜１０，０００％／分、さらに好ましくは２，０００〜７，０００％／分である。延伸速度が１００％／分よりも小さい場合には、フィルムが熱にさらされる時間が長くなるため、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。また、２０，０００％／分よりも大きい場合には、延伸時点で分子間の絡み合いが生成しやすくなり、延伸性が低下して、高倍率の延伸が困難となることがある。
【００７４】
また、１段目の延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度Ｔｇを目安として決めることができる。長手方向および幅方向それぞれの１段目の延伸工程における温度は、Ｔｇ〜Ｔｇ＋３０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ＋５℃〜Ｔｇ＋２０℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、再延伸性が低下して、高倍率に安定して延伸することが困難となることがある。また、上記範囲よりも延伸温度が高い場合には、特にエッジ部分が結晶化して延伸破れの原因となり製膜性が低下したり、十分に分子配向が進まず、製造したフィルムのヤング率が低下することがある。
【００７５】
延伸倍率は、用いるポリマーの種類や延伸温度によって異なり、また多段延伸の場合も異なるが、総面積延伸倍率（総縦延伸倍率×総横延伸倍率）が、２０〜４０倍の範囲になるようにすることが好ましい。より好ましくは２５〜３５倍である。長手方向、幅方向の一方向の総延伸倍率としては、２．５〜８倍が好ましく、より好ましくは、３〜７倍である。延伸倍率が上記範囲より小さい場合には、延伸ムラなどが発生しフィルムの加工適性が低下することがある。また、延伸倍率が上記範囲より大きい場合には、延伸破れが多発して、生産性が低下する場合がある。なお、各方向に関して延伸を多段で行う場合、１段目の長手、幅方向それぞれにおける延伸倍率は、２．５〜５倍が好ましく、より好ましくは３〜４倍である。また、１段目における好ましい面積延伸倍率は８〜１６倍であり、より好ましくは、９〜１４倍である。これらの延伸倍率の値は、特に同時二軸延伸法を採用する場合に好適な値であるが、逐次二軸延伸法でも適用できる。
【００７６】
本発明のポリエステルフィルムの製造方法が多段延伸、すなわち再延伸工程を含む場合、２段目の延伸温度はＴｇ＋４０℃〜Ｔｇ＋１２０℃が好ましく、さらに好ましくはＴｇ＋６０℃〜Ｔｇ＋１００℃である。なお、３段の延伸を行う場合、２段目の延伸温度としては上記温度範囲の中でも比較的低い延伸温度とする方がよい。延伸温度が上記範囲を外れる場合には、熱量不足や結晶化の進みすぎによって、フィルム破れが多発して生産性が低下したり、十分に配向を高めることができず、強度が低下する場合がある。さらに３段目の延伸を行う場合には、３段目の延伸温度は２段目の延伸温度よりも高く、後述する熱処理の温度よりも低いことが好ましい。なお、３段目の延伸を行うとヤング率や熱的寸法安定性が向上し易い。
【００７７】
また、再延伸を行う場合の一方向における延伸倍率は、１．０５〜２．５倍が好ましく、より好ましくは１．２〜１．８倍である。再延伸の面積延伸倍率としては、１．４〜４倍が好ましく、より好ましくは１．９〜３倍である。さらに３段目の延伸を行う場合には、３段目の延伸倍率（一方向）は、１．０５〜１．２倍が好ましく、面積延伸倍率は１．１〜１．４が好ましい。
【００７８】
続いて、この延伸フィルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。熱処理条件は、ポリマーの種類によっても異なるが、熱処理温度は、１５０℃〜２３０℃が好ましく、熱処理時間は０．５〜１０秒の範囲で行うのが好ましい。
【００７９】
次に、上記のようにして得られたＰＥＴフィルムの両面に金属酸化物、金属水酸化物および水を含む層（Ｍ層）を設ける方法を説明する。
【００８０】
ＰＥＴフィルム表面にＭ層を形成するには、たとえば図２に示すような真空蒸着装置を用いる。この真空蒸着装置１１においては、真空チャンバ１２の内部をポリエステルフィルムが巻出しロール部１３から冷却ドラム１６を経て巻取りロール部１８へと走行する。そのときに、るつぼ２３内の金属材料１９を電子銃２０から照射した電子ビーム２１で加熱蒸発させるとともに、ガス供給ノズル２４から酸素ガスを導入し、蒸発した金属を酸化反応させながら冷却ドラム１６上のポリエステルフィルムに蒸着する。本発明は両面にＭ層が必要なため、片方の表面（１面目）に金属酸化物を蒸着した後巻取りロール部１８から片面蒸着ポリエステルフィルムを取り外し、それを巻出しロール部１３にセットし同じように反対側の表面（２面目）に金属酸化物を蒸着する。なお、この真空蒸着装置１１は、酸化度を容易に制御できるように、ガス供給ノズル２４を蒸着源であるるつぼ２３の真横に設置し、かつ、金属蒸気と酸素ガスとが同じ方向に流れるようにしている。その結果、金属蒸気と酸素ガスとの反応空間も大きくなっている。
【００８１】
ここで、真空チャンバ１２の内部は１．０×１０−８〜１．０×１０２Ｐａに減圧することが好ましい。さらに緻密で劣化部分の少ないＭ層を形成させるために好ましくは、１．０×１０−６〜１．０×１０−１Ｐａに減圧することが好ましい。
【００８２】
冷却ドラム１６は、その表面温度を−４０〜６０℃の範囲内にすることが好ましい。より好ましくは−３５〜３０℃、さらに好ましくは−３０〜０℃である。
【００８３】
電子ビーム２１は、その出力が２．０〜８．０ｋＷの範囲内のもので行うのが好ましい。より好ましくは３．０〜７．０ｋＷ、さらに好ましくは４．０〜６．０ｋＷの範囲内である。なお、直接ルツボを加熱することで金属材料１９を加熱蒸発させてもよい。
【００８４】
酸素ガスは、ガス流量制御装置２６を用いて０．５〜２０Ｌ／ｍｉｎの流量で真空チャンバ１２内部に導入する。より好ましくは１．５〜１５Ｌ／ｍｉｎ、さらに好ましくは２．０〜１０Ｌ／ｍｉｎである。
【００８５】
真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送速度は２０〜２００ｍ／ｍｉｎが好ましい。より好ましくは３０〜１００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは４０〜８０ｍ／ｍｉｎである。搬送速度が２０ｍ／ｍｉｎより遅すぎる場合、上記のようなＭ層厚みに制御するためには金属の蒸発量をかなり小さくする必要がある。そのため、酸素ガス導入量も減らす必要がでてくるために、酸化度の制御が非常に難しくなる。搬送速度が２００ｍ／ｍｉｎより速くなると、冷却ドラムとの接触時間が短くなるため熱による破れやシワが発生し、生産性が損なわれる。
【００８６】
真空チャンバ１２の内部におけるポリエステルフィルムの搬送張力は５０〜１５０Ｎ／ｍが好ましい。より好ましくは７０〜１２０Ｎ／ｍ、さらに好ましくは８０〜１００Ｎ／ｍである。ただし、２面目の蒸着時には搬送張力を１面目より弱めることが好ましい。２面目の搬送張力は１面目の搬送張力より５〜３０Ｎ／ｍ低いことが好ましく、より好ましくは７〜２５Ｎ／ｍ低く、さらに好ましくは１０〜２０Ｎ／ｍ低いことが好ましい。これは、１面目の蒸着時にポリエステルフィルムが熱負荷を受け収縮しようとする力を失うため、２面目の蒸着時に１面目と同様の搬送張力で走行させると、熱による破れやシワが発生し、生産性が損なわれるからである。さらに、ポリエステルフィルムの表面粗さが面によって異なる場合は、先に粗い方の面を蒸着することが好ましい。これは２面目蒸着時に冷却ドラムへの密着性を高めるためである。蒸着は片面ずつ行っても良いし、両面を１工程で行っても良い。
【００８７】
このように、ＰＥＴフィルム表面に金属酸化物の層を設けた後、次いで、その層を水蒸気に接触させることで水酸化させ、水酸化物比率（Ｍ層の金属水酸化物のピーク強度と吸着水のピーク強度との比）が上記範囲内となるようにする。そのために、真空蒸着装置内を常圧に戻して、巻取ったフィルムを巻き返すことが必要である。特に、水酸化物比率を上記範囲内とするためには、水蒸気とＰＥＴフィルム表面の金属酸化物の層との接触時間を長くする必要があり、高湿度下での巻き返しを行うことが好ましい
高湿度下での巻き返しは温度２０〜４０℃、相対湿度６０〜９０％ＲＨの範囲内で行うことが好ましい。温度は２５〜３０℃がより好ましい。温度が２０℃より低い場合、結露しやすく、支持体がブロッキングを起こしたり、搬送ロールへの張り付きなどの問題が生じやすい。４０℃より高い場合は支持体のポリエステルフィルムが膨張してしまうため、巻き返しが終わったあと常温に戻すと収縮しロール形状が悪化するなどの問題が生じやすい。相対湿度は７０〜８０％ＲＨがより好ましい。６０％ＲＨより低いと水蒸気との反応が不充分となり、水酸化物比率を高めにくくなる。９０％ＲＨより高いと結露の可能性があり、また水酸化するだけでなく、Ｍ層に残存する未反応の水を増やすことになり問題となり易い。
【００８８】
巻き返しの搬送速度は２０〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。より好ましくは４０〜８０ｍ／ｍｉｎである。２０ｍより遅い場合、張力調節が難しく、シワが入り易く、逆に１００ｍ／ｍｉｎより速い場合は、水蒸気との接触が少なくなり、水酸化が十分に進行しにくくなる。
【００８９】
なお、水酸化物比率を上記範囲内とするためには、上記のような高湿度下で巻き返すほか、金属酸化物蒸着時の酸素ガスに水蒸気ガスを混合させることも好ましい。もちろん、その両方を行ってもよい。金属酸化物蒸着時の酸素ガスに水蒸気ガスを混合させる場合、水蒸気ガスは酸素ガスの２〜２０％程度含ませるのが好ましい。流量としては０．００４〜２Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
【００９０】
次に、磁気記録媒体を製造する方法を説明する。上記のようにして得られた磁気記録媒体用支持体を、たとえば０．１〜３ｍ幅にスリットし、速度２０〜３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０〜３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面（Ａ）に磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布する。なお、上層に磁性塗料を厚み０．１〜０．３μｍで塗布し、下層に非磁性塗料を厚み０．５〜１．５μmで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０〜１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面（Ｂ）にバックコートを厚み０．３〜０．８μmで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）を用い、温度７０〜１２０℃、線圧０．５〜５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０〜８０℃にて２４〜７２時間エージング処理し、１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。
【００９１】
ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末                        ：  １００重量部
・変成塩化ビニル共重合体                ：    １０重量部
・変成ポリウレタン                      ：    １０重量部
・ポリイソシアネート                    ：      ５重量部
・２−エチルヘキシルオレート            ：  １．５重量部
・パルミチン酸                          ：      １重量部
・カーボンブラック                      ：      １重量部
・アルミナ                              ：    １０重量部
・メチルエチルケトン                    ：    ７５重量部
・シクロヘキサノン                      ：    ７５重量部
・トルエン                              ：    ７５重量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ）  ：    ９５重量部
・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）：    １０重量部
・アルミナ                              ：  ０．１重量部
・変成ポリウレタン                      ：    ２０重量部
・変成塩化ビニル共重合体                ：    ３０重量部
・シクロヘキサノン                      ：  ２００重量部
・メチルエチルケトン                    ：  ３００重量部
・トルエン                              ：  １００重量部
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（ＬＴＯ４やＬＴＯ５など）や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。
【００９２】
（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
【００９３】
（１）Ｍ層の厚み
下記条件にて断面観察を行い、得られた合計９点の厚み[nm]の平均値を算出し、Ｍ層の厚み［ｎｍ］とする。
【００９４】
測定装置：透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）Ｈ−７１００ＦＡ型  日立製
測定条件：加速電圧  １００ｋＶ
測定倍率：２０万倍
試料調整：超薄膜切片法
観察面  ：ＴＤ−ＺＤ断面
測定回数：１視野につき３点、３視野を測定する。
【００９５】
（２）Ｍ層における金属水酸化物のピーク強度と水のピーク強度との比
下記条件にて、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ）の全反射測定法（ＡＴＲ法）を行う。測定面とプリズムを密着させ測定を行い、続いて同様に逆面にプリズムを密着させ測定する。得られたスペクトルから金属水酸化物のピークと水（吸着水）のピークの強度を読み取り、ピーク強度比（金属水酸化物のピーク強度／水のピーク強度）を算出する。
【００９６】
測定装置：フーリエ変換赤外分光光度計ＦＴＳ−５５Ａ  Ｂｉｏ−Ｒａｄ製
光源    ：ＳｉＣ
検出器  ：ＤＴＧＳ
ビームスプリッター：  Ｇｅ／ＫＢｒ
分解能  ：  ４ｃｍ−１
積算回数：  ２５６
付属装置：角度可変ＡＴＲアタッチメント
プリズム：Ｇｅ
入射角  ：６０°
偏光    ：なし
測定回数：２回測定し平均値を採用する。  
【００９７】
なお、後述する実施例で用いる物質のピーク位置は下記の通りである。
【００９８】
吸着水；３３５０ｃｍ−１
水酸化アルミニウム；３６００ｃｍ−１
水酸化銅；３６５０ｃｍ−１
水酸化亜鉛；３６００ｃｍ−１
（３）組成分析
下記条件にて、深さ方向の組成分析を行う。炭素濃度が５０ａｔ．％を越える深さをＭ層とポリエステルフィルムとの界面とし、表層から界面までを等分に５分割し、それぞれの区間の中央点を測定点として組成分析を行う。得られた各測定点の組成から平均値を算出し、本発明における平均組成とする。なお、Ｍ層とポリエステルフィルムの界面までのスパッタ時間［ｍｉｎ］はスパッタレートを算出する時に必要となる。
【００９９】
測定装置：Ｘ線光電子分光機  Ｑｕａｎｔｅｒａ−ＳＸＭ  米国ＰＨＩ社製
励起Ｘ線：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ  ＡｌＫα１，２線（１４８６．６ｅＶ）
Ｘ線径  ：１００［μm］
光電子脱出角度：４５°
ラスター領域：２×２［ｍｍ］
Ａｒイオンエッチング：  ２．０［ｋＶ］  １．５×１０−７［Ｔｏｒｒ］
スパッタ速度：３．６８ｎｍ／ｍｉｎ（Ｓｉ２Ｏ換算値）
データ処理：９−ｐｏｉｎｔ  ｓｍｏｏｔｈｉｎｇ
ピークの結合エネルギー値から元素情報が得られ、各ピークの面積比を用いて組成を定量化（ａｔ．％）する。さらに、金属元素のピークは結合状態（メタル−酸素，メタル−水酸基，メタル−メタルなど）によってそれぞれ結合状態のピークへ分割ができ、それぞれの結合状態のピークの面積比から酸化物、水酸化物、単体金属などの組成比を定量化［％］する。
【０１００】
（４）光学濃度
（１）と（７）の方法にて求められる両面のＭ層の総厚みと全光線透過率からランベルト−ベールの法則（式１）を用いて算出する。
【０１０１】
【数２】
2007157244.tif 000012
【０１０２】
（５）緻密率
（３）と（８）の方法にて求められるＭ層の組成と密度から（式２）を用いて算出する。
【０１０３】
【数３】
2007157244.tif 000013
【０１０４】
なお、組成比から求まる理想密度とは酸化物、水酸化物、単体金属などの一般的な密度を組成比によって分配し算出した密度である。金属元素によっては何種類かの酸化物、水酸化物を持つものもあり、ｎ種の酸化物、水酸化物を有する元素からなるＭ層の理想密度は次のように表される。
【０１０５】
【数４】
2007157244.tif 000014
【０１０６】
また、例えばＭ層が下記４種のアルミニウムで構成されている場合は次のようになる
・金属アルミニウム  密度２．７［ｇ／ｃｍ３］  組成比１０％
・水酸化アルミニウム（ギブサイト）  密度２．４［ｇ／ｃｍ３］  組成比４０％
・水酸化アルミニウム（ベーマイト）  密度３．０［ｇ／ｃｍ３］  組成比５％
・酸化アルミニウム（γアルミナ）  密度３．６［ｇ／ｃｍ３］  組成比４５％
【０１０７】
【数５】
2007157244.tif 000015
【０１０８】
さらに、後述する実施例で用いる化合物の密度は下記の通りであり、それ以外の化合物については化学大辞典（共立出版）や実験化学便覧新版（共立出版）に記載されている値を参照する。
【０１０９】
・酸化銅（I）６．０［ｇ／ｃｍ３］、酸化銅（II）６．３［ｇ／ｃｍ３］、水酸化銅３．９５［ｇ／ｃｍ３］
・酸化亜鉛５．５［ｇ／ｃｍ３］、水酸化亜鉛３．０５［ｇ／ｃｍ３］
（６）スパッタレート
（１）と（３）の方法にて求められるＭ層の厚みとスパッタ時間から（式３）を用いて算出する。
【０１１０】
【数６】
2007157244.tif 000016
【０１１１】
（７）全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、下記測定装置を用いて支持体を測定する。５回の測定結果の平均値を本発明における全光線透過率とする。
【０１１２】
測定装置：直読ヘーズメーターＨＧＭ−２ＤＰ（Ｃ光源用）  スガ試験機社製
光源    ：ハロゲンランプ１２Ｖ、５０Ｗ
受光特性：３９５〜７４５ｎｍ
測定環境：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
測定回数：５回測定する。
【０１１３】
（８）Ｍ層の密度
ＴＨＥ  ＴＲＣ  ＮＥＷＳ（東レリサーチセンター（株）、１９９５、Ｎｏ．５３、Ｐ．４０）に記載されているＸ線反射率法（Ｇｒａｚｉｎｇ Ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ  Ｘ−ｒａｙ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅｌｙ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ）にてＭ層の密度を測定する。なお、測定は片面ずつ行う。
【０１１４】
発生装置        ：（株）学電機社製  ＲＵ−Ｈ２Ｒ  (回転対陰極型)
光学配置        ：Ｓｉ（１１１）チャンネルカットモノクロメーター２基を用いて、角度発散を１０００分の２°に抑えてある。
【０１１５】
検出器          ：高速シンチレーションカウンター
サンプルサイズ  ：１０ｍｍ×１０ｍｍ
測定回数        ：２回測定し平均値を採用する。
【０１１６】
入射Ｘ線波長    ：０．１５４１ｎｍ（ＣｕＫα１線）
出力            ：４０ｋＶ  １００ｍＡ
測定角度(θ)    ：０．０５〜２．０°
ステップ(θ)    ：０．００５°
スキャン速度(θ)：０．０２５°／ｍｉｎ
（９）中心線平均粗さＲａ
触針式表面粗さ計を用いて下記条件にて支持体の中心線平均粗さＲａを測定する。幅方向に２０回走査して測定を行い、得られた結果の平均値を本発明における中心線平均粗さＲａとする。
【０１１７】
測定装置    ：小坂研究所製高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０
触針先端半径：０．５μｍ
触針荷重    ：５ｍｇ
測定長      ：１ｍｍ
カットオフ値：０．０８ｍｍ
測定環境    ：温度２３℃湿度６５％ＲＨ
（１０）湿度膨張係数
下記条件にて支持体の湿度膨張係数測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とする。
【０１１８】
測定装置：大倉インダストリー製テープ伸び試験機
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間２００ｍｍ
荷重：１０ｇ
測定回数：３回
測定温度：３０℃
測定湿度：４０％ＲＨで６時間保持し寸法を測定し、昇湿速度１［％ＲＨ／分］で８０％ＲＨまで昇湿し、８０％ＲＨで６時間保持したあと寸法変化量ΔＬ［ｍｍ］を測定した。次式から湿度膨張係数［ｐｐｍ／％ＲＨ］を算出した。
【０１１９】
湿度膨張係数［ｐｐｍ／％ＲＨ］＝１０５×｛（ΔＬ／２００）／（８０−４０）｝
（１１）ヤング率
ＡＳＴＭ−Ｄ８８２に準拠して支持体のヤング率を測定する。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとする。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とする。
【０１２０】
測定装置：オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置
“テンシロンＡＭＦ／ＲＴＡ−１００”
試料サイズ：幅１０ｍｍ×試長間１００ｍｍ
引張り速度：２００ｍｍ／分
測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数：５回測定し、平均値から算出する。
【０１２１】
（１２）固有粘度
ポリエステルペレットをオルトクロロフェノール中へ溶解し、２５℃で測定した溶液粘度から下式に基づいて固有粘度［η］計算する。
【０１２２】
ηｓｐ／Ｃ＝[η]＋Ｋ・[η]２・Ｃ
ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒１００ｍｌあたりの溶解ポリマー重量（ｇ／１００ｍｌ、通常１．２）、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である。また、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて測定する。
【０１２３】
（１３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
下記装置および条件で未延伸のポリエステルフィルムの比熱測定を行い、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に従って決定する。
【０１２４】
装置    ：ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製温度変調ＤＳＣ
測定条件：
加熱温度    ：２７０〜５７０Ｋ（ＲＣＳ冷却法）
温度校正    ：高純度インジウムおよびスズの融点
温度変調振幅：±１Ｋ
温度変調周期：６０秒
昇温ステップ：５Ｋ
試料重量    ：５ｍｇ
試料容器    ：アルミニウム製開放型容器（２２ｍｇ）
参照容器    ：アルミニウム製開放型容器（１８ｍｇ）
なお、ガラス転移温度は下記式により算出する。
【０１２５】
ガラス転移温度＝（補外ガラス転移開始温度＋補外ガラス転移終了温度）／２
（１４）寸法安定性
（幅寸法測定）
１ｍ幅にスリットした支持体を、張力２０ｋｇ／ｍで搬送させ、支持体の一方の表面（A）に下記組成の磁性塗料および非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗布し（上層が磁性塗料で、塗布厚０．２μｍ、下層が非磁性塗料で塗布厚０．９μm。）、磁気配向させ、乾燥温度１００℃で乾燥させる。次いで反対側の表面（Ｂ）に下記組成のバックコートを塗布した後、小型テストカレンダー装置（スチール／ナイロンロール、５段）で、温度８５℃、線圧２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、巻き取る。上記テープ原反を１／２インチ（１．２７ｃｍ）幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、カセットテープとする。
（磁性塗料の組成）
・強磁性金属粉末                                    ：  １００重量部
〔Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｙ：Ｃａ＝７０：２４：１：２：２：１(重量比)〕
〔長軸長：０．０９μｍ、軸比：６、保磁力：１５３ｋＡ／ｍ（１９２２Ｏｅ）、飽和磁化：１４６Ａｍ２ ／ｋｇ（１４６ｅｍｕ／ｇ）、ＢＥＴ比表面積：５３ｍ２ ／ｇ、Ｘ線粒径：１５ｎｍ〕
・変成塩化ビニル共重合体（結合剤）                  ：    １０重量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・変成ポリウレタン（結合剤）                        ：    １０重量部
（数平均分子量：２５０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・ポリイソシアネート（硬化剤）                      ：      ５重量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）              ：  １．５重量部
・パルミチン酸（潤滑剤）                                  ：      １重量部
・カーボンブラック（帯電防止剤）                    ：      １重量部
（平均一次粒子径：０．０１８μｍ）
・アルミナ（研磨剤）                                ：    １０重量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・メチルエチルケトン                                ：    ７５重量部
・シクロヘキサノン                                  ：    ７５重量部
・トルエン                                          ：    ７５重量部
（非磁性塗料の組成）
・変成ポリウレタン                                  ：    １０重量部
（数平均分子量：２５０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体                            ：    １０重量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・メチルエチルケトン                                ：    ７５重量部
・シクロヘキサノン                                  ：    ７５重量部
・トルエン                                          ：    ７５重量部
・ポリイソシアネート                                ：      ５重量部
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネートＬ（商品名））
・２−エチルヘキシルオレート（潤滑剤）              ：  １．５重量部
・パルミチン酸（潤滑剤）                            ：      １重量部
（バックコートの組成）
・カーボンブラック                            ：    ９５重量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．０１８μｍ）
・カーボンブラック                                  ：    １０重量部
（帯電防止剤、平均一次粒子径０．３μｍ）
・アルミナ                                          ：  ０．１重量部
（αアルミナ、平均粒子径：０．１８μｍ）
・変成ポリウレタン                                  ：    ２０重量部
（数平均分子量：２５０００，スルホン酸基含有量：１．２×１０−４当量／ｇ、ガラス転移点：４５℃）
・変成塩化ビニル共重合体                            ：    ３０重量部
（平均重合度：２８０、エポキシ基含有量：３．１重量％、スルホン酸基含有量：８×１０−５当量／ｇ）
・シクロヘキサノン                                  ：  ２００重量部
・メチルエチルケトン                                ：  ３００重量部
・トルエン                                          ：  １００重量部
カセットテープのカートリッジからテープを取り出し、下記恒温恒湿槽内へ図１のように作製したシート幅測定装置を入れ、幅寸法測定を行う。なお、図１に示すシート幅測定装置は、レーザーを使って幅方向の寸法を測定する装置で、磁気テープ９をフリーロール５〜８上にセットしつつ荷重検出器３に固定し、端部に荷重となる分銅４を吊す。この磁気テープ９にレーザー光１０を発振すると、レーザー発振器１から幅方向に線状に発振されたレーザー光１０が磁気テープ９の部分だけ遮られ、受光部２に入り、その遮られたレーザーの幅が磁気テープの幅として測定される。３回の測定結果の平均値を本発明における幅とする。
【０１２６】
測定装置：（株）アヤハエンジニアリング社製シート幅測定装置
レーザー発振器１、受光部２：レーザー寸法測定機  キーエンス社製ＬＳ−５０４０
荷重検出器３：ロードセル  ＮＭＢ社製ＣＢＥ１−１０Ｋ
恒温恒湿槽：（株）カトー社製ＳＥ−２５ＶＬ−Ａ
荷重４：分銅（長手方向）
試料サイズ：幅１／２ｉｎｃｈ×長さ２５０ｍｍ
保持時間：５時間
測定回数：３回測定する。
（幅寸法変化率）
２つの条件でそれぞれ幅寸法（ｌＡ，ｌＢ）を測定し、次式にて寸法変化率を算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。×を不合格とする。
【０１２７】
Ａ条件：１０℃１０％ＲＨ  張力１．０Ｎ
Ｂ条件：２９℃８０％ＲＨ  張力０．６Ｎ
幅寸法変化率［ｐｐｍ］＝１０６×（（ｌＢ−ｌＡ）／ｌＡ）
◎：幅寸法変化率が０［ｐｐｍ］以上５００［ｐｐｍ］未満
○：幅寸法変化率が５００［ｐｐｍ］以上８００［ｐｐｍ］未満
×：幅寸法変化率が８００［ｐｐｍ］以上
（１５）長期保存性
上記（１４）で作製したカセットテープからテープを取り出し上記（１４）の方法で幅寸法変化率Ｒ０を算出する。次に、残りのカセットテープをカートリッジに入れたまま、下記条件にて強制環境処理を行い、もう一度（１４）の方法で幅寸法変化率Ｒ１を算出し、その変化量の絶対値｜Ｒ１−Ｒ０｜を算出して次の基準で長期保存性を評価する。×を不合格とする。
【０１２８】
強制環境条件：１０℃８０％ＲＨ１０日間→５０℃２０％ＲＨ１０日間
○：変化量｜Ｒ１−Ｒ０｜≦５０ｐｐｍの場合
△：５０＜変化量｜Ｒ１−Ｒ０｜＜２００ｐｐｍの場合
×：２００≦変化量｜Ｒ１−Ｒ０｜の場合
（１６）エラーレート
上記（１４）で作製したカセットテープを、市販のＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１を用いて２３℃、５０％ＲＨの環境で記録・再生（記録波長０．５５μm）することで評価する。エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。  エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
（１７）走行耐久性
走行中の張力に対する耐久性評価を行うため、上記（１４）で作製したカセットテープについて上記（１６）の方法でエラーレートＥ０を算出する。次に、下記条件にて強制走行試験を行い、もう一度（１６）の方法でエラーレートＥ１を算出し、その増加率（Ｅ１／Ｅ０）を算出した。次の基準で走行耐久性を評価する。
【０１２９】
走行装置：ＩＢＭ社製ＬＴＯドライブ３５８０−Ｌ１１
走行期間：３０日間
走行回数：１時間に１回
環境条件：３０℃８０％ＲＨ
○：増加率（Ｅ１／Ｅ０）≦１の場合
△：１＜増加率（Ｅ１／Ｅ０）＜１０の場合
×：１０≦増加率（Ｅ１／Ｅ０）の場合
【実施例】
【０１３０】
次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリ（エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）をＰＥＮと表記する。
【０１３１】
（参考例１）
テレフタル酸ジメチル１９４重量部とエチレングリコール１２４重量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム４水塩０．１重量部および三酸化アンチモン０．０５重量部を加え、１４０〜２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５重量％エチレングリコール溶液を１重量部（リン酸トリメチルとして０．０５重量部）添加した。
【０１３２】
トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達したら、反応内容物を重合装置へ移行した。
【０１３３】
移行後、反応系を２３０℃から２９０℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットＸを得た。
【０１３４】
（参考例２）
２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例１にて作製したＰＥＴペレットＸを９８重量部と平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子の１０重量％水スラリーを２０重量部（球状架橋ポリスチレンとして２重量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の真空度に保持し水分を除去し、平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２重量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＹを得た。
【０１３５】
（参考例３）
平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、参考例２と同様の方法にて、平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２重量％含有する固有粘度０．６２のＰＥＴペレットＺを得た。
【０１３６】
（参考例４）
２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００重量部とエチレングリコール６０重量部の混合物に、酢酸マンガン・４水和物塩０．０３重量部を添加し、１５０℃の温度から２４０℃の温度に徐々に昇温しながらエステル交換反応を行った。途中、反応温度が１７０℃に達した時点で三酸化アンチモン０．０２４重量部を添加した。また、反応温度が２２０℃に達した時点で３，５−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．０４２重量部（２ｍｍｏｌ％に相当）を添加した。その後、引き続いてエステル交換反応を行い、トリメチルリン酸０．０２３重量部を添加した。次いで、反応生成物を重合装置に移し、２９０℃の温度まで昇温し、３０Ｐａの高減圧下にて重縮合反応を行い、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６５のポリエチレン−２，６−ナフタレートペレットＰを得た。
【０１３７】
（参考例５）
２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例４にて作製したペレットＰを９８重量部と平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子の１０重量％水スラリーを２０重量部（球状架橋ポリスチレンとして２重量部）供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の真空度に保持し水分を除去し、平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２重量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＱを得た。
【０１３８】
（参考例６）
平均径０．３μmの球状架橋ポリスチレン粒子ではなく平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を用いたこと以外、参考例５と同様の方法にて、平均径０．８μmの球状架橋ポリスチレン粒子を２重量％含有する固有粘度０．６５のＰＥＮペレットＲを得た。
【０１３９】
（実施例１）
押出機Ｍ、Ｎ２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｍには、参考例１、２で得られたＰＥＴペレットＸ９８重量部、ＰＥＴペレットＹ２重量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｎには、参考例１〜３で得られたＰＥＴペレットＸ８９．５重量部、ＰＥＴペレットＹ１０重量部、およびＰＥＴペレットＺ０．５重量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｍ（Ａ面側）／Ｎ（Ｂ面側）＝７／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１４０】
この積層未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９０℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１６５℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２０５℃で２．５秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。
【０１４１】
次に、図２に示す真空蒸着装置１１の巻出しロール部１３に得られたポリエステルフィルムをセットし、１．５×１０−３Ｐａの真空度にした後に、−２０℃の冷却ドラム１６を介してポリエステルフィルムを搬送速度６０ｍ／ｍｉｎ、搬送張力１００Ｎで走行させた。このとき、９９．９９重量％のアルミニウムを電子ビーム（出力５．１ｋＷ）で加熱蒸発させ、さらに蒸発源であるるつぼ２３の真横に設置したガス供給ノズル24から酸素ガスを２．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．２Ｌ／ｍｉｎで金属蒸気と同じ方向に供給し、酸化アルミの蒸着薄膜層（厚み１００ｎｍ）をフィルムのＢ面側の層の上に形成して巻取った。次に搬送張力を８０Ｎにしたこと以外は同様にしてフィルムのＡ面側の層の上に酸化アルミの蒸着薄膜層を設けた。両面を蒸着した後、真空蒸着装置内を常圧に戻し、巻取ったフィルムを搬送速度５０ｍ／ｍｉｎ、温度２５℃、相対湿度７５％ＲＨの高湿度下で巻き返し、４０℃の環境で２日間エージングして、磁気記録媒体用支持体を得た。
【０１４２】
得られた磁気記録媒体用支持体を評価したところ、ポリエステルフィルムの両面に酸化アルミを含有するＭ層を持ち、表１に示すように、各Ｍ層の厚みおよびＭ層内の水酸化物比率が本発明の範囲内であった。また、磁気テープとして使用した際に寸法安定性、長期保存性、走行耐久性ともに優れた特性を有していた。
【０１４３】
（実施例２）
蒸着工程で水蒸気ガスを導入しなかったこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４４】
（実施例３）
蒸着工程での水蒸気ガス導入量を０．６Ｌ／ｍｉｎと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４５】
（実施例４）
蒸着工程での搬送速度を１２０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．２Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４６】
（実施例５）
蒸着工程での搬送速度を２５ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．２Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４７】
（実施例６）
押出機を２台使わずに、２８０℃に加熱された押出機Ｍに、参考例１〜３で得られたＰＥＴペレットＸ８９．５重量部、ＰＥＴペレットＹ１０重量部およびＰＥＴペレットＺ０．５重量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、単層で二軸配向ポリエステルフィルムを作製したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４８】
（実施例７）
蒸着工程での搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を５．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．５Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．４ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１４９】
（実施例８）
蒸着工程での搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を１．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．１Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．４ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５０】
（実施例９）
蒸着工程での搬送速度を２０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を０．７Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．０７Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を１．７ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５１】
（実施例１０）
２９０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、参考例１で得られたＰＥＴペレットＸ５０重量％とＧＥ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製のポリエーテルイミド“Ｕｌｔｅｍ１０１０”（固有粘度０．６８）のペレット５０重量％を供給し、ブレンドチップ（Ｉ）を作製した。
【０１５２】
押出機Ｍ、Ｎ２台を用い、２９５℃に加熱された押出機Ｍには、参考例１、２で得られたＰＥＴペレットＸ８８重量％、ＰＥＴペレットＹ２重量％と、ブレンドチップ（Ｉ）１０重量％を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２９５℃に加熱された押出機Ｎには、参考例１〜３で得られたＰＥＴペレットＸ７９．５重量％、ＰＥＴペレットＹ１０重量％、ＰＥＴペレットＺ０．５重量％と、ブレンドチップ（Ｉ）１０重量％を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｍ（Ａ面側）／Ｎ（Ｂ面側）＝５／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．４倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２１０℃で２．５秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。
【０１５３】
上記したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５４】
（実施例１１）
押出機Ｍ、Ｎ２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｍには、参考例４、５で得られたＰＥＮペレットＰ９８重量部、ＰＥＮペレットＱ２重量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給し、同じく２８０℃に加熱された押出機Ｎには、参考例４〜６で得られたＰＥＮペレットＰ８９．５重量部、ＰＥＮペレットＱ１０重量部、およびＰＥＮペレットＲ０．５重量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で合流させ（積層比Ｍ（Ａ面側）／Ｎ（Ｂ面側）＝７／１）、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。
【０１５５】
また、得られた未延伸フィルムをリニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用いて、二軸延伸した。長手方向および幅方向に同時に、温度１３５℃、延伸速度６，０００％で４．０倍×４．０倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．２倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度２２０℃で２．５秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。
【０１５６】
上記したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５７】
（実施例１２）
押出条件を制御してポリエステルフィルムの厚みを４．０μmにしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５８】
（実施例１３）
蒸着工程での金属材料を９９．９９重量％銅へ変更し、搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を３．０Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．４Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を６．５ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１５９】
（実施例１４）
蒸着工程での金属材料を９９．９９９９重量％亜鉛へ変更し、搬送速度を６０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を２．５Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．２Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を５．８ｋＷとしたこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１６０】
（比較例１）
蒸着工程で酸素ガスおよび水蒸気ガスを供給しないこと、そして、高湿度下での巻き返しを行わないこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体はＭ層を持たず、また、表１に示すように磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６１】
（比較例２）
蒸着工程で水蒸気ガスを供給しないこと、そして、高湿度下での巻き返しを行わないこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は表１に示すように水酸化物比率が０．３であり、また磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６２】
（比較例３）
蒸着工程での水蒸気ガス導入量を２．１Ｌ／ｍｉｎと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１に示すように、水酸化物比率が２．２であり、また磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６３】
（比較例４）
蒸着工程での搬送速度を２２０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を８Ｌ／ｍｉｎ、水蒸気ガス導入量を０．８Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を９．１ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１に示すように、Ｍ層の厚みが４０ｎｍであり、また磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６４】
（比較例５）
蒸着工程での搬送速度を１０ｍ／ｍｉｎ、酸素ガス導入量を０．３Ｌ／ｍｉｎ、電子ビーム出力を４．２ｋＷと変更したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、表１に示すように、Ｍ層の厚みが２５０ｎｍであり、また磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６５】
（比較例６）
両面ではなく片面だけに蒸着したこと以外は実施例１と同様の方法にて磁気記録媒体用支持体を得た。得られた磁気記録媒体用支持体は、蒸着膜が片面のみであり、また表１に示すように、磁気テープとして使用した際に劣る特性であった。
【０１６６】
（実施例１５）
次の点以外は実施例１と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度９０℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１６５℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．６倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１７５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１６７】
（実施例１６）
次の点以外は実施例１０と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．２×１．６倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１７５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１６８】
（実施例１７）
次の点以外は実施例１１と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度１２５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×４．２倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．１×１．４倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１９５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１６９】
（実施例１８）
次の点以外は実施例１と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度９０℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１６５℃で長手方向および幅方向に同時に１．６×１．２倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１７５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１７０】
（実施例１９）
次の点以外は実施例１０と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度９５℃、延伸速度６，０００％で３．５倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１７０℃で長手方向および幅方向に同時に１．６×１．２倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１７５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１７１】
（実施例２０）
次の点以外は実施例１１と同様の方法にて記録媒体用支持体を得た。すなわち、得られた未延伸フィルムを、リニアモータ式クリップを有する同時二軸テンターを用い、長手方向および幅方向に同時に、温度１２５℃、延伸速度６，０００％で４．２倍×３．５倍延伸し、７０℃まで冷却した。続いて、温度１８０℃で長手方向および幅方向に同時に１．４×１．１倍に再延伸した。さらに幅方向に１．０５倍の延伸を行いながら温度１９５℃で１秒間熱処理後、幅方向に２％の弛緩処理を行い、厚さ５μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを作製した。得られた記録媒体用支持体は磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。
【０１７２】
【表１】
2007157244.tif 000017
【図面の簡単な説明】
【０１７３】
【図１】幅寸法を測定する際に用いるシート幅測定装置の模式図である。
【図２】本発明の支持体を製造する際に用いられる真空蒸着装置の模式図である。
【符号の説明】
【０１７４】
１：レーザー発振器
２：受光部
３：荷重検出器
４：荷重
５：フリーロール
６：フリーロール
７：フリーロール
８：フリーロール
９：磁気テープ
１０：レーザー光
１１：真空蒸着装置
１２：真空チャンバ
１３：巻出しロール部
１４：ポリエステルフィルム
１５：ガイドロール
１６：冷却ドラム
１７：蒸着チャンバ
１８：巻取りロール部
１９：金属材料
２０：電子銃
２１：電子ビーム
２２：酸素ガスボンベ
２３：るつぼ
２４：ガス供給ノズル
２５：マスク
２６：ガス流量制御装置
２７：水蒸気ガスボンベ
【図１】
2007157244.tif 000018
【図２】
2007157244.tif 000019