(57)【要約】【課題】モニタ素子配置スペースを縮小して生産性を高め、モニタ素子の抵抗変化に基づいて再生素子及び記録素子の素子高さ寸法をそれぞれ高精度に規定できる薄膜磁気ヘッド基板を得る。【解決手段】再生素子及び記録素子を含むヘッド素子部が多数列状に並んで形成され、隣り合うヘッド素子部の間に、該ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に素子抵抗モニタとして利用される再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板において、再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子は、該再生側モニタ素子と記録側モニタ素子の両方に接続された共通電極端子と、該再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子の各々に接続された一対の個別電極端子とを有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
再生素子及び記録素子を含むヘッド素子部が多数列状に並んで形成され、隣り合うヘッド素子部の間に、該ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に前記再生素子及び前記記録素子の素子抵抗モニタとして利用される再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板において、
前記再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子は、
該再生側モニタ素子と記録側モニタ素子の両方に接続された共通電極端子と、
該再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子の各々に接続された一対の個別電極端子と、
を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項２】
請求項１記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記共通電極端子と前記一対の個別電極端子は、前記隣り合うヘッド素子部の間に、独立に設けられている薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項３】
請求項１記載の薄膜磁気ヘッド基板において、隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはそれぞれ、前記再生素子に接続した一対の再生側電極パッドと前記記録素子に接続した一対の記録側電極パッドが少なくとも設けられており、
前記共通電極端子は前記隣り合うヘッド素子部の間に独立に設けられ、前記一対の個別電極端子は、前記隣り合うヘッド素子部に設けた複数の電極パッドのうち、短絡しない組合せのいずれか二つと兼用で設けられている薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項４】
請求項３記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた再生側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成される薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項５】
請求項３記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成される薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項６】
請求項３記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはさらに、発熱により前記再生素子を媒体対向面側へ突出させるヒーター素子と、該発熱素子に接続した第１のヒーター側電極パッドと、前記発熱素子をグランド電位に接続する第２のヒーター側電極パッドとが設けられており、
前記一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた再生側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた第１のヒーター側電極パッドで構成される薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項７】
請求項３記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはさらに、発熱により前記再生素子を媒体対向面側へ突出させるヒーター素子と、該ヒーター素子に接続した第１のヒーター側電極パッドと、前記ヒーター素子をグランド電位に接続する第２のヒーター側電極パッドとが設けられており、
前記一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた第２のヒーター側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成される薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項８】
請求項３記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはさらに、発熱により前記再生素子を媒体対向面側へ突出させるヒーター素子と、該ヒーター素子に接続した第１のヒーター側電極パッドと、前記ヒーター素子をグランド電位に接続する第２のヒーター側電極パッドとが設けられており、
前記一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた第１のヒーター側電極パッドと記録側電極パッドで構成される薄膜磁気ヘッド基板。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか一項に記載の薄膜磁気ヘッド基板において、前記再生側モニタ素子は前記再生素子と同一平面内に位置を異ならせて形成され、前記記録側モニタ素子は前記再生側モニタ素子の上に積層されて前記記録素子と同一平面内に位置を異ならせて形成されている薄膜磁気ヘッド基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に使用するモニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッドを製造する際には、一般的に、１枚のウエハ（基板）上に少なくとも再生素子と記録素子を積層してなるヘッド素子部（ヘッド素子構造）を複数列状に並べて形成し、その後にウエハを切断し、さらに研磨加工によって媒体対向面を形成する（素子高さを規定する）ことで、ウエハ上に複数のヘッド素子部が一列に並んで形成されたバー状の薄膜磁気ヘッド基板、あるいはウエハ上に１つのヘッド素子部が形成された個々の（チップ状の）薄膜磁気ヘッドを得ている。
【０００３】
従来では、上記媒体対向面を形成するための研磨加工において、再生素子または再生素子と同時に形成した再生側モニタ素子に電流を流して素子抵抗を検出しながら素子高さ方向にウエハ端面を研磨し、該素子抵抗が規定値に達した時点で研磨加工を終了している。しかしながら、このように再生素子または再生側モニタ素子の抵抗値に基づいて素子高さを規定すると、記録素子の実際の素子高さ寸法を把握することが難しい。記録素子の素子高さ寸法は記録特性に寄与する重要な要素であるため、正確に規定する必要がある。このため、近年では、再生素子の素子高さ寸法に対応して抵抗値が変化する再生側モニタ素子を再生素子と同時に形成するとともに、記録素子の素子高さ寸法に対応して抵抗値が変化する記録側モニタ素子を記録素子と同時に形成し、この再生側モニタ素子と記録側モニタ素子に電流を流してそれぞれの素子抵抗を検出しながら、再生素子と記録素子のそれぞれを所望の特性が得られる位置まで研磨加工することが提案されている。
【０００４】
このような研磨加工制御に用いるモニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッドは、例えば特許文献１に記載されている。
【特許文献１】特開平２００５−３３９７８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
再生素子用と記録素子用とに独立してモニタ素子を設けると、モニタ素子自体の数だけでなくモニタ素子用の電極端子の数も増えることから、より広い配置スペースを確保する必要がある。しかしながら、モニタ素子配置スペースを拡大すると、１枚のウエハ上に形成可能なヘッド素子部の個数が減少して生産性が下がるため、好ましくない。再生素子用と記録素子用とに独立してモニタ素子を設ける場合に、如何にしてモニタ素子配置スペースを省略するかが課題となっている。
【０００６】
本発明は、ヘッド素子部の媒体対向面を形成するための研磨加工時に用いるモニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板において、モニタ素子配置スペースを縮小して生産性を高め、該モニタ素子の抵抗変化に基づいて再生素子及び記録素子の素子高さ寸法をそれぞれ高精度に規定できる薄膜磁気ヘッド基板を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、再生側モニタ素子と記録側モニタ素子の電極端子を共有化すること、また、再生側及び記録側モニタ素子の電極端子とヘッド素子部の電極パッドを共有化することにより、モニタ素子に設ける電極端子数を減らしてモニタ素子配置スペースを縮小することに着目して完成されたものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、再生素子及び記録素子を含むヘッド素子部が多数列状に並んで形成され、隣り合うヘッド素子部の間に、該ヘッド素子部の媒体対向面を形成する研磨加工時に再生素子及び記録素子の素子抵抗モニタとして利用される再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板において、再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子は、該再生側モニタ素子と記録側モニタ素子の両方に接続された共通電極端子と、該再生側モニタ素子及び記録側モニタ素子の各々に接続された一対の個別電極端子とを有することを特徴としている。
【０００９】
共通電極端子と一対の個別電極端子は、隣り合うヘッド素子部の間に独立に設けることができる。
【００１０】
隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはそれぞれ、再生素子に接続した一対の再生側電極パッドと記録素子に接続した一対の記録側電極パッドが少なくとも設けられることが実際的である。この場合、共通電極端子は隣り合うヘッド素子部の間に独立に設けられ、一対の個別電極端子は、隣り合うヘッド素子部に設けた複数の電極パッドのうち、短絡しない組合せのいずれか二つと兼用で設けられていることが好ましい。具体的に一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた再生側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成することが好ましい。あるいは、一方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成することが好ましい。また、隣り合う一方と他方のヘッド素子部にはさらに、発熱により再生素子を媒体対向面側へ突出させるヒーター素子と、該発熱素子に接続した第１のヒーター側電極パッドと、発熱素子をグランド電位に接続する第２のヒーター側電極パッドとを設けることができる。この場合に一対の個別電極端子は、一方のヘッド素子部に設けた再生側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた第１のヒーター側電極パッドで構成することが好ましい。あるいは、一方のヘッド素子部に設けた第２のヒーター側電極パッドと他方のヘッド素子部に設けた記録側電極パッドで構成するか、一方のヘッド素子部に設けた第１のヒーター側電極パッドと記録側電極パッドで構成することが好ましい。
【００１１】
再生側モニタ素子は再生素子と同一平面内に位置を異ならせて形成され、記録側モニタ素子は再生側モニタ素子の上に積層されて記録素子と同一平面内に位置を異ならせて形成されていることが好ましい。この態様により、再生側モニタ素子の一方の電極端子と記録側モニタ素子の一方の電極端子とを共有化することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ヘッド素子部の媒体対向面を形成するための研磨加工時に用いるモニタ素子を備えた薄膜磁気ヘッド基板において、モニタ素子配置スペースを縮小して生産性を高め、該モニタ素子の抵抗変化に基づいて再生素子及び記録素子の素子高さ寸法をそれぞれ高精度に規定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明を適用した薄膜磁気ヘッド基板を示す模式平面図である。以下で説明する薄膜磁気ヘッド基板１は、図１に示すように、１枚のウエハ１’上に多数のヘッド素子部１０とモニタ素子部３０を列状に並べて形成した後、該ウエハから細長のバー状に切り出した状態（媒体対向面を形成する研磨加工を施す前の状態）である。図１では、ヘッド素子部１０を□印で、モニタ素子部３０を■印でそれぞれ示してある。
【００１４】
図２及び図３は、ヘッド素子部１０とモニタ素子部３０の積層構造を、媒体対向面となる端面側から見て示す断面図である。ヘッド素子部１０には、磁気抵抗効果を利用して記録媒体の磁気記録情報を読み出す再生素子１４と、記録磁界を記録媒体に与えて記録動作する記録素子１６と、この再生素子１４及び記録素子１６よりもハイト方向奥側に配置され、発熱によりヘッド素子部１０（特に再生素子）を記録媒体側へ突出させるヒーター（不図示）と、これら再生素子１４、記録素子１６及びヒーターを通電するための電極パッド群２０とが設けられている。
【００１５】
再生素子１４は、ＡＭＲ、ＧＭＲ、ＴＭＲなどの磁気抵抗効果素子であり、下部シールド層１１と上部シールド層１３の間を埋めるギャップ絶縁層１２内に形成されている。
【００１６】
記録素子１６は、絶縁層１５を介して上部シールド層１３の上に積層されており、媒体対向面となる端面で所定間隔をあけて対向する主磁極層１７及びリターンパス層１９と、媒体対向面となる端面側で主磁極層１７とリターンパス層１９の間に介在する磁気ギャップ層１８と、主磁極層１７とリターンパス層１９の間に位置して主磁極層１７に記録磁界を与える記録コイル（不図示）を有している。この記録素子１６は、記録媒体に対して垂直に記録磁界を与える垂直磁気記録方式の記録素子であるが、図３に示されるように、媒体対向面となる端面で所定間隔をあけて対向する下部コア１１７及び上部コア１１９と、この下部コア１１７と上部コア１１９の間を埋める上部磁極層１１９ａ及び磁気ギャップ層１１８と、下部コア１１７と上部コア１１９の間に記録磁界を与える記録コイル（不図示）とを有する、長手記録方式の記録素子であってもよい。
【００１７】
電極パッド群２０には、再生素子１４に接続された一対の再生側電極パッド（第１の再生側電極パッドＲ１及び第２の再生側電極パッドＲ２）と、記録素子１６に接続された一対の記録側電極パッド（第１の記録側電極パッドＷ１及び第２の記録側電極パッドＷ２）と、ヒーターに接続された一対のヒーター側電極パッド（第１のヒーター側電極パッドＨ１及び第２のヒーター側電極パッドＨ２）とが設けられている。第２のヒーター側電極パッドＨ２は、ウエハ１’に接続されてグランド電位となっている。図４は、第１実施形態によるヘッド素子部１０の電極パッド及びモニタ素子部３０の電極端子の配置パターン図である。図４に示されるように本実施形態では、左側から第１のヒーター側電極パッドＨ１、第１の記録側電極パッドＷ１、第２の記録側電極パッドＷ２、第１の再生側電極パッドＲ１、第２の再生側電極パッドＲ２及び第２のヒーター側電極パッドＨ２を順番に配置してある。これら電極パッドの配置は任意である。
【００１８】
モニタ素子部３０は、媒体対向面を形成するための研磨加工時に使用する素子抵抗モニタであり、各ヘッド素子部１０の間に形成されている。このモニタ素子部３０は、図２〜図４に示されるように、再生素子１４と同時に形成された（再生素子１４と同一層位置で該再生素子１４とは異なる位置に形成された）再生側モニタ素子３０Ｒと、この再生側モニタ素子３０Ｒの上方に積層され、記録素子１６の主磁極層１７と同時に形成された（主磁極層１７と同一層位置で該主磁極層１７とは異なる位置に形成された）記録側モニタ素子３０Ｗとから構成されている。再生側モニタ素子３０Ｒは、再生素子１４がＣＩＰ型磁気抵抗効果素子である場合は再生素子１４と同一の膜構成で形成され、ＣＰＰ型磁気抵抗効果素子である場合には、再生素子１４よりも素子抵抗が大きく、再生素子１４と同一膜構成を有する多層膜とこの多層膜の膜面に対して平行にセンス電流を与える一対の電極層とを有するＣＩＰ型磁気抵抗効果素子で形成される。記録側モニタ素子３０Ｗは、主磁極層１７と同一の膜構成で形成されている。モニタ素子が再生素子用と記録素子用とに独立して設けられていると、上述の研磨加工においては再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの抵抗変化に基づいて再生素子１４と記録素子１６の素子高さ方向の寸法を個々に検出することができ、該再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの素子抵抗が規定値に達した時点で研磨加工を終了することで再生素子１４及び記録素子１６の素子高さ寸法をそれぞれ高精度に規定することができる。
【００１９】
モニタ素子部３０にはさらに、図４に示されるように、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗの両方に接続された共通電極端子Ｅと、再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの各々に接続された一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとが設けられ、各ヘッド素子部１０の間には３つの電極端子Ｅ、ＥＲ、ＥＷが位置している。一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷは共通電極端子Ｅを挟んで配置されており、共通電極端子Ｅと個別電極端子ＥＲを介して再生側モニタ素子３０Ｒが通電され、共通電極端子Ｅと個別電極端子ＥＷを介して記録側モニタ素子３０Ｗが通電される。再生側モニタ素子３０Ｒの一方の電極端子と記録側モニタ素子３０Ｗの一方の電極端子を共有化した共通電極端子Ｅを設けることで、該再生側モニタ素子３０Ｒの一方の電極端子と記録側モニタ素子３０Ｗの一方の電極端子を個々に設ける場合よりも電極端子数が減り、モニタ素子部３０の配置スペースも縮小される。これにより、再生素子用と記録素子用の二つのモニタ素子３０Ｒ、３０Ｗを設けても薄膜磁気ヘッド基板１に形成可能なヘッド素子部１０の個数を維持でき、生産性も向上する。
【００２０】
図５は、第２実施形態によるヘッド素子部の電極パッド群及びモニタ素子部の電極端子の配線パターン（配置パターン）を示す概念図である。第２実施形態による薄膜磁気ヘッド基板２０１は、第１実施形態とは異なるモニタ素子の電極端子構造を有している。すなわち、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗの両方に接続された共通電極端子Ｅはモニタ素子部３０（各ヘッド素子部１０の間）に独立して設けられ、再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの各々に接続された一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷは、モニタ素子部３０を挟んで隣り合うヘッド素子部１０に設けた電極パッド群２０のうち、短絡しない組合せのいずれか二つと兼用で設けられている。一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷと電極パッド群２０のいずれか二つとを共有化することで、第１実施形態よりも電極端子数がさらに減ってモニタ素子部３０に設ける電極端子は１つ（共通電極端子Ｅのみ）となり、モニタ素子配置スペースをさらに縮小することができる。このモニタ素子の電極端子以外の構成は第１実施形態と同様である。図５において、第１実施形態と同一の構成要素は図１〜図４と同一の符号を付してある。
【００２１】
次に、図６〜図１０に示す配線パターン図を参照し、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用するのに最適な電極パッドの組合せについて、実施例を挙げて具体的に説明する。図６〜図１０では説明の便宜上、図示左側のモニタ素子を再生側モニタ素子３０Ｒ、図示右側のモニタ素子を記録側モニタ素子３０Ｗと示しているが、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗの位置は逆であってもよい。
【００２２】
図６に示される第１実施例では、モニタ素子部３０を挟んで隣り合う一方と他方のヘッド素子部１０において、一方（モニタ素子部３０に対して図示左側）のヘッド素子部１０の再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）と他方（モニタ素子部３０に対して図示右側）のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）とを、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用する。より具体的に言えば、再生側モニタ素子３０Ｒには共通電極端子Ｅと一方のヘッド素子部１０の再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）が接続され、記録側モニタ素子３０Ｗには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）が接続されている。この再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）と記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）の組合せは、共通電極端子Ｅを介して導通接続しても短絡せず、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗを確実に通電することができる。この第１実施例は、ヒーター及び一対のヒーター側電極パッドＨ１、Ｈ２を具備しないタイプの薄膜磁気ヘッド基板にも適用可能である。また、再生側電極パッドＲ１、Ｒ２に静電破壊防止用のシャント抵抗が接続されている場合にも、適用可能である。
【００２３】
図７に示される第２実施例では、モニタ素子部３０を挟んで隣り合う一方と他方のヘッド素子部１０において、一方（モニタ素子部３０に対して図示左側）のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ２（またはＷ１）と他方（モニタ素子部３０に対して図示右側）のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）とを、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用する。より具体的に言えば、再生側モニタ素子３０Ｒには共通電極端子Ｅと一方のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ２が接続され、記録側モニタ素子３０Ｗには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１が接続されている。この記録側電極パッドＷ１、Ｗ２の組合せは、共通電極端子Ｅを介して導通接続しても短絡せず、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗを確実に通電することができる。この第２実施例は、ヒーター及び一対のヒーター側電極パッドＨ１、Ｈ２を具備しないタイプの薄膜磁気ヘッド基板にも適用可能である。また、再生側電極パッドＲ１、Ｒ２に静電破壊防止用のシャント抵抗が接続されている場合にも、適用可能である。
【００２４】
図８に示される第３実施例では、モニタ素子部３０を挟んで隣り合う一方と他方のヘッド素子部１０において、一方（モニタ素子部３０に対して図示左側）のヘッド素子部１０の再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）と他方（モニタ素子部３０に対して図示右側）のヘッド素子部１０の第１のヒーター側電極パッドＨ１とを、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用する。より具体的に言えば、再生側モニタ素子３０Ｒには共通電極端子Ｅと一方のヘッド素子部１０の再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）が接続され、記録側モニタ素子３０Ｗには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の第１のヒーター側電極パッドＨ１が接続されている。この再生側電極パッドＲ１（またはＲ２）とヒーター側電極パッドＨ１の組合せは、共通電極端子Ｅを介して導通接続しても短絡せず、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗを確実に通電することができる。ただし、再生側電極パッドＲ１、Ｒ２に静電破壊防止用のシャント抵抗が接続されている場合は、グランド接地された第２のヒーター側電極パッドＨ２を介して短絡してしまうので、適用不可である。
【００２５】
図９に示される第４実施例では、モニタ素子部３０を挟んで隣り合う一方と他方のヘッド素子部１０において、一方（モニタ素子部３０に対して図示左側）のヘッド素子部１０の第２のヒーター側電極パッドＨ２と他方（モニタ素子部３０に対して図示右側）のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）とを、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用する。より具体的に言えば、再生側モニタ素子３０Ｒには共通電極端子Ｅと一方のヘッド素子部１０の第２のヒーター側電極パッドＨ２が接続され、記録側モニタ素子３０Ｗには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）が接続されている。この第２のヒーター側電極パッドＨ２と記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）の組合せは、共通電極端子Ｅを介して導通接続しても短絡せず、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗを確実に通電することができる。この第４実施例は、再生側電極パッドＲ１、Ｒ２に静電破壊防止用のシャント抵抗が接続されている場合にも、適用可能である。
【００２６】
図１０に示される第５実施例では、モニタ素子部３０を挟んで隣り合う一方と他方のヘッド素子部１０において、他方（モニタ素子部３０に対して図示右側）のヘッド素子部１０の第１のヒーター側電極パッドＨ１と記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）とを、一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷとして使用する。より具体的に言えば、再生側モニタ素子３０Ｒには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の第１のヒーター側電極パッドＨ１が接続され、記録側モニタ素子３０Ｗには共通電極端子Ｅと他方のヘッド素子部１０の記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）が接続されている。この第１のヒーター側電極パッドＨ１と記録側電極パッドＷ１（またはＷ２）の組合せは、共通電極端子Ｅを介して導通接続しても短絡せず、再生側モニタ素子３０Ｒと記録側モニタ素子３０Ｗを確実に通電することができる。この第５実施例は、再生側電極パッドＲ１、Ｒ２に静電破壊防止用のシャント抵抗が接続されている場合にも、適用可能である。
【００２７】
上記各実施例の薄膜磁気ヘッド基板２０１は、各モニタ素子部３０に設けた再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの素子抵抗を個別に検出しつつ、図示矢印方向から研磨加工を施し、再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの素子抵抗が、媒体対向面とする所望の面位置まで研磨したことを示す規定値に達した時点で研磨加工を終了する。これにより、媒体対向面が形成される。さらにこの薄膜磁気ヘッド基板２０１を各ヘッド素子部１０毎に個別に切断すれば、個々（チップ状）の薄膜磁気ヘッドが得られる。モニタ素子部３０は個々の薄膜磁気ヘッドに切り分ける際に除去され、製品状態の薄膜磁気ヘッドには搭載されないが、ヘッド素子部１０の電極パッド群２０のいずれか二つと再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗとを接続していた接続パターンは個々の薄膜磁気ヘッド上にも残される。
【００２８】
以上の各実施形態によれば、再生側モニタ素子３０Ｒの一方の電極端子と記録側モニタ素子３０Ｗの一方の電極端子を共有化した共通電極端子Ｅを設けたので、モニタ素子部３０に備える電極端子数が減り、モニタ素子配置スペースを縮小することができる。さらに第２実施形態によれば、再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗの各々に接続する一対の個別電極端子ＥＲ、ＥＷをヘッド素子部１０の電極パッド群２０のいずれか二つと兼用としたので、モニタ素子部３０に備える電極端子数をさらに減らすことができ、モニタ素子配置スペースをより一層縮小することができる。よって、再生側モニタ素子３０Ｒ及び記録側モニタ素子３０Ｗを用いて再生素子１４及び記録素子１６の素子高さ寸法をそれぞれ高精度に規定でき、且つ、薄膜磁気ヘッド基板１に形成可能なヘッド素子部１０の個数を維持して生産性向上も図れる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明を適用した薄膜磁気ヘッド基板を示す模式平面図である。
【図２】図１のヘッド素子部（垂直磁気記録方式）とモニタ素子部の積層構造を媒体対向面となる端面側から見て示す断面図である。
【図３】図１のヘッド素子部（長手記録方式）とモニタ素子部の積層構造を媒体対向面となる端面側から見て示す断面図である。
【図４】第１実施形態によるヘッド素子部の電極パッド群及びモニタ素子部の電極端子の配置パターンを示す概念図である。
【図５】第２実施形態によるヘッド素子部の電極パッド群及びモニタ素子部の電極端子の配線パターンを示す概念図である。
【図６】図５に示す一対の個別電極端子に最適な電極パッドの組合せの第１実施例を説明する配線パターン図である。
【図７】図５に示す一対の個別電極端子に最適な電極パッドの組合せの第２実施例を説明する配線パターン図である。
【図８】図５に示す一対の個別電極端子に最適な電極パッドの組合せの第３実施例を説明する配線パターン図である。
【図９】図５に示す一対の個別電極端子に最適な電極パッドの組合せの第４実施例を説明する配線パターン図である。
【図１０】図５に示す一対の個別電極端子に最適な電極パッドの組合せの第５実施例を説明する配線パターン図である。
【符号の説明】
【００３０】
１、２０１    薄膜磁気ヘッド基板
１０    ヘッド素子部
１４    再生素子
１６    記録素子
２０    電極パッド群
３０    モニタ素子部
３０Ｒ  再生側モニタ素子
３０Ｗ  記録側モニタ素子
Ｅ    共通電極端子
ＥＲ、ＥＷ  一対の個別電極端子
Ｈ１    第１のヒーター側電極パッド
Ｈ２    第２のヒーター側電極パッド
Ｒ１、Ｒ２  再生側電極パッド
Ｗ１、Ｗ２  記録側電極パッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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