(57)【要約】【課題】基板の搬送に伴う搬送効率を向上する。【解決手段】搬送用基板保持手段13，14，15は供給側６に設けられる１次側基板保持手段13と、１次側基板保持手段13よりも排出側11に設けられる２次側基板保持手段14と、１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを一体的に設ける。１次側基板保持手段13と中間基板保持手段1の長さＸ１と、中間基板保持手段15と前記２次側基板保持手段14の長さＸ２と、供給側６と基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の搬送長さＸ３と、基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１間の搬送長さＸ４と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１と排出側11間の搬送長さＸ５を同じに形成する。基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。  【選択図】図１
2007280451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄位置に配置される洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し基板受取・取出位置、乾燥位置に配置される乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と、該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段と、前記１次側基板保持手段と２次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【請求項２】
基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と、該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段と、前記１次側基板保持手段と２次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記１次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法。
【請求項３】
基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【請求項４】
基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段を設け、前記１次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法。
【請求項５】
前記複数の基板保持手段を一体に連結した連結部材に単一の搬送駆動手段を設けたことを特徴とする請求項１または３記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【請求項６】
前記搬送駆動手段を前記基板搬送案内路にほぼ密封状態に設けることを特徴とする請求項１または３記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの基板を洗浄し乾燥させるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のものとして基板の供給側と、インデックステーブルを備えた基板洗浄部と、同じくインデックステーブルを備えた基板乾燥部と、基板の排出側を一列に並べ、供給側と基板洗浄部との間、基板洗浄部と基板乾燥部との間、さらに基板乾燥部と排出側との間にそれぞれ基板搬送案内路を設けて、供給側の基板を基板の保持手段によって順次排出側に搬送することにより基板を連続的に洗浄、乾燥を行うものが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
この従来技術では図８、図９に示すように、基板の保持手段101は夫々基板を保持していない状態と仮定する。保持手段102が、マガジン103から１枚の基板を取り出し、基板受取位置M1にある保持手段101まで基板を搬送する。保持手段101は例えば３個の基板保持具101Ａ,101Ｂ,101Ｃを夫々外側にずらして基板Ｄを受け取り、基板Ｄを回転可能に保持する。その後、洗浄用のインデックステーブル104が矢印105の方向に90度ごとに回転し、保持手段101は夫々第１，２基板洗浄位置M２，Ｍ３及び基板取出位置M４となる。保持手段101が第１基板洗浄位置M１になると、基板洗浄器106が移動し、基板Ｄの両面、内周、外周を洗浄具106Ａ，106Ｂ，106Ｃを用いて中性洗剤によりスクラブ洗浄する。基板Ｄは回転自由に保持されている。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且つ第１基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄器106はインデックステーブル104の回転に支障がない位置に待避し、インデックステーブル104が矢印105の方向に90度回転する。この回転により、保持手段101は夫々第１基板洗浄位置M2、第２基板洗浄位置M3、基板取出位置M４となる。第１の基板洗浄器106と同様の構成の第２の基板洗浄器107は、市水或いは純水により基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器106は第２の基板Ｄを中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある保持手段101は基板Ｄを受け取っている。基板Ｄの受け取り、第１及び第２の基板洗浄が完了すると、インデックステーブル104は更に90度回転する。基板取出位置M4にきた基板Ｄは例えば純水のシャワーリンスを受けた後、基板搬送手段108により取り外され、基板洗浄室109Ａから基板乾燥室109Ｂに運ばれる。このようにして、基板洗浄室109Ａは複数の基板Ｄを順次洗浄して次段の基板乾燥室109Ｂに送り出す。乾燥室109Ｂにはインデックステーブル110を有し、矢印111の方向に回転可能である。インデックステーブル110には、基板Ｄの保持手段112が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第１乾燥位置N2、第２乾燥位置N3、基板取出位置N4にある。保持手段112は夫々基板Ｄの内周壁の３点で基板を固定して保持するように例えば３個の基板保持具112Ａ,112Ｂ,112Ｃを備えている。113は基板Ｄを遠心力で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
【０００４】
そして、第１枚目の基板Ｄ（第１の基板）が基板受取位置N1にある保持手段101に取り付けられると、インデックステーブル104は矢印111の方向に90度回転し、保持手段112は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置になる。第１基板乾燥位置N2に移動した第１の基板Ｄに付着した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）。第１基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第２枚目の基板Ｄが保持手段112に取り付けられると、インデックステーブル110は更に90度回転し、保持手段112はN3で示す基板処理位置になる。第２乾燥位置N3において更にスピン乾燥を受けるが、保持手段112は夫々図示しないスピン乾燥用のモータを備えている。次に、インデックステーブル110が更に90度回転し、保持手段112は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置になり、基板Ｄは搬送手段114により搬出される。このようにして、基板洗浄部10から送られてくる複数の洗浄済み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
【０００５】
さらに、従来技術においては基板洗浄装置106は、３種類の洗浄具106Ａ，106Ｂ，106Ｃを備えている。洗浄具106Ａは基板Ｄの片面を洗浄するパッド状の洗浄具（例えばスポンジパッド）であり、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板Ｄの背後にあるため図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具106Ａで基板Ｄを挟んでその表面を洗浄する。洗浄具106Ｂ，106Ｃは例えばローラ状の洗浄具であり、基板Ｄの外周及び内周を洗浄するためのものである。このために保持手段101は夫々基板Ｄを例えば10cm乃至15cm程度インデックステーブル104から離して保持するようになっている。
【特許文献１】特開平３−９３０４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来技術においては供給側とインデックステーブルとの間の搬送用基板保持手段、さらにはインデックステーブルと排出側との搬送用基板保持手段がそれぞれ独立して作動するものであるが、排出側で基板の流れが詰まっている場合には、インデックステーブルと排出側との基板のやりとりはできず、この結果インデックステーブル側での基板の流れが詰まり、したがって供給側とインデックステーブルとの間での基板のやり取りができなくなってしまいやすいという現状がある。
【０００７】
ところで、ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置においてはハードディスクへのごみの付着は不良品の原因となり、このために装置内でのごみの発生源を極力少なくする必要がある。しかしながら、従来技術においては供給側とインデックステーブルとの間、さらにはインデックステーブルと排出側との間のように搬送用基板保持手段がそれぞれ独立して作動していたのでそれぞれの移動用手段が必要であり、このような複数の移動手段によってごみの発生が高くなってしまうという問題点があった。
【０００８】
解決しようとする問題点は、基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法において、基板の搬送に伴う搬送効率を向上することにある。また塵などの異物の発生を低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄位置に配置される洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し基板受取・取出位置、乾燥位置に配置される乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と、該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段と、前記１次側基板保持手段と２次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【００１０】
請求項２の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と、該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段と、前記１次側基板保持手段と２次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記１次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法である。
【００１１】
請求項３の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【００１２】
請求項４の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる１次側基板保持手段と該１次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる２次側基板保持手段を設け、前記１次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段は前記１次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記１次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法である。
【００１３】
請求項５の発明は、前記複数の基板保持手段を一体に連結した連結部材に単一の搬送駆動手段を設けたことを特徴とする請求項１または３記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
【００１４】
請求項６の発明は、で前記搬送駆動手段を前記基板搬送案内路にほぼ密封状態に設けることを特徴とする請求項１または３記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置ある。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１の発明によれば、一体に作動する１次側基板保持手段と２次側基板保持手段と中間基板保持手段によって、供給側から基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置、基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。
【００１６】
請求項２の発明によれば、同調して作動する１次側基板保持手段と２次側基板保持手段と中間基板保持手段によって、供給側から基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置、基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。
【００１７】
請求項３の発明によれば、一体に作動する１次側基板保持手段と２次側基板保持手段によって、供給側から基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板が滞ることなく同調して搬送できる。
【００１８】
請求項４の発明によれば、同調して作動する１次側基板保持手段と２次側基板保持手段によって、供給側から基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板が滞ることなく同調して搬送できる。
【００１９】
請求項５の発明によれば、搬送駆動手段を単一とすることで、搬送駆動手段の作動に伴う塵などの発生を可及的に低減することができる。
【００２０】
請求項６の発明によれば、基板搬送案内路で生ずる塵などの異物の基板への付着を極力防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
【実施例１】
【００２２】
図１乃至図５実施例１を示しており、ハードディスク基板Ｄの洗浄・乾燥装置は、図１に示すように箱型ケース状の機枠１を板状の仕切り部材２を介して前方には洗浄室３を、さらにその一側には乾燥室４を形成し、さらに機枠１の後方には仕切り部材２を介して制御機器等を収容する機械室５が形成されている。そして前方には一側へ向けて横並びに、基板Ｄの供給側６である洗浄・乾燥前の基板Ｄを複数枚収納するマガジンと、該供給側６の一側に隣接し基板洗浄部を形成するための洗浄用基板保持手段７を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８の一側に隣接し基板乾燥部を形成するための乾燥用基板保持手段９を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Ｄの排出側11たるマガジンを設けている。尚、基板Ｄは円板状であって、中心に貫通孔が形成されている。
【００２３】
そして、基板洗浄用インデックステーブル８と基板乾燥用インデックステーブル10はそれぞれ裏側にあるモータ８Ａによって回動できるようになっている。
【００２４】
さらに、機枠１の上部に供給側６方向の上方、実施例では基板洗浄用インデックステーブル８側の上方を始端12Ａとし基板洗浄用インデックステーブル８の上方と基板乾燥用インデックステーブル10の上方を介して、排出側11方向の上方、実施例では基板乾燥用インデックステーブル10の上方を終端12Ｂとする基板搬送案内路12がレールによって設けられている。そして、この基板搬送案内路12には、基板Ｄを掴み或いは離して１枚づつ或いは複数枚づつ搬送する搬送用基板保持手段13，14，15が設けられている。実施例では１枚づつ搬送する場合を示している。
【００２５】
搬送用基板保持手段13，14，15は、供給側４に設けられる１次側基板保持手段13と、該１次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる２次側基板保持手段14と、１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを備え、これら１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15は連結部材16を介して一体的に設けられるものであって、連結部材16は基板搬送案内路12に沿うように横長に設けられると共に、基板搬送案内路12の長手方向に沿って移動可能に設けられている。そして、連結部材16の供給側６寄りの前側に１次側基板保持手段13が第１のアーム16Ａを介して設けられている。この第１のアーム16Ａは下向きに配置されるものであって、その先端に１次側基板保持手段13が後方へ向けて設けられている。同様に、連結部材16の排出側11寄りに２次側基板保持手段14が第２のアーム16Ｂを介して設けられ、連結部材16の１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に第３のアーム16Ｃを介して中間基板保持手段15が設けられている。尚、１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14及び中間基板保持手段15は後述する基板受取・取出位置Ｌ１，Ｍ１に基板Ｄに対して正面側で対向可能に移動できるようになっている。
【００２６】
そして、連結部材16の横向き方向の中央の後側には、後方に突設する第４のアーム17を介して基板搬送案内路12に摺動自在に設けられるモータ（図示せず）駆動の搬送駆動手段たる単一の摺動部18が一体的に設けられている。
【００２７】
前記基板洗浄用インデックステーブル８は、中心軸８Ｂを中心として矢印Ａの方向に回転可能であり、図示の実施例では、洗浄用基板保持手段７は第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23を周方向に等間隔に有する。第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23により基板Ｄを回転可能に保持する。
第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23は、夫々、基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３にあり、軸８Ｂを中心として基板Ｄを断続的に回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｌ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル８の上部に配置されている。第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３はインデックステーブル８の左右に配置される。そして、第１の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３では、洗浄具24が設けられている。尚、洗浄具24は例えば基板Ｄを洗浄するパッド状のもの（例えばスポンジパッド）などを備えて２個のパッド状のもので基板Ｄを挟んで基板の表面を洗浄する。
【００２８】
従って、インデックステーブル８が１２０度ごとに回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３に、第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21，22，23  が順次配置され、基板受取・取出位置Ｌ１においては基板Ｄが受取され、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３においては洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に配置されて取出されるようになっている。
【００２９】
前記基板乾燥用インデックステーブル10は、矢印Ｂの方向に回転可能であり、このインデックステーブル10上には、乾燥用基板保持手段９として第1乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27を周方向に等間隔に有する。第1乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27は、夫々、基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３にあり、基板Ｄを回転可能に保持している。基板受取・取出位置Ｍ１は、基板Ｄの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Ｄを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル10の上部に配置されている。第1の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においては、基板Ｄを高速回転して基板Ｄを遠心力で乾燥させるものであり、そのために乾燥用基板保持手段25，26，27の外側には水滴飛散防止用の壁28が設けられている。
【００３０】
従って、インデックステーブル10が１２０度（３６０度／位置の数３）ごとに回転することにより回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３に、第1乃至第３の乾燥用基板保持手段25，26，27が順次配置され、基板受取・取出位置Ｍ１においては基板Ｄが受取され、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてはスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に配置されて取出されるようになっている。
さらに、前記基板搬送案内路12は、基板洗浄用インデックステーブル８及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Ｄを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材２の上部に横向きに設けられた断面が箱形形状のレールであって、開口部19を仕切り部材２に臨ませるように洗浄室３、乾燥室４側に開口しており、この開口部19の内外を第４のアーム17が貫通している。また基板搬送案内路12は開口部19を除いて仕切り部材２に対して密封しており、このように洗浄室３、乾燥室４に開口部19以外は連通しないようにほぼ密封された基板搬送案内路12を摺動部18が摺動するようになっている。
【００３１】
そして、１次側基板保持手段13と中間基板保持手段15との一側横向き方向の長さＸ１と、中間基板保持手段15と２次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さＸ２と、供給側６と基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ３と、基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１間の一側横向き方向の搬送長さＸ４と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１と排出側11間の一側横向き方向の搬送長さＸ５を同じに形成している（Ｘ１＝Ｘ２＝Ｘ３＝Ｘ４＝Ｘ５）。
【００３２】
次に、前記構成の作用について説明する。予め供給側６には洗浄前の基板Ｄが供給されている。そして、図１に示すように摺動部18が基板搬送案内路12に従って移動することにより連結部材16と一体的な１次側基板保持手段13を供給側６に対向するように対応させ、中間基板保持手段15を基板洗浄用インデックステーブル８における基板受取・取出位置Ｌ１にある第1の洗浄用基板保持手段21に対向するように対応させ、２次側基板保持手段14を基板乾燥用インデックステーブル10における基板受取・取出位置Ｍ１にある第1の乾燥用基板保持手段25に対向するように対応させる。そして、１次側基板保持手段13により供給側６の基板Ｄを取出し、さらに２次側基板保持手段14により基板受取・取出位置Ｌ１の基板Ｄを取出し、中間基板保持手段15により基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを取出す。
【００３３】
次に摺動部18が基板搬送案内路12を一側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１、排出側11に対向するように対応する。これにより１次側基板保持手段13によって供給側６の基板Ｄを基板受取・取出位置Ｌ１に受け取る。２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15によってそれぞれ基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１の基板Ｄを受け取る。そして、インデックステーブル８が回転することにより基板受取・取出位置Ｌ１にあった基板Ｄは第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３において洗浄され、そして洗浄された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｌ１に位置する。同様に、インデックステーブル10が回転することにより基板受取・取出位置Ｍ１にあった基板Ｄは第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３においてスピン乾燥され、そして乾燥された基板Ｄは再び基板受取・取出位置Ｍ１に位置する。
【００３４】
このような基板Ｄの洗浄、乾燥の間に、摺動部18が基板搬送案内路12を他側に長さＸ１分移動すると、第１のアーム16Ａ、第２のアーム16Ｂ、第３のアーム16Ｃを介して１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは供給側６、基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１に対向するように対応する。そして、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14を介して再び供給側６の基板Ｄは基板受取・取出位置Ｌ１へ、基板受取・取出位置Ｌ１にある洗浄された基板Ｄは基板受取・取出位置Ｍ１へ、基板受取・取出位置Ｍ１の乾燥された基板Ｄは排出側11へ同時に搬送される。このようにして基板Ｄは順次搬送されて洗浄、乾燥が繰り返される。尚、１次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、２次側基板保持手段14における一側横向き方向ではなく、基板Ｄを着脱するため前後方向の移動についてはその記載を省略する。
【００３５】
以上のように、基板Ｄの供給側６と、該供給側６に隣接し基板受取・取出位置Ｌ１、洗浄位置Ｌ２，Ｌ３に配置される洗浄用基板保持手段21，22，23を備えた基板洗浄用インデックステーブル８と、該基板洗浄用インデックステーブル８に隣接し基板受取・取出位置Ｍ１、乾燥洗浄位置Ｍ２，Ｍ３に配置される乾燥用基板保持手段25，26，27を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10に隣接する基板の排出側11と、前記供給側６を始端12Ａとし前記基板洗浄用インデックステーブル８と前記基板乾燥用インデックステーブル10を介して前記排出側11を終端12Ｂとする基板搬送案内路12と、前記基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13，14，15を設け、前記基板Ｄは前記搬送用基板保持手段13，14，15を介して前記基板搬送案内路12に沿って搬送され、前記搬送用基板保持手段13，14，15は前記供給側６に設けられる１次側基板保持手段13と、該１次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる２次側基板保持手段14と、前記１次側基板保持手段13と２次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを一体的に設けたことにおり、それぞれの搬送用基板保持手段13，14，15を同時に同調して作動することができる。また、前記１次側基板保持手段13と前記中間基板保持手段15との間の長さＸ１と、前記中間基板保持手段15と前記２次側基板保持手段14との間の長さＸ２と、前記供給側６と前記基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の搬送長さＸ３と、前記基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１間の搬送長さＸ４と、前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１と前記排出側11間の搬送長さＸ５を同じに形成したことにより、１次側基板保持手段13が供給側６にあるときには、前記中間基板保持手段15は基板受取・取出位置Ｌ１、２次側基板保持手段14は基板受取・取出位置Ｍ１にあり、１次側基板保持手段13が基板受取・取出位置Ｌ１に移動すると、同時に中間基板保持手段15は基板受取・取出位置Ｌ１に、２次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側６から基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１を介して排出側11にかけて基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。
【００３６】
さらに、前記中間基板保持手段15は前記１次側基板保持手段13が前記供給側６に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１に対応するか或いは前記１次側基板保持手段13が前記基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１に対応するとき前記乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段14は前記１次側基板保持手段13が前記供給側６に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置Ｍ１に対応するか或いは前記１次側基板保持手段13が前記基板洗浄用インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１に対応するとき前記排出側11に選択的に対応することにより、１次側基板保持手段13が基板受取・取出位置Ｌ１に移動すると、同時に中間基板保持手段15は基板受取・取出位置Ｌ１に、２次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側６から基板受取・取出位置Ｌ１、基板受取・取出位置Ｍ１を介して排出側11にかけて基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。
【００３７】
さらに、前記複数の基板保持手段13，14，15を一体に連結した連結部16に搬送駆動手段たる単一の摺動部18を設けたことにより、基板保持手段13，14，15にそれぞれ摺動駆動部を必要とせず、それぞれの駆動部を共有した単一の摺動部18とすることで、摺動駆動部の作動に伴う塵などの発生を可及的に低減することができる。
【００３８】
また、基板搬送案内路12の開口部19のみを洗浄室３、乾燥室４側に開口し、前記摺動部18を前記基板搬送案内路12の開口部19に配置することにより、洗浄室３、乾燥室４側に対して基板搬送案内路12をほぼ密封状態に設けることで、基板搬送案内路12で生ずる塵などの異物の洗浄室３、乾燥室４側への侵入を極力防止することができる。
【実施例２】
【００３９】
図６は実施例２を示しており、前記実施例１と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例２においては、1台のインデックステーブル８において、第2の洗浄位置を乾燥位置Ｍにして１台のインデックステーブル８で、基板受取・取出位置Ｌ１と、洗浄位置Ｌ２と、乾燥位置Ｍとを備えたものである。
そして、基板Ｄの供給側６と、該供給側６に隣接し基板受取・取出位置Ｌ１、洗浄又は及び乾燥位置Ｌ２，Ｍに配置される基板保持手段21，22，23を有するインデックステーブル８と、該インデックステーブル８に隣接する基板Ｄの排出側11と、前記供給側６を始端12Ａとし前記インデックステーブル８を介して前記排出側11を終端12Ａとする基板搬送案内路12と、前記基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13，14を設け、前記基板Ｄを前記搬送用基板保持手段13，14を介して基板搬送案内路12に従って搬送するようになっている。
【００４０】
そして、前記搬送用基板保持手段13，14は前記供給側６に設けられる１次側基板保持手段13と該１次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる２次側基板保持手段14を一体的に設け、前記１次側基板保持手段13と前記２次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さＹ１と、前記供給側６と前記インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１間の一側横向き方向の搬送長さＹ２と、前記インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１と前記排出側11間の一側横向き方向の搬送長さＹ３とを同じに形成する。
【００４１】
そして、連結部材16の移動に伴って、１次側基板保持手段13、２次側基板保持手段14は実線で示す位置と２点鎖線で示す位置とを選択的に移動して、順次基板Ｄは基板受取・取出位置Ｌ１で受取、取出され、第１の基板洗浄位置Ｌ２で洗浄され、基板洗浄位置Ｌで乾燥が行われるものである。
【００４２】
前記１次側基板保持手段13は前記供給側６及び前記インデックステーブル８の前記基板受取・取出位置Ｌ１に選択的に対応し、前記２次側基板保持手段14は前記１次側基板保持手段13が前記供給側６に対応するとき前記インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１に対応するか或いは前記１次側基板保持手段13が前記インデックステーブル８の基板受取・取出位置Ｌ１に対応するとき前記排出側11に選択的に対応することにより、１次側基板保持手段13が基板受取・取出位置Ｌ１に移動すると、同時に２次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側６から基板受取・取出位置Ｌ１を介して排出側11にかけて基板Ｄが滞ることなく同調して搬送できる。
【実施例３】
【００４３】
図７は実施例３を示しており、前記実施例１と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例３においては、第１のアーム16Ａ等には洗浄用基板保持手段21等が左右一対設けられたものであり、一対の基板保持手段21によりそれぞれ基板Ｄを保持して、同時に洗浄、乾燥できるようにしたものである。この場合は、インデックステーブル８，10に基板受取・取出位置Ｍ１、第１の基板乾燥位置Ｍ２、第２の基板乾燥位置Ｍ３、基板受取・取出位置Ｌ１、第1の基板洗浄位置Ｌ２、第２の基板洗浄位置Ｌ３が左右一対にそれぞれ設けられることとなる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
以上のように本発明に係るハードディスク基板の洗浄・乾燥装置は、各種の用途に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施例１を示す作動前の概略正面図である。
【図２】同作動後の概略正面図である。
【図３】同概略側断面図である。
【図４】同基板保持手段の概略正面図であり、図４（Ａ）は洗浄用基板保持手段の概略正面図であり、図４（Ｂ）は乾燥用基板保持手段の概略正面図である。
【図５】同要部の斜視図である。
【図６】本発明の実施例２を示す概略正面図である。
【図７】本発明の実施例３を示す概略正面図である。
【図８】従来技術の概略正面図である。
【図９】従来技術のインデックステーブルまわりの概略断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
６  供給側
８  基板洗浄用インデックステーブル
10  基板乾燥用インデックステーブル
11  排出側
12  基板搬送案内路
12Ａ  始端
12Ｂ  終端
13  １次側基板保持手段
14  ２次側基板保持手段
15  中間基板保持手段
18  摺動部（搬送駆動手段）
21，22，23  洗浄用基板保持手段
25，26，27  乾燥用基板保持手段
Ｄ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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