(57)【要約】【課題】供給した酸化剤を無駄にせず全量を有機ヒ素含有廃水の酸化分解反応に寄与させ、入換え操作に要するロスタイムを抑制し、かつ槽体の製造コストを低減できる有機ヒ素含有廃水の処理方法および装置を提供する。【解決手段】酸化分解反応槽２１と循環水槽２７において有機ヒ素含有廃水を循環させ、酸化分解反応槽２１において所定の処理水質とするのに十分な酸化剤の存在下で槽内の有機ヒ素含有廃水を酸化分解処理し、酸化分解反応槽２１の酸化処理水を循環水槽２７へ循環させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化分解反応槽と循環水槽において有機ヒ素含有廃水を循環させ、酸化分解反応槽において所定の処理水質とするのに十分な酸化剤の存在下で槽内の有機ヒ素含有廃水を酸化分解処理し、酸化分解反応槽の酸化処理水を循環水槽へ循環させることを特徴とする有機ヒ素含有廃水の処理方法。
【請求項２】
酸化分解反応槽から循環水槽へ未反応の酸化剤を伴う酸化処理水を循環させ、未反応の酸化剤を循環水槽において有機ヒ素含有廃水の酸化分解処理に消費することを特徴とする請求項１に記載の有機ヒ素含有廃水の処理方法。
【請求項３】
循環水槽は酸化分解反応槽の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有し、酸化分解反応槽から酸化処理水とともに流入する未反応の酸化剤を希釈するのに十分な有機ヒ素含有廃水を貯留することを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ヒ素含有廃水の処理方法。
【請求項４】
酸化剤の添加を伴う酸化手段を有する酸化分解反応槽と、酸化分解反応槽の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有する循環水槽と、酸化分解反応槽と循環水槽とにおいて有機ヒ素含有廃水を循環させる循環系とを備えることを特徴とする有機ヒ素含有廃水の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ヒ素含有廃水の処理方法および装置に関し、下水、上水、埋立浸出水、地下水、不法投棄現場の地下水および浸出水等の水処理技術に係る。
【背景技術】
【０００２】
本発明の対象物質である有機ヒ素（ジフェニルアルシン酸やモノフェニルアルソン酸）は、毒ガス兵器として使用された毒ガスの分解生成物であり、現在のところ日本各地で、遺棄された毒ガス兵器によるヒ素汚染が見つかっており、また不法投棄によるヒ素汚染の可能性も指摘されており、地下水汚染に対する早急な対策が求められている。
【０００３】
以下に従来の有機ヒ素含有廃水の処理方法を図９に基づいて説明する。図９に示すように、前段の有機ヒ素酸化分解工程において、流入水として有機ヒ素含有廃水を紫外線／オゾン処理装置１に導入し、ｐＨ調整槽２によりｐＨを調整しつつ、紫外線／オゾン処理装置１において紫外線の照射下でオゾンを供給して有機ヒ素を酸化して無機ヒ素に分解する。
【０００４】
有機ヒ素酸化分解工程を経た処理水は後段の無機ヒ素除去工程に導き、凝集剤３を添加して凝集膜分離槽４において凝集沈殿、凝集膜分離し、さらに活性アルミナ吸着処理塔５に導いて活性アルミナ吸着、キレート吸着等で無機ヒ素を除去する。
【０００５】
また、他の従来の有機性廃水の処理方法には、例えば特許文献１に記載するものがある。これは、酸化処理工程において、反応槽内の被処理廃水に対して紫外線照射とオゾン供給とを併用して行うことによりヒドロキシラジカルを発生させて、有機金属化合物を酸化分解して無機金属化合物に変換し、無機金属除去工程において、活性アルミナ吸着処理を利用した無機金属除去装置により無機金属化合物を除去するものである。
【０００６】
また、特許文献２に記載するものは、水性媒体中の有機ヒ素化合物に、鉄イオン、銅イオン、コバルトイオンおよびマンガンイオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属イオンの存在下、過酸化水素を反応させて、有機ヒ素化合物を無機ヒ素に酸化分解するものである。
【特許文献１】特開２００５−２７９４０９号公報
【特許文献２】特開２００１−１５８６２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機ヒ素含有廃水の処理において、求められる処理水質は、０．００１ｍｇ／Ｌ（有機ヒ素として）であり、極めて低濃度である。この低濃度であるが故に、濁度計、吸光度計等を使用した現地での測定では必要とするレベルの測定を行うことができず、水質管理上０．００１ｍｇ／Ｌ以下を保つことが難しい。
【０００８】
有機ヒ素含有廃水をサンプリングして分析する手法では多点分析が望ましい。しかし、有機ヒ素の分析費用が非常に高くて検体当たり十数万円を要するのでコスト的に困難であり、分析に要する時間も数週間かかるためにリアルタイムに測定結果を得ることができない。
【０００９】
このため、酸化分解工程において、求められる処理水質を達成するために必要な適正な注入量でオゾンを供給し、適正な照射量で紫外線を照射することが困難であり、求められる極めて低濃度の処理水質を確実に達成するためには、酸化分解工程において必要以上に過剰な多量のオゾンを供給し、過剰な照射量（時間、出力）で紫外線照射することを必要とする。
【００１０】
また、０．００１ｍｇ／Ｌ以下の水質を達成するためには酸化分解工程において十分な滞留時間（反応時間）を必要とするので、有機ヒ素含有廃水を連続処理する場合には、必要な滞留時間を確保するために酸化分解反応槽の槽容積を大きく設定する必要がある。
【００１１】
しかし、紫外線とオゾンを併用する酸化分解反応槽（紫外線／オゾン槽）の内部は非常に強い酸化雰囲気に保たれるので、酸化分解反応槽にはチタンやハステロイといった耐腐食性に優れた材質の高価な部材を採用する必要があり、０．００１ｍｇ／Ｌ以下の水質を達成するための大きな槽容積を備えた酸化分解反応槽は製造コストが高かった。
【００１２】
一方、有機ヒ素含有廃水を酸化分解工程で回分（バッチ）処理する場合には、槽容積に規制されることなく滞留時間を設定できるので、製造コストを抑制できる小さな槽容積の酸化分解反応槽を用いて０．００１ｍｇ／Ｌ以下の水質を達成することができる。
【００１３】
しかし、回分処理では一回に処理できる水量が限られるので、有機ヒ素含有廃水の処理対象総量が多くなるほどに有機ヒ素含有廃水を入換えて回分処理を繰返す回数が多くなる。このため、所定の処理水質を確実に達成するために必要とする過剰量のオゾンや過剰な紫外線照射量（時間、出力）、回分処理ごとの有機ヒ素濃度測定ならびに有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要するロスタイムが回分処理回数の増加に伴って累積的に増えることで処理対象総量に対する有機ヒ素含有廃水の処理効率が悪化する問題がある。
【００１４】
本発明は上記した課題を解決するものであり、所定の処理水質を確実に達成するのに必要なオゾン等の酸化剤を十分に供給しつつ、供給した酸化剤を無駄にすることなくその全量を有機ヒ素含有廃水の酸化分解反応に寄与させることができ、処理効率の悪化の要因となる過剰量の酸化剤、過剰な紫外線照射量（時間、出力）、ならびに有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要するロスタイムを抑制し、かつ酸化分解工程を構成する槽体の製造コストを低減できる有機ヒ素含有廃水の処理方法および装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明の有機ヒ素含有廃水の処理方法は、酸化分解反応槽と循環水槽において有機ヒ素含有廃水を循環させ、酸化分解反応槽において所定の処理水質とするのに十分な酸化剤の存在下で槽内の有機ヒ素含有廃水を酸化分解処理し、酸化分解反応槽の酸化処理水を循環水槽へ循環させることを特徴とする。
【００１６】
また、酸化分解反応槽から循環水槽へ未反応の酸化剤を伴う酸化処理水を循環させ、未反応の酸化剤を循環水槽において有機ヒ素含有廃水の酸化分解処理に消費することを特徴とする。
【００１７】
また、循環水槽は酸化分解反応槽の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有し、酸化分解反応槽から酸化処理水とともに流入する未反応の酸化剤を希釈するのに十分な有機ヒ素含有廃水を貯留することを特徴とする。
【００１８】
本発明の有機ヒ素含有廃水の処理装置は、酸化剤の添加を伴う酸化手段を有する酸化分解反応槽と、酸化分解反応槽の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有する循環水槽と、酸化分解反応槽と循環水槽とにおいて有機ヒ素含有廃水を循環させる循環系とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように本発明によれば、酸化分解反応槽と循環水槽とにおいて循環系を通して系内の有機ヒ素含有廃水を循環させ、酸化分解反応槽において酸化手段により有機ヒ素含有廃水を所定の処理水質にまで酸化分解処理し、酸化分解反応槽と循環水槽との全槽容積を１回分の処理量として有機ヒ素含有廃水を回分処理する。
【００２０】
従来の回分処理において一時に大量の有機ヒ素含有廃水を１回分の処理量として酸化分解処理する場合には、大容積の酸化分解反応槽を必要とし、大容積の槽内に隈なく十分な紫外線照度を与えるためには多数の紫外線ランプを必要とする。また、槽断面積に対するオゾン吹込み量［オゾン吹込み率（ｍ３／ｍｉｎ／ｍ２）］の値が非常に小さい値となり、槽内の有機ヒ素含有廃水に均一にオゾンを吹込むことができず、攪拌手段等によって槽内を攪拌する必要がある。
【００２１】
しかし、酸化分解反応槽の槽容積を循環水槽に対して１／１０から１／２０に設定し、換言すると循環水槽の槽容積を酸化分解反応槽の槽容積に対して１０から２０倍の所定倍率の槽容積に設定し、この酸化分解反応槽と循環水槽とで有機ヒ素含有廃水を循環させることにより、酸化分解反応槽において酸化手段としてオゾンもしくは過酸化水素と紫外線照射とを併用する場合に、十分な紫外線照度と均一なオゾン吹込みを実現できる。
【００２２】
つまり、酸化分解反応槽が系全体として必要な全体槽容積に対して小容積化されることで、槽断面積に対するオゾン吹込み量を十分に高めるとともに、少ない紫外線ランプ数で隈なく十分な紫外線照度を与えることができ、酸化分解反応槽の限られた槽容積の反応場において十分な酸化剤の存在下で集中的に酸化分解処理を行うことで、酸化分解反応槽内の有機ヒ素含有廃水は所定の処理水質となり、酸化分解反応槽と循環水槽との系内で有機ヒ素含有廃水を循環させて大量の有機ヒ素含有廃水を一度機に回分処理することができ、酸化分解反応槽のみを用いて回分処理を繰返す場合に比べて有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要するロスタイムを抑制できる。
【００２３】
酸化分解反応槽内での酸化分解処理において過剰となった未反応の酸化剤であるオゾンは、酸化処理水に伴われて酸化分解反応槽から循環系を通して循環水槽へ流れる。循環水槽は酸化分解反応槽の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有するので、酸化分解反応槽から酸化処理水とともに流入する未反応の酸化剤は、十分な量の有機ヒ素含有廃水で速やかに希釈され、かつ有機ヒ素含有廃水の酸化分解処理に消費されて速やかに消失する。
【００２４】
したがって、酸化分解反応槽へ必要十分なオゾン等の酸化剤を供給して所定の処理水質を確実に達成しつつ、供給した酸化剤の過剰分を無駄にすることなくその全量を循環水槽を含む系内において有機ヒ素含有廃水の酸化分解反応に寄与させて消費することができ、酸化分解反応槽に過剰量の酸化剤を添加しても処理効率の悪化の要因とならない。
【００２５】
また、酸化分解反応槽と循環水槽の系内において特段の耐腐食性が必要な槽体は、酸化剤と紫外線を併用して強い酸化雰囲気で酸化分解処理を行う酸化分解反応槽だけであり、未反応の酸化剤を希釈するのに十分な有機ヒ素含有廃水を貯留する循環水槽には特段の耐腐食性が不要となる。このため、酸化分解反応槽においてのみチタンやハステロイ等の耐腐食性に優れた高価な材質の部材を使用し、酸化分解反応槽に対して所定倍率の槽容積を有する循環水槽には表面耐腐食塗装鋼板や樹脂といった安価な部材を用いることが可能となり、製造コストを抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１において、有機ヒ素含有廃水を酸化分解する酸化分解反応槽２１は、酸化手段として紫外線ランプ２２および酸化剤としてオゾンを供給するオゾン供給系２３を備えており、紫外線ランプ２２は槽内に上下方向に沿って配置し、オゾン供給系２３は槽底部に接続している。
【００２７】
酸化分解反応槽２１は槽上部に有機ヒ素含有廃水の流入水系２４が接続し、ｐＨ調整槽２５と調整液循環系２６を介して連通しており、ｐＨ調整槽２５は酸およびアルカリの供給系（図示省略）を備えている。
【００２８】
また、酸化分解反応槽２１は循環水槽２７と循環系２８を介して連通しており、循環系２８は送り路２８ａが酸化分解反応槽２１の槽下部と循環水槽２７の槽上部を連通し、戻り路２８ｂが循環水槽２７の槽下部と酸化分解反応槽２１の槽上部を連通している。循環水槽２７は酸化分解反応槽２１の槽容積に対して１０から２０倍の所定倍率の槽容積を有し、換言すると酸化分解反応槽２１は循環水槽２７の槽容積に対して１／１０から１／２０の槽容積を有している。循環系２８の戻り路２８ｂには処理水の移送系２９が接続しており、移送系２９は図８に示した無機ヒ素除去工程等に接続している。
【００２９】
ここで、循環水槽２７の槽容積に関し、図８を参照して説明する。図８は、ＵＶ／オゾン反応槽容積が１０ｍ３で、循環水量を１０ｍ３／ｈｒとする場合における循環水槽容積と循環水槽内の溶存オゾンの残存率の関係を示している。
【００３０】
循環水槽容積が、５０ｍ３で３％程度の残存率であり、１００ｍ３を超えるとほぼ０％になる。すなわち、経済的な運転条件であるところのＵＶ／オゾン反応槽内の滞留時間が１ｈｒになる循環水量で運転した場合、循環水槽容積が５０ｍ３では溶存オゾンがあり、循環水槽の腐食が懸念されるが、１００ｍ３以上であれば、溶存オゾン濃度がほぼ０％ととなり、循環水槽の腐食の懸念が無くなる。
【００３１】
以下、上記した構成における作用を説明する。回分処理サイクルの始めにおいて、流入水系２４から系内に流入する有機ヒ素含有廃水は、酸化分解反応槽２１および循環系２８を通して循環水槽２７に流入し、酸化分解反応槽２１および調整液循環系２６を通してｐＨ調整槽２５に流入する。
【００３２】
酸化分解反応槽２１、ｐＨ調整槽２５、循環水槽２７に回分処理の１回分に相当する所定量の有機ヒ素含有廃水を導入した後に、酸化分解反応槽２１と循環水槽２７とにおいて循環系２８を通して系内の有機ヒ素含有廃水を所定の循環水量で循環しつつ、酸化分解反応槽２１において酸化分解処理する。
【００３３】
酸化分解反応槽２１では、紫外線ランプ２２によって紫外線を所定照度で照射し、オゾン供給系２３からオゾンを供給し、槽内の有機ヒ素含有廃水を所定の処理水質（有機ヒ素濃度０．００１ｍｇ／Ｌ以下）とするのに十分なオゾンの存在下で酸化分解処理する。本実施の形態では、オゾンと紫外線を併用することにより、オゾン、紫外線およびオゾンが紫外線を受けて生じるラジカルによる酸化反応によって酸化分解処理が行われる。
【００３４】
この際に、酸化分解反応槽２１とｐＨ調整槽２５との間において槽内液を調整液循環系２６を通して循環させてｐＨ一定（中性）に制御する。
酸化分解反応槽２１の酸化処理水は循環系２８の送り路２８ａを通して循環水槽２７へ循環し、循環水槽２７の有機ヒ素含有廃水が循環系２８の戻り路２８ｂを通して酸化分解反応槽２１へ循環する。
【００３５】
酸化分解反応槽２１での酸化分解処理において過剰となった未反応のオゾンは、酸化処理水に伴われて酸化分解反応槽２１から循環系２８を通して循環水槽２７へ流れる。
循環水槽２７は酸化分解反応槽２１の槽容積に対して所定倍率の槽容積を有するので、酸化分解反応槽２１から酸化処理水とともに流入する未反応のオゾンは、十分な量の有機ヒ素含有廃水で速やかに希釈され、かつ有機ヒ素含有廃水の酸化分解処理に消費されて速やかに消失する。
【００３６】
したがって、酸化分解反応槽２１へ必要十分なオゾンを供給して所定の処理水質を確実に達成しつつ、供給したオゾンの過剰分を無駄にすることなくその全量を循環水槽２７を含む系内において有機ヒ素含有廃水の酸化分解反応に寄与させて消費することができ、酸化分解反応槽２１に過剰量のオゾンを添加しても処理効率の悪化の要因とならない。
【００３７】
上述の処理を所定時間にわたって継続することで、酸化分解反応槽２１、ｐＨ調整槽２５、循環水槽２７における有機ヒ素含有廃水の全量が所定の処理水質（有機ヒ素濃度０．００１ｍｇ／Ｌ以下）となして回分処理を終了し、回分処理サイクルの終わりに移送系２９を通して処理水を次工程の無機ヒ素除去工程等に供給し、酸化分解反応槽２１、ｐＨ調整槽２５、循環水槽２７の全量を排出する。
【００３８】
本実施の形態において、循環系２８による循環水量は、循環水槽２７の槽容積にかかわらず、酸化分解反応槽２１における滞留時間が２時間以下（望ましくは１時間以下３０分以上）となるように制御する。
【００３９】
循環水量が多いほどに、１回の回分処理に要する処理時間を短縮することができるが、酸化分解反応槽２１における滞留時間が１時間を越えると、循環水量を多くしても１回の回分処理に要する処理時間の短縮幅が小さくなり、ポンプ駆動に要する費用が高くなって費用面で非効率となる。
【００４０】
図２に示す一例は、有機ヒ素濃度２０ｍｇ／Ｌ、酸化分解反応槽２１の槽容積１０ｍ３、循環水槽２７の槽容積１００ｍ３、オゾン注入量１５０ｇ／ｈｒの場合に、目標処理水質である有機ヒ素濃度０．００１ｍｇ／Ｌを達成するのに必要な回分処理１回当たりの処理日数と循環水量の関係を示すものである。
【００４１】
図２により明らかなように、循環水量約１０ｍ３／ｈｒ以上、つまり酸化分解反応槽２１での滞留時間が約１ｈｒ以上では処理日数はあまり変わらず、電気代が高くなることが分かる。
【００４２】
次に、紫外線照度に関して説明する。図３に示すように、従来の回分処理において上述した実施の形態と同量の大量の有機ヒ素含有廃水を１回分の処理量として酸化分解処理する場合には、大容積の酸化分解反応槽５１を必要とし、大容積の槽内に隈なく十分な紫外線照度を与えるために多数の紫外線ランプ５２を必要とする。酸化分解反応槽５１は槽底部にオゾン供給系５３が接続し、ｐＨ調整槽５４と連通している。
【００４３】
従来の酸化分解反応槽５１において、上述した実施の形態の酸化分解反応槽２１における最大紫外線照度と同じ紫外線照度を槽内に隈なく与えるためには、水深を同条件とすると、槽断面積に応じて紫外線ランプ５２の数は増加する。
【００４４】
図４および図５は同じ断面紫外線平均照度を得るための紫外線照度分布を示しており、図４は本実施の形態の酸化分解反応槽２１の槽容積を１ｍ３とした場合の紫外線照度分布を示し、図５は従来の回分処理の酸化分解反応槽５１の槽容積を１０ｍ３とした場合の紫外線照度分布を示す。
【００４５】
本実施の形態の酸化分解反応槽２１では紫外線ランプ数量が３であり、従来の回分処理の酸化分解反応槽５１では紫外線ランプ数量が１６となり、従来の回分処理の酸化分解反応槽５１においては約５倍の数量の紫外線ランプ５２を必要とする。
【００４６】
この紫外線ランプ５２の数量の条件を満たさない場合、仮に紫外線ランプ５２を１本も設置しない場合には、オゾンの吸収率が低下し、さらにオゾンが紫外線を受けて生じるラジカルの発生量が減少し、処理効率が悪化して処理時間が長くなる。
【００４７】
また、従来の回分処理の酸化分解反応槽５１におけるオゾン供給系５３よるオゾン供給は、槽断面積に対するオゾン吹込み量［オゾン吹込み率（ｍ３／ｍｉｎ／ｍ２）］の値が非常に小さい値となり、槽内の有機ヒ素含有廃水に均一にオゾンを吹込むことができず、攪拌手段等によって槽内を攪拌する必要がある。
【００４８】
これに対して、本実施の形態では、酸化分解反応槽２１の槽容積を循環水槽２７に対して１／１０から１／２０に設定し、酸化分解反応槽２１と循環水槽２７とで有機ヒ素含有廃水を循環させるので、酸化分解反応槽２１において十分な紫外線照度と均一なオゾン吹込みを実現できる。
【００４９】
つまり、酸化分解反応槽２１が系全体として必要な全体槽容積に対して小容積化されることで、槽断面積に対するオゾン吹込み量を十分に高めるとともに、少ない紫外線ランプ数で隈なく十分な紫外線照度を与えることができ、酸化分解反応槽２１の限られた槽容積の反応場において十分な酸化剤の存在下で集中的に酸化分解処理を行うことで、酸化分解反応槽２１において有機ヒ素含有廃水は所定の処理水質となる。
【００５０】
この酸化分解反応槽２１で酸化分解処理した酸化処理水を酸化分解反応槽２１と循環水槽２７との系内で循環させることで、少ない紫外線ランプ数で大量の有機ヒ素含有廃水を一時に回分処理することができる。
【００５１】
そして、酸化分解反応槽２１のみを用いて回分処理を繰返す場合に比べて有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要するロスタイムを抑制できる。このことを図６に模式的に示す。（ａ）は通常の回分処理を繰返した場合における処理時間ｈ１と有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要する時間ｈ２を示しており、（ｂ）は本実施の形態における処理時間ｈ３と有機ヒ素含有廃水の入換え操作に要する時間ｈ４を示している。
【００５２】
（ａ）、（ｂ）は有機ヒ素含有廃水の処理総量、酸化分解反応槽２１における処理条件を同条件とした場合であり、図６から明らかなように、酸化分解反応槽２１のみを用いて回分処理を繰返す場合には入換え操作に要するロスタイムの累積時間が回分処理の回数が増えるのにしたがって増加するが、本実施の形態では大量の有機ヒ素含有廃水の入換えを要するが入換え操作は１回であり、結果としてロスタイムは短くなる。
【００５３】
また、酸化分解反応槽２１と循環水槽２７の系内において特段の耐腐食性が必要な槽体は、オゾンと紫外線を併用して強い酸化雰囲気で酸化分解処理を行う酸化分解反応槽２１だけであり、未反応のオゾンを希釈するのに十分な有機ヒ素含有廃水を貯留する循環水槽２７には特段の耐腐食性が不要となる。
【００５４】
このため、酸化分解反応槽２１においてのみチタンやハステロイ等の耐腐食性に優れた高価な材質の部材を使用し、酸化分解反応槽２１に対して所定倍率の槽容積を有する循環水槽２７には表面耐腐食塗装鋼板や樹脂といった安価な部材を用いることが可能となり、製造コストを抑制できる。
【００５５】
図７は本発明の他の実施の形態を示すものであり、先の実施の形態と同様の構成要素には同符号を付して説明を省略する。この実施の形態では、複数の循環水槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃを設け、それぞれ酸化分解反応槽２１との間に循環系３２ａ、３２ｂ、３２ｃを設けており、バルブ３３ａ、３３ｂ、３３ｃの開閉操作によって酸化分解反応槽２１と接続する循環水槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃを切り換える。本実施の形態では循環水槽を３槽として説明するが、２槽以上であれば良く、その数は任意に設定できる。
【００５６】
各循環水槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃの槽容積を合わせた全槽容積は先の実施の形態における循環水槽２７と同じであってもよく、異なってもよい。また、各循環水槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃは独立した形態でもよく、１つの槽を区分して形成する形態でもよい。
【００５７】
この構成では、例えば第１の循環水槽３０ａを酸化分解反応槽２１に接続して酸化分解処理を行う間に、第２の循環水槽３０ｂでは有機ヒ素含有廃水の導入操作を行い、第３の循環水槽３０ｃでは有機ヒ素濃度の測定と処理水の排出を行う。そして、第１の循環水槽３０ａの回分処理が終えたら第１の循環水槽３０ａの処理水の排出を行う間に、第２の循環水槽３０ｂで回分処理を行い、第３の循環水槽３０ｃでは有機ヒ素含有廃水の導入操作を行い、この運転パターンを順次に繰返し行う。この結果、ある循環水槽における入換え操作に要する時間中においても他の循環水槽において回分処理もしくは排出操作を行えるので、ロスタイムがなくなる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施の形態における有機ヒ素含有廃水の処理装置を示すブロック図
【図２】同有機ヒ素含有廃水の処理装置における循環水量と処理日数の関係および循環水量と電気代の関係を示すグラフ図
【図３】従来の回分処理における紫外線ランプの配置構成を示す模式図
【図４】本発明の実施の形態における紫外線照度分布を示すグラフ図
【図５】従来の回分処理における紫外線照度分布を示すグラフ図
【図６】本発明の実施の形態における回分処理サイクルと従来の回分処理サイクルの比較を示す模式図
【図７】本発明の他の実施の形態における有機ヒ素含有廃水の処理装置を示すブロック図
【図８】循環水槽容積と溶存オゾンの残存率の関係を示すグラフ図
【図９】従来の有機性廃水の処理装置を示すブロック図
【符号の説明】
【００５９】
２１  酸化分解反応槽
２２  紫外線ランプ
２３  オゾン供給系
２４  流入水系
２５  ｐＨ調整槽
２６  調整液循環系
２７  循環水槽
２８  循環系
２８ａ  送り路
２８ｂ  戻り路
２９  移送系
【図１】
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【図２】
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【図３】
2007196176.tif 000005
【図４】
2007196176.tif 000006
【図５】
2007196176.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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