(57)【要約】【課題】  電子顕微鏡、Ｘ線装置、オージェ電子分光器等の分析装置および電子線描画装置等において、公知の技術では、輝度が大きい、すなわち電子流密度が高く、精細にフォーカスでき（クロスオーバーが小さい）、且つ、装置が小型であるという特長を同時に有する電子銃は知られていなかった。【解決手段】本発明は、  カーボンナノチューブ（以下、ＣＮＴと略称する）からなる電子エミッターと、該電子エミッターから電子を放出、加速および収束させるための静電レンズとして、バトラー型レンズとを備えたことを特徴とする電界放出型電子銃であり、該バトラー型レンズにおいて、引出し電極が電気的に独立して２〜１６分割されている。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界放出型電子銃において、電子エミッターから電子線を引出し、加速および集束させるためのバトラー型レンズの第１電極が複数分割されており、且つ該分割界面が電気的に絶縁されていることを特徴とする電界放出型電子銃用バトラー型レンズ。
【請求項２】
前記において、分割界面を空間的に離間することにより電気的に絶縁することを特徴とする請求項１に記載の電界放出型電子銃用バトラー型レンズ。
【請求項３】
前記電子エミッターが、炭素材料で構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電界放出型電子銃。
【請求項４】
前記の分割電極が各個に高抵抗電気回路を介して接地、又は、引出し電源に電気接続された自己バイアス回路を形成しており、該自己バイアス回路によって生ずる電圧降下によって電極電位を制御することを特徴とする電界放出型電子銃の電圧制御方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかに記載の電界放出型電子銃から放出される電子線を、金属ターゲットに衝突させてＸ線を発生させることを特徴とするＸ線源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷陰極電子エミッターを用いた小型の電界放出型電子銃及びその電源電圧制御方法さらには小型のＸ線源に関わる。
【背景技術】
【０００２】
電子ビームは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ），走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、ＥＰＭＡ等の顕微鏡機器、電子ビーム露光装置、微細加工装置等のハイテク関連機器、および、Ｘ線管球、オージェ電子分光等の理化学機器に広く利用されている。そして例えばＴＥＭにおける電子ビームとして、以下のような特性が必要とされる（非特許文献１）。
（１）   像が充分に明るいこと、言い換えると、電子流密度が高いこと。
（２）   平行ビームであること、すなわち、電子線の照射角が小さいこと。
（３）   ビームを照射する面積が小さいこと。
（４）   電子の速度が揃っていること、すなわち、単色性が高いこと。
【０００３】
この要求を満たす電子銃としては、熱電子放出型電子銃と電界放出型電子銃が知られている。熱電子放出型電子銃は、タングステンフィラメント又は六硼化ランタン（ＬａＢ６）を陰極材料とするが、本方法は陰極を高温加熱しなければならず、付随装置として加熱および冷却機構が必要なため、装置の大型化が避けられなかった。次に、電界放出型電子銃は、加熱による電子放出の代わりに、超高真空下で陰極先端に強い電界をかけてトンネル電流を利用して電子を放出させるタイプの電子銃であるが、高真空と強電界が必要である。
これを解決するため、電子エミッターとして、カーボンナノチューブ（Ｃａｒｂｏｎ  Ｎａｎｏｔｕｂｅ）をはじめとする炭素材料が極めて小さい印加電圧で電子放出を行うことが確認され、冷陰極材料として注目されている（例えば、伊勢電子の上村等、ＳＩＤ  ９８  ＤＩＧＥＳＴ，ｐｐ．１０５２〜１０５５又は、特許文献１）。
【０００４】
次に、電子銃の構成について述べる。熱電子放出型電子銃は、熱電子放出材料である陰極と陽極およびその間にあって発散電子ビームを集束させるためのウエーネルト（Ｗｅｈｎｅｌｔ）で構成されている。又、電界放出型電子銃は、引出し電極と加速電極とで構成されるバトラー（Ｂｕｔｌｅｒ）型電極が一般的に使用される（例えば、特許文献２）。
バトラー型電極の形状としては、図１に示すように各種のものがあり、曲面電極同士の組合せ、平板電極同士の組み合わせ、及び、曲面電極と平面電極の組み合わせ等がある。これらの中で、引出し電極に曲面電極を、加速電極に平板電極を組合せるもの（図１−ｅ）が、球面収差、色収差の点から優れているとされる（非特許文献２）。
【０００５】
さらに、公知の技術を組合せることにより、小型で省電力のＸ線発生装置が開発されている（特許文献３）。ここでは、陰極としてカーボンナノチューブ冷陰極を用い、これから放出される電子線をウエーネルトにより絞りこんでターゲットに衝突させることにより、Ｘ線を得ている。しかしながら、カーボンナノチューブの先端から放出される電子は、カーボンナノチューブの先端に存在する６個の五員環から優先的に放出されるため、放出方向がある角度をもっていること、及び、一般的にはカーボンナノチューブの束が使用されるため、放出方向が拡散している。従って、光軸上で高い電子流密度が得ることは困難であった。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２８２９９０号公報
【特許文献２】特願平１１−７１８９４号公報
【特許文献３】特願２０００−５９９１６号公報
【非特許文献１】「高分解能電子顕微鏡」、ｐｐ３７−４９、堀内繁雄著、共立出版株式会社
【非特許文献２】「電子・イオンビームハンドブック」ｐｐ６６−６７、日本学術振興会第１３２委員会編、日刊工業新聞社発行
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
電子エミッターから放出される電子流は、所定の方向から外れている成分も多く、電子流密度の低下が避けられなかった。そこで、本発明の課題は、電子エミッターから放出される電子流を所定方向に集束させ、高い電子流密度を得ること、すなわち、輝度が大きい、且つ精細にフォーカスでき（クロスオーバーが小さい）、且つ、装置が小型であるという特長を同時に有する電子銃を開発することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は以前に、簡易な平行平板型静電レンズの第１（引出し）電極を４分割することで、液体Ｌｉ金属を陰極として放出される電界放出型電子の電子流特性を改善できることを知得した（非特許文献３）。ここにおいて、本発明者等はバトラー型レンズに本技術を応用することにより、本課題を達成しうることに思い至った。
【非特許文献３】K.Hata, S.Nishigakiet al, 「Properties of DC mode field emission ofelectrons from liquid lithium cathode」Journal dephysique, novembre 1988, C6-125-130
【０００９】
すなわち、本発明は、電界放出型電子銃において、電子エミッターから電子線を引出し、加速および集束させるためのバトラー型レンズの第１電極が複数分割されており、且つ該分割界面が電気的に絶縁されていること、好ましくは、分割界面が空間的に離間されることにより界面が絶縁されていることを特徴としており、更には、前記電子エミッターが、炭素材料で構成されていることを特徴とする。ここで、炭素材料は、電子を放出する先端部が針状に尖っており、先端径が０．５ｎｍ〜５００ｎｍのカーボンナノチューブ又はカーボンホイスカ又はカーボンファイバーが代表的なものであり、これら材料が束状になっているものも含んでいる。
又、複数分割は２〜２０分割を意味するが、実用的には４、６、８または１６分割が一般的である。
【００１０】
次に、本発明は分割電極が各個に高抵抗電気回路を介して接地、又は、引出し電源に電気接続された自己バイアス回路を形成しており、該自己バイアス回路によって生ずる電圧降下によって電極電位を制御することを特徴とする電界放出型電子銃の電圧制御方法に関わる。ここで、高抵抗とは１０８〜１０９Ωであり、第１電極の分割された各電極に電子が衝突すると、電流が高抵抗電気回路を介して大地に流れる。この場合の抵抗をＲ，電流をＩとすると、ＲＩに相当する電圧降下が生じ（自己バイアス制御）、各分割電極毎に引出し電圧が制御され、様々な方向に放射された電子流を所定方向に効率的に集束させる。
【００１１】
次に本発明は、上記の電界放出型電子銃から放出された電子線を、定法により１または複数の収束レンズにより集束させて、金属ターゲットに衝突させ、Ｘ線を発生させることを特徴とするＸ線源に関わる。ここで、金属ターゲットとしては、一般的にタングステン、銅等の高比重、高融点金属が用いられる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、高輝度で解像度が高く、且つ、装置が小型な電界放出型電子銃、および、Ｘ線源装置が可能となり、電子顕微鏡、Ｘ線装置、オージェ電子分光器等の小型分析装置および電子線描画装置等に有効に活用される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の静電光学系の一例を図２に示す。図２に示すように、陰極、陽極との間に第１電極（引出し電極）および第２電極（加速、集束電極）からなるバトラー型レンズが配置される。バトラー型レンズの形態としては、電子線の加速及び集束の程度に応じて、複数電極の組合せ（例えば、２段組〜８段組等）が使用される。
【００１４】
前述したように、陰極材料としてのカーボンナノチューブ（以下ＣＮＴと略称する）又はＣＮＴの束から放出される電子は、ＣＮＴ先端の五員環から様々な方向に放出される。このような方向が拡散している電子線を所定の方向に揃えるために、放出電子流密度に応じて、バトラー型レンズの第１電極（引出し電極）の引出し電源電圧をブロック単位で制御する方法が効果的である。制御方法は、各分割電極と大地間に高抵抗を組み込んで電気的に接地し、自己バイアス制御による電圧降下を利用する。電気回路例を図３に示すが、図３ａは、各分割電極と引出し電源が独立している場合であり、図３ｂは、各分割電極と引出し電源が高抵抗を介して連結している場合を示している。
【００１５】
ここで、第１電極（引出し電極）の分割界面は、分割ブロック毎の電圧制御を可能とするために、電気的に絶縁されている。電気的絶縁の方法としては、分割界面を空間的に離間させるか、又は、酸化物、窒化物、炭化物被膜、高分子樹脂等の非導電物質を界面に介在させるかの２つの方法がある。しかし、非導電物質を界面に介在させる場合は、非導電物質部に電子が滞留しコンデンサとなりやすいため、空間的に離間させる方法が望ましい。空間的に離間させる場合の離間距離は一般的に、０．１〜１ｍｍであるが、必ずしもこれに限定されない。
ところで、電界放出型電子銃は１０−６Ｔｏｒｒより高真空状態で使用され、空間は真空状態となっているため、分割界面間での放電は生じない。
【００１６】
第１電極を空間的に離間して分割電極とする場合、電子線がこの分割界面の空間部を通り抜けて漏洩し、電流密度が低下する不都合が生ずる危険性がある。この電子線漏洩を防止するため、電極の分割方法に工夫が必要であり、電子線流が分割界面に衝突するように、分割することが必要である。
具体的には、分割界面の断面形状は図４に示すように、斜め分割、交差分割等とする方法が一般的に採られるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００１７】
上記の方法により、加速、集束された電子流をモリブデン、タングステン、ロジウム、銅等の金属ターゲットに衝突させて、透過型または反射型のＸ線を発生させる。ここで、一般的に使用される加速電圧は、１０〜１５０ＫＶ，管電流１ｍＡであり、分解能＜１μｍと、高輝度、ナノフォーカスされたＸ線が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】バトラーレンズの５つの類型をも示す模式図である。
【図２】静電光学系の一例を示す概略図である。
【図３】各分割電極の自己バイアス制御電気回路を示す概要図である。
【図４】分割電極における分割界面の断面図を示す概略図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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