(57)【要約】【課題】  光記録の障害となるレーザ光が感光材料上に照射されない光導波路アレイを用いた光記録装置を提供する。【解決手段】  本発明は、光導波路アレイから出射した複数本のレーザ光を変調走査し、感光材料上に走査する光記録装置において、基板と該基板上に形成されている導波路と、前記基板と前記導波路上に形成されているオーバークラッド層とからなる前記光導波路アレイの前記オーバークラッド層上に、金属膜を蒸着したことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路アレイから出射した複数本のレーザ光を変調走査し、感光材料上に走査する光記録装置において、基板と該基板上に形成されている導波路と、前記基板と前記導波路上に形成されているオーバークラッド層とからなる前記光導波路アレイの前記オーバークラッド層上に、金属膜を蒸着したことを特徴とする光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項２】
前記金属膜上にガラス板を接着剤により接着したことを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項３】
前記金属膜上に金属板を接着剤により接着したことを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項４】
前記基板の材質は石英ガラス板であることを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項５】
前記基板の材質は熱酸化膜付きシリコンウエハであることを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項６】
前記オーバークラッド層はＳｉＯ２膜であることを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項７】
前記接着剤は、熱硬化性接着剤であることを特徴とする請求項２または３記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【請求項８】
前記光導波路アレイから出射する複数のビームは結合レンズによりコリメートされ、結合レンズの像面焦点位置に絞りを設けたことを特徴とする請求項１記載の光導波路アレイを用いた光記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のビームで高速に光記録するレーザプリンタ、光ディスク装置等の光導波路アレイを用いた光記録装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路アレイを用いた光記録装置は、既に公知である（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３３７８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光導波路アレイ入出射端面を研磨する時、端面がだれないように、オーバークラッド層上に熱硬化性接着剤を用いて板を接着する必要がある。しかし、接着剤はオーバークラッド層よりも屈折率が高い為、板とオーバークラッド層とに挟まれた接着剤部が導波層となり、光導波路アレイ入射端面に結合されなかったレーザ光が接着剤部に入射して導波し、出射端面から出射する。通常、散乱光は特許文献１に示したように、出射ビームを結合レンズによりコリメートし、像面焦点位置に絞りを設けることによって遮断することができるが、接着剤部を導波して端面から出射したレーザ光は、像面焦点位置に設けた絞りを通過してしまう為、カットすることができない。その為、接着剤部を導波したレーザ光が感光材料に照射され、光記録の障害となる。
【０００５】
本発明の目的は、オーバークラッド層上に板を接着する接着剤部にレーザ光が導波するのを防ぎ、光記録の障害となるレーザ光を遮断するところにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的は、光導波路アレイから出射した複数本のレーザ光を変調走査し、感光材料上に走査する光記録装置において、基板と該基板上に形成されている導波路と、前記基板と前記導波路上に形成されているオーバークラッド層とからなる前記光導波路アレイの前記オーバークラッド層上に、金属膜を蒸着することによって達成される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、光記録の障害となるレーザ光が感光材料上に照射されるのを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に、本発明を実施例図面によって説明する。
【実施例】
【０００９】
図１〜６に示した本発明の１実施例を用いて、本発明の光導波路アレイを用いた光記録装置の光導波路アレイ部の説明をする。
【００１０】
光導波路は、図４に示したように、基板１５、導波路１４、オーバークラッド層１３からなる。基板１５には、石英ガラス板、または膜厚１０〜２０（μｍ）程度の熱酸化膜付きシリコンウエハを用いる。その上に導波層１４としてＳｉＯ２にＴｉＯ２、またはＧｅＯ２などの物質をドープした膜を、ＥＢ蒸着装置、またはＣＶＤ装置などにより膜厚１〜５（μｍ）程度形成させる。その後、リソグラフィープロセスにより導波路パターンを形成し、オーバークラッド層１３として火炎体積法、ＣＶＤ法、スパッタ蒸着法などにより、導波路１４よりも屈折率の低い膜を膜厚５〜３０（μｍ）程度堆積させる。その後、基板１５をカットし、端面研磨を行うが、この状態で研磨すると、図４に示したように端面がだれてしまい、光導波路入出射端面部が良好な状態になるように研磨することはできない。
【００１１】
そこで、図５に示したように、オーバークラッド層１３上に板１７を熱硬化性接着剤により接着し、研磨を行う。すると、光導波路入出射端面を良好な状態になるように研磨することができる。しかし、接着剤１６の屈折率は、通常オーバークラッド層１３の屈折率よりも高く、接着した板１７に石英ガラス板を使用すれば、石英ガラス板よりも接着剤１６のほうが屈折率が高くなり、接着剤部１６が平面光導波路となる。この接着剤部１６に光導波路入射端面に入射され、結合されなかったレーザ光が入射されて導波し、出射端面から出射する。接着した板１６が金属であっても、放射モードで接着剤部を伝播し、出射端面から出射される。
【００１２】
通常、図２、３に示したように、光導波路から出射された光は結合レンズによりコリメートされ、結合レンズの像面焦点位置に絞り７を設けることにより、光導波路入射端面で結合されなかった光を除いている。しかし、接着剤１４を導波し、端面から出射した光は、絞りを通過してしまい、除去することができない。そこで、図６に示したように、オーバークラッド層１３上に金属膜１６を蒸着し、その上に板１７を接着することにより、光導波路に結合されなかった光が接着剤１４に導波するのを防ぎ、図１に示した感光材料１上に光記録の障害となる光が照射されないようにする。
【００１３】
図１を用いて、本発明の光導波路アレイを用いた光記録装置の光学系の１実施例を説明する。半導体レーザモジュール１０は、半導体レーザ１２から発生するレーザ光を効率よく光ファイバ１１内に導き、光ファイバ１１の出射端面を光導波路アレイ９内の一つの入射端面に接続し、光ファイバ１１内のレーザ光を光導波路内に導いている。同様にして光導波路アレイ９内のすべての光導波路に、半導体レーザ１２から出射したレーザ光を導いている。光導波路アレイ９から出射される複数のビームはコリメータレンズ８を用いてコリメートされ、コリメータレンズ８の像面焦点位置に、ビーム径と同等の径をもつ絞り７を設置する。これにより、光導波路に結合されなかった光を除去している。絞りを通過した複数のビームは、レンズ６、レンズ５を通過することにより、ポリゴンミラー３上で結合される。また、ポリゴンミラー３前にシリンドリカルレンズ４を設置することにより、ポリゴンミラー３上で副走査方向にビームを絞り込み、ポリゴンミラー３の面倒れ補正を行っている。ポリゴンミラー３上を反射したビームは、ｆθレンズ２を通過した後、感光ドラム１上に結像され、走査される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施例を示す模式図。
【図２】図１の構成における絞り部分の詳細図。
【図３】オーバークラッド層上に板を接着しないで研磨した時の端面のだれを説明する図。
【図４】オーバークラッド層上に板を接着しない場合の説明図。
【図５】オーバークラッド層上に板を接着した場合の説明図。
【図６】本発明のオーバークラッド層上に金属膜を蒸着し、その上に板を接着した場合の説明図。
【符号の説明】
【００１５】
１…感光ドラム、２…ｆθレンズ、３…ポリゴンミラー、４…シリンドリカルレンズ、５、６…レンズ、７…絞り、８…コリメータレンズ、９…光導波路アレイ、１０…半導体レーザモジュール、１１…光ファイバ、１２…半導体レーザ、１３…オーバークラッド層、１４…導波路、１５…基板、１６…接着剤、１７…板、１８…金属膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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