(57)【要約】【課題】  本発明は、銀行券、パスポート、カード、商品タグ、ブランドプロテクション等の偽造防止、真偽判別、複写防止が必要とされる貴重品に適用する画像形成体に関するものである。【解決手段】  基材に潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が一方向に沿って万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、位相がずれており、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体である。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、
前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が一方向に沿って万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、位相がずれており、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、
前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体。
【請求項２】
基材の潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、
前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が一方向に沿って万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、位相がずれており、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、
前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で、前記一方向に対して所定の角度を有する方向に沿って万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体。
【請求項３】
前記潜像領域と前記背景領域の境界部において、
前記凹部と前記凸部が連続的に形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の画像形成体。
【請求項４】
基材の潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、
前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、前記潜像領域の前記凹部と前記凸部の配列方向と、前記背景領域の前記凹部と前記凸部の配列方向は、異なって形成され、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、
前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体。
【請求項５】
前記凹部及び前記凸部の断面形状は、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する蒲鉾状、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する鋸状、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する台形状又は四角形状によって形成されていることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の画像形成体。
【請求項６】
前記背景領域に形成される前記穿孔は、前記背景領域の前記凸部、前記凹部、前記第１の傾斜領域、又は、前記第２の傾斜領域の種類のうち、いずれか一つの領域に沿って配列され、前記潜像領域の前記凸部、前記凹部、前記第１の傾斜領域、又は、前記第２の傾斜領域の種類のうち、いずれか一つの領域に沿って配列され、かつ、前記背景領域の前記穿孔が形成される前記種類とは、異なった種類の領域に沿って配列されていることを特徴とする請求項５記載の画像形成体。
【請求項７】
前記凹部及び前記凸部が、直万線、曲万線又は同心円万線であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５又は６記載の画像形成体。
【請求項８】
前記凸部間のピッチは、１５０〜１５００μｍの範囲であり、前記穿孔のピッチは、１５０〜１５００μｍの範囲で、穿孔の径は、５０〜５００μｍの範囲で形成されることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の画像形成体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀行券、パスポート、カード、商品タグ、ブランドプロテクション等の偽造防止、真偽判別、複写防止が必要とされる貴重品に適用する画像形成体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
銀行券、パスポート、カード、商品タグ、ブランドプロテクション等の貴重品は、その性質上、偽造又は変造されにくく、さらに、その貴重品が本物か否か判断できる技術要素が要求される。例えば、その技術要素の一つとしては、貴重品を傾けて観察することで潜像画像が視認され、その視認の有無によって真偽判別を行う技術が知られている。例えば、印刷又は基材の形状によって形成した凹凸形状を有する素材上に印刷画線を形成し、反射光で傾けて観察した場合に凹凸形状から成る潜像画像が視認できる技術、また、基材に背景領域と潜像領域で穿孔の形状、配置等を異ならせて形成し、透過光で傾けて観察した場合に潜像画像が視認できる技術等が挙げられる。
【０００３】
前記印刷の形状によって形成した凹凸形状を有する素材上に印刷画線を形成し、反射光で傾けて観察した場合に凹凸形状からなる潜像画像が視認できる技術として、例えば、印刷素材に、部分的に角度を異にすることによって図柄を表した各種万線模様、又はレリーフ模様、又は双方の模様のいずれかを印刷素材と同色又は近似した色のインキによって隆起した印刷を施し、該印刷画線上に一定な間隔を持つ各種万線画線又は網点画線、又は双方の画線のいずれかを該印刷画線の色及び無色透明以外の異なった他の有色のインキによって該印刷画線に対して平行又は傾斜を持たせて印刷することによって、正面から観察すると、該一定の間隔を持つ各種万線画線又は網点画線、又は双方の画線のいずれかのみが確認でき、斜めの方向から観察すると、該隆起した印刷画線と該一定な間隔を持つ印刷画線との間に生じる一定でない位置関係によって、該隆起した画線によって構成した図柄が容易に確認でき、逆の斜めの方向から観察すると、図柄の明暗が反転して確認できることを特徴とする潜像印刷物が開示されている（特許文献１）。
【０００４】
前記基材の形状によって形成した凹凸形状を有する素材上に印刷画線を形成し、反射光で傾けて観察した場合に凹凸形状からなる潜像画像が視認できる技術として、例えば、部分的に角度を異にすることによって図柄を表した各種万線模様、又はレリーフ模様、又は双方の模様のいずれかのエンボスによって形成された凹凸形状を有する素材に、素材の色及び無色透明以外の異なった他の色のインキによって、一定な間隔を持つ各種万線画線、又は網点画線、又は双方の画線のいずれかを前述の凹凸形状の図柄以外の部分を構成する部分に対して平行又は傾斜を持たせて印刷することによって、正面から観察すると、該一定の間隔の直線で構成された各種万線画線、又は網点画線、又は双方の画線のいずれかのみが確認でき、斜めの方向から観察すると、該凹凸形状と、該一定な間隔を持つ印刷画線との間に生じる一定でない位置関係によって、該凹凸形状によって形成された図柄が容易に確認でき、逆の斜めの方向から観察すると、図柄の明暗が反転して確認できることを特徴とする潜像模様形成体が開示されている（特許文献２）。
【０００５】
前記基材に背景領域と潜像領域で穿孔の形状、配置等を異ならせて形成し、透過光で傾けて観察した場合に潜像画像が視認できる技術として、例えば、前記穿孔の形状の差異を利用し、潜像画像を出現させるもの、例えば、基材に、背景部を構成する微細な穿孔と、情報部を構成する穿孔を形成し、背景部の穿孔と情報部の穿孔を、穿孔の形状、寸法及び画素の角度の少なくとも一つ以上が異なるように形成し、真偽判別形成体を反射光で観察した場合に背景部と情報部を区分けして視認できないが、透過光で傾けて観察した場合に背景部と情報部を区分けして視認されてなる技術が開示されている（特許文献３）。
【０００６】
【特許文献１】特許第２６０００９４号公報（第１−６頁、第１−１０図）
【特許文献２】特許第２６１５４０１号公報（第１−４頁、第２−７図）
【特許文献３】特許第３３８５４６１号公報（第１−５頁、第１−３図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許第２６０００９４号公報及び特許第２６１５４０１号公報は、印刷又は基材の形状によって形成した凹凸形状を有する素材上に印刷画線を形成し、反射光で傾けて観察した場合に凹凸形状からなる潜像画像が視認できる技術である。特許第２６０００９４号公報は、基材に対して透過光で垂直方向から観察した場合に凹凸形状からなる潜像画像は視認することはできなかった。特許第２６１５４０１号公報は、基材に対して透過光で傾けて観察した場合にエンボスからなる潜像画像が視認し難い問題があった。上記特許第３３８５４６１号公報は、基材に背景領域と潜像領域で穿孔の形状、配置等を異ならせて形成し、透過光で傾けて観察した場合に潜像画像が視認されるものであり、基材に対して透過光で垂直方向から観察した場合に潜像画像は視認することはできなかった。また、反射光で傾けて観察した場合に潜像画像は視認し難い問題があった。さらに、潜像領域と背景領域の穿孔の形状、配置等を異ならせなければならなかった。このようなことから特許第２６０００９４号公報、特許第２６１５４０１号公報及び特許第３３８５４６１号公報は限られた条件下のみで潜像画像が視認できるものであった。また、特許第２６０００９４号公報及び特許第２６１５４０１号公報は、一表面から潜像画像が視認されるものであり、両面から潜像画像を視認できるようにするためには、表面及び裏面に印刷画線を形成する必要があった。
【０００８】
本発明は、このような従来の問題を解決することを目的としたもので、限られた条件下のみで潜像画像が視認できるものではなく、表面及び裏面に印刷画線を形成することなく、表面及び裏面の両面から潜像画像が視認され、潜像領域と背景領域の穿孔の形状、配置等を異ならせることなく、穿孔によって潜像画像を形成することなく、反射光及び透過光で傾けて観察した場合に潜像画像が視認される画像形成体を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、基材に潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が一方向に沿って万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、位相がずれており、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１０】
また、本発明は、基材の潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が一方向に沿って万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、位相がずれており、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で、前記一方向に対して所定の角度を有する方向に沿って万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１１】
また、本発明は、前記潜像領域と前記背景領域の境界部において、前記凹部と前記凸部が連続的に形成されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１２】
また、本発明は、基材の潜像領域と背景領域とを有する画像形成体であって、前記潜像領域と前記背景領域は、エンボスによって凹部と凸部が万線状に形成され、前記潜像領域と前記背景領域の前記凸部間の所定のピッチが同一ピッチで、かつ、前記潜像領域の前記凹部と前記凸部の配列方向と、前記背景領域の前記凹部と前記凸部の配列方向は、異なって形成され、前記基材を貫通するように形成した穿孔が、前記潜像領域及び前記背景領域において、前記所定のピッチを有し、かつ、同一位相で万線状に形成されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１３】
また、本発明は、前記凹部及び前記凸部の断面形状は、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する蒲鉾状、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する鋸状、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域を有する台形状又は四角形状によって形成されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１４】
また、本発明は、前記背景領域に形成される前記穿孔は、前記背景領域の前記凸部、前記凹部、前記第１の傾斜領域、又は、前記第２の傾斜領域の種類のうち、いずれか一つの領域に沿って配列され、前記潜像領域の前記凸部、前記凹部、前記第１の傾斜領域、又は、前記第２の傾斜領域の種類のうち、いずれか一つの領域に沿って配列され、かつ、前記背景領域の前記穿孔が形成される前記種類とは、異なった種類の領域に沿って配列されていることを特徴とする画像形成体である。
【００１５】
また、本発明は、前記凹部及び前記凸部が、直万線、曲万線又は同心円万線であることを特徴とする画像形成体である。
【００１６】
また、本発明は、前記凸部間のピッチは、１５０〜１５００μｍの範囲であり、前記穿孔のピッチは、１５０〜１５００μｍの範囲で、穿孔の径は、５０〜５００μｍの範囲で形成されることを特徴とする画像形成体である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の画像形成体は、複数の条件下で潜像画像が視認されるものであり、表面及び裏面の両面から潜像画像が視認され、反射光及び透過光で画像形成体を傾けて観察した場合に潜像画像が視認され、潜像画像の視認性の有無、複数の条件下での潜像画像の視認性の有無によって真偽判別が可能となる。よって、特別な真偽判別装置等を用いることなく、その場で上記効果が得られるか否かによって真偽判別することができる。
【００１８】
本発明の構成である穿孔は、従来の特許第３３８５４６１号公報のように潜像領域と背景領域の穿孔の形状、配置等を異ならせる必要がない。穿孔の形状が同一であっても形成可能であり、配置が一定間隔であっても形成可能である。よって、従来よりも穿孔の配置等のデザインに手間がかかることない。
【００１９】
以上のことから、本発明の画像形成体は、真偽判別効果が高く、微細な穿孔で形成するため改竄、複製防止効果があり、銀行券、パスポート、カード、商品タグ、ブランドプロテクション等の偽造防止、改竄防止が必要とされる貴重品に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。しかしながら、本発明は以下に述べる実施するための最良の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲記載における技術的思想の範囲内であれば、その他のいろいろな実施の形態が含まれる。
【００２１】
本発明の構成であるエンボス画像を形成する凹凸形状について図１を用いて説明する。本発明の構成であるエンボス画像は、図１（ａ）乃至図１（ｃ）の形態が実施可能である。
【００２２】
図１（ａ）は基材１の表面のベースの高さ１ａより高い三角形状の凸部３ａが繰り返し配置され、凸部３ａが繰り返し配置されることによって凹部２ａが形成される。凸部３ａの領域は、図１（ａ）に示すように領域３の範囲であり、凹部２ａの領域は、図１（ａ）に示すように領域２の範囲である。凸部３ａは基材１の表面のベースの高さ１ａより高く形成され、凹部２ａの最低部は、基材１の表面のベースの高さ１ａとなる。ただし、凹部２ａの最低部は、基材１の表面のベースの高さ１ａより高い形状となる場合もある。この場合の凸部３ａは、エンボス画像の場合は、基材１と同様に繊維で形成される。
【００２３】
図１（ｂ）は基材１の表面のベースの高さ１ｂより高い三角形状の凸部３ｂが特定の間隔で繰り返し配置され、凸部３ｂが特定の間隔で繰り返し配置されることによって凹部２ｂが形成される。凸部３ｂの領域は、図１（ｂ）に示すように領域３の範囲であり、凹部２ｂの領域は、図１（ｂ）に示すように領域２の範囲である。凸部３ｂは基材１の表面のベースの高さ１ｂより高く形成され、凹部２ｂの最低部は、基材１の表面のベースの高さ１ｂとなる。この場合の凸部３ｂは、エンボス画像の場合は、基材１と同様に繊維で形成される。
【００２４】
図１（ｃ）は基材１の表面のベースの高さ１ｃより低い三角形状の凹部２ｃが特定の間隔で繰り返し配置され、凹部２ｃが特定の間隔で繰り返し配置されることによって凸部３ｃが形成される。凹部２ｃの領域は、図１（ｃ）に示すように領域２の範囲であり、凸部３ｃの領域は、図１（ｃ）に示すように領域３の範囲である。凹部２ｃは基材１の表面のベースの高さ１ｃより低く形成され、凸部３ｃの最高部は、基材１の表面のベースの高さ１ｃとなる。ただし、凸部３ｃの最高部は、基材１の表面のベースの高さ１ｃより低い形状となる場合もある。
【００２５】
図１（ｄ）は基材１の表面のベースの高さ１ｄより低い三角形状の凹部２ｄが特定の間隔で繰り返し配置され、凹部２ｄが特定の間隔で繰り返し配置されることによって凸部３ｄが形成される。凹部２ｄの領域は、図１（ｄ）に示すように領域２の範囲であり、凸部３ｄの領域は、図１（ｄ）に示すように領域３の範囲である。凹部２ｄは基材１の表面のベースの高さ１ｄより低く形成され、凸部３ｄの最高部は、基材１の表面のベースの高さ１ｄとなる。
【００２６】
図１（ｅ）は基材１の表面のベースの高さ１ｅより高い三角形状の凸部３ｅが繰り返し配置され、基材１の表面のベースの高さ１ｅより低い三角形状の凹部２ｅが繰り返し配置される。凸部３ｅの領域は、図１（ｅ）に示すように領域３の範囲であり、凹部２ｅの領域は、図１（ｅ）に示すように領域２の範囲である。
【００２７】
図１（ｆ）は基材１の表面のベースの高さ１ｆより高い三角形状の凸部３ｆが特定の間隔で繰り返し配置され、基材１の表面のベースの高さ１ｆより低い三角形状の凹部２ｆが特定の間隔で繰り返し配置される。凸部３ｆの領域は、図１（ｆ）に示すように領域３の範囲であり、凹部２ｆの領域は、図１（ｆ）に示すように領域２の範囲である。
【００２８】
図１の構成は下記に示す画像形成体Ａ１乃至Ａ９に用いることができる。図１に示すように基材１の表面及び裏面は凹部及び凸部が形成される。本発明の構成であるエンボス画像は、エンボスが作製できるプレス機によって、紙等に圧力をかけて作製される。基材は、紙、プラスチック等が挙げられる。また、射出成型等で画像を形成することが可能である。基材１の厚さは、６０〜８００μｍが好ましい。また、凸部３と凹部２の凹凸差は、１０μｍ〜５００μｍ程度であることが好ましい。
【００２９】
次に、本発明の構成である凹凸形状の断面形状について図２を用いて説明する。図２（ａ）は三角形状の凸部３である。図２（ｂ）は三角形状の凹部２である。図２（ｃ）は台形状の凸部３である。図２（ｄ）は台形状の凹部２である。図２（ｅ）は四角形状の凸部３である。図２（ｆ）は四角形状の凹部２である。図２（ｇ）は蒲鉾状の凸部３である。図２（ｈ）は蒲鉾状の凹部２である。図２（ｉ）は直角三角形状の凸部３である。図２（ｊ）は直角三角形状の凹部２である。本発明の構成である凹部及び凸部の形状は、図２に示すような形状が考えられるが、本発明はこれに限定されることがない。また、図２（ａ）乃至図（ｊ）を組み合わせて形成することもできる。
【００３０】
（画像形成体Ａ１）
図３に表面の画像形成体Ａ１とその一部拡大図を示す。基材１の表面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ａが形成される。エンボス画像４ａは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ａは図２（ｆ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。凹部２ａの線と凹部２ｂの線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ１が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成される。つまり、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、基材１の最低部である凹部に沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、基材１の最高部である凸部に沿って形成される。画像形成体Ａ１の効果を以下に説明する。
【００３１】
画像形成体Ａ１は、図４（ａ）に示すように反射光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して垂直方向から観察した場合に、図４（ｂ）に示すように、エンボス画像４ａは視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であるが、エンボス画像４ａは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。また、穿孔９は基材を貫通しているため、穿孔９が形成された領域と穿孔９が形成されていない領域でコントラストが生じるため、穿孔群１０が視認可能となる。
【００３２】
画像形成体Ａ１は、図３に示したＸ１方向又はＸ２方向から特定角度で、図５（ａ）に示すように反射光で肉眼で観察した場合に、図５（ｂ）に示すように、エンボス画像４ａからなる潜像画像８が視認することができる。図５（ｃ）に示すように潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂは、そのままの状態で視認できるが、背景領域７の凹部２ａの線に形成される穿孔９ａは、凸部３ａの線によって遮断され視認することができない。このため、潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂのみが視認され、穿孔９ｂによって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。
【００３３】
画像形成体Ａ１は、図６（ａ）に示すように透過光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して垂直方向から観察した場合に、図６（ｂ）に示すように、エンボス画像４ａが視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であり、透過光量が多く得られる基材ではエンボスは視認しにくくなる。さらに、エンボス画像４ａは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。
【００３４】
画像形成体Ａ１は、図３に示したＸ１方向又はＸ２方向から特定角度で、図７（ａ）に示すように透過光で肉眼で観察した場合に、図７（ｂ）に示すように、エンボス画像４ａからなる潜像画像８が視認することができる。図７（ｃ）に示すように潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂの透過光は、そのままの状態で視認できるが、背景領域７の凹部２ａの線に形成される穿孔９ａの透過光は、凸部３ａの線によって遮断され視認することができないか、又は、透過光量が減少する。このため、潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂの透過光が視認され、穿孔９ｂの透過光によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。
【００３５】
画像形成体Ａ１は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成されているが、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凸部３ａに沿って形成し、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凹部２ｂに沿って形成しても良い。このように作製した場合は、図５、図７で説明した潜像画像（Ｐ）は、それぞれネガとポジが反転して視認される。
【００３６】
画像形成体Ａ１の裏面は、表面に形成した凹部２ａの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ａの線が、凹部となり、表面に形成した凹部２ｂの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ｃの線が、凹部となる。よって基材の裏面は、画像形成体Ａ１の裏面は、背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、凸部に沿って形成され、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、凹部に沿って形成される。画像形成体Ａ１の裏面は、特定方向及び特定角度で、反射光又は透過光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像が視認することができる。背景領域の凸部の線に形成される穿孔は、そのままの状態で視認できるが、潜像領域の凹部の線に形成される穿孔は、凸部の線によって遮断され視認することができない。このため、背景領域の凸部の線に形成される穿孔のみが視認され、穿孔によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。つまり、画像形成体１の表面から確認できた潜像画像とはネガポジが反転して視認される。
【００３７】
（画像形成体Ａ２）
図８に画像形成体Ａ２とその一部拡大図を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｂが形成される。エンボス画像４ｂは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に第１の傾斜領域１１ａと第２の傾斜領域１１ｂを有する凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に第１の傾斜領域１１ａと第２の傾斜領域１１ｂを有する凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ｂは図１（ａ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。凸部３ａの線と凸部３ｂの線は、同一の高さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ２が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、第１の傾斜領域１１ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成される。画像形成体Ａ２の効果を以下に説明する。
【００３８】
画像形成体Ａ２は、図９（ａ）に示すように反射光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して垂直方向から観察した場合に、図９（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｂは視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であるが、エンボス画像４ｂは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。また、穿孔９は基材を貫通しているため、穿孔９が形成された領域と穿孔９が形成されていない領域でコントラストが生じるため、穿孔群１０が視認可能となる。
【００３９】
画像形成体Ａ２は、図８に示したＸ１方向から特定角度で、図１０（ａ）に示すように反射光で肉眼で観察した場合に、図１０（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｂからなる潜像画像８が視認することができる。Ｘ１方向から特定角度で観察した場合は、第２の傾斜領域１１ｂの領域は視認することができるが、第１の傾斜領域１１ａの領域は視認することができない。よって、背景領域７となる第１の領域に形成される第１の傾斜領域１１ａに沿って形成される穿孔９ａは視認されることなく、潜像領域８となる第２の領域に形成される第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成される穿孔９ｂは、視認される。このため、潜像領域８の第２の傾斜領域１１ｂに形成される穿孔９ｂのみが視認され、穿孔９ｂによって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。また、Ｘ２方向から観察した場合に背景領域の穿孔９ａのみが視認され、背景領域の穿孔９ａで形成した潜像画像（Ｐ）が視認される。
【００４０】
画像形成体Ａ２は、図１１（ａ）に示しように透過光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して垂直方向から観察した場合に、図１１（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｂが視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であり、透過光量が多く得られる基材ではエンボスは視認しにくくなる。さらに、エンボス画像４ｂは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。
【００４１】
画像形成体Ａ２は、図８に示したＸ１方向から特定角度で、図１２（ａ）に示すように透過光で肉眼で観察した場合に、図１２（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｂからなる潜像画像８が視認することができる。Ｘ１方向から特定角度で観察した場合は、第２の傾斜領域１１ｂの領域は視認することができるが、第１の傾斜領域１１ａの領域は視認することができない。よって、背景領域７となる第１の領域に形成される第１の傾斜領域１１ａに沿って形成される穿孔９ａの透過光は視認されないか、又は、透過光量が減少する。潜像領域８となる第２の領域に形成される第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成される穿孔９ｂの透過光は、視認される。このため、潜像領域８の第２の傾斜領域１１ｂに形成される穿孔９ｂの透過光が視認され、穿孔９ｂの透過光によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。また、Ｘ２方向から観察した場合に背景領域の穿孔９ａの透過光のみが視認され、背景領域の穿孔９ａで形成した潜像画像（Ｐ）が視認される。
【００４２】
画像形成体Ａ２は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、第１の傾斜領域１１ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成されているが、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成し、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、第１の傾斜領域１１ａに沿って形成しても良い。このように作製した場合は、図１０及び図１２で説明した潜像画像（Ｐ）は、それぞれネガとポジが反転して視認される。
【００４３】
画像形成体Ａ２の裏面は、表面に形成した凹部２ａの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ａの線が、凹部となり、表面に形成した凹部２ｂの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ｃの線が、凹部となる。よって基材の裏面は、画像形成体Ａ２の裏面は、背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、第２の傾斜領域に沿って形成され、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、第１の傾斜領域に沿って形成される。画像形成体Ａ２の裏面は、Ｘ１方向から特定角度で、反射光又は透過光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像が視認することができる。背景領域の第２の傾斜領域に形成される穿孔は、そのままの状態で視認できるが、潜像領域の第１の傾斜領域に形成される穿孔は、視認することができない。このため、背景領域の第２の傾斜領域に形成される穿孔のみが視認され、穿孔によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。つまり、画像形成体２の表面から確認できた潜像画像とはネガポジが反転して視認される。
【００４４】
（画像形成体Ａ３）
図１３に画像形成体Ａ３とその一部拡大図を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｃが形成される。エンボス画像４ｃは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ｃは図２（ｇ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。さらに、背景領域７と潜像領域８の境界部において、背景領域７となる凹部２ａの線及び潜像領域８となる凹部２ｂの線をつなぐ接続線１２、背景領域７となる凸部３ａの線及び潜像領域８となる凸部３ｂを連続的につなぐ接続線１２を形成し、エンボス画像４ｃがレリーフ画像となっている。凹部２ｂの線と凸部３ａの線、凸部３ａの線と凸部３ｂをつなぐ接続線１２の角度は特に限定されるものではない。凹部２ａの線と凹部２ｂの線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ３が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成される。
【００４５】
つまり、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、基材１の最低部である凹部に沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、基材１の最高部である凸部に沿って形成される。又は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、基材１の最低部である凹部に沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔２ｂは、画像形成体Ａ２に示したように第１の傾斜領域１１ａ又は第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成される。画像形成体Ａ３は画像形成体Ａ１と同様な効果を有する。
【００４６】
画像形成体Ａ３は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成されているが、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凸部３ａに沿って形成し、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凹部２ｂに沿って形成しても良い。又は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凸部３ａの第１の傾斜領域１１ａ又は第２の傾斜領域１１ｂに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔２ｂは、凹部２ｂに沿って形成しても良い。
【００４７】
画像形成体Ａ３の裏面は、表面に形成した凹部２ａの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ａの線が、凹部となり、表面に形成した凹部２ｂの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ｃの線が、凹部となる。よって基材の裏面は、画像形成体Ａ３の裏面は、背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、凸部に沿って形成され、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、凹部に沿って形成される。画像形成体Ａ３の裏面は、特定方向及び特定角度で、反射光又は透過光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像を視認することができる。背景領域の凸部の線に形成される穿孔は、そのままの状態で視認できるが、潜像領域の凹部の線に形成される穿孔は、凸部の線によって遮断され視認することができない。このため、背景領域の凸部の線に形成される穿孔のみが視認され、穿孔によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。つまり、画像形成体３の表面から確認できた潜像画像とはネガポジが反転して視認される。
【００４８】
（画像形成体Ａ４）
図１４に画像形成体Ａ４とその一部拡大図を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｄが形成される。エンボス画像４ｄは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ｄは図２（ｃ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。さらに、背景領域７と潜像領域８の境界部において、背景領域７となる凹部２ａの線及び潜像領域８となる凹部２ｂの線をつなぐ接続線１２、背景領域７となる凸部３ａの線及び潜像領域８となる凸部３ｂを連続的につなぐ接続線１２を形成し、エンボス画像４ｃがレリーフ画像となっている。凹部２ｂの線と凸部３ａの線、凸部３ａの線と凸部３ｂをつなぐ接続線１２の角度は特に限定されるものではない。図１４では角度９０度の例を示す。凹部２ａの線と凹部２ｂの線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ４が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、同様に潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凹部２ｂに沿って形成される。
【００４９】
Ｘ１方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部の近くに形成され、Ｘ２方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部から離れて形成されている。
【００５０】
画像形成体Ａ４は、図１５に示すように反射光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して垂直方向から観察した場合に、図１５（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｄは視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であるが、エンボス画像４ｄは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。また、穿孔９は基材を貫通しているため、穿孔９が形成された領域と穿孔９が形成されていない領域でコントラストが生じるため、穿孔群１０が視認可能となる。
【００５１】
画像形成体Ａ４は、図１４に示したＸ１方向から特定角度で、図１６（ａ）に示すように反射光で肉眼で観察した場合に、図１６（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｄからなる潜像画像８が視認することができる。図１６（ｃ）に示すように凸部３ａの線によって、背景領域７の凹部２ａの穿孔９ａが形成された領域は遮断され、凸部３ｂの線によって、潜像領域８の凹部２ｂの一部の領域は遮断されるが、穿孔９ｂが形成された領域は遮断されることがないため、穿孔９ｂは、そのままの状態で視認できる。このため、潜像領域８の凹部２ｂの線に形成される穿孔９ｂのみが視認され、穿孔９ｂによって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。また、Ｘ２方向から観察した場合に背景領域の穿孔９ａのみが視認され、背景領域の穿孔９ａで形成した潜像画像（Ｐ）が視認される。
【００５２】
画像形成体Ａ４は、図１７（ａ）に示しように透過光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して垂直方向から観察した場合に、図１７（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｄが視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であり、透過光量が多く得られる基材ではエンボスは視認しにくくなる。さらに、エンボス画像４ｄは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。
【００５３】
画像形成体Ａ４は、図１４に示したＸ１方向から特定角度で、図１８（ａ）に示すように透過光で肉眼で観察した場合に、図１８（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｄからなる潜像画像８が視認することができる。図１８（ｃ）に示すように凸部３ａの線によって、背景領域７の凹部２ａの穿孔９ａが形成された領域は遮断され、穿孔９ａの透過光は視認されないか、又は、透過光量が減少する。凸部３ｂの線によって、潜像領域８の凹部２ｂの一部の領域は遮断されるが、穿孔９ｂが形成された領域は遮断されることがないため、穿孔９ｂの透過光は、そのままの状態で視認できる。このため、潜像領域８の凹部２ｂの線に形成される穿孔９ｂの透過光が視認され、穿孔９ｂの透過光によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。また、Ｘ２方向から観察した場合に背景領域の穿孔９ａの透過光のみが視認され、背景領域の穿孔９ａで形成した潜像画像（Ｐ）が視認される。
【００５４】
画像形成体Ａ４は、Ｘ１方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部の近くに形成され、Ｘ２方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部から離れて形成されているが、Ｘ１方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部から離れて形成され、Ｘ２方向からは、背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに形成される穿孔９ａは、潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに形成される穿孔９ｂよりも、凸部の近くに形成してもよい。このように作製した場合は、図１６、図１８で説明した潜像画像（Ｐ）は、それぞれネガとポジが反転して視認される。
【００５５】
（画像形成体Ａ５）
図１９に画像形成体Ａ５とその一部拡大図を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｅが形成される。エンボス画像４ｅは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が異なる方向に形成される。エンボス画像４ａは図２（ｆ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定の配列方向と、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定の配列方向が異なっている。図１９では９０度配列方向が異なっているが本発明はこれに限定されることなく、配列方向が異なっていれば良く、例えば、１０度〜１７０度の範囲で配列方向を異ならせても良い。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであることが好ましい。凹部２ａの線と凹部２ｂの線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ５が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成される。つまり、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、基材１の最低部である凹部に沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、基材１の最高部である凸部に沿って形成される。画像形成体Ａ５の効果を以下に説明する。
【００５６】
画像形成体Ａ５は、図２０（ａ）に示すように反射光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して垂直方向から観察した場合に、図２０（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｅは視認できず、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であるが、エンボス画像４ｅは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。また、穿孔９は基材を貫通しているため、穿孔９が形成された領域と穿孔９が形成されていない領域でコントラストが生じるため、穿孔群１０が視認可能となる。
【００５７】
画像形成体Ａ５は、図２１に示したＸ１方向又はＸ２方向から特定角度で、図２１（ａ）に示すように反射光で肉眼で観察した場合に、図２１（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｅからなる潜像画像８が視認することができる。図２１（ｃ）に示すように潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂは、そのままの状態で視認できるが、背景領域７の凹部２ａの線に形成される穿孔９ａは、凸部３ａの線によって遮断され視認することができない。このため、潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂのみが視認され、穿孔９ｂによって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。
【００５８】
画像形成体Ａ５は、図２２（ａ）に示すように透過光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して垂直方向から観察した場合に、図２２（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｅが視認することができなく、穿孔群１０のみが視認される。エンボスは、一般的に、反射光で視認できる技術であり、透過光量が多く得られる基材ではエンボスは視認しにくくなる。さらに、エンボス画像４ｅは、穿孔９によってカムフラージュされているため肉眼では視認し難い状態となる。
【００５９】
画像形成体Ａ５は、図２３に示したＸ１方向又はＸ２方向から特定角度で、図２３（ａ）に示すように透過光で肉眼で観察した場合に、図２３（ｂ）に示すように、エンボス画像４ｅからなる潜像画像８が視認することができる。図２３（ｃ）に示すように潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂの透過光は、そのままの状態で視認できるが、背景領域７の凹部２ａの線に形成される穿孔９ａの透過光は、凸部３ａの線によって遮断され視認することができないか、若しくは、透過光量が減少する。このため、潜像領域８の凸部３ｂの線に形成される穿孔９ｂの透過光が視認され、穿孔９ｂの透過光によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。
【００６０】
画像形成体Ａ５は、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成されているが、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凹部２ｂに沿って形成しても良い。さらに、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凸部３ａに沿って形成し、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９は、凹部２ｂに沿って形成しても良い。このように作製した場合は、図２１、図２３で説明した潜像画像（Ｐ）は、それぞれネガとポジが反転して視認される。
【００６１】
画像形成体Ａ５の裏面は、表面に形成した凹部２ａの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ａの線が、凹部となり、表面に形成した凹部２ｂの線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ｃの線が、凹部となる。よって基材の裏面は、画像形成体Ａ５の裏面は、背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、凸部に沿って形成され、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、凹部に沿って形成される。画像形成体Ａ５の裏面は、特定方向及び特定角度で、反射光又は透過光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像が視認することができる。背景領域の凸部の線に形成される穿孔は、そのままの状態で視認できるが、潜像領域の凹部の線に形成される穿孔は、凸部の線によって遮断され視認することができない。このため、背景領域の凸部の線に形成される穿孔のみが視認され、穿孔によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。つまり、画像形成体５の表面から確認できた潜像画像とはネガポジが反転して視認される。
【００６２】
画像形成体Ａ１乃至Ａ５において、凹部２ａ、凹部２ｂ、凸部３ａ及び凸部３ｂの線は直線で形成しているが曲線、同心円で形成することができる。下記に曲線の例を示す。
【００６３】
（画像形成体Ａ６）
図２４に画像形成体Ａ６を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｆが形成される。エンボス画像４ｆは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの曲線と凸部３ａの曲線が所定のピッチで交互に配列され、曲万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの曲線と凸部３ｂの曲線が所定のピッチで交互に配列され、曲万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ｆは図２（ｆ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。凹部２ａの曲線と凹部２ｂの曲線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が曲線の形状に配列され画像形成体Ａ６が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、凹部２ａに沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、凸部３ｂに沿って形成される。つまり、背景領域７となる第１の領域に形成される穿孔９ａは、基材１の最低部である凹部に沿って形成され、潜像領域８となる第２の領域に形成される穿孔９ｂは、基材１の最高部である凸部に沿って形成される。画像形成体Ａ６は、潜像画像（Ｔ）が視認できる。裏面では潜像画像（Ｔ）のネガのポジが反転して確認できる。画像形成体Ａ１と同様な効果を有する。
【００６４】
画像形成体Ａ１乃至Ａ６において、凹部２ａ、凹部２ｂ、凸部３ａ及び凸部３ｂの線で背景領域及び潜像領域を形成しているが、背景領域の凹部２ａ及び凸部３ａの線のみで形成することができる。又は、潜像領域の凹部２ｂ及び凸部３ｂの線のみで形成することができる。
【００６５】
画像形成体Ａ６の裏面は、表面に形成した凹部２ａの曲線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ａの曲線が、凹部となり、表面に形成した凹部２ｂの曲線は、凸部となり、表面に形成した凸部３ｃの曲線が、凹部となる。よって基材の裏面は、画像形成体Ａ６の裏面は、背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、凸部に沿って形成され、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、凹部に沿って形成される。画像形成体Ａ６の裏面は、特定方向及び特定角度で、反射光又は透過光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像が視認することができる。背景領域の凸部の曲線に形成される穿孔は、そのままの状態で視認できるが、潜像領域の凹部の曲線に形成される穿孔は、凸部の曲線によって遮断され視認することができない。このため、背景領域の凸部の曲線に形成される穿孔のみが視認され、穿孔によって形成された潜像画像（Ｐ）が視認できる。つまり、画像形成体６の表面から確認できた潜像画像とはネガポジが反転して視認される。
【００６６】
（画像形成体Ａ７）
図２５（ａ）に画像形成体Ａ７を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｇが形成される。エンボス画像４ｇは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域には、凹部の線と凸部の線は形成されることがない。エンボス画像４ｇは図２（ｆ）の断面形状で作製される。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ７が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。なお、穿孔９ａは背景領域７となる第１の領域の凹部２ａに沿って形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる第２の領域内に形成される。画像形成体Ａ７は、反射光又は透過光で特定方向及び特定角度から肉眼で観察した場合に画像形成体Ａ１と同様な効果を有する。
【００６７】
（画像形成体Ａ８）
図２５（ｂ）に画像形成体Ａ８を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｈが形成される。エンボス画像４ｈは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部の線と凸部の線が形成されることなく、潜像領域８となる第２の領域には、凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成される。エンボス画像４ｈは図２（ｆ）の断面形状で作製される。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ８が形成される。基材１を貫通するように形成した穿孔９が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で万線状に形成されている。なお、穿孔９ａは背景領域７となる第１の領域内に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる第２の領域の凹部２ｂに沿って形成される。画像形成体Ａ８は、画像形成体Ａ６とネガポジが反転されて潜像画像が視認される。
【００６８】
画像形成体Ａ１乃至Ａ８において、凹部２ａ、凹部２ｂ、凸部３ａ又は凸部３ｂの線に沿って穿孔９は形成しているが、凹部２ａ、凹部２ｂ、凸部３ａ又は凸部３ｂの複数の線と、穿孔によって形成される複数の線の形状が交差して形成することができる。下記に示す。
【００６９】
（画像形成体Ａ９）
図２６に画像形成体Ａ９とその一部拡大図を示す。基材１の表示面の所定領域５を設け、所定領域５にエンボス画像４ｉが形成される。エンボス画像４ｉは背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に区分けされ、背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線が所定のピッチで交互に配列され、万線状に形成され、凹凸形状を有して形成される。背景領域７となる第１の領域に凹部２ａの線と凸部３ａの線の配列方向と、潜像領域８となる第２の領域に凹部２ｂの線と凸部３ｂの線の配列方向が一方向（同一方向）に形成される。エンボス画像４ｉは図２（ｆ）の断面形状で作製される。さらに、背景領域７となる凹部２ａと凸部３ａの所定のピッチと、潜像領域８となる凹部２ｂと凸部３ｂの所定のピッチは、同一のピッチで、かつ、位相がずれて形成される。背景領域７となる所定のピッチと潜像領域８となる所定のピッチは、同一のピッチであり、互いに略半ピッチずれていることが好ましい。さらに、背景領域７と潜像領域８の境界部において、背景領域７となる凹部２ａの線及び潜像領域８となる凹部２ｂの線をつなぐ接続線１２、背景領域７となる凸部３ａの線及び潜像領域８となる凸部３ｂを連続的につなぐ接続線１２を形成し、エンボス画像４ｃがレリーフ画像となっている。凹部２ｂの線と凸部３ａの線、凸部３ａの線と凸部３ｂをつなぐ接続線１２の角度は特に限定されるものではない。図２６では角度９０度の例を示す。凹部２ａの線と凹部２ｂの線は、同一の深さであることが好ましい。背景領域７となる第１の領域と、潜像領域８となる第２の領域に所定のピッチで基材を貫通した穿孔９が線の形状に配列され画像形成体Ａ９が形成される。基材を貫通するように形成した穿孔が、潜像領域８及び背景領域７において、凹部及び凸部と同一の所定のピッチを有し、かつ、同一位相（潜像領域８及び背景領域７で穿孔のずれがない）で、凹部及び凸部が配列される一方向に対して所定の角度を有する方向に沿って万線状に形成される。ここで、凹部２ａの線、凸部３ａの線、凹部２ｂの線及び凸部３ｂの線の配列方向に対して、線の形状に形成される穿孔９の配列方向が異なっており、図２６では異なった配列方向から得られる所定の角度が３０度で形成されている。所定の角度は特に限定されることはないが、１度から４５度の範囲が好ましい。画像形成体Ａ９は、Ｘ１方向又はＸ２方向から特定角度で、透過光又は反射光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像４ｉからなる潜像画像８が視認され、潜像画像は明暗からなるグラデーションを有する。
【００７０】
次に、エンボス画像を形成する凹凸形状と穿孔の位置関係の一例を図２８を用いて説明する。図２８（ａ）に示すように穿孔９ａは背景領域７となる凹部２ａの線に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの線の最高部に形成される例である。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの線の最高部に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凹部２ｂの線に形成してもよい（図示せず）。なお、凹部に形成される穿孔は最低部に形成しても良い（図示せず）。
【００７１】
図２８（ｂ）に示すように穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第１の傾斜領域１１ａに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第２の傾斜領域１１ｂに形成される例である。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第２の傾斜領域１１ｂに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第１の傾斜領域１１ａに形成してもよい（図示せず）。ここで言う、第１の傾斜領域及び第２の傾斜領域とは、図２８に示すように凸部の最高部から凹部に接続される傾斜部分のことである。
【００７２】
図２８（ｃ）に示すように穿孔９ａは背景領域７となる凹部２ａの線に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第２の傾斜領域１１ｂに形成される例である。また、穿孔９ａは背景領域７となる凹部２ａの線に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第１の傾斜領域１１ｂに形成してもよい（図示せず）。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第２の傾斜領域１１ｂに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凹部２ｂの線に形成してもよい（図示せず）。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第１の傾斜領域１１ｂに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凹部２ｂの線に形成してもよい（図示せず）。なお、凹部に形成される穿孔は最低部に形成しても良い（図示せず）。
【００７３】
図２８（ｄ）に示すように穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第１の傾斜領域１１ａに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの線の最高部に形成される例である。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第２の傾斜領域１１ｂに形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの線の最高部に形成してもよい（図示せず）。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの線の最高部に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第１の傾斜領域１１ａに形成してもよい（図示せず）。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの線の最高部に形成され、穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第２の傾斜領域１１ｂに形成してもよい（図示せず）。
【００７４】
図２８（ｅ）に示すように穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第１の傾斜領域１１ａに形成され、同様に穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第１の傾斜領域１１ａに形成される例である。穿孔９ａは穿孔９ｂよりも凸部の高い領域に形成される。この場合の穿孔９ａは穿孔９ｂよりも凸部の低い領域に形成してもよい（図示せず）。また、穿孔９ａは背景領域７となる凸部３ａの第２の傾斜領域１１ｂに形成され、同様に穿孔９ｂは潜像領域８となる凸部３ｂの第２の傾斜領域１１ｂに形成してもよい（図示せず）。この場合は、穿孔９ａは穿孔９ｂよりも凸部の高い領域に形成するか、又は、穿孔９ａは穿孔９ｂよりも凸部の低い領域に形成する（図示せず）。
【００７５】
以上の図２８をまとめると、エンボス画像の場合の背景領域に形成される穿孔は、背景領域の凹凸形状の第１の傾斜領域、凹凸形状の第２の傾斜領域、凹凸形状の高部の領域及び凹凸形状の低部の領域の種類のうち、いずれか一つの領域に沿って配列され、潜像領域に形成される穿孔は、潜像領域の凹凸形状の第１の傾斜領域、凹凸形状の第２の傾斜領域、凹凸形状の高部の領域及び凹凸形状の低部の領域の種類のうち、いずれか一つの領域で、かつ、背景領域の穿孔が形成される前記種類とは、異なった種類の領域に沿って配列すればよい。
【００７６】
凸部の線、凹部の線、凸部の曲線、凹部の曲線、凸部の円状の線、凹部の円状の線等のからなる万線のピッチは、１５０〜１５００μｍの範囲であることが好ましい。
【００７７】
穿孔のピッチは、３：１乃至１：３程度が好ましい。さらに好ましくは、穿孔のピッチは、１：１程度がよい。穿孔の径は、特に限定させるものではないが、５０μｍ〜５００μｍ程度が好ましい。５０μｍより小さいと作製上困難となり、５００μｍより大きいと複製しやすくなり偽造防止効果が低下する。穿孔の大きさを徐々に変えることによって後述する潜像画像に明暗が得られる。よって、穿孔９のＸ方向のピッチ、Ｙ方向のピッチは、１５０〜１５００μｍ程度の範囲であることが好ましい。穿孔の形状は特に限定されることはなく、円形、多角形、特殊形状等で作製でき、また、これらを組み合わせることも可能である。図２９に示すように微細な穿孔群によって文字（Ａ）を形成し、文字を所定のピッチで配列しても良く、さらに特殊形状（文字：Ａ）の穿孔を所定のピッチで配列してもよい。穿孔はレーザ加工機で作製可能であり、レーザの種類は特に限定されるものではない。また、穿孔は基材に対して垂直方向に形成することが好ましい。ただし、基材に対して斜めの方向に穿孔を形成しても、観察角度は基材に対して垂直方向に穿孔を形成したものとは異なるが、本発明の効果を得ることができる。また、図３０（ａ）に示すように穿孔の径は基材の深さ方向に対して径が小さくなっても良い。また、図３０（ｂ）に示すように基材に対して斜めの方向に穿孔を施してもよい。また、穿孔群１０は、図３１（ａ）に示すように文字、図柄等を形成することができる。図３１（ｂ）に示すように各穿孔の径は異なっていても良い。
【００７８】
本発明に用いる基材はエンボス画像を形成する場合は紙葉類、プラスチック等、特に限定されるものではないが、透明以外の基材が好ましい。基材の厚さは、特に限定されるものでなく６０μｍ程度の薄い材から、８００μｍ程度のカード基材等でも有効である。
【００７９】
本発明の潜像領域に形成される潜像画像は、文字、数字、記号及び絵柄の少なくとも１つであることにより、特定方向から観察した場合に容易に真偽判別することができる。当然、本発明の画像形成体に印刷を施すことが可能である。
【実施例】
【００８０】
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の内容は、これらの実施例の範囲に限定されるものではない。
【００８１】
（実施例１）
厚さ約100μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅300μｍの凹部の線と、幅300μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから300μｍずらして幅300μｍの凹部の線と、幅300μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凸部に沿って線の形状に形成し実施例１の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは450μｍで、穿孔の径は150μｍである（図３参照）。
【００８２】
実施例１の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例１の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。表面と裏面では潜像画像のネガポジが反転して確認できた。
【００８３】
（実施例２）
厚さ約100μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅500μｍの凹部の線と凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから250μｍずらして幅500μｍの凹部の線と凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凸部の第１の傾斜領域に沿って線の形状に形成され、潜像領域の凸部の第２の傾斜領域に沿って線の形状に形成し実施例２の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは450μｍで、穿孔の径は150μｍである（図８参照）。
【００８４】
実施例２の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例２の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。表面と裏面では潜像画像のネガポジが反転して確認できた。
【００８５】
（実施例３）
厚さ約80μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから200μｍずらして幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した。さらに、背景領域と潜像領域の境界部において、背景領域となる凹部の線及び潜像領域となる凹部の線をつなぐ接続線、背景領域となる凸部の線及び潜像領域となる凸部を連続的につなぐ接続線を形成し、エンボス画像がレリーフ画像の形状とした。なお、接続線の成す角度は40度である。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凸部に沿って線の形状に形成し実施例３の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは300μｍで、穿孔の径は100μｍである（図１３参照）。
【００８６】
実施例３の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例３の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。表面と裏面では潜像画像のネガポジが反転して確認できた。
【００８７】
（実施例４）
厚さ約80μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから200μｍずらして幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した。さらに、背景領域と潜像領域の境界部において、背景領域となる凹部の線及び潜像領域となる凹部の線をつなぐ接続線、背景領域となる凸部の線及び潜像領域となる凸部を連続的につなぐ接続線を形成し、エンボス画像がレリーフ画像の形状とした。なお、接続線の成す角度は90度である。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凹部に沿って線の形状に形成し実施例４の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは300μｍで、穿孔の径は100μｍである（図１４参照）。Ｘ１方向からは、背景領域となる第１の領域の凹部に形成される穿孔は、潜像領域となる第２の領域の凹部に形成される穿孔よりも、凸部の近くに形成され、Ｘ２方向からは、背景領域となる第１の領域の凹部に形成される穿孔は、潜像領域となる第２の領域の凹部に形成される穿孔よりも、凸部から離れて形成されている。
【００８８】
実施例４の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例４の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。
【００８９】
（実施例５）
厚さ約80μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅300μｍの凹部の線と、幅300μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、幅300μｍの凹部の線と、幅300μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列した。背景領域となる凹部と凸部の所定の配列方向と、潜像領域となる凹部と凸部の所定の配列方向が９０度、異なっている。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凸部に沿って線の形状に形成し実施例５の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは600μｍで、穿孔の径は150μｍである（図１９参照）。
【００９０】
実施例５の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例５の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。
【００９１】
（実施例６）
厚さ約100μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅300μｍの凹部の曲線と、幅300μｍの凸部の曲線が所定のピッチで交互に配列し、曲万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから300μｍずらして幅300μｍの凹部の曲線と、幅300μｍの凸部の曲線が所定のピッチで交互に配列し、曲万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って曲線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凸部に沿って曲線の形状に形成し実施例１の画像形成体を得た。曲線の形状に形成される穿孔のピッチは450μｍで、穿孔の径は150μｍである（図２４参照）。
【００９２】
実施例６の画像形成体は、透過光又は反射光で肉眼で実施例１の画像形成体に対して垂直方向から観察した場合にエンボス画像が視認することができなく、穿孔群のみが視認された。反射光又は透過光で特定角度及び特定方向で肉眼で観察した場合にエンボス画像が潜像画像として視認することができた。表面と裏面では潜像画像のネガポジが反転して確認できた。
【００９３】
（実施例７）
厚さ約80μmの紙基材にエンボスプレス機によって所定領域にエンボス画像を形成した。エンボス画像は背景領域となる第１の領域と、潜像領域となる第２の領域に区分され、背景領域となる第１の領域に幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成し、潜像領域となる第２の領域に背景領域のピッチから200μｍずらして幅200μｍの凹部の線と、幅200μｍの凸部の線が所定のピッチで交互に配列し、万線状に形成した。背景領域となる第１の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向と、潜像領域となる第２の領域に凹部の線と凸部の線の配列方向が一方向（同一方向）に形成した。さらに、背景領域と潜像領域の境界部において、背景領域となる凹部の線及び潜像領域となる凹部の線をつなぐ接続線、背景領域となる凸部の線及び潜像領域となる凸部を連続的につなぐ接続線を形成し、エンボス画像がレリーフ画像の形状とした。なお、接続線の成す角度は４０度である。背景領域となる第１の領域に形成される穿孔は、背景領域の凹部に沿って線の形状に形成し、潜像領域となる第２の領域に形成される穿孔は、潜像領域の凸部に沿って線の形状に形成し実施例７の画像形成体を得た。線の形状に形成される穿孔のピッチは300μｍで、穿孔の径は150μｍである（図２６参照）。凹部の線及び凸部の線の配列方向に対して、線の形状に形成される穿孔の配列方向が異なっている。異なった配列方向から得られる所定の角度が３０度で形成した。よって、凹部の線及び凸部の線と、穿孔で形成させる線の形状は交差することになる。
【００９４】
実施例７の画像形成体は、Ｘ１方向又はＸ２方向から特定角度で、透過光又は反射光で肉眼で観察した場合に、エンボス画像からなる潜像画像が視認され、潜像画像は明暗からなるグラデーションを有していた。表面と裏面では潜像画像のネガポジが反転して確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の構成であるエンボス画像を形成する凹凸形状についての説明である。
【図２】本発明の構成である凹凸形状の断面形状についての説明である。
【図３】画像形成体Ａ１とその一部拡大図を示す図である。
【図４】反射光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図５】反射光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図６】透過光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図７】透過光で肉眼で画像形成体Ａ１に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図８】画像形成体Ａ２とその一部拡大図を示す図である。
【図９】反射光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図１０】反射光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図１１】透過光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図１２】透過光で肉眼で画像形成体Ａ２に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図１３】画像形成体Ａ３とその一部拡大図を示す図である。
【図１４】画像形成体Ａ４とその一部拡大図を示す図である。
【図１５】反射光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図１６】反射光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図１７】透過光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図１８】透過光で肉眼で画像形成体Ａ４に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図１９】画像形成体Ａ５とその一部拡大図を示す図である。
【図２０】反射光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図２１】反射光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図２２】透過光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して垂直方向から観察した場合を示す図である。
【図２３】透過光で肉眼で画像形成体Ａ５に対して特定方向及び特定角度から観察した場合を示す図である。
【図２４】画像形成体Ａ６とその一部拡大図を示す図である。
【図２５】画像形成体Ａ７及び画像形成体Ａ８を示す図である。
【図２６】画像形成体Ａ９を示す図である。
【図２７】エンボス画像を形成する凹凸形状と穿孔の位置関係の一例を示す図である。
【図２８】穿孔９の一例を示す図である。
【図２９】穿孔９の一例を示す図である。
【図３０】穿孔群１０の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００９６】
１          基材
１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅ、１ｆ          表面のベースの高さ
２、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ          凹部
３、３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ          凸部
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４ｆ、４ｇ、４ｉ        エンボス画像
５          所定領域
７          背景領域
８          潜像領域
９、９ａ、９ｂ          穿孔
１０          穿孔群
１１ａ          第１の傾斜領域
１１ｂ          第２の傾斜領域
１２          レリーフ画像を形成するための接続線
Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ａ９          画像形成体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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