(57)【要約】【課題】  キャビネットの容積に対する加熱室の容積の比の値が一段加熱調理用の加熱調理器と同等である二段加熱調理が可能な加熱調理器を提供する。【解決手段】  加熱室２０の送風ファン２８側の側壁９４に上部蒸気吹出部９６を配置して、短い蒸気供給通路２３Ｂで蒸気を供給する。受皿９７は、一側が側壁９４の極近傍に位置し、他側は通路１０１を形成する。また、加熱室２０の側壁９３に下部蒸気吹出部９５を配置して、長い蒸気供給通路２３Ａで蒸気を供給する。受皿２１は、両側が側壁９３,９４の極近傍に位置する。こうして、両蒸気吹出部９５,９６から吹き出された蒸気は受皿９７,２１とラック９８,２４との間を流れ、加熱室２０の側壁で折り返した蒸気はラック９８,２４の上を流れる。こうして、一段加熱調理用の基本構成におけるキャビネットの容積に対する加熱室２０の容積の比の値を変えることなく、二段加熱調理用の加熱調理器を構成する。【選択図】図５
2007017076.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、
上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と、
上記加熱室における互いに対向する２つの側壁に設けられて、上記蒸気昇温装置から供給される蒸気を加熱室内に向かって吹き出す蒸気吹出口を有する蒸気吹出部と、
上記蒸気昇温装置から上記蒸気吹出部に蒸気を供給するための蒸気供給通路と
を備え、
上記加熱室における上記２つの側壁のうちの一方に設けられる上記蒸気吹出部は、上下方向における上段に配置される一方、上記２つの側壁のうちの他方に設けられる上記蒸気吹出部は、上下方向における下段に配置されており、
上記上段に設けられた上部蒸気吹出部に蒸気を供給する上記蒸気供給通路の長さは、上記下段に設けられた下部蒸気吹出部に蒸気を供給する上記蒸気供給通路の長さよりも短くなっており、
上記加熱室内を上記上部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される上部加熱室と上記下部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される下部加熱室とに仕切る仕切部材を備える
ことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記加熱室と上記蒸気昇温装置との間で蒸気を循環させるための循環ファンを備え、
上記加熱室における上記上部蒸気吹出部が設けられる側壁は、上記循環ファンの吸込口が設けられている側壁である
ことを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項２に記載の加熱調理器において、
上記仕切部材は、上記加熱室における上記上部蒸気吹出部が設けられた第１側壁に対向する第１の縁と、上記加熱室における上記第１側壁に対向した第２側壁に対向する第２の縁とを有し、上記第１の縁は上記第１側壁の極近傍に位置する一方、上記第２の縁は上記第２側壁と所定の間隔を有して上記第２側壁との間に蒸気の通路を形成していることを特徴とする加熱調理器。
【請求項４】
請求項３に記載の加熱調理器において、
上記上部蒸気吹出部および上記下部蒸気吹出部、あるいは、上記両蒸気吹出部の上記蒸気吹出口に、上記蒸気吹出口からの蒸気の吹出量を制御するシャッタを備えたことを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、蒸気を用いて食品の加熱調理を行う加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、熱風循環方式を利用して二段加熱調理を行う加熱調理器として、特許文献１(特開平１‐２６０２１９号公報)に開示されているようなものがある。この加熱調理器においては、加熱室の上部に上ヒータおよび熱風循環ファンを設ける一方、上記加熱室の底部には平面ヒータユニットを設けている。また、上記加熱室の側壁には二段のレールが設けられており、上段のレールでスノコアミを支持する一方、下段のレールで鉄板皿を支持している。
【０００３】
上記構成において、二段加熱調理のオーブンモードでは、上記上ヒータで発生した熱風が、上記熱風循環ファンによって、上記加熱室の上壁に設けられた排気口から加熱室内に吹き出され、上記加熱室の側壁に沿って流れ、上段のスノコアミを通過して上段に置かれたケーキの底面と下段に置かれたケーキの上面とを加熱する。これに対して、平面ヒータユニットで発生した熱の上昇によって下段の鉄板皿が加熱され、上記鉄板皿によって下段に置かれたケーキの底面を加熱するようになっている。
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に開示された従来の二段加熱調理を行う加熱調理器においては、二段に設置されたスノコアミと鉄板皿とに載置されたケーキに均一に熱風を当てるために、上記加熱室の周囲に熱風循環ファンと上下に複数のヒータとを設ける必要があり、キャビネットの容積に対する上記加熱室の容積の比が、一段加熱調理用の通常の加熱調理器の場合に比して小さくなってしまうという問題がある。また、上記加熱室の容積を同じにした場合、一段加熱調理用の通常の加熱調理器の場合に比して製品コストが高くなるという問題もある。
【特許文献１】特開平１‐２６０２１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、この発明の課題は、二段加熱調理が可能であって、キャビネットの容積に対する加熱室の容積の比の値が一段加熱調理用の加熱調理器と同等である加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生する蒸気発生装置と、
上記蒸気発生装置からの蒸気を昇温する蒸気昇温装置と、
上記蒸気昇温装置から供給される蒸気によって被加熱物を加熱するための加熱室と、
上記加熱室における互いに対向する２つの側壁に設けられて、上記蒸気昇温装置から供給される蒸気を加熱室内に向かって吹き出す蒸気吹出口を有する蒸気吹出部と、
上記蒸気昇温装置から上記蒸気吹出部に蒸気を供給するための蒸気供給通路と
を備え、
上記加熱室における上記２つの側壁のうちの一方に設けられる上記蒸気吹出部は、上下方向における上段に配置される一方、上記２つの側壁のうちの他方に設けられる上記蒸気吹出部は、上下方向における下段に配置されており、
上記上段に設けられた上部蒸気吹出部に蒸気を供給する上記蒸気供給通路の長さは、上記下段に設けられた下部蒸気吹出部に蒸気を供給する上記蒸気供給通路の長さよりも短くなっており、
上記加熱室内を上記上部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される上部加熱室と上記下部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される下部加熱室とに仕切る仕切部材を備える
ことを特徴としている。
【０００７】
上記構成によれば、加熱室における互いに対向する２つの側壁の一方に設けられた上部蒸気吹出部から上部加熱室に吹き出された蒸気は、上記上部加熱室内をスムーズに循環することができる。さらに、上記加熱室における互いに対向する２つの側壁の他方に設けられた下部蒸気吹出部から下部加熱室に吹き出された蒸気は、上記下部加熱室内をスムーズに循環することができる。したがって、上記上部加熱室内および上記下部加熱室内において、常に蒸気を循環させて、被加熱物に対して熱い蒸気を供給することができる。すなわち、上記加熱室内で蒸気を循環させるための循環ファンや新たな熱源を設けることなく、上記上部加熱室内と上記下部加熱室内とを効率よく均一に加熱することができる。
【０００８】
したがって、上記蒸気吹出部が一段に設けられてなる一段加熱調理用の加熱調理器におけるキャビネットの容積に対する上記加熱室の容積の比の値を変えることなく、二段加熱調理用の加熱調理器を構成することができる。さらに、上述のように循環ファンや新たな熱源を設ける必要がないため、二段加熱調理化に伴う製品コストの向上を上記蒸気吹出部および上記蒸気供給通路の追加よる必要最小限に止めることができる。
【０００９】
また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記加熱室と上記蒸気昇温装置との間で蒸気を循環させるための循環ファンを備え、
上記加熱室における上記上部蒸気吹出部が設けられる側壁は、上記循環ファンの吸込口が設けられている側壁である。
【００１０】
この実施の形態によれば、上記加熱室における循環ファンの吸込口が設けられている側壁には上記上部蒸気吹出部が設けられており、この上部蒸気吹出部には、上記下部蒸気吹出部に蒸気を供給する上記蒸気供給通路よりも短い上記蒸気供給通路によって勢いよく蒸気が供給される。したがって、上記上部蒸気吹出部から勢いよく吹き出された蒸気は、上記吸込口からの吸引力に抗して、上記仕切り板に沿って反対側の側壁まで流れることができる。
【００１１】
また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記仕切部材は、上記加熱室における上記上部蒸気吹出部が設けられた第１側壁に対向する第１の縁と、上記加熱室における上記第１側壁に対向した第２側壁に対向する第２の縁とを有し、上記第１の縁は上記第１側壁の極近傍に位置する一方、上記第２の縁は上記第２側壁と所定の間隔を有して上記第２側壁との間に蒸気の通路を形成している。
【００１２】
この実施の形態によれば、上記仕切部材の第１の縁は、上記加熱室における上記上部蒸気吹出部が設けられた第１側壁に対向し、且つ、上記第１側壁の極近傍に位置している。したがって、上記下部蒸気吹出部から下部加熱室に吹き出された蒸気が、上記仕切部材の第１の縁と上記加熱室の第１側壁との間を通って上記吸込口から吸い込まれることを防止できる。その結果、上記上部蒸気吹出部から上部加熱室に吹き出された蒸気が、上記下部蒸気吹出部からの蒸気流の影響を受けて上記吸込口から吸い込まれることも防止できる。
【００１３】
さらに、上記仕切部材の第２の縁は、上記加熱室における上記下部蒸気吹出部が設けられた第２側壁に対向し、且つ、上記第２側壁と所定の間隔を有して蒸気の通路を形成している。したがって、上記下部蒸気吹出部から下部加熱室に吹き出されて上記下部加熱室内を循環した蒸気は、上記通路から上部加熱室内に入って上記上部蒸気吹出部から上部加熱室に吹き出された蒸気と合流し、上記第１側壁の吸込口に向かって流れる。
【００１４】
以上の結果、上記上部蒸気吹出部から上部加熱室に吹き出された蒸気と、上記下部蒸気吹出部から下部加熱室に吹き出された蒸気とは、共に上記上部加熱室内および上記下部加熱室内をスムーズに循環して上記吸込口から排出される。したがって、上記加熱室内で蒸気を循環させるための循環ファンを新たに設けることなく、安定した蒸気の流れを形成することができる。
【００１５】
また、１実施の形態の加熱調理器では、
上記上部蒸気吹出部および上記下部蒸気吹出部、あるいは、上記両蒸気吹出部の上記蒸気吹出口に、上記蒸気吹出口からの蒸気の吹出量を制御するシャッタを備えている。
【００１６】
この実施の形態によれば、上記上部蒸気吹出部から吹き出される蒸気の吹出量と上記下部蒸気吹出部から吹き出される蒸気の吹出量との兼ね合いによっては、上記下部蒸気吹出部から下部加熱室に吹き出されて上記下部加熱室内を循環した蒸気が上記上部蒸気吹出部から上部加熱室に吹き出された蒸気と合流する際に、乱流が発生する。その場合には、上記上部蒸気吹出部および上記下部蒸気吹出部と上記両蒸気吹出部の上記蒸気吹出口との何れかに設けられたシャッタを制御して、上記上部蒸気吹出部からの吹出量と上記下部蒸気吹出部からの吹出量を調整することによって、上記乱流の発生を抑制し、安定した蒸気の流れを形成して上記上部加熱室および上記下部加熱室での被加熱物の加熱を均一に行うことができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器は、加熱室における互いに対向する２つの側壁の一方には上部蒸気吹出部を設ける一方、他方には下部蒸気吹出部を設け、上記上部蒸気吹出部には短い蒸気供給通路で蒸気を供給する一方、上記下部蒸気吹出部には長い蒸気供給通路で蒸気を供給し、仕切部材によって、上記加熱室内を上記上部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される上部加熱室と上記下部蒸気吹出部から蒸気が吹き出される下部加熱室とに仕切ったので、上記上部,下部蒸気吹出部から上部,下部加熱室に吹き出された蒸気を、上記上部,下部加熱室内でスムーズに循環させることができ、常に上記上部,下部加熱室内の被加熱物に熱い蒸気を供給することができる。したがって、上記加熱室内で蒸気を循環させるための循環ファンや新たな熱源を設けることなく、上記上部加熱室内と上記下部加熱室内とを効率よく均一に加熱することができる。
【００１８】
したがって、上記蒸気吹出部が一段に設けられてなる一段加熱調理用の加熱調理器におけるキャビネットの容積に対する上記加熱室の容積の比の値を変えることなく、二段加熱調理用の加熱調理器を構成することができる。さらに、上述のように循環ファンや新たな熱源を設ける必要がないため、二段加熱調理化に伴う製品コストの向上を上記蒸気吹出部および上記蒸気供給通路の追加よる必要最小限に止めることができるのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２０】
図１は、本実施の形態の加熱調理器における外観斜視図である。本加熱調理器１は、直方体形状のキャビネット１０の正面の上部に操作パネル１１を設け、キャビネット１０の正面における操作パネル１１の下側には、下端側の辺を中心に回動する扉１２を設けて概略構成されている。そして、扉１２の上部にはハンドル１３が設けられ、扉１２には耐熱ガラス製の窓１４が嵌め込まれている。
【００２１】
図２は、上記加熱調理器１の扉１２を開いた状態の外観斜視図である。キャビネット１０内に、直方体形状の加熱室２０が設けられている。加熱室２０は、扉１２に面する正面側に開口部２０aを有し、加熱室２０の側面,底面および天面がステンレス鋼板で形成されている。また、扉１２は、加熱室２０に面する側がステンレス鋼板で形成されている。加熱室２０の周囲および扉１２の内側に断熱材(図示せず)が載置されており、加熱室２０内と外部とが断熱されている。
【００２２】
また、上記加熱室２０の底面には、ステンレス製の受皿２１が設置され、受皿２１上には、被加熱物を載置するためのステンレス鋼線製のラック２４(図３参照)が設置される。さらに、加熱室２０の両側面下部には、略水平に延在する略長方形の側面蒸気吹出口２２(図２では一方のみが見えている)が設けられている。
【００２３】
図３は、上記加熱調理器１の基本構成を示す概略構成図である。図３に示すように、本加熱調理器１は、加熱室２０と、蒸気用の水を貯める水タンク３０と、水タンク３０から供給された水を蒸発させて蒸気を発生させる蒸気発生装置４０と、蒸気発生装置４０からの蒸気を加熱する蒸気昇温装置５０と、蒸気発生装置４０や蒸気昇温装置５０等の動作を制御する制御装置８０とを備えている。
【００２４】
上記加熱室２０内に設置された受皿２１上には格子状のラック２４が載置され、そのラック２４の略中央に被加熱物９０が置かれる。
【００２５】
また、上記水タンク３０の下側に設けられた接続部３０aは、第１給水パイプ３１の一端に設けられた漏斗形状の受入口３１aに接続可能になっている。そして、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる第２給水パイプ３２の端部にはポンプ３５の吸込側が接続され、そのポンプ３５の吐出側には第３給水パイプ３３の一端が接続されている。さらに、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる水位センサ用パイプ３８の上端には、水タンク用水位センサ３６が配設されている。さらに、第１給水パイプ３１から分岐して上方に延びる大気開放用パイプ３７の上端には、後述する排気ダクト６５に接続されている。
【００２６】
そして、上記第３給水パイプ３３は、垂直に配置された部分から略水平に屈曲するＬ字形状をしており、第３給水パイプ３３の他端には補助タンク３９が接続されている。さらに、補助タンク３９の下端には第４給水パイプ３４の一端が接続され、その第４給水パイプ３４の他端には蒸気発生装置４０の下端が接続されている。また、蒸気発生装置４０における第４給水パイプ３４の接続点よりも下側には、排水バルブ７０の一端が接続されている。そして、排水バルブ７０の他端には排水パイプ７１の一端が接続され、排水パイプ７１の他端には排水タンク７２が接続されている。尚、補助タンク３９の上部は、大気開放用パイプ３７と排気ダクト６５を介して大気に連通されている。
【００２７】
上記水タンク３０が第１給水パイプ３１の受入口３１aに接続されると、水タンク３０内の水は、水タンク３０と同水位になるまで大気開放用パイプ３７内に上昇する。その際に、水タンク用水位センサ３６につながる水位センサ用パイプ３８は先端が密閉されているため水位は上がらないが、水タンク３０の水位に応じて水位センサ用パイプ３８の密閉された空間の圧力は大気圧から上昇する。この圧力変化を、水タンク用水位センサ３６内の圧力検出素子(図示せず)で検出することによって、水タンク３０内の水位が検出されるようになっている。ポンプ３５が静止中である際の水位測定では、大気開放用パイプ３７は不要であるが、ポンプ３５の吸引圧力が直接上記圧力検出素子に働いて水タンク３０の水位検出の精度が低下するのを防止するために、開放端を有する大気開放用パイプ３７を設けている。
【００２８】
また、上記蒸気発生装置４０は、下側に第４給水パイプ３４の他端が接続されたポット４１と、ポット４１内の底面近傍に配置された蒸気発生ヒータ４２と、ポット４１内の蒸気発生ヒータ４２の上側近傍に配置された水位センサ４３と、ポット４１の上側に取り付けられた蒸気吸引エジェクタ４４とを有している。また、加熱室２０の側面上部に設けられた吸込口２５の外側には、ファンケーシング２６を配置している。そして、ファンケーシング２６に設置された送風ファン２８によって、加熱室２０内の蒸気は、吸込口２５から吸い込まれて、第１パイプ６１および第２パイプ６２を介して蒸気発生装置４０の蒸気吸引エジェクタ４４の入口側に送り込まれる。第１パイプ６１は、一端がファンケーシング２６に接続されている。また、第２パイプ６２は、一端が第１パイプ６１の他端に接続される一方、他端が蒸気吸引エジェクタ４４のインナーノズル４５の入口側に接続されている。
【００２９】
上記蒸気吸引エジェクタ４４は、インナーノズル４５の外側を包み込むアウターノズル４６を備えており、インナーノズル４５の吐出側がポット４１の内部空間と連通するようになっている。そして、蒸気吸引エジェクタ４４のアウターノズル４６の吐出側には第３パイプ６３の一端が接続され、その第３パイプ６３の他端には蒸気昇温装置５０が接続されている。
【００３０】
上記ファンケーシング２６,第１パイプ６１,第２パイプ６２,蒸気吸引エジェクタ４４,第３パイプ６３および蒸気昇温装置５０で外部循環路６０を形成している。また、加熱室２０の側面の下側に設けられた放出口２７には放出通路６４の一端が接続され、放出通路６４の他端には排気ダクト６５の一端が接続されている。さらに、排気ダクト６５の他端には排気口６６が設けられている。蒸気放出通路６４の排気ダクト６５側には、ラジエータ６９が外嵌して取り付けられいる。そして、外部循環路６０を形成する第１パイプ６１,第２パイプ６２との接続部には、排気通路６７を介して排気ダクト６５が接続されている。さらに、排気通路６７における第１,第２パイプ６１,６２の接続側には、排気通路６７を開閉するダンパ６８が配置されている。
【００３１】
また、上記蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の天井側であって且つ略中央に、開口を下側にして配置された皿型ケース５１と、この皿型ケース５１内に配置された第１蒸気加熱ヒータ５２と、皿型ケース５１内に配置された第２蒸気加熱ヒータ５３とを有している。皿型ケース５１の底面は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で形成されている。天井パネル５４には、複数の天井蒸気吹出口５５が形成されている。ここで、天井パネル５４は、上下両面が塗装等によって暗色に仕上げられている。尚、使用を重ねることにより暗色に変色する金属素材や暗色のセラミック成型品によって、天井パネル５４を形成してもよい。
【００３２】
さらに、上記蒸気昇温装置５０は、加熱室２０の上部に、左右両側に向かって延在する上記過熱蒸気供給路としての蒸気供給通路２３(図３においては一方のみが見えている)の一端が夫々接続されている。そして、蒸気供給通路２３は加熱室２０の両側面に沿って下方向かって延在しており、その他端には、上記加熱室２０の両側面下側に設けられた側面蒸気吹出口２２に接続されている。
【００３３】
次に、本加熱調理器１の制御系について説明する。
【００３４】
制御装置８０は、マイクロコンピュータおよび入出力回路等から構成され、図４に示すように、送風ファン２８と、第１蒸気加熱ヒータ５２と、第２蒸気加熱ヒータ５３と、ダンパ６８と、排水バルブ７０と、蒸気発生ヒータ４２と、操作パネル１１と、水タンク用水位センサ３６と、水位センサ４３と、加熱室２０(図３に示す)内の温度を検出する温度センサ８１と、加熱室２０内の湿度を検出する湿度センサ８２と、ポンプ３５とが、接続されている。そして、水タンク用水位センサ３６,水位センサ４３,温度センサ８１および湿度センサ８２からの検出信号に基づいて、送風ファン２８,第１蒸気加熱ヒータ５２,第２蒸気加熱ヒータ５３,ダンパ６８,排水バルブ７０,蒸気発生ヒータ４２,操作パネル１１およびポンプ３５を所定のプログラムに従って制御する。
【００３５】
以下、上記構成を有する加熱調理器１によって一段加熱調理を行う基本動作について、図３および図４に従って説明する。操作パネル１１の電源スイッチ(図示せず)が押圧されると電源がオンし、操作パネル１１の操作によって加熱調理の運転が開始される。そうすると、先ず、制御装置８０は、排水バルブ７０を閉鎖し、ダンパ６８によって排気通路６７を閉じた状態でポンプ３５の運転を開始する。そして、ポンプ３５によって、水タンク３０から蒸気発生装置４０のポット４１内に第１〜第４給水パイプ３１〜３４を介して給水される。その後、ポット４１内の水位が所定水位に達したことを水位センサ４３が検出すると、ポンプ３５を停止して給水を止める。
【００３６】
次に、上記蒸気発生ヒータ４２に通電し、ポット４１内に溜まった所定量の水を蒸気発生ヒータ４２によって加熱する。
【００３７】
そして、上記蒸気発生ヒータ４２の通電と同時に、または、ポット４１内の水の温度が所定温度に達すると、送風ファン２８をオンすると共に、蒸気昇温装置５０の第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３に通電する。そうすると、送風ファン２８は、加熱室２０内の空気(蒸気を含む)を吸込口２５から吸い込み、外部循環路６０に空気(蒸気を含む)を送り出す。その際に、送風ファン２８に遠心ファンを用いているので、プロペラファンを用いる場合に比べて高圧を発生させることができる。さらに、送風ファン２８に用いる遠心ファンを直流モータで高速回転させることによって、循環気流の流速を極めて速くすることができる。
【００３８】
次に、上記蒸気発生装置４０のポット４１内の水が沸騰すると飽和蒸気が発生し、発生した飽和蒸気は、蒸気吸引エジェクタ４４の箇所で外部循環路６０を通る循環気流に合流する。そして、蒸気吸引エジェクタ４４から出た蒸気は、第３パイプ６３を介して高速で蒸気昇温装置５０に流入する。
【００３９】
そして、上記蒸気昇温装置５０に流入した蒸気は、第１,第２蒸気加熱ヒータ５２,５３によって加熱されて、略３００℃(調理内容により異なる)の過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の天井パネル５４に設けられた複数の天井蒸気吹出口５５から加熱室２０内の下方に向かって噴出される。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気昇温装置５０の左右両側に設けられた蒸気供給通路２３を介して、加熱室２０の両側面の側面蒸気吹出口２２から噴出される。
【００４０】
こうして、上記加熱室２０の天井側から噴出した過熱蒸気が中央の被加熱物９０側に向かって勢いよく供給されると共に、加熱室２０の左右の側面側から噴出した過熱蒸気は、受皿２１に衝突した後、被加熱物９０の下方から被加熱物９０を包むように上昇しながら供給される。その結果、加熱室２０内において、中央部では吹き下ろし、その外側では上昇するという形の対流が生じる。そして、対流する蒸気は、順次吸込口２５に吸い込まれて、外部循環路６０を通って再び加熱室２０内に戻るという循環を繰り返す。
【００４１】
このようにして、上記加熱室２０内で過熱蒸気の対流を形成することにより、加熱室２０内の温度・湿度分布を均一に維持しつつ、蒸気昇温装置５０からの過熱蒸気を天井蒸気吹出口５５と側面吹出口２２とから噴出して、ラック２４上に載置された被加熱物９０に効率よく衝突させることが可能になり、過熱蒸気の衝突によって被加熱物９０が加熱される。その場合、被加熱物９０の表面に接触した過熱蒸気は、被加熱物９０の表面で結露する際に潜熱を放出することによっても被加熱物９０を加熱する。これにより、過熱蒸気の大量の熱を確実に且つ速やかに被加熱物９０全面に均等に与えることができる。したがって、斑がなくて仕上がりのよい加熱調理を実現することができるのである。
【００４２】
また、上記加熱調理運転時において、時間が経過すると、加熱室２０内の蒸気量が増加し、量的に余剰となった分の蒸気は、放出口２７から放出通路６４および排気ダクト６５を介して排気口６６から外部に放出される。その際に、放出通路６４に設けたラジエータ６９によって放出通路６４を通過する蒸気を冷却して結露させることにより、外部に蒸気がそのまま放出されるのを防止している。尚、ラジエータ６９によって放出通路６４内で結露した水は、放出通路６４内を流れ落ちて受皿２１に導かれ、調理によって発生した水と共に調理終了後に処理される。
【００４３】
調理終了後、上記制御装置８０によって操作パネル１１に調理終了のメッセージが表示され、さらに操作パネル１１に設けられたブザー(図示せず)によって合図の音を鳴らす。これらのメッセージやブザーによって調理終了を知った使用者が扉１２を開けると、制御装置８０は、センサ(図示せず)によって扉１２が開いたことを検知して、排気通路６７のダンパ６８を瞬時に開く。そうすると、外部循環路６０の第１パイプ６１が排気通路６７を介して排気ダクト６５に連通し、加熱室２０内の蒸気は、送風ファン２８によって、吸込口２５,第１パイプ６１,排気通路６７および排気ダクト６５を介して排気口６６から排出される。このダンパ動作は、調理中に使用者が扉１２を開いても同様に機能する。したがって、使用者は、蒸気にさらされることなく、安全に被加熱物９０を加熱室２０内から取り出すことができるのである。
【００４４】
以下、図３および図４に示す基本構成を有すると共に、上述した基本動作に従って、二段加熱調理を行う場合の構成について、特に加熱室２０および蒸気供給通路２３に関して詳細に説明する。
【００４５】
図５は、上記蒸気昇温装置５０および加熱室２０の正面図である。上記蒸気昇温装置５０は、概略四角形の凹部５１aを有する皿形ケース５１内に、大電力(１０００Ｗ)の大管径のシーズヒータである第１蒸気加熱ヒータ５２および第２蒸気加熱ヒータ５３(図３参照)を配置して構成されている。さらに、図５では示していないが、皿形ケース５１の凹部５１aの開口は、加熱室２０の天井面に設けられた金属製の天井パネル５４で覆われている。
【００４６】
上記皿形ケース５１の互いに対向している側壁９１,９２の夫々には、蒸気吹出口が設けられており、図３に示す蒸気供給通路２３が接続されている。また、皿形ケース５１における側壁９１と側壁９２との間に位置する１つの側壁には、３本の蒸気供給管(図示せず)が接続されている。尚、この蒸気供給管が接続された側壁側が本加熱調理器１の背面側であり、上記蒸気供給管は、図３に示すように、本加熱調理器１における加熱室２０の背面側に設けられた蒸気吸引エジェクタ４４に、３本の第３パイプ６３を介して接続されている。
【００４７】
上記加熱室２０の側壁９３における下側の位置には、蒸気供給通路２３からの蒸気を受けて水平方向に流れの方向を変えて加熱室２０内に吹き出す下部蒸気吹出部９５が設けられている。そして、加熱室２０の側壁９３における下部蒸気吹出部９５の位置には、側面蒸気吹出口２２が設けられている。同様に、加熱室２０における側壁９３に対向する側壁９４における上下方向中間よりやや上方の位置には、上部蒸気吹出部９６が設けられている。そして、加熱室２０の側壁９４における上部蒸気吹出部９６の位置には、側面蒸気吹出口２２が設けられているのである。
【００４８】
また、上記皿形ケース５１の側壁９１に設けられた蒸気吹出口に接続された蒸気供給通路２３Ａは、加熱室２０の天井パネル５４に沿って水平に延在した後に側壁９３に沿って垂直に延在している。そして、蒸気供給通路２３Ａは下部蒸気吹出部９５に接続されている。同様に、皿形ケース５１の側壁９２に設けられた蒸気吹出口に接続された蒸気供給通路２３Ｂは、加熱室２０の天井パネル５４に沿って水平に延在した後に側壁９４に沿って垂直に延在している。そして、蒸気供給通路２３Ｂは上部蒸気吹出部９６に接続されている。
【００４９】
すなわち、図３に示す一段加熱調理用の基本構成では加熱室２０の両側面下部に略水平に延在して略長方形に形成されていた側面蒸気吹出口２２が、二段加熱調理用の構成では加熱室２０の側壁９３側では下段に、側壁９４側では上段に形成され、合わせて上下二段に形成されているのである。
【００５０】
上記加熱室２０内における上部蒸気吹出部９６よりもやや下方に、上記仕切部材としてのステンレス製の受皿９７がレール等(図示せず)を介して設置されており、加熱室２０内を上段の上部加熱室９９と下段の下部加熱室１００とに分離している。そして、受皿９７上には、ステンレス鋼線製のラック９８が設置される。尚、ラック９８には金網が張られて被加熱物が載置可能になっている。同様に、加熱室２０内における下部蒸気吹出部９５よりもやや下方に、上述したように、ステンレス製の受皿２１が設置され、受皿２１上には被加熱物を載置するための金網が張られたラック２４が設置されている。
【００５１】
そして、上記受皿９７は、加熱室２０の側壁９４側の縁が側壁９４の極近傍に位置する一方、側壁９３側の縁が側壁９３から所定距離だけ離れて位置するように形成され、配置されている。また、受皿２１は、両側の縁が加熱室２０の側壁９３,９４の極近傍に位置するように形成され、配置されている。
【００５２】
ここで、上記加熱室２０における上部蒸気吹出部９６が設けられる側壁９４は、加熱室２０内の空気(蒸気を含む)を吸い込んで外部循環路６０に送り出す上記循環ファンとしての送風ファン２８の吸込口２５が設けられた側壁である。このように、吸込口２５が設けられている側壁９４に上部蒸気吹出部９６を設けるのは、次の理由による。
【００５３】
すなわち、上記加熱室２０における送風ファン２８の吸込口２５が設けられている側壁９４近傍の空気(蒸気を含む)は、送風ファン２８の回転によって、絶えず吸込口２５から吸い込まれようとしている。一方において、下側に位置している下部蒸気吹出部９５に蒸気を供給する蒸気供給通路２３Ａにおける蒸気昇温装置５０からの長さは、上部蒸気吹出部９６に蒸気を供給する蒸気供給通路２３Ｂに比して長く、蒸気昇温装置５０からの距離が遠い分だけ蒸気の吹き出し力は弱くなっている。したがって、送風ファン２８の吸込口２５が設けられている側壁９４に下部蒸気吹出部９５を設けた場合には、対応する側面蒸気吹出口２２から吹き出される蒸気の吹き出し力が弱いため、側面蒸気吹出口２２から吹き出された蒸気は吸込口２５から吸い込まれ易く、加熱室２０における反対側の壁面まで到達する蒸気が少なくなってしまうのである。
【００５４】
そこで、本実施の形態においては、上記加熱室２０の側壁９４には、上部蒸気吹出部９６を配置して、蒸気昇温装置５０からの長さが短い蒸気供給通路２３Ｂによって蒸気を供給するようにしている。この場合、蒸気供給通路２３Ｂから供給される蒸気は、蒸気昇温装置５０に近い分だけ吹き出し力が強い。しかも、上述したように、受皿９７における側壁９４側の縁は側壁９４の極近傍に位置している。したがって、上部蒸気吹出部９６に対応する側面蒸気吹出口２２から勢いよく吹き出された蒸気は、吸込口２５からの吸引力に抗して、矢印(Ａ)で示すように、受皿９７に沿って側壁９４に対向している側壁９３に向かって流れることができるのである。
【００５５】
これに対して、上記加熱室２０の側壁９３には、下部蒸気吹出部９５を配置して、蒸気昇温装置５０からの長さが長い蒸気供給通路２３Ａによって蒸気を供給するようにしている。この場合、上述したように、受皿２１の両側の縁は加熱室２０の側壁９３,９４の極近傍に位置している。したがって、下部蒸気吹出部９５に対応する側面蒸気吹出口２２から吹き出された蒸気は、矢印(Ｂ)で示すように、受皿２１に沿って側壁９３に対向している側壁９４に向かって流れる。そして、側壁９４に至った蒸気は、矢印(Ｃ)で示すように側壁９４で折り返す。その場合、受皿９７における側壁９４側の縁は側壁９４の極近傍に位置しているため、側壁９４で折り返した下部加熱室１００内の蒸気は上部加熱室９９内に行くことができず、矢印(Ｄ)で示すように、下部加熱室１００内を受皿９７の底面に沿って側壁９３に向かって戻る。そのために、上述したごとく、上部蒸気吹出部９６から吹き出された蒸気は、下部加熱室１００からの蒸気流の影響を受けて直ちに吸込口２５から吸い込まれることが防止される。
【００５６】
こうして、上記側壁９３に至った蒸気は、受皿９７における側壁９３側の縁が側壁９３とは間隔を有して蒸気の通路１０１を形成しているため、矢印(Ｅ)で示すように、通路１０１を通って上部加熱室９９内に流れ込み、矢印(Ａ)で示すように、受皿９７に沿って流れてきた上部蒸気吹出部９６からの蒸気と合流する。以後、下部蒸気吹出部９５から吹き出されて下部加熱室１００内を循環してきた蒸気と、上部蒸気吹出部９６から吹き出されて上部加熱室９９内を循環してきた蒸気とは、一緒になって矢印(Ｇ)で示すように吸込口２５に向かって流れ、吸込口２５から吸い込まれて外部循環路６０に送り出される。
【００５７】
以上のごとく、上記上部加熱室９９および下部加熱室１００の何れにおいても、上部蒸気吹出部９６および下部蒸気吹出部９５から吹き出された蒸気は、先ず、受皿９７および受皿２１に沿って、受皿９７とラック９８との間および受皿２１とラック２４との間を流れる。そして、次に、加熱室２０の側壁で折り返した蒸気は、ラック９８およびラック２４の上を流れることになる。したがって、ラック９８,２４上に載置された被加熱物は、常に安定してラック９８,２４の上下を２層に流れる蒸気によって包まれて、均一に加熱されるのである。
【００５８】
したがって、本実施の形態によれば、図３に示すような一段加熱調理を行う基本構成に対して、上記加熱室２０内で蒸気を循環させる熱風循環ファンや新たな熱源を追加して設けることなく、上部加熱室９９内と下部加熱室１００内とを均等に加熱して、安定した二段加熱調理を行うことができるのである。すなわち、図３に示す基本構成におけるキャビネット１０の容積に対する加熱室２０の容積の比の値を変えることなく、二段加熱調理用の加熱調理器１を構成することができるのである。また、二段加熱調理化に伴う製品コストの向上を、上記蒸気吹出部および蒸気供給通路の追加よる必要最小限に止めることができるのである。
【００５９】
ところで、上述したように、上記下部蒸気吹出部９５から吹き出され、側壁９４で折り返して側壁９３に至った蒸気は、上部蒸気吹出部９６から吹き出された蒸気と、受皿９７と側壁９３との間の通路１０１で合流する。その場合、下部蒸気吹出部９５からの流れと上部蒸気吹出部９６からの流れとのバランスが悪いと、両方の流れがぶつかり合って乱流が発生する。その場合には、特に上部加熱室９９内での蒸気の戻りが層流とはならず、ラック９８上の被加熱物の加熱に不具合が生ずる。そこで、両蒸気吹出部９５,９６とそれに対応した両側面蒸気吹出口２２との何れかに、開口量を制御可能なシャッタ(図示せず)を設けるのである。そして、上記シャッタの開口量を制御することによって、下部蒸気吹出部９５の吹出量と上部蒸気吹出部９６の吹出量とを調整して、下部蒸気吹出部９５からの流れと上部蒸気吹出部９６からの流れとがぶつかり合わずに、スムーズに合流して循環するように調整することができるのである。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明の加熱調理器における外観斜視図である。
【図２】図１に示す加熱調理器の扉を開いた状態の外観斜視図である。
【図３】図１に示す加熱調理器の概略構成図である。
【図４】図１に示す加熱調理器の制御ブロック図である。
【図５】二段加熱調理が可能な蒸気昇温装置および加熱室の正面図である。
【符号の説明】
【００６１】
１…加熱調理器、
２０…加熱室、
２１,９７…受皿、
２２…側面蒸気吹出口
２３Ａ,２３Ｂ…蒸気供給通路、
２４,９８…ラック、
２８…送風ファン、
３０…水タンク、
４０…蒸気発生装置、
４４…蒸気吸引エジェクタ、
５０…蒸気昇温装置、
５１…皿形ケース、
５２…第１蒸気加熱ヒータ、
５３…第２蒸気加熱ヒータ、
５４…天井パネル、
５５…天井蒸気吹出口、
６０…外部循環路、
６５…排気ダクト、
８０…制御装置、
９１,９２…皿形ケースの側壁、
９３,９４…加熱室の側壁、
９５…下部蒸気吹出部、
９６…上部蒸気吹出部、
９９…上部加熱室、
１００…下部加熱室、
１０１…通路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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