(57)【要約】                                                                        【課題】  金属調の光沢を持ちながら、非接触通信機能を害しない表示体を非接触ＩＣのかざし部に有する電波ポスター利用情報配信システムを提供する。【解決手段】  本絶縁性金属光沢層付きリーダライタ１は、利用者の非接触ＩＣから利用者のＩＤ情報を読み取りする電波ポスター利用情報配信システムにおいて、当該システムの当該リーダライタ装着位置の表面に蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を有する表示体１１が貼着されていることを特徴とする。絶縁性金属光沢層１１１は、錫（Ｓｎ）や錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）等の錫合金からなる海・島構造にするのが好ましく、この蒸着による絶縁性金属光沢層表面に電離放射線または紫外線硬化型のハードコート層１１２を形成してもよく、基材１１０の背面に隠蔽層を形成してもよい。【選択図】  図１
2007241923.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
利用者の非接触ＩＣから当該利用者のＩＤ情報を読み取りする電波ポスター利用情報配信システムにおいて、当該電波ポスター利用情報配信システムのリーダライタ装着位置表面に蒸着による絶縁性金属光沢層を有する表示体が貼着されていることを特徴とする絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項２】
蒸着による絶縁性金属光沢層を有する表示体の最表面にハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項３】
表示体が基材に蒸着による絶縁性金属光沢層を設けたものであり、基材の絶縁性金属光沢層の反対側面に隠蔽層が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項４】
蒸着による絶縁性金属光沢層が、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、の単体金属またはその群から選ばれた二種以上の金属からなる合金、または錫−アルミニウム（Ｓｎ−Ａｌ）、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）の蒸着層であることを特徴とする請求項１記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項５】
蒸着による絶縁性金属光沢層が、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）の蒸着層であって、錫に対するアルミニウムの原子数比が１００対１〜５０の範囲であることを特徴とする請求項１または請求項４記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項６】
蒸着による絶縁性金属光沢層の表面抵抗率が、１０10〜１０25Ω／□の範囲であることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１の請求項記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【請求項７】
蒸着による絶縁性金属光沢層が海・島構造からなり、当該海・島構造の、島サイズが２０ｎｍ〜１μｍ、島間の間隔が１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１の請求項記載の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は絶縁性金属光沢層付きリーダライタに関する。詳しくは、電波ポスター利用情報配信システム（以下単に、「電波ポスターシステム」という場合もある。）のリーダライタ装着位置の表面部分に蒸着による絶縁性金属光沢層を有する表示体を貼着して、リーダライタの位置を表面側から明示できるようにした電波ポスターシステムに関する。
なお、蒸着による絶縁性金属光沢層とは、金属の蒸着層でありながら絶縁性であって光沢を有する層をいう。従って、本発明の技術分野は絶縁性金属光沢層付きリーダライタの製造や利用の分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、非接触で情報提供するシステムとして電波ポスターシステムが採用されている。電波ポスター利用情報配信システムは、非接触ＩＣと携帯電話機を活用したユビキタスコミュニケーションシステムである。電波ポスター利用情報配信システムという名が示すように、「ポスターに関する情報を利用者に配信する」ことを目的としたシステムで、具体的には、利用者が非接触ＩＣタグを電波ポスターシステムのリーダライタにかざすことにより、その電波ポスター利用情報配信システムが対応したコンテンツを利用者の携帯端末に配信することを特徴とするシステムである。
なお、電波ポスター自体も確立した技術用語ではなく、電子ポスターという場合もあり、その他の呼称で呼ばれる場合もあると考えられる。本願では、表面にポスターを有し、無線による非接触で非接触ＩＣ、携帯電話機または非接触ＩＣカードと交信可能なリーダライタを備える装置を概念するために、この用語を用いている。
【０００３】
電波ポスター利用情報配信システム１０は、図５のように、携帯電話機２と、非接触ＩＣ３と電波ポスター５と、情報配信サーバ４の４つの要素で構成されている。携帯電話機２は非接触ＩＣ（非接触ＩＣタグまたは非接触ＩＣカード）３を備えるものであるが、内蔵していてもよく、モバイル等の携帯端末であってもよい。電波ポスター５は、通常、ポスター１２を納めた薄い箱体や額縁状の外観を有するが、その背面に非接触ＩＣリーダライタであるリーダライタとパソコン（ＰＣ）を備えている。最近のリーダライタでは、非接触ＩＣリーダライタとＰＣが一体化されたものが使用されている。
【０００４】
電波ポスター５の表示体１１に対して、非接触ＩＣ３が接近した場合は、当該非接触ＩＣ３が保有するＩＤ情報を表示体１１背面のリーダライタが読み取りし、フォーマット等を確認した後、インターネットまたは無線通信で、当該ＩＤ情報を情報配信サーバ４に送信する。情報配信サーバ４から、その電波ポスター５に関連した情報が、メール形式で携帯電話機２に送信される仕組みになっている。
【０００５】
ところで、電波ポスターシステムから関連した情報の配信を受けるためには、非接触ＩＣ３を電波ポスター１０のリーダライタ部表面の表示体１１にかざす必要がある。
電波ポスター５のリーダライタ位置に対応する表面側部分には、図５のように円形のサークル等の表示をするか表示体（ラベル等）１１を貼着して利用者の目に付き易いようにしてあるのが通常である。この表示体１１は本来は金属箔を貼ったり金属を蒸着等して、光沢のある光反射性の媒体とすることが一層目立って効果的である。しかし、金属箔や通常の金属蒸着層、あるいはアルミ粉末を分散したインクのシルクスクリーン印刷等は電磁波を遮断し非接触ＩＣ３の読み取りを不可能にするので、当該部分にそのような表示をすることができない問題があった。
【０００６】
これは、非接触ＩＣ送受信用の電磁波による交流磁界より金属蒸着層等の金属層内に渦電流が発生し、この渦電流により送受信用の磁束に反発する磁束を生成し、それによって非接触ＩＣのアンテナ内を通過する磁束が減衰し、送受信が困難になるとためと考えられている。
【０００７】
金属蒸着層は、印刷では表現できない金属光沢感を持ち意匠性に優れることと、電波ポスターに使用した場合、リーダライタ部分を明示できるので、採用する要求が従来からあり、今後も強く残ると考えられる。そこで、金属蒸着層を使用しながらも、非接触ＩＣ３とリーダライタ間の通信阻害を生じない方策が求められる。
【０００８】
ところで、従来から特許文献１〜特許文献４のように、金属蒸着に海・島構造を利用した先行技術が存在している。海・島構造（島構造、島状、アイランド状ともいわれる）とは、蒸着金属を微小の孤立した島とする蒸着法であり、このものは蒸着面が絶縁性であることが知られている。しかし、これらの先行文献に、海・島構造の蒸着層をポスター等の表示物に利用することについて提案したものはない。
特許文献５は「ＲＦ−ＩＤ付きポスター」、特許文献６は「情報配信システム」に関するが絶縁性金属蒸着について記載することはない。
【０００９】
【特許文献１】特開昭６２−１７４１８９号公報
【特許文献２】特開昭６３−１５７８５８号公報
【特許文献３】特開昭６３−２４９６８８号公報
【特許文献４】特許２７０３３７０号公報
【特許文献５】特開２００２−１６２９１８号公報
【特許文献６】特開２００３−０２３６６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来技術では、非接触ＩＣとリーダライタの間に金属蒸着層や金属調印刷層を形成した場合には、通信特性が低下するので金属調の光沢感を持たせた表示等を非接触通信媒体に使用することはできなかった。電波ポスター利用情報配信システムの場合も同様であり、リーダライタ装着位置に金属調印刷等を有する表示体を貼着することができず、電波ポスターシステムが有効に利用されない場合があった。
そこで、本発明では、金属蒸着に海・島構造からなる絶縁性金属光沢層を採用することで、上記問題を解決できることを着想し、鋭意研究の結果、本発明の絶縁性金属光沢層付きリーダライタの完成に至ったものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決する本発明の要旨は、利用者の非接触ＩＣから当該利用者のＩＤ情報を読み取りする電波ポスター利用情報配信システムにおいて、当該電波ポスター利用情報配信システムのリーダライタ装着位置表面に蒸着による絶縁性金属光沢層を有する表示体が貼着されていることを特徴とする絶縁性金属光沢層付きリーダライタ、にある。
【００１２】
上記において、蒸着による絶縁性金属光沢層を有する表示体の最表面にハードコート層が形成されている、ようにでき、その場合には表面の保護や耐水性の向上を図ることができる。また、表示体が基材に蒸着による絶縁性金属光沢層を設けたものであり、基材の絶縁性金属光沢層の反対側面に隠蔽層が形成されている、ようにすれば意匠性を高くでき装置の内部の透視も防止できる。
【００１３】
また、上記において、蒸着による絶縁性金属光沢層が、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、の単体金属またはその群から選ばれた二種以上の金属からなる合金、または錫−アルミニウム（Ｓｎ−Ａｌ）、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）の蒸着層であることが、絶縁性蒸着層を容易に形成する材料として好ましい。またさらに、蒸着による絶縁性金属光沢層が、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）の蒸着層である場合には、錫に対するアルミニウムの原子数比が１００対１〜５０の範囲であることが、絶縁性蒸着層とし、かつ金属光沢を得る上で特に好ましい。
【００１４】
上記において、蒸着による絶縁性金属光沢層の表面抵抗率が、１０10〜１０25Ω／□の範囲であることが好ましい。表面抵抗率が、１０10Ω／□よりも小さい場合は通信阻害が生じ、１０25Ω／□を超える場合は、金属光沢が失われ意匠性を損ねるからである。
【００１５】
上記においてさらに、蒸着による絶縁性金属光沢層が海・島構造からなり、当該海・島構造の、島サイズが２０ｎｍ〜１μｍ、島間の間隔が１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。島サイズが１μｍより大きく、島間の間隔が１０ｎｍより小さいと通信阻害を生じ易く、逆に、島サイズが２０ｎｍより小さく、島間の間隔が５００ｎｍより大きい場合は、金属光沢が失われ意匠性を損ねるからである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の絶縁性金属光沢層付きリーダライタは、非接触ＩＣをかざす部分に絶縁性の金属蒸着層を使用した表示体が貼着されているので従来の金属蒸着や金属調印刷のように通信性能の阻害または低下を生じることがない。
本発明の絶縁性金属光沢層付きリーダライタは、表示体の金属蒸着層が光反射性を有し、外観的に利用者の目に付き易くリーダライタ位置を明示できると共に、電波ポスターの意匠性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の絶縁性金属光沢層付きリーダライタに関し、以下図面を参照して説明する。図１は、絶縁性金属光沢層付きリーダライタの断面図、図２は、電波ポスターの形態を示す図、図３は、絶縁性金属蒸着層の模式平面図、図４は、絶縁性金属蒸着層の模式断面図、図５は、電波ポスター利用情報配信システムの説明図、図６は、巻取り式の真空蒸着装置の一例を示す概念的構成図、である。
【００１８】
図２は、電波ポスターの形態を示す図である。電波ポスター５は、通常、図２（Ａ）のように、ポスター１２を納めた額縁状体（壁掛けタイプ）や、図２（Ｂ）のような箱体状外観（スタンドタイプ）の双方の使用方法に互換して用いられる形態になっている。
電波ポスター５の背面には、図示してないリーダライタが装着されている。リーダライタの搭載は１機に限らず、同一規格のものを２機、あるいは異なる規格のものを２機搭載することも可能である。後者の場合、例えば、Ｆｅｌｉｃａ（商標）リーダとＩＣタグリーダとを搭載することができる。
【００１９】
図２（Ｂ）の場合は、薄い箱体状外観の電波ポスターの形態であって、容易には転倒しないように金属製のスタンド１６が脚部に取り付けられている。ポスター１２の下側（スタンド１６側）には、非接触ＩＣ３をかざす部分があって、その背面にリーダライタが装着されている（図２（Ｃ））。表面側には非接触ＩＣを読み取りする部分の表示や表示体１１が貼着されている。表示体１１は、円形や方形状の単なる印刷表示体であっても良いが、その周囲に青色や赤色のＬＥＤ１５を円形等に配置してもよい。
ＬＥＤ１５により、待機時と読み取り時の区別を示すことができ、発光パターンを変えれば、読み取りが成功した場合を利用者に知らせることもできる。
【００２０】
図１は、図２（Ｂ）のＡ−Ａ線断面図であってリーダライタ１４部を示している。
電波ポスター５の背面には、リーダライタ１４が装着されている。リーダライタ１４は、前記のように非接触ＩＣリーダライタとＰＣの機能を備えるが、最近では、非接触ＩＣリーダライタとＰＣがモジュール化されたものも多く使用されている。基本的に、リーダライタ１４は、かざされた非接触ＩＣ３からＩＤ情報を読み取りし、読み取られたＩＤ情報がサービスで指定されたフォーマットか否かを確認した後、データを無線通信で、情報配信サーバ４に送信することを行う。
【００２１】
電波ポスター５の表面側には、非接触ＩＣ読み取り部を示す表示体１１が貼着されている。この表示体１１の層構成中に蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を使用していることが、本発明の絶縁性金属光沢層付きリーダライタ１の特徴である。
表示体１１は基材１１０の表面に、必要によりアンダーコート層１１２を設け、当該アンダーコート層１１２の面に、蒸着による絶縁性金属光沢層１１１が形成されている（図１（Ａ））。基材１１０は、粘着剤層１０９を通常有する。図１（Ｂ）は、蒸着による絶縁性金属光沢層１１１の面に、さらに、ハードコート層１１３を形成して金属蒸着層１１１の保護強化を図った形態である。
【００２２】
縁性金属光沢層１１１の隠蔽性を高めるため、図示してないが、基材１１０の粘着剤層１０９側面に隠蔽層を設けるのが好ましい。隠蔽層は白色のフィルムや紙基材をラミネートしたり、白色等の隠蔽印刷層を設けて形成できる。また、表示体１１の意匠性を高めるため、縁性金属光沢層１１１面に絵柄等の印刷を施してもよいものである。
なお、プラスチック成型体や紙材料からなる箱体１３、そのものに絶縁性金属蒸着を施しても良いが、通常は、表示体１１をラベル状のものとして製造する。
【００２３】
図３は、絶縁性金属蒸着層の構造を説明する模式平面図、図４は、同模式断面図、である。絶縁性金属蒸着層１１１は、一般には、海・島構造の金属蒸着層からなるといわれている。この従来から知られている海・島構造は、蒸着材料や蒸着条件等の選定により形成できるもので、金属蒸着層１１１には微小な島１１１ａと島と島間を画する間隔１１１ｂからなる蒸着層が形成されている。海・島構造からなる蒸着層は、プラスチックや紙基材にアンダーコート層を介し、あるいは直接蒸着しても形成でき、または一旦転写フィルムに蒸着してから必要な基材に転写しても形成できる。いずれの場合も、島サイズや形状等はある範囲のものではあるが、正しく一定のものではない。
【００２４】
このような島１１１ａのサイズ（平均差し渡し径）は、２０ｎｍ〜１μｍ、島間の間隔（平均間隔）１１１ｂは、１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。島サイズが２０ｎｍより小さいと金属光沢がなくなり十分な装飾効果が得られない。また、１μｍ以上では導電性になってしまい通信阻害を生じるからである。ただし、島サイズや島間間隔といっても、正しく島と島の間に溝が形成されてはいないで、肉眼でも顕微鏡でも明瞭に識別できない場合もある。その場合には、図４の断面図のように、島１１１ａ部分は金属が密な状態で厚く積層されており、島間１１１ｂにも金属が粗な構造ではあるが積層されている状態にある。島と島の間の粗な構造部分は結晶粒界（グレインバウンダリー）となる部分であり、電気的にも抵抗値が大きくなっている。島１１１ａ自体にも粗密があり抵抗値にもばらつきがあって、導電性ではない場合もある。
従って、島間の間隔が明瞭でない場合は、島間の間隔１１１ｂとは島間の粗な構造部分（結晶粒界またはグレインバウンダリー）と解するのが適当である。
【００２５】
一般に融点の低い金属や貴金属は蒸着時の制御が比較的容易であり、錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、の単体金属またはその群から選ばれた二種以上の金属、または錫−アルミニウム（Ｓｎ−Ａｌ）、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）からなる合金が用いられるが、中でも錫（Ｓｎ）は特に容易である。錫−アルミニウムの蒸着は、錫とアルミニウムの単体金属を別個のるつぼに入れて蒸気化し、基材上で合金として蒸着させることができる。錫−珪素の場合も同様である。
アルミニウムは金属光沢に優れるが、アルミニウム自体の単体金属は、表面エネルギーが高く基板上でマイグレーションが生じやすく、島状蒸着になり難い金属材料になる。
【００２６】
蒸着による絶縁性金属光沢層の表面抵抗率は、１０10〜１０25Ω／□の範囲であることが好ましい。１０10Ω／□よりも小さい場合は導体に近くなり通信阻害が生じ、１０25Ω／□より大きい場合は、金属光沢が失われ意匠性も損ねることになる。
表面抵抗率の調整は直接蒸着の場合は、蒸着速度や蒸着時間による膜厚で調整する。
【００２７】
絶縁性金属光沢層表面の表面粗さは、一定の範囲のものであることが好ましい。具体的には、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａが、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲、好ましくは、１０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲であることが望ましい。絶縁性金属光沢層１１１の平滑性を一定範囲にするためであり、１００ｎｍを超えると金属光沢が無くなって意匠性が低下し、１０ｎｍ未満では鏡面状態となり、その表面に形成する層との密着性が低下するからである。本願では絶縁性金属蒸着層であって、表面粗さが上記の一定範囲にあって光沢を有する場合を絶縁性金属光沢層と表現するものとする。
【００２８】
電波ポスター５の使用方法は、以下のようになる（図２、図５参照）。
電波ポスター５は、商品販売コーナーやイベント会場、あるいはプレイガイド等に目的の商品や催しの案内のために展示される。電波ポスター５のリーダライタ１４に対して、利用者が非接触ＩＣ３を表示体１１を目印として接近させると、リーダライタ１４は、当該非接触ＩＣ３のＩＤ情報を読み取りし、フォーマット等を確認した後、インターネットまたは無線通信で当該ＩＤ情報とリーダライタのＩＤを情報配信サーバ４に送信する。
【００２９】
情報配信サーバ４には、非接触ＩＣ３の固有ＩＤ情報に対応した利用者の携帯電話機２のメールアドレスと、リーダライタ１４のＩＤに対応した情報が登録されている。情報配信サーバ４が、非接触ＩＣ３のＩＤ情報とリーダライタ１４のＩＤ情報を受信すると、情報配信サーバ４から、その電波ポスター５に関連した情報が、メール形式で携帯電話機２に送信される、という仕組みになっている。
なお、非接触ＩＣ３には、本来のラベル状の非接触ＩＣタグの他に、カード状の非接触ＩＣカード、おサイフケータイ（Ｆｅｌｉｃａ（商標）機能搭載の携帯電話）等も含むものである。おサイフケータイ（商標）の場合は、携帯電話機２と非接触ＩＣ３が一体になったものと言うことができる。
【００３０】
次に、本発明に使用する表示体の製造について説明する。
前記のように、表示体１１は基材１１０の表面に、絶縁性金属光沢層１１１が形成されている。絶縁性金属光沢層１１１の面に、ハードコート層１１３を形成して絶縁性金属光沢層１１１の保護を図ることができる。以下は、基材１１０としてプラスチックフィルムを使用する場合について説明するが、クレイコートした紙についても、ほぼ同様に製造できる。ただし、一般に紙基材は水分を含有するため、真空条件を達成することに困難を伴うことが多い。
【００３１】
各種のプラスチックフィルムも、蒸着膜との密着性等を向上させるため、予め、所望の表面処理層を蒸着面に設けることが好ましい。表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品を用いて処理する酸化処理、の層を適用できる。上記の表面前処理は、別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズマ処理やグロー放電処理等による表面前処理の場合は、蒸着膜を形成する前処理としてインライン処理で行うことができる。
【００３２】
上記の密着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂フィルムの表面に、予め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着剤層を任意に形成して表面処理層とすることもできる。
上記の前処理のコート剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレン、あるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
【００３３】
絶縁性金属光沢層１１１の厚みは、１０ｎｍ〜５０ｎｍ程度とする。５０ｎｍ以上とする場合は導電性となることが多い。蒸着方法は、一般に採用されている真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法のような物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法；ＰＶＤ法）のほか、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法；ＣＶＤ法）、大気圧プラズマ法、等を用いることができる。
【００３４】
以下は、一般に行われる真空蒸着法について説明することとする。
図６は、巻取り式の真空蒸着装置の一例を示す概念的構成図である。図６において、真空蒸着装置２０は、真空チャンバー２２、このチャンバー内に配設された供給ロール２３ａ、巻取りロール２３ｂ、コーティングドラム２４と、仕切り板２９，２９で真空チャンバー２２と仕切られた蒸着チャンバー２５、この蒸着チャンバー２５に配設されたるつぼ２６、蒸着源３０、マスク２８，２８を備えている。この真空蒸着装置２０では、真空チャンバー２２の中で、供給ロール２３ａから繰り出す基材フィルム２１は、ガイドロール３２ａを介してコーティングドラム２４の周面を通って巻取りロール２３ｂに巻き取られる。蒸着チャンバー２５内では、るつぼ２６によって熱せられた蒸着源３０から金属原子が飛散する。この蒸発飛散した金属原子は上記の冷却したコーティングドラム２４上において、マスク２８，２８間に位置する基材フィルム２１上に付着して金属蒸着層を形成する。コーティングドラム２４は冷却されているので、金属蒸気は急速に冷却して成膜化される。金属蒸着層を形成した基材フィルム２１は、ガイドロール３２ｂを介して巻取りロール２３ｂに巻き取られる。
【００３５】
上記において、仕切り板２９，２９は、蒸着源３０のある蒸着チャンバー２５内の真空度を高めるため、供給ロール２３ａから供給される基材フィルム２１により真空度が低下しやすい真空チャンバー２２とを分離する隔壁となっている。
るつぼ２６内の蒸着源３０は、高周波誘導加熱方式または抵抗加熱方式により、あるいはエレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式により加熱されて蒸気化し、その蒸気を基材フィルム２１上に蒸着させる。単一の金属による蒸着を行う場合は、るつぼ２６内に単一の金属からなる蒸着源３０を充填すればよい。錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、等の単体金属の蒸着は、当該蒸着方法により海・島構造を形成できる。
【００３６】
蒸着チャンバー２５内の真空度は、高度の真空度にするほど、蒸着される金属膜も密な構造になり、抵抗率も小さくなる。一般的には、蒸着チャンバー２５内は、１０-2Ｐａ以下の真空度にすることが必要とされる。ただし、海・島構造の絶縁層を形成する蒸着では、必ずしも当該条件を満たす必要はない。蒸着膜厚は、基材フィルム２１の搬送速度や蒸着源の加熱条件、マスク２８，２８の間隔等によって制御される。
【００３７】
るつぼ２６内の蒸着源３０は、高周波誘導加熱方式または抵抗加熱方式により、あるいはエレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式により加熱されて蒸気化し、その蒸気を基材フィルム２１上に蒸着させる。単一の金属による蒸着を行う場合は、るつぼ２６内に単一の金属からなる蒸着源３０を充填すればよい。錫（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、等の単体金属の蒸着は、当該蒸着方法により海・島構造を形成できる。
【００３８】
基材フィルム２１上で二種以上の金属からなる合金を形成する場合は、図６の下側の楕円内に図示するように、二つのるつぼ２７ａ，２７ｂが並列したるつぼを使用し、それぞれに異なる種類の金属材料３１，３２を充填して多源蒸着法で蒸着すればよい。異なる種類の金属材料３１，３２は、通常、加熱条件を異なる条件とすることが好ましい。
同一のるつぼで、あるいは異なるるつぼでも同一条件で加熱する場合は、一方の金属だけが先に蒸発して、望まれる原子数比の合金膜を形成しなくなるからである。るつぼ２７ａ，２７ｂから蒸発した金属の原子は、基材フィルム２１上で、当該二種の金属による合金を形成することになる。錫−鉛（Ｓｎ−Ｐｂ）、錫−アルミニウム（Ｓｎ−Ａｌ）、錫−珪素（Ｓｎ−Ｓｉ）合金等による蒸着膜は、このような蒸着方法により形成される。
【００３９】
蒸着膜が、錫−アルミニウム（Ｓｎ−Ａｌ）合金からなる場合は、蒸着膜中における金属組成は、錫（Ｓｎ）１００の原子数に対してアルミニウム（Ａｌ）が、１〜５０程度の原子数であることが好ましい。アルミニウム原子数比が、５０を超える場合は、海・島構造の絶縁性膜を形成し難く、１未満の場合はアルミニウム特有の金属光沢を持たせられなくなるからである。
【００４０】
蒸着による絶縁性金属光沢層にハードコート層を塗工する場合は、以下のように行う。  ハードコート層１１３は、電離放射線硬化型塗料から形成する。特に好ましい電離放射線硬化型塗料は電子線硬化型塗料及び紫外線硬化型塗料である。
電子線硬化型塗料と紫外線硬化型塗料とは、後者が光重合開始剤や増感剤を含有することを除いて成分的に同様のものであり、一般的には皮膜形成成分としてその構造中にラジカル重合性の二重結合又はエポキシ基を有するポリマー、オリゴマー、モノマー等を主成分とし、その他必要に応じて非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックス、その他の添加剤を含有するものである。
【００４１】
本発明の目的に特に好ましいものは、皮膜形成成分がアクリレート系の官能基を有するもの、さらに好ましくは、ポリエステルアクリレート、あるいはウレタンアクリレートである。例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能性モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものである。
【００４２】
この様な多官能（メタ）アクリレート系の電離放射線硬化型塗料を使用することによって、表面硬度、透明性、耐擦傷性等に優れたハードコート層を形成することができる。
さらにこの様なハードコート層１１３が高い可撓性が要求される場合には、上記の硬化型塗料中に適当量の熱可塑性樹脂、例えば、非反応性のアクリル樹脂や各種ワックス等を添加することによってそれらの要求応えることができる。
【００４３】
また、上記の硬化型塗料を紫外線硬化型塗料にするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。以上のような電子線又は紫外線硬化型塗料等の電離放射線硬化型塗料は種々のグレードのものが知られ、いずれも市場から容易に入手でき、本発明において使用することができる。
【００４４】
また、それらの硬化方法も従来技術がそのまま使用でき、例えば、電子線硬化の場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０乃至１０００ＫｅＶ、好ましくは１００乃至３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源から発する紫外線等が利用される。
【００４５】
以上のような硬化型塗料は、グラビアコーティング法、グラビアリバースコーティング法、リバースロールコーティング法等により好適に塗工することができる。
上記の硬化型塗料の塗布量は、１．５μｍないし２０μｍの範囲の厚み（乾燥時）が好適である。塗布量が少な過ぎると十分な耐擦傷性が得られず、多過ぎると硬化速度が低下する問題が生じる。
【００４６】
以下、本発明の実施形態を、特に表示体（ラベル）の製造を中心として具体的に説明する。なお、実施例中に使用する符号は、前述した各図面において用いた符号と同一のものとする。
【実施例１】
【００４７】
＜蒸着による絶縁性金属光沢層の形成＞
基材１１０として、予め、コロナ放電処理した厚さ５０μｍの白色ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用した。まず、上記の白色ＰＥＴフィルムをＰＶＤ法真空蒸着装置２０の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その白色ＰＥＴフィルムのコロナ放電処理面上に、以下の蒸着条件により、錫（Ｓｎ）を海・島構造になるように、膜厚２０ｎｍの蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を形成した。
蒸着チャンバー２５内の真空度を目標の真空度にするため、アルゴン（Ａｒ）ガスを蒸着チャンバーへ導入した。
【００４８】
（蒸着条件）
蒸着チャンバー内の真空度：７．２×１０-4ｔｏｒｒ（９．６×１０-2Ｐａ）
冷却ドラム温度：０°Ｃ
蒸着堆積速度：７ｎｍ／ｓｅｃ．
蒸着面：コロナ処理面
（冷却ドラムとは、コーティングドラム２４のことである。以下同様。）
【００４９】
上記により得られた蒸着による絶縁性金属光沢層１１１の島サイズは９８０ｎｍ、島間隔は８０ｎｍ、表面抵抗率は、４．３×１０18Ω／□、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａは、５２ｎｍ、であった。
＜ラベル加工＞
上記により蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を形成したＰＥＴフィルムの裏面に粘着剤加工を行った後、直径１００ｍｍの円形に打ち抜きして、ラベル１１を完成した。
【実施例２】
【００５０】
＜蒸着による絶縁性金属光沢層の形成＞
実施例１と同一の基材１１０であって、同一の条件でコロナ放電処理した厚さ５０μｍの白色ＰＥＴフィルムを、ＰＶＤ法真空蒸着装置２０の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その白色ＰＥＴフィルムのコロナ処理面上に、以下の蒸着条件により、錫（Ｓｎ）を海・島構造になるように、膜厚１０ｎｍの絶縁性金属光沢層１１１を形成した。蒸着チャンバー２５内の真空度を目標の真空度にするため、アルゴン（Ａｒ）ガスを蒸着チャンバーに導入した。
【００５１】
（蒸着条件）
蒸着チャンバー内の真空度：７．４×１０-4ｔｏｒｒ（９．９×１０-2Ｐａ）
冷却ドラム温度：０°Ｃ
蒸着堆積速度：７ｎｍ／ｓｅｃ．
蒸着面：コロナ処理面
【００５２】
上記により得られた蒸着による絶縁性金属光沢層１１１の島サイズは８５０ｎｍ、島間隔は１２０ｎｍ、表面抵抗率は、６．９×１０20Ω／□、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａは、３６ｎｍ、であった。
上記により蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を形成したＰＥＴフィルムの蒸着層表面に、電離放射線硬化型樹脂（ＰＥＴＤ−３１、大日精化工業株式会社製）をドライ厚みが約６μｍになるように塗工し、加速電圧１７５ＫＶ、照射線量１０Ｍｒａｄの電子線で硬化させ、ハードコート層１１３を得た。
＜ラベル加工＞
上記により蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を形成したＰＥＴフィルムの裏面に粘着剤加工を行った後、直径１００ｍｍの円形に打ち抜きして、ラベル１１を完成した。
【実施例３】
【００５３】
＜蒸着による絶縁性金属光沢層の形成＞
実施例１と同一の基材１１０であって、同一の条件でコロナ放電処理した厚さ５０μｍの白色ＰＥＴフィルムを、ＰＶＤ法真空蒸着装置２０の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その白色ＰＥＴフィルムのコロナ処理面上に、以下の蒸着条件（多源蒸着）により、錫（Ｓｎ）及びアルミニウム（Ａｌ）を海・島構造になるように、膜厚２０ｎｍの絶縁性金属光沢層１１１を形成した。
【００５４】
（蒸着条件）
蒸着チャンバー内の真空度：６．７×１０-4ｔｏｒｒ（８．９×１０-2Ｐａ）
冷却ドラム温度：０°Ｃ
蒸着堆積速度：１５ｎｍ／ｓｅｃ．
蒸着面：コロナ処理面
【００５５】
上記により得られた蒸着による絶縁性金属光沢層１１１は、錫−アルミニウムの合金からなり、その島サイズは１５００ｎｍ、島間隔は２０ｎｍ、表面抵抗率は、２．２×１０10Ω／□、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａは４２ｎｍ、であった。なお、生成したＳｎ−Ａｌ合金をＸ線光電子分光分析装置（「ＥＳＣＡ」（Electron Specstrocopy Chemical Analyzer): 英国、ＶＧ Scientific 社製）で分析したところ、ＳｎとＡｌの比は原子数において、１００：１〜１０の範囲であった。
＜ラベル加工＞
上記により蒸着による絶縁性金属光沢層１１１を形成したＰＥＴフィルムの裏面に粘着剤加工を行った後、直径１００ｍｍの円形に打ち抜きして、ラベル１１を完成した。
【実施例４】
【００５６】
＜蒸着による絶縁性金属光沢層の形成＞
実施例１と同一の基材１１０であって、同一の条件でコロナ放電処理した厚さ５０μｍの白色ＰＥＴフィルムを、ＰＶＤ法真空蒸着装置２０の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その白色ＰＥＴフィルムのコロナ処理面上に、以下の蒸着条件により、錫（Ｓｎ）を海・島構造になるように、膜厚１０ｎｍの絶縁性金属光沢層１１１を形成した。
【００５７】
（蒸着条件）
蒸着チャンバー内の真空度：２．６×１０-4ｔｏｒｒ（３．５×１０-2Ｐａ）
冷却ドラム温度：０°Ｃ
蒸着堆積速度：１ｎｍ／ｓｅｃ．
蒸着面：コロナ処理面
【００５８】
上記により得られた蒸着による絶縁性金属光沢層１１１の島サイズは７８０ｎｍ、島間隔は１７０ｎｍ、表面抵抗率は、１．２×１０18Ω／□、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａは、１４ｎｍ、であった。
＜ラベル加工＞
上記により準備した金属蒸着層を有する基材１１０の絶縁性金属光沢層１１１面とは反対側の面に、グラビア印刷により酸化チタン顔料を含む白色インキを用いて、白色隠蔽層を印刷した。この白色隠蔽層面に粘着剤加工を行った後、直径１００ｍｍの円形に打ち抜きして、ラベル１１を完成した。
【００５９】
（比較例）
＜金属蒸着層の形成＞
実施例１と同一の基材１１０であって、同一の条件でコロナ放電処理した厚さ５０μｍの白色ＰＥＴフィルムを、ＰＶＤ法真空蒸着装置２０の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その白色ＰＥＴフィルムのコロナ処理面上に、以下の蒸着条件により、アルミニウム（Ａｌ）を膜厚４０ｎｍの通常の連続蒸着膜に形成した。
【００６０】
（蒸着条件）
蒸着チャンバー内の真空度：３．７×１０-4ｔｏｒｒ（４．９×１０-2Ｐａ）
冷却ドラム温度：０°Ｃ
蒸着堆積速度：２５ｎｍ／ｓｅｃ．
蒸着面：コロナ処理面
【００６１】
上記により得られた金属蒸着層は連続蒸着膜であり、表面抵抗率は、９．７×１０-2Ω／□、原子間力顕微鏡で測定した場合の中心線平均粗さＲａは、２ｎｍ、であった。
＜ラベル加工＞
上記により金属蒸着層を形成したＰＥＴフィルムの裏面に粘着剤加工を行った後、直径１００ｍｍの円形に打ち抜きして、ラベル１１を完成した。
【００６２】
上記により得られた、実施例１、実施例２、実施例３、実施例４、および比較例のラベル１１を電波ポスターのリーダライタ装着部の表面に貼着し、非接触ＩＣタグ３の読み取り試験を行った。なお、リーダライタには、１３．５６ＭＨｚの非接触ＩＣタグ用リーダライタ（ウェルトキャット社製）を使用した。
その結果、実施例１、実施例２、実施例３、実施例４の各ラベルでは支障なくＩＤ情報の読み取りが可能であったが、比較例の場合は読み取りが不可能であった。
なお、実施例２の表示体（ラベル）１１は、蒸着による絶縁性金属光沢層１１１の面にハードコート層が形成されているため、耐擦傷性も高いものであった。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】絶縁性金属光沢層付きリーダライタの断面図である。
【図２】電波ポスターの形態を示す図である。
【図３】絶縁性金属蒸着層の模式平面図である。
【図４】絶縁性金属蒸着層の模式断面図である。
【図５】電波ポスター利用情報配信システムの説明図である。
【図６】巻取り式の真空蒸着装置の一例を示す概念的構成図である。
【符号の説明】
【００６４】
１    絶縁性金属光沢層付きリーダライタ
２    携帯電話機
３    非接触ＩＣ、非接触ＩＣタグ
４    情報配信サーバ
５    電波ポスター
１０    電波ポスター利用情報配信システム
１１    表示体、ラベル
１１０  基材
１１１  蒸着による絶縁性金属光沢層
１１２  アンダーコート層
１１３  ハードコート層
１２    ポスター
１３    箱体
１４    リーダライタ
１５    ＬＥＤ
１６    スタンド
２０    真空蒸着装置
２１    基材フィルム
２２    真空チャンバー
２４    コーティングドラム、冷却ドラム
２５    蒸着チャンバー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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