(57)【要約】【課題】低濃度領域では濃度ムラなどを好適に低減しつつ、高濃度領域ではコントラストを好適に維持する。【解決手段】画像形成装置は、波長が異なる複数の光を露光する露光装置と、光が露光されることで形成される潜像を担持する像担持体と、形成対象となる画像の濃度に応じて、波長が異なる複数の光の発光割合を制御する露光制御部とを含む。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源手段から出力される光変調された光ビームにより像担持体上を走査して画像形成を行なう画像形成装置において、
前記レーザ光源手段に含まれる発振波長が異なる複数個のレーザ光源と、
形成対象となる画像の濃度に応じて前記複数個のレーザ光源の発光割合を制御する露光制御部と
を含むことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記露光制御部は、前記画像の濃度が閾値を超える高濃度領域においては、第１の波長を有する光の発光割合を相対的に高め、前記画像の濃度が閾値以下となる低濃度領域においては、前記第１の波長よりも短い第２の波長を有する光の発光割合を相対的に高めることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記露光制御部は、前記高濃度領域では、前記第１の波長を有する光によって露光を行ない、前記低濃度領域では、前記第２の波長を有する光によって露光を行なうように切り替えることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記露光制御部は、前記画像の濃度が第１の閾値を超える高濃度領域においては、前記第１の波長を有する光によって露光を行ない、前記画像の濃度が第１の閾値よりも低い第２の閾値以下となる低濃度領域においては、前記第１の波長よりも短い第２の波長を有する光によって露光を行なうように切り替え、前記第１の閾値以下で第２の閾値以上となる濃度領域においては、前記第１の波長を有する光と前記第２の波長を有する光の発光割合を制御することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記露光制御部は、前記高濃度領域から前記低濃度領域へと遷移する領域においては、前記第２の波長を有する光の発光割合を徐々に高め、前記低濃度領域から前記高濃度領域へと遷移する領域においては、前記第１の波長を有する光の発光割合を徐々に高めることを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記露光制御部は、相対的に高いコントラストが要求される第１の領域においては、第１の波長を有する光の発光割合を相対的に高め、相対的に高いコントラストが要求されない第２の領域においては、前記第１の波長よりも短い第２の波長を有する光の発光割合を相対的に高めることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記露光制御部は、文字またはライン画像の輪郭を構成する画素について露光するときは、前記画像の濃度に依存することなく、前記第２の波長の光で露光することを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記像担持体の感光層がアモルファスシリコンを含む無機半導体を含むことを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項９】
画像形成装置の制御方法であって、
形成対象となる画像の濃度に応じて、波長が異なる複数の光の発光割合を制御するステップと、
前記発光割合が制御された１以上の前記光を用いて、前記画像形成装置が有する像担持体を露光するステップと
を含むことを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式を用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式による画像形成装置の高画質化の手段として、ビームスポットの小径化は有効な手段である。その理由は、ビームスポットが小径化されることで、記録密度が向上し、より高精細な潜像が形成可能となるからである。また、ビームスポットが小径化されることで、潜像の電荷分布がよりシャープになる。これは、感光ドラムにおいて、電位のムラや機械的な振動などのノイズが発生したとしても、現像を安定化できる利点がある。
【０００３】
ところで、複数の異なる波長のレーザーを用いて画像を形成する方法が提案されている（特許文献１、２）。特許文献１によれば、文字画像の潜像を短波長レーザーで形成し、多階調画像の潜像を長波長レーザーで形成する方法が提案されている。また、特許文献２によれば、文字の周辺でだけ、短波長レーザーを使用する方法が提案されている。
【特許文献１】特開平８−１６４６３４号公報
【特許文献２】特開平１１−３２０９６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１および２のいずれも、感光ドラムの感光特性とレーザー光の波長との関係について着目していなかった。すなわち、感光ドラムの感光層として、波長が短くなるほど感度が低下する部材が使用されると、必要な画像濃度が得られないおそれがある。これでは、短波長レーザーを使用したとしても、却って、形成される画像の品質が低下してしまう。
【０００５】
そこで、本発明は、このような課題および他の課題のうち、少なくとも１つを解決することを目的とする。なお、他の課題については明細書の全体を通して理解できよう。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の画像形成装置は、レーザ光源手段から出力される光変調を受けた光ビームで像担持体上を走査して画像形成を行なう画像形成装置において実現される。レーザ光源手段は発振波長が異なる複数個のレーザ光源を含む。露光制御部は、形成対象となる画像の濃度に応じて、発振波長が異なる複数個のレーザ光源の発光割合を制御する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、形成対象となる画像の濃度に応じて、発振波長が異なる複数の光の発光割合が好適に制御される。これによって、低濃度領域では濃度ムラなどを好適に低減しつつ、高濃度領域ではコントラストを好適に維持できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下に本発明の一実施形態を示す。もちろん以下で説明される個別の実施形態は、本発明の上位概念、中位概念および下位概念など種々の概念を理解するために役立つであろう。また、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲によって確定されるのであって、以下の個別の実施形態によって限定されるわけではない。
【０００９】
［第１の実施形態］
図１は、実施形態の画像形成装置の概略断面図である。なお、ここでは、画像形成装置１００のうち、本発明に対する関連性が低い部分は省略されている。
【００１０】
露光装置１０１は、一様に帯電された感光ドラム１０２の表面を、発振波長が異なる複数の光を用いて露光する装置である。感光ドラム１０２は、いわゆる像担持体であり、露光により形成された潜像を担持する。帯電器１０３は、感光ドラム１０２の表面を一様に所望の電位となるように帯電させる。現像装置１０４は、感光ドラム１０２の表面に形成された潜像を、トナーなどの現像剤により現像する。転写ローラ１０５は、光ドラム１０２の表面に形成された現像剤の像を記録媒体上に転写する。定着器１０６は、未定着の現像剤像を加熱および加圧し、記憶媒体上に定着させる。
【００１１】
図２は、実施形態に係る露光装置と露光制御部との一例を示す図である。ＣＰＵ２０１は、露光装置１０１を統括的に制御する露光制御部として機能する。ＣＰＵ２０１は、例えば、形成対象となる画像の濃度に応じて、発振波長が異なる複数の光の各発光割合を制御する。
【００１２】
画像信号分配器２０２は、ＣＰＵ２０１から出力される画像信号の値に応じて画像信号を加工し、加工された信号を発光信号発生器２０３、２０４に送出している。発光信号発生器２０３、２０４は、画像信号分配器２０２から送られてきた加工信号に基づいて、それぞれ対応する半導体レーザー２０５、２０６を所定のタイミングで明滅（ＯＮ，ＯＦＦ）させて光変調している。
【００１３】
第１のレーザー２０５と第２のレーザー２０６の発光中心波長は異なっている。例えば、レーザー２０５の発光中心波長は４０５ｎｍであり、レーザー２０６の発光中心波長は６８０ｎｍである。よって、相対的な概念としては、第１のレーザー２０５が短波長レーザーに相当し、第２のレーザー２０６が長波長レーザーに相当するといえよう。
【００１４】
レーザー２０５を連続点灯させ、かつ、光ビームの走査を停止させた状態において、レーザー２０５による感光ドラム１０２の表面での光量は、例えば、０．８ｍＷとなる。同様の条件で、レーザー２０６による感光ドラム１０２の表面での光量は、例えば、０．６ｍＷである。また、光ビームのスポット径は一般には光の振幅がスポット中心の１／ｅ（パワーでは１／ｅ2）となる直径で定義される。つまり、発光中心波長の光量に対して１／ｅ2となる光量における光ビームのスポット径は、例えば、レーザー２０５について５×３７μｍとなり、レーザー２０６で５０×５８μｍとなる。ここで、スポット径とは、光強度の最大値の１／ｅ2、すなわ13.5％の強度の等強度線の径のことである。
【００１５】
コリメーターレンズ２０７、２０８は、それぞれ対応するレーザー２０５、２０６からの光ビームを略平行光束とする光学要素である。反射ミラー２１０は、レーザー２０６が発した光ビームを反射させる光学要素である。ハーフミラー２０９は、レーザー２０５が発した光ビームを反射させるとともに、レーザー２０６が発した光ビームを透過させる光学要素である。なお、ハーフミラー２０９の代わりに、回動可能な反射ミラーが採用されてもよい。
【００１６】
光偏向器２２０は、光ビームの偏向手段として機能する。例えば、光偏向器２２０は、複数の偏向面（反射面）を有する回転多面鏡である。光偏向器２２０は、モータ等の駆動手段により矢印Ａ方向に所定の角速度で回転している。これにより、光ビームが走査されることになる。
【００１７】
結像光学系２３０は、ｆ−θ特性を有する３つのレンズａ、ｂ、ｃからなる。結像光学系２３０は、光偏向器２２０により偏向された光ビームを感光ドラム１０２の面上に結像させる。
【００１８】
ところで、感光ドラム１０２の表層部分は種々の部材により構成されうる。例えば、感光ドラム１０２の感光層が、波長が短くなるにつれて感度が低下する部材により構成されることもある。このような部材の代表例は、アモルファスシリコンを含む無機半導体である。
【００１９】
一般に、感光ドラム１０２の最表層には、耐擦性を高めるための保護層が設けられる。この保護層には、成膜性の観点から、例えば、アモルファスシリコン・カーバイドやアモルファス・カーバイドを含む材料が用いられる。これらの材料の透過率も短波長側で低下する。よって、保護層の存在も、短波長側で感度が低下する要因となっている。
【００２０】
図３は、ポジの帯電極性を有するアモルファスシリコンドラムの表層部分の一例を示す図である。導電性支持体３０１は、例えば、アルミニウム（ＡＬ）を素材とするシリンダである。導電性支持体３０１上には、電荷注入阻止層３０２、光導電層３０３および表面層３０４が形成されている。
【００２１】
ここで電荷注入阻止層３０２は、導電性支持体３０１から光導電層３０３への電子の注入を阻止している。光導電層３０３は、例えば、シリコン原子を主原料とする非晶質材料で構成されている。光導電層３０３は、光導電性を示し、例えば、その膜厚は３０μｍである。
【００２２】
表面層３０４は、シリコン原子と炭素原子を含む素材からなる。表面層３０４は、表面に形成される電子潜像を保持する。
【００２３】
図４は、感光ドラム１０２の分光感度の一例を示す図である。横軸は、画像露光波長を示している。縦軸は、単位光子あたりの感度を示している。なお、分光感度は、一定暗部電位から一定明部電位まで減衰させる光量の逆数をいう。ここでは、露光波長を変えながら感度を測定して、ピーク値により正規化している。
【００２４】
図４によれば、分光感度は、長波長側に位置する８００ｎｍ付近から立ち上がり始め、７００ｎｍでピークとなっている。７００ｎｍよりも短波長側では、徐々に、感度は低下している。
【００２５】
図５は、レーザー光量と表面電位との関係の一例を示す図である。横軸は、レーザー光量を示している。縦軸は、感光ドラムの表面電位を示している。ここでは、まず、感光ドラム１０２を帯電器１０３によって−５００Ｖに帯電している。その後、露光装置１０１で感光ドラム１０２の表面を露光している。レーザー２０６（波長６８０ｎｍ）で露光した場合、感光ドラム１０２の表面電位は１００Ｖまで明減衰する。一方、レーザー２０５（波長４０５ｎｍ）で露光した場合、感光ドラム１０２の表面電位は３００Ｖ程度までしか低下しないことがわかる。
【００２６】
図６は、実施形態に係る感光ドラムの表面電位と画像濃度との関係を示す図である。横軸は、現像コントラストを示している。縦軸は、出力画像の反射濃度を示している。
【００２７】
現像器１０４には、例えば、最大交流電圧が１．５ｋＶｐｐで、かつ周波数２ｋＨｚの交流バイアスと、直流電圧が−３５０Ｖの直流バイアスとを重畳させた現像バイアスが印加される。この直流バイアスと感光ドラム１０２の表面電位の差に応じた電界によって、潜像が現像される。なお、この電位差が、現像コントラストに相当する。
【００２８】
図６によれば、この画像形成装置１００において、十分な画像濃度を得るためには、現像コントラストが少なくとも２００Ｖは必要といえる。図５において説明したように、短波長のレーザー２０５は、感光ドラム１０２の表面電位は３００Ｖ程度までしか低下しない。よって、短波長のレーザー２０５だけで露光したのでは、濃度の薄い画像しか得られないだろう。
【００２９】
すなわち、アモルファスシリコンを代表とする無機半導体を感光ドラム１０２に採用している画像形成装置では、短波長側の感度が低下してしまう。よって、露光波長の短波長化によりスポット径を小径化しても、十分な画像濃度が得にくいという課題があるといえよう。
【００３０】
本実施形態は、形成対象となる画像の濃度に応じて、波長が異なる複数の光の発光割合を制御することで、この課題を解決する。例えば、画像の濃度が閾値以下となるような低濃度領域では、短波長（例：波長４０５ｎｍ）のレーザー２０５を用いて感光ドラム１０２を露光する。一方、画像の濃度が閾値を超えるような高濃度領域では、長波長（例：波長６８０ｎｍ）のレーザー２０６に切り替えて露光する。なお、高濃度領域は、相対的に高いコントラストが要求される第１の領域といえよう。また、低濃度領域は、相対的に高いコントラストが要求されない第２の領域といえよう。
【００３１】
図７は、中間階調となる濃度についてＰＷＭ変調を用いて画像を形成した場合の感光ドラム１０２上における電位分布の一例を示す図である。ここでは、中間階調の濃度に関して、露光装置１０１は、解像度２００ｌｐｉで光ビームをＰＷＭ変調している。ＰＷＭ変調のパルス幅を８ｂｉｔで制御することで、階調数が２５６階調となる。
【００３２】
図７の左側には、短波長レーザー２０５だけを用いて所定の画像濃度（０．０５ないし１．２）となるように画像形成を行なったときの感光ドラム１０２上の電位分布が示されている。また、図７の右側には、長波長レーザー２０６だけを用いて所定の画像濃度となるように画像形成を行なったときの感光ドラム１０２上の電位分布が示されている。なお、電位分布は、各レーザーの光量分布と、レーザー走査時間、および感光ドラム１０２の感度に基づいて算出されている。また、ここでの電位分布は、感光ドラム１０２の副走査方向からみた１ラインについての電位分布である。
【００３３】
短波長レーザー２０５は、スポット径が２５×３７μｍと小さいため、相対的にシャープな電位分布が形成されている。しかしながら、感光ドラム１０２の感度が十分でないため、０．６０以上の高濃度領域では、短波長レーザー２０５に関する電位分布が２００Ｖ程度で潰れたような形状となる。
【００３４】
一方、長波長レーザー２０６は、スポット径が５０×５８μｍであるため、相対的に大きなスポット径となる。しかしながら、長波長レーザー２０６の波長は、６８０ｎｍであり、感光ドラム１０２で高感度となる波長領域に属している。そのため、表面電位が、０Ｖ近くまで低下してしまう。
【００３５】
光ビームのスポット形状に着目すると、画像濃度が０．３５までは、短波長レーザー２０５の方がシャープで深い潜像が形成されている。よって、画像濃度が０．３５までは、短波長レーザー２０５が、より安定した画像を形成できるといえよう。
【００３６】
一方、短波長レーザー２０５は、画像濃度が０．６以上になると表面電位が落ちきらなくなり、かつ、露光面積のみが増加する状態となってしまう。すなわち、短波長レーザー２０５のスポット形状は、長波長レーザー２０６のスポット形状に比較し、幅広となってしまう。
【００３７】
本実施形態によれば、レーザーの走査時間と電位分布との関係から、短波長レーザー２０５の電位分布が幅広となり始めるところで、ＣＰＵ２０１が、長波長レーザー２０６に切り替えている。
【００３８】
図８は、２５６階調のＰＷＭレベルと画像濃度との関係を示す図である。横軸は、ＰＷＭレベルを示す。縦軸は、画像濃度を示す。ここでは、画像濃度に相当するＰＷＭレベルが、閾値である４５以下となる画像信号に対して、画像信号分配器２０２は、短波長レーザー２０５を使用している。短波長レーザー２０５の発光量と長波長レーザー２０６の発光量との発光比は、１：０である。
【００３９】
一方、ＰＷＭレベルが４５を超える画像信号に対して、画像信号分配器２０２は、長波長レーザー２０６を使用している。短波長レーザー２０５の発光量と長波長レーザー２０６の発光量との発光比は、０：１である。このように、画像濃度に応じて、短波長レーザー２０５と長波長レーザー２０６とが切り替えられている。
【００４０】
図９は、実施形態に係る露光制御の一例を示すフローチャートである。ステップＳ９０１において、ＣＰＵ２０１は、不図示のプリントコントローラから画像信号を入力する。一般に、プリントコントローラは、印刷データの展開処理、色変換処理、およびハーフトーン処理などを実行するコントローラである。
【００４１】
ステップＳ９０２において、ＣＰＵ２０１は、入力された画像信号に基づいて注目領域の画像濃度を決定する。注目領域は、例えば、１以上の画素からなる。
【００４２】
ステップＳ９０３において、ＣＰＵ２０１は、決定された画像濃度に応じて、波長が異なる複数の光源についての各発光割合を決定する。なお、実施形態では、光源を、短波長レーザー２０５と長波長レーザー２０６としている。もちろん、波長が異なる３以上のレーザーが光源として使用されてもよい。
【００４３】
ステップＳ９０４において、ＣＰＵ２０１は、決定された発光割合に応じて露光制御を実行する。例えば、ＣＰＵ２０１は、発光割合を画像信号分配器２０２に出力する。画像信号分配器２０２は、この発光割合に応じて短波長レーザー２０５と長波長レーザー２０６を発光させる。
【００４４】
ステップＳ９０５において、ＣＰＵ２０１は、全ての画像信号について、画像形成が終了したか否かを判定する。終了していなければ、ステップＳ９０１に戻る。
【００４５】
図１０は、実施形態に係る発光割合の決定処理の一例を示すフローチャートである。ここでは、発光割合の決定処理の一例を示すべく、ステップＳ９０３をサブルーチン化している。
【００４６】
ステップＳ１００１において、ＣＰＵ２０１は、注目領域の画像濃度が所定の閾値を超えるか否かを判定する。上述したように、この閾値は、短波長レーザー２０５、長波長レーザー２０６および感光ドラム１０２の各特性を考慮して決定されることが望ましい。すなわち、濃度ムラ等が低減されるように、閾値が決定されるべきであろう。
【００４７】
画像濃度が閾値を超えれば、この注目領域は、上述した高濃度領域または相対的に高いコントラストが要求される領域に相当する。よって、ステップＳ１００２に進み、ＣＰＵ２０１は、相対的に長い波長を有する光の発光割合を相対的に高める。極端な場合、短波長レーザー２０５の発光量と長波長レーザー２０６の発光量との発光比を０：１とする。この場合は、短波長レーザー２０５と長波長レーザー２０６とが、完全に切り替えられることになろう。
【００４８】
一方、画像濃度が閾値以下であれば、この注目領域は、上述した低濃度領域または相対的に高いコントラストが要求されない領域に相当する。よって、ステップＳ１００３に進み、ＣＰＵ２０１は、相対的に短い波長を有する光の発光割合を相対的に高める。極端な場合、短波長レーザー２０５の発光量と長波長レーザー２０６の発光量との発光比を１：０とする。
【００４９】
以上説明したように本実施形態によれば、形成対象となる画像の濃度に応じて、ＣＰＵ２０１は、波長が異なる複数の光の発光割合を好適に制御する。これによって、低濃度領域では濃度ムラなどを好適に低減しつつ、高濃度領域ではコントラストを好適に維持できるようになる。
【００５０】
より具体的には、画像の濃度が閾値を超えるような高濃度領域において、ＣＰＵ２０１は、相対的に長い第１の波長を有する光の発光割合を相対的に高める。高濃度領域は、相対的に高いコントラストが要求される画像領域である。
【００５１】
一方、画像の濃度が閾値以下となる低濃度領域において、ＣＰＵ２０１は、第１の波長よりも短い第２の波長を有する光の発光割合を相対的に高める。低濃度領域は、相対的に高いコントラストが要求されない画像領域である。なお、閾値については、画像形成装置ごとに好適な値が設定されることが望ましい。このような閾値を用いて領域を判定すれば、比較的に簡単な処理によって、ＣＰＵ２０１は、露光制御を実行できる。
【００５２】
なお、ＣＰＵ２０１は、高濃度領域から低濃度領域へと遷移する中間階調領域においては、相対的に短い波長を有する光の発光割合を徐々に高めるように制御してもよい。また、ＣＰＵ２０１は、低濃度領域から高濃度領域へと遷移する領域においては、相対的に長い波長を有する光の発光割合を徐々に高めるように制御してもよい。これにより、いわゆる中間階調領域においても、より自然な濃度変化が維持されよう。
【００５３】
またＣＰＵ２０１は、画像の濃度が第１の閾値を超える高濃度領域においては、第１の波長を有する光によって露光を行なう。画像の濃度が第１の閾値よりも低い第２の閾値以下となる低濃度領域においては、第１の波長よりも短い第２の波長を有する光によって露光を行なう。このように切り替え、第１の閾値以下で第２の閾値以上となる濃度領域においては、第１の波長を有する光と第２の波長を有する光の発光割合を制御してもよい。これにより、いわゆる中間階調領域においても、一層自然な濃度変化が維持されよう。
【００５４】
なお、本実施形態に係る発明は、感光ドラム１０２などの像担持体に採用される感光体の感度が波長依存性を有する場合に、特に、効果が高い。このような特性を有する素材は、例えば、アモルファスシリコンを含む無機半導体などである。また、感光ドラム１０２の保護層も同様の波長依存特性を有している場合、本実施形態に係る発明は、さらに効果的であろう。
【００５５】
［第２の実施形態］
第１の実施形態は、画像の濃度に応じて、波長の異なる複数の光源の発光割合を制御する発明であった。一方で、文字およびライン画像の高精細化したり、先鋭度を向上させたりするためには、輪郭部の電位勾配が急峻であるこが好ましい。
【００５６】
そこで、本実施形態では、文字およびライン画像の輪郭部を構成する画素については、濃度に依存することなく、短波長のレーザー２０５を用いて潜像を形成する方法について説明する。
【００５７】
図１１は、実施形態に係る発光割合の決定処理の一例を示すフローチャートである。なお、既に説明した箇所には同一の参照符号を付すことで、説明を簡潔にする。
【００５８】
ステップＳ１１０１において、ＣＰＵ２０１は、注目画素が文字およびライン画像の輪郭部を構成するものであるか否かを判定する。なお、ＣＰＵ２０１は、輪郭部の判定に必要な情報をプリントコントローラから取得してもよい。注目画素が輪郭部を構成するものであれば、ステップＳ１００３に進み、短波長レーザー２０５を主体として発光させる。一方、注目画素が輪郭部を構成するものでなければ、ステップＳ１００１に進み、画像濃度に応じて、ＣＰＵ２０１は、発光割合を決定する。
【００５９】
以上説明したように本実施形態によれば、第１の実施形態で説明した効果に加え、文字やライン画像の精細度や鮮鋭度を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】実施形態の画像形成装置の概略断面図である。
【図２】実施形態に係る露光装置と露光制御部との一例を示す図である。
【図３】ポジの帯電極性を有するアモルファスシリコンドラムの表層部分の一例を示す図である。
【図４】感光ドラムの分光感度の一例を示す図である。
【図５】レーザー光量と表面電位との関係の一例を示す図である。
【図６】実施形態に係る感光ドラムの表面電位と画像濃度との関係を示す図である。
【図７】中間階調となる濃度についてＰＷＭ変調を用いて画像を形成した場合の感光ドラム上における電位分布の一例を示す図である。
【図８】２５６階調のＰＷＭレベルと画像濃度との関係を示す図である。
【図９】実施形態に係る露光制御の一例を示すフローチャートである。
【図１０】第１の実施形態に係る発光割合の決定処理の一例を示すフローチャートである。
【図１１】第２の実施形態に係る発光割合の決定処理の一例を示すフローチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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