(57)【要約】    【課題】  誘電率や導電率などの物性の均一な有機薄膜の製造を可能とする製造方法を提供する。    【解決手段】  有機薄膜材料を含む流動体３を所定領域に展開し、展開された流動体３の一部に電磁波Ａを照射し、流動体３を固化し、有機薄膜を形成する、有機薄膜の製造方法。【選択図】      図１
2007088169.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機薄膜材料を含む流動体を所定領域に展開する工程と、
前記所定領域に展開された流動体に電磁波を照射する工程と、
流動体を固化し、有機薄膜を形成する工程とを備えることを特徴とする、有機薄膜の製造方法。
【請求項２】
前記所定領域に展開された流動体の内の特定領域の流動体部分に電磁波を照射することを特徴とする、請求項１に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項３】
前記特定領域に電磁波を照射することにより、局所的に加熱し、電磁波が照射された部分から流動体を優先的に固化させることを特徴とする、請求項２に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項４】
前記電磁波として、コヒーレント光、赤外線、可視光またはマイクロ波を用いる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項５】
前記所定領域に展開された流動体に電磁波を複数回照射することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項６】
前記所定領域に展開された流動体に対し、電磁波を複数回照射するに際し、電磁波が照射される領域が重なり合わされるように電磁波が複数回照射される、請求項５に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項７】
前記流動体が展開される所定領域が長軸を有する形状であり、前記電磁波が照射される特定領域の中心が、前記所定領域の長軸上に設定される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項８】
前記所定領域が長軸を有する形状を有し、前記電磁波が照射される特定領域が、前記所定領域の長軸に平行な長軸を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項９】
２つの電極に接するように設けられる有機薄膜の製造方法であって、２つの前記電極間に直流電圧を印加した場合の電位こう配の略中心となる位置に応じた前記流動体部分に電磁波が照射される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項１０】
２つの電極に接して設けられる有機薄膜の製造方法であって、電磁波が照射される領域が、２つの前記電極間に直流電圧を印加した場合の電気力線の内、電位こう配の略中心を通る電気力線に平行な向きの長軸を有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法により得られたことを特徴とする、トランジスタ用またはダイオード用の有機薄膜。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の有機薄膜の製造方法により得られたことを特徴とする、有機ＥＬ用の有機薄膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばトランジスタ、ダイオードまたは有機ＥＬ用薄膜などに用いられる有機薄膜の製造方法に関し、より詳細には、分子配向や結晶性が制御された有機薄膜の製造方法、並びに該有機薄膜を用いたトランジスタまたはダイオード薄膜及び有機ＥＬ用薄膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術の発展に伴って、より薄型の情報処理装置が求められている。そして、薄型の情報処理装置を提供する技術として、有機半導体薄膜を用いたトランジスタなどのデバイスが注目されている。このようなデバイスでは、有機薄膜の分子配向や結晶性の違いにより、特性が大きく変化する。従って、分子配向や結晶性が高度に制御された有機薄膜が強く求められている。
【０００３】
他方、下記の特許文献１には、有機薄膜からなり、ＴＦＴなどの微細パターンの形成に適したパターン形成方法が記載されている。ここでは、支持体上に、熱、酸または輻射線により親疎水性が変化する官能基を有する高分子化合物含有層を設けてなるパターン形成材料を用意する。このパターン形成材料に、加熱、酸の供給、または輻射線の照射を行い、親疎水性を変化させて受容パターンを形成する。次に、画像様の受容パターン上に、該受容パターンと親和性を有する流動体を局所的に適用して吸着させ、吸着層を形成することにより、微細パターンが形成されている。
【特許文献１】特開２００３−７６００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のパターン形成方法は、親疎水性が変化する性質を利用して微細な受容パターンを形成し、該受容パターン上に局所的に流動体を吸着させて吸着層を形成することにより、微細なパターンを形成することが可能とされている。従って、有機薄膜を用いたＴＦＴなどにおける微細パターンの形成が容易となる。
【０００５】
しかしながら、特許文献１は、上記のような微細パターン形成方法を開示しているものの、この方法では、有機薄膜自体の分子配向や結晶性を十分に制御することはできなかった。そのため、分子配向や結晶性の均一性が十分ではなく、従って、導電率や誘電率などの電気的特性が有機薄膜中において均一となり難かった。
【０００６】
本発明の目的は、上述した従来技術の現状に鑑み、分子配向や結晶性が高度に制御されており、従って、導電率や誘電率等の物性の均一性が高められた有機薄膜の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る有機薄膜の製造方法は、有機薄膜材料を含む流動体を所定領域に展開する工程と、前記所定領域に展開された流動体に電磁波を照射する工程と、流動体を固化し、有機薄膜を形成する工程とを備える。
【０００８】
本発明に係る有機薄膜の製造方法のある特定の局面では、前記所定領域に展開された流動体の内の特定領域の流動体部分に電磁波を照射する。
【０００９】
好ましくは、前記特定領域に電磁波を照射することにより、局所的に加熱し、電磁波が照射された部分から流動体を優先的に固化させる。
【００１０】
本発明において用いられる電磁波は特に限定されないが、前記電磁波として、コヒーレント光、赤外線、可視光またはマイクロ波が用いられる。
【００１１】
本発明に係る有機薄膜の製造方法の他の特定の局面では、前記所定領域に展開された流動体に電磁波は複数回照射される。
【００１２】
本発明に係る有機薄膜の製造方法のさらに他の特定の局面では、前記所定領域に展開された流動体に対し、電磁波を複数回照射するに際し、電磁波が照射される領域が重なり合わされるように電磁波が複数回照射される。
【００１３】
本発明に係る有機薄膜の製造方法の別の特定の局面では、前記流動体が展開される所定領域が長軸を有する形状であり、前記電磁波が照射される特定領域の中心が、前記所定領域の長軸上に設定されている。
【００１４】
本発明に係る有機薄膜の製造方法のさらに別の特定の局面では、前記所定領域が長軸を有する形状を有し、前記電磁波が照射される特定領域が、前記所定領域の長軸に平行な長軸を有する。
【００１５】
本発明に係る有機薄膜の製造方法のさらに他の特定の局面では、２つの電極に接するように設けられる有機薄膜の製造方法であって、２つの前記電極間に直流電圧を印加した場合の電位こう配の略中心となる位置に応じた前記流動体部分に電磁波が照射される。
【００１６】
本発明に係る有機薄膜の製造方法のさらに特定の局面では、２つの電極に接して設けられる有機薄膜の製造方法であって、電磁波が照射される領域が、２つの前記電極間に直流電圧を印加した場合の電気力線の内、電位こう配の略中心を通る電気力線に平行な向きの長軸を有する。
【００１７】
本発明のさらに別の特定の局面では、上記本発明の製造方法に従って得られた有機薄膜であって、トランジスタ用またはダイオード用有機薄膜が提供される。
【００１８】
また、本発明のさらに他の特定の局面では、本発明の製造方法に従って得られた、有機ＥＬ用の有機薄膜が提供される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る有機薄膜の製造方法では、所定領域に展開された流動体の固化に先立ち、流動体に電磁波が照射される。従来の有機薄膜の形成方法では、流動体を固化させる過程において、結晶核や凝集核がランダムに生成する。そのため、得られた有機薄膜における結晶性や分子配向が不均一となりがちであり、導電率や誘電率などが部分的にばらつきがちであった。
【００２０】
これに対して、本発明の製造方法では、上記電磁波の照射により、固化前の流動体中に、局所的な温度変化や圧力変動が生じ、電磁波が照射されている領域において、結晶核や凝集核の生成を誘発させることができる。そのため、結晶化や凝集は、生成した結晶核や凝集核を起点として進行する。結晶核や凝集核の誘発される位置や密度は、電磁波の照射位置、照射条件、流動体の温度や組成などにより制御することができる。
【００２１】
従って、本発明によれば、結晶核や凝集核の生成を制御をすることにより、結晶性や分子配向の均一性を容易に高めることができ、導電率や誘電率等の物性の均一性に優れた薄膜を容易に提供することが可能となる。
【００２２】
所定領域に展開された流動体の内の特定領域の流動体部分に電磁波を照射する場合には、該特定領域において、結晶核や凝集核を発生させることができ、該特定領域を起点として、結晶化や凝集化が進行し、従って、該特定領域を選択することにより、薄膜の結晶性や分子配向の均一性を高めることができ、導電率や誘電率等の物性の均一性に優れた有機薄膜を確実に提供することができる。
【００２３】
所定領域に電磁波を照射し、局所的に加熱し、電磁波が照射された部分から流動体を優先的に固化させる場合には、それによって、照射された部分から結晶化あるいは凝集化を速やかに進行させることができる。
【００２４】
電磁波としては、特に限定されないが、コヒーレント光、赤外線、可視光またはマイクロ波を用いる場合には、流動体の一部に電磁波を容易にかつ確実に照射することができる。
【００２５】
所定領域に展開された流動体に電磁波を複数回照射する場合には、複数回の照射により、結晶核や凝集核の生成をより確実に誘発させることができる。
【００２６】
所定領域に展開された流動体に対し、電磁波を複数回照射するに際し、電磁波が照射される領域が重なり合わされるように、電磁波が複数回照射される場合には、照射される位置が重なり合うため、重なり合っている領域においてより確実に結晶核や凝集核の生成が誘発される。
【００２７】
流動体が展開される所定領域が長軸を有する形状であり、電磁波が照射される特定領域の中心が該所定領域の長軸上に設定されている場合には、長軸の一方側と反対側とにおいて、結晶核や凝集核が均一に生成し易くなり、得られた有機薄膜の均一性を効果的に高めることが可能となる。
【００２８】
所定領域が長軸を有する形状を有し、電磁波が照射される特定領域が、所定領域の長軸に平行な長軸を有する場合には、特定領域の長さ方向が、所定領域の長さ方向と一致されているため、所定領域において長軸方向、すなわち短軸方向に比べて大きな寸法の領域において結晶核や凝集核を確実に生成させることができ、長軸方向における物性の均一な有機薄膜を容易に得ることができる。
【００２９】
２つの電極に接するように設けられる有機薄膜の製造方法であって、２つの電極間に直流電圧を印加した場合の電位こう配の略中心となる位置に応じた流動体部分に電磁波が照射される場合に、上記電位こう配の略中心となる位置から一方の電極側の部分と、他方の電極側の部分とにおいて、結晶核や凝集核の生成の差が生じ難い。従って、得られた有機薄膜では、電位こう配の略中心となる位置の一方の電極側部分と、他方の電極側部分の物性のばらつきが生じ難い。
【００３０】
２つの電極に接して設けられる有機薄膜の製造方法であって、電磁波が照射される領域が、２つの電極間に直流電圧を印加した場合の電気力線の内、電位こう配の略中心を通る電気力線に平行な向きの長軸を有する場合には、電位こう配の略中心から一方の電極側の照射領域と、他方の電極側における照射領域とにおいて核生成の差が生じ難い。従って、得られた有機薄膜では、上記電位こう配の略中心から一方の電極側部分と、他方の電極側部分とで物性ばらつきが生じ難い。
【００３１】
本発明に係るトランジスタ用またはダイオード用有機薄膜は、本発明の有機薄膜の製造方法により得られたものであり、従って、電荷移動度の均一性に優れたトランジスタやダイオードを容易に提供することができる。
【００３２】
また、本発明に係る有機ＥＬ用の有機薄膜は、本発明の有機薄膜の製造方法により得られたものであるため、特性の均一性に優れ、従って、品質のばらつきが生じ難い有機ＥＬ素子を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の実施形態及び実施例を詳細に説明する。
【００３４】
本発明に係る有機薄膜の製造方法では、先ず、有機薄膜材料を含む流動体が所定領域に展開される。この有機薄膜材料を含む流動体としては、有機薄膜材料を含む融液、有機薄膜材料を含む溶液、超臨界流体、懸濁液、ゾル、エマルジョン、固体と液体との混合物が液状化したものなど、様々な流動体を挙げることができる。
【００３５】
また、上記有機薄膜材料としては、有機薄膜を形成し得る材料である限り、特に限定されず、様々な有機薄膜材料を用いることができる。このような有機薄膜材料の例としては、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）などのポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）などとの混合物からなる高分子材料、チオフェンモノマーと他のモノマーとが混合された共重合体やオリゴマー、またはフラーレンもしくはデンドリマーなどの分子性有機物質などを挙げることができる。
【００３６】
また、上記流動体を用意するに際し、有機薄膜材料を含む溶液や懸濁液を調製する場合の溶媒や分散媒等についても特に限定されず、様々な有機溶剤や水などを用いることができる。
【００３７】
本発明では、上記有機薄膜材料を含む流動体が所定領域に展開される。この所定領域は、有機薄膜を形成するステージ上に形成されることになるが、このステージを形成する材料は特に限定されず、ガラス、金属、セラミックス、または有機もしくは無機フィルムなどを用いることができる。さらに、所定領域に流動体を展開する方法についても特に限定されない。また、所定領域は、前記流動体が展開されるステージ表面において、所定領域の平面形状に応じた凹部を形成することにより、他の部分から区画されていてもよく、堤（バンク）や枠で囲まれた領域により所定領域が他の部分から区画されていてもよい。さらに、上記ステージ表面において、流動体に対する親和力が高い表面部分を所定領域の平面形状となるように設け、それによって所定領域を他の領域と区画するように設けてもよい。
【００３８】
上記所定領域への流動体の展開方法は特に限定されず、流動体を所定領域に付与する適宜の方法、例えば、インクジェット印刷技術、グラビア印刷技術、オフセット印刷技術、フレキソ印刷技術、凸版式印刷技術、スクリーン印刷技術どの各種印刷技術を用いることができ、あるいはプロッタ装置などを用いて流動体をステージの所定領域に展開してもよい。
【００３９】
本発明に係る製造方法では、上記展開された流動体に電磁波を照射する。電磁波としては、特に限定されず、前述したように、コヒーレント光、赤外線、可視光及びマイクロ波からなる群から選択された少なくとも１種が好適に用いられる。所定領域の一部に選択的にかつ容易に電磁波を照射することができる。特に、レーザーやメーザーなどを用いたコヒーレントな光が好ましく、その場合には、所定領域の一部に高精度に照射することができる。もっとも、赤外線ランプ、マグネトロンまたはジャイロトロンを用いたコヒーレントでない電磁波、すなわち赤外線光や可視光またはマイクロ波などを照射してもよい。
【００４０】
上記電磁波の照射は、所定領域の一部、すなわち特定領域に行われ、それによって該特定領域において、結晶核や凝集核が生成し、特定領域を起点として結晶化や凝集化が進行する。従って、得られる有機薄膜の結晶性や凝集性を高度に制御でき、物性の均一な有機薄膜をより確実に得ることができる。特に、局所的に電磁波を照射した場合、局所的に加熱され、該照射された部分から流動体が優先的に固化することになる。
【００４１】
上記電磁波の照射条件については、使用する流動体の種類、流動体の展開されている部分の厚み、所定領域の大きさ等によって、また電磁波の種類によって異なるため、一義的には定め得ない。また、上記電磁波照射後の流動体の固化については、自然固化、あるいは加熱を併用した固化方法などを用いることができる。
【００４２】
次に、図面を参照しつつ、本発明の有機薄膜の製造方法の具体的な実施形態を説明する。
【００４３】
図１（ａ）は、本発明の有機薄膜の製造方法の第１の実施形態を説明するための略図的正面断面図であり、（ｂ）は、模式的平面図である。第１の実施形態では、基板１の表面が流動体が展開されるステージを構成している。基板１の上面に、矩形板状の堤２が設けられている。この堤２で囲まれた部分が所定領域を構成することとなる。
【００４４】
なお、上記堤２を構成する材料としては、流動体３に侵されない物質であれば特に限定されず、例えばポリイミドなどのポリマーを好適に用いることができる。また、基板１と堤２は同じ材料で構成されていてもよい。
【００４５】
堤２で囲まれた領域に、有機薄膜材料を含む流動体３を展開する。この状態で、図１（ａ）の矢印Ａで示すように、展開された流動体３の方向から、流動体の一部に電磁波を照射する。
【００４６】
図１（ｂ）では、電磁波が照射される領域が、円Ｂで示されている。図２では、電磁波が照射される領域Ｂ、すなわち特定領域Ｂに電磁波が照射されることになるが、この特定領域Ｂは、所定領域の略中央に設定されることが望ましい。その場合には、所定領域に展開された流動体３の中央から周囲に向って結晶化や凝集化が進行するため、より一層均一性に優れた有機薄膜を得ることができる。
【００４７】
なお、電磁波の照射は、流動体３が完全に固化する前に行えばよい。好ましくは、流動体３の固化が進行するに先立ち、すなわち流動体３を展開した直後に電磁波を照射することが望ましい。電磁波の照射により、照射部分において結晶核や凝集核として作用する核４，４が生成する。すなわち、電磁波が照射されると、照射されている領域内において、局所的な温度変化や圧力変動が生じる。従って、結晶核や凝集核として作用する核４，４が照射領域において生成しがちとなる。核４は、核４の周囲の部分に比べて、結晶化や凝集化が生じやすい部分である。従って、流動体３の固化に際しては、核４を起点として、結晶化や凝集化が進行する。そのため、所定領域中の流動体３においてランダムに核が生成した場合に比べて、得られた有機薄膜の結晶性や分子配向の均一性を高めることができ、導電率や誘電率などの物性の均一性に優れた有機薄膜を得ることができる。
【００４８】
さらに、本実施形態では、所定領域は、図示のように、略矩形の形状を有し、長軸Ｘと短軸Ｙとを有する。
【００４９】
なお、長軸及び短軸は、楕円等において慣用されている表現であるが、長さ方向を有する平面形状において、平面形状の中心を通り、長さ方向に平行な軸を直軸とし、短軸とは、平面形状の中心を通る直線であって、平面形状の外周縁と交差する一対の点間の距離が最も短い直線部分をいうものとする。本実施形態のように、略矩形の形状の場合、長軸Ｘと短軸Ｙとは直交していることになる。
【００５０】
好ましくは、照射領域Ｂ、すなわち特定領域の中心が、上記長軸Ｘ上に位置することが望ましい。その場合には、特定領域大きさは、長軸Ｘの一方側と反対側とにおいて等しくする。従って、長軸Ｘの両側において均一に結晶化や凝集が進行する。よって、長軸Ｘの両側の部分間の均一性が高められた有機薄膜を容易に得ることができる。
【００５１】
図２（ａ）は、本発明の第２の実施形態の有機薄膜の製造方法を説明するための正面断面図であり、図２（ｂ）は、その模式的平面図である。第２の実施形態では、基板１上に、所定距離を隔てて、第１の電極５と第２の電極６とが形成されている。本実施形態では、第１，第２の電極５，６はいずれも直線状の形状を有し、平行に配置されているが、電極５，６は、直線状の形状を有する必要は必ずしもない。
【００５２】
また、本実施形態においても、所定領域を形成するために、堤２が設けられている。堤２は、図２（ｂ）に示すように、略矩形の形状を有し、その短辺部分が上記電極５，６上に位置するように設けられている。
【００５３】
本実施形態では、上記堤２で囲まれた所定領域に流動体３が第１の実施形態の場合と同様にして展開される。従って、流動体３の一端は第１の電極５に、他端は第２の電極６に接続することとなる。すなわち、得られる有機薄膜は、第１，第２の電極５，６に接続されることになる。
【００５４】
本実施形態においては、上記流動体３に、矢印Ａで示すように、部分的に電磁波が照射される。この電磁波照射領域Ｂすなわち特定領域は、図２（ｂ）では、図１（ｂ）と同様に円で示されている。
【００５５】
本実施形態においては、好ましくは、所定領域が長軸Ｘを有する形状であるため、所定領域の長軸Ｘ上に照射領域Ｂの中心が位置するように照射することが望ましい。
【００５６】
加えて、図３に平面図で示す変形例のように、例えば赤外線レーザーを用い、複数の照射領域Ｃ、Ｄ及びＥに、照射領域の一部が重なり合うように、複数回照射することが望ましい。この場合、複数の照射領域Ｃ〜Ｅにおいて、結晶核や凝集核の生成が誘発され、結晶化や凝集が照射領域Ｃ〜Ｅを起点として周囲に広がることとなる。従って、一層速やかに、均一な有機薄膜を得ることができる。このように、所定領域に展開された流動体に、電磁波を複数回照射してもよい。
【００５７】
また、図３に示した照射領域Ｃ〜Ｅは、部分的に重なり合っており、従って照射領域Ｃ〜Ｅは、組み合わって１つの特定領域を構成していることとなる。この場合、好ましくは、図３に示されているように、特定領域もまた、長軸を有する形状となるため、この特定領域の長軸が、長軸を有する所定領域の長軸上にあることが望ましい。そして、図３に示すように、照射領域Ｃ〜Ｅからなる特定領域の長軸が、所定領域の長軸Ｘ上にある場合には、所定領域の長軸方向において結晶核や凝集核の生成の誘発が速やかに進行する。従って、得られた有機薄膜の長軸方向において物性の均一性を高めることができる。すなわち、短軸方向に比べて大きな寸法を有する長軸方向においても、物性の均一な有機薄膜を容易に得ることができる。なお、照射領域Ｃ〜Ｅからなる特定領域の長軸は、所定領域の長軸Ｘ上に位置しておらずともよく、すなわち照射領域Ｃ〜Ｅからなる特定領域の長軸は、長軸Ｘと平行であってもよい。もっとも、より好ましくは、上記変形例のように、長軸Ｘ上に、特定領域の長軸が位置していることが望ましい。
【００５８】
上記特定領域の長軸は、特定領域の長軸Ｘに平行、より好ましくは、所定領域の長軸上に位置していることが望ましく、その場合には、得られた有機薄膜に第１，第２の電極５，６から直流電圧を印加した場合の電気力線の内、電位こう配の略中心を通る電気力線が、長軸Ｘ上をほぼ通ることになる。従って、第１，第２の電極５，６間に直流電圧を印加して有機薄膜の物性を利用した構造を構成した場合、特性のばらつきが少ないデバイスを提供することが可能となる。
【００５９】
また、電磁波を複数回照射する場合、照射領域Ｃ〜Ｅからなる特定領域の中心は、第２の実施形態の場合と同様に、長軸Ｘ上に位置していることが望ましい。その場合には、長軸Ｘの両側における物性の均一性が高められた有機薄膜を確実に得ることができる。
【００６０】
図４は、第２の実施形態の有機薄膜の製造方法の他の変形例を説明するための平面図である。ここでは、第２，第３の実施形態と同様に、流動体３が、第１，第２の電極５，６に接するように配置されている。また、所定領域は、堤２で囲まれた領域とされている。この所定領域の長軸Ｘ上に位置する複数の照射領域Ｆ，Ｇに電磁波が照射される。照射領域Ｆと照射領域Ｇとは分離しており、従って、複数の特定領域が存在することとなる。このように、電磁波を複数回照射する場合、各照射領域が、重なり合っていなくともよく、その場合には、複数の特定領域が構成されることになる。このように、本発明においては、電磁波が照射される特定領域が複数設けられてもよい。
【００６１】
また、好ましくは、照射領域Ｆ，Ｇの中心は、第２の実施形態の場合と同様に、長軸Ｘ上に位置することが望ましい。また、複数の照射領域Ｆ，Ｇの中心を結ぶ線は、上記長軸Ｘ方向に平行であることが望ましく、それによって、長軸を有する所定領域において、長軸方向の均一性が高められた有機薄膜を容易に得ることができる。
【００６２】
図５は、第２の実施形態のさらに他の変形例を説明するための模式的平面図である。本変形例では、複数の照射領域Ｈ，Ｉは、短軸Ｙ上にその中心が位置するように構成される。従って、複数の特定領域が、短軸Ｙ上において、所定距離を隔てられて配置されている。このように、複数の照射領域Ｈ，Ｉを、長軸を有する所定領域の短軸Ｙ方向に配置してもよい。好ましくは、上記照射領域Ｈ，Ｉの中心は、短軸上に位置することが望ましく、それによって短軸Ｙの一方側と他方側における有機薄膜の特性のばらつきを小さくすることができる。
【００６３】
図６は、第２の実施形態のさらに別の変形例を説明するための模式的平面図である。図６に示すように、照射領域Ｊは、所定領域の一部に設けられておればよく、必ずしも所定領域の長軸Ｘ上や短軸Ｙ上に位置しておらずともよい。
【００６４】
次に、電磁波を上記のように、所定領域の特定領域に集中させる方法について説明する。レーザー光などは、所定領域の特定の領域に高精度に照射することができる。これに対して、マイクロ波などを用いた場合には、所定領域の一部にマイクロ波を集中させる必要がある。このようなマイクロ波等を集中させる構造を、図７〜図９を参照して説明する。
【００６５】
図７に示す方法では、基板１上に、堤２が設けられており、堤２で囲まれた所定領域に流動体３が展開されている。この状態において、流動体３の上方から、誘電体１１の下面に、第１〜第３の導体１２〜１４が設けられた電磁波照射装置１０を近接させる。そして、第１の導体１２と第２の導体１３との間に交流電流を印加することにより、電磁波を流動体３に上方から照射する。この場合、第１の導体１２と、第２の導体１３とは位相を逆転させる。そして、第３の導体１４と第２の導体１３とは同位相とする。第３の導体１４は、設けられずともよい。
【００６６】
このように、第１の導体１２と、第２の導体１３とを流れる電流が逆位相とされることにより、電磁波は、一点鎖線Ｋで示すように、第２の導体１２を中心とした一部に照射されて流動体３に照射されることになる。
【００６７】
図８（ａ）は、電磁波を集中的に照射させる方法の他の例を示す模式的平面断面図である。ここでは、基板１上に、第１，第２の電極５，６、及び堤２が設けられており、流動体３が展開される構造の上方に、照射装置１０Ａが配置されて、電磁波が照射される。  図８（ｂ）は、図８（ａ）に示した誘電体１１を省略し、流動体３に電磁波が照射されている領域を説明するための模式的平面図である。
【００６８】
電磁波照射装置１０Ａは、第２の導体１３の一部に開口１３ａが設けられていることを除いては、図９に示した電磁波照射装置１０と同様に構成されている。この開口１３ａは、電磁波照射領域の略中央に設けられており、インピーダンス変調部分として機能する。開口に代えて、凹凸を設けることによりインピーダンス変調部を構成してもよい。上記開口１３ａが設けられている部分では、交流電流を通電する伝送線路のインピーダンスが周囲と異なることになる。従って、破線Ｌで示すように、電磁波が、上記インピーダンス変調部近傍に限定されて、展開されている流動体３に照射されることになる。
【００６９】
図９は、基板１上に第１，第２の電極５，６及び堤２が設けられており、流動体３が堤２で囲まれた所定領域で展開されている場合に、電磁波を照射領域に照射するための他の例を説明するための正面断面図である。
【００７０】
図９に示すように、上記流動体３の上方から、誘電体基板１１の下面に設けられた第１の導体１２を接近させ、基板１の下方から、すなわち流動体３の下方から、誘電体１５の上面に設けられた第２の導体１３を近接させ、第１，第２の導体１２，１３間に交流電流を印加してもよい。この場合には、第１の導体１２と、第２の導体１３とを逆位相とすればよく、それによって、一点鎖線Ｍで示すように、流動体３の特定の領域に電磁波を集中して照射させることができる。なお、誘電体１１及び／または誘電体１５は省略してもよい。
【００７１】
上記のように、図７〜図９に示した方法の他、マイクロストリップライン、スロットライン、コプレナーウェープガイドなどの様々な伝送線路を用い、電磁波が照射される領域を限定してもよい。
【００７２】
（実施例）
図１（ａ），（ｂ）に示した第１の実施形態に従って有機薄膜を製造した。先ず、ガラスからなる基板１上に、ポリイミドからなる堤２を形成し、所定領域を区画した。この所定領域の短軸Ｘの長さを０．８ｍｍ、長軸Ｙの長さを１．２ｍｍとした。
【００７３】
有機薄膜材料として、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐ３ＨＴ、アルドリッチ社製）をトルエンに０．８重量％濃度となるように溶融させ、Ｐ３ＨＴのトルエン溶液を用意した。上記堤２で囲まれた領域にＰ３ＨＴのトルエン溶液を最終的な薄膜の膜厚が２００ｎｍとなるよう展開した。展開した後、３秒後の時点で、すなわちＰ３ＨＴのトルエン溶液が固化する前に、８３０ｎｍの赤外レーザーをスポット径が６０μｍ、エネルギー密度０．０１ｍＪ／ｃｍ2となるように照射した。この照射領域の平面形状は略円形であり、中心を所定領域の長軸Ｘと短軸Ｙとの交点に一致させた。レーザー照射後、２５℃の温度で２５分放置した後、オーブン中で８０℃の温度で１時間焼成し、有機薄膜を得た。このようにして、平均膜厚２００ｎｍの有機薄膜を得た。
【００７４】
得られた有機薄膜について、第１の測定点を長軸Ｘと短軸Ｙとの交点に設定し、長軸Ｘ上において、０．２ｍｍ隔てられた第１，第２の測定点との間、及び同じく０．２ｎｍ隔てられた第２，第３の測定点との間の導電性をプローバーを用いて測定し、移動度を算出した。第１，第２の測定点間の移動度は２．１×１０-3ｃｍ2／Ｖｓであり、第２，第３の測定点間の移動度は２．０×１０-3ｃｍ2／Ｖｓであった。従って、第１，第２の測定点間の移動度及び第２，第３の測定点間の移動度がほぼ等しく、導電率の均一性が良好な有機薄膜の得られていることが確かめられた。
【００７５】
（比較例）
赤外レーザーを照射しなかったことを除いて、実施例と同様にして有機薄膜を作製した。このようにして得られた有機薄膜について、実施例と同様にして、第１，第２の測定点間及び第２，第３の測定点間の移動度を求めた。その結果、第１，第２の測定点間の移動度は０．７×１０-4ｃｍ2／Ｖｓであり、第２，第３の測定点間の移動度は０．２×１０-4ｃｍ2／Ｖｓであり、第１，第２の測定間の導電率と第２，第３の測定点間の導電率とが大きく異なっていることがわかる。すなわち、短軸Ｙと長軸Ｘとの交点から遠い第３の測定点近傍では、結晶化度が非常に低くなっているものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る有機薄膜の製造方法を説明するための正面断面図及び模式的平面図。
【図２】（ａ）及び（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る有機薄膜の製造方法を説明するための正面断面図及び模式的平面図。
【図３】第２の実施形態の変形例における照射領域を説明するための模式的平面図。
【図４】第２の実施形態の他の変形例における照射領域を説明するための模式的平面図。
【図５】第２の実施形態のさらに他の変形例における照射領域を説明するための模式的平面図。
【図６】第２の実施形態のさらに別の変形例における照射領域を説明するための模式的平面図。
【図７】第１の実施形態の製造方法において、電磁波としてマイクロ波を用いた場合にマイクロ波を照射する領域を集中する方法の一例を説明するための模式的平面断面図。
【図８】第２の実施形態の製造方法において、電磁波としてマイクロ波を用いた場合に、照射領域を限定する方法を説明するための模式的正面断面図及び（ｂ）はその模式的平面図。
【図９】第２の実施形態の製造方法において、電磁波としてマイクロ波を用いた場合にマイクロ波を照射する領域を限定する方法の他の例を説明するための模式的正面断面図。
【符号の説明】
【００７７】
１…基板
２…堤
３…流動体
４…核
５…第１の電極
６…第２の電極
１０…電磁波照射装置
１０Ａ…電磁波照射装置
１１…誘電体
１２…第１の導体
１３…第２の導体
１３ａ…開口
１４…第３の導体
１５…誘電体
Ａ…電磁波
Ｂ〜Ｍ…照射領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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