(57)【要約】【課題】  内視鏡などの消毒又は滅菌に適し、抵抗性の強い芽胞を対象として短時間に十分な殺菌効果を発揮することが可能な消毒及び滅菌方法を提供する。【解決手段】  例えば内視鏡などの医療機器を対象物とする消毒又は滅菌方法であって、例えばペルオキシカルボン酸などの殺菌剤による処理と、例えば波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射とを組み合わせて含む方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
消毒又は滅菌方法であって、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせて含む方法。
【請求項２】
波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射を行なう請求項１に記載の方法。
【請求項３】
紫外線照射を5秒以上10分以内の時間行なう請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
消毒又は滅菌の対象物が医療機器である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
消毒又は滅菌の対象物が内視鏡である請求項４に記載の方法。
【請求項６】
殺菌剤がペルオキシカルボン酸である請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ペルオキシカルボン酸が、過酢酸又は一般式（Ｉ）：
【化１】
2007082900.tif 000016
（式中、Ｒ1は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１０のアルキル基（ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く）、又は置換若しくは無置換のＣ６−Ｃ１０のアリール基を示し、Ｌは置換若しくは無置換のＣ２−Ｃ１２の２価の連結基を示し、Ｒ1とＬは結合して環を形成してもよい）で表されるペルオキシカルボン酸である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
Ｌが−ＣＨ(Ｒ11)−Ｌ12（式中、Ｒ11は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、Ｌ12は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１１の２価の連結基を示す）で表される基である請求項７に記載の方法。
【請求項９】
Ｌ12が置換又は無置換のＣ１−Ｃ４の２価の連結基である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ1が置換又は無置換のＣ１−Ｃ３のアルキル基である請求項７ないし９のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は消毒又は滅菌方法に関する。より具体的には、本発明は内視鏡等の医療用機器の消毒又は滅菌に適した処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
内視鏡等の医療用機器は、使い捨てにできず、患者に直接接触することから、より安全な消毒又は滅菌を施して次の診療等に用いる必要がある。しかし、特に規模の小さい病院では１つの機器を短時間で使い回すことが多い。そのため、医療用機器の消毒又は滅菌に用いる組成物としては、幅広い微生物を死滅させる作用を有し、かつ短時間で医療用機器を消毒又は滅菌できる組成物が望まれている。また、安全性の観点から、該組成物中の化合物等の量は可能な限り少ないことが望まれる。
【０００３】
従来、内視鏡等の医療用機器の洗浄用組成物及び消毒又は滅菌用組成物としては、グルタルアルデヒドやｏ−フタルアルデヒド等のアルデヒドを有効成分とする組成物が知られており、実際に消毒薬として市販されている。しかし、これらアルデヒド化合物を主成分とする消毒薬については、変異原性や毒性が強いことに加え、芽胞の様な抵抗性の強い菌に対する抗菌活性が弱いことが知られている。
【０００４】
細菌細胞は周囲の環境がその細菌の生育に不利な状況になると死滅していくのが一般的である。しかし、ある種の細菌は乾燥や高温などの環境条件が悪くなると芽胞とよばれる耐久器官を作り生き延びることが知られている。この芽胞を形成する菌としては、好気性の細菌であるBacillus属に属する細菌や嫌気性の細菌であるClostridium属に属する細菌など、グラム陽性の比較的大きい桿菌が知られている。芽胞形成菌であっても栄養バランスが取れていて分裂増殖している時（栄養型）には芽胞を形成しない時が多く、バランスが崩れた時に菌体内に芽胞を生じる。
【０００５】
芽胞は物理的又は化学的刺激に対して強い抵抗性を示すことが知られている。これは、芽胞では水分の少ない濃厚な原形質及び核が厚い殻で覆れていることがその理由であると推定されている。芽胞中の水分の60-70%は結合水の形になっており、自由水をもたない脱水状態になっている。また、芽胞はその重量の5-12%をジピコリン酸が占め、ジピコリン酸が大量のCaをキレートした状態で保持していることが特徴である。
【０００６】
芽胞は代謝が行われていない休止状態にあり、細菌の増殖などの生物活性が殆ど認められないことから、細菌胞子や内生胞子と呼ばれることがある。芽胞は、数年ないし数十年に亘って休眠した後にも再生能力を有することが知られていることから、医学や食品工業等の分野では、芽胞を完全に死滅させることが滅菌の基準の一つとなっている。特に、病院や養護施設等で用いられる医療器具や備品は、内部感染防止等の観点から十分な殺菌洗浄処理を行う必要がある。
【０００７】
このような殺菌洗浄処理を行うための殺菌剤又は消毒剤等が種々知られており、グルタルアルデヒドや過酢酸が広く用いられている。グルタルアルデヒドや過酢酸を用いた殺菌洗浄処理として、例えば、内視鏡の殺菌洗浄では、第４級アンモニウム塩系殺菌剤、アルコール、酸性水、又は両性界面活性剤等を用いた一次消毒工程、酵素製剤や中性洗剤等を用いた洗浄工程を経た後、グルタルアルデヒドや過酢酸による滅菌処理が行われ、必要に応じてオートクレーブ滅菌又は乾熱滅菌が行われる。
【０００８】
一方、紫外線による殺菌については、米国特許第4,289,728号明細書には、0.25％ H2O2中の多数の芽胞を４＋logサイクル減少させるためには、0.25％ H2O2中の芽胞懸濁液を紫外線に30秒照射した後、60秒間85℃に加熱することが必要であると記載されている。しかしながら、微生物の存在確率が100万分の1以下であることを保証する滅菌レベルとなる６＋logサイクル減少を達成するためにはさらに時間が必要であり、さらに紫外線照射及び加熱処理を含む複数の処理工程が必要となることから、実際の臨床現場で実施するには煩雑な点が問題である。
【０００９】
特公平7-112489号公報には、微生物が存在している物品の殺菌方法であって、物品に対して5秒間から50秒間の紫外線照射を行い、合わせて15重量％から25重量％の過酸化水素と0.01重量％から１重量％の過酢酸とを含む溶液を用いて処理する方法が開示されている。しかしながら、この刊行物に記載された方法に用いる消毒薬は過酢酸に限定されており、過酢酸以外の消毒薬、特に過酢酸以外のペルオキシカルボン酸は上記刊行物に具体的に開示されていない。また、上記刊行物には殺菌対象となる物品として食品容器が開示されているが、物品として医療機器、特に内視鏡は開示されていない。
【００１０】
さらに、上記の２つの刊行物に記載された方法では消毒薬が存在する状態において紫外線照射と行っているが、消毒薬による殺菌処理の前工程又は後工程として、消毒薬を含まない状態での紫外線照射を行う工程は上記のいずれの刊行物にも開示されていない。このように、過酢酸以外のペルオキシカルボン酸を用い、殺菌対象が医療機器、特に内視鏡であり、かつ消毒薬が存在する状態における紫外線照射に加えて、消毒薬による殺菌処理の前工程又は後工程として消毒薬を含まない状態での紫外線照射を行う方法は上記刊行物には記載がない。
【特許文献１】米国特許第4,289,728号明細書
【特許文献２】特公平7-112489号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、抵抗性の強い芽胞を対象として短時間に十分な殺菌効果を発揮することが可能な消毒及び滅菌方法を提供することにある。また、本発明の課題は、上記の特徴を有する消毒又は滅菌方法であって、内視鏡等の医療用機器の消毒又は滅菌に適した方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行い、殺菌剤を用いた殺菌処理に紫外線照射による殺菌処理を組み合わせることによって、抵抗性の強い芽胞に対しても短時間に十分な殺菌効果を達成できることを見出した。本発明はこれらの知見を基に完成されたものである。
【００１３】
すなわち、本発明により、消毒又は滅菌方法であって、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせて含む方法が提供される。紫外線照射は殺菌剤を含む溶液中で行ってもよく、あるいは殺菌剤の非存在下において行なってもよいが、好ましくは殺菌剤による処理の前工程及び／又は後工程において殺菌剤の非存在下に行うことが好ましい。
本発明の好ましい態様によれば、波長が300 nm以下の紫外線を用いた紫外線照射を行なう上記の消毒又は滅菌方法、及び紫外線照射を5秒以上10分以内の時間行なう上記の方法が提供される。また、殺菌対象が医療機器である上記の方法、及び殺菌対象が内視鏡である上記の方法も好ましい態様として提供される。
【００１４】
また、別の好ましい態様によれば、殺菌剤がペルオキシカルボン酸である上記の方法が提供される。ペルオキシカルボン酸としては、過酢酸又は一般式（Ｉ）：
【化１】
2007082900.tif 000002
（式中、Ｒ1は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１０のアルキル基（ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く）、又は置換若しくは無置換のＣ６−Ｃ１０のアリール基を示し、Ｌは置換若しくは無置換のＣ２−Ｃ１２の２価の連結基を示し、Ｒ1とＬは結合して環を形成してもよい）で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。Ｌとしては、−ＣＨ(Ｒ11)−Ｌ12（Ｒ11は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、Ｌ12は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１１の２価の連結基を示す）が好ましい例として挙げられる。Ｌ12としては置換又は無置換のＣ１−Ｃ４の２価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基（−ＣＨ（ＣＨ3）−）がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。Ｒ1が置換又は無置換のＣ１−Ｃ３のアルキル基であることが好ましく、Ｒ1がメチル基又はエチル基であり、かつＲ11が水素原子であることがさらに好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により提供される消毒又は滅菌方法は、抵抗性の強い芽胞などに対しても極めて短時間で完全な消毒又は滅菌を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本明細書において、消毒とは感染予防上問題となる微生物の殆ど全てを除去、死滅、又は不活性化することを意味し、滅菌とは全ての微生物を死滅、不活性化又は除去することを意味する。通常は微生物の存在確率が100万分の1以下であることを保証して「滅菌」という。消毒と滅菌の概念は場合によっては同義に用いられることもあるが、本明細書において「消毒又は滅菌」と言う場合には、そのような重なり合う概念も含まれる。本明細書において用いられる「殺菌剤」という用語は微生物に対して殺菌又は抗菌作用を有する薬剤を意味しているが、消毒又は滅菌の目的で用いられる薬剤のほか、洗浄などの目的で用いられる薬剤を包含している。殺菌剤の用語は最も広義に解釈しなければならず、いかなる意味においても殺菌剤の用語を限定的に解釈してはならない。
【００１７】
本発明の消毒又は滅菌方法において用いられる殺菌剤は、主として化学的作用により種々の微生物に対して殺菌作用を発揮するものであり、Spauldingによって分類された高水準、中水準、低水準の殺菌剤のいずれのものであってもよい。Spauldingによれば、主として増殖型の一般細菌を殺すことができるものは低水準（低度）殺菌剤、抵抗力の強い結核菌まで殺すことができるものは中水準（中度）殺菌剤、最も抵抗力の強い細菌芽胞までを殺すことができるものは高水準（高度）殺菌剤に分類される。一般的に、低水準殺菌剤としては第四級アンモニウム塩、クロルヘキシジン、又は両性界面活性剤などを挙げることができ、中水準殺菌剤としてはアルコール系殺菌剤、ヨード系殺菌剤、フェノール系殺菌剤、又は次亜塩素酸系殺菌剤などを挙げることができ、高水準殺菌剤としてはアルデヒド系殺菌剤、二酸化塩素、又は過酢酸などを挙げることができる。
【００１８】
本発明の消毒又は滅菌方法は、多様な対象物の消毒又は滅菌に使用することができる。対象物の多くは液体又は固体である。液体の形態の対象物の典型例としては、微生物汚染された水性物質、例えば、再循環プロセス水又は廃棄前の水性流出液などを挙げることができる。そのようなプロセス水及び流出液は多くの産業において発生しており、バクテリア、藻類、又はイーストで汚染されていることがあり、まれにはウイルスによって汚染されていることがある。汚染プロセス水は植物及び動物物質の処理により不可避的に発生し、例えば、紙及びパルプ産業、食品処理（例えば、砂糖精製産業、醸造、ワイン製造、及びアルコール蒸留産業など）、わら処理からの流出液、下水処理場からの排水（例えば、部分処理又は単にろ過された下水からの排水、及び海に延びる管路による排水）、食肉処理工場、動物性脂肪精製事業、及び家畜の飼育からの排水などがある。その他の液体対象物としては、園芸産業における灌漑水や、水耕栽培における水性肥料や循環水、水産業における養殖用水などが挙げられる。さらに別の重要な汚染水性物質の発生源として、産業において生じる冷却水を挙げることができ、例えば、大きな建物（例えば、ホテル、事務所、及び病院など）に設置された空調装置から生じる冷却水を挙げることができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、非水性液体物質たとえば切削油の消毒又は滅菌にも使用することができる。
【００１９】
本発明の消毒又は滅菌方法は、固体に対して使用することもできる。例えば、硬質表面の消毒又は滅菌、あるいは食品処理、動物飼育、園芸、仕出し、家庭、若しくは病院環境において再使用を意図する汚染物品の消毒又は滅菌などにも使用することができる。硬質表面としては、例えば、金属、木材、セラミックス、ガラス、繊維、又はプラスチックなどの部材からなる表面を挙げることができる。硬質表面を有する物品としては、例えば、食品パッケージ、コンタクトレンズ、作業台、壁、床、衛生陶器、プール、プラント、衣料、又はシーツ若しくはカバー類、あるいは装置、容器、工具、機械、プラント、若しくは配管などを挙げることができる。病院環境において再使用を意図する汚染物品としては、種々の医療用機器、例えば透析装置、内視鏡、又は移植用材料などを挙げることができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、吸湿性の材料、例えば汚染されたリネン又は特に汚れた赤ん坊用のオムツ（例えばテリータオル地で製造されたものなど）の消毒又は滅菌に用いることもできる。
【００２０】
本発明の消毒又は滅菌方法は、収穫された植物又は植物生成物、例えば種子、球茎、塊茎、果物、若しくは野菜などの消毒又は滅菌に使用することができる。本発明の消毒又は滅菌方法は、成長中の植物、特に収穫前の成長段階にある植物、例えば、穀草、葉野菜、又はサラダ用野菜作物、あるいは根菜、豆類、液果、カンキツ類、又は堅果の消毒又は滅菌に使用することもできる。本発明の消毒又は滅菌方法を適用することが可能な対象物について具体的に説明したが、本発明の消毒又は滅菌方法の適用対象は上記の具体例に限定されることはなく、消毒又は滅菌を意図するあらゆる対象物に対して適用可能である。
【００２１】
本発明の消毒又は滅菌方法を用いることにより、一般的に用いられる殺菌剤に対して特に高い抵抗性を有する芽胞、例えばBacillus subtilisも短時間に死滅させることが可能である。本発明の消毒又は滅菌方法の用途は特に限定されず、上記に例示した多様な対象物に対して適用可能であるが、繰り返し使用することを前提とした医療用機器の消毒又は滅菌に好適に使用することができ、短時間に完全な消毒又は滅菌を達成することが求められる歯科用機器や医療用機器、例えば、内視鏡などの消毒又は滅菌に特に好適に使用することができる。
以下、本発明の消毒又は滅菌方法を内視鏡などの医療用機器に適用する場合についてのみ具体的に言及する場合があるが、そのようは記述は本発明の好ましい態様の説明として理解すべきであり、いかなる意味においても限定的に解釈してはならない。
【００２２】
本発明の方法で使用する紫外線の種類は特に限定されないが、例えば波長が300 nm以下であることが好ましく、200〜280 nmであることがより好ましく、約254 nmであることが特に好ましい。一般に、照射エネルギーが大きい程、胞子に対する滅菌効果は大きくなる。また、大エネルギーでの紫外線照射により、消毒又は滅菌に要する時間を短縮できる。内視鏡などの医療用機器を消毒又は滅菌する場合、機器の表面に対して十分な紫外線照射が行なわれるように、一般的には医療機器などの形状に応じて照射エネルギー量を適宜調節する必要がある。また、照射の条件（ランプと対象物との距離）や微生物の種類などに応じて照射エネルギーを適宜調節することができる。
【００２３】
本発明の消毒又は滅菌方法を行なうにあたり、例えば、医療用機器などを殺菌剤を含む水性溶液に浸漬させることにより両者を接触させて殺菌する方法が好ましい。水性溶液を形成する水性溶媒の種類は特に限定されないが、水のほか、水と混じり合う水性有機溶媒（エタノール、メタノール、アセトンなど）と水との混合物などが挙げられる。該浸漬においては水性溶液を攪拌してもよく、医療用機器を振とうしてもよく、あるいは自動洗浄機を用いてもよい。また、該浸漬前及び／又は該浸漬後に医療用機器などを水洗する工程を含めてもよく、浸漬の後に医療用機器などを滅菌ガーゼ等で拭うか、又はドライヤー等により乾燥させる工程等を含めてもよい。殺菌剤を含む水性溶液への対象物の浸漬時間は特に限定されないが、例えば15秒〜30分の範囲であることが好ましく、30秒〜10分の範囲であることがより好ましい。
【００２４】
紫外線照射の方法は特に限定されないが、例えば、紫外線ランプを自動洗浄機の中に組み込んで照射を行なってもよく、上記の水性溶液中に浸漬された対象物に対して水溶液中で紫外線照射を行なってもよい。また、洗浄機から対象物を取り出して大気中で紫外線を照射することもできる。この場合、紫外線照射は対象物の表面がウェットな状態、又はドライな状態のいずれで行なってもよい。
【００２５】
本発明の方法は、殺菌剤による処理と紫外線照射とを組み合わせることを特徴としているが、殺菌剤による処理工程と紫外線照射工程との組み合わせの順序や組み合わせ回数などは特に限定されず、それぞれの工程を任意の回数採用でき、それぞれの工程を同時に又は時間を変えて適用できる。例えば、紫外線照射及び殺菌剤による処理を同時に行ってもよく、殺菌剤による処理の前工程及び／又は後工程として紫外線照射を別工程として行ってもよい。殺菌剤による処理の前工程及び／又は後工程として紫外線照射を別工程で行う場合には、殺菌剤の非存在下又は存在下のいずれの状態で紫外線照射を行なってもよいが、殺菌剤の非存在下で紫外線照射を行なうことも好ましい。例えば、前工程では界面活性剤などを含む洗浄剤水溶液、後工程ではすすぎ水中で紫外線照射を行ってもよい。さらに、殺菌剤による処理に続いてて紫外線照射を行った後、さらに殺菌剤による処理を繰り替えてして行ってもよく、殺菌剤による処理を一定時間行った後に、時間をあけて紫外線照射を行ってもよい。
【００２６】
本発明の消毒又は滅菌方法に用いる殺菌剤の種類は特に限定されないが、殺菌剤としてペルオキシカルボン酸を用いることが好ましい。以下、殺菌剤がペルオキシカルボン酸である場合について本発明の好ましい態様として言及するが、本発明の方法に用いられる殺菌剤はペルオキシカルボン酸に限定されることはない。
【００２７】
ペルオキシカルボン酸として好ましくは、過酢酸又は下記一般式（Ｉ）：
【化２】
2007082900.tif 000003
（式中、Ｒ1は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１０のアルキル基（ただし、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基は除く）、又は置換若しくは無置換のＣ６−Ｃ１０のアリール基を示し、Ｌは置換若しくは無置換のＣ２−Ｃ１２の２価の連結基を示し、Ｒ1とＬは結合して環を形成してもよい）で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。
【００２８】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1で示される無置換のＣ１−Ｃ１０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、又は２−エチルヘキシル基などを挙げることができる。Ｒ1で示されるＣ１−Ｃ１０のアルキル基は置換基を有していてもよいが、置換基としてヒドロキシ基を有する置換基（水酸基、カルボキシ基、ヒドロペルオキシ基、及びヒドロペルオキシカルボニル基など）は除く。Ｒ1で示されるＣ１−Ｃ１０のアルキル基における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアルキルスルホニル基などを挙げることができる。Ｒ1で示されるＣ６−Ｃ１０の無置換のアリール基としては、例えばフェニル基を挙げることができる。Ｒ1で示されるＣ６−Ｃ１０の無置換のアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、スルホニル基、水酸基、又はカルボキシル基などを挙げることができる。
【００２９】
Ｒ1としては、Ｃ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基が好ましく、Ｃ１〜Ｃ４の無置換のアルキル基がより好ましい。Ｒ1が示すＣ１−Ｃ４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、又はｔｅｒｔ−ブチル基などを挙げることができる。Ｒ1として、最も好ましくはメチル基又はエチル基であるが、これらに限定されない。
【００３０】
一般式（Ｉ）において、Ｌは置換若しくは無置換の炭素数２−１２の２価の連結基を表す。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、アルコキシ置換アルキル基、カルボキシル基などを挙げることができる。また、連結基中に例えば酸素原子、窒素原子などの炭素以外の分子を含んでもよい。Ｌとしては、−ＣＨ(Ｒ11)−Ｌ12（Ｒ11は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、Ｌ12は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１１の２価の連結基を示す）が好ましい例として挙げられる。Ｌ12としては置換又は無置換のＣ１−Ｃ４の２価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基（−ＣＨ（ＣＨ3）−）がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。Ｒ1が置換又は無置換のＣ１−Ｃ３のアルキル基であることが好ましく、Ｒ1がメチル基又はエチル基であり、かつＲ11が水素原子であることがさらに好ましい。
【００３１】
より具体的には、一般式（Ｉ）で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、下記一般式（Ｉ―１）：
【化３】
2007082900.tif 000004
（式中、Ｒ11は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、Ｌ12は置換又は無置換のＣ１−Ｃ１１の２価の連結基を示す）で表されるペルオキシカルボン酸が好ましい。
【００３２】
このとき、Ｌ12としては置換又は無置換のＣ１−Ｃ４の２価の連結基が好ましく、置換又は無置換のメチレン基がより好ましく、メチレン基又はメチル基置換メチレン基（ＣＨ（ＣＨ3））がさらに好ましく、メチレン基が最も好ましい。Ｌ12で表される連結基が置換基を有する場合、置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、水酸基、アルコキシ置換アルキル基、カルボキシル基などを挙げることができる。また、連結基中に炭素以外の分子を含んでもよく、例えば酸素原子、窒素原子を挙げることができる。
【００３３】
また、一般式（Ｉ）で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、一般式（II）又は（III）：
【化４】
2007082900.tif 000005
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は各々独立に水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ１−Ｃ４のアルコキシ基、又はＣ１−Ｃ４アルコキシ置換Ｃ１−Ｃ４アルキル基を示し、Ｌ2は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ９アルキレン基、又は置換若しくは無置換のＣ６−Ｃ９アリーレン基を示し、Ｌ1は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ１０の２価の連結基を示す）で表されるペルオキシカルボン酸もまた好ましい。
【００３４】
一般式（II）又は（III）で表されるペルオキシカルボン酸としてさらに好ましくは、Ｌ1が−ＣＨ(Ｒ11)−Ｌ12（Ｒ11は水素原子又はＣ１〜Ｃ４の置換若しくは無置換のアルキル基を示し、Ｌ12は置換若しくは無置換のＣ１−Ｃ９の２価の連結基を示す）であるペルオキシカルボン酸；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5が各々独立に水素、Ｃ１−Ｃ４のアルキル基、又はＣ１−Ｃ４アルコキシ置換Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｌ2がＣ１−Ｃ２の無置換のアルキレン基であるペルオキシカルボン酸；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5が水素であるペルオキシカルボン酸が挙げられる。
【００３５】
さらに、一般式（Ｉ）で表されるペルオキシカルボン酸のなかで、一般式（IV）又は（Ｖ）：
【化５】
2007082900.tif 000006
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5は各々独立に水素、Ｃ１−Ｃ４のアルキル基、Ｃ１−Ｃ４のアルコキシ基、又はＣ１−Ｃ４アルコキシ置換Ｃ１−Ｃ４アルキル基を示し、Ｌ2は置換若しくは無置換のＣ１〜Ｃ９のアルキレン基、又は置換若しくは無置換のＣ６〜Ｃ９のアリーレン基を示す）で表されるペルオキシカルボン酸もまた好ましい。
【００３６】
一般式（IV）又は（Ｖ）で表されるペルオキシカルボン酸として、さらに好ましくは、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5が各々独立に水素、Ｃ１−Ｃ４のアルキル基、又はＣ１−Ｃ４アルコキシ置換Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｌ2が無置換のＣ１−Ｃ３のアルキレン基であるペルオキシカルボン酸；Ｒ2が水素であるペルオキシカルボン酸；Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4が水素であるペルオキシカルボン酸；Ｒ5がメチル基であるペルオキシカルボン酸；Ｌ2がメチレン基であるペルオキシカルボン酸；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、及びＲ5が水素であペルオキシカルボン酸；Ｌ2がメチレン基である該ペルオキシカルボン酸；Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルコキシ置換メチル基であるペルオキシカルボン酸；及び、Ｒ5がメチル基であるペルオキシカルボン酸が挙げられる。
【００３７】
ペルオキシカルボン酸は、置換基の種類により、１個又は２個の不斉炭素を有する場合がある。１個又は２個の不斉炭素に基づく光学的に純粋な任意の光学異性体、上記の光学異性体の任意の混合物、ラセミ体、２個の不斉炭素に基づくジアステレオ異性体、上記ジアステレオ異性体の任意の混合物などのいずれを含む殺菌剤も好ましく用いることができる。また、ペルオキシカルボン酸は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もあるが、これらの物質を含む殺菌剤も好ましく用いることができる。
【００３８】
ペルオキシカルボン酸の具体例を以下に示すが、下記に限定されることはない。
【化６】
2007082900.tif 000007
【００３９】
【化７】
2007082900.tif 000008
【００４０】
【化８】
2007082900.tif 000009
【００４１】
【化９】
2007082900.tif 000010
【００４２】
【化１０】
2007082900.tif 000011
【００４３】
【化１１】
2007082900.tif 000012
【００４４】
【化１２】
2007082900.tif 000013
【００４５】
上記のペルオキシカルボン酸は、Organic peroxides, vol.I, pp 313-474（Daniel Swern, John Wiley & Sons, Inc., New York, 1970）などに記載されている公知のペルオキシカルボン酸の合成方法に準じて合成することができる。具体的には、例えば対応するカルボン酸と過酸化水素との反応により合成することができる。対応するカルボン酸と過酸化水素との反応においては、反応の触媒として強酸を用いることが効果的である。強酸としては、硫酸又はリン酸などを用いることができるが、スルホン酸基を有する強酸性イオン交換樹脂や、ナフィオンなどの固体酸触媒を用いることもできる。
【００４６】
上記ペルオキシカルボン酸の合成で用いられる対応のカルボン酸としては、市販のカルボン酸を用いることができるが、公知の方法により合成したカルボン酸を用いることもできる。例えば３−アルコキシプロピオン酸は、J. Am. Chem. Soc., 70,1004（1948）に記載されている様にβ−プロピオラクトンとアルコールとの反応や、J. Am. Chem. Soc., 69, 2967（1947）,  J. Am. Chem. Soc., 77, 754（1955）に記載されている様に、アクリル酸エステルとアルコキサイドとの反応で得られる３−アルコキシプロピオン酸エステルの加水分解によって合成することが可能である。また、３位よりカルボニル基から遠い位置がアルコキシ置換されたカルボン酸はJ. Org. Chem., 59, 2253（1994）に記載されている様にβないしδ−ラクトンとアルコールとの反応により合成することが可能である。
【００４７】
ペルオキシカルボン酸は１種を用いてもよく又は２種以上を混合して用いてもよい。ペルオキシカルボン酸を含む水性溶液中のペルオキシカルボン酸の濃度は0.1 mmol/l以上2000 mmol/l以下であり、好ましくは１mmol/l以上200 mmol/l以下であり、さらに好ましくは40 mmol/l以上120 mmol/l以下であればよい。
【００４８】
ペルオキシカルボン酸を含む水性溶液は、上述のペルオキシカルボン酸のほかに、該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び／又は過酸化水素を含んでいてもよい。本明細書において、ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸とは、該ペルオキシカルボン酸のペルオキシカルボキシル基がカルボキシル基である化合物を意味する。この場合、水性組成物中のペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸の濃度は0.1 mmol/l以上 2000 mmol/l以下であり、好ましくは1 mmol/l以上 200 mmol/l以下であり、さらに好ましくは 40 mmol/l以上200 mmol/l以下であればよい。また、過酸化水素の濃度は3 mmol/l以上 6000 mmol/l以下であり、好ましくは10 mmol/l以上 1000 mmol/l以下であり、さらに好ましくは 30 mmol/l以上600 mmol/l以下であればよい。ペルオキシカルボン酸を含む水性組成物は、ペルオキシカルボン酸の濃度が1 mmol/l以上200 mmol/l以下であり、過酸化水素の濃度が10 mmol/l以上1000 mmol/l以下であることが好ましい。
【００４９】
ペルオキシカルボン酸とともに該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び／又は過酸化水素を含む水性組成物は、例えば使用の際に、ペルオキシカルボン酸等の各成分が上述の濃度になるように水性組成物を調製すればよい。過酸化水素及びカルボン酸よりペルオキシカルボン酸が生成することは、古くから知られている。この反応は、カルボン酸、過酸化水素、ペルオキシカルボン酸、及び水との平衡反応として進行し、過酸化水素若しくはカルボン酸の濃度を高くするほど高濃度のペルオキシカルボン酸が生成する。例えば、90質量％の過酸化水素を、過酸化水素の1.5倍モルの酢酸と混合すると、過酢酸45質量％、酢酸35質量％、過酸化水素6質量％、水14質量％の平衡混合液が得られる（kirk-Othmer Encyclopedia of Chem. Tech. Inst, Suppl. P662(1957)）。従って、ペルオキシカルボン酸を含む水性組成物は、それぞれ別々に調製され提供されるペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸を含む水溶液と過酸化水素を含む水溶液を使用に際し混合して調製することもでき、必要に応じてこれらの混合物を含む水性組成物を水で希釈した後に使用することもできる。また、ペルオキシカルボン酸及び下記添加物を乾燥形態で提供し、使用に際して水性溶媒に溶解することもできる。
【００５０】
殺菌剤を含む水性溶液は、殺菌剤のほかさらに１又は２以上の添加剤を含んでいてもよい。上記に説明したようにペルオキシカルボン酸を含む水性溶液は該ペルオキシカルボン酸に対応するカルボン酸及び／又は過酸化水素を含んでいてもよいが、その場合にも１又は２以上の添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例としては、腐食防止剤、可溶化剤、ｐＨ調整剤、金属封鎖剤、安定化剤、界面活性剤、及び再付着防止剤等が挙げられるが、これらに限定されることはない。
【００５１】
腐食防止剤としては、消毒又は滅菌の対象物、例えば医療用機器の材質に適したものを選択すればよく、より具体的には、1,2,3-ベンゾトリアゾールと、低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、低級アルキルカルボキシベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、低級アルキルベンズイミダゾール、ヒドロキシベンズイミダゾール、低級アルキルヒドロキシベンズイミダゾール、カルボキシベンズイミダゾール、低級アルキルカルボキシベンズイミダゾール、メルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルメルカプトベンゾチアゾール、ヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルヒドロキシメルカプトベンゾチアゾール、カルボキシメルカプトベンゾチアゾール、低級アルキルカルボキシメルカプトベンゾチアゾール、グルコン酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸ブチル、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ソルビトール、エリスリトール、リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸テトラナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、及びホウ酸塩から選択される１種又は２種以上の化合物とを組み合わせた腐食防止剤等が挙げられるが、これらに限定されることはない。本明細書において、「低級アルキル」という用語は、１個から６個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖の飽和の炭化水素基を意味するが、該低級アルキル基は１個又は２個以上の不飽和結合を有していてもよい。
【００５２】
銅、黄銅、青銅、又は多金属系を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を用いる場合には、1,2,3-ベンゾトリアゾールと１種又はそれ以上の低級アルキルベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾトリアゾール、低級アルキルヒドロキシベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、クロム酸塩、ホウ酸塩、及びこれらの混合物とを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。1,2,3-ベンゾトリアゾール、モリブデン酸ナトリウム、及び亜硝酸ナトリウムを含む腐食防止剤が特に好ましく用いられる。炭素鋼及びステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を使用する場合には、例えば、安息香酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、及びモリブデン酸ナトリウムなどを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。炭素鋼及び／又はステンレス鋼を含む機器等を処理するために本発明の消毒又は滅菌方法を使用する場合には、例えば、硝酸ナトリウム及び／又はモリブデン酸ナトリウムを含む腐食防止剤が好ましく用いられる。殺菌剤を含む水性溶液中に腐食防止剤を添加する場合、腐食防止剤の総量は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して、典型的には、0.1質量％から約30質量％である。1,2,3-ベンゾトリアゾールの量は、好ましくは0.1質量％から約3.0質量％であり、より好ましくは0.5質量％から約2.0質量％である。
【００５３】
腐食防止剤が殺菌剤を含む水性溶液に難溶である場合には、水性溶液はさらにアルキレングリコールのなどの可溶化剤を含んでもよい。本明細書において、「アルキレングリコール」という用語は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジアルキレングリコール(例えば、ジエチレングリコール)、トリアルキレングリコール(例えば、トリエチレングリコール)、又は対応するそれらのモノ-及びジアルキルエーテルなどのグリコールを意味する。上記アルキルエーテルは、１個から６個の炭素原子を有する低級アルキルエーテル(例えば、メチルエーテル、エチルエーテル、又はプロピルエーテル)である。特に好ましくは、水性溶液が可溶化剤としてプロピレングリコールを含む場合には、プロピレングリコールが腐食防止剤の約３倍から10倍の濃度で含まれていることが好ましい。例えば、水性溶液中に約１質量％で含まれる1,2,3-ベンゾトリアゾールに対してプロピレングリコールが水性溶液中に約3.5質量％から6.5質量％の割合で含まれていることが好ましい。
【００５４】
ｐＨ調整剤としては、例えば、殺菌剤を含む水性溶液に適合し、かつ環境に適合するような酸又は塩基を用いることができる。例えば、クエン酸、酢酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グリコール酸、コハク酸、グルタル酸、又はアジピン酸等の有機酸及びその塩、リン酸、硫酸等の無機酸及びその塩、水酸化アンモニウム又は水酸化アルカリ金属等の塩基を用いることができる。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加可能なｐＨ調整剤はこれらに限定されることはない。水性溶液中のｐＨ調整剤の濃度は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して20質量％以下であることが好ましく、特に0.1質量％〜10質量％であることが好ましい。
【００５５】
殺菌剤を含む水性溶液は、任意の成分として重金属イオン封鎖剤を含有することが好ましい。本明細書において、重金属イオン封鎖剤とは重金属イオンを封鎖（キレート）する性質を有する物質を意味しており、これらの成分がカルシウム及びマグネシウムのキレート化能力を有する場合には、鉄、マンガン、及び銅のような重金属イオンに対してより選択的に結合する性質を有する物質を意味している。重金属イオン封鎖剤は、一般的には、殺菌剤を含む水性溶液中に組成物の総質量に対して0.005質量％〜20質量％、好ましくは0.1質量％〜10質量％、さらに好ましくは0.25質量％〜7.5質量％、最も好ましくは0.5質量％〜5質量％程度の割合で添加することができる。重金属イオン封鎖剤としては、例えば、有機ホスホン酸塩、例えば、アミノアルキレンポリ(アルキレンホスホン酸塩)、アルカリ金属エタン１−ヒドロキシジホスホン酸塩、及びニトリロトリメチレンホスホン酸塩などを挙げることができ、これらのうち、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸塩）ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、及びヒドロキシ−エチレン１，１二ホスホン酸塩が好ましい。
【００５６】
殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる他の好ましい重金属イオン封鎖剤としては、ニトリロ三酢酸及びポリアミノカルボン酸、例えば、エチレンジアミノ四酢酸、エチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン二コハク酸、エチレンジアミン二グルタル酸、２−ヒドロキシプロピレンジアミン二コハク酸、又はこれらいずれかの塩が挙げられる。特に好ましいのはエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸（ＥＤＤＳ）又はそのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、若しくは置換アンモニウム塩、あるいはこれらの混合物である。
【００５７】
殺菌剤を含む水性溶液に添加することができるさらに他の好ましい重金属イオン封鎖剤としては、例えば、欧州特許公開第３１７，５４２号公報及び欧州特許公開第３９９，１３３号公報に記載されている２−ヒドロキシエチル二酢酸又はグリセリルイミノ二酢酸のようなイミノ二酢酸誘導体、欧州特許公開第５１６，１０２号公報に記載されているイミノ二酢酸−Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸及びアスパラギン酸Ｎ−カルボキシメチルＮ−２−ヒドロキシプロピル−３−スルホン酸封鎖剤、並びに欧州特許公開第５０９，３８２号公報に記載されているβ−アラニン−Ｎ，Ｎ'−二酢酸、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ'−二酢酸、アスパラギン酸−Ｎ−モノ酢酸、及びイミノ二コハク酸封鎖剤などが挙げられる。欧州特許公開第４７６，２５７号公報にはアミノ基を有する好ましい封鎖剤が記載されている。欧州特許公開第５１０，３３１号公報にはコラーゲン、ケラチン、又はカゼインから誘導した好ましい封鎖剤が記載されている。欧州特許公開第５２８，８５９号公報には好ましいアルキルイミノ二酢酸封鎖剤が記載されている。二ピコリン酸及び２−ホスホノブタン−１，２，４−三カルボン酸も好適である。グリシンアミド−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸(ＧＡＤＳ)、エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二グルタル酸（ＥＤＤＧ）及び２−ヒドロキシプロピレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−二コハク酸（ＨＰＤＤＳ）もまた好適である。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる好ましい重金属イオン封鎖剤は上記に例示したものに限定されることはない。
【００５８】
安定化剤としては公知の安定化剤を用いることができ、例えば、リン酸塩、8-ヒドロキシキノリン、スズ酸、スルホレン、スルホラン、スルホキシド、スルホン、又はスルホン酸などが挙げられる。殺菌剤を含む水性溶液においてリン酸塩を好ましい安定化剤として用いることができる。好ましくは、水性溶液の総質量に対して約0.001質量％から約0.5質量％のリン酸塩を含む。上記リン酸塩は、オルトリン酸ナトリウム塩、オルトリン酸カリウム塩、ピロリン酸ナトリウム塩、ピロリン酸カリウム塩、ポリリン酸ナトリウム塩、ポリリン酸カリウム塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される。
【００５９】
殺菌剤を含む水性溶液は、必要に応じて、水性溶液の総質量に対して約30質量％程度までの界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、例えば、酸性水性媒体中でペルオキシカルボン酸及び過酸化水素の存在下で酸化及び／又は分解に対して安定な界面活性剤を使用することができ、酸化され易い界面活性剤は避けるべきである。好ましい界面活性剤は、非イオン性、アニオン性、両性、又はカチオン性の界面活性剤から選択することができる。殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる好ましい界面活性剤として、例えば、非イオン性界面活性剤を挙げることができる。より具体的には、ポリエチレン／ポリプロピレンブロックポリマー型界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル型界面活性剤、ポリオキシエチレンエーテル型界面活性剤、及びポリオキシエチレンソルビタン型界面活性剤等が挙げられるが、水性溶液に添加することができる界面活性剤はこれらに限定されることはない。
【００６０】
再付着防止剤としては、医療器具などの消毒又は滅菌の対象物から脱離した汚れ等を液中に懸濁した状態に保つ機能を有するものを使用することができる。例えば、有機性の水溶性コロイド（例えば、デンプン、ゼラチン、若しくはデンプンのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、セルロース、セルロースエーテル、若しくはセルロースのエーテルカルボン酸又はエーテルスルホン酸の塩、あるいはセルロース若しくはデンプンの酸性硫酸エステルの塩など）などを用いることができる。酸性基を含む水溶性ポリアミドも好適に使用することができる。さらに上記以外のデンプン誘導体、例えばアルデヒドデンプンを再付着防止剤として使用することができる。もっとも、殺菌剤を含む水性溶液に添加することができる再付着防止剤は上記に例示したものに限定されることはない。再付着防止剤としては、例えば、再付着防止剤として例示された上記の物質からなる群から選択される１種又は２種以上を用いることができる。殺菌剤を含む水性溶液が再付着防止剤を含む場合、再不着防止剤の濃度は特に限定されないが、水性溶液の総質量に対して５質量％以下が好ましく、特に２質量％以下が好ましい。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
例１：抗微生物活性評価
芽胞に対する抗微生物活性を評価した。枯草菌芽胞液（栄研器材（株））を1.0×107 cfu/mLになる様に調整し、以下の抗微生物活性評価に供した。活性評価は坂上らの方法（J. Antibact. Antifung. Agents.、26巻、605〜601ページ、1998年）に従って実施した。具体的には、化合物２(40 mmol/m)と過酸化水素(120 mmol/l)を含む水性組成物18 mlに前記枯草菌芽胞液2 mLを加え（混合後の芽胞濃度；1.0×106 cfu/ml）、直ぐに紫外線ランプ（30W、浸水式紫外線殺菌装置（フナテック（株）））を入れ、室温で一定時間紫外線照射を行った。一定時間ごとに2μLをサンプリングし、2 mLのSCDLP培地（日水製薬）に加えて160 rpm、37℃で48時間培養し菌の生育の有無を調べた。また、対照として、紫外線照射のない場合についても同様に実験を行った。結果を表１に示した。表中、＋は液体培養での菌体増殖が認められたことを示し、−は液体培養での菌体増殖が認められないことを示す。
【００６２】
【表１】
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【００６３】
例２：抗微生物活性評価
例１と同様の方法で抗微生物活性評価を実施した。具体的には、滅菌水18 mlに前記枯草菌芽胞液2 mLを加え（混合後の芽胞濃度；1.0×106 cfu/ml）、直ぐに紫外線ランプ（30W、浸水式紫外線殺菌装置（フナテック（株）））を入れ、室温で一定時間紫外線照射を行った。その後、化合物３（1830mM）を含む水溶液23μＬを加え（混合後濃度 40mM）、一定時間ごとに2μLをサンプリングし、例１と同様の方法で抗微生物活性を評価した。また、対照として、紫外線照射のない場合、及び化合物３を無添加の場合についても同様に実験を行った。結果を表２に示した。
【００６４】
【表２】
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【００６５】
これらの結果より、紫外線照射とペルオキシカルボン酸を含む水性溶液とを組み合わせた処理により、ペルオキシカルボン酸含む水性溶液を単独で用いた場合、及び紫外線照射単独での処理の場合に比べて相乗的に強い抗微生物活性が達成されており、芽胞に対しても極めて短時間に消毒又は滅菌を行なえることが示された。