(57)【要約】      （修正有）【課題】ヒドロキシアルキル基の置換したビスフェノール誘導体を高収率で製造する製造方法を提供する。【解決手段】還元剤の存在下、下記一般式（１）で表される化合物から対応するヒドロキシアルキル置換化合物を製造することを特徴とするビスフェノール誘導体の製造方法。2007099694.tif 000020（式中、Ｒ１，Ｒ２は置換基であり、Ｒ３〜Ｒ６，Ｒ９は水素原子，置換基であり、Ｒ７，Ｒ８は脂肪族基，芳香族基であり、Ｌ１，Ｌ２は連結基である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
還元剤の存在下、下記一般式（１）で表される化合物から下記一般式（２）で表される化合物を製造することを特徴とするビスフェノール誘導体の製造方法。
【化１】
2007099694.tif 000017
（式中、Ｒ1およびＲ2は置換基であり、Ｒ3〜Ｒ6はそれぞれ水素原子または置換基であり、Ｒ7およびＲ8は脂肪族基または芳香族基であり、Ｒ9は水素原子または置換基であり、Ｌ1およびＬ2は２価の連結基である。）
【化２】
2007099694.tif 000018
（式中、Ｒ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2はそれぞれ一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2と同義である。）
【請求項２】
前記還元剤が、ホウ素化合物または水素化アルミニウム塩のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項３】
前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、ジボラン、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項４】
前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする請求項３に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項５】
還元剤及びハロゲン化金属の存在下で一般式（１）で表される化合物から一般式（２）で表される化合物を製造することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項６】
前記ハロゲン化金属が、ハロゲン化アルカリ土類金属であることを特徴とする請求項５に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項７】
前記ハロゲン化アルカリ土類金属が、ハロゲン化カルシウムであることを特徴とする請求項６に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【請求項８】
下記一般式（３）で表される化合物を原料としてアルデヒド化合物との縮合により一般式（１）で表される化合物を製造する工程を前工程とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【化３】
2007099694.tif 000019
（式中、Ｒ1〜Ｒ4、及びＬ1は一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ4、及びＬ1と同義である。）
【請求項９】
一般式（２）で表される化合物のＲ3〜Ｒ6が水素原子であり、Ｌ1およびＬ2がそれぞれ炭素数１から１２までのアルキレン基であり、Ｒ7およびＲ8が炭素数１から５までのアルキル基であり、Ｒ1およびＲ2が第三級アルキル基であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビスフェノール誘導体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビスフェノール誘導体は、酸化防止剤、写真用添加剤として有用な化合物である。また、酸化防止剤として、例えば、合成樹脂、熱可塑性ゴム、合成ゴム等のプラスチック製品において、様々なビスフェノール誘導体が添加されており、写真感光材料においても、カブリを抑制することを目的としてビスフェノール誘導体が感光層中に添加されている。更に、熱現像感光材料では、画像を形成するために添加されており、機能性を高めたビスフェノール誘導体が種々提案されている。
【０００３】
これらのビスフェノール誘導体は、通常、アルデヒド化合物とフェノール化合物の縮合反応により合成されており、合成方法は多数公開されて（例えば、特許文献１、２参照。）いる。
【０００４】
しかし、ヒドロキシアルキル基の置換したフェノール化合物とアルデヒド化合物との縮合反応の場合には、目的のビスフェノール化合物の収率が著しく低下するという（例えば、特許文献３参照。）問題があった。
【０００５】
以上のことから、より高収率でヒドロキシアルキル基を備えたビスフェノール化合物を製造する方法が求められていた。
【０００６】
一方、ヒドロキシアルキル基を置換基として持つ一価のフェノール化合物を合成する方法として、アルコキシカルボニル基の置換したアルキル基を有する一価のフェノール化合物を還元して得る方法が記載されている（例えば、特許文献４参照。）が、これまでにアルコキシカルボニル基の置換したアルキル基を各フェノール部位に１つずつ有するビスフェノール化合物を還元して、相当するヒドロキシアルキル基を備えたビスフェノール化合物を合成する方法は知られていなかった。
【特許文献１】特開平８−２２７１５０号公報  （特許請求の範囲、実施例）
【特許文献２】特開平９−１１０７６４号公報  （特許請求の範囲、実施例）
【特許文献３】特開２０００−５３６０５号公報  （特許請求の範囲、実施例）
【特許文献４】特開２０００−２３９２０２号公報  （特許請求の範囲、実施例）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、ヒドロキシアルキル基の置換したビスフェノール誘導体を高収率で製造する製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【０００９】
１．還元剤の存在下、下記一般式（１）で表される化合物から下記一般式（２）で表される化合物を製造することを特徴とするビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１０】
【化１】
2007099694.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｒ1およびＲ2は置換基であり、Ｒ3〜Ｒ6はそれぞれ水素原子または置換基であり、Ｒ7およびＲ8は脂肪族基または芳香族基であり、Ｒ9は水素原子または置換基であり、Ｌ1およびＬ2は２価の連結基である。）
【００１２】
【化２】
2007099694.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2はそれぞれ一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2と同義である。）
２．前記還元剤が、ホウ素化合物または水素化アルミニウム塩のいずれかであることを特徴とする前記１に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１４】
３．前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、ジボラン、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記２に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１５】
４．前記還元剤が、水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする前記３に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１６】
５．還元剤及びハロゲン化金属の存在下で一般式（１）で表される化合物から一般式（２）で表される化合物を製造することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１７】
６．前記ハロゲン化金属が、ハロゲン化アルカリ土類金属であることを特徴とする前記５に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１８】
７．前記ハロゲン化アルカリ土類金属が、ハロゲン化カルシウムであることを特徴とする前記６に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００１９】
８．下記一般式（３）で表される化合物を原料としてアルデヒド化合物との縮合により一般式（１）で表される化合物を製造する工程を前工程とすることを特徴とする前記１〜７のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【００２０】
【化３】
2007099694.tif 000004
【００２１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4、及びＬ1は一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ4、及びＬ1と同義である。）
９．一般式（２）で表される化合物のＲ3〜Ｒ6が水素原子であり、Ｌ1およびＬ2がそれぞれ炭素数１から１２までのアルキレン基であり、Ｒ7およびＲ8が炭素数１から５までのアルキル基であり、Ｒ1およびＲ2が第三級アルキル基であることを特徴とする前記１〜８のいずれか１項に記載のビスフェノール誘導体の製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、ヒドロキシアルキル基の置換したビスフェノール誘導体を高収率で製造する製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明を更に詳しく説明する。
【００２４】
まず、本発明の一般式（１）で表される化合物について詳細に説明する。一般式（１）において、Ｒ1およびＲ2は置換基であり、例えばアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基等）またはアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等）、シクロアルケニル基（例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキノリル基等）、非芳香族複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）であり、これらはさらに置換されていても良く、置換基の例としては、ハロゲン原子、上述のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基、水酸基等が挙げられる。Ｒ1とＲ2は同一であっても異なっていても良いが、合成の簡便さを鑑みると、同一であることが好ましい。Ｒ1及びＲ2としてはアルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、第３級アルキル基であることがより好ましく、ｔｅｒｔ−ブチル基またはｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルシクロへキシル基がもっとも好ましい。
【００２５】
Ｒ3〜Ｒ6はそれぞれ水素原子または置換基を表し、置換基としてはベンゼン環に置換可能な還元剤の影響を受けにくい置換基であれば特に限定はないが、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、２−キノリル基、１−イソキニリル基等）、非芳香族複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、２−テトラヒドロフラニル基、２−テトラヒドロチエニル基、２−テトラヒドロピラニル基、３−テトラヒドロピラニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）等が挙げられる。これらはさらに同義の基によって置換されていても良い。Ｒ3〜Ｒ6としてはハロゲン原子、アルキル基、水素原子が好ましく、水素原子がより好ましい。Ｒ3〜Ｒ6はそれぞれ同じであっても異なっていても良いが、合成の簡便さを鑑みるとＲ3とＲ4は同じであることが好ましく、Ｒ5とＲ6は同じであることが好ましい。Ｒ7およびＲ8は脂肪族基または芳香族基であり、還元を阻害しないものであれば如何なるものでもよいが、例えば上述のアルキル基またはアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基等が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基、芳香族炭化水素基が好ましい。さらに炭素数が１〜１２であることが好ましく、炭素数が１〜６であることがより好ましく、炭素数が１〜５であることがさらに好ましい。Ｒ7とＲ8は同じであっても異なっていても良いが、合成の簡便さを鑑みると���じであることが好ましい。Ｒ9は水素原子または置換基であり、置換基の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基であり、水素原子またはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましい。これらはさらに置換されていてもよく、置換基としては例えばハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基等が挙げられる。Ｌ1およびＬ2は２価の連結基であり、還元を阻害しないものであれば如何なるものでも良いが、好ましくはアルキレン基
（例えば
メチレン基［−ＣＨ2−］
エチリデン基［＞ＣＨＣＨ3］、
イソプロピリデン［＞Ｃ（ＣＨ3）2］、
１，２−エチレン基［−ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−］、
１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2−］、
１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，６−ヘキサンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−］、
１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ5Ｈ8−］、
１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ6Ｈ10−］、
１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ6Ｈ10−］、
１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ6Ｈ10−］、
等）
であり、炭素数が１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることがさらに好ましい。Ｌ1およびＬ2は置換されていても良く、置換基としては例えば上述したハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、非芳香族複素環基等が挙げられる。Ｌ1およびＬ2は同じであっても異なっていても良いが、合成の簡便さを鑑みると同じであることが好ましい。
【００２６】
一般式（２）のＲ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2はそれぞれ一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ6、Ｒ9、Ｌ1およびＬ2と同義である。
【００２７】
次に一般式（１）で表される化合物を還元し、一般式（２）で表される化合物を製造する工程について詳細に説明する。
【００２８】
一般式（１）の還元に用いる還元剤としては、例えば、ホウ素化合物（例えば、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、ジボラン、水素化ホウ素塩（例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム））、水素化アルミニウム塩（例えば、水素化アルミニウム、水素化ジエチルアルミニウムナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化トリエトキシアルミニウムナトリウム、水素化トリイソプロポキシアルミニウムリチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム）、有機スズ水素化物が挙げられる。また触媒を利用した接触水素化反応を用いて還元してもよい。好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムまたはジボラン、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウムを還元剤として用いた還元法であり、特に好ましくは、水素化ホウ素ナトリウムを還元剤として用いた還元法である。
【００２９】
還元剤の形状としては、特に限定はなく、例えば粉末品、有機溶剤に溶解させた溶液、アルカリ性水溶液等の市販品を使用することもできる。その使用量は、一般式（１）で表される化合物１モルに対して、０．１〜５０モル程度、好ましくは０．５〜２０モル程度である。
【００３０】
一般式（１）の化合物の還元に用いる溶媒としては例えばエタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、アルカリ性メタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル系溶媒などが使用できる。またアルコール系溶媒とジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル系溶媒、アルカリ性水、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒から選ばれる少なくとも１種との混合物、エーテル系溶媒とアルカリ性水、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒から選ばれる少なくとも１種との混合物も使用し得る。好ましくは、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合物であり、より好ましくは、アルコール系溶媒、アルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合物である。溶媒の使用量は、一般式（１）で表される化合物に対して、通常０．５〜１００質量倍程度、好ましくは１〜５０質量倍程度である。
【００３１】
一般式（１）の化合物の還元を行う際にはハロゲン化金属を添加することが好ましく、例えば塩化カルシウム、塩化アルミニウム、塩化マグネシウム、塩化鉄、塩化亜鉛、塩化リチウム、塩化銅、臭化カルシウム、臭化マグネシウム、臭化リチウム、臭化亜鉛、ヨウ化銅等が挙げられるが、好ましくは、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム、臭化リチウム、臭化カルシウム又は塩化カルシウムであり、特に好ましくは塩化カルシウムである。
【００３２】
ハロゲン化金属を用いる場合は、無水物であっても水和物であっても良い。形状も粉末、フレーク、粒状、水溶液いずれであっても良いが、固体の場合は、前記した溶媒とのスラリー溶液又は均一溶液として使用するのが好ましい。溶媒を用いる場合は、ハロゲン化金属に対して、通常０．５〜１０質量倍程度である。ハロゲン化金属の使用量は、一般式（１）で表される化合物１モルに対して、通常０．１〜２０モル程度、好ましくは０．２〜１０モル程度である。
【００３３】
還元剤及びハロゲン化金属の存在下、一般式（１）で表される化合物を還元して一般式（２）で表される化合物を得る場合、還元剤、溶媒、ハロゲン化金属の作用順序に特に限定はなく、例えば、一般式（１）で表される化合物と還元剤とを作用させ、次いでこれとハロゲン化金属を作用させても良いし、還元剤とハロゲン化金属とを作用させ、次いでこれと一般式（１）で表される化合物を作用させても良いし、一般式（１）で表される化合物とハロゲン化金属とを作用させ、次いでこれと還元剤を作用させても良く、また一般式（１）で表される化合物にハロゲン化金属と還元剤とを同時に作用させることもでき、反応の完結に必要な還元剤とハロゲン化金属を段階的に作用させることもできる。段階的に作用させる方法としては例えば固体を分割して添加してもよいし、分散液や溶液として滴下してもよい。
【００３４】
これらの中で、アルコール系溶媒もしくはアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合物を用いる場合には、一般式（１）で表される化合物と還元剤とを作用させ、次いでこれとハロゲン化金属を作用させる処方または段階的に還元剤とハロゲン化金属を作用させる処方が好ましく、反応が完結しにくい基質の場合には段階的に還元剤および／またはハロゲン化金属を加える処方が好ましい。
【００３５】
還元剤とハロゲン化金属を段階的に加える場合には、ハロゲン化金属の存在下で還元剤のみを固体として分割添加してもよく、分散液または溶液として滴下してもよく、分割した上でかつ滴下して添加してもよく、還元剤の存在下でハロゲン化金属のみを固体として分割添加しても良く、分散液または溶液として滴下してもよく、分割した上でかつ滴下して添加してもよく、還元剤とハロゲン化金属の両方をそれぞれ固体として分割してもよく、分散液または溶液として滴下してもよく、分割した上でかつ滴下して添加してもよい。還元剤を固体または分散液、溶液として分割添加する際には還元剤を一般式（１）で表される化合物に対し、０．０５〜２モル当量の単位で分割して加えるのが好ましく、ハロゲン化金属を固体または分散液、溶液として分割して添加する際にはハロゲン化金属を一般式（１）で表される化合物に対し０．０１〜２モル当量の単位で分割して加えるのが好ましい。還元剤を分割して加える場合、１０分〜１２０分の間隔で加えるのが好ましく、２０分〜６０分の間隔で加えるのがより好ましい。ハロゲン化金属を分割して加える場合、１０分〜１２０分の間隔で加えるのが好ましく、２０分〜６０分の間隔で加えるのがより好ましい。還元剤とハロゲン化金属の両方を分割して加える場合には、還元剤とハロゲン化金属を順次入れても良く、同時に入れても良く、混合して入れても良いが、好ましくは還元剤を添加する３０分前から、添加後６０分までの間にハロゲン化金属を添加する方法であり、より好ましくは還元剤の添加と同時から３０分までの間にハロゲン化金属を添加する方法である。
【００３６】
上記の還元剤および／またはハロゲン化金属を段階的に加える方法のうち、還元剤のみを固体または分散液として分割して添加し、ハロゲン化金属は一度に添加する方法、または還元剤を固体または分散液として分割して添加するとともにハロゲン化金属を分散液または溶液として分割して添加または連続的に滴下して加える方法が好ましい。エーテル系溶媒を用いる場合には、還元剤とハロゲン化金属とを作用させ、次いでこれと一般式（１）で表される化合物を作用させる処方が好ましく、このことにより目的物を高収率で得ることができる。
【００３７】
作用温度は、通常−２０℃〜溶媒の沸点程度である。好ましくは、アルコール系溶媒もしくはアルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合物を用いて一般式（１）で表される化合物と還元剤とを作用させ、次いでこれとハロゲン化金属を作用させる処方においては、−１０〜６０℃程度であり、エーテル系溶媒、エーテル系溶媒と芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素から選ばれる少なくとも１種との混合物を用いる処方においては、２０℃〜溶媒の沸点程度である。
【００３８】
反応の進行は、液体クロマトグラム等の分析方法により追跡し得る。生成した目的物は、例えば塩酸や硫酸、酢酸等の酸の水溶液を加えた後、そのまま晶析させるか、必要に応じて有機溶媒を加えて抽出、溶媒留去することにより取出すことができ、さらに晶析、蒸留あるいは液体カラムクロマトグラフィーなどの精製手段を施すことによりさらに精製することもできる。
【００３９】
一般式（２）を安価に製造するためには、原料である一般式（１）で表される化合物を安価に入手する必要があるが、そのためにはＲ1とＲ2、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6、Ｒ7とＲ8が同一であることが好ましく、同一である場合には一般式（１）で表される化合物は一般式（３）で表される化合物を原料としてアルデヒド化合物との縮合反応により高い収率で合成できる。
【００４０】
一般式（３）で表される化合物について説明する。
【００４１】
式中、Ｒ1〜Ｒ4およびＬ１は一般式（１）で表される化合物のＲ1〜Ｒ4およびＬ1と同義である。
【００４２】
一般式（３）で表される化合物とアルデヒド化合物との縮合反応においては、特許文献１および特許献２に記載されているような従来公知のビスフェノール化合物の合成法が適用でき、例えば適当な溶媒中、適当な酸触媒を用いて縮合させることができる。
【００４３】
上記縮合反応に用いる酸触媒は、無機酸、有機酸から選ばれる如何なる酸でも構わないが、例えば硫酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、臭化マグネシウム等を用いることができ、塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸の使用が好ましい。
【００４４】
酸の使用量はアルデヒド化合物１モルに対して０．００１〜２モルが好ましく、０．０１〜１モルがより好ましく、０．０５〜０．８モルがさらに好ましい。
【００４５】
上記縮合反応は無溶媒もしくは溶媒中で行うことができる。溶媒を用いる場合、一般式（１）で表される化合物およびアルデヒド化合物と反応しない溶媒であれば如何なるものでも構わないが、芳香族炭化水素系溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレン等）であることが好ましく、溶媒の使用量はフェノール化合物に対し０．５質量倍〜２０倍程度が好ましく、等質量倍〜１０倍程度がより好ましい。本反応は特に無溶媒かトルエン、キシレンの使用が好ましい。
【００４６】
上記縮合反応においてフェノール化合物の添加量はアルデヒド化合物１モルに対し、２モル以上であればよく、２．０〜４．０モルであることが好ましく、２．１〜３．０モルであることがより好ましい。
【００４７】
上記縮合反応において試薬を添加する順序に特に制限はなく、例えばフェノール化合物とアルデヒド化合物とを混合した後に酸触媒を加えても良く、フェノール化合物と酸触媒の存在下にアルデヒド化合物を加えても良く、または反応が進行しない温度でフェノール化合物とアルデヒド化合物と酸触媒を混合した後に反応が進行する温度に昇温してもよい。
【００４８】
反応温度は０℃〜２００℃が好ましく、２０℃〜１７０℃がより好ましく、５０℃〜１５０℃がさらに好ましい。
【００４９】
反応時間は５分〜５０時間が好ましく、２０分〜３０時間がより好ましく、３０分〜１０時間が更に好ましい。
【００５０】
反応物の処理法は如何なる手段を用いても良く、例えば水と適当な有機溶媒を加え抽出操作、必要があれば水洗した後に溶媒を除去することで取り出すことができる。
【００５１】
適当な有機溶媒としては水層との分離が通常の抽出操作に用いられる如何様な有機溶媒を使用しても良いが、例えば酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられ、好ましくは酢酸エチル、トルエンあるいはその混合溶媒である。
【００５２】
上記の処理後、生成物をさらにカラムクロマトグラフィー等の操作によって精製してもよく、また再結晶操作によって精製してもよい。
【００５３】
一般式（３）で表される化合物は市販の置換または無置換フェノール類を出発原料としてマイケル付加反応やフリーデルクラフツアルキル化反応などの従来公知の方法によって特に問題なく合成することが可能である。
【００５４】
一般式（１）で表される化合物について以下に具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。また一般式（２）および一般式（３）で表される化合物は一般式（１）で表される化合物の構造に準ずる。
【００５５】
【化４】
2007099694.tif 000005
【００５６】
【化５】
2007099694.tif 000006
【００５７】
【化６】
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【００５８】
【化７】
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【００５９】
【化８】
2007099694.tif 000009
【００６０】
【化９】
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【実施例】
【００６１】
以下に具体例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６２】
実施例１
ＢＰＨ−５の合成
【００６３】
【化１０】
2007099694.tif 000011
【００６４】
窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム９．０ｇ、ジグライム２５０ｍｌを混合し、２５℃で保温撹拌した。さらに塩化マグネシウム１２．０ｇを加え、その後２５℃で３０分攪拌した。これにＢＰ−５、３０．０ｇをジグライム２５ｍｌに溶解した溶液を滴下し、同温度で１時間攪拌した後に５０℃まで昇温して、７時間反応を継続した。水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥の後に、ろ過濃縮を行い、カラムクロマトグラフィーによって分離し、ＢＰＨ−５を１７．５ｇ得た（収率６５％）。
【００６５】
実施例２
ＢＰＨ−１７の合成
【００６６】
【化１１】
2007099694.tif 000012
【００６７】
ＢＰ−１７を１１．５ｇ、水素化ホウ素ナトリウムを４．０ｇ混合し、水浴中でエタノール１２０ｍｌを加え、攪拌しながら塩化カルシウム１１．０ｇをエタノール１２０ｍｌに溶解した液を１０分かけて滴下した。このとき反応温度が３０℃を上回らないように、適宜氷冷した。１時間攪拌したところで、氷冷した希塩酸をゆっくりと加えて反応を停止した。エタノールを減圧下で留去した後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥の後に、ろ過濃縮を行い、カラムクロマトグラフィーによって分離し、ＢＰＨ−１７を７．１ｇ（収率７２％）得た。
【００６８】
実施例３
ＢＰＨ−４０の合成
【００６９】
【化１２】
2007099694.tif 000013
【００７０】
ＢＰ−４０を１６．２ｇ、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇ混合し、水浴中でエタノール６０ｍｌを加え、攪拌しながら塩化カルシウム３．３ｇをエタノール３０ｍｌに溶解した液を１０分かけて滴下した。このとき反応温度が３０℃を上回らないように、適宜氷冷した。３０分後、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇを加え、直後塩化カルシウム３．３ｇにエタノール３０ｍｌを加えた溶液を１０分かけて滴下した。薄層クロマトグラフィーによって反応の進行度を調べながら、３０分毎に水素化ホウ素ナトリウム（１．２ｇ）、塩化カルシウムのエタノール溶液（塩化カルシウム３．３ｇ、エタノール３０ｍｌ）を加える操作をさらに４回繰り返した。合計で水素化ホウ素ナトリウムを７．２ｇ、塩化カルシウムを１９．８ｇ加え、１時間攪拌したところで、氷冷した希塩酸をゆっくりと加えて反応を停止した。エタノールを減圧下で留去した後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥の後に、ろ過濃縮を行い、カラムクロマトグラフィーによって分離し、ＢＰＨ−４０を１１．６ｇ（収率８０％）得た。
【００７１】
実施例４
ＢＰＨ−１の合成
【００７２】
【化１３】
2007099694.tif 000014
【００７３】
＜ＢＰ−１の合成＞
パラホルムアルデヒドを１．０ｇ、ＭＰ−１を１６．２ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸水和物を１．３ｇ、トルエンを１００ｍｌ混合し、７５℃で１．５時間反応を行ったのち、食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層の水洗、乾燥の後、ろ過濃縮を行い、ＢＰ−１を含む混合物２０ｇを得た。ヘキサンと酢酸エチルを用いて再結晶操作を行い、ＢＰ−１を１４．８ｇ（収率９２％）得た。
【００７４】
＜ＢＰＨ−１の合成＞
ＢＰ−１を１４．５ｇ、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇ混合し、水浴中でエタノール６０ｍｌを加え、攪拌しながら塩化カルシウム３．３ｇをエタノール３０ｍｌに溶解した液を１０分かけて滴下した。このとき反応温度が３０℃を上回らないように、適宜氷冷した。３０分後、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇを加え、直後塩化カルシウム３．３ｇにエタノール３０ｍｌを加えた溶液を１０分かけて滴下した。薄層クロマトグラフィーによって反応の進行度を調べながら、３０分毎に水素化ホウ素ナトリウム（１．２ｇ）、塩化カルシウムエタノール溶液（塩化カルシウム３．３ｇ、エタノール３０ｍｌ）を加える操作をさらに３回繰り返した。合計で水素化ホウ素ナトリウムを６．０ｇ、塩化カルシウムを１６．５ｇ加え、１時間攪拌したところで、氷冷した希塩酸をゆっくりと加えて反応を停止した。エタノールを減圧下で留去した後、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥の後に、ろ過濃縮を行い、ジイソプロピルエーテルを用いて再結晶操作を行ったところ、ＢＰＨ−１を１０．７ｇ（収率８３％）得た。ＭＰ−１からＢＰＨ−１の収率は７６％であった。
【００７５】
実施例５
ＢＰＨ−４の合成
【００７６】
【化１４】
2007099694.tif 000015
【００７７】
＜ＢＰ−４の合成＞
パラホルムアルデヒドを１．０ｇ、ＭＰ−４を１７．２ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸水和物を１．３ｇ、トルエンを１００ｍｌ混合し、７５℃で１．５時間反応を行ったのち、食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層の水洗、乾燥の後、ろ過濃縮を行い、ＢＰ−４を含む混合物２１ｇを得た。ヘキサンと酢酸エチルを用いて再結晶操作を行い、ＢＰ−４を１５．５ｇ（収率９１％）得た。
【００７８】
＜ＢＰＨ−４の合成＞
ＢＰ−４を１５．３ｇ、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇ混合し、水浴中でエタノール６０ｍｌを加え、攪拌しながら塩化カルシウム３．３ｇをエタノール３０ｍｌに溶解した液を１０分かけて滴下した。このとき反応温度が３０℃を上回らないように、適宜氷冷した。３０分後、水素化ホウ素ナトリウムを１．２ｇを加え、直後塩化カルシウム３．３ｇにエタノール３０ｍｌを加えた溶液を１０分かけて滴下した。薄層クロマトグラフィーによって反応の進行度を調べながら、３０分毎に水素化ホウ素ナトリウム（１．２ｇ）、塩化カルシウムエタノール溶液（塩化カルシウム３．３ｇ、エタノール３０ｍｌ）を加える操作をさらに３回繰り返した。合計で水素化ホウ素ナトリウムを６．０ｇ、塩化カルシウムを１６．５ｇ加え、１時間攪拌したところで、氷冷した希塩酸をゆっくりと加えて反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥の後、ろ過濃縮を行い、トルエンを用いて再結晶操作を行ったところ、ＢＰＨ−４を１１．６ｇ（収率８５％）得た。ＭＰ−４からＢＰＨ−４の収率は７７％であった。
【００７９】
比較例１
ＢＰＨ−１の合成
【００８０】
【化１５】
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【００８１】
２−ターシャリーブチル−４−ヒドロキシプロピルフェノールを２３．０ｇ、トルエンを１５０ｍｌ入れ、トシル酸一水和物１．０ｇとパラホルムアルデヒド１．５５ｇを加えて攪拌しながら、８０℃で２時間反応を行った。食塩水を加えて酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥後、ろ過濃縮を行った。つづいてカラムクロマトグラフィーによって精製し、９．９ｇ（収率４２％）のＢＰＨ−１を得た。
【００８２】
以上、詳述したように、本発明の合成方法によると、ヒドロキシアルキル基の置換したビスフェノール誘導体を高収率で製造することができる。