(57)【要約】【課題】  耐熱性に優れ、しかも冷却性能にも優れた光学ディスク成形用金型と、前記金型を製造する方法とを提供することを目的とする。【解決手段】  可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２とからなる光学ディスク成形用金型であって、可動側金型Ｘ１が、キャビティ面側表面Ａに、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜１を有するものであり、固定側金型Ｘ２が、キャビティ面側表面Ａ’に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜１’を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパー５を有することを特徴とする光学ディスク成形用金型Ｘを提供する。【選択図】  図１
2007054957.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型であって、可動側金型が、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有するものであり、固定側金型が、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパーを有することを特徴とする光学ディスク成形用金型。
【請求項２】
可動側金型が、キャビティ面側表面に、金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を介して、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有するものであり、固定側金型が、キャビティ面側表面に、金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を介して、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜と、さらにその上に真空吸引により張り付けられたスタンパーとを有する請求項１記載の光学ディスク成形用可動型。
【請求項３】
可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型を製造するにあたり、真空吸引のための吸引口を有する可動側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、セラミックス薄膜を真空吸引により張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有する可動側金型を製造すると共に、真空吸引のための吸引口を有する固定側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、通気性のあるセラミックス薄膜を真空吸引により張り付け、さらにその上に真空吸引によりスタンパーを張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパーを有する固定側金型を製造することを特徴とする、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミックス薄膜を有し、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することのできる光学ディスク成形用金型と、前記金型を製造する方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤなどの光学ディスクは、通常、スタンパーを有する固定型と、可動型とからなる光学ディスク成形用金型を用い、両金型間のキャビティに、ポリカーボネートやアクリルなどの樹脂類を射出成形し、スタンパーに形成された微細な凹凸を転写することにより成形されている（例えば、特許文献１、２参照）。
近時、パソコン（Personal Computer）やＤＶＤレコーダーの急速な普及により、特に光学ディスクの需要が伸びており、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することが求められている。
【０００３】
ところで、瞬時に金型間のキャビティに注入される樹脂類は、直接金属金型の表面に触れると、成形物が薄い円盤状の光学ディスクであり、キャビティはきわめて薄いものであることから、樹脂類は急激に冷却されることになる。
このため、型内の隅々まで均一に樹脂類が行き渡らず、型内で不均一な精度の悪い光学ディスクとなってしまう。
そこで、注入された樹脂を保温しながら、型内に止めて置かなくてはならない。
従って、金属金型温度を冷却用の温水等で制御しながら製造して行く必要があり、金型の温度制御のための技術開発が進められてきた。
しかしながら、このような金型の温度制御にも限界があり、１ショットあたりの所要時間は３．２秒乃至３．０秒が限度であり、より一層の生産性の向上が求められていた。
【０００４】
【特許文献１】特開平５−１０１４５０号公報
【特許文献２】特開平６−２７０２０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、これら従来の問題点を解決して、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することのできる光学ディスク成形用金型と、前記金型を製造する方法とを提供することを目的とするものである。
【０００６】
本発明者は、上記従来の問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた。
その過程で、本発明者は、例えば光学ディスク成形用金型のキャビティ面側表面に、耐熱性や断熱性、耐摩耗性等に優れたセラミックス膜を設け、その上にスタンパーを設けることにより、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することのできる光学ディスク成形用金型が得られるのではないかと考えた。
これはセラミックス膜を用いることにより、急激冷却の防止ができると考えられるからである。
【０００７】
しかしながら、光学ディスク成形用金型のキャビティ面側表面にセラミックス膜を設けることは、これまで実際上不可能とされていた。
例えば、光学ディスク成形用金型のキャビティ面側表面にセラミックス膜を設ける方法としては、接着剤を用いる方法が考えられる。
しかしながら、一般に光学ディスク成形用樹脂の成形温度は３００℃を超えており、そのような３００℃以上の耐熱性接着剤は現状では入手不可能である。
【０００８】
また、光学ディスク成形用金型のキャビティ面側表面にセラミックス膜を設ける方法としては、金型のキャビティ面側表面に直接成膜する方法も考えられる。
しかしながら、セラミックスは成膜の際に１５００℃以上の焼結温度が必要であり、一般にスタンパーを設ける際に使用されているニッケルなどが溶融してしまうという問題が発生し、使用できないことが分かった。
【０００９】
このため、本発明者らは、さらに検討を重ねた。
その結果、本発明者らは、真空吸引のための吸引口を有する金型のキャビティ面側表面に、前記吸引口上面及び前記金型のキャビティ面側表面を覆うように、金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して複数の金属メッシュと金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、セラミックス薄膜を真空吸引により張り付けることにより、セラミックス薄膜を有する光学ディスク成形用金型が得られることを見出し、かかる知見に基づいて本発明を完成するに到った。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
即ち、請求項１に係る本発明は、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型であって、可動側金型が、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有するものであり、固定側金型が、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパーを有することを特徴とする光学ディスク成形用金型を提供するものである。
請求項２に係る本発明は、可動側金型が、キャビティ面側表面に、金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を介して、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有するものであり、固定側金型が、キャビティ面側表面に、金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を介して、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜と、さらにその上に真空吸引により張り付けられたスタンパーとを有する請求項１記載の光学ディスク成形用可動型を提供するものである。
請求項３に係る本発明は、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型を製造するにあたり、真空吸引のための吸引口を有する可動側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、セラミックス薄膜を真空吸引により張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有する可動側金型を製造すると共に、真空吸引のための吸引口を有する固定側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、通気性のあるセラミックス薄膜を真空吸引により張り付け、さらにその上に真空吸引によりスタンパーを張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパーを有する固定側金型を製造することを特徴とする、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することのできる光学ディスク成形用金型とその製造方法とが提供される。
即ち、本発明の光学ディスク成形用金型は、キャビティ面側表面に、これまで不可能とされていたセラミックス膜を設けており、このセラミックス膜は、金属金型とは異なり、急激な樹脂類の硬化を抑制することから、型内の隅々まで均一に樹脂類が行き渡ることになる。従って、本発明の光学ディスク成形用金型によれば、品質の安定した光学ディスクを生産性よく製造することができる。
実際上、セラミックス膜を設けている本発明の光学ディスク成形用金型によれば、１ショットあたりの所要時間を２．９秒乃至２．８秒まで短縮することができた。
従って、従来の金属金型を用いた場合における１ショットあたりの所要時間である、３．２秒乃至３．０秒と比べて、０．２秒乃至０．３秒の時間短縮となり、およそ１０％程度の時間短縮となった。
それ故、本発明は、生産性向上と品質の安定化に極めて有効に貢献できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を図面により説明する。
図１は、請求項１に係る本発明の光学ディスク成形用金型Ｘの１態様を示す一部切り欠き正面図であり、符号Ｘ１が可動側金型を示し、符号Ｘ２が固定側金型を示している。可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２とは、対面して設けられ、両金型が型合わせ面で密着したときに形成されるキャビティに溶融樹脂が供給されて、光学ディスクが成形される。
【００１３】
光学ディスク成形用金型Ｘのうちの可動側金型Ｘ１として、図１に示す態様では、図１において上から順に金型片１Ａ、金型片１Ｂ、金型片１Ｃの３つの金型片に分割されたものを示しているが、これに限定されるものではない。
図２は、そのうちの一番上の金型片１Ａの平面図であり、図３はその裏面図である。
光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１の中では、特にこの一番上の金型片１Ａの構造に特色を有するものである。
【００１４】
光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１は、光学ディスク成形用の固定側金型Ｘ２と共に、光学ディスク成形に用いる金型Ｘのうちの１つである。
この光学ディスク成形用可動側金型Ｘ１、特に一番上の金型片１Ａのキャビティ面側表面Ａに、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜１が設けられている。
【００１５】
ここでセラミックス薄膜１は、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニアなどのセラミックス材からなる薄膜である。
セラミックス薄膜１の厚さは、一般に０．１〜３．０ｍｍ、好ましくは０．３〜１．５ｍｍである。ここで、セラミックス薄膜１の厚さが０．１ｍｍ未満であると、耐熱性に優れたものとすることはできない
このセラミックス薄膜１の表面は、鏡面処理されている。セラミックス薄膜１の表面は、研磨、バフ仕上げ等公知の方法により鏡面処理しておくことが好ましい。例えば、研磨処理により表面の面粗度をＲａ＝０．３以上の鏡面に仕上げておくことが望ましい。
なお、可動側金型Ｘ１におけるセラミックス薄膜１としては、通気性のない膜を用いる。
【００１６】
このようなセラミックス薄膜１は、請求項２に示すように、光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１のキャビティ側面表面Ａに、金属メッシュ２１と複数の金属粒子２２とからなる接合体２を介して、真空吸引により張り付けられている。なお、図１中、符号３は真空吸引口である。
【００１７】
ここで金属メッシュ２１としては、メッシュが２２〜２６程度のものが用いられるが、これに限定されるものではない。
金属粒子２２としては、球形の粒子が用いられる。金属粒子２２の大きさとしては、通常、直径が０．８〜１．０ｍｍ程度のものであり、これをできれば２層以上積み重ねるとよい。
このような金属メッシュ２１と複数の金属粒子２２とからなる接合体２は、例えば後述する請求項３に係る本発明の方法により製造することができる。
【００１８】
一方、光学ディスク成形用金型Ｘのうちの固定側金型Ｘ２として、図１に示す態様では、図１において下から順に金型片１Ａ’、金型片１Ｂ’、金型片１Ｃ’の３つの金型片に分割されたものを示しているが、これに限定されるものではない。
光学ディスク成形用の固定側金型Ｘ２の中では、特にこの一番下の金型片１Ａ’の構造に特色を有するものである。
【００１９】
光学ディスク成形用の固定側金型Ｘ２は、光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１と共に、光学ディスク成形に用いる金型Ｘのうちの１つである。
この光学ディスク成形用固定側金型Ｘ２、特に一番下の金型片１Ａ’のキャビティ面側表面Ｂに、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜１’が設けられ、さらにこの真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜１’を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパー５が設けられている。
【００２０】
ここでセラミックス薄膜１’は、窒化珪素、炭化珪素、ジルコニアなどのセラミックス材からなる薄膜である。
このセラミックス薄膜１’の厚さは、一般に０．１〜３．０ｍｍ、好ましくは０．３〜１．５ｍｍである。ここで、セラミックス薄膜１’の厚さが０．１ｍｍ未満であると、耐熱性に優れたものとすることはできない
このセラミックス薄膜１’の表面は、鏡面処理されている。セラミックス薄膜１’の表面は、研磨、バフ仕上げ等公知の方法により鏡面処理しておくことが好ましい。例えば、研磨処理により表面の面粗度をＲａ＝０．３以上の鏡面に仕上げておくことが望ましい。
なお、固定側金型Ｘ２におけるセラミックス薄膜１’は、可動側金型Ｘ１におけるセラミックス薄膜１とは異なり、通気性のある膜が用いられる。これは、このセラミックス薄膜１’の上に、次に述べるようにスタンパー５を設けるためである。
通気性セラミックスの通気度としては、気孔率が２０〜４０％の範囲であればよい。気孔のサイズは、５０μｍ前後の気孔径があればよい。
【００２１】
このようなセラミックス薄膜１’は、請求項２に示すように、光学ディスク成形用の固定側金型Ｘ２のキャビティ側面表面Ｂに、金属メッシュ２１’と複数の金属粒子２２’とからなる接合体２’を介して、真空吸引により張り付けられている。
【００２２】
金属メッシュ２１’は前記した金属メッシュ２１と基本的に同様であり、金属粒子２２’は前記した金属粒子２２と基本的に同様である。
金属メッシュ２１’と複数の金属粒子２２’とからなる接合体２’は、例えば後述する請求項３に係る本発明の方法により製造することができる。
【００２３】
光学ディスク成形用固定側金型Ｘ２、特に一番下の金型片１Ａ’のキャビティ面側表面Ｂには、このようなセラミックス薄膜１’を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパー５が設けられている。
ここでスタンパー（種板）５としては、一般に用いられているものを用いることができる。このスタンパー（種板）５により、光学ディスクに信号面が作成される。
【００２４】
このような請求項１に係る本発明の光学ディスク成形用金型Ｘは、請求項３に記載した本発明の方法により製造することができる。
請求項３に係る本発明は、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型を製造するにあたり、真空吸引のための吸引口を有する可動側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、セラミックス薄膜を真空吸引により張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜を有する可動側金型を製造すると共に、真空吸引のための吸引口を有する固定側金型のキャビティ面側表面に、少なくとも前記吸引口上面を覆うように金属メッシュを置き、その上に複数の金属粒子を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュと複数の金属粒子とからなる接合体を作成した後、前記接合体表面の金属粒子上に、通気性のあるセラミックス薄膜を真空吸引により張り付け、さらにその上に真空吸引によりスタンパーを張り付けることによって、キャビティ面側表面に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパーを有する固定側金型を製造することを特徴とする、可動側金型と固定側金型とからなる光学ディスク成形用金型の製造方法である。
【００２５】
請求項３に係る本発明の方法は、可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２のそれぞれの製造方法に関するものである。
まず可動側金型Ｘ１の製造方法について説明する。
真空吸引のための吸引口３を有する可動側金型Ｘ１のキャビティ面側表面Ａに、少なくとも前記吸引口３上面を覆うように金属メッシュ２１を置き、その上に複数の金属粒子２２を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュ２１と複数の金属粒子２２とからなる接合体２を作成した後、前記接合体２表面の金属粒子２２上に、セラミックス薄膜１を真空吸引により張り付けることによって、キャビティ面側表面Ａに、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜１を有する光学ディスク成形用可動型Ｘ１が製造される。
【００２６】
即ち、可動側金型Ｘ１を製造するには、まず真空吸引のための吸引口３を有する可動側金型Ｘ１のキャビティ面側表面Ａに、少なくとも前記吸引口３上面を覆うように金属メッシュ２１を置き、さらにその上に複数の金属粒子２２を置く。
なお、このときは通常、可動側金型Ｘ１のうちの一番上の金型片１Ａのみを用いる。他の金型片（１Ｂ、１Ｃ）とは、後述するように、後でジョイントすればよい。
【００２７】
ここで金属メッシュ２１としては、メッシュが２２〜２６程度のものが用いられるが、これに限定されるものではない。
ここで金属粒子２２としては、前記したように球形の粒子が用いられる。金属粒子２２の大きさとしては、通常、直径が０．８〜１．０ｍｍ程度のものであり、これを２層以上積み重ねるとよい。
前記金属メッシュ２１上に前記複数の金属粒子２２を置き、この状態でパルス通電処理して、金属メッシュ２１と複数の金属粒子２２とを接合する。接合面には、一般に１〜７００ＭＰａ、好ましくは１０〜２００ＭＰａの加圧を行うとよい。なお、金属メッシュ２１は、吸引口３へ金属粒子２２が吸い込まれないようにするために金属粒子２２の下面に敷いているものであることから、金属粒子２２の下面の全面に敷いておく必要はなく、少なくとも吸引口３周辺に敷いてあれば足りる。但し、これに限定されるものではなく、金属メッシュ２１は、金属粒子２２の下面の全面に、前記吸引口３上面及び前記可動側金型Ｘ１のキャビティ面Ａを覆うように、敷いておいてもよい。
【００２８】
金属メッシュ２１と金属粒子２２を構成する金属は、通常、同一の材質のものが用いられるが、これに限定されるものではない。そのような金属としては、熱伝導の悪い素材が用いられ、通常、ステンレスや耐熱鋼が用いられる。
パルス通電を行う際には、少なくとも光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１全体を収容できるパルス通電処理装置内に、光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１を収容するとよい。また、当該パルス通電処理装置として、真空吸引できるものを用いることにより、当該パルス通電処理装置内で、パルス通電処理後において、真空吸引により接合体２表面の金属粒子２２上にセラミックス薄膜１を張り付けることができ、好都合である。
【００２９】
パルス通電処理は、常法により行えばよい。パルス通電処理する際には、接合面を加圧するとよい。
このように真空吸引のための吸引口３を有する可動側金型Ｘ１のキャビティ面Ａに、少なくとも前記吸引口３上面を覆うように金属メッシュ２１を置き、その上に複数の金属粒子２２を置いた状態で、これをパルス通電処理することにより、下部に金属メッシュ２１を有し、しかも複数の金属粒子２２同士間に空隙を有する接合体２が得られる。
このようにして得られた接合体２表面を研磨して、鏡面処理しておく。
そして、これ以降の段階で、一番上の金型片１Ａに、他の金型片（１Ｂ、１Ｃ）をジョイントすればよい。
【００３０】
このようにして得られた接合体２表面の金属メッシュ２２上に、セラミックス薄膜１を真空吸引により張り付ける。真空度は、６００ｇ／ｃｍ２前後あればよい。
上記のようにして得られた接合体２は、金属メッシュ２１を置き、さらにその上に複数の金属粒子２２を置いたものを接合したものであって、全体として空隙を有する構造となっている。
従って、真空吸引のための吸引口３から吸引手段（図示しない）により吸引することにより、金属粒子２２上に容易にセラミックス薄膜１を張り付けることができる。図２では、真空吸引のための吸引口３を合計４箇所に設けたものを示しているが、これに限定されるものではない。
また、この空隙は、後に一種の断熱層としても機能する。
なお、セラミックス薄膜１については、前記したとおりである。
【００３１】
このようにしてキャビティ面Ａに、真空吸引により張り付けられたセラミックス薄膜１を有する、光学ディスク成形用の可動側金型Ｘ１を製造することができる。
なお、図１中、符号４は冷却流路である。この冷却流路４を通して冷却水を流すことにより、成形時の昇温を抑える。図では、略渦巻き型の冷却流路を示したが、これに限定されるものではない。
【００３２】
次に、光学ディスク成形に用いる金型のうちの固定側金型Ｘ２の製造方法について説明する。
真空吸引のための吸引口３’を有する固定側金型Ｘ２のキャビティ面側表面Ａ’に、少なくとも前記吸引口３’上面を覆うように金属メッシュ２１’を置き、その上に複数の金属粒子２２’を置いた状態で、これをパルス通電処理して金属メッシュ２１’と複数の金属粒子２２’とからなる接合体２’を作成した後、前記接合体２’表面の金属粒子２２’上に、通気性のあるセラミックス薄膜１’を真空吸引により張り付け、さらにその上に真空吸引によりスタンパー５を張り付けることによって、キャビティ面側表面Ａ’に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜１’を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパー５を有する固定側金型が製造される。
【００３３】
即ち、固定側金型Ｘ２を製造するには、まず真空吸引のための吸引口３’を有する固定側金型Ｘ２のキャビティ面側表面Ａ’に、少なくとも前記吸引口３’上面を覆うように金属メッシュ２１’を置き、その上に複数の金属粒子２２’を置く。
ここで金属メッシュ２１’は、前記した金属メッシュ２１と同様のものを用いることができる。また、金属粒子２２’は、前記した金属粒子２２と同様のものを用いることができる。
【００３４】
可動側金型Ｘ１を製造する際と同様に、この状態でパルス通電処理して、金属メッシュ２１’と複数の金属粒子２２’とを接合し、金属メッシュ２１’と複数の金属粒子２２’とからなる接合体２’を作成する。
このように真空吸引のための吸引口３’を有する固定側金型Ｘ２のキャビティ面Ａ’に、少なくとも前記吸引口３’上面を覆うように金属メッシュ２１’を置き、その上に複数の金属粒子２２’を置いた状態で、これをパルス通電処理することにより、下部に金属メッシュ２１’を有し、しかも金属粒子２２’同士間に空隙を有する接合体２‘が得られる。
このようにして得られた接合体２’表面を研磨して、鏡面処理しておく。
【００３５】
このようにして得られた接合体２’表面の金属メッシュ２２’上に、通気性のあるセラミックス薄膜１’を真空吸引により張り付ける。真空度は、６００ｇ／ｃｍ２前後あればよい。
ここでは、通気性のあるセラミックス薄膜１’を用いること以外は、前記した可動側金型Ｘ１を製造する際と同様にして行えばよい。
【００３６】
固定側金型Ｘ２を製造する場合には、さらにその上に真空吸引によりスタンパー５を張り付ける。
このようにしてキャビティ面側表面Ａ’に、真空吸引により張り付けられた通気性のあるセラミックス薄膜１’を介して、真空吸引により張り付けられたスタンパー５を有する固定側金型Ｘ２が製造される。
【００３７】
以上のようにして可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２とがそれぞれ製造される。
そして、光学ディスク成形用可動型１は、接合体３の部分が全体として空隙を有する構造となっていることから、断熱効果に優れたものとなっている。従って、冷却流路５を通して冷却水を流すことにより、冷却性能に優れたものとなっている。
しかも、光学ディスク成形用可動型１は、このような接合体３の金属粒子２２上に、セラミックス薄膜２を真空吸引により張り付けたものであるから、耐熱性に優れたものとなっている。
光学ディスク成形用固定型１’も光学ディスク成形用可動型１と似た構造を持っているため、同様に冷却性能に優れ、しかも耐熱性に優れたものとなっている。
上記のようにしてそれぞれ製造された可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２とを組合わせることにより、光学ディスク成形用金型Ｘが得られる。なお、可動側金型Ｘ１と固定側金型Ｘ２とは、それぞれ取付け板を用いて支持することができる。
従って、光学ディスク成形用金型Ｘ全体としても、冷却性能に優れ、しかも耐熱性に優れたものとなっている。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
従って、本発明は、光学ディスクの製造に広く用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】請求項１に係る本発明の光学ディスク成形用金型Ｘの１態様を示す一部切り欠き正面図である。
【図２】可動側金型Ｘ１のうちの一番上の金型片１Ａの平面図である。
【図３】可動側金型Ｘ１のうちの一番上の金型片１Ａの裏面図である。
【符号の説明】
【００４０】
Ｘ  光学ディスク成形用金型
Ｘ１  可動側金型
Ｘ２  固定側金型
１Ａ  可動側金型Ｘ１の一番上の金型片
１Ｂ  可動側金型Ｘ１の上から二番目の金型片
１Ｃ  可動側金型Ｘ１の上から三番目の金型片
１Ａ’  固定側金型Ｘ２の一番上の金型片
１Ｂ’  固定側金型Ｘ２の上から二番目の金型片
１Ｃ’  固定側金型Ｘ２の上から三番目（一番下）の金型片
１、１’  セラミックス薄膜
２、２’  接合体
２１、２１’  金属メッシュ
２２、２２’  金属粒子
３、３’  真空吸引口
４、４’  冷却流路
５  スタンパー
Ａ  可動側金型Ｘ１の金型片１Ａのキャビティ面側表面
Ａ’  固定側金型Ｘ２の金型片１Ａ’のキャビティ面側表面
【図１】
2007054957.tif 000003
【図２】
2007054957.tif 000004
【図３】
2007054957.tif 000005