(57)【要約】【課題】  表示領域を十分に確保することができると同時に、基板の大型化を回避することが可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、シールマスク及びシール材印刷装置を提供すること。【解決手段】  マザー基板Ｓ上にシールパターン１２０を形成する際に、シールパターン１２０の辺部分に間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃが設けられるようにしたので、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス型マザー基板と貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを塞ぐように広がる。したがって、当該シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが不均一に広がることは無い。【選択図】  図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間にシール材が挟持されてなる電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板に、矩形環状のシール材を形成する工程と、
前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程と
を具備し、
前記シール材を形成する工程では、前記シール材の辺部分に間隙を設け、
前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記間隙が閉塞されるまで前記一対の基板を圧着する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記シール材を形成する工程では、前記間隙が直線状に設けられることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記シール材を形成する工程では、幅が２００μｍ以下になるように前記間隙が設けられることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記シール材を形成する工程では、前記間隙が一定の幅で設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記シール材を形成する工程では、前記間隙を挟んで隣接する前記シール材のうち一方のシール材の端面に凹部を設け、他方のシール材の端面に凸部を設け、
前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記シール材の凹部と凸部とが係合するように前記一対の基板を圧着することを特徴とする請求項１、請求項３及び請求項４のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記シール材の粘度が、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記シール材を形成する工程が、シールマスクを用いたスクリーン印刷法により行われることを特徴とする請求項１乃至請求項６のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記シール材を形成する工程の後に、前記矩形環状のシール材の内側に電気光学材料を滴下する工程を具備することを特徴とする請求項１乃至請求項７のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法により製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
液晶パネルを構成する基板上に矩形環状のシールパターンを印刷するためのシールマスクであって、
前記マスクパターンが、
前記シールパターンの形状に対応する形状の開口部を有しており、
前記シールパターンの辺に対応する部分に接続部が設けられている
ことを特徴とするシールマスク。
【請求項１１】
前記接続部が直線状に設けられていることを特徴とする請求項１０に記載のシールマスク。
【請求項１２】
前記接続部の幅が、２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載のシールマスク。
【請求項１３】
前記接続部が一定の幅で設けられていることを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のうちいずれか一項に記載のシールマスク。
【請求項１４】
前記接続部を挟んで隣接する前記開口部のうち、一方の開口部の端辺には凹部が設けられており、他方の開口部の端辺には凸部が設けられていることを特徴とする請求項１０、請求項１２及び請求項１３のうちいずれか一項に記載のシールマスク。
【請求項１５】
液晶パネルを構成する基板上にシールパターンを印刷するシール材印刷装置であって、
請求項１０乃至請求項１４のうちいずれか一項に記載のシールマスクを具備することを特徴とするシール材印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、シールマスク及びシール材印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶パネルは、マザー基板と呼ばれる大判の基板を２枚対向させ、一方のマザー基板に矩形環状にシール材を形成し、液晶を挟持するように２枚のマザー基板を貼り合わせて切断することによって形成される。マザー基板上にシール材を矩形環状に形成する手法としては、例えばシール材の形状に対応する矩形環状の開口部が設けられたシールマスクを用いてマザー基板上にシール材を印刷するスクリーン印刷法（例えば、特許文献１参照。）や、ディスペンサを用いてマザー基板上にシール材を矩形環状に塗布する手法（例えば、特許文献２参照）等がある。  
【特許文献１】特開２００４−１７７９４１号公報
【特許文献２】特開２００４−１０９４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、シール材を単に矩形環状に形成したのでは、２枚のマザー基板を貼り合わせて圧着したときに、当該シール材の辺部分において、シール材の広がりが不均一になり、シール材の幅（シール幅）が不均一になってしまう。  
また、特にスクリーン印刷法によりシール材を環状パターンに印刷する場合では、シール材を印刷した直後にはシールマスクとマザー基板とシール材とが密着し、シール材内部の空間が密閉されてしまう。このため、シール材を印刷し終えてマザー基板からシールマスクを取り外すときにシール材がシールマスクに引っ張られるような抵抗を受けてしまう。このように、シールマスクとマザー基板とがスムーズに剥がれないと、シール材の塗布量が不均一となりシールパターンが変形する場合がある。シール材が変形した場合、２枚のマザー基板を貼り合わせて圧着したときに、シール幅が不均一になるという問題がある。  
このようにシール幅が不均一になると、その分シール材の内側の領域が狭くなってしまう。電気光学装置においては、通常、かかる領域は表示領域として利用されるものである。したがって、当該領域が狭くなってしまうと、利用できる表示領域が狭くなってしまう。あるいは、所定の面積の表示領域を確保しようとすると、基板を大型化せざるを得なくなってしまう。  
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、表示領域を十分に確保することができると同時に、基板の大型化を回避することが可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、シールマスク及びシール材印刷装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記目的を達成するため、本発明の主たる観点に係る電気光学装置の製造方法は、一対の基板間にシール材が挟持されてなる電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板に、矩形環状のシール材を形成する工程と、前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程とを具備し、前記シール材を形成する工程では、前記シール材の辺部分に間隙を設け、前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記間隙が閉塞されるまで前記一対の基板を圧着することを特徴とする。
【０００５】
本願発明において、電気光学装置とは、電界により物質の屈折率が変化して光の透過率を変化させる電気光学効果を有するものの他、電気エネルギーを光学エネルギーに変換するもの等も含んで総称している。具体的には、電気光学物質として液晶を用いる液晶表示装置、有機ＥＬ(Electro-Luminescence)を用いる有機ＥＬ装置、無機ＥＬを用いる無機ＥＬ装置、電気光学物質としてプラズマ用ガスを用いるプラズマディスプレイ装置等がある。さらには、電気泳動ディスプレイ装置（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：電界放出表示装置：Field Emission Display）等がある。
【０００６】
本発明によれば、シール材の辺部分に間隙が設けられるようにしたので、一対の基板を貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材が間隙を塞ぐように広がり、当該シール材の各辺が不均一に広がることが無い。特に、スクリーン印刷法によってシール材を形成する場合、本発明のようにシール材の辺部分に間隙を設けることで、シール材を形成した後にシール材とシールマスクと基板とで囲まれる領域が密閉されないので、基板からシールマスクを取り外すときにシール材からの抵抗を受けなくて済む。このため、シール材が変形することも無く、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにはシール材の広がりが均一になり、シール幅が均一になる。これにより、シール材の内側の領域が狭くなるのを回避することができ、電気光学装置の表示領域を十分に確保することができると共に、一定の表示領域を確保する場合にも基板の大型化を回避することができる。
【０００７】
また、前記シール材を形成する工程では、前記間隙が直線状に設けられることが好ましい。  
このような構成によれば、間隙を挟むシール材の各対向面が平坦になるため、一対の基板を貼り合わせる工程においてシール材同士が合着したときに、形状が乱れることが無い。
【０００８】
また、前記シール材を形成する工程では、前記間隙が一定の幅で設けられることが好ましい。  
間隙の幅が一定に設けられた場合、一対の基板を貼り合わせて圧着すると、シール材は圧着により間隙を均一に閉塞していくことになる。これにより、シール材を隙間なく均一に合着させることができる。
【０００９】
また、前記シール材を形成する工程では、前記間隙が前記シール材の内側から外側にかけて徐々に幅が狭くなるように設けられることが好ましい。  
このような構成によれば、シール材の外辺では、シール材の内辺に比べて端面同士の間隔が狭くなるので、一対の基板を貼り合わせて圧着する際に、シール材の外側が合着しやすくなる。これにより、シール材で囲まれた領域を確実に密閉することができる。
【００１０】
また、前記シール材を形成する工程では、幅が２００μｍ以下になるように前記間隙が設けられることが好ましい。  
電気光学装置を製造する際に設定される通常のシール材の幅、量、粘度等を考慮すると、間隙の幅を大きくし過ぎた場合には、一対の基板を貼り合わせた時にシール材同士が合着しない可能性がある。本発明のように間隙の幅を２００μｍ以下に設定すれば、一対の基板を貼り合わせた時にシール材同士が確実に合着することになるので、シール材で囲まれた領域を確実に密閉することができる。なお、当該間隙の幅については、５μｍ〜５０μｍの範囲であればなお好ましい。
【００１１】
また、前記シール材を形成する工程では、前記間隙を挟んで隣接する前記シール材のうち一方のシール材の端面に凹部を設け、他方のシール材の端面に凸部を設け、前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記シール材の凹部と凸部とが係合するように前記一対の基板を圧着することが好ましい。  
このような構成によれば、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、各シール材の端面に設けられた凹部と凸部とが係合するので、シール材に囲まれた領域を確実に密閉することができる。例えば液晶装置の場合、シール材に囲まれた領域に封入する液晶の漏れを確実に防ぐことができる。
【００１２】
また、前記シール材の粘度が、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲内であることが好ましい。  
シール材の粘度が高すぎる場合、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにシール材が十分に広がらず、間隙が閉塞されないおそれがある。また、シール材の粘度が低すぎる場合、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにシール材が過度に広がってしまうおそれがある。更には、液晶封入時の液晶拡散力によりシールを破ってしまう不具合が生ずる。本発明のようにシール材の粘度を、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲とすることにより、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、シール材が適度に広がるのである。なお、当該シール材の粘度については、２×１０５ｃｐｓ〜１×１０６ｃｐｓの範囲であれば、より好ましい。
【００１３】
また、前記シール材を形成する工程が、シールマスクを用いたスクリーン印刷法により行われることが好ましい。  
スクリーン印刷法によってシール材を形成する場合、シール材の一部の角部に間隙を設けることにより、シール材を形成した後にシール材とシールマスクと基板とで囲まれる領域が密閉されず、当該間隙が空気の通り道となるため、基板からシールマスクを取り外すときにシール材からの抵抗を受けなくて済む。このため、シール材が変形することも無く、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにはシール材の広がりが均一になり、シール幅が均一になる。
【００１４】
また、前記シール材を形成する工程の後に、前記矩形環状のシール材の内側に電気光学材料を滴下する工程を具備することが好ましい。  
本発明によれば、上記のようにシール材を形成した後、当該シール材の内側に電気光学材料を滴下するため、基板を貼り合わせる際には電気光学材料がシール材の外側に漏れ出すのを回避することができる。
本発明の別の観点に係る電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法により製造されたことを特徴とする。  
本発明によれば、電気光学装置を製造する際に表示領域を十分に確保することができると共に、基板の大型化を回避することができるため、表示領域が広く、基板１枚あたりのコストパフォーマンスが高い電気光学装置を得ることができる。
【００１５】
本発明の別の観点に係るシールマスクは、液晶パネルを構成する基板上に矩形環状のシールパターンを印刷するためのシールマスクであって、前記マスクパターンが、前記シールパターンの形状に対応する形状の開口部を有しており、前記シールパターンの辺に対応する部分に接続部が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
本発明では、シールマスクのうち、シールパターンの辺に対応する部分に接続部が設けられているので、当該シールマスクを用いてシールパターンを形成する場合、シールパターンの辺に間隙が形成される。当該間隙が形成されることにより、当該シールマスクを用いてシールパターンを印刷した後、シール材と基板とシールマスクとで囲まれた領域が密閉されずに済む。
【００１７】
したがって、基板からシールマスクを取り外すときには、シールマスクがシール材に引っ張られるような抵抗を受けることが無く、シールパターンが変形することも無い。このため、一対の基板を貼り合わせて圧着した場合にシール幅が不均一になることを回避することができる。
【００１８】
また、前記接続部が直線状に設けられていることが好ましい。  
接続部を直線状に設けることにより、基板上に形成されるシール材の間隙を直線状に形成することができる。これにより、間隙を挟むシール材の各対向面が平坦になるため、一対の基板を貼り合わせる工程においてシール材同士が合着したときに、形状が乱れることが無い。
【００１９】
また、前記接続部が一定の幅で設けられていることが好ましい。  
接続部を一定の幅で設けることにより、基板上に形成されるシール材の間隙を一定の幅で形成することができる。間隙の幅が一定に形成された場合、一対の基板を貼り合わせて圧着すると、シール材は圧着により間隙を均一に閉塞していくことになる。これにより、シール材を隙間なく均一に合着させることができる。
【００２０】
また、前記接続部が、前記シールパターンの内側から外側にかけて徐々に幅が狭くなるように設けられていることが好ましい。  
このような構成により、基板上に形成されるシールパターンの内側から外側にかけて徐々に幅が狭くなるようにシール材に間隙を形成することができる。シールパターンの外辺では、シールパターンの内辺に比べてシール材の端面同士の間隔が狭くなるので、一対の基板を貼り合わせて圧着する際には、シール材の外側が合着しやすくなる。これにより、シール材で囲まれた領域を確実に密閉することができる。
【００２１】
また、前記接続部の幅が、２００μｍ以下であることが好ましい。  
接続部の幅を２００μｍ以下にすれば、基板上に形成されるシール材の間隙の幅を２００μｍ以下にすることができる。この場合、一対の基板を貼り合わせた時にシール材が隙間無く合着するので、シール材の内側の領域を確実に密閉することができる。また、当該間隙の幅が５μｍ〜５０μｍの範囲が好適であるのに対応して、接続部の幅も５μｍ〜５０μｍの範囲とするのが好適である。
【００２２】
また、前記接続部を挟んで隣接する前記開口部のうち、一方の開口部の端辺には凹部が設けられており、他方の開口部の端辺には凸部が設けられていることが好ましい。  
このような構成によれば、基板上に形成されるシール材の間隙を挟んで隣接するシール材のうち、一方のシール材の端面に凹部を設け、他方のシール材の端面に凸部を設けることができる。これにより、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、シール材の凹部と凸部を係合させることができるので、シール材に囲まれた領域を確実に密閉することができる。
【００２３】
本発明の別の観点に係るシール材印刷装置は、液晶パネルを構成する基板上にシールパターンを印刷するシール材印刷装置であって、上記のシールマスクを具備することを特徴とする。  
本発明のシール材印刷装置によって基板上にシール材を印刷すれば、表示領域を十分に確保することができると共に、基板の大型化を回避することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。  
図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。  
同図に示すように、液晶装置１は、液晶パネル４０と、バックライト４１とを主体として構成されている。液晶パネル４０は、アクティブマトリクス基板２とカラーフィルタ基板３とで液晶６を挟持するように設けられており、シール材４を介して貼り合わされた構成になっている。本実施形態では、薄膜ダイオード（ＴＦＤ）や薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例に挙げて説明するが、パッシブマトリクス方式やその他の方式の液晶装置であっても本発明の適用は可能である。
【００２５】
アクティブマトリクス基板２は、例えばガラスや石英等の透明な材料により形成された矩形の基板である。当該表示領域Ｄは、画像や動画等が表示される領域であり、当該表示領域Ｄには、図示しない画素電極と、スイッチング素子とが設けられている。また、カラーフィルタ基板３は、例えばガラスやプラスチック等の透明な材料によって形成された矩形の基板である。カラーフィルタ基板３上には図示しない遮光層が設けられており、当該遮光層で囲まれた領域（画素）に対応して赤色層、緑色層、青色層とを有するカラーフィルタが設けられている。また、当該カラーフィルタ基板３上には、カラーフィルタを覆うようにオーバーコート層（図示せず）が形成され、オーバーコート層上には配向膜（図示せず）が形成されている。
【００２６】
シール材４は、例えばエポキシ樹脂等の材料によって形成されている。当該シール材４は、液晶パネル４０の表示領域Ｄを囲むように矩形環状に設けられており、４辺（辺７、辺８、辺９及び辺１０）を有している。シール材４の４辺のうち、辺７、辺９及び辺１０には、独立して設けられたシール材同士が合着した合着部７ａ、９ａ及び１０ａが形成されている。  
なお、辺７と辺９とが平行になっており、辺８と辺１０とが平行になっている。
【００２７】
図２は、本実施形態に係るシール材印刷装置１０１の構成を示す模式図である。  
シール材印刷装置１０１は、ステージ１０２と、シールマスク１０３と、印刷手段１０４とを主体として構成されている。当該シール材印刷装置１０１は、液晶パネルを構成するパネル基板にスクリーン印刷法によってシール材を印刷する装置である。本実施形態では、一枚のマザー基板から複数のパネル基板を採取する多数個取りと呼ばれる手法により液晶パネルを製造する工程の中でシール材を形成する場合を例に挙げて説明する。
【００２８】
ステージ１０２は、マザー基板Ｓを載置して保持する基台である。  
シールマスク１０３は、マザー基板Ｓ上に形成するシールパターンを成形するものである。当該シールマスク１０３は、マザー基板Ｓに対して着脱可能に設けられており、図３に示すように、マスクパターン１１０として開口部１１１が形成されている。当該開口部１１１は、３つの開口部（開口部１１１ａ、開口部１１１ｂ及び開口部１１１ｃ）から構成されている。また、各開口部の間には、接続部１０９（接続部１０９ａ、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃ）が形成されている。すなわち、開口部１１１ａと開口部１１１ｂとは、接続部１０９ａを挟んで隣接しており、開口部１１１ｂと開口部１１１ｃとは、接続部１０９ｂを挟んで隣接しており、開口部１１１ｃと開口部１１１ａとは、接続部１０９ｃを挟んで隣接している。
【００２９】
図４は、マスクパターン１１０のうち、接続部１０９ａ付近の形状を示す図である。なお、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃ付近の形状については説明を省略するが、接続部１０９ａ付近の形状の説明と同様の説明が可能である。  
同図に示すように、開口部１１１ａ及び開口部１１１ｂは、それぞれＬ１（Ｌ１は例えば０．５ｍｍ）の幅を有している。
【００３０】
また、開口部１１１ａと開口部１１１ｂとの間に設けられた接続部１０９ａは、マスクパターン１１０のうち当該接続部１０９ａが設けられる辺の延在方向１１４に対して直交するように、一定の幅Ｌ２（Ｌ２は例えば５μｍ〜５０μｍ程度）で直線状に設けられている。開口部１１１ａの端辺１１１ｅと、開口部１１１ｂの端辺１１１ｆとは、接続部１０９ａを挟んで対向していると同時に、当該対向する端辺１１１ｅと端辺１１１ｆとは平行になっている。
【００３１】
図２に戻って、印刷手段１０４は、スクレッパ１０５と、スキージ１０６と、これらスクレッパ１０５及びスキージ１０６を保持する保持部材１０８とを有している。スクレッパ１０５は、シールマスク１０３上に供給されたシール材料をマスクパターン１１０の開口部１１１に流し入れる（コートする）部材である。スキージ１０６は、マスクパターン１１０の開口部１１１にコートされたシール材料をマザー基板Ｓに転写させる（プリントする）部材である。スクレッパ１０５及びスキージ１０６のそれぞれには、シールマスク１０３に対して着脱可能となるように昇降機構が設けられている。また、保持部材１０８にも、スクレッパ１０５及びスキージ１０６の昇降機構とは別に図示しない昇降機構が設けられている。
【００３２】
スクレッパ１０５及びスキージ１０６は保持部材１０８に保持されており、当該保持部材１０８には、図示しない駆動機構が設けられている。当該駆動機構によって保持部材１０８が図中の左右に移動可能となっており、保持部材１０８が図中の左右に移動することによって、スクレッパ１０５及びスキージ１０６がシールマスク１０３の図中左端部から右端部へと、又は、図中右端部から左端部へとスキャンするようになっている。
【００３３】
次に、図５〜図１１を参照して、上記のシール材印刷装置１０１を用いて液晶装置１を製造する方法を説明する。本実施形態において、液晶装置１を製造する方法については、大面積の２枚のマザー基板、すなわち、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを別個に形成し、そのうちの一方の基板（本実施形態では、カラーフィルタ側マザー基板）にシール材を介して両者を貼り合わせ、貼り合わせた状態で切断することにより個々の液晶パネルに分離する方法（多数個取り）を例に挙げて説明する。また、シール材を形成する方法については、上述したシール材印刷装置１０１を用いたスクリーン印刷法を例に挙げて説明する。
【００３４】
まず、カラーフィルタ側マザー基板を形成する工程について説明する。ガラスやプラスチック等の透光性材料からなるマザー基板Ｓの各表示領域Ｄ（図９等参照）に各液晶パネルについての電極やカラーフィルタを形成し、平坦化膜を形成する。平坦化膜の表面には、ギャップ制御用の図示しないスペーサ及び隔壁を形成する。スペーサは、各表示領域Ｄについてそれぞれ形成する。さらに、マザー基板Ｓに形成されたカラーフィルタを覆うように配向膜を形成し、当該配向膜に対してラビング処理を実行する。
【００３５】
次に、マザー基板Ｓの表示領域Ｄを囲むようにシール材を形成する。以下、当該シール材形成工程について説明する。  
まず、シール材印刷装置１０１内のステージ１０２上にマザー基板Ｓを保持し、シールマスク１０３をマザー基板Ｓに装着する。この状態で、図５に示すように、シールマスク１０３上（図中、シールマスク１０３の右端）にシール材料８０を供給する。なお、シールマスク１０３上に供給するシール材料８０の粘度は、２×１０６ｃｐｓ以下であることが好ましく、２×１０５ｃｐｓ〜１×１０６ｃｐｓの範囲であればなお好ましい。本実施形態では、マザー基板Ｓに液晶を滴下してから貼り合わせる方法により液晶装置１を製造するので、上記のように粘度の高いシール材を採用している。
【００３６】
次に、図６に示すように、シールマスク１０３上のシール材料８０をスクレッパ１０５によりコートし、シールマスク１０３の開口部１１１にシール材料８０を供給する。スクレッパ１０５がシールマスク１０３の右端部から左端部へとスキャンすることにより、シールマスク１０３上の開口部１１１にシール材料８０が充填される。
【００３７】
次に、図７に示すように、シールマスク１０３の開口部１１１に充填されたシール材料８０をマザー基板Ｓにプリントする。スキージ１０６がシールマスク１０３の左端部から右端部へスキャンすることにより、シールマスク１０３上のシール材料８０が開口部１１１からマザー基板Ｓ上に押し出され、マザー基板Ｓ上にシール材料８０がマスクパターン１１０に対応する形状で印刷される。次に、図８に示すように、シールマスク１０３をマザー基板Ｓから取り外す。このとき、マザー基板Ｓ上には、シールパターン１２０が図９に示すように形成されている。以上の工程により、カラーフィルタ側マザー基板が形成される。その後、このように形成されたカラーフィルタ側マザー基板のシールパターン１２０の内側の領域に、液晶を滴下する。
【００３８】
ここで、マザー基板Ｓ上に形成されたシールパターン１２０の構成を説明する。図１０は、図９に示されたシールパターン１２０のうち、１個のシールパターン１２０を示す図である。  
シールパターン１２０は、表示領域Ｄを囲むように設けられた３つのシール材（シール材１２０ａ、シール材１２０ｂ及びシール材１２０ｃ）から構成されている。また、シール材１２０ａとシール材１２０ｂとの間には間隙１２１ａが形成され、シール材１２０ｂとシール材１２０ｃとの間には間隙１２１ｂが形成され、シール材１２０ｃとシール材１２０ａとの間には間隙１２１ｃが形成されている。すなわち、シール材１２０ａとシール材１２０ｂとは、間隙１２１ａを挟んで隣接しており、シール材１２０ｂとシール材１２０ｃとは、間隙１２１ｂを挟んで隣接しており、シール材１２０ｃとシール材１２０ａとは、間隙１２１ｃを挟んで隣接している。なお、間隙１２１ａ、間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃはシール材料がプリントされない隙間の部分であり、それぞれ上述したシールマスク１０３の接続部１０９ａ、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃに対応する部分である。
【００３９】
これら間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃは、ほぼ同様の構成をなしているので、以下では間隙１２１ａの構成についてのみ説明し、間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃの構成の説明は省略する。なお、説明を省略する間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃについても間隙１２１ａの説明と同様の説明が可能である。
【００４０】
間隙１２１ａは、シールパターン１２０の内側から外側にかけて当該シールパターン１２０の辺の延在方向１２４に対して直交するように設けられており、一定の幅Ｌ３（Ｌ３は例えば５μｍ〜５０μｍ程度）で直線状に設けられている。シール材１２０ａの端面１２１ｅ及びシール材１２０ｂの端面１２１ｆは、間隙１２１ａを挟んで対向していると同時に、当該対向する端面１２１ｅ及び端面１２１ｆは平行になっている。
【００４１】
次に、アクティブマトリクス側マザー基板を形成する工程について説明する。  
ガラスやプラスチック等の透光性材料からなる別のマザー基板の各表示領域（当該表示領域は、マザー基板Ｓの表示領域Ｄに対応するものである）に、公知の方法で走査線やデータ線、電極等を形成し、走査線やデータ線等が形成された表示領域に平坦化膜を形成する。平坦化膜を形成した後は、各表示領域内にポリイミド等からなる配向膜を形成し、この配向膜に対してラビング処理を実行する。以上の工程により、アクティブマトリクス側マザー基板が形成される。
【００４２】
次に、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着する。具体的には、アクティブマトリクス側マザー基板の表示領域とカラーフィルタ側マザー基板の表示領域Ｄとが一致するように位置合わせをし、位置が合ったところで両基板を貼り合わせて圧着する。シールパターン１２０は圧着により潰されて広がり、図１に示すシール材４を構成する。
【００４３】
その後、貼り合わせた２枚の基板にスクライブ線を形成し、当該スクライブ線に沿って液晶パネルを切断し、複数の液晶パネルを形成する。各液晶パネルの洗浄を行い、駆動ドライバ等を実装し、必要に応じてバックライト４１や偏光板等を取り付けて、液晶装置１が完成する。
【００４４】
本実施形態によれば、マザー基板Ｓ上にシールパターン１２０を形成する際に、シールパターン１２０の辺部分に間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃが設けられるようにしたので、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス型マザー基板と貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを塞ぐように広がる。したがって、当該シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが不均一に広がることは無い。
【００４５】
特にスクリーン印刷法によってシールパターンを形成する場合、例えば図１１に示すようにシールパターン５４を隙間無く印刷すると、シールマスク５３とマザー基板Ｓとシールパターン５４とが密着し（図１１の破線部で示した状態）、この三者に囲まれた領域が密閉されるので、マザー基板Ｓからシールマスク５３を取り外すときにシールパターン５４から引っ張られる力を受け、シールパターン５４が変形してしまうことがある。
【００４６】
これに対して、本実施形態のようにシールパターン１２０の辺部分に間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを設けることで、シールパターン１２０を形成した後では、図１２に示すように、当該シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃとシールマスク１０３とカラーフィルタ側マザー基板とで囲まれる領域が密閉されない状態になる。このため、当該カラーフィルタ側マザー基板からシールマスク１０３を取り外すときにシール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃからの抵抗を受けずに済み、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが変形することも無い。よって、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着したときには、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃの広がりが均一になり、シール幅が均一になる。これにより、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃで囲まれた領域が狭くなるのを回避することができ、電気光学装置の表示領域Ｄを十分に確保することができると共に、一定の表示領域を確保する場合にもマザー基板の大型化を回避することができる。
【００４７】
なお、マザー基板Ｓにシールパターンを形成する際に設定されるシールパターンの幅、シール材料の量及び粘度等のパラメータを考慮すると、間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃの幅を大きくし過ぎた場合には、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせた時にシール材同士が合着しない可能性がある。
【００４８】
一方で、間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃの幅を小さくし過ぎた場合には、シールパターン１２０を印刷し終えてシールマスク１０３をマザー基板Ｓから取り外すときに、間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃが塞がれてしまい、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃとシールマスク１０３とマザー基板Ｓとで囲まれる領域が密閉されてしまうおそれがある。
【００４９】
そこで、本発明のように間隙の幅を２００μｍ以下の範囲、より好ましくは５μｍ〜５０μｍの範囲に設定すれば、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板を貼り合わせた時に、シール材同士を確実に合着させることができると共に、間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃが塞がれるのを回避することができる。
【００５０】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、シールマスク１０３のマスクパターン１１０に設けられた接続部１０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃの形状やシールパターン１２０に設けられる間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃの形状を、以下の各図に示すような形状にすることも可能である。なお、以下の図には、接続部１０９ａ又は間隙１２１ａについてのみ図示して説明をする。接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃの形状、間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃの形状については図示及び説明を省略するが、接続部１０９ａ又は間隙１２１ａと同様の図示・説明が可能である。
【００５１】
例えば、図１３（ａ）に示すように、接続部１０９ａが、２つの開口部（開口部１１１ａ、開口部１１１ｂ）に跨った辺の延在方向１１４に対して直交するように設けられるのではなく、当該延在方向１１４に対してα（αは例えば６０°）の角度を有するように設けられるようにしても良い。  
この場合、図１３（ｂ）に示すように、当該シールマスク１０３を用いて形成されたシールパターン１２０に設けられる間隙１２１ａは、接続部１０９ａの形状に対応するように、２つのシール材（シール材１２０ａ、シール材１２０ｂ）に跨った辺の延在方向１２４に対してαの角度を有するように設けられる。
【００５２】
また、図１４（ａ）に示すように、開口部１１１ａの端辺１１１ｅの一部に凹部９９ａを設け、開口部１１１ｂの端辺１１１ｆの一部に凸部９９ｂを設けるように接続部１０９ａを形成しても良い。  
この場合、図１４（ｂ）に示すように、マザー基板上にシールパターン１２０を形成したときに、シール材１２０ａの端面１２１ｅには凹部１１９ａが形成され、シール材１２０ｂの端面１２１ｆには凸部１１９ｂが形成される。  
このようにシールパターン１２０を形成し、当該凹部１１９ａと凸部１１９ｂとが係合ようにカラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着することで間隙１２１ａが隙間無く閉塞され、シール材に囲まれた領域を確実に密閉することができる。また、シールパターン１２０に囲まれた領域に封入する液晶の漏れを確実に防ぐことができる。
【００５３】
なお、凹部９９ａ及び凸部９９ｂの形状については、例えば図１５（ａ）に示すように、凸部９９ｂを尖形にし、凹部９９ａを、当該凸部９９ｂに対応する形状にした構成であっても良い。この場合、図１５（ｂ）に示すように、マザー基板上にシールパターン１２０を形成したときに、間隙１２１ａには、尖形の凸部１１９ｂと、当該凸部１１９ｂに対応する形状の凹部１１９ａとが形成される。
【００５４】
また、凹部９９ａ及び凸部９９ｂの形状については、例えば図１６（ａ）に示すように、凸部９９ｂが円弧状に突出する形状にし、凹部９９ａを、当該凸部９９ｂに対応する形状にした構成であっても良い。この場合、図１６（ｂ）に示すように、マザー基板上にシールパターン１２０を形成したときに、間隙１２１ａには、円弧状に突出する凸部１１９ｂと、当該凸部１１９ｂに対応する形状の凹部１１９ａとが形成される。
【００５５】
その他の例として、図１７（ａ）に示すように、接続部１０９ａが、マスクパターン１１０の内辺１１２ａから外辺１１２ｂにかけて徐々に幅が狭くなるように形成されていても良い。接続部１０９ａのうち最も幅の広い部分では例えばＬＡ１の幅を有し、最も幅の狭い部分では例えばＬＢ１の幅を有するように形成する（ＬＡ１は例えば４０〜５０μｍ程度、ＬＢ１は例えば２０〜３０μｍ程度）。  
この場合、図１７（ｂ）に示すように、マザー基板上にシールパターン１２０を形成したときに、シールパターン１２０の内辺１２２ａから外辺１２２ｂにかけて徐々に幅が狭くなるように間隙１２１ａを形成することができる。この場合、間隙１２１ａのうち最も幅の広い部分では例えばＬＡ２の幅を有し、最も幅の狭い部分では例えばＬＢ２の幅を有するように間隙１２１ａが形成される（ＬＡ２は例えば４０〜５０μｍ程度、ＬＢ２は例えば２０〜３０μｍ程度）。  
これにより、シールパターン１２０の外辺１２２ｂでは、シールパターンの内辺１２２ａに比べて幅が狭くなる、すなわちシール材の端面同士の間隔が狭くなるので、一対の基板を貼り合わせて圧着する際には、シール材の外辺１２２ｂ側を合着させやすくすることができる。これにより、シール材で囲まれた領域を確実に密閉することができる。
【００５６】
また、例えば図１８（ａ）に示すように、シールマスク１０３の接続部１０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃのほか、マスクパターン１１０の角部（例えば、図１８（ａ）の右下の角部）に、別途接続部１０９ｄを設けても良い。この場合、図１８（ｂ）に示すように、マザー基板上に形成されるシールパターン１２０の辺部分に間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃが形成されるほか、図１８（ａ）に示す接続部１０９ｄの形状に対応するように、シールパターン１２０の角部（図１８（ｂ）の右下の角部）に間隙１２１ｄが設けられることになる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図。
【図２】本実施形態に係るシール材印刷装置の構成を示す図。
【図３】シール材印刷装置に搭載されるシールマスクの構成を示す図。
【図４】シールマスクの一部を拡大して示す図。
【図５】マザー基板にシール材を形成する様子を示す工程図。
【図６】同、工程図の続き。
【図７】同、工程図の続き。
【図８】同、工程図の続き。
【図９】シール材形成後のマザー基板の様子を示す図。
【図１０】マザー基板に形成されたシール材の構成を示す図。
【図１１】マザー基板からシールマスクを取り外す様子を示す図（その１）。
【図１２】マザー基板からシールマスクを取り外す様子を示す図（その２）。
【図１３】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その１）。
【図１４】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その２）。
【図１５】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その３）。
【図１６】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その４）。
【図１７】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その５）。
【図１８】（ａ）本発明のシールマスクの別の構成、（ｂ）マザー基板上に形成されたシール材の別の構成、をそれぞれ示す図（その６）。
【符号の説明】
【００５８】
１…液晶装置  ４…シール材  １０１…シール材印刷装置  １０３…シールマスク  １０９ａ、１０９ｂ、１０９ｃ…接続部  １１０…マスクパターン  １１１…開口部  １２０…シールパターン  １２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃ…間隙
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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