(57)【要約】【課題】洗浄液の使用量を少なくしながら、被洗浄物の微細な隙間から窪みまで綺麗に洗浄する。【解決手段】洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給して被洗浄物Ｈを洗浄する。洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給する供給部５とを備える。超音波霧化機１は、洗浄液Ｗを入れる超音波霧化室４と、この超音波霧化室４の洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波振動子２と、超音波振動子２に高周波電力を供給する超音波電源３とを備える。洗浄装置は、超音波霧化機１で霧化されたミストＭを供給部５から被洗浄物Ｈの表面に供給して、被洗浄物Ｈを洗浄する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液(W)を超音波振動させてミスト(M)とし、このミスト(M)を被洗浄物(H)の表面に供給して被洗浄物(H)を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
洗浄液(W)を超音波振動させてミスト(M)とし、このミスト(M)に搬送気体を供給し、この搬送気体を介してミスト(M)を被洗浄物(H)の表面に吹き付けて被洗浄物(H)を洗浄する請求項１に記載される洗浄方法。
【請求項３】
搬送気体の風量が、洗浄液(W)を超音波振動させる超音波振動子(2)の入力電力１Ｗに対して１リットル／分以上である請求項２に記載される洗浄方法。
【請求項４】
洗浄液(W)を超音波振動させてミスト(M)とし、このミスト(M)に含まれる大粒のミストをデミスタ(38)で除去して被洗浄物(H)の表面に供給する請求項１に記載される洗浄方法。
【請求項５】
洗浄液(W)が揮発性の液体である請求項１に記載される洗浄方法。
【請求項６】
洗浄液(W)を超音波振動させてミスト(M)に霧化する超音波霧化機(1)と、この超音波霧化機(1)で霧化されたミスト(M)を被洗浄物(H)の表面に供給する供給部(5)とを備え、超音波霧化機(1)は、洗浄液(W)を入れる超音波霧化室(4)と、この超音波霧化室(4)の洗浄液(W)を超音波振動させてミスト(M)に霧化する超音波振動子(2)と、超音波振動子(2)に高周波電力を供給する超音波電源(3)とを備え、
超音波霧化機(1)で霧化されたミスト(M)を供給部(5)が被洗浄物(H)の表面に供給して、被洗浄物(H)を洗浄する洗浄装置。
【請求項７】
超音波霧化室(4)に搬送気体を強制送風する気体供給源(8)を備える請求項６に記載される洗浄装置。
【請求項８】
気体供給源(8)が、超音波振動子(2)の入力電力１Ｗに対して、１リットル／分以上の風量で超音波霧化室(4)に搬送気体を強制送風する請求項７に記載される洗浄装置。
【請求項９】
気体供給源(8)が、超音波霧化室(4)に送風する搬送気体の風量を変化させる風量変化機構(37)を有する請求項７に記載される洗浄装置。
【請求項１０】
搬送気体が空気である請求項７に記載される洗浄装置。
【請求項１１】
ミスト(M)を含む搬送気体の通路に、大粒のミストを除去するデミスタ(38)を設けている請求項７に記載される洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、物の洗浄方法と洗浄装置に関し、とくに半導体の洗浄に適している洗浄方法と装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体は洗浄液に浸漬され、あるいは洗浄液を噴射して洗浄される。洗浄液は、汚れを溶解して除去する溶媒が使用される。洗浄液の溶媒は気化しやすく、気化した洗浄液が作業環境を悪くする原因となる。したがって、洗浄液の使用量を少なくして作業環境を向上できる。少量の洗浄液で洗浄する方法として、洗浄液をノズルから霧状に噴射して、これを被洗浄物の表面に噴射する方法が開発されている。（特許文献１ないし４参照）
【特許文献１】特開２００６−４１０６５号公報
【特許文献２】特開２００５−３４９３０１号公報
【特許文献３】特開２００４−３３５８３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
これらの公報に記載される洗浄方法は、洗浄液の使用量を少なくできる特徴はあるが、被洗浄物の表面全体を綺麗に洗浄できないという欠点がある。とくに、半導体集積回路等の微細な隙間や空隙を綺麗に洗浄できない欠点がある。霧状の洗浄液を被洗浄物表面の狭い隙間や窪みに効果的に進入させることができないからである。
【０００４】
本発明は、さらにこの欠点を解決することを目的に開発されたものである。本発明の重要な目的は、洗浄液の使用量を少なくしながら、被洗浄物の微細な隙間から窪みまで綺麗に洗浄できる洗浄方法と洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の洗浄方法は、前述の目的を達成するために以下の構成を備える。
洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給して被洗浄物Ｈを洗浄する。
【０００６】
本発明の洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭに搬送気体を供給し、この搬送気体を介してミストＭを被洗浄物Ｈの表面に吹き付けて被洗浄物Ｈを洗浄することができる。さらに、本発明の洗浄方法は、搬送気体の風量を、洗浄液Ｗを超音波振動させる超音波振動子２の入力電力１Ｗに対して１リットル／分以上とすることができる。
【０００７】
本発明の洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭに含まれる大粒のミストをデミスタ３８で除去して被洗浄物Ｈの表面に供給することができる。さらに、本発明の洗浄方法は、洗浄液Ｗを揮発性の液体とすることができる。
【０００８】
本発明の洗浄装置は、前述の目的を達成するために以下の構成を備える。
洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給する供給部５とを備える。超音波霧化機１は、洗浄液Ｗを入れる超音波霧化室４と、この超音波霧化室４の洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波振動子２と、超音波振動子２に高周波電力を供給する超音波電源３とを備える。洗浄装置は、超音波霧化機１で霧化されたミストＭを供給部５から被洗浄物Ｈの表面に供給して、被洗浄物Ｈを洗浄する。
【０００９】
本発明の洗浄装置は、超音波霧化室４に搬送気体を強制送風する気体供給源８を備えることができる。本発明の洗浄装置は、気体供給源８が、超音波振動子２の入力電力１Ｗに対して、１リットル／分以上の風量で超音波霧化室４に搬送気体を強制送風することができる。また、本発明の洗浄装置は、気体供給源８が、超音波霧化室４に送風する搬送気体の風量を変化させる風量変化機構３７を有することができる。さらに、本発明の洗浄装置は、搬送気体を空気とすることができる。さらにまた、本発明の洗浄装置は、ミストＭを含む搬送気体の通路に、大粒のミストを除去するデミスタ３８を設けることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の洗浄方法と洗浄装置は、被洗浄物を洗浄液に浸漬し、あるいは洗浄液を直接に被洗浄物の表面にかける従来の方法に比較して、洗浄液の使用量を少なくして洗浄環境を改善しながら、被洗浄物の微細な隙間や窪みも綺麗に洗浄できる特徴がある。それは、本発明が、洗浄液を超音波振動してミストとすることで、ナノサイズの極微細な粒子として被洗浄物の表面に供給するからである。ナノサイズの極微細な粒子となった洗浄液は、被洗浄物の表面にある微細な隙間や窪みにもスムーズに進入して、汚れを綺麗に洗浄する。さらに、洗浄液をナノサイズの極微細な粒子とすることによって、少量の洗浄液で膨大な数の洗浄液粒子が得られ、これらが被洗浄物の表面に供給され、微細な隙間や窪みにも進入して、くまなく綺麗に洗浄する。このため、使用する洗浄液量を少なく制限しながら、被洗浄物を綺麗に洗浄できるという、極めて優れた特徴を実現する。
【００１１】
また、本発明の請求項２の洗浄方法と請求項７の洗浄装置は、洗浄液を超音波振動させてミストとし、このミストを搬送気体で被洗浄物の表面に吹き付けて洗浄するので、洗浄液の微細粒子を被洗浄物の表面に勢いよく衝突させて、汚れを綺麗に除去できる。また、洗浄液の微細粒子に溶解された汚れを、搬送気体で吹き飛ばして綺麗にできる特徴もある。
【００１２】
また、本発明の請求項３の洗浄方法と請求項８の洗浄装置は、多量の搬送気体でもって、洗浄液を効率よく極微細な粒子として、被洗浄物を綺麗に洗浄できる。それは、洗浄液がミストに霧化される効率を、搬送気体の供給量を多くして向上でき、また、搬送気体を多くして、洗浄液をより微細なミストにできるからである。
【００１３】
さらに、本発明の請求項４の洗浄方法と請求項１１の洗浄装置は、超音波振動して得られるミストから、大粒のものをデミスタで除去して被洗浄物の表面に供給するので、微細なミストの洗浄液でもって被洗浄物の微細な隙間等を効果的に洗浄できる特徴がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するための洗浄方法と洗浄装置を例示するものであって、本発明は洗浄方法と洗浄装置を以下のものに特定しない。
【００１５】
さらに、この明細書は、特許請求の範囲を理解しやすいように、実施例に示される部材に対応する番号を、「特許請求の範囲」および「課題を解決するための手段の欄」に示される部材に付記している。ただ、特許請求の範囲に示される部材を、実施例の部材に特定するものでは決してない。
【００１６】
本発明の洗浄方法と洗浄装置は、洗浄液を超音波振動させてミストに霧化する。霧化された洗浄液を被洗浄物の表面に供給し、ミストの洗浄液で被洗浄物の表面を洗浄する。本発明は、洗浄液を微細なミストの状態で被洗浄物の表面に供給して、被洗浄物表面の微細な隙間から窪みまで綺麗に洗浄する。洗浄液のミストは、粒径を小さくして狭い隙間や窪みに進入できる。洗浄液を噴霧して洗浄される半導体集積回路等は、高密度化するために、ミクロンサイズよりもさらに小さい寸法で加工されている。高密度な集積回路は、ミクロンサイズよりもさらに狭い隙間や窪みがあり、ここを綺麗に洗浄することが要求される。本発明の洗浄方法と装置は、このような微細な隙間や窪みも綺麗に洗浄するために、洗浄液を超音波振動で霧化してナノサイズの微細な粒子とする。
【００１７】
超音波振動で霧化される洗浄液ミストは、洗浄液の種類、ミストに供給する風量、洗浄液の温度、超音波振動子の振動周波数で粒径をコントロールできる。洗浄液は、種類によりミストの粒径が変化する。たとえば、３０℃のエチルアルコールを超音波振動させて得られるミストの粒径は１ｎｍとなり、３０℃の水を超音波振動して得られるミストの粒径は１００ｎｍとなる。また、洗浄液をエチルアルコール水溶液とすると、洗浄液の温度と供給する風量によって、ミストの粒径は、１００ｎｍと１ｎｍに変化する。たとえば、２０モル％のエチルアルコール水溶液の温度を２０℃とすると、ミストの粒径は１ｎｍとなり、温度を２０℃から５０℃にすると、ミストは粒径が１ｎｍのものと１００ｎｍのものが混在した状態となる。従って、エチルアルコール水溶液は、温度を高くして、粒径を大きくできる。さらにこのエチルアルコール水溶液の温度を３０℃とし、風量を１５リットル／分とすると、ミストは粒径が１ｎｍのものと１００ｎｍのものが混在する状態となる。この状態から風量を５０リットル／分まで増加すると、ミストの粒径は１ｎｍとなり、１００ｎｍのものはなくなる。したがって、風量を多くしてミストの粒径を小さくできる。だたし、以上の試験において、超音波振動子の入力電力は１０Ｗ、振動周波数は２．４ＭＨｚである。超音波振動子の振動周波数を変更してミストの粒径をコントロールすることもできる。この場合、振動周波数を高くして、ミストを粒径を小さくできる。
【００１８】
以上の方法で洗浄液をミストに霧化する洗浄装置を図１に示す。この図の洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈに供給する供給部５とを備える。
【００１９】
超音波霧化機１は、洗浄液Ｗを供給している閉鎖構造の超音波霧化室４と、この超音波霧化室４の洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する複数の超音波振動子２と、各々の超音波振動子２の上方に配設している筒体６と、超音波振動子２に接続している超音波電源３を備える。
【００２０】
図１の洗浄装置は、超音波霧化室４と供給部５を別々に離して、連結ダクト７で連結している。この洗浄装置は、超音波霧化室４で霧化された洗浄液ＷのミストＭを、供給部５から被洗浄物Ｈに供給する。
【００２１】
超音波霧化室４は、所定のレベルに洗浄液Ｗを蓄えている。洗浄液Ｗを一定の液面レベルで保持するように、洗浄液Ｗを供給している。図の装置は、超音波霧化室４に、ポンプ１０を介して洗浄液Ｗを蓄えている原液槽１１を連結し、原液槽１１から洗浄液Ｗを供給して液面レベルを一定に保持している。
【００２２】
図の装置は、超音波霧化室４に筒体６を配設している。筒体６は、各々の超音波振動子２の上方に配設されて、超音波振動子２で超音波振動される洗浄液Ｗを効率よくミストＭに霧化させる。筒体６は、上端に噴霧口１２を開口している筒状としている。筒体６は、内部に洗浄液Ｗを充填し、筒体６内の洗浄液Ｗに、噴霧口１２に向かって超音波振動を与えて、噴霧口１２からミストＭに霧化して飛散する。図の超音波振動子２は、上方に超音波を放射する。したがって、筒体６は、超音波振動子２の上方に、垂直な姿勢で配設している。図の筒体６は、上端に向かって次第に細くなる円錐ホーンである。ただし、筒体は、内面の形状をエクスポーネンシャルカーブとするエクスポーネンシャルホーンとすることもできる。円錐ホーンやエクスポーネンシャルホーンの筒体６は、内部に効率よく超音波振動を伝達させて、洗浄液Ｗを能率よくミストＭに霧化できる特徴がある。ただ、本発明は、筒体を、円筒形状、楕円筒状、多角筒状とするとすることもできる。
【００２３】
筒体６の下端開口部の内形は、超音波振動を効率よく内部に伝達できるように、超音波振動子２の外形より小さく、あるいは大きくして、超音波振動される液柱Ｐが内面に沿って上昇するようにする。たとえば、筒体６の下端の開口部の内径は、超音波振動子２の外径の５０〜１５０％、好ましくは６０〜１００％とする。
【００２４】
さらに、筒体６の高さと噴霧口１２の大きさは、筒体６の内部に沿って、いいかえると筒体６の内面と液柱Ｐとの間に気層ができないように、超音波振動による液柱Ｐが筒体６の内部に沿って上昇し、噴霧口１２の近傍でミストＭとなって飛散するように設計される。ただ、液柱Ｐが噴霧口１２から突出するように、いいかえると筒体６を液柱Ｐよりも低くすることもできる。したがって、筒体６の高さと噴霧口１２の大きさは、超音波振動子２の大きさ、出力、周波数等によって最適値に設計される。
【００２５】
図１の筒体６は、下端を洗浄液Ｗの液面よりも下方に、噴霧口１２を液面よりも上方に配設する。この筒体６は、液面よりも下方の超音波振動を内部に案内し、液面から上方にある噴霧口１２から洗浄液ＷをミストＭとして飛散させる。図の筒体６は、超音波振動子２から上方に離して配設している。ただ、筒体は、図示しないが、底部に超音波振動子を配設して、超音波振動子で筒体の下端の開口部を閉塞することもできる。下端を超音波振動子で閉塞する筒体は、内部に洗浄液を供給する流入口を開口して、この流入口から筒体の内部に洗浄液を供給する。
【００２６】
さらに、筒体６は、図２に示すように、噴霧口１２から霧化されるミストＭに搬送気体を供給する噴気口１４を開口して、この噴気口１４を気体供給源８に連結している。気体供給源８から供給される搬送気体は噴気口１４からミストＭに供給され、噴霧口１２から噴霧されるミストＭは搬送気体中に霧化される。この状態で霧化されたミストＭを含む搬送気体は被洗浄物Ｈの表面に噴霧されて、被洗浄物Ｈを洗浄する。搬送気体は空気である。ただし、搬送気体は空気に特定せず、洗浄液を霧化できる全ての気体、たとえば窒素や炭酸ガス等の全ての気体とすることもできる。図の装置は、気体供給源８を送風機８Ａとして、搬送気体を空気としている。気体供給源８の送風機８Ａは、空気を吸入して、ミストＭに搬送気体の空気を供給する。閉鎖構造の超音波霧化室４は、送風機８Ａから供給される空気を連結ダクト７に排気して、連結ダクト７で供給部５に送風する。したがって、閉鎖構造の超音波霧化室４に送風機８Ａで搬送気体を強制送風する装置は、連結ダクト７に搬送気体を強制送風する送風機などを設けることなく、超音波霧化室４から供給部５に搬送気体を送風できる。ただ、連結ダクトに送風機（図示せず）を連結し、この送風機で超音波霧化室から供給部に搬送気体を強制送風することもできる。
【００２７】
気体供給源８が超音波霧化室４に供給する搬送気体の風量は、霧化されるミストＭの粒径に影響を与える。搬送気体の風量を多くすると、ミストＭの粒径は小さくなる。搬送気体は、ミストＭの霧化量が多くなると多くする必要がある。ミストＭの霧化量は、超音波振動子２の入力電力を大きくして増加する。したがって、搬送気体の風量は、超音波振動子２の入力電力に比例して大きくする必要がある。このことから、気体供給源８がミストＭに供給する搬送気体の風量は、超音波振動子２の入力電力１Ｗに対して、１リットル／分以上、好ましくは、１．５Ｗ以上、さらに好ましくは３Ｗ以上とする。
【００２８】
図の気体供給源８は、超音波霧化室４に送風する搬送気体の風量を変化させる風量変化機構３７を備えている。図に示す風量変化機構３７は、送風機８Ａの運転を制御するインバータ３７Ａである。この風量変化機構３７は、インバータ３７Ａで送風機８Ａのファンの回転数を制御して、超音波霧化室４に供給する搬送気体の風量を調整する。ただ、風量変化機構は、図の鎖線で示すように、ダンパー３７Ｂとして、送風機８Ａの排出側に配設することもできる。このダンパー３７Ｂは、搬送気体を通過させる開口面積を調整して、超音波霧化室４に供給する搬送気体の風量を調整する。
【００２９】
図２の筒体６は、壁面を二重構造として平面の内部にダクト１５を設けている。ダクト１５は、筒体６の上端に開口している噴気口１４に連結している。ダクト１５に供給される搬送気体は、噴気口１４から排出される。噴気口１４は、筒体６上端の周囲に、スリット状に開口されている。スリット状の噴気口１４は、搬送気体をリング状に排気する。リング状に排気される搬送気体の内側にミストＭが放出される。この構造の筒体６は、ミストＭを新鮮な搬送気体の内側に噴霧する。このため、洗浄液Ｗを効率よくミストＭに霧化できる。ミストＭが洗浄液濃度の低い搬送気体中に霧化されるからである。
【００３０】
図２の筒体６は、連結ダクト１６に脱着できるように連結している。連結ダクト１６には、図示しないが、複数の筒体を連結している。図２の筒体６は、下端の外周に雄ネジ１７を設け、連結ダクト１６には筒体６の雄ネジ１７をねじ込む雌ネジ穴１８を設けている。筒体６は、雄ネジ１７を雌ネジ穴１８の雌ネジにねじ込んで、連結ダクト１６に連結される。連結ダクト１６は、内部に搬送気体の供給ダクト１９を設けている。筒体６は、連結ダクト１６に連結される状態で、ダクト１５の入口を連結ダクト１６の供給ダクト１９に連結して、連結ダクト１６の供給ダクト１９から筒体６のダクト１５に搬送気体が供給される。図２の筒体６は、雄ネジ１７の上方と底面とに、リング溝を設けて、ここにＯリング２０、２１を入れている。Ｏリング２０、２１は、筒体６を連結ダクト１６に連結する状態で、雌ネジ穴１８の内面に密着して、連結ダクト１６と筒体６との連結部の気体漏れを阻止する。すなわち、筒体６を気密な状態で連結ダクト１６に連結する。
【００３１】
以上の超音波霧化機１は、超音波振動子２を超音波振動させて、洗浄液ＷをミストＭとして筒体６の噴霧口１２から飛散させる。洗浄液Ｗは、筒体６の内部で超音波振動され、噴霧口１２からミストＭとして飛散される。図の超音波霧化機１は、超音波振動子２を上向きに配設している。超音波振動子２は、底から筒体６の内部に向かって上向きに超音波を放射して、洗浄液Ｗを超音波振動させ、洗浄液Ｗを筒体６の内部で押し上げて、噴霧口１２からミストＭとして飛散させる。超音波振動子２は、垂直方向に超音波を放射する。
【００３２】
以上のように、筒体６を備える分離装置は、超音波霧化室４の洗浄液Ｗを効率よくミストＭに霧化できる特長がある。ただ、本発明の分離装置は、必ずしも筒体を設ける必要はない。筒体のない分離装置は、超音波霧化室において、超音波振動子で洗浄液を超音波振動させて、液面に発生する液柱の表面からミストに霧化することができる。
【００３３】
図１の超音波霧化機１は、複数の超音波振動子２と、これ等の超音波振動子２を超音波振動させる超音波電源３とを備える。超音波振動子２は、筒体６の下方に固定される。図に示す超音波霧化機１は、複数の超音波振動子２を備える。このように複数の超音波振動子２を備える超音波霧化機１は、多量の洗浄液Ｗを効率よくミストＭに霧化できる特長がある。ただ、超音波霧化機は、ひとつの超音波振動子を備えて、単一の超音波振動子で洗浄液をミストに霧化することもできる。超音波霧化室に設ける超音波振動子の数は、求められる霧化量に応じて種々に変更される。
【００３４】
超音波霧化室４で霧化された洗浄液ＷのミストＭは、供給部５に供給される。ミストＭを供給部５に移送するために、図の装置は、供給部５を連結ダクト７で超音波霧化室４に連結している。
【００３５】
さらに、図１の装置は、筒体６の噴霧口１２から飛散するミストＭを効率よく回収して連結ダクト７に供給させるために、筒体６の噴霧口１２の上方に、ミストＭの吸入部９を設けている。図に示す吸入部９は、円筒状のパイプで、筒体６の上方に垂直の姿勢で配置している。筒状のパイプである吸入部９は、下端を筒体６の上部に配置して、上端を超音波霧化室４の上方に延長している。図に示す吸入部９は、筒体６の上端縁に位置して、円筒状パイプの下端縁を配置している。ただ、吸入部は、下端部を筒体の上部にラップする状態で配置することも、あるいは、下端縁を筒体の上端縁から離して配置することもできる。さらに、吸入部９の下端の開口部は、筒体６の噴霧口１２よりも広い開口面積としており、筒体６の上端から飛散されるミストＭを漏れなく回収できるようにしている。吸入部９は上端を、超音波霧化室４の上部に連結しており、この連結部を連結ダクト７に連結して、吸入部９で回収されたミストＭを連結ダクト７に移送するようにしている。ただ、吸入部は、必ずしも設ける必要はない。
【００３６】
さらに、図１の装置は、超音波霧化室４の上面に、排出口１Ａを開口して、ここに連結ダクト７を連結している。さらに、図の超音波霧化室４は、排出口１Ａに、霧化された大粒の水粒子を除去するデミスタ３８を設けている。この装置は、超音波霧化室４から排出される大粒のミストをデミスタ３８で除去して供給部５に供給するので、供給部５に供給されるミストの平均粒径を小さくできる。このため、供給部５には、微細なミストのみを供給して、微細なミストの洗浄液で被洗浄物Ｈを効果的に洗浄できる。図の装置は、排出口１Ａにデミスタ３８を設けて大きなミストを除去しているが、デミスタに代わって、大きなミストを分離する機構、たとえば大きなミストを表面に結露させて分離する分離機構等を、超音波霧化室と供給部との間に設けることもできる。
【００３７】
供給部５５は、霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈに吹き付けて、被洗浄物Ｈの表面を洗浄する。図１の供給部５は被洗浄物ＨにミストＭを噴射するノズル５Ａである。ノズル５Ａは、ミストＭを含む搬送気体を被洗浄物Ｈの表面に噴射して、被洗浄物Ｈを洗浄する。
【実施例】
【００３８】
図に示す装置を使用して、以下のようにして洗浄液Ｗのエチルアルコールを霧化できる。洗浄液Ｗであるエチルアルコールを超音波霧化室に供給する。超音波振動子の入力電力を１０Ｗ、振動周波数を２．４ＭＨｚの超音波振動子で超音波振動して、洗浄液ＷをミストＭに霧化する。洗浄液Ｗの温度を３０℃、超音波霧化室に供給する搬送気体を空気として、その風量を１０リットル／分とする。洗浄液ＷミストＭの平均粒径は、１ｎｍとなる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施例にかかる洗浄装置の概略構成図である。
【図２】図１に示す洗浄装置の筒体を示す断面正面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１…超音波霧化機          １Ａ…排出口
２…超音波振動子
３…超音波電源
４…超音波霧化室
５…供給部                ５Ａ…ノズル
６…筒体
７…連結ダクト
８…気体供給源            ８Ａ…送風機
９…吸入部
１０…ポンプ
１１…原液槽
１２…噴霧口
１４…噴気口
１５…ダクト
１６…連結ダクト
１７…雄ネジ
１８…雌ネジ穴
１９…供給ダクト
２０…Ｏリング
２１…Ｏリング
３７…風量変化機構      ３７Ａ…インバータ
３７Ｂ…ダンパー
３８…デミスタ
Ｈ…被洗浄物
Ｐ…液柱
Ｍ…ミスト
Ｗ…洗浄液
【図１】
2007324359.tif 000003
【図２】
2007324359.tif 000004