(57)【要約】【課題】屈折率の高い物質上で生じる拡散と、屈折率の低い物質上で生じる拡散とをそれぞれ防止し反射率の低下を防止する多層膜反射鏡を提供する。【解決手段】  基板表面に所定の物質を主成分とする少なくとも２種類の層６、８を交互に周期的に成膜することにより構成される多層膜１２を備える多層膜反射鏡２において、前記多層膜１２の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質に基づいて、材質及び厚さのうちの少なくとも１つが異なる拡散防止層１０ａ、１０ｂが形成されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板表面に所定の物質を主成分とする少なくとも２種類の層を交互に周期的に成膜することにより構成される多層膜を備える多層膜反射鏡において、
前記多層膜の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質に基づいて、材質及び厚さのうちの少なくとも１つが異なる拡散防止層が形成されていることを特徴とする多層膜反射鏡。
【請求項２】
前記多層膜は、物質１を主成分とする層と、物質２を主成分とする層を交互に周期的に成膜することにより構成されることを特徴とする請求項１記載の多層膜反射鏡。
【請求項３】
前記物質１は、Ｍｏであり、前記物質２は、Ｓｉであることを特徴とする請求項２記載の多層膜反射鏡。
【請求項４】
前記拡散防止層は、カーボン、炭化物、酸化物、窒化物及び珪化物からなる群から選ばれた少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の多層膜反射鏡。
【請求項５】
前記拡散防止層は、３ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の多層膜反射鏡。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の多層膜反射鏡を光学系の少なくとも一部に備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板表面に多層膜を形成した多層膜反射鏡及び多層膜反射鏡を備える露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の微細化の進展に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、従来の紫外線に代えて、これより短い波長（例えば１１〜１４ｎｍ程度）の極端紫外線を使用した投影露光装置が開発されている（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１４８９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述の極端紫外線を使用した投影露光装置（ＥＵＶ露光装置）においては、極端紫外線が透過する物質が存在しないため、光学系は反射鏡によって構成される必要があるが、この波長域では物質の屈折率が１に非常に近いので、屈折や反射を利用した従来の光学素子と異なり、干渉により光を強めあう多層膜ミラーなどが使用される。この多層膜ミラーは、使用される波長域において屈折率の高い物質（例えばＳｉ）と、屈折率の低い物質（例えばＭｏ）を基板上に交互に積層させた多層膜を有している。
【０００５】
しかし、屈折率の高い物質と屈折率の低い物質を交互に積層させた場合、両物質間で拡散が生じ、反射率の低下や半値幅減少など、光学特性の低下を招くため、反射率向上などのために屈折率の高い物質と屈折率の低い物質との間に生じる拡散を防止する必要がある。ここで、屈折率の高い物質上に屈折率の低い物質を積層させた場合に生じる拡散と、屈折率の低い物質上に屈折率の高い物質を積層させた場合に生じる拡散とでは拡散の状態が異なることが知られている。
【０００６】
この発明の課題は、屈折率の高い物質上で生じる拡散と、屈折率の低い物質上で生じる拡散とをそれぞれ防止し反射率の低下を防止する多層膜反射鏡及び該多層膜反射鏡を備えた露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の多層膜反射鏡は、基板表面に所定の物質を主成分とする少なくとも２種類の層（６、８）を交互に周期的に成膜することにより構成される多層膜（１２）を備える多層膜反射鏡（２）において、前記多層膜（１２）の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質に基づいて、材質及び厚さのうちの少なくとも１つが異なる拡散防止層（１０ａ、１０ｂ）が形成されていることを特徴とする。
【０００８】
また、この発明の露光装置は、この発明の多層膜反射鏡（２）を光学系の少なくとも一部に備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明の多層膜反射鏡によれば、多層膜の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質に基づいて、材質及び厚さのうち少なくとも１つが異なる拡散防止層が形成されているため、多層膜の界面における物質間の拡散を防止することができる。したがって、界面において物質間の拡散が生じることによる反射率の低下を防止することができる。
【００１０】
また、この発明の露光装置によれば、光学系の少なくとも一部に多層膜の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質に基づいて、材質及び厚さのうち少なくとも１つが異なる拡散防止層が形成された多層膜反射鏡を備えているため、多層膜の界面における物質の拡散を防止することができ、良好な露光を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
図面を参照して、この発明の第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡について説明する。多層膜反射鏡は、例えば極端紫外光（ＥＵＶ光）を露光光とするＥＵＶ露光装置等に用いられる。図１は、第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡２の断面図である。図１に示すように、多層膜反射鏡２は、高精度な形状に研磨された低熱膨張ガラス基板４の表面に多層膜１２を備えている。ここで多層膜１２は、物質１を主成分とする層（以下、物質１層という。）６と物質２を主成分とする層（以下、物質２層という。）８が交互に周期的に成膜されており、物質１層６と物質２層８との間には拡散防止層１０ａが、物質２層８と物質１層６との間には拡散防止層１０ｂがそれぞれ形成されている。
【００１２】
物質１層６と物質２層８を交互に周期的に積層させた多層膜においては、物質１層６の上に物質２層８が積層される物質２／物質１界面と、物質２層８の上に物質１層６が積層される物質１／物質２界面とが存在する。物質２／物質１界面と、物質１／物質２界面においては、物質１層６（物質２層８）の上に物質２層８（物質１層６）が積層される際に、高いエネルギーを持って飛来してくる物質２粒子（物質１粒子）が物質１層６（物質２層８）に入り込むことによって拡散が生じるが、物質２／物質１界面と、物質１／物質２界面とでは拡散の状態が異なる。したがって、この発明の実施の形態においては、物質２／物質１界面に拡散防止層１０ａを、物質１／物質２界面には、拡散防止層１０ａとは異なる拡散防止層１０ｂをそれぞれ積層している。即ち、物質２／物質１界面と物質１／物質２界面とにそれぞれ最適化された拡散防止層１０ａ、１０ｂを積層することにより、物質２が物質１層６に拡散すること及び物質１が物質２層８に拡散することをそれぞれ防止することができる。
【００１３】
なお、物質１を主成分とする層、物質２を主成分とする層及び物質３を主成分とする層を周期的に積層させることによって多層膜を形成する場合には、物質２／物質１界面、物質３／物質２界面、物質１／物質３界面のそれぞれにおいて、それぞれ最適化された拡散防止層を積層することにより、物質２が物質１層に、物質３が物質２層に、物質１が物質３層にそれぞれ拡散することを防止することができる。
【００１４】
拡散防止層の材質及び厚さは、多層膜の界面毎に下層の膜を形成する所定の物質や成膜条件に基づいて定められる。更に、下層の膜を形成する物質のみでなく、下層の膜を形成する物質と該下層上に形成される膜を形成する物質、即ち、界面における下層の膜を形成する物質と上層の膜を形成する物質の組合わせによっても拡散防止層の材質及び厚さが定められる。
【００１５】
また、拡散防止層の材質としては、例えば、Ｂ４Ｃ、Ｃ、ＭｏＳｉ２、ＭｏＣ、ＭｏＯ２等が用いられる。その他に、シリコン、ホウ素等の非金属元素の酸化物、ホウ化物、珪化物、炭化物、窒化物、フッ化物、及びベリリウム化合物や、Ｓｒ，Ｂａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔｃ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｂｅ，Ｇａ，Ｄｙ，Ｈｆ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｔｈ，Ｒｂ等の各種金属やその酸化物、ホウ化物、珪化物、炭化物、窒化物、フッ化物、及びベリリウム化合物を用いることができる。
【００１６】
具体的には、拡散防止層の材質として、ＳｉＯ２，ＳｉＯ，Ｂ２Ｏ３等の非金属酸化物が使用可能である。また、ＮｂＯ，ＮｂＯ２，Ｎｂ２Ｏ５，ＣｒＯ，Ｃｒ２Ｏ３，ＣｒＯ３，Ａｌ２Ｏ３，ＺｒＯ２，Ｓｃ２Ｏ３，Ｔｂ２Ｏ３，ＰｄＯ，Ｐｄ２Ｏ３，ＰｄＯ４，ＲｕＯ２，ＲｕＯ３，ＲｕＯ４，Ｒｈ２Ｏ３，ＲｈＯ２，ＴｉＯ，Ｔｉ２Ｏ３，ＴｉＯ２，ＭｏＯ，Ｍｏ２Ｏ３，ＭｏＯ２，Ｍｏ２Ｏ５，ＶＯ，Ｖ２Ｏ３，ＶＯ２，Ｖ２Ｏ５等の金属酸化物が使用可能である。さらに、ＢａＯ，ＢｅＯ，Ｂｅ２Ｏ，ＣａＯ，Ｅｕ２Ｏ３，Ｇｄ２Ｏ３，Ｌａ２Ｏ３，Ｍｏ４Ｏ１１，Ｍｏ８Ｏ２３，ＭｏＯ３，Ｍｏ９Ｏ２４，ＮｄＯ，Ｎｄ２Ｏ３，ＰｒＯ１．７７８，ＰｒＯ１．８３３，ＰｒＯ１．８，ＰｒＯ１．８１８，Ｓｍ２Ｏ３，ＳｒＯ，Ｔｉ３Ｏ２，Ｔｉ２Ｏ，Ｔｉ３Ｏ，Ｔｉ１−ｘＯ，ＴｉｎＯ２ｎ−１（ｎ＝２−９），ＶＯ１．７６，ＶＯ１．５７，ＶＯ１．８０，ＶＯ１．８４，ＶＯ１．８６，Ｖ６Ｏ１３，Ｖ８Ｏ，Ｖ４Ｏ，Ｖ２Ｏ，Ｖ３Ｏ５，Ｖ４Ｏ７，Ｖ５Ｏ９，Ｖ７Ｏ１３，Ｖ６Ｏ１３，Ｙ２Ｏ３，ＺｒＯ２−ｘ等の金属酸化物も使用可能である。
【００１７】
また、拡散防止層の材質として、ＳｉＢｘ，ＳｉＢ６，ＳｉＢ３等の非金属ホウ化物も使用可能である。また、ＢｅＢ２，ＣａＢ６，ＳｃＢ２，ＳｃＢ１２，ＧｄＢ６，ＴｉＢ２，ＺｒＢ２，ＴａＢ２，Ｃｒ４Ｂ，ＣｒＢ，Ｃｒ３Ｂ４，ＣｒＢ２，Ｍｏ２Ｂ５，Ｗ２Ｂ３，Ｗ２Ｂ５，ＺｒＢ１２，ＧａＢ６，ＳｒＢ６，ＮｂＢ，Ｎｂ３Ｂ４，ＮｂＢ２等の金属ホウ化物が使用可能である。さらに、ＢｅＢ１２，ＢｅＢ９，ＢｅＢ６，ＢｅＢ４，Ｂｅ２Ｂ，Ｂｅ４Ｂ，ＥｕＢ６，ＧｄＢ２，Ｇｄ２Ｂ５，ＧｄＢ４，ＧｄＢ６６，Ｍｏ２Ｂ，ＭｏＢ，Ｍｏ３Ｂ２，ＭｏＢ２，ＭｏＢ４，Ｎｂ３Ｂ２，Ｎｄ２Ｂ５，ＮｄＢ４，ＮｄＢ６，ＮｄＢ６６，Ｐｒ２Ｂ５，ＰｒＢ４，ＰｒＢ６，ＲｈＢ１．１，Ｒｈ７Ｂ３，ＲｕＢ，Ｒｕ７Ｂ３，Ｒｕ２Ｂ３，ＲｕＢ２，Ｓｍ２Ｂ５，ＳｍＢ４，ＳｍＢ６，ＳｍＢ６６，ＴｂＢ２，ＴｂＢ４，ＴｂＢ６，ＴｂＢ１２，ＴｂＢ６６，ＴｉＢ，Ｔｉ３Ｂ４，Ｖ３Ｂ２，ＶＢ，Ｖ５Ｂ６，Ｖ３Ｂ４，Ｖ２Ｂ３，ＶＢ２等の金属ホウ化物も使用可能である。
【００１８】
更に、拡散防止層の材質として、ＢａＳｉ２，ＬａＳｉ２，ＤｙＳｉ２，ＺｒＳｉ，ＺｒＳｉ２，ＨｆＳｉ２，ＣｒＳｉ２，ＭｎＳｉ２，ＲｅＳｉ２，ＦｅＳｉ２，ＰｄＳｉ，ＴｈＳｉ２，ＣａＳｉ，Ｃａ２Ｓｉ，ＣａＳｉ２，Ｖ２Ｓｉ，ＶＳｉ２，ＲｕＳｉ，ＲｈＳｉ２，ＴｂＳｉ２等の金属珪化物も使用可能である。さらに、ＢａＳｉ，Ｍｏ３Ｓｉ，Ｍｏ５Ｓｉ３，Ｎｂ５Ｓｉ３，ＮｂＳｉ２，Ｐｄ３Ｓｉ，Ｐｄ２Ｓｉ，Ｐｄ９Ｓｉ４，Ｒｕ２Ｓｉ，Ｒｕ２Ｓｉ３，Ｓｒ２Ｓｉ，ＳｒＳｉ２，ＳｒＳｉ，ＴｉＳｉ，Ｔｉ３Ｓｉ，Ｔｉ５Ｓｉ３，Ｔｉ３Ｓｉ，Ｔｉ５Ｓｉ４，ＴｉＳｉ２，Ｔｉ６Ｓｉ５，Ｖ３Ｓｉ，Ｖ５Ｓｉ３，Ｖ６Ｓｉ５，Ｙ５Ｓｉ３，Ｙ５Ｓｉ４，ＹＳｉ，Ｙ３Ｓｉ５，Ｚｒ２Ｓｉ，Ｚｒ４Ｓｉ，Ｚｒ５Ｓｉ３，Ｚｒ３Ｓｉ２，Ｚｒ５Ｓｉ４等の金属珪化物も使用可能である。
【００１９】
また、拡散防止層の材質として、ＳｉＣ，Ｂ４Ｃ等の非金属炭化物も使用可能である。また、ＬａＣ２，Ｂｅ２Ｃ，Ｍｏ２Ｃ，ＭｏＣ，ＶＣ，Ｖ４Ｃ３，Ｖ５Ｃ，ＴｉＣ，ＺｒＣ等の金属炭化物が使用可能である。さらに、Ｅｕ４Ｃ２，Ｅｕ２Ｃ３，ＥｕＣ２，ＥｕＣ６，Ｇｄ２Ｃ，Ｇｄ４Ｃ２，Ｇｄ２Ｃ３，ＧｄＣ２，Ｌａ２Ｃ３，ＭｏＣ１−ｘ，Ｎｂ２Ｃ，ＮｂＣ，Ｎｄ２Ｃ３，ＮｄＣ２，Ｓｃ２Ｃ，Ｓｃ４Ｃ３，Ｓｃ１３Ｃ１０，Ｓｃ１５Ｃ１９，Ｓｍ３Ｃ，Ｓｍ２Ｃ３，ＳｍＣ２，Ｔｂ４Ｃ２，Ｔｂ２Ｃ，Ｔｂ２Ｃ３，ＴｂＣ２，Ｔｉ２Ｃ，Ｖ２Ｃ，Ｖ４Ｃ３−ｘ，Ｖ６Ｃ５，Ｖ８Ｃ７，Ｙ２Ｃ，Ｙ４Ｃ２，Ｙ１５Ｃ１９，Ｙ２Ｃ３，ＹＣ２等の金属炭化物も使用可能である。
【００２０】
また、拡散防止層の材質として、ＳｉＮ，Ｓｉ２Ｎ３，Ｓｉ３Ｎ４，ＢＮ，ＢＮ２等の非金属窒化物も使用可能である。また、ＹＮ，Ｃａ３Ｎ２，ＳｃＮ，ＺｒＮ，Ｚｒ３Ｎ２，Ｓｒ３Ｎ２，ＴｉＮ，Ｔｉ３Ｎ４，ＮｂＮ，ＮｄＮ，Ｂｅ３Ｎ２，Ｂａ３Ｎ２，ＶＮ，ＭｏＮ，Ｍｏ２Ｎ，ＬａＮ，ＡｌＮ等の金属窒化物が使用可能である。さらに、Ｎｂ２Ｎ，Ｔｉ２Ｎ，Ｖ２Ｎ１−ｘ，ＶＮ１−ｘ，Ｖ３２Ｎ２８等の金属窒化物も使用可能である。
【００２１】
また、拡散防止層の材質として、ＳｒＦ２，ＮｉＦ２，ＹＦ３等のフッ化物も使用可能である。また、拡散防止層の材質として、ＢａＢｅ１３，ＣａＢｅ１３，ＥｕＢｅ１３，ＧｄＢｅ１３，ＬａＢｅ１３，Ｍｏ３Ｂｅ，ＭｏＢｅ２，ＭｏＢｅ１２，ＮｂＢｅ１２，Ｎｂ２Ｂｅ１７，ＮｂＢｅ３，ＮｂＢｅ２，Ｎｂ３Ｂｅ２，ＮｄＢｅ１３，ＰｄＢｅ１２，ＰｄＢｅ５，Ｐｄ２Ｂｅ，Ｐｄ３Ｂｅ，ＰｄＢｅ，Ｐｄ３Ｂｅ２，Ｐｄ４Ｂｅ３，ＰｒＢｅ１３，Ｒｕ３Ｂｅ１７，Ｒｕ３Ｂｅ１０，ＲｕＢｅ２，Ｒｕ２Ｂｅ３，ＳｃＢｅ５，Ｓｃ２Ｂｅ１７，ＳｃＢｅ１３，ＳｍＢｅ１３，ＳｒＢｅ１３，ＴｂＢｅ１３，ＴｉＢｅ２，ＴｉＢｅ３，Ｔｉ２Ｂｅ１７，ＴｉＢｅ１２，ＶＢｅ１２，ＶＢｅ２，ＹＢｅ１３，ＺｒＢｅ１３，Ｚｒ２Ｂｅ１７，ＺｒＢｅ５，ＺｒＢｅ２等のベリリウム化合物も使用可能である。
【００２２】
また、拡散防止層の材質としては、上述の物質からなる群から選ばれた少なくとも１つを含むものであればよいが、上述の物質からなる群から選ばれた複数の物質を用いてもよい。即ち、多層膜反射鏡の反射率が高くなるように、多層膜の界面毎に下層の膜を形成する物質、または、多層膜の界面毎における下層の膜を形成する物質と上層の膜を形成する物質の組み合わせに基づいて、拡散防止層の材質、構成、厚みを最適化する。なお、極端紫外線になると材料の吸収が大きくなるため、拡散防止層の厚みは３ｎｍ以下にすることが好ましい。
【００２３】
ここで、物質１層と物質２層とを積層させて多層膜を形成する際、界面毎に拡散防止層を形成することなく、成膜条件を最適化することによって、物質２が物質１層に、物質１が物質２層に拡散することを防止してもよい。即ち、拡散は、例えば、スパッタリングや蒸着等で物質２層の上に物質１が積層される際に、高いエネルギーをもって飛来してくる物質１粒子が物質２層に入り込むことによって生じる。そこで、物質１層に物質２層を積層させる際及び物質２層に物質１層を積層させる際のそれぞれにおいて、飛来粒子のエネルギーを低減させるように成膜条件を最適化することによって、拡散を防止してもよい。飛来粒子のエネルギーを低減させる方法としては、例えば、成膜チャンバー内に不活性なガスを導入し、飛来粒子と衝突させることによって飛来粒子の速度を低下させる等の方法がある。
【００２４】
なお、飛来粒子のエネルギーを低減させた場合には、膜の密度が低くなったり、島状成長などにより均一な膜形成が阻害される可能性が生じる。従って、例えば、物質１層上に物質２層を形成する場合には、飛来粒子のエネルギーを低減させた状態で物質２層を１ｎｍ程度成膜した後、不活性なガスの導入を停止し、飛来粒子のエネルギーを低減させることなく成膜を行う。
【００２５】
次に、図面を参照して、この発明の第２の実施の形態にかかるＥＵＶ露光装置について説明する。図２は、第２の実施の形態にかかるＥＵＶ露光装置（縮小投影露光装置）の概略構成を示す図である。図２に示すＥＵＶ露光装置においては、光路上はすべて真空（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に保たれている。ＥＵＶ露光装置は、光源を含む照明光学系ＩＬを備えている。照明光学系ＩＬから射出されたＥＵＶ光（一般的には波長５〜２０ｎｍを指し、具体的には波長１３．５ｎｍ、１１ｎｍが用いられる。）は、折り返しミラー３０１により反射され、パターンが形成されているレチクル３０２上を照射する。
【００２６】
レチクル３０２は、反射型のレチクルであり、レチクルステージ３０３に固定されたチャック３０３ａに保持されている。レチクルステージ３０３は、走査方向に１００ｎｍ以上移動可能に構成されており、走査方向と直行する方向及び光軸方向に微小移動可能に構成されている。レチクルステージ３０３の走査方向及び走査方向に直交する方向の位置は図示しないレーザ干渉計により高精度に制御され、光軸方向の位置はレチクルフォーカス送光系３０４とレチクルフォーカス受光系３０５からなるレチクルフォーカスセンサにより制御されている。
【００２７】
レチクル３０２にはＥＵＶ光を反射する多層膜（例えば、モリブデン（Ｍｏ）／シリコン（Ｓｉ）やモリブデン（Ｍｏ）／ベリリウム（Ｂｅ））が成膜されており、この多層膜の上の吸収層（例えば、ニッケル（Ｎｉ）やアルミニウム（Ａｌ））によりパターニングされている。レチクル３０２により反射されたＥＵＶ光は、光学鏡筒３１４内に入射する。
【００２８】
光学鏡筒３１４内には、複数（この実施の形態においては４つ）のミラー３０６、３０７、３０８、３０９が設置されている。これらのミラー３０６〜３０９の少なくとも１つは、第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡により構成されている。なお、この実施の形態においては、投影光学系として４つのミラーを備えているが、６つまたは８つのミラーを備えるようにしてもよい。この場合には、開口数（ＮＡ）をより大きくすることができる。
【００２９】
光学鏡筒３１４内に入射したＥＵＶ光は、ミラー３０６により反射された後、ミラー３０７、ミラー３０８、ミラー３０９により順次反射され、光学鏡筒３１４内から射出して、ウエハ３１０に入射する。なお、ミラー３０６〜３０９等により構成される投影光学系の縮小倍率は、例えば１／４または１／５である。また、光学鏡筒３１４の近傍には、ウエハ３１０のアライメントを行うオフアクシス顕微鏡３１５が設置されている。
【００３０】
ウエハ３１０は、ウエハステージ３１１に固定されたチャック３１１ａ上に保持されている。ウエハステージ３１１は、光軸と直交する面内に設置されており、光軸と直交する面内に例えば３００〜４００ｎｍ移動可能に構成されている。また、ウエハステージ３１１は、光軸方向にも微小移動可能に構成されている。ウエハステージ３１１の光軸方向の位置は、ウエハオートフォーカス送光系３１２とウエハオートフォーカス受光系３１３からなるウエハオートフォーカスセンサにより制御されている。ウエハステージ３１１の光軸と直交する面内における位置は、図示しないレーザ干渉計により高精度に制御されている。
【００３１】
露光時には、レチクルステージ３０３とウエハステージ３１１は、投影光学系の縮小倍率と同一の速度比、例えば、（レチクルステージ３０３の移動速度）：（ウエハステージ３１１の移動速度）＝４：１または５：１で同期走査する。
【００３２】
この第２の実施の形態にかかるＥＵＶ露光装置によれば、投影光学系を構成するミラーの少なくとも１つが第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡により構成されているため、多層膜の界面における物質間の拡散による反射率低下が生じない高精度な面形状を有する光学系により良好な露光を行うことができる。
【００３３】
なお、第２の実施の形態においては、ミラー３０６〜３０９の少なくとも１つが第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡により構成されているが、照明光学系ＩＬに含まれるミラー、折り返しミラー３０１、レチクル３０２等が第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡により構成されるようにしてもよい。
【実施例１】
【００３４】
実施例１では、物質１としてモリブデン（Ｍｏ）を用い、物質２としてシリコン（Ｓｉ）を用い、Ｍｏ層にＳｉ層を積層するＳｉ／Ｍｏ界面に、ＳｉＯ２を１ｎｍ、Ｓｉ層にＭｏ層を積層するＭｏ／Ｓｉ界面にＢ４Ｃを１ｎｍそれぞれ拡散防止層として積層した。ＳｉＯ２はＳｉとの親和性がよく、強固な共有結合を有するため、重いＭｏが飛来してもＳｉ層にＭｏ粒子が拡散しにくいため、Ｍｏ／Ｓｉ界面においてＳｉ層にＭｏ粒子が拡散することを防止できる。また、Ｂ４Ｃは非常に軽い分子量であり、Ｍｏ層に入り込むことがないため、Ｓｉ／Ｍｏ界面において、飛来したＳｉ粒子をＢ４Ｃが受け止め、Ｍｏ層にＳｉ粒子が拡散することを防止することができる。
【実施例２】
【００３５】
実施例２では、物質１としてモリブデン（Ｍｏ）を用い、物質２としてシリコン（Ｓｉ）を用い、異なる物質を主成分とする層を形成する際に、不活性なガスとしてＡｒガスを１０−２Ｐａまで導入し、飛来粒子の速度を低減させた。そして、Ｍｏ層（Ｓｉ層）上にＳｉ層（Ｍｏ層）が１ｎｍ形成された時点でＡｒガスの導入を停止し、その後に形成される膜の密度を向上させた。飛来粒子の速度を低減させることによって、飛来粒子が下層に入り込むのを防止し、Ｍｏ／Ｓｉ界面及びＳｉ／Ｍｏ界面において拡散が生じることを防止することができる。また、界面以降の部分においては、飛来粒子の速度を低減させることなく成膜を行っているため、最終的には均一な膜が形成される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】第１の実施の形態にかかる多層膜反射鏡の断面図である。
【図２】第２の実施の形態にかかるＥＵＶ露光装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００３７】
２・・・多層膜反射鏡、４・・・ガラス基板、６・・・物質１層、８・・・物質２層、１０ａ、１０ｂ・・・拡散防止層、１２・・・多層膜、ＩＬ・・・照明光学系、３０２・・・レチクル、３０３・・・レチクルステージ、３０６〜３０９・・・ミラー、３１０・・・ウエハ、３１１・・・ウエハステージ。
【図１】
2007198782.tif 000003
【図２】
2007198782.tif 000004