(57)【要約】【課題】適切なカラーバランスによって画像が表示されるディスプレイ装置を提供する。【解決手段】ディスプレイ装置は、ゲート線と、ゲート線と電気絶縁状態で交差するデータ線と、ゲート線とデータ線とが交差する地点に形成されている複数の薄膜トランジスタにそれぞれ接続されており、２×２行列形態に配列されている赤色、緑色、青色及び白色の副画素を有する画素領域とを含み、赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と白色の副画素の面積はそれぞれ画素領域の面積の約２５％より小さいことを特徴とする。【選択図】図１
2007025697.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート線と、
前記ゲート線と交差するデータ線と、
前記ゲート線と前記データ線とが交差する地点に形成されている複数の薄膜トランジスタにそれぞれ接続されており、２×２行列形態に配列されている赤色、緑色、青色及び白色の副画素を有する画素領域と、
を含み、前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積はそれぞれ前記画素領域の面積の約２５％より小さいことを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項２】
前記ゲート線の延長方向に隣接した前記副画素の面積は同一であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項３】
前記データ線の延長方向に隣接した一対の副画素のうちのいずれか１つの面積は他の１つの面積の約０．５〜１倍であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項４】
前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積は同一であることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項５】
前記青色の副画素は、前記白色の副画素と前記行方向に隣接するように設けられることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項６】
前記赤色の副画素は前記白色の副画素と前記行方向に隣接するように設けられることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項７】
前記緑色の副画素は前記白色の副画素と前記行方向に隣接するように設けられることを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記画素領域に光を提供する光源をさらに含み、
前記光源は前記画素領域の面積の約２５％より小さい副画素の光を提供することを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記光源はランプ及びＬＥＤのうちのいずれか１つであることを特徴とする、請求項８に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記ランプはＣＣＦＬであり、
前記ＣＣＦＬは青色蛍光体を含むことを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記ＬＥＤは赤色、青色及び緑色ＬＥＤを含み、
前記青色ＬＥＤは前記赤色及び緑色ＬＥＤより多いことを特徴とする、請求項９に記載のディスプレイ装置。
【請求項１２】
液晶表示装置、有機電界発光ダイオード及び電気泳動装置のうちのいずれか１つをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のディスプレイ装置。
【請求項１３】
ゲート線と、
前記ゲート線と電気絶縁状態で交差するデータ線と、
前記ゲート線と前記データ線との交差地点に形成されている複数の薄膜トランジスタにそれぞれ接続されており、２×２行列形態に配列されている赤色、緑色、青色及び白色の副画素を有する画素領域と、
前記画素領域に光を提供する光源と、
を含み、前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積はそれぞれ前記画素領域の面積の約２５％より小さく、前記光源は前記画素領域の面積の約２５％より小さい前記副画素の光を提供することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
前記ゲート線の延長方向に隣接した前記副画素の面積は同一であることを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記データ線の延長方向に隣接した一対の副画素のうちのいずれか１つの面積は他の１つの面積の約０．５〜１倍であることを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積は同一であることを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記白色の副画素の面積は前記画素領域の面積の約１６％であることを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記光源はＣＣＦＬ及びＥＥＦＬのうちの少なくともいずれか１つを含むことを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記光源は赤色、青色及び緑色ＬＥＤを含み、
前記青色ＬＥＤは前記赤色及び緑色ＬＥＤより多いことを特徴とする、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイ装置に係わり、より詳しくは、４色カラーを使用するディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、最近、広く使用されている液晶表示装置は、薄膜トランジスタが形成されている薄膜トランジスタ基板とカラーフィルタ層が形成されているカラーフィルタ基板とで構成された液晶パネルを含み、薄膜トランジスタ基板とカラーフィルタ基板との間には液晶層が位置している。
薄膜トランジスタ基板に設けられたゲート線とデータ線は互いに交差して配列され、各交差点には薄膜トランジスタが設けられる。画像信号に該当するデータの電圧は薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極を通じて液晶層に伝達される。カラーフィルタ基板には、画素電極に対応する位置に赤色、緑色及び青色のカラーフィルタ層が設けられ、赤色、緑色及び青色の副画素が集まって１つの正四角形のドット（dot）を構成している。赤色、緑色及び青色の副画素に基づいて１つのドットを表示する液晶表示装置において、輝度を高めるために白色の画素をさらに設けるようにしたものや、赤色、緑色及び青色以外の他の色の副画素をさらに追加した４色液晶表示装置が最近開発された。赤色、緑色及び青色画素とともに白色の画素を１つのドットにして映像を表示すると、全体的に光効率が高まる。
【０００３】
しかし、白色の画素の比率が全体ドットの１／４を占めるので、従来に比べて純色の赤色、緑色及び青色を高輝度で表示することが困難であり、高輝度での色濃度が低くなり、全体的なカラーバランスに問題が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、本発明の目的は適切なカラーバランスによって画像が表示されるディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前述した目的を達成するために、本発明に係るディスプレイ装置は、ゲート線と、前記ゲート線と電気絶縁状態で交差するデータ線と、前記ゲート線と前記データ線とが交差する地点に形成されている複数の薄膜トランジスタにそれぞれ接続されており、２×２行列形態に配列されている赤色、緑色、青色及び白色の副画素を有する画素領域とを含み、前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積はそれぞれ前記画素領域の面積の約２５％より小さいことを特徴とする。
【０００６】
ここで、前記ゲート線の延長方向に隣接した前記副画素の面積は同一であり、前記データ線の延長方向に隣接した一対の副画素のうちのいずれか１つの面積は他の１つの面積の約０．５〜１倍にすることができる。
前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積は同一にすることができ、この場合、前記青色の副画素、赤色の副画素及び緑色の副画素のうちのいずれか１つは前記白色の副画素と前記行方向に隣接するように設けることができる。
【０００７】
前記画素領域に光を提供する光源をさらに含み、前記光源は前記画素領域の面積の約２５％より小さい副画素の光を提供することによって、不足した副画素に対する色成分を補償するように構成できる。
前記光源はランプ及びＬＥＤのうちのいずれか１つを含むように構成できる。光源がランプである場合、ＣＣＦＬを用いることができ、前記ＣＣＦＬは青色蛍光体を含んで青色成分が強化されたものを用いることができる。また、光源がＬＥＤである場合、青色ＬＥＤの数を赤色及び緑色ＬＥＤより多くすることができる。
【０００８】
また、前述の目的を達成するために、本発明に係るディスプレイ装置は、ゲート線と、前記ゲート線と電気絶縁状態で交差するデータ線と、前記ゲート線と前記データ線が交差する地点に形成されている複数の薄膜トランジスタにそれぞれ接続されており、２×２行列形態に配列されている赤色、緑色、青色及び白色の副画素を有する画素領域と、前記画素領域に光を提供する光源とを含み、前記赤色、緑色及び青色の副画素のうちのいずれか１つの面積と前記白色の副画素の面積はそれぞれ前記画素領域の面積の約２５％より小さく、前記光源は前記画素領域の面積の約２５％より小さい前記副画素の光を提供することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、適切なカラーバランスによって画像の表示が可能なディスプレイ装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して本発明について説明する。
いろいろな実施形態において同一の構成要素に対しては同一の参照番号を付与し、同一の構成要素については第１実施形態で代表的に説明し、他の実施形態では省略するようにしている。
本発明によるディスプレイ装置として、液晶表示装置、有機電界発光ダイオード及び電気泳動表示装置が包含される。
【００１１】
図１は本発明の第１実施形態によるディスプレイ装置の配置図であり、この第１実施形態によるディスプレイ装置として液晶表示装置を例示している。ここで、図示されているように、液晶表示装置は図の横方向に延長されたゲート線１０、ゲート線と交差するデータ線２０、ゲート線１０とデータ線２０とが交差する点に設けられる薄膜トランジスタ３０、及び薄膜トランジスタ３０と電気的に接続されている副画素５１、５３、５５、５７を有する画素領域５０を含む。また、図示してはいないが、外部からの制御信号を受けてゲート線１０及びデータ線２０を駆動するゲートドライバー及びデータドライバーをさらに含む。
【００１２】
複数のゲート線１０は互いに平行に配列されており、２つのデータ線２０と垂直に交差して１つの画素領域を定義する。ゲート線１０及び薄膜トランジスタ３０のゲート電極３１を含むゲート金属層は、単一層または多重層で構成することができる。ゲート金属層は比抵抗（resistivity）の低い銀や銀合金などの銀系金属、アルミニウムやアルミニウム合金などのアルミニウム系の金属導電膜を含む構成とすることができ、このような導電膜上に透明電極物質との物理的、化学的、電気的接触特性の良いクロム、チタニウム、タンタル、モリブデン及びこれらの合金などからなる膜をさらに含む構成とすることができる。
【００１３】
ゲート線１０はゲート線１０に接続されている薄膜トランジスタ３０にゲートオン／オフ電圧を印加する。
図示してはいないが、液晶表示装置は、ゲート線１０のような金属層で形成される維持電極線をさらに含む構成とすることができ、この維持電極線に所定レベルの共通電圧を印加することにより、液晶層に印加される電圧を維持するように構成することができる。
【００１４】
このようなゲート金属層上には窒化ケイ素（SiNx）等からなるゲート絶縁膜（図示せず）が覆われている。ゲート絶縁膜はゲート金属層と後述するデータ金属層を電気的に絶縁させる。
ゲート電極３１を覆っているゲート絶縁膜上には、水素化非晶質シリコン（hydrogenated amorphous silicon）などの半導体からなる半導体層と、ｎ型不純物が高濃度ドーピングされたｎ＋水素化非晶質シリコンからなる抵抗性接触層とが順に形成されている。
【００１５】
ゲート線１０と交差するデータ線２０及びデータ電極のドレイン電極３３、ソース電極３５を含むデータ金属層は、ゲート金属層と電気的に絶縁されて設けられる。データ電極を含むデータ金属層は、ゲート金属層と同様に、各金属または合金の短所を補完して所望の物性を得るために多重層で形成することができる。多重層で形成する場合、データ配線はモリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、モリブデン（Mo）の３重層で形成することができる。
【００１６】
データ金属層のうち、データ線２０は薄膜トランジスタ３０のドレイン電極３３に分岐しており、ソース電極３５はドレイン電極３３と半導体層を間において離間して形成される。
データ金属層と副画素５１、５３、５５、５７を形成する画素電極との間には保護膜が形成され、ソース電極３５を覆っている保護膜上に形成された接触孔３７によってソース電極３５と副画素５１、５３、５５、５７は電気的に接続される。
【００１７】
画素領域５０は、赤色、緑色、青色及び白色を表示する４つの副画素５１、５３、５５、５７から構成されており、副画素５１、５３、５５、５７は複数の薄膜トランジスタ３０にそれぞれ接続されて２×２行列形態に配列されている。画素領域５０の第１行には赤色５１及び緑色５３の副画素が配列されており、第２行には白色５５及び青色５７の副画素が配列されている。つまり、１つの画素領域５０はゲート線１０及びデータ線２０によって区画されており、データ線２０によって区画される比率は約１対１程度であり、ゲート線１０によって区画される比率は約２対１程度である。図示されているように、データ線２０によって区画された副画素５１、５３、５５、５７のゲート線１０の延長方向の長さｄ１は同一である。また、ゲート線１０によって区画されたデータ線２０の延長方向の副画素５１、５３、５５、５７の長さｄ２、ｄ３のうちのいずれか一方は他方の約２倍であり、図示した例では、ｄ２がｄ３の２倍となるように構成されている。
【００１８】
このような画素領域５０の構成によって、ゲート線の延長方向に隣接した副画素の面積、言い換えると、赤色の副画素５１と緑色の副画素５３の面積は同一であり、白色の副画素５５及び青色の副画素５７の面積も同一である。但し、ゲート線１０によって区画される倍率が相違するため、第２行に配列されている副画素５５、５７の面積は第１行に配列されている副画素５１、５３の面積より小さい。白色の副画素５５及び青色の副画素５７の全体面積は赤色の副画素５１と緑色の副画素５３の全体面積の約０．５倍になり、白色の副画素５５の面積は全体画素領域５０の面積の約１６％程度に該当する。
【００１９】
本実施形態による画素領域５０は、白色の副画素５５の面積が画素領域５０全体の面積の２５％より小さいのが特徴である。このような場合、ゲート線１０とデータ線２０を直線に構成することが工程において容易であるため、白色の副画素５５と同一の面積を有する他の副画素、本実施形態では青色の副画素５７が存在するようになる。
白色の副画素５５と同一の面積を有する副画素は最も輝度の低い青色の副画素５７であるのが好ましい。赤色、緑色及び青色のうちの最も輝度が低い青色の場合、その面積を減少させても全体的な輝度に及ぼす影響が最も少ない。青色の輝度は緑色の約１／１０程度であり、絶対輝度も数十Ｃｄ／ｍ2程度であるため、明るさが１／２に減少しても全体輝度の減少は大きくない。また、人の視覚細胞中で青色を感知する細胞の量が最も少ないため、使用者が認識する最終的な映像に及ぼす影響も最小化させることができる。
【００２０】
従来の４色の副画素を使用する場合、１つの画素領域５０は１：１：１：１に分割されて、全ての副画素は全体面積の２５％に該当する同一の面積を有している。このような画素領域５０の分割は既存の３色副画素に比べて純色の明るさが減少するという問題点があり、また、白色の比率が高すぎて全体的に輝度が減少する傾向があった。このような問題点を解消するために、白色の副画素５５の比率を減少させることが本発明の特徴であるので、青色の副画素５５は必ずしも白色の副画素５５と同一の面積を有する必要はない。
【００２１】
また、白色の副画素５５は、他の副画素の面積に対して約０．５〜１倍の比率を有するのが適切なカラーバランスに好ましいので、ゲート線１０によって分割された副画素の長さの比率（ｄ２：ｄ３）は２：１に限定されず、１：１から２：１の間になるように適宜選択された値とすることができる。
したがって、白色の副画素５５の面積が画素領域５０全体の面積の２５％未満であれば、白色の副画素５５及び白色の副画素５５と隣接するように同一の行に配列される副画素が第１行に配列されても差し支えない。また、白色の副画素５５と同一の面積を有する副画素の種類も青色に限定されない。
【００２２】
図２及び３は本発明の第２及び３実施形態による画素領域を示したものである。
図２及び３に示されているように、白色の副画素とゲート線の延長方向に隣接した副画素は赤色及び緑色の副画素である。図２に示された画素領域の第１行には青色の副画素及び緑色の副画素が隣接するように配列されており、図３には赤色の副画素及び青色の副画素が第１行に配列されている。この場合、白色の副画素と同一の行に配列される副画素面積の減少によって全体的なカラーバランスが合わないという問題点が発生する恐れがあるが、これは後述する光源による補完が可能である。
【００２３】
赤色、緑色、青色及び白色の四種類の色を表示する副画素を使用するディスプレイ装置の場合、副画素の配列形状は多様に変更することができる。本発明のように２つの行と２つの列を有する形態に配置することもでき、長辺の長さが同一であり、短辺の長さを互いに相違する複数の長方形形態に配列することもできる。
副画素を含む画素領域に関して、本実施形態では液晶表示装置を中心に説明したが、４色画素を有するディスプレイ装置であれば、液晶表示装置に限定されずに本実施形態の構成を適用することができる。
【００２４】
図４は本発明の第１実施形態による液晶表示装置の断面図であり、図５及び図６は本発明の第１実施形態による光源の特性を説明するための図面である。
図４に示されているように、液晶表示装置は薄膜トランジスタ基板１００、カラーフィルタ基板２００及び両基板１００、２００の間に注入されている液晶層３００を含む液晶パネルと、液晶パネルの背面に位置し、液晶パネルに光を提供するランプ４１０を含むバックライトユニット４００、及び液晶パネルとバックライトユニット４００を支持、収容するシャーシー５００を含む。
【００２５】
液晶パネルは、図１の画素領域５０及び薄膜トランジスタ３０が形成されている薄膜トランジスタ基板１００、薄膜トランジスタ基板１００と対面しているカラーフィルタ基板２００、両基板１００、２００を接合させてセルギャップ（cell gap）を形成するシーラント、両基板１００、２００とシーラントとの間に位置する液晶層３００を含む。液晶パネルは液晶層３００の配列を調整して画面を形成するが、非発光素子であるため背面に位置したランプ４１０のような光源から光の供給を受けなければならない。薄膜トランジスタ基板１００の一側には、駆動信号の印加のための駆動部が設けられている。駆動部はフレキシブル印刷回路基板（ＦＰＣ）１１０、フレキシブル印刷回路基板１１０に装着されている駆動チップ１２０、フレキシブル印刷回路基板１１０の他側に接続されている回路基板（ＰＣＢ）１３０を含む。図示された駆動部はＣＯＦ（Chip on Film）方式を示したものであり、ＴＣＰ（Tape Carrier Package）、ＣＯＧ（Chip On Glass）等公知の他の方式も可能である。また、配線形成過程において駆動部を薄膜トランジスタ基板１００に形成することも可能である。
【００２６】
複数のランプ４１０が液晶パネルの背面の両側部に沿って配置されている。このランプ４１０の間には、ランプ４１０から発生した光を液晶パネルに誘導する導光板４２０が設けられている。ランプ４１０は配置方式によって、液晶パネルの背面全体に設けられて液晶パネルに光を照射する直下方式と、液晶パネルの背面に導光板４２０が設けられ、ランプ４１０が導光板の少なくとも１つの側辺に配置されて導光板４２０を通じて液晶表示パネル２０に光を照射するエッジ（edge）方式とに区分され、本実施形態によるバックライトユニット４００は直下方式である。
【００２７】
本実施形態によるランプ４１０は冷陰極蛍光ランプ（Cold Cathode Fluorescent Lamp：ＣＣＦＬ）であり、ランプ４１０は青色蛍光体を含んでいる。一般に、ランプ４１０は白色光を生成するために赤色、緑色及び青色の蛍光体を含んでいるが、本実施形態によれば、青色蛍光体が他の色の蛍光体よりさらに強化されたランプ４１０が使用される。図１に示されているように、青色の副画素５７は赤色の副画素５１及び緑色の副画素５３の面積より小さい面積を有するため、液晶パネルの全体的なカラーバランスが合わないこともある。これを補償するために、本実施形態のランプ４１０は不足した色成分が強化される。ランプ４１０としては、ＣＣＦＬ以外に、外部電極蛍光ランプ（External Electrode Fluorescent Lamp：ＥＥＦＬ）を用いることも可能である。
【００２８】
図５は青色蛍光体を強化したランプを用いた場合のランプから発光する光の波長に対する明るさを示すグラフである。青色蛍光体が強化されないランプの青色成分を１と仮定した時の光の波長及び青色成分が１．０９、１．１８倍ずつ強化された場合のランプから発生した光の波長が図示されている。
一般に、光において、青色系統は約４２０〜５００ｎｍの波長を有し、黄色系統は約６００〜６６０ｎｍの波長を有する。青色成分が強化されるほどランプから発生した光は４２０〜５００ｎｍの波長領域（Ｉ）で明るさがだんだん増加し、６００〜６６０ｎｍの波長領域（II）で明るさがだんだん減少することが分かる。言い換えると、青色蛍光体を強化したランプでは青色系統（Ｉ）の光の明るさが増加するので、液晶パネルでの不足した青色成分を補償することができる。このように青色蛍光体が強化されないランプから発光された光と青色蛍光体が強化されたランプから発光された光の特定帯域の波長を比較することによって青色成分が強化されたことを確認することができる。
【００２９】
図６は青色蛍光体が強化されたランプを用いた結果を示すＣＩＥ色座標系を示したグラフである。大きく、色座標系の左側下段の領域は青色を、左側上段は緑色を、右側領域は赤色の光領域を示す。
青色蛍光体が強化されないランプの青色成分を１と見た時の光に対する色領域の中心は大略（０．３４７、０．３８３）である。これは三色の副画素を有する液晶パネルに使用されたランプに関するものであって、非常に黄色の性質を有することが分かる。
【００３０】
これに対して、青色成分を１．０９倍に強化した場合には色領域の中心は（０．３３４、０．３４８）に、１．１８倍に強化した場合には（０．３２２、０．３３４）に移動する。
このような色領域の中心の移動は、ランプの青色成分が全体的に強化されたことを示す。青色成分が強化されたランプを用いることにより、青色の副画素の面積によって減少した青色バランスを補償することができる。
【００３１】
液晶パネルの背面に位置する拡散板４３０は、光源から光を均等に拡散させて液晶パネルに供給する。これによって、画面上には光源の配列状態が表れず画面全体の明るさが均一になる。
導光板４２０の背面に配置されている反射シート４４０は、液晶パネルの反対方向に透過する光を再び液晶パネルに反射させることによって、光の損失を減らし、液晶パネル方向に透過する光の均一度を向上させることに寄与する。反射シート４４０はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネート（ＰＣ）で構成することができる。
【００３２】
この他に、液晶パネルと拡散板４３０との間には、ランプ４１０から発生した光を調節するために、拡散板４３０で拡散された光を上部の液晶パネルの平面に垂直方向に集光するプリズムフィルム、スクラッチに弱いプリズムフィルムを保護する保護フィルム、及び光の反復的な偏光透過、反射過程を通じて液晶パネルが高い輝度を有するように調節する反射偏光フィルムのうちの少なくともいずれか１つをさらに含む光調節部材をさらに設けることもできる。このような光調節部材には、光の拡散率を向上させるために拡散パターンを形成するのが一般的である。
【００３３】
他の実施形態によれば、光源として、ランプ４１０ではなく、ＬＥＤを使用することもできる。このような場合、青色を発光する青色ＬＥＤは赤色及び緑色ＬＥＤよりさらに多く設けることができる。青色の副画素の面積減少によるカラーバランスを合わせるために、青色がさらに強調された光源を使用する必要があるためである。
本実施形態ではランプ４１０に青色蛍光体が含まれていたが、図２及び図３のように面積が減少した副画素が赤色または緑色である場合、不足したカラーを補償するために赤色または緑色をさらに補強することもできる。言い換えると、光源は画素領域の面積が２５％より小さい副画素の色成分が強化された光を提供する。
【００３４】
図２のように白色の副画素と同一の面積を有する副画素が赤色である場合、ランプには赤色蛍光体をさらに添加し、赤色ＬＥＤの数を増加する。同様に、図３のように緑色の副画素の面積が減少した場合には、緑色蛍光体を含むランプを使用したり、より多くの数の緑色ＬＥＤを使用するように構成することが可能である。
たとえ本発明のいくつかの実施形態が図示され説明されたが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する当業者であれば、本発明の原則や精神から外れずに本実施形態を変形できることが分かる。発明の範囲は添付された請求項とその均等物によって決められる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の第１実施形態によるディスプレイ装置の配置図である。
【図２】本発明の第２実施形態による画素領域を示す図面である。
【図３】本発明の第３実施形態による画素領域を示す図面である。
【図４】本発明の第１実施形態によるディスプレイ装置の断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態による光源の特性を説明するための図面である。
【図６】本発明の第１実施形態による光源の特性を説明するための図面である。
【符号の説明】
【００３６】
１０      ゲート線
２０      データ線
３０      薄膜トランジスタ
３１      ゲート電極
３３      ドレイン電極
３５      ソース電極
３７      接触孔
５０      画素領域
５１、５３、５５、５７      副画素
１００      薄膜トランジスタ基板
２００      カラーフィルタ基板
３００      液晶層
４００      バックライトユニット
５００      シャーシー
【図１】
2007025697.tif 000003
【図２】
2007025697.tif 000004
【図３】
2007025697.tif 000005
【図４】
2007025697.tif 000006
【図５】
2007025697.tif 000007
【図６】
2007025697.tif 000008