(57)【要約】【課題】露光点データに基づいて露光ヘッドにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。【解決手段】露光ヘッド３０のマイクロミラーの基板１２上の仮想的な描画軌跡の情報に対応する、原画像データ上の仮想露光点データ軌跡の情報を複数取得し、その仮想描画点データ軌跡に対応したトレースデータを原画像データからそれぞれ取得して予めテンプレート記憶部５６ａに記憶し、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラーの露光軌跡の情報に対応する複数の仮想露光点データ軌跡情報を特定し、その特定された複数の仮想露光点データ軌跡情報に対応するトレースデータを、実際の露光軌跡情報に対応した露光点データとして取得する。【選択図】図５
2007094033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、
前記複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち前記取得した描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得することを特徴とする描画データ取得方法。
【請求項２】
前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定することを特徴とする請求項１記載の描画データ取得方法。
【請求項３】
前記複数の仮想描画軌跡情報を、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定することを特徴とする請求項１または２記載の描画データ取得方法。
【請求項４】
前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、
前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の描画データ取得方法。
【請求項５】
請求項１から４いずれか１項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項６】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
該仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、
該仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶する仮想描画データ記憶部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部よって取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち、前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報選択部と、
該仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
【請求項７】
前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定されていることを特徴とする請求項１記載の描画データ取得装置。
【請求項８】
前記複数の仮想描画軌跡情報が、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定されていることを特徴とする請求項１または２記載の描画データ取得装置。
【請求項９】
前記描画軌跡情報取得部が、前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得するものであり、
前記描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得するものであり、
前記仮想描画点データ軌跡情報選択部が、前記描画点データ軌跡情報取得部よって取得された各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得するものであり、
前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の描画データ取得方法。
【請求項１０】
請求項６から９いずれか１項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法および装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
【０００５】
そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００６】
ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パターンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを各層において形成する必要がある。
【０００７】
また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを形成する必要がある。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２３３７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにおいて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画像データに基づいて露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像データの生成に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。
【００１０】
そこで、上記のような基板の変形を想定し、その基板の変形に応じた露光画像データを画像処理装置で予め複数種類生成して露光部に予め記憶しておき、実際に露光する際に、基板の変形量の情報を取得し、その変形量に応じた露光画像データを読み出して利用することによって、上記のような生産効率の低下を招くことなく露光画像データを取得する方法が考えられる。
【００１１】
本発明は、上記のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法および装置の改良に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、上記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち上記取得した描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする。
【００１３】
また、上記本発明の描画データ取得方法においては、複数の仮想描画軌跡情報として上記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定するようにすることができる。
【００１４】
また、複数の仮想描画軌跡情報を、描画軌跡情報の基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定するようにすることができる。
【００１５】
また、描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、描画点データ軌跡を曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得し、その取得した各部分描画点データ軌跡情報毎について、複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて部分描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得し、その取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得するようにすることができる。
【００１６】
本発明の描画方法は、上記本発明の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、その取得した描画データに基づいて基板上に画像を描画することを特徴とする。
【００１７】
本発明の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、上記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶する仮想描画データ記憶部と、
仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部よって取得された描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報選択部と、仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の描画データ取得装置においては、複数の仮想描画軌跡情報として相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定するようにすることができる。
【００１９】
また、複数の仮想描画軌跡情報を、描画軌跡情報の基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定するようにすることができる。
【００２０】
また、描画軌跡情報取得部を、描画軌跡を曲線または折れ線で取得するものとし、描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡を曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得するものとし、仮想描画点データ軌跡情報選択部を、描画点データ軌跡情報取得部よって取得された各部分描画点データ軌跡情報毎について、複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得するものとし、描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて部分描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得するものとすることができる。
【００２１】
本発明の描画装置は、上記本発明の描画データ取得装置と、描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００２２】
ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。
【００２３】
なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め用意された複数の仮想描画データセットから、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係に基づいて少なくとも２つの特定仮想描画データセットを選択し、その少なくとも２つの特定仮想描画データセットの各々から、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係に対応した部分を抽出し、その抽出された部分のデータを組み合わせて描画処理用の描画データを取得する方法／装置であってもよい。この場合、各仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの集合であってもよいし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられるデータの集合であってもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる仮想描画点データ軌跡情報に基づいて取得された仮想描画データを予め記憶し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得するようにしたので、生産効率の低下を招くことなく、基板の変形などに応じた描画データを取得することができる。
【００２５】
そして、上記のように１つの描画点データ軌跡情報に対して複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択し、その複数の仮想描画点データ軌跡情報の組み合わせによって上記描画点データ軌跡情報に対応する描画データを取得するようにしたので、たとえば、描画点データ軌跡情報の傾きよりも小さい傾きの仮想描画点データ軌跡情報を複数利用して上記描画点データ軌跡情報を近似することができる。したがって、上記描画転データ軌跡情報に対応する、大きい傾きの仮想描画点データ軌跡情報を予め設定する必要がないので、仮想描画点データ軌跡情報の数を削減することができ、仮想描画データの容量を削減することができる。
【００２６】
そして、本発明の描画方法および装置においても、上記と同様の効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターンを露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。
【００２８】
露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。
【００２９】
設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。
【００３０】
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。
【００３１】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
【００３２】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００３３】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図３（Ａ）に示すように、移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０毎の帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００３４】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。
【００３５】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００３６】
次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。
【００３７】
本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータに所定の処理を施す画像処理部５０と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部５１と、検出位置情報取得部５１により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部５２と、露光軌跡情報取得部５２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に基づいて露光画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取得する露光点データ軌跡情報取得部５３と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する露光点データ情報を取得する露光点データ情報取得部５４と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する配線部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データをサンプリングするサンプリングデータ取得部５５と、露光点データ情報取得部５４により取得された露光点データ情報に基づいて、後述する表示部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得部５６、露光点データ取得部５６により取得された露光点データに基づいて各マイクロミラーに供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド３０に出力する露光ヘッド制御部５８と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。
【００３８】
また、本露光装置１０は、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０を備えている。移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
【００３９】
なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
【００４０】
次に、本露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。
【００４１】
本露光装置１０は、移動ステージ１４上に設置された基板１２を、ステージ移動方向に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０に制御信号を出力し、基板１２上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板１２上に露光するものである。
【００４２】
そして、本露光装置１０は、予め露光点データ取得部５６に記憶されたテンプレートデータから所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を取得し、その取得した露光点データ列に基づいて露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０の各マイクロミラー３０に制御信号を出力して基板１２に露光パターンを露光するものである。
【００４３】
まずは、露光点データ取得部５６に予め記憶されるテンプレートデータおよびその作成方法について説明する。
【００４４】
[テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パターンＲは、図６に示すように、（ｒ、ｇ、ｂ）を表示するための３つのＴＦＴからなるＬＣＤ画素Ｐが直交する方向に２次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される配線からなる配線部とから構成される。なお、図６においては、ｒを表示するためのＴＦＴをＴ１、ｇを表示するためのＴＦＴをＴ２、ｂを表示するためのＴＦＴをＴ３で表し、配線部を実線で表している。データ作成装置４０においては、図６に示すような露光パターンＲを表すベクトルデータが作成される。
【００４５】
そして、データ作成装置４０において作成されたベクトルデータは、画像処理部５０に出力される。そして、画像処理部５０において、表示部を表わす表示部データと、配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部データは、それぞれラスターデータに変換され、それぞれ一時記憶される。
【００４６】
そして、上記のようにして一時記憶された表示部データについて、テンプレートデータが作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレートデータを作成しないが、配線部データから露光点データを取得する方法については後述する。
【００４７】
画像処理部５０においては、図７に示すように、表示部データＤにおけるＬＣＤ画素データＰＤと各マイクロミラー３８により露光される基板上の露光点の座標系とが対応付けられ、ＬＣＤ画素データＰＤ内の所定の始点s（x1,y1）から所定の終点e（x1,y2）までを結んだベクトルＶ１が設定され、そのベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上のＬＣＤ画素データが、所定のサンプリングピッチでサンプリングされて部分露光点データ列が取得される。なお、図７におけるy方向は、マイクロミラー３８の基板１２に対する走査方向に対応する方向であり、x方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向である。つまり、ベクトルＶ１は、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡の一部である。
【００４８】
具体的には、図７に示すように、１つのＬＣＤ画素データ内の１つの始点sに対して、y方向について所定の長さL0を有する基準ベクトルＶ１が設定され、その基準ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitchi_y0でサンプリングされる。そして、さらに上記基準ベクトルＶ１の始点sと、基準ベクトルの終点eを中心としてy方向について所定の変動範囲Ｗに位置する複数の終点eとをそれぞれ結んだベクトルＶ１が設定され、その設定された各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitch_yでサンプリングされ、各ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、本実施形態においては、上記のようにy方向に平行なベクトルのみをベクトルＶ１として設定するものとする。また、変動範囲Ｗのサイズは、基板１２の変形の程度に応じて予め設定されているものとする。
【００４９】
なお、基準ベクトルＶ１の長さL0、サンプリングされる露光点データ数N、基準ベクトルＶ１のサンプリングピッチpitch_y0、y方向の変動幅Δy、基準ベクトル以外のベクトルＶ１の露光点データのy方向のサンプリングピッチpitch_yは、以下の様な関係になる。
【００５０】
L0  ＝  N  ×  pitch_y0                                  ・  ・  ・  (1)
Δy  ＝  y2 −(y1+L0)                                    ・  ・  ・  (2)
pitch_y  ＝  pitch_y0  ×  (L0+Δy)／L0                  ・  ・  ・  (3)
具体的には、例えば、N = 4096、pitch_y0 = 0.75μm等となる。
【００５１】
また、延長ベクトルＶ１ｔとは、ベクトルＶ１の終点e(x1,y2)をベクトルＶ１の終点側に延長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。
【００５２】
Ｖ１ｔ  ＝  Ｖ１  ×  ( 1 + ｋ)                          ・  ・  ・  (4)
ここで、ｋ＝（ＬＣＤ画素データのy方向サイズ＋余裕値α）/L0  ・  ・  (5)
とすることが望ましい。
【００５３】
ただし、ｋ>0は必須ではなく、k=0(即ちＶ１ｔ＝Ｖ１)とすることも可能である。
【００５４】
そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置が始点sとされ、それぞれの始点sについて、上記と同様に、所定の変動範囲Ｗに位置する終点eまでを結んだベクトルＶ１が設定され、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎についてそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、上記のようにして取得された部分露光点データ列を、以下「トレースデータ」という。
【００５５】
そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中の全ての始点sの座標（x１,y１）とその始点sに結ばれた終点eの変動量Δyとの組み合わせについて、図８に示すように、トレースデータ番号が付される。なお、上記変動量Δyとは、上述したように、上記基準ベクトルの終点eの位置を基準とした場合における、変動範囲Ｗ内の各終点eのy方向へのずれ量を示すものである。したがって、上記基準ベクトルの終点eの変動量Δyは０ということになる。
【００５６】
そして、図８に示す対応関係と、表における各トレースデータ番号に対応するトレースデータが、画像処理部５０から出力される。そして、図８に示す対応関係は、露光点データ情報取得部５４に設定され、各トレースデータは、図９に示すように、それぞれトレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとしてまとめられ、露光点データ取得部５６のテンプレート記憶部５６ａに記憶される。
【００５７】
なお、上記のようにして各ベクトルＶ１について取得されたトレースデータを互いに比較し、全ての露光点データが一致するベクトルＶ１同士については、そのトレースデータを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにすればよい。
【００５８】
また、本実施形態においては、始点sと終点eとを直線で結ぶようにしたが、これに限らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりするようにしてもよい。
【００５９】
また、本実施形態においては、ラスターデータとされた表示部データＤからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしたが、必ずしもラスターデータにする必要はなく、ベクトルデータのままの表示部データからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。
【００６０】
また、本実施形態においては、上記のようにy方向に平行なベクトルＶ１のみ設定し、このベクトルＶ１に対応するトレースデータを予め記憶するようにしたが、これに限らず、ベクトルＶ１の終点eをx方向に変動させるようにしてもよい。そして、その各ベクトルＶ１について、上記と同様にしてトレースデータを取得するとともに、終点eのx方向の変動量Δxにも対応させてトレーデータ番号を付するようにすればよい。なお、x方向の変動量Δxは、基板１２の変形の程度に応じて予め設定されるものであるが、想定される基板の変形の程度よりも小さい量とすることが望ましい。つまり、ベクトルＶ１としては、後述するベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）のy方向に対する傾きよりも小さい傾きを有するベクトルを設定することが望ましい。上記のようにベクトルＶ１を設定することによってベクトルＶ１の数を削減することができ、トレースデータの容量を削減することができる。
【００６１】
また、本実施形態においては、ベクトルＶ１の量子化幅は、実際に基板上に露光される露光点の量子化幅、つまり、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の量子化幅と同じになるようにしたが、ベクトルＶ１の量子化幅の方をより粗くするようにしてもよい。たとえば、本実施形態においては、図７において、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置を始点sとするようにしたが、x方向について、１列の露光点列おきに始点sを設定するようにしてもよい。また、y方向についても、1列の露光点列おきに始点sを設定するようにしてもよい。また、終点eのy方向への変動幅の量子化幅を、露光軌跡の量子化幅よりも粗くするようにしてもよい。また、上記のように終点eをx方向についても変動させる場合には、そのx方向への変動幅の量子化幅を、露光軌跡の量子化幅よりも粗くするようにしてもよい。
【００６２】
上記のようにして量子化幅をより粗く設定することによってベクトルＶ１の数を減らすことができ、これによりトレースデータの容量を削減することができる。
【００６３】
[露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにしてテンプレート記憶部５６ａに記憶されたテンプレートデータは、露光点データ情報取得部５４において取得された露光点データ情報に基づいて読み出され、露光ヘッド制御部５８に出力されるが、次に、露光点データ情報取得部５４における露光点データ情報の取得について説明する。
【００６４】
まず、コントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を、図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。
【００６５】
そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得部５１に入力される。検出位置情報取得部５１は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標系は各マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。
【００６６】
そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得部５１から露光軌跡情報取得部５２に出力される。
【００６７】
そして、露光軌跡情報取得部５２において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得部５２には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が、各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図１０に、プレス工程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報１２ｃにおける複数の基準点１２e（図１０に示す白丸）によって区切られるベクトルＶ２の長さと、上述した基準ベクトルの長さとは同じ長さに設定されている。
【００６８】
そして、露光軌跡情報取得部５２においては、図１１に示すように、通過位置情報１２ｃと検出位置情報１２ｄとが対応付けられ、通過位置情報１２ｃにおける各基準点１２eについて、検出位置情報１２ｄとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図１２に示すように、基準点１２eとその基準点１２eを囲む検出位置情報１２ｄとで決定される矩形Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準点１２eについてそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃ毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。
【００６９】
そして、露光点データ軌跡情報取得部５３は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得する。
【００７０】
具体的には、露光点データ軌跡取得部５３には、図１３に示すように、露光画像データの座標系における基準マーク１２ａの位置情報１２ｆが予め設定されており、以下の式(6)を満たすようなトレース点１２ｇの座標が、各基準点１２eについてそれぞれ求められる。そして、図１３に示すように、各トレース点１２ｇを結んだベクトルＶ３の情報が露光点データ軌跡情報として露光点データ情報取得部５４に出力される。
【００７１】
Ｓａ：Ｓｂ：Ｓｃ：Ｓｄ＝Ｔａ：Ｔｂ：Ｔｃ：Ｔｄ              ・  ・  ・  (6)
そして、露光点データ情報取得部５４は、入力された各ベクトルＶ３の情報に基づいて、露光点データ情報を取得する。
【００７２】
具体的には、露光点データ情報取得部５４は、各ベクトルＶ３の始点と終点の座標値を取得し、その座標値を、１つのＬＣＤ画素データ中の露光点の座標系における座標値に相対変換し、その相対変換された始点と終点の座標値に基づいて終点の変動量（Δx,Δy）を求める。
【００７３】
そして、図８に示す対応関係に基づいて、各ベクトルＶ３について、それぞれ対応するトレースデータ番号を取得する。
【００７４】
具体的には、まず、ベクトルＶ３とその始点の座標値が一致するとともに、その終点の変動量Δyが一致するトレースデータ番号を取得する。たとえば、ベクトルＶ３が、図１４に示すようなベクトルである場合には、ラインiに対応するトレースデータ番号を取得する。なお、図１４は、ＬＣＤ画素データ中の露光点の座標系とベクトルＶ３とを対応付けたものである。また、ラインiはy方向に平行に延びるラインである。
【００７５】
そして、さらに、たとえば、Δxが+2である場合には、ラインi+1およびラインi+2に対応するトレースデータ番号が取得される。つまり、ベクトルＶ３の始点のy座標と同じy座標を有するとともに、ベクトルＶ３の始点のx座標に1および2を加算した始点のx座標を有するトレースデータ番号であって、変動量ΔyがベクトルＶ３の変動量Δyと同じトレースデータ番号が取得される。
【００７６】
そして、さらに、上記のようにして取得されたラインi、ラインi+1、およびラインi+2に対応する各トレースデータ番号について、それぞれトレースデータの読出長、および読出位置が取得される。図１４に示す斜線部分のy方向についての長さが読出長であり、y0、y1およびy2が読出位置である。なお、読出長および読出位置は、ベクトルＶ３の変動量（Δx,Δy）に応じて決定されるものであり、予め設定された決定方法に従って取得されるものとする。また、読出位置は、トレースデータの先頭ビットからのビット数で取得され、読出長は、図１４に示す斜線部分の長さに応じたビット数で取得されるものとする。なお、本実施形態においては、y0は必ず0となるので、必ずしも取得しなくてもよい。
【００７７】
そして、上記のようにして取得された各トレースデータ番号、読出位置および読出長に基づいて、図１５に示すようなデータ構造で表される露光点データ情報が取得される。
【００７８】
なお、露光点データ情報は、図１５に示すように、フラグ１〜３を有している。そして、このフラグ１〜３は、その後に続くトレースデータ番号が存在する場合には1とし、存在しない場合には0とする。また、本実施形態においては読出位置y0は必ず0となるので、読出位置y0は必ずしも設けなくてもよい。
【００７９】
そして、図１５に示すような露光点データ情報が各ベクトルＶ３毎に取得され、その露光点データ情報は露光点データ取得部５６に出力される。
【００８０】
なお、露光点データ情報のデータ構造は、図１５に示すようなデータ構造に限らず、たとえば、ラインi+1およびラインi+2に対応するトレースデータ番号については、図１６に示すように、ラインiに対応するトレースデータ番号に対する相対番号とするようにしてもよい。たとえば、ベクトルＶ３が、図１４に示すようなベクトルである場合には、相対番号は+1および+2となる。露光点データ情報を図１６に示すようなデータ構造とすることによりその使用ビット数を低減することができる。なお、トレースデータ番号は、始点のx座標値および変動量Δyが同じトレースデータについて続き番号で付されているものとする。
【００８１】
また、本実施形態においては、上述したように、y方向に平行なベクトルＶ１のみ設定し、このベクトルＶ１に対応するトレースデータ番号を取得するようにしたため、上記のようにベクトルＶ３とその始点の座標値が一致するとともに、その終点の変動量Δyが一致するトレースデータ番号を１つ特定することができるが、たとえば、ベクトルＶ１の終点をx方向についても変動させてトレースデータ番号およびトレースデータを取得するようにした場合には、上記のようにベクトルＶ３とその始点の座標値が一致するとともに、その終点の変動量Δyが一致するトレースデータ番号は複数存在することになる。したがって、上記のようにベクトルＶ１の終点をx方向についても変動させてトレースデータ番号を取得するようにした場合には、たとえば、ベクトルＶ３の傾きにより近い傾きを有するトレースデータ番号を特定するようにすればよい。
【００８２】
また、本実施形態においては、上述したように、１つのＬＣＤ画素データ中における全ての露光点の位置を始点sとし、その始点sについてベクトルＶ１を設定してトレースデータを取得するようにしたが、たとえば、始点sのy方向についての位置を、図１７に示す斜線部のみにしてトレースデータの数を削減するようにしてもよい。なお、トレースデータとして上記延長ベクトルＶ１ｔの長さを持たせるものとする。
【００８３】
そして、上記のようにしてトレースデータの数を削減した場合、ベクトルＶ３の始点の座標が、たとえば、図１７に示す位置である場合、その始点の座標値と同じ座標値を有するトレースデータ番号が存在しないことになる。
【００８４】
そこで、上記のような場合には、たとえば、図１８に示すように、始点Ｐ１および終点Ｐ２によって表されるベクトルＶ３を始点Ｐ１側に延長し、その延長線上における、図８に示す対応関係に存在する始点Ｐ０を求める。そして、始点Ｐ０と始点の座標値が一致し、かつ変動量Δyの値が、ベクトルＶ３の変動量Δyと一致するトレースデータ番号を取得する。たとえば、ベクトルＶ３が、図１９に示すようなベクトルである場合には、ラインjに対応するトレースデータ番号を取得する。
【００８５】
そして、さらに、たとえば、Δxが+2である場合には、ラインj+1およびラインj+2に対応するトレースデータ番号が取得される。つまり、始点Ｐ０のy座標と同じy座標を有するとともに、始点Ｐ０のx座標に1および2を加算した始点のx座標を有し、かつ変動量Δyの値が上記ベクトルＶ３の変動量Δyと一致するトレースデータ番号が取得される。
【００８６】
そして、上記と同様に、ラインj、ラインj+1、およびラインj+2に対応する各トレースデータ番号について、それぞれトレースデータの読出長、および読出位置が取得される。
【００８７】
[露光点データの取得]
次に、上記のようにして露光点データ情報取得部５４において取得された各ベクトルＶ３の露光点データ情報に基づいて、表示部データにおける露光点データを取得する方法を説明する。
【００８８】
まず、露光点データ取得部５６には、上述したように、図９に示すようなテンプレートデータがテンプレート記憶部５６ａに記憶されている。そして、上記のようにして各ベクトルＶ３に対応する露光点データ情報が入力されると、露光点データ情報の先頭の情報から順次解読する。つまり、まず、ラインiに対応するトレースデータ番号を取得し、その読出位置y0および読出長L1を取得し、フラグが1であることを検出して、その後のラインi+1に対応するトレースデータ番号を読みに行く。そして、さらに、ラインi+1に対応するトレースデータ番号を取得し、その読出位置y1および読出長L2を取得し、フラグが1であることを検出して、その後のラインi+2に対応するトレースデータ番号を読みに行く。そして、さらに、ラインi+2に対応するトレースデータ番号を取得し、その読出位置y2および読出長L3を取得し、フラグが0であることを検出することによって１つの露光点データ情報が終了したことを認識する。
【００８９】
そして、上記のようにして取得した露光点データ情報における各トレースデータ番号のトレースデータを選択し、その選択した各トレースデータについて、露光点データ情報の読出位置から読出長分だけ露光点データを読み出す。なお、読出位置が０の場合は、トレースデータは先頭から読み出される。また、トレースデータ番号とトレースデータの記憶領域との関係については、たとえば、図２０に示すような、トレースデータ番号とそのトレースデータ番号のトレースデータが記憶された記憶領域の先頭アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすればよく、露光点データ情報における読出位置と上記先頭アドレスに基づいて、読出開始アドレスが取得され、その読出開始アドレスから露光点データの読出しが開始される。
【００９０】
そして、上記のようして読み出された各トレースデータの露光点データを繋ぎ合わせることによってベクトルＶ３に対応する露光点データが取得される。
【００９１】
そして、上記のようにして各ベクトルＶ３について、それぞれ露光点データを取得し、これらを繋ぎ合わせることによって１つのマイクロミラー３８の露光点データ軌跡に対応した露光点データ列が取得される。
【００９２】
そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報と検出位置情報とに基づいて、各マイクロミラー３８毎の表示部データ上における露光点データ軌跡情報が求められ、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ情報が求められ、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ情報に基づいてトレースデータが読み出されて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。
【００９３】
ここまで表示部データからの露光点データの取得について説明したが、次に、配線部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。
【００９４】
上述したように、配線部データはラスター変換されて画像処理部５０に一時記憶されてある。そして、画像処理部５０に一時記憶された配線部データは、サンプリングデータ取得部５５に出力される。また、上記のようにして露光点データ軌跡情報取得部５３において取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報もサンプリングデータ取得部５５に出力される。そして、サンプリングデータ取得部５５は上記露光点データ軌跡情報の各ベクトルＶ３と配線部データとを対応付け、各ベクトルＶ３上の配線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光点データとして読み出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を露光点データ取得部５６に出力する。なお、配線部データにおける表示部データに該当する部分は０データになっているものとする。
【００９５】
そして、露光点データ取得部５６において、トレースデータを読み出すことによって取得された、表示部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列と、サンプリングデータ取得部５６において取得された、配線部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光パターンＲを表す、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が生成される。なお、上記合成は、各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報について、トレースデータを読み出すことによって取得された露光点データ列とサンプリングデータ取得部５６において取得された露光点データ列との論理和を演算することによって行われる。
【００９６】
[露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて基板１２上に露光する方法について説明する。
【００９７】
上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データは露光ヘッド制御部５８に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。
【００９８】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。
【００９９】
なお、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図２１に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたＬ個の露光点データ列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図２１に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図２２に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜Ｌを生成し、このフレームデータ１〜Ｌを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。
【０１００】
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
【０１０１】
なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づいてトレースデータを読み出すようにすればよい。なお、上記の場合、ベクトルＶ３の変動量（Δx,Δy）は0になるので、露光点データ情報は、ベクトルＶ３の始点の座標値と同じ座標値の始点を有するトレースデータ番号のみということになる。
【０１０２】
また、上記実施形態においては、基板１２上における基準マーク１２ａを検出し、その検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得するようにしたが、これに限らず、たとえば、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に基づいてベクトルＶ３からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトルＶ３について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。
【０１０３】
また、移動ステージ１４のヨーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
【０１０４】
また、基準マーク１２ａの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
【０１０５】
また、露光軌跡情報を曲線または折れ線などで取得するようにしてもよく、上記のように露光軌跡情報を曲線または折れ線で取得するようにした場合には、図１３に示す各トレース点１２ｇを、上記露光軌跡情報に対応させて折れ線で結びベクトルＶ３を設定するようにしてもよい。そして、上記のようにベクトルＶ３を折れ線で取得するようにした場合には、図２３に示すように、たとえば、ベクトルＶ３を２つの線分ベクトルＶ３１および線分ベクトルＶ３２に分割し、この線分ベクトルＶ３１および線分ベクトルＶ３２について、それぞれ上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよい。
【０１０６】
また、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設け、速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に基づいて、基板１２の移動の速度が遅い基板１２上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上記基準ベクトルのサンプリングピッチpitch_y0を小とし、露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。
【０１０７】
また、上記実施形態では、ＬＣＤ画素データＰＤがy方向に繰り返して配置された表示部データの露光点データを、トレースデータを利用して取得する方法を説明したが、露光点データを取得する対象である原画像データは必ずしも表示部データのようなデータ構造でなくてもよい。ただし、その場合には、ベクトルＶ１の始点sとしては、上記のように１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における始点sだけでなく、原画像データ全体における露光点の位置を始点sとしてベクトルＶ１を設定し、そのベクトルＶ１に対応するトレースデータを取得する必要がある。なお、ベクトルＶ１の終点eの設定の方法については上記と同様である。そして、ベクトルＶ３に対応するトレースデータを取得する際には、上記のようにベクトルＶ３の始点sおよび終点eの座標を相対変換することなく、ベクトルＶ３の始点sおよび終点eの座標をそのまま利用して、上記と同様にしてトレースデータを取得するようにすればよい。
【０１０８】
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
【０１０９】
また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。
【０１１０】
また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。
【０１１１】
また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。
【０１１２】
また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
【０１１３】
また、テンプレート化する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度も現れる画像であってもよい。
【０１１４】
また、テンプレート化する画像パターンは、デジタル的に一致したパターンでなくても、実質上同一のものと近似できるパターンであってもよい。例えば、露光時の誤差の範囲の相違は、無視するようにしてもよい。
【０１１５】
また、テンプレート化する繰り返しパターンは、複数種類の画像パターンが繰り返し現れるものであってもよい。この場合、画像パターンの種類毎にテンプレートを作成するようにしてもよいし、画像パターンの並び方に規則性がある場合には、その並び方の種類毎にテンプレート化を行ってもよい。
【０１１６】
また、露光対象をＬＳＩとしてもよく、その場合メモリセル等の同一パターンをテンプレート化することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図
【図６】液晶ディスプレイの露光パターンを示す図
【図７】トレースデータの作成方法を説明するための図
【図８】ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）とトレースデータとの対応関係を示す図
【図９】テンプレートデータを示す図
【図１０】理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図
【図１１】マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図
【図１２】マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図
【図１３】マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図
【図１４】ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択する方法を説明するための図
【図１５】露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図
【図１６】露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図
【図１７】ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するその他の方法を説明するための図
【図１８】ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するその他の方法を説明するための図
【図１９】ベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するその他の方法を説明するための図
【図２０】トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図
【図２１】各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図
【図２２】各フレームデータを示す図
【図２３】露光軌跡が曲線または折れ線の場合におけるベクトルＶ３（露光点データ軌跡情報）の取得方法を説明するための図
【符号の説明】
【０１１８】
１０    露光装置
１２    基板
１２ａ    基準マーク
１２ｂ    基準マーク位置情報
１２ｃ    通過位置情報
１２ｄ    検出位置情報
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
５０    画像処理部（仮想描画点データ軌跡情報取得部、仮想描画データ取得部）
５１    検出位置情報取得部
５２    露光軌跡情報取得部（描画軌跡情報取得部）
５３    露光点データ軌跡情報取得部（描画点データ軌跡情報取得部）
５４    露光点データ情報取得部（対応関係設定部、仮想描画点データ軌跡情報選択
部）
５５    サンプリングデータ取得部
５６    露光点データ取得部（描画データ取得部）
５６ａ  テンプレート記憶部（仮想描画データ記憶部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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