(57)【要約】【課題】同一基板内に形成された複数ショットのカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらフィルタの形成を行うカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】少なくともパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するラックマトリクス形成工程と、複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後に欠陥検査をインラインで実施し、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタ間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行う。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後にインラインで欠陥検査を実施するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記欠陥検査が同一基板内の複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶ディスプレイ及び有機ＥＬカラー表示装置等に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要の増加はめざましいものがある。
一般に、液晶表示ディスプレイパネルにおいて、現在最も広く使用されている液晶セル駆動方式は、ＴＮ（ねじれネマティック）方式とＳＴＮ（超ねじれネマティック）方式による縦電界駆動型であり、近年、横電界駆動型（ＩＰＳ）による液晶セル駆動方式の開発も進んでいる。
【０００３】
カラー液晶ディスプレイ及び有機ＥＬカラー表示装置等に用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタからなる着色フィルタ、透明電極及び柱状スペーサー等が形成されたものである。
【０００４】
以下カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図９（ａ）〜（ｆ）に一般的なカラーフィルタの製造方法の一例を工程順に示す。
まず、透明基板１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラック等の黒色顔料を分散した黒色感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、黒色感光性樹脂層２１を形成し（図９（ａ）参照）、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って、ブラックマトリクス２１ｂを形成する（図９（ｂ）参照）。
【０００５】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂが形成された透明基板１１上に塗布して赤色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、赤色フィルタ３１Ｒを形成する（図９（ｃ）参照）。
【０００６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂ及び赤色フィルタ３１Ｒが形成された透明基板１１上に塗布して緑色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、緑色フィルタ３２Ｇを形成する（図９（ｄ）参照）。
【０００７】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ及び緑色フィルタ３２Ｇが形成された透明基板１１上に塗布して青色感光性樹脂層を形成し、所定の露光マスクを使ってパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ３３Ｂを形成し、ブラックマトリクス２１ｂが形成された透明基板上に赤色フィルタ３１Ｒ、緑色フィルタ３２Ｇ及び緑色フィルタ３３Ｂからなる着色フィルタ層３０を形成する（図９（ｅ）参照）。
【０００８】
次に、スパッタリング等により酸化インジウム錫膜からなる透明電極４１を形成する。さらに、アクリル系樹脂を主成分とする感光性樹脂溶液をスピンナーで塗布して透明樹脂感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、加熱硬化して柱状スペーサー５２を形成し、カラーフィルタ基板２００を得ることができる（図９（ｆ）参照）。
【０００９】
上記フォトリソグラフィー方式でのカラーフィルタ基板の製造工程では、露光マスクのキズ、または付着した異物等が原因でカラーフィルタ基板に共通（同一）欠陥が発生することがある。
共通欠陥とは、基板内の同一箇所に発生する欠陥のことである。
露光マスクに異物等が付着すると、露光光が遮断されるため、本来露光されるべき箇所が未露光になり、ネガ型レジストの場合は白抜け、ポジ型レジストの場合はレジスト残り等の共通欠陥が発生する。
露光マスクの傷における共通欠陥は上記の場合と逆になる。
【００１０】
この共通欠陥は、一度発生すると連続的に発生し、カラーフィルタ基板の大量不良につながり、問題である。
この共通欠陥を早く見つけだすために、カラーフィルタ製造工程中の各着色画素形成工程で欠陥検査を実施し、露光工程にフィードバックするカラーフィルタの共通欠陥検査方式が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
これは、自動外観検査機において、検査対象カラーフィルタ基板の欠陥情報を前回の検査基板の欠陥情報と比較して、座標位置が一致するものを共通欠陥として認識している。
【００１１】
しかしながら、自動外観検査機における従来の共通欠陥認識は、基板間において同位置の欠陥を共通欠陥として認識している。
これは、２枚以上の基板を連続して検査し、それぞれの基板の欠陥位置を比較し、同一の欠陥であれば共通欠陥と認識するという方法である。
この方式では、基板を２枚以上検査しなければ共通欠陥の認識ができない。
【特許文献１】特開平５−２６６４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、同一基板内に形成された複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらフィルタの形成を行うカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に於いて上記課題を達成するために、本発明では、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後にインラインで欠陥検査を実施するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記欠陥検査が同一基板内の複数ショット間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタの各ショット間のカラーフィルタを検査することにより、同一カラーフィルタ基板内で共通欠陥を早期に発見することが可能となり、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【００１６】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、少なくとも透明基板上に黒色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成するブラックマトリクス形成工程と、着色感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色パターンを形成する着色フィルタ形成工程と、透明電極形成工程と、感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って柱状スペーサを形成する柱状スペーサ形成工程とを有し、各種パターンを形成した後に欠陥検査をインラインで実施し、同一基板内に形成された複数ショットカラーフィルタ間のカラーフィルタを検査することにより共通欠陥を認識し、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認しながらカラーフィルタの形成を行うようにしたものである。
【００１７】
図１は、上記各種パターン形成工程のパターン露光工程において、２面付けのカラーフィルタパターンが形成された露光マスクを用いて、透明基板１１上に６回露光（Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４、Ｅ−５、Ｅ−６）して１２面付けのカラーフィルタを形成したカラーフィルタ基板の一例を示す模式平面図である。
ここで、上記カラーフィルタパターンは、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程で使用される各種パターンを指している。
【００１８】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程とがあり、いずれもフォトリソ工程が適用され、ブラックマトリクス、着色フィルタ、柱状スペーサ等を形成した後にインラインで同一基板内での欠陥検査を実施して共通欠陥を認識すると、共通欠陥発生場所と同位置の露光マスクの状態を確認（露光マスクの交換、もしくは露光マスクのパターン修正）しながら各種パターンの形成を進めていき、最後にカラーフィルタを作製する。
このような製造方法を適用することにより、共通欠陥を早期に発見し、露光マスクへフィードバックするすることにより、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることができる。
【００１９】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の基本プロセスは、図２に示すように、透明基板１１の前洗浄、レジストコート、プリベーク、パターン露光、現像・水洗、欠陥検査、ポストベーク工程からなり、ブラックマトリクス形成工程、着色フィルタ形成工程、柱状スペーサ形成工程を経ることによりカラーフィルタ基板が作製される。
【００２０】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例を図３（ａ）〜（ｈ）、図４（ｉ）〜（ｐ）及び図５（ｑ）〜（ｖ）にそれぞれ示す。
【００２１】
まず、透明基板１１を前洗浄し、アクリル系樹脂にカーボンブラック等の黒色顔料を分散した黒色感光性樹脂レジストをスピンナー等にてコートし、所定の温度でプリベークして所定厚の黒色感光性樹脂層２１を形成する（図３（ａ）参照）。
ここで、透明基板１１としては、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板及びプラスチックフィルム等が利用できる。
【００２２】
次に、透明基板１２に２面付けのブラックマトリクスパターン６２が形成された露光マスク６０ｂを用いて、透明基板１１上の黒色感光性樹脂層２１に６回（Ｅ−１〜Ｅ−６）パターン露光する（図３（ｂ）参照）。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からレンズスキャン方式が一般
的に使用される。
【００２３】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂを形成する（図３（ｃ）参照）。
【００２４】
次に、ブラックマトリクス２１ｂが形成された基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する（図３（ｄ）参照）。
ここでは、露光工程で露光マスクに付着した異物等により発生する共通欠陥をなるべく早く見つけ出し、工程不良の発生を最小限に抑えようというものである。
露光マスクに付着する異物としては、ネガ型レジスト使用工程では白抜け、ポジ型レジスト使用工程ではレジスト残りとなる。
また、こういった共通欠陥は、パターン形成後なるべく早く検査することが望ましいので、ポストベーク前に実施する。
【００２５】
ブラックマトリクス２１ｂが形成された１２面付けのカラーフィルタ基板をラインセンサからなる検査機にて検査し、共通欠陥を検査している状態の一例を図６に示す。
この事例では、１２面付けの基板の縦方向の検査ラインを８ラインに分割し、１ラインと５ライン、２ラインと６ライン、３ラインと７ライン、４ラインと８ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【００２６】
カラーフィルタ基板の欠陥検査は、図７に示すように、反射光学系、透過光学系等を用いて行われ、反射系黒欠陥としては異物、レジスト残り、ハーフ白抜けが、反射系白欠陥としてはＩＴＯ（透明電極）ピンホールが、反射系黒欠陥としては裏面汚れ、裏面キズが、透過系白欠陥としては白抜け等がある。
【００２７】
図８に、１２面付けの基板の検査ラインの４ラインと８ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥７１が発生した事例を示す。
共通欠陥７１は、カラーフィルタＣ−１での位置を特定することにより、露光マスクピッチＥｘＰ、ＥｙＰが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【００２８】
次に、ブラックマトリクス２１ｂを所定の温度でポストベークを行い、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂを形成する。
【００２９】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料（例えば、ジアントラキノン系顔料）を分散した赤色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂが形成された透明基板１１上に塗布し、赤色感光性樹脂層３１Ｒを形成する（図３（ｅ）参照）。
【００３０】
次に、透明基板１２に２面付けの赤色フィルタパターン６３が形成された露光マスク６０ｃを用いて、透明基板１１上の赤色感光性樹脂層３１Ｒに６回（Ｅ−１〜Ｅ−６）パターン露光する（図３（ｆ）参照）。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【００３１】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂと赤色フィルタ３１Ｒ’とを形成する（図３（ｇ）参照）。
【００３２】
次に、ブラックマトリクス２１ｂ及び赤色フィルタ３１Ｒ’が形成された１２面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する（図３（ｈ）参照）。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図６に示す。
この事例では、１２面付けのカラーフィルタ基板の縦（ｙ）方向の検査ラインを８ラインに分割し、１ラインと５ライン、２ラインと６ライン、３ラインと７ライン、４ラインと８ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【００３３】
図８に示すように、１２面付けの基板の検査ラインの４ラインと８ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥７１が発生したとすると、カラーフィルタＣ−１での共通欠陥７１の位置を特定することにより、露光マスクピッチＥｘＰ、ＥｙＰが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【００３４】
次に、赤色フィルタ３１Ｒ’を所定の温度でポストベークを行い、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂと赤色フィルタ３１Ｒ’とを形成する。
【００３５】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料（例えば、フタロシアニングリーン系顔料）を分散した緑色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂ及び赤色フィルタ３１Ｒ’が形成された透明基板１１上に塗布し、緑色感光性樹脂層３２Ｇを形成する（図４（ｉ）参照）。
【００３６】
次に、２面付けの緑色フィルタパターン６４が形成された露光マスク６０ｄを用いて、透明基板１１上の赤色感光性樹脂層３２Ｇに６回（Ｅ−１〜Ｅ−６）パターン露光する（図４（ｊ）参照）。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【００３７】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’及び緑色フィルタ３２Ｇ’を形成する（図４（ｋ）参照）。
【００３８】
次に、ブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’ 及び緑色フィルタ３２Ｇ’が形成された１２面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する（図４（ｌ）参照）。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図６に示す。
この事例では、１２面付けのカラーフィルタ基板の縦（ｙ）方向の検査ラインを８ラインに分割し、１ラインと５ライン、２ラインと６ライン、３ラインと７ライン、４ラインと８ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【００３９】
図８に示すように、１２面付けの基板の検査ラインの４ラインと８ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥７１が発生したとすると、カラーフィルタＣ−１での共通欠陥７１の位置を特定することにより、露光マスクピッチＥｘＰ、ＥｙＰが予め分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早
く行うことができる。
【００４０】
次に、緑色フィルタ３２Ｇ’を所定の温度でポストベークし、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’及び緑色フィルタ３２Ｇ’を形成する。
【００４１】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料（例えば、フタロシアニンブルー系顔料）を分散した青色感光性樹脂溶液をスピンナーを用いてブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’ 及びが緑色フィルタ３２Ｇ’形成された透明基板１１上に塗布し、青色感光性樹脂層３３Ｂを形成する（図４（ｍ）参照）。
【００４２】
次に、２面付けの青色フィルタパターン６５が形成された露光マスク６０ｅを用いて、透明基板１１上の赤色感光性樹脂層３３Ｒに６回（Ｅ−１〜Ｅ−６）パターン露光する（図４（ｎ）参照）。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【００４３】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’、緑色フィルタ３２Ｇ’及び青色フィルタ３３Ｂ’を形成する（図４（ｏ）参照）。
【００４４】
次に、ブラックマトリクス２１ｂ、赤色フィルタ３１Ｒ’、緑色フィルタ３２Ｇ’及び青色フィルタ３３Ｂ’が形成された１２面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する（図４（ｐ）参照）。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図６に示す。
この事例では、１２面付けのカラーフィルタ基板の縦方向の検査ラインを８ラインに分割し、１ラインと５ライン、２ラインと６ライン、３ラインと７ライン、４ラインと８ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【００４５】
図８に示すように、１２面付けしたカラーフィルタ基板の検査ラインの４ラインと８ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥７１が発生したとすると、カラーフィルタＣ−１での共通欠陥７１の位置を特定することにより、予め露光マスクピッチＥｘＰ、ＥｙＰが分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【００４６】
次に、緑色フィルタ３２Ｇ’を所定の温度でポストベークし、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂと赤色フィルタ３１Ｒ’、緑色フィルタ３２Ｇ’及び青色フィルタ３３Ｂ’からなる着色フィルタ３０とを形成する。
【００４７】
次に、着色フィルタ３０上にスパッタリング等にて酸化インジウム錫膜からなる透明電極４１を形成する（図５（ｑ）参照）。
【００４８】
次に、アクリル系樹脂からなるクリアレジストをスピンナーで塗布し、透明電極４１上にクリアレジスト層５１を形成する（図５（ｒ）参照）。
【００４９】
次に、２面付けの柱状スペーサーパターン６６が形成された露光マスク６０ｆを用いて、透明基板１１上のクリアレジスト層５１に６回（Ｅ−１〜Ｅ−６）パターン露光する（
図５（ｓ）参照）。
ここで、パターン露光は、基板サイズとパターン精度の点からプロキシミティー露光が一般的に使用される。
【００５０】
次に、専用の現像液で現像、水洗、乾燥して、透明基板１１上に１２面付けされたブラックマトリクス２１ｂと着色フィルタ３０上の所定位置に柱状スペーサ５１ｓを形成する（図５（ｔ）参照）。
【００５１】
次に、ブラックマトリクス２１ｂと着色フィルタ３０と柱状スペーサ５１ｓとが形成された１２面付けのカラーフィルタ基板を欠陥検査機にかけて共通欠陥の有無を検査する（図５（ｕ）参照）。
カラーフィルタ基板の共通欠陥を検査している状態の一例を図６に示す。
この事例では、１２面付けのカラーフィルタ基板の縦方向の検査ラインを８ラインに分割し、１ラインと５ライン、２ラインと６ライン、３ラインと７ライン、４ラインと８ラインというように、露光面付けに応じたペアのラインで同一パターンの画素単位を比較しながら比較検査を行うことにより、共通欠陥としての認識を行う。
比較はグレースケールの輝度値を用い、設定閾値を超えるものを欠陥として認識するようにしている。
【００５２】
図８に示すように、１２面付けしたカラーフィルタ基板の検査ラインの４ラインと８ラインの同一パターンの同一位置に共通欠陥７１が発生したとすると、カラーフィルタＣ−１での共通欠陥７１の位置を特定することにより、予め露光マスクピッチＥｘＰ、ＥｙＰが分かっているので、露光マスクの同位置での確認作業ができ、修正、露光マスク交換等の処置作業を素早く行うことができる。
【００５３】
上記、カラーフィルタ形成工程と検査工程を経て、透明基板１１上にブラックマトリクス２１ｂと赤色フィルタ３１Ｒ’、緑色フィルタ３２Ｇ’及び青色フィルタ３３Ｂ’からなる着色フィルタ３０と柱状スペーサ５１ｓとが形成された１２面付けのカラーフィルタ基板を作製する。
このように、カラーフィルタ形成工程の各工程毎に、同一基板内で共通欠陥を認識する検査工程を入れることにより、露光マスクへの素早い対応が可能になり、生産効率を落とすことなく、不良カラーフィルタ基板の発生を最小限に抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】多面付けカラーフィルタ基板の一例を示す模式平面図である。
【図２】カラーフィルタ基板の製造方法の基本工程の一例を示す説明図である。
【図３】（ａ）〜（ｈ）は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図４】（ｉ）〜（ｐ）は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図５】（ｑ）〜（ｖ）は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施例の製造工程の一部を示す説明図である。
【図６】多面付けカラーフィルタ基板の検査状態の一例を示す説明図である。
【図７】カラーフィルタ基板の欠陥検査の一例を示す説明図である。
【図８】多面付けカラーフィルタ基板の共通欠陥の発生状況を示す説明図である。
【図９】（ａ）〜（ｆ）は、カラーフィルタ基板の製造方法の製造工程の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５５】
１１、１２……透明基板
２１……黒色感光性樹脂層
２１ｂ……ブラックマトリクス
３０……着色フィルタ
３１Ｒ……赤色感光性樹脂層
３１Ｒ’……赤色フィルタ
３２Ｇ……緑色感光性樹脂層
３２Ｇ’……緑色フィルタ
３３Ｂ……赤色感光性樹脂層
３３Ｂ’……青色フィルタ
４１……透明電極
５１……クリアレジスト
５１ｓ、５２……柱状スペーサ
６０ｂ、６０ｃ、６０ｄ、６０ｅ、６０ｆ……露光マスク
６２……ブラックマトリクスパターン
６３……赤色フィルタパターン
６４……緑色フィルタパターン
６５……青色フィルタパターン
６６……柱状スペーサーパターン
１００、２００……カラーフィルタ基板
Ｃ−１、Ｃ−２……カラーフィルタ
Ｅ−１、Ｅ−２、Ｅ−３、Ｅ−４、Ｅ−５、Ｅ−６……露光ショット
ＥｘＰ……ｘ方向の露光ピッチ
ＥｙＰ……ｙ方向の露光ピッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2007114654.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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