(57)【要約】【課題】  長寿命化が達成された有機ＥＬパネルを提供する。【解決手段】  赤・緑・青の画素に共通のホール注入層と、赤・緑・青の画素のうち少なくとも一つの画素のホール輸送層とが異なっていることを特徴とするフルカラー有機ＥＬパネルを提供する。【選択図】  図１
2007265763.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の赤・緑・青の画素を独立に発光させるフルカラー有機ＥＬパネルにおいて、
該赤・緑・青の画素に共通のホール注入層と、該赤・緑・青の画素のうち少なくとも一つの画素のホール輸送層とが異なっていることを特徴とするフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記ホール輸送層が、赤・緑・青の画素のうち少なくとも一つの膜厚が異なることを特徴とする請求項１に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項３】
前記赤・緑・青の画素が、共通の電子輸送／電子注入層を有することを特徴とする請求項１乃至２のいずれか１項に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項４】
前記赤・緑・青の画素のうち、少なくとも一つは燐光発光材料を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項５】
前記燐光発光材料が、金属配位化合物からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項６】
前記金属配位化合物が、イリジウム錯体であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項７】
前記共通ホール注入層とホール輸送層が、共に同じ縮合環構造を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【請求項８】
前記共通ホール注入層とホール輸送層が、共に部分構造として一般式（１）を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のフルカラー有機ＥＬパネル。
【化１】
2007265763.tif 000015
（一般式（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２は置換または未置換のアリール基を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電荷注入型有機発光素子（以下、有機ＥＬ素子と称す）に関し、より詳しくは、少なくとも赤・緑・青の複数の有機ＥＬ素子を有するフルカラー有機ＥＬパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年有機ＥＬ素子を用いた表示装置の研究が盛んである。有機ＥＬ素子は高輝度、高視野角、低消費電力といった利点を持っており、液晶に代わるモバイル用のディスプレイとして注目されている。
【０００３】
ディスプレイ表示させるためには、有機ＥＬ素子を複数用いてそれぞれの素子を個別に駆動する必要がある。一般に、有機ＥＬ素子が発光する場合、素子が配置される表示領域の外に配置された電源から電流が供給される。その電流が接地電位まで流れるが、電源電位と接地電位との間に配線された有機ＥＬ素子の両電極間を電流が流れることで発光が得られる。
【０００４】
有機ＥＬ素子を駆動する方法は、互いに交差するストライプ上の電極の交点部分を順次発光させるいわゆるパッシブマトリクス方式と、素子毎に配置された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって駆動を制御して発光させるいわゆるアクティブマトリクス方式とがある。
【０００５】
例えば特許文献１にアクティブマトリクス方式の発光素子が開示されている。特許文献１に開示される発光素子は、ＴＦＴを構成するドレイン電極とコンタクトホールを介して接続される電子注入電極と、それに対向して配置される正孔（ホール）注入電極とがそれぞれ配置されている。ホール注入電極は、透明導電材料であるＩＴＯの層であり、この電極側から光を取り出す構成になっている。そして、対向する電極間に配置される有機薄膜層にＴＦＴによって制御された電流が供給されることによって、有機薄膜層が発光する。
【０００６】
図５は、いわゆるアクティブマトリクス方式の表示装置の回路配線を示す模式図である。図５中、１１は有機ＥＬ素子、１２はデータ線駆動回路、１３は走査線駆動回路、１４はデータ線、１５は走査線である。Ｍ１は素子の発光を制御するスイッチングトランジスタであるＴＦＴ、Ｍ２は素子の発光強度を制御する駆動トランジスタであるＴＦＴ、Ｃ１は発光を保持するための保持容量である。
【０００７】
そして、ＶＣＣは電源電位、ＣＧＮＤは接地電位を表し、Ａ、Ｋはそれぞれ有機ＥＬ素子の陽極、陰極を表す。有機ＥＬ素子１１、スイッチングトランジスタＭ１、駆動トランジスタＭ２、保持容量Ｃ１が１単位となって画素回路を形成し、それらがマトリクス状に配置されている。そして、有機ＥＬ素子の陽極Ａは駆動トランジスタを介して電源電位ＶＣＣと接続され、陰極Ｋは接地電位ＣＧＮＤと接続されている。
【０００８】
フルカラー画像の出力方式としては、白色発光する有機ＥＬ素子上に光の三原色である赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）のカラーフィルタを介して発色する方式がある。また、赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）の発光をする有機ＥＬ素子をドットマトリクス状に互い違いに並べてゆく方式が知られている。後者の場合、カラーフィルタが不要なため光のロスがなく、より高輝度で表示させることが出来る点で有利である。この場合、三原色である赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）ごとに最適な膜厚や材料構成が違う。特許文献２では、赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）のそれぞれの色によって最適な構成になるように、何れかの素子が複数のホール輸送層を有することが提案されている。
【特許文献１】特開平８−５４８３６号公報
【特許文献２】米国特許第６８６４６２８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このような有機ＥＬディスプレイをモバイル用途で用いる場合、電池の持続時間が問題となる。よって、ディスプレイを構成する有機ＥＬ素子の低消費電力化が必要とされる。そのためには有機ＥＬ素子の発光効率の向上、低電圧駆動化、更には長期使用に耐えるために有機ＥＬ素子の長寿命化が求められている。また、有機ＥＬディスプレイは液晶ディスプレイと競合することから、低コスト化も求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題に対し、本発明者らが鋭意検討した結果、本発明を考案するに至った。
【００１１】
即ち、本発明は、
複数の赤・緑・青の画素を独立に発光させるフルカラー有機ＥＬパネルにおいて、
該赤・緑・青の画素に共通のホール注入層と、該赤・緑・青の画素のうち少なくとも一つの画素のホール輸送層とが異なっていることを特徴とするフルカラー有機ＥＬパネルを提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、フルカラー有機ＥＬパネルの赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）の全ての発光画素に於いて、低消費電力で、かつ、極めて経時安定性に優れたフルカラー有機ＥＬパネルを提供することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。図１は本発明のフルカラー有機ＥＬパネルの構成例を示す模式図である。パネルの発光領域には、ＲＧＢの微小な画素が２次元方向に規則正しく並べられている。
【００１４】
尚、本発明におけるＲＧＢ独立発光の波長ピークは以下の通りである。
赤（Ｒ）：６００〜６４０ｎｍ
緑（Ｇ）：５００〜５４０ｎｍ
青（Ｂ）：４４０〜４８０ｎｍ
図１ではＲＧＢを順番に並べているが、画素の配列はあらゆる構成をとることができる。同色の画素を複数並べたＲＲＧＧＢＢの構成でも良く、白色（Ｗ）の画素を入れて、ＲＧＢＷで並べても良く、或いは特定の色だけを増やしたＲＧＢＢのような構成でも良い。
【００１５】
図２は、本発明の実施形態であり、有機ＥＬディスプレイの１つの画素を示す断面図である。このフルカラー有機ＥＬパネルは、基板２００上に陽極１０５と陰極１０６とを有し、これら陽極２１０と陰極２１５との間に有機材料からなる機能層２１４を備えたものである。本発明における機能層は、少なくともホール注入／輸送層と画素単位の発光層および電子注入／輸送層とが積層されて構成される。発光層は少なくとも赤・緑・青の色を画素単位で１色ずつ有している。
【００１６】
複数の画素を発光させるにはそれぞれの画素にスイッチング素子を配置することが好ましく、その場合それぞれの画素ごとに発光、非発光をコントロールすることができる。スイッチング素子は薄膜トランジスタであることが好ましい。このような薄膜トランジスタを有する画素を２次元状に配置させることで２次元画像表示が可能となる。
【００１７】
図２では薄膜トランジスタが配置されている側の反射電極層２１０および透明電極２１２が陽極であり、陰極が透明電極２１５のトップエミッション方式を示している。薄膜トランジスタが配置されている側の基板から光をとりだすボトムエミッション構成でもよいが、トランジスタが光を透過しないため、画素の開口率の関係から前者の方がより好ましい。
【００１８】
以下、図２を参照して本発明の有機ＥＬディスプレイの一実施形態について説明するが、本発明はこの形態に限定されるものではない。
【００１９】
表示画素は、ガラスや合成樹脂などから成る絶縁性基板、又は表面にＳｉＯ２膜やＳｉＮｘ膜などの絶縁膜を形成した導電性基板あるいは半導体基板等の基板２００上に、ＴＦＴ及び有機ＥＬ素子を積層形成して成り立っている。トップエミッション方式の場合、基板２００は透明であっても不透明であってもかまわない。基板２００上に有機ＥＬを駆動するためのＴＦＴ２０１を形成する。このとき、ポリシリコンからなる能動層であるｐｏｌｙ−Ｓｉ層２０２は、ポリシリコンに限定されるものではなく非晶質シリコン、微結晶シリコンなどを用いても良い。ＴＦＴはコンタクトホールの形成された層間絶縁膜に覆われる。その上に反射層が形成され、反射層２１０とＴＦＴのドレイン電極２０７が電気的に接続される。反射層２１０には透明電極２１２（第一電極）を形成しても良く、反射層と共に画素ごとにパターニングされる。
【００２０】
反射層２１０は、反射率の高い金属が用いられることが好ましく、銀膜もしくは添加物を含む銀膜や銀合金膜が好ましいが、アルミ膜もしくは添加物を含むアルミ膜やアルミ合金膜、クロム膜等が用いられる。
【００２１】
透明電極（第一電極）２１２は、酸化錫と酸化インジウムとの化合物もしくは酸化亜鉛と酸化インジウムの化合物などの酸化物透明導電膜等が用いられる。
【００２２】
このとき、透明電極２１２と反射層２１０もしくは透明電極２１２とドレイン電極２０７は非発光部である画素分離膜の下で接続されていることが、さらに好ましい。
【００２３】
画素分離膜２１３は隣接する画素間に設けられた絶縁膜であり透明電極（第一電極）２１２の端部を覆うように配置されている。画素分離膜２１３は、窒化シリコンやポリイミド系樹脂・ノボラック系樹脂等を等が用いられる。
【００２４】
陽極となる透明電極（第一電極）２１２の上に発光層を含む有機機能層２１４として、ホール輸送層２１４ａ、発光層２１４ｂ、電荷ブロック層２１４ｃ、電子注入層２１４ｄが形成され、陰極となる透明電極（第二電極）２１５が形成されている。
【００２５】
発光位置から透明電極（第一電極）２１２間に配される有機膜、透明電極（第一電極）２１２、の屈折率をそれぞれｎｏｒｇ、ｎｉｔｏとし、膜厚をそれぞれｄｏｒｇ、ｄｉｔｏとする。発光位置から反射層側へ放射された光が反射層で外面反射して発光位置に戻る光の光路長２（ｎｏｒｇｄｏｒｇ＋ｎｉｔｏｄｉｔｏ）は、λ／２、３λ／２、５λ／２・・・と等しい場合、反射層で反射して発光位置に戻る光と発光された光の干渉が最大となる。
【００２６】
上記の光路長の関係は式２で示される。また、反射層で外面反射された光と発光位置から放射された光の干渉を図２に示す。
２（ｎｏｒｇｄｏｒｇ＋ｎｉｔｏｄｉｔｏ）＝［（２ｊ＋１）／２］λ      （式２）
∴（ｎｏｒｇｄｏｒｇ＋ｎｉｔｏｄｉｔｏ）＝（２ｊ＋１）λ／４
（式中、ｊ＝０、１、２、３・・・の整数）
つまり発光位置から反射層までの光学距離（ｎｏｒｇｄｏｒｇ＋ｎｉｔｏｄｉｔｏ）が発光波長のλ／４の奇数倍に等しいとき、干渉により発光効率が向上する。従って、発光色によって、発光層と反射電極までの最適光路長が異なってくるため、膜厚を各色で塗り分けるのが好ましい。一方、コスト低減と電極からのキャリア注入を考えると、注入材料の共通化が望ましい。従って、低コスト化と高効率化を両立させるためには、反射電極側の注入材料を共通にし、輸送層膜厚をＲＧＢ各色で塗り分けるのが一番良い。
【００２７】
次に図３を参照して、本発明のフルカラー有機ＥＬパネルを形成する有機ＥＬ素子部分の詳細を説明する。図３は本発明の有機ＥＬ素子の構成例を示す模式図である。
【００２８】
図３は、基板１上に、陽極２、ホール輸送層５、発光層３，電子輸送層６及び陰極４を順次設けた構成のものである。これは、キャリヤ輸送と発光の機能を分離したものであり、ホール輸送性、電子輸送性、発光性の各特性を有した化合物と適時組み合わせて用いられる。よって、材料選択の自由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物が使用できるため、発光色相の多様化が可能になる。さらに、中央の発光層３に各キャリヤあるいは励起子（エキシトン）を有効に閉じこめて、発光効率の向上を図ることも可能になる。
【００２９】
ホール輸送層、電子輸送層はＲＧＢ各色の発光層のバンドダイアグラムに応じて異なる正孔輸送層、電子輸送層を用いても良い。ここで、ＲＧＢ各色で、異なる材料を用いバンドダイアグラムを揃えることで、ＲＧＢ各色で最適な構成をつくることができるが、電極からの注入を揃えるには、電極と接触するホール注入層と電子注入層を各色共通にすることが望ましい。ここで、電子注入／輸送性に関しては、注入補助材料（アルカリ金属、アルカリ金属塩等）を用い、そのドープ濃度や膜厚で制御できる。
【００３０】
さらに、電極から発光層へのホール注入／輸送性をＲＧＢで確保するためには、ＲＧＢに共通のホール注入層を用いて、各色のホール注入性をそろえ、さらにホール輸送層をＲＧＢの色毎に変えて、各色の発光層に最適なホール注入性を確保することが望ましい。ホール注入材料とホール輸送材料の分子構造を似通った構造にすることで、界面の材料同士の密着性が向上し、注入し易くなると考えられる。
【００３１】
従って、ホール注入層とホール輸送層に、バンドダイアグラムが同じで、分子構造が全く異なる材料を用いるより、分子構造中に同じ構造部位を有している方が、安定性が向上する。同じ構造部位として、縮合環構造であることが望まれる。縮合環とは、総炭素数６〜２０の炭素環式芳香族基または総炭素数３〜２０の複素環式芳香族基である。この効果は、特に連続駆動時の素子寿命に現れる。
【００３２】
ここで、一般式（１）に示すような構造を部分構造として用いることで、フルオレニル基同士のスタッキングを期待できる。フルオレニル基は、ホール移動度や耐熱性の面で他のアリール基より有利である。また、スタッキングの度合いに関しては、π共役系の発達したピレニル基やペリレニル基では、スタッキング度合いが強すぎるため、アルキル置換基のような嵩高い置換基を導入しなければならず、ホール移動度を下げることになる。また、フェニル基のような比較的π共役系の小さな部分構造だけで構成すると、結晶化や安定性の面で不利となる。
【００３３】
発光層を構成する発光材料は、一重項から発光する蛍光発光材料と三重項から発光する燐光発光材料がある。燐光発光材料は、理論的に蛍光発光材料の三倍の効率向上を期待でき、さらにイリジウム錯体に代表される重原子効果を持つ金属錯体を用いると、四倍の効率向上を期待できる。従って、ＲＧＢのうち少なくとも一つは、燐光発光材料を用いれば、低消費電力化に繋がり、ＲＧＢ全てを燐光発光材料で構成すれば、より低消費電力化に繋がる。
【００３４】
本発明のフルカラー有機ＥＬパネルの有機化合物からなる層は、一般には真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマあるいは、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等）により薄膜を形成する。特に塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。また、このようなフルカラー有機ＥＬパネルは携帯電話やカーナビゲーションシステム等、車内での使用等が予想される。よって本発明のフルカラー有機ＥＬパネルは耐熱性に優れていることが望ましい。
【００３５】
本発明で用いる基板としては、特に限定するものではないが、金属製基板、セラミックス製基板等の不透明性基板、ガラス、石英、プラスチックシート等の透明性基板が用いられる。また、基板に誘電体反射膜などを用いて発色光をコントロールする事も可能である。また、素子の光取り出し方向に関しては、ボトムエミッション構成（基板側から光を取り出す構成）および、トップエミッション（基板の反対側から光を取り出す構成）のいずれも可能である。
【００３６】
なお、作成した素子に対して、酸素や水分等との接触を防止する目的で保護層あるいは封止層を設けることもできる。
【００３７】
本発明における共通ホール注入層とホール輸送層の構造式として一般式（１）が挙げられる。一般式（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２は置換または未置換のアリール基を表す。尚、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基などの炭素環式芳香族基、例えば、ピリジル基、チエニル基、キノリル基、カルバゾリル基、ジアリールアミノ基などの複素環式芳香族基を表す。
【００３８】
Ａｒ１、Ａｒ２は、好ましくは、未置換、もしくは、置換基として、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、あるいはアリール基で単置換または多置換されていてもよい総炭素数６〜２０の炭素環式芳香族基または総炭素数３〜２０の複素環式芳香族基であり、より好ましくは、未置換、もしくは、ハロゲン原子、炭素数１〜１４のアルキル基、炭素数１〜１４のアルコキシ基、あるいは炭素数６〜１０のアリール基で単置換または多置換されていてもよい総炭素数６〜２０の炭素環式芳香族基、あるいはアリール置換アミノ基であり、さらに好ましくは、未置換、もしくは、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、あるいは炭素数６〜１０のアリール基で単置換あるいは多置換されていてもよい総炭素数６〜１６の炭素環式芳香族基である。
【００３９】
Ａｒ１、Ａｒ２の具体例として次に示す、置換基を有しても良いアリール基からなり、また、これらアリール基２つ以上が任意の位置で結合手を作り組み合わせてできるアリール基でも良い。例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、ピレニル基、フェナントレニル基、クリセニル基、フルオランテニル基、トリフェニレニル基、ペリレニル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、フェナントロリル基、フェナジニル基、チアゾリル基、チエニル基、フラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、インドリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基などがあり、より好ましくは、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、キノリニル基、イソキノリニル基、キノキサリニル基、フェナントロリル基である。さらに好ましくは、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基であるが、これらに限定されるものではない。また、これらの代表例を下記に示す。
【００４０】
【化１】
2007265763.tif 000003
【００４１】
【化２】
2007265763.tif 000004
【００４２】
【化３】
2007265763.tif 000005
【００４３】
【化４】
2007265763.tif 000006
【実施例】
【００４４】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明していくが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
はじめに各実施例において共通部分となる、本発明のアクティブマトリクス方式画像表示装置について説明する。
【００４６】
図６は本発明によるＴＦＴを用いたマトリックス方有機ＥＬパネルの一例を示す模式図である。パネル周辺には、走査信号ドライバーや電流供給源からなる駆動回路と、情報信号ドライバーである表示信号入力手段（これらを画像情報供給手段と呼ぶ）が配置されている。そしてそれぞれゲート線とよばれるＸ方向走査線、情報線と呼ばれるＹ方向配線、及び電流供給線に接続される。走査信号ドライバーは、ゲート走査線を順次選択し、これに同期して情報信号ドライバーから画像信号が印加される。ゲート走査線と情報線の交点には表示用画素が配置される。
【００４７】
図７は本実施例で用いられるＴＦＴの断面構造の模式図である。ガラス基板上にポリシリコンｐ−Ｓｉ層が設けられ、チャネル、ドレイン、ソース領域にはそれぞれ必要な不純物が選択され、ドープされる。この上にゲート絶縁膜を介してゲート電極が設けられると共に、上記ドレイン領域、ソース領域に接続するドレイン電極、ソース電極が形成されている。この時ドレイン電極と画素電極は、介在する絶縁膜に開けたコンタクトホールにより接続される。
【００４８】
上記画素電極上に有機発光層を形成し、陰極を順次積層し、アクティブ型有機発光表示素子を得ることができる。本発明の実施例としては、画素電極をアノードとしてＣｒ、さらに６０ｎｍのＩＺＯ（酸化亜鉛と酸化インジウムの化合物）からなる透明電極をスパッタにより堆積した。これらのＣｒ層およびＩＺＯをパターニングしアノードとした。Ｃｒ／ＩＺＯアノードの画素サイズは６０μｍ×９０μｍ、画素間部は４０μｍで１００×１００ドットの表示装置とした。
【００４９】
＜実施例１＞
（共通正孔注入層の作製）
上記構成のアノードを備えたＴＦＴ基板を用意し、アノード上に、共通正孔注入層として下記構造式で示される化合物１を用いて真空蒸着法にて成膜を行った。蒸着時の真空度は５．０×１０−５Ｐａ、成膜速度は０．１〜０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。形成された共通ホール注入層の厚みは２０ｎｍであった。
【００５０】
（赤発光層の作製）
まず、２次元方向に多数配置された画素のうち、赤色発光部にのみ開口部を有する蒸着マスクを入れた。
【００５１】
続いて、化合物１を赤色用正孔輸送層として用い、厚み６０ｎｍの赤色用正孔輸送層を設けた。次に、下記構造式で示される化合物３８をホストとして用いて下記構造式で示される化合物３９とを共蒸着（重量比８７：１３）して、厚み２５ｎｍの発光層を設けた。
【００５２】
【化５】
2007265763.tif 000007
【００５３】
（緑発光層の作製）
多数配置された画素のうち緑色発光部にのみ開口部を有する蒸着マスクを入れた。
【００５４】
化合物１を緑色用正孔輸送層として用い、厚み２０ｎｍの緑色用正孔輸送層を設けた。次に、発光層のホストとして下記に示す化合物４０と、下記に示す発光性化合物４１を共蒸着（重量比９０：１０）して２５ｎｍの発光層を設けた。
【００５５】
【化６】
2007265763.tif 000008
【００５６】
【化７】
2007265763.tif 000009
【００５７】
（青発光層の作製）
多数配置された画素のうち青色発光部にのみ開口部を有する蒸着マスクを入れた。
【００５８】
化合物６を青色用正孔輸送層として用い、厚み２０ｎｍの青色用正孔輸送層を設けた。次に、発光層のホストとして下記示す化合物４２と、下記に示す発光性化合物４３を共蒸着（重量比９０：１０）して２０ｎｍの発光層３を設けた。
【００５９】
【化８】
2007265763.tif 000010
【００６０】
【化９】
2007265763.tif 000011
【００６１】
（電子輸送層・電子注入層の作製）
まず、蒸着マスクを取り外して、画素部全面に蒸着できるようにした。
電子輸送層として下記に示す化合物４４を蒸着して１０ｎｍの電子輸送層を設けた。
【００６２】
【化１０】
2007265763.tif 000012
【００６３】
次に、アルカリディスペンサに封入された金属セシウムと上記化合物４４を共蒸着（重量比９０：１０）して４０ｎｍの電子注入層を設けた。
【００６４】
（陰極の作製）
有機化合物層まで成膜した基板を、ＤＣスパッタ装置（大阪真空製）へ移動させ、前記有機化合物層上にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）をスパッタ法にて２０００Å成膜し、透明な発光取り出し陰極電極を得た。スパッタガスとしてアルゴンと酸素の混合ガス（体積比でアルゴン：酸素＝２００：１）を用い、圧力を０．３Ｐａ、ＤＣ出力を４０Ｗとした。以上のようにして、ＴＦＴを有するＲＧＢの有機ＥＬ素子を得た。
【００６５】
素子作製後、露点−９０℃以下のグローブボックス内において、ＵＶ硬化樹脂で本素子とガラス基板を貼り合わせて封止した。
【００６６】
このようにして、ＴＦＴ基板上に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、有機化合物層および透明陰極電極を設けたトップエミッション型ＲＧＢフルカラー有機ＥＬパネルを得た。
【００６７】
このフルカラーディスプレイのＲＧＢを点灯させて白色光を点灯させた。
【００６８】
白色は、Ｒ：Ｇ：Ｂ＝３：６：１の輝度の時に得られ、ＣＩＥ色度座標の値は、ｘ＝０．３０，ｙ＝０．３２であった。
【００６９】
赤色発光は、発光輝度１５００ｃｄ／ｍ２の時、６２０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は４．３Ｖであった。
【００７０】
緑色発光は、発光輝度３０００ｃｄ／ｍ２の時、５２０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は３．８Ｖであった。
【００７１】
青色発光は、発光輝度５００ｃｄ／ｍ２の時、４６０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は３．１Ｖであった。
【００７２】
これらのＲＧＢの画素を上記の初期輝度で定電流駆動して輝度半減時間を測定したところ、全ての色で１００００時間以上であった。
【００７３】
＜実施例２＞
実施例１で用いた、赤色用ホール輸送層に化合物４、緑色用ホール輸送層に化合物３を用いた以外は、同様の方法でフルカラー有機ＥＬパネルを作製した。
【００７４】
このフルカラーディスプレイのＲＧＢを点灯させて白色光を点灯させた。
白色は、Ｒ：Ｇ：Ｂ＝３：６：１の輝度の時に得られ、ＣＩＥ色度座標の値は、ｘ＝０．３０，ｙ＝０．３２であった。
赤色発光は、発光輝度１５００ｃｄ／ｍ２の時、６２０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は４．３Ｖであった。
緑色発光は、発光輝度３０００ｃｄ／ｍ２の時、５２０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は３．８Ｖであった。
青色発光は、発光輝度５００ｃｄ／ｍ２の時、４６０ｎｍに発光最大波長をもつ発光が観測され、このときの素子への印加電圧は３．１Ｖであった。
【００７５】
これらのＲＧＢの画素を上記の初期輝度で定電流駆動して輝度半減時間を測定したところ、全ての色で１００００時間以上であった。
【００７６】
＜比較例１＞
実施例１で用いた、赤色用ホール輸送層に下記化合物４５を用いた以外は、同様の方法でフルカラー有機ＥＬパネルを作製した。
【００７７】
【化１１】
2007265763.tif 000013
【００７８】
このフルカラーディスプレイのＲＧＢを点灯させて白色光を点灯させた。
白色は、Ｒ：Ｇ：Ｂ＝３：６：１の輝度の時に得られ、ＣＩＥ色度座標の値は、ｘ＝０．３０，ｙ＝０．３２であった。
【００７９】
作製したフルカラー有機ＥＬパネルの初期特性で、赤色発光輝度１５００ｃｄ／ｍ２の時の印加電圧が、４．６Ｖであった。また、パネル全体で赤色を点灯させたところ非点灯画素や結晶化による白濁を観測した。
【００８０】
これらのＲＧＢの画素を実施例１、実施例２と同様の初期輝度で定電流駆動して輝度半減時間を測定したところ、赤色が半分以下の輝度半減時間であった。
【００８１】
＜比較例２＞
実施例２で用いた、共通ホール注入層に下記化合物４６を用いた以外は、同様の方法でフルカラー有機ＥＬパネルを作製した。
【００８２】
【化１２】
2007265763.tif 000014
【００８３】
このフルカラーディスプレイのＲＧＢを点灯させて白色光を点灯させた。
白色は、Ｒ：Ｇ：Ｂ＝３：６：１の輝度の時に得られ、ＣＩＥ色度座標の値は、ｘ＝０．３０，ｙ＝０．３２であった。
【００８４】
作製したフルカラー有機ＥＬパネルの初期特性で、赤色発光輝度１５００ｃｄ／ｍ２の時の印加電圧が５．３Ｖ、緑色発光輝度３０００ｃｄ／ｍ２の時の印加電圧が４．８Ｖ、青色発光輝度５００ｃｄ／ｍ２の時の印加電圧が５．２Ｖであった。また、パネル全体で非点灯画素を観測した。
【００８５】
これらのＲＧＢの画素を実施例１、実施例２と同様の初期輝度で定電流駆動して輝度半減時間を測定したところ、全色が実施例１、実施例２と比較して半分以下の輝度半減時間であった。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明におけるフルカラー有機ＥＬパネルのＲＧＢ配列の一例を示す概念図である。
【図２】本発明の実施形態における有機ＥＬパネルの１つの画素を示す断面図である。
【図３】本発明における有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図４】本発明における有機ＥＬ素子のエネルギーダイアグラムの一例である。
【図５】アクティブマトリクス方式の表示装置の回路配線を示す模式図である。
【図６】本発明における実施例に記載のＴＦＴを用いたマトリックス型有機ＥＬパネルの一例を示す説明図である。
【図７】本発明における実施例に記載の有機ＥＬパネルの断面説明図である。
【符号の説明】
【００８７】
１  基板
２  陽極
３  発光層
４  陰極
５  ホール輸送層
６  電子輸送層
７  有機ＥＬ素子
８  データ線駆動回路
９  走査線駆動回路
１０  データ線
１１  走査線
【図１】
2007265763.tif 000016
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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