(57)【要約】【課題】複写機、ファクシミリ、プリンターなどの電子写真方式を用いた画像形成装置に関し、像担持体表面から、放電生成物を像担持体の中心軸の延在方向に均一かつ十分に長期にわたって除去する。【解決手段】像担持体１０の、被転写面Ｐにトナー像が転写された後の表面１１０に残留した残留トナー粒子を表面１１０から除去するクリーニング手段７１と、クリーニング手段７１よりも像担持体表面１１０の循環移動方向上流側で像担持体１０の、被転写面Ｐにトナー像が転写された後の表面１１０に接した複数の繊維７５２を有する繊維体７５とを備え、トナー収容体４１は、体積平均粒径Ｄ５０がいずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下である正に帯電する正極帯電研磨粒子および負に帯電する負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものである。【選択図】        図１
2007033617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー粒子の集まりを収容したトナー収容体を備え、所定方向に循環移動する像担持体表面を帯電し帯電後の像担持体表面に露光光を照射することにより該像担持体表面に静電潜像を形成し、該静電潜像に該トナー収容体に収容されたトナー粒子を供給することで該静電潜像を現像してトナー像を得、該トナー像を、所定の被転写面に転写し最終的に記録媒体上に定着することにより該記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
前記像担持体の、前記被転写面にトナー像が転写された後の表面に残留した残留トナー粒子を該表面から除去するクリーニング手段と、
前記クリーニング手段よりも前記像担持体表面の循環移動方向上流側で前記像担持体の、前記被転写面にトナー像が転写された後の表面に接した複数の繊維を有する繊維体とを備え、
前記トナー収容体は、体積平均粒径Ｄ５０がいずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下である正に帯電する正極帯電研磨粒子および負に帯電する負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものであることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、ファクシミリ、プリンターなどの電子写真方式を用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式では、中心軸の周りを所定方向に循環移動する像担持体表面を帯電器によって帯電し帯電後の像担持体表面に露光光を照射することにより像担持体表面に静電潜像を形成しその静電潜像を現像器によってトナーで現像して像担持体表面にトナー像を形成するトナー像形成サイクルによって、像担持体表面に形成されたトナー像を、所定の被転写面（記録媒体や中間転写体）に転写し最終的に記録媒体上に定着することにより該記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する。
【０００３】
所定の被転写面に転写を終えた像担持体表面には、未転写のトナーや外添剤、紙粉、あるいは帯電において生じた放電生成物など複数種類の異物が残留するため、これらを次のトナー像形成サイクルに先立ってクリーニング手段により除去することが必要になる。
【０００４】
トナー等の残留物を除去するクリーニング方式としては、種々の方式が提案されているが、像担持体表面との摺擦によって機械的に残留物を除去する方式が有効である。
【０００５】
ところが、この機械的な除去方式を採用すると、像担持体表面に機械的な外力が加えられる。また、像担持体表面には、帯電器、現像器、転写手段等によっても電気的、機械的な外力が直接加えられる。このため、像担持体の表面には磨耗や傷に対する耐久性が要求され、この耐久性を確保するため、表面が硬い像担持体（例えば、特許文献１等参照）を用いる傾向にある。
【０００６】
しかしながら、表面が硬い像担持体を用いると、今度は、像担持体表面から残留物を機械的に除去することが困難になる。帯電の際に生じた放電生成物は像担持体表面に付着しており、特に、放電生成物が像担持体表面から除去しにくくなる。放電生成物が吸湿すると画像流れが引き起こされるため、放電生成物は十分に除去しなくてはならない。
【０００７】
そこで、従来より、像担持体表面を、研磨粒子を分散配置させた研磨部材で研磨したり（特許文献２および３参照）、あるいは複数の繊維を有する繊維体で摺擦する（特許文献４〜６参照）ことで、像担持体表面をから放電生成物を除去する技術が提案されている。
【特許文献１】特許第３２６４２１８号公報
【特許文献２】特開２００２−１６２８７８号公報
【特許文献３】特開２００３−１５４８９号公報
【特許文献４】特開平１−１６１２７９号公報
【特許文献５】特開平５−１０７９９３号公報
【特許文献６】特開２００２−２４４５２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２および３に記載された、研磨粒子を分散配置させた研磨部材では、像担持体の中心軸の延在方向に関し、ミクロ的に見ると研磨粒子が存在する場所と存在しない場所とがあり、研磨部材による研磨能力が像担持体の中心軸の延在方向で不均一になってしまうといった問題がある。
【０００９】
また、特許文献４〜６に記載された技術では、繊維体によって像担持体表面から放電生成物を掻き取ることを狙った技術であるが、残留トナー粒子が繊維体と像担持体表面との間に介在していると、放電生成物の掻取能力が高められる。しかしながら、残留トナー粒子は、像担持体表面の、現像によってトナーが移行してきた画像部には存在するものの、トナーが移行してこなかった非画像部には基本的には存在しない。このため、特許文献４〜６に記載されたいずれの技術においても、繊維体による掻取能力が像担持体の中心軸の延在方向で不均一になってしまうといった問題がある。また、繊維体による掻取能力を高めようとして、繊維体を像担持体表面に強く押し付ければ押し付けるほど、像担持体表面に対する機械的なストレスが上昇し、表面が硬い像担持体とはいってもその表面に必要以上の磨耗や傷が生じ、繊維体自身の劣化も加速される。特に、特許文献４および５に記載された技術は、繊維体を、クリーニング手段よりも像担持体表面の循環移動方向下流側に配置した技術であり、繊維体による掻取能力不足が懸念される。このため、繊維体を像担持体表面に強く押し付ける必要が生じ、像担持体表面が必要以上に磨耗したり傷ついたり、繊維体自身も劣化しやすい。また、繊維体を像担持体表面に強く押し付け放電生成物を掻き取ったとしても、繊維に掻き取った放電生成物が飽和しやすく、長期にわたって良好な掻取性を維持することが困難である。
【００１０】
本発明は上記事情に鑑み、像担持体表面から、放電生成物を像担持体の中心軸の延在方向に均一かつ十分に長期にわたって除去する工夫が施された画像形成装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を解決する本発明の画像形成装置は、トナー粒子の集まりを収容したトナー収容体を備え、所定方向に循環移動する像担持体表面を帯電し帯電後の像担持体表面に露光光を照射することによりその像担持体表面に静電潜像を形成し、その静電潜像にそのトナー収容体に収容されたトナー粒子を供給することでその静電潜像を現像してトナー像を得、そのトナー像を、所定の被転写面に転写し最終的に記録媒体上に定着することによりその記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
上記像担持体の、上記被転写面にトナー像が転写された後の表面に残留した残留トナー粒子をその表面から除去するクリーニング手段と、
上記クリーニング手段よりも上記像担持体表面の循環移動方向上流側で上記像担持体の、上記被転写面にトナー像が転写された後の表面に接した複数の繊維を有する繊維体とを備え、
上記トナー収容体は、体積平均粒径Ｄ５０がいずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下である正に帯電する正極帯電研磨粒子および負に帯電する負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものであることを特徴とする。
【００１２】
ここにいう被転写面とは、中間転写体の、上記像担持体表面に接する面であってもよいし、あるいは記録媒体の記録面であってもよい。また、ここにいう体積平均粒径Ｄ５０とは、粒度分布を基にして分割された粒度範囲（チャネル）に対して体積についてそれぞれ小径側から累積分布を描いた場合に、累積が５０％になる粒径である。
【００１３】
本発明の画像形成装置によれば、残留トナー粒子を除去するクリーニング手段よりも上流側に上記繊維体を配置したため、像担持体表面が循環することで上記繊維体に向けて残留トナー粒子や、正極帯電研磨粒子および負極帯電研磨粒子双方の残留研磨粒子が運ばれてくる。残留トナー粒子や残留研磨粒子は、上記繊維体の繊維によって捕捉され、その繊維に保持される。像担持体表面に付着した放電生成物は、上記繊維体の繊維に保持された残留トナー粒子の他、残留トナー粒子よりも高い研磨能力を有する残留研磨粒子によって像担持体表面から効果的に掻き取られる。
【００１４】
ここで、残留トナー粒子については、像担持体表面の、現像によってトナーが移行してきた画像部とトナーが移行してこなかった非画像部（背景部）とのうちの画像部にしか基本的には存在しないが、残留研磨粒子については、画像部にはトナー粒子と同極に帯電した研磨粒子（トナー粒子が負帯電型のものであれば上記負極帯電研磨粒子）が存在し、非画像部にはトナー粒子と逆極に帯電した研磨粒子（トナー粒子が負帯電型のものであれば上記正極帯電研磨粒子）が存在する。そのため、残留研磨粒子は、上記繊維体の繊維に、像担持体の中心軸の延在方向に均一に保持される。さらに、詳細に検討してみると、像担持体表面に連続してトナー像形成を行った場合、最初のトナー像形成では非画像部（背景部）だった所が、次のトナー像形成では画像部になることがある。こうなると、最初、非画像部から上記繊維体の繊維に、トナー粒子と逆極に帯電した研磨粒子が保持され、次いで、この保持された研磨粒子によって、画像部からトナー粒子と同極に帯電した研磨粒子が静電捕獲され、残留研磨粒子が上記繊維体の繊維にミクロ的に見ても密に保持されて、放電生成物が、像担持体の中心軸の延在方向により均一かつ十分に掻き取られると推定する。
【００１５】
こうして掻き取られた放電生成物は、繊維に捕捉された残留トナー粒子に付着する。繊維に捕捉されていた残留トナー粒子は、上記繊維体に新たに運ばれてきた像担持体表面上の残留トナー粒子と入れ替わり、像担持体表面へ戻る。像担持体表面に戻った残留トナー粒子は、像担持体表面が循環することで下流側のクリーニング手段に向かい、クリーニング手段によって像担持体表面から除去される。すなわち、上記繊維体に一端捕捉され放電生成物が付着した残留トナー粒子は、最終的にクリーニング手段によって像担持体表面から除去される。このように、本発明の画像形成装置では、上記繊維体の繊維によって捕捉された残留トナー粒子の入れ替えが行われるので、上記繊維体に放電生成物が飽和してしまうことが抑えられる。一方、残留トナー粒子よりもはるかに小さい残留研磨粒子は、上記繊維体の繊維に保持され続け、放電生成物を上記像担持体表面から効果的に掻き取り続ける。
【００１６】
しかも、上記正極帯電研磨粒子にしても上記負極帯電研磨粒子にしても、体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍ以上２．０μｍ以下の研磨粒子であるため、放電生成物が像担持体表面から十分に掻き取られる。すなわち、上記研磨粒子は、上記トナー保持部内では、トナー粒子の表面に付着した状態にあり、その状態で現像によって像担持体表面に移行してくる。体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍ未満の研磨粒子であると研磨能力が不足するとともに、像担持体表面に移行してきたトナー粒子から研磨粒子が離脱しにくくなる。上記繊維体の繊維が、研磨粒子が表面に付着したトナー粒子を保持したものであると、掻き取った放電生成物がトナー粒子に付着することで放電生成物によってトナー粒子表面の研磨粒子が覆われてしまい、十分な研磨効果を発揮することができなくなる。また、トナー粒子から離脱したとしても上記繊維体の繊維に埋没しやすく、十分な研磨効果を発揮することができない。一方、体積平均粒径Ｄ５０が２．０μｍを越える研磨粒子であると、上記トナー保持部内で研磨粒子がトナー粒子から離脱してしまい研磨粒子が像担持体表面に移行してこなかったり、あるいは研磨粒子がトナー粒子に付着して像担持体表面に移行し上記繊維体の繊維に保持されたとしても、今度は上記繊維体の繊維から研磨粒子が離脱しやすく、十分な研磨効果を発揮することができない。
【００１７】
また、本発明の画像形成装置において、上記繊維体が、太さが１０μｍ以下の複数の繊維を有するものであることが好ましい。
【００１８】
こうすることで、上記繊維体の、上記像担持体表面に接した面がポーラス形状面になり、像担持体表面が、このポーラス形状面で摺擦される。その結果、太さが１０μｍ以下の複数の繊維に残留トナー粒子や残留研磨粒子が安定して保持され、像担持体表面から、放電生成物が像担持体の中心軸の延在方向により均一かつより十分に長期にわたって除去される。加えて、上記繊維体が、上記像担持体表面の循環移動方向に１．５ｍｍ以上の幅をもったものであることがより好ましい。
【００１９】
また、本発明の画像形成装置において、上記トナー収容体は、モース硬度がいずれも３以上である上記正極帯電研磨粒子および上記負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものであることも好ましい。
【００２０】
モース硬度が３以上であることで、十分な研磨効果が得られる。
【００２１】
また、本発明の画像形成装置において、上記トナー収容体は、少なくともいずれか一方が無機微粒子がその一部を表面に露出した状態で内包した樹脂粒子である上記正極帯電研磨粒子および上記負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものであることも好ましい。
【００２２】
こうすることで、上記無機微粒子で研磨性を確保する一方、上記樹脂粒子で帯電制御等の他の効果を得ることができる。
【００２３】
さらに、本発明の画像形成装置において、上記トナー収容体は、トナー粒子の体積平均粒径Ｄ５０に対して２／３以下である粒径のトナー粒子の個数割合が１０個数％以下であるトナー粒子の集まりを収容したものであることも好ましい。
【００２４】
体積平均粒径Ｄ５０に対して２／３以下である、いわゆる小粒径のトナー粒子では、上記繊維体の繊維における入れ替えが起こりにくくなり、上記繊維体の繊維にトナー粒子が堆積してその繊維に残留研磨粒子が捕獲されにくくなってしまう。このため、小粒径のトナー粒子の割合を１０個数％以下に抑えることが好ましい。
【００２５】
またさらに、本発明の画像形成装置において、上記トナー収容体は、脂肪酸金属塩および高級アルコールの少なくとも一方を含むトナー粒子の集まりを収容したものであることも好ましい態様である。
【００２６】
この態様によれば、トナー粒子に含まれる脂肪酸金属塩または／および高級アルコールによって、残留研磨粒子の、像担持体表面からの離型性が向上し、残留研磨粒子が上記繊維体の繊維に積極的に移行すると推定する。
【００２７】
また、本発明の画像形成装置において、上記像担持体が、最表面に、電荷輸送機能を有する構造単位と架橋構造とを持った樹脂を含有した保護層を有するものであることも好ましい。
【００２８】
上記像担持体が上記保護層を有するものであることで、上記繊維体の往復動摺擦によって像担持体表面が磨耗したり傷ついたりすることが抑えられ、像担持体の長寿命化が得られる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、像担持体表面から、放電生成物を像担持体の中心軸の延在方向に均一かつ十分に長期にわたって除去する工夫が施された画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００３１】
図１は、本発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成を示す図である。
【００３２】
図１に示す画像形成装置１は、回転軸１０ａを中心にして時計回りに回転するドラム状の感光体１０を備え、この感光体１０の周囲には、帯電器２０、露光器３０、現像器４０、転写ロール５０、クリーニング装置７０、および除電ランプ８０も備えられている。
【００３３】
図１に示す感光体１０は、円筒上の導電性支持体の上に、下引層、電荷発生層と電荷輸送層を含む感光層、および保護層１０１を積層してなるものである。保護層１０１は、この感光体１０の最表層になる層であって、この図１では、この保護層１０１が模式的に示されている。感光体１０が回転軸１０ａを中心にして回転することで、最表層（感光体１０の表面１１０）は、回転軸１０ａの周りを循環移動する。ここでは感光体１０についてのこれ以上の説明は省略し、詳細については後述する。
【００３４】
帯電器２０は、非接触帯電方式のコロトロン帯電器である。この帯電器２０には、帯電器制御部２１による制御のもと、帯電器高圧電源２２から帯電バイアスが印加される。また帯電器は接触型の帯電ロールなど公知の帯電方式を採用してもよい。露光器３０は、感光体１０の表面１１０に向けて、画像情報に基づくレーザ光を照射するものである。現像器４０は、トナー粒子およびトナー粒子よりも微粒子の研磨粒子を含む現像剤を収容した現像剤収容体４１と、現像剤収容体４１中のトナー粒子を担持して感光体１０の表面に対向した状態で回転する現像ロール４２を有する。現像剤収容体４１に収容された現像剤中のトナー粒子は負極に帯電する負極帯電型のトナー粒子である。また、現像剤収容体４１に収容された現像剤中の研磨粒子には、正に帯電する正極帯電研磨粒子と負に帯電する負極帯電研磨粒子との２種類の研磨粒子があり、これら２種類の研磨粒子の体積平均粒径Ｄ５０は、いずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下である。ここにいう体積平均粒径Ｄ５０とは、粒度分布を基にして分割された粒度範囲（チャネル）に対して体積についてそれぞれ小径側から累積分布を描いた場合に、累積が５０％になる粒径である。現像剤収容体４１は、これら２種類の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものである。トナー粒子は、現像器４０内で負極性に帯電され、感光体１０の表面１１０に静電的に移行する。
【００３５】
図１に示す画像形成装置１において画像形成が行われる際には、まず、感光体表面１１０にトナー像を形成するトナー像形成サイクルが実行される。このトナー像形成サイクルでは、感光体１０の表面１１０が、帯電器２０によって一様に帯電された後、露光器３０によって画像情報に基づくレーザー光が照射され、感光体１０の表面１１０に静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像器４０によって現像され、感光体１０の表面１１０にはトナー像が形成され、トナー像形成サイクルが終了する。
【００３６】
図１では、記録用紙Ｐが図の右から左に向かって搬送されてくる。搬送されてきた記録用紙は、感光体１０と転写ロール５０の間に送り込まれる。図１に示す画像形成装置１では、感光体１０と転写ロール５０によって挟み込まれた領域が転写領域になる。転写ロール５０には、トナー粒子の帯電極性とは逆極性の転写バイアスが印加されており、トナー像形成サイクルによって感光体表面１１０に形成されたトナー像は、この転写領域において、感光体１０の表面１１０から記録用紙Ｐに転写される。本実施形態の画像形成装置１では、記録用紙Ｐの表面が本発明にいう所定の被転写面に相当する。なお、図１に示す画像形成装置１では、転写ロール５０を用いた直接転写方式が採用されているが、転写ロール５０に代えて転写コロトロンを用いてもよい。また、記録用紙Ｐを静電的に吸着して搬送し感光体上のトナー像を転写する転写ベルト方式を採用してもよい。さらに、中間転写ベルトや中間転写ドラム等の中間転写体を用いた中間転写方式を採用してもよい。
【００３７】
また、図１に示す画像形成装置１は、転写領域よりも用紙搬送方向下流側に定着器９０を備えている。この定着器９０は、加熱機構を有する定着ロール９１と、定着ロール９１に対向するように設けられた圧力ロール９２とを備えている。互いに対向する定着ロール９１と圧力ロール９２の間には、転写領域を通過した記録用紙Ｐが搬送されてくる。記録用紙Ｐ上のトナー像を構成するトナーは、定着ロール９１の加熱機構により溶融され圧力ロール９２からの圧力を受けて記録用紙Ｐに定着し、定着トナー像からなる画像が形成される。
【００３８】
一方、感光体１０の、転写領域を通過した表面１１０には、転写領域において記録用紙Ｐへ移行することができなかった残留トナー粒子や、その残留トナー粒子に付着していた正極帯電研磨粒子や負極帯電研磨粒子等が残留している。さらに、帯電器２０における放電現象に伴い、感光体表面１１０にはＯ3やＮＯｘに代表される放電生成物が付着し、感光体１０の、転写領域を通過した表面１１０には、この放電生成物も残留している。放電生成物が感光体表面１１０に多く残留していると、残留している放電生成物が雰囲気中の水分とイオン結合して感光体表面１０の電気抵抗が低下し、所謂白抜けという現象や画像流れという現象が引き起こされる。
【００３９】
図１に示すクリーニング装置７０は、これらの残留物を除去するための装置であって、転写領域よりも感光体回転方向（感光体表面の循環移動方向）下流側であって帯電器２０よりも感光体回転方向上流側の位置に配備されたものである。このクリーニング装置７０は、２本のクリーニングブラシ７１，７２と、２本の回収ロール７３と、２枚のスクレーパ部材７４を有する。２本のクリーニングブラシ７１，７２はいずれも、感光体１０の回転軸１０ａと平行に延びた中心軸７１１，７２１から放射状に延びた導電性の毛７１２，７２２を有する。これらのクリーニングブラシ７１，７２は、感光体１０の回転方向に並んで配備されており、以下、必要に応じて、感光体１０の回転方向上流側に配備されたクリーニングブラシを第１クリーニングブラシ７１と称し、回転方向下流側に配備されたクリーニングブラシを第２クリーニングブラシ７２と称することにする。いずれのクリーニングブラシ７１，７２も、毛７１２，７２２の先端が感光体表面１１０および回収ロール７３の周面の双方に食い込んだ状態で中心軸７１１，７２１を中心にして回転する。          
【００４０】
第１クリーニングブラシ７１には、現像器４０の現像剤収容体４１に収納されたトナー粒子の帯電極性とは逆極性の正側のバイアスが印加されており、第２クリーニングブラシ７２には、負側のバイアスが印加されている。感光体１０の、転写領域を通過した表面１１０には両極性の残留トナーが存在しており、負極に帯電した、残留トナー粒子や研磨粒子（負極帯電研磨粒子）は、第１クリーニングブラシ７１の毛７１２に電気的に引き寄せられるとともにこの毛７１２によって掻き取られる。一方、正極に帯電した、残留トナー粒子や研磨粒子（正極帯電研磨粒子）は、第２クリーニングブラシ７２の毛７２２に電気的に引き寄せられるとともにこの毛７２２によって掻き取られる。すなわち、２本のクリーニングブラシ７１，７２は、感光体の、転写領域を通過した表面１１０に残留した残留トナー粒子をその表面１１０から除去するものであり、本発明にいうクリーニング手段の一例に相当する。
【００４１】
クリーニングブラシ７１，７２は、クリーニング性能の経時劣化が少なく、板状のクリーニングブレードを用いるよりも、特に高速機においては有利である。また図１に示すクリーニングブラシ７１，７２は積極的に電界を利用するクリーニング方式であるため、電気的作用を利用せず機械的に掻き取るクリーニングブレードでは困難である球状トナーのクリーニングに対しても優位性がある。
【００４２】
クリーニングブラシ７１，７２の毛７１２，７２２に移行した残留トナー粒子や研磨粒子は印加バイアスの作用によってその毛７１２，７２２に保持される。回収ロール７３も、感光体１０の回転軸１０ａと平行に延びた中心軸７２１を中心にして回転するものであり、クリーニングブラシ７１，７２の毛７１２，７２２に保持された残留トナー粒子等を回収する。スクレーパ部材７４は、回収ロール７３によって回収された残留トナー粒子等を回収ロール７３から掻き落とす。スクレーパ部材７４によって掻き落とされた残留トナー粒子等は、クリーニング装置７０の外まで搬送される。
【００４３】
クリーニング補助部材７５は、第１クリーニングブラシ７１よりも、感光体回転方向上流側に配備されたものである。このクリーニング補助部材７５は、感光体１０の回転軸１０ａの延在方向に延びた保持部材７５１に多数の微細繊維７５２が保持されたものであり、本発明にいう繊維体の一例に相当する。多数の微細繊維７５２それぞれは、太さが１０μｍ以下でのものであり、感光体表面１１０に接している。クリーニング補助部材７５の、感光体表面１１０に接した面は、多数の微細繊維７５２によってポーラス状になっている。またクリーニング補助部材７５の幅（感光体回転方向の長さ）は１．５ｍｍ以上あり、微細繊維７５２は、感光体回転方向に１．５ｍｍ以上の当接幅をもって接している。
【００４４】
クリーニング補助部材７５は、残留トナー粒子を除去するクリーニングブラシ７１，７２よりも上流側に配置されているため、感光体１０が回転することでこのクリーニング補助部材７５に向けて残留トナー粒子や、正極帯電研磨粒子および負極帯電研磨粒子双方の残留研磨粒子等が運ばれてくる。残留トナー粒子や残留研磨粒子は、クリーニング補助部材７５の微細繊維７５２によって捕捉され、その微細繊維７５２に保持される。従来の一般的なクリーナであるクリーニングブレードでは、感光体表面への接触が線接触であるため残留トナー粒子や残留研磨粒子が接触部（ブレードエッジ先端部）より離脱しやすく研磨効果は向上しないが、このクリーニング補助部材７５は感光体表面１１０に対して、感光体回転方向に１．５ｍｍ以上にわたって接触し、しかもクリーニング補助部材７５の、感光体表面１１０に接した面が、多数の微細繊維７５２によってポーラス状になっているため、捕捉された残留トナー粒子や残留研磨粒子は、その面に安定して保持され、十分な研磨効果が発揮される。
【００４５】
感光体表面１１０に付着した放電生成物等の付着物や、放電に伴う感光体１０の表面劣化層は、微細繊維７５２に保持された残留トナー粒子の他、残留トナー粒子よりも高い研磨能力を有する残留研磨粒子によって像担持体表面から効果的に掻き取られる。ここで、残留トナー粒子については、感光体表面１１０の、現像によってトナーが移行してきた画像部とトナーが移行してこなかった非画像部（背景部）とのうちの画像部にしか基本的には存在しないが、残留研磨粒子については、画像部にはトナー粒子と同極に帯電した研磨粒子（トナー粒子が負帯電型のものであれば負極帯電研磨粒子）が存在し、非画像部にはトナー粒子と逆極に帯電した研磨粒子（トナー粒子が負帯電型のものであれば正極帯電研磨粒子）が存在する。そのため、残留研磨粒子は、微細繊維７５２に、感光体１０の回転軸１０ａの延在方向に均一に保持される。さらに、詳細に検討してみると、感光体表面１１０に連続してトナー像形成を行った場合、最初のトナー像形成では非画像部（背景部）だった所が、次のトナー像形成では画像部になることがある。こうなると、最初、非画像部から微細繊維７５２に、トナー粒子と逆極に帯電した研磨粒子が保持され、次いで、この保持された研磨粒子によって、画像部からトナー粒子と同極に帯電した研磨粒子が静電捕獲され、残留研磨粒子が微細繊維７５２によりミクロ的に見ても密に保持されて、放電生成物等が、感光体１０の回転軸１０ａの延在方向により均一かつ十分に掻き取られると推定する。
【００４６】
こうして掻き取られた放電生成物等は、微細繊維７５２に捕捉された残留トナー粒子に付着する。残留トナー粒子は、微細繊維７５２に安定して保持されてはいるものの、新たな残留トナー粒子がクリーニング補助部材７５に運ばれてくると、微細繊維７５２に保持されている残留トナー粒子と、新たに運ばれてきた感光体表面１１０上の残留トナー粒子との間で入れ替わりが起こり、感光体表面１１０へ戻る。感光体表面１１０に戻った残留トナー粒子は、感光体表面１１０が循環することで下流側のクリーニングブラシ７１，７２に向かい、クリーニングブラシ７１，７２によって感光体表面１１０から除去される。すなわち、微細繊維７５２に一端捕捉され放電生成物等が付着した残留トナー粒子は、最終的にクリーニングブラシ７１，７２によって感光体表面１１０から除去される。このように、微細繊維７５２によって捕捉された残留トナー粒子の入れ替えが行われるので、微細繊維７５２に放電生成物等の掻取物が飽和してしまうことが抑えられる。一方、残留トナー粒子よりもはるかに小さい残留研磨粒子は、微細繊維７５２に保持され続け、放電生成物等を感光体表面１１０から効果的に掻き取り続ける。なお、微細繊維７５２に保持された微細研磨粒子の中には、感光体表面１１０へ戻る残留トナー粒子に再付着するものあり、また、残留研磨粒子においても残留トナー粒子のような入れ替えが若干は生じ、２本のクリーニングブラシ７１，７２によって感光体表面１１０から除去される残留研磨粒子もある。
【００４７】
また、正極帯電研磨粒子にしても負極帯電研磨粒子にしても、体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍ以上２．０μｍ以下の研磨粒子であるため、放電生成物等が感光体表面１１０から十分に掻き取られる。すなわち、研磨粒子は、現像器４０の現像剤収容体４１内では、トナー粒子の表面に付着した状態にあり、その状態で現像によって感光体表面１１０に移行してくる。体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍ未満の研磨粒子であると研磨能力が不足するとともに、感光体表面１１０に移行してきたトナー粒子から研磨粒子が離脱しにくくなる。クリーニング補助部材７５の微細繊維７５２が、研磨粒子が表面に付着したトナー粒子を保持したものであると、掻き取った放電生成物等がトナー粒子に付着することで放電生成物等によってトナー粒子表面の研磨粒子が覆われてしまい、十分な研磨効果を発揮することができなくなる。また、トナー粒子から離脱したとしても微細繊維７５２に埋没しやすく、十分な研磨効果を発揮することができない。一方、体積平均粒径Ｄ５０が２．０μｍを越える研磨粒子であると、現像剤収容体４１内で研磨粒子がトナー粒子から離脱してしまい研磨粒子が感光体表面１１０に移行してこなかったり、あるいは研磨粒子がトナー粒子に付着して感光体表面１１０に移行し微細繊維７５２に保持されたとしても、今度は微細繊維７５２から研磨粒子が離脱しやすく、十分な研磨効果を発揮することができない。
【００４８】
ここで、クリーニング補助部材７５の微細繊維７５２を構成する繊維の太さは１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましい。繊維太さが１０μｍよりも大きくなると、残留トナー粒子や残留研磨粒子の均一保持性が低下するとともに、感光体表面１１０との摺擦時に残留トナー粒子等の、微細繊維７５２からの離脱や繊維間への埋没が発生しやすくなり、摺擦による感光体１０のリフレッシュ性能の低下が生じる。反対に、１μｍより細い場合は摺擦によるストレスで微細繊維７５２自体の損傷が生じやすくなる。またクリーニング補助部材７５の、感光体表面１１０への当接幅があまり大きくなりすぎても、残留トナー粒子等が微細繊維７５２から離脱しやすくなる。このため、当接幅の上限としては特に限定はないが、画像形成装置の大型化の観点より１０ｍｍ以下とすることが好ましい。微細繊維７１２の材質としては、例えばポリエステル系繊維、ナイロン系繊維、ポリアミド系繊維、ポリオレフィン系繊維、アクリル系繊維、またはこれらの各合成繊維の樹脂を用いた複合繊維、アセテート系繊維等の半合成繊維、レーヨン等の再生繊維、などが用いられる。これらの微細繊維をシート状にする加工方法としては、糸を編み二次元的材料を構成する方法と、繊維から直接布を作る方法とがあり、後者は繊維を相互に接着させたり、機械的に絡ませたりしてシート状に加工するものであり、これを不織布と呼んでいる。いずれの方法を用いてもよいが、微細繊維の密度が大きく柔軟性に富み、繊維間に残留トナー粒子等を良好に保持出来るという点で不織布が望ましい。
【００４９】
また、保持部材７５１は、微細繊維７１２のバックアップ材として用いることが好ましく、微細繊維７１２を保持部材７５１の表面に貼り付けて、その表面が感光体表面１１０に所定の圧力で押し当てられていることが望ましい。保持部材７５１としては、発砲ウレタン、ウレタンゴム、シリコーンゴム、などの弾性体があげられる。保持部材７５１によって感光体表面１１０に微細繊維７５２を押し付ける圧力としては、４．９〜５８．８ｍＮ／ｍｍの範囲であることが好ましい。更に好ましい範囲は９．８〜３９．２ｍＮ／ｍｍである。押し付け圧が４．９ｍＮ／ｍｍより低いと充分な摺擦機能を発揮することが出来ず、５８．８ｍＮ／ｍｍより高いと感光体表面１１０との摺擦が強すぎて微細繊維７５２自体および感光体１０の劣化を招き、さらには却ってフィルミング等を誘発する。
【００５０】
続いて、図１に示す感光体に使用することができる感光体について詳述する。
【００５１】
図２は、図１に示す感光体の断面構造を示す模式図である。
【００５２】
図２には、円筒上の導電性支持体１０２の表面に形成された下引層１０３、その下引層１０３の表面に形成された電荷発生層１０４、その電荷発生層１０４の表面に形成された電荷輸送層１０５、および保護層１０１が示されている。
【００５３】
本実施形態の感光体としては、有機感光体や、アモルファスシリコン感光体やセレン系感光体などの無機系の感光体など公知の感光体を用いる事ができるが、コスト、製造性および廃棄性等の点で優れた利点を有する有機感光体が好適に用いられる。更に、感光体には、揺動摺擦による感光体表面の傷などに対する耐性を持たせたるため、高強度表面保護層を設けることが好ましく、保護層を構成する材料として電荷輸送能を有する構造単位と架橋構造とを有する樹脂を含有することが更に好ましい。
【００５４】
以下、保護層について説明する。保護層を構成する材料としては、耐磨耗性を向上させ十分な硬度を確保するために、架橋構造を有する樹脂が少なくとも用いられる。このような材料を用いない場合には、表面の硬度が低く十分な耐磨耗性が得られないため、傷が発生したり磨耗が進行し易く、高速で使用する場合や、非常に長期に渡って画像形成を行う場合、高品質の画質を得られない。
【００５５】
なお、保護層には、架橋構造を有する樹脂以外にも必要に応じて、架橋構造を有さないバインダー樹脂や、導電性微粒子、また、フッ素樹脂やアクリル樹脂などからなる潤滑性微粒子が含まれていてもよく、保護層の形成に際しては、必要に応じてシリコンや、アクリルなどのハードコート剤を使用することができる。
【００５６】
保護層の形成方法の詳細については後述するが、保護層の形成には架橋構造を有する樹脂を構成する前駆体を少なくとも含む最表面層形成用溶液が用いられる。なお、架橋構造を有する樹脂としては、保護層の硬度を確保する点から種々の材料を用いることができるが、特性上、フェノール系樹脂、ウレタン系樹脂、シロキサン系樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができ、これらの中でもフェノール系樹脂とシロキサン系樹脂が耐久性の点で好ましい。さらに好ましくはメチロール基を有するフェノール誘導体を架橋したフェノール系樹脂、および、架橋構造を有するシロキサン系樹脂から選択される少なくとも１種である。
【００５７】
さらに、電気特性や画質維持性などの観点からは、架橋構造を有する樹脂は、電荷輸送性を有している（電荷輸送能を有する構造単位を含む）ことが好ましい。この場合、積層構成型の感光体では、保護層が電荷輸送層の一部として機能することもできる。このような電荷輸送能を有する構造単位としては、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料であることが好ましい。
【００５８】
水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料としては下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される化合物又はその誘導体が強度、安定性に優れ特に好ましい。
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)Ｑa］b           （Ｉ）
上記一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ1は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）又は置換若しくは未置換のアリール基（炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１５がより好ましい）を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。また、上記可とう性を有する２価の基Ｄとしては、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−ＣαＨ２α−、−ＣβＨ2β-2−、−ＣγＨ2γ-4−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ4−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ6Ｈ4）−（Ｃ6Ｈ4）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキ  シ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。
Ｆ−［（Ｘ1）n1Ｒ2−ＺＨ］n2         （ＩＩ）
上記一般式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ1は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ2はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、ｎ１は０又は１を、ｎ２は１〜４の整数を、ＺＨは水酸基、チオール基、アミノ基又はカルボキシル基を示す。
Ｆ−［（Ｘ2）n3−（Ｒ3）n4−（Ｚ）n5Ｇ］ｎ６            （ＩＩＩ）
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ2は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ3はアルキレン基（炭素数は１〜１５が好ましく、１〜１０がより好ましい）を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ３、ｎ４及びｎ５はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ６は１〜４の整数を示す。
【００５９】
【化１】
2007033617.tif 000003
【００６０】
上記一般式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｔは２価の基を、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を、Ｒ7は１価の有機基を、ｍ１は０又は１を、ｎ７は１〜４の整数を、それぞれ示す。但し、Ｒ6とＲ7は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。Ｔの具体例としては、炭素数１のアルキレン基などが挙げられる。
【００６１】
【化２】
2007033617.tif 000004
【００６２】
上記一般式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｔは２価の基を、Ｒ8は１価の有機基を、ｍ２は０又は１を、ｎ８は１〜４の整数を、それぞれ示す。Ｔの具体例としては、炭素数１のアルキレン基などが挙げられる。
【００６３】
上記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される化合物における正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆとしては、下記一般式（ＶＩ）で示される化合物が好ましい。
【００６４】
【化３】
2007033617.tif 000005
【００６５】
上記一般式（ＶＩ）中、Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3及びＡｒ4はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ5は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ1〜Ａｒ5のうち１〜４個は、上記式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される化合物における−Ｄ−Ｓｉ（Ｒ1）(3-a)Ｑａ、−（Ｘ1）n1Ｒ2−ＺＨ、−（Ｘ2）n3−（Ｒ3）n4−（Ｚ）n5Ｇ、−（Ｔ）ｍ１−Ｏ−ＣＲ4（ＣＨＲ5Ｒ6）（Ｙ−Ｒ7）、−（Ｔ）m2−ＯＣＯＯ  Ｒ8で示される部位と結合手を有する。ｋは０又は１を示す。
【００６６】
また、保護層が、メチロール基を有するフェノール誘導体と、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送材料とを含有することが好ましい。
【００６７】
上記メチロール基を有するフェノール誘導体としては、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類若しくはトリメチロールフェノール類のモノマー、それらの混合物、それらがオリゴマー化されたもの、又はそれらモノマーとオリゴマーの混合物が挙げられる。このようなメチロール基を有するフェノール誘導体は、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸触媒又はアルカリ触媒下で反応させることで得られるもので、一般にフェノール樹脂として市販されているものも使用できる。なお、本明細書では、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子をオリゴマーといい、それ以下のものをモノマーという。
【００６８】
上記酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸等が用いられる。また、アルカリ触媒としては、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｂａ（ＯＨ）2等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。アミン系触媒としては、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる傾向がある。そのため、酸で中和するか、シリカゲル等の吸着剤や、イオン交換樹脂等と接触させることにより不活性化又は除去することが好ましい。また、メチロール基を有するフェノール誘導体としては、フェノール樹脂が好ましく、レゾール型フェノール樹脂がより好ましい。
【００６９】
また、保護層には、残留電位を下げるために導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の体積平均粒子径は保護層の透明性の観点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましい。
【００７０】
また、保護層には、保護層の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（ＶＩＩ−１）で示される化合物を添加することもできる。
Ｓｉ（Ｒ30）(4-c)Ｑc        （ＶＩＩ−１）
上記一般式（ＶＩＩ−１）中、Ｒ30は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｃは１〜４の整数を示す。
【００７１】
上記一般式（ＶＩＩ−１）で示される化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトキシシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。
【００７２】
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。
【００７３】
また、保護層には、その強度を高めるために、一般式（ＶＩＩ−２）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ31）(3-d)Ｑd）2              （ＶＩＩ−２）
上記一般式（ＶＩＩ−２）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ31は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｄは１〜３の整数を示す。
【００７４】
また、保護層には、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、塗布膜表面の均一性向上のため、下記一般式（ＶＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることもできる。
【００７５】
【化４】
2007033617.tif 000006
【００７６】
上記一般式（ＶＩＩ−３）中、Ａ1及びＡ2は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。
【００７７】
一般式（ＶＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７８】
更に、感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、体積平均粒子径が好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜３０ｎｍであり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜５０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、体積平均粒子径が好ましくは１〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍであり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。
【００８０】
シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。
【００８１】
また、その他の微粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講  演予稿集ｐ８９”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。
【００８２】
シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。
【００８３】
また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【００８４】
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＨＴ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＭＤＰ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＢＭ−Ｓ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＷＸ−Ｒ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＮＷ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−７６」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＢＰ−１０１」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ」、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」以上三共ライフテック株式会社製、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
【００８５】
また、保護層には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を含有させてもよい。この場合、絶縁性樹脂は、所望の割合で添加することができ、これにより、電荷輸送層との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥等を抑制することができる。
【００８６】
保護層は、上述した構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、電荷輸送層上に塗布して硬化させることで形成される。保護層形成用塗布液には触媒を添加すること、又は保護層形成用塗布液作製時に触媒を用いることが好ましい。用いられる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒、さらに系に不溶な固体触媒を用いることもできる。
【００８７】
また、メチロール基を有するフェノール誘導体から、合成時の触媒を除去するために、フェノール誘導体をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿等の処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。
【００８８】
例えば、イオン交換樹脂としては、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂が挙げられる。
【００８９】
また、無機固体としては、Ｚｒ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｈ）2，Ｔｈ（Ｏ3ＰＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯＨ）2等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ4，ＭｇＳＯ4等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ3，Ｍｎ（ＮＯ3）2等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
【００９０】
保護層形成用塗布液には、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の他、種々の溶媒が使用できる。なお、感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系溶剤、トン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましい。また、使用される溶媒の沸点は５０〜１５０℃のものが好ましく、それら任意に混合して使用することができる。
【００９１】
なお、溶剤としてアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましいことから、使用される保護層の形成に使用される電荷輸送材料としては、それらの溶剤に可溶であることが好ましい。
【００９２】
また、溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると構成材料が析出しやすくなるため、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対し好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部である。
【００９３】
保護層形成用塗布液を用いて保護層を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。ただし、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。なお、複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
【００９４】
電荷輸送層上に保護層形成用塗布液を塗布後には、硬化処理を行う。通常、硬化処理の際には、フェノール誘導体の架橋反応を促進し、保護層の機械強度を上げるためには硬化温度は高く、硬化時間は長いほど好ましい。
【００９５】
硬化処理の際の硬化温度は１００〜１９０℃が好ましく、１１０〜１７０℃がより好ましく、１３０〜１６０℃がさらに好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。また、硬化処理（架橋反応）を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の、いわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気（不活性ガス雰囲気）下であることが好ましい。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気（酸素含有雰囲気）下よりも硬化温度を高く設定することができ、硬化温度は１００〜１６０℃（好ましくは１１０〜１５０℃）とすることが可能である。また、硬化時間は３０分〜２時間（好ましくは３０分〜１時間）とすることが可能である。また、上記一般式（ＩＩ）で示される化合物において、（−（Ｘ1）n1Ｒ2−ＺＨ）で示される部位が−ＣＨ2−ＯＨの場合が最も硬化温度による電気特性の影響が大きい傾向があり、酸化に対して敏感であるので、上記好ましい温度範囲で硬化処理を行うことが好ましい。
【００９６】
さらに、硬化処理の際には、硬化触媒を使用することが好ましい。硬化触媒としては、例えば、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類、ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類等の光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、無水カルボン酸化合物等が挙げられる。
【００９７】
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ＢＦ３、ＦｅＣｌ3、ＳｎＣｌ4、ＡｌＣｌ3、ＺｎＣｌ2等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
【００９８】
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。
【００９９】
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス  （アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセ  トナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチルコバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１００】
これら硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
【０１０１】
また、保護層を形成する際に、有機金属化合物を触媒として用いる場合には、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（ＶＩＩ−４）で示される２座配位子が挙げられる。
【０１０２】
【化５】
2007033617.tif 000007
【０１０３】
上記一般式（ＶＩＩ−４）中、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。
【０１０４】
多座配位子としては、上記の中でも、一般式（ＶＩＩ−４）で示される２座配位子がより好ましく、一般式（ＶＩＩ−４）中のＲ32とＲ33とが同一のものが特に好ましい。Ｒ32とＲ33とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。
【０１０５】
多座配位子の配合量は、任意に設定することができるが、有機金属化合物の使用量１モルに対し、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０．１モル以上、さらに好ましくは１モル以上である。
【０１０６】
保護層の２５℃における酸素透過係数は、４×１０12ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることが好ましく、３．５×１０12ｆｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがより好ましく、３×１０12ｆ  ｍ／ｓ・Ｐａ以下であることがさらに好ましい。ここで、酸素透過係数は層の酸素ガス透過のし易さを表す尺度であるが、見方を変えると、層の物理的な隙間率の代用特性ととらえることもできる。なお、ガスの種類が変われば透過率の絶対値は変わるものの、検体となる層間で大小関係の逆転は殆どない。したがって、酸素透過係数は、一般的なガス透過のし易さを表現する尺度と解釈して良い。つまり、保護層の２５℃における酸素透過係数が上記条件を満たす場合には、保護層においてガスが浸透しにくい。したがって、トナー像形成プロセスにより生じる放電生成物の浸透が抑制され、保護層に含有される化合物の劣化が抑制され、電気特性を高水準に維持することができ、高画質化、長寿命化に有効である。
【０１０７】
保護層の膜厚は、０．１〜６μｍが好ましく、１〜５μｍがさらに好ましい。
【０１０８】
次に、現像剤収容体４１について詳述する。上述の如く、現像剤収容体４１は、正極帯電研磨粒子と負極帯電研磨粒子との２種類の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容したものである。
【０１０９】
まず、研磨粒子について詳述する。
【０１１０】
研磨粒子の帯電極性については、以下の方法で判定することができる。
スチレン−ｎ−ブチルメタクリレート樹脂（共重合比８０：２０、三洋化成社製）  ９４重量部
カーボンブラック（ＢＰＬ、キャボット社製）  ６重量部
上記組成よりなる混合物を、押出機により加熱混練し、冷却して混練物Ａを得る。粉砕後、これを更に分級して、平均粒径約７μｍのトナー母粒子を得る。このトナー母粒子１００部に対し、研磨粒子１．５部をブレンダーにて混合し、帯電極性測定用トナーとする。更にラボ環境（２２℃、５０％ＲＨ）下でスチールショットキャリア（パウダーテック製、平均粒径１００μｍ）とターブラブレンダーにより６０秒間撹拌混合した後ブローオフ法帯電量測定し、研磨粒子外添なしのトナー母粒子を基準として相対的な帯電量の増減で極性を判定する。
【０１１１】
２種類の研磨粒子の体積平均粒径Ｄ５０は、上述の如くいずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下の範囲であるが、０．１μｍ以上１．０μｍ以下の範囲がより好ましく、さらに好ましくは０．２μｍ以上０．８μｍ以下の範囲である。この研磨粒子の体積平均粒径Ｄ５０は、例えば，レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置［マスターサイザー２０００（商品名）マルバーン社製］により測定することができる。
【０１１２】
また、２種類の研磨粒子のモース硬度はいずれも３以上である。モース硬度が３以上であることで、十分な研磨効果が得られる。
【０１１３】
研磨粒子には、無機微粒子を用いることができる。この無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ、炭酸カルシウム素、炭酸カルシウム、炭酸マグウネシウムおよびりん酸カルシウム等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０１１４】
無機微粒子の帯電性は、トナー種、あるいはキャリア種により一概には規定できないが、トナー種またはキャリア種に応じて上記無機微粒子から適時選択することができる。また無機微粒子に通常使用される種々の公知の帯電制御剤で表面処理を施し帯電性を制御してもかまわない。正帯電制御剤としては、第４級アンモニウム系化合物、ニグロシン系染料、トリフェニルメタン系染料、ポリアミン系化合物、イミダゾール誘導体等があげられ、また、負帯電制御剤としては、含クロムモノアゾ錯体、サルチル酸金属錯化合物、含クロル有機染料等があげられる。
【０１１５】
また、研磨粒子には、無機微粒子の一部を表面に露出した状態で内包した樹脂粒子である複合粒子を用いることもできる。なお、無機微粒子の一部が表面に露出した状態とは、複合粒子を電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡等で観察した場合に、複合粒子表面に、無機微粒子に起因する凸形状の存在が確認できる状態を意味する。
【０１１６】
複合粒子を構成する樹脂粒子の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等、公知の各種の樹脂から適宜選択することができる。しかし、熱可塑性樹脂は、複合粒子全体の硬度を充分高めることができない場合があるため、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。これは、複合粒子に、長期に渡って安定した研磨効果を付与するためには、現像器４０中における撹拌等のストレス下でも複合粒子が変形せず、また、複合粒子表面近傍に存在する無機微粒子の埋没を防止する必要があるためである。
【０１１７】
熱可塑性樹脂の例としては、具体的には、ポリオレフィン系樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレン；ポリビニル及びポリビニリデン系樹脂、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルエーテル及びポリビニルケトン；塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体；スチレン−アクリル酸共重合体；オルガノシロキサン結合からなるストレートシリコーン樹脂又はその変性品；フッ素樹脂、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン；ポリエステル；ポリカーボネート等が挙げられる。
【０１１８】
なお、これら樹脂を利用した複合粒子の作製に際して、ジビニルベンゼン等の架橋成分も併用すれば、複合粒子の硬度をより高めることもできる。
【０１１９】
熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂；アミノ樹脂、例えば尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ユリア樹脂、ポリアミド樹脂；エポキシ樹脂、等が挙げられる。
【０１２０】
これらの樹脂の中では、電子付与能を有する窒素原子を含有する樹脂を用いることが好ましく、窒素原子を含有する樹脂の中でも特に、熱硬化性であり、電子付与能が高いメラミン樹脂を用いることが好ましい。
【０１２１】
一方、複合粒子を構成する無機微粒子としては、感光体表面の放電生成物等の付着物に対する研磨能力を有するものであれば特に限定されないが、例えば、モース硬度が３〜９の範囲内であることが好ましく、粒径（１次粒径）が５〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、形状としては特に限定されないが、不定形、球形、立方体等が挙げられる。上記のような無機微粒子としては、例えば、カーボンブラック、シリカ、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、チタン酸ストロンチウム、酸化セリウム、炭酸カルシウム等をあげることができるが、帯電付与能力を調整する目的からシリカを用いることが好ましい。
【０１２２】
本実施形態においては、複合粒子として、正に帯電する正極帯電のものと、負に帯電する負極帯電のものとの２種類が必要であるが、複合粒子の帯電性をトナーの正規の極性と逆極性にする場合には、トナーの正規の極性に対して、複合粒子を構成する樹脂粒子材料として、トナーの正規の極性と反対側へシフトさせた帯電特性の材料を選択すればよい。ただし、この場合、極端に帯電性の強い材料であると、トナー自体の帯電劣化を起こす場合があるので、例えば複合粒子を構成する無機微粒子（無機材料）として、樹脂粒子の極性と反対側へシフトさせた帯電特性を有する材料を選択することも有効である。すなわち、相対的な電位差で表せば、例えば、トナーの正規の極性がマイナスであるとすると、正規の極性に帯電したトナーと樹脂粒子と無機微粒子との間の相対的な電位差の関係は、正規の極性に帯電したトナー＜樹脂粒子＞無機微粒子となる。
【０１２３】
なお、上述したような、トナーの正規の極性（マイナス）と樹脂粒子と無機微粒子との間の相対的な電位差の関係を満たす樹脂粒子と無機微粒子との好適な組合せの一例としては、強い正帯電性を有するメラミン樹脂と、強い負帯電性を有するシリカとの組合せや、強い正帯電性を有するフェノール樹脂と、強い負帯電性を有するシリカとの組合せや、強い正帯電性を有するフェノール樹脂と、強い負帯電性を有するシリカとの組合せ等が挙げられる。
【０１２４】
一方、トナーの正規の極性と同極性にする場合にも、上述したような考え方で樹脂粒子と無機微粒子とを適宜選択すれば、トナーの正規の極性と同極性に帯電させた複合粒子を得ることができる。
【０１２５】
複合粒子は、例えば、サスペンジョン重合、乳化重合、懸濁重合などの重合方法を利用して粒状樹脂を製造する方法、モノマーもしくはオリゴマーを貧溶媒中に分散して、架橋反応を行いつつ表面張力により粒状化する方法、低分子成分と架橋剤とを溶融混練などにより、混合反応させた後、風力、機械力により、所定の粒度に粉砕する方法等の公知の樹脂粒子の製造過程において、無機微粒子を混入させることで得ることができる。例えば、単量体等の樹脂粒子成分の前駆体を少なくとも含む溶液に、無機微粒子を分散させた後、重合や架橋反応等により複合粒子を得ることができる。
【０１２６】
また、無機微粒子による複合粒子表面の凹凸形状は、例えば、〔１〕使用する無機微粒子の使用量や粒径を調整したり、〔２〕液相中で、樹脂粒子成分の前駆体（単量体等）と無機微粒子とからなる凝集体を形成後、この凝集体の重合や架橋反応による収縮を利用して、内部に埋没していた無機微粒子を表面に凸を形成するように露出させたり、〔３〕樹脂粒子成分と無機微粒子とからなる潤湿状態の粒子を形成後、乾燥時の樹脂マトリックスの収縮を利用して内部に埋没していた無機微粒子を表面に凸を形成するように露出させたり、あるいは、〔４〕樹脂粒子成分のみからなるコア粒子を形成後、樹脂粒子と無機微粒子とからなる被覆層を形成したりすること等によって調整することができる。
【０１２７】
以下に、シリカ微粒子（無機微粒子）とメラミン樹脂（樹脂粒子成分）とからなる複合粒子を例に、複合粒子の製造例を詳細に説明する。
【０１２８】
まず、水性媒体に数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の平均粒径を有するコロイダルシリカとメラミン化合物とアルデヒド化合物と含む溶液を懸濁しながら、塩基性条件下でメラミン化合物とアルデヒド化合物と反応させて、水に可溶なメラミン系樹脂の初期縮合物を含む水溶液を調整する（工程（ａ））。
【０１２９】
続いて、工程（ａ）で得られた水溶液に酸触媒を加えることによって、シリカ微粒子がメラミン樹脂中に分散した球状の複合粒子を析出させる（工程（ｂ））。
【０１３０】
ここで、上記工程（ａ）で使用するメラミン化合物としては、メラミン、メラミンのアミノ基の水素をアルキル基、アルケニル基、フェニル基で置換した置換メラミン化合物など公知のものが使用できる。この中では安価なメラミンが最も好ましい。
【０１３１】
また、上記工程（ａ）で使用されるアルデヒド化合物としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラールなどが挙げられるが、安価でメラミン化合物との反応性が良いホルムアルデヒドやパラホルムアルデヒドが好ましい。
【０１３２】
また、アルデヒド化合物は、前記メラミン化合物１モルに対して有効アルデヒド基当たり１．１〜６．０モル、特に１．２〜４．０モルとなるように配合することが好ましい。
【０１３３】
上記工程（ａ）で使用されるコロイダルシリカとしては、平均粒径が好ましくは５〜７０ｎｍの範囲内のものが使用できる。また、沈降性シリカパウダー、気相法シリカパウダーなどのパウダー状のコロイダルシリカを使用することもできるが、好ましくは媒体中で一次粒子レベルまで安定分散させたコロイダルシリカのゾルを使用するのが良い。
【０１３４】
コロイダルシリカの平均粒径が７０ｎｍを超える場合は、前記工程（ｂ）で析出する複合粒子の形状が球状になり難くなる場合がある。また、５ｎｍに満たないと、複合粒子の粒度分布をシャープに制御し難くなる場合がある。工程（ｂ）を経て得られた複合粒子の平均粒径は、一般的にメラミン系樹脂濃度が低いほど、またコロイダルシリカの平均粒径が小さいほど小さくなる。
【０１３５】
コロイダルシリカの添加量は、メラミン化合物１００重量部に対して０．５〜１００重量部の範囲が好ましく、１〜５０重量部の範囲がより好ましい。添加量が０．５重量部未満では、工程（ｂ）で複合粒子を得ることが困難になる場合がある。また、添加量が１００重量部を超えても複合粒子が得られるが、この場合、微小で球状でない凝集粒子が副生するので好ましくない場合がある。
【０１３６】
以上、シリカ微粒子とメラミン樹脂とからなる複合粒子を例として、複合粒子自体の具体的な製造過程について説明したが、次に、無機微粒子や樹脂粒子成分の種類に関係無く、ここにいう複合粒子に共通する事項について説明する。
【０１３７】
まず、複合粒子は、その表面を下記一般式で示されるようなシランカップリング剤等のカップリング剤で表面処理しておいてもよい。
Ｒ1Ｓｉ（Ｘ）3            （ａ）
Ｒ1Ｒ2Ｓｉ（Ｘ）2         （ｂ）
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＸ            （ｃ）
なお、上記各式中、Ｒ1は、炭素数１〜２０のアルキル基またはパーフルオロアルキル基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、パーフルオロアルキル基、またはアリール基を表し、Ｘは塩素原子、アルコキシ基、ＮＣＯ基、またはアセトキシ基を表す。
【０１３８】
このような表面処理により、感光体表面のコメットやフィルミングの発生防止、トナーへの分散性や密着性、さらには疎水性の制御に伴う帯電の安定性、電荷交換性等の向上効果がより一層期待される。
【０１３９】
これらの中でも、帯電量の増加という点で、一般式（ａ）で示されるものが好ましく、特にＣＨ3（ＣＨ2）ｎＳｉ（ＯＣＨ3）3（ただし、ｎ＝５〜１９）が好ましい。また、同様の理由で、Ｒ1が炭素数７〜１６のアルキル基またはパーフルオロアルキル基であるものが好ましい。このような、カップリング剤による処理は、例えば、カップリング剤を含有する溶液中に複合粒子を浸漬し、乾燥する方法の場合は、均一な被覆を形成することができるので好ましい。前記カップリング剤の付着量は、複合粒子に対して０．１〜２５重量％の範囲であることが好ましい。
【０１４０】
次に、トナー粒子について説明する。トナー粒子は、例えば結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を混練、粉砕、分級する混練粉砕法，混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法，結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法，結着樹脂を得るための重合性単量体と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法，結着樹脂と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により得られるものが使用できる。
【０１４１】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに被覆層を形成してコアシェル構造をもたせる製造方法など、公知の方法を使用することができるが、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
【０１４２】
また、トナー粒子の粒度分布はある程度の範囲に制御されていることが望ましい。具体的には、トナー粒子の体積平均粒径をＤ５０とした場合、トナー粒子の粒度分布において、全粒子数に対する粒径が（２／３）×Ｄ５０以下である粒子数の割合が、１０個数％以下であることが好ましい。すなわち、現像剤収容体４１は、トナー粒子の体積平均粒径Ｄ５０に対して２／３以下である粒径のトナー粒子の割合が１０個数％以下であるトナー粒子の集まりを収容したものであることが好ましい。体積平均粒径Ｄ５０に対して２／３以下である、いわゆる小粒径のトナー粒子では、微細繊維７５２における入れ替えが起こりにくくなり、微細繊維７５２にトナー粒子が堆積して微細繊維７５２に残留研磨粒子が捕獲されにくくなってしまう。このため、小粒径のトナー粒子の割合を１０個数％以下に抑えることが好ましく、５個数％以下であることが更に好ましい。
【０１４３】
なお、ここにいうトナー粒子の体積平均粒径も、上述の研磨粒子の体積平均粒径と同じく、例えば、レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置［マスターサイザー２０００（商品名）マルバーン社製］により測定することができる。
【０１４４】
尚、粒度分布を制御する方法として、公知の分級器・篩分器を用いてもよいし、前述の重合を用いてシャープな分布のトナーを作製してもよい。
【０１４５】
さらに、脂肪酸金属塩および高級アルコールの少なくとも一方を含むトナー粒子を用いることが好ましい。すなわち、現像剤収容体４１は、脂肪酸金属塩および高級アルコールの少なくとも一方を含むトナー粒子の集まりを収容したものであることが好ましい。こうすることで、トナー粒子に含まれる脂肪酸金属塩または／および高級アルコールによって、残留研磨粒子の、感光体表面１１０からの離型性が向上し、残留研磨粒子が微細繊維７５２に積極的に移行すると推定する。脂肪酸金属塩としてはステアリン酸のカドミウム、バリウム、鉛、鉄、ニッケル、コバルト、銅、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩；二塩基性ステアリン酸鉛；オレイン酸の亜鉛、マグネシウム、鉄、コバルト、銅、鉛、カルシウム等の金属塩；パルミチン酸とアルミニウム、カルシウム等の金属塩；カプリル酸鉛；カプロン酸鉛；リノール酸亜鉛；リノール酸コバルト；リシノール酸カルシウム；リシノレイン酸と亜鉛、カドミウム等の金属塩；及びこれらの混合物等が挙げられるが、中でもステアリン酸亜鉛が潤滑効果が高く好ましい。
【０１４６】
続いて、本発明の第２実施形態の画像形成装置について説明する。以下、図１に示す画像形成装置の構成要素の名称と同じ名称の構成要素には、これまで用いた符号と同じ符号を付して説明し、重複した説明は省略する。
【０１４７】
図３は、本発明の第２実施形態の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【０１４８】
図３に示す画像形成装置１と図１に示す画像形成装置とを比較すると、クリーニング装置７０の構成が異なっている。すなわち、図１に示す画像形成装置のクリーニング装置には、クリーニング補助部材７５の下流に、２本のクリーニングブラシ７１，７２が配備されているが、図３に示す画像形成装置１のクリーニング装置７０には、これら２本のクリーニングブラシ７１，７２に代えて１枚の板状のクリーニングブレード７９が配備されている。図３に示すクリーニングブレード７９は、感光体１０の表面１１０に先端エッジ部７９１を接触させた状態で、感光体１０の回転軸１０ａの延在方向に延びるものである。このクリーニングブレード７９は、感光体１０の表面１１０に残留した残留トナー粒子を感光体１０が回転することで、電気的作用を利用せず機械的に掻き取る。
【０１４９】
図３に示す画像形成装置１にも、体積平均粒径Ｄ５０がいずれも０．１μｍ以上２．０μｍ以下である正に帯電する正極帯電研磨粒子および負に帯電する負極帯電研磨粒子双方の研磨粒子が混在したトナー粒子の集まりを収容した現像剤収容体４１が配備されている。したがって、トナー粒子よりも高い研磨能力を有する残留研磨粒子が、画像部であっても非画像部であっても帯電極性は異なるものの存在し、微細繊維７５２に静電凝集する。この結果、残留研磨粒子が微細繊維７５２にミクロ的に見ても密に保持されて、放電生成物が感光体表面１１０から、感光体１０の回転軸１０ａの延在方向に均一かつ十分に長期にわたって除去される。
【０１５０】
なお、クリーニングブラシやクリーニングブレード等の残留トナー成分を除去するクリーニング手段として、磁気ブラシなど公知のクリーニング手段を広く用いることができる。
【０１５１】
（実施例）
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」はすべて「重量部」を意味する。
［現像剤の作製］
＜トナー母粒子Ａの作製＞
スチレン−ｎブチルアクリレート共重合樹脂（Ｔｇ＝５８℃、Ｍｎ＝４０００、Ｍｗ＝２５０００）  １００部
カーボンブラック（キャボット社製：モーガルＬ）  ３部
上記混合物をエクストルーダーで混練し、ジェットミルで粉砕した後、風力式分級機で分散してトナー母粒子Ａを得た。得られたトナー母粒子Ａをレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置［マスターサイザー２０００（商品名）マルバーン社製］で測定したところ、体積平均粒径Ｄ５０は６．８μｍであった。なお、以下の体積平均粒径Ｄ５０の測定もここでの測定と同じである。また、個数平均粒径ｄ５０は５．８μｍであった。
＜トナー母粒子Ｂの作製＞
【０１５２】
（樹脂微粒子分散液）
スチレン３７０部、ｎ−ブチルアクリレート３０部、，アクリル酸８部、ドデカンチオール２４部、四臭化炭素４部を混合して溶解したものを、非イオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成（株）製）６部及びアニオン性界面活性剤（ネオゲンＳＣ：第一工業製薬（株）製）１０部をイオン交換水５５０部に溶解したフラスコ中で乳化重合させ、１０分間ゆっくり混合しながら、これに過硫酸アンモニウム４部を溶解したイオン交換水５０部を投入した。窒素置換を行った後、前記フラスコ内を攪拌しながら内容物が７０℃になるまでオイルバスで加熱し、５時間そのまま乳化重合を継続した。その結果、１５０ｎｍであり、Ｔｇ＝５８℃、重量平均分子量Ｍｗ＝１１５００の樹脂粒子が分散された樹脂微粒子分散液が得られた。この分散液の固形分濃度は４０重量％であった。
【０１５３】
（着色剤分散液）
カーボンブラック（モーガルＬ：キャボット製）    ６０部
ノニオン性界面活性剤（ノニポール４００：三洋化成（株）製）    ６部
イオン交換水  ２４０部
以上の成分を混合して、溶解、ホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間攪拌し、その後、アルティマイザーにて分散処理して平均粒子径が２５０ｎｍである着色剤（カーボンブラック）粒子が分散された着色剤分散剤を調整した。
【０１５４】
（離型剤分散液）
パラフィンワックス（ＨＮＰ０１９０：日本精蝋（株）製、融点８５℃）  １００部
カチオン性界面活性剤（サニゾールＢ５０：花王（株）製）  ５部
イオン交換水  ２４０部
以上の成分を、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて１０分間分散した後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、体積平均粒径ＳＤ５０が５５０ｎｍである離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調整した。
【０１５５】
（トナー母粒子Ｂの調整）
上記樹脂微粒子分散液  ２３４部
上記着色剤分散液    ３０部
上記離型剤分散液  ４０部
ポリ水酸化アルミニウム（浅田化学社製、Ｐａｈｏ２Ｓ）  ０．５部
イオン交換水    ６００部
以上の成分を、丸型ステンレス鋼鉄フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０：ＩＫＡ社製）を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を攪拌しながら４０℃まで加熱した。４０℃で３０分保持した後、体積平均粒径Ｄ５０が４．５μｍの凝集粒子が生成していることを確認した。更に加熱用オイルバスの温度を上げて５６℃で１時間保持し、体積平均粒径Ｄ５０は５．３μｍとなった。その後、この凝集体粒子を含む分散液に２６重量部の上記樹脂微粒子分散液を追加した後、加熱用オイルバスの温度を５０℃まで上げて３０分間保持した。この凝集体粒子を含む分散液、１Ｎ水酸化ナトリウムを追加して、系のｐＨを７．０に調整した後ステンレス製フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら８０℃まで加熱し、４時間保持した。冷却後、このトナー母粒子を濾別し、イオン交換水で４回洗浄した後、凍結乾燥してトナー母粒子Ｂを得た。このトナー母粒子Ｂの体積平均粒径Ｄ５０は５．７μｍであり、平均形状係数ＳＦは１３２であった。なお、個数平均粒径ｄ５０は５．１μｍであった。
【０１５６】
＜研磨粒子Ａ＞
ゾルゲル法で得られたシリカゾルにＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）処理を行い、乾燥、粉砕することにより、体積平均粒径Ｄ５０が０．１３５μｍ、モース硬度７のシリカ粒子である研磨粒子を得た。
＜研磨粒子Ｂ＞
ゾルゲル法で得られたシリカゾルにデシルトリメトキシシラン処理を行い、乾燥、粉砕することにより、体積平均粒径Ｄ５０が０．２μｍ、モース硬度７のシリカ粒子である研磨粒子Ｂを得た。
＜研磨粒子Ｄ＞
体積平均粒径Ｄ５０が０．６μｍ、モース硬度７の酸化セリウム（三井金属鉱業社製  Ｅ１０）を研磨粒子Ｄとして用意した。
＜研磨粒子Ｅ＞
体積平均粒径Ｄ５０が０．３μｍ、モース硬度６のチタン酸ストロンチウム（境化学工業社製  ＳＴ−０３）を研磨粒子Ｅとして用意した。
＜研磨粒子Ｆ＞
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した２Ｌの反応フラスコに、メラミン５０．０部、３７％ホルマリン９６．５部、水性シリカゾル［日産化学工業（株）製、スノーテックスＳ（商品名）：ＳｉＯ2濃度３０．５重量％、ｐＨ１０．０、体積平均粒径７．９ｎｍ］２０．７部、水７２０部を仕込み、２５％アンモニア水にてｐＨを８．７に調整した混合物ｆを得た。
【０１５７】
次に、上記混合物ｆを撹拌しながら昇温し、温度を７０℃に保ち、３０分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物を含む水溶液を調製した。次に温度７０℃を維持したまま、得られた初期縮合物を含む水溶液にドデシルベンゼンスルホン酸を１０重量％含む水溶液を添加してｐＨを７．０に調整した。約２０分後に反応系内が白濁して、硬化したメラミン樹脂中にシリカ微粒子が分散した粒子が析出した。その後、温度を９０℃まで昇温して３時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥して白色の複合粒子である研磨粒子Ｆを得た。この研磨粒子Ｆの体積平均粒径Ｄ５０は０．３μｍであった。
【０１５８】
得られた研磨粒子Ｆをそのままの状態で走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、およびスライス片の状態で透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析（ＴＥＭ−ＥＤＸ）にて観察したところ、その形状は球状で、かつ、コロイダルシリカが研磨粒子Ｆの表面付近に偏在していることが確認された。また、研磨粒子Ｆの表面は、凸凹しており、凸部はコロイダルシリカによって形成されていることが確認された。
＜研磨粒子Ｇ＞
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した２Ｌの反応フラスコに、メラミン５０．０部、３７％ホルマリン９６．５部、水性シリカゾル［日本アエロジル（株）製、ＲＹ４０（商品名）：ＳｉＯ2濃度３０．５重量％、ｐＨ１０．０、体積平均粒径４０ｎｍ］２０．７部、水７２０部を仕込み、２５％アンモニア水にてｐＨを８．５に調整した混合物ｇを得た。
【０１５９】
その後、上記混合物ｇを撹拌しながら昇温し、温度を７０℃に保ち、３０分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物を含む水溶液を調製した。
【０１６０】
次に、温度７０℃を維持したまま、得られた初期縮合物を含む水溶液にドデシルベンゼンスルホン酸を１０重量％含む水溶液を添加してｐＨを７．０に調整した。約２５分後に反応系内が白濁して、硬化したメラミン樹脂中にシリカ微粒子が分散した粒子が析出した。その後、温度を９０℃まで昇温して３時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥して白色の複合粒子である研磨粒子Ｇを得た。この研磨粒子Ｇの体積平均粒径Ｄ５０は１．６５μｍであった。
【０１６１】
得られた研磨粒子Ｇをそのままの状態で走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、およびスライス片の状態で透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析（ＴＥＭ−ＥＤＸ）にて観察したところ、その形状は球状で、かつ、コロイダルシリカが研磨粒子Ｇの表面付近に偏在していることが確認された。また、研磨粒子Ｇの表面は、凸凹しており、凸部はコロイダルシリカによって形成されていることが確認された。
＜研磨粒子Ｈ＞
撹拌機、還流コンデンサー及び温度計を装備した２Ｌの反応フラスコに、メラミン５０．０部、３７％ホルマリン９６．５部、水性シリカゾル［日本アエロジル（株）製、ＲＹ４０（商品名）：ＳｉＯ２濃度３０．５重量％、ｐＨ１０．０、平均粒径４０ｎｍ］２０．７部、水７２０部を仕込み、２５％アンモニア水にてｐＨを８．４に調整した混合物ｈを得た。
【０１６２】
その後、上記混合物ｈを撹拌しながら昇温し、温度を７０℃に保ち、３０分反応させてメラミン樹脂の初期縮合物を含む水溶液を調製した。
【０１６３】
次に、温度７０℃を維持したまま、得られた初期縮合物を含む水溶液にドデシルベンゼンスルホン酸を１０重量％含む水溶液を添加してｐＨを７．０に調整した。約３０分後に反応系内が白濁して、硬化したメラミン樹脂中にシリカ微粒子が分散した粒子が析出した。その後、温度を９０℃まで昇温して３時間硬化反応を続けた。冷却後、得られた反応液を濾過、乾燥して白色の複合粒子である研磨粒子Ｈを得た。この研磨粒子Ｈの体積平均粒径Ｄ５０は２．３μｍであった。
【０１６４】
得られた研磨粒子Ｈをそのままの状態で走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察し、およびスライス片の状態で透過型電子顕微鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析（ＴＥＭ−ＥＤＸ）にて観察したところ、その形状は球状で、かつ、コロイダルシリカが研磨粒子Ｈの表面付近に偏在していることが確認された。また、研磨粒子Ｈの表面は、凸凹しており、凸部はコロイダルシリカによって形成されていることが確認された。
＜研磨粒子Ｉ＞
ゾルゲル法で得られたシリカゾルにＨＭＤＳ処理を行い、乾燥、粉砕することにより、体積平均粒径Ｄ５０が０．０８μｍ、モース硬度７のシリカ粒子である研磨粒子Ｉを得た。
＜キャリヤ＞
フェライト粒子（体積平均粒径：５０μｍ）  １００部
トルエン  １４部
スチレン／メタクリレート共重合体（成分比：９０／１０）  ２部
カーボンブラック（Ｒ３３０：キャボット社製）  ０．２部
フェライト粒子を除く上記成分をまず１０分間スターラーで撹拌させて被覆液を調整し、次に、この被覆液とフェライト粒子を真空脱気型ニーダーに入れて、６０℃において３０分撹拌した後、さらに加温しながら減圧して脱気し、乾燥させることによりキャリヤを得た。このキャリヤは、１０００Ｖ／ｃｍの印加電界時の体積固有抵抗値が１０11Ωｃｍであった。
＜現像剤の調整＞
現像剤は前記トナー母粒子Ａ１００部または前記トナー母粒子Ｂ１００部に、体積平均粒径１５ｎｍのデシルシラン処理の疎水性チタニア０．８部、体積平均粒径３０ｎｍの疎水性シリカ（ＮＹ５０、日本アエロジル社製）１．５部、及び下記の表１に示す研磨粒子及び滑性粒子をヘンシェルミキサーを用い周速３２ｍ／秒で１０分間ブレンドを行った後、４５μｍ網目のシーブを用いて粗大粒子を除去しトナーを作製した。
【０１６５】
【表１】
2007033617.tif 000008
【０１６６】
また、キャリア１００部とトナー６部をＶ−ブレンダーで、４０ｒｐｍ×２０分間攪拌し、２１２μｍの目開きを有するシーブで篩分することにより現像剤１〜１２までを調整した。
［感光体Ａの作製］
４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール１７０重量部に、有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０重量部および有機シラン化合物（γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）３重量部を添加、混合撹拌して下引層形成用の塗布液を得た。この塗布液を、ホーニング処理により粗面化された外径８４ｍｍのアルミニウム支持体の上に浸漬塗布し、室温で５分間風乾を行った後、支持体を１０分間で５０℃に昇温し、５０℃、８５％ＲＨ（露点４７℃）の恒温恒湿槽中に入れて、２０分間加湿硬化促進処理を行った。その後、熱風乾燥機に入れて１７０℃で１０分間乾燥を行い下引層を形成した。
【０１６７】
電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニンを用い、その１５重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０重量部およびｎ−ブチルアルコール３００重量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散し、分散駅を得た。この分散液を、上記下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
【０１６８】
次に、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン４０部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４０，０００）６０重量部とをテトロヒドロフラン２３０重量部及びモノクロロベンゼン１００重量部に十分に溶解混合して得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０°で４０分乾燥することにより、膜厚２１μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１６９】
下記に示す構成材料を、イソプロピルアルコール５部、テトラヒドロフラン３部、蒸留水０．３部に溶解させ、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５部を加え、室温で攪拌することにより２４時間加水分解を行った。
構成材料
下記に示す化合物（１）  １：２部
メチルトリメトキシシラン：２部
テトラメトキシシラン：０．５部
コロイダルシリカ：０．３部
フッ素グラフトポリマー（ＺＸ００７Ｃ：富士化成製）：０．５部
【０１７０】
【化６】
2007033617.tif 000009
【０１７１】
加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）を０．１部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４部を加えコーティング液とし、このコーティング液を上記電荷輸送層の上に浸漬塗布し、室温で３０分風乾した後、１５０℃で４０分加熱処理して硬化し、膜厚約４μｍのシロキサン系樹脂からなる保護層を形成した。得られた感光体を感光体Ａとした。
［感光体Ｂの作製］
下記に示す化合物（２）を２部、レジトップＰＬ４８５２（群栄化学製）を２部をイソプロピルアルコール１０部に溶解させ、保護層形成用塗布液を得た。この保護層形成用塗布液を電荷輸送層作製までは感光体Ａと同様に作製した感光体の電荷輸送層上に浸漬塗布し、室温で３０分風乾した後、１３５℃で５０分乾燥させ、膜厚４μｍのフェノール系樹脂からなる保護層を形成した。得られた感光体を感光体Ｂとした。
【０１７２】
【化７】
2007033617.tif 000010
【０１７３】
［実施例１］
試験機として、富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ１０１０を図１に示す画像形成装置のように改造したものを用いた。すなわち、感光体にはシロキサン系樹脂からなる保護層を最表面に有する感光体Ａを組み込んだ。また、クリーニング装置には、クリーニングブラシ、回収ロール、スクレーパ部材、およびクリーニング補助部材を備えた図１に示すクリーニング装置を用いた。詳細を以下に示す。
（１）第１クリーニングブラシ
ブラシ材質：導電性ナイロン、繊維太さ：２デニール（約１７μｍ）、電気抵抗：１×１０8Ω、毛足長さ：３ｍｍ、繊維密度：１２０，０００本／ｉｎｃｈ2、感光体への食い込み量：約０．７５ｍｍ、周速：６０ｍｍ／ｓ、回転方向：感光体の回転方向に対して逆方向、ブラシ印加バイアス：＋２４０Ｖ
（２）第２クリーニングブラシ
ブラシ印加バイアスを−２４０Ｖに代えた以外は、上記第１クリーニングブラシと同じものである。
（３）回収ロール
材質：導電性カーボンを分散したフェノール樹脂、電気抵抗：１×１０8Ω、曲げ弾性率（ＪＩＳ  Ｋ７２０３）：１００ＭＰａ、磨耗量（ＪＩＳ  Ｋ６９０２）：２ｍｇ、ロックウェル硬度（ＪＩＳ  Ｋ７２０２、Ｍスケール）：１２０、クリーニングブラシへの食い込み量：１．０ｍｍ、周速：７０ｍｍ／ｓ、回転方向：クリーニングブラシの回転方向に対して同方向、印加バイアス：第１クリーニングブラシに接する回収ロールは＋６４０Ｖ，第２クリーニングブラシに接する回収ロールは−６４０Ｖ
（４）スクレーパー部材
材質：ＳＵＳ３０４、厚み：８０μｍ、回収ロールへの食い込み量：１．３ｍｍ、フリーレングス（自由長）：８．０ｍｍ
（５）クリーニング補助部材
微細繊維布として水流絡合法で作製した繊維径（太さ）６μｍの不織布（ポリエステル／ナイロン、日本バイリーン製ＷＰ８０８５）を、保持部材として用意した高さ３ｍｍ、幅４ｍｍのパッド状の発泡ウレタンに貼り付け、感光体への食いこみ量を１．５ｍｍに設定し、感光体表面へのクリーニング補助部材の押し付け圧力は２５℃の測定環境下において１９．６ｍＮ／ｍｍとした。
ここで用いた画像形成装置の仕様を表２に示す。
【０１７４】
【表２】
2007033617.tif 000011
【０１７５】
以上説明した画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤２を収容した。現像剤２を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
【０１７６】
この画像形成装置を用いて、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）及び高温高湿（２８℃、８０％）でそれぞれ１０万枚の耐久試験を行った。ここでの耐久試験では、極端に画像密度の少ない領域（背景部）と画像密度の多い領域（画像部）とを有する原稿の画像形成を行い、感光体摩耗、フィルミング、および像流れの３つについて評価を行った。これらの結果を総合評価とともに表３に示す。
【０１７７】
【表３】
2007033617.tif 000012
【０１７８】
各評価に関する詳細は以下の通りである。
〔感光体摩耗量〕
感光体の磨耗に関しては試験前と試験後の感光体の膜厚を試験環境毎に渦電流式の膜厚計で計測しその差分にて判断した。表２に示す値は感光体１０００回転あたりの摩耗量を示す。
〔フィルミング〕
耐久試験後の感光体上の付着物の有無を観察し、目視による官能評価を行った。また画像密度３０％のハーフトーン画像を採取し画質への影響の有無の官能評価を行った。判断基準は以下の通りである。
◎→感光体付着物がなく、画質上も未発生
○→感光体付着物はあるが、画質上は未発生
×→感光体付着物があり、画質上も発生
〔像流れ〕
２万枚プリント毎に１２時間以上放置後、水溶性である放電生成物を除去するため感光体表面の一部分のみを水拭きした。その後、ハーフトーン画像をプリントし、反射型濃度測定機（Ｘ−ｒｉｔｅ）により、感光体表面の水拭きした箇所と水拭きしていない箇所とに対応する画像部分の濃度差（ΔＳＡＤ）を測定し、以下の判断基準で評価した。ΔＳＡＤの値が小さいほど、像流れが生じていないことになる。尚、ハーフトーン画像は像流れの検出精度を通常よりも向上させるため画像密度３０％の３００線の万線スクリーンのハーフトーン画像にて判断した。
◎：ΔＳＡＤが０．１５以下
○：ΔＳＡＤが０．１５を超え０．３未満
△：ΔＳＡＤが０．３を超え０．４未満
×：ΔＳＡＤが０．４以上
［実施例２］
感光体を、フェノール系樹脂からなる保護層を最表面に有する感光体Ｂに代えた以外は、実施例１と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
［実施例３］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤１を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１７９】
現像剤１を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は１９．３個数％であった。
［実施例４］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤３を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８０】
現像剤３を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例５］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤４を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８１】
現像剤４を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例６］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤５を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８２】
現像剤５を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例７］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤６を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８３】
現像剤６を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例８］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤７を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８４】
現像剤７を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例９］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤８を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８５】
現像剤８を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［実施例１０］
クリーニング補助部材を、繊維径１１μｍの不織布（セルロース繊維、日本バイリーン製８８３０ＣＲ）を用いたものに代えた以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
［実施例１１］
クリーニング補助部材を、繊維径２μｍの超極細繊維編物、トレシー（東レ（株）社製）を用いたものに代えた以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
［比較例１］
感光体を、シロキサン系樹脂からなる保護層を最表面に有する感光体Ａに代えるとともに、クリーニング装置からクリーニング補助部材を取り外した以外は、実施例３と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
［比較例２］
クリーニング装置からクリーニング補助部材を取り外した以外は、実施例３と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
［比較例３］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤９を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８６】
現像剤９を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［比較例４］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤１０を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８７】
現像剤１０を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は４．３個数％であった。
［比較例５］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤１１を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８８】
現像剤１１を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は１９．３個数％であった。
［比較例６］
実施例２で用いた画像形成装置における現像器の現像剤収容体に、表１に示す現像剤１２を収容した以外は、実施例２と同じ画像形成装置（表２参照）を用いて、実施例１と同様な試験および評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８９】
現像剤１２を収容した現像剤収容体では、トナー母粒子の小径側粒子比率（粒径が（２／３）×Ｄ５０以下の粒子数／全粒子数）は１９．３個数％であった。
【０１９０】
比較例１および２では、クリーニング装置からクリーニング補助部材を取り外したことにより、感光体表面の磨耗は大幅に抑えられたものの、放電生成物の除去をクリーニングブラシに頼るしかなく、像流れおよびフィルミングの発生が全く抑えられていない。また、トナー粒子の帯電極性（負）に対して、逆極の帯電特性を有する研磨粒子（正極帯電研磨粒子）と同極の帯電特性を有する研磨粒子（負極帯電研磨粒子）とのうちの逆極である正極帯電研磨粒子のみが混合された現像剤を用いた比較例３では、特に、低画像密度部（背景部）に像流れやフィルミングが発生し、同極である負極帯電研磨粒子のみが混合された現像剤を用いた比較例４では、反対に、高画像密度部（画像部）に像流れやフィルミングが発生している。さらに、体積平均粒径Ｄ５０が２．０μｍを越える負極帯電研磨粒子が混合された現像剤を用いた比較例５では、高画像密度部（画像部）に像流れが発生し、体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍを下回る正極帯電研磨粒子が混合された現像剤を用いた比較例６では、反対に低画像密度部（背景部）に像流れが発生している。
【０１９１】
これらの比較例に対して、体積平均粒径Ｄ５０が０．１μｍ以上２．０μｍ以下の正極帯電研磨粒子及び負極帯電研磨粒子の双方が混合された現像剤を用いた各実施例ではいずれも、高画像密度部（画像部）であっても低画像密度部（背景部）であっても、像流れやフィルミングの発生が抑えられている。
【０１９２】
以上のことから、本発明の画像形成装置は、感光体表面から、放電生成物をその回転軸の延在方向に均一かつ十分に長期にわたって除去することができるといえる。
【０１９３】
また、各実施例を詳細に分析すると、トナー母粒子の小径側粒子比率が実施例中唯一１０個数％を越えていた実施例３は、その小径側粒子比率が４．３個数％と低かった他の実施例に比べて結果が劣っており、トナー母粒子の小径側粒子比率は低い（１０個数％以下）であることが好ましいといえる。また、繊維径（太さ）が太い（１０μｍを越える）クリーニング補助部材を用いた実施例１０に比べて繊維径が細い（６μｍの）クリーニング補助部材を用いた残りの実施例の方が、像流れの発生がより抑えられており、繊維径（太さ）をあまり太くしない（１０μｍ以下に抑える）方が好ましいともいえる。さらに、脂肪酸金属塩あるいは高級アルコールの滑性粒子を含むトナー粒子の現像剤を用いた実施例８および９では、他の実施例に比べて像流れやフィルミングの発生がより抑えられており、これらの滑性粒子をトナー粒子に含ませておくことも好ましいといえる。またさらに、負極帯電研磨粒子にいわゆる複合粒子を用いた実施例５および６でも、他の実施例に比べて像流れやフィルミングの発生がより抑えられており、研磨粒子として複合粒子を用いることも好ましいといえる。作用効果は必ずしも明らかではないが、複合粒子表面の研磨剤により感光体表面の放電生成物やフィルミング物質の掻き取り性を確保させつつ、掻き落とした放電生成物を複合粒子の樹脂部分で保持することで研磨力の維持が向上しているものと推定する。
【図面の簡単な説明】
【０１９４】
【図１】本発明の一実施形態である画像形成装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す感光体の断面構造を示す模式図である。
【図３】本発明の第２実施形態の画像形成装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【０１９５】
１    画像形成装置
１０    感光体
１０１    保護層
１１０    表面
２０    帯電器
３０    露光器
４０    現像器
４１    現像剤収容体
５０    転写ロール
７０    クリーニング装置
７１，７２    クリーニングブラシ
７３    回収ロール
７４    スクレーパ部材
７５    クリーニング補助部材
７５１    保持部材
７５２    繊維
８０    除電ランプ
９０    定着器
【図１】
2007033617.tif 000013
【図２】
2007033617.tif 000014
【図３】
2007033617.tif 000015