(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクに、またはその近傍に存在するフォトマスクの曇りの発生原因となる揮発性有機成分を吸着し、また再離脱させず、さらにケミカルフィルターでは取り切れない微量のコンタミを除去することも可能なフォトマスク用保管棚を提供する。【解決手段】フォトマスク２を保管するための保管棚Ａであって、揮発性有機成分を吸着させるための合成石英または金属からなり、冷媒が充填された冷却管１を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクを保管するための保管棚であって、揮発性有機成分を吸着させるための冷却管を備えたことを特徴とするフォトマスク用保管棚。
【請求項２】
前記冷却管が合成石英または金属からなることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク用保管棚。
【請求項３】
前記冷却管が冷却管外壁部の温度を常温以下とするための冷媒が充填されていることを特徴とする請求項１又は２記載のフォトマスク用保管棚。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクに大気中の曇り成分が付着することを防止するフォトマスク用保管棚に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクでは、洗浄効果の高さから酸やアルカリなどの薬液が使用されることが多い。特に低コストで比較的扱いの容易な硫酸は多くの工程で使用されている。
【０００３】
硫酸を用いた洗浄工程後には、硫酸除去のための水洗がなされるが、水洗が不十分な場合は硫酸がフォトマスクに残渣として残存する。この残留した硫酸は、大気中のアルカリ雰囲気（アンモニア）と反応し、結晶性析出異物である硫酸アンモニウムを生成する。これはフォトマスクの曇りとなり、使用時に悪影響を与える。
【０００４】
このため、結晶性析出異物の発生を抑える方法として、硫酸イオンのイオン残渣を低減する手段が検討されている。さらには、硫酸を使用せず、オゾン水等で洗浄する方法も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
また、露光後のフォトマスクは、アクリル樹脂やＡＢＳ等のケースにいれ、保管棚に保管したり、又はケースに入れずに棚の中に直接保管される事が一般的である。このようなフォトマスクの保管環境で長期間、露光と保管を行っているとフォトマスクに環境由来と思われる曇りが発生する。また、ケミカルフィルターユニットや棚の中に不活性ガスによる充填等を行っても曇りの発生を抑えられない。そこで半導体集積回路装置の製造方法、露光方法およびフォトマスクの搬送方法に関する内容で提案されている中に加熱・冷却手段を設けた保管棚が記載されているものがある（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
以下に先行技術文献を示す。
【特許文献１】特開２００２−３１６１０７号公報
【特許文献２】特開２００３−２８２３９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前述の特許文献１の場合は、極力、硫酸残渣を低減させたフォトマスクにおいても、該フォトマスクの露光と保管を長期間繰り返すことで曇りが発生している。しかも線幅が９０ｎｍ世代になるにつれて、硫酸アンモニウム以外の曇りが多発するようになってきた。
【０００８】
これらはラマン分析を実施するとアモルファスカーボンが検出される事から有機物モードと呼ばれるコンタミに分類され、主に露光や保管環境、マスクケース、ペリクル膜、接着剤、ウエハーレジスト等に由来するものと考えられている。
【０００９】
また、後述の特許文献２に記述されている加熱・冷却手段を設けた保管棚は、フォトマスクの露光後、保管時間が経過していないと該マスクが膨張してしまうのを防止する目的で用いられている。
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑み案出されたもので、その課題は、ガラス基板の表面に遮光膜を備えるフォトマスクに大気中の曇り成分が付着することを防止するフォトマスク用保管棚を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、本発明の請求項１に係る発明は、フォトマスク（２）を保管するための保管棚（Ａ）であって、揮発性有機成分を吸着させるための冷却管（１）を備えたことを特徴とするフォトマスク用保管棚である。
【００１２】
本発明の請求項２に係る発明は、請求項１記載のフォトマスク用保管棚において、  前記冷却管（１）が合成石英または金属からなることを特徴とするフォトマスク用保管棚である。
【００１３】
本発明の請求項３に係る発明は、請求項１又は２記載のフォトマスク用保管棚において、前記冷却管（１）が冷却管外壁部の温度を常温以下とするための冷媒が充填されていることを特徴とするフォトマスク用保管棚である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係るフォトマスク用保管棚は、フォトマスクを保管するための保管棚であって、合成石英または金属からなり、冷媒が充填された冷却管を備えたことにより、フォトマスク、またはその近傍に存在するフォトマスクの曇りの発生原因となる揮発性有機成分を吸着し、また再離脱させず、さらにケミカルフィルターでは取り切れない微量のコンタミを除去することも可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の実施の形態を図１に基づいて詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明に係るフォトマスク用保管棚の１実施例を示す説明概略図である。
【００１７】
本発明者はフォトマスクの曇りの発生メカニズムを探索している途上で、高度に揮発性有機成分が制御された保管棚内に残存しているわずかな揮発性有機成分が、徐々にフォトマスクに吸着して行く過程をつきとめた。
【００１８】
ここで、付着した揮発性有機成分とは、例えば、フタル酸エステル類、環状シロキサン、芳香族炭化水素類等が挙げられる。
【００１９】
本発明に係るフォトマスク用保管棚（Ａ）は、図１に示すように、揮発性有機成分を吸着させるための冷却管（１）を備えたことを特徴とするフォトマスク用保管棚（Ａ）である。即ち、棚の中に冷却管（１）を張り巡らせ、フォトマスク（２）またはその近傍に存在する揮発性有機成分を吸着させるものである。
【００２０】
すなわち、保管棚雰囲気中の有機成分について冷却管（１）を用いる事で有機系を対象としたケミカルフィルター（３）では取り切れないコンタミを除去する事を目的としている。
【００２１】
また、冷却管（１）に合成石英管や金属管等を用い、前記冷却管（１）が冷却管外壁部の温度を常温以下とするための液体窒素等の冷媒が充填されている事で、揮発性有機成分を吸着脱離させないことが可能となる。
【００２２】
さらに、露光機による露光後の保管を目的とする以外にも、露光と同様の曇りが発生す
る位相差計等の日常の管理を行うフォトマスク（２）の保管にも適しており、フォトマスク（２）上に付着した有機成分が増加する事は無く、フォトマスク（２）から有機物モードの曇りが発生する事はない。
【００２３】
また、保管棚内部全体に熱を掛けられるようにし、ベーキングを行うことで、冷却管（１）、棚内部全体を含めて脱ガスが出来るようにしておく。これを行わないと、冷却管（１）に有機成分が吸着したままの状態になってしまい、冷却管（１）が冷却されない状態だと逆に有機成分を脱離させてしまい、汚染源になってしまう。
【実施例】
【００２４】
以下に、本発明に係るフォトマスク用保管棚（Ａ）について、具体的に実施例を挙げて、さらに詳しく説明する。
【００２５】
＜実施例１＞
フォトマスク（２）を液体窒素が充填されている冷却管（１）を備えたフォトマスク用保管棚（Ａ）に入れ保管をした。
【００２６】
毎日一定時間露光（波長約１９３ｎｍ）を実施し、露光後他の環境に触れない条件の元で、保管棚（Ａ）に輸送し保管した。
【００２７】
以下に、本発明の比較例について説明する。
【００２８】
＜比較例１＞
実施例１において、冷却管（１）を備えていないフォトマスク用保管棚に入れ保管をした以外は実施例１と同様にしてフォトマスク（２）を保管した。
【００２９】
＜評価＞
以上のようにして保管したそれぞれのフォトマスク（２）を８週間後、投光機にて曇りの発生の有無を確認したところ、実施例１のフォトマスク用保管棚（Ａ）に保管したフォトマスク（２）からは、曇りの発生は確認されなかったが、比較例１の従来のフォトマスク用保管棚に保管したフォトマスク（２）からは、曇りの発生が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明に係るフォトマスク用保管棚の１実施例を示す説明概略図である。
【符号の説明】
【００３１】
Ａ・・・フォトマスク用保管棚
１・・・冷却管
２・・・フォトマスク
３・・・ケミカルフィルターユニット
【図１】
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