(57)【要約】【課題】透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができる光再生媒体を提供すること。【解決手段】位相ピットが形成された基板および位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体に、反射層の反射率を低下させる反射率低減層を反射層に対して光入射側に付加するよう構成する。また、この反射率低減層として誘電体層を用い、屈折率を変化させた誘電体層を成膜するよう構成する。さらに、反射層よりも屈折率が高い金属膜からなる金属層を反射率低減層として用いるよう構成する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体であって、
前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に備えたことを特徴とする光再生媒体。
【請求項２】
前記位相ピットによる光散乱の影響を除外した場合に、媒体全体としての反射率が６０％〜８０％であることを特徴とする請求項１に記載の光再生媒体。
【請求項３】
前記反射率低減層は、誘電体層であることを特徴とする請求項１または２に記載の光再生媒体。
【請求項４】
前記反射層がＡｌを主成分とするＡｌ膜であり、かつ、前記誘電体層がＳｉＮを主成分とするＳｉＮ膜であることを特徴とする請求項３に記載の光再生媒体。
【請求項５】
前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする請求項４に記載の光再生媒体。
【請求項６】
前記ＳｉＮ膜の屈折率を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする請求項４または５に記載の光再生媒体。
【請求項７】
前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させたときの媒体全体としての反射率が最小値となる前記ＳｉＮ膜の屈折率を選択することによって媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする請求項６に記載の光再生媒体。
【請求項８】
前記反射率低減層は、前記反射層よりも屈折率よりも大きい金属層であることを特徴とする請求項１または２に記載の光再生媒体。
【請求項９】
前記反射層がＡｇを主成分とするＡｇ膜であり、かつ、前記金属層がＭｏを主成分とするＭｏ膜であることを特徴とする請求項８に記載の光再生媒体。
【請求項１０】
位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体の製造方法であって、
前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に形成する
反射率低減層形成工程を含んだことを特徴とする光再生媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、位相ピットが形成された基板および位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体および光再生媒体の製造方法に関し、特に、媒体の透過率を上昇させることなく媒体の反射率を任意の値に設定することができる光再生媒体および光再生媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＣＤ−Ｒ（Compact  Disk  Recordable）やＤＶＤ−Ｒ（Digital  Versatile  Disk  Recordable）といった再生用光ディスク媒体（以下、「光再生媒体」と記載する）が広く普及している。これらの光再生媒体は、データ記録をおこなった記録装置とは異なる再生装置で再生されることが通常であり、同一規格に準拠した再生装置であれば、どの再生装置においても正常に再生できなければならない。
【０００３】
しかし、記録装置の品質や記録条件や品質にはばらつきがあるうえ、光再生媒体の品質にもばらつきがあるので、再生装置が、光再生媒体に記録されたデータの再生に失敗するケースもある。たとえば、再生波形が歪んでしまったり、ジッタ（信号の揺らぎ）が増大してしまったりといった不具合によって最悪の場合には再生エラーが発生してしまうことになる。
【０００４】
このため、記録装置の品質安定化によって、上記したようなデータ再生失敗を防止しようという試みがなされている。具体的には、検査用の光再生媒体（以下、「検査媒体」と記載する）を用いて記録装置の設計をおこなったり、記録装置の品質検査をおこなったりすることが一般的である。
【０００５】
しかし、上記したＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒをそのものを品質検査に利用すると検査条件の水準を一定レベルに設定できないため、記録装置の品質水準を定量化することが困難である。したがって、近年では、検査専用として作られた検査媒体を利用して品質検査がおこなわれるようになってきた。たとえば、特許文献１や特許文献２には、記録面の凹凸や基板反りといった基板形状を変形させた検査媒体の製造方法が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特許第３６７４５４５号公報
【特許文献２】特開２００２−３３４４８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１や特許文献２に開示されている検査媒体を用いた品質検査では、記録条件のばらつきによる再生波形の乱れを再現することができないという問題があった。特に、検査媒体の反射率は再生波形の乱れに影響を及ぼしやすいので、反射率を任意の値に設定した検査媒体を用いて品質検査をおこなうことが望ましい。しかし、特許文献１や特許文献２に開示されている検査媒体では反射率を任意の値に設定することができない。
【０００８】
ところで、反射率を任意の値に設定した検査媒体を製造する場合には、透過率が高くなりすぎないように注意する必要がある。その理由は、透過率が高くなりすぎると媒体位置を検出する光学的な位置センサが媒体位置を誤検出してしまうからである。
【０００９】
これらのことから、媒体の透過率を上昇させることなく媒体の反射率を任意の値に設定することができる光再生媒体をいかにして実現するかが大きな課題となっている。
【００１０】
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消するためになされたものであり、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができる光再生媒体および光再生媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決し、目的を達成するため本発明は、位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体であって、前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に備えたことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、上記の発明において、前記位相ピットによる光散乱の影響を除外した場合に、媒体全体としての反射率が６０％〜８０％であることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、上記の発明において、前記反射率低減層は、誘電体層であることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、上記の発明において、前記反射層がＡｌを主成分とするＡｌ膜であり、かつ、前記誘電体層がＳｉＮを主成分とするＳｉＮ膜であることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明は、上記の発明において、前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする。
【００１６】
また、本発明は、上記の発明において、前記ＳｉＮ膜の屈折率を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明は、上記の発明において、前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させたときの媒体全体としての反射率が最小値となる前記ＳｉＮ膜の屈折率を選択することによって媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、上記の発明において、前記反射率低減層は、前記反射層よりも屈折率よりも大きい金属層であることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明は、上記の発明において、前記反射層がＡｇを主成分とするＡｇ膜であり、かつ、前記金属層がＭｏを主成分とするＭｏ膜であることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明は、位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体の製造方法であって、前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に形成する反射率低減層形成工程を含んだことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、反射層の反射率を低下させる反射率低減層を反射層に対して光入射側に備える光再生媒体を構成したので、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定した光再生媒体を提供することができるという効果を奏する。
【００２２】
また、本発明によれば、位相ピットによる光散乱の影響を除外した場合に、媒体全体としての反射率が６０％〜８０％である光再生媒体を構成したので、検査媒体として保持すべき反射率の幅を確保することができるとともに、反射率幅の中で任意の反射率を有する光再生媒体を得ることができるという効果を奏する。
【００２３】
また、本発明によれば、反射率低減層は、誘電体層である光再生媒体を構成したので、誘電体層の屈折率を変化させることによって、任意の反射率を有する光再生媒体を得ることができるという効果を奏する。
【００２４】
また、本発明によれば、反射層がＡｌを主成分とするＡｌ膜であり、かつ、誘電体層がＳｉＮを主成分とするＳｉＮ膜である光再生媒体を構成したので、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができるという効果を奏する。
【００２５】
また、本発明によれば、ＳｉＮ膜の膜厚を変化させることで媒体全体としての反射率が調整された光再生媒体を構成したので、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができるという効果を奏する。
【００２６】
また、本発明によれば、ＳｉＮ膜の屈折率を変化させることで媒体全体としての反射率が調整された光再生媒体を構成したので、膜厚を厳密に管理することなく反射率を任意の値に設定することができるという効果を奏する。
【００２７】
また、本発明によれば、ＳｉＮ膜の膜厚を変化させたときの媒体全体としての反射率が最小値となるＳｉＮ膜の屈折率を選択することによって媒体全体としての反射率が調整された光再生媒体を構成したので、膜厚変動に対する反射率変動が少ない膜厚を用いることによって安定した反射率を得ることができるという効果を奏する。
【００２８】
また、本発明によれば、反射率低減層は、反射層よりも屈折率よりも大きい金属層である光再生媒体を構成したので、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができるという効果を奏する。
【００２９】
また、本発明によれば、反射層がＡｇを主成分とするＡｇ膜であり、かつ、金属層がＭｏを主成分とするＭｏ膜である光再生媒体を構成したので、Ａｇ膜よりも屈折率が大きいＭｏ膜を用いることによって、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に添付図面を参照して、この発明に係る光再生媒体およびその製造方法の好適な実施例を詳細に説明する。なお、以下に示す実施例では、検査媒体として用いる光再生媒体について説明するが、実施例に係る光再生媒体を検査媒体としてではなく一般に市販する光再生媒体として用いることとしてもよい。
【実施例】
【００３１】
まず、本発明に係る光再生媒体の構造について図１を用いて説明する。図１は、本発明に係る光再生媒体の構造を示す図である。同図に示すように、本発明に係る光再生媒体は、位相ピットを含んだ基板１０１と反射層１０２との間に反射率低減層１０を設けた点に主な特徴がある。このように、反射率低減層１０を設けることで、光再生媒体の透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定することが可能となる。なお、光の入射方向は、基板１０１から反射層１０２に向かう方向でもよいし、保護膜１０３から反射層１０２に向かう方向でもよい。
【００３２】
ここで、反射層１０２とは、Ａｌ（アルミニウム）などの金属膜のことを指し、反射率低減層１０とは、ＳｉＮ（窒化シリコン）などの誘電体膜のことや、反射層１０２の金属膜よりも屈折率が高い金属膜のことを指す。
【００３３】
従来、反射層１０２の膜厚を調整することで光再生媒体の反射率を任意の値に設定することが一般的であった。しかしながら、反射層１０２の膜厚の調整は難しく、反射率を下げようとして反射層１０２を薄くしていくと僅かな膜厚変化で反射率が急激に低下してしまうという問題があった。
【００３４】
また、反射率の高低は、反射層１０２の膜厚に委ねられるので、反射率を任意の値に設定しようとする場合には、反射層１０２の膜厚を多段階とし、各段階の膜厚を厳密に管理する必要がある。しかし、反射層１０２の膜厚と反射率とは比例しないので反射層１０２の成膜工程において膜厚を厳密に管理することは難しい。
【００３５】
さらに、反射層１０２を薄くすることによって反射率を下げた場合には、透過率が高くなってしまうという問題もある。たとえば、車載用の光ディスク再生装置では、光再生媒体をスピンドルモータ部まで搬送する際に、光学的な位置センサを利用することによって光再生媒体の位置決めをおこなうことが一般的である。しかし、光再生媒体の透過率が高いと、光再生媒体の位置を誤検出してしまうことになる。
【００３６】
そこで、本発明に係る光再生媒体では、反射層１０２に加えて反射率低減層１０を設けることとし、この反射率低減層１０の材質変更による屈折率の変化を利用することによって、光再生媒体全体としての反射率を調整することとしている。したがって、反射層１０２や反射率低減層１０の膜厚を厳密に管理することなく任意の反射率を有する光再生媒体を得ることができる。
【００３７】
また、反射率低減層１０の膜厚を決定する際には、膜厚変化による反射率変化が緩やかな膜厚を選択することとしているので、製造工程において膜厚のばらつきが生じた場合であっても検査媒体としての反射率水準を一定に保つことが可能となる。
【００３８】
以下では、反射率低減層１０として誘電体層を設けた場合について図２〜図６を用いて説明し、反射率低減層１０として金属層を設けた場合について図７〜図９を用いて説明する。なお、反射率低減層１０として誘電体層を設ける場合とはＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒを対象とした波長６５０ｎｍ〜８３０ｎｍの範囲で再生をおこなう検査媒体のことを指し、反射率低減層１０として金属層を設ける場合とはブルーレイディスクを対象とした波長４０５ｎｍの範囲で再生をおこなう検査媒体のことを指す。
【００３９】
また、図２〜図６に示した光再生媒体に対応する従来技術については図１０〜図１２を用いて、図７〜図９に示した光再生媒体に対応する従来技術については図１３〜図１５を用いて、適宜説明することにする。
【００４０】
まず、反射率低減層１０としてＳｉＮ（窒化シリコン）の誘電体層を設けた場合について図２を用いて説明する。図２は、反射率低減層１０として誘電体層１０ａを設けた光再生媒体の構造を示す図である。同図に示す光再生媒体は、位相ピットが形成された基板１０１上に、ＳｉＮ（窒化シリコン）の誘電体層１０ａをスパッタ法により成膜し、成膜した誘電体層１０ａ上にＡｌ（アルミニウム）膜からなる反射層１０２をさらに成膜したうえで、この反射層１０２上に樹脂の保護コートからなる保護膜１０３を形成することによって製造される。
【００４１】
また、基板１０１上にＳｉＮ（窒化シリコン）の誘電体層１０ａを成膜する工程の具体的手順は以下のようになる。位相ピットが形成された基板１０１を真空チャンバーに装着し、Ａｒ（アルゴン）ガスとＮ２（窒素）ガスとの混合気を真空チャンバー内に導入する。この際、Ｎ２ガスの流量を変えることでＳｉＮ層（誘電体層１０ａ）の屈折率を変えることができる。また、成膜時間を変えることでＳｉＮ層（誘電体層１０ａ）の膜厚を変えることができる。
【００４２】
ここで、図２に示した光再生媒体の特徴を明確化するために、従来技術に係る光再生媒体（反射率低減層を有しない光再生媒体）について図１０〜図１２を用いて説明する。図１０は、反射層１０２がＡｌ（アルミニウム）で構成された従来技術に係る光再生媒体の構造を示す図である。
【００４３】
図１０に示す光再生媒体は、位相ピットを有する基板１０１上にＡｌ（アルミニウム）膜からなる反射層１０２を成膜し、成膜した反射層１０２上に樹脂の保護コートからなる保護膜１０３を形成することによって製造される。なお、反射層１０２はスパッタ法により成膜し、保護膜１０３はＵＶ硬化樹脂をスピン塗布したうえでＵＶ照射によって硬化させることによって形成される。
【００４４】
ところで、図１０に示した光再生媒体によって、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒといった光再生媒体の反射率変動（反射率のばらつき）を再現するためには、反射層１０２の膜厚を変化させる必要がある。図１１は、図１０に示した光再生媒体における反射層膜厚と反射率との関係を示す図である。
【００４５】
ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの反射率変動を再現するためには、反射率を６０％〜８０％の間に設定することが好ましい。図１１に示すように、反射率を６０％〜８０％の間に設定するためには、反射層１０２の膜厚を１８ｎｍ〜３０ｎｍの間に設定すればよい。しかし、この膜厚範囲は膜厚変化に対する反射率の変動が急激であり、製造ばらつき、劣化による膜厚や膜質の変動によって反射率が変動してしまう。
【００４６】
具体的には、製造ばらつきによって±１０％程度の膜厚ばらつきが発生してしまうことが通常であるが、反射層１０２の膜厚が±１０％ばらつくと、反射率の値が±６％程度もばらついてしまう。
【００４７】
このように、検査媒体として所定の反射率を有する光再生媒体を製造する場合に、反射層１０２の膜厚を変化させることによって所定の反射率を実現しようとすると、膜厚のばらつきによって所望する反射率を得ることが難しい。特に、反射層１０２の膜厚を薄くすることによって反射率を低下させると、反射率のばらつきが増大するので検査媒体として必要な反射率設定の精度を十分に確保できない。
【００４８】
また、上述したように、反射層１０２の膜厚を薄くすると、透過率が高まってしまうという問題も発生する。図１２は、図１０に示した光再生媒体における反射層膜厚と透過率との関係を示す図である。同図に示すように、反射層１０２の膜厚を薄くすると、透過率が急激に高まってしまう。
【００４９】
一方、図２に示した誘電体層１０ａを有する光再生媒体は、誘電体層１０ａの屈折率を変えることで所望する反射率を得ることができるので、光再生媒体の透過率を上昇させることなく反射率を安定して任意の値に設定することが可能である。以下では、図２に示した光再生媒体について、さらに詳細に説明する。
【００５０】
図３は、図２に示した光再生媒体における誘電体層膜厚、反射層膜厚および反射率の関係を示す図である。なお、図２には、誘電体層１０ａの屈折率を２．３とし、反射層１０２および誘電体層１０ａの膜厚をそれぞれ変化させた場合の反射率を示している。
【００５１】
図３に示すように、反射層膜厚を３０ｎｍ以上、より好ましくは４０ｎｍ以上の厚さにすることで、反射層膜厚の変化に対して反射率がほとんど変化しないことがわかる。したがって、反射層膜厚を３０ｎｍ以上もしくは４０ｎｍ以上とすれば、反射層膜厚が変化した場合であっても反射率がほとんど変動しない安定した検査媒体を提供することができる。
【００５２】
図４は、図２に示した光再生媒体における誘電体層膜厚、反射層膜厚および透過率の関係を示す図である。同図に示すように、反射層膜厚を３０ｎｍ以上、より好ましくは４０ｎｍ以上の厚さにすることで、透過率を３０％以内に安定して抑制することができる。
【００５３】
次に、図２に示した光再生媒体における誘電体層１０ａの屈折率を調整する手法について図５を用いて説明する。図５は、図２に示した誘電体層１０ａを形成する際のＮ２流量と誘電体層１０ａの屈折率との関係を示す図である。
【００５４】
図５に示したのは、位相ピットが形成された基板１０１を真空チャンバーに装着し、Ａｒ（アルゴン）ガスとＮ２（窒素）ガスとの混合気を真空チャンバー内に導入する際における、Ｎ２ガスの流量とＳｉＮ層（誘電体層１０ａ）の屈折率との関係である。同図に示すように、Ｎ２流量と屈折率との間には関係があり、Ｎ２流量を多くすると屈折率が低下する傾向にあることがわかる。たとえば、Ｎ２流量を２０ｓｃｃｍとすれば屈折率が２．５のＳｉＮ層（誘電体層１０ａ）を得ることができる。
【００５５】
次に、図２に示した光再生媒体における誘電体層１０ａの屈折率、誘電体層１０ａの膜厚および反射率の関係について図６を用いて説明する。図６は、図２に示した光再生媒体における誘電体層屈折率、誘電体層膜厚および反射率の関係を示す図である。なお、同図には、図２に示したＡｌ（アルミニウム）膜からなる反射層１０２の膜厚を６０ｎｍとした場合の反射率を示している。
【００５６】
図６に示すように、誘電体層１０ａ（ＳｉＮ層）の膜厚変動に対して反射率変動が最も小さい屈折率を選択することが可能であることがわかる。具体的には、同図に示した各屈折率で反射率が最小値となる膜厚に誘電体層１０ａ（ＳｉＮ層）を調整することで、膜厚変動に対する反射率変動を抑制することができる。
【００５７】
たとえば、反射率を６０％にするためには、屈折率を２．３として誘電体層膜厚を約７０ｎｍとすればよい。なお、屈折率を２．８として誘電体層膜厚を約３５ｎｍとすることでも反射率を６０％にすることは可能である。しかし、誘電体層膜厚の変動に対して反射率が敏感に変動してしまうので、検査媒体としての安定性が損なわれてしまう。したがって、上記した最小値の関係を用いることによって、６０％〜７０％の範囲内で安定した反射率を得ることができる。
【００５８】
また、反射率を７０％〜８０％の範囲に設定するには以下のような手順をとればよい。たとえば、屈折率を２として誘電体層膜厚を７０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲で変化させる。なお、屈折率を２．８として誘電体層膜厚を約３５ｎｍ以下とすることでも反射率を７０％〜８０％の範囲に設定することは可能である。しかし、誘電体層膜厚の変動に対して反射率が敏感に反応してしまうので、検査媒体としての安定性が損なわれてしまう。
【００５９】
以上、説明したのは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒを対象とした波長６５０ｎｍ〜８３０ｎｍの範囲で再生をおこなう検査媒体についての実施例である。以下では、ブルーレイディスクを対象とした波長４０５ｎｍの範囲で再生をおこなう検査媒体についての実施例を示す。なお、以下に示す実施例では、反射率低減層１０として金属層を設けた場合について説明する。
【００６０】
まず、反射率低減層１０としてＭｏ（モリブデン）の金属層を設けた場合について図７を用いて説明する。図７は、反射率低減層１０として金属層１０ｂを設けた光再生媒体の構造を示す図である。同図に示す光再生媒体は、位相ピットが形成された基板２０１上に、Ｍｏ（モリブデン）の金属層１０ｂを成膜し、成膜した金属層１０ｂ上にＡｇ（銀）膜からなる反射層２０２をさらに成膜したうえで、この反射層２０２上に樹脂の保護コートからなる保護膜２０３を形成することによって製造される。
【００６１】
また、本実施例では、金属層１０ｂを形成する材質としてＭｏ（モリブデン）を示したが、反射層２０２を形成する金属膜よりも屈折率が大きい材質であれば、他の材質を選択することとしてもよい。
【００６２】
ここで、図７に示した光再生媒体の特徴を明確化するために、従来技術に係る光再生媒体（反射率低減層を有しない光再生媒体）について図１３〜図１５を用いて説明する。図１３は、反射層２０２がＡｇ（銀）で構成された従来技術に係る光再生媒体の構造を示す図である。なお、短い波長を用いるブルーレイディスクでは、記録面の平坦性を確保するためにＡｌ（アルミニウム）ではなくＡｇ（銀）を反射層２０２に使用する。
【００６３】
ところで、図１３に示した光再生媒体によって、ブルーレイディスクの反射率変動（反射率のばらつき）を再現するためには、反射層２０２の膜厚を変化させる必要がある。図１４は、図１３に示した光再生媒体における反射層膜厚と反射率との関係を示す図である。なお、同図に示した「△」がブルーレイディスクの反射率変動であり、比較のために、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで用いられる波長についての反射率変動も示している。
【００６４】
ブルーレイディスクの反射率変動を再現するためには、反射率を６０％〜８０％の間に設定することが好ましい。図１４に示すように、反射率を６０％〜８０％の間に設定するためには、反射層１０２の膜厚を３５ｎｍ〜５０ｎｍの間に設定すればよい。同図に示すように、３５ｎｍ〜５０ｎｍの膜厚範囲において、波長が４０５ｎｍの反射率変動は波長が６５０ｎｍあるいは７８０ｎｍの反射率変動に比べて穏やかではある。
【００６５】
しかし、図１５に示すように、３５ｎｍ〜５０ｎｍの膜厚範囲における透過率が６５０ｎｍあるいは７８０ｎｍの透過率に比べて透過率が大きくなっていることがわかる。なお、図１５は、図１３に示した光再生媒体における反射層膜厚と透過率との関係を示す図である。
【００６６】
一方、図７に示した金属層１０ｂを有する光再生媒体は、光再生媒体の透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に安定して設定することが可能である。以下では、図７に示した光再生媒体について、さらに詳細に説明する。
【００６７】
図８は、図７に示した光再生媒体における金属層膜厚、反射層膜厚および反射率の関係を示す図である。なお、図８には、波長を４０５ｎｍとし、反射層２０２および金属層１０ｂの膜厚をそれぞれ変化させた場合の反射率を示している。
【００６８】
図８に示すように、反射層膜厚を６０ｎｍ以上の厚さにすることで、反射層膜厚の変化に対して反射率がほとんど変化しないことがわかる。したがって、反射層膜厚を６０ｎｍ以上とすれば、反射層膜厚が変化した場合であっても反射率がほとんど変動しない安定した検査媒体を提供することができる。
【００６９】
図９は、図７に示した光再生媒体における金属層膜厚、反射層膜厚および透過率の関係を示す図である。同図に示すように、反射層膜厚を６０ｎｍ以上の厚さにすることで、透過率を１５％以内に安定して抑制することができる。
【００７０】
すなわち、図８および図９からわかるように、反射層膜厚を６０ｎｍ以上の厚さにするとともに、金属層膜厚を３５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲に調整することで、透過率上昇を抑制しつつ安定した反射率を有する検査媒体を提供することができる。
【００７１】
次に、基板（図１、図２および図７参照）上に形成する位相ピットの製造方法について図６および図７を用いて説明する。位相ピットは、レーザー光をレジスト原版に照射する、いわゆる露光プロセスによって形成される。ここで、この位相ピットが形成された基板はスタンパと呼ばれる。このようにして形成されたスタンパを成型機に取り付け、同一のピット形状を有する光再生媒体を大量に生産することになる。
【００７２】
ところで、上記した露光プロセスにおいて位相ピットの形状を調整することで、光再生媒体における様々な記録条件変動による再生波形の乱れを再現することができれば、スタンパに基づいて生産された光再生媒体を検査媒体として使用することが可能となる。
【００７３】
言い換えれば、様々な記録条件変動により発生した光再生媒体のマーク形状変化による再生波形の乱れを光再生媒体の位相ピット調整によって再現した光再生媒体を検査媒体として使用することで、再生波形の乱れの程度を固定化でき安定かつ再現性のよい検査をおこなうことができる。
【００７４】
本実施例では、光再生媒体における再生波形のばらつきを再現するために、露光波形のプロファイルにおける時間およびパワー値を様々に変化させた。図１６は、スタンパ製造プロセスの露光工程におけるパワーと照射時間との関係を示す図である。同図に示すように、露光時間およびパワー値を変更することで、光再生媒体の記録条件変動による再生波形の乱れを再現することができる。
【００７５】
ところで、実際の市場においては、記録関連変動要因（再生波形の歪みやノイズの原因となる要因）が単独で発生することは珍しく、これらの記録関連変動要因が複数同時に発生することが通常である。したがって、光再生媒体の再生検査においても、複数の記録関連変動要因を単独で検査するだけでは、実際の市場における光再生媒体の状況を再現できないため正確な検査をおこなうことができない。
【００７６】
そこで、本実施例では、図１７に一例を示す直交表を用いることによって記録関連変動要因を同時に設定することで、実際の市場における光再生媒体のばらつきを再現することとしている。図１７は、直交表の一例を示す図である。同図に示すように、露光光源のパワーや照射時間の水準、反射率の水準、基板反りや厚さや偏心の水準といった各種水準を、直交表の横軸に従って設定する。そして、直交表の縦軸における検査媒体の再生波形の乱れ方を分析することで、各記録関連変動要因の寄与率が明確になり、光再生媒体の再生装置における再生品質向上のための設計指針を得ることも可能になる。
【００７７】
上述してきたように、本実施例によれば、位相ピットが形成された基板および位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体に、反射層の反射率を低下させる反射率低減層を反射層に対して光入射側に付加するよう構成した。また、この反射率低減層として誘電体層を用い、屈折率を変化させた誘電体層を成膜するよう構成した。さらに、反射層よりも屈折率が高い金属膜からなる金属層を反射率低減層として用いるよう構成した。したがって、透過率を上昇させることなく反射率を任意の値に設定した光再生媒体を提供することができる。
【００７８】
（付記１）位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体であって、前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に備えたことを特徴とする光再生媒体。
【００７９】
（付記２）前記位相ピットによる光散乱の影響を除外した場合に、媒体全体としての反射率が６０％〜８０％であることを特徴とする付記１に記載の光再生媒体。
【００８０】
（付記３）前記反射率低減層は、誘電体層であることを特徴とする付記１または２に記載の光再生媒体。
【００８１】
（付記４）前記反射層がＡｌを主成分とするＡｌ膜であり、かつ、前記誘電体層がＳｉＮを主成分とするＳｉＮ膜であることを特徴とする付記３に記載の光再生媒体。
【００８２】
（付記５）前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする付記４に記載の光再生媒体。
【００８３】
（付記６）前記ＳｉＮ膜の屈折率を変化させることで媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする付記４または５に記載の光再生媒体。
【００８４】
（付記７）前記ＳｉＮ膜の膜厚を変化させたときの媒体全体としての反射率が最小値となる前記ＳｉＮ膜の屈折率を選択することによって媒体全体としての反射率が調整されたことを特徴とする付記６に記載の光再生媒体。
【００８５】
（付記８）前記ＳｉＮ膜の膜厚が５０ｎｍ〜９０ｎｍであることを特徴とする付記７に記載の光再生媒体。
【００８６】
（付記９）媒体全体としての反射率が６０％〜７０％であることを特徴とする付記７または８に記載の光再生媒体。
【００８７】
（付記１０）前記ＳｉＮ膜の屈折率が１．９〜２．１であり、かつ、前記ＳｉＮ膜の膜厚が２０ｎｍ〜８０ｎｍであることを特徴とする付記６に記載の光再生媒体。
【００８８】
（付記１１）媒体全体としての反射率が７０％〜８０％であることを特徴とする付記１０に記載の光再生媒体。
【００８９】
（付記１２）スパッタ法による成膜時におけるＮ２流量を変更することによって前記ＳｉＮ膜の屈折率が調整されたことを特徴とする付記６〜１１のいずれか一つに記載の光再生媒体。
【００９０】
（付記１３）前記Ａｌ膜の膜厚が３０ｎｍ以上であり、かつ、前記Ａｌ膜と前記ＳｉＮ膜との合計膜厚が２００ｎｍ以下であることを特徴とする付記４〜１２のいずれか一つに記載の光再生媒体。
【００９１】
（付記１４）前記反射率低減層は、前記反射層よりも屈折率よりも大きい金属層であることを特徴とする付記１または２に記載の光再生媒体。
【００９２】
（付記１５）前記反射層がＡｇを主成分とするＡｇ膜であり、かつ、前記金属層がＭｏを主成分とするＭｏ膜であることを特徴とする付記１４に記載の光再生媒体。
【００９３】
（付記１６）前記Ｍｏ膜の膜厚が３ｎｍ〜９ｎｍであることを特徴とする付記１５に記載の光再生媒体。
【００９４】
（付記１７）前記Ａｇ膜の膜厚が６０ｎｍ以上であり、かつ、前記Ａｇ膜と前記Ｍｏ膜との合計膜厚が２００ｎｍ以下であることを特徴とする付記１５または付記１６に記載の光再生媒体。
【００９５】
（付記１８）前記位相ピットは、スタンパ製造プロセスの露光工程における露光光源パワーまたは照射時間を変化させることによって再生波形の歪みあるいはノイズが再生されるよう調整されたことを特徴とする付記１に記載の光再生媒体。
【００９６】
（付記１９）前記露光光源パワー、前記照射時間および媒体全体としての反射率が直交表に従って設定されていることを特徴とする付記１８に記載の光再生媒体。
【００９７】
（付記２０）基板反り、基板厚さ、偏心のうち少なくとも一つが前記直交表に従って設定されていることを特徴とする付記１９に記載の光再生媒体。
【００９８】
（付記２１）位相ピットが形成された基板および前記位相ピットに向けて照射される光を反射する反射層を有する光再生媒体の製造方法であって、前記反射層の反射率を低下させる反射率低減層を前記反射層に対して光入射側に形成する反射率低減層形成工程を含んだことを特徴とする光再生媒体の製造方法。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
以上のように、本発明に係る光再生媒体および光再生媒体の製造方法は、光再生媒体の反射率を任意の値に安定して設定したい場合に有用であり、特に、所定の反射率を有する検査媒体を得たい場合に適している。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明に係る光再生媒体の構造を示す図である。
【図２】反射率低減層として誘電体層を設けた光再生媒体の構造を示す図である。
【図３】図２に示した光再生媒体における誘電体層膜厚、反射層膜厚および反射率の関係を示す図である。
【図４】図２に示した光再生媒体における誘電体層膜厚、反射層膜厚および透過率の関係を示す図である。
【図５】図２に示した誘電体層を形成する際のＮ２流量と誘電体層の屈折率との関係を示す図である。
【図６】図２に示した光再生媒体における誘電体層屈折率、誘電体層膜厚および反射率の関係を示す図である。
【図７】反射率低減層として金属層を設けた光再生媒体の構造を示す図である。
【図８】図７に示した光再生媒体における金属層膜厚、反射層膜厚および反射率の関係を示す図である。
【図９】図７に示した光再生媒体における金属層膜厚、反射層膜厚および透過率の関係を示す図である。
【図１０】反射層がＡｌで構成された従来技術に係る光再生媒体の構造を示す図である。
【図１１】図１０に示した光再生媒体における反射層膜厚と反射率との関係を示す図である。
【図１２】図１０に示した光再生媒体における反射層膜厚と透過率との関係を示す図である。
【図１３】反射層がＡｇで構成された従来技術に係る光再生媒体の構造を示す図である。
【図１４】図１３に示した光再生媒体における反射層膜厚と反射率との関係を示す図である。
【図１５】図１３に示した光再生媒体における反射層膜厚と透過率との関係を示す図である。
【図１６】スタンパ製造プロセスの露光工程におけるパワーと照射時間との関係を示す図である。
【図１７】直交表の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１０  反射率低減層
１０ａ  誘電体層
１０ｂ  金属層
１０１、２０１  基板
１０２、２０２  反射層
１０３、２０３  保護膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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