(57)【要約】【課題】平面部分に均一な厚さで且つ均質なターゲットを形成し得るＸ線発生用ターゲットの製造方法を提供する。【解決手段】Ｘ線発生用ターゲットを構成する２種類の材料３Ａ，３Ｂが、その保持面４ａに保持された材料ホルダ４の上記各材料３Ａ，３ＢにレーザビームＲを照射してそれぞれの材料粒子を飛散させるとともにマスク部材５の開口部５ａを通過させて、各材料３Ａ，３Ｂに対向して設けられたターゲットホルダ１の前面２に材料粒子を付着させてターゲットＴを形成する際に、上記レーザビームＲを揺動させることにより、各材料３Ａ，３Ｂに対するレーザビームＲの照射位置を変化させる方法である。【選択図】      図１
2007066779.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材の上記各構成材料にレーザビームを照射してそれぞれの材料粒子を飛散させるとともにマスク部材の開口部を通過させて、上記各構成材料に対向して設けられたターゲット保持部材の表面に上記材料粒子を付着させる際に、
上記レーザビームを揺動させることにより、構成材料に対するレーザビームの照射位置を変化させることを特徴とするＸ線発生用ターゲットの製造方法。
【請求項２】
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材の上記各構成材料にレーザビームを照射してそれぞれの材料粒子を飛散させるとともにマスク部材の開口部を通過させて、上記各構成材料に対向して設けられたターゲット保持部材の表面に上記材料粒子を付着させる際に、
上記材料粒子が付着したターゲット保持部材の表面温度に応じて、上記レーザビームを揺動させることにより構成材料に対するレーザビームの照射位置を変化させることを特徴とするＸ線発生用ターゲットの製造方法。
【請求項３】
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材と、
この材料保持部材に保持された各構成材料にレーザビームを照射するレーザ照射器と、
このレーザ照射器によりレーザビームが各構成材料に照射されて飛散した材料粒子がマスク部材の開口部を通過して付着させるターゲット保持部材と、
上記レーザ照射器から照射されたレーザビームを揺動させるビーム揺動装置と
から構成したことを特徴とするＸ線発生用ターゲットの製造装置。
【請求項４】
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材と、
この材料保持部材に保持された各構成材料にレーザビームを照射するレーザ照射器と、
このレーザ照射器によりレーザビームが各構成材料に照射されて飛散した材料粒子がマスク部材の開口部を通過して付着させるターゲット保持部材と、
上記レーザ照射器から照射されたレーザビームを揺動させるビーム揺動装置と、
上記ターゲット保持部材の表面に付着された材料粒子層の温度を検出する温度検出器と、
この温度検出器からの検出温度に基づき上記ビーム揺動装置を制御するビーム制御部と
から構成したことを特徴とするＸ線発生用ターゲットの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線発生用ターゲットの製造方法および製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線発生装置は、通常、フィラメント（陰極）とターゲット（対陰極または陽極ともいう）とが互いに対向するように配置されており、フィラメントに通電することで熱電子が放出され、そしてこの熱電子がターゲットに衝突することで、ターゲットの表面からＸ線を発生させるようにしたものである。その他、上記熱電子放出の代わりに、電界電子を放出するＸ線発生装置もあるが、この場合も、熱電子放出と同様のターゲットでＸ線を発生させることができる。
【０００３】
また、ターゲットから発生するＸ線は、材料固有の特性Ｘ線と、印加電圧で決定される連続Ｘ線とからなる。
一般的に、ターゲットの構成材料としては、銅（８．０ｋｅＶ）やモリブデン（１７．４ｋｅＶ）が用いられており、さらに高いエネルギーが求められる場合は、銀（２２．１ｋｅＶ）やタングステン（５８．９ｋｅＶ）が用いられている。そして、医療分野で必要とされる３０〜４０ｋｅＶ程度の高いエネルギーのＸ線用としては、希土類金属が相当するが、希土類金属をターゲットの材料に用いたＸ線検査装置は、未だ一般的でないのが現状である。
【０００４】
ところで、ターゲットの表面には高速の熱電子が衝突するため、Ｘ線の出力に比例してターゲット自身が高温となる。このため、Ｘ線発生用ターゲットを、熱伝導性の高い金属材料から成る基台（治具ともいう）にターゲット部材を接触させて構成するとともに、この基台に冷却手段を設けることで、ターゲット部材からの放熱を行っている。
【０００５】
特に、ターゲット部材が熱伝導性の低い希土類金属で構成されている場合、ターゲット部材自体の放熱性が悪く、高出力のＸ線を発生させることが困難であった。
そこで、ターゲット部材を希土類金属で構成する場合、熱伝導性の高い金属材料から成る基台に、中間層を介して、拡散接合などを用いて強固に接合して、放熱し易いように考慮されていた。
【０００６】
しかし、ターゲットと治具の双方の熱伝導性が異なるため、熱膨張差によりターゲットにクラックや剥離が発生するという問題があり、この問題を解決するものとして、希土類金属の粉体と熱伝導性の高い金属材料の粉体とを加圧成形することで、ターゲットにクラックや剥離が発生するのを防止し得る製造方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−１６４８８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上述した製造方法によると、ターゲットの厚さが不均一であったり、希土類金属の粉体と熱伝導性の高い金属材料の粉体とが不均質な状態であると、十分な放熱性が得られず、やはり、ターゲットにクラックや剥離が発生するという問題がある。また、平板形状ではなく、筒型や、円錐型などの曲面形状のターゲットにおいては、曲面部分などの複雑な形状部分に均一な厚さで且つ均質なターゲットを形成するのが困難であった。
【０００８】
そこで、本発明は、平面部分や曲面部分を問わず、均一な厚さで且つ均質なターゲットを形成し得るＸ線発生用ターゲットの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の請求項１に係るＸ線発生用ターゲットの製造方法は、
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材の上記各構成材料にレーザビームを照射してそれぞれの材料粒子を飛散させるとともにマスク部材の開口部を通過させて、上記各構成材料に対向して設けられたターゲット保持部材の表面に上記材料粒子を付着させる際に、
上記レーザビームを揺動させることにより、構成材料に対するレーザビームの照射位置を変化させる方法である。
【００１０】
また、請求項２に係るＸ線発生用ターゲットの製造方法は、
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材の上記各構成材料にレーザビームを照射してそれぞれの材料粒子を飛散させるとともにマスク部材の開口部を通過させて、上記各構成材料に対向して設けられたターゲット保持部材の表面に上記材料粒子を付着させる際に、
上記材料粒子が付着したターゲット保持部材の表面温度に応じて、上記レーザビームを揺動させることにより構成材料に対するレーザビームの照射位置を変化させる方法である。
【００１１】
さらに、本発明の請求項３に係るＸ線発生用ターゲットの製造装置は、
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材と、
この材料保持部材に保持された各構成材料にレーザビームを照射するレーザ照射器と、
このレーザ照射器によりレーザビームが各構成材料に照射されて飛散した材料粒子がマスク部材の開口部を通過して付着させるターゲット保持部材と、
上記レーザ照射器から照射されたレーザビームを揺動させるビーム揺動装置と
から構成したものである。
【００１２】
また、請求項４に係るＸ線発生用ターゲットの製造装置は、
Ｘ線発生用ターゲットの構成材料が複数種類保持された材料保持部材と、
この材料保持部材に保持された各構成材料にレーザビームを照射するレーザ照射器と、
このレーザ照射器によりレーザビームが各構成材料に照射されて飛散した材料粒子がマスク部材の開口部を通過して付着させるターゲット保持部材と、
上記レーザ照射器から照射されたレーザビームを揺動させるビーム揺動装置と、
上記ターゲット保持部材の表面に付着された材料粒子層の温度を検出する温度検出器と、
この温度検出器からの検出温度に基づき上記ビーム揺動装置を制御するビーム制御部とから構成したものである。
【発明の効果】
【００１３】
上記各Ｘ線発生用ターゲットの製造方法および製造装置によると、材料保持部材に保持された材料にレーザビームを照射して材料粒子を飛散させるとともにその飛散途中でナノクラスター化したものがマスク部材の開口部を介してターゲット保持部材の表面に付着（堆積）することにより、ターゲット保持部材の表面に均一な厚さのターゲットが形成され、しかもレーザビームをビーム揺動装置により揺動させるようにしたので、均一な厚さで且つ均質なターゲットを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［実施の形態１］
以下、本発明の実施の形態１に係るＸ線発生用ターゲットの製造方法および製造装置について説明する。
【００１５】
なお、以下に示す各実施の形態におけるＸ線発生用ターゲットは、複数種類、例えば２種類の構成材料、すなわち熱伝導性の低い金属材料（以下、第１材料という）、例えばホウ化希土類金属［より具体的には、六ホウ化ランタン（ＬａＢ６）が用いられる］と、放熱のための希土類金属よりも熱伝導性が高い銅などの金属材料（以下、第２材料という）とが混合されたものとして説明する。
【００１６】
まず、Ｘ線発生用ターゲットの製造装置を、図１に基づき説明する。
この製造装置は、ターゲットＴを平面部分であるその前面（表面の一例で、前端面でもある）２に形成するようにされた水平横置きの円柱状ターゲットホルダ（ターゲット保持部材）１と、このターゲットホルダ１の前面２に対向する位置に配置されるとともに例えば円板形状に形成された第１および第２材料３（３Ａ，３Ｂ）を保持し得る材料ホルダ（材料保持部材）４と、この材料ホルダ４と上記ターゲットホルダ１との間で且つその前面２近傍に配置されて材料３を通過させる開口部５ａを有するマスク部材５と、上記材料ホルダ４に保持された各材料３にビーム分割機構６を介してそれぞれレーザビームＲを照射する１台のレーザ照射器７と、分割された各レーザビームＲの照射経路の途中に例えば２台ずつ配置されてレーザビームＲを任意の方向に揺動させる（振る）ための、言い換えれば、材料３に対する照射位置を変化（移動）させるためのビーム揺動装置８（８Ａ，８Ｂ）と、これら各ビーム揺動装置８を制御するためのビーム制御部９とから構成されている。
【００１７】
上記ビーム揺動装置８Ａ，８Ｂはそれぞれ２台ずつ配置され、しかもそれぞれの一方は所定方向（Ｘ方向）でレーザビームＲを揺動させるとともに、それぞれの他方は所定方向と直交する方向（Ｙ方向）でレーザビームＲを揺動させるもので、具体的には、ガルバノミラーが用いられている。
【００１８】
そして、各ビーム揺動装置８におけるミラー部８ａは、ビーム制御部９で発生された制御信号によりランダムに揺動されて、レーザビームＲの材料３に対する照射位置が変化されるため、材料３の表面Ｓに均一に照射されることになる。この照射位置が変化することにより、材料粒子の発生位置および発生方向（飛散方向）が変化（変動）することになる。
【００１９】
また、上記材料ホルダ４における材料３の保持面４ａは例えば凹状の円錐形にされるとともに、各材料３Ａ，３Ｂについては、その凹状円錐面である保持面４ａの中心を挟んだ両側の対称位置、例えば上下位置（または水平の左右位置でもよい）で保持されている。
【００２０】
より詳しく言えば、各材料３Ａ，３Ｂが保持された保持面４ａは鉛直軸心（ターゲット表面と平行な軸心）ａに対して、所定角度θでもって傾斜されるとともに、各材料３Ａ，３Ｂの表面に直交するように（図面では、正確に描かれていないが）レーザビームＲがそれぞれ照射されるように構成されている。
【００２１】
すなわち、上記ビーム分割機構６は、当該ビーム分割機構６により分割された２本のレーザビームＲがそれぞれ各材料３Ａ，３Ｂの表面に直交して照射されるように、１個のビームスプリッタ１１と、２個の反射ミラー１２とで構成されるとともに、これらビームスプリッタ１１および反射ミラー１２は、ビームスプリッタ１１により分割された一方のレーザビームＲが一方（下側）の材料３Ａに照射されるように、また分割された他方のレーザビームＲが２個の反射ミラー１２を介して他方（上側）の材料３Ａに照射されるようにそれぞれ配置される。つまり、図１に示すように、２本のレーザビームＲは、互いに交差することになる。
【００２２】
また、これら保持面４ａとマスク部材５の開口部５ａとの位置関係については、材料３にレーザビームＲが照射されると、当該円板形状の材料３の表面Ｓに対して直交する方向（所謂、法線方向）に材料粒子が飛散する（「蒸気が発生する」ともいえる）ため、両材料３Ａ，３Ｂの表面Ｓの中心を通る法線がマスク部材５の開口部５ａ近傍を通過するように設けられる。すなわち、飛散した材料粒子が自然に開口部５ａに向くようにされている。
【００２３】
さらに、上記製造装置のうち、少なくとも、各材料３を保持する材料ホルダ４およびターゲットホルダ１については、密封容器（図示せず）で覆われており、ターゲットの製造時においては、真空状態にされるとともに冷却用の不活性ガスが供給されている。
【００２４】
次に、上記製造装置を用いてターゲットを製造する方法について説明する。
材料ホルダ４に第１および第２材料３Ａ，３Ｂを保持させた状態で、レーザ照射器７からレーザビームＲを発射させてビーム分割機構６により２本のレーザビームＲにして各材料３Ａ，３Ｂに対してそれぞれ照射するとともに、ビーム制御部９から各ビーム揺動装置８に制御信号が出力されて、各材料３Ａ，３Ｂの表面ＳにおけるレーザビームＲの照射位置がランダムに変化（移動）される（なお、ランダムではなく、適当な順序で、照射位置を変化させるようにしてもよい）。
【００２５】
レーザビームＲが照射された各材料３Ａ，３Ｂはレーザアブレーションにより加熱・蒸発されてプルーム３ａ，３ｂと呼ばれる材料粒子塊（蒸気原子塊ともいう）が発生し、そして不活性ガス中で冷却される過程でナノクラスター化するとともにマスク部材５の前方領域で混合して十分に均質化（均一化）され、この均質化されたナノクラスターがマスク部材５の開口部５ａを通過してターゲットホルダ１の前面２に付着（堆積）し、ターゲットＴが形成される。なお、上述したように、２本レーザビームＲはプルームの混合領域で交差することになるが、プルームが形成される時点では、レーザビームの照射が既に終わっているため問題はない。
【００２６】
そして、このとき、レーザ揺動装置８によりレーザビームＲが揺動されて各材料３Ａ，３Ｂの表面Ｓから材料粒子が均一に飛散するため、形成されるターゲットＴの厚さは均一になるとともに均質なものとなる。
【００２７】
例えば、レーザビームＲを揺動させない場合には、図２（ａ）に示すように、プルーム３ａ，３ｂはそれ程広がることはないが、レーザビームＲを揺動させた場合には、図２（ｂ）に示すように、プルーム３ａ，３ｂはかなり広がることになる。
【００２８】
上述したように、材料ホルダ４に保持された２種類の材料３Ａ，３ＢにレーザビームＲをそれぞれ照射してレーザアブレーションによりプルーム３ａ，３ｂと呼ばれる材料粒子塊を発生させ、不活性ガス中で冷却させる過程にてナノクラスター化されたものがマスク部材５の前方領域である混合領域にて十分に均質化され、そしてこの均質化されたナノクラスターをマスク部材５の開口部５ａを介してターゲットホルダ１の前面２に付着（堆積）させることにより、ターゲットホルダ１の前面２に均一な厚さのターゲットＴが形成される。しかも、レーザビームＲをビーム揺動装置８により揺動させるようにしたので、２種類の材料３Ａ，３Ｂが十分に混合されて、より均質化され且つより均一厚さのターゲットＴを得ることができる。
［実施の形態２］
次に、本発明の実施の形態２に係るＸ線発生用ターゲットの製造方法および製造装置について説明する。
【００２９】
まず、Ｘ線発生用ターゲットの製造装置を、図３に基づき説明する。
この製造装置は、ターゲットＴが平面部分であるその前面（表面の一例で、前端面でもある）２２に形成するようにされた水平横置きの円柱状ターゲットホルダ（ターゲット保持部材）２１と、このターゲットホルダ２１の前面２２に対向する位置に配置されて実施の形態１と同様の円板形状の２種類の第１および第２材料２３（２３Ａ，２３Ｂ）を保持し得る材料ホルダ（材料保持部材）２４と、この材料ホルダ２４と上記ターゲットホルダ２１との間で且つその前面２２近傍に配置されて材料２３を通過させる開口部２５ａを有するマスク部材２５と、上記材料ホルダ２４に保持された各材料２３にビーム分割機構２６を介してレーザビームＲをそれぞれ照射する１台のレーザ照射器２７と、各レーザビームＲの照射経路の途中に例えば２台ずつ配置されてレーザビームＲを任意の方向に揺動させる（振る）ための、言い換えれば、材料２３に対する照射位置を変化（移動）させるためのビーム揺動装置２８（２８Ａ，２８Ｂ）と、材料ホルダ２４の中央に配置されてターゲットホルダ２１の前面２２に付着された材料粒子層すなわちターゲットＴの温度を検出し得る温度検出器２９と、この温度検出器２９からの検出温度を入力して上記各ビーム揺動装置２８を制御するためのビーム制御部３０とから構成されている。
【００３０】
上記ビーム揺動装置２８Ａ，２８Ｂはそれぞれ２台ずつ配置され、しかもそれぞれの一方は所定方向（Ｘ方向）でレーザビームＲを揺動させるとともに、それぞれの他方は所定方向と直交する方向（Ｙ方向）でレーザビームＲを揺動させるもので、具体的には、ガルバノミラーが用いられている。
【００３１】
そして、各ビーム揺動装置２８に設けられたミラー部２８ａは、温度検出器２９からの検出温度がビーム制御部３０に入力されて、ここでターゲットＴの温度分布が求められ、この温度分布が一様となるように、ビーム揺動装置２８に制御信号が出力され、このレーザビームＲの材料２３の表面Ｓに対する照射位置が制御されて、材料２３から飛散する材料粒子がターゲットホルダ２１の前面２２に均一に付着するようにされる。
【００３２】
また、上記材料ホルダ２４における材料２３の保持面２４ａは凹状の円錐形にされるとともに、各材料２３Ａ，２３Ｂについては、その凹状円錐面である保持面２４ａの中心を挟んだ両側の対称位置、例えば上下位置（または水平の左右位置でもよい）で保持され、さらにこの保持面２４ａの中心部に、温度検出器２９のセンサ部を挿入するための開口部２４ｂが形成されている。
【００３３】
詳しく言えば、各材料２３Ａ，２３Ｂが保持された保持面２４ａは鉛直軸心（ターゲット表面と平行な軸心）ａに対して、所定角度θでもって傾斜されるとともに、各材料３Ａ，３Ｂの表面に直交するように（図面では、正確に描かれていないが）レーザビームＲがそれぞれ照射されるように構成されている。
【００３４】
すなわち、上記ビーム分割機構２６は、当該ビーム分割機構２６により分割された２本のレーザビームＲがそれぞれ各材料２３Ａ，２３Ｂの表面に直交して照射されるように、１個のビームスプリッタ３１と、２個の反射ミラー３２とで構成されるとともに、これらビームスプリッタ３１および反射ミラー３２は、ビームスプリッタ３１により分割された一方のレーザビームＲが一方（下側）の材料２３Ａに照射されるように、また分割された他方のレーザビームＲが２個の反射ミラー３２を介して他方（上側）の材料２３Ａに照射されるようにそれぞれ配置される。つまり、図３に示すように、２本のレーザビームＲは、互いに交差することになる。
【００３５】
また、これら保持面２４ａとマスク部材２５の開口部２５ａとの位置関係については、材料２３にレーザビームＲが照射されると、当該円板形状の材料２３の表面Ｓに対して直交する方向（所謂、法線方向）に材料粒子が飛散する（「蒸気が発生する」ともいえる）ため、両材料２３Ａ，２３Ｂの表面Ｓの中心を通る法線がマスク部材２５の開口部２５ａ近傍を通過するように設けられる。すなわち、飛散した材料粒子が自然に開口部２５ａに向くようにされている。
【００３６】
なお、上記製造装置の内、少なくとも、各材料２３が蒸発されターゲットホルダ２１の前面２２に付着する部分については、密封容器（図示せず）にて覆われるとともに内部に不活性ガスが充満されている。
【００３７】
次に、上記製造装置を用いてターゲットを製造する方法について説明する。
材料ホルダ２４に第１および第２材料２３Ａ，２３Ｂを保持させた状態で、レーザ照射器２７からレーザビームＲをそれぞれ各材料２３Ａ，２３Ｂに対して照射する。
【００３８】
すると、各材料２３Ａ，２３Ｂは、レーザアブレーションにより加熱・蒸発されてプルーム２３ａ，２３ｂと呼ばれる材料粒子塊（蒸気原子塊ともいう）が発生し、不活性ガス中で冷却される過程でナノクラスター化するとともにマスク部材２５の前方領域で混合して十分に均質化（均一化）され、そしてこの均質化されたナノクラスターがマスク部材２５の開口部２５ａを通過してターゲットホルダ２１の前面２２に付着（堆積）し、ターゲットＴが形成される。
【００３９】
そして、この付着時においては、前面２２に付着したターゲットＴの温度が温度検出器２９により検出されており、ビーム制御部３０でその温度分布に偏りが生じていると判断された場合には、当該ビーム制御部３０から、ビーム揺動装置２８に揺動の制御信号が出力されて、温度分布が均一になるように、レーザビームＲの照射位置が広い範囲で揺動されるため、ターゲットＴの厚さが、より均一となる。
【００４０】
この実施の形態２においても、実施の形態１と同様の効果が得られるほか、特に、ターゲットホルダ２１の前面２２の材料粒子層での温度に基づき、レーザビームＲの材料２３Ａ，２３Ｂへの照射位置を変化させるようにしているので、実施の形態１の場合よりも、より、均一な厚さのターゲットＴを形成することができる。
【００４１】
ところで、上記各実施の形態においては、材料ホルダを、凹状円錐形の保持面の対称位置に、例えば上下位置に２種類の材料を保持させるように説明したが、図４に示すように、材料ホルダ４４の凹状円錐面である保持面４４ａに、２種類の材料４３Ａ，４３Ｂ；４３′Ａ，４３′Ｂの組を２組配置しておき、一方の組の材料４３Ａ，４３Ｂが無くなった場合、材料ホルダ４４を例えば矢印ｂ方向に９０度回転させて、他方の組の材料４３′Ａ，４３′Ｂを、レーザビームへの照射部分に移動させるようにしてもよい。
【００４２】
このような構成とすることにより、真空下で行われる材料粒子の飛散を、真空状態を破ることなく、連続してターゲットの製造を行うことができる。
また、上記実施の形態においては、ターゲットホルダを円柱形状にするとともに、その前面（前端面）の平面部分を、ターゲットの付着面（形成面）として説明したが、例えば図５に示すように、ターゲットホルダ５１を截頭円錐台形状にするとともに、曲面部分の外周面（円錐面である）５２にターゲットを形成するようにしてもよい。
【００４３】
この場合、ターゲットホルダ５１の外周に配置された例えば円筒形状の材料ホルダ５４の内側の保持面５４ａに且つ上下位置に第１材料５３（５３Ａ）および第２材料５３（５３Ｂ）を保持させておき、これら各材料５３Ａ，５３Ｂに、２台のレーザ照射器５６（５６Ａ，５６Ｂ）からそれぞれレーザビームＲを照射するとともに、ターゲットホルダ５１を水平軸心ｃ回りで回転させ、および／または水平軸心ｃ方向で移動させることにより、円錐面である外周面５２に、均一な厚さのターゲットを形成することができる。
【００４４】
また、上記実施の形態においては、ターゲットの構成材料を２種類としたが、１種類の場合でもよく、３種類以上の場合でも適用することができる。
また、上記実施の形態においては、材料ホルダの保持面を、凹状の円錐形または図５に示すような円筒形として説明したが、ターゲットの構成材料を、それぞれの所定位置（例えば、マスク部材の開口部に対応する位置）で保持し得るものであれば、その形状および個数については、任意に設定することができる。
【００４５】
さらに、上記実施の形態においては、１台のレーザ照射器から照射されたレーザビームをビーム分割機構により２本に分割したが、ビーム分割機構を用いずに、レーザ照射器を２台（またはそれ以上）設けて、各材料に応じてレーザ照射器をそれぞれ配置してもよい。
【００４６】
ところで、上記各実施の形態で説明したように、レーザビームを揺動させる以外に、ターゲットホルダを回転させることにより、ターゲットを均質で且つ均一な厚さで形成し得る構成について、簡単に説明しておく。
【００４７】
すなわち、図６に示すように、ターゲットホルダ６１を円柱状に形成するとともに、その軸心ｄが水平軸心回りで回転し得るように、電動機などの回転駆動装置６２で回転させることにより、その前端面６１ａにターゲットＴを均質に且つ均一な厚さでもって形成することができる。
【００４８】
また、図７に示すように、ターゲットホルダ７１を円柱状に形成するとともに、その軸心ｅが鉛直軸心回りで回転し得るように、電動機などの回転駆動装置７２で回転させることにより、その外周面７１ａに、ターゲットＴを均質に且つ均一な厚さでもって形成するようにしてもよい。
【００４９】
なお、図６および図７において、ターゲットホルダおよび回転駆動装置以外の構成部材については、実施の形態１と同様であり、その部材番号の記載を省略している。
また、上述した図１、図３、図６および図７に示した各実施の形態では、レーザ照射器を１台配置してビーム分割機構を介してレーザビームを分割するように説明したが、勿論、レーザ照射器を各材料に応じて２台（またはそれ以上）配置してもよい。但し、各材料に応じてレーザ照射器を複数台設けた場合、それぞれのレーザビームを交差させることなく、直接、レーザ照射器からレーザビームを材料の表面に照射させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施の形態１に係るＸ線発生用ターゲットの製造装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】同製造装置でのプルームの発生状態を示す要部側面図で、（ａ）はレーザビームを揺動させない場合を示し、（ｂ）はレーザビームを揺動させた場合を示す。
【図３】本発明の実施の形態２に係るＸ線発生用ターゲットの製造装置の概略構成を示す側面図である。
【図４】本発明の各実施の形態に係る製造装置における材料ホルダの変形例を示す正面図である。
【図５】本発明の実施の形態に係る製造装置におけるターゲットホルダの変形例を示す側面図である。
【図６】同製造装置の変形例を示す側面図である。
【図７】同製造装置の他の変形例を示す側面図である。
【符号の説明】
【００５１】
Ｔ      ターゲット
１      ターゲットホルダ
２      前面
３      材料
４      材料ホルダ
４ａ    保持面
５      マスク部材
５ａ    開口部
６      ビーム分割機構
７      レーザ照射器
８      ビーム揺動装置
９      ビーム制御部
２１      ターゲットホルダ
２２    前面
２３      材料
２４      材料ホルダ
２４ａ    保持面
２５      マスク部材
２５ａ    開口部
２６      ビーム分割機構
２７      レーザ照射器
２８      ビーム揺動装置
２９      温度検出器
３０      ビーム制御部
【図１】
2007066779.tif 000003
【図２】
2007066779.tif 000004
【図３】
2007066779.tif 000005
【図４】
2007066779.tif 000006
【図５】
2007066779.tif 000007
【図６】
2007066779.tif 000008
【図７】
2007066779.tif 000009