(57)【要約】【課題】ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであって、シートの硬化後において、硬化した転写シートの転写層が、銀合金等の反射層から剥離することなくスタンパの剥離が容易であり、従って、ピット等の凹凸信号面の精確な形状が得られやすい光硬化性転写シートを提供すること。【解決手段】加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物（一般にリン酸エステル系化合物）を含むことを特徴とする光硬化性転写シート。光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含んでいる。この光硬化性転写シートを用いた光情報記録媒体の製造方法；及び光情報記録媒体。【選択図】図１
2007291339.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物を含むことを特徴とする光硬化性転写シート。
【請求項２】
光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項３】
リン原子含有化合物が、リン酸エステル系化合物である請求項１又は２に記載の光硬化性転写シート。
【請求項４】
リン原子含有化合物が、下記の一般式（Ｉ）：
【化１】
2007291339.tif 000009
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表されるリン酸エステル系化合物である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項５】
リン原子含有化合物が、下記の一般式（II）：
【化２】
2007291339.tif 000010
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項６】
光硬化性組成物が、リン原子含有化合物を０．０１〜０．５質量％含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項７】
ポリマーのガラス転移温度が８０℃以上である請求項２〜６のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項８】
光硬化性転写層の３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上である請求項１〜７のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項９】
光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃未満である請求項１〜８のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１０】
ポリマーが、アクリル樹脂である請求項２〜９のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１１】
アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％含むアクリル樹脂である請求項１０に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１２】
アクリル樹脂が、光重合性官能基を有するアクリル樹脂である請求項１０又は１１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１３】
アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である請求項１０又は１１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１４】
光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１５】
ポリマーの重量平均分子量が１０００００以上である請求項２〜１４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１６】
光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１７】
光硬化性転写層の一方又は両方の表面に、剥離シートが設けられている請求項１〜１６のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１８】
光硬化性転写層の両方の表面に、剥離シートが設けられている請求項１〜１６のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１９】
一方の剥離シート（第１剥離シート）が、プラスチックフィルムと、その上に設けられた、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる請求項１８に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２０】
もう一方の剥離シート（第２剥離シート）が、プラスチックフィルムと、その上の、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、不飽和２重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物からなる請求項１８又は１９に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２１】
３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２２】
３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２３】
光硬化性転写層の厚さが５〜３００μｍである請求項１〜２２のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２４】
光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である請求項１〜２３のいずれか１項に記載の光硬化性転写シート。
【請求項２５】
ナノインプリントプロセス用である請求項１〜２４のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項２６】
下記の工程（２）〜（４）：
（２）請求項１７〜２４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シートが両面に剥離シートを有する場合、その一方の剥離シートを除去する工程；
（３）表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程；及び
（４）該積層体から、もう一方の剥離シートを除去する工程、
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２７】
反射層が、銀又は銀合金の層である請求項２６に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２８】
前記工程（２）の前に、
（１）光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程
を行う請求項２６又は２７に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２９】
前記工程（４）を行った後、さらに
（５）該積層体のもう一方の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパを該凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（６）該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程；
を含む請求項２６〜２８のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３０】
スタンパが、ニッケル製である請求項２９に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３１】
前記（６）の紫外線照射を少なくとも３００ｍＪ／ｃｍ2の照射エネルギーで行う請求項２８又は２９に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３２】
前記（６）で得られる光硬化性転写層のガラス転移温度が６５℃以上である請求項２８〜３１のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３３】
前記（５）〜（６）の工程を行った後、さらに
（７）光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程；
を含む請求項２９〜３２のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３４】
表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパを、請求項１〜２５のいずれかに記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層に、該スタンパの凹凸パターン表面が該転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該転写層の表面が該パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
該スタンパを有する積層体の転写層を硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、該層の表面に凹凸パターンを設ける工程；
を含む凹凸パターンの形成方法。
【請求項３５】
請求項２６〜３３のいずれかに記載の製造方法により得られる光情報記録媒体。
【請求項３６】
表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、その凹凸に沿って請求項１〜２４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層が設けられていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３７】
表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３８】
表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられ、さらに凹凸表面及び反射層を有する１層以上の別の中間樹脂層が、中間樹脂層の凹凸を持たない表面をすでに設けられた中間樹脂層の反射層に対向させて、すでに設けられた中間樹脂層の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であることを特徴とする光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＣＤ（Compact Disc）等の大容量の文字、音声、動画像等の情報をディジタル信号として記録された及び／又は記録可能な光情報記録媒体、その製造方法、並びにこの光情報記録媒体の製造方法及びナノインプリントプロセスに有利に使用される光硬化性転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディジタル信号として表面にピット形成された記録済み光情報記録媒体（光ディスク）として、オーディオ用ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭが以前から広く使用されているが、最近では、動画像と記録も可能な両面にピット記録がなされたＤＶＤが、ＣＤの次世代記録媒体として使用され、その使用量も拡大している。またピット及びグルーブが形成されたユーザが記録可能なＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等も広く使用されている。
【０００３】
さらに高密度記録が可能な光ディスクとして、２００２年２月１０日に次世代光ディスクの統一規格「ブルーレイ・ディスク（Blu-ray Disc）」が提案された。主な仕様は、記録容量：２３．３／２５／２７ＧＢ、レーザ波長：４０５ｎｍ（青紫色レーザ）、レンズ開口数(N/A)：０．８５、ディスク直径：１２０ｍｍ、ディスク厚：１．２ｍｍ、トラックピッチ：０．３２μｍ等である。
【０００４】
上記のようにブルーレイ・ディスクでは、溝の幅が狭く、且つピットも小さくなっている。このため読み取りレーザのスポットを小さく絞る必要があるが、スポットを小さくするとディスクの傾きによる影響を大きく受けるようになり、再生しようとするＤＶＤがわずかに曲がっていても再生できなくなる。このような不利を補うため、基板の厚さを薄くし、またレーザ照射側のピット上のカバー層の厚さを０．１ｍｍ程度にすることが考えられている。
【０００５】
非特許文献１の６８頁に上記要求に合うＤＶＤの製造方法が記載されている。図８を参照しながら説明する。凹凸表面に反射層（又は記録層）６ａを有するディスク基板(1.1mm)４ａのその反射層上に紫外線硬化樹脂５Ａを塗布により設け、凹凸表面に反射層（又は記録層）を有するポリカーボネート製スタンパ４ｂの上に紫外線硬化樹脂５Ｂを塗布により設ける。次いで、基板を表裏反転させて、基板とスタンパを貼り付け、スタンパ側から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂５Ａ及び５Ｂを硬化させる。紫外線硬化樹脂５Ｂの層からスタンパ４ｂを除去し、その凹凸面に反射層（又は記録層）６ｂを形成し、その上にカバー層（厚さ０．１ｍｍ程度）７を形成する。
【０００６】
上記の方法において、ディスク基板及びスタンパの表面には、塗布により紫外線硬化樹脂が設けられ、さらにその後基板を表裏反転させて、スタンパと貼り付けている。このように塗布及び反転の複雑な工程を行う必要があり、また反転して基板とスタンパを貼り付けする際、粘チョウな紫外線硬化樹脂同士の接触の際に気泡の発生等の不利があり、良好な貼り付けを行うことができないとの問題がある。さらに、上記紫外線硬化樹脂は硬化時に収縮が大きく、得られる媒体の反り等の変形が目立つとの問題もある。
【０００７】
上記問題点が改良可能なＤＶＤ等の光情報記録媒体の製造方法が、特許文献１（特開２００３−１１５１３０号公報）に開示されている。ここには、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み且つ加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートを用いた製造方法が記載されている。さらに、特許文献２（特開２００３−１２３３３２号公報）にも、上記と同様に、硬化前の貯蔵弾性率が１０3〜１０6Ｐａの硬化性基を有するアクリル酸エステルの共重合体のスタンパ受容層を備えた光ディスク製造用シート（光硬化性転写シート）が開示されており、その光ディスク製造では、スタンパで需要層上に凹凸を形成し、金属蒸着して反射層を形成した後、反射層に保護層を設ける際、感圧接着剤が使用されている。
上記のように、紫外線硬化性樹脂の代わりに、固体状の上記光硬化性転写シートを用いて、スタンパに押圧することにより凹凸面を転写して上記問題点が回避できる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−１１５１３０号公報
【特許文献２】特開２００３−１２３３３２号公報
【非特許文献１】日経エレクトロニクス(NIKKEI ELECTRONICS)、２００１．１１．５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、本発明者等の検討によると、光硬化性転写シートを用いた場合、媒体の反りや、厚みムラが改善されるが、光硬化性転写シートにスタンパを押圧、光硬化した後にスタンパを剥離した際、スタンパに光硬化性転写シートの光硬化した転写層の一部が反射層から剥がれてスタンパに付着する場合があることが明らかとなった。このような転写層の剥離が発生すると、記録面である硬化転写層の表面の凹凸部分が損傷し、レーザ光による正確な信号の読み取りが不可能となる。このような転写層の剥離の主な原因は、光硬化転写層とスタンパとの接着性が大きすぎること、及び転写層と反射層との接着性が充分でないための両方或いはいずれかであると考えられる。
【００１０】
またこのような問題は、上記の製造方法を包含する、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に使用されるナノインプリントプロセス法においても同様な問題がある。この方法としては、例えば、１）熱可塑性樹脂にスタンパを押しつけてガラス転移温度以上に加熱し、微細凹凸パターンを転写する方法、２）熱硬化性樹脂にスタンパを押しつけながら硬化温度まで加熱し、微細凹凸パターンを転写する方法、３）光硬化性樹脂にスタンパを押しつけ、光照射により硬化させ微細凹凸パターンを転写する方法を挙げることができる。これらの方法、特に３）の方法におけるスタンパの除去も、前記光硬化転写層からのスタンパの除去と同様の問題がある。
【００１１】
従って、本発明は、ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであって、光情報記録媒体の製造時において、この転写シートを硬化した際、その硬化した転写シートの転写層が、銀合金等の反射層から剥離することなくスタンパの剥離が容易であり、従って、ピット等の凹凸信号面の精確な形状が得られやすい光硬化性転写シートを提供することをその目的とする。
【００１２】
また、本発明は、ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の薄い光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであって、光情報記録媒体の製造時において、ピット等の転写性及び硬化性に優れ、さらにこの転写シートを硬化させた際、その硬化した転写シートの転写層が銀合金等の反射層から剥離することなくスタンパの剥離が容易であり、従って、ピット等の凹凸信号面の精確な形状が得られやすい光硬化性転写シートを提供することをその目的とする。
【００１３】
さらに本発明は、記録媒体、半導体、半導体高密度パッケージ等の作製に有用なナノインプリントプロセス法において有利に使用することができ、その際に使用される微細凹凸パターンを有するスタンパの剥離が容易な光硬化性転写シートを提供することをその目的とする。
【００１４】
さらにまた、上記ピット等の凹凸信号面がスタンパに対応した精確な形状で、読み取りエラーのほとんど無い光情報記録媒体の製造方法を提供することをその目的とする。
【００１５】
また、上記ピット等の凹凸信号面がスタンパに対応した精確な形状で、読み取りエラーのほとんど無い光情報記録媒体を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的は、
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物を含むことを特徴とする光硬化性転写シートによって達成することができる。
【００１７】
上記本発明の光硬化性転写シートの好適態様は以下の通りである。
１）光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む。組成物のＴｇ、弾性率等の物性を適宜変更することが容易で、ピット等の転写性等の向上を図れる。
２）リン原子含有化合物が、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物、リン酸アルキルエステル化合物等のリン酸エステル系化合物である。
３）リン原子含有化合物が、下記の一般式（Ｉ）：
【００１８】
【化１】
2007291339.tif 000003
【００１９】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表されるリン酸エステル系化合物である。
【００２０】
４）リン原子含有化合物が、下記の一般式（II）：
【００２１】
【化２】
2007291339.tif 000004
【００２２】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、  −ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物である。
５）光硬化性組成物が、リン原子含有化合物を（光硬化性組成物中に）０．０１〜１質量％（特に０．０１〜０．５質量％、中でも０．０２〜０．２質量％）含む。
６）ポリマーのガラス転移温度が８０℃以上である。
７）光硬化性転写層の３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上である。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが可能で、転写されたピット形状等を保持することができる。
８）光硬化性組成物（一般に光硬化性転写層）のガラス転移温度が２０℃未満である。優れた転写性を得ることができやすい。
９）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーが、アクリル樹脂である。
１０）上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％含むアクリル樹脂である。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
１１）上記アクリル樹脂が、重合性官能基を有するアクリル樹脂である。
【００２３】
上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸を反応させて得られたものであることが好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
【００２４】
た上記アクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて得られたものであることが好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
１２）アクリル樹脂が、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である。
【００２５】
上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、アルコール残基がヒドロキシルキを有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種との共重合体であることが好ましい。メチルメタクリレートを５０質量％以上有することが特に好ましい。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
１３）さらにポリイソシアネート（ジイソシアネートが好ましい）を含む。光硬化前の後架橋が可能となり、転写前のフィルムの形状保持性が向上する。
１４）ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーの数平均分子量が１０００００以上、及び／又は重量平均分子量が１０００００以上である。特に数平均分子量が１０００００〜３０００００、重量平均分子量が１０００００〜３０００００であることが好ましい。この分子量、アクリル樹脂の組成、及び反応性希釈剤の割合を、後述するように好適にすることにより特に優れた転写性と高い硬化速度を得ることができる。上記数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いてＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ）により測定する。
１５）光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む。
１６）光硬化性転写層の一方又は両方の表面に、剥離シートが設けられている、
１７）光硬化性転写層の両方の表面に、剥離シートが設けられている。
１８）上記１６）又は１７）において、一方の剥離シート（第１剥離シート）が、プラスチックフィルムと、その上に設けられた、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる。ヒドロキシル基を有するポリシロキサンが、ジメチルポリシロキサンであることが好ましい。
１９）上記１７）又は１８）において、もう一方の剥離シート（第２剥離シート）第２剥離シートが、プラスチックフィルムと、その上にも受けられた、光硬化性転写層と接する剥離層とを含み、この剥離層が、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から、或いはこれらの樹脂とシランカップリング剤とから形成されている。或いは、第２剥離シートの剥離層が、不飽和２重結合基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの付加反応生成物（不飽和２重結合基を有するポリシロキサンがジメチルポリシロキサンであることが好ましい）からなる。また第２剥離シートは、剥離層を有していなくても良い。
【００２６】
上記第１及び第２剥離シートのプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
２０）３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である。特に３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上であることが好ましい。
２１）光硬化性転写層の厚さが５〜３００μｍである。
２２）光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である。
２３）光硬化性転写シートは、ナノインプリントプロセス用である。
【００２７】
また、本発明は、下記の工程（２）〜（４）：
（２）上記の剥離シート有する光硬化性転写シートから、光硬化性転写シートが両面に剥離シート有する場合、その一方の剥離シート（好ましくは第２剥離シート）を除去する工程；
（３）表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程；及び
（４）該積層体から、もう一方の剥離シート（好ましくは第１剥離シート）を除去する工程、
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法にもある。
【００２８】
上記本発明の製造方法の好適態様は以下の通りである。
１）反射層が、銀又は銀合金の層である。
２）前記工程（２）の前に、
（１）光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程；を行う。
３）前記工程（４）を行った後、さらに
（５）該積層体のもう一方の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパを該凹凸表面が転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（６）該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程；
を含む。
【００２９】
４）スタンパがニッケル製である。
５）前記（６）の紫外線照射を少なくとも３００ｍＪ／ｃｍ2で行う。短時間での硬化が可能である。
【００３０】
６）前記（６）で得られる光硬化性転写層のガラス転移温度が６５℃以上である。
【００３１】
７）前記（５）〜（６）の工程を行った後、さらに
（７）光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程；
を含む。
【００３２】
さらに本発明は、上記の製造方法により得られる光情報記録媒体にもある。
【００３３】
さらにまた、本発明は、下記の光情報記録媒体にもある：
即ち、表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、その凹凸に沿って前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層が設けられていることを特徴とする光情報記録媒体；
表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であることを特徴とする光情報記録媒体；及び
表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する光情報記録基板の該反射層上に、表面に記録ピットおよび／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらにその凹凸表面に形成された反射層を有する中間樹脂層が、その中間樹脂層の凹凸を持たない表面を基板表面の反射層に対向させて、基板表面の反射層上に、その凹凸に沿って設けられ、さらに凹凸表面及び反射層を有する１層以上の別の中間樹脂層が、中間樹脂層の凹凸を持たない表面をすでに設けられた中間樹脂層の反射層に対向させて、すでに設けられた中間樹脂層の反射層上に、その凹凸に沿って設けられてなる光情報記録媒体であって、
中間樹脂層が、前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層の硬化層であることを特徴とする光情報記録媒体。
【００３４】
また、本発明は、
表面に微細な凹凸パターンを有するスタンパを、前記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層に、該スタンパの凹凸パターン表面が該転写層の表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該転写層の表面が該パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程；及び
該スタンパを有する積層体の転写層を硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、該層の表面に凹凸パターンを設ける工程；
を含む凹凸パターンの形成方法にもある。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の光硬化性転写シートは、ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであって、光情報記録媒体の製造時において、ピット等の転写性及び硬化性に優れているだけでなく、さらにこの転写シートを硬化させた際、その硬化した転写シートの転写層が、銀合金等の反射層から剥離することなくスタンパの剥離が容易であり、従って、ピット等の凹凸信号面の精確な形状が得られやすいとの特徴を有する。このため、硬化した転写層の一部が銀合金等の反射層から剥がれることがなく、またスタンパに付着することもなく、硬化層の表面の凹凸がスタンパの対応する形状を精確に転写した通りに、反射層上に残されている。このため、このようにして得られる光情報記録媒体は、レーザ光による信号の読み取りを行った場合、読み取りエラーの発生がほとんど無いものである。
【００３６】
前述のように、本発明の光硬化性転写シートは、光硬化性転写層の滑剤としてリン原子含有化合物を含んでおり、これにより転写シートの表面にスタンパを押圧して、転写シートを硬化させた際、硬化した転写層とスタンパとの剥離が極めて容易となり、一方、硬化した転写層と反射層と接着性は良好に保持されているため、反射層を損傷することなく円滑なスタンパの除去が可能となっている。従って、本発明の光硬化性転写シートを用いることにより、高速に、精度の高い光情報記録媒体を製造することができる。
【００３７】
また、本発明の光硬化性転写シートは、上記と同様にナノインプリントプロセス等の微細な凹凸パターンの形成にも有利である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００３９】
図１（ａ）は本発明で使用される光硬化性転写シート１０の実施形態の代表例を示す断面図である。光硬化性転写層１１には、一方の表面に、第１剥離シート１２ｂ、及び他方の表面に、第２剥離シート１２ａが、設けられている。第１剥離シート１２ｂ、及び第２剥離シート１２ａは、同一の剥離シートでも良く、また一方のみ設けられていても、或いは全く設けられていなくても良い。一般に、剥離シートは、プラスチックシート上に剥離層が設けられ、剥離層が光硬化性転写層１１の表面と接触するように設けられている。第１剥離シート１２ｂと第２剥離シート１２ａは後述するように相互に異なる剥離性を有することが好ましい。
【００４０】
本発明の光硬化性転写層１１は、スタンパの凹凸表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層であるとともに、硬化後において銀合金等の反射層との接着性が良好で、スタンパの剥離性にも優れた層である。即ち、光硬化性転写層１１は、光硬化性組成物（一般に、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む）からなり、且つ光硬化性組成物が、滑剤としてリン原子含有化合物を含んでいる。上記特定の滑剤を含むことにより、硬化した転写層の表面がスタンパ（一般にニッケル製）と剥離しやすい状態となるため、硬化した転写層の一部が反射層から剥がれてスタンパに付着することがほとんど無い。また、上記滑剤を含有する転写層は、硬化後、銀、銀合金等の反射層に対する接着性がほとんど低下することがない。加えて、上記のように硬化転写層とスタンパとの剥離性が大幅に向上しているため、スタンパを除去する際の負荷も小さくなっている。従って、スタンパに硬化転写層の一部が付着することが無いため、記録面である硬化転写層の表面の凹凸部分が転写されたまま完全に反射層上に残ることができ、このためレーザ光による信号の読み取りをエラー無く行うことが可能である。
【００４１】
本発明では、光硬化性組成物は、ポリマーとして、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーを含むことが好ましい。これにより、スタンパ或いは基板上の凹凸形状が容易に転写でき、その後の硬化も高速で行うことができる。また硬化された形状も高いＴｇ有するのでその形状が変わることなく長期に維持され得る。ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーとしては、重合性官能基を有することが、反応性希釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有利である。またヒドロキシル基を有することにより、転写層１１にジイソシアネートを含ませることで、ポリマーを僅かに架橋させることが可能となり、転写層のしみ出し、層厚変動が大きく抑えられた層とするのに特に有利である。ジイソシアネートは、ヒドロキシル基の無いポリマーでもある程度有効である。
【００４２】
上記光硬化性転写シートは、情報の高密度化のため、再生レーザにより読み取りが容易なように３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上であることが好ましい。特に、３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上であることが好ましい。従って、この転写シート用いて作製される本発明の光情報記録媒体は３８０〜４２０ｎｍの波長のレーザを用いてピット信号を再生する方法に有利に使用することができる。
【００４３】
上記光硬化性転写シート１０を用いて、本発明の光情報記録媒体を、例えば図２に示すように製造することができる。
【００４４】
光硬化性転写シート１０は、先ず円盤状に打ち抜かれる。この際、光硬化性転写層１１と第１剥離シート１２ｂ、第２剥離シート１２ａ全てを打ち抜く場合（一般にフルエッジの場合）と、光硬化性転写層１１と一方の第１剥離シート１２ｂを円盤状に打ち抜き、もう一方の第２剥離シート１２ａをそのまま残す場合（一般にドライエッジの場合）があり、適宜選択して行われる（１）。このように予めの打ち抜き作業は、本発明の光硬化性転写シートを用いることにより、転写層のしみ出し、はみ出し無く、作業性良く行うことができる。
【００４５】
次いで、光硬化性転写シート１０から第２剥離シート１２ａを除去し、第１剥離シート１２ｂ付き光硬化性転写層を用意する（２）。この場合、第２剥離シート１２ａを除去した光硬化性転写層１１の表面は、硬化後、反射層と良好な接着性を有する必要があるため、第２剥離シート１２ａの第２剥離層は、一般に、硬化後転写層の接着性に悪影響をもたらさないように設計されている。表面に記録ピットとしての凹凸を有する基板２１の該凹凸表面の半透明反射層２３ａ（一般にＡｇＸ等の反射率の比較的低い反射層）上に、第２剥離シートの無い側を対向させて光硬化性転写シート１０を押圧する（３）。これにより光硬化性転写シートの表面が基板の凹凸表面に沿って密着された積層体（１１，２３ａ，２１からなる）を形成する。この構成で光情報記録媒体として使用する場合は、光硬化性転写シート１１を紫外線照射により硬化させ、第１剥離シート１２ｂを除去する（４）。
次いで、積層体から本発明の特定の第１剥離シート１２ｂを除去して、表面に記録ピットとしての凹凸を有するスタンパ２４を未硬化状態の光硬化性転写層１１の表面（基板と接触していない側の表面）に押圧する（５）。光硬化性転写層１１の表面がスタンパ２４の凹凸表面に沿って密着した積層体（２１，２３ａ，１１，２４からなる）を形成し、そして積層体の光硬化性転写シートを紫外線照射（一般に３００ｍＪ／ｃｍ2以上）により硬化させた（６）のちスタンパ２４を除去することにより、硬化シートの表面に記録ピット等の凹凸を設ける。これにより、基板１１、反射層２３ａ及び硬化した光硬化性転写層１１ａから成る積層体を得る。本発明では、転写層１１に滑剤としてリン原子含有化合物を混合導入している。これにより、スタンパ２４と、硬化した転写層１１ａの表面との間の接着性が低下し、スタンパ２４の除去を円滑に、容易に行うことができる。このため、このスタンパ除去の際、硬化した転写層がスタンパに付着することなく、反射層上に残存し、その転写層表面にはスタンパの凹凸に対応する凹凸形状が精確に形成される。通常、この凹凸上（硬化シートの表面）に、反射層（一般にＡｌ等の高反射率の反射層）２３ｂを設け（７）、さらにその上に有機ポリマーフィルム（カバー層）２６を接着剤層を介して貼付する（８）。これにより図３に示す光情報記録媒体を得る。記録ピットを有する硬化層の反射層の表面に、さらに光硬化性転写シートを押圧し、紫外線照射（一般に３００ｍＪ／ｃｍ2以上）により硬化させても良い。或いは、硬化層の反射層の表面に紫外線硬化性樹脂を塗布、硬化させても良い。半透明反射層２３ａは、通常のＡｌ等の反射層でも良い（両面読み出し用）。また半透明反射層２３ａを高反射率反射層、高反射率反射層２３ｂを半透明反射層としても良い。さらにスタンパは、凹凸を有する基板であっても良い。
【００４６】
また、（７）の工程で高反射層の代わりに半透明反射層を設け、同様に（２）〜（７）の工程を繰り返すことにより、記録ピットを三層以上形成することもできる。例えば、図４に示すような４層構成の光情報記録媒体を形成することができる。この構成は、次世代のブルーレイ・ディスクとして特に注目されている一般的な構成である。即ち、表面に凹凸を有する基板２１、その上に設けられた表面に凹凸を有する反射層２３ａ、表面に凹凸を有する反射層２３ａ上に表面に凹凸を有する硬化した光硬化性転写層（中間樹脂層）１１ａ、この凹凸上に設けられた反射層（一般に前の反射層２３ａより反射率の高い反射層）２３ｂ、反射層２３ｂ上に設けられた表面に凹凸を有する硬化した光硬化性転写層（中間樹脂層）１１ｂ、その上に形成された反射層２３ｃ（前の反射層２３ｂより反射率の高い反射層）、反射層２３ｃ上に設けられた表面に凹凸を有する硬化した光硬化性転写層（中間樹脂層）１１ｃ、その上に形成された反射層２３ｄ（前の反射層２３ｃより反射率の高い反射層）から構成されている。反射層２３ｄ上には、前記と同様有機ポリマーフィルム（カバー層）２６等が貼付される。本発明では、少なくとも中間樹脂層１１ａにおいて、本発明の光硬化性転写シートの転写層が使用される。
【００４７】
尚、上記方法においては、再生専用の光情報記録媒体について説明したが、記録可能な光情報記録媒体についても同様に行うことができる。記録可能媒体の場合、グルーブ或いはグルーブ及びプレピットを有しており、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属記録層（色素記録層の場合や金属記録層の反射率が低い場合は、記録層及び反射層）及びその他の機能層（例、エンハンス層）が一般に設けられる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造することができる。
【００４８】
本発明では、記録ピット及び／又はグルーブである凹凸形状を、光硬化性転写層１１と基板２１とを１００℃以下の比較的低い温度（好ましくは常温）で押圧する（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。基板２１と、光硬化性転写層１１との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる（好ましくは減圧下）。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、基板２１の表面の反射層に用いられる金属との接着力が良好で剥離することはない。必要により反射層上に接着促進層を設けても良い。
【００４９】
また本発明では、記録ピット及び／又はグルーブである凹凸形状を、光硬化性転写層１１とスタンパ２４とを１００℃以下の低温（好ましくは常温）で押圧する（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。スタンパ２１と、光硬化性転写シート１１との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる（好ましくは減圧下）。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、一般にＴｇが６５℃以上（特に８０℃以上）の層であり、スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着力が極めて弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容易に剥離することができる。
【００５０】
基板２１は、一般に厚板（通常０．３〜１．５ｍｍ、特に１．１ｍｍ程度）であるので、従来の射出成形法で作製することが一般的である。しかし光硬化性転写シートとスタンパを用いて製造しても良い。本発明の光硬化性転写シートは３００μｍ以下（好ましくは１５０μｍ以下）に薄くすることができるので、もう一方の基板を従来法で作製し、基板の厚さを大きくすることができるのでピット形状の転写精度を上げることができる。
【００５１】
上記工程において、光硬化性転写層を基板に押圧する際、或いはスタンパを光硬化性転写層に押圧する際に、減圧下に押圧を行うことが好ましい。これにより、気泡の除去等が円滑に行われる。
【００５２】
上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に２個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型内に裁置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタンパに圧着させる方法を挙げることができる。
【００５３】
また、二重真空室方式の装置を用いて減圧下の押圧を行うことができる。図５を参照しながら説明する。図５には二重真空室方式のラミネータの一例が示されている。ラミネータは下室５４、上室５２、シリコーンゴムシート５３、ヒータ５５を備えている。ラミネータ内の下室５４に、凹凸を有する基板と光硬化性転写シートとの積層体５９、又は基板と光硬化性転写シートとスタンパとの積層体５９を置く。上室５２及び下室５４共に排気する（減圧する）。積層体５９をヒータ５５で加熱し、その後、下室５４を排気したまま上室５２を大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積層体を取り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱泡が十分に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光硬化性転写シートとを圧着することができる。
【００５４】
次に、に本発明の凹凸パターンの形成方法について、図面を参照しながら実施の形態を詳細に説明する。一般にナノインプリントプロセス法もこの凹凸パターンの形成方法のヨウに行うことができる。
【００５５】
図６に、本発明の凹凸パターンの形成方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず光硬化性転写層１上に、スタンパ２を配置する。光硬化性転写層１は一般に基板（一般に表面にＡｇ等の金属層が存在する）上に載置される。スタンパ２は、スタンパ２の微細凹凸パターンが光硬化性転写層１の表面に対向するように配置する（１）。続いて、光硬化性転写層１上に、スタンパ２を押圧する（２）。押圧が可能なように、光硬化性転写層１は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層１を、光（ＵＶ）照射することにより、硬化させる。その後、スタンパ２を硬化した光硬化性転写層１から除去する（３）。このようにして、微細凹凸パターンを光硬化性転写層１に形成する。本発明では、スタンパ２の微細凹凸パターンを有する表面に載置される光硬化性転写層１が滑剤としてリン原子含有化合物を含んでいる。このため、スタンパ２を硬化した光硬化性転写層１からの除去をきわめて容易に行うことができ、かつ、その硬化層の一部がスタンパ側に移ることもない。また、基板上に金属層等が設けられた場合も。金属層等との密着性に優れているので、硬化層と金属層とが剥離することもない。従って、例えば、ナノインプリントによる成形を連続的に行うこともできる。
【００５６】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、滑剤としてリン原子含有化合物を含む、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有するものである。
本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、上記リン原子含有化合物、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上のポリマー）、光重合性官能基（一般に炭素炭素２重結合基、好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。
【００５７】
本発明の特徴的要件は、上記光硬化性組成物が、滑剤としてリン原子含有化合物を含むことにある。リン原子含有化合物としては、スタンパ材料に対して滑剤の機能を示すリン原子含有化合物であればどのようなものでも使用することができる。例えば、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物及びリン酸アルキルエステル化合物等のリン酸アルキルエステル系化合物、リン酸塩及びリン酸アミド等を挙げることができる。
【００５８】
リン酸アルキルエステル化合物としては、例えば、リン酸トリアルキルエステル（例、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート）、リン酸トリアリールエステル（例、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート）等を挙げることができる。リン酸塩としては、例えば、リン酸のナトリウム塩（例、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム）を挙げることができる。またリン酸アミドとしては、例えば、トリス（エチレンイミノ）リン酸アミド、トリス（メチルエチレンイミノ）リン酸アミド、ヘキサメチルリン酸アミド等を挙げることができる。さらにリン脂質界面活性剤（例えばレシチン）、リンの塩素化合物（例、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン）等を挙げることができる。
【００５９】
本発明のリン原子含有化合物としては、リン酸アルキルエステル系化合物、特にリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物或いはリン酸エステル型陰イオン界面活性剤が好ましい。
【００６０】
上記リン酸アルキルエステル系化合物としては、下記の一般式（Ｉ）：
【００６１】
【化３】
2007291339.tif 000005
【００６２】
［但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１個は水素原子以外の基を表す。］
で表される化合物を使用することが好ましい。
【００６３】
上記一般式（Ｉ）において、アルキル基としては、一般に炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、アリール基としては一般にフェニル基であり、アルキルアリール基としては一般に炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基であり、アリールアルキル基としては、一般にフェニルアルキル基（アルキル基は炭素原子数１〜３アルキル基）であり、アルキルポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数５〜２０のアルキルポリオキシエチレン基又は炭素原子数７〜２０のアルキルポリオキシプロピレン基であり、アリールポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数１０〜３０のアルキルフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１２〜３０のアルキルフェニルポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数９〜３０のフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数１１〜３０のフェニルポリオキシプロピレン基である。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）、アルキルアンモニウム塩（特に−Ｎ+（ＣＨ3）3）、ビニル基を挙げることができる。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが水素原子以外の基であることが好ましく、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の全てが同一であることが特に好ましい。
【００６４】
上記リン酸アルキルエステル系化合物（Ｉ）は、特に下記の一般式（II）：
【００６５】
【化４】
2007291339.tif 000006
【００６６】
［但し、Ｒ4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
Ｒ5が、  −ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−を表し、そして
ｎが１〜２０を表す。］
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物であることが好ましい。
【００６７】
Ｒ4において、アルキル基としては炭素原子数１〜２０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、セチル）、特に炭素原子数４〜１８のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニル基が好ましく、アルキルアリール基としては炭素原子数１〜３のアルキル基を有するフェニル基（特にメチルフェニル）が好ましく、アリールアルキル基としてはフェニルアルキル基（特にアルキル基は炭素原子数１〜３のアルキル基）が好ましい。置換基としては、ハロゲン（特に塩素、臭素）を挙げることができが、有しないことが好ましい。
【００６８】
またＲ5は−ＣＨ2ＣＨ2−が好ましい。ｎは、１〜１０、特に２〜５が好ましい。
【００６９】
上記一般式(II)で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物は、商品名：ＬＴＰ−２（川研ファインケミカル（株）製）、商品名：Ｎ３Ａ及びＮ１０Ａ（クローダジャパン（株）製）が市場で入手可能であり、好ましい。上記Ｎ３Ａは、式(II)におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：３である化合物、上記Ｎ１０Ａは、式（II）におけるＲ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：１０である化合物である。
【００７０】
リン原子含有化合物は、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．０１〜１質量％、特に０．０１〜０．５質量％、中でも０．０２〜０．２質量％の範囲で含まれている。１質量％より多い場合は、反射層への接着性が低下し、０．０１質量％より少ない場合は、スタンパからの剥離性が十分に良好とは言えない。
【００７１】
本発明の光硬化性組成物の一般的な構成要件である光重合性官能基を有する反応性希釈剤としては、例えば、（メタ）アクリルモノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；
ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と、有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【００７２】
前記ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ビニルアセテート／（メタ）アクリレート共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン−１，３−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチレン共重合体、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等を挙げることができる。
【００７３】
本発明では、良好な転写性及び優れた硬化性の点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、前述したように、重合性官能基を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。またアクリル樹脂は、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％（特に６０〜９０質量％）含むことが、Ｔｇ８０℃以上のアクリル樹脂を得られやすく、また良好な転写性、高速硬化性も得られやすく好ましい。
【００７４】
上記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、一般に重合性官能基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸が反応したもの、或いはメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル（メタ）アクリレートが反応したものである。
メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル（メタ）アクリレートとの共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。グリシジル（メタ）アクリレート又は重合性官能基を有するカルボン酸は、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。得られた共重合体のグリシジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合性官能基を有するカルボン酸又はグリシジル（メタ）アクリレートを反応させる。
【００７５】
上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂は、一般にメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種との共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に５０質量％以上（特に６０〜９０質量％）含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数２〜１０個（特に３〜５個）のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが好ましい。またこのような（メタ）アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜３０質量％、特に１０〜３０質量％含まれることが好ましい。アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートを挙げることができ、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に５〜２５質量％、特に５〜２０質量％含まれることが好ましい。
【００７６】
前記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。
【００７７】
１種又は複数種の（メタ）アクリルモノマー（好ましくは上述の、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、グリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジル（メタ）アクリレート）或いは重合性官能基を有するカルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有機溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方法にて反応させて共重合体であるグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）を得る。（メタ）アクリルモノマー等のモノマー類の配合割合はグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）又はカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）の固形分換算合計量に対して１０〜４５質量％とすることが好ましい。
【００７８】
次いで得られたグリシジル基含有アクリル樹脂（ａ）に重合性官能基を有するカルボン酸を加え、或いは得られたカルボキシル基含有アクリル樹脂（ｂ）にグリシジル基を１個かつ重合性官能基を１個有する化合物（好ましくはグリシジルメタクリレート）を加え、必要に応じ加熱することによりアクリル系光硬化型樹脂（Ａ）又はアクリル系光硬化型樹脂（Ｂ）を得る。この配合比は、グリシジル基とカルボキシル基のモル比が１／０．９〜１／１となるように配合するのが好ましく、より好ましくは１／１である。グリシジル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さらに１／１の場合は残存グリシジル基がなくなり、貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方法にて行うことができる。
【００７９】
上記ＯＨ又は重合性官能基を有するアクリル樹脂を含み、本発明で用いることができるアクリル樹脂を構成する主成分として使用することができる（メタ）アクリル系モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルを挙げることができる。アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルの例として、メチル（メタ）アクリレート（（メタ）アクリレートとはアクリレート及びメタクリレートを示す。以下同様）、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシ（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート、ピレノキシド付加物（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。さらに不飽和基を含有する芳香族化合物（例、スチレン）も使用しても良い。
【００８０】
本発明では、前述のように、アクリル系モノマーの主成分としては、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種を使用することが好ましい。
【００８１】
本発明のポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）は、数平均分子量が１０００００以上、特に１０００００〜３０００００、そして重量平均分子量が１０００００で以上、特に１０００００〜３０００００であることが好ましい。
【００８２】
さらに本発明では、ポリマー（好ましくはガラス転移温度が８０℃以上）として、ヒドロキシル基等の活性水素を有する官能基及び光重合性官能基の両方を有するポリマーも使用することができる。このような反応性ポリマーとしては、例えば、主として前記アクリル系モノマーから得られる単独重合体又は共重合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するものである。従って、このような反応性ポリマーは、例えば、メチルメタクリレートと、前記１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。その際、ヒドロキシル基が残るようにイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートの量を調節して使用することにより、活性水素を有する官能基としてヒドロキシル基及び光重合性官能基を有するポリマーが得られる。
【００８３】
或いは上記において、ヒドロキシル基の代わりにアミノ基を有する（メタ）アクリレート（例、２−アミノエチル（メタ）アクリレート）を用いることにより活性水素を有する官能基としてアミノ基を有する、光重合性官能基含有ポリマーを得ることができる。同様に、活性水素を有する官能基としてカルボキシル基等を有する、光重合性官能基含有ポリマーも得ることができる。
【００８４】
本発明では、前記光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂も好ましい。
【００８５】
上記光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するポリマーは、光重合性官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【００８６】
本発明の光硬化性組成物中に添加され得るジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのＴＤＩ付加体等の３官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートシアネートも使用することができる。これらの中でトリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加体が好ましい。
【００８７】
本発明のジイソシアネートは、光硬化性組成物（不揮発分）中に０．２〜４質量％、特に０．２〜２質量％の範囲で含まれていることが好ましい。転写層のしみ出しを防止するために適当な架橋がもたらされると共に、基板やスタンパの凹凸の良好な転写性も維持される。上記化合物とポリマーとの反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常温（一般に２５℃）、２４時間でかなり反応している。転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布するまでの間にも反応は進行するものと考えられる。転写層を形成後、ロール状態で巻き取る前にある程度硬化させることが好ましいので、必要に応じて、転写層を形成時、或いはその後、ロール状態で巻き取る前の間に加熱して反応を促進させても良い。
本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、特定の滑剤、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、２０：８０〜８０：２０、特に３０：７０〜７０：３０の範囲が好ましい。
【００８８】
本発明の光硬化性転写層の周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率は、２５℃において１×１０7Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜６×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。また８０℃において８×１０4Ｐａ以下であることが好ましく、特に１×１０4〜５×１０5Ｐａの範囲であることが好ましい。これにより、精確で迅速な転写が可能となる。さらに、本発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度を２０℃以下であることが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃、特に１５℃〜−１０℃の範囲にすることにより追随性がたものとなる。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。
また上記光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上となるように設計されていることが好ましい。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすいピット形状等のダレ発生を防止することが容易で、転写されたピット形状等を保持することができる。本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、主として、上記好ましいポリマー、以下の反応性希釈剤を使用することにより有利に得ることができる。
【００８９】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物（不揮発分）中に、光重合開始剤を一般に０．１〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好ましい。
【００９０】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。
【００９１】
アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。
【００９２】
本発明では、上記光重合性官能基を有する反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。
【００９３】
他の添加剤として、シランカップリング剤（接着促進剤）を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し通常０．０１〜５質量部で十分である。
【００９４】
また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジグリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記ポリマー（固形分）１００質量部に対し０．１〜２０質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも１種を単独で又は混合して添加することができる。
【００９５】
さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
【００９６】
上記炭化水素樹脂等の樹脂の添加量は適宜選択されるが、上記ポリマー（固形分）１００質量部に対して１〜２０質量部が好ましく、より好ましくは５〜１５質量部である。
【００９７】
以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。
【００９８】
本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、本発明のリン原子含有化合物、ポリマー（好ましくはＴｇ８０℃以上）、光重合性官能基を有する反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、所望によりジイソシアネートシアネート及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。支持体を用いる場合は、支持体上に製膜する必要がある。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。
【００９９】
また、光硬化性転写シートの厚さは１〜１２００μｍ、特に５〜５００μｍとすることが好ましい。特に５〜３００μｍ（好ましくは１５０μｍ以下）が好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。一方、１０００μｍより厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を与えるおそれもある。
【０１００】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層と、その一方の側又は両側に剥離シートとを有する。さらに、一方の側に設けられた特定の第１剥離シートと他方の側に設けられた第１剥離シートと異なる性質の第２剥離シートとを有することが好ましい。
【０１０１】
上記第１剥離シートは、一般にヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる剥離層を有する。即ち、光硬化性転写層の表面と接する、第１剥離シートの第１剥離層は、スタンパの除去が容易となるように剥離性が高く（一般に、剥離性低分子量成分が少ない或いは表面張力が低い）、他方、第２剥離シートの光硬化性層の表面と接する側の表面である第２剥離層は、転写層と基板表面との接着性が要求されるので剥離性がそれほど高くはなっていない（一般に、剥離性低分子量成分が少ない、或いは表面張力がそれほど低くない）。
【０１０２】
第１剥離シートの剥離層は、上記のようにヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる層である必要があるが、第２剥離シートの剥離層はどのような層でも良い。第２剥離シートの剥離層は、一般的な剥離層であり、一般に、転写層の反射層との接着性を低下させない層であり、第１剥離シートの剥離層より表面張力が低い層が好ましい。
【０１０３】
本発明の第１剥離シートの剥離層は、前記のように、ヒドロキシル基を有するポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）と水素化ポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）から形成される層である。一般に、これらは、スズ系化合物等の触媒の存在下に、加熱して付加反応させることにより、本発明の剥離層（比較的低い表面張力の層）が得られる。
【０１０４】
上記第１剥離層は、上記シリコーン樹脂等を溶剤に溶解又は分散させ、リバースロールコート、グラビアコート、バーコート、ドクターブレードコート等により透明フィルムに塗布し、適当な時間加熱して得ることができる。加熱温度は一般に１００〜１５０℃、好ましくは１２０〜１４０℃、加熱時間は一般に１０〜６０秒、好ましくは２０〜３０秒である。第１剥離層の層厚は、一般に３００〜１５００ｎｍ、５００〜８００ｎｍが好ましい。層厚が、上記範囲未満では、塗布性の安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難になる場合がある。一方、上記範囲 を超えて厚塗りにすると、剥離層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下する場合がある。
【０１０５】
一方、第２剥離シートの剥離層は、一般的な剥離層であり、下記のいずれの樹脂からなる層であっても良い。即ち、第２剥離シートの剥離層は、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から形成されていても、或いは熱可塑性樹脂又は熱硬化性のシリコーン樹脂等から形成されていても良い。本発明の第２剥離シートの剥離層は、反応型のシリコーン樹脂が好ましい。特に、不飽和２重結合基（好ましくはビニル基）を有するポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）と水素化ポリシロキサン（好ましくはジメチルポリシロキサン）とを用いることが好ましい。不飽和２重結合基を有するポリシロキサンの代わりに、不飽和２重結合基を有するポリアルキレンオキシド等を用いることもできる。
【０１０６】
第２剥離シートの剥離層は、ケイ素原子を含まない熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂から形成されているか、或いは熱可塑性樹脂又は上記以外の熱硬化性のシリコーン樹脂でもよい。
【０１０７】
上記第２剥離層は、上記シリコーン樹脂等を溶剤に溶解又は分散させ、リバースロールコート、グラビアコート、バーコート、ドクターブレードコート等により透明フィルムに塗布し、適当な時間加熱して得ることができる。加熱温度は、使用する樹脂の種類により異なる。一般に１００〜１５０℃、好ましくは１２０〜１４０℃、加熱時間は一般に１０〜６０秒、好ましくは２０〜３０秒である。第２剥離層の層厚は、一般に３００〜１５００ｎｍ、５００〜８００ｎｍが好ましい。層厚が、上記範囲未満では、塗布性の安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難になる場合がある。一方、上記範囲 を超えて厚塗りにすると、剥離層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下する場合がある。
【０１０８】
剥離シート（例、第１及び第２剥離シート）のプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂フィルムを用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートのフィルムが好適に用いることができ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１０９】
本発明で使用される光硬化性転写シートは、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層とその両側に上記の第１、第２剥離シートを有するものである場合、この光硬化性転写シートはアニール処理されていることが好ましい。即ち、アニール処理した光硬化性転写シートを用いて、前述の光情報記録媒体を製造することが好ましい。アニール処理は、転写シートを３０〜１００℃、特に４０〜７０℃の温度で、１時間〜３０日間、特に１０時間〜１０日間に亘って保管することにより行うことが好ましい。転写シートは、一般にロール状態（巻かれた状態）でアニール処理することが好ましい。このようなアニール処理により、第１剥離シートの剥離層の剥離を促進する成分（離型成分）が、光硬化性転写層への移行が進み、スタンパの除去が容易になると考えられる。
【０１１０】
表面に凹凸を有する基板２１の材料としてはとしては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは２００〜２０００μｍが好ましく、特に５００〜１５００μｍが好ましい。
【０１１１】
有機ポリマーフィルムの材料２６としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に５０〜１００μｍが好ましい。
【０１１２】
こうして得られる本発明に光硬化性転写シートでは、さらに光硬化性転写層の３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上であることが好ましい。
【０１１３】
光硬化性転写シートは３８０〜４２０ｎｍ（好ましくは３８０〜８００ｎｍ）の波長領域の光透過率が７０％以上であり、これはレーザによる読み取り信号の強度低下を防止するためである。さらに３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【０１１４】
本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、基板及びスタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で２０〜１００℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。
【０１１５】
本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、０．１秒〜数十秒程度、好ましくは０．５〜数秒である。紫外線照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましい。
【０１１６】
また、硬化促進のために、予め積層体を３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
【０１１７】
得られた本発明の基板の凹凸表面の反射層或いは硬化した転写層上の反射層は、基板等に反射層を金属蒸着（例えばスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等）することにより形成する。金属としては、アルミニウム、金、銀、これらの合金等を挙げることができる。銀合金が好ましく、特にＡｇＸ（ＸはＣｕ・Ｐｄ又はＣｕ・Ｎｄが好ましい）が好ましい。本発明の反射層は、特に、銀合金（ＡｇＸ（好ましくはＡｇ・Ｃｕ・Ｐｄ(97.4:0.9:1.7（質量比）)［例えばフルヤ金属（株）製のＡＰＣ］又はＡｇ・Ｃｕ・Ｎｄ(98.4:0.7:0.9（質量比）)［例えばコベルコ科研（株）製のＡＮＣ］））等から構成されていることが好ましい。
【０１１８】
一般に、基板上の半透明反射層は、金属として銀等を用いて形成される。即ち、転写層の硬化層上には、上記反射層より高い反射率の反射層にする必要があり、成分、層厚等が変更される。例えば、銀合金の反射層を層厚を変えることにより反射率を変更することができるので、複数の反射層（低反射層から高反射層まで）を銀合金の反射層の厚さを変えて設けることができる。
【０１１９】
硬化シートの反射層上に有機ポリマーフィルムを貼り付ける場合、一方に接着剤を塗布し、その上に他方を重ね、硬化させる。接着剤がＵＶ硬化性樹脂の場合はＵＶ照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加熱下に塗布し、冷却することにより得られる。  
本発明の光情報記録媒体の製造は、通常、上記のように円盤状で処理されるが、シート状で連続的に作成し、最後に円盤状にしてもよい。
【０１２０】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。
【実施例】
【０１２１】
［実施例１］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（ヒドロキシル基を有するポリマー１の作製）
ポリマー配合１
メチルメタクリレート                                ７４．６質量部
ｎ−ブチルメタクリレート                            １３．２質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート                  １２．１質量部
ＡＩＢＮ                                              ５質量部
トルエン                                            ５０質量部
酢酸エチル                                          ５０質量部
【０１２２】
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、７０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で８時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するヒドロキシル基を有するポリマー１（アクリル樹脂）を得た。固形分を３６質量％に調製した（ポリマー溶液１）。
【０１２３】
得られたポリマー１は、Ｔｇが９０℃であり、重量平均分子量が１１００００であった。
【０１２４】
組成物配合１
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液１（固形分）            １００質量部
ヘキサンジオールジアクリレート                            １００質量部
（ＫＳ−ＨＤＤＡ；日本化薬（株）製）
トリメチロールプロパントリアクリレート                      １０質量部
（ＴＭＰ−Ａ；共栄社化学（株）製）
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート  ２０質量部
（Ｇ−２０１Ｐ；共栄社化学（株）製）
ジイソシアネート（BXX5627、東洋インキ製造（株）製）           １質量部
イルガキュア６５１（チバガイギー（株）製）                    １質量部
リン酸エステル                                                ０．１質量部
（商品名ＬＴＰ−２；川研ファインケミカル（株）製）
ヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）                    ０．０５質量部
【０１２５】
上記配合の混合物を均一に溶解、混練し、剥離シート（幅１４０ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ７５μｍ；商品名Ｎｏ．２３、藤森工業（株）製）上に、全面塗布し、乾燥厚さ２５μｍの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に上記と同一の剥離シートを貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール（直径２６０ｍｍ）を得た。光硬化性転写層のＴｇは、−２０℃であった。
【０１２６】
［実施例２］
実施例１において、組成物配合の調製におけるリン酸エステルとして、式（II）の、Ｒ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：３である、商品名Ｎ３Ａ（クローダジャパン（株）製）を同量使用した以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１２７】
［実施例３］
実施例１において、組成物配合の調製におけるリン酸エステルとして、式（II）の、Ｒ1：オクチル、Ｒ2：−ＣＨ2ＣＨ2−、ｎ：１０である、商品名Ｎ１０Ａ（クローダジャパン（株）製）を同量使用した以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１２８】
［比較例１］
実施例１において、組成物配合の調製におけるリン酸エステルの代わりに、ステアリン酸アミド（商品名Ｓ−１０；日本油脂（株）製）を同量使用した以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１２９】
［比較例２］
実施例１において、組成物配合の調製におけるリン酸エステルの代わりに、エルカ酸アミド（商品名Ｐ−１０；日本油脂（株）製）を同量使用した以外は、同様にして光硬化性転写シートを得た。
【０１３０】
［実施例４］
実施例１において、組成物配合の調製において、配合の混合物を均一に溶解、混練し、下記の第２剥離シート１の剥離層上に、全面塗布し、乾燥厚さ２５μｍの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に下記の第２剥離シート１をその剥離層と転写層が接触するように貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール（直径２６０ｍｍ）を得た。
【０１３１】
（第２剥離シート１）
第２剥離層１配合（付加型シリコーン）
ＴＰＲ６７００（東芝シリコーン（株）製；                        １００質量部
ＣＭ６７０（白金触媒、              （株）製）                      １質量部
トルエン                                                        ４９９質量部
ＰＥＴフィルム（幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ７５μｍ）の表面に、第２剥離層１配合の混合物を、ロール塗布し、その後１４０℃で３０秒間加熱して、付加反応させ、厚さ５００ｎｍの第２剥離層１を形成した。
【０１３２】
（第１剥離シート１）
第１剥離層１配合（縮合型シリコーン）
ＸＳ５６−Ａ３０７５（東芝シリコーン（株）製；                  １００質量部
ＹＣ６８３１（スズ触媒、東芝シリコーン（株）製）                    ４質量部
ＹＣ６９１９（スズ触媒、東芝シリコーン（株）製）                    ２質量部
トルエン                                                      ２０００質量部
ＰＥＴフィルム（幅３００ｍｍ、長さ３００ｍ、厚さ７５μｍ）の裏面に、第１剥離層１配合の混合物を、ロール塗布し、その後１５０℃で１０秒間加熱して、付加反応させ、厚さ５００ｎｍの第１剥離層１を形成した。
【０１３３】
（１）光硬化性転写シートの評価
（１−１）ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ２０ｍｍ、幅４ｍｍ（厚さ２５μｍ）に裁断してサンプルとした。
サンプルのＴｇを、ＴＭＡ (Thermal Mechanical Analysis) 装置ＳＳ６１００(SIIナノテクノロジー（株）製)を用いて、サンプル温度：３０〜１２０℃、昇温レート：５℃／分、引張張力：４．９×１０5Ｐａの条件で測定した。
以上の条件で試験を行うと、図６に示すグラフが得られ、安定領域の接線と伸び領域の最大傾斜からの接線との交点をガラス転移温度とした。
【０１３４】
（２）光情報記録媒体の作製及び評価
（２−１）基板、反射層及び硬化転写層の積層体（光情報記録媒体）の作製
光硬化性転写シートのロールを円盤状に打ち抜いた後、一方の剥離シート（第２剥離シート）を除去し、得られた円盤状光硬化性転写シートを、射出成形により成形したピットとしての凹凸面を有するポリカーボネート基板（厚さ１．１ｍｍ）の凹凸面に設けられた厚さ４０ｎｍの銀合金（Ａｇ・Ｃｕ・Ｎｄ（組成比９８．４：０．７：０．９（質量））の半透過反射層上に、転写シート面と反射層が接触するように配置し、シリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成した（図２の（３）に対応）。
【０１３５】
積層体の光硬化性転写シートのもう一方の剥離シート（第１剥離シート）を除去し、その除去された転写シート表面に、ピットとしての凹凸面を有するニッケル製のスタンパを５０℃に温調し、このスタンパの凹凸面とシート表面とが接触するように配置して、シリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重でスタンパを押圧し、積層体を形成し、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した。
【０１３６】
次に、光硬化性転写シート側から、メタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて、前記反射層（Ａｇ・Ｃｕ・Ｎｄ）の半透過反射層を介して、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射し（照射距離２０ｃｍ、照射時間１．０秒）、転写シートを硬化させた。
【０１３７】
硬化直後に、得られた積層体を突き上げることにより、積層体からスタンパを剥離、除去した。これにより、基板、反射層及び凹凸形状が転写された硬化転写層の積層体を得た。
【０１３８】
この後の反射層の形成等の工程は省略した。
【０１３９】
（２−２）スタンパの剥離性
スタンパの剥離性を評価するため、上記光情報記録媒体を、同一のスタンパで何枚作製可能かを調査した。調査は１０枚ごとに行った。スタンパ除去後、反射層上に硬化した転写層が一部がスタンパに付着した段階で不合格とし、それまで得られた枚数を表記した。
【０１４０】
（２−３）ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定
（１−１）と同様にして得られたサンプルに、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射し、（１−１）と同様にしてＴｇを測定した。
【０１４１】
積算光量（３００ｍＪ／ｃｍ2）は、フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）製ＵＶ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｕｃｋ（ＵＶ−Ａバンド測定）を用いて層表面で測定した。
【０１４２】
得られた試験結果を表１に示す。
【０１４３】
【表１】
2007291339.tif 000007
【０１４４】
実施例１〜３で得られた光硬化性転写シートを用いた場合、１個のスタンパで、硬化した転写層に剥離無しで凹凸の形成を極めて多数回行うことができたが、本発明とは種類の異なる他の滑剤を用いた比較例１及び２のシートでは、大量に行うことはできなかった。また実施例４の剥離シートとして２種の異なるものを用いた場合は、スタンパの使用可能枚数はさらに向上した（３００００枚）。
【０１４５】
（３）ナノインプリントの実施及び評価
（３−１）基板、金属層及び硬化転写層の積層体の作製
ポリカーボネート基板（厚さ１．１ｍｍ）の表面に設けられた厚さ４０ｎｍの銀合金（Ａｇ・Ｃｕ・Ｎｄ（組成比９８．４：０．７：０．９（質量））の金属層に、転写シート面と金属層が接触するように配置し、シリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成した。
【０１４６】
積層体の光硬化性転写シートのもう一方の剥離シート（第１剥離シート）を除去し、その除去された転写シート表面に、微細な凹凸面を有するニッケル製のスタンパを５０℃に温調し、このスタンパの凹凸面とシート表面とが接触するように配置して、シリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重でスタンパを押圧し、積層体を形成し、ニッケル製のスタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した。
【０１４７】
次に、光硬化性転写シート側から、メタルハライドランプ（６００ｍＷ／ｃｍ）を用いて、前記金属層を介して、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の条件でＵＶ照射し（照射距離２０ｃｍ、照射時間１．０秒）、転写シートを硬化させた。
【０１４８】
硬化直後に、得られた積層体を突き上げることにより、積層体からスタンパを剥離、除去した。これにより、基板、金属層及び凹凸形状が転写された硬化転写層の積層体を得た。
【０１４９】
上記の（３−１）積層体の作製を、前記の実施例１〜３及び比較例１及び２で得られた光硬化性転写シートを用いて実施した（それぞれ実施例５〜７及び比較例３及び４に対応）。
【０１５０】
（３−２）スタンパの剥離性
スタンパの剥離性を評価するため、得られた積層体を、同一のスタンパで何枚作製可能かを調査した。調査は１０枚ごとに行った。スタンパ除去後、金属層上に硬化した転写層が一部がスタンパに付着した段階で不合格とし、それまで得られた枚数を表記した。
【０１５１】
その結果を表２に示す。
【０１５２】
【表２】
2007291339.tif 000008
【図面の簡単な説明】
【０１５３】
【図１】本発明に従う光硬化性転写シートの実施形態の代表例を示す断面図である。
【図２】本発明に従う光情報記録媒体の製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】本発明に従う光情報記録媒体の一例を示す断面図である。
【図４】本発明に従う光情報記録媒体の別の一例を示す断面図である。
【図５】二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明するための該略図である。
【図６】本発明に従う凹凸パターンの形成方法の一例を示す断面図である。
【図７】ガラス転移温度（Ｔｇ）の決定に用いられるグラフである。
【図８】日経エレクトロニクスに記載の光情報記録媒体の製造方法の手順を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１５４】
１１  光硬化性転写層
１２ａ  第２剥離シート
１２ｂ  第１剥離シート
２１  基板
２３ａ，２３ｂ，２３ｃ，２３ｄ  反射層
１１ａ，１１ｂ，１１ｃ  硬化した光硬化性転写層
２４  スタンパ
２６  有機ポリマーフィルム（カバー層）
【図１】
2007291339.tif 000011
【図２】
2007291339.tif 000012
【図３】
2007291339.tif 000013
【図４】
2007291339.tif 000014
【図５】
2007291339.tif 000015
【図６】
2007291339.tif 000016
【図７】
2007291339.tif 000017
【図８】
2007291339.tif 000018