(57)【要約】【課題】有機溶媒中に含まれる異性体や不純物などの割合を制御することによって、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を可能とする。【解決手段】陽極層３を形成する工程と、陽極層３上に正孔注入輸送層６及び発光層７を含む機能層５を形成する工程と、機能層５上に陰極層４を形成する工程とを有し、機能層５を形成する工程において、有機層材料を有機溶媒に溶解または分散させた液状体を塗布して乾燥させることにより発光層６を形成すると共に、有機溶媒には、少なくともｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかを含み、且つ、その割合を調製したものを用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極層を形成する工程と、
前記第１の電極層上に少なくとも有機層を含む機能層を形成する工程と、
前記機能層上に第２の電極層を形成する工程とを有し、
前記機能層を形成する工程において、有機層材料を有機溶媒に溶解または分散させた液状体を塗布して乾燥させることにより前記有機層を形成すると共に、前記有機溶媒には、少なくともｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかを含み、且つ、その割合を調製したものを用いることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとｐ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとｍ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記有機溶媒には、ｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかのキシレンとエチルベンゼンとを含み、且つ、キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
前記有機溶媒には、ｍ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記有機溶媒には、ｐ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項９】
請求項８に記載の有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electroluminescence）素子の製造方法、有機ＥＬ素子、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、薄型、全固体型、面状自発光及び高速応答であるといった特徴を有する発光素子として、例えばフラットディスプレイパネルやバックライトなどへの応用が期待されている。このような有機ＥＬ素子は、一般に表面に陽極層が形成された基板の上に、例えばスピンコート法やインクジェット法などの湿式法を用いて、有機層材料を有機溶媒に溶解又は分散させた液状体を塗布し、これを乾燥させることによって有機層を形成し、この上に陰極層を形成することで作製される（例えば特許文献１，２を参照）。
【特許文献１】特開２００４−３１０７７号公報
【特許文献２】特開２００４−１１９３５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上述した有機溶媒には、汎用性の高いキシレンが広く用いられている。キシレンには、オルト（ｏ-）メタ（ｍ-）パラ（ｐ-）の３つの異性体が存在している。通常、これらの異性体は区別されることはなく、上述した湿式法により有機層を形成する際には、これらの異性体を精製段階で一定の割合で含むものを混合キシレンとして用いている。
【０００４】
しかしながら、混合キシレンは、３つの異性体によって沸点がそれぞれ異なっている（ｏ-：１４４℃、ｍ-：１３９℃、ｐ-：１３８℃）。したがって、このような混合キシレンを用いて有機層を形成する場合には、乾燥に必要な温度が各異性体の沸点に依存したものとなる。また、混合キシレンには、精製に伴う不純物としてエチルベンゼンが含まれている。このエチルベンゼンの沸点は、キシレンよりも低い１３６℃である。
【０００５】
したがって、有機ＥＬ素子の更なる長寿命化や電流効率の向上を図るためには、このような有機溶媒（混合キシレン）中に含まれる異性体や不純物の沸点の違いについても考慮する必要がある。また、上述した湿式法により塗布された有機層を乾燥させる際には、より低温条件であるほど熱負荷の低減が可能となり、さらにプロセスの簡略化に繋がるため有利である。
【０００６】
そこで、本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、有機溶媒中に含まれる異性体や不純物などの割合を制御することによって、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を可能とした有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子、及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的を達成するために、本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、第１の電極層を形成する工程と、第１の電極層上に少なくとも有機層を含む機能層を形成する工程と、機能層上に第２の電極層を形成する工程とを有し、機能層を形成する工程において、有機層材料を有機溶媒に溶解または分散させた液状体を塗布して乾燥させることにより有機層を形成すると共に、有機溶媒には、少なくともｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかを含み、且つ、その割合を調製したものを用いることを特徴とする。
この製造方法では、有機溶媒中に含まれるｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンの割合を制御することにより乾燥工程における温度制御が可能となる。すなわち、有機溶媒として、ｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンを所定の割合で予め調製したものを用いることによって、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができ、その結果、長寿命且つ発光特性に優れた有機ＥＬ素子を作製することができる。
【０００８】
具体的に、前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとｐ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【０００９】
また、前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとｍ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００１０】
また、前記有機溶媒には、ｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかのキシレンとエチルベンゼンとを含み、且つ、キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００１１】
また、前記有機溶媒には、ｏ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００１２】
また、前記有機溶媒には、ｍ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００１３】
また、前記有機溶媒には、ｐ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。
これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００１４】
また、本発明に係る有機ＥＬ素子は、前記に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする。
この場合、長寿命且つ発光特性に優れた有機ＥＬ素子を提供することができる。
【００１５】
また、本発明に係る電子機器は、前記に記載の有機ＥＬ素子を備えることを特徴とする。  この場合、長寿命且つ発光特性に優れた有機ＥＬ素子を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、これらの図面に示される構造は特徴的な部分を分かり易く示すために実際の構造に対して寸法等を異ならせている。
【００１７】
（有機ＥＬ素子）
先ず、有機ＥＬ素子の構成について説明する。
図１に示すように、本発明を適用した有機ＥＬ素子１は、基板２上に、陽極層（第１の電極層）３と、陰極層（第２の電極層）４と、これら陽極層３と陰極層４との間に挟み込まれた機能層５とを備えている。また、機能層５は、正孔注入輸送層６と発光層７とを含む有機層を備えている。したがって、この有機ＥＬ素子１は、基板２側から順に、陽極層３と、正孔注入輸送層６と、発光層７と、陰極層４とが積層された構造を有している。また、この有機ＥＬ素子１は、機能層５（発光層７）で発光した光を基板２側から射出するボトムエミッション構造となっている。
【００１８】
基板２は、例えばガラスなどの透光性材料からなり、その表面には、例えば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下ＴＦＴと称する）などからなる駆動素子（図示略）、や、信号線、走査線等が形成されている。
【００１９】
陽極層３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電性材料からなり、駆動素子や信号線及び走査線などと接続するように基板２上にパターニング形成されている。
【００２０】
機能層５を構成する有機層のうち、正孔注入輸送層６は、陽極層３から注入した正孔を発光層７に輸送するためのものであり、陽極層３が形成された基板２上の全面に亘って形成されている。この正孔注入輸送層６を構成する材料としては、例えばアリールアミン誘導体や、フタロシアニン誘導体、ポリアニリン誘導体＋有機酸、ポリチオフェン誘導体＋ポリマー酸ＰＥＤＯＴ＋ポリマー酸（ＰＳＳ、ナフィオン（デュポン社登録商標）など）などを用いることができる。
【００２１】
一方、発光層７は、陰極層４から注入される電子と正孔注入輸送層６から注入される正孔とが結合して所定波長の光を発光する部分であり、正孔注入輸送層６上に形成されている。この発光層７を構成する材料としては、例えばポリフルオレン誘導体（ＰＦ）やポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などの高分子有機材料を用いることができる。また、発光層７としては、上記高分子有機材料に、例えばペニレン系色素や、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子有機材料、並びに例えばルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドンなどの低分子有機材料をドープしたものを用いてもよい。
【００２２】
そして、発光層７は、高分子有機材料又はこの高分子有機材料に低分子有機材料をドープしたものを有機溶媒中に溶解させた有機液を正孔注入輸送層６上に塗布して乾燥させることによって形成されている。
【００２３】
陰極層４は、発光層７上に形成されており、発光層７の上面から順にＬｉＦ（フッ化リチウム）層、Ｃａ（カルシウム）層及びＡｌ（アルミニウム）層を積層した構成となっている。そして、陰極層４上には、封止層（図示略）が形成されている。
【００２４】
（有機ＥＬ素子の製造方法）
次に、上記有機ＥＬ素子１の製造方法について説明する。
上記有機ＥＬ素子１を作製する際は、先ず、図２（ａ）に示すように、従来と同様の手法により作製された基板２を用意する。すなわち、この基板２上には、予めＴＦＴなどの駆動素子や信号線、走査線などが形成されている。
【００２５】
次に、図２（ａ）に示すように、基板２上に陽極層３形成する（第１電極層形成工程）。具体的には、蒸着法などによってＩＴＯを成膜し、パターニングすることで陽極層３を形成する。また、この陽極層３が形成された基板２を洗浄した後に、酸素プラズマ処理やＵＶオゾン処理を行い、基板２の表面を親水性に改質することにより、陽極層３の仕事関数を増大することができる。
【００２６】
次に、陽極層３が形成された基板２の上に、機能層５を形成する（機能層形成工程）。具体的には、陽極層３が形成された基板２の全面に亘って正孔注入輸送層６を形成した後に、この正孔注入輸送層６の上に発光層７を形成する。
【００２７】
このうち、正孔注入輸送層６については、先ず、図２（ｂ）に示すように、この正孔注入輸送層６を構成する材料を溶媒又は分散液に溶解又は分散させた液状体をスピンコーティング法を用いて所定の層厚となるように塗布し、プレ正孔注入輸送層６ａを形成する。
【００２８】
次に、このプレ正孔注入輸送層６ａの不溶化処理を行う。具体的には、プレ正孔注入輸送層６ａが成膜された基板２を加熱されたホットプレート（図示略）上に載置して焼成処理を行う。これにより、プレ正孔注入輸送層６ａは、図２（ｃ）に示すように、基板２側が不溶化された不溶化層６ｂ、すなわち正孔注入輸送層６上に発光層７を形成する際に用いられる有機溶媒（特定溶媒）に対して不溶な不溶化層６ｂとなる。
【００２９】
なお、プレ正孔注入輸送層６ａのうち不溶化されるのは、上記ホットプレート側の一部であって、ホットプレートとは反対側の不溶化層６ｂ上には、プレ正孔注入輸送層６ａの一部が残存する。ここで、プレ正孔注入輸送層６ａには、有機溶媒（特定溶媒）に対して溶解性（易溶性）を示すものを用いている。
【００３０】
また、上述した不溶化処理は、プレ正孔注入輸送層６ａを構成する材料の分子について、この分子間に架橋を生じさせることにより行われている。この分子間に架橋を生じさせる方法としては、プレ正孔注入輸送層６ａに対して架橋可能な官能基を導入し、この官能基が活性化される条件で加熱処理を施すことによって行われる。
なお、プレ正孔注入輸送層６ａに架橋剤を含有させてから加熱処理を施して架橋剤を活性化させることによって上記不溶化層６ｂを形成してもよい。また、加熱処理を施しているが、紫外線を照射することで架橋を生じさせたり、架橋剤を活性化させたりしてもよい。
さらに、不溶化処理としては、以下の方法を用いてもよい。すなわち、プレ正孔注入輸送層６ａを構成する材料として、その分子中に特定溶媒に対して難溶性を示すユニット（難溶性ユニット）と特定溶媒に対して易溶性を示すユニット（易溶性ユニット）とを結合した構成を有するものを用いる。そして、このプレ正孔注入輸送層６ａを構成する材料の分子内の各ユニットの結合を切断させる処理を施す。これにより、難溶性ユニットからなる分子と、易溶性ユニットからなる分子とが分解生成され、結果的に難溶性ユニットにより不溶化層６ｂが形成される。
【００３１】
次に、図２（ｄ）に示すように、残存したプレ正孔注入輸送層６ａを洗浄して除去する。具体的には、残存したプレ正孔注入輸送層６ａをスピンコータなどを用いてリンス処理する。これにより、不溶化されていないプレ正孔注入輸送層６ａが洗浄除去されて、選択的に不溶化層６ｂのみを基板２上に残存させることができる。そして、この残存した不溶化層６ｂが正孔注入輸送層６を構成することになる。なお、リンス処理で用いられる有機溶媒としては、発光層材料を溶解させる有機溶媒に含有されたものを用いることができる。
【００３２】
次に、残存した不溶化層６ｂをスピンコータなどを用いて再びリンス処理し、前のリンス処理で残存している有機溶媒を除去する。これにより、発光層７を形成するときに残存した有機溶媒が混入することを防止できる。なお、この再リンス処理で用いられる有機溶媒としては、上述した発光層材料を溶解させる有機溶媒に使用されるものを用いることができる。
【００３３】
次に、図２（ｅ）に示すように、正孔注入輸送層６上に発光層７を形成する。具体的には、この発光層７を構成する材料を有機溶媒に溶解させた液状体をスピンコーティング法を用いて所定の層厚となるように塗布した後に乾燥処理を施し、液状体中の有機溶媒を蒸発させることで発光層７を形成する。
【００３４】
ここで、発光層材料を溶解させる有機溶媒には、少なくともｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンのうち何れかを含み、且つ、その割合を調製したものを用いている。
すなわち、上記有機ＥＬ素子１の更なる長寿命化や発光特性の向上を図るためには、有機溶媒中に含まれるキシレンの異性体や不純物の沸点の違いについても考慮する必要があり、また、より低温条件であるほど熱負荷の低減が可能となり、さらにプロセスの簡略化に繋がるため有利である。
そこで、本発明では、有機溶媒中に含まれるｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレンの割合を制御し、上述した乾燥工程における温度制御を行う。
【００３５】
具体的に、有機溶媒には、ｏ-キシレンとｐ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることが好ましい。これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００３６】
また、有機溶媒には、ｏ-キシレンとｍ-キシレンとの重量比率が１：０．７〜１：３．０のものを用いることが好ましい。これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００３７】
また、上述したキシレンの他にも不純物としてエチルベンゼンを含む有機溶媒については、駆動電圧の上昇などの素子特性の低下が懸念されるが、本発明では、キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることによって、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００３８】
また、有機溶媒には、ｏ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００３９】
また、有機溶媒には、ｍ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００４０】
また、有機溶媒には、ｐ-キシレンとエチルベンゼンとの重量比率が１：０．１〜１：１．８のものを用いることが好ましい。これにより、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることができる。
【００４１】
次に、図２（ｆ）に示すように、発光層７上に陰極層４を形成する（第２電極層形成工程）。具体的には、発光層７上に、真空蒸着法を用いて上記ＬｉＦ層、Ｃａ層及びＡｌ層を順に形成し、陰極層４を形成する。最後に、陰極層４上に封止層を形成する封止工程を行う。以上の工程を経ることによって、上記有機ＥＬ素子１を製造することができる。
【００４２】
（有機ＥＬ装置）
以上のように作製された有機ＥＬ素子１は、図３に示すような有機ＥＬ装置（発光装置）１０に好適に用いることができる。
すなわち、この有機ＥＬ装置１０は、基板２の中央部分に、上記有機ＥＬ素子１をマトリックス状に配置することで形成された実表示領域１１ａ（図３中の二点差線で囲まれた領域）と、実表示領域１１ａの周囲に形成されたダミー領域１１ｂ（図３中の一点鎖線で囲まれた領域と二点差線で囲まれた領域との間）とで構成された画素部１１（図３中の一点鎖線で囲まれた領域）を備えている。
【００４３】
また、有機ＥＬ装置１０は、ダミー領域１１ｂに設けられた走査線駆動回路１２、信号線駆動回路（図示略）及び検査回路１３と、画素部１１の外側に設けられた陰極用配線１４とを備えている。
走査線駆動回路１２は、実表示領域１１ａの外側であって図３に示す＋Ｘ方向と−Ｘ方向とにそれぞれ設けられており、上記走査線に接続されている。そして、走査線駆動回路１２は、走査線を介して上記駆動素子に走査信号を供給する構成となっている。
信号線駆動回路は、上記信号線に接続されており、この信号線を介して上記駆動素子に画像信号を供給する構成となっている。
検査回路１３は、実表示領域１１ａの外側であって図３に示す＋Ｙ方向に設けられており、製造途中や出荷時における有機ＥＬ装置１０の品質や欠陥の検査を行うことが可能な構成となっている。
陰極用配線１４は、基板２上に形成されており、後述する駆動ＩＣ１７と陰極層４とを接続する構成となっている。
【００４４】
そして、有機ＥＬ装置１０は、基板２の−Ｙ側の端部に接続されたフレキシブル基板１５を備えている。このフレキシブル基板１５には、走査線駆動回路１２や信号線駆動回路、検査回路１３に接続される配線パターン１６と、配線パターン１６に接続された駆動ＩＣ１７が設けられている。
（電子機器）
【００４５】
この有機ＥＬ装置１０は、例えば図４（ａ）に示すようなノート型パーソナルコンピュータ５０などの電子機器の表示部５１として適用される。このノート型パーソナルコンピュータ５０は、キーボード５２を有する本体部５３と、上記表示部５１とを備えている。
また、有機ＥＬ素子１は、例えば図４（ｂ）に示すような携帯電話機６０の表示部６１として適用することもできる。この携帯電話機６０は、複数の操作ボタン６２、受話口６３、送話口６４及び上記表示部６１を有する本体部６５を備えている。
【００４６】
以上のように、本発明では、上述した発光層７を形成する工程において、ｏ-キシレン、ｍ-キシレン、ｐ-キシレン、エチルベンゼンを所定の割合で調製した有機溶媒を用いることによって、乾燥に伴う素子特性の劣化を防ぎつつ、乾燥工程における更なる低温化を図ることが可能であり、その結果、長寿命且つ発光特性に優れた有機ＥＬ素子１を得ることが可能である。したがって、このような有機ＥＬ素子１を備えた有機ＥＬ装置１０及び電子機器５０，６０では、表示部の更なる長寿命化及び発光特性の向上を図ることが可能である。
【００４７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ素子としているが、トップエミッション方式の有機ＥＬ素子としてもよい。
【００４８】
また、発光層の形成時に本発明の有機溶媒に発光層材料を溶解させて塗布しているが、発光層の形成時に限らず、正孔注入輸送層の形成時に本発明を適用し、上記有機溶媒に正孔注入輸送層材料を溶解あるいは分散させた液状体を塗布してもよい。
【００４９】
また、機能層５が正孔注入輸送層６及び発光層７を積層した構成となっているが、発光層７のみで構成されてもよく、発光層７と陰極層４との間に電子注入層や電子輸送層、正孔阻止層を積層した構成としてもよい。この電子注入層や電子輸送層は、陰極層４から電子を陽極層の方向へ進めて電子を通す機能を有している。また、正孔阻止層は、正孔が陰極層４の方向へ進行することを防止する機能を有している。同様に、発光層６と陽極層３との間に電子阻止層を積層した構成としてもよい。この電子阻止層は、電子が陽極層３の方向へ進行することを防止する機能を有している。
また、機能層５が正孔注入輸送層６を有しているが、正孔注入輸送層６に代えて正孔注入層または正孔輸送層を有する構成としてもよい。
ここで、上述と同様に、電子注入層や電子輸送層などの形成時に本発明を適用し、上記有機溶媒に有機材料を溶解あるいは分散させた液状体を塗布してもよい。
また、スピンコート法を用いて発光層を形成しているが、液状体を用いて発光層を形成すれば、インクジェット法など他の湿式法を用いて形成してもよい。
【００５０】
また、電子機器としては、ノート型パーソナルコンピュータ５０や携帯電話機６０に限らず、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant：携帯情報端末機）やパーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、カーナビゲーション装置、デジタルビデオカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ページャ、電子手帳、電卓、電子ブックやプロジェクタ、ワードプロセッサ、テレビ電話機、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備える機器、照明装置、プリンタの露光ヘッドなどのような他の電子機器であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態における有機ＥＬ素子を示す概略断面図である。
【図２】一実施形態における有機ＥＬ素子の製造方法を示す工程図である。
【図３】有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ装置を示す概略平面図である。
【図４】有機ＥＬ装置を備える電子機器を示す外観図である。
【符号の説明】
【００５２】
１…有機ＥＬ素子  ２…基板  ３…陽極層（第１の電極層）  ４…陰極層（第２の電極層）、５…機能層  ６…正孔注入輸送層（有機層）  ７…発光層（有機層）  １０…有機ＥＬ装置  ５０…ノート型パーソナルコンピュータ（電子機器）  ６０…携帯電話機（電子機器）
【図１】
2007258052.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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