(57)【要約】      （修正有）【課題】信頼性が高く、かつ、リア型プロジェクタに好適に適用することができるレンズ基板を効率良く製造することができるレンズ基板の製造方法を提供すること、信頼性が高く、かつ、リア型プロジェクタに好適に適用することができるレンズ基板を提供すること、また、当該レンズ基板を備えたリア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】レンズ基板の製造方法は、第１の型と第２の型との間に、流動性を有する組成物を供給する組成物供給工程と、組成物に対して、第１の型と接触する面側からエネルギ線を照射することにより、組成物を硬化させるエネルギ線照射工程とを有し、第１の型、第２の型のうちいずれか一方が、マイクロレンズの表面形状に対応する凹凸を有するものであり、かつ、他方が、フレネルレンズ表面形状に対応する凹凸を有するものであり、第１の型として、エネルギ線の透過性を有する材料で構成されたものを用いることを特徴する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の型と第２の型との間に、流動性を有する組成物を供給する組成物供給工程と、
前記組成物に対して、前記第１の型と接触する面側からエネルギ線を照射することにより、前記組成物を硬化させるエネルギ線照射工程とを有し、
前記第１の型、前記第２の型のうちいずれか一方が、マイクロレンズの表面形状に対応する凹凸を有するものであり、かつ、他方が、フレネルレンズの表面形状に対応する凹凸を有するものであり、
前記第１の型として、前記エネルギ線の透過性を有する材料で構成されたものを用いることを特徴するレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記組成物供給工程は、前記第１の型上に、前記組成物を供給した後、前記第２の型で前記組成物を押圧することにより行う請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記組成物供給工程は、前記第１の型と前記第２の型との間に、板状またはフィルム状の基材が配置され、かつ、当該基材の両面側に前記組成物が配された状態で行う請求項１または２に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記組成物供給工程は、前記第１の型上に前記組成物を供給した後、当該組成物の表面に板状またはフィルム状の基材を設置し、その後、前記基材の表面に前記組成物を供給し、さらに、前記基材上の前記組成物を前記第２の型で押圧することにより行う請求項１または３に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記エネルギ線は、紫外線である請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記エネルギ線照射工程の後に、前記第１の型、前記第２の型を除去する型除去工程を有する請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の型は、ガラス材料で構成されたものである請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記組成物は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記マイクロレンズの曲率半径は、５〜３００μｍである請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記マイクロレンズは、レンズ基板を平面視したときの縦幅が横幅よりも小さい扁平形状を有するものである請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
レンズ基板の厚さは、０．５〜５ｍｍである請求項１ないし１０のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項１３】
請求項１２に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板およびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、フレネルレンズや、レンチキュラレンズ、マイクロレンズ等のレンズ基板を備えている。
フレネルレンズ基板やレンチキュラレンズ基板、マイクロレンズ基板等のように、表面に多数の凹凸形状を有するレンズ基板（レンズシート）を製造する方法としては、一般に、合成樹脂を射出成型する方法、樹脂板と成形型とを当接させ、これを加熱加圧することにより成形型の表面凹凸形状を転写する押圧成型法が用いられてきた。
【０００３】
しかしながら、射出成型法や押圧成形法を用いた場合、大型のレンズ基板（例えば、対角線長が１００ｃｍ以上のレンズ基板）を製造するのは困難であり、実質的には、比較的小さいものの成型にしか適用できない。また、押圧成型法では、樹脂板および成形型の加熱冷却サイクルに長時間を要するため、レンズ基板の大量生産のためには多数の成形型が必要となり、大型のレンズ基板を製造するためには生産装置に莫大な費用がかかるという問題点があった。
【０００４】
このような問題を解決する目的で、紫外線硬化型樹脂溶液を、成形型と透明な樹脂版またはフィルム（以下、単に、「樹脂フィルム」と言う）との間に注入した後、紫外線を照射して該樹脂溶液を硬化させる方法が行われている（例えば、特許文献１参照）。このような方法では、成形型としては、強度等の観点から、金属材料で構成された金型が用いられている。そして、紫外線硬化型樹脂を充填した後、樹脂フィルムを金型に貼り付けた状態で、樹脂フィルム側から全面露光し、紫外線硬化型樹脂を硬化させている。
【０００５】
このような方法では、比較的大型のレンズ基板（レンズシート）の製造にも対応することができ、また、成形に要する時間を短縮できるという効果は得られるが、以下のような問題点があった。すなわち、照射した紫外線のエネルギを、確実に紫外線硬化型樹脂に与えるために、紫外線の照射時には、樹脂フィルム上に荷重をかけていなかった。このため、紫外線の照射時には、樹脂フィルムの外表面が平坦状態を維持することができず（樹脂フィルムが波打ってしまい）、得られるレンズ基板は、成形型と接触していたのとは反対の面側の平坦度が低いもの、すなわち、不本意な厚さのばらつきを有するものとなってしまう。また、場合によっては、紫外線の照射時に、紫外線硬化型樹脂と樹脂フィルムとの間に気泡が侵入してしまう（空隙を生じてしまう）ことがある。上記のようなことから、得られるレンズ基板は、信頼性が低く、光学特性に劣ったものとなる。
【０００６】
なお、上記のような問題を解決するために、樹脂フィルムとして可撓性の低い板状の部材を用いることも考えられるが、このような場合、紫外線硬化型樹脂を硬化して得られるレンズ基板（レンズシート）は、厚みの大きいものとなってしまう。このようにレンズ基板の厚みが大きくなると、レンズの焦点距離を長くする必要がある等、光学特性の観点から好ましくないとともに、レンズ基板を備える装置（リア型プロジェクタ等）が大型化し、装置の薄型化を図る上でも不利となる。また、紫外線硬化型樹脂を硬化させた後に、前記の板状の部材を研磨すること等により、レンズ基板としての厚さを小さくすることも考えられるが、このような場合、レンズ基板の生産性は著しく低下する。
【０００７】
また、リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンでは、視野角特性を向上させる目的で、レンチキュラレンズ基板やマイクロレンズ基板が用いられているが、このようなレンズ基板（レンチキュラレンズ基板、マイクロレンズ基板）を用いただけでは、光が必要以上に拡散してしまい、投影される画像において十分な輝度を得るのが困難となり、また、スクリーン上の各部位での明るさが大きく異なるものになってしまう。したがって、通常、透過型スクリーンにおいては、フレネルレンズ基板を用いて、光源からの光を一旦平行光にした後、この平行光を、レンチキュラレンズ基板やマイクロレンズ基板で拡散させるような構成になっていた。しかしながら、このような構成では、透過型スクリーンを構成する部材が多くなってしまい、装置の小型化、薄型化に不利である。また、上記のように、複数のレンズ基板を有するため、これらを確実に平行に配置しないと、スクリーンに対して正面の位置での画像の輝度を十分に高めるのが困難になるとともに、各方向についての視野角特性のばらつきが大きくなり、好適な画像を投影することができなくなる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−３２２５６６号公報（段落番号００１７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、信頼性が高く、かつ、リア型プロジェクタに好適に適用することができるレンズ基板を効率良く製造することができるレンズ基板の製造方法を提供すること、信頼性が高く、かつ、リア型プロジェクタに好適に適用することができるレンズ基板を提供すること、また、当該レンズ基板を備えたリア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、第１の型と第２の型との間に、流動性を有する組成物を供給する組成物供給工程と、
前記組成物に対して、前記第１の型と接触する面側からエネルギ線を照射することにより、前記組成物を硬化させるエネルギ線照射工程とを有し、
前記第１の型、前記第２の型のうちいずれか一方が、マイクロレンズの表面形状に対応する凹凸を有するものであり、かつ、他方が、フレネルレンズの表面形状に対応する凹凸を有するものであり、
前記第１の型として、前記エネルギ線の透過性を有する材料で構成されたものを用いることを特徴する。
【００１１】
これにより、信頼性が高く、かつ、リア型プロジェクタに好適に適用することができるレンズ基板を効率良く製造することができるレンズ基板の製造方法を提供することができる。また、複数のレンズ基板（マイクロレンズを備えたレンズ基板（マイクロレンズ基板）、および、フレネルレンズを備えたレンズ基板（フレネルレンズ基板））を用いる場合に比べて、光の利用効率を優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物供給工程は、前記第１の型上に、前記組成物を供給した後、前記第２の型で前記組成物を押圧することにより行うことが好ましい。
これにより、製造されるレンズ基板において、気泡が侵入したり、不本意な欠陥等が生じるのをより効果的に防止することができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物供給工程は、前記第１の型と前記第２の型との間に、板状またはフィルム状の基材が配置され、かつ、当該基材の両面側に前記組成物が配された状態で行うことが好ましい。
これにより、製造されるレンズ基板の形状の安定性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物供給工程は、前記第１の型上に前記組成物を供給した後、当該組成物の表面に板状またはフィルム状の基材を設置し、その後、前記基材の表面に前記組成物を供給し、さらに、前記基材上の前記組成物を前記第２の型で押圧することにより行うことが好ましい。
これにより、製造されるレンズ基板において、気泡が侵入したり、不本意な欠陥等が生じるのをより効果的に防止しつつ、製造されるレンズ基板の形状の安定性を特に優れたものとすることができる。
【００１５】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記エネルギ線は、紫外線であることが好ましい。
これにより、簡易な設備で、より容易にレンズ基板を製造することができる。また、組成物の選択の自由度が増すとともに、レンズ基板を製造する際に用いる装置等の部材に対する悪影響の発生をより効果的に防止することができる。
【００１６】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記エネルギ線照射工程の後に、前記第１の型、前記第２の型を除去する型除去工程を有することが好ましい。
これにより、レンズ基板の製造に、型（第１の型、第２の型）を繰り返し利用することができ、レンズ基板の生産性の向上、製造コストの低減に寄与することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記第１の型は、ガラス材料で構成されたものであることが好ましい。
ガラス材料は、一般に、各種エネルギ線の透過率に優れるとともに、各種エネルギ線に対して優れた安定性を有している。また、ガラス材料は、機械的強度や形状の安定性等の観点からも優れている。したがって、ガラス材料で構成された型を用いることにより、微細な構造を有するレンズ基板を、優れた寸法精度で生産性良く製造することができる。
【００１７】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものであることが好ましい。
これにより、エネルギ線照射工程において、組成物を効率良く硬化させることができるとともに、製造されるレンズ基板の信頼性、光学特性を特に優れたものとすることができる。
【００１８】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記マイクロレンズの曲率半径は、５〜３００μｍであることが好ましい。
これにより、製造されるレンズ基板についての視野角特性を十分に優れたものとしつつ、投影される映像の輝度を特に高いものとすることができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記マイクロレンズは、レンズ基板を平面視したときの縦幅が横幅よりも小さい扁平形状を有するものであることが好ましい。
これにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止することができる。
【００１９】
本発明のレンズ基板の製造方法では、レンズ基板の厚さは、０．５〜５ｍｍであることが好ましい。
このように、比較的薄いレンズ基板であっても、本発明によれば好適に製造することができる。また、レンズ基板の厚さが前記範囲内の値であると、レンズ基板の光学特性を特に優れたものとすることができる。
【００２０】
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高いレンズ基板を提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高いリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板およびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きい板状のものから、フィルム状（シート状）のもの等を含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、レンズ基板を、主に、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
【００２２】
［第１実施形態］
以下、本発明のレンズ基板およびレンズ基板の製造方法の第１実施形態について説明する。
まず、本実施形態のレンズ基板の構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板の第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板のマイクロレンズが設けられた面側からの平面図である。なお、以下の説明では、図１中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。また、本明細書で参照する各図は、マイクロレンズ、着色部等、構成の一部を強調して示したものであり、実際の寸法を反映するものではない。
【００２３】
レンズ基板１は、後述するリア型プロジェクタ３００を構成する部材であり、一方の面（第１の主面）側に、多数個のマイクロレンズ１１を有し、他の面（第２の主面）側に、フレネルレンズ１２を有している。すなわち、レンズ基板１は、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とが一体化したような構成を有している。そして、レンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ１１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）１３が設けられており、それ以外の部位が、非着色部１４となっている。着色部１３については、後に詳述する。
【００２４】
レンズ基板１は、通常、主として透明性を有する材料で構成される。
レンズ基板１の構成材料は、特に限定されないが、通常、レンズ基板１は、主として樹脂材料やガラス材料（いずれも、通常、光の屈折率が空気よりも大きい）で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
レンズ基板１の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。中でも、透明性、加工性等の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましく、特にアクリル系樹脂がより好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れ、また、最適な屈折率を有している。また、後述するようなレンズ基板の製造方法において、簡易な設備で、より容易にレンズ基板を製造することができる。また、組成物の選択の自由度が増すとともに、レンズ基板を製造する際に用いる装置等の部材に対する悪影響の発生をより効果的に防止することができる。
【００２５】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２６】
レンズ基板１を構成する材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（レンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４５以上であるのが好ましく、１．４６〜１．７５であるのがより好ましく、１．４７〜１．６０であるのがさらに好ましく、１．４８〜１．５５であるのがもっとも好ましい。レンズ基板１の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２７】
また、本実施形態では、レンズ基板１は、基材（レンズ基板用基材）１５と、エネルギ線の照射で硬化することにより形成された硬化部１６とを有している。
基材１５は、通常、主として、上述したような材料で構成されたものであるが、それ以外の成分を含むものであってもよい。
また、硬化部１６は、後述するエネルギ線の照射で硬化することにより形成されたものである。前述した材料の中でも、エネルギ線（例えば、紫外線）の照射により好適に硬化し得る材料としては、例えば、アクリル系樹脂等が挙げられる。
【００２８】
レンズ基板１は、光の入射側に設けられ、着色剤を含む材料で構成された着色部１３と、着色部１３よりも光の出射側に設けられ、実質的に着色剤を含まない材料で構成された非着色部１４とを有している。
着色部１３は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部１３を、非着色部１４とともに有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００２９】
着色部１３の厚さは、特に限定されないが、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、０．２〜２０μｍであるのがより好ましく、０．３〜１０μｍであるのがさらに好ましい。着色部１３の厚さが前記範囲内の値であると、光の入射側から入射させるべき光の透過率を特に高いものとしつつ、レンズ基板１に入射させるべき光の入射側とは反対の側から入射した光（外光）を効率良く減衰させて外光の影響をより確実に防止することができる。その結果、レンズ基板１を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部１３の厚さが前記下限値未満であると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。また、着色部１３の厚さが前記上限値を超えると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。
【００３０】
着色部１３の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、レンズ基板１を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３１】
着色部１３を構成する着色剤としては、例えば、各種染料、各種顔料等を使用することができる。このような顔料、染料としては、例えば、カーボンブラック、スピリットブラック、ランプブラック（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６）、マグネタイト、チタンブラック、黄鉛、カドミウムイエロー、ミネラルファストイエロー、ネーブルイエロー、ナフトールイエローＳ、ハンザイエローＧ、パーマネントイエローＮＣＧ、クロムイエロー、ベンジジンイエロー、キノリンイエロー、タートラジンレーキ、赤口黄鉛、モリブデンオレンジ、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、ベンジジンオレンジＧ、カドミウムレッド、パーマネントレッド４Ｒ、ウオッチングレッドカルシウム塩、エオシンレーキ、ブリリアントカーミン３Ｂ、マンガン紫、ファストバイオレットＢ、メチルバイオレットレーキ、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、ファーストスカイブルー、インダンスレンブルーＢＣ、群青、アニリンブルー、フタロシアニンブルー、カルコオイルブルー、クロムグリーン、酸化クロム、ピグメントグリーンＢ、マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、ファイナルイエローグリーンＧ、ローダミン６Ｇ、キナクリドン、ローズベンガル（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５４３２）、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１、Ｃ．Ｉ．モーダントレッド３０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー２、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー９、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー１５、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー３、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー５、Ｃ．Ｉ．モーダントブルー７、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー５：１、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン６、Ｃ．Ｉ．ベーシックグリーン４、Ｃ．Ｉ．ベーシックグリーン６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６２、ニグロシン染料（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．５０４１５Ｂ）、金属錯塩染料、シリカ、酸化アルミニウム、マグネタイト、マグヘマイト、各種フェライト類、酸化第二銅、酸化ニッケル、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム等の金属酸化物や、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉのような磁性金属を含む磁性材料等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３２】
上述したように、レンズ基板１は、第１の主面側に、多数個のマイクロレンズ１１を備えている。
このように、レンズ基板がマイクロレンズを備えるものであることにより、レンズ基板を、リア型プロジェクタ等に適用した場合における、視野角特性を特に優れたものとする（上下および左右方向の視野角特性をいずれも特に優れたものとする）ことができる。
【００３３】
また、レンズ基板がマイクロレンズを備えたものであると、製造時において以下のような効果が得られる。すなわち、マイクロレンズを備えるレンズ基板は、二次元的に微小な凹凸を有している。このようなレンズ基板を従来の方法で製造すると、型の微細な凹部内に組成物を確実に供給するのが困難であり、マイクロレンズが形成されるべき部位にマイクロレンズが形成されないといった問題が発生し易かった。これに対し、本発明の製造方法では、このようなレンズ基板を、容易かつ確実に、所望の形状を有するものとして製造することができる。
【００３４】
また、本実施形態において、マイクロレンズ１１は、凸レンズとして設けられている。これにより、光の出射面側からの外光の反射率を効果的に低下させることができ（外光の不本意な反射を効果的に防止することができ）、その結果、投影される画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。特に、本実施形態では、外光を吸収する機能を有する着色部１３を備えているため、マイクロレンズ１１が凸レンズとして形成されていることによる効果と、着色部１３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果が得られる。また、マイクロレンズ１１が凸レンズであると、後述するような製造方法において、エッチングにより容易に製造することができるマイクロレンズ形成用型６を、第１の型として好適に繰り返し用いることができる。
【００３５】
また、本実施形態において、マイクロレンズ１１は、レンズ基板１を平面視した際の横幅が縦幅よりも大きい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ１１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００３６】
平面視したときのマイクロレンズ１１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００３７】
平面視したときのマイクロレンズ１１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、レンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００３８】
また、平面視したときのマイクロレンズ１１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、レンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００３９】
また、マイクロレンズ１１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「マイクロレンズ１１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００４０】
また、マイクロレンズ１１の短軸方向についての焦点距離（以下、単に「マイクロレンズ１１の焦点距離」とも言う）は、特に限定されないが、２０〜４００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、４０〜７０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の焦点距離が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００４１】
また、これら複数個のマイクロレンズ１１は、千鳥格子状に配列している。このようにマイクロレンズ１１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、レンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００４２】
上記のように、マイクロレンズ１１は、レンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ１１で構成される第１の列１７と、それに隣接する第２の列１８とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００４３】
また、レンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ１１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ１１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ１１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ１１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ１１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ１１の中心（頂部の中心）１１１と、当該マイクロレンズ１１に隣接する、マイクロレンズ１１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ１１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００４４】
また、本実施形態において、各マイクロレンズ１１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されている。したがって、レンズ基板１に入射した光は、マイクロレンズ１１により、レンズ基板１内において、一旦収束し、その後、拡散する。このように、マイクロレンズ１１により拡散された光は、そのまま、レンズ基板１から出射してしまうと過度に拡散されたものとなってしまい、投影される画像において十分な輝度を得るのが困難となり、また、投影される画像は、各部位での明るさが大きく異なるものになってしまう。このような問題を解決する目的で、レンズ基板１の光の出射面側には、フレネルレンズ１２が設けられている。このようなフレネルレンズ１２を有することにより、マイクロレンズ１１により過度に拡散された光を適度に収束させ、光の出射側の各部位での明るさのばらつきを緩和することができる。また、マイクロレンズ１１とフレネルレンズ１２とが、同一基板の反対の面側に設けられることにより、例えば、後述するようなリア型プロジェクタにおいて、レンズ基板１を透過型スクリーンとして用いることができる。すなわち、透過型スクリーンを１枚のレンズ基板で構成されたものとすることができる。また、マイクロレンズ１１とフレネルレンズ１２とを同一基板上に有することにより、リア型プロジェクタのような装置の構成部材を少なくすることができ、装置の小型化、薄型化に寄与することができる。また、マイクロレンズ１１とフレネルレンズ１２とが同一基板上に設けられているため、装置内（リア型プロジェクタ内）でのマイクロレンズとフレネルレンズとの位置合わせ等も不要となり、容易かつ確実に、画像の輝度を十分に高いものとすることができるとともに、各方向についての視野角特性のばらつきを十分に小さいものとすることができる。
フレネルレンズ１２は、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状をなすものである。
フレネルレンズ１２のピッチは、特に限定されないが、５０〜２００μｍであるのが好ましく、６０〜１８０μｍであるのがより好ましい。これにより、マイクロレンズ１１とフレネルレンズ１２とのピッチ干渉によるモアレ現象をより効果的に防止することができる。
【００４５】
レンズ基板１の着色部１３が設けられた面側（光の入射側）から入射した光の透過率をＡ［％］、レンズ基板１の着色部１３が設けられた面とは反対の面側（光の出射側）から入射した光の透過率をＢ［％］としたとき、Ｂ／Ａ≦０．８の関係を満足するのが好ましく、Ｂ／Ａ≦０．７５の関係を満足するのがより好ましく、０．０１≦Ｂ／Ａ≦０．７の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の利用効率、および、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
レンズ基板１の光の利用効率（レンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６０％以上であるのが好ましく、７０％以上であるのがより好ましく、８０〜９９％であるのがさらに好ましい。
【００４６】
ところで、レンズ基板の構成材料として拡散剤を含むことにより、視野角特性の向上を図ることができるが、その反面、光の利用効率や得られる画像のコントラストが低下する。したがって、レンズ基板１は、その構成材料として拡散材を含むものであってもよいが、拡散材の含有率が３０ｗｔ％以下であるのが好ましく、１０ｗｔ％以下であるのがより好ましく、拡散剤を含まないものであるのがさらに好ましい。このような構成であっても、上記のような構成によれば、十分に視野角特性を優れたものとすることができる。すなわち、上記のような構成によれば、視野角特性とともに、光の利用効率、画像のコントラスト等を、同時に優れたものとすることができる。
【００４７】
上記のようなレンズ基板１の厚さは、０．５〜５ｍｍであるのが好ましく、１〜４ｍｍであるのがより好ましく、２〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。レンズ基板１の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。また、このように比較的薄いレンズ基板は、従来の方法では、精確に製造するのが困難であったが、後述するような本発明の方法によれば好適に製造することができる。なお、レンズ基板１の厚さとは、マイクロレンズ１１の頂部からフレネルレンズ１２の頂部までの厚さのことを指す。
【００４８】
上記のようなレンズ基板１は、いかなる用途のものであってもよいが、後述するようなリア型プロジェクタを構成するものであるのが好ましい。より詳しくは、レンズ基板１は、リア型プロジェクタにおいて、透過型スクリーンとして機能するものであるのが好ましい。これにより、リア型プロジェクタの構成部材を少なくすることができ、装置の小型化、薄型化に寄与することができる。また、レンズ基板１は、マイクロレンズ１１とフレネルレンズ１２とを同一基板上に有するものであるため、リア型プロジェクタ内でのマイクロレンズとフレネルレンズとの位置合わせ等も不要となり、容易かつ確実に、画像の輝度を十分に高いものとすることができるとともに、各方向についての視野角特性のばらつきを十分に小さいものとすることができる。
【００４９】
特に、本実施形態では、光の入射側に凸レンズとしてのマイクロレンズ１１を有しており、光の出射側にフレネルレンズ１２を有している。このような構成であることにより、特に、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、図示のように、光の入射側に設けられた、凸レンズとしてのマイクロレンズ１１に着色部１３が設けられることにより、入射光（光の入射側から入射した光）の透過率を十分に優れたものとしつつ、外光（例えば、光の出射側から不本意に入射した光）の吸収特性を特に優れたものとすることができ、画像のコントラスト（特に明室コントラスト）を特に優れたものとすることができる。
なお、後述するようなリア型プロジェクタの透過型スクリーンは、実質的にレンズ基板のみで構成されるものであってもよいし、レンズ基板に加え、他の部材（例えば、レンズ基板の表面を保護する保護層、保護板等）を備えるものであってもよい。
【００５０】
次に、上述したレンズ基板の製造方法について説明するが、それに先立ち、レンズ基板の製造に好適に用いることができる第１の型としてのマイクロレンズ形成用型、および、その製造方法について説明する。
図３は、レンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用型（第１の型）を示す模式的な縦断面図、図４は、図３に示すマイクロレンズ形成用型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。なお、マイクロレンズ形成用型の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成し、レンズ基板の製造においては、実際には基板上に多数のマイクロレンズ（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００５１】
マイクロレンズ形成用型（第１の型）６は、後に詳述するエネルギ線を透過し得る材料で構成されたものである。マイクロレンズ形成用型６として用いることができる材料は、後の工程で用いるエネルギ線の種類等に応じて異なるが、マイクロレンズ形成用型６の構成材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料等が挙げられる。中でも、マイクロレンズ形成用型６の構成材料としては、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。このような材料は、各種エネルギ線に対する安定性が特に優れているとともに、たわみを生じ難く、傷つき難い。また、加工が容易で、かつ、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００５２】
マイクロレンズ形成用型６は、レンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１の表面形状に対応する形状を有し、かつ、マイクロレンズ１１の配列方式に対応する方式で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えており、これらの凹部６１は、通常、マイクロレンズ１１と、実質的に同一の（マイクロレンズが凸部であるのに対し凹部であり、かつ、転写された形状、位置関係である以外は同一の）形状（寸法）、配列方式を有している。
【００５３】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、マイクロレンズ形成用型６を平面視した際の横幅が縦幅よりも大きい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００５４】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（縦方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００５５】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、レンズ基板１（マイクロレンズ形成用型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５６】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７５〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、レンズ基板１（マイクロレンズ形成用型６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５７】
また、凹部６１の短軸方向についての曲率半径（以下、単に「凹部６１の曲率半径」とも言う）は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００５８】
また、凹部６１の深さは、７〜３７５μｍであるのが好ましく、２２〜２２５μｍであるのがより好ましく、３７〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、レンズ基板１における光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、凹部６１の深さをＤ［μｍ］、凹部６１の短軸方向の長さをＳ［μｍ］としたとき、０．０２≦Ｓ／Ｄ≦５０の関係を満足するのが好ましく、０．１≦Ｓ／Ｄ≦１．４０の関係を満足するのがより好ましく、０．５≦Ｓ／Ｄ≦１．０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５９】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、レンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる。
【００６０】
また、上記のように、凹部６１は、マイクロレンズ形成用型６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の列と、それに隣接する第２の列とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００６１】
なお、上記の説明では、凹部６１が、レンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、レンズ基板１の構成材料が収縮し易いものである場合（レンズ基板１を構成する樹脂材料（組成物３）が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、レンズ基板１を構成するマイクロレンズ１１とマイクロレンズ形成用型６を構成する凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００６２】
次に、マイクロレンズ形成用型の製造方法について、図４を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ形成用の凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ形成用型６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００６３】
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図４（ａ）、図４（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図４（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜４を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図４（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜４および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００６４】
マスク形成用膜４は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜４（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜４（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６５】
上記のように、マスク形成用膜４（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜４は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜４を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、マスク形成用膜４（マスク８）のが上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６６】
マスク形成用膜４の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜４（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜４（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６７】
マスク形成用膜４（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．００１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．００３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜４（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜４（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６８】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜４（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜４の形成と同時に、マスク形成用膜４と同様に設けることができる。
【００６９】
次に、図４（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、マイクロレンズ形成用型を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのばらつきの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００７０】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００７１】
マスク形成用膜４に初期孔８１を形成するとき、図４（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４だけでなく基板７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのばらつきをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ形成用型６を構成する各凹部６１の深さのばらつきも小さくなり、最終的に得られるレンズ基板１の各マイクロレンズ１１の大きさ、形状のばらつきも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ１１の直径、焦点距離、レンズ厚さのばらつきを特に小さくさせることができる。
【００７２】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜２０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜４μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００７３】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．９〜３０μｍであるのが好ましく、１．５〜１５μｍであるのがより好ましく、２．０〜６μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、マスク形成用膜４に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク形成用膜４を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク形成用膜４を形成することでマスク形成用膜４に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００７４】
＜Ａ２＞次に、図４（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７５】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図４（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
【００７６】
また、本実施形態では、前記工程＜Ａ１＞でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成した際（マスク８を形成した際）に、基板７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７７】
マスク８（マスク形成用膜４）が主としてクロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ形成用型６を提供することができる。
【００７８】
＜Ａ３＞次に、図４（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、マイクロレンズ形成用型６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００７９】
また、例えば、マイクロレンズ形成用型６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するレンズ基板１の製造方法において、レンズ基板１が有するマイクロレンズ１１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、マイクロレンズ形成用型６を容易に取り外すことができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
以上により、図４（ｄ）および図３に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成されたマイクロレンズ形成用型６が得られる。
【００８０】
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ形成用型６を提供することができる。
【００８１】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型のマイクロレンズ形成用型（レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００８２】
次に、上述したマイクロレンズ形成用型６を用いて、レンズ基板１を製造する方法について説明する。
図５、図６は、図１に示すレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図５、図６中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００８３】
＜Ｂ１＞まず、図５（ａ）に示すように、マイクロレンズ形成用型６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物３（未重合（未硬化）の組成物３）を付与する。この組成物３は、通常、主として、後に詳述するエネルギ線により硬化し得る材料で構成されたものである。
なお、本工程においては、組成物３としてスペーサー１９を含むものを用いてもよい。これにより、後述する工程においてマイクロレンズ形成用型６上の組成物３を基材１５で押圧する際に、組成物３で構成された層の不本意な厚さのばらつきが生じるのを防止することができ、最終的に得られるレンズ基板１での、マイクロレンズ１１の焦点の位置をより確実に制御することができ、色ムラ等の不都合の発生をより効果的に防止することができる。
【００８４】
本実施形態のように、スペーサー１９を用いる場合、スペーサー１９の形状は特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサー１９がこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
なお、組成物３の付与に先立ち、マイクロレンズ形成用型６の凹部６１が形成されている側の面に離型剤を塗布しておいてもよい。これにより、後述する工程において、マイクロレンズ形成用型６から、レンズ基板１（より正確には、レンズ基板１の製造中間体としての基板２）を容易かつ確実に分離（剥離）することができる。
【００８５】
＜Ｂ２＞次に、図５（ｂ）に示すように、組成物３上に基材１５を設置し、この基材１５上に、組成物３を付与し、さらに、組成物３（基材１５上に供給された組成物３）の表面に、フレネルレンズ１２に対応する表面形状を有するフレネルレンズ形成用型（第２の型）９を設置する。そして、組成物３上に設置したフレネルレンズ形成用型９により、組成物３を押圧する（組成物押圧工程）。これにより、組成物３を、基材１５、マイクロレンズ形成用型６、およびフレネルレンズ形成用型９と確実に密着させることができる。その結果、後述する工程（エネルギ線照射工程）において、基材１５と、組成物３の硬化物で構成される硬化部１６とを確実に接合することができ、これらの密着性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ形成用型６、およびフレネルレンズ形成用型９の表面形状が忠実に転写された硬化部１６を、確実に形成することができる。
【００８６】
基材１５は、通常、上述したような材料（レンズ基板１の材料）で構成されたものである。また、基材１５としては、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基材１５は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。また、基材１５は、可撓性を有するものであっても、実質的に可撓性を結う差異ないものであってもよい。
基材１５の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．０７〜４ｍｍであるのがより好ましく、０．１〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。
【００８７】
また、組成物押圧工程においては、例えば、押圧手段を用いて、フレネルレンズ形成用型９のほぼ全面（組成物３に接触するのとは反対の面側の全面）を、押圧してもよい。これにより、組成物３に加えられる圧力をより均一なものとすることができ、その結果、最終的に得られるレンズ基板１において、厚さの不本意なばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。また、押圧手段を用いることにより、容易かつ確実に、比較的大きな圧力で、基材１５、フレネルレンズ形成用型９により組成物３を押圧することができる。その結果、レンズ基板１の厚さをより薄いものとすることができる。その結果、レンズ基板１の設計上、レンズの焦点距離を短くすることができ、光学特性の観点から有利である。また、レンズ基板を備える装置（リア型プロジェクタ等）の薄型化を図る上でも有利である。
【００８８】
上記のような押圧手段としては、いかなるものを用いてもよいが、ステンレス鋼、Ｎｉ合金等の金属材料で構成されたものを用いるのが好ましい。このような材料は、高硬度であり、かつ、形状の安定性にも優れているため、基材１５を所望の圧力（特に、比較的高い圧力）で好適に押圧することができる。また、上記のような材料は、一般に、後述するようなエネルギ線の反射効率にも優れている。このため、押圧手段が上記のような材料で構成されたものであると、後に詳述する工程（エネルギ線照射工程）において、組成物３の硬化に、エネルギ線のエネルギをより効率良く利用することができる。また、押圧手段は、例えば、その表面付近に、各種樹脂材料（ポリパラキシリレン等を含む）、ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素等の炭素系材料等で構成された被膜を有するものであってもよい。
【００８９】
フレネルレンズ形成用型９は、いかなる材料で構成されたものであってもよく、例えば、前述した押圧手段の構成材料として例示したような材料で構成されたものであってもよいし、マイクロレンズ形成用型６の構成材料として例示したような材料で構成されたものであってもよい。フレネルレンズ形成用型９が前述した押圧手段の構成材料として例示したような材料で構成されたものであると、組成物３、基材１５を所望の圧力（特に、比較的高い圧力）で好適に押圧することができる。また、上記のような材料は、一般に、後述するようなエネルギ線の反射効率にも優れているため、エネルギ線照射工程において、組成物３の硬化に、エネルギ線のエネルギをより効率良く利用することができる。フレネルレンズ形成用型９が前述したマイクロレンズ形成用型６の構成材料として例示したような材料で構成されたものであると、例えば、エネルギ線照射工程において、フレネルレンズ形成用型９側から、エネルギ線を好適に照射することができる。言い換えると、フレネルレンズ形成用型９を第１の型として用い、マイクロレンズ形成用型６を第２の基板として用いることができる。
【００９０】
なお、フレネルレンズ形成用型９の組成物３と接触する面側には、離型処理が施されていてもよい。これにより、レンズ基板１の製造において、形成されるフレネルレンズ１２にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、フレネルレンズ形成用型９を容易に取り外すことができる。
また、本工程においては、基材１５とフレネルレンズ形成用型９との間に、上述したのと同様なスペーサーを配しておいてもよい。
【００９１】
＜Ｂ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、マイクロレンズ形成用型６を介して、組成物３にエネルギ線（図中、Ｅで示す。）を照射する。言い換えると、組成物３に対して、型としてのマイクロレンズ形成用型６と接触する面側からエネルギ線を照射する。これにより、組成物３が硬化し、硬化部１６が形成され、基板２（着色部１３を有していない以外は、レンズ基板１と同様の部材）が得られる（図５（ｄ）参照）。このように、マイクロレンズ形成用型６を介して、組成物３にエネルギ線を照射することにより、フレネルレンズ形成用型（第２の基板）９により組成物３を好適に押圧した状態で（例えば、上述したような押圧手段によりフレネルレンズ形成用型９を押圧し、当該フレネルレンズ形成用型９により組成物３を押圧した状態で）、エネルギ線の照射を行うことができる。その結果、最終的に得られるレンズ基板１において、基材１５と硬化部１６との間に気泡が侵入したり、厚さの不本意なばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。その結果、最終的に得られるレンズ基板を、信頼性が高く、光学特性に優れたものとすることができる。
【００９２】
また、組成物３に対して、第１の型としてのマイクロレンズ形成用型６と接触する面側からエネルギ線を照射することにより、基材１５の組成物３と接触する面とは反対の面側を、前述したような、エネルギ線の反射率の高い材料（金属材料）で構成された第２の型としてのフレネルレンズ形成用型９により組成物３を押圧した状態（または、エネルギ線の反射率の高い材料（金属材料）で構成された押圧手段により、フレネルレンズ形成用型９を介して組成物３を押圧した状態）で、エネルギ線を照射することができる。これにより、エネルギ線の利用効率を特に優れたものとすることができる。すなわち、マイクロレンズ形成用型６側から照射されたエネルギ線は、組成物３に吸収され、組成物３の硬化に利用されるが、照射されたエネルギ線の一部は、通常、組成物３の硬化に利用されることなく透過してしまう。しかしながら、上述したような材料で構成されたフレネルレンズ形成用型９（または押圧手段）を用いることにより、組成物３中を透過してしまったエネルギ線を、反射させることができ、この反射したエネルギ線を再び組成物３に照射することができる。その結果、エネルギ線が組成物３に対して硬化反応に必要な活性化エネルギを与える可能性が高くなり、したがって、組成物３の硬化反応をより効率良く進行させることができる。
【００９３】
なお、組成物３は、入射したエネルギ線を拡散させる機能を有する拡散材を含むものであってもよい。これにより、組成物３を効率良く硬化させることができる。拡散材としては、例えば、ポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマー等を用いることができる。拡散材が、上記のような材料で構成されたものであると、レンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。ここで拡散材は、組成物３全体に含まれるものであってもよいし、一部にのみ含まれるものであってもよい。拡散材の量は特に限定するものではないが、視野角特性と光の利用効率との両立の観点から、Ｈａｚｅ（くもり度：Ｔｄ／Ｔｔ、Ｔｄ：拡散光線透過率、Ｔｔ：全光線透過率）が、例えば３０〜９９％になるようにすることが望ましい。
【００９４】
本工程で用いるエネルギ線としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられるが、この中でも紫外線が好ましい。エネルギ線として紫外線を用いた場合、例えば、簡易な設備で、より容易にレンズ基板１を製造することができる。また、組成物３の選択の自由度が増すとともに、レンズ基板１を製造する際に用いる装置等の部材に対する悪影響の発生をより効果的に防止することができる。また、エネルギ線の照射に際しては、加熱を行ってもよい。これにより、組成物３の硬化を促進することができる。
本工程で形成される硬化部１６の厚さは、特に限定されないが、４０〜８０μｍであるのが好ましい。このように、本発明においては、硬化部をその厚さが十分に小さいものとして好適に形成することができる。
【００９５】
＜Ｂ４＞次に、図６（ｅ）に示すように、マイクロレンズ形成用型６を、基板２から取り外す（型除去工程）。このように、マイクロレンズ形成用型６を基板２から取り外すことにより、取り外されたマイクロレンズ形成用型６を、基板２（レンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板２（レンズ基板１）の品質の安定性を高める上で有利である。
【００９６】
＜Ｂ５＞その後、図６（ｆ）に示すように、マイクロレンズ形成用型６から取り外された基板２に対して着色液を付与することにより、着色部１３を形成し、それ以外の部位を非着色部１４とする（着色部形成工程）。これにより、着色部１３を有するレンズ基板１が得られる。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板２の着色を容易かつ確実に行うことができる。特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００９７】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板中に深く侵入、拡散し、基板を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールにより確保された空間に着色剤が容易に、深く入りこむことにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板が着色され、また容易に脱離しない。
【００９８】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な濃度の着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、ベンジルアルコールが樹脂の分子の結合そのものを緩めることができるため、均一な濃度で（透過率のムラなく）着色部を形成することができる。
なお、ここで、アクリル系樹脂に対して、ベンジルアルコールは特に前述の着色座席を確保する働きが強い。このために着色剤をより効率的に基板に取りこむことが可能となる。
【００９９】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター、捺染等の各種塗布法や、基板２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部１３（特に、均一な濃度の着色部１３）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、ベンジルアルコールと浸染に用いることができる染料が溶液中に十二分に存在しているため、ベンジルアルコールが十分に着色座席を確保し、着色が容易に、且つ、大面積においても均一に行うことができるためである。
【０１００】
着色液を付与する工程は、着色液および／または基板２を、６０〜１００℃とした状態で行うのが好ましい。これにより、大面積でも均一にベンジルアルコールの着色座席の確保を促進させ、さらには着色速度を上げ、効率良く着色部１３を形成することができる。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部１３を短時間で効率良く形成することができる。
【０１０１】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部１３の濃度を濃くしたい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部１３の定着（安定化）を促進することができる。
【０１０２】
以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部１３を形成すべき基板２に対する悪影響の発生（例えば、基板２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部１３を形成することができる。
【０１０３】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部を形成すべき基板に対する悪影響の発生（例えば、基板の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【０１０４】
また、着色液は、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【０１０５】
＜Ｂ６＞その後、図６（ｇ）に示すように、フレネルレンズ形成用型９からレンズ基板１を取り外す。このように、フレネルレンズ形成用型９を取り外すことにより、取り外されたフレネルレンズ形成用型９を、レンズ基板１の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造されるレンズ基板１の品質の安定性を高める上で有利である。
【０１０６】
［第２実施形態］
次に、本発明のレンズ基板およびレンズ基板の製造方法の第２実施形態について説明する。以下の説明では、前述した実施形態（第１の実施形態）との違いを中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
図７は、本発明のレンズ基板の第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。
【０１０７】
図７に示すように、本実施形態のレンズ基板１では、凹レンズとしてのマイクロレンズ１１’を有している。このように、本発明において、マイクロレンズは、凸レンズに限らず、凹レンズであってもよい。マイクロレンズ１１’が、光の入射する面側に凹面を有する凹レンズとして設けられていることにより、レンズ基板１の製造コストをより低いものとしつつ、多数のレンズ基板１を生産した場合であってもこれらのレンズ基板１の信頼性を特に高いものとすることができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。すなわち、凹レンズとしてのマイクロレンズ１１’を有するレンズ基板１を製造する場合、マイクロレンズ１１’に対応する凸部を有する型（第１の型）を用いることができるが、当該型としては、上述したマイクロレンズ形成用型６に比べて、微細な突起部が少ないもの（なだらかな凸部を有するもの）を用いることができる。このため、レンズ基板１を製造する際に、型（第１の型）が有する微細な突起部に割れ、カケ等の欠陥が生じるのをより効果的に防止することができる。したがって、製造されるレンズ基板１は精度の高いマイクロレンズ１１’を有し、また、多数のレンズ基板１を製造した場合においても、これらのレンズ基板１間での特性のばらつきが小さく、より信頼性の高いものとすることができる。
特に、本実施形態では、光の入射側に凹レンズとしてのマイクロレンズ１１’を有し
、かつ、光の出射側にフレネルレンズ１２を有している。このような構成であることにより、特に、正面輝度（レンズ基板１の面方向に対して垂直方向から観察したときの輝度）をより高いものとすることができる。
【０１０８】
上記のような本実施形態のレンズ基板１は、マイクロレンズ形成用型（第１の型）として、レンズ基板１のマイクロレンズ１１’が設けられた面側の表面形状に対応する表面形状を有し、かつ、マイクロレンズ１１’の配列方式に対応する方式で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を備えたものを用いる以外は、第１実施形態で説明したのと同様に製造することができる。このようなマイクロレンズ形成用型（第１の型）は、例えば、第１実施形態で説明したマイクロレンズ形成用型６の表面に流動性を有する材料を付与し、その後、この材料を固化（硬化）されることにより、好適に製造することができる。このような方法において、流動性を有する材料の付与、固化は、第１実施形態で説明した組成物の付与、固化と同様な方法、条件により行うことができる。
【０１０９】
［リア型プロジェクタ］
以下、前記レンズ基板（透過型スクリーン）を備えたリア型プロジェクタについて説明する。
図８は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、レンズ基板１（透過型スクリーンとしてのレンズ基板１）とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１１０】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のようなレンズ基板１（透過型スクリーンとしてのレンズ基板１）を備えているので、信頼性の高い画像を得ることができる。さらに、本実施形態では、上記のような構成を有しているので、視野角特性、光利用効率等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ１１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１１１】
なお、上記の説明では、レンズ基板を、マイクロレンズの形成された面側が光の入射側に配されるように設置するものとして説明したが、レンズ基板の設置方向は、この逆であってもよい。すなわち、光の入射側にフレネルレンズが配され、光の出射側にマイクロレンズが配されるようにレンズ基板を設置してもよい。これにより、例えば、以下のような効果が得られる。すなわち、図１に示すようなレンズ基板１（凸レンズとしてのマイクロレンズ１１を備えたレンズ基板１）を、マイクロレンズ１１が光の出射側に配されるように設置することにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。これは、入射した光のうち、フレネルレンズ１２の段差部でけられた成分についても、画像形成用の光として効率良く利用することができるためであると考えられる。また、図７に示すようなレンズ基板１（凹レンズとしてのマイクロレンズ１１’を備えたレンズ基板１）を、マイクロレンズ１１’が光の出射側に配されるように設置することにより、上記と同様にフレネルレンズ１２での光損失を効果的に防止することができ、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【０１１２】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用型側の組成物と、フレネルレンズ形成用型側の組成物との間に、基材を配した状態で、エネルギ線硬化処理を行い、基材の両面側に硬化部を有するレンズ基板を得るものとして説明したが、基材は、必ずしも用いなくてもよい。
【０１１３】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用型の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、フレネルレンズ形成用型（第２の型）の表面に樹脂を付与し、これをマイクロレンズ形成用型（第１の型）で押圧することにより、レンズ基板を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用型（第１の型）上に供給された組成物を押圧し、その後、エネルギ線の照射を行うものとして説明したが、組成物の押圧は行わなくてもよい。例えば、第１の型（マイクロレンズ形成用型）と第２の型（フレネルレンズ形成用型）とを所定距離だけ離間するように保持した状態で、これらの間の空隙に組成物を供給（充填）し、その後、エネルギ線の照射を行ってもよい。
【０１１４】
また、前述した実施形態では、着色部は、基板のマイクロレンズ形成用型と接触していた面側に着色剤を含む着色液を付与することにより形成するものとして説明したが、着色部の形成方法はこのような方法に限定されない。例えば、マイクロレンズ形成用型側に供給される組成物として着色剤を含む材料で構成されたものを用いることにより着色部を形成してもよい。これにより、マイクロレンズ側の硬化部は着色剤を含む材料で構成され、かつ、基材およびフレネルレンズ側の硬化部は着色剤を実質的に含まない材料で構成されたものとすることができる。
また、前述した実施形態では、着色部は、硬化部の一部に形成されるものとして説明したが、基材の少なくとも一部に形成されていてもよい。また、着色部はなくてもよい。言い換えると、例えば、上述したような基板２をレンズ基板として用いてもよい。
【０１１５】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ形成用型の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基板７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギ強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
また、前述した実施形態では、レンズ基板の製造において、マイクロレンズ形成用型を除去するものとして、マイクロレンズ形成用型は必ずしも除去しなくてもよい。言い換えると、マイクロレンズ形成用型は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
【０１１６】
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１１７】
［レンズ基板（透過型スクリーン）の作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えたマイクロレンズ形成用型（第１の型）を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１１８】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１１９】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクを得た。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギ強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ５０Åの凹部および変質層も形成した。
【０１２０】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３６μｍ、深さは３６μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１２１】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図３に示すような、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列されたマイクロレンズ形成用型を得た。得られたマイクロレンズ形成用型を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９７％であった。
【０１２２】
次に、マイクロレンズ形成用型の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））と、硬化した（重合済）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成されたスペーサー（直径：１０μｍ）との混合物で構成された組成物を付与した。
次に、マイクロレンズ形成用型上の組成物の表面に、硬化した（重合済）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された基材（平板状部材）を設置した。基材の厚さは、０．１ｍｍであった。
その後、基材上に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与した。
【０１２３】
次に、基材上に付与された組成物の表面に、硬化した（重合済）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成され、フレネルレンズに対応する表面形状を有する、ソーダガラス製のフレネルレンズ形成用型（第２の型）を設置した。
その後、押圧手段によりフレネルレンズ形成用型を押圧し、このフレネルレンズ形成用型により、組成物、基板を押圧した。押圧手段としては、基材を押圧する押圧部が、平坦でステンレス鋼で構成されたものを用いた。
その後、押圧手段による押圧を行いつつ、組成物に対してマイクロレンズ形成用型側からエネルギ線としての紫外線を照射することにより、組成物を硬化させた。これにより、基材の両面側に、組成物が硬化することにより形成された硬化部が接合してなる基板が得られた。
【０１２４】
次に、得られた基板から、マイクロレンズ形成用型を取り外した。
その後、マイクロレンズ形成用型から取り外された基板のマイクロレンズが形成された面側に、８０℃の着色液を付与することにより、着色部を形成した。着色液としては、着色剤（染料のＢｌｕｅ（双葉産業製）、Ｒｅｄ（双葉産業製）およびＹｅｌｌｏｗ（双葉産業製））と、ベンジルアルコールと、界面活性剤とを含む液体を用いた。着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、２．０ｗｔ％であった。
その後、フレネルレンズ形成用型を取り外し、図１に示すようなレンズ基板（透過型スクリーンとして機能するレンズ基板）を得た。
【０１２５】
（実施例２〜５）
マイクロレンズ形成用型の製造における初期孔の形成条件、エッチング条件を調節するとともに、レンズ基板の製造に用いる組成物の構成材料、エネルギ線の種類等を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にしてレンズ基板（透過型スクリーンとして機能するレンズ基板）を製造した。
【０１２６】
（実施例６）
レンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用型を変更し、マイクロレンズを凹レンズとして形成した以外は、前記実施例１と同様にしてレンズ基板（透過型スクリーンとして機能するレンズ基板）を製造した。本実施例で製造したレンズ基板は、図７に示すような構成のものであった。
【０１２７】
マイクロレンズ形成用基板は、以下のようにして製造した。
まず、前記実施例１で製造したマイクロレンズ形成用型を、第１の型を製造するための型（第１の型製造用型）として用意した。
次に、第１の型製造用型の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））を付与した。
【０１２８】
次に、第１の型製造用型上の組成物の表面に、表面に離型処理が施されたアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））製の平板状部材を設置した。
その後、押圧手段により平板状部材を押圧し、この平板状部材により、未硬化のアクリル系樹脂を押圧した。押圧手段としては、基材を押圧する押圧部が、平坦でステンレス鋼で構成されたものを用いた。
【０１２９】
その後、押圧手段による押圧を行いつつ、未硬化のアクリル系樹脂に対して第１の型製造用型側からエネルギ線としての紫外線を照射することにより、アクリル系樹脂を硬化させた。その後、得られた硬化物から、第１の型製造用型および平板状部材を取り除いた。その後、硬化物の凸部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成し、これにより、マイクロレンズ形成用型（第１の型）を得た。
【０１３０】
（比較例１）
マイクロレンズ形成用型として、銅で構成され、前記実施例１で用いたのと同様の形状を有するものを用意した。
次に、マイクロレンズ形成用型上の組成物の表面に、硬化した（重合済）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された基材（平板状部材）を設置した。基材の厚さは、０．１ｍｍであった。その後、押圧手段により基材を押圧し、この基材により、前記組成物を押圧した。押圧手段としては、基材を押圧する押圧部が、平坦でステンレス鋼で構成されたものを用いた。
その後、押圧手段による押圧を解除し、組成物に対して基材側からエネルギ線としての紫外線を照射することにより、組成物を硬化させた。これにより、組成物が硬化することにより形成された硬化部が、基材に接合してなる基板が得られた。
【０１３１】
次に、得られた基板から、マイクロレンズ形成用型を取り外した。
その後、マイクロレンズ形成用型から取り外された基板のマイクロレンズが形成された面側に、着色部を形成することにより、一方の面側に多数個のマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板を得た。なお、着色部の形成は、前記実施例１と同様の条件で行った。
一方、フレネルレンズ形成用型として、銅で構成され、前記実施例１で用いたのと同様の形状を有するものを用意した。
【０１３２】
次に、フレネルレンズ形成用型上の組成物の表面に、硬化した（重合済）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された基材（平板状部材）を設置した。基材の厚さは、０．１ｍｍであった。その後、押圧手段により基材を押圧し、この基材により、前記組成物を押圧した。押圧手段としては、基材を押圧する押圧部が、平坦でステンレス鋼で構成されたものを用いた。
その後、押圧手段による押圧を解除し、組成物に対して基材側からエネルギ線としての紫外線を照射することにより、組成物を硬化させた。これにより、組成物が硬化することにより形成された硬化部が、基材に接合してなる基板が得られた。
【０１３３】
次に、得られた基板から、フレネルレンズ形成用型を取り外すことにより、フレネルレンズ基板を得た。
その後、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とを用いて、透過型スクリーンを組み立てた。このとき、マイクロレンズ基板のマイクロレンズが設けられた面側が、フレネルレンズ基板に対向するように組み立てた。
【０１３４】
（比較例２）
基材として、厚さが２ｍｍのものを用いた以外は、前記比較例１と同様にして、基板を製造した。
その後、研磨により、基板が有する基材を、その厚さが０．１ｍｍになるまで研磨した。
その後、前記比較例１と同様な処理を施すことにより、マイクロレンズ基板を製造した。
その後、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板と、前記比較例１と同様にして製造したフレネルレンズ基板とを用いて、透過型スクリーンを組み立てた。このとき、マイクロレンズ基板のマイクロレンズが設けられた面側が、フレネルレンズ基板に対向するように組み立てた。
【０１３５】
前記各実施例では、優れた生産性で、レンズ基板（透過型スクリーンとして機能するレンズ基板）を容易かつ確実に製造することができたのに対し、比較例１、２では、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板との位置合わせが必要であり、透過型スクリーンの生産性に劣っていた。特に、比較例２では、マイクロレンズ基板の製造において、基板の研磨を行ったため、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンの生産性は特に低いものであった。
【０１３６】
前記各実施例および各比較例について、レンズ基板（マイクロレンズを備えたレンズ基板）の製造条件、レンズ基板（マイクロレンズを備えたレンズ基板）の構成等を表１にまとめて示す。なお、表中、メタクリル樹脂を「ＰＭＭＡ」で示した。また、エネルギ線の照射方向については、マイクロレンズ形成用型側からの照射を「正」、それとは反対側からの照射を「逆」として示した。
【０１３７】
【表１】
2007008052.tif 000002
【０１３８】
［光の利用効率の評価］
前記各実施例のレンズ基板および各比較例の透過型スクリーンについて、光の利用効率の評価を行った。
光の利用効率の評価は、Ａ（＝３００）［ｃｄ／ｍ２］の白色光を入射させた際、レンズ基板（比較例においては、透過型スクリーン）の光の出射面側で測定される光の輝度Ｂ［ｃｄ／ｍ２］の比率（Ｂ／Ａ）を求めることにより行った。Ｂ／Ａの値が大きいほど、光の利用効率が優れているといえる。なお、各実施例については、マイクロレンズが設けられた面側から光を入射させた際の光の利用効率を求め、各比較例については、フレネルレンズ基板が設置された面側から光を入射させた際の光の利用効率を求めた。
【０１３９】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例のレンズ基板および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図８に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
なお、比較例１、２については、光の入射側にフレネルレンズ基板が設置され、フレネルレンズ基板を透過した光（平行光）がマイクロレンズ基板に入射するように、設置した。また、実施例１〜６については、それぞれ、光の入射側にマイクロレンズが配されるようにレンズ基板を設置したもの、および、光の出射側にマイクロレンズが配されるようにレンズ基板を設置したものを作製した。光の入射側にマイクロレンズが配されるようにレンズ基板を設置したものを「−ａ」とし、光の出射側にマイクロレンズが配されるようにレンズ基板を設置したものを「−ｂ」とした。
【０１４０】
［輝点、ドット抜けの発生状況］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーン（レンズ基板）にサンプル画像（動画）を表示させた。表示された画像について、輝点、ドット抜けの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：輝点、ドット抜けが全く認められない。
○：輝点、ドット抜けがほとんど認められない。
△：輝点、ドット抜けのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：輝点、ドット抜けのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
【０１４１】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１４２】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーン（レンズ基板）にサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
【０１４３】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーン（レンズ基板）にサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１４４】
【表２】
2007008052.tif 000003
【０１４５】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、光の利用効率に優れるとともに、優れたコントラストが得られ、輝点、ドット抜け等の発生も効果的に防止されていた。また、本発明では、視野角特性にも優れ、回折光、モアレ、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。すなわち、比較例においては、エネルギ線による組成物の硬化を行う際に、マイクロレンズ形成用型、組成物、押圧部材等を好適な状態で密着させることができず、組成物とマイクロレンズ形成用型との間や、組成物と押圧部材（基材、フレネルレンズ形成用型）との間等に気泡が侵入、残留したり、組成物の表面に設置された基板の表面が平坦にならない等の問題が発生したためであると考えられる。
【０１４６】
また、本発明では、比較例に比べて、光の利用効率、画像のコントラストが、特に優れているが、これは、以下のような理由によるものであると考えられる。すなわち、本発明では、マイクロレンズとフレネルレンズが一枚のレンズ基板に設けられているため、比較例の透過型スクリーンのように、２枚のレンズ基板で構成されたものに比べて、反射界面を少なくすることができる。このような反射界面における光の透過率の低下を生じさせることがないため、本発明では、比較例に比べて、光の利用効率、画像のコントラストが、特に優れているものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１】本発明のレンズ基板の第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すレンズ基板のマイクロレンズが設けられた面側からの平面図である。
【図３】レンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ形成用型（第１の型）を示す模式的な縦断面図である。
【図４】図３に示すマイクロレンズ形成用型の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図１に示すレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図７】本発明のレンズ基板の第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のレンズ基板を適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１４８】
１…レンズ基板  １１、１１’…マイクロレンズ  １１１…中心  １２…フレネルレンズ  １３…着色部  １４…非着色部  １５…基材（レンズ基板用基材）  １６…硬化部  １７…第１の列  １８…第２の列  １９…スペーサー  ２…基板  ３…組成物  ４…マスク形成用膜  ６…マイクロレンズ形成用型（第１の型）  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７…基板  ７１…初期凹部  ８…マスク  ８１…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ９…フレネルレンズ形成用型（第２の型）  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
2007008052.tif 000004
【図２】
2007008052.tif 000005
【図３】
2007008052.tif 000006
【図４】
2007008052.tif 000007
【図５】
2007008052.tif 000008
【図６】
2007008052.tif 000009
【図７】
2007008052.tif 000010
【図８】
2007008052.tif 000011