(57)【要約】【課題】記録メディアの走行性の指標になる表面性状評価方法を提供するとともに、その評価を行った記録メディアを提供する。【解決手段】透明なダミーヘッド１の表面を評価対象の磁気テープ２の表面に接触させ、ダミーヘッドの裏面より磁気テープに向けて光を照射することによりダミーヘッドと磁気テープとの間に生じる干渉縞の平均光強度を測定し、該測定値の大小より磁気テープの良否を判定する。【選択図】  図１
2007265533.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な評価用ヘッドの表面を評価対象の記録メディアの表面に接触させ、前記評価用ヘッドの裏面より前記記録メディアに向けて光を照射することにより前記評価用ヘッドと前記記録メディアとの間に生じる干渉縞の平均光強度を測定し、該測定値の大小より記録メディアの良否を判定することを特徴とする記録メディアの評価方法。
【請求項２】
前記評価用ヘッドの平面サイズが前記記録メディアの記録及び／又は再生に使用されるヘッドの平面サイズと略等しいことを特徴とする請求項１に記載の記録メディアの評価方法。
【請求項３】
透明な評価用ヘッドの表面を評価対象の記録メディアの表面に接触させ、前記評価用ヘッドの裏面より前記記録メディアに向けて光を照射することにより前記評価用ヘッドと前記記録メディアとの間に生じる干渉縞を測定し、前記干渉縞の最大光強度部分を０次の明環部とし、かつ前記干渉縞の最小光強度部分を０次の暗環部として、下記の式（１）より前記記録メディアと前記評価用ヘッドとの間のスペーシング量を求め、求めたスペーシング量より記録メディアの良否を判定することを特徴とする記録メディアの評価方法。
Ｘ＝（λ／４π）×ＣＯＳ−１〔［２／（Ｐ−Ｖ）］×［（Ｐ＋Ｖ）／２−Ｙ］〕 （１）
Ｙ：光強度
Ｐ：０次明環部の光強度
Ｖ：０次暗環部の光強度
λ：当接部に照射する光の波長
【請求項４】
前記求めたスペーシング量が１０〜５０ｎｍの場合に記録メディアを良と判定し、これ以外の場合に記録メディアを不良と判定することを特徴とする請求項３に記載の記録メディアの評価方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の記録メディアの評価方法により良と判定されたことを特徴とする記録メディア。
【請求項６】
表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが８〜４５ｎｍであることを特徴とする請求項５に記載の記録メディア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録メディアの評価方法、及び該評価方法により判定された記録メディアに係り、特に、高記録密度の磁気記録媒体とヘッドとの間のスペーシング量を高精度で測定し評価できる記録メディアの評価方法、及び該評価方法により判定された記録メディアに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種記録メディア（記録媒体）の記録密度は、高密度化する傾向にある。これに伴い、各種記録メディア、特に磁気記録媒体の表面は平滑化の方向に進展している。このため、媒体表面と磁気ヘッドやその他の走行部材との摩擦が大きくなり、走行性が不安定になりやすくなっている。このような各種記録メディアの表面性状の評価には、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）や光干渉式粗さ計等が用いられている。
【０００３】
また、磁気テープ及び磁気ヘッドの双方の表面性状、形状、材質、又は磁気テープの走行機構等を検討して、磁気テープと磁気ヘッドとの間のスペーシング量が適正な範囲になるように、スペーシング量を高精度で測定することが求められている。これに対し、本発明者によりスペーシング量の高精度の測定方法が提案されており、良好な結果が得られている（特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００４−３３４９５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような従来の技術においても、解決しきれていない問題点があった。すなわち、記録メディアの表面性状が平滑になってくると、必ずしもＡＦＭや光干渉式粗さ計等による評価デ−タでは説明できない現象が発生している。たとえば、表面が粗くてもヘッドと記録メディアとの走行性が悪くなる等の現象である。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、記録メディアの走行性の指標になる表面性状評価方法を提供するとともに、その評価を行って良好な結果が得られた記録メディアを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、前記目的を達成するために、透明な評価用ヘッドの表面を評価対象の記録メディアの表面に接触させ、前記評価用ヘッドの裏面より前記記録メディアに向けて光を照射することにより前記評価用ヘッドと前記記録メディアとの間に生じる干渉縞の平均光強度を測定し、該測定値の大小より記録メディアの良否を判定することを特徴とする記録メディアの評価方法を提供する。
【０００７】
本発明によれば、使用するシステムのヘッドを模した透明な評価用ヘッド（ダミーヘッド）を用い、評価用ヘッドと記録メディアとの間に生じる干渉縞の平均光強度を測定し、該測定値の大小より記録メディアの良否を判定する。したがって、ヘッドと記録メディアとの走行性が視覚的に評価できる。
【０００８】
本発明において、前記評価用ヘッドの平面サイズが前記記録メディアの記録及び／又は再生に使用されるヘッドの平面サイズと略等しいことが好ましい。このように、評価用ヘッドの平面サイズが使用するシステムのヘッドの平面サイズと略等しければ、評価精度が向上する。
【０００９】
また、本発明は、透明な評価用ヘッドの表面を評価対象の記録メディアの表面に接触させ、前記評価用ヘッドの裏面より前記記録メディアに向けて光を照射することにより前記評価用ヘッドと前記記録メディアとの間に生じる干渉縞を測定し、前記干渉縞の最大光強度部分を０次の明環部とし、かつ前記干渉縞の最小光強度部分を０次の暗環部として、下記の式（１）より前記記録メディアと前記評価用ヘッドとの間のスペーシング量を求め、求めたスペーシング量より記録メディアの良否を判定することを特徴とする記録メディアの評価方法を提供する。
Ｘ＝（λ／４π）×ＣＯＳ−１〔［２／（Ｐ−Ｖ）］×［（Ｐ＋Ｖ）／２−Ｙ］〕 （１）
Ｙ：光強度
Ｐ：０次明環部の光強度
Ｖ：０次暗環部の光強度
λ：当接部に照射する光の波長
本発明によれば、使用するシステムのヘッドを模した透明な評価用ヘッド（ダミーヘッド）を用い、記録メディア又はヘッドを押圧して記録メディアとヘッドとを当接させることにより、当接部に生じる干渉縞の最大光強度部分が確実に０次の明環部となり、また、干渉縞の最小光強度部分が確実に０次の暗環部となる。そのため、これらの最大光強度と最小光強度からスペーシング量を高精度で求めることができ、求めたスペーシング量より記録メディアの良否を判定できる。
【００１０】
すなわち、本発明によれば、ヘッド全体の平均スペーシング量を評価する。これは、ヘッドと記録メディアが接触したときの接触面積全体での平均粗さを示している。この平均スペーシング量レベルを規定することにより、使用するシステムにおいて走行性の安定した媒体を提供できる。
【００１１】
本発明において、前記求めたスペーシング量が１０〜５０ｎｍの場合に記録メディアを良と判定し、これ以外の場合に記録メディアを不良と判定することが好ましい。このように、スペーシング量が所定範囲にある場合に記録メディアを良と判定し、これ以外の場合に記録メディアを不良と判定すれば、記録メディアの評価が容易である。
【００１２】
また、本発明は、前記記録メディアの評価方法により良と判定されたことを特徴とする記録メディアを提供する。本発明によれば、走行性の安定した媒体を提供できる。
【００１３】
本発明において、表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが８〜４５ｎｍであることが好ましい。このような十点平均粗さであれば、走行性が安定し好ましい。なお、十点平均粗さＲｚｊｉｓとは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４年）における十点平均粗さＲｚであり、２００１年に改正されたＪＩＳ  Ｂ  ０６０１において削除され、参考値として十点平均粗さＲｚｊｉｓとされた指標である。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、本発明によれば、高密度記録において、記録メディアの走行性の指標になる表面性状評価方法を得ることができ、本評価方法により、走行性の安定した記録メディアを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明の記録メディアの評価方法にしたがって、磁気テープ（記録メディア）と磁気ヘッドとの間のスペーシング量を測定する実施形態を説明する概念図である。
【００１６】
図１において、ガラス製の透明ダミーヘッド１と磁気テープ２との間のスペーシング量を測定する光学系が示されている。この光学系は、光源３、フィルタ４、ビームスプリッタ５、反射鏡６、及びＣＣＤカメラ７を備えてなる。ここで、透明ダミーヘッド１は、透明材料を加工して実際の磁気ヘッドと同一形状に作成され、磁気テープ２は実際の磁気テープである。
【００１７】
光源３は、白色光Ｉ１を照射するものであり、たとえば、ハロゲンランプにより構成される。また、光源３として、ナトリウムランプ、キセノンランプ等を用いてもよく、更に、発光ダイオード、レーザー光を用いてもよい。
【００１８】
フィルタ４は、波長選択透過性を示す干渉フィルタにより構成され、光源３より出射された白色光Ｉ１を選択透過して、特定の波長範囲の光Ｉ２のみを出射するものである。ここで、フィルタ４は、測定する記録メディア（磁気テープ２）とヘッド（透明ダミーヘッド１）との間のスペーシング量によって干渉縞を形成することができる狭い波長範囲の光Ｉ２を選択透過するように構成される。
【００１９】
このようなフィルタ４（干渉フィルタ）としては、特定の波長の光を数ｎｍ〜数十ｎｍの帯域幅で出射することができるものであれば、特に限定されず、一般に市販されているものを用いることができる。
【００２０】
ビームスプリッタ５は、フィルタ４より入射した光Ｉ２の光路を折り曲げて反射鏡６に光Ｉ３として出射し、反射鏡６より入射する光Ｉ６を透過してＣＣＤカメラ７に光Ｉ７として出射するものである。なお、ビームスプリッタ５に代えてハーフミラーを用いてもよい。
【００２１】
反射鏡６は、ビームスプリッタ５より入射する光Ｉ３の光路を折り曲げて、透明ダミーヘッド１の背面より磁気テープ２に向けて光Ｉ４として照射するものである。
【００２２】
ここで、図２に示されるように、光Ｉ４が照射されたダミーヘッド１の側面１ａと磁気テープ２の表面２ａにおいて、反射光ｒ１、ｒ２が発生する。そして、反射鏡６から見てこれらの反射光ｒ１とｒ２との干渉により、図３に示されるような干渉縞が発生する。この干渉縞を含む反射光ｒ１、ｒ２は、光Ｉ５として反射鏡６に入射する。次に、反射鏡６は、光Ｉ５の光路を折り曲げて光Ｉ６（反射光ｒ１、ｒ２）をビームスプリッタ５に出射する。
【００２３】
ＣＣＤカメラ７は、ビームスプリッタ５より入射する光Ｉ７（反射光ｒ１、ｒ２）における干渉縞の像を撮像し、その光強度を測定するものである。
【００２４】
次に、干渉縞に基づくスペーシング量Ｘ（図２参照）の測定について説明する。本実施形態においては、磁気テープ（記録メディア）２は、図２に示されるように、表面２ａの反対面２ｂ側から吹き付けられる空気によって矢印Ｆの方向に押圧され、磁気テープ２はダミーヘッド１に当接される。
【００２５】
そのため、磁気テープ２の表面２ａによる反射光ｒ２と、ダミーヘッド１の側面１ａによる反射光ｒ１とは干渉して干渉縞が発生し、ＣＣＤカメラ７によって、その干渉縞が撮像される。この干渉縞は、図３に示されるように、まず、中央に０次の暗環部８、その０次の暗環部８を囲む０次の明環部９を有するものとなる。そして、０次の暗環部８は最小光強度部分を形成し、また、０次の明環部９は最大光強度部分を形成する。
【００２６】
このとき、フィルタ４を代えて選択透過光（光Ｉ２）の波長を変えても、測定される干渉縞における最大光強度部分と最小光強度部分とが、位置がずれずに同一の位置に現われれば、最小光強度部分と最大光強度部分とがそれぞれ０次の暗環部及び０次の明環部であることが確認できる。
【００２７】
そして、ＣＣＤカメラ７によって撮像される、０次の暗環部及び０次の明環部における光強度Ｙは、干渉条件を考慮すると、スペーシング量Ｘに対して下記の式（ａ）で表される。
【数１】
2007265533.tif 000003
Ｙ：光強度
Ａ：ＤＣオフセット量
Ｂ：フリンジ変化量
Ｘ：スペーシング量
λ：当接部に照射する光（フィルタ透過光：光Ｉ２）の波長
φ：テープ表面での反射光（光Ｉ５）の位相シフト量
これを、図示すると、図４に示されるようになる。なお、図４に示される光強度Ｙは、実際の光強度にバイアス（ＤＣオフセット量）を加えた値を示す。
【００２８】
ここで、今回のスペーシング量の測定ではφ＝πであり、０次暗環部の光強度をＶ、０次明環部の光強度をＰとすると、
Ｐ＝Ａ＋Ｂ、Ｖ＝Ａ−Ｂ
であるから、下記の式（ｂ）より、下記の式（ｃ）のようになり、スペーシング量Ｘは、下記の式（ｄ）のようになる。
【００２９】
【数２】
2007265533.tif 000004
【００３０】
【数３】
2007265533.tif 000005
【００３１】
【数４】
2007265533.tif 000006
したがって、この式（ｄ）より、最大光強度Ｐ及び最小光強度Ｖを求めることによって、スペーシング量Ｘを求めることができる。
【００３２】
また、本実施形態では、磁気テープとダミーヘッドとを当接させる方法として、磁気テープに空気を吹き付けることによって、磁気テープをダミーヘッドに向けて押圧する方法を採用したが、本発明はこの方法に限られず、下記の方法を採用してもよい。
【００３３】
・ヘッドとして透明なダミーヘッドを用い、かつ磁気テープを、磁気テープが変形しない機械的押圧手段でダミーヘッドに向けて押圧して、磁気テープとダミーヘッドとを当接させる。
【００３４】
・ヘッドとして透明なダミーヘッドを用い、かつダミーヘッドを磁気テープに向けて押圧する、又はダミーヘッドを磁気テープに向けて押圧しながら傾けることにより、磁気テープとダミーヘッドとを当接させる。
【００３５】
空気の吹き付け圧、機械的押圧手段による押圧力等は、予め、条件を変えて干渉縞を観察することによって、適宜、最適な条件を決定することができる。
【００３６】
すなわち、条件を変えて、測定される干渉縞における最大光強度部分と最小光強度部分とが、それぞれ０次の明環部、０次の暗環部とすることができる。
【００３７】
また、波長の異なる干渉フィルタを用いて最大光強度部分と最小光強度部分の位置がほとんどずれることなく現われるようであれば、それぞれ０次の明環部、０次の暗環部とすることができる。これによって、最適な条件を決定することができる。
【００３８】
以上に述べたように、本発明の記録メディアの評価方法によれば、記録メディアとヘッドとの間のスペーシング量を、１０〜５０ｎｍのレベルで高精度に測定することができる。そのため、本発明の方法によれば、高密度記録を要する記録再生装置におけるヘッドと記録メディアとの最適な組み合わせの解析に対して有効である。
【００３９】
また、本発明の方法は、記録メディアが異なっても、ヘッドやテープ面での反射や光源の影響を吸収でき、スペーシング量の絶対値比較ができる。
【００４０】
また、本発明の評価方法により判定された記録メディアであれば、安定した走行性が得られる。
【００４１】
以下、本発明が適用できる記録メディアについて説明する。本発明が適用できる記録メディアとしては、主に磁気記録媒体が挙げられる。また、磁気記録媒体以外も記録メディア、たとえば、光ディスク、光磁気ディスク等にも適用できる。磁気記録媒体としては、ハードディスク、フレキシブルディスクが挙げられるが、本発明は磁気テープに適用した場合に特に効果が得られる。以下、この磁気テープの構成について説明する。
【００４２】
磁気記録媒体としての磁気テープの層構成としては、非磁性の可撓性支持体の表面に非磁性の中間層が形成され、中間層の上に磁性層が形成されている構成が一般的である。また、非磁性の可撓性支持体の裏面にはバックコート層が形成されている構成が一般的である。
【００４３】
なお、非磁性の可撓性支持体と中間層との間に、又は中間層と磁性層との間に、密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。下塗り層を設ける場合、この層厚さは、０．０１〜０．５μｍが好ましく、０．０２〜０．５μｍがより好ましい。
【００４４】
支持体の厚さに制限はないが、２〜１００μｍが好ましく、２〜８０μｍがより好ましい。一般的にコンピューターテープの非磁性支持体は、３．０〜１０μｍ（好ましくは、３．０〜９．０μｍ、更に好ましくは、３．０〜８．０μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。
【００４５】
本発明の磁気記録媒体では、平均磁性層厚さは４０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１００ｎｍがより好ましい。磁性層は単一層でも、複数でも本発明の目的を達成できる。
【００４６】
本発明になる磁気記録媒体の下層である中間層の厚さは、０．０５〜５．０μｍが好ましく、０．１〜３．０μｍが好ましく、０．１〜２．５μｍが更に好ましい。バックコ−ト層１８の厚さは０．２〜１．５μｍが好ましく、０．３〜０．８μｍがより好ましい。
【００４７】
以下、磁気記録媒体の各層の構成及び磁気記録媒体の製造方法について、各項目毎に説明する。
【００４８】
［支持体］
本発明に用いられる非磁性の可撓性支持体１２としては、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知のフィルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などを行っても良い。
【００４９】
［磁性層］
磁性層の厚さは４０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜２００ｎｍがより好まく、８０〜２００ｎｍが更に好ましい。適用する記録再生システムに応じて最適な厚さ範囲を設定することができる。一般には４０ｎｍ以下になると出力が低下してしまい十分な出力やＣ／Ｎが得られない。一方２００ｎｍ以上だと、ノイズ成分が高くなりＣ／Ｎが劣化してしまう。
【００５０】
磁性層に使用する強磁性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属（好ましくは合金）粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことが更に好ましい。
【００５１】
［中間層］
次に、中間層について説明する。中間層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、たとえば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。
【００５２】
無機化合物としては、たとえばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。
【００５３】
［バックコート層］
バックコート層は、その層を光学式表面粗さ計にて測定した時の自乗平均表面から５０ｎｍ以上の高さを持つ突起個数が０．０３個／１００μｍ２〜０．２個／１００μｍ２であることが好ましい。
【００５４】
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バックコート層には、カーボンブラックが含有されていることが好ましい。
【００５５】
カーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子サイズが１０〜５０μｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが７０〜３００μｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。
【００５６】
［磁気記録媒体の製造に使用される他の材料］
次に、磁気記録媒体の製造に使用される他の材料について説明する。
【００５７】
磁性層、中間層、及びバックコート層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層、中間層、バックコート層に共通にそれぞれに適用できる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００５８】
［磁気記録媒体の製造方法］
本発明の磁気記録媒体は、各層を形成するための塗布液を塗布・乾燥等することにより製造することができる。塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初又は途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。たとえば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後に粘度調整をするための混合工程で分割して投入してもよい。
【００５９】
以上、本発明に係る記録メディアの評価方法、及び該評価方法により判定された記録メディアの実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【実施例】
【００６０】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。ここで示す成分、割合、操作順序等は、本発明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであることは本業界に携わるものにとっては、容易に理解されることである。
【００６１】
従って本発明は下記の実施例に制限されるべきではない。なお、実施例中の部は質量部を示す。
【００６２】
下記のようにして作製した表面性の異なる磁気テープ（サンプル１〜８）を使用して、表面性状、走行性、及び、電磁変換特性を測定した。
【００６３】
［表面性状の測定］
表面性状の測定は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）（デジタルインスツルメント社製、商品名：ナノスコープ３）、及び、光干渉式表面粗さ測定装置（ＷＹＫＯ社製、商品名：ＨＤ２０００、ｍｉｒａｕ干渉方式）を使用して行った。
【００６４】
平均スペーシング量は、透明型ダミーヘッドと磁気記録媒体（磁気テープ）とを静止系で接触させ、透明型ダミーヘッド側からマイクロスコープで観察した干渉模様をＣＣＤを介して平均光強度で抽出し、平均光強度を表面性データとして扱った。
【００６５】
更にスペーシング量を算出するには、磁気テープとヘッドとの間のスペーシング量を測定する方法（本発明者による特開２００４−３３４９５１号公報に開示の方法）を使用した。
【００６６】
［走行性の測定］
走行性の測定は、実際に記録・再生に使用する磁気ヘッドと磁気記録媒体（磁気テープ）を用いて、磁気テープを３ｍ／秒の速度で走行させたときの、走行開始部、走行部、走行停止部での磁気ヘッドと磁気テープとの貼り付き状態を観察し、貼り付きなしを○とし、貼り付きありを×とした。
【００６７】
［電磁変換特性の測定］
電磁変換特性の測定は、記録ヘッドとしてトラック幅が２０μｍで、ギャップ長が０．１７μｍの薄膜型ヘッドを、再生ヘッドとしてトラック幅が１０μｍで、シールド間距離が０．１５μｍのＡＭＲヘッドを用いた。
【００６８】
記録密度が２００ｋｆｃｉの信号を記録再生し、２００ｋｆｃｉの出力をＳとし、０〜４００ｋｆｃｉまでの積分ノイズをＮとして、その比をＳＮＲとした。ＳＮＲが２０ｄＢ以上を目標とした。
【００６９】
［サンプル１］
磁性層塗布液、非磁性層塗布液、バックコート層塗布液のそれぞれについて、下記に記載された各成分をオープンニーダーで混練した後、サンドミルで分散処理を施した。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過し、各層形成用塗布液を調製した。
【００７０】
［非磁性層用の塗布液の成分］
（１）
酸化鉄粉末（平均粒径：０．０６×０．０１μｍ）                      ７２部
α−アルミナ（平均粒径：０．０５μｍ）                                ８部
カーボンブラック                                                    ２０部
（平均粒径：２０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：２００ｍｌ／１００ｇ）
ステアリン酸／パルミチン酸（１／１）                                  ５部
塩化ビニル共重合体（含有−ＳＯ３Ｎａ基：１．２×１０−４当量／ｇ）     １２部
ポリエステルポリウレタン樹脂                                          ５部
（Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ３Ｎａ基：１×１０−４当量／ｇ）
シクロヘキサノン                                                    ３０部
メチルエチルケトン                                                  ６０部
トルエン                                                              ５部
（２）
ステアリン酸イソオクチル                                              ３部
オレイン酸オレート                                                    ２部
シクロヘキサノン                                                    ４０部
メチルエチルケトン                                                  ８０部
トルエン                                                            ２０部
（３）
ポリイソシアネート                                                    ５部
シクロヘキサノン                                                      ８部
メチルエチルケトン                                                  １５部
トルエン                                                              ５部
［磁性層用の塗布液の成分］
（１）
強磁性鉄系金属粉                                                  １００部
（Ｃｏ／Ｆｅ：２１ａｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：８ａｔ％、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：５ｗｔ％、Ｃａ／Ｆｅ：０ｗｔ％、σｓ：１５５Ａ・ｍ２／ｋｇ、Ｈｃ：１４９．６ｋＡ／ｍ、ｐＨ：９．４、平均長軸長：０．１０μｍ）
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体                  １３部
（含有−ＳＯ３Ｎａ基：０．７×１０−４当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂                                          ５部
（含有−ＳＯ３Ｎａ基：１．０×１０−４当量／ｇ）
α−アルミナ（平均粒径：０．１２μｍ）                                ８部
α−アルミナ（平均粒径：０．０７μｍ）                                ２部
カーボンブラック                                                      ２部
（平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：７２ｍｌ／１００ｇ）
メチルアシッドホスフェート                                            ２部
パルミチン酸アミド                                                １．５部
ステアリン酸                                                      ０．５部
ジエチレングリコール                                                  １部
テトラヒドロフラン                                                  ６５部
メチルエチルケトン                                                ２４５部
トルエン                                                            ８５部
（２）
ポリイソシアネート                                                    ２部
シクロヘキサノン                                                  １６７部
［バック層用の塗布液の成分］
カーボンブラック（平均粒径：１７ｎｍ）                              ９０部
カーボンブラック（平均粒径：３００ｎｍ）                              ５部
酸化鉄（平均長軸長：０．１μｍ、軸比：約１０）                        ５部
ニトロセルロース                                                    ４０部
ポリウレタン樹脂（ＳＯ３Ｎａ基含有）                                 ３０部
シクロヘキサノン                                                  ２５０部
トルエン                                                          ２２０部
メチルエチルケトン                                                ６００部
厚さ６．０μｍのポリエチレンフタレートベース上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように非磁性塗布液を塗布し、乾燥させた後、その上に磁性層の厚さが０．１μｍになるように磁性層塗布液を塗布し、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに０．３Ｔの磁力を持つ磁石で配向し、乾燥させた。
【００７１】
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダー装置で、速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、温度９０°Ｃで表面平滑化処理を行った後、硬化させた。
【００７２】
その後、厚さ０．５μｍのバックコート層を塗布した後、１２．７ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、スリット品の送り出し、及び巻き取り機構を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性層面に押し当たるように取り付けたクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い磁気テープの試料を得た。
【００７３】
［サンプル２］
カレンダー装置における温度を８０°Ｃに変えた以外は、サンプル１と同様にしてサンプル２を作製した。
【００７４】
［サンプル３］
磁性層用塗料のα-アルミナの平均粒径０．１０μｍを５部、平均粒径０．０７μｍを５部にして、カレンダー装置における温度を９５°Ｃに変えた以外は、サンプル１と同様にしてサンプル３を作製した。
【００７５】
［サンプル４］
非磁性塗布液を塗布乾燥させた後に、金属ロールのみから構成されるカレンダー装置で速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、温度９０°Ｃで表面平滑化処理を行う以外はサンプル３と同様にしてサンプル４を作製した。
【００７６】
［サンプル５、６、８］
磁性層用塗料のα-アルミナを、サンプル５は平均粒径０．０７μｍを１０部、サンプル６は平均粒径０．０７μｍを７部、サンプル８は平均粒径０．０７μｍを５部に変更した以外はサンプル４と同様にしてサンプル５、６、８をそれぞれ作製した。
【００７７】
［サンプル７］
磁性層塗布液、非磁性層塗布液、バックコート層塗布液のそれぞれについて、オープンニーダーで混練した後、超音波分散処理を施した以外はサンプル５と同様にしてサンプル７を作製した。
【００７８】
［実施例の評価結果］
実施例（サンプル１〜８）の評価結果を図５の表に纏めた。
【００７９】
以上の結果より、スペーシング量が１０〜５０ｎｍの場合に、走行性、及び、電磁変換特性が良好となり、スペーシング量がこの範囲以外の場合に、走行性、及び、電磁変換特性が不良となることが確認された。
【００８０】
また、表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが８〜４５ｎｍである場合に、走行性、及び、電磁変換特性が良好となり、Ｒｚｊｉｓがこの範囲以外の場合に、走行性、及び、電磁変換特性が不良となることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施形態に係る記録メディアの評価方法を説明する概念図
【図２】ダミーヘッドと磁気テープにおける反射光の干渉を説明する模式図
【図３】ＣＣＤカメラによって撮像された干渉縞の像を示す概略図
【図４】干渉縞の０次の暗環部及び０次の明環部における光強度とスペーシング量の関係を示すグラフ
【図５】実施例の結果を示す表
【符号の説明】
【００８２】
１…ダミーヘッド、２…磁気テープ（記録メディア）、３…光源、４…フィルタ、５…ビームスプリッタ、６…反射鏡、７…ＣＣＤカメラ、８…０次の暗環部（最小光強度部分）、９…０次の明環部（最大光強度部分）
【図１】
2007265533.tif 000007
【図２】
2007265533.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図５】
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