(57)【要約】      （修正有）【課題】中間層の層厚とその硬さとの関係を規定することにより、基板の変形を防止し、電気特性が良好な光情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に、少なくとも、中間層と、色素を含有する記録層とを有する光情報記録媒体であって、前記中間層が、以下の条件Ａを満足することを特徴とする光情報記録媒体である。（条件Ａ）  前記中間層と同質の素材を用いて、厚みが３８０±２５μｍのＳｉ基板上に１５０ｎｍの薄膜を成膜し、対面角１３６°のダイヤモンド四角錐の圧子を用いて、前記薄膜表面に２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加えた時の最大押し込み深さをＤ［ｎｍ］と定義し、前記中間層の層厚をＴ［ｎｍ］と定義したとき、次式で表されるＮが２．０未満である。    Ｎ＝Ｄ／Ｔ【選択図】図１
2007265523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも、中間層と、色素を含有する記録層とを有する光情報記録媒体であって、
前記中間層が、以下の条件Ａを満足することを特徴とする光情報記録媒体。
（条件Ａ）
前記中間層と同質の素材を用いて、厚みが３８０±２５μｍのＳｉ基板上に１５０ｎｍの薄膜を成膜し、対面角１３６°のダイヤモンド四角錐の圧子を用いて、前記薄膜表面に２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加えた時の最大押し込み深さをＤ［ｎｍ］と定義し、前記中間層の層厚をＴ［ｎｍ］と定義したとき、次式で表されるＮが２．０未満である。
Ｎ＝Ｄ／Ｔ
【請求項２】
前記基板には同心円状又は螺旋状の案内溝が形成されていて、前記中間層の厚みが基板の案内溝深さの４５％未満であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記中間層が酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物及びケイ素酸化物のいずれかを含むことを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記記録層の色素が、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、及びフタロシアニン色素のうちの少なくとも１種であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体、中でもレーザー光を用いて情報の記録及び再生を行うことができる追記型のディスク状光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生するための、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ±Ｒ）と称される光ディスクが提案されている。このＤＶＤ±Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プリグルーブ）のトラックピッチがＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、或いは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ±Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００３】
また、最近は、デジタルハイビジョン放送の開始により、画像データ量の一層の増加が見こまれており、それに伴い、光情報記録媒体にも、高容量、高データ転送速度が求められるようになってきた。デジタルハイビジョン放送を家庭で録画しようとした場合、前述のＤＶＤ±Ｒでは既に容量が不足すると言われており、次世代ＤＶＤの開発も行われている。その一例として、このＤＶＤ−Ｒとほぼ同じ構成を有する追記型ＨＤ ＤＶＤが提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００４】
このＨＤ ＤＶＤと呼ばれる光情報記録媒体は、基本的な構成としては、基板上に、記録層と、反射層と、接着層と、ダミー基板とからなる構成が挙げられる。そして、記録層の保存性向上などを目的として、基板と記録層との間に中間層が設けられる。
【０００５】
中間層を有する光情報記録媒体として、例えば、下記の特許文献１には、基板／中間層／光吸収層／反射層という構成の光情報記録媒体で、光吸収層がレーザー光を吸収し、ガス発生または膨張することで局部的に圧力が増大し中間層又は及び基板を変形させることで記録ピットが形成され、良好な電気特性が得られるという技術が開示されている。
【０００６】
また、下記の特許文献２には、基板／誘電体層／光吸収体を含む記録層／反射層という構成の光情報記録媒体が記載されている。そして、中間層に相当する誘電体層は、記録時における記録層の発熱に起因する基板の変形を防ぐのが主な役割である。
【特許文献１】特開平９−１３８９７２号公報
【特許文献２】特開平８−１３８２４５号公報
【非特許文献１】「日経エレクトロニクス１０月１３日号」日経ＢＰ社，２００３年１０月１３日発行，ｐ１２６−１３４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上のような中間層は、主として、それ自身が変形してピット形成に寄与すること、あるいは基板の変形を抑えることにおいてその役割を果たしているが、本発明者らの検討によると、中間層の層厚及びその硬さによっては良好な電気特性（ＰＲＳＮＲ）が得られないという問題があり、改善の余地が残されていた。
本発明は、以上の従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、中間層の層厚とその硬さとの関係を規定することにより、基板の変形を防止し、電気特性が良好な光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決する手段は以下の通りである。即ち、
本発明の光情報記録媒体は、基板上に、少なくとも、中間層と、色素を含有する記録層とを有する光情報記録媒体であって、前記中間層が、以下の条件Ａを満足することを特徴とする光情報記録媒体である。
（条件Ａ）
前記中間層と同質の素材を用いて、厚みが３８０±２５μｍのＳｉ基板上に１５０ｎｍの薄膜を成膜し、対面角１３６°のダイヤモンド四角錐の圧子を用いて、前記薄膜表面に２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加えた時の最大押し込み深さをＤ［ｎｍ］と定義し、前記中間層の層厚をＴ［ｎｍ］と定義したとき、次式で表されるＮが２．０未満である。
Ｎ＝Ｄ／Ｔ
本発明の光情報記録媒体によると、中間層の層厚とその硬さが最適な状態となり、基板の変形を抑えることができ、電気特性の向上を図ることができる。
【０００９】
前記基板には同心円状又は螺旋状の案内溝が形成されていて、前記中間層の厚みが基板の案内溝深さの４５％未満であることが好ましい。
当該構成により、中間層を薄く形成することができ、成膜時間を短縮することができる。
【００１０】
前記中間層が、前記条件Ａを容易に満足させる観点から、酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物及びケイ素酸化物のいずれかを含むことが好ましい。
【００１１】
前記記録層の色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、及びフタロシアニン色素のうちの少なくとも１種であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、中間層の層厚とその硬さとの関係を規定することにより、基板の変形を防止し、電気特性が良好な光情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に、少なくとも、中間層と、色素を含有する記録層とを有する光情報記録媒体であって、前記中間層が、以下の条件Ａを満足することを特徴としている。
（条件Ａ）
前記中間層と同質の素材を用いて、厚みが３８０±２５μｍのＳｉ基板上に１５０ｎｍの薄膜を成膜し、対面角１３６°のダイヤモンド四角錐の圧子を用いて、前記薄膜表面に２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加えた時の最大押し込み深さをＤ［ｎｍ］と定義し、前記中間層の層厚をＴ［ｎｍ］と定義したとき、次式で表されるＮが２．０未満である。
Ｎ＝Ｄ／Ｔ
以下、まず、本発明の光情報記録媒体の各構成要素について説明する。
【００１４】
本発明の光情報記録媒体の層構成としては、基板（第１の基板）上に、中間層と、色素を含有する記録層と、反射層とを順次有し、接着層と第２の基板とを貼り合わせる構成、いわゆる「ＨＤ  ＤＶＤ」の構成に好適に適用することができる。
以下に、まず、中間層についての詳細を説明する。
【００１５】
［中間層］
中間層は、記録層のレーザー光照射側に設けられる層であり、基板と記録層との間に設けられる。本発明において、中間層は前記条件Ａを満足するが、該条件Ａは、中間層を構成する素材の硬さと厚みとの関係を規定する条件である。以下に、まず条件Ａについて説明する。
【００１６】
（条件Ａ）
本発明において、前記条件Ａにおいて数式で規定されるＮが２．０未満である。該Ｎの値が２．０未満であることで、中間層の層厚とその硬さが最適な状態となり、基板の変形を抑えることができ、電気特性の向上を図ることができる。反対に、Ｎが２．０以上であ
ると、中間層が軟らかくなり、基板の変形を抑えることができず、良好な電気特性を得ることができない。前記Ｎは好ましくは１．９６未満であり、より好ましくは１．９２未満である。
【００１７】
ここで、条件Ａにおける最大押し込み深さＤの測定方法について図面を参照して説明する。図１は、条件Ａにおける最大押し込み深さＤを測定する様子を模式的に示す図である。最大押し込み深さＤの測定に際し、まず、図１に示すように、Ｓｉ基板１０上に、中間層と同質の素材を用いて薄膜１２を形成する。薄膜１２形成後に、薄膜１２表面に、対面角１３６°のダイヤモンド四角錐の圧子１４を２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加える。すると、図１に示すように、薄膜１２の表面は圧子１４の押圧力によって凹むが、この状態で凹んだ領域の頂点の深さ（最大押し込み深さ）Ｄを測定する。
なお、実際的には、以上の最大押し込み深さＤは、Ｆｉｓｃｈｅｒ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製  Ｐｉｃｏｄｅｎｔｅｒで測定することができる。この際、圧子は一般にビッカース型と呼ばれる対面角１３６°のダイヤモンド四角錐を用いる。測定方法は、２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加え、この時の最大押し込み深さ（Ｄ）を測定する。
【００１８】
中間層の素材としては、前記条件Ａを満足することを条件として適宜選択することができるが、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｇａ、Ｉｎ等の窒化物、酸化物、炭化物からなる材料が好ましく、中でも、Ｚｎ、Ｓｉ、及びＡｌからなる群より選択される金属の窒化物、酸化物を少なくとも１種含む層であることが好ましい。具体的には、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5、Ｇａ2Ｏ3、ＩＴＯ、Ｓｉ3Ｎ4が好ましく、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。本発明においては、特に、酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物（ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3）及びケイ素酸化物（ＳｉＯ2）のいずれかを含むことが好ましい。
【００１９】
本発明において、中間層の層厚としては、該中間層を構成する素材により前記条件ＡのＮの数値が変動することから、素材に応じて異なるが、一般には、中間層の厚さは１〜８０ｎｍとすることが好ましく、１〜５０ｎｍとすることがより好ましくは、１．５〜４０ｎｍとすることがさらに好ましい。薄すぎると記録時に基板が変形してしまい記録特性が悪化し、厚すぎると溝幅が狭くなり記録特性が悪化することがある。
【００２０】
また、本発明において、後述する基板に同心円状又は螺旋状の案内溝（プリグルーブ）が設けられる場合、中間層の層厚は、基板の案内溝深さの４５％未満であることが好ましく、４４％未満であることがより好ましく、４３％未満であることがさらに好ましい。中間層の層厚が、基板の案内溝深さの４５％以上となると、中間層の表面が荒れてしまい信号にノイズが入ってしまうので良好な電気特性が得られないことがある。
【００２１】
また、中間層は硫黄を含まないことが望ましい。硫黄を含むと反射層に銀を用いた場合、銀を腐食させる場合があるからである。
また、中間層は水に腐食しない素材であることが望ましい。水に腐食する素材は湿熱保存性が悪くなる傾向にある。
【００２２】
以上の中間層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましい。
【００２３】
スパッタによる成膜時の圧力は１３．３×１０-1〜１．３３×１０-3Ｐａ（１Ｅ−０２〜１Ｅ−０５ｔｏｒｒ）が好ましく、レートは０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃが好ましく、ガス流量は１〜５０ｓｃｃｍが好ましく、ガス種類はＡｒが好ましく、スパッタ電力は０．２〜４ｋＷ（好ましくは０．４〜３ｋＷ、さらに好ましくは０．５〜２．５ｋＷ）である。
【００２４】
ＲＦスパッタ法により成膜する場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下、好ましくは５％以下、更に好ましくは２．５％以下である。また、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【００２５】
ＤＣスパッタ法による成膜の場合、パルススパッタ法やチョッパー等により瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。また、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【００２６】
中間層の光透過率は５０〜９９％であることが好ましく、５５〜９８％であることがより好ましく、６０〜９５％であることがさらに好ましい。光透過率が低いと記録感度が悪化することがあり、媒体反射率が低くなるなどの弊害が生じることがある。光透過率が高いと、耐光性試験時の保存性が悪くなる傾向にある。中間層に用いられる無機物層は、記録再生波長である４０５ｍより短い領域では光吸収性が４０５ｎｍでの吸収より大きく、耐光性試験時に照射される〜３５０ｎｍの光から色素を保護する働きも有していると推定される。
【００２７】
以下に、本発明の光情報記録媒体の層構成における中間層以外の各層について説明する。本発明の光情報記録媒体の層構成は、既述のように、基板（第１の基板）／中間層／記録層／反射層／接着層／基板（第２の基板）の構成であり、一部（基板、中間層、及び記録層を除く）を省略しても、別の異なる層を追加してもかまわない。
【００２８】
［第１の基板］
本発明の光情報記録媒体の第１の基板は、従来の光ディスクの基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。
基板材料としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
第１の基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．５５〜０．９ｍｍとすることがより好ましい。
【００２９】
本発明においては、第１の基板に形成されるプリグルーブは、高密度の記録を達成するために、トラックピッチが０．１〜０．６μｍであることが好ましく、０．３３〜０．５０μｍの範囲であることがより好ましい。また、溝深さは、３０〜１３０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４０〜１２５ｎｍとすることがより好ましく、５０〜１２０ｎｍとすることがさらに好ましい。１３０ｎｍを超えると反射率が低い、成型が困難となることがあり、３０ｎｍ未満ではトラッキングが不安定になることがある。
基板溝幅は１４０〜２４０ｎｍとすることが好ましく、１４５〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１５０〜２２０ｎｍとすることがさらに好ましい。１４０ｎｍ未満では溝部、２４０ｎｍを超えるとランド部（溝間部）の成型が困難となる。
【００３０】
加えて、プリグルーブの溝傾斜角度は、２０〜８０°の範囲であることが好ましく、３０〜７０°の範囲であることがより好ましい。
【００３１】
記録層が設けられる側の基板表面（プリグルーブが形成された面側）には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。
下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及びシランカップリング剤などの表面改質剤などを挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００３２】
［記録層］
記録層は、記録及び再生に使用されるレーザー光を吸収し得る色素を含有する層であって、デジタル情報などの符号情報（コード化情報）が記録される。
記録層に含有される色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
更に、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、オキソノール色素、金属錯塩系色素、アゾ色素、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００３３】
記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、又は溶剤塗布等の方法によって行うことができるが、溶剤塗布が好ましい。
記録層を溶剤塗布により形成する方法としては、まず、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を基板上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥する方法がある。
塗布液中の記録物質（上記の色素、化合物）の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００３４】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロバノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３５】
結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブナラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
【００３６】
記録層の材料として結合剤を併用する場合、結合剤の使用量は、一般に色素の質量の０．０１倍量〜５０倍量の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量の範囲にある。
【００３７】
前記溶剤塗布の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
記録層の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１５〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２０〜１５０ｎｍの範囲にある。
なお、記録層は単層でも重層でもよい。
【００３８】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に、一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−３１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６８−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
【００３９】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、通常、色素の質量の０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００４０】
［反射層］
情報の再生時における反射率の向上の目的で、記録層に隣接して反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属或いはそれらの合金である。
反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板若しくは記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００４１】
［接着層］
接着層は、上記反射層と、第２の基板とを貼り合わせるために形成される。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、中でも、ディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−６６１」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。
また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００４２】
［第２の基板］
第２の基板には、プリグルーブが形成されていない点以外は、第１の基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。
また、第２の基板にも第１の基板と同様のプリグルーブが形成され、また、貼り合わせ面に、記録層が形成されていてもよい。更に、第２の基板と記録層との間に中間層が設けられてもよいし、記録層の基板とは反対の面に反射層が設けられてもよい。なお、第２の基板側に設けられる、中間層、記録層、及び反射層も、上述の各層と同様である。このように、第２の基板側に記録層が形成されている積層体と、上述のように、第１の基板上に、中間層、記録層、及び反射層がこの順に形成されている積層体と、を両基板を外側にして接着層により貼り合せることにより、両面で情報の記録及び再生が可能な光情報記録媒体を得ることができる。
【００４３】
［記録方法］
本発明の光情報記録媒体への情報（デジタル情報）の記録方法について説明する。
本発明の光情報記録媒体への情報の記録には、少なくとも、レーザー光を射出するレーザーピックアップと、光情報記録媒体を回転させる回転機構と、を有する記録装置を用いる。まず、回転機構を用いて、未記録の光情報記録媒体を所定の記録線速度にて回転させながら、レーザーピックアップからレーザー光を照射する。この照射光により、記録層中の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、例えば、ピットが生成してその光学特性が変わることにより情報が記録される。
なお、記録された情報の再生は、回転させた状態の光情報記録媒体の記録層に向けてレーザーピックアップからレーザー光を照射して行う。
【００４４】
レーザー光の記録波形は、１つのピットの形成する際には、パルス列でも１パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ（ピットの長さ）に対する割合が重要である。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９５％の範囲が好ましく、３０〜９０％の範囲がより好ましく、３５〜８５％の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
【００４５】
レーザー光のパワーとしては、記録線速度によって異なるが、記録線速度が６．６１ｍ／ｓの場合、１〜１５ｍＷの範囲が好ましく、２〜１２ｍＷの範囲がより好ましく、３〜１０ｍＷの範囲が更に好ましい。また、記録線速度が２倍になった場合には、レーザー光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ２1/2倍となる。
【００４６】
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．５５以上が好ましく、０．６０以上がより好ましい。
本発明においては、記録及び再生の光源として、３５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーを用いることができる。
【実施例】
【００４７】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４８】
−最大押し込み深さＤの測定−
まず、以下の実施例及び比較例に供する中間層に用いる素材を用い、前記条件Ａに従う膜を形成し、最大押し込み深さＤを測定した。
Ｓｉ単結晶基板（厚み：３８０±２５μｍ）上にＳｉＯ2からなるターゲットを用いて、ＲＦスパッタ法によりＳｉＯ2膜を１５０ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は１ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍで行った。
この試料をＦｉｓｃｈｅｒ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製  Ｐｉｃｏｄｅｎｔｅｒで測定した。圧子は一般にビッカース型と呼ばれる対面角１３６°のダイヤモンド四角錐を用いた。測定方法は、２０秒かけて一定速度で０．５ｍＮまで力を加え、この時の最大押し込み深さ（Ｄ）を測定した。
同様に、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3からなるターゲットを用いて、ＲＦスパッタ法によりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3膜を１５０ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍで行った。最大押し込み深さ（Ｄ）の測定方法は上記と同じである。
【００４９】
［実施例１］
帝人化成(株)社製ポリカーボネート樹脂(ＭＤ１５００)を用いて射出成形により厚さ０．６ｍｍの基板（第１の基板）を成形した。基板の溝トラックピッチは４００ｎｍ、溝深さは９０ｎｍ、溝幅は１８０ｎｍであった。
この基板上に中間層としてＳｉＯ2からなるターゲットを用いて、ＲＦスパッタ法によりＳｉＯ2層を１９ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は１ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍで行った。成膜にかかった時間は４４秒であった。
【００５０】
ＴＦＰ（テトラフルオロプロパノール）６６．６ｇに対し、下記構造式で表される化合物を０．６ｇ溶解させた。該液に超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、２３℃５０％の環境に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルターで濾過し、記録層塗布液を得た。この記録層塗布液を用いて、スピンコート法で中間層付きの基板上に厚さ４０ｎｍの記録層を形成した。
【００５１】
【化１】
2007265523.tif 000003
【００５２】
記録層形成後、８０℃のクリーンオーブン中で１時間加熱処理した。
加熱処理後の試料に、Ａｇ：９８．４ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％からなるターゲットを用いて、ＤＣスパッタ法により反射層を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【００５３】
反射層を成膜した後、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート基板（第２の基板）を大日本インキ化学工業（株）製のＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ−６４０）を用いて貼り合せて光情報記録媒体を作製した。
【００５４】
作製した光情報記録媒体を、波長：４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．６５のレーザー光学系を搭載したディスクドライブ装置（ＤＤＵ−１０００、パルステック工業（株）製）にセットして、線速６．６１ｍ／ｓにてランダム信号を記録しＰＲＳＮＲ値を測定した。ＰＲＳＮＲ値は１３であった。記録時には発光波形、記録パワーを最適化して行った。
【００５５】
［実施例２］
中間層の層厚を２６ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は５９秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は１８であった。
【００５６】
［実施例３］
中間層として、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（３０ａｔ％：７０ａｔ％）からなるターゲットを用いて、ＲＦスパッタ法によりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3膜を１６ｎｍの厚みで成膜し、その時の投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍで行ったこと以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は８．５秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は１４であった。
【００５７】
［実施例４］
中間層の層厚を２２ｎｍとしたこと以外は実施例３と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は１２秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は２１であった。
【００５８】
［実施例５］
中間層の層厚を４０．５ｎｍとした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は９４秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は１３であった。
【００５９】
［実施例６］
中間層の層厚を４０．５ｎｍとしたこと以外は実施例３と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は２０秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は１５であった。
【００６０】
［比較例１］
中間層の層厚を１０ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は２３秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は３であった。
【００６１】
［比較例２］
中間層の層厚を１８ｎｍとしたこと以外は実施例１と同様に作製した。中間層の成膜にかかった時間は４１秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は９であった。
【００６２】
［比較例３］
中間層の層厚を１０ｎｍとしたこと以外は実施例３と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は５．５秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は４であった。
【００６３】
［比較例４］
中間層の層厚を１５ｎｍとしたこと以外は実施例３と同様にして光情報記録媒体を作製した。中間層の成膜にかかった時間は８秒であった。また、ＰＲＳＮＲ値は８であった。
【００６４】
以上の実施例および比較例で作製されたそれぞれの光情報記録媒体について、ＰＲＳＮＲ値の結果を中間層の成膜にかかる成膜時間の結果と併せ判定結果とともに下記表１に示す。
なお、表１のＰＲＳＮＲ値の欄の「◎」はＰＲＳＮＲ＞１５、「○」は１５≧ＰＲＳＮＲ＞１０、「×」はＰＲＳＮＲ≦１０であることを意味する。
また、表１の成膜時間の欄の「○」は各中間層素材毎でＮ＝１．４の成膜時間に対して、その時の成膜時間が１．５倍未満であり、「×」はＮ＝１．４の成膜時間に対して、その時の成膜時間が１．５倍以上かかることを意味している。
表１の総合評価の欄の「◎」はＰＲＳＮＲ値及び成膜時間の判断で◎が入っている時であり、「○」はＰＲＳＮＲ値および成膜時間の判断が○のみであり、「△」はＰＲＳＮＲ値のみの判断が○であり、「×」はＰＲＳＮＲ値および成膜時間の判断で×が入るという判断基準の下に判定を行った。
【００６５】
【表１】
2007265523.tif 000004
【００６６】
表１の結果から、実施例１〜６の光情報記録媒体は、比較例１〜４の光情報記録媒体に比べ、ＰＲＳＮＲの評価において優れた結果が得られた。また、中間層の厚みが基板の案内溝深さの４５％である実施例５及び６は、成膜時間が長時間となったが、Ｎの数値が２．０未満であるため、ＰＲＳＮＲについては良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】条件Ａにおける最大押し込み深さＤについて説明する模式図である。
【符号の説明】
【００６８】
１０  Ｓｉ基板
１２  薄膜
１４  圧子
【図１】
2007265523.tif 000005