(57)【要約】【課題】  磁気転写により磁気記録媒体に転写されたサーボ信号の検査を行う。【解決手段】  Ａバースト部、Ｂバースト部、Ｃバースト部およびＤバースト部からなるトラック方向に並んで配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンが凹凸転写パターンの形成されたマスター記録媒体と、磁気記録媒体を密着させ磁界を印加することにより、前記マスター記録媒体に記録された情報を記録媒体に転写させた磁気記録媒体における前記サーボバースト信号を検査するサーボ信号検査方法において、振幅サーボパターンの位置誤差信号（ＰＥＳ）を任意のトラックの中心から、前記トラックに隣接するトラックの中心まで測定するステップと、測定したトラック幅方向の座標位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）に基づき相関係数Ｓを算出するステップからなるサーボ信号検査方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】  図１５
2007299461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のトラックピッチで等間隔に形成された複数トラックの交互に、トラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるＡバースト部およびＢバースト部と、前記複数トラックの交互に、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるＣバースト部およびＤバースト部とが、トラック方向に並んで配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを凹凸転写パターンの形成されたマスター記録媒体と、前記マスター記録媒体と磁気記録媒体を密着させ磁界を印加することにより、前記マスター記録媒体に記録された情報を磁気転写させた磁気記録媒体における前記サーボバースト信号を検査するサーボ信号検査方法において、
前記振幅サーボパターンの位置誤差信号（ＰＥＳ）を任意のトラックの中心から、前記トラックに隣接するトラックの中心まで測定するステップと、
前記測定したトラック幅方向の座標位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）に基づき相関係数Ｓを算出するステップと、
を有し、前記相関係数Ｓは、トラック幅方向の座標位置をｘ＝｛ｘｉ｝、 位置誤差信号（ＰＥＳ）をｙ＝{ｙｉ}  (ｉ＝８、９、・・・、ｎ)とした場合、次式
【数１】
2007299461.tif 000005
により定められる値であることを特徴とするサーボ信号検査方法。
【請求項２】
前記位置誤差信号（ＰＥＳ）の測定において、１トラック間における測定点が、少なくとも８点以上であることを特徴とする請求項１に記載のサーボ信号検査方法。
【請求項３】
円周状に前記トラックが設けられた円盤状の磁気記録媒体において、
請求項１に記載のサーボ信号検査方法により測定した任意のトラックにおける１周分の前記振幅サーボパターンの位置誤差信号（ＰＥＳ）の８０％以上の測定値における前記相関係数Ｓが、０．９７以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３に記載した磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サーボ信号検査方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものであり、特に、磁気転写により得られた磁気記録媒体の振幅サーボパターンのサーボ信号検査方法、及び前記サーボ信号検査方法における検査により所定の条件を満たしている磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録再生装置は、小型でかつ大容量を実現するために、記録密度の高密度化の傾向にあり、特に、代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの分野では、技術の進歩が急激である。
【０００３】
このような、情報量の増加に伴い、多くの情報を記録することができる大容量で、安価で、かつ、好ましくは短時間で必要な箇所が読み出せる、いわゆる高速アクセスが可能な高密度磁気記録媒体が望まれている。これらの高密度磁気記録媒体は、情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅において正確に磁気ヘッドを走査させて高いＳ／Ｎで信号を再生するために、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。このトラッキングサーボを行うために、従来よりセクターサーボ方式が広く採用されている。
【０００４】
セクターサーボ方式とは、磁気ディスク等の磁気記録媒体のデータ面において、一定角度等で正しく配列されたサーボフィールドに、トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス情報信号、再生クロック信号等のサーボ情報を記録しておき、磁気ヘッドが、このサーボフィールドを走査してサーボ情報を読み取り自らの位置を確認しつつ修正する方式である。
【０００５】
トラック位置決めのためのサーボ信号には、サーボ信号の再生振幅情報を用いられる方式が一般的に採用されている。一般的なサーボパターンは、サーボ信号がＡ、Ｂ、ＣおよびＤバースト部からなり、Ａバースト部及びＢバースト部を構成するＡバーストビット列及びＢバーストビット列の各ビットが、トラック中心線より１／２トラック幅ずつずらせて記録されている。再生磁気ヘッドがサーボフィールドを通過する際に、Ａ、Ｂバーストビット列からの再生信号振幅が同じになるように位置決めサーボをかけるものである。
【０００６】
サーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要があり、現在は専用のサーボ記録装置を用いてプリフォーマットが行われている。現在用いられているサーボ記録装置は、例えばトラックピッチの７５％程度のヘッド幅を有する磁気ヘッドを備え、磁気ヘッドを磁気ディスクに近接させた状態で、磁気ディスクを回転させつつ、１／２トラック毎に磁気ディスクの外周から内周に移動させながらサーボ信号を記録する。そのため、１枚の磁気ディスクのプリフォーマット記録に長時間を要し、生産効率の点で問題があり、コストアップの要因となっている。
【０００７】
このため、特許文献１、２では、プリフォーマットを正確にかつ効率的に行う方法として、サーボ情報に対応したパターンが形成されているマスター記録媒体の情報を磁気記録媒体に磁気転写する方法が開示されている。
【０００８】
この磁気転写は、転写用磁気ディスク等の磁気記録媒体（スレーブ媒体）に転写すべき情報に応じて凹凸パターンからなる転写パターンを有するマスター記録媒体を用い、このマスター記録媒体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、記録用磁界を印加することにより、マスター記録媒体の凹凸パターンにより記録されている情報（例えばサーボ情報）に対応する磁気パターンを磁気記録媒体に磁気的に転写するものである。この方法では、マスター記録媒体と磁気記録媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。また、このような磁気転写方法としては、転写される磁化情報が、磁気記録媒体に垂直に磁化され記録される垂直磁気記録と、磁気記録媒体に平行に磁化され記録される面内磁気記録の２種類存在している。
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開平１０−２６９５６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、近年の磁気ディスクにおいては記録密度が向上したことに伴い、トラック間密度も上昇し、上記プリフォーマットにより記録される情報について、より高い精度が要求されている。特許文献１、２に記載されているように、磁気転写方式により磁気記録媒体にプリフォーマット情報を記録した場合では、磁気転写の条件等により磁気記録媒体に記録されるプリフォーマット情報の位置や形状等が異なってくる。このため、磁気転写されたプリフォーマット情報の記録されている位置や形状が、磁気ヘッドがトラッキングをとるために充分なものであるか否かの検査を行うことが必要となる。即ち、トラッキングをとることができなければ、いくら磁気ディスクの媒体性能を高めても、所定のトラック位置において記録再生を行うことができないため、磁気ディスクの高密度化を達し得ないのである。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、磁気転写により転写された磁気記録媒体の振幅サーボパターンについて、理想的な位置や形状との相関関数を測定するサーボ信号検査方法、トラッキング精度の高い磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、所定のトラックピッチで等間隔に形成された複数トラックの交互に、トラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるＡバースト部およびＢバースト部と、前記複数トラックの交互に、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるＣバースト部およびＤバースト部とが、トラック方向に並んで配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを凹凸転写パターンの形成されたマスター記録媒体と、前記マスター記録媒体と磁気記録媒体を密着させ磁界を印加することにより、前記マスター記録媒体に記録された情報を磁気転写させた磁気記録媒体における前記サーボバースト信号を検査するサーボ信号検査方法において、前記振幅サーボパターンの位置誤差信号（ＰＥＳ）を任意のトラックの中心から、前記トラックに隣接するトラックの中心まで測定するステップと、前記測定したトラック幅方向の座標位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）に基づき相関係数Ｓを算出するステップと、を有し、前記相関係数Ｓは、トラック幅方向の座標位置をｘ＝｛ｘｉ｝、 位置誤差信号（ＰＥＳ）をｙ＝{ｙｉ}  (ｉ＝８、９、・・・、ｎ) とした場合、次式
【００１２】
【数１】
2007299461.tif 000003
【００１３】
により定められる値であることを特徴とするサーボ信号検査方法である。
【００１４】
請求項２に記載の発明は、前記位置誤差信号（ＰＥＳ）の測定において、１トラック間における測定点が、少なくとも８点以上であることを特徴とする請求項１に記載のサーボ信号検査方法である。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、円周状に前記トラックが設けられた円盤状の磁気記録媒体において、請求項１に記載のサーボ信号検査方法により測定した任意のトラックにおける１周分の前記振幅サーボパターンの位置誤差信号（ＰＥＳ）の８０％以上の測定値における前記相関係数Ｓが、０．９７以上であることを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載した磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置である。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によるサーボ信号検査方法によれば、振幅サーボパターンが所定の位置に磁気転写されているか否かに関し、定量的に検査することができる効果がある。また、この検査方法により所定の条件を満たしている磁気記録媒体は、高密度化された場合であっても正確にトラッキングすることができ、高密度な磁気記録媒体及び、高密度な磁気記録再生装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の第１の実施の形態にかかる磁気転写方法について添付図面に基づき説明する。
【００１９】
〔転写用磁気ディスク〕
図１（ａ）に示すように、最初に磁気記録媒体である転写用磁気ディスク４０の初期磁化を行うが、まず、これに用いられる転写用磁気ディスク４０について説明する。
【００２０】
転写用磁気ディスク４０は円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に面内磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、高密度ハードディスク等が挙げられる。
【００２１】
円盤状の基板は、ガラスやＡｌ（アルミニウム）等の材料から構成されており、この基板上に非磁性層を形成した後、磁性層を形成する。
【００２２】
非磁性層は、後に形成する磁性層の面内方向の磁気異方性を大きくする等の理由により設けられる。非磁性層に用いられる材料は、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｐｄ（パラジウム）等が好ましい。非磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。非磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。
【００２３】
磁性層は、面内磁化膜により形成されており、磁性層に情報が記録される。磁性層に用いられる材料は、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ等）等が好ましい。これらの材料は、磁束密度が大きく、成膜条件や組成を調整することにより面内の磁気異方性を有している。磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００２４】
尚、必要に応じて、基板と非磁性層との間に、軟磁性層を設ける場合がある。磁性層の面内磁化状態を安定させ、記録再生時の感度を向上させるためである。軟磁性層の厚さは、５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ〜４００ｎｍであることが更に好ましい。
【００２５】
本実施の形態では、転写用磁気ディスクの基板として、外形９５ｍｍ（３．５インチ）の円盤状のガラス基板を用い、スパッタリング装置のチャンバー内にガラス基板を設置し、１．３３×１０−５Ｐａ（１．０×１０−７Ｔｏｒｒ）まで減圧した後、チャンバー内にＡｒ（アルゴン）ガスを導入し、ＣｒＴｉターゲットを用い、基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｒＴｉからなる非磁性層を６０ｎｍ成膜する。
【００２６】
この後、上記と同様にＡｒガスを導入し、同じチャンバー内にあるＣｏＣｒＰｔターゲットを用い、同じく基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｏＣｒＰｔからなる磁性層を２５ｎｍ成膜する。
【００２７】
以上のプロセスにより、ガラス基板に、非磁性層と磁性層が成膜された転写用磁気ディスク４０を作製した。
【００２８】
〔転写用磁気ディスクの初期磁化〕
次に、形成した転写用磁気ディスク４０の初期磁化を行う。図１（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の初期磁化（直流磁化）は、磁界印加手段３０により行う。磁界印加手段３０は、不図示の電磁石により矢印の方向に初期化磁界Ｈｉを発生させることができるものであり、コア３２による転写用磁気ディスク４０の半径方向に延びるギャップ３１を有している。このギャップ３１より漏れる初期化磁界Ｈｉにより、図２（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍをトラック方向（円周方向）の一方向に初期磁化を行う。具体的には、この初期磁化は、転写用磁気ディスク４０の保磁力Ｈｃ以上の強度の磁界をギャップ３１に発生させ、転写用磁気ディスク４０を回転させることにより、転写用磁気ディスク４０の全トラックの初期磁化を行う。図３に初期化磁界Ｈｉの印加方法を示す。初期化磁界Ｈｉは転写用磁気ディスク４０のトラック４０Ａと略平行に矢印の方向に印加する。尚、初期磁化は、転写用磁気ディスク４０を回転させるのではなく、磁界印加手段３０を転写用磁気ディスク４０に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。
【００２９】
〔マスターディスク〕
次に、マスター記録媒体であるマスターディスクについて説明する。
【００３０】
図４に示すように、マスターディスク４６は、石英ガラス（ＳｉＯ２）等各種組成のガラス、各種組成のセラミックス、合成樹脂等の非磁性体からなる基板４７上に、磁性層４８を形成したものであり、初期磁化を行った転写用磁気ディスク４０と密着させる密着工程、その後の磁気転写工程において用いる。
【００３１】
マスターディスク４６の形成方法は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法により作製した原盤を用いたスタンパー法等により作製する。
【００３２】
以下、図５に基づき、スタンパー法によりマスターディスク４６を形成方法について説明する。スタンパー法では、プレス原盤を用いるが、まず、プレス原盤の作製工程について説明する。図５（ａ）に示すように、表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板５０上に、フォトレジスト層をスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板５０を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジスト層に照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターンを露光する。その後、露光した基板５０を現像液に浸漬することにより、フォトレジスト層の露光された部分が除去され、基板５０上の所定の領域にフォトレジスト層５１が形成されたガラス原盤５２が作製される。
【００３３】
次に、図５（ｂ）に示すように、ガラス原盤５２上のフォトレジスト層５１が形成されている面の表面に、Ｎｉメッキ（電鋳）を行うことにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ原盤５３を所定の厚さまで形成する。この後、このＮｉ原盤５３をガラス原盤５２から剥離する。このＮｉ原盤５３をスタンパー用のプレス原盤（金型）として用いることも可能であるが、必要に応じてこのＮｉ原盤５３に凹凸パターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤（金型）とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。
【００３４】
尚、現像後所定の領域にフォトレジスト層の形成されたガラス原盤の表面にメッキを施して、第２の原盤を作製し、第２の原盤の表面に更にＮｉメッキを施して、ネガ状の凹凸を有するＮｉ原盤を作製してもよい。更に、第２の原盤の表面にメッキを施すか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させることにより第３の原盤を作製し、第３の原盤の表面にＮｉメッキを施すことにより、ポジ状の凹凸を有するＮｉ原盤を作製してもよい。
【００３５】
Ｎｉ原盤５３を構成する材料としては、Ｎｉ及びＮｉ合金が主に用いられる。このＮｉ原盤５３を形成する方法としては、先に説明した無電解メッキ等によるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。尚、基板５０上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。
【００３６】
次に、図５（ｃ）に示すように、剥離したＮｉ原盤５３をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板４７を作製する。樹脂基板４７の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。
【００３７】
射出成型により樹脂基板４７を形成した場合、成型品である樹脂基板４７にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。
【００３８】
また、射出成型以外の方法により樹脂基板４７を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板４７が形成される。
【００３９】
以上の工程により作製された樹脂基板４７の表面には、突起状のパターンが形成される。この突起状パターンは、後述する転写用磁気ディスク４０に転写されるバーストパターンに対応しているものである。
【００４０】
本実施の形態では、突起状のパターンは、長さｂ：８０ｍｍ、長さｌ：２００ｍｍのパターンが形成されており、形成される突起状のパターンの高さ（深さ）ｔは、８０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲が好ましく、１００ｎｍ〜６００ｎｍがより好ましい。
【００４１】
この後、図５（ｄ）に示すように、樹脂基板４７の突起状パターンの形成されている面に軟磁性体からなる磁性層４８の成膜をおこなう。これによりマスターディスク４６が作製される。磁性層４８を構成する材料は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。又、磁性層４８の厚さは、４０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲が好ましく、特に、１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が更に好ましい。磁性層４８は、上記材料のターゲットを用いスパッタリング等により行われる。
【００４２】
以上のプロセスにより、図６に示すように、各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号５５に相当する突起状のパターンが形成されたマスターディスク４６が出来上がる。
【００４３】
尚、磁性層４８の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク４６は、転写用磁気ディスク４０と密着させるが、密着させた際に磁性層４８が傷つきやすく、マスターディスク４６として使用できなくなってしまうことを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク４０との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。
【００４４】
具体的には、保護膜としては、厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層４８と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層４８上にＳｉ等の密着強化層を形成し、その後保護膜を形成してもよい。
【００４５】
〔密着工程〕
次に、図１（ｂ）に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク４６の突起状パターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
【００４６】
転写用磁気ディスク４０には、マスターディスク４６に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシング等）が必要に応じて施される。
【００４７】
尚、密着工程では、図１（ｂ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の片面にマスターディスク４６を密着させる場合と、両面に磁性層が形成された転写用磁気ディスク４０について、両面からマスターディスク４６を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。
【００４８】
〔磁気転写工程〕
次に、図１（ｃ）に基づき磁気転写工程を説明する。
【００４９】
上記密着工程により転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６とを密着させたものについて、磁界印加手段３０により初期磁化の向きと反対方向に磁界を発生させる。磁界を発生させることにより生じた磁束はコア３２内において矢印の向きに生じ、ギャップ３１より漏れた記録用磁界Ｈｄの磁束が転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６に進入することにより磁気転写が行われる。
【００５０】
図７は、磁気転写に用いられる磁気転写装置について、更に詳細に示したものである。磁気転写装置１０は、コア３２にコイル３３が巻きつけられた電磁石３４からなる磁界印加手段３０を有するものであり、このコイル３３に電流を流すことによりギャップ３１に磁界が発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイル３３に流す電流の向きによって変えることができる。従って、磁気転写を行う場合には、磁界印加手段３０のコイル３３に、初期磁化したときにコイル３３に流した電流の向きと逆向きの電流を流す。尚、図７では、磁界印加手段３０は、密着させた転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６を介し上下に設けられており、上下に設けられた磁界印加手段３０により、ギャップ３１に同じ方向に磁界を発生させることができる構成のものである。
【００５１】
磁気転写は、転写用磁気ディスク４０及びマスターディスク４６を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段３０によって記録用磁界Ｈｄを印加し、マスターディスク４６に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍに磁気転写するため、不図示の回転手段が設けられている。尚、この構成以外にも、磁界印加手段３０を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク４０及びマスターディスク４６に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。
【００５２】
磁気転写工程における、転写用磁気ディスク４０とマスターディスク４６に磁界が印加されている時の断面の様子を図２（ｂ）に示す。
【００５３】
図２（ｂ）に示すように、基板４７表面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層４８が形成されたマスターディスク４６と転写用磁気ディスク４０とが密着した状態では、マスターディスク４６の凸領域は、マスターディスク４６の磁性層４８と転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍとが接触している。
【００５４】
このため、記録用磁界Ｈｄを印加すると、磁束は、マスターディスク４６の凸領域、即ち、マスターディスク４６の磁性層４８と転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍと接触している領域では、磁束はマスターディスク４６の磁性層４８を貫くこととなる。これは、マスターディスク４６に形成された磁性層４８が軟磁性材料に形成されているためである。一方、マスターディスク４６の凹領域、即ち、マスターディスク４６の磁性層４８と転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍが接触していない領域では、磁束は、マスターディスク４６の磁性層４８、及び転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍを貫くこととなる。
【００５５】
従って、記録用磁界Ｈｄを印加することにより生じた磁束は、マスターディスク４６の凹領域に対応する転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍに進入し、この領域の磁化向きを記録用磁界Ｈｄと同一の磁化向きに反転させる。一方、マスターディスク４６の凸領域では、磁束は転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍへは殆ど進入しないため、この領域において磁化向きは反転することなく、初期磁化された向きを保っている。
【００５６】
これにより、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍに、マスターディスク４６に設けられた突起状のパターンによる情報が、面内の磁気パターンとして記録される。
【００５７】
更に、この様子を立体的に示したものが図８である。図に示すように記録用磁界Ｈｄ（太矢印）を印加することにより、マスターディスク４６の凸領域に接している転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍのみ記録用磁界Ｈｄにより磁化反転し、マスターディスク４６の凹領域の磁性層４０Ｍは、反転されることなく初期磁化された状態を保ったままとなる。
【００５８】
この後、転写用磁気ディスク４０をマスターディスク４６から取り外す。これにより、図２（ｃ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍには、サーボ信号等の磁気パターンが情報として記録されたものが作製される。
【００５９】
尚、マスターディスク４６の基板４７に形成された突起状のパターンは、図４に示すポジパターンと反対のネガパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Ｈｉの方向及び記録用磁界Ｈｄの方向を各々逆方向にすることにより、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｍに、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。
【００６０】
尚、本実施の形態では、磁界印加手段３０は、電磁石の場合について説明したが、同様に磁界が発生する永久磁石を用いても良い。
【００６１】
〔転写特性〕
上記の磁気転写によりマスターディスク４６からの情報が記録された転写用磁気ディスク４０について、図９に基づき説明する。図９は、理想的な状態における半径方向（トラック幅方向）に配列されたトラックＴ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４におけるサーボセクタ内のバーストパターン領域を示す。バーストパターン領域には、マスターディスク４６の半径方向に沿って、それぞれバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ及び１０Ｄが設けられている。
【００６２】
各々のバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ及び１０Ｄは、転写用磁気ディスク半径方向の寸法が同一になるように形成されたバーストパターンＡ、Ｂ、Ｃ及びＤで構成されている。
【００６３】
バーストパターン列１０Ａと１０Ｂについては、磁気ヘッドを半径方向に移動したとき再生信号の位相が相互に１８０度シフトした位置に形成されており、同様に、バーストパターン列１０Ｃと１０Ｄについては、磁気ヘッドを半径方向に移動したとき再生信号の位相が相互に１８０度シフトした位置に形成されている。バーストパターン列１０Ａと１０Ｂ、バーストパターン列１０Ｃと１０Ｄとは、磁気ヘッドを半径方向に移動したとき再生信号の位相が相互に９０度シフトした位置に形成されており、各バーストパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのディスク半径方向の寸法、即ち、バーストパターンのピッチ（以下、「サーボ・ピッチ」という。）はトラックピッチに等しい。
【００６４】
このバーストパターンについては、理想的には、マスターディスク４６の表面に図９に示すような突起状パターンが形成されたものを用いて磁気転写を行うと、このパターンと同一のパターンが転写用磁気ディスク４０に磁気転写される。しかしながら、磁気転写においては、磁界の印加方法、磁界強度その他の影響により、転写用磁気ディスク４０に転写される磁気パターンの大きさ等は変化してしまう。
【００６５】
理想的な状態で磁気転写が行われた場合、即ち、マスターディスク４６に図９に示すバーストパターンが形成され、上記磁気転写のプロセスによりマスターディスク４６に形成されているパターンが、転写用磁気ディスク４０に正確に転写されるとするならば、図９に示すバーストパターンと同一のパターンが、転写用磁気ディスク４０に転写される。このパターンは、バーストパターン列１０Ａは、バーストパターン列１０Ｂの位相が１８０度ずれた反転パターンであり、バーストパターン列１０Ｃは、バーストパターン列１０Ｄの位相が１８０度ずれた反転パターンである。また、バーストパターン列１０Ａ、１０Ｂは、バーストパターン列１０Ｃ、１０Ｄに対し、位相が９０度ずれたパターンである。このようなパターンが記録された転写用磁気ディスク４０について、トラックＴ２の中心より、トラックＴ１の中心に向けて磁気ヘッドの位置を半径方向に１トラック分移動させた場合における磁気ヘッドの半径方向位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）の出力との関係を図１０に示す。位置誤差信号（ＰＥＳ）は、磁気ヘッドの半径方向の位置における（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）、｛（Ｄ−Ｃ）／（Ｄ＋Ｃ）｝＋０．５、１−｛（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）｝の値に基づき出力される信号である。
【００６６】
図９に示されるように、転写用磁気ディスク４０に転写されたバーストパターン列１０Ｂがバーストパターン列１０Ａの完全な反転パターンであり、バーストパターン列１０ＢのバーストパターンＢと、バーストパターン列１０ＡのバーストパターンＡの半径方向における幅が完全に同一であれば、磁気ヘッドの半径方向位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）の出力はリニアな関係となる。
【００６７】
しかしながら、前述したように、マスターディスク４６に形成されている突起状パターンを転写用磁気ディスク４０に磁気転写することにより得られた磁気パターンでは、磁気転写の条件等により、マスターディスク４６に形成された突起状パターンと全く同一の磁気パターンを得ること（バーストパターン列１０Ａに対し、完全な反転パターンとなる１０Ｂを得ること）は困難であり、通常、転写用磁気ディスク４０に磁気転写された磁気パターンは、マスターディスク４６の突起状パターンよりも小さくなるか、又は、大きくなってしまう。
【００６８】
マスターディスク４６の突起状のパターンよりも小さな磁気パターンが転写用磁気ディスク４０に磁気転写されたときの様子を図１１に示す。図１１に示されるように、各々のバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０ＤにおけるバーストパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄは、トラック幅方向において、トラック幅よりも狭いパターンとなっている。即ち、バーストパターン列１０Ｂは、バーストパターン列１０Ａを１８０度ずらしたパターンではあるが、バーストパターン列１０Ａの完全な反転パターンとはならず、半径方向において、バーストパターンＡとバーストパターンＢの間で、バーストパターンＡ、Ｂが存在していない領域が存在している。同様に、バーストパターン列１０Ｄは、バーストパターン列１０Ｃを１８０度ずらしたパターンではあるが、バーストパターン列１０Ｃの完全な反転パターンとはならず、半径方向において、バーストパターンＣとバーストパターンＤの間で、バーストパターンＣ、Ｄが存在していない領域が存在している。尚、バーストパターン列１０Ａ、１０Ｂとバーストパターン列１０Ｃ、１０Ｄとは、位相が９０度ずれている。
【００６９】
このようなバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄが磁気転写された転写用磁気ディスク４０のバーストパターンを再生した場合において、トラックＴ２の中心より、トラックＴ１の中心に向けて磁気ヘッドの位置を半径方向に１トラック分移動させた場合における磁気ヘッドの半径方向の位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）の出力の値との関係を図１２に示す。
【００７０】
図１２に示すように、半径方向に対する位置誤差信号出力は、バーストパターン列１０Ｄは、バーストパターン列１０Ｃの反転パターンではないため、磁気ヘッドの半径方向の位置が、０．２５以下の領域、及び、０．７５以上の領域では、｛（Ｄ−Ｃ）／（Ｄ＋Ｃ）｝＋０．５の再生信号の出力は、変化することはなく一定である。同様に、バーストパターン列１０Ｂは、バーストパターン列１０Ａの反転パターンではないため、磁気ヘッドの半径方向の位置が、０．２５以上の領域では、（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）の再生信号出力が、０．７５以上の領域では、１−｛（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）｝の再生信号出力が、変化することはなく一定である。このように、磁気ヘッドの半径方向の位置がずれても、（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）、｛（Ｄ−Ｃ）／（Ｄ＋Ｃ）｝＋０．５、１−｛（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）｝の再生信号出力に変化がなければ、転写用磁気ディスク４０の半径方向の磁気ヘッドの位置を正確に得ることができないため、トラッキング精度を低下させる原因となる。即ち、位置誤差信号（ＰＥＳ）が図１０に示したような理想的な状態からズレが大きければ大きいほど、トラッキング性能が低下してしまう。尚、上記磁気ヘッドの半径位置の数字は、本実施の形態を具体的に説明するための例示的に用いたものであり、転写用磁気ディスク４０に磁気転写されたバーストパターンの半径方向の幅に依存して変化する値である。
【００７１】
次に、マスターディスク４６の突起状のパターンよりも大きなパターンが転写用磁気ディスク４０に磁気転写されたときの様子を図１３に示す。図１３に示されるように、各々のバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０ＤにおけるバーストパターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄは、トラック幅方向において、トラック幅よりも広いパターンとなっている。即ち、バーストパターン列１０Ｂは、バーストパターン列１０Ａを１８０度ずらしたパターンではあるが、バーストパターン列１０Ａの完全な反転パターンとはならず、半径方向において、バーストパターンＡとバーストパターンＢの間で、バーストパターンＡ、Ｂが重複している領域が存在している。同様に、バーストパターン列１０Ｄは、バーストパターン列１０Ｃを１８０度ずらしたパターンではあるが、バーストパターン列１０Ｃの完全な反転パターンとはならず、半径方向において、バーストパターンＣとバーストパターンＤの間で、バーストパターンＣ、Ｄが重複している領域が存在している。尚、バーストパターン列１０Ａ、１０Ｂとバーストパターン列１０Ｃ、１０Ｄとは、位相が９０度ずれた状態である。
【００７２】
このようなバーストパターン列１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄが磁気転写された転写用磁気ディスク４０のバーストパターンを再生した場合において、トラックＴ２の中心より、トラックＴ１の中心に向けて磁気ヘッドの位置を半径方向に１トラック分移動させた場合における磁気ヘッドの半径方向の位置と位置誤差信号（ＰＥＳ）の出力の値との関係を図１４に示す。
【００７３】
図１４に示すように、半径方向に対する位置誤差信号出力は、バーストパターン列１０Ｄは、バーストパターン列１０Ｃの反転パターンではないため、磁気ヘッドの半径方向の位置が、０．１７５以下の領域、及び、０．８２５以上の領域では、｛（Ｄ−Ｃ）／（Ｄ＋Ｃ）｝＋０．５の再生信号の出力は、変化することはなく一定である。同様に、バーストパターン列１０Ｂは、バーストパターン列１０Ａの反転パターンではないため、磁気ヘッドの半径方向の位置が、０．３５以上の領域では、（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）の再生信号出力が、０．６５以上の領域では、１−｛（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）｝の再生信号出力が、変化することはなく一定である。このように、磁気ヘッドの半径方向の位置がずれても、（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）、｛（Ｄ−Ｃ）／（Ｄ＋Ｃ）｝＋０．５、１−｛（Ｂ−Ａ）／（Ｂ＋Ａ）｝の再生信号出力に変化がなければ、転写用磁気ディスク４０の半径方向の磁気ヘッドの位置を正確に得ることができないため、トラッキング精度を低下させる原因となる。即ち、位置誤差信号（ＰＥＳ）が、図１０に示したような理想的な状態からのズレが大きければ大きいほど、トラッキング性能が低下してしまう。尚、上記磁気ヘッドの半径位置の具体的な数字は、本実施の形態を具体的に説明するための例示的に用いたものであり、転写用磁気ディスク４０に磁気転写されたバーストパターンの半径方向の幅に依存して変化する値である。
【００７４】
このため、転写用磁気ディスク４０に転写されたバーストパターン列が、理想的な状態よりも小さかったり大きかったりすると図１２や図１４に示すように、磁気ヘッドのトラック位置方向に対し、位置誤差信号（ＰＥＳ）の出力の値とが直線性を有しなくなり、磁気ヘッドの正確な位置を得ることができない。このため磁気ヘッドの正確な位置を知るために、できるだけ図１０に示すような直線性を有していることが望ましい。
【００７５】
〔評価〕
以上より、実際の振幅サーボパターンの半径方向の磁気ヘッドの位置に対する位置誤差信号（ＰＥＳ）と、図１０に示す理想的な場合における位置誤差信号との相関関係が高ければ、高いトラッキング性能を維持することができる。
【００７６】
よって、半径方向の磁気ヘッドの位置と転写用磁気ディスク４０に磁気転写された振幅サーボパターンより得られる位置誤差信号（ＰＥＳ）との関係について、任意のトラックの中心から、隣接するトラックの中心まで測定し、測定によって得られた位置誤差信号（ＰＥＳ）と転写用磁気ディスク４０に理想的な転写が行われた場合における位置誤差信号との相関係数Ｓを算出することにより、転写用磁気ディスク４０に記録されたサーボ信号の検査を行う。これにより、トラッキング性能を充分満たしているか否か判断を容易に行うことができる。
【００７７】
この検査方法では、磁気ヘッドの転写用磁気ディスク４０の半径方向の移動については、ピエゾ素子による磁気ヘッド移動機構を備えたスピンスタンドを用い、磁気ヘッドを磁気転写媒体の半径方向に微小移動させながら、各セクターのバースト信号出力から位置誤差信号（ＰＥＳ）を測定する。
【００７８】
このように測定された、磁気ヘッドの半径方向の位置（トラック幅方向の位置）と位置誤差信号（ＰＥＳ）との関係を図１５に示す。
【００７９】
尚、磁気転写された再生信号の位置誤差信号（ＰＥＳ）の測定は、ハードディスク用磁気ヘッドテスタ（アイメス社製ＢｉｔＦｉｎｄｅｒ  Ｍｏｄｅｌ−ＹＳ３３００）により行った。この際、磁気ヘッドには、再生ヘッドギャップが０．０６μｍ、再生トラック幅が０．１４μｍ、記録ヘッドギャップが０．４μｍ、記録トラック幅が２．４μｍであるＭＲヘッドを使用した。
【００８０】
このように測定された磁気ヘッドの半径方向の位置（トラック幅方向の位置）と位置誤差信号（ＰＥＳ）に基づき、次式により相関係数Ｓを算出する。
【００８１】
【数２】
2007299461.tif 000004
【００８２】
尚、トラック幅方向の座標位置をｘ＝｛ｘｉ｝、 位置誤差信号（ＰＥＳ）をｙ＝{ｙｉ}  (ｉ＝８、９、・・・、ｎ)とする。
【００８３】
１トラック分の位置誤差信号（ＰＥＳ）の測定点は、バーストパターン列１０Ａ、１０Ｂとバーストパターン列１０Ｃ、１０Ｄより算出される位置誤差信号（ＰＥＳ）の繋ぎ目を評価するため少なくとも８点以上必要である。
【００８４】
又、トラック一周中に存在するセクターの少なくとも８０％において、上記相関係数Ｓ  が、０．９７以上となるように、マスターディスク４６の突起状パターンの設計、並びに磁気転写の際の転写磁界を設定し、転写用磁気ディスク４０に磁気転写を行うことにより、良好なトラッキング性能の転写用磁気ディスク４０を得ることができる。
【００８５】
このように作製された転写用磁気ディスク４０をハードディスク等の磁気ディスクドライブに組み込むことにより、トラッキング精度の高いハードディスクを得ることができる。
【００８６】
〔第２の実施の形態〕
次に、第２の実施の形態について、図１６に基づき説明する。
【００８７】
第２の実施の形態は、磁気転写工程における磁界の印加が、面内方向ではなく垂直方向のものである。なお、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎには、垂直磁化膜が用いられている。
【００８８】
最初に、図１６（ａ）に示すように、初期化磁界Ｈｉを転写用磁気ディスク４０に対し垂直に印加し、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎの初期磁化を行う。これにより、図１７（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎでは、磁化は一方向に垂直に初期磁化Ｐｉされる。
【００８９】
次に、図１６（ｂ）に示すように、マスターディスク４６の突起状のパターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。
【００９０】
この後、図１６（ｃ）に示すように、磁気転写工程により、記録用磁界Ｈｄを垂直に印加しつつ、マスターディスク４６及び転写用磁気ディスク４０を回転させることにより、マスターディスク４６に記録されている情報を転写用磁気ディスク４０に磁気転写を行う。尚、この他、磁界印加手段３０を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク４０及びマスターディスク４６に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。具体的には、永久磁石や電磁石からなる磁界印加手段３０により、マスターディスク４６、転写用磁気ディスク４０に対し垂直な磁界を印加する。この状態を図１７（ｂ）に示す。図に示すように、マスターディスク４６の磁性層４８から、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎに対し、垂直方向に貫く磁束Ｇが発生する。これにより、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎの磁化は、磁界の印加方向に垂直に磁化する。
【００９１】
図１７（ｃ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の記録層４０Ｎには、この磁束Ｇにより、磁化向きが記録磁化Ｐｄの向きに揃えられ情報が記録される。一方、マスターディスク４６の磁性層４０Ｎの形成されていない領域は、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎにかかる磁界は弱いため、磁化向きは初期磁化Ｐｉの状態を保ったままである。情報の記録された磁化Ｐｄと初期磁化された状態を保った磁化Ｐｉの境界には、磁壁Ｄが形成される。このようにして、図１７（ｃ）に示すように、転写用磁気ディスク４０の磁性層４０Ｎに、マスターディスク４６の情報が磁気転写される。
【００９２】
このように磁気転写された垂直磁化膜を有する転写用磁気ディスク４０につても、第１の実施の形態の場合と同様に、相関係数Ｓを算出する。
【００９３】
マスターディスク４６より情報が磁気転写された転写用磁気ディスク４０は、ハードディスク等の磁気記録再生装置に組み込まれて使用される。これにより、記録密度の高い磁気記録再生装置を得ることができる。
【００９４】
以上、本発明の磁気転写方法、磁気記録媒体等について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行うことは可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】第１の実施の形態における磁気転写方法の工程の概要図
【図２】第１の実施の形態における磁気転写方法の各工程における転写用磁気ディスクの断面図
【図３】第１の実施の形態における初期化磁界の印加方向を説明する平面図
【図４】マスターディスクの表面の部分拡大斜視図
【図５】第１の実施の形態におけるマスターディスクの形成方法の工程図
【図６】本発明に係るマスターディスクの平面図
【図７】本発明における磁気転写装置の要部斜視図
【図８】磁気転写の様子を示す斜視図
【図９】転写用磁気ディスクに転写された理想的なバーストパターン
【図１０】理想的なバーストパターンによる磁気ヘッドの位置と位置誤差信号出力の関係図
【図１１】転写用磁気ディスクに転写された幅の狭いバーストパターン
【図１２】図１１のバーストパターンにおける磁気ヘッドの位置と位置誤差信号出力の関係図
【図１３】転写用磁気ディスクに転写された幅の広いバーストパターン
【図１４】図１３のバーストパターンにおける磁気ヘッドの位置と位置誤差信号出力の関係図
【図１５】磁気ヘッドの半径方向位置と測定した位置誤差信号の関係模式図
【図１６】第２の実施の形態における磁気転写方法の工程の概要図
【図１７】第２の実施の形態における磁気転写方法の各工程における転写用磁気ディスクの断面図
【符号の説明】
【００９６】
１０…磁気転写装置、３０…磁界印加手段、３１…ギャップ、３２…コア、３３…コイル、３４…電磁石、４０…転写用磁気ディスク（スレーブディスク）、４０Ｍ…磁性層、４６…マスターディスク、４７…基板、４８…磁性層、Ｇ…磁束、Ｈｉ…初期化磁界、Ｈｄ…記録用磁界
【図１】
2007299461.tif 000006
【図２】
2007299461.tif 000007
【図３】
2007299461.tif 000008
【図４】
2007299461.tif 000009
【図５】
2007299461.tif 000010
【図６】
2007299461.tif 000011
【図７】
2007299461.tif 000012
【図８】
2007299461.tif 000013
【図９】
2007299461.tif 000014
【図１０】
2007299461.tif 000015
【図１１】
2007299461.tif 000016
【図１２】
2007299461.tif 000017
【図１３】
2007299461.tif 000018
【図１４】
2007299461.tif 000019
【図１５】
2007299461.tif 000020
【図１６】
2007299461.tif 000021
【図１７】
2007299461.tif 000022