(57)【要約】【課題】  ラテント顔料を用いた光学部材の光学特性を改善することで、表示装置全体の光学特性を向上させる。【解決手段】  ブラックマトリクスＢＭを形成したガラス基板ＳＵＢ１に、ラテント顔料を溶解し、酸発生剤であるＰＡＧを添加したレジストのスラリーを塗布する。所定のカラーフィルタパターンを形成した露光マスクを介して紫外線を露光する。その後、基板を加熱して焼成することでＰＡＧから発生した酸の触媒作用でラテント顔料が不溶化され、フタロシアニン顔料から成るカラーフィルタＣＦが形成される。このカラーフィルタＣＦの上に対向電極ＣＴ、配向膜ＯＲＩ１を成膜してカラーフィルタ基板とする。【選択図】  図１
2007025224.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルタを有する表示パネルを備えた表示装置であって、
該カラーフィルタは顔料とネガ型光重合レジストを有し、
該顔料の主成分はラテント顔料であり、
該ネガ型光重合レジストには酸が含まれていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
カラーフィルタを有する表示パネルを備えた表示装置であって、
前記カラーフィルタの主成分がラテント顔料であり、
該カラーフィルタがラテント顔料とネガ型光重合レジストと光酸発生剤の混合物を有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
前記カラーフィルタには、前記化学増幅型レジストと光発生剤が含まれていることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記ラテント顔料の粒径が、レイリー散乱域より小さいことを特徴とする請求項1乃至３の何れかに記載の表示装置。
【請求項５】
前記ラテント顔料の粒径が、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の表示装置。
【請求項６】
前記カラーフィルタは青色の領域、緑色の領域、赤色の領域を有し、
該青色の領域及び緑色の領域は、フタロシアニン系ラテント顔料を含み、
前記赤色の領域は、ピロガロール系ラテント顔料を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の表示装置。
【請求項７】
カラーフィルタを有する液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面に配置された照明装置と、前記液晶表示パネルと前記照明装置の間に光拡散板を備えた表示装置であって、
前記光拡散板はラテント顔料を含む光拡散層を有し、
該光拡散層に化学増幅型レジストと揮発性の酸又は光酸発生剤の混合物を有することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
前記照明装置は、前記光拡散板の前記液晶表示パネルとは反対側に複数本の線状光源を並列配列した光源装置を設置してなり、
前記光拡散板の表面に形成されたラテント顔料の光拡散層は紫外線吸収性を有し、
前記ラテント顔料の平均粒径が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で最大、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次小となり、隣接する線状光源の中間部分で最小であることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記ラテント顔料の平均粒径が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で０．３μｍ乃至０．７μｍの範囲、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次小となり、隣接する線状光源の中間部分で０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記照明装置は、前記光拡散板の前記液晶表示パネルとは反対側に複数本の線状光源を並列配列した光源装置を設置してなり、
前記光拡散板の表面に形成されたラテント顔料の光拡散層は紫外線吸収性を有し、
前記ラテント顔料の密度が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で最高、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次低となり、隣接する線状光源の中間部分で最低であることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記紫外線吸収性のラテント顔料に、波長５７０ｎｍ近傍に吸収ピークを持つキナクリドン系ラテント顔料が混合されていることを特徴とする請求項８乃至１０の何れかに記載の表示装置。
【請求項１２】
前記光源装置は、冷陰極管であることを特徴とする請求項８乃至１１の何れかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に係り、特に、ラテント顔料を用いたカラーフィルタや拡散板を備えた表示装置の高画質化に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの液晶表示装置ＬＣＤや有機ＥＬ表示装置ＯＬＥＤには、カラーフィルタが使用されている。また、そのカラーフィルタの製造には、無機顔料を混練して分散させた感光性レジストのスラリーを基板上に塗布し、単位画素パターン（ストライプ配列やデルタ配列等）を有する露光マスクを用いた露光・現像プロセスと焼成プロセスを繰り返すホトリソグラフィー手法がよく用いられる。
【０００３】
近年、カラーフィルタＣＦの性能向上(主としてコントラスト向上)要求が高まってきている。本発明者らは、この要求に対して、レイリー散乱域よりも小さい粒径にすることで解決可能で、具体的には、光学上、顔料を微粒子化することで解決できると考えた。
しかし、粒径が小さくなると粒子の凝集力が強くなるため、従来の製造方法では均一かつ安定にホトレジストに分散させることは困難で、所望の光学特性を得ることができなくなる。
【０００４】
また、液晶表示装置では、バックライトと液晶表示パネルの間には光学部材、特に、当該液晶表示パネルの表示面内で均一な輝度分布を得るための光拡散板、あるいは光拡散板とプリズムシートなどの光学補償シートを介在させている。携帯端末やノートパソコン用などの比較的小サイズの液晶表示装置では導光板の側面に線状光源を配置した、所謂サイドエッジ型バックライトが多く用いられるが、ディスクトップ型パソコンやテレビ受像機用などの大型サイズの液晶表示装置では、複数の線状光源を液晶表示パネルの直下に配置した、所謂直下型バックライトが多く採用されている。
【０００５】
液晶表示パネルとバックライトとの間に介在させる光拡散板、特に直下型バックライトに組み合わせる光拡散板では、液晶表示パネルを照明する輝度が線状光源の直上で最大輝度で、隣接間の中央部で低輝度となるように、複数の線状光源の配列に起因する表示パネルの照明光の不連続な光輝度分布を均一化するため、光拡散板の表面に顔料を用いた光吸収層を当該線状光源の配置位置の光強度に対応させて形成している。
【０００６】
このような光吸収層を備えた光拡散板は、拡散板の基材(主としてアクリル樹脂)にＵＶ吸収剤を混合したり、金型でプレスする方法で形成されるのが一般的である。しかし、ＵＶ吸収剤を混合する場合、混合性やＵＶ吸収特性が悪く、拡散板自身の性能を低下させる可能性があり、また、金型プレスで製造した場合、微細なパターンの形成が難しいという問題があった。つまり、従来の拡散板は、その製造プロセスから光学特性の改良に限界があった。
【０００７】
これらの問題を解決する手法として、特許文献２に記載された技術がある。この特許文献２に記載された技術は、1990年代後半に考えだされた特許文献１がそのベースになっている。特許文献１に記載された技術は、溶解性の顔料を溶液に溶かし、熱、光等を照射し再顔料化するというものである。ここで用いられる溶解性の顔料は、一般に「ラテント顔料（Latent pigment）」や「潜伏性顔料」とも呼ばれ、可溶性基を付与することで溶解性顔料（顔料前駆体）となり、これにエネルギー（熱、光、他の放射線など）を付与することで元の不溶性顔料となる分散フリーな特性を有するものである。特許文献２に記載された技術は、特許文献１の技術を応用し、この不溶性化したラテント顔料の粒径を制御したり、パターン化したりするものである。
【特許文献１】特許第３５１０９２７号公報
【特許文献２】特開平２００４−１７７５８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者らは、特許文献２に記載された方法でカラーフィルタと拡散板を実験的に製造した。その結果、加熱条件または光エネルギー（放射線）の付与条件とカラーフィルタ，拡散板の劣化がクリティカルな相反関係にあり、実用化にはさらなる改良が必要であることがわかった。また、放射線照射量とパターン粒径の大きさの関係も同様にクリティカルな相反関係があった。具体的には、特許文献２に記載された技術で所望の顔料を得るためには、２００±０．１℃で、１８００±１ｓｅｃという高温加熱プロセスや、高エネルギー(例えば３６０ｎｍの光)を多量に(１０Ｗ／ｍ2)長時間照射する光照射プロセスが必要がある。しかし、この温度がレジストのガラス転移温度近傍であることからも明らかなように、時間あたりのエネルギー量が多かったり、また、高エネルギーを長時間付与されると、カラーフィルタや拡散板の形状が変化してしまう可能性があった。また、溶解していた顔料前駆体が昇華して所定量の顔料を分散できなかったり、所望の顔料組成にならなくなる可能性もあった。つまり、従来の技術では、カラーフィルタや拡散板の光学特性がそれらの製造中に損なわれ、表示装置全体の光学特性を低下させていた。
【０００９】
本発明の目的は、上記課題を解決し、ラテント顔料を用いた光学部材を実用レベルの光学特性を実現し、表示装置のコントラスト性能を向上することにある。つまり、ラテント顔料を含む光学部材(特に拡散板とカラーフィルタ)のバックライトの配置に応じた拡散特性の向上、バックライトから出る紫外光による劣化防止、カラーフィルタの散乱の低減を実現することによって、表示装置の光学特性（コントラスト、色純度）を向上することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、このような実用的課題を解決するため、エネルギー照射条件を緩和（低強度光、短時間照射）する手法を検討した。
【００１１】
その結果、酸構造体をラテント顔料の前駆体と共存させた状態でエネルギー照射することにより、必要な全エネルギー照射量が大幅に低減し、エネルギー照射過程での昇華防止や顔料前駆体から顔料の復帰が行われやすくなる。具体的には、酸構造体を存在させるために、酸発生剤をホトレジスト中にラテント顔料前駆体と混合して溶剤に溶解することによって、コーティングまたはパターン化後に元の顔料に復帰させるエネルギーの総付与量を大幅に低減でき、昇華による顔料の目減りも無く復帰後の顔料形態も元の顔料に戻り、顔料粒径の制御も十分に行えることを見出した。
【００１２】
また酸構造体を共存させる好ましい方法として、レジストとして高感度の化学増幅型ホトレジストを用いることが望ましい。高感度の化学増幅型ホトレジストは、その触媒成分として光酸発生剤（ＰＡＧ）を用いるため、レジストの露光により必然的に酸構造体を発生するので、レジストの反応における触媒効果だけでなく、ラテント顔料の不溶化の触媒効果も得ることができるからである。言うまでも無いが、この酸共存によって光学部材の特性向上や劣化防止を実現し、表示装置のコントラストを向上するという効果は、単に高感度レジストによるパターンの短時間形成性、高精度化に着目しただけでは容易に考え出されるものではなく、上述したように酸の存在が顔料前駆体から顔料へ復帰させる際に用いる照射エネルギーを大幅に低減できるという基本的な知見を得られたからこそ、化学増幅型ホトレジスト固有の効果とは異質な上記効果をも得る目的で用いることができるのである。
【００１３】
このように、本発明では、溶媒である感光性レジストに可溶化したラテント顔料に酸を共存させて不要化エネルギーを大幅に低減することにより、製造時間で高品質のカラーフィルタあるいは光拡散板を製造+でき、さらにそれらを用いることで表示装置の高い光学特性を実現している。
【００１４】
本発明の代表的な構成例を以下に記述する。
【００１５】
（１）カラーフィルタを有する表示パネルを備えた表示装置であって、該カラーフィルタは顔料とネガ型光重合レジストを有し、該顔料の主成分はラテント顔料であり、該ネガ型光重合レジストに酸が含まれているもの。
（２）カラーフィルタを有する表示パネルを備えた表示装置であって、カラーフィルタの主成分がラテント顔料であり、カラーフィルタがラテント顔料とネガ型光重合レジストと光酸発生剤の混合物を有するもの
（３）（１）〜（２）のいずれかのカラーフィルタに、前記化学増幅型レジストと酸光発生剤が含まれているもの
（４）（１）〜（３）のいずれかのラテント顔料の粒径が、レイリー散乱域より小さいもの。
（５）（１）〜（４）のいずれかのラテント顔料の粒径が、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であるもの。
（６）（１）〜（５）のいずれかのカラーフィルタは青色の領域、緑色の領域、赤色の領域を有し、該青色の領域及び緑色の領域は、フタロシアニン系ラテント顔料を含み、前記赤色の領域は、ピロガロール系ラテント顔料を含む。
（７）カラーフィルタを有する液晶表示パネルと、該液晶表示パネルの背面に配置された照明装置と、前記液晶表示パネルと前記照明装置の間に光拡散板を備えた表示装置であって、前記光拡散板はラテント顔料の光拡散層を有し、該光拡散層に化学増幅型レジストと揮発性の酸又は光酸発生剤の混合物を有する
（８）（７）の照明装置は、前記光拡散板の前記液晶表示パネルとは反対側に複数本の線状光源を並列配列した光源装置を設置してなり、前記光拡散板の表面に形成されたラテント顔料の光拡散層は紫外線吸収性を有し、前記ラテント顔料の平均粒径が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で最大、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次小となり、隣接する線状光源の中間部分で最小である。
（９）（８）のラテント顔料の平均粒径が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で０．３μｍ乃至０．７μｍの範囲、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次小となり、隣接する線状光源の中間部分で０．１μｍ以下である。
（１０）（７）の照明装置は、前記光拡散板の前記液晶表示パネルとは反対側に複数本の線状光源を並列配列した光源装置を設置してなり、前記光拡散板の表面に形成されたラテント顔料の光拡散層は紫外線吸収性を有し、前記ラテント顔料の密度が、前記線状光源の長手方向に沿った直上領域で最高、当該線状光源から長手方向に離れるに従い漸次低となり、隣接する線状光源の中間部分で最低である。
（１１）（７）〜（１０）の紫外線吸収性のラテント顔料に、波長５７０ｎｍ近傍に吸収ピークを持つキナクリドン系ラテント顔料が混合されている。
（１２）上記光源装置は、冷陰極管である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の構成によれば、ラテント顔料を用いた光学部材を備えた表示装置の光学特性を改善できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態につき、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００１８】
図１は、本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置の一例の断面模式図である。図１において、この液晶表示装置は所謂縦電界（ＴＮ）方式の液晶表示装置であり、第１のガラス基板ＳＵＢ１の内面にブラックマトリクスＢＭで区画されたカラーフィルタＣＦ（ＲＦ（赤フィルタ）、ＧＦ（緑フィルタ）、ＢＦ（青フィルタ））、平滑層（オーバーコート層）ＯＣ、対向電極ＣＴ、フィルタ基板側は配向膜ＯＲＩ１がこの順で成膜されている。そして、第１のガラス基板ＳＵＢ１の外面には偏光板ＰＯＬ１が積層されてカラーフィルタ基板を構成している。
【００１９】
一方、第２のガラス基板ＳＵＢ２の内面には、ゲート電極ＧＴ、シリコン半導体層ＳＩ、ドレイン（又はソース）電極ＳＤ１、ソース（又はドレイン）電極ＳＤ２からなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、画素電極ＰＸ、配向膜ＯＲＩ２がこの順で成膜されている。そして、第２のガラス基板ＳＵＢ２の外面には偏光板ＰＯＬ２が積層されて薄膜トランジスタ基板（又は、アクティブ基板）を構成している。なお、ＧＩはゲート絶縁膜、ＰＡＳは保護膜（パッシベーション膜）である。
【００２０】
カラーフィルタ基板と薄膜トランジスタ基板の間には液晶ＬＣが封止され、薄膜トランジスタ基板の背面にはバックライトＢＬが設置されている。このバックライトＢＬはサイドエッジ型か、あるいは直下型である。
【００２１】
図２は、サイドエッジ型のバックライトを配置した液晶表示装置を説明する断面図である。図１と同一符号は同一機能部分に対応する。図２中、バックライトは、導光板ＧＬＢの側辺に冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬが設置されている。導光板ＧＬＢの裏面には反射シートＲＦＳが設けられ、冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬはランプ反射シートＲＦＢで導光板との対向側を除いて囲まれている。
【００２２】
液晶表示パネルとの間には２枚の光拡散シートＳＣＳ１,２と２枚のプリズムシートＰＲＺ１,２からなる光学補償シートが介在している。この液晶表示装置は、中間モールドＭＣＡとシールドケースＳＨＤで一体化されている。なお、ＤＩＣは駆動回路チップ、ＦＰＣはフレキシブルプリント基板、ＬＰＣ１は冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬの給電ケーブルである。
【００２３】
図３は、本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置の他例の断面模式図である。この液晶表示装置はこの液晶表示装置は所謂横電界（ＩＰＳ）方式の液晶表示装置である。図３中、図１と同一符号は同一機能部分に対応する。なお、図３には薄膜トランジスタは図示を省略した。この液晶表示装置では、図１ではカラーフィルタ基板側に有する対向電極ＣＴを薄膜トランジスタ基板側に形成して、液晶ＬＣの分子に対して基板面と略並行な電界Ｅを形成する方式である。このような電極配置構造を除いて、他の構成は図１と同様なので、繰り返しの説明はしない。
【００２４】
図４は、本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置のさらに他例の断面模式図である。この液晶表示装置はこの液晶表示装置は、所謂垂直配向以降型（ＶＡ）方式の液晶表示装置である。図４中、図１、３と同一符号は同一機能部分に対応する。この液晶表示装置は、カラーフィルタ基板に形成したカラーフィルタＣＦの上に保護膜ＰＡＳ１を介して傾斜面をもつ対向電極ＣＴを有する。そして、薄膜トランジスタ基板側にも同様の突起ＰＲＪを形成し、この突起ＰＲＪで画素電極ＰＸに対向電極ＣＴの傾斜に対向した傾斜を形成する。液晶ＬＣはこの対向電極ＣＴと画素電極ＰＸの間に橋絡する如く形成される電界Ｅ１、Ｅ２に沿って垂直方向に配向される。このような電極配置構造を除いて、他の構成は図１、３と同様なので、繰り返しの説明はしない。
【００２５】
図５は、本発明の実施例１の表示装置を説明する有機ＥＬ表示装置の構成例の断面模式図である。この有機ＥＬ表示装置は、絶縁基板ＳＵＢの内面にデータ線としての一方の電極、例えば陽極線ＡＤ、絶縁材で形成したバンクＢＮＫ、白色発光の有機ＥＬ発光層ＯＬＥ（Ｗ）、他方の電極としての例えばカソード電極ＣＤ、平滑層（保護層）ＯＶＣが成膜され、さらにブラックマトリクスＢＭで区画されたカラーフィルタＣＦが形成されている。絶縁基板ＳＵＢの内面はガラスを好適とする封止基板ＳＬＰで密封される。
【００２６】
この有機ＥＬ表示装置は、陽極線ＡＤに表示データに対応した信号を印加し、カソード電極ＣＤとの間に積層された有機ＥＬ発光層ＯＬＥ（Ｗ）が白色を発光する。発光はカラーフィルタＣＦを透過し、所定の色光となって封止基板ＳＬＰから出射する。図５には二個（２色）のカラーフィルタのみ示したが、実際には３個（３色）のカラーフィルタを備えてフルカラー表示を行う。
【００２７】
図６は、本発明の実施例１の表示装置を説明するＦＥＤの構成例の断面斜視図である。このＦＥＤは背面パネルＰＮＬ1と前面パネルＰＮＬ２とを封止枠で貼り合わせ、その間を真空引きした真空容器で構成される。背面パネルＰＮＬ1には、第１の基板である背面基板ＳＵＢ1の主面（内面）に、一方向に延在し該一方向と直交する他方向に並設されて前記他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線Ｓと、他方向に延在し走査信号配線Ｓに交差する如く前記一方向に並設された複数の画像信号配線Ｄと、走査信号配線Ｓと画像信号配線Ｄの各交差部に設けた前記の電子源ＥＬＳを有する。
【００２８】
そして、前面パネルＰＮＬ２には、第２の基板である前面基板ＳＵＢ２の主面にブラックマトリクスＢＭで互いに区画された３色（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ））の３つの単位画素又は副画素（サブピクセル）の蛍光体ＰＨと、陽極（アノード電極）ＡＤが形成されている。この構成例では、背面パネルＰＮＬ1の走査信号配線Ｓの上に、当該走査信号配線Ｓに沿ってスペーサＳＰＣを設置して両パネルを所定の間隔で図示しない封止枠により封止している。
【００２９】
画像信号配線Ｄに印加された表示データに応じて電子源ＥＬＳから電子が放出される。この電子は陽極ＡＤとの間に印加された数kＶの加速電圧で加速されて蛍光体ＰＨに射突し、これを励起して発光させる。この発光は前面パネルＰＮＬ２から出射する。
【００３０】
実施例１では、図１、図３、図４に示した液晶表示装置のカラーフィルタ基板、あるいは図５で説明した有機ＥＬ表示装置を構成するカラーフィルタＣＦ、あるいは図６で説明したＦＥＤ、図を用いた説明はしないプラズマ表示装置などのカラーフィルタに本発明によるラテント顔料を用いた製作方法を適用する。以下、カラーフィルタの製作方法を説明する。
【００３１】
表１に各色の顔料レジストの組成を示す。
【表１】
2007025224.tif 000003
表１において、各色のラテント顔料は、ＢとＧにはフタロシアニン系ラテント顔料を、またはＲにはピロガロール系ラテント顔料を用いる。なお、溶剤（ＰＥＡＣ）はプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。また、ＰＡＧは光酸発生剤（ｐｈｏｔｏ ａｃｉｄ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）である。３色のカラーフィルタ共、同様のプロセスなので、ここでは、Ｂのカラーフィルタについてのみ説明する。
【００３２】
先ず、ガラス基板に適宜の方法でブラックマトリクスを形成する。ブラックマトリクスの形成としては、多様な材料とプロセスが既知であるので説明は省略する。ブラックマトリクスを形成したガラス基板に表１に示された組成の顔料レジストを塗布する。この塗布はスピンコート等の既知の手段で良い。
【００３３】
塗布膜の厚さは、例えば２．５μｍとし、Ｂのカラーフィルタパターンを形成した露光マスクを介して波長３６５ｎｍの紫外線を約１００ｍＪ露光する。その後、この基板を１２０℃で１５分間加熱して焼成する。この焼成により、露光時に酸発生剤としてのＰＡＧから発生した酸の触媒作用によりラテント顔料が不溶化し、フタロシアニン顔料となる。この後、２．５％炭酸ナトリウム溶液の現像液で２分間スプレー現像し、乾燥する。
【００３４】
このようなプロセスを残り２色の蛍光体について実行し、３色のカラーフィルタを形成する。なお、紫外線による露光し現像した蛍光体をその都度焼成しないで、３色の蛍光体をパターニングした後、一括で焼成してもよい。
【００３５】
このようにして製造したカラーフィルタの拡散透過率を測定したところ、４７０ｎｍの波長で０．０７％であった。また、これを従来の顔料分散型のレジストの値０．８％と比較すると約１０分の１であり、殆ど散乱がないことが分かる。
また、顔料の各粒径を測定したところ、主に１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下のものとなっていた。
拡散透過率は波長によって異なるが、可視光範囲の波長で拡散透過率を０．１％以下とするためには、顔料の粒径をレイリー散乱域より小さくする必要があり、具体的には、４０ｎｍ以下に抑える必要がある。従って、この表示装置では、レイリ散乱を抑制することができている。
また、顔料の粒径が小さくなりすぎると、染料に性質が近づき、耐光性が低下して、所望の吸光特性を得ることができなくなる。本発明者らは実験を通じて顔料の粒径が１０ｎｍ以上であれば、一定の吸光特性を維持できることを見出している。つまり、この表示装置では、吸光特性の低下も抑制できている。
【００３６】
上述したように、カラーフィルタにラテントと顔料酸発生剤を使用することにより、上記した低温（１２０℃前後）で顔料化できるようになるので、カブリ（露光領域以外の部分が高い熱によって光反応と同じ反応を起こしてしまう現象）が生じず、パターン形成の忠実度が良好で、散乱が殆ど無いカラーフィルタが得られる。このカラーフィルタを用いることで、散乱による消偏（偏光性能の低下現象）が生じない、黒沈みの良い表示装置を提供できる。
【００３７】
なお、本実施例では、レジストとして化学増幅型レジストを用いたので、その触媒であるＰＡＧで兼用したが、さらに揮発性の酸を加えてもよく、他のレジストに代えた上で酢酸等の揮発性の酸を単独又はＰＡＧと共存させてもよい。
【実施例２】
【００３８】
図７は、本発明の実施例２の表示装置を説明する直下型バックライトを備えた液晶表示装置の展開斜視図である。この液晶表示装置は、液晶表示パネルＰＮＬとバックライトＢＬおよび液晶表示パネルＰＮＬとバックライトＢＬの間に介在した拡散板ＳＣＢとプリズムシートＰＲＺ１,ＰＲＺ２および拡散シートＳＣＳとから構成される。直下型のバックライトＢＬは、バックライトケースＤＦＬ内に反射シートＲＦＳを敷き、その上方に複数本の冷陰極蛍光管ＣＣＦＬを平行に設置して構成される。
【００３９】
液晶表示パネルＰＮＬは、前記した図１乃至図４の何れかの表示方式を有する。液晶表示パネルＰＮＬは二枚のガラス基板の間に液晶層を封止してなり、一方のガラス基板（通常、薄膜トランジスタ基板）の二辺は他方の基板（通常、カラーフィルタ基板）からはみ出ており、このはみ出し部分に走査信号線駆動回路チップＧＣＨを搭載したフレキシブルプリント回路基板ＦＰＣ１、データ信号線駆動回路チップＤＣＨを搭載したフレキシブルプリント回路基板ＦＰＣ２が実装されている。
【００４０】
実施例２は、ラテント顔料を用いて拡散板ＳＣＢに輝度分布の均一化と紫外線吸収性を有する光吸収層を形成するものである。先ず、拡散板の基材としてのアクリル板に下記組成のスラリーを厚さ約２．０μｍで均一に塗布し、乾燥する。塗布方法は任意である。
【００４１】
レジストスラリーの組成例
化学増幅型レジスト（ＰＡＧを含む）・・・・・２０部
ジスアゾイエロ系ラテント顔料・・・・・・・・２０部
溶剤（ＰＥＧＭＥＡ）・・・・・・・・・・・・残部
なお、ＰＥＧＭＥＡは、Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｇｌｙｃｏｌ Ｍｏｎｏ Ｍｅｃｈｙｌ Ｅｔｈｅｒ Ａｃｅｔａｔｅである。
【００４２】
この塗膜の全面に、波長３６５ｎｍの光を５０ｍＪ照射し、酸を発生させ、炭酸ガス（ＣＯ2）レーザを照射して所望の透過率分布の光拡散板を得る。
【００４３】
図８は、炭酸ガスレーザを用いた透過率分布パターンの形成方法を説明する模式図である。レジストスラリーの乾燥膜Ｒを形成した拡散板の基材に対し、炭酸ガスレーザＬＬを照射する。このとき、レーザ発生器ＬＲから発生させた炭酸ガスレーザＬＬを５０ｍｍφのスポットに絞って照射する。拡散板の基材はＸ方向（複数の冷陰極蛍光灯の配列方向）に変速移動させる。この移動は相対的なものである。なお、Ｘ方向と交差するＹ方向へはステップ送りしてレーザのスポットで拡散板の基材の全面を走査させる。
【００４４】
図９は、光拡散板の基材をＸ方向に変速移動させる状態を説明する図である。図９において、Ａ、Ｃ、Ｅ点は直下に冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬが位置点、Ｂ、Ｄは隣接する冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬ間の中間点である。拡散板の基材はＡ、Ｃ、Ｅ点で最も遅く、Ｂ、Ｄ点で最も早くなるように制御される。この後、１５０℃で１０分間の焼成を行い、化学増幅型レジストを不溶化する。不溶化後、ＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａｍｅｃｈｙｌ Ａｍｍｏｎｉｕｍ Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）液で２０秒現像後、水洗し、乾燥する。
【００４５】
その結果、冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬの直上（Ｂ、Ｄ点）では拡散透過率が最大で、冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬ間の中間点（Ａ、Ｃ、Ｅ点）で最小となり、冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬの輝度、配置間隔に応じて上記速度制御を行うことで、光拡散板を通して見た場合の面内輝度を均一化し、かつ冷陰極蛍光灯ＣＣＦＬからの紫外線の透過を抑制することができる。
【００４６】
ここで、光吸収層の光拡散特性を測定するため、１ｍｍ厚の石英板に上記とどう酔おうのプロセスで光吸収層を形成したサンプルを作製した。このサンプルについて、５５０ｎｍでの拡散透過率を測定したところ、図９のＡ、Ｃ、Ｅ点に相当する部分では１０％、Ｂ、Ｄ点に相当する部分では４５％であった。また、この光吸収層の紫外線域の透過率は図１０に示されたように、紫外線域の光は大幅に遮断され、光拡散板の上方に設置される部材（液晶表示パネルも含む）に対する紫外線のダメージが抑制される。これにより、液晶表示装置全体の長寿命化が実現される。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置の一例の断面模式図である。
【図２】サイドエッジ型のバックライトを配置した液晶表示装置を説明する断面図である。
【図３】本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置の他例の断面模式図である。
【図４】本発明の実施例１の表示装置を説明する液晶表示装置のさらに他例の断面模式図である。
【図５】本発明の実施例１の表示装置を説明する有機ＥＬ表示装置の構成例の断面模式図である。
【図６】本発明の実施例１の表示装置を説明するＦＥＤの構成例の断面斜視図である。
【図７】本発明の実施例２の表示装置を説明する直下型バックライトを備えた液晶表示装置の展開斜視図である。
【図８】炭酸ガスレーザを用いた透過率分布パターンの形成方法を説明する模式図である。
【図９】光拡散板の基材をＸ方向に変速移動させる状態を説明する図である。
【図１０】光拡散板に形成した光吸収層の透過率を説明する図である。
【符号の説明】
【００４８】
ＳＵＢ１・・・第１のガラス基板、ＢＭ・・・ブラックマトリクス、ＣＦ・・・カラーフィルタ、ＲＦ・・・赤フィルタ、ＧＦ・・・緑フィルタ、ＢＦ・・・青フィルタ、ＯＣ・・・平滑層（オーバーコート層）、ＣＴ・・・対向電極、ＯＲＩ１・・・フィルタ基板側配向膜、ＰＯＬ１・・・偏光板、ＳＵＢ２・・・第２のガラス基板、ＧＴ・・・ゲート電極、ＳＩ・・・シリコン半導体層、ＳＤ１・・・ドレイン（又はソース）電極、ＳＤ２・・・ソース（又はドレイン）電極、ＴＦＴ・・・薄膜トランジスタ、ＰＸ・・・画素電極、ＯＲＩ２・・・薄膜トランジスタ基板側配向膜、ＰＯＬ２・・・偏光板、ＧＩ・・・ゲート絶縁膜、ＰＡＳ・・・保護膜（パッシベーション膜）、ＬＣ・・・液晶、ＢＬ・・・バックライト。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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