(57)【要約】【課題】凝集性がなく、頂部に凹凸や欠けが生じにくく、放電リークの発生の少ない隔壁を備えるＰＤＰ及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】  前面板２と背面板１０とが放電空間を挟んで対向配置され、背面板１０における、前面板２と対向する表面上に、複数の隔壁１４が配設されたプラズマディスプレイパネル１であって、隔壁１４は、複合粒子３０から構成され、複合粒子３０は、母粒子３０ａと複合粒子３０の表面の少なくとも一部を被覆する子粒子３０ｂからなる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とが放電空間を挟んで対向配置され、第２基板における、第１基板と対向する表面上に、複数の隔壁が配設されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記隔壁は、複合粒子から構成され、
前記複合粒子は、コア粒子と当該コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆するコアシェル粒子とからなるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
請求項１記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コア粒子の粒子径が０．０１μｍ〜４０μｍであり、
前記コアシェル粒子の粒子径は、前記コア粒子の粒子径の１／１０以下であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コア粒子は、コア部分と当該コア部分を内から順に被覆する第一被覆層と第二被覆層とから構成され、
第一被覆層は、コア部分よりも軟化点が高い材質で構成され、
第二被覆層は、コア部分よりも軟化点が同等又は低い材質で構成されているプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コア粒子は、多孔質構造を有する粒子であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
請求項１〜３の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コア粒子は、中空構造を有する粒子であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コア粒子及び前記コアシェル粒子は、球状粒子であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コアシェル粒子は、金属酸化物からなる白色顔料であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
請求項１〜６の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記コアシェル粒子は、無機化合物を主成分とする蛍光体であるプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
請求項１〜８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記プラズマディスプレイパネルの水平方向の１セルピッチが、９０μｍ〜１６０μｍであるプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
請求項１〜８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記放電空間に封入される放電ガス中におけるキセノン含有率が、体積％で２０％〜１００％であるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特にプラズマディスプレイパネルの隔壁の緻密性、強度及び形状における平滑性を高めて、放電セル間の誤放電の発生を抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）は、高速表示が可能で、大画面化が容易であることから、テレビ映像や広告の表示装置として広く実用化されている。
ＰＤＰは、直流型（ＤＣ型）と交流型（ＡＣ型）とに分類分けされるが、現在では、大画面に適したＡＣ型が主流を占めている。
【０００３】
近年、ＰＤＰは、その表示性能の高精細化が進展し、これに応じて、放電空間を仕切る隔壁の微細化が要求されている。
ＡＣ型ＰＤＰは、前面板と背面板とが対向配置されて構成される。
前面板は、前面ガラス基板と、前面ガラス基板における、背面板と対向する側の表面上に形成され、透明電極とバス電極とからなる表示電極と、当該表面と表示電極を覆う誘電体層と、誘電体層を覆う保護層とから構成される。
【０００４】
背面板は、背面ガラス基板と、背面ガラス基板における、前面板と対向する側の表面上に形成されたアドレス電極と、当該表面とアドレス電極を覆う誘電体層、当該誘電体層における、前面板と対向する側の表面上に配設された複数の隔壁と、各隔壁に挟まれた誘電体層の表面を覆う蛍光体層と、各隔壁によって仕切られた放電空間とから構成され、放電空間には、放電ガス（例えば、Ｎｅ、Ｘｅ等の不活性ガス）が封入されている。
【０００５】
図９は、上記ＰＤＰの断面構造を模式的に示した図である。符号５１は、前面板を、符号５２は、背面板を、符号４１は、前面ガラス基板を、符号４２は、透明電極を、符号４３は、バス電極を、符号４４は、前面板５１の誘電体層を、符号４５は、保護層を、符号４６は、隔壁を、符号４７は、背面板５２の誘電体層を、符号４８は、アドレス電極を、符号４９は、蛍光体層を、符号５０は、背面ガラス基板を、符号５３は、放電空間をそれぞれ示す。
【０００６】
隔壁４６は、隣接する放電空間５３に放電が漏れて誤発光がおこらないように、機密性及びバリア性を有するものであることが必要とされるが、隔壁の頂上部には、凹凸が生じやすいため、パネル封着時に、前面板５１との間に間隙が生じやすく、機密性、バリア性を保つ上で問題となりやすく、又、隔壁の微細化を図る上で支障となりやすい。
この問題を解消する技術として、特許文献１に、微粒子からなるセラミックス又ガラス粉体を主成分として用いて、隔壁頂部が平坦化された隔壁を製造する技術が開示されている。
【０００７】
セラミックス粉体としては、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、ジルコニア（ＺｒＯ2 ）等の酸化物系セラミックスや、窒化珪素（Ｓｉ3 Ｎ4）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、炭化珪素（ＳｉＣ）等の非酸化物系セラミックス等、あるいはアパタイト（Ｃａ5 （ＰＯ4 ）3 （Ｆ，Ｃｌ，ＯＨ））等が用いられている。
又、ガラス粉体としては、ケイ酸塩を主成分とし、鉛（Ｐｂ）、硫黄（Ｓ）、セレン（Ｓｅ）、明礬等の一種以上を含有した各種ガラスが用いられている。
【０００８】
これらの粉体の粒子径は、０．２〜１０μｍの範囲のものが用いられている。
これにより、隔壁の頂部が平坦化された、機密性、バリア性にすぐれ、微細な構造の隔壁を形成することができる。
【特許文献１】特開平９−１３４６７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に開示の発明では、隔壁の形成段階において、粒子同士の凝集を防止することができず、粒子径の大きい二次粒子が形成される可能性があり、二次粒子の形成により、隔壁に凹凸や欠けが生じやすくなり、その結果、隣接する放電空間において、放電のリークが発生してしまうという問題が生じる。
本発明は、上記問題点に鑑み、凝集性がなく、頂部に凹凸や欠けが生じにくく、放電リークの発生の少ない隔壁を備えるＰＤＰ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を達成する為、本発明は、第１基板と第２基板とが放電空間を挟んで対向配置され、第２基板における、第１基板と対向する表面上に、複数の隔壁が配設されたプラズマディスプレイパネルであって、前記隔壁は、複合粒子から構成され、前記複合粒子は、コア粒子と当該コア粒子の表面の少なくとも一部を被覆するコアシェル粒子とからなる。
前記プラズマディスプレイパネルにおいて、前記コア粒子の粒子径が０．０１μｍ〜４０μｍであり、前記コアシェル粒子の粒子径は、前記コア粒子の粒子径の１／１０以下であることとすることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、上記構成を備えることにより、複合粒子が接触した場合に生ずるファンデルワールス力を、コア粒子同士が直接接触した場合に比べ、小さくすることができるので、複合粒子同士が結合して凝集するのを防止し、隔壁の構造を、均一な大きさの複合粒子からなる緻密な構造とすることができ、頂部に凹凸や欠けが生じて、放電リークが発生するのを防止することができる。
【００１２】
ここで、前記コア粒子は、コア部分と当該コア部分を内から順に被覆する第一被覆層と第二被覆層とから構成され、第一被覆層は、コア部分よりも軟化点が高い材質で構成され、第二被覆層は、コアよりも軟化点が同等又は低い材質で構成されていることとしてもよい。
これにより、高速気流中衝撃法によって、コア粒子にコアシェル粒子を固定化する場合に、コア粒子が、コア粒子のコア部分が、コア部分よりも軟化点の高い材質の第一被覆層で被覆され、さらに第一被覆層が、コア部分よりも軟化点が高くない材質の第二被覆層で被覆されているので、回転速度を早くしても、コアシェル粒子がコア粒子の内部に埋没するのを第一被覆層により抑止できるとともに、第二被覆層を設けることにより、コアシェル粒子との結合力の低下を抑止できる。
【００１３】
その結果、複合粒子の製造工程において、回転速度を厳格に制御することなく、流動性のよい複合粒子を容易に作製することができる。
ここで、コア粒子は、多孔質構造を有する粒子であることとしてもよい。
又、前記コア粒子は、中空構造を有する粒子であることとしてもよい。
これにより、隔壁の比誘電率を小さくすることができるので、ＰＤＰ駆動時の隔壁における消費電力損失を低減することができる。
【００１４】
ここで、前記コア粒子及び前記コアシェル粒子は、球状粒子であることとしてもよい。
これにより、隔壁の形成工程において、複合粒子を隔壁用ガラスペースト中に均一に分散させやすくするとともに、バインダを複合粒子の表面に均一に付着させやすくすることができるので、焼成工程における、バインダの除去を容易にし、隔壁中にバインダが残存することにより、気泡が発生するのを効果的に防止することができる。
【００１５】
ここで、前記コアシェル粒子は、金属酸化物からなる白色顔料であることとしてもよい。
これにより、放電空間に発生した可視光の反射効率を高めることができる。
ここで、  前記コアシェル粒子は、無機化合物を主成分とする蛍光体であることとしてもよい。
【００１６】
これにより、隔壁の構成材料そのものを、蛍光体とすることができるので、ＰＤＰにおいて、隔壁と別に、蛍光体層を設ける必要がなくなり、ＰＤＰの製造工程を簡略化することができる。
ここで、前記プラズマディスプレイパネルの水平方向の１セルピッチが、９０μｍ〜１６０μｍであることとしてもよい。
【００１７】
これにより、ＰＤＰの画面を高精細化することができる。
ここで、前記放電空間に封入される放電ガス中におけるキセノン含有率が、体積％で２０％〜１００％であることとしてもよい。
これにより、画面の発光効率を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
（実施の形態）
＜構成＞
図１は、本実施の形態におけるＰＤＰ１の主要部の構成を示す断面斜視図である。
ＰＤＰ１は、前面板２と背面板１０とが対向配置されて構成される。
（前面板２）
前面板２は、図１に示すように、前面ガラス基板３と、前面ガラス基板３における、背面板１０と対向する側の表面上に形成された表示電極６及びブラックストライプ７と、当該表面と表示電極６及びブラックストライプ７を覆う誘電体層８と、誘電体層８を覆う保護層９とから構成される。
【００１９】
（前面ガラス基板３）
前面ガラス基板３の材料として、例えば、ホウ珪酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、高ひずみ点（例えば、５７０℃）ガラス等を用いることができる。
（表示電極６）
外部の駆動回路（不図示）と接続され、駆動回路から印加される電圧によって、後述する放電空間１６において、放電を発生させる。
【００２０】
表示電極６は、１対の透明電極４ａ、５ａと、１対のバス電極４ｂ、５ｂとから構成され、透明電極４ａ上には、バス電極４ｂが、透明電極５ａ上には、バス電極５ｂがそれぞれ積層されている。
透明電極４ａ、５ａの材料としては、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、酸化錫（ＳｎＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の導電性金属酸化物を用いることができる。
【００２１】
バス電極４ｂ、５ｂの材料としては、例えば、銀単体や銀、銅、アルミニウム、クロムの内の少なくとも２種以上の複合体を用いることができる。
（ブラックストライプ７）
隣接する放電空間１６からの光を遮光するために設けられ、黒色に着色されている。
ブラックストライプ７の材料としては、例えば、樹脂に、ホウ珪酸鉛系ガラスの粉末やビスマス・リン酸混合物のような固形分と、Ｃｒ−Ｍｎ−Ｃｕ系顔料やＦｅ−Ｃｏ−Ｃｒ系顔料といった黒色の顔料を混合したものを用いることができる。
【００２２】
又、樹脂としては、例えばエチルセルロースを溶剤に溶解させたものを用いることができる。
（誘電体層８）
表示電極６を保護するための層であり、誘電体層８の材料としては、酸化鉛（ＰｂＯ）系や酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）系の低融点ガラスを用いることができる。
【００２３】
（保護層９）
放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層８を保護する。保護層９の材料としては、例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）を用いることができる。
（背面板１０）
背面板１０は、図１に示すように、背面ガラス基板１１と、背面ガラス基板１１における、前面板２と対向する側の表面上に形成されたアドレス電極１２と、当該表面とアドレス電極１２を覆う誘電体層１３と、誘電体層１３における、前面板２と対向する側の表面上に配設された複数の隔壁１４と、隣接する隔壁１４間にある誘電体層１３の表面を覆う蛍光体層１５と、各隔壁１４によって仕切られた放電空間１６とから構成される。
【００２４】
（背面ガラス基板１１）
背面ガラス基板１１の材料としては、例えば、ホウ珪酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、高ひずみ点（例えば、570℃）ガラス等を用いることができる。
（アドレス電極１２）
アドレス期間に、表示電極６との間で、表示データに基づき書き込み放電を行う。
【００２５】
アドレス電極１２の材料としては、例えば、銀やアルミ系金属を用いることができる。
（誘電体層１３）
アドレス電極１２を保護するとともに、蛍光体層１５に含まれる蛍光体が放電により励起されて生ずる、発光した可視光を前面板２側に反射させる。
誘電体層１３の材料としては、酸化鉛（ＰｂＯ）系や酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）系の低融点ガラスを用いることができる。
【００２６】
又、可視光を反射させるために、上記低融点ガラスには、酸化チタン（ＴｉＯ２）や酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）等の白色顔料が添加されている。
（隔壁１４）
放電空間１６を仕切ることにより、Ｙ方向への誤放電やクロストークの発生を防止する。
【００２７】
隔壁１４間のピッチ（Ｙ方向の１セルピッチ）は、９０μｍ〜１６０μｍである。
図２は、背面板１０における、図１の符号１７で示す部分の断面と隔壁１４を構成する複合粒子３０の構造を示す模式図である。
図２（ａ）は、背面板１０の上記断面を示す模式図を示し、図２（ｂ）は、複合粒子３０の構造を示す。
【００２８】
図２（ａ）において、符号１１は、背面ガラス基板１１を、符号１３は、誘電体層１３を、符号１４は、隔壁１４を、符号１５は、蛍光体層を、符号３０は、隔壁１４を構成する複合粒子３０をそれぞれ示す。
図２（ｂ）に示すように、複合粒子３０は、複合粒子３０のコアを構成するコア粒子（以下、「母粒子」という。）３０ａと、母粒子３０ａの表面を被覆し、母粒子３０ａよりも粒子径が小さいコアシェル粒子（以下、「子粒子」という。）３０ｂから構成される。
【００２９】
このように、複合粒子３０は、母粒子３０ａが、母粒子３０ａよりも粒子径の小さい子粒子３０ｂによって被覆された複合粒子構造であるため、粒子径の大きい母粒子３０ａ同士が直接接触するのを防ぎ、粒子径の小さい子粒子３０ｂを介し複合粒子３０同士が接触するので、接触粒子間に生ずるファンデルワールス力が、母粒子３０ａ同士が直接接触する場合に比べ弱められ、複合粒子３０の流動性が高まり、複合粒子３０同士が凝集するのを効果的に防止することができる。
【００３０】
更に、隔壁１４の形成に、均一な大きさの複合粒子３０を用いることにより、粒子径のそろった複合粒子３０から構成される緻密な構造の隔壁１４を形成することができる。
複合粒子３０においては、母粒子３０ａの全表面が子粒子３０ｂで被覆されていることが望ましいが、母粒子３０ａの一部が子粒子３０ｂに被覆されていれば、被覆されている部分において、複合粒子３０同士の凝集を防止することは、可能であるので、複合粒子３０は、その母粒子３０ａの一部が子粒子３０ｂで被覆されたものであってもよい。
【００３１】
母粒子３０ａの材料としては、例えば、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化バリウム（Ｂａ２Ｏ３）を用いることができる。
母粒子３０ａは、粒子径が０．０１〜４０μｍのものを用いることができるが、平均粒子径５μｍ程度のものを用いるのが望ましい。
粒子径が大きくなると、隔壁１４に凹凸が生じやすくなり、又、粒子径が５μｍ以下になると、粒子同士が凝集して二次粒子を形成しやすくなるからである。
【００３２】
子粒子３０ｂの粒子径は、母粒子３０ａよりも小さければよいが、母粒子３０ａの表面を良好に被覆するためには、母粒子３０ａの粒子径の１／１０以下であることが望ましい。
子粒子３０ｂの材料としては、例えば、可視光を反射させる白色顔料（酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）など）を用いることができる。
【００３３】
又、母粒子３０ａ及び子粒子３０ｂの形状は、特に限定されないが、球状のものを用いるのが望ましい。これにより、複合粒子３０の形状を球状に近づけることができ、隔壁１４の形成工程において、隔壁用ガラスペースト中に複合粒子３０を均一に分散させやすくするとともに、複合粒子３０の表面にバインダを均一に付着させやすくすることができ、焼成による、複合粒子３０表面のバインダの除去が容易にでき、残存バインダによって隔壁中に気泡が発生するのを効果的に防止することができる。
【００３４】
（蛍光体層１５）
赤色、緑色、青色の３種類の蛍光体層から構成され、各色の蛍光体層が、順番に、誘電体層１３における、隣接する隔壁１４に挟まれた各領域に別々に配設され、放電によって発生する紫外線によって、蛍光体が励起されて対応する色の可視光を発生する。
赤色蛍光体層の材料としては、例えば、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、緑色蛍光体層の材料としては、例えば、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、青色蛍光体層としては、例えば、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを用いることができる。
【００３５】
（放電空間１６）
前面板２と背面板１０とが、封着材（不図示）によって封着されることにより密閉状態になる空間であり、放電空間１６には、ヘリウム、キセノン及びネオンの中から選択される少なくとも１種の不活性ガス成分からなる放電ガスが、２９．９ｋＰａ〜７９．８ｋＰａ（２２５Ｔｏｒｒ〜６００ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入されている。
【００３６】
ＰＤＰ１における発光効率を高めるためには、上記放電ガスにおけるキセノン含有量を２０〜１００％（体積％）とするのが望ましい。
＜製造方法＞
（前面板２の作製工程）
（前面ガラス基板３の形成工程）
フロート法を用いて、熱膨張係数が７９×１０−７／℃のホウ珪酸アルカリガラスを前面ガラス基板３として形成する。
【００３７】
（透明電極４ａ、５ａの形成工程）
形成した前面ガラス基板３上に、スパッタ法で所定の厚さ（例えば、０．１０μｍ程度）のＩＴＯ膜を均一に形成し、フォトリソグラフ法又はレーザ加工法により、ストライプ状にパターニングし、１対の透明電極４ａ、５ａを形成する。
（バス電極４ｂ、５ｂの形成工程）
次に、感光性の銀ペーストを、透明電極４ａ、５ａ形成後の前面ガラス基板３の全表面に形成し、フォトリソグラフ法でストライプ状にパターニングし、さらに５５０℃まで加熱して銀ペーストを焼成し、形成した透明電極４ａ、５ａ上に１対のバス電極４ｂ、５ｂを形成する。
【００３８】
（ブラックストライプ７の形成工程）
背面板１０側の対応する隔壁１４と対向する位置に、透明電極４ａ、５ａおよびバス電極４ｂ、５ｂと並行する方向に走る帯状のブラックストライプ ７を形成する。ブラックストライプ ７の厚さは、せいぜい数μｍでよい。隔壁ほどの高さは必要なく、その形成には、フォトリソグラフィ法やスクリーン印刷法といった、比較的薄い層に対する従来公知のパターン形成技術が利用できる。フォトリソグラフィ法を利用する場合であれば、次のようにして形成する。
【００３９】
ブラックストライプの材料を含む感光性ペーストを、上述の透明電極４ａ、５ａ及びバス電極４ｂ、５ｂ形成済みの前面ガラス基板３の全面に印刷する。そして、マスクを用いて露光し、現像してブラックストライプ のパターンを形成した後、これを焼成してブラックストライプ７を得る。
又、スクリーン印刷法を用いる場合、ブラックストライプ の材料を含むスクリーン印刷用ペーストを用いる。このペーストは、感光性でなくてよい。そして、スクリーン印刷により、上記ペーストからなるブラックストライプ のパターンを形成した後、焼成してブラックストライプ７を得る。どちらの方法にもそれぞれ得失があるが、一般に、フォトリソグラフィ法のほうが工程は長くなるが、高精細なパターンを形成できる。
【００４０】
又、どちらのブラックストライプ 形成方法の場合も、ペースト状材料には、樹脂に、例えばホウケイ酸鉛系ガラスの粉末やビスマス・リン酸混合物のような固形分と、例えばＣｒ−Ｍｎ−Ｃｕ系顔料やＦｅ−Ｃｏ−Ｃｒ系顔料といった黒色の顔料を混合して得られるものを用いることができるが、樹脂についてはそれぞれの方法で異なり、フォトリソグラフィ法であれば、ポリマーと、モノマーと、重合開始剤とを溶剤に混合して感光性を持たせたものを用いる。また、スクリーン印刷法であれば、例えばエチルセルロースを溶剤に溶解させたものを用いる。
【００４１】
（誘電体層８の形成工程）
比誘電率が６〜１２の酸化亜鉛や酸化ビスマスを含有した酸化ガラス粉末に、バインダ、溶剤を加えて調製した誘電体ガラスペーストを、表示電極６を形成した側の前面ガラス基板３の表面上にスクリーン印刷法で塗布し、乾燥後、焼成することにより、誘電体層８を形成する。
【００４２】
なお、誘電体層８の形成は、ＣＶＤ法により、形成することとしてもよい。
バインダとしては、例えば、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート等のアクリル系樹脂、メチルセルロース、エチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いることができる。
溶剤としては、例えば、テルピネオール、ブチルカルビトール等を用いることができる。
【００４３】
（保護層９の形成工程）
形成した誘電体層８上に、電子ビーム蒸着法を用いて、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層９を作成し、前面板２を完成する。保護層９は、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等の他の公知の方法により形成することとしてもよい。
（背面板１０の作製工程）
（背面ガラス基板１１の形成工程）
フロート法を用いて、熱膨張係数が７９×１０−７／℃のホウ珪酸アルカリガラスを背面ガラス基板１１として形成する。
【００４４】
（アドレス電極１２の形成工程）
銀又はアルミ系金属のペーストをスクリーン印刷法により、形成した背面ガラス基板１１上に一定間隔でストライプ状に塗布した後、焼成してアドレス電極１２を形成する。
（誘電体層１３の形成工程）
比誘電率が６〜１２の酸化亜鉛や酸化ビスマスを含有した酸化ガラス粉末に、可視光の反射率を増大させるための白色顔料（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２等）を１％〜２０重量％、及びバインダ、溶剤を加えて調製した誘電体ガラスペーストを、アドレス電極１２を形成した側の背面ガラス基板１１の表面上にスクリーン印刷法で塗布し、乾燥後、焼成することにより、誘電体層１３を形成する。
【００４５】
バインダ、溶剤は、誘電体層８の場合と同様のものを用いることができる。
（隔壁１４の形成工程）
所定サイズ（粒子径０．１〜５０μｍ）のＳｉＯ２又はＰｂＯ又はＢａ２Ｏ３粒子を、回転流動装置（ここでは、株式会社奈良機械製作所製のオムニテックスを使用）を用いて球状化するとともに、粒子径が５μｍになるまで粉砕処理を施し、母粒子３０ａを作製する。
【００４６】
同様に、所定サイズ(粒子径０．１〜１０μｍ）のＴｉＯ２又はＡｌ２Ｏ３粒子を、回転流動装置を用いて球状化するとともに、平均粒子径が１６ｎｍになるまで粉砕処理を施し、子粒子３０ｂを作製する。
ここで、回転流動装置については、例えば、特開２００２−１１９８４３号公報、特開２００４−４１８６９号公報に詳しく記載されている。
【００４７】
作製した子粒子３０ｂを、メカノケミカルの一種である高速気流中衝撃法により、作製した母粒子３０ａの表面に固定化処理して、複合粒子３０を作製する。
図３は、高速気流中衝撃法において使用される粉体表面改質装置の具体例を示す図である。
この粉体表面改質装置は、乾式で、かつ機械的手段を用いて、核となる母粒子の表面に、母粒子よりも粒径が小さい子粒子を強固に固定化することにより、機能性複合粒子を短時間で効率よく製造するために用いられる装置である。
【００４８】
粉体表面改質装置は、原料シュート７０１、ケーシング７０２、衝突リング７０３、ロータ７０４、衝撃ピン７０５、ジャケット７０６、循環口７０７、循環通路７０８から構成される。
作製した母粒子３０ａ及び子粒子３０ｂの混合粒子を原料シュート７０１から粉体表面改質装置内部に導入し、高速回転するロータ７０４に付設された衝撃ピン７０５によって、瞬間的な打撃作用を混合粒子に与え、周辺の衝突リング７０３に衝突させた後、循環口７０７から循環通路７０８へ流通させて、再び混合粒子を粉体表面改質装置内部に導入し、同様の操作を繰り返す。このようにして、混合粒子に繰り返し打撃作用を与えることにより、数十秒間〜数分間の短時間で子粒子３０ｂを母粒子３０ａの表面に固定化することができ、複合粒子３０を作製することができる。
【００４９】
高速気流中衝撃法は、公知の技術であり、例えば、特開平１０−１１３８７４号公報等に詳しく記載されている。
図４は、上記粉体表面改質装置内部に母粒子３０ａと子粒子３０ｂが導入されて、子粒子３０ｂが母粒子３０ａの表面に固定化される過程を示すイメージ図である。
上記固定化処理に用いる母粒子３０ａと子粒子３０ｂの混合比は、重量比で母粒子３０ａ：子粒子３０ｂが、１００：３〜１００：５であることが望ましい。この混合比においては、母粒子３０ａの表面全体を子粒子３０ｂで一層に被覆するのに必要とされる理論混合比よりも、子粒子３０ｂの重量比率が高くなっているが、これは、理論混合比では、実際的に、上記固定化処理により、母粒子３０ａの表面全体を子粒子３０ｂで一層に被覆するのが難しいからである。
【００５０】
又、上記固定化処理に用いる母粒子３０ａは、子粒子３０ｂよりも比重が小さく、かつ、軟化点が低いことが望ましい。
次に、上記固定化処理により、作製された複合粒子３０に、バインダ、溶剤を加えて隔壁用ペーストを調製し、調製した隔壁用ガラスペーストを、背面ガラス基板１１の表面上に形成された誘電体層１３の上に、均一の厚さに塗工し、乾燥した後、フォトレジストを、塗工した隔壁用ガラスペーストの前面に塗布し、隔壁形成用マスクパターンを用いて露光を行い、現像後、サンドブラスト法により、隔壁パターンを形成した後、焼成して誘電体層１３上に隔壁１４を形成する。
【００５１】
バインダ、溶剤は、誘電体層８の場合と同様のものを用いることができる。
（蛍光体層１５の形成工程）
形成した隔壁１４同士の間に挟まれた誘電体層１３の各領域に、赤色蛍光体層材料（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ）、緑色蛍光体層材料（Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ）、青色蛍光体層材料（ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ）のいずれか１つを  
所定の順番に塗布し、焼成して蛍光体層１５を形成する。
【００５２】
上記塗布は、例えば、インクジェット法により行うことができる。
（パネルの封着工程）
上記の通り作製した前面板２と背面板１０の外周部の少なくとも一方に、封着部材を塗布し、外周部に封着部材層を形成し、外周部を介して両者を接合し、加熱して封着する。
封着部材としては、例えば、低融点ガラスやシリコーンを用いることができる。
【００５３】
（放電ガス封入工程）
封着されたパネルの内部を高真空（１．１×１０−３Ｐａ程度）に脱気し、これに所定の圧力で放電ガス（ヘリウム、キセノン及びネオンの中から選択される少なくとも１種の希ガス成分）を２９．９ｋＰａ〜７９．８ｋＰａ（２２５Ｔｏｒｒ〜６００ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入する。
【００５４】
（駆動回路実装工程）
放電ガスを封入したパネルに駆動回路を実装して、ＰＤＰ１を作製する。
（実施例）
（実験材料）
上記製造方法により、ＰＤＰ１を作製した。
【００５５】
作製したＰＤＰ１のセルサイズは、４２インチ、セル数は、１９２０（水平）×１０８０（垂直）とした。
１セルピッチ（１隔壁ピッチ）は、１６０μｍ（水平方向）、形成した表示電極６の幅は、９０μｍ、形成したバス電極４ｂ、５ｂの幅は、５０μｍ、形成した表示電極６の放電ギャップは、４０μｍ、形成した隔壁１４の高さは、１００μｍ、形成した隔壁１４の幅は、底面部で約５０μｍ、頂部で約３０μｍ、形成したアドレス電極１２の幅は、６０μｍであった。
（評価法）
表面形状測定装置を用いて、光干渉法により、形成した隔壁１４の微細表面形状の計測を行い、隔壁１４の頂部における凹凸の大きさを評価した。
（結果）
図５は、本実施例において得られた隔壁１４の頂部における凹凸の大きさと従来法において得られた隔壁の頂部における凹凸の大きさとの比較結果を示す。図５に示すように、従来法では、凹凸の大きさが７〜１０μｍであったのに対し、本実施例の隔壁１４では、凹凸の大きさが１〜３μｍと減少した。
【００５６】
このように、本実施例の隔壁１４は、複合粒子３０から構成されているため、複合粒子３０間に作用するファンデルワールス力を低減し、複合粒子３０同士の凝集がおこるのを有効に防止することができる。
その結果、隔壁１４形成時に、隔壁１４の頂部において、粒子間の凝集に起因する凹凸が生じにくくなるため、パネル封着時に、前面板２との接合部に間隙が生じたり、隔壁１４の頂部が欠けたりするのを防止することができる。
【００５７】
これにより、パネル接合部の間隙や隔壁の欠けによって発生する、隣接する放電空間１６への放電のリークを抑制でき、誤発光が発生するのを防止することができる。
（補足）
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は、上記の実施の形態に限定されないのは勿論である。
（１）例えば、本実施の形態においては、隔壁１４を構成する複合粒子３０の子粒子３０ａの材料として、可視光を反射させる白色顔料（酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）など）を用いることとしたが、これらの白色顔料の代わりに、蛍光体を用いることとしてもよい。
【００５８】
蛍光体は、赤色蛍光体層の材料としては、例えば、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、緑色蛍光体層の材料としては、例えば、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、青色蛍光体層としては、例えば、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕを用いることができる。
上記子粒子３０ｂを用いて複合粒子３０を作製する方法は、本実施の形態と同様である。
【００５９】
これにより、蛍光体層１５が不要となり、ＰＤＰの製造工程を簡略化することができる。
（２）又、本実施の形態では、隔壁１４を構成する複合粒子３０は、母粒子３０ａが、子粒子３０ｂに直接被覆された構造としたが、母粒子３０ａのコア部分を複数の層で被覆し、被覆層を子粒子３０ｂが被覆する構造としてもよい。
【００６０】
例えば、母粒子３０ａを、母粒子３０ａのコア部分よりも軟化点が高い材質の被覆層（以下、「第一被覆層」という。）で被覆し、第一被覆層を、母粒子３０ａと同じか、それよりも軟化点の低い材質の被覆層（以下、「第二被覆層」という。）で被覆し、第二被覆層をさらに子粒子３０ｂで被覆し、複合粒子（以下、「複合粒子３００」という。）を形成することとしてもよい。
【００６１】
第一被覆層としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）膜を用いることができ、第二被覆層としては、例えば、メラミン樹脂を用いることができる。
図６は、複合粒子３００の構造を示す模式図であり、図６（ａ）は、第一被覆層と第二被覆層とによって、コア部分が二重に被覆された母粒子３０ａを示し、図６（ｂ）は、複合粒子３００を示す。図６（ａ）及び（ｂ）において、符号３０ｅは、母粒子３０ａのコア部分を、符号３０ｂは、子粒子を、符号３０ｃは、第一被覆層を、符号３１ｄは、第二被覆層をそれぞれ表す。
【００６２】
これにより、高速気流中衝撃法によって、子粒子３０ｂを固定化する場合に、母粒子３０ａのコア部分３０ｅが、母粒子３０ａのコア部分３０ｅよりも軟化点の高い材質の第一被覆層３０ｃで被覆されているので、回転速度を早くしても、子粒子３０ｂが母粒子３０ａの内部に埋没することがなく、複合粒子３００の流動性を良好な状態に維持することができる。
【００６３】
又、子粒子３０ｂは、母粒子３０ａのコア部分３０ｅと同等若しくは、それよりも軟化点の低い材質の第二被覆層３０ｄを介して固定化されるので、母粒子３０ａのコア部分３０ｅの表面に直接、子粒子３０ｂを固定化する場合に比べ、子粒子３０ｂの固着率が低下することもない。
このように、母粒子３０ａのコア部分３０ｅを、第一被覆層３０ｃ及び第二被覆層３０ｄで被覆することにより、回転速度を厳格に制御することなく、流動性のよい複合粒子を容易に作製することができる。
（３）又、本実施の形態の隔壁１４を構成する複合粒子３０の母粒子３０ａを多孔質構造或いは中空構造の粒子としてもよい。
【００６４】
ここで、「多孔質の粒子」とは、母粒子３０ａの内部に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化バリウム（Ｂａ２Ｏ３）などの母粒子の構成材料を含まない、閉じられた空間を複数有する粒子のことをいい、各空間には、空気などの気体が含まれていてもよいし、真空状態の空間であってもよい。
図７は、多孔質構造の母粒子３０ａを有する複合粒子３０を示す模式図である。
【００６５】
符号３０ａは、多孔質構造の母粒子を示し、符号３０ｂは、子粒子を示し、符号３１は、母粒子３０ａ内部の空間を示す。
又、「中空の粒子」とは、母粒子３０ａの内部に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化バリウム（Ｂａ２Ｏ３）などの母粒子の構成材料を含まない、１つの閉じられた空間を有する粒子、或いは、母粒子３０ａ全体を溶解させて形成された空間を有し、子粒子３０ｂのみより構成される複合粒子３０のことをいい、各空間には、空気などの気体が含まれていてもよいし、真空状態の空間であってもよい。
【００６６】
図８は、複合粒子３０を形成後、母粒子３０ａの一部を溶解させることにより、形成された中空の複合粒子３０を示す模式図である。
符号３０ｂは、子粒子を示し、符号３２は、母粒子３０ａを溶解させることにより、形成された空間を示す。
このように、隔壁１４を構成する複合粒子３０を多孔質化或いは中空化することにより、隔壁１４全体の比誘電率を低減し、ＰＤＰ１駆動時における消費電力の損失を軽減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特にプラズマディスプレイパネルの隔壁の緻密性、強度及び形状における平滑性を高めて、放電セル間の誤放電の発生を抑制する技術として利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本実施の形態におけるＰＤＰ１の主要部の構成を示す断面斜視図である。
【図２】背面板１０における、図１の符号１７で示す部分の断面と隔壁１４を構成する複合粒子３０の構造を示す模式図である。
【図３】高速気流中衝撃法において使用される粉体表面改質装置の具体例を示す図である。
【図４】上記粉体表面改質装置内部に母粒子３０ａと子粒子３０ｂが導入されて、子粒子３０ｂが母粒子３０ａの表面に固定化される過程を示すイメージ図である。
【図５】本実施例において得られた隔壁１４の頂部における凹凸の大きさと従来法において得られた隔壁の頂部における凹凸の大きさとの比較結果を示す。
【図６】複合粒子３００の構造を示す模式図である。
【図７】多孔質の母粒子３０ａを有する複合粒子３０を示す模式図である。
【図８】複合粒子３０を形成後、母粒子３０ａを溶解させることにより、形成された中空の複合粒子３０を示す模式図である。
【図９】従来のＰＤＰの断面構造を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【００６９】
１          ＰＤＰ
２、        前面板
３          前面ガラス基板
４ａ、５ａ  透明電極
４ｂ、５ｂ  バス電極
６          表示電極
７          ブラックストライプ
８、１３    誘電体層
９          保護層
１０          背面板
１１          背面ガラス基板
１２          アドレス電極
１４          隔壁
１５          蛍光体層
１６          放電空間
３０、３００          複合粒子
３０ａ        母粒子（コア粒子）
３０ｂ        子粒子（コアシェル粒子）
３０ｃ        第一被覆層
３０ｄ        第二被覆層
３０ｅ        母粒子のコア部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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