(57)【要約】【課題】表示品位の劣化を抑制することができ、しかも、低コストで製造歩留まりの良好な表示装置の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造装置１１３０であって、インクジェット方式により各画素に液状材料を塗布するヘッド１１３２と、ヘッド１１３２による塗布位置を移動する移動機構１１３３と、移動機構１１３３による移動が停止したタイミングでヘッド１１３２による塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像するカメラ１１３４と、カメラ１１３４による撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査するコンピュータ１１３５と、を備えたことを特徴とする。【選択図】      図３
2007066561.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造装置であって、
選択塗布方式により各画素に液状材料を塗布するヘッドと、
前記ヘッドによる塗布位置を移動する移動手段と、
前記移動手段による移動が停止したタイミングで、前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する検査手段と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造装置。
【請求項２】
前記ヘッドは、表示素子を構成する有機活性層を形成するための液状材料を塗布することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造装置。
【請求項３】
さらに、表示素子が形成される基板を載置可能なステージを備え、
前記移動手段は、所定位置に固定された前記ヘッドに対して前記ステージを、第１方向に往復移動するとともに第１方向に直交する第２方向に移動することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造装置。
【請求項４】
前記ヘッドは、前記ステージが第１方向に往復移動している間に各画素に対して液状材料を塗布することを特徴とする請求項３に記載の表示装置の製造装置。
【請求項５】
前記撮像手段は、第１方向に往復移動する前記ステージが折り返すときに停止したタイミングで特定領域を撮像することを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造装置。
【請求項６】
前記撮像手段は、第１方向の一端側で折り返す前記ステージの特定領域を撮像可能な位置に設けられ、
前記特定領域は、第１方向の往路及び復路で前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含むことを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造装置。
【請求項７】
前記撮像手段は、第１方向の一端側及び他端側で折り返す前記ステージの特定領域を撮像可能な位置にそれぞれ設けられた第１カメラ及び第２カメラを備え、
前記第１カメラにより撮像される前記特定領域は、第１方向の往路で前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含み、
前記第２カメラにより撮像される前記特定領域は、第１方向の復路で前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含むことを特徴とする請求項４に記載の表示装置の製造装置。
【請求項８】
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造装置であって、
選択塗布方式により各画素に液状材料を塗布する第１ヘッドと、
前記第１ヘッドによる塗布位置を移動する移動手段と、
前記移動手段による移動が停止したタイミングで、前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する検査手段と、
前記検査手段により検出された塗布不良画素に、選択塗布方式により液状材料を塗布する第２ヘッドと、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造装置。
【請求項９】
前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドは、表示素子を構成する有機活性層を形成するための液状材料を塗布することを特徴とする請求項８に記載の表示装置の製造装置。
【請求項１０】
さらに、表示素子が形成される基板を載置可能なステージを備え、
前記移動手段は、所定位置に固定された前記第１ヘッド及び前記第２ヘッドに対して前記ステージを、第１方向に往復移動するとともに第１方向に直交する第２方向に移動することを特徴とする請求項８に記載の表示装置の製造装置。
【請求項１１】
前記第１ヘッドは、前記ステージが第１方向に往復移動している間に各画素に対して液状材料を塗布することを特徴とする請求項１０に記載の表示装置の製造装置。
【請求項１２】
前記第２ヘッドは、前記検査手段により第１方向の往路で前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素の中から塗布不良画素が検出された場合に、塗布不良画素に対して直後の復路で液状材料を塗布することを特徴とする請求項１１に記載の表示装置の製造装置。
【請求項１３】
前記第２ヘッドは、前記検査手段により第１方向の往路で前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素の中から塗布不良画素が検出された場合に、塗布不良画素に対して次の往路で液状材料を塗布することを特徴とする請求項１１に記載の表示装置の製造装置。
【請求項１４】
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
選択塗布方式のヘッドによる塗布位置を移動しながら、各画素に液状材料を塗布する工程と、
塗布位置の移動が停止したタイミングで、前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する工程と、
撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１５】
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
選択塗布方式の第１ヘッドによる塗布位置を移動しながら、各画素に液状材料を塗布する工程と、
塗布位置の移動が停止したタイミングで、前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する工程と、
撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する工程と、
検査工程で検出された塗布不良画素に、選択塗布方式の第２ヘッドにより液状材料を塗布する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示装置の製造装置及び製造方法に係り、特に、複数の自発光性素子によって構成された表示装置の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
【０００３】
これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、アレイ基板として陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を挟持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成される。有機ＥＬ素子には、有機活性層に低分子系材料を用いた素子構成と、高分子系材料を用いた素子構成とがある。
【０００４】
低分子系の素子は真空蒸着法などのドライプロセスにより形成する例が多く、積層構造を容易に形成しやすい。一方、高分子系の素子はインクジェット法等のウェットプロセスにより形成する例が多い。インクジェット法は、液状の高分子系材料を画素毎に塗布し、乾燥することによって有機活性層を形成するため、材料の使用効率が格段に良いといった利点がある。このようなインクジェット法を採用する場合、各画素は、隣接画素間の分離（絶縁）を行うための隔壁によって区画されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２０２７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、インクジェット法を採用した場合、インクジェットヘッドのノズル詰まり、ノズル表面の乾燥、送液系内の泡混入などにより、画素への塗布処理中に液状材料の不吐出や吐出不足が発生することがある。不吐出による未塗布画素や吐出不足による液滴不足画素などの塗布不良画素をリペアする方法として、基板全面の塗布が終了した後に、これら塗布不良画素に追加塗布することが考えられる。しかしながら、液滴不足画素に追加塗布した場合、先に塗布された液滴が時間の経過に伴って一部乾燥してしまい、乾燥した部分と追加塗布した部分とで塗布ムラを生ずるおそれがある。このような塗布ムラは、表示品位の劣化を招くおそれがある。
【０００６】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位の劣化を抑制することができ、しかも、低コストで製造歩留まりの良好な表示装置の製造装置及び製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の第１様態による表示装置の製造装置は、
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造装置であって、
選択塗布方式により各画素に液状材料を塗布するヘッドと、
前記ヘッドによる塗布位置を移動する移動手段と、
前記移動手段による移動が停止したタイミングで、前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する検査手段と、
を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この発明の第２様態による表示装置の製造装置は、
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造装置であって、
選択塗布方式により各画素に液状材料を塗布する第１ヘッドと、
前記第１ヘッドによる塗布位置を移動する移動手段と、
前記移動手段による移動が停止したタイミングで、前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段による撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する検査手段と、
前記検査手段により検出された塗布不良画素に、選択塗布方式により液状材料を塗布する第２ヘッドと、
を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明の第３様態による表示装置の製造方法は、
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
選択塗布方式のヘッドによる塗布位置を移動しながら、各画素に液状材料を塗布する工程と、
塗布位置の移動が停止したタイミングで、前記ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する工程と、
撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【００１０】
この発明の第４様態による表示装置の製造方法は、
マトリクス状に配置された画素毎に表示素子を備えた表示装置の製造方法であって、
選択塗布方式の第１ヘッドによる塗布位置を移動しながら、各画素に液状材料を塗布する工程と、
塗布位置の移動が停止したタイミングで、前記第１ヘッドによる塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する工程と、
撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する工程と、
検査工程で検出された塗布不良画素に、選択塗布方式の第２ヘッドにより液状材料を塗布する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明によれば、表示品位の劣化を抑制することができ、しかも、低コストで製造歩留まりの良好な表示装置の製造装置及び製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置の製造装置及び製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１３】
有機ＥＬ表示装置１は、図１及び図２に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００と、アレイ基板１００の少なくとも表示エリア１０２を密封する封止体２００とを備えて構成されている。表示エリア１０２は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。
【００１４】
各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離し、かつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき表示素子へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを備えている。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
【００１５】
各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、表示素子としての有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）をそれぞれ備えている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００１６】
各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、画素毎ＰＸに独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された有機活性層６４と、によって構成される。
【００１７】
また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと略直交する方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７と、信号線Ｘｎに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８と、を備えている。
【００１８】
すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。駆動トランジスタ２０は、有機ＥＬ素子４０と直列に接続されている。蓄積容量素子３０は、画素スイッチ１０と直列に、且つ駆動トランジスタ２０と並列に接続されており、蓄積容量素子３０の両電極は、駆動トランジスタ２０のゲート電極及びソース電極にそれぞれ接続されている。
【００１９】
電源供給線Ｐは、表示エリア１０２の周囲に配置された図示しない第１電極電源線に接続されている。有機ＥＬ素子４０の第２電極６６側端は、表示エリア１０２の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。
【００２０】
また、画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０の一端及び駆動トランジスタ２０のゲート電極２０Ｇに接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極２０Ｓは蓄積容量素子３０の他端及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極２０Ｄは有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。
【００２１】
アレイ基板１００は、図２に示すように、配線基板１２０上に配置された有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、アンダーコート層１１１、ゲート絶縁膜１１２、層間絶縁膜１１３、平坦化層１１４などの絶縁膜を備える他に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。
【００２２】
有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜上に配置される。この第１電極６０は、ここではＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：インジウム・ティン・オキサイド）やＩＺＯ（インジウム・ジンク・オキサイド）などの光透過性を有する導電部材によって形成され、陽極として機能する。
【００２３】
有機活性層６４は、各色共通に形成されるホールバッファ層、エレクトロンバッファ層、及び各色画素に形成される有機発光層を含む多層積層で構成されても良く、機能的に複合された２層または単層で構成されても良い。例えば、ホールバッファ層は、陽極および有機発光層間に配置され、芳香族アミン誘導体やポリチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体などの薄膜によって形成される。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。この発光層は、例えば高分子系の発光材料を採用する場合には、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）やポリフルオレン誘導体またはその前駆体などの薄膜により構成される。
【００２４】
第２電極６６は、有機活性層６４上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、例えばＣａ（カルシウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｂａ（バリウム）、Ａｇ（銀）、Ｙｂ（イッテルビウム）などの電子注入機能を有する金属膜によって形成され、陰極として機能している。この第２電極６６は、陰極として機能する金属膜の表面をカバーメタルで被覆した２層構造であっても良い。カバーメタルは、例えばアルミニウムによって形成される。
【００２５】
また、アレイ基板１００は、表示エリア１０２において、各画素ＲＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を分離する隔壁７０を備えている。隔壁７０は、第１電極６０の周縁に沿って格子状またはストライプ状に配置されている。
【００２６】
このように構成された有機ＥＬ素子４０では、第１電極６０と第２電極６６との間に挟持された有機活性層６４に電子及びホールを注入し、これらを再結合させることにより励起子を生成し、この励起子の失活時に生じる所定波長の光放出により発光する。ここでは、このＥＬ発光は、アレイ基板１００の下面側すなわち第１電極６０側から出射される。
【００２７】
次に、表示装置の製造装置について説明する。ここでは、各画素に有機活性層を形成するための液状の高分子系材料を選択的に塗布するための選択塗布方式の塗布装置について説明する。ここでは、塗布装置の一例として、インクジェット方式の塗布装置について説明する。例えば、図３に示すように、塗布装置１１３０は、ワークＷとしての基板（すなわち有機ＥＬ素子４０が形成される配線基板１２０）を載置可能なステージ１１３１を備えている。インクジェットヘッド１１３２は、ステージ１１３１の上方における所定位置に固定配置されている。このインクジェットヘッド１１３２は、ワークＷに対向する面に、供給された液状材料（例えば有機活性層を構成するための液状材料）を吐出する微細なノズルを備えている。
【００２８】
ステージ１１３１は、移動手段として機能する移動機構１１３３によって移動可能である。すなわち、移動機構１１３３は、互いに略直交するように配置された第１移動機構１１３３Ａ及び第２移動機構１１３３Ｂによって構成されている。第１移動機構１１３３Ａは、第１方向（Ｙ方向）に延在され、ステージ１１３１を第１方向に沿って往復移動する。第２移動機構１１３３Ｂは、第２方向（Ｘ方向）に延在され、ステージ１１３１を第２方向沿って移動する。
【００２９】
ここでは、特に、第１方向は、マトリクス状に配置された画素の行方向に対応するものとし、また、第２方向は、画素の列方向に対応するものとする。このような構成により、インクジェットヘッド１１３２は、移動機構１１３３により第１方向及び第２方向に沿って移動する基板上の各画素に液状材料を塗布可能である。
【００３０】
インクジェットヘッド１１３２は、ステージ１１３１が第１方向に移動している間に各画素に対して液状材料を塗布する。すなわち、インクジェットヘッド１１３２の各ノズルは、１画素分の液状材料を吐出するように構成されている。このため、ステージ１１３１の第１方向に沿った片道移動を１スキャン動作としたとき、複数のノズルを備えたインクジェットヘッド１１３２を第１方向に沿って移動しながら液状材料を吐出することにより、ノズル数分の行の画素群を１スキャン動作で塗布可能である。
【００３１】
また、塗布効率の向上のためには、インクジェットヘッド１１３２は、ステージ１１３１が第１方向に往復移動している間に各画素に対して液状材料を塗布することが望ましい。つまり、インクジェットヘッド１１３２は、第１方向の往路の１スキャン動作中にノズル数分の行の第１画素群を塗布した後に、復路の１スキャン動作中にノズル数分の行の第２画素群を塗布することにより、往復移動する間にノズル数の２倍の行の画素群を塗布することが可能である。
【００３２】
なお、以上の説明では、移動機構１１３３は、ステージ１１３１を移動したが、インクジェットヘッド１１３２による液状材料の塗布位置を移動可能であればこの構成に限定されるものではなく、所定位置に固定されたステージ１１３１に対してインクジェットヘッド１１３２を第１方向及び第２方向に移動するような構成であっても良い。
【００３３】
また、塗布装置１１３０は、移動機構１１３３による塗布位置の移動が停止したタイミングで、インクジェットヘッド１１３２による塗布処理がなされた画素を含む特定領域を撮像する撮像手段として機能するカメラ１１３４を備えている。このカメラ１１３４は、例えば、第１方向に往復移動するステージ１１３１が折り返すときに一瞬停止したタイミングで特定領域を撮像する。
【００３４】
また、このカメラ１１３４は、特定領域を照明する光源１１３４Ｓを備えている。この光源１１３４Ｓは、ハロゲン光源、紫外線光源、可視光源などを適用可能であり、塗布される液状材料の特性に応じて選定される。例えば、有機活性層のうちホールバッファ層の塗布処理がなされた画素を撮像する場合にはハロゲン光源が好適であり、また、発光層の塗布処理がなされた画素を撮像する場合には紫外線光源が好適である。
【００３５】
コンピュータ１１３５は、撮像画像に基づいて塗布不良画素の有無を検査する検査手段として機能するものであり、カメラ１１３４と接続されている。すなわち、カメラ１１３４によって撮像された撮像画像は、コンピュータ１１３５により画像処理される。この画像処理では、例えば、各画素における液状材料の有無や液適量の差は、輝度差として検出される。これにより、コンピュータ１１３５は、撮像した特定領域内において、液状材料の不吐出による未塗布画素や吐出不足による液滴不足画素などの塗布不良画素を検出する。
【００３６】
このような塗布不良画素の有無の検査は、塗布処理がなされた全画素について行うことがベストであるが、塗布動作に追随してリアルタイムでノズル数分の行の画像を読み込むカメラの選定が困難である。このため、全ノズル数分の行の画素を含む特定領域の画像を１スキャン動作毎に読み込むことにより、最低限各ノズルによる行毎の液状材料の吐出状況が判断できる。
【００３７】
（第１実施形態）  
次に、より具体的な第１実施形態に係る表示装置の製造装置の構成及び製造方法について説明する。この第１実施形態では、塗布不良画素を検出する製造装置の構成及び検出方法について説明する。なお、ここでは、ステージ１１３１上に載置された配線基板１２０は、第１電極６０及び隔壁７０を備えているものとし、インクジェットヘッド１１３２は、ステージ１１３１が第１方向Ｙに往復移動している間に各画素に対して（各画素の第１電極６０上に）有機活性層６４を形成するための液状材料を塗布するものとする。
【００３８】
図４に示すように、ステージ１１３１は、インクジェットヘッド１１３２の配置位置をほぼ中心とした移動エリアＡ内を移動可能である。すなわち、ステージ１１３１は、第１方向Ｙの一端側から往路Ｙ１に沿って他端側まで移動した際に停止位置Ｓ１にて停止する。そして、ステージ１１３１は、塗布処理を行った行数に対応する移動量で第２方向Ｘに沿って移動する。そして、ステージ１１３１は、第１方向Ｙの他端側から復路Ｙ２に沿って一端側まで移動した際に停止位置Ｓ２にて停止する。そして、ステージ１１３１は、塗布処理を行った行数に対応する移動量で第２方向Ｘに沿って移動する。
【００３９】
このようなステージ１１３１の移動を繰り返すことにより、ステージ１１３１上に載置された配線基板１２０の表示エリア１０２全体がインクジェットヘッド１１３２の直下を通過することになる。つまり、インクジェットヘッド１１３２により、表示エリア１０２全体の各画素に液状材料が塗布される。
【００４０】
カメラ１１３４は、第１方向Ｙの一端側で折り返すステージ１１３１の特定領域ＳＰＸを撮像可能な位置に設けられている。図４に示した例では、カメラ１１３４は、停止位置Ｓ２において、インクジェットヘッド１１３２に対して第１方向Ｙに沿って並んで配置されている。
【００４１】
このような位置に配置されたカメラ１１３４が撮像する特定領域ＳＰＸは、第１方向Ｙの往路Ｙ１及び復路Ｙ２でインクジェットヘッド１１３２による塗布処理がなされた画素を含む。すなわち、図５に示すように、ステージ１１３１が第１方向Ｙの往路Ｙ１に沿って移動した際にインクジェットヘッド１１３２の全ノズル１１３２Ｎにより液状材料が塗布される第１画素群ＰＸＧ１、及び、ステージ１１３１が復路Ｙ２に沿って移動した際にインクジェットヘッド１１３２の全ノズル１１３２Ｎにより液状材料が塗布される第２画素群ＰＸＧ２は、第２方向Ｘに並んでいる。特定領域ＳＰＸは、これら第１画素群ＰＸＧ１及び第２画素群ＰＸＧ２を含んでいる。
【００４２】
カメラ１１３４は、塗布位置の移動が停止したタイミングすなわちインクジェットヘッド１１３２による第２画素群ＰＸＧ２への塗布処理がなされた後にステージ１１３１が停止位置Ｓ２で停止したタイミングで、直前に塗布処理がなされた第１画素群ＰＸＧ１及び第２画素群ＰＸＧ２を含むような特定領域ＳＰＸを撮像する。カメラ１１３４によって撮像された撮像画像は、コンピュータ１１３５にて画像処理され、塗布不良画素の有無を検査するために利用される。
【００４３】
このような構成の第１実施形態によれば、高価なカメラを利用する必要がなく、且つ、微小な特定領域のみが撮像可能なカメラを用意すれば良いため、製造装置の低コスト化が可能となる。また、大量の画像データを処理する必要がないため、画像処理に要する時間を短縮することができるとともに、短時間で確実に塗布不良画素を検出することが可能となる。
【００４４】
なお、上述した第１実施形態では、インクジェットヘッド１１３２は、ステージ１１３１が第１方向に往復移動している間に液状材料を塗布するものとしたが、第１方向の往路または復路のみ液状材料を塗布する構成であれば、カメラ１１３４は、第１画素群ＰＸＧ１または第２画素群ＰＸＧ２のいずれか一方のみを含むようなさらに微小な特定領域ＳＰＸを撮像すれば良い。このため、カメラ１１３４のさらなる低コスト化及び処理時間の短縮が可能である。
【００４５】
（第２実施形態）  
次に、第２実施形態に係る表示装置の製造装置の構成及び製造方法について説明する。この第２実施形態も同様に、塗布不良画素を検出する製造装置の構成及び検出方法について説明する。なお、第１実施形態と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４６】
図６に示すように、第１実施形態との違いは、撮像手段として機能する２個のカメラが配置されたことである。すなわち、第１カメラ１１３４Ａは、第１方向Ｙの一端側で折り返すステージ１１３１の特定領域ＳＰＸＡを撮像可能な位置に設けられている。図６に示した例では、第１カメラ１１３４Ａは、停止位置Ｓ１において、インクジェットヘッド１１３２に対して第１方向Ｙに沿って並んで配置されている。
【００４７】
このような位置に配置された第１カメラ１１３４Ａが撮像する特定領域ＳＰＸＡは、図７に示すように、ステージ１１３１が第１方向Ｙの往路Ｙ１に沿って移動した際にインクジェットヘッド１１３２の全ノズル１１３２Ｎにより液状材料が塗布された第１画素群ＰＸＧ１の画素を含む。
【００４８】
第１カメラ１１３４Ａは、塗布位置の移動が停止したタイミングすなわちインクジェットヘッド１１３２による第１画素群ＰＸＧ１への塗布処理がなされた後にステージ１１３１が停止位置Ｓ１で停止したタイミングで、直前に塗布処理がなされた第１画素群ＰＸＧ１を含むような特定領域ＳＰＸＡを撮像する。第１カメラ１１３４Ａによって撮像された撮像画像は、コンピュータ１１３５にて画像処理され、塗布不良画素の有無を検査するために利用される。
【００４９】
また、第２カメラ１１３４Ｂは、第１方向Ｙの他端側で折り返すステージ１１３１の特定領域ＳＰＸＢを撮像可能な位置に設けられている。図６に示した例では、第２カメラ１１３４Ｂは、停止位置Ｓ２において、インクジェットヘッド１１３２に対して第１方向Ｙに沿って並んで配置されている。
【００５０】
このような位置に配置された第２カメラ１１３４Ｂが撮像する特定領域ＳＰＸＢは、図８に示すように、ステージ１１３１が第１方向Ｙの復路Ｙ２に沿って移動した際にインクジェットヘッド１１３２の全ノズル１１３２Ｎにより液状材料が塗布された第２画素群ＰＸＧ２の画素を含む。
【００５１】
第２カメラ１１３４Ｂは、塗布位置の移動が停止したタイミングすなわちインクジェットヘッド１１３２による第２画素群ＰＸＧ２への塗布処理がなされた後にステージ１１３１が停止位置Ｓ２で停止したタイミングで、直前に塗布処理がなされた第２画素群ＰＸＧ２を含むような特定領域ＳＰＸＢを撮像する。第２カメラ１１３４Ｂによって撮像された撮像画像は、コンピュータ１１３５にて画像処理され、塗布不良画素の有無を検査するために利用される。
【００５２】
このような構成の第２実施形態おいても、高価なカメラを利用する必要がなく、且つ、微小な特定領域のみが撮像可能なカメラを用意すれば良いため、製造装置の低コスト化が可能となる。また、大量の画像データを処理する必要がないため、画像処理に要する時間を短縮することができるとともに、短時間で確実に塗布不良画素を検出することが可能となる。
【００５３】
（第３実施形態）  
次に、第３実施形態に係る表示装置の製造装置の構成及び製造方法について説明する。この第３実施形態では、上述した第１実施形態及び第２実施形態により検出した塗布不良画素をリペアする製造装置の構成及びリペア方法について説明する。なお、上述した第１実施形態と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
【００５４】
すなわち、図９に示すように、インクジェットヘッド１１３２は、インクジェット方式により各画素に液状材料を塗布する第１ヘッド１１３２Ａと、同じくインクジェット方式により塗布不良画素に液状材料を塗布する第２ヘッド１１３２Ｂとを備えている。つまり、第１ヘッド１１３２Ａは、全ノズル１１３２ＮＡを介して、ステージ１１３１が第１方向Ｙに往復移動している間に各画素に対して（各画素の第１電極６０上に）有機活性層６４を形成するための液状材料を塗布する。また、第２ヘッド１１３２Ｂは、第１ヘッド１１３２Ａのノズル数と同数のノズル１１３２ＮＢを備えているが、第１ヘッド１１３２Ａにより液状材料が十分に塗布されなかった塗布不良画素に対してのみ有機活性層６４を形成するための液状材料を塗布する。
【００５５】
図９に示した例では、第１画素群ＰＸＧ１は、ステージ１１３１が第１方向Ｙの往路Ｙ１に沿って移動した際に第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡにより液状材料が塗布される画素群であるものとする。また、第２画素群ＰＸＧ２は、第１画素群ＰＸＧ１の塗布処理が完了した直後に、ステージ１１３１が復路Ｙ２に沿って移動した際に第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡにより液状材料が塗布される画素群であるものとする。
【００５６】
ここで、第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡのうち、特定ノズル１１３２ＮＤにおいて、液状材料の吐出不足あるいは不吐出が発生したものとする。これにより、第１画素群ＰＸＧ１及び第２画素群ＰＸＧ２は、それぞれ塗布不良画素ＰＸＤを含むことになる。これらの塗布不良画素ＰＸＤは、上述した第１実施形態及び第２実施形態におけるカメラ及びコンピュータを用いた検査方法により、第１方向Ｙの往路Ｙ１で第１ヘッド１１３２Ａによる塗布処理がなされた後に第１画素群ＰＸＧ１を含む特定領域の撮像画像から検出可能である。
【００５７】
このように、往路Ｙ１での第１ヘッド１１３２Ａによる塗布処理において第１画素群ＰＸＧ１の画素から塗布不良画素ＰＸＤが検出された場合には、直後の復路Ｙ２での第１ヘッド１１３２Ａによる第２画素群ＰＸＧ２の塗布処理と並行して、第２ヘッド１１３２Ｂは、第１ヘッド１１３２Ａにおける特定ノズル１１３２ＮＤに対応したリペアノズル１１３２ＮＲを介して、第１画素群ＰＸＧ１の塗布不良画素ＰＸＤに対して液状材料を塗布する。つまり、直前の往路Ｙ１での塗布処理で第１画素群ＰＸＧ１に形成された塗布不良画素ＰＸＤは、直後の復路Ｙ２での第２ヘッド１１３２Ｂの通過に伴ってリペアされ、液状材料で満たされたリペア画素ＰＸＰとなる。
【００５８】
なお、上述した例では、第１方向Ｙの往路Ｙ１で塗布不良画素ＰＸＤが検出された場合について説明したが、復路Ｙ２で塗布不良画素ＰＸＤが検出された場合も同様に、直後の往路Ｙ１で塗布不良画素に対して液状材料を塗布することでリペア可能であることは言うまでもない。
【００５９】
このような第３実施形態によれば、基板全面の塗布処理が終了する以前の早期に塗布不良画素に液状材料を追加塗布することができ、先に塗布された液滴との間での塗布ムラの発生を抑制することができる。このため、表示品位の劣化を抑制することができる。また、塗布不良画素が発生した場合であっても、確実にリペアすることができ、製造歩留まりを改善することが可能となる。
【００６０】
（第４実施形態）  
次に、第４実施形態に係る表示装置の製造装置の構成及び製造方法について説明する。この第４実施形態も同様に、上述した第１実施形態及び第２実施形態により検出した塗布不良画素をリペアする製造装置の構成及びリペア方法について説明する。なお、上述した第３実施形態と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
【００６１】
すなわち、図１０に示すように、インクジェットヘッド１１３２は、第１ヘッド１１３２Ａと、第２ヘッド１１３２Ｂとを備えている。
【００６２】
図１０に示した例では、第１画素群ＰＸＧ１は、ステージ１１３１が第１方向Ｙの往路Ｙ１に沿って移動した際に第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡにより液状材料が塗布される画素群であるものとする。また、第２画素群ＰＸＧ２は、第１画素群ＰＸＧ１の塗布処理が完了した直後に、ステージ１１３１が復路Ｙ２に沿って移動した際に第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡにより液状材料が塗布される画素群であるものとする。さらに、第３画素群ＰＸＧ３は、第２画素群ＰＸＧ２の塗布処理が完了した直後に、ステージ１１３１が往路Ｙ１に沿って移動した際に第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡにより液状材料が塗布される画素群であるものとする。
【００６３】
ここで、第１ヘッド１１３２Ａの全ノズル１１３２ＮＡのうち、特定ノズル１１３２ＮＤにおいて、液状材料の吐出不足あるいは不吐出が発生したものとする。これにより、第１画素群ＰＸＧ１、第２画素群ＰＸＧ２、及び、第３画素群ＰＸＧ３は、それぞれ塗布不良画素ＰＸＤを含むことになる。これらの塗布不良画素ＰＸＤは、上述した第１実施形態及び第２実施形態におけるカメラ及びコンピュータを用いた検査方法により、第１方向Ｙの往路Ｙ１で第１ヘッド１１３２Ａによる塗布処理がなされた後に第１画素群ＰＸＧ１を含む特定領域の撮像画像から検出可能である。
【００６４】
このように、往路Ｙ１での第１ヘッド１１３２Ａによる塗布処理において第１画素群ＰＸＧ１の画素から塗布不良画素ＰＸＤが検出された場合には、直後の復路Ｙ２での第１ヘッド１１３２Ａによる第２画素群ＰＸＧ２の塗布処理と並行して、第２ヘッド１１３２Ｂによる第１画素群ＰＸＧ１の塗布不良画素ＰＸＤに対するリペア処理は行わない。つまり、直前の往路Ｙ１での塗布処理で第１画素群ＰＸＧ１に形成された塗布不良画素ＰＸＤは、リペアされない。
【００６５】
すなわち、塗布不良画素ＰＸＤは、１スキャン動作中に、特定ノズル１１３２ＮＤに対応した行すべてに形成されるとは限らない。つまり、第１ヘッド１１３２Ａが往路Ｙ１に沿ってスキャン動作している途中に、特定ノズル１１３２ＮＤで吐出不良を発生する場合がある。このような場合、直後の復路Ｙ２で塗布不良画素ＰＸＤを含む行全体をリペア処理してしまうと、正常に塗布された画素と塗布不良画素とで塗布された液状材料の塗布量に差が生じてしまい、塗布ムラを生じてしまう。
【００６６】
そこで、この第４実施形態では、往路Ｙ１での第１ヘッド１１３２Ａによる塗布処理において第１画素群ＰＸＧ１の画素から塗布不良画素ＰＸＤが検出された場合には、次の往路Ｙ１での第１ヘッド１１３２Ａによる第３画素群ＰＸＧ３の塗布処理と並行して、第２ヘッド１１３２Ｂは、第１ヘッド１１３２Ａにおける特定ノズル１１３２ＮＤに対応したリペアノズル１１３２ＮＲを介して、第２画素群ＰＸＧ２の塗布不良画素ＰＸＤに対して液状材料を塗布する。
【００６７】
つまり、塗布不良画素ＰＸＤが検出された第１画素群ＰＸＧ１はリペア処理せずに、この第１画素群ＰＸＧ１の塗布処理に続く復路Ｙ２での塗布処理で第２画素群ＰＸＧ２に形成された塗布不良画素ＰＸＤは、直後の往路Ｙ１での第２ヘッド１１３２Ｂの通過に伴ってリペアされ、液状材料で満たされたリペア画素ＰＸＰとなる。
【００６８】
このような第４実施形態においても、基板全面の塗布処理が終了する以前の早期に塗布不良画素に液状材料を追加塗布することができ、先に塗布された液滴との間での塗布ムラの発生を抑制することができる。このため、表示品位の劣化を抑制することができる。また、塗布不良画素が発生した場合であっても、確実にリペアすることができ、製造歩留まりを改善することが可能となる。
【００６９】
また、このような第４実施形態は、特に、ワークＷ内に複数の表示エリア１０２を含むようないわゆる多面取り用のマザー基板に塗布処理を行う時に有効である。すなわち、リペアされなかった塗布不良画素ＰＸＤを含む表示エリアについては廃棄されるが、塗布不良画素ＰＸＤを含まない表示エリア（リペア画素ＰＸＰを含む表示エリア）については利用可能であり、製造歩留まりの低減を防止することが可能となる。
【００７０】
上述した第３実施形態及び第４実施形態では、インクジェットヘッド１１３２は、塗布用の第１ヘッド１１３２Ａ及びリペア用の第２ヘッド１１３２Ｂを別途備える構成としたが、これに限らず、図１１に示すように、同一ヘッド内に塗布用のノズル１１３２ＮＡ及びリペア用のノズル１１３２ＮＢを備える構成であっても良い。この場合も、塗布用のノズル１１３２ＮＡ及びリペア用のノズル１１３２ＮＢが同数であることはいうまでもない。
【００７１】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【００７２】
上述した実施の形態では、選択塗布方式の一例としてインクジェット方式について説明したが、選択塗布方式の他の方式を適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示した有機ＥＬ表示装置の１画素分の構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、表示装置の製造装置の一例であるインクジェット方式の塗布装置の構造を概略的に示す図である。
【図４】図４は、第１実施形態に係る製造装置の構成及び製造方法を概略的に示す図である。
【図５】図５は、図４に示した製造装置におけるカメラと特定領域との関係を説明するための図である。
【図６】図６は、第２実施形態に係る製造装置の構成及び製造方法を概略的に示す図である。
【図７】図７は、図６に示した製造装置におけるカメラと特定領域との関係を説明するための図である。
【図８】図８は、図６に示した製造装置におけるカメラと特定領域との関係を説明するための図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係る製造装置の構成及び製造方法を説明するための図である。
【図１０】図１０は、第４実施形態に係る製造装置の構成及び製造方法を説明するための図である。
【図１１】図１１は、第３実施形態及び第４実施形態に適用可能なインクジェットヘッドの他の構成を概略的に示す図である。
【符号の説明】
【００７４】
１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４…有機活性層、６６…第２電極、７０…隔壁、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、２００…封止体、１１３０…インクジェット装置、１１３１…ステージ、１１３２…インクジェットヘッド、１１３２Ａ…第１ヘッド、１１３２Ｂ…第２ヘッド、１１３２Ｎ…ノズル、１１３３…移動機構、１１３４…カメラ、１１３５…コンピュータ、ＰＸ…画素、ＰＸＤ…塗布不良画素、ＰＸＰ…リペア画素、ＰＸＧ１…第１画素群、ＰＸＧ２…第２画素群、ＰＸＧ３…第３画素群、ＳＰＸ…特定領域、Ｗ…ワーク、
【図１】
2007066561.tif 000003
【図２】
2007066561.tif 000004
【図３】
2007066561.tif 000005
【図４】
2007066561.tif 000006
【図５】
2007066561.tif 000007
【図６】
2007066561.tif 000008
【図７】
2007066561.tif 000009
【図８】
2007066561.tif 000010
【図９】
2007066561.tif 000011
【図１０】
2007066561.tif 000012
【図１１】
2007066561.tif 000013