(57)【要約】【課題】１種の感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法の１工程で配向制御突起Ｍｖ及び２種のフォトスペーサーＰｓ−１、２を同時に簡便に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】ブラックマトリックス、着色画素、透明電導膜が形成された透明基板４０上に、感光性樹脂層６０を形成し、配向制御突起、第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサーに対応したパターンが形成されたフォトマスクＰＭを介して露光を行う際に、充分なギャップＧを設けた近接露光を行い、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーを同時に形成すること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーが形成された液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜が形成された透明基板上に、感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形成し、
２）前記配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び該第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーに対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、上記感光性樹脂層の上面と上記フォトマスクの膜面との間にギャップを設けた近接露光を行い、
現像処理を施して配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び該第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーを同時に形成することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂が、ポジ型の感光性樹脂であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記近接露光のギャップは、第一フォトスペーサーの水平断面が２５μｍ×２５μｍ以上角で、第二フォトスペーサーの水平断面が１５μｍ〜２５μｍ角で、配向制御突起の幅が９μｍ〜１２μｍの際に、７０μｍ〜３００μｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に関するものであり、特に、配向制御突起及びフォトスペーサーを同時に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関する。
また、上記製造方法によって製造された液晶表示装置用カラーフィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成してブラックマトリックス基板とし、次に、このブラックマトリックス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
このブラックマトリックス基板の製造には、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、着色画素が形成されたブラックマトリックス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
【０００８】
例えば、配向分割機能。従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、ＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、コントラストが低下し表示品質が悪化する。コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
【０００９】
このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）−ＬＣＤが開発された。
【００１０】
図７は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図７に示すように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（８０）は、液晶分子（２１）を介して配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）が設けられたＴＦＴ側基板（２０）と、配向制御突起（２３）が設けられたカラーフィルタ（８）とを配置した構造であるが、配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）及び配向制御突起（２３）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。
【００１１】
図７に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起（２２ａ）〜配向制御突起（２３）間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起（２３）〜配向制御突起（２２ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
【００１２】
図８（ａ）、（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルタの一例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。この例では、配向制御突起（８３）は、一画素内で９０°屈曲させてある。
また、図９（ａ）、（ｂ）は、別な例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。図９（ａ）、（ｂ）に示すように、この別な例は、平面形状が円形の配向制御突起（９３）が形成されたカラーフィルタ（９）である。
このようなカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、一画素内で液晶分子の傾斜方向が多方向となる。
【００１３】
また、前記基本的な機能に付随して付加される機能として、例えば、スペーサー機能。従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。
このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、な
どの問題を有していた。
【００１４】
このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、例えば、画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発された。
図６は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図６に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。
【００１５】
前記平面形状がストライプ状の配向制御突起（８３）のＡ−Ａ線での断面形状は、例えば、三角形、かまぼこ状であり、その幅（Ｗ２）は９〜１２μｍ程度、高さ（Ｈ２）は０．８〜１．７μｍ程度である。また、平面形状が円形の配向制御突起（９３）の幅（Ｗ３）、高さ（Ｈ３）は、ストライプ状の配向制御突起（８３）の各々と同程度である。これらは、透明な感光性樹脂を用いて形成される。                                      
【００１６】
また、前記フォトスペーサー（４４）の高さは、基板間ギャップである２μｍ〜５μｍ程度、形状は、水平断面が対角長（１５×１５μｍ）〜（４０×４０μｍ）程度の角丸の矩形、菱形のものが多く用いられている。
また、パネル組み立て工程においては、液晶表示装置用カラーフィルタに荷重をかけて圧着する際に、フォトスペーサーの硬さが硬目であると、押し圧ムラによって基板間のギャップが均一になりにくく、液晶表示装置に色ムラなどが発生し易くなる。従って、フォトスペーサーには荷重によって変形する弾性が必要となる。
【００１７】
すなわち、フォトスペーサーには荷重を加えた際に変形し、荷重を除いた際に復元する復元力を有することが必要である。
本発明における復元率とは、荷重を加えた際の総変形量に対する、荷重を除いた際に復元する量（弾性変形量）であり、復元率は６０％以上のものが好ましいといえる。（復元率＝弾性変形量／総変形量）
一方、液晶表示装置の使用時に、その表面に指などが接触して局部的に指圧がかかると、局部的な色ムラなどが発生することがある。このような色ムラなどの発生を回避するためには、フォトスペーサーの硬さは硬目であることが好ましい。
【００１８】
図３は、液晶表示装置の押圧耐性を向上させるために、２種のフォトスペーサーが設けられた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示す断面図である。図３に示すように、この液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明電極層（４３）、配向制御用突起（Ｍｖ）、フォトスペーサーが形成されたものである。
フォトスペーサーとして、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）と、第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）が形成されている。
【００１９】
前記図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される機能としては、上記配向分割機能、スペーサー機能の他に、高信頼性機能、透過・反射併用機能、分光特性調整機能、光路差調整機能、光散乱機能などがあげられる。これら諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される。
従って、例えば、図４に示すカラーフィルタ（４）に配向分割機能及びスペーサー機能が
追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図４に示すカラーフィルタ（４）を作製した後に、例えば、図９に示す配向制御突起（９３）を形成し、続いて図６に示すフォトスペーサー（４４）を形成する。
【００２０】
すなわち、配向制御突起を形成する工程と、フォトスペーサーを形成する工程の２工程が追加され、或いは、図３に示すカラーフィルタにおいては、配向制御突起（Ｍｖ）を形成する工程と、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）を形成する工程と、第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を形成する工程の３工程が追加され、所望する仕様のカラーフィルタを製造することになる。
【００２１】
フォトスペーサーと配向制御突起とは、高さ、物性が異なるために、異なる２種の感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法を２工程用い形成する。
フォトスペーサーの形成には、例えば、ポジ型の感光性樹脂である透明なノボラック系感光性樹脂が、また、配向制御突起の形成には、例えば、ネガ型の感光性樹脂である透明なアクリル系感光性樹脂が用いられる。
【００２２】
異なる２種の感光性樹脂を用いずに、１種の感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法を１工程でフォトスペーサーと配向制御突起を形成する技法として、例えば、特許第３２５５１０７号公報には、カラーフィルタの着色層を積層し、その上にフォトスペーサーを形成し、カラーフィルタの単層の着色層上に配向制御突起を同時形成する技法が開示されている。
しかし、一般にカラーフィルタの着色層は、色特性の点から膜厚には一定の制約がある。従って、着色層を積層の高さは、その制約を受けた高さとなり、カラーフィルタの着色層面からのフォトスペーサーの高さと配向制御突起の高さを、各々要望する高さに同時に形成することは困難なことである。
【特許文献１】特許第３２５５１０７号公報
【特許文献２】特開２００５−３８５４号公報
【特許文献３】特開平１１−３４４７００号公報
【特許文献４】特開２００１−５１２６６号公報
【特許文献５】特開２００２−２３６３７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、配向制御突起及び２種のフォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、１種の感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法の１工程で配向制御突起及び２種のフォトスペーサーを同時に簡便に形成し、廉価に配向制御突起及び２種のフォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタを製造することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造された液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明は、透明基板上に、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーが形成された液晶表示装置用カラ
ーフィルタの製造方法において、
１）前記ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜が形成された透明基板上に、感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形成し、
２）前記配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び該第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーに対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、上記感光性樹脂層の上面と上記フォトマスクの膜面との間にギャップを設けた近接露光を行い、
現像処理を施して配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び該第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーを同時に形成することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００２５】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記感光性樹脂が、ポジ型の感光性樹脂であることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００２６】
また、本発明は、上記発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記近接露光のギャップは、第一フォトスペーサーの水平断面が２５μｍ×２５μｍ以上角で、第二フォトスペーサーの水平断面が１５μｍ〜２５μｍ角で、配向制御突起の幅が９μｍ〜１２μｍの際に、７０μｍ〜３００μｍであることを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【００２７】
また、本発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタである。
【発明の効果】
【００２８】
本発明は、１）ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜が形成された透明基板上に、感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形成し、２）配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーに対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、感光性樹脂層の上面と上記フォトマスクの膜面との間にギャップを設けた近接露光を行い、現像処理を施して配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーを同時に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であるので、廉価に配向制御突起及び２種のフォトスペーサーを設けた液晶表示装置用カラーフィルタを製造することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。
【００２９】
また、本発明は、ポジ型の感光性樹脂を用いるので、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーの同時形成が容易なものとなる。また、近接露光のギャップは、第一フォトスペーサーの水平断面が２５μｍ×２５μｍ以上角で、第二フォトスペーサーの水平断面が１５μｍ〜２５μｍ角で、配向制御突起の幅が９μｍ〜１２μｍの際に、７０μｍ〜３００μｍであるので、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーの高さの差が容易に得られ、且つフォトスペーサーとしての復元率を有したものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一実施例における近接露光を説明する断面図である。図１に示すように、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたガラス基板（４０）上に感光性樹脂層（６０）が形成され、その上方には近接露光のギャップ（Ｇ）を設けてフォトマ
スク（ＰＭ）が配置されている。
フォトマスク（ＰＭ）には、配向制御用突起、第一フォトスペーサー、及び第一フォトスペーサーより高さの低い第二フォトスペーサーの形成に対応したパターンが形成されている。フォトマスクの膜面（５１）は感光性樹脂層（６０）に対向している。
【００３１】
図２は、露光後の現像処理によって得られた配向制御突起（Ｍｖ）、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）、及び第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を示す断面図である。
配向制御突起（Ｍｖ）の高さ（Ｈ６）及び幅（Ｗ６）と、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の高さ（Ｈ４）及び幅（Ｗ４）と、第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の高さ（Ｈ５）及び幅（Ｗ５）との関係は、図２に示すように、高さは、Ｈ４＞Ｈ５＞Ｈ６、幅は、Ｗ４＞Ｗ５＞Ｗ６の関係にある。
【００３２】
また、これらの形成に用いる、図１に示すフォトマスク（ＰＭ）の遮光部の幅は、各々配向制御突起（Ｍｖ）の幅（Ｗ６）、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の幅（Ｗ４）、第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の幅（Ｗ５）に対応し、遮光部（Ｓ４）の幅（Ｗ４）＞遮光部（Ｓ５）の幅（Ｗ５）＞遮光部（Ｓ６）の幅（Ｗ６）の関係にある。
【００３３】
図１において、フォトマスク（ＰＭ）の上方からの露光光（Ｌ）は、フォトマスクの光透過部を経て感光性樹脂層（６０）に照射されるが、近接露光のギャップ（Ｇ）が充分にあると、照射される光は、光透過部の下方の感光性樹脂層（６０）部分のみでなく、照射される光の回折により、照射される光はフォトマスクの遮光部の下方の感光性樹脂層（６０）部分にも達し、例えば、用いた感光性樹脂がポジ型の感光性樹脂である際には、現像液に可溶なものへと光分解される。
【００３４】
この回折される光は、図２に示す、幅（Ｗ４）の大きな第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）に対応した、幅の大きな遮光部（Ｓ４）の下方では少なく、幅（Ｗ５）が幅（Ｗ４）より小さな第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）に対応した、幅（Ｗ５）の遮光部（Ｓ５）の下方では多くなる。
また、この回折される光は、幅（Ｗ６）が幅（Ｗ５）より小さな配向制御用突起（Ｍｖ）に対応した、幅（Ｗ６）の遮光部（Ｓ６）の下方では更に多くなる。
【００３５】
従って、幅（Ｗ４）の大きな第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）に対応した遮光部（Ｓ４）の下方の感光性樹脂層（６０）部分では光分解される量が少なく、幅（Ｗ５）が幅（Ｗ４）より小さな第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）に対応した遮光部（Ｓ５）の下方の感光性樹脂層（６０）部分では光分解される量が多くなる。
また、幅（Ｗ６）が幅（Ｗ５）より小さな配向制御突起（Ｍｖ）に対応した遮光部（Ｓ６）の下方の感光性樹脂層（６０）部分では光分解される量が更に多くなる。
【００３６】
図１中に示す点線は、照射される光の回折によって光分解されない、すなわち、配向制御突起（Ｍｖ）、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）、及び第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）に対応した透明感光性樹脂層（６０）の部分を表している。引き続く現像処理を施すことにより、図２に示すように、高さが高く、幅が大きな第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）と、第一フォトスペーサーより高さが低く、幅が小さな第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）と、第二フォトスペーサーより高さが低く、幅が小さな配向制御突起（Ｍｖ）が同時に得られることになる。
【００３７】
この近接露光による露光方法は、本来は、例えば、ガラス基板上の感光性樹脂層（６０）面とフォトマスクの膜面（５１）を密着させて露光を与える方法をとると、感光性樹脂層（６０）上に異物が存在した際に、その異物がフォトマスクの膜面（５１）に再付着して、そのまま大量のガラス基板に露光が行われることになると、異物の存在に起因したパ
ターン欠陥を有するカラーフィルタが大量に形成されてしまうのを回避するための方法である。従って、近接露光のギャップは、通常５０μｍ〜７０μｍ程度のものである。
【００３８】
本発明においては、配向制御突起（Ｍｖ）、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）、及び第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）に対応したパターンが形成されたフォトマスクを介して露光を行う際に、近接露光のギャップ（Ｇ）を通常より大きくし、照射される光の回折を顕著なものとし、配向制御突起（Ｍｖ）、第一フォトスペーサー（Ｐｓ−１）、及び第二フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を同時に形成することを意図したものである。
【００３９】
また、感光性樹脂層の形成に用いる感光性樹脂としては、一般には、ネガ型の感光性樹脂よりもポジ型の感光性樹脂の方が照射される光の回折効果を受けやすいために、感光性樹脂としては、ポジ型の感光性樹脂を用いることが好ましい。
【００４０】
また、本発明においては、形成したフォトスペーサーには荷重を加えた際に変形し、荷重を除いた際に復元する復元力を有することが必要である。前記復元率は６０％以上のものが好ましく、復元率６０％以上を確保するためには、フォトスペーサーの水平断面が１５μｍ〜４０μｍ角であることが望ましい。
【００４１】
上記近接露光のギャップ（Ｇ）を通常より大きくすることによって、フォトマスク上の第一フォトスペーサーを形成するパターンの、２５μｍ以上角と、第二フォトスペーサーを形成するパターンの１５〜２５μｍ角と、配向制御突起を形成するパターンの９μｍ〜１２μｍの差が、高さの差となって現出し、且つフォトスペーサーはフォトスペーサーとしての物性（復元率）を有したものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一実施例における近接露光を説明する断面図である。
【図２】現像処理後に得られた、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーの説明図である。
【図３】２種のフォトスペーサーが形成された液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】フォトスペーサーが形成された液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。
【図７】ＭＶＡ−ＬＣＤの原理の説明図である。
【図８】（ａ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルタの一例の一画素を拡大して示す平面図である。（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤに用いられるカラーフィルタの一例の一画素を拡大して示す断面図である。
【図９】（ａ）は、別な例の一画素を拡大して示す平面図である。（ｂ）は、別な例の一画素を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
【００４３】
４、７、８、９・・・カラーフィルタ
２０・・・ＴＦＴ側基板
２１・・・液晶分子
２２ａ、２２ｂ、２３、８３、９３、Ｍｖ・・・配向制御突起
４０、５０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４１Ａ・・・ブラックマトリックスのマトリックス部
４１Ｂ・・・ブラックマトリックスの額縁部
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
５１・・・フォトマスクの膜面
６０・・・感光性樹脂層
８０・・・ＭＶＡ−ＬＣＤ        
Ｇ・・・近接露光のギャップ
Ｈ２・・・ストライプ状の配向制御突起の高さ
Ｈ３・・・円形の配向制御突起の高さ
Ｈ４・・・第一フォトスペーサーの高さ
Ｈ５・・・第二フォトスペーサーの高さ
Ｈ６・・・配向制御突起の高さ
Ｌ・・・露光光
ＰＭ・・・フォトマスク
Ｐｓ−１・・・第一フォトスペーサー
Ｐｓ−２・・・第二フォトスペーサー
Ｓ４・・・第一フォトスペーサーに対応した遮光部
Ｓ５・・・第二フォトスペーサーに対応した遮光部
Ｓ６・・・配向制御突起に対応した遮光部
Ｗ２・・・ストライプ状の配向制御突起の幅
Ｗ３・・・円形の配向制御用突起の幅
Ｗ４・・・第一フォトスペーサーの幅
Ｗ５・・・第二フォトスペーサーの幅
Ｗ６・・・配向制御突起の幅
【図１】
2007094064.tif 000003
【図２】
2007094064.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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