(57)【要約】【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、第１基板の第１面に界面活性剤を付与する段階と、前記第１基板を処理する段階と、を含む。これにより、液晶表示装置の製造工程中の電荷を外部に円滑に放電させて、静電気不良を防止する。したがって、表示装置の表示状態を優れた状態に維持することができる。【選択図】図１
2007025665.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板の第１面に界面活性剤を付与する界面活性剤付与段階と、
前記第１基板を処理する処理段階と、を含む液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記界面活性剤は、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、または両性界面活性剤である、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記界面活性剤付与段階では、ローラーを使用して前記界面活性剤を前記第１面に塗布する、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記処理段階の前、後、または同時に、前記第１基板の第２面を洗浄する洗浄段階をさらに含む、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し、
前記洗浄段階を、前記界面活性剤付与段階の後または同時に行う、
請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記洗浄段階では、洗浄液を噴射することにより前記第２面を洗浄し、
前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し、かつ前記界面活性剤の噴射圧力を前記洗浄液の噴射圧力より小さく調整する、請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記洗浄段階では、有機溶剤または純水を使用する、請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記処理段階は、前記第１基板の第２面上に薄膜を形成する薄膜形成段階を有している、請求項１乃至７のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記薄膜形成段階は、電場生成電極を含む薄膜を形成する、請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記処理段階は、前記第１基板の第２面上に配向膜を形成する配向膜形成段階を有している、請求項１乃至９のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記処理段階は、前記配向膜をラビングするラビング段階をさらに有している、請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１基板及び第２基板を結合して表示板組立体を製造する組立段階と、
前記表示板組立体を切断する切断段階と、
前記表示板組立体の切断面を研磨する研磨段階と、
をさらに含む、請求項１乃至１１のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記処理段階は、前記第１基板の第１面に偏光板を付着する段階をさらに含む、請求項１乃至１２のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
上部表示板と、
前記上部表示板と対向して互いに結合されている下部表示板と、
前記上部表示板及び前記下部表示板のうちの少なくとも一方の表面に形成されている静電気防止層と、
前記静電気防止層上に付着されている偏光板と、
を含む液晶表示装置。
【請求項１５】
前記静電気防止層は、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、または両性界面活性剤を含む、請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記静電気防止層は、前記上部表示板及び前記下部表示板の外側面に形成されている、請求項１４に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一般に、共通電極や色フィルターなどが形成されている上部表示板、薄膜トランジスタや画素電極が形成されている下部表示板、及び二つの表示板の間に注入されている液晶層を含む。画素電極及び共通電極に電位差を与えると、液晶層に電場が生成され、この電場によって液晶分子の配向方向が決定される。液晶分子の配向方向によって入射光の透過率が決定されるので、二つの電極の間の電位差を調節することによって、所望の画像を表示することができる。
【０００３】
液晶表示装置の基板及び基板上に蒸着された薄膜上には、電荷が積まれることがある。基板及び薄膜上に積まれた電荷は、基板の上方向または基板の表面に沿って外部に放電される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、このように電荷が外部に放電されずに基板の内部に放電されると、液晶表示装置の製造工程中に様々な静電気不良が発生しやすい。このような静電気不良は、瞬間的な静電気によって各画素でチャンネル機能を喪失する静電気チック（ｔｉｃｋｓ）不良、及び製造工程で瞬間的な静電気によってゲート線及びデータ線上に現れる横線及び縦線形状の静電気染みなどを例に挙げることができる。また、基板上に積まれた電荷は、ホコリまたは浮遊物などの接着を誘発して、液晶表示装置の動作電圧に異常をきたす。液晶表示装置の基板が大型化されるほど、電荷を外部に放電させるのが容易でなく、液晶表示装置の製造工程中に静電気不良が発生しやすい。
【０００５】
本発明は、液晶表示装置の製造工程中に基板または薄膜上に積まれる電荷を外部に放電させ、静電気不良を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記の課題を解決するために、発明１は、第１基板の第１面に界面活性剤を付与する界面活性剤付与段階と、前記第１基板を処理する処理段階と、を含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
【０００７】
発明２は、発明１において、前記界面活性剤が、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、または両性界面活性剤である液晶表示装置の製造方法を提供する。
【０００８】
発明３は、発明１において、前記界面活性剤付与段階では、ローラーを使用して前記界面活性剤を前記第１面に塗布する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【０００９】
発明４は、前記発明１において、前記処理段階の前、後、または同時に、前記第１基板の第２面を洗浄する洗浄段階をさらに含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１０】
発明５は、前記発明４において、前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し、前記洗浄段階を、前記界面活性剤付与段階の後または同時に行う液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１１】
発明６は、前記発明４において、前記洗浄段階では、洗浄液を噴射することにより前記第２面を洗浄し、前記界面活性剤付与段階では、ノズルを使用して前記界面活性剤を前記第１面に噴射し、かつ前記界面活性剤の噴射圧力を前記洗浄液の噴射圧力より小さく調整する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１２】
発明７は、前記発明４において、前記洗浄段階では、有機溶剤または純水を使用する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１３】
発明８は、前記発明１〜７のいずれかにおいて、前記処理段階が、前記第１基板の第２面上に薄膜を形成する薄膜形成段階を有している液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１４】
発明９は、前記発明８において、前記薄膜形成段階が、電場生成電極を含む薄膜を形成する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１５】
発明１０は、前記発明１〜９のいずれかにおいて、前記処理段階が、前記第１基板の第２面上に配向膜を形成する配向膜形成段階を有している液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１６】
発明１１は、前記発明１０において、前記処理段階が、前記配向膜をラビングするラビング段階をさらに有している液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１７】
発明１２は、前記発明１〜１１のいずれかにおいて、
・前記第１基板及び第２基板を結合して表示板組立体を製造する組立段階と、
・前記表示板組立体を切断する切断段階と、
・前記表示板組立体の切断面を研磨する研磨段階と、
をさらに含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１８】
発明１３は、前記発明１〜１２のいずれかにおいて、前記処理段階が、前記第１基板の第１面に偏光板を付着する段階をさらに含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
【００１９】
発明１４は、
・上部表示板と、
・前記上部表示板と対向して互いに結合されている下部表示板と、
・前記上部表示板及び前記下部表示板のうちの少なくとも一方の表面に形成されている静電気防止層と、
・前記静電気防止層上に付着されている偏光板と、
を含む液晶表示装置を提供する。
【００２０】
発明１５は、前記発明１４において、前記静電気防止層が、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、または両性界面活性剤を含む液晶表示装置を提供する。
発明１６は、前記発明１４において、前記静電気防止層が、前記上部表示板及び前記下部表示板の外側面に形成されている液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、液晶表示装置の製造工程中の電荷を外部に円滑に放電させて、静電気不良を防止する。したがって、表示装置の表示状態を優れた状態に維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
それでは、添付した図面を参照して、本発明の実施例について、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な相異した形態で実現でき、ここで説明する実施例に限定されない。
【００２３】
図面では、各層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。明細書全体を通して類似した部分については、同一な図面符号を付けた。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上”にあるとする時、これは他の部分の“直上”にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も意味する。反対に、ある部分が他の部分の“直上”にあるとする時、これはその中間に他の部分がない場合を意味する。
【００２４】
それでは、図１乃至図３を参照して、本発明の実施例による液晶表示装置について説明する。
【００２５】
図１は本発明の一実施例による液晶表示装置を示す配置図であり、図２及び図３は図１に示した液晶表示装置をＩＩ−ＩＩ線及びＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿って切断した断面図である。
【００２６】
図１乃至図３を参照すれば、本実施例による液晶表示装置は、互いに対向する下部表示板１００及び上部表示板２００、そしてこれらの間に注入されている液晶層３を含む。
【００２７】
＜下部表示板の構成＞
まず、下部表示板１００について説明する。
【００２８】
基板１１０上に、複数のゲート線１２１及び複数の維持電極線１３１が形成されている。
【００２９】
ゲート線１２１は、ゲート信号を伝達し、主に横方向にのびている。各ゲート線１２１は、上部に突出した複数のゲート電極１２４、及び他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１２９を含む。ゲート信号を生成するゲート駆動回路（図示せず）は、基板１１０上に付着される可撓性印刷回路膜（図示せず）上に装着されたり、基板１１０上に直接装着されたり、基板１１０上に集積される。ゲート駆動回路が基板１１０上に集積されている場合、ゲート線１２１がのびて、これと直接連結される。
【００３０】
維持電極線１３１は、所定の電圧の印加を受け、ゲート線１２１とほぼ平行にのびた幹線及びこれから分かれた複数対の維持電極１３３ａ、１３３ｂを含む。各々の維持電極線１３１は、隣接する二つのゲート線１２１の間に位置し、幹線は二つのゲート線のうちの下側に近い。各々の維持電極１３３ａ、１３３ｂは、幹線と連結された固定端、及びその反対側の自由端を含む。そして、維持電極１３３ｂの固定端は面積が広く、自由端は直線部分及び曲線部分の二股に分かれる。しかし、維持電極線１３１の形状及び配置は多様に変更することができる。
【００３１】
ゲート線１２１及び維持電極線１３１は、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などのアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金などの銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金などの銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などのモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びチタニウム（Ｔｉ）などからなることができる。しかし、これらは物理的性質が異なる二つの導電膜（図示せず）を含む多重膜構造に形成されることもできる。このうちの一つの導電膜は、信号遅延や電圧降下を減少させることができるように比抵抗が低い金属、例えばアルミニウム系金属、銀系金属、銅系金属などからなる。これとは異なって、他の導電膜は、他の物質、特にＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）及びＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）との物理的、化学的、電気的接触特性が優れている物質、例えばモリブデン系金属、クロム、チタニウム、タンタルなどからなる。これらの組合わせの好ましい例としては、クロムの下部膜及びアルミニウム（合金）の上部膜や、アルミニウム（合金）の下部膜及びモリブデン（合金）の上部膜がある。しかし、ゲート線１２１及び維持電極線１３１は、この他にも多様な金属または導電体からなることができる。
【００３２】
ゲート線１２１及び維持電極線１３１の側面は基板１１０の面に対して傾いていて、その傾斜角は約３０゜乃至約８０゜であるのが好ましい。
【００３３】
ゲート線１２１及び維持電極線１３１上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【００３４】
ゲート絶縁膜１４０上には、水素化非晶質シリコン（非晶質シリコンは略してα-Ｓｉとする）、多結晶シリコン、または有機半導体などからなる複数の線状半導体１５１が形成されている。線状半導体１５１は、主に縦方向にのびていて、ゲート電極１２４に向かってのびた複数の突出部１５４を含む。線状半導体１５１は、ゲート線１２１及び維持電極線１３１付近で幅が広くなって、これらを幅広く覆っている。
【００３５】
半導体１５１上には、複数の線状及び島型抵抗性接触部材１６１、１６５が形成されている。抵抗性接触部材１６１、１６５は、リンなどのｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ＋水素化非晶質シリコンなどの物質やシリサイドからなることができる。線状抵抗性接触部材１６１は、複数の突出部１６３を含み、この突出部１６３及び島型抵抗性接触部材１６５は対をなして半導体１５１の突出部１５４に配置されている。
【００３６】
半導体１５１、１５４及び抵抗性接触部材１６１、１６３、１６５の側面も基板１１０の面に対して傾いていて、その傾斜角は約３０゜乃至８０゜である。
【００３７】
抵抗性接触部材１６１、１６３、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、複数のデータ線１７１及び複数のドレイン電極１７５が形成されている。
【００３８】
データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向にのびて、ゲート線１２１と交差する。各データ線１７１は、また、維持電極線１３１と交差して、隣接する維持電極１３３ａ、１３３ｂの集合の間を通る。各データ線１７１は、ゲート電極１２４に向かってのびた複数のソース電極１７３、及び他の層または外部駆動回路との接続のために面積が広い端部１７９を含む。データ信号を生成するデータ駆動回路（図示せず）は、基板１１０上に付着される可撓性印刷回路膜（図示せず）上に装着されたり、基板１１０上に直接装着されたり、基板１１０上に集積される。データ駆動回路が基板１１０上に集積されている場合、データ線１７１がのびて、これと直接連結される。
【００３９】
ドレイン電極１７５は、データ線１７１と分離されていて、ゲート電極１２４を中心にソース電極１７３と対向する。各ドレイン電極１７５は、面積が広い一側端部及び棒状の他側端部分を含む。面積が広い端部は維持電極線１３１の拡張部１３７と重畳し、棒状の端部はＪ字型に曲がったソース電極１７３で一部が囲まれている
一つのゲート電極１２４、一つのソース電極１７３、及び一つのドレイン電極１７５は、半導体１５１の突出部１５４と共に一つの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を構成し、薄膜トランジスタのチャンネルは、ソース電極１７３及びドレイン電極１７５の間の突出部１５４に形成される。
【００４０】
データ線１７１及びドレイン電極１７５は、モリブデン、クロム、タンタル、及びチタニウムなどの耐火性金属、またはこれらの合金からなるのが好ましく、耐火性金属膜（図示せず）及び低抵抗導電膜（図示せず）を含む多重膜構造に形成されることができる。多重膜構造の例としては、クロムまたはモリブデン（合金）の下部膜及びアルミニウム（合金）の上部膜の二重膜、モリブデン（合金）の下部膜、アルミニウム（合金）の中間膜、及びモリブデン（合金）の上部膜の三重膜がある。しかし、データ線１７１及びドレイン電極１７５は、この他にも多様な金属または導電体からなることができる。
【００４１】
データ線１７１及びドレイン電極１７５の側面も基板１１０の面に対して傾いていて、その傾斜角は約３０゜乃至８０゜であるのが好ましい。
【００４２】
抵抗性接触部材１６１、１６３、１６５は、その下の半導体１５１、１５４及びその上のデータ線１７１及びドレイン電極１７５の間にだけ存在し、これらの間の接触抵抗を低くする。大部分のところでは線状半導体１５１の幅がデータ線１７１の幅より小さいが、前記で説明したように、ゲート線１２１とぶつかる部分で幅が広くなって、表面のプロファイルをスムーズにすることによって、データ線１７１が断線するのを防止する。半導体１５１、１５４には、ソース電極１７３及びドレイン電極１７５の間をはじめとして、データ線１７１及びドレイン電極１７５で覆われずに露出された部分がある。
【００４３】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び露出された半導体１５１、１５４部分の上には、保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０は、無機絶縁物または有機絶縁物などからなり、表面が平坦である。無機絶縁物の例としては、窒化ケイ素や酸化ケイ素がある。有機絶縁物としては、感光性を有し、その誘電定数が約４．０以下であるものが好ましい。しかし、保護膜１８０は、有機膜の優れた絶縁特性を生かしつつ、露出された半導体１５１部分に害を及ぼさないように、下部の無機膜及び上部の有機膜の二重膜構造に形成されることもできる。
【００４４】
保護膜１８０には、データ線１７１の端部１７９及びドレイン電極１７５を各々露出する複数の接触孔１８２、１８５が形成されていて、保護膜１８０及びゲート絶縁膜１４０には、ゲート線１２１の端部１２９を露出する複数の接触孔１８１、維持電極１３３ｂの固定端付近の維持電極線１３１の一部を露出する複数の接触孔１８３ａ、そして維持電極１３３ａの自由端の直線部分を露出する複数の接触孔１８３ｂが形成されている。
【００４５】
保護膜１８０上には、複数の画素電極１９１、複数の連結橋８３、及び複数の接触補助部材８１、８２が形成されている。画素電極１９１は、接触孔１８５を通じてドレイン電極１７５と物理的、電気的に連結されていて、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。データ電圧の印加を受けた画素電極１９１は、共通電圧の印加を受ける共通電極表示板２００の共通電極２７０と共に電場を生成することによって、二つの電極の間の液晶層３の液晶分子の配向方向を決定する。このように決定された液晶分子の配向方向によって、液晶層を通過する光の偏光が変化する。画素電極１９１及び共通電極２７０はキャパシタ(以下、液晶キャパシタとする)を構成して、薄膜トランジスタがターンオフされた後にも印加された電圧を維持する。
【００４６】
画素電極１９１は、維持電極１３３ａ、１３３ｂをはじめとする維持電極線１３１と重畳する。画素電極１９１及びこれに電気的に連結されたドレイン電極１７５が維持電極線１３１と重畳して構成するキャパシタ、すなわちストレージキャパシタは、液晶キャパシタの電圧維持能力を強化する。
【００４７】
接触補助部材８１、８２は、各々接触孔１８１、１８２を通じてゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９に連結されている。接触補助部材８１、８２は、ゲート線１２１の端部１２９及びデータ線１７１の端部１７９と外部装置との接続性を補完して、これらを保護する。
【００４８】
連結橋８３は、ゲート線１２１を横切り、ゲート線１２１を間に置いて反対側に位置する接触孔１８３ａ、１８３ｂを通じて維持電極線１３１の露出された部分及び維持電極１３３ｂの自由端の露出された部分に連結されている。維持電極１３３ａ、１３３ｂをはじめとする維持電極線１３１は、連結橋８３と共にゲート線１２１やデータ線１７１、または薄膜トランジスタの欠陥を修理するのに使用される。
【００４９】
＜上部表示板の構成＞
次に、上部表示板２００について説明する。
【００５０】
基板２１０上に、遮光部材２２０が形成されている。遮光部材２２０は、ブラックマトリックスともいい、画素電極１９１と対向する複数の開口領域を定義する一方で、画素電極１９１の間の光漏れを防止する。
【００５１】
基板２１０上には、また、複数の色フィルター２３０が形成されていて、遮光部材２２０で囲まれた開口領域内にほとんど全てが入るように配置されている。色フィルター２３０は、画素電極１９１に沿って縦方向に長くのびて、帯を構成することができる。各色フィルター２３０は、赤色、緑色、及び青色の三原色など、基本色のうちの一つを表示することができる。以上では、色フィルター２３０が上部表示板２００に形成されることを説明したが、色フィルター２３０は下部表示板に形成されることもできる。
【００５２】
色フィルター２３０及び遮光部材２２０上には、オーバーコート２５０が形成されている。オーバーコート２５０は、絶縁物からなることができ、色フィルター２３０を保護し、色フィルター２３０が露出されるのを防止して、平坦面を提供する。
【００５３】
オーバーコート２５０上には、共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明な導電体からなるのが好ましい。図２及び図３では、共通電極２７０が上部表示板２００に形成されていることを説明したが、共通電極２７０は下部表示板１００に画素電極１９１と共に形成されることもできる。
【００５４】
上部及び下部表示板１００、２００の内側面上には、液晶層３を配向するための配向膜１１、２１が塗布されている。
【００５５】
上部及び下部表示板１００、２００の外側面には、静電気防止層３１、３２が形成されていて、静電気防止層３１、３２の表面には、一つ以上の偏光板１２、２２が付着されている。静電気防止層３１、３２は、例えば偏光板１２、２２を覆っていた保護フィルム（図示せず）を除去する時に静電気が発生するのを防止する。静電気防止層３１、３２は、陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、または両性界面活性剤を含むことができる。
【００５６】
＜製造方法＞
次に、図４Ａ乃至図７Ｄを参照して、本発明の実施例による液晶表示装置を製造する方法について詳細に説明する。
【００５７】
（１）薄膜形成工程
図４Ａ乃至図４Ｅは本発明による液晶表示装置の製造方法のうちの薄膜形成工程を含む工程を示す図面である。
【００５８】
図４Ａ及び図４Ｂを参照すれば、基板１１０の第１面１１０ｐには界面活性剤３１を付与し、第２面１１０ｑは洗浄する。洗浄工程は、洗浄装置５１に連結されている洗浄ノズル５２を使用して行うことができる。洗浄ノズル５２を通じて噴射される洗浄液としては、有機溶剤または純水を使用することができる。
【００５９】
界面活性剤３１は、図４Ｂのように、ローラー４１を使用して塗布してもよいし、図４Ｃのように、別途に設置された界面活性剤供給部４２に連結されたノズル４３を通じて噴射することもできる。この時、界面活性剤３１が基板１１０の第２面１１０ｑには噴射されないようにする。したがって、界面活性剤３１を基板１１０の第１面１１０ｐに先に噴射した後で洗浄工程を行い、基板の第２面１１０ｑに界面活性剤が残留しないようにするとよい。または、図４Ｄのように、界面活性剤３１の噴射工程及び洗浄工程を同時に行うが、洗浄液の噴射圧力を界面活性剤３１の噴射圧力より大きくして、界面活性剤３１が基板の第２面１１０ｑにつかないようにするとよい。
【００６０】
界面活性剤３１としては、石鹸またはアルキルベンゼンスルホン酸塩（ＡＢＳ:ａｌｋｙｌｂｅｎｚｅｎｅ ｓｕｌｆｏｎａｔｅ）などの陰イオン界面活性剤、高級アミンハロゲン化物（ｈｉｇｈｅｒ ａｍｉｎｅ ｈａｌｉｄｅ）、第４アンモニウム塩（ｑｕａｔｅｒｎａｒｙ ａｍｍｉｎｉｕｍ ｓａｌｔ）、またはアルキルピリジニウム塩（ａｌｋｙｌ ｐｙｒｉｄｉｎｉｕｍ ｓａｌｔ）などの陽イオン界面活性剤、またはアミノ酸（ａｍｉｎｏ ａｃｉｄ）などの両性界面活性剤を使用することができる。
【００６１】
その後、図４Ｅのように、洗浄された基板１１０の第２面１１０ｑに薄膜６１を蒸着する。ここで、薄膜６１は、図１乃至図３に示した薄膜トランジスタ、色フィルター２３０、画素電極１９１または共通電極２７０を含むことができる。
【００６２】
このように薄膜６１が形成される面の反対側の面である第１面１１０ｐに界面活性剤３１を塗布すれば、界面活性剤３１が空気中の少量の水分と反応して陰イオンまたは陽イオンにイオン化される。そうすると、基板１１０、２１０上に積まれた電荷は、陰イオンまたは陽イオンをホッピングサイトとして基板１１０、２１０の表面に沿って移動し、結局、基板１１０、２１０の外部に放電される。したがって、薄膜トランジスタ、色フィルター２３０、画素電極１９１または共通電極２７０を形成する薄膜工程で発生する静電気を減少させて、静電気不良を防止することができる。
【００６３】
（２）配向膜形成工程
図５Ａ乃至図５Ｄは本発明による液晶表示装置の製造方法のうちの配向膜形成工程を含む工程を示す図面である。
【００６４】
図５Ａを参照すれば、画素電極または共通電極のような電場生成電極を含む薄膜６１を洗浄する。また、この図のように薄膜６１が形成されている面と反対側の面に界面活性剤３１がまだ付与されていない場合、基板１１０の第１面１１０ｐに界面活性剤３１を付与する。図５Ａには、洗浄工程及び界面活性剤３１の付与工程が同時に行われることを示しているが、図４Ａ乃至図４Ｃのように洗浄と界面活性剤の付与とを別工程で行うこともできる。
【００６５】
その後、図５Ｂのように、洗浄された薄膜６１上に配向膜１１を塗布する。配向膜１１は、ポリイミドのような有機配向膜からなることができる。
【００６６】
次に、図５Ｃのように、ラビングローラー４４を使用して一定の力、速度、及び方向に配向膜１１をラビングし、配向膜１１に配向を持たせる。
【００６７】
その後、図５Ｄのように、ラビングローラー４４による汚染を除去するために、配向膜１１の表面を洗浄する。
【００６８】
このように、基板１１０の配向膜１１を形成する面と反対側の面に界面活性剤を付与することによって、配向膜１１の塗布工程及びラビング工程で発生する静電気を減少させて、静電気不良を減少させることができる。
【００６９】
（３）切断工程
図６Ａ及び図６Ｂは本発明による液晶表示装置の製造方法のうちの切断工程を含む工程を示す図面である。
【００７０】
図６Ａ及び図６Ｂを参照すれば、配向膜形成工程を終えた上部及び下部表示板１００、２００を結合して、表示板組立体を製造する。その後、所望の表示装置の大きさに合わせて表示板組立体を切断する。切断後には、その切断面を研磨する。この時、研磨工程後に、表示板組立体の上下両面に対して洗浄工程及び界面活性剤の付与工程を行う。これにより、表示板組立体の搬送及び検査工程で発生する静電気を減少させて、静電気不良を防止することができる。
【００７１】
（４）偏光板付着工程
図７Ａ乃至図７Ｄは本発明による液晶表示装置の製造方法のうちの偏光板付着工程を含む工程を示す図面である。
【００７２】
図７Ａを参照すれば、表示板組立体の上下両面を、洗浄装置５１を使用して洗浄する。その後、図７Ｂ及び図７Ｃのように、洗浄された表示板組立体の上下面に界面活性剤３１、３２を付与する。図７Ｂでは、界面活性剤供給部４２及びノズル４３を使用して界面活性剤３１、３２を噴射することを示したが、図４Ｂのように、ローラー４１を使用して界面活性剤を塗布することもできる。その後、図７Ｄのように、保護フィルム１３、２３が付着された偏光板１２、２２を付着する。次に、保護フィルム１３、２３を偏光板１２、２２から除去して、図２のような液晶表示装置を製造する。
【００７３】
このように界面活性剤３１、３２を表示板組立体の表面に付与すれば、保護膜１３、２３を除去する時など偏光板付着工程で発生する静電気を減少させて、静電気不良を防止することができる。したがって、偏光板１２、２２に形成される導電板（図示せず）を省略することができて、偏光板１２、２２の原価を節減する。
【００７４】
次に、本発明による液晶表示装置の静電気防止効果について説明する。
【００７５】
図８は、１０ｋＶの静電気を、界面活性剤を塗布していない液晶表示装置に印加した時の写真である。図９は、同一な静電気を、本発明による液晶表示装置に印加した時の写真である。
【００７６】
図８及び図９を比較してみれば、図８の液晶表示装置は、静電気の印加時に静電気染みが鮮明に現れる。これに対して、図９の液晶表示装置は、静電気の印加時に静電気染みがほとんど現れない。したがって、図９の液晶表示装置は、図８の液晶表示装置に比べて、表示状態を優れた状態に維持することができることが分かる。
【００７７】
以上で、本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の多様な変形及び改良形態も、本発明の権利範囲に属する。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の一実施例による液晶表示装置を示す配置図である。
【図２】図１に示した液晶表示装置のＩＩ−ＩＩ線による断面図である。
【図３】図１に示した液晶表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線による断面図である。
【図４Ａ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する薄膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（界面活性剤の付与及びノズル洗浄）。
【図４Ｂ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する薄膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（ローラーによる界面活性剤の塗布）。
【図４Ｃ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する薄膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（ノズルによる界面活性剤の噴射）。
【図４Ｄ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する薄膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（ノズルによる界面活性剤の噴射及び洗浄）。
【図４Ｅ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する薄膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（薄膜の蒸着）。
【図５Ａ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する配向膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（界面活性剤の付与及びノズル洗浄）。
【図５Ｂ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する配向膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（配向膜の塗布）。
【図５Ｃ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する配向膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（ラビングローラーによる配向の付与）。
【図５Ｄ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する配向膜形成工程の一部を順次に示す断面図である（配向膜の洗浄）。
【図６Ａ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する切断工程の一部を順次に示す断面図である（表示板組立体の製造）。
【図６Ｂ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する切断工程の一部を順次に示す断面図である（表示板組立体の切断）。
【図７Ａ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する偏光板付着工程の一部を順次に示す断面図である（上下両面の洗浄）。
【図７Ｂ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する偏光板付着工程の一部を順次に示す断面図である（界面活性剤のノズル噴射）。
【図７Ｃ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する偏光板付着工程の一部を順次に示す断面図である（界面活性剤付与後の状態）。
【図７Ｄ】液晶表示装置を本発明の一実施例によって製造する偏光板付着工程の一部を順次に示す断面図である（偏光板及び保護フィルムの付着）。
【図８】従来の技術による液晶表示装置に静電気を印加した写真である。
【図９】本発明の実施例による液晶表示装置に静電気を印加した写真である。
【符号の説明】
【００７９】
１１、２１  配向膜
１２、２２  偏光板
１３、２３  保護フィルム
３１、３２  界面活性剤
４１  ローラー
４２  界面活性剤供給部
４３  ノズル
４４  ラビングローラー
５１  洗浄装置
５２  洗浄ノズル
６１  薄膜
８１、８２  接触補助部材
１００  下部表示板
１１０、２１０  基板
１２１  ゲート線
１２４  ゲート電極
１３１  維持電極線
１３３ａ、１３３ｂ  維持電極
１４０  ゲート絶縁膜
１５１、１５４  半導体
１６１、１６３、１６５  抵抗性接触部材
１７１  データ線
１７３  ソース電極
１７５  ドレイン電極
１８０  保護膜
１８１、１８２、１８５  接触孔
１９１  画素電極
２００  上部表示板
２２０  遮光部材
２３０  色フィルター
２５０  オーバーコート
２７０  共通電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８】
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【図９】
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