(57)【要約】【課題】  配向膜の厚みムラに起因する表示品位の低下を抑制できるとともに、液晶の配向不良に起因する表示品位の低下をも抑制できる液晶装置を実現する。【解決手段】  本発明の液晶装置１００は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板１１０の内面上には、透過表示領域に凹部を備えた絶縁膜１１５が設けられ、この凹部により透過表示領域Ｇｔの液晶が反射領域Ｇｒの液晶よりも厚く形成され、絶縁膜には、第１の方向に延在し、第１の方向に隣接する透過表示領域Ｇｔ同士を連結する第１の凹溝１１５ｇ１と、第１の方向と交差する第２の方向に延在し、第２の方向に隣接する透過表示領域Ｇｔ同士を連結する第２の凹溝１１５ｇ２とが設けられ、第１の凹溝及び第２の凹溝は共に隣接するサブ画素Ｇの境界以外の領域に配置されている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板間に配された液晶とを有し、複数のサブ画素が設けられ、前記複数のサブ画素の各々に透過表示領域と反射表示領域とが形成されてなる液晶装置において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の内面上には、前記透過表示領域に凹部を備える絶縁膜が設けられ、当該凹部により前記透過表示領域の前記液晶が前記反射表示領域の前記液晶よりも厚く形成され、
前記絶縁膜には、第１の方向に延在し、当該第１の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第１の凹溝と、前記第１の方向と交差する第２の方向に延在し、当該第２の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第２の凹溝とが設けられ、
前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝は隣接する前記サブ画素の境界以外の領域に配置されてなることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝が配置された領域が遮光領域とされていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記複数色の着色層は、前記サブ画素ごとにいずれか一つが配置され、全体として所定の配列パターンとなるように配列され、前記第１の凹溝と前記第２の凹溝のうちの少なくとも一方が前記複数色の着色層のうちの最も視感度の低い前記着色層が配置された前記サブ画素に形成され、前記複数色の着色層のうち最も視感度の高い前記着色層が配置された前記サブ画素には形成されていないことを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記サブ画素内においては、前記透過表示領域が前記反射表示領域に囲まれた窓状に構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記遮光領域は、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝に沿って延在するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記遮光領域は光吸収性素材からなる遮光部により構成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記複数色の着色層は、前記サブ画素ごとにいずれか一つが配置され、全体として所定の配列パターンとなるように配列され、前記複数色の着色層がそれぞれ配置された複数の前記サブ画素が画素を構成し、前記第１の凹溝と前記第２の凹溝の少なくとも一方は前記画素内に一つずつ設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記一対の基板の間隔を規制するスペーサが前記最も視感度の低い前記着色層が共に配置された前記サブ画素の境界、若しくは、最も視感度の低い二色の前記着色層がそれぞれ配置された二種の前記サブ画素の境界に配置されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液晶装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
一対の基板と、該一対の基板間に配された液晶とを有し、複数のサブ画素が設けられ、前記複数のサブ画素の各々に透過表示領域と反射表示領域とが形成されてなる液晶装置の製造方法において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の内面上に、前記透過表示領域に凹部を備えるとともに、第１の方向に延在し、当該第１の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第１の凹溝と、前記第１の方向と交差する第２の方向に延在し、当該第２の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第２の凹溝とを隣接する前記サブ画素の境界以外の遮光領域に備えた絶縁膜を設ける工程と、
前記一方の基板の内面上に、配向膜を構成するための配向材を、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝内を流動する態様で塗布する工程と、
前記絶縁膜により形成された凹凸表面によって前記透過表示領域の前記液晶が前記反射表示領域の前記液晶よりも厚く形成されるように、前記液晶を配置する工程と、
を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶装置、電子機器、及び、液晶装置の製造方法に係り、特に、透過表示領域及び反射表示領域をサブ画素ごとに備えた液晶装置の構成に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置は、一対の基板間に液晶を封入したセル構造を有し、基板の内面に、液晶の初期配向状態を規制する配向膜が形成される。配向膜の形成方法としては、たとえば、ポリイミド等の未硬化の樹脂（配向材）を基板の内面上にスピンコート法や印刷法などにより塗布し、乾燥あるいは焼成を施すことなどによって形成される。
【０００３】
一方、液晶装置の表示形式としては、バックライト等の照明光を透過させることによって透過光で表示を行う透過型液晶装置と、外光などを反射させて反射光で表示を行う反射型液晶装置とがあるが、特に、携帯型電子機器には、透過表示と反射表示の双方を可能にした半透過反射型の液晶装置が搭載されることが多い。この半透過反射型の液晶装置は、有効駆動領域内に、バックライトによる透過表示を可能とする透過表示領域と、外光による反射表示を可能とする反射表示領域を共に備えたサブ画素を配列したものである。
【０００４】
上記の半透過反射型の液晶装置では、透過表示を構成する透過光は液晶層を一回だけ通過するのに対して、反射表示を構成する反射光は液晶層を往復二回通過するため、透過表示と反射表示で表示光に対する液晶層の光変調の度合（リタデーション）が大きく異なることになる。このため、透過表示と反射表示における光変調の差を低減するために、通常、反射表示領域における液晶層の厚みを透過表示領域における液晶層の厚みよりも小さくしている。
【０００５】
具体的には、基板の内面上に透明絶縁膜を部分的に形成することで、液晶層の厚みをコントロールしている。すなわち、画素の反射表示領域には透明絶縁膜を形成し、透過表示領域には透明絶縁膜を形成しないことにより、一対の基板間に挟まれた液晶層の厚みを反射表示領域と透過表示領域で異なるものとしている。
【０００６】
ところが、上記の半透過反射型の液晶装置では、基板上に透明絶縁膜が部分的に形成されているため、その基板上に未硬化の配向樹脂を塗布したとき、透明絶縁膜の非形成領域（透過表示領域）に配向樹脂が溜まり、これが配向膜の厚みムラを招来して、表示品位を低下させるという問題点があった。そこで、隣接する画素間で凹状の透過表示領域が連続するように構成することにより、配向樹脂の流動性を高め、配向膜の厚みムラを低減することが提案されている（たとえば、以下の特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−３２５８２２号公報
【特許文献２】特開２００４−３５４５０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前述の液晶装置では、凹状の透過表示領域が画素間で連続しているために配向樹脂の流動性が向上しているものの、透過表示領域における配向膜の厚みムラが充分に解消されない場合がある。たとえば、反射表示領域もまた画素間で連続するようなパターンで透明絶縁膜を形成した場合には、連続する透過表示領域の間に、連続する反射表示領域が介在することとなるので、反射表示領域から流入した配向樹脂が透過表示領域の連続方向にばらつき、特に、反射表示領域に近い透過表示領域の周縁部で配向膜の厚みムラが生じ、表示品位が低下することがある。また、印刷法によって配向樹脂を塗布する場合には、その印刷方向と透過表示領域の連続方向の関係によっては表示品位の低下が避けられない場合があった。
【０００８】
また、前述の液晶装置では、複数のサブ画素が配列された行方向及び列方向に共に凹溝を形成して隣接するサブ画素の透過表示領域間を連続させる構造も提案されているが、サブ画素内に凹溝を形成することによって凹溝による液晶分子の配向不良が生じるため、光抜け等によって表示品位が悪化するという問題点がある。
【０００９】
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、絶縁膜により形成された基板内面上の凹凸構造に起因する配向樹脂の流動性阻害を抑制することにより、配向膜の厚みムラに起因する表示品位の低下を抑制できるとともに、液晶の配向不良に起因する表示品位の低下をも抑制できる液晶装置を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
斯かる実情に鑑み、本発明の液晶装置は、一対の基板と、該一対の基板間に配された液晶とを有し、複数のサブ画素が設けられ、前記複数のサブ画素の各々に透過表示領域と反射表示領域とが形成されてなる液晶装置において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の内面上には、前記透過表示領域に凹部を備える絶縁膜が設けられ、当該凹部により前記透過表示領域の前記液晶が前記反射表示領域の前記液晶よりも厚く形成され、前記絶縁膜には、第１の方向に延在し、当該第１の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第１の凹溝と、前記第１の方向と交差する第２の方向に延在し、当該第２の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第２の凹溝とが設けられ、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝は隣接する前記サブ画素の境界以外の領域に配置されてなることを特徴とする。
【００１１】
この発明によれば、第１の凹溝と第２の凹溝が交差する方向に延在する態様で形成され、これらの凹溝によって二つの方向に隣接するサブ画素が連結されるため、配向材の流動性を向上させることができるため、配向ムラによる表示品位の低下を抑制できる。また、第１の凹溝及び第２の凹溝が隣接するサブ画素の境界以外の領域に設けられていることにより、透過表示領域の形状や位置に拘わらず、隣接する透過表示領域同士を連結しやすくなるため、配向材の流動性をさらに向上できる。
【００１２】
本発明において、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝が配置された領域が遮光領域とされていることが好ましい。これにより、これらの凹溝による液晶の配向不良に起因する光抜け等の表示品位の悪化を抑制することができる。
【００１３】
本発明において、前記複数色の着色層は、前記サブ画素ごとにいずれか一つが配置され、全体として所定の配列パターンとなるように配列され、前記第１の凹溝と前記第２の凹溝のうちの少なくとも一方が前記複数色の着色層のうちの最も視感度の低い前記着色層が配置された前記サブ画素に形成され、前記複数色の着色層のうち最も視感度の高い前記着色層が配置された前記サブ画素には形成されていないことが好ましい。これによれば、少なくとも一方の凹溝は、最も視感度の低い着色層が配置されたサブ画素には形成されているが、最も視感度の高い着色層には形成されていないため、当該一方の凹溝による表示品位の低下を抑制できる。
【００１４】
本発明において、前記サブ画素内においては、前記透過表示領域が前記反射表示領域に囲まれた窓状に構成されていることが好ましい。これによれば、透過表示領域が反射表示領域に囲まれた窓状に構成されている場合には、上記のようにサブ画素の境界以外の領域に設けられた二つの方向に延在する凹溝を用いることにより、凹溝の形成面積を最小限に抑制しつつ透過表示領域を確実に連結することが可能になるため、配向材の流動性の確保と、液晶の配向不良の抑制とを高次元でバランスさせることができる。
【００１５】
本発明において、前記遮光領域は、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝に沿って延在するように構成されていることが好ましい。これによれば、遮光領域を第１の凹溝及び第２の凹溝に沿って延在するように構成することにより、これらの凹溝による配向不良の生ずる領域を効率的に遮光することができるため、表示品位を確保しつつ表示の明るさの低下を抑制できる。
【００１６】
本発明において、前記遮光領域は光吸収性素材からなる遮光部により構成されていることが好ましい。これによれば、凹溝の形成領域を光吸収性素材で遮光することにより、凹溝の形成領域に液晶の配向不良が生ずることに起因する表示への悪影響を、透過表示と反射表示のいずれに対しても低減することができる。
【００１７】
本発明において、前記複数色の着色層は、前記サブ画素ごとにいずれか一つが配置され、全体として所定の配列パターンとなるように配列され、前記複数色の着色層がそれぞれ配置された複数の前記サブ画素が画素を構成し、前記第１の凹溝と前記第２の凹溝の少なくとも一方は前記画素内に一つずつ設けられていることが好ましい。これによれば、凹溝のうちの少なくとも一方が画素内に一つずつ設けられていることにより、凹溝による液晶の配向不良を抑制しつつ、配向材の流動性を確保することができる。
【００１８】
本発明において、前記一対の基板の間隔を規制するスペーサが前記最も視感度の低い前記着色層が共に配置された前記サブ画素の境界、若しくは、最も視感度の低い二色の前記着色層がそれぞれ配置された二種の前記サブ画素の境界に配置されていることが好ましい。スペーサが視感度の低い領域に設けられていることにより、スペーサに起因する液晶の配向不良による表示品位への影響を低減できるため、全体として表示品位の悪化を抑制できる。
【００１９】
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の液晶装置を搭載したことを特徴とする。本発明の電子機器は特に限定されるものではないが、携帯電話機、携帯型情報端末、電子時計などの携帯型電子機器として構成することが効果的である。
【００２０】
次に、本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板と、該一対の基板間に配された液晶とを有し、複数のサブ画素が設けられ、前記複数のサブ画素の各々に透過表示領域と反射表示領域とが形成されてなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の前記基板の内面上に、前記透過表示領域に凹部を備えるとともに、第１の方向に延在し、当該第１の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第１の凹溝と、前記第１の方向と交差する第２の方向に延在し、当該第２の方向に隣接する前記透過表示領域同士を連結する第２の凹溝とを隣接する前記サブ画素の境界以外の遮光領域に備えた絶縁膜を設ける工程と、前記一方の基板の内面上に、配向膜を構成するための配向材を、前記第１の凹溝及び前記第２の凹溝内を流動する態様で塗布する工程と、前記絶縁膜により形成された凹凸表面によって前記透過表示領域の前記液晶が前記反射表示領域の前記液晶よりも厚く形成されるように、前記液晶を配置する工程と、を具備することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図１は本実施形態の液晶装置１００の概略斜視図、図２は液晶装置１００の概略縦断面図、図３は液晶装置１００の拡大一部断面図である。
【００２２】
液晶装置１００は、透明な基板１１０と１２０をシール材１３０で貼り合わせ、基板１１０と１２０の間に液晶１３２を配置したものである。シール材１３０は駆動領域Ａを取り囲むように形成され、液晶１３２を注入する開口部１３０ａが封止材１３１によって閉鎖されている。
【００２３】
図２に示すように、基板１１０は、ガラスやプラスチック等の基材１１１の内面上に、ＡｌやＡｇ等の金属その他の反射性材料からなる反射層１１２、カラーフィルタ１１３、絶縁膜１１５、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる電極１１６、ポリイミド樹脂等からなる配向膜１１７を積層したものである。
【００２４】
一方、基板１２０は、ガラスやプラスチック等の基材１２１の内面上に、配線１２２及びこれに接続された素子１２３（図示例の場合はＴＦＤ等の二端子非線形素子、ただし、ＴＦＴ等の三端子非線形素子でもよい。）、絶縁層１２４、透明導電体からなる電極１２５、ポリイミド樹脂等からなる配向膜１２６を積層したものである。
【００２５】
また、基板１２０は、基板１１０の外形より外側に張り出した基板張出部１２０Ｔを有し、この基板張出部１２０Ｔ上に液晶駆動回路などを内蔵した集積回路（例えば半導体ベアチップ）１３５が実装されている。この集積回路１３５は、基板張出部１２０Ｔ上に引き出された、上記配線１２２、及び、上記電極１１６に導電接続された配線１１８に導電接続されている。また、基板張出部１２０Ｔの端部には集積回路１３５に導電接続された入力端子１３６が設けられ、この入力端子１３６は、基板張出部１１２０Ｔの端部に実装された配線基板（例えばフレキシブル配線基板）１３７に形成された配線に導電接続されている。
【００２６】
さらに、基板１１０と１２０の間には絶縁樹脂等で構成されるスペーサ１３３が介在し、このスペーサ１３３が両基板の間隔を規制している。このスペーサ１３３はいずれか一方の基板に固定した状態で形成されることが好ましい。さらに、基板１１０，１２０の外面上には位相差板１４０，１５０及び偏光板１４１，１５１が貼着等の方法で配置されている。
【００２７】
本実施形態では、図３に示すように、上記駆動領域Ａ内にサブ画素Ｇが構成され、このサブ画素Ｇが縦横に（行方向及び列方向に）マトリクス状に配列されている。また、サブ画素Ｇ内においては、反射層１１２の形成されている領域が反射表示領域Ｇｒとして構成され、反射層１１２の形成されていない領域、すなわち、本実施形態ではサブ画素Ｇ内に窓状に形成された反射層１１２の開口部１１２ａが設けられている領域が透過表示領域Ｇｔとして構成されている。
【００２８】
また、本実施形態では、絶縁膜１１５の表面が凹凸状に構成され、上記透過表示領域Ｇｔに凹部１１５ａが形成され、これによって基板１１０の内面上に凹部１１０ａが形成されている。そして、この凹部１１０ａによって反射表示領域Ｇｒでは液晶１３２は厚みａを有するのに対して、透過表示領域Ｇｔでは液晶１３２が上記厚みａより厚い厚みｂを有するように構成されている。
【００２９】
なお、図示例の場合、絶縁膜１１５は透明材料で構成され、その凹部１１５ｂは完全に下地面に到達していないが、凹部１１５ｂの内底部に下地面（例えばカラーフィルタ１１３）が露出するように構成してもよい。この場合には絶縁膜１１５は透明樹脂でなくともよい。また、カラーフィルタ１１３上に図示点線で示す透明保護膜１１４を形成し、凹部１１５ｂの内底部に透明保護膜１１４の表面が露出するように構成してもよい。
【００３０】
図４は、本実施形態の基板１１０の内面構造を、電極１１６及び配向膜１１７を省略した状態で示す概略平面図である。本実施形態では、サブ画素Ｇごとに絶縁膜１１５に凹部１１５ｂが設けられ、この凹部１１５ｂはサブ画素Ｇ内において窓状に構成されている。すなわち、サブ画素Ｇ内では、透過表示領域Ｇｔは反射表示領域Ｇｒによって取り囲まれた窓状（島状）に構成されている。凹部１１５ｂ及び透過表示領域Ｇｔは平面視矩形に構成され、この平面形状は、サブ画素Ｇの矩形状の平面形状と同じ方向（図示上下方向）に延長された形状を有している。
【００３１】
サブ画素Ｇは行方向（図示左右方向）と列方向（図示上下方向）の双方に配列されており、列方向に配列された複数のサブ画素Ｇには同じ色の着色層が配置され、行方向に配列された複数のサブ画素Ｇには複数色の着色層１１３Ｒ，１１３Ｇ，１１３Ｂが順番に繰り返し配列されている。図示例の場合、着色層１１３Ｒは赤、１１３Ｇは緑、１１３Ｂは青のフィルタ要素を構成しているが、これに限られるものではなく、原色系のフィルタ要素の代わりに補色系のフィルタ要素を配置してもよく、また、４色以上の色の着色層を配列させてもよい。なお、図示例の場合、行方向に隣接し、相互に異なる色の着色層が配置された複数（三つ）のサブ画素Ｇが一つの画素Ｐを構成している。
【００３２】
本実施形態では、絶縁膜１１５には、行方向に直線状に延在する凹溝１１５ｇ１と、列方向に直線状に延在する凹溝１１５ｇ２とが設けられている。ここで、凹溝１１５ｇ１は行方向に隣接する凹部１１５ｂ間を連結している。凹溝１１５ｇ１は一定の列方向の幅を有し、当該幅は凹部１１５ｂの列方向の幅より小さく構成されている。また、凹溝１１５ｇ１は凹部１１５ｂの列方向の幅の中央部に接続されている。一方、凹溝１１５ｇ２は列方向に隣接する凹部１１５ｂ間を連結している。凹溝１１５ｇ２は一定の行方向の幅を有し、当該幅は凹部１１５ｂの行方向の幅より小さく構成されている。また、凹溝１１５ｇ２は凹部１１５ｂの行方向の幅の中央部に接続されている。
【００３３】
図５（ａ）は図４の４ａ−４ａ線に沿った断面を示す概略断面図、図５（ｂ）は図４の４ｂ−４ｂ線に沿った断面を示す概略断面図、図５（ｃ）は図４の４ｃ−４ｃ線に沿った断面を示す概略断面図である。なお、図５は、カラーフィルタ１１３の上に透明保護膜１１４が形成され、この透明保護膜１１４上に、透過表示領域Ｇｔには形成されず、反射表示領域Ｇｒに形成された絶縁膜１１５が形成されている構造を有する例を示している。
【００３４】
本実施形態では、図５に示すように、上記凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２と平面的に重なる領域に遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙが設けられている。この遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙは、図示例ではカラーフィルタ１１３の一部として上記着色層１１３Ｒ，１１３Ｇ，１１３Ｂと同じ階層に設けられている。遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙは、黒色樹脂等の光吸収素材からなる遮光材で構成されていることが好ましいが、例えば、隣接する着色層１１３Ｒ，１１３Ｇ，１１３Ｂが重なる（オーバーラップする）積層構造によって構成されていてもよい。
【００３５】
一般的には、上記凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の形成された領域を透過表示領域Ｇｔの一部、或いは、反射表示領域Ｇｒの一部とすることもできるが、遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙで遮光された遮光領域とすることによって、特に、遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙを光吸収性素材で構成することによって、凹溝によって生ずる液晶の配向不良による透過表示及び反射表示への影響を共に低減できる。
【００３６】
図示例の場合、遮光部１１３Ｘは、上記凹溝１１５ｇ１と重なり、行方向に直線状に伸びる帯状の遮光領域を形成している。ただし、透過表示領域Ｇｔ（凹部１１５ｂと重なる領域）には形成されていない。また、遮光部１１３Ｙは、上記凹溝１１５ｇ２と重なり、列方向に直線状に伸びる帯状の遮光領域を形成している。ただし、透過表示領域Ｇｔ（凹部１１５ｂと重なる領域）には形成されていない。
【００３７】
本実施形態において、サブ画素Ｇの寸法は、行方向の幅が３０〜６０μｍ、好ましくは３８〜５０μｍ、列方向の幅が１００〜１５０μｍ、好ましくは１１０〜１３０μｍである。この場合に、上記凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の幅は１０〜１９μｍの範囲内であることが好ましく、特に、１２〜１６μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲を下回ると、配向材の流動性を確保することが難しくなり、透過表示領域Ｇｔにおける配向膜１１７の厚みムラが生じ、これによってサブ画素Ｇ間の輝度ムラが発生することになる。また、上記範囲を上回ると、液晶の配向不良が生ずる面積が大きくなるので、表示品位（特にコントラスト）が却って悪化するか、或いは、遮光範囲が広くなって表示が暗くなる。
【００３８】
また、上記遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙの幅は、対応する上記凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の幅よりもパターニング誤差以上（例えば５μｍ程度）大きくし、これによって凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の全てがパターニング誤差の有無に拘わらず常に遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙによって遮光される領域内に配置されるように構成することが好ましい。
【００３９】
遮光部１１３Ｘ、１１３Ｙを設けることによって透過表示と反射表示の少なくとも一方の開口率は低下するが、本実施形態の場合、開口率の低下を抑制するために、サブ画素Ｇ間に設ける遮光領域は極力小さくすることが好ましい。特に、異なる色の着色層が接する行方向の境界には黒色樹脂等の光吸収材を用いた遮光領域を形成せずに、隣接する異なる色の着色層が重なり合うことによる低透過率の領域のみが形成されるようにすることが好ましい。
【００４０】
本実施形態では、行方向に延在する凹溝１１５ｇ１はサブ画素Ｇの全ての列に設けられているが、列方向に延在する凹溝１１５ｇ２は画素Ｐ毎に１本（サブ画素Ｇのうちの一つに）のみ設けられている。ただし、画素Ｐ毎に２本以上の凹溝１１５ｇ２を形成してもよく、或いは、全てのサブ画素Ｇにそれぞれ凹溝１１５ｇ２を形成してもよい。
【００４１】
本実施形態では、複数色の着色層のうち、最も視感度の低い着色層１１３Ｂが配置されたサブ画素Ｇに上記凹溝１１５ｇ２が形成されている。また、最も視感度の高い着色層１１３Ｇが配置されたサブ画素Ｇには凹溝が形成されていない。このようにすると、凹溝１１５ｇ２を形成したことによる表示品位の低下（コントラストの低下や明るさの低下）が最も視認されにくくなるので、表示品位の悪化を抑制できる。ここで、中間の視感度を有する着色層１１３Ｒには凹溝１１５ｇ２を設けても設けなくてもよい。なお、この場合に、各画素Ｐ内において凹溝１１５ｇ１及び１１５ｇ２の形成位置が相互に一致していることが好ましい。このようにすると、凹溝が画素Ｐの形成周期に合致した周期で形成されることとなるので、画素Ｐ間における配向ムラ及び輝度ムラを低減することができる。
【００４２】
本実施形態では、上記スペーサ１３３は、視感度の最も低い着色層１１３Ｂが配置されたサブ画素Ｇと、視感度が次に低い着色層１１３Ｒが配置されたサブ画素Ｇとの境界位置に形成されている。これも、スペーサ１３３による液晶の配向不良による表示品位への影響を低減するためである。なお、スペーサ１３３はサブ画素の境界位置に設けることが好ましいが、最も視感度の低い着色層が配置されたサブ画素間の境界に配置することがさらに望ましい。また、スペーサ１３３の形成位置は境界位置に限られず、例えば、視感度の最も低い着色層１１３Ｂが配置されたサブ画素Ｇ内にスペーサ１３３を配置しても構わない。
【００４３】
上記基板１１０の表面には、未硬化のポリイミド樹脂等の配向材をスピンコーティング法やロールコーティング法、印刷法等によって塗布し、これを焼成若しくは乾燥させることによって配向膜１１７を形成する。この配向膜１１７の形成は、基本的に配向膜１２６と同じ方法で行うことができるが、配向材の塗布する基板１１０の内面は、基板１２０の内面とは異なり、絶縁膜１１５に凹部１１５ｂが設けられていることにより凹凸表面となっているため、配向材を均一にムラなく塗布することが通常困難である。
【００４４】
しかしながら、本実施形態によれば、相互に交差する二方向に延在する凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２を設けることによって塗布時における配向材の二方向の流動性を向上させることができるため、配向膜１１７の厚みムラを低減できる。特に、通常は透過表示領域Ｇｔ内の配向材の厚みムラが問題となるが、二方向の凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２が透過表示領域Ｇｔに対して共に接続されているため、透過表示領域Ｇｔ内の厚みムラをほとんどなくすことができる。
【００４５】
また、本実施形態では、凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の形成された領域が遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙによって遮光されているため、凹溝による液晶の配向不良による表示への影響も最小限に止めることができる。特に、凹溝１１５ｇ２は画素Ｐ内の複数のサブ画素Ｇのうちの一つにのみ形成されているので、凹溝１１５ｇ２による液晶の配向不良そのものを低減できる。
【００４６】
次に、図６及び図７を参照して、別の実施形態について説明する。ここで、図６は本実施形態の基板１１０の内面図、図７（ａ）〜（ｃ）は図６の７ａ−７ａ線、７ｂ−７ｂ線、７ｃ−７ｃ線に沿った断面をそれぞれ示す縦断面図である。なお、本実施形態において、基本構成は図１乃至図３に示すものと同一であり、また、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００４７】
この実施形態では、サブ画素Ｇ毎に必ず凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の双方が形成される態様で、全ての透過表示領域Ｇｔ（或いは凹部１１５ｂ）に二方向の凹溝が共に設けられている点で、先の実施形態とは異なる。この実施形態では、凹溝１１５ｇ２がサブ画素Ｇ毎に形成されているため、サブ画素Ｇ間の輝度ムラを低減することも可能になり、例えば、色再現性を向上させることができる。
【００４８】
なお、上記各実施形態において、遮光部１１３Ｘ，１１３Ｙは、凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２の形成された基板１１０に設けられているが、他方の基板１２０に形成されていてもよい。また、凹溝１１５ｇ１，１１５ｇ２を備えた絶縁膜１１５はカラーフィルタ１１３の設けられている基板１１０に形成されているが、他方の基板１２０（素子基板或いはアレイ基板）に設けられていてもよい。さらに、反射層１１２も基板１１０ではなく基板１２０に設けられていても構わない。
【００４９】
最後に、図８を参照して、上記液晶装置１００を搭載した電子機器の例について説明する。図８は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３０１ａ，３０１ｂ及び送話口などを備えた操作部３０１と、表示画面３０２ａや受話口などを備えた表示部３０２とを有し、表示部３０２の内部に上記の液晶装置１００が組み込まれてなる。そして表示部３０２の表示画面３０２ａにおいて液晶装置１００により形成された表示画像を視認することができるようになっている。この場合、携帯電話機３００の内部には、上記液晶装置１００を制御する表示制御回路が設けられる。この表示制御回路は、液晶装置１００に対して映像信号その他の入力データや所定の制御信号を送り、その動作態様を決定するように構成されている。
【００５０】
尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、本発明は、配向材を塗布して形成する配向膜を有する液晶装置であれば、如何なる駆動方式、如何なる表示モードの液晶装置にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】実施形態の液晶装置の全体構成の例を示す概略斜視図。
【図２】実施形態の液晶装置の概略縦断面図。
【図３】実施形態の液晶装置の拡大部分縦断面図。
【図４】第１実施形態の基板１１０の概略平面図。
【図５】第１実施形態の基板１１０の概略断面図（ａ）〜（ｃ）
【図６】第２実施形態の基板１１０の概略平面図。
【図７】第２実施形態の基板１１０の概略断面図（ａ）〜（ｃ）
【図８】電子機器の例を示す概略斜視図。
【符号の説明】
【００５２】
１００…液晶装置、１１０，１２０…基板、１１２…反射層、１１２ａ…開口部、１１３…カラーフィルタ、１１４…透明保護膜、１５…絶縁膜、１１５ｂ…凹部、１１５ｇ１，１１５ｇ２…凹溝、１１６…電極、１１７…配向膜、１２２…配線、１２３…素子、１２４…絶縁層、１２５…電極、１２６…配向膜、Ａ…駆動領域、Ｐ…画素、Ｇ…サブ画素、Ｇｔ…透過表示領域、Ｇｒ…反射表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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