(57)【要約】【課題】本発明は、排気効率が高く、設備製造及びメンテナンスコストを抑えた排気設備を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の排気設備は、回転軸３１、排気セット３２及び排気ヘッド３３を備え、回転軸３１は第一軸部分３１１及び第二軸部分３１２を有する。さらに第一軸部分３１１は第二軸部分３１２に対応して回転する。排気セット３２は回転軸３１の第一軸部分３１１に設置される。そして、排気ヘッド３３は排気セット３２に接続される。本発明の排気設備は、従来の技術に用いられたセンターバルブを必要としないので、センターバルブを使用することで発生する揮発オイルの回流による汚染が回避される。さらに、排気セットが直接第一軸部分に設置されることで、効果的に排気セットと排気される対象物との距離が短縮され、排気効率が高くなる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一軸部分及び第二軸部分を有し、
前記第一軸部分は前記第二軸部分に対応して回転する回転軸と、
前記回転軸の前記第一軸部分上に設置される排気セットと、
前記排気セットに接続される排気ヘッドとを備える
排気設備。
【請求項２】
前記第一軸部分は回転軸部分であり、
前記第二軸部分は固定軸部分であることを特徴とする
請求項１に記載の排気設備。
【請求項３】
前記第一軸部分はキャリアプレート（Carried Plate）を有し、
前記排気セットは前記キャリアプレートに設置されることを特徴とする
請求項１に記載の排気設備。
【請求項４】
前記排気セットは第一排気機及び第一パイプを有し、
前記第一パイプは前記第一排気機と前記排気ヘッドとの間に接続されることを特徴とする
請求項１に記載の排気設備。
【請求項５】
前記第一パイプは真空パイプであり、
前記第一排気機は真空排気機であることを特徴とする
請求項４に記載の排気設備。
【請求項６】
前記排気機はさらに第二排気機を備え、
第二パイプによって前記第一排気機に接続されることを特徴とする
請求項４に記載の排気設備。
【請求項７】
前記第二排気機は真空排気機であり、
前記第二パイプは真空パイプであることを特徴とする
請求項６に記載の排気設備。
【請求項８】
加熱機セットをさらに備えて、少なくとも１個のランプに対して加熱を行なうことを特徴とする
請求項１に記載の排気設備。
【請求項９】
前記ランプは冷陰極蛍光ランプであることを特徴とする
請求項８に記載の排気設備。
【請求項１０】
本体をさらに備え、
前記回転軸、前記排気セット、前記排気ヘッド及び加熱機セットが前記本体内に設置されることを特徴とする
請求項８に記載の排気設備。
【請求項１１】
前記回転軸は、
前記第一軸部分に接続されるインデックス板と、
前記インデックス板を駆動して、前記第一軸部分を回転させる駆動ユニットとを備えることを特徴とする
請求項１に記載の排気設備。
【請求項１２】
インデックス軸をさらに備え、
前記インデックス板及び前記第一軸部分に接続されることを特徴とする
請求項１１に記載の排気設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排気設備に関し、特にランプの排気設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
ランプの製造工程において、排気設備は重要な設備の１つであり、ランプの加熱、真空吸引、クリーニング、気体の充填及びシーリング等の製造工程には欠かせない。
【０００３】
このうち、真空システムは、排気設備の核心システムの１つである。  
一般に、真空システムの真空ポンプ（pump）は、排気設備の本体の外に配置され、真空パイプラインを介して、真空ポンプと排気ヘッドの間が接続される。  
ランプの真空化工程は順序通りに徐々に行なう必要があり、真空吸引のステップが何度も繰り返される。  
ランプが各真空ポンプを介して真空吸引が順序に徐々に行なわれるように、真空ポンプ及び排気ヘッドの間にはセンターバルブ（Center Valve）が配置されており、これによってランプの真空化がスムーズに行われる。
【０００４】
図１を参照しながら説明する。  
これは一般の排気設備の真空システムを側面から見た部分断面図である。  
図に示したように、この真空システムは、センター柱部分１１、センターバルブ１２、ターンテーブル１３、複数の真空ポンプ１４、複数の第一真空パイプライン１５ａ、複数の第二真空パイプライン１５ｂ及び複数の排気ヘッド１６を備える。
【０００５】
センターバルブ１２は、センター柱部分１１及びターンテーブル１３の間に設置され、さらにセンターバルブ１２は回転部分１２ａ及び固定部分１２ｂを有する。  
ターンテーブル１３は中心バルブ１２の回転部分１２ａと共に回転する。
【０００６】
第一真空パイプライン１５ａの一端は、それぞれセンターバルブ１２の固定部分１２ｂに接続され、他端はそれぞれ一真空ポンプ１４に接続される。  
センターバルブ１２の回転部分１２ａは各第二真空パイプライン１５ｂを介してそれぞれ排気ヘッド１６に接続される。  
また、各排気ヘッド１６は、ランプ２をはさんで、真空ポンプ１４の作動によってランプ２内の気体を第二真空パイプライン１５ｂ及び第一真空パイプライン１５ａから排出することにより、ランプ２を真空吸引する目的を達成する。
【０００７】
また、ランプ２内部には、液体あるいはその他の雑物が残存する可能性がある。  
このため、ランプ２を真空化する工程においては、加熱炉１７によってランプを加熱して、内部の雑物を気体に変換させる必要がある。  
そして、真空ポンプ１４によってこれを排出させる。  
このうち、加熱炉１７は排気設備に環状に設置されており、ランプ２を均一に加熱する。
【０００８】
センターバルブ１２に接続される第一真空パイプライン１５ａ及び第二真空パイプライン１５ｂは、いずれも真空状態が保たれているため、センターバルブ１２の回転部分１２ａと固定部分１２ｂの間は密封状態を保って雑物が進入するのを回避する必要がある。  
一般的には、回転部分１２ａと固定部分１２ｂの接触面は精密バフ加工された後、接触する表面をオイルシーリングを利用して気密にすることで、回転時に空気が内外に漏れるのを回避する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来の排気設備は、真空ポンプが排気設備の本体の外に設置されているため、長い距離の真空パイプラインの配置が必要となり、排気率の低下を招くことになる。  
あるいは、規模の大きい真空ポンプによって効率の悪さを補う必要が生じる。  
また、センターバルブはオイルシーリング式のため、排気設備が作動される時、回転により一部の揮発したオイルが回流現象を生じ、この揮発したオイルが製品を汚染する。  
さらに、センターバルブの回転部分及び固定部分の接触面は、精密バフ加工されているため、粉塵や異物が進入すると、接触面に傷がつき、気体の漏れを防いで、生産ラインがストップすることも考えられる。
【００１０】
このため本発明は、排気効率が高く、設備製造及びメンテナンスコストを抑えた排気設備を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明はセンターバルブを必要としない排気設備を提供することを目的とする。
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明の排気設備は、回転軸、排気セット及び排気ヘッドを備える。  
回転軸は第一軸部分及び第二軸部分を有する。  
さらに、第一軸部分は第二軸部分に対応して回転する。  
排気セットは回転軸の第一軸部分に設置される。  
そして、排気ヘッドは排気セットに接続される。
【００１３】
本発明の排気設備は、排気セットが回転軸の第一軸部分に設置されるため、第一軸部分が第二軸部分に対応して回転する時、排気セットもまたそれに伴って回転する。  
このため、従来の技術に用いられたセンターバルブを必要としない。  
言い換えれば、センターバルブを使用することで発生する揮発オイルの回流による汚染が回避されることになる。  
さらに、排気セットが直接第一軸部分に設置されることで、効果的に排気セットと排気される対象物との距離が短縮される。  
すなわち、その排気効率が高くなる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の排気設備は、排気セットが回転軸の第一軸部分に設置されるため、第一軸部分が第二軸部分に対応して回転する時、排気セットもまたそれに伴って回転する。  
このため、従来の技術に用いられたセンターバルブを必要としない。  
言い換えれば、センターバルブを使用することで発生する揮発オイルの回流による汚染が回避されることになる。  
さらに、排気セットが直接第一軸部分に設置されることで、効果的に排気セットと排気される対象物との距離が短縮される。  
すなわち、その排気効率が高くなる。  
したがって、本発明の排気設備は、排気効率が高く、設備製造及びメンテナンスコストを低く抑えることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、図を参照しながら、本発明の排気設備における好適な実施例について説明する。
【００１６】
図２に示したのは、本発明の好適な実施例の排気設備の側面から見た部分断面図である。  
本発明の好適な実施例における排気設備は、回転軸３１、排気セット３２及び排気ヘッド３３を備える。  
本実施例において、排気設備はランプ４の排気設備である。  
このうち、ランプ４は、熱陰極蛍光ランプ（ＨＣＦＬ）、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）あるいはその他の製造の際に排気工程を必要とするランプである。  
ランプ４に対して排気（真空）工程が実施される時、ランプ４は排気ヘッド３３にはさんで設置される。
【００１７】
回転軸３１は第一軸部分３１１及び第二軸部分３１２を備える。  
さらに、第一軸部分３１１は第二軸部分３１２に対応して回転する。  
第一軸部分３１１はキャリアプレート（Carried Plate）３１１ａを有し、第一軸部分３１１と同時に回転する。  
本実施例において、第一軸部分３１１は回転軸部分であり、第二軸部分３１２は固定軸部分である。  
これは例えばセンター柱部分で、排気設備の本体３５に固定されるか、あるいは地面に固定される。  
第一軸部分３１１が支えることにより、さらに、回転軸３１、排気セット３２及び排気ヘッド３３が本体３５内に設置される。  
また、キャリアプレート３１１ａは円形の平らなプレート状で、第二軸部分３１２によって円心回転する。
【００１８】
排気セット３２は回転軸３１の第一軸部分３１１上に設置される。  
本実施例においては、排気セット３２は第一軸部分３１１のキャリアプレート３１１ａ上に設置される。  
さらに、排気セット３２は第一排気機３２１及び第一パイプ３２２を有する。  
排気ヘッド３３は第一パイプ３２２によって排気セット３１に接続される。  
第一排気機３２１は真空排気機（真空ポンプ）で、第一パイプ３２２は真空パイプである。  
ランプ４は排気ヘッド３３にはさんで設置され、排気セット３１の動作によって、ランプ４内の気体が排出される。  
第一軸部分３１１の構造が堅固であれば、排気セット３１も直接第一軸部分３１１上に吊るす形で設置されることが可能で、当然キャリアプレート３１１ａも不要である。
【００１９】
図３は本発明の好適な実施例の排気設備を他の側面から見た部分断面図である。  
本実施例において、排気セット３１は順を追って徐々にランプ４の真空化工程が行なわれるように、さらに第二排気機３２３及び第二パイプ３２４が追加されている。  
このうち、第二排気機３２３は第一排気機と同様真空排気機であり、第二パイプ３２４は第一パイプ３２２と同様真空パイプである。
【００２０】
空間を有効に利用するために、本実施例では第一軸部分３１１はさらに付属キャリアプレート３１１ｂを有する。  
これはキャリアプレート３１１ａと同様第二軸部分３１２によって円心回転する。  
第二排気機３２３はキャリアプレート３１１ｂ上に設置されて、第二パイプ３２４を介して第一排気機３２１及び第二排気機３２３に接続されることにより、レベルの相違（すなわちパワーの相違）を利用して排気機を交替で起動させることで、順を追ったスムーズな真空化工程の実施が可能である。
【００２１】
また本実施例において、排気設備の回転軸３１はさらにインデックス（Index）板３１３、インデックス軸３１４及び駆動ユニット３１５を備える。  
インデックス（Index）板３１３はインデックス軸３１４によって、回転軸３１の第一軸部分３１１に接続されて、駆動ユニット３１５によってインデックス板３１３が駆動されることで、インデックス軸３１４が第一軸部分３１１を動かして回転させる。  
インデックス板３１３の機能は、第一軸部分３１１をジョグ（Jog）方式で回転させるためである。  
つまり、第一軸部分３１１を一度に少しだけ回転させることで、何度も分けて（順を追って徐々に）真空化の工程を進めるのである。
【００２２】
図２及び図３を同時に参照しながら説明する。  
ランプ４の排気設備は、ランプ４に対して行なう加熱、真空吸引、クリーニング、気体充填及びシーリング等の製造工程には欠かせない。  
このうち、真空吸引を実施する時、ランプ４の中に雑物が残留するのを回避するために、本実施例においては、加熱機セット３４によって高温を発生させて、ランプ４の中の雑物を蒸発あるいは揮発させて気体にし、さらに排気セット３１の排気動作によってランプ４内の雑物を除去する。  
加熱機セット３４は、回転軸３１を軸心として本体３５内に環状に設置され、加熱機セット３４は溝槽３４１を有することで、排気ヘッド３３がランプ４をはさんで、溝槽３４１の中を移動できることにより、ランプ４が均一に加熱される。
【００２３】
このように、本発明の排気設備は、従来の排気設備の技術と異なり、センターバルブが設置されていないため、センターバルブによって発生する揮発オイルが回流することによる汚染を回避する。  
そして、センターバルブを設置しないことで生まれた空間を利用して排気セットを設置している。  
この排気セットは直接排気設備に設置されるため、その距離は真空化工程を待つランプの距離より短い。  
このため、レベルの低い（すなわちパワーの小さい）排気セットを選択しても、高い真空吸引効率が達成できる。  
したがって、設備コストが節減できる。  
また、センターバルブを設置しないことで、メンテナンスコストも節減できる。  
すなわち、設備製造及びメンテナンスのコストがいずれも大幅に節約できる。
【００２４】
以上、本発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は、これらの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更などがあっても、本発明に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】従来の排気設備を側面から見た部分断面図である。
【図２】本発明の好適な実施例の排気設備を側面から見た部分断面図である。
【図３】本発明の好適な他の実施例の排気設備を側面から見た部分断面図である。
【符号の説明】
【００２６】
１        真空システム
１１      センター柱部分
１２      センターバルブ
１２ａ    回転軸部分
１２ｂ    固定軸部分
１３      ターンテーブル
１４      真空ポンプ
１５ａ    第一真空パイプライン
１５ｂ    第一真空パイプライン
１６      排気ヘッド
１７      加熱炉
２，４    ランプ
３１      回転軸
３１１    第一軸部分
３１１ａ  キャリアプレート（Carried Plate）
３１１ｂ  付属キャリアプレート（Carried Plate）
３１２    第二軸部分
３１３    インデックス板
３１４    インデックス軸
３１５    駆動ユニット
３２      排気セット
３２１    第一排気機
３２２    第一パイプ
３２３    第二排気機
３２４    第二パイプ
３３      排気ヘッド
３４      加熱機セット
３４１    溝槽
３５      本体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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