(57)【要約】【課題】抗菌機能を有し、その結果、感染症および／または悪臭の危険性を実質的に低下させるペディキュア用スパを提供する。【解決手段】抗菌機能を有するペディキュア用スパは、表面を有するタブ部と、タブ部の表面におけるゲル被覆剤とを含む。ゲル被覆剤は、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する銀ナノ粒子と、前記銀ナノ粒子の濃度が約５０ｐｐｍ〜２００ｐｍであるように混合された産業上利用可能な被覆剤を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
抗菌機能を有するペディキュア用スパにおいて、
支持構造の表面で前記ペディキュア用スパを支える基部支持体と、
前記基部支持体に配置されたイスと、
前記基部支持体に配置され、かつ、客が前記イスに座っているとき、前記客の足を収容するための空間を画定する表面を有するタブ部と、
前記タブ部の表面の少なくとも一部分に存在し、かつ、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する銀ナノ粒子を含有する抗菌性被覆剤とを備えることを特徴とするペディキュア用スパ。
【請求項２】
前記抗菌性被覆剤は、前記抗菌性被覆剤における銀ナノ粒子の濃度が少なくとも約５０ｐｐｍであるように前記銀ナノ粒子と混合され、かつ、前記タブ部の表面の少なくとも一部分に塗布される産業上利用可能な被覆剤をさらに備えることを特徴とする請求項１記載のペディキュア用スパ。
【請求項３】
前記抗菌性被覆剤が約５０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項２記載のペディキュア用スパ。
【請求項４】
前記抗菌性被覆剤が約５０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項２記載のペディキュア用スパ。
【請求項５】
前記抗菌性被覆剤が約１００ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項２記載のペディキュア用スパ。
【請求項６】
前記銀ナノ粒子が約２５ｎｍの直径を有することを特徴とする請求項１記載のペディキュア用スパ。
【請求項７】
前記抗菌性被覆剤が、約２５ｎｍの直径を有する前記銀ナノ粒子を約５０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍ含有することを特徴とする請求項１記載のペディキュア用スパ。
【請求項８】
前記産業上利用可能な被覆剤がゲル被覆剤であることを特徴とする請求項２記載のペディキュア用スパ。
【請求項９】
物体の少なくとも一部分を上塗りするための抗菌性ゲル被覆剤であって、
前記抗菌性ゲル被覆剤は、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する銀ナノ粒子と混合された産業上利用可能なゲル被覆剤を、前記銀ナノ粒子の濃度が少なくとも約５０ｐｐｍとなるように含有することを特徴とする抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１０】
約５０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項９記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１１】
約５０ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項９記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１２】
約１００ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの前記銀ナノ粒子を含有することを特徴とする請求項９記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１３】
前記銀ナノ粒子が約２５ｎｍの直径を有することを特徴とする請求項９記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１４】
前記銀ナノ粒子が約２５ｎｍの直径を有することを特徴とする請求項１０記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１５】
前記銀ナノ粒子が約２５ｎｍの直径を有することを特徴とする請求項１１記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【請求項１６】
前記銀ナノ粒子が約２５ｎｍの直径を有することを特徴とする請求項１２記載の抗菌性ゲル被覆剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般にはペディキュア用設備および抗菌性ゲル被覆剤に関する。より具体的には、本発明は、抗菌機能を有するペディキュア用スパ、および、ペディキュア用スパのタブ部またはシンク部を上塗りするための抗菌性ゲル被覆剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペディキュアを受けることが、特に女性客の間では人気のある余暇の過ごし方となってきており、ペディキュアが行われる様々なペディキュア用スパが長い間にわたって開発され、また、使用されている。
【０００３】
典型的なペディキュア処置では、客がペディキュア用スパのイスに座り、その足をペディキュア用スパのタブ部またはシンク部の温水および暖かい石けん泡の中に沈める。オリーブ油および浴用塩などの添加剤がタブ部の内容物に加えられることがある。足を所定の期間にわたって暖かい石けん泡および温水の中に沈めた後、客の足は、足指の爪を切り、足指の爪にペイントすることができ、また、他の関連したサービスを客の足、足指および／または爪に対して行うことができるペディキュア用スパの足置き台に置かれる。
【０００４】
ペディキュア処置が完了した後、上記の水および石けん泡をペディキュア用スパのタブ部から排出し、タブ部を水ですすぐか、洗浄することにより、ペディキュア用スパをきれいにして次の客に対する準備を確実に行う。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
タブ部が清浄な水で徹底的にすすがれた後でさえ、客の足やペディキュア施術者の手から、および／または、空気から、様々な細菌および／または菌類が、タブ部の表面に残留することがある。ペディキュア用スパの中には、ゲル被覆剤または他の被覆剤が、タブ部の外観をよくし、且つ耐久性を高めるためにタブ部の表面に塗布されるものもあるが、かかる被覆剤は全く抗菌機能を持っていない。したがって、タブ部の表面に被覆剤が有るか否かに関係なく、ペディキュア施術者および／または客に対する感染症の危険性がある。加えて、残留する細菌および／または菌類は不快な臭いまたは悪臭を発生させる場合がある。洗剤または化学的殺菌剤により、感染症および／または悪臭の危険性を実質的に低下させるために、ペディキュア処置が終わるたびにタブ部の表面に塗布することもできるが、このような対策は一般に費用がかかり、かつ、手間がかかる。
【０００６】
したがって、抗菌機能を有し、その結果、感染症および／または悪臭の危険性を実質的に低下させるペディキュア用スパを提供することが本発明の１つの目的である。
【０００７】
抗菌機能が簡便かつ安価に得られる、抗菌機能を有するペディキュア用スパを提供することが本発明の別の目的である。
【０００８】
抗菌機能に信頼性があり、かつ、その抗菌機能が比較的長期間にわたって有効であり続ける、抗菌機能を有するペディキュア用スパを提供することが本発明のさらに別の目的である。
【０００９】
ペディキュア用スパのタブ部の表面を上塗りするための抗菌性ゲル被覆剤を提供することが本発明のさらに別の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの実施形態による、抗菌機能を有するペディキュア用スパは、一の表面を有するタブ部と、そのタブ部の一の表面の少なくとも一部分に塗布された抗菌性ゲル被覆剤とを含む。抗菌性ゲル被覆剤は、銀ナノ粒子の濃度が約５０ｐｐｍ〜２００ｐｍｍであるように銀ナノ粒子と混合された（抗菌機能を有しない）産業上利用可能なゲル被覆剤を備える。産業上利用可能なゲル被覆剤および銀ナノ粒子は工業用ミキサーのドラムにおいて混合することができる。銀ナノ粒子は、実質的に純粋な銀（例えば、純度９９．９％の銀）から作製される粒子であり、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する。
【００１１】
ゲル被覆剤と混合する代わりに、銀ナノ粒子はまた、別のタイプの被覆剤（例えば、塗料またはエナメルなど）に混合することができる。さらに、代替として、銀ナノ粒子はタブ部の材料に直接に配合することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明のこれらの目的および特徴ならびに他の目的および特徴が、添付されている図面と併せて検討される下記の詳細な説明から明らかになるであろう。しかしながら、図面は、本発明の範囲を規定するものとしてではなく、単に例示のために意図されるだけであることを理解しなければならず、本発明の範囲については、添付された特許請求の範囲を参照しなければならない。図面は必ずしも一定の縮尺で描かれていないこと、および、別途示されない限り、図面は、本明細書中に記載される構成および手順を概念的に例示することが意図されるにすぎないことをさらに理解しなければならない。
【００１３】
本発明の実施形態に係る抗菌機能を有するペディキュア用スパ５を図１に示す。ペディキュア用スパ５は、床に設置するために好適なベース部６と、ベース部６に載せられたイス７（好ましくは調節可能）と、ベース部６におけるタブ部（またはシンク部）８と、ベース部６に載せられた足置き部１５（好ましくは調節可能）とを含む。
【００１４】
タブ部８はイス６と足置き部１５との間に配置され、表面９を含む。タブ部８は、上から見たとき、一般には矩形の断面を有する。したがって、タブ部８の表面９は、前側の表面（不図示）、後側の表面９ｂ、２つの側面の表面９ｃ、底部の表面９ｄ、および、上部の周辺端部９ｅを含む。矩形形状のタブ部が開示されているが、タブ部は任意の好適なサイズおよび形状で構成することができる。
【００１５】
客およびペディキュア施術者の間での感染症を防止し、且つ表面９での悪臭の発生を防止するために、抗菌性ゲル被覆剤１０が、タブ部８の表面９に、好ましくは表面９の全体を保護すべく、塗布される。その後、抗菌性ゲル被覆剤１０は硬化し、乾燥し、または、固まり、好ましくは、ペディキュア用スパ５の運用寿命の期間中、タブ部８の表面９に留まる。
【００１６】
図２を参照して、抗菌性ゲル被覆剤１０は、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する銀ナノ粒子１９が、銀ナノ粒子の濃度が少なくとも約５０ｐｐｍであり、好ましくは５０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍの範囲であるように加えられる産業上利用可能なゲル１７を含む。抗菌性ゲル被覆剤１０は、所定量の産業上利用可能なゲル被覆剤１７（例えば、韓国企業のCray Valley Korea（住所、821-1 Wanjoo Saneub Complex、 Bong Dong Eub、 Wanjoo City、 Cholla-Do、Republic of Korea）によって製造されるゲル被覆剤など）を、約１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲の直径を有する適量の銀ナノ粒子１９と工業用ミキサーのドラムにおいて混合することによって得ることができる。産業上利用可能なゲル被覆剤１７に加えられる銀ナノ粒子１９はコロイド状であってもよい。
【００１７】
銀は、細菌および／または菌類に対しては強い毒性を有するが、ヒト細胞に対しては比較的毒性が少ない。銀は、少なくとも古代ギリシアおよび古代ローマの時代から感染症と闘うため、及び腐敗を抑えるために使用されている。銀粒子がナノサイズ（例えば、２５ｎｍなど）に縮小されたとき、銀粒子は、細菌および／または菌類とのその接触を増大させ、かつ、その殺菌効果および／または殺真菌効果を実質的に改善する大きい比表面積を示す。
【実施例】
【００１８】
下記の表は、約２５ｎｍの直径を有する銀ナノ粒子の約１００ｐｐｍ〜２００ｐｐｍを含有する抗菌性ゲル被覆剤１０の殺菌効果を示す。
【００１９】
【表１】
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【００２０】
【表２】
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【００２１】
【表３】
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【００２２】
下記の注記は表１〜表３のそれぞれに適用され得る。
【００２３】
すなわち、
抗菌性および抗菌効果（フィルム密着法、JIS Z 2801-2000）：個／ｍｌ、抗菌活性値：対数値、細菌減少率：％；
基準薄膜：Stomacher 400 Poly-Bag；
試験条件：溶液を、３５±１℃、相対湿度９０±５％となるよう２４時間調製し、細菌細胞成長阻害率を寒天平板培養法によって求める；
試験細菌：細菌−１、黄色ブドウ球菌（Staphylococcus aureus）ATCC6538P；
細菌−２、大腸菌（Escherichia coli）ATCC8739；
である。
【００２４】
上記で記載された基本構造、機能性およびステップの様々な改変が本発明の意図された範囲および予想の範囲内である。例えば、抗菌性ゲル被覆剤１０は、前側の表面、後側の表面９ｂおよび２つの側面の表面９ｃの下部部分においてだけではなく、底部の表面９ｄの全体に塗布することができる。加えて、産業上利用可能なゲル１７を使用する代わりに、公知の又は今後開発される産業上利用可能な塗料、エナメルまたは他の表面被覆剤を銀ナノ粒子と混合することができる。さらに、銀ナノ粒子をタブ部材料の表面に直接に配合することができる。
【００２５】
本発明の基本的な新規特徴が、その好ましい実施例に適用されるように示され、また、記載され、また、指摘されているが、当業者であれば、例示されたデバイスの形態および細部、並びにその操作における様々な省略および置換および変更を本発明の精神から逸脱することなくなし得ることはいうまでもない。例えば、同じ結果を達成するために実質的に同じ方法で実質的に同じ機能を発揮するような要素の組合せのすべてが本発明の範囲内であることが特に意図される。さらに、本発明のいずれかに開示された形態または実施例に関連して開示および／または記載される構造および／または要素は、設計上の選択の一般的な問題として、任意の他の開示または記載または示唆される形態または実施例に取り込まれ得ることを認識しなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明に係る抗菌機能を有するペディキュア用スパの斜視図であり、この図では、ペディキュア用スパのタブ部の表面におけるゲル被覆剤の一部が、タブ部の表面を示すために除かれている。
【図２】図１のタブ部の表面におけるゲル被覆剤の断面図である。
【符号の説明】
【００２７】
５  ペディキュア用スパ
６  ベース部
７  イス
８  タブ部
９  表面
９ｂ  後側の表面
９ｃ  側面の表面
９ｄ  底部の表面
９ｅ  上部の周辺端部
１０  抗菌性ゲル被覆剤
１５  足置き部
１７  産業上利用可能なゲル
１９  銀ナノ粒子
【図１】
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【図２】
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【外国語明細書】
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