(57)【要約】    【課題】  磁気ディスク装置の製造ラインに発生する塵埃の種類と、その発生源について詳細に検証でき、磁気ディスク装置の製造環境管理および品質管理に貢献する製造環境のモニター方法を提供する。    【解決手段】  製造に係る磁気ディスク装置と同一モデルで、吸気口および排気口、および強制吸排気機構を有するモニター用磁気ディスク装置１０ａ〜１０ｄを製造ライン周囲の特定の位置に置く。吸気口および排気口を開放した状態で強制吸排気機構を作動させ製造ライン周辺の雰囲気を内部に導入する。製造ラインを稼働させた状態で約２４〜４８時間程度雰囲気を導入する。その後、同装置に対してリード／ライト試験を行う。基準値以上のエラー・レートでエラーが発生した場合、同装置の磁気ディスクおよび磁気ヘッドを分解して詳細な分析を行う。【選択図】      図２
2007073106.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ディスク装置の組み立て環境に存在する塵埃をモニターする方法であって、
磁気ディスク装置の組み立て工程を稼働させるステップと、
前記組み立て工程の周囲にモニター用磁気ディスク装置を配置し、前記モニター用磁気ディスク装置の内部を前記組み立て工程の雰囲気に晒すステップと、
前記モニター用磁気ディスク装置に対してリード／ライト試験を行ってエラー・レートを計測するステップと
を有するモニター方法。
【請求項２】
前記雰囲気に晒すステップが、前記モニター用磁気ディスク装置の内部に強制的に前記雰囲気を取り入れるステップを含む請求項１記載のモニター方法。
【請求項３】
前記雰囲気に晒すステップが、コンプレッサで前記雰囲気を取り入れるステップを含む請求項２記載のモニター方法。
【請求項４】
前記雰囲気に晒すステップが、真空ポンプで前記雰囲気を取り入れるステップを含む請求項２記載のモニター方法。
【請求項５】
前記雰囲気に晒すステップの後に、前記モニター用磁気ディスク装置の内部を外気に対して密封するステップをさらに含む請求項１記載のモニター方法。
【請求項６】
前記雰囲気に晒すステップが、前記モニター用磁気ディスク装置の磁気ディスクを回転させるステップを含む請求項１記載のモニター方法。
【請求項７】
前記雰囲気に晒すステップが、前記モニター用磁気ディスク装置のヘッド／スライダをシーク動作させるステップを含む請求項６記載のモニター方法。
【請求項８】
前記組み立て工程が複数の組み立て工程を含み、前記雰囲気に晒すステップが、前記磁気ディスク装置を前記組み立て工程ごとに配置するステップを有する請求項１記載のモニター方法。
【請求項９】
前記塵埃がアルミナ、炭化珪素、滑石、ステンレスからなるグループから選択されたいずれか１つの要素または複数の要素からなる請求項１記載のモニター方法。
【請求項１０】
前記モニター用磁気ディスク装置は、前記組み立てに係る磁気ディスク装置と同一モデルである請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項１１】
クリーン・ルーム内に設けられた組み立て工程で製造される磁気ディスク装置の雰囲気を制御する方法であって、
磁気ディスク装置の組み立て工程を稼働させるステップと、
超純水で洗浄した磁気ディスク装置の構成部品を前記組み立て工程に搬入するステップと、
前記組み立て工程の周囲にモニター用磁気ディスク装置を提供するステップと、
前記モニター用磁気ディスク装置の内部を前記組み立て工程の雰囲気に晒すステップと、
前記モニター用磁気ディスク装置に対してリード／ライト試験を行ってエラー・レートを計測するステップと、
前記エラー・レートが所定値を超えた場合に前記モニター用磁気ディスク装置を分析するステップと、
前記分析するステップに応じて前記雰囲気の制御パラメータを変更するステップと
を有する制御方法。
【請求項１２】
前記雰囲気の制御パラメータが、前記組み立て工程に使用する設備および治工具の変更、前記組み立て工程に使用する設備および治工具の清掃方法および清掃頻度の変更、前記クリーン・ルーム内の気流の変更、前記構成部品の洗浄方法の変更、および作業員に対する滑石の使用制限からなるグループから選択されたいずれか１つの要素または複数の要素からなる請求項１１記載の制御方法。
【請求項１３】
前記分析するステップが、前記モニター用磁気ディスク装置の磁気ディスク表面およびヘッド／スライダに付着した塵埃の種類を分析するステップを含む請求項１１記載の制御方法。
【請求項１４】
前記分析するステップが、走査電子顕微鏡および蛍光Ｘ線分析装置を使用して分析するステップを有する請求項１１記載の制御方法。
【請求項１５】
前記組み立て工程が複数の組み立て工程を含み、前記雰囲気に晒すステップが前記磁気ディスク装置を前記組み立て工程ごとに配置するステップを含み、前記制御パラメータを変更するステップが配置された前記モニター用磁気ディスク装置に対応する組み立て工程の制御パラメータを変更するステップを含む請求項１１記載のモニター方法。
【請求項１６】
クリーン・ルーム内に設けた組み立て工程で磁気ディスク装置を製造する方法であって、
前記磁気ディスク装置の組み立て工程を稼働させるステップと、
前記磁気ディスク装置の構成部品を前記組み立て工程に搬入するステップと、
前記組み立て工程の周囲にモニター用磁気ディスク装置を提供するステップと、
前記モニター用磁気ディスク装置の内部を前記組み立て工程の雰囲気に晒すステップと、
前記モニター用磁気ディスク装置に対してリード／ライト試験を行ってエラー・レートを計測するステップと、
前記エラー・レートが所定値を超えた場合に前記モニター用磁気ディスク装置を分析するステップと、
前記分析するステップに応じて前記雰囲気の制御パラメータを変更するステップと、
前記変更するステップの後に前記磁気ディスク装置の新たな構成部品を前記組み立て工程に搬入するステップと
を有する製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置の製造技術に関し、さらに詳細には、磁気ディスク装置の製造設備等から発生する塵埃を精密にモニターして品質の優れた磁気ディスク装置を製造する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置では、ヘッド／スライダが回転する磁気ディスクの表面に対して僅かのスペースを空けて浮上している。ヘッド／スライダに形成された磁気ヘッドと磁気ディスク表面との間隔をフライング・ハイトという。近年、磁気ディスクの記録密度が向上しフライング・ハイトも１０ｎｍ以下程度にまで達している。このフライング・ハイトは、煙の粒子径が６ミクロン前後であることと対比させても非常に小さいことが理解できる。
【０００３】
磁気ディスク装置に発生するリード／ライト・エラーの原因の多くは、製造工程において発生し磁気ディスク装置の内部に存在している塵埃である。具体的には、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）や炭化珪素（ＳｉＣ）などの塵埃がディスク表面に付着することによって発生する磁性層の損傷、タルク（滑石）やステンレスなどを成分とする塵埃が磁気ディスクとヘッドの間に侵入することによって発生する磁気の消失、およびヘッドが塵埃と衝突し熱を帯びることによって発生するＴＡ（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｓｐｅｒｉｔｙ）などのような原因で、リード／ライト・エラーが発生している。
【０００４】
このため、製造工程においては磁気ディスク装置内部の清浄度を十分に維持しておく必要がある。磁気ディスク装置の組み立ては、事前に超純水で精密に洗浄した構成部品をクラス１０〜クラス１００のクリーン・ルームに搬入して行う。磁気ディスク装置は、内部雰囲気の空気清浄度が維持されたクリーン・ルームの中でベースに構成部品が組み込まれベース・カバーで密封されてクリーン・ルームから搬出される。
【０００５】
一般的に、クリーン・ルーム内における塵埃発生状況は、パーティクル・カウンタなどの計測機器で計測され管理されている。たとえば特許文献１では、塵埃が堆積した集塵板の画像を、拡散板、ミラー、レンズを介してＣＣＤカメラで撮像して分析することにより、クリーン・ルーム内の塵埃を検出するという技術が開示されている。また、特許文献２では、空気排出用の貫通穴が所定間隔で配置されている床板の下に複数のサンプリング・チューブをＸＹ両方向に延伸するように設置し、サンプリング・チューブを通じて吸引した雰囲気をパーティクル・カウンタによって測定することにより、塵埃の発生位置を特定するという技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００３−４２９３４号公報
【特許文献２】特開平７−２０９１４６号公報
【０００６】
また、磁気ディスク装置の製造工程では、不良品となった磁気ディスク装置を分解して内部の分析などを行っている。その結果、不良の原因が塵埃にあったことを確認する場合がある。磁気ディスク装置のリード／ライト試験は、磁気ディスクの全面に所定のパターンのデータを記録し、ＥＣＣシンボル数などのリード条件を厳しく設定して数回読み出しその成功率を評価することにより行う。リード／ライト試験によって計算されるエラー・レートは、たとえばエラー・バイト総数／記録バイト総数で計算したバイト・エラー・レート（ＢＥＲ）が採用される。基準値以上のＢＥＲでリード・エラーが発生した磁気ディスク装置は不良品として処理される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
品質管理の観点から、磁気ディスク装置の組み立てを行う製造ラインの雰囲気には、厳格な管理が求められている。特に近年、磁気ディスク装置のデータ記録密度は高くなる一方であり、またフライング・ハイトも小さくなる一方であるため、粒径の小さな塵埃でもリード・エラーやライト・エラーの原因になるため、雰囲気内に許容される塵埃はますます厳しくなってきている。
【０００８】
しかし、パーティクル・カウンタなどによる従来の塵埃測定方法では粒径０．１ミクロン以下の塵埃は検出が困難であったり測定器具が高額であったりする。粒径０．１ミクロン以上の塵埃が検出されない雰囲気で組み立てられた磁気ディスク装置であっても、リード／ライト試験で不良品となり、内部を分析した結果不良原因が塵埃に起因していると認定されるものがある。すなわち、近年の磁気ディスク装置に対するクリーン・ルームの雰囲気を管理するには、従来の塵埃の測定方法では不十分であり新しい塵埃の測定方法が必要とされている。
【０００９】
本発明の目的は、磁気ディスク装置の製造ラインの雰囲気に存在する塵埃の種類と発生源について詳細に検証できる塵埃のモニター方法、製造ラインの雰囲気の制御方法、およびそれらに基づいた磁気ディスク装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の原理は、磁気ディスク装置を塵埃の収集装置として使用し、塵埃の存在をリード／ライト試験によるエラー・レートの計測を通じて行う点にある。本発明に係る一つの態様では、モニター用磁気ディスク装置を使用した塵埃のモニター方法を提供する。モニター用磁気ディスク装置に製造に係る磁気ディスク装置と同一のモデルを採用すると、当該磁気ディスク装置のエラーの原因となる塵埃の種類や量をより現実に即して検出することができるようになる。モニター用磁気ディスク装置は、データの記録および再生が可能な通常の磁気ディスク装置と異なることはないが、内部を製造環境の雰囲気に晒すために、内部にコンプレッサや真空ポンプで雰囲気を強制的に導入できるようになっている。このような構成により、単にベース・カバーを開放して雰囲気に晒すよりも短時間に塵埃を収集することができる。
【００１１】
製造環境の雰囲気に晒したモニター用磁気ディスク装置に対してリード／ライト試験を行う。リード／ライト試験は、通常の製造ラインで使用する試験装置を使用して自動的に行うことができるので実施は容易である。エラー・レートが悪い場合は、モニター用磁気ディスク装置の内部が晒された製造環境の塵埃は、組み立てに係る磁気ディスク装置の品質に影響を与える可能性があると判断される。よって、従来の方法では検出できなかったような小さい粒径の塵埃であっても、エラー・レートの計測を通じて間接的に検出することが可能になる。
【００１２】
モニター用磁気ディスク装置を使用しエラー・レートの計測により塵埃の存在を検出する本発明のモニター方法は、塵埃の数や粒径を直接測定するものではないが、磁気ディスク装置のエラー・レートに影響を与える塵埃の検出という意味で実際的な検出方法である。たとえば、フライング・ハイトよりも粒径が小さいため磁気ディスク装置の性能に影響を与えないと考えられるような塵埃であっても、粘着性が強い場合は磁気ディスク表面やヘッドに堆積し、ついに磁性層を損傷したりＴＡをもたらしたりすることがある。本発明に係るモニター方法ではこのような現象も検出することができる。さらに実際的なモニタリングにする目的で、磁気ディスクを回転させたり、ヘッドにシーク動作をさせたりしながら雰囲気に晒すことができる。その理由は、磁気ディスクやヘッドに対する塵埃の付着状況は、磁気ディスクの回転やシーク動作によっても変化するからである。また、モニター用磁気ディスク装置を製造工程ごとに設置すれば、工程ごとに発生している塵埃のモニタリングをすることができる。
【００１３】
また、本発明の他の態様では、上述のモニター方法を採用して磁気ディスク装置の製造環境の雰囲気を制御する方法を提供する。リード／ライト試験で、ＢＥＲが基準値以上となった磁気ディスク装置を分解し、磁気ディスク表面およびヘッド表面のエラー原因の痕跡や付着した塵埃の分析を行う。エラーの原因が塵埃であることを確認した場合には、クリーン・ルーム内の気流の変更、組み立て工程の設備および治工具の変更、組み立て設備および治工具の清掃方法および清掃頻度の変更、構成部品の洗浄方法の変更、および作業員に対する滑石の使用制限などのような制御パラメータを変更する措置を取る。それによって、それ以降の磁気ディスク装置に対しては塵埃に起因するエラーが発生することを防止することができる。
【００１４】
磁気ディスク表面およびヘッド表面の分析は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）による塵埃の付着状況や表面の観察、および蛍光Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）による塵埃の成分分析などである。これによってエラーの発生原因が塵埃であることや、アルミナ、炭化珪素、滑石、およびステンレスなどのような塵埃の種類を特定することができる。さらに、粒径の小さい塵埃であっても検出することができる。ＳＥＭやＥＤＸを利用した分析には費用や時間を費やす。従来のように、製造に係る磁気ディスク装置のエラー・レートを計測した結果に基づいて分析したのでは、製造ラインに対する雰囲気の制御に時間的な遅れが生ずるので歩留まりが低下するし、どの工程の雰囲気が原因であるかを特定することもできない。本発明のようにモニター用磁気ディスク装置を採用すると対策を講ずるまでの時間的なロスを低減することができる。さらに、モニター用磁気ディスク装置を製造工程ごとに配置することにより、エラーの原因となる塵埃を発生させた工程と制御パラメータを特定して迅速に対処することができる。
【００１５】
本発明のさらに他の態様では、上述の塵埃のモニター方法および製造ラインの雰囲気の制御方法に基づいた磁気ディスク装置の製造方法を提供する。製造ライン上で磁気ディスク装置の製造を行いながら、その周辺にモニター用磁気ディスク装置を設置し、塵埃のモニタリングをしてエラー・レートでスクリーニングをしてから塵埃に関連する分析を行う。その結果に基づいて磁気ディスク装置の雰囲気の制御を行う。これにより、製造に係る磁気ディスク装置の歩留まりを向上することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明により、磁気ディスク装置の製造ラインの雰囲気に存在する塵埃の種類と発生源について詳細に検証できる塵埃のモニター方法、製造ラインの雰囲気の制御方法、およびそれらに基づいた磁気ディスク装置の製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１（ａ）は、本発明に係るモニター用磁気ディスク装置１０の概略構成を示す平面図である。図１（ｂ）は、同装置の概略構成を示す側面図である。図１（ａ）はベース・カバー３５を取り除いた状態を示している。図１には、アルミニウムのダイカストで成型されたベース１１上に組み込まれた、磁気ディスク１３ａ、１３ｂ、ＦＰＣコネクタ１５、ランプ機構１７、ボイス・コイル・ヨーク１９ａ、１９ｂ、ボイル・コイル・マグネット２０ａ、２０ｂ、ボイス・コイル１０７、ヘッド支持機構２１、およびヘッド／スライダ１０５ａ〜１０５ｄなどの構成部品が示されている。
【００１８】
記録媒体である磁気ディスク１３ａ、１３ｂは、ベース１１の底部に設けられたスピンドル・モータ１０１により回転させられるスピンドル・ハブ１０３に対して固定されている。磁気ディスク１３ａ、１３ｂには、部品の組み付けが終了した時に、ＳＴＷ（サーボ・トラック・ライター）によってサーボ・データが書き込まれる。ヘッド／スライダ１０５ａ〜１０５ｄはスライダと磁気ヘッドで構成されている。ランプ機構１７はロード／アンロード方式を実現するために使用され、合成樹脂で成型されベース１１に固定されている。ヘッド／スライダ１０５ａ〜１０５ｄの磁気ヘッドとベース１１の外側に取り付けられた回路基板（図示せず）とはＦＰＣコネクタ１５で接続される。
【００１９】
ヘッド支持機構２１は、ボイス・コイル１０７を搭載している。ボイス・コイル・ヨーク１９ａ、１９ｂ、ボイス・コイル・マグネット２０ａ、２０ｂ、およびボイス・コイル１０７はボイス・コイル・モータを構成する。ヘッド支持機構２１は、ボイス・コイル・モータによりヘッド／スライダ１０５ａ〜１０５ｄを支持しながらピボット軸１０９を中心に回動し、磁気ヘッドを磁気ディスク１３ａ、１３ｂの所定のトラックに位置づける。
【００２０】
モニター用磁気ディスク装置１０は、製造に係る磁気ディスク装置（図示せず）と同じモデルのものを採用している。ただし、モニター用磁気ディスク装置は、製造に係る磁気ディスク装置と異なるモデルのものを採用することもできる。たとえば、塵埃のモニターをより厳格に行うために、塵埃に対して一層敏感な磁気ディスク装置をモニター用磁気ディスク装置として選定することができる。モニター用磁気ディスク装置１０の製造に係る磁気ディスク装置に対する相違点は、吸気口２５および排気口２７、および強制吸排気機構２９を有しているという点である。これによって、強制的に製造環境の雰囲気を磁気ディスク装置の内部に短時間で導入することが可能となる。ベース１１の蓋となるベース・カバー３５を取り除いて内部を雰囲気に晒すこともできるが、強制的に導入した方が粉塵の収集効率がよい。
【００２１】
吸気口２５と排気口２７には、各々吸気口開閉機構３１と排気口開閉機構３３が結合されており、外部との流路を開閉することができるようになっている。各々の開閉機構３１、３３を閉じれば、装置を密封した状態を保持することが可能である。なお、吸気口２５および排気口２７は、ベース１１側に取り付けられていてもよいし、ベース・カバー３５側に取り付けられていてもよい。強制吸排気機構２９は、コンプレッサで構成され、組み立て工程の雰囲気を磁気ディスク装置１０の内部に押し込むようにして導入する。強制吸排気機構２９を真空ポンプで構成して、排気口２７側に取り付けもよい。また強制吸排気機構２９をコンプレッサと真空ポンプで構成し雰囲気の導入方向を変更してもよい。
【００２２】
なお、吸気口２５および排気口２７の開閉、および強制吸排気機構２９、スピンドル・モータ１０１、ヘッド／スライダ１０５の作動と停止は、測定条件に応じて自由に設定可能である。また、これらの設定は手動操作で行ってもよいし、自動操作もしくは遠隔操作で行ってもよい。モニター用磁気ディスク装置は、ベース・カバー３５が取り付けられることによりは吸気口２５および排気口２７を除いて密封される。
【００２３】
図２は、モニター用磁気ディスク装置１０で磁気ディスク装置の組み立て工程の雰囲気をモニターしている状態を説明する図である。磁気ディスク装置の製造ライン２００は、クリーン・ルーム２０１内で、ディスク組み立て工程２０３、ヘッド組み付け工程２０５、サーボ・トラック・ライティング工程２０７などのような工程があり、各々の工程がコンベア２０９により結ばれている。各工程の特定の位置に、モニター用磁気ディスク装置１０ａ〜１０ｄを置き、吸気口開閉機構３１と排気口開閉機構３３を開放した状態で強制吸排気機構２９を作動させる。この状態で製造ライン２００を稼働させ、約２４〜４８時間程度そのままの状態でモニター用磁気ディスク装置１０を静置し、モニター用磁気ディスク装置１０ａ〜１０ｄの内部を強制的に製造環境の雰囲気に晒す。その後、モニター用磁気ディスク装置１０の吸気口開閉機構３１と排気口開閉機構３３を閉じて強制吸排気機構２９を停止し内部を密封する。
【００２４】
モニターしている間モニター用磁気ディスク装置の磁気ディスクを回転させたり、ヘッド支持機構にシーク動作をさせたりすることができる。このように動作状態で雰囲気に晒すことにより、内部に導入された粉塵は回転する磁気ディスクが発生させた気流により所定の場所に運ばれて堆積したり、ヘッド／スライダと磁気ディスクの間に挟まれて磁気ディスクを損傷させたりするといったように、実際の磁気ディスク装置が塵埃から受ける状況と同じ状況を作り出すことができる。
【００２５】
密封されたモニター用磁気ディスク装置１０に対して、リード／ライト試験を行ってエラー・レートの計測を行う。リード／ライト試験では、ＢＥＲが基準値を超えたモニター用磁気ディスク装置１０ａ〜１０ｄに対して、磁気ディスクおよびヘッド／スライダを取り出して表面の分析を行う。分析内容は、ＳＥＭによるヘッド／スライダの磁気ヘッド部分や磁気ディスク表面の観察、およびそれらの場所における塵埃の堆積状況の観察を含む。さらにＥＤＸによる塵埃の成分分析を含む。これによって、従来のパーティクル・カウンタでは測定限界以下だった粒径０．１ミクロン以下の塵埃がエラー・レートの低下の原因になった場合にそれを検出することができる。たとえば株式会社日立製作所製のＳＥＭ、型番Ｓ−４７００によれば、粒径０．０１ミクロン前後の塵埃が測定可能である。さらにＥＤＸを組み合わせることにより塵埃の成分の特定も可能になる。
【００２６】
このモニター用磁気ディスク装置を製造工程ごとに設置すれば、工程ごとに発生している塵埃のモニタリングが可能となり、変更の要する雰囲気の制御パラメータを容易に見つけだすことができる。さらに、塵埃が測定された工程に対して、より詳しいモニタリングを行うことも可能である。具体的には、たとえば当該箇所の周辺にモニター用磁気ディスク装置を複数個設置したり、吸気口２５に延長ホースや分岐ホースを取り付けたりするなどの方法で、測定箇所を増加および変更して塵埃の付着状況を比較することが考えられる。あるいは、同じ工程の同じ測定箇所に対して、磁気ディスクの回転およびヘッド／スライダ１０５のシーク動作を実行させた場合と実行させない場合とで塵埃の付着状況を比較することも考えられる。これらの比較から、塵埃の種類、発生源、浮遊経路について検討する上で有用な知見を得ることができる。
【００２７】
本実施の形態によれば、モニター用磁気ディスク装置の分析結果に基づいて改善の必要な工程と塵埃の発生源を特定し、雰囲気の制御パラメータを変更する措置を迅速に取ることが可能である。たとえば、アルミナや炭化珪素の塵埃は主に組み立て設備や治工具、ステンレスの塵埃は主に構成部品、滑石の塵埃は主に作業員から発生していることが多いと考えられる。組み立て設備および治工具に起因する塵埃については該当する設備および治工具の変更、清掃方法および清掃頻度の変更、あるいはクリーン・ルーム内の気流の変更などのような措置が考えられる。磁気ディスク装置の構成部品に起因する塵埃については、部品の洗浄方法の変更、あるいはネジ締結部周辺の清掃方法の変更などのような措置が考えられる。作業員に起因する塵埃については、たとえば顔に塗布する滑石の使用制限などのように作業規則を変更する措置が考えられる。
【００２８】
このようにしてモニター用磁気ディスク装置で雰囲気を制御する方法を、磁気ディスク装置の製造ラインに適用することで、エラー・レートの上昇原因となる塵埃を発生させている工程を突き止め、塵埃の成分から発生源を突き止めて対策を施してから新たな構成部品を搬入して組み立てを開始する。これにより磁気ディスク装置の歩留まりを向上することができる。
【００２９】
これまで本発明について図面に示した特定の実施の形態をもって説明してきたが、本発明は図面に示した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の効果を奏する限り、これまで知られたいかなる構成であっても採用することができることはいうまでもないことである。
【産業上の利用可能性】
【００３０】
磁気ディスク装置の製造環境のモニターに適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明に係るモニター用磁気ディスク装置の概略構成を示す平面図および側面図である。
【図２】モニター用磁気ディスク装置で組み立て工程の雰囲気をモニターしている状態を説明する図である。
【符号の説明】
【００３２】
１０、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ  モニター用磁気ディスク装置
１１  ベース
１３ａ、１３ｂ  磁気ディスク
１５  ＦＰＣコネクタ
１７  ランプ機構
１９ａ、１９ｂ  ボイス・コイル・ヨーク
２１  ヘッド支持機構
２３  磁気ヘッド
２５  吸気口
２７  排気口
２９  強制吸排気機構
３１  吸気口開閉機構
３３  排気口開閉機構
３５  ベース・カバー
１０１  スピンドル・モータ
１０３  スピンドル・ハブ
１０５ａ，１０５ｂ  ヘッド／スライダ
１０７  ボイス・コイル
１０９  ピボット軸
２００  磁気ディスク装置の製造ライン
２０１  クリーン・ルーム
２０３  ディスク組み立て工程
２０５  ヘッド組み付け工程
２０７  サーボ・トラック・ライティング工程
２０９  コンベア
【図１】
2007073106.tif 000003
【図２】
2007073106.tif 000004