(57)【要約】【課題】無機フォトレジストを用いた原盤製造の工程の煩雑さの改善と、精度の向上を図る。【解決手段】無機フォトレジストが、露光によって物理的変形による突起を発生させることができることを利用して、この突起による凹凸をもって凹凸パターンを有する原盤を作製する。このようにして、現像処理工程を省略することができ、これに伴う煩雑な作業を回避し、またこの現像処理に伴う精度の低下を回避する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法であって、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製することを特徴とする記録媒体基板作製用原盤の製造方法。
【請求項２】
上記無機フォトレジスト層が、遷移金属を含む金属の不完全酸化物より成ることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体基板作製用原盤の製造方法。
【請求項３】
上記無機フォトレジスト層を構成する上記遷移金属を含む金属の不完全酸化物が、タングステン（Ｗ）の不完全酸化物とモリブデン（Ｍｏ）の不完全酸化物より成ることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体基板作製用原盤の製造方法。
【請求項４】
情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用のスタンパの製造方法であって、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、
該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも１回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする記録媒体基板作製用スタンパの製造方法。
【請求項５】
情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の製造方法であって、
スタンパの作製工程と、
該スタンパにより上記記録媒体基板を作製する工程とを有し、
上記スタンパの作製工程は、原盤作製工程を有し、
該原盤作製工程は、
原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、
該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、
上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、
該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも１回以上経て得たスタンパを作製し、
該記録媒体基板作製用スタンパにより、上記記録媒体基板の上記情報記録凹凸を形成して情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程を有することを特徴とする記録媒体基板の製造方法。
【請求項６】
上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、
上記記録媒体作製用スタンパが配置された金型による射出成型によって上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体基板の製造方法。
【請求項７】
上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、
基板上にポリマー樹脂層を形成し、該ポリマー樹脂層に上記記録媒体作製用スタンパを押圧して、該ポリマー樹脂層によるエッチングマスクを形成し、該エッチングマスクを介して上記基板をエッチングして上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする請求項５に記載の記録媒体基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に情報記録凹凸面を有する記録媒体における、記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種情報を記録保存する記録媒体において、記録容量の増大化の要求はとどまるところがなく、これに伴い情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製においては、高い精度の凹凸パターンの形成が要求される。
一方、価格の低廉化の上で、生産性の向上が望まれている。
【０００３】
通常、光ディスク等情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製は、最終的に得る情報記録凹凸面の反転凹凸面が形成されたスタンパが作製され、これを用いた射出成型、あるいは２Ｐ(Photopolymerization)法等によってなされる。
このスタンパの作製は、まず、情報記録凹凸面に対応する凹凸面が形成された原盤が作製され、この原盤上の凹凸面に金属メッキを施し、これを剥離することによって原盤上の凹凸面が転写された凹凸面を形成し、例えばこの作業の繰り返しによってスタンパの形成を行っている。
【０００４】
この原盤は、通常、基板上に有機フォトレジストをスピンコートし、記録情報に応じたパターン露光をなし、現像処理することによって、フォトレジスト層が除去された除去部分を凹部とする凹凸パターンを形成することによって作製する。
【０００５】
また、原盤作製において、上述した有機フォトレジストに換えて、無機フォトレジスト層を基板上にスパッタし、これに対して同様にパターン露光および現像処理することによって、凹凸パターンを有する原盤を作製することの提案がなされている（特許文献１参照）。
この無機フォトレジストを用いて原盤作製を行う場合、有機フォトレジストによる場合に比して、最小露光ピットの縮小化、現像後のパターンの輪郭の鮮鋭度を高めることができるという利点を有することから、大容量、高密度記録記録媒体を作製する原盤作製方法としてすぐれている。
【０００６】
しかしながら、この無機フォトレジストにおいては、その現像処理時間が、有機フォトレジストに比して長時間を要し、作業性に問題がある。
【特許文献１】ＷＯ２００４−０３４３９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、無機フォトレジストを用いた原盤作製方法にあって、工程の簡略化をはかり、作業性の問題を解決し、生産性の向上を図り、ひいては、記録媒体のコストの低廉化を図ることができる記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明においては、無機フォトレジストが、露光によって物理的変形による突起を発生させることができることを利用して、この突起による凹凸をもって凹凸パターンを有する原盤を作製する。
すなわち、本発明による記録媒体基板作製用原盤の製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法であって、原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製することを特徴とする。
【０００９】
このように、本発明による記録媒体基板作製方法においては、現像処理を行うことなく露光によって突起を発生させ記録情報に応じた凹凸パターンを形成する。
【００１０】
また、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用のスタンパの製造方法であって、原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも１回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする。
【００１１】
このように、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法では、現像処理を行うことなく露光によって突起を発生させて記録情報に応じた凹凸パターンを形成する原盤の製造を適用し、これによって目的とするスタンパを作製するものである。
【００１２】
また、本発明による記録媒体基板の製造方法は、情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の製造方法であって、スタンパの作製工程と、該スタンパにより上記記録媒体基板を作製する工程とを有し、上記スタンパの作製工程は、原盤作製工程を有し、該原盤作製工程は、  原盤を構成する原盤基体上に無機フォトレジスト層を形成する工程と、該無機フォトレジスト層に、記録情報に応じたパターン露光を行なって、該露光部に上記記録情報に応じた突起を発生させて上記無機フォトレジスト層の表面に上記突起を有する凹凸パターンを形成する露光工程とを有し、上記原盤基体上に上記無機フォトレジスト層による上記凹凸パターンを有する原盤を作製し、該原盤を記録媒体作製用スタンパとするか、あるいは該原盤上にスタンパ材を形成して該原盤の上記凹凸パターンを転写反転させた凹凸パターンを有するスタンパを上記原盤から剥離作製する工程を少なくとも１回以上経て得たスタンパを記録媒体基板作製用スタンパとすることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、この記録媒体基板の製造方法にあって、上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、上記記録媒体作製用スタンパが配置された金型による射出成型によって上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、上述の記録媒体基板の製造方法にあって、上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板の作製工程が、基板上にポリマー樹脂層を形成し、該ポリマー樹脂層に上記記録媒体作製用スタンパを押圧して、該ポリマー樹脂層によるエッチングマスクを形成し、該エッチングマスクを介して上記基板をエッチングして上記情報記録凹凸面を有する記録媒体基板を作製することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
上述したように、本発明においては、原盤作製において、無機フォトレジストを用い、これに対する記録情報に応じたパターン露光を行なうものであるが、この露光において突起を発生させ、これを原盤における凹凸パターンとするものであるから、現像処理が回避されることにより、その製造工程、作業が極めて簡潔化される。
因みに、通常の有機フォトレジストにおける現像処理が、４０秒程度であるのに比し、無機フォトレジストに対する現像処理は、その１５倍の１０分間にも及ぶものである。したがって、本発明において、無機フォトレジスト層に対する現像処理を回避したことは、作業時間の大幅な削減が図られるものである。
【００１６】
したがって、この本発明による原盤の製造方法を適用して、この原盤から、スタンパを作製する本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および本発明による記録媒体基板の製造方法もまた大きな作業性の改善が図られることになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明による記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法のそれぞれの実施の形態例を説明するが、本発明はこれら形態例に限定されるものではないことはいうまでもない。
【００１８】
（記録媒体基板作製用原盤の製造方法の形態例）
図１Ａ〜Ｃは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用原盤の製造方法の一例の各工程における概略断面図である。  
図１Ａに示すように、原盤を構成する原盤基体１として、例えば直径２００ｍｍ、厚さ０．７２５ｍｍのシリコン（Ｓｉ）基板が用意され、その平滑清浄化された主面上に、蓄熱層２を介して無機フォトレジスト層３を形成する。
蓄熱層２は、無機フォトレジスト層３に対する露光時に、無機フォトレジスト層３の露光部に所要の温度上昇が生じるように、放熱を抑制させるものであり、例えば厚さ４０ｎｍのアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）をスパッタ等によって形成する。
この上に、無機フォトレジスト層３を、例えば７０ｎｍにスパッタ等によって形成する。
この無機フォトレジスト層３は、遷移金属を含む金属の不完全酸化物の、例えばタングステン（Ｗ）の不完全酸化物とモリブデン（Ｍｏ）の不完全酸化物による無機フォトレジストによって構成することができる。
【００１９】
図１Ｂに示すように、無機フォトレジスト層３に対して、最終的に得る記録媒体の情報記録に応じたパターン、すなわち発光波形をもって露光を行なう。この露光操作については後に詳述する。
この露光によって、図１Ｃに示すように、無機フォトレジスト層３の露光部において、限定的に、無機フォトレジスト層３を膨出させて突起４を発生させる。この突起４を発生させ得ること自体は知られているところであり、無機フォトレジスト層３の厚さ、露光時の条件、すなわち露光パワー、蓄熱層２による蓄熱効果等の選定によって、目的とする原盤として必要な形状、高さ等の選定ができる。すなわち、再生光の波長に応じた目的とする凹凸パターンの形成ができる。
このようにして、無機フォトレジスト層３の表面自体をもって記録情報に応じた凹凸
パターンとし、このようにして、凹凸パターンを有する記録媒体基板作製用の原盤５を得る。
すなわち、この原盤５の作製は、無機フォトレジストを用いるものであるが、これに対する現像処理は行わないものである。
【００２０】
このようにして作製した原盤５は、その表面の凹凸パターンが、金属酸化物によって構成されていて、機械的強度にすぐれている。したがって、この原盤５自体を記録媒体基板を形成するスタンパとすることができる。
あるいはこの原盤５から記録媒体基板を形成するスタンパを転写形成することができる。
【００２１】
次に、本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の実施形態例を説明する。
［記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の実施形態例］
図２Ａ〜Ｄは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の一例の各工程における概略断面図である。
このスタンパの製造においては、上述した本発明製造方法によって図１Ｃで示した原盤５を作製した。
そして、図２Ａに示すように、原盤５の凹凸パターン６上に、例えばニッケル（Ｎｉ）電鋳メッキによる第１のスタンパ材層７を被着形成する。
このスタンパ材層７を原盤５から剥離することによって図２Ｂに示すように、原盤５の凹凸パターン６の凹凸が反転転写された第１の凹凸パターン８が形成された第１のスタンパ９が形成される。
図２Ｃに示すように、第１のスタンパ９の第１の凹凸パターン８に、同様に、例えばニッケル（Ｎｉ）電鋳メッキによる第２のスタンパ材層１０を被着形成する。
図２Ｄに示すように、第２のスタンパ材層１０を、第１のスタンパ９から剥離することによって、第１の凹凸パターン８が反転転写された第２の凹凸パターン１１が形成された第２のスタンパ１２が形成される。
この第２のスタンパ１２は、原盤５の凹凸パターン８と同一パターンを有し、記録媒体基板を形成するスタンパとなる。
【００２２】
次に、本発明による記録媒体基板の製造方法を説明する。
この場合、図１Ｃで示した原盤５を作製し、これをスタンパとして用いるか、あるいは図２Ｄで示した第２のスタンパ１２を作製し、これをスタンパとして用いて、記録媒体基体を製造する。
【００２３】
［記録媒体基板の製造方法の実施の形態例１］
図３Ａ〜Ｃは、この形態例における基板の製造方法と、これによって得た記録媒体基板によって記録媒体、この例では光ディスクを製造する各工程の概略断面図である。
この実施形態例においては、図３Ａに示すように、上述した原盤５あるいは第２スタンパ１２によるスタンパを、射出成型スタンパ２０として射出成型金型（図示せず）に配置して、例えばポリカーボネート樹脂を射出成型する。
そして、この金型から成型体を取り出すことによって、図３Ｂに示すように、スタンパ２０の凹凸パターン６または８が反転転写された情報記録凹凸面２１が成型された記録媒体基板２２例えば光ディスク基板が成型される。
【００２４】
そして、図３Ｃに示すように、記録媒体基板２２の情報記録凹凸面２１が形成された面に、反射膜２３および光透過性カバー層２４が形成されて記録媒体２５例えばＲＯＭ（Read Only Memory）型の光ディスクが製造される。
【００２５】
上述した記録媒体基板の製造方法の実施の形態例１においては、射出成型によって記録媒体基板を形成した場合であるが、記録媒体基板の製造方法としては、上述した形態例１の方法に限定されるものではなく、スタンパを用いる種々の製造方法を採ることができる。例えばいわゆるナノインプリント法によって目的とする記録媒体基板を形成することもできる。この場合の実施の形態を例示する。
【００２６】
［記録媒体基板の製造方法の実施の形態例２］
図４Ａ〜Ｄは、この形態例における記録媒体基板の製造方法と、さらに、この記録媒体基板によって記録媒体、この例では磁気記録用パターンド記録媒体を製造する各製造工程の概略断面図である。
この実施形態例においては、図４Ａに示すように、記録媒体基板を構成する基板３１例えばガラス基板が用意され、その平滑清浄面に、例えば金属磁性材のスパッタによって磁性薄膜３８を成膜する。そして、この磁性薄膜３８上に、この磁性薄膜３８に対するエッチングのマスクとなる例えばポリマー樹脂をコーティングしてエッチングマスク層３２を全面的に形成する。
【００２７】
このエッチングマスク層３２上に、図４Ｂに示すように、前述した原盤５もしくは第２のスタンパ１２によるインプリント用スタンパ３３を、その凹凸パターン側で押圧し、スタンパ３３の突出部（突起）によって、エッチングマスク層３２に開口３４を形成する。この場合スタンパ３３の押圧によって完全な開口３４が貫通することができない場合には、開口部に残存するマスク材を、例えばＲＩＥ（Reactive Ion Etching）によって除去して開口３４を形成する。さらにこの開口３４を通じて図４Ｃに示すように、磁性薄膜３８の表面を所要の深さにエッチングすることによって、凹部３５を形成する。
【００２８】
次に図４Ｄに示すように、エッチングマスク層３２を除去すると、凹部３５による記録情報に応じた情報凹凸面３６が表面に形成された記録媒体３９、この例では磁気記録用パターンド記録媒体が形成される。
【００２９】
上述したように、本発明によれば、凹凸パターンを有する原盤を作製するに当たり、図１Ｂで示したように、無機フォトレジスト層３に対して記録情報に応じたパターン露光を行なうものであるが、この場合、この露光によって発生させる突起４が、最終的に形成する記録媒体における情報凹凸面を決定するものであり、再生信号特性を左右するものであることから、この無機フォトレジスト層３に対する露光時の露光量等の制御は重要である。
そこで、この露光制御の一例を説明する。図５は、この露光制御がなされる露光装置の一例の概略構成図である。
【００３０】
この露光装置は、図５に概略構成を示すように、無機フォトレジスト層３が形成された原盤基体１が載置されるターンテーブル５１と、無機フォトレジスト層３に対する例えば４０５ｎｍの波長光を照射するレーザ光源による光源部５２と、光学系５３と、フォトディテクタ５４とを有する。
光学系５３は、対物レンズ５５と、ビームスプリッタ７０と、コリメートレンズ５６と、集光レンズ５７等を有する。
【００３１】
ターンテーブル５１は、その半径方向に移行するようになされたステージ上に配置されスピンドルモータ５８によって回転駆動される。
光源部５２は、信号源５９からの供給信号によって駆動制御回路６０により、駆動制御される。
また、フォトディテクタ５４の出力側には、ローパスフィルタ６１とその出力を観察する例えばオシロスコープ６２とを有する。
なお、上述の構成において、図示しないが、対物レンズは、例えば２軸アクチュエータ等によって移動制御される機構を有し、フォーカシング制御等の制御がなされる。
【００３２】
この露光装置によって原盤基体１上の無機フォトレジスト層３に、先ず露光の条件出しのための、いわばテスト露光を、例えば一周分行う。この露光は、情報記録の変調方式、例えば１７ＰＰ変調による場合、この１７ＰＰ変調方式の信号(２Ｔ〜９Ｔのマーク信号）を、信号源５９から駆動制御回路６０に供給して、これによって光源部５２から光変調された露光レーザ光を出射させ、コリメートレンズ５６、ビームスプリッタ７０、対物レンズ５５を通じて、回転させた原盤基体１の無機フォトレジスト層３上に集光照射し、例えば１周分、上述した変調光によってパターン露光する。
【００３３】
この露光によって生じた突起４による凹凸パターンが最終的に得る記録媒体基体における情報記録の特性を決定する。そこでこの突起４による凹凸情報を再生することによって記録情報の再生特性を間接的に判断し、所望の再生特性が得られる露光条件出しを行う。
このために、露光光源部５２から上述した露光トラック上に上述した記録パワー、すなわち露光パワーより小さいパワーによる直流分と、戻り光によって光源部５２にノイズ発生等の影響が生じることを回避するために、例えば６００ＭＨｚの高周波を重畳させた信号によって変調させたレーザ光を、同様に、コリメートレンズ５６、ビームスプリッタ７０、対物レンズ５５を通じて、回転させた原盤基体１の無機フォトレジスト層３上の先に記録したトラック上を走査させる。そして、その戻り光を、すなわち、反射光をビームスプリッタ７０で分岐し、集光レンズ５７を通じてフォトディテクタ５４で受光させる。
【００３４】
このフォトディテクタ５４から検出された出力は、上述した直流分が高周波に重畳された出力であるが、この検出出力が、ローパスフィルタ６１に導入されることによって高周波成分が除去され、目的とする露光によって形成された突起による記録情報が再生された信号として取り出される。したがって、この再生信号を例えばオシロスコープ６２で観察することによって、再生の良否、ひいては露光による突起形状の良否を判断することができる。そして、これによって良好な突起形状が得られる露光条件を決める。
このようにして得た最適な条件出しされた露光条件をもって、目的とする情報記録の露光を行う。
このようにすれば、再生特性にすぐれた情報凹凸面を有する情報記録媒体基板の作製ができることになる。
【００３５】
図６は、本発明によって得た原盤から再生した再生信号のオシロロスコープ６２によるアイパターンの写真図である。
この場合、原盤は、Ｓｉ基板による原盤基体１上にアモルファスＳｉによる厚さ約８０ｎｍの蓄熱層２と、厚さ約７０ｎｍの無機フォトレジスト層３とをスパッタして作製した。
露光用レーザ光としては、波長４０５ｎｍで、ピークパワー約９ｍＷのレーザ光を用いた。このレーザ光を１７ＰＰ信号のピットマーク長（２Ｔ〜９Ｔ）に合せて（ｎ−１）Ｔ本の櫛型波形となるように変調した。
このときの櫛型波形のデューティーは約３０％でクロック周波数は６６ＭＨｚであった。このレーザ光を開口数（Ｎ．Ａ．）０．９５の対物レンズで無機フォトレジスト３上に集光し、線速度４．９２ｍ／ｓとなる回転数で原盤を回転させて露光した。
図６のアイパターンは、この条件で同心円上に露光した後に、平均パワーが約０．２ｍＷで約６００ＭＨｚの高周波変調が重畳された再生用レーザ光を用い、原盤から反射して戻ってきた強度信号をフォトディテクタ５４およびローパスフィルタ６１を介してオシロスコープ６２でモニターしたものである。
図７は、上述したと同様の膜構成による原盤において、上述した１７ＰＰの信号による露光に代えてＤＣ信号、つまり常時櫛型波形で変調しつつ、トラックピッチが３２０ｎｍをもって露光させた原盤の、トラック幅方向（半径方向）の断面の透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）画像である。このＴＥＭ写真をみても明らかなように、均一形状の突起の形成がなされている。このＴＥＭ像において最上層はＴＥＭ観察に際して表面保護を行うために形成したカーボン層である。
【００３６】
上述したように、本発明によれば、適切なパターン露光によって突起を発生させ、これを原盤における凹凸パターンとして現像処理が回避されることにより、その製造工程、作業が極めて簡潔化される。
通常の有機フォトレジストにおける現像処理に比し、無機フォトレジストにおいては、長時間を要するにもかかわらずこの現像処理を回避したことにより、作業時間の大幅な削減が図られるものである。
また、現像処理においては、現像液を用いることから、現像液の取り扱い、これに伴う煩雑な作業、制御、装置のメンテナンス等が回避され、これによる作業性が大きく改善され、また不良品の発生率の改善につながるものである。
【００３７】
したがって、この本発明による原盤の製造方法を適用して、この原盤から、スタンパを作製する本発明による記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および本発明による記録媒体基板の製造方法もまた大きな作業性および歩留りの向上が図られることになる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】Ａ〜Ｃは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体を製造する記録媒体基板作製用原盤の製造方法の一例の各工程における概略断面図である。
【図２】Ａ〜Ｄは、本発明による情報記録凹凸面を有する記録媒体基板作製用スタンパの製造方法の一例の各工程における概略断面図である。
【図３】Ａ〜Ｃは、記録媒体基板の製造方法と、さらに、この基板を用いて光ディスクを製造する一例の各工程の概略断面図である。
【図４】Ａ〜Ｄは、記録媒体基板の製造方法と、さらに、この基板を用いて磁気記録用パターンド記録媒体を製造する他の一例の各工程の概略断面図である。
【図５】本発明による原盤製造に用いる露光装置の一例の概略構成図である。
【図６】本発明によって得た原盤から再生した再生信号のオシロロスコープによるアイパターンの写真図である。
【図７】本発明による原盤の断面のＴＥＭ写真図である。
【符号の説明】
【００３９】
１……原盤基体、２……蓄熱層、３……無機フォトレジスト層、４……突起、５……原盤、６……凹凸パターン、７……第１のスタンパ材、８……第１の凹凸パターン、９……第２の凹凸パターン、１０……第２のスタンパ材層、１１……第２の凹凸パターン、１２……第２のスタンパ、２０……射出成型スタンパ、２１……情報記録凹凸面、２２……記録媒体基板、２３……反射膜、２４……光透過性カバー層、２５……記録媒体（光ディスク）、３１……基板、３２……エッチングマスク層、３３……インプリント用スタンパ、３４……開口、３５……凹部、３６……情報凹凸面、３７……記録媒体基板、３８……磁性薄膜、３９……記録媒体（磁気記録用パターンド記録媒体）、５１……ターンテーブル、５２……光源部、５３……光学系、５４……フォトディテクタ、５５……対物レンズ、５６……コリメートレンズ、５７……集光レンズ、５８……スピンドルモータ、５９……信号源、６０……光源部の駆動制御回路、６１……ローパスフィルタ、６２……オシロスコープ、７０……ビームスプリッタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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