(57)【要約】【課題】スイッチを磁石の磁力によって作動させて基板を検知する場合、そのスイッチを確実に作動させることができるようにした基板の検出装置を提供することにある。【解決手段】所定の位置に搬送された基板を検出する検出装置であって、  装置本体１１と、装置本体に中途部が揺動可能に支持された揺動部材２１と、揺動部材の一端部に回転可能に設けられ搬送される基板が当たることで揺動部材を揺動させる検知ローラ２５と、装置本体の揺動部材の他端部に対向する位置に長手方向を揺動部材の揺動方向と交差させて設けられ磁界の変化に応じて信号を出力するリードスイッチ３４と、揺動部材の他端部にリードスイッチの長手方向に沿って設けられ揺動部材とともに揺動することでスイッチに与える磁界を変化させる磁石２８とを具備する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の位置に搬送された基板を検出する検出装置であって、
装置本体と、
この装置本体に中途部が揺動可能に支持された揺動部材と、
この揺動部材の一端部に回転可能に設けられ搬送される上記基板が当たることで上記揺動部材を揺動させる検知ローラと、
上記装置本体の上記揺動部材の他端部に対向する位置に長手方向を上記揺動部材の揺動方向と交差させて設けられ磁界の変化に応じて信号を出力するスイッチと、
上記揺動部材の他端部に上記スイッチの長手方向に沿って設けられ上記揺動部材とともに揺動することで上記スイッチに与える磁界を変化させる磁石と
を具備したことを特徴とする基板の検出装置。
【請求項２】
上記揺動部材の他端部には、上記基板が当たっていないときにこの揺動部材を所定の角度に復元させるウエイトが設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板の検出装置。
【請求項３】
基板を処理液によって処理する処理装置であって、
上記基板が搬入されるチャンバと、
このチャンバ内に搬入された基板に処理液を供給する処理手段と、
上記チャンバ内に搬入された基板を検出する検出装置を具備し、
上記検出装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置。
【請求項４】
上記揺動部材を揺動可能に支持した部分に、上記処理液と同じ液体を供給する供給手段が設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板の処理装置。
【請求項５】
上記揺動部材の上記検知ローラを回転可能に支持した部分に、上記処理液と同じ液体を供給する供給手段が設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は処理液によって処理される基板がチャンバ内の所定の位置に搬送されてきたときにそのことを検出する検出装置及びその検出装置が用いられた処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえば、液晶表示装置の製造過程においては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成するということが行われている。回路パターンを形成する場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あるいはレジストの剥離処理などの処理が行われる。
【０００３】
これらの処理工程を行う場合、搬送ローラによって搬送される基板がチャンバ内に搬入されたならば、そのことを検出装置で検出し、その検出に基いて基板の搬送や処理液の供給などを制御するようにしている。
【０００４】
上記検出装置には種々のタイプがあり、その１つに磁石の磁界の変化に応じて信号を出力するスイッチ、たとえばリードスイッチを用いて基板を検出するということが行われている。
【０００５】
すなわち、上記検出装置は、上記基板の搬送路に一端部を突出させて揺動部材が揺動可能に設けられている。基板の搬送路に突出した揺動部材の一端部には検知ローラが設けられ、他端部には磁石が設けられている。この磁石に対向して上記リードスイッチが配置されている。
【０００６】
磁石がリードスイッチに対向しているときにはこの磁石の磁界がリードスイッチに作用しており、基板が搬送されてきて検知ローラに当たることで揺動部材が揺動すると、磁石がリードスイッチから離れて磁界が作用しなくなる。したがって、リードスイッチに作用する磁界の変化に応じて上記リードスイッチから信号が出力されるから、その信号に応じて基板を検出することができる。
【０００７】
揺動部材に磁石を設けてリードスイッチを作動させる場合、磁石の磁力が強いほど、リードスイッチを確実に作動させることができる。そこで、従来は図４(ａ)、（ｂ）に示すように揺動部材１の一端部に一対の磁石２を幅方向に並設するということが行われている。
【０００８】
すなわち、図４（ａ）のように一対の磁石２を互いの磁極、つまりＮ極とＳ極が逆向きになるよう揺動部材１の長手方向に沿って設けたり、図４（ｂ）のように一対の磁石２を互いの磁極が同じ向きになるよう設けるなどのことが行われていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、揺動部材１の一端部に一対の磁石２を並設すると、図４（ａ）の場合、Ｎ極からＳ極に向かう磁束によって形成される磁界Ａは一対の磁石２の中間部分で最も強くなるが、揺動部材１の揺動方向と直交する幅方向において強度が均一にならない。
【００１０】
図４（ｂ）の場合、Ｎ極からＳ極に向かう磁束によって形成される磁束Ｂはそれぞれの磁石２の端面の中心部に対応する部分で最大となるが、中心部から外れるにつれて弱くなるから、揺動部材１の幅方向において均一な強度の磁界が得られないということがある。
【００１１】
磁界の強さが揺動部材１の幅方向において不均一であると、揺動部材１とリードスイッチとの相対的な位置関係によってリードスイッチに作用する磁界の強さが異なることになる。
【００１２】
そのため、揺動部材1とリードスイッチの、上記揺動部材１の幅方向に対する位置決め精度が悪いと、揺動部材１が揺動していないときと揺動したときとで、リードスイッチに作用する磁石２の磁界の強さの変化がほとんどないということがある。そのような場合には、揺動部材１が揺動しても、リードスイッチが確実に作動しないということがあったり、誤作動するなどのことがある。
【００１３】
この発明は、揺動部材の揺動によってスイッチを確実に作動させることができるようにした基板の検出装置及びその検出装置を用いた基板の処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この発明は、搬送される基板を検出する検出装置であって、
装置本体と、
この装置本体に中途部が揺動可能に支持された揺動部材と、
この揺動部材の一端部に回転可能に設けられ搬送される上記基板が当たることで上記揺動部材を揺動させる検知ローラと、
上記装置本体の上記揺動部材の他端部に対向する位置に長手方向を上記揺動部材の揺動方向と交差させて設けられ磁界の変化に応じて信号を出力するスイッチと、
上記揺動部材の他端部に上記スイッチの長手方向に沿って設けられ上記揺動部材とともに揺動することで上記スイッチに与える磁界を変化させる磁石と
を具備したことを特徴とする基板の検出装置にある。
【００１５】
上記揺動部材の他端部には、上記基板が当たっていないときにこの揺動部材を所定の角度に復元させるウエイトが設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
この発明によれば、揺動部材の端部にスイッチの長手方向に沿って磁石を設けるようにしたから、揺動部材とスイッチとの相対的な位置関係にばらつきが生じても、スイッチに作用する磁界の強さをほぼ一定にすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、この発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１乃至図３はこの発明の一実施の形態を示し、図３は処理装置の概略的構成を示す。この処理装置はチャンバ１を有する。このチャンバ１の一端部には搬入口２が形成され、他端には搬出口３が形成されている。
【００１９】
上記チャンバ１の内部及び搬入口２と搬出口３の外側には搬送手段を構成する複数の搬送ローラ４が所定間隔で設けられ、この搬送ローラ４によって液晶表示パネルに用いられる未処理の基板Ｗが矢印で示すように上記搬入口２からチャンバ１内に搬入される。
【００２０】
搬入口２からチャンバ１内に搬入された基板Ｗは第１の検出装置５Ａによって検出され、搬出口３から搬出される基板Ｗは第２の検出装置５Ｂによって検出される。第１、第２の検出装置５Ａ，５Ｂは後述するように検出信号を制御装置３６に出力する。
【００２１】
制御装置３６は検出信号に基いて上記基板Ｗの処理を制御する。たとえば、チャンバ１内にはエッチング液、現像液或いは剥離液などの処理液を供給する複数のノズル６が設けられている。ノズル６には処理液の供給管７が接続されている。この供給管７には制御弁８が設けられている。
【００２２】
そして、上記制御装置３６は第１の検出装置５Ａからの検出信号によって上記制御弁８を開放して処理液を基板に供給し、第２の検出装置５Ｂからの信号によって上記制御弁８を閉じて処理液の供給を停止するようになっている。
【００２３】
なお、制御装置は第１、第２の検出装置５Ａ，５Ｂからの検出信号によって処理液の供給と停止でなく、処理液は常時供給しておいて、基板Ｗをチャンバ１内で所定回数往復駆動させてからチャンバ１内から搬出するなどの制御を行うこともでる。つまり、第１、第２の検出装置５Ａ，５Ｂによって基板Ｗを処理するために必要な種々の制御を行うことが可能である。
【００２４】
図１に示すように上記検出装置５Ａ，５Ｂは装置本体１１を備えている。この装置本体１１は基部１２の上面に一対の支持部１３が所定間隔で平行に立設されている。一対の支持部１３の上部には支持孔１４が厚さ方向に貫通して形成されている。各支持孔１４には支持ピン１５が挿入され、止めねじ１６によって固定されている。
【００２５】
上記支持ピン１５の先端部は錘状に形成されていて、これら支持ピン１６によって揺動部材２１が揺動可能に支持されている。つまり、揺動部材２１は上端に開放した溝部２２が形成されたＵ字形状をなしていて、その両側中途部にはキャップ２３が設けられている。このキャップ２３には末端が錘状となった孔２３ａが形成されている。
【００２６】
一対のキャップ２３の孔２３ａには上記支持ピン１５の先端部が挿入されている。支持ピン１６の先端部の錘状の角度はキャップ２３の孔２３ａの錘状の角度よりも小さく設定されている。それによって、支持ピン１６の先端は孔２３ａに点接触するから、揺動部材２１は支持ピン１６によって小さな抵抗で揺動可能に支持される。
【００２７】
揺動部材２１の上端部には検知ローラ２５が支軸２６によって回転可能に支持されている。つまり、検知ローラ２５は上端を上記搬送ローラ４の上端よりもわずかに上方に突出させて上記揺動部材２１に設けられている。それによって、上記搬送ローラ４によって搬送される基板Ｗは上記検知ローラ２５に当たり、上記揺動部材２１を揺動させるようになっている。
【００２８】
上記揺動部材２１の下端部にはウエイト２７が設けられ、このウエイト２７よりも下方には直方体状若しくは帯板状の磁石２８が長手方向を揺動部材２１の幅方向に沿わせて設けられている。揺動部材２１の下端部にウエイト２７を設けたことで、この揺動部材２１は外力が加わらないときにはほぼ垂直な姿勢を維持できるようになっている。
【００２９】
上記装置本体１１の基部１２には、この基部１２の幅方向、つまり一対の支持部１３の離間方向に沿って取付け孔３１が形成されている。この取付け孔３１は、上記一対の支持部１３の間に対応する部分が基部１２の上面に開放している。取付け孔３１には比較的硬質の樹脂によって形成されたチューブ３２が挿入され、止めねじ３３によって保持固定されている。上記チューブ３２には磁石２８の磁力に応じて信号を出力するスイッチ、たとえばリードスイッチ３４が設けられている。つまり、リードスイッチ３４は長手方向を揺動部材２１に設けられた磁石２８の長手方向に一致させて設けられている。
【００３０】
なお、スイッチとしてはリードスイッチ３４に限られず、磁界の変化に応じて信号を出力するものであればよく、たとえばホール素子や磁気抵抗素子などであってもよい。
【００３１】
図２に示すように、揺動部材２１の幅方向に長手方向を沿わせて設けられた磁石２８は長手方向一端がＳ極で、他端がＮ極となる。そのため、この磁石２８によって生じる磁界Ｃは、Ｎ極からＳ極に向かう磁束によってこの磁石２８長手方向、つまり揺動部材２１の幅方向に対してほぼ均一な強度となる。
【００３２】
上記リードスイッチ３４からはリード線３５が導出され、このリード線３５は上述した制御装置３６に接続される。上記検知ローラ２５によって搬送される基板Ｗが上記揺動部材２１に設けられた検知ローラ２５に当たって、上記揺動部材２１が揺動すると、揺動部材２１の下端部に設けられた磁石２８がリードスイッチ３４から離れ方向に変位する。それによって、リードスイッチ３４に作用する磁石２８の磁界Ｃが変化するから、その変化に応じた信号がリードスイッチ３４から上記制御装置３６に出力される。
【００３３】
上記装置本体１１の一対の支持部１３の外面にはそれぞれブラケット３７が設けられている。各ブラケット３７にはそれぞれ第１のノズル３８と第２のノズル３９とが設けられている。第１、第２のノズル３８，３９には基板Ｗを処理する処理液と同じ種類の処理液が供給される。そして、第１のノズル３８は揺動部材２１を支持した支持ピン１５に処理液を滴下供給し、第２のノズル３９は検知ローラ２５を回転可能に支持した支軸２６に処理液を滴下供給する。
【００３４】
第１、第２のノズル３８，３９は、基板Ｗの処理時だけでなく、処理が行なわれていない待機中であっても、各部に対して処理液を供給する。それによって、基板Ｗを処理した処理液が揺動部材２１の支持ピン１５による支持部分や支軸２６による検知ローラ２５の支持部分に付着しても、その処理液が回転部分で凝固するのを、各ノズル３８，３９から供給される処理液によって防止することができる。つまり、ノズル６から供給される処理液によって揺動部材２１が揺動し難くなったり、検知ローラ２５が回転し難くなるのを防止することができる。
【００３５】
このような構成の処理装置において、未処理の基板Ｗが搬送ローラ４によって搬送されてチャンバ１内に搬入口２から導入されると、基板Ｗの先端は第１の検出装置５Ａの検知ローラ２５に当たり、揺動部材２１を揺動させる。それによって、リードスイッチ３４に作用する磁石２８の磁界Ｃが揺動部材２１とともに変位するから、リードスイッチ３４から制御装置３６に信号が出力される。
【００３６】
リードスイッチ３４からの信号を受けた制御装置３６は、供給管７に設けられた制御弁８を開放し、ノズル６から処理液を搬送される基板Ｗに向けて供給する。それによって、基板Ｗは処理液によって処理される。
【００３７】
チャンバ１内を基板Ｗが搬送され、その先端が第２の検出装置５Ｂ検知ローラ２５に当たってその揺動部材２１を揺動させると、第２の検出装置５Ｂのリードスイッチ３４から制御装置３６に信号が出力される。それによって、上記ノズル６からの処理液の供給が停止されるとともに、基板Ｗが搬出口３から搬出される。つまり、チャンバ１内に基板Ｗがあるときだけ、その基板Ｗに処理液が供給される。
【００３８】
第１、第２の検出装置５Ａ，５Ｂの揺動部材２１の下端には磁石２８が長手方向をリードスイッチ３４の長手方向に一致させて設けられている。そのため、上記磁石２８によって形成される磁界Ｃの強度は図２に示すようにリードスイッチ３４の長手方向に対してほぼ均一になる。
【００３９】
そのため、リードスイッチ３４の取付け位置が第１、第２の検知装置５Ａ，５Ｂの揺動部材２１の下端部に対し、リードスイッチ３４の長手方向（揺動部材２１の幅方向）に多少ずれていても、そのずれによってリードスイッチ３４に作用する磁石２８の磁界Ｃの強さはほとんど変化しない。
【００４０】
したがって、揺動部材２１に対してリードスイッチ３４の位置決め精度が高精度に要求されるということがない。換言すれば、揺動部材２１の幅方向、つまり磁石２８の長手方向に対してリードスイッチ３４が多少ずれていても、揺動部材２１の揺動に応じてリードスイッチ３４から信号が確実に出力されるから、上記リードスイッチ３４が誤動作するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】この発明の一実施の形態の検知装置を示す側面図。
【図２】揺動部材とリードスイッチを拡大して示す図。
【図３】上記検知装置が用いられた処理装置の概略的構成図。
【図４】（ａ），（ｂ）はそれぞれ従来の揺動部材に設けられた磁石と磁界との関係を示す図。
【符号の説明】
【００４２】
１…チャンバ、５Ａ，５Ｂ…検知装置、１１…装置本体、２１…支持部材、２５…検知ローラ、２７…ウエイト、２８…磁石、３４…リードスイッチ、３６…制御装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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