(57)【要約】【課題】液晶表示装置の基板表面に十分均一に感光性樹脂組成物からなる感光層を形成可能なスペーサー用感光性エレメントを提供すること。【解決手段】本発明のスペーサー用感光性エレメント２０は、互いに対向配置された基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置において基板間の間隔を一定に保つためのスペーサーの形成に用いられる感光性エレメントであって、支持体フィルム２４と、支持体フィルム２４上に設けられた感光性樹脂組成物からなる感光層２２とを備え、支持体フィルム２４の膜厚が３５〜２００μｍであることを特徴とする。【選択図】図２
2007094362.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置された基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置の前記基板間の間隔を一定に保つためのスペーサーの形成に用いられる感光性エレメントであって、
支持体フィルムと、前記支持体フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物からなる感光層とを備え、
前記支持体フィルムの膜厚が３５〜２００μｍであることを特徴とするスペーサー用感光性エレメント。
【請求項２】
前記感光層の膜厚に対する前記支持体フィルムの膜厚の比率が７以上であることを特徴とする請求項１記載のスペーサー用感光性エレメント。
【請求項３】
前記感光性樹脂組成物は、
（ａ）バインダポリマーと、
（ｂ）１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、
（ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤と
を含有することを特徴とする請求項１又は２記載のスペーサー用感光性エレメント。
【請求項４】
前記感光性樹脂組成物が、
（ｄ）加水分解性基に結合したケイ素原子を有するシリル基含有有機化合物をさらに含有することを特徴とする請求項３記載のスペーサー用感光性エレメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置のスペーサーの形成に用いられる感光性エレメントに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶カラーテレビ、液晶カラーディスプレーを備えたノート型コンピュータ等、液晶表示装置はその用途がますます拡大している。これらの液晶表示装置は、透明電極等を設けたガラスなどの透明な基板と他の基板との間に１〜１０μｍ程度の間隙(ギャップ)を有している。この間隙に液晶物質を封入して形成される液晶層に対して、電極を通じて電界を印加し、液晶物質を配向させることにより画像が表示される。
【０００３】
このような液晶表示装置では、液晶層の厚さが部分的に変化し、表示面内全域において均一であるべき液晶層の厚さが不均一となる現象、つまりギャップの不均一が生じる場合がある。このようなギャップの不均一が生じると表示ムラやコントラスト異常などの画質低下が発生する。
【０００４】
これらの問題点を解消するため、一般に、液晶表示装置の基板間にはギャップを一定に保つためのスペーサーが設けられている。特許文献１〜４ではスペーサーを用いてギャップの不均一に係る問題を解消するための手段が種々提案されている。例えば、特許文献１には、画素電極を備えた基板上に紫外線硬化型の樹脂を塗布、乾燥後、露光・現像を行うことで柱状の液晶パネル用スペーサを形成する方法が記載されている。また、特許文献２には光重合体被膜で形成された柱状スペーサーを用いた液晶表示素子、特許文献３には表示パネルスペーサー用感放射性樹脂組成物が記載されている。また、特許文献４には、基板表面にスペーサーを形成するにあたり、感光性エレメントを使用することが記載されている。感光性エレメントは、支持体フィルムと該支持体フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物層からなり、この感光性エレメントを基板上の所定位置に配置後、感光性樹脂組成物層を基板表面に圧着し、さらに露光・現像を行うことで基板上にスペーサーが形成される。
【特許文献１】特開平３−８９３２０号公報
【特許文献２】特開平１０−１６８１３４号公報
【特許文献３】特開平１１−１３３６００号公報
【特許文献４】特開２００５−１０７１２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜３においてスペーサーの製造に用いられる感光性樹脂組成物は、基板上にスペーサーを形成する工程において、溶液の状態で使用されるため該溶液を基板上に膜厚が均一になるように塗布する必要がある上、さらに、これを乾燥する必要がある。これに対し、特許文献４の感光性エレメントを使用する方法は、基板上にスペーサーを形成する工程において該樹脂を塗布・乾燥する工程を省略でき且つ該樹脂を溶液の状態で管理する必要がないという利点を有している。  
【０００６】
ところで、本発明者らは、液晶表示装置において表示ムラ等の発生を十分に防止するために、スペーサーは十分な硬度又は機械的強度を具備している必要があると考えている。本発明者らは、これらの特性を向上させた感光性樹脂組成物からなる感光層が支持体フィルムの表面に設けられた感光性エレメントを用いて、液晶表示装置を製造した。しかしながら、その液晶表示装置は、まだ表示ムラ等が発生し、十分な表示品質を示すに至っていない。
【０００７】
本発明者らがその要因を鋭意検討した結果、液晶表示装置の基板に圧着した感光層はその膜厚の薄い部分と厚い部分とが混在し、膜厚が不均一になっていることを見出した。そして、感光層の膜厚が不均一になるのは、液晶表示装置の基板に感光性エレメントの感光層を圧着した際に、感光層の支持体フィルムとの界面に皺やムラが発生しているためであることを見出した。
【０００８】
そこで、本発明は、液晶表示装置の基板表面に圧着した際に、支持体フィルム及び／又は感光層における皺やムラの発生が十分に抑制されるスペーサー用感光性エレメントを提供する。
【０００９】
本発明者らは、圧着工程における皺やムラの問題について検討したところ、皺やムラの発生は、圧着工程で使用する圧着ロールの不均一な加重や歪みによるものであることを見出した。さらに、本発明者らは、上述の皺やムラの発生が、支持体フィルムの膜厚に起因するものであること、したがって、従来よりも膜厚が厚いものを使用することで上記問題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１０】
支持体フィルムは、主に、（１）感光層を圧着する際に圧着ロールなどの圧着手段が直接感光層と接触することを回避するため、（２）感光性エレメントをロール状に巻いて貯蔵する際に感光層同士が密着することを回避するため、に設けられている。したがって、支持体フィルムに求められる特性としては、圧着手段等に対して感光層を隔離する隔離性と共に、巻回可能で且つ圧着作業や感光層からの剥離作業を円滑に進行させるための柔軟性が挙げられる。従来、支持体フィルムの膜厚は感光層の特性に影響を与えないと考えられていたため、実際に採用される支持体フィルムの膜厚は、上述の（１）及び（２）を考慮して、１０〜２５μｍ程度である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
即ち、本発明は以下に関する。
（１）互いに対向配置された基板間に液晶が封入されてなる液晶表示装置の前記基板間の間隔を一定に保つためのスペーサーの形成に用いられる感光性エレメントであって、支持体フィルムと、前記支持体フィルム上に設けられた感光性樹脂組成物からなる感光層とを備え、前記支持体フィルムの膜厚が３５〜２００μｍであることを特徴とするスペーサー用感光性エレメント。
（２）前記感光層の膜厚に対する前記支持体フィルムの膜厚の比率が７以上であることを特徴とする項（１）記載のスペーサー用感光性エレメント。
（３）前記感光性樹脂組成物は、（ａ）バインダポリマーと、（ｂ）１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有することを特徴とする項（１）又は（２）記載のスペーサー用感光性エレメント。（４）前記感光性樹脂組成物が、（ｄ）加水分解性基に結合したケイ素原子を有するシリル基含有有機化合物をさらに含有することを特徴とする項（３）記載のスペーサー用感光性エレメント。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、液晶表示装置の基板表面に圧着した際に、支持体フィルム及び／又は感光層における皺やムラの発生が十分に抑制されるスペーサー用感光性エレメントを提供することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、同一要素には同一符号を用いるものとし、重複する説明は省略する。
【００１４】
まず、本発明に係るの感光性エレメントの説明に先立ち、図１を参照して、液晶表示装置の構成について説明する。図１は、本発明に係る感光性エレメントから製造されたスペーサーが装着された液晶表示装置の一例を示す模式断面図である。図１に示すように、液晶表示装置１は、対向させて配設された一対の基板部材６ａ、６ｂを有している。基板部材６ａは、電極２ａ、基板３ａ、緩衝材層４ａ及び偏光板５ａからなり、これらがこの順序で積層されている。また、基板部材６ｂは、電極２ｂ、基板３ｂ、緩衝材層４ｂ及び偏光板５ｂからなり、これらがこの順序で積層されている。さらに、基板部材６ａ、６ｂの電極２ａ、２ｂが形成されている側には、それぞれ配向層１７ａ、１７ｂが積層されている。そして、液晶層１８は、配向層１７ａ、１７ｂを介して、基板部材６ａ、６ｂによって挟持されている。そして、液晶層１８の周縁部であって基板部材６ａ、６ｂの間にはシール剤１３が設けられており、これにより基板部材６ａ、６ｂが結合されている。
【００１５】
このような液晶表示装置において、図１に示すように、スペーサー１０は液晶層１８の厚さを一定に保つために、液晶表示装置１の所定の位置に配設される。スペーサー１０は、高品位な画像を表示する観点から、透光部である表示ドット部以外の位置に配設されることが好ましい。また、スペーサー１０は、画面表示全領域にわたって均等な間隔で配設されることが好ましい。なお、液晶層の厚さの絶対値は、温度により変動するため、液晶層の厚さを一定に保つとは、ある温度で設計された液晶層の厚さが、液晶表示装置の表示画面全領域にわたって均一に保たれていることをいう。本発明に係る感光性エレメントから製造されるスペーサー１０は、一般に柱状スペーサー又は感光性スペーサーとよばれるものである。
【００１６】
図１に示す基板部材６ａ、ｂは、電極２ａ、ｂ、基板３ａ、ｂ、緩衝材層４ａ、ｂ及び偏光板５ａ、ｂからなっているが、必ずしもこれら全てが積層されている必要はない。また、基板部材６ａ、ｂの表面には、必要に応じて、さらに絶縁層、ブラックマトリックスの層、カラーフィルターの層、ＴＦＴ等が設けられていてもよい。
【００１７】
電極２ａ、ｂとしては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の透明電極、プリント基板等には銅の金属薄膜等を用いることができる。また、基板３ａ、ｂとしては、セラミック板、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。また、緩衝材層４ａ、ｂ及び偏光板５ａ、ｂについては、公知の緩衝材層及び偏光板を用いることができる。また、配向層１７ａ、ｂについても、公知の液晶配向剤を用いて形成することができる。
【００１８】
次に、本発明に係る感光性エレメントについて説明する。図２は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す部分断面図である。図２に示すように、感光性エレメント（スペーサー用感光性エレメント）２０は、支持体フィルム２４と支持体フィルム２４の一方面に設けられた感光性樹脂組成物からなる感光層２２とを備える。
【００１９】
感光性エレメント２０は、感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶媒に均一に溶解又は分散した溶液を、支持体フィルム２４上に塗布、乾燥し、感光層２２を形成することにより得られる。
【００２０】
支持体フィルム２４としては、膜厚が３５〜２００μｍのフィルムを使用する。フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等が挙げられる。支持体フィルム２４の膜厚が３５μｍ未満の場合には、感光性エレメント２０の感光層２２を基板上に圧着する際に、圧着ロールの不均一な加重や歪みによって、感光性エレメント２０に皺やムラ等が発生し、感光層２２の膜厚が不均一となる。この状態でスペーサーを形成し液晶表示装置を製造した場合、基板間の間隔が表示パネル面内で不均一となり表示ムラが顕著になる。他方、支持体フィルムの膜厚が２００μｍを超える場合には、支持体フィルムの柔軟性が低下するため圧着工程の作業性が低下する。
【００２１】
支持体フィルム２４は、単層であっても多層であってもよいが、本発明の目的を一層効果的且つ確実に達成する観点から単層であるとより好ましい。
【００２２】
なお、圧着により感光性エレメントに発生し得る皺やムラ等を更に十分に抑制する観点から、支持体フィルム２４の膜厚は、３８〜１５０μｍであることが好ましく、４０〜１２５μｍであることがより好ましい。また、支持体フィルム２４として、膜厚が１００〜１５０μｍ、より好ましくは１１０〜１５０μｍの上記材質からなるフィルムを採用することもできる。
【００２３】
感光性樹脂組成物を含む溶液を支持体フィルム２４表面に塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００２４】
上記方法により塗布された塗膜を乾燥させ、塗膜に含まれる溶媒を揮発させることにより感光層２２を形成する。乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、１分〜１時間とすることが好ましい。
【００２５】
感光層２２の膜厚は、スペーサーを形成した際の液晶表示装置の電気的特性又は液晶の配向特性を考慮して、０．１〜２０μｍとすることが好ましく、０．３〜１５μｍとすることがより好ましく、０．５〜１０μｍとすることが特に好ましい。
【００２６】
また、圧着工程において感光性エレメントに発生し得る皺やムラ等をより十分に抑制する観点から感光層２２の膜厚と支持体フィルム２４の膜厚との比率を所定の値以上とすることが好ましい。具体的には、感光層２２の膜厚に対する支持体フィルム２４の膜厚の比率は７以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましい。該比率が７以上であると、圧着工程において、例えば、圧着ロールの加重が不均一であったとしても、支持体フィルム２４が緩衝材として作用し、不均一な加重が十分に分散し、感光層２２における皺やムラ等の発生を十分に抑制できるためである。該比率が７未満であり且つ比較的厚い感光層２２を有する感光性エレメント２０を基板上に圧着する際には、圧着ロールの加重の不均一が比較的軽微であっても、感光層２２が厚いために感光層２２に薄い部分及び厚い部分が生じやすく皺やムラ等が発生しやすい傾向がある。他方、該比率が７未満であり且つ比較的薄い感光層２２を有する感光性エレメント２０を基板上に圧着する際には、支持体フィルム２４の緩衝材としての作用が不充分となり、感光層２２に皺やムラ等が発生しやすい傾向がある。
【００２７】
なお、感光層２２の膜厚と支持体フィルム２４の膜厚との比率は３０以下であることが好ましく、２５以下であることがより好ましい。該比率が３０を超えると、支持体フィルムの柔軟性が低下し、圧着工程の作業性が低下する傾向がある。
【００２８】
また、感光性エレメントの感光層２２の表面Ｆ２０に対向するように保護層がさらに積層されていてもよい。図３は、保護層２５が積層された感光性エレメント３０の部分断面図である。
【００２９】
保護層２５はフィルム状であることが好ましい。保護層２５として使用することのできるフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等からなる膜厚５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【００３０】
支持体フィルム２４、感光層２２及び保護層２５がこの順序で積層されたフィルム状の感光性エレメント３０は、ロール状に巻いて保管することができる。また、使用時にはロール状に巻かれた感光性エレメント３０を引き出し、適宜、保護層２５を剥して使用すればよい。
【００３１】
また、支持体フィルム２４表面に設けられた感光層２２の粘度は、感光層２２が流動せずに、支持体フィルム２４表面に保持された状態で保存するため、並びに、感光性エレメント２０の切断、配置等の作業性を高め、パターン形成を確実に行うために、３０℃において、１５〜１００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ＭＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ＭＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【００３２】
なお、感光層２２の粘度は、直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの感光性樹脂組成物（感光層２２を構成する感光性樹脂組成物）からなる円板状の層の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０−２Ｎの荷重を加えて厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。
【００３３】
次に、本発明に係る感光性エレメントの感光層２２に好適な感光性樹脂組成物を説明する。感光性樹脂組成物としては、（ａ）バインダポリマーと、（ｂ）１分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（ｃ）遊離ラジカルを生成する光重合開始剤とを含有するものが好適である。また、上記感光性樹脂組成物は、基板部材との密着性を向上させる観点から、上述の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分に加えて、（ｄ）加水分解性基に結合したケイ素原子を有するシリル基含有有機化合物を含有してもよい。以下、（ａ）バインダポリマー、（ｂ）光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）シリル基含有有機化合物のそれぞれについて説明する。
【００３４】
＜（ａ）バインダポリマー＞
（ａ）バインダポリマー（以下、必要に応じ「（ａ）成分」という）としては、例えば、ビニル単重合体やビニル共重合体が挙げられ、それらの重合体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらのビニル単量体は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００３５】
また、（ａ）成分としては、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、下記式（１）；
−ＣＯ−Ｏ−ＯＣ−        （１）
で表される２価の有機基等の官能基を有するビニル共重合体（プレポリマー）の側鎖に、少なくとも１個のエチレン性不飽和基と、オキシラン環、イソシアネート基、水酸基、及びカルボキシル基等の１個の官能基とを有する化合物を付加反応させて得られる、側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体等を使用することもできる。
【００３６】
さらに、上述した側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体の合成には必要に応じ、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、オキシラン環、上記式（１）で表される２価の有機基等の官能基を有するビニル単量体以外の前記ビニル単量体を共重合させることができ、これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００３７】
また、側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体中のエチレン性不飽和基濃度は、１．０×１０−４〜６．０×１０−３モル／ｇとすることが好ましく、２．０×１０−４〜５．０×１０−３モル／ｇとすることがより好ましく、３．０×１０−４〜４．０×１０−３モル／ｇとすることが特に好ましい。このエチレン性不飽和基濃度が１．０×１０−４モル／ｇ未満では、スペーサーとした場合に、表示品質確保のための硬度向上効果が十分に得られない傾向があり、６．０×１０−３モル／ｇを超えると、側鎖にエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性共重合体を製造する際にゲル化を起こす傾向がある。なお、エチレン性不飽和基濃度は原材料の仕込み量から決めることができる。
【００３８】
また、（ａ）成分は、後述する露光部以外の部分の感光層を除去して、スペーサーのパターンを現像するパターン現像工程において、パターンの現像に用いられる公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。
【００３９】
公知の現像液としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液、水又はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ水溶液などが挙げることができる。
【００４０】
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。なお、耐現像液性とは、現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質をいう。
【００４１】
また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、１６〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることが好ましい。この酸価が、１６ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。
【００４２】
（ａ）成分の重量平均分子量は、感光性樹脂組成物の耐熱性、塗布性、フィルム性、溶媒への溶解性及び上述した現像液への溶解性等の観点から、１０００〜３０００００とすることが好ましく、５０００〜１５００００とすることがより好ましい。上記の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算した値である。なお、フィルム性とは、フィルム状の形態を保持する特性をいう。
【００４３】
＜（ｂ）光重合性化合物＞
（ｂ）光重合性化合物（以下、必要に応じ「（ｂ）成分」という）としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタンモノマー、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、等が挙げられる。α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸等が挙げられる。
【００４４】
なお、本発明における「（メタ）アクリル酸」とは「アクリル酸」又はそれに対応する「メタクリル酸」を意味し、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」又はそれに対応する「メタクリレート」を意味し、「（メタ）アクリロイル基」とは「アクリロイル基」又はそれに対応する「メタクリロイル基」を意味する。
【００４５】
上記の多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物化合物、ウレタンモノマー、及び、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には以下の化合物が挙げられる。
【００４６】
多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート（すなわちペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート）、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４７】
ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、エチレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド，プロピレンオキシド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４８】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
【００４９】
上述の（ｂ）成分は１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００５０】
＜（ｃ）光重合開始剤＞
（ｃ）光重合開始剤（以下、必要に応じ「（ｃ）成分」という）としては、例えば、芳香族ケトン、キノン類、ベンゾインエーテル化合物、ベンジル誘導体、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、アクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物が挙げられる。
【００５１】
芳香族ケトンとしては、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（すなわちミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オンが挙げられる。キノン類としては、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンが挙げられる。ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルが挙げられる。ベンジル誘導体としては、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタールが挙げられる。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、２−（２−クロロフェニル）−１−〔２−（２−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル−１，３−ジアゾール−２−イル〕−４，５−ジフェニルイミダゾール等の２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。アクリジン誘導体としては、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタンが挙げられる。
【００５２】
（ｃ）成分は、常法によって合成してもよく、市販のものを入手してもよい。入手可能な（ｃ）成分としては、例えば、イルガキュア−３６９（商品名、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）、イルガキュア−９０７（商品名、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）が挙げられる。
【００５３】
また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸との組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【００５４】
活性光線に対する感度の向上及びパターン形成時の基板部材に対する密着性の向上の観点から、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体が好ましく、スペーサーとした場合の可視光線透過率の観点から２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オンがより好ましい。
【００５５】
上述の（ｃ）成分は１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００５６】
＜（ｄ）シリル基含有有機化合物＞
（ｄ）シリル基含有有機化合物（以下、必要に応じ「（ｄ）成分」という）は、加水分解性基に結合したケイ素原子を有するものであればよい。かかる化合物としては、例えば、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらのうち、感光性エレメントの保存安定性の観点から、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。なお、これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００５７】
感光性樹脂組成物における（ａ）成分の含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１０〜８０質量部とすることが好ましく、２０〜７５質量部とすることがより好ましく、２５〜７３質量部とすることが特に好ましく、３０〜７０質量部とすることが極めて好ましい。この含有量が１０質量部未満では、塗布性あるいは感光性エレメントを形成した場合のフィルム性が低下する傾向があり、８０質量部を超えると、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向がある。
【００５８】
感光性樹脂組成物における（ｂ）成分の含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、１０〜８０質量部とすることが好ましく、２０〜７５質量部とすることがより好ましく、２５〜７３質量部とすることが特に好ましく、３０〜７０質量部とすることが極めて好ましい。この含有量が１０質量部未満では、光硬化性あるいは耐熱性が低下する傾向があり、８０質量部を超えると、塗膜性あるいは感光性エレメントを形成した場合のフィルム性が低下する傾向がある。
【００５９】
感光性樹脂組成物における（ｃ）成分の含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部とすることが好ましく、０．１〜１５質量部とすることがより好ましく、０．１５〜１０質量部とすることが特に好ましい。この含有量が０．０５質量部未満では、光硬化が不十分となる傾向があり、２０質量部を超えると、感光層の表面付近の領域における活性光線の吸収率が増大し、内部の光硬化が不十分となる傾向がある。
【００６０】
また、感光性樹脂組成物には、光励起された光重合開始剤に水素を供与可能な化合物、又は光重合開始剤から発生したラジカルに水素を供与可能な化合物（以下、これらを総称して「水素供与性化合物」という。）を配合してもよい。水素供与性化合物は、米国特許３３９０９９６号明細書に「ｐｈｏｔｏｏｘｉｄａｎｔ」として開示されたものであってもよい。水素供与性化合物の具体例としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等のアルカノールアミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソブチル、４，４−ジメチルアミノベンゾフェノン等の芳香族アミン；２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール等のチオール化合物が挙げられる。
【００６１】
また、感光性樹脂組成物には、必要に応じて、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤等を（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００質量部に対して各々０．０１〜２０質量部程度含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００６２】
また、感光性樹脂組成物は、必要に応じて、１種の溶剤又は２種以上の混合溶剤に適当な配合割合で溶解して、粘度を適宜調整することができる。溶剤としては、アルコール類、グリコール、そのモノアルキルエーテル、ジアルキルエーテル、モノアセテート、ジアセテート及びアルキルエーテルアセテート、並びに、ケトン類、ヒドロキシケトン類、環状化合物類、カルボン酸エステル化合物、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
【００６３】
アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール、３−メトキシ−１−ブタノールが挙げられる。グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコールが挙げられる。グリコールのモノアルキルエーテルとしては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブが挙げられる。グリコールのジアルキルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテルが挙げられる。グリコールのモノアセテートとしては、例えば、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテートが挙げられる。グリコールのジアセテートとしては、例えば、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテートが挙げられる。グリコールのアルキルエーテルアセテートとしては、例えば、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルブチルケトン、ジブチルケトンが挙げられる。ヒドロキシケトン類としては、例えば、３−ヒドロキシ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノンが挙げられる。環状化合物類としては、例えば、トルエン、シクロヘキサン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、炭酸プロピレンが挙げられる。カルボン酸エステル化合物としては、例えば、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチルが挙げられる。
【００６４】
［スペーサー形成方法］
以下、感光性エレメント２０を用いて基板部材上にスペーサーを製造する方法について説明する。スペーサーは、（ｉ）圧着工程、（ｉｉ）活性光線照射工程、（ｉｉｉ）パターン現像工程及び（ｉｖ）加熱工程を経て基板部材上にスペーサーが形成される。図４は、図１に示したスペーサー１０の製造工程を模式的に示す工程断面図である。なお、感光層２２が加熱処理を必要としない感光性樹脂組成物からなる場合は、（ｉｖ）加熱工程は省略してもよい。
【００６５】
＜（ｉ）圧着工程＞
図４に示す基板部材４６ｂの電極２ｂを備える面に対し、感光層２２の表面Ｆ２０が対向するように感光性エレメント２０を配置後、これに押圧力を加え圧着する。なお、感光層２２に表面に保護層２５を有する感光性エレメント３０を用いる場合は、保護層２５を取り除いてから感光性エレメントの圧着工程を行う。圧着工程により感光層２２が基板部材の表面に密着していると、圧着せずに基板部材の表面に配置される場合と比較し、次の工程のために基板部材を移動するなどの場合に、感光性エレメントが所定の位置からずれたり、落下したりすることを防止でき作業性を向上できるという利点がある。
【００６６】
感光層２２を基板部材４６ｂ表面に圧着する場合、圧着温度は、１０〜１８０℃であることが好ましく、２０〜１６０℃であることがより好ましく、３０〜１５０℃であることが特に好ましい。圧着温度が１０℃未満では、感光層２２と基板部材４６ｂとの密着性が不十分となる傾向があり、１８０℃を超えると、感光層２２の構成成分が熱硬化又は熱分解する傾向がある。加熱しながら圧着する場合は、加熱手段を備えた圧着ロール等を使用することができる。
【００６７】
また、圧着時の圧着圧力は、線圧で５×１０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。この圧着圧力が、５×１０Ｎ／ｍ未満では、感光層２２と基板部材６ｂとの密着性が低下する傾向があり、１×１０５Ｎ／ｍを超えると、基板部材４６ｂが破壊される場合がある。
【００６８】
感光性エレメント２０を基板部材４６ｂ表面に圧着する圧着工程において、感光層２２と基板部材４６ｂとの密着性をさらに向上させる点から、基板部材４６ｂを予熱処理することが好ましい。予熱処理の予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。ただし、圧着工程において加熱圧着する場合は、必ずしも予熱処理は必要ではない。
【００６９】
圧着工程においては、感光層２２と支持体フィルム２４とが一体化した状態で基板部材上に感光層２２を圧着するため、後段の活性光線照射工程に先立ち、支持体フィルム２４を剥離し、感光層２２を露出させる必要がある。ただし、支持体フィルム２４が活性光線Ｌを透過する性質を有する場合は、支持体フィルム２４を剥離せずに活性光線照射工程を行い、活性光線照射工程後に支持体フィルム２４を剥離してもよい。
【００７０】
＜（ｉｉ）活性光線照射工程＞
（ｉ）圧着工程を経て基板部材４６ｂ上に圧着された感光層２２の所定部分に活性光線を照射する方法としては、例えば、基板部材上に積層された感光層２２にフォトマスク９を介して、公知の活性光線を照射する方法等が挙げられる。
【００７１】
活性光線照射工程にて用いられる活性光線Ｌとしては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００７２】
このようにして感光層２２の所定部分に活性光線を照射すると、露光部２２ａが形成される。ここで、感光層２２において、フォトマスク９によって活性光線Ｌが遮断された部分、すなわち、感光層２２の露光部２２ａ以外の部分を非露光部２２ｂとする。
【００７３】
＜（ｉｉｉ）パターン現像工程＞
（ｉｉ）活性光線照射工程で得られた構造体７の非露光部２２ｂを除去することにより露光部２２ａからなるパターンが現像され、パターンが形成された構造体８を得る。
【００７４】
非露光部２２ｂを除去してパターンを現像する方法としては、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法を用いることができる。
【００７５】
パターンの現像には、現像液が用いられる。このような現像液としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いることができる。上記の現像液の中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。
【００７６】
また、現像液に用いられるアルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩もしくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、上述した塩基の中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。
【００７７】
現像温度及び時間は、感光層の現像性に合わせて調整することができる。
【００７８】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることができる。
【００７９】
また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により中和処理する酸処理を行ってもよい。また、酸処理後に、さらに、感光層及び基板部材を水洗してもよい。
【００８０】
また、パターンが形成された構造体８において、露光部２２ａと基板部材６ｂとの密着性を向上させること、露光部２２ａの耐薬品性を向上させること等を目的に、パターン現像工程後、露光部２２ａに活性光線を照射してもよい。パターン現像工程後において活性光線を露光部２２ａに対して照射する方法としては、露光部２２ａに活性光線が有効に照射される方法であれば特に制限されない。具体的には、上述の活性光線照射工程と同様な活性光線及び照射条件にて行うことができる。
【００８１】
＜（ｉｖ）加熱工程＞
（ｉｉｉ）パターン現像工程を経て得られる露光部２２ａを加熱し、基板部材４６ｂ上にスペーサー１０が形成された構造体１１を得る。露光部２２ａの加熱方法としては、熱風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、露光部２２ａが有効に加熱される方法であれば特に制限されない。
【００８２】
加熱工程における加熱の温度は、１４０〜３００℃とすることが好ましく、１５０〜２９０℃とすることがより好ましく、１６０〜２８０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、１４０℃未満では、熱硬化の効果が不十分となる傾向があり、３００℃を超えると、露光部２２ａの構成成分が熱分解する傾向がある。
【００８３】
以上、本発明の感光性エレメントを用いて液晶表示装置用のスペーサーを製造する方法について説明したが、本発明による感光性エレメントは、液晶表示装置の用途に限定されるものではない。液晶表示装置以外の用途としては、例えば、エレクトロクロミックディスプレイや電子ペーパー等である。即ち、対向する基板部材間に流動性を有する物質の層を構成してなる表示装置等のスペーサーとして好適に使用することができる。
【実施例】
【００８４】
＜実施例１＞
（バインダポリマー溶液（ａ−１）の調製）
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１の（１−１）に示す成分を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温した。そして、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１の（１−２）に示す各成分の配合物を４時間かけて均一に滴下した。なお、バインダポリマーの重合開始剤として、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）を用いた。
【００８５】
上述の滴下後、８０℃±２℃で６時間フラスコ内の撹拌を続け、重量平均分子量が約２５０００のプレポリマーの溶液（固形分３５質量％）を得た。
【表１】
2007094362.tif 000003
【００８６】
さらに、撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた別のフラスコに、上記プレポリマーの溶液を仕込み、窒素ガス雰囲気下で７０℃に昇温した。そして、反応温度を７０℃±２℃に保ちながら、そのフラスコにイソシアン酸エチルメタクリレート２０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３５質量部及びジラウリン酸ジ−ｎ−ブチルスズ０．１質量部の配合物を２時間かけて均一に滴下した。
【００８７】
滴下後、７０℃±２℃で２時間撹拌を続け、重量平均分子量が約２６０００のエチレン性不飽和基を有するバインダポリマーの溶液（固形分３５質量％）（ａ−１）を得た。
【００８８】
（感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）の調製）
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を調製した。
【表２】
2007094362.tif 000004
【００８９】
（感光性エレメントの作製）
支持体フィルムとして、膜厚１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、この支持体フィルム上にコンマコーターを用いて感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を均一に塗布した。そして、支持体フィルム上に塗布された（Ｖ−１）の溶液を温度条件１００℃の熱風対流式乾燥機で１分間乾燥して溶剤を除去し、感光層を形成した。得られた感光層の膜厚は４μｍであった。本実施例においては、感光層の膜厚に対する支持体フィルムの膜厚の比率は、２５である。
【００９０】
次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの膜厚のポリエチレンフィルムを、保護層として張り合わせて、感光性エレメントを作製した。
【００９１】
（スペーサーの形成）
感光性エレメントの保護層であるポリエチレンフィルムを剥しながら、感光層が接するようにラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ガラス基板上に圧着した（圧着工程）。ガラス基板（厚さ１ｍｍ）としては表面に縦３００ｍｍ×横３００ｍｍのＩＴＯ膜（透明電極）が形成されたものを使用した。圧着条件は、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０5Ｐａとした。このようにして、透明電極及びガラス基板からなる基板部材上に、感光層及び支持体フィルムが積層された積層体を作製した。
【００９２】
圧着工程後において、基板部材上の感光層及び支持体フィルムの外観を紫外線カットの白色蛍光灯を用いて目視確認した結果、感光層及び支持体フィルムに皺及びムラは発生していなかった。
【００９３】
次いで、活性光線透過部が１００μｍピッチで直径１５μｍの円形にパターニングされたフォトマスク及び平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、得られた感光層に紫外線を像的に照射した。フォトマスクと感光層表面との間隔は１００μｍとした。また、紫外線照射は、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（ｉ線(波長365nm)における測定値）で行った。
【００９４】
次いで、０．５質量％の界面活性剤を含有した０．５質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて、３０℃で４０秒間スプレー現像して、露光部以外の部分を選択的に除去してスペーサーのパターンを形成した（パターン現像工程）。
【００９５】
パターン現像工程後において、スペーサーのパターンが形成された基板の外観についてナトリウムランプを用いて目視観察した結果、皺やムラ等の外観上の不具合は認められなかった。
【００９６】
（液晶表示装置の製造）
スペーサーを形成した基板に液晶配向剤をスピンコート法により塗布し、１８０℃で３０分間、ボックス型乾燥機で乾燥して膜厚０．０５μｍの塗膜を形成した。次いで、ナイロン製の布を巻きつけたロールを有するラビングマシンを用いて配向膜のラビング処理を行った。ラビング処理後の基板の外縁に、ガラスファイバー入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した。該基板と対向基板（ラビング処理された配向膜を有し且つスペーサーが形成されていない基板）とをそれぞれの配向膜が対向し且つラビング方向が直行するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。
【００９７】
次いで、対向する上記一対の基板間に、ネマティック型液晶を注入した後、エポキシ樹脂接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、基板の外側両面に偏向方向が各基板の液晶配向膜のラビング方向と一致するように偏光板を張り合わせ、液晶表示装置を製造した。得られた液晶表示装置に電圧を印加し、表示品質を評価したところ、画面に表示ムラが認められず良好な表示品質であった。
【００９８】
＜実施例２＞
支持体フィルムとして、膜厚５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用して感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を支持体フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布後、温度条件１００℃の熱風対流式乾燥機で乾燥する時間を３分としたことの他は、実施例１と同様にして感光性エレメントを作製した。なお、得られた感光性エレメントの感光層の膜厚は４μｍであった。本実施例においては、感光層の膜厚に対する支持体フィルムの膜厚の比率は、１２．５である。
【００９９】
実施例２で作製した感光性エレメントを用いて実施例１と同様にして基板上にスペーサーを形成した。この際、圧着工程後において、基板部材上の感光層及び支持体フィルムの外観を紫外線カットの白色蛍光灯を用いて目視確認した結果、感光層及び支持体フィルムに皺及びムラは発生していなかった。また、パターン現像工程後において、スペーサーのパターンが形成された基板の外観についてナトリウムランプを用いて目視観察した結果、皺やムラ等の外観上の不具合は認められなかった。
【０１００】
また、上記基板を用いて実施例１と同様にして液晶表示装置の製造を製造し、表示品質を評価したところ、画面に表示ムラが認められず良好な表示品質であった。
【０１０１】
＜比較例１＞
支持体フィルムとして、膜厚１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用したことの他は、実施例２と同様にして感光性エレメントを作製した。なお、得られた感光性エレメントの感光層の膜厚は４μｍであった。本比較例においては、感光層の膜厚に対する支持体フィルムの膜厚の比率は、４である。
【０１０２】
比較例１で作製した感光性エレメントを用いて実施例１と同様にして基板上にスペーサーを形成した。この際、圧着工程後において、基板部材上の感光層及び支持体フィルムの外観を紫外線カットの白色蛍光灯を用いて目視確認した結果、感光層及び支持体フィルムに無数の皺が発生していた。また、パターン現像工程後において、スペーサーのパターンが形成された基板の外観についてナトリウムランプを用いて目視観察した結果、圧着工程後に確認された皺と同様の皺が認められた。
【０１０３】
また、上記基板を用いて実施例１と同様にして液晶表示装置の製造を製造し、表示品質を評価したところ、画面に表示ムラが認められた。
【０１０４】
上記実施例及び比較例で作製した感光性エレメント及びその評価結果について、表３にまとめる。
【表３】
2007094362.tif 000005
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】液晶表示装置の模式断面図である。
【図２】本発明にかかる感光性エレメントの一実施形態を示す模式部分断面図である。
【図３】本発明にかかる感光性エレメントの他の実施形態を示す模式部分断面図である。
【図４】スペーサーの製造方法の工程断面図である。
【符号の説明】
【０１０６】
１…液晶表示装置、２…電極、３…基板、４…緩衝材層、５…偏光板、６ａ，６ｂ，４６ｂ…基板部材、１０…スペーサー、１７…配向層、１８…液晶層、２０，３０…感光性エレメント（スペーサー用感光性エレメント）、２２…感光層、２２ａ…露光部、２２ｂ…非露光部、２４…支持体フィルム、２５…保護層、Ｌ…活性光線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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