(57)【要約】【課題】大型ＰＤＰの背面板を効率よく、かつ露光した各領域に色差が生じない製造方法を提供する。【解決手段】（Ａ）基板上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して塗布膜を得る工程、（Ｂ）該塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程、（Ｃ）該露光した塗布膜を熱処理する工程、（Ｄ）該熱処理した塗布膜を現像してパターン形成する工程、および（Ｅ）該パターン形成された塗布膜を焼成することにより隔壁を形成する工程を有するディスプレイ用部材の製造方法とする。【選択図】図１
2007265853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）基板上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して塗布膜を得る工程、
（Ｂ）該塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程、
（Ｃ）該露光した塗布膜を熱処理する工程、
（Ｄ）該熱処理した塗布膜を現像してパターン形成する工程、および
（Ｅ）該パターン形成された塗布膜を焼成することにより隔壁を形成する工程
を有するディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項２】
前記工程（Ｂ）において、２種以上のフォトマスクを用いて露光する請求項１記載のディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項３】
前記工程（Ｄ）において現像を無機アルカリ水溶液で行うことを特徴とする請求項１または２記載のディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項４】
前記工程（Ｂ）において最初の露光開始から最後の露光終了までを５分以内に行い、前記工程（Ｄ）において現像を有機アルカリ水溶液で行う、請求項１または２に記載のディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項５】
前記工程（Ｂ）の後に、さらに
（Ａ’）前記露光した塗布膜上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して第２の塗布膜を得る工程、
（Ｂ’）前記第２の塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程
を行い、その後に前記工程（Ｃ）、前記工程（Ｄ）および前記工程（Ｅ）を行う請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ用部材の製造方法により製造されたプラズマディスプレイ用背面板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用部材の製造方法に関する。具体的にはフォトマスクを用いてパターン形成する工程を含むプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の背面板用基板等のディスプレイ用部材の製造に好適な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
次世代大型ディスプレイとして注目を集めているＰＤＰは、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスを封入した密閉空間の電極対に電圧を印加し放電を発生させ、その放電現象を可視化することにより情報を表示する表示デバイスである。そのようなＰＤＰを構成する部材において、大きなコストを占める部材として背面板があげられる。
【０００３】
背面板は、少なくとも基板上に形成された電極、誘電体層、隔壁およびＲＧＢの蛍光体層から構成される。また最近では、ストライプ状の主隔壁と垂直方向に補助隔壁が設けられている場合も多い。いずれの形状の隔壁を有する背面板においても、電極パターンおよび隔壁パターンの形成に感光性ペースト法（フォトリソグラフィー法）を用いることで、高精細な背面板が安定して生産できるようになってきたが、近年のＰＤＰにおいては、さらなる大型化、画素数の高密度化が望まれている。
通常、背面板をパターン形成する際、背面板とほぼ同等の大きさのフォトマスクを用い、背面板全面を一度に露光してパターン形成を行う。そのため、大型のＰＤＰ（例えば１００インチ規模など）を製造する際には、相当の大きさのフォトマスクを用いなければならず、コストが非常に高くなってしまい、また取り扱いも困難であるという問題が生じていた。このようなフォトリソ工程において、パターンを分割して露光する方法は、半導体の分野などでよく知られている。しかしながら、これらはディスプレイ用部材の製造方法に関するものではなく、また、露光時に２つ以上のエリアに分割露光したときのつなぎ合わされた部分の、機械精度誤差に基づく、わずかなズレや、マスクのわずかな開口率の違いにより、パネル化した際に人間の目にも視認され、表示品質を大きく低下させていた。（例えば特許文献１、２参照）
【特許文献１】特許公開平５−１２７１８６号公報
【特許文献２】特許公開２００１−７７０００
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、前記課題を解決する方法として提案されたもので、大型のディスプレイ用部材を効率よく、かつ露光した各領域に色差が生じないだけでなく、各領域間の境目がわからないようなディスプレイ用部材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決することを目的とし、本発明は、
（Ａ）基板上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して塗布膜を得る工程、
（Ｂ）該塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程、
（Ｃ）該露光した塗布膜を熱処理する工程、
（Ｄ）該熱処理した塗布膜を現像してパターン形成する工程、および
（Ｅ）該パターン形成された塗布膜を焼成することにより隔壁を形成する工程
を有するディスプレイ用部材の製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によると、感光性ペースト塗布膜をフォトマスクを用いて、一部分ずつ複数回に分けて全面を露光させることにより、大型のフォトマスクを用いて一度に露光を行なった場合と比較して安価にＰＤＰを製造することができる。また、ＰＤＰの駆動時において、各露光工程の境界部分が目立たず、かつ露光した各領域に色差が生じないＰＤＰを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明は、
（Ａ）基板上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して塗布膜を得る工程、
（Ｂ）該塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程、
（Ｃ）該露光した塗布膜を熱処理する工程、
（Ｄ）該熱処理した塗布膜を現像してパターン形成する工程、および
（Ｅ）該パターン形成された塗布膜を焼成することにより隔壁を形成する工程
を有するディスプレイ用部材の製造方法に関する。
【０００８】
本発明においてＰＤＰ用部材としての背面板に用いる基板としては、ソーダガラス、ＰＤＰ用の耐熱ガラスなどを用いることができ、具体的には旭硝子（株）製のＰＤ２００や日本電気硝子（株）製のＰＰ８などがあげられる。
【０００９】
工程（Ａ）で用いる感光性ペーストは、無機微粒子を含有する。該感光性ペーストに含まれる無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。
【００１０】
無機微粒子の粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。また、１μｍ以上とすることで、ペーストの粘度調整を容易にすることができる。さらに、比表面積０．２〜３ｍ２／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において特に好ましい。
【００１１】
本発明のディスプレイ用部材の製造方法によって隔壁を形成する場合、隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃のガラス微粒子を６０重量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上のガラス微粒子やセラミック微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、４０重量％以下が好ましい。用いるガラス微粒子としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０−７〜９０×１０−７（／℃）、さらには、６０×１０−７〜９０×１０−７（／℃）のガラス微粒子を用いることが好ましい。
【００１２】
ガラス微粒子としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラスが好ましく用いられる。
【００１３】
酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配合されていることが好ましい。３重量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００１４】
酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。
【００１５】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００１６】
酸化ビスマス：１０〜４０重量部
酸化ケイ素：３〜５０重量部
酸化ホウ素：１０〜４０重量部
酸化バリウム：８〜２０重量部
酸化アルミニウム：１０〜３０重量部
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００１７】
酸化リチウム：２〜１５重量部
酸化ケイ素：１５〜５０重量部
酸化ホウ素：１５〜４０重量部
酸化バリウム：２〜１５重量部
酸化アルミニウム：６〜２５重量部
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【００１８】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下である。
【００１９】
本発明のディスプレイ用部材の製造方法に用いる感光性ペーストは上述の無機微粒子以外に、感光性有機成分、有機溶媒を含む有機成分を含有する。
【００２０】
感光性有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、さらに、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤を含有する。
【００２１】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができる。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００２２】
感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素二重結合を有する化合物のうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これらのモノマーの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などがあげられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。
【００２３】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどがあげられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。
【００２４】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。
【００２５】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどがあげられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。
【００２６】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００２７】
感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し製造される。
【００２８】
また、塗布後の乾燥は、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ炉などを用いることができる。
【００２９】
工程（Ｂ）における露光で使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などがあげられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いることが好ましい。
【００３０】
本発明においては、２種以上のフォトマスクを用い工程（Ｂ）を行うことが好ましい。具体的には、塗布膜全面を複数の領域に分け、それぞれの大きさに応じたフォトマスクを介して各領域を逐次露光していくことによって、最終的に塗布膜全面を露光する。これにより、大型のフォトマスクを用いて一度に露光を行なった場合と比較して、大型のマスクを取り扱う必要のなくなることから、コストおよび取り扱いの点から好ましい。
【００３１】
工程（Ｂ）において、フォトマスクと感光性ペーストの塗布膜表面との距離（ギャップ設定値）は、５０〜５００μｍ、さらには７０〜４００μｍに調整することが好ましい。ギャップ設定値を５０μｍ以上とすることにより、感光性ペースト塗布膜とフォトマスクの接触を防ぎ、双方の破壊や汚染を防ぐことができる。また５００μｍ以下とすることにより、適度にシャープなパターニングが可能となる。なお、全部でｎ回の露光を行う場合、ｋ−１回目およびｋ回目の露光におけるギャップ設定値をそれぞれｈｋ−１およびｈｋとし、フォトマスクのスリット幅をｐとすると、ｋ−１回目およびｋ回目で形成される隔壁パターン形状差が２０％×ｐ以内となるようｈｋ−１およびｈｋを可変させることが好ましい（ｋは２≦ｋ≦ｎを満たす整数）。ｋ−１回目およびｋ回目で使用するマスクの線幅を同じとした場合でも、マスクのロットや、露光機の位置精度限界などにより、ｈｋ−１およびｈｋを同じとした場合でも隔壁パターン形状に差が生じることが多いためである。隔壁パターン形状差が２０％×ｐ以上である場合、この形状差によりつなぎ目が確認できるようになり、ＰＤＰを駆動したときにおいて露光した各領域に色差が生じる傾向がある。
【００３２】
ところで、工程（Ｂ）においては、各露光領域の境界部分に形成される隔壁の間隔とその他の隔壁の間隔との間で差異が生じやすく、その結果、ＰＤＰを駆動させたときに該境界部分が目立ってしまう傾向がある。そこで、このような問題を解消するため、本発明においては工程（Ｂ）における露光工程を以下のようにして行なうことが好ましい。
【００３３】
図１に工程（Ｂ）の実施の手順を示す。まず、光源から発する光により、フォトマスク２a を介して、k−１回目の露光を基板１に対して行う。露光後、基板１には、フォトマスク２aの有するスリットによる隔壁パターンが形成される。次にフォトマスク２ｂを介して、ｋ回目の露光を基板１に対して同様に行う。これを所定回数繰り返し基板上にパターンを形成する。
【００３４】
本実施の第１の形態では、例えば図３（ａ）および図３（ｂ）に示すようなパターンを持つ、フォトマスク５a、５ｂを用い、ｋ−１回目のフォトマスク５aの最端部に位置するスリットＩと、ｋ−１回目およびｋ回目の露光領域の境界部分を介してスリットＩに隣接するｋ回目のフォトマスク５bの最端部に位置するスリットIIとの距離をｄ、フォトマスクにおけるスリット間隔をｌとした場合、ｄおよびｌの差がなるべく小さくすることにより、前記境界部分に形成される隔壁の間隔が調整される。ｄおよびｌの差は２０％×ｐ以内であることが好ましい。ｄおよびｌの差が２０％×ｐより大きいと、基板１における露光領域の境界部分に形成される隔壁の間隔とその他の隔壁の間隔との差が大きくなり、ＰＤＰを駆動させたときに各露光領域の境界部分が目立つ傾向がある。
【００３５】
また工程（Ｂ）において、ｋ−１回目およびｋ回目の露光時に、図２に示すようにパターン中心軸上２点でアライメントをとることが好ましい。パターン中心軸上２点でアライメントをとることで、前記ｄおよびｌの差を抑制することが可能となる。
【００３６】
次に工程（Ｂ）の第２の実施の形態を示す。本実施の形態においては、ｋ−１回目およびｋ回目の露光領域が重複部分を有しており、該重複部分における隔壁が、ｋ−１回目およびｋ回目のフォトマスクの各スリットを介した露光部分がそれぞれ交互に並ぶことにより形成される。以下に具体的に説明する。
【００３７】
フォトマスクのスリット形状としては、たとえば図４（ａ）および図４（ｂ）に示すようなものがあげられるが本発明はこれらに限定されるものではない。図４（ａ）において、フォトマスク６ａは、スリット間隔が最終的に基板上に形成される隔壁の間隔と同一であるスリットと、つなぎ目重複部分にあたるスリット間隔が最終的に基板上に形成される隔壁の間隔より広いスリットによって構成される。なお、本実施の形態では、つなぎ目重複部分のスリットの間隔は、最終的に基板上に形成される隔壁の間隔の２倍となっている。
【００３８】
次に隔壁パターンが形成される手順を説明する。まず、光源から発する光によりフォトマスク６aを介し、基板に対して、ｋ−１回目の露光を行う。露光後、基板には、フォトマスク６aが有する隔壁パターン形成される。次にｋ回目の露光を行なう際のフォトマスク６bの位置は、ｋ−１回目の露光によって形成された、つなぎ目重複部において、隔壁間の幅が２倍となっている隔壁パターン上にに、フォトマスク６ｂのつなぎ目重複部分のスリットがｋ回目の露光で生成した隔壁パターンと交互になるようにし、かつ、スリット６ｂは、露光していない部分に重なるように位置を合わせ露光する。露光後、基板には、ｋ−１回目およびｋ回目の露光の重複部分において、各露光工程によって形成された隔壁パターンが交互に形成され、全体としては全て等間隔の隔壁パターンが形成される。
【００３９】
次に工程（Ｂ）の第３の実施の形態を示す。本実施の形態では、ｋ−１回目およびｋ回目の露光領域が重複部分を有しており、該重複部分における隔壁が、ｋ−１回目およびｋ回目のフォトマスクの各スリットを介した露光部分がそれぞれ隣接一体化することにより形成される。以下に具体的に説明する。
【００４０】
フォトマスクのパターン形状としては、たとえば図５（ａ）および図５（ｂ）に示すようなものがあげられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。図５（ａ）および図５（ｂ）において、フォトマスク７ａおよびフォトマスク７ｂのスリットの形状は、最終的に形成される隔壁と同一であるスリットと、つなぎ目重複部分にあたるスリット幅が一定の割合で小さくなるスリットによって構成される。
【００４１】
次に隔壁パターンが形成される手順を説明する。まず、光源から発する光によりフォトマスク７aを介し、基板に対して、ｋ−１回目の露光を行う。露光後、基板には、フォトマスク７aが有するスリットによる隔壁パターンが形成される。ここで、隔壁パターン７ａを形成するつなぎ目重複部分のスリットをそれぞれＡ、Ｂ、Ｃとする。次にｋ回目の露光を行なう際のフォトマスク７ｂの位置は、隔壁パターン７ａの上にスリット７ｂが重なるように位置を合わせ、スリット７ｂによる露光部分Ａ’、Ｂ’、Ｃ’がそれぞれスリット７aによる露光部分Ａ、Ｂ、Ｃと隣接一体化するように露光する。その結果、基板上における、ｋ−１回目およびｋ回目の露光の重複部分には、隔壁パターン７ａおよび７ｂにより等しい幅の隔壁が形成され、全体としても全て等しい幅の隔壁パターンが形成される。
【００４２】
なお、本実施の形態のように、ｋ−１回目およびｋ回目の露光領域の重複部分におけるフォトマスクの各スリット幅を一定の割合で小さくすることが好ましい。各スリット幅を一定の割合で小さくし、重ね合わせることでＰＤＰ駆動時における露光した各領域の境目がわからないようにすることが可能となる。
【００４３】
工程（Ｃ）において露光した塗布膜を熱処理する温度としては、５０〜３００℃が好ましく、８０〜２００℃がより好ましい。温度が５０℃より低いと、熱処理の効果が小さく、隔壁パターンが断線する割合が増加する傾向がある。一方、温度が３００℃より高いと、熱処理の効果が強くなりすぎ、パターニング不良や形状ばらつきが生じやすい傾向がある。
【００４４】
工程（Ｄ）における露光済み塗布膜の現像は、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行なう。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行なうことができる。
【００４５】
現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機アルカリなどが使用できるが、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などの無機アルカリを用いることが好ましい。
【００４６】
本発明において、工程（Ｄ）における現像液は、無機アルカリ水溶液を用いることが好ましい。無機アルカリを用いた場合はパターニングした隔壁中に残った現像液の残存成分が、焼成時に変色しにくく、各露光面の境界部分が色目差を抑えることができる。
【００４７】
現像液を有機アルカリ水溶液とした場合、最初の露光開始から最後の露光終了までを、５分以内で行うことが好ましい。露光の時間差が５分以上であると、露光部への現像液の浸透性に差が生じ、隔壁中に残った残存成分により境界部分が目立ちやすくなり、ＰＤＰを駆動したときにおいて露光した各領域に色差が生じる傾向がある。
【００４８】
現像液中の有機アルカリまたは無機アルカリの濃度は、通常、０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行なうことが工程管理上好ましい。
【００４９】
工程（Ｅ）におけるパターン形成された塗布膜の焼成は、焼成炉にて行なわれる。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行なうと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行なうと良い。
【００５０】
本発明は、前記工程（Ｂ）の後、さらに
（Ａ’）前記露光した塗布膜上に感光性ペーストを塗布し、乾燥して第２の塗布膜を得る工程、
（Ｂ’）前記第２の塗布膜の被露光部の一部をフォトマスクを介して露光する操作を複数回行い、被露光部全体を露光する工程
その後に前記工程（Ｃ）、前記工程（Ｄ）および前記工程（Ｅ）を行う場合においても、有用である。このように塗布、乾燥する工程と露光の工程を複数回行うことによって、位置により高さの異なるパターンを形成する場合であっても、大型のディスプレイ用部材を効率よく製造することができ、かつ位置による色差を有さないディスプレイ用部材を簡単に製造することができる。
【００５１】
形成された隔壁パターンのピッチは基板サイズと画素数によって規定される。例えば、ハイビジョンタイプ（ＨＤまたはＸＧＡ）では、パネルの横方向の画素数は１０２４〜１３６６かつＲＧＢ３色で３０７２〜４０９８セルとなる。よって、基板サイズが４２インチの場合は、横方向の寸法は約９００ｎｍ、５０インチの場合は１１００ｍｍであるため、それぞれピッチは約０．３〜０．３５ｍｍとなる。また、他にも標準精細度（ＳＤまたはＶＧＡ）は８５２画素、フルスペックハイビジョン（ＦＨＤ）は１９２０画素であり、それぞれの画素数に応じたピッチとすればよい。
【実施例】
【００５２】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００５３】
ガラス基板ＰＤ２００上に、感光性銀ペーストを用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て線幅５０μｍ、厚み３μｍ、ピッチ２５０μｍのアドレス電極を形成した。
次に、低融点ガラス粉末、酸化チタン粉末、エチルセルロース、テルピネオールを混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って誘電体層を形成した。
誘電多層上に感光性の隔壁ペーストを塗布、乾燥させて乾燥塗布膜を形成した。用いた感光性の隔壁ペーストの組成は、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化バリウムが主成分である平均粒径２μｍのガラス粉末５２重量％、メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（重量組成比６０／４０、重量平均分子量３２０００）１２重量％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１２重量％、ベンゾフェノン１．９４重量％、１，６−ヘキサンジオール−［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］０．０５重量％、ベーシックブルー７を０．０１重量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２重量％からなる。塗布にはダイコーターを用いて、乾燥後の厚みが１８０μｍとなるように塗布した。隔壁ペーストの乾燥にはＩＲ炉を用い、基板温度を１００℃に保持した状態で３０分間乾燥させた。
形成塗布膜に対し、パターンを基板中央つなぎ目で重複無く半分であるフォトマスク、または中央部で重複部を有し重複部の露光部分が交互であるフォトマスク、または中央部で重複部を有し重複部の露光部分が隣接一体化としたフォトマスクを用い各々露光を行った。各実施例のフォトマスクのスリット幅、スリット間隔ｌ、スリット間隔差｜d-l｜、露光時間差、隔壁形状差、露光後の熱処理温度などについて表１に示す。
【００５４】
【表１】
2007265853.tif 000003
【００５５】
上記のようにして形成した露光済基板を表２に示すアルカリ水溶液にて現像し、隔壁パターンを形成した。次にパターン形成終了済み基板を５６０℃で１５分間焼成を行った。このようにして得られた隔壁間に、焼成後厚みが２５μｍとなるようにディスペンサー法により蛍光体を塗布し、５００℃で１０分間焼成を行った。かくして得られた背面板と別途作成した前面板を合わせてプラズマディスプレイパネルを作成し、表示品質を評価した。評価結果を表２に示す。
【００５６】
【表２】
2007265853.tif 000004
【００５７】
実施例１〜８で得られた背面板を用いたＰＤＰでは、つなぎ目部分に色差が無く良好な表示特性を示した。比較例１については、エタノールアミンを用い、露光時間差が５分以上であったためつなぎ目部分に色差が生じ、良好な表示品質が得られなかった。また比較例２については、隔壁の形状差およびつなぎ目でのピッチズレにより、色差が確認され良好な表示品質が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の工程（Ｂ）における露光方法を示す模式図である。
【図２】本発明の工程（Ｂ）におけるアライメントマークおよびパターンの配置を示す模式図である。
【図３】本発明の工程（Ｂ）の第１の例で使用するフォトマスクのパターンを示す。
【図４】本発明の工程（Ｂ）の第２の例で使用するフォトマスクのパターンを示す。
【図５】本発明の工程（Ｂ）の第３の例で使用するフォトマスクのパターンを示す。
【符号の説明】
【００５９】
１      基板
２a  ｋ−１回目の露光で使用するフォトマスク
２b  ｋ回目の露光で使用するフォトマスク
３a、b  分割した露光面
４  アライメントマーク
５ａ、５ｂ  本発明の第１の形態で用いるフォトマスクパターン
６a、６ｂ  本発明の第２の形態で用いるフォトマスクパターン
７a、７ｂ  本発明の第３の形態で用いるフォトマスクパターン
【図１】
2007265853.tif 000005
【図２】
2007265853.tif 000006
【図３】
2007265853.tif 000007
【図４】
2007265853.tif 000008
【図５】
2007265853.tif 000009