(57)【要約】  【目的】  筆記板上に筆記することができ、且つ、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物において、筆跡消去後の消去性付与のための剥離剤が残るいわゆるゴースト現象の発生を抑制する筆記板用マーキングインキ組成物。  【構成】顔料と、低級アルコールと、ポリビニルブチラールと剥離剤とから少なくともなる筆記板用マーキングインキ組成物において、二酸化ケイ素粒子を含有する。  【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化ケイ素粒子を含有する筆記板用マーキングインキ組成物。
【請求項２】
前記二酸化ケイ素粒子が有機溶媒分散型の二酸化ケイ素である請求項１記載の筆記板用マーキングインキ組成物。
【請求項３】
更にポリビニルブチラールを含有する請求項１又は請求項２記載の筆記板用マーキングインキ組成物。
【請求項４】
更に一価アルコールモノ脂肪酸エステル及び／または二価アルコールジ脂肪酸エステルを含有する請求項１乃至請求項３記載の筆記板用マーキングインキ組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筆記板用マーキングインキ組成物に関し、更に詳細に表面が平滑で非浸透性である樹脂板、金属板、ホーロー板、ガラス板、焼き付け塗装板などの筆記板上に筆記することができ、尚且つ、その筆跡を必要に応じて乾いた布や柔軟な紙、消去具などで軽く擦過することにより容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物に関する。更には、筆跡の消去後に筆記板面に消去性付与のための剥離剤が残るいわゆるゴースト現象を抑制し、筆記板面を綺麗に維持することができる筆記板用マーキングインキ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、筆記板用マーキングインキ組成物は、主に、顔料と、低級アルコールと、該低級アルコールに可溶な樹脂及び消去性付与のための剥離剤とからなっている。
【０００３】
低級アルコールに可溶な樹脂としては、種々のものが提案されている。例えば、特許文献１には、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体樹脂、スチレン−マレイン酸共重合体樹脂、シェラック、ロジン−マレイン酸共重合体樹脂等の使用が開示されている。また、特許文献２には、ポリビニルブチラール樹脂以外に、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、アリールスルホンアミド−ホルムアルデヒド縮合樹脂、ポリアクリル酸エステル、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の使用が開示されている。また、特許文献３では、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル以外に、ポリビニルアルコール、セルローズ、ニトロセルローズ、メチルセルローズの使用が開示されている。
【０００４】
また、消去性付与のための剥離剤においても、種々のものが提案されている。例えば、特許文献４には、「ポリオキシエチレンアルキルエーテルまたはポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテルの燐酸エステルまたは硫酸エステル、燐酸アルキルエステルまたは亜燐酸アルキルエステル、及びそれらのアンモニウム、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアルカノールアミン塩からなる群から選ばれる化合物」と「炭素数６以上の脂肪族モノカルボン酸と炭素数８以上の脂肪族一価アルコールとのエステルであって、全炭素数が２０以上であり、分子中に炭素鎖の分岐構造及び／または不飽和結合を有する化合物」とを併用することが開示されている。また、特許文献５には「脂肪族二塩基酸エステル」と「ポリオキシエチレンアルキルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルの燐酸エステル及びポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの燐酸エステルの一種または二種以上」とを併用することが開示されている。また、特許文献６には「脂肪族二塩基酸エステル」と「ポリオキシエチレンアルキルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルの燐酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの燐酸エステル、ポリグリコールと二塩基酸からなる分子量１０００及至５０００のポリエステル、炭素数１２以下の飽和脂肪酸からなるトリグリセライドからなる群から選ばれる物質」と「全炭素数２０以上の脂肪族一塩基酸のエステル」との３種を併用することが開示されている。また、特許文献７には「炭素数８以上のモノカルボン酸と炭素数８以上の脂肪族一価アルコールとのエステルである脂肪酸エステル」と「ポリオキシエチレンアルキルエーテル型非イオン系界面活性剤及び／又はポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル型非イオン界面活性剤」とを併用することが開示されている。また、特許文献８には「常温で液状であるポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンモノアルキルエーテル５〜２０重量％」を用いること、更に好ましくは「カルボン酸エステル及びポリオキシプロピレンモノアルキルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも１種から選ばれる常温で液状の化合物２〜１０重量％」とを併用することが開示されている。更に、特許文献９には「常温で液状であるポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック共重合体５〜２０重量％」と「カルボン酸エステル、ポリオキシプロピレンアルキルモノアルキルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも１種から選ばれる常温で液状の化合物２〜１０重量％」とを併用することが開示されている。
【特許文献１】特開平０５−１９４９０３号公報
【特許文献２】特開平０５−３０２０５１号公報
【特許文献３】特開平０７−２２８８１２号公報
【特許文献４】特開昭５８−０４２６７２号公報
【特許文献５】特公昭６０−０５５５５３号公報
【特許文献６】特公昭６２−００９１４９号公報
【特許文献７】特公平０１−０２３５１３号公報
【特許文献８】特開平０５−１９４９０３号公報
【特許文献９】特開平０５−１９４９０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来の筆記板用マーキングインキ組成物において、インキ組成物中に消去性付与のための剥離剤を配合したものでは筆跡の消去後に筆記板面に消去性付与のための剥離剤が残るいわゆるゴースト現象が起こる。
本発明は、樹脂板、金属板、ホーロー板、ガラス板、焼き付け塗装板などの筆記板における筆跡を消去できることはもちろんのこと、筆跡消去後に消去付与のための剥離剤が筆記板面上に残るいわゆるゴースト現象の発生を抑制した筆記板用マーキングインキ組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、二酸化ケイ素粒子を含有する筆記板用マーキングインキ組成物を要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００７】
二酸化ケイ素粒子は、ゴースト現象の原因となる剥離剤として使用されている上記の成分を吸着除去するものと推察される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明に使用する顔料は、着色剤として使用するものであり、従来より公知のアゾ系顔料、縮合ポリアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系顔料、チオインジゴ系顔料などの有機顔料やカーボンブラック、紺青、ベンガラ、酸化チタン等の無機顔料及びアルミニウム粉末、真鍮粉末などの金属粉顔料や、これらの顔料と樹脂粉体とを組み合わせた着色加工粉体、蛍光顔料及びパール顔料などの中から、筆記板用マーキングインキ組成物中に微粒子として安定に分散し得るものを適宣選択して用いることができる。特に表面を樹脂コーティングした加工顔料は、分散性、経時安定性、作業性及び筆記板用マーキングインキ組成物中に他の樹脂を配合しなくとも良いなどの面から好ましく用いることができる。加工顔料の具体例として、フジＡＳブラック８１０、同レッド５８、同ブルー６５０、同グリーン７１０、同オレンジ２００、（以上、冨士色素（株）製）、マイクロピグモブラックＡＭＢＫ−２、同レッドＡＭＲＤ−２、同ブルーＡＭＢＥ−２、同グリーンＡＭＧＮ−２、同オレンジＡＭＯＥ−２、同イエローＡＭＹＷ−２、同ピンクＡＭＰＫ−２、同バイオレットＡＭＶＴ−２（以上、オリエント化学工業（株）製）などがある。その使用量は、顔料の種類や他のインキ成分により異なるものの、筆記板用マーキングインキ組成物に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。
【０００９】
低級アルコールは溶剤として使用するものであって、従来公知のメタノール、エタノール、ノルマル−プロパノール、イソプロパノール、ノルマル−ブタノール、イソブタノール、第２ブタノール、第３ブタノール等の炭素数４以下のアルコールの中から、１種または２種以上混合して使用可能である。その使用量は、使用する他の成分との混和性を考慮して種々の混合比が決定されるが、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して５０〜９０重量％、好ましくは５５〜８５重量％である。
【００１０】
ポリビニルブチラールは、インキに皮膜形成能を与え、被筆記面への付着性、インキの粘性、顔料の分散安定性付与の目的で使用する。低級アルコールに可溶なものであれば特に限定無く使用可能である。具体例としては、デンカブチラール＃２０００−Ｌ、＃３０００−１、同＃３０００−２、同＃３０００−４、同＃３０００−Ｋ、同＃４０００−１、同＃４０００−２、＃５０００−Ａ、＃６０００−Ｃ、＃６０００−ＥＰ（以上、電気化学工業（株）製）、エスレックＢＬ−１、同ＢＬ−２、同ＢＬ−５、同ＢＬ−１０、同ＢＬ−Ｓ、同ＢＭ−１、同ＢＭ−２、同ＢＭ−５、同ＢＭ−Ｓ（以上、積水化学工業（株）製）などの１種又は２種以上が使用可能であり、その使用量は筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して１〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％である。使用量が少ないと皮膜形成せず、顔料の分散安定性も不安定となる。また、使用量が多いと板面への定着が強くなり、かつ高粘度となり筆記板用マーキングインキとして好ましくない。なお、前記顔料がポリビニルブチラールを用いた加工顔料の場合は、加工顔料中の樹脂にて代替することも可能である。
【００１１】
剥離剤は、樹脂板でも筆跡を擦過により容易に消去し得る性質及び繰り返し消去後の良好な消去性を付与するために用いるものであり、上記低級アルコールに可溶な物であれば特に限定無く使用可能である。具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン２級アルキルエーテル、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、及びそれぞれの硫酸エステルや燐酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステルなどであり、１種または２種以上の混合物が使用可能である。その使用量は、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して０．１〜１０重量％、好ましくは０．２〜５重量％である。
【００１２】
本発明で使用される二酸化ケイ素粒子は、ゴースト現象の発生を抑制する目的で使用するものであり、従来公知の二酸化ケイ素粒子が特に限定なく使用可能であるが、特に水又は炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、多価アルコール系溶剤等の有機溶媒に二酸化ケイ素粒子を安定に分散させたコロイド溶液が、分散性、経時安定性、及び作業性の面で好ましく用いることができる。一般的には水分散型の水性シリカゾルと有機溶媒分散型のオルガノシリカゾルとがあり、具体的には、水分散型の水性シリカゾルである二酸化ケイ素粒子してスノーテックス  ＸＳ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４〜６ｎｍ）、同ＯＸＳ（二酸化ケイ素含有量１０％、粒子径4〜６ｎｍ）、同Ｓ（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径８〜１１ｎｍ）、同ＯＳ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径８〜１１ｎｍ）、同２０（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同３０（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同Ｏ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同Ｎ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同Ｃ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同ＡＫ（二酸化ケイ素含有量１９％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、同５０（二酸化ケイ素含有量４８％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同Ｏ−４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同ＣＭ（二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、同２０Ｌ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜５０ｎｍ）、同ＯＬ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜５０ｎｍ）、同ＸＬ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径４０〜６０ｎｍ）、同ＺＬ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、同ＵＰ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、同ＯＵＰ（二酸化ケイ素含有量１５％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、同ＰＳ−Ｓ（二酸化ケイ素含有量１９％、粒子径８０〜１２０ｎｍ）、同ＰＳ−Ｍ（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径８０〜１５０ｎｍ）、ＭＰ−１０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径１００ｎｍ）、ＭＰ−２０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２００ｎｍ）、ＭＰ−３０４０（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径３００ｎｍ）、ＭＰ−４５４０Ｍ（二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径４５０ｎｍ）（以上、日産化学工業（株）製）、クォートロン  ＰＬ−１（二酸化ケイ素含有量１２％、粒子径１５ｎｍ）、同ＰＬ−３（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３５ｎｍ）、同ＰＬ−７（二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０ｎｍ）、ＰＬ−２０（二酸化ケイ素含有量２４％、粒子径２２０ｎｍ）（以上、扶桑化学工業（株）製）等が挙げられる。有機溶媒分散型のオルガノシリカゾルである二酸化ケイ素粒子としては、メタノールシリカゾル（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＭＡ−ＳＴ−Ｍ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２０〜３０ｎｍ）、ＥＧ−ＳＴ（エチレングリコール分散型の二酸化ケイ���、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ（エチレングリコール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量１５％、粒子径４０〜１００ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径７０〜１００ｎｍ）、ＮＰＣ−ＳＴ−３０（ｎ−プロピルセロソルブ分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（ジメチルアセトアミド分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＭＥＫ−ＳＴ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＭＩＢＫ−ＳＴ（メチルイソブチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）、ＸＢＡ−ＳＴ（キシレン、ｎ−ブタノール混合溶媒分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）ＰＭＡ−ＳＴ（プロピレングリコールモノメチルアセテート分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ）（以上、日産化学工業（株）製）、クォートロン  ＰＬ−１−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同ＰＬ−２−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同ＰＬ−３−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同ＰＬ−５−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同ＰＬ−１０−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同ＰＬ−３０−ＭＡ（メタノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同ＰＬ−１−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同ＰＬ−２−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同ＰＬ−３−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同ＰＬ−５−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同ＰＬ−１０−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同ＰＬ−３０−ＩＰＡ（イソプロパノール分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同ＰＬ−１−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同ＰＬ−２−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同ＰＬ−３−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同ＰＬ−５−ＭＥＫ（メチ��エチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同ＰＬ−１０−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同ＰＬ−３０−ＭＥＫ（メチルエチルケトン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）、同  ＰＬ−１−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径１２ｎｍ）、同ＰＬ−２−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径２０ｎｍ）、同ＰＬ−３−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３０ｎｍ）、同ＰＬ−５−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径５０ｎｍ）、同ＰＬ−１０−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径９０ｎｍ）、同ＰＬ−３０−ＴＯＬ（トルエン分散型の二酸化ケイ素、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径３００ｎｍ）（以上、扶桑化学工業（株）製）等が挙げられる。これらのシリカゾルは、１種または２種以上が使用可能である。その使用量は、筆記板用マーキングインキ組成物全量に対して０．１〜３０．０重量％、好ましくは１．０〜２０．０重量％である。使用量が少ない場合は従来と差がなく、使用量が多い場合は、筆跡の固形分が消去性付与の剥離剤より多くなり筆跡を消去できなくなる。また、粘度が上昇し塗布具に充填した場合、インキが吐出し難くなる。
【実施例】
【００１３】
以上に示した成分以外に必要に応じて、例えばポリビニルピロリドン、酢酸ビニル樹脂、ポリアクリル酸エステル、シェラック等の樹脂や、防腐剤、防黴剤、湿潤剤、粘度調整剤、凍結防止剤、ペン先乾燥防止剤、消泡剤、各種活性剤、ポリビニルブチラールの溶解性を妨げない程度の有機溶剤など、種々の添加剤を適宣選択して使用することができる。
【００１４】
実施例１
本発明の筆記板用マーキングインキ組成物の製造方法は、上記せる各成分を必要量混合し、ホモミキサー、ラボミキサー等の高速撹拌機や、ボールミル、サンドミルまたはビーズミル等の分散機にて混合・分散することにより容易に得ることができる。
【００１５】
ソルミックスＡＰ−４（エタノール８５．５％、イソプロパノール１３．４％、
アセトン１．１％の混合溶液、日本化成品（株）製）              ４８．０部
イソプロパノール                                            ３３．０部
メタノールシリカゾル（メタノール分散型のオルガノシリカゾル、二酸化ケイ
素含有量３０％、粒子径１０〜２０ｎｍ、日産化学工業（株）製）    ２．０部
ＢＳ−２（ポリオキシエチレン（２）ステアリルエーテル、日光ケミカルズ（
株）製）                                                        ２．０部
ＣＩＯ（イソオクタン酸セチル、日光ケミカルズ（株）製）        ７．０部
フジＡＳブルー６５０（ポリビニルブチラールで青色顔料をコーティングした
加工顔料、冨士色素（株）製）                                    ８．０部
上記成分をホモミキサーにて４時間撹拌して、青色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００１６】
実施例２
エタノール                                                  ４８．０部
イソプロパノール                                            ３６．６部
ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ（イソプロパノール分散型のオルガノシリカゾル、二酸化
ケイ素含有量１５％、粒子径４０〜１００ｎｍ、日産）化学工業（株））
３．０部
ＰＢＣ−３１（ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（４）セチル
エーテル、日光ケミカルズ（株）製）                              １．５部
Ｓｅｆｓｏｌ−２２８（ジカプリル酸プロピレングリコール、日光ケミカルズ
（株）製）                                                      ５．０部
ピグメントレッド５３：１（赤色顔料）                          １．５部
ピグメントレッド１１２（赤色顔料）                            １．５部
デンカブチラール＃４０００−１（ポリビニルブチラール、電気化学工業（株
）製）                                                          ２．９部
上記成分をボールミルにて５時間分散し、赤色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００１７】
実施例３
エタノール                                                  ４２．５部
イソプロパノール                                            ３１．０部
イソブタノール                                                ５．０部
ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ（エチレングリコール分散型のオルガノシリカゾル、二酸化
ケイ素含有量２０％、粒子径７０〜１００ｎｍ、日産化学工業（株））製）
５．０部
ノナール２０５（ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル、東邦化学工業
（株）製）                                                      ０．５部
ＴＤＰ−２（ジポリオキシエチレン（２）アルキルエーテル燐酸、日光ケミカル
ズ（株）製）                                                    ２．０部
ＩＰＭ−ＥＸ（ミリスチン酸イソプロピル、日光ケミカルズ（株）製）
４．０部
フジＡＳブラック８１０（ポリビニルブチラールで黒色顔料をコーティングし
た加工顔料、冨士色素（株）製）                                １０．０部
上記成分を撹拌機にて４時間撹拌し、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００１８】
実施例４
実施例１のメタノールシリカゾルをＭＡ−ＳＴ−Ｍ（メタノール分散型のオルガノシリカゾル、二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径２０〜３０ｎｍ、日産化学工業（株）製）にした以外は同様にして、青色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００１９】
実施例５
実施例２のＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰをスノーテックス  ＵＰ（水分散型の水性シリカゾル、二酸化ケイ素含有量２０％、粒子径４０〜１００ｎｍ、日産化学工業（株）製）にした以外は同様にして、赤色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２０】
実施例６
実施例３のＥＧ−ＳＴ−ＺＬをＭＰ−４５４０Ｍ（水分散型の水性シリカゾル、二酸化ケイ素含有量４０％、粒子径４５０ｎｍ、日産化学工業（株）製）２．５部としエタノール４５．０部にした以外は同様にして、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２１】
比較例１
実施例１のメタノールシリカゾルを除き、代わりにソルミックスＡＰ−４を添加した以外は同様にして、青色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２２】
比較例２
実施例２のＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰを３０．０部にし、代わりにイソプロパノールを９．６部に変更した以外は同様にして、赤色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２３】
比較例３
実施例３のＥＧ−ＳＴ−ＺＬを０．５部とし、その代わりにエタノールを４７部とした以外は同様にして、黒色の筆記板用マーキングインキ組成物を得た。
【００２４】
実施例１〜６及び比較例１〜３にて作成したインキを用いて塗布具（ＥＭＷＬＭ、ぺんてる製）に充填し、これをサンプルとして用いて試験１を実施した。結果を表１に示す。
【００２５】
試験１
筆跡の消去性
筆記板（同上）に各サンプルを用いて筆記して乾燥させ、乾布に２５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、筆跡が消去できるまでの乾布の移動回数を確認した。
【００２６】
試験２
ゴーストの消去性
更に乾布に２５ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて、消去性付与の剥離剤残りいわゆるゴーストが消去できるまでの乾布の移動回数を確認した。
【００２７】
【表１】
2007204609.tif 000002
【００２８】
以上、詳細に説明したように本発明における筆記板用マーキングインキ組成物は、その筆跡を容易に消去することができる筆記板用マーキングインキ組成物において、筆跡消去後の消去性付与のための剥離剤が残るいわゆるゴースト現象の発生を抑制する筆記板用マーキングインキ組成物である。