(57)【要約】    【解決手段】  （ａ）燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物を、インクジェット印刷によりパターン付けして、基板上に堆積する工程と、（ｂ）前記溶媒を除去し、前記燐光発光性高分子化合物を前記基板上に付着する工程とを含むことを特徴とする。    【効果】  パターン化された燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷によって直接に堆積し、高い発光効率を有する有機発光素子の製造方法が得られる。また、商業的に入手可能なインクジェットプリンタを用いて、有機発光素子が製造できる。【選択図】  図１
2007073246.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物を、インクジェット印刷によりパターン付けして、基板上に堆積する工程と、
（ｂ）前記溶媒を除去し、前記燐光発光性高分子化合物を前記基板上に付着する工程とを含むことを特徴とする有機発光素子の製造方法。
【請求項２】
前記燐光発光性高分子化合物が、非共役高分子化合物であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項３】
前記溶媒が、トルエンであることを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項４】
前記工程（ａ）が、前記組成物を、シート状に連続印刷する印刷モードのインクジェット印刷により、前記基板上に堆積することを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項５】
さらに、（ｃ）前記工程（ｂ）の後に、最上部の金属接点を前記基板上に堆積する工程を含むことを特徴とする請求項４に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項６】
前記工程（ｃ）が、前記最上部の金属接点を、インクジェット印刷により、前記基板上に堆積することを特徴とする請求項５に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項７】
前記工程（ｃ）が、前記最上部の金属接点を、シャドーマスクにより、前記基板上に堆積することを特徴とする請求項５に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｃ）が、前記最上部の金属接点を、パターン付けして、前記基板上に堆積することを特徴とする請求項５に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項９】
さらに、（ｄ）前記工程（ａ）の前に、底部の金属接点を、インクジェット印刷により、前記基板上に堆積する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１０】
前記工程（ｄ）が、前記底部の金属接点を、パターン付けして、前記基板上に堆積することを特徴とする請求項９に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項１１】
パッシブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、
基板上に、底部の電極ラインを、インクジェット印刷により堆積する工程と、
前記電極ライン上に、燐光発光性高分子化合物を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
前記燐光発光性高分子化合物上に、最上部の電極ラインを、インクジェット印刷により堆積する工程とを含み、
前記燐光発光性高分子化合物を、前記最上部の電極ラインが前記底部の電極ラインと交差する領域に堆積することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
アクティブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、
基板上に、底部電極を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
前記底部電極上に、燐光発光性高分子化合物を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
前記燐光発光性高分子化合物上に、最上部の電極を堆積する工程と、
個別にアドレスを指定する回路に、前記底部電極を接続する工程とを含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
前記底部電極が相互に絶縁されていることを特徴とする請求項１２に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法で製造された有機発光素子。
【請求項１５】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いた面発光光源。
【請求項１６】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いた表示装置用バックライト。
【請求項１７】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いた表示装置。
【請求項１８】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いた照明装置。
【請求項１９】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いたインテリア。
【請求項２０】
請求項１４に記載の有機発光素子を用いたエクステリア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット印刷を用いた有機発光素子の製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、パターン化された燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷によって直接に堆積し、高い発光効率を有する有機発光素子を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フルカラーのフラットパネルディスプレイを安価に製造できる可能性があるため、有機発光素子が注目されている。通常、有機発光素子の製造において、発光性化合物が高分子の場合には、スピンコーティング法によって堆積され、低分子の場合には、蒸着法によって堆積される。いずれの場合も、単一材料が基板を被覆し、一般には単一色の有機発光素子が製造される。カラーディスプレイを製造するためには、赤、緑および青の発光性化合物を用いて、多数の発光層を直接的に集積し、個々の発光層をパターン付けする必要がある。
【０００３】
フォトレジストパターン付けおよびエッチング技術を用いて、赤、緑および青の発光性化合物を相互に近接させて配置することにより、有機発光素子に異なる色を得ることができる。
【０００４】
しかしながら、このようなフォトレジスト技術は、有機ＥＬ化合物には適用できない。これは、フォトレジスト処理に用いられる化学物質が、有機ＥＬ化合物と不適合なためである。同じ理由により、有機ＥＬ化合物の上側に、金属接点などの後続の層をパターン付けすることも困難である。真空蒸着された有機層と金属は、それらをシャドーマスクを介して蒸発させることによってパターン付けすることが可能ではあるが、この技術では素子の大面積化が図れない。
【０００５】
これに対して、有機発光素子の製造において、有機ＥＬ化合物を、インクジェット印刷により、基板上に直接に堆積する試みがされている（特許文献１参照）。
しかしながら、上記の有機発光素子では、クマリンなどの蛍光発光性化合物を用いているため、発光効率が低いという問題があった。
【特許文献１】特表２００２−５０２０９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、パターン化された燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷によって直接に堆積し、高い発光効率を有する有機発光素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりに要約される。
［１］（ａ）燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物を、インクジェット印刷によりパターン付けして、基板上に堆積する工程と、
（ｂ）上記溶媒を除去し、前記燐光発光性高分子化合物を前記基板上に付着する工程とを含むことを特徴とする有機発光素子の製造方法。
【０００８】
［２］上記燐光発光性高分子化合物が、非共役高分子化合物であることを特徴とする上記［１］に記載の有機発光素子の製造方法。
【０００９】
［３］上記溶媒が、トルエンであることを特徴とする上記［１］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１０】
［４］上記工程（ａ）が、上記組成物を、シート状に連続印刷する印刷モードのインクジェット印刷により、上記基板上に堆積することを特徴とする上記［１］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１１】
［５］さらに、（ｃ）上記工程（ｂ）の後に、最上部の金属接点を上記基板上に堆積する工程を含むことを特徴とする上記［４］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１２】
［６］上記工程（ｃ）が、上記最上部の金属接点を、インクジェット印刷により、上記基板上に堆積することを特徴とする上記［５］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１３】
［７］上記工程（ｃ）が、上記最上部の金属接点を、シャドーマスクにより、上記基板上に堆積することを特徴とする上記［５］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１４】
［８］上記工程（ｃ）が、上記最上部の金属接点を、パターン付けして、上記基板上に堆積することを特徴とする上記［５］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１５】
［９］さらに、（ｄ）上記工程（ａ）の前に、底部の金属接点を、インクジェット印刷により、上記基板上に堆積する工程を含むことを特徴とする上記［１］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１６】
［１０］上記工程（ｄ）が、上記底部の金属接点を、パターン付けして、上記基板上に堆積することを特徴とする上記［９］に記載の有機発光素子の製造方法。
【００１７】
［１１］パッシブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、
基板上に、底部の電極ラインを、インクジェット印刷により堆積する工程と、
上記電極ライン上に、燐光発光性高分子化合物を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
上記燐光発光性高分子化合物上に、最上部の電極ラインを、インクジェット印刷により堆積する工程とを含み、
上記燐光発光性高分子化合物を、上記最上部の電極ラインが上記底部の電極ラインと交差する領域に堆積することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【００１８】
［１２］アクティブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法において、
基板上に、底部電極を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
上記底部電極上に、燐光発光性高分子化合物を、インクジェット印刷により堆積する工程と、
上記燐光発光性高分子化合物上に、最上部の電極を堆積する工程と、
個別にアドレスを指定する回路に、上記底部電極を接続する工程とを含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【００１９】
［１３］上記底部電極が相互に絶縁されていることを特徴とする上記［１２］に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【００２０】
［１４］上記［１］〜［１０］のいずれかに記載の製造方法で製造された有機発光素子。
【００２１】
［１５］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いた面発光光源。
【００２２】
［１６］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いた表示装置用バックライト。
【００２３】
［１７］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いた表示装置。
【００２４】
［１８］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いた照明装置。
【００２５】
［１９］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いたインテリア。
【００２６】
［２０］上記［１４］に記載の有機発光素子を用いたエクステリア。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、パターン化された燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷によって直接に堆積し、高い発光効率を有する有機発光素子の製造方法が得られる。また、商業的に入手可能なインクジェットプリンタを用いて、有機発光素子が製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の方法は、パターン化された燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷によって直接に堆積し、高い発光効率を有する有機発光素子の製造方法を包含する。本発明により形成された有機発光素子は、重ね合わせられた多数の有機層を有しうる。全ての層が発光性である必要はない。
【００２９】
本発明に係る有機発光素子の製造方法は、（ａ）燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物を、インクジェット印刷によりパターン付けして、基板上に堆積する工程と、（ｂ）上記溶媒を除去し、上記燐光発光性高分子化合物を上記基板上に付着する工程とを含む。工程（ａ）および（ｂ）によって、有機発光素子における発光層が製造される。
【００３０】
なお、本発明に係る有機発光素子の製造方法において、発光層以外の層、例えば、正孔輸送層、電子輸送層、陽極バッファー層、正孔ブロック層、金属接点（電極）などをインクジェット印刷によって製造してもよい。
【００３１】
＜燐光発光性高分子化合物＞
本発明における発光層は、燐光を発光する燐光発光性単位とキャリアを輸送するキャリア輸送性単位とを一つの分子内に備えた、燐光発光性高分子化合物を少なくとも一つ含む。この化合物により、素子作製プロセスが簡素化され、高い発光効率が得られる。
【００３２】
また、発光性高分子化合物は、共役高分子化合物と非共役高分子化合物とに分類することもできるが、非共役高分子化合物が好適に用いられる。本発明においては、燐光発光性高分子化合物であり、かつ非共役高分子化合物である化合物が最も好ましい。上記のような化合物は、粘度が低いため、種々の粘度の溶媒を用いることによって、幅広い粘度のインクジェット印刷用の組成物を調製できる。したがって、インクジェット印刷用の所望の粘度の組成物を得られるため、好適に用いられる。
【００３３】
上記燐光発光性高分子化合物は、重合性置換基を有する燐光発光性化合物と、重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物とを共重合することによって得られる。燐光発光性化合物はイリジウム、白金および金の中から一つ選ばれる金属元素を含む金属錯体であり、中でもイリジウム錯体が好ましい。
【００３４】
上記重合性置換基を有する燐光発光性化合物としては、例えば下記式（Ｅ−１）〜（Ｅ−４９）に示す金属錯体の一つ以上の水素原子を重合性置換基で置換した化合物を挙げることができる。
【００３５】
【化１】
2007073246.tif 000003
【００３６】
【化２】
2007073246.tif 000004
【００３７】
【化３】
2007073246.tif 000005
【００３８】
【化４】
2007073246.tif 000006
【００３９】
【化５】
2007073246.tif 000007
【００４０】
【化６】
2007073246.tif 000008
【００４１】
これらの燐光発光性化合物における重合性置換基としては、例えばビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、メタクリロイルオキシエチルカルバメート基等のウレタン（メタ）アクリレート基、スチリル基及びその誘導体、ビニルアミド基及びその誘導体などが挙げられ、中でもビニル基、メタクリレート基、スチリル基及びその誘導体が好ましい。これらの置換基は、ヘテロ原子を有してもよい炭素数１〜２０の有機基を介して金属錯体に結合していてもよい。
【００４２】
より具体的には、例えば、下記式（Ｂ−１）〜下記式（Ｂ−１２）で表される重合性置換基が好適に用いられる。
【００４３】
【化７】
2007073246.tif 000009
【００４４】
上記重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物は、正孔輸送性および電子輸送性の内のいずれか一方または両方の機能を有する有機化合物における一つ以上の水素原子を重合性置換基で置換した化合物を挙げることができる。このような化合物の代表的な例として、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−１８）に示した化合物を挙げることができる。これらのうちでは、インクジェット印刷により適した燐光発光性高分子化合物を得るために、（Ａ−４）および（Ａ−１０）がより好ましく用いられる。
【００４５】
【化８】
2007073246.tif 000010
【００４６】
【化９】
2007073246.tif 000011
【００４７】
例示したこれらのキャリア輸送性化合物における重合性置換基はビニル基であるが、ビニル基をアクリレート基、メタクリレート基、メタクリロイルオキシエチルカルバメート基等のウレタン（メタ）アクリレート基、スチリル基及びその誘導体、ビニルアミド基及びその誘導体などの重合性置換基で置換した化合物であってもよい。また、これらの重合性置換基は、ヘテロ原子を有してもよい炭素数１〜２０の有機基を介して結合していてもよい。
【００４８】
重合性置換基を有する燐光発光性化合物と、重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物の重合方法は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、付加重合のいずれでもよいが、ラジカル重合が好ましい。また、重合体の分子量は重量平均分子量で1,000〜2,000,000が好ましく、5,000〜1,000,000がより好ましい。ここでの分子量はＧＰＣ（ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー）法を用いて測定されるポリスチレン換算分子量である。
【００４９】
上記燐光発光性高分子化合物は、一つの燐光発光性化合物と一つのキャリア輸送性化合物、一つの燐光発光性化合物と二つ以上のキャリア輸送性化合物を共重合したものであってもよく、また二つ以上の燐光発光性化合物をキャリア輸送性化合物と共重合したものであってもよい。
【００５０】
また、インクジェット印刷を用いて、上記重合性置換基を有する燐光発光性化合物および上記重合性置換基を有するキャリア輸送性化合物が、基板上に堆積された後、重合される燐光発光性高分子化合物であってもよい。
【００５１】
燐光発光性高分子化合物におけるモノマーの配列は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれでもよく、燐光発光性化合物構造の繰り返し単位数をｍ、キャリア輸送性化合物構造の繰り返し単位数をｎとしたとき（ｍ、ｎは１以上の整数）、全繰り返し単位数に対する燐光発光性化合物構造の繰り返し単位数の割合、すなわちｍ／（ｍ＋ｎ）の値は0.001〜0.5が好ましく、0.001〜0.2がより好ましい。
【００５２】
燐光発光性高分子化合物のさらに具体的な例と合成法は、例えば特開２００３−３４２３２５号公報、特開２００３−１１９１７９号公報、特開２００３−１１３２４６号公報、特開２００３−２０６３２０号公報、特開２００３−１４７０２１号公報、特開２００３−１７１３９１号公報、特開２００４−３４６３１２号公報、特開２００５−９７５８９号公報に開示されている。
【００５３】
本発明において、発光層のパターンを形成する際に、その他の有機ＥＬ化合物を含んでいてもよい。上記化合物としては、大森裕：応用物理、第７０巻、第１２号、１４１９−１４２５頁（２００１年）に記載されている発光性低分子化合物及び発光性高分子化合物などを例示することができる。
【００５４】
本発明の有機発光素子における発光層は、上記燐光発光性高分子化合物を含む層であるが、発光層のキャリア輸送性を補う目的で、他の正孔輸送性化合物や電子輸送性化合物が含まれていてもよい。これらの目的で用いられる正孔輸送性化合物としては、例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’ジアミン）、α−ＮＰＤ（４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４、４’，４’’−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）などの低分子トリフェニルアミン誘導体や、ポリビニルカルバゾール、上記トリフェニルアミン誘導体に重合性官能基を導入して高分子化したもの、例えば特開平８−１５７５７５号公報に開示されているトリフェニルアミン骨格の高分子化合物、ポリパラフェニレンビニレン、ポリジアルキルフルオレンなどが挙げられ、また、電子輸送性化合物としては、例えば、Ａｌｑ３（アルミニウムトリスキノリノレート）などのキノリノール誘導体金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、トリアリールボラン誘導体などの低分子材料や、上記の低分子電子輸送性化合物に重合性官能基を導入して高分子化したもの、例えば特開平１０−１６６５号公報に開示されているポリＰＢＤなどの既知の電子輸送性化合物が使用できる。
【００５５】
＜燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物＞
上記燐光発光性高分子化合物をインクジェット印刷により基板上に堆積する際には、燐光発光性高分子化合物と溶媒とを含む組成物を用いる。具体的には、上記燐光発光性高分子化合物を溶媒に溶解した溶液が用いられる。
【００５６】
上記組成物の調製に用いる溶媒としては、上記燐光発光性高分子化合物を溶解できるものであれば制限されないが、トルエンが好ましい。
上記組成物における燐光発光性高分子化合物の濃度としては、１ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌであることが好ましい。
【００５７】
＜インクジェットプリンタ＞
本発明の方法において、インクジェット印刷に用いるインクジェットプリンタは、公知のものを使用できる。例えば、キャノン株式会社製のＰＪ−１０８０Ａカラーインクジェットプリンタが好適に用いられる。上記プリンタは、解像度はライン当たり６４０ドットである。このプリンタは圧電技術を用いて、６５マイクロメートルの開口を有するノズルからインク滴を噴出させる。４つのインクカートリッジと４つのノズルがあり、このプリンタは４つの異なる色を同時に印刷することができる。プリンタのヘッドが用紙上を走査し、圧電材料がパルスを受けると、インクがノズルから用紙上へと噴出される。発光層を印刷するため、このインクジェットプリンタに用いるインクカートリッジを、上記組成物で置換すればよい。インクジェット印刷はこれまでに、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを製造するために使用されてきているが、燐光発光性高分子化合物を用いて発光層を製造するためには使用されていない。
【００５８】
＜用途＞
本発明に係る製造方法によって得られる有機発光素子は、面発光光源、表示装置用バックライト、表示装置、照明装置、インテリア、またはエクステリアなどに好適に用いられる。
【００５９】
［実施例］
以下、添付図面を参照して、本発明に係る実施の形態を詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００６０】
燐光発光性高分子化合物として、poly-(viTPD-co-viPBD-co-IrST)を用いた。これは、
上記式（Ｂ−７）で表される重合性置換基を導入したイリジウム錯体（Ｅ−４）、正孔輸送性化合物（Ａ−４）および電子輸送性化合物（Ａ−１０）を共重合した化合物であり、スキーム１のように合成した。
【００６１】
【化１０】
2007073246.tif 000012
【００６２】
密閉容器に、４６０ｍｇのviTPD（特開2005-97589号公報に記載されている方法に準じ
て合成した）、４６０ｍｇのviPBD（特開平10-1665号公報に記載されている方法に準じて合成した）、および８０ｍｇのIrST（特開2003-113246号公報に記載されている方法に準
じて合成した）を入れ、脱水トルエン１０．８ｍＬを加えた後、Ｖ−６０１（和光純薬工業製）の０．１Ｍトルエン溶液２１７μＬを加え、凍結脱気操作を５回繰り返した。真空のまま密閉し、６０℃で９６時間撹拌した。反応後、反応液をアセトン３００ｍＬ中に滴下して沈殿を生じさせた。さらにトルエン−アセトンでの再沈殿精製を２回繰り返して精製した後、５０℃で一晩真空乾燥し、薄黄色の固体としてpoly-(viTPD-co-viPBD-co-IrST)７８９ｍｇを得た。得られた共重合体の分子量はポリスチレン換算のＧＰＣ測定より数
平均分子量（Ｍｎ）２1４００、重量平均分子量（Ｍｗ）４６６００、分子量分布指数（
Ｍｗ／Ｍｎ）２．１７と見積もられた。共重合体中のイリジウム元素含量はＩＣＰ元素分析より１．５重量％であった。この結果および13Ｃ−ＮＭＲ測定の結果より、共重合体の共重合比はviTPD：viPBD：IrST＝４３．１：５１．３：５．６（質量比）と見積もられた。
【００６３】
得られたpoly-(viTPD-co-viPBD-co-IrST)をトルエンに攪拌して溶解し、３０ｇ／Ｌの
組成物を調製した。次いで、この組成物を０．４５マイクロメートルのフィルタで濾過した。
【００６４】
基板として、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）でコーティングした１７５マイクロメートル厚の可撓性ポリエステルを用いた。堆積を行う前に、ＩＴＯは酸素プラズマで処理して、その表面特性を有機発光素子用に変性させた。上記溶液を、キャノン株式会社製のＰＪ−１０８０Ａカラーインクジェットプリンタを用いて、この基板上に印刷した。上記組成物中の溶媒を蒸発させ、燐光発光性高分子化合物を基板上に付着させた。上記溶媒の除去方法は、自然に蒸発させてもよく、その他、公知の方法で乾燥してもよい。
【００６５】
上記組成物を用いてインクジェット印刷された基板（Ａ）と、スピンコートされた基板（Ｂ）についてフォトルミネセンススペクトルを測定した。スピンコートは、上記組成物を用いて、６０秒間、４０００ｒｐｍの速度で、上記基板上に行った。フォトルミネセンスは、ルミネセンス分光計（ＬＳ５０、パーキンエルマー社製）を用いて、３５０ｎｍの励起波長で測定した。基板（Ａ）および基板（Ｂ）について、スペクトルの形状および大きさに、顕著な相違は見られなかった。
【００６６】
インクジェット印刷によって製造された、燐光発光性高分子化合物のドットの上に、有機発光素子を直接に造り込むことは困難であった。これは、金属からなる陰極（金属接点）を形成するために、燐光発光性高分子化合物のドット上にシャドーマスクを、直接位置合わせするのが困難なためである。したがって、テスト用有機発光素子の製造のために、インクジェットプリンタは、分離したドットではなく、シート状に連続印刷する印刷モードのインクジェット印刷により行った。インクジェット印刷の後に、最上部の金属接点をメタライズ工程によって上記基板上に堆積するため、ベース圧力が、＜１０-7ｔｏｒｒの真空チャンバ内に基板を装填した。通常、基板の装填から金属の蒸発までには、少なくとも９０分かかり、それ以上の基板の加熱は行わなかった。最上部の金属からなる陰極（金属接点）を、シャドーマスクを介して、堆積し、燐光発光性高分子化合物上に、直径２５０マイクロメートルの陰極のアレイが形成された。二つの別個の源から同時に蒸発させることにより、Ｍｇ：Ａｇ（１０：１）のような合金が蒸着された。次いで、保護層として、Ａｇを堆積した。ポリエステルシート上のＩＴＯは、陽極として作用した。得られた有機発光素子（Ｃ）を、空気中で保護コーティングなしに測定した。
【００６７】
有機発光素子（Ｃ）、および上記組成物からスピンコート法で得られた有機発光素子（Ｄ）について、Ｉ−Ｖ曲線を測定した。素子（Ｄ）の燐光発光性高分子化合物からなる発光層の厚みは約５０ｎｍであった。素子（Ｃ）については〜６−11Ｖの電圧で、素子（Ｄ）については〜７Ｖの電圧で、各々〜１ｍＡ／ｃｍ2の電流密度が達成された。一方、Wu
らの文献において、電子輸送剤を使用せずに、発光性化合物をドープしたＰＶＫを用いた有機発光素子において観察された駆動電圧の値は、〜１０−１１Ｖであった。素子（Ｃ）および（Ｄ）の電圧は、Wuらの文献の値と比較して、同等または低い値を示した。なお、Wuらの文献では、有機層の厚みは〜１００ｎｍである。
【００６８】
燐光発光性高分子化合物をパターン付けすることは、赤、緑および青の有機発光素子が別個に必要とされるカラーディスプレイの場合に重要である。各々の素子を隣接して作成する場合には、典型的にはそれぞれ最初は全表面にわたって堆積される三つの別々の発光層を、赤、緑および青の有機発光素子用の３つの別々の領域へとパターン付けすることが望ましい。
【００６９】
図１（Ａ）に、より具体的に示されているように、燐光発光性高分子化合物を含有する組成物の液滴１２は、インクジェットプリンタから、基板１０表面上の、ある部分領域に堆積される。組成物中の溶媒は蒸発し、所望する燐光発光性高分子化合物の部分領域１４を生成する（図１（Ｂ））。図１（Ｃ）に示すように、図１（Ａ）〜図１（Ｂ）のステップが繰り返され、基板１０の新たな領域上に投射される液滴１６は、別の部分領域を生成する。
【００７０】
図１（Ａ）〜（Ｃ）の方法は、図２（Ａ）〜（Ｃ）において、有機発光素子を製造するために用いられる。基板１８および底部電極２０（同じ構造でよい）が、図２（Ａ）に示されている。この電極は、個別の電気的制御のために、パターン付けされていてもよい。燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）２２、２４（図２（Ｂ））が、基板１８上にインクジェット印刷によって堆積される。最上部の金属接点（電極）２６、２８は、基板１
８上にある燐光発光性高分子化合物の領域２２、２４の上側に、シャドーマスクを介して、製造される（図２（Ｃ））。基板１８はメタライズされていることが好ましい。
【００７１】
図３（Ａ）〜（Ｃ）は、同一基板上に、赤、緑および青を発光する有機発光素子を製造することを例示している。図３（Ａ）に示すように、ガラスなどの基板３０と、底部電極３２が準備される。底部電極３２は、図２（Ａ）において説明した電極２０に類似している。図３（Ｂ）においては、インクジェット印刷により、基板３０上に３つの異なるタイプの燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）３４、３６、３８が堆積される。ここで、在来のインクジェットプリンタによって紙の上にカラー印刷を行う際に、赤、緑および青のインクを用いるのと同様にして、赤、緑および青を発光する燐光発光性高分子化合物を含む組成物を用いて印刷すればよい。図３（Ｃ）において、最上部の金属接点４０、４２、４４は、図２（Ｃ）の場合と類似の方法で、燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）３４、３６、３８に対して、各々製造される。これらの素子においては、個別の電気的制御のために、底部および最上部の電極の少なくとも一方がパターン付けされ得る。各々の「島」は、単独または複数で投射される液滴によって、相互に直接に重ね合わせて、または相互に横方向に形成してもよい。
【００７２】
図４（Ａ）〜（Ｃ）に、インクジェット印刷を用いて、底部の金属接点（電極）をあるパターンで製造する場合を示す。燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）はインクジェット印刷を用いて、図１〜３における場合のように形成できる。図４（Ａ）に示すように、底部の金属接点４６は基板４８上に、インクジェット印刷によって形成される。図４（Ｂ）に示すように、燐光発光性高分子化合物５０は接点４６の上に、所望のパターンでインクジェット印刷により堆積され得る。図４（Ｃ）に示すように、最上部の金属接点５２は燐光発光性高分子化合物５０の上に、インクジェット印刷により堆積可能である。
【００７３】
図５（Ａ）〜（Ｃ）に、インクジェット印刷を用いて、最上部の金属接点をあるパターンで製造する場合を示す。図５（Ａ）は、底部の金属接点５６の製造を例示しており、これはあるパターンで基板５４上に製造される。図５（Ｂ）は、インクジェット印刷により底部の金属接点５６上に発光層５８を堆積することを示している。図５（Ｃ）に示すように、最上部の金属接点６０、６２は、インクジェット印刷により、発光層５８の上側に、あるパターンで堆積される。
【００７４】
図４および図５において、インクジェット印刷による金属接点の形成には、最終的な金属の前駆体、溶媒中に懸濁された金属粒子、固形の金属を与える過飽和溶液（ロシェル塩法などのような溶液）、または良好な導電性を有する有機物質が用いられる。図４および／または図５によって示される工程は、図１〜図３に記載された工程と組み合わせてもよい。
【００７５】
図６（Ａ）〜（Ｃ）に、個々に最上部の金属接点を備えた、３色のカラー有機発光素子をインクジェット印刷で製造する場合を示す。図６（Ａ）は、底部の金属接点６６を備えて形成された基板６４を示している。この底部の金属接点はパターン付けされていてもよい。図６（Ｂ）に示すように、燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）、赤６８、青７０および緑７２が、インクジェット印刷により堆積される。図６（Ｃ）では、最上部の金属接点７４、７６、７８を、「島」６８、７０、７２のそれぞれの上に、インクジェット印刷により形成している。
【００７６】
図７（Ａ）〜（Ｄ）に、本発明に係るパッシブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す。図７（Ａ）に示すように、底部の電極ライン８０、８２、８４は、１つの軸方向に沿って、インクジェット印刷により、基板８６上に形成される。燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）８８、９０が、底部の電極ライン８０、８２の上であって
、最終的に最上部の電極ラインが底部の電極ラインと交差する領域に、インクジェット印刷により堆積される（図７（Ｂ））。これらの「島」８８、９０は、カラーディスプレイにおいては、異なる発光色を有する化合物の「島」であってもよい。図７（Ｃ）に示すように、最上部の電極ライン９２は、底部の電極ラインに対して直交するよう製造される。このようにして得られたマトリクスを、図７（Ｄ）に示す。
【００７７】
図８（Ａ）〜（Ｃ）に、本発明に係るアクティブマトリクス方式の有機ＥＬディスプレイの製造方法を示す。図８（Ａ）において、個別の底部電極９６、９８、１００は、インクジェット印刷により、基板９４上に形成され、好ましくは絶縁部１０２、１０４、１０６で相互に絶縁されている。これらの底部電極は、これらの底部電極を個別にアドレスを指定する回路（図示せず）に接続可能である。図８（Ｂ）に示すように、燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）１０８、１１０、１１２が、インクジェット印刷により、露出されている底部電極上に堆積される。これらの「島」１０８、１１０、１１２は、カラーディスプレイにおいては、異なる発光色を有する化合物の「島」であってもよい。図８（Ｃ）に示すように、最上部の電極１１４（Ａｌ：ＬｉまたはＭｇ：Ａｇ）は、これらの「島」の上側に製造される。この最上部の電極はパターン付けされる必要はない。
【００７８】
図９に、有機発光素子を製造するための他の方法を例示する。基板１２８は、その上に形成された底部の金属接点１３０を有する。底部の金属接点１３０はパターン付けしてもよい。絶縁部１３２、１３４がその上に形成される。燐光発光性高分子化合物１３６はインクジェット印刷により、絶縁部１３２、１３４の上側に形成される。最上部の金属接点１３８は、燐光発光性高分子化合物１３６の上に形成される。この最上部の金属接点１３８は、パターン付けしてもよい。この方法においては、絶縁部１３２、１３４が、底部の金属接点１３０の上側でパターン付けされているところでは、このパターン付けされた絶縁部によって、インクジェット印刷により製造された液滴の濡れ性または乾燥が調節できる。パターン付けされた絶縁部１３２、１３４は、最終的な燐光発光性高分子化合物のドットのごく一部に、有機発光素子を制限できる。これらのいずれの場合においても、最終的な有機発光素子における燐光発光性高分子化合物の厚みは、所望により制御される。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図２】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図３】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図４】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図５】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図６】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図７】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図８】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【図９】本発明に係る製造方法の１工程の概略を示す。
【符号の説明】
【００８０】
１０：      基板
１２：      液滴
１４：      燐光発光性高分子化合物の部分領域
１６：      液滴
１８：      基板
２０：      底部電極
２２：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
２４：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
２６：      最上部の金属接点（電極）
２８：      最上部の金属接点（電極）
３０：      基板
３２：      底部電極
３４：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
３６：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
３８：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
４０：      最上部の金属接点
４２：      最上部の金属接点
４４：      最上部の金属接点
４６：      底部の金属接点
４８：      基板
５０：      燐光発光性高分子化合物
５２：      最上部の金属接点
５４：      基板
５６：      底部の金属接点
５８：      発光層
６０：      最上部の金属接点
６２：      最上部の金属接点
６４：      基板
６６：      底部の金属接点
６８：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
７０：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
７２：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
７４：      最上部の金属接点
７６：      最上部の金属接点
７８：      最上部の金属接点
８０：      底部の電極ライン
８２：      底部の電極ライン
８４：      底部の電極ライン
８６：      基板
８８：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
９０：      燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
９２：      最上部の電極ライン
９４：      基板
９６：      底部電極
９８：      底部電極
１００：    底部電極
１０２：    絶縁部
１０４：    絶縁部
１０６：    絶縁部
１０８：    燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
１１０：    燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
１１２：    燐光発光性高分子化合物の領域（「島」）
１１４：    最上部の電極
１２８：    基板
１３０：    底部の金属接点
１３２：    絶縁部
１３４：    絶縁部
１３６：    燐光発光性高分子化合物
１３８：    最上部の金属接点
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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