(57)【要約】【課題】  記録層の光入射側に所定の層を備える場合であっても、優れた記録再生品質を維持し得る光記録媒体を得ることができる光記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】  好適な実施形態に係る光記録媒体の製造方法は、基板２、反射層３、記録層４、光入射層６及び保護層８を備える光記録媒体を製造する方法であって、光入射層６を、記録層上に、有機金属化合物及び溶媒を含む塗布液を塗布した後に溶媒を除去することにより形成する工程を有している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、反射層、記録層、光入射層及び保護層をこの順に備える光記録媒体の製造方法であって、
前記記録層上に、有機金属化合物及び溶媒を含む塗布液を塗布した後、前記溶媒を除去して前記光入射層を形成する工程を含む、
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記有機金属化合物は、金属アルコキシド及び／又はその重合体であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記有機金属化合物における金属は、Ｓｉであることを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
基板、反射層、記録層、光入射層及び保護層をこの順に備え、
前記光入射層が、セラミック材料及び有機金属化合物を含む、
ことを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体は、記録層にレーザー等を照射し、記録層の形状変化、磁区変化、相変化等により情報を記録するものである。光記録媒体としては、基板上に、記録層及びこの記録層を保護するための保護層が順に積層された円盤状のものが知られている。なかでも、色素を含む記録層を備える光記録媒体は、高感度の記録を行うことが可能であり、ＣＤ−ＲやＤＶＤ±Ｒとして広く普及している。
【０００３】
このような光記録媒体は、必要に応じて、反射層等のその他の層を更に備える積層構造を有している。例えば、従来の光記録媒体においては、記録層の光入射側に、記録層の更なる保護や、記録層と保護層との間の接着性の向上等を目的として、金属酸化物等を含む所定の層が設けられることが多い。特許文献１には、記録層と保護層であるＵＶ樹脂コート層の間にＺｎＳ・ＳｉＯ２からなる誘電体層が形成された構成が開示されている。
【特許文献１】特開２００５−１７００５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、本発明者らの検討によると、上記のように記録層の光入射側に所定の層を備える光記録媒体は、かかる層を有しないものに比して、記録や再生の際にエラーを生じ易く、記録再生品質が劣る傾向にあることが確認された。特に、色素を含む記録層を備える光記録媒体においては、このような傾向が顕著であった。
【０００５】
そこで、本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、記録層の光入射側に所定の層を備える場合であっても、優れた記録再生品質を維持し得る光記録媒体を得ることができる光記録媒体の製造方法、及び、これにより得られる光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らが上述したようなエラー発生の原因について検討を行ったところ、上記従来技術の光記録媒体における金属酸化物等を含む層は、スパッタリング等のドライプロセスによって記録層上に形成されていることが一つの要因となっていることが判明した。すなわち、ドライプロセスにおいては、記録層が、電子やイオンの衝突を受けたり、また高温に晒されたりするため、記録層の構成材料が極めて劣化し易い環境にあった。記録層の構成材料が劣化すると、正確な記録が困難となり、ひいては記録再生品質が低下することとなる。特に、色素を構成する化合物は、上記のような条件で変質し易いことから、色素を含む記録層は極めて劣化し易いことが確認された。
【０００７】
そこで、本発明者らは、上記の知見に基づき、記録層上に所定の層を形成する際、記録層への影響が極力少ない方法を適用することによって上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板、反射層、記録層、光入射層及び保護層をこの順に備える光記録媒体の製造方法であって、記録層上に、有機金属化合物及び溶媒を含む塗布液を塗布した後、溶媒を除去して光入射層を形成する工程を含むことを特徴とする。
【０００９】
このように、本発明においては、有機金属化合物及び溶媒を含む塗布液を記録層上に塗布した後、溶媒を除去するだけで光入射層を形成できることから、スパッタリング等のドライプロセスによって同様の層を形成する場合に比して、記録層の劣化を大幅に低減することができる。したがって、本発明によれば、光入射層によって記録層の保護や記録層と保護層との密着性を向上させることができるとともに、当該層を形成することに起因する記録再生品質の低下を大幅に低減できる。
【００１０】
上記本発明の光記録媒体の製造方法において、有機金属化合物としては、金属アルコキシド及び／又はその重合体が好ましい。かかる有機金属化合物を含む塗布液は、塗布後、溶媒の除去により金属酸化物からなる光入射層を特に良好に形成することができる。
【００１１】
なかでも、有機金属化合物における金属は、Ｓｉであると好ましい。Ｓｉを含む、特にＳｉの酸化物からなる光入射層は、耐久性に優れるほか記録層及び保護層との密着性を良好に向上させ得る。また、その屈折率が一般的な構成の保護層に近いものとなり易く、かかる光入射層を備える光記録媒体においては、記録光及び再生光がロスなく記録層に到達でき、良好な記録再生品質が得られるようになる。
【００１２】
また、本発明の光記録媒体は、上記本発明の製造方法により好適に製造されるものであり、基板、反射層、記録層、光入射層及び保護層をこの順に備え、光入射層が、セラミック材料及び有機金属化合物を含むことを特徴とする。このように光入射層が有機金属化合物を含むことで、従来のスパッタリング等のドライプロセスによって形成された、有機金属化合物を含まない同様の層に比して内部応力が緩和され易く、かかる内部応力に起因する記録層のエラーの発生が大幅に低減される。また、有機金属化合物を含む光入射層によって、記録層及び保護層との密着性が向上する。その結果、光記録媒体は信頼性と耐久性とに優れるものとなる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、記録層の光入射側に所定の層を備える場合であっても、優れた記録再生品質を維持し得る光記録媒体を得ることができる光記録媒体の製造方法、及び、これにより得られた光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００１５】
図１は、本発明の好適な実施形態により得られる光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。図１に示す光記録媒体１０は、基板２上に、反射層３、記録層４、光入射層６及び保護層８がこの順に設けられた構成を有している。基板２は、記録層４と対向している面に、溝状のグルーブ１２を有している。かかる構造の光記録媒体１０は、保護層８側から記録層４に記録又は再生光が照射されることによって、記録層４への情報の記録又は記録層４からの情報の読み出しが行われる。以下、このような光記録媒体１０の製造方法について説明する。
【００１６】
まず、基板２を準備する。基板２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．３〜１．６ｍｍ程度のディスク状の形状を有するものである。この基板２の記録層４側の面には、上述の如く溝状のグルーブ１２が形成されており、グルーブ１２が形成されていない部分がランド１４となっている。グルーブ１２は、基板２を平面視してスパイラル状に形成されている。
【００１７】
グルーブ１２を有する基板２は、例えば、樹脂等の材料を用いて射出成形等を行うことにより得ることができる。また、平板状の基板を製造した後、その上に２Ｐ法等によりグルーブ１２となる凹部を有する樹脂層を形成し、平板状の基板とこの樹脂層との複合基板とすることによって得ることもできる。
【００１８】
基板２を構成する材料としては、必ずしも透明な基板２を形成し得るものである必要はなく、樹脂のほか、ガラスやセラミックス等からなるものを適用できる。特に、基板２としては、樹脂からなるものが好ましく、樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂などが好ましい。
【００１９】
グルーブ１２は、その深さ（ランド１４面とグルーブ１２面との高さの差）が、４０〜１５０ｎｍであると好ましく、６０〜１２０ｎｍであるとより好ましい。また、グルーブ１２の幅（グルーブ１２の深さの１／２の位置の幅）は、好ましくは１１０〜２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０〜１９０ｎｍである。さらに、隣り合うグルーブ１２間の間隔（グルーブピッチ；グルーブ１２の幅方向の中心間の距離）は、２９０〜３５０ｎｍであると好ましく、３１０〜３３０ｎｍであるとより好ましい。これらにより、クロストークを低減することが可能となる。
【００２０】
次に、この基板２におけるグルーブ１２が設けられた面上に、反射層３を形成する。反射層３は、例えば、反射層３を構成する金属、合金又は金属酸化物等の原料物質を用い、蒸着法、スパッタリング法等の気相成長法を行うことにより形成することができる。
【００２１】
反射層３の構成材料は、光記録媒体の所望の反射率に応じて適宜設定することが好ましく、高反射率を得る場合は金属又は合金が好ましく、それよりも低い反射率を得る場合はセラミック材料や樹脂等が挙げられる。例えば、反射層３の構成材料としては、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）及びこれらの少なくとも１種を含む合金が挙げられる。なかでも、Ａｇ又はＡｇを含む合金、例えば、ＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ）が、適切な反射率が得られることから好ましい。また、反射率を適切な数値とするために、反射層３の厚さは０〜２００ｎｍであると好ましい。なお、基板２と記録層４との組合せのみで適度な反射率が得られる場合は、必ずしも反射層３を設けなくてもよい。
【００２２】
続いて、反射層３上に記録層４を形成する。記録層４としては、色素を含む層が好ましい。このような色素を含む層は、例えば、色素を含む塗布液を所定の塗布法により反射層３上に塗布した後、乾燥させることにより形成することができる。
【００２３】
記録層４を構成する色素としては、モノメチンシアニン、アゾメチン、アゾ化合物、ポルフィリン、フタロシアニン、クマリン、オキソノール、トリアゾール、ピロメテン、ホルマザンや、これらの化合物を金属と組み合わせた金属錯体等が挙げられる。これらは、所定の化学構造を有することで、光記録媒体の記録及び再生光の波長に合わせた吸収極大を有するように調整することができる。色素としては、これらを単独で、又は、組み合わせて用いることができる。なかでも、色素としては、４００〜４２０ｎｍでの記録再生が可能な吸収波長を有するものが好ましい。
【００２４】
また、記録層４の構成材料としては、当該層の光に対する安定性を高める目的で、クエンチャーを更に含有させてもよい。このようなクエンチャーとしては、一重項酸素クエンチャーが挙げられ、例えば、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルチオール系等のビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が例示できる。また、窒素のラジカルイオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも挙げられる。なお、上述した色素として、それ自身がクエンチャーとして機能する金属錯体等を含む場合は、これらのクエンチャーは必ずしも含まなくても十分な光安定性が得られる。
【００２５】
記録層４を形成するための色素を含む塗布液は、色素や、必要に応じてその他の成分を、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、フッ素系アルコール、ハロゲン化アルキル系等の溶媒に溶解することで調製することができる。また、この塗布液は、必要に応じて、バインダー、分散剤、安定剤などを更に含有していてもよい。
【００２６】
塗布液の塗布は、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等により実施可能である。なかでも、平易に均一な厚さの塗布を行うことができるスピンコート法が好ましい。こうして形成された記録層４は、上述した塗布液から溶媒が除去された構成を有し、主として色素及び適宜添加したその他の成分とから構成される層となる。なお、記録層４には、塗布液に用いた溶媒が特性に大きく影響しない程度に残存していてもよい。
【００２７】
このようにして形成される記録層４は、記録光及び再生光に対する消衰係数（複素屈折率の虚部ｋ）が、０〜０．２０であることが好ましい。消衰係数が０．２０を超えると十分な反射率が得られ難くなる傾向にある。また、記録層４の屈折率（複素屈折率の実部ｎ）は、１．８以上であることが好ましい。屈折率が１．８未満であると、信号の変調度が小さくなる傾向にある。
【００２８】
さらに、記録層４の厚さは、５〜１００ｎｍとすることが好ましく、３０〜７０ｎｍとすることがより好ましい。こうすれば、記録層４の変調度と反射率とのバランスが良くなるため、再生品質が更に向上する傾向にある。記録層４の厚さがこの範囲外であると、反射率が低下して、再生を行うことが困難となる傾向にある。特に、グルーブ１２に隣接する部分の記録層４の厚さが１００ｎｍ以上であると、変調度と反射率とのバランスが悪化する傾向にある。
【００２９】
次に、記録層４上に光入射層６を形成する。光入射層６は、記録層４を物理的及び／又は化学的に保護し、また、記録層４と保護層６との密着性を向上させるほか、記録層４の光学特性を調整する干渉層としての機能も有する。この光入射層６は、記録層４に対する光入射側に位置するため、記録再生光に対して透明な材料から構成される。光入射層６の好適な厚さは１〜１００ｎｍであり、２〜１０ｎｍであるとより好ましい。
【００３０】
この光入射層６は、セラミック材料から主として構成される層であり、主として金属酸化物セラミックからなる層であると好ましい。このような光入射層６は、記録層４上に有機金属化合物及び溶媒を含む塗布液を塗布した後に溶媒を除去する、いわゆるゾルゲル法によって形成する。
【００３１】
有機金属化合物は、塗布液から溶媒を除去するとともにポリマーを生じ、これによってセラミック材料を形成し得る化合物である。例えば、加水分解反応及び重縮合反応によってこのような重合反応を生じる金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート又は金属カルボキシレートが挙げられる。なお、有機金属化合物としては、これらの化合物が部分的に又は完全に重合してなる重合体であってもよい。有機金属化合物における金属としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等が例示でき、Ｓｉが好ましい。
【００３２】
有機金属化合物としては、上述したなかでも、金属アルコキシド又はその重合体が好ましい。特に、金属アルコキシドとしては、Ｓｉのアルコキシド、例えば、テトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ４）４、ＴＥＯＳ）が好ましい。
【００３３】
塗布液に含まれる溶媒としては、ゾルゲル法で用いられる溶媒を特に制限なく適用でき、例えば、エタノール等のアルコールが挙げられる。また、溶媒中には、有機金属化合物の加水分解反応を生じさせる水を更に含んでいると好ましい。さらに、塗布液中には、必要に応じて、加水分解反応を促進するための酸又は塩基等の触媒を添加することもできる。
【００３４】
記録層４上への塗布液の塗布は、特に制限されないが、例えば、記録層４上に塗布液を滴下した後に均質にならす方法や、記録層４が形成された積層体を塗布液中に浸漬した後に引き上げる、いわゆるディッピングにより行うことができる。塗布液を塗布した後の溶媒除去は、例えば、塗布液が塗布された積層体を加熱することで行うことができ、この際の加熱温度は、少なくとも溶媒が揮発する温度であり、有機金属化合物の重縮合が促進される温度とするとより好ましい。かかる温度は、好ましくは２０〜１００℃であり、より好ましくは５０〜８０℃である。
【００３５】
このようにして形成される光入射層６は、ゾルゲル法により形成されたセラミック材料のほか、上述した塗布液の残留物、及び／又は、セラミック材料が形成される際の副生成物を更に含む。塗布液の残留物としては、重合に寄与しなかったゾルゲル前駆体である有機金属化合物や、溶媒、水、触媒等が挙げられる。
【００３６】
また、副生成物としては、有機金属化合物の加水分解副生物が挙げられる。例えば、有機金属化合物が金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート又は金属カルボキシレート或いはこれらの重合体である場合は、これらの配位子に由来するアルコールやカルボン酸が加水分解副生物として例示できる。光入射層６中の上記残留物や副生成物の含有量は、光入射層６が記録層４等を十分に保護でき、信頼性や密着性向上の特性を良好に発揮し得る範囲に調整することが好ましい。具体的には、光入射層６中、塗布液の残留物及び副生成物が合わせて５０質量％以下であると好ましく、２０質量％以下であるとより好ましい。
【００３７】
得られた光入射層６中の上述した残留物や副生成物の確認は、例えば、完成後の光記録媒体１０における光入射層６を露出させ、当該層を赤外分光分析（ＩＲ）の全反射法によって、これらの成分に由来するスペクトルの有無を確認することで行うことができる。
【００３８】
また、光入射層６に含まれる有機金属化合物又はその加水分解副生物については、光入射層６に含まれる炭素原子を分析することで確認することができる。すなわち、例えば、（１）光入射層６を集め、これを、炭素・硫黄分析装置（ＣＳ分析装置）で分析する方法、（２）露出させた光入射層６を、電子線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）で分析してピークエネルギー値（ＥＤＸ）又は波長（ＷＤＸ）を分析する方法、（３）露出させた光入射層６を、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）で分析する方法、（４）露出させた光入射層６を、Ｘ線光電子分析（ＥＳＣＡ）で分析する方法、（５）露出させた光入射層６を、オージェ電子分光装置で分析する方法、等が挙げられる。これらの方法は、適宜組み合わせて実施することもできる。
【００３９】
さらに、光入射層６に残留した溶媒については、光入射層６形成後の光記録媒体を加熱して、当該層から発生したガスをガスクロマトグラフィー−質量分析装置（ＧＣ−ＭＳ）で分析することで確認することができる。このときの加熱温度は、少なくとも溶媒が揮発する温度とする。また、この際、光入射層６以外の構成（基板２等）も同時に分析して、バックグラウンドとして除去する操作を行うことが好ましい。
【００４０】
さらにまた、光入射層６に残留した水分については、光入射層６形成後の光記録媒体を加熱して、当該層から発生したガスをカールフィッシャー法で分析することで確認又は定量することができる。この場合も、光入射層６以外の構成（基板２等）を同時に分析して、バックグラウンドとして除去することが好ましい。
【００４１】
光記録媒体１０の製造においては、このようにして記録層４上に光入射層６を形成した後、この光入射層６上に保護層８を形成する。保護層８は、光記録媒体１０において記録再生光が入射される側に設けられ、光記録媒体１０の内部の層を保護する機能を有する。
【００４２】
この保護層８は、記録再生光の吸収や複屈折が小さく、記録再生光に対して透明な材料から構成することが好ましい。保護層８の構成材料としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、電子線硬化樹脂等、活性光線の照射による硬化が可能な活性光線硬化性樹脂が好ましい。また、記録再生光に対して透明であれば、保護層８としては、上述した基板２と同様の材料からなるものも適用できる。
【００４３】
保護層８の形成方法としては、樹脂からなる層を形成する場合は、上述した樹脂を光入射層６上に塗布した後、これに活性光線を照射して硬化させる方法が挙げられる。樹脂の塗布方法としては、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等が例示できる。この際、樹脂は、必要に応じて溶媒等と混合してもよい。また、保護層８として基板２と同様のものを用いる場合は、予め保護層８を形成した後、光入射層６に接着剤を介して貼り付けるようにして保護層８を形成してもよい。
【００４４】
上述のように構成された光記録媒体１０においては、保護層８側から所定の波長を有する記録光（レーザー等）を照射し、記録層４の記録光が照射された部位を化学的又は物理的に変化させてピットを形成することによって、所定の情報が記録される。そして、このようにしてピットが形成された記録層４に、記録光と同程度の波長の再生光を照射して、反射された光を検出する。この際、ピット形成部位とその他の部位とで屈折率が異なるため、この屈折率の差に基づいて記録層４に記録された情報を読み出すことができる。
【００４５】
なお、本発明における光記録媒体は、上述した実施形態のものに限定されず、種々の態様をとり得るものである。例えば、上述した実施形態では、記録層４として色素を含む層を例示したが、必ずしもこれに限定されない。例えば、記録層は、相変化型の記録材料から構成されるものであってもよい。これにより、繰り返し記録を行うことが可能な光記録媒体を得ることもできる。
【００４６】
さらに、上述した実施形態では、光記録媒体は、一層の記録層のみを有していたが、これに限定されず、例えば、上記構成の光記録媒体１０を、その基板２側で張り合わせた両面光記録媒体としてもよく、基板の一側に複数の記録層を形成した多層光記録媒体としてもよい。
【実施例】
【００４７】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［光記録媒体の作製］
【００４８】
（実施例１〜７）
まず、グルーブが形成されたポリカーボネート基板のグルーブ面上に、スパッタリング法によりＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ）からなる反射層を形成した。次に、下記式（１）で表される色素とＮｉとのキレート化合物を、溶媒であるテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に溶解して得られた塗布液を調整した後、これを反射層上に塗布した後に乾燥させることで、基板上に記録層を形成した。
【化１】
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【００４９】
それから、０．１ＭのＨＮＯ３溶液３７５ｍＬ及びエタノール３７５ｍＬを含む混合溶媒に、ゾルゲル前駆体である有機金属化合物１２５ｍＬを室温で滴下し、これを８０℃で８時間加熱攪拌して、ゾルゲルペーストである塗布液を調製した。この塗布液を、記録層上に塗布した後、８０℃で１時間加熱し溶媒を揮発させ、主として有機金属化合物に含まれる金属の酸化物からなる光入射層を形成した。
【００５０】
その後、この光入射層上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線を照射することによりこれを硬化させて保護層を形成した。こうして、図１に示す構造を有する実施例１〜７の光記録媒体を得た。実施例１〜７では、それぞれ異なる有機金属化合物を用い、各実施例における有機金属化合物は表１に示す通りとした。なお、表１中、有機金属化合物として２種を組み合わせて用いたものについては、その混合比（重量比）も併せて示した。
【表１】
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【００５１】
（比較例１〜２）
ゾルゲル法に代えて、スパッタリング法によりＳｉＯ２（比較例１）又はＳｉＯ２＋ＺｎＳ（比較例２）からなる光入射層を記録層上に形成したこと以外は、実施例１〜６と同様にして比較例１〜２の光記録媒体を得た。
［再生特性の評価］
【００５２】
実施例１〜７及び比較例１〜２の各光記録媒体に対し、波長４０７ｎｍのレーザー光を用いて線速９．８３ｍ／ｓで信号を記録した。そして、信号が記録された光記録媒体に対して、パルステック社製ＤＤＵ−１０００を用いて、最短マークである２Ｔ信号のＣＮＲ（Ｃａｒｒｉｅｒ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ、単位：ｄＢ）を測定した。得られた値を２Ｔ−ＣＮＲとした。この値が大きいほど、記録層に記録された信号を明瞭に読み出すことができることを示している。得られた結果を表２に示す。
【表２】
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【００５３】
表１より、光反射層をゾルゲル法により形成した実施例１〜７の光記録媒体によれば、スパッタ法で形成した比較例１及び２に比して、優れた２Ｔ−ＣＮＲの値が得られた。これより、実施例１〜７の光記録媒体は、比較例１〜２に比して優れた記録再生品質を有しており、良好な記録及び再生が可能であることが確認された。
【００５４】
なお、実施例１〜７の光記録媒体について、光入射層をＩＲ分析の全反射法により分析したところ、ゾルゲル前駆体である有機金属化合物に由来するピークがそれぞれ確認されたのに対し、比較例１及び２では、同様のピークは全く確認されなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１０…光記録媒体、２…基板、３…反射層、４…記録層、６…光入射層、８…保護層、１２…グルーブ、１４…ランド。
【図１】
2007122839.tif 000006