(57)【要約】【課題】視角によって色度ずれを抑制することが可能な発光装置及びその発光素子を備えた電子機器を提供する。【解決手段】各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲに光共振器構造を有した有機ＥＬ装置１０において、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲの画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを第１画素電極部と、該第１画素電極部とは膜厚の異なる第２画素電極部とから構成することで、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲに２つの共振条件を設けた。【選択図】図１
2007122969.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、光反射層と、該光反射層
上に形成される光透過性を有する第１の電極と、該第１の電極と対向して配置される光透過性及び光反射性を有する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極とに挟まれて配置される、少なくとも発光層を含んで構成される機能層と、を備える単位画素
を複数備えた発光装置であって、
前記単位画素は、各々、２以上の共振条件を含んで構成されてなることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置において、
前記単位画素は、各々、前記光反射層と前記第２の電極との間の距離であって、１の共振条件を構成する第１の光学的距離と、前記光反射層と前記第２の電極との間の距離であって、他の共振条件を構成する第２の光学的距離とを有するように、前記機能層、前記第１の電極、及び第２の電極のうちの少なくともいずれか一つの膜厚が調整されることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の発光装置において、
前記光反射層と前記第１の電極との間には、前記第１の電極より屈折率が低い保護層が形成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の発光装置において、
前記共振条件は、前記単位画素毎に前記第１の電極の膜厚を異ならせることによって前記第１の光学的距離と前記第２の光学的距離とを設定されるようにしたことを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記機能層は、前記発光層以外に正孔輸送層及び電子輸送層の少なくともいずれか一方を備え、
前記共振条件は、前記単位画素毎に、前記正孔輸送層及び前記電子輸送層のうちの少なくともいずれか一方の膜厚を異ならせることによって前記第１の光学的距離と前記第２の光学的距離とが設定されることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の発光装置において、
前記単位画素は、赤色系の光を発光する赤用画素、緑色系の光を発光する緑用画素及び青色系の光を発光する青用画素を含み、
前記共振条件は、前記赤用画素、前記緑用画素及び前記青用画素のうち、前記青用画素のみに設定されていることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発光装置において、
前記赤用画素に相対向する位置に赤色変換層、前記緑用画素に相対向する位置に緑色変換層及び前記青用画素に相対向する位置に青色変換層を備えたカラーフィルタをさらに有することを特徴とする発光装置。
【請求項８】
請求項７に記載の発光装置において、
前記共振条件を構成する一方の共振波長は、前記カラーフィルタの透過率特性における最大透過率を示す波長と一致していることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の発光装置において、
前記共振条件を構成する一方の共振波長λ２は、他方の共振波長λ１に対して、
（λ１＋１０ｎｍ）≦λ２≦（λ１＋５０ｎｍ）
を満たす波長範囲に設定されていることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のうちのいずれか一項に記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光性有機材料を発光層に用いた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」という）素子を備えた画素を有した有機エレクトロルミネッセンス発光装置の開発が進められている。一般に、有機ＥＬ素子は、２つの電極間に少なくとも発光層を含んだ機能層を挟持した構成をしており、発光層から発せられた光をそのまま表示光として利用するようになっている。
【０００３】
しかし、有機ＥＬ素子からそのまま取り出された光は、スペクトルがブロードであり、発光輝度も低いため、発光装置に適用した場合、十分な色再現性が得られないという問題があった。そこで、各画素に誘電体ミラー層（半透明反射層）を設け、発光層から発せられた光を、一方の電極と誘電体ミラー層との間で往復するように反射させて、その光学的距離に対応した共振波長の光のみを増幅させて外部に取り出すようにした共振器構造を備えた発光装置が提案されている。このような共振器構造を備えた発光装置は、光学的距離を適宜変更することで、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）に対応した波長の光を取り出すことも可能となる（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特許第２７９７８８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記発光装置では、各電極及び誘電体ミラーは基板に対して垂直方向に順次積層された構成であるので、各画素の光学的距離は、基板に対して垂直方向と斜め方向とでは、見かけ上の光学的距離が異なる。
【０００５】
図１０（ａ），（ｂ）に、それぞれ示すように、基板に対して斜め方向へ出射した青（Ｂ）及び赤（Ｒ）に対応した各波長の光は、ともに、出射角Ｑが０°，２０°，…６０°と広角になるに従って徐々にピーク波長が短波長側にシフトしていくことが分かる。例えば、青（Ｂ）や赤（Ｒ）に対応した波長の光では、それぞれ、出射角Ｑが０°、即ち、基板に対して正面（０°）へ出射する光と、基板に対して３０°ずれて出射する光とでは約１０ｎｍずれた波長の光が、また、基板に対して６０°ずれて出射する光とでは約５０ｎｍずれた波長の光が出射する。
【０００６】
従って、基板に対して垂直方向に出射される光と斜め方向に出射される光とでは、波長が異なることにより、見る角度（視角）によって異なった色に見える、所謂色度ずれが生じてしまうという問題が生じてしまう。
【０００７】
本発明では、このような事情に鑑みてなされたものであって、視角によって色度ずれを抑制することが可能な発光装置及びその発光素子を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の発光装置は、基板上に、光反射層と、該光反射層上に形成される光透過性を有する第１の電極と、該第１の電極と対向して配置される光透過性及び光反射性を有する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極とに挟まれて配置される、少なくとも発光層を含んで構成される機能層と、を備える単位画素を複数備えた発光装置であって、前記
単位画素は、各々、２以上の共振条件を含んで構成されてなる。
【０００９】
これによれば、１つの単位画素からは、２以上の異なった波長の光が出射される。従って、単位画素から基板に対して斜め方向から取り出される光のピーク波長が、単位画素を基板に対して垂直方向から取り出される光のピーク波長と等しくなるように、単位画素を基板に対して垂直方向に観測される光の共振波長とは別に、基板に対して斜め方向に観測される共振波長を設定する。この結果、基板に対して垂直方向から取り出される光と、斜め方向から取り出される光とは、波長が同じになることにより、見る角度（視角）によって、色度ずれが生じることが抑制される。
【００１０】
この発光装置において、前記単位画素は、各々、前記光反射層と前記第２の電極との間の距離であって、１の共振条件を構成する第１の光学的距離と、前記光反射層と前記第２の電極との間の距離であって、他の共振条件を構成する第２の光学的距離とを有するように、前記機能層、前記第１の電極、及び第２の電極のうちの少なくともいずれか一つの膜厚が調整されてもよい。
【００１１】
これによれば、基板に対して垂直向に出射される光の波長と、斜め方向に出射される光の波長とが同じである。従って、見る角度（視角）によって、色度ずれが生じることがない。
【００１２】
この発光装置において、前記光反射層と前記第１の電極との間には、前記第１の電極より屈折率が低い保護層が形成されていてもよい。
これによれば、光反射層は、一般的に、アルミニウム（Ａｌ）や銀（Ａｇ）で形成されている。従って、画素電極を形成する際に使用される公知の現像液や剥離液の溶剤によって光反射層が劣化してしまうが、本発明のように、光反射層上には保護層が形成されているため、劣化しない。この結果、画素電極は、その光反射率が高い状態となるので、光取り出し効率の高い、即ち、高輝度の発光装置を製造することができる。また、各画素の光共振波長は、光反射層と半透過反射層との間の光学的距離、つまり、光反射層と半透過反射層との間に配置される画素電極、機能層、保護層の光学的距離の総和に対応し、また、各層の光学的距離は、その膜厚と屈折率との積によって求められることが知られている。本発明では、保護層の屈折率は画素電極より低いので、光共振波長は保護層の影響を受けない。保護層の屈折率が大きい場合、光共振器の観点から画素電極の膜厚を非常に薄く形成する必要が生じるが、これを抑制することができるので、画素電極の膜厚を製造しやすい厚みで形成することができる。
【００１３】
この発光装置において、前記共振条件は、前記単位画素毎に前記第１の電極の膜厚を異ならせることによって前記第１の光学的距離と前記第２の光学的距離とを設定されるようにしてもよい。
【００１４】
これによれば、第１の電極を、膜厚の異なる２以上の領域を有した、例えば階段状の形状にすることで、各単位画素内の光学的距離を２以上に設定する。そして、発光層の膜厚を変化させることはないので、各単位画素の発光特性を変化させることなく、各単位画素に２以上の異なる共振条件を設けることができる。
【００１５】
この発光装置において、前記機能層は、前記発光層以外に正孔輸送層及び電子輸送層の少なくともいずれか一方を備え、前記共振条件は、前記単位画素毎に、前記正孔輸送層及び前記電子輸送層のうちの少なくともいずれか一方の膜厚を異ならせることによって前記第１の光学的距離と前記第２の光学的距離とが設定されてもよい。
【００１６】
これによれば、第１の電極は、膜厚の異なる２以上の領域を有した、例えば階段状の形
状にすることで、各単位画素内の光学的距離を２以上に設定することができる。そして、発光層の膜厚を変化させることはないので、各単位画素の発光特性を変化させることなく、各単位画素に２以上の異なる共振条件を設けることができる。
【００１７】
この発光装置において、前記単位画素は、赤色系の光を発光する赤用画素、緑色系の光を発光する緑用画素及び青色系の光を発光する青用画素を含み、前記共振条件は、前記赤用画素、前記緑用画素及び前記青用画素のうち、前記各青用画素のみに設定されていてもよい。
【００１８】
これによれば、赤、緑及び青色の光を発光するフルカラー表示可能な発光装置において、青色系の光を発光する青用画素は、赤用画素、緑用画素及び青用画素のうち、最も視角による色度ずれが大きい。従って、青用画素に対して共振条件を２以上設定することでも視角による色度ずれを効果的に抑制させることができる。
【００１９】
この発光装置において、前記赤用画素に相対向する位置に赤色変換層、前記緑用画素に相対向する位置に緑色変換層及び前記青用画素に相対向する位置に青色変換層を備えたカラーフィルタをさらに有してもよい。
【００２０】
これによれば、カラーフィルタが設けられているので、より色再現性の良好な発光装置を実現することができる。
この発光装置において、前記共振条件を構成する一方の共振波長は、前記カラーフィルタの透過率特性における最大透過率を示す波長と一致してもよい。
【００２１】
これによれば、輝度を低下させることなく、赤、緑及び青色の光の色ずれが抑制された発光装置を実現することができる。
この発光装置において、前記共振条件を構成する一方の共振波長λ２は、他方の共振波長λ１に対して、
（λ１＋１０ｎｍ）≦λ２≦（λ１＋５０ｎｍ）
を満たす波長範囲に設定されていてもよい。  これによれば、視角が６０°程度であっても、赤、緑及び青色の光の色ずれが抑制される。従って、広視野角であっても、色度ずれの起きない発光装置を実現することができる。
【００２２】
本発明の電子機器は、上記記載の発光装置を備えている。
これによれば、広視野角であっても、色度ずれを抑制した画像を表示することの可能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を具体化した各実施形態について図面に従って説明する。
（第１実施形態）
図１は、本発明の発光装置としての有機ＥＬ装置の概略構成を示す断面図である。
【００２４】
本実施形態の有機ＥＬ装置１０は、発光層から発光（内部発光）した光（表示光）を基板とは反対側から取り出す、所謂トップエミッション型の有機ＥＬ装置である。
図１に示すように、有機ＥＬ装置１０は、ガラス等の光透過性を有する基板（透明基板）１１を備えるとともに、該基板１１上には、青用画素形成領域ＺＢ、緑用画素形成領域ＺＧ及び赤用画素形成領域ＺＲがマトリクス状に配置されている。各青、緑及び赤用画素形成領域ＺＢ，ＺＧ，ＺＲは、図１においてＸ矢印方向に沿って、青用画素形成領域ＺＢ→緑用画素形成領域ＺＧ→赤用画素形成領域ＺＲ→…の順に繰り返して配置されるとともに、Ｚ矢印方向（紙面奥側方向）に沿っては同色の画素形成領域ＺＢ，ＺＧ，ＺＲが配置
されている。
【００２５】
また、基板１１上には、各同色の画素形成領域ＺＢ，ＺＧ，ＺＲに沿ってストライプ状に、光反射性の高い材料等で構成された複数の光反射層１２が延設されている。本実施形態の光反射層１２は、アルミニウム（Ａｌ）で構成されている。
【００２６】
各光反射層１２上には、該光反射層１２を被覆するように保護層１３が形成されている。この保護層１３は、光透過性が高く、かつ電気絶縁性を有した材料で構成されている。また、本実施形態では、保護層１３は、後記する青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒより屈折率が低い材料で構成されている。保護層１３は、例えば、光反射層１２の表面を陽極酸化することによって形成されている。
【００２７】
各青、緑及び赤用画素形成領域ＺＢ，ＺＧ，ＺＲ内の保護層１３上には、光透過性を有した導電性材料で構成された第１電極としての青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒが区画形成されている。つまり、保護層１３を介して各光反射層１２と相対向するように、複数の青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒがマトリクス状に配置されている。尚、本実施形態の画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒは、インジウムー錫化合物（ＩＴＯ）で構成されている。
【００２８】
図２〜図４に示すように、青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒは、それぞれ、第１青、緑及び赤用画素電極部１８Ｂ，１８Ｇ，１８Ｒと、該第１青、緑及び赤用画素電極部１８Ｂ，１８Ｇ，１８Ｒとは膜厚が異なる第２青、緑及び赤用画素電極部１９Ｂ，１９Ｇ，１９Ｒとを備えている。
【００２９】
図２に示すように、第１青用画素電極部１８Ｂは、その膜厚Ｔｂ１が、第２青用画素電極部１９Ｂの膜厚Ｔｂ２に比べて膜厚が薄くなっている。同様に、図３に示すように、第１緑用画素電極部１８Ｇは、その膜厚Ｔｇ１が、第２緑用画素電極部１９Ｇの膜厚Ｔｇ２に比べて膜厚が薄くなっている。また同様に、図４に示すように、第１赤用画素電極部１８Ｒは、その膜厚Ｔｒ１が、第２赤用画素電極部１９Ｒの膜厚Ｔｒ２に比べて膜厚が薄くなっている。つまり、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒは、階段状の形状をしている。
【００３０】
また、第１青用画素電極部１８Ｂの膜厚Ｔｂ１は、第１緑用画素電極部１８Ｇの膜厚Ｔｇ１に比べて薄く、第１緑用画素電極部１８Ｇの膜厚Ｔｇ１は、第１赤用画素電極部１８Ｒの膜厚Ｔｒ１に比べて薄くなっている。
【００３１】
図１に示すように、基板１１上には、各青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを覆うように機能層２０が形成されている。本実施形態の機能層２０は、正孔輸送層２１、発光層２２及び電子輸送層２３が基板１１側から順次積層されている。また、機能層２０上（電子輸送層２３上）の全面には、第２電極としての共通電極２５が形成されている。
【００３２】
正孔輸送層２１は、青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒから発光層２２への電荷の注入効率を高めるとともに、発光層２２内を移動する電子をブロッキングする機能を有し、発光層２２内での電子と正孔との再結合確率を高める作用を奏する。この正孔輸送層２１には、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒからの注入障壁が低く、正孔移動度の高い材料が好適に用いられる。このような材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体などが用いられる。具体的には、３，４−ポリエチレンジオキシオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）［商品名；バイトロン−ｐ（Bytron-p）：バイエル社製］の分散液、即ち、分散媒としてポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ
、さらにこれを水に分散させた分散液などを用いられる。本実施形態では、正孔輸送層２１は、各青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒに対して均一な膜厚である。
【００３３】
発光層２２は、蛍光或いは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料で構成されている。このような材料としては、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポリアルキルチオレン（ＰＡＴ）や、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系などを好適に用いることができる。また、これらの各発光材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。尚、本実施形態の発光層２２では、白色の光を発光する公知の高分子発光材料で構成されている。また、本実施形態では、発光層２２は、正孔輸送層２１上の全面に渡って均一な膜厚である。
【００３４】
電子輸送層２３は、共通電極２５から発光層２２への電子注入効率を高めるとともに、正孔ブロッキング機能を有する。この電子輸送層２３は、オキサジアゾール誘導体やＡｌｑ３などの有機材料で構成されている。本実施形態では、電子輸送層２３は、発光層２２上の全面に渡って均一な膜厚である。
【００３５】
共通電極２５は、発光層２２から発せられた光の一部を透過して、残りの光の一部または全部を光反射層１２側に反射する光半透過反射膜として機能する電極である。従って、機能層２０は、共通電極２５と各青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒとの間に挟持されている。そして、発光層２２から発せられた光を各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒの直下に配置された光反射層１２と共通電極２５との間で往復するように反射させて共振させる光共振器構造が形成される。
【００３６】
そして、青、緑及び赤用画素形成領域ＺＢ，ＺＧ，ＺＲには、それぞれ、単位画素としての青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲが割り当てられており、このうち、同色の画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲが同一の光反射層１２上に整列配置されている。つまり、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲのうち、青用画素ＤＢには、各青用画素電極１５Ｂ（１８Ｂ，１９Ｂ）、共通電極２５、及び各青用画素電極１５Ｂ（１８Ｂ，１９Ｂ）と共通電極２５とに挟持された機能層２０とで構成された青用有機ＥＬ素子２８Ｂが設けられている。また、緑用画素ＤＧには、各緑用画素電極１５Ｇ（１８Ｇ，１９Ｇ）、共通電極２５、及び各緑用画素電極１５Ｇ（１８Ｇ，１９Ｇ）と共通電極２５とに挟持された機能層２０とで構成された緑用有機ＥＬ素子２８Ｒが設けられている。同様に、赤用画素ＤＲには、各赤用画素電極１５Ｒ（１８Ｒ，１９Ｒ）、共通電極２５、及び各赤用画素電極１５Ｒ（１８Ｒ，１９Ｒ）と共通電極２５とに挟持された機能層２０とで構成された赤用有機ＥＬ素子２８Ｒが設けられている。尚、基板１１には、図示しない複数のデータ線や複数の走査線が形成され、これら各データ線と走査線との交差に対応した位置に各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲが形成される。また、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに対応した基板１１上には各有機ＥＬ素子２８Ｂ，２８Ｇ，２８Ｒの発光を制御する図示しないスイッチングトランジスタやドライビングトランジスタ等の駆動用ＴＦＴが形成されている。
【００３７】
次に、各青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲについてその詳細を説明する。
図２に示すように、第１青用画素電極部１８Ｂの上下方向（図２においてＹ矢印方向）に対応した光反射層１２と共通電極２５との間の距離（これを「第１距離」という）をＬＢ１で示し、第２青用画素電極部１９Ｂの上下方向に対応した光反射層１２と共通電極２５との間の距離（これを「第２距離」という）をＬＢ２で示す。すると、各正孔輸送層２
１、発光層２２及び電子輸送層２３は画素電極１５Ｂに対して均一な膜厚であるので、第２距離ＬＢ２は、第１距離ＬＢ１に比べて第１青用画素電極部１８Ｂの膜厚Ｔｂ１と第２青用画素電極部１９Ｂの膜厚Ｔｂ２との差分（Ｔｂ２−Ｔｂ１）だけ長くなっている。同様に、図３に示すように、第１緑用画素電極部１８Ｇの上下方向（図３においてＹ矢印方向）に対応した光反射層１２と共通電極２５との間の第１距離をＬＧ１とし、第２緑用画素電極部１９Ｇの上下方向に対応した光反射層１２と共通電極２５との間の第２距離をＬＧ２とする。すると、第２距離ＬＧ２は、第１距離ＬＧ１に比べて第１緑用画素電極部１８Ｇの膜厚Ｔｇ１と第２緑用画素電極部１９Ｇの膜厚Ｔｇ２の膜厚との差分（Ｔｇ２−Ｔｇ１）だけ長い。
【００３８】
また同様に、図４に示すように、第１赤用画素電極部１８Ｒの上下方向（図４においてＹ矢印方向）に対応した光反射層１２と共通電極２５との間の第１距離をＬＲ１とし、第２赤用画素電極部１９Ｒの上下方向に光反射層１２と共通電極２５との間の第２距離をＬＲ２とする。すると、第２距離ＬＲ２は、第１距離ＬＲ１に比べて第１赤用画素電極部１８Ｒの膜厚Ｔｒ１と第２赤用画素電極部１９Ｒの膜厚Ｔｒ２の膜厚との差分（Ｔｒ２−Ｔｒ１）だけ長い。
【００３９】
各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲから出射される光は、該画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに形成された光共振器構造の共振条件に従った共振波長の光となる。この共振波長は、光反射層１２と共通電極２５との間の光学的距離、つまり、光反射層１２と共通電極２５との間に配置される各層の光学的距離の総和に対応する。各層の光学的距離は、その膜厚と屈折率との積によって求められる。本実施形態では、各有機ＥＬ素子２８Ｂ，２８Ｇ，２８Ｒは全て共通の材料で構成されているので、各層の屈折率は等しい。従って、各層の光学的距離は、各層の膜厚の総和である第１距離ＬＢ１，ＬＧ１，ＬＲ１及び第２距離ＬＢ２，ＬＧ２，ＬＲ２によって決定される。尚、光の共振波長は、光学的距離が長くなるのに伴って（本実施形態では、第１距離ＬＢ１，ＬＧ１，ＬＲ１及び第２距離ＬＢ２，ＬＧ２，ＬＲ２が長くなるのに伴って）長くなる。
【００４０】
従って、本実施形態では、前記したように、各青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲは、第１距離ＬＢ１，ＬＧ１，ＬＲ１と第２距離ＬＢ２，ＬＧ２，ＬＲ２とからなる２種類の距離を備えているので、第１距離ＬＢ１，ＬＧ１，ＬＲ１に対応した第１の光学的距離と、第２距離ＬＢ２，ＬＧ２，ＬＲ２に対応した第２の光学的距離とを備えている。換言すると、各青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲは、異なる２つの共振条件を備えている。
（青用画素ＤＢについて）
青用画素ＤＢの第１及び第２距離ＬＢ１，ＬＢ２は、ともに、青色系の光に対応した波長の光が共振して得られるように、第１及び第２青用画素電極部１８Ｂ，１９Ｂの各膜厚Ｔｂ１，Ｔｂ２が設定されている。第１距離ＬＢ１は、基板１１に対して垂直方向（図２においてＹ矢印方向）に沿って出射する青色の光ＨＢ１の共振波長ＰＢ１が予め設定された所望の青色の光になるように、第１青用画素電極部１８Ｂの膜厚Ｔｂ１を予め設定することで調整されている。また、第２距離ＬＢ２は、第１距離ＬＢ１に比べて長いので、それに伴って光学的距離が長くなることから、共振波長ＰＢ１に比べて長波長の青色の光ＨＢ２が出射されるが、その光ＨＢ２の共振波長ＰＢ２は、以下の式（１）を満足するように第２青用画素電極部１９Ｂの膜厚Ｔｂ２を予め設定することで調整されている。
【００４１】
（ＰＢ１＋１０ｎｍ）≦ＰＢ２≦（ＰＢ１＋５０ｎｍ）      ・・・（１）
この上式（１）を満足する光ＨＢ２の共振波長ＰＢ２は、基板１１に対して出射角が６０°に斜め方向に出射された場合、基板１１に対して垂直方向に出射された光の共振波長ＰＢ１とほぼ等しい波長である。つまり、青用画素ＤＢから出射して、垂直方向に観測される青色の光の波長と斜め方向に観測される青色の光の波長はほぼ等しくなる。ここで、
出射角とは、基板１１に対して垂直方向（図１において、Ｙ矢印方向）に対する平行方向（図１において、Ｘ矢印方向）のなす角をいう。例えば、基板１１に対して垂直方向（図１において、Ｙ矢印方向）は出射角が０°であり、その垂直方向から基板１１に対して平行方向（図１において、Ｘ矢印方向）は出射角が９０°である。
（緑用画素ＤＧについて）
緑用画素ＤＧの第１及び第２距離ＬＧ１，ＬＧ２は、ともに、緑色系の光に対応した波長の光が共振して得られるように、第１及び第２緑用画素電極部１８Ｇ，１９Ｇの各膜厚Ｔｇ１，Ｔｇ２が設定されている。詳しくは、第１距離ＬＧ１は、基板１１に対して垂直方向（図３においてＹ矢印方向）に沿って出射する緑色の光ＨＧ１の共振波長ＰＧ１が予め設定された所望の緑色の光になるように、第１緑用画素電極部１８Ｇの膜厚Ｔｇ１を予め設定することで調整されている。また、第２距離ＬＧ２は、第１距離ＬＧ１に比べて長いので、共振波長ＰＧ１に比べて長波長の緑色の光ＨＧ２が出射されるが、その光ＨＧ２の共振波長ＰＧ２は、以下の式（２）を満足するように第２緑用画素電極部１９Ｇの膜厚Ｔｇ２を予め設定することで調整されている。
【００４２】
（ＰＧ１＋１０ｎｍ）≦ＰＧ２≦（ＰＧ１＋５０ｎｍ）      ・・・（２）
この上式（２）を満足する光ＨＧ２の共振波長ＰＧ２は、基板１１に対して出射角が６０°に斜め方向に出射された場合、基板１１に対して垂直方向に出射された光の共振波長ＰＧ１とほぼ等しい。つまり、緑用画素ＤＧから出射して、垂直方向に観測される緑色の光の波長と斜め方向に観測される緑色の光の波長はほぼ等しくなる。
（赤用画素ＤＲについて）
赤用画素ＤＲの第１及び第２距離ＬＲ１，ＬＲ２は、ともに、赤色系の光に対応した波長の光が共振して得られるように、第１及び第２赤用画素電極部１８Ｒ，１９Ｒの各膜厚Ｔｒ１，Ｔｒ２が設定されている。詳しくは、第１距離ＬＲ１は、基板１１に対して垂直方向（図４においてＹ矢印方向）に沿って出射する赤色の光ＨＲ１の共振波長ＰＲ１が予め設定された所望の赤色の光になるように、第１赤用画素電極部１８Ｒの膜厚Ｔｒ１を予め設定することで調整されている。また、第２距離ＬＲ２は、第１距離ＬＲ１に比べて長いので、共振波長ＰＲ１に比べて長波長の赤色の光ＨＲ２が出射されるが、その光ＨＲ２の共振波長ＰＲ２は、以下の式（３）を満足するように第２赤用画素電極部１９Ｒの膜厚Ｔｒ２を予め設定することで調整されている。
【００４３】
（ＰＲ１＋１０ｎｍ）≦ＰＲ２≦（ＰＲ１＋５０ｎｍ）      ・・・（３）
この上式（３）を満足する光ＨＲ２の共振波長ＰＲ２は、基板１１に対して出射角が６０°に斜め方向に出射された場合、基板１１に対して垂直方向に出射された光の共振波長ＰＲ１とほぼ等しい。つまり、赤用画素ＤＲから出射して、垂直方向に観測される赤色の光の波長と斜め方向に観測される赤色の光の波長はほぼ等しくなる。
【００４４】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲは、それぞれ、２つの共振条件を備えた。従って、各青用画素ＤＢからは共振波長ＰＢ１を有した青色の光ＨＢ１と、該共振波長ＰＢ１に比べて長波長の共振波長ＰＢ２を有した青色の光ＨＢ２とが出射される。また、各緑用画素ＤＧからは共振波長ＰＧ１を有した緑色の光ＨＧ１と、該共振波長ＰＧ１に比べて長波長の共振波長ＰＧ２を有した緑色の光ＨＧ２とが出射される。さらに、各赤用画素ＤＲからは共振波長ＰＲ１を有した赤色の光ＨＲ１と、該共振波長ＰＲ１に比べて長波長の共振波長ＰＲ２を有した赤色の光ＨＲ２とが出射される。
【００４５】
この結果、基板１１に対して斜め方向から取り出される光は、基板１１に対して垂直方向から取り出された光に比べて波長が短くなるが、各共振波長ＰＢ２，ＰＧ２，ＰＲ２は、予め長波長であるので、基板１１に対して斜め方向から観測されることによって基板１
１に対して垂直方向から観測される光の波長とほぼ等しくなる。従って、基板１１に対して見る角度（視角）によって異なった色に見える、所謂色度ずれは起こらない画像を表示することができる。
【００４６】
（２）本実施形態によれば、保護層１３及び機能層２０の各層を、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに対して均一な膜厚とした。また、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを膜厚が異なる２つの電極部１８Ｂ，１８Ｇ，１８Ｒ及び１９Ｂ，１９Ｇ，１９Ｒから構成されるようにした。従って、発光層２２の膜厚を変化させることはないので、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲの発光特性を変化させることなく、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに２以上の異なる共振条件を容易に設定することができる。
【００４７】
（３）本実施形態によれば、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲから出射される光ＨＢ２，ＨＧ２，ＨＲ２の各共振波長ＰＢ２，ＰＧ２，ＰＲ２を、上式（１），（２），（３）を満足するように決定した。従って、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲから基板１１に対して出射角が６０°に出射された光の波長を、基板１１に対して垂直方向に出射された光の共振波長ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１とほぼ等しくすることができる。この結果、視角が６０°程度であっても、赤、緑及び青色の光の色ずれが抑制される。その結果、広視野角であっても、色度ずれの起きない有機ＥＬ装置１０を実現することができる。
【００４８】
（４）本実施形態によれば、光反射層１２と各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒとの間に、光反射層１２全体を覆うように保護層１３を形成した。従って、画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを形成する際に使用される公知の現像液や剥離液の溶剤が光反射層１２に直接接触することはないので、光反射層１２が現像液や剥離液の溶剤によって劣化することはない。この結果、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒは、その光反射率が高い状態となるので、光取り出し効率の高い、即ち、高輝度の有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００４９】
（５）本実施形態によれば、保護層１３は、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒより屈折率が低い材料で構成した。従って、各光ＨＢ１，ＨＢ２，ＨＧ１，ＨＧ２，ＨＲ１，ＨＲ２の各共振波長は保護層１３の影響を受けない。従って、保護層１３の屈折率が大きい場合、光共振器の観点から画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒの膜厚を非常に薄く形成する必要が生じるが、これを抑制することができる。この結果、画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒの各膜厚を製造しやすい厚みで形成することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ装置を図５及び図６に従って説明する。
【００５０】
本実施形態の有機ＥＬ装置５０は、上記第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０に、カラーフィルタ５１が取り付けられている他は同じ構成である。従って、上記第１実施形態と同じ部材については、同じ符号を付しその説明を省略する。
【００５１】
図５に示すように、カラーフィルタ５１は、光透過性を有したカラーフィルタ基板５２を備え、そのカラーフィルタ基板５２には、各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲの共振波長に対応した波長の光を透過する青色、緑色及び赤色変換層５３Ｂ，５３Ｇ，５３Ｒが設けられている。各色変換層５３Ｂ，５３Ｇ，５３Ｒは、ブラックマトリクスＢＭによってマトリクス上に区画配置されている。
【００５２】
そして、カラーフィルタ５１は、青色変換層５３Ｂが青用画素ＤＢに相対向する位置に、緑色変換層５３Ｇが緑用画素ＤＧに相対向する位置に、赤色変換層５３Ｒが赤用画素ＤＲに相対向する位置に配置されるように、共通電極２５上に取り付けられている。
【００５３】
図６は、各青色、緑色及び赤色変換層５３Ｂ，５３Ｇ，５３Ｒの波長に対する光透過率を示すグラフである。図６中、曲線５５Ｂは青色変換層５３Ｂの光透過率を示す曲線であって、曲線５５Ｇは緑色変換層５３Ｇの光透過率を示す曲線であって、曲線５５Ｒは赤色変換層５３Ｒの光透過率を示す曲線である。また、図６中、曲線Ｌｂ１，Ｌｂ２は、それぞれ、共振波長ＰＢ１の光ＨＢ１及び共振波長ＰＢ２の光ＨＢ２の各発光スペクトルである。同様に、図６中、曲線Ｌｇ１，Ｌｇ２は、それぞれ、共振波長ＰＧ１の光ＨＧ１及び共振波長ＰＧ２の光ＨＧ２の各発光スペクトルである。また、同様に、図６中、曲線Ｌｒ１，Ｌｒ２は、それぞれ、共振波長ＰＲ１の光ＨＲ１及び共振波長ＰＲ２の光ＨＲ２の各発光スペクトルである。
【００５４】
図６に示すように、本実施形態では、各青用画素ＤＢから出射される光ＨＢ１の共振波長ＰＢ１が、青色変換層５３Ｂの光透過率特性における最大透過率を示す波長と一致するように、第１距離ＬＢ１及び第２距離ＬＢ２が適宜調整されている。同様に、本実施形態では、各緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲから出射される光ＨＧ１，ＨＲ１の各共振波長ＰＧ１，ＰＲ１が、緑色及び赤色変換層５３Ｇ，５３Ｒの各光透過率特性における最大透過率を示す波長と一致するように、第１距離ＬＧ１，ＬＲ１及び第２距離ＬＧ２，ＬＲ２が適宜調整されている。
【００５５】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、光共振構造を有した各画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲから出射された光のうち、カラーフィルタ５１を透過した光のみ外部に取り出されるので、より色再現性の良好な有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００５６】
（２）本実施形態によれば、光ＨＢ１，ＨＧ１，ＨＲ１の各共振波長ＰＢ１，ＰＧ１，ＰＲ１が、青色、緑色及び赤色変換層５３Ｂ，５３Ｇ，５３Ｒの各光透過率特性における最大透過率を示す波長と一致している。従って、輝度を低下させることなく、赤、緑及び青色の光の色ずれが抑制された有機ＥＬ装置を実現することができる。
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬ装置を図７に従って説明する。
【００５７】
本実施形態の有機ＥＬ装置６０は、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲの各画素電極の構成が異なっている他は、上記第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０と同じ構成である。従って、上記第１実施形態と同じ部材については、同じ符号を付しその説明を省略する。
【００５８】
図７に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置６０における緑用画素電極６１Ｇは、膜厚Ｔｇ１である第１緑用画素電極部１８Ｇからのみ構成され、第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０のような階段状の形状を成していない。また、同様に、本実施形態の有機ＥＬ装置６０における赤用画素電極６１Ｒは、膜厚Ｔｒ１である第１赤用画素電極部１８Ｒからのみ構成され、第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０のような階段状の形状を成していない。従って、緑用画素ＤＧからは共振波長ＰＧ１を有した緑色系の光ＨＧ１のみが、また、赤用画素ＤＲからは共振波長ＰＲ１を有した赤色系の光ＨＲ１のみが出射する。
【００５９】
ここで、青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲのうち、青用画素ＤＢから出射される青色系の光ＨＢが最も視角による色度ずれが大きいことが知られている。そこで、本実施形態では、青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲのうち、最も視角による色度ずれが大きい青色系の光ＨＢを出射する青用画素ＤＢに対してのみ２つの共振条件を備えている。
【００６０】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲのうち、最
も視角による色度ずれが大きい青色系の光ＨＢを出射する青用画素ＤＢに対してのみ２つの共振条件を備えた。従って、全ての画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに対して共振条件を２つ設定するのではないので、上記第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０に比べて製造が容易となる。従って、製造が容易で、且つ視角による色度ずれを抑制させることができる有機ＥＬ装置を提供することができる。
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態に係る有機ＥＬ装置を図８に従って説明する。
【００６１】
本実施形態の有機ＥＬ装置７０における青用画素電極７１Ｂは、膜厚Ｔｂ１である第１青用画素電極部１８Ｂからのみ構成され、また、緑用画素電極１５Ｇは、膜厚Ｔｇ１である第１緑用画素電極部１８Ｇからのみ構成され、さらに、赤用画素電極１５Ｒは、膜厚Ｔｒ１である第１赤用画素電極部１８Ｒからのみ構成されている。つまり、各画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒは、第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０のような階段状の形状を成していない。
【００６２】
また、各青用画素ＤＢの機能層２０を構成する正孔輸送層２１は、上記第１実施形態に係る有機ＥＬ装置１０のように、青用画素電極１５Ｂに対して均一の膜厚ではなく、その一部の領域Ｓ（例えば、有機ＥＬ装置１０における第２青用画素電極部１９Ｂが形成された領域）上の正孔輸送層２１の膜厚が厚くなっている。そして、その正孔輸送層２１上に、発光層２２及び電子輸送層２３がそれぞれ均一の膜厚で積層されている。従って、青用画素ＤＢ内の正孔輸送層２１は、他の緑及び赤用画素ＤＧ，ＤＲと同じ膜厚と、他の緑及び赤用画素ＤＧ，ＤＲの膜厚よりも厚い膜厚とを有している。この結果、青用画素ＤＢは、２つの光学的距離を備えている。
【００６３】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、共振条件を、青、緑及び赤用画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒの形状を変えることで設定するのではなく、正孔輸送層２１の膜厚を適宜変えることで設定するようにしている。この結果、上記第３実施形態と同様に、青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲのうち、最も視角による色度ずれが大きい青色系の光ＨＢを出射する青用画素ＤＢに対してのみ２つの共振条件を設定することができる。
（第５実施形態）
次に、上記各実施形態に係る有機ＥＬ装置を備えた電子機器を一例について説明する。
【００６４】
図９は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図９に示す携帯電話８０は、複数の操作ボタン８１、受話口８２、送話口８３及び表示部８４を備えている。このようなこう性をした携帯電話８０は、その表示部８４が上記第１〜第４実施形態に係る有機ＥＬ装置１０，５０，６０，７０の何れかを備えている。従って、携帯電話８０の表示部８４には、広視野角であっても、色度ずれの起きない画像が表示される。
【００６５】
尚、この発明は、以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第４実施形態では、青用画素電極１５Ｂ上の正孔輸送層２１の一部の膜厚を変えることで、青用画素電極１５Ｂの共振条件を２つに設定したが、本発明はこれに限定されない。例えば、電子輸送層２３の一部の膜厚を変えることで、青用画素電極１５Ｂの共振条件を２つに設定してもよい。または、発光層２２の一部の膜厚を変えることで青用画素電極１５Ｂの共振条件を２つに設定してもよい。さらに、保護層１３の一部の膜厚を変えたり、光反射層１２自体の一部の膜厚を変えたりすることで青用画素電極１５Ｂの共振条件を２つに設定してもよい。要は、青用画素電極１５Ｂの各層の何れかの膜厚を変えることで、光学的距離を変化させていればよい。
【００６６】
・上記各実施形態では、正孔輸送層２１、発光層２２及び電子輸送層２３で機能層２０
を構成したが、本発明はこれに限定されない。上記各層２１〜２３のうち、発光層２２以外の他の層（正孔注入層や電子注入層）のいずれかまたは全てが含まれていてもよい。要は、機能層２０は、発光層２２を含んでいればよい。このようにすることで、上記各実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６７】
・上記各実施形態では、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲから出射される光ＨＢ２，ＨＧ２，ＨＲ２の各共振波長ＰＢ２，ＰＧ２，ＰＲ２を、上式（１），（２），（３）を満足するように決定したが、本発明はこれに限定されない。要は、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲからは、２種類の共振波長の光が出射されればよい。
【００６８】
・上記各実施形態では、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲの光学的距離は、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲを構成する各層２１，２２，２３を共通の同じ材料で構成することで、各層２１，２２，２３の屈折率を同じにし、膜厚を適宜変えることで適宜設定した。これを、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲで各層２１，２２，２３の膜厚を均一にし、各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲ毎で画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒの材質及び各層２１，２２，２３の材質を変更することで屈折率を調整して光学的距離を適宜設定するようにしてもよい。このようにすることで、機能層２０の表面を平坦にすることができるので、機能層２０と共通電極２５との密着性が向上する。この結果、機能層２０と共通電極２５との電気的接続が良好となるので、光共振構造を有した有機ＥＬ装置１０，５０，６０，７０の歩留まりを向上させることができる。
【００６９】
・上記各実施形態では、発光層２２に発光性有機材料を用いた有機ＥＬ装置１０，５０，６０，７０に適用したが、これを発光性有機材料以外の材料を備えた発光素子（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子）を用いた発光装置であっても本発明は適用可能である。
【００７０】
・上記第５実施形態では、電子機器として携帯電話８０について説明したが、これに限定されるものではなく、モバイル型のパーソナルコンピュータ、デジタルカメラ等のディスプレイを備えた電子機器に広く適用可能である。
【００７１】
・上記各実施形態では、基板１１を、ガラス等の光透過性を有した基板（透明基板）としたが、本発明はこれに限定されない。たとえば、光透過性を有しない基板（不透明基板）も用いることもできる。基板１１を、光透過性を有しない基板（不透明基板）とした場合では、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらには、そのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。要は、画素が形成可能であるものであれば、どんなものであってもよい。
【００７２】
・上記各実施形態では、光反射層１２をアルミニウム（Ａｌ）で構成したが、これに限定されるものではなく、光反射性に優れたものであればどんな材料で構成されていてもよい。例えば、銀（Ａｇ）で構成されていてもよい。
【００７３】
・上記各実施形態では、単位画素として青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲに具体化したが、これを、青、緑及び赤用画素ＤＢ，ＤＧ，ＤＲ以外の画素に具体化してもよい。たとえば、青、緑及び赤系以外の色の光を出射する色の画素に具体化してもよい。
【００７４】
・上記各実施形態では、第１の電極を画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒとし、第２の電極を共通電極２５とし、発光層２２から発光した光を基板１１とは反対側から取り出す、
所謂トップエミッション型の有機ＥＬ装置１０に具体化したが、本発明はこれに限定されない。発光層２２から発光した光を基板１１側から取り出す、所謂ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置１０に具体化してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断視図。
【図２】青用画素の拡大断面図。
【図３】緑用画素の拡大断面図。
【図４】赤用画素の拡大断面図。
【図５】第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断視図。
【図６】カラーフィルタの光透過率を示すグラフ。
【図７】第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断視図。
【図８】第４実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの断視図。
【図９】電子機器としての携帯電話の斜視図。
【図１０】（ａ）は、様々な出射角度で出射された青色の光の発光強度であり、（ｂ）は、様々な出射角度で出射された赤色の光の発光強度である。
【符号の説明】
【００７６】
１１…基板、１２…光反射層、１５Ｂ…第１の電極としての青用画素電極、１５Ｇ…第１の電極としての緑用画素電極、１５Ｒ…第１の電極としての赤用画素電極、２５…第２の電極としての共通電極、２２…発光層、２０…機能層、ＤＢ…単位画素としての青用画素、ＤＧ…単位画素としての緑用画素、ＤＲ…単位画素としての赤用画素、ＰＢ２…一方の共振波長（λ１）としての青用画素の光の共振波長、ＰＧ２…一方の共振波長（λ１）としての緑用画素の光の共振波長、ＰＲ２…一方の共振波長（λ１）としての赤用画素の光の共振波長、ＰＢ１…他方の共振波長（λ２）としての青用画素の光の共振波長、ＰＧ１…他方の共振波長（λ２）としての緑用画素の光の共振波長、ＰＲ１…他方の共振波長（λ２）としての赤用画素の光の共振波長、１０，５０，６０，７０…発光装置としての有機ＥＬ装置、２１…正孔輸送層、２３…電子輸送層、５１…カラーフィルタ、５３Ｂ…青色変換層、５３Ｇ…緑色変換層、５３Ｒ…赤色変換層
８０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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