(57)【要約】  【課題】フォトリソグラフィー法によって得られるパターンや製品を、高い歩留まりで生産可能なディスプレイ部材の製造方法、およびディスプレイを提供することを目的とする。  【解決手段】感光性ペーストを塗布、乾燥する工程、得られた塗膜を露光する工程、露光した塗膜を現像する工程によって基板上にパターンを形成するディスプレイ部材の製造方法であって、該露光工程の直後に、活性光線により着色する感光層が形成された基板をフォトマスクを介して該活性光線を用いて露光し、該基板上の感光層にフォトマスク上の欠陥をパターンとして転写してフォトマスク上の欠陥を検査する工程を有することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。  【選択図】図１
2007094267.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性ペーストを塗布、乾燥する工程、得られた塗膜を露光する工程、露光した塗膜を現像する工程によって基板上にパターンを形成するディスプレイ部材の製造方法であって、該露光工程の直後に、活性光線により着色する感光層が形成された基板をフォトマスクを介して該活性光線を用いて露光し、該基板上の感光層にフォトマスク上の欠陥をパターンとして転写してフォトマスク上の欠陥を検査する工程を有することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。
【請求項２】
活性光線が紫外線であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ部材の製造方法。
【請求項３】
感光層がスピロピラン系化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ部材の製造方法。
【請求項４】
活性光線により着色した感光層が形成された基板の透過率Ｔが、４００〜７００ｎｍの波長領域のいずれかにおいて７０％以下となる領域を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ部材の製造方法。
【請求項５】
活性光線により着色する感光層が形成された基板を、活性光線を用いて露光した後、加熱または可視光を照射することによって基板の透過率を４００〜７００ｎｍの波長領域において５０％以上とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ部材の製造方法。                  
【請求項６】
前記感光性ペーストを塗布、乾燥する工程、および塗膜を露光する工程をこの順に２回以上繰り返した後に該塗膜を現像する工程を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレイ部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィー技術における露光工程のマスク欠陥起因による歩留まりの向上に関するが、特に、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイなどのディスプレイ部材、およびディスプレイの製造方法に係り、特にディスプレイ部材製造における歩留まり向上とディスプレイの表示品位を高めたディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィー法は、感光性物質の塗布工程、乾燥工程、露光工程および現像工程を経て所望のパターンを得ることができる技術である。露光工程とは所望のパターン形成したマスクを感光性物質が塗布された基板上に接触あるいは間隙を開けた状態で覆い、マスク上から活性光源を照射する工程である。次に現像工程とは、露光工程において活性光源が照射された露光部分、または未露光部分を感光性物質を溶媒にて溶解させて除去する工程である。
【０００３】
一般にネガ型とポジ型があるが、現像工程で前者は露光部分が除去され、後者は未露光部分が除去される。しかし、フォトマスクパターン上に異物等の欠陥が存在した場合、ネガ型であれば除去されるべきところにパターンが残り、ポジ型ではパターンがあるべきところが除去されてしまうと言った問題が発生していた。
【０００４】
フォトリソグラフィー法を用いた製造工程によって得られる製品が多々ある中で、特に近年注目されているのが薄型・大型テレビである。薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、液晶パネルに比べて高速表示が可能なことから、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと称する）が注目されている。
【０００５】
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で対抗するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることにより表示を行うものである。この場合、ガラス基板上のアノードおよびカソード電極は、複数本の線状電極を平行に配置されており、互いの電極が僅少な間隙を介して対抗し、かつ互いの線状電極が交差する方向を向くように重ね合わせて構成される。ＰＤＰの中で、蛍光体によるカラー表示に適した３電極構造の面放電型ＰＤＰは、互いに平行に隣接した一対の表示電極からなる複数の電極対と、各電極対と直交する複数のアドレス電極とを有する。
【０００６】
また、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するために、およそ幅２０〜８０μｍ、高さ２０〜２００μｍの形状をもつ隔壁が設けられている。
【０００７】
これらの電極や隔壁などの部分は、様々な方法で形成することができるがフォトリソグラフィー法によって形成することができる。しかし、フォトリソグラフィー法では、感光性塗布膜とフォトマスクとが接触またはある程度の隙間を隔てて重なっているため、感光性塗布膜の凹凸による異物や、感光性塗布膜上の異物がフォトマスクに付着する問題がある。また、フォトマスク自体にも傷や割れなどの欠陥が発生する場合がある。これらが原因で、所望のパターン通りに露光されないため、製品パターンには切れたり欠けたりするという欠陥が生じる。さらには、このフォトマスク欠陥の発見が遅れることによって莫大な欠陥製品が発生し、生産性が悪化してしまう問題があった。異物付着を解消するためにフォトマスクを使用前に洗浄することによっても問題は解決するが、塗布膜凹凸等からのフォトマスクへの異物付着に関しては、フォトマスクを初期導入時に洗浄する効果がなく、一度異物を持ち込んだ製品が流れてくると、フォトマスクにその部分が転写され、新たな異物となって以後の製品に共通欠陥を発生させる恐れがある。従来は、現像工程後に製品をある間隔で抜き取り、検査することによって共通欠陥を確認していたが、ラインを一時的に停止するロスや、一般的に露光工程と現像工程、検査工程は連続で流れているため、現像工程を経てマス
ク欠陥が発見されるまでに露光されている製品のロスがあった。
従来、フォトマスクの検査としては対象露光物に診断領域を準備し、その領域に予め露光後、パターンに異常がないことを確認してから本領域を露光するという方法があった(特許文献１、２参照).しかし、この方法では診断領域の準備する必要があり、基板上に不要な箇所を形成する必要があった。また、現像工程を経るまでの待機時間がロスとなり生産効率が落ちることが問題となっていた。
【特許文献１】特開平９−５５３４９号公報
【特許文献２】特開平６−８８７１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、フォトリソグラフィー法によって得られるパターンや製品を、高い歩留まりで生産可能なディスプレイ部材の製造方法、およびディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明は以下の構成からなる。すなわち、感光性ペーストを塗布、乾燥する工程、得られた塗膜を露光する工程、露光した塗膜を現像する工程によって基板上にパターンを形成するディスプレイ部材の製造方法であって、該露光工程の直後に、活性光線により着色する感光層が形成された基板をフォトマスクを介して該活性光線を用いて露光し、該基板上の感光層にフォトマスク上の欠陥をパターンとして転写してフォトマスク上の欠陥を検査する工程を有することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡略な工程によって、フォトリソグラフィー法におけるマスク欠陥起因のパターン断線、欠け、未除去などのパターン不良を防止することにより、高い歩留まりで形成することができる。また、表示品位に優れたディスプレイ用部材の製造方法、およびディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、本発明をＰＤＰの作製手順に沿って説明するがＰＤＰに限るものではない。また、フォトリソグラフィー法についてはポジ型で説明するがネガ型でも同様である。
【００１２】
本発明のＰＤＰ用部材としての背面板に用いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の高歪点ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”等を用いることができる。
【００１３】
ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成する。形成方法は、これら金属粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを介してパターン露光し、未硬化部分を現像工程で溶解除去し、金属パターンを形成する感光性ペースト法、およびガラス基板上にクロム、アルミニウム、銅等の金属をスパッタリングした後に、レジストを塗布し、レジストをパターン露光・現像した後にエッチングにより、不要部分の金属を取り除くエッチング法等を用いることができる。この感光性ペースト法やエッチング法を用いた際に、フォトマスクに欠陥があった場合、形成されたパターンには、マスク欠陥部分の未露光によりパターン欠陥が発生する。
【００１４】
次いで誘電体層を形成する。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストをアドレス電極のパターン上に塗布し形成する。
【００１５】
次に、誘電体層上に、放電セルを仕切るための隔壁を形成する。隔壁のピッチ（Ｐ）は、１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッチ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。３００μｍ以下にすることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい映像を表示することができる。線幅（Ｌ）は、半値幅で１０μｍ≦Ｌ≦５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上とすることで強度を保ち、前面板と背面板を封着する際に破損が生じるのを防ぐことができる。また、５０μｍ以下とすることで蛍光体の形成面積を大きくとることができ高い輝度を得ることができる。このような隔壁はサンドブラスト法や感光性ペースト法で作製することができる。このように、狭ピッチおよび細幅化になればなるほどフォトリソグラフィー技術に精度が要求され、フォトマスクの欠陥が重大な損害につながる。よって、このフォトマスクの欠陥を早期に発見することは非常に重要である。
【００１６】
次に、隔壁の形成方法について説明する。本発明における隔壁形成方法については、あらゆる形状の隔壁パターンについて有効であるが、例として、ストライプ形状、および格子形状の隔壁パターン形成について記載する。
【００１７】
まず、ストライプ形状の隔壁を形成する場合には、電極が形成された基板上もしくは誘電体層上に１層目の感光性ペーストを塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイレクトコーター、ブレードコーターなどを用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００１８】
感光性ペーストを塗布した後、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ炉などを用いて乾燥し、感光性ペーストの塗布膜を形成する。続いて、露光装置を用いて露光を行う。露光は、通常のフォトリソグラフィー法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する。この際使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源を発生するランプとして、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行うことが好ましい。
【００１９】
感光性ペースト塗布膜を露光した後、露光部分と非露光部分の、現像液に対する溶解度差を利用して現像を行う。現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液であれば特に限定されない。
【００２０】
次に格子状隔壁パターン形成について記載する。格子状隔壁を形成する場合には、１回目、および２回目の露光に使用するフォトマスクは、１回目と２回目の露光で格子状パターンを形成する物であれば特に限定されないが、ともに格子状パターンのマスクを用いることや、１層のみの隔壁塗布と１回の格子状パターン露光により、電極に平行な隔壁と、電極に垂直な隔壁の高さが同じ格子状隔壁を形成することができる。
【００２１】
また、１層目の露光に使用するフォトマスクを電極に垂直なストライプパターン、２層目の露光に使用するフォトマスクを電極と平行なストライプパターンのフォトマスクを用いると電極に平行な隔壁と、電極に垂直な隔壁の高さが異なる格子状隔壁を形成することができる。
【００２２】
２層目の感光性ペースト塗布膜を露光した後、ストライプ形状隔壁を作製した場合と同様に現像を行う。
【００２３】
一般的に、フォトリソグラフィー技術を用いたパターン形成方法は、上記のような工程を経たものである。
【００２４】
これらの電極露光、隔壁露光の際、用いるフォトマスクパターン、フォトマスクの線幅により、形成される電極、隔壁パターン形状、および電極、隔壁の幅が決定する。ここで、フォトマスクの線幅とは、スリット部分、すなわち光が透過する部分の線幅を表す。例えば、ストライプ形状の隔壁を形成する場合は、アドレス電極と平行方向にストライプパターンを有するフォトマスクを用いることができる。
【００２５】
格子状隔壁作製において２回露光する工程については、２回目の露光後に初めて現像するため、１回目の露光に用いたフォトマスクの欠陥は、この時点でのみ発見することができる。よって、１回目露光時のフォトマスク欠陥が発見されたときには２層目の感光性ペースト塗布、２回目露光まで終了していた製品は多大なる不良品となる。  
【００２６】
本発明は、これらの電極露光工程、隔壁露光工程の製品露光前にマスク検査基板を露光し、そのパターンを目視または画像検査装置によって検査することによって異物を早期に発見できるため、ライン停止ロスや現像工程ロスがなく共通欠陥を防止することが可能となる。また、段差の有する格子形状隔壁を作製する場合において、１回目の露光時にマスク検査基板を用いた検査を行うことによって、２層目の感光性ペースト塗布工程、２回目露光工程、現像工程までのロスを無くし、早期にマスク欠陥を発見することができる。
【００２７】
また、各露光工程において、ある一定の間隔でマスク検査基板を用いた検査をすることにより、感光性ペースト塗布膜上にある異物のフォトマスクへの転移が早期に発見され、共通欠陥による不良品の増加を防ぐことができる。本発明の検査は、生産性と不良品防止効果とのバランスから製品の露光を１〜１０００回行った後で行うことが好ましい。
【００２８】
本発明に用いられる活性光源にて着色する感光性着色物質は、活性光源により着色する物で有れば特に限定されないが、スピロピラン系化合物、およびスピロオキサジン系化合物が好ましい。スピロピラン系化合物としては、例えば、１，３，３−トリメチルインドリノベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリ、メチルインドリノ−６‘−ブロモベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノ−８’−メトキシベンゾピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノ−α−ナフトピリロスピラン、１，３，３−トリメチルインドリノ−６‘−ニトロベンゾピリロスピラン等があげられるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
また、スピロオキサジン系化合物としてはインドリノスピロベンゾオキサジン系化合物、インドリノスピロナフトオキサジン系化合物、インドリノスピロフェナントロオキサジン系化合物等があげられるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
また、基板に塗布する形態としては、特に限定されないが、塗布方法によって種種の形態がとられ、アクリル系、エチルセルロース系、酸エステル等のポリマー等、その他バインダー、これらを溶解させる溶媒等を含有させた塗布液を調整して、スピンコーター、ダイコーター、ＣＡＰコーターなどによって塗布することが好ましい。また、感光性着色物質を塗布する基板は、ガラス基板であれば特に限定されないが、通常のＰＤＰを作製するガラス基板を用いることが好ましい。感光性着色物質を着色するための活性光源は特に限定されないが、装置の共有化や効率を良くするために露光工程に用いる光源、例えば紫外線が好ましい。
【００３１】
本発明に用いられるマスク検査基板は、露光後に目視または画像検査装置なる欠陥を検出できる装置によってフォトマスクの欠陥を検出することができる。この画像検査装置は、基板上に透過光または反射光を照射し、コントラストの差によって欠陥を検出できるものであれば特に限定されないが、効率を良くするために電極や隔壁の検査に用いられる検査装置が好ましい。また、着色部分と非着色部分の透過率の差が５％以上あることによって、コントラスト差の認識ができる装置がより好ましい。着色部分の透過率が４００〜７００ｎｍの波長領域において７０％以下になることによって非着色部分との透過率差が５％以上となり画像検査できるようになる。７０％以下であれば効果は損なわれないが、４０％以下であることがより好ましい。また、着色時に透過率が７０％を越えると、非着色部分との透過率差が少なく画像検査能力が低下する恐れがある。
【００３２】
本発明のマスク検査基板は露光、検査後に可視光（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）を５分〜６０分照射することや、クリーンオーブン等で５０〜２００℃を３分〜３０分加熱することによって露光前の状態、すなわち透過率が５０％以上である非着色状態に復元することができるため、繰り返し使用することができ、マスク検査基板のコストを下げることができる。
【００３３】
また、ストライプ形状、格子形状の隔壁形成について詳しく説明したが、この他、単純なストライプ形状だけでなく、ストライプのスリット部分途中に遮光部を形成して、破線状のスリットとしたり、ストライプの線幅を部分的に変更したフォトマスクや、曲線、円弧、楕円等の特殊なパターンを有するフォトマスクを用いて、所望の電極や隔壁を形成する場合でも本発明のマスク検査方法は可能である。また、各格子状パターン、およびストライプパターンのフォトマスクの縦および横線幅は、同じ、あるいは異なっていても効果は損なわれない。
【００３４】
次いで所定の隔壁間に、ＲＧＢ各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。
【００３５】
蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を有する有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができる。
【００３６】
このプラズマディスプレイ用部材を背面板として用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜（ＭｇＯ）を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。
【実施例】
【００３７】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
４２インチサイズのＡＣ（交流）型プラズマディスプレイパネルの背面板を形成し、評価を実施した。形成方法を順に説明する。
【００３８】
実施例１
ガラス基板として、５７０×９６４×２．８ｍｍの４２インチサイズのＰＤ−２００（旭硝子（株）製）を使用した。
【００３９】
フォトマスク検査基板作製方法：１，３，３−トリメチルインドリノ−６−ニトロベンゾピリロスピラン５重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０重量部、メタクリル酸メチル・アクリル酸メチル共重合体６重量部を３０分撹拌し、感光性着色塗料を得た。得られた感光性着色塗料をガラス基板上に滴下し、スピンコーターにて面内均一に塗布後、１００℃のクリーンオーブンにて３０分乾燥し、マスク検査基板を作製した。乾燥後の感光性着色膜の厚みは３μｍであった。
【００４０】
電極検査方法：フォトマスク検査基板と同様のガラス基板上に、アドレス電極として、感光性銀ペーストをスクリーン印刷法によって基板一面に塗布し、１３０℃２０分クリーンオーブンにて乾燥させた後、ピッチ２４０μｍ、線幅１００μｍのストライプに欠陥幅が５、３０、５０、１００、３００μｍの疑似欠陥を作製したフォトマスクを介して、紫外線によって３５０ｍＪで露光し、０．１％エタノールアミン溶液にて現像した。なお、使用した露光機は大日本スクリーン製ＰＡ６１５０を用いた。この電極露光と同様にフォトマスク検査基板を露光し、画像検査装置にて欠陥検出をおこなった。フォトマスク検査基板の検出欠陥サイズと出来上がり電極の検査結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
2007094267.tif 000003
【００４２】
実施例２〜４
隔壁検査方法：同様に作製した電極上に誘電体ペーストをスクリーン印刷法によって塗布し、１５０℃のクリーンオーブンで乾燥し誘電体層を得た。得られた誘電体層上に感光性ペーストをダイコーターにて塗布し１００℃のクリーンオーブンで２時間乾燥させた。
次に、以下のスペックを有するフォトマスクを用いて紫外線にて３５０ｍＪ露光した。なお、使用した露光機は大日本スクリーン製ＰＡ６１５０を用いた。
１．ピッチ１５０、線幅２０μｍ
２．ピッチ２２０、線幅３５μｍ
３．ピッチ３００、線幅５０μｍ
各箇所疑似欠陥幅５、３０、５０、１００、３００μｍ
露光後０．５％エタノールアミン溶液にて現像した。この露光と同様にフォトマスク検査基板を露光し、画像検査装置（ブイテクノロジー製、ｓネプチューン）にて欠陥検出をおこなった。用いた画像検査装置は、透過光照射によって着色部分と非着色部分のコントラスト差を検出し、欠陥を検査できる装置を用いた。マスク検査基板の検出欠陥サイズと出来上がり隔壁の検査結果を表２に示す。
【００４３】
【表２】
2007094267.tif 000004
【００４４】
実施例５  また、この露光直後に着色部分と非着色部分の透過率を日立製作所製、Ｕ−３４１０を用いて測定した後、１００℃５分の加熱条件によってフォトマスク検査基板を加熱し、再度着色時に測定した透過率測定器と同様に透過率を測定した。着色時と消色時の透過率を表３に示す。なお、透過率は４００〜７００ｎｍの領域において最小の透過率を記載した。
【００４５】
【表３】
2007094267.tif 000005
【００４６】
実施例６〜８、比較例１同様に誘電体まで作製した基板１０００枚に感光性ペーストをダイコーターにて塗布し１００℃のクリーンオーブンで２時間乾燥させた。次に、乾燥塗布膜に縦ストライプ（ピッチ３００μｍ、線幅５０μｍ）のフォトマスクを用いて、大日本スクリーン製ＰＡ６１５０によって、３５０ｍＪ露光した。露光後同様に現像し、ブイテクノロジー製ｓ−ネプチューンで隔壁形状の画像検査を行い、隔壁形状不良品数を調べた。この製品露光を１００枚、３００枚、５００枚行った直後に、製品露光と同様の装置、露光量でマスク検査基板を露光し、同様の画像検査装置にてフォトマスク検査を行った。
【００４７】
実施例９〜１１、比較例２
同様に誘電体まで作製した基板１０００枚に１層目の隔壁用ペーストを塗布後、１００℃のクリーンオーブンで２時間乾燥させた。乾燥塗布膜に横ストライプ（ピッチ：６００μｍ、線幅：５０μｍ）のフォトマスクを用いて、大日本スクリーン製ＰＡ６１５０によって、３５０ｍＪ露光した。その後、ダイコーターで１層目の感光性ペーストと同様のペーストを塗布し、同様に乾燥させた。乾燥塗布膜に縦ストライプ（ピッチ３００μｍ、線幅５０μｍ）のフォトマスクを用いて露光後、同様に現像した。現像後、同一画像検査装置にて隔壁形状検査を行い、隔壁形状不良品数を調べた。１層目の製品露光を１００枚、３００枚、５００枚行った直後に、同様にマスク検査を行った。また、２層目の製品露光を１００枚、３００枚、５００枚行った直後にも、同様にマスク検査を行った。
【００４８】
実施例１２〜１４、比較例３
同様に誘電体まで作製した基板１０００枚に感光性ペーストをダイコーターにて塗布し１００℃のクリーンオーブンで２時間乾燥させた。次に、乾燥塗布膜に格子（横ピッチ７００μｍ、横線幅５０μｍ、縦ピッチ３００μm、縦線幅５０μm）のフォトマスクを用いて、大日本スクリーン製ＰＡ６１５０によって、３５０ｍＪ露光した。露光後同様に現像し、ブイテクノロジー製ｓ−ネプチューンで隔壁形状の画像検査を行い、隔壁形状不良品数を調べた。この製品露光を１００枚、３００枚、５００枚行った直後に、製品露光と同様の装置、露光機を用いてマスク検査基板を露光し、同様の画像検査装置にてフォトマスク検査を行った。
【００４９】
【表４】
2007094267.tif 000006
【００５０】
実施例１〜１４で得られた背面板は、フォトマスク検査によって驚くべき効果を発揮し、共通欠陥が防止できた。
【００５１】
このように、フォトマスクの欠陥が電極や、隔壁のパターン形成を妨害するが、フォトマスク検査を行うことによってパターン不良を起こすフォトマスク欠陥を発見することができ、マスク洗浄や、マスク交換等の措置を講ずることによって製品のパターン不良を発生させることなく、かつ、生産性を下げることなく製品を安定して製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明で隔壁形成時に用いるフォトマスクの擬似欠陥の形状の一例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１：遮光部分
２：スリット部分
３：擬似断線欠陥
【図１】
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