(57)【要約】【課題】ガラス基板の主表面を簡易に、かつ、極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能にする。【解決手段】研磨液を供給しこの研磨液の流路となる溝９が形成された摺接面８を有する円形の研磨布５，６を用いてこの研磨布５，６の摺接面８とガラスディスク７とを相対的に摺動させてガラスディスク７の表面を研磨する研磨工程を含み、ガラスディスク７の下側となる研磨布５は、ガラスディスク７の上側となる研磨布６に対して、摺接面８における溝同士の間隔が広くなっている。【選択図】図５
2007122849.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨液を供給し、この研磨液の流路となる溝が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いて、これら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させ、前記ガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラスディスクの下側となる研磨布は、該ガラスディスクの上側となる研磨布に対して、前記摺接面における溝同士の間隔が広い
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
研磨液を供給し、多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いて、これら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させ、前記ガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラスディスクの下側となる研磨布は、該ガラスディスクの上側となる研磨布に対して、前記摺接面における開口部の密度が低い
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
研磨液を供給し、この研磨液の流路となる溝が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いて、これら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させ、前記ガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラスディスクの上側となる研磨布は、該ガラスディスクの下側となる研磨布に対して、前記摺接面における溝の幅が広い
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
研磨液を供給し、多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いて、これら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させ、前記ガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラスディスクの上側となる研磨布は、該ガラスディスクの下側となる研磨布に対して、前記摺接面における開口部が大きい
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布の間に複数枚のガラスディスクを挟持し、当該ガラスディスクと研磨布との間に研磨液を供給し、当該研磨布の摺接面とガラスディスクとを相対的に移動させることで、ガラスディスクの主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
上記ガラスディスクの一方の主表面に摺接している一方の研磨布の摺接面の面積と、上記ガラスディスクの他方の主表面に摺接している他方の研磨布の摺接面の面積とを互いに異ならせている
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
下側研磨定盤と、この下側研磨定盤の中心部に設けられた太陽歯車と、前記下側研磨定盤の外縁に設けられた内歯車と、外周部に前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合する歯部を有し前記ガラスディスクを保持する円板状のキャリアと、下側研磨定盤に対向する上側研磨定盤とを用いて、
前記一対の研磨布を前記下側研磨定盤及び前記上側研磨定盤に貼り付けるとともに、前記キャリアに前記ガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合させ、
前記太陽歯車及び前記内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することにより、これら研磨布と前記キャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させて、前記研磨工程を実行することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における研磨工程を第１研磨工程として実行した後に、前記ガラスディスクの表面の鏡面研磨を行う第２研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記第２研磨工程においては、前記第１研磨工程において用いる研磨布に比較して軟質であって前記ガラスディスクに対する摺接面が平坦である研磨布を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びこの磁気ディスク用ガラス基板を使用する磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化社会の高度化に伴って種々の情報処理装置が提案されており、また、これら情報処理装置において使用されるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）などの情報記録装置が提案されている。そして、このような情報記録装置においては、情報処理装置の小型化、高性能化のために、情報記録容量の大量化、記録密度の高密度化が求められている。
【０００３】
ハードディスクドライブにおいて、情報記録密度を高密度化するためには、いわゆるスペーシングロスを低減させる必要があり、記録媒体となる磁気ディスクに対して記録再生を行なう磁気ヘッドの浮上量（グライド・ハイト）を少なくする必要がある。
【０００４】
磁気ヘッドの浮上量を少なくした場合、磁気ディスクは記録再生時に高速回転するため、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面に接触し、破壊（クラッシュ）されてしまう虞れが大きくなる。このような磁気ヘッドの破壊を防止するためには、磁気ディスクの主表面を、極めて平滑な面として仕上げておく必要がある。
【０００５】
このような磁気ディスクの主表面の平滑性を実現するため、ディスク基板としては、従来広く用いられていたアルミニウム基板に代えて、ガラス基板が用いられるようになっている。ガラス基板は、アルミニウム基板に比較して、主表面の平坦性及び基板強度において優れているからである。なお、このようなガラス基板としては、基板強度を上げるために、化学強化されたガラス基板や、結晶化によって基板強度を上げた結晶化ガラス基板が用いられている。
【０００６】
ところで、ハードディスクドライブにおける磁気ヘッドとしては、記録再生時の信号強度を向上させるために、従来広く用いられていた薄膜ヘッドに代えて、磁気抵抗効果型素子（ＭＲ素子）を用いた磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）や大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）が広く用いられるようになってきている。
【０００７】
このような磁気抵抗効果型素子を用いた磁気抵抗型ヘッドにおいては、磁気ディスクの表面に微小な凹凸があると、サーマルアスペリティ（Thermal Asperity）障害を生じ、再生に誤動作を生じたり、再生が不可能になる虞れがある。このサーマルアスペリティ障害の原因は、ガラス基板上の異物によって磁気ディスクの表面に形成された凸部が磁気ディスクの高速回転により磁気抵抗型ヘッドの近傍の空気の断熱圧縮及び断熱膨張を発生させ、磁気抵抗型ヘッドが発熱して磁気抵抗効果型素子の抵抗値が変動し、電磁変換が悪影響を受けることである。すなわち、このようなサーマルアスペリティ障害は、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触しない場合においても発生し得る。このようなサーマルアスペリティ障害を防止するためにも、磁気ディスクの主表面は、極めて平滑で、かつ、異物の無い高清浄化された面に仕上げておく必要がある。
【０００８】
本件出願人は、先に、このようなディスク基板の主表面を平滑な面に仕上げる目的を以て、特許文献１に記載されているように、軟質ポリシャの研磨布を貼り付けた上下定盤の間にガラスディスクをセットし、遊星歯車機構を用いてこれら研磨布とガラスディスクとを相対的に摺動させ、ガラスディスクの両主表面を研磨する研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨布の表面粗さを適切に選定する方法について提案している。なお、この研磨布としては、表面に「ボア」と称される微細な開口を有する発泡樹脂からなるものを使用することができる。
【０００９】
また、特許文献２には、磁気ディスク用ガラス基板の製造において、上下定盤に貼り付けてガラスディスクを研磨するための研磨布の構成が記載されている。この研磨布においては、ガラスディスクに摺動される摺接面に研磨液の流路となる溝が設けられている。このような研磨布の溝は、粒径の大きな研磨砥粒を含有する研磨液を用いて、取り代の大きな研磨を行う場合に、研磨液を効果的に供給するために有用である。
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−９２８６７号公報
【特許文献２】特開平１０−２４９７３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、前述のように、遊星歯車機構を用いてガラスディスクの両主表面部に対して上下一対の研磨布の摺接面を摺動させ、ガラスディスクの研磨を行った場合には、一度に大量のガラスディスクについて研磨処理を行うことができるが、研磨処理後に上側定盤を下側定盤から離したときに、ガラスディスクの一部が、上側定盤の研磨布に吸着してしまうという問題がある。すなわち、ガラスディスクの一部が上側定盤の研磨布に吸着してしまうと、下側定盤の研磨布上のガラスディスクと、上側定盤の研磨布に吸着したガラスディスクとの両方を回収しなければならないため、作業性が劣化するという問題である。
【００１２】
磁気ディスク用ガラス基板の製造工程においては、１回の研磨処理によって数百枚以上の多量のガラスディスクに対する研磨処理が行われる。したがって、研磨処理後のガラスディスクが上側定盤の研磨布と下側定盤の研磨布との両方に吸着していると、ガラスディスクの回収に長時間を要するとともに、回収作業量が多くなるため、ガラスディスクに傷などをつけやすくなるという問題がある。
【００１３】
近年において、ハードディスクドライブの磁気ディスクにおいては、１平方インチ当たり６０ギガビット（６０Ｇbit／inch２）以上の情報記録面密度が実現できるようになってきている。このような高い情報記録面密度が実現可能となったことにより、ハードディスクドライブは、情報記録容量あたりの小型化が可能となった。したがって、ハードディスクドライブの用途は、従来のコンピュータ装置（パーソナルコンピュータやサーバ）への搭載という用途のみならず、携帯型のいわゆるＭＰ３プレーヤ、携帯電話装置、カーナビゲーションシステム（Car Navigation System）、ＰＤＡ（Personal Digital Assistance：携帯情報端末）など、携帯用機器や車載用機器への搭載という用途に拡大しようとしている。
【００１４】
これら携帯用機器や車載用機器への搭載という用途においては、携帯（持運び）され、あるいは、車載される環境で用いることを可能とするため、ハードディスクドライブの筐体が小型化、軽量化され、磁気ディスクも、例えば１インチ以下に小径化されることとなる。
【００１５】
このように小型化されたハードディスクドライブの用途については、コストダウン及び大量生産の要望が強く、ディスク基板及び磁気ディスクを廉価に大量に供給する必要がある。しかし、特に、ディスク基板が小径化された場合には、研磨処理後に研磨布から回収する作業が困難なものとなり、大量の磁気ディスクを安定して供給することが困難となる。
【００１６】
また、前述のような研磨処理を行う場合においては、ガラスディスクの表面に供給される研磨剤は、重力の影響により、上側定盤の研磨布よりも下側定盤の研磨布上に多くが供給されることになる。そのため、上側定盤の研磨布による研磨速度に比較して、下側定盤の研磨布による研磨速度のほうが早くなる。したがって、一定時間の研磨処理を行うと、ガラスディスクは、上側定盤の研磨布に比較して、下側定盤の研磨布により、多くの研磨代を削減されることによって、ガラス厚が減少する。
【００１７】
ところで、磁気ディスク用ガラス基板においては、主表面の研磨処理に先立って、端面の両側部分に傾斜した面取部が形成されている。そのため、ガラスディスクの上側主表面部よりも下側主表面部における研磨代が大きいと、図６に示すように、下側主表面部１ｂが上側主表面部１ａよりも面積が減少してしまうという問題がある。
【００１８】
前述のような小径の磁気ディスクにおいては、情報信号の記録再生に使用される主表面部の面積が極めて小面積化されているため、両主表面部の面積が相違することは好ましくない。
【００１９】
また、ガラスディスクの一方の主表面部よりも他方の主表面部における研磨代が大きいと、図６に示すように、側壁面（端面）の中心線Ｃ１が磁気ディスクの厚さの中心Ｃ２に対してずれてしまう。そのため、これら面取り面を基準として磁気ディスクの位置決めをする場合には、磁気ディスクの位置がずれてしまい、磁気ヘッドの高さにも影響する虞れがある。
【００２０】
そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、その第１の目的は、ガラスディスクの主表面を簡易、迅速に、かつ、極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能とすることにある。
【００２１】
また、本発明の第２の目的は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面部を安定して極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、この磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュが防止されるようにして、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資することにある。
【００２２】
さらに、本発明の第３の目的は、例えば、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面部を安定して極めて平滑な面に研磨することができるとともに、これら両主表面部の面積の相違が生じないようになされた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者は、前記課題を解決すべく研究を進めた結果、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において、ガラスディスクの主表面を研磨する工程について、一対の研磨布のガラスディスクに対する摺接面に設けられる研磨液の流路となる溝、あるいは、開口部を適切に設定することにより、前記課題が解決できることを見出した。
【００２４】
すなわち、研磨布の摺接面における溝、あるいは、開口部を適切に設定することによって、ガラスディスクの上側となる研磨布と下側となる研磨布とで、ガラスディスクに対する吸着性に差異を生じさせることが可能である。具体的には、ガラスディスクの上側となる研磨布のガラスディスクに対する接触面積に比較して、下側となる研磨布の接触面積を大きくしておけば、ガラスディスクが上側の研磨布に吸着することを防止することができる。
【００２５】
また、研磨布の摺接面における溝、あるいは、開口部を適切に設定することによって、ガラスディスクの上側となる研磨布と下側となる研磨布とで、ガラスディスクに対する研磨代を調整することが可能である。具体的には、ガラスディスクの上側となる研磨布における溝、あるいは、開口部の密度に比較して、下側となる研磨布における溝、あるいは、開口部の密度を小さくしておけば（疎であれば）、下側となる研磨布に対する研磨剤の供給が少なくなり、重力による影響を相殺することができる。
【００２６】
すなわち、本発明は、以下の構成のいずれか一を備えるものである。
【００２７】
〔構成１〕
研磨液を供給しこの研磨液の流路となる溝が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いてこれら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラスディスクの下側となる研磨布は、該ガラスディスクの上側となる研磨布に対して、摺接面における溝同士の間隔が広いことを特徴とするものである。
【００２８】
なお、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、ガラスディスクの下側となる研磨布は、溝を有しないものとしてもよい。
【００２９】
〔構成２〕
研磨液を供給し多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いてこれら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラスディスクの下側となる研磨布は、該ガラスディスクの上側となる研磨布に対して、摺接面における開口部の密度が低いことを特徴とするものである。
【００３０】
〔構成３〕
研磨液を供給しこの研磨液の流路となる溝が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いてこれら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラスディスクの上側となる研磨布は、該ガラスディスクの下側となる研磨布に対して、摺接面における溝の幅が広いことを特徴とするものである。
【００３１】
〔構成４〕
研磨液を供給し多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布を用いてこれら研磨布の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラスディスクの上側となる研磨布は、該ガラスディスクの下側となる研磨布に対して、摺接面における開口部が大きいことを特徴とするものである。
【００３２】
〔構成５〕
多数の開口部が形成された摺接面を有する一対の研磨布の間に複数枚のガラスディスクを挟持し当該ガラスディスクと研磨布との間に研磨液を供給し当該研磨布の摺接面とガラスディスクとを相対的に移動させることでガラスディスクの主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラスディスクの一方の主表面に摺接している一方の研磨布の摺接面の面積とガラスディスクの他方の主表面に摺接している他方の研磨布の摺接面の面積とを互いに異ならせていることを特徴とするものである。
【００３３】
〔構成６〕
構成１乃至構成４のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、下側研磨定盤と、この下側研磨定盤の中心部に設けられた太陽歯車と、下側研磨定盤の外縁に設けられた内歯車と、外周部に太陽歯車及び内歯車に噛合する歯部を有しガラスディスクを保持する円板状のキャリアと、下側研磨定盤に対向する上側研磨定盤とを用いて、一対の研磨布を下側研磨定盤及び上側研磨定盤に貼り付けるとともに、キャリアにガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を太陽歯車及び内歯車に噛合させ、太陽歯車及び内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することにより、これら研磨布とキャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させて、研磨工程を実行することを特徴とするものである。
【００３４】
〔構成７〕
構成１乃至構成６のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における研磨工程を第１研磨工程として実行した後に、ガラスディスクの表面の鏡面研磨を行う第２研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、第２研磨工程においては、第１研磨工程において用いる研磨布に比較して軟質であってガラスディスクに対する摺接面が平坦である研磨布を用いることを特徴とするものである。
【００３５】
〔構成８〕
磁気ディスクの製造方法であって、構成１乃至構成７のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
【００３６】
なお、前述の各構成において、一対の研磨布の主表面部は、研磨パッドとすることができる。この研磨パッドは、例えば、不織布の繊維基材にポリウレタン樹脂を含浸させ湿式凝固させて形成されたものとすることができる。また、研磨布における複数の溝は、それぞれ１ｍｍ乃至３ｍｍの幅を有し、互いにガラスディスクの径以下の間隔、例えば、１０ｍｍ乃至３０ｍｍの間隔を隔てて形成されたものとすることができる。
【００３７】
研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒が好ましい。また、研磨剤は、液体を加えてスラリーとし、研磨砥粒を遊離砥粒としたものが好ましい。
【発明の効果】
【００３８】
構成１乃至構成４のいずれか一を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、ガラスディスクの上側となる研磨布に比較して、ガラスディスクの下側となる研磨布のガラスディスクに対する吸着力の方が大きいので、研磨処理後のガラスディスクは、すべてガラスディスクの下側となる研磨布に吸着されるようになる。
【００３９】
また、ガラスディスクの上側となる研磨布は、ガラスディスクの下側となる研磨布に比ベて、溝、あるいは、開口部の密度が高いので、ガラスディスクの上側となる研磨布の表面に供給される研磨剤の量が増加し、ガラスディスクの両主表面部間における研磨代の差異が低減される。したがって、この磁気ディスク用ガラス基板においては、ガラスディスクの両主表面部間で、面取斜面の長さに相違が起こることがなく、面積の差異が生ずることもない。
【００４０】
構成５を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、ガラスディスクの一方の主表面に摺接している一方の研磨布の摺接面の面積と、ガラスディスクの他方の主表面に摺接している他方の研磨布の摺接面の面積とが、互いに異なり、ガラスディスクの主表面に摺接している摺接面の面積が大きい側の研磨布のガラスディスクに対する吸着力の方が大きいので、研磨処理後のガラスディスクは、すべて摺接面の面積が大きい側の研磨布に吸着されるようになる。
【００４１】
すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、良好な作業性を確保しつつ、ガラスディスクの両主表面を良好に研磨し、極めて平滑な面に仕上げることができ、また、ガラスディスクの両主表面を均等に研磨し、これら両主表面間で面積の差異が生じないようにすることができる。
【００４２】
構成６を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、研磨定盤の中心部に設けられた太陽歯車及び研磨定盤の外縁に設けられた内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動し、研磨定盤に貼り付けられた研磨布とキャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させるので、ガラスディスクの主表面を簡易に、かつ、良好に研磨することができ、極めて平滑な面に仕上げることができる。したがって、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板を大量に製造し、供給することができる。
【００４３】
構成７を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、前述の研磨工程を第１研磨工程として実行した後に、ガラスディスクの表面の鏡面研磨を行う第２研磨工程を実行するにあたって、第２研磨工程においては、第１研磨工程において用いる研磨布に比較して軟質であってガラスディスクに対する摺接面が平坦である研磨布を用いるので、ガラスディスクの主表面を良好な鏡面状の極めて平滑な面に研磨することができる。
【００４４】
構成８を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、前述の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成するので、磁気ディスク用ガラス基板の主表面のうねりによる問題、すなわち、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリテイ障害が確実に防止された磁気ディスクを製造することができる。
【００４５】
すなわち、本発明は、ガラスディスクの主表面を簡易、迅速に、かつ、極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。
【００４６】
また、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面を安定して極めて平滑な面に研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、この磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュが防止されるようにして、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資することができるものである。
【００４７】
さらに、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面部を安定して極めて平滑な面に研磨することができるとともに、これら両主表面部の面積の相違が生じないようになされた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資することができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００４９】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、例えば、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等に搭載される磁気ディスクのディスク基板として使用される磁気ディスク用ガラス基板を製造するものである。この磁気ディスクは、面内磁気記録方式や、垂直磁気記録方式によって、高密度の情報信号記録及び再生を行うことができる記録媒体である。
【００５０】
図１は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。
【００５１】
この磁気ディスク用ガラス基板は、図１に示すように、外径１５ｍｍ乃至３０ｍｍ、内径５ｍｍ乃至１２ｍｍ、板厚０．３５ｍｍ乃至０．５ｍｍであり、例えば、「０．８インチ（inch）型磁気ディスク」（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、「１．０インチ型磁気ディスク」（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）などの所定の直径を有する磁気ディスクとして作製される。また、「２．５インチ型磁気ディスク」、「３．５インチ型磁気ディスク」など磁気ディスクとして作製されるものとしてもよい。なお、ここで、「内径」とは、磁気ディスク用ガラス基板１の中心孔２の内径である。
【００５２】
この磁気ディスク用ガラス基板１は、ガラスからなることにより、鏡面研磨によって優れた平滑性を実現することができ、硬度が高く、また、剛性が高いので、耐衝撃性に優れている。特に、携帯（持運び）用、あるいは、車載用の情報機器に搭載されるハードディスクドライブに使用される磁気ディスクには、高い耐衝撃性が要求されるので、このような磁気ディスクにおいてガラス基板を用いることには有用性が高い。ガラス基板の主表面の表面粗さは、Ｒａで０．１ｎｍ乃至０．７とされることが好ましい。
【００５３】
ガラスは脆性材料であるが、化学強化や風冷強化などの強化処理、あるいは、結晶化の手段により、破壊強度を向上させることができる。このような磁気ディスク用ガラス基板１の材料として好ましいガラスとしては、アルミノシリケートガラスを挙げることができる。アルミノシリケートガラスは、優れた平滑鏡面を実現することができるとともに、例えば、化学強化を行なうことによって、破壊強度を高めることができるからである。
【００５４】
アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２：６２乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３：５乃至１５重量％、Ｌｉ２Ｏ：４乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏ：４乃至１２重量％、ＺｒＯ２：５．５乃至１５重量％を主成分として含有するとともに、Ｎａ２ＯとＺｒＯ２との重量比が０．５乃至２．０、Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２との重量比が０．４乃至２．５である化学強化用ガラスが好ましい。
【００５５】
また、このようなガラス基板において、ＺｒＯ２の未溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすためには、ＳｉＯ２を５７乃至７４mol％、ＺｒＯ２を０乃至２．８mol％、Ａｌ２Ｏ３を３乃至１５mol％、ＬｉＯ２を７乃至１６mol％、Ｎａ２Ｏを４乃至１４mol％含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。このような組成のアルミノシリケートガラスは、化学強化することによって、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌープ硬度にも優れている。
【００５６】
なお、本発明において製造する磁気ディスク用ガラス基板１をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板１の材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。
【００５７】
また、本発明において、磁気ディスク用ガラス基板１は、端面の両側の稜部が面取りされたものであることが好ましい。磁気ディスク用ガラス基板１は、端面の稜部が面取りされていることにより、破壊強度が高まるからである。
【００５８】
以下、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、工程順に説明する。
【００５９】
（１）形状加工工程
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、円板状のガラスディスクを形成する。このガラスディスクは、前述したように、アルミノシリケートガラスからなることが好ましい。このガラスディスクは、例えば、溶融させたガラス母材などから、プレス法などにより、製造する磁気ディスク用ガラス基板１の直径よりもやや大きな直径を有するように形成する。
【００６０】
（２）ラッピング工程
この工程では、ガラスディスクの形状を整えるとともに、主表面をラッピング加工する。ラッピング加工では、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定のものとする。
【００６１】
次に、このガラスディスクの中心部に、所定の大きさの中心孔を形成する。この中心孔は、磁気ディスク用ガラス基板１における中心孔２となるものであり、この中心孔２の内径よりもやや小径の内径の孔として形成する。また、この工程において、ガラスディスクの外周側端面部分及び周側端面部分に面取り加工を施す。
【００６２】
（３）端面部分鏡面研磨工程
次に、ガラスディスクの内外周の端面部分を研磨し、鏡面加工する。この工程における研磨は、研磨剤を用いて、ブラシ等により行う。この工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラスディスクに対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム（ＣｅＯ２）砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができ、特に、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、０．５μｍ乃至３μｍ程度とすることが好ましい。また、研磨剤は、研磨砥粒を含む研磨剤に、水（純水）などの液体を加え、この研磨剤をスラリーとして用いることが好ましい。
【００６３】
なお、この端面部分鏡面研磨工程により、ガラスディスクの内外周の端面部分の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下、Ｒmaxで１μｍ以下の鏡面とされる。
【００６４】
（４）第１鏡面研磨工程
次に、主表面鏡面研磨工程として、第１鏡面研磨工程を施す。この第鏡面研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と、本発明に係る研磨布（硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド）とを用いて行う。
【００６５】
図２は、両面研磨装置の構成を示す側面図である。
【００６６】
両面研磨装置は、図２に示すように、上下一対の研磨定盤３，４を有し、これら研磨定盤３，４の互いに対向する主表面部には、一対の研磨布（硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド）５，６が貼付されている。この両面研磨装置においては、各研磨定盤３，４に貼付された研磨布５，６間にガラスディスク７を設置し、各研磨定盤３，４のいずれか一方、または、双方を移動操作することにより、ガラスディスク７と研磨布５，６とを互いに摺接させて、このガラスディスク７の両主表面を研磨することができる。
【００６７】
図３は、研磨布の形状を示す平面図である。
【００６８】
研磨布５，６としては、不織布の繊維基材にポリウレタン樹脂を含浸させ、湿式凝固させて所定の形状に形成された研磨パッドを使用することができる。この研磨布５，６の硬度は、アスカーＡ硬度で、６０乃至１１０程度とすることが好ましい。この研磨布５，６は、図３に示すように、ガラスディスクに対する摺接面８に、研磨液の流路となる溝９が形成されたものを用いる。この研磨布５，６における複数の溝９は、それぞれ１ｍｍ乃至３ｍ  ｍの幅を有し、互いにガラスディスク７の径以下の間隔、例えば、１０ｍｍ乃至３０ｍｍの間隔を隔てて形成されていることが好ましい。
【００６９】
また、これら研磨布５，６は、円形に形成され、または、複数の研磨布片を配置して円形に構成されいることにより、これら研磨布５，６を円形の研磨定盤に貼り付け、この研磨定盤を回転駆動することにより、この研磨布５，６とガラスディスク７とを相対的に摺動させて、ガラスディスク７の主表面の研磨を行うことができる。
【００７０】
図４は、一対の研磨布の形状を示す断面図である。
【００７１】
そして、本発明において、一対の研磨布５，６においては、図４に示すように、ガラスディスク７の下側となる研磨布６は、ガラスディスク７の上側となる研磨布５に対して、摺接面８における溝９同士の間隔（ピッチ）Ｐが広くなっている。なお、ガラスディスク７の下側となる研磨布６は、溝９を有しないものとしてもよい。
【００７２】
あるいは、ガラスディスク７の上側となる研磨布は、ガラスディスク７の下側となる研磨布に対して、摺接面８における溝９の幅が広くなっているものとしてもよい。
【００７３】
また、これら研磨布５，６が発泡樹脂からなるものである場合には、表面に「ボア」と称される微細な開口が多数形成されている。この場合には、一対の研磨布５，６においては、ガラスディスク７の下側となる研磨布は、ガラスディスク７の上側となる研磨布に対して、摺接面８における開口部（ボア）の密度が低くなっているようにしてもよい。
【００７４】
さらに、この場合には、ガラスディスク７の上側となる研磨布は、ガラスディスク７の下側となる研磨布に対して、摺接面における開口部が大きくなっているものとしてもよい。
【００７５】
すなわち、この両面研磨装置においては、ガラスディスク７の一方の主表面に摺接する一方の研磨布５の摺接面の面積と、ガラスディスク７の他方の主表面に摺接する他方の研磨布６の摺接面の面積とは、互いに異なっている。この場合、ガラスディスク７の主表面に摺接する摺接面の面積が大きい側の研磨布６のガラスディスクに対する吸着力の方が大きいので、研磨処理後のガラスディスク７は、すべて摺接面の面積が大きい側の研磨布６に吸着されるようになる。なお、ガラスディスク７の主表面に摺接する摺接面の面積が大きい側の研磨布６は、下側となる研磨布とすることが好ましい。
【００７６】
図５は、遊星歯車機構の構成を示す斜視図である。
【００７７】
そして、この第１鏡面研磨工程においては、遊星歯車機構を用いてガラスディスク７の研磨を行う。遊星歯車機構は、図５に示すように、一方の研磨定盤１０の中心部に設けられた太陽歯車１１と、この研磨定盤１０の外縁に設けられた内歯車１２と、ガラスディスク７を保持する円板状のキャリア１３とからなる。このキャリア１３は、外周部に、太陽歯車１１及び内歯車１２に噛合する歯部１４を有している。このキャリア１３は、ガラスディスク７よりもやや薄い円板状に形成され、このガラスディスク７の外径よりもやや大きい内径の少なくとも一の円形の透孔部１５を有している。このキャリア１３は、透孔部１５内にガラスディスク７を位置させることにより、このガラスディスク７を保持する。また、この遊星歯車機構は、一方の研磨定盤１０に対向する他方の研磨定盤１６を有している。
【００７８】
この遊星歯車機構においては、まず、一方、または、両方の研磨定盤１０，１６の主表面部に研磨布５，６を貼付する。そして、キャリア１３の透孔部１５内にガラスディスク７を保持させた状態で、このキャリア１３の外周部の歯部１４を太陽歯車１１及び内歯車１２に噛合させる。そして、このキャリア１３及びガラスディスク７を各研磨定盤１０，１６によって挟持させることにより、ガラスディスク７は、両側の主表面を各研磨定盤１０，１６によって保持され、周縁部をキャリア１３の透孔部１５の内縁部に保持された状態となる。
【００７９】
そして、この遊星歯車機構において、研磨定盤１０，１６に貼付された研磨布５，６とガラスディスク７の主表面との間に研磨剤を供給しつつ、太陽歯車１１及び内歯車１２の両方、または、いずれか一方を回転駆動することにより、研磨布５，６とガラスディスク７の主表面とが相対的に摺動され、このガラスディスク７の主表面の研磨が行われる。また、このとき、研磨定盤１０，１６の両方、または、いずれか一方を、回転駆動することが好ましい。
【００８０】
この第１鏡面研磨工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラスディスク７に対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム（ＣｅＯ２）砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができるが、なかでも、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。
【００８１】
研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、０．５μｍ乃至５μｍ程度とすることが好ましい。
【００８２】
また、研磨剤は、乾式（粉体砥粒）であっても、湿式（遊離砥粒）であってもよい。研磨作用を好ましく実現する観点からは、湿式（遊離砥粒）とすることが好ましい。研磨剤を湿式（遊離砥粒）として用いるには、磁性粒子と研磨砥粒とを含む研磨剤に、水（純水）などの液体を加え、この研磨剤をスラリーとして用いることが好ましい。
【００８３】
この遊星歯車機構において、研磨剤は、研磨布５，６に設けられた溝９内を流路として、これら研磨布５，６の研磨領域の全域に効率良く供給される。また、この遊星歯車機構においては、各研磨定盤１０，１６がガラスディスク７を保持する圧力を調整することにより、研磨代を調整することができる。この第１鏡面研磨工程においては、後述する第２鏡面研磨工程に比較して、研磨代を大きくして、研磨効率を高めることが望ましい。なお、遊星歯車機構を用いることにより、一度に大量のガラスディスク７について、効率良く研磨を行うことができる。
【００８４】
この遊星歯車機構を用いて第１鏡面研磨を行う場合、ガラスディスク７は、各研磨布５，６により両主表面部を挟まれた状態において、これら研磨布５，６に対して相対的に移動されることとなる。この遊星歯車機構においては、研磨布５，６に対するガラスディスク７の移動軌跡は、サイクロイド曲線、または、サイクロイド曲線と円弧とが合成された曲線となる。この移動軌跡は、太陽歯車１１、内歯車１２、各研磨定盤１０，１６の回転方向及び回転速度の比率、並びに、太陽歯車１１とキャリア１３との径の比率によって変化する。
【００８５】
研磨効率や研磨代の均一性を考慮すると、太陽歯車１１及び内歯車１２の回転速度に対して、研磨定盤１０，１６の両方、または、いずれか一方の回転速度を十分に早くすることにより、研磨布５，６に対するガラスディスク７の移動軌跡を、この研磨布５，６の周方向の成分が支配的となっているものとすることが好ましい。この場合、前述のような研磨布５，６を使用した場合に、この研磨布５，６とガラスディスク７との相対的摺動方向は、格子状の溝９が形成された領域においては、溝９の溝方向に交差する方向となる。
【００８６】
（５）第２鏡面研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第２鏡面研磨工程を施す。この第２鏡面研磨工程は、主として主表面の鏡面性を向上させることを目的とする。この第２鏡面研磨工程は、第１鏡面研磨工程と同様に、両面研磨装置と、研磨布（軟質発泡樹脂ポリッシャ）とを用いて行うことができ、また、前述のような遊星歯車機構を用いて行うこともできる。
【００８７】
この第２鏡面研磨工程においては、研磨布（軟質発泡樹脂ポリッシャ）としては、ガラスディスクに対する摺接面が、平坦、すなわち、溝のない状態であるものを使用する。また、この第２鏡面研磨工程における研磨布は、第１鏡面研磨工程において使用する研磨布に比較して、軟質の材料からなるものとなっている。
【００８８】
したがって、この第２鏡面研磨工程においては、前述の第１鏡面研磨工程に比較して、研磨代が少なく、かつ、より高度の鏡面加工が行われる。
【００８９】
この第２鏡面研磨工程において使用する研磨剤としては、第１鏡面研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。この酸化セリウム砥粒の粒径は、例えば、０．１μｍ乃至１μｍ程度とすることができる。
【００９０】
（６）第１洗浄工程
第２鏡面研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、純水(1)、中性洗剤(2)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
【００９１】
（７）化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施す。化学強化は、例えば、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００°Ｃ程度に加熱し、３００°Ｃに予熱された洗浄済みのガラスディスクを約３時間程度浸漬して行う。この浸漬の際に、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行うことが好ましい。
【００９２】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスク表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。
【００９３】
（８）第２洗浄工程
化学強化処理を終えたガラスディスクを、４０°Ｃ程度に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行い、さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
【００９４】
なお、本発明において使用するガラス基板をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、ガラス基板の材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。
【００９５】
（９）磁気ディスクの製造工程
このようにして作成された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成することにより、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティー障害の防止が図られた磁気ディスクを構成することができる。
【００９６】
磁性層としては、高い異方性磁場（Ｈｋ）を備えるＣｏ−Ｐｔ系合金磁性層が好ましい。また、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、磁性層の結晶配向性やグレインの均一化、微細化を図る観点から、適宜下地層を形成するようにしてもよい。これら下地層及び磁性層の成膜方法としては、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。
【００９７】
また、磁性層上には、磁性層を保護するための保護層を設けることが好ましい。保護層の材料としては、炭素系保護層を挙げることができる。炭素系保護層としては水素化炭素、窒素化炭素を用いることができる。この保護層の形成には、プラズマＣＶＤ法、または、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。
【００９８】
さらに、保護層上には、磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑層を挙げることができる。特に、保護層との親和性に優れる水酸基を具備するアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑層が好ましい。この潤滑層は、ディップ法を用いて形成することができる。
【実施例】
【００９９】
以下、本発明の実施例について、詳細に説明する。
【０１００】
〔実施例１〕
この実施例１においては、以下の工程を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
【０１０１】
（１）形状加工工程
溶融させたアルミノシリケートガラスをプレス加工によりディスク状に成型し、ガラスディスクを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２を５７乃至７４mol％、ＺｒＯ２を０乃至２．８mol％、Ａｌ２Ｏ３を３乃至１５mol％、ＬｉＯ２を７乃至１６mol％、Ｎａ２Ｏを４乃至１４mol％を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
【０１０２】
（２）ラッピング工程
次に、得られたガラスディスクの主表面をラッピング加工した。ラッピング加工では両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定とする。次いで、砥石を用いて研削することによりガラスディスクの中心部に円孔を形成するとともに、外周側端面及び内周側端面に所定の面取り加工を施した。
【０１０３】
得られたガラスディスクの内径は７ｍｍ、外径は２７．４ｍｍ、板厚は０．３８１ｍｍであり、１．０インチ型磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法であることを確認した。
【０１０４】
ガラスディスクの表面形状を観察したところ、主表面の表面粗さはＲmaxで２μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度であった。端面の表面粗さを観察したところ、側面部及び面取り面ともにＲmaxで１４μｍ、Ｒａで０．５μｍであった。
【０１０５】
（３）端面部分鏡面研磨工程
まず、ガラスディスクの外周側端面について、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。次に内周側端面についても、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。そして、端面部分鏡面研磨を終えたガラスディスクを水洗浄した。
【０１０６】
（４）第１鏡面研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第１鏡面研磨工程を施した。この第１鏡面研磨工程においては、前述の図３に示した研磨布（硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド）を用いて、遊星歯車機構により主表面研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
【０１０７】
この実施例１においては、ガラスディスク７の上側となる研磨布５における溝９間の間隔（ピッチ）を３０ｍｍとし、ガラスディスク７の下側となる研磨布６における溝９間の間隔（ピッチ）を５０ｍｍとして、これら研磨布５，６間における溝９間の間隔の差を２０ｍｍとした。各研磨布５，６における溝９の幅は３ｍｍで、互いに等しいものとした。
【０１０８】
第１鏡面研磨工程を終えたガラス基板を、純水(1)、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
【０１０９】
（５）第２鏡面研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第２鏡面研磨工程を施した。この第２鏡面研磨工程においては、研磨布（軟質発泡樹脂ポリッシャ）を用いて、遊星歯車機構により主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１鏡面研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
【０１１０】
（６）第１洗浄工程
第２鏡面研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、純水(1)、中性洗剤(2)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
【０１１１】
（７）化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００°Ｃに加熱し、３００°Ｃに予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
【０１１２】
このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。
【０１１３】
ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００乃至２００μｍであった。
【０１１４】
化学強化を終えたガラス基板を、２０°Ｃの水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。
【０１１５】
（８）第２洗浄工程
化学強化処理を終えたガラス基板を、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
【０１１６】
前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の円孔の内周側端面の表面粗さは、面取り面でＲmax０．４μｍ、Ｒａ０．０４μｍ、側面部でＲmax０．４μｍ、Ｒａ０．０５μｍであった。外周端面における表面粗さＲａは、面取り面で０．０４μｍ、側面部で、０．０７μｍであった。このように、内周側端面は、外周側端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。
【０１１７】
また、ガラス基板の主表面部の表面粗さＲａは、０．５ｎｍ（ＡＦＭで測定）であった。電子顕微鏡（４０００倍）で端面表面を観察したところ、側面部及び面取り面は鏡面状態であった。また、円孔の内周側端面である側面部及び面取り面に異物やクラックは認められず、ガラス基板の表面についても、異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められなかった。さらに、抗折強度試験機（島津オートグラフＤＤＳ−２０００）を用いて抗折強度を測定したところ、１２乃至２０ｋｇであった。なお、化学強化レベルを変化させて同様に抗折強度を測定したところ、約１０乃至２５ｋｇであった。
【０１１８】
（９）成膜工程
次に、以下の工程を経て、磁気ディスクを製造した。
【０１１９】
前述のようにして得た磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ａｌ−Ｒｕ合金第１下地層、Ｃｒ−Ｍｏ合金第２下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ合金磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。次にアルコール変性パーフロロポリエーテル潤滑層をディップ法で成膜した。この様にして磁気ディスクを得た。
【０１２０】
〔実施例２〕
この実施例２においては、第１鏡面研磨工程において、ガラスディスク７の上側となる研磨布５における溝９間の間隔（ピッチ）を３０ｍｍとし、ガラスディスク７の下側となる研磨布６における溝９間の間隔（ピッチ）を４０ｍｍとして、これら研磨布５，６間における溝９間の間隔の差を１０ｍｍとした。各研磨布５，６における溝９の幅は３ｍｍで、互いに等しいものとした。
【０１２１】
そして、他の工程については前述の実施例１と同様として、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。また、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、前述の実施例１と同様の工程により、磁気ディスクを作成した。
【０１２２】
〔実施例３〕
この実施例３においては、第１鏡面研磨工程において、ガラスディスク７の上側となる研磨布５における溝９間の間隔（ピッチ）を３０ｍｍとし、ガラスディスク７の下側となる研磨布６における溝９間の間隔（ピッチ）も３０ｍｍとして、これら研磨布５，６間における溝９間の間隔の差がないものとした。
【０１２３】
そして、ガラスディスク７の上側となる研磨布５における溝９の幅を４ｍｍとし、ガラスディスク７の下側となる研磨布６における溝９の幅を２ｍｍとして、これら研磨布５，６間における溝９の幅の差を２ｍｍとした。
【０１２４】
そして、他の工程については前述の実施例１と同様として、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。また、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、前述の実施例１と同様の工程により、磁気ディスクを作成した。
【０１２５】
〔比較例〕
この比較例においては、第１鏡面研磨工程において、ガラスディスク７の上側となる研磨布５における溝９間の間隔（ピッチ）を３０ｍｍとし、ガラスディスク７の下側となる研磨布６における溝９間の間隔（ピッチ）も３０ｍｍとして、これら研磨布５，６間における溝９間の間隔の差がないものとした。また、各研磨布５，６における溝９の幅は３ｍｍで、互いに等しいものとした。
【０１２６】
そして、他の工程については前述の実施例１と同様として、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。また、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、前述の実施例１と同様の工程により、磁気ディスクを作成した。
【０１２７】
〔各実施例と各比較例との対比〕
（磁気ディスク用ガラス基板としての比較）
各実施例により作成された磁気ディスク用ガラス基板と、比較例により作成された磁気ディスク用ガラス基板とについて、以下の〔表１〕に示すように、主表面部の形状についてのデータを比較した。
【０１２８】
【表１】
2007122849.tif 000003
【０１２９】
また、各実施例のガラス基板と比較例のガラス基板との表面粗さを比較した。測定は、原子間カ顕微鏡を用いて、ガラス基板の主表面の所定領域（記録領域となる円環状領域における縦５μｍ横５μｍの矩形状の微小領域）について行った。その結果、各実施例のガラス基板と比較例のガラス基板は、ともに、表面粗さは同等（表面粗さＲａで略０．５ｎｍ）であった。
【０１３０】
本発明に係る各実施例では、上定盤側に対向するガラス基板主表面の研磨速度と、下定盤側に対向するガラス基板主表面の研磨速度とを均一としている。したがって、各実施例では、上定盤側に対向するガラス基板主表面の面積と、下定盤側に対向するガラス基板主表面の面積とが均一となるように構成されている。したがって、ガラス基板の互いに対向する両主表面において記録再生用の面積を均一なものとすることができる。また、対向する両主表面間に挟まれる両主表面の中央の面（図６におけるＣ２面）が、ガラス基板側壁面の中央の面（図６におけるＣ１面）と一致させることができる。
【０１３１】
一方で、比較例では、ガラス基板の互いに対向する両主表面において記録再生用の面積が不均一となる。また、対向する両主表面間に挟まれる両主表面の中央の面（図６におけるＣ２面）が、ガラス基板側壁面（端面）の中央の面（図６におけるＣ１面）と不一致となる。
【０１３２】
なお、本発明に係る実施例においては、第１鏡面研磨工程の研磨処理を終了し、上下定盤を離間させ、鏡面研磨処理された複数のガラス基板を回収しようとしたところ、全てのガラス基板が下定盤側に位置していたので、容易に回収することができるとともに、回収作業が容易なので、ガラス基板を傷付けることはなかった。
【０１３３】
一方で、比較例においては、第１鏡面研磨工程の研磨処理を終了し、上下定盤を離間させ、鏡面研磨処理されたガラス基板を回収しようとしたところ、下定盤側及び上定盤側に略同数のガラス基板が位置していたので、回収作業が煩雑なものとなった。また、回収後のガラス基板表面を検査したところ、回収作業で付けたと思われる傷がガラス基板表面から検出された。
【０１３４】
（磁気ディスクとしての比較）
各実施例により得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ障害による再生の誤動作は認められなかった。
【０１３５】
一方、比較例により得られた磁気ディスクについて、同様に磁気抵抗効果型磁気ヘッドを用いて記録再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ波形が観察された。
【０１３６】
なお、本発明は、ロードアンロード（ＬＵＬ）方式で記録再生されるハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク、あるいは、この磁気ディスク用のガラス基板として特に好適である。すなわち、ロードアンロード方式のハードディスクドライブでは、コンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）方式のハードディスクドライブに比ペて、表面が平坦平滑な磁気ディスクを用いる必要があるが、本発明に係る磁気ディスクは、例えば、タッチダウンハイトが４ｎｍ、あるいは、それ以下の磁気ディスクとすることができるので、ロードアンロード方式のハードディスクドライブに好ましく搭載することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。
【図２】前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する両面研磨装置の構成を示す側面図である。
【図３】前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する研磨布の形状を示す斜視図である。
【図４】前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する一対の研磨布の形状を示す断面図である。
【図５】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する遊星歯車機構の構成を示す斜視図である。
【図６】ガラスディスクの両主表面部の研磨代が異なった場合の磁気ディスクの形状を示す側面図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１          磁気ディスク用ガラス基板
２          中心孔
３，４      研磨定盤
５，６      研磨布
７          ガラスディスク
８          摺接面
９          溝
１０，１６  研磨定盤
１１        太陽ギヤ
１２        内歯ギヤ
１３        キャリア
１４        歯部
１５        透孔部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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