(57)【要約】【課題】表示品位の良好な表示装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】    マトリクス状の画素によって構成された表示エリア１０２において、画素毎に独立島状に配置された第１電極６０と、一方向に並んだ複数の画素からなる画素列の第１電極上に配置された光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）と、光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を覆うように配置された第２電極６６と、各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁７０と、を備えたことを特徴とする。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアにおいて、
画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
一方向に並んだ複数の画素からなる画素列の前記第１電極上に配置された光活性層と、
前記光活性層を覆うように配置された第２電極と、
各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
各画素列のセグメントは、それぞれ同数の画素によって構成され、画素列の延びる方向に直交する方向に並んだことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
マトリクス状の画素によって構成され、第１色に発光する複数の画素からなる第１画素列と、第１色とは異なる第２色に発光する複数の画素からなる第２画素列とを備えた表示エリアにおいて、
画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
第１画素列の前記第１電極上に配置され第１色に発光する第１光活性層と、
前記第１画素列に隣接する第２画素列の前記第１電極上に配置され第２色に発光する第２光活性層と、
前記第１光活性層及び前記第２光活性層を覆うように配置された第２電極と、
前記第１画素列と前記第２画素列との間を分離する第１隔壁部、及び、各画素列において複数の画素からなるセグメントの間を分離する第２隔壁部を含む隔壁と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
前記表示エリアにおいて、複数の前記第１画素列にそれぞれ配置された前記第２隔壁部は、前記第１画素列が延びる方向と直交する同一直線上に並んだことを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアを備えた表示装置の製造方法であって、
画素毎に独立島状の第１電極を形成する工程と、
各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁を形成する工程と、
各画素列のセグメント毎に前記第１電極上に光活性層を形成するための液滴を塗布する工程と、
前記光活性層を覆うように第２電極を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記液滴を塗布する工程は、液滴を吐出するヘッドを表示エリアに対して相対的に画素列の延びる方向と直交する方向にスキャンしながら行うことを特徴とする請求項５に記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
マトリクス状の画素によって構成され、第１色に発光する複数の画素からなる第１画素列と、第１色とは異なる第２色に発光する複数の画素からなる第２画素列とを備えた表示エリアを備えた表示装置の製造方法であって、
画素毎に独立島状の第１電極を形成する工程と、
互いに隣接する第１色用の第１画素列と第１色とは異なる第２色用の第２画素列との間を分離する第１隔壁部、及び、各画素列において複数の画素からなるセグメントの間を分離する第２隔壁部を含む隔壁を形成する工程と、
前記第１画素列のセグメント毎に前記第１電極上に第１光活性層を形成するための第１液滴を塗布する工程と、
前記第２画素列のセグメント毎に前記第１電極上に第２光活性層を形成するための第２液滴を塗布する工程と、
前記第１光活性層及び前記第２光活性層を覆うように第２電極を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記隔壁を形成する工程は、前記表示エリアにおける複数の前記第１画素列に、それぞれ前記第１画素列が延びる方向と直交する同一直線上に沿って前記第２隔壁部を形成する工程を含むことを特徴とする請求項７に記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１液滴及び前記第２液滴を塗布する工程は、これらの液滴を吐出するヘッドを表示エリアに対して相対的に画素列の延びる方向と直交する方向にスキャンしながら行うことを特徴とする請求項７に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、自発光性素子を備えた表示装置及び表示装置の製造方法に係り、特に、インクジェット方式などの選択塗布方式により塗布された液滴により光活性層を形成する表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
【０００３】
これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を挟持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。有機活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などにより形成される。
【０００４】
マトリクス状に配置された画素からなる有機ＥＬ表示装置においては、各画素を分離するよう格子状に隔壁を配置する構成が提案されている。しかしながら、画素を高密度配置した場合など隣接する画素の間隔を十分に確保できない場合、各画素の全周を囲むように隔壁を配置する構成では、画素の開口率が低下してしまうことがある。
【０００５】
これに対して、同一色の画素を一方向に沿って配置した有機ＥＬ表示装置においては、隣接する異なる色の画素間を分離する隔壁をストライプ状に形成する構成が提案されている。つまり、このような構成によれば、各画素の全周を隔壁で囲む構成と比較して開口率が犠牲になりにくい（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００３−０５９６６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位の良好な表示装置及び表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の第１の態様による表示装置の製造方法は、
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアにおいて、
画素毎に独立島状に配置された第１電極と、
一方向に並んだ複数の画素からなる画素列の前記第１電極上に配置された光活性層と、
前記光活性層を覆うように配置された第２電極と、
各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁と、
を備えたことを特徴とする。
【０００８】
この発明の第２の態様による表示装置は、
マトリクス状の画素によって構成された表示エリアを備えた表示装置の製造方法であって、
画素毎に独立島状の第１電極を形成する工程と、
各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁を形成する工程と、
各画素列のセグメント毎に前記第１電極上に光活性層を形成するための液滴を塗布する工程と、
前記光活性層を覆うように第２電極を形成する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、表示品位の良好な表示装置及び表示装置の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置及び表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１１】
有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００を備えている。表示エリア１０２は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。
【００１２】
また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと略直交する列方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。
【００１３】
さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７と、信号線Ｘｎのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８と、を備えている。すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。
【００１４】
各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、画素回路及び画素回路によって駆動制御される表示素子を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき表示素子へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを有している。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
【００１５】
表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００１６】
各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、例えば、図２に示すように、画素毎ＰＸに独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された光活性層として機能する有機活性層６４と、によって構成されている。
【００１７】
画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ２０のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極は蓄積容量素子３０を構成する他方の電極及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極は有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。電源供給線Ｐは、表示エリア１０２の周囲に配置された図示しない第１電極電源線に接続されている。有機ＥＬ素子４０の第２電極６６は、表示エリア１０２の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。
【００１８】
図２に示すように、アレイ基板１００は、配線基板１２０上に配置された複数の有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。
【００１９】
有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜（例えば平坦化層）上に配置され、陽極として機能する。
【００２０】
有機活性層６４は、少なくとも発光層を含んでいる。この有機活性層６４は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各色画素に形成される発光層と積層した２層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。有機活性層６２においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色画素ＰＸＲの有機ＥＬ素子４０Ｒは、主に赤色に発光する有機活性層６４Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧの有機ＥＬ素子４０Ｇは、主に緑色に発光する有機活性層６４Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢの有機ＥＬ素子４０Ｂは、主に青色に発光する有機活性層６４Ｂを備えている。
【００２１】
第２電極６６は、有機活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
【００２２】
このように構成された有機ＥＬ素子４０では、第１電極６０と第２電極６６との間に挟持された有機活性層６４にホール及び電子を注入し、これらを再結合させることにより励起子を生成し、この励起子の失活時に生じる所定波長の光放出により発光する。ここでは、このＥＬ発光は、アレイ基板１００の下面側すなわち第１電極６０側から出射され、表示画面を構成する。
【００２３】
ところで、この実施の形態では、表示エリア１０２は、同一の色画素が同一直線上に複数並んだ画素列を備えている。例えば、図１に示すように、表示エリア１０２は、複数の赤色画素ＰＸＲが列方向（Ｘ方向）に並んだ赤色画素列ＲＬ、複数の緑色画素ＰＸＧが列方向（Ｘ方向）に並んだ緑色画素列ＧＬ、及び、複数の青色画素ＰＸＢが列方向（Ｘ方向）に並んだ青色画素列ＢＬを備えている。これらの画素列は、画素列の延びる方向に直交する方向すなわち行方向（Ｙ方向）に並んでいる。また、表示エリア１０２において、赤色画素列ＲＬは、複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。同様に、緑色画素列ＧＬ及び青色画素列ＢＬも、それぞれ表示エリア１０２において複数配列されており、例えば２列置きに配列されている。
【００２４】
また、アレイ基板１００は、表示エリア１０２において、各画素列を複数の画素からなるセグメント単位で区画する隔壁７０を備えている。この隔壁７０は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。すなわち、図２乃至図４に示すように、隔壁７０は、第１電極６０の周縁に沿って配置され、互いに隣接する異なる色の画素列を分離する第１隔壁部７０Ｌ及び各画素列においてセグメント間を分離する第２隔壁部７０Ｃを含んでいる。第１隔壁部７０Ｌは、表示エリア１０２における各画素列の間に配置され、画素列と平行な方向（Ｘ方向）に延びている。第２隔壁部７０Ｃは、各画素列において所定の画素数置きに配置され、画素列の延びる方向と直交する方向（Ｙ方向）に延びている。
【００２５】
各画素列のセグメントＳＧは、図４に示すように、第１隔壁部７０Ｌ及び第２隔壁部７０Ｃによって囲まれる。少なくとも同色の画素列に関しては、各画素列のセグメントがそれぞれ同数の画素によって構成されている。また、各画素列のセグメントは、画素列の延びる方向と直交する方向（Ｙ方向）に並んでいる。
【００２６】
図４に示した例では、赤色画素列ＲＬ１、ＲＬ２…は、それぞれ同数の画素によって構成されたセグメントＳＧＲを有している。これらのセグメントＳＧＲは、Ｙ方向に並んでいる。同様に、緑色画素列ＧＬ１、ＧＬ２…、及び、青色画素列ＢＬ１、ＢＬ２…もそれぞれ同数の画素によって構成されたセグメントＳＧＧ、ＳＧＢを有しており、それぞれのセグメントがＹ方向に並んでいる。
【００２７】
つまり、各赤色画素列ＲＬ１、ＲＬ２…において、セグメント間を分離する第２隔壁部７０Ｃは、画素列が延びる方向に直交する方向（Ｙ方向）に延びた同一直線上に並んでいる。同様に、緑色画素列ＧＬ１、ＧＬ２…、及び、青色画素列ＢＬ１、ＢＬ２…についても、それぞれセグメント間を分離する第２隔壁部７０Ｃは、Ｙ方向に延びた同一直線上に並んでいる。
【００２８】
なお、赤色画素列ＲＬ、緑色画素列ＧＬ、及び、青色画素列ＢＬのそれぞれに含まれるセグメントＳＧＲ、ＳＧＧ、及び、ＳＧＢは、互いに異なる画素数で構成されても良く、例えば、赤色画素列ＲＬのセグメントＳＧＲ間を分離する第２隔壁部７０Ｃが緑色画素列ＧＬのセグメントＳＧＧ間を分離する第２隔壁部７０Ｃと同一直線上に並んでいなくても良い。
【００２９】
ここで、有機活性層を形成するための液滴を塗布するためのインクジェット方式の塗布装置について説明する。例えば、図５に示すように、塗布装置１１３０は、ワークＷとしての基板（すなわち配線基板１２０）が載置されるステージ１１３１を備えている。このステージ１１３１の上方には、インクジェットヘッド１１３２が配置されている。ステージ１１３１の下方には、Ｘ方向に延在するレール１１３３及びＹ方向に延在する１１３４が互いに略直交するように配置されている。ステージ１１３１は、図示しない駆動機構によって、レール１１３３上をＸ方向に沿って移動可能である。また、レール１１３３は、ステージ１１３１とともに、図示しない駆動機構によって、レール１１３４上をＹ方向に沿って移動可能である。このような構成により、ステージ１１３１に載置されたワークＷが、インクジェットヘッド１１３２に対して、互いに略直交するＸ方向及びＹ方向の双方に相対移動可能である。
【００３０】
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、有機活性層６４は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
【００３１】
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦４８０画素、横６４０×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）画素の合計９２万画素からなる表示エリア１０２を有した配線基板１２０を用意する。そして、図６Ａに示すように、配線基板１２０上の表示エリア１０２において画素毎に第１電極６０を形成する。この第１電極６０の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第１電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
【００３２】
続いて、図６Ｂに示すように、表示エリア１０２において第１電極６０を露出する隔壁７０を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、２２０℃で３０分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア１０２において互いに隣接する異なる色の画素列の間を分離する第１隔壁部７０Ｌ及び各画素列においてセグメントの間を分離する第２隔壁部７０Ｃを含む格子状の隔壁７０を形成する。
【００３３】
続いて、図６Ｃに示すように、各画素列のセグメント毎に第１電極６０上に対応する色の有機活性層を形成する。すなわち、隔壁７０を備えた配線基板１２０を塗布装置１１３０のステージ１１３１上に載置する。このとき、配線基板１２０において画素列の延びる方向を塗布装置１１３０におけるＸ方向に対応させるとともに、画素列の延びる方向と直交する方向を塗布装置１１３０におけるＹ方向に対応させるように配線基板１２０を位置決めする。
【００３４】
その後、複数のノズルを備えたインクジェットヘッド１１３２を配線基板１２０に対向配置し、対応する色に発光する発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴を対応する画素列のセグメント毎に塗布する。この液滴の塗布工程は、インクジェットヘッド１１３２を表示エリア１０２に対して相対的にＹ方向にスキャンしながら行う。
【００３５】
すなわち、この実施の形態では、図７に示すように、各画素列のセグメントは、５画素によって構成されている。インクジェットヘッド１１３２は、２０個のノズルを有している。つまり、１画素当たり４つのノズルから吐出される液滴が塗布される。また、図示した例では、緑色画素列、青色画素列、及び、赤色画素列の順に対応する色の液滴が塗布され、ここでは、赤色画素列の図中の「２」で示したセグメントに液滴を塗布する様子を示している。
【００３６】
この液滴の塗布工程においては、まず、インクジェットヘッド１１３２による液滴を吐出可能な範囲が液滴を塗布するセグメントの幅（Ｘ方向に沿った長さ）ＳＧＷに対応するようにインクジェットヘッド１１３２のＹ方向に対するなす角度θを調整する。そして、赤色画素列ＲＬ１、ＲＬ２…ＲＬｎの順でインクジェットヘッド１１３２をスキャンしながら、それぞれの画素列のセグメントに液滴を吐出する。そして、「２」で示したセグメントに液滴を塗布した後、インクジェットヘッド１１３２を画素列の延びる方向すなわちＸ方向に移動した後、同様にインクジェットヘッド１１３２をＹ方向にスキャンしながら「３」で示したセグメントに液滴を塗布する。「３」で示したセグメントについては、「２」で示したセグメントとは逆向きでスキャンしても良い。すなわち、赤色画素列ＲＬｎ、…、ＲＬ２、ＲＬ１の順でインクジェットヘッド１１３２をスキャンしながらそれぞれの画素列のセグメントに液滴を吐出しても良い。
【００３７】
これにより、赤色画素からなる赤色画素列のそれぞれの第１電極６０上に有機活性層６４Ｒが形成される。同様の塗布方法により緑色画素からなる緑色画素列のそれぞれの第１電極６０上に有機活性層６４Ｇが形成される。同様の塗布方法により青色画素からなる青色画素列のそれぞれの第１電極６０上に有機活性層６４Ｂが形成される。
【００３８】
続いて、図６Ｄに示すように、表示エリア１０２において各色画素の有機活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を覆うように第２電極６６を形成する。この第２電極６６は、先に形成された有機活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
【００３９】
一方で、アレイ基板１００上の表示エリア１０２を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板１００と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機ＥＬ素子４０は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
【００４０】
上述した製造方法によれば、インクジェットヘッドによる１スキャン動作において液滴が塗布される領域、すなわち画素列のセグメントは、セグメントを区画する隔壁、特にスキャン方向に延びる第２隔壁部によって、先のスキャン動作で塗布されたセグメント及び後のスキャン動作で塗布されるセグメントと分離されている。また、隔壁は、塗布される液滴に対する撥液性を有しており、隣接する画素列及びセグメントへの液滴の染み出しを抑制可能としている。
【００４１】
このため、先に塗布されたセグメントとの間での液滴の混合によるセグメント間の境界付近での膜厚ムラの発生を抑制するとともに、後に塗布するセグメントへの液滴の染み出しを抑制することができる。これにより、発光輝度のムラを改善することができ、表示品位の良好な表示装置を提供することが可能となる。
【００４２】
また、各セグメント内で複数ノズルからの液滴が吐出されるため、画素ごとに液滴量を平均化することが可能となる。ノズルごとに吐出量がばらついた場合でも、筋状のムラが視認されるのを抑制することができる。
【００４３】
また、塗布時の吐出量をランダム化してもよい。これにより、より一層ノズル間のばらつきによる表示品位の低下を抑制できる。
【００４４】
また、画素列に対して直交する方向にインクジェットヘッドをスキャンするため、特定のノズルを用いて各画素列に液滴を塗布する方式と比べ、表示品位を格段に向上させることが可能となる。
【００４５】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示したアレイ基板の表示エリアをＹ方向で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、図１に示したアレイ基板の表示エリアをＸ方向で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。
【図４】図４は、図１に示したアレイ基板の表示エリアを拡大したときの構造を概略的に示す平面図である。
【図５】図５は、有機活性層を形成する際に適用される塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【図６Ａ】図６Ａは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第１電極を形成する工程を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、隔壁を形成する工程を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、有機活性層を形成する工程を示す図である。
【図６Ｄ】図６Ｄは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第２電極を形成する工程を示す図である。
【図７】図７は、赤色画素列のセグメントを塗布する１スキャン動作を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…有機活性層、６６…第２電極、７０…隔壁、７０Ｌ…第１隔壁部、７０Ｃ…第２隔壁部、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、ＰＸ…画素、ＲＬ（１、２…）…画素列、ＧＬ（１、２…）…画素列、ＢＬ（１、２…）…画素列、１１３０…塗布装置、１１３２…インクジェットヘッド
【図１】
2007066563.tif 000003
【図２】
2007066563.tif 000004
【図３】
2007066563.tif 000005
【図４】
2007066563.tif 000006
【図５】
2007066563.tif 000007
【図６Ａ】
2007066563.tif 000008
【図６Ｂ】
2007066563.tif 000009
【図６Ｃ】
2007066563.tif 000010
【図６Ｄ】
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【図７】
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