(57)【要約】【課題】  連続使用時間が長いパターン修正装置を提供する。【解決手段】  このパターン修正装置では、微粒子堆積装置５の噴霧部１５で生成した修正液２０の霧粒子を減圧部１６に送るチューブ４１の途中に、修正液２０の滴を捕集する捕集器４０を設ける。したがって、修正液２０の滴によって塗布ノズル３０が詰まるのを防止することができ、装置の連続使用時間を延ばすことができる。【選択図】        図６
2007066613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
少なくとも前記欠陥部を含む範囲で前記基板を加熱する加熱装置と、
修正液を霧状にして前記欠陥部に噴射し、前記修正液を前記欠陥部に堆積させて前記欠陥部を修正する堆積装置とを備え、
前記堆積装置は、前記修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、
さらに、前記噴霧部と前記ヘッド部の間に設けられ、前記修正液の滴を捕集する第１の捕集器を備えることを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項２】
前記堆積装置は、前記噴霧部で霧状にされた修正液の圧力を減じて前記ヘッド部に与える減圧部をさらに含み、
前記第１の捕集器は、前記噴霧部と前記減圧部の間に設けられ、前記修正液の滴を捕集することを特徴とする、請求項１に記載のパターン修正装置。
【請求項３】
前記減圧部は、前記噴霧部に接続されるノズル部と、前記ヘッド部に接続される集気部と、排気ポンプに接続される排気管とを有し、
さらに、前記排気管と前記排気ポンプの間に設けられ、前記修正液の滴を捕集する第２の捕集器を備えることを特徴とする、請求項２に記載のパターン修正装置。
【請求項４】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
少なくとも前記欠陥部を含む範囲で前記基板を加熱する加熱装置と、
修正液を霧状にして前記欠陥部に噴射し、前記修正液を前記欠陥部に堆積させて前記欠陥部を修正する堆積装置とを備え、
前記堆積装置は、前記修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、
前記噴霧部で生成された霧状の修正液を前記ヘッド部に送るチューブのうちの少なくとも前記ヘッド部側の端の部分が前記ヘッド部側に向かって上向きに傾斜していることを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項５】
前記噴霧部の出口が前記ヘッド部の入口よりも低い位置に設けられ、
前記チューブは、前記噴霧部の出口と前記ヘッド部の入口との間に接続され、前記減圧部に向かって上向きに傾斜していることを特徴とする、請求項４に記載のパターン修正装置。
【請求項６】
前記堆積装置は、前記噴霧部で霧状にされた修正液の圧力を減じて前記ヘッド部に与える減圧部をさらに含み、
前記チューブは、前記噴霧部で生成された霧状の修正液を前記減圧部に送り、  前記チューブのうちの少なくとも前記減圧部側の端の部分が前記減圧部側に向かって上向きに傾斜していることを特徴とする、請求項４に記載のパターン修正装置。
【請求項７】
前記噴霧部の出口が前記減圧部の入口よりも低い位置に設けられ、
前記チューブは、前記噴霧部の出口と前記減圧部の入口との間に接続され、前記減圧部に向かって上向きに傾斜していることを特徴とする、請求項６に記載のパターン修正装置。
【請求項８】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
少なくとも前記欠陥部を含む範囲で前記基板を加熱する加熱装置と、
修正液を霧状にして前記欠陥部に噴射し、前記修正液を前記欠陥部に堆積させて前記欠陥部を修正する堆積装置とを備え、
前記堆積装置は、前記修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液の圧力を減じる減圧部と、減圧された霧状の修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、
前記減圧部は、前記噴霧部に接続されるノズル部と、前記ヘッド部に接続される集気部と、排気ポンプに接続される排気管とを有し、
さらに、前記ノズル部の噴出口の周囲に設けられ、前記修正液の滴を吸収する吸収シートを備えることを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項９】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
少なくとも前記欠陥部を含む範囲で前記基板を加熱する加熱装置と、
修正液を霧状にして前記欠陥部に噴射し、前記修正液を前記欠陥部に堆積させて前記欠陥部を修正する堆積装置とを備え、
前記堆積装置は、前記修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液の圧力を減じる減圧部と、減圧された霧状の修正液を収束して噴出するヘッド部と
を含み、
さらに、前記減圧部で減圧された霧状の修正液を下方の前記ヘッド部に送るパイプの下端面に設けられ、前記修正液の滴を吸収する環状の吸収シートを備えることを特徴とする、パターン修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はパターン修正装置に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置に関する。より特定的には、この発明は、フラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極のオープン欠陥、プラズマディスプレイのリブ（隔壁）欠損などを修正するパターン修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴い、ガラス基板上の電極やリブなどに欠陥が存在する確率が高くなっており、歩留まりの向上を図るため欠陥を修正する方法が提案されている。
【０００３】
たとえば、プラズマディスプレイの背面ガラス基板上には、高さが１５０μｍ程度で幅が６０〜１００μｍ程度のリブが数百μｍピッチで形成されている。このリブの一部が欠けている場合、塗布針に修正用ペーストを付着させて欠損部に塗布し、修正用ペーストが垂れないように修正用ペーストを焼成しながら積層し、リブ幅方向にはみ出た部分はレーザカットとスクラッチ針によって削り取り、リブの正常な高さよりも高く盛り上がった部分はスキージ機能により平らにならしてリブを修正する（たとえば特許文献１参照）。
【０００４】
また、液晶ディスプレイのガラス基板の表面には電極が形成されている。この電極が断線している場合、塗布針先端に付着させた導電性ペーストを断線部に塗布し、電極の長さ方向に塗布位置をずらしながら複数回塗布して電極を修正する（たとえば特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２０００−２９９０５９号公報
【特許文献２】特開平８−２９２４４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、リブを修正する方法では、塗布針がリブの欠損部とペーストタンクとの間を何度も往復してリブ欠損部を修正用ペーストで埋めるので、欠損部が大きいほど塗布時間が長くなるという問題がある。また、リブ幅からはみ出した修正用ペーストを除去するカット用レーザ部とスクラッチ機構、これにより生じる異物を吸引する機構、正常部より盛り上がった修正部をスキージ機構により再整形する機構などが必要となり装置構成が複雑になる。
【０００６】
また、電極を修正する方法では、電極の断線部とペーストタンクとの間を何度も往復させて塗布針に導電性ペーストを補充しながら塗布するので、断線部が長いほど修正にかかる時間が長くなる。また、円形の塗布部を１列に配置した形状にペーストが塗布されるので、電極の幅からはみ出た部分は塗布後にレーザカット処理する必要があった。
【０００７】
そこで、本願発明者は、少なくとも欠陥部を含む範囲で基板を加熱した状態で、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて修正するパターン修正装置を提案した（たとえば特願２００５−５０７６６号参照）。このパターン修正装置では、修正液を補充しながら噴出することができるので、塗布針が欠陥部とペーストタンクとの間を何度も往復していた従来に比べ、欠陥部を迅速に修正することができる。また、欠陥部を加熱して修正液を乾燥させながら堆積層を形成するので、一定の形状に堆積層を形成することができる。したがって、従来のように余分な修正ペーストを除去する機構を設ける必要がないので、装置構成の簡単化を図ることができる。
【０００８】
しかし、このパターン修正装置では、装置内で修正液を霧状にして噴出するので、装置内に修正液が詰まり、連続使用時間が短くなることも想定される。
【０００９】
それゆえに、この発明の主たる目的は、連続使用時間が長いパターン修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、少なくとも欠陥部を含む範囲で基板を加熱する加熱装置と、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて欠陥部を修正する堆積装置とを備え、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、さらに、噴霧部とヘッド部の間に設けられ、修正液の滴を捕集する第１の捕集器を備えることを特徴とする。したがって、修正液の滴がヘッド部に入るのを防止することができ、ヘッド部の塗布ノズルが詰まるのを防止して連続使用時間を延ばすことができる。
【００１１】
好ましくは、堆積装置は、噴霧部で霧状にされた修正液の圧力を減じてヘッド部に与える減圧部をさらに含み、第１の捕集器は、噴霧部と減圧部の間に設けられ、修正液の滴を捕集する。
【００１２】
また好ましくは、減圧部は、噴霧部に接続されるノズル部と、ヘッド部に接続される集気部と、排気ポンプに接続される排気管とを有し、さらに、排気管と排気ポンプの間に設けられ、修正液の滴を捕集する第２の捕集器を備える。この場合は、修正液の滴が排気ポンプに入るのを防止することができ、排気ポンプの故障を防止して装置の連続使用時間を延ばすことができる。また、第２の捕集器と排気ポンプとの間にフィルタが挿入される場合、フィルタの目詰まりを防止してフィルタの交換までの時間を延ばすことができる。
【００１３】
また、この発明に係る他のパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、少なくとも欠陥部を含む範囲で基板を加熱する加熱装置と、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて欠陥部を修正する堆積装置とを備え、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、噴霧部で生成された霧状の修正液をヘッド部に送るチューブのうちの少なくともヘッド部側の端の部分がヘッド部側に向かって上向きに傾斜していることを特徴とする。したがって、チューブ内で発生した修正液の滴がヘッド部に入るのを防止することができ、ヘッド部の塗布ノズルが詰まるのを防止して連続使用時間を延ばすことができる。
【００１４】
好ましくは、噴霧部の出口がヘッド部の入口よりも低い位置に設けられ、チューブは、噴霧部の出口とヘッド部の入口との間に接続され、減圧部に向かって上向きに傾斜している。
【００１５】
また好ましくは、堆積装置は、噴霧部で霧状にされた修正液の圧力を減じてヘッド部に与える減圧部をさらに含み、チューブは、噴霧部で生成された霧状の修正液を減圧部に送り、チューブのうちの少なくとも減圧部側の端の部分が減圧部側に向かって上向きに傾斜している。
【００１６】
また好ましくは、噴霧部の出口が減圧部の入口よりも低い位置に設けられ、チューブは、噴霧部の出口と減圧部の入口との間に接続され、減圧部に向かって上向きに傾斜している。
【００１７】
また、この発明に係るさらに他のパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、少なくとも欠陥部を含む範囲で基板を加熱する加熱装置と、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて欠陥部を修正する堆積装置とを備え、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液の圧力を減じる減圧部と、減圧された霧状の修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、減圧部は、噴霧部に接続されるノズル部と、ヘッド部に接続される集気部と、排気ポンプに接続される排気管とを有し、さらに、ノズル部の噴出口の周囲に設けられ、修正液の滴を吸収する吸収シートを備えることを特徴とする。したがって、修正液の滴が集気部を介してヘッド部に入るのを防止することができ、ヘッド部の塗布ノズルが詰まるのを防止して連続使用時間を延ばすことができる。
【００１８】
また、この発明に係る他のパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、少なくとも欠陥部を含む範囲で基板を加熱する加熱装置と、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて欠陥部を修正する堆積装置とを備え、堆積装置は、修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液の圧力を減じる減圧部と、減圧された霧状の修正液を収束して噴出するヘッド部とを含み、さらに、減圧部で減圧された霧状の修正液を下方のヘッド部に送るパイプの下端面に設けられ、修正液の滴を吸収する環状の吸収シートを備えることを特徴とする。したがって、修正液の滴がヘッド部に入るのを防止することができ、ヘッド部の塗布ノズルが詰まるのを防止して連続使用時間を延ばすことができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、この発明に係るパターン修正装置では、修正液の滴によってヘッド部の塗布ノズルが詰まるのを防止することができ、装置の連続使用時間を延ばしてメンテナンス回数を減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の実施の形態について説明する前に、まず、この発明が適用されるパターン修正装置の基本構成およびその動作について説明する。
【００２１】
図１は、この発明が適用されるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１において、パターン修正装置１は、基板の表面を観察する観察光学系２と、観察された画像を映し出すモニタ３と、観察光学系２を介してレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部４と、欠陥修正用の修正材料を数μｍ以下の微粒子にして溶媒中に分散させた修正液を霧状にして欠陥部に噴出し、微粒子を欠陥部に堆積させる微粒子堆積装置５と、欠陥部を加熱して霧状の修正液中の溶媒を気化させる基板加熱部６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、その他に欠陥部を持つ基板をＸＹ方向（水平方向）に移動させるＸＹステージ１０と、ＸＹステージ１０上で基板を保持するチャック部１１と、観察光学系２や微粒子堆積装置５をＺ方向（垂直方向）に移動させるＺステージ１２などが設けられている。
【００２２】
図２は、図１に示したパターン修正装置の要部を示す断面図である。修正する欠陥としては、電極のオープン欠陥部、プラズマディスプレイのリブ欠損部、カラーフィルタの白抜け欠陥などが挙げられる。たとえば、オープン欠陥部１３ａがある電極１３が表面に形成された基板１４は、チャック部１１に固定され、そのチャック部１１はＸＹステージ１０によりＸＹ方向に移動される。なお、基板１４全体を加熱するヒータをチャック部１１に内蔵して、基板１４の上側から欠陥部１３ａを含む範囲を部分加熱可能な基板加熱部６と併用することも可能である。基板１４が大型になる場合には、チャック部１１内にヒータを内蔵して基板１４全体を加熱することは大掛かりになるため、このような場合には基板加熱部６のみの構成にする方が好ましい。基板加熱部６としては、ＬＤ光源やＣＯ２レーザなどを用いることが可能である。
【００２３】
微粒子堆積装置５は、修正に用いる修正材料を数μｍ以下の微粒子にし、それを溶媒中に均一に分散して液状化した修正液を霧状にする噴霧部１５と、霧状にされた修正液の流れの圧力を減じる減圧部１６と、減圧された霧状の修正液を加熱する加熱部１７と、加熱された霧状の修正液を収束して欠陥部１３ａに噴出し、欠陥部１３ａに微粒子を堆積するヘッド部１８とを含む。
【００２４】
噴霧部１５の容器１９内には修正液２０が注入されている。電極１３のオープン欠陥部１３ａを修正する場合には、修正液２０として、銀ペースト、金ペースト、あるいは透明電極材料の微粒子を溶媒中に分散したものが使用される。また、修正液２０として、中心金属の周りにイオンや分子が結合した化合物を含む金属錯体溶液を用いてもよい。また、プラズマディスプレイのリブ欠け欠陥を修正する場合には、修正液２０として、リブの材料であるガラスの粉末を溶媒中に均一に分散させたものが使用される。
【００２５】
容器１９の中央には噴霧ノズル２１が設けられている。噴霧ノズル２１の下部は修正液２０に浸けられている。容器１９の外部から噴霧ノズル２１にアトマイズガス（たとえば窒素ガス）を供給すると、噴霧ノズル２１上部の噴出口２１ａにおけるアトマイズガスの流速が速くなって周囲よりも気圧が下がるため、噴霧ノズル２１下端の吸入口２１ｂから修正液２０が吸い上げられ、アトマイズガスが噴出口２１ａから噴出するときに修正液２０も噴出口２１ａの周囲に飛び散り霧化される。この原理は普通の霧吹きの原理と同じでありベルヌーイの原理を応用したものである。大きな霧粒子は容器１９内に落下、あるいは、容器１９の内壁面に衝突して容器１９内に留まり、微細な霧粒子だけが減圧部１６に送られる。
【００２６】
なお、アトマイズガスとしては、修正液２０が酸化しないように窒素ガスのような不活性ガスを用いることが好ましいが、酸化しない修正液２０であれば空気でも構わない。また、修正液２０を霧状にするためにアトマイズガスを用いたが、修正液２０中の修正材料がサブミクロンのような超微粒子であれば、超音波振動子による霧化装置を用いても構わない。超音波振動子による霧化装置を用いる場合、減圧部１６は省略され、霧粒子をヘッド部１８に流すための微量のガスが霧化装置に供給されて、霧化装置で発生した霧粒子がヘッド部１８に直接供給される。
【００２７】
また、修正液２０中の修正材料の微粒子が時間の経過により沈殿し易い場合には、撹拌子を容器１９内に入れ、容器１９の底にマグネチックスターラを設置して修正液２０を常時撹拌しても良い。
【００２８】
減圧部１６は、一般的に知られているバーチャルインパクタと同じものであり、修正液２０の霧粒子を分級するものである。小さな霧粒子はここで除去され、霧粒子の流れの圧力が減じられる。減圧部１６は、ノズル部２２と集気部２３と排気管２４と外管２５から構成される。ノズル部２２と集気部２３とは一定の隙間２６を保って対峙している。ノズル部２２から噴出された霧粒子のうちの流速が速い霧粒子や重い霧粒子は集気部２３を介して次段に供給されるが、流速が遅い霧粒子や軽い霧粒子などは排気管２４を介して排気ポンプ（図示せず）により排出される。
【００２９】
加熱部１７は、集気部２３と次段を結ぶパイプ２７を含む。パイプ２７の外周部にはヒータ２８と温度センサ２９が取り付けられ、パイプ２７が設定温度になるように制御され、霧粒子を加熱する機能を持つ。霧粒子を加熱することで、欠陥部１３ａに霧粒子が付着した時の流れや飛散を抑制する。なお、ヒータ２８の周りは断熱部材（図示せず）で覆われている。また、修正液２０によっては、図３に示すように、加熱部１７を省略することも可能である。
【００３０】
図２に戻って、ヘッド部１８は、霧粒子の周りをシースガス（たとえば窒素ガス）で覆いこみ、霧粒子の流れを収束させてヘッド部１８下端の塗布ノズル３０から欠陥部１３ａに向けて霧粒子を噴出する。塗布ノズル３０の噴出口の内径は１００〜２００μｍ程度であり、シースガスによって噴出口の内径の１／１０程度まで霧粒子の流れを収束させることが可能である。
【００３１】
シャッタ３１は、欠陥修正を行う前に基板１４上に霧粒子が噴出されないように塗布ノズル３０から噴出される霧粒子を受けるものである。修正開始時にシャッタ３１を開放して欠陥修正を行ない、修正完了と同時にシャッタ３１を塗布ノズル３０の先端と基板１４の間に移動させ、シャッタ３１で霧粒子を受ける。なお、シャッタ３１に、塗布ノズル３０から噴出された霧粒子を吸引する機能を持たせてもよい。
【００３２】
次に、このパターン修正装置の使用方法について説明する。図４（ａ）は、基板１４の表面に形成された電極１３のオープン欠陥部１３ａを修正する途中経過を示す図である。ＸＹステージ１０を駆動させて塗布ノズル３０と基板１４を相対的に移動させ、欠陥部１３ａの一方端から他方端に向けて修正材料の微粒子を堆積させていく。このとき、塗布ノズル３０の先端と基板１４の表面の間隔を一定の距離（５ｍｍ前後）に保って非接触で修正することができる。
【００３３】
微粒子の堆積層の線幅を一定に保つためには、欠陥部１３ａを含む範囲で基板１４の一部分または基板１４全体を最適な温度に保つとともに、噴霧部１５に供給するアトマイズガスの流量、減圧部１６の排気流量、ヘッド部１８のシースガスの流量などを最適値に管理する必要がある。なお、塗布ノズル３０の先端と基板１４の表面の間隔が微粒子の堆積層の線幅に及ぼす影響は小さい。
【００３４】
図４（ｂ）は、欠陥部１３ａの修理が完了した状態を示す図である。微粒子の堆積層からなる修正部３２は基板加熱部６によりさらに本焼成しても良いし、基板１４全体を別工程の炉で再焼成しても構わない。なお、修正膜厚が不足する場合は、複数の微粒子層を積層すれば良い。また、修正部３２の線幅が電極１３の線幅よりも太くなったり、修正部３２以外の部分に微粒子が付着した場合は、レーザ部４を用いて不要部をレーザカットしてもよい。
【００３５】
また、図５（ａ）に示すように、プラズマディスプレイの背面ガラス基板３４の表面に形成されているリブ３５の一部が欠落したリブ欠け欠陥部３５ａを修正することも可能である。すなわち図５（ｂ）に示すように、基板加熱部６を用いて欠陥部３５ａを加熱しながら塗布ノズル３０から欠陥部３５ａに霧状の修正液２０を噴出し、かつＸＹステージ１０を移動させて欠陥部３５ａに微粒子の堆積層３６＿１を形成する。引き続き、ＸＹステージ１０を往復移動させて複数の堆積層３６＿２〜３６＿ｎを積層し、最終的には図５（ｃ）に示すようにリブ３５の正常高さまで積層する。積層の終了後、修正部を基板加熱部６を用いて本焼成しても良いし、基板１４を炉で再焼成しても構わない。
【００３６】
この例では、堆積層３６＿１〜３６＿ｎを基板加熱部６で加熱してある程度乾燥させながら積層することができるので、積層幅は均一で崩れることがない。したがって、積層後のリブ幅再整形工程を省略することも可能である。
【００３７】
また、１回の堆積膜厚は、修正材料や各流量設定にもよるが１μｍ前後であり、修正部の高さを測定器で測定しながら堆積層３６＿２〜３６＿ｎを積層すれば、修正部のトップ面をリブ３５の正常なトップ面とほぼ同じ高さにすることができるので、従来のスキージ機構を省略することも可能である。
【００３８】
以上のように、このパターン修正装置では、加熱した欠陥部１３ａ，３５ａに霧状の修正液２０を噴出し、欠陥部１３ａ，３５ａに修正材料の微粒子を堆積させ、堆積層を欠陥部１３ａ，３５ａに描画するので、塗布針を用いていた従来に比べ、修正時間の短縮化を図ることができる。
【００３９】
また、従来技術で必要であった修正用ペースト塗布後におけるパターン整形手順およびその機構が不要となって、装置の簡略化が可能となる。
【００４０】
なお、このパターン修正装置では、ＸＹステージ１０により基板１４を移動させて堆積層を描画したが、基板１４を動かさずに微粒子堆積装置５を移動するようにして堆積層を描画してもよい。
【００４１】
また、ＸＹステージ１０としては、一軸ステージをＸＹ方向に重ねたものや、基板を固定してＸ軸とＹ軸とを分離して駆動するガントリー方式など多種ステージ形式が考えられ、ここに示したステージには限定されない。
【００４２】
さて、このようなパターン修正装置では、微粒子堆積装置５の噴霧部１５、減圧部１６、加熱部１７、ヘッド部１８内を霧状の修正液２０が通過するので、装置の使用時間が長くなると、その内部に修正液が付着して溜まる。特にヘッド部１８の先端に固定される塗布ノズル３０内部に修正液２０の塊（滴）が付着して詰まった場合には霧粒子が収束せずに飛散し、描画線が太くなったり、最終的には描画不能になる。以下、装置詰まりを防止するための種々の実施の形態について説明する。
【００４３】
[実施の形態１]
図６は、この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。図６において、このパターン修正装置では、噴霧部１５が減圧部１６よりも高い位置に設けられ、修正液２０の滴を捕集する捕集器４０が減圧部１６の近傍に設けられる。捕集器４０は、密閉された円筒形状をしており、その上部の一方側および他方側にそれぞれ入口および出口が設けられている。捕集器４０の入口および出口はそれぞれフレキシブルなチューブ４１によって噴霧部１５の出口および減圧部１６の入口に接続される。チューブ４１の各端部は、継手４２によって噴霧部１５、捕集部４０または減圧部１６に固着される。継手４２としてはワンタッチ継手やスウェージロックが用いられる。
【００４４】
微粒子堆積装置５の使用時間が長くなるにつれて、チューブ４１の内壁に霧粒子が付着し、その霧粒子が集まって修正液２０の滴となる。修正液２０の滴は、チューブ４１内を流れて減圧部１６に入る手前で捕集器４０に捕集され、捕集器４０の底に溜まる。したがって、捕集器４０を設けたことにより、チューブ４１に溜まった修正液２０の滴が減圧部１６を経由してヘッド部１８の先端にある塗布ノズル３０の内部を詰まらせることを事前に防止することができる。よって、微粒子堆積装置５の使用可能時間を延ばすことができ、微粒子堆積装置５の分解メンテナンス回数の低減化を図ることができる。
【００４５】
図７は、この実施の形態１の変更例を示す断面図である。図７において、この変更例では、噴霧部１５が減圧部１６よりも低い位置に配置される。これにより、噴霧部１５から減圧部１６に修正液２０の滴が直接入ることが防止される。また、この変更例では、噴霧部１５と減圧部１６とを接続するチューブ４１が減圧部１６に向かって上向きに傾斜するので、チューブ４１内で発生した修正液２０の滴は噴霧部１５に流れる。したがって、捕集器４０を省略してもよい。
【００４６】
なお、超音波振動子による霧化装置を用いて減圧部１６を省略した場合は、噴霧部１５は加熱部１７よりも低い位置に配置され、噴霧部１５と加熱部１７とを接続するチューブ４１が加熱部１７に向かって上向きに傾斜し、チューブ４１内で発生した修正液２０の滴は噴霧部１５に流れる。さらに、図３で示したように加熱部１７を省略した場合は、噴霧部１５はヘッド部１８よりも低い位置に配置され、噴霧部１５とヘッド部１８とを接続するチューブ４１がヘッド部１８に向かって上向きに傾斜し、チューブ４１内で発生した修正液２０の滴は噴霧部１５に流れる。
【００４７】
[実施の形態２]
図８は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。図８において、減圧部１６はノズル部２２と集気部２３と排気管２４と外管２５から構成され、ノズル部２２と集気部２３とは一定の隙間２６を保って対峙し、外管２５の下端部にはパイプ２７の上端部が嵌め込まれている。なお、外管２５と、ノズル部２２、集気部２３およびパイプ２７の各々との間には、シール部材５０が設けられ、減圧部１６は密閉されている。
【００４８】
この減圧部１６では、使用時間の経過と共にノズル部２２の噴出口２２ａの周囲の下面２２ｂに修正液２０が付着する。付着した修正液２０の量が多くなるとノズル部２２の先端に滴となって垂れ下がる状態となり、その滴が一定以上の大きさになると、その自重により集気部２３の内径部２３ａに落下し、塗布ノズル３０を詰まらせる原因となる。そのため、ノズル部２２の噴出口２２ａの周囲の下面２２ｂに吸収シート５１をネジなどによって固着し、ノズル部２２の先端に修正液２０の滴が付着することを防止する。吸収シート５１としては、吸収性に優れ自己発塵の少ないもの、たとえば、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系の多孔質シートを用いることが好ましい。ノズル部２２や集気部２３の材質としてステンレスを用いてもよいが、撥水効果のある樹脂材料、たとえばフッ素系樹脂を用いて修正液２０の滴が付着し難いようにしてもよい。
【００４９】
また、集気部２３の内径部２３ａの周囲には排気孔２３ｂが多数開けられ、霧化に使用されたアトマイズガスの多くは排気孔２３ｂから排気管２４を経由して排気される。排気孔２３ｂを通過したアトマイズガスに含まれる修正液２０の霧粒子の多くは、排気孔２３ｂの下の減圧部バッファ２５ａ内に捕集されるが、捕集できない霧粒子は排気管２４から排気ポンプ（図示せず）側に流れる。減圧部１６と排気ポンプとの間には霧粒子を捕捉するためのフィルタ（図示せず）が設けられるが、減圧部バッファ２５ａ内に溜まった修正液２０が排気管２４を経由してフィルタや排気ポンプ側に流れるのを防止するため、捕集器５２を排気管２４の出口部に設ける。捕集器５２の入口および出口はそれぞれフレキシブルなチューブ５３によって排気管２４の出口およびフィルタの入口に接続される。チューブ５３の各端部は、継手５４によって排気管２４、捕集器５２またはフィルタに固着される。
【００５０】
この実施の形態２では、減圧部１６で修正液２０の滴が発生して塗布ノズル３０の内部に入ることを防止することができ、塗布ノズル３０の詰まりを解消して、微粒子堆積装置５の連続使用時間を延ばすことができる。また、減圧部バッファ２５ａ内に溜まった修正液２０が排気管２４を経由してフィルタや排気ポンプ側に流れるのを防止することができ、フィルタや排気ポンプの連続使用時間を延ばすことができる。
【００５１】
[実施の形態３]
図９は、この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。図９において、このパターン修正装置では、塗布ノズル３０は、ヘッド部１８の下端部にテーパ状シール６０を介在させてナット６１で固定されている。また、パイプ２７の下端部がヘッド部１８の上部の穴に嵌め込まれ、パイプ２７の下端部の外周部とヘッド部１８の間にはシール部材６２が設けられ、パイプ２７の下端面とヘッド部１８の間にはリング状の吸収シート６３が設けられている。パイプ２７の内側に付着した修正液２０が滴となって下方に流れるが、その修正液２０の滴をリング状の吸収シート６３で吸収することにより、塗布ノズル３０に修正液２０の滴が侵入することを防止する。吸収シート６３としては、図８の吸収シート５１と同じ材質のものが使用可能である。
【００５２】
この実施の形態３では、パイプ２７内で発生した修正液２０の滴が塗布ノズル３０の内部に入るのを防止することができ、塗布ノズル３０の詰まりを解消して、微粒子堆積装置５の連続使用時間を延ばすことができる。
【００５３】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】この発明が適用されるパターン修正装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示したパターン修正装置の要部を示す断面図である。
【図３】図１に示したパターン修正装置の変更例を示す断面図である。
【図４】図１に示したパターン修正装置の使用方法を示す図である。
【図５】図１に示したパターン修正装置の使用方法を示す他の図である。
【図６】この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。
【図７】実施の形態１の変更例を示す断面図である。
【図８】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。
【図９】この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の要部を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  パターン修正装置、２  観察光学系、３  モニタ、４  カット用レーザ部、５  微粒子堆積装置、６  基板加熱部、７  画像処理部、８  ホストコンピュータ、９  制御用コンピュータ、１０  ＸＹステージ、１１  チャック部、１２  Ｚステージ、１３  電極、１３ａ  オープン欠陥部、１４  基板、１５  噴霧部、１６  減圧部、１７  加熱部、１８  ヘッド部、１９  容器、２０  修正液、２１  噴霧ノズル、２１ａ  噴出口、２１ｂ  吸入口、２２  ノズル部、２２ａ  噴出口、２２ｂ  下面、２３  集気部、２３ａ  内径部、２３ｂ  排気孔、２４  排気管、２５  外管、２５ａ  減圧部バッファ、２６  隙間、２７  パイプ、２８  ヒータ、２９  温度センサ、３０  塗布ノズル、３１  シャッタ、３２  修正部、３４  背面ガラス基板、３５  リブ、３５ａ  リブ欠け欠陥部、３６＿１〜３６＿ｎ  堆積層、４０，５２  捕集器、４１，５３  チューブ、４２，５４  継手、５０，６２  シール部材、５１，６３  吸収シート、６０  テーパ状シール、６１  ナット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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