(57)【要約】【課題】高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能な配線形成材料、並びに配線及び配線形成方法の提供。【解決手段】支持体と、該支持体上に、少なくとも発泡層と、配線形成性層とをこの順に有してなり、前記配線形成性層が少なくとも金属ナノ粒子及び光熱変換物質を含有し、前記配線形成材料は、パターン状に光照射されることにより、該光照射された領域に突起状の金属体を形成可能であることを特徴とする配線形成材料である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に、少なくとも発泡層と、配線形成性層とをこの順に有する配線形成材料であって、
前記配線形成性層が少なくとも金属ナノ粒子及び光熱変換物質を含有し、
前記配線形成材料は、パターン状に光照射されることにより、該光照射された領域に突起状の金属体を形成可能であることを特徴とする配線形成材料。
【請求項２】
金属ナノ粒子が、金属単体、酸化物半導体、スピネル型化合物、導電性窒化物、導電性ホウ化物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種からなる粒子である請求項１に記載の配線形成材料。
【請求項３】
金属ナノ粒子が、Ａｕ、Ａｇ、及びＣｕのいずれかからなる粒子である請求項１から２のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項４】
金属ナノ粒子の粒径が３０ｎｍ以下である請求項１から３のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項５】
金属ナノ粒子の融点が３００℃以下である請求項１から４のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項６】
光熱変換物質の極大吸収波長が、３３０〜１３００ｎｍである請求項１から５のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項７】
発泡層が発泡材料を含有し、かつ該発泡材料が感光性発泡材料である請求項１から６のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項８】
感光性発泡材料が、ジアゾニウム塩化合物、キノンジアジド化合物及びアジド化合物から選択される少なくとも１種である請求項７に記載の配線形成材料。
【請求項９】
感光性発泡材料がマイクロカプセルに内包されている請求項７から８のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項１０】
発泡層が光熱変換物質を含有する請求項１から９のいずれかに記載の配線形成材料。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の配線形成材料に対し、パターン状に光照射を行い、該光照射された領域に突起形状の金属体を形成することを特徴とする配線形成方法。
【請求項１２】
光照射のエネルギー強度が１〜１００Ｊ／ｃｍ２である請求項１１に記載の配線形成方法。
【請求項１３】
請求項１１から１２のいずれかに記載の配線形成方法により得られたことを特徴とする配線。
【請求項１４】
金属体の高さが、２００ｎｍ以上である請求項１３に記載の配線。
【請求項１５】
スーパーコネクトに用いられる請求項１３から１４のいずれかに記載の配線。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なスーパーコネクトに適用可能な配線形成材料、並びに該配線形成材料を用いて形成した配線及び配線形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、デジタルネットワーク情報社会の進化に対応して、システムインパッケージ（ＳｉＰ）という新しい三次元実装技術が注目されている。例えば、チップをインターポーザーと呼ばれる超薄型で小型な支持物に固定し、これらを複数個組み合わせて、システムを一つのパッケージの中に入れてしまうものである。このようなＳｉＰでは、半導体チップ以外にも、コイル、コンデンサ、水晶発振子等も１つのパッケージに収めることができるので、速度、電力、実装面積などを従来のプリント基板で作った電子システムよりも数倍改善することができ、システムＬＳＩに匹敵する性能を実現できる場合も多い。
このようなＳｉＰにおいては、いわゆるスーパーコネクトと呼ばれる数μｍ〜数十μｍ幅の配線技術の提供が強く望まれているが、高信頼性、高性能、かつ低価格なものは未だ提供されていないのが現状である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能な配線形成材料、並びに該配線形成材料を用いて形成した配線及び配線形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体と、該支持体上に、少なくとも発泡層と、配線形成性層とをこの順に有する配線形成材料であって、
前記配線形成性層が少なくとも金属ナノ粒子及び光熱変換物質を含有し、
前記配線形成材料は、パターン状に光照射されることにより、該光照射された領域に突起状の金属体を形成可能であることを特徴とする配線形成材料である。
＜２＞  金属ナノ粒子が、金属単体、酸化物半導体、スピネル型化合物、導電性窒化物、導電性ホウ化物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種からなる粒子である前記＜１＞に記載の配線形成材料である。
＜３＞  金属ナノ粒子が、Ａｕ、Ａｇ、及びＣｕのいずれかからなる粒子である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜４＞  金属ナノ粒子の粒径が３０ｎｍ以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜５＞  金属ナノ粒子の融点が３００℃以下である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜６＞  光熱変換物質の極大吸収波長が、３３０〜１３００ｎｍである前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜７＞  発泡層が発泡材料を含有し、かつ該発泡材料が感光性発泡材料である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜８＞  感光性発泡材料が、ジアゾニウム塩化合物、キノンジアジド化合物及びアジド化合物から選択される少なくとも１種である前記＜７＞に記載の配線形成材料である。
＜９＞  感光性発泡材料がマイクロカプセルに内包されている前記＜７＞から＜８＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜１０＞  発泡層が光熱変換物質を含有する前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜１１＞  発泡層の酸素透過係数が１．０ｍｌ・２５μｍ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜１２＞  発泡層の上層及び下層の少なくともいずれかにガスバリア層を有し、該ガスバリア層の酸素透過係数が０．５ｍｌ・２５μｍ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下である前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の配線形成材料である。
＜１３＞  前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の配線形成材料に対し、パターン状に光照射を行い、該光照射された領域に突起形状の金属体を形成することを特徴とする配線形成方法である。
＜１４＞  光照射のエネルギー強度が１〜１００Ｊ／ｃｍ２である前記＜１３＞に記載の配線形成方法である。
＜１５＞  前記＜１３＞から＜１４＞のいずれかに記載の配線形成方法により得られたことを特徴とする配線である。
＜１６＞  金属体の高さが、２００ｎｍ以上である前記＜１５＞に記載の配線である。
＜１７＞  スーパーコネクトに用いられる前記＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載の配線である。
【０００５】
本発明の配線形成材料は、支持体と、該支持体上に、発泡層と、金属ナノ粒子及び光熱変換物質を含む配線形成性層とをこの順に有してなり、該前記配線形成材料は、該配線形成材料に対しパターン状に光照射することにより、該光照射された領域に突起状の金属体を形成可能である。その結果、高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能であり、エレクトロニクス産業に有用な配線形成材料を提供することができる。
【０００６】
本発明の配線形成方法は、本発明の前記配線形成材料に対し、パターン状に光照射を行い、該光照射された領域に突起形状の金属体を形成する。
本発明の配線は、本発明の前記配線形成方法により形成される。
本発明の配線及び配線形成方法においては、高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能な配線形成材料、並びに該配線形成材料を用いて形成した配線及び配線形成方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
（配線形成材料）
本発明の配線形成材料は、支持体と、該支持体上に、発泡層と、配線形成性層とをこの順に有してなり、更に必要に応じてその他の構成を有してなる。
前記配線形成材料に対しパターン状に光照射することにより、該光照射された領域が突起状の金属体（突起形状物）を形成可能である。
【０００９】
＜支持体＞
前記支持体（基板）は、寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）；アルミニウム、亜鉛、銅等の金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム、シリコンウエハなどのセラミック基板等が含まれる。これらの中でも、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板、セラミック基板が特に好ましい。
前記基板として使用するアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの公知の表面処理を行ってもよい。また、他の好ましい態様であるポリエステルフィルム等のプラスチックフィルムを用いる場合にも、配線形成性層の形成性、密着性の観点から、粗面化処理を施されたものを用いることが好ましい。
前記粗面化した支持体を用いる場合には、その表面性状は以下の条件を満たすものであることが好ましい。粗面化された支持体の好ましい状態としては、２次元粗さパラメータの中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１〜１μｍ、最大高さ（Ｒｙ）が１〜１０μｍ、十点平均粗さ（Ｒｚ）が１〜１０μｍ、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が５〜８０μｍ、局部山頂の平均間隔（Ｓ）が５〜８０μｍ、最大高さ（Ｒｔ）が１〜１０μｍ、中心線山高さ（Ｒｐ）が１〜１０μｍ、中心線谷深さ（Ｒｖ）が１〜１０μｍの範囲が好適に挙げられ、これらの１つ以上の条件を満たすものが好ましく、全てを満たすことがより好ましい。
【００１０】
前記支持体は、適宜作製したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜１０００μｍが好ましく、０．１〜５００μｍがより好ましい。
【００１１】
＜配線形成性層＞
前記配線形成性層は、少なくとも金属ナノ粒子、及び光熱変換物質を含有してなり、バインダー、更に必要に応じてその他の成分を含んでなる。
【００１２】
−金属ナノ粒子−
前記金属ナノ粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば金属単体、酸化物半導体、スピネル型化合物、導電性窒化物、導電性ホウ化物、又はこれらの混合物などが挙げられる。
【００１３】
前記金属単体としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃｒ、又はこれらの合金などが挙げられ、これらの中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕが特に好ましい。
前記酸化物半導体としては、例えばＩｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、Ｃｄｏ、ＴｉＯ２、ＣｄＩｎ２Ｏ４、Ｃｄ２ＳｎＯ２、Ｚｎ２ＳｎＯ４、Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯなどが挙げられ、これらに適合する不純物をドーパントさせた材料を用いることもできる。
前記スピネル型化合物としては、例えば、ＭｇＩｎＯ、ＣａＧａＯなどが挙げられる。
前記導電性窒化物としては、例えばＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮなどが挙げられる。
前記導電性ホウ化物としては、例えばＬａＢなどが挙げられる。
【００１４】
前記金属ナノ粒子の粒径は３０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。前記粒径が３０ｎｍを超えると、前記金属ナノ粒子の融点が高くなり、加熱により融解しにくくなることがある。
前記金属ナノ粒子の融点は２５０℃以下が好ましく、８０〜２２０℃がより好ましい。前記融点が２５０℃を超えると、加熱により融解しにくくなることがある。
前記金属ナノ粒子の前記配線形成性層における含有量は、１０〜９５質量％が好ましく、５０〜９０質量％がより好ましい。前記含有量が１０質量％未満であると、所望の導電性が出ないことがあり、９５質量％を超えると安定性が不良になることがある。
【００１５】
−光熱変換物質−
前記光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質であれば特に制限はなく全て使用でき、例えば、カーボンブラック、カーボングラファイト、有機顔料、鉄粉、黒鉛粉末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、硫化クロム等が挙げられる。これらの中でも、３３０ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する染料、顔料又は金属微粒子が特に好ましい。
【００１６】
前記染料としては、市販の染料及び文献（例えば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号公報、特開昭５９−８４３５６号公報、特開昭５９−２０２８２９号公報、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号公報、特開昭５８−１８１６９０号公報、特開昭５８−１９４５９５号公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号公報、特開昭５８−２２４７９３号公報、特開昭５９−４８１８７号公報、特開昭５９−７３９９６号公報、特開昭６０−５２９４０号公報、特開昭６０−６３７４４号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３４，８７５号明細書に記載のシアニン染料などが挙げられる。
【００１７】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号公報、同５８−２２０１４３号公報、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号公報、同５９−８４２４９号公報、同５９−１４６０６３号公報、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別の染料の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）及び式（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。これらの中でも、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が特に好ましい。
【００１８】
前記顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの中でも、カーボンブラックが特に好ましい。
なお、前記顔料又は染料は１種単独で用いてもよいし、複数種を併用してもよい。
【００１９】
これらの染料又は顔料の添加量は、配線形成性層全固形分の０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましい。前記染料の場合には０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記顔料の場合には０．１〜１０質量％が特に好ましい。前記顔料又は染料の添加量が０．０１質量％未満であると感度が低くなることがあり、５０質量％超えると、光熱変換物質含有層の膜強度が弱くなる場合がある。
【００２０】
光熱変換を効率的に起こす物質としては、赤外線吸収物質が好適である。該赤外線吸収物質としては赤外線を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機化合物のうちではカーボンブラックが好ましい。有機化合物のうち赤外線吸収染顔料が好ましい。これらの中でも、以下に詳述するカチオン性染顔料、錯塩形成染顔料、及びキノン系中性染顔料が好ましい。
前記赤外線吸収染顔料は、バインダー中、マイクロカプセルオイル中、マイクロカプセル壁中のいずれに添加してもよい。バインダー中に添加する場合は、水溶性のものが、それ以外に添加する場合は油溶性のものを用いることが好ましい。
前記赤外線吸収染顔料の塗設量は、前記配線形成材料において、赤外領域で最も吸光度が高い波長の吸光度で決定され。該吸光度としては、０．１〜４．０の範囲が好ましく、０．２〜２．５の範囲がより好ましい。
【００２１】
以下に、本発明において用いる赤外線吸収染顔料について詳細に説明する。前記カチオン性色素としては、下記構造式（ｉ）で表される色素が好適である。
Ｄ１＋［Ｘ１-1／ｍ］ｍ      ・・・構造式（ｉ）
ただし、前記構造式（ｉ）中、Ｄ１＋はカチオン性色素母核を表す。Ｘ１−は対アニオンを表す。ｍは１〜４の整数を表す。
【００２２】
前記構造式（ｉ）におけるカチオン性色素母核であるＤ１＋としては、例えば、ポリメチン（シアニンを含む）、アズレニウム、ピリリウム、チオピリリウム、スクワリリウム、トリアリールメタン、インモニウム、ジインモニウム、等が挙げられる。
Ｘ１−１／ｍは、対アニオンを形成可能なものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＣｌＯ４−、ＢＦ−、Ｉ−、Ｃｌ−、などが挙げられる。
【００２３】
前記カチオン性色素としては、下記構造式で表される具体的色素が挙げられる。
【化１】
2007258577.tif 000002
【００２４】
【化２】
2007258577.tif 000003
【００２５】
【化３】
2007258577.tif 000004
【００２６】
【化４】
2007258577.tif 000005
【００２７】
前記錯塩形成色素としては、例えば、チオールニッケル錯塩系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素が好ましく、以下のようは具体的色素を挙げることができる。
【００２８】
【化５】
2007258577.tif 000006
【００２９】
前記キノン系中性色素としては、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素が好ましく、以下のような具体的色素を挙げることができる。
【００３０】
【化６】
2007258577.tif 000007
【００３１】
また、前記赤外線吸収色素のうち、マイクロカプセル形成時に該マイクロカプセル壁材と反応する活性基を有しているものも有効である。
前記活性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イソシアネート基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、等が挙げられる。これらの中でも、イソシアネート基、ヒドロキシ基が特に好ましく、以下のような、活性基を有するカチオン性色素、錯塩形成色素、キノン系中性色素が特に好ましい。
【００３２】
前記活性基を有するカチオン性色素は、下記構造式（ｉ）で表される色素が好適である。
Ｄ１＋［Ｘ１-1／ｍ］ｍ      ・・・構造式（ｉ）
ただし、前記構造式（ｉ）中、Ｄ１＋はカチオン性色素母核を表す。Ｘ１−は対アニオンを表す。ｍは１〜４の整数を表す。
【００３３】
前記構造式（ｉ）におけるカチオン性色素母核であるＤ１＋としては、例えば、ポリメチン（シアニンを含む）、アズレニウム、ピリリウム、チオピリリウム、スクワリリウム、トリアリールメタン、インモニウム、ジインモニウム、等が好ましい。
Ｘ１−１／ｍは、対アニオンを形成可能なものであれば特に限定されない。
なお、上記マイクロカセル壁と反応する活性基は、Ｄ１＋若しくはＸ１−１／ｍのいずれであってもよい。
【００３４】
前記活性基を有するカチオン性色素としては、以下のような具体的色素が好適に挙げられる。
【化７】
2007258577.tif 000008
【００３５】
【化８】
2007258577.tif 000009
【００３６】
【化９】
2007258577.tif 000010
【００３７】
【化１０】
2007258577.tif 000011
【００３８】
前記活性基を有する錯塩形成色素としては、チオールニッケル錯塩系、フタロシアニン系色素、又はナフタロシアニン系色素が好ましく、以下のような具体的色素を挙げることができる。
【００３９】
【化１１】
2007258577.tif 000012
【００４０】
前記活性基を有するキノン系中性色素としては、例えば、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素が好ましく、以下のような具体的色素を好適に挙げることができる。
【００４１】
【化１２】
2007258577.tif 000013
【００４２】
前記赤外線吸収色素は、高分子材料中、マイクロカプセルオイル中、マイクロカプセル壁中のいずれに添加してもよく、前記高分子材料中に添加する場合は、水溶性のものが、それ以外に添加する場合には油溶性のものを用いることが好ましい。
【００４３】
前記赤外線吸収色素の含有量は、作製した配線形成材料において、赤外領域で最も吸光度が高い波長の吸光度で決定され、該吸光度としては、０．１〜４．０が好ましく、０．２〜２．５がより好ましい。
【００４４】
また、前記配線形成性層には、光熱変換効果を向上させる目的で、ニトロセルロースを配線形成性層中に更に含有させることが好ましい。前記ニトロセルロースは近赤外レーザー光を光吸収剤が吸収し発生した熱により分解し、効率よくジアゾニウム塩を分解したり、ニトロセルロース自身からのガス発生によりグラフト鎖形成に役立てることもできる。
【００４５】
前記ニトロセルロースは、常法により精製した天然のセルロースを混酸で硝酸エステル化し、セルロースの構成単位であるグルコピラノース環に存在する３個の水酸基の部分にニトロ基を一部又は全部導入することによって得ることができる。前記ニトロセルロースの硝化度としては、２〜１３が好ましく、１０〜１２．５がより好ましく、１１〜１２．５が更に好ましい。ここで、硝化度とは、ニトロセルロース中の窒素原子の質量％を表す。前記硝化度が著しく高いと、アブレーションの促進効果が高められるが、室温安定性が低下する傾向にある。また、ニトロセルロースが爆発性となり、パターン形成材料を作製する際のニトロセルロースの取り扱いに危険が伴うことがある。一方、硝化度が著しく低いと、アブレーションの促進効果が充分には得られないことがある。
【００４６】
前記ニトロセルロースの重合度は２０〜２００が好ましく、２５〜１５０がより好ましい。前記重合度が高すぎると、配線形成性層の除去が不完全となることがあり、重合度が低すぎると、配線形成性層の塗膜性が不良になることがある。
前記ニトロセルロースの含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記配線形成性層全量に対し０〜８０質量％が好ましく、５〜７０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が更に好ましい。
【００４７】
−バインダー−
前記配線形成性層におけるバインダーは、塗膜性、膜強度、及びアブレーションの効果を高める目的で使用されるものであり、光熱変換物質との相溶性、或いは、光熱変換物質の分散性を考慮して適宜選択される。前記バインダーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸等の不飽和酸と、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルスチレン等との共重合体；ポリメチルメタクリレートに代表されるメタクリル酸アルキル、又はアクリル酸アルキルの重合体；（メタ）アクリル酸アルキルとアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体；アクリロニトリルと、塩化ビニル又は塩化ビニリデンとの共重合体；側鎖にカルボキシル基を有するセルロース変性物；ポリエチレンオキシド；ポリビニルピロリドン；フェノール、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾール、又はキシレノールとアルデヒド、アセトン等との縮合反応で得られるノボラック樹脂；エピクロロヒドリンとビスフェノールＡとのポリエーテル；可溶性ナイロン；ポリ塩化ビニリデン；塩素化ポリオレフィン；塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体；酢酸ビニルの重合体；アクリロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリルとブタジエン又はスチレンとの共重合体；ポリビニルアルキルエーテル；ポリビニルアルキルケトン；ポリスチレン；ポリウレタン；ポリエチレンテレフタレートイソフタレート；アセチルセルロース；アセチルプロピオキシセルロース；アセチルブトキシセルロース；ニトロセルロース；セルロイド；ポリビニルブチラール；エポキシ樹脂；メラミン樹脂；ホルマリン樹脂；メチルセルロース、デンプン誘導体、カゼイン、アラビアゴム、ゼラチン等が挙げられる。なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記することがある。
前記バインダーの前記配線形成性層中における含有量は、５〜９５質量％が好ましく、１０〜９０質量％がより好ましく、２０〜８０質量％が更に好ましい。
【００４８】
前記配線形成性層には、前記金属ナノ粒子、前記光熱変換物質、前記バインダーの他、必要に応じてその他の成分を含有することができる。
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、発泡材料、増感剤、溶媒、界面活性剤、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
【００４９】
前記配線形成性層は、例えば、前記金属ナノ粒子、前記光熱変換物質、前記バインダー、更に必要に応じて添加されるその他の成分を含有する塗布液を調製し、該塗布液を、前記支持体上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
【００５０】
前記塗布方法としては、公知の塗布方法の中から適宜選択することができ、例えば、バー塗布、ブレード塗布、エアナイフ塗布、グラビア塗布、ロールコーティング塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、カーテン塗布、などが挙げられる。
前記配線形成性層の乾燥塗布量としては、２．５〜３０ｇ／ｍ２が好ましい。
前記配線形成性層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。
【００５１】
＜発泡層＞
前記配線形成材料は、支持体と配線形成性層の間に、発泡層を有することが好ましい。
前記発泡層は、発泡材料を含有してなり、バインダー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５２】
−発泡材料−
前記発泡材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、定着可能な点から感光性発泡材料を用いることが好ましい。該感光性発泡材料を使用することによりパターン形成後に発泡する懸念がなくなり、そのため配線の安定性を保持しやすくなる。
【００５３】
前記感光性発泡材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジアゾニウム塩化合物、キノンジアジド化合物、アジド化合物などが好適に挙げられる。これらの中でも、安定性が高い点からジアゾニウム塩化合物が特に好ましい。
【００５４】
前記ジアゾニウム塩化合物としては、下記構造式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
【化１３】
2007258577.tif 000014
【００５５】
前記構造式（Ｉ）中、Ａｒは置換可能な芳香環を表す。Ｘ−は対アニオンを表す。
Ａｒは、置換基Ｙを有していてもよく、該Ｙとしては、各種電子供与性基や電子吸引性基が好ましい。また、Ａｒは置換基Ｙを複数個有していてもよく、この場合の置換基Ｙは、同一であっても異なっていてもよい。
【００５６】
Ａｒが有する置換基Ｙとしては、例えば、置換アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、が好ましい。
前記Ｙが、置換アミノ基を表す場合、該置換アミノ基としては、炭素数１〜２０のアルキルアミノ基、炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基、炭素数６〜１０のアリールアミノ基、炭素数７〜２０のＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、炭素数２〜２０のアシルアミノ基が好ましく、これらの基は更に１又は２以上の置換基を有していてもよい。また、前記アルキル基等の置換基同士が結合して環状アミノ基を形成してもよい。
前記Ｙがアルキルチオ基を表す場合、炭素数１〜１８のアルキルチオ基が好ましく、アリールチオ基を表す場合、炭素数６〜１０のアリールチオ基が好ましく、アルコキシ基を表す場合、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、アリールオキシ基を表す場合、炭素数６〜１０のアリールオキシ基が好ましく、これらの基は更に１又は２以上の置換基を有していてもよい。
【００５７】
前記Ｙが表す置換アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基、又はアリールオキシ基におけるアルキル基、アリール基としては、以下のようなものが挙げられる。
【００５８】
【化１４】
2007258577.tif 000015
【００５９】
更に、前記Ｙとしては、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、塩素原子、フッ素原子、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１８のアリールスルホニル基、炭素数１〜１８のアシル基、炭素数１〜１８のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１２のスルホンアミド基、炭素数２〜１３のカルボンアミド基、ニトロ基、及びシアノ基が好ましい。
アルキル基、アルキルスルホニル基は、分岐していてもよく、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、フェニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、又はカルバモイル基で置換されていてもよい。
アリールスルホニル基は、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
【００６０】
前記Ｙとしては、例えば、以下に示すものが好適に挙げられる。
【化１５】
2007258577.tif 000016
【００６１】
前記Ｙが置換アミノ基を示す場合、置換基同士が結合して形成される環状アミノ基としては、例えば以下のものが挙げられる。
【００６２】
【化１６】
2007258577.tif 000017
【００６３】
構造式（Ｉ）中、Ｘ-で表される対アニオンとしては、例えば、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキルカルボン酸（例えば、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロデカン酸、パーフルオロドデカン酸）、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキルスルホン酸（例えば、パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロデカンスルホン酸、パーフルオロヘキサデカンスルホン酸）、炭素数７〜５０の芳香族カルボン酸（例えば、４，４−ジ−ｔ−ブチルサリチル酸、４−ｔ−オクチルオキシ安息香酸、２−ｎ−オクチルオキシ安息香酸、４−ｔ−ヘキサデシル安息香酸、２，４−ビス−ｎ−オクタデシルオキシ安息香酸、４−ｎ−デシルナフトエ酸）、炭素数６〜５０の芳香族スルホン酸（例えば、１，５−ナフタレンジスルホン酸、４−ｔ−オクチルオキシベンゼンスルホン酸、４−ｎ−ドデシルベンゼンスルホン酸）、４，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ナフトエ酸、テトラフッ化ホウ酸、テトラフェニルホウ酸、ヘキサフルオロリン酸等が挙げられる。これらの中でも、炭素数６〜１６のパーフルオロアルキルカルボン酸、炭素数１０〜４０の芳香族カルボン酸、炭素数１０〜４０の芳香族スルホン酸、テトラフッ化ホウ酸、テトラフェニルホウ酸、ヘキサフルオロリン酸などが好ましい。
【００６４】
以下に、前記ジアゾニウム塩化合物の具体例として、下記式（１）〜（３４）で表される化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６５】
【化１７】
2007258577.tif 000018
【００６６】
【化１８】
2007258577.tif 000019
【００６７】
【化１９】
2007258577.tif 000020
【００６８】
【化２０】
2007258577.tif 000021
【００６９】
【化２１】
2007258577.tif 000022
【００７０】
前記感光性発泡材料としてのジアゾニウム塩化合物の前記発泡層における含有量は、０．０５〜１０ｍｍｏｌ／ｍ２が好ましく、０．１〜３ｍｍｏｌ／ｍ２がより好ましい。
【００７１】
−マイクロカプセル化−
前記感光性発泡材料の使用前の生保存性を良化する目的で、感光性発泡材料をマイクロカプセルに内包させることが好ましい。該マイクロカプセルの形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から目的に応じて適宜選択することができる。
前記マイクロカプセルのカプセル壁を形成する高分子物質としては、常温では非透過性であり、加熱時に透過性となる性質を有することが必要である点から、ガラス転移温度が６０〜２００℃のものが好ましく、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−メタクリレート共重合体、スチレン−アクリレート共重合体、又はこれらの混合系を挙げることができる。
【００７２】
前記マイクロカプセル形成方法としては、例えば界面重合法や内部重合法が好適である。該カプセル形成方法の詳細及びリアクタントの具体例等については、米国特許第３，７２６，８０４号明細書、米国特許第３，７９６，６６９号明細書などに記載がある。例えば、カプセル壁材として、ポリウレア、又はポリウレタンを用いる場合には、ポリイソシアネート及びそれと反応してカプセル壁を形成する第２物質（例えばポリオールやポリアミン）を水性媒体又はカプセル化すべき油性媒体中に混合し、水中でこれらを乳化分散し次に加温することにより油滴界面で高分子形成反応を起こしマイクロカプセル壁を形成する。なお、上記第２物質の添加を省略した場合もポリウレアを生成することができる。
【００７３】
前記マイクロカプセルのカプセル壁を形成する高分子物質としては、ポリウレタン及びポリウレアの少なくともいずれかを成分として含有することが、製造適性と熱応答感度に優れる点から好ましい。
【００７４】
次に、感光性発泡材料内包マイクロカプセル（ポリウレア壁及びポリウレタン壁の少なくともいずれか）の製造方法について述べる。
まず、感光性発泡材料は、カプセルの芯となる疎水性の有機溶媒に溶解又は分散させ、マイクロカプセルの芯となる油相を調製する。このとき、更に壁材として多価イソシアネートが添加される。
【００７５】
前記油相の調製に際し、感光性発泡材料を溶解、分散してマイクロカプセルの芯の形成に用いる疎水性の有機溶媒としては、沸点１００〜３００℃の有機溶媒が好ましく、例えば、アルキルナフタレン、アルキルジフェニルエタン、アルキルジフェニルメタン、アルキルビフェニル、アルキルターフェニル、塩素化パラフィン、リン酸エステル類、マレイン酸エステル類、アジピン酸エステル類、フタル酸エステル類、安息香酸エステル類、炭酸エステル類、エーテル類、硫酸エステル類、スルホン酸エステル類等が挙げられる。これらは２種以上混合して用いてもよい。
【００７６】
カプセル化しようとする感光性発泡材料の前記有機溶媒に対する溶解性が劣る場合には、用いるジアゾニウム塩化合物の溶解性の高い低沸点溶媒を補助的に併用することもでき、該低沸点溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
このため、感光性発泡材料は、高沸点疎水性有機溶媒、低沸点溶媒に対する適当な溶解度を有していることが好ましい。具体的には、該溶媒に対し５質量％以上の溶解度を有していることが好ましい。なお、水に対する溶解度は１質量％以下が好ましい。
【００７７】
一方、用いる水相には水溶性高分子を溶解した水溶液を使用し、これに前記油相を投入後、ホモジナイザー等の手段により乳化分散を行うが、該水溶性高分子は、分散を均一かつ容易にするとともに、乳化分散した水溶液を安定化させる分散媒として作用する。ここで、更に均一に乳化分散し安定化させるためには、油相あるいは水相の少なくとも一方に界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤は公知の乳化用界面活性剤が使用可能である。
前記界面活性剤の添加量としては、油相質量に対し０．１〜５質量％が好ましく、０．５〜２質量％がより好ましい。
【００７８】
調製された油相を分散する水溶性高分子水溶液に用いる水溶性高分子は、乳化しようとする温度における、水に対する溶解度が５％以上の水溶性高分子が好ましく、例えば、ポリビニルアルコール又はその変性物、ポリアクリル酸アミド又はその誘導体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、エチレン−アクリル酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。なお、酸素透過係数の点からはポリビニルアルコール又はその変性物を使用することが好ましい。
【００７９】
前記水溶性高分子は、イソシアネート化合物との反応性がないか、若しくは低いことが好ましく、例えば、ゼラチンのように分子鎖中に反応性のアミノ基を有するものは、予め変性する等して反応性をなくしておくことが好ましい。
【００８０】
前記多価イソシアネート化合物としては、３官能以上のイソシアネート基を有する化合物が好ましいが、２官能のイソシアネート化合物であってもよい。具体的には、キシレンジイソシアネート又はその水添物、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート又はその水添物、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネートを主原料とし、これらの２量体あるいは３量体（ビューレットあるいはイソシアヌレート）の他、トリメチロールプロパン等のポリオールとキシリレンジイソシアネート等の２官能イソシアネートとのアダクト体として多官能とした化合物、トリメチロールプロパン等のポリオールとキシリレンジイソシアネート等の２官能イソシアネートとのアダクト体にポリエチレンオキシド等の活性水素を有するポリエーテル等の高分子量化合物を導入した化合物、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物、等が挙げられる。
また、特開昭６２−２１２１９０号公報、特開平４−２６１８９号公報、特開平５−３１７６９４号公報、特開平１０−１１４１５３号公報等に記載の化合物が好ましい。
【００８１】
前記多価イソシアネートの使用量としては、マイクロカプセルの平均粒径が０．３〜１２μｍが好ましく、壁厚みが０．０１〜０．３μｍとなるように決定される。また、その分散粒子径としては、０．２〜１０μｍ程度が一般的である。
水相中に油相を加えた乳化分散液中では、油相と水相の界面において多価イソシアネートの重合反応が生じてポリウレア壁が形成される。
【００８２】
水相中又は油相の疎水性溶媒中に、更にポリオール及びポリアミンの少なくともいずれかを添加しておけば、多価イソシアネートと反応してマイクロカプセル壁の構成成分の一つとして用いることもできる。上記反応において、反応温度を高く保ち、或いは、適当な重合触媒を添加することが反応速度を速める点で好ましい。
前記ポリオール又はポリアミンとしては、例えば、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリエタノールアミン、ソルビトール、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。前記ポリオールを添加した場合には、ポリウレタン壁が形成される。前記多価イソシアネート、前記ポリオール、前記反応触媒、又は、前記壁剤の一部を形成させるためのポリアミン等については成書に詳しい（岩田敬治編  ポリウレタンハンドブック  日刊工業新聞社刊、１９８７年）。
【００８３】
前記乳化は、ホモジナイザー、マントンゴーリー、超音波分散機、ディゾルバー、ケディーミル等の公知の乳化装置の中から適宜選択して行うことができる。乳化後は、カプセル壁形成反応を促進させるために乳化物を３０〜７０℃に加温することが行われる。また、反応中はカプセル同士の凝集を防止するために、加水してカプセル同士の衝突確率を下げたり、十分な攪拌を行う等の必要がある。
【００８４】
また、反応中に改めて凝集防止用の分散物を添加してもよい。重合反応の進行に伴って炭酸ガスの発生が観測され、その終息をもっておよそのカプセル壁形成反応の終点とみなすことができる。通常、数時間反応させることにより、目的のジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセルを得ることができる。
【００８５】
−バインダー−
前記バインダーとしては、特に制限はなく、公知の水溶性高分子化合物、ラテックス類等の中から適宜選択して用いることができる。
前記水溶性高分子化合物としては、例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、デンプン誘導体、カゼイン、アラビアゴム、ゼラチン、エチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、エピクロルヒドリン変性ポリアミド、イソブチレン−無水マレインサリチル酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アミド、又はこれらの変性物等が挙げられる。
前記ラテックス類としては、例えば、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブタジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン等が挙げられる。
これらの中でも、ヒドロキシエチルセルロース、デンプン誘導体、ゼラチン、ポリアクリル酸アミド誘導体等が好ましい。
【００８６】
前記発泡層は、突起形状物の形成性の観点から、ガスバリア性を有していることが必要である。本発明において、発泡層や後述するガスバリア層におけるガスバリア性とは、ジアゾニウム塩化合物が分解したときに発生する窒素ガスの透過を抑制する性質のことである。したがって、ガスバリア性は窒素ガスの透過係数で表されるものであるが、分子サイズがほぼ同じであることから、ここでは酸素透過係数で表わすこととする。
酸素透過係数の測定方法としては、各種知られているが、高真空圧力差法あるいは酸素電極法が代表的である。
前記発泡層のガスバリア性として、具体的には、酸素透過係数が１．０ｍｌ・２５μｍ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ以下であることが好ましく、０．５ｍｌ・２５μｍ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ以下であることがより好ましい。
前記発泡層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば前記配線形成性層の場合と同様の方法が適用できる。
前記発泡層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．２〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍがより好ましい。
【００８７】
＜ガスバリア層＞
本発明においては、前記発泡層の上層及び／又は下層として、ガスバリア層を更に有することが好ましい。
前記発泡層の上層及び／又は下層としてガスバリア層を設ける場合、該ガスバリア層の酸素透過係数としては、０．５ｍｌ・２５μｍ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ以下が好ましく、０．２５ｍｌ・２５μｍ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ以下がより好ましい。
前記ガスバリア層の厚みとしては、０．２〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍがより好ましい。
前記ガスバリア層の形成方法としては、発泡層の場合と同様の方法が適用できる。
前記ガスバリア層が、上述のような酸素透過係数の条件を満たすためには、ポリビニルアルコール（変性品含む）、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、雲母含有ゼラチンなどを含むことが好ましい。取り扱い性の点からは、特にポリビニルアルコールを含むことが好ましい。なお、発泡層の上層及び／又は下層として設けるガスバリア層においては、エチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）や雲母含有ゼラチンを含むことが好ましい。
【００８８】
前記ガスバリア層には、上記に加えてバインダー、顔料などを混ぜて使用してもよい。
前記バインダーとしては、公知の水溶性高分子化合物やラテックス類等の中から適宜選択することができる。
前記水溶性高分子化合物としては、例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、デンプン誘導体、カゼイン、アラビアゴム、ゼラチン、エチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、カルボキシ変性ポリビニルアルコール、エピクロルヒドリン変性ポリアミド、イソブチレン−無水マレインサリチル酸共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アミド等及びこれらの変性物等が挙げられる。
前記ラテックス類としては、例えば、スチレン−ブタジエンゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブタジエンゴムラテックス、酢酸ビニルエマルジョン等が挙げられる。
これらバインダーの中でも、ヒドロキシエチルセルロース、デンプン誘導体、ゼラチン、ポリビニルアルコール誘導体、ポリアクリル酸アミド誘導体が特に好ましい。
【００８９】
前記顔料としては、有機顔料、無機顔料を問わず公知のものが挙げられ、例えば、カオリン、焼成カオリン、タルク、ロウ石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、非晶質シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリカ、炭酸マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、マイカ、マイクロバルーン、尿素−ホルマリンフィラー、ポリエステルパーティクル、セルロースフィラー等が挙げられる。
【００９０】
（配線及び配線形成方法）
本発明の配線形成方法により突起形状の配線パターンを得ることができる。露光は配線形成性層表面側から行うのが通常であるが、透明支持体の場合には支持体側から露光することも可能である。
【００９１】
以下、突起形状配線パターンの形成機構について詳細に説明する。
前記配線形成性層に対して、赤外線吸収色素を励起するレーザー光等によりパターン状に光照射を行うと赤外線吸収色素はレーザー光を吸収し、その光エネルギーは熱エネルギーに変換される。この熱エネルギーにより金属ナノ粒子が融解し合一する。ほぼ同時に発泡層では、発泡剤例えばジアゾニウム塩とジアゾニウム塩が存在する場が急激に熱せられる。熱せられたジアゾニウム塩は、通常の熱分解を起こし、窒素ガスを放出する。それと同時に、熱せられた膜が柔らかくなり、発生した窒素ガスにより膨張する。その結果、突起状の気泡パターン（突起形状物）が形成される。突起状の気泡パターンを形成するための条件は明確ではないが、発泡層の上側と下側の膜（ガスバリア層、等）や、支持体の硬さ（粘弾性）が関与し、柔らかい（粘弾性の大きい）方へ窒素ガスが逃れることにより、突起状の気泡パターンを形成するものと考えられる。発泡層の突起状膨張につれて配線形成性層も突起状に膨張し、その結果、露光された部分に突起形状の配線が形成されることになる。
【００９２】
前記光照射に使用する光源としては、光熱変換物質の吸収特性に対応した可視光レーザー、ＵＶレーザー、発光ダイオードが使用できる。光熱変換物質を使用しない時はジアゾニウム塩の波長に対応したレーザー、発光ダイオードが使用できる。
レーザー又は発光ダイオードの発振波長としては３００〜１３００ｎｍの領域のものが好ましく、４００〜１１００ｎｍの領域のものがより好ましい。具体的には、ヘリウム−ネオンレーザー、アルゴンレーザー、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー及びこれらをＳＨＧで半波長に変換したもの等が挙げられる。中でも焦点を絞って高照度で露光できるレーザー光源が好ましい。レーザー光源の場合、金属ナノ粒子が融解し合一する時に集積する効果があり、その結果、レーザー光の照射スポット径に対して小さいサイズの配線径を得ることができるという利点もある。
【００９３】
前記光照射の際のエネルギー強度は、１〜１００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１〜３０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。
前記光照射は、少なくとも配線形成性層の未露光領域に対して行えば十分であるが、作業効率の点から、配線形成性層全面に照射して行うことが好ましい。
【００９４】
突起状の金属体を形成した後の配線形成材料には定着を施すことができる。定着とは、ジアゾニウム塩を光分解し、もはやその窒素ガス発生能力を失わせるものであるが、定着によりジアゾニウム塩から発生した窒素ガスが突起形状物を生成しないように単位面積あたりの露光エネルギーを抑制して光照射を行うことが必要である。
定着に用いる光源としては、蛍光灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、発光ダイオードが好ましい。これらの光照射時のエネルギー強度としては、１Ｊ／ｃｍ２未満であることが好ましく、特には、３００ｍＪ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００９５】
（配線）
前記金属体（配線）の高さ（大きさ、厚み）や形状は、照射される光のエネルギー強度、照射時のビーム径、等を調節することにより、任意に制御することが可能である。該配線の高さは、平坦部から２００ｎｍ以上が好ましく、５００ｎｍ〜１０μｍがより好ましく、５００ｎｍ〜５μｍが更に好ましい。また、配線の形態についても、点状、線状（畝状、等）、面状、等、目的に応じた任意のものにすることができる。
ここで、前記配線の大きさ及び形状は、配線形成材料の表面あるいは断面を顕微鏡観察することにより容易に確認することができる。
【００９６】
本発明の配線形成方法により得られた配線は、高信頼性、高性能かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能であり、エレクトロニクス分野に幅広く用いられる。
【実施例】
【００９７】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【００９８】
（実施例１）
（１）配線形成性層用塗布液の調製
ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１０２、株式会社クラレ製、ケン化度９８〜９９％）１０質量％水溶液１６５質量部、水１０５質量部、金属ナノ粒子としての銀粒子（ハリマ化成株式会社製、粒径＝３〜７ｎｍ、融点は４００℃未満（ただし、２５０℃以下での焼成可能））、及び光熱変換材料として下記構造式で表される赤外線色素（具体的化合物例：ＤＹＥ−１０）３．５質量部を混合し、配線形成性層用塗布液を調製した。
【化２２】
2007258577.tif 000023
【００９９】
（２）発泡層用塗布液の調製
酢酸エチル１６．２質量部に、下記構造式で表されるジアゾニウム塩化合物（例示化合物（１７））４．５質量部、モノイソプロピルビフェニル４．８質量部、フタル酸ジフェニル４．８質量部を添加し、４０℃に加熱して均一に溶解した。この混合液にカプセル壁材としてキシリレンジイソシアネート／トリメチロールプロパン付加物とキシリレンジイソシアネート／ビスフェノールＡ付加物の混合物（商品名；タケネートＤ１１９Ｎ（５０質量％酢酸エチル溶液）、武田薬品工業（株）製）８．４質量部を添加し、均一に撹拌して混合液（Ｉ）を得た。
【化２３】
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別途、前記ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１０５、株式会社クラレ製、ケン化度９８〜９９％）１０質量％水溶液８５質量部にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの１０質量％水溶液３．５質量部を加え、混合物（ＩＩ）を得た。
【０１００】
次に、上記混合液（ＩＩ）に上記混合液（Ｉ）を添加し、ホモジナイザー（日本精機製作所（株）製）を用いて４０℃下で乳化分散した。得られた乳化液に水２０質量部を加え均一化した後、４０℃下で撹拌し、酢酸エチルを除去しながら３時間カプセル化反応を行った。この後、イオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ６８（オルガノ（株）製）４．１質量部、アンバーライトＩＲＣ５０（オルガノ（株）製）８．２質量部を加え、更に１時間撹拌した。その後、イオン交換樹脂を濾過して取り除き、カプセル液の固形分濃度が２０．０質量％になるように濃度調節しジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセル液（ａ）を得た。得られたマイクロカプセルの粒径は粒径測定（ＬＡ−７００、堀場製作所（株）製で測定）の結果、メジアン径で０．３１μｍであった。
得られたマイクロカプセル液（ａ）にポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１０２、株式会社クラレ製、ケン化度９８〜９９％）１０質量％水溶液１６５質量部、及び水１０５質量部を混合し、発泡層用の塗布液を得た。
【０１０１】
（３）配線形成材料の作製
ガラス基板（松浪ガラス社製、厚み１ｍｍ、幅５ｃｍ×５ｃｍ）の上に、上記作製した発泡層用塗布液をジアゾニウム塩化合物（例示化合物（１７））が固形分塗布量で０．１６ｇ／ｍ２となるように塗布し、乾燥させて、発泡層を塗設した。次いで、発泡層の上に上記配線形成性層用塗布液を固形分塗布量で２．２ｇ／ｍ２となるように塗布し、乾燥させて、配線形成材料を作製した。
【０１０２】
＜配線形成及び評価＞
発振波長８３０ｎｍの半導体レーザー（三洋電機株式会社製、ＤＬ−８０３２−００１）を用いて１５０ｍＷ、線速０．２５ｍ／ｓｅｃで走査露光した。レーザー光のビーム径は６．０μｍとした。
レーザー光照射後、配線形成性層全面に対して蛍光灯ランプ（３６５ｎｍ）を照射し、ジアゾニウム塩を完全に光分解し、定着を行った。このようにして突起状パターン（配線）を形成した。
露光部にはガラス基板表面から高さ５．４３μｍの突起形状物が形成されており、該突起形状物の半径はガラス基板面で１６．４μｍであり、そのうち配線部（即ち、金属部）の高さ（厚み）は約１．４μｍであることを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製）により確認した。
形成した配線部の表面抵抗値をマルチメーター（２７  マルチメーター、ＦＬＵＫＥ社製）で測定したところ、約２．７Ωという抵抗値であった。
【０１０３】
（実施例２）
−配線形成材料の作製及び評価−
実施例１において、ジアゾニウム塩化合物（例示化合物（１７））４．４質量部を下記構造式で表されるジアゾニウム塩化合物（例示化合物（２３））４．１質量部に変えた以外は、実施例１と同様にして、配線形成材料を作製し、露光し、定着により突起状パターン（配線）を形成した。
得られた突起形状物の高さは５．４０μｍであり、そのうちの配線部（金属部）の高さは約１．４μｍであることを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製）により確認した。形成した配線部の表面抵抗値をマルチメーター（２７  マルチメーター、ＦＬＵＫＥ社製）で測定したところ、約２．９Ωであった。
【化２４】
2007258577.tif 000025
【０１０４】
（実施例３）
−配線形成材料の作製及び評価−
実施例１において、赤外線吸収色素（例示化合物  ＤＹＥ−１０）３．５質量部を、下記構造式で表される赤外線吸収色素（例示化合物  ＤＹＥ−１５）３．８質量部に変えた以外は、実施例１と同様にして、配線形成材料を作製し、露光し、定着により突起状パターン（配線）を形成した。
得られた突起形状物の高さは５．４４μｍであり、そのうちの配線部（金属部）の高さは約１．４μｍであることを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製）により確認した。形成した配線部の表面抵抗値をマルチメーター（２７  マルチメーター、ＦＬＵＫＥ社製）で測定したところ、約２．８Ωであった。
【化２５】
2007258577.tif 000026
【０１０５】
（実施例４）
−配線形成材料の作製及び評価−
実施例１において、赤外線吸収色素（例示化合物  ＤＹＥ−１０）３．５質量部を赤外線吸収色素（例示化合物  ＤＹＥ−２３）３．６質量部に変えた以外は、実施例１と同様にして、配線形成材料を作製し、露光し、定着により突起状パターン（配線）を形成した。
得られた突起形状物の高さは５．４５μｍであり、そのうちの配線部（金属部）の高さは約１．４μｍであることを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製）により確認した。形成した配線部の表面抵抗値をマルチメーター（２７  マルチメーター、ＦＬＵＫＥ社製）で測定したところ、約３．１Ωであった。
【化２６】
2007258577.tif 000027
【０１０６】
(比較例１)
−配線形成材料の作製及び評価−
実施例１において、配線形成性層用塗布液中に銀粒子を使用しなかった以外は、実施例１と同様にして、配線形成材料を作製した。得られた配線形成材料を露光し、定着により突起状パターンを形成した。
突起形状物の高さは、約４．０μｍであることを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、日立製作所製）により確認した（配線部なし）。
形成した突起形状物の表面抵抗値をマルチメーター（２７  マルチメーター、ＦＬＵＫＥ社製）で測定したところ、導電性はほとんど認められなかった。
【０１０７】
（比較例２）
−配線形成材料の作製及び評価−
実施例１において、配線形成性層用塗布液中に赤外線色素（具体的化合物例：ＤＹＥ−１０）を使用しなかった以外は、実施例１と同様にして、配線形成材料を作製し、露光し、定着したが、所望の突起形状物は得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明の配線形成材料及び配線形成方法による配線は、高信頼性、高性能、かつ低価格であり、いわゆるスーパーコネクトに適用可能であり、エレクトロニクス分野に幅広く用いられる。