(57)【要約】【課題】非磁性基板の主表面における外端部の表面形状が変動した場合でも、当該外端部に形成されるスキージャンプ台状の隆起部の形状を好適に制御可能な磁気記録ディスク、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】磁気記録ディスク１を製造する際、所定の分布をもって開口部がメッシュ状に形成されたマスク５により非磁性基板１１の主表面側を覆った状態で、ダイヤモンドライクカーボン膜の気相成膜を行うマスク成膜工程を行い、外端部１１３に形成されるスキージャンプ台形状の隆起部１４１を備えた保護層１４を形成する。このため、非磁性基板１１の主表面１１０における外端部１１３の表面形状にかかわらず、隆起部１４１をＬＵＬ方式に適した凸形状とすることができる。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板の主表面に磁性層を含む複数の層が積層された磁気記録ディスクにおいて、
前記複数の層のうちのいずれかの層によって、ディスク面の外端部に沿って、内周側に斜面を向けた隆起部が構成されていることを特徴とする磁気記録ディスク。
【請求項２】
前記隆起部の凸形状は、当該隆起部の下層側に位置する前記非磁性基板の外端部の表面形状と相違していることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録ディスク。
【請求項３】
前記複数の層には、前記磁性層の上層に形成された保護層が含まれ、
当該保護層が前記隆起部を構成していることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録ディスク。
【請求項４】
前記保護層は、ダイヤモンドライクカーボン保護層であることを特徴とする請求項３に記載の磁気記録ディスク。
【請求項５】
非磁性基板の主表面に磁性層を含む複数の層を順次、積層する磁気記録ディスクの製造方法において、
所定の分布をもって開口部が形成されたマスクにより前記非磁性基板の主表面側を覆った状態で気相成膜を行うマスク成膜工程を行い、
前記マスクでは、ディスク面の外端部と重なる領域で前記開口部の形成密度が変化していることにより、ディスク面の外端部に沿って、内周側に斜面を向けた隆起部を形成することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記マスクにおいて、前記ディスク面の内周側領域と重なる領域は、前記開口部が形成されていない完全遮蔽領域になっており、
前記マスク成膜工程では、前記複数の層のいずれかの層を前記ディスク面の全体に形成した後、あるいは形成前に、当該層と同一材料の膜を前記ディスク面の外端部に対して選択的に成膜することを特徴とする請求項５に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記マスクにおいて、前記ディスク面の内周側領域と重なる領域には、当該ディスク面の外端部と重なる領域と比して低密度の前記開口部が均一に形成されており、
前記マスク成膜工程では、前記複数の層のいずれかの層を内周側領域と比較して外端部で厚く形成することを特徴とする請求項５に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録ディスクおよびその製造方法に関するものである。さらに詳しくは、ＬＵＬ（Ｌｏａｄ・Ｕｎｌｏａｄ）方式のディスク駆動装置での使用に適した磁気記録ディスクおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録ディスクにおいては、近年、記録容量の向上を達成するために、記録領域の拡大や高密度記録化が急務となっている。このため、ハードディスクとして用いられる磁気記録ディスクにおいては、ＬＵＬ方式が採用されている。このＬＵＬ方式の場合には、通常、磁気記録ディスク表面は平滑であって、磁気ヘッドは磁気記録ディスクが停止しているときは、磁気記録ディスクの外側付近に位置するランプと称せられる傾斜台上に待機しており、磁気記録ディスクが回転した後、ガイド機構によって磁気ヘッドがディスクの外側からディスク面上に移動してきて記録再生を行うので、ＣＳＳ（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｓｔａｒｔ  ａｎｄ  Ｓｔｏｐ）方式と比較して低浮上走行が可能である。また、非磁性基板の外端部で発生するロールオフ（基板の主表面の外周部における面だれ）やスキージャンプ台状の隆起部（基板の外端部近傍の盛り上がり）の形状を制御できれば、非磁性基板の外端部近傍の平坦化・平滑化を実現でき、磁気記録ディスクの記録領域を拡大することができるとともに、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプへと移動する際、磁気ヘッドが磁気記録ディスクとクラッシュすることなく滑らかに移動することが可能となる。
【０００３】
そこで、円板状の非磁性基板を形成した後、基板の主表面が平滑面となるように研磨処理を施し、しかる後に、エッチングにより非磁性基板の外端部に面取り部を形成する方法が提案されている（特許文献１参照）。また、非磁性基板の主表面に研磨処理を施した後、非磁性基板の主表面や外端部をさらに精密研磨する方法が提案されている（特許文献２、３参照）。また、ガラス基板（非磁性基板）を化学強化処理する際の化学強化処理条件を制御することにより、非磁性基板の外周端縁部の形状を制御する方法も提案されている（特許文献４参照）。
【特許文献１】特開平１１−２８８５０８号公報
【特許文献２】特開２００１−２９１２２９号公報
【特許文献３】特開２００３−２４２６２７号公報
【特許文献４】特開２００４−２６５５８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、非磁性基板の外周端縁部の形状は、素材の種類、研磨条件、もしくは化学強化処理条件により大きく変化するため、特許文献１〜４に記載の製造方法では、非磁性基板の外端部に形成されるスキージャンプ台状の隆起部の形状を十分に制御できないという問題点がある。特に、非磁性基板の主表面をより平坦化して磁気ヘッドの低浮上走行化を達成することを目的に、硬度の高い研磨パッドを用いて非磁性基板の主表面を研磨すると、非磁性基板の外端部に形成されるスキージャンプ台状の隆起部の形状を制御することが益々困難になるため、非磁性基板の主表面を平坦化すればするほど、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプに移動する際に磁気ヘッドが磁気記録ディスクとクラッシュしやすくなるという問題点がある。
【０００５】
以上の問題に鑑みて、本発明の課題は、非磁性基板の主表面における外端部の表面形状が変動した場合でも、当該外端部に形成されるスキージャンプ台状の隆起部の形状を好適に制御可能な磁気記録ディスク、およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明では、非磁性基板の主表面に磁性層を含む複数の層が積層された磁気記録ディスクにおいて、前記複数の層のうちのいずれかの層によって、ディスク面の外端部に沿って、内周側に斜面を向けた隆起部が構成されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明では、ディスク面の外端部に沿って、内周側に斜面を向けたスキージャンプ台状の隆起部が構成されているが、かかる隆起部は、非磁性基板の主表面に積層された複数の層のいずれかによって構成されている。このため、非磁性基板の外端部の表面形状が、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプへと移動するのに適した形状であるか否かにかかわらず、磁気記録ディスクの外端部に形成される隆起部の形状については、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプへと移動するのに適した形状とすることができる。
【０００８】
本発明において、前記隆起部の凸形状は、例えば、当該隆起部の下層側に位置する前記非磁性基板の外端部の表面形状と相違している。すなわち、前記非磁性基板の外端部の表面形状は、前記隆起部の凸形状に反映されていない。
【０００９】
本発明において、前記複数の層には、前記磁性層の上層に形成された保護層が含まれている場合、当該保護層によって前記隆起部を構成することが好ましい。このような前記保護層は、例えば、ダイヤモンドライクカーボン保護層である。保護層であれば、磁性層などと違って、膜厚を変化させても、磁気記録ディスクの磁気特性を変化させることがない。また、保護層は、複数の層のうち、上層側に形成されるので、その凸形状を好適に形成した後、上層側への他の層の積層によって凸形状が変化することがない。
【００１０】
本発明では、非磁性基板の主表面に磁性層を含む複数の層を順次、積層するための複数回の成膜工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、所定の分布をもって開口部が形成されたマスクにより前記非磁性基板の主表面側を覆った状態で気相成膜を行うマスク成膜工程を行い、前記マスクでは、ディスク面の外端部と重なる領域で前記開口部の形成密度が変化していることにより、ディスク面の外端部に沿って、内周側に斜面を向けた隆起部を形成することを特徴とする。マスク成膜方法を採用すると、開口部の分布に応じて、所定の膜厚パターンをもって成膜を行うことができるので、隆起部の凸形状を容易に制御することができる。
【００１１】
本発明では、例えば、前記マスクにおいて、前記ディスク面の内周側領域と重なる領域は、前記開口部が形成されていない完全遮蔽領域になっており、この場合、前記マスク成膜工程では、前記複数の層のいずれかの層を前記ディスク面の全体に形成した後、あるいは形成前に、当該層と同一材料の膜を前記ディスク面の外端部に対して選択的に成膜する。このように構成すると、非磁性基板の主表面に形成する膜の種類が増えない。また、非磁性基板の主表面に形成される層の形成と、隆起部の形成を連続して行うことができ、製造工程を簡素化できる。
【００１２】
本発明では、例えば、前記マスクにおいて、前記ディスク面の内周側領域と重なる領域には、当該ディスク面の外端部と重なる領域と比して低密度の前記開口部が均一に形成されており、この場合、前記マスク成膜工程では、前記複数の層のいずれかの層を内周側領域と比較して外端部で厚く形成する。このように構成すると、非磁性基板の主表面に形成される層と隆起部とを同時形成することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明では、ディスク面の外端部に沿って形成されたスキージャンプ台状の隆起部が、非磁性基板の主表面に積層された複数の層のいずれかによって構成されている。このため、非磁性基板の外端部の表面形状が、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプへと移動するのに適した形状であるか否かにかかわらず、磁気記録ディスクの外端部に形成される隆起部の形状については、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプへと移動するのに適した形状とすることができる。従って、非磁性基板の主表面をより平坦化して磁気ヘッドの低浮上走行化を達成することを目的に、硬度の高い研磨パッドを用いて非磁性基板の主表面を研磨した結果、非磁性基板の外端部の表面形状を制御できない場合でも、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプに移動する際、磁気ヘッドが磁気記録ディスクとクラッシュするという不具合の発生を防止できる。それ故、ＬＵＬ方式を採用したディスク駆動装置に用いられる磁気記録ディスクにおいて、磁気ヘッドが磁気記録ディスクからランプに移動する際の磁気ヘッドの移動に不具合を発生させることなく、磁気ヘッドの低浮上走行化を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、図面を参照して、本発明を適用した磁気記録ディスク、およびその製造方法について説明する。なお、本発明の技術的範囲は、以下に示される実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内において適宜変更が可能である。
【００１５】
［実施の形態１]
（磁気記録ディスク１の構成）
図１（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明を適用した磁気記録ディスクを示す平面図、およびその概略断面図である。図１（ａ）、（ｂ）に示す磁気記録ディスク１は、ＬＵＬ方式を採用したディスク駆動装置に用いられる情報記録媒体であり、中心穴１１１を備えた円形の非磁性基板１１の主表面１１０に下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５がこの順に積層された構造を有している。
【００１６】
非磁性基板１１は、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラスなどのガラス基板からなり、非磁性基板１１の主表面１１０は、例えば、表面粗さがＲａで０．３ｎｍ以下、Ｒｍａｘで３ｎｍ以下となるように鏡面研磨が施されている。非磁性基板１１において内端部１１２および外端部１１３は各々、面取り加工が施されている。但し、図１（ｂ）には面取り部分の図示を省略してある。このような非磁性基板１１は、例えば、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより、アルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに、研削工程、形状加工工程および研磨工程を順次施し、次に化学強化処理および洗浄を施すことにより得られる。化学強化処理としては、ガラス基板表層に含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン半径を有する化学強化処理液中のイオンで置換することにより化学強化を行うイオン交換による化学強化処理法や、ガラス基板表層に含まれるアルカリイオンを除去することにより化学強化を行う脱アルカリ処理による化学強化処理法等が挙げられる。
【００１７】
このような磁気記録ディスク１においては、磁気記録ディスク１が停止しているときは、磁気記録ディスク１の外側付近に位置するランプと称せられる傾斜台上に磁気ヘッド（図示せず）が待機しており、磁気記録ディスク１が回転した後、ガイド機構によって磁気ヘッドが磁気記録ディスク１の外側からディスク面上に移動してきて記録再生を行う。従って、磁気ヘッドは、磁気記録ディスク１の外端部１１３を繰り返し通過することになるため、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１の外端部１１３を通過する際にクラッシュが発生しないように、磁気記録ディスク１のディスク面には、外端部１１３に沿って内周側に斜面を向けたスキージャンプ台状の隆起部１４１が環状に構成されている。
【００１８】
本形態において、隆起部１４１は、保護層１４のうち、ディスク面の外端部１１３に厚く形成された部分により形成されており、かかる隆起部１４１の凸形状には、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が反映されていない。
【００１９】
（磁気記録ディスク１の製造方法）
以下、非磁性基板１１に対して複数の層を順次形成して磁気記録ディスク１を製造する方法を説明しながら、磁気記録ディスク１の構成をさらに詳述する。磁気記録ディスク１を製造するには、まず、非磁性基板１１の主表面１１０に対してスパッタ法などの気相成膜法を利用して下地層１２を形成する。下地層１２は、例えば厚さが１０ｎｍのＣｒＷ薄膜であり、磁性層１３の結晶構造を良好にするために形成される。
【００２０】
次に、下地層１２の上層に対してスパッタ法などの気相成膜法を利用して磁性層１３を形成する。磁性層１３は、例えば厚さが１５ｎｍのＣｏＣｒＰｔＢ合金からなる。
【００２１】
次に、詳しくは後述するが、磁性層１３の上層に対して気相成膜法を利用して保護層１４を形成する。保護層１４は、ダイヤモンドライクカーボンからなり、耐摩耗性を向上させて磁性層１３を保護する機能を担っている。本形態において、保護層１４には、ディスク面の外端部１１３にスキージャンプ台状の隆起部１４１を形成しており、かかる隆起部１４１が形成されていない内周側領域における保護層１４の厚さは例えば５ｎｍである。
【００２２】
次に、保護層１４の表面に潤滑層１５を浸漬成膜法により形成する。潤滑層１５は、磁気ヘッドとの接触した際の衝撃を緩和するなどの機能を担っており、厚さが３ｎｍ以下の薄いパーフルオロポリエーテル層などから構成されている。ここで、潤滑層１５は、２ｎｍ以下、例えば、１．０ｎｍ位まで薄膜化される傾向にある。
【００２３】
（保護層１４および隆起部１４１の形成方法）
図２（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本形態に係る保護層１４（隆起部１４１）の形成に用いるマスクの構造を模式的に示す平面図、および本形態に係る保護層１４を成膜する際の様子を示す説明図である。
【００２４】
本形態の磁気記録ディスク１を製造するにあたって、保護層１４の形成工程では、まず、下地層１２、磁性層１３を順に積層した非磁性基板１１の主表面１１０の側に対して、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）、ＣＶＤ法（化学的蒸着法）、プラズマ分解蒸着法などの気相成膜法を用いて、ディスク面の全面に厚さが例えば５ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜からなる保護膜１４２を均一な厚さに形成する。
【００２５】
次に、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、所定の分布をもって開口部がメッシュ状に形成されたマスク５により非磁性基板１１の主表面１１０の側を覆った状態で、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）、ＣＶＤ法（化学的蒸着法）、プラズマ分解蒸着法などの気相成膜法を利用してダイヤモンドライクカーボン膜を成膜するマスク成膜工程を行う。このマスク５では、ディスク面の内周側領域と重なる領域５１は、開口部が形成されていない完全遮蔽領域になっている。このため、ディスク面の外端部１１３に対して選択的にダイヤモンドライクカーボン膜を成膜することができ、外端部１１３に隆起部１４１を備えた保護層１４を形成できる。
【００２６】
また、マスク５では、ディスク面の外端部１１３と重なる領域で開口部の形成密度が変化している。より具体的には、マスク５においてディスク面の外端部１１３と重なる領域では、内周側から外周側に向かって、開口部の形成密度が疎から密に変化している。このため、マスク５を介してダイヤモンドライクカーボン膜を、例えば、プラズマＣＶＤ法により成膜すると、成膜室に導入されたメタンやアセチレンなどの原料ガスがプラズマ中で分解してディスク面に供給される際、その供給量は、マスク５の開口部密度により制御される。また、マスク５を介してダイヤモンドライクカーボン膜を、例えば、スパッタ法により成膜すると、炭素原子のディスク面への供給量がマスク５の開口部密度により制御される。このため、マスク成膜工程では、ディスク面の内周側領域にはダイヤモンドライクカーボン膜が成膜されない一方、ディスク面の外端部１１３にはダイヤモンドライクカーボン膜が選択的に成膜され、ディスク面の外端部１１３に隆起部１４１が形成される。また、マスク５において、ディスク面の外端部１１３と重なる領域５２では、内周側から外周側に向かって、開口部の形成密度が疎から密に変化しているため、隆起部１４１は、開口部の形成密度に対応して内周側に斜面を有する凸形状をもって形成され、かつ、斜面の傾きは開口部の分布により制御される。従って、非磁性基板１１の外端部１１３の形状にかかわらず、所定の凸形状をもった隆起部１４１を形成することができる。
【００２７】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の磁気記録ディスク１において、隆起部１４１は、保護層１４のうち、ディスク面の外端部１１３に厚く形成された部分により形成されており、かかる隆起部１４１の凸形状には、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が反映されていない。このため、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプへと移動するのに適した形状であるか否かにかかわらず、磁気記録ディスク１の外端部１１３に形成される隆起部１４１の形状については、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプへと移動するのに適した形状とすることができる。従って、非磁性基板１１の主表面１１０をより平坦化して磁気ヘッドの低浮上走行化を達成することを目的に、例えば、硬度の高い研磨パッドを用いて非磁性基板１１の主表面１１０を研磨した結果、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状を制御できない場合でも、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプに移動する際、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１とクラッシュするという不具合の発生を防止できる。それ故、ＬＵＬ方式を採用したディスク駆動装置に用いられる磁気記録ディスク１において磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプに移動する際の磁気ヘッドの移動に不具合を発生させることなく、磁気ヘッドの低浮上走行化を実現できる。
【００２８】
また、保護層１４の膜厚を変化させて隆起部１４１を形成したため、磁気記録ディスク１の磁気特性が変化しない。また、保護層１４は、複数の層のうち、上層側に形成されるので、その凸形状を好適に形成した後、上層側への他の層の積層によって凸形状が変化することがない。
【００２９】
さらに、隆起部１４１を備えた保護層１４を形成するにあたって、本形態では、マスク成膜法を利用し、かかるマスク成膜法によれば、開口部の分布に応じて、所定の膜厚パターンをもって成膜を行うことができるので、隆起部１４１の凸形状を容易に制御することができる。また、本形態では、ディスク面の全面にダイヤモンドライクカーボン膜からなる保護膜１４２を形成した後、ディスク面の外端部１１３に対してダイヤモンドライクカーボン膜を選択的に成膜し、隆起部１４１が一体に形成された保護層１４を形成している。このため、隆起部１４１を成膜により形成する場合でも、膜の種類が増えないので、成膜材料や成膜設備が増えない。また、非磁性基板１１の主表面１１０の全面に形成される薄い保護膜１４２と、隆起部１４１の形成を連続して行うことができるので、製造工程を簡素化できる。
【００３０】
（評価結果）
図３および表１を参照して、本発明を適用した磁気記録ディスク１の評価結果を説明する。図３は、表１に示すリード角の説明図である。表１には、本発明の実施例、および比較例に係る磁気記録ディスクに用いたガラス基板（非磁性基板１１）の硬度、研磨条件、ガラス基板の外端部の断面図、ロード角、および磁気記録ディスクにＬＵＬ試験を行った結果を示してある。
【００３１】
【表１】
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【００３２】
本評価を行うにあたっては、表１に示すように、硬度が７７０、５７５のガラス基板（非磁性基板１１）を用意した後、各々に対して、アスカー硬度が８５度、６５度のポリッシャ（研磨パット）を用いて研磨を行い、非磁性基板１１として４種類の試料ａ、ｂ、ｃ、ｄを準備する。その結果、各試料ａ〜ｄの外端部の形状は、表１に断面形状を示す通りであり、そのロード角は各々、０．０９ミリ度、０．２１ミリ度、０．１１ミリ度、０．１５ミリ度であった。
【００３３】
ここで、ロード角は、図３に示すように定義される。まず、非磁性基板１１の主表面１１０を基準面とし、非磁性基板１１の外端部１１３に形成される山部１１ｃにおいて、基準面からみて最大の高さを最大高さＨｍａｘとする。また、山部１１ｃの内側の斜面上で、Ｈｍａｘの０．８倍となる点Ａ、およびＨｍａｘの０．２倍となる点Ｂ同士を結んだ直線ＡＢと基準面との成す角θ１をロード角とする。
【００３４】
このようにして製作された非磁性基板１１（試料ａ〜ｄ）を用いて、本形態を適用した実施例に係る磁気記録ディスク、および各層を一定厚に積層した比較例に係る磁気記録ディスクを製作した後、これらの磁気記録ディスクに対して磁気ヘッドのロードとアンロードを繰り返す試験（ＬＵＬ試験）を行った。その結果、表１に示すように、本発明の実施例に係る磁気記録ディスクは、８０万回のＬＵＬ試験に対しても十分な耐久性を示した。これに対して、比較例に係る磁気記録ディスクは、１０万回、１５万回、３０万回でクラシュが発生した。
【００３５】
（実施の形態１の変形例）
上記実施の形態１では、隆起部１４１を備えた保護層１４を形成するにあたって、ディスク面の全面に厚さが例えば５ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜からなる保護膜１４２を均一な厚さに形成した後、マスク成膜工程でディスク面の外端部１１３に隆起部１４１を形成したが、その順序を入れ替えて、マスク成膜工程でディスク面の外端部１１３に隆起部１４１を形成した後、ディスク面の全面に厚さが例えば５ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を均一な厚さで形成してもよい。
【００３６】
［実施の形態２］
図４（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本形態に係る磁気記録ディスク１を製造するにあたって、保護層１４（隆起部１４１）の形成に用いるマスクの構造を模式的に示す平面図、および本形態に係る保護層１４を成膜する際の様子を示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの詳細な説明は省略する。
【００３７】
本形態の磁気記録ディスクも、実施の形態１と同様、ＬＵＬ方式を採用したディスク駆動装置に用いられる情報記録媒体であり、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、中心穴１１１を備えた円形の非磁性基板１１の主表面１１０に下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５がこの順に積層された構造を有している。非磁性基板１１は、例えば、アルミノシリケートガラスなどの化学強化ガラスからなり、例えば、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより、アルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに、研削工程、形状加工工程および研磨工程を順次施し、次に化学強化処理および洗浄を施すことにより得られる。
【００３８】
本形態でも、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１の外端部１１３を通過する際、クラッシュが発生しないように、磁気記録ディスク１のディスク面には、外端部１１３に沿って内周側に斜面を向けたスキージャンプ台状の隆起部１４１が環状に構成されている。また、実施の形態１と同様、隆起部１４１は、保護層１４のうち、ディスク面の外端部１１３に厚く形成された部分により形成されており、かかる隆起部１４１の凸形状には、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が反映されていない。
【００３９】
本形態の磁気記録ディスク１を製造する際にも、非磁性基板１１に対して複数回の成膜工程を行って、下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５を形成する。これらの成膜工程のうち、保護層１４の成膜工程では、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、所定の分布をもって開口部がメッシュ状に形成されたマスク５により非磁性基板１１の主表面１１０の側を覆った状態で、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）、ＣＶＤ法（化学的蒸着法）、プラズマ分解蒸着法などの気相成膜法を利用してダイヤモンドライクカーボン膜を形成するマスク成膜工程を行う。このマスク５では、ディスク面の内周側領域と重なる領域５１は、開口部が一定の密度で形成されている一方、ディスク面の外端部１１３と重なる領域５２は、内周側の領域５１よりも開口部が密に形成されている。また、マスク５では、ディスク面の外端部１１３と重なる領域で開口部の形成密度が変化している。より具体的には、マスク５においてディスク面の外端部１１３と重なる領域では、内周側から外周側に向かって、開口部の形成密度が疎から密に変化している。このため、マスク５を介してダイヤモンドライクカーボン膜を、例えば、プラズマＣＶＤ法により成膜すると、成膜室に導入されたメタンやアセチレンなどの原料ガスがプラズマ中で分解してディスク面に供給される際、その供給量は、マスク５の開口部密度により制御される。また、マスク５を介してダイヤモンドライクカーボン膜を、例えば、スパッタ法により成膜すると、炭素原子のディスク面への供給量がマスク５の開口部密度により制御される。このため、マスク成膜工程では、マスク５においてディスク面の内周側領域と重なる領域５１に形成された開口部の密度がディスク面の外端部１１３と重なる領域５２と比して疎であるため、ディスク面の内周側領域にはダイヤモンドライクカーボン膜が約５ｎｍの厚さで薄く一定に形成される一方、ディスク面の外端部１１３にはダイヤモンドライクカーボン膜が内周側領域よりも厚く形成され、ディスク面の外端部１１３に隆起部１４１が形成される。また、マスク５において、ディスク面の外端部１１３と重なる領域５２では、内周側から外周側に向かって、開口部の形成密度が疎から密に変化しているため、隆起部１４１は、開口部の形成密度に対応して内周側に斜面を有する凸形状をもって形成され、かつ、斜面の傾きは開口部の分布により制御される。従って、非磁性基板１１の外端部１１３の形状にかかわらず、所定の凸形状をもった隆起部１４１を形成することができる。
【００４０】
このようにして製造した磁気記録ディスク１についても、実施の形態１と同様な評価を行ったところ、非磁性基板１１（試料ａ〜ｄ）のいずれを用いた場合でも、本形態の実施例に係る磁気記録ディスクでは、８０万回のＬＵＬ試験に対しても十分な耐久性を示した。
【００４１】
以上説明したように、本形態の磁気記録ディスク１においても、実施の形態１と同様、隆起部１４１は、保護層１４のうち、ディスク面の外端部１１３に厚く形成された部分により形成されており、かかる隆起部１４１の凸形状には、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が反映されていない。このため、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状が、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプへと移動するのに適した形状であるか否かにかかわらず、磁気記録ディスク１の外端部１１３に形成される隆起部１４１の形状については、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプへと移動するのに適した形状とすることができる。従って、非磁性基板１１の主表面１１０をより平坦化して磁気ヘッドの低浮上走行化を達成することを目的に、例えば、硬度の高い研磨パッドを用いて非磁性基板１１の主表面１１０を研磨した結果、非磁性基板１１の外端部１１３の表面形状を制御できない場合でも、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプに移動する際、磁気ヘッドが磁気記録ディスク１とクラッシュするという不具合の発生を防止できる。それ故、ＬＵＬ方式を採用したディスク駆動装置に用いられる磁気記録ディスク１において磁気ヘッドが磁気記録ディスク１からランプに移動する際の磁気ヘッドの移動に不具合を発生させることなく、磁気ヘッドの低浮上走行化を実現できる。
【００４２】
また、保護層１４の膜厚を変化させて隆起部１４１を形成したため、磁気記録ディスク１の磁気特性が変化しない。また、保護層１４は、複数の層のうち、上層側に形成されるので、その凸形状を好適に形成した後、上層側への他の層の積層によって凸形状が変化することがない。
【００４３】
さらに、隆起部１４１を備えた保護層１４を形成するにあたって、本形態では、マスク成膜法を利用し、かかるマスク成膜法によれば、開口部の分布に応じて、所定の膜厚パターンをもって成膜を行うことができるので、隆起部１４１の凸形状を容易に制御することができる。また、本形態では、隆起部１４１を形成する際、ディスク面の内周側領域に保護層１４を薄く形成するため、１回の成膜工程で、隆起部１４１を備えた保護層１４を形成することができる。それ故、製造工程数が増大することがない。
【００４４】
（その他の実施の形態）
上記形態では、非磁性基板１１の上層に積層された複数の層のうち、保護層１４を用いて隆起部１４１を形成したが、他の層、例えば、下地層によって隆起部を形成してもよい。また、磁気記録ディスク１の種類については、垂直磁気記録あるいは水平磁気記録のいずれのタイプの磁気記録ディスク１に本発明を適用してもよい。さらに、上記形態では、非磁性基板としてガラス基板を用いた例を説明したが、アルミニウム基板などを非磁性基板１１として用いた磁気記録ディスク１に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明を適用した磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、実施の形態１に係る保護層を成膜する際に用いるマスクの構造を模式的に示す平面図、および実施の形態１に係る保護層を成膜する際の様子を示す説明図である。
【図３】ロード角の説明図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、実施の形態２に係る保護層を成膜する際に用いるマスクの構造を模式的に示す平面図、および実施の形態２に係る保護層を成膜する際の様子を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  磁気記録ディスク
５  マスク
１０  磁気記録ディスク用基板
１１  非磁性基板
１２  下地層
１３  磁性層
１４  保護層
１１３  ディスク面の外端部
１４１  隆起部
【図１】
2007265549.tif 000004
【図２】
2007265549.tif 000005
【図３】
2007265549.tif 000006
【図４】
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