(57)【要約】【課題】  表示領域を十分に確保することができると同時に、基板の大型化を回避することが可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、シールマスク及びシール材印刷装置を提供すること。【解決手段】  マザー基板Ｓに設けられるシールパターン１２０のうちマザー基板Ｔに設けられる銀ペースト５ａ〜５ｃの位置に平面的に重なる位置に間隙１２１ａ〜１２１ｃを設けるようにしたのでカラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材１２０ａ〜１２０ｃが間隙１２１ａ〜１２１ｃを塞ぐように広がり当該シール材１２０ａ〜１２０ｃの各辺が不均一に広がることは無い。シールパターンで囲まれた領域が狭くなるのを回避することができ、液晶装置１の表示領域Ｄを十分に確保することができると共に、一定の表示領域Ｄを確保する場合にもマザー基板Ｓ及びマザー基板Ｔの大型化を回避することができる。【選択図】  図１４
2007025518.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極が設けられた一対の基板間にシール材が挟持されてなる電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの一方の基板に、前記一対の基板にそれぞれ設けられた電極同士を導通する導通部材を形成する工程と、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に、前記導通部材とは間隙をもって矩形環状のシール材を形成する工程と、
前記矩形環状のシール材の内側に電気光学材料を滴下する工程と、
前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程と
を具備し、
前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記間隙が前記導通部材と前記シール材とによって閉塞されるまで前記一対の基板を圧着する
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記導通部材が、銀を主成分として構成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
、
前記導通部材が、導電粒子を含む材料で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記シール材の粘度が、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記シール材を形成する工程が、シールマスクを用いたスクリーン印刷法により行われることを特徴とする請求項１乃至請求項４のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法により製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶パネルは、マザー基板と呼ばれる大判の基板を２枚対向させ、一方のマザー基板に矩形環状にシール材を形成し、液晶を挟持するように２枚のマザー基板を貼り合わせて切断することによって形成される。マザー基板上にシール材を矩形環状に形成する手法としては、例えばシール材の形状に対応する矩形環状の開口部が設けられたシールマスクを用いてマザー基板上にシール材を印刷するスクリーン印刷法（例えば、特許文献１参照。）や、ディスペンサを用いてマザー基板上にシール材を矩形環状に塗布する手法（例えば、特許文献２参照）等がある。  
【特許文献１】特開２００４−１７７９４１号公報
【特許文献２】特開２００４−１０９４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、シール材を単に矩形環状に形成したのでは、２枚のマザー基板を貼り合わせて圧着したときに、当該シール材の辺部分において、シール材の広がりが不均一になり、シール材の幅（シール幅）が不均一になってしまう。  
また、特にスクリーン印刷法によりシール材を印刷する場合では、パターンを環状にシール材を印刷したときにシールマスクとマザー基板とシールパターンのシール材とが密着しているため、シール材内部の空間が密閉されてしまう。このため、マザー基板からシールマスクを取り外すときにシール材がシールマスクに引っ張られるような抵抗を受けてしまう。このように、シールマスクとマザー基板とがスムーズに剥がれないと、シール材の塗布量が不均一となりシールパターンが変形する場合がある。シールパターンが変形した場合、２枚のマザー基板を貼り合わせたときにシール材の幅（シール幅）が均一にならないという問題がある。  
このようにシール幅が不均一になると、その分シール材の内側の領域が狭くなってしまう。電気光学装置においては、通常、かかる領域は表示領域として利用されるものである。したがって、当該領域が狭くなってしまうと、利用できる表示領域が狭くなってしまう。あるいは、所定の面積の表示領域を確保しようとすると、基板を大型化せざるを得なくなってしまう。  
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、表示領域を十分に確保することができると同時に、基板の大型化を回避することが可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、シールマスク及びシール材印刷装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記目的を達成するため、本発明の主たる観点に係る電気光学装置の製造方法は、電極が設けられた一対の基板間にシール材が挟持されてなる電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板に、前記一対の基板にそれぞれ設けられた電極同士を導通する導通部材を形成する工程と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板に、前記導通部材とは間隙をもって矩形環状のシール材を形成する工程と、前記矩形環状のシール材の内側に電気光学材料を滴下する工程と、前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程とを具備し、前記一対の基板を対向させて貼り合わせる工程では、前記間隙が前記導通部材と前記シール材とによって閉塞されるまで前記一対の基板を圧着することを特徴とする。
【０００５】
本願発明において、電気光学装置とは、電界により物質の屈折率が変化して光の透過率を変化させる電気光学効果を有するものの他、電気エネルギーを光学エネルギーに変換するもの等も含んで総称している。具体的には、電気光学物質として液晶を用いる液晶表示装置、有機ＥＬ(Electro-Luminescence)を用いる有機ＥＬ装置、無機ＥＬを用いる無機ＥＬ装置、電気光学物質としてプラズマ用ガスを用いるプラズマディスプレイ装置等がある。さらには、電気泳動ディスプレイ装置（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：電界放出表示装置：Field Emission Display）等がある。
【０００６】
本発明によれば、一方の基板に設けられるシール材のうち、対向する他方の基板に設けられる導電部材の位置に平面的に重なる位置に間隙を設けるようにしたので、一対の基板を貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材が間隙を塞ぐように広がり、当該シール材の各辺が不均一に広がることは無い。シール材の内側の領域が狭くなるのを回避することができ、電気光学装置の表示領域を十分に確保することができると共に、一定の表示領域を確保する場合にも基板の大型化を回避することができる。また、潰されて広がったシール材と導電部材とで間隙を閉塞するため、シール材で囲まれた領域を確実に密閉することができる。また、導電部材がシール材によって包囲されるため、当該導電部材が侵食されにくくなる。加えて、導電部材がシール材の内部に設けられるため、別途導電部材を設けるスペースが不要となる。このため、電気光学装置の小型化を図ることができる。
【０００７】
また、前記導通部材が、銀を主成分として構成されていることが好ましい。  
特にスイッチング素子としてＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）を用いたＴＦＴ型の液晶装置等のように、対向する基板の一方には全面に電極（共通電極）が形成され、他方には格子状に電極が形成される電気光学装置においては、対向する基板の電極同士の導通を図るため、通常、銀を主成分とする導通部材（いわゆる銀ペースト等）が用いられる。本発明によれば、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、潰されてシール材が導電部材を取り囲むように広がって導電部材の位置が保持されるため、当該導電部材がずれにくくなる。
【０００８】
また、前記導通部材が、導電粒子を含む材料で構成されていることが好ましい。  
特にパッシブマトリクス型の液晶装置や、スイッチング素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）を用いたＴＦＤ型の液晶装置等のように、対向する基板の一方には行方向に電極を形成し、他方には列方向に電極を形成する電気光学装置においては、対向する基板の電極同士の導通を図るため、通常、導電粒子を含む材料（例えば、導通シール等）が用いられる。本発明によれば、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、潰されてシール材が導通シールを取り囲むように広がって導通シールの位置が保持されるため、当該導通シールがずれにくくなる。
【０００９】
また、前記シール材の粘度が、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲内であることが好ましい。  
シール材の粘度が高すぎる場合、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにシール材が十分に広がらず、間隙が閉塞されないおそれがある。また、シール材の粘度が低すぎる場合、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにシール材が過度に広がってしまうおそれがある。また、液晶封入時の液晶拡散力によりシールを破ってしまう不具合が生じる。更には、液晶拡散によるシールパスが発生してしまう。本発明のようにシール材の粘度を、２×１０５ｃｐｓ〜２×１０６ｃｐｓの範囲とすることにより、一対の基板を貼り合わせて圧着したときに、シール材が適度に広がるのである。なお、当該シール材の粘度については、２×１０５ｃｐｓ〜１×１０６ｃｐｓの範囲であれば、より好ましい。
【００１０】
また、前記シール材を形成する工程が、シールマスクを用いたスクリーン印刷法により行われることが好ましい。  
スクリーン印刷法によってシール材を形成する場合、シール材に間隙を設けることにより、シール材を形成した後にシール材とシールマスクと基板とで囲まれる領域が密閉されず、当該間隙が空気の通り道となるため、基板からシールマスクを取り外すときにシール材からの抵抗を受けなくて済む。このため、シール材が変形することも無く、一対の基板を貼り合わせて圧着したときにはシール材の広がりが均一になり、シール幅が均一になる。また、当該間隙は対向する他方の基板に設けられる導電部材の位置に平面的に重なる位置に設けられ、シール材と導電部材とで当該間隙を閉塞させることとなるため、導電部材の占める体積分、間隙の幅を大きくすることができ、空気の通り道が広くなる。
【００１１】
本発明の別の観点に係る電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法により製造されたことを特徴とする。  
本発明によれば、電気光学装置を製造する際に表示領域を十分に確保することができると共に、基板の大型化を回避することができるため、表示領域が広く、基板１枚あたりのコストパフォーマンスが高い電気光学装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（第１実施形態）  
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づき説明する。以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。  
図１は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図である。図２は、液晶装置の断面の一部の構成を示す図である。  
図１に示すように、液晶装置１は、液晶パネル４０と、バックライト４１とを主体として構成されている。液晶パネル４０は、アクティブマトリクス基板２とカラーフィルタ基板３とで液晶６を挟持するように設けられており、シール材４を介して貼り合わされた構成になっている。本実施形態では、本実施形態では、非線形素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例に挙げて説明する。
【００１３】
アクティブマトリクス基板２は、例えばガラスや石英等の透明な材料により形成された矩形の基板である。当該表示領域Ｄは、画像や動画等が表示される領域である。図２に示すように、当該表示領域Ｄには、画素電極１７と、当該画素電極に対して駆動信号を供給するための走査線、データ線（図示省略）と、スイッチング素子（図示せず）と、これら電極及びスイッチング素子を覆う平坦化膜１８と、液晶６に接する配向膜２４とが設けられている。また、表示領域Ｄの外側には、引き回し電極１５が設けられている。また、図１において、カラーフィルタ基板３から張り出した領域（張出領域）２ａには、図示しない電源等に接続される端子１１と、当該端子１１に接続された配線１２とが形成されている。
【００１４】
カラーフィルタ基板３は、例えばガラスやプラスチック等の透明な材料によって形成された矩形の基板である。図２に示すように、カラーフィルタ基板３上には遮光層１９が設けられており、当該遮光層１９で囲まれた領域（画素）に対応して赤色層２０Ｒ、緑色層２０Ｇ、青色層２０Ｂとを有するカラーフィルタ２０が設けられている。また、当該カラーフィルタ基板３上には、カラーフィルタ２０を覆うようにオーバーコート層２１が形成されており、オーバーコート層２１上には、画素電極に対向するように全面に設けられた共通電極１６が形成されている。また、共通電極１６の上には、配向膜２２が形成されている。
【００１５】
シール材４は、例えばエポキシ樹脂等の材料によって形成されている。当該シール材４は、図１及び図２に示すように、液晶パネル４０の表示領域Ｄを囲むように矩形環状に設けられており、４辺（辺７、辺８、辺９及び辺１０）を有している。なお、辺７と辺９とが平行になっており、辺８と辺１０とが平行になっている。  
シール材４のうち例えば辺７、辺９及び辺１０内には、銀ペースト５ａ、銀ペースト５ｂ及び銀ペースト５ｃがそれぞれ形成されている。銀ペースト５ａ〜５ｃは、図２に示すように、シール材４に包囲されるように設けられており、走査電極１５と対向電極１６とを導通する導通部材である。当該銀ペースト５ａ〜５ｃは、例えば銀を主成分として構成されている。
【００１６】
図３は、本実施形態に係るシール材印刷装置１０１の構成を示す模式図である。  
シール材印刷装置１０１は、ステージ１０２と、シールマスク１０３と、印刷手段１０４とを主体として構成されている。当該シール材印刷装置１０１は、液晶パネルを構成するパネル基板にスクリーン印刷法によってシール材を印刷する装置である。本実施形態では、一枚のマザー基板から複数のパネル基板を採取する多数個取りと呼ばれる手法により液晶パネルを製造する工程の中でシール材を形成する場合を例に挙げて説明する。
【００１７】
ステージ１０２は、マザー基板Ｓを載置して保持する基台である。  
シールマスク１０３は、マザー基板Ｓ上に形成するシールパターンを成形するものである。当該シールマスク１０３は、マザー基板Ｓに対して着脱可能に設けられており、図４に示すように、マスクパターン１１０として開口部１１１が形成されている。当該開口部１１１は、３つの開口部（開口部１１１ａ、開口部１１１ｂ及び開口部１１１ｃ）から構成されている。また、各開口部の間には、接続部１０９（接続部１０９ａ、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃ）が形成されている。すなわち、開口部１１１ａと開口部１１１ｂとは、接続部１０９ａを挟んで隣接しており、開口部１１１ｂと開口部１１１ｃとは、接続部１０９ｂを挟んで隣接しており、開口部１１１ｃと開口部１１１ａとは、接続部１０９ｃを挟んで隣接している。
【００１８】
図５は、マスクパターン１１０のうち、接続部１０９ａ付近の形状を示す図である。なお、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃ付近の形状については説明を省略するが、接続部１０９ａ付近の形状と同様の形状となっている。  
同図に示すように、開口部１１１ａ及び開口部１１１ｂは、それぞれＬ１（Ｌ１は例えば０．２ｍｍ）の幅を有している。
【００１９】
また、開口部１１１ａと開口部１１１ｂとの間に設けられた接続部１０９ａは、マスクパターン１１０のうち当該接続部１０９ａが設けられる辺の延在方向１１４に対して直交するように、一定の幅Ｌ２（Ｌ２は例えば０．２５ｍｍ〜０．３５ｍｍ程度）で直線状に設けられている。開口部１１１ａの端辺１１１ｅと、開口部１１１ｂの端辺１１１ｆとは、接続部１０９ａを挟んで対向していると同時に、当該対向する端辺１１１ｅと端辺１１１ｆとは平行になっている。
【００２０】
図３に戻って、印刷手段１０４は、スクレッパ１０５と、スキージ１０６と、これらスクレッパ１０５及びスキージ１０６を保持する保持部材１０８とを有している。スクレッパ１０５は、シールマスク１０３上に供給されたシール材料をマスクパターン１１０の開口部１１１に流し入れる（コートする）部材である。スキージ１０６は、マスクパターン１１０の開口部１１１にコートされたシール材料をマザー基板Ｓに転写させる（プリントする）部材である。スクレッパ１０５及びスキージ１０６のそれぞれには、シールマスク１０３に対して着脱可能となるように昇降機構が設けられている。また、保持部材１０８にも、スクレッパ１０５及びスキージ１０６の昇降機構とは別に図示しない昇降機構が設けられている。
【００２１】
スクレッパ１０５及びスキージ１０６は保持部材１０８に保持されており、当該保持部材１０８には、図示しない駆動機構が設けられている。当該駆動機構によって保持部材１０８が図中の左右に移動可能となっており、保持部材１０８が図中の左右に移動することによって、スクレッパ１０５及びスキージ１０６がシールマスク１０３の図中左端部から右端部へと、又は、図中右端部から左端部へとスキャンするようになっている。
【００２２】
次に、図６〜図１２を参照して、上記のシール材印刷装置１０１を用いて液晶装置１を製造する方法を説明する。本実施形態において、液晶装置１を製造する方法については、大面積の２枚のマザー基板、すなわち、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを別個に形成し、そのうちの一方の基板（本実施形態では、カラーフィルタ側マザー基板）にシール材を介して両者を貼り合わせ、貼り合わせた状態で切断することにより個々の液晶パネルに分離する方法（多数個取り）を例に挙げて説明する。また、シール材を形成する方法については、上述したシール材印刷装置１０１を用いたスクリーン印刷法を例に挙げて説明する。
【００２３】
まず、カラーフィルタ側マザー基板を形成する工程について説明する。ガラスやプラスチック等の透光性材料からなるマザー基板Ｓの各表示領域Ｄ（図１０等参照）に各液晶パネルについての電極やカラーフィルタを形成し、平坦化膜を形成する。平坦化膜の表面には、ギャップ制御用の図示しないスペーサ及び隔壁を形成する。スペーサは、各表示領域Ｄについてそれぞれ形成する。さらに、マザー基板Ｓに形成されたカラーフィルタを覆うように配向膜を形成し、当該配向膜に対してラビング処理を実行する。
【００２４】
次に、マザー基板Ｓの表示領域Ｄを囲むようにシール材を形成する。以下、当該シール材形成工程について説明する。  
まず、シール材印刷装置１０１内のステージ１０２上にマザー基板Ｓを保持し、シールマスク１０３をマザー基板Ｓに装着する。この状態で、図６に示すように、シールマスク１０３上（図中、シールマスク１０３の右端）にシール材料８０を供給する。なお、シールマスク１０３上に供給するシール材料８０の粘度は、２×１０６ｃｐｓ以下であることが好ましく、２×１０５ｃｐｓ〜１×１０６ｃｐｓの範囲であればなお好ましい。本実施形態では、マザー基板Ｓに液晶を滴下してから貼り合わせる方法により液晶装置１を製造するので、上記のように粘度の高いシール材を採用している。
【００２５】
次に、図７に示すように、シールマスク１０３上のシール材料８０をスクレッパ１０５によりコートし、シールマスク１０３の開口部１１１にシール材料８０を供給する。スクレッパ１０５がシールマスク１０３の右端部から左端部へとスキャンすることにより、シールマスク１０３上の開口部１１１にシール材料８０が充填される。
【００２６】
次に、図８に示すように、シールマスク１０３の開口部１１１に充填されたシール材料８０をマザー基板Ｓにプリントする。スキージ１０６がシールマスク１０３の左端部から右端部へスキャンすることにより、シールマスク１０３上のシール材料８０が開口部１１１からマザー基板Ｓ上に押し出され、マザー基板Ｓ上にシール材料８０がマスクパターン１１０に対応する形状で印刷される。次に、図９に示すように、シールマスク１０３をマザー基板Ｓから取り外す。このとき、マザー基板Ｓ上には、シールパターン１２０が図９に示すように形成されている。以上の工程により、カラーフィルタ側マザー基板が形成される。その後、このように形成されたカラーフィルタ側マザー基板のシールパターン１２０の内側の領域に、液晶を滴下する。
【００２７】
ここで、マザー基板Ｓ上に形成されたシールパターン１２０の構成を説明する。図１１は、図１０に示されたシールパターン１２０のうち、１個のシールパターン１２０を示す図である。  
シールパターン１２０は、表示領域Ｄを囲むように設けられた３つのシール材（シール材１２０ａ、シール材１２０ｂ及びシール材１２０ｃ）から構成されている。また、シール材１２０ａとシール材１２０ｂとの間には間隙１２１ａが形成され、シール材１２０ｂとシール材１２０ｃとの間には間隙１２１ｂが形成され、シール材１２０ｃとシール材１２０ａとの間には間隙１２１ｃが形成されている。すなわち、シール材１２０ａとシール材１２０ｂとは、間隙１２１ａを挟んで隣接しており、シール材１２０ｂとシール材１２０ｃとは、間隙１２１ｂを挟んで隣接しており、シール材１２０ｃとシール材１２０ａとは、間隙１２１ｃを挟んで隣接している。なお、間隙１２１ａ、間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃはシール材料がプリントされない隙間の部分であり、それぞれ上述したシールマスク１０３の接続部１０９ａ、接続部１０９ｂ及び接続部１０９ｃに対応する部分である。当該間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃは、アクティブマトリクス側マザー基板に設けられる銀ペースト５ａ〜５ｃ（図１２等参照）の位置に合わせて設けられる。
【００２８】
これら間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃは、ほぼ同様の構成をなしているので、以下では間隙１２１ａの構成についてのみ説明し、間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃの構成の説明は省略する。なお、説明を省略する間隙１２１ｂ及び間隙１２１ｃについても間隙１２１ａと同様の構成になっている。
【００２９】
間隙１２１ａは、例えばシールパターン１２０の内側から外側にかけて当該シールパターン１２０の辺の延在方向１２４に対して直交するように設けられており、一定の幅Ｌ３（Ｌ３は例えば０．２５ｍｍ〜０．３５ｍｍ程度）で直線状に設けられている。シール材１２０ａの端面１２１ｅ及びシール材１２０ｂの端面１２１ｆは、間隙１２１ａを挟んで対向していると同時に、当該対向する端面１２１ｅ及び端面１２１ｆは平行になっている。
【００３０】
次に、アクティブマトリクス側マザー基板を形成する工程について説明する。  
ガラスやプラスチック等の透光性材料からなるマザー基板Ｔ（図１２等参照）の各表示領域Ｅ（図１２等参照：当該表示領域は、マザー基板Ｓの表示領域Ｄに対応するものである）に、公知の方法で走査電極１５や、画素電極等を形成し、当該表示領域Ｅに平坦化層１８を形成する。平坦化膜１８を形成した後は、各表示領域Ｅ内にポリイミド等からなる配向膜２４を形成し、この配向膜２４に対してラビング処理を施す。
【００３１】
次に、図１２に示すように、表示領域Ｅの周りに銀ペースト５ａ〜５ｃを形成する。具体的には、図１３に示すように、表示領域Ｅの外側に延長して設けられた走査電極１５上に銀ペースト５ａ〜５ｃを形成する。銀ペースト５ａ〜５ｃは、例えば直径がＲ（Ｒは、例えば０．２ｍｍ〜０．３ｍｍ）の円筒形状に形成する。以上の工程により、アクティブマトリクス側マザー基板が形成される。
【００３２】
次に、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着する。具体的には、アクティブマトリクス側マザー基板Ｔの表示領域Ｅとカラーフィルタ側マザー基板Ｓの表示領域Ｄとが一致するように位置合わせをし、位置が合ったところで両基板を貼り合わせて圧着する。シールパターン１２０及び銀ペースト５ａは圧着により潰されて広がり、図１４に示すように、破線部分のように形成されていたシール材１２０ａとシール材１２０ｂと銀ペースト５ａとで間隙１２１ａが閉塞され、実線部分で示すように銀ペースト５ａがシール材１２０ａ及びシール材１２０ｂに保持される。間隙１２１ｂ、１２１ｃにおいても同様である。
【００３３】
その後、貼り合わせた２枚の基板にスクライブ線を形成し、当該スクライブ線に沿って液晶パネルを切断し、複数の液晶パネルを形成する。各液晶パネルの洗浄を行い、駆動ドライバ等を実装し、必要に応じてバックライト４１や偏光板等を取り付けて、液晶装置１が完成する。
【００３４】
本実施形態によれば、マザー基板Ｓに設けられるシールパターン１２０のうち、マザー基板Ｔに設けられる銀ペースト５ａ〜５ｃの位置に平面的に重なる位置に間隙１２１ａ〜１２１ｃを設けるようにしたので、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着したときには、潰されたシール材１２０ａ〜１２０ｃが間隙１２１ａ〜１２１ｃを塞ぐように広がり、当該シール材１２０ａ〜１２０ｃの各辺が不均一に広がることは無い。これにより、シールパターンで囲まれた領域が狭くなるのを回避することができ、液晶装置１の表示領域Ｄを十分に確保することができると共に、一定の表示領域Ｄを確保する場合にもマザー基板Ｓ及びマザー基板Ｔの大型化を回避することができる。また、潰されて広がったシール材１２０ａ〜１２０ｃと銀ペースト５ａ〜５ｃとで間隙１２１ａ〜１２１ｃを閉塞するため、シールパターン１２０で囲まれた領域を確実に密閉することができる。
【００３５】
特にスクリーン印刷法によってシールパターンを形成する場合、例えば図１５に示すようにシールパターン５４を隙間無く印刷すると、シールマスク５３とマザー基板Ｓとシールパターン５４とが密着し（図１５の破線部で示した状態）、この三者に囲まれた領域が密閉されるので、マザー基板Ｓからシールマスク５３を取り外すときにシールパターン５４から引っ張られる力を受け、シールパターン５４が変形してしまうことがある。
【００３６】
これに対して、本実施形態のようにシールパターン１２０の辺部分に間隙１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃを設けることで、シールパターン１２０を形成した後では、図１６に示すように、当該シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃとシールマスク１０３とカラーフィルタ側マザー基板とで囲まれる領域が密閉されない状態になる。このため、当該カラーフィルタ側マザー基板からシールマスク１０３を取り外すときにシール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃからの抵抗を受けずに済み、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃが変形することも無い。よって、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着したときには、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃの広がりが均一になり、シール幅が均一になる。これにより、シール材１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃで囲まれた領域が狭くなるのを回避することができ、液晶装置１の表示領域Ｄを十分に確保することができると共に、一定の表示領域を確保する場合にもマザー基板の大型化を回避することができる。
【００３７】
（第２実施形態）  
次に、本発明の第２実施形態を説明する。第１実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第１実施形態と同一の構成要素については、符号を同一とし、説明を省略する。本実施形態では、導電部材の構成が第１実施形態とは異なるので、かかる点を中心に説明する。
【００３８】
図１７は、本実施形態に係る液晶装置２０１のうち液晶パネル２４０の断面の一部の構成を示す図である。本実施形態では、非線形素子として薄膜ダイオード（ＴＦＤ）用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を例に挙げて説明するが、パッシブマトリクス方式の液晶装置であっても本発明の適用は可能である。
【００３９】
アクティブマトリクス基板２は、例えばガラスや石英等の透明な材料により形成された矩形の基板である。当該表示領域Ｄは、画像や動画等が表示される領域である。図２に示すように、当該表示領域Ｄには、画素電極２１７と、当該画素電極に対してデータ信号を供給するデータ線２１８と、当該データ線２１８と信号線とを接続するスイッチング素子（図示せず）と、これら電極及びスイッチング素子を覆う平坦化膜１８と、液晶６に接する配向膜２４とが設けられている。また、表示領域Ｄの外側には、引き回し電極２１５が設けられている。
【００４０】
カラーフィルタ基板３は、例えばガラスやプラスチック等の透明な材料によって形成された矩形の基板である。図１７に示すように、カラーフィルタ基板３上には図示しない遮光層１９が設けられており、当該遮光層１９で囲まれた領域（画素）に対応して赤色層２０Ｒ、緑色層２０Ｇ、青色層２０Ｂとを有するカラーフィルタ２０が設けられている。また、当該カラーフィルタ基板３上には、カラーフィルタ２０を覆うようにオーバーコート層２１が形成されており、オーバーコート層２１上には、画素電極２１７に対向するように設けられた走査線２１６が形成されている。また、走査線２１６の上には、配向膜２２が形成されている。
【００４１】
シール材４は、第１実施形態と同様に例えばエポキシ樹脂等の材料によって形成されている。本実施形態では、導通部材として、シール材４内に銀ペーストが設けられる代わりに、導通シール２０５が設けられている。導通シール２０５は、樹脂２０５ａ内に導通粒子２０５ｂが設けられた構成をしており、導通粒子２０５ｂが引き回し電極２１５と共通電極２１６との両方に当接することによって、引き回し電極２１５と走査線２１６とを導通している。  
このように構成された液晶パネル２４０の製造方法については、第１実施形態で銀ペーストを使用した工程において、銀ペーストの変わりに導通シール２０５を使用することを除いては、第１実施形態とほぼ同様であるため、説明を省略する。
【００４２】
特にスイッチング素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）を用いたＴＦＤ型の液晶装置２０１のように、対向する基板のうち一方に走査線２１６が形成され、他方には格子状にデータ線２１５及び画素電極２１７等が形成される液晶装置において、対向する基板の電極同士の導通を図るため、通常、導通シール２０５等が用いられる。
【００４３】
本実施形態によれば、カラーフィルタ側マザー基板とアクティブマトリクス側マザー基板とを貼り合わせて圧着したときに、潰されたシール材が導通シール２０５を取り囲むように広がって導通シール２０５の位置が保持されるため、当該導通シール２０５がずれにくくなる。
【００４４】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態では、シール材４の辺７、辺９及び辺１０に銀ペースト５ａ〜５ｃ、導通シール２０５が設けられる構成であったが、シール材４の角部に設けるような構成であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図。
【図２】本実施形態に係る液晶装置の一部の構成を示す断面図。
【図３】本実施形態に係るシール材印刷装置の構成を示す図。
【図４】シール材印刷装置に搭載されるシールマスクの構成を示す図。
【図５】シールマスクの一部を拡大して示す図。
【図６】マザー基板にシール材を形成する様子を示す工程図。
【図７】同、工程図の続き。
【図８】同、工程図の続き。
【図９】同、工程図の続き。
【図１０】シール材形成後のマザー基板の様子を示す図。
【図１１】マザー基板に形成されたシール材の構成を示す図。
【図１２】銀ペースト形成後のマザー基板の様子を示す図。
【図１３】マザー基板に形成された銀ペーストの構成を示す図。
【図１４】マザー基板同士を貼り合わせたときの様子を示す図。
【図１５】マザー基板からシールマスクを取り外す様子を示す図（その１）。
【図１６】マザー基板からシールマスクを取り外す様子を示す図（その２）。
【図１７】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の構成を示す図。
【符号の説明】
【００４６】
１、２０１…液晶装置  ２…アクティブマトリクス基板  ３…カラーフィルタ基板  ４…シール材  ５ａ〜５ｃ…銀ペースト  １２０…シールパターン  １２１ａ〜１２１ｃ…間隙  ２０５…導通シール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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