(57)【要約】 【課題】  反応副産物が吸着されることを防止し、全体的に薄くて均一な厚さを有するガラス基板を容易に製造することができる薄板化装置を提供する。【解決手段】  本発明のガラス基板の薄板化装置は、長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側または両側に連続的に形成される第２噴射口を有する第２チューブと、を含むケミカル噴射部を含む。また、前記ガラス基板の薄板化装置は前記ケミカル噴射部と連結される連結チューブと、前記連結チューブの端部に位置する加圧バンプと、を含むケミカル提供部、及び前記ケミカル提供部と連結されその底部にケミカルを収容するケミカル収容部と、その上部に四方を取り囲みながら前記ケミカル噴射部を位置させるフェンスと、を含む槽を備える。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側または両側に連続的に形成される第２反射口を有する第２チューブと、を含むケミカル噴射部と、
前記ケミカル噴射部と連結される連結チューブと、前記連結チューブの端部に位置する加圧バンプと、を含むケミカル提供部と、
前記ケミカル提供部と連結されその底部にケミカルを収容するケミカル収容部と、その上部に四方を取り囲みながら前記ケミカル噴射部を位置させるフェンスと、を含む槽と、
を有し、
前記槽のフェンス内に位置させるガラス基板の全面に前記ケミカル提供部の加圧バンプによって加圧させたケミカルを前記ケミカル噴射部を介して実質的に均一に提供して前記ガラス基板に付着する反応部産物を十分に除去し前記ガラス基板を薄く形成し、前記ガラス基板に噴射されるケミカルを前記槽のケミカル収容部に回収させることを特徴とするガラス基板の薄板化装置。  
【請求項２】
前記ケミカル提供部の連結チューブは、長さが変更可能なフレキシブルチューブを含み、前記フレキシブルチューブの長さの変更によって前記ケミカル噴射部が上下及び左右、あるいは、上下または左右に垂直運動することを特徴とする請求項１記載のガラス基板の薄板化装置。
【請求項３】
前記ケミカル噴射部の第２噴射口がその一側のみに形成されるとき、前記ケミカル噴射部は、前記ガラス基板を中心としてその両側に位置させることを特徴とする請求項１記載のガラス基板の薄板化装置。
【請求項４】
前記ケミカル噴射部の第２噴射口がその両側に形成されるとき、前記ケミカル噴射部を中心としてその両側にガラス基板を位置させることを特徴とする請求項１記載のガラス基板の薄板化装置。
【請求項５】
前記ケミカルは、フッ化物塩（ＮＨ４ＨＦ２）を含むことを特徴とする請求項１記載のガラス基板の薄板化装置。  
【請求項６】
立ててあるガラス基板の両側それぞれに位置し、長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側に連続的に形成される第２噴射口を有する第２チューブと、を含むエアー噴射部と、
立ててあるガラス基板の両側上部それぞれに位置し、前記ガラス基板の上部から下部に流れ下るようにケミカルを提供するケミカル提供部と、
を含み、
前記ケミカル提供部を介して前記ガラス基板の両側でケミカルを提供し、前記エアー噴射部を介して前記ガラス基板の両側でエアーを提供することで前記ガラス基板に付着する反応副産物を十分に除去し、前記ガラス基板を薄く形成することを特徴とするガラス基板の薄板化装置。
【請求項７】
前記エアー噴射部は、前記ガラス基板の上部から下部に垂直運動及び前記ガラス基板の左右に水平運動するか、あるいは、垂直運動または前記ガラス基板の左右に水平運動することを特徴とする請求項６記載のガラス基板の薄板化装置。
【請求項８】
前記ケミカルは、フッ化物塩（ＮＨ４ＨＦ２）を含むことを特徴とする請求項６記載のガラス基板の薄板化装置。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板の薄板化装置に係り、詳しくは、反応副産物が吸着されることを防止し、全体的に薄くて均一な厚さを有するガラス基板を容易に製造することができる薄板化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）、ＥＬＤ（ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  ｄｉｓｐｌａｙ）、ＶＦＤ（ｖａｃｕｕｍ  ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  ｄｉｓｐｌａｙ）などのような平板ディスプレイは、その構成要素としてシリコン酸化物からなるガラス基板を含む。ガラス基板の場合には平板ディスプレイに占める重量が最も大きいので、平板ディスプレイ集積化の一環として、ガラス基板の重量を減らす研究が活発に進められている。ガラス基板の重量を減らす方法の例としては、ガラス基板の厚さを薄くする薄板化を挙げることができる。特に、ガラス基板のうちＬＣＤに含まれるガラス基板の場合には、その厚さが従来は約１．２ｍｍ程度に管理されていたが、最近は、約０．８ｍｍ程度で管理されており、より集積度を要求するガラス基板の場合にはさらに薄い約０．６ｍｍ以下で管理されている。
【０００３】
特に、ガラス基板薄板化のための処理工程では、ガラス基板の表面が全体的に滑らかでないとガラス基板を含む平板ディスプレイの画質に重大な欠陥が発生するので、ガラス基板を薄く形成するとともに、全体的に厚さを均一にするように形成しなければならない。
【０００４】
ガラス基板の薄板化のために、従来は、主に槽内に収容されたケミカルにガラス基板を沈積してガラス基板の表面をエッチングする方法を選択していたが、この方法は、ガラス基板を全体的に均一な厚さに形成するには不適当であった。
【０００５】
従って、最近は、槽の底面にバブラー、スプレイノズルなどを設置し、ガラス基板の薄板化処理を施すとき、槽の底面から槽内に垂直に位置させたガラス基板にケミカルをバブリングさせるか、噴射させる方法などを適用している。
【０００６】
上記方法の場合には、ガラス基板を全体的に均一な厚さを有し且つ薄く形成することができるが、ケミカルとガラス基板とが反応するとき生成する珪フッ化物などのような反応副産物がガラス基板に吸着される状況が頻繁に発生する。
【０００７】
このように、反応副産物がガラス基板に吸着されると、後工程で不具合が発生し、ガラス基板を含む平板ディスプレイの画質に悪影響を及ぼす問題点が発生する。
【特許文献１】特開２００３−２１６０６８号公報
【特許文献２】特開２００６−０３２０７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、反応副産物が吸着されることを防止し、全体的に薄くて均一な厚さを有するガラス基板を容易に製造することができる薄板化装置を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するための本発明のガラス基板の薄板化装置は、長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側または両側に連続的に形成される第２反射口を有する第２チューブと、を含むケミカル噴射部と、前記ケミカル噴射部と連結される連結チューブと、前記連結チューブの端部に位置する加圧バンプと、を含むケミカル提供部と、前記ケミカル提供部と連結されその底部にケミカルを収容するケミカル収容部と、その上部に四方を取り囲みながら前記ケミカル噴射部を位置させるフェンスと、を含む槽と、を有し、前記槽のフェンス内に位置させるガラス基板の全面に前記ケミカル提供部の加圧バンプによって加圧させたケミカルを前記ケミカル噴射部を介して実質的に均一に提供して前記ガラス基板に付着する反応部産物を十分に除去し前記ガラス基板を薄く形成し、前記ガラス基板に噴射されるケミカルを前記槽のケミカル収容部に回収させることを特徴とする。  
【００１０】
前記ケミカル提供部の連結チューブは、長さが変更可能なフレキシブルチューブを含み、前記フレキシブルチューブの長さの変更によって前記ケミカル噴射部が上下及び左右、あるいは、上下または左右に垂直運動することを特徴とする。
【００１１】
前記ケミカル噴射部の第２噴射口がその一側のみに形成されるとき、前記ケミカル噴射部は、前記ガラス基板を中心としてその両側に位置させ、前記ケミカル噴射部の第２噴射口がその両側に形成されるとき、前記ケミカル噴射部を中心としてその両側にガラス基板を位置させることを特徴とする。
【００１２】
前記ケミカルは、フッ化物塩（ＮＨ４ＨＦ２）を含むことを特徴とする。  
【００１３】
また、本発明は、立ててあるガラス基板の両側それぞれに位置し、長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側に連続的に形成される第２噴射口を有する第２チューブと、を含むエアー噴射部と、立ててあるガラス基板の両側上部それぞれに位置し、前記ガラス基板の上部から下部に流れ下るようにケミカルを提供するケミカル提供部と、を含み、前記ケミカル提供部を介して前記ガラス基板の両側でケミカルを提供し、前記エアー噴射部を介して前記ガラス基板の両側でエアーを提供することで前記ガラス基板に付着する反応副産物を十分に除去し、前記ガラス基板を薄く形成することを特徴とする。
【００１４】
前記エアー噴射部は、前記ガラス基板の上部から下部に垂直運動及び前記ガラス基板の左右に水平運動するか、あるいは、垂直運動または前記ガラス基板の左右に水平運動することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の好ましい実施形態をより詳細に説明する。
【実施例１】
【００１６】
図１は本発明の実施例１によるガラス基板の薄板化装置を示す概略的な斜視図であり、図２は図１のケミカル噴射口の一例を示す概略的な断面図であり、図３は図１のケミカル噴射口の他の例を示す概略的な斜視図であり、  図４は図２のケミカル噴射口を示す概略的な断面図である。
【００１７】
図１、２に示す通り、ガラス基板の薄板化装置はケミカル噴射部１０を含み、ケミカル噴射部１０は第１チューブ１００と第２チューブ１１０を含む。
【００１８】
図２及び図４に示す通り、第１チューブ１００は第１噴射口１００ａを含み、第２チューブ１１０は第２噴射口１１０ａを含む。ここで、第１チューブ１００は第２チューブ１１０の内部に収容される構造を有する。即ち、第１チューブ１００はイナーチューブに該当し、第２チューブ１１０はアウターチューブに該当する構造を有する。
【００１９】
また、ケミカル噴射部１０の長さは可変であるが、ガラス基板４０の薄板化を実行する場合には、ガラス基板４０の長さに近い長さに調節することが望ましい。その理由は、ケミカル噴射部１０の長さがガラス基板４０の長さに比べて短い場合には、ガラス基板４０の全面にケミカルを均一に噴射することができないことによる。また、ケミカル噴射部１０の長さがガラス基板４０の長さに比べて長い場合には装置としての効率が低下することによる。
【００２０】
そして、第１チューブ１００の第１噴射口１００ａは、第１チューブ１００のほぼ全長に亘って、第１チューブ１００の円周方向に複数個形成される。そして、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａは、第２チューブ１１０の両側に、第１噴射口１００ａの長さ方向と同一の方向で連続的に形成される。即ち、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａは、第２チューブ１１０の両側に一直線上に形成される。特に、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａは薄板化対象物であるガラス基板４０に垂直にケミカルを噴射することができる位置に形成される。さらに、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａが第２チューブ１１０の両側それぞれに形成される場合には、第１チューブ１００の第１噴射口１００ａは第１チューブ１００の円周上に均一に形成されることが望ましい。
【００２１】
このように、ケミカル噴射部１０を、第１チューブ１００が第２チューブ１１０内部に収容されるように形成し、第１チューブ１００の第１噴射口１００ａを、第１チューブ１００の円周方向に複数個形成し、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａを、第２チューブ１１０の両側に一直線上に形成する理由は、ガラス基板４０の薄板化を実施するときガラス基板４０にケミカルをより均一に噴射するためである。
【００２２】
ケミカル噴射部１０の他の例では、図３に示すように第２チューブ１１０の一側のみに第２噴射口１１０ａを形成する。この際、第１チューブ１００の第１噴射口１００ａは、第１チューブ１００の円周方向に均等に形成されるのではなく、第２チューブ１１０の第２噴射口１１０ａ側にのみ形成することが適切である。第２噴射口１１０ａを一側のみに形成する第２チューブ１１０は、ケミカル噴射口１０を複数個設置する場合、両端に配置する。
【００２３】
このように、ケミカル噴射部１０の両側で、ケミカルを噴射する構造の場合には、ガラス基板４０の薄板化を実施するときケミカル噴射部１０を中心に、その両側にガラス基板４０を位置させることが適切である。さらに、ケミカル噴射部１０の一側でケミカルを噴射する構造の場合には、ガラス基板４０の薄板化を実施するとき、ケミカル噴射部１０をガラス基板４０を中心とした両側に位置させることが適切である。
【００２４】
また、ガラス基板の薄板化装置は、ケミカル噴射部１０にケミカルを提供するためのケミカル提供部２０を含む。ケミカル提供部２０は、ケミカル噴射部１０と連結される連結チューブ２１０と、連結チューブ２１０の端部に位置する加圧バンプ２００と、を含む。特に、ケミカル提供部２０の連結チューブ２０は、長さ変更が可能なフレキシブルチューブを含むことが望ましい。その理由は、ガラス基板４０の薄板化を実施するとき、ケミカル噴射部１０がガラス基板４０を基準にして、上下垂直及び左右水平に、あるいは、上下垂直または左右水平に、移動できるようにするためである。
【００２５】
本発明の実施例１では、ケミカル提供部２０の連結チューブ２１０をフレキシブルチューブとすることで、フレキシブルチューブの長さを変えることにより、ケミカル噴射部１０を上下垂直運動させるか、ケミカル噴射部１０を左右に水平運動させる。ケミカル提供部２０の加圧バンプ２００は、加圧した状態のケミカルを、ケミカル噴射部１０に提供するための部材である。即ち、加圧バンプ２００を用いてケミカルを加圧した状態で提供する場合には、ガラス基板４０の薄板化をより効率的に実施することができるからである。
【００２６】
また、ガラス基板の薄板化装置は、ガラス基板４０の薄板化を実施するとき、ガラス基板４０自体が上下垂直に移動するか、または、左右に水平移動できる構造にすることもできる。ここで、ガラス基板４０の上下移動または左右移動は、ガラス基板４０を移送する移送部材（図示せず）を使用することにより可能となる。
【００２７】
ガラス基板の薄板化装置を使用したガラス基板４０の薄板化の実施においては、ガラス基板４０を固定させた状態でケミカル噴射部１０を移送させることもでき、ケミカル噴射部１０を固定させた状態でガラス基板４０を移動させることもでき、ガラス基板４０とケミカル噴射部１０を共に移送及び移動させることもできる。
【００２８】
そして、ガラス基板の薄板化装置は、ケミカル提供部２０と連結され、その底部にケミカルを収容するケミカル収容部３００と、その上部に四方を取り囲んでケミカル噴射部１０を収容するフェンス３１０と、からなる槽３０を含む。
【００２９】
薄板化装置を使用してガラス基板４０の薄板化を実施する際は、槽３０のフェンス３１０内に収容するガラス基板４０の全面に、ケミカル提供部２０の加圧バンプ２００で加圧されたケミカルを、ケミカル噴射部１０を介して均一に提供する。そうすると、ガラス基板４０に付着する反応副産物を十分に除去し、ガラス基板４０をより薄くて均一な厚さに形成することができる。
【００３０】
また、ガラス基板の薄板化装置は、ガラス基板４０の薄板化を実施する際、ガラス基板４０に噴射されるケミカルを槽３０のケミカル収容部３００に回収させる構造を有する。従って、ガラス基板の薄板化装置を使用する場合には、ケミカルの消耗量を顕著に減少させることができる。
ただ、回収が行われるケミカルの場合には、反応副産物が含まれているので、反応副産物をフィルタリングすることができる部材（図示せず）をケミカル噴射部１０の前に設置することが望ましい。
【００３１】
さらに、フェンス３１０内にケミカルを収容した状態でも、ガラス基板４０の薄板化を実施することもできる。このように、フェンス３１０内に収容されたケミカルにガラス基板４０を浸漬した状態でケミカル噴射部１０を介してケミカルを噴射するのである。ケミカル内にガラス基板４０を浸漬させた状態でガラス基板４０の薄板化を実施する場合には、ガラス基板４０が浮力の作用を受けるので、ガラス基板４０をより安定的に取り扱うことができる。
上記実施例では、ケミカルがフッ化物塩を含むことが望ましい。その理由はフッ化物塩を含むケミカルが沈殿物の点でより有利であるからである。
【実施例２】
【００３２】
図５は本発明の実施例２によるガラス基板の薄板化装置を示す概略的な構成図である。
図５に示す通り、ガラス基板の薄板化装置はエアー噴射部６０を含む。エアー噴射部６０の構造は、ケミカルの代わりにエアーを噴射することを除いては図３のケミカル噴射部１０と類似の構造を有する。従って、エアー噴射部６０は、エアー噴射部６０の円周方向にエアー噴射部６０のほぼ全長にわたって形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に第１チューブを収容し、第１噴射口の長さ方向と同一の方向でその一側に連続的に形成される第２噴射口を有する第２チューブと、を含む。
【００３３】
また、ガラス基板の薄板化装置はガラス基板４０の薄板化を実施するときガラス基板４０の上部から下部に流れ下るようにケミカルを提供するケミカル提供部７０を含む。
特に、本発明の実施例２のガラス基板の薄板化装置は、ガラス基板４０が立ててある状態でガラス基板４０の薄板化を実施する。従って、エアー噴射部６０とケミカル提供部７０は立ててあるガラス基板４０の両側それぞれに位置させることが望ましい。
【００３４】
さらに、エアー噴射部６０は、ガラス基板４０の上部から下部に垂直運動する構造及びガラス基板の左右に水平運動する構造、あるいは、ガラス基板４０の上部から下部に垂直運動する構造またはガラス基板の左右に水平運動する構造に形成することが望ましい。また、エアー噴射部６０を固定させた状態でガラス基板４０を上下に移動させるか、または、左右に移動させることもでき、エアー噴射部６０とガラス基板４０を共に移動させることもできる。
【００３５】
従って、ケミカル提供部７０を介してガラス基板４０の両側でケミカルを提供し、エアー噴射部６０を介してガラス基板４０の両側でエアーを提供することで、ガラス基板４０に付着する反応副産物を十分に除去しガラス基板４０を薄くて均一な厚さに形成することができる。
また、実施例２のガラス基板の薄板化装置でエアー噴射部６０を介してエアーの代わりにケミカルを噴射することも可能である。
さらに、実施例１と同様に、ケミカルがフッ化物塩を含むことが望ましい。
【００３６】
本発明では、ガラス基板の薄板化を実施するときガラス基板の厚さをより薄くて均一に形成することができ、ガラス基板とケミカルとの反応によって生成する反応副産物が、ガラス基板に吸着されることを適切に防止することができる。
従って、本発明によると、反応副産物の吸着に起因して発生する後工程での不良を十分に減少させることができるため、ガラス基板を含む平板ディスプレイの画質の改善に十分に寄与することができる。  
【００３７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の属する技術範囲を逸脱しない範囲での全ての変更が含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の実施例１によるガラス基板の薄板化装置を示す概略的な斜視図である。
【図２】図１のケミカル噴射口の一例を示す概略的な断面図である。
【図３】図１のケミカル噴射口の他の例を示す概略的な斜視図である。
【図４】図２のケミカル噴射口を示す概略的な断面図である。
【図５】本発明の実施例２によるガラス基板の薄板化装置を示す概略的な構成図である。
【符号の説明】
【００３９】
１０        ケミカル噴射部
２０、７０  ケミカル提供部
３０        槽
４０        ガラス基板
６０        エアー噴射部
１００      第１チューブ
１００ａ    第１噴射口
１１０      第２チューブ
１１０ａ    第２噴射口
２００      加圧バンプ
２１０      連結チューブ
３００      ケミカル収容部
３１０      フェンス
【図１】
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【図２】
2007217276.tif 000004
【図３】
2007217276.tif 000005
【図４】
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【図５】
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