(57)【要約】【課題】反射領域の段差形成膜を、ラビング処理の際に発生する配向膜の塵埃を有効表示領域の外側へ掃き出すことが可能な構成とすることにより表示品位の低下を防止することが可能なマルチギャップ構造の液晶装置を提供する。【解決手段】Ｙ方向に列をなす各シアンの着色層に対応する各サブ画素内の反射領域に設けられた各溝内の空間は額縁領域の空間と通じている。これにより、ラビング処理の際に発生した塵埃が、ラビング処理用の布の移動に伴って、段差形成膜の存在しない窪んだ透過領域に落ち込んだ場合でも、その塵埃は、上記の各溝を通じて、最終的に額縁領域へと掃き出される。これにより、有効表示領域内においてラビング処理の際に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に起因して液晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。【選択図】図２
2007114258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してなり、
有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備え、
前記表示画素の各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反射領域を有し
、
少なくとも前記反射領域に対応する位置には前記液晶層の厚さを調整する段差形成膜が
形成され、前記透過領域に対応する前記液晶層の厚さが前記反射領域に対応する前記液晶
層の厚さより厚く設定されており、
前記複数の色のうち任意の色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記段差形
成膜の一部には溝が形成され、前記溝内の空間は前記透過領域の空間及び前記有効表示領
域の外側の領域の空間に通じていることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記段差形成膜の上側には前記溝と直交しない方向にラビング処理が施された配向膜が
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記有効表示領域の前記外側の前記領域は表示に寄与しない非表示領域であり、
前記透過領域を除く前記有効表示領域に対応する位置には前記段差形成膜が形成されて
いると共に、前記有効表示領域の前記外側の前記領域には前記段差形成膜が形成されてい
ないことを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記複数の色には赤、緑、青の各色と、前記赤、前記青、前記緑のうちいずれか１つの
色の補色との４色が含まれ、
前記複数の前記表示画素は前記有効表示領域内において行列状に配置され、
カラー表示の最小単位となる１つのカラー表示画素は、前記赤、前記青、前記緑、前記
補色の４色の前記表示画素の各々を前記行方向にストライプ状に配列した構成を有し、
前記段差形成膜の前記溝は、前記補色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられてい
ることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記補色の前記表示画素の各々は前記列方向に配置され、
前記溝は前記列方向に延在する形状に形成されており、
任意の１つの前記補色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間は、
前記任意の１つの前記補色の前記表示画素と前記列方向に隣接する他の１つの前記補色の
前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間と通じていることを特徴とする
請求項４に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記溝は、前記列方向と平行な方向に延在する形状又は前記列方向に対して斜め方向に
延在する形状に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。
【請求項７】
任意の１つの前記補色の前記表示画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と平行な
方向に延在する形状に形成され、
前記任意の１つの前記補色の前記表示画素と前記列方向に隣接する他の１つの前記補色
の前記表示画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と交差する方向に且つ斜め方向に
形成され、
前記任意の１つの前記補色の前記表示画素内の前記溝の空間と、前記他の１つの前記補
色の前記表示画素内の前記溝の空間とは通じていることを特徴とする請求項４に記載の液
晶装置。
【請求項８】
前記任意の１つの前記補色の前記表示画素内の前記溝と、前記他の１つの前記補色の前
記表示画素内の前記溝とを結ぶ形状は、平面的に見たときに折れ曲がる形状に形成されて
いることを特徴とする請求項７に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方の基板は、前記赤、前記緑及び前記青の
各色の前記表示画素並びに前記赤、前記緑及び前記青のいずれか１つの色の補色の前記表
示画素の各々に対応する位置に、前記赤、前記緑、前記青、前記補色の各色に対応する着
色層を夫々有するカラーフィルタ基板であり、
前記反射領域に位置する前記補色の前記着色層には該着色層が設けられていない領域が
設けられていると共に、前記段差形成膜は少なくとも前記反射領域に位置する前記着色層
の上側及び前記着色層が設けられていない領域に形成されてなり、
前記着色層が設けられていない領域に対応する前記段差形成膜には前記溝が設けられて
いることを特徴とする請求項４に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記補色はシアンであることを特徴とする請求項４乃至９のいずれか一項に記載の液晶
装置。
【請求項１１】
前記表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有する遮光膜が形成され、
前記溝は前記列方向に直線状に延び、当該溝の一部は前記列方向に延在する前記遮光膜
と重なり合っていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項１２】
前記ラビング方向と逆側に位置する前記溝の一端側は、前記溝の幅より大きく形成され
た開放端であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１３】
前記一方の基板に対して他方の基板は、互いに交差する方向に延在するソース線及びゲ
ート線と、前記ソース線及び前記ゲート線に接続されたスイッチング素子と、前記スイッ
チング素子に接続され前記着色層に対応する位置に設けられた画素電極とを有する素子基
板であり、
前記反射領域に対応する前記画素電極と重なる位置には、前記液晶層の厚さを調整する
他の段差形成膜が設けられていると共に、前記透過領域に対応する前記画素電極と重なる
位置には前記他の段差形成膜が設けられていなく、
前記他の段差形成膜には前記溝に対応する位置に前記溝と同一の形状を有する他の溝が
形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項１４】
前記表示画素は、当該表示画素内において、中央位置に設けられた前記透過領域と、前
記透過領域の上側の位置及び下側の位置に各々設けられた前記反射領域とを夫々有して構
成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の液晶装置を表示部として備えることを特徴と
する電子機器。
【請求項１６】
第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してなり、
有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備え、
前記表示画素の各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反射領域を有し
、
少なくとも前記反射領域に対応する位置には前記液晶層の厚さを調整する段差形成膜が
形成され、前記透過領域に対応する前記液晶層の厚さが前記反射領域に対応する前記液晶
層の厚さより厚く設定されており、
前記複数の表示画素を構成する前記複数の色は、波長に応じて色相が変化する可視光領
域のうち、赤系の色相の第１着色領域と、青系の色相の第２着色領域と、青から黄までの
色相の中で選択された２種の色相の内の一方の色相である第３着色領域と、青から黄まで
の色相の中で選択された２種の色相の内の他方の色相である第４着色領域とを含み、
前記複数の色のうち任意の色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記段差形
成膜の一部には溝が形成され、前記溝内の空間は前記透過領域の空間及び前記有効表示領
域の外側の領域の空間に通じていることを特徴とする液晶装置。
【請求項１７】
前記段差形成膜の上側には前記溝と直交しない方向にラビング処理が施された配向膜が
形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置。
【請求項１８】
前記有効表示領域の外側の領域は表示に寄与しない非表示領域であり、
前記透過領域を除く前記有効表示領域に対応する位置には前記段差形成膜が形成されて
いると共に、前記有効表示領域の前記外側の前記非表示領域には前記段差形成膜が形成さ
れていないことを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置。
【請求項１９】
前記複数の表示画素は前記有効表示領域内において行列状に配置され、
前記表示画素を構成する各々の色を前記行方向にストライプ状に配列した構成を有し、
前記段差形成膜の前記溝は、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた前記表
示画素内の前記反射領域に設けられていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置
。
【請求項２０】
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた前記表示画素の各々は前記列方向に
配置され、
前記溝は前記列方向に延在する形状に形成されており、
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた前記複数の表示画素の任意の１つの
前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間は、前記第３着色領域または前
記第４着色領域を備えた前記表示画素の任意の１つと、前記列方向に隣接する前記第３着
色領域または前記第４着色領域を備えた前記表示画素の他の１つと、各々の前記表示画素
内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間とは通じていることを特徴とする請求項１９
に記載の液晶装置。
【請求項２１】
前記溝は、前記列方向と平行な方向に延在する形状又は前記列方向に対して斜め方向に
延在する形状に形成されていることを特徴とする請求項２０に記載の液晶装置。
【請求項２２】
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた複数の前記表示画素の任意の１つの
前記表示画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と平行な方向に延在する形状に形成
され、
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた任意の１つの前記表示画素と、前記
列方向に隣接する前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた他の１つの前記表示
画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と交差する方向に且つ斜め方向に形成され、
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた任意の１つの前記表示画素内の前記
溝の空間と、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた他の１つの前記表示画素
内の前記溝の空間とは通じていることを特徴とする請求項１９に記載の液晶装置。
【請求項２３】
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた複数の前記表示画素の任意の１つの
前記表示画素内の前記溝と、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた他の１つ
の前記表示画素内の前記溝とを結ぶ形状は、平面的に見たときに折れ曲がる形状に形成さ
れていることを特徴とする請求項２２に記載の液晶装置。
【請求項２４】
前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方の基板は、前記第１着色領域、前記第２
着色領域、前記第３着色領域及び前記第４着色領域を備えた前記表示画素の各々に対応す
る位置に、前記第１着色領域、前記第２着色領域、前記第３着色領域及び前記第４着色領
域に対応する着色層を夫々有するカラーフィルタ基板であり、
前記反射領域に位置する前記第３着色領域または前記第４着色領域の前記着色層には該
着色層が設けられていない領域が設けられていると共に、前記段差形成膜は少なくとも前
記反射領域に位置する前記着色層の上側及び前記着色層が設けられていない領域に形成さ
れてなり、
前記着色層が設けられていない領域に対応する前記段差形成膜には前記溝が設けられて
いることを特徴とする請求項１９に記載の液晶装置。
【請求項２５】
前記表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有する遮光膜が形成され、
前記溝は前記列方向に直線状に延び、当該溝の一部は前記列方向に延在する前記遮光膜
と重なり合っていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置。
【請求項２６】
前記ラビング方向と逆側に位置する前記溝の一端側は、前記溝の幅より大きく形成され
た開放端であることを特徴とする請求項１６乃至２５のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項２７】
前記一方の基板に対して他方の基板は、互いに交差する方向に延在するソース線及びゲ
ート線と、前記ソース線及び前記ゲート線に接続されたスイッチング素子と、前記スイッ
チング素子に接続され前記着色層に対応する位置に設けられた画素電極とを有する素子基
板であり、
前記反射領域に対応する前記画素電極と重なる位置には、前記液晶層の厚さを調整する
他の段差形成膜が設けられていると共に、前記透過領域に対応する前記画素電極と重なる
位置には前記他の段差形成膜が設けられていなく、
前記他の段差形成膜には前記溝に対応する位置に前記溝と同一の形状を有する他の溝が
形成されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置。
【請求項２８】
前記表示画素は、当該表示画素内において、中央位置に設けられた前記透過領域と、前
記透過領域の上側の位置及び下側の位置に各々設けられた前記反射領域とを夫々有して構
成されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶装置。
【請求項２９】
前記液晶装置を透過した光の波長のピークが、４１５−５００ｎｍにある前記第１着色
領域と、６００ｎｍ以上にある前記第２着色領域と、４８５−５３５ｎｍにある前記第３
着色領域と、５００−５９０ｎｍにある前記第４着色領域とを備えたことを特徴とする請
求項１６乃至２８のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項３０】
請求項１６乃至２９のいずれか一項に記載の液晶装置を表示部として備えることを特徴
とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種情報の表示に用いて好適な液晶装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、着色層及び共通電極等を有するカラーフィルタ基板と、ソース線、ゲート線
、スイッチング素子及び画素電極を有する素子基板との間に液晶を封入してなるアクティ
ブマトリクス方式の液晶装置が知られている。そのような液晶装置の製造過程では、カラ
ーフィルタ基板及び素子基板の各々について液晶層と接する側の面に配向膜が夫々形成さ
れ、その後、それらの各配向膜の表面にラビング処理が施される。これにより、液晶分子
の初期配向状態を一定の方向に規定することができる。
【０００３】
ここで、ラビング処理は、例えばラビング処理用の布をロールに巻きつけて、それを高
速で回転させつつ所定の方向に移動させながら配向膜の表面を擦ることにより行われる。
【０００４】
このようなラビング処理方法では、多量の塵埃が発生して、それが基板に付着すること
がある。この基板の表面上に残った微細な塵埃は、液晶の配向を乱す原因となり表示品位
を著しく低下させる原因となることがある。そのため、ラビング処理の際に基板の表面に
付着した塵埃をラビング処理の後に除去することが要請される。
【０００５】
そこで、ラビング処理で生じる配向膜の塵埃を効果的に除去又は塞ぎ止めることで、そ
のような塵埃に起因した表示欠陥や動作不良の発生を防止できる液晶表示素子が提案され
ている（例えば、特許文献１を参照）。この特許文献１に記載の液晶表示素子では、基板
の表面上における配向膜が設けられた領域よりも外側に基板の周縁に沿って突起又は段差
若しくは溝を設け、その突起や溝等によりラビング処理の際に発生する配向膜の塵埃を除
去又は塞き止めるようにしている。
【０００６】
また、その他にも、配向膜をラビング処理する際に発生する粘着状の塵埃を基板面の表
示領域から取り除く液晶表示装置が知られている（例えば、特許文献２を参照）。この特
許文献２に記載の液晶装置では、アクティブマトリクス基板及び対向基板の両基板のラビ
ング処理が実施される面上に、ラビング処理の方向に直交する方向に長い溝部が形成され
ている。このため、ラビング処理時に発生する粘着性の塵埃を集めて収容し、表示領域上
への塵埃の残存を軽減するようにしている。
【０００７】
また、配向膜表面の品位を高く維持することのできる液晶表示装置が知られている（例
えば、特許文献３を参照）。この特許文献３に記載の液晶表示装置では、基板の端部に線
状の凹溝とこれに隣接する凸状とからなる異物除去部が設けられている。これにより、ラ
ビング布が異物除去部にさしかかったときには、ラビング布に付着している異物が凹溝に
拭い落とされて凹溝へと集められてゆき、上記の目的を実現可能としている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−８４２２４号公報
【特許文献２】特開２００４−５４１８５号公報
【特許文献３】特開２００１−３１８３８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、マルチギャップ構造を有する半透過
反射型の液晶装置において、反射領域の段差形成膜を、ラビング処理の際に発生する配向
膜の塵埃を有効表示領域の外側へ掃き出す案内路として構成することにより表示品位の低
下を防止することが可能な赤系の色相（Ｒ）、青系の色相（Ｂ）及び青から黄までの色相
の中で選択された２種の色相の４色を用いた液晶装置及び電子機器を提供することを課題
とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の１つの観点では、液晶装置は、第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してな
り、有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備え、前記表示画素の
各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反射領域を有し、少なくとも前記
反射領域に対応する位置には前記液晶層の厚さを調整する段差形成膜が形成され、前記透
過領域に対応する前記液晶層の厚さが前記反射領域に対応する前記液晶層の厚さより厚く
設定されており、前記複数の色のうち任意の色の前記表示画素内の前記反射領域に設けら
れた前記段差形成膜の一部には溝が形成され、前記溝内の空間は前記透過領域の空間及び
前記有効表示領域の外側の領域の空間に通じている。
【００１１】
上記の液晶装置は、第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してなり、表示に寄与する
有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備えて構成される。そして
、この液晶装置は、表示画素の各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反
射領域を有し、少なくとも反射領域に対応する位置には液晶層の厚さを調整する段差形成
膜が形成され、透過領域に対応する液晶層の厚さが反射領域に対応する液晶層の厚さより
厚く設定されており、いわゆるマルチギャップ構造をなす。このため、透過型表示と反射
型表示とで適切な表示特性を得ることができるように設定されている。好適な例では、段
差形成膜は、感光性を有するアクリル樹脂などの透明性を有する材料にて形成されている
のが好ましい。
【００１２】
好適な例では、段差形成膜の上側には、その溝と直交しない方向にラビング処理が施さ
れた配向膜が形成されているのが好ましい。ここで、ラビング処理は、例えば、ラビング
処理用の布をロールに巻きつけて、それを高速で回転させつつ上記の方向に移動させなが
ら配向膜の表面を擦ることにより行われる。また、前記有効表示領域の前記外側の前記領
域は表示に寄与しない非表示領域であり、前記透過領域を除く前記有効表示領域に対応す
る位置には前記段差形成膜が形成されているのが好ましいと共に、前記有効表示領域の前
記外側の前記領域には前記段差形成膜が形成されていないのが好ましい。また、前記表示
画素は、当該表示画素内において、中央位置に設けられた前記透過領域と、前記透過領域
の上側の位置及び下側の位置に各々設けられた前記反射領域とを夫々有して構成されてい
るのが好ましい。
【００１３】
ここで、一般的なマルチギャップ構造を有する液晶装置（比較例）では、各表示画素内
において、反射領域に対応する位置に段差形成膜が形成されているが、透過領域に対応す
る位置には段差形成膜は形成されておらず、透過領域は反射領域に対して窪んだ領域とな
っている。したがって、かかるラビング処理方法を比較例に採用した場合、そのラビング
処理によって有効表示領域内に多量の微細な塵埃（残渣）が発生したときに、その塵埃が
段差形成膜の存在しない窪んだ透過領域に溜まってしまう。これにより、比較例では、そ
の微細な塵埃が配向膜の表面上に付着したままの状態となって液晶の配向を乱し、これに
より表示品位を著しく低下させてしまうという問題がある。
【００１４】
この点、この液晶装置では、特に、複数の色のうち、任意の色の表示画素内の反射領域
に設けられた段差形成膜の一部には溝が形成され、その溝内の空間は、透過領域の空間及
び有効表示領域の外側の領域の空間に通じている。
【００１５】
そのため、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生した多量の微細な塵埃が、上記の
方向へのラビング処理用の布の移動に伴って、段差形成膜の存在しない窪んだ透過領域に
落ち込んだ場合でも、その塵埃は、任意の色の表示画素内の反射領域に設けられた段差形
成膜の溝を通じて、最終的に有効表示領域の外側の領域へと掃き出される。つまり、かか
る溝は、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生する塵埃を掃き出す際の案内路として
機能する。これにより、有効表示領域内においてラビング処理の際に発生した多量の塵埃
が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に起因して液晶の配向乱れが生じる
のを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。
【００１６】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記複数の色には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の
各色と、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれか１つの色の補色との４色が含まれ、前
記複数の前記表示画素は前記有効表示領域内において行列状に配置され、カラー表示の最
小単位となる１つのカラー表示画素は、前記赤、前記青、前記緑、前記補色の４色の前記
表示画素の各々を前記行方向にストライプ状に配列した構成を有し、前記段差形成膜の前
記溝は、前記補色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられている。
【００１７】
この態様では、複数の色には赤、緑、青の各色と、赤、緑、青のいずれか１つの色の補
色との４色が含まれ、複数の表示画素は有効表示領域内において行列状に配置されている
。そして、カラー表示の最小単位となる１つのカラー表示画素は、赤、青、緑、補色の４
色の表示画素の各々を行方向にストライプ状に配列した構成を有する。また、段差形成膜
の溝は、補色の表示画素内の反射領域に設けられている。好適な例では、前記補色はＣ（
シアン）であるのが好ましい。
【００１８】
ここで、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、補色の４色のうち、補色は色再現範囲を向上
させる必要がある場合に補助的に用いられ、且つ、補色のうち特にＣ（シアン）は、Ｒ（
赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）と比較して輝度が一番低く、人間の視覚に対して最も影響を
与え難い。このため、Ｃ（シアン）などの補色に対応する表示画素内の反射領域に上記の
溝を設定する方が、Ｒ、Ｇ、Ｂの原色系に対応する表示画素内の反射領域に上記の溝を設
定するよりも、表示品質を向上する上で好ましい。また、万が一、補色に対応する表示画
素内にラビング処理の際に発生した塵埃が残存し、その塵埃に起因してその表示画素内で
液晶の配向不良が生じたとしても、上記の理由により、その液晶の配向不良領域において
の表示を目立たなくすることができる。
【００１９】
上記の液晶装置の他の態様では、前記補色の前記表示画素の各々は前記列方向に配置さ
れ、前記溝は前記列方向に延在する形状に形成されており、任意の１つの前記補色の前記
表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間は、前記任意の１つの前記補色の前
記表示画素と前記列方向に隣接する他の１つの前記補色の前記表示画素内の前記反射領域
に設けられた前記溝の空間と通じている。
【００２０】
この態様では、補色の表示画素の各々は列方向に配置されている。そして、その溝は列
方向に延在する形状に形成されている。また、任意の１つの補色の表示画素内の反射領域
に設けられた溝の空間は、任意の１つの補色の表示画素と列方向に隣接する他の１つの補
色の表示画素内の反射領域に設けられた溝内の空間と通じている。これにより、ラビング
処理の際に発生した塵埃が、任意の１つの補色の表示画素内の透過領域内に落ち込んだ場
合でも、その塵埃は、当該任意の１つの補色の表示画素内の反射領域に設けられた溝を通
じて、それに列方向に隣接する他の１つの補色の表示画素内の反射領域に設けられた溝側
へと掃き出すことができる。好適な例では、前記溝は、前記列方向と平行な方向に延在す
る形状又は前記列方向に対して斜め方向に延在する形状に形成されているのが好ましい。
また、前記補色はＣ（シアン）であるのが好ましい。
【００２１】
上記の液晶装置の他の態様では、任意の１つの前記補色の前記表示画素内の前記溝は、
前記ラビング処理の方向と平行な方向に延在する形状に形成され、前記任意の１つの前記
補色の前記表示画素と前記列方向に隣接する他の１つの前記補色の前記表示画素内の前記
溝は、前記ラビング処理の方向と交差する方向に且つ斜め方向に形成され、前記任意の１
つの前記補色の前記表示画素内の前記溝の空間と、前記他の１つの前記補色の前記表示画
素内の前記溝の空間とは通じている。好適な例では、前記任意の１つの前記補色の前記表
示画素内の前記溝と、前記他の１つの前記補色の前記表示画素内の前記溝とを結ぶ形状は
、平面的に見たときに折れ曲がる形状に形成されているのが好ましい。
【００２２】
この態様では、任意の１つの補色の表示画素内の溝は、ラビング処理の方向と平行な方
向に延在する形状に形成されている。そして、任意の１つの補色の表示画素と列方向に隣
接する他の１つの補色の表示画素内の溝は、ラビング処理の方向と交差する方向に且つ斜
め方向に形成され、任意の１つの補色の表示画素内の溝の空間と、他の１つの補色の表示
画素内の溝の空間とは通じている。これにより、ラビング処理の際に発生した塵埃が、任
意の１つの補色の表示画素内の透過領域内に落ち込んだ場合でも、その塵埃は、当該任意
の１つの補色の表示画素内の反射領域に設けられた溝を通じて、それに列方向に隣接する
他の１つの補色の表示画素内の反射領域に設けられた溝側へと掃き出すことができる。特
に、この態様では、少なくともラビング処理の方向と平行な方向に形成された溝を有する
ので、より一層、そのラビング処理の際に発生する塵埃を、有効表示領域の外側の領域（
非表示領域）へと掃き出し易くすることができる。好適な例では、前記補色はＣ（シアン
）であるのが好ましい。
【００２３】
上記の液晶装置の他の態様では、前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方の基板
は、前記赤、前記緑及び前記青の各色の前記表示画素並びに前記赤、前記緑及び前記青の
いずれか１つの色の補色の前記表示画素の各々に対応する位置に、前記赤、前記緑、前記
青、前記補色の各色に対応する着色層を夫々有するカラーフィルタ基板であり、前記反射
領域に位置する前記補色の前記着色層には該着色層が設けられていない領域が設けられて
いると共に、前記段差形成膜は少なくとも前記反射領域に位置する前記着色層の上側及び
前記着色層が設けられていない領域に形成されてなり、前記着色層が設けられていない領
域に対応する前記段差形成膜には前記溝が設けられている。
【００２４】
この態様では、第１基板及び第２基板のいずれか一方の基板は、赤、緑及び青並びに赤
、緑及び青のいずれか１つの色の補色の各色の表示画素に対応する位置に、赤、緑、青、
補色の各色に対応する着色層を夫々有するカラーフィルタ基板となっている。そして、反
射領域に位置する補色の着色層には、当該着色層が設けられていない領域（非着色領域）
が設けられている。このため、反射領域に対応する補色の着色層の光学濃度は、透過領域
に対応する補色の着色層の光学濃度より薄く設定されている。また、段差形成膜は、少な
くとも反射領域に位置する着色層の上側及び補色の着色層が設けられていない領域（非着
色領域）に形成されてなり、その領域（非着色領域）に対応する段差形成膜には溝が設け
られている。
【００２５】
ここで、かかる領域（非着色領域）は、反射領域における補色の着色層に対応する表示
画素の輝度を高める役割を有する。したがって、万が一、その溝付近の形状に起因して、
その溝付近で液晶の配向乱れが生じたとしても、その領域（非着色領域）における明るさ
の向上により、その液晶の配向乱れの領域での表示を目立たなくすることができる。よっ
て、表示品位が低下するのを防止できる。好適な例では、前記補色はＣ（シアン）である
のが好ましい。
【００２６】
上記の液晶装置の他の態様では、前記表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有す
る遮光膜が形成され、前記溝は前記列方向に直線状に延び、当該溝の一部は前記列方向に
延在する前記遮光膜と重なり合っている。
【００２７】
この態様では、表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有する遮光膜が形成されて
いる。そして、その溝は列方向に直線状に延びており、当該溝の一部は列方向に延在する
遮光膜と重なり合っている。これにより、液晶の駆動時、万が一、その溝の形状に起因し
て当該溝付近で表示品位が低下したとしても、その部分は遮光膜によって覆い隠されるの
で、表示品質が低下するのを防止できる。
【００２８】
上記の液晶装置の他の態様では、前記ラビング方向と逆側に位置する前記溝の一端側を
、前記溝の幅より大きく形成された開放端とすることができる。これにより、ラビング処
理の際に有効表示領域内で発生した塵埃が透過領域内に落ち込んだ場合でも、その塵埃を
より一層、有効表示領域の外側の領域（非表示領域）へと掃き出し易くすることができる
。
【００２９】
上記の液晶装置の他の態様では、前記一方の基板に対して他方の基板は、互いに交差す
る方向に延在するソース線及びゲート線と、前記ソース線及び前記ゲート線に接続された
スイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続され前記着色層に対応する位置に設け
られた画素電極とを有する素子基板であり、前記反射領域に対応する前記画素電極と重な
る位置には、前記液晶層の厚さを調整する他の段差形成膜が設けられていると共に、前記
透過領域に対応する前記画素電極と重なる位置には前記他の段差形成膜が設けられていな
く、前記他の段差形成膜には前記溝に対応する位置に前記溝と同一の形状を有する他の溝
が形成されている。
【００３０】
この態様では、第１基板及び第２基板のいずれか一方の基板に対して他方の基板は、互
いに交差する方向に延在するソース線及びゲート線と、ソース線及びゲート線に接続され
たＴＦＴ素子などのスイッチング素子と、そのスイッチング素子に接続され着色層に対応
する位置に設けられた画素電極とを有する素子基板となっている。そして、反射領域に対
応する画素電極と重なる位置には、液晶層の厚さを調整する他の段差形成膜が設けられて
いると共に、透過領域に対応する画素電極と重なる位置には他の段差形成膜が設けられて
いない。このため、反射領域に対して透過領域は窪んだ領域となっている。また、他の段
差形成膜には、上記の溝に対応する位置に当該溝と同一の形状を有する他の溝が形成され
ている。
【００３１】
これにより、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生した多量の微細な塵埃が、上記
の方向へのラビング処理用の布の移動に伴って、段差形成膜の存在しない窪んだ透過領域
に落ち込んだ場合でも、その塵埃は、素子基板に設けられた他の溝を通じて、最終的に有
効表示領域の外側の領域へと掃き出される。これにより、有効表示領域内においてラビン
グ処理の際に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に
起因して液晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。
【００３２】
本発明の他の観点では、上記の液晶装置を表示部として備える電子機器を構成すること
ができる。
【００３３】
本発明の１つの観点では、液晶装置は、第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してな
り、有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備え、前記表示画素の
各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反射領域を有し、少なくとも前記
反射領域に対応する位置には前記液晶層の厚さを調整する段差形成膜が形成され、前記透
過領域に対応する前記液晶層の厚さが前記反射領域に対応する前記液晶層の厚さより厚く
設定されており、前記複数の表示画素を構成する前記複数の色は、波長に応じて色相が変
化する可視光領域のうち、赤系の色相の第１着色領域と、青系の色相の第２着色領域と、
青から黄までの色相の中で選択された２種の色相の内の一方の色相である第３着色領域と
、青から黄までの色相の中で選択された２種の色相の内の他方の色相である第４着色領域
とを含み、前記複数の色のうち任意の色の前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前
記段差形成膜の一部には溝が形成され、前記溝内の空間は前記透過領域の空間及び前記有
効表示領域の外側の領域の空間に通じている。
【００３４】
上記の液晶装置は、第１基板と第２基板の間に液晶層を挟持してなり、表示に寄与する
有効表示領域を規定する複数の色に対応する複数の表示画素を備えて構成される。そして
、この液晶装置は、表示画素の各々は透過型表示を行う透過領域及び反射型表示を行う反
射領域を有し、少なくとも反射領域に対応する位置には液晶層の厚さを調整する段差形成
膜が形成され、透過領域に対応する液晶層の厚さが反射領域に対応する液晶層の厚さより
厚く設定されており、いわゆるマルチギャップ構造をなす。また、複数の表示画素を構成
する複数の色は、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、赤系の色相の第１着色
領域と、青系の色相の第２着色領域と、青から黄までの色相の中で選択された２種の色相
の内の一方の色相である第３着色領域と、青から黄までの色相の中で選択された２種の色
相の内の他方の色相である第４着色領域とを含んでいる。このため、透過型表示と反射型
表示とで適切な表示特性を得ることができるように設定されている。好適な例では、段差
形成膜は、感光性を有するアクリル樹脂などの透明性を有する材料にて形成されているの
が好ましい。
【００３５】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記段差形成膜の上側には前記溝と直交しない方向
にラビング処理が施された配向膜が形成されている。
【００３６】
この態様では、かかる溝は、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生する塵埃を掃き
出す際の案内路として機能する。これにより、有効表示領域内においてラビング処理の際
に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に起因して液
晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。
【００３７】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記有効表示領域の外側の領域は表示に寄与しない
非表示領域であり、前記透過領域を除く前記有効表示領域に対応する位置には前記段差形
成膜が形成されていると共に、前記有効表示領域の前記外側の前記非表示領域には前記段
差形成膜が形成されていない。
【００３８】
この態様では、かかる溝は、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生する塵埃を掃き
出す際の案内路として機能する。これにより、有効表示領域内においてラビング処理の際
に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に起因して液
晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。
【００３９】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記複数の表示画素は前記有効表示領域内において
行列状に配置され、前記表示画素を構成する各々の色を前記行方向にストライプ状に配列
した構成を有し、前記段差形成膜の前記溝は、前記第３着色領域または前記第４着色領域
を備えた前記表示画素内の前記反射領域に設けられている。
【００４０】
この態様では、第３着色領域または第４着色領域に対応する表示画素内の反射領域に溝
を設定することにより、表示品質を向上することができる。また、万が一、第３着色領域
または第４着色領域に対応する表示画素内にラビング処理の際に発生した塵埃が残存し、
その塵埃に起因してその表示画素内で液晶の配向不良が生じたとしても、その液晶の配向
不良領域においての表示を目立たなくすることができる。
【００４１】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた
前記表示画素の各々は前記列方向に配置され、前記溝は前記列方向に延在する形状に形成
されており、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた前記複数の表示画素の任
意の１つの前記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間は、前記第３着色領
域または前記第４着色領域を備えた前記表示画素の任意の１つと、前記列方向に隣接する
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた前記表示画素の他の１つと、各々の前
記表示画素内の前記反射領域に設けられた前記溝の空間とは通じている。
【００４２】
この態様では、第３着色領域または第４着色領域を備えた表示画素の各々は列方向に配
置されている。そして、その溝は列方向に延在する形状に形成されている。また、第３着
色領域または第４着色領域を備えた複数の表示画素の任意の１つの表示画素と列方向に隣
接する第３着色領域または第４着色領域を備えた表示画素の他の１つの表示画素内の反射
領域に設けられた溝内の空間と通じている。これにより、ラビング処理の際に発生した塵
埃が、第３着色領域または第４着色領域を備えた複数の表示画素の任意の１つの表示画素
内に落ち込んだ場合でも、その塵埃は、第３着色領域または第４着色領域を備えた表示画
素内の反射領域に設けられた溝を通じて、それに列方向に隣接する他の１つ表示画素内の
反射領域に設けられた溝側へと掃き出すことができる。
【００４３】
上記の液晶装置の一つの態様では、前記溝は、前記列方向と平行な方向に延在する形状
又は前記列方向に対して斜め方向に延在する形状に形成されている。
【００４４】
この態様では、溝部は、列方向と平行な方向に延在する形状又は列方向に対して斜め方
向に延在しているため、ラビング処理の際に発生する塵埃を、有効表示領域の外側の領域
（非表示領域）へと掃き出し易くすることができる。
【００４５】
前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた複数の前記表示画素の任意の１つの
前記表示画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と平行な方向に延在する形状に形成
され、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた任意の１つの前記表示画素と、
前記列方向に隣接する前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた他の１つの前記
表示画素内の前記溝は、前記ラビング処理の方向と交差する方向に且つ斜め方向に形成さ
れ、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた任意の１つの前記表示画素内の前
記溝の空間と、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた他の１つの前記表示画
素内の前記溝の空間とは通じている。
【００４６】
この態様では、第３着色領域または第４着色領域を備えた複数の表示画素の任意の１つ
の表示画素内の溝は、ラビング処理の方向と平行な方向に延在する形状に形成されている
。そして、該表示画素と列方向に隣接する他の１つの表示画素内の溝は、ラビング処理の
方向と交差する方向に且つ斜め方向に形成され、第３着色領域または第４着色領域を備え
た複数の表示画素の任意の１つの表示画素内の溝と、列方向に隣接する他の１つの表示画
素内の溝の空間とは通じている。これにより、少なくともラビング処理の方向と平行な方
向に形成された溝を有するので、より一層、そのラビング処理の際に発生する塵埃を、有
効表示領域の外側の領域（非表示領域）へと掃き出し易くすることができる。
【００４７】
上記の液晶装置の他の態様では、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた複
数の前記表示画素の任意の１つの前記表示画素内の前記溝と、前記第３着色領域または前
記第４着色領域を備えた他の１つの前記表示画素内の前記溝とを結ぶ形状は、平面的に見
たときに折れ曲がる形状に形成されている。
【００４８】
この態様では、前記第３着色領域または前記第４着色領域を備えた複数の前記表示画素
の任意の１つの前記表示画素内の前記溝と、前記第３着色領域または前記第４着色領域を
備えた他の１つの前記表示画素内の前記溝とを結ぶ形状が、平面的に見たときに折れ曲が
る形状に形成されているため、より一層、そのラビング処理の際に発生する塵埃を、有効
表示領域の外側の領域（非表示領域）へと掃き出し易くすることができる。
【００４９】
上記の液晶装置の他の態様では、前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方の基板
は、前記第１着色領域、前記第２着色領域、前記第３着色領域及び前記第４着色領域を備
えた前記表示画素の各々に対応する位置に、前記第１着色領域、前記第２着色領域、前記
第３着色領域及び前記第４着色領域に対応する着色層を夫々有するカラーフィルタ基板で
あり、前記反射領域に位置する前記第３着色領域または前記第４着色領域の前記着色層に
は該着色層が設けられていない領域が設けられていると共に、前記段差形成膜は少なくと
も前記反射領域に位置する前記着色層の上側及び前記着色層が設けられていない領域に形
成されてなり、前記着色層が設けられていない領域に対応する前記段差形成膜には前記溝
が設けられている。
【００５０】
この態様では、第１基板及び第２基板のいずれか一方の基板は、第１着色領域、第２着
色領域、第３着色領域及び第４着色領域を備えた表示画素の各々に対応する位置に、第１
着色領域、第２着色領域、第３着色領域及び第４着色領域に対応する着色層を夫々有する
カラーフィルタ基板となっている。そして、反射領域に位置する第３着色領域または第４
着色領域の着色層には該着色層が設けられていない領域（非着色領域）が設けられている
。このため、反射領域に対応する第３着色領域または第４着色領域の着色層の光学濃度は
、透過領域に対応する第３着色領域または第４着色領域の着色層の光学濃度より薄く設定
されている。また、段差形成膜は、少なくとも反射領域に位置する着色層の上側及び第３
着色領域または第４着色領域の着色層が設けられていない領域（非着色領域）に形成され
てなり、その領域（非着色領域）に対応する段差形成膜には溝が設けられている。
【００５１】
ここで、かかる領域（非着色領域）は、反射領域における第３着色領域または第４着色
領域の着色層に対応する表示画素の輝度を高める役割を有する。したがって、万が一、そ
の溝付近の形状に起因して、その溝付近で液晶の配向乱れが生じたとしても、その領域（
非着色領域）における明るさの向上により、その液晶の配向乱れの領域での表示を目立た
なくすることができる。よって、表示品位が低下するのを防止できる。
【００５２】
上記の液晶装置の他の態様では、前記表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有す
る遮光膜が形成され、前記溝は前記列方向に直線状に延び、当該溝の一部は前記列方向に
延在する前記遮光膜と重なり合っている。
【００５３】
この態様では、表示画素の各々を区画する位置には遮光性を有する遮光膜が形成されて
いる。そして、その溝は列方向に直線状に延びており、当該溝の一部は列方向に延在する
遮光膜と重なり合っている。これにより、液晶の駆動時、万が一、その溝の形状に起因し
て当該溝付近で表示品位が低下したとしても、その部分は遮光膜によって覆い隠されるの
で、表示品質が低下するのを防止できる。
【００５４】
上記の液晶装置の他の態様では、前記ラビング方向と逆側に位置する前記溝の一端側は
、前記溝の幅より大きく形成された開放端とすることができる。
【００５５】
これにより、ラビング処理の際に有効表示領域内で発生した塵埃が透過領域内に落ち込
んだ場合でも、その塵埃をより一層、有効表示領域の外側の領域（非表示領域）へと掃き
出し易くすることができる。
【００５６】
上記の液晶装置の他の態様では、前記一方の基板に対して他方の基板は、互いに交差す
る方向に延在するソース線及びゲート線と、前記ソース線及び前記ゲート線に接続された
スイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続され前記着色層に対応する位置に設け
られた画素電極とを有する素子基板であり、前記反射領域に対応する前記画素電極と重な
る位置には、前記液晶層の厚さを調整する他の段差形成膜が設けられていると共に、前記
透過領域に対応する前記画素電極と重なる位置には前記他の段差形成膜が設けられていな
く、前記他の段差形成膜には前記溝に対応する位置に前記溝と同一の形状を有する他の溝
が形成されている。
【００５７】
この態様では、第１基板及び第２基板のいずれか一方の基板に対して他方の基板は、互
いに交差する方向に延在するソース線及びゲート線と、ソース線及びゲート線に接続され
たＴＦＴ素子などのスイッチング素子と、そのスイッチング素子に接続され着色領域に対
応する位置に設けられた画素電極とを有する素子基板となっている。そして、反射領域に
対応する画素電極と重なる位置には、液晶層の厚さを調整する他の段差形成膜が設けられ
ていると共に、透過領域に対応する画素電極と重なる位置には他の段差形成膜が設けられ
ていない。このため、反射領域に対して透過領域は窪んだ領域となっている。また、他の
段差形成膜には、上記の溝に対応する位置に当該溝と同一の形状を有する他の溝が形成さ
れている。
【００５８】
これにより、ラビング処理の際に有効表示領域内に発生した多量の微細な塵埃が、上記
の方向へのラビング処理用の布の移動に伴って、段差形成膜の存在しない窪んだ透過領域
に落ち込んだ場合でも、その塵埃は、素子基板に設けられた他の溝を通じて、最終的に有
効表示領域の外側の領域へと掃き出される。これにより、有効表示領域内においてラビン
グ処理の際に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域内から完全に除去され、その塵埃に
起因して液晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下するのを防止できる。
【００５９】
上記の液晶装置の他の態様では、前記表示画素は、当該表示画素内において、中央位置
に設けられた前記透過領域と、前記透過領域の上側の位置及び下側の位置に各々設けられ
た前記反射領域とを夫々有して構成されている。
【００６０】
この態様では、表示画素は、表示画素内において中央位置に設けられた透過領域と、透
過領域の上側の位置及び下側の位置に各々設けられた反射領域とを夫々有して構成されて
いるので、透過型表示と反射型表示とで適切な表示特性を得ることができる。
【００６１】
上記の液晶装置の他の態様では、前記液晶装置を透過した光の波長のピークが、４１５
−５００ｎｍにある前記第１着色領域と、６００ｎｍ以上にある前記第２着色領域と、４
８５−５３５ｎｍにある前記第３着色領域と、５００−５９０ｎｍにある前記第４着色領
域とを備えている。
【００６２】
これにより、液晶の配向不良領域においての表示不良を目立たなくすることができる。
【００６３】
本発明の他の観点では、上記の液晶装置を表示部として備える電子機器を構成すること
ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６４】
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下
の各種実施形態は、本発明を液晶装置に適用したものである。
【００６５】
本発明は、マルチギャップ構造を有する半透過反射型の液晶装置において、例えばＣ（
シアン）の色に対応する各サブ画素内の各反射領域に設けられた段差形成膜の一部に所定
方向に延在するように溝を設け、その溝を当該各サブ画素内の各透過領域に連通させ若し
くは繋げると共に、さらに、相隣接する当該各サブ画素内の各溝を連通させ若しくは繋げ
る。これにより、この液晶装置の製造過程において、ラビング処理の際にラビング処理用
の布の移動に伴って有効表示領域Ｖ内に発生する塵埃（残渣）を非表示領域たる額縁領域
へ掃き出し、表示品位が低下するのを防止する。
【００６６】
［第１実施形態］
第１実施形態は、本発明を、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、赤系の色
相の第１着色領域、青系の色相の第２着色領域、青から黄までの色相の中で選択された２
種の色相の内の一方の色相である第３着色領域、青から黄までの色相の中で選択された２
種の色相の内の他方の色相である第４着色領域の４色を有する半透過反射型の液晶装置に
適用する。
【００６７】
（液晶装置の構成）
まず、図１を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の平面構成等につ
いて説明する。
【００６８】
図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の概略構成を模式的に示す平面図
である。図１では、紙面手前側（観察側）にカラーフィルタ基板９２が、また、紙面奥側
に素子基板９１が夫々配置されている。なお、図１では、紙面縦方向（列方向）をＹ方向
と、また、紙面横方向（行方向）をＸ方向と規定する。また、図１において、赤系の色相
の第１着色領域としてのＲ（以降、Ｒ、赤またはＲ（赤）と表記する）、青系の色相の第
２着色領域としてのＢ（以降、Ｂ、青またはＢ（青）と表記する）、青から黄までの色相
の中で選択された２種の色相の内の一方の色相である第３着色領域としてのＣ（以降、Ｃ
、シアンまたはＣ（シアン）と表記する）及び青から黄までの色相の中で選択された２種
の色相の内の他方の色相である第４着色領域としてのＧ（以降、Ｇ、緑またはＧ（緑）と
表記する）の各色に対応する領域は１つのサブ画素領域ＳＧを示していると共に、Ｒ、Ｇ
、Ｂ、Ｃに対応する、１行４列の画素配列は、１つの画素領域ＡＧを示している。なお、
以下では、１つのサブ画素領域ＳＧ内に存在する１つの表示領域を「サブ画素」と称し、
また、１つの画素領域ＡＧ内に存在する複数の表示領域を「１画素」と称する。
【００６９】
したがって、１つの画素領域ＡＧは、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色領域で１画素が構成
されている。４色の着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域（３８０−７８
０ｎｍ）のうち、赤系の色相の第１着色領域と、青系の色相の第２着色領域、青から黄ま
での色相の中で選択された２種の色相の第３着色領域、第４着色領域を含む。ここで系と
用いているが、例えば青系であれば純粋の青の色相に限定されるものでなく、青紫や青緑
等を含むものである。赤系の色相であれば、赤に限定されるものでなく橙を含む。また、
これら着色領域は単一の着色層で構成されても良いし、複数の異なる色相の着色層を重ね
て構成されても良い。また、これら着色領域は色相で述べているが、当該色相は、彩度、
明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。
【００７０】
具体的な色相の範囲は、赤系の色相の第１着色領域は、橙から赤である。青系の色相の
第２着色領域は、青紫から青緑であり、より好ましくは藍から青である。青から黄までの
色相で選択される一方の第３着色領域は、青から緑であり、より好ましくは青緑から緑で
ある。青から黄までの色相で選択される他方の第４着色領域は、緑から橙であり、より好
ましくは緑から黄である。もしくは緑から黄緑である。
【００７１】
ここで、各着色領域は、同じ色相を用いることはない。例えば、青から黄までの色相で
選択される２つの着色領域で緑系の色相を用いる場合は、他方は一方の緑に対して青系も
しくは黄緑系の色相を用いる。これにより、従来のＲ、Ｇ、Ｂの着色領域よりも広範囲の
色再現性を実現することができる。
【００７２】
広範囲の色再現性を色相で述べたが、以下に、本発明の液晶装置の各着色領域を透過し
た光の波長で表現する。赤系の第１着色領域は、該領域を透過した光の波長のピークが６
００ｎｍ以上にある着色領域で、好ましくは、６０５ｎｍ以上にある着色領域である。青
系の第２着色領域は、該領域を透過した光の波長のピークが４１５−５００ｎｍにある着
色領域で、好ましくは、４３５−４８５ｎｍにある着色領域である。青から黄までの色相
で選択される一方の第３着色領域は、該領域を透過した光の波長のピークが４８５−５３
５ｎｍにある着色領域で、好ましくは、４９５−５２０ｎｍにある着色領域である。青か
ら黄までの色相で選択される他方の第４着色領域は、該領域を透過した光の波長のピーク
が５００−５９０ｎｍにある着色領域、好ましくは５１０−５８５ｎｍにある着色領域、
もしくは５３０−５６５ｎｍにある着色領域である。
【００７３】
次に、ｘ、ｙ色度図で表現する。赤系の第１着色領域は、0.643≦ｘ、ｙ≦0.333にある
着色領域であり、好ましくは、0.643≦ｘ≦0.690、0.299≦ｙ≦0.333にある着色領域であ
る。青系の第２着色領域は、ｘ≦0.151、ｙ≦0.056にある着色領域であり、好ましくは、
0.134≦ｘ≦0.151、0.034≦ｙ≦0.056にある着色領域である。青から黄までの色相で選択
される一方の第３着色領域は、ｘ≦0.164、0.453≦ｙにある着色領域であり、好ましくは
、0.098≦ｘ≦0.164、0.453≦ｙ≦0.759にある着色領域である。青から黄までの色相で選
択される他方の第４着色領域は、0.257≦ｘ、0.606≦ｙにある着色領域であり、好ましく
は、0.257≦ｘ≦0.357、0.606≦ｙ≦0.670にある着色領域である。
【００７４】
これら４色の着色領域は、サブ画素に透過領域と反射領域を備えた場合、透過領域及び
反射領域も上述した範囲で適用することができるものである。
【００７５】
上記４色の着色領域（第１着色領域、第２着色領域、第３着色領域、第４着色領域）の
構成の例として、色相が、赤、青、緑、シアン（青緑）の着色領域、色相が、赤、青、緑
、黄の着色領域、色相が、赤、青、深緑、黄の着色領域、色相が、赤、青、エメラルド、
黄の着色領域、色相が、赤、青、深緑、黄緑の着色領域、色相が、赤、青緑、深緑、黄緑
の着色領域で構成されたものがあげられる。
【００７６】
液晶装置１００は、素子基板９１と、その素子基板９１に対向して配置されるカラーフ
ィルタ基板９２とが枠状のシール材５を介して貼り合わされ、そのシール材５の内側に、
例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶が封入されて液晶層４が形成されてなる。
【００７７】
ここに、液晶装置１００は、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を用いて構成されるカラー表示用の
液晶装置であると共に、スイッチング素子としてａ−Ｓｉ型のＴＦＴ（Thin Film Transi
stor）素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置である。また、液晶装置１
００は、半透過反射型の液晶装置である。
【００７８】
まず、素子基板９１の平面構成について説明する。素子基板９１の内面上には、主とし
て、複数のソース線３２、複数のゲート線３３、複数のａ−Ｓｉ型のＴＦＴ素子２１、複
数の画素電極１０、ドライバＩＣ４０、外部接続用配線３５及びＦＰＣ（Flexible Print
ed Ｃircuit）４１などが形成若しくは実装されている。
【００７９】
図１に示すように、素子基板９１は、カラーフィルタ基板９２の一辺側から外側へ張り
出してなる張り出し領域３６を有しており、その張り出し領域３６上には、ドライバＩＣ
４０が実装されている。ドライバＩＣ４０の入力側の端子（図示略）は、複数の外部接続
用配線３５の一端側と電気的に接続されていると共に、複数の外部接続用配線３５の他端
側はＦＰＣと電気的に接続されている。各ソース線３２は、Ｙ方向に延在するように且つ
Ｘ方向に適宜の間隔をおいて形成されており、各ソース線３２の一端側は、ドライバＩＣ
４０の出力側の端子（図示略）に電気的に接続されている。
【００８０】
各ゲート線３３は、Ｙ方向に延在するように形成された第１配線３３ａと、その第１配
線３３ａの終端部からＸ方向に且つ後述する有効表示領域Ｖ内に延在するように形成され
た第２配線３３Ｂとを備えている。各ゲート線３３の第２配線３３Ｂは、各ソース線３２
と交差する方向、即ちＸ方向に延在するように且つＹ方向に適宜の間隔をおいて形成され
ており、各ゲート線３３の第１配線３３ａの一端側は、ドライバＩＣ４０の出力側の端子
（図示略）に電気的に接続されている。各ソース線３２と各ゲート線３３の第２配線３３
Ｂの交差位置付近にはＴＦＴ素子２１が対応して設けられており、各ＴＦＴ素子２１は各
ソース線３２、各ゲート線３３及び各画素電極１０等に電気的に接続されている。各ＴＦ
Ｔ素子２１及び各画素電極１０は、各サブ画素領域ＳＧに対応する位置に設けられている
。各画素電極１０は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）又はＩＺＯ（Indium Zinc Oxid
e）などの透明導電材料により形成されている。
【００８１】
１つの画素領域ＡＧがＸ方向及びＹ方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が有
効表示領域Ｖ（２点鎖線により囲まれる領域）である。この有効表示領域Ｖに、文字、数
字、図形等の画像が表示される。また、液晶装置１００において、有効表示領域Ｖの外側
の領域は表示に寄与しない非表示領域（以下、「額縁領域」とも呼ぶ）３８となっている
。また、各ソース線３２、各ゲート線３３、各ＴＦＴ素子２１、及び各画素電極１０等の
内面上には、配向膜１７（図３を参照）が形成されている。
【００８２】
次に、カラーフィルタ基板９２の主な平面構成について説明する。カラーフィルタ基板
９２は、遮光層（一般に「ブラックマトリクス」と呼ばれ、以下では、単に「ＢＭ」と略
記する）、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ、６Ｃ及び共通電極８などを
有する。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層６」
と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層６Ｒ」などと記す。ＢＭは、各サブ画
素領域ＳＧを区画する位置に形成されている。共通電極８は、画素電極と同様にＩＴＯや
ＩＺＯなどの透明導電材料からなり、カラーフィルタ基板９２の略一面に亘って形成され
ている。共通電極８は、シール材５の隅の領域Ｅ１において配線１５の一端側と電気的に
接続されていると共に、当該配線１５の他端側は、ドライバＩＣ４０のＣＯＭに対応する
出力端子（接地用端子）と電気的に接続されている。
【００８３】
以上の構成を有する液晶装置１００では、電子機器等と接続されたＦＰＣ４１側からの
信号及び電力等に基づき、ドライバＩＣ４０によって、Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍ−１、
Ｇｍ（ｍは自然数）の順にゲート線３３が順次排他的に１本ずつ選択されるとともに、選
択されたゲート線３３には、選択電圧のゲート信号が供給される一方、他の非選択のゲー
ト線３３には、非選択電圧のゲート信号が供給される。そして、ドライバＩＣ４０は、選
択されたゲート線３３に対応する位置にある画素電極１０に対し、表示内容に応じたソー
ス信号を、それぞれ対応するＳ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎ−１、Ｓｎ（ｎは自然数）のソー
ス線３２及びＴＦＴ素子２１を介して供給する。その結果、液晶層４の表示状態が、非表
示状態または中間表示状態に切り替えられ、液晶層４内の液晶分子の配向状態が制御され
ることとなる。
【００８４】
次に、図２におけるカラーフィルタ基板９２の詳細な平面構成を説明するのに先立って
、Ｙ方向に相隣接するＣ（シアン）の着色層６を通る位置で切断した約２画素分に対応す
る液晶装置１００の断面構成について説明する。図３は、図２における約２画素分に対応
する切断線Ａ−Ａ´に沿った断面図であり、特に、Ｙ方向に相隣接するＣ（シアン）の着
色層６を通る位置で切断した断面図である。
【００８５】
まず、約２画素分に対応する素子基板９１の断面構成について説明する。
【００８６】
下側基板１の内面上であって、サブ画素領域ＳＧの隅の位置には、ゲート線３３の第２
配線３３Ｂと接続されたゲート電極３３Ｃが形成されている。ゲート電極３３Ｃの内面上
には、モリブデンなどからなる導電層５２が形成されている。下側基板１及び導電層５２
の内面上には、絶縁性を有するゲート絶縁膜５０が形成されている。ゲート絶縁膜５０の
内面上であって、ゲート電極３３Ｃと重なる位置には、α−Ｓｉ層５５が設けられている
。ゲート絶縁膜５０の内面上であって、α−Ｓｉ層５５の左端付近にはソース線３２と接
続されたソース電極３２ａが設けられていると共に、α−Ｓｉ層５５の右端付近にはドレ
イン電極５４が設けられている。ソース電極３２ａ及びドレイン電極５４は、α−Ｓｉ層
５５と部分的に重なっている。ゲート絶縁膜５０、ソース電極３２ａ、ドレイン電極５４
及びα−Ｓｉ層５５の内面上には、絶縁性を有するパシベーション層（反応防止層）５１
が形成されている。パシベーション層５１は、ＴＦＴ素子２１の要素であるドレイン電極
５４の一端側に対応する位置に開口５１ａを有する。かかる積層構造によりＴＦＴ素子２
１が構成されている。なお、本発明では、ＴＦＴ素子２１は、上記の構成に限定されるも
のではない。
【００８７】
また、少なくとも、反射領域ＥＲに対応するパシベーション層５１の内面上、及び、Ｔ
ＦＴ素子２１に対応するパシベーション層５１の内面上には、それぞれ、後述する段差形
成膜６２と共に液晶層４の厚さ（セルギャップ）を調整する機能を有し、感光性のアクリ
ル樹脂等の透明性を有する樹脂材料よりなる段差形成膜６１（セル厚調整膜）が設けられ
ている。反射領域ＥＲに対応する段差形成膜６１の内面上には、複数の凹凸が形成されて
いる。段差形成膜６１は、各ＴＦＴ素子２１の要素であるドレイン電極５４の一端側に対
応する位置にコンタクトホール６１ａを有する。反射領域ＥＲに対応する段差形成膜６１
上には、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等の反射性を有する材料よりなる反射
膜５が形成されている。この反射膜５は、複数の凹凸を有する段差形成膜６１上に形成さ
れているため、その複数の凹凸を反映した形状に形成されている。これにより、液晶装置
１００内へ入射した光を適度に散乱させることができる。また、各反射膜５は、段差形成
膜６１の各コンタクトホール６１ａに対応する位置に開口５ａを有する。少なくとも、反
射領域ＥＲに対応する反射膜５の内面上、及び、透過領域Ｅｔに対応するパシベーション
層５１の内面上には、サブ画素領域ＳＧと略同一の大きさを有する画素電極１０が形成さ
れている。また、画素電極１０の一部は、パシベーション層５１の開口５１ａ内まで形成
されており、ドレイン電極５４の一端側と電気的に接続されている。このため、画素電極
１０は、ＴＦＴ素子２１と電気的に接続されている。画素電極１０等の内面上には、ポリ
イミド膜等により形成され、所定の方向にラビング処理が施された配向膜１７が形成され
ている。
【００８８】
また、下側基板１の外面上には偏光板１１が配置されていると共に、偏光板１１の外面
上には、位相差板１３が配置されている。位相差板１３の外面上には、照明装置としての
バックライト１５が配置されている。バックライト１５は、例えば、ＬＥＤ（Light Emit
ting Diode）等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源と導光板を組み合
わせたものなどが好適である。
【００８９】
また、バックライトとして、Ｒ、Ｇ、Ｂの光源としてＬＥＤ、蛍光管、有機ＥＬ（Elec
tro Luminescence）を用いても良い。または白色光源を用いていも良い。なお、白色光源
は青の発光体とＹＡＧ蛍光体により生成される白色光源でもよい。
【００９０】
バックライトのＲＧＢ光源としては、以下のものが好ましい。Ｂは発光する光の波長の
ピークが４３５ｎｍ−４８５ｎｍにあるもの、Ｇは発光する光の波長のピークが５２０ｎ
ｍ−５４５ｎｍにあるもの、Ｒは発光する光の波長のピークが６１０ｎｍ−６５０ｎｍに
あるものであり、ＲＧＢ光源の波長によって、上記カラーフィルタを適切に選定すればよ
り広範囲の色再現性を得ることができる。また、波長が例えば、４５０ｎｍと５６５ｎｍ
にピークがくるような、複数のピークを持つ光源を用いていも良い。以上のようにして、
素子基板９１が構成されている。
【００９１】
次に、上記の約２画素分に対応するカラーフィルタ基板９２の断面構成について説明す
る。
【００９２】
上側基板２の内面上であって、１つのサブ画素領域ＳＧ内には、Ｃ（シアン）に対応す
る着色層６Ｃが、また、当該１つのサブ画素領域ＳＧと右側に隣接する、他の１つのサブ
画素領域ＳＧ内には、同じくＣ（シアン）に対応する着色層６Ｃが夫々形成されている。
各着色層６Ｃの各々を区画する位置にはＢＭが形成されている。有効表示領域Ｖ内であ
って、且つ少なくとも反射領域ＥＲに対応する各着色層６Ｃ及びＢＭ等の内面上には、段
差形成膜６２が形成されている。ここで、額縁領域３８に対応する位置には段差形成膜６
２は形成されていない。段差形成膜６２及び透過領域Ｅｔに対応する各着色層６Ｃの各内
面上には、ＩＴＯやＩＺＯ等からなる共通電極８が形成されている。共通電極８の内面上
において、段差形成膜６２及びＢＭと重なる位置には液晶層４の厚さを規定するフォトス
ペーサが設けられるが、図３ではその図示を省略している。共通電極８等の内面上には、
図２の矢印Ｙ１方向にラビング処理が施された配向膜２０が形成されている。また、上側
基板２の外面上には、偏光板１２が配置されていると共に、偏光板１２の外面上には位相
差板１４が配置されている。以上のようにして、カラーフィルタ基板９２が構成されてい
る。
【００９３】
以上の構成を有する素子基板９１とカラーフィルタ基板９２の間には液晶が封入され、
液晶層４が形成されており、かかる液晶層４の厚さは、上記の位置に設けられたフォトス
ペーサ２２によって、反射領域ＥＲに対応する液晶層４の厚さがｄ１に、また、透過領域
Ｅｔに対応する液晶層４の厚さがｄ２（＞ｄ１）に夫々設定され、いわゆるマルチギャッ
プ構造をなす。好適な例では、反射領域ＥＲに対応する液晶層４の厚さｄ１を約２μｍに
、また、透過領域Ｅｔに対応する液晶層４の厚さｄ２を約４μｍに夫々設定されているの
が好ましい。これにより、この液晶装置１００は、透過型表示と反射型表示とで適切な表
示特性を得ることができる。
【００９４】
さて、かかる構成を有する液晶装置において、透過型表示がなされる場合、バックライ
ト１５から出射した照明光は、図３に示す経路Ｔに沿って進行し、主として、画素電極１
０、共通電極８及び着色層６等を夫々通過して観察者に至る。このため、その照明光は、
着色層６を夫々透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカ
ラー表示画像が観察者により視認される。一方、反射型表示がなされる場合、液晶装置１
００内に入射した外光は、図３に示す経路Ｒに沿って進行する。つまり、液晶装置１００
内に入射した外光は、反射膜５によって反射され観察者に至る。この場合、その外光は、
各着色層６が形成されている領域を夫々通過して、その各着色層６の下方に位置する反射
膜５により反射され、再度、各着色層６を夫々通過することによって所定の色相及び明る
さを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。
【００９５】
特に、この液晶装置１００では、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの４色を用いて構成されているので、
人間の視感度が高いＧの色の光の輝度の低下が抑制され、また、いわゆるＣＩＥ色度図に
おいて、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置と比較して、色再現範囲（色度域）が
大きくなっている。
【００９６】
（カラーフィルタ基板の構成）
次に、図２及び図４を参照して、第１実施形態に係るカラーフィルタ基板９２の詳細な
構成について説明する。図２は、カラーフィルタ基板９２における２画素分に対応するレ
イアウトを示す部分平面図である。なお、図２では、カラーフィルタ基板９２の各要素と
、素子基板９１の各要素との相対的な位置関係を理解し易くするため、素子基板９１側に
設けられる画素電極１０、ＴＦＴ素子２１、ソース線３２及びゲート線３３の第２配線３
３Ｂも示す。
【００９７】
上側基板２は、ガラスや石英等の絶縁性を有する材料にて形成されている。上側基板２
の内面上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色のいずれかからなる着色層
６がＲＧＣＢＲＧＣＢ・・・の配列順序でＸ方向にストライプ状に設けられている。ここ
で、１つのサブ画素領域ＳＧに着目した場合、当該１つのサブ画素領域ＳＧは、その領域
内において、中央に位置する透過型表示が行われる透過領域Ｅｔと、当該透過領域Ｅｔの
上下方向に設けられた反射型表示が行われる反射領域ＥＲを有して構成される。各着色層
６Ｒ、６Ｇ、６Ｃ及び６Ｂは、対応する各画素電極１０と対向している。また、上側基板
２の内面上であって、各着色層６を区画する位置には、隣接するサブ画素領域ＳＧを隔て
、一方のサブ画素領域ＳＧから他方のサブ画素領域ＳＧへの光の混入を防止するためＢＭ
が形成されている。また、素子基板９１側において、各着色層６の左下隅に対応する位置
には、ＴＦＴ素子２１が設けられている。また、素子基板９１側において、Ｘ方向に相隣
接する着色層６の間にはソース線３２が設けられていると共に、Ｙ方向に相隣接する着色
層６の間にはゲート線３３の第２配線３３Ｂが設けられている。
【００９８】
着色層６及びＢＭ等の内面上であって、反射領域ＥＲに対応する位置には、感光性を有
するアクリル樹脂等の透明材料からなる段差形成膜６２が形成されている（二点鎖線にて
囲まれる領域に相当）。反射領域ＥＲの液晶層４の厚さｄ１と透過領域Ｅｔの液晶層４の
厚さｄ２とを上記した好適な例の各値に夫々設定する場合には、段差形成膜６２の厚さは
、約１．７μｍに設定されているのが好ましい。この段差形成膜６２は、上記した反射領
域ＥＲの液晶層４の厚さｄ１と透過領域Ｅｔの液晶層４の厚さｄ２を所定の関係に規定す
るセル厚調整層として機能する。また、透過領域Ｅｔに対応する位置には段差形成膜６２
は形成されておらず、反射領域ＥＲに対して透過領域Ｅｔは窪んだ領域となっている。ま
た、各着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに対応する段差形成膜６２の一部
には、後述する断面形状を有し、ラビング方向Ｙ１と直交しないＹ方向に延在する溝６２
ａが設けられている。ここで、１つの着色層６Ｃに対応するサブ画素に着目した場合、反
射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ内の空間は、透過領域Ｅｔの空間と通じている又は繋
がっている。また、Ｙ方向に相隣接する着色層６Ｃに対応する２つのサブ画素に着目した
場合、１つの着色層６Ｃの反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間は、他の１つの着
色層６Ｃの反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間に通じている又は繋がっている。
そして、図１を参照して推測できるように、Ｙ方向に隣接する各着色層６Ｃに対応する
ｍ個分（ｍ：自然数）のサブ画素に着目した場合、各着色層６Ｃの反射領域ＥＲに設けら
れた溝６２ａ内の空間及び透過領域Ｅｔの空間は互いに通じている又は繋がっている。こ
のため、この液晶装置１００では、有効表示領域Ｖの上端Ｖａ及び下端ＶＢの各近傍位置
にある各着色層６Ｃの反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の
存在しない非表示領域たる額縁領域３８に対応する空間と通じている又は繋がっている。
【００９９】
図２に戻り、反射領域ＥＲに対応する段差形成膜６２及び透過領域Ｅｔに対応する着色
層６の各内面上には、ＩＴＯやＩＺＯ等からなる共通電極８が形成されている。反射領域
ＥＲにおける共通電極８上の所定位置には、フォトスペーサが設けられているが、図２及
び図３ではその図示を省略している。共通電極８等の内面上には、ポリイミド膜等よりな
る配向膜２０が形成されており、その配向膜２０の表面上には矢印Ｙ１方向にラビング処
理が施されている。本発明においてラビング方向Ｙ１に特に限定はないが、好適な例では
、ラビング方向Ｙ１は、Ｘ方向を基準として反時計回りに、例えば約４５度又は約６０度
に設定されているのが好ましい。なお、本発明において、ラビング処理の方法は、例えば
上記した従来例の方法を用いることが可能である。但し、これに限らず、本発明では周知
の各種の方法を採用することもできる。
【０１００】
次に、図４を参照して、Ｒ、Ｇ、Ｃ、Ｂの各色の反射領域ＥＲを通る位置で切断したカ
ラーフィルタ基板９２の断面構成について説明する。図４（ａ）は、図２における切断線
Ｂ−Ｂ´に沿った部分断面図である。
【０１０１】
上側基板２上には、画素領域ＡＧ毎に、ＲＧＣＢの配列順序で着色層６がＸ方向にスト
ライプ状に配置されている。上側基板２上であって各着色層６の間にはＢＭが形成されて
いる。各着色層６及びＢＭの上には、段差形成膜６２が形成されている。特に、このカラ
ーフィルタ基板９２において、着色層６Ｃと重なる位置に対応する段差形成膜６２の一部
は完全に除去されており、その部分にはＵ字若しくはＶ字状の溝６２ａが設けられている
。段差形成膜６２等の上には共通電極８が形成されている。このため、段差形成膜６２に
設けられた溝６２ａに対応する位置に存在する共通電極８は着色層６Ｃと接している。な
お、本発明では、図４（Ｂ）に示すように、着色層６Ｃと重なる位置に対応する段差形成
膜６２の溝６２ａが形成されるべき領域は完全に除去されていなくてもよい。この構成に
より、当該溝６２ａに位置する段差形成膜６２の厚さは、その溝６２ａ以外の位置に対応
する当該段差形成膜６２の厚さより小さく設定される。これは、この液晶装置の製造過程
において、段差形成膜６２の溝６２ａを形成するべき位置に、半透明膜からなるマスクを
配置して露光（ハーフートーン露光）等のフォトリソグラフィー技術を用いることにより
形成することができる。また、この場合、段差形成膜６２に設けられた溝６２ａに対応す
る位置に存在する共通電極８は、段差形成膜６２と接する構成となる。また、共通電極８
上には、図２の矢印Ｙ１方向にラビング処理が施された配向膜２０が形成されている。
【０１０２】
次に、図１及び図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の作用効
果について説明する。
【０１０３】
この液晶装置１００の製造過程では、図１及び図２に示すように、カラーフィルタ基板
９２側に設けられた配向膜２０の表面上を矢印Ｙ１方向にラビング処理を施す。ラビング
処理は、例えば、ラビング処理用の布をロールに巻きつけて、それを高速で回転させつつ
矢印Ｙ１方向に移動させながら配向膜の表面を擦ることにより行われる。
【０１０４】
ここで、一般的なマルチギャップ構造を有する液晶装置（比較例）では、反射領域ＥＲ
に対応する位置に段差形成膜が形成されているが、透過領域Ｅｔに対応する位置には段差
形成膜は形成されておらず、透過領域Ｅｔは反射領域Ｅｔに対して窪んだ領域となってい
る。例えば、比較例において、透過領域Ｅｔに対応する液晶層４の厚さｄ２を約４μｍに
、また、反射領域ＥＲに対応する液晶層４の厚さｄ１をその半分の約２μｍに夫々設定す
るために、段差形成膜６２の厚さを約１．７〜２μｍに設定したと仮定すると、透過領域
Ｅｔは、反射領域ＥＲの段差形成膜６２上から下側に約１．７〜２μｍ程度窪んだ領域と
なる。したがって、かかるラビング処理方法を比較例に採用した場合、そのラビング処理
によって有効表示領域Ｖ内に多量の微細な塵埃（残渣）が発生したときに、その塵埃が段
差形成膜の存在しない窪んだ透過領域Ｅｔに溜まってしまう。これにより、比較例では、
その微細な塵埃が配向膜２０の表面上に付着したままの状態となって液晶の配向を乱し、
これにより表示品位を著しく低下させてしまうという問題がある。
【０１０５】
この点、この液晶装置１００では、Ｙ方向に列をなす、Ｃ（シアン）の各着色層６Ｃに
対応する各サブ画素内において、反射領域ＥＲに設けられた段差形成膜６２に対して、図
２のＹ方向に延在するように溝６２ａが形成されており、さらに、その各溝６２ａ内の空
間が、各透過領域Ｅｔの空間に通じている又は繋がっていると共に、相隣接する各サブ画
素内に設けられた各溝６２ａ内の空間に通じている又は繋がっている。また、この液晶装
置１００では、有効表示領域Ｖ内にのみ段差形成膜６２を有する一方、非表示領域たる額
縁領域３８には段差形成膜６２を有しない構成となっている。このため、Ｙ方向に列をな
す着色層６Ｃに対応する各サブ画素の反射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ内の空間は、
段差形成膜６２の設けられていない額縁領域３８の空間に通じている又は繋がっている。
【０１０６】
そのため、ラビング処理の際に有効表示領域Ｖ内に発生した多量の微細な塵埃が、矢印
Ｙ１方向へのラビング処理用の布の移動に伴って、段差形成膜６２の存在しない窪んだ透
過領域Ｅｔに落ち込んだ場合でも、その塵埃は、任意の１つのサブ画素内において、図中
の矢印Ｙ方向に示すように、反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ→透過領域Ｅｔ→当該透
過領域Ｅｔの上側に位置する反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａという経路を辿って掃き
出され、その掃き出された塵埃は、さらに、当該１つのサブ画素とＹ方向に且つ上側に隣
接する他のサブ画素内において、上記同様の経路を辿って掃き出され、最終的に非表示領
域としての額縁領域３８に掃き出される。つまり、Ｃ（シアン）の各着色層６Ｃに対応す
る各サブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａは、ラビング処理の際に有効表示領
域Ｖ内に発生する塵埃を掃き出す際の案内路として機能する。これにより、有効表示領域
Ｖ内においてラビング処理の際に発生した多量の塵埃が当該有効表示領域Ｖ内から完全に
除去され、その塵埃に起因して液晶の配向乱れが生じるのを防止でき、表示品位が低下す
るのを防止できる。
【０１０７】
また、第１実施形態では、反射領域ＥＲの段差形成膜６２の一部分に設ける溝６２ａを
、シアンの着色層６Ｃに対応するサブ画素に設定している。ここで、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）
、Ｂ（青）、Ｃ（シアン）の４色のうち、Ｃ（シアン）は色再現範囲を向上させる必要が
ある場合に補助的に用いられ、且つ、Ｃ（シアン）は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）
と比較して輝度が一番低く、人間の視覚に対して最も影響を与え難い。このため、Ｃ（シ
アン）に対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに上記の溝６２ａを設定する方が、Ｒ、Ｇ、
Ｂの原色系に対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに上記の溝６２ａを設定するよりも、表
示品質を向上する上で好ましい。また、万が一、着色層６Ｃに対応するサブ画素内にラビ
ング処理の際に発生した塵埃が残存し、その塵埃に起因してそのサブ画素内で液晶の配向
不良が生じたとしても、上記の理由により、その液晶の配向不良領域においての表示を目
立たなくすることができる。
【０１０８】
［第２実施形態］
次に、図５を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。図５は、図２に対応
する部分平面図であり、特に、第２実施形態に係る２画素分に対応するカラーフィルタ基
板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。なお、以下では、第１実施形態と同一
の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【０１０９】
第１実施形態と第２実施形態とを比較した場合、その両者の基本的な構成は略共通して
いる。但し、第２実施形態は、Ｃ（シアン）の着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領
域ＥＲに設ける溝６２ａの延在方向が、第１実施形態の溝６２ａの延在方向と相違してい
る。
【０１１０】
具体的には、第２実施形態において、着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲ
に設けられた段差形成膜６２の一部分には、第１実施形態と同様の断面形状を有する溝６
２ａが形成されている。図５において、上側に位置する着色層６Ｃに対応する１つのサブ
画素に着目した場合、反射領域ＥＲにおける段差形成膜６２の一部分に設けられた溝６２
ａの延在方向は、ラビング方向Ｙ１と平行に設定されている。そして、反射領域ＥＲの各
溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない透過領域Ｅｔの空間に通じている又は
繋がっている。一方、下側に位置する着色層６Ｃに対応する他のサブ画素に着目した場合
、反射領域ＥＲにおける段差形成膜６２の一部分に設けられた溝６２ａの延在方向は、ラ
ビング方向Ｙ１と交差する方向に且つ斜め方向に設定されている。そして、反射領域ＥＲ
の各溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない透過領域Ｅｔの空間に通じている
又は繋がっている。さらに、当該他のサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた複数の溝６
２ａのうち一つの溝６２ａ内の空間は、上記の当該１つのサブ画素内の反射領域ＥＲに設
けられた複数の溝６２ａのうち一つの溝６２ａ内の空間と通じている又は繋がっている。
このような構成により、当該１つのサブ画素内の溝６２ａと、当該他のサブ画素の溝６
２ａとを結ぶ形状は、平面的に見たときに折れ曲がる形状に形成されている。以上に述べ
た構造は、図１において、Ｙ方向に列をなす各着色層６Ｃに対応する各サブ画素の全体に
対して適用されている。したがって、図１において、有効表示領域Ｖの上端Ｖａの近傍位
置に配置された着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内
の空間は、段差形成膜６２の存在しない額縁領域３８の空間と通じている又は繋がってい
ると共に、有効表示領域Ｖの下端ＶＢの近傍位置に配置された着色層６Ｃに対応するサブ
画素内の反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない額
縁領域３８の空間と通じている又は繋がっている。
【０１１１】
よって、第２実施形態では、上記した第１実施形態と略同様の原理により、ラビング処
理の際に有効表示領域Ｖ内で発生する多量の微細な塵埃は、矢印Ｙ１方向へのラビング処
理用の布の移動に伴って、図中の矢印Ｙ２方向に示すように、Ｃ（シアン）の着色層６Ｃ
に対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ及び透過領域Ｅｔを通じて
、最終的に非表示領域としての額縁領域３８へと蛇行しながら掃き出される。特に、第２
実施形態では、着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた段差形成膜
６２の、一部の溝６２ａの延在方向をラビング方向Ｙ１と平行に形成しているので、より
一層、そのラビング処理の際に発生する塵埃を額縁領域３８へと掃き出し易くなっている
。
【０１１２】
なお、本発明では、ラビング処理の際に有効表示領域Ｖ内に発生した多量の塵埃を非表
示領域たる額縁領域３８へ、より一層掃き出し易くする為に上記の構成を若干変更しても
構わない。即ち、図６に示すように、ラビング方向Ｙ１と逆側に位置する溝６２ａの一端
側を、その溝６２ａの幅より大きく形成された開放端６２ａＢ（破線領域Ｅ３の部分）と
することができる。これにより、より一層、ラビング処理の際に有効表示領域Ｖ内で発生
した塵埃を非表示領域たる額縁領域３８へ掃き出し易くすることができる。
【０１１３】
［第３実施形態］
次に、図７及び図８を参照して、本発明の第３実施形態について説明する。図７は、図
２に対応する部分平面図であり、特に、第３実施形態に係る２画素分に対応するカラーフ
ィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図８は、図７における切断線
Ｃ−Ｃ´に沿った部分断面図であり、特に、反射領域ＥＲに対応する位置に設けられた段
差形成膜６２の溝６２ａを通る位置で切断した部分断面図である。なお、以下では、第１
実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【０１１４】
第１実施形態と第３実施形態とを比較した場合、その両者の基本的な構成は略共通して
いる。特に、第３実施形態では、着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設け
られた段差形成膜６２の一部分に、ラビング処理の際に有効表示領域Ｖ内に発生する塵埃
を掃き出す案内路として機能する溝６２ａを設ける点では第１実施形態と構成上共通する
ものの、その溝６２ａの形成位置が第１実施形態と異なっている。
【０１１５】
具体的には、図７及び図８に示すように、第３実施形態では、反射領域ＥＲに設けられ
た段差形成膜６２の１つの溝６２ａ（ハッチングの部分）は、各着色層６Ｇと各着色層６
Ｃとの間に設けられＹ方向に延在するＢＭの一部、及び、当該各着色層６Ｃの左辺６ｓ付
近の一部と重なる位置に設けられていると共に、他の溝６２ａ（ハッチングの部分）は、
各着色層６Ｃと各着色層６Ｂとの間に設けられＹ方向に延在するＢＭの一部、及び、当該
各着色層６Ｃの右辺６ｔ付近の一部と重なる位置に設けられている。このため、図８に示
すように、当該１つの溝６２ａと当該他の溝６２ａとは、Ｘ方向に対応する位置に設けら
れ、それらの溝６２ａの間に位置する段差形成膜６２は凸状に形成されている。また、図
７において、上側に位置する着色層６Ｃに対応する１つのサブ画素に着目すると、反射領
域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない透過領域Ｅｔの空
間と通じている又は繋がっている。また、図７において、下側に位置する着色層６Ｃに対
応する他のサブ画素に着目すると、反射領域ＥＲに設けられた溝６２ａ内の空間は、上記
同様に、段差形成膜６２の存在しない透過領域Ｅｔの空間と通じている又は繋がっている
。さらに、当該１つのサブ画素及び当該他のサブ画素の２つに着目すると、当該１つのサ
ブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ内の空間は、当該他のサブ画素内の反射
領域ＥＲに設けられた、対応する各溝６２ａ内の空間と通じている又は繋がっている。以
上に述べた構造は、図１において、Ｙ方向に列をなす各着色層６Ｃに対応する各サブ画素
の全体に対して適用されている。したがって、図１において、有効表示領域Ｖの上端Ｖａ
の近傍位置に配置された着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた各
溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない額縁領域３８の空間と通じている又は
繋がっていると共に、有効表示領域Ｖの下端ＶＢの近傍位置に配置された着色層６Ｃに対
応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の
存在しない額縁領域３８の空間と通じている又は繋がっている。
【０１１６】
よって、第３実施形態では、上記した第１実施形態と略同様の原理により、ラビング処
理の際に有効表示領域Ｖ内で発生した多量の微細な塵埃は、矢印Ｙ１方向へのラビング処
理用の布の移動に伴って、図中の矢印Ｙ方向に示すように、Ｃ（シアン）の着色層６Ｃに
対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられた各溝６２ａ及び透過領域Ｅｔを通じて、
最終的に、非表示領域としての額縁領域３８へと掃き出される。このため、第３実施形態
は、上記第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【０１１７】
また、第３実施形態では、着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設けられ
た段差形成膜６２の溝６２ａはテーパ状の形状を有するため、液晶の駆動時、その溝６２
ａ付近において所望の表示品位が得られない虞がある。この点、第３実施形態では、反射
領域ＥＲに対応する段差形成膜６２の一部分に設けられる溝６２ａの少なくとも一部をＢ
Ｍと重なる位置に設けるようにしている。これにより、液晶の駆動時、万が一、その溝６
２ａ付近で表示品位が低下したとしても、その部分はＢＭによって覆い隠されるので、表
示品質が低下するのを防止できる。
【０１１８】
［第４実施形態］
次に、図９を参照して、本発明の第４実施形態について説明する。
【０１１９】
図９（ａ）は、図１において、カラーフィルタ基板側の１つの着色層６Ｃに対応する１
つのサブ画素の平面構成を示す平面図である。一方、図９（Ｂ）は、図９（ａ）における
切断線Ｄ−Ｄ'に沿った断面図であり、特に、その１つのサブ画素内の反射領域ＥＲに設
けられる段差形成膜６２の溝６２ａを通る位置で切断した断面図である。なお、図９（Ｂ
）では、当該着色層６Ｃに対応する１つのサブ画素に対して、Ｘ方向に相隣接する他のサ
ブ画素の構成要素も部分的に示す。また、以下では、第１実施形態と同一の要素について
は同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【０１２０】
第４実施形態において、各着色層６Ｃに対応する１サブ画素の構成は次の通りとなって
いる。なお、第４実施形態に係るカラーフィルタ基板の基本的な構成は第１実施形態と略
共通しているので、その説明は省略する。
【０１２１】
１つの着色層６Ｃは、上側基板２上であって、１サブ画素を規定するサブ画素領域ＳＧ
内に配置されている。１サブ画素は、その略中央に位置する透過領域Ｅｔと、その透過領
域Ｅｔの上下方向に位置する反射領域ＥＲとを備えて構成される。反射領域ＥＲに対応す
る１つの着色層６Ｃには、その略中央位置に非着色領域６ａ（破線領域Ｅ４に相当する部
分内）が設けられている。このため、各着色層６Ｃの面積は、各着色層６Ｒ、各着色層６
Ｇ及び各着色層６Ｂの各々の面積と比較して小さくなっている。しかし、Ｃ（シアン）の
着色層６Ｃは、色再現範囲を向上させる必要がある場合に補助的に用いられるため表示品
質に与える影響は少ない。また、これにより、１サブ画素内において、反射領域ＥＲにお
ける着色層６Ｃの光学濃度は、透過領域Ｅｔにおける着色層６Ｃの光学濃度より薄く設定
されている。また、１つの着色層６Ｃと相隣接する他の着色層６とを区画する位置にはＢ
Ｍが形成されている。少なくとも反射領域ＥＲに対応する位置には段差形成膜６２が形成
されている一方、透過領域Ｅｔに対応する位置には段差形成膜６２は形成されていない。
このため、反射領域ＥＲに対して、透過領域Ｅｔは段差形成膜６２の存在しない窪んだ
領域となっている。また、反射領域ＥＲに対応する段差形成膜６２上、及び透過領域Ｅｔ
に対応する上側基板２（図示略）上には、それぞれ共通電極８が形成されていると共に、
共通電極８上には矢印Ｙ１方向にラビング処理が施された配向膜２０が形成されている。
【０１２２】
以上の構成を有する第４実施形態では、特に、段差形成膜６２の溝６２ａが、反射領域
ＥＲに対応する着色層６Ｃの非着色領域６ａに対応して設けられている。ここで、当該非
着色領域６ａは、反射領域ＥＲの着色層６Ｃに対応するサブ画素の輝度を高める役割を有
する。したがって、万が一、その溝６２ａ付近の形状に起因して、その溝６２ａ付近で液
晶の配向乱れが生じたとしても、その非着色領域６ａにおける明るさの向上により、その
液晶の配向乱れの領域での表示を目立たなくすることができる。よって、表示品位が低下
するのを防止できる。なお、第４実施形態におけるその他の作用効果、特に、ラビング処
理の際に有効表示領域Ｖ内に発生する塵埃を非表示領域たる額縁領域３８側へ掃き出す原
理は、第１実施形態と同様である。
【０１２３】
［変形例］
上記の各実施形態では、１サブ画素は、その略中央に設けられた透過領域Ｅｔと、その
透過領域Ｅｔの上下方向に設けられた反射領域ＥＲとを備えて構成されていた。この構成
に限らず、本発明では、図１０に示すように、１サブ画素は、相隣接するように透過領域
Ｅｔと反射領域ＥＲを設けても構わない。図１０は、図２に対応する、変形例に係る２画
素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。なお
、図１０では、カラーフィルタ基板の各要素と、素子基板の各要素との相対的な位置関係
を理解し易くするため、素子基板側に設けられる画素電極１０、ＴＦＴ素子２１、ソース
線３２及びゲート線３３の第２配線３３Ｂも示す。
【０１２４】
この変形例では、特に、図１０に示すように、各着色層６Ｃに対応する各サブ画素内の
各反射領域ＥＲに設けられた段差形成膜６２の一部分にＹ方向に延在するように溝６２ａ
を形成している。そして、各溝６２ａ内の空間は、段差形成膜６２の存在しない透過領域
Ｅｔの空間と通じている又は繋がっている。このため、この変形例において、ラビング処
理の際に有効表示領域Ｖ内に発生する塵埃は、図中の矢印Ｙ方向に掃き出され、最終的に
、図１に示す非表示領域たる額縁領域３８へと掃き出される。よって、第１実施形態と同
様の作用効果を得ることができる。
【０１２５】
また、上記の各実施形態及び変形例では、カラーフィルタ基板９２側の反射領域ＥＲに
対応する位置に設けられる段差形成膜６２の所定位置に溝６２ａを形成するように構成し
たが、これに限らず、本発明では、素子基板９１側の反射領域ＥＲに対応する位置に設け
られる段差形成膜６１（図２を参照）に且つ当該所定位置に対応する位置にそのような溝
を形成し、上記の各実施形態及び変形例と同様の作用効果を得るようにしても構わない。
また、この構成に限らず、本発明では、カラーフィルタ基板９２側の反射領域ＥＲに対
応する位置に設けられる段差形成膜６２の所定位置、及び、素子基板９１側の反射領域Ｅ
Ｒに対応する位置に設けられる段差形成膜６１（図２を参照）に且つ当該所定位置に対応
する位置の両方に夫々そのような溝を形成して、上記の各実施形態及び変形例と同様の作
用効果を得るようにしても構わない。
【０１２６】
また、上記の第２実施形態〜第４実施形態及び変形例において、着色層６Ｃに対応する
サブ画素内の反射領域ＥＲに設けられる段差形成膜６２の溝６２ａが形成されるべき領域
では、上記の第１実施形態の変更例と同様に、当該段差形成膜６２は完全に除去されてい
なくてもよい。この構成により、当該溝６２ａに位置する段差形成膜６２の厚さは、その
溝６２ａ以外の位置に対応する当該段差形成膜６２の厚さより小さく設定される。なお、
この構成は、上記したハーフートーン露光方法により実現できる。
【０１２７】
また、上記の各実施形態及び変形例では、段差形成膜６２の溝６２ａを、Ｃ（シアン）
の着色層６Ｃに対応するサブ画素内の反射領域ＥＲに設定するように構成したが、これに
限らず、本発明では、当該溝６２ａを、その他の色、例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の各着色
層６に対応するサブ画素のうちいずれかのサブ画素内の反射領域ＥＲに設定するようにし
ても構わない。また、この構成に代えて、本発明では、当該溝６２ａを、少なくとも、Ｒ
、Ｇ、Ｂ、Ｃの各色の各着色層６に対応するサブ画素内の各反射領域ＥＲに設定するよう
にしても構わない。
【０１２８】
また、本発明では、上記の各実施形態及び変形例におけるＣ（シアン）の着色層６Ｃを
、Ｃ（シアン）の色以外の、赤、緑、青のいずれか１つの色の補色に対応する着色層に代
えるようにしても構わない。
【０１２９】
また、本発明では、上記の第１実施形態、第３実施形態、第４実施形態及び変形例にお
いて、上記の第２実施形態の構成を若干変更した構成例のように、ラビング方向Ｙ１と逆
側に位置する溝６２ａの一端側を当該溝６２ａの幅より大きく形成した開放端６２ａＢと
することができる。
【０１３０】
また、反射領域の各々に設けられる、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃ（シアン）の各色の着色層６の光
学濃度は、透過領域の各々に設けられた、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃ（シアン）の各色の着色層６の
光学濃度よりも薄く設定されていても構わない。これにより、透過型表示と反射型表示と
で適切な表示特性を得ることができる。
【０１３１】
また、上記の各実施形態及び変形例では、ＴＦＴ素子などの三端子型素子を有する液晶
装置に本発明を適用したが、これに限らず、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子などの二端
子型非線形素子を有する液晶装置に本発明を適用しても構わない。
【０１３２】
また、本発明は、その趣旨に鑑みれば、配向膜にラビング処理が施される方式の液晶装
置、例えば、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式を有する液晶装置、又はＩＰＳ（In
Plane Switching）方式を有する液晶装置にも適用することが可能である。その他、本発
明は、上記の各実施形態及び変形例の構成に限定されず、その趣旨を逸脱しない範囲にお
いて種々の変形をすることが可能である。
【０１３３】
［表示画像の変換方法］
次に、上記の実施形態に係る液晶装置１００において、ＲＧＢの各色の画像信号をＲＧ
ＢＣの各色の画像信号に変換する方法について述べる。なお、この方法は、液晶装置１０
０に限らず、上記の各実施形態及び変形例に係る液晶装置にも適用可能である。
【０１３４】
図１１は、上記の液晶装置１００の模式図である。液晶装置１００において、入力され
たＲＧＢの各色の画像信号がＲＧＢＣの各色の画像信号に変換される場合、液晶装置１０
０は、表示画像変換回路６１２を備える。表示画像変換回路６１２は、パーソナルコンピ
ュータなどの外部の表示画像出力源６１１より出力されたＲＧＢの各色の画像信号を、Ｒ
ＧＢＣの各色の画像信号に変換して、液晶表示パネル６００に出力する機能を有する。
【０１３５】
表示画像出力回路６１２は、ＣＰＵ（Ｃentral Processing Unit）などの演算処理部６
１２ａと、ＲＡＭ（Ｒandom Access Memory）などの記憶部６１２Ｂとを備えて構成され
ている。演算処理部６１２ａは、表示画像出力源６１１より出力された入力画像のＲＧＢ
の各色の画像信号６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂを、ＲＧＢＣの各色の画像信号６２Ｒ、６２Ｇ
、６２Ｂ、６２Ｃに変換する。記憶部６１２Ｂには、所定の強度のＲＧＢの各色の画像信
号と、これに対応する強度のＲＧＢＣの各色の画像信号とを対応させたＬＵＴ（Look Up 
Table）が設けられている。例えば、演算処理部６１２ａに、Ｃの色のみを表示させるＲ
ＧＢの各色の画像信号、例えば、Ｒ＝０、Ｇ＝１００、Ｂ＝１００の強度のＲＧＢの各色
の画像信号が入力された場合、演算処理部６１２ａは、このＲＧＢの各色の画像信号の強
度に対応する強度のＲＧＢＣの各色の画像信号（例えば、Ｒ＝０、Ｇ＝１０、Ｂ＝１０、
Ｃ＝１００）を、記憶部６１２ＢのＬＵＴより取得し、取得したＲＧＢＣの各色の画像信
号を液晶表示パネル６００へ出力する。これにより、液晶表示パネル６００の表示画面に
、ＲＧＢの各色だけでなく、Ｃの色を表示することができる。このようにすることで、入
力画像の画像信号として、ＲＧＢの画像信号が入力された場合においても、出力画像の色
再現範囲をシアン系色の色再現範囲に拡大することができる。
【０１３６】
[電子機器]
次に、上述した各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器の
具体例について図１２を参照して説明する。
【０１３７】
まず、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、可搬型のパーソナルコンピュ
ータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１２（ａ
）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パー
ソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、本発明に係る
液晶装置１００等を適用した表示部７１３とを備えている。
【０１３８】
続いて、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、携帯電話機の表示部に適用
した例について説明する。図１２（Ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。
同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２
２、送話口７２３とともに、本発明に係る液晶装置１００等を適用した表示部７２４を備
える。
【０１３９】
なお、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器としては、
図１２（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１２（Ｂ）に示した携帯電話機の他に
も、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビ
ゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、
テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を模式的に示す平面図。
【図２】第１実施形態における２画素分に対応するカラーフィルタ基板の部分平面図。
【図３】図２における切断線Ａ−Ａ´に沿った断面図。
【図４】図２における切断線Ｂ−Ｂ´に沿った断面図。
【図５】第２実施形態における２画素分に対応するカラーフィルタ基板の部分平面図。
【図６】第２実施形態の変形例に係る２画素分のカラーフィルタ基板の部分平面図。
【図７】第３実施形態における２画素分のカラーフィルタ基板の部分平面図。
【図８】図７における切断線Ｃ−Ｃ´に沿った断面図。
【図９】第４実施形態の１サブ画素分のカラーフィルタ基板の平面図及び断面図。
【図１０】変形例に係る２画素分のカラーフィルタ基板の部分平面図。
【図１１】本発明の液晶装置の表示画像の変換方法を示す模式図。
【図１２】本発明の液晶装置を適用した電子機器の例。
【符号の説明】
【０１４１】
４…液晶層、５…反射膜、６…着色層、８…共通電極、１０…画素電極、２１…ＴＦＴ
素子、３２…ソース線、３３…ゲート線、６１…他の段差形成膜、６２…段差形成膜、６
２ａ…溝、９１…素子基板、９２…カラーフィルタ基板、１００…液晶装置。
【図１】
2007114258.tif 000003
【図２】
2007114258.tif 000004
【図３】
2007114258.tif 000005
【図４】
2007114258.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2007114258.tif 000009
【図８】
2007114258.tif 000010
【図９】
2007114258.tif 000011
【図１０】
2007114258.tif 000012
【図１１】
2007114258.tif 000013
【図１２】
2007114258.tif 000014