(57)【要約】【課題】セルギャップムラが抑制された液晶表示パネルの製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る液晶表示パネル１の製造方法は、第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとが張り合わされた際の表示領域における第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとの間の距離と端子部１１が設けられた領域における同距離とが略同一となるように、第２のマザー基板２０ａの端子対向部にセルギャップ調整膜６０を形成する工程を備えている。【選択図】図４
2007114461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブマトリクス基板と、該アクティブマトリクス基板に対向して設けられた対向基板と、該アクティブマトリクス基板と該対向基板との間に設けられた液晶層と、該アクティブマトリクス基板と該対向基板との間に該液晶層を周回するように形成されたシール部材とを備え、表示領域と、該表示領域の外周に位置する非表示領域とを有する液晶表示パネルの製造方法であって、
上記表示領域を構成する中央領域と、上記非表示領域を構成する周縁領域とを有し、該周縁領域に端子部が設けられたアクティブマトリクス基板部が形成された第１のマザー基板を用意する工程と、
上記端子部を除いた上記アクティブマトリクス基板部に対応する対向基板部が形成された第２のマザー基板を用意する工程と、
上記第１のマザー基板と上記第２のマザー基板とが張り合わされた際の上記表示領域における上記第１のマザー基板と上記第２のマザー基板との間の距離と上記端子部が設けられた領域における同距離とが略同一となるように、上記第２のマザー基板の上記端子部と対向する端子対向部にセルギャップ調整膜を形成する工程と、
上記対向基板部と上記端子対向部とに相互に同じ高さの複数の柱状スペーサを形成する工程と、
減圧雰囲気中において、上記端子部を除いた上記アクティブマトリクス基板部と上記対向基板部とが対向するように、上記第１のマザー基板と上記第２のマザー基板とを上記複数の柱状スペーサ及び液晶を介在させて上記シール部材により貼り合わせることにより上記液晶層を形成する液晶層形成工程と、
上記第１のマザー基板から上記アクティブマトリクス基板部を分断して上記アクティブマトリクス基板を形成する工程と、
上記第２のマザー基板から上記対向基板部を分断して上記対向基板を形成する工程と、
を備えた液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記液晶層形成工程は、上記第１のマザー基板の上に上記中央領域を包囲するように上記シール部材を形成する工程と、該中央領域に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲気中において、該滴下した液晶を介在させて上記第１のマザー基板と上記第２のマザー基板とを上記シール部材により貼り合わせることにより液晶層を形成する工程とを有する液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記液晶層形成工程は、上記第１のマザー基板と上記第２のマザー基板とを上記シール部材により貼り合わせることにより液晶セルを形成する工程と、減圧雰囲気中において該液晶セルに液晶を注入することにより上記液晶層を形成する工程とを有する液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記セルギャップ調整膜の形成を上記対向基板部の形成と同時に行うことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載された液晶表示パネルの製造方法において、
上記対向基板部は、所定配列で配列された複数の色レジスト膜と、該複数の色レジスト膜に積層されたブラックマトリクス膜とを有し、
上記セルギャップ調整膜は、上記各色レジスト膜と同一の膜と上記ブラックマトリクス膜と同一の膜とからなる群より選ばれた１つの膜又は複数の膜の積層により構成されていることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示パネルにおいて、液晶層のセルギャップムラを抑制するために、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に複数のスペーサを設ける技術が用いられている。スペーサとしては、液晶層等に分散混入される粒状のスペーサと、対向基板とアクティブマトリクス基板との間に立設される柱状のスペーサ（例えば、特許文献１等）とが挙げられる。その中でも柱状のスペーサ（柱状スペーサ、ポストスペーサともいう）は液晶層のセルギャップムラを特に効果的に抑制することができるため、盛んに研究開発がなされている。
【特許文献１】特開２００４−４３０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、アクティブマトリクス基板と対向基板と間に複数のポストスペーサを設けた場合であっても、特に端子部近傍でセルギャップムラが発生するという問題がある。
【０００４】
図６は従来の液晶表示パネルの製造工程を表す平面図である。
【０００５】
図７は図６中の切り出し線ＶＩＩ−ＶＩＩで切り出された部分の断面図である。
【０００６】
まず、第１のガラス基板１１３ａに複数のアクティブマトリクス基板部（ソースライン、ゲートライン、ＴＦＴ、絶縁膜（平坦化膜）１１２等）を形成することにより第１のマザー基板１１０ａを作製する。また、第２のガラス基板１２３ａに、複数のアクティブマトリクス基板部に対応した複数の対向基板部（色レジスト膜１２２Ｒ、１２２Ｇ、１２２Ｂ、ブラックマトリクス膜１２１等）を形成することにより第２のマザー基板１２０ａを作製する。第２のマザー基板１２０ａに、複数の柱状スペーサ１５０を形成し、その後、その複数の柱状スペーサ１５０を介在させて、第２のマザー基板１２０ａと第１のマザー基板１１０ａとをシール材１３０により貼り合わせることにより複数の液晶セル１４２を有する貼り合わせ基板２００を作製する。図６及び図７は貼り合わせ基板２００の構成を表す図である。
【０００７】
次に、減圧雰囲気中にて貼り合わせ基板２００に形成された複数の液晶セル１４２中に液晶を注入し、封止することにより液晶層を形成する。最後に、アクティブマトリクス基板部毎に第１のマザー基板１１０ａを分断すると共に、対向基板部毎に第２のマザー基板１２０ａを分断することにより複数の液晶表示パネルを完成させる。
【０００８】
図７に示すように、一般的に、液晶表示パネルの表示領域（中央領域）を構成する領域には、第１のガラス基板上に平坦化膜１１２等の複数の膜が形成されており、且つ第２のガラス基板上にもブラックマトリクス膜２１や色レジスト膜１２２等の複数の膜が形成されている。それに対して、端子部１１１が形成された領域には平坦化膜１１２、ブラックマトリクス膜１２１、及び色レジスト膜１２２等は形成されていない。このため、端子部１１１が設けられた領域（以下、「端子領域」とすることがある。）における第１のマザー基板１１０ａと第２のマザー基板１２０ａとの間の距離Ｈ２は表示領域における同距離Ｈ１よりも長い。従って、中央領域では第２のマザー基板１２０ａ上に設けられた柱状スペーサ１５０が第１のマザー基板１１０ａに当接するものの、端子領域では、柱状スペーサ１５０は第１のマザー基板１１０ａに当接しない。すなわち、端子領域では、柱状スペーサ１５０はスペーサとしての機能を奏さない。その結果、液晶を注入する工程において貼り合わせ基板２００が減圧雰囲気中におかれると、端子領域において両基板１１０ａ、１２０ａが凹状に変形（反り、撓み等）し、それに伴って、中央領域においても両基板１１０ａ、１２０ａに変形（反り、撓み等）が生じる。従って、特に端子部１１１近傍の領域で液晶層のセルギャップムラが発生するという問題が生じる。
【０００９】
本発明は係る点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、セルギャップムラが抑制された液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る製造方法は、アクティブマトリクス基板と、アクティブマトリクス基板に対向して設けられた対向基板と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に設けられた液晶層と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶層を周回するように形成されたシール部材とを備え、表示領域と、表示領域の外周に位置する非表示領域とを有する液晶表示パネルを製造するための方法である。
【００１１】
本発明に係る製造方法は、表示領域を構成する中央領域と、非表示領域を構成する周縁領域とを有し、周縁領域に端子部が設けられたアクティブマトリクス基板部が形成された第１のマザー基板を用意する工程と、端子部を除いたアクティブマトリクス基板部に対応する対向基板部が形成された第２のマザー基板を用意する工程と、第１のマザー基板と第２のマザー基板とが張り合わされた際の表示領域における第１のマザー基板と第２のマザー基板との間の距離と端子部が設けられた領域における同距離とが略同一となるように、第２のマザー基板の端子部と対向する端子対向部にセルギャップ調整膜を形成する工程と、対向基板部と端子対向部とに相互に同じ高さの複数の柱状スペーサを形成する工程と、減圧雰囲気中において、端子部を除いたアクティブマトリクス基板部と対向基板部とが対向するように、第１のマザー基板と第２のマザー基板とを複数の柱状スペーサ及び液晶を介在させてシール部材により貼り合わせることにより液晶層を形成する液晶層形成工程と、第１のマザー基板からアクティブマトリクス基板部を分断してアクティブマトリクス基板を形成する工程と、第２のマザー基板から対向基板部を分断して対向基板を形成する工程とを備えている。
【００１２】
本発明に係る製造方法では、端子対向部にセルギャップ調整膜を設けることにより、（表示領域（中央領域）における第１のマザー基板と第２のマザー基板との間の距離と端子部が設けられた領域における同距離とが略同一とする。このため、端子対向部に設けられた柱状スペーサは第１のマザー基板に当接し、スペーサとしての機能を発揮する。従って、減圧雰囲気中にて液晶層を形成する工程で、端子部が設けられた領域において第１のマザー基板と第２のマザー基板とに凹状の変形（反り、撓み等）が生じることが効果的に抑制される。その結果、液晶層のセルギャップムラが抑制された液晶表示パネルを製造することができる。尚、本明細書において「表示領域における第１のマザー基板と第２のマザー基板との間の距離と端子部が設けられた領域における同距離とが略同一」とは、表示領域における第１マザー基板と第２マザー基板との間の距離と端子部が設けられた領域（端子領域）における同距離との差が１μｍ以下（好ましくは、０．７μｍ以下）であることをいう。
【００１３】
本発明に係る製造方法では、液晶層形成工程が第１のマザー基板の上に中央領域を包囲するようにシール部材を形成する工程と、中央領域に液晶を滴下する工程と、減圧雰囲気中において、滴下した液晶を介在させて第１のマザー基板と第２のマザー基板とをシール部材により貼り合わせることにより液晶層を形成する工程とを有していてもよい。
【００１４】
また、液晶層形成工程は、第１のマザー基板と第２のマザー基板とをシール部材により貼り合わせることにより液晶セルを形成する工程と、減圧雰囲気中において液晶セルに液晶を注入することにより液晶層を形成する工程とを有するものであってもよい。
【００１５】
本発明に係る製造方法では、セルギャップ調整膜の形成を対向基板部の形成と同時に行ってもよい。
【００１６】
本発明に係る製造方法により製造される液晶表示装置は、対向基板部が、所定配列で配列された複数の色レジスト膜（カラーフィルタ膜）と、複数の色レジスト膜に積層されたブラックマトリクス膜とを有するものであってもよい。その場合、セルギャップ調整膜は、各色レジスト膜と同一の膜とブラックマトリクス膜と同一の膜とからなる群より選ばれた１つの膜又は複数の膜の積層により構成されていることが好ましい。
【００１７】
セルギャップ調整膜は第２のマザー基板に形成されている膜と別個の膜により形成してもよいが、例えば色レジスト膜やブラックマトリクス膜等の第２マザー基板に形成されている膜と同一膜で同時に形成することにより、製造工程を増加させることなくセルギャップムラを抑制することが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明によれば、セルギャップムラの少ない液晶表示パネルを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
図１は本実施形態に係る製造方法により製造される液晶表示パネル１の平面図である。
【００２１】
図２は図１中の切り出し線ＩＩ−ＩＩで切り出された部分の断面図である。
【００２２】
まず、図１及び図２を参照しながら本実施形態に係る製造方法により製造される液晶表示パネル１の構造について詳細に説明する。
【００２３】
液晶表示パネル１は、アクティブマトリクス基板（例えば、ＴＦＴ基板）１０と、アクティブマトリクス基板１０に対向して設けられた対向基板２０とを備えている。アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０との間には、液晶層４０と、液晶層４０を周回するように形成されたシール部材３０と、複数の柱状スペーサ（ポストスペーサ）５０とが設けられている。アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０とはシール部材３０により相互に張り合わさされている。
【００２４】
アクティブマトリクス基板１０は、例えばガラス基板やプラスチック基板等からなる第１の基板本体１３と、第１の基板本体１３の上に形成された相互に並行に延びる複数のゲートライン（図示せず）と、ゲートラインの延びる方向に角度をなして相互に並行に延びる複数のソースライン（図示せず）と、複数のゲートラインと複数のソースラインとの各交差部近傍に設けられ、ソースラインとゲートラインとの双方に電気的に接続されたスイッチング素子（例えば、ＴＦＴ素子等）と、スイッチング素子の上に形成された平坦化膜（絶縁膜）１２と、平坦化膜１２の上に所定配列で（典型的にはマトリクス配列で）形成され、それぞれ平坦化膜１２にスイッチング素子に開口するように形成されたスルーホールを経由してスイッチング素子に電気的に接続された複数の画素電極（図示せず）とを備えている。尚、ゲートライン及びソースライン等の各種電極線は液晶表示パネル１の周縁部分に引き回されており、周縁部分において端子に電気的に接続されている。ここでは、この端子が設けられた部分を端子部１１という。また、液晶表示パネル１のうち、液晶層４０が設けられており、画像を表示させる領域を表示領域（中央領域）といい、その表示領域の外周に位置する領域を非表示領域（周辺領域）という。
【００２５】
一方、対向基板２０は、例えばガラス基板やプラスチック基板等からなる第２の基板本体２３と、それぞれ第２の基板本体２３の上に積層して形成されたブラックマトリクス膜２１、色レジスト膜（カラーフィルタ膜）２２、及び上部共通電極（図示せず）を備えている。尚、色レジスト膜２２は、赤色の光を透過させる色レジスト膜２２Ｒと、緑色の光を透過させる色レジスト膜２２Ｇと、青色の光を透過させる色レジスト膜２２Ｂとにより構成されている。これら色レジスト膜２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂは、上記画素電極の配列に対応して、所定配列で（典型的にはマトリクス配列で）配列されている。尚、本実施形態では、色レジスト膜２２Ｒの層厚、色レジスト膜２２Ｇの層厚、色レジスト膜２２Ｂの層厚、及びブラックマトリクス膜２１の層厚の総和は平坦化膜１２等の第１の基板本体１３上に形成されている積層の層厚と略同一となっている。
【００２６】
複数の柱状スペーサ５０は対向基板２０及びアクティブマトリクス基板１０の双方に当接するように設けられており、液晶層４０のセルギャップを規定している。
【００２７】
次に、上記構成の液晶表示パネル１の製造方法について図３及び図４を参照しながら詳細に説明する。
【００２８】
図３は本実施形態に係る液晶表示パネル１の製造工程を表す平面図である。
【００２９】
図４は図３中に切り出し線ＩＶ−ＩＶで切り出された部分の断面図である。
【００３０】
まず、例えば大判のガラス基板やプラスチック基板等により構成される第１のマザー基板本体１３ａ上に複数のアクティブマトリクス基板部を形成することにより第１のマザー基板１０ａを完成させる。ここで、アクティブマトリクス基板部とは、液晶表示パネル１が備えるアクティブマトリクス基板１０となる部分をいう。すなわち、各アクティブマトリクス基板部には、複数のソースラインと、複数のゲートラインと、複数のスイッチング素子と、平坦化膜と、複数の画素電極とが形成されている。
【００３１】
また、例えば大判のガラス基板やプラスチック基板等により構成される第２のマザー基板本体２３ａ上に複数の対向基板部（ブラックマトリクス膜２１、色レジスト膜２２、対向電極等）を形成することにより第２のマザー基板２０ａを完成させる。また、本実施形態では対向基板部の形成と同時に、第１のセルギャップ調整膜６１、第２のセルギャップ調整膜６２、第３のセルギャップ調整膜６３、及び第４のセルギャップ調整膜６４からなるセルギャップ調整膜６０を端子部１１と対向する端子対向部に形成する。
【００３２】
具体的には、まず第２のマザー基板本体２３ａ上にブラックマトリクス膜２１の基となる膜を成膜する。成膜された膜をフォトリソグラフィー法等によりパターニングすることによりブラックマトリクス膜２１及び第１のセルギャップ調整膜６１を同一工程で形成する。
【００３３】
次に、赤色の光を透過させる膜を形成し、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすることにより色レジスト膜２２Ｒ、及び第１のセルギャップ調整膜６１に積層された第２のセルギャップ調整膜６２を同一工程で形成する。緑色の光を透過させる膜を形成し、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすることにより色レジスト膜２２Ｇ、及び第２のセルギャップ調整膜６２に積層された第３のセルギャップ調整膜６３を同一工程で形成する。青色の光を透過させる膜を形成し、フォトリソグラフィー法等を用いてパターニングすることにより色レジスト膜２２Ｂ、及び第３のセルギャップ調整膜６３に積層された第４のセルギャップ調整膜６４を同一工程で形成する。尚、色レジスト膜２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂは相互に略同一の膜厚を有することが好ましい。そうすることによって液晶層４０のセルギャップムラを低減することができる。
【００３４】
このようにして、セルギャップ調整膜６０を対向基板部（詳細には色レジスト膜２２及びブラックマトリクス膜２１）の形成と同時に形成する。このようにすることによって、製造工程の数を増加させることなくセルギャップ調整膜６０を形成することができる。
【００３５】
次に、第２のマザー基板２０ａの上（端子対向部に設けられたセルギャップ調整膜６０の上を含む）に相互に略同一高さの複数の柱状スペーサ５０を形成する。具体的には、例えば樹脂膜を成膜し、その樹脂膜をフォトリソグラフィー法等によりパターニングすることにより複数の柱状スペーサ５０を形成する。
【００３６】
次に、第１のマザー基板１０ａの上に、一部（液晶注入口４１となる部分）を残して中央領域を周回するように接着用樹脂（例えばＵＶ硬化樹脂等）を塗布すると共に、各アクティブマトリクス基板部相互間にも接着用樹脂を塗布する。そして、端子部１１を除いたアクティブマトリクス基板部と対向基板部とが対向するように第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとを貼り合わせることにより、複数の液晶セル４２を有する、シール部材３０及びダミーシール部材３１により張り合わされた貼り合わせ基板２を作製する。尚、貼り合わせ基板２において、第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとの間の距離は第２のマザー基板２０ａ上に形成された柱状スペーサ５０により規定される。このため、中央領域における第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとの間の距離Ｈ１は柱状スペーサ５０の高さとほぼ等しくなる。また、上述のように、色レジスト膜２２Ｒの層厚、色レジスト膜２２Ｇの層厚、色レジスト膜２２Ｂの層厚、及びブラックマトリクス膜２１の層厚の総和は平坦化膜１２等の第１の基板本体１３上に形成されている積層の層厚と略同一であるため、端子部１１が設けられている領域（以下、「端子領域」とすることがある。）における第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとの間の距離Ｈ２は柱状スペーサ５０の高さとほぼ等しくなる。従って、貼り合わせ基板２においては、第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとの間の距離は、中央領域と端子領域とにおいてほぼ同一であり、双方の領域において柱状スペーサ５０は第１のマザー基板１０ａに当接している。
【００３７】
次に、減圧雰囲気中において、貼り合わせ基板２に設けられた複数の液晶セル４２のそれぞれに、液晶注入口４１から液晶を注入し、液晶注入口４１を封止することにより液晶層４０を形成する。上述のように本実施形態では、中央領域と端子領域との双方の領域において柱状スペーサ５０が第１のマザー基板１０ａに当接しているため、減圧雰囲気中におくことにより第１のマザー基板１０ａ及び第２のマザー基板２０ａに応力が加わった場合であっても、柱状スペーサ５０により第１のマザー基板１０ａ及び第２のマザー基板２０ａの変形が抑制される。従って、セルギャップムラの抑制された液晶層４０を形成することができる。
【００３８】
液晶層４０形成後、ダイヤモンドカッター等を用いて、第１のマザー基板１０ａをアクティブマトリクス基板部毎に分断すると共に、第２のマザー基板２０ａを対向基板部毎に分断することにより複数の液晶表示パネル１を完成させる。
【００３９】
尚、本実施形態では、第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとを貼り合わせて複数の液晶セル４２を予め作成し、その液晶セル４２に液晶を注入することにより液晶層４０を形成する例について説明した。しかし、本発明は何らこの方法に限定されるものではなく、例えば、第１のマザー基板１０ａ上に中央領域を周回して包囲するように接着用樹脂を塗布することにより土手状のシール部材３０を形成し、そのシール部材３０によって包囲された中央領域に液晶を滴下する。その後、第１のマザー基板１０ａと第２のマザー基板２０ａとを減圧雰囲気中にて貼り合わせることにより液晶層４０を形成しても構わない。
【００４０】
（変形例）
図５は本変形例に係る液晶表示装置の部分断面図である。
【００４１】
上記実施形態では、セルギャップ調整膜６０を、ブラックマトリクス膜２１と同一膜から形成された第１のセルギャップ調整膜６１、色レジスト膜２２Ｒと同一膜から形成された第２のセルギャップ調整膜６２、色レジスト膜２２Ｇと同一膜から形成された第３のセルギャップ調整膜６３、及び色レジスト膜２２Ｂと同一膜から形成された第４のセルギャップ調整膜６４とにより構成したが、本発明はこれに限定されるものではない。セルギャップ調整膜６０の構成は、アクティブマトリクス基板部に形成される各種膜の膜厚と対向基板部に形成される色レジスト膜２２等の膜厚とを考慮した上で、Ｈ１とＨ２とがほぼ等しくなるように適宜決定すればよい。また、Ｈ１とＨ２とを略同一にするために、例えば色レジスト膜２２の層厚を適宜調節してもよい。例えば、色レジスト膜２２の層厚を厚くしたい場合は、色レジストに含まれる色素の濃度を層厚の増加分に応じて低下させることが好ましい。
【００４２】
例えば、図５に示すように、セルギャップ調整膜６０を、ブラックマトリクス膜２１と同一膜から形成された第１のセルギャップ調整膜６１、色レジスト膜２２Ｒと同一膜から形成された第２のセルギャップ調整膜６２、及び色レジスト膜２２Ｂと同一膜から形成された第４のセルギャップ調整膜６４とにより構成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
以上説明したように、本発明によればセルギャップムラの少ない液晶表示パネルを製造することができるので、携帯電話、ＰＤＡ、テレビ、電子ブック、モニター、電子ポスター、時計、電子棚札、非常案内等に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】液晶表示パネル１の平面図である。
【図２】図１中の切り出し線ＩＩ−ＩＩで切り出された部分の断面図である。
【図３】液晶表示パネル１の製造工程を表す平面図である。
【図４】図３中に切り出し線ＩＶ−ＩＶで切り出された部分の断面図である。
【図５】変形例に係る液晶表示装置の部分断面図である。
【図６】従来の液晶表示パネルの製造工程を表す平面図である。
【図７】図６中の切り出し線ＶＩＩ−ＶＩＩで切り出された部分の断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１      液晶表示パネル
２      貼り合わせ基板
１０      アクティブマトリクス基板
１０ａ    第１のマザー基板
１１      端子部
１２      平坦化膜
１３      第１の基板本体
１３ａ    第１のマザー基板本体
２０      対向基板
２０ａ    第２のマザー基板
２１      ブラックマトリクス膜
２２      色レジスト膜
２３      第２の基板本体
２３ａ    第２のマザー基板本体
３０      シール部材
３１      ダミーシール部材
４０      液晶層
４１      液晶注入口
４２      液晶セル
５０      柱状スペーサ
６０      セルギャップ調整膜
６１      第１のセルギャップ調整膜
６２      第２のセルギャップ調整膜
６３      第３のセルギャップ調整膜
６４      第４のセルギャップ調整膜
【図１】
2007114461.tif 000003
【図２】
2007114461.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2007114461.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007114461.tif 000009