(57)【要約】  【課題】  光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うカラーフィルタの製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。  【解決手段】  前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。【選択図】        図１０
2007025597.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、基材の表面に位置する感光層に対し、
光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の傾斜角度をなすように配置された露光ヘッドを用い、該露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行うことを少なくとも含み、
該露光が、前記パターン情報に対応する描画パターンにおいて、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、
（ａ）隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、
（ｂ）複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、
（ｃ）前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び
（ｄ）前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差、
の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して行われる露光工程と、
該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
露光が、描画画素群回転手段、描画倍率変更手段、描画タイミング変更手段、移動速度変更手段、及び位相差変更手段の少なくともいずれかを備えた露光装置を用いて行われる請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
描画画素群回転手段により、露光ヘッドの全体、及び光変調手段のいずれかを回転させ、傾斜角度（ｂ）を変更する請求項１から２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
描画倍率変更手段により、感光層の被露光面上に形成される描画画素の描画倍率を変更し、配列ピッチ（ａ）、及び描画ピッチ（ｃ）のいずれかを調整する請求項１から３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
描画タイミング変更手段により、描素部による感光層の被露光面上への描画タイミングを変更し、描画ピッチ（ｃ）を調整する請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
移動速度変更手段により、感光層の被露光面に対する露光ヘッドの相対移動速度を変更し、描画ピッチ（ｃ）を調整する請求項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
位相差変更手段により、隣接する描素部の変調制御のタイミングの位相差を変更し、位相差（ｄ）を変更する請求項１から６のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
走査方向と直交、又は略直交する方向の描画パターンにおいて生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅のいずれかが、所定値以下になるよう、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する請求項１から７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
描画パターンに応じて、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する請求項１から８のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
描画パターンの走査方向に対する傾斜角度に応じて、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する請求項１から９のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の調整が、
前記描素部により前記感光層の被露光面上に形成される描画画素の中心点として規定される制御点の
（ｅ）前記制御点の略走査方向に沿った制御点列のピッチ、
（ｆ）前記制御点列の並び方向、
（ｇ）前記制御点の前記走査方向に対するピッチ、及び
（ｈ）前記走査方向と略直交する方向に隣接する前記制御点の前記走査方向に対する位相差、
の少なくともいずれかを、描画パターンのジャギーが低減されるように制御することにより行われる請求項１から１０のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求め、
該相関関係に基づいて前記（ｅ）〜（ｈ）のいずれかを設定、又は変更する請求項１から１１のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
ジャギーの形状が許容範囲内となる制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかの条件を、選択条件として規定する請求項１から１２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１４】
ジャギーの形状が許容範囲外となる制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかの条件を、禁止条件として規定する請求項１から１３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
描画パターンの方向に対応して、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求める請求項１から１４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
所定の領域内の描画パターン毎に、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求める請求項１から１５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である請求項１から１６のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１８】
感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される請求項１から１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１９】
感光層が、支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される請求項１から１８のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２０】
感光性組成物が、少なくとも、黒色（Ｋ）に着色されている請求項１から１９のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２１】
少なくとも、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の３原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、Ｒ、Ｇ及びＢの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する請求項１から２０のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２２】
赤色（Ｒ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いる請求項１から２１のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２３】
赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかの顔料を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の少なくともいずれかの顔料を用いる請求項１から２１のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２４】
請求項１から２３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２５】
請求項２４に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適なカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により製造されたカラーフィルタ並びに該カラーフィルタを用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタは、液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」、「液晶表示装置」と称することもある）に不可欠な構成部品である。この液晶ディスプレイは非常にコンパクトであり、性能面でもこれまでのＣＲＴディスプレイと同等以上であり、ＣＲＴディスプレイから置き換わりつつある。
液晶ディスプレイのカラー画素の形成は、カラーフィルタを通過した光がそのままカラーフィルタを構成する各画素の色に着色されて、それらの色の光が合成されてカラー画素を形成する。そして、現在はＲＧＢの三色の画素でカラー画素を形成している。
【０００３】
近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化及び高精細化の技術開発が進み、その用途はノートパソコン用ディスプレイからデスクトップパソコン用モニター、更にはテレビモニター（以下、「ＴＶ」と称することもある）まで拡大されてきている。このような背景の下で、ＬＣＤにはコストダウンと表示特性向上が強く要求されるようになってきている。
このコストダウンの方向としては、単に材料のコストダウンにとどまらず、工程の簡素化が進行中であり、特に、露光のためのフォトマスクをなくすことが検討されている。
一方、表示特性向上の方向としては、１インチあたりの画素数を増やしていく高精細化などが検討されている。
特に、ＲＧＢの三色の各画素間を規定するように形成されるブラックマトリクスは、みかけの画素幅を規定しているため、該ブラックマトリクスの線幅のばらつきは、その周期性によって、モアレや、周期ムラなどの表示ムラとなりやすい。このため、ブラックマトリクスを形成するブラック画像の微細パターンを高精細に形成可能な方法が求められている。
【０００４】
このようなカラーフィルタの形成方法としては、一般に、感光性組成物を露光、現像することにより微細パターンを形成する、フォトリソグラフィー法が知られている。
前記フォトリソグラフィー法を行う露光装置として、フォトマスクを用いることなく、半導体レーザ、ガスレーザ等のレーザ光を、画素パターン等のデジタルデータに基づいて、感光性組成物上に直接スキャンして、パターニングを行うレーザダイレクトイメージングシステム（以下、「ＬＤＩ」と称することがある）による露光装置が研究されている（例えば、非特許文献１及び特許文献１参照）。
【０００５】
従来より、光変調手段として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子を利用し、パターン情報（画像データ）に応じて変調された光ビームで描画パターン（画像）を形成するように露光を行う露光装置が種々提案されている。
前記ＤＭＤは、制御信号に応じて反射面の角度を変化させる多数のマイクロミラーをシリコン等の半導体基板上に二次元状に配列したミラーデバイスであり、このＤＭＤを備えた露光ヘッドを被露光面に沿った走査方向に相対移動させることで、所望の範囲に対する露光が行われる。
【０００６】
一般に、ＤＭＤのマイクロミラーは、各行の並び方向と各列の並び方向とが直交するように配列されている。このようなＤＭＤを、走査方向に対して傾斜させて配置することにより、走査線の間隔が密になり、解像度を上げることができる。
【０００７】
例えば、特許文献２には、複数の光弁を備えたサブ領域（空間光変調素子：イメージ源）へと光を導く照明システムにおいて、前記サブ領域を走査線上への投影に対して傾斜させることにより、解像度を高められることが記載されている。
この方法によれば、走査方向と直交する方向の解像度を高めることができる。また、走査方向の解像度は、通常、走査速度と空間光変調素子の変調速度によって決定されるため、露光速度（走査速度）を遅くするか、若しくは、空間光変調素子の変調速度を速めることで解像度を高めることが可能である。
【０００８】
ところで、形成される描画パターンの解像度を高めるために、前記特許文献１の方法のように、前記光照射手段（空間光変調素子）を傾斜させて描画を行うと、描画パターンによっては、無視できないジャギーが発生してしまうおそれがある。
例えば、走査方向又はそれと直交する方向に延在する直線状の描画パターンを形成する場合、前記空間光変調素子によって形成される各描画画素の位置と、描画パターンの所望の描画位置との間のずれがジャギーとして認められることがある。
すなわち、離散的な多数の画素の集合によって構成された描画パターンは、描素部に対応した離散的な描画画素により再現されるため、再現された画像の端部には、ギザギザ状のジャギーが発生したり、パターン情報に基づく描画パターンの線幅の精度が低下する等の不具合が発生したりするおそれがある。このような描画パターンで感光層を露光し、その後現像等を行うことにより画素パターン等を形成した場合、高精細な画素パターンが得られないという問題がある。
【０００９】
よって、露光速度を低下させることなく、ジャギーが低減された所望の描画パターンを被露光面上に形成することにより、カラーフィルタの画素パターン（カラー画素、及びブラック画像）を高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−１２４４号公報
【特許文献２】特表２００１−５００６２８号公報
【非特許文献１】石川明人"マスクレス露光による開発短縮と量産適用化"、「エレクロトニクス実装技術」、株式会社技術調査会、Vol．18、No．6、2002年、p．74〜79
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、前記光変調手段を傾斜させて露光を行うカラーフィルタの製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、カラーフィルタの画素パターン（カラー画素、及びブラック画像）を高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造され、表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、基材の表面に位置する感光層に対し、
光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の傾斜角度をなすように配置された露光ヘッドを用い、該露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行うことを少なくとも含み、
該露光が、前記パターン情報に対応する描画パターンにおいて、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、
（ａ）隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、
（ｂ）複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、
（ｃ）前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び
（ｄ）前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差、
の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して行われる露光工程と、
該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。該＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記感光層に対し、光変調手段を備えた露光ヘッドを前記感光層の被露光面上に沿った所定の走査方向へ相対移動して、前記パターン情報に基づいて露光が行われ、該露光が、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、（ａ）配列ピッチ、（ｂ）傾斜角度、（ｃ）描画ピッチ、及び（ｄ）位相差の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報にしたがって前記各描素部を所定のタイミングで変調制御して行われるため、単位面積当たりの描画画素数を増加させる等の手段を講じることなく、また、露光速度（描画速度）を低下させることなく、最適な描画条件を設定し、ジャギーの発生を抑制した描画パターン（画像）を描画することができる。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜２＞  光変調手段が、空間光変調素子である前記＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３＞  空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１３】
＜４＞  露光が、描画画素群回転手段、描画倍率変更手段、描画タイミング変更手段、移動速度変更手段、及び位相差変更手段の少なくともいずれかを備えた露光装置を用いて行われる前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜５＞  描画画素群回転手段により、露光ヘッドの全体、及び光変調手段のいずれかを回転させ、傾斜角度（ｂ）を変更する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜６＞  描画倍率変更手段により、感光層の被露光面上に形成される描画画素の描画倍率を変更し、配列ピッチ（ａ）、及び描画ピッチ（ｃ）のいずれかを調整する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜７＞  描画タイミング変更手段により、描素部による感光層の被露光面上への描画タイミングを変更し、描画ピッチ（ｃ）を調整する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜８＞  移動速度変更手段により、感光層の被露光面に対する露光ヘッドの相対移動速度を変更し、描画ピッチ（ｃ）を調整する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜９＞  位相差変更手段により、隣接する描素部の変調制御のタイミングの位相差を変更し、位相差（ｄ）を変更する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
＜１０＞  ジャギーピッチ及びジャギー振幅の所定値が、感光層の被露光面に形成される描画画素のドット径である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１１＞  複数の描素部からなる描画画素群を複数有し、前記各描素部群において、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを個別に設定する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１２＞  複数の描素部からなる描画画素群を複数有し、前記各描素部群で生じるジャギーピッチ及びジャギー振幅のいずれかの平均値が所定値以下となるよう、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１３＞  走査方向と直交、又は略直交する方向の描画パターンにおいて生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅のいずれかが、所定値以下になるよう、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１４＞  描画パターンに応じて、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１５＞  描画パターンの走査方向に対する傾斜角度に応じて、配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の少なくともいずれかを設定する前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１５】
＜１６＞  配列ピッチ（ａ）、傾斜角度（ｂ）、描画ピッチ（ｃ）、及び位相差（ｄ）の調整が、
前記描素部により前記感光層の被露光面上に形成される描画画素の中心点として規定される制御点の
（ｅ）前記制御点の略走査方向に沿った制御点列のピッチ、
（ｆ）前記制御点列の並び方向、
（ｇ）前記制御点の前記走査方向に対するピッチ、及び
（ｈ）前記走査方向と略直交する方向に隣接する前記制御点の前記走査方向に対する位相差、
の少なくともいずれかを、描画パターンのジャギーが低減されるように制御することにより行われる前記＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１７＞  制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求め、
該相関関係に基づいて前記（ｅ）〜（ｈ）のいずれかを設定、又は変更する前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１８＞  ジャギーの形状が許容範囲内となる制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかの条件を、選択条件として規定する前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
＜１９＞  ジャギーの形状が許容範囲外となる制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかの条件を、禁止条件として規定する前記＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２０＞  描画パターンの方向に対応して、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求める前記＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２１＞  描画パターンの方向が、前記描画パターンの所定の領域内に含まれる前記描画パターンの代表的な方向である前記＜１＞から＜２０＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２２＞  描画パターンの代表的な方向が、描画パターンの所定の領域内に含まれ、走査方向と直交又は略直交する方向である前記＜１＞から＜２１＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２３＞  所定の領域内の描画パターン毎に、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を求める前記＜１＞から＜２２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２４＞  所定の領域内の描画パターン毎に、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかを設定、又は変更する前記＜１＞から＜２３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１６】
＜２５＞  制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を、
制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかから求めた計算値に基づいて求める前記＜１６＞から＜２４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２６＞  あらかじめ設定した制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）による描画パターンから、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を計測して求める前記＜１６＞から＜２５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１７】
＜２７＞  光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を出射する前記＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜２８＞  光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１８】
＜２９＞  感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される前記＜１＞から＜２８＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３０＞  感光層が、支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される前記＜１＞から＜２９＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３１＞  感光性組成物が、少なくとも、黒色（Ｋ）に着色されている前記＜１＞から＜３０＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３２＞  少なくとも、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の３原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、Ｒ、Ｇ及びＢの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する前記＜１＞から＜３１＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３３＞  赤色（Ｒ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いる前記＜１＞から＜３２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３４＞  赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかの顔料を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の少なくともいずれかの顔料を用いる前記＜１＞から＜３２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１９】
＜３５＞  前記＜１＞から＜３４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。
＜３６＞  前記＜３５＞に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする表示装置である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によると、従来における問題を解決することができ、前記光変調手段を傾斜させて露光を行うカラーフィルタの製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、カラーフィルタのパターン（カラー画素、及びブラック画像）を高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造され、表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
（カラーフィルタの製造方法）
本発明のカラーフィルタの製造方法は、露光工程と、現像工程とを少なくとも含んでなり、更に必要に応じて適宜選択されたその他の工程を含んでなる。
本発明のカラーフィルタは、本発明の前記カラーフィルタの製造方法により製造される。
本発明の表示装置は、本発明の前記カラーフィルタを用いてなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の説明を通じて、本発明のカラーフィルタ及び表示装置の詳細についても明らかにする。
【００２２】
前記感光層は、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む前記感光性組成物からなり、基材の表面に位置する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて基材の表面に形成されてなる。更に、必要に応じて適宜選択されたその他の層が形成される。
【００２３】
前記感光層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布により形成する方法、シート状の前記感光層を加圧及び加熱の少なくともいずれかによりラミネートすることにより形成する方法、それらの併用などが挙げられ、以下に示す第１の態様の感光層形成方法及び第２の態様の感光層形成方法が好適に挙げられる。
【００２４】
第１の態様の感光層形成方法としては、前記感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより、基材の表面に、少なくとも、感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する方法が挙げられる。
【００２５】
第２の態様の感光層形成方法としては、前記支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層（以下、単に「感光層」と表すことがある）を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層（感光層）と前記基材とが当接するように、前記感光性転写層（感光層）を基材の表面に加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において積層することにより、基材の表面に少なくとも感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する方法が挙げられる。
【００２６】
第１の態様の感光層形成方法において、前記感光性組成物の塗布及び乾燥の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材の表面に、前記感光性組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。
【００２７】
前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２８】
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーターなどを用いて、前記基材に直接塗布する方法が挙げられる。本発明においては、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコーターが好適に用いられる。
前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
【００２９】
前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．５〜１０μｍが好ましく、０．７５〜６μｍがより好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。
【００３０】
第１の態様の感光層形成方法において形成されるその他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸素遮断層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などが挙げられる。
前記その他の層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層上に塗布する方法、シート状に形成されたその他の層を積層する方法などが挙げられる。
【００３１】
前記第２の態様の感光層形成方法において、基材の表面に感光層、及び必要に応じて適宜選択されるその他の層を形成する方法としては、前記基材の表面に、支持体と該支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光層と、必要に応じて適宜選択されるその他の層とを有する前記感光性転写材料（感光性フィルム）を、加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する方法が挙げられ、具体的には、前記支持体上に前記感光性組成物が積層されてなる感光層を有する前記感光性転写材料を用い、前記感光層が基材の表面側となるように積層し、次いで、前記支持体を前記感光層上から剥離する方法が好適に挙げられる。
前記支持体を剥離することにより、前記支持体による光の散乱や屈折の等影響で前記感光層上に結像させる像にボケ像が生じることが防止され、所定のパターンが高解像度で得られる。
なお、前記感光性転写材料が、後述する保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基材に前記感光層が重なるようにして積層する。
【００３２】
前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜１３０℃が好ましく、８０〜１１０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．０１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．０５〜１．０ＭＰａがより好ましい。
【００３３】
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒートプレス、ヒートロールラミネーター（例えば、（株）日立インダストリイズ社、ＬａｍｉｃII型）、真空ラミネーター（例えば、名機製作所製、ＭＶＬＰ５００）などが好適に挙げられる。
【００３４】
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるのが好ましく、更に表面の平滑性が良好であるのがより好ましい。
【００３５】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４〜３００μｍが好ましく、５〜１７５μｍがより好ましく、１０〜１００μｍが特に好ましい。
【００３６】
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２００００ｍの長さのものが挙げられる。
【００３７】
前記支持体は、合成樹脂製であり、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前記支持体としては、例えば、特開平４−２０８９４０号公報、特開平５−８０５０３号公報、特開平５−１７３３２０号公報、特開平５−７２７２４号公報などに記載の支持体を用いることもできる。
【００３８】
前記感光性転写材料における感光層の形成は、前記基材への前記感光性組成物溶液の塗布及び乾燥（前記第１の態様の感光層形成方法）と同様な方法で行うことができる。
【００３９】
前記保護フィルムは、前記感光層の汚れや損傷を防止し、保護する機能を有するフィルムである。
前記保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましく、１０〜４０μｍが特に好ましい。
【００４０】
前記保護フィルムの前記感光性転写材料において設けられる箇所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常、前記感光層上に設けられる。
【００４１】
前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力Ａと、前記感光層及び保護フィルムの接着力Ｂとの関係としては、接着力Ａ＞接着力Ｂであることが好適である。
【００４２】
前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数としては、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【００４３】
前記保護フィルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが特に好ましいものとして挙げられる。
前記支持体と保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、特開２００５−７０７６７号公報の段落番号０１５１に記載の組合せや、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレート等の組合せが挙げられる。
【００４４】
前記保護フィルムとしては、上述の接着力の関係を満たすために、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調製するために表面処理することが好ましく、例えば、該表面処理の方法としては、特開２００５−７０７６７号公報の段落番号０１５１に記載の方法等が挙げられる。
【００４５】
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂層、及び中間層などが挙げられる。
【００４６】
−熱可塑性樹脂層−
前記熱可塑性樹脂層（以下、「クッション層」と称することもある）は、アルカリ現像を可能とし、また、転写時にはみ出した該熱可塑性樹脂層により被転写体が汚染されるのを防止可能とする観点からアルカリ可溶性であることが好ましく、前記感光性転写材料を被転写体上に転写させる際、該被転写体上に存在する凹凸に起因して発生する転写不良を効果的に防止するクッション材としての機能を有していることが好ましく、該感光性転写材料を前記被転写体上に加熱密着させた際に該被転写体上に存在する凹凸に応じて変形可能であるのがより好ましい。
【００４７】
前記熱可塑性樹脂層に用いる材料としては、例えば、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選択されることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル又はそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル又はそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル又はそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子などが挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層の乾燥厚さは、２〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１６μｍが特に好ましい。
【００４８】
−中間層−
前記中間層は、前記感光層上に設けられ、前記感光性転写材料が前記熱可塑性樹脂層を有する場合には該感光層と該熱可塑性樹脂層との間に設けられる。該感光層と該熱可塑性樹脂層との形成においては有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置すると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができる。
【００４９】
前記中間層としては、水又はアルカリ水溶液に分散乃至溶解するものが好ましい。
前記中間層の材料としては、公知のものを使用することができ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。
【００５０】
前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その鹸化率は８０％以上が好ましい。
前記ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量としては、該中間層の固形分に対し、１〜７５体積％が好ましく、１〜６０体積％がより好ましく、１０〜５０体積％が特に好ましい。
前記含有量が、１体積％未満であると、前記感光層との十分な密着性が得られないことがあり、一方、７５体積％を超えると、酸素遮断能が低下することがあり、好ましくない。
【００５１】
前記中間層は、酸素透過率が小さいことが好ましい。前記中間層の酸素透過率が大きく酸素遮断能が低い場合には、前記感光層に対する露光時における光量をアップする必要を生じたり、露光時間を長くする必要が生ずることがあり、解像度も低下してしまうことがある。
【００５２】
前記中間層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。
前記厚みが、０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高過ぎてしまうことがあり、５μｍを超えると、現像時や中間層除去時に長時間を要し、好ましくない。
【００５３】
前記感光性転写材料の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体上に、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光層とを、この順に有してなる形態などが挙げられる。なお、前記感光層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。
【００５４】
前記感光性転写材料は、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されるのが好ましい。前記長尺状の感光性転写材料の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０、０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００ｍ〜１、０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性転写材料シート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置するのが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。
【００５５】
前記感光性転写材料は、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材などのパターン形成用として広く用いることができ、これらの中でも、本発明のカラーフィルタの製造方法に好適に用いることができる。
【００５６】
なお、前記第２の態様の感光層形成方法により形成された感光層を有する積層体への露光方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層が支持体上にクッション層を介して存在するフィルム状の感光性転写材料を積層した場合は、前記支持体、必要に応じてクッション層も剥離した後、前記中間層（酸素遮断層）を介して前記感光層を露光することが好ましい。
【００５７】
＜感光層＞
前記感光層形成工程で形成される感光層（カラーレジスト層）としては、少なくともバインダー、着色剤、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、更に必要に応じて適宜選択されるその他の成分を含む感光性組成物を用いて形成されてなる。
【００５８】
＜＜バインダー＞＞
前記バインダーとしては、例えば、アルカリ性水溶液に対して膨潤性であるのが好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性であるのがより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。
【００５９】
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基を有するバインダーとしては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調製の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。
【００６０】
前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基を有するビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
【００６１】
前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）と環状無水物（例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物）との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いてもよい。
【００６２】
前記その他の共重合可能なモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２―アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２―アクリロイルオキシエチルエステル）、官能基（例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基）を有するビニルモノマーなどが挙げられる。
【００６３】
前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６４】
前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
【００６５】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。
【００６６】
前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６７】
前記フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６８】
前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６９】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００７０】
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ-Ｂｏｃ等）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００７１】
前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００７２】
また、上記以外の前記その他の共重合可能なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン、クロルスチレン、ブロモスチレン、ヒドロキシスチレンなどが好適に挙げられる。
【００７３】
前記その他の共重合可能なモノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７４】
前記ビニル共重合体は、それぞれ相当するモノマーを公知の方法により常法に従って共重合させることで調製することができる。例えば、前記モノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用することにより調製することができる。また、水性媒体中に前記モノマーを分散させた状態でいわゆる乳化重合等で重合を利用することにより調製することができる。
【００７５】
前記溶液重合法で用いられる適当な溶媒としては、特に制限はなく、使用するモノマー、及び生成する共重合体の溶解性等に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンなどが挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
前記ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩などが挙げられる。
【００７７】
前記ビニル共重合体におけるカルボキシル基を有する重合性化合物の含有率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜５０モル％が好ましく、１０〜４０モル％がより好ましく、１５〜３５モル％が特に好ましい。
前記含有率が、５モル％未満であると、アルカリ水への現像性が不足することがあり、５０モル％を超えると、硬化部（画素部、画像部）の現像液耐性が不足することがある。
【００７８】
前記カルボキシル基を有するバインダーの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、重量平均分子量として、２，０００〜３００，０００が好ましく、４，０００〜１５０、０００がより好ましい。
前記重量平均分子量が、２，０００未満であると、膜の強度が不足しやすく、また安定な製造が困難になることがあり、３００，０００を超えると、現像性が低下することがある。
【００７９】
前記カルボキシル基を有するバインダーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。前記バインダーを２種以上併用する場合としては、例えば、異なる共重合成分からなる２種以上のバインダー、異なる重量平均分子量の２種以上のバインダー、異なる分散度の２種以上のバインダー、などの組合せが挙げられる。
【００８０】
前記カルボキシル基を有するバインダーは、そのカルボキシル基の一部又は全部が塩基性物質で中和されていてもよい。また、前記バインダーは、さらにポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン等の構造の異なる樹脂を併用してもよい。
【００８１】
また、前記バインダーとしては、特許第２８７３８８９号明細書に記載のアルカリ水溶液に可溶な樹脂などを用いることができる。
【００８２】
前記感光層における前記バインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましく、１５〜５０質量％が特に好ましい。
前記含有量が５質量％未満であると、アルカリ現像性が低下することがあり、８０質量％を超えると、現像時間に対する安定性が低下することがある。なお、前記含有量は、前記バインダーと必要に応じて併用される高分子結合剤との合計の含有量であってもよい。
【００８３】
前記バインダーの酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、９０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１００〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
前記酸価が、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、パターンを高精細に得ることができないことがあり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、パターンの耐現像液性及び密着性の少なくともいずれかが悪化し、パターンを高精細に得ることができないことがある。
【００８４】
＜＜重合性化合物＞＞
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。
【００８５】
前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８６】
前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１０〜６０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％が特に好ましい。該固形分含有量が１０質量％未満であると、現像性の悪化、露光感度の低下などの問題を生ずることがあり、６０質量％を超えると、感光層の粘着性が強くなりすぎることがあり、好ましくない。
前記重合性化合物と前記バインダーの比率は、質量比で、重合性化合物／バインダー＝０．５〜１．５が好ましく、０．６〜１．２がより好ましく、０．６５〜１．１が特に好ましい。この範囲を超えると、現像時に残渣が生じるなどの問題が生じることがあり、この範囲未満では、完成したカラーフィルタの耐性が低下することがある。
【００８７】
＜＜光重合開始剤＞＞
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。
【００８８】
前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテルなどが挙げられる。
【００８９】
前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ、４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許第第１３８８４９２号明細書に記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許第第３３３７０２４号明細書に記載の化合物、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載の化合物、米国特許第第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。
【００９０】
更に、米国特許第第２３６７６６０号明細書に記載されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第第２７２２５１２号明細書に記載されているのα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第第３０４６１２７号明細書及び米国特許第第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、特開２００２−２２９１９４号公報に記載の有機ホウ素化合物、ラジカル発生剤、トリアリールスルホニウム塩（例えば、ヘキサフルオロアンチモンやヘキサフルオロホスフェートとの塩）、ホスホニウム塩化合物（例えば、（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩等）（カチオン重合開始剤として有効）、国際公開第０１／７１４２８号パンフレットに記載のオニウム塩化合物などが挙げられる。
【００９１】
前記若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ、４２、２９２４（１９６９）記載の化合物としては、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４、６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４、６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９２】
前記英国特許第第１３８８４９２号明細書に記載の化合物としては、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
前記特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９３】
前記独国特許第第３３３７０２４号明細書に記載の化合物としては、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９４】
前記Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物としては、例えば、２−メチル−４、６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９５】
前記特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９６】
前記特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９７】
前記特開平５−３４９２０号公報に記載の化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ、Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。
【００９８】
前記米国特許第第４２１２９７６号明細書に記載の化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール等）などが挙げられる。
【００９９】
本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
【０１００】
また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号公報等に記載のクマリン化合物など）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル、ペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ、ＯＤＢＩＩ等）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレット等）、アシルホスフィンオキサイド類（例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えば、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロホスフェート（１−）等）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第第３６１５４５５号明細��に記載された化合物などが挙げられる。
【０１０１】
前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。
【０１０２】
前記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’─テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５．５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’─テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジエチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリエチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙げられる。
【０１０３】
前記光重合開始剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全固形成分に対し、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が特に好ましい。
前記光重合開始剤の含有量は、前記重合性化合物との質量比で表すと、光重合開始剤／重合性化合物＝０．０１〜０．２が好ましく、０．０２〜０．１がより好ましく、０．０３〜０．０８が特に好ましい。この範囲を超えると、現像残渣が生じたり、析出故障が生じるという問題があり、この範囲未満であると、十分な感度が得られないことがある。
【０１０４】
また、後述する前記感光層への露光における露光感度や感光波長を調製する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能である。
前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光・可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。
【０１０５】
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知の増感剤の中から目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、１０−Ｎ−ブチル−２−クロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５、７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３、３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５、７−ジプロポキシクマリン等が挙げられ、他に特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号等の各公報に記載のクマリン化合物など）が挙げられる。
【０１０６】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。
【０１０７】
前記増感剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全成分に対し、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．２〜１０質量％が特に好ましい。該含有量が、０．０５質量％未満であると、活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性が低下することがあり、３０質量％を超えると、保存時に前記感光層から前記増感剤が析出することがある。
【０１０８】
前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤の特に好ましい例としては、後述する露光において、波長が４０５ｎｍのレーザ光に対応可能である、前記ホスフィンオキサイド類、前記α−アミノアルキルケトン類、前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物と増感剤としてのアミン化合物とを組合せた複合光開始剤、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、あるいは、チタノセンなどが挙げられる。
【０１０９】
＜＜着色剤＞＞
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。
これら着色剤と別に又は併用して、着色剤として金属イオンを配位した樹状分岐分子、並びに金属粒子及び合金粒子の少なくともいずれかの金属系粒子を含有する樹状分岐分子から選ばれるいずれかの樹状分岐分子を含有することも可能である。
【０１１０】
前記着色剤としては、黄色顔料、オレンジ顔料、赤色顔料、バイオレット顔料、青色顔料、緑色顔料、ブラウン顔料、黒色顔料などが挙げられるが、カラーフィルタを形成する場合には、前記感光性組成物として、３原色（Ｂ、Ｇ、Ｒ）及び黒色（Ｋ）にそれぞれ着色された複数の着色組成物を用いることから、青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、及び黒色顔料等の顔料が好適に用いられる。
【０１１１】
前記顔料としては、例えば、特開２００５−１７７１６号公報の段落番号００３８から００４０に記載の色材、特開２００５−３６１４４７号公報の段落番号００６８から００７２に記載の顔料、及び特開２００５−１７５２１号公報の段落番号００８０から００８８に記載の着色剤などが好適に挙げられる。
【０１１２】
なお、前記着色剤は１種を単独で用いてもよく、又は２種以上を組み合わせて用いることもできる。
【０１１３】
本発明のカラーフィルタにおいて、携帯端末や携帯ゲーム機等の機器で透過モード、及び反射モードのいずれにおいても良好な表示特性（より色が濃い）を効果的に実現するための前記着色剤の組合せとしては、（ｉ）Ｒの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を用い、（ii）Ｇの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を併用して用い、（iii）Ｂの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いることが好ましい。
【０１１４】
ここで、前記（ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．２７４〜０．３３５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．２８０〜０．３２９ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．２９０〜０．３２０ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（ii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．３５５〜０．４３７ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．３６４〜０．４２８ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．３７６〜０．４１２ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（ii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の含有量は、０．０５２〜０．０７８ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．０６０〜０．０７０ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．０６２〜０．０６８ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。なお、（ii）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９比率は、５．４〜６．７であることが好ましく、５．６〜６．６がより好ましく、５．８〜６．４が特に好ましい。
前記（iii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．２８〜０．３８ｇ／ｍ２あることが好ましく、０．２９〜０．３６ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．３０〜０．３４ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
【０１１５】
また、本発明のカラーフィルタにおいて、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の表示装置等に用いた場合に高い表示特性（色再現域が広く、色温度が高い）を実現するための前記着色剤の組合せとしては、（Ｉ）赤色（Ｒ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかを用い、（II）緑色（Ｇ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を併用し、（III）青色（Ｂ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を併用することが好ましい。
【０１１６】
ここで、前記（Ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．６〜１．１ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．８０〜０．９６ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．８２〜０．９４ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（Ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．１０〜０．３０ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．２０〜０．２４ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．２１〜０．２３ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（II）におけるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．８０〜１．４５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．９０〜１．３４ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．９５〜１．２９ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（II）におけるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の含有量は、０．３０〜０．６５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．３８〜０．５８ｇ／ｍ２であることがより好ましい。なお、（II）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０比率は、０．４０〜０．５０であることが好ましい。
前記（III）におけるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．５０〜０．７５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０．５９〜０．６７ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．６０〜０．６６ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。
前記（III）におけるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．０３〜０．１０ｇ／ｍ２あることが好ましく、０．０６〜０．０８ｇ／ｍ２であることがより好ましく、０．０６６〜０．０７４ｇ／ｍ２であることが特に好ましい。なお、（III）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６／Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３比率は、１２〜５０であることが好ましい。
【０１１７】
上記のような着色剤を用いる場合、顔料の粒径は、平均粒径１ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜８０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍであることが特に好ましく、３０ｎｍ〜６０ｎｍであることが最も好ましい。感光層は薄膜な層であるため、顔料等の粒径が上記の範囲にない場合には、樹脂層中に均一に分散することができず、高品質なカラーフィルタを製造することが困難となるため好ましくない。
【０１１８】
＜＜その他の成分＞＞
前記感光性組成物には、その他の成分として、例えば、可塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤等の成分を含有してもよい。
【０１１９】
前記可塑剤は、前記感光層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加してもよい。
前記可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジフェニルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；４−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセパケート、ジオクチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類が挙げられる。
【０１２０】
前記可塑剤の含有量としては、前記感光層の全成分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が特に好ましい。
【０１２１】
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などから適宜選択できる。
更に、前記界面活性剤としては、次式（１）
Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｒ１）ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２ＯｎＲ２）・・・（１）
で表されるフッ素系界面活性剤が好適に挙げられる。
但し、前記式中、Ｒ１及びＲ２は、各々水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｎは２〜３０の整数を表す。
前記Ｒ１としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好適に挙げられ、前記Ｒ２としては、水素原子が好適に挙げられる。
前記ｎとしては、１０〜２５が好ましく、１０〜２０がより好ましい。
前記式で表される界面活性剤の具体例としては、メガファックＦ−１４１（ｎ＝５）、Ｆ−１４２（ｎ＝１０）、Ｆ＝１４３（ｎ＝１５）、Ｆ−１４４（ｎ＝２０）（いずれも商品名：大日本インキ化学工業（株）製）が挙げられる。
【０１２２】
更に、前記界面活性剤としては、次式（２）〜（５）で表される界面活性剤が好適に挙げられる。
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲ１・・・（２）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲ２・・・（３）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ１・・・（４）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲｆ２・・・（５）
【０１２３】
前記式（２）〜（５）において、Ｒ１及びＲ２は、炭素素１〜１８、好ましくは、炭素数１〜１０、より好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
前記アルキル基としては、飽和アルキル基、不飽和アルキル基が挙げられる。
前記アルキル基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられる。
前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オタタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、２−クロロエチル基、２−プロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−プロモプロピル基等が挙げられる。また、これらのアルキル基は、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよいアリール基、アミド基等で置換されていてもよい。
前記式（２）〜（５）において、Ｒｆ１及びＲｆ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１８、好ましく２〜１２、より好ましくは４〜１０のパーフルオロ基を表す。
前記パーフルオロ基としては、飽和パーフルオロ基、不飽和パーフルオロ基が挙げられる。
前記パーフルオロ基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられ、前記Ｒｆ１及びＲｆ２の少なくともいずれかが、分岐構造を有するものがより好適に挙げられる。
前記パーフルオロ基としては、例えば、パーフルオロノネニル、パーフルオロメチル、パーフルオロプロピレン、パーフルオロノニネル、パーフルオロ安息香酸、パーフルオロプロピレン、パーフルオロプロピル、パーフルオロ（９−メチルオクチル）、パーフルオロメチルオクチル、パーフルオロブチル、パーフルオロ３−メチルブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロクチル、パーフルオロ７−オクチルエチル、フルオロヘプチル、パーフルオロデシル、パーフルオロブチルなどが挙げられる。また、これらのパーフルオロ基は、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよく、アリール基、アミド基等で置換されていてもよい。
前記Ｒｆ１及びＲｆ２は互い同じであってもよく、異なっていてもよい。
前記式（２）〜（５）において、ｎは、１〜４０の整数、好ましくは４〜２５の整数を表す。
前記式（２）〜（５）において、ｍは、０〜４０の整数、好ましくは０〜２５の整数を表す。
前記式（２）〜（５）において、−Ｘ−は、−（ＣＨ２）ｌ−（ｌは１〜１０、好ましくは、１〜５の整数を表す）、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−のいずれかを表す。
前記式（２）〜（５）で表される界面活性剤は、１種単独又は２種以上の組合せで用いることができる。
【０１２４】
前記界面活性剤の含有量としては、感光性組成物の固形分に対し、０．００１〜１０質量％が好ましい。
前記含有量が、０．００１質量％未満になると、面状改良の効果が得られなくことがあり、１０質量％を超えると、密着性が低下することがある。
【０１２５】
前記感光性組成物が前記界面活性剤を含有することにより、塗布液としての流動性が良好となり、塗布工程で使用されるスピンコーターやスリットコーターのノズルや配管、容器中での液の付着性が改善され、前記ノズル内に汚れとして残る残渣を効果的に減少させることができるので、塗布液の切り替え時に洗浄に要する洗浄液の量や作業時間を軽減でき、カラーフィルタの生産性を向上させることができる。また、前記カラーレジスト層を形成する際に発生する面状ムラ等を改善することができる。
【０１２６】
前記熱重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート等が挙げられる。
前記熱重合禁止剤の含有量としては、感光性組成物の全成分に対し、０．０００１〜１０質量％が好ましく、０．０００５〜５質量％がより好ましく、０．００１〜１質量％が特に好ましい。
【０１２７】
前記紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物のほか、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
なお、感光性組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１２質量％がより好ましく、１．２〜１０質量％が特に好ましい。
【０１２８】
前記感光層を形成する感光性組成物は、溶剤を用いて調製することができる。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどが好適に挙げられる。これらの溶剤は、単独又２種以上の組合せで用いることができる。
【０１２９】
前記感光性組成物の調製時における前記溶剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光性組成物の全固形分濃度が５〜８０質量％となるように添加されることが好ましく、１０〜６０質量％となるように添加されることがより好ましく、１５〜５０質量％となるように添加されることが特に好ましい。
【０１３０】
前記感光層の層厚は、０．３〜１０μｍが好ましく、０．７５〜６μｍがより好まく、１．０〜３μｍが特に好ましい。
前記層厚が０．３μｍ未満であると、感光層用塗布液の塗布時にピンホールが発生しやすく、製造適性が低下することがあり、１０μｍを超えると、現像時に未露光部を除去するのに長時間を要することがある
【０１３１】
＜基材＞
前記感光層形成工程で用いられる前記基材としては、特に制限はなく、公知の材料の中から表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで、目的に応じて適宜選択することができるが、板状の基材（基板）が好ましく、具体的には、ガラス板（例えば、ソーダガラス板、酸化ケイ素をスパッタしたガラス板、無アルカリガラス板、石英ガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、及び金属板などが挙げられる。
【０１３２】
前記基材は、該基材上に前記感光層における感光層が重なるようにして積層してなる積層体を形成して用いることができる。即ち、前記積層体における感光層の前記感光層に対して露光することにより、露光した領域を硬化させ、後述する現像工程によりパターンを形成することができる。
【０１３３】
［露光工程］
前記露光工程は、前記感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の傾斜角度をなすように配置された露光ヘッドを用い、該露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う工程である。
【０１３４】
前記露光は、前記パターン情報に対応する描画パターンにおいて、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、
（ａ）隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、
（ｂ）複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、
（ｃ）前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び
（ｄ）前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差、
の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して行われる。
【０１３５】
本発明のカラーフィルタの製造方法の露光工程に係る露光装置の一例について、以下、図面を参照しながら説明する。前記露光工程における露光方法は、前記露光装置の説明を通じて明らかにする。
【０１３６】
＜露光装置の構成＞
＜＜露光装置の外観＞＞
図１は、本発明の実施形態に係る描画装置であるフラットベッドタイプの露光装置１０を示す。
露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置されている。なお、露光ステージ１８には、前記感光層を、被処理基体上に積層してなる積層体Ｆ（以下、「感光材料Ｆ」という）が吸着保持される。
【０１３７】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置されている。このコラム２０の一方の側部には、感光材料Ｆに記録されたアラインメントマークを検出するカメラ２２ａ、２２ｂが固定され、他方の側部には、感光材料Ｆに対して描画パターン（画像）を形成する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ（描画ヘッド）が位置決め保持されたスキャナ２６が固定されている。
【０１３８】
図２に、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。
露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、前記光照射手段としての光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬが、合波されて光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４、及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列されている。
【０１３９】
ＤＭＤ３６は、図３に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）３８の上に格子状に配列された多数のマイクロミラー４０（描画素子）を揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラー４０の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセル３８に描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号の状態に応じて、図４及び図５に示すように、各マイクロミラー４０が対角線を中心とする所定方向に傾斜する。
図４は、マイクロミラー４０がオン状態の方向に傾斜した場合を示し、図５は、マイクロミラー４０がオフ状態の方向に傾斜した場合を示す。従って、制御ユニット４２から供給されるパターン情報（描画データ）に基づく変調信号でＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０の傾きを制御することにより、描画データに応じてレーザビームＬを選択的に感光材料Ｆに導き、所望の描画パターン（画像）を描画することができる。
【０１４０】
オン状態のマイクロミラー４０によって反射されたレーザビームＬの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４及び４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０及び５２が順に配列されている。
なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【０１４１】
以上のように構成される露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、図６に示すように、感光材料Ｆの走査方向（露光ステージ１８の移動方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。
各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込まれるＤＭＤ３６は、図７に示すように、高い解像度を実現すべく、走査方向に対して所定角度傾斜した状態に設定される。すなわち、ＤＭＤ３６を感光材料Ｆの走査方向に対して傾斜させることにより、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の走査方向と直交する方向に対する間隔が狭くなり、これによって、走査方向と直交する方向に対する解像度を高くすることができる。
なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ間の継ぎ目が生じることのないよう、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊによる露光エリア５８ａ〜５８ｊが走査方向と直交する方向に重畳するように設定される。
【０１４２】
図８は、露光装置１０の制御回路の要部構成ブロック図である。露光装置１０を制御する制御ユニット４２（制御手段）は、エンコーダ６２により検出した露光ステージ１８の位置データに基づいて同期信号を生成する同期信号生成部６４と、生成された同期信号に基づいて露光ステージ１８を走査方向に移動させる露光ステージ駆動部６６と、感光材料Ｆに描画される描画パターン（画像）の描画データを記憶する描画データ記憶部６８と、同期信号及び描画データに基づいてＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル３８を変調制御し、マイクロミラー４０を駆動するＤＭＤ変調部７０とを備える。
【０１４３】
また、制御ユニット４２は、同期信号生成部６４により生成される同期信号を調整する周波数変更部７２（描画タイミング変更手段）、位相差変更部７４（位相差変更手段）及び移動速度変更部７５（移動速度変更手段）を備えることが好ましい。
【０１４４】
前記描画タイミング変更手段としての周波数変更部７２は、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の走査方向に対するオンオフ制御のタイミングを決定する周波数を変更して同期信号生成部６４に供給し、感光材料Ｆに描画される画素の走査方向の間隔を調整する。
前記位相差変更手段としての位相差変更部７４は、走査方向と略直交する方向に隣接して配列されたマイクロミラー４０のオンオフ制御のタイミングの位相差を変更して同期信号生成部６４に供給し、感光材料Ｆに描画される画素の走査方向に対する位相差を調整する。
前記移動速度変更手段としての移動速度変更部７５は、露光ステージ１８の移動速度を変更して同期信号生成部６４に供給することで露光ステージ１８の移動速度を調整する。
【０１４５】
さらに、制御ユニット４２には、必要に応じて、露光ヘッド回転駆動部７６（描画画素群回転手段）、及び光学倍率変更部７８（描画倍率変更手段）を配設することが好ましい。
【０１４６】
前記描画画素群回転手段としての露光ヘッド回転駆動部７６は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊをレーザビームＬの光軸の回りに所定角度回転させ、感光材料Ｆ上に形成される画素配列の走査方向に対する傾斜角度を調整する。なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの一部の光学部材を回転させることによって、画素配列の傾斜角度を調整するようにしてもよい。
前記描画倍率変更手段としての光学倍率変更部７８は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの第２結像光学レンズ５０、５２により構成されるズーム光学系７９を制御して光学倍率を変更し、隣接するマイクロミラー４０により感光材料Ｆ上に形成される画素の配列ピッチ又は同一のマイクロミラー４０による描画ピッチを調整する。
【０１４７】
＜＜露光装置の動作＞＞
露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、以下に、該露光装置を用いて露光を行う際の動作について説明する。
露光ステージ１８に感光材料Ｆを吸着保持させた後、制御ユニット４２は、露光ステージ駆動部６６を駆動し、露光ステージ１８を定盤１４のガイドレール１６に沿って一方の方向に移動させる。露光ステージ１８がコラム２０間を通過する際、カメラ２２ａ、２２ｂが感光材料Ｆの所定位置に記録されているアライメントマークを読み取る。制御ユニット４２は、読み取ったアライメントマークの位置データに基づき、感光材料Ｆの位置補正データを算出する。
【０１４８】
位置補正データが算出された後、制御ユニット４２は、露光ステージ１８を他方の方向に移動させ、スキャナ２６により感光材料Ｆに対する描画パターン（画像）の露光を開始する。
【０１４９】
すなわち、前記光照射手段としての光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。
【０１５０】
一方、描画データ記憶部６８から読み出され、位置補正データにより補正された描画データ（パターン情報）は、ＤＭＤ変調部７０において、同期信号生成部６４から供給される同期信号に従ったタイミングで変調されてＤＭＤ３６に供給される。この結果、ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０が描画データに従い同期信号に応じたタイミングでオンオフ制御される。
【０１５１】
図４及び図５に示すように、ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬは、第１結像光学レンズ４４及び４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８、マイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、光学倍率変更部７８を構成する第２結像光学レンズ５０及び５２により所定の倍率に調整されて感光材料Ｆに導かれる。
【０１５２】
この場合、露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、感光材料Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元パターン（以下、「二次元画像」という）が描画される。
【０１５３】
ところで、前記のようにして感光材料Ｆ上に描画される二次元画像は、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０に基づく離散的な多数の画素の集合によって構成されている。この場合、描画前のオリジナル画像は、感光材料Ｆ上の離散的な描画点にマッピングされて再現されるため、前記オリジナル画像と描画点の配置との関係で、描素部に対応したピクセルからなる再現画像において、該画像の端部がギザギザ状となった状態であるジャギーが発生する、あるいは、前記オリジナル画像の線幅の精度が低下する等の不具合が発生するおそれがある。
【０１５４】
本発明のカラーフィルタの製造方法における前記露光方法は、感光材料Ｆ上に形成される描画画素の配置を調整することにより、ジャギーの発生を抑制し、適切な描画パターンの形成を可能とするものである。
前記描画画素の配置を規定するパラメータとしては、（ａ）隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、（ｂ）複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、（ｃ）前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び（ｄ）前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差、の４つが挙げられ、これらの少なくともいずれかを設定し、前記描素部を所定のタイミングで変調制御することにより、ジャギーの発生を抑制することができる。
前記（ａ）〜（ｄ）のパラメータを調整する方法としては、前記描素部により前記感光層の被露光面上に形成される描画画素の中心点として制御点を規定し、該制御点の（ｅ）前記制御点の略走査方向に沿った制御点列のピッチ、（ｆ）前記制御点列の並び方向、（ｇ）前記制御点の前記走査方向に対するピッチ、及び（ｈ）前記走査方向と略直交する方向に隣接する前記制御点の前記走査方向に対する位相差、の４つが挙げられ、これらの少なくともいずれかを、描画パターンのジャギーが低減されるように制御する方法が挙げられる。
以下、その一例として、１つのＤＭＤ３６によって生じるジャギーを抑制する場合について説明する。
【０１５５】
図９は、１つのＤＭＤ３６を構成する多数のマイクロミラー４０の配列を模式的に示した図である。
図９において、感光材料Ｆの走査方向をｙ、走査方向ｙと直交する方向をｘとし、略走査方向ｙに沿って配列されるマイクロミラー４０の列をスワス７７と定義する。この場合、スワス７７は、描画される画像のｘ方向に対する解像度を高めるため、ｘ方向に対して所定の角度θｓ（以下、スワス傾斜角度θｓ（≠９０゜）という）に設定される。なお、スワス７７上で隣接する２つのマイクロミラー４０をＤＭＤ画素Ａ、Ｂとする。
【０１５６】
図１０は、図９に示すように、ＤＭＤ３６により形成され、感光材料Ｆ上に前記描素部により形成される描画画素の中心点として規定される制御点（以下、「アドレス格子点」という）と、前記パターン情報に基づく所望の描画パターン（以下、「オリジナル画像」という）との関係を模式的に示した図である。図９において、前記アドレス格子点は、実線丸及び点線丸で示され、前記オリジナル画像８０は直線状の描画パターンとして示されている。
この場合、オリジナル画像８０は、実線丸で示される複数のアドレス格子点によって再現される。なお、レーザビームＬは、各アドレス格子点を中心とする所定のビーム径（ドット径）で画素を形成する。従って、感光材料Ｆ上に実際に形成される画像は、外郭線８２で示すように、実線で示すアドレス格子点の輪郭よりも広がった画像となる。
【０１５７】
アドレス格子点の並びには、図１０に示すように、格子点列１、格子点列２、及び格子点列３の３種類がある。各格子点列を特徴づけるパラメータとしては、格子点列１〜３のｘ方向に対する傾斜角度θｇｉ（ｉ＝１〜３）、格子点列１〜３を構成するアドレス格子点の格子点ピッチｐｇｉ（ｉ＝１〜３）、及び、格子点列１〜３の列ピッチｄｇｉ（ｉ＝１〜３）がある。
【０１５８】
これらのパラメータは、スワス７７上での隣接するＤＭＤ画素Ａ、Ｂ（図９参照）により感光材料Ｆ上に形成されるアドレス格子点（以下、アドレス格子点Ａ、Ｂとも言う。）の配列ピッチｐｓ（制御点列のピッチ（ｅ））、スワス傾斜角度θｓ（制御点列の並び方向（ｆ））（ただし、ｘ方向を基準として反時計回りを＋とする。）、各アドレス格子点のｙ方向に対する描画ピッチｐｙ（制御点の走査方向に対するピッチ（ｇ））により決定される。以下、これらのパラメータ間の関係を説明する。
【０１５９】
＜（Ｉ）傾斜角度θｇｉ（ｉ＝１〜３）＞
図１１に示す３つの隣接するアドレス格子点Ａ、Ｂ′、Ｂ″を考える。格子点列３の傾斜角度θｇ３は、
θｇ３＝９０゜                                                式（１）
である。また、格子点列１、２の傾斜角度θｇ１、θｇ２については、
Ｎ１＝ｉｎｔｅｇｅｒ（ｐｓ・ｓｉｎθｓ／ｐｙ）
（ｉｎｔｅｇｅｒは、切り捨て演算を表す。）
Ｎ２＝Ｎ１＋１
とすると、アドレス格子点Ａに対するアドレス格子点Ｂ′、Ｂ″のｙ方向の距離Δｙ１、
Δｙ２（前記走査方向と略直交する方向に隣接する前記制御点の前記走査方向に対する位相差（ｈ））は、
Δｙｉ＝ｐｓ・ｓｉｎθｓ−ｐｙ・Ｎ１    （ｉ＝１、２）
となる。また、アドレス格子点Ａ、Ｂ′、Ｂ″のｘ方向の描画ピッチｐｘは、
ｐｘ＝ｐｓ・ｃｏｓθｓ
であるから、
ｔａｎθｇｉ＝Δｙｉ／ｐｙ    （ｉ＝１、２）                  式（２）
となる。従って、格子点列１〜３の傾斜角度θｇ１、θｇ２は、
θｇｉ＝ｔａｎ-1｛（ｐｓ・ｓｉｎθｓ−ｐｙ・Ｎｉ）／（ｐｓ・ｃｏｓθｓ）｝  
（ｉ＝１、２）                                          式（３）
として求まる。
【０１６０】
＜（II）格子点ピッチｐｇｉ（ｉ＝１〜３）＞
格子点列３は、ｙ方向に配列されたアドレス格子点で構成されるから、
ｐｇ３＝ｐｙ                                                  式（４）
である。また、
ｐｇｉ＝ｐｘ／ｃｏｓθｇｉ    （ｉ＝１、２）                  式（５）
である。
【０１６１】
＜（III）列ピッチｄｇｉ（ｉ＝１〜３）＞
格子点列３の列ピッチｄｇ３は、
ｄｇ３＝ｐｘ                                                  式（６）
である。また、
ｄｇｉ＝ｐｙ・ｃｏｓθｇｉ    （ｉ＝１、２）                  式（７）
である。
【０１６２】
一方、オリジナル画像８０をアドレス格子点によって再現した際に発生するジャギーは、格子点列１〜３によって発生するため、上記で求めた格子点列１〜３のパラメータ及びオリジナル画像８０のｘ方向に対する傾斜角度θＬを用いて定義することができる。
この場合、ジャギーは、ジャギーピッチｐｊ１〜ｐｊ３、及びジャギー振幅ａｊ１〜ａｊ３により規定される。
【０１６３】
＜（IV）ジャギーピッチｐｊｉ（ｉ＝１〜３）＞
ジャギーピッチｐｊｉは、格子点列１〜３の列ピッチｄｇｉと、格子点列１〜３の傾斜角度θｇｉ及びオリジナル画像８０の傾斜角度θＬの差（θｇｉ−θＬ）とにより決定される。
この場合、各格子点列１〜３上にアドレス格子点が連続的に形成されるものと仮定して、平均値としてのジャギーピッチｐｊｉは、
ｐｊｉ＝ｄｇｉ／ｓｉｎ（θｇｉ−θＬ）    （ｉ＝１〜３）      式（８）
となる。
【０１６４】
＜（Ｖ）ジャギー振幅ａｊｉ（ｉ＝１〜３）＞
図１２は、格子点列１とオリジナル画像８０との間で発生するジャギーの説明図である。この場合、オリジナル画像８０の境界と格子点列１との交点間の距離がジャギーピッチｐｊ１となる。
また、ジャギー振幅ａｊ１は、格子点列１及び格子点列２と、格子点列１及び格子点列３との間でそれぞれ定義できる。これらのジャギー振幅ａｊ１のうち、小さい方を代表値としてのジャギー振幅ａｊ１に選択すると、図１２に示す関係から、
ａｊ１＝ｐｊ１・ｔａｎθ′１・ｔａｎθ′２／（ｔａｎθ′２−ｔａｎθ′１）  
（θ′１＝θｇ１−θＬ）
となる。従って、ジャギー振幅ａｊｉは、
ａｊｉ＝ｐｊｉ・ｔａｎθ′ｉ・ｔａｎθ′ｋ／（ｔａｎθ′ｋ−ｔａｎθ′ｉ）  
（ｉ＝１〜３、θ′ｉ＝θｇｉ−θＬ、ｋ＝１〜３、ｉ≠ｋ）
式（９）
である。なお、θ′ｋは、選択されたジャギー振幅ａｊｉの小さい格子点列とオリジナル画像８０とのなす角度である。
【０１６５】
感光材料Ｆ上に再現される描画パターンにおけるジャギーは、ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉがともにある程度大きい場合に視認される。
前記描素部により形成されて描画パターンを構成する各画素は、図１０に示すアドレス格子点を中心として、レーザビームＬのビーム径に基づく所定の径で描画されるため、ジャギーピッチｐｊｉが小さい場合には、ジャギー振幅ａｊｉが大きくてもジャギーが視認されることはない。従って、ジャギーの視認を低下させるためには、ジャギーピッチｐｊｉ又はジャギー振幅ａｊｉのいずれかが所定値以下となるように、パラメータを設定すればよいことになる。
なお、前記ジャギーピッチ及びジャギー振幅の所定値としては、感光層の被露光面に形成される描画画素のドット径、すなわち、レーザビームＬのビーム径とすることができる。
【０１６６】
ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉは、式（１）〜（９）から、オリジナル画像８０のｘ方向に対する傾斜角度θＬ、スワス傾斜角度θｓ、スワス７７上での隣接するＤＭＤにより形成される描画画素Ａ及びＢの配列ピッチｐｓ、アドレス格子点のｙ方向に対する描画ピッチｐｙの各パラメータによって決定される。
従って、これらのパラメータに対応する（ａ）隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、（ｂ）複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、（ｃ）前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び（ｄ）前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差の各パラメータを調整することにより、ジャギーの発生を抑制し、ジャギーを低減させた画像を再現することができる。なお、各パラメータは、個別に調整して設定してもよく、複数のパラメータを同時に調整してもよい。
【０１６７】
この場合、傾斜角度θＬ、すなわち、複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度（ｂ）は、感光材料Ｆに形成するオリジナル画像８０によって予め決まっている。
スワス傾斜角度θｓは、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込まれたＤＭＤ３６の傾斜角度によって決定されるが、この傾斜角度は、露光ヘッド回転駆動部７６により露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを光軸の回りに所定角度回転させて調整することができる。なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの一部の光学部材、例えば、マイクロレンズアレー４８、マイクロアパーチャアレー５４、５６を回転させることで前記傾斜角度を調整することもできる。また、光学像を回転させるダブプリズム等の像回転素子を配設し、この像回転素子を回転させて前記傾斜角度を調整することもできる。像回転素子は、第２結像光学レンズ５０、５２の後に配置することができる。また、第２結像光学レンズ５０、５２を配設することなく、マイクロレンズアレー４８により直接感光材料Ｆ上にレーザビームＬを結像させるような装置構成の場合、像回転素子をマイクロレンズアレー４８の後に配置することができる。
【０１６８】
配列ピッチｐｓ、すなわち、隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ（ａ）は、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の間隔に依存しているが、光学倍率変更部７８によりズーム光学系７９を構成する第２結像光学レンズ５０、５２の位置を変更させることで、感光材料Ｆ上での配列ピッチｐｓを調整することができる。
描画ピッチｐｙ、すなわち、前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ（ｃ）は、同期信号生成部６４により生成される同期信号の出力タイミングを周波数変更部７２からの周波数変更信号によって調整し、あるいは、移動速度変更部７５からの移動速度変更信号を同期信号生成部６４に供給して同期信号の出力タイミングを変更し、露光ステージ駆動部６６により露光ステージ１８のｙ方向への移動速度を変更することで調整することができる。
【０１６９】
なお、傾斜角度θＬがｙ方向の位置によって変化するオリジナル画像８０に対しては、スワス傾斜角度θｓをオリジナル画像８０の傾斜角度θＬに応じて迅速に変更することは困難であるため、例えば、周波数変更部７２によって描画ピッチｐｙを変更するのが適当である。
【０１７０】
さらに、ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉは、例えば、図１０において、ＤＭＤにより形成される描画画素Ａ及びＢを同時に描画するのではなく、位相差変更部７４によってｙ方向に対するＤＭＤ画素Ａ及びＢの描画タイミングを所定時間ずらすことにより、ＤＭＤ画素Ａのｘ方向に隣接して形成されるＤＭＤ画素Ｂ′、Ｂ″の位相差Δｙｉ、すなわち、前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差（ｄ）を変更し、この結果として傾斜角度θｇｉを変更して調整することもできる。
【０１７１】
図１３〜図１５及び図１６〜図１８は、各パラメータを所定の値に設定し、前記式（８）及び式（９）に従って、各格子点列１〜３のジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉを計算した結果を示している。
なお、格子点列間で生じるジャギー振幅については、小さい方の値の絶対値を選択するものとする。また、ジャギーピッチｐｊｉの許容範囲を−５μｍ〜＋５μｍ、ジャギー振幅ａｊｉの許容範囲を−１μｍ〜＋１μｍとする。
【０１７２】
図１３に示す格子点列１では、オリジナル画像８０の傾斜角度θＬ＝０゜〜５５゜の範囲で許容されないジャギーが発生し、図１４に示す格子点列２では、オリジナル画像８０の傾斜角度θＬ＝１１０゜〜１３５゜の範囲で許容されないジャギーが発生し、図１５に示す格子点列３では、ジャギーが発生しないことが予測される。この場合、例えば、オリジナル画像８０に傾斜角度１５゜前後の直線が含まれていると、この直線に格子点列１に起因する許容できないジャギーが発生するおそれがある。
【０１７３】
これに対して、パラメータを変更した図１６〜図１８に示す格子点列１〜３では、オリジナル画像８０の傾斜角度１５゜の前後でいずれもジャギーが発生することがなく、従って、良好な描画パターンが得られることが期待される。
【０１７４】
以上、１つのＤＭＤ３６によって生じるジャギーを抑制する場合について説明したが、複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを構成する各ＤＭＤ３６に対し、同様の調整を行うことができることは勿論である。すなわち、複数の前記描素部からなる描画画素群を複数有し、前記各描素部群で生じるジャギーピッチ及びジャギー振幅のいずれかの平均値が所定値以下となるように調整することができる。
この場合、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの各ＤＭＤ毎に個別に各パラメータの調整を行ってもよいが、描画される画像全体としてジャギーを低減させるため、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊによって生じるジャギーのジャギーピッチ又はジャギー振幅の平均値が所定値以下となるように、例えば、露光ステージ１８の移動速度を調整するようにしてもよい。
【０１７５】
また、各パラメータは、オリジナル画像８０のパターン、例えば、各オリジナル画像８０のｙ方向に対する傾斜角度θＬに応じて設定又は変更するようにしてもよい。
特に、オリジナル画像８０のパターンがジャギーの目立ち易いｘ方向又はｘ方向に近い方向に延在するライン状のパターンである場合、このパターンに対するジャギーが最も低減されるようにパラメータを調整すると好適である。
【０１７６】
また、ジャギーピッチ又はジャギー振幅によって規定されるオリジナル画像８０のジャギーの形状と、ジャギーを調整するための各パラメータとの相関関係を求めておき、この相関関係に基づいて最適なパラメータを設定し、あるいは、パラメータが既に設定されている場合には、そのパラメータを変更することにより、適切な画像を容易に得ることが可能となる。
【０１７７】
また、前記ジャギーの形状を許容範囲内とすることのできる各パラメータの条件を選択条件として求めておき、オリジナル画像８０に応じた所望のパラメータを選択して設定し、あるいは、前記ジャギーの形状を許容範囲外とする各パラメータの条件を禁止条件として求めておき、オリジナル画像８０に応じて当該パラメータの選択を禁止するようにすることもできる。
なお、許容範囲としては、任意の範囲を設定することができるが、例えば、形成されるパターンの線幅精度やエッジラフネスを基準として設定することができる。
【０１７８】
オリジナル画像８０と前記（ｅ）〜（ｈ）の各パラメータとの相関関係は、オリジナル画像８０を構成するパターンの方向、例えば、オリジナル画像８０の所定の領域内における支配的なパターンの方向、平均値、方向のヒストグラムが最大となる方向等を選択して求めることができる。なお、オリジナル画像８０を複数の領域に分割し、各領域毎に前記相関関係を求め、各領域毎にジャギーを低減することのできるパラメータを設定するようにしてもよい。
【０１７９】
さらに、ジャギーを低減させるためのパラメータは、初期パラメータを設定した状態で画像を描画し、その画像から、各パラメータとジャギー形状等との相関関係を計測し、最適なパラメータを探索して設定することも可能である。
すなわち、あらかじめ設定した制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）による描画パターンから、制御点列のピッチ（ｅ）、並び方向（ｆ）、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ（ｇ）、及び位相差（ｈ）の少なくともいずれかと、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定されるジャギーの形状との相関関係を計測して求めることができる。
【０１８０】
上述の露光方法においては、マイクロミラー４０を直交する格子上に配列したＤＭＤ３６を使用し、これを傾斜させて露光を行う形態について説明したが、傾斜角度θｓで交差する格子上にマイクロミラー４０を配列したＤＭＤを使用すれば、ＤＭＤを傾斜させることなく露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込んでジャギーの抑制された画像を形成することができる。
【０１８１】
また、上述の露光方法において、前記光変調手段としては、反射型空間光変調素子であるＤＭＤ３６を用いた場合について説明したが、前記ＤＭＤ以外の前記光変調手段として、透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用することもできる。例えば、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ：Ｓｐａｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイ等、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。
さらに、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ：Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｌｉｇｈｔ  Ｖａｌｖｅ）を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成においては、前記光照射手段として、レーザの他にランプ等を光源として使用することができる。
【０１８２】
また、上述の露光方法において、前記光照射手段としては、半導体レーザを光源とする態様について説明したが、前記半導体レーザ以外に、例えば、固体レーザ、紫外ＬＤ、赤外ＬＤ等を用いることもできる。さらに、複数の発光点が二次元状に配列された光源（例えば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）を使用することもできる。
【０１８３】
前記露光装置としては、フラットベッドタイプの露光装置１０を例に挙げたが、フラットベッドタイプ以外の露光装置であってもよく、例えば、感光材料がドラムの外周面に巻きつけられるアウタードラムタイプの露光装置、感光材料がシリンダの内周面に装着されるインナードラムタイプの露光装置であってもよい。
【０１８４】
［現像工程］
前記現像工程としては、前記露光工程により前記感光層を露光し、未露光部分を除去することにより現像する工程を有する。
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。
【０１８５】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。
【０１８６】
前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨとしては、例えば、約８〜１２が好ましく、約９〜１１がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液、０．０１〜０．１質量％の水酸化カリウム水溶液などが挙げられる。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５℃〜４０℃が好ましい。
【０１８７】
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。
【０１８８】
なお、現像の方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等が挙げられる。
ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
【０１８９】
［その他の工程］
前記その他の工程としては、特に制限はなく、公知のカラーフィルタ製造方法における工程の中から適宜選択することが挙げられるが、例えば、硬化処理工程、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１９０】
−硬化処理工程−
前記現像工程後に、感光層に対して硬化処理を行う硬化処理工程を備えることが好ましい。
前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。
【０１９１】
前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、形成されたパターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
【０１９２】
前記全面加熱処理の方法としては、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。
【０１９３】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上述したように、ガラス基板等の透明基板上に、本発明のパターン形成方法により、少なくとも３色から構成される（例えば、ＲＧＢ）画素をモザイク状又はストライプ状に配置することができる。
各画素の寸法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４０〜２００μｍとすることが好適に挙げられる。ストライプ状であれば４０〜２００μｍ巾が通常用いられる。
前記カラーフィルタの製造方法としては、例えば、透明基板上に黒色に着色された感光層を用いて、露光及び現像を行いブラックマトリックスを形成し、次いで、ＲＧＢの３原色のいずれかに着色された感光層を用いて、前記ブラックマトリックスに対して所定の配置で、各色毎に、順次、露光及び現像を繰り返して、前記透明基板上にＲＧＢの３原色がモザイク状又はストライプ状に配置されたカラーフィルタを形成する方法が挙げられる。
【０１９４】
（カラーフィルタ）
本発明のカラーフィルタは、本発明の前記カラーフィルタの製造方法により製造される。
前記カラーフィルタは、赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、並びに青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いて製造した場合には、Ｄ６５光源によるレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）のそれぞれ総ての単色の色度が、例えば下記表１に記載の値となる。この範囲であると、反射モードと透過モードの色のバランスがとれたものとなる。
【０１９５】
【表１】
2007025597.tif 000003
ここで、前記色度は、顕微分光硬度計（オリンパス光学工業株式会社製、ＯＳＰ１００又は２００）により測定し、Ｄ６５光源視野２度の結果として計算して、ｘｙｚ表色系のｘｙＹ値で表す。また、目標色度との差は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のΔＥ＊ａｂ値で表す。
【０１９６】
前記カラーフィルタは、赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれか、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、並びに青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を用いて製造した場合には、Ｆ１０光源によるレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）のそれぞれ総ての単色の色度が、例えば下記表２に記載の値となる。この範囲であれば、色再現域が広く、色温度が高いＴＶ用のカラーフィルタとして好ましい。
【０１９７】
【表２】
2007025597.tif 000004
ここで、前記色度は、顕微分光硬度計（オリンパス光学工業株式会社製、ＯＳＰ１００又は２００）により測定し、Ｆ１０光源視野２度の結果として計算して、ｘｙｚ表色系のｘｙＹ値で表す。また、目標色度との差は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のΔＥ＊ａｂ値で表す。
【０１９８】
（表示装置）
本発明の表示装置は、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されてなり、本発明の前記カラーフィルタを有してなり、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
本発明のカラーフィルタは、表示装置の対向基板（ＴＦＴなどの能動素子が無い側の基板）に形成するものを対象としている他、ＴＦＴ基板側に形成するＣＯＡ方式、ＴＦＴ基板側に黒だけを形成するＢＯＡ方式、又はＴＦＴ基板にハイアパーチャー構造を有するＨＡ方式も対象とすることができる。
【０１９９】
前記カラーフィルタ上には、更に必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜を形成することができる。その後、カラーフィルタと対向基板との間に液晶が封入され、表示装置が作製される。
適用される液晶の表示方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定されるが、例えば、ＥＣＢ（Electrically  Controlled  Birefringence）、ＴＮ（Twisted  Nematic）、ＯＣＢ（Optically  Compensatory  Bend）、ＶＡ（Vertically  Aligned）、ＨＡＮ（Hybrid  Aligned  Nematic）、ＳＴＮ（Supper  Twisted  Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane  Switching）、ＧＨ（Guest  Host）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、及びＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などが挙げられる。
【０２００】
前記表示装置の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
【０２０１】
本発明の表示装置は、Ｄ６５光源視野２度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、透過モード及び反射モードのいずれにおいても鮮明な色を表示することができ、透過モードと反射モードを兼用する携帯端末や携帯ゲーム機等の機器に好適に用いることができる。
また、本発明の表示装置は、Ｆ１０光源視野２度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、高い色純度と色温度を実現でき、例えば、ノートパソコン、テレビモニター等の表示装置などに好適に用いることができる。
【実施例】
【０２０２】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、以下において「部」、「％」及び「分子量」は、それぞれ「質量部」、「質量％」及び「重量平均分子量」を表す。
【０２０３】
（実施例１）
＜カラーフィルタパターンの形成（塗布法）＞
（１）ブラックマトリクスの形成
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃にて３分熱処理して表面状態を安定化させた。該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・ジャパン社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、下記表３に記載の組成よりなる感光性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、１２０℃にて３分間プリベークして膜厚２μｍの感光層Ｋ１を形成した。
【０２０４】
−感光性組成物Ｋ１の調製−
下記表３に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して、１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表３に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及び界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）、１５０ＲＰＭで３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｋ１を調製した。
【０２０５】
【表３】
2007025597.tif 000005
なお、表３に記載の組成物のうち、
・Ｋ顔料分散物１の組成は、カーボンブラック（デグッサ社製）１３．１質量％、下記式（６）で表される分散剤０．６５質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）６．７２質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７９．５３質量％からなる。
・バインダー２の組成は、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。
・ＤＰＨＡ液の組成は、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）７６質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル２４質量％からなる。
・界面活性剤１の組成は、下記構造物１  ３０質量％、及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量％からなる。
【０２０６】
【化１】
2007025597.tif 000006
【０２０７】
【化２】
2007025597.tif 000007
ただし、前記構造物１の式中、ｘ及びｙの数値はモル比を表す。
【０２０８】
−露光工程−
基材上の前記感光層Ｋ１に対し、下記に説明する露光装置及び露光方法により、波長が４０５ｎｍのレーザ光により、２０ｍＪ／ｃｍ２相当のブラックマトリクスパターンの露光を行い、前記感光層の一部の領域を硬化させた。露光は、Ｎ２雰囲気下で行い、１５段ステップウエッジパターン（ΔＯＤ＝０．１５）、線幅２５μｍのストライプ状パターンが得られるように行った。
【０２０９】
＜＜露光装置＞＞
前記露光装置として、図２に示した構成の露光ヘッドを備え、図１に示す外観のフラットベットタイプの露光装置を用いた。制御ユニット４２は、図８に示す制御回路を有する。前記露光ヘッドは、前記光照射手段として半導体レーザ光源と、前記光変調手段として図３に概略図を示したＤＭＤ３６において、マイクロミラー４０が、主走査方向に１０２４個配列され、副走査方向に７６８組配列された内、１０２４個×２５６列のみを駆動するように制御したＤＭＤ３６を備えている。
該露光ヘッドを、走査方向に対し、前記ＤＭＤの列方向が１５°となるように配置し、該露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行った。
【０２１０】
各パラメータを図１６に示した値と同様に設定して、露光を行った。このとき、図１６から明らかなとおり、オリジナル画像８０の傾斜角度１５゜の前後でいずれもジャギーが発生することがなく、良好な描画パターンが得られることが期待される。
【０２１１】
−現像工程−
露光が終了した前記感光層Ｋ１の表面に、純水をシャワーノズルを用いて噴霧して均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて、２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０，０４ＭＰａでシャワー現像し、次いで超純水を、超高圧洗浄ノズルを用いて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣の除去を行い、ブラックマトリクスパターンを得た。その後、２２０℃で３０分間熱処理を行った。
【０２１２】
（２）レッド（Ｒ）画素の形成
前記ブラックマトリクスを形成した基板に、下記表４に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｒ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みＲ画素を形成した。該Ｒ１感光層膜厚は１．５μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）の塗布量は０．２７４ｇ／ｍ２であった。
【０２１３】
−感光性組成物Ｒ１の調製−
下記表４に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表４に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍで３０分間攪拌した。更に、下記表４に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｒ１を調製した。
【０２１４】
【表４】
2007025597.tif 000008
なお、表４に記載の組成物のうち、
・Ｒ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製）８質量％、前記式（６）で表される分散剤０．８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）８質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８３質量％からなる。
・Ｒ顔料分散物２の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製）５．３質量％、アクリル酸モノ（ジメチルアミノプロピル）アミド／メタクリル酸（ポリエチレングリコールモノメチルエーテル）エステル／メタクリル酸（ポリメチルメタクリレート含有アルコール）エステル１．６質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９３質量％からなる。
・バインダー１の組成は、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３８／２５／３７のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。
【０２１５】
−露光工程及び現像工程−
基板上の前記感光層Ｒ１に対し、前記感光層Ｋ１と同様に露光した。露光量は２０ｍＪ／ｃｍ２であった。また、評価のため、ブラックマトリクスを形成しない基板にも、これと同様に前記感光層Ｒ１を形成し、カラーフィルタパターン、感度評価パターン、解像度評価パターン（直径の異なる多数の穴部が形成されたパターン）、及びステップウエッジパターンを用いて同様の処理をした。その後、ブラックマトリクスの形成方法と同様の方法により現像し、熱処理した。
【０２１６】
［評価］
形成されたレッド（Ｒ）のカラーフィルタパターン（画素）について、以下の方法により露光感度、解像度、ジャギー発生の有無、及びムラの評価を行った。結果を下記表１０に示す。
【０２１７】
＜露光感度＞
得られた前記レッド（Ｒ）のカラーフィルタパターン（画素）において、残った前記感光層の硬化領域の厚みを測定した。次いで、レーザ光の照射量と、硬化層の厚さとの関係をプロットして感度曲線を得る。こうして得た感度曲線から基板上の硬化領域の厚さが１．５μｍとなり、硬化領域の表面が光沢面である時の光エネルギー量を、感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量とした。
【０２１８】
＜解像度＞
得られた前記レッド（Ｒ）の解像度評価パターン形成済みの基板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化層パターンの穴部に残膜が無い、最小の穴径を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。
【０２１９】
＜ジャギー発生の有無＞
前記積層体に、前記露光装置を用いて、前記露光ヘッドの走査方向と直交する方向の横線パターンが形成されるように照射して露光してパターンを形成した。
形成されたパターンのうち、ライン幅３０μｍのラインの任意の５箇所について、レーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製；対物レンズ５０倍）を用いて観察し、ジャギーの有無を評価した。ジャギーピッチｐｊｉの許容範囲は−５μｍ〜＋５μｍ、ジャギー振幅ａｊｉの許容範囲を−１μｍ〜＋１μｍとし、許容範囲を外れたものについて、ジャギー有りとして評価した。
【０２２０】
＜塗布ムラ＞
評価のためレッド（Ｒ）の感光層のみを形成した直後の基板を、暗室でＮａランプを斜めから照射し、目視にて観察し、ムラの発生の有無を判断した。
【０２２１】
＜表示ムラ＞
パターニングが終了した画素付きの基板（評価のためレッド（Ｒ）の感光層のみを形成した）を、暗室でＮａランプを斜めから照射し、目視にて観察し、ムラの発生の有無を判断した。
なお、これらムラの評価はムラが観察しやすいという観点からレッド（Ｒ）の例を示した。
【０２２２】
（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
前記ブラックマトリクスとレッド（Ｒ）画素を形成した基板に、下記表５に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｇ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みグリーン（Ｇ）画素を形成した。該Ｇ１感光層膜厚は１．４μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）の塗布量は０．３５５ｇ／ｍ２、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）の塗布量は０．０５２ｇ／ｍ２であった。ブラックマトリクスの形成方法と同様にして露光し、現像し、熱処理した。露光量は４０ｍＪ／ｃｍ２相当であった。
【０２２３】
−感光性組成物Ｇ１の調製−
下記表５に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表５に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍで３０分間攪拌した。更に、下記表５に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｇ１を調製した。
【０２２４】
【表５】
2007025597.tif 000009
【０２２５】
なお、表５に記載の組成物のうち、
・Ｇ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（東洋インキ製造株式会社製、分散物）１８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）１２質量％、シクロヘキサノン３５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３５質量％からなる。
・Ｙ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９（東洋インキ製造（株）製、商品名：パリオロールエローＬ１８２０）１８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）１５質量％、シクロヘキサノン１５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５２質量％からなる。
【０２２６】
（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
前記ブラックマトリクス、レッド（Ｒ）画素、及びグリーン（Ｇ）画素を形成した基板に、下記表６に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｂ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みブルー（Ｂ）画素を形成し、目的のカラーフィルタを作製した。
該Ｂ１感光層膜厚は１．４μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）の塗布量は０．２９ｇ／ｍ２であった。前記Ｋ感光層と同様に露光し、現像し、熱処理した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０２２７】
−感光性組成物Ｂ１の調製−
下記表６に記載の量のＢ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表６に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ、３０分間攪拌した。更に、下記表６に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ＲＰＭで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｂ１を調製した。
【０２２８】
【表６】
2007025597.tif 000010
なお、表６に記載の組成物のうち、
・Ｂ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（東洋インキ製造（株）製）１０質量％、分散剤１（ＥＦＫＡ−６７４５、ＥＦＫＡ  ＡＤＤＩＴＩＶＥＳ  Ｂ．Ｖ社製）０．５質量％、分散剤２（ディスパロンＤＡ−７２５、楠本化成（株）製）０．６３質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）１２．５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７６．３７質量％からなる
【０２２９】
（実施例２）
［カラーフィルタパターンの形成（フィルム法）］
＜感光性転写材料の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２μｍの感光性樹脂層を設け、保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
以上により、仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となった感光性樹脂転写材料Ｋ１を作製した。
【０２３０】
−熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１の調製−
メタノール１１．１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６．３６質量部、メチルエチルケトン５２．４質量部、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）５．８３質量部、スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）１３．６質量部、ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物（新中村化学工業(株)製、２，２−ビス[４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル]プロパン）９.１質量部、及び前記界面活性剤１  ０．５４質量部からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。
【０２３１】
−中間層用塗布液：処方Ｐ１の調製−
ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）３２．２質量部、ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）１４．９質量部、蒸留水５２４質量部、及びメタノール４２９質量部からなる中間層用塗布液を調製した。
【０２３２】
次に、前記感光性転写材料Ｋ１の作製において用いた前記感光性組成物Ｋ１を、下記表７〜９に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１に変更した以外は、上記と同様の方法により、感光性転写材料Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１をそれぞれ作製した。
なお、感光性組成物Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１の調製方法は、それぞれ前記感光性組成物Ｒ１、Ｇ１及びＢ１の調製方法に準ずる。
【０２３３】
【表７】
2007025597.tif 000011
【０２３４】
【表８】
2007025597.tif 000012
【０２３５】
【表９】
2007025597.tif 000013
【０２３６】
（１）レッド（Ｒ）画素の形成
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業株式会社製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃にて２分加熱して次のラミネーターに送った。
前記感光性樹脂転写材料Ｒ１０１の保護フイルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ社製、ＬａｍｉｃII型）を用い、前記１００℃に加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
【０２３７】
−露光工程−
保護フィルムを剥離後、実施例１の露光装置を用いて、波長が４０５ｎｍのレーザ光を、１５段ステップウエッジパターン（ΔＯＤ＝０．１５）、及びストライプ形状及びドット形状に照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。実施例１と同様にカラーフィルタパターンの他、ブラックマトリクスを形成しない基板にカラーフィルタパターン、感度評価パターン、及び解像度評価パターンも作製した。また、露光量は２０ｍＪ／ｃｍ２で、大気雰囲気下で行った。
【０２３８】
−現像工程−
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５質量％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム株式会社製）にて３０℃にて５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム株式会社製）を用い、３５℃にて３５秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き、洗浄剤（燐酸塩、珪酸塩、ノニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム株式会社製、或いは、炭酸ナトリウム、フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ２、富士写真フイルム株式会社製）を用い、３３℃にて２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、レッド（Ｒ）の画素を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理（ベーク）した。
該Ｒ１０１感光層の膜厚は２．０μｍ、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）の塗布量は０．３１４ｇ／ｍ２であった。
このレッド（Ｒ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【０２３９】
前記感度評価パターン、及び前記解像度評価パターンについて、実施例１と同様にして、露光感度、解像度、ジャギー発生の有無、及びムラの評価を行った。結果を下記表１０に示す。
【０２４０】
（２）グリーン（Ｇ）画素の形成
前記感光性転写材料Ｇ１０１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのグリーン（Ｇ）の画素を作製した。露光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。
該Ｇ１０１の感光層膜厚は２．０μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）の塗布量０．３９６ｇ／ｍ２、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）の塗布量は０．０６４８ｇ／ｍ２であった。
このレッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【０２４１】
（３）ブルー（Ｂ）画素の形成
前記感光性転写材料Ｂ１０１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのブルー（Ｂ）の画素を作製した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ２とした。
該Ｂ１０１感光層膜厚は２．０μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）の塗布量は０．３２ｇ／ｍ２であった。
このレッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）とブルー（Ｂ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。
【０２４２】
（４）ブラック（Ｋ）画像及びブラックマトリクスの形成
前記感光性転写材料Ｋ１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのブラック（Ｋ）の画像（カラーフィルタの額縁部分を形成）、及びブラックマトリクス部を作製した。
露光量は８０ｍＪ／ｃｍ２とし、１５段ステップウエッジパターン（ΔＯＤ＝０．１５）、線幅２５μｍのストライプ状パターンが得られるように行った。
【０２４３】
【表１０】
2007025597.tif 000014
表１０の結果より、実施例１及び２のカラーフィルタパターンは、塗布ムラ及び表示ムラが少なく、露光感度及び解像度が高く、ジャギーの発生も抑制されているため、本発明のカラーフィルタの製造方法により良好なカラーフィルタが製造できることが認められた。
【０２４４】
［表示装置の作製及び評価］
実施例１〜２のカラーフィルタを用いてＬＥＤバックライトを有する反射、透過兼用の表示装置を作製した。実施例１〜２のカラーフィルタを用いた表示装置が、良好な表示特性を示すことを確認した。
【０２４５】
（実施例３）
〔カラーフィルタパターンの形成〕（ＴＶ用、塗布法）
（１）ブラックマトリクスの形成
実施例１において、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例１と同様にしてブラックマトリクスを形成した。
【０２４６】
（２）レッド（Ｒ）画素の形成
下記表１１に記載の組成よりなる感光性組成物Ｒ２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は２．０μｍであった。
【表１１】
2007025597.tif 000015
なお、表１１に記載の組成物のうち、
・Ｒ顔料分散物３の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（チバスペシャリティケミカルズ社製）１８部、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物）１２部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７０部からなる。
【０２４７】
（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
下記表１２に記載の組成よりなる感光性組成物Ｇ２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
【表１２】
2007025597.tif 000016
なお、表１２に記載の組成物のうち、Ｙ顔料分散物２の組成は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３を用いた。
【０２４８】
（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
下記表１３に記載の組成よりなる感光性組成物Ｂ２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
【表１３】
2007025597.tif 000017
なお、表１３に記載の組成物のうち、
・Ｂ顔料分散物２は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７を用いた。
・Ｂ顔料分散物３は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３を用いた。
・バインダー３の組成は、（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３６／２２／４２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。
【０２４９】
（実施例４）
〔カラーフィルタパターンの形成〕（ＴＶ用、フィルム法）
（１）ブラックマトリクスの形成
露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例２と同様にして、ブラックマトリクスを形成した。ただし、形成順序はブラック（ブラックマトリクス）を最初とし、ブラックマトリクスと周辺額縁部分を形成した。
【０２５０】
（２）レッド（Ｒ）画素の形成
下記表１４に記載の組成よりなる感光性組成物Ｒ１０２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は２．０μｍであった。
【表１４】
2007025597.tif 000018
なお、表１４に記載の組成物のうち、燐酸エステル系特殊活性剤１は、楠本化成（株）製、商品名：ＨＩＰＬＡＡＤ  ＥＤ１５２を用いた。
【０２５１】
（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
下記表１５に記載の組成よりなる感光性組成物Ｇ１０２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は２．０μｍであった。
【表１５】
2007025597.tif 000019
【０２５２】
（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
下記表１６に記載の組成よりなる感光性組成物Ｂ１０２を用い、露光装置における前記各パラメータを、図１８に示した値と同様に設定して露光を行った以外は、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
【表１６】
2007025597.tif 000020
【０２５３】
実施例３及び４について、実施例１及び２と同様にして、露光感度、解像度、ジャギー発生の有無、及びムラを評価した。結果を表１７に示す。
【０２５４】
【表１７】
2007025597.tif 000021
表１７の結果より、実施例３及び４のカラーフィルタパターンは、塗布ムラ及び表示ムラが少なく、露光感度及び解像度が高く、本発明のカラーフィルタの製造方法により良好なカラーフィルタが製造できることが認められた。
【０２５５】
＜ブラック（Ｋ）画像の線幅ばらつき評価＞
実施例１〜４のストライプ状に形成されたブラックマトリクスにおいて、画面中央付近の１本について、長さ１０ｃｍにわたってレーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製；対物レンズ５０倍）を用いて線幅測定を行い、そのばらつきを求めた。結果を表１８に示す。
【０２５６】
（比較例１）
実施例１において、各パラメータの設定及び変更を行わずに露光を行った以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、レッド（Ｒ）画素のジャギー発生の有無を評価したところ、ジャギーの発生が認められた。
また、上記と同様の方法により、ブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。
【０２５７】
（比較例２）
実施例２において、各パラメータの設定及び変更を行わずに露光を行った以外は、実施例２と同様にしてカラーフィルタを形成し、レッド（Ｒ）画素のジャギー発生の有無を評価したところ、ジャギーの発生が認められた。
また、上記と同様の方法により、ブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。
【０２５８】
【表１８】
2007025597.tif 000022
表１８の結果から、比較例１〜２のブラックマトリクスと比較して、ジャギーを低減するように露光時のパラメータを設定して露光を行った実施例１〜４のブラックマトリクスの線幅ばらつきは小さく、高精細であることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０２５９】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、露光速度を低下させることなく、ジャギーが低減された所望の描画パターンを被露光面上に形成することにより、カラーフィルタのパターン（カラー画素、及びブラック画像）を高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能であり、該カラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタは表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適である。
【図面の簡単な説明】
【０２６０】
【図１】図１は、露光装置の外観斜視図である。
【図２】図２は、露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。
【図３】図３は、光変調手段としてのデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図４】図４は、図３に示すＤＭＤを構成するマイクロミラーがオン状態に設定されている場合の説明図である。
【図５】図５は、図３に示すＤＭＤを構成するマイクロミラーがオフ状態に設定されている場合の説明図である。
【図６】図６は、露光装置における露光ヘッドと、露光ステージに位置決めされた感光材料（感光層の被露光面）との関係説明図である。
【図７】図７は、露光装置における露光ヘッドと、感光材料（感光層の被露光面）上の露光エリアとの関係説明図である。
【図８】図８は、露光装置の制御回路ブロック図である。
【図９】図９は、露光装置における露光ヘッドに使用されるＤＭＤを構成するマイクロミラーの配列状態の説明図である。
【図１０】図１０は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのパラメータの説明図である。
【図１１】図１１は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのパラメータの説明図である。
【図１２】図１２は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのパラメータの説明図である。
【図１３】図１３は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【図１４】図１４は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【図１５】図１５は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【図１６】図１６は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【図１７】図１７は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【図１８】図１８は、露光ヘッドにより形成される描画パターンのジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。
【符号の説明】
【０２６１】
１０              露光装置
１８              露光ステージ
２４ａ〜２４ｊ    露光ヘッド
２６              スキャナ
２８              光源ユニット
３６              ＤＭＤ
３８              ＳＲＡＭセル
４０              マイクロミラー
４２              制御ユニット
４８              マイクロレンズアレー
５８ａ〜５８ｊ    露光エリア
６４              同期信号生成部
６６              露光ステージ駆動部
６８              描画データ記憶部
７０              ＤＭＤ変調部
７２              周波数変更部
７４              位相差変更部
７５              移動速度変更部
７６              露光ヘッド回転駆動部
７７              スワス
７８              光学倍率変更部
７９              ズーム光学系
８０              オリジナル画像
Ｆ                感光材料
Ｌ                レーザビーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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