(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルの誘電体を形成するのに必要な費用及び時間を減らすことができるＰＤＰの製造方法を提供する。【解決手段】本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、電極及び基板上に第１の誘電体を形成するステップと、第１の誘電体領域の少なくとも一部上に誘電体材質を塗布するステップと、誘電体材質を焼成して第２の誘電体を形成するステップとを含むことを特徴とする。【選択図】図３
2007059404.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた電極を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記電極及び前記基板上に第１の誘電体を形成するステップと、
前記第１の誘電体領域の少なくとも一部上に誘電体材質を塗布するステップと、
前記誘電体材質を焼成して第２の誘電体を形成するステップとを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記誘電体材質の誘電率は、前記第１の誘電体の誘電率よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記第１の誘電体の誘電率が１０以上１２以下であり、前記誘電体材質の誘電率が１２以上１５以下であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記第１の誘電体の材質と前記誘電体材質とは、実質的に同じであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記電極上に形成された第１の誘電体の領域の少なくとも一部の領域上に前記誘電体材質を塗布することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記電極は、走査電極と維持電極を含むことを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記誘電体材質と前記第１の誘電体を同時に焼成することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記誘電体材質は、ディスペンシング法またはインクジェットプリンティング法のいずれか一つにより塗布されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
基板上に電極を設けるステップと、
前記電極及び前記基板上に誘電体材質を塗布するステップと、
前記誘電体材質を焼成して誘電体層を形成するステップとを含み、
前記電極領域の少なくとも一部の領域に塗布された前記誘電体材質の量は、前記一部の領域を除いた残りの領域上に塗布された誘電体材質の量よりも大きいことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記誘電体材質は、ディスペンシング法により塗布されることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記誘電体材質の量は、前記誘電体材質の塗布時間または時間当たりの誘電体材質の吐出量により調節されることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記電極は、走査電極と維持電極を含むことを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ディスプレイ装置のうち、プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）とＰＤＰを駆動するための駆動部とを備えている。
【０００３】
ＰＤＰは、前面パネルと後面パネルとの間に設けられた隔壁が、一つの放電セルをなすものであり、各放電セル内には、ネオン（Ｎｅ）、ヘリウム（Ｈｅ）またはネオン及びヘリウムの混合ガス（Ｎｅ＋Ｈｅ）のような主放電ガスと少量のキセノン（Ｘｅ）を含有する不活性ガスが充填されている。
【０００４】
これらの放電セルが、複数個集まって一つのピクセルをなす。例えば、赤色（Ｒ）放電セル、緑色（Ｇ）放電セル、青色（Ｂ）放電セルが集まって１個のピクセルをなすものである。
【０００５】
また、ＰＤＰは、高周波電圧により放電されるとき、不活性ガスは、真空紫外線（Ｖａｃｕｕｍ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ Ｒａｙｓ）を発生し、隔壁間に形成された蛍光体を発光させて画像が表示される。このようなＰＤＰは、薄型かつ軽量の構成が可能であるので、次世代の表示装置として注目されている。
【０００６】
ＰＤＰは、走査電極と維持電極が設けられた前面基板と、アドレス電極が設けられた後面基板とを備えている。前面基板上には、走査電極と維持電極の絶縁及び壁電荷の形成のために、上部誘電体が形成され、後面基板上には、アドレス電極間の絶縁のために、下部誘電体が形成される。
【０００７】
上部誘電体は、フォトリソグラフィー法により形成されてもよい。フォトリソグラフィー法は、フォトマスクを用いなければならないため、製造費用が上昇するという問題点があった。また、フォトリソグラフィー法は、露光及び現像工程を行わなければならないため、製造時間が増加するという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、ＰＤＰの誘電体を形成するのに必要な費用を減らすことができるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、ＰＤＰの誘電体を形成するのに必要な時間を減らすことができるＰＤＰの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記の目的を達成するために、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法は、前記電極及び前記基板上に第１の誘電体を形成するステップと、前記第１の誘電体領域の少なくとも一部上に誘電体材質を塗布するステップと、前記誘電体材質を焼成して第２の誘電体を形成するステップとを含むことを特徴とする。
【００１１】
前記誘電体材質の誘電率は、前記第１の誘電体の誘電率よりも大きいことが好ましい。
【００１２】
前記第１の誘電体の誘電率は１０以上１２以下であり、前記誘電体材質の誘電率が１２以上１５以下であることが好ましい。
【００１３】
前記第１の誘電体の材質と前記誘電体材質とは、実質的に同じであることが好ましい。
【００１４】
前記電極上に形成された第１の誘電体の領域の少なくとも一部の領域上に前記誘電体材質を塗布することが好ましい。
【００１５】
前記電極は、走査電極と維持電極を含むことが好ましい。
【００１６】
前記誘電体材質と前記第１の誘電体を同時に焼成することが好ましい。
【００１７】
前記誘電体材質は、ディスペンシング法またはインクジェットプリンティング法のいずれか一つにより塗布されることが好ましい。
【００１８】
本発明の他の実施の形態によるＰＤＰの製造方法は、基板上に電極を設けるステップと、前記電極及び前記基板上に誘電体材質を塗布するステップと、前記誘電体材質を焼成して誘電体層を形成するステップとを含み、前記電極領域の少なくとも一部の領域に塗布された前記誘電体材質の量は、前記一部の領域を除いた残りの領域上に塗布された誘電体材質の量よりも大きいことを特徴とする。
【００１９】
前記誘電体材質は、ディスペンシング法により塗布されることが好ましい。
【００２０】
前記誘電体材質の量は、前記誘電体材質の塗布時間または時間当たりの誘電体材質の吐出量により調節されることが好ましい。
【００２１】
前記電極は、走査電極と維持電極を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によると、ＰＤＰの誘電体を形成するのに必要な費用と時間を減らすことができる。
【００２３】
また、ＰＤＰの誘電体を形成するのに必要な製造工程を単純化させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
前記の目的以外に本発明の他の目的及び特徴は、添付図面を参照した実施形態についての説明を通じて明白に表れる。
【００２５】
図１及び図２は、本発明の実施の形態によるＰＤＰを示す図である。本発明の実施の形態によるＰＤＰ１００は、走査電極１１と維持電極１２が設けられた前面基板１０と、アドレス電極２２が設けられた後面基板２０とを備えている。
【００２６】
走査電極１１及び維持電極１２のそれぞれは、透明電極１１ａ、１２ａとバス電極１１ｂ、１２ｂとを備えている。透明電極１１ａ、１２ａは、インジウムスズ酸化物で形成され、バス電極１１ｂ、１２ｂは、銅や銀で形成される。
【００２７】
上部誘電体１３ａは、走査電極１１と維持電極１２との上に形成され、上部誘電体１３ａの上には、走査電極１１、維持電極１２、及び上部誘電体１３ａを保護すると共に、二次電子放出を容易にするための保護層１４が形成されている。
【００２８】
走査電極１１及び維持電極１２の領域の少なくとも一部の領域上に形成された上部誘電体１３ａの厚さは、前記一部の領域を除いた残りの領域の少なくとも一部の領域上に形成された上部誘電体１３ａの厚さよりも大きい。このような本発明の実施の形態によるＰＤＰの上部誘電体１３ａについては具体的には後で図面を参照して説明する。
【００２９】
後面基板２０に設けられたアドレス電極２２上には、下部誘電体１３ｂが形成される。下部誘電体１３ｂの上には、隔壁２１が設けられ、隔壁２１と隔壁２１との間には、蛍光体層２３が形成される。
【００３０】
走査電極１１、維持電極１２、隔壁２２、及びアドレス電極２２の位置に応じて、放電セルが定義され、放電セルの放電空間には、不活性混合ガスが注入される。
【００３１】
本発明の実施の形態によるＰＤＰは、初期放電、アドレス放電、及び維持放電により画像を表示する。初期放電は、放電セルの壁電荷を均一にするためのものである。アドレス放電は、走査電極１１とアドレス電極２２との間に発生し、維持放電が発生する放電セルを選択するためのものである。維持放電は、アドレス放電が発生した放電セルにおいて発生する。維持放電が発生するためには、走査電極１１と維持電極１２の上に形成された壁電荷により形成された電圧と、走査電極１１と維持電極１２とに供給された電圧の差の和が、放電開始電圧よりも大きくなければならない。
【００３２】
本発明の実施の形態によるＰＤＰは、放電開始電圧を低くするために、図１及び図２に示すように、上部誘電体１３ａとして差等誘電体を含む。差等誘電体の厚さは、上部誘電体の形成領域により異なる。図２に示すように、上部誘電体１３ａとしての差等誘電体は、放電経路Ｐを短縮させるので、放電開始電圧を低くする。また差等誘電体は、上部誘電体１３ａの平均厚さを低くするので、放電開始電圧を低くする。また、走査電極１１と維持電極１２の領域に該当する上部誘電体１３ａの厚さは増加するので、放電電流を減らすことが可能であり、放電効率を高くすることができる。
【００３３】
次に、本発明の実施の形態によるＰＤＰの製造方法について、図面を参照して詳述する。
【００３４】
図３（ａ）乃至図３（ｄ）は、本発明の第１の実施の形態によるＰＤＰの製造方法を示す図である。
【００３５】
図３（ａ）に示すように、前面基板１０上に走査電極用の透明電極１１ａと維持電極用の透明電極１２ａが設けられる。
【００３６】
図３（ｂ）に示すように、走査電極用の透明電極１１ａと維持電極用の透明電極１２ａの上に、走査電極用のバス電極１１ｂと維持電極用のバス電極１２ｂが設けられる。バス電極１１ｂ、１２ｂは、銅または銀を含む。
【００３７】
図３（ｃ）に示すように、走査電極用の透明電極１１ａ、維持電極用の透明電極１２ａ、走査電極用のバス電極１１ｂ、維持電極用のバス電極１２ｂ、及び前面基板１０に第１の誘電体１３ａ−１が形成される。すなわち、第１の誘電体１３ａ−１は、前面基板１０の全領域に形成される。第１の誘電体１３ａ−１は、スクリーンプリンティング法、グリーンシートを用いたラミネーティング法等により形成されてもよい。
【００３８】
図３（ｄ）に示すように、第１の誘電体１３ａ−１の領域の少なくとも一部上に誘電体材質１３ａ−２がディスペンサ３０により塗布される。例えば、走査電極１１及び維持電極１２の上に形成された第１の誘電体１３ａ−１の領域の少なくとも一部の領域の上に、誘電体材質１３ａ−２が、ディスペンサ３０により塗布される。これにより、誘電体材質１３ａ−２が形成された上部誘電体１３ａの領域の厚さが、誘電体材質１３ａ−２が形成されていない上部誘電体１３ａの領域の厚さよりも大きいので、差等誘電体が形成される。第１の誘電体１３ａ−１の材質と誘電体材質１３ａ−２は同じであってもよい。
【００３９】
また、誘電体材質１３ａ−２は、インクジェットプリンタ（図示せず）により塗布されてもよい。ディスペンサ３０がノズルから、誘電体材質１３ａ−２を、走査電極１１及び維持電極１２の上に形成された第１の誘電体１３ａ−１の領域の少なくとも一部の領域上に塗布することと同様に、インクジェットプリンタもまたノズルから、走査電極１１及び維持電極１２の上に形成された第１の誘電体１３ａ−１の領域の少なくとも一部の領域上に誘電体材質１３ａ−２を塗布することある。
【００４０】
誘電体材質１３ａ−２の誘電率は、第１の誘電体１３ａ−１の誘電率よりも大きくてもよい。例えば、誘電体材質１３ａ−２の誘電率は１２以上１５以下であり、第１の誘電体１３ａ−１の誘電率は１０以上１２以下であってもよい。誘電体材質１３ａ−２の誘電率が、第１の誘電体１３ａ−１の誘電率よりも大きいと、アドレス過程において、走査電極１１とアドレス電極（図示せず）との間の対向放電により形成される壁電荷の量が増えるので、放電効率が増加する。
【００４１】
フォトリソグラフィー法により差等誘電体が形成される場合、フォトマスクによる製造費用の増加、及び露光と現像による工程の複雑化と製造時間の増加等が生じ、全体の前面基板１０の領域に誘電体材質を形成した後に現像するため、材料費が増加する。しかしながら、本発明の第１の実施の形態によるＰＤＰの製造方法は、ディスペンシング法により差等誘電体を形成するので、製造費用が減少し、製造工程が単純化するのみならず、製造時間を短縮させることができる。また、現像による材料費の増加を防ぐことができる。
【００４２】
以降、焼成工程により差等誘電体が完成される。
【００４３】
図４（ａ）乃至図４（ｄ）は、本発明の第２の実施の形態によるＰＤＰの製造方法を示す図である。
【００４４】
図４（ａ）に示すように、前面基板１０上に走査電極用の透明電極１１ａと維持電極用の透明電極１２ａが設けられる。
【００４５】
図４（ｂ）に示すように、走査電極用の透明電極１１ａと維持電極用の透明電極１２ａの上に、走査電極用のバス電極１１ｂと維持電極用のバス電極１２ｂが設けられる。バス電極１１ｂ、１２ｂは、銅または銀を含む。
【００４６】
図４（ｃ）に示すように、ディスペンサ３０により、走査電極１１と維持電極１２、及び前面基板１０の上に誘電体材質１３ａが塗布される。走査電極１１及び維持電極１２の領域の少なくとも一部の領域に塗布される誘電体材質１３ａの量は、前記一部の領域を除いた残りの領域上に塗布された誘電体材質の量よりも大きい。これにより、走査電極１１及び維持電極１２の領域の少なくとも一部の領域の誘電体材質の厚さは、残りの領域上に塗布された誘電体材質の厚さよりも大きい。誘電体材質１３ａの量は、ディスペンサ３０の、誘電体材質の塗布時間または誘電体材質の時間当たりの吐出量により調節される。
【００４７】
図４（ｄ）に示すように、誘電体材質１３ａの焼成により差等誘電体が形成される。
【００４８】
図４（ａ）乃至図４（ｄ）に示すように、本発明の第２の実施の形態によるＰＤＰの製造方法は、差等誘電体がディスペンシング法により、一つの工程で形成されるので、ＰＤＰの製造時間を短縮することができる。特に、第２の実施の形態による製造方法は、フォトリソグラフィー法において用いられるフォトマスクが必要なく、露光及び現像工程が必要ないので、製造費用及び製造時間の減少を提供することができる。
【００４９】
以降、焼成工程により差等誘電体が完成される。
【００５０】
図５は、本発明の一例によるディスペンサを示す断面図である。図５に示すように、本発明の実施の形態によるディスペンサは、シリンダ３１及び加圧ピストン３２を有するタンク３８と、微細ノズル３３と、連結管３４と、開閉ピストン３５と、ハウジング３７とを備えている。また、本発明の実施の形態によるディスペンサは、リターンスプリング３６をさらに含むことがある。
【００５１】
タンク３８は、シリンダ３１と加圧ピストン３２を有する。シリンダ３１は、塗布しようとする誘電体材質４０を貯蔵する。加圧ピストン３２は、シリンダ３１内の誘電体材質４０を加圧することにより、誘電体材質４０を微細ノズル３３から放出させる。タンク３８は、ハウジング３７と別の構成となっているが、タンク３０がハウジング３７と接するように構成し、ハウジング３７が連結管３４の役割を兼ねるよう構成することもある。
【００５２】
微細ノズル３３は、連結管３４と連結され、タンク３８と連結管３４を移動した誘電体材質４０を放出する。連結管３４は、タンク３８から微細ノズル３３へ誘電体材質４０が移動する通路であり、タンク３８と微細ノズル３３を連結する。連結管３４は、金属、ガラス、プラスチック等の材質で形成されてもよく、フレキシブルチューブであるごともある。
【００５３】
開閉ピストン３５の直径は、微細ノズル３３の直径と実質的に同じか大きくてもよく、微細ノズル３３を開閉する。開閉ピストン３５の強度のために、開閉ピストン３５と微細ノズル３３が接する部分の直径のみを、微細ノズル３３の直径と実質的に同じようにし、開閉ピストン３５の上部の直径は、微細ノズル３３の直径よりも大きくてもよい。開閉ピストン３５は、上下往復動により微細ノズル３３を開閉する。
【００５４】
ハウジング３７は、ピストン３５の円滑な往復動のために充分な空間を有し、開閉ピストン３５を保護する。
【００５５】
リターンスプリング３６は、ハウジング３７内の一端に固定され、開閉ピストン３５と結合される。開閉ピストン３５が上下に移動すると、リターンスプリング３６の付勢作用により、開閉ピストン３５は、元の位置に戻る。したがって、開閉ピストン３５の微細ノズル３３の開閉動作がより効率よく行われる。リターンスプリング３６は、シート状のバネ、またはコイル状のバネであることがある。
【００５６】
図６は、本発明の他の例によるディスペンサを示す断面図である。図６に示すように、本発明の他の例によるディスペンサは、複数の微細ノズル３３から誘電体を同時に吐出することにより、誘電体の吐出がさらに効率よく行われる。
【００５７】
複数の開閉ピストン３５の離隔距離及び複数の微細ノズル３３の離隔距離は、図６に示すように、差等誘電体の離隔距離と実質的に同一である。また、複数の開閉ピストン３５は、それぞれ独立に設けられ、独立に微細ノズル３３を開閉することができる。
【００５８】
以上説明した内容を通じて、当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修正が可能であるということが分かる。したがって、本発明の技術的範囲は、明細書の詳細な説明に記載された内容に限定されるものではなく、特許請求の範囲により決まらねばならない。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態によるＰＤＰを示す図である。
【図２】本発明の実施の形態によるＰＤＰを示す図である。
【図３】図３（ａ）乃至図３（ｄ）は、本発明の第１の実施の形態によるＰＤＰの製造方法を示す図である。
【図４】図４（ａ）乃至図４（ｄ）は、本発明の第２の実施の形態によるＰＤＰの製造方法を示す図である。
【図５】本発明の一実施の形態によるディスペンサを示す断面図である。
【図６】本発明の他の実施の形態によるディスペンサを示す断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１００  プラズマディスプレイパネル
１０  前面基盤
１１  走査電極
１２  維持電極
１１ａ、１２ａ  透明電極
１１ｂ、１２ｂ  バス電極
１３ａ  上部誘電体
１３ａ−１  第１の誘電体
１３ａ−２  誘電体材質
１３ｂ  下部誘電体
１４  保護層
２０  後面基板
２１  隔壁
２２  アドレス電極
２３  蛍光体層
３０  ディスペンサ
３１  シリンダ
３２  加圧ピストン
３３  微細ノズル
３４  連結管
３５  開閉ピストン
３６  リターンスプリング
３７  ハウジング
３８  タンク
４０  誘電体材質
Ｐ  放電経路
【図１】
2007059404.tif 000003
【図２】
2007059404.tif 000004
【図３】
2007059404.tif 000005
【図４】
2007059404.tif 000006
【図５】
2007059404.tif 000007
【図６】
2007059404.tif 000008