(57)【要約】    【課題】  殺菌力及び洗浄力に優れた、過酢酸を含む酸性殺菌洗浄剤を提供する。    【解決手段】  過酢酸、過酸化水素、酢酸及び水からなる過酢酸水溶液に、炭素数が１０〜２０アルカンスルホン酸塩を含有させる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
過酢酸、過酸化水素、酢酸、水及び炭素数が１０〜２０のアルカンスルホン酸塩を含む酸性殺菌洗浄剤。
【請求項２】
前記アルカンスルホン酸塩が第二級のアルカンスルホン酸塩である請求項１の酸性殺菌洗浄剤。
【請求項３】
更にギ酸源を含む請求項１及び２の酸性殺菌洗浄剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、過酢酸を含有する酸性殺菌洗浄剤に関する。更に詳細には、食品の製造装置、加工装置、或いはそれらのライン、または食品工場の床、壁等の殺菌、洗浄に有利に使用できる酸性殺菌洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品分野において、その製造装置あるいは加工装置、またはそれらのラインの殺菌には、過酢酸が用いられている。しかし、これらの製造装置あるいは加工装置、またはラインには、食品に起因する種々の汚れが付着するため、過酢酸での殺菌工程とは別に洗浄工程が設けられている。医療分野においても洗浄と殺菌を別々に行うことが多い。
このように従来は別々に行われている、洗浄と殺菌とを同時に行う試みがあり、例えば、特許文献１には、過酢酸に界面活性剤を配合し、殺菌と同時に、無機系の汚れ及び有機系の汚れを除去することが提案されている。
また、特許文献２には、過酢酸の濃縮物にアルキルベンゾールスルホネート、アルキルサルフェートおよび／またはアルキルスルホネート等の界面活性剤を含有させることが開示されている。
【特許文献１】特開２００１−７２９９６号公報
【特許文献２】特公昭６１−１０４６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明者等は、過酢酸に界面活性剤を配合することによって、殺菌と洗浄が同時に行えることに注目し、過酢酸溶液に界面活性剤を配合することを試みたが、過酢酸溶液に界面活性剤を配合すると、その保存中に有効成分である過酢酸が失われてしまうことが分かった。
本発明者等は、保存中に過酢酸濃度が低下しない、界面活性剤を含む過酢酸溶液を開発すべく、検討を重ねた結果、過酢酸水溶液に特定のアルカンスルホン酸塩を配合した場合、過酢酸が失われないことを見出し、本発明を完成した。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち、本発明は、過酢酸、過酸化水素、酢酸、水及び炭素数が１０〜２０のアルカンスルホン酸塩を含む酸性殺菌洗浄剤に関する。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の酸性殺菌洗浄剤は、過酢酸と界面活性剤とを安定に配合することができ、その保存中に過酢酸が失われることがないため、食品分野、医療分野あるいは畜産分野において、有利に使用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明において、酸性殺菌洗浄剤の調整は、既に平衡状態にある過酢酸の水溶液に、炭素数が１０〜２０のアルカンスルホン酸塩（以下、単に界面活性剤ということもある）を添加しても良いし、過酸化水素、酢酸、水及び界面活性剤を混合することによって調整することもできる。
上記のようにして得られる、酸性殺菌洗浄剤の好ましい組成は、過酢酸０．１〜１０重量％、過酸化水素１〜３０重量％、酢酸２〜４０重量％及び界面活性剤０．１〜２５重量％である。一般には、比較的高濃度の組成物を調整し、使用時にそれを適当な濃度に希釈して使用する。
【０００７】
殺菌、洗浄する際の各成分の好ましい濃度は、過酢酸０．１〜１重量％、過酸化水素０．１〜５重量％、酢酸０．２〜６重量％、及び界面活性剤０．１〜１．５重量％であり、更に好ましくは、過酢酸０．２〜０．６重量％、過酸化水素０．５〜３重量、酢酸０．６〜４重量％、及び界面活性剤０．５〜２．５重量％である。
【０００８】
本発明における、アルカンスルホン酸塩としては、炭素数が１０〜２０のアルカンスルホン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩であり、具体的には、デカンスルホン酸ナトリウム、ウンデカンスルホン酸ナトリウム、ドデカンスルホン酸ナトリウム、トリデカンスルホン酸ナトリウム、テトラデカンスルホン酸ナトリウム、ペンタデカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデカンスルホン酸ナトリウム等である。炭素数が１０より少ないものは、過酢酸と安定に配合することができず、また炭素数が２０よりも大きいものは、溶解性が悪く溶液が濁りを生じる。
また、アルカンスルホン酸塩として、第一級のアルカンスルホン酸塩よりも、第二級のアルカンスルホン酸塩の方がより安定に過酢酸と配合できる。
【０００９】
本発明の酸性殺菌洗浄剤は、この殺菌洗浄剤をそのまま、或いは適当な濃度に希釈して用いるが、殺菌時間を短縮したいとき、または殺菌力を増強したいときには、前記酸性殺菌洗浄剤にギ酸ナトリウム等のギ酸源を添加することができる。
ギ酸源の用い方は、前記酸性殺菌洗浄剤を使用する直前に、適当な濃度に希釈された殺菌洗浄剤に添加して用いることが好ましい。
ギ酸源としては、ギ酸、ギ酸ナトリウム、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸イソアミル等であり、前記酸性殺菌洗浄剤に、０．１〜５重量％配合することが好ましく、より好ましくは、０．５〜１．５重量％配合する。
【００１０】
本酸性殺菌洗浄剤の使用温度は、１０〜４０℃の範囲で行うことが好ましく、１０℃以下では十分な効果が得られないことがあり、また４０℃以上の温度では、有効成分である過酢酸が無効に分解するおそれがある。殺菌洗浄時間は、対象菌や汚れにもよるが、通常は、１０〜７５分である。
【実施例】
【００１１】
（安定性試験）
実施例１〜６及び比較例１〜７
過酢酸及び界面活性剤の濃度をそれぞれ表１に示される濃度に調整し、５０℃で７日間静置した後、過酢酸濃度を測定して過酢酸残存率を求めた。その結果を表１に示す。なお、本試験においては、オキシペール１００（日本パーオキサイド株式会社）を用いて調整した。
（＊１）第二級アルカンスルホン酸ナトリウムは、Hostapur SAS 93(クラリアントジャパン社)を用いた。（炭素数は13〜16の混合物）
（＊２）過酢酸残存率（％）は、７日後の過酢酸濃度を初期濃度で除して求めた。
（＊３）４日後の測定値が４４％であったので、７日後の測定は行わなかった。
（＊４）５０℃に静置後、まもなく発泡し容器より溢れた。
【００１２】
【表１】
2007084589.tif 000002
【００１３】
（洗浄試験）
実施例７〜８及び比較例８〜９
実施例６で用いた過酢酸水溶液を１０倍に希釈し、過酢酸濃度０．５％、界面活性剤０．５%含有する溶液を調整し供試液とした。
供試液をホモジナイザーで泡立て、そこに下記の方法で作成した汚染板を１５秒間浸漬する。その後、汚染板を引き上げ、立てた状態で２０分間、室温で放置した後、５０mlの水道水ですすぎ、汚染板の重量を測定し洗浄率を求めた。（洗浄率は、洗浄後の汚染板の重量を洗浄前の汚染板の重量で除した。）
（汚染板の作成方法）
市販のミルクコーヒー１．０mlを清浄なＳＵＳ316（50×80×1mm）の片面に均一に塗布し、９０℃で２時間乾燥する。この操作を４回繰返し、汚染板を作成した。
【００１４】
【表２】
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【００１５】
（殺菌試験）
実施例９〜１１及び比較例１０
２０ｍｌのビーカーに表３に示した供試液９ｍｌを入れ、２５℃の水浴中で攪拌しながら５分間保持する。その後、供試液に芽胞液または胞子液を１ｍｌ接種し、５分、１０分、１５分、３０分、４５分、６０分及び１２０分経過後に１ｍｌを採取し、亜硫酸ナトリウムを主成分とした不活化剤９ｍｌを直ちに混和する。
適宜希釈し、芽胞菌（Bucillus subtilis
var. globigii）は、標準寒天培地で３６℃・３日間、カビ（Chaetomium globosum）は２８℃・４日間培養後、菌数をカウントした。
結果を表３に示す。
【００１６】
【表３】
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