(57)【要約】【課題】１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置ＰＥでは、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、並列配置され、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、各露光ユニット１００Ａ，１００Ｂの対称位置に配置され、複数枚のマスクＭを収容し、且つマスクＭのマスク供給口１９Ａ，１９Ｂが互いに対向するように配置されるマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂと、マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂから所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給するマスクローダ１７Ａ，１７Ｂと、を備え、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢにマスクＭを供給し、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂ間を移動自在、且つ回転自在なマスクケース２０を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持する基板ステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持するマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、前記基板が前記マスクと所定位置で対向するように前記基板ステージを移動させる基板ステージ送り機構と、を備える露光ユニットを複数有する露光装置であって、
前記露光ユニットは、並列配置され、
前記露光ユニットは、前記各露光ユニットの対称位置に配置され、複数枚の前記マスクを収容し、且つ前記マスクのマスク供給口が互いに対向するように配置されるマスクストッカと、前記マスクストッカから所定の前記マスクを前記マスクステージに供給するマスクローダと、を備え、
前記マスクストッカに前記マスクを供給し、前記露光ユニット間を移動自在、且つ回転自在なマスクケースを備えることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、より詳細には、半導体や、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図５に示すように、従来の露光装置１では、通常、生産効率を向上するため、複数台（図５では２台）の露光ユニット１Ａ，１Ｂが並列配置されている。この露光ユニット１Ａ，１Ｂは、マスクパターンが異なる複数枚のマスクＭを貯蔵可能なマスクストッカ２Ａ，２Ｂを備える。このマスクストッカ２Ａ，２Ｂに隣接配置されたマスクローダ３Ａ，３Ｂは、マスクストッカ２Ａ，２Ｂから所定のマスクＭを取り出してマスクステージ４Ａ，４Ｂに装着し、或いは、装着されているマスクＭを交換する。
【０００３】
また、露光ユニット１Ａ，１Ｂのマスクストッカ２Ａ，２ＢへマスクＭの供給は、多数のマスクＭを収容したマスクケース５Ａ，５Ｂにより行われる。即ち、多数のマスクＭを収容したマスクケース５Ａ，５Ｂは、露光ユニット１Ａ，１Ｂの同一面に形成されたマスク供給口６Ａ，６Ｂに、同一方向からマスクＭを供給してマスクストッカ２Ａ，２Ｂに貯蔵させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、マスクステージ４Ａ，４Ｂに装着されるマスクＭの方向は、マスクＭと基板Ｗの位置検出・調整装置などの都合上から、いずれの露光ユニット１Ａ，１Ｂにおいても同一方向を向いていることが望ましい（位置検出・調整装置が、露光ユニットごとに異なる位置に配置されている場合はこの限りではないが、この場合、露光ユニットの仕様が複数となり、且つ露光ユニットの配置位置が固定されてしまうので実用的でない。）。なお、マスクＭの方向を明確にするため、マスクＭに太矢印を表示する。
【０００５】
そして、一方の露光ユニット１Ａにおいては、マスクＭは、マスクローダ３Ａにより時計方向（図５の矢印Ｅ方向）に約９０°回転してマスクステージ４Ａに装着されるため、太矢印が左方向を向いた状態でマスクストッカ２Ａに貯蔵される必要がある。また、他方の露光ユニット１Ｂにおいては、マスクＭは、マスクローダ３Ｂにより反時計方向(図５の矢印Ｆ方向)に約９０°回転してマスクステージ４Ｂに装着されるため、太矢印が右方向を向いた状態でマスクストッカ２Ｂに貯蔵される必要がある。
【０００６】
このため、従来の露光装置１においては、マスクステージ４Ａ，４Ｂに装着されるマスクＭの方向を合わせるために、マスクＭの向きを１８０°変えて収容した２種類のマスクケース５Ａ、５Ｂを準備する必要があり、この準備作業が煩雑であった。また、マスクケース５Ａ，５Ｂは、露光ユニット１Ａ，２Ｂにそれぞれ専用であるので、万が一、露光ユニット１Ａ、１Ｂに適合しないマスクケース５Ａ，５Ｂを選択してしまうと、マスクストッカ２Ａ，２Ｂに誤ったマスクＭが供給されてしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような不都合を解消するためになされたものであり、その目的は、１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  被露光材としての基板を保持する基板ステージと、基板に対向配置されてマスクを保持するマスクステージと、基板に対してパターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、基板がマスクと所定位置で対向するように基板ステージを移動させる基板ステージ送り機構と、を備える露光ユニットを複数有する露光装置であって、露光ユニットは、並列配置され、露光ユニットは、各露光ユニットの対称位置に配置され、複数枚のマスクを収容し、且つマスクのマスク供給口が互いに対向するように配置されるマスクストッカと、マスクストッカから所定のマスクをマスクステージに供給するマスクローダと、を備え、マスクストッカにマスクを供給し、露光ユニット間を移動自在、且つ回転自在なマスクケースを備えることを特徴とする露光装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の露光装置によれば、露光ユニットは、並列配置され、露光ユニットは、各露光ユニットの対称位置に配置され、複数枚のマスクを収容し、且つマスクのマスク供給口が互いに対向するように配置されるマスクストッカと、マスクストッカから所定のマスクをマスクステージに供給するマスクローダと、を備え、マスクストッカにマスクを供給し、露光ユニット間を移動自在、且つ回転自在なマスクケースを備えるため、１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる。これにより、各露光ユニットにマスクを容易且つ効率的に供給することができるので、作業効率を大幅に向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明に係る露光装置の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係る露光装置の全体構成を説明するための概略平面図、図２は図１に示す露光ユニットの要部正面図、図３は図２に示す基板ステージの側面図、図４は図１に示す基板ローダの側面図である。
【００１１】
図１及び図２に示すように、本実施形態の露光装置ＰＥは、２台の露光ユニット１００Ａ，１００Ｂを並列配置させている。露光ユニット１００Ａ、１００Ｂは、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂ、第１基板ステージ１１，１１、第２基板ステージ１２，１２、照明装置１３，１３、プリアライメントユニット１４，１４、第１基板ローダ１５，１５、第２基板ローダ１６，１６、マスクローダ１７Ａ，１７Ｂ、及びマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂをそれぞれ備え、基台２１，２１の上にそれぞれ載置されている。また、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢへのマスクＭの供給は、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂ間を移動自在、且つ回転自在なマスクケース２０により行われる。なお、マスクＭの方向を明確にするため、マスクＭに太矢印を表示する。
【００１２】
マスクステージ１０Ａ，１０Ｂは、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられる複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１の左右方向）に移動してマスクステージ１０Ａ，１０Ｂの下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。また、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂは、中央に矩形状の開口部２４を有して、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂに対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されるマスク保持部２５を備え、露光すべきマスクパターンを有するマスクＭがこの開口部２４に臨むようにしてマスク保持部２５に保持されている。また、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂには、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。
【００１３】
図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１，３１を上面にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ送り機構３２，３２がそれぞれ設けられる。この基板ステージ送り機構３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動すると共に、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。
【００１４】
具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に、リニアガイド３８とＹ軸送り駆動機構３９とを備える。ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、２台のＹ軸ステージ３３が、２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に沿って移動可能に支持される。
【００１５】
また、ステージベース２３上には、モータ４２によって回転駆動されるボールねじ軸４３が、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対応してそれぞれ設けられており、ボールねじ軸４３には、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたボールねじナット４４が螺合されている。
【００１６】
また、Ｘ軸送り機構３６も、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間に、リニアガイド４５とＸ軸送り駆動機構４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。さらに、Ｙ軸テーブル３３上には、モータ４９によって回転駆動されるボールねじ軸５０が設けられており、ボールねじ軸５０には、Ｙ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたボールねじナット５１が螺合されている。
【００１７】
一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動すると共に、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を第１及び第２基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。
【００１８】
そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。このＺ−チルト調整機構３７は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台の合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。
【００１９】
これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１に保持された基板Ｗを個別にマスクステージ１０Ａ，１０Ｂの下方の露光位置ＥＰに配置すべく、第１基板ステージ１１を第１待機位置ＷＰ１と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２待機位置ＷＰ２と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｙ軸送り機構３４及びＸ軸送り機構３６は、露光位置ＥＰにある基板保持部３１をマスクＭに対してＸ、Ｙ方向にステップ移動させるように第１及び第２基板ステージ１１，１２を移動させる。なお、Ｙ軸送り駆動機構３９、Ｘ軸送り駆動機構４６、及びＺ−チルト調整機構３７は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。
【００２０】
また、図１〜図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１のＸ軸方向側部とＹ軸方向側部にそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられている。また、ステージベース２３のＹ軸方向の両側と、ステージベース２３のＸ軸方向の一側には、３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第１及び第２ステージ１１，１２の位置を検出する。
【００２１】
図２に示すように、照明装置１３は、マスク保持部２５の開口部２４の上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照明装置１３は、露光位置ＥＰに移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１に保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンが露光転写される。
【００２２】
プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置された基板カセット７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１又は第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うものであり、図１中、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂの手前側に配置されている。プリアライメントユニット１４は、図示しないＸ軸送り機構、Ｙ軸送り機構、および回転機構を備え、プリアライメントユニット１４上に載置された基板Ｗの位置を所定の位置に調整する。
【００２３】
第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第２基板ステージ１２に搬送される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送するようになっている。
【００２４】
第２基板ローダ１６は、プリアライメントユニット１４に対して第１基板ローダ１５と対向配置、即ち、図１中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第１基板ステージ１１に搬送される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送するようになっている。
【００２５】
図４に示すように、第１及び第２基板ローダ１５，１６は、基台２１に固定されたコラム８１に複数の搬送部８２，８３が揺動自在に配設される多関節型のローダロボットである。複数の搬送部８２，８３は、昇降機構(図示せず。) によってコラム８１に沿って上下移動すると共に、それぞれサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される。各搬送部８２，８３は、第１及び第２アーム８４，８５と、第１アーム８４の先端に、複数の棒状部材８６が平行して植設された載置台８７とを有する。そして、それぞれのサーボモータを制御して作動させることにより、載置台８７を昇降、回転、及び移動させて、載置台８７上の基板Ｗを搬送する。
【００２６】
具体的に、第１基板ローダ１５は、基板カセット７０Ａに収容された基板Ｗを載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを載置台８７上に載置して基板カセット７０Ａへ搬送する。
【００２７】
第２基板ローダ１６は、基板カセット７０Ｂに収容された基板Ｗを載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送し、さらに、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上の露光転写後の基板Ｗを載置台８７上に載置して基板カセット７０Ｂへ搬送する。
【００２８】
そして、本実施形態では、図１に示すように、マスクローダ１７Ａ及びマスクストッカ１８Ａは、露光ユニット１００Ｂの側面（図１の右側面）に対して対向配置、即ち、図１中、露光ユニット１００Ａの上部左側方に配置され、マスクローダ１７Ｂ及びマスクストッカ１８Ｂは、露光ユニット１００Ａの側面（図１の左側面）に対して対向配置、即ち、図１中、露光ユニット１００Ｂの上部右側方に配置されており、マスクローダ１７Ａ及びマスクストッカ１８Ａとマスクローダ１７Ｂ及びマスクストッカ１８Ｂとは、互いに対称位置に対向配置されている。
【００２９】
マスクローダ１７Ａ，１７Ｂは、図４に示す第１及び第２基板ローダ１５，１６と略同様の構成を有し、マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂに貯蔵されている複数枚のマスクＭの中から所定のマスクＭを選択、保持し、マスクステージ１０Ａ，１０Ｂにそれぞれ供給する。なお、マスクローダ１７Ａ，１７Ｂの場合、搬送部は１本である。また、マスクステージ１０Ａ，１０ＢへのマスクＭの供給は、本実施形態のように、マスクローダ１７Ａ，１７Ｂによってマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂからマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに直接供給してもよいが、これに限定されず、マスクローダ１７Ａ，１７Ｂによってマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂから第１及び第２基板ステージ１１，１２に一度搬送し、その後、第１及び第２基板ステージ１１，１２によってマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給するようにしてもよい。
【００３０】
具体的には、マスクローダ１７Ａは、マスクストッカ１８Ａに貯蔵されている複数枚のマスクＭの中から所定のマスクＭを選択し、選択したマスクＭを載置台８７上に載置して反時計方向（図１の矢印Ａ方向）に搬送してマスクステージ１０Ａに装着する。さらに、マスクＭを交換する際には、露光転写後のマスクＭを載置台８７上に載置してマスクストッカ１８Ａに貯蔵させる。
【００３１】
また、マスクローダ１７Ｂは、マスクストッカ１８Ｂに貯蔵されている複数枚のマスクＭの中から所定のマスクＭを選択し、選択したマスクＭを載置台８７上に載置して時計方向（図１の矢印Ｂ方向）に搬送してマスクステージ１０Ｂに装着する。さらに、マスクＭを交換する際には、露光転写後のマスクＭを載置台８７上に載置してマスクストッカ１８Ｂに貯蔵させる。
【００３２】
なお、マスクローダ１７Ａ，１７Ｂが、図４に示す第１及び第２基板ローダ１５，１６のように２本の搬送部８２，８３を備えていれば、露光転写前のマスクＭを搬送部８２（８３）の載置台８７に保持した状態で、露光転写後のマスクＭを搬送部８３（８２）の載置台８７で取り外し、取り外し直後に搬送部８２（８３）に保持した露光転写前のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに装着することが可能となる。
【００３３】
マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂは、マスクパターンが異なる複数枚のマスクＭを収容するための貯蔵庫であって、マスクケース２０からマスクＭが供給され、貯蔵される。また、マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂのマスク供給口１９Ａ，１９Ｂは、互いに対向して配置される。即ち、一方のマスク供給口１９Ａは、露光ユニット１００Ａの上部左側壁部に配設され、他方のマスク供給口１９Ｂは、露光ユニット１００Ｂの上部右側壁部に配設されている。
【００３４】
マスクケース２０は、例えば、底面にキャスタ(図示せず)等を備え、並列配置された露光ユニット１００Ａ，１００Ｂ間を移動自在、且つ回転自在に構成され、所定の方向を向いて整列させられた複数枚のマスクＭを、その内部に設けられた棚に載置して収容する。また、マスクケース２０には、一箇所だけ開口部２０ａが形成されており、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢにマスクＭを供給する際は、マスクケース２０を移動及び回転させて、開口部２０ａとマスク供給口１９Ａ又はマスク供給口１９Ｂとを対向させるように配置する。これにより、マスクストッカ１８Ａには矢印Ｃ方向から、マスクストッカ１８Ｂには矢印Ｄ方向からマスクＭが供給される（図１参照）。
【００３５】
このように構成された露光装置ＰＥでは、マスクＭは、太矢印が左方向を向いた状態でマスクケース２０に収容されており、露光ユニット１００Ａのマスクステージ１０ＡにマスクＭを装着する場合、マスクケース２０は、その開口部２０ａとマスクストッカ１８Ａのマスク供給口１９Ａとを対向させるように配置され、マスクＭは、マスクストッカ１８Ａに太矢印が左方向を向くように供給、貯蔵される。そして、マスクローダ１７Ａは、マスクストッカ１８Ａに貯蔵されている複数枚のマスクＭの中から所定のマスクＭを選択、保持し、選択したマスクＭを矢印Ａ方向に約９０°回転させて搬送してマスクステージ１０Ａに装着させる。これにより、マスクＭは、マスクステージ１０Ａに太矢印が下方向を向くように装着される。
【００３６】
また、露光ユニット１００Ｂのマスクステージ１０ＢにマスクＭを装着する場合、マスクケース２０は、その開口部２０ａとマスクストッカ１８Ｂのマスク供給口１９Ｂとを対向させるように配置され、マスクＭは、マスクストッカ１８Ｂに太矢印が右方向を向くように供給、貯蔵される。そして、マスクローダ１７Ｂは、マスクストッカ１８Ｂに貯蔵されている複数枚のマスクＭの中から所定のマスクＭを選択、保持し、選択したマスクＭを矢印Ｂ方向に約９０°回転させて搬送してマスクステージ１０Ｂに装着させる。これにより、マスクＭは、マスクステージ１０Ｂに太矢印が下方向を向くように装着される。
【００３７】
即ち、並列配置された露光ユニット１００Ａ，１００Ｂのマスクストッカ１８Ａ，１８ＢへのマスクＭの供給は、１種類のマスクケース２０を１８０°回転させるだけで対応することができ、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢにマスクＭを所定の方向に向けて供給することができる。
【００３８】
本実施形態の露光装置ＰＥによれば、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、並列配置され、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、各露光ユニット１００Ａ，１００Ｂの対称位置に配置され、複数枚のマスクＭを収容し、且つマスクＭのマスク供給口１９Ａ，１９Ｂが互いに対向するように配置されるマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂと、マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂから所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給するマスクローダ１７Ａ，１７Ｂと、を備え、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢにマスクＭを供給し、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂ間を移動自在、且つ回転自在なマスクケース２０を備えるため、１種類のマスクケース２０を用いて、複数の露光ユニット１００Ａ，１００Ｂのマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂに挿入方向を間違うことなくマスクＭを供給することができる。これにより、各露光ユニット１００Ａ，１００ＢにマスクＭを容易且つ効率的に供給することができるので、作業効率を大幅に向上することができる。
【００３９】
なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、基板ステージを２台備えた露光ユニットを並列配置した露光装置に本発明を適用した場合を例示したが、これに代えて、基板ステージを１台備えた露光ユニットを並列配置した露光装置に本発明を適用してもよい。
また、本実施形態では、露光ユニットを２台並列配置した露光装置に本発明を適用した場合を例示したが、これに限定されず、露光ユニットの並列台数は任意である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明に係る露光装置の全体構成を説明するための概略平面図である。
【図２】図１に示す露光ユニットの要部正面図である。
【図３】図２に示す基板ステージの側面図である。
【図４】図１に示す基板ローダの側面図である。
【図５】従来の露光装置を説明するための平面図である。
【符号の説明】
【００４１】
ＰＥ                  露光装置
Ｗ                  基板（被露光材）
Ｍ                  マスク
１０Ａ，１０Ｂ        マスクステージ
１１                  第１基板ステージ（基板ステージ）
１２                  第２基板ステージ（基板ステージ）
１３                  照明装置
１４                  プリアライメントユニット
１５                  第１基板ローダ
１６                  第２基板ローダ
１７Ａ，１７Ｂ        マスクローダ
１８Ａ，１８Ｂ        マスクストッカ
１９Ａ，１９Ｂ        マスク供給口
２０                  マスクケース
２０ａ                開口部
２１                  基台
２２                  支柱
２３                  ステージベース
２４                  開口部
２５                  マスク保持部
３１                  基板保持部
３２                  基板ステージ送り機構
３３                  Ｙ軸テーブル
３４                  Ｙ軸送り機構
３５                  Ｘ軸テーブル
３６                  Ｘ軸送り機構
３７                  Ｚ−チルト調整機構
６１，６２            バーミラー
６３，６４，６５      レーザー干渉計
７０Ａ，７０Ｂ        基板カセット
１００Ａ，１００Ｂ    露光ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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