(57)【要約】【課題】  波長選択反射膜やサーボピットパターンの形成が容易であり、入射角が変化しても選択反射波長のずれや再生像の歪みが生ずることがなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供。【解決手段】  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、ホログラフィを利用して干渉像が形成された干渉像形成層とを少なくとも有し、該干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが形成された光記録媒体である。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、ホログラフィを利用して干渉像が形成された干渉像形成層とを少なくとも有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが形成された請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像が形成された第一の干渉像形成層と、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層とからなる請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
選択吸収層を有する請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
干渉像形成層の厚みが、５〜１，０００μｍである請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
選択反射中心波長が互いに異なる機能が、干渉像に形成された請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
選択反射波長帯域が連続的である機能が、干渉像に形成された請求項１から６のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項８】
第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する機能が、干渉像に形成された請求項１から７のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項９】
第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである機能が、干渉像に形成された請求項１から８のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１０】
λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である機能が、干渉像に形成された請求項１から９のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１１】
λ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である機能が、干渉像に形成された請求項１から１０のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１２】
支持体上に、請求項１から１１のいずれかに記載の干渉像形成層を積層してなることを特徴とする光記録媒体用フィルタ。
【請求項１３】
ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる請求項１２に記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１４】
光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行なわれ、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉像が記録層に記録される請求項１２から１３のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１５】
請求項１から１１のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、干渉像形成層を形成する干渉像形成層積層工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１から１１のいずれかに記載の光記録媒体に対し、情報光及び参照光の照射を、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが、同軸及び１０〜８０°の鋭角の少なくともいずれかになるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉により生成される干渉像を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉像に参照光を照射して記録情報を再生することを特徴とする光再生方法。
【請求項１８】
参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度で、干渉像に照射して記録情報を再生する請求項１７に記載の光再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体であって、波長選択反射情報、アドレス情報及びサーボ情報が記録されたホログラム記録層を有する光記録媒体、該ホログラム記録層を有する光記録媒体用フィルタ及び該光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来より提案されている光記録媒体の多くは二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。
【０００３】
前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に屈折率などの光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、該記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光として該記録層から出射させる。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。コンピュータにより合成されるデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００４】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図７に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４ａと、この記録層４ａ上に第一の基板５とを有する光記録媒体２１が提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
しかし、図７に示す構成の光記録媒体２１では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある
このため、図８に示す光記録媒体２２では、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層４ａと反射膜２との間に、第二の基板１の平滑化のためのギャップ層８ａ、フィルタ層６としてのコレステリック液晶層又はダイクロイックミラー層、４分の１波長板層６ｄを設け、記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている（特許文献３参照）。この手法により記録密度は倍増する。また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産することができ、垂直入射０°におけるフィルタ効果は良好となる。
しかし、この提案では、入射角が変化すると選択反射波長にずれが生じ、入射光が１０°以上傾くと情報光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる。このことは、レンズで絞った±１０°以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学系の入射光には使用できないことを意味する。また、複数の層を積層した積層体や連続して螺旋ピッチが変化するコレステリック液晶層では、選択反射層に入射光が達するまでに通過する液晶層において、膜面の方向に配向した負の複屈折によって歪みを受け、再生像に歪みを生ずる原因となるという問題がある。
一方、前記ダイクロイックミラー層を用いて前記通常のレンズ光学系に対応できる膜を設計すると５０層以上の多層蒸着が必要となり、極めて高コストな光記録媒体となってしまうという問題がある。また、前記サーボピットパターンは、その表面形状がアドレス情報やサーボ情報のための凹凸など複雑な形状をしており、更に表面に反射膜が形成され、かつそれらの形状は高精度が要求されるため、生産性に劣るという問題がある。
また、ホログラム記録の品質の基準を示す回折効率を高めるため、複数のホログラム記録層を形成する提案がなされている（特許文献４参照）。また、波長選択反射膜の機能を有するホログラム記録層を複数層積層し、各記録層に異なった波長選択機能をもたせる光記録媒体も提案されている（特許文献５参照）。
しかし、前記回折効率向上のため複数のホログラム記録を形成する提案の場合、複数の記録層に加え、更に波長選択膜や前記サーボピットパターンを形成する点で、生産工程が増加し、生産効率が低下するという問題がある。前記複数の記録層に各層に異なった波長選択膜の機能を付加する提案の場合、複数層を形成し、更に前記サーボピットパターンを形成する点で、やはり生産工程が増加し生産効率が低下するという問題がある。
【０００６】
したがって、波長選択反射膜やサーボピットパターンの形成が容易であり、入射角が変化しても選択反射波長のずれや再生像の歪みが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２６５４７２号公報
【特許文献４】特開平５−１８１３９９号公報
【特許文献５】特開平６−２７８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、波長選択反射膜やサーボピットパターンの形成が容易であり、入射角が変化しても選択反射波長のずれや再生像の歪みが生ずることがなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにない高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、ホログラフィを利用して干渉像が形成された干渉像形成層とを少なくとも有することを特徴とする光記録媒体である。
該＜１＞に記載の光記録媒体においては、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、ホログラフィを利用して干渉像が形成された干渉像形成層とを少なくとも有すると、該干渉像形成層により、情報光が選択反射され、参照光と該情報光とにより干渉縞が前記記録層に記録される。他方、サーボ用光も反射されアドレス情報及びサーボ情報が検出される。そのため、簡易な積層構造で光記録媒体が形成され、生産効率が高まる。
＜２＞  干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが形成された前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
該＜２＞に記載の光記録媒体においては、干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが形成されていると、光記録媒体としての波長選択反射機能、アドレス機能及びサーボ用光反射機能が充分に発揮される。
＜３＞  干渉像形成層が、波長選択反射機能を有する干渉像が形成された第一の干渉像形成層と、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層とからなる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜３＞に記載の光記録媒体においては、波長選択反射機能を有する干渉像が形成された第一の干渉像形成層と、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層とが形成されていると、該第一の干渉像形成層及び第二の干渉像形成層により、光記録媒体としての波長選択反射機能、アドレス機能及びサーボ用光反射機能が充分に発揮される。
＜４＞  選択吸収層を有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜４＞に記載の光記録媒体においては、選択吸収層を有すると、前記干渉像形成層で選択反射若しくはサーボ用光反射が充分でなく、反射し切れなかった情報光若しくはサーボ用光が該選択吸収層で吸収され、情報の記録及びサーボ情報検出に悪影響が起きることがない。
＜５＞  干渉像形成層の厚みが、５〜１，０００μｍである前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜５＞に記載の光記録媒体においては、干渉像形成層の厚みが５〜１，０００μｍであると、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が、該干渉像形成層に充分に形成される。
＜６＞  選択反射中心波長が互いに異なる機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  選択反射波長帯域が連続的である機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜６＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体においては、選択反射中心波長が互いに異なり、選択反射波長帯域が連続的である機能が形成されるので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消でき、前記干渉像形成層が波長選択反射膜として好適に用いられる。
＜８＞  第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜９＞  第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１０＞  λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１１＞  λ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である機能が、干渉像に形成された前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【００１０】
＜１２＞  支持体上に、前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の干渉像形成層を積層してなることを特徴とする光記録媒体用フィルタである。
＜１３＞  ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１２＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１４＞  光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行なわれ、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉像が記録層に記録される前記＜１２＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
【００１１】
＜１５＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、干渉像形成層を形成する干渉像形成層積層工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
該＜１５＞に記載の光記録媒体の製造方法においては、前記干渉像形成層積層工程により、第二の基板上に前記干渉像形成層を積層した積層体が形成される。その結果、接着等の簡便な方法により、効率よく光記録媒体を低コストで大量生産することができる。
【００１２】
＜１６＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体に対し、情報光及び参照光の照射を、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが、同軸及び１０〜８０°の鋭角の少なくともいずれかになるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉により生成される干渉像を記録層に記録することを特徴とする光記録方法である。
該＜１６＞に記載の光記録方法においては、本発明の前記光記録媒体を用いて、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸及び１０〜８０°の鋭角の少なくともいずれかになるようにして行われ、該情報光と参照光との干渉による干渉像によって情報が記録層に記録され、容易に高密度記録が実現される。
【００１３】
＜１７＞  前記＜１６＞に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉像に参照光を照射して記録情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
該＜１７＞に記載の光再生方法においては、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉像を効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
＜１８＞  参照光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度で、干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜１７＞に記載の光再生方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、波長選択反射膜やサーボピットパターンの形成が容易であり、入射角が変化しても選択反射波長のずれや再生像の歪みが生ずることがなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、ホログラフィを利用して干渉像が形成された干渉像形成層とを少なくとも有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
前記光記録媒体の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一の基板と、前記記録層と、前記干渉像形成層と、第二の基板とをこの順に有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する構造などが挙げられる。
【００１６】
≪干渉像形成層≫
前記干渉像形成層は、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが形成され、必要に応じて適宜選択したその他の機能を有する干渉像が形成された記録層である。
前記干渉像形成層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単層でもよく、複数層でもよい。
単層の場合は、波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像の少なくともいずれかが多重に形成される。
複数層の場合は、例えば、波長選択反射機能を有する干渉像が形成された第一の干渉像形成層と、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層とからなる２層の積層構造、更に反射膜としての機能を有する干渉像が形成された第三の干渉像形成層を積層した３層構造などが挙げられる。
前記反射膜としての機能は、前記第二の干渉像形成層に含め、前記サーボ用光反射機能及び反射膜としての機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層としてもよい。
【００１７】
＜干渉像形成層の材料＞
前記干渉像形成層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化するものが用いられる。
【００１８】
具体的には、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。
【００１９】
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００２０】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００２１】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて干渉像形成層を形成する場合には、干渉像形成層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００２２】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【００２３】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化１】
2007059010.tif 000003
【００２４】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【化２】
2007059010.tif 000004
【００２５】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって干渉像形成層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第一の基板で蓋をするように押し付けて、全面に広げて干渉像形成層を形成することができる。
【００２６】
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００２７】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
前記フォトリフラクティブ材料を用いて干渉像形成層を形成方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより干渉像形成層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより干渉像形成層を形成することもできる。
【００３０】
前記（３）のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。
【００３１】
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記干渉像形成層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【００３２】
−干渉像形成層の形成方法−
前記干渉像形成層は、一旦、基材上に該干渉像形成層を積層し、該干渉像形成層を有する光記録媒体用フィルタとして形成した後、該光記録媒体用フィルタを前記第二の基板上に接着などにより積層してもよく、前記第二の基板上に直接積層してもよい。
前記形成方法としては、特に制限はなく、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
【００３３】
前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。
【００３４】
前記湿式成膜法による前記干渉像形成層の形成は、例えば、前記干渉像形成層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００３５】
前記干渉像形成層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、５〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００３６】
−干渉像形成層への干渉像の形成−
前記干渉像形成層へは、波長選択反射機能を有する干渉像と、アドレス機能を有する干渉像及びサーボ用光反射機能を有する干渉像及び必要に応じて適宜選択したその他の機能を有する干渉像が形成される。
【００３７】
−−波長選択反射機能を有する干渉像の形成方法−−
前記波長選択反射機能は、特定の波長のみを反射するという機能である。該機能が前記干渉像形成層に干渉像として形成することにより、該干渉像形成層を波長選択反射膜として用いることができる。
前記波長選択反射機能を有する干渉像の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、リップマン型ホログラムを形成する方法などが挙げられる。
【００３８】
具体的には、支持体上に前記干渉像形成層が積層されたホログラム記録材料を作製し、該ホログラム記録材料の裏面にミラーを配置した光学系において、前記ホログラム記録材料へ平面波を垂直入射することにより入射波・参照波の干渉によって生成される干渉縞を生成し、該干渉縞が、リップマンホログラム（反射型ホログラム）となり、簡易に作製することができる（Ｊ．Ｚｈｕ  ｅｔ．ａｌ．，  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｏｐｔｉｃｓ  Ａ，  ｖｏｌ６（２００４）  ｐｐ．１３２−１３６参照）。
図２に示すように、レーザ光源３２から出射されるレーザ光３２ａを対物レンズ３４、ピンホール３５、レンズ３６により構成されるスペイシャフルフィルタにて、ビーム整形と平行光線への拡大を行い、更に、ホログラム記録材料３７を透過させ、該ホログラム記録材料３７の背面に対向して配置されたミラー３８に反射させ、該反射光３２ｂ（図３）と前記入射光３２ａとを干渉させ、図３に示すような干渉縞３７ａを生成し、前記ホログラム記録材料３７に該干渉縞３７ａを記録する。
【００３９】
前記ホログラム記録材料３７の形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材上に干渉像形成層が積層されている前記光記録媒体用フィルタ、前記第二の基板上に積層されている干渉像形成層、支持体上に干渉像形成層が積層された積層体などが挙げられる。
記録された前記ホログラム記録材料３７は、そのまま選択反射膜として用いることができる。即ち、前記ホログラム記録材料３７に対して、記録時と同様の波長のレーザ光を記録時と同様に照射すると、該レーザ光が前記干渉縞３７ａに照射され、回折光が生成される。該回折光は前記反射光３２ｂと同様の情報をもつ光として再現される。即ち、前記ミラー３８がなくても、前記記録されたホログラム記録材料３７にレーザ光を照射すると反射光が得られ、該レーザ光の波長のみが反射されるため該ホログラム記録材料３７が波長選択反射膜として機能する。例えば、波長５２４．８ｎｍのレーザ光を用いて、前記のホログラム記録を行い、前記波長５２４．８ｎｍのレーザ光を前記ホログラム記録に入射させると、図４に示すように、波長５２４．８ｎｍをピークとする回折効率が約８０％の高回折効率の選択反射膜として用いられるホログラム記録が得られる。
【００４０】
前記干渉像が有する選択反射機能としては、前記第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ前記第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。
【００４１】
−−アドレス機能及びサーボ用光反射機能を有する干渉像形成方法−−
前記アドレス機能及びサーボ用光反射機能は、通常、ホログラム記録媒体の基板自体に一定の形状として具体化されてサーボピットパターンとなる。例えば、ディスクの半径方向に凹凸などの形状をした線で囲まれる扇型の領域を、所定の角度間隔で複数設け、位置決めとしてのアドレス−サーボエリアとして用い、隣り合う前記アドレス−サーボエリア間の扇形の区間をデータ記録エリアとして用いている。前記アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予め凸形状のエンボスピット（サーボピット）等によって形成されている（プリフォーマット）。なお、前記サーボピットパターンの表面に反射膜を形成し、該反射膜の反射面をフォーカスサーボとして用いることができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットなどが用いられる。これらの形状をサーボ用光を用いることにより、ホログラム記録媒体上の位置を検出し、トラッキングサーボなどを行うことができる。
本発明の光記録媒体では、前記サーボピットパターンに形状として具体化された前記アドレス機能及び前記サーボ用光反射機能は、すべて前記干渉像形成層内に干渉像として形成される。
【００４２】
−−反射膜−−
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００４３】
前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００４４】
前記アドレス機能及びサーボ用光反射機能を有する干渉像形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、リップマン型ホログラムを形成する方法などが挙げられる。
具体的には、図２に示す干渉像形成方法と同様の方法により行う。まず、支持体上に干渉像形成層を積層したホログラム記録材料を作製し、図５に示すように、ホログラム記録材料３７の背面に対向する側に前記サーボピットパターンからなるマスク３９を配置し、図２に示す干渉像形成方法と同様に平行ビームをホログラム記録材料３７に透過させ、前記マスク３９に反射させ、該反射光３２ｄと前記入射光３２ｃとを干渉させ、図５の右側に示すような干渉縞３７ｂを生成し、前記ホログラム記録材料３７に該干渉縞３７ｂを記録することにより、干渉像として形成することができる。
前記干渉像が形成された前記ホログラム記録材料３７に対して、記録時と同様の波長のレーザ光を記録時と同様に照射すると、該レーザ光が前記干渉縞３７ｂに照射され回折光が生成される。該回折光は前記反射光３２ｄと同様の情報をもつ光として再現される。即ち、前記マスク３９がなくても、前記記録されたホログラム記録材料３７にレーザ光を照射するだけで前記マスク３９に形成されたアドレス情報及びサーボ情報が含まれている反射光が得られ、該ホログラム記録材料３７が前記サーボピットパターンとして機能する。例えば、波長６５０ｎｍのレーザ光を用いて、前記のホログラム記録を行い、前記波長６５０ｎｍのレーザ光を前記ホログラム記録に入射させると、波長６５０ｎｍをピークとする回折効率が約８０％の高回折効率のサーボピットパターン機能を有するホログラム記録が得られる。
【００４５】
−光記録媒体用フィルタにおけるその他の層−
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学補償層などが挙げられる。
【００４６】
本発明の光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができ、ホログラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明のホログラム型の光記録媒体及びその製造方法並びに光記録方法及び光再生方法に特に好適に使用することができる。
【００４７】
＜記録層＞
前記記録層は、本発明の光記録媒体におけるデータ記録領域として、干渉像形成層とは別個に該干渉像形成層の上に積層された記録層である。前記干渉像形成層が、既に波長選択反射機能有する干渉像、アドレス機能及びサーボ用光反射機能などを有する干渉像が形成され、光記録媒体の光記録の制御などに用いられるのに対して、記録層は主に画像、音楽、文字情報などのデータ記録のための記録層である。両者とも、光干渉により生成された干渉縞を記録する点で共通している。
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、干渉像形成層に用いられた材料と同じ材料を用いることができる。
【００４８】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００４９】
−光記録媒体におけるその他の層−
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長選択反射膜で反射しきれなかった光を吸収する選択吸収層、及びギャップ層などが挙げられる。
前記選択吸収層は、前記第二の基板と前記干渉像形成層との間に形成することが好ましい。
前記選択吸収層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、色材含有層を有していてもよい。
【００５０】
−色材含有層−
前記色材含有層は、色材を含有してなり、バインダー樹脂、溶剤、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５１】
前記色材としては、顔料及び染料の少なくともいずれかが好適に挙げられ、これらの中でも、５３２ｎｍの光を吸収し、６５５ｎｍのサーボ光を透過させる観点から、赤色染料、赤色顔料が好ましく、赤色顔料が特に好ましい。
【００５２】
前記赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．I．アシッドレッド１、Ｃ．I．アシッドレッド８、Ｃ．I．アシッドレッド１３、Ｃ．I．アシッドレッド１４、Ｃ．I．アシッドレッド１８、Ｃ．I．アシッドレッド２６、Ｃ．I．アシッドレッド２７、Ｃ．I．アシッドレッド３５、Ｃ．I．アシッドレッド３７、Ｃ．I．アシッドレッド４２、Ｃ．I．アシッドレッド５２、Ｃ．I．アシッドレッド８２、Ｃ．I．アシッドレッド８７、Ｃ．I．アシッドレッド８９、Ｃ．I．アシッドレッド９２、Ｃ．I．アシッドレッド９７、Ｃ．I．アシッドレッド１０６、Ｃ．I．アシッドレッド１１１、Ｃ．I．アシッドレッド１１４、Ｃ．I．アシッドレッド１１５、Ｃ．I．アシッドレッド１３４、Ｃ．I．アシッドレッド１８６、Ｃ．I．アシッドレッド２４９、Ｃ．I．アシッドレッド２５４、Ｃ．I．アシッドレッド２８９等の酸性染料；Ｃ．I．ベーシックレッド２、Ｃ．I．ベーシックレッド１２、Ｃ．I．ベーシックレッド１３、Ｃ．I．ベーシックレッド１４、Ｃ．I．ベーシックレッド１５、Ｃ．I．ベーシックレッド１８、Ｃ．I．ベーシックレッド２２、Ｃ．I．ベーシックレッド２３、Ｃ．I．ベーシックレッド２４、Ｃ．I．ベーシックレッド２７、Ｃ．I．ベーシックレッド２９、Ｃ．I．ベーシックレッド３５、Ｃ．I．ベーシックレッド３６、Ｃ．I．ベーシックレッド３８、Ｃ．I．ベーシックレッド３９、Ｃ．I．ベーシックレッド４６、Ｃ．I．ベーシックレッド４９、Ｃ．I．ベーシックレッド５１、Ｃ．I．ベーシックレッド５２、Ｃ．I．ベーシックレッド５４、Ｃ．I．ベーシックレッド５９、Ｃ．I．ベーシックレッド６８、Ｃ．I．ベーシックレッド６９、Ｃ．I．ベーシックレッド７０、Ｃ．I．ベーシックレッド７３、Ｃ．I．ベーシックレッド７８、Ｃ．I．ベーシックレッド８２、Ｃ．I．ベーシックレッド１０２、Ｃ．I．ベーシックレッド１０４、Ｃ．I．ベーシックレッド１０９、Ｃ．I．ベーシックレッド１１２等の塩基性染料；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１４、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド２５、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド２６、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド３２、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド３７、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド４４、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド４６、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド５５、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド６０、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド６６、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド７４、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド７９、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド９６、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド９７等の反応性染料、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
前記赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５４】
これらの中でも、図４に示すように、５３２ｎｍの光に対する透過率が１０％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上である透過スペクトルを示す赤色顔料が特に好ましく用いられる。
【００５５】
前記色材の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し０．０５〜９０質量％が好ましく、０．１〜７０質量％がより好ましい。前記含有量が０．０５質量％未満であると、色材含有層の厚みが５００μｍ以上必要となってしまうことがあり、９０質量％を超えると、色材含有層の自己支持性がなくなり、色材含有層の作製工程中に膜が崩れてしまうことがある。
【００５６】
＜光記録媒体の構造例＞
ここで、本発明の光記録媒体の構造例について、図面を参照して更に詳しく説明する。
図１は、本発明の光記録媒体の構造例を示す概略断面図である。この光記録媒体２０では、ポリカーボネート樹脂又はガラス材からなる第二の基板１に、前記情報が記録された干渉像形成層１０、記録層４及び第一の基板５が積層されている。
【００５７】
本実施形態における光記録媒体２０は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。また、この光記録媒体２０では、第二の基板１は０．６ｍｍ、干渉像形成層１０は０．１ｍｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【００５８】
＜光記録媒体に対する情報光及びサーボ用光の光学的動作＞
前記光学的動作について、図１３を参照して、光記録媒体２０周辺での光学的動作により説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は干渉像形成層で焦点を結ぶように光記録媒体２０に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２０の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二の基板１で反射され、再度、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム記録材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が干渉像形成層１０で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の干渉像形成層１０による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図９〜図１０に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ用光が６５５ｎｍの場合はサーボ用光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲は干渉像形成層に記録される際のフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ用光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、干渉像形成層に記録される際のフィルタ層における各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合には図１１〜図１２に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層を２層積層することでよいので、サーボ用光透過には全く支障がなくなる。
【００５９】
また、記録用／再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉像を生成するように光記録媒体２０に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉像をそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４、干渉像形成層１０で反射されて戻り光となる。前記第二の基板１と干渉像形成層１０との間に、前記選択吸収層を設けておけば、前記干渉像形成層１０で反射しきれなかった光を吸収することができるので、実質的に問題とはならない。
【００６０】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、記録層積層工程及び干渉像形成層積層工程を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含む製造方法である。
【００６１】
−干渉像形成層積層工程−
前記干渉像形成層積層工程は、第二の基板上に、既に波長選択反射機能を有する干渉像、アドレス機能及びサーボ用光反射機能を有する干渉像などが形成されている前記干渉像形成層を積層する工程である。
【００６２】
前記第二の基板は、市販品を用いる場合には、該第二の基板上に直接、前記干渉像形成層を積層する。前記積層方法としては、特に制限はなく、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
【００６３】
前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。
【００６４】
前記湿式成膜法による前記干渉像形成層の形成は、例えば、前記干渉像形成層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００６５】
前記第二の基板を作製する場合、前記第二の基板の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、レーザーカッターによる焼き切り加工、などが挙げられる。
【００６６】
前記干渉像形成層を、作製された光記録媒体用フィルタを用いて積層する場合には、積層する側の前記第二の基板面と、該光記録媒体用フィルタの記録層面が当接するように重ね合わせ、貼り合わせることにより、積層する。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないように前記光記録媒体用フィルタを前記第二の基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
【００６７】
−記録層積層工程−
前記記録層積層工程は、積層された前記干渉像形成層の上に前記記録層を積層する工程である。
前記積層方法としては、特に制限はなく、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、干渉像形成層に用いた積層方法と同様の方法により積層する。
【００６８】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記干渉像形成層積層工程において、第二の基板と干渉像形成層との間に、前記選択吸収層を形成する工程などが挙げられる。
以上のように、簡単な工程で本発明の光記録媒体を効率よく製造することができる。
【００６９】
（光記録方法及び光再生方法）
本発明の光記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録媒体に入射する情報光の光軸に対して参照光の光軸が１０〜８０°の角度になるように前記参照光を照射して該情報光と参照光との干渉によって干渉縞を生成し、記録する方法、前記光記録媒体に入射する情報光の光軸と参照光の光軸が同軸になるように前記参照光を照射し、同様に干渉縞を生成し記録する方法などが挙げられる。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉像に、記録時と同様の角度で参照光を光記録媒体に照射し、前記干渉縞から生ずる回折光を受光して情報を再生する。
【００７０】
本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
【００７１】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図１４を参照して説明する。
図１４は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２０が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２０の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２０に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２０に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２０に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【００７２】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２０の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２０の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【００７３】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２０のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して、種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【００７４】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用いているので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することができ、今までにない高密度記録を実現することができる。
【実施例】
【００７５】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００７６】
（実施例１）
＜干渉像形成層の作製＞
前記干渉像形成層は、アドレス機能及びサーボ用光反射機能を有する干渉像が形成された第一の干渉像形成層の積層体と波長選択反射機能を有する干渉像が形成された第二の干渉像形成層の積層体からなる記録層の積層体として形成した。
【００７７】
−第一の干渉像形成層用及び第二の干渉像形成層用のホログラム記録材料の作製−
前記ホログラム記録材料の支持体として、トリアセチルセルロースフィルム（富士写真フイルム（株）製、フジタック）を用いた。前記トリアセチルセルロースフィルムの厚みは、６０μｍであり、レターデーションＲｅは、３ｎｍ、レターデーションＲｔｈは、４０ｎｍであった。前記各レターデーションは、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＤＨ：王子計測器（株）製）を用いて測定し、算出した。
次に、前記支持体上に積層する第一の干渉像形成層及び第二の干渉像形成層の材料として、下記組成のフォトポリマー塗布液を調製した。
−フォトポリマー塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー
（Ｅｃｈｏ  Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・・・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・・１質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００７８】
得られたフォトポリマー塗布液を前記支持体上にワイヤーバーコートにより塗布し、第一の干渉像形成層用及び第二の干渉像形成層用のホログラム記録材料を予備も含め各３個作製した。
前記ホログラム記録材料の厚みは、支持体が６０μｍ、記録層が４０μｍで合計１００μｍであった。
【００７９】
−第一の干渉像形成層への干渉像の形成−
図５に示す形成方法を用いて、得られたホログラム記録材料３７をアドレス機能及びサーボ用光反射機能を有するマスク３９の前面に配置し、前記ホログラム記録材料３７側から波長６５０ｎｍのレーザ光を入射光３２ｃとして入射させ、前記マスク３９に反射させ、反射光３２ｄと前記入射光３２ｃとにより干渉縞３７ｂを生成し、前記ホログラム記録材料３７に記録し、第一の干渉像形成層の積層体を作製した。
前記マスク３９の基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。更に前記サーボピットパターン表面には反射膜が形成されている。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）が用いられ、成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚２００ｎｍのＡｌ反射膜が形成されている。
以上により、前記第一の干渉像形成層に形成された干渉像には、前記アドレス機能及びサーボ用光反射機能が形成された。
【００８０】
−第二の干渉像形成層への干渉像の形成−
図２に示す形成方法を用いて、得られたホログラム記録材料３７を、光反射機能を有するミラー３８の前面に配置し、前記ホログラム記録材料３７側から波長５２４．８ｎｍのレーザ光を入射光３２ａとして入射させ、前記ミラー３８に反射させ、反射光３２ｂと前記入射光３２ａとにより干渉縞３７ａを生成し、前記ホログラム記録材料３７に記録し、第二の干渉像形成層の積層体を作製した。
【００８１】
＜光記録媒体の作製＞
前記光記録媒体を、図６に示すように、第二の基板１の上に前記第一の干渉像形成層１０ａ及び第二の干渉像形成層１０の順に積層し、更に記録層４を積層し、その上に第一の基板５を積層して光記録媒体２０を作製した。各層の貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。前記第一の基板５及び第二の基板１としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。前記光記録媒体２０の厚みは、約１．３ｍｍであった。
【００８２】
−光反射特性の評価−
得られた光記録媒体について、光反射特性を分光反射測定器（光源として浜松ホトニクス株式会社製、Ｌ−５６６２、フォトマルチチャンネルアナライザーとして浜松ホトニクス株式会社製、ＰＭＡ−１１）を用いて測定した。
その結果、実施例１の光記録媒体は、入射角度±２０°以内の光に対して選択波長である５３２ｎｍの光を４０％以上反射できることが認められた。
また、サーボ用光である６５０ｎｍの光を図１３に示すように、光記録媒体２０の第一の基板５側から入射させたところ、干渉像形成層１０で反射した。該反射光の情報を図１４に示す検出回路８５で検出したところ、記録時のアドレス機能及びサーボ用光反射機能を確認することができた。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の光記録媒体フィルタは、波長選択反射膜の形成が容易であり、再生像に歪みがなく、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる。本発明の光記録媒体は、波長選択反射膜やサーボピットパターンの形成が容易であり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の各種光記録媒体として幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】図１は、本発明の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、干渉像形成層に波長選択反射機能を記録する概略構成図である。
【図３】図３は、干渉像形成層に記録された干渉縞の部分断面図である。
【図４】図４は、干渉像形成層に記録された波長選択反射の特性を示すグラフである。
【図５】図５は、干渉像形成層にサーボピットパターン情報を記録する説明図である。
【図６】図６は、本発明の干渉像形成層が２層で形成された光記録媒体を示す部分断面図である。
【図７】図７は、従来の光記録媒体を示す部分断面図である。
【図８】図８は、従来の光記録媒体を示す部分断面図である。
【図９】図９は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１０】図１０は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタ層内の４０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１１】図１１は、コレステリック液晶層を２層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１２】図１２は、コレステリック液晶層を２層積層したフィルタ層内の２０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１３】図１３は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１４】図１４は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【００８５】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボビットパターン
４、４ａ      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ      コレステリック液晶層
６ｄ    ４分の１波長板層
８      ギャップ層
９      光学補償層
１０、１０ａ      干渉像形成層
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２０ａ      光記録媒体
２１、２２        光記録媒体
３１      ピックアップ
３２      レーザ光源
３２ａ、３２ｃ、３２ｅ、３２ｇ    入射光
３２ｂ、３２ｄ、３２ｆ、３２ｈ    反射光
３３      シャッター
３４      対物レンズ
３５      ピンホール
３６      レンズ
３７      ホログラム記録材料
３７ａ、３７ｂ      干渉縞
３８      ミラー
３９      マスク
４０      積層体
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
2007059010.tif 000005
【図２】
2007059010.tif 000006
【図３】
2007059010.tif 000007
【図４】
2007059010.tif 000008
【図５】
2007059010.tif 000009
【図６】
2007059010.tif 000010
【図７】
2007059010.tif 000011
【図８】
2007059010.tif 000012
【図９】
2007059010.tif 000013
【図１０】
2007059010.tif 000014
【図１１】
2007059010.tif 000015
【図１２】
2007059010.tif 000016
【図１３】
2007059010.tif 000017
【図１４】
2007059010.tif 000018