(57)【要約】【課題】塩ビ系廃棄物の燃焼温度を現在実用化温度での燃焼炉温度として塩分回収可能かつ使用する水はクローズ的に循環使用可能な乾式塩分回収方法及びプラントの提供。【解決手段】塩ビ系廃棄物投入機構１を直結し、内部に一次燃焼室２ｄ、二次燃焼室２ｅを設けた燃焼炉２と、二次燃焼室２ｅからの燃焼ガスを定温冷却する温水ボイラ３と、温水ボイラ３を通した燃焼ガス中に、別置した苛性ソーダ溶液供給装置４からの苛性ソーダ溶液混入循環水を噴射する噴霧ノズル４ｂを内設した高温排気ダクト４ａと、高温排気ダクト４ａからの燃焼ガス中の塩素ガスの一部を残して殆んどと苛性ソーダとを化学反応してパウダー化塩を回収するサイクロン装置４とを順次ライン連結した特徴的構成の採用。【選択図】図１
2007292341.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩ビ系廃棄物を定量投入する投入工程と、
投入された当該塩ビ系廃棄物を一次燃焼する一次燃焼工程と、
当該一次燃焼ガスを８５０℃近辺２秒間二次燃焼して塩素化合物と未燃物を分解する二次燃焼工程と、
当該二次燃焼ガスを定温冷却する定温冷却工程と、
当該二次燃焼ガス中に苛性ソーダ水溶液を噴霧する苛性ソーダ溶液噴霧工程と、
塩素ガスのほとんどと苛性ソーダとを化学反応させて塩のパウダーを生成させる塩パウダー生成工程と、
当該塩パウダーをサイクロン方式で回収する工程とを、
順次踏んで塩のパウダーを得る、
ことを特徴とする乾式塩分回収方法。
【請求項２】
前記塩パウダー生成工程と分岐して以降同時並行して、
燃焼ガス中の前記塩素ガスのほとんどをパウダー化除去した排ガス中の残留分を捕縛する工程と、
当該捕縛した塩素含排ガスを定温に冷却する排ガス冷却工程と、
当該塩素含排ガスを苛性ソーダを含む循環水霧滴と混濁させる工程と、
塩素ガスの捕縛混濁水を塩水に生成する塩水化工程と、
当該塩水化循環水中に苛性ソーダ溶液を混入する苛性ソーダ溶液混入工程と、
苛性ソーダ溶液混入循環水を前記二次燃焼ガス中にフィードバック噴霧する前記苛性ソーダ溶液の噴霧工程とを、
順次踏んで塩のパウダーを得る、
ことを特徴とする請求項１に記載の乾式塩分回収方法。
【請求項３】
前記一次燃焼は、７００℃〜８００℃近辺、
前記苛性ソーダ溶液噴霧は、５００℃近辺、
のそれぞれの燃焼ガス雰囲気中で実施される、
ことを特徴とする請求項１に記載の乾式塩分回収方法。
【請求項４】
塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンと熱回収ゾーンと塩パウダー化回収ゾーンを直列配置し、
前記塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンに、廃棄物定量投入機構に投入口で直結し、かつ内設した一次燃焼室の排気口側に二次燃焼室を設けた燃焼炉を設置し、
前記熱回収ゾーンに、前記排気口と二次燃焼ダクトを介して導入口で連通した温水ボイラを設置し、
前記塩パウダー化回収ゾーンに設置したサイクロン装置の受入口と前記温水ボイラの導出口を、途中苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズルを内設した高温排気ダクトを介して連通直結する、
ことを特徴とする乾式塩分回収プラント。
【請求項５】
前記塩パウダー化回収ゾーン以降に引続き、
排ガス捕縛洗浄ゾーンと苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンと排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーンと大気放出ゾーンを直列配置し、
前記排ガス捕縛洗浄ゾーンには、前記サイクロン内中央に吸引口を臨ませ立ち上げて続く折曲水平管内にガス冷却装置を内設した吸引冷却ダクトを架設する一方、
前記苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンに設置した苛性ソーダ溶液供給装置を前記高温排気ダクト内の苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズルに終結する循環管にも調整弁を介して苛性ソーダ溶液供給管を連結し、
他方、前記排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーンには、前記循環管の循環ポンプを介接した始端と連結しかつ複数の旋回分離器を下側に垂設した分離中床により、上部に前記吸引冷却ダクトの排ガス吸込口と連通し前記循環管から連がる拡散噴霧スプレーを複数吊設したスプレー室を、下部に分離室をそれぞれ仕切った湿式集塵装置を設置し、
更に、当該湿式集塵装置の前記分離室と吸引ダクトを介し吐出口にサイレンサーを取付けた排気ファンを付設する、
ことを特徴とする請求項４に記載の乾式塩分回収プラント。
【請求項６】
前記サイクロンは、
複数基設ける、
ことを特徴とする請求項４又は５に記載の乾式塩分回収プラント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塩ビ系廃棄物を燃焼して発生する塩素ガスからパウダー状の塩を回収するための乾式塩分回収方法及びプラントに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
塩ビ系廃棄物を燃焼して塩分を回収するには、学術的には塩ビ系廃棄物を２，０００℃で燃焼して熱分解を計り、この熱分解ガスを苛性ソーダと反応させてフレーク状の塩分を回収出来ることは既に公表されている。
【０００３】
他方、現在の塩ビ系燃焼ガスの排ガス処理は、湿式スクラバー（湿式集塵装置）により、循環水の塩分濃度が濃くなった時点で燃焼釜に移して水分の蒸発を行い、乾燥状態まで加熱して保管処理を行っていたので塵芥や塩素を含んだフロックしか得られずそのまま廃棄したならば公害を惹起しかねない。
【０００４】
又バグフィルター装置（乾式集塵装置）により、バグに石灰をコーティングして有害物質を吸着させて振るい落とすことを繰り返し行い、石灰に塩素等を吸着中和させ、塩化カルシウムを生成し、これを特別管理で保管処理するか廃棄物埋立て処理を行う。又石灰のみでの処理が不可能なときには活性炭粉を同時にコーティングして特別管理の保管処理を行う。
その為、長期的保管処理をするには広大な場所の確保が必要であり、廃棄物埋立てでは塩化カルシウム等が解け出して土壌を変質悪化させてしまい、地下水や川に流れ込む公害問題を惹き起す。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記学術的公表された技術では、最高燃焼温度を誇る耐熱レンガ炉でも２０００℃には耐えられず短期にレンガ壁はボロボロとなり現実には実現不可能な理論的技術でしかなかった。
又、現在実施している前記湿式、乾式排ガス処理方式だと種々の問題点を孕んでいる。
【０００６】
ここにおいて本発明が解決しようとする目的は次の通りである。
即ち、本発明の第１の目的は、塩ビ系廃棄物を現在実用化している燃焼炉温度でも最終的に塩分を回収出来る乾式塩分回収方法及びプラントを提供せんとするものである。
【０００７】
本発明の第２の目的は、使用する水はクローズ的に循環使用するので使用水量が少なくて済み排水公害も起生しない乾式塩分回収方法及びプラントを提供せんとするものである。
【０００８】
本発明の第３の目的は、排ガスを気体・液体・固体に効率的に三体分離を計って分離した塩水化液体を循環水として再処理利用する乾式塩分回収方法及びプラントを提供せんとするものである。
【０００９】
本発明の他の目的は、明細書の詳細な説明及び図面、特に特許請求に範囲の記載から自づと明らかとなろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の方法は、塩ビ系廃棄物を従来温度で一次、二次燃焼して発生した塩素ガスを一旦定温冷却した上で、苛性ソーダ溶液を噴霧して化学反応させ塩パウダー化を計りサイクロン方式で塩パウダーを回収する特徴的手法を講じる。
【００１１】
本発明のプラントは、塩ビ系廃棄物投入機構を直結し、内部に一次燃焼室、二次燃焼室を設けた燃焼炉と、当該二次燃焼室からの燃焼ガスを定温冷却する温水ボイラと、当該温水ボイラを通した燃焼ガス中に、別置した苛性ソーダ溶液供給装置からの苛性ソーダ溶液混入循環水を噴射する噴霧ノズルを内設した高温排気ダクトと、当該高温排気ダクトから送られて来た燃焼ガス中の塩素ガスの一部と当該苛性ソーダとを化学反応して一部パウダー化塩を回収するサイクロン装置とを、順次ライン連結した特徴的手段を講じる。
【００１２】
さらに、具体的詳細に述べれば、本発明の課題解決に当り、以下に開示する本発明の手法又は手段を採用することにより前記目的を達成するように為される。
【００１３】
即ち、本発明方法の第一の特徴は、塩ビ系廃棄物を定量投入する投入工程と、投入された当該塩ビ系廃棄物を一次燃焼する一次燃焼工程と、当該一次燃焼ガスを８５０℃近辺２秒間二次燃焼して塩素化合物と未燃物を分解する二次燃焼工程と、当該二次燃焼ガスを定温冷却する定温冷却工程と、当該二次燃焼ガス中に苛性ソーダ水溶液を噴霧する苛性ソーダ溶液噴霧工程と、塩素ガスのほとんどと苛性ソーダとを化学反応させて塩のパウダーを生成させる塩パウダー生成工程と、当該塩パウダーをサイクロン方式で回収する工程とを、順次踏んで塩のパウダーを得てなる、塩分回収方法の構成採用にある。
【００１４】
本発明方法の第２の特徴は、上記本発明方法の第１の特徴における前記塩パウダー生成工程と分岐して以降同時並行して、燃焼ガス中の前記塩素ガスのほとんどをパウダー化除去した排ガス中の残留分を捕縛する工程と、当該捕縛した塩素含排ガスを定温に冷却する排ガス冷却工程と、当該塩素含排ガスを苛性ソーダを含む循環水霧滴と混濁させる工程と、塩素ガスの捕縛混濁水を塩水に生成する塩水化工程と、当該塩水化循環水中に苛性ソーダ溶液を混入する苛性ソーダ溶液混入工程と、苛性ソーダ溶液混入循環水を前記二次燃焼ガス中にフィードバック噴霧する前記苛性ソーダ溶液の噴霧工程とを、順次踏んで塩のパウダーを得てなる、乾式塩分回収方法の構成採用にある。
【００１５】
本発明方法の第３の特徴は、上記本発明方法の第１の特徴における前記一次燃焼は、７００℃〜８００℃近辺、前記苛性ソーダ溶液噴霧は、５００℃近辺、
のそれぞれの燃焼ガス雰囲気中で実施してなる、塩分回収方法の構成採用にある。
【００１６】
本発明プラントの第１の特徴は、塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンと熱回収ゾーンと塩パウダー化回収ゾーンを直列配置し、前記塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンに、廃棄物定量投入機構に投入口で直結し、かつ内設した一次燃焼室の排気口側に二次燃焼室を設けた燃焼炉を設置し、前記熱回収ゾーンに、前記排気口と二次燃焼ダクトを介して導入口で連通した温水ボイラを設置し、前記塩パウダー化回収ゾーンに設置したサイクロン装置の受入口と前記温水ボイラの導出口を、途中苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズルを内設した高温排気ダクトを介して連通直結してなる、乾式塩分回収プラントの構成採用にある。
【００１７】
本発明プラントの第２の特徴は、上記本発明プラントの第１の特徴における前記塩パウダー化回収ゾーン以降に引続き、排ガス捕縛洗浄ゾーンと苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンと排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーンと大気放出ゾーンを直列配置し、前記排ガス捕縛洗浄ゾーンには、前記サイクロン内中央に吸引口を臨ませ立ち上げて続く折曲水平管内にガス冷却装置を内設した吸引冷却ダクトを架設する一方、前記苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンに設置した苛性ソーダ溶液供給装置を前記高温排気ダクト内の苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズルに終結する循環管にも調整弁を介して苛性ソーダ溶液供給管を連結し、他方、前記排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーンには、前記循環管の循環ポンプを介接した始端と連結しかつ複数の旋回分離器を下側に垂設した分離中床により、上部に前記吸引冷却ダクトの排ガス吸込口と連通し前記循環管から連がる拡散噴霧スプレーを複数吊設したスプレー室を、下部に分離室をそれぞれ仕切った湿式集塵装置を設置し、更に、当該湿式集塵装置の前記分離室と吸引ダクトを介し吐出口にサイレンサーを取付けた排気ファンを付設してなる、乾式塩分回収プラントの構成採用にある。
【００１８】
本発明プラントの第３の特徴は、上記本発明プラント第１の特徴又は第２の特徴における前記サイクロンは、複数基設けてなる、乾式塩分回収プラントの構成採用にある。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の仕様は、以上のような具体的解決構成を採用するので、従来実現不可能であった塩ビ系廃棄物の１０００℃以下の燃焼ガス中から塩分を回収することを可能とした。
しかも現在使用可能な素材を用いた燃焼炉で実現し得る。
【００２０】
又湿式集塵装置に一時溜置された循環水は補給水のみで廃液処理の必要なく永久使用される。
さらに、循環水霧滴に排ガス中のダストを捕縛し汚濁するので、循環水の一部を湿式集塵装置で清水にして循環水に戻すことが出来る。
その上、大気放出時の排ガス中は、ほぼ１００％の含水率の為に、大気放出ガス中の水分が同様水蒸気となるが、この水蒸気を回収して、循環水に使用することで補給水の負荷も軽減される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の実施最良形態を方法例及びプラント例について図面を参照して説明する。
（プラント例）
本発明の実施最良形態を示すプラント例を図１について説明する。
本プラント例は、塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンＺ１と熱回収ゾーンＺ２と塩パウダー化回収ゾーンＺ３と排ガス捕縛洗浄ゾーンＺ４と苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンＺ５と排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーンＺ６と大気放出ゾーンＺ７とフロック凝集ゾーンＺ８とフロック回収ゾーンＺ９とを直列配置する。
【００２２】
前記塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーンＺ１には、塩ビ系廃棄物投入機構１を付設した焼却炉２を設置する。
図中１ａは塩ビ系廃棄物投入ホッパー、１ｂはストッパシリンダ、１ｃはプッシュシリンダ、２ａは投入口、２ｂは燃焼バーナ、２ｃは燃焼エアー供給ブロアー、２ｄは一次燃焼室、２ｅは二次燃焼室、２ｆは二次燃焼バーナ、２ｇは排出口、２ｈは二次燃焼ダクトである。
【００２３】
前記熱回収ゾーンＺ２には、温水ボイラ３を設置する。
図中３ａは導入口、３ｂは導出口、３ｃは熱交換器である。
前記塩パウダー化回収ゾーンＺ３には、サイクロン装置４を設置する。
図中４ａは高温排気ダクト、４ｂは複数の苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズル、４ｃは回収器、４ｄは連続塩素濃度測定装置である。
【００２４】
前記排ガス捕縛洗浄ゾーンＺ４には、吸引冷却ダクト５を設置する。
図中５ａは吸引口、５ｂはガス冷却噴霧ノズル、５ｃは温度センサである。
前記苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンＺ５には、苛性ソーダ溶液供給装置６を設置する。
図中６ａは苛性ソーダ溶液供給管、６ｂは供給ポンプ、６ｃは開閉弁、６ｄは複数の自動調整弁である。
【００２５】
前記排ガス循環水霧滴混濁分離ゾーンＺ６には、湿式集塵装置７を設置する。
図中７ａは排気ガス送入口、７ｂはし型煤塵補集室、７ｃはスプレー室、７ｄは複数の拡散噴霧スプレー、７ｅは分離中床、７ｆは密閉分離室、７ｇは気体・液体・固体三体分離の複数旋回分離器、７ｈは垂壁、７ｉはドレイン管、７ｊは吸込ダクト、７ｋは循環水溜槽である。
前記大気放出ゾーンＺ７には、吸込ダクト７ｊと直結する排気ファン８を設置する。
図中８ａはサイレンサーである。
【００２６】
前記排ガス循環水霧滴混濁ゾーンＺ６から苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーンＺ５、排ガス捕縛洗浄ゾーンＺ４、塩パウダー化回収ゾーンＺ３に亙って配管され循環水を循環する循環管９は、始端を循環ポンプ９ａを介し湿式集塵装置７の循環水溜槽７ｋに、終端を苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズル４ｂにそれぞれ連結される。
図中９ｂは、複数の苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズル４ｂに接続する為循環管９の分岐最終端に介接した複数の調節弁、９ｃはガス冷却噴霧ノズル５ｂ、複数の拡散噴霧スプレー７ｄと循環管９とをそれぞれ結ぶために介接した複数の開閉弁である。
【００２７】
前記フロック凝集ゾーンＺ８には、凝集攪拌装置１０とその上方にパウダー自動定量供給装置１１とを設置する。
図中１０ａは攪拌モータ、１０ｂは複数の攪拌羽根、１１ａは瞬間凝縮剤収容ホッパーである。
前記フロック回収ゾーンＺ９には、凝集フロック分離回収装置１２を設置する。
図中１２ａはエンドレスフィルタ、１２ｂは複数の凝集フロック剥離用高圧エアーノズル、１２ｃは回収シュータである。
なお、本実施最良形態例では中和剤として苛性ソーダ溶液を使用するがこれに限定されない。
【００２８】
（方法例）
前記プラント例に適用する本実施最良形態の方法例を図２を参照して説明する。
まず、所要大きさに破砕した塩ビ系廃棄物を収容した塩ビ系廃棄物投入ホッパー１ａのストッパーシリンダ１ｂの間歇開閉により定量がプッシュシリンダ１ｃに供給され、次いでプッシュシリンダ１ｃの押し込みで投入口２ａから一次燃焼室２ｄに投入される（塩ビ系廃棄物の定量投入工程ＳＴ１）と一次燃焼バーナ２ｂにより例えば７００℃〜８００℃近辺で加熱燃焼し（一次燃焼工程ＳＴ２）、その間燃焼エアー供給ブロアー２ｃでエアーが吹き込まれ、加熱燃焼した上昇燃焼ガスは二次燃焼室２ｅに入り二次燃焼バーナー２ｆでさらに例えば８５０℃近辺２秒間程度加熱燃焼される（二次燃焼工程ＳＴ３）。
【００２９】
二次燃焼ガスは二次燃焼ダクト２ｈを通り温水ボイラ３に送り込まれ、内蔵する熱交換器３ｃにより内水に熱エネルギー交換して例えば８５０℃近辺の定温に燃焼ガスは例えば５００℃近辺に冷却される（燃焼ガスの定温冷却工程ＳＴ４）。
さらに、この定温冷却された燃焼ガスは高温排気ダクト４ａを通る際、例えば５００℃近辺の燃焼ガス雰囲気中に複数の苛性ソーダ溶解循環水の噴霧ノズル４ｂから循環水が噴霧され（苛性ソーダ水溶液の噴霧工程ＳＴ５）、結果３５０℃近辺迄下がった燃焼ガス中の硫黄酸化物、ダイオキシン類を中和処理し、塩化水素化合物の塩素ガスのほとんどと化学反応を喚起して塩パウダー化されつつ（塩パウダー生成工程ＳＴ６）サイクロン装置４に送られ、サイクロン装置４の回転遠心力により比重差で塩パウダーをサイクロン内壁面に添って降下し二段式排出弁（図示せず）で連続的に回収器４ｃで回収される（サイクロン回収工程ＳＴ７）。
【００３０】
なお、苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズル４ｂへの循環水への苛性ソーダ溶解濃度調節は、苛性ソーダ溶液供給装置６からの供給ポンプ６ｂにより苛性ソーダ溶液供給管６ａを経て、連続塩素濃度測定装置４ｄの測定値により複数の自動調整弁６ｄの開閉又は開度を自動調節して循環水へ流れる循環管９への注入量によるか、循環水噴霧ノズル４ｂにそれぞれ連通する循環管９の分岐最終端に介接した調整弁９ｂの開閉による（苛性ソーダ溶液混入工程ＳＴ８）。
【００３１】
塩パウダー化されて回収されなかった残りの塩化水素化合物、煤塵、等含有排ガスは吸引冷却ダクト５の吸引口５ａから吸い込まれ（排ガス捕縛工程ＳＴ９）、ガス冷却噴霧ノズル５ｂから温度センサ５ｃにより温度監視を受けながら循環水を噴射して冷却化が計られる（排ガス冷却工程ＳＴ１０）。
引続き、冷却された排ガスは湿式集塵装置７の煤塵補集室７ｂに入り拡散噴霧スプレー７ｄが噴射され、排ガス中に含まれる比重の高い煤塵等夾雑物やフロックを降下しドレイン管７ｉで補集する。
【００３２】
その上で、スプレー室７ｃに進行した排ガスは拡散噴霧スプレー７ｄにより循環管９からの循環水を噴霧して排ガス中に浮遊する粒子との接触を計るため超高温サウナ状態として分離中床７ｅの旋回分離器７ｇ群に吸込み、内部に形成した渦巻発生路室（図示せず）を強制通過させ、比重の高い夾雑物やフロック等を内壁面に衝突垂降して一箇所に集めドレイン管７ｉで補集する。
【００３３】
即ち、排ガスの微粒子はスプレー７ｄの霧滴により増湿、凝集、凝縮、拡散、溶解、断突などの作用を促進される。スプレー室７ｃの底部の分離中床７ｅ下側に多数配列された旋回分離器７ｇ内において排気ガス粒子とスプレー霧滴との接触を完全にする。
換言すれば、排気ガス中粒子をスプレー霧滴とを混合して分離中床７ｅを通り旋回分離器７ｅに流入し、その際排ガス粒子はスプレー水滴に付着溶解し、比重の高い夾雑物やフロックを一箇所に集めドレイン管７ｉに捕集する一方、液化水滴を循環水溜槽７ｋに落滴させるとともに水滴化されなかった蒸気を吸込ダクト７ｊへ吸込む（排ガスの循環水霧滴との混濁分離工程ＳＴ１１）。
【００３４】
湿式集塵装置７の若干の苛性ソーダ（中和剤）を混入した循環水溜槽７ｋに受入れた水滴は、図示しないストレーナ等で水滴液中の塵埃を完全に除去し若干の苛性ソーダ（中和剤）を混入し塩水化とともに補給水を補水して塩水濃度を高くならないようにしてある（塩水化工程ＳＴ１２）。
塩水化工程ＳＴ１２後の循環水は前記苛性ソーダ溶液混入工程ＳＴ８と前記苛性ソーダ水溶液の噴霧工程ＳＴ５へとフィードバックする。
【００３５】
一方、ドレイン管７ｉで捕集されたフロッグは、凝集攪拌装置１０に入り、そこで瞬間凝縮剤収容ホッパー１１ａ内の瞬間凝縮パウダーをパウダー自動定量供給装置１２で注入され、攪拌モータ１０ａの攪拌羽根１０ｂを旋回させてフロッグの凝集を促進する（図示しないフロック凝集工程）。
その後、凝集フロックを凝集フロック分離回収装置１２のエンドレスフィルター１２ａに送られて凝集フロック剥離用高圧ノズル１２ｂ群からエアーブローが吹付けられ剥離されて回収シュータ１２ｃ上に落下回収される（図示しない凝集フロック分離回収工程）。
【００３６】
他方、吸込ダクト７ｊに吸込まれた蒸気は、排気ファン８を通してサイレンサー８ａを抜け大気中に放出される。
なお、循環水は排ガス中に蒸発含有して大気中に放出するので補給水が必要である。大気放出時の排ガス中は、ほぼ１００％の含水率の為に大気放出ガス中の水分が同様水蒸気となる。この水蒸気を回収して循環水に使用することで、補給水の負荷が軽減出来る。
なお、サイクロン装置４で回収した塩パウダーは凍結防止剤として道路に散布することが可能である。
【実施例】
【００３７】
本実施最良形態例のプラントラインを形成する各装置における温度、集塵濃度、硫黄酸化物、塩化水素化合物、ダイオキシン類のそれぞれの値を表記する。
【００３８】
【表１】
2007292341.tif 000003
以上から燃焼炉２は従来同様の燃焼温度８５０℃で良く、燃焼ガス中の塩化水素化合物、硫黄酸化物、ダイオキシン類の有毒ガスは苛性ソーダ水噴霧後は極端に減少し、煤塵濃度も湿式集塵装置７後はこれ又激減し、大気放出時には無公害化されている。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施最良形態のプラント例を示すモデル図である。
【図２】同上の方法例を示す工程フローチャートである。
【符号の説明】
【００４０】
Ｚ１…塩ビ系廃棄物投入燃焼ゾーン
Ｚ２…熱回収ゾーン
Ｚ３…塩パウダー化回収ゾーン
Ｚ４…排ガス捕縛洗浄ゾーン
Ｚ５…苛性ソーダ溶液循環水混入ゾーン
Ｚ６…排ガスの循環水霧滴との混濁分離ゾーン
Ｚ７…大気放出ゾーン
Ｚ８…フロック凝集ゾーン
Ｚ９…フロック回収ゾーン
１…塩ビ系廃棄物投入機構
１ａ…塩ビ系廃棄物投入ホッパー
１ｂ…ストッパシリンダ
１ｃ…プッシュシリンダ
２…焼却炉
２ａ…投入口
２ｂ…燃焼バーナ
２ｃ…燃焼エアー供給ブロアー
２ｄ…一次燃焼室
２ｅ…二次燃焼室
２ｆ…二次燃焼バーナ
２ｇ…排出口
２ｈ…二次燃焼ダクト
３…温水ボイラ
３ａ…導入口
３ｂ…導出口
３ｃ…熱交換器
４…サイクロン装置
４ａ…高温排気ダクト
４ｂ…苛性ソーダ溶解循環水噴霧ノズル
４ｃ…回収器
４ｄ…連続塩素濃度測定装置
５…吸引冷却ダクト
５ａ…吸引口
５ｂ…ガス冷却噴霧ノズル
５ｃ…温度センサ
６…苛性ソーダ溶液供給装置
６ａ…苛性ソーダ溶液供給管
６ｂ…供給ポンプ
６ｃ…開閉弁
６ｄ…自動調整弁
７…湿式集塵装置
７ａ…排気ガス送入口
７ｂ…し形煤塵補集室
７ｃ…スプレー室
７ｄ…拡散噴霧スプレー
７ｅ…分離中床
７ｆ…密閉分離室
７ｇ…旋回分離器
７ｈ…垂壁
７ｉ…ドレイン管
７ｊ…吸込ダクト
７ｋ…循環水溜槽
８…排気ファン
８ａ…サイレンサー
９…循環管
９ａ…循環ポンプ
９ｂ…調整弁
９ｃ…開閉弁
１０…凝集攪拌装置
１０ａ…攪拌モータ
１０ｂ…攪拌羽根
１１…パウダー自動定量供給装置
１１ａ…瞬間凝縮剤収容ホッパー
１２…凝集フロック分離回収装置
１２ａ…エンドレスフィルター
１２ｂ…凝集フロック剥離用エアーノズル
１２ｃ…回収シュータ
【図１】
2007292341.tif 000004
【図２】
2007292341.tif 000005