(57)【要約】【課題】優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材を効率よく製造することができる光拡散部材の製造方法及び優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材部材の提供。【解決手段】支持体の少なくとも片面が凹凸を有する光拡散シートの製造方法において、支持体を製造する工程と、支持体製造後に該支持体を巻き取ることなく、連続して、支持体の少なくとも片面に凹凸を形成すること工程とを含むことを特徴とする光拡散部材の製造方法、及び該光拡散部材の製造方法により製造される光拡散部材である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも片面に凹凸が形成され、支持体を有する光拡散部材の製造方法であって、
支持体を製造する支持体製造工程と、
前記支持体の製造後に、該支持体を巻き取ることなく、連続して、該支持体の少なくとも片面に凹凸を形成する凹凸形成工程とを含むことを特徴とする光拡散部材の製造方法。
【請求項２】
支持体製造工程が、樹脂を支持体状に溶融押出しすることにより行われる請求項１に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項３】
支持体製造工程が、樹脂を支持体状に溶液製膜することにより行われる請求項１に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項４】
支持体製造工程の後に、支持体を延伸する工程を含む請求項１から３のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項５】
支持体が熱可塑性樹脂で形成され、凹凸形成工程が、該熱可塑性樹脂を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる請求項１から４のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項６】
凹凸形成工程が、該支持体の上に熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる請求項１から４のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項７】
凹凸形成工程が、該支持体上に放射線硬化性樹脂層を設け、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てた状態で放射線を照射し、該放射線硬化性樹脂を硬化させることにより行われる請求項１から４のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項８】
放射線が紫外線である請求項７に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項９】
凹凸形成工程が、該支持体上に少なくとも樹脂及び揮発性液体を含有する塗布液を塗布してなる塗布層を設け、該塗布層を乾燥して海島構造を形成することにより行われる請求項１から４のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１０】
凹凸形成工程が、該支持体上に少なくとも樹脂、揮発性液体、及び乾燥後の塗布層の平均厚みより大きい平均粒径を有する粒子を含有する塗布液を塗布してなる塗布層を設け、該塗布層を乾燥することにより行われる請求項１から４に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１１】
塗布液が、水を含有する請求項９から１０に記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１２】
塗布液が、熱可塑性樹脂ラテックスを含有する請求項９から１１のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１３】
塗布層の樹脂の屈折率と、粒子の屈折率との比の値（樹脂の屈折率／粒子の屈折率）が、０．９〜１．１である請求項１０から１２のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１４】
支持体が、実質的にフィラーを含有しない請求項１から１３のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１５】
支持体が、ポリエチレンテレフタレートである請求項１から１４のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１６】
支持体が、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートである請求項１から１５のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法により製造されることを特徴とする光拡散部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタ等の液晶表示装置に用いられ、優れた視野角特性を有する光拡散部材、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置はあらゆる分野で使用されてきており、特に、ワードプロセッサーやパーソナルコンピューター等の電子産業分野で数多く使用されている。この液晶表示装置は、現在、液晶面のカラー化や大型化へ移行しつつあり、これを促進するためには、液晶の表示品位を向上させる必要がある。
【０００３】
そこで、この液晶表示装置に用いられるバックライトは、少しでも多くの光量を液晶部に供給し、かつ均一な光を発せられるものが要求され、これまで以上に多くの光量を液晶部に供給することを強いられている。バックライトから供給する光を均一に、光量を多くする為には、拡散効率が高く、全光線透過率の高い光拡散部材が必要とされている。
【０００４】
前記バックライトは、光源を透明な導光板の横に置く方式と直接光源を液晶部の後部に置く方式とがある。いずれの方式に於いても、光拡散部材はバックライトから供給する光量を多くし、省電力化を実行するために用いられているが、光拡散部材の光線透過率が低いと液晶部に伝わる光量が少なくなり、結果的に、薄暗い画面となる。一方、光拡散効率が低いと、光源の明暗をそのまま液晶部に伝えるため、均一な光量が得られない画面になる。
したがって、光拡散部材は、全光線透過率が高く、光拡散効率の高いものが要求されている。
そこで、全光線透過率及び光拡散効率を向上させることを目的として、支持体製造過程で拡散機能を付与する、光拡散部材の製造方法が提案されている。例えば、メルトフローレートの値の異なる２種類の樹脂を用いて、海島構造を有する支持体を製造する工程を含む光拡散部材の製造方法が提案されている（特許文献参照１）。また、樹脂中に微粒子を含有する支持体を製造する工程を含む光拡散部材の製造方法が提案されている（特許文献２〜５参照）。
しかし、これらの光拡散部材の製造方法では、拡散部位が支持体中にあるため、光拡散効率に対し全光線透過率が低いという問題があった。
【０００５】
また、全光線透過率及び光拡散効率を向上させることを目的として、支持体上に光拡散性粒子及び樹脂からなる光拡散層を塗設する光拡散部材の製造方法が提案されている（特許文献６〜１３参照）。
これらの光拡散部材の製造方法としては、透明度の高い光学用途の支持体上に、透光性の高い樹脂、該樹脂の屈折率の近い透光性を有する樹脂粒子、塗布液希釈溶媒、及び塗布助剤からなる塗布液を塗布及び乾燥して光拡散層を形成して、光拡散部材を製造する。しかし、前記光拡散部材の製造方法に用いられる前記支持体は、支持体製膜後に一度ロール状に巻き取られており、前記塗布液を塗布する際には、ロール状の前記支持体をウエッブ状に巻きほぐして用いるため、前記支持体と前記塗布液との密着性が不十分であるという問題があり、また、該支持体には、カールが発生しやすいという問題があった。さらに、前記支持体には、巻取りを行う際にハンドリングを向上させる目的で、フィラーが添加されているため、前記支持体は前記フィラーの影響により、光学性能が低下し、全光線透過率を下がり、ヘイズ値を上がるという問題があった。
【０００６】
したがって、優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材を効率よく製造することができる方法、及び優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−３１１２０５号公報
【特許文献２】特開２００１−１７２４０３号公報
【特許文献３】特開２００１−２７２５１１号公報
【特許文献４】特開２００４−２１９４３８号公報
【特許文献５】特開２００２−３７８９８号公報
【特許文献６】特開平６−５９１０７号公報
【特許文献７】特開平６−５９１０８号公報
【特許文献８】特開平６−９４９０４号公報
【特許文献９】特開平８−２２７００５号公報
【特許文献１０】特開平７−２６１００５号公報
【特許文献１１】特開平６−０６７００３号公報
【特許文献１２】特開平６−２３０２３０号公報
【特許文献１３】特開平７−５３０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールを抑制可能な光拡散部材を効率よく製造可能な光拡散部材の製造方法、及び優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記課題に鑑み、鋭意検討を行った結果、以下の知見を得た。即ち、支持体製造工程と、それに続く凹凸形成工程とを含む方法により製造される拡散部材において、支持体製造工程後、支持体を巻き取ることなく、連続し凹凸形成工程で、凹凸を形成することで、全光線透過率、ヘイズ値を損なうことなく、カールの発生を抑制した光拡散部材を効率よく製造することができるという知見である。
【００１０】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくとも片面に凹凸が形成され、支持体を有する光拡散部材の製造方法であって、支持体を製造する支持体製造工程と、前記支持体の製造後に、該支持体を巻き取ることなく、連続して、該支持体の少なくとも片面に凹凸を形成する凹凸形成工程とを含むことを特徴とする光拡散部材の製造方法である。
＜２＞  支持体製造工程が、樹脂を支持体状に溶融押出しすることにより行われる前記＜１＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜３＞  支持体製造工程が、樹脂を支持体状に溶液製膜することにより行われる前記＜１＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜４＞  支持体製造工程の後に、支持体を延伸する工程を含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜５＞  支持体が熱可塑性樹脂で形成され、凹凸形成工程が、該熱可塑性樹脂を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜６＞  凹凸形成工程が、該支持体の上に熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜７＞  熱可塑性樹脂層に用いられる熱可塑性樹脂が、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、部分エステル化セルロースである前記＜６＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜８＞  凹凸形成工程が、該支持体上に放射線硬化性樹脂層を設け、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てた状態で放射線を照射し、該放射線硬化性樹脂を硬化させることにより行われる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜９＞  放射線が紫外線である前記＜８＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１０＞  凹凸形成工程が、該支持体上に少なくとも樹脂及び揮発性液体を含有する塗布液を塗布してなる塗布層を設け、該塗布層を乾燥して海島構造を形成することにより行われる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１１＞  凹凸形成工程が、該支持体上に少なくとも樹脂、揮発性液体、及び乾燥後の塗布層の平均厚みより大きい平均粒径を有する粒子を含有する塗布液を塗布してなる塗布層を設け、該塗布層を乾燥することにより行われる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１２＞  塗布液が、水を含有する前記＜１０＞から＜１１＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１３＞  塗布液が、熱可塑性樹脂ラテックスを含有する前記＜１０＞から＜１２＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１４＞  熱可塑性樹脂ラテックスが、アクリルラテックスである前記＜１３＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１５＞  粒子が、架橋アクリルである前記＜１１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１６＞  塗布層の樹脂の屈折率と、粒子の屈折率との比の値（樹脂の屈折率／粒子の屈折率）が、０．９〜１．１である前記＜１１＞から＜１５＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１７＞  塗布層を設ける方法が、バーコーター、カーテンコーター、グラビアコーター、及び押出しコーターのいずれかを用いることにより行われる前記＜１０＞から＜１６＞に記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１８＞  支持体が、実質的にフィラーを含有しない前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜１９＞  支持体が、ポリエチレンテレフタレートである前記＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜２０＞  支持体が、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートである前記＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法である。
＜２１＞  前記＜１＞から＜２０＞のいずれかに記載の光拡散部材の製造方法により製造されることを特徴とする光拡散部材である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、従来における前記問題を解決し、全光線透過率及びヘイズ値を損なうことなく、カールの発生を抑制した光拡散部材を効率よく製造することができる光拡散部材の製造方法、及び優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（光拡散部材の製造方法及び光拡散部材）
本発明の光拡散部材の製造方法は、支持体製造工程と、凹凸形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
また、本発明の光拡散部材は、本発明の光拡散部材の製造方法により製造される。
以下、本発明の光拡散部材の製造方法の説明を通じて、本発明の光拡散部材の詳細についても明らかにする。
【００１３】
−支持体製造工程−
前記支持体製造工程は、支持体を製造する工程であり、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択することができる。
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の形状の中から適宜選択することができ、例えば、長方形状、正方形状、円状等が挙げられる。
前記支持体の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の構造の中から適宜選択することができ、例えば、単層、多層等が挙げられる。
前記支持体の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記支持体の平均厚みとしては、支持体として通常採用される範囲の厚みであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．０２〜４．０ｍｍが好ましい。
前記支持体の平均厚みとしては、例えば、支持体を測定計で挟んで支持体の厚みを測定する膜厚計、光学的な干渉を利用して支持体の厚みを測定する非接触膜厚計等を使用することにより測定することができる。
前記支持体の材料としては、透明であり、ある程度の強度を有するものであれば、特に制限はなく、例えば、樹脂、ガラス等が挙げられる。これらの中でも、柔軟性があり、軽量であることから、樹脂が好ましい。
前記樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の樹脂の中から適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。
前記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、トリアセチルセルロール、部分エステル化セルロース、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、アクリル（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。これらは、1種単独でもよいし、２種以上併用してもよい。
【００１４】
前記支持体製造工程における、前記支持体の製造方法としては、特に制限はなく、材料に応じて公知の方法の中から適宜選択することができる。
前記樹脂を支持体として用いる場合は、樹脂をペレット化し溶融押出しして成形する押出成形法、樹脂を溶液化して塗布し乾燥する溶液成膜法等が好ましい。
前記樹脂を溶融押出しする方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、溶融した樹脂をＴ型ダイから押し出し、急冷しフイルムを作製する方法等を用いて行うことが好ましい。
前記樹脂を溶液製膜する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、溶剤に溶解した樹脂を押し出し、乾燥しフイルムを作製する方法等を用いて行うことが好ましい。
前記樹脂としては、前記支持体の原料となるものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等）、アクリル樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロール、部分エステル化セルロース等が挙げられる。
前記支持体における樹脂以外の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の成分の中から適宜選択でき、例えば、溶剤、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。
ただし、前記支持体には、フィラーを実質的に含有しないことが好ましい。ここで、実質的に含有しないとは、前記フィラーの含有量が、前記支持体の全固形分１００質量部に対して、０．０２質量部以下であることを意味する。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の溶剤の中から適宜選択することができ、例えば、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルプロピレングリコール（ＭＦＧ）、塩素系溶剤等が挙げられる。
【００１５】
前記支持体製造工程の後に、前記支持体を延伸する支持体延伸工程を行うことができる。
前記支持体の延伸としては、支持体の進行方向に延伸する縦一軸延伸、支持体の進行方向に直交する方向に延伸する横一軸延伸（例えば、テンター延伸等）、二軸延伸等が挙げられる。
前記支持体の表面処理としては、後述する樹脂層と支持体との密着性を向上させるための放電処理、又はその他の層を設ける処理等が挙げられる。
前記その他の層としては、密着改良層、接着防止層、帯電防止層、防湿層、下塗り層、耐傷性層、反射防止層、耐溶剤性層等が挙げられる。
【００１６】
−凹凸形成工程−
前記凹凸形成工程は、支持体の少なくとも片面に凹凸を形成する工程であり、前記支持体製造後に、該支持体を巻き取ることなく、連続して、該支持体の少なくとも片面に凹凸を形成する工程である。
前記支持体は、前記支持体製造後に支持体を巻き取られることなく、連続して、該支持体の少なくとも片面に凹凸が形成されるため、支持体の表面と支持体の裏面とが接する場合（支持体を巻き取る場合）における、支持体の表面と裏面との接触面密着度を調節する処理を行う必要がなく、フィラー等を含有させる必要がない。そのため、前記支持体は、優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能である。
前記凹凸の厚み方向の断面としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、三角形状、波形状、方形状、円弧状、双曲線状、ランダムな形状等が挙げられる。
前記凹凸が形成された支持体の表面粗さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜１００μｍの範囲であることが好ましい。
前記凹凸が形成された支持体の表面粗さは、例えば、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する方法により測定することができる。
【００１７】
前記支持体凹凸形成工程は、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、支持体そのものの少なくとも片面に凹凸を形成する支持体凹凸形成方法（１）、又は支持体の少なくとも片面に樹脂層を設け、該樹脂層に凹凸を形成する樹脂層凹凸形成方法（２）等により行うことができる。
【００１８】
前記支持体凹凸形成方法（１）としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、支持体を高温で可塑化して、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる方法等が挙げられる。
前記支持体凹凸形成方法としては、熱エンボス方法、熱プレス方法が好ましい。
前記支持体としては、前記支持体製造工程で製造された支持体が挙げられる。
前記支持体の材料としては、前記支持体製造工程で記載した材料が挙げられる。これらのなかでも、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、例えば、ポリカーボネート、トリアセチルセルロール、部分エステル化セルロース、アクリル（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート、トリアセチルセルロール、部分エステル化セルロースが好ましい。
前記熱可塑性樹脂の粘度としては、加工温度において、１０6〜１０8ｍＰａ・ｓであることが好ましく、５×１０6〜５×１０7ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。
前記凹凸が表面に形成された型としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、金属、セラミック、樹脂上に金属を被覆したもの等が好ましい。
前記凹凸を両面に形成する方法としては、例えば、両面エンボス方法等が挙げられる。
【００１９】
前記樹脂層凹凸形成方法（２）としては、例えば、樹脂、揮発性液体及び粒子からなる塗布液を、支持体上に塗布及び乾燥することにより行われる方法（Ａ）、支持体上に熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる方法（Ｂ）、支持体上に放射線硬化性樹脂層を設け、硬化前の該放射線硬化性樹脂層の表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てた状態で放射線を照射し、硬化させることにより行われる方法（Ｃ）、樹脂及び揮発性液体を混合し塗布液を調製し、得られた塗布液を支持体上に塗布及び乾燥して海島構造を形成することにより行われる方法（Ｄ）等が挙げられる。
【００２０】
＜樹脂、揮発性液体及び粒子からなる塗布液を、支持体上に塗布及び乾燥することにより行われる方法（Ａ）＞
前記塗布液の成分としては、樹脂、揮発性液体、粒子、さらに必要に応じてその他の成分が挙げられる。
前記樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の樹脂を適宜選択することができるが、アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂等が挙げられる。
前記揮発性液体としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、トルエン、水等が挙げられる。
前記粒子の形状としては、球状、楕円球状、勾玉状等が挙げられる。
前記粒子平均粒径としては、乾燥後の塗布層の平均厚みよりも大きければよく、０．５〜５０μｍであることが好ましい。
前記粒子の平均粒径としては、例えば、動的光散乱法、レーザー回折法等を用いた測定装置により測定することができる。
前記乾燥後の塗布層の平均厚みとは、粒子を除く樹脂塗布層の平均厚みのことを示しており、ここで、乾燥後の塗布層について図１を参照しながら説明する。図１に示す光拡散部材１は、支持体２と、塗布層３とからなり、該塗布層３は少なくとも樹脂５と、粒子４とからなり、前記乾燥後の塗布層の平均厚みは１ａの部分を示している。
前記乾燥後の塗布層の平均厚みとしては、０．１〜１４μｍであることが好ましい。
前記乾燥後の塗布層の平均厚みは、例えば、ＳＥＭ断面観察より、前記乾燥後の塗布層の厚みを５０点測長し、得られた測定値を平均して平均厚みを求める方法により測定することができる。
前記塗布液の樹脂の質量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１ｇ／ｍ２〜１５ｇ／ｍ２が好ましい。
前記粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、有機粒子、無機粒子等が挙げられる。
前記有機粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の有機粒子の中から適宜選択することができ、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記有機粒子としては、架橋構造を有するものが好ましい。
前記架橋構造を有する有機粒子としては、架橋構造を有するアクリル樹脂粒子等が好ましい。
前記無機粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の無機粒子の中から適宜選択することができ、例えば、タルク、炭酸カルシウム、シリコン、アルミナ等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記粒子の添加量としては、前記樹脂１００質量部に対して、１〜１０００質量部が好ましく、２５〜４００質量部がより好ましい。前記添加量が１質量部未満であると、光拡散剤としての機能を果たせなくなることがあり、１０００質量部を超えると、粒子が分散しにくくなることがある。
前記樹脂の屈折率と、前記粒子の屈折率との比の値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜調製することができるが、例えば、２５℃で測定したＤ（ｎ２５）線の屈折率において、０．９〜１．１となることが好ましく、０．９５〜１．０５がより好ましい。
前記樹脂の屈折率と、前記粒子の屈折率との比の値が、０．９未満又は１．１を超えると、粒子、樹脂界面での反射光成分が大きくなり、光の透過率が低下することがある。
【００２１】
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の成分の中から適宜選択することができ、例えば、粒子沈降防止剤、フッ素系界面活性剤、散乱剤、増粘剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、硬化剤、架橋剤、光重合開始剤、モノマー等が挙げられる。
前記粒子沈降防止剤としては、例えば、脂肪酸アミド、酸化ポリエチレン、金属石鹸類、有機ベントナイト、水添ヒマシ油ワックスなどが挙げられる。これらの中でも、脂肪酸アミド、酸化ポリエチレンがより好ましい。これらは、１種単独でよいし、２種以上を併用してもよい。
前記散乱剤としては、上述した粒子と同様に、光拡散剤としての機能を果たすので、光拡散性を更に向上させることができる。
前記散乱剤の平均粒径としては、特に制限はなく、通常使用される物質を目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１〜５μｍであることが好ましい。
前記散乱剤の平均粒径は、特に制限はなく、例えば、動的光散乱法、レーザー回折法等を用いた測定装置により測定することができる。
前記散乱剤の材料としては、特に制限はなく、例えば、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、ジルコニア等が挙げられる。
前記散乱剤の前記塗布液中における添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記塗布液全量に対して、１〜２０質量部が好ましい。
前記増粘剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の増粘剤を適宜選択することがき、例えば、アクリルアミドアミン塩等が挙げられる。
前記増粘剤の添加量としては、前記樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。
前記フッ素系界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のフッ素系界面活性剤を適宜選択することができ、例えば、フッ素系アニオン界面活性剤、フッ素系両性界面活性剤等が挙げられる。
前記フッ素系界面活性剤の添加量としては、前記樹脂１００質量部に対して、０．００１〜０．１質量部が好ましい。
【００２２】
前記塗布液の表面張力としては、４０Ｎ／ｍ以下が好ましく、３０Ｎ／ｍ以下がより好ましい。前記表面張力が４０Ｎ／ｍを超えると、塗布層の面状が悪化する可能性がある。
前記塗布液の表面張力としては、例えば、協和界面科学株式会社製自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３により測定することができる。
前記塗布液の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃において、１０〜２００ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜１５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。前記粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であると、粒子沈降性を維持することが困難になることがあり、２００ｍＰａ・ｓを超えると、送液性、塗布性、面状等が悪化することがある。
前記塗布液の粘度は、例えば、東京計器株式会社製Ｅ型粘度計（ＥＬＤ型）により測定することができる。
前記塗布液の固形分の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記塗布液の全量１００質量部に対して、１０〜４０質量部が好ましく、２０〜３０質量部がより好ましい。
【００２３】
−−塗布液の塗布及び乾燥方法−−
前記塗布層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、前記支持体の上に前記塗布液を塗布した後、乾燥して形成する方法等が挙げられる。
前記塗布層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の構造の中から適宜選択することができ、例えば、単層、多層等が挙げられる。
前記塗布液を塗布する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、カーテンコーター、グラビアコーター、押出しコーター等を用いる方法が挙げられる。これらの中でも、バーコーター、カーテンコーター、グラビアコーター、押出しコーターを用いる方法が好ましい。
前記塗布液の乾燥方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、温風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥等を用いる方法が挙げられる。
前記乾燥を行う温度としては、例えば、９０〜２３０℃が好ましく、１００〜１９０℃がより好ましい。
前記乾燥を行う時間としては、例えば、１０秒間〜２５分間が好ましく、１〜１２分間がより好ましい。
前記塗布層を支持体の両面に設ける方法としては、例えば、支持体に塗布液を逐次に塗布する方法、支持体の両面に塗布液を同時に塗布する方法等が挙げられる。
【００２４】
＜支持体上に熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂を可塑化した状態で、その表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てることにより行われる方法（Ｂ）＞
前記熱可塑性樹脂層としては、熱可塑性樹脂、溶剤、可塑剤、さらに必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の熱可塑性樹脂を適宜選択することができ、例えば、ポリカーボネート、トリアセチルセルロール、部分エステル化セルロース等が挙げられる。
前記溶剤としては、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、塩素系溶剤等が挙げられる。
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の可塑剤の中から適宜選択することができ、例えば、フタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体、トリメリット酸誘導体、クエン酸誘導体、脂肪酸誘導体、リン酸誘導体、グリコール誘導体、パラフィン類、エポキシ誘導体、比較的低分子のポリマー等が挙げられる。
前記可塑剤の添加量としては、前記熱可塑性樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましい。
前記支持体上に熱可塑性樹脂層を設ける方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の塗布方法の中から適宜選択することができ、例えば、前記熱可塑性樹脂、前記溶剤、及び前記可塑剤を混合し熱可塑性樹脂層液を調製した後、該熱可塑性樹脂層液を前記（Ａ）に記載の塗布液の塗布する方法と同様の方法により塗布することが挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層を支持体の両面に設ける場合は、例えば、支持体に前記熱可塑性樹脂層液を逐次に塗布する方法、支持体の両面に前記熱可塑性樹脂層液を同時に塗布する方法等が挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層液の粘度としては、加工温度において、１０6〜１０8ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層液の塗布量としては、必要な拡散性を得られる程度であれば、特に制限はなく、０．２〜５０ｇ/ｍ2が好ましい。
前記熱可塑性樹脂の粘度は、例えば、東京計器株式会社製Ｅ型粘度計（ＥＬＤ型）により測定することができる。
前記熱可塑性樹脂層の表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てる方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、熱プレス法、熱エンボス法等が挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層の表面に、凹凸が表面に形成された型を押し当てた後、前記熱可塑性樹脂層を乾燥することが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層を乾燥する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の乾燥方法の中から適宜選択することができ、例えば、前記（Ａ）に記載の塗布液を乾燥する方法と同様の方法により乾燥することが挙げられる。
前記凹凸を形成する方法及び凹凸を持つ型としては、前記支持体製造工程で用いたものと同様のものが挙げられる。
【００２５】
＜支持体上に放射線硬化性樹脂層を設け、硬化前の該放射線硬化性樹脂層表面に凹凸を持つ型を押し当て、放射線照射により硬化させることにより凹凸のある樹脂層を形成する方法（Ｃ）＞
前記放射硬化性樹脂層としては、放射硬化性樹脂、溶剤、光重合開始剤、さらに必要に応じて、界面活性剤、増感剤、その他の成分を含有してなる。
前記放射硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の放射線硬化性樹脂の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂等が挙げられる。
前記溶剤としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の界面活性剤を適宜選択することができ、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤が挙げられる。より具体的には、脂肪酸塩、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールエステル塩、４級アンモニウム塩、アルキルベタイン、脂肪酸エステル、高級アルコールエーテル、アルキルフェノール類等が挙げられる。
前記界面活性剤の添加量としては、前記放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましい。
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、反応させるモノマーに応じて公知の光重合開始剤を適宜選択することができ、例えば、ラジカル発生剤、カチオン（酸）発生剤、アニオン（塩基）発生剤等が挙げられる。より具体的には、ｐ−アニシール、ベンゾイン誘導体、クロロベンゾフェノン等が挙げられる。
前記光重合開始剤の添加量としては、前記放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１〜１５質量部が好ましい。
前記増感剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の増感剤を適宜選択することができる。
前記増感剤の添加量としては、前記放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。
前記放射線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線等が挙げられる。これらの中でも、放射線硬化性樹脂が効率よく硬化することから、紫外線光、可視光、赤外線、電子線等であることが好ましい。
前記支持体上に放射線硬化性樹脂を設ける方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、前記放射線硬化性樹脂、前記溶剤、前記光重合開始剤を混合し放射線硬化性樹脂層液を調製した後、該放射線硬化性樹脂層液を前記（Ａ）に記載の塗布液と塗布する方法と同様の方法により塗布することが挙げられる。
前記放射線硬化性樹脂層を支持体の両面に設ける方法としては、例えば、支持体に前記放射線硬化性樹脂層液を逐次に塗布する方法、支持体の両面に前記放射線硬化性樹脂層液を同時に塗布する方法等が挙げられる。
前記放射硬化性樹脂を支持体の両面に設ける方法としては、例えば、スリットコーター、バーコーター、グラビアコート等を用いて両面塗布する方法が挙げられる。
前記放射硬化性樹脂層液の粘度としては、２５℃において、１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、硬化直前の放射硬化性樹脂層の粘度としては、２５℃において、１０〜１０，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
前記放射硬化性樹脂の濃度としては、前記放射硬化性樹脂層液の全固形分１００質量部に対して、５〜５０質量部であることが好ましい。
前記放射硬化性樹脂層液の塗布量としては、必要な拡散性を得られる程度であれば、特に制限はなく０．２〜５０ｇ／ｍ2が好ましい。
前記硬化前の放射線硬化性樹脂層表面に凹凸を持つ型を押し当てる方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができる。
前記凹凸を形成する方法及び凹凸を持つ型としては、前記凹凸形成工程で用いたものと同様のものが挙げられる。
前記放射線を照射する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の照射方法の中から適宜選択することができる。
【００２６】
＜樹脂及び揮発性液体を混合し塗布液を調製し、得られた塗布液を支持体上に塗布及び乾燥して海島構造を形成することにより行われる方法（Ｄ）＞
前記塗布液としては、樹脂、揮発性溶液、さらに必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記樹脂としては、特に制限はなく、例えば、熱可塑性樹脂等が挙げられる。
前記樹脂としては、ラテックスとして用いることが好ましい。
前記ラテックスとしては、熱可塑性樹脂ラテックス、アクリルラテックス等が好ましい。
前記ラテックスにおける樹脂の濃度としては、前記ラテックス全量１００質量部に対して、５〜６０質量部が好ましい。
前記揮発性液体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ビニル等が挙げられる。
前記その他成分としては、水、界面活性剤等が挙げられる。これらの中でも、水を含有することが好ましい。
前記塗布及び乾燥の方法としては、前記（Ａ）に記載の塗布液の塗布及び乾燥方法と同様の方法が挙げられる。
前記塗布液粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃において、５〜２００ｍＰａ・ｓが好ましく、２０〜１２０ｍＰａ・ｓがより好ましい。
前記塗布液の粘度は、例えば、東京計器株式会社製Ｅ型粘度計（ＥＬＤ型）により測定することができる。
前記塗布液の固形分の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記塗布液全量１００質量部に対して、５〜７０質量部が好ましく、２５〜６０質量部がより好ましい。
前記塗布層を支持体の両面に設ける方法としては、例えば、スリットコーター、バーコーター、グラビアコート等により両面塗布を行う方法が挙げられる。
【００２７】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の工程の中から適宜選択することができ、下塗り層形成工程、バック層形成工程、加熱処理工程、(後)光硬化工程、熱緩和処理、延伸工程、洗浄工程、コロナ処理工程等が挙げられる。
前記下塗り層形成工程としては、下塗り層を形成する工程であり、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択することができる。
前記下塗り層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の構造を適宜選択することができ、単層であってもよいし、多層であってもよい。
前記下塗り層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．１μm〜１０μｍが好ましい。
前記下塗り層の平均厚みは、例えば、塗布膜の平均厚みを測定する方法と同様の方法により測定することができる。
前記下塗り層の材料としては、例えば、水溶性ポリマー、樹脂、界面活性剤等が挙げられる。
前記バック層形成工程、加熱処理工程、(後)光硬化工程、熱緩和処理、延伸工程、洗浄工程、及びコロナ処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択して行うことができる。
【００２８】
−用途−
前記光拡散部材の製造方法としては、優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散部材の製造に好適に使用することができる。
前記製造方法により製造される光拡散部材の用途としては、その利点により、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタ等の液晶表示装置への利用が挙げられる。これらの中でも、液晶パソコン用モニタ、液晶テレビ等に好適に使用することができる。
また、プロジェクタスクリーンや液晶以外の表示装置、広告等の照明光源、一般照明光源等にも好適に使用することができる。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
［光学拡散部材の製造］
支持体上に、凹凸を有する樹脂層（以下、光拡散層と称する。）を形成することにより、光拡散部材を製造した。
【００３１】
−支持体の製造−
テレフタル酸とエチレングリコ−ルを用い、常法に従い、固有粘度ＩＶ＝０．６６（フェノ−ル／テトラクロルエタン＝６／４（質量比）中２５℃で測定）のポリエチレンテレフタレ−トを得た。得られたポリエチレンテレフタレートをペレット化し、１３０℃で４時間乾燥した後、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出し、急冷し、熱固定後の膜の平均厚みが１２０μｍの未延伸フィルムを製造した。
得られた未延伸フィルムを周速の異なるロ−ルを用い、３．３倍に縦延伸、ついでテンタ−で４．５倍に横延伸を実施した。このときの温度はそれぞれ、１１０℃、１３０℃であった。その後、２４０℃で２０秒間熱固定し、同じ温度（２４０℃）で横方向に４％緩和した。その後、テンタ−のチャック部をスリットした後、両端にナ−ル加工を行った。このようにして、幅２．４ｍ、平均厚み１２０μｍのポリエチレンテレフタレート支持体を得た。
【００３２】
−光拡散層の製造−
得られたポリエチレンテレフタレート支持体（幅２．４ｍ）は、巻き取らずに、連続して、該ポリエチレンテレフタレート支持体上（片面）に、下記組成の塗布液Ａ（固形分濃度：４０％、粘度：８３ｍＰａ・ｓ、ｐＨ：７．９）の塗布及び乾燥を行った。なお、乾燥後の塗布層の平均厚みは、１４μｍであった。
前記塗布液Ａの塗布量は、下記塗布量であり、前記塗布液Ａの塗布方法は、バーコーターを用いて行った。また、前記塗布液Ａの乾燥は、１８０℃、５分間の条件で温風乾燥機を用いて行った。
＜塗布液Ａ＞
・  架橋ＰＭＭＡ粒子（粒子）                                        １０ｇ／ｍ2
(日本純薬製、ジュリマーＭＢ−２０Ｘ、重量平均粒子径１８μｍ、球状)
・  アクリル樹脂ラテックス（樹脂）                                    ８ｇ／ｍ2
(固形分濃度２７％、ＭＭＡ５９％の5元系樹脂ラテックス)
・  アクリルアミドアミン塩（増粘剤）                               ０．５ｇ／ｍ2
(楠本化成製、ＡＱ−６１０)
・  フッ素系アニオン界面活性剤                                    ０．０４ｇ/ｍ2
・  水                                                                    必要量
・  合計                                                              ３０ｇ/ｍ2
【００３３】
前記塗布液の樹脂の屈折率及び粒子の屈折率との比の値（樹脂の屈折率／粒子の屈折率）は１．００であった。樹脂の屈折率及び粒子の屈折率の値は、高温で樹脂０．５ｇ／ｍ2をガラス基板上に均一に塗布して得られた薄膜サンプル、又は粒子０．５ｇ／ｍ2を高温溶解し同様に塗布することによって、ガラス基板上に均一に塗布し得られた薄膜サンプルをプリズムカプラーを用いて、２５℃で測定したＤ（ｎ２５）線の屈折率を測定した。
【００３４】
（実施例２）                     
実施例１の光拡散層に用いた粒子を、ガンツパール（ガンツ化成株式会社製、ポリスチレン架橋粒子、平均粒径１７μｍ）に変えた以外は、実施例１と同様に光拡散シートを製造した。樹脂の屈折率及び粒子の屈折率との比の値（樹脂の屈折率／粒子の屈折率）は０．９３であった。なお、乾燥後の塗布層における樹脂層の平均厚みは、１４μｍであった。
【００３５】
（実施例３）
実施例１の支持体を下記支持体の製造により得たトリアセチルセルロール（ＴＡＣ）支持体（溶液製膜法により得た支持体）を用いた以外は、実施例１と同様に光拡散シートを製造した。
【００３６】
―支持体の製造―
ジクロロメタン６４質量部と、メタノール１６質量部と、ｎ−ブタノール０．４質量部とからなるジクロロメタン系混合溶媒に、ポリマ（木材パルプから合成された酢化度６２％のセルロースアセテート）２０質量部を溶解させ、さらに、添加剤として、可塑剤（ＴＰＰ：ＢＤＰ＝２：１）２．２質量部、紫外線吸収剤とマット剤とを併せて０．０２質量部を添加してドープを得た。なお、ドープ調製は、ジクロロメタンを主溶媒としたときの公知の方法により行った。
得られたドープを撹拌して均一なものとし、濾過装置により不純物が除去された後、流延ダイを用いて流延し、自己支持性を有するようになった後に剥ぎ取られ、未延伸フィルムを得た。次に、テンタークリップがピン形式のテンタ式乾燥機で１３０℃，３ｍｉｎ乾燥させた。また、残留揮発分が固形分に対して３０質量％残存している状態で幅方向へ＋１％の延伸を行った。得られたフィルムを乾燥室で１３５℃，１０ｍｉｎの条件で乾燥し、８０℃の冷却室内を３ｍｉｎ通過させて冷却し、その後、テンタ−のチャック部をスリットし、両端にナ−ル加工を行った。このようにして、幅２．４ｍ、平均厚み１２０μｍの支持体を得た。
【００３７】
（実施例４）
実施例１の未延伸支持体を用いた以外は、実施例１と同様に光拡散シートを製造した。
【００３８】
（実施例５）
実施例３に用いたトリアセチルセルロール（ＴＡＣ）支持体を用い、湿度１００％で加湿することで可塑化し１７０℃で加熱した状態で、凹凸型（表面粗さ１５μｍ、凹凸の形状：ランダム）を、圧力５０Ｎで、３分間圧着することによって光拡散シートを製造した。
【００３９】
（実施例６）
実施例１において、塗布液Ａを用いる代わりに、下記組成からなる紫外線硬化樹脂層液（塗布液Ｂ）を用い、該塗布液Ｂをスリットコーターで塗布した後、凹凸型（表面粗さ１５μｍ、凹凸の形状：ランダム）を、圧力１５Ｎで圧着した状態で紫外線を支持体側から強さ１０００ｍJ、時間３０秒の条件で照射することによって光拡散シートを製造した。
＜塗布液Ｂ＞
・ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート                    ３５．０ｇ/ｍ2
（モノマー：ＥＢ３７００、ダイセルＵＣ株式会社製）
・エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル      ３５．０ｇ/ｍ2
（モノマー：ＮＫエステルＢＰＥ２００、新中村化学工業株式会社製)
・トリブロモフェノキシエチルアクリレート                        ３０．０ｇ/ｍ2
（モノマー：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬株式会社製）
・エチル−２、４、６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド
（光重合開始剤：Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ製)     ２．０ｇ/ｍ2
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                  ４３．０ｇ/ｍ2
・合計                                                        １４５．０ｇ/ｍ2
【００４０】
（実施例７）
実施例１の光拡散シートを得た後、該光拡散シートにおいて塗布層が設けられていない面に、実施例１と同様に塗布層を設けた以外は、実施例１と同様に光拡散シートを製造した。ただし、実施例１の光拡散シートにおいて塗布層が設けられていない面の塗布層は、実施例１の塗布液Ａの塗布量を調製し、実施例１の塗布層の厚みの１／１０（１．４μｍ）となるよう塗布層を製造した。
【００４１】
（比較例１）
実施例１のポリエチレンテレフタレート支持体を用い、該ポリエチレンテレフタレート支持体を一度巻き取った以外は実施例１と同様に光拡散シートを得た。
【００４２】
（比較例２）
実施例１のポリエチレンテレフタレート支持体の代わりに、市販のポリエチレンテレフタレート支持体(東レ株式会社製、商品名ルミラー、平均厚み：１２０μｍ、シリカフィラー含有、巻取り保存されていたもの)を用い、塗布層を製造し、光拡散シートを得た。
【００４３】
［輝度角度分布測定］
得られた光拡散シートを、色彩輝度計（ＢＭ−７、株式会社トプコンテクノハウス製）を用いて角度を変えながら輝度測定を行うことで輝度角度分布を測定し、正面輝度、及び輝度角度分布半値角を求めた。
【００４４】
［全光線透過率測定］
得られた光拡散シートを、ＪＩＳ  Ｋ６７１４に準じて全光線透過率を測定した。
【００４５】
［ヘイズ測定］
得られた光拡散シートを、ＪＩＳ  Ｋ６７１４に準じてヘイズ値を測定した。
【００４６】
［カール測定］
得られた光拡散シートを、２０ｃｍ角の正方形に切り出し、２５℃−６０％ＲＨ環境下において、応力がかからない状態で、２４時間放置した。その後、その環境下で、凹凸面を上側にし（凹凸面が両方にある場合はどちらを上側にしてもよい）、平面上に置いて、四隅の平面からの高さを測り、平均値を求め、カール値とした。平面においた状態で、中央部分が高くなる場合は、逆向きに置き、同様に四隅の高さを測定し、平均を求めた。その場合は、平均値をマイナスの値で表現した。
なお、拡散面（凹凸面）を上に置き、反拡散面側から光を当て、カールに起因する輝度ムラを目視にて、下記基準に従い判定し、カール性評価とした。
×：輝度ムラが目視される状態
△：わずかに視認される状態
○：視認されない状態
【００４７】
［光拡散層密着性試験］
得られた光拡散シートを２ｃｍ×５ｃｍの長方形に切り出し、カッターナイフで碁盤目に切れ込み（光拡散シートの短尺における切れ込みの間隔は２ｍｍ、長尺における切れ込みの間隔は５ｍｍ、１０本×１０本の目）を光拡散層及び支持体の一部に掛かるようにいれ、その状態で、表面にテープを貼り、テープ剥離テストを実施した。その時の光拡散層の破壊される面積（剥離された目の数）を、下記基準に従い判定した。各水準３サンプルを実施し平均的な値を採用した。
××：剥離された目の数が１００個〜３３個
×  ：剥離された目の数が１０個〜３２個
△  ：剥離された目の数が９個〜１個
○  ：剥離された目の数０個
【００４８】
【表１】
2007140216.tif 000002
【００４９】
表１の結果から、比較例１では、支持体として、一度巻き取ったものを、巻きほぐして使用しているため、支持体と樹脂層との密着性が不十分であり、光拡散シートにカールを発生することがわかった。また、比較例２では、支持体中にフィラーが含まれているため、しており、正面輝度、全光線透過率、及びヘイズ値が、やや劣り、支持体と光拡散層との密着性も不十分であり、カールを発生することがわかった。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明の光拡散部材の製造方法は、優れた全光線透過率及びヘイズ値を有し、カールの発生を抑制可能な光拡散シートの製造方法を提供することができる。
本発明の製造方法により製造される光拡散部材は、その利点により、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに使われる液晶表示装置に好適に使用することができる。また、前記光拡散部材は、光拡散性に特に優れるため、上述の液晶表示装置において、光拡散シートとして、より好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】図１は本発明の塗布層を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５２】
１：光拡散部材
１ａ：塗布膜の厚み
２：支持体
３：塗布層
４：粒子
５：樹脂
【図１】
2007140216.tif 000003