(57)【要約】【課題】  隣接層との混じり合いのない膜の製造方法を提供することであり、更には該製造方法を電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に適用し、それによって発光効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を得、更にこれを表示装置及び照明装置に適用すること。【解決手段】  少なくとも２種類の化合物を含有する固体状の一次膜を形成した後に、一次膜中から少なくとも１種類の化合物を除去することを特徴とする膜の製造方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２種類の化合物を含有する固体状の一次膜を形成した後に、該一次膜中から少なくとも１種類の化合物を除去することを特徴とする膜の製造方法。
【請求項２】
前記一次膜中から除去される化合物の融点が１０℃以上で、常圧下の沸点が５０℃以上であることを特徴とする請求項１に記載の膜の製造方法。
【請求項３】
前記一次膜中から除去される化合物が昇華性であることを特徴とする請求項１または２に記載の膜の製造方法。
【請求項４】
前記固体状の一次膜が固溶体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項５】
前記固体状の一次膜が分散状態であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項６】
更に揮発性溶剤を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項７】
前記固体状の一次膜の形成がインクジェット法またはスピンコート法で行われることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の膜の製造方法を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の膜の製造方法を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にて製造することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１１】
発光が赤色であることを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１２】
発光が緑色であることを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１３】
発光が青色であることを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１４】
発光が白色であることを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は膜の製造方法、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットディスプレイなどの表示装置や、電子写真複写機、プリンターなどの光源に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子の使用が検討されている。
【０００３】
この有機ＥＬ素子は蛍光性有機化合物の非常に薄い薄膜を陽極と陰極ではさみ、電流を流すことで発光する電流駆動型発光素子である。通常、有機物は絶縁体であるが有機層の膜厚を非常に薄くすることにより電流注入が可能となり有機ＥＬ素子として駆動する事が可能となる。そして１０Ｖ以下の低電圧で駆動することが可能であり、これにより高効率な発光を得ることも可能なため将来のディスプレイとして注目を浴びている。
【０００４】
特に最近においては従来の励起一重項を用いる有機ＥＬ素子の効率を遙かにしのぐ励起三重項を用いるリン光発光有機ＥＬ素子がＳ．Ｒ．Ｆｏｒｒｅｓｔらにより見いだされている（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．（１９９９），７５（１），４−６）。更にＣ．Ａｄａｃｈｉらが報告しているように（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９０，５０４８（２００１））６０ｌｍ／Ｗにもおよぶ視感度効率を出すまでにおよび、この様な素子はディスプレイのみならず、照明への応用が期待される。
【０００５】
ところで有機ＥＬ素子を用いた照明装置を製造するとなると、以下の様な状況を考慮しなければならない。
【０００６】
現在、有機ＥＬ材料には低分子系のものと高分子系のものが有る。低分子系材料を用いてＥＬ素子を製造するには高真空での蒸着を行う。低分子材料は昇華精製する事が可能で、精製が行いやすく、高純度な有機ＥＬ材料を用いることができ、更に積層構造を作るのが容易なため、効率、寿命という面で非常に優れている。
【０００７】
しかしながら１０-4Ｐａ以下という高真空条件下で蒸着を行うため、操作が複雑でコストも高く製造の観点からは必ずしも好ましくない。特に照明用途では、大面積に素子を形成しなければならないので蒸着では製造が難しい。また、リン光発光有機ＥＬ素子で用いられるようなリン光ドーパントについても、大面積でムラ無く、複数のドーパントを蒸着で素子に導入するのは困難であり、コスト的にも技術的にも難しいと言わざるを得ない。
【０００８】
それに対し高分子系材料では製造にスピンコート、インクジェット、印刷といったウェットプロセスを採用することができる。つまり大気圧下で製造することができるためコストが安くすむメリットがある。更に溶液で調製して薄膜にするため、ドーパント等の調整がしやすく、大面積に対してもムラができにくいという特徴がある。これは有機ＥＬ素子の照明用途にはコスト、製造技術という面で非常にメリットがあると言える。
【０００９】
しかしながら、高分子系材料でウェットプロセスを用いると積層構造を構成するのが難しい。一層目の上に二層目を積層すると一層目の高分子材料が二層目の溶媒にとけ込んでしまい、一層目と二層目が混ざってしまうからである。そのために低分子材料で素子を製造するのに比べ一般的に製造効率が悪くなってしまう。
【００１０】
一般的に高分子系有機ＥＬ素子はスピンコート法、インクジェット法、印刷により製造される。
【００１１】
スピンコート法は枚葉でしか行うことができないため、連続生産できない。インクジェット法は三色発光方式によるディスプレイの製造には非常に有用な方法であるが、照明用途や色変換方式によるディスプレイのような一面を同色にて発光させる発光装置の製造には生産性という面で好ましくない。
【００１２】
そこで印刷法による製造が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照。）。印刷法は、非常に簡便な方法であるため非常に有用な成膜方法であるが、それらは一層づつのみを成膜する方法なので、もし多層構成としたい場合は一層成膜後改めてもう一層成膜する必要がある。これでは生産性に劣り、更には装置、工程が増えることによるコスト高につながる。
【００１３】
また同様に有機溶媒に可溶な高分子を積層する場合、２層が混ざってしまうという問題も抱えている。これらに対し、互いに相溶性のない溶液からなる液層を隣接させて多層同時塗布にて基板上に成膜する工程を経ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法（例えば、特許文献４参照。）が公開されているが、互いに混じり合うという問題を解決するに到っていない。
【特許文献１】特開平３−２６９９９５号公報
【特許文献２】特開平１０−７７４６７号公報
【特許文献３】特開平１１−２７３８５９号公報
【特許文献４】特開２００４−１４１７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、隣接層との混じり合いのない膜の製造方法を提供することであり、更には該製造方法を電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に適用し、それによって発光効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を得、更にこれを表示装置及び照明装置に適用することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の上記目的は、下記構成により達成された。
【００１６】
（１）少なくとも２種類の化合物を含有する固体状の一次膜を形成した後に、該一次膜中から少なくとも１種類の化合物を除去することを特徴とする膜の製造方法。
【００１７】
（２）前記一次膜中から除去される化合物の融点が１０℃以上で、常圧下の沸点が５０℃以上であることを特徴とする前記（１）に記載の膜の製造方法。
【００１８】
（３）前記一次膜中から除去される化合物が昇華性であることを特徴とする前記（１）または（２）に記載の膜の製造方法。
【００１９】
（４）前記固体状の一次膜が固溶体であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【００２０】
（５）前記固体状の一次膜が分散状態であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【００２１】
（６）更に揮発性溶剤を用いることを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【００２２】
（７）前記固体状の一次膜の形成がインクジェット法またはスピンコート法で行われることを特徴とする前記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
【００２３】
（８）前記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の膜の製造方法を用いることを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【００２４】
（９）前記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の膜の製造方法を用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【００２５】
（１０）前記（９）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法にて製造することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２６】
（１１）発光が赤色であることを特徴とする前記（１０）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２７】
（１２）発光が緑色であることを特徴とする前記（１０）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２８】
（１３）発光が青色であることを特徴とする前記（１０）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００２９】
（１４）発光が白色であることを特徴とする前記（１０）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【００３０】
（１５）前記（１１）〜（１４）のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする表示装置。
【００３１】
（１６）前記（１１）〜（１４）のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を有することを特徴とする照明装置。
【発明の効果】
【００３２】
本発明により、隣接層との混じり合いのない膜の製造方法を提供することができ、更には該製造方法を電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に適用し、それによって発光効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を得、更にこれを表示装置及び照明装置に適用することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本発明は、少なくとも２種類の化合物を含有する固体状の一次膜を形成した後に、該一次膜中から少なくとも１種類の化合物を除去することを特徴とする膜の製造方法に関する。
【００３４】
固体とは、理化学大辞典５版２９０頁に記されているとおり、物質の三態のひとつで定まった形を持つ状態であり、固体を形成する各原子または分子相互の配置関係はほぼ一定した結晶状態のものをいう。本発明において、固体状とは上記結晶のみならず、規則性を伴わない非晶質のガラス状態やアモルファス状態のものも含み、広く「定まった形を持つ状態」と定義することができる。
【００３５】
本発明において、固体状の一次膜は溶液と同様に均一な固溶体、または分散溶液のような分散状態であってもよい。除去される化合物は融点が１０℃以上で、常圧下の沸点が５０℃以上であり、昇華性であることがより好ましい。
【００３６】
本発明における融点が１０℃以上、沸点が５０℃以上の化合物としては、具体的には以下の化合物（融点℃／、沸点℃）が挙げられる。ナフタレン（８０／２１８）、ピラジン（５７／１１６）、パラキシレン（１３／１３８）、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン（８０／１９６）、２，６−ジメチルナフタレン（１１０／２６１）、２，５−ジメチルピラジン（１５／１５５）、トリアジン（８１／１１４）、ビフェニル（７０／２５５）、ビピリジン（７０／２７２）、４−フェニルピリジン（７７／２８０）、ステアリン酸（６９／１９７）。また本発明においては、更に揮発性溶剤を用いることが好ましい。揮発性溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンゼン、シクロヘキサン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンが挙げられる。
【００３７】
本発明にかかる固体状の一次膜の形成は、インクジェット法またはスピンコート法で行われる。いずれの方法も加熱状態で行うことが好ましい。
【００３８】
本発明の膜の製造方法は電子デバイス、特に有機ＥＬ素子の製造に用いられる。
【００３９】
有機ＥＬ素子材料を用いて本発明の有機ＥＬ素子を作製する場合、有機ＥＬ素子の構成層（詳細は後述する）の中で、発光層または電子阻止層に有機ＥＬ素子材料を用いることが好ましい。また、発光層中では上記のように、発光ドーパントとして好ましく用いられる。
【００４０】
（発光ホストと発光ドーパント）
発光層中の主成分であるホスト化合物である発光ホストに対する発光ドーパントとの混合比は、好ましくは質量で０．１〜３０質量％未満の範囲に調整することである。
【００４１】
但し、発光ドーパントは複数種の化合物を混合して用いてもよく、混合する相手は構造を異にする、その他の金属錯体やその他の構造を有するリン光性ドーパントや蛍光性ドーパントでもよい。
【００４２】
ここで、発光ドーパントとして用いられる金属錯体と併用してもよいドーパント（リン光性ドーパント、蛍光性ドーパント等）について述べる。発光ドーパントは大きく分けて、蛍光を発光する蛍光性ドーパントとリン光を発光するリン光性ドーパントの２種類がある。
【００４３】
前者（蛍光性ドーパント）の代表例としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【００４４】
後者（リン光性ドーパント）の代表例としては、好ましくは元素周期表で８族、９族、１０族の遷移金属元素を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【００４５】
具体的には以下の特許公報に記載されている化合物である。
【００４６】
国際公開第００／７０６５５号パンフレット、特開２００２−２８０１７８号公報、特開２００１−１８１６１６号公報、特開２００２−２８０１７９号公報、特開２００１−１８１６１７号公報、特開２００２−２８０１８０号公報、特開２００１−２４７８５９号公報、特開２００２−２９９０６０号公報、特開２００１−３１３１７８号公報、特開２００２−３０２６７１号公報、特開２００１−３４５１８３号公報、特開２００２−３２４６７９号公報、国際公開第０２／１５６４５号パンフレット、特開２００２−３３２２９１号公報、特開２００２−５０４８４号公報、特開２００２−３３２２９２号公報、特開２００２−８３６８４号公報、特表２００２−５４０５７２号公報、特開２００２−１１７９７８号公報、特開２００２−３３８５８８号公報、特開２００２−１７０６８４号公報、特開２００２−３５２９６０号公報、国際公開第０１／９３６４２号パンフレット、特開２００２−５０４８３号公報、特開２００２−１００４７６号公報、特開２００２−１７３６７４号公報、特開２００２−３５９０８２号公報、特開２００２−１７５８８４号公報、特開２００２−３６３５５２号公報、特開２００２−１８４５８２号公報、特開２００３−７４６９号公報、特表２００２−５２５８０８号公報、特開２００３−７４７１号公報、特表２００２−５２５８３３号公報、特開２００３−３１３６６号公報、特開２００２−２２６４９５号公報、特開２００２−２３４８９４号公報、特開２００２−２３５０７６号公報、特開２００２−２４１７５１号公報、特開２００１−３１９７７９号公報、特開２００１−３１９７８０号公報、特開２００２−６２８２４号公報、特開２００２−１００４７４号公報、特開２００２−２０３６７９号公報、特開２００２−３４３５７２号公報、特開２００２−２０３６７８号公報等。
【００４７】
以下に、具体例の一部を示す。
【００４８】
【化１】
2007059245.tif 000002
【００４９】
【化２】
2007059245.tif 000003
【００５０】
（発光ホスト）
本発明に用いられるホスト化合物とは、発光層に含有される化合物のうちで室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．０１未満の化合物を表す。
【００５１】
本発明に用いられる発光ホストとしては構造的には特に制限はないが、代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族ボラン誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、またはカルボリン誘導体や該カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の少なくとも一つが窒素原子で置換されている環構造を有する誘導体等が挙げられる。中でも、カルバゾール誘導体、カルボリン誘導体や該カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の少なくとも一つが窒素原子で置換されている環構造を有する誘導体が好ましく用いられる。
【００５２】
本発明に係る発光層においては、ホスト化合物として公知のホスト化合物を複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。これらの公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。
【００５３】
また、本発明に用いられる発光ホストは低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもいい。
【００５４】
発光ホストとしては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。
【００５５】
発光ホストの具体例としては、以下の文献に記載されている化合物が好適である。例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、特開２００２−３０８８５５号公報、特開２００１−３１３１７９号公報、特開２００２−３１９４９１号公報、特開２００１−３５７９７７号公報、特開２００２−３３４７８６号公報、特開２００２−８８６０号公報、特開２００２−３３４７８７号公報、特開２００２−１５８７１号公報、特開２００２−３３４７８８号公報、特開２００２−４３０５６号公報、特開２００２−３３４７８９号公報、特開２００２−７５６４５号公報、特開２００２−３３８５７９号公報、特開２００２−１０５４４５号公報、特開２００２−３４３５６８号公報、特開２００２−１４１１７３号公報、特開２００２−３５２９５７号公報、特開２００２−２０３６８３号公報、特開２００２−３６３２２７号公報、特開２００２−２３１４５３号公報、特開２００３−３１６５号公報、特開２００２−２３４８８８号公報、特開２００３−２７０４８号公報、特開２００２−２５５９３４号公報、特開２００２−２６０８６１号公報、特開２００２−２８０１８３号公報、特開２００２−２９９０６０号公報、特開２００２−３０２５１６号公報、特開２００２−３０５０８３号公報、特開２００２−３０５０８４号公報、特開２００２−３０８８３７号公報等。
【００５６】
また、発光層はホスト化合物として更に蛍光極大波長を有するホスト化合物を含有していてもよい。この場合、他のホスト化合物とリン光性化合物から蛍光性化合物へのエネルギー移動で、有機ＥＬ素子としての電界発光は蛍光極大波長を有する他のホスト化合物からの発光も得られる。蛍光極大波長を有するホスト化合物として好ましいのは、溶液状態で蛍光量子収率が高いものである。ここで、蛍光量子収率は１０％以上、特に３０％以上が好ましい。具体的な蛍光極大波長を有するホスト化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素等が挙げられる。蛍光量子収率は、前記第４版実験化学講座７の分光IIの３６２頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定することができる。
【００５７】
次に、代表的な有機ＥＬ素子の構成について述べる。
【００５８】
本発明の有機ＥＬ素子の構成層について説明する。
【００５９】
本発明の有機ＥＬ素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００６０】
（ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（ii）陽極／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（iii）陽極／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（iv）陽極／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極
（ｖ）陽極／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
（vi）陽極／陽極バッファー層／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
（vii）陽極／陽極バッファー層／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極
《阻止層（電子阻止層、正孔阻止層）》
本発明に係る阻止層（例えば、電子阻止層、正孔阻止層）について説明する。
【００６１】
本発明においては、正孔阻止層、電子阻止層等に有機ＥＬ素子材料を用いることが好ましく、特に好ましくは正孔阻止層に用いることである。
【００６２】
本発明に係る阻止層の膜厚としては好ましくは３〜１００ｎｍであり、更に好ましくは５〜３０ｎｍである。
【００６３】
《正孔阻止層》
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
【００６４】
正孔阻止層としては、例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日  エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載の正孔阻止（ホールブロック）層等を本発明に係る正孔阻止層として適用可能である。また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係る正孔阻止層として用いることができる。
【００６５】
本発明の有機ＥＬ素子は構成層として正孔阻止層を有し、該正孔阻止層が前記カルボリン誘導体または該カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の少なくとも一つが窒素原子で置換されている環構造を有する誘導体を含有することが好ましい。
【００６６】
《電子阻止層》
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。
【００６７】
また本発明においては、発光層に隣接する隣接層、即ち正孔阻止層、電子阻止層に有機ＥＬ素子材料を用いることが好ましく、特に電子阻止層に用いることが好ましい。
【００６８】
《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する材料を含み、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層もしくは複数層設けることができる。
【００６９】
正孔輸送材料としては、特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷注入輸送材料として慣用されているものや、有機ＥＬ素子の正孔注入層、正孔輸送層に使用される公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。
【００７０】
正孔輸送材料は正孔の注入もしくは輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【００７１】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好ましい。
【００７２】
芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
【００７３】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。
【００７４】
この正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５〜５０００ｎｍ程度である。この正孔輸送層は上記材料の一種または二種以上からなる一層構造であってもよい。
【００７５】
《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層もしくは複数層を設けることができる。
【００７６】
従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、下記の材料が知られている。
【００７７】
更に、電子輸送層は陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。
【００７８】
この電子輸送層に用いられる材料（以下、電子輸送材料という）の例としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、カルボリン誘導体、または該カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の炭素原子の少なくとも一つが窒素原子で置換されている環構造を有する誘導体等が挙げられる。更に上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引性基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も電子輸送材料として用いることができる。
【００７９】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【００８０】
また８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、ＧａまたはＰｂに置き替わった金属錯体も電子輸送材料として用いることができる。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。
【００８１】
この電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５〜５０００ｎｍ程度である。この電子輸送層は上記材料の一種または二種以上からなる一層構造であってもよい。
【００８２】
次に、本発明の有機ＥＬ素子の構成層として用いられる注入層について説明する。
【００８３】
《注入層》：電子注入層、正孔注入層
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記のごとく陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
【００８４】
注入層とは駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日  エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されており、正孔注入層（陽極バッファー層）と電子注入層（陰極バッファー層）とがある。
【００８５】
陽極バッファー層（正孔注入層）は特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。
【００８６】
陰極バッファー層（電子注入層）は特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。
【００８７】
上記バッファー層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１〜１００ｎｍの範囲が好ましい。
【００８８】
この注入層は上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、ＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。注入層の膜厚については特に制限はないが、通常は５〜５０００ｎｍ程度である。この注入層は上記材料の一種または二種以上からなる一層構造であってもよい。
【００８９】
《陽極》
本発明の有機ＥＬ素子に係る陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【００９０】
《陰極》
一方、本発明に係る陰極としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させることにより作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。なお、発光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
【００９１】
《基体（基板、基材、支持体等ともいう）》
本発明の有機ＥＬ素子に係る基体としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明のものであれば特に制限はないが、好ましく用いられる基板としては、例えば、ガラス、石英、光透過性樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい基体は、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。
【００９２】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）等からなるフィルム等が挙げられる。
【００９３】
樹脂フィルムの表面には、無機物もしくは有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。
【００９４】
本発明の有機ＥＬ素子の発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは２％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。
【００９５】
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用してもよい。
【００９６】
照明用途で用いる場合には、発光ムラを低減させるために粗面加工したフィルム（アンチグレアフィルム等）を併用することもできる。
【００９７】
多色表示装置として用いる場合は、少なくとも２種類の異なる発光極大波長を有する有機ＥＬ素子からなるが、有機ＥＬ素子を作製する好適な例を説明する。
【００９８】
《有機ＥＬ素子の作製方法》
本発明の有機ＥＬ素子の作製方法の一例として、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層／陰極からなる有機ＥＬ素子の作製法について説明する。
【００９９】
まず適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を、１μｍ以下、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの膜厚になるように蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陽極を作製する。次に、この上に素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等の有機化合物を含有する薄膜を形成させる。
【０１００】
この有機化合物を含有する薄膜の薄膜化の方法としては、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な膜が得られやすく、且つピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法またはスピンコート法が特に好ましい。更に層ごとに異なる製膜法を適用してもよい。製膜に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は、使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度５０〜４５０℃、真空度１０-6〜１０-2Ｐａ、蒸着速度０．０１〜５０ｎｍ／秒、基板温度−５０〜３００℃、膜厚０．１〜５μｍの範囲で適宜選ぶことが望ましい。
【０１０１】
これらの層の形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を１μｍ以下好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機ＥＬ素子が得られる。この有機ＥＬ素子の作製は一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる製膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。
【０１０２】
《表示装置》
本発明の表示装置について説明する。本発明の表示装置は上記有機ＥＬ素子を有する。
【０１０３】
本発明の表示装置は単色でも多色でもよいが、ここでは多色表示装置について説明する。多色表示装置の場合は発光層形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で膜を形成できる。
【０１０４】
発光層のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、印刷法である。蒸着法を用いる場合においては、シャドーマスクを用いたパターニングが好ましい。
【０１０５】
また作製順序を逆にして、陰極、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、陽極の順に作製することも可能である。
【０１０６】
このようにして得られた多色表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を＋、陰極を−の極性として電圧２〜４０Ｖ程度を印加すると発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。更に交流電圧を印加する場合には、陽極が＋、陰極が−の状態になったときのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよい。
【０１０７】
多色表示装置は表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。表示デバイス、ディスプレイにおいて、青、赤、緑発光の３種の有機ＥＬ素子を用いることによりフルカラーの表示が可能となる。
【０１０８】
表示デバイス、ディスプレイとしては、テレビ、パソコン、モバイル機器、ＡＶ機器、文字放送表示、自動車内の情報表示等が挙げられる。特に静止画像や動画像を再生する表示装置として使用してもよく、動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。
【０１０９】
発光光源としては家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これに限定するものではない。
【０１１０】
《照明装置》
本発明の照明装置について説明する。本発明の照明装置は上記有機ＥＬ素子を有する。
【０１１１】
本発明の有機ＥＬ素子に共振器構造を持たせた有機ＥＬ素子として用いてもよく、このような共振器構造を有した有機ＥＬ素子の使用目的としては、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これらに限定されない。また、レーザー発振をさせることにより上記用途に使用してもよい。
【０１１２】
また、本発明の有機ＥＬ素子は照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置（ディスプレイ）として使用してもよい。動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス（パッシブマトリクス）方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。または、異なる発光色を有する本発明の有機ＥＬ素子を２種以上使用することにより、フルカラー表示装置を作製することが可能である。
【実施例】
【０１１３】
以下、本発明について実施例をもって説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１１４】
実施例１
〈有機ＥＬ素子１−１〜１−５の作製〉
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上に、ＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。
【０１１５】
この基板を市販のスピンコータに取り付け、ポリビニルカルバゾール６０ｍｇを１，２−ジクロロエタン１０ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０ｓｅｃの条件下、スピンコート（膜厚約４０ｎｍ）、６０℃で１時間真空乾燥し正孔輸送層とした。次いで、ＣＢＰ（６０ｍｇ）とＩｒ−１（３．０ｍｇ）とをナフタレン（６ｍｌ）に１００℃で溶解し同温度に保温した状態の溶液を用い、基板温度１００℃、１０００ｒｐｍ、３０ｓｅｃの条件下、正孔輸送層上にスピンコートし、室温に冷却した後、１×１０-2Ｐａ、１８０℃で１時間減圧乾燥し、発光層（膜厚約６０ｎｍ）とした。
【０１１６】
更にこの基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方モリブデン製抵抗加熱ボートにバソキュプロイン（ＢＣＰ）を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ3を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取付けた。真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、ＢＣＰの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで前記発光層の上に蒸着して膜厚１０ｎｍの正孔阻止の役割も兼ねた電子輸送層を設けた。その上に更にＡｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで前記電子輸送層の上に蒸着して、更に膜厚４０ｎｍの電子注入層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。
【０１１７】
引き続き、フッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子１−１を作製した。
【０１１８】
有機ＥＬ素子１−１の作製において、発光層作製に使用するナフタレンを表１に示す溶剤（ｏ−ジクロロベンゼンまたは１，２−ジクロロエタン）に置き換え、室温で溶解し同温度でスピンコートした以外は、有機ＥＬ素子１−１と同じ方法で比較の有機ＥＬ素子１−２、１−３を作製した。
【０１１９】
また、有機ＥＬ素子１−１の作製において、発光層作製に使用するＩｒ−１を表１に示すように置き換えた以外は、有機ＥＬ素子１−１と同じ方法で有機ＥＬ素子１−４、１−５を作製した。
【０１２０】
【化３】
2007059245.tif 000004
【０１２１】
《有機ＥＬ素子の評価》
以下のようにして作製した有機ＥＬ素子１−１〜１−５の評価を行い、その結果を表１に示す。
【０１２２】
作製した有機ＥＬ素子について、温度２３度、乾燥窒素ガス雰囲気下で１０Ｖ直流電圧印加による連続点灯を行い、点灯開始時の発光輝度から輝度が半減する時間（以下、発光寿命という）及び発光効率（ルーメン／Ｗ）を測定し、その結果を表１に示す。但し、発光寿命及び発光効率は、有機ＥＬ素子１−２の発光寿命及び発光効率のそれぞれを１００とした相対値で表した。なお、発光輝度はコニカミノルタセンシング製ＣＳ−１０００を用いて測定した。
【０１２３】
【表１】
2007059245.tif 000005
【０１２４】
表１から、本発明の有機ＥＬ素子は、高効率化、長寿命化されていることがわかった。
【０１２５】
実施例２
〈有機ＥＬ素子２−１〜２−５の作製〉
陽極として１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上にＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）にパターニングを行った後、このＩＴＯ透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。
【０１２６】
この基板を市販のスピンコータに取り付け、ポリビニルカルバゾール６０ｍｇを１，２−ジクロロエタン１０ｍｌに溶解した溶液を用い、１０００ｒｐｍ、３０ｓｅｃの条件下、スピンコート（膜厚約４０ｎｍ）、６０℃で１時間真空乾燥し正孔輸送層とした。次いで、ＣＢＰ（６０ｍｇ）とＩｒ−１（３．０ｍｇ）とをナフタレン（６ｍｌ）に１５０℃で溶解し度温度に保温した状態の溶液を用い、正孔輸送層上にインクジェットヘッドを使用して塗設した後、１×１０-2Ｐａ、１８０℃で１時間減圧乾燥し、発光層（膜厚約６０ｎｍ）とした。
【０１２７】
更にこの基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方モリブデン製抵抗加熱ボートにバソキュプロイン（ＢＣＰ）を２００ｍｇ入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにＡｌｑ3を２００ｍｇ入れ、真空蒸着装置に取付けた。真空槽を４×１０-4Ｐａまで減圧した後、ＢＣＰの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで前記発光層の上に蒸着して膜厚１０ｎｍの正孔阻止の役割も兼ねた電子輸送層を設けた。その上に、更にＡｌｑ3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで前記電子輸送層の上に蒸着して、更に膜厚４０ｎｍの電子注入層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。
【０１２８】
引き続き、フッ化リチウム０．５ｎｍ及びアルミニウム１１０ｎｍを蒸着して陰極を形成し、有機ＥＬ素子２−１を作製した。
【０１２９】
有機ＥＬ素子２−１の作製において、発光層作製に使用するナフタレンを表２に示す溶剤（ｏ−ジクロロベンゼンまたは１，２−ジクロロエタン）に置き換え室温で溶解し、同温度でインクジェットヘッドを使用して塗布した以外は、有機ＥＬ素子２−１と同じ方法で比較の有機ＥＬ素子２−２、２−３を作製した。
【０１３０】
また、有機ＥＬ素子２−１の作製において、発光層作製に使用するＩｒ−１を表２に示すように置き換えた以外は、有機ＥＬ素子１−１と同じ方法で有機ＥＬ素子２−４、２−５を作製した。
【０１３１】
《有機ＥＬ素子の評価》
実施例１と同様にして有機ＥＬ素子２−１〜２−５の評価を行い、その結果を表２に示す。但し、発光寿命及び発光効率は、有機ＥＬ素子２−２の発光寿命及び発光効率のそれぞれ１００とした相対値で表した。
【０１３２】
【表２】
2007059245.tif 000006
【０１３３】
表２から、本発明の有機ＥＬ素子は、高効率化、長寿命化されていることがわかった。
【０１３４】
実施例３
《有機ＥＬフルカラー表示装置の作製》
図１は有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。陽極としてガラス基板１０１上にＩＴＯ透明電極（１０２）を１００ｎｍ製膜した基板（ＮＨテクノグラス社製ＮＡ４５）に１００μｍのピッチでパターニングを行った後、このガラス基板上でＩＴＯ透明電極の間に非感光性ポリイミドの隔壁１０３（幅２０μｍ、厚さ２．０μｍ）をフォトリソグラフィーで形成させた。ＩＴＯ電極上ポリイミド隔壁の間に下記組成の正孔注入層組成物を、インクジェットヘッド（エプソン社製；ＭＪ８００Ｃ）を用いて吐出注入し、２００℃、１０分間の乾燥処理により膜厚４０ｎｍの正孔注入層１０４を作製した。この正孔注入層上にそれぞれ下記の青色発光層組成物、緑色発光層組成物、赤色発光層組成物を同様にインクジェットヘッドを使用して吐出注入し、室温にて乾燥しナフタレン溶剤を含む発光層を一時的に形成した。その後１×１０-2Ｐａ、１８０℃で１時間減圧乾燥し、それぞれの発光層（１０５Ｂ、１０５Ｇ、１０５Ｒ）を形成させた。最後に発光層１０５を覆うように、陰極としてアルミニウム（１０６）を真空蒸着して有機ＥＬ素子３−１を作製した。
【０１３５】
作製した有機ＥＬ素子３−１はそれぞれの電極に電圧を印加することにより各々青色、緑色、赤色の発光を示し、フルカラー表示装置として利用できることがわかった。
【０１３６】
正孔注入層組成物；
ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ混合水分散液（１．０質量％）          ２０質量部
水                                                      ６５質量部
エトキシエタノール                                      １０質量部
グリセリン                                                ５質量部
青色発光層組成物；
ポリビニルカルバゾール                                ０．７質量部
例示化合物１−１２                                  ０．０４質量部
１，２−ジクロロエタン                                  ５０質量部
ナフタレン                                              ５０質量部
緑色発光層組成物；
ポリビニルカルバゾール                                ０．７質量部
Ｉｒ−１                                            ０．０４質量部
１，２−ジクロロエタン                                  ５０質量部
ナフタレン                                              ５０質量部
赤色発光層組成物；
ポリビニルカルバゾール                                ０．７質量部
Ｉｒ−９                                            ０．０４質量部
１，２−ジクロロエタン                                  ５０質量部
ナフタレン                                              ５０質量部
実施例４
《白色の有機ＥＬ素子を用いた照明装置の作製》
実施例１で作製した有機ＥＬ素子１−１において、発光層に用いた例示化合物Ｉｒ−１をＩｒ−１、Ｉｒ−９、１−１２の混合物に変更した以外は有機ＥＬ素子１−１と同様の方法で有機ＥＬ素子４−１を作製した。この有機ＥＬ素子４−１に１０Ｖ直流電圧を印加したところ、ほぼ白色の発光が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】有機ＥＬフルカラー表示装置の概略構成図を示す。
【符号の説明】
【０１３８】
１０１  ガラス基板
１０２  ＩＴＯ透明電極
１０３  隔壁
１０４  正孔注入層
１０５Ｂ，１０５Ｇ，１０５Ｒ  発光層
【図１】
2007059245.tif 000007