(57)【要約】【課題】前面基板側へ放出される真空紫外線を背面基板側へ反射させて発光効率を向上させるとともに、可視光は透過する（真空）紫外線反射膜を有するＰＤＰを提供する。【解決手段】複数の表示電極を誘電体層４および保護膜５で覆った前面基板１と、前面基板１との間に放電空間１３が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極８を有して隔壁１０間に蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを形成した背面基板７とを備え、前面基板１の保護膜５上にあって表示電極の維持放電領域以外の部分に放電による真空紫外線を透過する材料の微粒子を積層した真空紫外線反射膜６が形成されたＰＤＰ２１において、微粒子の平均粒子径を維持放電によって発生する真空紫外線の波長サイズよりも小さく、かつ１／２波長サイズよりも大きい範囲にする。【選択図】図１
2007026796.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表示電極を形成するとともに前記表示電極を誘電体層および保護膜で覆った前面基板と、前記前面基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ前記表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに前記放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した背面基板とを備え、前記前面基板の前記保護膜上にあって前記表示電極の維持放電領域以外の部分に放電による真空紫外線を透過する材料の微粒子を積層した真空紫外線反射膜が形成されたプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記微粒子の平均粒子径が、維持放電によって発生する真空紫外線の波長サイズよりも小さく、かつ１／２波長サイズよりも大きい範囲にあることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記微粒子の平均粒子径が７０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記真空紫外線反射膜は、可視光を透過することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記真空紫外線を透過する材料が、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、水晶（ＳｉＯ２）、石英（ＳｉＯ２）のうちの少なくとも１つであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記表示電極は透明電極とバス電極からなり、前記透明電極はＴ字型形状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記表示電極は透明電極とバス電極からなり、前記透明電極は櫛歯型形状または梯子型形状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記真空紫外線反射膜がスクリーン印刷法によって形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記真空紫外線反射膜が感光性樹脂ペーストまたは感光性樹脂フィルムを用いたフォトリソグラフィ法によって形成されたことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記真空紫外線反射膜の膜厚が０．３５μｍから２μｍの範囲で形成されていることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス放電を利用した自発光平板型表示デバイスとして大型のテレビジョン受像機や公衆表示装置への適用が期待されているプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも記載する）に関し、特に高効率化をはかったプラズマディスプレイパネルの構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰは、希ガス放電により発生する真空紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用しており、大画面、薄型、軽量であることを特徴とする視認性に優れた平板型の表示デバイスである。そして、ＰＤＰには交流駆動方式（ＡＣ−ＰＤＰ）と直流駆動方式（ＤＣ−ＰＤＰ）の２つのタイプがある。以下、代表的なＡＣ−ＰＤＰとして、従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を拡大断面図で示す図６を参照して、ＡＣ−ＰＤＰの構造を簡単に説明する。
【０００３】
ＰＤＰ２１は対向配置された前面基板１と背面基板７との間に放電空間１３となる多数の放電セルが形成されているが、図６にはその放電セルの１セルのみを示している。図６において、ガラス等の透明な前面基板１には透明電極２とバス電極３で構成された走査・維持電極で複数対をなす表示電極１４が形成され、それら表示電極１４を覆うように前面基板用誘電体層４、およびＭｇＯで形成された保護膜５が形成されている。表示電極１４は例えば、印刷・焼成タイプのプロセス、フォトエッチングプロセス、転写プロセス等により形成される。また、背面基板７には表示電極１４と直交するストライプ状の複数のアドレス電極８と、それらを覆うように背面基板用誘電体層９と、さらにその上にアドレス電極８に平行な複数の隔壁１０が、隣接する隔壁１０の中間にアドレス電極８を位置させるようにそれぞれ形成され、背面基板用誘電体層９の表面と隔壁１０間の側面に赤、緑、青各色の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂが形成されている。そして、表示電極１４とアドレス電極８とが直交して立体交差するように前面基板１と背面基板７とが対向配置されるとともに、密封され、内部の放電空間１３にはＮｅ、Ｘｅ等の希ガスを混合した放電ガスが封入されて放電セルが形成されている。前面基板１の走査・維持電極間に所定のパルス電圧を印加すると各放電セル内で維持放電が発生し、維持放電によって発生した真空紫外線が、背面基板７の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを励起発光させてそれぞれ対応する色の可視光に変換される。そして、前面基板１を通して可視光を外部に取り出すことにより画像表示を行っている。
【０００４】
そして、上述した図６に示したＰＤＰでは、放電により発生した真空紫外線の内で蛍光体励起に利用されるのは背面基板７側に放出された真空紫外線のみであり、前面基板１側に放出された真空紫外線はＭｇＯで形成された保護膜５に吸収されてしまい有効利用されないので、発光効率を上げることが難しい。そのため、高輝度でＰＤＰを発光させるには放電電流を増加させるか高電圧パルスを供給する必要があるが、消費電力が増大するほか、駆動回路のコストが増えて製品価格の上昇を招くことになる。
【０００５】
この対策として、ＰＤＰの前面基板１側に放出される真空紫外線を背面基板７側へ反射して有効利用する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。図７に真空紫外線を背面基板７側へ反射する構造を備えたＰＤＰの一例の拡大断面図を示す。図７に示したＰＤＰでは、前面基板１に真空紫外線反射材で形成した紫外線反射層（膜）１２が形成されているところが図６に示したＰＤＰとは異なっており、ほかは図６と同じ構成である。図７に示したＰＤＰにおいては、図６と同じ構成要素には同一符号を付している。この紫外線反射層１２を形成する真空紫外線反射材には誘電体薄膜を複数層積層した多層干渉膜が用いられ、各層の屈折率と膜厚によって真空紫外線を反射し、可視光を透過するように設計されている。
【０００６】
また、図７に示したような紫外線反射層１２の形成を前面基板１に限定せず、さらに紫外線反射層１２を紫外線透過材料の複数の粒状体で構成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。図８は放電セルを構成する部材に紫外線反射層（膜）を形成したＰＤＰの別の一例を拡大断面図で示している。図８に示したＰＤＰでは隔壁１０の側面と隔壁１０間の背面基板用誘電体層９の表面に紫外線反射膜１５が形成されている。図８に示したＰＤＰにおいても、図６と同じ構成要素には同一符号を付している。そして、紫外線反射膜１５は、真空紫外線透過材料の微小な粒径を有する複数の粒状体で構成しているので、粒状体の微小粒子の表面での一部反射および粒子を透過した後で粒子に隣接する別の粒子の表面での一部反射を繰り返すことにより、最終的にほとんどの真空紫外線を紫外線反射膜１５で反射させることができ、蛍光体への真空紫外線の入射量を増大させることができるとしている。
【特許文献１】特開２０００−０１１８９５号公報
【特許文献２】特開平１１−２９７２１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、ＰＤＰの前面基板１側に放出される真空紫外線を背面基板７側へ反射して有効利用するのに、前面基板１に真空紫外線反射材で形成した紫外線反射層（膜）１２を形成する提案は、少なくとも２種類以上の材料からなる誘電体薄膜を十数層から数十層も積層形成する必要があり、製造コストの大幅な増加につながり実用化への障害になる。これに加えて、前面基板１に形成された紫外線反射膜１２が放電空間１３の維持放電領域と重なっているので、紫外線反射膜１２はスパッタされて徐々にその効果を失うという問題に直面することになる。
【０００８】
また、紫外線反射層（膜）１２の形成を前面基板１に限定せず、さらに紫外線反射層１２を紫外線透過材料の複数の粒状体で構成する提案では、紫外線反射層１５を放電空間１３の構成部材のどの部分に形成するかは示されているものの具体的な内容に乏しく、再現するには時間とコストを要する試行実験が必須になる。また、紫外線反射層１２を形成するための真空紫外線透過材料の微小粒子の粒径については、「平均粒径を１μｍ以下の非常に小さな値に設定する」としているものの、「膜厚方向に対して５個から１０個程度積層すれば、十分な反射効率を得ることができるが、放電セルのサイズが小さいので紫外線反射膜１２の膜厚としては、１回のスクリーン印刷によって形成し得る５μｍ〜１０μｍの範囲内に抑える必要がある」と示しており、平均粒径は１μｍ前後のサイズを考えていると推察される。平均粒径が１μｍ前後の非常に小さな値の真空紫外線透過材料で紫外線反射層１２を形成した場合、可視光（波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）は散乱・反射するのみで、可視光を透過することは難しい。したがって、図８に示すような配置で紫外線反射層１５を形成する場合には、蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂからの発光輝度自体の向上に効果があるが、図７に示すように前面基板１に紫外線反射層１２を形成する場合には、ＰＤＰの放電による紫外線で蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを励起発光させた光は紫外線反射層１２を透過せず、放電空間１３内部に反射・散乱して外部からは白色に見えるだけで、画像・映像を見ることができないので、表示装置の役割を果たすことができず、問題になる。
【０００９】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、蛍光体励起に利用されていない前面基板側へ放出される真空紫外線を背面基板側へ反射させて発光効率を向上させるとともに可視光を透過する紫外線反射膜を有するＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明のＰＤＰは、複数の表示電極を形成するとともに表示電極を誘電体層および保護膜で覆った前面基板と、前面基板との間に放電空間が形成されるように対向配置されかつ表示電極と直交する方向に形成されたアドレス電極を有するとともに放電空間を区画する隔壁間に蛍光体層を形成した背面基板とを備え、前面基板の保護膜上にあって表示電極の維持放電領域以外の部分に放電による真空紫外線を透過する材料の微粒子を積層した真空紫外線反射膜が形成されたプラズマディスプレイパネルにおいて、微粒子の平均粒子径が、維持放電によって発生する真空紫外線の波長サイズよりも小さく、かつ１／２波長サイズよりも大きい範囲にある構成を有している。また、本発明のＰＤＰは、微粒子の平均粒子径が７０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲にある構成に加えて、真空紫外線反射膜は、可視光を透過する構成、また、真空紫外線を透過する材料が、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、水晶（ＳｉＯ２）、石英（ＳｉＯ２）のうちの少なくとも１つである構成、また、表示電極は透明電極とバス電極からなり、透明電極がＴ字型形状である構成、また、表示電極は透明電極とバス電極からなり、透明電極が櫛歯型形状または梯子型形状である構成、また真空紫外線反射膜がスクリーン印刷法によって形成された構成、さらには、真空紫外線反射膜が感光性樹脂ペーストまたは感光性樹脂フィルムを用いたフォトリソグラフィ法によって形成された構成や、真空紫外線反射膜の膜厚が０．３５μｍから２μｍの範囲で形成されている構成を有することもできる。
【００１１】
これらの構成により、ＰＤＰに封入された希ガス放電で発生する真空紫外線の波長の１／２からほぼ同じ波長サイズの粒子径で、真空紫外線を透過する材料からなる微粒子を用いて前面基板に紫外線反射膜を形成しているので、前面基板側に放射され、保護膜に吸収されていた真空紫外線を散乱して背面基板側の蛍光体層に反射することが可能となり、真空紫外線の利用効率を高めることができる。その結果、高輝度、低消費電力の高効率プラズマディスプレイパネルを提供することが可能になる。また、維持放電が直接影響しない領域に紫外線反射膜６を形成することにより紫外線反射膜６がスパッタされないので、長期間使用動作させても真空紫外線反射膜の効果が低下することがなく、さらに、形成される紫外線反射膜はその構造が簡単で製造も容易であるので、製造コストを低く抑えたＰＤＰを提供することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、真空紫外線を透過する材料の微粒子を積層した微粒子積層膜を真空紫外線反射膜として前面基板に形成することにより、真空紫外線の利用効率を高めた高効率のプラズマディスプレイパネルを低コストで得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１４】
（実施の形態）
本発明の実施の形態におけるＰＤＰについて、図１、図２を用いて説明する。図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの拡大断面図であり、図２は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの表示面側から見た部分平面図である。図１には、図２に示した平面図のＡ−Ａ線で切断した断面の一部が示されている。また、図１、図２中で、従来のＰＤＰとして図６、図７、図８に示したのと同じ構成要素には同一符号を付している。
【００１５】
図１、図２において、ＰＤＰ２１には対向配置された前面基板１と背面基板７との間に多数の放電セルが形成されているが、図１においてはその１セルのみを示している。ガラス等の透明な前面基板１にはＴ字型の透明電極２とバス電極３で構成された走査・維持電極で複数対をなす表示電極１４が形成され、それら表示電極１４を覆うように前面基板誘電体層４、およびその上にＭｇＯで形成された保護膜５が形成されている。表示電極１４は例えば、印刷・焼成タイプのプロセス、フォトエッチングプロセス、転写プロセス等により形成される。なお、表示電極１４を構成する透明電極２は、図２に示したように、いわゆるＴ字型に形成されており、従来のストライプ型構成とは異なっている。そして、ＭｇＯで形成された保護膜５の上には、真空紫外線反射膜６（以下、紫外線反射膜６とも記す）がＴ字型をした透明電極２上と主放電ギャップ１６上を除いた部分に形成されているが、この部分に紫外線反射膜６を形成するのは走査・維持電極間で形成される維持放電によって紫外線反射膜６がスパッタされるのを防ぐことを目的としている。（真空）紫外線反射膜６については、後で詳しく述べる。
【００１６】
また、背面基板７には表示電極１４と直交するストライプ状の複数のアドレス電極８と、それらを覆うように背面基板用誘電体層９と、さらにその上に隔壁１０がそれぞれ形成され、背面基板用誘電体層９の表面と隔壁１０の側面に蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂが形成されている。隔壁１０は、図６、図７、図８に示した従来のＰＤＰでは、背面基板用誘電体層９の表面上で隣り合うアドレス電極８の中間にアドレス電極８に平行にストライプ状に配置されて形成されていたが、本発明のＰＤＰの隔壁１０は、アドレス電極８に平行な部分と垂直な部分とで、いわゆる井桁状に放電空間を仕切るように形成されている。
【００１７】
そして、表示電極１４とアドレス電極８とが直交して立体交差するように前面基板１と背面基板７とが対向配置されるとともに密封され、内部の放電空間１３には放電ガスとして少なくともＮｅとＸｅ等の希ガスを含む混合ガスが封入されて放電セルが形成されている。前面基板１の走査・維持電極間に所定のパルス電圧を印加すると各放電セル内で維持放電が発生し、維持放電によって発生した真空紫外線が、背面基板７の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを励起発光させてそれぞれ対応する色の可視光に変換される。そして、前面基板１を通して可視光を外部に取り出すことにより画像表示を行っている。
【００１８】
次に、前述した前面基板１の保護膜５の上に形成する真空紫外線反射膜６について説明する。
【００１９】
一般に、ＰＤＰの放電空間１３に封入されるＸｅガスの放電により発生する真空紫外線は、波長１４７ｎｍのＸｅの共鳴線と波長１７２ｎｍを中心とした連続波であるＸｅエキシマ放射による分子線からなることが知られている。これらの真空紫外線が背面基板７の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを励起してそれぞれ赤色、緑色、青色の可視光を発生させている。そこで、（真空）紫外線反射膜６は、これらの波長領域の真空紫外線を吸収せずに、紫外線反射膜６がこれらの波長領域の真空紫外線を背面基板７上に形成された蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ側へ反射する役割を担わせている。これらの波長領域で真空紫外線を透過する、すなわち透明な材料を用いて形成した非常に粒子径が小さな微粒子を積層して紫外線反射膜６として形成している。この積層した微粒子に入射する上記波長領域の真空紫外線は反射されるか透過するが、吸収はされない。第１層目の微粒子を透過した紫外線も反射されるか透過するが、吸収はされない。このことを繰り返すことにより最終的には、入射した紫外線のほとんどは紫外線反射膜６で散乱されて背面基板７側の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂへ反射されることになる。
【００２０】
上述した波長領域の真空紫外線に対して透明となる代表的な材料として、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、水晶（ＳｉＯ２）、石英（ＳｉＯ２）等を用いることができる。次の表１に各材料の透過波長領域を示す。
【００２１】
【表１】
2007026796.tif 000003
【００２２】
ＰＤＰの放電空間に封入したＸｅガスから発生する上述した波長領域の真空紫外線を最も効率良く反射させるには、紫外線反射膜６を形成するのに用いる非常に粒子径が小さな微粒子の平均粒子径は７０ｎｍ〜２００ｎｍの材料を用いる必要がある。以下にこのことを説明する。
【００２３】
非常に粒子径が小さな微粒子を積層して形成した紫外線反射膜６に入射した上述の波長領域の真空紫外線が反射されるのは、既に述べたように真空紫外線が微粒子で散乱されることによるが、微粒子に入射する光の散乱に関しては、光の波長と微粒子の粒子径をパラメータとする次のような関係があることが一般的に知られている（例えば、ＤＩＣ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗ、１９９７年、Ｎｏ．３、Ｐ１７参照）。
【００２４】
すなわち、紫外線反射膜６を形成する微粒子に入射する光の反射能力に影響する散乱係数Ｓについては、微粒子の粒子径をｄとし、光の波長をλとしたとき、波長λの大小関係により、次の３つの波長領域に対応して異なる様相を示す。λ＜＜ｄの領域は幾何光学領域であって、反射屈折による散乱領域となり、散乱係数Ｓは次の（１）式を満たす。
【００２５】
Ｓ＝Ｃ３／ｄ  ・・・  （１）
ここで、Ｃ３は定数である。次のλ〜ｄを満たす領域は、いわゆるＭｉｅの散乱領域であって、回折散乱の領域となり、散乱係数Ｓは次の（２）式を満たす。
【００２６】
Ｓ＝Ｃ２／ｄ｛（λ／ｄ２）−χ）｝  ・・・  （２）
ここで、Ｃ２、χは定数である。最後のλ＞＞ｄを満たす領域は、いわゆるＲａｙｌｅｉｇｈの散乱領域となり、散乱係数Ｓは次の（３）式を満たす。
【００２７】
Ｓ＝Ｃ１（ｄ３／λ４）｝  ・・・  （３）
ここで、Ｃ１は定数である。
【００２８】
上記（１）〜（３）式の関係は、図３に示す散乱係数Ｓと粒子径ｄの関係を示すグラフにまとめられる。粒子径ｄが小さくなるにしたがって散乱係数Ｓは反比例して増加する（領域は幾何光学領域、式（１）で対応）が、１／２波長から波長λ程度の粒子径ｄで散乱係数Ｓが最大となり（Ｍｉｅの散乱領域、式（２）で対応）、さらに粒子径ｄが小さくなると粒子径ｄの３乗に比例して急速に散乱係数Ｓが低下する（Ｒａｙｌｅｉｇｈの散乱領域、式（３）で対応）。したがって、ＰＤＰの放電空間に封入したＸｅガスから発生する上述した波長領域の真空紫外線は波長１４７ｎｍのＸｅの共鳴線と、波長１７２ｎｍにピークを持ち２００ｎｍ程度まで幅広く広がるＸｅエキシマ放射による分子線からなるので、これらの波長領域の真空紫外線を効率よく散乱させるためには、粒子径として７０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が望ましいと言える。なお、蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂでそれぞれ赤色、緑色、青色に変換された可視光はその波長が４００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲にあるので、７０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の粒子径の微粒子で形成された真空紫外線反射膜６をほとんど透過する。それゆえ、真空紫外線反射膜６で輝度の向上した明るい映像・画像が得られることになる。
【００２９】
上述した７０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の粒子径の微粒子で形成された真空紫外線反射膜６は膜厚方向に対して５層から１０層程度積層すれば、十分な反射効率を得ることができるので、真空紫外線反射膜６の膜厚は０．３５μｍから２μｍの範囲で形成することが望ましい。
【００３０】
上述したような真空紫外線反射膜６は、表１に示した真空紫外線透過材料の７０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にある所定の粒子径の微粒子を用い、これを溶剤、樹脂と混合してペースト化し、スクリーン印刷法によりＭｇＯの保護膜５の上に図２に示した形状でパターン印刷し、焼成することによって形成される。このスクリーン印刷法のほかにも、表１に示した真空紫外線透過材料の７０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にある所定の粒子径の微粒子を用いて感光性樹脂ペースト化あるいは感光性樹脂シート化してＭｇＯの保護膜５上に全面べた形成し、フォトリソグラフィ技術によりパターン化して、その後に焼成することによって真空紫外線反射膜６を形成することもできる。
【００３１】
なお、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面基板１に形成する真空紫外線反射膜６は維持放電領域以外の部分に形成すればよいので、図２においてＴ字型の透明電極の縦棒部分１７が十分に細く、この部分で維持放電が発生しないか、ごく弱い場合には、この縦棒部分１７上にも真空紫外線反射膜６を形成してよい。
【００３２】
また、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面基板１に形成する真空紫外線反射膜６の形状パターンは、図２に示したような、Ｔ字型をした透明電極２上と主放電ギャップ１６上を除いた部分からなる形状パターンに限定されるものではない。本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面基板１に形成する真空紫外線反射膜６は維持放電領域以外の部分に形成すればよいので、図４に本発明の実施の形態における別のＰＤＰの表示面側から見た部分平面図で示したように、櫛歯型の透明電極４２や、図５（ａ）、（ｂ）に本発明の実施の形態におけるほかのＰＤＰの表示面側から見た部分平面図で示したように、梯子型の透明電極５２において表示電極１４と主放電ギャップ１６かなる維持放電領域以外の部分に形成される紫外線反射膜６の形状パターンを採用しても同様の効果を得ることができる。
【００３３】
また、上述した本発明の実施の形態におけるＰＤＰの説明においては、背面基板７に井桁状の隔壁１０を形成する例を挙げているが、本発明はこれに限定されるものではなく、従来構造のＰＤＰ２１と同様に、ストライプ状のアドレス電極８に平行に、かつ隣接するアドレス電極８の中間に位置させるように隔壁１０を配置、形成することも当然可能である。
【００３４】
以上説明したように、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面基板１に形成する紫外線反射膜６に封入された希ガス放電で発生する真空紫外線の波長の１／２からほぼ同じ波長サイズの粒子径で、真空紫外線を透過する材料からなる微粒子を用いることにより、前面基板１側に放射され、ＭｇＯの保護膜５に吸収されていた真空紫外線を散乱して背面基板７側の蛍光体層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂに反射することが可能となり、真空紫外線の利用効率を高めることができる。その結果、高輝度、低消費電力の高効率プラズマディスプレイパネルを提供することが可能になる。また、維持放電が直接影響しない領域に紫外線反射膜６を形成することにより紫外線反射膜６がスパッタされないので、長期間使用、動作をさせても真空紫外線反射膜６の効果が低下することもない。さらに、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの前面基板１に形成する紫外線反射膜６はその構造が簡単で製造も容易であるので、製造コストを低く抑えることができる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明のＰＤＰは、放電空間に封入したＸｅガスからの真空紫外線の波長領域とほぼ同じ粒子径の真空紫外線を透過する材料で紫外線反射膜を前面基板の保護膜上の維持放電領域以外の部分に形成して、紫外線を散乱して背面基板側に反射させて蛍光体の発光輝度向上をはかり、蛍光体で変換された可視光は紫外線反射膜を透過するので、高輝度で、表示品質に優れたＰＤＰを実現でき、高品質で表示画質に優れたＰＤＰ表示装置への利用に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施の形態におけるＰＤＰの拡大断面図
【図２】本発明の実施の形態におけるＰＤＰの表示面側から見た部分平面図
【図３】散乱係数と粒子径の関係を示すグラフ
【図４】本発明の実施の形態における別のＰＤＰの表示面側から見た部分平面図
【図５】本発明の実施の形態におけるほかのＰＤＰの表示面側から見た部分平面図
【図６】従来の交流面放電型ＰＤＰの構造を示す拡大断面図
【図７】真空紫外線を背面基板側へ反射する構造を備えたＰＤＰの一例を示す拡大断面図
【図８】放電セルを構成する部材に紫外線反射層（膜）を形成したＰＤＰの別の一例を示す拡大断面図
【符号の説明】
【００３７】
１    前面基板
２，４２，５２    透明電極
３    バス電極
４    前面基板誘電体（前面基板用誘導体層）
５    保護膜
６，１２，１５    （真空）紫外線反射膜（層）
７    背面基板
８    アドレス電極
９    背面基板用誘電体層
１０    隔壁
１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂ    蛍光体層
１３    放電空間
１４    表示電極
１６    主放電ギャップ
２１    ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）
【図１】
2007026796.tif 000004
【図２】
2007026796.tif 000005
【図３】
2007026796.tif 000006
【図４】
2007026796.tif 000007
【図５】
2007026796.tif 000008
【図６】
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【図７】
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【図８】
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