(57)【要約】【課題】光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができる加熱機器の提供。【解決手段】本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体４と、その板状体４の表面側に配置される被加熱物を加熱するバーナ９とが設けられ、板状体４の表面には光触媒層１９が形成され、光触媒層１９に対してその裏面側から光触媒励起用の光Ｆを照射する発光ダイオード２１が設けられている。【選択図】図４
2007292338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体と、その板状体の表面側に配置される被加熱物を加熱する加熱手段とが設けられ、前記板状体の表面には光触媒層が形成されている加熱機器であって、
前記光触媒層に対してその裏面側から光触媒励起用の光を照射する照射手段が設けられている加熱機器。
【請求項２】
前記照射手段が、前記板状体において前記被加熱物を配置させる被加熱物配置箇所の周囲に位置する前記光触媒層に対して前記光触媒励起用の光を照射するように配設されている請求項１に記載の加熱機器。
【請求項３】
前記照射手段が、前記板状体の周方向に間隔を隔てて前記板状体の全周にわたって複数配設され、且つ、前記板状体の裏面側及び表面側において前記板状体の内部と外部との間の境界面にて前記光触媒励起用の光が反射して前記板状体の内部を伝播すべく、前記光触媒励起用の光を前記板状体の内部に入射するように構成されている請求項１又は２に記載の加熱機器。
【請求項４】
前記光触媒層に対してその裏面側から光を照射するように光を反射する反射体が設けられている請求項１〜３のいずれか一項に記載の加熱機器。
【請求項５】
前記加熱手段の加熱作動が開始されるに伴って前記照射手段を照射作動させ、且つ、前記加熱手段の加熱作動が停止されるに伴って前記照射手段の照射作動を停止させるべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている請求項１〜４のいずれか一項に記載の加熱機器。
【請求項６】
入力手段にて入力される清掃タイミングに基づいて、その清掃タイミングよりも前から前記清掃タイミングまで前記照射手段を照射作動させるべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている請求項１〜５のいずれか一項に記載の加熱機器。
【請求項７】
設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている請求項１〜６のいずれか一項に記載の加熱機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体と、その板状体の表面側に配置される被加熱物を加熱する加熱手段とが設けられ、前記板状体の表面には光触媒層が形成されている加熱機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記のような加熱機器は、例えば、加熱手段がガスバーナであるガスコンロや、加熱手段が電磁誘導コイルであるＩＨコンロであり、板状体の表面に配置される鍋などの被加熱物の加熱に使用される。
そして、このような加熱機器では、板状体の表面に光触媒層を形成して、その光触媒層に光触媒励起用の光が照射されることによって、光触媒による防汚性を発揮させて板状体の表面の汚れなどの異物を分解又は除去し易い状態としたり、光触媒による超親水性を発揮させて板状体の表面に付着した異物を除去し易い状態として、板状体の表面の清掃を簡易に行えるようにしている。
【０００３】
光触媒に対して価電子帯と伝動帯との間のエネルギー差よりも大きなエネルギーの光触媒励起用の光が照射されると、価電子帯の電子が励起状態となり伝動電子と正孔が生じる。この伝動電子が、空気中或いは水中に存在している酸素の還元に消費され、還元された酸素が活性酸素となり、この活性酸素が汚れなどの異物を酸化分解する。そして、正孔でも異物から電子を奪い取り、異物を酸化分解する。また、正孔において付着水が酸化された活性酸素も異物を酸化する。このように、光触媒が光触媒励起用の光を吸収することによって防汚性を発揮して、板状体の表面に付着した異物を分解する或いは板状体の表面に付着した異物の付着力を低下させている。
また、光触媒が光触媒励起用の光を吸収すると、板状体の表面における水などの液滴の接触角を０度に限りなく近くする超親水性を発揮して、水などの液体が汚れなどの異物の下に入り込み易くなり、板状体の表面に付着する異物を水などの液体により簡易に除去できることになる。
【０００４】
従来の加熱機器として、板状体の表面に光触媒層を形成し、その光触媒層に対して板状体の表面側から光触媒励起用の光を照射する照射手段を設けているものがある（例えば、特許文献１参照。）。
この従来の加熱機器では、照射手段として、室内照明や窓から差し込む太陽光などの光源、或いは、本体に取り付けた照明が設けられており、この照射手段が、光触媒層に対して板状体の表面側から光触媒励起用の光を照射することにより、光触媒による防汚性及び超親水性を発揮している。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１４４０９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記従来の加熱機器では、照射手段が光触媒層に対して板状体の表面側から光触媒励起用の光を照射しているので、板状体の表面に汚れなどの異物が付着していると、光触媒層に対して十分な光触媒励起用の光を照射できないことがある。
説明すると、板状体の表面に異物が付着している場合には、照射手段からの光触媒励起用の光が異物を透過して光触媒層に到達することになる。しかしながら、光触媒励起用の光が異物を透過するときに、その大部分が異物に吸収されたり、異物によっては光触媒励起用の光を透過しないものもある。したがって、光触媒層に対して十分な光触媒励起用の光を照射できず、光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができないことがあった。
【０００７】
本発明は、かかる点に着目してなされたものであり、その目的は、光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができる加熱機器を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的を達成するために、本発明にかかる加熱機器の第１特徴構成は、本体の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体と、その板状体の表面側に配置される被加熱物を加熱する加熱手段とが設けられ、前記板状体の表面には光触媒層が形成されている加熱機器において、前記光触媒層に対してその裏面側から光触媒励起用の光を照射する照射手段が設けられている点にある。
【０００９】
前記照射手段から発光して照射される光触媒励起用の光は、光透過性板状体を透過して光触媒層の裏面側から光触媒層に到達することになるので、板状体の表面に汚れなどの異物が付着している場合でも、その異物を透過させることなく、光触媒層に対して光触媒励起用の光を照射させることができることになる。
したがって、光触媒層に対して効率よく光触媒励起用の光を照射させることができることとなって、光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができる加熱機器を提供できるに至った。
【００１０】
本発明にかかる加熱機器の第２特徴構成は、前記照射手段が、前記板状体において前記被加熱物を配置させる被加熱物配置箇所の周囲に位置する前記光触媒層に対して前記光触媒励起用の光を照射するように配設されている点にある。
【００１１】
前記板状体の表面では、被加熱物配置箇所の周囲に汚れなどの異物が付着しやすい。そこで、照射手段が、板状体において被加熱物配置箇所の周囲に位置する光触媒層に対して光触媒励起用の光を照射することにより、異物が付着しやすい箇所において光触媒による防汚性及び超親水性を的確に発揮させることができることになる。
また、被加熱物配置箇所の周囲は、加熱手段にて加熱される箇所であり、その加熱によって光触媒が活性化して励起状態となり易い状態となる。したがって、被加熱物配置箇所の周囲に位置する光触媒層に対して光触媒励起用の光を照射することにより、光触媒による防汚性及び超親水性をより効果的に発揮させることができることになる。
【００１２】
本発明にかかる加熱機器の第３特徴構成は、前記照射手段が、前記板状体の周方向に間隔を隔てて前記板状体の全周にわたって複数配設され、且つ、前記板状体の裏面側及び表面側において前記板状体の内部と外部との間の境界面にて前記光触媒励起用の光が反射して前記板状体の内部を伝播すべく、前記光触媒励起用の光を前記板状体の内部に入射するように構成されている点にある。
【００１３】
光触媒励起用の光は、板状体の周方向に間隔を隔てて板状体の全周にわたって配設された複数の照射手段の夫々から照射されることになる。各照射手段から照射される光触媒励起用の光は、板状体の内部に入射すると、板状体の裏面側及び表面側において板状体の内部と外部との間の境界面にて反射して板状体の全体に伝播することになる。そして、板状体の表面側において板状体の内部と外部との間の境界面にて光触媒励起用の光が反射する際に、その光触媒励起用の光の一部が光触媒層に吸収されて、光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させることができることになる。
したがって、板状体の全体において光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させることができるようになり、板状体の表面の清掃をより簡易に行えることになる。
【００１４】
本発明にかかる加熱機器の第４特徴構成は、前記光触媒層に対してその裏面側から光を照射するように光を反射する反射体が設けられている点にある。
【００１５】
前記光触媒層には、照射手段から光触媒励起用の光が光触媒層の裏面側から照射されるだけでなく、反射体にて反射される光も光触媒層の裏面側から照射されることになる。
したがって、光触媒層に対してより多くの光触媒励起用の光をより確実に照射させることができることとなって、光触媒による防汚性及び超親水性をより的確に発揮させることができることになる。
【００１６】
本発明にかかる加熱機器の第５特徴構成は、前記加熱手段の加熱作動が開始されるに伴って前記照射手段を照射作動させ、且つ、前記加熱手段の加熱作動が停止されるに伴って前記照射手段の照射作動を停止させるべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている点にある。
【００１７】
前記制御手段は、加熱手段の加熱作動中に照射手段を照射作動させることになるので、板状体の表面に汚れなどの異物が付着しやすいタイミングに、光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させることができることになる。したがって、光触媒による防汚性及び超親水性を最適なタイミングにて発揮させることができ、板状体の表面の清掃の簡素化を図ることができることになる。
【００１８】
本発明にかかる加熱機器の第６特徴構成は、入力手段にて入力される清掃タイミングに基づいて、その清掃タイミングよりも前から前記清掃タイミングまで前記照射手段を照射作動させるべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている点にある。
【００１９】
前記制御手段は、板状体の表面を清掃する清掃タイミングが入力手段にて入力されると、その清掃タイミングよりも前から清掃タイミングまで照射手段を照射作動させることになる。このように、清掃タイミングよりも前から光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させておくことにより、清掃タイミングでは、単に拭き取るだけで汚れなどの異物を除去できるようになり、板状体の表面の清掃をより一層簡易に行えることになる。
【００２０】
本発明にかかる加熱機器の第７特徴構成は、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、前記照射手段の照射作動を制御する制御手段が設けられている点にある。
【００２１】
前記制御手段は、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射するように照射手段を照射作動させるので、光触媒励起用の光を連続的に照射するものよりも、照射手段を照射作動させるときに消費するエネルギー量を低く抑えることができることになる。
そして、光触媒は設定強度以上の光触媒励起用の光が照射されることによって励起状態となることから、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射させた場合であっても、防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができることになる。設定強度は、光触媒を励起状態とすることが可能な強度に設定されている。
したがって、照射手段を照射作動させるときの消費エネルギーを低く抑えながら、光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させることができることになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明にかかる加熱機器の実施形態について図面に基づいて説明する。
〔第１実施形態〕
まず、第１実施形態について説明すると、この第１実施形態における加熱機器は、図１に示すように、三つのコンロバーナ部１及びグリル部２を備えた本体としてのコンロ本体３と、そのコンロ本体３の上部の少なくとも一部を覆う光透過性板状体としての天板４とからなるガスコンロにて構成されている。
このガスコンロは、システムキッチンのカウンターＫに形成されたコンロ装着口５にコンロ本体３を装着することにより、システムキッチンに装着するビルトイン式に構成されている。そして、天板４は、コンロ本体３のほぼ全面を覆う一枚板構造となっている。
【００２３】
前記コンロ本体３の後方側箇所には、グリル部２におけるバーナの燃焼排ガスを排気するためのグリル排気部６が設けられている。コンロ本体３の前面部には、点火指令、消火指令及び火力調節指令などの各種の指令を行うための人為操作式の操作部７が設けられている。
ちなみに、操作部７は、三つのコンロバーナ部１及びグリル部２について各別に各種の指令が行うことができるように、三つのコンロバーナ部１及びグリル部２の夫々に対応して各別に設けられている。そして、操作部７は、例えば、点火指令及び消火指令を指令するための点火／消火キー、及び、火力を指令する火力調節指令を行うための火力調節レバーを備えている。
【００２４】
前記コンロバーナ部１は、図２に示すように、鍋などの被加熱物Ｗを受け止め支持するための五徳８、及び、その五徳８にて受け止め支持する被加熱物Ｗを加熱する加熱手段としてのガス燃焼式のバーナ９を備えている。そして、五徳８は、天板４上に載置されており、この五徳８の配置箇所が被加熱物配置箇所に相当する。
前記バーナ９の加熱作動を制御する制御部１０が設けられ、この制御部１０が、操作部７による指令に基づいて、バーナ９の加熱作動を制御するように構成されている。
【００２５】
前記バーナ９は、燃料供給路１１を通じて供給される燃料ガスＧを噴出するガスノズル１２、そのガスノズル１２から燃料ガスＧが噴出されるとともに、その燃料ガスＧの噴出に伴う吸引作用により燃焼用空気Ａが供給される混合管１３、及び、混合管１３から供給される混合気を噴出する複数の炎口１４を備えている。
そして、バーナ９は、天板４に形成された開口１５を通して上方に露出する状態で配置されており、炎口１４から噴出される混合気を燃焼させて火炎を形成して被加熱物Ｗを加熱するように構成されている。
前記燃料供給路１１には、ガスノズル１２への燃料ガスＧの供給を断続する燃料供給断続弁１６と、ガスノズル１２への燃料ガスＧの供給量を調節自在な燃料供給量調節弁１７とが設けられている。また、図示はしないが、各バーナ９に対応して、点火用の点火プラグ、及び、バーナ９への燃焼状態を検出する熱電対が設けられている。
【００２６】
前記制御部１０は、操作部７により点火指令が指令されると、燃料供給断続弁１６を開弁させるとともに、燃料供給量調節弁１７におけるガス供給量を点火用供給量に調節した状態で、点火プラグによってバーナ９に点火させて、熱電対により着火を確認する点火処理を行う。そして、制御部１０は、操作部７により消火指令が指令されると、燃料供給断続弁１６及び燃料供給量調節弁１７を閉弁してバーナ９の燃焼を停止させる消火処理を行う。
また、制御部１０は、バーナ９の燃焼中において、操作部７により火力を指令する火力調節指令が行われると、その火力調節指令にて指令された火力になるように燃料供給量調節弁１７におけるガス供給量を調節する。
【００２７】
前記天板４は、図３及び図４に示すように、耐熱性を有する透明な基材１８にて構成され、その基材１８の表面に光触媒層１９が形成されている。ちなみに、表面に光触媒層を形成した光透過性板状体はコンロ本体３の上部の少なくとも一部を覆うものであればよいので、表面に光触媒層を形成した基材と表面に光触媒層を形成していない基材とを組み合わせて天板を形成することもできる。この場合、例えば、被加熱物配置箇所とその周囲に光触媒層を形成した基材を配置し、且つ、それ以外の箇所に光触媒層を形成していない基材を配置する状態で、光触媒層を形成した基材と光触媒層を形成していない基材とを組み合わせて天板を形成することができる。
前記基材１８としては、例えば、光触媒励起用の光を透過可能な透明なガラス基材が用いられている。前記光触媒層１９を形成する光触媒として、例えば、紫外光にて励起状態となる紫外光応答型のものが用いられており、光触媒励起用の光を紫外光としている。そして、この紫外光応答型の光触媒として、二酸化チタンを含むものが用いられている。また、光触媒層１９の厚みは、例えば、０．１μｍ〜５μｍに形成されている。
【００２８】
前記基材１８の透明度は、少なくとも光触媒励起用の光を透過可能な程度であればよく、半透明なものでも適応可能である。そして、基材１８としては、ガラス基材に限られるものではなく、その他各種の基材が適応可能である。また、紫外光応答型の光触媒としては、二酸化チタンを含むものの他に、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化銅、酸化銀、酸化スズ、酸化鉄、酸化ビスマス、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化マンガン、酸化バナジウム、酸化ニオブ、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムのいずれかを含むものが適応可能である。
【００２９】
前記光触媒層１９に対してその裏面側から光触媒励起用の光を照射する照射手段２０が設けられている。この照射手段２０は、光触媒励起用の光として、紫外光Ｆを照射する複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）２１から構成されている。複数の発光ダイオード２１は、紫外光Ｆを上方側に向けて照射する状態で天板４の裏面の下方に設けられている。
発光ダイオード２１からの紫外光Ｆは、天板４の裏面から天板４の内部に入射して光触媒層１９の裏面側から光触媒層１９に到達する。すると、光触媒層１９の光触媒が、その紫外光Ｆを吸収して励起状態となって防汚性及び超親水性を発揮する。
このように、図４に示すように、光触媒層１９に対してその裏面側から紫外光Ｆを照射することにより、天板４の表面に汚れなどの異物Ｐが付着しているときでも、その異物Ｐを透過させることなく、光触媒層１９に対して的確に紫外光Ｆを照射させることができ、光触媒による防汚性及び超親水性を十分に発揮させることができることになる。したがって、例えば、濡れた布巾などで天板４の表面を拭き取るだけで天板４の表面に付着した汚れなどの異物Ｐを除去することができ、天板４の表面の清掃を簡易に行うことができることになる。
【００３０】
前記照射手段２０は、天板４において五徳８の配置箇所である被加熱物配置箇所の周囲に位置する光触媒層１９に対して光触媒励起用の光を照射するように配設されている。すなわち、発光ダイオード２１は、三つのコンロバーナ部１の夫々において、五徳８の配置箇所の周囲においてその周方向に間隔を隔てて全周にわたって複数配設されている。
これら発光ダイオード２１の設置については、図示を省略するが、例えば、天板４の裏面側に発光ダイオード２１を支持する部材を備えて天板４と一体的に設けたり、コンロ本体３に発光ダイオード２１を支持する部材を備えてコンロ本体３と一体的に設けることができる。
ちなみに、照射手段２０は、紫外光を照射するものであればよく、発光ダイオード２１の他に、例えば、ブラックライト、水銀ランプ、キセノンランプ、ケミカルライトなどが適応可能である。
【００３１】
前記照射手段２０の照射作動は、制御手段としての制御部１０が制御する。そして、制御部１０は、三つのバーナコンロ部１の夫々において、バーナ９の加熱作動が開始されるに伴って照射手段２０を照射作動させ、且つ、バーナ９の加熱作動が停止されるに伴って照射手段２０の照射作動を停止させるべく、照射手段２０の照射作動を制御する加熱用照射処理を行う。また、制御部１０は、三つのバーナコンロ部１の夫々において、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、照射手段２０の照射作動を制御するように構成されている。ちなみに、設定強度は、光触媒層１９における光触媒を励起状態とすることが可能な強度に設定されている。
【００３２】
説明を加えると、制御部１０は、操作部７にて点火指令が指令されるとバーナ９の加熱作動の開始であるとして、そのバーナ９に対応する五徳８の配置箇所の周囲に配設された複数の発光ダイオード２１をＯＮさせて加熱用照射処理を開始する。そして、制御部１０は、操作部７にて消火指令が指令されるとバーナ９の加熱作動の停止であるとして、そのバーナ９に対応する五徳８の配置箇所の周囲に配設された複数の発光ダイオード２１をＯＦＦさせて加熱用照射処理を終了する。
また、制御部１０は、加熱用照射処理中において、単純に、発光ダイオード２１をＯＮさせるのではなく、設定ＯＮ時間だけ発光ダイオード２１をＯＮする動作と、設定ＯＦＦ時間だけ発光ダイオード２１をＯＦＦする動作とを繰り返し行うことにより、設定強度以上の紫外光Ｆを断続的に照射している。ちなみに、このように、発光ダイオード２１をＯＮ／ＯＦＦする場合には、全ての発光ダイオード２１を同時にＯＮ又はＯＦＦしたり、複数の発光ダイオード２１の一部をＯＮとし且つ残りをＯＦＦとすることもできる。
【００３３】
そして、バーナ９の加熱作動中に照射手段２０を照射作動させているので、使用者は、照射手段２０である発光ダイオード２１がＯＮ／ＯＦＦを繰り返しているか否かによって、バーナ９が加熱作動中であるか否かを判別することができることになる。したがって、照射手段２０を、光触媒層１９に対して光触媒励起用の光を照射させるためだけに用いるのではなく、バーナ９の加熱作動中を表示する表示部としても用いることができることになる。この場合、照射手段２０が可視領域にある紫外光Ｆを発光して照射するように構成されている。ちなみに、ＩＨコンロやバーナ９の火炎が見え難いガスコンロなど、加熱手段が加熱作動中か否かを確認し難い加熱機器では、照射手段２０とは別に、加熱手段の加熱作動中を表示する表示部を設ける必要がなく、構成の簡素化を図ることができることになる。
【００３４】
また、制御部１０は、入力手段としての入力部Ｎにて入力される清掃タイミングに基づいて、その清掃タイミングよりも設定時間以前から清掃タイミングまで照射手段２０を照射作動させるべく、照射手段２０の照射作動を制御する予約用照射処理を行うように構成されている。
説明すると、清掃タイミングとは、天板４の表面や五徳８などガスコンロを清掃するための清掃タイミングである。そして、入力部Ｎは、コンロ本体３の前面部に設けられ、清掃タイミングとしての清掃開始日時を入力できるように構成されている。
前記制御部１０は、内蔵されたカレンダー機能やタイマー機能により現在の日時を判別できるように構成されている。そして、制御部１０は、入力部Ｎにて清掃開始日時が入力されていると、その入力された清掃開始日時よりも設定時間（例えば、２４時間）以前になると、全ての発光ダイオード２１をＯＮさせて予約用照射処理を開始する。ちなみに、設定時間は、天板４の表面の汚れなどの異物Ｐを容易に除去できるように光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させるための時間であり、実験などにより定めた一定時間を設定したり、入力部Ｎによって変更設定可能とすることもできる。
そして、制御部１０は、入力部Ｎにて入力された清掃開始日時となり清掃タイミングになると、全ての発光ダイオード２１をＯＦＦさせて予約用照射処理を終了する。
前記制御部１０は、予約用照射処理中においても、加熱用照射処理と同様に、設定ＯＮ時間だけ発光ダイオード２１をＯＮする動作と、設定ＯＦＦ時間だけ発光ダイオード２１をＯＦＦする動作とを繰り返し行うことにより、設定強度以上の紫外光Ｆを断続的に照射している。
【００３５】
本発明にかかる加熱機器の効果について実験により確認した。
まず、図５に基づいて、ガラス基材の表面に光触媒層を形成した板状体のサンプルに対して、キッチン周りで付着する汚れとしての醤油、卵、砂糖などの混合物を焼き付けた場合について説明する。
サンプルの夫々の表面に混合物を塗り、サンプルをオーブンで２５０度、３０分加熱することにより、サンプルの表面に混合物を焼き付ける。その後、濡れたガーゼで混合物を拭き取ったが、図５（ａ）に示すように、混合物の付着力が非常に強く、混合物はほとんど取れなかった。
そこで、サンプルの裏面に紫外光を照射するブラックライトを設置し、サンプルの表面の光触媒層に対してその裏面側から紫外光を照射して、光触媒層と混合物との間の界面に２（ｍＷ／ｃｍ2）の紫外光を照射した。そして、この照射を２７時間行ったのち、サンプルを取り出して濡れたガーゼで混合物を軽く拭き取ると、図５（ｂ）に示すように、混合物の大部分が取れた。また、上述の照射を４５時間行ったのち、サンプルを取り出して濡れたガーゼで混合物を軽く拭き取ると、図５（ｃ）に示すように、混合物がほぼ完全に取れた。
それに対して、ブラックライトによる紫外光の照射を行わなかったサンプルについては、図５（ａ）と同様に、濡れたガーゼで混合物を拭き取っても混合物のほとんどが取れなかった。
【００３６】
次に、図６に基づいて、ガラス基材の表面に光触媒層を形成した板状体としてのサンプルに対して、キッチン周りで付着する汚れとしての醤油、サラダオイル、砂糖などの混合物を焼き付けた場合について説明する。
サンプルの夫々の表面に混合物を塗り、サンプルをオーブンで２００度、３時間加熱することにより、サンプルの表面に混合物を焼き付ける。その後、濡れたガーゼで混合物を拭き取ったが、図６（ａ）に示すように、混合物の付着力が非常に強く、混合物はほとんど取れなかった。
そこで、サンプルの裏面に紫外光を照射するブラックライトを設置し、サンプルの表面の光触媒層に対してその裏面側から紫外光を照射して、光触媒層と混合物との間の界面に２（ｍＷ／ｃｍ2）の紫外光を照射した。
そして、ブラックライトによる照射時間を変更して、濡れたガーゼで混合物を拭き取ることを行う。図６（ｂ）は照射時間を２６時間とし、図６（ｃ）は照射時間を４４時間とし、図６（ｄ）は照射時間を５１時間とし、図６（ｅ）は照射時間を８１時間としている。この結果、照射時間を長くするほど混合物が取れやすくなっていることが分かる。
【００３７】
〔第２実施形態〕
次に、第２実施形態について説明すると、この第２実施形態における加熱機器は、上記第１実施形態における照射手段２０についての別実施形態である。以下、図面に基づいて、第２実施形態における照射手段２０について説明する。その他の構成については、上記第１実施形態と同様であるので説明は省略する。
【００３８】
図７及び図８に示すように、照射手段２０は、天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって複数配設され、且つ、天板４の裏面側及び表面側において天板４の内部と外部との間の境界面にて光触媒励起用の光が反射して天板４の内部を伝播すべく、光触媒励起用の光を天板４の内部に入射するように構成されている。
【００３９】
前記照射手段２０は、例えば、紫外光を照射する発光ダイオード（ＬＥＤ）２１であり、その発光ダイオード２１が、板状の天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって配設され、天板４の側面から天板４の内部に紫外光Ｆを入射するように構成されている。
そして、発光ダイオード２１は、紫外光Ｆを天板４の内部に入射する入射角を調整して、天板４の裏面側及び表面側において天板４の内部と外部との間の境界面にて光触媒励起用の光が反射するように設けられている。
説明すると、ガラスから空気中に光が進む場合、入射角よりも屈折角が大きくなる。このとき、入射角がガラスから空気への臨界角よりも大きくなると、ガラスから空気中に進む光がなくなり全ての光がガラスと空気との境界面にて反射する。そこで、発光ダイオード２１は、天板４の裏面側及び表面側において天板４の内部から外部に進む光の入射角ｎ１が臨界角ｎ２よりも大きくなるように、紫外光Ｆを天板４の内部に入射する入射角を調整して設けられている。なお、ガラスの屈折率は光触媒層の一例である酸化チタンよりも小さいため、ガラスから光触媒層に入射した光の一部は必ず光触媒層に入る。
このようにすると、発光ダイオード２１からの紫外光Ｆは、天板４の裏面側及び表面側において天板４の内部と外部との間の境界面にて反射して天板４の内部を伝播するのであるが、天板４の表面側にて反射する際に光触媒層１９にて紫外光Ｆの一部が吸収される。したがって、天板４の全体における光触媒層１９に対して紫外光Ｆを照射させることができ、天板４の全体おいて光触媒による防汚性及び超親水性を発揮させることができることになる。
【００４０】
前記制御部１０は、上記第１実施形態と同様に、加熱用照射処理及び予約用照射処理を行い、その加熱用照射処理及び予約用照射処理において、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、照射手段２０の照射作動を制御するように構成されている。
この第２実施形態では、発光ダイオード２１を天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって複数配設していることから、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射するときに、例えば、天板４の両横側面に相当する位置に配設された発光ダイオード２１をＯＮとするときには、天板４の前後面に相当する位置に配設された複数の発光ダイオード２１をＯＦＦとし、逆に、天板４の前後面に相当する位置に配設された複数の発光ダイオード２１をＯＮとするときには、天板４の両横側面に相当する位置に配設された複数の発光ダイオード２１をＯＦＦとすることができる。
【００４１】
〔別実施形態〕
（１）上記第１及び第２実施形態において、図９に示すように、光触媒層１９に対してその裏面側から光を照射するように光を反射する反射体２２を設けることができる。ちなみに、図９は、第１実施形態において反射体２２を設けた例を示している。
前記天板４の裏面に反射体２２を設けることにより、反射体２２にて反射する紫外光Ｈを天板４の裏面側から天板４の内部に入射させて光触媒層１９の裏面側から光触媒層１９に照射させる。このように、反射体２２にて反射する紫外光Ｈを光触媒層１９に対してその裏面側から照射することにより、天板４の表面に汚れなどの異物Ｐが存在するときでも、光触媒層１９に対して紫外光Ｆを照射させることができる。この場合、光触媒層１９の厚みや形成状態は、天板４の表面に到達した紫外光Ｈの少なくとも一部が天板４の内部に入射するように構成されている。そして、第１実施形態においては、天板４の裏面側に照射手段２０が設けられているので、図９に示すように、例えば、照射手段２０の配設箇所以外の箇所に反射体２２を設けることができる。
【００４２】
（２）上記第１及び第２実施形態では、制御部１０が、設定強度以上の光触媒励起用の光を断続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、照射手段２０の照射作動を制御するように構成されているが、制御部１０が、設定強度以上の光触媒励起用の光を連続的に照射する形態で光触媒励起用の光を照射すべく、照射手段２０の照射作動を制御するように構成して実施することもできる。
【００４３】
（３）上記第１及び第２実施形態では、制御部１０が、バーナ９の加熱作動が開始されるに伴って照射手段２０を照射作動させ、且つ、バーナ９の加熱作動が停止されるに伴って照射手段２０の照射作動を停止させるべく、照射手段２０の照射作動を制御するとともに、入力手段にて入力される清掃タイミングに基づいて、その清掃タイミングよりも設定時間以前から清掃タイミングまで照射手段２０を照射作動させるべく、照射手段２０の照射作動を制御するように構成されているが、制御部１０が、どのように照射手段２０の照射作動を制御するかは適宜変更が可能である。
例えば、制御部１０が、バーナ９の加熱作動が開始されるに伴って照射手段２０を照射作動させ、且つ、バーナ９の加熱作動が停止されるに伴って照射手段２０の照射作動を停止させるべく、照射手段２０の照射作動を制御するだけでもよく、或いは、制御部１０が、入力手段にて入力される清掃タイミングに基づいて、その清掃タイミングよりも設定時間以前から清掃タイミングまで照射手段２０を照射作動させるべく、照射手段２０の照射作動を制御するだけでもよい。
【００４４】
（４）上記第１実施形態では、照射手段２０としての発光ダイオード２１を、五徳８の配置箇所である被加熱物配置箇所の周囲に配設しており、第２実施形態では、照射手段２０としての発生ダイオード２１を、天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって複数配設しているが、照射手段２０の配設箇所は適宜変更が可能である。
例えば、照射手段２０としての発光ダイオード２１を、上記第１実施形態の如く、被加熱物配置箇所である五徳８の配置箇所の周囲に配設するとともに、上記第２実施形態の如く、天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって複数配設することができる。この場合には、例えば、被加熱物配置箇所である五徳８の配置箇所の周囲に配設した発光ダイオード２１のみにて紫外光を照射する状態と、天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって配設した発光ダイオード２１のみにて紫外光を照射する状態と、被加熱物配置箇所である五徳８の配置箇所の周囲に配設した発光ダイオード２１及び天板４の周方向に間隔を隔てて天板４の全周にわたって配設した発光ダイオード２１の両方にて紫外光を照射する状態とに切換自在に構成することができる。
【００４５】
（５）上記第１及び第２実施形態では、光触媒励起用の光を紫外光として、光触媒層１９を形成する光触媒として、紫外光により励起状態となるものを用い、照射手段２０が、紫外光を照射するようにしているが、例えば、光触媒励起用の光を可視光として、光触媒層１９を形成する光触媒として、可視光により励起状態となるものを用い、照射手段２０が、可視光を照射するようにすることもできる。
【００４６】
（６）上記第１及び第２実施形態では、本発明にかかる加熱機器として、加熱手段をガスバーナとするガスコンロに適応した例を示したが、電磁誘導コイルを加熱手段とするＩＨコンロや電気ヒータを加熱手段とする電気コンロなど各種の加熱機器を適応することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】加熱機器の設置状態を示す概略図
【図２】第１実施形態における加熱機器の要部を示す概略構成図
【図３】第１実施形態における天板及び照射手段を示す斜視図
【図４】第１実施形態における天板及び照射手段を示す断面図
【図５】実験結果を示す図
【図６】実験結果を示す図
【図７】第２実施形態における天板及び照射手段を示す斜視図
【図８】第２実施形態における天板及び照射手段を示す断面図
【図９】別実施形態における天板及び照射手段を示す断面図
【符号の説明】
【００４８】
３          本体（コンロ本体）
４          板状体（天板）
９          加熱手段（バーナ）
１０        制御手段（制御部）
１９        光触媒層
２０        照射手段
２２        反射体
Ｎ          入力手段（入力部）
【図１】
2007292338.tif 000003
【図２】
2007292338.tif 000004
【図３】
2007292338.tif 000005
【図４】
2007292338.tif 000006
【図７】
2007292338.tif 000007
【図８】
2007292338.tif 000008
【図９】
2007292338.tif 000009
【図５】
2007292338.tif 000010
【図６】
2007292338.tif 000011