(57)【要約】【課題】生産性高い光情報記録媒体およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板上に中間層を形成する中間層形成工程と、前記中間層上に色素含有塗布液を塗布して記録層を形成する記録層形成工程とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、前記中間層形成工程における前記中間層が、パルスＤＣスパッタリングにより形成されることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。また、本発明の光情報記録媒体の製造方法により製造されることを特徴とする光情報記録媒体である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に中間層を形成する中間層形成工程と、前記中間層上に色素含有塗布液を塗布して記録層を形成する記録層形成工程とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、
前記中間層形成工程における前記中間層が、パルスＤＣスパッタリングにより形成されることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記パルスＤＣスパッタリングに、ＡｒガスとＯ2ガスとの混合ガスを使用することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記混合ガスにおける前記Ａｒガス流量（Ｒ１）とＯ2ガス流量（Ｒ２）との比を、１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０とすることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記中間層を成膜するにあたり、金属又は半導体の非酸化物ターゲットを用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記中間層が、ケイ素酸化物を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記中間層が酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記色素が、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法により製造されることを特徴とする光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体およびその製造方法に関し、特に、追記型の光情報記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクがある。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プリグルーブ）のトラックピッチがＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる色素記録層、そして通常は該色素記録層の上に光反射層、そして更に必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、或いは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該色素記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００３】
また、最近は、画像データ量の一層の増加が見こまれており、それに伴い、光情報記録媒体にも、高容量、高データ転送速度が求められるようになってきた。デジタルハイビジョン放送を家庭で録画しようとした場合、前述のＤＶＤ−Ｒでは既に容量が不足すると言われており、次世代ＤＶＤの開発も行われている。その一例として、このＤＶＤ−Ｒとほぼ同じ構成を有する追記型ＨＤ  ＤＶＤが提案されている。
【０００４】
このＨＤ  ＤＶＤと呼ばれる光情報記録媒体は、高密度の記録を達成するために、基板には、ＤＶＤ−Ｒよりも狭いトラックピッチ（０．３〜０．５μｍ）を有するプリグルーブが形成されており、また、波長４００〜５００ｎｍの青紫色半導体レーザーを用いて記録再生することができる。
【０００５】
ところで、記録層に色素を用いた場合、レーザー光の照射により記録ピットが形成される際の余分な熱の拡散を容易にするために、基板と記録層との間に中間層を形成する場合がある。この中間層としては、主に無機酸化物が用いられ、その成膜には一般的にスパッタリングが用いられている（例えば、特許文献１参照）。スパッタリングの種類としては、直流電源を用いるＤＣスパッタ法、直流電源を５〜５０ｋＨｚ程度のパルス状に駆動させた電源を用いるＤＣパルススパッタ法、高周波電源を用いるＲＦスパッタ法などが知られている。
【０００６】
上記特許文献１等では、中間層の導電性が低いため、成膜方法としてはＲＦスパッタリングしか使用できない。一方で、ＲＦスパッタリングでは成膜速度が遅いため、ディスク生産上問題である。また、ＲＦスパッタでは、マッチングボックスが必要であり、ＤＣスパッタやＤＣパルススパッタ法に比べて、設備コストが高いという問題がある。
【特許文献１】特開平５−１５１６１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、生産性高い光情報記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者らは、下記本発明により当該課題を解決できることを見出した。
【０００９】
すなわち、本発明は、基板上に中間層を形成する中間層形成工程と、前記中間層上に色素含有塗布液を塗布して記録層を形成する記録層形成工程とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、前記中間層形成工程における前記中間層が、パルスＤＣスパッタリングにより形成されることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。
【００１０】
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、下記第１〜第６の態様のうち少なくとも１の態様を具備することが好ましい。
（１）第１の態様は、前記パルスＤＣスパッタリングに、ＡｒガスとＯ2ガスとの混合ガスを使用する態様である。当該混合ガスを用いることで、導電性の低い酸化物膜をパルスＤＣスパッタリングで成膜することができる。
（２）第２の態様は、前記混合ガスにおける前記Ａｒガス流量（Ｒ１）とＯ2ガス流量（Ｒ２）との比を、１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０とする態様である。１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０とすることで、膜の光透過率が劣って光特性が悪くなることを防ぎ、また、成膜速度を良好なものとすることができる。
（３）第３の態様は、前記中間層を成膜するにあたり、金属又は半導体の非酸化物ターゲットを用いる態様である。非酸化物ターゲットは導電性であるため、ＤＣスパッタリングのターゲットとして用いることができる。
（４）第４の態様は、前記中間層が、ケイ素酸化物を含む態様である。膜の屈折率の観点から、ケイ素酸化物が好ましい。
（５）第５の態様は、前記中間層が酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物を含む態様である。当該複合酸化物は、酸化亜鉛単独であると、結晶化し易いが、複合することでアモルファスとなりやすいため、安定な膜を成膜することができる。
（６）第６の態様は、前記色素が、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物からなる群から選択される少なくとも１種である態様である。これらの色素により良好な電気特性が得られる。
【００１１】
また、本発明は、既述の本発明の光情報記録媒体の製造方法により製造されることを特徴とする光情報記録媒体である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、生産性高い光情報記録媒体およびその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に中間層を形成する中間層形成工程と、中間層上に色素含有塗布液を塗布して記録層を形成する記録層形成工程とを含む。具体的には、当該光情報記録媒体がＨＤ  ＤＶＤの場合、上記中間層形成工程、上記記録層形成工程、反射層形成工程、保護基板（必要に応じて記録層などが形成される場合がある）を貼り合わせる貼り合わせ工程などを経て、ＨＤ  ＤＶＤ構成の光情報記録媒体が製造される。
【００１４】
基板としては、従来の光ディスクの基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【００１５】
基板の厚さは、０．５〜１．０ｍｍとすることが好ましく、０．５５〜０．９ｍｍとすることがより好ましい。
【００１６】
本発明においては、プリグルーブは、高密度の記録を達成するために、トラックピッチが０．１〜０．６μｍであり、かつ、溝深さが２０〜２００ｎｍであることが好ましい。トラックピッチは０．３３〜０．５０μｍの範囲であることがより好ましい。また、溝深さは、５０〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、６０〜１２０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
【００１７】
更に、基板に形成されるプリグルーブの溝幅（半値幅）は、１００〜３００ｎｍの範囲であることが好ましく、１２０〜２５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。加えて、プリグルーブの溝傾斜角度は、２０〜８０°の範囲であることが好ましく、３０〜７０°の範囲であることがより好ましい。
【００１８】
記録層が設けられる側の基板表面（プリグルーブが形成された面側）には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。
【００１９】
下塗層の材料としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及びシランカップリング剤などの表面改質剤などを挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２０】
以下、既述の各工程について説明する。
【００２１】
［中間層形成工程］
記録層と基板との間に中間層を形成することで、レーザー光の照射により記録ピットが形成される際の余分な熱の拡散が容易になり、その結果、隣接するトラックへの信号の漏れ込みを低減させることができる。
【００２２】
中間層は、パルスＤＣスパッタリングにより形成される。パルスＤＣスパッタリングを採用することで、成膜速度を向上させることが可能で、設備コストを低くすることができる。生産性向上の観点から、パルスＤＣスパッタリングには、ＡｒガスとＯ2ガスとの混合ガスを使用することが好ましい。当該混合ガスを用いることで、導電性の低い酸化物膜をパルスＤＣスパッタリングで成膜することができる。
【００２３】
この場合、Ａｒガス流量（Ｒ１）とＯ2ガス流量（Ｒ２）との比は、１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０とすることが好ましく、１．１≦Ｒ２／Ｒ１≦２．９５とすることがより好ましく、１．２≦Ｒ２／Ｒ１≦２．９とすることがさらに好ましい。「Ｒ２／Ｒ１」を１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０とすることで、膜の光透過率が劣って光特性が悪くなることを防ぎ、また、成膜速度を良好なものとすることができる。
【００２４】
上記比（Ｒ２／Ｒ１）の範囲で、Ａｒガス流量は、５〜２０ｓｃｃｍとすることが好ましく、Ｏ2流量は５〜６０ｓｃｃｍでとすることが好ましい。ここで、「ｓｃｃｍ」とは、標準状態（２５℃）におけるガスの１分当たりの流量（ｍｌ）である。
【００２５】
中間層に用いられる材料としては、ケイ素酸化物、亜鉛酸化物、ガリウム酸化物、タンタル酸化物、ニオブ酸化物、酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物等が挙げられる。好ましい酸化物としては、膜の屈折率の観点から、ケイ素酸化物が挙げられる。また、膜の安定性の観点から酸化亜鉛と酸化ガリウムとの複合酸化物が挙げられる。当該複合酸化物は、酸化亜鉛単独であると、結晶化し易いが、複合することでアモルファスとなりやすいため、安定な膜を成膜することができる。上記酸化物は、単独酸化物として用いても、あるいは複合酸化物として用いても良い。上記列挙した金属酸化物は、色素や粘着剤、接着剤との混和、拡散が少なく、色素と粘着剤や接着剤との混和をより確実に、かつ、長期にわたって防ぐことができる。また、パルスＤＣスパッタリングによっても良好な膜を形成することができる。さらに、金属又は半導体の非酸化物ターゲットを用いることができる。非酸化物ターゲットは導電性であるため、ＤＣスパッタリングのターゲットとして用いることができる。
【００２６】
パルスＤＣスパッタリングを行う際の投入パワーは、当該スパッタリングの対象物とターゲットの間隔、ターゲットサイズ、製造タクト等により決定されるが、０．１ｋＷ〜８ｋＷとすることが好ましく、０．５ｋＷ〜４ｋＷとすることがより好ましい。また、パルス幅は、ターゲットの電気抵抗率等によって最適化することができる。
【００２７】
中間層の厚さは、媒体の反射率を調整する、外部から色素層への水分の浸透を抑制する、あるいは記録ピット形成時の基板の変形を抑制する、熱の拡散を制御する、色素分解に伴い発生する気体成分の拡散を制御する、等の観点から、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、５〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０〜４０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００２８】
［記録層形成工程］
記録層は、記録及び再生に使用されるレーザー光により情報の記録及び再生が行われる層である。特に、デジタル情報などの符号情報（コード化情報）が記録される。記録層としては、色素記録層でも相変化型記録層でもよいが、色素記録層が好ましい。
【００２９】
色素記録層に含有される色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、トリアゾール化合物（ベンゾトリアゾール化合物を含む）、トリアジン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、桂皮酸化合物、ベンゾオキサゾール化合物、ピロメテン化合物、スクアリリウム化合物等が挙げられる。なお、これらは配位中心に金属原子を持っていてもよい。
【００３０】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素を用いることも可能である。
【００３１】
上記化合物の中では、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物が好ましい。これらの色素により良好な電気特性が得られる。
【００３２】
また、シアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、フタロシアニン色素がさらに好ましい。
【００３３】
記録層の形成は、上記色素を含有する色素含有塗布液を塗布する塗布法を使用する。
【００３４】
記録層を塗布により形成する方法としては、まず、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を基板上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥する方法がある。
【００３５】
塗布液中の記録物質（上記の色素および化合物）の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００３６】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロバノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。
【００３７】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３８】
結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブナラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。
【００３９】
記録層の材料として結合剤を併用する場合、結合剤の使用量は、一般に色素の質量の０．０１倍量〜５０倍量の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量の範囲にある。
【００４０】
前記溶剤塗布の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
【００４１】
記録層の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１５〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは２０〜１５０ｎｍの範囲にある。なお、記録層は単層でも重層でもよい。
【００４２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に、一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−３１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６８−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
【００４３】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、通常、色素の質量の０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００４４】
［反射層形成工程］
情報の再生時における反射率の向上の目的で、記録層に隣接して反射層を設けることが好ましい。反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ金属、Ａｇ金属、Ａｌ金属或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｇ金属、Ａｌ金属或いはそれらの合金である。
【００４５】
反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板若しくは色素記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００４６】
［貼り合せ工程］
貼り合せ工程は、基板上に中間層、記録層などが形成された積層体上に保護基板を接着剤層を介して貼り合わせる、または、基板上に中間層、記録層などが形成された積層体同士を接着剤層を介して貼り合わせる工程である。
【００４７】
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、中でも、ディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−６６１」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。
【００４８】
また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００４９】
保護基板には、プリグルーブが形成されていない点以外は、既述の基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。
【００５０】
また、保護基板にも既述の基板と同様のプリグルーブが形成され、また、貼り合わせ面に、色素記録層が形成されていてもよい。更に、保護基板と記録層との間に既述の中間層が設けられてもよい。
【００５１】
以上のような各工程を経て、本発明の光情報記録媒体が製造される。
【００５２】
本発明の光情報記録媒体への情報（デジタル情報）の記録方法について説明する。本発明の光情報記録媒体への情報の記録には、少なくとも、レーザー光を射出するレーザーピックアップと、光情報記録媒体を回転させる回転機構と、を有する記録装置を用いる。
【００５３】
まず、回転機構を用いて、未記録の光情報記録媒体を所定の記録線速度にて回転させながら、レーザーピックアップからレーザー光を照射する。この照射光により、色素記録層中の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、例えば、ピットが生成してその光学特性が変わることにより情報が記録される。なお、記録された情報の再生は、回転させた状態の光情報記録媒体の色素記録層に向けてレーザーピックアップからレーザー光を照射して行う。
【００５４】
レーザー光の記録波形は、１つのピットを形成する際には、パルス列でも１パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ（ピットの長さ）に対する割合が重要である。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９５％の範囲が好ましく、３０〜９０％の範囲がより好ましく、３５〜８５％の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
【００５５】
レーザー光のパワーとしては、記録線速度によって異なるが、記録線速度が６．６１ｍ／ｓの場合、１〜１５ｍＷの範囲が好ましく、２〜１２ｍＷの範囲がより好ましく、３〜１０ｍＷの範囲が更に好ましい。また、記録線速度が２倍になった場合には、レーザー光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ２1/2倍となる。
【００５６】
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．５５以上が好ましく、０．６０以上がより好ましい。本発明においては、記録及び再生の光源として、３５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーを用いることができる。
【実施例】
【００５７】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００５８】
（実施例１）
帝人化成（株）社製のポリカーボネート樹脂（ＭＤ１５００）を用いて射出成形により厚さ０．６ｍｍの基板を成形した。基板の溝トラックピッチは４００ｎｍ、溝深さは９０ｎｍ、溝幅は１８０ｎｍであった。
【００５９】
この基板上に、Ｓｉからなるターゲットを用いて、パルスＤＣスパッタ法によりＳｉ酸化物からなる中間層を２７ｎｍの厚みで成膜した（中間層形成工程）。また、このときの成膜時間を下記表１に示す。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍ、Ｏ2流量は１５ｓｃｃｍで行った。
【００６０】
ＴＦＰ（２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール）６６．６ｇに対し、下記化学式で表される色素を０．６ｇ溶解させた。その後、超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、２３℃５０％の環境に０．５時間静置し、０．２μｍのフィルターで濾過して、色素含有塗布液を調製した。この色素含有塗布液を用いて、スピンコート法で中間層上に厚さ４０ｎｍの記録層を形成し、８０℃のクリーンオーブン中で１時間加熱処理を施した（記録層形成工程）。
【００６１】
【化１】
2007193927.tif 000002
【００６２】
加熱処理後、Ａｇ：９８．４ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％からなるターゲットを用いて、ＤＣスパッタリングにより反射層を１００ｎｍの厚みで成膜した（反射層形成工程）。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【００６３】
反射層を成膜した後、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート基板（保護基板）を大日本インキ化学工業（株）製のＵＶ硬化性樹脂（ＳＤ−６４０）を用いて貼り合せて（貼り合わせ工程）、光情報記録媒体を作製した。
【００６４】
（実施例２〜６）
中間層形成工程における中間層の成膜時のＯ2流量を下記表１のようにした以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００６５】
（実施例７）
中間層形成工程として、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（９５ａｔ％：５ａｔ％）からなるターゲットを用い、その時の投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は１０ｓｃｃｍ、Ｏ2流量は１１ｓｃｃｍで行ったこと以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００６６】
（比較例１）
中間層形成工程におけるＳｉＯ2をターゲットとし、中間層をＲＦスパッタで成膜し、その時のＡｒ流量を１０ｓｃｃｍ、Ｏ2流量を０ｓｃｃｍとした以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００６７】
実施例および比較例１で作製されたそれぞれの光情報記録媒体について、分光光度計（島津製作所株式会社社製ＵＶ−３１００）を用いて中間層の光透過率を測定した。結果を成膜速度の結果と併せ判定結果とともに下記表１に示す。なお、表１の判定の欄の「◎」は成膜速度および光透過率がともに良好であることを意味する。「○」は、成膜速度および光透過率が実用上問題ないレベルあることを意味する。「×」は、実用上問題あること示す。
【００６８】
【表１】
2007193927.tif 000003
【００６９】
上記表１の結果から、実施例の光情報記録媒体は、比較例１の光情報記録媒体に比べ、成膜速度および光透過率が良好であることが確認できた。特に、Ａｒガス流量（Ｒ１）とＯ2ガス流量（Ｒ２）との比が１．０＜Ｒ２／Ｒ１≦３．０である実施例１〜４および実施例７は、成膜速度および光透過率ともに良好であった。