(57)【要約】      （修正有）【課題】ウェハ等の基板を吸着する静電チャックを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、静電チャックに冷却流路を形成することなく静電チャックの冷却を行うことを目的とする。【解決手段】ベース部材に静電チャック１７を着脱可能に配置してなるステージ装置において、前記ベース部材に、前記静電チャック１７を冷却するための冷却ガス流路１３ｂに連通するガス供給配管Ｌ１およびガス排出配管Ｌ２を設けてなることを特徴とする。また、前記冷却ガス流路１３ｂは、前記ベース部材の前記チャック本体に対向する面に凹溝状に形成されていることを特徴とする。さらに、前記静電チャック１７と前記ベース部材との間にシール部材２５を環状に配置し、前記シール部材２５の内側に前記冷却ガス流路１３ｂを形成してなることを特徴とする。【選択図】図１
2007059580.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース部材に静電チャックを着脱可能に配置してなるステージ装置において、
前記ベース部材に、前記静電チャックを冷却するための冷却ガス流路に連通するガス供給配管およびガス排出配管を設けてなることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
請求項１記載のステージ装置において、
前記冷却ガス流路は、前記ベース部材の前記チャック本体に対向する面に凹溝状に形成されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項３】
請求項２記載のステージ装置において、
前記静電チャックと前記ベース部材との間にシール部材を環状に配置し、前記シール部材の内側に前記冷却ガス流路を形成してなることを特徴とするステージ装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項記載のステージ装置において、
前記静電チャックを前記ベース部材に着脱自在に連結する連結手段を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項５】
請求項４記載のステージ装置において、
前記連結手段は、磁力により前記静電チャックを前記ベース部材に着脱自在に連結することを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項記載のステージ装置において、
前記ベース部材側から非接触で前記静電チャックに給電する給電手段を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項７】
請求項６記載のステージ装置において、
前記給電手段は、電磁誘導により前記ベース部材側から前記静電チャックに非接触で給電することを特徴とするステージ装置。
【請求項８】
請求項２ないし請求項７のいずれか１項記載のステージ装置において、
前記ベース部材側に、前記冷却ガス流路に冷却ガスを供給するガス供給管路と、前記冷却ガス流路から冷却ガスを排出するガス排出管路とを備え、前記ガス排出管路により前記冷却ガス流路内の冷却ガスを排出した後、前記静電チャックを前記ベース部材から離脱することを特徴とするステージ装置。
【請求項９】
レチクルに形成されたパターンを露光光を介して基板に転写する露光装置であって、前記レチクルまたは前記基板を保持するステージ装置に、請求項１ないし請求項８のいずれか１項記載のステージ装置を有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ等の基板を吸着する静電チャックを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、露光装置では、ウェハステージのテーブルに、ウェハを吸着する静電チャックが配置されている。そして、従来、露光光の照射によるウェハの熱変形を防止するため、静電チャックに冷却液流路を形成し、静電チャックを介してウェハを冷却することが行われている。
【特許文献１】特開２００３−２２４１８０号公報
【特許文献２】特開平１０−６４９８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述したように、静電チャックに冷却液流路を形成する場合には、静電チャックに冷却液を供給する供給管路を接続する必要があるため、テーブルに対して静電チャックを着脱可能に配置することが困難になるという問題があった。
また、供給管路からの振動が静電チャックに直接伝達され、静電チャックが振動するおそれがあるという問題があった。
【０００４】
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、静電チャックに冷却流路を形成することなく静電チャックの冷却を行うことができるステージ装置、およびこのステージ装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の発明のステージ装置は、ベース部材に静電チャックを着脱可能に配置してなるステージ装置において、前記ベース部材に、前記静電チャックを冷却するための冷却ガス流路に連通するガス供給配管およびガス排出配管を設けてなることを特徴とする。
第２の発明のステージ装置は、第１の発明のステージ装置において、前記冷却ガス流路は、前記ベース部材の前記チャック本体に対向する面に凹溝状に形成されていることを特徴とする。
【０００６】
第３の発明のステージ装置は、第２の発明のステージ装置において、前記静電チャックと前記ベース部材との間にシール部材を環状に配置し、前記シール部材の内側に前記冷却ガス流路を形成してなることを特徴とする。
第４の発明のステージ装置は、第１ないし第３の発明のいずれか１のステージ装置において、前記静電チャックを前記ベース部材に着脱自在に連結する連結手段を有することを特徴とする。
【０００７】
第５の発明のステージ装置は、第４の発明のステージ装置において、前記連結手段は、磁力により前記静電チャックを前記ベース部材に着脱自在に連結することを特徴とする。
第６の発明のステージ装置は、第１ないし第５の発明のいずれか１のステージ装置において、前記ベース部材側から非接触で前記静電チャックに給電する給電手段を有することを特徴とする。
【０００８】
第７の発明のステージ装置は、第６の発明のステージ装置において、前記給電手段は、電磁誘導により前記ベース部材側から前記静電チャックに非接触で給電することを特徴とする。
第８の発明のステージ装置は、第２ないし第７の発明のいずれか１のステージ装置において、前記ベース部材側に、前記冷却ガス流路に冷却ガスを供給するガス供給管路と、前記冷却ガス流路から冷却ガスを排出するガス排出管路とを備え、前記ガス排出管路により前記冷却ガス流路内の冷却ガスを排出した後、前記静電チャックを前記ベース部材から離脱することを特徴とする。
【０００９】
第９の発明の露光装置は、レチクルに形成されたパターンを露光光を介して基板に転写する露光装置であって、前記レチクルまたは前記基板を保持するステージ装置に、第１ないし第８の発明のいずれか１のステージ装置を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のステージ装置では、ベース部材に、静電チャックを冷却するための冷却ガス流路を設けたので、静電チャックに冷却流路を形成することなく静電チャックの冷却を行うことができる。
本発明の露光装置では、本発明のステージ装置を用いているため、テーブルへの静電チャックの着脱を容易に行うことができる。また、静電チャックの振動を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(ステージ装置の実施形態)
図１および図２は本発明のステージ装置の一実施形態を示している。
この実施形態では、本発明がＥＵＶ露光装置のウェハステージ１１に適用される。
このウェハステージ１１は、テーブル１３を有している。このテーブル１３は、図２のＸ方向およびＹ方向にｎｍレベルの位置決め精度で移動可能とされている。
【００１２】
テーブル１３には、ウェハ１５を吸着する円形状の静電チャック１７が配置されている。この静電チャック１７はテーブル１３の略中心に位置されている。静電チャック１７の上面には、ウェハ１５を吸着する吸着面１７ａが形成されている。吸着面１７ａの内側には電極１７ｂが配置されている。この電極１７ｂに電圧を印加することにより吸着面１７ａに静電気が発生しウェハ１５が吸着される。
【００１３】
ウェハステージ１１は、静電チャック１７をテーブル１３に着脱自在に固定するテーブル側連結部１９およびチャック側連結部２１を有している。
テーブル側連結部１９は、テーブル１３の上面に形成される矩形状の凹部１３ａの底面に固定されている。この凹部１３ａは、図３に示すように、１２０度の角度を置いて３箇所に形成されている。
【００１４】
チャック側連結部２１は、静電チャック１７の外周に形成される突出部１７ｃの下面に固定されている。この突出部１７ｃは、図２に示すように、テーブル側連結部１９に対応する位置に３箇所形成されている。
この実施形態では、テーブル１３には、静電チャック１７を冷却するための冷却ガス流路１３ｂが形成されている。この冷却ガス流路１３ｂは、テーブル１３の上面に凹溝状に形成されている。また、図３に示すように、蛇行して形成されている。
【００１５】
冷却ガス流路１３ｂの入口端は、テーブル１３に形成される連通路１３ｃを介してガス供給配管Ｌ１に接続されている。ガス供給配管Ｌ１は、電磁開閉弁Ｖ１を介してガス供給装置２３に接続されている。このガス供給装置２３は、所定の温度に冷却された窒素等のガスを、所定の圧力でガス供給配管Ｌ１に供給する。
冷却ガス流路１３ｂの出口端は、テーブル１３に形成される連通路１３ｄを介してガス排出配管Ｌ２に接続されている。ガス排出配管Ｌ２は、電磁開閉弁Ｖ２を介してガス供給装置２３に接続されている。
【００１６】
この実施形態では、テーブル１３の上面には、シール部材２５が環状に配置されている。このシール部材２５は、テーブル１３に形成される環状溝１３ｅに挿入されている。そして、図３に示すように、シール部材２５の内側に冷却ガス流路１３ｂが形成されている。
図４の(ａ)および(ｂ)はテーブル側連結部１９の詳細を示している。テーブル側連結部１９は取付部材２９およびコア(鉄心)部材３１を有している。取付部材２９は矩形環状をしており長手方向の外側には取付穴２９ａが形成されている。この取付穴２９ａにボルト(不図示)を挿入して取付部材２９がテーブル１３の凹部１３ａの底面に固定される。取付部材２９には支持部材３３を介してコア部材３１が固定されている。コア部材３１は３個の突出部３１ａを有している。中央の突出部３１ａの先端には永久磁石３５が固定されている。そして、この中央の突出部３１ａに１次コイル３７が巻回されている。この１次コイル３７には電源供給部３９(図１に示す)からの電圧が印加される。
【００１７】
図５の(ａ)および(ｂ)はチャック側連結部２１の詳細を示している。チャック側連結部２１はコア(鉄心)部材４１を有している。コア部材４１は取付部材(不図示)により静電チャック１７の突出部１７ｃの下面に固定されている。コア部材４１は３個の突出部４１ａを有している。中央の突出部４１ａには２次コイル４５が巻回されている。
静電チャック１７の突出部１７ｃには、図１に示したように、集電変圧部４７が配置されている。この集電変圧部４７は静電チャック１７内に配置される電極１７ｂに配線を介して接続されている。また、集電変圧部４７にはチャック側連結部２１に配置される２次コイル４５が配線を介して接続されている。集電変圧部４７は１次コイル３７への交流電圧の印加により２次コイル４５に電磁誘導された交流を直流に変換するＡＣ／ＤＣ変換手段を有している。すなわち、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に電源供給部３９から交流電圧を印加すると、電磁誘導によりチャック側連結部２１の２次コイル４５に交流が発生するが、この交流が直流に変換される。この直流は集電変圧部４７において所定の電圧に変圧され電極１７ｂに印加される。
【００１８】
また、集電変圧部４７は、静電チャック１７からのウェハ１５の離脱時に、ウェハ１５の吸着時に電極１７ｂに印加される電圧と逆の逆電圧を電極１７ｂに印加する。この逆電圧の印加は電源供給部３９から１次コイル３７への交流電圧の印加が停止したこと、すなわち、２次コイル４５に交流が発生していないことを検出して行われる。この逆電圧の印加により静電チャック１７からウェハ１５を確実に離脱することが可能になる。
【００１９】
上述したウェハステージ１１では、テーブル１３への静電チャック１７の固定が以下述べるようにして行われる。先ず、図６に示すように、静電チャック１７を搬送アーム４９により把持した状態でテーブル１３の上方に位置させる。そして、搬送アーム４９により静電チャック１７を下降させて、図１に示したように、テーブル１３に固定されるテーブル側連結部１９に、静電チャック１７のチャック側連結部２１を載置する。
【００２０】
この時には、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に電源供給部３９から直流電圧が印加されており、テーブル側連結部１９のコア部材３１に配置される永久磁石３５が消磁されている。すなわち、１次コイル３７に、１次コイル３７に発生する磁束が永久磁石３５の磁束と反対で同一になるように直流電圧が印加され、永久磁石３５の磁束が消去されている。従って、この時には、静電チャック１７を自由に移動することが可能であり、搬送アーム４９により静電チャック１７が位置決めされ、テーブル側連結部１９の所定の位置に静電チャック１７のチャック側連結部２１が載置される。
【００２１】
そして、この状態から、１次コイル３７への直流電圧の印加をオフすることにより、テーブル側連結部１９のコア部材３１の永久磁石３５の消磁が解除される。これにより、チャック側連結部２１のコア部材４１の中央の突出部４１ａが、テーブル側連結部１９のコア部材３１の中央の永久磁石３５に吸着され固定される。
そして、この状態から静電チャック１７の吸着面１７ａにウェハ１５を載置し、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に電源供給部３９から交流電圧を印加すると、静電チャック１７の吸着面１７ａにウェハ１５が吸着される。すなわち、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に電源供給部３９から交流電圧を印加すると、電磁誘導によりチャック側連結部２１の２次コイル４５に交流が発生する。そして、２次コイル４５に発生した交流が集電変圧部４７により直流に変換される。この直流は集電変圧部４７において所定の電圧に変圧され電極１７ｂに印加される。この電極１７ｂへの電圧の印加により吸着面１７ａに静電気が発生しウェハ１５が吸着面１７ａに吸着される。
【００２２】
一方、静電チャック１７へのウェハ１５の吸着の解除は、電源供給部３９からの１次コイル３７への交流電圧の印加をオフにすることにより行われる。すなわち、１次コイル３７への交流電圧の印加をオフにすると、電磁誘導による２次コイル４５の交流の発生が停止する。集電変圧部４７はこの停止を検出し電極１７ｂへの直流電圧の印加を停止する。これにより吸着面１７ａへの静電気の発生が無くなりウェハ１５の吸着面１７ａへの吸着が解除される。この実施形態では、電極１７ｂへの直流電圧の印加の停止時に、集電変圧部４７により、ウェハ１５の吸着時に電極１７ｂに印加される電圧と逆の逆電圧を印加する。この逆電圧の印加により吸着面１７ａに残留していた静電気が除去され、吸着面１７ａからウェハ１５を確実に離脱することが可能になる。なお、逆電圧の印加はコンデンサ、蓄電池等に貯蔵された電気を用いて行われる。
【００２３】
また、テーブル１３からの静電チャック１７の離脱は、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に電源供給部３９から直流電圧を印加することにより行われる。すなわち、１次コイル３７に、１次コイル３７に発生する磁束が永久磁石３５の磁束と反対で同一になるように直流電圧が印加され、永久磁石３５の磁束が消去される。そして、この状態から、搬送アーム４９により静電チャック１７を上昇させて、図６に示したように、テーブル１３から静電チャック１７が離脱される。
【００２４】
そして、上述したウェハステージ１１では、静電チャック１７をテーブル１３に固定した状態で、静電チャック１７の冷却が行われる。すなわち、図１に示したように、テーブル側連結部１９にチャック側連結部２１を連結して静電チャック１７をテーブル１３に固定すると、シール部材２５の環状溝１３ｅからの突出部が、静電チャック１７の下面により押圧されシール部材２５が潰される。そして、これにより、テーブル１３に形成される冷却ガス流路１３ｂの上端開口が静電チャック１７の下面により覆われる。
【００２５】
この状態で、ガス供給配管Ｌ１の電磁開閉弁Ｖ１およびガス排出配管Ｌ２の電磁開閉弁Ｖ２を開くと、ガス供給装置２３からのガスが、連通路１３ｃを介して冷却ガス流路１３ｂに流入し、冷却ガス流路１３ｂに沿って流れ、静電チャック１７の下面を冷却する。そして、静電チャック１７を冷却したガスは、連通路１３ｄを介してガス排出配管Ｌ２に流入した後、ガス供給装置２３に循環される。
【００２６】
そして、この実施形態では、静電チャック１７をテーブル１３から離脱する前に、冷却ガス流路１３ｂ内のガスが除去され、冷却ガス流路１３ｂ内のガスが真空雰囲気内に拡散することが防止される。この冷却ガス流路１３ｂ内のガスの除去は、ガス供給配管Ｌ１の電磁開閉弁Ｖ１を閉めた後、ガス排出配管Ｌ２の電磁開閉弁Ｖ２を開いた状態にして冷却ガス流路１３ｂ内の冷却ガスを排出し、この後、電磁開閉弁Ｖ２を閉じることにより行われる。
【００２７】
上述したステージ装置では、テーブル１３に、静電チャック１７を冷却するための冷却ガス流路１３ｂを設けたので、静電チャック１７に冷却流路を形成することなく静電チャック１７の冷却を行うことができる。従って、静電チャック１７に冷却媒体を供給する供給配管を接続する必要がなくなり、テーブル１３に対する静電チャック１７の着脱を容易なものにすることができる。また、静電チャック１７に冷却流路を形成すると、供給配管からの振動が静電チャック１７に直接伝達され、静電チャック１７が振動するおそれがあるが、このようなおそれを解消することができる。
【００２８】
そして、上述したステージ装置では、テーブル１３に冷却ガス流路１３ｂを形成し、冷却ガス流路１３ｂに窒素等のガスを供給するようにしたので、ガス供給配管Ｌ１を細くすることが可能になり、ガス供給配管Ｌ１の振動を小さなものにすることができる。すなわち、冷却媒体に、液体を用いる場合には、圧力損失が大きくなるため、供給管路も太くなり振動が大きくなるおそれがあるが、このようなおそれを解消することができる。
【００２９】
また、テーブル１３の上面に冷却ガス流路１３ｂを凹溝状に形成したので、静電チャック１７の下面に冷却用のガスを直接接触することが可能になり、静電チャック１７を効率的に冷却することができる。
そして、静電チャック１７とテーブル１３との間にシール部材２５を環状に配置し、シール部材２５の内側に冷却ガス流路１３ｂを形成したので、冷却ガス流路１３ｂ内のガスが真空雰囲気内に漏洩することを確実に防止することができる。
【００３０】
また、上述したステージ装置では、テーブル１３に固定されるテーブル側連結部１９に静電チャック１７に固定されるチャック側連結部２１を磁力により固定するようにしたので、静電チャック１７をテーブル１３に着脱自在に固定することができる。そして、テーブル側連結部１９の１次コイル３７に交流電圧を印加し、チャック側連結部２１の２次コイル４５に電磁誘導により交流電圧を発生させるようにしたので、テーブル１３側から静電チャック１７側に非接触で給電することが可能になる。従って、テーブル１３への静電チャック１７の着脱を容易，確実に行うことができる。
(露光装置の実施形態)
図７は、上述したステージ装置が配置されるＥＵＶ露光装置を模式化して示している。なお、この実施形態において上述した実施形態のウェハステージ１１と同一の部材には、同一の符号を付している。
【００３１】
この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影系は像光学系システム１０１を用いたもので、ウェハ１５上にレチクル１０３によるパターンの縮小像を形成するものである。
ウェハ１５上に照射されるパターンは、レチクルステージ１０２の下側に静電チャック１０４を介して配置されている反射型のレチクル１０３により決められる。この反射型のレチクル１０３は、真空ロボットによって搬入および搬出される（真空ロボットの図示は省略する）。また、ウェハ１５はウェハステージ１１のテーブル１３上に静電チャック１７を介して配置されている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。
【００３２】
露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ１０７を用いて真空に保たれた真空チャンバ１０６に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。
【００３３】
放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクル１０３へとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクル１０３の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。
【００３４】
レチクル１０３は、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル１０３でＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は像光学システム１０１を通じてウェハ１５に達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。
【００３５】
レチクル１０３により反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクル１０３パターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウェハ１５の側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクル１０３は可動のレチクルステージ１０２によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウェハ１５は、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウェハステージ１１によって支持されている。ウェハ１５上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクル１０３の所定の領域に照射され、レチクル１０３とウェハ１５は像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウェハ１５上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。
【００３６】
露光の際には、ウェハ１５上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウェハ１５はパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウェハ１５へと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクル１０３に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。
【００３７】
この実施形態の露光装置では、上述した実施形態のウェハステージ１１を用いているため、テーブル１３への静電チャック１７の着脱を容易に行うことができる。また、静電チャック１７の振動を低減することができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
【００３８】
(１)上述した実施形態では、テーブル１３の上面に冷却ガス流路１３ｂを凹溝状に形成した例について説明したが、テーブル内に冷却ガス流路を形成するようにしても良い。また、静電チャック１７の下面あるいは内部に冷却ガス流路１３ｂを形成しても良い。
(２)上述した実施形態では、本発明をウェハステージ１１に適用した例について説明したが、レチクルステージに適用しても良い。
【００３９】
(３)上述した実施形態では、静電チャック１７を電磁力によりテーブル１３に結合した例について説明したが、例えば、静電力あるいは機械的に結合するようにしても良い。
(４)上述した実施形態では、テーブル側連結部１９の１次コイル３７とチャック側連結部２１の２次コイル４５との電磁誘導により、テーブル１３側から静電チャック１７側に非接触で給電した例について説明したが、例えば、テーブル１３側から光を供給し静電チャック１７側で光電変換することによりテーブル１３側から静電チャック１７側に非接触で給電するようにしても良い。
【００４０】
(５)上述した実施形態では、ＥＵＶ露光装置に本発明のウェハステージ１１を適用した例について説明したが、パターンを転写するエネルギ線は特に限定されず、光、紫外線、Ｘ線（軟Ｘ線等）、荷電粒子線（電子線、イオンビーム）等であっても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明のステージ装置の一実施形態を示す説明図である。
【図２】図１のステージ装置を上方から見た説明図である。
【図３】図１のテーブルを上方から見た説明図である。
【図４】図１のテーブル側連結部の詳細を示す説明図である。
【図５】図１のチャック側連結部の詳細を示す説明図である。
【図６】図１においてテーブル側連結部とチャック側連結部とを分離した状態を示す説明図である。
【図７】本発明のステージ装置を備えた露光装置を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４２】
１１：ウェハステージ、１３：テーブル、１３ｂ：冷却ガス流路、１５：ウェハ、１７：静電チャック、１９：テーブル側連結部、２１：チャック側連結部、２５：シール部材、３９：電源供給部、４７：集電変圧部、Ｌ１：ガス供給配管、Ｌ２：ガス排出配管。
【図１】
2007059580.tif 000003
【図２】
2007059580.tif 000004
【図３】
2007059580.tif 000005
【図４】
2007059580.tif 000006
【図５】
2007059580.tif 000007
【図６】
2007059580.tif 000008
【図７】
2007059580.tif 000009