(57)【要約】【課題】近接露光装置等の物品を載置する際に、プリアライメントを必要とする場合に、プリアライメントを簡易な構成で容易に行う。【解決手段】プリアライメントユニットの載置テーブル６に基板Ｗを載置したときに、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃでエッジ位置を検出して、プリアライメント位置に対する回転方向のずれ量θを計測し、計測した回転方向ずれ量θを解消するように回動操作機構１０を作動させて、載置テーブル６を回動させ、この状態で再度エッジ位置からＸＹ方向ずれ量ＸE及びＹEを計測し、これらずれ量ＸE及びＹEを近接露光装置ＰＥに伝送して、搬送機構ＣＭによってプリアライメントユニットＰＵから基板Ｗが載置される前にワークステージ３２をずれ量ＸE及びＹEを解消するように移動させて、ガラス基板Ｗを受け取る。【選択図】図１
2007193197.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品を載置するワークステージ上に物品を位置決めして載置するようにした物品位置決め装置において、
前記ワークステージに搬送する物品を載置して仮位置決めする仮位置決めテーブルと、該仮位置決めテーブル上に載置された物品の載置位置を計測する載置位置計測手段と、前記仮位置決めテーブルに載置された物品に対して前記載置位置計測手段で計測した載置位置のうち回転方向のずれ量を修正する回転方向位置決め手段と、前記仮位置決めテーブルで仮位置決めされた物品を仮位置決め位置を保持しながら前記ワークステージ上に搬送する搬送手段と、前記載置位置計測手段で計測したＸＹ方向の位置ずれ量を解消するように前記ワークステージ上に物品を位置決めする位置決め手段とを備えたことを特徴とする物品位置決め装置。
【請求項２】
前記ワークステージは、近接露光装置に、物品としての被露光部材を載置可能に配設されていることを特徴とする請求項１に記載の物品位置決め装置。
【請求項３】
物品を載置するワークステージ上に物品を位置決めして載置するようにした物品位置決め方法において、
前記ワークステージに搬送する物品を仮位置決めテーブルに載置するステップと、仮位置決めテーブルに載置された物品の載置位置を計測するステップと、載置位置の計測結果に基づいて仮位置決めテーブルを回転させて回転方向の仮位置決めを行うステップと、回転方向の仮位置決めが行われた物品を仮位置決めテーブルからワークステージに搬送するステップと、ＸＹ方向ずれ量を解消するように物品をワークステージ上に位置決めするステップとを備えたことを特徴とする物品位置決め方法。
【請求項４】
前記ワークステージは、近接露光装置に、物品としての被露光部材を載置可能に配設されていることを特徴とする請求項３に記載の物品位置決め方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイに使用されるガラス等の材料の基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次露光方式等で近接（プロキシミティ）露光転写する近接露光装置に適用して好適な物品位置決め装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光は、表面に感光剤を塗布した透光性の基板（被露光材）を近接露光装置のワークステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージに保持されたマスクに接近させて両者のすき間を数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって基板上に露光用の光を照射することにより該基板上に該マスクに描かれたマスクパターンを露光転写するようにしたものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、最近では大型の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の量産化への対応が要請されており、この場合、露光の高精度化及び高能率化が必要となる。
高能率化の一例としては、例えば、一辺２ｍを超えるような基板Ｗを用い、図１２に示すように、一枚の基板Ｗで複数のディスプレイを作る、いわゆる多面取りという方法がある。この例では、一枚の基板Ｗでディスプレイ用材ＤＰを９面分作れるようにしている。
【０００４】
また、マスクの大きさやパターンを変更することにより、同じ大きさの基板Ｗで例えばより小さなディスプレイ用材ＤＰを１２面分（長辺方向４×短辺方向３）作るなど、１枚の基板Ｗから種々の大きさのディスプレイ用材ＤＰを種々の個数得るようにすることもできる。
このようにフラットパネルディスプレイ等の製造用の露光装置では、大型基板を取り扱う関係で、このような基板の大型化への対応と、基板の正確なアライメントとを両立する上で基板Ｗが露光装置本体に搬入された段階でおおよその位置合わせがなされるようにするためのプリアライメントが有効な手段となる。
【０００５】
このため、従来、図１４に示すように、近接露光装置に大型基板を位置決めする前に、プリアライメン専用のプリアライメントユニット２００を設け、このプリアライメントユニット２００に、大型基板２０１を載置する水平面内のＸＹ方向及び回転方向に移動可能なプリアライメントテーブル２０２を配設し、このプリアライメントテーブル２０２に載置された大型基板２０１の隣接する２辺のエッジを光学的なエッジセンサ２０３で検出して、位置ずれ量を計測し、計測した位置ずれ量に応じてアライメントテーブル２０２を支持するＸ軸方向移動アクチュエータ２０４及び左右両側に配置したＹ軸方向移動アクチュエータ２０５によってＸＹ軸方向及び回転方向の位置決めを行うことにより、プリアライメントを行ってから搬送手段２０６でプリアライメント位置を保持したまま分割逐次近接露光装置２０７に搬入するようにしている。
【０００６】
すなわち、プリアライメントユニット２００にてプリアライメントを行った上で、搬送手段２０６による所定の搬送動作を行うことにより、分割逐次近接露光装置２０７上に正しくプリアライメントがされた状態で基板２０１が搬入されるように調整されている。
【特許文献１】特開２００２−３６５８１０号公報（第１頁〜第１４頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の物体位置決め装置にあっては、プリアライメントユニット２００上に配設したプリアライメントテーブル２０２でＸＹ方向及び回転方向の３方向の位置決めを行う必要があり、計３台のアクチュエータが用いられ、プリアライメントユニットの構成が複雑となると共に、位置決め調整時間が長くなるという未解決の課題がある。
そこで、本発明は、上記従来例の未解決の課題に着目してなされたものであり、プリアライメントユニット等の仮位置決め手段の構成を簡略化すると共に、ＸＹ方向及び回転方向の３方向の位置決め調整時間を短縮することができる物品の位置決め装置及び方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、請求項１に係る物品の位置決め装置は、物品を載置するワークステージ上に物品を位置決めして載置するようにした物品位置決め装置において、前記ワークステージに搬送する物品を載置して仮位置決めする仮位置決めテーブルと、該仮位置決めテーブル上に載置された物品の載置位置を計測する載置位置計測手段と、前記仮位置決めテーブルに載置された物品に対して前記載置位置計測手段で計測した載置位置のうち回転方向のずれ量を修正する回転方向位置決め手段と、前記仮位置決めテーブルで仮位置決めされた物品を仮位置決め位置を保持しながら前記ワークステージ上に搬送する搬送手段と、前記載置位置計測手段で計測したＸＹ方向の位置ずれ量を解消するように前記ワークステージ上に物品を位置決めする位置決め手段とを備えたことを特徴としている。
また、請求項２にかかる物品の位置決め装置は、請求項１に係る発明において、前記ワークステージが、近接露光装置に、物品としての被露光部材を載置可能に配設されていることを特徴としている。
【０００９】
さらに、請求項３に係る物品の位置決め方法は、物品を載置するワークステージ上に物品を位置決めして載置するようにした物品位置決め方法において、
前記載置テーブルに搬送する物品を仮位置決めテーブルに載置するステップと、仮位置決めテーブルに載置された物品の載置位置を計測するステップと、載置位置の計測結果に基づいて仮位置決めテーブルを回転させて回転方向の仮位置決めを行うステップと、回転方向の仮位置決めが行われた物品を仮位置決めテーブルからワークステージに搬送するステップと、ＸＹ方向ずれ量を解消するように物品をワークステージ上に位置決めするステップとを備えたことを特徴としている。
さらにまた、請求項４に係る物品の位置決め方法は、請求項３に係る発明において、前記ワークステージが、近接露光装置に、物品としての被露光部材を載置可能に配設されていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明したように、本発明によれば、ワークステージに搬送する物品を仮位置決めテーブルに載置し、この仮位置決めテーブル上に載置された載置位置計測手段で、物品の載置位置を計測し、計測した載置位置のうち回転方向の位置決めを回転方向位置決め手段で行い、この仮位置決めされた物品を仮位置決め位置を保持しながら前記ワークステージ上に搬送手段で搬送し、ＸＹ方向の位置ずれ量を解消するようにワークステージ上に位置決めするようにしたので、仮位置決めテーブルの構成を大幅に簡略化することができると共に、仮位置決めに要する調整時間も大幅に短縮することができ、さらに、調整が容易となるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を図を参照して説明する。
図１は本発明をＸＹ平面内で基板を載置するワークステージをＸＹ平面内でステップ送りする機構を備えた分割逐次近接露光装置に適用した場合の一実施形態を示す平面配置図、図２はプリアライメントユニットの拡大平面図である。
図中、ＰＥは分割逐次近接露光装置であって、この分割逐次近接露光装置ＰＥに対して例えば平面から見て時計方向に９０度回転した位置に仮位置決めテーブルに対応するプリアライメントユニットＰＵが配設され、これら分割逐次近接露光装置ＰＥ及びプリアライメントユニットＰＵに対する物品としての被露光部材となる例えばガラス基板Ｗの搬入出を回転可能で且つ伸縮自在のフォークを有する搬送手段としての搬送機構ＣＭで行うようにしている。
【００１２】
プリアライメントユニットＰＵは、図２及び図３に示すように、基台１と、この基台１の上面中央位置に形成された凹部２内に固定された軸受３で回転自在に支持された回転軸４に固定されたリフト用テーブル５と、このリフト用テーブル５の上面に所定間隔を保って回転軸４の上端に固定された略方形の仮位置決めテーブルとしての載置テーブル６と、リフト用テーブル５に設置された所要数のアクチュエータ８によって上下動され、かつ、載置テーブル６に形成された上下方向に貫通する所要数の透孔７を貫通可能にされてなるシフトピン９と、載置テーブル６を回動させる回動操作機構１０と、基台１に配設された載置される例えばガラス製の大型基板Ｗの後辺及び右辺のエッジ位置を検出するエッジセンサ１１ａ〜１１ｃとで構成されている。
【００１３】
ここで、回動操作機構１０は、図４に示すように、載置テーブル６の下面に固定配置された半径方向に突出する断面Ｌ字状の当接バー１０ａと、基台１上に固定配置された直線移動機構１０ｂとで構成されている。直線移動機構１０ｂは、基台１上に固定された固定台１０ｆと、その上に固定された断面略コ字状のガイドレール１０ｌと、前後方向に延長し、ガイドレール１０ｌの両端に固定された２つの軸受部１０ｍ，１０ｎにより軸支されるボールねじ軸１０ｃ及びこのボールねじ軸１０ｃに螺合するボールナットを含むと共に、前記ガイドレール１０ｌと係合するスライダ１０ｄと、ボールねじのねじ軸１０ｃにカップリング１０ｇを介して連結された電動モータ１０ｈと、モータを固定するブラケット１０ｏと、スライダ１０ｄ上に配設された支持台１０ｉに回転自在に支持されて当接バー１０ａの先端に接触するカムフォロア１０ｊと、当接バー１０ａ及び支持台１０ｉとの間に介挿された引張コイルバネ１０ｋとで構成されている。そして、電動モータ１０ｈを正逆転駆動することにより、ボールねじ軸１０ｃが正逆転されて、スライダ１０ｄが前後に移動し、カムフォロア１０ｊに当接する当接バー１０ａを前方に押圧するか後方に引っ張ることにより、載置テーブル６を反時計方向又は時計方向に回動させる。
【００１４】
また、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃの夫々は、図３に示すように、載置テーブル６の外周縁に形成された切欠６ａ〜６ｃに上下方向から対向して配設されたスリット光を投射する投光器１１ｄと、この投光器１１ｄからのスリット光を受光するラインセンサで構成される受光器１１ｅとで構成されている。そして、受光器１１ｅで、投光器１１ｄから投射されてガラス基板Ｗを介して入射されるスリット光を受光することにより、図５に示すように、ガラス基板Ｗを透過したスリット光に対しては所定レベルの出力電圧が得られるが、ガラス基板Ｗのエッジ部に投射されたスリット光はエッジ部で散乱されることにより、低レベルの出力電圧となり、空間を通過してくるスリット光についてはガラス基板Ｗを透過してくるスリット光より高いレベルの出力電圧が得られることから、低レベルの出力電圧位置からガラス基板Ｗのエッジ位置を検出することができる。
【００１５】
なお、エッジセンサは、このように基板Ｗのエッジの位置を検出することが可能であれば上で述べた光学式による非接触の方式に限られず接触方式のものも含め、各種のものに変更可能である。
そして、図６に示すように、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃで検出されたエッジ位置検出値ＥＰａ〜ＥＰｃがプリアライメントユニットＰＵを制御する例えばマイクロコンピュータで構成されるコントローラ１２に入力される。このコントローラ１２は、先ず、エッジ位置検出値ＥＰｂ及びＥＰｃから幾何学的演算によりガラス基板Ｗのプリアライメント位置に対する回転方向の位置ずれ量θを計測し、計測した回転方向位置ずれ量θを“０”（すなわち、回転方向ずれ量がない状態）とするモータ制御指令値を電動モータ１０ｈを駆動制御するモータ制御回路１３に出力して、回転方向ずれ量θの補正を行ってからエッジ位置検出値ＥＰａ〜ＥＰｃに基づいてガラス基板ＷのＸＹ方向の位置ずれ量ＸE及びＹEを計測し、計測したＸＹ方向の位置ずれ量ＸE及びＹEを後述する近接露光装置ＰＥのコントローラに通知し、回転方向のプリアライメントが完了すると搬送機構ＣＭに対してプリアライメント完了通知を出力する。なお、本実施の形態ではエッジ位置検出値ＥＰｂの値とエッジ位置検出値ＥＰｃの値とが等しいと見做せるとき、回転方向位置ずれ量θが“０”としている。
【００１６】
すなわち、コントローラ１２では、図７に示すプリアライメント処理を実行する。このプリアライメント処理は、コントローラ１２に電源が投入されると、先ず、ステップＳ１で、初期化処理を行う。この初期化処理では、シフトピン９を昇降させるアクチュエータ８に対して、シフトピン９をその上端と載置テーブル６との間に搬送機構ＣＭのフォークを挿入可能な間隔を開ける基板搬入出位置まで上昇させると共に、載置テーブル６が制御原点位置例えば本実施の形態では当接バー１０ａの中心線が回転軸４の中心を通って左右に延長する線Ｌ（図２参照）と一致する位置となるように回動操作機構１０の電動モータ１０ｈを駆動制御する。
【００１７】
次いで、ステップＳ２に移行して、後述する搬送機構ＣＭのコントローラからガラス基板Ｗをシフトピン９の先端に受け渡した後フォークをプリアライメントユニットＰＵから退避させた待機位置となったことを表す基板載置完了通知が入力されたか否かを判定し、基板載置完了通知が入力されていないときにはこれが入力されるまで待機し、基板載置完了通知が入力されたときにはステップＳ３に移行する。
【００１８】
このステップＳ３では、アクチュエータ８に対してシフトピン下降指令を出力して、シフトピン９の上端が載置テーブル６の上面と面一となるか上面より僅かに下側となる待機位置まで下降させ、次いでステップＳ４に移行して、エッジセンサ１１ｂ〜１１ｃから出力されるエッジ位置検出値ＥＰｂ〜ＥＰｃを読込んでからステップＳ５に移行する。
このステップＳ５では、読込んだエッジ位置検出値ＥＰｂ〜ＥＰｃに基づいてガラス基板Ｗの基準位置からの回転方向のずれ量θを算出し、次いでステップＳ６に移行して、算出した回転方向ずれ量θを“０”（すなわち回転方向ずれ量がない状態）とするために必要なモータ制御指令値を算出して、算出したモータ制御指令値をモータ制御回路１３に出力し、モータ制御回路１３は電動モータ１０ｈを駆動制御し、ずれ量θの補正動作が行われてからステップＳ７に移行する。
【００１９】
このステップＳ７では、エッジ位置検出値ＥＰａ〜ＥＰｃを読込んで、先ず、エッジ位置検出値ＥＰｂ及びＥＰｃに基づき回転方向ずれ量θが“０”であるか否かを判定し（ステップＳ８）、θ≠０であるときに前記ステップＳ６に戻り、θ＝０（本実施の形態ではＥＰｂ＝ＥＰｃと見做せる場合）であるときにはガラス基板Ｗの回転方向のプリアライメントが終了したものと判断してステップＳ９に移行する。
このステップＳ９では、ステップＳ７で最後に読込んだエッジ位置検出値ＥＰａ〜ＥＰｃに基づいてガラス基板Ｗの基準位置からのＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを算出し、次いで、ステップＳ１０に移行して、算出したＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを分割逐次近接露光装置ＰＥのコントローラに通知してからステップＳ１１に移行する。
【００２０】
このステップＳ１１では、アクチュエータ８に対してシフトピン９を基板受け渡し位置まで上昇させるシフトピン上昇指令を出力し、次いでステップＳ１２に移行して、プリアライメント完了通知を搬送機構ＣＭのコントローラに対して出力し、次いでステップＳ１３に移行して、搬送機構ＣＭから基板搬出完了通知が入力されたか否かを判定し、基板搬出完了通知が入力されていないときにはこれが入力されるまで待機し、基板搬出完了通知が入力されたときにはステップＳ１４に移行して、載置テーブル６を制御原点位置に復帰させるモータ制御指令値をモータ制御回路１３に出力してから前記ステップＳ２に戻る。
【００２１】
この図７の処理において、ステップＳ４，Ｓ５，Ｓ７及びＳ９の処理及びエッジセンサ１１ａ〜１１ｃが載置位置計測手段に対応し、ステップＳ６の処理及び回動操作機構１０が回転方向位置決め手段に対応している。
また、搬送機構ＣＭは、旋回及び昇降可能な旋回昇降部２１とこの旋回昇降部２１の上部側に装着された半径方向に進退自在に構成されたフォーク２２とを備えている。そして、旋回昇降部２１の旋回昇降及びフォーク２２の伸縮がコントローラ２３によって制御される。
【００２２】
このコントローラ２３では、最初に、図示しないガラス基板貯留部に貯留されているガラス基板Ｗをフォーク２２上に載置した状態で旋回昇降部２１を旋回させてガラス基板ＷをプリアライメントユニットＰＵの載置テーブル６と前方から対向する位置に回動させ、この状態で、又はその前に保持したガラス基板Ｗの下面がプリアライメンユニットＰＵの基板受け渡し位置まで突出されたシフトピン９の上端より上方側となるように旋回昇降部２１を上昇させ、次いで、フォーク２２を伸長させて、保持しているガラス基板Ｗをシフトピン９の上方位置となるプリアライメント位置に移動させ、この状態で、旋回昇降部２１を僅かに下降させることにより、ガラス基板Ｗをシフトピン９の上端に受け渡し、その後フォーク２２を退避位置まで収縮させて待機状態となる。この状態で基板載置完了通知をプリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２にローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）等を介して通知する。その後、プリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２からプリアライメント完了通知が入力された後に分割逐次近接露光装置ＰＥから基板搬送要求があったときに、再度フォーク２２を伸長させて、その先端をガラス基板Ｗの下方に挿入し、次いで、旋回昇降部２１を上昇させることにより、リフトピン９からフォーク２２上にガラス基板Ｗを受け取り、次いでフォーク２２を収縮させることにより、退避位置に戻ってから分割逐次近接露光装置ＰＥに対向する位置まで旋回し、次いでフォーク２２を伸長させて、保持したガラス基板Ｗを後述のワークステージ３２の図示しないフォーク導入溝内に挿入してから旋回昇降部２１を僅かに下降させて、フォーク２２上に保持したガラス基板Ｗをワークステージ３２上に載置してからフォーク２２を収縮させて退避位置に復帰してからガラス基板貯留部に対向する位置まで旋回する。
【００２３】
以上のような搬送機構ＣＭの各動作での移動量はガラス基板貯蔵部、プリアライメントユニットＰＵ、分割逐次近接露光装置ＰＥ、及び搬送機構ＣＭの位置関係により定まる所定量である。このような搬送機構ＣＭの所定動作により、プリアライメントユニットＰＵにおける基板Ｗの状態（プリアライメントユニットＰＵの座標系で回転方向ずれ量“０”、ＸＹ方向ずれ量ＸE、ＹE）が分割逐次近接露光装置ＰＥのワークステージ３２上に搬送された時点で、分割逐次近接露光装置ＰＥの座標系においても維持される（すなわち、分割逐次近接露光装置ＰＥの座標系においても回転方向ずれ量“０”、ＸＹ方向ずれ量ＸE、ＹEとなる）ように設定されている。搬送機構ＣＭは、このような条件を許容の誤差範囲内で満たす位置決め精度を有している。
【００２４】
分割逐次近接露光装置ＰＥは、図８の分解斜視図で明らかなように、マスクＭを保持するマスクステージ３１、ガラス基板（被露光材）Ｗを保持するワークステージ３２、パターン露光用の照射手段としての照明光学系３３、マスクステージ３１及びワークステージ３２を支持する装置ベース３４を備えており、ガラス基板Ｗは、マスクＭに対向配置されて該マスクＭに描かれたマスクパターンＰを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面）に感光剤が塗布されている。
【００２５】
説明の便宜上、照明光学系３３から説明すると、照明光学系３３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ４１と、該高圧水銀ランプ４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と、凹面鏡４２の焦点近傍に配置されたオプチカルインテグレータ４３と、平面ミラー４５，４６及びこれらを経由して入射する光束を平行な光束として露光面に導く曲面ミラー４７と、平面ミラー４６とオプチカルインテグレータ４３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４とを備えている。
【００２６】
露光時に露光制御用シャッター４４を開制御されると、高圧水銀ランプ４１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経て、マスクステージ３１に保持されるマスクＭひいてはワークステージ３２に保持されるガラス基板Ｗの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射され、これにより、マスクＭのマスクパターンＰが基板Ｗ上に露光転写されるように構成されている。
【００２７】
次に、マスクステージ３１及びワークステージ３２の順に説明する。
マスクステージ３１はマスクステージベース５１を備えており、該マスクステージベース５１は装置ベース３４から突設されたマスクステージ支柱５２に支持されてワークステージ３２の上方に配置されている。
マスクステージベース５１は、図８に示すように、長方形状とされて中央部に開口５３を有しており、この開口５３にはマスク保持枠５４が開口５３とのすき間の範囲内でＸＹ平面内に移動可能に装着され、このマスク保持枠５４にマスクパターンＰが描かれているマスクＭが真空式吸着装置（図示せず）を介して着脱自在に保持されるようになっている。かかる保持状態では、マスクＭの下面はマスクステージベース５１の下面より下に位置しているので、ワークステージ３２をＸ軸方向又はＹ軸方向に移動させる場合、このワークステージ３２のＺ軸方向の退避を必要最小限とすることができる。
【００２８】
また、マスクステージベース５１の上面には、マスク保持枠５４をＸ，Ｙ平面内で移動させて、このマスク保持枠５４に保持されたマスクＭの基板Ｗに対する位置を調整するマスク位置調整装置５５が設けられており、このマスク位置調整装置５５は、マスク保持枠５４のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＸ軸方向駆動装置５５ｘと、マスク保持枠５４のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられた二台のＹ軸方向駆動装置５５ｙとを備えている。
【００２９】
マスク保持枠５４のＸ軸方向に互いに対向する二辺の内側には、マスクＭと基板Ｗあるいはワークステージ３２との対向面間のすき間を測定する手段としての３台のギャップセンサ５７と、後述の「一層目」の露光の場合のマスクＭの姿勢の検出あるいは「二層目」以降の露光（後述）の場合のマスクＭと基板Ｗとの平面ずれ量を検出する手段としての２台のアライメントカメラ５６とが配設されており、ギャップセンサ５７及びアライメントカメラ５６は共に移動機構５８を介してＸ軸方向に移動可能とされている。
【００３０】
なお、マスクステージベース５１の開口５３のＹ軸方向の両端部にはマスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ（遮蔽板）５９がマスクＭより上方に位置して配置されており、このマスキングアパーチャ５９はモータ，ボールねじ及びリニアガイドよりなるマスキングアパーチャ駆動装置６０によりＹ軸方向に移動可能とされてマスクＭの両端部の遮蔽面積を調整できるようになっている。必要に応じて、さらに、Ｘ軸方向両端部を遮断するためのマスキングアパーチャ及びその駆動機構を追加するようにしてもよい。
【００３１】
ワークステージ３２は、装置ベース３４上に設置されており、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に調整するＺ軸送り台（ギャップ調整手段）３６と、このＺ軸送り台３６上に配設されてワークステージ３２をＸＹ軸方向に移動させるワークステージ送り機構３７とを備えている。
Ｚ軸送り台３６は、装置ベース３４上に立設された上下粗動装置６１によってＺ軸方向に粗動可能に支持されたＺ軸粗動ステージ６２と、このＺ軸粗動ステージ６２の上に上下微動装置６３を介して支持されたＺ軸微動ステージ６４とを備えている。上下粗動装置６１には例えばボールねじとモータとを組み合わせた電動アクチュエータあるいは空圧シリンダなどの適宜のアクチュエータが用いられ、単純な上下動作を行うことによりＺ軸粗動ステージ６２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる。
【００３２】
一方、上下微動装置６３は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、この実施の形態では、例えばＺ軸粗動ステージ６２の上面に設置したモータ６３１によってボールねじのねじ軸６３２を回転駆動させるようにすると共にボールねじナットをくさび状スライダ６３３に固定してそのくさび状のスライダ６３３はボールねじ軸６３２の軸方向に往復移動可能に案内され、くさび状スライダ６３３の斜面をＺ軸微動ステージ６４の下面に突設したくさび６４１の斜面と係合させ、これにより、可動くさび機構を構成している。
【００３３】
そして、ボールねじのねじ軸６３２を回転駆動させると、くさび状スライダ６３３がＹ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が両くさび６３３，６４１の斜面作用により高精度の上下微動運動に変換される。
この可動くさび機構からなる上下微動装置６３は、Ｚ軸微動ステージ６４のＹ軸方向の一端側（図１の手前側）に２台、他端側に１台合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御されるようになっており、これにより、上下微動装置６３は、３台のギャップセンサ５７によるギャップ調整対象である２面間の測定値に基づき、両者間のすき間を均一かつ高精度に調整できる。
【００３４】
ワークステージ送り機構３７は、Ｚ軸微動ステージ６４の上面に、Ｙ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＸ軸方向に沿って延設された二組のリニアガイド７１と、該リニアガイド７１のスライダ（図示せず）に取り付けられたＸ軸送り台７２と、Ｘ軸送り台７２をＸ軸方向に移動させるＸ軸送り駆動装置７３とを備えており、Ｘ軸送り駆動装置７３のモータ７３１によって回転駆動されるボールねじ軸７３２に螺合されたボールねじナット（図示せず。）にＸ軸送り台７２が連結されている。
【００３５】
また、このＸ軸送り台７２の上面に、Ｘ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＹ軸方向に沿って延設された二組のリニアガイド８１と、該リニアガイド８１のスライダ（図示せず）に取り付けられたＹ軸送り台８２と、Ｙ軸送り台８２をＹ軸方向に移動させるＹ軸送り駆動装置８３とを備えており、Ｙ軸送り駆動装置８３のモータ８３１によって回転駆動されるボールねじ軸８３２に螺合されたボールねじナット（図示せず）にＸ軸送り台８２が連結されている。
【００３６】
そして、Ｙ軸送り台８２の上面に、ワークステージ３２が取り付けられ、また、このワークステージ３２のＸ軸，Ｙ軸位置を検出するレーザー測長装置９０が設けられている。このレーザー測長装置９０は、装置ベース３４の左後方隅部に配設されたレーザー測長器９１と、ワークステージ３２のＹ軸方向端部に対向して設けられた一対のＹ軸干渉計９２，９３と、ワークステージ３２のＸ軸方向端部に設けられた一つのＸ軸干渉計９４と、レーザー測長器９１からＹ軸干渉計９２，９３を透過するレーザー光をＸ軸干渉計９４に入射させるコーナーミラー９５と、ワークステージ３２のＹ軸干渉計９２，９３と対向する位置に配設されたＸ軸方向に延長するバーミラー９６と、ワークステージ３２のＸ軸干渉計９４と対向する位置に配設されたＹ軸方向に延長するバーミラー９７とで構成されている。各干渉計９２〜９４よりガラス基板Ｗの搬入時のＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを“０”とするプリアライメント処理での移動量及びＹ軸送り台８２ひいては第１の分割パターンの露光に続いて第２の分割パターンをつなぎ露光する際に基板Ｗを次のエリアに送るステップ送り段階等で発生するワークステージ３２のＸＹ方向位置や送り誤差を検出してそれらの検出信号を、図１０に示すように、位置決め手段を構成する補正制御装置９８に出力するようにしている。補正制御装置９８は、各干渉計９２〜９４の検出信号に基づいてプリアライメントとしてのずれ量ＸE、ＹEの補正を行う場合のＸＹ方向の移動量を調整するためにＸ軸送り駆動装置７３及びＹ軸送り駆動装置８３を制御する。また、補正制御装置９８は、各干渉計９２〜９４の検出信号に基づいてつなぎ露光のための位置決め補正量を算出して、その算出結果をマスク位置調整装置５５（及び必要に応じて上下微動装置６３）に出力し、これにより、この補正量に応じてマスク位置調整装置５５等が駆動されて位置ずれが補正される。
なお、ずれ量ＸE、ＹEの補正においては、必ずしもレーザー測長装置９０を用いなくても良い。
【００３７】
このように構成された分割逐次近接露光装置ＰＥは、プリアライメントユニットＰＵから搬送機構ＣＭによって回転方向のずれ量θのみが調整されたガラス基板Ｗがワークステージ３２上に搬入されると、このガラス基板Ｗがワークステージ３２上に載置される前に、補正制御装置９８で、ワークステージ３２を制御原点位置（アライメント完了位置）から前述したプリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２から伝送されるプリアライメントのＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEに基づいてプリアライメント位置からのずれを解消する位置に移動させて待機し、この状態で搬送機構ＣＭによってガラス基板Ｗがワークステージ３２上に載置されると、これを真空吸着してした状態で、ワークステージ３２を制御原点位置に復帰させてプリアライメント処理が完了し、次いで分割逐次露光処理を行う。
【００３８】
次に、上記構成の動作を説明する。
例えば、カラーフィルタ形大型液晶ディスプレイ用のＲＧＢカラーフィルタを製造する場合、ガラス基板Ｗ上に先ず各画素間を仕切るブラックマトリックスのパターンをレジスト塗布、露光、現像等の工程を経て形成し、次いで、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の三原色の個々のパターンを各色毎にブラックマトリックスのパターン形成と略同様の工程を繰り返しながら形成していく。ここでは、基板Ｗ上に最初に形成するブラックマトリックスのパターンを「一層目」、一層目の上に形成する三原色のいずれかのパターンを「二層目」、次に形成する三原色の他のいずれかのパターンを「三層目」、更にその次に形成する三原色の残りのパターンを「四層目」という。
【００３９】
ここでは、一層目のステップ露光に際して、図１２に示すディスプレイ用材ＤＰを９面取りする基板Ｗでステップ回数ｎ＝３とし、マスクとして図１３のマスクＭを用いる場合を例に取り、大型液晶ディスプレイ用のカラーフィルタのガラス基板Ｗの上に一層目のブラックマトリックスのパターンを三分割逐次近接露光により形成する。
なお、簡単のため、Ｙ軸方向のみのステップ送りを行う例とするが、本実施形態の分割逐次近接露光装置ＰＥは、Ｘ軸送り駆動装置７３及びＹ軸送り駆動装置８３を備えており、ワークステージ３２のＸＹ平面内でのステップ送りが可能な構成のものである。２次元のステップ送りを必要とする場合の動作も、ステップ送りにＸ軸送り駆動装置７３も併用する点を除けば以下に説明する動作と同様である。
【００４０】
先ず、基板貯留部に貯留されている一層目のブラックマトリクスのパターンを形成前の基板Ｗを搬送機構ＣＭの伸長したフォーク２２に載置してからフォーク２２を収縮させ、ガラス基板Ｗを保持した状態で旋回昇降部２１を旋回させて、図１に示すように、フォーク２２をプリアライメントユニットＰＵに前方から対向する位置に移動させる。
このとき、プリアライメンユニットＰＵでは、載置テーブル６が制御原点に一致されていると共に、アクチュエータ８によってシフトピン９が、その上端が載置テーブル６の上面から搬送機構ＣＭのフォーク２２を挿通可能な高さとなる基板受け渡し位置に上昇されているものとする。
【００４１】
この状態で、搬送機構ＣＭのフォーク２２が伸長されて、その先端に保持されているガラス基板Ｗが載置テーブル６上のプリアライメント位置に対応する各シフトピン９の上端に対向する位置まで移動され、この状態で、旋回昇降部２１を僅かに下降させることにより、ガラス基板Ｗがシフトピン９の上端に受け渡される。
この状態で、フォーク２２を退避位置まで収縮させると、この搬送機構ＣＭを制御するコントローラ２３から基板載置完了通知がプリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２に出力される。
【００４２】
このため、コントローラ１２では、図７の処理において、ステップＳ２からステップＳ３に移行して、アクチュエータ８に対してシフトピン９を下降させる下降指令を出力する。このため、シフトピン９が下降して、その上端に載置されているガラス基板Ｗが載置テーブル６の上面に載置される。
このように、載置テーブル６上にガラス基板Ｗが載置されると、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃで検出されるガラス基板Ｗのエッジ位置検出値ＥＰｂ〜ＥＰｃを読込み、ガラス基板Ｗが予め設定されたプリアライメント位置に対する回転方向きずれ量θを算出し（ステップＳ５）、この回転方向のずれ量θを“０”とするために回動テーブル６を回動させるために必要とする回動操作機構１０における電動モータ１０ｈのモータ制御量を算出し、これをモータ制御回路１３に出力する（ステップＳ６）。
【００４３】
これによって、電動モータ１０ｈが回転駆動されることにより、ボールねじ軸１０ｃが回転駆動されて、スライダ１０ｄが前後方向に移動されることにより、カムフォロワ１０ｊで回動テーブル５に形成した当接バー１０ａを押し出すか又は引っ張ることにより、回動テーブル５を、回転軸４を中心として回動させて、載置テーブル６上に載置されているガラス基板Ｗを回転方向のずれ量θを解消する方向に解消するのに必要な量だけ回動させる。
【００４４】
この状態で、エッジセンサ１１ａ〜１１ｃで検出されたエッジ位置検出値ＥＰａ〜ＥＰｃを読込み（ステップＳ７）、ずれ量θの補正が不完全な場合はステップＳ６〜Ｓ８を必要に応じて繰り返す。ずれ量θが解消された場合は最新のＥＰａ〜ＥＰｃに基づいてガラス基板Ｗのプリアライメント位置に対するＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを算出し（ステップＳ９）、算出したＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを分割逐次近接露光装置ＰＥの補正制御装置９８にローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）等を介して通知する（ステップＳ１０）。
【００４５】
その後、アクチュエータ８に対して、シフトピン９を上昇させる上昇指令を出力し（ステップＳ１１）、これによってシフトピン９がガラス基板Ｗを載置して受け渡し位置まで上昇され、その上昇が完了するとプリアライメント完了通知を搬送機構ＣＭに出力する（ステップＳ１２）。このため、搬送機構ＣＭでは、退避位置にあるフォーク２２を伸長させることにより、フォーク２２の先端部がガラス基板Ｗの下面と載置テーブル６の上面との間に挿入され、この状態で、旋回昇降部２１を僅かに上昇させることにより、シフトピン９の上面からガラス基板Ｗを受け取り、その後、フォーク２２が退避位置まで収縮される。
【００４６】
そして、フォーク２２がガラス基板Ｗを保持した状態で退避位置まで収縮すると、コントローラ２３から基板搬出完了通知がプリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２に出力されることにより、このコントローラ１２では、載置テーブル６を制御原点に復帰させるモータ制御指令値をモータ制御回路１３に出力することにより、電動モータ１０ｈが前述とは逆転制御されて、載置テーブル６が制御原点位置に復帰され、載置テーブル６が制御原点に復帰すると図７の処理でステップＳ２に戻って、次に搬送機構ＣＭから基板載置完了通知が入力されるまで待機する。
【００４７】
一方、搬送機構ＣＭでは、フォーク２２にガラス基板Ｗを保持したまま旋回昇降部２１で、分割逐次近接露光装置ＰＥのワークステージ３２に対向する位置まで旋回されると共に、ワークステージ３２に配置されているワークチャックの上面に形成されたフォーク導入溝内にガラス基板Ｗの下面がワークチャックの上面より僅かに上方としてフォーク２２を挿通可能な高さに昇降制御される。
分割逐次近接露光装置のマスクステージ１の下面には、一層目のパターンが描かれたマスクＭが予め真空吸着により装着されている。また、ワークステージ３２は、Ｙ軸方向の前進限近傍に位置し且つＺ軸方向の最下限迄下降している。
【００４８】
次に、露光装置ＰＥの動作について説明する。
一層目の露光においては、先ず、最初の状態におけるＸＹ平面内のマスクの姿勢が、基準となる向きに整合するようにマスクＭの初期位置合わせを行う。
これは、２台のアライメントカメラ５６及びマスク位置調整手段５５を用いて行う。図１１に示すように、マスクＭにはアライメントカメラ５６の視野内に位置するように２箇所のアライメントマーク１０１が設けられており、ワークステージ３２上にも、ワークステージ３２が初期位置にあるときにアライメントマーク１０１に略対応する位置に、２箇所のアライメントマーク１００が設けられている。そして、２台のアライメントカメラ５６によりアライメントマーク１００，１０１を検出し、その結果に基づき、マスク位置調整機構５５を用いてマスクＭの位置調整をすることより、マスクＭの初期位置合わせを行う。
【００４９】
このようなマスクＭの初期位置合わせに先立ち、まず、ギャップ調整手段３６を構成するＺ軸送り台３６の上下粗動装置６１及び上下微動装置６３を駆動してワークチャック３８の上面（実際にはその上に固定されたガラス製の被検部３８ｍ上面）とマスクＭとのすき間間隔（ギャップ）が所定の値となるように調整を行う。
一層目のステップ露光では、アライメントマーク１００及び１０１を用いたアライメントの際に、図９を参照して、投影用光学系７８でワーク側アライメントマーク１００を下から照射すると共に、露光時に用いるギャップセンサ５６を利用してワーク側アライメントマーク１００を有するワークチャック３８の表面（被検部）３８ｍとマスク側アライメントマーク１０１を有するマスクＭの表面（マスクマーク面Ｍｍ）との間のギャップを設定することにより、両マーク１００，１０１にアライメントカメラ５７のピントをほぼ合わせて両マーク１００，１０１のずれを検出する。
【００５０】
そして、ピントが適正に調整されたアライメントカメラ５７によってワーク側アライメントマーク１００とマスク側アライメントマーク１０１との間にずれが検出されると〔図１１（ａ）〕、その検出信号をマスク位置調整手段５５の制御装置（図示せず）に出力し、この制御装置によってＸ方向駆動装置５５ｘ及び二つのＹ方向駆動装置５５ｙの駆動を制御することにより、マスク保持枠５４の姿勢を修正して両マーク１００，１０１を図１１（ｂ）に示すように整合させる。これにより、マスクＭとＹ軸方向との傾きφ（同図は、ワークステージ３２の長辺方向とＹ軸方向と、マスクＭの短辺方向とマスクパターンＰの短辺方向とが、それぞれ平行である場合を示している）が解消される。
【００５１】
次に、ギャップ調整手段３６により一旦ワークステージ３２を搬送機構ＣＭからガラス基板Ｗの受け取りが可能な位置まで下降させる。ここまでの工程は、図７のプリアライメント処理の工程と平行して行うようにすることができる。これと同時に又はその前後に、分割逐次近接露光装置ＰＥの補正制御装置９８では、先に、プリアライメントユニットＰＵのコントローラ１２から通知されているＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEに相当する分だけＸ軸送り駆動装置７３のモータ７３１及びＹ軸送り駆動装置８３のモータ８３１を回転駆動制御することにより、ワークステージ３２をアライメント位置からずれ量ＸE及びＹEを解消するＸ方向及びＹ方向に移動させた状態で待機する。
【００５２】
この状態で、搬送機構ＣＭのフォーク２２を伸長させてフォーク導入溝内に挿入し、ガラス基板Ｗをワークチャックに対向させる。その後、旋回昇降部２１を僅かに下降させることにより、フォーク２２で保持しているガラス基板Ｗをワークチャック上に受け渡し、この状態で、ワークチャックでガラス基板Ｗを真空吸着する。次いでフォーク２２を退避位置まで収縮させる。
【００５３】
この状態で、ワークテーブル３２を原点位置に復帰させるように、補正制御装置９８で、Ｘ軸送り駆動装置７３のモータ７３１及びＹ軸送り駆動装置８３のモータ８３１を回転駆動制御することにより、プリアライメントユニットＰＵで計測されたＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを解消して、正確なプリアライメント位置にガラス基板Ｗをセットすることができる。
【００５４】
このように基板Ｗをプリアライメントすることにより、以下に述べる一層目のパターンの露光が適正な位置に行われる。一層目の露光パターンには、二層目以降の露光で基板ＷとマスクＭとの位置合わせのために用いる２箇所のアライメントマークのパターンも含まれている。二層目以降の露光を行う際に、一層目のパターンが適正な位置に形成されていて、かつ基板Ｗが正しくプリアライメントされれば、露光装置に搬送・載置された基板Ｗのアライメントマークが確実にアライメントカメラの視野内に位置される。
【００５５】
その後、再度ギャップ調整手段３６により、マスクＭの下面とワークＷ上面とのすき間を、露光する際に必要な所定の値となるように調整する。
次に、照明光学系３３の露光制御用シャッター４４を開制御して１ステップ目の露光を行い、マスクＭのマスクパターンＰを基板Ｗの所定位置に焼き付けて、基板Ｗ上に第１の分割パターンＰ１を得る。
【００５６】
続いて、第２の分割パターンＰ２のつなぎ露光を行うために、ワークステージ送り機構３７のＹ軸送り駆動装置８３を駆動してワークステージ３２を移動させることにより、ワークステージ３２をマスクＭに対して図１１（ｂ）の矢印Ｙ方向に１ステップ量だけ送り、基板Ｗを２ステップ目の露光位置に配置する。このとき、基板ＷとマスクＭとの干渉を避けるため、ワークステージ３２を必要な分だけＺ軸方向に下降させるようにしてもよい。
【００５７】
上記のようにワークステージ３２をマスクＭに対して図１１（ｂ）の矢印Ｙ方向に１ステップ量だけ送る際には、先に述べた要因による送り誤差が生じるため、そのまま２ステップ目の露光をすると第２の分割パターンＰ２が僅かではあるが位置ずれをおこす。例えば、ワークステージ３２のステップ送り中にワークステージ３２のヨーイングと真直度のエラー（ステップ送り誤差）により、図１１（ｃ）のように真直度Δｘ、傾斜角度φ′だけ正規位置からずれてしまう。
【００５８】
そこで、基板Ｗ上に第２の分割パターンＰ２を露光転写する前に、基板Ｗの送り誤差を干渉計９２〜９４で検出してその検出結果をつなぎ露光位置を補正する補正制御手段に出力し、該補正制御手段では該検出結果に基づいてつなぎ露光のための位置決め補正量を算出し、その算出結果に基づいてマスク位置調整手段５５のＸ軸方向駆動装置５５ｘ及びＹ軸方向駆動装置５５ｙを制御してマスク保持枠５４の位置を調整し、ワークステージ３２のステップ送り誤差を補正するアライメント調整を行う。なお、ギャップ調整手段３６によるマスクＭと基板Ｗとのギャップ調整を行った場合は、その後の状態でのヨーイング及び真直度のデータに基づいて前記アライメント調整を行う。
【００５９】
その後、照明光学系３３の露光制御用シャッター４４を開制御して２ステップ目の露光を行い、マスクＭのマスクパターンＰを基板Ｗの所定位置に焼き付けて、基板Ｗ上に位置ずれが修正された第２の分割パターンＰ２を得る（図１１（ｄ）参照）。
３ステップ目の露光については、前記第２の分割パターンＰ２の露光の場合と同様にして３ステップ目の露光位置へのワークステージ３２の移動、ワークステージ３２のステップ送り誤差の補正及び３ステップ目の露光を行い、基板Ｗ上に位置ずれが修正された第３の分割パターンＰ３（図示せず。）を得る。
【００６０】
以上のように、上記実施形態では、プリアライメントユニットＰＵで、ガラス基板Ｗのプリアライメント位置に対する回転方向ずれ量θを計測し、計測した回転方向ずれ量θに応じて回動操作機構１０を作動させて、ガラス基板Ｗを載置した載置テーブル６を回動させることにより、回転方向ずれ量θを略零とし、この状態で、ガラス基板Ｗのプリアライメント位置に対するＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを計測し、計測したＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを分割逐次近接露光装置ＰＥのコントローラに送信し、回転方向ずれ量θのみを修正したガラス基板Ｗを分割逐次近接露光装置ＰＥへ載置する際に、分割逐次近接露光装置ＰＥのワークステージ３２をＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEを解消する方向に位置調整してからガラス基板Ｗを受け取ることにより、プリアライメントが完了する。
【００６１】
このように、プリアライメントユニットＰＵでは、回転方向ずれ量θの修正のみを行うようにしており、ＸＹ方向移動テーブルを設ける必要がないので、プリアライメントユニットＰＵの構成を従来例に比較して大幅に簡略化することができる。また、プリアライメントユニットＰＵで行うのが単純な回転のみで済むため、修正を繰り返し行う可能性が低くなるなどにより、プリアライメントの調整時間も大幅に短縮することができる。
【００６２】
また、プリアライメント時のＸＹ方向のずれ量ＸE及びＹEについては分割逐次近接露光装置ＰＥ側でワークステージ３２を支持するＸ軸送り台７２及びＹ軸送り台８２を夫々Ｘ軸送り駆動装置７３及びＹ軸送り駆動装置８３を駆動制御することにより修正するので、この分割逐次露光近接装置ＰＥ側に特別な機構を増設することなく既存の機構を使用して、プリアライメンのＸＹ方向調整を容易に行うことができる。しかも、プリアライメントのＸＹ方向調整を搬送機構ＣＭからガラス基板Ｗをワークステージ３２上で受け取る前に行えばよいので、処理負担が大幅に増加することはなく、露光作業に与える影響は殆どない。
【００６３】
なお、上記実施形態では、レーザ干渉計９２、９３、９４等の送り誤差検出手段を備えた分割逐次近接露光装置に本発明を適用した場合を例に採ったが、これに限定されず、送り誤差検出手段を備えていない分割逐次近接露光装置やステップ送りのない一括露光式の露光装置にも本発明を適用できるのは勿論である。
また、上記実施の形態では、１層目のステップ露光を例に採ったが、これに限定されず、２層目以降のステップ露光を主とする基板ＷのアライメントマークとマスクＭのアライメントマークとを利用した位置合わせを用いて、最初の露光位置及びステップ送り位置での位置決め補正を行うタイプにも本発明を適用してもよい。
【００６４】
なお、本実施形態では、基板Ｗをワークステージ３２上に載置する前に、ずれ量ＸE、ＹE分だけワークステージ３２を移動させ、基板Ｗをワークステージ３２上に載置してからワークステージ３２を原点位置に復帰させることにより、ずれ量ＸE、ＹEの補正を行うようにしているが、これに代え、基板Ｗをワークステージ３２上に載置した後にずれ量ＸE、ＹEを補正するようにしてもよい。但し、この場合、後述のステップ送りの際に、それぞれの位置決め目標についてもずれ量ＸE、ＹE分を補正する必要がある。
【００６５】
また、ずれ量ＸE、ＹEの補正を、Ｘ軸送り駆動装置７３及びＹ軸送り駆動装置８３を用いて行う代わりに、マスク位置調整手段５５を用いて行うようにしてもよい。Ｘ軸送り駆動装置７３及びＹ軸送り駆動装置８３を用いてずれ量ＸE、ＹEの補正を行うと、マスクＭの位置調整の可能な範囲が大きく取れるという利点がある。一方、マスク位置調整手段５５を用いてずれ量ＸE、ＹEの補正を行うと、マスクＭの位置調整可能な範囲が制限されるが、高精度な補正がしやすいという利点がある。
【００６６】
また、搬送機構ＣＭの構成も上記実施形態の構成に限られず、プリアライメントユニットによる修正の状態が分割逐次近接露光装置に基板が搬送された段階で維持されるような構成であれば他の構成でもよい。各装置の位置関係等に応じて、適切な構成の搬送機構とすればよい。例えば、プリアライメントユニットと分割逐次近接露光装置との位置関係によっては、搬送機構のフォークを旋回、上下動、伸縮の他、伸縮方向と異なる方向（例えば伸縮方向と直交する方向）へ移動させる必要のある場合は、そのような移動もできるようにする。なお、この場合では、ずれ量ＸE、ＹEの補正を分割逐次近接露光装置で行う代りに搬送機構で行うようにすることもできる。
【００６７】
また、プリアライメントユニットにおける処理の手順も、図７に示した手順に限られない。例えば、ステップＳ４で得られた３つのエッジセンサによる検出結果に基づき、回転方向ずれ量及び、これを解消した際に残るＸ方向及びＹ方向のずれ量を一度に演算し、その算出結果に従い、プリアライメントユニットＰＵによる回転方向ずれ量の補正及び分割逐次近接露光装置ＰＥの側でのＸ方向及びＹ方向のずれ量の補正を行うようにしてもよい。また、ステップＳ１０をステップＳ１１〜ステップＳ１３の後にするようにしてもよい。
【００６８】
なお、リフト用テーブル５を回転軸４に対して回転不能かつ軸方向（上下方向）移動自在に設けるようにしてもよい。そして、適宜のアクチュエータによりリフト用テーブル５を上下動させることにより、シフトピン９が載置テーブル６上面から必要な量だけ突出した状態と突出しない状態とを切り換えるようにしてもよい。
また、アクチュエータ８により、シフトピン９を上下動させる代わりに、載置テーブル６を回転軸４に対して回転不能かつ軸方向（上下方向）移動自在に設けるようにしてもよい。そして、適宜のアクチュエータにより載置テーブル６を上下動させることにより、リフト用テーブルあるいは基台１上に設けられたシフトピン９が載置テーブル６上面から必要な分だけ突出した状態と突出しない状態とを切り換えるようにしてもよい。
【００６９】
さらに、上記実施形態では、プリアライメントユニットＰＵのリフト用テーブル５上にアクチュエータ８を配置してシフトピン９を昇降することにより、ガラス基板Ｗの受け渡しを行う場合について説明したが、これに限定されるものではなく、分割逐次近接露光装置ＰＥのワークチャック３８のように搬送機構ＣＭのフォーク２２を挿通可能なフォーク挿通溝を形成するようにしてもよく、同様に、分割逐次近接露光装置ＰＥにシフトピン９を適用し、ワークチャック３８あるいはシフトピン９を上下動させるようにしてもよい。
【００７０】
さらにまた、上記実施形態では、プリアライメントユニットＰＵの回動操作機構１０を電動モータ１０ｈとボールねじ１０ｅ等で構成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、回転軸４にダイレクトモータを設けて回転駆動したり、回転軸４にギヤを介して電動モータを接続したりすることもでき、要は回動テーブル５を正確に回動操作可能な構成であれば、任意の回動操作機構を適用することができる。
【００７１】
さらにまた、上記実施形態では、本発明を分割逐次近接露光装置に適用した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、載置テーブルに物品を載置する際に、プリアライメントを必要とする各種装置に、本発明を適用し得るものである。
さらに、上記実施形態では、図７に示したプリアライメント処理の手順中、ステップＳ８で回転方向ずれ量θがθ＝０になるようにしたが、これに限らず、プリアライメント誤差として許容できる範囲内の回転方向ずれ量であれば、θが所定の値以下になったら次のステップＳ９に進むようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の一実施形態を示す平面図である。
【図２】プリアライメンユニットの拡大平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】回動操作機構を示す拡大側面図である。
【図５】エッジセンサでのエッジ検出原理を示す図である。
【図６】プリアライメントユニットの制御回路を示すブロック図である。
【図７】コントローラのプリアライメント処理を示すフローチャートである。
【図８】分割逐次近接露光装置の分解斜視図である。
【図９】ワーク側アライメントマークの照射光学系を説明するための説明図である。
【図１０】分割逐次近接露光装置の補正制御回路を示すブロック図である。
【図１１】ステップ露光を説明するための説明図である。
【図１２】ディスプレイ用材ＤＰを９面取りした基板Ｗの平面図である。
【図１３】図１１の基板に対向配置されるマスクを示す図である。
【図１４】従来例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００７３】
ＰＵ…プリアライメントユニット
ＰＥ…分割逐次近接露光装置
ＣＭ…搬送機構
Ｗ…基板
Ｍ…マスク
Ｐ…マスクパターン
１…基台
３…軸受
４…回転軸
５…リフト用テーブル
６…載置テーブル
９…シフトピン
１０…回動操作機構
１１ａ〜１１ｃ…エッジセンサ
１２…コントローラ
２１…旋回昇降部
２２…フォーク
３１…マスクステージ
３２…ワークステージ
３３…照明光学系（照射手段）
３６…Ｚ方向送り台
３７…ワークステージ送り機構
７２…Ｘ方向送り台
８２…Ｙ方向送り台
９８…補正制御装置
【図１】
2007193197.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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