(57)【要約】【課題】表示ムラを抑制し、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することができる液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置の提供。【解決手段】配向処理を施した一対の基板の少なくとも一方に液晶材を滴下し、両基板を真空中で貼り合せた後、大気開放してギャップを形成する液晶パネルの製造方法において、一方の基板の表示面２０の複数の測定点において柱状スペーサの柱高さを測定した後、測定した柱高さに基づいて表示面２０内の柱高さの分布を推定し、柱高さの分布に基づいて、表示面２０を所定数に分割した分割ブロック２２毎に柱高さの平均値を算出し、柱高さの平均値と予め定めた基準値との差分に基づいて各々の分割ブロック２２に滴下する液晶材１２の滴下量を算出する。これにより、柱高さと液晶量の関係を高精度に制御して表示ムラを抑制することができる。【選択図】図６
2007011164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる滴下貼り合わせ方式による液晶表示パネルの製造方法において、
柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１のステップと、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面を所定数に分割したブロック毎に、前記液晶の滴下量を補正する第２のステップと、を少なくとも有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第２のステップは、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定するステップと、
各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出するステップと、
各々の前記ブロックの平均値と、予め設定された基準値との差分に基づいて、各々の前記ブロックに滴下する液晶の滴下量を算出するステップと、を含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる滴下貼り合わせ方式による液晶表示パネルの製造方法において、
柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１のステップと、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記液晶の滴下位置を調整する第２のステップと、を少なくとも有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記第２のステップは、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定するステップと、
前記表示面を所定数のブロックに分割し、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出するステップと、
各々の前記ブロックの平均値に基づいて、前記液晶の滴下位置の移動量又は移動方向の少なくとも一方を設定するステップと、を含むことを特徴とする請求項３記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる液晶滴下貼り合せ装置において、
柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１の手段と、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面を所定数に分割したブロック毎に、前記液晶の滴下量を補正する第２の手段と、を少なくとも備えることを特徴とする液晶滴下貼り合せ装置。
【請求項６】
前記第２の手段では、少なくとも、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定する処理と、
各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出する処理と、
各々の前記ブロックの平均値と、予め設定された基準値との差分に基づいて、各々の前記ブロックに滴下する液晶の滴下量を算出する処理と、を実行することを特徴とする請求項５記載の液晶滴下貼り合せ装置。
【請求項７】
一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる液晶滴下貼り合せ装置において、
柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１の手段と、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記液晶の滴下位置を調整する第２の手段と、を少なくとも備えることを特徴とする液晶滴下貼り合せ装置。
【請求項８】
前記第２の手段では、少なくとも、
測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定する処理と、
前記表示面を所定数のブロックに分割し、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出する処理と、
各々の前記ブロックの平均値に基づいて、液晶の滴下位置の移動量又は移動方向の少なくとも一方を設定する処理と、を実行することを特徴とする請求項７記載の液晶滴下貼り合せ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置に関し、特に、均一かつ表示ムラのない液晶表示パネルを製造することができる液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＡＶ機器やＯＡ機器の表示装置として、薄型、軽量、低消費電力等の利点から液晶表示パネルが広く用いられている。この液晶表示パネルは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子がマトリクス状に形成された一方の基板（以下、ＴＦＴ基板と呼ぶ。）と、カラーフィルター（ＣＦ）やブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成された他方の基板（以下、ＣＦ基板と呼ぶ。）との間に液晶を挟持し、基板に設けた電極による電界で液晶分子の配向方向を制御し、液晶表示パネルに照射される光を変調させることによって画像を表示するものである。
【０００３】
上記液晶表示パネルでは、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との間のギャップを制御することが重要であることから、少なくとも一方の基板に柱状スペーサなどのスペーサが形成されるが、柱状スペーサで規定されるギャップに適切な量の液晶を滴下するために、柱状スペーサの高さを測定し、その測定結果に合わせて滴下する液晶材の量を補正する液晶滴下貼り合せ装置が実用化されている。
【０００４】
例えば、特許文献１に記載されている従来の液晶滴下貼り合せ装置では、図８に示すように、測定した柱状スペーサの柱高さと基準となる柱状スペーサの柱高さとの差分により滴下する液晶材の量（以下、滴下量と呼ぶ。）の補正量を算出し、補正量に相当する滴下量を液晶量調整エリア２６に滴下する点数（以下、打点数）を増減させることによって補正する方式を採用している。又、特許文献２に記載されている従来の液晶滴下貼り合せ装置では、図９に示すように、特許文献１と同様に柱状スペーサの柱高さの測定結果より滴下量の補正量を算出し、補正量が大きい場合は１打点当りの滴下量の多い液晶材２８の点数で補正し、補正量が少ない場合は滴下量の少ない液晶材３０の打点数で補正する方式を採用している。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２９５１９９号公報（第１０−１１頁、第８図）
【特許文献２】特開２００１−２８１６７８号公報（第４−５頁、第９図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、特許文献１の場合は、図８のように表示面２０中央部にある液晶量調整エリア２６の打点数を増減させ、また、特許文献２の場合は、１打点当りの滴下量が多くなるように調整されたディスペンサと滴下量が少なくなるように調整されたディスペンサとをセットで設け、それぞれの打点数を増減させ、これにより表示面２０全体の液晶の滴下量を調整していた。
【０００７】
ここで、柱状スペーサの柱高さが均一であり、滴下された液晶が表示面２０全体に広がるのであれば上記方法で滴下量を適切に補正することができるが、実際には、柱高さは表示面２０内で均一ではなく、また、滴下された液晶材１２は完全に拡散せずに数％〜数１０％の割合で滴下された近傍に留まるため、柱状スペーサの柱高さと滴下量との不整合に起因して、表示ムラが発生するという問題が生じる。
【０００８】
具体的に説明すると、例えば、特許文献１の場合、柱高さの測定結果が表示面２０の平均値として低くなった場合、総滴下量を減少させる必要があるため、液晶量調整エリア２６の打点数を減少させる。しかしながら、表示面２０の中央部の柱高さは変化せず、表示面２０周辺部の柱高さが低くなったことにより結果的に表示面２０全体の平均値が低くなっていた場合、滴下された液晶材１２は完全に拡散されないため、表示面２０中央部においては柱高さに対して液晶材１２が少なく、表示面２０周辺部においては液晶材１２が多くなることになる。このような場合、表示面２０中央部においては柱状スペーサに必要以上の加重が架かることによる表示ムラが発生し、また、表示面２０周辺部においては余分な液晶材１２が存在することによる表示ムラが発生してしまう。
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、その主たる目的は、表示ムラを抑制し、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することができる液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の方法は、一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる滴下貼り合わせ方式による液晶表示パネルの製造方法において、柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１のステップと、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面を所定数に分割したブロック毎に、前記液晶の滴下量を補正する第２のステップと、を少なくとも有するものであり、前記第２のステップは、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定するステップと、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出するステップと、各々の前記ブロックの平均値と、予め設定された基準値との差分に基づいて、各々の前記ブロックに滴下する液晶の滴下量を算出するステップと、を含む構成とすることができる。
【００１１】
また、本発明の方法は、一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる滴下貼り合わせ方式による液晶表示パネルの製造方法において、柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１のステップと、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記液晶の滴下位置を調整する第２のステップと、を少なくとも有するものであり、前記第２のステップは、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定するステップと、前記表示面を所定数のブロックに分割し、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出するステップと、各々の前記ブロックの平均値に基づいて、前記液晶の滴下位置の移動量又は移動方向の少なくとも一方を設定するステップと、を含む構成とすることができる。
【００１２】
また、本発明の装置は、一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる液晶滴下貼り合せ装置において、柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１の手段と、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面を所定数に分割したブロック毎に、前記液晶の滴下量を補正する第２の手段と、を少なくとも備えるものであり、前記第２の手段では、少なくとも、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定する処理と、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出する処理と、各々の前記ブロックの平均値と、予め設定された基準値との差分に基づいて、各々の前記ブロックに滴下する液晶の滴下量を算出する処理と、を実行する構成とすることができる。
【００１３】
また、本発明の装置は、一方の基板の複数箇所に液晶を滴下し、シール材を用いて他方の基板を貼り合わせる液晶滴下貼り合せ装置において、柱状スペーサが形成された基板の表示面内の複数の測定点において前記柱状スペーサの高さを測定する第１の手段と、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記液晶の滴下位置を調整する第２の手段と、を少なくとも備えるものであり、前記第２の手段では、少なくとも、測定した前記柱状スペーサの柱高さに基づいて、前記表示面内の柱高さの分布を推定する処理と、前記表示面を所定数のブロックに分割し、各々の前記ブロックにおける柱高さの平均値を算出する処理と、各々の前記ブロックの平均値に基づいて、液晶の滴下位置の移動量又は移動方向の少なくとも一方を設定する処理と、を実行する構成とすることができる。
【００１４】
このように、本発明では、表示面を所定数に分割したブロック毎に適正な滴下量の液晶材が滴下され、また、適正な滴下位置に液晶材が滴下されるため、均一かつ表示ムラのない高品質の液晶表示パネルを高スループットに生産することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置によれば、表示ムラを抑制し、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することができる。
【００１６】
その理由は、基板の表示面の複数の測定点で柱状スペーサの柱高さを測定し、測定した柱状スペーサの柱高さに基づいて表示面内の柱高さの分布を推定し、表示面を所定数に分割したブロック毎に柱高さの平均値を算出し、この平均値と予め設定した基準値との差分に基づいてブロック毎に滴下量を補正、又は、ブロック間の平均値の差異に基づいて滴下位置を調整しているからである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
従来技術で示したように、柱状スペーサの柱高さを測定し、その測定結果に合わせて液晶材の滴下量を補正する液晶滴下貼り合せ装置が実用化されているが、従来の液晶滴下貼り合せ装置は、表示面全体に対して滴下量の補正を行うため、柱状スペーサの柱高さと液晶量との不整合に起因して表示ムラが発生するという問題があった。
【００１８】
そこで、本発明では、配向処理を施した一対の基板の少なくとも一方に液晶材を滴下し、両基板を真空中で貼り合せた後、大気開放してギャップを形成する液晶パネルの製造方法において、一方の基板の表示面の複数の測定点において柱状スペーサの柱高さを測定した後、測定した柱高さに基づいて表示面内の柱高さの分布を推定し、柱高さの分布に基づいて、表示面を所定数に分割したブロック毎に柱高さの平均値を算出し、柱高さの平均値と予め定めた基準値との差分に基づいて各々のブロックに滴下する液晶材の滴下量を補正、又は、各々のブロックの柱高さの平均値の差異に基づいて液晶材の滴下位置を調整し、そのブロック毎の滴下量又は滴下位置に従って上記基板に液晶材を滴下する。
【００１９】
これにより、表示面内の柱状スペーサの柱高さにばらつきがある場合でもブロック毎に適切な量の液晶材を滴下することができ、又は、適切な位置に液晶材を滴下することができるため、表示ムラを抑制し、かつ、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することが可能となる。
【実施例１】
【００２０】
上記した本発明の実施の形態についてさらに詳細に説明すべく、本発明の第１の実施例に係る液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置について、図１乃至図６を参照して説明する。図１は、貼り合せ直前の液晶表示パネルの状態を模式的に示す断面図であり、図２は、本実施例の液晶表示パネルの製造方法を示す工程図である。また、図３は、表示面内の柱状スペーサの柱高さの測定点を示す図であり、図４は、測定された柱高さに基づいて算出された柱高さの分布図及び仮想的な分割ブロックを示す図である。また、図５は、本実施例の液晶滴下量の補正値の算出手順を示すフローチャート図であり、図６は、液晶材が滴下された状態のＴＦＴ基板を示す図である。
【００２１】
図１に示すように、本実施例の液晶表示パネルは、ＴＦＴ等のスイッチング素子がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板１０と、カラーフィルター（ＣＦ）やブラックマトリクス（ＢＭ）等が形成されたＣＦ基板１１と、ＴＦＴ基板１０及びＣＦ基板１１に挟持される液晶材１２とからなり、ＴＦＴ基板１０には基板を貼り合せるためのシール材１４が描画され、ＣＦ基板１１には基板間のギャップを規定するための柱状スペーサ１６が配設されている。
【００２２】
ここで、従来の液晶パネルの製造方法では、柱状スペーサ１６の柱高さの測定結果に基づいて滴下量の補正値を算出し、液晶量調整エリア２６に滴下する液晶材の打点数を算出したり、滴下量の多い液晶材２８又は滴下量の少ない液晶材３０の打点数を調整するなどにより、表示面全体として滴下量を補正する方法が用いられていたが、これらの方法では柱状スペーサの柱高さと液晶量との不整合に起因する表示ムラを抑制することができなかった。
【００２３】
そこで、本実施例では、表示面全体の液晶材の滴下量を補正するのではなく、表示面を仮想的に複数のブロック（以下、分割ブロックと呼ぶ。）に分割し、分割ブロック毎に液晶材の滴下量を補正する手法を用いる。具体的には、表示面の複数の測定点で柱状スペーサの柱高さを測定し、その測定結果に基づいて柱高さの分布を推定し、その分布に基づいて分割ブロック毎の柱高さの平均値を算出し、その平均値と予め定めた基準値との差分を算出し、その差分に基づいて分割ブロック毎の滴下量を算出する。
【００２４】
ここで、柱状スペーサの柱高さの測定点は複数であればよく、その位置は限定されないが、柱高さ分布を推定するときに内挿法による計算を行えるような測定点とすることが好ましく、例えば、図３に示すように、表示面２０内の１３箇所で柱高さを測定する構成とすることができる。なお、測定点は、複数の基板の全てに対して同じ点数とする必要はなく、例えば１０シートに１回の頻度で１３箇所測定し、それ以外はこれらの測定点のうち３箇所のみ測定を行い、同じ測定点の測定結果の差分より、全体の柱高さを補正して滴下量を算出するようにしてもよい。
【００２５】
また、柱高さの測定結果より表示面２０内の柱高さの分布を推定する方法も特に限定されないが、例えば、応答曲面法等を用いて、測定された柱高さから各測定点間の柱高さを求めて分布を推定することができる。図４は、上記方法で推定した柱高さの分布を等高線２４にて表した例を示しており、各々の等高線２４の柱高さが基準となる柱高さに対して何パーセントずれているかを示している。更に、表示面内２０を１６分割した場合の分割ブロック２２を点線にて表している。なお、分割数も特に限定されないが、最低でも表示面２０の中央部と、表示面２０の４隅と、表示面２０の４周辺に沿った領域の９分割以上とすることが望ましい。
【００２６】
このように表示面２０内を仮想的に複数の分割ブロック２２に分割することで、例えば図４の表示面２０の右上隅の分割ブロック２２の場合、基準となる柱高さに対してこのブロック内の平均柱高さが約１％高くなっていることを容易に算出することができ、この差分に基づいてこの分割ブロック２２の滴下量を算出する。また同様に、全ての分割ブロック２２の平均柱高さのずれ量を計算し、分割ブロック２２毎の滴下量の補正量を算出する。
【００２７】
図６はこのようにして算出された滴下量で液晶材１２を滴下した状態を示している。この場合、分割ブロック２２毎の液晶材１２の打点数は４打点であり、その４打点は同一の滴下量である。つまり、分割ブロック２２毎の滴下量を４打点で均等に分割して滴下している。例えば、先に述べた表示面２０の右上隅の分割ブロック２２の場合、基準となる柱高さより約１％高くなっているので、予め登録されている滴下量よりも１％多く滴下すればよく、同様の手法で全ての分割ブロック２２に対して滴下量を補正する。なお、各々の分割ブロック２２に滴下する液晶材１２の打点数は特に限定されず、分割数が多くなれば各分割ブロック２２の打点数を減らせばよいし、分割数が少なくなれば各分割ブロック２２の打点数を増やせばよい。
【００２８】
このように表示面２０内を仮想的に複数の分割ブロック２２に分割することにより、従来の特許文献１（図８）及び特許文献２（図９）のように表示面内２０全体の総滴下量を補正する方法に比べて、表示面内２０の柱高さばらつきに対して高精度に滴下量を補正することができる。また、滴下された液晶材１２は真空貼り合せ後の大気開放でも完全に均一に拡散されないため、柱高さと液晶量の差による表示ムラの発生を抑える効果が得られる。
【００２９】
次に、図２及び図５の工程図を参照して、本実施例の液晶表示パネルの製造方法について詳述する。
【００３０】
始めに、図２に示すように、ＴＦＴパターンが形成されているＴＦＴ基板１０及び柱状スペーサ１６が形成されているＣＦ基板１１に配向膜の成膜及びラビング処理等の配向処理（Ｓ１０２、Ｓ１０５）を実施し、ＴＦＴ基板１０には、ＣＦ基板１１と貼り合せるためのシール材１４を、表示面を囲むように塗布する（Ｓ１０３）。
【００３１】
次に、ＣＦ基板１１に形成されている柱状スペーサ１６の柱高さを測定する（Ｓ１０６）。測定する手段としては、レーザ光を利用する非接触式や機械的な接触式などの公知の手段を用いることができる。また、測定する箇所は、図３に示すように、滴下量を算出時の精度を上げるために、なるべく表示面２０全体をカバーし、かつ、内挿法による計算を行えるように設定することが好ましい。
【００３２】
次に、測定された柱高さに基づいて液晶材１２の滴下量を算出する（Ｓ１０７）。この滴下量の算出方法については、図５に示すような手法を用いる。始めに、測定結果（Ｓ２０１）より、柱高さの表示面内の分布を推定する（Ｓ２０２）。推定する手法としては、上述したように応答曲面法等を用いて測定点間の柱高さを補間する手法を用いる。そのようにして推定された柱高さ分布を等高線にて表したのが図４である。なお、等高線２４の端に示しているパーゼンテージは、柱高さの設計値を基準柱高さとして登録しておき、その基準柱高さに対して何パーセントずれているかを表している。例えば、基準柱高さを４．０μｍとした場合、−１％と−０．５％の等高線で囲まれている領域は、０．０４〜０．０２μｍ、基準柱高さより低い領域であることを意味している。
【００３３】
次に、表示面２０内の領域を仮想的に複数の分割ブロック２２に分割する。図４は、１６ブロックに分割している図であり、点線は分割ブロック２２の境界線を示している。そして、表示面２０内の柱高さの分布より分割ブロック２２毎の平均柱高さを算出し（Ｓ２０３）、その平均柱高さと上記基準柱高さとの差分を算出する（Ｓ２０４）。例えば、図４における表示面２０の右上隅の分割ブロック２２の場合、０〜＋１％の領域と＋１〜＋２％の領域が約半々占めていることから、その分割ブロック２２内の平均柱高さと基準柱高さとの差分は約＋１％であることを算出することができる。実際には、更に厳密に算出される。同様にして全ブロックの平均柱高さと基準柱高さとの差分を算出する。
【００３４】
次に、算出された分割ブロック２２毎の柱高さの差分より滴下量の補正量を算出し（Ｓ２０５）、その補正量を液晶ディスペンサに指示し（Ｓ２０６）、液晶ディスペンサでは指示された滴下量の液晶材１２を滴下する（Ｓ２０７）。図６は、補正された滴下量の液晶材１２をＴＦＴ基板１０に滴下した直後の状態を示す図である。図に示されているように、滴下量の補正は分割ブロック２２毎に実施される。すなわち、滴下量は基準柱高さの場合、何ｇ滴下するかは前もって登録されており、例えば、表示面２０右上隅の分割ブロック２２では平均柱高さが基準柱高さに比べて約１％高いため、その分割ブロック２２内の滴下量を基準となる滴下量より約１％多くする。以降、次の分割ブロック２２に対して同様に指示された滴下量に補正して滴下を実施する。
【００３５】
なお、液晶ディスペンサの滴下方式は任意であり、特に限定されるものではない。但し、滴下量の精度としては狙い値に対して±０．５％以下とすることが望ましい。また、ステップＳ２０２〜Ｓ２０６までの工程を実行する装置の形態は特に限定されず、柱高さ測定装置や液晶ディスペンサ内に上記工程を実行するための手段を設けたり、上記工程を実行するための制御装置を設けるなど、液晶滴下貼り合せ装置内に上記工程を実行するための手段を備えていればよい。
【００３６】
以上のようにして、ＴＦＴ基板１０に液晶材１２を滴下したのち（Ｓ１０８）、チャンバー内に搬送して真空状態にてＣＦ基板１１と貼り合せる（Ｓ１０９）。その後、チャンバーを大気開放することで、基板間の真空と基板周辺の大気との差圧にてＣＦ基板１１とＴＦＴ基板１０が潰されその間にある液晶材１２が広がることで、ギャップが形成される。そしてＵＶ照射及び加熱処理を行うことでシール材１４を硬化させて（Ｓ１１０）、液晶表示パネルを得る。
【００３７】
このように、本実施例では滴下量の補正値を算出するときに、表示面内２０全体の柱高さを考慮して、分割ブロック２２毎に滴下量を補正する手法を採用しているため、作製された液晶表示パネルの柱高さと液晶量の関係を高精度に制御することができる。従って、非常に均一で表示ムラがなく、それに伴う不良も低減することができるため、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することができる。
【実施例２】
【００３８】
次に、本発明の第２の実施例に係る液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置について、図７を参照して説明する。図７は、本実施例に係るＴＦＴ基板の液晶材の滴下位置の移動例を示す図である。
【００３９】
前記した第１の実施例では、分割ブロック２２毎の平均柱高さと予め定めた基準柱高さとの差分に基づいて分割ブロック２２毎に滴下量の補正を行ったが、滴下する位置を移動させることによっても、滴下量を変化させたときと同様の効果を得ることできる。そこで本実施例では、前記した第１の実施例と同様に、ステップＳ２０１〜２０３までの処理行い、分割ブロック２２毎の平均柱高さに基づいて平均柱高さの大きい分割ブロック２２により多くの液晶材１２が分布するように滴下する位置を移動させる。
【００４０】
具体的には、図７に示すように、表示面２０内を仮想的に複数（ここでは９分割）の分割ブロック２２に分ける。そして、分割ブロック２２毎の平均柱高さを算出（Ｓ２０３）するまでは第１の実施例と同様に行い、滴下量自体は表示面全体平均柱高さと基準柱高さとを比較して算出して補正する。よって、各分割ブロック２２の各打点の滴下量は一定となる。
【００４１】
このままでは、特許文献１及び特許文献２と同様に表示面２０内の柱高さ分布が考慮されておらず、表示ムラが発生する可能性がある。そこで、本実施例では打点位置を移動させる。図７は表示面２０の中央の分割ブロック２２の柱高さがその他の分割ブロック２２より高かった場合を示しているが、その場合、矢印のように打点位置を中央よりに移動させる。そうすると、前記した第１の実施例でも述べたように、滴下された液晶材１２は完全に均一に拡散されないので、ＣＦ基板１１とＴＦＴ基板１０が貼り合わされた後も、表示面２０の中央部により多くの液晶材１２が残ることになり、中央部の滴下量を増やしたのと同様の効果が得られる。
【００４２】
なお、図７は例示であり、柱高さが周辺のブロックより低い場合は逆に打点位置を周辺よりに移動させればよい。また、打点の移動量や移動方向は分割ブロック２２毎の柱高さの差異の程度に基づいて設定すればよい。
【００４３】
このように、本実施例では、分割ブロック２２毎の柱高さを考慮して、各分割ブロック２２における滴下位置を設定する手法を採用しているため、作製された液晶表示パネルの柱高さと液晶量の関係を高精度に制御することができる。従って、第１の実施例と同様に、非常に均一で表示ムラがなく、それに伴う不良も低減することができるため、製造コストが低く高品質な表示特性の液晶表示パネルを製造することができる。
【００４４】
なお、前記した第１の実施例では分割ブロック２２毎の滴下量を補正し、前記した第２の実施例では滴下位置を調整したが、第１の実施例と第２の実施例とを組み合わせてもよく、その場合、第１の実施例の方法にて大きく滴下量の補正をかけ、第２の実施例の方法にて微調整を行うようにしてもよい。
【００４５】
また、上記各実施例では、ＣＦ基板１１に柱状スペーサ１６を形成し、ＴＦＴ基板１０にシール材１４を描画すると共に液晶材１２を滴下する構成としたが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、ＴＦＴ基板１０又は双方の基板に柱状スペーサ１６を形成したり、ＣＦ基板１１又は双方の基板にシール材１４を描画したり、ＣＦ基板１１に液晶材１２を滴下するなどの変更が可能である。また、上記各実施例では、ギャップを形成するために柱状スペーサ１６を用いたが、柱状スペーサ１６に代えて球状のスペーサを用いるなどの変更も可能である。また、上記各実施例では、本発明の方法を真空中で液晶を滴下して貼り合わせ、大気圧に戻してシール材を硬化させる方式（真空滴下貼り合わせ方式）に適用する場合について示したが、大気中で液晶を滴下し貼り合わせた後、加圧してシール材を硬化させる方式（常圧滴下貼り合わせ方式）に対しても同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、液晶滴下貼り合せ方式を用いた任意の液晶表示パネルの製造方法及び液晶滴下貼り合せ装置に対して適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１の実施例に係る液晶滴下貼り合せ方式による貼り合せ直前の液晶表示パネルの状態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の第１の実施例に係る液晶滴下貼り合せ方式による液晶表示パネルの製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の第１の実施例に係るＴＦＴ基板における柱高さの測定点を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施例に係るＴＦＴ基板における柱高さの分布及び分割ブロックを示す図である。
【図５】本発明の第１の実施例に係る滴下量の補正値を算出する手順を示すフローチャート図である。
【図６】本発明の第１の実施例に係るＴＦＴ基板における液晶を滴下した状態を示す図である。
【図７】本発明の第２の実施例に係るＴＦＴ基板における液晶を滴下した状態を示す図である。
【図８】従来の液晶滴下貼り合せ方式（特許文献１）におけるＴＦＴ基板における液晶を滴下した状態を示す図である。
【図９】従来の液晶滴下貼り合せ方式（特許文献２）におけるＴＦＴ基板における液晶を滴下した状態を示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０  ＴＦＴ基板
１１  ＣＦ基板
１２  液晶材
１４  シール材
１６  柱状スペーサ
１８  柱高さ測定点
２０  表示面
２２  分割ブロック
２４  等高線
２６  液晶量調整エリア
２８  滴下量の多い液晶材
３０  滴下量の少ない液晶材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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