(57)【要約】【課題】  簡便でかつ効率よく貴金属担持触媒から塩素を除去する前処理方法を提供する。【解決手段】  本発明における触媒の前処理方法は、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒を、スチームを流通させて塩素を除去してなるように構成される。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒を、スチームを流通させて塩素を除去してなることを特徴とする触媒の前処理方法。
【請求項２】
スチームおよび水素を流通させて塩素を除去してなる請求項１に記載の触媒の前処理方法。
【請求項３】
前記スチームに対する水素の含有割合が、７５％以下である請求項２に記載の触媒の前処理方法。
【請求項４】
前記スチーム、または前記スチームおよび水素の流通温度が３５０℃以上である請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の触媒の前処理方法。
【請求項５】
前記スチーム、または前記スチームおよび水素の流通温度が３５０〜７００℃である請求項４に記載の触媒の前処理方法。
【請求項６】
前記貴金属がＲｕまたはＲｈである請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の触媒の前処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触媒の前処理方法に関するものであり、より詳しくは、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持した触媒の脱塩素方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
触媒担体に貴金属を担持した触媒としては、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒がある。
【０００３】
一般に、触媒中に塩素が残存すると、活性金属と塩素化合物を形成するため、所望の活性や選択性を得ることができない。また、当該触媒を使用したプラント運転中における塩素の流出およびそれに伴う材料の腐食も懸念される。
【０００４】
触媒の調製時に塩化物を使用する触媒系においては、効率的に塩素を除去することが望まれるが、活性金属あるいは触媒担体と塩素が強く結合しており、単純な水処理では十分な脱塩素を行なうことができない。また、アンモニア水にて洗浄する方法でも、若干脱塩素率が向上するものの、その値は不十分でしかも廃水処理用に余分なコストが必要となる。
【０００５】
【非特許文献１】触媒講座５（講談社サイエンティフィク）Ｐ．１００〜１０１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような実状のもと、本発明は創案されたものであってその目的は、簡便でかつ効率よく貴金属担持触媒から塩素を除去する前処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような課題を解決するために、本発明の触媒の前処理方法は、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒を、スチームを流通させて塩素を除去してなるように構成される。
【０００８】
また、本発明の触媒の前処理方法の好ましい態様として、スチームおよび水素を流通させて塩素を除去してなるように構成される。
【０００９】
また、本発明の触媒の前処理方法の好ましい態様として、前記スチームに対する水素の含有割合が７５％以下となるように構成される。
【００１０】
また、本発明の触媒の前処理方法の好ましい態様として、スチーム、またはスチームおよび水素の流通温度が３５０℃以上となるように構成される。
【００１１】
また、本発明の触媒の前処理方法の好ましい態様として、スチーム、またはスチームおよび水素の流通温度が３５０〜７００℃となるように構成される。
【００１２】
また、本発明の触媒の前処理方法の好ましい態様として、前記貴金属がＲｕまたはＲｈからなるように構成される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の触媒の前処理方法は、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒を、スチームを流通させて塩素を除去するように構成しているので、簡便でかつ効率よく貴金属担持触媒から塩素を除去することができるという極めて優れた効果が発現する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１５】
本発明の触媒の前処理方法の要部は、触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持して調製した貴金属担持触媒に、スチームを流通させて塩素を除去しているところにある。以下、各構成要件ごとに説明する。
【００１６】
〔触媒担体の形成工程〕  
触媒担体の原料として、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、シリカ（ＳｉＯ2）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）などの単一金属酸化物、あるいはこれらの２種以上を含有させた複合金属酸化物が挙げられる。これらの中では、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を用いることが好ましい。
【００１７】
このような触媒担体の原料（通常、粉末形態）は、モールドにより所定の形状に圧力成形された後に、焼成され、触媒担体が形成される。触媒担体の具体的形状に特に制限はないが、一般には、リング、サドル、マルチホール、ペレット等の工業触媒形態とすることが望ましい。また、破砕物のような不定形形状であってもよい。
【００１８】
焼成条件として、焼成温度は、通常、１０００℃以上、好ましくは、１０００〜１３００℃、さらに好ましくは、１１００〜１２００℃とされ、焼成時間は、１〜４時間とされる。焼成雰囲気は通常大気中で行われる。なお、上記触媒担体の原料の中には、カーボン等を含有させてもよい。
【００１９】
焼成後の担体は、その比表面積が０．１〜１．０ｍ2／ｇ程度とすることが好ましい。比表面積は、いわゆる「ＢＥＴ」法により測定されたものである。一般には、焼成温度と焼成時間によって、得られる触媒または担体の比表面積をコントロールすることができる。
【００２０】
〔触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持させて貴金属担持触媒を形成させる工程〕
上記の要領で作製された触媒担体に、貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持させる処理が行なわれる。
【００２１】
貴金属塩化物水溶液としては、ルテニウム（Ｒｕ）やロジウム（Ｒｈ）の塩化物水溶液を使用することが好ましい。具体的には、ルテニウム（III）クロライド水溶液、ロジウム（III）クロライド水溶液などが好適例として挙げられる。担持させる具体的手法としては、スプレー（噴霧）含浸法や、浸漬法や、イオン交換法等を用いることができる。
【００２２】
触媒担体に触媒金属を水溶液状で担持させた後、通常、乾燥工程が施される。乾燥温度は例えば、５０〜１５０℃程度とされる。得られた乾燥物は、そのままの状態で触媒として用いることもできるが、通常は、３００〜８００℃程度の温度で焼成（２次焼成）される。このような２次焼成を行うことにより触媒金属の反応活性がさらに高まる。
【００２３】
触媒コストの低減化を図るには、担体に担持させる触媒金属の担持量をできるだけ少なくさせると同時に、少ない量で十分な反応活性を発現させる必要がある。そのために触媒担体の結晶化を促進させることは好ましい手法の１つである。結晶化を促進させることにより、触媒担体の表面に活性金属が効率良く担持される。
【００２４】
触媒貴金属の担持量は、重量基準で１００〜１００００ｗｔ-ｐｐｍ、好ましくは
３００〜５０００ｗｔ-ｐｐｍ、より好ましくは６００〜２５００ｗｔ-ｐｐｍ担持させるのがよい。
【００２５】
ルテニウム（Ｒｕ）やロジウム（Ｒｈ）等の触媒貴金属は、金属状態で担持されていても良いし、酸化物等の金属化合物の状態で担持されていてもよい。なお、上記触媒貴金属の担持量は、触媒担体に対する重量割合として算出される。
【００２６】
〔貴金属担持触媒を、スチームを流通させて塩素を除去する工程〕
上記の要領で作製した貴金属担持触媒を、反応器に充填した後、スチームを流通させて触媒に残存している塩素を除去する触媒の前処理工程が行なわれる。
【００２７】
塩素除去のために用いられるスチームの流通条件は、以下のように設定される。
【００２８】
スチーム温度は、３５０℃以上、特に３５０〜７００℃の範囲とすることが望ましい。この温度が３５０℃未満であると、担体の酸化マグネシウムが水和されて水酸化マグネシウムとなり触媒強度が低下するという不都合が生じる。この一方で、この温度が７００℃を超えると、触媒の活性が低下するという不都合が生じる。
【００２９】
スチーム圧力は、０．０〜１．０ＭＰａＧ程度とされる。また、ＧＨＳＶ（gas hourly space velocity）は、１０〜３０００ｈｒ-1程度とされる。
【００３０】
スチームのみでの処理でもよいが、水素との混合としてもよい。混合使用する場合には、スチームに対する水素の含有割合（モル比）が、７５％以下、好ましくは、５０％以下とするのがよい。水素が７５％を超えて多くなりすぎると、スチームによる塩素除去の効果が十分でなくなってしまうという不都合が生じてしまう。
【実施例】
【００３１】
以下、具体的実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
【００３２】
[実験例Ｉ]
（触媒調製例１）  
市販の純度９８．７ｗｔ％以上の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の粉末に滑択材として３．０ｗｔ％のカーボンを混合したものを、１／４インチペレットにタブレット形成した。次いで、このペレットを空気中で１１８０℃で３ｈｒ（時間）焼成し、ＭｇＯ触媒担体を得た。
【００３３】
次いで、このＭｇＯ触媒担体に向けて、０．２ｗｔ％のＲｕを含有するルテニウム（III）クロライド水溶液を噴霧（スプレー）してＲｕが付着したＭｇＯ触媒担体を得た。
次いで、Ｒｕが付着したＭｇＯ触媒担体を空気中において１１０℃の温度で１０ｈｒ乾燥させた後、空気中において４００℃で２．０ｈｒ焼成し、Ｒｕが担持されたＭｇＯ触媒担体を得た（調製触媒１）。
【００３４】
この触媒はＲｕをＲｕ金属として、ＭｇＯ触媒担体（Ｒｕの担持なしの状態）に対し３００ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有しており、触媒の比表面積は０．４ｍ2／ｇであった。また、この触媒は、ＣｌをＭｇＯ触媒担体（Ｒｕの担持なしの状態）に対し６６０ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有していた。
【００３５】
（触媒調製例２）  
市販の純度９８．７ｗｔ％以上の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の粉末に滑択材として３．０ｗｔ％のカーボンを混合したものを、１／４インチペレットにタブレット形成した。次いで、このペレットを空気中で１１８０℃で３ｈｒ（時間）焼成し、ＭｇＯ触媒担体を得た。
【００３６】
次いで、このＭｇＯ触媒担体に向けて、１．３ｗｔ％のＲｕを含有するルテニウム（III）クロライド水溶液を噴霧（スプレー）してＲｕが付着したＭｇＯ触媒担体を得た。
次いで、Ｒｕが付着したＭｇＯ触媒担体を空気中において１１０℃の温度で１０ｈｒ乾燥させた後、空気中において４００℃で２．０ｈｒ焼成し、Ｒｕが担持されたＭｇＯ触媒担体を得た（調製触媒２）。
【００３７】
この触媒はＲｕをＲｕ金属として、ＭｇＯ触媒担体（Ｒｕの担持なしの状態）に対し２０００ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有しており、触媒の比表面積は０．４ｍ2／ｇであった。また、この触媒は、ＣｌをＭｇＯ触媒担体（Ｒｕの担持なしの状態）に対し７１０ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有していた。
【００３８】
〔脱塩素処理１〕  
上記触媒調製例１で調製した触媒１０ｃｃを反応器に充填して、触媒の脱塩素試験（触媒の前処理試験）を行なった。
【００３９】
充填した触媒に対して、スチームを流通させて触媒に残存する塩素を除去した。スチーム処理は、圧力０．０ＭＰａＧ、温度４００℃、ＧＨＳＶ＝５００ｈｒ-1の条件で行なった。脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、８９％であった。
【００４０】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００４１】
なお、触媒強度(side-crashing-strength)は、ＪＩＳ  Ｒ２２０６に準じて、軸圧縮試験装置により計測を実施した。測定は、触媒を稜線で接触させ、上方から荷重を加えて触媒が破壊するに至る力を測定した。
【００４２】
〔脱塩素処理２〕  
上記脱塩素処理１におけるスチームの温度を４００℃から５００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理２を行なった。
【００４３】
脱塩素処理２における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９１％であった。
【００４４】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００４５】
〔脱塩素処理３〕  
上記脱塩素処理１において使用した触媒調製例１の触媒（調製触媒１）を、触媒調製例２（調製触媒２）の触媒に変えた。さらに、上記脱塩素処理１におけるスチームの温度を４００℃から６００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理３を行なった。
【００４６】
脱塩素処理３における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９３％であった。
【００４７】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００４８】
〔脱塩素処理４〕  
上記脱塩素処理３におけるスチームの温度を６００℃から７００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理３と同じ条件で、本発明の脱塩素処理４を行なった。
【００４９】
脱塩素処理４における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９５％であった。
【００５０】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００５１】
〔脱塩素処理５〕  
上記脱塩素処理１において使用したスチームの半分を水素に置換した。すなわち、水素：スチーム＝１：１とした。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理５を行なった。
【００５２】
脱塩素処理５における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９２％であった。
【００５３】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００５４】
〔脱塩素処理６〕  
上記脱塩素処理５におけるスチームの温度を４００℃から６００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理５と同じ条件で、本発明の脱塩素処理６を行なった。
【００５５】
脱塩素処理６における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９５％であった。
【００５６】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００５７】
〔脱塩素処理７〕  
上記脱塩素処理５における水素：スチーム条件を、水素：スチーム＝１：２０の条件に変えた。触媒は触媒調製例２（調製触媒２）を用いた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理７を行なった。
【００５８】
脱塩素処理７における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９１％であった。
【００５９】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００６０】
〔脱塩素処理８〕  
上記脱塩素処理７におけるスチームの温度を４００℃から６００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理７と同じ条件で、本発明の脱塩素処理８を行なった。
【００６１】
脱塩素処理８における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、９４％であった。
【００６２】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００６３】
〔脱塩素処理９〕  
上記脱塩素処理５における水素：スチーム条件を、水素：スチーム＝２．７：１の条件に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理９を行なった。
【００６４】
脱塩素処理９における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、８０％であった。
【００６５】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００６６】
〔脱塩素処理１０〕  
上記脱塩素処理１におけるスチームの温度を４００℃から３００℃に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、本発明の脱塩素処理１０を行なった。
【００６７】
脱塩素処理１０における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、８５％であった。
【００６８】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は２２Ｎ／ｍｍであった。スチームの温度を３００℃までに下げると、塩素除去率は８５％程度までには維持できるが、脱塩素処理による触媒強度の劣化が生じる。
【００６９】
〔比較脱塩素処理１*〕  
上記脱塩素処理１で用いたスチームを、水素（Ｈ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、比較例１*である比較脱塩素処理１*を行なった。
【００７０】
比較脱塩素処理１*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、２２％であった。
【００７１】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００７２】
〔比較脱塩素処理２*〕  
上記脱塩素処理２で用いたスチームを、水素（Ｈ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理２と同じ条件で、比較例２*である比較脱塩素処理２*を行なった。
【００７３】
比較脱塩素処理２*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、４１％であった。
【００７４】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００７５】
〔比較脱塩素処理３*〕  
上記脱塩素処理３で用いたスチームを、水素（Ｈ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理３と同じ条件で、比較例３*である比較脱塩素処理３*を行なった。
【００７６】
比較脱塩素処理３*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、６５％であった。
【００７７】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００７８】
〔比較脱塩素処理例４*〕  
上記脱塩素処理４で用いたスチームを、水素（Ｈ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理４と同じ条件で、比較例４*である比較脱塩素処理４*を行なった。
【００７９】
比較脱塩素処理４*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、７８％であった。
【００８０】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００８１】
〔比較脱塩素処理例５*〕  
上記脱塩素処理１で用いたスチームを、窒素（Ｎ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理１と同じ条件で、比較例５*である比較脱塩素処理５*を行なった。
【００８２】
比較脱塩素処理５*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、０％であった。
【００８３】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００８４】
〔比較脱塩素処理例６*〕  
上記脱塩素処理２で用いたスチームを、窒素（Ｎ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理２と同じ条件で、比較例６*である比較脱塩素処理６*を行なった。
【００８５】
比較脱塩素処理６*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、１５％であった。
【００８６】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００８７】
〔比較脱塩素処理例７*〕  
上記脱塩素処理３で用いたスチームを、窒素（Ｎ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理３と同じ条件で、比較例７*である比較脱塩素処理７*を行なった。
【００８８】
比較脱塩素処理７*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、５７％であった。
【００８９】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００９０】
〔比較脱塩素処理例８*〕  
上記脱塩素処理４で用いたスチームを、窒素（Ｎ2）に変えた。それ以外は上記脱塩素処理４と同じ条件で、比較例８*である比較脱塩素処理８*を行なった。
【００９１】
比較脱塩素処理８*における脱塩素開始から１０時間経過後の塩素除去率は、７１％であった。
【００９２】
脱塩素前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、脱塩素処理終了後の触媒強度は３１Ｎ／ｍｍであった。脱塩素処理による触媒強度の劣化は見られなかった。
【００９３】
〔比較脱塩素処理例９*〕  
上記脱塩素処理１におけるスチーム処理を、水洗処理に変えた。すなわち、室温にて、触媒調製例１で調製した触媒３０ｃｃを、１Ｌ（リットル）の純水で５回、室温にて洗浄し、脱塩素処理を行なった。
【００９４】
その結果、塩素除去率は、３０％であった。
【００９５】
水洗処理前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、水洗処理終了後の触媒強度は１５Ｎ／ｍｍであった。水洗処理によって、触媒強度は大きく劣化した。
【００９６】
〔比較脱塩素処理例１０*〕  
上記脱塩素処理１におけるスチーム処理を、アンモニア水による洗浄処理に変えた。すなわち、触媒調製例１で調製した触媒３０ｃｃを、１リットルの０．２Ｎアンモニア水で５回、室温にて洗浄し、脱塩素処理を行なった。
【００９７】
その結果、塩素除去率は、４０％であった。
【００９８】
水洗処理前の触媒強度（side-crashing-strength）は、３１Ｎ／ｍｍであり、水洗処理終了後の触媒強度は１６Ｎ／ｍｍであった。ＮＨ3処理によって、触媒強度は大きく劣化した。
【００９９】
上記の実験結果を下記表１にまとめて示した。
【０１００】
【表１】
2007325991.tif 000002
【０１０１】
【表２】
2007325991.tif 000003
【０１０２】
[実験例ＩＩ]
（触媒調製例３）  
市販の純度９８．７ｗｔ％以上の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の粉末に滑択材として３．０ｗｔ％のカーボンを混合したものを、１／４インチペレットにタブレット形成した。次いで、このペレットを空気中で１１８０℃で３ｈｒ（時間）焼成し、ＭｇＯ触媒担体を得た。
【０１０３】
次いで、このＭｇＯ触媒担体に向けて、１．３ｗｔ％のＲｈを含有するロジウム（III）クロライド水溶液を噴霧（スプレー）してＲｈが付着したＭｇＯ触媒担体を得た。
【０１０４】
次いで、Ｒｈが付着したＭｇＯ触媒担体を空気中において１１０℃の温度で１０ｈｒ乾燥させた後、空気中において６００℃で２．０ｈｒ焼成し、Ｒｈが担持されたＭｇＯ触媒担体を得た（調製触媒３）。
【０１０５】
この触媒はＲｈをＲｈ金属として、ＭｇＯ触媒担体（Ｒｈの担持なしの状態）に対し２０００ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有しており、触媒の比表面積は０．４ｍ2／ｇであった。また、この触媒は、ＣｌをＭｇＯ触媒担体（Ｒｈの担持なしの状態）に対し６５０ｗｔ-ｐｐｍの割合で含有していた。
【０１０６】
この調製触媒３を用いて、上記実験例Ｉに準じた種々の脱塩素処理の実験を行なったところ、表１に示されるのと同様な傾向の結果が得られることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
触媒担体に貴金属塩化物水溶液を使用して貴金属を担持する場合の、貴金属担持触媒の調製に利用される。