(57)【要約】 【課題】少量の液体によって基板を洗浄することが可能な、電気光学装置用基板の洗浄装置を提供することを目的とする。 【解決手段】電気光学用基板の洗浄装置１は、洗浄に用いる液体を液滴として吐出して基板上に塗布するインクジェットヘッド４と、インクジェットヘッド４と基板１２とを相対的に移動させる移動手段と、予め入力された基板１２上における被洗浄領域についての位置情報に基づいて、被洗浄領域上に液体１２を塗布するように、インクジェットヘッド４と移動手段とを制御する洗浄装置制御部２とを具備する構成とした。【選択図】図４
2007011100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄に用いる液体を液滴として吐出して電気光学装置用の基板上に塗布する吐出手段と、
該吐出手段と前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、
予め入力された前記基板上における被洗浄領域についての位置情報に基づいて、前記被洗浄領域上に前記液体を塗布するように、前記吐出手段と前記移動手段とを制御する制御手段とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板の洗浄装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記被洗浄領域に塗布される前記液体の塗布量についての情報に基づいて、前記被洗浄領域上に所定の液量の前記液体を塗布するように前記吐出手段と前記移動手段とを制御することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板の洗浄装置。
【請求項３】
前記吐出手段は、インクジェット装置により構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置用基板の洗浄装置。
【請求項４】
前記吐出手段は、噴霧装置により構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置用基板の洗浄装置。
【請求項５】
電気光学装置用の基板の被洗浄領域上に洗浄に用いる液体を液滴として吐出する吐出手段と前記基板とを相対的に移動させながら、前記基板上に前記液体を塗布する工程と、
前記基板に純水洗浄を施す工程とを具備したことを特徴とする電気光学装置用基板の洗浄方法。
【請求項６】
請求項５に記載の電気光学装置用基板の洗浄方法を用いて、電気光学装置用基板の製造を行うことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置用基板の洗浄装置、洗浄方法、及び電気光学装置の製造方法に関し、特に基板に液体を塗布することによって基板の洗浄を行う、電気光学装置用基板の洗浄装置、電気光学装置用基板の洗浄方法、及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、携帯電話等の電子機器における画像表示部には、液晶装置等の電気光学装置が使用されている。  
例えば、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶装置の構造としては、画素毎にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ：薄膜ダイオード）等の非線形素子を設け、この非線形素子を介して信号電極と画素電極とを接続したアクティブ方式のもの等がある。
【０００３】
アクティブ方式の液晶装置は、一方の基板に、能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向する電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることによって、画像表示を可能にする。
【０００４】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に張り合わされた後、この両基板間の隙間に液晶が封入される。
【０００５】
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程においてそれぞれ製造されたＴＦＴ基板と対向基板とが対向するそれぞれの対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と接するそれぞれの面上に配向膜が形成され、次いで配向膜表面にラビング処理が施される。次に、一方の基板上において、外周部に沿って接着剤となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール部を用いて張り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部には一部に開口部が設けられており、この開口部を介して液晶が封入される。液晶を封入した後に、シール部の開口部は封止材によって封止される。
【０００６】
両基板間に封止された液晶層における、電圧無印加時の液晶分子の配列は、両基板の液晶層に接する面に形成された配向膜により決定される。配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメートルの厚さだけ塗布することにより形成される。配向膜表面に細かい溝を形成することにより、液晶層における液晶分子の配向が規定される。
【０００７】
配向膜表面に細かい溝を形成するために、ラビング処理が行われる。ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラを、配向膜表面上において回転しながら直線的に移動させることによって、配向膜表面に細かい溝を形成するものである。
【０００８】
ラビング処理においては、ラビングローラが配向膜表面上を回転しながら移動することに起因して、例えば、ラビングローラ表面のクロス材から抜け落ちた繊維や、摩擦によって剥離した配向膜の小片等の異物が発生する。これらの異物は、ラビング処理後の配向膜表面に付着する。また、ラビング処理によって、ラビングローラ表面のクロス材を織り込む際に潤滑油として用いられるワックス等の有機物が、配向膜表面に転写される。これらの有機物により、ラビング処理後の配向膜表面が汚染される。
【０００９】
従って、配向膜表面に付着した異物、及び配向膜表面を汚染する有機物を除去することを目的として、両基板の表面は、両基板同士の貼り合わせに先立って、ラビング処理後に洗浄される。  
ラビング処理後の基板表面の洗浄方法としては、インラインシャワー洗浄方式、枚葉式のスピン洗浄方式等が知られている。  
インラインシャワー洗浄方式は、搬送機構によって搬送される基板表面に対し、純水や溶液等の液体を供給することによって基板表面の洗浄を行う方法である。液体は、シャワーノズルからシャワー状に基板の搬送面に対し連続的に噴射される。該シャワーノズルの下を、搬送機構によって基板を通過させることにより、基板の表面上に液体が一様に塗布される。
【００１０】
また、枚葉式のスピン洗浄方式は、基板を回転可能な回転台上に固定し、基板を回転させながら基板表面に対し純水や溶液等の液体を供給することによって基板表面の洗浄を行う方式である（例えば、特許文献１及び２参照）。この、スピン洗浄方式においては、液体が基板の回転によって放射状に拡がることで、基板表面上に一様に塗布される。
【特許文献１】特開２００２−６６４６９号公報
【特許文献２】特開２００４−１６３５９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、インラインシャワー方式及びスピン洗浄方式のいずれの方式においても、基板表面上に液体が一様に塗布されるように、液体は連続的に供給される。このため、洗浄が必要な被洗浄領域の表面全体に液体を塗布するために必要な液体の量に対して、より多量の液体を基板表面に対して供給しなければならない。よって、基板の洗浄において使用される液体の消費量について無駄が多いと言う問題点があった。
【００１２】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、従来に比べてより少量の液体によって基板を洗浄することが可能な、電気光学装置用基板の洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る電気光学装置用基板の洗浄装置は、洗浄に用いる液体を液滴として吐出して電気光学装置用の基板上に塗布する吐出手段と、該吐出手段と前記基板とを相対的に移動させる移動手段と、予め入力された前記基板上における被洗浄領域についての位置情報に基づいて、前記被洗浄領域上に前記液体を塗布するように、前記吐出手段と前記移動手段とを制御する制御手段とを具備したことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明に係る電気光学装置用基板の洗浄方法は、電気光学装置用の基板の被洗浄領域上に洗浄に用いる液体を液滴として吐出する吐出手段と前記基板とを相対的に移動させながら、前記基板上に前記液体を塗布する工程と、前記基板に純水洗浄を施す工程とを具備したことを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る電気光学装置用基板の洗浄装置及び洗浄方法によれば、洗浄を施す基板の表面において、洗浄を施す必要のある被洗浄領域上においてのみ、洗浄に用いる液体の被膜を形成することができる。したがって、基板の洗浄により使用される液体の消費量を従来に比べ、より削減することができるという効果を有する。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置用基板の洗浄装置としては、前記制御手段は、前記被洗浄領域に塗布される前記液体の塗布量についての情報に基づいて、前記被洗浄領域上に所定の液量の前記液体を塗布するように前記吐出手段と前記移動手段とを制御することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、洗浄を施す基板の表面において、洗浄を施す必要のある被洗浄領域上においてのみ、洗浄に用いる液体の洗浄に必要な膜厚を有する被膜を形成することができる。したがって、この構成によれば、安定した基板の洗浄効果を得ることができるという効果を有する。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置用基板の洗浄装置としては、上記吐出手段は、インクジェット装置により構成されることが好ましい。
【００１９】
さらに、本発明の電気光学装置用基板の洗浄装置としては、上記吐出手段は、噴霧装置により構成されることを特徴とする。
【００２０】
これらの構成によれば、洗浄に用いる液体の吐出時期と吐出量を正確に制御することができるため、基板の被洗浄領域上において過不足の無い洗浄に用いる液体の被膜を形成することができる。したがって、この構成によれば、安定した基板の洗浄効果を得ながら、洗浄によって使用される液体の消費量を削減することができるという効果を有する。
【００２１】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用基板を、前記洗浄方法を用いて洗浄する手順を具備することを特徴とする。
【００２２】
このような構成によれば、電気光学装置用基板の被洗浄領域は、むらなく確実に洗浄される。これにより、性能にばらつきのない電気光学装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（第１の実施の形態）  
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態を説明する。図１は、本実施の形態に係る洗浄装置における、基板に施す洗浄工程のフローチャートである。図２は、本実施の形態に係る洗浄装置の構成を示す模式図である。図３は、本実施の形態に係る洗浄装置による洗浄工程を示す模式図である。図４は、インクジェット液体洗浄工程部の構成を示す概略斜視図である。図５は、本実施の形態に係るインクジェット液体洗浄工程部の構成の変形例を示す概略斜視図である。
【００２４】
本実施の形態に係る洗浄装置１は、図２に示すように、その内部において、ローラ３等の搬送手段によって形成される搬送路８に沿って搬送パレット１１を搬送しながら、搬送パレット１１上に複数枚配置された基板１２に対して、各洗浄工程を実施するものである。
【００２５】
なお、以下に説明する本実施の形態に係る洗浄装置１は、電気光学装置としての液晶表示装置を構成する基板１２の表面上に形成されたラビング処理後の配向膜１７の表面を被洗浄領域として、洗浄工程が実施されるものとする。
【００２６】
洗浄装置１の搬送路８の上方には、基板１２に対して各洗浄工程を実施するためのインクジェットヘッド４、リンスシャワー１３、ジェットノズル１４、リンスシャワー１５及びエアナイフノズル１６が配設されている。また、図示しないが、洗浄装置１には、搬送路８上に搬送パレット１１を載置する給材装置と、搬送路８上から搬送パレット１１を搬出する除材装置とが配設されている。
【００２７】
搬送路８には、移動手段としての複数の搬送ローラ３が配設されている。搬送ローラ３は、その回転軸を図示しない支持部材によって回転可能に支持されている。搬送ローラ３が回転することによって、搬送ローラ３上に載置された搬送パレット１１が、基板１２と共に洗浄装置１の内部において搬送される。
【００２８】
搬送パレット１１には、複数の基板１２を所定位置に配置するための、図示しない基板係止部が複数箇所形成されている。該基板係止部は、例えば基板１２を嵌め込むことが可能な大きさを有する凹部等によって構成されている。洗浄装置１による洗浄に先立って、搬送パレット１１上の基板係止部に、基板１２が配置される。
【００２９】
インクジェットヘッド４は、インクジェット方式により、洗浄に用いる液体であるイソプロピルアルコール（以下、ＩＰＡと称する）水溶液を微小な液滴として吐出して基板１２の表面上に塗布する、吐出ノズルを有して構成される。リンスシャワー１３及びリンスシャワー１５は、基板１２の表面上に対し、純水を供給するシャワーノズルを有して構成される。ジェットノズル１４は、基板１２の表面上に対し、純水洗浄を行うために純水を高圧に噴射して供給するノズルを有して構成される。エアナイフノズル１６は、基板１２の表面上に対し、気体を高圧に吹き付けるノズルを有して構成される。
【００３０】
以下に、図１及び図３を用いて、洗浄装置１によって実施される、基板１２の洗浄工程について説明する。  
まず、洗浄装置１は、基板１２が配置された搬送パレット１１を、搬送路８上に載置する給材工程を実施する（ステップＳ１）。この時点において、基板１２の表面に形成された被洗浄領域である配向膜１７の表面上には、図３のＳＳ１に示すように、ラビング処理によって発生した異物４１や、ラビングローラ表面のクロス材を織り込む際に潤滑油として用いられるワックス等の有機物４２が付着している。搬送パレット１１は、インクジェットヘッド４の下方へ搬送される。
【００３１】
次に、図３のＳＳ２に示すように、洗浄装置１は、基板１２の表面に形成された配向膜１７の表面上に、有機物４２を溶解するためのＩＰＡ水溶液を一様に塗布するインクジェット液体塗布工程を実施する（ステップＳ２）。洗浄に用いる液体であるＩＰＡ水溶液は吐出手段であるインクジェットヘッド４から液滴として吐出され、配向膜１７の表面上において、被膜を形成する。
【００３２】
基板１２は、配向膜１７の表面上にＩＰＡ水溶液の被膜が形成された状態において、一定時間放置される。この配向膜１７の表面上がＩＰＡ水溶液により被膜されている時間において、基板を汚染している有機物４２がＩＰＡ水溶液によって溶解される。この後、搬送パレット１１は、リンスシャワー１３の下方へ搬送される。
【００３３】
次に、図３のＳＳ３に示すように、洗浄装置１は、基板１２の表面上にリンス液である純水を供給する純水リンス工程を実施する（ステップＳ３）。純水は、リンスシャワー１３から噴射される。これにより、配向膜１７の表面は純水によって一様にすすがれるため、上記ステップＳ２における有機物４２の溶解の際に配向膜１７の表面に生じた洗浄しみ等が除去される。また、配向膜１７の表面上を被膜しているＩＰＡ水溶液を、純水によって置換することにより、純水の配向膜１７の表面に対する濡れ性が向上する。このため、後述するステップＳ４における、純水ジェットによる洗浄性が向上する。搬送パレット１１は、ジェットノズル１４の下方へ搬送される。
【００３４】
次に、図３のＳＳ４に示すように、洗浄装置１は、基板１２の表面に対し、ジェットノズル１４から純水を噴射することで純水洗浄を施す工程である純水ジェット噴射工程を実施する（ステップＳ４）。純水を基板１２の表面に噴射することにより、配向膜１７の表面に付着している有機物４２を溶解したＩＰＡ水溶液と異物４１が除去される。搬送パレット１１は、リンスシャワー１５の下方へ搬送される。
【００３５】
次に、図３のＳＳ５に示すように、洗浄装置１は、基板１２の表面上にリンス液である純水を供給する純水リンス工程を実施する（ステップＳ５）。リンス液は、リンスシャワー１５から噴射される。これにより、配向膜１７の表面はリンス液によって一様にすすがれるため、上記ステップＳ４における純水ジェット噴射工程の際に配向膜１７の表面に生じた洗浄しみ等が除去される。搬送パレット１１は、エアナイフノズル１６の下方へ搬送される。
【００３６】
次に、図３のＳＳ６に示すように、洗浄装置１は、基板１２の表面に対し、エアナイフノズル１６から、例えば窒素ガス等の乾燥した気体を吹き付ける乾燥工程を実施する（ステップＳ６）。これにより、基板１２の表面から水分が除去される（ＳＳ７）。搬送パレット１１は、図示しない除材装置へ搬送される。
【００３７】
次に、洗浄装置１は、図示しない除材装置によって基板１２が配置された搬送パレット１１を、搬送路８上から取り除く除材工程を実施する（ステップＳ７）。  
以上により、洗浄装置１によって実施される、基板１２の洗浄工程が終了する。
【００３８】
ここで、上記に説明した、ステップＳ２における、被洗浄領域である配向膜１７の表面上に洗浄に用いる液体であるＩＰＡ水溶液を塗布するインクジェット液体塗布工程の詳細について、以下に説明する。
【００３９】
図４に示すように、インクジェット液体塗布工程は、洗浄装置制御部２と、インクジェット制御部６と、移動テーブル制御部５と、インクジェットヘッド４と、ヘッド移動手段７と、搬送路８とを有して構成される洗浄装置１の一部において実施される。
【００４０】
搬送パレット１１を搬送する移動手段である搬送路８には、搬送パレット１１の位置を検出する図示しない位置検出手段と、搬送パレット１１の搬送速度を制御する図示しない駆動手段とが設けられており、これらの位置検出手段と駆動手段は移動テーブル制御部５に接続されている。
【００４１】
インクジェット液体塗布工程においては、搬送トレイ１１上に配置された基板１２の表面を略水平として搬送するように、搬送路８が配設されている。搬送路８の上方には、ヘッド移動手段７が配設されている。ヘッド移動手段７は、テーブルと、該テーブルを搬送路８の搬送面と平行、かつ搬送路８の搬送方向に直交する方向に直線的に移動可能に支持するガイドと、ガイドの可動範囲内においてテーブルの位置を駆動する駆動手段とを有して構成されている。ヘッド移動手段７は、移動テーブル制御部５に接続されている。
【００４２】
また、ヘッド移動手段７のテーブルには、液体を液滴として吐出する吐出手段としてのインクジェット装置であるインクジェットヘッド４が配設されている。インクジェットヘッド４には、インクジェット方式により液体を微小な液滴として吐出する吐出ノズルが複数設けられている。複数の吐出ノズルは、インクジェットヘッド４の下部に搬送路８の搬送方向と平行となる方向に並んで配列されており、吐出方向を下方に向けて配設されている。インクジェット方式は、熱エネルギーを利用してインクを吐出させる方式、あるいは圧電素子の変形を利用してインクを吐出させる方式等の吐出方式を用いる。インクジェットヘッド４はインクジェット制御部６に接続されている。
【００４３】
移動テーブル制御部５とインクジェット制御部６は、洗浄装置１を制御する制御手段である洗浄装置制御部２に接続されている。
【００４４】
上記の構成を有する洗浄装置１における、インクジェット液体塗布工程の動作について説明する。  
搬送路８上を水平かつ直線的に搬送される搬送パレット１１の位置と、搬送パレット１１の搬送の速度が、移動テーブル制御部５によって制御される。搬送パレット１１の搬送の速度は、停止状態も含むものである。一方、搬送路８の上方において、水平かつ搬送パレット１１の搬送方向と直交する方向に移動可能に配設されたヘッド移動手段７のテーブルの位置が移動テーブル制御部５によって制御される。すなわち、移動テーブル制御部５によって、搬送パレット１１上に位置決めされて配置されている基板１２と、ヘッド移動手段７のテーブルに配置されているインクジェットヘッド４との相対位置が制御される。  
洗浄装置制御部２は、移動テーブル制御部５とインクジェット制御部６を、同期して制御しながら、インクジェットヘッド４からの液体の吐出量及び吐出時期を制御する。
【００４５】
したがって、上記の構成及び動作を有する、本実施の形態に係る洗浄装置１のインクジェット液体塗布工程においては、洗浄装置制御部２の制御によって、基板１２の所定の位置の上方にインクジェットヘッド４を移動させ、インクジェットヘッド４から所定の液量の液体を吐出し、基板１２の表面上に液体を塗布することが可能である。
【００４６】
本実施の形態に係る洗浄装置１における、より具体的な動作を以下に説明する。  
インクジェット液体塗布工程において、搬送パレット１１は、搬送路８によって、一定距離ずつ停止を繰り返しながら一方向に搬送される。インクジェットヘッド４は、搬送パレット１１の上方において、搬送パレット１１の停止時期に同期して、搬送パレット１１の搬送方向と直交する方向に移動することでトレイ１１上を走査する。このインクジェットヘッド４による走査を、搬送パレット１１を一定距離ずつ搬送しながら繰り返すことにより、搬送パレット１１の表面の全域について、インクジェットヘッド４による搬送パレット１１への走査が行われる。基板１２は搬送パレット１１上に位置決めされて配置されているため、インクジェットヘッド４により、基板１２の走査が行われる。
【００４７】
また、ユーザによって、洗浄装置１には、ＩＰＡ水溶液を塗布すべき被洗浄領域である配向膜１７の位置と形状の情報と、配向膜１７上を被膜するＩＰＡ水溶液の膜厚の情報とが、予め入力されている。洗浄装置制御部２は、これらの予め入力された情報に基づいて、配向膜１７上に所定の膜厚を有するＩＰＡ水溶液の均一な被膜が形成されるように、インクジェットヘッド４による基板１２の走査の動作条件と、該動作条件により基板１２を走査中のインクジェットヘッド４から吐出すべきＩＰＡ水溶液の吐出時期と吐出量とを算出する。洗浄装置制御部２は、インクジェットヘッド４による基板１２の走査を算出した動作条件によって行いながら、インクジェットヘッド４の吐出ノズルから算出した吐出時期において算出した吐出量のＩＰＡ水溶液を吐出する。これにより、制御手段である洗浄装置制御部２は、予め入力された被洗浄領域である配向膜についての情報に基づいて、基板１２上の被洗浄領域である配向膜１７の表面上にのみ、均一な膜厚を有するＩＰＡ水溶液による被膜を形成するものである。
【００４８】
なおここで、一度のインクジェットヘッド４の走査によって基板１２上に形成されるＩＰＡ水溶液の膜厚が、配向膜１７に付着した有機物を溶解するに足りない場合は、同じ箇所について複数回の走査を行うか、走査の移動速度を落とすことで、液体の膜厚を増すことが可能である。
【００４９】
上記の動作を有する本実施の形態に係る洗浄装置１は、インクジェット液体塗布工程において、基板１２上の所定の領域に対し、所定の液量の液体を塗布することが可能である。すなわち、洗浄装置１は、基板１２の表面上における被洗浄領域である配向膜１７上にのみ、洗浄に用いる液体であるＩＰＡ水溶液の所定の膜厚を有する被膜を形成することが可能である。このため、本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置１によれば、基板１２の洗浄に使用される液体の消費量を、従来の基板上に液体を連続的に滴下する方法に比べて、少なくすることができるという効果が得られる。
【００５０】
また、本実施の形態に係る洗浄装置１によれば、液体の塗布にインクジェット装置を用いているため、配向膜１７上にのみ、ＩＰＡ水溶液の被膜を均一に形成することができる。このため、液体の塗布量のばらつきに起因する、配向膜の洗浄むらが発生しない。よって、本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置１によれば、基板１２の表面に形成された配向膜１７は安定して確実に洗浄されるため、ばらつきのない、安定した配向特性を有する液晶装置用基板を得ることができるという効果が得られる。
【００５１】
さらになお、本実施の形態においては、搬送パレット１１は、一定距離ずつ搬送される構成としているが、インクジェットヘッド４による１往復の走査にかかる時間における、搬送パレット１１の搬送距離が、インクジェットヘッド４の吐出ノズル幅よりも小さければ、搬送パレット１１を停止させずに搬送することも可能である。
【００５２】
さらになお、本実施の形態においては、洗浄装置１の内部において、基板１２は搬送パレット１１上に複数枚配置されて搬送される構成としたが、搬送パレット１１は使用せず、基板１２が直接搬送路８上において搬送される構成としてもよい。
【００５３】
さらにまた、以上に説明した本実施の形態に係る洗浄装置１のインクジェット液体洗浄工程部ＳＳ２において、インクジェットヘッド４を基板１２の搬送方向に直交する方向に移動させて走査することで、基板１２表面へのＩＰＡ水溶液の塗布を行っているが、図５に示すように、基板１２の幅全体にわたってＩＰＡ水溶液の吐出範囲を有するように複数の吐出ノズルを並べた幅広のインクジェットヘッド３１によって基板１２の表面へのＩＰＡ水溶液の塗布を行ってもよい。図５に示す構成においては、インクジェットヘッド３１は搬送路８の上方に固定されており、インクジェットヘッド３１の下方を搬送される基板１２に対して、複数の吐出ノズルから選択的にＩＰＡ水溶液の吐出を行うことにより、基板１２の表面の所定の領域にＩＰＡ水溶液を塗布する。このため、基板１２の搬送を走査のために停止させる必要が無く、より高速に基板１２の表面上へＩＰＡ水溶液の塗布を行うことができる。また、インクジェットヘッド３１を移動させる必要が無いため、装置の構成部材を簡略化できる。さらに、インクジェットヘッド３１を移動させる機構による発塵が無いため、洗浄装置１の内部において発生する塵埃による基板１２への汚染を抑えることができると言う効果がある。
【００５４】
（第２の実施の形態）  
以下、図面を参照して本発明の第２の実施の形態を説明する。図６は、本実施の形態に係る洗浄装置５１の構成を示す模式図である。図７は、本実施の形態に係る洗浄装置５１による洗浄工程を説明する模式図である。図８は、本実施の形態に係る洗浄装置５１における、インクジェット液体洗浄工程を実施するための装置構成を示す概略斜視図である。
【００５５】
上述した第１の実施の形態においては、洗浄装置１の内部において基板１２を搬送路８に沿って搬送させながら、洗浄装置１の内部のそれぞれの部位においてそれぞれ別個の洗浄工程を基板１２に対して施すインラインシャワー方式としているが、例えば、回転可能な回転台に固定された基板に対して、各洗浄工程を施すと言った、枚葉式のスピン洗浄方式においても、本発明を適用することができる。その例を、第２の実施の形態として、以下に説明する。
【００５６】
なお、以下に説明する本実施の形態に係る洗浄装置５１は、液晶表示装置を構成する基板６２の表面上に形成されたラビング処理後の配向膜６７の表面を被洗浄領域として、洗浄工程を実施するものとする。
【００５７】
図６に示すように、洗浄装置５１は、その内部に、回転台５３と、インクジェットヘッド５４と、リンスノズル６３と、ジェットノズル６４とを有して構成される。
【００５８】
回転台５３は、図示しない回転駆動手段により、鉛直軸周りに回転駆動される。また、回転台５３は、その上面に、基板６２を水平に支持し固定することが可能な図示しない基板支持部を有する。回転台５３の基板支持部の上方にインクジェットヘッド５４、リンスノズル６３及びジェットノズル６４が配設されている。吐出手段であるインクジェットヘッド５４は、後述する移動手段であるヘッド移動手段５７によって、回転台５３の上方において水平方向に移動可能に支持されている。図６には図示しないが、洗浄装置５１は、洗浄を行う基板６２を回転台５３上に載置及び除去するための基板搬送手段や、洗浄に用いる流体の供給及び回収を行う流体回路等を具備している。
【００５９】
本実施の形態に係る洗浄装置５１の構成は、第１の実施の形態に係る洗浄装置１とは異なるが、基板６２に対して実施する洗浄工程は、第１の実施の形態と同一であるので、本実施の形態に係る洗浄装置５１における基板６２の洗浄工程のフローチャートは、図１のフローチャートと同一である。
【００６０】
図１、及び図７を用いて、洗浄装置５１によって行われる、基板６２の洗浄工程について以下に説明する。  
まず、洗浄装置５１は、回転台５３上面の基板支持部において、基板供給手段によって供給された基板６２を、支持し固定する給材工程を実施する（ステップＳ１）。この時点において、基板６２の表面に形成された被洗浄領域である配向膜６７の表面上には、図７のＳＳ１０１に示すように、ラビング処理によって発生した異物４１や、ラビングローラ表面のクロス材を織り込む際に潤滑油として用いられるワックス等の有機物４２が付着している。
【００６１】
次に、図７のＳＳ１０２に示すように、洗浄装置５１は、基板６２の表面に形成された被洗浄領域である配向膜６７上に、有機物４２を溶解するためのＩＰＡ水溶液を一様に塗布するインクジェット液体塗布工程を実施する（ステップＳ２）。ＩＰＡ水溶液は吐出手段であるインクジェットヘッド５４から液滴として吐出され、配向膜６７の表面上において、被膜を形成する。
【００６２】
基板６２は、配向膜６７の表面上にＩＰＡ水溶液の被膜が形成された状態において、一定時間放置される。この配向膜６７の表面上がＩＰＡ水溶液により被膜されている時間において、基板を汚染している有機物４２がＩＰＡ水溶液によって溶解される。
【００６３】
次に、図７のＳＳ１０３に示すように、洗浄装置５１は、基板６２の表面上にリンス液である純水を供給する純水リンス工程を実施する（ステップＳ３）。ステップＳ３においては、基板６２を支持している回転台５３が回転駆動される。純水は、リンスノズル６３から回転している基板６２の表面上に滴下され、基板６２の表面上に放射状に広がる。これにより、基板６２の表面は純水によって一様にすすがれるため、上記ステップＳ２における有機物の溶解の際に生じた洗浄しみ等を除去することができる。また、配向膜６７の表面上を皮膜しているＩＰＡ水溶液を、純水によって置換することにより、純水の基板６２の表面に対する濡れ性が向上する。このため、後述するステップＳ４における、純水ジェットによる洗浄性が向上する。
【００６４】
次に、図７のＳＳ１０４に示すように、洗浄装置５１は、回転している基板６２の表面上に対し、ジェットノズル６４から純水を噴射することで純水洗浄を施す工程である純水ジェット噴射工程を実施する（ステップＳ４）。純水を基板６２の表面に噴射することにより、基板１２の表面に付着している有機物４２を溶解したＩＰＡ水溶液と異物４１が除去される。
【００６５】
次に、図７のＳＳ１０５に示すように、洗浄装置５１は、回転している基板６２の表面上に対し、リンス液である純水を供給する純水リンス工程を実施する（ステップＳ５）。純水は、リンスノズル６３から回転している基板６２の表面上に滴下され、基板６２の表面上に放射状に広がる。これにより、基板６２の表面は純水によって一様にすすがれるため、上記ステップＳ４における純水ジェット噴射工程の際に基板６２の表面に生じた洗浄しみ等を除去することができる。
【００６６】
次に、図７のＳＳ１０６に示すように、洗浄装置５１は、基板６２を支持する回転台５３を、高速に回転駆動することで、基板６２の乾燥を行う乾燥工程を実施する（ステップＳ６）。ステップＳ６においては、液体等は基板６２の表面上に供給されないため、基板６２の表面から水分が飛散する。
【００６７】
次に、洗浄装置５１は、回転台５３による基板６２の支持を開放し、基板６２を搬出する除材工程を実施する（ステップＳ７）。  
以上により、洗浄装置５１によって実施される、基板６２の洗浄工程が終了する。
【００６８】
ここで、上記に説明した、ステップＳ２における、被洗浄領域である配向膜６７の表面上に洗浄に用いる液体であるＩＰＡ水溶液を塗布するインクジェット液体塗布工程の詳細について、以下に説明する。
【００６９】
図８に示すように、洗浄装置５１は、洗浄装置制御部５２と、インクジェット制御部５６と、移動テーブル制御部５５と、回転台５３と、インクジェットヘッド５４と、ヘッド移動手段５７とを有して構成される。
【００７０】
回転台５３は、回転台５３を鉛直軸周りに回転駆動する図示しない回転駆動手段と、回転台５３の回転角度位置を検出する位置検出手段とを有して構成されており、これらの回転駆動手段と位置検出手段は移動テーブル制御部５５に接続されている。また、回転台５３の上面には、基板６２を水平に支持し固定することが可能な基板支持部が配設されている。
【００７１】
回転台５３に固定される基板６２の表面の上方には、ヘッド移動手段５７が配設されている。ヘッド移動手段５７は、テーブルと、該テーブルを基板６２の表面と平行な平面内において移動可能に支持する直交した２軸構成のガイドと、２軸のガイドの可動範囲内においてテーブルの位置を駆動する駆動手段とを有して構成されている。ヘッド移動手段５７は、移動テーブル制御部５５に接続されている。
【００７２】
また、ヘッド移動手段５７のテーブルには、液体を液滴として吐出する吐出手段としてのインクジェット装置であるインクジェットヘッド５４が配設されている。インクジェットヘッド５４は、第１の実施の形態のインクジェットヘッド４と同様の構成を有する。インクジェットヘッド５４はインクジェット制御部５６に接続されている。
【００７３】
移動テーブル制御部５５とインクジェット制御部５６は、洗浄装置５１を制御する制御手段である洗浄装置制御部５２に接続されている。
【００７４】
上記の構成を有する洗浄装置５１における、インクジェット液体塗布工程の動作について説明する。  
回転台５３上に固定された基板６２の、回転方向の回転角度位置が、移動テーブル制御部５５により所定の角度となるように制御される。一方、基板６２の上方において、基板６２と平行な水平面内において移動可能に配設されたヘッド移動手段５７のテーブルの位置が移動テーブル制御部５５によって制御される。すなわち、移動テーブル制御部５５によって、基板６２と、ヘッド移動手段５７のテーブルに配置されているインクジェットヘッド５４との相対位置が制御される。  
洗浄装置制御部５２は、移動テーブル制御部５５とインクジェット制御部５６を、同期して制御しながら、インクジェットヘッド５４からの液体の吐出量及び吐出の時期を制御する。
【００７５】
したがって、上記の構成及び動作を有する、本実施の形態に係る洗浄装置５１においては、洗浄装置制御部５２の制御によって、基板６２の所定の位置の上方にインクジェットヘッド５４を移動させ、インクジェットヘッド５４から所定の液量の液体を吐出し、基板６２の表面上に液体を塗布することが可能である。
【００７６】
本実施の形態に係る洗浄装置５１における、より具体的な動作を以下に説明する。  
洗浄装置５１の内部において、回転台５３上に支持固定された、基板６２の回転方向の角度が、回転台５３の位置検出手段と回転駆動手段により位置決めされる。位置決めされた基板６２の表面上に対して、インクジェットヘッド５４が、ヘッド移動手段５７によって駆動されて、走査を行う。
【００７７】
また、ユーザによって、洗浄装置５１には、ＩＰＡ水溶液を塗布すべき被洗浄領域である配向膜６７の位置と形状の情報と、配向膜６７上を被膜するＩＰＡ水溶液の膜厚の情報とが、予め入力されている。洗浄装置制御部５２は、これらの予め入力された情報に基づいて、配向膜６７上に所定の膜厚を有するＩＰＡ水溶液の均一な被膜が形成されるように、インクジェットヘッド５４による基板６２の走査の動作条件と、該動作条件により基板６２を走査中のインクジェットヘッド５４から吐出すべきＩＰＡ水溶液の吐出時期と吐出量とを算出する。洗浄装置制御部５２は、インクジェットヘッド５４による基板６２の走査を算出した動作条件によって行いながら、インクジェットヘッド５４の吐出ノズルから算出した吐出時期において算出した吐出量のＩＰＡ水溶液を吐出する。これにより、制御手段である洗浄装置制御部５２は、予め入力された被洗浄領域である配向膜についての情報に基づいて、基板６２上の被洗浄領域である配向膜６７の表面上にのみ、均一な膜厚を有するＩＰＡ水溶液による被膜を形成するものである。
【００７８】
なおここで、一度のインクジェットヘッド５４の走査によって基板６２上に形成されるＩＰＡ水溶液の膜厚が、配向膜６７に付着した有機物を溶解するに足りない場合は、同じ箇所について複数回の走査を行うか、走査の移動速度を落とすことで、液体の膜厚を増すことが可能である。
【００７９】
上記の動作を有する本実施の形態に係る洗浄装置５１は、基板６２上の所定の領域に対し、所定の液量の液体を塗布することが可能である。すなわち、洗浄装置５１は、基板６２の表面上における被洗浄領域である配向膜６７上にのみ、洗浄に用いる液体であるＩＰＡ水溶液の所定の膜厚を有する被膜を形成することが可能である。このため、本発明の第２の実施の形態に係る洗浄装置５１によれば、基板６２の洗浄に使用される液体の消費量を、従来の基板上に液体を連続的に滴下する方法に比べて、少なくすることができるという効果が得られる。
【００８０】
また、本実施の形態に係る洗浄装置５１によれば、液体の塗布にインクジェット装置を用いているため、配向膜６７上にのみ、ＩＰＡ水溶液の被膜を均一に形成することができる。このため、液体の塗布量のばらつきに起因する、配向膜の洗浄むらが発生しない。よって、本実施の形態に係る洗浄装置５１によれば、基板６２の表面に形成された配向膜６７は安定して確実に洗浄されるため、ばらつきのない、安定した配向特性を有する液晶装置用基板を得ることができるという効果が得られる。
【００８１】
さらにまた、本実施の形態に係る洗浄装置５１においては、インクジェットヘッド５４と２軸の直動機構であるヘッド移動手段５７を用いて基板６２の表面へのＩＰＡ水溶液の塗布を行っているが、第１の実施の形態の図５と同様に、基板６２の幅全体にわたってＩＰＡ水溶液の吐出範囲を有するように複数の吐出ノズルを並べた幅広のインクジェットヘッドによって基板６２の表面へのＩＰＡ水溶液の塗布を行ってもよい。この構成によれば、１回の１自由度の相対的な移動による走査のみで液体の塗布が完了するため、液体の塗布に要する時間を短縮することができ、また、装置の構造を簡略化できる。この幅広のインクジェットヘッドによる基板６２に対する１自由度の走査は、相対的なものである。このため、例えば、固定された基板６２の上方において幅広のインクジェットヘッドを１軸の直動機構を有する移動手段を用いて移動させてもよいし、その逆に、固定された幅広のインクジェットヘッドの下方において回転台５３を１軸の直動機構を有する移動手段を用いて移動させてもよい。この構成によれば、洗浄装置５１における基板６２の表面への液体の塗布に必要な動作を減らすことができ、より高速な基板６２の表面への液体の塗布を実現できる。さらに、移動手段の省略による装置の構成部材の簡略化と、移動手段による発塵量の減少による基板６２への汚染の低減を実現することができる。
【００８２】
なお、上述した本実施の形態に係る洗浄装置５１においては、回転台５３の基板支持部の上方にインクジェットヘッド５４、リンスノズル６３及びジェットノズル６４が配設される構成としているが、洗浄装置５１はこの構成に限るものではない。例えば、インクジェットヘッド５４を基板６２の上方において鉛直方向に移動可能に支持する移動手段と、リンスノズル６３及びジェットノズル６４を基板６２の上方に対して水平方向に進退移動可能に支持する進退移動手段を備える構成としても良い。この構成を有する洗浄装置５１においては、インクジェット液体塗布工程（ステップＳ２）を実施した後にインクジェットヘッド５４を移動手段により上昇させることによって、インクジェットヘッド５４と基板６２との間に一定の距離を持たせ、その間の空間にリンスノズル６３及びジェットノズル６４を基板６２の上方に対して進退移動手段により水平方向に進出させることで続く洗浄工程が実施される。また、この例とは逆に、インクジェットヘッド５４を基板６２の上方に対して水平方向に進退移動可能に支持し、リンスノズル６３及びジェットノズル６４を基板６２の上方において昇降可能に支持する構成としてもよい。
【００８３】
なお、上述した２つの実施の形態においては、有機物を溶解するための液体としてＩＰＡ水溶液を用いているが、液体としてオゾン水や水素水等を用いてもよい。また、液体はこれに限らず、基板にダメージを与えずに、有機物を除去できるものであれば、どの様な成分の液体でも良いことは云うまでもない。
【００８４】
さらになお、上述した２つの実施の形態においては、インクジェット方式により洗浄に用いる液体の吐出を行う形態としているが、液体の吐出方式は、液体を液滴として吐出でき、さらに吐出量及び吐出時期について制御可能な方式であればよい。例えば、液体の吐出に噴霧装置を用いることも可能である。
【００８５】
なお、本発明は、上記に説明した実施の形態に限るものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において実施の形態を適宜変更して実施することができる。
【００８６】
また、本発明に係る電気光学装置用基板は、アクティブマトリクス型の液晶パネル（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード））だけでなく、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルにも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出を用いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）、ＤＬＰ（Digital Light Processing）（別名ＤＭＤ：Digital Micromirror Device）等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の実施の形態に係る洗浄装置における、基板に施す洗浄工程のフローチャートである。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置の構成を示す模式図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る洗浄装置による洗浄工程を示す模式図である。
【図４】インクジェット液体洗浄工程部の構成を示す概略斜視図である。
【図５】インクジェット液体洗浄工程部の構成の変形例を示す概略斜視図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係る洗浄装置の構成を示す模式図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る洗浄装置による洗浄工程を説明する模式図である。
【図８】インクジェット液体洗浄工程を実施するための装置構成を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
【００８８】
２  洗浄装置制御部、  ３  搬送ローラ、  ４  インクジェットヘッド、  ５  移動テーブル制御部、  ６  インクジェット制御部、  ７  ヘッド移動手段、  ８  搬送路、  １１  搬送パレット、  １２  基板、  １７  配向膜
【図１】
2007011100.tif 000003
【図２】
2007011100.tif 000004
【図３】
2007011100.tif 000005
【図４】
2007011100.tif 000006
【図５】
2007011100.tif 000007
【図６】
2007011100.tif 000008
【図７】
2007011100.tif 000009
【図８】
2007011100.tif 000010