(57)【要約】【課題】液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を有する位相差板等を提供する。【解決手段】配向膜と、該配向膜上に設けられた、少なくとも一種の液晶性化合物を含む光学異方性層とを有し、前記配向膜が、ＥＳＣＡ測定によって得られるＣ−Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ａ）とＣ＝Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ｂ）との比率（Ｂ／Ａ）が、０．２５以下である表面状態を有する、位相差板。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜と、該配向膜上に設けられた、少なくとも一種の液晶性化合物を含む光学異方性層とを有し、前記配向膜が、ＥＳＣＡ測定によって得られるＣ−Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ａ）とＣ＝Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ｂ）との比率（Ｂ／Ａ）が、０．２５以下である表面状態を有する、位相差板。
【請求項２】
前記液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である、請求項１に記載の位相差板。
一般式（ＤＩ）
【化１】
2007140068.tif 000077
（一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2およびＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表し；
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２】
2007140068.tif 000078
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。）；
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化３】
2007140068.tif 000079
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。）；
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す；
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2またはＨ3に結合する位置を表し；Ｌ21は単結合または二価の連結基を表し；Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ22は＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−ＮＨ−、＊−ＳＯ2−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−Ｃ≡Ｃ−を表し（ここで、＊はＬ23と反対の側に結合する位置を表す）；Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ1は重合性基または水素原子を表す。））
【請求項３】
前記光学異方性層が、下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物の少なくとも一種をさらに含有する、請求項１または２に記載の位相差板。
一般式（Ｉ）
【化４】
2007140068.tif 000080
（一般式（Ｉ）中、Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、Ｑは、配向膜に吸着して結合が可能な基を表す。）
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物が、下記一般式（II）で表される重合性化合物である、請求項３に記載の位相差板。
一般式（II）
【化５】
2007140068.tif 000081
（一般式（II）中、Ｒ301およびＲ302は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、または、置換若しくは無置換のヘテロアリール基を表し、置換若しくは無置換のアルキレン連結基または置換若しくは無置換のアリール連結基、あるいは、これらの組み合わせからなる連結基を介して連結してもよい。Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表す。）
【請求項５】
前記配向膜は、一般式（Ｔ）で表されるポリマーを用いてなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差板。
一般式（Ｔ）
【化６】
2007140068.tif 000082
（一般式（Ｔ）中、Ｘは任意の重合単位を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれの重合単位のモル分率を表し、５０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦５０、０≦ｃ≦５０である。）
【請求項６】
配向膜にラビング処理を施す工程を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差板を用いた液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は位相差板およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光板および光学異方性層からなる。透過型液晶表示装置では、通常、二枚の偏光板を液晶セルの両側に取り付け、一枚または二枚の光学異方性層を液晶セルと偏光板との間に配置する。反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚の光学異方性層、そして一枚の偏光板の順に配置する。液晶セルは、例えば、棒状液晶性化合物層、それを封入するための二枚の基板、棒状液晶性化合物に電圧を加えるための電極層、および棒状液晶性化合物の配向を制御する配向膜層からなる。液晶セルは、通常、棒状液晶性化合物の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、反射型については、ＴＮ、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードが提案されている。
【０００３】
光学異方性層は、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学異方性層としては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されていた。延伸複屈折フィルムからなる光学異方性層に代えて、支持体上に液晶性化合物から形成された光学異方性層を有する光学異方性層を使用することが提案されている。液晶性化合物には多様な配向形態があるため、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００４】
光学異方性層の光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性化合物を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学異方性層を製造することができる。液晶性化合物としては、一般に、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が用いられている。液晶性化合物を用いた光学異方性層では、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。
【０００５】
従って、様々な棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等から形成される光学異方性層を有する光学補償シート（特許文献１等）が知られている）を用い、光学異方性層を製造する必要が生じていたが、それぞれの液晶は配向挙動が大きく異なるため（例えば、ヘテロ環基による３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物ではスジの欠陥が生じやすい等）、これらを欠陥の少ない良好配向状態に配向させる技術が求められていた。
【０００６】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を有する位相差板を提供することを課題とする。特に、配向不良等に起因する欠陥のない、または欠陥の軽減されたディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性層を有する位相差板を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
（１）配向膜と、該配向膜上に設けられた、少なくとも一種の液晶性化合物を含む光学異方性層とを有し、前記配向膜が、ＥＳＣＡ測定によって得られるＣ−Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ａ）とＣ＝Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ｂ）との比率（Ｂ／Ａ）が、０．２５以下である表面状態を有する、位相差板。
（２）前記液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である、（１）に記載の位相差板。
一般式（ＤＩ）
【０００９】
【化１】
2007140068.tif 000002
（一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2およびＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表し；
一般式（ＤＩ−Ａ）
【００１０】
【化２】
2007140068.tif 000003
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。）；
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【００１１】
【化３】
2007140068.tif 000004
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。）；
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表し；
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
（一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2またはＨ3に結合する位置を表し；Ｌ21は単結合または二価の連結基を表し；Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ22は＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−ＮＨ−、＊−ＳＯ2−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−Ｃ≡Ｃ−を表し（ここで、＊はＬ23と反対の側に結合する位置を表す）；Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ1は重合性基または水素原子を表す。）
（３）前記光学異方性層が、下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物の少なくとも一種をさらに含有する、（１）または（２）に記載の位相差板。
一般式（Ｉ）
【００１２】
【化４】
2007140068.tif 000005
（一般式（Ｉ）中、Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、Ｑは、配向膜に吸着して結合が可能な基を表す。）
（４）前記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物が、下記一般式（II）で表される重合性化合物である、（３）に記載の位相差板。
一般式（II）
【００１３】
【化５】
2007140068.tif 000006
（一般式（II）中、Ｒ301およびＲ302は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、または、置換若しくは無置換のヘテロアリール基を表し、置換若しくは無置換のアルキレン連結基または置換若しくは無置換のアリール連結基、あるいは、これらの組み合わせからなる連結基を介して連結してもよい。Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表す。）
（５）前記配向膜は、一般式（Ｔ）で表されるポリマーを用いてなる、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の位相差板。
一般式（Ｔ）
【００１４】
【化６】
2007140068.tif 000007
（一般式（Ｔ）中、Ｘは任意の重合単位を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれの重合単位のモル分率を表し、５０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦５０、０≦ｃ≦５０である。）
（６）配向膜にラビング処理を施す工程を含む、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
（７）配向膜の表面の、ＥＳＣＡ測定によって得られるＣ−Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ａ）とＣ＝Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ｂ）との比率（Ｂ／Ａ）を０．２５以下となるようにする工程を含む、（１）〜（５）のいずれかに記載の位相差板の製造方法。
（８）配向膜と、該配向膜上に設けられた液晶性化合物を含む光学異方性層とを有する、位相差板の前記配向膜の表面の、ＥＳＣＡ測定によって得られるＣ−Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ａ）とＣ＝Ｏ結合を有する炭素原子に由来するピークの強度（Ｂ）との比率（Ｂ／Ａ）を０．２５以下とする工程を含む、位相差板における液晶性化合物の配向欠陥を減少させる方法。
（９）（１）〜（５）のいずれか１項に記載の位相差板を用いた液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を有する位相差板が得られた。特に、配向不良等に起因する欠陥のない、または軽減された、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す位相差板を提供することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角および平均チルト角の詳細について以下に記す。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、それぞれ、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００１７】
また、本明細書において、光学異方性層中のディスコティック化合物の分子の平均チルト角とは、光学異方性層の一方の面（本発明の位相差板においては配向膜表面）と光学異方性層中のディスコティック化合物の分子の物理的な対象軸とのなす角度をチルト角θ１、および、他方の面（本発明の位相差板においては空気界面）とのなす角度をチルト角θ２とし、その平均値（（θ１＋θ２）／２）として定義する。しかしながら、θ１および他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１およびθ２は、以下の手法で算出する。本手法は実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層はディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
【００１８】
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定および計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨおよびＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０およびＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、および多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１および他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１およびθ２を算出する。
ここで、ｎｏおよびｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。
【００１９】
以下、本発明の位相差板について順次説明する。
１．液晶性化合物由来の光学異方性層
本発明の位相差板は、配向膜上に液晶性化合物組成物由来の光学異方性層を有する。以下に本発明の位相差板に用いられる、棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物、更にこれら液晶性化合物が配向固定化された光学異方性層を形成するための各種添加剤（例えば、光重合開始剤、増感剤、配向制御剤等）の詳細を記す。
【００２０】
（１）棒状液晶性化合物
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物の他、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【００２１】
重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、ＷＯ９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特願２００１−６４６２７号などに記載の化合物を用いることができる。より好ましくは、下記一般式（Ｖ）にて表される化合物である。
【００２２】
一般式（Ｖ）
Ｑ51−Ｌ51−Ｃｙ51−Ｌ52−（Ｃｙ52−Ｌ53）n−Ｃｙ53−Ｌ54−Ｑ52
（一般式（Ｖ）中、Ｑ51およびＱ52はそれぞれ独立に重合性基であり、Ｌ51およびＬ54はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ52およびＬ53はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ51、Ｃｙ52およびＣｙ53はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１または２である。）
【００２３】
一般式（Ｖ）中、Ｑ51およびＱ52はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００２４】
【化７】
2007140068.tif 000008
【００２５】
Ｌ51およびＬ54はそれぞれ独立に二価の連結基である。Ｌ51およびＬ54はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ52−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ52は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
Ｌ51およびＬ54の例を以下に示す。ここで、左側がＱ51またはＱ52に、右側がＣｙ51またはＣｙ53に結合する。
【００２６】
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
【００２７】
二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基または置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基，アルケニレン基または置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基またはアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素原子数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
【００２８】
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、２−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２−ブテニレン基および２−ブチニレン基などが挙げられる。
【００２９】
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ51、Ｃｙ52およびＣｙ53の定義および例と同様である。
【００３０】
Ｌ52およびＬ53はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。Ｌ52およびＬ53はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ52−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Ｒ52は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。二価の鎖状基、および二価の環状基については、Ｌ51およびＬ54の定義と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３１】
一般式（Ｖ）において、ｎは、０、１または２である。ｎが２の場合、２つのＬ53は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ52も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。
【００３２】
一般式（Ｖ）において、Ｃｙ51、Ｃｙ52およびＣｙ53は、それぞれ独立に、二価の環状基である。環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることが好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜５のアルキル基、炭素原子数が１〜５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜５のアルコキシ基、炭素原子数が１〜５のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００３３】
以下に、一般式（Ｖ）で表される重合性液晶性化合物の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３４】
【化８】
2007140068.tif 000009
【００３５】
【化９】
2007140068.tif 000010
【００３６】
【化１０】
2007140068.tif 000011
【００３７】
【化１１】
2007140068.tif 000012
【００３８】
（２）ディスコティック液晶性化合物
本発明における、ディスコティック液晶性化合物としては、公知の文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されているものを採用できる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４公報に記載のものを採用できる。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物のディスコティックコアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる場合がある。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００３９】
一般式（ＶＩ）
Ｄ（−Ｍ−Ｐ）n6
（一般式（ＶＩ）中、Ｄはディスコティックコアであり；Ｍは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎ６は４〜１２の整数である。一般式（ＶＩ）のディスコティックコア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＭＰ（またはＰＭ）は、二価の連結基（Ｍ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【００４０】
【化１２】
2007140068.tif 000013
【００４１】
【化１３】
2007140068.tif 000014
【００４２】
【化１４】
2007140068.tif 000015
【００４３】
【化１５】
2007140068.tif 000016
【００４４】
【化１６】
2007140068.tif 000017
【００４５】
【化１７】
2007140068.tif 000018
【００４６】
【化１８】
2007140068.tif 000019
【００４７】
【化１９】
2007140068.tif 000020
【００４８】
一般式（ＶＩ）において、二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−ならびにそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例えば、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。
【００４９】
二価の連結基（Ｍ）の例を以下に示す。左側がディスコティックコア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
Ｍ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００５０】
Ｍ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｍ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００５１】
一般式（ＶＩ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【００５２】
【化２０】
2007140068.tif 000021
【００５３】
【化２１】
2007140068.tif 000022
【００５４】
【化２２】
2007140068.tif 000023
【００５５】
【化２３】
2007140068.tif 000024
【００５６】
【化２４】
2007140068.tif 000025
【００５７】
【化２５】
2007140068.tif 000026
【００５８】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）またはエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることがさらに好ましい。
一般式（ＶＩ）において、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、ディスコティックコア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＭとＰの組み合わせは、それぞれ、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上のディスコティック液晶性化合物（例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子）を併用してもよい。
【００５９】
［一般式（ＤＩ）で表される化合物］
本発明に用いられるディスコティック液晶として、さらに一般式（ＤＩ）表される化合物が挙げられる。
【００６０】
一般式（ＤＩ）
【００６１】
【化２６】
2007140068.tif 000027
【００６２】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ｙ11、Ｙ12およびＹ13がそれぞれメチンの場合、該メチンの水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましい。
【００６３】
Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。
【００６４】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ1、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。前記二価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【００６５】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3における二価の環状基は、少なくとも１種類の環状構造を有する。二価の環状基は５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環および複素環を含んでいるのが好ましい。
【００６６】
前記二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００６７】
Ｌ1、Ｌ2またはＬ3で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数１〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００６８】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−または＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12およびＹ13を含む６員環に結合する位置を表す。
【００６９】
前記式中、Ｈ1、Ｈ2およびＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）または下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
【００７０】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【００７１】
【化２７】
2007140068.tif 000028
【００７２】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。ＹＡ1およびＹＡ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００７３】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【００７４】
【化２８】
2007140068.tif 000029
【００７５】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。ＹＢ1およびＹＢ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ1〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００７６】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
【００７７】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2またはＨ3に結合する位置を表す。
Ｌ21は単結合または二価の連結基である。Ｌ21が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−、ならびに、それらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。
【００７８】
Ｌ21は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊はＦ1と反対の側に結合する位置を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。
【００７９】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ1は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の環状連結基を表す。二価の環状連結基は５員環、６員環、または７員環構造を有するのが好ましく、５員環または６員環構造を有するのがより好ましく、６員環構造を有するのがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【００８０】
Ｆ1で表される二価の環状連結基のうち、ベンゼン環を有する環状連結基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状連結基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状連結基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状連結基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状連結基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。二価の環状連結基としては、特に、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【００８１】
Ｆ1で表される二価の環状連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルケニル基、炭素原子数が１〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１〜６のアルキル基、炭素原子数が１〜６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜４のアルキル基、炭素原子数が１〜４のハロゲン置換アルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
【００８２】
ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１または２がより好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22が直接、一般式（Ｄ１）中のＨ1〜Ｈ3と結合する。
【００８３】
Ｌ22は、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｓ−、＊−Ｎ（Ｒ）−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−Ｃ≡Ｃ−を表す。ここで、＊はＬ23と反対の側に結合する位置を表す。好ましくは、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ2−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、＊−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−または＊−ＣＨ2−である。
【００８４】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−およびＣ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。
【００８５】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−およびＣ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ23は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ23は−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、特に、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することが好ましい。
【００８６】
Ｑ1は重合性基または水素原子であり、熱安定性の観点から重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００８７】
【化２９】
2007140068.tif 000030
【００８８】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。
【００８９】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００９０】
【化３０】
2007140068.tif 000031
【００９１】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）が最も好ましい。
【００９２】
開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基またはオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【００９３】
前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物または下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を用いるのが好ましい。
【００９４】
一般式（ＤＩＩ）
【００９５】
【化３１】
2007140068.tif 000032
【００９６】
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32およびＹ33は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12およびＹ13の定義とそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００９７】
一般式（ＤＩＩ）中、Ｒ31、Ｒ32およびＲ33はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。
【００９８】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）
【００９９】
【化３２】
2007140068.tif 000033
【０１００】
前記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ31およびＡ32はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ31およびＡ32としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることが最も好ましい。
Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。Ｘ3としては、酸素原子であることが好ましい。
【０１０１】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ2は６員環状構造を有する二価の環状連結基を表す。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。前記環状連結基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環アントラセン環およびフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
【０１０２】
二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基およびナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。二価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【０１０３】
二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数１〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。二価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数が１〜６のハロゲン置換アルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン置換アルキル基が好ましい。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【０１０４】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、ｎ３は１〜３の整数を表す。ｎ３としては、１または２が好ましい。
【０１０５】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中のＬ31は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22の定義と同一であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０６】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中のＬ32は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ23の定義と同一であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０７】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中のＱ3は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1の定義と同一であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０８】
次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。
一般式（ＤＩＩＩ）
【０１０９】
【化３３】
2007140068.tif 000034
【０１１０】
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ41、Ｙ42およびＹ43は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ｙ41、Ｙ42およびＹ43がそれぞれメチンの場合、該メチンは置換基を有していてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基が最も好ましい。
Ｙ41、Ｙ42およびＹ43は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることが最も好ましい。
【０１１１】
Ｒ41、Ｒ42およびＲ43は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）または下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ41、Ｒ42およびＲ43は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）または一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表される基であるのが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表される基であるのがより好ましい。
【０１１２】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）
【０１１３】
【化３４】
2007140068.tif 000035
【０１１４】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45およびＡ46は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。Ａ41およびＡ42は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45およびＡ46は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45およびＡ46がそれぞれメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ41は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１１５】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）
【０１１６】
【化３５】
2007140068.tif 000036
【０１１７】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55およびＡ56はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ51およびＡ52は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55およびＡ56は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55およびＡ56がそれぞれメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ52は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１１８】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）
【０１１９】
【化３６】
2007140068.tif 000037
【０１２０】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65およびＡ66はそれぞれ独立に、メチンまたは窒素原子を表す。Ａ61およびＡ62は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65およびＡ66は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65およびＡ36がそれぞれメチンの場合、該メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。Ｘ63は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１２１】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ41、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ51、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ61はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−またはＣ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−またはＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２２】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ42、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ52、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−およびＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１２３】
Ｌ42、Ｌ52およびＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−およびＣ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。Ｌ42、Ｌ52およびＬ62はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらにＬ42、Ｌ52およびＬ62はそれぞれ独立して、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。
【０１２４】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ4、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ5および一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ6は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１２５】
以下に、一般式（ＤＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２６】
【化３７】
2007140068.tif 000038
【０１２７】
【化３８】
2007140068.tif 000039
【０１２８】
【化３９】
2007140068.tif 000040
【０１２９】
【化４０】
2007140068.tif 000041
【０１３０】
【化４１】
2007140068.tif 000042
【０１３１】
本発明のディスコティック液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を好ましい例として挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）がより好ましい。
【０１３２】
前記一般式（ＤＩ）で表される化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【０１３３】
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。
【０１３４】
（３）液晶性化合物組成物の層形成に用いられるその他の材料
（３）−１  光重合開始剤、および、増感剤
液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（例えば、一般式（ＶＩ）で表すところのＰ）の重合反応により実施することが好ましい。固定化には所望の光学異方性の発現と安定化が目的であり、その結果、液晶性が失われる事は何ら差し支えない。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応、光重合開始剤を用いる光重合反応（光硬化）、および電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応およびＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤としては、α−カルボニル化合物（例えば、米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書に記載のもの）、アシロインエーテル（例えば、米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの）、多核キノン化合物（例えば、米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書に記載のもの）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（例えば、米国特許３５４９３６７号明細書に記載のもの）、アクリジンおよびフェナジン化合物（例えば、特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書に記載のもの）、オキサジアゾール化合物（例えば、米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物およびチオキサントン系化合物等が好ましい。
アセトフェノン系化合物としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が好ましい例として挙げられる。
ベンジル系化合物としては、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が好ましい例として挙げられる。
ベンゾインエーテル系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が好ましい例として挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が好ましい例として挙げられる。
チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が好ましい例として挙げられる。
このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物およびベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、およびチオキサントン等が含まれる。
【０１３５】
重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがより好ましい。
液晶性化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
これら液晶性化合物組成物由来の層は、液晶性化合物、および所望により重合性開始剤や他の添加剤を含む液晶性化合物塗布液を塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向および固定化した後は、支持体を剥離してもよい。すなわち、本発明の位相差板は、支持体を有することを必須の要件としない。
【０１３６】
（３）−２  液晶性化合物塗布液の添加剤
液晶性化合物塗布液中には、上述のとおり、重合開始剤以外にも適宜添加剤を添加してもよい。例えば、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、配向制御剤およびカイラル剤等が挙げられる。
以下、配向制御剤について詳細に説明する。
本発明における配向制御剤とは、液晶性化合物塗布液に添加され、塗布後に液晶性化合物の層の表面、つまり、空気界面側に偏在することによって、空気界面側での液晶性化合物の配向を制御するのに寄与する化合物を意味する。この配向制御剤の構造によっては、液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させたり、逆に略水平に配向させることもできるが、本発明においては、例えば、ディスコティック液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させる添加剤が好ましく用いられる。ディスコティック液晶性化合物の分子をその様に配向させ得る添加剤としては、特開２０００−３４４７３４号公報等に記載の下記一般式（ＶＩＩ）で表されるような化合物を例示することができる。
一般式（ＶＩＩ）
（Ｈｂ−）mＬ（−Ｂｕ）n
一般式（ＶＩＩ）中、Ｈｂは、炭素原子数が１〜４０のフッ素置換アルキル基、炭素原子数が６〜４０のフッ素置換アリール基、炭素原子数が６〜６０のアルキル基および炭素原子数が１〜６０のアルキル置換オリゴシロキサノキシ基からなる群より選ばれる疎水性基であり、Ｂｕは少なくとも二つの環状構造を含む排除体積効果を有する基であり、Ｌは（ｍ＋ｎ）価の連結基であり、ｍおよびｎはそれぞれ独立に、１〜１２の整数である。
【０１３７】
配向制御剤として好ましくは、トリヒドロキシベンゼン骨格およびトリアジン骨格に、フッ素アルキル基や長鎖アルキル基、アリール基が置換した低分子配向制御剤が挙げられる。空気界面側でディスコティック液晶性化合物を垂直に配向させるための配向制御剤の具体例としては、以下のＤ−１−１、Ｄ−２−１等が挙げられ、水平に配向させるための配向制御剤としてＤ−３−１、Ｄ−４−１等が挙げられる。
【０１３８】
【化４２】
2007140068.tif 000043
【０１３９】
また、配向制御剤としては、以下に示すような高分子化合物でもよい。添加される高分子配向制御剤は液晶性化合物塗布液に溶解しうるポリマーであればよい。好ましい高分子配向制御剤の一例を以下に示す。
【０１４０】
ポリプロピレンオキシド
ポリテトラメチレンオキシド
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトン  ジオール
ポリ−ε−カプロラクトン  トリオール
ポリビニルアセテート
ポリメラミン
ポリ（エチレン  アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン  アジペート）
ポリ（１，４−ブチレン  グルタレート）
ポリ（１，２−ブチレン  グリコール）
ポリ（１，４−ブチレン  スクシネート）
ポリ（１，４−ブチレン  テレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール  セバケート）
ポリ（１，３−プロピレン  アジペート）
ポリ（１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
ポリ（３−ヒドロキシブチリックアシッド）
【０１４１】
また、高分子配向制御剤として、少なくとも一つのフッ化アルキル基を有するモノマーからなる構成単位を含有したポリマーがより好ましく用いられる。例えば、以下に示したＤ−５−１のポリマー等が好適に用いられる。
【０１４２】
【化４３】
2007140068.tif 000044
【０１４３】
配向制御剤の添加量は、該配向制御剤を添加する液晶性化合物塗布液の組成中、液晶性化合物に対し０．０５質量％〜１０質量％添加することが好ましく、０．１質量％〜５質量％添加することがより好ましい。
【０１４４】
さらに、液晶性化合物塗布液中には、配向膜との密着性を向上せしめるような添加剤を加えてもよい。このような添加剤としては、配向膜上の水酸基と強く相互作用相互作用し、かつ、液晶性化合物の重合性基とも反応するものが好ましい。
【０１４５】
配向膜との密着性を向上せしめるような添加剤（密着改良添加剤）として特に好ましいのは、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【０１４６】
一般式（Ｉ）
【０１４７】
【化４４】
2007140068.tif 000045
（一般式（Ｉ）中、Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、Ｑは、配向膜に吸着して結合が可能な基を表す。）
【０１４８】
Ｘ1は、単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基および置換もしくは無置換のヘテロアリール基ならびにそれらの組み合わせから選ばれることが好ましく、置換もしくは無置換のアリーレン基であることがより好ましい。
【０１４９】
Ｚは、下記一般式（III）で表される基またはオキシラニル部分もしくはオキセタン部分を有する基である。
【０１５０】
一般式（III）
【０１５１】
【化４５】
2007140068.tif 000046
一般式（III）中、Ｒ303は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｌ301は、単結合または−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基および置換もしくは無置換のヘテロ環基、ならびに、それらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり、単結合、−ＣＯ−ＮＨ−または−ＣＯＯ−が好ましく、単結合または−ＣＯ−ＮＨ−がより好ましい。
【０１５２】
Ｚとして、具体的には、アクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基またはオキセタン基が好ましく、（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基またはオキセタン基がより好ましく、（メタ）アクリレート基またはスチリル基がさらに好ましい。
【０１５３】
Ｑは、配向膜のヒドロキシル基と結合できる基が好ましい。Ｑとして好ましくは、−ＳｉＸ303（Ｘ303はハロゲン原子またはアルコキシ基）、アルデヒド基、エステル、カルボキシル基、イソシアネート、ボロン酸、またはボロン酸エステルある。
【０１５４】
一般式（Ｉ）はより好ましくは、一般式（ＩＩ）で表される化合物である。
一般式（II）
【０１５５】
【化４６】
2007140068.tif 000047
【０１５６】
（一般式（II）中、Ｒ301およびＲ302は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、または、置換若しくは無置換のヘテロアリール基を表し、置換若しくは無置換のアルキレン連結基または置換若しくは無置換のアリール連結基、あるいは、これらの組み合わせからなる連結基を介して連結してもよい。Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｚは重合性基を有する置換基を表す。）
一般式（II）中、Ｒ301とＲ302は結合して環を形成してもよい。
【０１５７】
Ｒ302およびＲ302における、脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基が好ましい例として挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基が好ましい。
アルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルケニル基が好ましい。
【０１５８】
アルキニル基としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−オクチニル基等が好ましい。
アリール基の具体例としては、１〜４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としてはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
【０１５９】
ヘテロアリール基は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含むヘテロアリール基が好ましく、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものがより好ましい。窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ベンゾフラン環、ジベンゾフラン環、チアナフテン環、ジベンゾチオフェン環、インダゾールベンズイミダゾール環、アントラニル環、ベンズイソオキサゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキザリン環、ナフチリジン環、フェナントロリン環、プテリジン環等が挙げられる。
【０１６０】
上記の基は、任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基およびその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）およびその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基およびその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）およびその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、または置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。
【０１６１】
さらに、Ｒ301およびＲ302は、置換若しくは無置換のアルキレン連結基または置換若しくは無置換のアリール連結基、あるいは、これらの組み合わせからなる連結基を介してＢ（ホウ素）と連結してもよい。ここで、アリール連結基とは、アリール基を含む連結基のことをいい、アリーレン基を含む趣旨である。
【０１６２】
一般式（II）中のＲ301およびＲ302として好ましくは水素原子である。
また、一般式（II）中のＸ1およびＺは、それぞれ、一般式（Ｉ）中のＸ1およびＺと同義であり、好ましい範囲も同義である。
以下に一般式（Ｉ）で表される好ましい重合性化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１６３】
【化４７】
2007140068.tif 000048
【０１６４】
本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表される重合性化合物の液晶性化合物に対する割合は、好ましくは０．０１重量％〜４０重量％、より好ましくは０．０５重量％〜３０重量％、さらに好ましくは０．０５重量％〜２０重量％である。
【０１６５】
液晶性化合物塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、２−ブタノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。
【０１６６】
液晶性化合物塗布液中の液晶性化合物およびその他の添加剤の固形分濃度は、０．１質量％〜６０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５０質量％であることがより好ましく、２質量％〜４０質量％であることがさらに好ましい。また、液晶性化合物塗布液の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐであることが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐであることがより好ましい。
【０１６７】
（４）光学異方性層の形成方法
本発明の位相差板は、例えば、支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された配向膜上に液晶性化合物由来の層を形成する工程を含む。このような方法としては、液晶性化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した液晶性化合物塗布液を、配向膜上に塗布して、液晶性化合物塗布層とする方法が挙げられる。また、可能であれば蒸着により同様の層を形成してもよいが、塗布により形成する方法が好ましい。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物を配向させ、更に、所望により紫外線照射等によって固定化することによって、液晶性化合物由来の光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、用途に応じて、例えば、最適なレターデーションの値に応じて、その好ましい範囲も異なる。
【０１６８】
２．配向膜
次に本発明に用いられる配向膜について以下に説明する。
【０１６９】
２−１．配向膜用ポリマー
本発明に用いられる配向膜は下記一般式（Ｔ）で表されるポリビニールアルコール類を含んで成ることが好ましい。
【０１７０】
一般式（Ｔ）
【０１７１】
【化４８】
2007140068.tif 000049
（一般式（Ｔ）中、Ｘは任意の重合単位を表し、ａ、ｂ、ｃはそれぞれの重合単位のモル分率を表し、５０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦５０、０≦ｃ≦５０である。）
【０１７２】
Ｘで表される構造単位は一般式（Ｔ）で表されるポリマーあるいはその前駆体を重合する際に、共重合可能なモノマー成分に由来するものであり、それ以外は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、特に制限はない。また、ビニルアルコール、酢酸ビニルのいずれかの構造単位を化学的に修飾、変換して得られる構造単位であってもよく、二種類以上の構造単位から成ってもよい。
【０１７３】
Ｘで表される構成単位は一種類の構造単位から成ってもよく、二種類以上の構造単位から成ってもよい。また、ランダム共重合体でもブロック共重合体でもよい。
【０１７４】
Ｘで表される構造単位を構成するモノマーとしては、オレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、３−ジメチルアミノプロピルアクリレートなど）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸アリル、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ‐ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等、カルボキシル基含有ビニルモノマー（アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）が好ましく、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、カルボキシル基含有ビニルモノマー類がより好ましく、アクリルアミド類、メタクリルアミド類がさらに好ましい。
【０１７５】
また、Ｘで表される構造単位は上記モノマー群が連続して重合して成るシーケンスのブロックを含んで成ってもよい。このような様態である場合、上記モノマーから成るブロックの他、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタン、ポリウレイドの構造を有するブロックが好ましく、ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタン、ポリウレイドの構造を有するブロックがより好ましく、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミドがさらに好ましい。
【０１７６】
Ｘで表される構造単位は架橋性基を有する構成単位を含んでいてもよい。架橋性基を有する構成単位を含むポリマーを用いて配向膜を形成すると、液晶性化合物が重合性基を有する場合等は、配向膜用ポリマーと液晶性化合物が架橋基によって架橋され、配向膜層と光学異方性層との密着性の改善に寄与するので好ましい。Ｘで表される構造単位に含まれる架橋性基は、付加、縮合、置換反応性基など特に制限なく用いることができる。一方で、液晶性化合物としては、アクリロイル基、メタクリロイル基などエチレン性不飽和基を有する材料を用いて、光ラジカル重合開始剤の存在下で紫外線照射により固定するのが好ましく、配向膜用ポリマーも紫外線照射により、架橋反応し得る架橋性基を有することが好ましい。紫外線照射により架橋しうる反応の好ましい例として、紫外線照射によりカチオンを発生する化合物を併用したエポキシ環、オキセタン環などのヘテロ環状化合物の開環重合反応と紫外線照射によりラジカルを発生する化合物を併用したエチレン性不飽和基を有する化合物のラジカル重合反応が挙げられる。これらのうちポリマー中に含まれる（すなわちＸで表される構造単位に含まれる）最も好ましい架橋性基はエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基等）である。また、前記配向膜用ポリマー中への架橋性基導入方法としては特に制限はない。
【０１７７】
以下にＸで表される構造単位の具体例を示すが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
【０１７８】
【化４９】
2007140068.tif 000050
【０１７９】
【化５０】
2007140068.tif 000051
【０１８０】
【化５１】
2007140068.tif 000052
【０１８１】
【化５２】
2007140068.tif 000053
【０１８２】
【化５３】
2007140068.tif 000054
【０１８３】
【化５４】
2007140068.tif 000055
【０１８４】
【化５５】
2007140068.tif 000056
【０１８５】
【化５６】
2007140068.tif 000057
【０１８６】
【化５７】
2007140068.tif 000058
【０１８７】
【化５８】
2007140068.tif 000059
【０１８８】
【化５９】
2007140068.tif 000060
【０１８９】
【化６０】
2007140068.tif 000061
【０１９０】
【化６１】
2007140068.tif 000062
【０１９１】
【化６２】
2007140068.tif 000063
【０１９２】
本発明に用いられる配向膜の表面は高い水酸基の占める割合が高く、アセチル基等疎水性の基が少ないことが好ましい。このような表面状態の情報を得るに当たっては、ＥＳＣＡ測定が好適である。すなわち、本発明では、配向膜の、Ｃ−Ｏ結合を形成している炭素原子に由来するピークの強度ＡとＣ＝Ｏ結合を形成している炭素原子に由来するピークの強度Ｂとの比、すなわちＢ／Ａの値が０．２５以下であり、０．２０以下であることがより好ましく、０．１５以下であることがさらに好ましい。
【０１９３】
このような表面状態を得る手段としては下記に示す二つの手法が挙げられる。
【０１９４】
（Ｉ）水酸基の含率が高いポリビニルアルコール類を用いる方法
水酸基の含率が高いポリビニルアルコール類を用いることにより、配向膜全体の水酸基の含率を高くすることができる。すなわち、一般式（Ｔ）において、ａの値が高くｂ、ｃの値が低くなることが好ましい。この場合、好ましくは９０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦１０、０≦ｃ≦１０であり、より好ましくは９５≦ａ≦１００、０≦ｂ≦５、０≦ｃ≦５であり、さらに好ましくは９８≦ａ≦１００、０≦ｂ≦２、０≦ｃ≦２である。
【０１９５】
このような配向膜用ポリマーを用いる場合、後述するラビング条件の許容幅が広くなり、製造工程の負荷が軽減される等の利点が見込まれる。
【０１９６】
（II）強いラビング処理による方法
比較的低ケン化度のポリビニルアルコール類（ビニルアルコール単位の含量が低い）を用いることによっても、十分にラビング処理を施すことにより、Ｂ／Ａが本発明の要件を満たすような表面状態とすることができる。この場合の各構造単位の好ましい組成は、５０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦５０、０≦ｃ≦５０であり、より好ましくは、６０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦４０、０≦ｃ≦４０であり、特に好ましくは７０≦ａ≦１００、０≦ｂ≦３０、０≦ｃ≦３０である。
【０１９７】
このような配向膜用ポリマーを用いる場合には、Ｘの成分にもよるが、皮膜を形成した後ラビング処理を施す前の表面の水酸基量はポリマー全体から予想されるより少ないことが多い。しかしながら、十分にラビング処理を施すことにより表面水酸基量が相対的に上昇し、前記の好ましい表面状態とすることができる。尚、この機構については、ラビングにより表面に偏析していた疎水性の成分を多く含む層が削れる、或いは表面官能基の再配置が起こるものと考えられるが、詳細は不明である。この場合、幅広いポリマーが配向膜用ポリマーとして使用可能となり、配向膜に光学異方性層との密着性等の新たな機能を付与することが可能となる。
【０１９８】
本発明における配向膜用ポリマーは、付加、縮合、置換反応など種々の方法により製造することができる。一方、配向膜用ポリマーが、架橋性基を有する構成単位を含む場合、該配向膜用ポリマーは、（ａ）対応するモノマー（即ち、架橋性基となる置換基を有するモノマー）を重合して、直接エチレン性不飽和基を導入する手法；または（ｂ）任意の官能基を有するモノマーを重合して得られたポリマーに、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する手法；により合成することができる。前記高分子反応は、Ｉ）例えば２−クロロエチル基から塩酸を脱離させるようなエチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基を含むポリマーを生成させた後に、官能基変換（脱離反応、酸化反応、還元反応、脱保護反応など）によりエチレン性不飽和基に誘導する方法；およびＩＩ）任意の官能基を含むポリマーを生成させた後に、該ポリマー中の官能基と結合生成反応が進行し、共有結合を生成し得る官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する化合物（以降、「反応性モノマー」と称する。）を反応させる方法が挙げられる。また、前記Ｉ）およびＩＩ）の方法を組み合わせて、前記配向膜用ポリマーを合成してもよい。ここで、結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用いられる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応であれば特に制限なく使用できる。一方で、配向膜用ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるので、できるだけ低温（好ましくは６０℃以下、より好ましくは室温（例えば、３０℃）以下）で反応が進行するものが好ましい。また反応の進行を促進させる目的で触媒を用いてもよく、ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。
【０１９９】
前記配向膜用ポリマーの分子量範囲は、重量平均分子量で１０００〜１００万が好ましく、２０００〜２０万がより好ましく、３０００〜１０万がさらに好ましい。
【０２００】
表１に、本発明における、水酸基の含率が高いポリビニルアルコール類である、一般式（Ｔ）で表されるポリマーの具体例を示す。また、表２に、強いラビング処理による方法に適するポリマーである、一般式（Ｔ）で表されるポリマーの具体例を示す。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【０２０１】
【表１】
2007140068.tif 000064
【０２０２】
【表２】
2007140068.tif 000065
【０２０３】
２−２．配向膜塗布液および配向膜形成方法
本発明における配向膜用ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させてもよい。架橋剤の例には、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。また、二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒドが好ましく、グルタルアルデヒドがより好ましい。
【０２０４】
架橋剤の添加量は、配向膜に使用されるポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性がより得られやすくなる。
【０２０５】
配向膜は、基本的に、配向膜用ポリマー、架橋剤を含む配向膜塗布液を支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜用ポリマーとして用いる場合には、配向膜塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましく、その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥をより効果的に減少させることができる。
【０２０６】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ジップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましく、ロッドコーティング法がより好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。より充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃よりが好ましい。乾燥時間は、例えば、１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましく、５がより好ましい。
【０２０７】
配向膜は、通常、支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のとおり、例えば、配向膜用ポリマーを架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０２０８】
ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル、レーヨン繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０２０９】
前記の如く水酸基の含率が高い配向膜用ポリマーを用いる場合、比較的穏和なラビング条件でも好ましい表面組成を得ることができるが、水酸基の含率の低い配向膜用ポリマーを用いる場合には、十分にラビング処理を施すことが必要である。具体的には、ラビングの回数、ラビングの圧力等を高めることが挙げられ、用いるポリマーの組成に応じて実験的に決定できる。
【０２１０】
３．支持体
位相差板は、支持体を有していてもよく、該支持体は、透明支持体であるのが好ましい。前記支持体は、主に、光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー類、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２、３、４であることが好ましい。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネートまたはセルロースブチレートが挙げられる。この中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、例えば、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたもの等も用いることができる。
【０２１１】
以下、支持体として好ましく使用されるセルロースエステルについて詳述する。
セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％〜４０％の割合でアシル基によって置換されていることが好ましく、３１％以上がアシル基によって置換されていることがより好ましく、３２％以上がアシル基によって置換されていることがさらに好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例えば、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０２１２】
支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアセテートフィルムは、レターデーション値を調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。さらに、レターデーション上昇剤として、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
ここでいう芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環の他、芳香族性ヘテロ環を含む趣旨である。
【０２１３】
本発明で用いることができるレターデーション上昇剤が有する芳香族環は、少なくとも１つが６員環（すなわち、ベンゼン環）であることがより好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環および１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【０２１４】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤としては、国際公開第０１／８８５７４号パンフレット、国際公開第００／２６１９号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報および特開２００２−３６３３４３号公報に記載のものが好ましい。
【０２１５】
セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、例えば、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載の方法を採用できる。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム上またはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させてもよい。以上の方法は、例えば、特公平５−１７８４４号公報の記載に従って行うことができる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０２１６】
ドープは、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解する。セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし、地球環境や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、    ２〜６頁、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。
【０２１７】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラム上またはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【０２１８】
セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーション値を調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明で用いるセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【０２１９】
セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、ｏ−アセチルクエン酸およびトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。この中でも、フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられ、ＤＥＰおよびＤＰＰがより好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１５質量％であることがさらに好ましい。
【０２２０】
セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載のものを採用できる。
劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量を０．０１質量％以上とすることにより、劣化防止剤の効果がより発揮されやすい傾向にある。また、添加量を１質量％以下とすることにより、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）をより少なくできる傾向にある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤は、特開平７−１１０５６号公報に記載のものを採用できる。
【０２２１】
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０２２２】
セルロースアセテートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理またはアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温（例えば、２５℃）〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０２２３】
また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
セルロースアセテートフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が最も好ましい。
【０２２４】
位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型および半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、位相差板を利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。
【０２２５】
［楕円偏光板］
本発明の位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０２２６】
偏光膜は、位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に保護膜（好ましくは透明保護膜）を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。保護膜は、好ましくはセルロースエステルフィルムが、より好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがより好ましい。
【０２２７】
［液晶表示装置］
本発明の位相差板は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する。液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光板および位相差板（光学補償シート）を有する。前記偏光板は、一般に偏光膜と保護膜からなり、偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、例えば、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書の記載に従って作製することができる。また、ＩＰＳモードまたはＦＤＣモードの液晶セル用位相差板は、例えば、特開平１０−５４９８２号公報の記載に従って作製することができる。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、例えば、米国特許５８０５２５３号明細書および国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報の記載に従って作製することができる。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、例えば、特開平９−２６５７２号公報の記載に従って作製することができる。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、例えば、特許登録第２８６６３７２号公報の記載に従って作製することができる。
【０２２８】
本発明の位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰＤａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（ＦｅｒｒｏｅＤｅｃｔｒｉｃ  Ｄｉｑｕｉｄ  ＣｒｙｓｔａＤ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａＤＤｙ  ＡＤｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  ＡＤｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。本発明の位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）およびＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の光学補償に特に効果がある。
【実施例】
【０２２９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０２３０】
１．ディスコティック液晶性化合物Ｄ３−１０の合成
下記スキームに従って合成した。
【０２３１】
【化６３】
2007140068.tif 000066
【０２３２】
（Ｄ３−１０Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させ、３−クロロ−１−プロパノール１．３ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍｌを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍｌを添加後、４０℃で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、Ｄ３−１０Ａを３．４ｇ得た。
【０２３３】
（Ｄ３−１０Ｂの合成）
３．４ｇのＤ３−１０Ａをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍｌに溶解させ、ピリジン（Pyridine）１．２ｍｌ、トリメシン酸クロライド１．２ｇを添加後、１２０℃で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取して乾燥し、３．９ｇのＤ３−１０Ｂを得た。
【０２３４】
（Ｄ３−１０の合成）
３．９ｇのＤ３−１０Ｂをジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム３．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．０ｇ、アクリル酸１．９ｍｌを添加後、１００℃で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、３．０ｇのＤ３−１０を得た。得られたＤ３−１０のＮＭＲスペクトルは以下の通りであった。
【０２３５】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．３０（６Ｈ、ｑｕｉｎｔ）、４．４０（６Ｈ、ｔ）、４．５５（６Ｈ、ｔ）、５．８５（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４５（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。
【０２３６】
得られたＤ３−１０の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行った。その結果、温度を上げていき１１５℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１７８℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１０は１１５℃から１７８℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。
【０２３７】
２．配向膜用ポリマー（Ｐ−４）の合成
以下のスキームに従って、配向膜用ポリマー（Ｐ−４）を合成した。
【０２３８】
【化６４】
2007140068.tif 000067
【０２３９】
１００ｍＬの三口フラスコにメタノール（１５ｇ）、酢酸ビニル（１５．５ｇ）、アクリルアミド（０．２８４ｇ）、アゾイソブチロニトリル（０．２ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら５５℃に加熱した。そこに、アクリルアミド（１．１４ｇ）、メタノール（１．６ｇ）の溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、反応溶液を１０００ｍＬの三口フラスコに移し、メタノール３００ｍＬを加え希釈した。この溶液を室温で攪拌しつつ、水酸化ナトリウム（７．８ｇ）のメタノール（１５０ｇ）溶液をゆっくりと添加した。そのまま４時間攪拌し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、更にメタノールで洗浄し、乾燥した。このようにして本発明の配向膜塗布液に用いられるポリマー（Ｐ−４）を１５．２ｇ得た。得られたポリマーの比率は１Ｈ−Ｎ．Ｍ．Ｒより確認した。
【０２４０】
３．位相差板の作製
［透明支持体の作製］
下記に示すセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（以下、ドープと呼ぶことがある）を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート                              ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                      ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１）                    ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２）                    ０．２質量部
メチレンクロライド                              ３１０．２５質量部
メタノール                                        ５４．７５質量部
１−ブタノール                                    １０．９５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４１】
レターデーション上昇剤（１）
【０２４２】
【化６５】
2007140068.tif 000068
【０２４３】
レターデーション上昇剤（２）
【０２４４】
【化６６】
2007140068.tif 000069
【０２４５】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーション値を波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーション値が４０ｎｍ、面内のレターデーション値が４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。
【０２４６】
（第１下塗り層の形成）
上記透明支持体の上に、下記の組成の第１下塗り層塗布液を２８ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
第１下塗り層塗布液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ゼラチン                                          ５．４４質量部
ホルムアルデヒド                                  １．３８質量部
サリチル酸                                        １．６２質量部
アセトン                                            ３９１質量部
メタノール                                          １５８質量部
メチレンクロライド                                  ４０６質量部
水                                                    １２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４７】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の第２下塗り層塗布液を７ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
【０２４８】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
第２下塗り層塗布液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のアニオン性ポリマー                          ０．７７質量部
クエン酸モノエチルエステル                        １０．１質量部
アセトン                                            ２００質量部
メタノール                                          ８７７質量部
水                                                ４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４９】
アニオン性ポリマー
【０２５０】
【化６７】
2007140068.tif 000070
【０２５１】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成のバック層塗布液を２５ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バック層塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度５５％のセルロースジアセテート              ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）        ０．６５質量部
アセトン                                            ６７９質量部
メタノール                                          １０４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５２】
［配向膜の形成］
（１）配向膜（ＡＦ１）の形成（本発明）
上記一般式（Ｔ）で表されるポリマーの例であるＰ−１に相当するポリマーとして、ＰＶＡ１０３（ポリビニルアルコール、クラレ製）とグルタルアルデヒド（前記ＰＶＡ１０３に対して５質量％）を水／メタノール混合液に、４質量％となるように希釈し、配向膜塗布液を調液した。該配向膜塗布液を、上記透明支持体（幅１５０ｍｍ、長さ２００ｍに裁断したもの）の第２下塗り層の表面に塗布して、配向膜塗布層を形成した。該配向膜塗布層を１２０℃で２分間加熱して、乾燥し、厚さ１μｍの膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向（搬送方向）にラビング処理を実施した。ラビング処理は金属筒表面にレーヨンを貼り付けたラビングローラー（直径６５ｍｍ）を用い、下記条件の下でラビング処理を実施し、ＡＦ１の配向膜を得た。
ラビング布とフィルム面との距離（ｄ）：＊ｍｍ
ラビングローラー回転数：１０００ｒｐｍ
支持体搬送速度：０．３ｍ／ｍｉｎ
【０２５３】
（２）配向膜（ＡＦ２〜１８）の調整（本発明）
上記ＡＦ１において用いる配向膜用ポリマー、添加剤、ラビング布とフィルム面との距離（ｄ）を表３のように変えた以外はＡＦ１と同様に行い、ＡＦ２〜１８の配向膜を得た。
【０２５４】
（３）配向膜（ＡＦ１９〜２１）の調整（比較例）
ＡＦ１において用いる配向膜用ポリマー、添加剤、ラビング布とフィルム面との距離（ｄ）を表３のように変えた以外はＡＦ１と同様に行い、ＡＦ１９〜２１の配向膜を得た。尚、表３中、ＰＶＡ５０５は、（株）クラレ製ポリビニルアルコール（ケン化度７２．５〜７４．５ｍｏｌ％）を示している。
【０２５５】
［配向膜表面組成測定］
得られたＡＦ１〜２１の配向膜の表面組成を決定すべく、ＥＳＣＡ測定を行った。Ｃ−Ｏ結合を形成している炭素原子に由来するピーク（２８７．５ｅＶ）の強度ＡとＣ＝Ｏ結合を形成している炭素原子に由来するピーク（２９０．５ｅＶ）の強度Ｂとの比、つまりＢ／Ａの値を表３に併記した。なお、測定にはＫＲＡＴＯＳ  ＡＮＡＬＹＴＩＣＡＬ社製ＥＳＣＡを用い、以下の条件で測定した。
Ｘ線源：ＭｇＫα
加速電圧：１２ｋＶ
電流値：１２ｍＡ
パスエネルギー：７５ｅＶ
【０２５６】
【表３】
2007140068.tif 000071
【０２５７】
［光学異方性層の形成］
（１）棒状液晶性分子組成物層の形成
上記のように形成した配向膜の上に、下記の組成の塗布液（ＲＬ−１）をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を８０℃で３０秒間加熱して、棒状液晶性分子を配向させた。その温度で１０秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、棒状液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして棒状液晶性分子組成物由来の層を形成した。この層の厚みは約８０ｎｍであった。
───────────────────────────────────
棒状液晶性分子組成物層の塗布液組成
───────────────────────────────────
下記の棒状液晶性化合物  Ｖ−１                      １４．４質量％
下記の増感剤                                        ０．１４質量％
下記の光重合開始剤                                  ０．４２質量％
メチルエチルケトン                                  ８５．０４質量％
───────────────────────────────────
【０２５８】
【化６８】
2007140068.tif 000072
【０２５９】
【化６９】
2007140068.tif 000073
【０２６０】
【化７０】
2007140068.tif 000074
【０２６１】
（２）ディスコティック液晶性分子組成物層の形成−１
上記のように形成した配向膜の上に、下記の組成の塗布液（ＲＬ−２）をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１２５℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学異方性層（厚み１．５μｍ）を形成た。
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶性分子（ＶＩ−1）組成物層の塗布液組成−１
───────────────────────────────────
下記のディスコティック液晶性化合物  VI−１        １４．５質量％
下記の増感剤                                      ０．１５質量％
下記の光重合開始剤                                ０．４５質量％
下記の配向制御剤    Ｄ−５                        ０．１０質量％
メチルエチルケトン                                ８４．８質量％
───────────────────────────────────
【０２６２】
【化７１】
2007140068.tif 000075
【０２６３】
（３）ディスコティック液晶性分子組成物層の形成−２
上記のように形成した配向膜の上に、下記の組成の塗布液（ＲＬ−３）を、バーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１２５℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学異方性層（厚み１．５μｍ）を形成した。
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶性分子（ＶＩ−1）組成物層の塗布液組成−２
───────────────────────────────────
上記のディスコティック液晶性化合物  VI−１        １４．５質量％
上記の増感剤                                      ０．１５質量％
上記の光重合開始剤                                ０．４５質量％
上記の配向制御剤    Ｄ−５                        ０．１０質量％
例示化合物  Ｉ−６（密着性改良添加剤）            ０．０７質量％
メチルエチルケトン                                ８４．７３質量％
───────────────────────────────────
【０２６４】
（４）ディスコティック液晶性分子組成物層の形成−３
ラビング処理を行った配向膜の上に、下記の組成の塗布液（ＲＬ−４）を、バーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１２０℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学異方性層（厚み１．０μｍ）を形成し、本発明の位相差板を作製した。
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶性分子（Ｄ３−１０）組成物層の塗布液組成−１
───────────────────────────────────
・例示化合物  Ｄ３−１０                            １４．１３質量％
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））
０．４２質量％
・ジエチルチオキサントン（重合開始剤）                ０．１４質量％
・メチルエチルケトン                                  ８５．３質量％
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６５】
（５）ディスコティック液晶性分子組成物層の形成−４
ラビング処理を行った配向膜の上に、下記の組成の塗布液（ＲＬ−５）をバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１２０℃で１分間加熱して、ディスコティック液晶性分子を配向させた。その温度で４秒間、６００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射してディスコティック液晶性分子を重合させ、配向状態を固定した。このようにして光学異方性層（厚み１．０μｍ）を形成し、本発明の位相差板を作製した。
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶性分子（Ｄ３−１０）組成物層の塗布液組成−１
───────────────────────────────────
・例示化合物  Ｄ３−１０                            １４．１３質量％
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））
０．４２質量％
・ジエチルチオキサントン（重合開始剤）                ０．１４質量％
・例示化合物  Ｉ−６（密着性改良添加剤）              ０．０７質量％
・メチルエチルケトン                                ８５．２４質量％
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６６】
４．位相差板の評価
上記の方法により作製した位相差板（後述する表４の実施例１〜２８および比較例１〜６に相当するもの）について下記評価を行った。
【０２６７】
（平均チルト角の測定）
上述した方法により、ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いθ１及びθ２を算出した（λ＝５８９ｎｍ）。この値の平均値（（θ１＋θ２）／２）を求め、平均チルト角とした。
【０２６８】
（配向欠陥の測定）
上記方法で得られた位相差板を、偏光顕微鏡下で観察し、配向欠陥の評価を行った。評価は以下の基準に基づき行った。
著しい欠陥（スジ状、点状）が観られる：×
正常領域中に欠陥（スジ状、点状）が観られる：△
欠陥がほとんど観られない：〇
このようにして評価した各位相差板の配向欠陥の評価を以下の表４に記載した。
【０２６９】
５．偏光板の作製
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。偏光膜の一方の面に、ケン化処理したロール状セルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フィルム（株）製）と、他方の面にケン化処理したロール状光学異方性層の透明支持体を、連続して貼り合わせ、偏光板を作製した。
【０２７０】
６．液晶表示装置の作製
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜面が向き合い、かつ配向膜のラビング方向が直交するように配置した。二枚の基板の間隙に、棒状液晶性化合物（ＺＤ４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶性化合物層を形成した。棒状液晶性化合物のΔｎは０．０９６９であった。以上のようにして作製したＴＮ液晶セルの両側に、上記で作製した位相差板のうちディスコティック液晶性化合物を用いたものをそれぞれ二枚配置し、光学異方性層が液晶セルの基板と対面するように貼り付けた。さらにそれらの外側に、上記のようにして作製した偏光板二枚を貼り付けて液晶表示装置を作製した。位相差板の配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とは、反平行になるように配置した。また、偏光板の吸収軸と、液晶セルのラビング方向とは平行になるように配置した。
それぞれ作製した液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０、かつ階調反転のない領域を視野角として測定した。また、白表示時と黒表示時における色味の角度依存性を目視にて行った。その結果を表４に示した。
【０２７１】
【表４】
2007140068.tif 000076
【０２７２】
表４の結果から本発明の位相差板（実施例１〜２９）は、棒状液晶性分子、ディスコティック液晶性分子のいずれを用いても、配向欠陥が少ない良好な面状を得られ、これらの位相差板を用いた液晶表示装置では角度による色身変化が少なかった。また、従来配向欠陥が少ない配向が困難であったヘテロ環基による３置換ベンゼン型のディスコティック液晶分子を用いても、配向欠陥が少ない良好な面状を得られ、これらの位相差板を用いた液晶表示装置では角度による色身変化が少なかった。これに対し、比較例の位相差板（比較例１〜６）ではヘテロ環基による３置換ベンゼン型のディスコティック液晶分子を用いた場合に配向欠陥が多く、結果として所望の液晶セルの補償ができず、色味変化などが目視で顕著に観察された。本発明に用いられた配向膜は表面の水酸基量が高く、このような配向膜を用いる事でヘテロ環基による３置換ベンゼン型のディスコティック液晶分子を含む多様な液晶性化合物を欠陥が少ない状態で均一に配向させることが確認された。