(57)【要約】      （修正有）【課題】太陽基板等の熱処理に際し、省エネルギー性や任意のヒートカーブに対する対応性に優れるとともに、搬送部の熱劣化が生じにくい搬送機構を提供する。【解決手段】搬送機構は、基板等の被熱処理物１を水平方向に搬送するための水平移動手段と、搬送面から離れた位置に存在する加熱手段に向かって前記被熱処理物を垂直方向に移動させる垂直方向移動手段とを備え、前記水平方向移動手段が前進及び後退という水平往復運動を周期的に繰返すビーム３を有し、また垂直方向移動手段として被熱処理物を支持するための支持部５を有し、当該支持部が上昇及び下降という垂直往復動作を周期的に繰返すように構成された昇降治具２を備える。また前記ビームと昇降治具の支持部との間で被熱処理物の受け渡しができるように構成されている。この搬送機構は、熱処理炉に有用である。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板等の被熱処理物を熱処理する熱処理炉で、複数の前記被熱処理物を順次搬送するために使用される搬送機構であって、
前記被熱処理物の水平方向への搬送を目的とする水平方向移動手段と、搬送面から離れた位置に存在する加熱手段に向かって前記被熱処理物を垂直方向に移動させることを目的とする垂直方向移動手段とを備え、前記水平方向移動手段と前記垂直方向移動手段との間で前記被熱処理物の受け渡しが可能である搬送機構。
【請求項２】
前記垂直方向移動手段として、垂直方向における動作のストロークが５０ｍｍ以上であり、前記被熱処理物を支持するための支持部を有する昇降治具が、少なくとも１つ装備された請求項１に記載の搬送機構。
【請求項３】
前記水平方向移動手段が、前進及び後退という水平往復動作を周期的に繰り返すビーム又は線材を有する請求項１又は２に記載の搬送機構。
【請求項４】
前記水平方向移動手段が、２種類のビーム又は線材により構成され、前記２種のビーム又は線材の内の少なくとも一方が、上昇、前進、下降及び後退という動作形態の少なくとも何れかを含む一連の動作をする請求項１又は２に記載の搬送機構。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の搬送機構を備えた熱処理炉であって、
炉内が１つ又は搬送方向に連なる複数のゾーンから構成されており、前記各ゾーン内に前記垂直方向移動手段が少なくとも１つ配置されているとともに、前記垂直方向移動手段の垂直方向における動作のストローク及び／又は速度が、前記各垂直方向移動手段毎に任意に設定可能である熱処理炉。
【請求項６】
炉内を加熱するための加熱手段が、前記搬送機構の上方に設置されている請求項５に記載の熱処理炉。
【請求項７】
前記ゾーンの内の少なくとも何れか１つにおいて、前記垂直方向移動手段により垂直方向に移動する前記被熱処理物の移動経路が炉壁に囲まれており、前記炉壁内に、各々独立して温度制御可能な複数のヒーターが垂直方向に分割して設置された請求項５又は６に記載の熱処理炉。
【請求項８】
基材上に機能膜材料が形成された基板の前記機能膜材料を熱処理する方法であって、
請求項５〜７の何れか一項に記載の熱処理炉を使用して前記熱処理を行う熱処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱処理炉において、太陽電池基板等の被熱処理物を順次搬送するために使用される搬送機構と、当該搬送機構を備えた熱処理炉と、当該熱処理炉を用いた熱処理方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池基板の製造においては、シリコンからなる基材の表面及び裏面に導電性の電極材料をペースト状にして所定のパターンで印刷形成した後、熱処理炉内を連続的又は間欠的に移動させながら熱処理（乾燥、焼成等）する工程がある。従来、この太陽電池基板のように、基材上に機能膜材料が形成された基板の熱処理に用いられる熱処理炉には、被熱処理物である基板を移動させるための搬送機構として、メッシュベルトコンベアを用いるのが一般的であった（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、メッシュベルトコンベアを搬送機構に用いる場合においては、メッシュベルトが、炉内の高温と、基板を載置し支持するために必要な張力とに耐え得る熱耐久性や強度を有する必要があるため、メッシュベルトを構成するメッシュに線材密度が高く熱容量の大きいものを使用せざるを得ない。その結果、大熱容量のメッシュが間断なく炉に出入りを繰り返すことになるため、基板の加熱に要するエネルギーの他に、メッシュベルトを加熱するために多大なエネルギーが消費されていた。
【０００４】
更に、太陽電池基板の熱処理においては、極めて短時間の内に基板温度を上昇・下降させる等、任意性に富んだヒートカーブの実現が要求され、しかも最高温度は８００〜９００℃という高温度が要求されるが、メッシュベルトコンベアを搬送機構に用いる場合は、ヒーター等の加熱手段からの投入熱量の多くが前記のようにメッシュベルトの加熱のために費やされるため、基板自身のヒートカーブを任意に調整することが困難であった。
【０００５】
また、最近では、メッシュベルトコンベアに比して熱容量が小さく、迅速な昇降温が可能なことから、前記のような太陽電池基板等の熱処理を目的とした熱処理炉に、搬送機構としてウォーキングビームを使用する場合もあるが（例えば、特許文献２参照）、ウォーキングビームを使用しても、要求されるヒートカーブによっては、その機構上の問題から対応が困難である場合が有った。
【０００６】
また、メッシュベルトコンベアやウォーキングビームにおいては、基板を載置して移動する搬送部（メッシュベルトやビーム）が、常に基板とほぼ同じ高さにあり、基板と同様の高温度で加熱され続けるため、それら搬送部が熱劣化しやすいという問題も有った。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２０３８８８号公報
【特許文献２】特開２００３−９０６８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような従来の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、省エネルギー性や任意のヒートカーブに対する対応性に優れるとともに、搬送部の熱劣化が生じにくい搬送機構と、当該搬送機構を備えた熱処理炉と、当該熱処理炉を用いた熱処理方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明によれば、以下の搬送機構、熱処理炉及び熱処理方法が提供される。
【００１０】
［１］  基板等の被熱処理物を熱処理する熱処理炉で、複数の前記被熱処理物を順次搬送するために使用される搬送機構であって、前記被熱処理物の水平方向への搬送を目的とする水平方向移動手段と、搬送面から離れた位置に存在する加熱手段に向かって前記被熱処理物を垂直方向に移動させることを目的とする垂直方向移動手段とを備え、前記水平方向移動手段と前記垂直方向移動手段との間で前記被熱処理物の受け渡しが可能である搬送機構。
【００１１】
［２］  前記垂直方向移動手段として、垂直方向における動作のストロークが５０ｍｍ以上であり、前記被熱処理物を支持するための支持部を有する昇降治具が、少なくとも１つ装備された前記［１］に記載の搬送機構。
【００１２】
［３］  前記水平方向移動手段が、前進及び後退という水平往復動作を周期的に繰り返すビーム又は線材を有する前記［１］又は［２］に記載の搬送機構。
【００１３】
［４］  前記水平方向移動手段が、２種類のビーム又は線材により構成され、前記２種のビーム又は線材の内の少なくとも一方が、上昇、前進、下降及び後退という動作形態の少なくとも何れかを含む一連の動作をする前記［１］又は［２］に記載の搬送機構。
【００１４】
［５］  前記［１］〜［４］の何れかに記載の搬送機構を備えた熱処理炉であって、炉内が１つ又は搬送方向に連なる複数のゾーンから構成されており、前記各ゾーン内に前記垂直方向移動手段が少なくとも１つ配置されているとともに、前記垂直方向移動手段の垂直方向における動作のストローク及び／又は速度が、前記各垂直方向移動手段毎に任意に設定可能である熱処理炉。
【００１５】
［６］  炉内を加熱するための加熱手段が、前記搬送機構の上方に設置されている前記［５］に記載の熱処理炉。
【００１６】
［７］  前記ゾーンの内の少なくとも何れか１つにおいて、前記垂直方向移動手段により垂直方向に移動する前記被熱処理物の移動経路が炉壁に囲まれており、前記炉壁内に、各々独立して温度制御可能な複数のヒーターが垂直方向に分割して設置された前記［５］又は［６］に記載の熱処理炉。
【００１７】
［８］  基材上に機能膜材料が形成された基板の前記機能膜材料を熱処理する方法であって、［５］〜［７］の何れかに記載の熱処理炉を使用して前記熱処理を行う熱処理方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の搬送機構は、メッシュベルトコンベア等に比して搬送機構自体の熱容量が小さく、また、炉の内外を出入りする部位も少ないため、搬送機構の加熱に費やされるエネルギーが少なくて済み、省エネルギー性に優れる。また、本発明の熱処理炉は、熱処理中における被熱処理物の温度の変更（昇降温）を、異なる内部温度に設定されたゾーン間の移動だけに依存せず、同一ゾーン内における加熱手段（ヒーター等）と被熱処理物との距離の変更によっても行うことができるため、任意のヒートカーブに対する対応性に優れるともに、少ないゾーン数での熱処理も可能となり、炉長を短縮することができる。更に、被熱処理物を高温加熱する際には、垂直方向移動手段にて被熱処理物を上昇させて加熱手段との距離を近づけるようにすることで、加熱手段と搬送機構の搬送部（水平方向移動手段を構成するビーム等）との距離は常に遠ざけておくことが可能となるので、搬送部の熱劣化を抑制することができる。また、本発明の熱処理方法によって熱処理を行えば、前記の省エネルギー性、任意のヒートカーブに対する対応性、搬送部の熱劣化抑制といった種々の効果を、実際の熱処理において享受することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の代表的な実施形態を図面を参照しながら具体的に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜設計の変更、改良等が加えられることが理解されるべきである。
【００２０】
まず、本発明に係る搬送機構の搬送動作を従来のウォーキングビームの搬送動作と比較して説明する。
【００２１】
図２（ａ）〜（ｅ）は、ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略説明図である。このウォーキングビームは、炉内に固定された固定ビーム１５と、所定のストロークで上昇、前進、下降、後退という動作を周期的に繰り返す可動ビーム１３とを有し、まず最初は、図２（ａ）に示すように、可動ビーム１３は固定ビーム１５の位置する基準面よりも下方に下降した状態にあり、このとき基板等の被熱処理物１は固定ビーム１５上に置かれている。次に、図２（ｂ）に示すように、可動ビーム１３が所定のストローク分上昇し、この上昇の過程で、被熱処理物１が固定ビーム１５上から可動ビーム１３上に移載される。次いで、図２（ｃ）に示すように、可動ビーム１３は上昇したまま所定のストローク分前進する。続いて、図２（ｄ）に示すように、可動ビーム１３は所定のストローク分下降し、この下降の過程で、被熱処理物１が可動ビーム１３上から固定ビーム１５上に移載される。最後に、図２（ｅ）に示すように、可動ビーム１３が下降したまま所定のストローク分後退し、最初の位置に戻る。これら一連の動作を１サイクルとして周期的に繰り返すことにより、このウォーキングビームは被熱処理物１の搬送を行う。
【００２２】
図１（ａ）〜（ｅ）は、本発明に係る搬送機構の一実施形態における基本的な搬送動作を示す概略説明図である。前述のとおり、本発明の搬送機構は、基板等の被熱処理物の水平方向への搬送を目的とする水平方向移動手段と、搬送面から離れた位置に存在する加熱手段に向かって被熱処理物を垂直方向に移動させることを目的とする垂直方向移動手段とを備えるものである。図１（ａ）〜（ｅ）に示す実施形態においては、水平方向移動手段が、前進及び後退という水平往復動作を周期的に繰り返すビーム３を有するものであり、また、垂直方向移動手段として、被熱処理物を支持するための支持部５有し、当該支持部５が上昇及び下降という垂直往復動作を周期的に繰り返すように構成された昇降治具２を備える。昇降治具２の垂直方向における動作のストローク（支持部５の垂直往復動作のストローク）は、５０ｍｍ以上であることが、幅広い温度変化に対応できるようにするために好ましい。また、この搬送機構では、水平方向移動手段のビーム３と垂直方向移動手段である昇降治具２の支持部５との間で被熱処理物１の受け渡しができるように構成されている。
【００２３】
まず最初は、図１（ａ）に示すように、昇降治具２の基板支持部５が搬送治具のビーム３の位置する基準面よりも下方に下降した状態にあり、このとき基板等の被熱処理物１はビーム３上に置かれている。次に、図１（ｂ）に示すように、ビーム３が所定のストローク分前進し、ビーム３上の各被熱処理物１が支持部５の真上の位置に到達する。次いで、図１（ｃ）に示すように、支持部５が上昇し、この上昇の過程で、被熱処理物１がビーム３上から支持部５上に移載される。また、図１（ｄ）に示すように、この被熱処理物１の移載後、支持部５が上昇している間に、ビーム３は所定のストローク分後退し、最初の位置に戻る。最後に、図１（ｅ）に示すように、支持部５が下降し、この下降の過程で、被熱処理物１が支持部５上からビーム３上に移載される。これら一連の動作を１サイクルとして周期的に繰り返すことにより、本発明に係る搬送機構は被熱処理物１の搬送を行う。
【００２４】
なお、水平方向移動手段と垂直方向移動手段との間で被熱処理物１の受け渡し（移載）が可能な構成としては、例えば、水平方向移動手段のビーム３を２本として、それらを平行に配置し、被熱処理物１がそれら２本のビーム３に掛け渡されるような載置形態とするとともに、垂直方向移動手段である昇降治具２の支持部５が、それら２本のビーム３の間の位置で上昇及び下降するような構成とすることができる。なお、前記の例では、水平方向移動手段にビーム３を用いているが、ビーム３の代わりに炉長方向に所定の張力を付与して張り渡したワイヤー等の線材を使用し、その線材にビーム３と同様の水平往復動作をさせるようにしてもよい。また、水平方向移動手段は、２種類のビーム又は線材により構成されていてもよく、この場合、前記２種のビーム又は線材の内の少なくとも一方が、上昇、前進、下降及び後退という動作形態の少なくとも何れかを含む一連の動作をするように構成されていることが好ましい。昇降治具２における支持部５の上昇及び下降の動作は、ピストン等の機構により行わせることができる。
【００２５】
ところで、近年の太陽電池基板等の熱処理では、図３のように、基板の加熱・冷却が複数回（本図の例では２回）繰り返されるような極端な昇降温を伴うヒートカーブが要求されるケースが考えられる。
【００２６】
このようなヒートカーブを、ウォーキングビームを搬送機構として用いた熱処理炉で実現しようとする場合には、図６のような構成の熱処理炉を用いるのが一般的である。すなわち、０〜ｔ１の１回目の加熱を行うゾーンａ、ｔ１〜ｔ２の１回目の冷却を行うゾーンｂ、ｔ２〜ｔ３の２回目の加熱を行うゾーンｃ、ｔ３〜ｔ４の２回目の冷却を行うゾーンｄという搬送方向に連なる４つのゾーンで炉内を構成する。各ゾーンは、ぞれぞれ異なる温度に設定されており、加熱を行うゾーンａとゾーンｃは高温に、冷却を行うゾーンｂとゾーンｄは低温に設定され、被熱処理物（基板）１がこれらのゾーンを順に通過するようにウォーキングビームで被熱処理物１の搬送を行う。
【００２７】
ウォーキングビームの動作としては、図７の動作例１のように、１ゾーン分の移動に可動ビーム１３の１サイクルの搬送動作を割り当てるのが一般的であるが、図３に示すヒートカーブのΔｔが短い（数秒以下）場合には、可動ビーム１３の上昇、前進、下降、後退という１サイクルの動作をΔｔの時間内に素早く完了することが機構上難しい。また、動作例２のように、２ゾーン分の移動に可動ビーム１３の１サイクルの搬送動作を割り当てることも考えられ、この場合には１サイクルの搬送動作の時間は動作例１の２倍（Δｔ×２）となるが、可動ビーム１３の前進及び後退のストロークも２倍になるため、やはり所定時間内に１サイクルの動作を完了することは難しい。このように、搬送機構としてウォーキングビームを用いた熱処理炉では、短時間で極端な昇降温を伴うヒートカーブには対応困難である場合が有った。
【００２８】
一方、前記のようなヒートカーブを、本発明の搬送機構を用いた熱処理炉で実現しようとする場合には、例えば、図４のような構成の熱処理炉を用いることができる。すなわち、０〜ｔ１の１回目の加熱と、ｔ１〜ｔ２の１回目の冷却とを行うゾーンＡ、ｔ２〜ｔ３の２回目の加熱と、ｔ３〜ｔ４の２回目の冷却とを行うゾーンＢという搬送方向に連なる２つのゾーンで炉内を構成し、各ゾーン内に垂直方向移動手段としての昇降治具２が少なくとも１つ配置されるように搬送機構を設ける。垂直方向移動手段の垂直方向における動作のストローク及び／又は速度（支持部５の垂直往復動作のストローク及び／又は速度）は、各昇降治具２毎に任意に設定できるようにする。また、各ゾーンにおいて、炉内を加熱するためのヒーター２１等の加熱手段が、搬送機構の上方（例えば炉天井部）に設置される。
【００２９】
搬送機構の動作としては、図５の動作例のように、１ゾーン分の移動に１サイクルの搬送動作を割り当てるが、この熱処理炉では、支持部５の昇降動作によって、１つのゾーン内で加熱と冷却の両方を行うことができるため、２回の加熱・冷却を２つのゾーンＡ、Ｂで完了できる。したがって、全ゾーンの移動に要するサイクル数は、前記ウォーキングビームにおける動作例１の１／２（２サイクル）となり、１サイクルの搬送動作の時間は動作例１の２倍（Δｔ×２）となる。しかも、ビーム３の前進及び後退のストロークは、前記ウォーキングビームにおける動作例１の可動ビーム１３の前進及び後退のストロークと同等であるので、ビーム３の移動にも時間的な余裕が有り、Δｔが短い（数秒以下）場合にも、所定時間内に１サイクルの動作を完了することが可能である。
【００３０】
なお、この熱処理炉において、１つのゾーン内で加熱と冷却の両方を行えるのは、支持部５の昇降動作によって、加熱手段であるヒーター２１と被熱処理物１との距離を変更できるためである。すなわち、加熱時には支持部５を上昇させ、支持部５上の被熱処理物１を搬送機構上方の搬送面から離れた位置に設置されたヒーター２１に近づけて、被熱処理物１の温度が上昇するようにし、冷却時には支持部５を下降させ、支持部５上の被熱処理物１をヒーター２１から遠ざけて、被熱処理物１の温度が下降するようにする。なお、前記のように、支持部５の垂直往復動作のストローク及び／又は速度を、各昇降治具２毎に任意に設定できるようにしておけば、より柔軟な昇降温が可能となり、任意のヒートカーブに対する対応性がより向上する。
【００３１】
例えば、図３のヒートカーブでは、１回目の加熱と冷却とにおける最高温度と最低温度の差よりも、２回目の加熱と冷却とにおける最高温度と最低温度の差の方が大きくなるが、このような場合、１回目の加熱と冷却とを行うゾーンＡ内の支持部５のストロークよりも、２回目の加熱と冷却とを行うゾーンＢ内の支持部５のストロークを長くし（これに伴って炉天井も高くする）、被熱処理物１とヒーター２１との距離の変動幅を大きくすることで、より大きな温度変化（温度差）に対応できるようになる。
【００３２】
また、この熱処理炉では、このように熱処理中における被熱処理物の温度の変更（昇降温）を、異なる内部温度に設定されたゾーン間の移動だけに依存せず、同一ゾーン内における加熱手段と被熱処理物との距離の変更によっても行うことができるため、任意のヒートカーブに対する対応性に優れるだけでなく、少ないゾーン数での熱処理も可能となり、炉長を短縮することができる。なお、比較的単純なヒートカーブであれば、熱処理炉内を１つのゾーンのみで構成し、垂直方向移動手段による被熱処理物の昇降だけで被熱処理物の温度の変更を行うようにすることも可能である。更に、被熱処理物を高温加熱する際には、垂直方向移動手段にて被熱処理物を上昇させて上方に設置した加熱手段との距離を近づけるようにすればよいので、加熱手段を搬送機構の搬送部（水平方向移動手段を構成するビーム等）のかなり上方に設置して、加熱手段と搬送部との距離を常に遠ざけておくことが可能となり、搬送部の熱劣化を抑制することができる。
【００３３】
本発明の搬送機構を備えた熱処理炉においては、前記ゾーンの内の少なくとも何れか１つにおいて、垂直方向移動手段により垂直方向に移動する被熱処理物の移動経路が炉壁に囲まれており、その炉壁内に、各々独立して温度制御可能な複数のヒーターが垂直方向に分割して設置されるような構成としてもよい。
【００３４】
具体的には、例えば図８（ａ）の水平断面図に示すように、支持部５に載置された被熱処理物１の昇降経路を囲む炉壁３１の内周面に沿うような形状に形成した管状のヒーター２３を、図８（ｂ）の垂直断面図に示すように、垂直方向に分割して複数個設け、各ヒーター２３を独立して温度制御できるようにしておけば、垂直方向における炉内温度分布をより柔軟に調整でき、支持部５の上昇・下降による被熱処理物１の温度変化の制御が容易となって、任意のヒートカーブに対する対応性が向上する。
【００３５】
本発明の熱処理方法は、以上説明した熱処理炉を使用して、基材上に機能膜材料が形成された基板の前記機能膜材料に熱処理を施すものであり、この熱処理方法によって熱処理を行えば、前記本発明の搬送機構及び熱処理炉によってもたらされる省エネルギー性、任意のヒートカーブに対する対応性、搬送部の熱劣化抑制といった種々の効果を、実際の熱処理において享受することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明は、熱処理炉内において、太陽電池基板等の被熱処理物を順次搬送するために使用される搬送機構、当該搬送機構を備えた熱処理炉、及び当該熱処理炉を使用して基材上に機能膜材料が形成された基板の前記機能膜材料を熱処理する方法として好適に利用することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１（ａ）】本発明に係る搬送機構の基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図１（ｂ）】本発明に係る搬送機構の基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図１（ｃ）】本発明に係る搬送機構の基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図１（ｄ）】本発明に係る搬送機構の基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図１（ｅ）】本発明に係る搬送機構の基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図２（ａ）】ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図２（ｂ）】ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図２（ｃ）】ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図２（ｄ）】ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図２（ｅ）】ウォーキングビームの基本的な搬送動作を示す概略図である。
【図３】基板のヒートカーブの一例を示す説明図である。
【図４】本発明に係る搬送機構を備えた熱処理炉の一例を示す概略図である。
【図５】図４の熱処理炉にて図３のヒートカーブを実現しようとする際の搬送機構の動作例を示す説明図である。
【図６】ウォーキングビームを備えた熱処理炉の一例を示す概略図である。
【図７】図６の熱処理炉にて図３のヒートカーブを実現しようとする際の搬送機構の動作例を示す説明図である。
【図８（ａ）】複数のヒーターを垂直方向に分割して設置した状態を示す水平断面図である。
【図８（ｂ）】複数のヒーターを垂直方向に分割して設置した状態を示す垂直断面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１：被熱処理物、２：昇降治具、３：ビーム、５：支持部、１３：可動ビーム、１５：固定ビーム、２１：ヒーター、２３：ヒーター、３１：炉壁、Ａ，Ｂ：ゾーン、ａ，ｂ，ｃ，ｄ：ゾーン。
【図１（ａ）】
2007178038.tif 000003
【図１（ｂ）】
2007178038.tif 000004
【図１（ｃ）】
2007178038.tif 000005
【図１（ｄ）】
2007178038.tif 000006
【図１（ｅ）】
2007178038.tif 000007
【図２（ａ）】
2007178038.tif 000008
【図２（ｂ）】
2007178038.tif 000009
【図２（ｃ）】
2007178038.tif 000010
【図２（ｄ）】
2007178038.tif 000011
【図２（ｅ）】
2007178038.tif 000012
【図３】
2007178038.tif 000013
【図４】
2007178038.tif 000014
【図５】
2007178038.tif 000015
【図６】
2007178038.tif 000016
【図７】
2007178038.tif 000017
【図８（ａ）】
2007178038.tif 000018
【図８（ｂ）】
2007178038.tif 000019