(57)【要約】【課題】  均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供する。【解決手段】  少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システムである。当該放射線像変換パネルの消毒システムは、前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも１の処理であることが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項２】
前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも１の処理であることを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項３】
前記熱処理が、前記放射線像変換パネルに対し、６０℃〜２００℃で１秒〜１０分間の加熱を行う処理であることを特徴とする請求項２に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項４】
前記放射線像変換パネルが保護層を有し、当該保護層の熱収縮率（ＪＩＳＣ２１５１、１５０℃３０分）が１％以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項５】
前記放射線像変換パネルの前記保護層が、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて６０℃以上の加熱処理が施されていることを特徴とする請求項４に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項６】
前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、前記消毒手段が温度制御手段を具備することを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項７】
放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段をさらに具備することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【請求項８】
前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、当該熱処理が赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理であることを特徴とする請求項２〜７のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの消毒システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換パネルの消毒システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、医療関係者では感染症対策に対する関心が高まり、イメージングプレート（ＩＰ）を消毒する装置が望まれていた。また、特にデンタル用途の放射線像変換パネルは、口内で扱われるため、患者の唾液などの体液が付着する可能性がありその要望は強い。
【０００３】
医療用器具に使用される殺菌装置として、高温のオイルを使用して殺菌する装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、当該装置は、オイルを使用する点で安全上の問題があるばかりでなく、当該装置の構成では変形を起こしやすい放射線像変換パネルの消毒には不向きである。
【０００４】
従って、実際上はエタノールなどのアルコールで拭き取って消毒が行われている。そのため、消毒が不均一で完全になされなかったり、一枚一枚手作業で消毒するため非効率となったりする問題がある。
【特許文献１】特開２００５−１３１３５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明により当該課題を解決できることを見出した。
【０００７】
すなわち、本発明は、少なくとも、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含むことを特徴とする放射線像変換パネルの消毒システムである。
【０００８】
本発明の放射線像変換パネルの消毒システムは、下記第１〜第７の態様のうち少なくとも１の態様を具備することが好ましい。
【０００９】
（１）第１の態様は、前記消毒手段による消毒処理が、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも１の処理である態様である。
（２）第２の態様は、前記熱処理が、前記放射線像変換パネルに対し、６０℃〜２００℃で１秒〜１０分間の加熱を行う処理である態様である。
（３）第３の態様は前記放射線像変換パネルが保護層を有し、当該保護層の熱収縮率（ＪＩＳＣ２１５１、１５０℃３０分）が１％以下である態様である。
（４）第４の態様は、前記放射線像変換パネルの前記保護層が、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて６０℃以上の加熱処理が施されている態様である。
（５）第５の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、前記消毒手段が温度制御手段を具備する態様である。
（６）第６の態様は、放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段をさらに具備する態様である。
（７）第７の態様は、前記消毒手段による消毒処理が熱処理であり、当該熱処理が赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理である態様である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、均一に効率よく消毒をすることができる放射線像変換パネルの消毒システムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
［放射線像変換パネルの消毒システム］
本発明の放射線像変換パネルの消毒システムは、放射線像変換パネルに対し消毒処理を施す消毒手段を含む。本発明の消毒システムは、画像読取装置に組み込むことも可能であり、当該装置とは独立の装置として使用することもできる。
【００１２】
消毒手段による消毒処理としては、実用上の観点から、熱処理、紫外線照射処理および薬品塗布処理の少なくとも１の処理であることが好ましい。消毒処理が熱処理である場合の熱処理温度としては、６０℃〜２００℃とすることが好ましく、９０〜１２０℃とすることがより好ましい。また、熱処理時間としては、１秒〜１０分間とすることが好ましく、１０秒〜５分間とすることがより好ましい。
【００１３】
熱処理により消毒する場合は、消毒手段が温度制御手段を具備することが好ましい。温度制御手段としては、通常の温度制御装置を使用することが可能である。温度制御手段を設けることで、放射線像変換パネルが上記温度範囲となるように設定することができる。
【００１４】
加熱手段としては、熱風を放射線像変換パネルに供給する手段や赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータによる手段など特に限定はないが、温度制御性、安全性の観点から、赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータの少なくともいずれかによる加熱処理であることが好ましい。赤外線ヒータおよび遠赤外線ヒータを使用する際の電力は、５０〜１０００Ｗとすることが好ましい。
【００１５】
また、消毒処理としての紫外線照射手段とは、紫外線ランプによる紫外線を放射線像変換パネルに照射する手段である。但し、紫外線を照射しすぎると蛍光体層が感光してしまうことがあるため、照射時間を適宜調整する必要がある。
【００１６】
消毒手段の他の手段である薬品塗布処理は、薬品を満たした浸漬槽を設けて、かかる浸漬槽中に放射線像変換パネルを浸漬する処理などが挙げられる。浸漬処理の場合、浸漬時間は、１〜６００秒程度とすることが好ましく、適宜複数回浸漬を行ってもよい。浸漬処理など以外にも、薬品をスプレー塗布する手段を採用してもよい。なお、上記薬品としては、エタノールなどのアルコール；グルタルアルデヒドなどのアルデヒド類；過酢酸塩素などが挙げられる。
【００１７】
本発明の消毒システムには、放射線像変換パネルの画像を読み取る画像読取手段が具備されていることが好ましい。画像読取手段が具備されていることで、消毒処理と画像読み取り処理とを１つのシステムで実現できる利点がある。
【００１８】
放射線像変換パネルには蛍光体層を保護する観点から、保護層が形成されることがある。保護層が形成された放射線像変換パネルに対し、加熱による消毒処理を施す場合、その材質によっては、変形が生じて不良を発生させることがある。従って、加熱による消毒処理を施す場合、当該保護層の熱収縮率（ＪＩＳＣ２１５１、１５０℃３０分）は１％以下であることが好ましく、０．０１〜０．８％であることがより好ましい。熱収縮率が１％以下であることで、熱収縮による変形を防ぐことができる。
【００１９】
上記放射線像変換パネルの保護層は、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて６０℃以上の加熱処理を施しておくことが好ましい。かかる加熱処理を施すことで、加熱による消毒処理を行っても、当該加熱による変形を防ぐことができる。
【００２０】
次に、本発明の消毒システムを具備する画像読取装置について、図１を参照しながら説明する。
【００２１】
画像読取装置１０は、ケーシング１２の上部にカセッテ装填部１４を備え、このカセッテ装填部１４に形成された装填口１５に対して、放射線画像情報が蓄積記録された画像記録媒体、例えば、放射線像変換パネル１６ａ（１６ｂ、１６ｃ）を収容したカセッテ１８ａ（１８ｂ、１８ｃ）が装填される。なお、歯科用に使用される放射線像変換パネルの場合は、上記カセッテは使用されないことがある。具体的には、所定の袋に収められた放射線像変換パネルを取り出して種々の処理が施されることになる。
【００２２】
カセッテ１８ｂは、カセッテ１８ａよりも幅サイズが小さく、カセッテ１８ｃは、前記カセッテ１８ｂよりも幅サイズが小さい。カセッテ１８ｂに収容される放射線像変換パネル１６ｂは、前記カセッテ１８ａに収容される放射線像変換パネル１６ａよりも幅サイズが小さく、カセッテ１８ｃに収容される放射線像変換パネル１６ｃは、前記カセッテ１８ｂに収容される放射線像変換パネル１６ｂよりも幅サイズが小さい。
【００２３】
なお、以下の説明では、カセッテ１８ａ及び放射線像変換パネル１６ａを用いているが、カセッテ１８ｂ、１８ｃ及び放射線像変換パネル１６ｂ、１６ｃも同様である。
【００２４】
カセッテ１８ａは、放射線像変換パネル１６ａを収容する本体部２０と、放射線像変換パネル１６ａを出し入れさせるための開口部２２を形成する蓋部材２４とを備えている。
【００２５】
画像読取装置１０の内部の装填口１５に近接する部位には、カセッテ１８ａの蓋部材２４のロックを解除するロック解除機構２８と、前記蓋部材２４が開蓋されたカセッテ１８ａから放射線像変換パネル１６ａを吸着して取り出す吸着盤３０と、前記吸着盤３０によって取り出された前記放射線像変換パネル１６ａを挟持搬送するローラ対３２とが配設される。なお、ロック解除機構２８は、カセッテ１８ａに挿入されて図示しないカセッテロック手段を解除するためのロック解除ピン２９を有する。
【００２６】
ローラ対３２に連設して、複数の搬送ローラ対３４ａ〜３４ｈ及び複数のガイド板３６ａ〜３６ｉが配設され、これらにより湾曲搬送路３８が構成される。ローラ対３２と搬送ローラ対３４ａとの間には、読取処理が終了した放射線像変換パネル１６ａに残存する放射線画像情報を消去するための消去ユニット３９が配設される。消去ユニット３９は、消去光を出力する冷陰極管等の消去光源４１を有する。
【００２７】
画像読取装置１０の略中央部には、励起光であるレーザビームＬを導出して放射線像変換パネル１６ａを走査する走査ユニット４０が配設される。走査ユニット４０は、レーザビームＬを出力するレーザ発振器４２と、レーザビームＬを放射線像変換パネル１６ａの主走査方向に偏向する回転多面鏡であるポリゴンミラー４４と、レーザビームＬを反射させ、ガイド板３６ｅ上を通過する前記放射線像変換パネル１６ａに導く反射ミラー４６とを備える。
【００２８】
搬送ローラ対３４ｅと走査ユニット４０との間には、読取ユニット４８が配設される。読取ユニット４８は、一端部がガイド板３６ｅ上の放射線像変換パネル１６ａに近接して配置される集光ガイド５０と、集光ガイド５０の他端部に連結され、前記放射線像変換パネル１６ａから得られた輝尽発光光を電気信号に変換するフォトマルチプライヤ５２とを備える。
【００２９】
そして、搬送ローラ対３４ｅと３４ｈとの間に、消毒手段６０が設けられている。ここで消毒処理を施された放射線像変換パネルは出口７０まで搬送され取り出されることになる。
【００３０】
消毒手段６０を具備する上記画像読取装置は、以下に説明するようにして作動する。先ず、放射線画像情報が記録された放射線像変換パネル１６ａを収納したカセッテ１８ａは、画像読取装置１０に供給される。カセッテ１８ａは、蓋部材２４を下にしてカセッテ装填部１４の装填口１５に装填される。この蓋部材２４は、ロック解除機構２８を介してロックが解除される。
【００３１】
次いで、カセッテ１８ａ内の放射線像変換パネル１６ａは、吸着盤３０の吸引作用下に前記カセッテ１８ａから取り出される。カセッテ１８ａから取り出された放射線像変換パネル１６ａの先端がローラ対３２に挟持されるのと略同時に、吸着盤３０による前記放射線像変換パネル１６ａの吸着保持が解除される。
【００３２】
これにより、放射線像変換パネル１６ａは、ローラ対３２の回転作用下に鉛直下方向に向かって搬送される。この放射線像変換パネル１６ａは、搬送ローラ対３４ａ〜３４ｈ及びガイド板３６ａ〜３６ｉからなる湾曲搬送路３８によって搬送される。
【００３３】
放射線像変換パネル１６ａは、搬送ローラ対３４ｂ、３４ｃが同期して駆動されることにより幅寄せ装置５４に搬送されると、前記搬送ローラ対３４ｂ、３４ｃによる前記放射線像変換パネル１６ａの挟持が解除される。
【００３４】
上記のように幅寄せ処理が終了した放射線像変換パネル１６ａは、搬送ローラ対３４ｄ、３４ｅ間で副走査搬送されるとともに、走査ユニット４０から射出されたレーザビームＬが副走査方向と直交する主走査方向に前記放射線像変換パネル１６ａを走査する。すなわち、レーザ発振器４２から出力されたレーザビームＬは、高速で回転するポリゴンミラー４４によって反射偏向された後、反射ミラー４６を介して放射線像変換パネル１６ａに導かれる。
【００３５】
一方、レーザビームＬが照射された放射線像変換パネル１６ａは、蓄積記録されている放射線画像情報に応じた輝尽発光光を出力する。この輝尽発光光は、放射線像変換パネル１６ａの主走査方向に沿って近接配置された集光ガイド５０を介して読取ユニット４８を構成するフォトマルチプライヤ５２に導かれる。
【００３６】
このようにして放射線画像情報の読み取られた放射線像変換パネル１６ａは、消毒手段により消毒され、搬送ローラ対３４ｈ側まで搬送された後、出口７０まで搬送され取り出される。消毒手段が熱処理手段で温度制御手段により温度を制御する場合、その温度制御する際の表面温度測定法としては、放射線像変換パネルに熱電対を接触させて行うことが好ましい。
【００３７】
取り出された消毒済みの放射線像変換パネル１６ａは、次なる放射線画像情報の撮影に供される。
【００３８】
本発明の消毒システムに適用される放射線像変換パネルは、例えば、支持体上に中間層、蛍光体層、保護層などが順次形成された構成となっている。以下、各層の材料などについて説明する。
【００３９】
（支持体）
支持体は、ＰＥＴ、ポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好適に用いられる。特に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８５℃以上、好ましくは１００℃以上の基材であることが望ましく、８５℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好ましい。さらに、１００℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものがより好ましい。
【００４０】
（中間層）
中間層は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、ＰＥＴ、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質を用いることができる。中間層を形成するこれらの合成高分子物質はポリマーとして用いても、モノマーとして用いてもかまわないが、熱、可視光、ＵＶ光、電子線などの照射によって架橋するものであることが好ましい。
【００４１】
中間層を支持体上に設ける場合、密着性を向上させるためにシランカップリング剤や、チタネートカップリング剤等のカップリング剤を添加することが好ましい。さらに、中間層組成物の塗布性および硬化後の薄膜の物性の改善や、塗膜に対する感光性の付与等を目的として、例えば水酸基を有する種々のポリマーやモノマー、顔料または染料等の着色剤、黄変防止剤、老化防止剤や紫外線吸収剤等の安定化剤、熱酸発生剤、感光性酸発生剤、界面活性剤、溶剤、架橋剤、硬膜剤、重合禁止剤等の各種の添加剤を目的に応じて含有させることができる。
【００４２】
また、中間層には、耐久性の向上、ニジムラを防止するため、有機または無機の粉末が含まれていてもよい。含有させる場合は、中間層重量当り０．５〜６０重量％程度であることがより好ましい。粉末は特定の帯域に吸収を有するもの、例えば群青等や、概して３００〜９００ｎｍの波長域で特異な吸収を示さない白色粉末が好ましい。これら粉末の体積平均粒径は０．０１〜１０μｍ程度が好ましく、０．３〜３μｍ程度がより好ましい。一般に、これら粒子の粒子サイズには分布があるが、分布が狭い方が好ましい。
【００４３】
（蛍光体層）
蛍光体層に用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平７−８４５８８号等に記載されている一般式（Ｍ1-f・ＭfI）Ｘ・ｂＭIIIＸ３’’：ｃＡ（一般式（Ｉ））で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式（Ｉ）におけるＭIとしては、Ｒｂ，Ｃｓおよび／またはＣｓを含有したＮａ、同Ｋが好ましく、特にＲｂおよびＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。ＭIIIとしてはＹ，Ｌａ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ’’としては、Ｆ，ＣｌおよびＢｒから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。ＭIIIＸ３’’の含有率を表すｂ値は０≦ｂ≦１０-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
【００４４】
一般式（Ｉ）において、賦活剤ＡとしてはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｇｄ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましく、特にＥｕ，Ｃｅ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は１０-6＜Ｃ＜０．１の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好ましい。
【００４５】
また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いることができる。米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されているＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ2：Ｅｒ、およびＬａ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、
【００４６】
特開昭５５−１２１４２号公報に記載されているＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ、ＢａＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：Ｅｕ（ただし、０．８≦ｘ≦１０）、および、ＭIIＯ・ｘＳｉＯ2：Ａ（ただし、ＭIIはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，Ｃｄ、またはＢａであり、ＡはＣｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉまたはＭｎであり、ｘは０．５≦ｘ≦２．５である）、
【００４７】
特開昭５５−１２１４３号公報に記載されている（Ｂａ1-x-y，ＭｇＸ，Ｃａｙ）ＦＸ：ａＥｕ2+（ただし、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦０．６、かつｘｙ≠０であり、ａは、１０-6≦ａ≦５×１０-2である）、
【００４８】
特開昭５５−１２１４４号公報に記載されているＬｎＯＸ：ｘＡ（ただし、ＬｎはＬａ，Ｙ，Ｇｄ、およびＬｕのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種、ＡはＣｅおよびＴｂのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜０．１である）、
【００４９】
特開昭５５−１２１４５号公報に記載されている（Ｂａ1-X，Ｍ2+Ｘ）ＦＸ：ｙＡ（ただし、ＭはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ、およびＣｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種、ＡはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒのうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）、
【００５０】
特開昭５５−１６００７８号公報に記載されているＭIIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（ただし、ＭIIはＢａ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｍｇ，ＺｎおよびＣｄのうちの少なくとも一種、ＡはＢｅＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，ＺｎＯ，Ａｌ2Ｏ3，Ｙ2Ｏ3，Ｌａ2Ｏ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｉＯ2，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，ＧｅＯ2，ＳｎＯ2，Ｎｂ2Ｏ5，Ｔａ2Ｏ5およびＴｈＯ2のうちの少なくとも一種、ＬｎはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，ＳｍおよびＧｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙはそれぞれ５×１０-5≦ｘ≦０．５、および０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５１】
特開昭５６−１１６７７７号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５２】
特開昭５７−２３６７３号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＢ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５３】
特開昭５７−２３６７５号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦５×１０-1である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５４】
特開昭５８−６９２８１号公報に記載されているＭIIIＯＸ：ｘＣｅ（ただし、ＭIIIはＰｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはＣｌおよびＢｒのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５５】
特開昭５８−２０６６７８号公報に記載されているＢａ1-XＭX/2ＬX/2ＦX：ｙＥｕ2+（ただし、ＭはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし；Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし；そして、ｘは１０-2≦ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５６】
特開昭５９−２７９８０号公報に記載のＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５７】
特開昭５９−４７２８９号公報に記載されているＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５８】
特開昭５９−５６４７９号公報に記載されているＢａＦＸ・ｘＮａＸ’：ａＥｕ2+（ただし、ＸおよびＸ’は、それぞれＣｌ、Ｂｒ、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５９】
特開昭５９−５６４８０号公報に記載されているＭIIＦＸ・ｘＮａＸ’：ｙＥｕ2+：ｚＡ（ただし、ＭIIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ’は、それぞれＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦０．２、およびｚは０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６０】
特開昭５９−７５２００号公報に記載されているＭIIＦＸ・ａＭIＸ’・ｂＭ’IIＸ’’2・ｃＭIIIＸ3・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭIはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｍ’IIはＢｅおよびＭｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；ＭIIIはＡｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ’，Ｘ’’およびＸは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦１０-2、ｃは０≦ｃ≦１０-2、かつａ＋ｂ＋ｃ≧１０-6であり；ｘは０＜ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６１】
特開昭６０−８４３８１号公報に記載されているＭIIＸ2・ａＭIIＸ’2：ｘＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ’はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつＸ≠Ｘ’であり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００６２】
特開昭６０−１０１１７３号公報に記載されているＭIIＦＸ・ａＭIＸ’：ｘＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘはそれぞれ０≦ａ≦４．０および０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００６３】
特開昭６２−２５１８９号公報に記載されているＭIＸ：ｘＢｉ（ただし、ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００６４】
特開平２−２２９８８２号公報に記載のＬｎＯＸ：ｘＣｅ（但し、ＬｎはＬａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕのうちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは０＜ｘ≦０．２であり、ＬｎとＸとの比率が原子比で０．５００＜Ｘ／Ｌｎ≦０．９９８であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが５５０ｎｍ＜λ＜７００ｎｍ）で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
【００６５】
また、上記特開昭６０−８４３８１号公報に記載されているＭIIＸ2・ａＭIIＸ’2：ｘＥｕ2+輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物が含まれていてもよい。
【００６６】
すなわち、特開昭６０−１６６３７９号公報に記載されているｂＭIＸ’’（ただし、ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０．０である）；特開昭６０−２２１４８３号公報に記載されているｂＫＸ’’・ｃＭｇＸ2・ｄＭIIIＸ’3（ただし、ＭIIIはＳｃ，Ｙ，Ｌａ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ’’、ＸおよびＸ’はいずれもＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦２．０、０≦ｄ≦２．０であって、かつ２×１０-5≦ｂ＋ｃ＋ｄである）；特開昭６０−２２８５９２号公報に記載されているｙＢ（ただし、ｙは２×１０-4≦ｙ≦２×１０-1である）；特開昭６０−２２８５９３号公報に記載されているｂＡ（ただし、ＡはＳｉＯ2およびＰ2Ｏ5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｂは１０-4≦ｂ≦２×１０-1である）；特開昭６１−１２０８８３号公報に記載されているｂＳｉＯ（ただし、ｂは０＜ｂ≦３×１０-2である）；特開昭６１−１２０８８５号公報に記載されているｂＳｎＸ’’2（ただし、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０-3である）；特開昭６１−２３５４８６号公報に記載されているｂＣｓＸ’’・ｃＳｎＸ2（ただし、Ｘ’’およびＸはそれぞれＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０-6≦ｃ≦２×１０-2である）；および特開昭６１−２３５４８７号公報に記載されているｂＣｓＸ’’・ｙＬｎ3+（ただし、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、ＬｎはＳｃ，Ｙ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０-6≦ｙ≦１．８×１０-1である）。
【００６７】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体（例えばＢａＦＩ：Ｅｕ）ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体（例えばＣｓＢｒ：Ｅｕ）、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すことから好ましく用いることができる。
【００６８】
（保護層）
蛍光体層の上に形成される保護層は、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、ポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護膜形成用シートを別に作製して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したもの、などが用いられる。
【００６９】
また、有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂の塗布膜により形成され、パーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリコーン樹脂粉末、ＴｉＯ2粒子等の微粒子を分散、含有させた保護層であってもよい。
【００７０】
既述のように、保護層の熱収縮率（ＪＩＳＣ２１５１、１５０℃３０分）を１％以下とするには、予め熱アニール処理、Ｔｇ（ガラス転移温度：ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７））の高い素材を採用することが好ましい。また、その形成前および形成時の少なくともいずれかにおいて６０℃以上の加熱処理を施すことが好ましい。
【実施例】
【００７１】
［実施例１］
（中間層形成工程）
結合剤として軟質アクリル樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、クリスコートＰ−１０１８ＧＳ（２１％トルエン溶液））３４００ｇと、可塑剤としてフタル酸エステル（大八化学（株）製、＃１０）１２０ｇと、をメチルエチルケトン３６００ｇ中に加えて混合し、ディスパーを用いて分散、溶解して、中間層形成用分散液（粘度０．６Ｐａ・ｓ（２０℃））を調製した。
【００７２】
なお、導電剤、着色剤は、予め樹脂が添加された溶液中ボールミルで分散されたものを用いた。この中間層形成用分散液を、支持体（カーボン練りこみポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製  Ｘ−３０、厚さ：１８８μｍ））上に均一に塗布して塗膜を形成し乾燥した。このようにして、層厚が２０μｍの中間層を形成した。
【００７３】
（蛍光体シート作製工程）
蛍光体層となる蛍光体シートを下記のようにして作製した。まず、蛍光体シート形成用塗布液として、蛍光体（ＢａＦＢｒ0.85Ｉ0.15：Ｅｕ2+、メジアン径３．５μｍ）１０００ｇと、結合剤であるポリウレタンエラストマー（大日本インキ化学工業（株）製、パンデックスＴ５２６５Ｈ（固形））３６ｇと、架橋剤であるポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＨＸ（固形分１００％））４ｇと、黄変防止剤であるエポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株）、＃１００１エピコート（固形））１０ｇと、着色剤である群青（第一化成工業（株）、ＳＭ−１）２ｇと、をメチルエチルケトンと酢酸ブチルとの混合溶剤１２０ｇ（メチルエチルケトン／酢酸ブチル（質量比）＝６／４）に加え、ディスパーを用いて羽根回転速度２５００ｒｐｍで１時間分散させて、粘度４．０Ｐａ・ｓ（２５℃）の塗布液を調製した。なお、着色剤は予め樹脂が添加された溶媒中、ボールミルで分散されたものを使用した。
【００７４】
この塗布液を仮支持体（シリコーン系離型材が塗布されたポリエチレンテレフタレート、厚み：１８０μｍ）上に均一に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離して蛍光体シート（厚み１５０μｍ）を作製した。
【００７５】
（蛍光体層形成工程）
続いて、蛍光体シートの仮支持体剥離面を中間層上にカレンダーロールを用いて圧力６０ＭＰａ、ロール温度５０℃、送り速度１．０ｍ／ｍｉｎで連続的に圧縮操作を行い重ね合わせた。この加熱圧縮により、蛍光体シートは支持体上に中間層を介して完全に密着した状態となり、支持体上に蛍光体層が形成された。
【００７６】
（保護層の形成）
厚さ６μｍのＰＥＴフィルムを５０μ厚のＰＥＴフイルムと再剥離性粘着層を介して貼り合せた後、１００℃で熱処理した。６μ厚ＰＥＴフイルムを剥ぎ取りその片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液（バイロン３０ＳＳ  東洋紡製）を塗布し８０℃で乾燥して接着層を設けた。接着層を介して、蛍光体層上にＰＥＴフィルムを貼り合わせて保護層を形成した。
【００７７】
続いて、このシートを打抜刃（オス刃、メス刃）により適切なサイズ（３ｃｍ×３ｃｍの正方形）に打抜いた。その後、打ち抜いたシートの周囲で、その内側へ向かって０．５〜１ｍｍ幅で保護層表面に樹脂（ダイアロマーＳＰ３０２３：ＥＰ１００４：Ｘ−２２−２８０９：クロスネートＤ７０＝９００：８：２：３０の割合でＭＥＫに溶解したもの）を塗布、乾燥（５０℃）して、放射線像変換パネルを作製した。
【００７８】
［実施例２］
厚さ９μｍのＰＥＴフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液（バイロン３０ＳＳ  東洋紡製）を塗布し８０℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例１と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
【００７９】
［実施例３］
厚さ６μｍのＰＥＴフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液（バイロン３０ＳＳ  東洋紡製）を塗布し５０℃で乾燥して接着層を設けた以外は、実施例１と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
【００８０】
［比較例１］
厚さ９μｍのＰＥＴフィルムの片面に不飽和ポリエステル樹脂溶液（バイロン３０ＳＳ  東洋紡製）を塗布し８０℃で熱処理して接着層を設けた以外は、実施例１と同様にして保護層を形成し、放射線像変換パネルを作製した。
【００８１】
［保護層の収縮率の測定］
放射線像変換パネルの保護層の収縮率をＪＩＳＣ２１５１（１５０℃、３０分）に準じて、測定した。結果を下記表１に示す。
【００８２】
［消毒処理の評価］
実施例１〜３および比較例１の放射線像変換パネルのそれぞれの保護層に、ＭＲＳＡを同量付着させた。なお、ＭＲＳＡは、寒天平板培養法で培養した後、刷毛を用いて放射線像変換パネルの保護層上に付着させた。
【００８３】
ＭＲＳＡを付着させた状態でスキャナに導入し放射線画像を読み取った後、自走搬送により光照射による消去を行いながら、赤外線ヒータ（２５０Ｗ）で下記表１に示す温度および時間で放射線像変換パネルの表面に、熱処理による消毒処理を行った。その後、放射線像変換パネルを自動搬送により消毒装置（消毒手段）から取り出し、保護層表面に付着していたＭＲＳＡの残存について調べた。また、目視により放射線像変換パネルの変形状態を確認した。これらの結果を下記表１に示す。
【００８４】
なお、上記消毒処理時の放射線像変換パネルの表面温度の測定および加熱制御は、下記の通りとした。まず、放射線像変換パネルの表面に熱電対を接触させ温度を測定し、その時の放射温度計を校正した。次に、放射温度計に直接当たらないように覆いをして放射線像変換パネル表面に赤外線ヒータ（２５０Ｗ）による照射を行い、その時の放射温度計の読み取り値、校正係数から放射線像変換パネルの表面温度を測定した。放射線像変換パネルの表面温度をフィードバックすることで、赤外線ヒータをＯＮ／ＯＦＦさせて、放射線像変換パネルの表面温度を制御した。
【００８５】
【表１】
2007097692.tif 000003
【００８６】
表１より、熱処理による消毒処理を行わなかった比較例１の放射線像変換パネルでは、ＭＲＳＡが残存していた。これに対し、実施例１〜３の放射線像変換パネルでは、ＭＲＳＡは死滅し、実用上問題となるほどの形状変化も見られなかった。特に、保護層形成前に熱処理を施した実施例１および実施例２の場合は、形状変化がまったく見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】消毒システムを具備する画像読取装置の内部構成図である。
【符号の説明】
【００８８】
１０…画像読取装置
１４…カセッテ装填部
１６ａ〜１６ｃ…放射線像変換パネル
１８ａ〜１８ｃ…カセッテ
３０…吸着盤
３４ａ〜３４ｈ…搬送ローラ対
３６ａ〜３６ｉ…ガイド板
３８…湾曲搬送路
３９…消去ユニット
４０…走査ユニット
４８…読取ユニット
５４…幅寄せ装置
６０…消毒手段
７０…出口
【図１】
2007097692.tif 000004