(57)【要約】  【課題】  光学的手法を用いて、被検査体表面に生じる形状が既知のスジ状欠点の有無を判別するだけでなく、スジ状欠点の形状を特徴付けるパラメータを、短時間で、かつ高精度に定量評価することを可能とする検査装置を提供すること。  【解決手段】被検査体に対して、特定の方向に一意性を持つ光を照射して、照射した光によって生じる被検査体からの反射光または透過光を撮像し、被検査体表面の傾きによって変化する撮像結果と被検査体表面のスジ状欠点の形状モデルに基づいて、被検査体の表面のスジ状欠点形状を特徴付けるパラメータを定量的に求める。【選択図】  図１８
2007178275.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行方向に走行している被検査体に存在する前記走行方向に長手方向を有するスジ状凹凸部の寸法パラメータを求めるスジ状凹凸の検査装置であって、前記被検査体に光を照射する光照射手段と、前記被検査体からの反射光または透過光を撮像する多数の光電変換素子を有する撮像手段と、前記撮像手段で撮像した前記反射光または透過光に基づいて前記被検査体の表面に存在するスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるデータ処理手段とを備え、前記光照射手段は、前記各光電変換素子に対応して定まる前記光照射手段における所定の軌跡ベクトルに沿って、非繰り返し的な光の特徴量分布を有するものであり、かつ、前記データ処理手段は、前記各光電変換素子の出力に基づいて前記被検査体表面の各部の傾きを求め、得られた該傾きの情報に基づいて前記被検査体表面のスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるものであることを特徴とするスジ状凹凸の検査装置。
【請求項２】
前記光照射手段は、すべての前記各光電変換素子が、前記被検査体表面の傾きが同一である場合に実質的に同一の出力をするように、前記光の特徴量分布が設定されていることを特徴とする請求項１に記載のスジ状凹凸の検査装置。
【請求項３】
前記データ処理手段は、前記撮像手段の各光電変換素子の出力に基づいて得られた傾きを位置に関して積分することで、前記スジ状凹凸部の高さを求めることを特徴とする請求項２に記載のスジ状凹凸の検査装置。
【請求項４】
前記各光電変換素子は１方向に配列したものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスジ状凹凸の検査装置。
【請求項５】
走行方向に走行している被検査体に存在する前記走行方向に長手方向を有するスジ状凹凸部の寸法パラメータを求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記検査体に所定の光の特徴量分布を有する光照射手段によって光を照射し、前記被検査体からの反射光または透過光を多数の光電変換素子によって撮像し、該光電変換素子の出力に基づいて前記被検査体表面の各部の傾きを求め、得られた該傾きの情報に基づいて前記被検査体表面のスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記光照射手段として、前記各光電変換素子に対応して定まる前記光の特徴量分布を有するものを用いることを特徴とするスジ状凹凸の検査方法。
【請求項６】
前記撮像ステップは、光電変換素子を１方向に配列したものによって成されることを特徴とする請求項５に記載のスジ状凹凸の検査方法。
【請求項７】
口金の間隙から溶融材料を吐出し、前記溶融材料をシート状にすることでフィルムを製造するに際して、前記フィルムを前記被検査体とし、請求項６に記載のスジ状凹凸の検査方法を用いて前記フィルム状のスジ状欠点を検査することを特徴とするフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スジ状凹凸の検査装置、スジ状凹凸の検査方法およびフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に被検査体の表面に存在する凹凸欠点を検査する場合、被検査体に光を照射し、その反射光または透過光の状態を参照することで、被検査体表面の凹凸欠点を検出する方法がよく用いられている。例えば、特許文献１、特許文献２および特許文献３に記載の方法が知られている。
【０００３】
特許文献１に記載の方法を、図１を用いて説明する。図１は特許文献１に記載の検査装置の上方図である。特許文献１に記載の方法は、シート幅方向に対して鋭角を成すように長手方向を配置した棒状光源を用いて透明シート体に光を照射して、透明シート体表面において棒状光源の長手方向と直交する角度で、透明シート体表面での反射光を受光手段で受光して、受光した光における陰影を抽出して、陰影を形成した透明シート体表面に存在する、シート幅方向に直交するシート長さ方向に平行なスジ状凹凸欠点を検出するものである。
【０００４】
また、特許文献２に記載の方法を、図２を用いて説明する。図２は特許文献２に記載の検査装置の斜視図である。特許文献２に記載の方法は、円筒状被検査体の表面に生じる凹凸欠点の、凹凸方向に平行でない縞状明暗パターンの輝度を持つ光を、光照射手段から被検査体に照射して、被検査体表面での反射光を撮像手段で撮像して、得られた撮像画像における縞状明暗パターンの凹凸方向の位相変化を抽出して、位相変化を生じさせた被検査体表面の凹凸欠点を検出するものである。
【０００５】
また、特許文献３に記載の方法を、図３を用いて説明する。図３は特許文献３に記載の検査装置の断面図である。特許文献３に記載の方法は、照射する光の強度または波長が照射面に沿って（方向ｄ０）大から小へ徐々に変化する光照射手段を用いて被検査体に光を照射して、被検査体表面での反射光を撮像手段で撮像して、撮像した反射光の光の強度または波長の変化が照射面における変化と異なる箇所を被検査体表面の欠点発生箇所として検出して、また、撮像した反射光の光の強度または波長が欠点の曲率に関係する事実に基づいて欠点の高さまたは深さを測定するものである。
【特許文献１】特開平５−３１２７３２号公報
【特許文献２】特開平１１−１３２９６４号公報
【特許文献３】特許２９２６３６５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、被検査体を良品、不良品と判別するときには、その被検査体に生じる既知の形状を持つ欠点の、高さや幅、断面積、体積などといった形状を特徴付けるパラメータを定量的に評価する場合が多い。
【０００７】
以下、被検査体がプラスチックフィルムであり、また、被検査対象である欠点が、フィルム表面に生じる、フィルム長さ方向に長手方向を有し、かつ、フィルム長さ方向に垂直な断面において凸状であるスジ状欠点である場合を例にとって説明する。この欠点の例を図４および図５に示す。図４はフィルムの上方図で、図５はスジ状欠点の近傍のフィルム長さ方向に垂直な断面における断面図である。
【０００８】
ところで、プラスチックフィルムの場合、製造したプラスチックフィルムに光の屈折率が異なる材料を塗布することでプラスチックフィルム表面での反射が少ないシートとする場合や、製造したプラスチックフィルムに磁気材料を塗布することで磁気を用いた記録媒体とするような場合など、何らかの加工をすることで所定の機能を付加することが多い。
【０００９】
本発明者らの知見によれば、その際に上記フィルム長さ方向に垂直な断面において凸状であるスジ状欠点の、フィルム長さ方向に直交するフィルム幅方向の長さ（スジ状欠点の幅）とフィルム表面法線方向の高さ（スジ状欠点の高さ）が、塗布を代表とする所定の加工のムラによる、ロスの発生を左右することがある。近年これらの加工に対する要求精度が上がっており、例えば、フィルム幅方向の延伸倍率が４倍弱、フィルム長さ方向の延伸倍率が５倍強の２軸延伸フィルムを製造する際に、延伸工程前の未延伸フィルムにおいてフィルム長さ方向の長さが１〜２ｍｍ程度、フィルム幅方向の長さが０．１ｍｍ、フィルム厚さ方向に０．３μｍのスジ状欠点でも、延伸フィルムとなった後に所定の加工ムラによるロスが発生することもある。
【００１０】
一方で、上記のスジ状欠点はプラスチック流動材料を吐出する口金での滞留物等に起因する吐出量ムラが原因であることが多く、ダイの間隙やその周辺を清掃することで小さくすることは可能だが、完全に除去することは非現実的であることが多い。
【００１１】
このため、スジ状欠点を持つプラスチックフィルムに対して、良品と不良品とを判別するときには、上記のスジ状欠点が、幅何mm以下で高さ何μm以下ならば良品といった定量的な基準を定めて、管理することが望ましい。こうした基準はプラスチックフィルムの用途によって異なるが、基準がいずれであってもスジ状欠点の幅や高さなど、スジ状欠点の形状を特徴付ける寸法パラメータを、管理のために定量的に評価することが望ましい。
【００１２】
また、このスジ状欠点の管理は、製造されたフィルムの一部を抜き取って検査するのではなく、プラスチックフィルムの全長全幅に亘って行われることが望ましい。そのため、プラスチックフィルムの製造工程での非破壊検査が求められる。製造工程においてプラスチックフィルムはフィルム長さ方向に毎分数ｍ〜数百ｍで搬送されているので、フィルム長さ方向の検査間隔を短くするために、定量評価は短時間で行うことが望ましい。
【００１３】
こうした要望に対し、特許文献１や特許文献２では、欠点の検出は行われているが、幅や高さなどに代表される、欠点の寸法パラメータの定量評価はされていない。
この問題に対して、特許文献３では、光照射手段の発光部位によって照射する光の強度または波長が変化すること、および欠点の曲率によって撮像手段が撮像する光照射手段の発光部位が変化することから、撮像手段が撮像した光の強度または波長に基づいて欠点の高さまたは深さを測定できるとある。このことを、特許文献３の記載を本発明者の知見により補いつつ、図６を用いて説明する。図６は、特許文献３に記載の検査装置の原理についての説明図である。たとえば、特許文献３の方法でプラスチックフィルム表面に存在するスジ状欠点の寸法パラメータ（幅および高さ）を測定しようとした場合、図６に示したようにスジ状欠点箇所において、撮像手段の各光電変換素子に入る光照射手段の発光部位の位置が突然変わるために、撮像結果をフィルム幅方向に微分し、その絶対値をとると、幅方向に例えば３箇所ピークが現れる。両端の２箇所のピークがスジ状欠点のフィルム幅方向端部境界によるもので、そこからスジ状欠点の幅を求めることができる。また、中央の１箇所のピークの大きさがスジ状欠点の曲率に依存する。なお、特許文献３に明確な記載はないが、このなかでは欠点の形状を球面で近似していると思われる。特許文献３の発明は、スジ状欠点の幅方向の曲率とフィルム幅方向のスジ状欠点の幅から、スジ状欠点の高さを求めることができるものと思われるが、画素毎、すなわち幅方向の測定位置毎に、フィルム幅方向の光電変換素子の出力の微分値の大きさと曲率との関係が異なることは容易に推測できる。
そのため、画素毎に上記光電変換素子の出力の微分値の大きさと曲率の関係の対応表を作成しておき、対応表を用いて、測定毎に各光電変換素子の出力の微分値から曲率を算出するといった方法をとることで、一応のスジ状欠点の寸法パラメータを定量評価することが可能かもしれない。
しかしながら、本発明者らの知見によれば、この特許文献３に記載の方法は、スジ状欠点の寸法パラメータを算出するために要する時間や検出の精度に関して、次のような理由でプラスチックフィルムなどのシートの製造に適用するには十分ではなかった。
すなわち、シートの製造において、例えば被検査体であるシートが毎分４０ｍで移動し、かつ、シート全幅１．２ｍの中で、シート長さ方向の長さが１〜２ｍｍ程度のスジ状欠点を検出し、このスジ状欠点の寸法パラメータを定量的に評価するためには、１．５〜３．０ｍｓでスジ状欠点の検出および寸法パラメータの定量評価をしなければならない。またシート幅方向にも少なくともシート幅方向分解能が０．０５ｍｍとなるように検査するためには、シート幅方向に２４０００個以上の画素数が必要となる。それゆえ、スジ状欠点の高さを求めるには膨大な計算を行わなければならない。
加えて、画素毎に上記光電変換素子の出力の微分値の大きさと曲率の関係の対応表を作成しておき、全ての画素で曲率を算出するために画素毎に異なる対応表を参照するような演算は、１．５〜３．０ｍｓで実行することは困難である。そのため、本発明者らの知見によれば、特許文献３に記載の方法ではシート長さ方向に長さ１００ｍｍ程度のスジ状欠点なら検出できる可能性はあるものの、それよりも短いスジ状欠点を検出できるとは考えられない。また検査の速度の点だけでなく、精度に関してもシートの場所ごとで測定可能な曲率の分解能が異なる問題もあった。加えて、欠点の形状を球面で近似しているため、現実のスジ状欠点の形状とは一致しないので、求められる寸法パラメータの精度が低くならざるを得ない。
【００１４】
以上に鑑みて、本発明の目的は、光学的手法を用いて、被検査体表面に生じる形状が既知のスジ状欠点などのスジ状凹凸部の有無を判別するだけでなく、高さや幅に代表される、スジ状凹凸部の形状を特徴付ける寸法パラメータを、短時間で、かつ高精度に定量評価することを可能とする検査装置および方法ならびにこれらを用いたフィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明の検査装置は下記の構成を有する。
【００１６】
すなわち、走行方向に走行している被検査体に存在する前記走行方向に長手方向を有するスジ状凹凸部の寸法パラメータを求めるスジ状凹凸の検査装置であって、前記被検査体に光を照射する光照射手段と、前記被検査体からの反射光または透過光を撮像する多数の光電変換素子を有する撮像手段と、前記撮像手段で撮像した前記反射光または透過光に基づいて前記被検査体の表面に存在するスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるデータ処理手段とを備え、前記光照射手段は、前記各光電変換素子に対応して定まる前記光照射手段における所定の軌跡ベクトルに沿って、非繰り返し的な光の特徴量分布を有するものであり、かつ、前記データ処理手段は、前記各光電変換素子の出力に基づいて前記被検査体表面の各部の傾きを求め、得られた該傾きの情報に基づいて前記被検査体表面のスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるものであることを特徴とするスジ状凹凸の検査装置が提供される。
【００１７】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記光照射手段は、すべての前記各光電変換素子が、前記被検査体表面の傾きが同一である場合に実質的に同一の出力をするように、前記光の特徴量分布が設定されていることを特徴とするスジ状凹凸の検査装置が提供される。
【００１８】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記データ処理手段は、前記撮像手段の各光電変換素子の出力に基づいて得られた傾きを位置に関して積分することで、前記スジ状凹凸部の高さを求めることを特徴とするスジ状凹凸の検査装置が提供される。
【００１９】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記各光電変換素子は１方向に配列したものであることを特徴とするスジ状凹凸の検査装置が提供される。
【００２０】
また、本発明の別の態様によれば、走行方向に走行している被検査体に存在する前記走行方向に長手方向を有するスジ状凹凸部の寸法パラメータを求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記検査体に所定の光の特徴量分布を有する光照射手段によって光を照射し、前記被検査体からの反射光または透過光を多数の光電変換素子によって撮像し、該光電変換素子の出力に基づいて前記被検査体表面の各部の傾きを求め、得られた該傾きの情報に基づいて前記被検査体表面のスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記光照射手段として、前記各光電変換素子に対応して定まる前記光の特徴量分布を有するものを用いることを特徴とするスジ状凹凸の検査方法が提供される。
【００２１】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記撮像ステップは、光電変換素子を１方向に配列したものによって成されることを特徴とするスジ状凹凸の検査方法が提供される。
【００２２】
また、本発明の別の態様によれば、口金の間隙から溶融材料を吐出し、前記溶融材料をシート状にすることでフィルムを製造するに際して、走行方向に走行しているフィルムに存在する前記走行方向に長手方向を有するスジ状凹凸部の寸法パラメータを求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記フィルムに所定の光の特徴量分布を有する光照射手段によって光を照射し、前記フィルムからの反射光または透過光を１方向に配列した多数の光電変換素子によって撮像し、該光電変換素子の出力に基づいて前記フィルム表面の各部の傾きを求め、得られた該傾きの情報に基づいて前記フィルム表面のスジ状凹凸部の寸法パラメータを定量的に求めるスジ状凹凸の検査方法であって、前記光照射手段として、前記各光電変換素子に対応して定まる前記光の特徴量分布を有するものを用いることを特徴とするフィルムの製造方法が提供される。
【００２３】
本発明における「スジ状凹凸部の寸法パラメータ」とは、高さや幅、断面積、体積などに代表される、スジ状凹凸部の形状を特徴付ける、定量化可能な値を指す。
【００２４】
また、本発明における「スジ状凹凸部」は、その長手方向が被検査体の走行方向成分を有する凹凸をいう。曲型的にはしており、また、長手方向と交わる断面における概略形状が既知で、寸法パラメータは未知である。また、概略形状および寸法パラメータが長手方向に実質同一である場合が多い。多くの場合、スジ状凹凸部が存在する箇所において、その寸法パラメータが、被検査体の良品・不良品を判別する際に必要な分解能の４分の１以下のズレに収まっているとする。更に好ましくは分解能の１０分の１以下のズレに収まっているものである。このことを、図４および図５に示したスジ状欠点を例として説明する。このスジ状欠点における長手方向とはフィルム長さ方向であり、長手方向と交わる断面とはフィルム長さ方向に垂直な断面であり、概略形状は図５に示したような凸状であり、寸法パラメータは高さおよび幅である。
【００２５】
また、本発明における「撮像手段の有する光電変換素子に対応して定まる光照射手段における所定の軌跡ベクトル」とは、撮像手段の有する光電変換素子が被検査体を介して撮像する光照射手段の発光部位が、光電変換素子の撮像光軸が被検査体上のスジ状凹凸部を介することで変化する、その変化の軌跡を表すベクトルを指す。
【００２６】
また、本発明における「光の特徴量」とは、ある光を撮像した撮像手段の光電変換素子の出力値に基づいて、その光電変換素子が撮像した光を特徴付けることが可能な情報である。例えば、光強度、波長、光照射手段の発光部位の輝度を時間方向に周期的に変えた時に光強度が変化する周波数、おなじく発光部位の輝度を時間方向に周期的に変えた時に光強度が変化する位相のいずれでもよい。
【００２７】
また、本発明における「光電変換素子に対応して定まる光照射手段における所定の軌跡ベクトルに沿った、非繰り返し的な光の特徴量分布」とは、光電変換素子に対応して定まる光照射手段における所定の軌跡ベクトルに沿った方向の位置と、光の特徴量とが一対一に対応する光の特徴量の分布をいう。上記分布は大きく分けて、連続的に単調増加もしくは単調減少する分布と、離散的に変化する分布の２種類がある。ここで離散的に変化する分布について図７を用いて説明する。図７は、光照射手段発光面の一つの例を示した説明図である。
【００２８】
撮像手段の有する一つの光電変換素子Ｃｉが撮像する可能性のある、被検査体からの反射光または透過光を照射する光照射手段の発光面を考える。このとき、光電変換素子Ｃｉに対応して定まる光照射手段における所定の軌跡ベクトルに沿った方向Ｄｉと交わる、光の特徴量の変化する境界線が、一つ以上、光照射手段の発光面上に存在しており、かつ、光電変換素子Ｃｉが撮像する可能性のある、光照射手段の発光部位の各境界線で区切られた領域ｊからの照射光が持つ光の特徴量をＩｊ（図７ではｊ＝０、１、２、３、４）として、ｊ≠ｋで｜Ｉｊ−Ｉｋ｜＞（任意の同一領域内での光の特徴量の最大値と最小値の差）を満たすとき、この光照射手段は「非繰り返し的な光の特徴量分布」を持つものとする。この場合、各領域内ではその特徴量は実質的に同一とみなすことができる。このように、非繰り返し的な光の特徴量分布においては、特徴量が実質的に同じである局部的な領域の存在を許容する。この場合、局部領域の大きさは、撮像手段の光電変換素子が捉えた光が発光部位のどの位置から発した光であるかを特定するための位置の分解能を決定づける要素とはなるが、位置を特定できることにかわりはない。  
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、以下に説明する通り、被検査体の良品・不良品を判別する重要な基準である、被検査体表面に生じるスジ状欠点などのスジ状凹凸部の形状を特徴付ける、高さや幅に代表される寸法パラメータを、短時間で、かつ高精度に定量評価する検査装置および検査方法を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の最良の実施形態を、透明プラスチックフィルムの表面に生じる、フィルム長さ方向に平行に続き、かつ、フィルム長さ方向に垂直な断面において微小な凸状であるスジ状欠点の幅および高さを、透過光を受光することで定量評価する場合を例にとって、図面を参照しながら説明する。
【００３１】
本実施形態における座標を、図８を用いて説明する。図８は、本実施形態の斜視図である。フィルム長さ方向に走行しているフィルム１をはさんで図の上方に光照射手段２、下方に撮像手段３が配置されている。撮像手段３のレンズ系を１枚の両凸レンズと近似し、そのレンズのフィルム１側の焦点を焦点Ｏとする。フィルム長さ方向をＸ軸、フィルム長さ方向に直交するフィルム幅方向をＹ軸、フィルム表面法線方向をＺ軸とする。ただし、本実施形態における空間は右手座標系すなわち、Ｘ軸方向の単位ベクトル×Ｙ軸方向の単位ベクトルはＺ軸方向の単位ベクトルになるとする。ただし、ここで「×」とはベクトルの外積を表す演算子である。すなわち、図８ではフィルム１から光照射手段２の側がＺ軸において正であり、撮像手段３の側がＺ軸において負である。
【００３２】
次に、本実施形態におけるスジ状欠点を、図５および図９を用いて説明する。図９は、被検査体の斜視図である。
【００３３】
本実施形態では、スジ状欠点の、フィルム長さ方向に垂直な断面において、凸状を形成している箇所の、フィルム幅方向の長さ（スジ状欠点の幅）と、スジ状欠点がないときのフィルム表面からフィルム表面法線方向に最も凸状に盛り上がった箇所までの距離（スジ状欠点の高さ）が、定量評価すべきスジ状欠点の寸法パラメータとなる。
【００３４】
また、スジ状欠点の傾斜角度を次のように定義する。すなわち、図９に示すように、スジ状欠点上の点Ｐでの単位法線ベクトルｎｐと、被検査体表面の、スジ状欠点が存在しない箇所における単位法線ベクトルｎを考え、スジ状欠点の点Ｐにおける傾斜角度θｐの絶対値を式（１）のようにベクトルｎｐとベクトルｎの外積を活用して定義する。
【００３５】
【数１】
2007178275.tif 000003
【００３６】
傾斜角度θｐの符号は、ベクトルｎｐとベクトルｎの外積のＸ軸成分が正ならば正、負ならば負とする。また、被検査体の法線ベクトルは、被検査体の内部から外界に向かう方向とする。
【００３７】
本発明者らはスジ状欠点の幅および高さを定量評価するために鋭意検討を進め、スジ状欠点の傾斜角度を活用することを考えた。
【００３８】
以下、まずその原理について図１０〜１７を参照しながら本実施形態に即して説明する。
【００３９】
図１０は撮像手段３の有する一つの光電変換素子の撮像光軸の光路を示した説明図で、図１１は被検査体表面の法線ベクトルの説明図で、図１２は本実施形態におけるスジ状欠点の形状を近似した近似形状の一例を示したフィルム長さ方向に垂直な断面における断面図で、図１３は撮像手段３の有する一つの光電変換素子の撮像光軸の光路を示した斜視図で、図１４は光照射手段２の発光面の正面図で、図１５は光の特徴量と撮像手段３の有する光電変換素子の出力との対応の一例を示した説明図で、図１６は光電変換素子が１列に並んでいる撮像手段３を用いたときにスジ状欠点を撮像したときの一例の説明図で、図１７はスジ状欠点の高さを求める説明図である。
【００４０】
撮像手段３の有する一つの光電変換素子が撮像する撮像光軸を考える。この撮像光軸は撮像手段３のレンズ焦点Ｏからフィルム１の裏面（撮像手段３側）の点Ｑ、およびフィルム１の表面（光照射手段２側）の点Ｐを介して光照射手段２の発光面にある点Ｒに到達する。このとき、焦点Ｏから点Ｑまでの撮像光軸の単位方向ベクトルをベクトルｎＯＱ、点Ｑにおけるフィルムの単位法線ベクトルをベクトルｎＱ、点Ｑから点Ｐまでの撮像光軸の単位方向ベクトルをベクトルｎＱＰ、点Ｐにおけるフィルムの単位法線ベクトルをベクトルｎＰ、点Ｐから点Ｒまでの単位方向ベクトルをベクトルｎＰＲとする。
【００４１】
このときフィルム１の光屈折率をρとすると、ベクトルｎＱＰとベクトルｎＰＲは、それぞれ式（２）および式（３）で示される。
【００４２】
【数２】
2007178275.tif 000004
【００４３】
【数３】
2007178275.tif 000005
【００４４】
図１１に示すように、被検査体表面の点Ｐに傾斜角度θのスジ状欠点が存在し、また、Ｘ軸からベクトルｎＰのＸＹ平面への投影ベクトルまでの角度をφとしたとき、ベクトルｎＰは式（４）となる（スジ状欠点がないときはθ＝０となる）。
【００４５】
【数４】
2007178275.tif 000006
【００４６】
したがって、スジ状欠点の傾斜角度θおよびφによってベクトルｎＰＲが異なり、撮像手段３の光電変換素子が撮像する光照射手段２の発光部位は変化する。この変化していく発光部位を結んで形成されるベクトルは光電変換素子に対応して定まる光照射手段における所定の軌跡ベクトルに相当するが、この軌跡ベクトルに沿って非繰り返し的な光の特徴量分布を持つ光照射手段２を用いれば、撮像手段３の光電変換素子が撮像した光の特徴量から、この光電変換素子の撮像光軸が介したスジ状欠点の傾斜角度を求めることができる。
【００４７】
このとき、軌跡ベクトルを求める必要があるが、この求め方を、図１２および図１３を用いて説明する。
【００４８】
まず、スジ状欠点を近似する。本実施形態では、スジ状欠点をフィルム長さ方向に垂直な断面において三角形とし、この形状と幅および高さを維持したままフィルム長さ方向に平行に続くとする。すなわち、式（４）のφは一定であるとし、本実施形態では９０度と近似する。このとき、傾斜角度θのスジ状欠点の単位法線ベクトルは式（５）となる。
【００４９】
【数５】
2007178275.tif 000007
【００５０】
本実施形態では断面における形状を三角形としたが、これに限定されるものではなく、本実施形態のスジ状欠点（フィルム長さ方向に垂直な断面において凸状）の場合には凸型の多角形を用いることができる。多角形を用いた場合には、各辺に対応して傾斜角度θを求めることになる。また、φを９０度としたがこれに限定されるものではなく、被検査対象となるスジ状欠点によって０〜１８０度まで適宜設定することになる。
【００５１】
次に、撮像手段３の位置を定める。これにより、撮像手段３の有する各光電変換素子のベクトルｎＯＱが決定する。
【００５２】
次に、被検査体であるフィルム１の位置を定める。これにより点Ｑおよび点Ｐが決定するが、ここで点Ｑから点Ｐまでの距離は、撮像手段３からフィルム１までの距離と比較して十分小さいとして、点Ｑと点Ｐは同一点と近似する。ただし、式（２）に従う点Ｑでの光の屈折は生じるものとし、ベクトルｎＯＱとベクトルｎＱＰは異なるとする。本実施形態ではベクトルｎＱが式（６）で表せ、ベクトルｎＱＰは、式（２）、ベクトルｎＯＱおよび式（６）から求めることができる。
【００５３】
【数６】
2007178275.tif 000008
【００５４】
次に、ベクトルｎＰＲを求める。このときには、式（３）、式（５）およびベクトルｎＱＰを用いる。
【００５５】
次に、光照射手段２の位置を定める。これにより、傾斜角度θのスジ状欠点箇所を介した撮像光軸が到達する光照射手段２の発光面における点Ｒが決まる。ここで傾斜角度θを変化させて、それぞれのθにおいてベクトルＯＲを求め、これらを繋ぐベクトルｒ（θ）を求める。このベクトルｒ（θ）が、軌跡ベクトルとなる。このように傾斜角度θを変化させることで軌跡ベクトルｒ（θ）を求めるが、この軌跡ベクトルｒ（θ）は要求される測定精度に応じて適宜間引いて計算して補間するなどして簡便に求めても良い。
【００５６】
この軌跡ベクトルｒ（θ）を撮像手段３の有する各光電変換素子について求め、これらに基づいて光照射手段２の発光面を設計する。この設計方法を、図１４を用いて説明する。以下では、光電変換素子Ｃｉによる軌跡ベクトルをｒｉ（θ）とする。
【００５７】
まず、各光電変換素子の軌跡ベクトルｒｉ（θ）を求める。これは上記した方法で、各光電変換素子について求める。
【００５８】
次に、識別すべき傾斜角度θの分解能δθを決定する。これは、スジ状欠点の寸法パラメータを識別する分解能に依存する。
【００５９】
次に、各光電変換素子において傾斜角度θｊ＋ｍδθ（ｍ：整数）における点Ｒを求め、これらを直線または曲線で結ぶ。このときの直線または曲線をθｊ＋ｍδθに相当する境界線とする。
【００６０】
次に、境界線で区分けした各領域から異なる光の特徴量を持つ光を照射するように光照射手段２の発光面を設計する。例えば傾斜角度θｊに相当する境界線とθｊ＋δθに相当する境界線とで区分けされた領域ｊからは、光の特徴量Ｉｊを持つ光を照射するように設計する。
【００６１】
このとき、全ての光電変換素子において、同じ傾斜角度に相当する領域から照射される光の持つ光の特徴量は同一であることが望ましい。このように設計することによって、光の特徴量とスジ状欠点の傾斜角度との対応関係が光電変換素子に依らず一意に定まり、したがって各光電変換素子で独自の対応表を有する必要がなくなるからである。
【００６２】
以上により、撮像手段３の有する各光電変換素子が撮像する光の持つ光の特徴量から、スジ状欠点の傾斜角度を求めることが可能となる。次に、求めた傾斜角度に基づいて、スジ状欠点の幅および高さを求める。この方法を、図１５、図１６および図１７を用いて説明する。  
撮像手段３の光電変換素子の出力から、その光電変換素子が撮像した光の持つ光の特徴量を一意に求めることができるように、光照射手段２の発光面を設計する。このとき、光照射手段２の発光面の領域ｊにおける光の特徴量Ｉｊのばらつき（最大値と最小値の差）や、光電変換素子に重畳するノイズによる誤対応が生じないように、隣接する領域の間での光の特徴量Ｉｊの値の差を大きくとるように光照射手段２の発光面を設計することが望ましい。これにより、光電変換素子の撮像光軸が介するスジ状欠点の傾斜角度は、光の特徴量を介して、光電変換素子の出力値から容易に求めることができる。例えば、ある光電変換素子の出力値がＯｊならば、これに相当する光の特徴量Ｉｊを介して、この光電変換素子の撮像光軸が介するスジ状欠点の傾斜角度がθｊであることが分かる。このとき、スジ状欠点の高さを簡易な演算で求めることができるように、傾斜角度θｊが出力値Ｏｊの一次関数で表現できることが望ましい。この様子を図１５に示す。  次に、スジ状欠点の幅を求める。スジ状欠点がないときの出力値（または出力値許容範囲）ではない出力値を出した撮像手段３の光電変換素子群Ｇ（光電変換素子ＣｂからＣｅ）を検出する。この光電変換素子群Ｇがフィルム幅方向にどれほどの幅ｗを有しているか求め、この幅ｗをスジ状欠点の幅とする。このとき、各光電変換素子のベクトルｎＯＱに基づいて各光電変換素子が撮像するフィルム幅方向の領域を考え、この領域に基づいて幅ｗを求めても良いし、実験に基づいた近似によって求めても良い。この様子を図１６に示す。  次に、求めた傾斜角度に基づいてスジ状欠点の高さｈを求める。光電変換素子Ｃｉが撮像するフィルム幅方向の幅をｗｉとし、光電変換素子Ｃｉの出力値から求めた傾斜角度をθｉとしたとき、式（７）のようにフィルム１の幅方向に一次積分（積算）することでこれらのパラメータを用いてスジ状欠点の高さｈを求めることができる。
【００６３】
【数７】
2007178275.tif 000009
【００６４】
ここで、式（７）において加算記号（シグマ）は、フィルム幅方向の幅ｗによる積分に相当する。
式（７）での関数ｆは、幾何光学的に求めても良いし、実験的に求めても良い。例えば、光電変換素子群Ｇに含まれる光電変換素子が光電変換素子ＣｂからＣｅまでとし、光電変換素子Ｃｃで傾斜角度の符号が変化している（他に符号が変化しているところはない）とする。このとき、式（８）を用いてスジ状欠点の高さｈを求めても良い。この様子を図１７に示す。
【００６５】
【数８】
2007178275.tif 000010
【００６６】
上記したように、被検査体（フィルム）１の表面に生じるスジ状欠点の寸法パラメータ（幅および高さ）を定量評価する際に、スジ状欠点の、長手方向と交わる断面における概略形状を近似し、その近似した形状をモデルとして有し、そのモデルにおいてスジ状欠点の傾斜角度を変化させて、撮像手段３の有する各光電変換素子に対応して定まる光照射手段２における所定の軌跡ベクトルを求め、これら軌跡ベクトルに沿って照射する光の特徴量を非繰り返し的に変えるように光照射手段２の発光面を設計する。そして実際の検査においては、まず、撮像手段３の有する光電変換素子の出力値を見て、スジ状欠点に相当する箇所を撮像した光電変換素子群Ｇを求める。そして光電変換素子群Ｇに含まれる光電変換素子からスジ状欠点の幅を求める。次に、光電変換素子Ｃｂから光電変換素子Ｃｃまでの各光電変換素子の出力値から、光の特徴量を介してスジ状欠点の傾斜角度を求め、式（８）などに基づいてスジ状欠点の高さを求める。この方法を用いれば、従来の３次元形状測定装置で要するような膨大な演算を行う必要がなくなるため、高速なスジ状欠点の幅および高さの演算を実現できる。  以下に、本実施形態の装置構成を、図１８を用いて説明する。図１８は本実施形態の概略装置構成図である。
【００６７】
１は、被検査体であり、ここでは透明プラスチックフィルムである。２は、光照射手段であり、被検査体１に光を照射している。３は、撮像手段であり、ここでは被検査体１の透過光を撮像するように配置されている。このとき、撮像手段３の撮像する透過光が介する被検査体１の箇所では、被検査体１のばたつきやシワが少ないことが望ましい。
【００６８】
撮像手段３はデータ処理手段４と接続されており、撮像手段３が撮像した透過光の受光量を光電変換素子によって電気信号に変換し、その電気信号をデータ処理手段４に送信することが可能なものである。データ処理手段４は、ディスプレイ、プリンタ、警報装置などの外部出力手段５に接続されており、撮像手段３から受信する電気信号に基づいて定量評価する被検査体１表面に生じるスジ状欠点の高さ、幅などの、スジ状欠点の形状の寸法パラメータを、外部出力手段５に送信することが可能なものである。
【００６９】
次に、光照射手段２を、図１９、図２０、図２１、図２２および図２３を用いて説明する。図１９、図２０、図２１、図２２および図２３はそれぞれ光照射手段２の構成例を示す斜視図である。光照射手段２は被検査体１に光を照射するもので、上記したように設計する。すなわち、撮像手段３の有する各光電変換素子に対応して定まる所定の軌跡ベクトルに沿って、非繰り返し的な光の特徴量分布を持つ構造を有する。
【００７０】
光照射手段２に、非繰り返し的な光の特徴量分布を持たせる方法として、光源そのものの光の特徴量を変化させることも好ましい方法である。一般には軌跡ベクトルｒｉ（θ）は光電変換素子ｉに依存した曲線となるが、以下の例では簡単のため、軌跡ベクトルｒｉ（θ）は光電変換素子ｉによらず同一の直線で表すことができるとする。
【００７１】
例えば、図１９のように、軌跡ベクトルｒｉ（θ）と直交するように棒状光源２ａの長手方向を配し、異なる光の特徴量を持つ光を照射する棒状光源２ａを軌跡ベクトルｒｉ（θ）と平行に複数並べる構造のものや、図２０のように、小型光源２ｂと、軌跡ベクトルｒｉ（θ）に直交する方向へ光を拡散させる棒状拡散レンズ２ｃとの組み合わせを、小型光源２ｂの照射する光の持つ光の特徴量を変化させながら、軌跡ベクトルｒｉ（θ）と平行に複数並べる構造のものや、図２１のように、複数の小型光源２ｄを２次元方向に配列し、軌跡ベクトルｒｉ（θ）に沿って、非繰り返し的な光の特徴量分布を実現する構造のもの各種を用いることもできる。
【００７２】
また、光照射手段２に非繰り返し的な光の特徴量分布を持たせる方法として、一様な面光源から発光された光を、光の特徴量を変化させる構造を有する光透過性物体に透過させることも好ましい方法である。
【００７３】
例えば、光の特徴量が光強度のときには、図２２のように、平面光源２ｅの照射面直後に、軌跡ベクトルｒｉ（θ）と直交するように光透過板２ｆの長手方向を配し、光透過率が異なる光透過板を軌跡ベクトルｒｉ（θ）と平行に複数並べる構造のものを用いることもできる。
【００７４】
また、光の特徴量が波長のときには、図２３のように、小型光源２ｇと、小型光源２ｇの照射面直後に配したフィルタ２ｉと、軌跡ベクトルｒｉ（θ）に直交する方向へ光を拡散させる棒状拡散レンズ２ｈとの組み合わせを、フィルタの透過中心波長を変えながら、軌跡ベクトルｒｉ（θ）と平行に複数並べる構造のものを用いることもできる。
【００７５】
次に、撮像手段３を、図１８を用いて説明する。撮像手段３は被検査体１での反射光または透過光を撮像し、その光を光電変換素子によって電気信号に変換し、その電気信号をデータ処理手段４に送信するものである。撮像手段３は、変化する光の特徴量を高感度で検出可能なものが好ましく、例えば、複数の光電変換素子を１方向に配列し、高速な撮像が可能なラインセンサカメラなどが望ましい。また撮像手段３の焦点はフィルム１の表面もしくはフィルム１を介して光照射手段２とすることが望ましい。特にスジ状欠点が小さい場合はフィルム１の表面に焦点を合わせ、撮像手段３のレンズの絞りを十分に小さくすることで、スジ状欠点の箇所で撮像方向の変化を捉え、かつ光照射手段２の像もボケが少なく撮像することができる。
【００７６】
次に、データ処理手段４を、図１８を用いて説明する。データ処理手段４は上記スジ状欠点の幅および高さを求めるアルゴリズムを実装しているもので、撮像手段３の出力を受信して、フィルム１の表面に生じるスジ状欠点の幅および高さを算出し、外部出力手段５にこれらを出力するものである。また図８に示した本実施形態における被検査体であるフィルム１、撮像手段３、光照射手段２の配置に関しては、撮像手段３と光照射手段２の直線状の距離を稼ぎ、光学的梃子の原理を用いるために、特許文献１に記載の方法と同じく、撮像手段３の撮像光軸の傾きがフィルム１の法線方向から大きく傾けることは良い方法である。また、撮像手段３のフィルム１の表面での視野がフィルム幅方向となるように配置すれば、最もフィルム幅方向の検査範囲が広がるが、一方で、スジ状欠点の傾斜角度による撮像手段３が撮像する光照射手段２の発光部位の変化が小さくなるトレードオフがあるため、撮像手段３のフィルム１の表面での視野はフィルム幅方向とフィルム長さ方向の間におくことが良い方法である。
【実施例】
【００７７】
以下に実施例を示すが、本実施例における座標は、上記実施形態と原点を含めて同一のものである。
【００７８】
図１８に示した光照射手段２および撮像手段３をそれぞれ図２４に示す配置に設置して、被検査体１である、製膜中の透明プラスチックフィルムの表面に生じる、フィルム長さ方向に垂直な断面において凸形状で、かつ、フィルム長さ方向に平行に続くスジ状欠点の幅および高さを定量評価した。図２４は、本実施例における装置配置の斜視図である。
【００７９】
撮像手段３として、８０００画素、８ビット（２５６階調）のラインセンサカメラを用いた。このラインセンサカメラの持つイメージセンサセル（光電変換素子）群は、各セルの中心がＸＹ平面に含まれ、また、セル群の中心セルおよび両端のセルが撮像する撮像光軸のベクトルｎＯＱがそれぞれ式（９）、式（１０）、式（１１）を満たすように設置した。また、中心セルの撮像光軸の光路を考えたときＯＱ間が７８０ｍｍに、ラインセンサカメラが撮像するフィルム表面の、フィルム幅方向の長さが４００ｍｍとなるようにした。即ち、フィルム幅方向の分解能は０．０５ｍｍとなるように配置した。
【００８０】
【数９】
2007178275.tif 000011
【００８１】
【数１０】
2007178275.tif 000012
【００８２】
【数１１】
2007178275.tif 000013
【００８３】
また、光照射手段２として、コア径０．１ｍｍの光ファイバを束ねたものを用いた。この光照射手段２の発光面の模式図を図２５に示した。図２５に示したように光照射手段２の発光面には多数の光ファイバの束がしきつめられたようになっている。図２４に示したように光照射手段２の発光面はＸＹ平面と平行であり、ラインセンサカメラの持つイメージセンサセル群の中心セルが撮像する撮像光軸の光路を考えたとき、フィルム１の表面に欠点がない状態でＰＲ間が１１００ｍｍとなるように、光照射手段２を配置した。
【００８４】
この光照射手段２は非繰り返し的な光の特徴量分布を持つ。その光の特徴量分布を図２６に示した。ラインセンサカメラの各セルが、フィルム１の表面に生じるスジ状欠点が０．０〜０．６２５度、０．６２５〜０．８７５度（境界線相当の角度は０．７５度）、０．８２５〜１．１２５度（境界線相当の角度は１．０度）、１．１２５〜１．３７５度（境界線相当の角度は１．２５度）、１．３７５〜１．６２５度（境界線相当の角度は１．５度）、１．６２５度〜のそれぞれの傾斜角度を有しているときに撮像する、光照射手段２の発光部位を求め、各傾斜角度範囲で領域を分けて、同一領域内には同じ光源からの光を伝達し、領域ごとに異なる光源からの光を伝達するように光ファイバを配した。すなわち、実施形態では光照射手段２は６つの光源を有しており、各光源はそれぞれ異なる特徴量を持つ光を照射する。
［実施例１］
本実施例では、光の特徴量として光強度を用いた。前記した６つの光源からの光を受光したときに、ラインセンサカメラの各セルのＡＤ変換後の値が、傾斜角度の小さい領域順に、０＋１５、４０±１５、８０±１５、１２０±１５、１６０±１５、２００±１５となるように光源の出力を調整した。この基準値からのぶれ±１５は、ラインセンサカメラのイメージセンサセル間の差異、フィルム１のばたつき、光照射手段２の発光面の同一領域内での光強度のばらつきが影響している。
このようにして得られたラインセンサカメラ出力に基づいて、前記した方法により、スジ状欠点の幅および高さを求めたところ、幅は０．１ｍｍ、高さは０．４μｍの精度で定量評価することができた。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明は、透明プラスチックフィルム表面に生じる形状既知のスジ状欠点の、フィルム長さ方向に垂直な断面における幅および高さの定量評価を行うスジ状凹凸の検査方法および装置に限らず、鉄鋼板表面に生じる形状既知の凹凸欠点の幅および高さや、高反射材料で表面をコーティングされたフィルム表面の局所的コーティング抜け度合いの定量評価などにも応用することができるが、その応用範囲が、これらに限られるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】特許文献１の検査装置の上方図である。
【図２】特許文献２の検査装置の斜視図である。
【図３】特許文献３の検査装置の断面図である。
【図４】フィルムの上方図である。
【図５】スジ状欠点近傍のフィルム長さ方向に垂直な断面における断面図である。
【図６】特許文献３に記載の検査装置の説明図である。
【図７】本発明の一実施形態における光照射手段発光面の構成例を示す正面図である。
【図８】本発明の一実施形態における検査装置構成例を示す斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態における被検査体例を示す斜視図である。
【図１０】本発明の一実施形態における光電変換素子の撮像光軸の光路例を示す斜視図である。
【図１１】本発明の一実施形態における被検査体表面の法線ベクトルを示す説明図である。
【図１２】本発明の一実施形態における欠点の近似形状例を示す断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態における光電変換素子の撮像光軸の光路例を示す斜視図である。
【図１４】本発明の一実施形態における光照射手段発光面例を示す正面図である。
【図１５】本発明の一実施形態における光の特徴量と撮像手段光電変換素子の出力値との対応例を示す説明図である。
【図１６】本発明の一実施形態における撮像手段の出力例を示す説明図である。
【図１７】本発明の一実施形態における欠点の高さを算出する方法を示す説明図である。
【図１８】本発明の一実施形態における装置構成を示す概略構成図である。
【図１９】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す斜視図である。
【図２０】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す斜視図である。
【図２１】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す斜視図である。
【図２２】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す斜視図である。
【図２３】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す斜視図である。
【図２４】本発明の一実施形態における装置配置例を示す斜視図である。
【図２５】本発明の一実施形態における光照射手段の構成例を示す正面図である。
【図２６】本発明の一実施形態における光照射手段の光の特徴量の分布を示す図である。
【符号の説明】
【００８７】
１          フィルム
２          光照射手段
２ａ        棒状光源
２ｂ        小型光源
２ｃ        棒状拡散レンズ
２ｄ        小型光源
２ｅ        平面光源
２ｆ        光透過板
２ｇ        小型光源
２ｈ        棒状拡散レンズ
２ｉ        フィルタ
３          撮像手段
４          データ処理手段
５          外部出力手段
ｄ０         光照射面において照射光の強度または波長が変化する方向
Ｃｉ         撮像手段が有する光電変換素子
Ｄｉ         光照射手段発光面における所定の方向
Ｉ０         光の特徴量
Ｉ１         光の特徴量
Ｉ２         光の特徴量
Ｉ３         光の特徴量
Ｉ４         光の特徴量
Ｏ          撮像手段のレンズ焦点。本発明の一実施形態における座標原点
Ｐ          被検査体表面の一点
θＰ         点Ｐにおける傾斜角度
ｎＯＰ        ＯＰ間における撮像光軸の単位方向ベクトル
ｎ          被検査体表面の単位法線ベクトル
ｎＰ         点Ｐにおける被検査体表面の単位法線ベクトル
Ｑ          被検査体裏面の一点
ρ          フィルムの光屈折率
ｎＯＱ       ＯＱ間における撮像光軸の単位方向ベクトル
ｎＱＰ        ＱＰ間における撮像光軸の単位方向ベクトル
ｎＰＲ        ＰＲ間における撮像光軸の単位方向ベクトル
θ          傾斜角度
φ          ベクトルｎＰのＸＹ平面への投影ベクトルとＸ軸との成す角度
Ｒ          撮像手段の撮像する光照射手段発光部位
ｒ（θ）    軌跡ベクトル
ｒｉ（θ）   軌跡ベクトル
ｒｉ＋１（θ） 軌跡ベクトル
ｒｉ＋２（θ） 軌跡ベクトル
Ｉｊ−２       光の特徴量
Ｉｊ−１       光の特徴量
Ｉｊ         光の特徴量
Ｉｊ＋１       光の特徴量
Ｉｊ＋２       光の特徴量
Ｏｊ−２       光電変換素子の出力
Ｏｊ−１       光電変換素子の出力
Ｏｊ         光電変換素子の出力
Ｏｊ＋１       光電変換素子の出力
Ｏｊ＋２       光電変換素子の出力
Ｇ          光電変換素子群Ｇ
Ｃｂ         撮像手段が有する光電変換素子
Ｃｃ         撮像手段が有する光電変換素子
Ｃｅ         撮像手段が有する光電変換素子
ｈ          欠点の高さ
θｊ         傾斜角度
【図１】
2007178275.tif 000014
【図２】
2007178275.tif 000015
【図３】
2007178275.tif 000016
【図４】
2007178275.tif 000017
【図５】
2007178275.tif 000018
【図６】
2007178275.tif 000019
【図８】
2007178275.tif 000020
【図９】
2007178275.tif 000021
【図１０】
2007178275.tif 000022
【図１１】
2007178275.tif 000023
【図１２】
2007178275.tif 000024
【図１３】
2007178275.tif 000025
【図１５】
2007178275.tif 000026
【図１６】
2007178275.tif 000027
【図１７】
2007178275.tif 000028
【図１８】
2007178275.tif 000029
【図２４】
2007178275.tif 000030
【図２５】
2007178275.tif 000031
【図７】
2007178275.tif 000032
【図１４】
2007178275.tif 000033
【図１９】
2007178275.tif 000034
【図２０】
2007178275.tif 000035
【図２１】
2007178275.tif 000036
【図２２】
2007178275.tif 000037
【図２３】
2007178275.tif 000038
【図２６】
2007178275.tif 000039