(57)【要約】      （修正有）【課題】磁気ディスク基板のＮｉ−Ｐ面の研磨性に優れ、かつ洗浄後に研磨面に残留する有機残渣の認められない磁気ディスク基板用水性研磨剤を提供する。【解決手段】研削材微粒子、高級脂肪酸およびポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤を含有する磁気ディスク基板用水性研磨剤であって、前記研削材微粒子が、該微粒子を純水中に２０カラット／リットルの割合で分散させた分散液のｐＨ値が７．０以上を示すダイヤモンド微粒子からなる磁気ディスク基板用水性研磨剤。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研削材微粒子、高級脂肪酸およびポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤を含有する磁気ディスク基板用水性研磨剤であって、前記研削材微粒子が、該微粒子を純水中に２０カラット／リットルの割合で分散させた分散液のｐＨが７．０以上を示すダイヤモンド微粒子からなることを特徴とする磁気ディスク基板用水性研磨剤。
【請求項２】
前記ダイヤモンド微粒子が、純水中２０カラット／リットルの分散液のｐＨが７．０以上となるまで水洗されたダイヤモンド微粒子からなることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク基板用水性研磨剤。
【請求項３】
前記高級脂肪酸が、ノナン酸、リシノール酸およびそれらの混合物よりなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク基板用水性研磨剤。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の磁気ディスク基板用水性研磨剤を用いて磁気ディスク基板を研磨する工程、および研磨された磁気ディスク基板面を水洗する工程を含むことを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク基板用水性研磨剤に関し、さらに詳しくは、研削材微粒子がダイヤモンド微粒子からなる磁気ディスク基板用水性研磨剤および該水性研磨剤による基板研磨工程を含む磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク（ハードディスクメモリー）は、コンピュータの高速アクセスが可能な外部記憶装置として広く採用されている。
【０００３】
磁気ディスクの代表的な一例は、アルミ合金基板上に無電解メッキにより形成されたニッケルリン（Ｎｉ−Ｐ）層を有する磁気ディスク基板上に、クロム下地層、コバルト磁性膜層、カーボン保護膜層を順次積層した構造を有し、前記Ｎｉ−Ｐ層の表面は、研磨によるテクスチャ加工が施されている。
【０００４】
磁気ディスク表面の表面粗さは、磁気ディスクの品質に大きく影響し、特に、磁気ディスク表面に磁気ヘッドの浮上高さを越えるような突起が存在すると、磁気ヘッドおよび磁気ディスクの両方を損傷させる原因となることから、磁気ディスク表面は極めて平滑な表面に仕上られている。
【０００５】
磁気ディスク表面の突起の原因として、磁気ディスク基板表面に始めから存在する突起、その表面にスパッタリングなどにより積層される各層の微粒子の付着、成膜後の塵埃の付着などが挙げられるが、特に、磁気ディスク基板表面の突起は、その上に積層される各層に引き継がれることから、磁気ディスク基板表面は各層の積層前に所定のテクスチャを有するように精密研磨される。
【０００６】
磁気ディスク基板表面をテクスチャ加工するための研磨方法として、研磨テープを用いる方法（特許文献１など）、パニッシング法（特許文献２など）、ホーニング法（特許文献３）などが知られ、これらの方法には種々の研磨剤が使用される。
【０００７】
これらの方法で使用される研磨剤は、研削材の微粒子を研磨時に発生する熱を除去するクーラントを兼ねる分散媒に分散させたものであり、たとえば、研削材としてダイヤモンド微粒子を含有する研磨剤（特許文献４、５など）、酸化アルミニウム微粒子を含有する研磨剤（特許文献６、７、８、９など）、コロイドシリカ系の研磨剤（特許文献１０など）等が知られている。
【０００８】
磁気ディスク基板表面に目的とするテクスチャを形成するために、研削材微粒子には、極めて小さな粒子径と、研磨剤中に均一にかつ安定して分散している分散安定性が要求されることから、研磨剤は、研削材微粒子の分散剤として各種の界面活性剤を含有し、クーラントを兼ねる分散媒には水が好適に使用されている。
【０００９】
近年、研削材微粒子としてダイヤモンド微粒子を含み、分散剤として高級脂肪酸のアルカノールアミン塩型の非イオン系界面活性剤とポリエチレングリコールエーテル型の非イオン系化面活性剤とを主成分とする混合物を含む水性研磨剤（特許文献１１）が研磨性に優れることから注目されている。
【００１０】
【特許文献１】特開昭６４−０８６３２０号公報
【特許文献２】特開平０３−２７３５２３号公報
【特許文献３】特開平０３−２９０８２２号公報
【特許文献４】特開昭６２−１５７３２７号公報
【特許文献５】特開昭６３−１９７０３０号公報
【特許文献６】特開昭６０−１０８４８９号公報
【特許文献７】特開昭６２−０２５１８７号公報
【特許文献８】特開平０１−１８８２６４号公報
【特許文献９】特開平０４−２７５３８７号公報
【特許文献１０】特開平０７−２４００２５号公報
【特許文献１１】特開平１１−１８５２４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
前記ダイヤモンド微粒子および非イオン系界面活性剤の混合物を含む水性研磨剤は、優れた研磨性を有するが、その研磨性にはかなりのバラツキがあり、磁気ディスク基板の研磨後の洗浄によっても、基板上に有機残渣が残留し固着することが認められる。
【００１２】
本発明は、研磨性にバラツキがなく、かつ、洗浄により有機残渣が残留しないダイヤモンド微粒子を研削材として含有する水性研磨剤を提供することを目的とする。また、磁気ヘッドおよび磁気ディスクに損傷を及ぼすような突起のない平滑な表面を有する磁気ディスク基板の製造方法を提供することを別の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者等は、前記目的を達成すべく鋭意研究した結果、研削材として市販されているダイヤモンド微粒子を純水中に分散させた分散液において、ダイヤモンド微粒子の分散性には大きな差は認められないものの、分散液のｐＨ値には、約３ないし約８と大きな差があること、そして、高級脂肪酸を含む水系中においては、ダイヤモンド微粒子の分散性が、前記分散液のｐＨ値に依存することを見出し、本発明を完成した。
【００１４】
本発明の磁気ディスク基板用水性研磨剤は、研削材微粒子、高級脂肪酸およびポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤を含有する磁気ディスク基板用水性研磨剤であって、前記研削材微粒子が、該微粒子を純水中に２０カラット／リットルの割合で分散させた分散液のｐＨ値が７．０以上を示すダイヤモンド微粒子からなることを特徴とする。
【００１５】
本発明において、前記ダイヤモンド微粒子は、純水中２０カラット／リットルの分散液のｐＨ値が７．０以上となるまで水洗されたダイヤモンド微粒子であってもよい。また、前記高級脂肪酸は、ノナン酸、リシノール酸およびそれらの混合物よりなる群から選択される。
【００１６】
本発明の磁気ディスク基板の製造方法は、前記磁気ディスク基板用水性研磨剤を用いて磁気ディスク基板を研磨する工程、および研磨された磁気ディスク基板面を水洗する工程を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の水性研磨剤においては、研削材のダイヤモンド微粒子が分散性に優れることから、それを用いた磁気ディスク基板の研磨において、目的とするテクスチャ加工面が得られるだけでなく、ダイヤモンド微粒子の分散剤として高級脂肪酸とポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤との組み合わせを選択したことにより、研磨後の水洗により基板表面から有機物を効率よく除去することができる。その結果、本発明の水性研磨剤を用いた磁気ディスク基板の研磨工程における、研磨不良の発生率が低減し製品の歩留まりが著しく向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の水性研磨剤において、研削材として、市販されているダイヤモンド微粒子またはそれらを水洗したダイヤモンド微粒子であって、純水中に２０カラット／リットルの濃度で分散させた分散液のｐＨ値が７．０以上を示すダイヤモンド微粒子を含有する。
【００１９】
市販のダイヤモンド微粒子は、それらの製造方法、製造後の洗浄方法の違いによって、アニオンとしてＣｌ、ＮＯ３、ＳＯ４など、カチオンとしてＣａ、Ｍｇ、Ｎａなどの不純物を含み、それらを純水中に２０カラット／リットルの濃度で分散させた分散液は、表1に示すように３．３〜８．１の広い範囲のｐＨ値を示す。
【００２０】
【表１】
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【００２１】
上記純水分散液中のダイヤモンド微粒子の粒径は、表１中に示すように、それらの分散液の示すｐＨ値にかかわらず大きな差はなく、粒径のｐＨ依存性は認められない。
【００２２】
一方、これらの各ダイヤモンド微粒子を、５％ノナン酸水溶液中に添加して分散させた場合、ダイヤモンド微粒子の一部、特に純水分散液のｐＨ値が４．５以下のダイヤモンド微粒子に凝集が認められ、その凝集粒径は、表１中に示したように水分散液のｐＨ値に依存する。純水分散液中およびノナン酸溶液分散液中のダイヤモンド微粒子の粒径のｐＨ依存性を図１に示す。
【００２３】
本発明の水性研磨剤においては、ノナン酸溶液分散液中において大きな凝集の認められない純水分散液のｐＨ値が７．０以上を示すダイヤモンド微粒子を用いる。水洗によって純水分散液のｐＨ値が７．０以上を示すようになったダイヤモンド微粒子を用いることもできる。ダイヤモンド微粒子の配合量は、重量で０．１〜２．０カラット／リットル、好ましくは０．３〜１．３カラット／リットルの範囲である。
【００２４】
本発明の水性研磨剤において、高級脂肪酸は、炭素数８〜１８の飽和または不飽和の脂肪族カルボン酸およびヒドロキシカルボン酸、たとえば、オクタン酸、ノナン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、オレイン酸、リシノール酸などであり、好ましくはノナン酸、リシノール酸およびそれらの混合物から選択される。高級脂肪酸の配合量は、水性研磨剤の重量基準で０．１〜３０重量％、好ましくは、０．５〜５重量％の範囲である。
【００２５】
本発明の水性研磨剤において、ポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤は、重合度が５〜９のポリエチレングリコールとＣ１２〜Ｃ１８の高級アルコールまたはＣ８〜Ｃ９のアルキルフェノールとから導かれた非イオン系界面活性剤である。ポリエチレングリコール型非イオン系界面活性剤の配合量は、水性研磨剤の重量基準で０．１〜３０重量％、好ましくは、０．５〜５重量％の範囲である。
【実施例１】
【００２６】
水性研磨剤
前記表１に示した試料番号１〜１１のダイヤモンド微粒子のそれぞれを、リシノール酸１％およびポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤（ｎ−ブチルカルビトールのポリエチレングリコールエーテル：和光純薬（株）製）１％を含む水溶液中に、１カラット／リットルの濃度で分散させ水性研磨剤を調製した。
【００２７】
磁気ディスク基板の研磨
無電解メッキによりＮｉ−Ｐ層を形成したアルミ合金製基板からなる３．５インチの磁気ディスク基板のＮｉ−Ｐ層面に、研磨テープをコンタクトローラーにより圧着し、前記水性研磨剤のそれぞれを滴下しながら磁気ディスク基板を回転させ１分間研磨した。
【００２８】
洗浄
研磨後の基板表面が乾固しないように水シャワーをかけながら、洗浄剤中で超音波洗浄を１分間、次いで純水すすぎを２分間実施し、風乾した。
【００２９】
評価
洗浄処理後の各磁気ディスク基板の表面への付着パーティクル数および有機残渣の有無を、表面検査装置ＯＳＡ６１００（キャンベラ  インスツルメント社製）を用いて評価した。磁気ディスク基板表面への付着パーティクル数を表２に、ダイヤモンド微粒子分散液のｐＨと付着パーティクル数の関係を図２に示す。
【００３０】
【表２】
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【実施例２】
【００３１】
試料番号４のダイヤモンド微粒子を、撹拌下の純水中に２０カラット／リットルの濃度で分散させて洗浄した後、ろ過分離する操作を３回繰り返した。洗浄されたダイヤモンド微粒子の２０カラット／リットルの濃度の水分散液のｐＨ値は、７．１であった。
【００３２】
得られた洗浄ダイヤモンド微粒子を用いた以外には、実施例１と同一の条件で調製した水性研磨剤を用い、実施例１と同一の条件で磁気ディスク基板の研磨および洗浄を行い、実施例１と同様の方法で基板表面の評価を行った。基板表面の付着パーティクル数は、１０個であり、有機残渣は認められなかった。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】ダイヤモンド微粒子の粒径の水分散液およびノナン酸溶液分散液中におけるｐＨ依存性を示すグラフ。
【図２】実施例１で得られたダイヤモンド微粒子分散液のｐＨと付着パーティクル数との関係を示すグラフ。
【図１】
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【図２】
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