(57)【要約】【課題】厚み方向のレターデーション、面内のレターデーションが小さく、製造時に切断などのおこりにくく、流延方向とそれに垂直な方向の力学特性や寸法安定性にバランスのとれたセルロースエステルフィルムおよび、その製造方法を提供すること。該セルロースエステルフィルムを用いた光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置を提供すること。【解決手段】波長590nmでの膜厚方向のレターデーション値 Ｒｔｈ(590)が−２５nm以上２５nmであり、面内のレターデーション値 Ｒｅ(590)が０nm以上１０nm以下である透明フィルムであって、波長590nmでのフィルム面内の遅相軸の方向が、幅方向の任意の場所で１０°以上異なることを特徴とするセルロースエステルフィルムおよびその製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長590nmでの膜厚方向のレターデーション値 Ｒｔｈ(590)が−２５nm以上２５nmであり、面内のレターデーション値 Ｒｅ(590)が０nm以上１０nm以下である透明フィルムであって、波長590nmでのフィルム面内の遅相軸の方向が、幅方向の任意の場所で１０°以上異なることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【請求項２】
該セルロースエステルフイルムにおいて、波長590nmでのフィルム面内の遅相軸の平均方向が流延方向あるいは、流延方向に垂直な方向から２０°よりも大きく離れていないことを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項３】
該セルロースエステルフィルムのフイルム幅が６００ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項４】
該セルロースエステルフィルムのエステル置換度（Ｘ＋Ｙ）が下記式（Ｉ）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
式（Ｉ）    ２．７＜Ｘ＋Ｙ≦３．０  
［式中、Ｘは、アセチル置換度、Ｙはアセチル以外のアシル置換度である。］
【請求項５】
膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項６】
該セルロースエステルフィルムの流延方向および流延方向に垂直な方向への５０℃９０％ＲＨ２４０ｈでの寸法変化率が０．３％以下であり、流延方向の寸法変化率と流延方向に垂直な方向の寸法変化率の差が０．２％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項７】
該セルロースエステルフィルムの流延方向および流延方向に垂直な方向への引裂き強度がともに０．０１Ｎ以上であり、ＭＤ方向の引裂き強度に対するＴＤ方向の引裂き強度の比率が０．７以上１．４以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項８】
該セルロースエステルフィルムの厚みが３０〜２００μｍである請求項１〜７のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項９】
セルロースエステル溶液（以下、ドープとも呼ぶ）を調製し、ドープを支持体上に流延し、流延膜を支持体上からフィルムとして剥離し、剥離したフィルムの幅手方向両端部をテンター（フィルム幅手方向把持装置）により把持しフィルムの幅保持を行なうとともにフィルムを乾燥させ、フィルムをテンターから離脱後さらに乾燥するセルロースエステルフィルムの製造方法であって、フィルムの幅手方向両端部を把持しているテンター区間においてフィルム幅方向にかかるテンションが３ｋｇｆ／ｍ以上１０ｋｇｆ／ｍ未満であって、かつフィルム残留溶剤量が１５％以上の区間においてフィルム搬送方向にかかるテンションが１ｋｇｆ／ｍ以上２０ｋｇｆ／ｍ以下であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１０】
少なくとも１枚の請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムあるいは請求項９に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルムに、Ｒｅ（590）＝０〜２００ｎｍで、且つ｜Ｒｔｈ（590）｜＝０〜４００ｎｍの光学異方性層を積層してなることを特徴とする光学補償フィルム。
【請求項１１】
偏光膜の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム、請求項９に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルムあるいは請求項１０に記載の光学補償フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム、請求項９に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルム、請求項１０に記載の光学補償フィルム、及び請求項１１に記載の偏光板の少なくともいずれかを具備することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】
該液晶表示装置がＩＰＳモードの液晶セルを有することを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースエステルフィルム、セルロースエステルフィルムを用いた光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置およびセルロースエステルフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流である。
一般に液晶表示装置は液晶セル、位相差フィルム、偏光板から構成される。位相差フィルムは画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。例えば、特許第２５８７３９８号公報ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。
しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。また、最近ではモニター用途の液晶表示装置に対する要求性能も高まっている。そのため、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）モード、ＶＡ（Vertically Aligned）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が様々に研究されている。
【０００３】
セルロースアシレートフィルムは、他のポリマーフィルムと比較して、透湿性に富み、親水性の高いＰＶＡなどが一般的に用いられる偏光板の偏光子との接着性が高く、偏光板用の保護フィルムとして、セルロースアセテートフィルムを用いることが一般的である。
セルロースアセテートフィルムは光学的等方性が高いこともあって、一般的な偏光板の保護フィルムとして最適である。しかし、最近は視野角依存性やその他の特性を改良するために上記のような各種モードの液晶表示装置に所望の光学異方性を有する位相差フィルムが要求されるようになってきている。
その一方で、セルロースアセテートフィルムは面内のレターデーションが小さく、光学的に等方性に優れているが、厚み方向には数十ｎｍのレターデーションを有しており、使用用途によっては、十分に等方的とはいえない面があった。光学的等方性をさらに極めたセルロースアシレートフィルムが各種液晶表示装置の偏光板の保護フィルムや位相差板の基材などとして求められるようになってきた。（例えば特許文献１）
【０００４】
最近、液晶表示装置がＰＣ用モニターや携帯機器だけではなく、テレビ用途としても広く用いられるようになり、コントラストや色味の視野角特性が以前にも増して良好であることを強く要求されるようになってきている。また、テレビ用途では大型化、低価格化、薄型化のニーズが強く、より広い面積で均質な性能であり、薄く、かつ低コストである保護フィルムや位相差フィルムが必要になってきている。このような要求を満足するために、前記のようなレターデーションの制約や問題を解消し、薄手化しても切断などの起こりにくい、力学特性、製造安定性に優れたフィルムが必要となってきている。
【特許文献１】特開２００２−２４９５９９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、厚み方向のレターデーション、面内のレターデーションが小さく、製造時に切断などのおこりにくく、流延方向とそれに垂直な方向の力学特性や寸法安定性にバランスのとれたセルロースエステルフィルムおよび、その製造方法を提供することであり、そのセルロースエステルフィルムを用い液晶表示装置に組み込んだときに、その視野角特性を改善できる光学補償フィルム、および偏光板を提供することである。また、別の課題は視野角特性に優れた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の発明者らが鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースエステル、特にセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いること、およびアシル置換度が２．７０〜３．００のセルロースアシレートを用いることが、光学的異方性を十分に低下させＲｅ及びＲｔｈをゼロに近づけることに有益であることを見出した。
【０００７】
さらに本発明の発明者らは、セルロースエステルフィルムを製造中に流延方向、およびそれに垂直な方向にバランスよく、しかも微弱にテンションをかけることによって、面内のレターデーションおよび厚み方向のレターデーションを零に近づけるとともに、面内の遅相軸方向がフィルムの流延方向に対してなす角度を、フイルム幅方向で均一とならないように製造する、すなわち遅相軸方向にばらつきをもたせることにより、フイルムの力学特性や寸法変化が流延方向あるいはそれに垂直な方向とで大きく異なることがないようにすることが可能であることを見出した。また、Ｒｔｈの温度変化に伴う変動を低減することにも効果があることがわかった。このような知見をもとに、下記の構成によって課題を達成することができた。
【０００８】
（１）波長590nmでの膜厚方向のレターデーション値 Ｒｔｈ(590)が−２５nm以上２５nmであり、面内のレターデーション値 Ｒｅ(590)が０nm以上１０nm以下である透明フィルムであって、波長590nmでのフィルム面内の遅相軸の方向が、幅方向の任意の場所で１０°以上異なることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
（２）該セルロースエステルフイルムにおいて、波長590nmでのフィルム面内の遅相軸の平均方向が流延方向あるいは、流延方向に垂直な方向から２０°よりも大きく離れていないことを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルム。
（３）該セルロースエステルフィルムのフイルム幅が６００ｍｍ以上であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載のセルロースエステルフィルム。
（４）該セルロースエステルフィルムのエステル置換度（Ｘ＋Ｙ）が下記式（Ｉ）を満たすことを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
式（Ｉ）    ２．７＜Ｘ＋Ｙ≦３．０  
［式中、Ｘは、アセチル置換度、Ｙはアセチル以外のアシル置換度である。］
（５）膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
（６）該セルロースエステルフィルムの流延方向および流延方向に垂直な方向への５０℃９０％ＲＨ２４０ｈでの寸法変化率が０．３％以下であり、流延方向の寸法変化率と流延方向に垂直な方向の寸法変化率の差が０．２％以下であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
（７）該セルロースエステルフィルムの流延方向および流延方向に垂直な方向への引裂き強度がともに０．０１Ｎ以上であり、ＭＤ方向の引裂き強度に対するＴＤ方向の引裂き強度の比率が０．７以上１．４以下であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
【０００９】
（８）該セルロースエステルフィルムの厚みが３０〜２００μｍである上記（１）〜（７）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム。
（９）セルロースエステル溶液（以下、ドープとも呼ぶ）を調製し、ドープを支持体上に流延し、流延膜を支持体上からフィルムとして剥離し、剥離したフィルムの幅手方向両端部をテンター（フィルム幅手方向把持装置）により把持しフィルムの幅保持を行なうとともにフィルムを乾燥させ、フィルムをテンターから離脱後さらに乾燥するセルロースエステルフィルムの製造方法であって、フィルムの幅手方向両端部を把持しているテンター区間においてフィルム幅方向にかかるテンションが３ｋｇｆ／ｍ以上１０ｋｇｆ／ｍ未満であって、かつフィルム残留溶剤量が１５％以上の区間においてフィルム搬送方向にかかるテンションが１ｋｇｆ／ｍ以上２０ｋｇｆ／ｍ以下であることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
（１０）少なくとも１枚の上記（１）〜（８）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムあるいは上記（９）に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルムに、Ｒｅ（590）＝０〜２００ｎｍで、且つ｜Ｒｔｈ（590）｜＝０〜４００ｎｍの光学異方性層を積層してなることを特徴とする光学補償フィルム。
（１１）偏光膜の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が上記（１）〜（８）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム、上記（９）に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルムあるいは上記（１０）に記載の光学補償フィルムであることを特徴とする偏光板。
（１２）上記（１）〜（８）のいずれかに記載のセルロースエステルフィルム、上記（９）に記載の製造方法により作製されたセルロースエステルフィルム、上記（１０）に記載の光学補償フィルム、及び上記（１１）に記載の偏光板の少なくともいずれかを具備することを特徴とする液晶表示装置。
（１３）該液晶表示装置がＩＰＳモードの液晶セルを有することを特徴とする上記（１２）に記載の液晶表示装置。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
［セルロースエステルフィルムのレターデーション］
本発明のセルロースエステルフィルムは膜厚方向のレターデーション値Ｒｔｈ(590)および面内レターデーション値Ｒｅ(590)が以下の範囲にあるものである。
Ｒｔｈ(590)は−２５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の範囲にあり、Ｒｅ(590)は０ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲にあるものである。
Ｒｔｈ(590)は−１５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることが好ましく、−５ｎｍ以上５ｎｍ以下がより好ましい。一方Ｒｅ(590)は０ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましく、０ｎｍ以上３ｎｍ以下であることがより好ましく、０ｎｍ以上１ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定する。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフイルム法線方向に対して＋４０度傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜角（回転軸）としてフィルム法線方向に対して逆に４０度傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（John  Wiley & Sons, Inc）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。本明細書においては、通常、波長λは590ｎｍを用いる、また、測定環境は特に断らない限りは、２５℃６０％において測定したものである。
【００１１】
本発明のセルロースエステルフィルムは面内の遅相軸の方向が、幅方向の任意の場所で１０°以上の異なることを特徴とするセルロースエステルフィルムであり、任意の２点の場所での遅相軸のなす角度の小さい方の角度が１０°以上となるものである。すなわち、本発明のセルロースエステルフィルムは一定の方向のみに軸が向いているものではなく、軸の角度に分布があるものである。好ましくは、幅方向の任意の場所で１５°以上異なることであり、さらに好ましくは、３０°以上異なることである。
遅相軸の方向を、例えば、流延方向に平行な軸の角度を０°とし、流延方向に対して右方向になす角度をプラス、左方向になす角度をマイナスと定義した場合、任意の２点での遅相軸のなす角度を算出すること、また以降に述べる測定点での平均方向および標準偏差を算出するために、軸角度の範囲を−９０°から＋９０°の間の値をとる、あるいは、０°から＋１８０°の間の値をとる、または０°から−１８０°の間の値をとるように適宜設定して算出することができる。
遅相軸が概ね流延方向を向いて分布している場合には、各場所での、遅相軸を−９０°から＋９０°の範囲でとることが好ましく、遅相軸が概ね流延方向に垂直な方向を向いて分布している場合には、各場所での、遅相軸を０°から＋１８０°あるいは０°から−１８０°の範囲でとることが好ましい。
面内のレターデーション値が測定限界に近い場合には、遅相軸の角度の幅方向のプロファイルをとると、ある範囲で−９０°から増加して、０°を経たのち＋９０°（すなわち、−９０°）に達し、さらに−９０°から増加するような挙動を示すものもあり、このようなものも好ましい。
このように遅相軸方向が分布を有していることにより、力学強度の異方性や寸法変化の異方性を小さくしているものと思われる。遅相軸方向のそろっているフィルムでは、ある方向では引裂き強度などの物理特性が優れるが、それと垂直な方向では非常に物理特性が劣ることが見受けられる。本発明のフィルムは、全ての方向において適度な物理特性を有し、方向によってその大きさが大きく変わらない。
【００１２】
また、本発明のセルロースエステルフィルムの軸角度のばらつきは、その標準偏差を算出することによって評価できる。標準偏差は、測定点数がＮの場合、測定値ｘ1、ｘ2、・・・、ｘNの平均値をｘavとすると、標準偏差σは以下のから算出できる。
σ2＝{（ｘ1-ｘav）2＋（ｘ2-ｘav）2＋・・・＋（ｘN-ｘav）2}/（N−1）
標準偏差の好ましい範囲は3°以上80°以下であり、より好ましくは5°以上40°以下であり、特に好ましくは8°以上20°以下であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明のセルロースエステルフィルムにおいて、波長５９０ｎｍでのフィルム面内の遅相軸の平均方向が流延方向あるいは、流延方向に垂直な方向から２０°よりも大きく離れていないことが好ましい。流延方向に平行な方向を０°とし、遅相軸の角度を−９０°から＋９０°の範囲にとると、遅相軸の平均が流延方向に対してなす角度は−２０°〜２０°あるいは、７０°〜９０°、−９０°〜−７０°またはであることが好ましい。本発明のＲｅ、Ｒｔｈは極めて小さいとはいえ、ゼロでない場合には有限の値を持つ。このような場合には、偏光子と貼り合わせて偏光板を作製した際の光漏れや色味変化を抑制する観点からは、遅相軸の平均的な方向が上記範囲内にあることが好ましい。より好ましくは−１５°〜１５°であるか、または−９０°〜−７５°あるいは７５°〜９０°であることであり、さらに好ましくは、−１０°〜１０°であるか、または−９０°〜−８０°あるいは８０°〜９０°であることである。
【００１４】
遅相軸の方向は測定機器（例えばＫＯＢＲＡ  ２１ＤＨ（王子計測機器（株）製））を用いて、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射して測定することにより求めることができる。尚、本明細書では特に断りのない限り、５９０ｎｍで測定した値を示す。
【００１５】
また、本発明のセルロースエステルフィルムは、波長４００ｎｍと７００ｎｍでのＲｅ、Ｒｔｈの差、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜および｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜が小さいことが好ましく、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦３５であることが好ましい。より好ましくは、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦５かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦２５であり、｜Ｒｅ(400)−Ｒｅ(700)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(400)−Ｒｔｈ(700)｜≦１５であることが特に好ましい。
【００１６】
また、本発明のセルロースエステルフィルムは、１０℃と４０℃でのＲｅ、Ｒｔｈの差、｜Ｒｅ(10℃)−Ｒｅ(40℃)｜および｜Ｒｔｈ(10℃)−Ｒｔｈ(40℃)｜が小さいことが好ましく、｜Ｒｅ(10℃)−Ｒｅ(40℃)｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ(10℃)−Ｒｔｈ(40℃)｜≦１５であることが好ましい。より好ましくは、｜Ｒｅ(10℃)−Ｒｅ(40℃)｜≦５かつ｜Ｒｔｈ(10℃)−Ｒｔｈ(40℃)｜≦１０であり、｜Ｒｅ(10℃)−Ｒｅ(40℃)｜≦３かつ｜Ｒｔｈ(10℃)−Ｒｔｈ(40℃)｜≦５であることが特に好ましい。
【００１７】
［レターデーションのばらつき］
レターデーション値のばらつきは、製膜したフィルムの幅方向１７点（中央、端部（両端からそれぞれ全幅の２％の位置）、中央部と端部の中間部２点、以上の点の中間部４点、およびこれらの中間部８点）を長手方向に１００ｍごとにサンプリングしたものの値の最大値と最小値との差であり、３ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以下であることがより好ましく、１ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【００１８】
〈セルロースエステル〉
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース（ＤＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、炭素数５〜２０の脂肪族及び芳香環を有するカルボン酸とセルロースエステル、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートトリメリテート、硝酸セルロース等のセルロースエステル類が挙げられる。またこれらの混合物を用いることができる。
【００１９】
上記セルロースエステルであれば本発明には好ましく用いられるが、より好ましくは、セルロースエステルの置換度を、酢酸によるアセチル置換度をＸ、プロピオン酸や酪酸などの酢酸以外によるアシル置換度をＹとして表した場合に、下記の式（Ｉ）を満たすセルロースエステルである。
【００２０】
式（Ｉ）    ２．７＜Ｘ＋Ｙ≦３．０
これはＸ＋Ｙが２．７以上３．０以下の範囲のものが樹脂の溶解性が高く、高濃度のドープ（溶媒に樹脂を溶かした溶解液を以後ドープと呼ぶ）を作製でき、製膜・乾燥時により有利だからである。
【００２１】
セルロースを形成するグルコースユニットは、結合できる３つの水酸基を有しており、例えば、セルローストリアセテートにおいて、グルコースユニットの３個の水酸基全てがアセチル基に結合している場合には、アセチル基による置換度は３．０である。セルロースエステルの置換度は高ければ高いほど、固有複屈折を小さくすることができ、さらには負の値とすることができるため、レターデーション値を制御する上で好ましい。より好ましくは、２．８５以上３．０以下であり、さらに好ましくは２．８９以上３．０以下であり、特に好ましくは２．９１以上３．０以下である。
これらアシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００２２】
本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。また、これらから得られたセルロース誘導体は、それぞれを単独であるいは任意の割合で混合使用することが出来るが、綿花リンターあるいは木材パルプのいずれかを５０質量％以上使用することが好ましい。
【００２３】
セルロースエステルフィルムの分子量が小さいと弾性率が低くなりすぎ、分子量を上げすぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなりすぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で７０，０００〜２００，０００のものが好ましく、１００，０００〜２００，０００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルはＭｗ／Ｍｎ比は１．０以上５．０未満が好ましく、より好ましくは２．１以上３．３未満であり、特に好ましくは２．３以上３．０未満である。
【００２４】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することができる。
【００２５】
測定条件は以下の通りである。
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００２６】
セルロースエステルの重合度は、粘度平均重合度で２００〜８００が好ましく、２５０〜６５０がより好ましく、２５０〜４５０が更に好ましく、２５０〜４００が特に好ましい。粘度平均重合度は宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）に従い測定できる。粘度平均重合度の測定方法については、特開平９−９５５３８号公報にも記載がある。
また、セルロース溶液の粘度はセルロース濃度６重量％において８０ｃｐｓ（８０ｍＰａ・ｓ）〜５００ｃｐｓ（５００ｍＰａ・ｓ）であることが好ましく、１２０ｃｐｓ（１２０ｍＰａ・ｓ）〜４００ｃｐｓ（４００ｍＰａ・ｓ）であることがより好ましく、１８０（１８０ｍＰａ・ｓ）ｃｐｓ〜３００ｃｐｓ（３００ｍＰａ・ｓ）であることがさらに好ましい。
【００２７】
（レターデーション低減剤）
本発明のセルロースエステルフィルムはレターデーションを低下させる化合物を少なくとも一種含有することが好ましい。
特に、本発明のレターデーション低減剤は厚み方向（膜厚方向とも言う）のレターデーションを低減させる化合物であり、セルロースエステル、特にセルロースアシレートへの溶解性の観点から、本発明に使用するレターデーション低下剤はオクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。前記ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、前記ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸透法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27巻,21頁(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29巻,163頁(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.- Chim.Theor.,19巻,71頁(1984).）などに記載の方法が好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27巻,21頁(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。
具体的な例としては、下記一般式（１）や一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。
【００２８】
【化１】
2007106794.tif 000002
【００２９】
【化２】
2007106794.tif 000003
【００３０】
上記一般式（１）において、Ｒ1はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましい。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3において、各々のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよい。
【００３１】
上記アルキル基又はアリール基の置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基がより好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。
【００３２】
一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されない。
【００３３】
【化３】
2007106794.tif 000004
【００３４】
【化４】
2007106794.tif 000005
【００３５】
【化５】
2007106794.tif 000006
【００３６】
次に、一般式（２）の化合物について説明する。  
【００３７】
式中、Ｒ３１はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ３２およびＲ３３はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、アルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。
【００３８】
より好ましくは、Ｒ３１、Ｒ３２およびＲ３３はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。
【００３９】
上記のアルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素およびヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基およびアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基であり、特に好ましくは、アルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基およびアシルアミノ基である。
【００４０】
以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されない。
【００４１】
【化６】
2007106794.tif 000007
【００４２】
【化７】
2007106794.tif 000008
【００４３】
【化８】
2007106794.tif 000009
【００４４】
【化９】
2007106794.tif 000010
【００４５】
【化１０】
2007106794.tif 000011
【００４６】
【化１１】
2007106794.tif 000012
【００４７】
【化１２】
2007106794.tif 000013
【００４８】
【化１３】
2007106794.tif 000014
【００４９】
これらのレターデョーション低下剤は、光学異方性を低下させる機能を有している。
この光学異方性を低下させる化合物を含有することにより、セルロースエステルフィルム中のポリマーが面内および膜厚方向に配向するのを抑制することによって光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅはゼロに近く、さらにＲｔｈは負にすることができる。光学異方性を低下させる化合物は、ポリマーに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００５０】
本発明のセルロースエステルフィルムは、光学異方性を低下させる化合物を、下記式（ａ）、（ｂ）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが好ましい。
（ａ）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
（ｂ）０．０１≦Ａ≦１００
［式中、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａは前記セルロースエステルポリマーの固形分質量を１００としたときの該化合物の質量（％）である。］
上記式（ａ）、（ｂ）は
（ａ1）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−２．０
（ｂ1）０．０５≦Ａ≦５０
であることがより好ましく、
（ａ2）（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−３．０
（ｂ2）０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。  
【００５１】
（波長分散調整剤） 
本発明におけるセルロースエステルフィルムには、波長分散を調整させる化合物を含有することができる。前記波長分散を調整させる化合物について説明する。本発明に用いるセルロースエステルフィルムのＲｔｈの波長分散を可視光の全域でゼロに近づけるためには、Ｒｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物（以下、「波長分散調整剤」と称する場合がある。）を、少なくとも一種含有することが好ましい。
【００５２】
前記の波長分散調整剤は、２００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を有することが好ましい。
一般に、セルロースエステルフィルム、特にセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は短波長側よりも長波長側が大きい分散特性を有する。一方、２００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。そのため、セルロースアシレートフィルムの短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを適当な紫外吸収を有する化合物によって大きくすることによって波長分散を平滑にすることができる。
【００５３】
波長分散の面内ばらつきは、光学性能のばらつき、特に色味の視野角特性に影響を与える。そのため、波長分散調整剤はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような波長分散調整剤の紫外領域の吸収帯範囲は２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【００５４】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ（400）−Ｒｅ（７００）｜および｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物をセルロースエステルフィルムに添加する場合、分光透過率が優れている要求される。本発明におけるセルロースエステルフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％〜９５％であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。
【００５５】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましく、より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００５６】
前記波長分散調整剤は、セルロースエステルフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００５７】
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースエステルの固形分に対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
【００５８】
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００５９】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００６０】
前記波長分散調整剤として用いられる前記ベンゾトリアゾール系化合物としては下記一般式（３）で表される化合物が本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。
【００６１】
一般式（３）：Ｑ1−Ｑ2−ＯＨ
（式中、Ｑ1は含窒素芳香族ヘテロ環を表し、Ｑ2は芳香族環を表す。）
【００６２】
前記Ｑ1は含窒素芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環である。前記含窒素芳香族ヘテロ環としては、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデンなどの各環が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールの各環が好ましく、特に好ましくはベンゾトリアゾール環である。
Ｑ1で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、該置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００６３】
前記Ｑ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
前記芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）が好ましく、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
【００６４】
前記芳香族ヘテロ環としては、窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環が好ましい。前記ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられ、好ましくはピリジン、トリアジン、キノリンの各環である。
Ｑ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ2は更に置換基を有してもよく、該置換基としては以下に述べる置換基Ｔが好ましい。
【００６５】
置換基Ｔとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの各基が挙げられる。）；アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどの各基が挙げられる。）；アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどの各基が挙げられる。）；アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどの各基が挙げられる。）；置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどの各基が挙げられる。）；アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）；アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどの各基が挙げられる。）；
【００６６】
アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどの各基が挙げられる。）；アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどの各基が挙げられる。）；アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）；アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）；アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）；アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）；アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）；スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）；
【００６７】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどの各基が挙げられる。）；カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどの各基が挙げられる。）；アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどの各基が挙げられる。）；アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）；スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）；スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどの各基が挙げられる。）；ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどの各基が挙げられる。）；リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどの各基が挙げられる。）；ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；シアノ基；スルホ基；カルボキシル基；ニトロ基；ヒドロキサム酸基；スルフィノ基；ヒドラジノ基；イミノ基；ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどの各基が挙げられる。）；シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基Ｔは更に置換基によって置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００６８】
前記一般式（３）で表される化合物は、下記一般式（３−Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【００６９】
【化１４】
2007106794.tif 000015
【００７０】
（一般式（３−Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【００７１】
一般式（３−Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、およびＲ8は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ1およびＲ3として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００７２】
一般式（３−Ａ）中、Ｒ2およびＲ4として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００７３】
一般式（３−Ａ）中、Ｒ5およびＲ8として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００７４】
一般式（３−Ａ）中、Ｒ6およびＲ7として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００７５】
一般式（３）で表される化合物としてより好ましくは下記一般式（３−Ｂ）で表される化合物である。
【００７６】
【化１５】
2007106794.tif 000016
【００７７】
（一般式（３−Ｂ）中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ6およびＲ7は一般式（３−Ａ）におけるものと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００７８】
以下に一般式（３−Ｂ）で表される化合物の具体例（化合物ＵＶ１〜ＵＶ２３）を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【００７９】
【化１６】
2007106794.tif 000017
【００８０】
【化１７】
2007106794.tif 000018
【００８１】
上述のベンゾトリアゾール系化合物（波長分散調整剤）の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずにセルロースエステルフィルムを作製した場合、保留性の点で好ましい。
【００８２】
また、本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式（４）で表される化合物を好ましく用いることもできる。
【００８３】
【化１８】
2007106794.tif 000019
【００８４】
（一般式（４）中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは、ＮＲ（Ｒ：水素原子または置換基）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
【００８５】
一般式（４）中、Ｑ1およびＱ2で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
前記芳香族炭化水素環としては、炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）が好ましく、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
前記芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。前記ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどの各環が挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンの各環である。
【００８６】
一般式（４）におけるＱ1およびＱ2で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
一般式（４）におけるＱ1およびＱ2は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔ１が好ましいが、置換基にカルボン酸基やスルホン酸基、又は４級アンモニウム基を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【００８７】
一般式（４）中、ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。該置換基としては後述の置換基Ｔ１が適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表す。Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、または酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。
【００８８】
前記置換基Ｔ１としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの各基が挙げられる。）；アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどの各基が挙げられる。）；アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）；アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどの各基が挙げられる。）；置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノの各基などが挙げられる。）；アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどの各基が挙げられる。）；アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）；アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどの各基が挙げられる。）；
【００８９】
アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）；アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）；アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）；アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）；アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）；アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）；スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）；スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどの各基が挙げられる。）；
【００９０】
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどの各基が挙げられる。）；アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどの各基が挙げられる。）；アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）；スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）；スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）；
【００９１】
ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどの各基が挙げられる。）；リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）；ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）；シアノ基；スルホ基；カルボキシル基；ニトロ基；ヒドロキサム酸基；スルフィノ基；ヒドラジノ基；イミノ基；ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどの各基が挙げられる。）；シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどの各基が挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００９２】
前記一般式（４）で表される化合物としては、下記一般式（４−Ａ）で表される化合物が好ましい。
【００９３】
【化１９】
2007106794.tif 000020
【００９４】
（一般式（４−Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
【００９５】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔ1が適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００９６】
Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ8、およびＲ9として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルキルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００９７】
Ｒ2として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【００９８】
Ｒ7として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【００９９】
一般式（４）で表される化合物としてより好ましくは、下記一般式（４−Ｂ）で表される化合物である。
【０１００】
【化２０】
2007106794.tif 000021
【０１０１】
（一般式（４−Ｂ）中、Ｒ10は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、或いは、置換または無置換のアリール基を表す。）
【０１０２】
一般式（４−Ｂ）中Ｒ10は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ10として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１０３】
一般式（４）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（４）で表される化合物の具体例（化合物ＵＶ−１０１〜ＵＶ−１２１）を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１０４】
【化２１】
2007106794.tif 000022
【０１０５】
【化２２】
2007106794.tif 000023
【０１０６】
【化２３】
2007106794.tif 000024
【０１０７】
また本発明では、波長分散調整剤としてシアノ基を含む化合物を用いてもよい。シアノ基を含む化合物としては、一般式（５）で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１０８】
一般式（５）：
【化２４】
2007106794.tif 000025
【０１０９】
（一般式（５）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ1およびＸ2は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、または、芳香族ヘテロ環を表す。）
【０１１０】
一般式（５）におけるＱ1およびＱ2で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１１１】
[フィルムの寸法安定性] 
本発明のセルロースエステルフィルムの寸法安定性は、５０℃、９０％ＲＨの条件下に２４０時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸法変化率がいずれもＭＤ方向（流延方向）およびＴＤ方向（流延方向に垂直な方向）のいずれもが０.３％以下であることが好ましい。より好ましくは０以上０.２％以下であり、さらに好ましくは０以上０.１５％以下である。また、ＭＤ方向とＴＤ方向の差が０．２％以下であることが好ましく、０以上０．１５％以下であることがより好ましく０以上０．１％以下であることが特に好ましい。いずれか一方の寸法安定性が０．１％を超える場合にはＭＤ方向の寸法変化率に対するＴＤ方向の寸法変化率の比率が０．５以上２．０以下であることが好ましい。より好ましくは、０．７以上１．４以下であることであり、特に好ましくは、０．８以上１．２５以下である。
具体的な測定方法としては、セルロースエステルフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を５０℃、９０％ＲＨにて２４０時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率（ＭＤ方向およびＴＤ方向）を求めた。
【０１１２】
[フィルムの吸湿膨張係数] 
本発明のセルロースエステルフィルムの吸湿膨張係数はＭＤ方向およびＴＤ方向とも３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。また、ＭＤ方向とＴＤ方向の差が小さいほうが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。ＭＤ方向とＴＤ方向の吸湿膨張係数の差は、０以上５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、０以上３×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
吸湿膨張係数は以下のようにして求めた。セルロースエステルフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を２５℃、８０％ＲＨにて４時間調湿した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を２５℃、２０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。２５℃、８０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、２５℃、８０％ＲＨ（低湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００をもとめ、湿度差６０％（＝８０％−２０％）で除して、吸湿膨張係数を求めた。
【０１１３】
[フィルムの引裂き特性] 
本発明のセルロースエステルフィルムの引裂き強度は、２５℃６０％ＲＨにおいて、流延方向（ＭＤ）および、その方向に垂直な方向（ＴＤ）ともに０．０１Ｎ以上であることが好ましく、ＭＤ方向の引裂き強度に対するＴＤ方向の引裂き強度の比率が０．７以上１．４以下であることが好ましい。より好ましくはそれぞれの引裂き強度が０．０１５Ｎ以上である。より好ましい範囲は引裂き強度の比率が０．８以上１．２５以下であり、特に好ましくは、０．９以上１．１以下である。引裂き強度は大きい方が好ましいが、通常は１．０Ｎ以下の値である。
引裂き強度は、ＪＩＳＫ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度測定法（エルメンドルフ引裂き法）によって測定できる。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。
【０１１４】
[フィルムのカール特性] 
本発明のセルロースエステルフィルムのカール値は、２５℃１０％ＲＨから２５℃８０％ＲＨの温湿度条件のすべての範囲で、ＭＤ方向及びＴＤ方向ともに、−２１〜＋２１／ｍであることが好ましく、より好ましくは−１５／ｍ〜＋１５／ｍであり、更に好ましくは−１０／ｍ〜＋１０／ｍであり、−５／ｍ〜＋５／ｍであることが特に好ましい。
また本発明のセルロースエステルフィルムのカールは温度や湿度によって変化しないことが好ましい。
【０１１５】
本発明のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして偏光膜との貼りあわせを行なう場合、特に、長尺の偏光膜と長尺のセルロースエステルフィルムを効率的に貼りあわせる場合のほか、セルロースエステルフィルムに表面処理、光学異方性層を塗設したりする際のラビング処理の実施や光学異方性層や様々な機能層の塗設などを長尺品で行なう際に、本発明のセルロースエステルフィルムのカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きるトラブルが発生することがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償フィルムなどの光学用フィルムとして、擦れ傷、点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。さらにカール値を上述の範囲とすることで偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減することができる。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。
【０１１６】
（フィルムの厚さ）
本発明のセルロースエステルフィルムの厚さは、３０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜１２０μｍであることがより好ましく、４０〜８０μｍであるがさらに好ましく、６５〜７５μｍであることが特に好ましい。フイルムの厚みは均一であることが好ましい。厚みムラがあると配向膜付設、光学異方性層の付設などが均一に行われず、十分な機能性を発揮できなくなることが多い、許容できる厚みムラは中心値から３μｍ以下であり、より好ましくは２μｍ以下であり、さらに好ましくは１μｍ以下である。
【０１１７】
また、本発明のセルロースエステルフィルムの幅は６００ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１０００ｍｍ以上、更に好ましくは１３００ｍｍ以上４０００ｍｍ以下である。上記範囲とすることによって良好な性能を有するフィルムを安定に製造することができ、低価格で供給することができる。
【０１１８】
（フィルムの平衡含水率） 
本発明のセルロースエステルフィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、４．０％以下であることが好ましい。０．１〜２．５％であることがより好ましく、１〜２％であることが特に好ましい。３％より大きい平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、本発明のセルロースエステルフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。
【０１１９】
（フィルムの透湿度） 
本発明のセルロースエステルフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して１２０ｇ／ｍ2・２４ｈ以上、１５００ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましい。２５０〜１２００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、４００〜１０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。１５００ｇ／ｍ2・２４ｈを越えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．３ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、本発明のセルロースエステルフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．３ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償フィルムや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす可能性がある。また、セルロースエステルフィルムの透湿度が１２０ｇ／ｍ2・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースエステルフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースエステルフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースエステルフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。
【０１２０】
（フィルムのヘイズ） 
本発明のセルロースエステルフィルムのヘイズは０．０１〜２．０％であることがのぞましい。よりのぞましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらにのぞましい。本発明のセルロースエステルフィルムは光学用途に用いられるため、光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明のセルロースエステルフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定した。
【０１２１】
[フィルムの添加剤]
本発明のセルロースエステルフィルムは種々の添加剤を含有させることができ、添加剤としては、厚み方向のレターデーションを所望の範囲とできる添加量であれば制限はない。例えば、上述のレターデーション低減剤（光学異方性を低下させる化合物）、波長分散調整剤の他、その他光学特性調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、等が挙げられる。
種々の添加剤は、製造段階において添加する。添加する時期は特に限定されないが、熱可塑性樹脂を熱溶融してセルロースエステルフィルムを製膜する場合は、熱溶融時に加えることができる。また、ポリマーを均一に溶剤に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）によって製膜する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープという）の調製工程に添加することができる。この場合、ドープ調製工程の最後の工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【０１２２】
[添加剤の含有量] 
本発明のセルロースエステルフィルムは、０．３質量％以上、好ましくは０．３質量％以上４５質量％以下の添加剤を含有させることができる。添加剤は樹脂素材の光学特性、物理特性などのフィルムの諸特性を樹脂素材のみからなるフィルムよりも広範囲に調整することができる。より好ましくは５〜４０質量％であり、さらにのぞましくは１０〜３０質量％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては、３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。これら化合物の総量が０．３質量％未満であると、基材樹脂素材単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５質量％を超えると、セルロースエステルフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。
【０１２３】
[添加剤の厚み方向分布] 
本発明のセルロースエステルフィルムは、分子量が３０００以下の化合物の添加物を、セルロースエステルフィルムを構成する樹脂素材質量に対して少なくとも１種類以上、０．３質量％以上含有し、セルロースエステルフィルムを厚み方向に１０等分した領域の中で、最外層を除く８つの領域それぞれの添加剤存在量がセルロースエステルフィルム全体の平均添加剤存在量（フィルム中全添加剤量を１０で割った値）の８０％〜１２０％である。このように添加剤分布が均一であることにより、常温常湿、低湿、高湿の他、低温や高温でもセルロースエステルフィルムのカール値を０に近づけることができるものと考えられ、湿度変化によるカールの変動や温度変化によるカールの変動も小さく抑えられるものと考えられる。各領域の添加剤存在量はフィルム平均存在量の８５％〜１１５％であることがより好ましく、９０％〜１１０％であることが特に好ましい。
【０１２４】
添加剤の厚み方向分布の評価はＩＯＮ―ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ  ＩＶ（一次イオンとしてＡｕ1+、２５ｋｅＶ）を用いて評価することができる。フィルム流延時の支持体面から空気表面（反支持体面）へ膜厚方向に１０等分した各層の添加剤強度を算出し評価する。複数の添加剤を有する場合、それぞれの添加剤ごとに添加強度を算出し、フィルム全体に含有する添加剤量を算出し、その割合に応じて各層の添加剤量を評価することができる。
【０１２５】
（剥離剤）
本発明のセルロースエステルフィルムには、剥離時の荷重を小さくするために剥離剤を添加することが好ましい。
剥離剤としては、公知の界面活性剤を用いることが有効である。この界面活性剤としては、リン酸系、スルホン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系等の界面活性剤を用いることができ、特に限定されない。ここで用いることができる界面活性剤の例としては、例えば特開昭６１−２４３８３７号公報等に記載されている。
【０１２６】
なお、剥離剤に関しては、特開２００３−０５５５０１号公報に、セルロースアシレート溶液の白濁を防止し、フィルム製造剥離性とフィルム面状を改良するため、非塩素系溶剤に溶解したセルロースアシレート溶液で、酸解離指数ｐKAが1.93〜4.5の多塩基酸部分エステル体、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩から選ばれる添加剤を含有するセルロースアシレート溶液について記載がある。
なお、添加剤に関しては特開２００３−１２８８３８号公報には、剥ぎ取り性、面状、膜強度を良化させるために、少なくとも一種類の活性水素と反応する基を2個以上有する架橋剤をセルロースアシレートに対して0.1〜10質量%含有するセルロースアシレートドープ溶液についての記載がある。
また、特開２００３−１６５８６８号公報には、添加剤を添加し、良好な透湿度を有し、寸法安定性に優れたフィルムを提案している。
本発明では、上記公報に記載されている剥離剤を用いることができる。
【０１２７】
[マット剤微粒子] 
本発明のセルロースエステルフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１２８】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
【０１２９】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１３０】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖは、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、セルロースエステルフィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１３１】
本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースエステルフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースエステル溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースエステルドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行ない、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースエステルのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０１３２】
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１３３】
[可塑剤、劣化防止剤] 
上記の光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤などの他に、本発明のセルロースエステルフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば融点が２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースエステルフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１３４】
〈溶剤〉
本発明に係るセルロースエステルは、溶剤に溶解され、基材上に流延しフィルムを形成させる際に押し出しあるいは流延後に溶剤を蒸発させるという溶剤キャスト法で成膜することが好ましいため、揮発性の溶媒が好ましく、しかも流延用基材を溶解しないものであり、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。
【０１３５】
ここで、以下、本発明に係るセルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。
【０１３６】
良溶媒の例としてはなどのアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ぎ酸メチル、ぎ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレンなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルおよび塩化メチレンが好ましい。
【０１３７】
ドープには、上記有機溶媒の他に、炭素原子数１〜４のアルコールを１〜４０質量％含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることでウェブ（支持体上にセルロース誘導体のドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース誘導体の溶解を促進したりする役割もあるし、反応性金属化合物のゲル化、析出、粘度上昇を抑える役割もある。
【０１３８】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることが出来る。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロース誘導体に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。
【０１３９】
このような条件を満たし好ましい高分子化合物である本発明に係るセルロースエステルを高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン：エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。
【０１４０】
[セルロースエステルフィルムの製造工程] 
（溶解工程） 
本発明におけるセルロースエステル溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースエステル溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１４１】
（流延工程）
次に、本発明におけるセルロースエステル溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明におけるセルロースエステルフィルムを製造する方法および設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースエステル溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。
支持体上に流延する工程は一定のスペースで覆い、窒素雰囲気であることが好ましい。雰囲気内の温度は製膜方法によって最適な方法を選択することができる。下記式（III）で定義される剥ぎ取り時にウェブ内に含まれる残留溶剤量は流延方法によって異なり、ドープ表面温度を常温近傍にして流延する一般的な方法であれば、４０％乃至８０％が好ましく、４５％乃至７５％であることが更に好ましく、５０％乃至７０％であることが最も好ましい。ドープ表面温度を１０℃以下にして流延する冷却流延方法では１００％乃至３００％であることが好ましく、１３０％乃至２７０％であることが更に好ましく、１５０％乃至２５０％であることが最も好ましい。冷却流延は例えば特開昭６２−１１５０３５公報に開示の方法により行うことができる。
式（III）：  剥取り時の残留溶剤量（％）＝（剥取り時のフィルム質量−残留溶剤量ゼロ時のフィルム質量）／残留溶剤量ゼロ時のフィルム質量×１００
【０１４２】
（乾燥工程）
本発明の製造方法では流延工程で得られたウェブの幅手方向両端を保持し、テンションを加えられるようにテンターの拡縮幅と温度を調整して搬送し乾燥させる（尚、テンターで幅手方向両端を把持している区間をテンター区間という）。テンター形状は本発明の請求を満たす範囲内であれば特に制限はなく、フィルムの両端をクリップで挟んでテンションをかける方法、フィルム両端をピンで固定する方法等を用いることができる。
本発明のセルロースエステルフィルムでは、テンターテンションを３乃至１０ｋｇｆ／ｍ（２９乃至９８N/m）に調整する。４乃至９ｋｇｆ／ｍ（３９乃至８８N/m）であることが更に好ましく、５乃至８ｋｇｆ（４９乃至７８N/m）であることが最も好ましい。１０ｋｇｆ／ｍ（９８N/m）を超えると本発明の処方であっても遅相軸角度が流延方向に平行あるいは垂直となり、課題の力学特性のバランスをとりづらく好ましくない。一方、３ｋｇｆ／ｍ（２９N/m）を下まわると厚みムラが大きくなり、さらには力学特性が不均一となりやすく好ましくない。
一般に、乾燥初期の工程では溶媒が揮発するために収縮が発生する。したがって、テンションがかかっている状態であればテンター幅はテンター入り口の幅より狭めても良い。テンターの拡縮幅は、テンター入り口の幅を１００％としたときに８０％乃至１１０％であることが好ましく、８５％乃至１０７％であることが更に好ましく、８７％乃至１０５％であることが最も好ましい。テンター部の乾燥温度は流延方法により異なるため、適宜最適な温度を選択する。通常の流延方法の場合には７０℃乃至１４０℃であることが好ましく、８０℃ないし１３０℃であることが更に好ましく、９０℃乃至１２０℃であることが最も好ましい。冷却流延方法を用いた場合には、４０℃乃至１３０℃であることが好ましく、４０℃乃至１２０℃であることが更に好ましく、５０℃乃至１１５℃であることが最も好ましい。温度はテンター部の長さ方向に勾配を設けて設定しても良い。加熱方法に特に制限はないが、所定の温度に設定した風をテンター部に導入する方法が好ましく用いられる。また、面内の温度のばらつきを低減させるために、風調板を設けても良いし、裏面ヒータを併用するなど、既知の方法を用いるこができる。
【０１４３】
テンターでテンションを加える時の残留溶剤量は５％以上であることが好ましい。１０％以上であることが更に好ましく、１５％以上であることが最も好ましい。５％以下の残留溶剤量でテンションを加えた場合にはレターデーションを所望の範囲に低減できない場合がある。
【０１４４】
本発明のセルロースエステルフィルムは残留溶媒量が限りなくゼロになるまでテンターに保持しても良いが、生産性の観点から、乾燥途中でテンターからフィルムを離脱させ、テンタークリップで保持していた両端を切り落とした後、複数のロール群からなる乾燥部で機械的に搬送しながら乾燥を終了させることが望ましい。「乾燥を終了させる」とは残留溶剤量が１％以下であればよい。テンターから離脱する時のフィルム内の残留溶剤量は１５％以上４０％以下が好ましく、１７％以上３７％以下が更に好ましく、１７％以上３５％以下であることが最も好ましい。４０％を超える残留溶剤量を保持したままテンターから剥離すると、その後の乾燥工程を経るために必要な搬送テンションでフィルム長さ方向に延伸されやくすなり所望の光学性能を実現するための調整が困難になる。また１５％未満まで下げるためには搬送速度を遅くするかテンター部を長くする必要があるが、そのいずれも生産性の点で望ましくない。
上記乾燥工程において、フィルム残留溶剤量が１５％以上の区間においては、搬送テンションはフィルム幅あたり１ｋｇｆ／ｍ乃至２０ｋｇｆ／ｍ（９．８N/m乃至１９６N/m）が好ましく、２ｋｇｆ／ｍ乃至１８ｋｇｆ／ｍ（１９．６N/m乃至１７６N/m）が更に好ましく、３ｋｇｆ／ｍ乃至１６ｋｇｆ／ｍ（２９．４N/m乃至１６７N/m）であることが最も好ましい。１ｋｇｆ／ｍ（１９．６N/m）未満にするとフィルムのたるみやシワ、ロール状での擦れ等が発生しやすくなり面状が悪化する。２０ｋｇｆ／ｍ（１９６N/m）超にすると、特に残留溶剤量が多い場合には搬送方向に延伸されて目標の光学性能を達成することが難しくなる。
【０１４５】
フィルム両端の保持を解放後の乾燥温度は、１００〜１５０℃であることが好ましく、１００℃以上１４０℃以下であることがより好ましく、１１０℃以上１４０℃以下であることが最も好ましい。１００℃より低いと乾燥が進みにくくなると同時に、Ｒｔｈを低下させることが難しくなる。一方１５０℃を超えるの場合にはフィルムのガラス転移温度を超える場合が多く、フィルムが長さ方向に延伸され位相差が発生する可能性がある。また、添加剤の種類によっては乾燥の系内に若干揮散する可能性もある。ここで乾燥温度は乾燥中のフィルムに熱電対などのセンサーを取り付けて測定したときの温度であるが、加熱した風を導入して乾燥させる方法を用いる場合には給気口の温度および排気口の温度によって管理を行う。一般に給気温度は膜面温度より高く、排気温度は膜面温度と同等もしくはやや低い温度であるため、上記の膜面温度を満足させる温度範囲内で管理する。輻射熱を利用して加熱する方法を用いる場合には膜面に近いところに固定式のセンサーを用いて測定する。
【０１４６】
乾燥後のフィルムは巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。巻き取りの直前に蒸気によるカール改善部等を設けても良い。
本発明におけるセルロースエステルフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やに用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、本発明において適宜好ましく用いることができる。
【０１４７】
上述のようにして作製したセルロースエステルフィルムの残留溶剤量は３％以下が望ましく、２％以下が更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
【０１４８】
［用途（偏光板）］
本発明のセルロースエステルフィルムの用途について説明する。
本発明のセルロースエステルフィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号の各公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光膜及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースエステルフィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
【０１４９】
［用途（光学補償フィルム）］
本発明のセルロースエステルフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償フィルムなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明のセルロースエステルフィルムは別の複屈折を持つ光学異方性フィルムあるいは光学異方性層を積層して光学異方性を制御させることができる。
【０１５０】
したがって本発明のセルロースエステルフィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性フィルムあるいは光学異方性層のＲｅ(590)が０ 〜２００ｎｍであり、かつ｜Ｒｔｈ(590)｜が０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でも良い。本発明のセルロースエステルフィルムが使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。
前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
【０１５１】
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。
【０１５２】
光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【０１５３】
（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【０１５４】
光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。
【０１５５】
（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。
【０１５６】
ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合せての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。
【０１５７】
また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明のセルロースエステルフィルムは上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに本発明のセルロースエステルフィルムと貼合し、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
【０１５８】
［用途（液晶表示装置）］
液晶表示装置としては、一般的に２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セルと、少なくともその一方に、偏光膜と少なくとも１枚の保護フィルムからなる偏光板を配するものである。液晶表示装置には、液晶セルと偏光膜の間に少なくとも１枚の光学補償フィルムが配置されていることが好ましく、本発明のセルロースエステルフィルムを偏光膜の保護フィルム、光学補償フィルムの支持体として用いることができる。本発明のセルロースエステルフィルムを光学補償フィルムの支持体として用いる場合は、偏光膜の透過軸と、セルロースエステルを備えた光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。
なお、本発明の液晶表示装置に用いられる液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリア層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０１５９】
（液晶表示装置の種類）
本発明のセルロースエステルフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  ＢｉＲｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースエステルフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。中でも、液晶モードがＩＰＳ方式であることが好ましい。
【０１６０】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【０１６１】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体または偏光板の保護膜として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１６２】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として特に有利に用いられる。また偏光板の保護膜としても用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムのＲｅを０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈを７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅは、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈ値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈは１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０１６３】
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースエステルフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下に配置される前記偏光板保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のセルロースエステルフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
【０１６４】
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体または偏光板の保護膜としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償フィルムの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムの光学的性質も、光学異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．  Ｊ．  Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【０１６５】
（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償フィルムとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。
【０１６６】
（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ  ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体または偏光板の保護膜としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，  ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９  （１９９８））に記載がある。
【０１６７】
（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明のセルロースエステルフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースエステルフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースエステルフィルムを好ましく用いることができる。
【０１６８】
（写真フィルム支持体）
さらに本発明のセルロースエステルフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースエステルフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
【実施例】
【０１６９】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１７０】
[実施例1]
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
【０１７１】
〔セルロースアシレート溶液Ａ組成〕
・酢化度２．９２のセルロースアシレート    １００．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）          ３８０．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                    ６０．０質量部
【０１７２】
（マット剤溶液Ａの調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）２０質量部と、メタノール８０質量部とを３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液Ａを調製した。
【０１７３】
〔マット剤溶液Ａの組成〕
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液        １０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）            ７６．３質量部
・メタノール（第２溶媒）                      ３．４質量部
・セルロースアシレート溶液Ａ                １０．３質量部
【０１７４】
（添加剤溶液Ａの調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤は下記の化合物を用いた。
【０１７５】
（添加剤溶液Ａ組成）
・下記レターデーション低下化合物            ５０．０質量部
・下記波長分散調整剤                          ５．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）            ５８．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                      ８．７質量部
・セルロースアシレート溶液Ａ                １２．８質量部
【０１７６】
【化２５】
2007106794.tif 000026
【０１７７】
【化２６】
2007106794.tif 000027
【０１７８】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
前記セルロースアシレート溶液Ａを９３．０質量部と、マット剤溶液Ａを１．４質量部と、添加剤溶液Ａを５．６質量部とをそれぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。前記組成でレターデーション低下化合物および波長分散調整剤のセルロースアシレートに対する質量比はそれぞれ１２．０％、１．２％であった。
残留溶剤量５５％でフィルムをバンドから剥離し、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで８ｋｇｆ／ｍ（７８N/m）のテンションを加えながら９０〜１１０℃で乾燥させた。この時、テンター入り口に対する最大拡縮率は１００％であった。残留溶剤量が１５乃至２０％の段階でテンタークリップからフィルムを離脱し、端部をカッター刃で切り落とした。次いで、複数のロール群からなる乾燥ゾーンに１０ｋｇｆ／ｍ（９８N/m）の搬送テンションで搬送しながら乾燥させた。乾燥温度は１００℃〜１３５℃で行った。得られたフィルムの両端をカッター刃で切り７２０ｍｍ幅とした後、巻きずれ防止用のローレットを両端に設けて、２６００ｍ長をロール状に巻き取り、セルロースアシレートフィルム１を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．２％であった。また、膜厚は８０μｍであった。
得られたフィルムから中央部および、流延方向からみて右側および左側の端部からそれぞれ２％のところ、およびその間を８等分した計１７箇所から６ｃｍ×４ｃｍの大きさのサンプルを切り出し、遅相軸の方向と流延方向の角度を測定し、その最大値と最小値および１７点の平均値を表１に示した。また、厚み、Re（５９０）、Rth（５９０）、寸法変化率、引裂き強度を前記の項（セルロースアシレートの評価方法）に記載の方法で測定した。結果を表１に示す。
【０１７９】
[実施例２]
（セルロースアシレートフィルム２の作製）
製造例１で作製したドープを用いて、バンド流延機で流延した。残留溶剤量７０％でフィルムを剥ぎ取った後、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで９ｋｇｆ／ｍ（８８N/m）のテンションを加えながら９０〜１１０℃で乾燥させた。残留溶媒量が２０〜２５％の段階でテンターから離脱し、搬送テンションを１０ｋｇｆ／ｍ（９８N/m）にしたこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム２を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．４％であった。また、膜厚は８０μｍであった。
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１８０】
[実施例３]
（セルロースアシレートフィルム３の作製）
製造例１で使用したドープの流量を調整し、得られたフィルムの膜厚を７０μｍになるようにして流延をおこなった。残留溶剤量６５％でフィルムを剥ぎ取った後、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで９ｋｇｆ／ｍ（８８N/m）のテンションを加えながら９０〜１１０℃で乾燥させた。残留溶媒量が２０〜２５％の段階でテンターから離脱し、搬送テンションを９ｋｇｆ／ｍ（８８N/m）にし、巻き取り長を３０００ｍにしたこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム３を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．２％であった。
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１８１】
[実施例４]
（セルロースアシレートフィルム４の作製）
製造例１で使用したドープの流量を調整し、得られたフィルムの膜厚を６５μｍになるようにして流延をおこなった。残留溶剤量６０％でフィルムを剥ぎ取った後、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで８ｋｇｆ／ｍ（７８N/m）のテンションを加えながら９０〜１１０℃で乾燥させた。残留溶媒量が１８〜２３％の段階でテンターから離脱し、搬送テンションを１０ｋｇｆ／ｍ（９８N/m）にし、巻き取り長を３２００ｍにしたこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム４を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．１％であった。
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１８２】
[実施例５]
（セルロースアシレートフィルム５の作製）
製造例１で使用したドープの流量を調整し、得られたフィルムの膜厚を４０μｍになるようにして流延をおこなった。残留溶剤量５０％でフィルムを剥ぎ取った後、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで６ｋｇｆ／ｍ（５９N/m）のテンションを加えながら９５〜１１０℃で乾燥させた。残留溶媒量が１８〜２３％の段階でテンターから離脱し、搬送テンションを８ｋｇｆ／ｍ（７８N/m）にし、巻き取り長を３９００ｍにしたこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム５を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．１％であった。
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１８３】
[実施例６]
（セルロースアシレートフィルム６の作製）
フィルムの完成幅が１４７５ｍｍになるように調整したこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム６を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．１％であった。得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１８４】
[実施例７]
（セルロースアシレートフィルム７の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｂを調製した。
【０１８５】
〔セルロースアシレート溶液Ｂ組成〕
・酢化度２．９５のセルロースアシレート      １００．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）            ３８０．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                      ６０．０質量部
【０１８６】
（マット剤溶液Ｂの調製）
実施例１におけるマット剤溶液Ａの調製において、セルロースアシレート溶液Ａをセルロースアシレート溶液Ｂに変更した以外は同様にしてマット剤溶液Ｂを調製した。 
【０１８７】
（添加剤溶液Ｂの調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。レターデーション低下化合物および波長分散調整剤は製造例１と同様の化合物を用いた。
【０１８８】
〔添加剤溶液Ｂ組成〕
・前記レターデーション低下化合物                  ８０．０質量部
・前記波長分散調整剤                                ８．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                  ５８．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                            ８．７質量部
・セルロースアセテート溶液Ｂ                      １２．８質量部
【０１８９】
前記セルロースアセテート溶液Ｂを９３．０質量部と、マット剤溶液Ｂを１．４質量部と、添加剤溶液Ｂを５．６質量部とを、それぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。前記組成でレターデーション低下化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１５．６％、１．２％であった。
作製したドープを用いて、バンド流延機で流延した。残留溶剤量４５％でフィルムを剥ぎ取った後、フィルム両端をクリップで保持したテンターゾーンで９．５ｋｇｆ／ｍ（９３N/m）のテンションを加えながら１００−１２０℃で乾燥させた。残留溶媒量が１５−１８％の段階でテンターから離脱し、搬送テンションを９．３ｋｇｆ／ｍ（９３N/m）にしたこと以外は製造例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム７を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．２％であった。また、膜厚は８０μｍであった。
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
本発明のセルロースエステルフィルムの各測定場所での遅相軸は概ね流延方向に垂直な方向を向いており、各測定値は、８０〜９０°及び−９０〜８２°の間にあり、遅相軸のなす角度は最大１８°であり、平均方向は８９°であり標準偏差（分散値）は５．７°であった。
【０１９０】
[比較例１]
（セルロースアシレートフィルム８の作製）
テンターの幅方向のテンションを１３ｋｇｆ／ｍ（１２７N/m）にしたこと以外は実施例３と同様にしてセルロースアシレートフィルム８を作製した。厚みは６５μｍであった。得られたフィルムについて、実施例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１９１】
[比較例２]
（セルロースアシレートフィルム９の作製）
テンターの幅方向テンションを１．８ｋｇｆ／ｍ（１７．６N/m）としたこと以外は製造例３と同様にしてセルロースアシレートフィルム９を作製した。平均厚みはは６５μｍであったが、最大厚みは６９μｍ最小厚みが６１μｍであった。また、２６００ｍ１００ロール作製時に５回破断トラブルが５回発生した。得られたフィルムについて、実施例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１９２】
[比較例３]
（セルロースアシレートフィルム１０の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｈを調製した。
【０１９３】
〔セルロースアシレート溶液Ｈ  組成〕
・酢化度２．８４のセルロースアシレート      １００．０質量部
・トリフェニルホスフェート                      ７．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート              ３．９質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）            ４００．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                      ６０．０質量部
【０１９４】
（マット剤溶液Ｈの調製）
実施例１におけるマット剤溶液Ｈの調製において、セルロースアシレート溶液Ａをセルロースアシレート溶液Ｈに変更した以外は同様にしてマット剤溶液Ｈを調製した。 
【０１９５】
前記セルロースアシレート溶液Ｈを９８．６質量部と、マット剤溶液Ｈを１．４質量部とをそれぞれ濾過後に混合し、実施例１と同様にしてバンド流延機を用いて流延し、セルロースアシレートフィルム１０を作製した。得られたフィルムについて、実施例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１９６】
[実施例８]
（セルロースアシレートフィルム１１の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｃを調製した。この際、セルロースアシレートは全置換度２．７７（アセチル置換度２．０４＋プロピニル置換度０.７３）のものを用いた。
【０１９７】
〔セルロースアシレート溶液Ｃ組成〕
・セルロースアシレート                                １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
・メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
【０１９８】
（マット剤溶液Ｃの調製）
実施例１におけるマット剤溶液Ａの調製において、セルロースアシレート溶液Ａをセルロースアシレート溶液Ｃに変更した以外は同様にしてマット剤溶液Ｃを調製した。 
【０１９９】
（添加剤溶液Ｃの調製）
別のミキシングタンクに、下記の組成の化合物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液を調製した。レターデーション低下化合物および波長分散調整剤は実施例１と同様の化合物を用いた。
【０２００】
〔添加剤溶液Ｃ組成〕
・前記レターデーション低下化合物                    ５０質量部
・前記波長分散調整剤                                  ５質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ８２質量部
・メタノール（第２溶媒）                            １５質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                          ３質量部
・セルロースアセテート溶液C                        １２質量部
【０２０１】
セルロースアシレート溶液Ｃの４６５質量部に、マット剤溶液Ｃを５質量部、添加剤溶液Ｃを４０質量部添加して実施例５と同様にして膜厚４０μｍのセルロースアシレートフィルム１１を作製した。得られたフィルムについて、実施例１と同様にして光学性能を評価した。結果を表１に示す。
【０２０２】
[実施例９]
（セルロースアシレートフィルム１２の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ｄを調製した。
【０２０３】
〔セルロースアシレート溶液Ｄ組成〕
置換度２．９４のセルロースアセテート                １００質量部 
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                              ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                          １１質量部
【０２０４】
（マット剤溶液Ｄの調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）２０質量部と、メタノール８０質量部とを３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液Ｄを調製した。
【０２０５】
〔マット剤溶液Ｄの組成〕
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                ７５．６質量部
・メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                      ０．７質量部
・セルロースアシレート溶液Ｄ                    １０．３質量部
【０２０６】
（添加剤溶液Ｄの調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤は実施例１の化合物を用いた。
【０２０７】
（添加剤溶液Ｄ組成）
・レターデーション低下化合物                      ５４．０質量部
・波長分散調整剤                                    ６．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                  ６０．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                            ９．０質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                        ０．５質量部
・セルロースアシレート溶液Ｄ                      １２．５質量部
【０２０８】
前記セルロースアシレート溶液Ｄを９２．５質量部と、マット剤溶液Ｄを０．５質量部と、添加剤溶液Ｄ７．０質量部をろ過後に充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から−１０℃に冷却したドラム上に流延した。
残留溶剤量が１８０％の状態でドラムから剥離し、フィルム両端を複数のピンで保持したテンターゾーンで７ｋｇｆ／ｍ（６９N/m）のテンションを加えながら４０〜１２０℃で順次温度を上げながら乾燥させた。この時、テンター入り口に対する最大拡縮率は９８％であった。残留溶剤量が２７％の段階でピンテンターからフィルムを離脱し、端部をカッター刃で切り落とした。次いで、複数のロール群からなる乾燥ゾーンに１０ｋｇｆ／ｍ（９８N/m）の搬送テンションで搬送しながら乾燥させた。乾燥温度は１２０℃〜１４８℃で行った。得られたフィルムの両端をカッター刃で切り１３４０ｍｍ幅とした後、巻きずれ防止用のローレットを両端に設けて、２６００ｍ長をロール状に巻き取り、セルロースアシレートフィルム1２を作製した。得られたフィルムの残留溶剤量を調べた結果、０．５％であった。また、膜厚は６５μｍであった。  
得られたフィルムについて、製造例１と同様にして光学性能を評価した。
本発明のセルロースエステルフィルムの各測定場所での遅相軸は概ね流延方向に垂直な方向を向いており、各測定値は、７７〜９０°及び−９０〜−７３°の間にあり、遅相軸のなす角度は最大３０°であり、平均方向は−８７．８°であり標準偏差は８．５°であった。結果を表１に示す。
【０２０９】
【表１】
2007106794.tif 000028
【０２１０】
表１に示されるように、本発明例であるフィルム１〜７及び１１、と１２は、面内のレターデーション、膜厚方向のレターデーションが小さく、さらに遅相軸と流延方向のなす角が幅方向の任意の箇所で１０°以上異なっていることが分かる。これらは、寸法変化が小さく、そのＴＤ方向の値とＭＤ方向の値の差が小さく好ましいフィルムであることがわかる。また、その引裂き強度も０．０１Ｎよりも大きく、そのＭＤ／ＴＤ比が１に近くバランスが取れた好ましいフィルムであることがわかる。
一方比較例であるフィルム８、９は、遅相軸と流延方向のなす角が幅方向で所望の差がなく、引裂き強度、寸法安定性が劣るほか、フイルム９は厚みムラが大きく、切断トラブル起きやすいことがわかった。また、フィルム１０は面内および膜厚方向のレターデーションが大きく好ましいフィルムではないことがわかる。
【０２１１】
[実施例１０]
〔位相差フィルム１の作製〕
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ／ｍ2 塗布し、２５℃で５秒間乾燥した。流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルムの一方の表面のみをケン化した。
【０２１２】
セルロースアシレートフィルムのケン化処理面に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアシレートフィルムの長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０２１３】
〔配向膜塗布液組成〕
・下記変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
・水                                                ３７１質量部
・メタノール                                        １１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤）                      ０．５質量部
【０２１４】
【化２７】
2007106794.tif 000029
【０２１５】
（光学異方性層の形成）
配向膜にラビング処理を施した後、下記の円盤状（液晶性）化合物１．８ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）０．２ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）０．０４ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを、８．４３ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃２．５のワイヤーバーで塗布した。１３０℃で２分間加熱し、円盤状化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合物を架橋し配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、位相差フィルム１を作製した。尚、位相差フィルム１の光学異方性層のＲｅ（５９０）は３０ｎｍ、｜Ｒｔｈ（５９０）｜は１２０ｎｍであった。
【０２１６】
【化２８】
2007106794.tif 000030
【０２１７】
[実施例１１]
〔偏光板１の作製〕
実施例１０で得た位相差フィルム１を、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルムの表面をケン化した。
次に厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光子を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、上記けん化処理した位相差フィルム１を偏光子と貼り合わせた。偏光子の他方の面にはケン化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（ＴＤ８０ＵＦ：富士写真フイルム製）を同様に貼りあわせ偏光板１を作製した。
【０２１８】
[実施例１２]
〔偏光板２の作製〕
実施例１に従って作製したセルロースアセテートフィルム１を実施例１１と同様にケン化処理した。一方、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光子を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、ケン化処理したセルロースアセテートフィルム１を偏光子と貼り合わせた。偏光子の他方の面にはケン化処理した市販のセルロースアセテートフィルムを同様に貼りあわせ、さらにセルロースアシレートフィルム１側の面にアートンフィルム(ＪＳＲ社製)を一軸延伸した光学補償フィルムを貼合して偏光板２を作製した。光学補償フィルムの面内レターデーションＲｅは２７５ｎｍ、厚さ方向のレターデーションＲｔｈは０ｎｍでＮｚファクターは０．５のものを用いた。
【０２１９】
[実施例１３]
〔偏光板３の作製〕
セルロースアシレートフィルム１の代わりに市販のセルロースアシレートフィルム（ＴＦＹ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を用いたこと以外は実施例１２と同様にして偏光板３を作製した。
【０２２０】
[実施例１４]
（偏光板４の作製）
（ハードコート層塗布液）
デソライトＫＺ−７８６９（紫外線硬化性ハードコート組成物、７２質量％、ＪＳＲ（株）製）２５０ｇを６２ｇのメチルエチルケトンと８８ｇのシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解し、ハードコート層塗布液を調製した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であった。
【０２２１】
（防眩層塗布液）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）９１ｇ、デソライトＫＺ−７１１５、ＫＺ−７１６１（ＺｒＯ2微粒子分散液、ＪＳＲ（株）製）１９９ｇを５２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１０ｇを加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。さらにこの溶液に平均粒径２．０μｍの架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）２０ｇを８０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６質量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散した分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層の塗布液を調製した。
【０２２２】
市販のセルロースアセテートフィルム（富士写真フイルム（株）製）に、前記のハードコート層塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、放射照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射エネルギー量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ４μｍのハードコート層を形成した。その上に、前記防眩層塗布液をバーコーターを用いて塗布し、窒素パージによって０．０１％以下の酸素濃度雰囲気下において、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、放射照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射エネルギー量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．４μｍの防眩性ハードコート層を形成した。
【０２２３】
偏光子の片側に実施例１のセルロースアシレートフィルム１、他方の側にハードコート層および防眩層を設けた上記のセルロースアセテートフィルムを貼りあわせて偏光板を作製した。さらにセルロースアシレートフィルム１の偏光子とは反対側に粘着シートを貼り、実施例１２で使用したアートンフィルム(ＪＳＲ社製)を一軸延伸した光学補償フィルムを貼合した。このようにして偏光板４を作製した。
【０２２４】
[実施例１５]
（液晶表示装置の作製）
ＩＰＳ型液晶セルを使用した市販の液晶表示装置（日立（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートを剥がし、液晶セルを取り出した。
液晶セルの片側に偏光板２をセルロースアシレートフィルム１が液晶セル側になるように配置し、液晶セルの偏光板２とは他方に偏光板３を配置して液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の電源を点灯し、黒表示およびしろ表示時のコントラストや色みの視野角依存性を目視観察したところ、全方位に渡り良好な視野角特性を有していた。
【０２２５】
[実施例１６]
（液晶表示装置の作製）
実施例１５で取り出した液晶セルの片側に偏光板４をセルロースアシレートフィルム１が液晶セル側になるように配置し、液晶セルの偏光板４とは他方に偏光板３を配置して液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の電源を点灯し、黒表示およびしろ表示時のコントラストや色みの視野角依存性を目視観察したところ、全方位に渡り良好な視野角特性を有しており、正面の表示品位も十分許容できるものであった。
【０２２６】
[比較例４]
セルロースアシレートフィルム１の代わりにセルロースアシレートフィルム８を用いたこと以外は実施例１４と同様にして偏光板５を作製した。偏光板４の代わりに偏光板５を使用したこと以外は実施例１６と同様にして液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の電源を点灯し、黒表示および白表示時のコントラストや色みの視野角依存性を目視観察したところ、斜め方向での色み変化が大きく表示品位が劣っていた。
【０２２７】
[比較例５]
セルロースアシレートフィルム１の代わりにセルロースアシレートフィルム９を用いたこと以外は実施例１４と同様にして偏光板６を作製した。偏光板４の代わりに偏光板６を使用したこと以外は実施例１６と同様にして液晶表示装置を作製した。このように作製した液晶表示装置の電源を点灯し、黒表示時の画質を目視観察したところ、厚みムラに起因すると思われる光干渉の色ムラが発生しており、表示品位が劣っていた。