(57)【要約】【課題】設備や材料の制約が少なく、容易かつ短時間で実行できる方法によって、前記有機発光媒体層を構成する各層を必要な形状に形成した有機ＥＬ表示装置を提供すること。【解決手段】正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を基板１上面に配置し、マスク１１上面より正孔輸送層を構成する材料の溶液または分散液を噴霧し、乾燥して前記正孔輸送層を形成する。必要な機材はそのマスクだけであり、膜厚の制御が容易で、均一な膜厚の層を形成することができる。また、全面に層形成後不要部位を除去する方法と異なり、不要部分の除去を行う必要がなく、この除去工程の発塵によるショートのおそれもない。このため、煩雑な工程を経ることなく、効率的にかつ安定的に形成することが可能となる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、パターニングされた透明電極、画素部位に配列された有機発光媒体層、対向電極をこの順に積層してなり、画素ごとに両電極間に電圧を印加することによって前記有機発光媒体層を発光させる有機エレクトロルミネッセンス表示素子であって、
前記有機発光媒体層が電圧の印加によって発光する発光体層単体か、または、この発光体層に加えて発光効率を向上させる機能を有する発光補助層を積層した多層構造から構成され、
これら有機発光媒体層を構成する各層のうち少なくとも１層がパターン状に設けられている有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記パターン状の層が、このパターンと同一パターンの開口部を有するマスクを基板上面に配置し、マスク上面よりその溶液または分散液を噴霧し、乾燥して形成されたものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【請求項２】
前記パターン状の層が発光補助層であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【請求項３】
前記発光補助層が正孔輸送機能または正孔注入機能を有する層であることを特徴とする請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【請求項４】
前記溶液または分散液が水溶液または水分散液であることを特徴とする請求項1〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機薄膜のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子とする）を配列した有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置とする）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、導電性の発光体に電圧を印加し、注入された電子と正孔とを再結合させ、この再結合の際に前記発光体を発光させるものである。一般に、この有機ＥＬ素子は、透光性基板上にＩＴＯなどの透明電極からなる陽極を設け、その上に発光体層と陰極とを順次積層して構成される。
【０００３】
このように、前記発光体層の両側に直接両電極を積層することもできるが、その発光効率を増大する等の目的から、陽極と発光体層との間に正孔注入層や正孔輸送層あるいはその両層を設けたり、陰極と発光体層との間に電子注入層や電子輸送層などを設けて構成されることも多い。両電極間に挟まれたこれら正孔注入層などを合わせてその全体は有機発光媒体層と呼ばれている。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置は、この有機ＥＬ素子を画素として、この画素を多数、平面上に配列し、画素ごとに制御して画面表示する表示装置である。例えば、前記透明電極（陽極）をストライプ状に設け、他方、前記陰極を透明電極と交差する方向のストライプ状に設け、両電極の交点に相当する位置に前記有機発光媒体層を設けて、前記画素を構成している。そして、これらストライプ状透明電極（陽極）の１本を選択し、また、ストライプ状陰極の１本を選択し、こうして選択された透明電極（陽極）と陰極との間に電圧を印加することによって、その交点の画素部位に配置された有機発光媒体層を選択的に発光させて画面表示する。そして、前記ストライプ状透明電極（陽極）とストライプ状陰極との間に電圧を印加するため、表示画面の外側の周辺部の前記基板上には、それぞれ、陽極側取り出し電極および陰極側取り出し電極が形成されている。一般には、表示画面を覆って金属製封止缶で封止し、周辺部で基板に接着固定して前記有機ＥＬ表示装置を構成している。
【０００５】
各画素部位に設けられる発光体層として同一の色彩に発光するものを配列することもできるが、この場合には、単一色の表示装置となる。カラー画面を表示する場合には、それぞれの画素部位に、互いに異なる色彩に発光する発光体層をパターン状に配列する必要がある。一般に、光の三原色に相当する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）である。また、その補色に相当するイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）及びマゼンタ（Ｍ）が利用されることもある。
【０００６】
また、正孔輸送層等は各画素部位にパターン状に配列する必要はないが、表示画面の外側の周辺部に正孔輸送層が存在すると、陰極と正孔輸送層が直接接触して洩れ電流が流れ、前記画素部位に印加する電圧が低下する。また、封止缶が透光性基板と接着される箇所に正孔輸送層があると封止が不十分になり、素子の劣化が促進される可能性がある。また、基板として大型の基板を使用し、この基板上に多面取りで画像表示装置を作製する場合には、表示画面と表示画面との間に正孔輸送層の存在しない部位を配置して、陽極側取り出し電極や陰極側取り出し電極を露出させる必要がある。これらの理由から、正孔輸送層も、表示画面を覆って、しかも、その外側の周辺部に存在しないパターン状に設けられる必要がある。
【０００７】
前記発光体層や正孔輸送層をパターン状に設ける方法としては、大別して、２種類の方
法が知られている。
【０００８】
第一の方法は、これら発光体層や正孔輸送層を、必要な部位に選択的に適用して、パターン状の各層を形成する方法である。例えば、インクジェット法やスクリーン印刷法を利用することで、必要な部位に選択的に発光体層や正孔輸送層を形成することができる（特許文献１参照）。この方法は、大規模な装置を必要としたり、もしくは成膜時間が長くなるという問題点がある上、膜厚の制御が困難であるという欠点を有する。また、各印刷法に適したインキの選択範囲が狭いなど、制約が多い。
【０００９】
第二の方法は、これら発光体層や正孔輸送層を、一旦基板全面に形成した後、不要部位の各層を除去する方法である（特許文献２参照）。基板全面に形成する方法としては、例えば、スピンコート法、ディッピング法、バーコート法、スリットコート法等が挙げられる。また、不要部位の除去方法としては、例えば、発泡ウレタンなどの吸水性の弾性体に溶剤を含ませてワイピングにより正孔輸送層を除去する方法がある。
【００１０】
この方法では、基板全面に成膜した後に、不要部位を除去する工程が必要であるため煩雑であり、基板の大型化に伴って煩雑さが増す。特にスピンコート法で形成した場合には、その周辺縁部において膜厚が大きくなるため、この周辺縁部の層の除去が煩雑である。
【００１１】
また、吸水性弾性体に溶剤を含ませて正孔輸送層を除去する場合、正孔輸送層へ溶剤が浸透し、除去部周囲にまで浸透、拡散する場合がある。このため、正孔輸送層が膨潤して膜厚が変化したり、乾燥速度の違いから膜厚が不均一に成り易い問題がある。また、不要部位を除去する際に発塵し、ショートの原因になることがあった。
【特許文献１】特開２００３−２５７６５４
【特許文献２】特開２００５−５０２０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
そこで、本発明は、設備や材料の制約が少なく、容易かつ短時間で実行できる方法によって、前記有機発光媒体層を構成する各層を必要な形状に形成した有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
すなわち、請求項１に記載の発明は、透光性基板上に、パターニングされた透明電極、画素部位に配列された有機発光媒体層、対向電極をこの順に積層してなり、画素ごとに両電極間に電圧を印加することによって前記有機発光媒体層を発光させる有機エレクトロルミネッセンス表示素子であって、
前記有機発光媒体層が電圧の印加によって発光する発光体層単体か、または、この発光体層に加えて発光効率を向上させる機能を有する発光補助層を積層した多層構造から構成され、
これら有機発光媒体層を構成する各層のうち少なくとも１層がパターン状に設けられている有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記パターン状の層が、このパターンと同一パターンの開口部を有するマスクを基板上面に配置し、マスク上面よりその溶液または分散液を噴霧し、乾燥して形成されたものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示素子である。
【００１４】
請求項１に記載の発明によれば、有機発光媒体層を構成する前記各層を、その溶液または分散液の噴霧・乾燥によって形成するので、その膜厚の制御が容易で、均一な膜厚の各
層を形成することができる。
【００１５】
また、そのパターンと同一パターンの開口部を有するマスクを介して噴霧・乾燥して形成するので、必要な機材はそのマスクだけで済む。
【００１６】
また、これら各層をパターン状に形成するので、前記第二の方法と異なり、不要部位の除去を行う必要がなく、この除去工程の発塵によるショートのおそれもない。このため、一枚の基板から一つの表示装置を製造する一面取りの場合はもちろん、大型基板を使用してこの大型基板上に多数の表示装置を製造する多面取りの場合にも、煩雑な工程を経ることなく、効率的にかつ安定的に有機発光媒体層を構成する各層を形成することが可能となる。
【００１７】
請求項１に記載の発明は、発光体層を画素パターン状に形成する場合にも適用できるが、このような微細なパターンよりも、比較的大きいパターン状に層形成する場合に好ましく適用できる。請求項２及び３に係る発明は、このような理由から、表示画面を覆って、しかも、その外側の周辺部に存在しないパターン状に設けられる発光補助層等に限定したものである。
【００１８】
すなわち、請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明を前提として、
前記パターン状の層が発光補助層であることを特徴とするものである。
【００１９】
また、請求項３に係る発明は、請求項１または２に係る発明を前提として、
前記発光補助層が正孔輸送機能または正孔注入機能を有する層であることを特徴とするものである。
【００２０】
次に、請求項４に係る発明は、請求項1〜３のいずれかに記載の発明を前提として、
前記溶液または分散液が水溶液または水分散液であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、有機発光媒体層を構成する前記各層を、設備や材料の制約が少なく、容易かつ短時間で、しかも均一な膜厚に形成することが可能となる。しかも、発塵によるショートのおそれもなく、効率的にかつ安定的に有機発光媒体層を構成する各層を形成することが可能となるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、透光性基板上に、パターニングされた透明電極、画素部位に配列された有機発光媒体層、対向電極をこの順に積層してなり、画素部位に積層された透明電極、有機発光媒体層及び対向電極で有機ＥＬ素子を構成している。そして、画素ごとに両電極間に電圧を印加することによって前記有機ＥＬ素子を発光させて画面表示する。なお、この他、前記透明電極および対向電極に、それぞれ、取り出し電極を接続して構成されることが普通である。
【００２３】
次に、説明の便宜から、単一の有機ＥＬ素子から構成される有機ＥＬ表示装置を例として、有機ＥＬ表示装置を説明する。すなわち、図１ａは、単一の有機ＥＬ素子から構成される有機ＥＬ表示装置の断面説明図である。この装置は、透光性基板１と、この上に順に積層された透明電極（陽極）２、有機発光媒体層５及び対向電極（陰極）６の各層と、図示しない陽極取り出し電極と、陰極取り出し電極８とで構成されており、その全体を封止缶９で覆って電気絶縁性の封止樹脂で接着固定している。
【００２４】
なお、有機発光媒体層５を発光体層の単一の層から構成することもできるが、発光効率
を高める働きをする発光補助層から構成することもできる。発光補助層は発光体層と陽極との間に設けることができ、また、発光体層と陰極との間に設けることもできる。発光体層と陽極との間に設ける発光補助層としては、例えば、陽極から発光体層への正孔の移動を助ける正孔輸送層、正孔注入層、電子ブロック層等が例示できる。また、発光体層と陰極との間に設ける発光補助層としては、例えば、陰極から発光体層への電子の移動を助ける電子輸送層、電子注入層、正孔ブロック層等が例示できる。
【００２５】
図示の例では、透明電極（陽極）２に順に積層された正孔輸送層３と発光体層４の二層で構成されている。この他、正孔注入層と発光体層の二層で構成することもできる。また、正孔注入層、正孔輸送層及び発光体層を順次積層した三層構成の有機発光媒体層とすることも可能である。一つの層がこれら複数の機能を有していてもよく、例えば、正孔輸送機能を発光体層が有している構成とすることも可能である。
【００２６】
有機発光媒体層の膜厚は、発光体層単層から構成される場合も、多層構造の場合も、有機発光媒体層全体として１０００ｎｍ以下であり、好ましくは５０〜３００ｎｍである。
【００２７】
透光性基板１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムやシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより有機ＥＬ素子や表示装置の製造が可能になり、安価に提供することが可能になる。
【００２８】
また、透明電極（陽極）２としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）を真空蒸着またはスパッタリング法により成膜して形成することができる。また、ＩＴＯの代わりに、アルミニウム、金、銀等の金属を使用し、これを真空蒸着またはスパッタリング法により成膜して、膜厚１００ｎｍ以下の半透明薄膜としたものを使用することもできる。また、ポリアニリン等の有機半導体を塗布して、透明電極（陽極）２として用いることも可能である。この他、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を前記基板上に塗布後、熱分解によって酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することもできる。なお、図示しない陽極取り出し電極と陰極取り出し電極８とは、同一工程で、かつ、同一材料で形成することが可能である。
【００２９】
次に、正孔注入層は陽極から正孔を輸送する機能を持った層であり、正孔輸送層は発光体層に正孔を輸送する機能を持った層である。これらの層は正孔輸送機能と正孔注入機能とを併せ持つ場合もあり、その程度に応じてどちらかあるいは両方の名称で呼ばれることになる。
【００３０】
このような正孔注入層又は正孔輸送層を構成する材料としては、例えば、銅フタロシアニン、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン系の低分子化合物を用いることができる。また、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料を用いることもできる。湿式法による層形成が可能である点で、高分子材料を用いることが好ましい。これらを水又は溶剤を用いて溶液化若しくは分散液化して使用することができる。
【００３１】
また、発光体層４は、両電極２及び６の間の電圧の印加によって注入された電子と正孔とを再結合させ、この再結合の際に発光するものである。発光した光は、透明電極（陽極）２と透光性基板１とをとおして外部に放射される。
【００３２】
発光体層４の材料としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポル
フィリン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものが使用できる。また、デンドリマー材料、ＰＰＶ系やＰＡＦ系、ポリパラフェニレン系等の高分子発光材料を用いることも可能である。好ましくは、水又は溶剤に可溶で溶液化できる材料である。
【００３３】
なお、電子注入層は陰極から電子を輸送する機能を持った層であり、電子輸送層は発光体層に電子を輸送する機能を持った層である。これらの層は電子輸送機能と電子注入機能とを併せ持つ場合もあり、その程度に応じてどちらかあるいは両方の名称で呼ばれることになる。このような電子注入層又は電子輸送層を構成する材料としては、例えば、１，２，４−トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）などのニトロ置換フルオレン、ジフェニルキソン誘導体などが挙げられる。
【００３４】
次に、対向電極（陰極）６としては、電子注入をしやすくするため、例えば、ＡｌＬｉ、ＦＬi、ＭｇＩｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ，ＣａなどのＷＦ（仕事関数）の小さい金属を単体であるいは合金で用いることができる。また、これら金属と金、銀などの安定な金属との合金の薄膜を用いることも可能である。また、これら金属薄膜または合金薄膜を２層以上積層して構成される多層構造とすることもできる。また、インジウム酸化物、亜鉛酸化物、錫酸化物などの導電性酸化物の薄膜を用いることもできる。なお、これらの薄膜は、真空成膜法で形成することができる。真空成膜法としては、抵抗加熱、ＥＢ加熱などによる真空蒸着法やスパッタ法などが利用できる。その膜厚は特に限定されないが、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましい。
【００３５】
次に、図１ｂは、画素部位に有機発光媒体層を配列して構成された有機ＥＬ表示装置の断面説明図である。また、図１ｃは、このような有機ＥＬ表示装置を、多数、１枚の大型基板上に形成した状態を示す平面図である。
【００３６】
図１ｂの表示装置では、図２に示すように、前記透明電極（陽極）２がストライプ状にパターニングされており、他方、前記対向電極（陰極）６が透明電極（陽極）２と交差する方向のストライプ状にパターニングされている。そして、これら透明電極（陽極）２と対向電極（陰極）６の交点を画素部位とし、この画素部位ごとに電圧を印加して、その部位の前記有機発光媒体層を選択的に発光させ、こうして発光させた画素と発光させない画素の全体で画面表示する。
【００３７】
前記透明電極（陽極）２は、フォトエッチング等の方法により、前述のＩＴＯ薄膜等の薄膜をパターニングすることにより、ストライプ状とすることができる。なお、同一の工程で、陽極取り出し電極７と陰極取り出し電極８とをパターニングすることができる。
【００３８】
透明電極（陽極）２上に設けられた有機発光媒体層５は、その層構成及び材質のいずれについても、前述の図１ａの場合と同様であるが、発光体層４の材質は、その画素ごとに発光色の異なる発光体材料を利用することが望ましい。図示の例では、赤色発光の発光体層４Ｒ、緑色発光の発光体層４Ｇ、青色発光の発光体層４Ｂを配列しており、フルカラーの画面を表示することが可能である。
【００３９】
また、図１ｂに示す表示装置では、正孔輸送層３が、表示画面を覆って、しかも、その外側の周辺部に存在しないパターン状に設けられている。図３は、透明電極（陽極）２、陽極取り出し電極７及び陰極取り出し電極８を設けた基板１２上に、このような正孔輸送層を設けた状態を示す平面図である。
【００４０】
このような正孔輸送層は、図４に示す方法によって設けることができる。図４ａ〜ｃは、基板１として大型基板を使用してこの大型基板上に多数の表示装置を製造する多面取りの場合の例である。
【００４１】
すなわち、まず透明電極（陽極）２、陽極取り出し電極７及び陰極取り出し電極８を設けた基板１を準備する（図４ａ）。そして、この基板１に、正孔輸送層のパターンと同一パターンの開口部を有するマスク１１を、基板１と位置合わせして配置する。
【００４２】
なお、マスク１１と基板１の位置合わせには、基板１に位置合わせ用のアライメントマークを設け、他方マスク１１にもアライメントマークを設け、これら両アライメントマークを合わせることにより行うことができる。また、マスク１１と基板１をステージ上に載置する際に、このステージに設けたポストあるいはピンとを位置合わせすることで位置合わせすることもできる。
【００４３】
次に、位置合わせされたマスク１１上方に配置されたスプレー部１３より、正孔輸送層の材料の水溶液若しくは水分散液をスプレー噴霧し、乾燥する（図４ｂ）。広い面積へ吹き付けを行う際には、スプレーヘッド１３をＸ，Ｙ方向へ移動させても良いし、塗布面全面にスプレーヘッドを配列させても良い。膜厚の制御は溶液の吐出量若しくはスプレーヘッドの移動速度で行うことができる。正孔輸送層の膜厚は１０nm〜２００nmが好ましく、より好ましくは３０〜１２０ nmである。
【００４４】
そして、マスク１１を除去することにより、表示画面を覆って、しかも、その外側の周辺部に存在しないパターン状の正孔輸送層を形成することができる（図４ｃ）。
【００４５】
次に、各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、それぞれ、画素部位にパターン状に設けられている。
【００４６】
これら各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、前述の正孔輸送層３と同様の方法で設けることができる。すなわち、これら各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂのパターンと同一パターンの開口部を有するマスクを介して、発光材料の水溶液又は分散液をスプレー噴霧し、乾燥することによって、前記パターンの各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを形成することができる。
【００４７】
また、これら各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、スクリーン印刷法、インクジェット法等の印刷法によって形成することもできる。これら印刷法で形成する場合には、前記発光材料を、有機溶剤、水、あるいはこれらの混合溶剤に溶解してインキとすることができる。有機溶剤としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル等が使用できる。また、インキには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。
【００４８】
次に、対向電極（陰極）６は、前記金属又は合金の薄膜を真空成する際に、蒸着マスクを使用して、この蒸着マスクの開口部に選択的に成膜することにより、前記ストライプ状パターンに形成すると共に、陰極取り出し電極８との導通を図ることができる。蒸着マスクとしては、金属製、セラミック製のものが利用できる。
【００４９】
なお、対向電極（陰極）６の上に、無機物や樹脂などにより絶縁性保護層を設けることができる。
【００５０】
そして、封止缶９で表示画面全体を覆い、電気絶縁性の封止樹脂１０で接着固定して、図１ｂの表示装置を製造することができる。なお、図１ｃのように、大型基板上に多数の
表示装置を製造した場合には、封止缶９の接着固定の前又は後に、基板を切断して個々の表示装置を製造することが可能である。
【実施例】
【００５１】
［実施例１］
ガラス基板を透光性基板として、この上にＩＴＯの薄膜を成膜した。そして、このＩＴＯを、ストライプ状にエッチングして透明電極（陽極）と陽極取り出し電極を形成した。なお、この際、併せて陰極取出し電極を形成した。
【００５２】
次に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸の混合物を正孔輸送層の材料として、表示画面のパターンと同一パターンの開口部を有するメタルマスクを介して噴霧し、乾燥して、膜厚７０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
【００５３】
次いで、スクリーン印刷法により、各画素部位に、高分子発光材料ポリ［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＶ−ＰＰＶ）を印刷し、膜厚９０ｎｍで、それぞれ、赤色Ｒ，緑色Ｇ，青色Ｂの各色に発光する発光体層を形成した。次いで、ＭｇとＡｇを２元蒸着法により蒸着し、これらの合金から成る薄膜を２００nmの厚みで成膜して対向電極（陰極）とした。次に、封止缶を接着し、有機ＥＬ画像表示装置を得た。
【００５４】
このようにして作製した有機ＥＬ画像表示装置を外部回路に接続し、１１Ｖを印加したところ、平均輝度５０ｃｄ／ｍ2で全ての画素が発光した。また、リーク電流や、ショートの発生は認められなかった。
【００５５】
［比較例］
正孔輸送層を噴霧・乾燥して形成する方法に代えて、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸の混合物をスピンコートした後に、発泡ウレタンおよび有機溶剤を使用して不要箇所の除去を行ったこと以外は、実施例１と同様の方法で有機ＥＬ画像表示装置を作製した。この結果、この有機ＥＬ素子ではショートが発生し、ディスプレイに非発光箇所が生じた。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】図１ａは単一の有機ＥＬ素子から構成された有機ＥＬ表示装置の断面説明図。
【００５７】
図１ｂは画素部位に有機発光媒体層を配列して構成された有機ＥＬ表示装置の断面説明図。
【００５８】
図１ｃは多面付けの状態を示す平面図。
【図２】透明電極（陽極）、陽極取り出し電極、陰極取り出し電極のパターンを示す平面説明図。
【図３】正孔輸送層のパターンを示す平面説明図。
【図４】図４ａ〜ｃは正孔輸送層の形成方法の説明図。
【符号の説明】
【００５９】
１      透光性基板
２      陽極
３      正孔輸送層
４      発光層
５      有機発光媒体層
６      陰極
７      陽極取り出し電極
８      陰極取り出し電極
９      封止缶
１０    封止樹脂
１１    マスク
１２    スプレー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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