(57)【要約】【課題】基板を用いることなく樹脂層を形成し、この樹脂層によって安価な光導波路を製造できる製造方法と、これによって製造された安価な光導波路を得る。【解決手段】固定冶具１０にクラッド層となる高分子フィルム１２を吸引密着させて、その上にコア層１４と高分子樹脂を均一に塗布し硬化させて二層高分子フィルム１８を製造する。次にマルチブレード２０を備えたダイシングソー２１で切削することにより、コア層１４を外径の大きいブレード２２で分割し、分割されたコア層の表面を外径の小さいブレード２４で切削することで、複数個の光導波路のコア部１４Ａを加工する。次に切削されたコア層１４の凹部に高分子樹脂を充填し硬化させて安価な光導波路を製造する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定冶具に高分子フィルムを固定し、前記高分子フィルムと異なる屈折率の高分子樹脂を前記高分子フィルムに塗布して硬化させることでクラッド層と前記クラッド層より屈折率が高いコア層とを備える二層高分子フィルムを製造する第１工程と、
樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーで前記コア層を切削し、光導波路のコア部に加工する第２工程と、
切削された前記コア層の凹部を前記クラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂で充填しさらに前記コア部を覆って、前記高分子樹脂を硬化させてクラッド樹脂層を形成する第３工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記二層高分子フィルムは、固定冶具に前記コア層となる高分子フィルムを固定し、この前記コア層の上に前記コア層より屈折率の低い前記クラッド層となる高分子樹脂を塗布して硬化させて製造されることを特徴とする請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記二層高分子フィルムは、固定冶具に光導波路の前記クラッド層となる高分子フィルムを固定し、前記クラッド層の上に前記クラッド層より屈折率が高い前記コア層となる高分子樹脂を塗布して硬化させて製造されることを特徴とする請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
一の固定冶具に第１クラッド層となる第１高分子フィルムを固定し、他の固定冶具に第２クラッド層となる前記第１クラッド層と同一材料の第２高分子フィルムを固定し、前記第１高分子フィルムと前記第２高分子フィルムの間に前記第１クラッド層より屈折率が高い高分子樹脂をコア層として塗布して硬化させることで三層高分子フィルムを製造する第１工程と、
樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーで前記第２クラッド層及び前記コア層を切削し、光導波路のコア部に加工する第２工程と、
切削された前記三層高分子フィルムの凹部に前記第１クラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂を充填し硬化させてクラッド樹脂層を形成する第３工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記クラッド層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とする請求項２記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記クラッド層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のアクリル系樹脂であることを特徴とする請求項２記載の光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記クラッド層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする請求項３記載の光導波路の製造方法。
【請求項８】
前記クラッド層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする請求項３記載の光導波路の製造方法。
【請求項９】
前記第１クラッド層及び前記第２クラッド層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする請求項４記載の光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記第１クラッド層及び前記第２クラッド層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする請求項４記載の光導波路の製造方法。
【請求項１１】
前記コア層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とする請求項３又は４記載の光導波路の製造方法。
【請求項１２】
前記コア層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のアクリル系樹脂であることを特徴とする請求項３又は４記載の光導波路の製造方法。
【請求項１３】
前記コア層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする請求項２記載の光導波路の製造方法。
【請求項１４】
前記コア層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする請求項２記載の光導波路の製造方法。
【請求項１５】
外径が異なる２種類のブレードから構成されると共に外径が大きいブレードの間に外径が小さいブレードが設けられたマルチブレードを備えたダイシングソーの切削により前記コア層を、光導波路のコア部に加工することを特徴とする請求項１乃至１４いずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１６】
前記マルチブレードの外径の小さいブレードが前記コア部の表面を切削することを特徴とする請求項１５記載の光導波路の製造方法。
【請求項１７】
前記マルチブレードを備えたダイシングソーを回転軸方向へ移動させることにより、複数回の切削で前記コア層を、光導波路のコア部に加工することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１８】
前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードが１０〜３００μｍの隙間を置いて組付けられることを特徴とする請求項１５乃至１７いずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１９】
前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレード間の隙間を外径の小さいブレードを複数枚重ね合わせることで調整することを特徴とする請求項１５乃至１８いずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項２０】
前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードの厚さと外径の小さいブレードの厚さとを合わせた長さを、前記コア部のピッチとすることを特徴とする請求項１５乃至１９いずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項２１】
請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法により製造されたことを特徴とする光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モバイル機器などに利用される、光を導波光として導く光導波路の製造方法、及びこの製造方法によって製造された光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
光導波路を製造する方法には、樹脂を積層させてこの樹脂層を加工する方法がある。（特許文献１）
この方法によると、先ず、基板を固定冶具に吸着させ、この基板上に高分子樹脂を塗布することでクラッド層を形成し、その上にクラッド層より屈折率が高いコア層となる高分子樹脂を塗布することで二層の樹脂層を形成する。また、コア層をダイシングソー等によって部分的に切削除去ことで光導波路のコア部を形成する。
【０００３】
さらに、コア部が形成された後、基板上のクラッド層と同じ高分子樹脂でコア部を覆うことで光導波路を製造する。
【０００４】
この製造方法により、高性能な光導波路を簡便に製造することができる。
【特許文献１】特開平８−２８６０６４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、この製造方法によると、基板上にクラッド層となる高分子樹脂を塗布し、さらにその上にコア層となる高分子樹脂を塗布することにより二層の樹脂層を形成している。
【０００６】
このため、製造工程において光導波路としては機能しない基板が必要となり、製造された光導波路が高価な商品となっている。
【０００７】
本発明は、上記事実を考慮し、基板を用いることなく樹脂層を形成し、この安価な樹脂層より光導波路を製造することができる製造方法、及びその製造方法により製造された安価な光導波路を提供することが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る光導波路の製造方法は、固定冶具に高分子フィルムを固定し、前記高分子フィルムと異なる屈折率の高分子樹脂を前記高分子フィルムに塗布して硬化させることでクラッド層と前記クラッド層より屈折率が高いコア層とを備える二層高分子フィルムを製造する第１工程と、樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーで前記コア層を切削し、光導波路のコア部に加工する第２工程と、切削された前記コア層の凹部を前記クラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂で充填しさらに前記コア部を覆って、前記高分子樹脂を硬化させてクラッド樹脂層を形成する第３工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
上記構成によれば、第１工程において、高分子フィルムを固定冶具に固定して、固定された高分子フィルムに異なる屈折率の高分子樹脂を塗布して硬化させることでクラッド層とクラッド層より屈折率が高いコア層を備える二層の樹脂層である二層高分子フィルムを製造する。
【００１０】
次に、第２工程において、コア層を、樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーの切削により光導波路のコア部に加工する。
【００１１】
次に、第３工程において、切削されたコア層の凹部をクラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂で充填しさらにコア部を覆って、高分子樹脂を硬化させることでクラッド樹脂層を形成し光導波路が製造される。
【００１２】
高分子フィルムを固定冶具に固定させて二層高分子フィルムを形成するため、高分子樹脂を塗布する基板を必要としない。
【００１３】
従って、基板を用いることなく二層高分子フィルムを形成し、この安価な二層高分子フィルムによって安価な光導波路を製造できる。
【００１４】
本発明の請求項２に係る光導波路の製造方法は、請求項１記載において、前記二層高分子フィルムは、固定冶具に前記コア層となる高分子フィルムを固定し、この前記コア層の上に前記コア層より屈折率の低い前記クラッド層となる高分子樹脂を塗布して硬化させて製造されることを特徴とする。
【００１５】
上記構成によれば、固定冶具にコア層となる高分子フィルムを固定し、この高分子フィルムにクラッド層となる高分子樹脂を塗布して硬化させることで二層高分子フィルムを製造する。
【００１６】
従って、コア層となる高分子フィルムを使用することにより、基板を用いることなく二層高分子フィルムを製造し、この安価な二層高分子フィルムによって安価な光導波路を製造できる。
【００１７】
本発明の請求項３に係る光導波路の製造方法は、請求項１記載において、前記二層高分子フィルムは、固定冶具に光導波路の前記クラッド層となる高分子フィルムを固定し、前記クラッド層の上に前記クラッド層より屈折率が高い前記コア層となる高分子樹脂を塗布して硬化させて製造されることを特徴とする。
【００１８】
上記構成によれば、固定冶具にクラッド層となる高分子フィルムを固定し、この高分子フィルムにコア層となる高分子樹脂を塗布して硬化させることで二層高分子フィルムを製造する。
【００１９】
従って、クラッド層となる高分子フィルムを使用することにより、基板を用いることなく二層高分子フィルムを製造し、この安価な二層高分子フィルムによって安価な光導波路を製造できる。
【００２０】
本発明の請求項４に係る光導波路の製造方法は、一の固定冶具に第１クラッド層となる第１高分子フィルムを固定し、他の固定冶具に第２クラッド層となる前記第１クラッド層と同一材料の第２高分子フィルムを固定し、前記第１高分子フィルムと前記第２高分子フィルムの間に前記第１クラッド層より屈折率が高い高分子樹脂をコア層として塗布して硬化させることで三層高分子フィルムを製造する第１工程と、樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーで前記第２クラッド層及び前記コア層を切削し、光導波路のコア部に加工する第２工程と、切削された前記三層高分子フィルムの凹部に前記第１クラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂を充填し硬化させてクラッド樹脂層を形成する第３工程と、を有することを特徴とする。
【００２１】
上記構成によれば、第１工程において、一の固定冶具に第１クラッド層となる第１高分子フィルムを固定し、他の固定冶具に第２クラッド層となる第２高分子フィルムを固定し、第１高分子フィルムと第２高分子フィルムの間に第１クラッド層より屈折率が高い高分子樹脂をコア層として塗布して硬化させることで三層の樹脂層である三層高分子フィルムを製造する。
【００２２】
次に第２工程において、第２クラッド層及びコア層を、樹脂層を切削できるブレードを備えたダイシングソーで切削加工し、光導波路のコア部を加工する。
【００２３】
次に第３工程において、切削された三層高分子フィルムの凹部に第１クラッド層と同じ屈折率の高分子樹脂を充填し硬化させることでクラッド樹脂層を形成し光導波路が製造される。
【００２４】
高分子フィルムを固定冶具に固定させて三層高分子フィルムを形成するため、高分子樹脂を塗布する基板を必要としない。
【００２５】
従って、基板を用いることなく三層高分子フィルムを形成し、この安価な三層高分子フィルムによって安価な光導波路を製造できる。
【００２６】
本発明の請求項５に係る光導波路の製造方法は、請求項２項記載において、前記クラッド層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とする。
【００２７】
上記構成によれば、クラッド層となる高分子樹脂が、体積収縮率が小さい紫外線硬化型のエポキシ系樹脂である。
【００２８】
従って、エポキシ系樹脂を採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００２９】
本発明の請求項６に係る光導波路の製造方法は、請求項２項記載において、前記クラッド層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のアクリル系樹脂であることを特徴とする。
【００３０】
上記構成によれば、クラッド層となる高分子樹脂が、体積収縮率が小さい紫外線硬化型のアクリル系樹脂である。
【００３１】
従って、アクリル系樹脂を採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００３２】
本発明の請求項７に係る光導波路の製造方法は、請求項３項記載において、前記クラッド層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする。
【００３３】
上記構成によれば、クラッド層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式アクリルフィルムである。
【００３４】
従って、脂環式アクリルフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００３５】
本発明の請求項８に係る光導波路の製造方法は、請求項３項記載において、前記クラッド層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする。
【００３６】
上記構成によれば、クラッド層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式オレフィンフィルムである。
【００３７】
従って、脂環式オレフィンフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００３８】
本発明の請求項９に係る光導波路の製造方法は、請求項４項記載において、前記第１クラッド層及び前記第２クラッド層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする。
【００３９】
上記構成によれば、第１クラッド層及び第２クラッド層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式アクリルフィルムである。
【００４０】
従って、脂環式アクリルフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００４１】
本発明の請求項１０に係る光導波路の製造方法は、請求項４項記載において、前記第１クラッド層及び前記第２クラッド層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする。
【００４２】
上記構成によれば、第１クラッド層及び第２クラッド層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式オレフィンフィルムである。
【００４３】
従って、脂環式オレフィンフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００４４】
本発明の請求項１１に係る光導波路の製造方法は、請求項３又は４項記載において、前記コア層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とする。
【００４５】
上記構成によれば、コア層となる高分子樹脂が、体積収縮率が小さい紫外線硬化型のエポキシ系樹脂である。
【００４６】
従って、紫外線硬化型のエポキシ系樹脂を採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００４７】
本発明の請求項１２に係る光導波路の製造方法は、請求項３又は４項記載において、前記コア層となる高分子樹脂が紫外線硬化型のアクリル系樹脂であることを特徴とする。
【００４８】
上記構成によれば、コア層となる高分子樹脂が、体積収縮率が小さい紫外線硬化型のアクリル系樹脂である。
【００４９】
従って、紫外線硬化型のアクリル系樹脂を採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００５０】
本発明の請求項１３に係る光導波路の製造方法は、請求項２項記載において、前記コア層となる高分子フィルムが脂環式アクリルフィルムであることを特徴とする。
【００５１】
上記構成によれば、コア層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式アクリルフィルムである。
【００５２】
従って、脂環式アクリルフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００５３】
本発明の請求項１４に係る光導波路の製造方法は、請求項２項記載において、前記コア層となる高分子フィルムが脂環式オレフィンフィルムであることを特徴とする。
【００５４】
上記構成によれば、コア層となる高分子フィルムが、体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式オレフィンフィルムである。
【００５５】
従って、脂環式オレフィンフィルムを採用することにより、加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できる。
【００５６】
本発明の請求項１５に係る光導波路の製造方法は、請求項１乃至１４いずれか１項に記載において、外径が異なる２種類のブレードから構成されると共に外径が大きいブレードの間に外径が小さいブレードが設けられたマルチブレードを備えたダイシングソーの切削により前記コア層を、光導波路のコア部に加工することを特徴とする。
【００５７】
上記構成によれば、マルチブレードが、外径の大小異なる２種類のブレードの複数の組合せから構成されており、複数個のコア部を加工する場合には、外径が大きいブレードでコア層を切削し、複数個のコア部を同時に加工する。
【００５８】
従って、一枚のブレードを備えるダイシングソーを回転軸方向に移動させてコア部を加工する方法と比較すると、加工工数を格段に低減することができる。
【００５９】
本発明の請求項１６に係る光導波路の製造方法は、請求項１５記載において、前記マルチブレードの外径の小さいブレードが前記コア部の表面を切削することを特徴とする。
【００６０】
上記構成によれば、外径の小さいブレードでコア部の表面を切削し、複数個のコア部を加工する。
【００６１】
従って、コア部の表面を平坦にすることができる。
【００６２】
本発明の請求項１７に係る光導波路の製造方法は、請求項１５又は１６記載において、前記マルチブレードを備えたダイシングソーを回転軸方向へ移動させることにより、複数回の切削で前記コア層を、光導波路のコア部に加工することを特徴とする。
【００６３】
上記構成によれば、マルチブレードを備えたダイシングソーを回転軸方向へ移動させることで、複数個のコア部の加工を複数箇所にでき、コストを低減することができる。
【００６４】
本発明の請求項１８に係る光導波路の製造方法は、請求項１５乃至１７いずれか１項に記載において、前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードが１０〜３００μｍの隙間を置いて組付けられることを特徴とする。
【００６５】
上記構成によれば、外径が大きいブレードが１０〜３００μｍの隙間を置いて組付けられる。
【００６６】
即ち、外径が大きいブレード間に外径が小さい厚さ１０〜３００μｍのブレードが組付けられることになる。この小径ブレードの厚さは、汎用性のある厚さである。
【００６７】
従って、安価なマルチブレードを使用して、複数個のコア部を同時に加工することができる。
【００６８】
本発明の請求項１９に係る光導波路の製造方法は、請求項１５乃至１８いずれか１項に記載において、前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレード間の隙間を外径の小さいブレードを複数枚重ね合わせることで調整することを特徴とする。
【００６９】
上記構成によれば、外径が大きいブレード間の隙間を外径の小さいブレードを重ね合わせることで調整する。
【００７０】
従って、スペーサ等を用いなくても外径が大きいブレード間の距離を、容易に調整することができる。
【００７１】
本発明の請求項２０に係る光導波路の製造方法は、請求項１５乃至１９記載において、前記マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードの厚さと外径の小さいブレードの厚さとを合わせた長さを、前記コア部のピッチとすることを特徴とする。
【００７２】
上記構成によれば、外径が大きいブレードの厚さと外径の小さいブレードの厚さとを合わせた長さを、コア部のピッチと一致させる。
【００７３】
この構成により、複数個のコア部を一度に加工することができる。
【００７４】
従って、安価なマルチブレードを使用して、複数個のコア部を同時に加工することができる。
【００７５】
本発明の請求項２１に係る光導波路は、請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法により製造されたことを特徴とする。
【００７６】
上記構成によれば請求項１乃至２０のいずれかの光導波路の製造方法により製造される。
【００７７】
従って、基板を用いることなく樹脂層を形成し、この樹脂層を使用することで安価な光導波路を提供することができる。
【発明の効果】
【００７８】
本発明の光導波路の製造方法、及びこの製造方法によって製造された光導波路によれば、基板を用いることなく樹脂層を形成し、この樹脂層によって安価な光導波路を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００７９】
以下に、本発明による光導波路の第１実施形態に係る製造方法を工程順に図１〜２に従って説明する。
【００８０】
図１（Ａ）に示されるように、固定冶具１０の表面には複数の吸着口１１が形成されており、図示しないバキュームポンプで吸引力が発生している。この固定冶具１０にクラッド層となる高分子フィルム１２を吸引密着させて、高分子フィルム１２の上に屈折率の高い紫外線硬化型の高分子樹脂を均一に塗布し（スピンコート）図示しない紫外線照射装置によって紫外線を照射して硬化させてコア層１４と高分子フィルム１２を形成させることで二層高分子フィルム１８を製造する。
【００８１】
ここで、例えば、コア層１４の屈折率が１．５１で、コア層１４とクラッド層との屈折率差が０．０１以上０．２以下なる材料を選定する。脂環式オレフィンフィルム、アクリル系フィルム、エポキシ系フィルムあるいはポリイミド系フィルムなど様々なフィルムが利用できるが、特に高屈折率層は光導波路のコア部１４Ａになるため光透過率が高い必要がある。低屈折率層はクラッド層として機能させるために高屈折率層よりは光透過性が劣っていても利用できる。
【００８２】
また、光導波路は、変形に対する追従性を高めるために、二層高分子フィルム１８の厚さを７０μｍ〜２００μｍの範囲とすることがより好ましい。また、同様の理由から、二層高分子フィルム１８の幅を０．５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲とすることが好ましく、１ｍｍ〜５ｍｍの範囲とすることがより好ましい。
【００８３】
次工程では、図１（Ｂ）に示されるように、二層高分子フィルム１８のコア層１４を図２に示すマルチブレード２０を備えたダイシングソー２１で切削する。
【００８４】
図２に示されるように、マルチブレード２０は、外径が異なる２種類のブレードから構成されており、外径が大きいブレード２２の間に外径が小さいブレード２４が設けられている。
【００８５】
このマルチブレード２０で切削することにより、コア層１４を外径の大きいブレード２２で分割し、分割されたコア層の表面を外径の小さいブレード２４で切削することで、複数個の光導波路のコア部１４Ａを加工する。
【００８６】
ここで、例えば、コア部１４Ａの幅が５０μｍでピッチが２５０μｍの複数のコア部１４Ａを作るためには、厚さ５０μｍの外径が大きいブレード２２と厚さ２００μｍの外径が小さいブレード２４を交互に組み合わせることで、コア部１４Ａを加工できる。
【００８７】
次工程では、図１（Ｃ）に示されるように、ダイシングソー２１（図２参照）によって切削されたコア層１４の凹部にスピンコート法で紫外線硬化型の高分子樹脂を充填し、この高分子樹脂でコア部１４Ａを覆うことでクラッド樹脂層１６を形成する。
【００８８】
次工程では、図１（Ｄ）に示されるように、クラッド樹脂層１６を紫外線照射装置による紫外線照射により硬化させる。
【００８９】
従って、基板を用いることなく二層高分子フィルム１８を形成し、この安価な二層高分子フィルム１８より光導波路を製造することができる。
【００９０】
また、第１実施形態に係る製造方法では、固定冶具にクラッド層となる高分子フィルム１２を固定し、この高分子フィルム１２の上に高分子フィルム１２より屈折率が高いコア層１４となる高分子樹脂を塗布して硬化させて二層高分子フィルムを製造したが、それに代えて、固定冶具にコア層となる高分子フィルムを固定し、このコア層の上にコア層より屈折率の低いクラッド層となる高分子樹脂を塗布して硬化させて二層高分子フィルムを製造してもよい。なお、この場合には、二層高分子フィルムを製造した時は、コア層が下側に配置されているため、二層高分子フィルムを引っくり返してコア層を上側に配置させてダイシングソーによって切削しなければならない。さらにこの場合には、例えば、屈折率が１．５１の脂環式オレフィンフィルムをコア層とし、屈折率が低いフッ素化アクリル樹脂をクラッド層としてもよい。
【００９１】
次に、本発明による光導波路の第２実施形態に係る製造方法を工程順に図３に従って説明する。
【００９２】
図３（Ａ）に示されるように、この一の固定冶具４０及び他の固定冶具４４の表面には複数の吸着口４１が形成されており、図示しないバキュームポンプで吸引力が発生している。この一の固定冶具４０に第１クラッド層となる第１高分子フィルム４２を吸引密着させて固定し、他の固定冶具４４に第１高分子フィルム４２と同一材料であり第２クラッド層となる第２高分子フィルム４６を吸引密着させて固定する。さらに、第１高分子フィルム４２に第１高分子フィルム４２より屈折率が高い紫外線硬化型の高分子樹脂を均一に塗布して、第２高分子フィルム４６を重ね合わせ図示しない紫外線照射装置によって紫外線を照射して硬化させてコア層４８を形成することで、三層高分子フィルム５２を製造する。
【００９３】
次工程では、図３（Ｂ）に示されるように、第１実施形態に係る製造方法で使用したのと同じマルチブレード２０（図２参照）を備えたダイシングソー２１で第２高分子フィルム４６とコア層４８を切削し、コア層４８を分割することで、複数個の光導波路のコア部４８Ａを加工する。
【００９４】
次工程では、図３（Ｃ）に示されるように、ダイシングソー２１によって切削された第２高分子フィルム４６とコア層４８の凹部に第２高分子フィルム４６と同じ屈折率の紫外線硬化型の高分子樹脂を充填し、クラッド樹脂層５０を形成し、全てのコア部４８Ａを同じ屈折率の高分子樹脂で覆う。
【００９５】
次工程では、図３（Ｄ）に示されるように、クラッド樹脂層５０を紫外線照射装置による紫外線照射により硬化させる。
【００９６】
また、第２実施形態に係る製造方法では、一の固定冶具４０及び他の固定冶具４４に第１クラッド層となる第１高分子フィルム４２と第２クラッド層となる第２高分子フィルム４６を固定させ、第１高分子フィルム４２に第１高分子フィルム４２より屈折率が高い紫外線硬化型の高分子樹脂を均一に塗布して、第２高分子フィルム４６を重ね合わせて紫外線を照射して硬化させてコア層４８を形成することで、三層高分子フィルム５２を製造したが、それに代えて、コア層となる高分子フィルムの両面にクラッド層となる屈折率がコア層より低い紫外線硬化型の高分子樹脂を均一に塗布して、紫外線を照射して硬化させて三層高分子フィルムを製造してもよい。
【実施例】
【００９７】
以下に実施例を示し、さらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例１
第１実施形態に係る製造方法により、コア層となる高屈折率のエポキシ系フィルム（厚さ５０μｍ、屈折率１．６０）を冶具に吸引密着させ、次に、クラッド層となる屈折率１．５１のアクリル系紫外線硬化樹脂を厚さ２５μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させることで二層高分子フィルムを製造する。
【００９８】
次に、マルチホイールブレード付きのダイシングソーでコア層側から５５±５μｍの精度で切削する。このとき、厚さ５０μｍの外径が大きいブレードと厚さ２００μｍの外径が小さいブレードを交互に組み合わせたマルチブレードを使用する。
【００９９】
次に、屈折率１．５１のアクリル系紫外線硬化樹脂を切削したコア層の上部に厚さ２５μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させる。
【０１００】
最後に、通常のブレードを用いてダイシングを行い、光導波路を製造した。
【０１０１】
これにより、１回の切削でピッチが２５０μｍでコア部の幅が５０μｍとなる複数個のコア部を有する安価な光導波路が製造できた。
実施例２
第１実施形態に係る製造方法により、クラッド層となるアートンフィルム（ＪＳＲ社製、厚さ２５μｍ、屈折率１．５１）を冶具に吸引密着させ、次に、屈折率１．５９のアクリル系紫外線硬化樹脂を厚さ５０μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させることで二層高分子フィルムを製造する。
【０１０２】
次に、マルチホイールブレード付きのダイシングソーでコア層側から５５±５μｍの精度で切削する。このとき、厚さ５０μｍの外径が大きいブレードと厚さ２００μｍの外径が小さいブレードを交互に組み合わせたマルチブレードを使用する。
【０１０３】
次に、屈折率１．５１のアクリル系紫外線硬化樹脂を切削したコア層の上部に厚さ２５μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させた。
【０１０４】
最後に、通常のブレードを用いてダイシングを行い、光導波路を製造した。
【０１０５】
これにより、１回の切削でピッチが２５０μｍでコア部の幅が５０μｍとなる複数個のコア部を有する安価な光導波路が製造できた。
実施例３
第２実施形態に係る製造方法により、コア層となる高屈折率のエポキシ系フィルム（厚さ５０μｍ、屈折率１．６０）を使用し、屈折率１．５１のアクリル系紫外線硬化樹脂をコア層の両面に厚さ２０μｍ均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させることで三層高分子フィルムを製造する。
【０１０６】
次に、マルチホイールブレード付きのダイシングソーで７５±５μｍの精度で切削する。このとき、厚さ５０μｍの外径が大きいブレードと厚さ２００μｍの外径が小さいブレードを交互に組み合わせたマルチブレードを使用する。
【０１０７】
次に、屈折率１．５１のアクリル系紫外線硬化樹脂を切削した凹部埋めるように塗布し、紫外線を照射して硬化させた。
【０１０８】
最後に、通常のブレードを用いてダイシングを行い、光導波路を製造した。
【０１０９】
これにより、１回の切削でピッチが２５０μｍでコア部の幅が５０μｍとなる複数個のコア部を有する安価な光導波路が製造できた。
実施例４
第１実施形態に係る製造方法により、クラッド層となるフッ素化ポリイミドフィルム（厚さ２０μｍ、屈折率１．５５）を冶具に吸引密着させ、次に、屈折率１．６２のエポキシ系紫外線硬化樹脂を厚さ５０μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させることで二層高分子フィルムを製造する。
【０１１０】
次に、マルチホイールブレード付きのダイシングソーでコア層側から５５±５μｍの精度で切削する。このとき、厚さ５０μｍの外径が大きいブレードと厚さ２００μｍの外径が小さいブレードを交互に組み合わせたマルチブレードを使用する。
【０１１１】
次に、硬化後の屈折率が１．５５になるフッ素化ポリアミック酸を切削したコア層の上部に厚さ１０μｍ塗布し、２５０℃で加熱硬化させポリイミドフィルム化させた。
【０１１２】
最後に、通常のブレードを用いてダイシングを行い、光導波路を製造した。
【０１１３】
これにより、１回の切削でピッチが２５０μｍでコア部の幅が５０μｍとなる複数個のコア部を有する安価な光導波路が製造できた。
実施例５
第１実施形態に係る製造方法により、コア層となる耐熱性オレフィン系フィルム（厚さ５０μｍ、屈折率１．６２、Ｔｇが２８０℃）を冶具に吸引密着させ、次に、屈折率１．５５のエポキシ系紫外線硬化樹脂を厚さ２０μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させる。更に２００℃に加熱して十分な硬化を行うことでフレキシブル性がある二層高分子フィルムを製造する。
【０１１４】
次に、マルチホイールブレード付きのダイシングソーでコア層側から５５±５μｍの精度で切削する。このとき、厚さ５０μｍの外径が大きいブレードと厚さ２００μｍの外径が小さいブレードを交互に組み合わせたマルチブレードを使用する。
【０１１５】
次に、屈折率１．５５のエポキシ系紫外線硬化樹脂を厚さ２０μｍ塗布し、紫外線を照射して硬化させる。更に２００℃に加熱して十分な硬化を行うことでフレキシブル性を得る。
【０１１６】
最後に、通常のブレードを用いてダイシングを行い、光導波路を作製した。
【０１１７】
これにより、１回の切削でピッチが２５０μｍでコア部の幅が５０μｍとなる複数個のコア部を有する安価な光導波路が製造できた。
実施例６
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、クラッド層となる高分子フィルムに体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式アクリルフィルムを使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例７
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、クラッド層となる高分子フィルムに体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式オレフィンフィルムを使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例８
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、コア層となる高分子樹脂に体積収縮率が小さい紫外線硬化型のエポキシ系樹脂を使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例９
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、コア層となる高分子樹脂に体積収縮率が小さい紫外線硬化型のアクリル系樹脂を使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例１０
第１実施形態に係る製造方法により、クラッド層となる高分子樹脂に体積収縮率が小さい紫外線硬化型のエポキシ系樹脂を使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例１１
第１実施形態に係る製造方法により、クラッド層となる高分子樹脂に体積収縮率が小さい紫外線硬化型のアクリル系樹脂を使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例１２
第１実施形態に係る製造方法により、コア層となる高分子フィルムに体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式アクリルフィルムを使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例１３
第１実施形態に係る製造方法により、コア層となる高分子フィルムに体積収縮率が小さく透明度の高い脂環式オレフィンフィルムを使用した。加工時の変形が少なく高性能な光導波路を製造できた。
実施例１４
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、マルチブレードを備えたダイシングソーを回転軸方向へ移動させることにより、複数回の切削でコア層を、光導波路のコア部に加工した。複数個のコア部の加工を複数箇所に加工できた。
実施例１５
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードを１０〜３００μｍの隙間を置いて組付けた。即ち、外径が大きいブレード間に外径が小さい厚さ１０〜３００μｍのブレードが組付けられることになる。この小径ブレードの厚さは、汎用性のある厚さであるため、安価なマルチブレードを使用して、複数個のコア部を加工できた。
実施例１６
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、マルチブレードにおいて、外径が大きいブレード間の隙間を外径の小さいブレードを複数枚重ね合わせることで調整した。スペーサ等を用いなくても外径が大きいブレード間の距離を、容易に調整することができた。
実施例１７
第１実施形態及び第２実施形態に係る製造方法により、マルチブレードにおいて、外径が大きいブレードの厚さと外径の小さいブレードの厚さとを合わせた長さを、コア部のピッチとした。複数個のコア部を一度に加工することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】（Ａ）本発明の第１実施形態に係る製造方法において、二層高分子フィルムを製造する工程を示した概念図である。（Ｂ）本発明の第１実施形態に係る製造方法において、二層高分子フィルムをダイシングソーで加工する工程を示した概念図である。（Ｃ）本発明の第１実施形態に係る製造方法において、ダイシングソーで加工された二層高分子フィルムに樹脂を塗布する工程を示した概念図である。（Ｄ）本発明の第１実施形態に係る製造方法において、二層高分子フィルムに塗布された樹脂に紫外線を照射する工程を示した概念図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る製造方法に用いられるマルチブレードの斜視図である。
【図３】（Ａ）本発明の第２実施形態に係る製造方法において、三層高分子フィルムを製造する工程を示した概念図である。（Ｂ）本発明の第２実施形態に係る製造方法において、三層高分子フィルムをダイシングソーで加工する工程を示した概念図である。（Ｃ）本発明の第２実施形態に係る製造方法において、ダイシングソーで加工された三層高分子フィルムに樹脂を塗布する工程を示した概念図である。（Ｄ）本発明の第２実施形態に係る製造方法において、三層高分子フィルムに塗布された樹脂に紫外線を照射する工程を示した概念図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１０    固定冶具
１２    高分子フィルム
１４    コア層
１４Ａ  コア部
１６    クラッド樹脂層
１８    二層高分子フィルム
２０    マルチブレード
２１    ダイシングソー
２２    外径が大きいブレード
２４    外径が小さいブレード
４０    一の固定冶具
４２    第１高分子フィルム
４４    他の固定冶具
４６    第２高分子フィルム
４８    コア層
４８Ａ  コア部
５０    クラッド樹脂層
５２    三層高分子フィルム
【図１】
2007140299.tif 000003
【図２】
2007140299.tif 000004
【図３】
2007140299.tif 000005