(57)【要約】【課題】  ノズル穴が高い精度で形成され、生産性がよく安価な液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッドを得る。【解決手段】  ノズルプレート２１の表面に、肉厚０．１μｍのシード層４４を介して、肉厚５〜１０μｍのＮｉ電鋳を成長させ、金属マスク４８を設ける。該金属マスク４８の肉厚を約２〜１０μｍ、より好ましくは５〜１０μｍとすることで、Ｎｉ電鋳を成長させる際の寸法精度の向上させることができ、ノズル１０の穴径のばらつきを±０．５μｍに抑えることができる。また、高い精度でノズル１０が形成されることで、該ノズル１０の大きさに合わせて高い精度でノズル穴１３が形成されることとなる。さらに、エキシマレーザと比較すると、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０は加工速度が速く、また、ランニングコストも安い。このため、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０による加工によって、生産性がよく安価なインクジェット記録ヘッド７４を得ることができる。【選択図】          図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴が吐出する小穴が形成された金属製の密着マスクを樹脂製のノズルプレートの表面に設ける第１工程と、
前記密着マスクを介し、前記小穴を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記ノズルプレートを照射し、前記ノズル穴を形成する第２工程と、
を備え、
前記ノズルプレートの表面に導電性を有するシード層を形成し、前記シード層上に前記電鋳パターンを形成して前記密着マスクとしたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記密着マスクの肉厚が約２〜１０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項３】
液滴が吐出する小穴が形成され、金属製の密着マスクを樹脂製のノズルプレートの表面に設ける第１工程と、
前記密着マスクを介し、前記小穴を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記ノズルプレートを照射し、前記ノズル穴を形成する第２工程と、
を備え、
前記ノズルプレートの表面に肉厚約２〜１０μｍの金属層を設け、前記金属層をエッチングして前記密着マスクとしたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記密着マスクの表面に樹脂層を設け、前記小穴よりも大径の穴部が形成された金属製のマスクを介して、前記穴部を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記樹脂層を照射し、ザグリ穴を形成する第３工程を設けたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記第２工程で、前記ＴＥＡ−ＣＯ2レーザのレーザ光が入射される反射ミラーの角度を変えて、前記小穴部分を１パルスずつ照射しながら、前記密着マスク上をスキャンすることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記密着マスクの表面にポリテトラフルオロエチレンを分散したニッケル共析メッキを施すことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法で製造されたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録装置等の液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
主走査方向に往復移動するインクジェット記録ヘッド（以下、単に「記録ヘッド」という場合がある）の複数のノズルから選択的にインク滴を吐出し、副走査方向へ搬送される記録紙等の記録媒体に文字や画像等を印刷するインクジェット記録装置は従来から知られている。
【０００３】
このようなインクジェット記録装置の高速高画質要求に対して、ばらつきの無い高精度なノズル穴を多数形成しなければならない。その候補として、ポリイミド等の樹脂プレートに、複数の小穴が形成された金属製のマスクを用いてエキシマレーザーで該マスクを照射し、樹脂プレートにノズル穴を形成する方法が挙げられる（例えば、特許文献１）。
【０００４】
エキシマレーザによるノズル穴加工の場合、品質的に要求を満たすノズルが得られるものの、加工レートが悪く、かつ、エキシマレーザー装置のランニングコストが非常に高額であるため、ノズル加工が高コストとなってしまう。
【０００５】
一方、エキシマレーザーでの多穴同時加工によるコスト低減の可能性もあるが、ビーム内エネルギー分布や、光学系の収差等により品質とのトレードオフが生じる。また、多穴加工の品質確保手段として、光学系にレンズを追加して収差を減じる等の手段もあるが、消耗品が増し、その結果コスト増を招いてしまう。
【０００６】
また、特許文献２のように、樹脂プレートと一体になった金属製のプレート上をパターニングしてエッチングし、小穴を形成させ、該小穴を通じてエキシマレーザーで、樹脂プレートにノズル穴を形成する方法や、特許文献３にように、電鋳により小穴が形成された金属層に樹脂シートを積層させ、該小穴を通じてエキシマレーザーで、樹脂シートにノズル穴を形成する方法もあるが、上記プレート、或いは金属層の肉厚を増していくと、該肉厚ばらつきの絶対値が増大してしまう。また、コストが高くなってしまう等の問題がある。
【特許文献１】特許第２７６３５６３号公報
【特許文献２】特許第３２９０４９５号公報
【特許文献３】特開平８−３４１１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記事実を考慮し、ノズル穴が高い精度で形成され、生産性がよく安価な液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッドを得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、液滴が吐出する小穴が形成された金属製の密着マスクを樹脂製のノズルプレートの表面に設ける第１工程と、前記密着マスクを介し、前記小穴を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記ノズルプレートを照射し、前記ノズル穴を形成する第２工程と、を備え、前記ノズルプレートの表面に導電性を有するシード層を形成し、前記シード層上に前記電鋳パターンを形成して前記密着マスクとしたことを特徴とする。
【０００９】
請求項１に記載の発明では、ノズルプレートの表面に小穴が形成された密着マスクを設け、この密着マスクを介して、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザを照射させることで、ノズルプレートには、小穴と連通するノズル穴が形成される。
【００１０】
ここで、金属製の密着マスクを用い、該密着マスクの小穴を、液滴が吐出するいわゆるノズルとして用いることで、樹脂と比較して高い精度で小穴が形成されると共に、ノズルプレートにノズル穴を形成するための金属マスクを別途設ける必要はない。
【００１１】
また、エキシマレーザと比較すると、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザは加工速度が速く、また、ランニングコストも安い。このため、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザによる加工によって、生産性がよく安価な液滴吐出ヘッドを得ることができる。
【００１２】
ところで、通常、電鋳では、母型を形成し、該母型に所定の厚さの電鋳を成長させ、これを母型から剥離させることで金属層を形成するが、請求項１に記載の発明では、ノズルプレートの表面に導電性を有するシード層を形成することで、該シード層上に直接電鋳パターンを形成させることが可能となる。このため、母型を形成する必要が無く、コストダウンを図ることができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記密着マスクの肉厚が約２〜１０μｍであることを特徴とする。
【００１４】
請求項２に記載の発明では、密着マスクの肉厚を約２〜１０μｍとしている。密着マスクの肉厚が２μｍ未満の場合、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザによって該密着マスクが加工されてしまう場合があり、小穴の縁部の形状が変化してしまう恐れが生じる。また、密着マスクの肉厚が１０μｍよりも厚い場合、密着マスクを形成する際の寸法精度の確保が困難となり、小穴の寸法精度が悪くなってしまう。
【００１５】
このため、密着マスクの肉厚を約２〜１０μｍ、より好ましくは５〜１０μｍとすることで、高い精度で小穴が形成されると共に、小穴の大きさに合わせて高い精度でノズル穴が形成されることとなる。
【００１６】
特に、電鋳成長のばらつきは、膜厚に比例して大きくなるため、該密着マスクを１０μｍ以下とすることで、高い精度で電鋳を成長させることができる。これにより、小穴の寸法のばらつきを±０．５μｍに抑えることができる。
【００１７】
請求項３に記載の発明は、液滴吐出ヘッドの製造方法において、液滴が吐出する小穴が形成され、金属製の密着マスクを樹脂製のノズルプレートの表面に設ける第１工程と、前記密着マスクを介し、前記小穴を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記ノズルプレートを照射し、前記ノズル穴を形成する第２工程と、を備え、前記ノズルプレートの表面に肉厚約２〜１０μｍの金属層を設け、前記金属層をエッチングして前記密着マスクとしたことを特徴とする。
【００１８】
請求項３に記載の発明では、ノズルプレートの表面に金属層を設け、該金属層をエッチングして小穴を形成させ密着マスクとするが、金属層はできるだけ薄い方が精度良く小穴を形成させることができる。このため、約２〜１０μｍの金属層とすることで、請求項２に記載の発明と略同一の効果を得ることができる。
【００１９】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記密着マスクの表面に樹脂層を設け、前記小穴よりも大径の穴部が形成された金属マスクを介して、前記穴部を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザで前記樹脂層を照射し、ザグリ穴を形成する第３工程を設けたことを特徴とする。
【００２０】
請求項４に記載の発明では、密着マスクの表面に樹脂層を設け、該樹脂層にザグリ穴を形成することで、液滴を吐出する小穴を樹脂層で保護することができる。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記第２工程で、前記ＴＥＡ−ＣＯ2レーザのレーザ光が入射される反射ミラーの角度を変えて、前記小穴部分を１パルスずつ照射しながら、前記密着マスク上をスキャンすることを特徴とする。
【００２２】
ＴＥＡ−ＣＯ2レーザの場合、エキシマレーザと比較してピークパワーが小さいため、レーザ光を反射ミラーに直接入射させることができる。このため、いわゆるガルバノスキャン方式により、反射ミラーの角度を変えることによって、所定の位置への照射が可能となる。
【００２３】
このため、請求項５に記載の発明では、ノズルプレート又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザを移動させる必要はなく、ノズルプレート又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザを移動させるための装置が不要である。したがって、コストダウンを図ることができる。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記密着マスクの表面にポリテトラフルオロエチレンを分散したニッケル共析メッキを施すことを特徴とする。
【００２５】
請求項６に記載の発明では、ポリテトラフルオロエチレンを分散したニッケル共析メッキによって、密着マスクのみにメッキが施されるため、密着マスクの厚さに自動的に倣ってノズル内部入り込み量が制御された撥水膜が得られる。
【００２６】
このため、メッキを施すためのマスクが不要であり、作業工数を大幅に削減することができ、コストダウンを図ることができる。また、密着マスクが全面被覆されるため、電鋳、又はエッチングされる金属が耐インク性のない、例えばＣｕでも使用可能となる。
【００２７】
請求項７に記載の発明は、液滴吐出ヘッドにおいて、請求項１〜６の何れか１項に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法で製造されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明は、上記構成としたので、請求項１及び７に記載の発明では、金属製の密着マスクを用い、該密着マスクの小穴を、液滴が吐出するいわゆるノズルとして用いることで、樹脂と比較して高い精度で小穴が形成されると共に、ノズルプレートにノズル穴を形成するための金属マスクを別途設ける必要はない。また、エキシマレーザと比較すると、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザは加工速度が速く、また、ランニングコストも安い。このため、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザによる加工によって、生産性がよく安価な液滴吐出ヘッドを得ることができる。さらに、ノズルプレートの表面に導電性を有するシード層を形成することで、該シード層上に直接電鋳パターンを形成させることが可能となる。このため、母型を形成する必要が無く、コストダウンを図ることができる。
【００２９】
請求項２及び３に記載の発明では、密着マスクの肉厚を約２〜１０μｍとすることで、高い精度で小穴が形成されると共に、小穴の大きさに合わせて高い精度でノズル穴が形成されることとなり、小穴の寸法のばらつきを±０．５μｍに抑えることができる。
【００３０】
請求項４に記載の発明では、密着マスクの表面に樹脂層を設け、該樹脂層にザグリ穴を形成することで、液滴を吐出する小穴を樹脂層で保護することができる。
【００３１】
請求項５に記載の発明では、ノズルプレート又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザを移動させる必要はなく、ノズルプレート又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザを移動させるための装置が不要である。したがって、コストダウンを図ることができる。
【００３２】
請求項６に記載の発明では、メッキを施すためのマスクが不要であり、作業工数を大幅に削減することができ、コストダウンを図ることができる。また、密着マスクが全面被覆されるため、電鋳、又はエッチングされる金属が耐インク性のない、例えばＣｕでも使用可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の実施の形態に係る液滴吐出ヘッドの製造方法についての説明を行う。まず、最初に図１に示すインクジェット記録装置７０の概要を説明する。
【００３４】
なお、記録媒体は記録紙Ｐとし、記録紙Ｐのインクジェット記録装置７０における搬送方向を副走査方向として矢印Ｓで表し、その搬送方向と直交する方向を主走査方向として矢印Ｍで表す。
【００３５】
インクジェット記録装置７０は、ブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの各インクジェット記録ユニット７２を搭載するキャリッジ７６を備えている。このキャリッジ７６の記録紙Ｐの搬送方向上流側には、一対のブラケット７８が突設されており、そのブラケット７８には円形状の開孔７８Ａが穿設されている。そして、この開孔７８Ａに、主走査方向に架設されたシャフト８０が挿通されている。
【００３６】
また、主走査方向の両端側には、主走査機構８２を構成する駆動プーリー８４と従動プーリー８６が配設されている。この駆動プーリー８４と従動プーリー８６にはタイミングベルト８８が巻回されており、タイミングベルト８８の一部にキャリッジ７６に固定され、キャリッジ７６が主走査方向に往復移動可能となっている。
【００３７】
また、このインクジェット記録装置７０には、搬送ローラー９０及び排出ローラー９２からなる副走査機構９４が設けられており、画像印刷前の記録紙Ｐを束にして載置する給紙トレイ９６から１枚ずつ給紙された記録紙Ｐを所定のピッチで副走査方向へ搬送する。
【００３８】
さらに、図２に示すように、各色のインクジェット記録ユニット７２は、インクジェット記録ヘッド７４と、それにインクを供給するインクタンク９８とが一体に構成されたものであり、インクジェット記録ヘッド７４の下面に形成された複数のノズル１０（図３参照、なお、図３ではマトリックス状に配置されたノズル１０のうちの一部を図示したものである）が、記録紙Ｐと対向するようにキャリッジ７６上に搭載されている。
【００３９】
したがって、インクジェット記録ヘッド７４が主走査機構８２（図１参照）によって主走査方向に移動しながら、記録紙Ｐに対してノズル１０から選択的にインク滴を吐出することにより、所定のバンド領域ＢＥに対して画像データに基づく画像の一部が記録される。
【００４０】
そして、主走査方向への１回の移動が終了すると、記録紙Ｐは、副走査機構９４（図１参照）によって副走査方向に所定ピッチ搬送され、再びインクジェット記録ヘッド７４（インクジェット記録ユニット７２）が主走査方向（前述とは反対方向）に移動しながら、次のバンド領域に対して画像データに基づく画像の一部が記録されるようになっており、このような動作を複数回繰り返すことによって、記録紙Ｐに画像データに基づく全体画像がフルカラーで記録される。
【００４１】
次に、インクジェット記録ヘッド７４について詳細に説明する。図４に示すように、インクジェット記録ヘッド７４には、インクタンク９８（図２参照）からインクが供給される共通インク室２０が備えられている。この共通インク室２０には開口部１８が設けられており、インク供給路１６を介して圧力室１４が連通し、共通インク室２０内のインクが供給されるようになっている。
【００４２】
また、インクジェット記録ヘッド７４には、マトリックス状に配置された複数のノズル１０（図３参照）が備えられており、ノズル連通室１２を介して圧力室１４と連通している。圧力室１４の上面には上下方向に弾性を有する振動板３０が設けられており、圧力室１４に対応する振動板３０の上面には圧電素子４２が配設されている。
【００４３】
この圧電素子４２の上にはボール半田３４を介して電気基板３６が接合され、圧電素子４２に通電されると（電圧が印加されると）、圧電素子４２が上下方向に撓み変形する。これにより、振動板３０が撓み変形し、圧力室１４内のインクが加圧されると、ノズル１０からインク滴が吐出する構成となっている。
【００４４】
ところで、インクジェット記録ヘッド７４は、ノズル１０が形成されるノズルプレート２１と、ノズル連通室１２及び共通インク室２０を構成するインクプールプレート２２、２３と、共通インク室２０の開口部１８及びノズル連通室１２を構成するスループレート２４と、インク供給路１６が形成されたインク供給路プレート２６と、圧力室１４が形成された圧力室プレート２８と、が順番に積層され接合される。
【００４５】
ここで、ノズル１０の形成方法について説明する。
【００４６】
まず、第１工程として、図５（Ａ）に示すように、肉厚約２５〜７５μｍのポリイミド製のノズルプレート２１の表面に、Ｎｉスパッタによって肉厚０．１μｍのシード層４４を形成する。次に、図５（Ｂ）に示すように、シード層４４の表面には、ノズル１０に相当する箇所にφ２０〜３０μｍ、肉厚約１０μｍのレジスト層４６を形成する。
【００４７】
そして、図５（Ｃ）に示すように、シード層４４の表面に、肉厚５〜１０μｍのＮｉ電鋳を成長させ、密着マスクとしての金属マスク４８を設ける。通常、電鋳では、母型を形成し、該母型に所定の厚さの電鋳を成長させ、これを母型から剥離させることで金属層を形成するが、本発明では、ノズルプレート２１の表面に導電性を有するシード層４４を形成することで、該シード層４４上に直接電鋳を成長させることが可能となる。このため、母型を形成する必要が無く、コストダウンを図ることができる。
【００４８】
次に、図５（Ｄ）に示すように、エッチングによりレジスト層４６をシード層４４から剥離させる。これにより、φ２０〜３０μｍのノズル１０が形成される。
【００４９】
そして、第２工程として、図５（Ｅ）に示すように、金属マスク４８の表面を、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅｌｙ  Ｅｘｉｔｅｄ  Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ  ｐｒｅｓｓｕｒｅ−ＣＯ2レーザの略、通常ＣＯ2レーザーと同じく波長１０６４ｎｍだが、１μｓｅｃレベルの短パルスである。）で照射し、ノズル１０と連通するノズル穴１３をノズルプレート２１に形成する。ここで、シード層４４は肉厚が０．１μｍであるため、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０のレーザ光によって融除される。
【００５０】
また、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０は、図６に示す、いわゆるガルバノスキャン方式により反射ミラー５２、５４の角度を変えることで、ノズル１０内を１パルスずつ照射しながら、金属マスク４８上をスキャンすることができる。
【００５１】
ＴＥＡ−ＣＯ2レーザの場合、エキシマレーザと比較してピークパワーが小さいため、反射ミラー５２、５４に直接レーザ光を照射することができる。このため、該反射ミラー５２、５４の角度を変えることによって、所定の位置への照射が可能となる。
【００５２】
したがって、ノズルプレート２１又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０を移動させる必要はなく、ノズルプレート２１又はＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０を移動させるための装置が不要である。したがって、コストダウンを図ることができる。
【００５３】
また、エキシマレーザと比較すると、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０は加工速度が速く、また、ランニングコストも安い。このため、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０による加工によって、生産性がよく安価なインクジェット記録ヘッド７４を得ることができる。
【００５４】
ところで、金属マスク４８の肉厚が２μｍ未満の場合、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０によって該金属マスク４８が加工されてしまう場合があり、ノズル１０の縁部の形状が変化してしまう恐れが生じる。一方、電鋳成長のばらつきは、膜厚に比例して大きくなるため、金属マスク４８の肉厚が１０μｍよりも厚い場合、Ｎｉ電鋳を成長させる際の寸法精度の確保が困難となり、ノズル１０の寸法精度が悪くなってしまう。
【００５５】
このため、金属マスク４８の肉厚を約２〜１０μｍ、より好ましくは５〜１０μｍとすることで、ノズル１０の穴径のばらつきを±０．５μｍに抑えることができ、高い精度でノズル１０が形成されると共に、該ノズル１０の大きさに合わせて高い精度でノズル穴１３が形成されることとなる。
【００５６】
次に、図５（Ｆ）に示すように、金属マスク４８の表面に、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を分散したニッケル共析メッキを施す。ＰＴＦＥを分散したニッケル共析メッキによって、金属マスク４８のみにメッキが施され、金属マスク４８の厚さに自動的に倣ってノズル１０内部への入り込み量が制御された撥水膜５６が得られる。
【００５７】
このため、ノズル１０回りにメッキを施すためのマスクが不要であり、作業工数を大幅に削減することができ、コストダウンを図ることができる。また、金属マスク４８が全面被覆されるため、電鋳される金属が耐インク性のない、例えばＣｕでも使用可能となる。
【００５８】
このようにして、ノズル１０及びノズル連通室１２が形成されたノズルプレート２１を、接着剤２５（図４参照）を介してインクプールプレート２２（図４参照）に接合する。
【００５９】
なお、ここでは、電鋳によりノズルプレート２１の表面に金属マスク４８を形成したが、これに限るものではない。
【００６０】
例えば、図７（Ａ）に示すように、ノズルプレート２１の表面に、肉厚５〜１０μｍのＳＵＳ、Ｃｕ等の金属層５８を設けた（接着剤で貼着しても良いし、ノズルプレート２１の表面をメッキ等しても良い）後、次に、図７（Ｂ）に示すように、金属層５８の表面には、ノズル１０に相当する箇所を残しレジスト層５９を形成する。そして、図７（Ｃ）に示すように、ウェットエッチングにより、レジスト層５９以外の領域、つまり、金属層５８のノズル１０に相当する箇所を除去パターニングする。
【００６１】
次に、図７（Ｄ）に示すように、金属層５８の表面を、ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０で照射し、ノズル１０と連通するノズル穴１３をノズルプレート２１に形成し、図７（Ｅ）に示すように、金属層５８の表面に、ＰＴＦＥを分散したニッケル共析メッキを施し、撥水膜５６を形成する。
【００６２】
ところで、図８（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、第３工程として、金属マスク４８の表面に樹脂層６０を設け、該樹脂層６０にザグリ穴６６を形成しても良い。具体的には、ノズル１０よりも大径の穴部６２が形成された金属製のマスク６４を樹脂層６０の上部に配置し、該マスク６４を介して、穴部６２を通じてＴＥＡ−ＣＯ2レーザ５０で樹脂層６０を照射し、ザグリ穴６６を形成する。このように、金属マスク４８の表面に樹脂層６０を設け、該樹脂層６０にザグリ穴６６を形成することで、液滴を吐出するノズル１０を樹脂層６０で保護することができる。
【００６３】
また、上記実施例のインクジェット記録装置７０では、ブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの各色のインクジェット記録ユニット７２がそれぞれキャリッジ７６に搭載され、それら各色のインクジェット記録ヘッド７４から画像データに基づいて選択的にインク滴が吐出されてフルカラーの画像が記録紙Ｐに記録されるようになっているが、本発明におけるインクジェット記録は、記録紙Ｐ上への文字や画像の記録に限定されるものではない。
【００６４】
すなわち、記録媒体は紙に限定されるものでなく、また、吐出する液体もインクに限定されるものではない。例えば、高分子フィルムやガラス上にインクを吐出してディスプレイ用カラーフィルターを作成したり、溶接状態の半田を基板上に吐出して部品実装用のバンプを形成するなど、工業的に用いられる液滴噴射装置全般に対して、本発明に係るインクジェット記録ヘッド７４を適用することができる。
【００６５】
また、上記実施例のインクジェット記録装置７０では、主走査機構８２と副走査機構９４を有するＰａｒｔｉａｌ  Ｗｉｄｔｈ  Ａｒｒａｙ（ＰＷＡ）の例で説明したが、本発明におけるインクジェット記録は、これに限定されず、紙幅対応のいわゆるＦｕｌｌ  Ｗｉｄｔｈ  Ａｒｒａｙ（ＦＷＡ）であってもよい。むしろ、本発明は、高密度ノズル配列を実現するのに有効なものであるため、１パス印字を必要とするＦＷＡには好適である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の実施の形態に係るインクジェット記録ヘッドが適用されたインクジェット記録装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るインクジェット記録ヘッドが適用されたインクジェット記録ユニット示す斜視図である。
【図３】本発明の実施形態のインクジェット記録ヘッドのノズルがマトリックス状に配置された状態を表す説明図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す断面図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｆ）は、インクジェット記録ヘッドのノズル形成工程を示す断面図である。
【図６】ガルバノスキャン方式によるＴＥＡ−ＣＯ2レーザの照射を説明する説明図である。
【図７】（Ａ）〜（Ｅ）は、インクジェット記録ヘッドのノズル形成工程の他の例を示す断面図である。
【図８】（Ａ）〜（Ｃ）は、インクジェット記録ヘッドのノズル形成工程のその他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０      ノズル（小孔）
１３      ノズル穴
４４      シード層
４８      金属マスク（密着マスク）
５０      ＴＥＡ−ＣＯ2レーザ
５２      反射ミラー
５６      撥水膜（メッキ）
５８      金属層
６０      樹脂層
６２      穴部
６４      マスク
６６      ザグリ穴
７４      インクジェット記録ヘッド（液滴吐出ヘッド）
【図１】
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【図２】
2007050613.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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