(57)【要約】【課題】ウエハの表面及び裏面を同時に洗浄またはリンスできると共に、裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体による表面の転写汚染を確実に防止できること。【解決手段】洗浄槽２３内の洗浄用流体により、当該洗浄槽に配設されたウエハ１を洗浄またはリンスする洗浄装置１１であって、装置躯体２９に当接して洗浄槽を構成すると共に、ウエハの外形に対応する開口３０が形成された正面壁２８と、この正面壁の外側から上記開口を通して、正面壁の内側に搬入されたウエハの裏面３を保持可能として、このウエハを縦方向に起立状態とするウエハ保持装置２４と、上記正面壁の内面における上記開口周囲に設けられ、ウエハの裏面が接触することで、このウエハと上記開口周囲との間に環状隙間７２を形成するピン７１とを有するものである。【選択図】            図１３
2007059866.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄槽内の洗浄用流体により、当該洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、
装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、
この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段と、
上記一側壁の内面における上記開口周囲に設けられ、上記被処理物の裏面が接触することで、この被処理物と上記開口周囲との間に隙間を形成する隙間形成部材と、を有することを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
上記一側壁の開口周囲と、縦方向に起立して配設された被処理物との間の隙間は、上方部分が下方部分よりも広く設定されたことを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
上記洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して、超音波振動装置が配置されたことを特徴とする請求項1または２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
上記一側壁は、装置躯体に対し開口の軸方向に移動可能に構成され、この一側壁の上記装置躯体からの離反時に被処理物が搬入されて保持手段により保持され、上記一側壁と上記装置躯体との当接により洗浄槽が構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項５】
上記保持手段は、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の裏面を非接触状態で保持することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項６】
上記保持手段は、一側壁に対し開口の軸方向に相対移動可能に当該一側壁に設置され、洗浄槽内に洗浄用流体が供給されたときに被処理物から退避して、この被処理物の保持を解除するよう構成されたことを特徴とする請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項７】
上記一側壁には、内面における開口周囲の下部に受け部材が設置され、この受け部材が、被処理物を点接触状態で支持することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項８】
上記洗浄槽内へは、この洗浄槽の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄用流体が循環して供給されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項９】
上記洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項１０】
上記乾燥用流体供給層は、高温の有機溶剤及び不活性ガスが供給される２流体ノズルを備え、上記有機溶剤及び不活性ガスの温度は、上記２流体ノズルからの流体の噴射と同時に上記流体が気化し得る温度であることを特徴とする請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１１】
上記有機溶剤は、２流体ノズルに接続されるパイプに巻き付けられた面状発熱体によって加熱されることを特徴とする請求項１０記載の洗浄装置。
【請求項１２】
上記乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする請求項９に記載の洗浄装置。
【請求項１３】
被処理物を洗浄槽内に搬入し、この被処理物の表面を上記洗浄槽内に、裏面を上記洗浄槽外にそれぞれ臨ませ、当該被処理物と上記洗浄槽との間に隙間を設けて、この被処理物を上記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、
上記洗浄槽内で洗浄用流体を流動させ、この洗浄用流体に接液する上記被処理物の上記表面を、当該洗浄用流体により洗浄またはリンスすると共に、上記洗浄槽内の洗浄用流体の圧力の作用で上記隙間から流出する洗浄用流体によって、上記被処理物の裏面を洗浄またはリンスする洗浄・リンス工程と、を有することを特徴とする洗浄方法。
【請求項１４】
上記洗浄・リンス工程の終了後に、被処理物を洗浄槽内に装着した状態で乾燥用流体を洗浄槽内へ導き、上記被処理物を乾燥する乾燥工程を有することを特徴とする請求項１３に記載の洗浄方法。
【請求項１５】
上記洗浄・リンス工程では、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄を実施することを特徴とする請求項１３または１４に記載の洗浄方法。
【請求項１６】
上記乾燥工程では、乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１４に記載の洗浄方法。
【請求項１７】
装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、
この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段とを有し、洗浄槽内の洗浄用流体により、当該洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置において、
上記保持手段は、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の裏面を非接触状態で保持することを特徴とする保持手段。
【請求項１８】
乾燥槽内の乾燥用流体により、当該乾燥槽に配設された被処理物を乾燥する乾燥装置であって、
装置躯体に当接して上記乾燥槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、
この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段と、
上記一側壁の内面における上記開口周囲に設けられ、上記被処理物の裏面が接触することで、この被処理物と上記開口周囲との間に隙間を形成する隙間形成部材と、を有することを特徴とする乾燥装置。
【請求項１９】
上記乾燥槽には、乾燥用流体を乾燥槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする請求項１８に記載の乾燥装置。
【請求項２０】
上記乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする請求項１８または１９に記載の乾燥装置。
【請求項２１】
洗浄槽内の洗浄液により、当該洗浄槽内に配設された被処理物を洗浄する洗浄装置であって、
装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁を有し、
上記被処理物が縦方向に起立し、且つ上記被処理物の処理面と反対の面の周縁部が上記一側壁の内面における上記開口周囲に密着されて上記開口が閉塞され、上記被処理物が上記処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれに臨ませて当該洗浄槽に装着される構成としたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２２】
洗浄槽内の洗浄液により、当該洗浄槽内に配設された被処理物を洗浄する洗浄装置であって、
装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、
上記被処理物の処理面と反対の面を、上記洗浄槽の外側から上記開口を通して保持する保持手段とを有し、
この保持手段により、上記被処理物が縦方向に起立し、且つ上記処理面と反対の面の周縁部が上記一側壁の内面における上記開口周囲に密着されて上記開口が閉塞され、上記被処理物が上記処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれに臨ませて当該洗浄槽に装着される構成としたことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２３】
上記洗浄槽内へは、この洗浄槽の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄液が循環して供給されることを特徴とする請求項２1または２２に記載の洗浄装置。
【請求項２４】
上記洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して、超音波振動装置が配置されたことを特徴とする請求項２１乃至２３のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項２５】
上記一側壁は、装置躯体に対し開口の軸方向に移動可能に構成され、この一側壁の上記装置躯体からの離反時に被処理物が搬入されて保持手段により上記一側壁に装着され、この一側壁と上記装置躯体との当接により洗浄槽が構成されることを特徴とする請求項２１乃至２４のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項２６】
上記保持手段は、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の処理面と反対の面を非接触状態で保持することを特徴とする請求項２２乃至２５のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項２７】
上記洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする請求項２１乃至２６のいずれかに記載の洗浄装置。
【請求項２８】
上記乾燥用流体供給層は、高温の有機溶剤及び不活性ガスが供給される２流体ノズルを備え、上記有機溶剤及び不活性ガスの温度は、上記２流体ノズルからの流体の噴射と同時に上記流体が気化し得る温度であることを特徴とする請求項２７に記載の洗浄装置。
【請求項２９】
上記有機溶剤は、２流体ノズルに接続されるパイプに巻き付けられた面状発熱体によって加熱されることを特徴とする請求項２８記載の洗浄装置。
【請求項３０】
上記乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする請求項２９に記載の洗浄装置。
【請求項３１】
被処理物を洗浄槽内に搬入し、この被処理物の処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれ臨ませて、当該被処理物を上記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、
上記洗浄槽内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液する上記被処理物の上記処理面を洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とする洗浄方法。
【請求項３２】
上記洗浄工程の終了後に、被処理物を洗浄槽内に装着した状態で乾燥用流体を洗浄槽内へ導き、上記被処理物を乾燥する乾燥工程を有することを特徴とする請求項３１に記載の洗浄方法。
【請求項３３】
上記洗浄工程では、洗浄槽外に設置されたフィルタと上記洗浄槽との間で洗浄液を循環することを特徴とする請求項３１または３２に記載の洗浄方法。
【請求項３４】
上記洗浄工程では、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄を実施することを特徴とする請求項３１乃至３３のいずれかに記載の洗浄方法。
【請求項３５】
上記乾燥工程では、乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする請求項３１乃至３４のいずれかに記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄槽内で被処理物を洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に係り、特にウエハなどの半導体基板の表面及び／又は裏面を一枚ずつ同時に洗浄する洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程において、ウエハなどの半導体基板を一枚ずつ洗浄し、リンスし、乾燥する洗浄装置は、特許文献１に記載されるようにスピン方式が一般的である。このような洗浄装置１００は、図２４に示すように、円筒形状のチャンバ１０２内に、チャック等を用いてウエハ１０１の端面等を保持するウエハ受け台１０３を備え、このウエハ受け台１０３が回転軸１０４を介して支持される。この回転軸１０４は、モータ（不図示）に接続され、モータの駆動により、ウエハ受け台１０３に保持されたウエハ１０１が回転可能に設けられる。
【０００３】
ウエハ受け台1０３の上方には、供給ノズル１０５が備えられ、この供給ノズル１０５から有機溶剤などの洗浄液、リンス用の純水、窒素ガスなどの乾燥用流体がウエハ受け台１０３上のウエハ１０１へ順次供給されて、このウエハ１０１が洗浄され、リンスされ、乾燥される。この供給ノズル１０５の基部には温度センサ１０６が設けられて、この供給ノズル１０５へ導かれる洗浄液、純水、乾燥用流体の温度が測定される。尚、図２４中の符号１０７は排液口であり、符号１０８は排気口を示す。
【０００４】
また、洗浄装置には、特許文献２に記載されるように、洗浄槽内に洗浄液を満たし、この洗浄液に一枚のウエハを投入し、超音波振動を利用して、ウエハの表面及び裏面を同時に洗浄するディップ方式の洗浄装置が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００‐２１８４０号公報
【特許文献２】特開平５‐１３３９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、図２４に示すスピン方式の洗浄装置１００では、洗浄時にウエハ１０１の表面１０１Ａへ注がれた洗浄液がウエハ１０１の裏面１０１Ｂ側へ回り込むことが有るとともに、ウエハ受け台１０３のチャック等によりウエハ１０１の端面等を保持するため、チャック等が接する端面等を洗浄することが困難である。
【０００７】
また、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１が水平状態に設置されているため、洗浄装置１００の全体の据付スペースが増大してしまう。更に、洗浄装置１００が、回転機構部としてのウエハ受け台１０３及び回転軸１０４を備えることから、部品点数が増大すると共に、これらの回転機構部の調整に多大な時間と手間を要する。
【０００８】
また、上記洗浄装置１００では、回転するウエハ１０１へ供給ノズル１０５から洗浄液などが供給されるので、ウエハ１０１の表面１０１Ａへ均一に洗浄液等を供給することが難しく、更に、洗浄液などの温度管理も困難となる。
【０００９】
更に、上記洗浄装置１００では、ウエハ１０１がウエハ受け台１０３によって回転するので、この回転時に生ずる気流（乱流など）の作用で、チャンバ１０２内、またはこのチャンバ１０２に設置されたカップ１０９内における不要なガスの排気を適切に実施することが困難となる。
【００１０】
また、ディップ方式の洗浄装置の場合には、洗浄槽に洗浄液を入れ、その中にウエハを投入して洗浄するため、ウエハの表面が裏面の汚れによって汚染される転写汚染が発生する恐れがある。
【００１１】
本発明の目的は、上述の事情を考慮してなされたものであり、被処理物の表面及び／又は裏面を同時に洗浄またはリンスできると共に、裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体による表面の転写汚染を確実に防止できる洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１に記載の発明に係る洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄用流体により、当該洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置であって、装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段と、上記一側壁の内面における上記開口周囲に設けられ、上記被処理物の裏面が接触することで、この被処理物と上記開口周囲との間に隙間を形成する隙間形成部材と、を有することを特徴とするものである。
【００１３】
請求項２に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１に記載の発明において、上記一側壁の開口周囲と、縦方向に起立して配設された被処理物との間の隙間が、上方部分が下方部分よりも広く設定されたことを特徴とするものである。
【００１４】
請求項３に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項1または２に記載の発明において、上記洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して、超音波振動装置が配置されたことを特徴とするものである。
【００１５】
請求項４に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項1乃至３のいずれかに記載の発明において、上記一側壁が、装置躯体に対し開口の軸方向に移動可能に構成され、この一側壁の上記装置躯体からの離反時に被処理物が搬入されて保持手段により保持され、上記一側壁と上記装置躯体との当接により洗浄槽が構成されることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項５に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、上記保持手段が、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の裏面を非接触状態で保持することを特徴とするものである。
【００１７】
請求項６に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項５に記載の発明において、上記保持手段が、一側壁に対し開口の軸方向に相対移動可能に当該一側壁に設置され、洗浄槽内に洗浄用流体が供給されたときに被処理物から退避して、この被処理物の保持を解除するよう構成されたことを特徴とするものである。
【００１８】
請求項７に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１乃至６のいずれかに記載の発明において、上記一側壁には、内面における開口周囲の下部に受け部材が設置され、この受け部材が、被処理物を点接触状態で支持することを特徴とするものである。
【００１９】
請求項８に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１乃至７のいずれかに記載の発明において、上記洗浄槽内へは、この洗浄槽の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄用流体が循環して供給されることを特徴とするものである。
【００２０】
請求項９に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１乃至８のいずれかに記載の発明において、上記洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とするものである。
【００２１】
請求項１０に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項９に記載の発明において、上記乾燥用流体供給槽が、高温の有機溶剤及び不活性ガスが供給される２流体ノズルを備え、上記有機溶剤及び不活性ガスの温度は、上記２流体ノズルからの流体の噴射と同時に上記流体が気化し得る温度であることを特徴とするものである。
【００２２】
請求項１１に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項１０に記載の発明において、上記有機溶剤が、２流体ノズルに接続されるパイプに巻き付けられた面状発熱体によって加熱されることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項１２に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項９に記載の発明において、上記乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とするものである。
【００２４】
請求項１３に記載の発明に係る洗浄方法は、被処理物を洗浄槽内に搬入し、この被処理物の表面を上記洗浄槽内に、裏面を上記洗浄槽外にそれぞれ臨ませ、当該被処理物と上記洗浄槽との間に隙間を設けて、この被処理物を上記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、上記洗浄槽内で洗浄用流体を流動させ、この洗浄用流体に接液する上記被処理物の上記表面を、当該洗浄用流体により洗浄またはリンスすると共に、上記洗浄槽内の洗浄用流体の圧力の作用で上記隙間から流出する洗浄用流体によって、上記被処理物の裏面を洗浄またはリンスする洗浄・リンス工程と、を有することを特徴とするものである。
【００２５】
請求項１４に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項１３に記載の発明において、上記洗浄・リンス工程の終了後に、被処理物を洗浄槽内に装着した状態で乾燥用流体を洗浄槽内へ導き、上記被処理物を乾燥する乾燥工程を有することを特徴とするものである。
【００２６】
請求項１５に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項１３または１４に記載の発明において、上記洗浄・リンス工程では、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄を実施することを特徴とするものである。
【００２７】
請求項１６に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項１４に記載の発明において、上記乾燥工程では、乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とするものである。
【００２８】
請求項１７に記載の発明に係る保持手段は、装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段とを有し、洗浄槽内の洗浄用流体により、当該洗浄槽に配設された被処理物を洗浄またはリンスする洗浄装置において、上記保持手段は、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の裏面を非接触状態で保持することを特徴とする。
【００２９】
請求項１８に記載の発明に係る乾燥装置は、乾燥槽内の乾燥用流体により、当該乾燥槽に配設された被処理物を乾燥する乾燥装置であって、装置躯体に当接して上記乾燥槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、この一側壁の外側から上記開口を通して、上記一側壁の内側に搬入された上記被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とする保持手段と、上記一側壁の内面における上記開口周囲に設けられ、上記被処理物の裏面が接触することで、この被処理物と上記開口周囲との間に隙間を形成する隙間形成部材と、を有することを特徴とする。
【００３０】
請求項１９に記載の発明に係る乾燥装置は、請求項１８に記載の発明において、上記乾燥槽に、乾燥用流体を乾燥槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とする。
【００３１】
請求項２０に記載の発明に係る乾燥装置は、請求項１８または１９に記載の発明において、上記乾燥用流体として、まず有機溶剤ミストを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とする。
【００３２】
請求項２１に記載の発明に係る洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄液により、当該洗浄槽内に配設された被処理物を洗浄する洗浄装置であって、装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁を有し、上記被処理物が縦方向に起立し、且つ上記被処理物の処理面と反対の面の周縁部が上記一側壁の内面における上記開口周囲に密着されて上記開口が閉塞され、上記被処理物が上記処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれに臨ませて当該洗浄槽に装着される構成としたことを特徴とするものである。
【００３３】
請求項２２に記載の発明に係る洗浄装置は、洗浄槽内の洗浄液により、当該洗浄槽内に配設された被処理物を洗浄する洗浄装置であって、装置躯体に当接して上記洗浄槽を構成すると共に、上記被処理物の外形に対応する開口が形成された一側壁と、上記被処理物の処理面と反対の面を、上記洗浄槽の外側から上記開口を通して保持する保持手段とを有し、この保持手段により、上記被処理物が縦方向に起立し、且つ上記処理面と反対の面の周縁部が上記一側壁の内面における上記開口周囲に密着されて上記開口が閉塞され、上記被処理物が上記処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれに臨ませて当該洗浄槽に装着される構成としたことを特徴とするものである。
【００３４】
請求項２３に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２１または２２に記載の発明において、上記洗浄槽内へは、この洗浄槽の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄液が循環して供給されることを特徴とするものである。
【００３５】
請求項２４に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２１乃至２３のいずれかに記載の発明において、上記洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して、超音波振動装置が配置されたことを特徴とするものである。
【００３６】
請求項２５に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２１乃至２４のいずれかに記載の発明において、上記一側壁が、装置躯体に対し開口の軸方向に移動可能に構成され、この一側壁の上記装置躯体からの離反時に被処理物が搬入されて保持手段により上記一側壁に装着され、この一側壁と上記装置躯体との当接により洗浄槽が構成されることを特徴とするものである。
【００３７】
請求項２６に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２２乃至２５のいずれかに記載の発明において、上記保持手段が、旋回流により発生する負圧の作用で、被処理物の処理面と反対の面を非接触状態で保持することを特徴とするものである。
【００３８】
請求項２７に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２１乃至２６のいずれかに記載の発明において、上記洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことを特徴とするものである。
【００３９】
請求項２８に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２７に記載の発明において、上記乾燥用流体供給槽が、高温の有機溶剤及び不活性ガスが供給される２流体ノズルを備え、上記有機溶剤及び不活性ガスの温度は、上記２流体ノズルからの流体の噴射と同時に上記流体が気化し得る温度であることを特徴とするものである。
【００４０】
請求項２９に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２８に記載の発明において、上記有機溶剤が、２流体ノズルに接続されるパイプに巻き付けられた面状発熱体によって加熱されることを特徴とするものである。
【００４１】
請求項３０に記載の発明に係る洗浄装置は、請求項２９に記載の発明において、上記乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とするものである。
【００４２】
請求項３１に記載の発明に係る洗浄方法は、被処理物を洗浄槽内に搬入し、この被処理物の処理面を上記洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれ臨ませて、当該被処理物を上記洗浄槽に装着する被処理物搬入工程と、上記洗浄槽内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液する上記被処理物の上記処理面を洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とするものである。
【００４３】
請求項３２に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項３１に記載の発明において、上記洗浄工程の終了後に、被処理物を洗浄槽内に装着した状態で乾燥用流体を洗浄槽内へ導き、上記被処理物を乾燥する乾燥工程を有することを特徴とするものである。
【００４４】
請求項３３に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項３１または３２に記載の発明において、上記洗浄工程では、洗浄槽外に設置されたフィルタと上記洗浄槽との間で洗浄液を循環することを特徴とするものである。
【００４５】
請求項３４に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項３１乃至３３のいずれかに記載の発明において、上記洗浄工程では、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄を実施することを特徴とするものである。
【００４６】
請求項３５に記載の発明に係る洗浄方法は、請求項３１乃至３４のいずれかに記載の発明において、上記乾燥工程では、乾燥用流体として、まず有機溶剤のベーパーを用い、次に加熱された不活性ガスを用いることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００４７】
請求項１または４に記載の発明によれば、装置躯体に当接して洗浄槽を構成する一側壁が、被処理物の外形に対応する開口を備え、保持手段が、一側壁の外側から上記開口を通して、この一側壁の内側に搬入された被処理物の裏面を保持可能として、この被処理物を縦方向に起立状態とし、一側壁の内面における開口周囲に設けられた隙間形成部材に被処理物の裏面が接触することで、この被処理物と上記開口周囲との間に隙間を形成する。従って、洗浄槽内に洗浄用流体が供給されたときには、この洗浄槽内の洗浄用流体により被処理物の表面を洗浄またはリンスすると共に、洗浄槽内における洗浄用流体の圧力（水圧）の作用で、隙間形成部材により形成された隙間を経て洗浄槽から流出した洗浄用流体が、被処理物の裏面を洗浄またはリンスする。この結果、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄またはリンスすることができる。さらに、洗浄用流体が隙間形成部材により形成された隙間を経て洗浄槽外へ流出し、被処理物の裏面を洗浄またはリンスする過程において、被処理物の端面も洗浄またはリンスすることができる。
【００４８】
また、被処理物の裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体は、洗浄槽内における洗浄用流体の圧力（水圧）の作用によってこの洗浄槽内へ流入することがないので、被処理物の裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体によって、被処理物の表面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【００４９】
請求項２に記載の発明によれば、一側壁の開口周囲と、縦方向に起立して配設された被処理物との間の隙間は、上方部分が下方部分よりも広く設定されている。従って、上記隙間の下方部分から流出する洗浄槽内の洗浄用流体の流出量を抑制でき、この洗浄槽内に洗浄用流体を良好に貯溜できると共に、上記隙間の上方部分を広く設定することで、この上方部分から流出する洗浄用流体の流出量が増大し、被処理物の裏面の全面を均一に洗浄またはリンスすることができる。
【００５０】
請求項３に記載の発明によれば、洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して超音波振動装置が配置されたことから、超音波振動装置により発生する超音波が、洗浄槽内の洗浄用流体に作用して被処理物の表面の全面を均一に超音波洗浄またはリンスすると共に、被処理物の裏面を流れる洗浄用流体に作用して、当該被処理物の裏面の全面をも均一に超音波洗浄またはリンスする。この結果、被処理物の表面及び裏面をムラなく良好に洗浄またはリンスすることができる。
【００５１】
請求項５または２６に記載の発明によれば、被処理物の裏面が非接触状態で保持手段に保持されることから、この裏面が保持手段により保持されることによって汚染されることを防止できるとともに、従来、チャック等が接して洗浄が困難であった被処理物の端面においても、同様に汚染の防止ができる。
【００５２】
請求項６に記載の発明によれば、保持手段は、一側壁に対し開口の軸方向に相対移動可能に当該一側壁に設置され、洗浄槽内に洗浄用流体が供給されたときに被処理物から退避して、この被処理物の保持を解除するよう構成されている。従って、被処理物は、洗浄槽内に洗浄用流体が供給されたときにはこの洗浄用流体の圧力（水圧）によって保持され、上記以外のときには保持手段によって非接触状態に保持されるので、いずれの場合にも汚染されることがない。また、従来、チャック等が接して洗浄が困難であった被処理物の端面においても、同様に汚染の防止ができる。
【００５３】
請求項７に記載の発明によれば、一側壁に設置された受け部材が、被処理物を点接触状態で支持することから、被処理物が受け部材に支持されることで発生する汚染を抑制することができる。
【００５４】
請求項８、２３または３３に記載の発明によれば、洗浄槽内へは、この洗浄槽の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄用流体が循環して供給されることから、洗浄用流体の繰り返しの使用によってその消費量を低減できると共に、洗浄用流体の温度管理も容易化できる。
【００５５】
請求項９または２７に記載の発明によれば、洗浄槽には、乾燥用流体を洗浄槽内へ導く乾燥用流体供給槽が連設されたことから、被処理物を洗浄槽内に装着させた状態で乾燥用流体供給槽からの乾燥用流体により上記被処理物を乾燥できるので、洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して迅速に実施できる。
【００５６】
請求項１０または２８に記載の発明によれば、２流体ノズルに供給される高温の有機溶剤及び不活性ガスの温度が、２流体ノズルからの流体の噴射と同時に流体が気化し得る温度であることから、液体の噴射に比較して、被処理物に付着した水分の置換効率が上がるとともに、その噴射液量のみならず、排液の量も減らすことが可能である。
【００５７】
請求項１１または２９に記載の発明によれば、有機溶剤を、パイプに巻き付けられた面状発熱体によって加熱することから、簡易な構成で有機溶剤の加熱が行えるとともに、パイプを例えば、水や、高純度薬液に対して金属イオンの溶出を抑えたＳＵＳ配管で構成し、上記ＳＵＳ配管にアースを接続することにより、帯電を防止して、発火しやすい有機溶剤に対しても防爆を容易に達成することができる。
【００５８】
請求項１２または３０に記載の発明によれば、乾燥用流体として、まず、有機溶剤のベーパーを用いて被処理物に付着した水分を置換して乾燥させ、次に、加熱された不活性ガスを用いて被処理物を急速に乾燥させることから、被処理物に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。
【００５９】
請求項１３に記載の発明によれば、被処理物が、表面を洗浄槽内に、裏面を洗浄槽外にそれぞれ臨ませ、洗浄槽との間に隙間を設けて当該洗浄槽に装着されることから、洗浄槽内の洗浄用流体に接液する被処理物の表面を、当該洗浄用流体によって洗浄またはリンスできると共に、上記隙間から流出する洗浄用流体によって、被処理物の裏面を洗浄またはリンスできるので、被処理物の表面及び裏面を同時に洗浄またはリンスできる。さらに、洗浄用流体が、上記隙間を経て洗浄槽外へ流出し、被処理物の裏面を洗浄またはリンスする過程において被処理物の端面も洗浄またはリンスすることができる。
【００６０】
また、被処理物の裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体は、洗浄槽内における洗浄用流体の圧力（水圧）の作用によってこの洗浄槽内へ流入することがないので、被処理物の裏面を洗浄またはリンスした洗浄用流体によって被処理物の表面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【００６１】
請求項１４または請求項３２に記載の発明によれば、被処理物の洗浄・リンス工程の終了後に、被処理物を洗浄槽内に装着した状態で乾燥用流体を洗浄槽内へ導いて、この被処理物を乾燥することから、洗浄・リンス工程と乾燥工程とを連続して迅速に実施できる。
【００６２】
請求項１５に記載の発明によれば、洗浄・リンス工程において、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄またはリンスを実施することから、超音波が被処理物の表面及び裏面に均一に作用するので、洗浄またはリンスをムラなくに良好に実施できる。
【００６３】
請求項１６または３５に記載の発明によれば、乾燥工程では、まず、有機溶剤のベーパーで被処理物に付着した水分を置換させ、次に、加熱された不活性ガスを用いて被処理物を乾燥させることから、被処理物に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。
【００６４】
請求項１７に記載の発明によれば、被処理物の保持手段が、被処理物の裏面を非接触状態で保持するため、この裏面が保持手段により保持されることによって汚染されることを防止できるとともに、従来、チャック等が接して洗浄が困難であった被処理物の端面においても、同様に汚染の防止ができる。
【００６５】
請求項１８及び１９に記載の発明によれば、上記被処理物を保持手段により縦方向に起立した状態で乾燥出来るので、乾燥槽ひいては乾燥装置全体の省スペース化を実現できる。
【００６６】
請求項２０に記載の発明によれば、乾燥用流体として、まず、有機溶剤のベーパーを用いて被処理物に付着した水分を置換して乾燥させ、次に、加熱された不活性ガスを用いて被処理物を急速に乾燥させることから、被処理物に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。
【００６７】
請求項２１、２２または２５に記載の発明によれば、洗浄槽の一側壁に開口が形成され、被処理物が縦方向に起立し、且つ処理面と反対の面の周縁部が一側壁の内面における開口周囲に密着されて上記開口が閉塞され、被処理物が処理面を洗浄槽内に、上記処理面と反対の面を上記洗浄槽外にそれぞれに臨ませて当該洗浄槽に装着されることから、被処理物の処理面に洗浄液が接し、処理面と反対の面に洗浄液が接しないので、処理面と反対の面の汚れが処理面側に回り込んで当該処理面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。この場合、被処理物の処理面と反対の面を上記洗浄槽外に臨ませて当該洗浄槽に装着することから、被処理物の端面も洗浄することができる。
【００６８】
請求項２４に記載の発明によれば、洗浄装置には、被処理物に対向すると共に平行して超音波振動装置が配置されたことから、超音波振動装置により発生する超音波が被処理物の処理面の全面に均一に作用するので、当該被処理物の処理面をムラなく良好に洗浄することができる。
【００６９】
請求項３１に記載の発明によれば、被処理物が、その処理面を洗浄槽内に、処理面と反対の面を洗浄槽外にそれぞれ臨ませて当該洗浄槽内に搬入され装着されることから、被処理物の処理面が洗浄液に接し、処理面と反対の面が洗浄液に接しないので、この処理面と反対の面の汚れが処理面側に回り込んでこの処理面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【００７０】
請求項３４に記載の発明によれば、洗浄工程において、洗浄槽に装着された被処理物に対向して平行に設置された超音波振動装置からの超音波を用いて洗浄を実施することから、超音波が被処理物の処理面に均一に作用するので、洗浄をムラなくに良好に実施できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００７１】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面に基づき説明する。
【００７２】
［Ａ］第１の実施の形態（図１〜図１７）
図１は、本発明に係る洗浄装置の第１の実施の形態が備えられた洗浄設備を、一部を切り欠いて示す斜視図である。図２は、図１の洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図３は、図１の洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。図１３は、図２の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【００７３】
図１に示す洗浄設備１０は、被処理物としての半導体基板（例えばウエハ１）を洗浄する複数台の洗浄装置１１（後に詳説）が配置された洗浄装置配置部１２と、この洗浄装置配置部１２に隣接して配置された薬液供給部１３と、この薬液供給部１３と反対の位置に配置されたウエハ給排部１４と、洗浄装置配置部１２とウエハ給排部１４との間に配置された搬送用ロボット１５と、薬液供給部１３の上方に配置された電装部１６とを有して構成される。
【００７４】
上記薬液供給部１３は、アルカリ洗浄液、酸洗浄液、リンス液としての純水、並びに乾燥用流体としての有機溶剤及び不活性ガスなどを、洗浄装置配置部１２の洗浄装置１１へ供給するものである。尚、上記洗浄液及びリンス液を洗浄用流体と称する。また、上記ウエハ給排部１４は、複数枚のウエハ１が水平状態で収納されたウエハ搬送容器(所謂フープ)１７を載置する載置台１８と、上記ウエハ搬送容器１７の蓋を開閉する図示しない容器オープナーとを備える。ウエハ搬送容器１７内のウエハ１を洗浄装置１１へ送り出す際、または洗浄装置１１にて処理されたウエハ１をウエハ搬送容器１７内へ収納する際に、容器オープナーがウエハ搬送容器１７の蓋を開ける。
【００７５】
上記搬送用ロボット１５は、ロボット本体１９に第１アーム２０Ａ、第２アーム２０Ｂ、第３アーム２０Ｃ及びハンド部２０Ｄが順次連設されたものである。ロボット本体１９と第１アーム２０Ａとの間に第１軸２１Ａ、第１アーム２０Ａと第２アーム２０Ｂとの間に第２軸２１Ｂ、第２アーム２０Ｂと第３アーム２０Ｃとの間に第３軸２１Ｃ、第３アーム２０Ｃとハンド部２０Ｄとの間に第４軸２１Ｄがそれぞれ配設される。第１軸２１Ａ、第２軸２１Ｂ及び第３軸２１Ｃを介して、第１アーム２０Ａ、第２アーム２０Ｂ及び第３アーム２０Ｃが矢印Ｐに示すように水平面内で回転可能に設けられ、また、第４軸２１Ｄを介してハンド部２０Ｄが水平面と鉛直面との間で回転可能に、つまり第３アーム２０Ｃに対し矢印Ｑ方向に回転可能に設けられる。また、ロボット本体１９は、レール２２に沿って洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の配列方向に移動可能に構成される。
【００７６】
ハンド部２０Ｄには、洗浄装置１１における後述のウエハ保持装置２４(図２)と同様に、旋回流により発生する負圧の作用でウエハ１の処理面としての表面２を非接触状態で保持する非接触保持具（不図示）を備える。
【００７７】
従って、搬送用ロボット１５は、ウエハ給排部１４におけるウエハ搬送容器１７の開動作時に、第１アーム２０Ａ、第２アーム２０Ｂ及び第３アーム２０Ｃの作用でハンド部２０Ｄをウエハ搬送容器１７内へ挿入して、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持し、ロボット本体１９がレール２２に沿って移動することで、ハンド部２０Ｄが保持したウエハ１を所望の洗浄装置１１のウエハ保持装置２４(図２)へ受け渡す。また、搬送用ロボット１５は、ロボット本体１９、第１アーム２０Ａ、第２アーム２０Ｂ及び第３アーム２０Ｃの動作によって、ハンド部２０Ｄが、洗浄装置１１にて洗浄及び乾燥処理されたウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、上記洗浄装置１１のウエハ保持装置２４から受け取り、このウエハ１をウエハ給排部１４におけるウエハ搬送容器１７内へ収納する。
【００７８】
また、電装部１６は、洗浄装置配置部１２の各洗浄装置１１、薬液供給部１３、ウエハ給排部１４及び搬送用ロボット１５へ電力を供給するものである。この電装部１６は、薬液供給部１３の上方に配置されることで、洗浄液等の液体が掛かることが防止される。その他、洗浄設備１０には、洗浄装置配置部１２の上方及び下方に各種の配管が設置されている。
【００７９】
さて、洗浄装置１１は、図２〜図９及び図１３（特に図１３）に示すように、基本構造となるボックス形状の装置躯体２９において、その下部に、洗浄液、純水を貯液してウエハ１の洗浄を行う扁平ボックス形状の洗浄槽２３と、この洗浄槽２３内にウエハ１を装着するウエハ保持装置２４と、洗浄槽２３に隣接すると共にウエハ保持装置２４と反対の位置に石英板５３により区画されて併設された間接槽５２と、間接槽５２に隣接すると共に洗浄槽２３と反対の位置に設置された超音波振動装置２５と、洗浄槽２３の上方で、この洗浄槽２３に隣接して設けられた第１オーバーフロー槽２６と、洗浄槽２３の上方で洗浄槽２３に連設して設けられて、この洗浄槽２３内へ乾燥用流体を導く乾燥用流体供給槽２７とを有して構成される。
【００８０】
また、扁平ボックス形状の洗浄槽２３は、装置躯体２９における洗浄槽構成部２３Ａに対して、石英板５３に対向する位置に、一側壁としての正面壁２８が当接することで構成される。この正面壁２８には、ウエハ１の外形に対応する形状の開口３０が形成される。  また、正面壁２８の内面には、装置躯体２９と当接する領域にシール部材３２が配設される。
【００８１】
上記正面壁２８の上端には、図５及び図８に示すように水平プレート３３が直交して結合され、この水平プレート３３にスライダ３４が取り付けられる。また、洗浄槽２３の上方の乾燥用流体供給槽２７には、側面視Ｌ字形状のベースプレート部３５が固着され、このベースプレート部３５の水平プレート３６にレール３７が敷設される。このレール３７に上記スライダ３４が摺動自在に嵌合される。また、正面壁２８の下部には、図４及び図５に示すように貫通孔３８が形成されると共に、この貫通孔３８と同軸にブッシュ３９が固着される。また、装置躯体２９には、下部に支持シャフト４０がシャフトベース４１を介して取り付けられ、この支持シャフト４０が上記貫通孔３８及びブッシュ３９に摺動自在に挿通される。
【００８２】
上記ベースプレート部３５の水平プレート３６には、図２に示すように、ロッドレスタイプのスライドシリンダ４２が設置され、このスライドシリンダ４２の図示しないピストンが、上記水平プレート３６を貫通して正面壁２８の水平プレート３３に結合される。従って、このスライドシリンダ４２の作動により、レール３７及びスライダ３４と、支持シャフト４０及びブッシュ３９とに案内されて、正面壁２８は、装置躯体２９に対し開口３０の軸方向３０Ｒ（図５）に沿って、例えば７５ｍｍのストロークで移動可能に構成される。
【００８３】
図４及び図５に示すように、装置躯体２９の両側部上下にはクランプシリンダ４３が設置され、このクランプシリンダ４３のロッドにクランパ４４が取り付けられている。図７及び図８に示す正面壁２８と装置躯体２９との当接時には、上記クランプシリンダ４３が作動してクランパ４４が正面壁２８を装置躯体２９に押圧させ、正面壁２８が装置躯体２９に一体化されて洗浄槽２３が構成される。このとき、正面壁２８のシール部材３２（図７及び図１３）が装置躯体２９に密着して、正面壁２８と装置躯体２９とのシール性が良好に確保される。
【００８４】
前記ウエハ保持装置２４は、図４、図５及び図１２に示すように、基部４５がウエハ１の大きさに対応して円板状に構成され、円板状に構成された基部４５の端部内側には等間隔に例えば６つの非接触保持具としての凹部４７が形成される。特開２００２‐６４１３０号公報に記載の如く、凹部４７内（図４、図１０、図１２）に旋回流が形成されることで当該凹部４７に負圧が形成され、この負圧の作用で凹部４７に張り付くようにウエハ１の裏面３（ウエハ１における表面２と反対の面）が非接触状態で保持される。例えば、ウエハ１は、ウエハ保持装置２４の凹部４７との間で、約０．２５ｍｍの隙間を隔てた状態で、このウエハ保持装置２４に非接触状態で保持される。
【００８５】
また、図１２に示すように円板状の基部４５の内側中心には、複数の孔からなる乾燥用流体供給孔４８が設けられており、該開口４８から高温の窒素ガス等の乾燥用流体をウエハ１の裏面３に供給することが可能である。さらに、図１２〜図１４に示すように、円板状の基部４５の外側には、乾燥工程時にウエハ１の裏面をもＩＰＡベーパー雰囲気下とするべく、正面壁２８と当接する板状のカバー４６が基部４５を覆うように配されており、カバー４６の内面には、正面壁２８と当接する領域にシール部材４６ａが配設される。
【００８６】
図２、図５及び図１２に示すように、正面壁２８の両側にはサイド板７９が設置され、このサイド板７９に取付プレート７７を介して保持装置用シリンダ７８が配置される。この保持装置用シリンダ７８のロッド先端に上記ウエハ保持装置２４が取り付けられる。図８及び図９に示すように、保持装置用シリンダ７８は、ロッドの進退動作によってウエハ保持装置２４を、正面壁２８に対し開口３０の軸方向３０Ｒに沿って相対移動可能とする。この保持装置用シリンダ７８によるウエハ保持装置２４の移動量（ストローク）はたとえば３０ｍｍである。
【００８７】
保持装置用シリンダ７８は、ウエハ１の搬入出時（図５）、受け渡し時（図６）、セット時または乾燥時（図８）には、ロッドの前進動作によって、ウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内に進入させて位置付ける。この場合、ウエハ保持装置２４のカバー４６は、正面壁２８に当接し、カバー４６のシール部材４６ａ（図１２〜図１４）が正面壁２８に密着して、カバー４６と正面壁２８とのシール性が良好に確保される。また、保持装置用シリンダ７８は、ウエハ１の洗浄時またはリンス時（図９）には、ロッドの後退動作によって、ウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０外へ退避させる。
【００８８】
前述のごとく、正面壁２８は装置躯体２９に対して開口３０の軸方向３０Ｒに沿って移動可能とされる。この正面壁２８が装置躯体２９から離反するウエハ１の搬入出時または受け渡し時には（図５、図６）、保持装置用シリンダ７８によってウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０内に進入して位置付けられる。従って、正面壁２８が装置躯体２９から離反し、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄがウエハ１の表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入ったとき、ウエハ保持装置２４が負圧の作用で、正面壁２８の外側から開口３０を通して上記ウエハ１の裏面３を非接触状態で保持して、このウエハ１はウエハ保持装置２４に受け渡しされ、洗浄装置１１の洗浄槽２３内に搬入される。このとき、ウエハ１は、縦方向に起立した状態でウエハ保持装置２４に保持される。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図８、図１０及び図１３に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成され、洗浄液等の貯液が可能となり、洗浄が可能となる。
【００８９】
ところで、図７、図８及び図１１に示すように、上記正面壁２８の外面には、開口３０の周囲にざぐり面部７０が形成され、このざぐり面部７０に隙間形成部材としてのピン７１が植設されている。このピン７１は、開口３０の周囲に沿って略等間隔に複数本、例えば１２本設けられる。
【００９０】
洗浄槽２３内に搬入されたウエハ１は、縦方向に起立した状態で、ウエハ１の受け渡し時（図６）、セット時または乾燥時（図８）にウエハ保持装置２４の負圧の作用により、また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時（図９）には洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）により、また、後述のウエハ１の洗浄時またはリンス時であって、洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内から排出された場合は（後述）、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点における洗浄液等の残存液の表面張力により、その裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して保持される。従って、ウエハ１は、表面２が洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むようにして洗浄槽２３に装着されると共に、図１０に示すように、上記ピン７１によってウエハ１と正面壁２８の開口３０周囲との間に環状の隙間７２を形成しつつ、この開口３０を閉塞する。
【００９１】
ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図９及び図１３に示すように、装置躯体２９の下部に設けられた洗浄液給液口４９から洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３内へ導かれる。この洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内を上方へ向かって流動し、ウエハ１の表面２を洗浄またはリンスした後、第１オーバーフロー槽２６に一時貯溜される。この第１オーバーフロー槽２６に貯溜された洗浄液またはリンス液は、この第１オーバーフロー槽２６に設けられたオーバーフロー槽排液口５０及び排液パイプ７４を経て排液槽７５に貯溜され、この排液槽７５に設けられた排液口７６から排出される。排液口７６から排出される洗浄液は、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過された後、洗浄槽２３内に戻される。
【００９２】
このウエハ１の洗浄時またはリンス時には、図１５において矢印で示すように、上記ピン７１によって形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液が洗浄槽２３外へ流出し、この洗浄液またはリンス液がウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスする。環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出しウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で、この洗浄槽２３内へ流入することがない。このため、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液によってウエハ１の表面２が転写汚染されることがない。また、洗浄液またはリンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄等する過程において、ウエハ１の端面も洗浄またはリンスされる。
【００９３】
上述のように、ウエハ１の裏面３に洗浄液などの流体が流れることから、ウエハ１の洗浄時またはリンス時には、ウエハ保持装置２４は、保持装置用シリンダ７８によって正面壁２８の開口３０から離反し(図９)、ピン７１に接触したウエハ１から退避して当該ウエハ１の保持を解除する。このとき、ウエハ１は、洗浄槽２３内に供給された洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）によってピン７１への接触状態が維持される。
【００９４】
ここで、上記ピン７１の突出長さは、図１０に示すように、正面壁２８において開口３０の上部に設置されたピン７１が下部に設置されたピン７１よりも大きく設定される。これにより、環状隙間７２の上方部分は下方部分よりも広く設定される。例えば、環状隙間７２の最上部の寸法が１．０ｍｍに、最下部の寸法が０．１ｍｍにそれぞれ設定される。環状隙間７２の下方部分が狭く設定されることで、図１３に示すウエハ１の洗浄時またはリンス時に、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が貯溜され易くなる。また、環状隙間７２の上方部分が広く設定されることで、ウエハ１の洗浄時またはリンス時に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によって、ウエハ１の裏面３の全面が均一に洗浄またはリンスされる。このウエハ１の裏面３の均一な洗浄またはリンスは、洗浄槽２３内を流れる洗浄液またはリンス液の流速との相乗効果で実現される。
【００９５】
尚、上記実施の形態では、図１０及び図１１に示すように、ピン７１が植設されるざぐり面部７０が鉛直面に平行なものを述べたが、このざぐり面部７０が上方部分ほど深く削り込まれて、鉛直面に対し傾斜して形成されてもよい。このようなざぐり面部７０に、突出長さが上述の如く異なる複数のピン７１を植設した場合には、これらのピン７１に接触するウエハ１を鉛直面に平行に配置することが可能となる。ウエハ１を鉛直面に平行に配置することにより、間接槽５２の背面に装着される超音波振動子５１とウエハ１とを容易に平行状態とすることが可能となり、ウエハ１と超音波振動子５１との間で、何れの部分においても距離が完全に一致することにより超音波洗浄による洗浄むらの発生を容易に防止することが可能となる。
【００９６】
更に、正面壁２８の外面には、開口３０の周囲の下部に受け部材７３が設置される。この受け部材７３は、開口３０に沿って複数個、例えば４個設けられる。この受け部材７３がウエハ１を支持する上部は先細り形状に形成されて、ウエハ１の周縁を点接触状態で支持し、ウエハ１への汚染等が抑制される。また、受け部材７３の下部も先細り形状に形成されて、良好な液切れが実現される。
【００９７】
また、正面壁２８の外面には、図７、図９及び図１３に示すように、開口３０周囲の下部に第２オーバーフロー槽８０が設置される。この第２オーバーフロー槽８０は、環状隙間７２から流出してウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液を受け取って集め一時貯溜するものである。この第２オーバーフロー槽８０に集められた洗浄液またはリンス液は、排液パイプ８１を経て排液槽７５へ導かれ、第１オーバーフロー槽２６からの洗浄液またはリンス液と共に、排液槽７５の排液口７６から排出される。第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５へ導かれた洗浄液も、第１オーバーフロー槽２６から排液槽７５へ導かれた洗浄液と共に、前述の如く、図示しないフィルタ及び循環ポンプによってろ過されて、洗浄槽２３内へ戻される。
【００９８】
上記洗浄槽２３は、後述の如く石英板５３によって間接槽５２と区画されるが、この洗浄槽２３内におけるウエハ１と石英板５３との間の寸法Ｌ１(図１３)は、洗浄槽給液口４９が設けられた洗浄槽２３の下部の寸法Ｌ２や、第１オーバーフロー槽２６に連設する洗浄槽２３の上部の寸法Ｌ３よりも狭く設定される。これにより、洗浄槽２３の中央部を流動する洗浄液またはリンス液の流速が上がり、洗浄槽２３に配設されたウエハ１の表面２の洗浄効率またはリンス効率の向上が図られると共に、環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液によるウエハ１の裏面３全面の均一な洗浄またはリンスが実現される。例えば、上記寸法Ｌ１は約５ｍｍに、上記寸法Ｌ２及びＬ３は約３５ｍｍにそれぞれ設定される。
【００９９】
図３、図９及び図１３に示すように、前記超音波振動装置２５は、超音波振動子５１、間接槽５２、石英板５３及び図示しない高周波発振器を有して構成される。前述の如く間接槽５２は、石英板５３を介して洗浄槽２３に隣接し、超音波伝達媒体としての純水を満たす。間接槽５２には、下部に間接槽給排液口５４が、上部に間接槽オーバーフロー口５５がそれぞれ形成され、間接槽給排液口５４から新鮮な純水が間接槽５２内へ導入され、この間接槽５２内の純水が間接槽オーバーフロー口５５を経て排水されたことを確認して超音波振動装置２５が作動する。
【０１００】
上記超音波振動子５１は間接槽５２の背面に装着され、この超音波振動子５１と石英板５３とは、洗浄槽２３に装着されたウエハ１に対向して略平行に配置される。上記高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ送信されることによって、この超音波振動子５１が超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液へ至り、ウエハ１の表面２を超音波洗浄またはリンスする。更に、洗浄槽２３内へ至った超音波振動は、ウエハ１を経て、このウエハ１の裏面３を流れる洗浄液またはリンス液へ伝播され、ウエハ１の裏面３を超音波洗浄またはリンスすることが可能であり、ウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面を均一に洗浄またはリンス可能となっている。この超音波の作用により、アルカリ洗浄液によるウエハ１の洗浄効率、及びこのアルカリ洗浄後のリンス液（純水）によるリンス効率が向上する。
【０１０１】
図３、図７及び図８に示すように、前記乾燥用流体供給槽２７は、洗浄槽２３内に流体を供給するべく、複数個の２流体ノズル５６、純水ノズル５７及びガス供給部５８を有して構成され、上記２流体ノズル５６は、圧搾空気の高速の流れを利用して液体を微粒化するノズルであって、有機溶剤供給口５９及び不活性ガス供給口６０が接続される。また、図３に示すように、有機溶剤供給口５９には、有機溶剤を供給するためのパイプ５９ａが接続される。パイプ５９ａは、アースに接続され、かつ、水や、高純度薬液に対して金属イオンの溶出を抑えたＳＵＳ配管によって構成され、該パイプ５９ａには、面状発熱体としてのラバーヒーター５９ｂが巻き付けられている。
【０１０２】
有機溶剤供給口５９を経て２流体ノズル５６へ供給される有機溶剤は、水溶性で且つウエハ１に対する純水の表面張力を低下させて、乾燥を促進しうるアルコール類、ケトン類またはエーテル類から選択され、本実施の形態ではＩＰＡ(Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ)が用いられ、上記ラバーヒーター５９ｂにより、例えば４０℃に加熱されて、２流体ノズル５６へと至る。また、不活性ガス供給口６０を経て２流体ノズル５６へ供給される不活性ガスは、有機溶剤であるＩＰＡと同時に供給されて安全性を確保するものであり、本実施の形態では窒素ガス（Ｎ２）が用いられ、予めヒーター（図示せず）により、例えば１５０℃に加熱されて、２流体ノズル５６へ供給される。２流体ノズル５６へ高温のＩＰＡと窒素ガスが供給されることで、この２流体ノズル５６がＩＰＡミストを生成する。尚、上記有機溶剤の加熱は、上記ラバーヒーター５９ｂによることのみならず、例えば、予めヒーターで加熱された不活性ガスのタンク内に、有機溶剤供給口５９に接続されるパイプ５９ａを挿通して、既に加熱された不活性ガスの熱を利用することによって有機溶剤の加熱を行うことも可能である。
【０１０３】
２流体ノズル５６で生成されたＩＰＡミストは、流体自体が高温に維持されているため、ノズルからの噴射とほぼ同時にミストから蒸気へと気化してＩＰＡベーパーとなり、ＩＰＡベーパーが、洗浄槽２３内へ導かれる。洗浄槽２３内で洗浄されリンスされたウエハ１へ上記ＩＰＡベーパーが導かれることで、ウエハ１の表面２に付着した水分が、蒸発しやすいＩＰＡベーパー雰囲気下となり、このウエハ１の表面２の乾燥が促進される。このＩＰＡベーパーは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水された後に、この洗浄槽２３内へ導入される。
【０１０４】
前記ガス供給部５８は、図示しないヒーターのｏｎ又はｏｆｆにより常温又は高温の窒素ガス（Ｎ２）を洗浄槽２３内に供給するものである。ウエハ１が疎水性である場合に、２流体ノズル５６にてＩＰＡベーパーを生成する前に常温の窒素ガス（前記ヒーターｏｆｆ）を噴射して、洗浄槽２３内で洗浄されリンスされた上記疎水性のウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下とする。また、上述の常温の窒素ガスは、リンス液としての純水が洗浄槽２３内から排水される過程で、この排水と同時に洗浄槽２３内へ噴射される。
【０１０５】
また、ウエハ１の乾燥は、上述したガス供給部５８より、前記ヒーター（図示せず）により加熱された高温の不活性ガス、本実施の形態では高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内のＩＰＡベーパー雰囲気下のウエハ１の表面２へ供給されることにより、急速に達成される。ガス供給部５８から洗浄槽２３内へ高温の窒素ガスが導かれる際には、洗浄槽２３の下部に設けられたガス排気口６２(図７、図１３)から余剰の窒素ガスが排気される。
【０１０６】
尚、図７、図８及び図１３中の符号６４は、洗浄槽２３内へ洗浄液が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１を洗浄する際、または洗浄槽２３内へリンス液（純水）が供給されて、この洗浄槽２３内のウエハ１がリンスされる際に、この洗浄槽２３内の不要なガスを排気するためのガス排気口である。また、符号６５は、洗浄槽２３内の洗浄液、リンス液（純水）を排液する排液口である。
【０１０７】
また、図３、図４、図７及び図１３中の符号５７は純水を供給するノズル（純水ノズル）であって、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、純水（ＤＩＷ）を装置躯体２９の内側表面に供給するためのものである。純水ノズル５７は、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反している状態で純水を洗浄槽２３へと供給するものであり、洗浄槽２３内に純水を貯留せずに冷却・洗浄を行う必要があるため、純水を装置躯体２９の内側及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う。そのため、純水ノズル５７は、図３、図５及び図１３に示すように、その供給口が装置躯体２９の内側表面に接するよう取り付けられている。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。
【０１０８】
また、図３乃至図９中の符号８５、８６は、洗浄槽２３内の液面を検出する液面検出センサー８９（図７にのみ図示）が配されたパイプ８７（図７にのみ図示）へと繋がる接続口である。接続口８５は、洗浄槽２３側面であって、第１オーバーフロー槽２６に対応する位置に設けられており、接続口８６は、洗浄槽２３側面であって、洗浄給液口４９の下方、即ち、洗浄槽２３の最下部に設けられている。液面検出センサー８９は、静電容量近接センサー等のパイプ８７内の液体の有無を確認しうる手段によって構成され、継手８７ａ（図７にのみ図示）によって接続口８５、８６に連結された鉛直方向に配されるパイプ８７に取り付けられるものである。詳しくはウエハ保持装置２４が備える最も下方に配された凹部４７の下端に対応する位置に取り付けられる。これによって、リンス終了後、リンス液を排液して乾燥工程に移行する場合、リンス液の液面が、ウエハ保持装置２４の最も下方の凹部４７の下端より下がったことを液面検出センサー８９により確認してウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へと進入させて、ウエハ１の裏面３を保持することが可能であり、排液時に環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出するリンス液が、凹部４７の先端内側に形成された凹部４７に浸入することを防止することが可能である。
【０１０９】
次に、上述の洗浄装置１１の作用を、図１６及び図１７を用いて説明する。
【０１１０】
洗浄装置１１は、搬送用ロボット１５によりウエハ１を洗浄槽２３内へ搬入し、このウエハ１の表面２を洗浄槽２３内に、ウエハ１の裏面３を洗浄槽２３外に臨ませ、ウエハ１と正面壁２８との間に環状隙間７２を設けて、このウエハ１を洗浄槽２３に装着するウエハ１の搬入工程（Ｓ１〜Ｓ５）と、洗浄槽２３内で洗浄液を流動させ、この洗浄液に接液するウエハ１の表面２を洗浄しリンスすると共に、洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で上記環状隙間７２から流出する洗浄液またはリンス液により、ウエハ１の裏面３をリンスする洗浄・リンス工程（Ｓ６〜Ｓ２２）と、この洗浄・リンス工程の終了後に、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着した状態でＩＰＡベーパー、純水ミスト、高温窒素ガスを洗浄槽２３内へ導き、上記ウエハ１を乾燥する乾燥工程（Ｓ２３〜Ｓ２７）と、上記洗浄、リンス及び乾燥処理されたウエハ１を、搬送用ロボット１５により洗浄槽２３外へ搬出するウエハ１の搬出工程（Ｓ２８〜Ｓ３１）とを有する。これらの各工程を更に詳説する。
【０１１１】
ウエハ１の搬入工程では、図１に示すように、まず、洗浄設備１０におけるウエハ給排部１４のウエハ搬送容器（所謂フープ）１７が容器オープナーによって開けられ（Ｓ１）、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄがウエハ搬送容器１７内のウエハ１の表面２を非接触状態で保持する（Ｓ２）。そして、後述するステップ２９において純水ノズル５７より洗浄槽２３内に供給されている純水の供給が停止される（Ｓ３）。即ち、現在処理されているウエハ１の１つ前に処理されたウエハの乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行うべく、純水ノズル５７より、純水が、装置躯体２９及び石英板５３の表面に供給されているが、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着されるのに備え、純水の供給が停止される。
【０１１２】
次に、図４乃至図６に示すように、洗浄装置配置部１２における洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、正面壁２８の開口３０内に進入して位置付けられたウエハ保持装置２４が、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄに保持されたウエハ１の裏面３を非接触状態で保持して、搬送用ロボット１５からウエハ１を受け取る（Ｓ４）。この状態では、ウエハ１が正面壁２８のピン７１に接触して、ウエハ１と正面壁２８の開口３０周囲との間に環状隙間７２が形成され、図７及び図８に示すように、引き続き正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成されると同時に、ウエハ１が洗浄槽２３内に装着される（Ｓ５）。
【０１１３】
洗浄・リンス工程では、図９及び図１３に示すように、洗浄槽給液口４９からアルカリ洗浄液が洗浄槽２３内へ供給されると共に（Ｓ６）、間接槽５２内へ間接槽給排液口５４から純水が供給される（Ｓ７）。このアルカリ洗浄液の供給開始時に、保持装置用シリンダ７８の後退動作によってウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０外へ退避されて、ウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され(Ｓ８)、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持されると共に、ガス排気口６４が開操作される。
【０１１４】
洗浄槽２３内で洗浄液給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かってアルカリ洗浄液が流動し、このアルカリ洗浄液の一部が環状隙間７２から洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５に至り、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内のアルカリ洗浄液は、ろ過され洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。この間に、間接槽５２内で間接槽給排液口５４から間接槽オーバーフロー口５５へ向かって新鮮な純水が流動する。純水が間接槽５２内を流れる間に超音波振動装置２５が作動して、この超音波及びアルカリ洗浄液によりウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ９）。この場合、アルカリ洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【０１１５】
このアルカリ洗浄終了後、洗浄槽２３内のアルカリ洗浄液を排液口６５を経て排液し、超音波振動装置２５を停止し（Ｓ１０）、洗浄槽２３からアルカリ洗浄液が排液される。この場合、洗浄槽２３内の洗浄液が排出され、貯液されていないものの、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。アルカリ洗浄液の排液後、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内にリンス液としての純水（ＤＩＷ）を導く（Ｓ１１）。ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【０１１６】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６に向かって流動し、環状隙間７２から流出する間に超音波振動装置２５を作動して、ウエハ１の表面２及び裏面３をリンス液によりリンスする（Ｓ１２）。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄されて、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１１７】
上記リンス終了後に、超音波振動装置２５を停止し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排液する（Ｓ１３）。この場合、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点にリンス液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。超音波振動装置２５の停止と同時に間接槽５２内への純水の供給が停止され（Ｓ１４）、間接槽５２内の純水が間接槽給排液口５４を経て排液される（Ｓ１５）。
【０１１８】
次に、酸洗浄液が洗浄槽給液口４９から洗浄槽２３内へ供給される（Ｓ１６）。これにより、ウエハ１の裏面３が洗浄槽２３内の酸洗浄液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。この酸洗浄液は、洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、この酸洗浄液の一部が環状隙間７２から洗浄槽２３外へ流出し、第２オーバーフロー槽８０を経て排液槽７５へ至り、洗浄槽２３内の酸洗浄液の大部分が第１オーバーフロー槽２６を経て排液槽７５へ至る。この排液槽７５内の酸洗浄液は、ろ過され、洗浄槽給液口４９を経て洗浄槽２３内へ戻り循環する。このように循環する酸洗浄液が、ウエハ１の表面２及び裏面３を洗浄する（Ｓ１７）。この場合、酸洗浄液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄する過程において、ウエハ１の端面も洗浄される。
【０１１９】
この酸洗浄の終了後、洗浄槽２３内の酸洗浄液を排液口６５を経て排液する（Ｓ１８）、この場合、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点に洗浄液が残ることにより、その表面張力により、ウエハ１の裏面３における周縁部が上記ピン７１に接触して縦方向に起立した状態のまま保持される。洗浄槽２３内からの酸洗浄液の排液後に、この洗浄槽２３内へリンス液としての純水（ＤIＷ）を供給する(Ｓ１９)。これにより、ウエハ１の裏面３がリンス液の圧力（水圧）によりピン７１に接触して保持され、更にこのウエハ１が受け部材７３に支持される。
【０１２０】
このリンス液が洗浄槽２３内で洗浄槽給液口４９から第１オーバーフロー槽２６へ向かって流動し、環状隙間７２から流出する間にウエハ１の表面２及び裏面３をリンスする（Ｓ２０）。この場合、リンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３をリンスする過程において、ウエハ１の端面もリンスされる。このリンス時に、第１オーバーフロー槽２６及び第２オーバーフロー槽８０から排液槽７５を経て排水されたリンス液は廃棄され、洗浄槽２３内には洗浄槽給液口４９から新鮮なリンス液（純水）が供給される。
【０１２１】
上記リンス終了後に乾燥工程へ移行し、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液を排液する（Ｓ２１）。リンス液の排液時、図７に示す液面検出センサー８９により、リンス液の液面が、ウエハ保持装置２４の最も下方に位置する凹部４７の下端より下がったことを確認、即ち、リンス液が液面検出センサー８９より上方に存在しないことを検出して、図７及び図８に示すように、保持装置用シリンダ７８を前進動作させてウエハ保持装置２４を正面壁２８の開口３０内へ進入させて位置付け、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４によりピン７１に接触して保持する（Ｓ２２）。
【０１２２】
Ｓ２２で、ウエハ１の裏面３をウエハ保持装置２４により保持したとき、ウエハ１が疎水性であれば（Ｓ２３）、洗浄槽２３からのリンス液（純水）の排液と同時に、乾燥用流体供給槽２７におけるガス供給部５８から常温の窒素ガスを噴射して洗浄槽２３内へ導く（Ｓ２４）。疎水性のウエハ１を常温の窒素ガスの雰囲気下とすることで、次工程で洗浄槽２３内に噴射されるＩＰＡベーパーがウエハ１に馴染みやすい状態とするものである。そして、ガス供給部５８からの常温の窒素ガスの噴射開始時から所定時間経過後に、常温の窒素ガスの噴射を停止して（Ｓ２５）、次に述べるＩＰＡベーパーの噴射へ移行する。
【０１２３】
上記ステップＳ２０のリンス液（純水）排液後に、ステップＳ２３においてウエハ１が疎水性でない場合には、洗浄槽２３内から排液口６５を経てリンス液が排液された後に、乾燥用流体供給槽２７における２流体ノズル５６からＩＰＡベーパーを噴射する（Ｓ２６）。このＩＰＡベーパーの噴射開始前にガス排気口６４が閉操作される。ＩＰＡベーパーが洗浄槽２３内へ導かれることで、洗浄槽２３内がＩＰＡ雰囲気下になり、次工程（Ｓ２７）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。この場合、図１２〜図１４に示すように、ウエハ保持装置２４のカバー４６は、正面壁２８に当接し、カバー４６のシール部材４６ａが正面壁２８に密着しているため、カバー４６と正面壁２８とのシール性が良好に確保されており、図１４において矢印で示すように、カバー４６によりＩＰＡベーパーが正面壁２８とウエハ保持装置２４との隙間から拡散してしまうことが防止され、ウエハ１の裏面もＩＰＡベーパー雰囲気下となり、ウエハ１の裏面においても、次工程（Ｓ２７）の高温の窒素ガスによる乾燥が促進されやすい状態となる。
【０１２４】
上記ＩＰＡベーパー供給終了後に、乾燥用流体供給槽２７におけるガス供給部５８から高温の窒素ガス（ＨＯＴ  Ｎ２）が洗浄槽２３内へ供給されて、洗浄槽２３内のＩＰＡが気化され、ウエハ１の表面２及び裏面３が急速に乾燥される（Ｓ２７）。この高温の窒素ガスによるウエハ１の乾燥時には、ウエハ保持装置２４へ導入されて凹部４７において旋回流を形成するガスにも高温の窒素ガスが混入されて、ウエハ保持装置２４が非接触状態で保持するウエハ１が裏面からも加温されるとともに、ウエハ保持装置の内側中心に設けられた乾燥用流体供給孔４８からも高温の窒素ガスを噴射することにより、このウエハ１からの乾燥がより促進される。更に、この高温の窒素ガスによる乾燥時にはガス排気口６２（図７）が開操作されて、窒素ガスが洗浄槽２３外へ排気される。
【０１２５】
上述の乾燥工程終了後にウエハ１の搬出工程へ移行し、図６に示すように、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反する（Ｓ２８）。そして、乾燥工程において、高温の乾燥用流体により熱を帯びた洗浄槽２３内の温度の一定化（冷却）及び槽内の洗浄を行い、次に処理されるウエハに備えるべく、純水ノズル５７より純水を装置躯体２９及び石英板５３の表面に沿って流れるように供給し、洗浄槽２３内の冷却及び洗浄を行う（Ｓ２９）。洗浄槽２３内に供給された純水は、排液口６５を経て排液される。この純水ノズル５７からの純水の供給は、現在のウエハ１の処理が終了し、次にウエハ搬送容器１７から搬入されるウエハの処理工程において、洗浄装置１１の正面壁２８が装置躯体２９から離反し、ウエハ保持装置２４が、搬送用ロボット１５からウエハ１を非接触状態で受け取るまで（Ｓ４）続けられる（純水の供給停止：Ｓ３）。この後、図５に示すように、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄが正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、ウエハ１の表面２を非接触状態で保持して、洗浄装置１１のウエハ保持装置２４からウエハ１を受け取る（Ｓ３０）。この搬送用ロボット１５は、図１に示すように、ウエハ給排部１４におけるウエハ搬送容器１７（フープ）が開操作された時点で、受け取ったウエハ１をウエハ搬送容器１７内へ収納する（Ｓ３１）。
【０１２６】
以上のように構成されたことから、上記実施の形態によれば、次の効果（１）〜（１４）を奏する。
【０１２７】
（１）装置躯体２９に当接して洗浄槽２３を構成する正面壁２８が、ウエハ１の外形に対応する開口３０を備え、ウエハ保持装置２４が、正面壁２８の外側から上記開口３０を通して、この正面壁２８の内側に搬入されたウエハ１の裏面３を保持可能として、このウエハ１を縦方向に起立状態とし、正面壁２８の内面における開口３０周囲に設けられたピン７１にウエハ１の裏面３が接触することで、このウエハ１と上記開口３０周囲との間に環状隙間７２を形成する。このことから、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が供給されたときには、この洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液によりウエハ１の表面２を洗浄またはリンスすると共に、洗浄槽２３内における洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用で、ピン７１により形成された環状隙間７２を経て洗浄槽２３から流出した洗浄液またはリンス液が、ウエハ１の裏面を洗浄またはリンスする。この結果、ウエハ１の表面２及び裏面３を同時に洗浄またはリンスすることができる。また、洗浄液またはリンス液が環状隙間７２を経て洗浄槽２３外へ流出し、ウエハ１の裏面３を洗浄等する過程において、ウエハ１の端面も洗浄又はリンスすることができる。
【０１２８】
（２）ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液は、洗浄槽２３内における洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）の作用によってこの洗浄槽２３内へ流入することがないので、ウエハ１の裏面３を洗浄またはリンスした洗浄液またはリンス液によって、ウエハ１の表面が汚染される転写汚染を確実に防止できる。
【０１２９】
（３）正面壁２８の開口３０周囲と、縦方向に起立して配設されたウエハ１との間の環状隙間７２は、上方部分が下方部分よりも広く設定されている。従って、上記環状隙間７２の下方部分から流出する洗浄槽２３内の洗浄液またはリンス液の流出量を抑制でき、この洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液を良好に貯溜できると共に、上記環状隙間７２の上方部分を広く設定することで、この上方部分から流出する洗浄液またはリンス液の流出量が増大し、ウエハ１の裏面３の全面を均一に洗浄またはリンスすることができる。
【０１３０】
（４）洗浄装置１１には、ウエハ１に対向すると共に略平行して超音波振動装置２５の超音波振動子５１及び石英板５３が配置されたことから、この超音波振動装置２５により発生する超音波がウエハ１の表面２及び裏面３のそれぞれの全面に均一に作用するので、このウエハ１の表面２及び裏面３をムラなく良好に洗浄することができる。
【０１３１】
（５）ウエハ１の裏面３が非接触状態でウエハ保持装置２４に保持されることから、このウエハ１の裏面３がウエハ保持装置２４により保持されることによって汚染されることを防止できるともに、従来、チャック等が接して洗浄が困難であったウエハ１の端面においても、同様に汚染の防止ができる。
【０１３２】
（６）ウエハ保持装置２４は、正面壁２８に対し開口３０の軸方向３０Ｒに相対移動可能に当該正面壁２８に、取付プレート７７、サイド板７９及び保持装置用シリンダ７８を介して設置され、洗浄の開始から、乾燥工程が開始されるまでは、ウエハ１から退避して、このウエハ１の保持を解除するよう構成されている。従って、ウエハ１は、洗浄槽２３内に洗浄液またはリンス液が供給されたときには、この洗浄液またはリンス液の圧力（水圧）によって保持され、上記以外の時にはウエハ保持装置２４によって非接触状態に保持されるので、いずれの場合も汚染されることがない。また、従来、チャック等が接して洗浄が困難であったウエハ１の端面においても、同様に汚染の防止ができる。
【０１３３】
（７）正面壁２８に設置された受け部材７３が、ウエハ１を点接触状態で支持することから、ウエハ１が受け部材７３に支持されることで発生する汚染を極力抑制することができる。
【０１３４】
（８）洗浄槽２３内へは、この洗浄槽２３の外部に設置されたフィルタによりろ過された洗浄液が循環して供給されることから、洗浄液の繰り返しの使用によってその消費量を低減できると共に、循環する洗浄液の温度を測定して維持することのみで、この洗浄液の温度管理も容易に実施できる。
【０１３５】
（９）ウエハ１が縦方向に起立した状態で洗浄槽２３内に配設されるので、洗浄槽２３ひいては洗浄装置１１の全体の省スペース化を実現できると共に、ウエハ１の外径寸法の変更に対して、外径の異なるウエハ保持装置２４と、開口３０の径が異なる正面壁２８等を選定することで容易に対応できる。
【０１３６】
（１０）ウエハ１が裏面３の周縁部を正面壁２８の内面における開口３０の周囲のピン７１に接触させて環状隙間７２を形成しつつ、洗浄槽２３に静止状態で装着されることから、洗浄装置１１に回転機構部が存在しない。このため、洗浄装置１１における部品点数を低減できると共に、回転機構部の煩雑な調整が不要となり、また、洗浄装置１１内への洗浄液などの供給や不要なガスの排気を、回転機構部により生ずる気流の影響を考慮することなく容易に実施できる。
【０１３７】
（１１）洗浄槽２３には、乾燥用流体（例えばＩＰＡベーパー、純水ミスト、高温の窒素ガス）を洗浄槽２３内へ導く乾燥用流体供給槽２７が連設されたことから、ウエハ１を洗浄槽２３内に装着させた状態で乾燥用流体供給槽２７からの上記乾燥用流体によりウエハ１を乾燥できる。このため、洗浄・リンス工程及び乾燥工程を連続して迅速に実施できる。
【０１３８】
（１２）２流体ノズル５６に供給される高温のＩＰＡ及び窒素ガスの温度が、２流体ノズル５６からの流体の噴射と同時に流体が気化し得る温度であることから、液体の噴射に比較して、被処理物に付着した水分の置換効率が上がるとともに、ＩＰＡ及び窒素ガスの噴射液量のみならず、排液の量も減らすことが可能である。
【０１３９】
（１３）ＩＰＡを、５９ａパイプに巻き付けられたラバーヒーター５９によって加熱することから、簡易な構成でＩＰＡの加熱が行えるとともに、パイプ５９ａを例えば、水や、高純度薬液に対して金属イオンの溶出を抑えたＳＵＳ配管で構成し、上記ＳＵＳ配管にアースを接続することにより、帯電を防止して、発火しやすいＩＰＡに対しても防爆を容易に達成することができる。
【０１４０】
（１４）乾燥促進用流体として、まずＩＰＡベーパーを用いて洗浄槽２３内をＩＰＡ雰囲気下として次工程において乾燥を促進させやすい状態とし、次工程として加熱された窒素ガスを用いてウエハ１に付着したＩＰＡを気化させて、急速に乾燥させることから、ウエハ１の表面２に付着した水分を確実且つ迅速に乾燥させることができる。また、窒素の使用により、不活性ガスの雰囲気となり、酸素が洗浄槽２３内から排除されるため、ウォーターマークの発生が防止される。
【０１４１】
［Ｂ］第２の実施の形態（図１８〜図２３）
図１８は、本発明に係る洗浄装置の第２の実施の形態を示すものであって、その待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。図１９は、図１８の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す側面図である。図２０は、図１８の洗浄装置におけるウエハの洗浄等の処理状態を示す正面図である。図２１は、図２０のVII矢視図である。図２２は、図１８の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。図２３は、図２２の一部を拡大して示す断面図である。この第２を実施の形態において、前記第１の実施の形態と同様な部分は、同一の符号を付すことにより説明を省略する。
【０１４２】
この第２の実施の形態の洗浄装置９０では、第１の実施の形態において、正面壁２８の開口３０の周囲に設けられたざぐり面部７０及びこのざぐり面部７０に隙間形成部材として植設されたピン７１が存在せず、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８に密着されて環状隙間７２が存在しない構成となっている。ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８に密着されて、正面壁２８の開口３０を閉塞するため、洗浄槽２３から洗浄液またはリンス液が流出しない。従って、ウエハ１の表面のみが洗浄またはリンスされ、裏面３は洗浄またはリンスされない、片面のみ洗浄またはリンスされる構成となっている。洗浄槽２３からウエハ１の裏面３側に洗浄液またはリンス液が流出しないため、ウエハ保持装置２４を正面壁２８から退避させる必要がなく、正面壁２８とウエハ保持装置２４とが結合されて、一体に移動可能な構成となっている。
【０１４３】
その構成を具体的に説明するに、洗浄槽２３は、一側壁としての正面壁２８と、この正面壁２８以外の装置躯体２９とが当接して扁平のボックス形状に構成され、この正面壁２８にウエハ１の外形に対応する形状の開口３０が形成される。また、正面壁２８の内面に、開口３０の周囲に沿ってＯリング等のシール部材３１(図２０及び図２２)が配設される。正面壁２８の内面には、更に、シール部材３１の外側で装置躯体２９に当接し得る位置にシール部材３２が配設される。
【０１４４】
図１９及び図２２に示すように、上記ウエハ保持装置２４は、正面壁２８の開口３０内に位置づけられた状態で、正面壁２８に結合され、この正面壁２８と一体に移動可能とされる。従って、正面壁２８が装置躯体２９から離反したときに、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄがウエハ１の表面２を非接触状態で保持して正面壁２８と装置躯体２９との間に入り、このときウエハ保持装置２４が負圧の作用で、正面壁２８の外側から開口３０を通して上記ウエハ１の裏面３を非接触状態で保持して、ウエハ１がウエハ保持装置２４に受け渡され、洗浄装置９０の洗浄槽２３内に搬入される。ウエハ１が洗浄槽２３内に搬入された後に、図２１及び図２２に示すように、正面壁２８が装置躯体２９に当接して洗浄槽２３が構成される。
【０１４５】
ウエハ１の裏面３がウエハ保持装置２４に非接触状態で保持されることによって、ウエハ１は、洗浄槽２３内で縦方向に起立し、且つ裏面３の周縁部が正面壁２８のシール部材３１に密着されて正面壁２８の開口３０を閉塞し、表面２が洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むようにして洗浄槽２３に装着される。ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８のシール部材３１に密着されると共に、正面壁２８のシール部材３２が装置躯体２９に密着されることで、洗浄槽２３は液密状態に確保される。また、洗浄槽２３内が洗浄液等の流体で満たされている状態においては、ウエハ１に対する流体の水圧により、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８のシール部材３１に密着され、ウエハ保持装置２４を作動させない場合であっても、液密状態が確保される。また、ウエハ１の表面２が洗浄槽２３内に臨み、裏面３が洗浄槽２３外に臨むことで、洗浄槽２３内の洗浄液にウエハ１の表面２が接液し、ウエハ１の裏面３は接液しないように構成される。
【０１４６】
高周波発振器からの高周波信号が超音波振動子５１へ供給されることによって、この超音波振動子５１が超音波振動し、この超音波振動が間接槽５２内の純水及び石英板５３を経て、洗浄槽２３に装着されたウエハ１の表面２へ照射され、表面２のみの洗浄が行われる。この場合、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８のシール部材３１に密着された状態で洗浄されるため、ウエハ１の端面も洗浄される。
【０１４７】
その他の構成については、前記第１の実施の形態と同様に構成されることから、この第２の実施の形態においても、前記第１の実施の形態の効果（５）、（８）、（９）、（１１）〜（１４）と同様な効果を奏するのみならず、次の効果（１５）〜（１６）を奏する。
【０１４８】
（１５）洗浄装置９０における装置躯体２９に正面壁２８が当接して洗浄槽２３が構成され、この洗浄槽２３の正面壁２８に開口３０が形成され、ウエハ保持装置２４がウエハ１の裏面３を、洗浄槽２３の外側から開口３０を通して非接触状態で保持し、このウエハ保持装置２４により、ウエハ１が縦方向に起立し、且つこのウエハ保持装置２４や、ウエハ１に対する水圧により、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８の内面における開口３０周囲のシール部材３１に密着されて開口３０を閉塞し、ウエハ１が表面２を洗浄槽２３内に、裏面３を洗浄槽２３外にそれぞれ臨ませて当該洗浄槽２３に装着されることから、ウエハ１の表面２に洗浄液が接し、裏面３に洗浄液が接しないので、ウエハ１の裏面３の汚れが表面２側に回り込んで当該表面２が汚染される転写汚染を確実に防止できる。また、ウエハ１の裏面３の周縁部が正面壁２８のシール部材３１に密着された状態で洗浄されるため、ウエハ１の端面も洗浄される。
【０１４９】
（１６）洗浄装置９０には、ウエハ１に対向すると共に平行して超音波振動装置２５の超音波振動子５１及び石英板５３が配置されたことから、この超音波振動装置２５により発生する超音波がウエハ１の表面２の全面に均一に作用するので、このウエハ１の表面２をムラなく良好に洗浄することができる。
【０１５０】
以上、本発明を上記実施の形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１５１】
また、上記両実施の形態では、洗浄槽２３から洗浄液またはリンス液を排液する際には、正面壁２８のピン７１とウエハ１の裏面３との接触点における洗浄液等の残存液の表面張力により、ウエハ１を縦方向に起立した状態のまま保持するものを述べたが、排液の度に保持装置用シリンダ７８の作用でウエハ保持装置２４が正面壁２８の開口３０内に進入し、このウエハ保持装置２４がウエハ１の裏面３を保持することにより、非接触保持を確実化させてもよい。
【０１５２】
また、上記第１の実施の形態では、洗浄装置１１のウエハ保持装置２４が、旋回流により発生する負圧の作用でウエハ１の裏面３を非接触状態で保持するものを述べたが、例えば上記実施の形態において、正面壁２８に設けられたピン７１を略真空圧の作用により吸引する吸引保持装置とし、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄにより正面壁２８の内側に位置付けられたウエハ１の裏面３の周縁部を上記ピン７１に吸着させて、当該ウエハ１を正面壁２８に装着してもよい。この場合には、ウエハ保持装置２４及び保持装置用シリンダ７８を省略できるので、洗浄装置１１の構造を簡素化できると共に、洗浄装置１１の動作も容易化できる。
【０１５３】
また、上記第２の実施の形態においても、搬送用ロボット１５のハンド部２０Ｄにより正面壁２８の内側に位置づけられたウエハ１を、正面壁２８の外側からこの正面壁２８と共に、略真空圧の作用により吸引する吸引保持装置を設け、これにより、ウエハ１の裏面３の周縁部を、正面壁２８の内面におけるシール部材３１に密着させて、当該ウエハ１を正面壁２８に装着させるようにしてもよい。この場合にも、吸引保持装置とウエハ１の裏面３とが非接触状態となるので、吸引保持装置によってウエハ１の裏面３が汚染されることを防止できる。
【０１５４】
また、上記実施の形態では、本発明に係る装置を洗浄装置として説明したが、本発明に係る装置について、洗浄工程を省略し、洗浄槽２３を乾燥槽と捉え乾燥装置として利用することも可能であり、ウエハ１をウエハ保持装置２４により縦方向に起立した状態で乾燥出来るので、乾燥槽ひいては乾燥装置全体の省スペース化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】本発明に係る洗浄装置の一実施の形態が備えられた洗浄設備を、一部を切り欠いて示す斜視図である。
【図２】図１の洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄装置の待機状態を、斜め背面側から目視して示す斜視図である。
【図４】図２の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す正面図である。
【図５】図４のV矢視図である。
【図６】図２の洗浄装置のウエハ受け渡し状態を示す側面図である。
【図７】図２の洗浄装置のウエハセット状態またはウエハ乾燥状態を示す正面図である。
【図８】図７のVIII矢視図である。
【図９】図２の洗浄装置のウエハ洗浄状態またはウエハリンス状態を示す側面図である。
【図１０】図８の一部を拡大して示す断面図である。
【図１１】図１０の正面壁における開口周囲を示す斜視図である。
【図１２】図２の洗浄装置におけるウエハ保持装置を、保持装置用シリンダと共に示す斜視図である。
【図１３】図２の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図１４】図１０の一部を拡大するとともにＩＰＡベーパーの流れを示す断面図である。
【図１５】図１３の一部を拡大するとともに洗浄液又はリンス液の流れを示す断面図である。
【図１６】図２の洗浄装置における動作の一部を示すフローチャートである。
【図１７】図２の洗浄装置における動作の残部を示すフローチャートである。
【図１８】洗浄装置の待機状態を、斜め正面側から目視して示す斜視図である。
【図１９】図１８の洗浄装置のウエハ搬入出状態を示す側面図である。
【図２０】図１８の洗浄装置におけるウエハの洗浄等の処理状態を示す正面図である。
【図２１】図２０のVII矢視図である。
【図２２】図２の洗浄装置の原理を説明するための概略構成を示す断面図である。
【図２３】図２２の一部を拡大して示す断面図である。
【図２４】従来の洗浄装置を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１５６】
１  ウエハ（被処理物）
２  表面
３  裏面
１１  洗浄装置
１２  洗浄装置配置部
２３  洗浄槽
２３Ａ  洗浄槽構成部
２４  ウエハ保持装置（保持手段）
２４ａ  カバー
２５  超音波振動装置
２６  第１オーバーフロー槽
２７  乾燥用流体供給槽
２８  正面壁（一側壁）
２９  装置躯体
３０  開口
３０Ｒ  開口の軸方向
４６  カバー
４６ａ  シール部材
４８  乾燥用流体供給孔
４９  洗浄槽給液口
５６  ２流体ノズル
５７  純水ノズル
５８  ガス供給部
５９  有機溶剤供給口
５９ａ  パイプ
５９ｂ  ラバーヒーター
６０  不活性ガス供給口
６２  ガス排気口
７１  ピン(隙間形成部材)
７２  環状隙間
７３  受け部材
７８  保持装置用シリンダ
８０  第２オーバーフロー槽
９０  洗浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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