(57)【要約】【課題】配向制御構造と光学補償能を有する液晶セル用基板を、簡易に且つ安定的に作製可能な方法を提供する。【解決手段】配向制御溝を有する液晶セル用基板の製造方法であって、透明基板の表面上に、転写材料から転写された光学異方性層を形成すると同時に、又は形成した後に、該光学異方性層に溝状の欠落部を設け、該欠落部を前記配向制御溝とすること、を含む液晶セル用基板の製造方法である。【選択図】  図１
2007193088.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向制御溝を有する液晶セル用基板の製造方法であって、
透明基板の表面上に、転写材料から転写された光学異方性層を形成すると同時に、又は形成した後に、該光学異方性層に溝状の欠落部を設け、配向制御溝を形成すること、を含む液晶セル用基板の製造方法。
【請求項２】
前記溝状の欠落部の深さが０．２〜５．０μｍである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溝状の欠落部を構成する側面が、所定角度傾斜している請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
パターン露光及び現像によって前記溝状の欠落部を形成する請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記転写材料が、仮支持体上に、少なくとも一つの光学異方性層及び少なくとも一つの感光性樹脂層を有する請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記光学異方性層の上に透明電極膜を形成すること、をさらに含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法にて得られる第１の基板を用意する工程と、
前記配向制御溝が形成された面を内側にして、前記第１の基板を第２の基板と対向配置する工程と、
対向配置された前記第１及び第２の基板間に液晶を注入して液晶層を形成する工程と、を含む液晶セルの製造方法。
【請求項８】
前記第２の基板の、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に形成された配向制御溝に対応する位置に凹部又は凸部を形成する工程をさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法により作製された液晶セル用基板。
【請求項１０】
第１及び第２の基板と、該第１及び第２の基板に挟持される液晶層とを有する液晶セルであって、少なくとも前記第１の基板が、請求項９に記載の液晶セル用基板であり、該基板が、配向制御溝が形成された面を液晶層側にして配置されている液晶セル。
【請求項１１】
前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に設けられた配向制御溝に対応する位置に凹部を有する請求項１０に記載の液晶セル。
【請求項１２】
前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に透明電極膜を有し、前記凹部が該透明電極膜に形成されたスリットである請求項１１に記載の液晶セル。
【請求項１３】
前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に形成された配向制御溝に対応する位置に凸部を有する請求項１０に記載の液晶セル。
【請求項１４】
前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に透明電極膜を有し、前記凸部が該透明電極膜の表面上に形成された遮光リブである請求項１３に記載の液晶セル。
【請求項１５】
ＶＡモードの液晶セルである請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の液晶セル。
【請求項１６】
請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の液晶セルを有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル用基板及び液晶セルの新規な製造方法に関する。また、本発明は、かかる方法を利用して作製された液晶セル及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置（ＬＣＤ）が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型ＬＣＤでは、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型および半透過型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来のＬＣＤで表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、ＬＣＤの視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。
【０００３】
この視野角特性を改良するために、視野角補償用の光学異方性層（光学補償シート）が利用されてきた。これまでに上述の様々の表示モードに対して種々の光学特性を有する光学補償シートを用いることにより、優れたコントラスト視野角特性を有するＬＣＤが提案されている。特にＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳの３つのモードは広視野角モードとして全方位に渡り広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及している。
【０００４】
これらの液晶セルにおいては、通常、光学補償シートは偏光板と貼り合わされて、接着剤で液晶セルの外側に設けられている。
しかしながら、上記従来の技術では、次のような問題点を有している。
まず、位相差付偏光板を液晶セル外に、貼り付けて配置する場合、要求される貼り付け精度が厳しく、特に大型のもので顕著であり、反りや位置ずれにより安定的に貼り付け工程を実施できない場合がある。その結果、高価な位相差板付偏光板が無駄になってコスト増加要因になっている。また、液晶パネルの動作中、バックライト等からの熱による偏光板支持体の膨張及び収縮で、貼り付けた位相差板が応力を受け光学特性が変化する。この場合は、変形箇所において位相差板の位相補償効果が不十分になり、黒状態で光抜けを引き起こすことになる。このような現象は、液晶パネルのサイズが大きくなるにつれて、より顕著に発生する。即ち、液晶パネルのサイズが大きくなれば、偏光板も大きくなり収縮量膨張量も大きくなるため、偏光板支持体の変形量も大きくなり、顕著に白抜け状態が発生する。
【０００５】
以上のように、従来技術は、液晶セルの外側に貼り付ける精度に伴う歩留まり問題や、偏光板支持体の膨張収縮に伴う光抜け問題を有していた。
【０００６】
これに対し、光学異方性層を偏光板と貼りあわせて液晶セルに貼り付けるのではなく、液晶セルの内側に光学異方性層を設ける技術が提案されている（特許文献１）。さらに、光学異方性層を液晶セル内に形成するとともに、該光学異方性層を液晶層の配向制御構造として利用する技術も提案されている（特許文献２参照）。
しかしながら、光学的に均一な光学異方性特性を有する光学異方性層を液晶セル内に形成することは困難であり、また、光学異方性層を液晶セルの内側に設けるために、製造工程が増えてしまいコスト的実現性に乏しいという問題点があった。
【特許文献１】特開２００４−２４０１０２号公報
【特許文献２】特開２０００−２２１５０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の課題に鑑みなされたものであり、配向制御構造と光学補償能を有する液晶セル用基板を、簡易に且つ安定的に作製可能な方法を提供することを課題とする。また、本発明は、セル内に光学異方性層を有する液晶セルを、簡易に且つ安定的に作製可能な方法を提供することを課題とする。また、本発明は、光漏れが軽減され、且つ視野角特性が改善された液晶セル及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題の解決のために鋭意研究を行った結果、転写材料を用い、複数の領域に分割された光学異方性層を基板表面に形成すれば、簡易且つ安定的に、液晶配向機能及び光学補償機能の双方を同時に基板に付与できるとの知見を得、この知見に基づいてさらに検討を重ね、本発明を完成するに至った。
【０００９】
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  配向制御溝を有する液晶セル用基板の製造方法であって、
透明基板の表面上に、転写材料から転写された光学異方性層を形成すると同時に、又は形成した後に、該光学異方性層に溝状の欠落部を設け、該欠落部を前記配向制御溝とすること、を含む液晶セル用基板の製造方法。
［２］  前記溝状の欠落部の深さが０．２〜５．０μｍである［１］の方法。
［３］  前記溝状の欠落部を構成する側面が、所定角度傾斜している［１］又は［２］の方法。
［４］  パターン露光及び現像によって前記溝状の欠落部を形成する［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］  前記転写材料が、仮支持体上に、少なくとも一つの光学異方性層及び少なくとも一つの感光性樹脂層を有する［４］の方法。
［６］  前記光学異方性層の上に透明電極膜を形成すること、をさらに含む［１］〜［５］のいずれかの方法。
［７］  透明基板の表面上に転写材料から転写された光学異方性層を形成すると同時に又は形成後に溝状の欠落部を設けて配向制御溝を形成する、第１の基板を作製する工程と、
前記配向制御溝が形成された面を内側にして、前記第１の基板を第２の基板と対向配置する工程と、
対向配置された前記第１及び第２の基板間に液晶を注入して液晶層を形成する工程と、を含む液晶セルの製造方法。
［８］  前記第２の基板の、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に形成された配向制御溝に対応する位置に凹部又は凸部を形成する工程をさらに含む［７］の方法。
［９］  ［１］〜［８］のいずれかの方法により作製された液晶セル用基板。
［１０］  第１及び第２の基板と、該第１及び第２の基板に挟持される液晶層とを有する液晶セルであって、少なくとも前記第１の基板が、［９］の液晶セル用基板であり、該基板が、配向制御溝が形成された面を液晶層側にして配置されている液晶セル。
［１１］  前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に形成された配向制御溝に対応する位置に凹部を有する［１０］の液晶セル。
［１２］  前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に透明電極膜を有し、前記凹部が該透明電極膜に形成されたスリットである［１１］の液晶セル。
［１３］  前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に、前記第１の基板に形成された配向制御溝に対応する位置に凸部を有する［１０］の液晶セル。
［１４］  前記第２の基板が、前記第１の基板との対向面に透明電極膜を有し、前記凸部が該透明電極膜の表面上に形成された遮光リブである［１３］の液晶セル。
［１５］  ＶＡモードの液晶セルである［１０］〜［１４］のいずれかの液晶セル。
［１６］  ［１０］〜［１５］のいずれかの液晶セルを有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、配向制御構造と光学補償能を有する液晶セル用基板を、簡易に且つ安定的に作製可能である。その結果、液晶表示装置の製造コストをほとんどかえることなく、液晶表示装置の視野角特性と光漏れなどの信頼性を改良することができる。
また、本発明による配向制御構造は、配向制御構造の深さを大きくとることができるため、特に垂直配向の制御に有効に活用できる。さらに、本発明によれば、例えば、特許文献２に記載の方法では形成が困難な複雑な溝構造を含む配向制御構造を容易に形成できる。
【発明の実施の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００１２】
本明細書において、Ｒｅレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）は平行ニコル法により、波長λｎｍの光を法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍまたは５９０±５ｎｍを指す。
【００１３】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが実質的に０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。
［液晶セル用基板の製造方法］
まず、本発明の液晶セル用基板の製造方法について説明する。本発明の液晶セル用基板の製造方法の一例を、図１を用いて説明する。
まず、透明基板１０を用意する(図１（ａ）)。透明基板としては、ガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、及びプラスチックフィルム等を用いることができる。透明基板の膜厚としては、７００〜１２００μｍが一般的に好ましい。透明基板１０は、ブラックマトリックス１２及びカラーフィルタ１４等を表面に有していてもよい。カラーフィルタ１４は、Ｒ、Ｇ、Ｂからなるカラーフィルタであっても、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）からなるカラーフィルタであってもよい。これらは一般的には、転写材料を用いて作製することができる。また、透明基板１０は、表面に酸化ケイ素、あるいは窒化珪素等の絶縁膜を有していてもよい。
【００１５】
次に、透明基板１０の表面上に、光学異方性層２０を有する転写材料１６を用いて、透明基板１０の表面上に光学異方性層２０を形成する。例えば、転写材料１６は、仮支持体上に粘着層１８と光学異方性層２０とを有し、粘着層１８が、透明基板１０表面上に光学異方性２０を固定する機能を有するものであってもよい。かかる態様の転写材料１６を粘着層１８の表面を透明基板１０の表面にして配置して、仮支持体（図中不図示）を剥離することで、光学異方性層２０を透明基板１０の表面に転写することができる（図１（ｂ））。例えば、前記転写材料を、粘着層１８の表面を透明基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、仮支持体は剥離してもよい。
【００１６】
光学異方性層２０の上には、転写材料から転写された他の層があってもよいが、液晶セル内には極力不純物は混入させないようにしなければならないため、光学異方性層２０の上に転写材料から転写された他の層がある場合は、例えば、転写材料の現像、洗浄処理時等の工程中に取り除かれていることが好ましい。
【００１７】
次に、転写された光学異方性層２０に、溝状の欠落部２２を設ける（図１（ｃ））。光学異方性層２０に欠落部を形成する方法としては、例えば、粘着層１８を感光性樹脂組成物から形成し、所定のパターンのマスクを介して露光し又はレーザ照射等でパターン状に露光（本明細書では双方の態様を含めて「パターン露光」という）し、露光部と未露光部とに現像液に対する溶解性について差を生じさせ、現像液に可溶となった粘着層１８を除去して粘着層１８’にするとともに、光学異方性層２０の一部も同時に除去して、光学異方性層２０’とする。転写材料の仮支持体が透明フィルム等からなる場合は、粘着層１８を透明基板表面に配置して、仮支持体を剥離する前に、パターン露光及び現像によって、溝状の欠落部を形成してもよく、かかる場合は、光学異方性層２０の転写と同時に欠落部２２が形成される。光学異方性層２０’によって、透明基板２１には、液晶層に対する光学補償能が付与されるとともに、溝状の欠落部２２によって、液晶層に対する配向制御能が付与される。このように、転写材料を用いると、１回の転写−露光−現像プロセスで、配向制御溝及び光学異方性層を同時に形成することができる。
【００１８】
パターン露光は、上記した通り、光学異方性層２０の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスクを介してマスク上方から露光してもよいし、レーザや電子線などを用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして露光してもよい。ここで、前記露光の光源としては、感光性樹脂を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常１０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは２０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００１９】
また、露光後の現像工程に用いられる現像液としては特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、さらに現像性を高めるために、有機溶剤を添加してもよい。有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜６０質量％が好ましい。
また、上記現像液には、さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【００２０】
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。露光後の遮光性隔壁層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、光学異方性層以外の層、例えば、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。洗浄液としては公知のものを使用できるが、（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」、或いは、炭酸ナトリウム・フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）」）が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【００２１】
溝状の欠落部２２が、配向制御溝として配向制御に寄与するためには、その深さは、０．２〜５.０μｍであるのが好ましく、０．５〜３．５μｍであるのがより好ましい。例えば、転写材料として粘着層と光学異方性層とを有する転写材料を用いれば、これらの層厚を調整することで、溝状の欠落部の深さを容易に前記好ましい範囲とすることができる。また、感光性樹脂材料からなる層を粘着層として有する転写材料を用いることにより、パターン露光及び現像により、欠落部の形状、位置等を容易に制御することができる。前記溝状の欠落部を構成する側面が、所定角度傾斜していると、この部分を覆う透明導電膜のカバレッジが良好になるので好ましい。傾斜の方向は溝の深さ方向に欠落部の巾が小さくなるように傾斜しているのが好ましい。垂直面に対して０〜４０°傾斜しているのが好ましく、５〜３０°傾斜しているのがより好ましい。溝の側面は、ポストベーク等の方法によって所定の角度に傾斜させることができる。配向制御溝の形状については特に制限されず、一方向に平行に形成されたストライプ状の溝であってもよいし、格子状に形成された溝であってもよい。溝は、少なくとも二方向、好ましくは、９０度で交差している部分のある形状、又は９０度曲がった「Ｌ字」部分のある形状（例えば図６に示す形状）となっているのが好ましい。
【００２２】
さらに、光学異方性層２０’の表面上に、液晶層に電界を供与可能な透明電極膜２４を形成してもよい（図１（ｄ））。但し、透明電極膜２４を形成した後も、欠落部２２’の深さが上記範囲となるように、粘着層、光学異方性層及び透明電極膜の厚さを調整するのが好ましい。
さらに、透明電極膜２４を形成した後、液晶層中の液晶性分子の配向を制御する配向膜を形成する工程を実施してもよい。
【００２３】
［液晶セル及びその作製方法］
上記方法にて作製された液晶セル用基板は、通常、液晶表示装置を構成する一対の基板の一方に用いられる。例えば、上記作製した液晶セル用基板（以下、「第1の基板」という）を、前記溝状の欠落部が形成された面を内側にして、他の基板（以下、「第２の基板」という）と対向配置し、さらに、対向配置された前記第１及び第２の基板間に液晶を注入して液晶層を形成することで、液晶セルを作製することができる。本発明では、前記第１の基板に形成された配向制御溝（溝状の欠落部）の配向制御能をより高めるため、前記第２の基板として、その対向面の、前記第１の基板の配向制御溝の位置と対応する位置に、凹部又は凸部を有している基板を用いるのが好ましい。
【００２４】
図２に、本発明の液晶セルの一例の断面模式図を示す。図２中、図１中に示した部材と同一の部材については同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。図２に示す液晶セルは、前記方法により作製された第1の基板１０Ａと、第２の基板１０Ｂとを有し、これらに挟持される液晶性分子３２を含有する液晶層を有する。基板１０Ａは、光学異方性層２０’と透明基板１０との間に、ブラックマトリックス及びカラーフィルタを有していてもよい。第1の基板１０Ａは、配向制御溝２２’が設けられた面を液晶層側にして配置される。第1の基板１０Ａ及び第2の基板１０Ｂのそれぞれの対向面には、透明電極膜２４及び２６がそれぞれ形成されていて、液晶層中の液晶性分子３２に電界を供与可能に構成されている。第２の基板１０Ｂが有する透明電極膜２６には、配向制御溝２２’に対応する位置にスリット２８が形成されていて、液晶層中の液晶性分子３２の配向を制御するのに寄与している。スリット２８は、例えば、フォトレジストを利用したエッチングなどにより形成することができる。
【００２５】
図２の液晶セルについて、配向制御溝２２’及びスリット２８の作用について説明する。基板１０Ａの透明電極膜２４及び基板１０Ｂの透明電極膜２６に電圧を加えると、基板間には、基板面に対して垂直な方向に電界が一様に強度変化した電界分布が形成されるが、配向制御溝２２’及びスリット２８が存在する箇所においては、基板面に対して垂直ではなく、図中矢印で示した方向に電界の強度が変化する不均一な電界分布が形成される。配向制御溝２２’及びスリット２８中及びその近傍に存在する液晶性分子３２は、この不均一な電界の作用により、図２に示す様に、異なる方向に傾斜して配向する。この配向状態が、均一な電界中に存在する液晶性分子の配向状態にも影響を与え、それらの分子も同様に傾斜配向する。上記作用により、配向制御溝２２’及びスリット２８は、液晶層中の液晶性分子の配向を制御する。
【００２６】
図３に、本発明の液晶セルの他の例の断面模式図を示す。図３中、図１及び図２中に示した部材と同一の部材については、同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。図３に示す液晶セルは、前記方法により作製された第1の基板１０Ａと、第２の基板１０Ｂ’とを有し、これらに挟持される液晶性分子３２を含有する液晶層を有する。第２の基板１０Ｂ’が有する透明電極膜２６の表面には、第１の基板１０Ａの配向制御溝２２’に対応する位置に、遮光リブ３０が形成されていて、液晶層中の液晶性分子３２の配向を制御するのに寄与している。遮光リブ３０は、例えば、液晶材料よりも誘電率の低い感光性有機絶縁材料等を用い、パターン露光と現像工程等を使った方法により作製することができる。
【００２７】
図３の液晶セルにおける、配向制御溝２２’及び遮光リブ３０の作用も上記と同様であり、配向制御溝２２’及び遮光リブ３０によって、図中矢印で示した方向に電界の強度が変化する不均一な電界分布が形成され、それによって、配向制御溝２２’中やその近傍、及び遮光リブ３０近傍に存在する液晶性分子３２は、図３に示す様に、異なる方向に傾斜して配向する。この配向状態が、均一な電界中に存在する液晶性分子の配向状態にも影響を与え、それらの分子も同様に傾斜配向する。
【００２８】
なお、前記第２の基板に形成される凹部又は凸部の形状、深さ又は高さ等については、上記作用により配向制御に寄与できれば特に制限はない。一般的には、スリット等である凹部は、その深さが０．２〜５．０μｍであるのが好ましい。また遮光リブ等である凸部は、一般的には、その高さが０．５〜２．０μｍであるのが好ましい。
【００２９】
［液晶表示装置］
図４に、本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図を示す。図４中、図１〜図３中に示した部材と同一の部材については、同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。図４に示す液晶表示装置は、図２に示した液晶セルを有し、第1の基板１０Ａをカラーフィルタ基板、及び第２の基板１０ＢをＴＦＴアレイ基板とした例である。液晶セルの両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護フィルム３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板が配置されている。液晶セル側の保護フィルム３５は、光学異方性であってもよく、かかる場合は、液晶セルの光学補償に寄与する。表示モードは特に制限がなく、全ての透過型および反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【００３０】
以下、本発明の液晶セル用基板の作製方法に用いられる材料等について詳細に説明する。特に、本発明の作製方法に用いられる転写材料について、詳細に説明する。しかし、本発明は以下に説明する態様に限定されるものではなく、他の態様についても以下の記載及び従来公知の方法を参考にして作製できる。
【００３１】
［転写材料］
本発明の液晶セル用基板の作製方法では、転写材料が用いられる。前記転写材料としては、仮支持体と、少なくとも一層の光学異方性層と、少なくとも一層の粘着層とを有する転写材料が好ましい。透明基板に転写される際には、仮支持体が除去され、前記光学異方性層と前記粘着層が透明基板上に転写される。図５に、本発明に使用可能な転写材料例のいくつかについて、概略断面図を示す。図５（ａ）に示す転写材料は、透明または不透明な仮支持体５０上に、光学異方性層５２と粘着層５４とを有する。この転写材料は他の層を有していてもよく、例えば、図５（ｂ）に示す様に、支持体５０と光学異方性層５２との間に、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層５６を有していてもよいし、また、図５（ｃ）に示す様に、光学異方性層５２を作製する際に、光学異方性層５２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層５８が配置されてもよい。また、図５（ｄ）に示す様に、感光性樹脂層５４の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層６０を設けてもよい。
【００３２】
［仮支持体］
転写材料に用いられる仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよびノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
【００３３】
［光学異方性層］
転写材料における光学異方性層は、異方性を測定したときにＲｅが実質的に０でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、液晶セル中に用いる、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物から形成されていることが好ましく、また、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。
【００３４】
［液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層］
光学異方性層は、上記の様に、液晶セル中に組み込まれることによって、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な光学補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば、液晶セル外に配置される光学異方性層等）との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足する態様もであってもよい。また、転写材料が有する光学異方性層が、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、液晶セル基板上に転写される過程において実施される露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
【００３５】
上述のように、前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する組成物から形成されることが好ましい。一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【００３６】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物が挙げられる。
【００３７】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表すが、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００３８】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。
【００３９】
【化１】
2007193088.tif 000003
【００４０】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。この場合、Ｌ3およびＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）である。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1およびＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００４１】
Ａ1およびＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００４２】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（II）で表される基が好ましい。
一般式（II）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1およびＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ5は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。
【００４３】
Ｗ1およびＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1およびＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００４４】
前記一般式（II）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００４５】
【化２】
2007193088.tif 000004
【００４６】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００４７】
【化３】
2007193088.tif 000005
【００４８】
【化４】
2007193088.tif 000006
【００４９】
【化５】
2007193088.tif 000007
【００５０】
前記光学異方性層は、ディスコティック液晶を利用して作製してもよい。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物を含有する層または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマーを含有する層であるのが好ましい。前記ディスコティック（円盤状）化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。
【００５１】
本発明では、下記一般式（III）で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式（III）：  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【００５２】
前記式（III）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。
【００５３】
上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。
【００５４】
【化６】
2007193088.tif 000008
【００５５】
【化７】
2007193088.tif 000009
【００５６】
【化８】
2007193088.tif 000010
【００５７】
【化９】
2007193088.tif 000011
【００５８】
【化１０】
2007193088.tif 000012
【００５９】
【化１１】
2007193088.tif 000013
【００６０】
【化１２】
2007193088.tif 000014
【００６１】
【化１３】
2007193088.tif 000015
【００６２】
【化１４】
2007193088.tif 000016
【００６３】
【化１５】
2007193088.tif 000017
【００６４】
【化１６】
2007193088.tif 000018
【００６５】
前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱または電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。前記光学異方性層が二軸性を示すと、液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＥＰ１３８９１９９  Ａ１）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。本発明においては、いずれも利用できる。
【００６６】
前記光学異方性層が一軸性の場合、上下いずれかの偏光板保護フィルムの光学異方性を最適化することにより、ＶＡモードもしくはＩＰＳモードの液晶セルを正確に光学補償できるので好ましい。ＶＡモード、ＩＰＳモードいずれの場合においても、本発明の目的である色視野角特性改良に対しては、偏光板保護フィルムのレターデーション波長分散が一般的、即ち波長が長くなるにつれてレターでーションが小さくなることで、液晶セルに対して広い波長域で正確に光学補償できる。ＶＡモードにおいては、偏光板保護フィルムとしての光学異方性層がｃ−ｐｌａｔｅであることが好ましく、ＩＰＳモードに対しては厚み方向の屈折率が最も小さい二軸性であることが好ましい。転写材料に用いる一軸性の光学異方性層は、一軸性である棒状もしくは円盤状の液晶性化合物を液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製することができる。このような一軸性配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。
【００６７】
液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。なお、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。本明細書において「水平配向」というとき、上記傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００６８】
液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。
【００６９】
光学異方性層は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００７０】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００７１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００７２】
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向によって面内のレターデーションが発生した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特に、ＶＡモードの液晶表示装置を光学補償するのに優れている。
【００７３】
［偏光照射による光配向］
前記光学異方性層は、偏光照射による光配向で面内のレターデーションが発現した層であってもよい。大きな面内レターデーションを得るために、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行う必要がある。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００７４】
［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
前記光学異方性層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【００７５】
前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式（１）〜（３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１）〜（３）について、順に説明する。
【００７６】
一般式（１）
【化１７】
2007193088.tif 000019
【００７７】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は各々独立して、水素原子または置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は単結合または二価の連結基を表す。Ｒ1〜Ｒ3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ1、Ｘ2およびＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−および−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００７８】
一般式（２）
【化１８】
2007193088.tif 000020
【００７９】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２または３である。
【００８０】
一般式（３）
【化１９】
2007193088.tif 000021
【００８１】
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々独立して、水素原子または置換基を表す。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−０９９２４８号公報に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【００８２】
前記一般式（１）〜（３）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１）〜（３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００８３】
［配向層］
前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上または該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。また、配向層は酸素遮断層としての機能を有してもよい。
【００８４】
配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。
【００８５】
配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【００８６】
また、ＬＣＤの配向層として広く用いられているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリイミド）も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。
【００８７】
また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【００８８】
また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ2を代表とし、ＴｉＯ2、ＺｎＯ2等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ2等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。
【００８９】
光学異方性層は、液晶性化合物を仮配向層上で配向させ、その配向を固定化した後、透明支持体に粘着剤を用いるなどして転写することもできるが、生産性の観点からは転写なしに直接形成することが好ましい。
【００９０】
［粘着層］
転写材料に用いられる粘着層は、感光性樹脂組成物よりなる感光性樹脂層であるのが好ましい。該感光性樹脂層は、マスク等を介して光照射した際に露光部と未露光部に基板への転写性の差（例えば、現像液に対する溶解性の差）が生じればポジ型でもネガ型でもよく特に限定はない。前記感光性樹脂層は、少なくとも（１）アルカリ可溶性樹脂と、（２）モノマーまたはオリゴマーと、（３）光重合開始剤または光重合開始剤系と、を含む感光性樹脂組成物から形成するのが好ましい。
以下、これら（１）〜（３）の成分について説明する。
【００９１】
（１）アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂（以下、単に「バインダ」ということがある。）としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報および特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。
【００９２】
（２）モノマーまたはオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマーまたはオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマーまたはオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマーおよびオリゴマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートおよびフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドを付加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
【００９３】
さらに特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報および特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報および特公昭５２−３０４９０号公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合性化合物Ｂ」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマーまたはオリゴマーは、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は５〜５０質量％が一般的であり、１０〜４０質量％が好ましい。
【００９４】
（３）光重合開始剤または光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤または光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書および同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール２量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾールおよびトリアリールイミダゾール２量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤または光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤または光重合開始剤系の含有量は、０．５〜２０質量％が一般的であり、１〜１５質量％が好ましい。
【００９５】
なお、本発明の製造方法において液晶セル用基板上にカラーフィルタ層を設ける場合は、前記粘着層の代わりに、さらに下記の着色剤を含有する感光性樹脂層を用いて転写材料を作製し、前述又は後述の転写材料を用いた方法に準じて使用  することにより、カラーフィルタ層を設けてもよい。
【００９６】
（４）着色剤
前記着色樹脂組成物には、公知の着色剤（染料、顔料）を添加することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、着色樹脂組成物中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒子サイズが０．１μｍ以下、特には０．０８μｍ以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、特開２００４−３０２０１５号公報の段落番号［００３３］、米国特許第６，７９０，５６８号明細書カラム１４に記載の顔料等が挙げられる。
【００９７】
本発明における着色剤としては、上記の着色剤の中でも、（ｉ)Ｒ（レッド）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が、（ii)Ｇ（グリーン）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６が、（iii)Ｂ（ブルー）の着色樹脂組成物においてはＣ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６が好適なものとして挙げられる。さらに上記顔料は組み合わせて用いてもよい。
【００９８】
本発明において、併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、または、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、または、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０との組み合わせが挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６では、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、または、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０との組み合わせが挙げられる。
【００９９】
このように併用する場合の顔料中のＣ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６の含有量は、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６は５０質量％以上が好ましく、特に６０質量％以上が好ましい。Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６は、８０質量％以上が好ましく、特に９０質量％以上が好ましい。
【０１００】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダ）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。さらに該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【０１０１】
本発明で用いる着色剤（顔料）は、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、さらに０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。顔料数平均粒径が０．００１μｍ未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が０．１μｍを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここで「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を意味し、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒子サイズを求めた１００個平均値を意味する。
【０１０２】
着色画素のコントラストは、分散されている顔料の粒子サイズを小さくすることで向上させることができる。粒子サイズを小さくするには、顔料分散物の分散時間を調節すればよい。分散には、上記記載の公知の分散機を用いることができる。分散時間は好ましくは１０〜３０時間であり、さらに好ましくは１８〜３０時間、最も好ましくは２４〜３０時間である。分散時間が１０時間未満であると、顔料粒子サイズが大きく、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下することがある。一方、３０時間を越えると、分散液の粘度が上昇し、塗布が困難になることがある。また、２色以上の着色画素のコントラストの差を６００以内にするには、顔料粒子サイズを調節して、所望のコントラストとすればよい。
【０１０３】
前記感光性樹脂層より形成されるカラーフィルタの各着色画素のコントラストは、２０００以上が好ましく、より好ましくは２８００以上、さらに好ましくは３０００以上であり、最も好ましくは３４００以上である。カラーフィルタを構成する各着色画素のコントラストが２０００以下だと、これを有する液晶表示装置の画像を観察すると、全体に白っぽい印象となり、見難く好ましくない。また、各着色画素のコントラストの差が、好ましくは６００以内であり、より好ましくは４１０以内であり、さらに好ましくは３５０以内、最も好ましくは２００以内である。各着色画素のコントラストの差が６００以内であると、黒表示時における各着色画素部からの光漏れ量が大きく相違しないため、黒表示の色バランスが良く好ましい
【０１０４】
本明細書において、「着色画素のコントラスト」とは、カラーフィルタを構成するＲ、Ｇ、Ｂについて、色毎に個別に評価されるコントラストを意味する。コントラストの測定方法は次の通りである。被測定物の両側に偏光板を重ねて、偏光板の偏光方向を互いに平行にした状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ１を測定する。次に偏光板を互いに直交させた状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Ｙ２を測定する。得られた測定値を用いて、コントラストはＹ１／Ｙ２で算出される。尚、コントラスト測定に用いる偏光板は、該カラーフィルタを使用する液晶表示装置に用いる偏光板と同一のものとする。
【０１０５】
感光性樹脂層においては、膜厚変動を効果的に防止するという観点から、適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。前記界面活性剤は、前記感光性樹脂組成物と混ざり合うものであれば使用可能である。好ましい界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報［００９０］〜［００９１］、特開２００３−１７７５２２号公報［００９２］〜［００９３］、特開２００３−１７７５２３号公報［００９４］〜［００９５］、特開２００３−１７７５２１号公報［００９６］〜［００９７］、特開２００３−１７７５１９号公報［００９８］〜［００９９］、特開２００３−１７７５２０号公報［０１００］〜［０１０１］、特開平１１−１３３６００号公報の［０１０２］〜［０１０３］、特開平６−１６６８４号公報の発明として開示されている界面活性剤が好適なものとして挙げられる。より高い効果を得る為にはフッ素系界面活性剤、および/またはシリコン系界面活性剤（フッ素系界面活性剤、または、シリコン系界面活性剤、フッソ原子と珪素原子の両方を含有する界面活性剤）のいずれか、あるいは２種以上を含有することが好ましく、フッ素系界面活性剤が最も好ましい。フッ素系界面活性剤を用いる場合、該界面活性剤分子中のフッ素含有置換基のフッ素原子数は１〜３８が好ましく、５〜２５がより好ましく、７〜２０が最も好ましい。フッ素原子数が多すぎるとフッ素を含まない通常の溶媒に対する溶解性が落ちる点で好ましくない。フッ素原子数が少なすぎると、ムラの改善効果が得られない点で好ましくない。
【０１０６】
特に好ましい界面活性剤として、下記一般式（ａ）および、一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有するものが挙げられる。
【０１０７】
【化２０】
2007193088.tif 000022
【０１０８】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは１〜１８の整数、ｍは２〜１４の整数を示す。ｐ、qは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも同時に０になる場合は含まない。
【０１０９】
特に好ましい界面活性剤の一般式（ａ）で表されるモノマーをモノマー（ａ）、一般式（ｂ）で表されるモノマーをモノマー（ｂ）と記す。一般式（ａ）に示すＣmＦ2m+1は、直鎖でも分岐鎖でもよい。ｍは２〜１４の整数を示し、好ましくは４〜１２の整数である。ＣmＦ2m+1の含有量は、モノマー（ａ）に対して２０〜７０質量％が好ましく、特に好ましくは４０〜６０質量％である。Ｒ1は水素原子またはメチル基を示す。またｎは１〜１８を示し、中でも２〜１０が好ましい。一般式（ｂ）に示すＲ2およびＲ3は、各々独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ4は水素原子または炭素数が１〜５のアルキル基を示す。ｐおよびqは０〜１８の整数を示すが、ｐ、ｑがいずれも０は含まない。ｐおよびqは好ましくは２〜８である。
【０１１０】
また、特に好ましい界面活性剤１分子中に含まれるモノマー（ａ）としては、互いに同じ構造のものでも、上記定義範囲で異なる構造のものを用いてもよい。このことは、モノマー（ｂ）についても同様である。
【０１１１】
特に好ましい界面活性剤の重量平均分子量Ｍｗは、１０００〜４００００が好ましく、さらには５０００〜２００００がより好ましい。界面活性剤は前記一般式（ａ）および一般式（ｂ）で表されるモノマーを含み、且つ一般式（ａ）／一般式（ｂ）の質量比が２０／８０〜６０／４０の共重合体を含有することを特徴とする。特に好ましい界面活性剤１００質量部は、モノマー（ａ）が２０〜６０質量部、モノマー（ｂ）が８０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましく、さらには、モノマー（ａ）が２５〜６０質量部、モノマー（ｂ）が６０〜４０質量部、およびその他の任意モノマーがその残りの質量部からなることが好ましい。
【０１１２】
モノマー（ａ）および（ｂ）以外の共重合可能なモノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン、ビニル安息香酸、ビニルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アミノスチレン等のスチレンおよびその誘導体、置換体、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、部分エステル化マレイン酸、スチレンスルホン酸無水マレイン酸、ケイ皮酸、塩化ビニル、酢酸ビニル等のビニル系単量体等が挙げられる。
【０１１３】
特に好ましい界面活性剤は、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）等の共重合体であるが、そのモノマー配列は特に制限はなくランダムでも規則的、例えば、ブロックでもグラフトでもよい。さらに、特に好ましい界面活性剤は、分子構造および／またはモノマー組成の異なるものを２以上混合して用いることができる。
【０１１４】
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂層の層全固形分に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、特に０．１〜７質量％が好ましい。界面活性剤は、特定構造の界面活性剤とエチレンオキサイド基、およびポリプロピレンオキサイド基とを所定量含有するもので、感光性樹脂層に特定範囲で含有させることにより該感光性樹脂層を備えた液晶表示装置の表示ムラが改善される。全固形分に対して０．０１質量％未満であると、表示ムラが改善されず、１０質量％を超えると、表示ムラ改善の効果があまり現れない。上記の特に好ましい界面活性剤を前記感光性樹脂層中に含有させカラーフィルタを作製すると、表示ムラが改良される点で好ましい。
【０１１５】
また、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（大日本インキ化学工業（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤、または、シリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
【０１１６】
［その他の層］
転写材料における仮支持体と光学異方性層との間などには、転写材料の力学特性や凹凸追従性をコントロールするための熱可塑性樹脂層が設けられていてもよい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルおよびそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１１７】
転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、および塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層が設けられていてもよい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時の感度が上がり、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【０１１８】
前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコールおよびポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を１層にすることが好ましい。
【０１１９】
樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じかまたは類似の材料からなってもよいが、樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フィルム材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【０１２０】
光学異方性層および感光性樹脂層、および所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層および中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１２１】
本発明の液晶セル用基板の製造方法及び液晶セルの製造方法に用いられる転写材料の例として、
（１）  仮支持体上に、少なくとも一つの光学異方性層及び少なくとも一つの感光性樹脂層を有する転写材料；
（２）  仮支持体上に、少なくとも一つの光学異方性層と、少なくとも一つの感光性樹脂層とを有する転写材料であり、該光学異方性層が反応性基を有する液晶性化合物を含有する組成物からなり、前記感光性樹脂層が２種類以上の異なる光反応機構を有する重合開始剤を含有する組成物から形成された転写材料；
（３）  前記光学異方性層が、少なくとも一つの反応性基を有する液晶性化合物を含む溶液を塗布乾燥して液晶相を形成した後、熱または電離放射線照射により固定化した層である（１）又は（２）の転写材料；
（４）  前記反応性基がエチレン性不飽和基である（２）又は（３）の転写材料；
（５）  前記光学異方性層がラジカル重合開始剤を含む組成物から形成された（１）〜（４）のいずれかの転写材料；
（６）  前記感光性樹脂層が、２種類以上の異なる光反応機構を有する重合開始剤を含有する組成物から形成され、且つ少なくとも一種がラジカル重合開始剤である（１）〜（５）の転写材料；
（７）  前記感光性樹脂層が、２種類以上の異なる光反応機構を有する重合開始剤を含有する組成物から形成され、且つ少なくとも一種がカチオン重合開始剤である（１）〜（６）のいずれかの転写材料；
（８）  前記光学異方性層または感光性樹脂層が、少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物を含有する（１）〜（７）のいずれかの転写材料；
（９）  前記光学異方性層または感光性樹脂層が、少なくとも一つのカルボキシル基、水酸基、アミノ基、チオール基から選ばれる一つを有する化合物を含有する（１）〜（８）のいずれかの転写材料；に記載の液晶セルと製造方法。
（１０）  前記光学異方性層が、前記仮支持体上に直接もしくは支持体上に形成した配向層をラビングした上に直接形成されている（１）〜（９）のいずれかの転写材料；
（１１）  前記液晶性化合物が、棒状液晶である（１）〜（１０）のいずれかの転写材料；
（１２）  前記組成物の液晶相がコレステリック相である（１）〜（１１）のいずれかの転写材料；
（１３）  前記光学異方性層の光学特性が、正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい二軸性である（１）〜（１２）のいずれかの転写材料；及び
（１４）  前記光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が２０〜２００ｎｍ、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として該光学異方性層の法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が５０〜２５０ｎｍである（１）〜（１３）のいずれかの転写材料；が挙げられる。
【実施例】
【０１２２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１２３】
（熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＣＵ−１として用いた。
────────────────────────────────―――
熱可塑性樹脂層用塗布液組成（％）
────────────────────────────────―――
メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（共重合組成比（モル比）＝５５／３０／１０／５、
重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８９
スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６５／３５、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
１３．７４
ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製）                        ９．２０
メガファックＦ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）社製）    ０．５５
メタノール                                                    １１．２２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ６．４３
メチルエチルケトン                                            ５２．９７
─────────────────────────────────―――
【０１２４】
（中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
─────────────────────────────────――
中間層／配向層用塗布液組成（％）
─────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）            ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ  Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製）    １．４８
蒸留水                                                        ５２．１
メタノール                                                    ４３．２１
─────────────────────────────────――
【０１２５】
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。ＬＣ−１−２はＥＰ１３８８５３８Ａ１，ｐａｇｅ  ２１に記載の方法により合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
棒状液晶（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ２４２，ＢＡＳＦジャパン）２２．０
カイラル剤（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ  ＬＣ７５６，ＢＡＳＦジャパン）３．４０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COO-Ph-COOH                              ３．３０
CH2=CH-COO(CH2)4COO-Ph-COOH                                     ３．３０
（但し、Phはフェニレン基を表す）
４，４’−アゾキシジアニソール                                  ０．５２
水平配向剤（ＬＣ−１−１）                                      ０．１０
光重合開始剤（ＬＣ−１−２）                                    １．３６
メチルエチルケトン                                            ６６．２
──────────────────────────────────――
【０１２６】
【化２１】
2007193088.tif 000023
【０１２７】
以下に感光性樹脂層用塗布液の製造方法を説明する。表１にそれぞれの感光性樹脂層用塗布液の組成を示す。
【０１２８】
【表１】
2007193088.tif 000024
【０１２９】
表１中の組成物は以下の通りである。
［Ｋ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｋ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
カーボンブラック（デグッサ社製、Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋ  ２５０）
１３．１
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピル
アミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］
−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
０．６５
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量３．７万）                                      ６．７２
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．５３
──────────────────────────────────――
【０１３０】
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−１組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４                                ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５-ビス（３−ジエチルアミノプロピル
アミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］
−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン                            ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                      ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ８３．２
──────────────────────────────────――
【０１３１】
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７                              １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７０．０
──────────────────────────────────――
【０１３２】
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６                              １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万）                                    １２．０
シクロヘキサノン                                              ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ３５．０
──────────────────────────────────――
【０１３３】
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万）                                        ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１３４】
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１３５】
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１３６】
［ＤＰＨＡ溶液組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）                  ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１３７】
（遮光性隔壁層用塗布液ＰＰ−Ｋ１の調製）
遮光性隔壁層用塗布液ＰＰ−Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ溶液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、メガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌することによって得られた。
【０１３８】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｒ１は、まず表１に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表３１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１３９】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｇ１は、まず表１に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４０】
（感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｂ１は、まず表１に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４１】
（粘着層用塗布液ＰＰ−Ｘ１の調製）
感光性樹脂層用塗布液ＰＰ−Ｘ１は、表１に記載のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表１に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦ界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４２】
（偏光ＵＶ照射装置ＰＯＬＵＶ−１）
ＵＶ光源として３５０〜４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ−Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から３ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘ  ＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して偏光ＵＶ照射装置を作製した。この装置の最大照度は４００ｍＷ／ｃｍ2であった。
【０１４３】
（光学異方性層用転写材料の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を＃６のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が９５℃２分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が仮支持体のＴＤ方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）して光学異方層を固定化し、厚さ２．８μｍの光学異方性層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｘ１を塗布、乾燥させ、本発明の実施例１である光学異方性層用感光性樹脂転写材料Ｘ−１を作製した。
【０１４４】
（ブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、中間層／配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。更に、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．４μｍの感光性樹脂層を設け、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となったブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料Ｋ−１を作製した。
【０１４５】
（ＲＧＢ用感光性樹脂転写材料の作製）
厚さ７５μｍのロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液ＣＵ−１を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液ＡＬ−１を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は１４．６μｍ、配向層は１．６μｍであった。続いて、感光性樹脂組成物ＰＰ−Ｒ１を塗布、乾燥させ、Ｒ用感光性樹脂転写材料Ｒ−１を作製した。
Ｇ、Ｂについても、ＰＰ−Ｒ１の代わりにＰＰ−Ｇ１、ＰＰ−Ｂ１を用い、Ｇ用、Ｂ用感光性樹脂転写材料Ｇ−１、Ｂ−１を作製した。
【０１４６】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、波長λにおける正面レターデーションＲｅ（０）および遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。実施例１の光学異方性層の位相差測定結果を表３に示す。
【０１４７】
【表２】
2007193088.tif 000025
【０１４８】
（カラーフィルタの作製）
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
支持体となる無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ-アミノプロピルトリメトキシシラン０．３％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料Ｋ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を用い、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理した。
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により１００℃２分加熱した。
【０１４９】
−ＲＧＢ画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記ブラック（Ｋ）画像を形成した後に１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を４０μｍに設定し、露光量を５０ｍＪ／ｃｍ2で露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
続いて炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）と２−プロパノールの混合液（混合比４：１）を用いてコーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像しつつ、回転ブラシで表面の現像残渣を取り除いて、パターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行った。現像後、大気雰囲気で１２０分間、電機炉中でベークを行った。ベーク温度は２００℃〜２５０℃の水準で実施した。
【０１５０】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｇ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素を形成した基板上に、前記感光性樹脂転写材料Ｒ−１と同様の工程で、グリーン（Ｇ）の画素を得た。
【０１５１】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
前記感光性樹脂転写材料Ｂ−１を用い、前記レッド（Ｒ）画素とグリーン（Ｇ）画素を形成した基板上に、同様の工程で、ブルー（Ｂ）の画素を得た。
【０１５２】
このブラック画像、ならびにＲ、Ｇ及びＢの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、基板加熱装置により１００℃２分加熱し、目的のカラーフィルタを作製した。
【０１５３】
（配向制御溝を有する光学異方性層の作製）
前記感光性樹脂転写材料ＰＰ−Ｘ１の保護フィルムを剥離後、ラミネータ（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃII型））を用い、前記ブラック（Ｋ）画像を形成した後に１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．４ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を４０μｍに設定し、露光量を５００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム（株）製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
【０１５４】
続いて炭酸Ｎａ系現像液（０．０６ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）と２−プロパノールの混合液（混合比４：１）を用いてコーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像しつつ、回転ブラシで表面の現像残渣を取り除いた。この工程で光学異方性層と感光性樹脂層を現像して一部を除去して、光学異方性層パターンの端面が着色層（Ｒ部分）の端面の内側にあるパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）」を用い、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行った。現像後、大気雰囲気で１２０分間、電機炉中でベークを行った。ベーク温度は２００℃〜２５０℃の水準で実施した。
この様にして液晶セル用基板を作製した。作製した基板は、その表面に、カラーフィルタ（ブラック画像及びＲＧＢ画像）、及びカラーフィルタ上に、図６に示す「Ｌ字」部分を有するパターン状に形成され、溝状の欠落部である配向制御溝２２が設けられた感光性樹脂層と光学異方性層との積層体を有していた。配向制御溝２２の深さは、２．４μｍであった。
【０１５５】
（透明電極の形成）
上で作製した液晶セル用基板の光学異方性層上に、透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。透明電極膜を形成した後も上記配向制御溝の深さは透明電極膜を形成する前と同様であり、２．４μｍであった。
【０１５６】
（配向層の形成）
更に、透明電極の上に配向層を設けた。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
【０１５７】
（対向側基板の準備）
無アルカリガラス上に、ＩＴＯ透明電極膜をスパッタリングにより形成した。具体的には、真空チャンバー内で１０-5Ｐａ程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を２４０度に加熱、１０-1Ｐａのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からＩＴＯを飛ばし、１０００Ａの厚さになるまで堆積させた。次に、形成されたＩＴＯ透明電極膜にスリットパターンを以下の方法で形成した。まず、スピンコート法により、ＴＦＴ用フォトレジスト（東京応化製）を２μｍの厚さに均一に、ＩＴＯ透明電極膜表面にコートした。１００℃のベーク炉でプリベークを行った後、露光装置（Ｎｉｋｏｎ製ステッパ）で所望のパターンのフォトマスクを使ってパターンを焼きこんだ。露光量と露光時間は設備の最適条件を適宜選んで決定した。露光後の基板を現像液（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド含有：東京応化製）で現像後、１２０℃のベーク炉でポストベークを行い、残留溶剤を飛ばして形を固定した。次にＩＴＯのエッチング液（塩化第２鉄含有：関東化学製）を揺動するシャワーヘッドで吹きかけながらエッチングを行い、ITO膜が十分溶けきったのを確認して、純水シャワーでエッチング液を洗い落とし、乾燥エアーを使った高圧エアナイフで水を切って乾燥させた。次にレジストを剥離した。レジスト剥離液（２−アミノエタノール、ＮＭＰ含有：東京応化製）をシャワーヘッドで吹きかけながら、ロールブラシをかけてレジストを剥離した。剥離液は、温水シャワーとエアナイフで流して飛ばした。この様にして、ＩＴＯ透明電極膜に深さ０．１μｍのスリットを形成した。スリットの位置が、上記で作製した液晶セル用基板の配向制御溝に対応する位置になるように形成した。
【０１５８】
（対向側配向層の形成）
スリットを設けたＩＴＯ透明電極膜上に、ポリイミド配向層を形成した。配向材はＪＳＲ製ポリイミドＪＡＬＳ２０４を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、８０℃の雰囲気で１５分プリベークを行い、さらに２００℃で６０分焼成を行った。その結果、膜厚で約０．５μｍの配向層を得た。
この様にして、ガラス基板上に、スリットパターンを有するＩＴＯ透明電極膜、及び配向層を有する対向側基板を作製した。
【０１５９】
（シールパターンの形成）
基板の周囲にシールパターンを形成した。スペーサ粒子を１質量％含有したエポキシ樹脂（日産化学製ストラクトボンドＸＮ−２１Ｓ）をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷した。これを８０℃で３０分仮焼きした。
【０１６０】
（重ね合わせ）
上記で作製した液晶セル用基板及び対向側基板とが、正しい位置で重なるように、即ち、双方の基板を対向配置した際、配向制御溝と電極膜のスリットが、それぞれ対向する位置に存在するように、アライメントしながら重ねあわせ装置で合わせた。その状態で０．０３Ｍｐａの圧力をかけながら、貼り合わされた双方の基板を１８０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚の基板の積層体を得た。焼成にはバルーンタイプの焼成装置を使用した。
【０１６１】
（液晶注入）
この基板積層体に液晶注入装置を使って液晶材を注入した。液晶材はメルク社製ＭＬＣ−６６０８で、これを液晶皿に入れ、基板積層体とともに真空チャンバー内で１０-1Ｐａの真空下で６０分保持して脱気した。十分真空に引いた後、シールに設けた注入口の部分を液晶に浸すようにした上で大気圧に戻して１８０分保持して、ガラス基板の間隙に液晶を満たした。その後、注入装置から基板積層体を取り出し、注入口の部分をＵＶ硬化性のエポキシ接着剤を塗布・硬化して液晶セルを得た。
【０１６２】
（偏光板貼り付け）
この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を吸収軸を直交する配置に貼り付けて液晶パネルを得た。
【０１６３】
（実施例１のＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管をバックライトとして使用した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置し、実施例のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６４】
（比較例のＶＡ−ＬＣＤの作製）
液晶セル内に光学異方性層を形成せず、代わりに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、光学異方性層を作製したのと同様の方法によって２．７５μｍの光学異方性層を形成した以外は、実施例と同様にして、比較例１のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６５】
（ＶＡ−ＬＣＤの光漏れの比較）
作製した実施例と比較例の液晶表示装置を、駆動状態で６０℃９５％の恒温層に２４時間入れた後取り出し、２５℃５０％の状態１時間放置した後に、黒表示画面での光漏れを目視観察した。結果を表３に示す。
【０１６６】
【表３】
2007193088.tif 000026
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本発明の液晶セル用基板の作製方法の一例の流れを示す模式図である。
【図２】本発明の液晶セルの一例の概略断面図である。
【図３】本発明の液晶セルの他の例の概略断面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【図５】本発明の方法に利用可能な転写材料の概略断面図である。
【図６】実施例で作製した液晶セル用基板の上面模式図である。
【符号の説明】
【０１６８】
１０  透明基板
１０Ａ  第１の基板
１０Ｂ  第２の基板
１２  ブラックマトリックス
１４  カラーフィルタ層
１６  転写材料
１８  粘着層
２０、２０’  光学異方性層
２２、２２’  配向制御溝
２４、２６  透明電極膜
２５、２７  配向層
２８  スリット
３０  遮光リブ
３１  ＴＦＴ駆動素子
３２  液晶性分子
３３  偏光層
３４  保護フィルム
３５  保護フィルム又は光学補償フィルム
【図１】
2007193088.tif 000027
【図２】
2007193088.tif 000028
【図３】
2007193088.tif 000029
【図４】
2007193088.tif 000030
【図５】
2007193088.tif 000031
【図６】
2007193088.tif 000032