(57)【要約】【課題】本発明は、良好な特性を呈する回折素子を実現できる。【解決手段】本発明は、射出成型品でなるベース層２０Ｃの上面２０Ｃａ及び下面２０Ｃｂにカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅがそれぞれ形成される。そして、使用されるＵＶ硬化樹脂のガラス転移点Ｔｇが高い順にＵＶレプリカ法によって回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄを設けるようにした。【選択図】図６
2007292885.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回折パターンが形成された一面及び平坦な他面を有する、透明な射出成型品でなる第１の部材と、
上記第１の部材における上記第１の回折パターンに密着して設けられ、表面に第１の紫外線硬化樹脂で第２の回折パターンが形成された第２の部材と、
上記第１の部材における上記平坦な他面に密着して設けられ、硬化後のガラス転移点が上記第２の部材と２０[℃]以上異なる第2の紫外線硬化樹脂で形成された第３の部材と
を具えることを特徴とする回折素子。
【請求項２】
上記第２の部材及び第３の部材が、
使用される第１の紫外線硬化樹脂及び第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点が高い順に形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の回折素子。
【請求項３】
上記第３の部材のガラス転移点は、
上記第２の部材のガラス転移点より高く、
上記回折素子は、
上記第１の部材の上記平坦な他面に上記第３の部材が形成された後、上記第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点より１０[℃]〜３０[℃]低い第１のアニール処理温度でアニール処理がなされると共に、アニール処理された上記第１の部材の上記一面に上記第２の部材が形成された後、上記第１の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点より１０[℃]〜３０[℃]低い第２のアニール処理温度でアニール処理がなされた
ことを特徴とする請求項１に記載の回折素子。
【請求項４】
上記第２の部材の屈折率は、
上記第１の部材と相違し、
上記第３の部材の屈折率は、
上記第１の部材とほぼ同一である
ことを特徴とする請求項１に記載の回折素子。
【請求項５】
光源から発射される光ビームを光ディスクに照射する対物レンズユニットであって、
第１の回折パターンが形成された一面及び平坦な他面を有する、透明な射出成型品でなる第１の部材と、上記第１の部材における上記第１の回折パターンに密着して設けられ、表面に第１の紫外線硬化樹脂で第２の回折パターンが形成された第２の部材と、上記第１の部材における上記平坦な他面に密着して設けられ、硬化後のガラス転移点が上記第２の部材と２０[℃]以上異なる第2の紫外線硬化樹脂で形成された第３の部材とを有し、入射される光ビームを当該光ビームの波長に応じて回折する回折素子と、
上記回折素子と一体に構成され、上記回折素子から入射される上記光ビームを集光して上記光ディスクに照射する対物レンズと
を具えることを特徴とする対物レンズユニット。
【請求項６】
第１の波長の光ビーム、第２の波長の光ビーム及び第３の波長の光ビームを出射する光源と、
上記第１及び第２の波長の光ビームを回折させると共に上記第３の波長の光ビームを回折させずに透過する回折素子と、当該回折素子から入射された上記第１、第２又は第３の波長の光ビームを集光する対物レンズとが一体となった対物レンズユニットと
を有する光ピックアップであって、
上記回折素子は、
第１の回折パターンが形成された一面及び平坦な他面を有する、透明な射出成型品でなる第１の部材と、
上記第１の部材における上記第１の回折パターンに密着して設けられ、表面に第１の紫外線硬化樹脂で第２の回折パターンが形成された第２の部材と、
上記第１の部材における上記平坦な他面に密着して設けられ、硬化後のガラス転移点が上記第２の部材と２０[℃]以上異なる第2の紫外線硬化樹脂で形成された第３の部材と
を具えることを特徴とする光ピックアップ。
【請求項７】
上記第１の回折パターンは、
第１の波長の光ビームのみを回折させ、
上記第２の回折パターンは、
第２の波長の光ビームのみを回折させる
ことを特徴とする請求項６に記載の光ピックアップ。
【請求項８】
第１の波長の光ビーム、第２の波長の光ビーム及び第３の波長の光ビームを出射する光源と、
上記第１及び第２の波長の光ビームを回折させると共に上記第３の波長の光ビームを回折させずに透過する回折素子と、当該回折素子から入射された上記第１、第２又は第３の波長の光ビームを集光する対物レンズとが一体となった対物レンズユニットと
を有する光ピックアップにより、光ディスクに対して上記第１、第２又は第３の波長の光ビームを照射する光ディスク装置であって、
上記回折素子は、
第１の回折パターンが形成された一面及び平坦な他面を有する、透明な射出成型品でなる第１の部材と、
上記第１の部材における上記第１の回折パターンに密着して設けられ、表面に第１の紫外線硬化樹脂で第２の回折パターンが形成された第２の部材と、
上記第１の部材における上記平坦な他面に密着して設けられ、硬化後のガラス転移点が上記第２の部材と２０[℃]以上異なる第2の紫外線硬化樹脂で形成された第３の部材と
を具えることを特徴とする光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は回折素子に関し、例えば複数波長に対応した回折素子に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ディスク装置の光ピックアップにおいて、光ビームの収差を補正するなどの目的で回折素子が用いられている。回折素子は、透明な板状の素子基板の表面に微細な溝状の回折格子を形成し、当該回折格子の山及び谷を通過する際の光路差によって光ビームを回折させるものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この回折素子では、回折格子を形成する回折パターンの溝の深さ及び光ビームの波長に応じて回折効率が変化するとともに、回折パターンの周期（あるいは溝の幅）に応じて回折角度が変化する。
【特許文献１】特開２００５−３３９７６２公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところでかかる構成の回折素子においては、その両面にそれぞれ回折格子を設けるようになされたものがある。この回折格子では、ベースとなる成型品を射出成型によって形成すると共に、このベースに塗布された紫外線硬化型樹脂（以下、これをＵＶ（UltraViolet ray）硬化樹脂と呼ぶ）にパターンの転写された金型を押圧させて硬化する、いわゆるＵＶレプリカ法により回折格子を設けることにより、回折パターンを高い精度で再現することできると考えられる。
【０００５】
ところで、回折格子に紫外線硬化型樹脂を使用する場合、紫外線照射によるＵＶ硬化処理の後、さらにこの回折格子を所定時間に渡って加熱する、いわゆるアニール処理が一般的に行われている。これにより、ＵＶ硬化樹脂の残留歪を除去すると共に、硬化処理時に発生する副生成物などの低分子量成分を蒸発させることができ、硬化されたＵＶ硬化樹脂の物性を安定させて、回折格子として良好な特性を発現させることができる。
【０００６】
一般的にこのアニール処理は、使用されるＵＶ硬化樹脂のガラス転移点より１０[℃]〜３０[℃]低い温度で行われる。しかしながら、両面にガラス転移点が異なるＵＶ硬化樹脂を使用してそれぞれ回折格子を設けた場合、ガラス転移点の高いＵＶ硬化樹脂に合わせて高い温度でアニール処理を行うと、ガラス転移点の低いＵＶ硬化樹脂が変形してしまう一方、ガラス転移点の低いＵＶ硬化樹脂に合わせて低い温度でアニール処理を行うと、ガラス転移点の高いＵＶ硬化樹脂に対して十分な効果を得ることができない。
【０００７】
このため、異なるＵＶ硬化樹脂を使用して両面に回折格子を設けた場合、良好な特性を呈する回折素子を作製することができないという問題があった。
【０００８】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、良好な特性を呈する回折素子、並びに当該回折素子を備える対物レンズユニット、光ピックアップ及び光ディスク装置を提案しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
かかる課題を解決するため本発明においては、第１の回折パターンが形成された一面及び平坦な他面を有する、透明な射出成型品でなる第１の部材と、第１の部材における第１の回折パターンに密着して設けられ、表面に第１の紫外線硬化樹脂で第２の回折パターンが形成された第２の部材と、第１の部材における平坦な他面に密着して設けられ、硬化後のガラス転移点が第２の部材と２０[℃]以上異なる第2の紫外線硬化樹脂で形成された第３の部材とを設けるようにした。
【００１０】
そして、第２の部材と第３の部材のうち、使用される第１の紫外線硬化樹脂及び第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点が高い方を先に形成すると共にアニール処理を行い、その後ガラス転移点の低い方を形成してアニール処理を行うことにより、第１の紫外線硬化樹脂及び第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点が２０[℃]以上異なることにより、第２の部材及び第３の部材の両方に対して効果的なアニール処理温度が存在しない場合であっても、カバー層及び回折パターン層を効果的にアニール処理を行うことができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、第２の部材と第３の部材のうち、使用される第１の紫外線硬化樹脂及び第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点が高い方を先に形成すると共にアニール処理を行い、その後ガラス転移点の低い方を形成してアニール処理を行うことにより、第１の紫外線硬化樹脂及び第２の紫外線硬化樹脂における硬化後のガラス転移点が２０[℃]以上異なることにより、第２の部材及び第３の部材の両方に対して効果的なアニール処理温度が存在しない場合であっても、カバー層及び回折パターン層を効果的にアニール処理を行うことができ、かくして良好な特性を呈する回折素子、対物レンズユニット、光ピックアップ及び光ディスク装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。
【００１３】
（１）光ディスク装置の構成
（１−１）光ディスク装置の全体構成
図１において、１は本発明による回折素子を用いた光ディスク装置を示し、ＣＤ（Compact Disc）方式、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）方式又はＢＤ（Blu-ray Disc、登録商標）方式といった３方式のいずれかでなる光ディスク１００を再生し得るようになされている。
【００１４】
この光ディスク装置１は、制御部２によって全体を統括制御するようになされており、光ディスク１００が装填された状態で、図示しない外部機器からの再生指示等を受け付けると、当該制御部２から駆動部３及び信号処理部４を制御することにより当該光ディスク１００に記録された情報を読み出すようになされている。
【００１５】
実際上、駆動部３は、制御部２の制御に基づき、スピンドルモータ５により光ディスク１００を所望の回転速度で回転させ、スレッドモータ６により光ピックアップ７を光ディスク１００の径方向であるトラッキング方向へ大きく移動させ、さらに２軸アクチュエータ８により対物レンズユニット９を光ディスク１００に対して近接又は離隔させる方向であるフォーカス方向及びトラッキング方向の２方向へそれぞれ細かく移動させる。
【００１６】
これと並行して信号処理部４は、光ピックアップ７により対物レンズユニット９から所定の光ビームを光ディスク１００の所望トラックに対して照射させ、その反射光の検出結果を基に再生信号を生成し、制御部２を介してこの再生信号を図示しない外部機器へ送出させる。
【００１７】
光ピックアップ７は、いわゆる３波長対応型となっており、対物レンズユニット９から、ＣＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＣＤ方式ディスク１００ｃと呼ぶ）に対して波長約７８０［ｎｍ］の光ビームを照射し、またＤＶＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＤＶＤ方式ディスク１００ｄと呼ぶ）に対して波長約６５０［ｎｍ］の光ビームを照射し、さらにＢＤ方式でなる光ディスク１００（以下、これをＢＤ方式ディスク１００ｂと呼ぶ）に対して波長約４０５［ｎｍ］の光ビームを照射するようになされている。
【００１８】
このように光ディスク装置１は、ＣＤ方式、ＤＶＤ方式、又はＢＤ方式でなる光ディスク１００に対してそれぞれの方式に適した光ビームを照射することにより、当該光ディスク１００を再生し得るようになされている。
【００１９】
（１−２）光ピックアップの構成
図２に示すように、光ピックアップ７は、光ビームの光源として、ＣＤ方式用の波長約７８０［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＣＤ用光ビームＬｃと呼ぶ）及びＤＶＤ方式用の波長約６５０［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＤＶＤ用光ビームＬｄと呼ぶ）を出射し得るレーザダイオード１１と、ＢＤ方式用の波長約４０５［ｎｍ］でなる光ビーム（以下、これをＢＤ用光ビームＬｂと呼ぶ）を出射し得るレーザダイオード１２とを有している。
【００２０】
カップリングレンズ１３は、レーザダイオード１１から出射された光ビームの光学倍率を変換するようになされている。
【００２１】
ビームスプリッタ１４は、反射透過面１４Ａにおいて、光ビームをその波長に応じて反射又は透過させるようになされており、当該反射透過面１４Ａにおいて、波長約７８０［ｎｍ］でなるＣＤ用光ビームＬｃ及び波長約６５０［ｎｍ］でなるＤＶＤ用光ビームＬｄを反射させ、また波長約４０５［ｎｍ］でなるＢＤ用光ビームＬｂを透過させるようになされている。
【００２２】
偏光ビームスプリッタ１５は、偏光面１５Ａにおいて、光ビームをその偏光方向により反射又は透過させるようになされており、ビームスプリッタ１４側から入射された光ビームを透過させ、また偏光方向が調整された上でコリメータレンズ１６側から入射された光ビームを反射させるようになされている。
【００２３】
コリメータレンズ１６は、偏光ビームスプリッタ１５から入射され発散光でなる光ビームを平行光に変換し、また立ち上げミラー１７から入射され平行光でなる光ビームを収束光に変換するようになされている。
【００２４】
立ち上げミラー１７は、コリメータレンズ１６から入射される水平方向の光ビームを反射して垂直方向、すなわち光ディスク１００に対してほぼ垂直に入射させる方向に立ち上げ、また１／４波長板１８からほぼ垂直に入射された光ビームを水平方向に反射するようになされている。
【００２５】
１／４波長板１８は、光ビームにおける一部成分の位相を１／４波長分遅延させることにより、立ち上げミラー１７から入射される光ビームを直線偏光から円偏光へ変換し、或いは対物レンズユニット９から入射される光ビームを円偏光から直線偏光に変換するようになされている。
【００２６】
対物レンズユニット９は、図３に斜視図を示すように、略筒状でなる鏡筒部１９（図３では一部切断面を示す）の下部に扁平な円盤状でなる回折素子２０が取り付けられていると共に、当該鏡筒部１９の上部から中央部にかけて、当該回折素子２０とほぼ同様の大きさでなる扁平な円盤状部の下面に当該円盤よりも若干小径の紡錘形部が一体に形成されたような形状でなる対物レンズ２１が取り付けられている。
【００２７】
対物レンズユニット９は、１／４波長板１８から入射され平行光でなる光ビームを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これを光ディスク１００の信号記録面に合焦させるようになされている。
【００２８】
また光ピックアップ７は、光ディスク１００の信号記録面において反射され発散光となった光ビームを、対物レンズユニット９の対物レンズ２１及び回折素子２０により平行光に変換し、１／４波長板１８により円偏光から直線偏光に変換し、立ち上げミラー１７により水平方向、すなわち偏光ビームスプリッタ１５が設けられている方向へ反射し、コリメータレンズ１６により平行光から収束光に変換した後、偏光ビームスプリッタ１５へ入射させる。
【００２９】
この場合、偏光ビームスプリッタ１５は、光ビームの偏光方向に応じて偏光面１５Ａにおいて当該光ビームを反射し、これをコンバージョンレンズ２２へ入射させる。
【００３０】
コンバージョンレンズ２２は、ＣＤ用光ビームＬｃ及びＤＶＤ用光ビームＬｄとＢＤ用光ビームＬｂとの光学倍率の変換を行うようになされている。また光軸合成素子２３は、レーザダイオード１１から出射されたＣＤ用光ビームＬｃ及びＤＶＤ用光ビームＬｄの光軸とレーザダイオード１２から出射されたＢＤ用光ビームＬｂの光軸とを一致させるようになされている。
【００３１】
フォトディテクタ２４は、その上面（すなわちコンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３を通過した光ビームが照射される面）においてそれぞれ所定形状でなる複数の検出領域がそれぞれ所定の位置に形成されており、照射された光ビームの光量をそれぞれ検出して光電変換することにより複数の検出信号を生成し、これを信号処理部４（図１）へ供給するようになされている。
【００３２】
これに応じて信号処理部４は、フォトディテクタ２４（図２）からの検出信号を用いた所定の演算処理等を行うことにより再生ＲＦ信号を生成し、当該再生ＲＦ信号を基に所定の復号化処理や復調処理等を経て再生信号を生成するようになされている。
【００３３】
また信号処理部４（図１）は、フォトディテクタ２４（図２）からの検出信号を用いた所定の演算処理等を行うことにより、トラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成し、これらを制御部２へ供給するようになされている。これに応じて制御部２は、駆動部３を介してトラッキング制御やフォーカス制御等を行い、光ディスク１００に対する光ビームの照射状態を調整して再生信号を正常に生成し得るようになされている。
【００３４】
（１−２−１）ＣＤ方式ディスクの場合
実際上、制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＣＤ方式ディスク１００ｃであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１１の発光点１１Ａから発散光でなるＣＤ用光ビームＬｃを発射させ、カップリングレンズ１３を介してビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００３５】
光ピックアップ７は、ビームスプリッタ１４によりＣＤ用光ビームＬｃを反射透過面１４Ａにおいて反射させ、偏光ビームスプリッタ１５を透過させて、コリメータレンズ１６により発散光から平行光に変換し、立ち上げミラー１７により水平方向から垂直方向に立ち上げ、１／４波長板１８により直線偏光から円偏光に変換した後、当該ＣＤ用光ビームＬｃを対物レンズユニット９へ入射させる。
【００３６】
対物レンズユニット９は、１／４波長板１８から入射されたＣＤ用光ビームＬｃを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面に合焦させる。
【００３７】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面において反射され発散光となったＣＤ用光ビームＬｃを、対物レンズ２１及び回折素子２０により平行光に変換し、１／４波長板１８へ入射させる。
【００３８】
その後光ピックアップ７は、１／４波長板１８に入射されたＣＤ用光ビームＬｃを円偏光から直線偏光に変換させ、立ち上げミラー１８により水平方向へ反射し、コリメータレンズ１６により平行光から収束光に変換させた後、偏光ビームスプリッタ１５により偏光面１５Ａにおいて反射させ、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３を順次通過させてフォトディテクタ２４へ照射させる。
【００３９】
フォトディテクタ２４は、照射されたＣＤ用光ビームＬｃの光量を複数の検出領域によりそれぞれ検出して複数の検出信号を生成し、これを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００４０】
これに応じて信号処理部４は、複数の検出信号を基に再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００４１】
（１−２−２）ＤＶＤ方式ディスクの場合
制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＤＶＤ方式ディスク１００ｄであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１１の発光点１１Ｂから発散光でなるＤＶＤ用光ビームＬｄを発射させ、カップリングレンズ１３を介してビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００４２】
その後、光ピックアップ７は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＤＶＤ用光ビームＬｄをカップリングレンズ１３、ビームスプリッタ１４、偏光ビームスプリッタ１５、コリメータレンズ１６、立ち上げミラー１７及び１／４波長板１８の順に通過又は反射させ、対物レンズユニット９において当該ＤＶＤ用光ビームＬｄを回折素子２０及び対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面に合焦させる。
【００４３】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面において反射され発散光となったＤＶＤ用光ビームＬｄを、対物レンズ２１、回折素子２０により平行光に変換した後、１／４波長板１８、立ち上げミラー１７、コリメータレンズ１６、偏光ビームスプリッタ１５、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３の順に通過又は反射させ、フォトディテクタ２４へ照射させる。
【００４４】
フォトディテクタ２４は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、照射されたＤＶＤ用光ビームＬｄの光量を複数の検出領域によって検出することにより複数の検出信号を生成し、これらを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００４５】
これに応じて信号処理部４は、再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００４６】
（１−２−３）ＢＤ方式ディスクの場合
制御部２（図１）は、所定のディスク種別判定手法により光ディスク１００がＢＤ方式ディスク１００ｂであることを認識した場合、光ピックアップ７（図２）におけるレーザダイオード１２の発光点１２Ａから発散光でなるＢＤ用光ビームＬｂを発射させ、ビームスプリッタ１４へ入射させる。
【００４７】
この場合、ビームスプリッタ１４は、ＢＤ用光ビームＬｂを反射透過面１３Ａにおいて透過させ、これを偏光ビームスプリッタ１５へ入射させる。
【００４８】
その後光ピックアップ７は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＢＤ用光ビームＬｂを偏光ビームスプリッタ１５、コリメータレンズ１６、立ち上げミラー１７及び１／４波長板１８の順に通過又は反射させ、対物レンズユニット９において当該ＢＤ用光ビームＬｂを対物レンズ２１により収束光に変換し、これをＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面に合焦させる。
【００４９】
因みに対物レンズユニット９の回折素子２０は、ＢＤ用光ビームＬｂを回折せずそのまま透過させるようになされている（詳しくは後述する）。
【００５０】
また対物レンズユニット９は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、ＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面において反射され発散光となったＢＤ用光ビームＬｂを、対物レンズ２１により平行光に変換した後、１／４波長板１８、立ち上げミラー１７、コリメータレンズ１６、偏光ビームスプリッタ１５、コンバージョンレンズ２２及び光軸合成素子２３の順に通過又は反射させ、フォトディテクタ２４へ照射させる。
【００５１】
フォトディテクタ２４は、ＣＤ方式ディスク１００ｃの場合と同様、照射されたＢＤ用光ビームＬｂの光量を複数の検出領域によって検出することにより複数の検出信号を生成し、これらを信号処理部４（図１）へ供給する。
【００５２】
これに応じて信号処理部４は、再生ＲＦ信号を生成した上で再生信号を生成し、またトラッキングエラー信号やフォーカスエラー信号等といった駆動制御用の信号を生成するようになされている。
【００５３】
このように光ピックアップ７は、光ディスク１００がＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ或いはＢＤ方式ディスク１００ｂのいずれであっても、対物レンズユニット９により、ＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ又はＢＤ用光ビームＬｂを当該光ディスク１００の信号記録面に合焦させ得ると共に、その反射光をフォトディテクタ２４により検出し得るようになされている。
【００５４】
（１−３）対物レンズユニットの構成
次に、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ及びＢＤ方式ディスク１００ｂと、対物レンズユニット９との拡大断面図を図４に示す。
【００５５】
因みに、対物レンズユニット９には２軸アクチュエータ８（図１）が取り付けられているものの、図４では省略している。
【００５６】
一般に、ＣＤ方式、ＤＶＤ方式及びＢＤ方式では、互換性等の観点から、情報を読み出すための光ビームの波長、当該光ビームを集光する際の開口数、及び各光ディスク１００における下面から信号記録面までの部分（いわゆるカバー層）の厚みがそれぞれ規格により規定されている。
【００５７】
具体的にＣＤ方式では、波長が約７８０［ｎｍ］、開口数が約０．４５、カバー層の厚みが１．２［ｍｍ］と規定されており、またＤＶＤ方式では、波長が約６５０［ｎｍ］、開口数が約０．６、カバー層の厚みが０．６［ｍｍ］と規定されており、さらにＢＤ方式では、波長が約４０５［ｎｍ］、開口数が約０．８５、カバー層の厚みが０．１［ｍｍ］と規定されている。
【００５８】
また対物レンズユニット９では、対物レンズ２１の特性上、当該対物レンズ２１からＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂがそれぞれ照射される場合の焦点距離がそれぞれ異なっている。
【００５９】
このため光ディスク装置１では、実際には光ディスク１００の高さを固定したまま２軸アクチュエータ８（図１）を介して対物レンズユニット９の高さ（すなわち光ディスク１００との間隔）を調整することにより、各光ビームを各光ディスクの信号記録面に合焦させるようになされている。
【００６０】
因みに図４では、説明の都合上、対物レンズユニット９を固定し光ディスク１００の高さを変化させている。この結果、図４では、各光ディスクの下面の高さが異なっている。また図４では、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ及びＢＤ方式ディスク１００ｂについて、いずれもカバー層のみを表している。
【００６１】
ところで対物レンズ２１は、ＢＤ用光ビームＬｂの相対的な強度やＢＤ方式で規定されている開口数等の観点から、ＣＤ用光ビームＬｃやＤＶＤ用光ビームＬｄよりも優先して当該ＢＤ用光ビームＬｂに最適化された設計となっている。
【００６２】
このため対物レンズユニット９の対物レンズ２１は、当該対物レンズ２１の下側からＢＤ用光ビームＬｂが平行光として入射されると、当該ＢＤ用光ビームＬｂを収束光に変換し、ＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面に合焦させることができる。
【００６３】
しかしながら対物レンズ２１は、ＢＤ用光ビームＬｂに最適化されているため、仮にＣＤ用光ビームＬｃ又はＤＶＤ用光ビームＬｄが対物レンズ２１の下側から平行光として入射された場合、収束光に変換することはできるものの、収差が発生してしまうため光ディスク１００の信号記録層に正しく合焦させることができない。
【００６４】
そこで対物レンズユニット９は、回折素子２０によりＣＤ用光ビームＬｃ又はＤＶＤ用光ビームＬｄのみを選択的に回折させ非平行光として対物レンズ２１に入射させると共に、ＢＤ用光ビームＬｂを平行光のまま当該対物レンズ２１に入射させるようになされている。
【００６５】
具体的に回折素子２０は、ＣＤ用光ビームＬｃを回折すると共にＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂを回折しないようなホログラムでなる、ＣＤ用回折格子ＤＧｃが上層部２０Ａに形成されており、図４に示したように、当該ＣＤ用回折格子ＤＧｃによってＣＤ用光ビームＬｃをやや外方へ回折させるようになされている。
【００６６】
すなわち回折素子２０の上層部２０Ａは、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂをそのまま透過させてＣＤ用光ビームＬｃのみを選択的に回折させることができ、換言すれば、ＣＤ用光ビームＬｃの収差のみを補正するレンズとして機能することになる。
【００６７】
これに応じて対物レンズ２１は、図４に示したように、回折素子２０から入射されるＣＤ用光ビームＬｃをその下面及び上面においてそれぞれ屈折させ、収束光に変換する。この結果、対物レンズユニット９は、ＣＤ用光ビームＬｃの収差を補正することができ、対物レンズ２１から照射するＣＤ用光ビームＬｃをＣＤ方式ディスク１００ｃの信号記録面に合焦させることができる。
【００６８】
また回折素子２０は、ＤＶＤ用光ビームＬｄを回折すると共にＣＤ用光ビームＬｃ及びＢＤ用光ビームＬｂを回折しないようなホログラムでなるＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが下層部２０Ｂに形成されており、図４に示したように、当該ＤＶＤ用回折格子ＤＧｄによってＤＶＤ用光ビームＬｄをわずかに外方へ回折させるようになされている。
【００６９】
すなわち回折素子２０の下層部２０Ｂは、ＣＤ用光ビームＬｃ及びＢＤ用光ビームＬｂをそのまま透過させ、ＤＶＤ用光ビームＬｄのみを選択的に回折させることができ、換言すれば、ＤＶＤ用光ビームＬｄの収差のみを補正するレンズとして機能することになる。
【００７０】
これに応じて対物レンズ２１は、図４に示したように、回折素子２０から入射されるＤＶＤ用光ビームＬｄをその下面及び上面においてそれぞれ屈折させ、収束光に変換する。この結果、対物レンズユニット９は、ＤＶＤ用光ビームＬｄの収差を補正することができ、対物レンズ２１から照射するＤＶＤ用光ビームＬｄをＤＶＤ方式ディスク１００ｄの信号記録面に合焦させることができる。
【００７１】
このように対物レンズユニット９は、回折素子２０の上層部２０ＡによりＣＤ用光ビームＬｃのみを回折させて収差を補正し、また回折素子２０の下層部２０ＢによりＤＶＤ用光ビームＬｄのみを回折させて収差を補正することにより、ＢＤ用光ビームＬｂに最適化された対物レンズ２１から照射するＣＤ用光ビームＬｃ、ＤＶＤ用光ビームＬｄ及びＢＤ用光ビームＬｂを、ＣＤ方式ディスク１００ｃ、ＤＶＤ方式ディスク１００ｄ、及びＢＤ方式ディスク１００ｂの信号記録面にそれぞれ合焦させ得るようになされている。
【００７２】
（１−４）回折素子の構成
回折素子２０は、図５（Ａ）に示すように、全体的に扁平な円盤状に形成されたベース層２０Ｃを中心に構成されており、上述したように上層部２０ＡにＣＤ用回折格子ＤＧｃが形成され、また下層部２０ＢにＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが形成されている。
【００７３】
ベース層２０Ｃは、所定の屈折率を有する透明な合成樹脂でなり、屈折率の異なる他の物質や空気との境界面において、光ビームを屈折させるようになされている。
【００７４】
一方上層部２０Ａは、図５（Ｂ）に部分拡大断面図を示すように、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに階段状でなるＣＤ用回折パターンＰＴｃが周期的に形成されており、その上側に透明な硬化樹脂でなるカバー層２０Ｄが接合されている。
【００７５】
第１の回折パターンとしてのＣＤ用回折パターンＰＴｃは、３段の階段状に形成されており、全体の高さ、すなわち１段目と３段目との距離は約１２［μｍ］とされ、またＣＤ用回折パターンＰＴｃごとの周期は最短部で約１８［μｍ］とされている。またＣＤ用回折パターンＰＴｃは、図３に示したように、回折素子２０の上面における、中心から外径の半分程度までの範囲に同心円状に形成されている。
【００７６】
カバー層２０Ｄは、ベース層２０Ｃと異なる屈折率を有する材料によって構成されており、その下面が第１の回折パターンとしてのＣＤ用回折パターンＰＴｃと隙間無く接合するように形成されると共に、その上面が平面状に形成されている。
【００７７】
このように回折素子２０の上層部２０Ａは、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに階段状でなるＣＤ用回折パターンＰＴｃが周期的に形成され、その上側に当該ベース層２０Ｃと異なる屈折率を有するカバー層２０Ｄが接合されており、これにより光ビームをその波長に応じて回折又は透過させ、結果的に、第１の波長の光ビームとしてのＣＤ用光ビームＬｃのみを回折させるＣＤ用回折格子ＤＧｃとして機能するようになされている。
【００７８】
一方、下層部２０Ｂは、図５（Ｃ）に部分拡大断面図を示すように、平面状に形成されたベース層２０Ｃの下面２０Ｃｂに、ＤＶＤ用回折格子ＤＧｄが形成された回折パターン層２０Ｅが接合されて形成されている。
【００７９】
回折パターン層２０Ｅは、第１の部材としてのベース層２０Ｃと略同等の屈折率を有する透明な樹脂でなり、階段状でなるＤＶＤ用回折パターンＰＴｄが下面側に周期的に形成されている。なお回折パターン層２０Ｅの下面は、他の物質に覆われていないため、直接空気に触れるようになされている。
【００８０】
第２の回折パターンとしてのＤＶＤ用回折パターンＰＴｄは、５段の階段状に形成されており、全体の高さ、すなわち１段目と５段目との距離は６［μｍ］となされ、またＤＶＤ用回折パターンＰＴｄごとの周期は１７０［μｍ］となされている。またＤＶＤ用回折パターンＰＴｄは、図３に示したように、回折素子２０の下面における、中心から外径の２／３程度までの範囲に同心円状に形成されている。
【００８１】
このように回折素子２０の下層部２０Ｂは、ベース層２０Ｃの下側に接合された回折パターン層２０Ｅに階段状でなる第２の回折パターンとしてのＤＶＤ用回折パターンＰＴｄが周期的に形成されており、これにより光ビームをその波長に応じて回折又は透過させ、結果的に、第２の波長の光ビームとしてのＤＶＤ用光ビームＬｄのみを回折させるＤＶＤ用回折格子ＤＧｄとして機能するようになされている。
【００８２】
（２）回折素子の製造方法
次に、回折素子２０の製造方法について説明する。上述したように回折素子２０は、ベース層２０Ｃの上側及び下側に対し、それぞれカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅが接合されて構成されている。
【００８３】
回折素子の製造方法としては、金型内に光学樹脂を充填して成型品を作製する射出成型が広く用いられている。しかしながら、ＣＤ用回折パターンＰＴｃを有するベース層２０Ｃ（図５（Ｂ））ように、溝が深くて狭い回折パターンを有する回折素子を射出成型で製造する場合、離型抵抗が大きいために成型品に歪が生じ、製造された回折素子は収差を発生してしまう。
【００８４】
そこで、本発明の回折素子２０では、射出成型品でなるベース層２０Ｃの上面及び下面にそれぞれ設けられるカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅを紫外線硬化樹脂（以下ＵＶ（Ultra Violet ray）硬化樹脂と呼ぶ）を使用する、いわゆるＵＶレプリカ法によって形成する。
【００８５】
これにより、射出成型品であるベース層２０Ｃに対し、一段と高い精度のパターンを再現し得るＵＶレプリカ法でカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅを形成するため、ベース層２０Ｃに生じる歪を光学的に相殺して、回折素子２０の光学的特性を良好に保つようになされている。
【００８６】
ここで、ＵＶレプリカ法でカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅを形成した後、回折素子２０を所定時間に渡って加熱する、いわゆるアニール処理によってＵＶ硬化時の副生成物などの低分子量成分を蒸発させると共に、カバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅに残留する残留歪を除去し、ＵＶ硬化されたカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅの物性を安定化することが望ましい。
【００８７】
このアニール処理における加熱温度として、残留歪を除去して低分子量成分を蒸発させるためには、回折素子２０を可能な限り高い温度で加熱することにより、処理時間を短縮できて効率が良いと考えられる。
【００８８】
一方、硬化後のＵＶ硬化樹脂におけるガラス転移点Ｔｇ付近の温度、若しくはガラス転移点Ｔｇを超えるような高い温度で加熱してしまうと、形成されたパターンに変形を生じてしまう。従って、一般的に硬化後のＵＶ硬化樹脂のガラス転移点Ｔｇに対して１０[℃]〜３０[℃]低い温度でアニール処理を行うのが望ましいとされている。なお、以下、ガラス転移点Ｔｇとは、硬化及びアニール処理後のＵＶ硬化樹脂におけるガラス転移点Ｔｇを意味する。
【００８９】
ここで、カバー層２０Ｄに使用されるカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄのガラス転移点Ｔｇｌが約８０[℃]であり、回折パターン層２０Ｅに使用されるパターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅのガラス転移点Ｔｇｅが約１１０[℃]であることから、２つのＵＶ硬化樹脂（カバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄ及びパターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅ）のガラス転移点Ｔｇは約３０[℃]異なっている。
【００９０】
上述したように、ガラス転移点Ｔｇより１０[℃]〜３０[℃]低い温度でアニール処理が実行されることが望ましいことから、アニール処理として適当な温度範囲（以下、これをアニール温度範囲と呼ぶ）は、カバー層２０Ｄで５０[℃]〜７０[℃]、回折パターン層２０Ｅで８０[℃]〜１００[℃]となる。
【００９１】
従って、カバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅの両方を形成してからアニール処理を行った場合、カバー層２０Ｄのアニール温度範囲（５０[℃]〜７０[℃]）でアニール処理を行うと、回折パターン層２０Ｅの残留歪を除去することができず、一方回折パターン層２０Ｅのアニール温度範囲（８０[℃]〜１００[℃]）でアニール処理を行うと、カバー層２０Ｄに変形を生じてしまう。
【００９２】
そこで本発明の回折素子２０では、ベース層２０Ｃに対し、高いガラス転移点Ｔｇｅを有するパターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅを使用する回折パターン層２０Ｅをまず形成し、この回折パターン層２０Ｅのアニール温度範囲でアニール処理を行った後、低いガラス転移点Ｔｇｄを有するカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄを使用するカバー層２０Ｄを形成し、このカバー層２０Ｄのアニール温度範囲でアニール処理を行うようになされている。
【００９３】
すなわち回折素子２０を製造する際には、まず図６（Ａ）に示すように、射出成型によるベース層２０Ｃの下面２０Ｃｂに、当該ベース層２０Ｃを形成する射出成型樹脂とほぼ同等の屈折率を有するパターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅを塗布する。
【００９４】
続いて図６（Ｂ）に示すように、ＤＶＤ用回折パターンＰＴｄ（図５（Ｃ））を反転した型形状を有するＤＶＤ回折格子用金型１０１Ａを、下面２０Ｃｂに塗布されたＵＶ硬化樹脂１００Ａに対して押圧するとともに、図示しない紫外線光源を用いてベース層２０Ｃの上面側から樹脂硬化用の紫外線を照射することにより、当該ＤＶＤ回折格子用金型１０１Ａの型形状を転写した状態でパターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅを硬化させ、かくして図６（Ｃ）に示すように、ＤＶＤ用回折パターンＰＴｄを正確に再現した回折パターン層２０Ｅをベース層２０Ｃの下面２０Ｃｂに密着して形成する。
【００９５】
そして、図６（Ｄ）に示すように、この回折パターン層２０Ｅの形成されたベース層２０Ｃを第１のアニール処理温度に設定された図示しない加熱炉内で所定時間に渡って加熱することにより、アニール処理を行う。このとき第１のアニール処理温度は、ベース層２０Ｃのガラス転移点、回折パターン層２０Ｅの硬化状態や処理時間、加熱装置の能力などの各種条件に応じて、できるだけ短時間で効果的に回折パターン層２０Ｅの物性を安定させるように、回折パターン層２０Ｅのアニール温度範囲（８０[℃]〜１００[℃]）内で適宜選択される。
【００９６】
これにより、回折パターン層２０Ｅに適した温度でアニール処理を行うことができ、回折パターン層２０Ｅの残留歪や低分子量成分を確実に除去して、回折パターン層２０Ｅの物性を安定させることができる。
【００９７】
なお、ベース層２０Ｃは、金型から取出される際の剥離抵抗に起因する歪を有しており、このため本来は平坦であるべき下面２０Ｃｂにも歪が生じている。しかしながら、回折パターン層２０Ｅを形成するＵＶ硬化樹脂１００Ａはベース層２０Ｃとほぼ同等の屈折率を有していることから、当該回折パターン層２０Ｅ及びベース層２０Ｃは光学的に一体となり、これにより、両者の界面となる下面２０Ｃｂの歪は光学的な影響を及ぼさなくなる。
【００９８】
このようにして回折パターン層２０Ｅを形成した後、図７（Ａ）に示すように、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに、当該ベース層２０Ｃを形成する射出成型樹脂とは異なる屈折率を有するカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄを塗布する（例えば、射出成型樹脂の屈折率がｎBASE＝１．５に対して、カバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄの屈折率がｎUV2＝１．６）。
【００９９】
続いて図７（Ｂ）に示すように、平坦な型面を有する平板金型１０１Ｂをカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄに対して押圧することにより、当該カバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄをベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに形成されているＣＤ用回折パターンＰＴｃ（図５（Ｃ））に密着させ、さらに、ベース層２０Ｃの下面側から紫外線を照射してカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄを硬化させることにより、当該ＣＤ用回折パターンＰＴｃを平坦に覆うカバー層２０Ｄを形成する（図７（Ｃ））。
【０１００】
そして、図７（Ｄ）に示すように、このカバー層２０Ｄの形成されたベース層２０Ｃを第２のアニール処理温度に設定された図示しない加熱炉内で所定時間に渡って加熱することにより、アニール処理を行う。このとき第２のアニール処理温度は、ベース層２０Ｃのガラス転移点、カバー層２０Ｄの硬化状態や処理時間、加熱装置の能力などの各種条件に応じて、できるだけ短時間で効果的にカバー層２０Ｄの物性を安定させるように、カバー層２０Ｄのアニール温度範囲（５０[℃]〜７０[℃]）内で適宜選択される。
【０１０１】
これによりカバー層２０Ｄに適した温度でアニール処理を行うことができ、カバー層２０Ｄの残留歪や低分子量成分を確実に除去して、カバー層２０Ｄの物性を安定させることができる。
【０１０２】
ちなみに、ベース層２０Ｃの上面２０Ｃａに形成されたＣＤ用回折パターンＰＴｃには射出成型に起因する歪が生じており、この歪によって収差が発生する。そして、回折格子による光の回折は回折パターンを介して接する２つの層の屈折率差によって生じるものであるから、この屈折率の差が大きいほど、回折パターンの歪による収差も大きくなる。
【０１０３】
従来の回折素子では、回折パターンが空気に直接接するよう形成されており、当該回折素子を形成する材料の屈折率と空気の屈折率（ｎAIR＝１）との屈折率差が大きいのに対し、本発明の回折素子２０では、ベース層２０Ｃ（屈折率ｎBASE＝１．５）のＣＤ用回折パターンＰＴｃをカバー層２０Ｄ（屈折率ｎUV2＝１．６）で覆うよう形成したことにより、当該ＣＤ用回折パターンＰＴｃを介して接するベース層２０Ｃとカバー層２０Ｄとの屈折率差を、従来の回折素子に比べて小さく設定でき、これによりＣＤ用回折パターンＰＴｃの歪に起因する収差を低減することができる。
【０１０４】
なお、本実施の形態におけるガラス転移点Ｔｇｄ及びＴｇｅは、硬化処理及びアニール処理後のガラス転移点であり、ＤＭＳ（Dynamic Mechanical Spectrometer）法により、昇温速度２[℃／ｍｉｎ]、測定範囲４０〜２００[℃]、試料寸法１０×２０×０．５[ｍｍ]、荷重１０[ｇ]、振動数１[Ｈｚ]、引張モードで測定されたものである。
【０１０５】
（３）動作及び効果
以上の構成において、この回折素子２０は、射出成型品でなるベース層２０Ｃの平坦な下面２０Ｃｂに対し、パターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅを用いてＵＶレプリカ法により回折パターン層２０Ｅを形成し、ベース層２０ＣのＣＤ用回折パターンＰＴｃを有する上面２０Ｃａに対し、パターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅのガラス転移点Ｔｇｅより低いガラス転移点Ｔｇｄを有するカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄを用いてＵＶレプリカ法によりカバー層２０Ｄを形成するようにした。
【０１０６】
そして、パターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅにおける硬化後のガラス転移点１１０[℃]より１０[℃]〜３０[℃]低い第１のアニール処理温度で回折パターン層２０Ｅに対してアニール処理を行った後、カバー層２０Ｄを形成し、カバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄにおける硬化後のガラス転移点８０[℃]より１０[℃]〜３０[℃]低い第２のアニール処理温度で当該カバー層２０Ｄに対してアニール処理を行うようにした。
【０１０７】
これにより、ベース層２０Ｃの平坦な面に接合される回折パターン層２０Ｅに対して２度加熱することができ、接合面積が少なく接合力が弱くなりやすい回折パターン層２０Ｅとベース層２０Ｃとの接合力を向上させることができる。
【０１０８】
また、回折パターン層２０Ｅは、ガラス転移点Ｔｇｅが高いため、常温付近における紫外線に拠らない硬化反応である暗反応の速度がカバー層２０Ｄより遅いことが多く、常温付近に放置した場合、物性が安定するまでに時間を要してしまう。この回折パターン層２０Ｅを２度に渡って加熱して回折パターン層２０Ｅの暗反応を確実に進行させることができるため、その物性を確実に安定化させることができる。
【０１０９】
また、回折素子２０は、回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄに対してそれぞれ最適となる第１のアニール処理温度及び第２のアニール処理温度を選定してアニール処理を行うことができるため、確実かつ効果的に残留歪や低分子量成分を除去すると共に、暗反応を進行させて回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄの物性を安定させることができる。
【０１１０】
以上の構成によれば、回折素子２０は、射出成型品でなるベース層２０Ｃの上面２０Ｃａ及び下面２０Ｃｂにカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅがそれぞれ形成される。そして、使用されるＵＶ硬化樹脂のガラス転移点Ｔｇが高い順にＵＶレプリカ法によって回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄを形成するようにしたため、当該回折パターン層２０Ｅ及び当該カバー層２０Ｄに応じた第１及び第２のアニール処理温度でアニール処理を行い、回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄの物性を安定化させることができ、かくして良好な特性を呈する回折素子、並びに当該回折素子を備える対物レンズユニット、光ピックアップ及び光ディスク装置を実現できる。
【０１１１】
（４）他の実施の形態
なお上述の実施の形態においては、パターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅのガラス転移点Ｔｇｅをカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄのガラス転移点Ｔｇｄより高くするにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、パターン用ＵＶ硬化樹脂１００Ｅのガラス転移点Ｔｇｅをカバー用ＵＶ硬化樹脂１００Ｄのガラス転移点Ｔｇｄより低くすると共に、カバー層２０Ｄを先に形成してアニール処理した後、回折パターン層２０Ｅを形成してアニール処理するようにしても良い。
【０１１２】
また上述の実施の形態においては、回折パターン層２０Ｅの屈折率がベース層２０Ｃの屈折率とほぼ同一であるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、回折格子の特性に応じて屈折率を変化させるようにしても良い。
【０１１３】
さらに上述の実施の形態においては、ベース層２０Ｃとカバー層２０Ｄとの屈折率が相違し、ベース層２０Ｃと回折パターン層２０Ｅとの屈折率がほぼ同一であるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、回折素子２０の特性に応じて適宜同一にしたり、相違させたりするようにしても良い。
【０１１４】
さらに上述の実施の形態においては、ＣＤ用回折パターンＰＴｃはＣＤ用光ビームＬｃのみを回折させ、ＤＶＤ用回折パターンＰＴｄはＤＶＤ用光ビームＬｄのみを回折させるようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光ビームとして使用される波長や回折素子２０に応じて回折させる光ビームの波長と、回折させない光ビームの波長とを適宜選択するようにしても良い。
【０１１５】
さらに上述の実施の形態においては、第１の部材としてのベース層２０Ｃと、第２の部材としてのカバー層２０Ｄと、第３の部材としての回折パターン層２０Ｅとによって本発明の回折素子としての回折素子２０を形成するようにした場合について述べたが、本発明はこれに限らず、その他種々の構成でなる第１の部材と、第２の部材と、第３の部材とによって本発明の回折素子を構成するようにしても良い。
【産業上の利用可能性】
【０１１６】
本発明は、例えば各種電子機器に搭載される光ディスク装置に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】光ディスク装置の全体構成を示す略線図である。
【図２】光ピックアップの構成を示す略線図である。
【図３】対物レンズユニットの構成を示す略線図である。
【図４】対物レンズユニット内の光路を示す略線図である。
【図５】回折素子の構成を示す略線図である。
【図６】ベース層の製造方法の説明に供する略線図である。
【図７】カバー層の製造方法の説明に供する略線図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１……光ディスク装置、２……制御部、３……駆動部、４……信号処理部、７……光ピックアップ、９……対物レンズユニット、１１……レーザダイオード、１９……鏡筒部、２０……回折素子、２０Ａ……上層部、２０Ｂ……下層部、２０Ｃ……ベース層、２０Ｄ……カバー層、２０Ｄｕ……カバー上層、２０Ｄｏ……カバー下層、２０Ｅ……回折パターン層、２１……対物レンズ、ＤＧｃ……ＣＤ用回折素子、ＤＧｄ……ＤＶＤ用回折素子、Ｌｂ……ＢＤ用光ビーム、Ｌｄ……ＤＶＤ用光ビーム、Ｌｃ……ＣＤ用光ビーム、１００Ａ……第１のＵＶ硬化樹脂、１００Ｂ……第２のＵＶ硬化樹脂。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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