(57)【要約】【課題】露光マスク及び処理基板のアライメントマークに異物等が付着した場合、アライメント完了後に処理基板と露光マスクのアライメントマークの比較・判定処理を行う露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】光源部１０と、マスク保持枠２０と、ステージ３０と、アライメントマークを読み取る撮像手段４０と、読み取ったアライメントマークの画像処理を行う画像処理手段５０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段６０と、アライメントマーク形状の比較・判定を行う比較・判定手段７０とから構成されており、処理基板と前記露光マスクとの位置合わせを行った後、比較・判定手段７０にて、処理基板及び露光マスク上のアライメントマーク形状と、予め登録されている処理基板及び露光マスクのアライメントマーク形状との比較・判定を行うようにしたものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも露光マスクと、感光層が形成された処理基板とを位置合わせしてパターン露光を行う露光方法において、前記処理基板に形成されたアライメントマークと、露光マスクに形成されたアライメントマークとの位置合わせを行った後、処理基板及び露光マスクに形成されたアライメントマーク形状と、予め登録された処理基板及び露光マスクのアライメントマーク形状との比較・判定を行い、設定された許容値以内であればパターン露光を行い、設定された許容値から外れていればパターン露光しないでエラー信号を発するようにしたことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記処理基板用のアライメントマークとして「＋」マークが、露光マスク用のアライメントマークとして「♯」マークが用いられていることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
少なくとも露光光を照射するための光源部（１０）と、露光マスクを保持するマスク保持枠（２０）と、処理基板を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ（３０）と、アライメントマークを読み取る撮像手段（４０）と、読み取ったアライメントマークの画像処理を行う画像処理手段（５０）と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段（６０）と、アライメントマーク形状の比較・判定を行う比較・判定手段（７０）とを有する露光装置であって、前記処理基板と前記露光マスクとの位置合わせを行った後、前記比較・判定手段（７０）にて、処理基板及び露光マスク上のアライメントマーク形状と、予め登録されている処理基板及び露光マスクのアライメントマーク形状との比較・判定を行うことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶表示装置、カラープラズマディスプレイ及びカラーＥＬディスプレイ等のカラーフィルタ基板の製造工程のフォトリソ工程のパターン露光に適用される露光方法及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型カラーテレビ、ノートパソコン、携帯用電子機器の増加に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイパネルの需要の増加はめざましいものがある。
カラー液晶表示装置、カラープラズマディスプレイ及びカラーＥＬディスプレイ等に用いられるカラーフィルタ基板は、透明基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、柱状スペーサ等がフォトリソグラフィーを用いた各種のプロセスを経て形成される。
【０００３】
以下フォトリソグラフィープロセスを用いたカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図５（ａ）〜（ｇ）、図６（ｈ）〜（ｌ）及びず７（ｍ）〜（ｐ）は、カラー液晶ディスプレイパネル用のカラーフィルタ基板をフォトリソグラフィープロセスを用いて作製する製造方法の一例を示す部分模式構成断面図である。
まず、透明基板１１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナー等にて塗布し、黒色感光性樹脂層１２１を形成し（図５（ａ）参照）、透明基板１１２にブラックマトリクス用のパターンが形成された露光マスク１２０ＢＬを用いてパターン露光し（図５（ｂ）参照）、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置にブラックマトリクス１２１ａを形成する（図５（ｃ）参照）。
【０００４】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａが形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層１３１Ｒを形成し（図５（ｄ）参照）、透明基板１１２に赤色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｒを用いてパターン露光し（図５（ｅ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に赤色フィルタ１３１Ｒ’を形成する（図５（ｆ）参照）。
【０００５】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ及び赤色フィルタ１３１Ｒ’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、緑色感光性樹脂層１３２Ｇを形成し（図５（ｇ）参照）、透明基板１１２に緑色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｇを用いてパターン露光し（図６（ｈ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に緑色フィルタ１３２Ｇ’を形成する（図６（ｉ）参照）。
【０００６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３１Ｒ’及び緑色フィルタ１３２Ｇ’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、青色感光性樹脂層１３３Ｂを形成し（図６（ｊ）参照）、透明基板１１２に青色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｂを用いてパターン露光し（図６（ｋ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ１３３Ｂ’を形成し、ブラックマトリクス１２１ａが形成された透明基板１１１上に赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び緑色フィルタ１３３Ｂ’からなる着色フィルタ１３０を形成する（図６（ｌ）参照）。
【０００７】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、透明基板１１１上のブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び青色フィルタ１３３Ｂ’上に透明導電膜を成膜し、透明電極１４１を形成する（図７（ｍ）参照）。
【０００８】
次に、アクリル系のクリアレジストをスピンナー等を用いて塗布し、感光性樹脂層１５１を形成し（図７（ｎ）参照）、透明基板１１２に柱状スペーサー用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｓを用いてパターン露光し（図７（ｏ）参照）、現像等の一連のパターニング処理を行って、柱状スペーサ１５１Ｓを形成し、透明基板１１１上にブラックマトリクス１２１ａと、赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び青色フィルタ１３３Ｂ’からなる着色フィルタ１３０と、透明電極１４１と、柱状スペーサー１５１Ｓとが形成されたカラーフィルタ基板２００を得ることができる（図７（ｐ）参照）。
【０００９】
上記カラーフィルタ基板の製造工程では、最初透明基板１1１の所定位置にブラックマトリクス１２１ａを形成してから、ブラックマトリクス１２１ａに合わせて各色のカラーフィルタを形成するのが一般的である。
具体的には、ブラックマトリクス１２１ａを形成する際ブラックマトリクス１２１ａと同時に透明基板１１１の周辺の所定位置にアライメントマークが形成される。
各色のカラーフィルタ形成時には、このアライメントマークと、各色の露光マスクに形成されたアライメントマークを位置合わせして、パターン露光して、現像等の一連のパターニング処理を行い、各色のフィルターを形成する。
【００１０】
上記したように、ブラックマトリクス基板と各色フィルタ用露光マスクの位置合わせは厳密に行う必要があり、位置合わせズレが発生すると、ブラックマトリクスと各色フィルタとの間に隙間ができて色抜けの欠陥となったり、各色のフィルタが重なりができて表面凹凸を発生させる等の問題が発生する。
【００１１】
ブラックマトリクスと各色フィルタとの間の隙間及び重なりを防止するために、露光マスクと処理基板とを位置合わせする際、アライメントのねらいにオフセットをかけて露光することにより、露光機の光学系の歪みや基板の歪みなどの影響を防止するカラーフィルタの製造方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１２】
しかしながら、上記アライメントのねらいにオフセットをかけて露光することにより、露光マスクと処理基板の位置合わせは、かなり厳密に行えるようになるが、パターン露光前の処理基板もしくは露光マスクのアライメントマーク上に異物等のごみが付着していたりすると、最近の露光装置がマークの画像処理による位置合わせを行っているため、処理基板もしくは露光マスクのアライメントマークの線幅、中心位置等を誤判断したまま位置合わせを行う。
【００１３】
この結果、露光マスクと処理基板の位置合わせズレが発生した状態でパターン露光されるため、ブラックマトリクスと各色フィルタとの間に隙間ができて色抜けの欠陥となったり、各色のフィルタが重なりができて表面凹凸が発生し、処理基板の品質、製造歩留まり等が低下する。
【特許文献１】特開２００１−１３３６１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、露光マスク及び処理基板のアライメン
トマークに異物等が付着した場合、アライメント完了後に処理基板と露光マスクのアライメントマークの比較・判定処理を行う露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、少なくとも露光マスクと、感光層が形成された処理基板とを位置合わせしてパターン露光を行う露光方法において、前記処理基板に形成されたアライメントマークと、露光マスクに形成されたアライメントマークとの位置合わせを行った後、処理基板もしくは露光マスクに形成されたアライメントマーク形状と、予め登録されたアライメントマーク形状との比較・判定を行い、設定された許容値以内であればパターン露光を行い、設定された許容値から外れていればパターン露光しないでエラー信号を発するようにしたことを特徴とする露光方法としたものである。
【００１６】
また、請求項２においては、前記処理基板用のアライメントマークとして「＋」マークが、露光マスク用のアライメントマークとして「♯」マークが用いられていることを特徴とする請求項１に記載の露光方法したものである。
【００１７】
さらにまた、請求項３においては、少なくとも露光光を照射するための光源部１０と、露光マスクを保持するマスク保持枠２０と、処理基板を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ３０と、アライメントマークを読み取る撮像手段４０と、読み取ったアライメントマークの画像処理を行う画像処理手段５０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段６０と、アライメントマーク形状の比較・判定を行う比較・判定手段７０とを有する露光装置であって、前記処理基板と前記露光マスクとの位置合わせを行った後、前記比較・判定手段７０にて、処理基板及び露光マスク上のアライメントマーク形状と、予め登録されている処理基板及び露光マスクのアライメントマーク形状との比較・判定を行うことを特徴とする露光装置としたものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の露光方法、露光装置を用いたフォトリソグラフィープロセスによれば、露光マスクと、感光層が形成された処理基板とを位置合わせした後、処理基板及び露光マスクに形成されたアライメントマーク形状と、予め登録されたアライメントマーク形状との比較・判定処理を行い、許容値以内であればパターン露光を行い、許容値から外れていればパターン露光しないでエラー信号を発するようにしてあるため、アライメント不良による処理基板の品質、製造歩留まり等の低下を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１は、本発明の露光装置の一実施例を示す模式構成図である。
本発明の露光装置１００は、図１に示すように、露光光を照射するための光源部１０と、露光マスクを保持するマスク保持枠２０と、処理基板を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ３０と、アライメントマークを読み取る撮像手段４０と、読み取ったアライメントマークの画像処理を行う画像処理手段５０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段６０と、アライメントマーク形状の比較・判定を行う比較・判定手段７０とから構成されており、前記処理基板と前記露光マスクとの位置合わせを行った後、比較・判定手段７０にて、処理基板及び露光マスク上のアライメントマーク形状と、予め登録されている処理基板及び露光マスクのアライメントマーク形状との比較・判定を行うようにしたものである。
【００２０】
このような露光マスク及び処理基板のアライメントマーク形状の比較・判定を行う比較
・判定手段７０を設けることにより、オートアライメントで位置合わせ作業が行われた後に、露光マスク及び処理基板のアライメントマークが正常な状態で位置合わせされたかどうかの確認ができ、アライメント不良による処理基板の品質、製造歩留まり等の低下を防止することができる。
【００２１】
比較・判定手段７０では、画像処理手段５０から露光マスク及び処理基板のアライメントマーク形状データを読み込み、露光マスク及び処理基板のアライメントマーク形状データと、予め登録されている正常な露光マスク及び処理基板のアライメントマーク形状データとの比較・判定処理を行い、設定された許容値以内で有ればパターン露光を行い、設定された許容値から外れている場合は、パターン露光を行わないで、エラー信号を発生するようになっている。
エラー信号が発生された時点で、露光マスク及び処理基板のアライメントマークの形状確認を行い、基板抜き取り（流出防止）、マーク付着異物除去（原因除去）を行う。
【００２２】
ここで、処理基板に異物等が付着した場合のアライメント位置ズレについて説明する。図２（ａ）に、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」の一例を示す模式平面図を、図２（ｂ）に、露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」の一例を示す模式平面図を、それぞれ示す。
【００２３】
露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」及び処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」は照明用光源４２にて照明され、図１に示すビームスプリッター４１にて撮像手段４０に導入され、画像処理手段５０にて画像処理、アライメント処理が行われて、制御手段６０にてステージ３０を移動制御して、露光マスクと処理基板の位置合わせを行う。
【００２４】
図３は、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」の中心が、露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」の中心に収まり、露光マスクと処理基板の位置合わせができた状態を示す。
この時点で、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」について、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、許容値以内で有れば、制御手段６０にてパターン露光の信号が光源部１０に送られ、パターン露光が行われる。
【００２５】
図４は、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」に異物が付着した状態で処理基板と露光マスクの位置合わせが行われた状態を示す。
処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」に付着した異物により、アライメントマーク「＋」の本来の中心がＸ方向にδｘ、Ｙ方向にδｙずれた状態で位置合わさせされ、アライメント機構上では位置合わせされたことになる。
ここで、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」とについて、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、異物が付着したアライメントマーク「＋」は、設定された許容値から外れているため、制御手段６０にてエラー信号が発せられ、パターン露光は行われない。
【００２６】
このように、処理基板と露光マスクの位置合わせを行った後、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」を、予め設定した線幅値との比較・判定処理を行って、パターン露光するかどうかの判定処理を行うため、アライメント不良による処理基板の品質、製造歩留まり等の低下を防止することができる。
また、上記の例では、処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」に付着した異物によりアライメント不良が発生した事例について説明したが、露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」に異物が付着した場合でも同様のアライメント不良が発生し、比較・判定手段７０にて処理される内容は上記と同じなので、ここでは省略する。
【００２７】
以下本発明の露光方法及び露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
まず、透明基板１１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナー等にて塗布し、黒色感光性樹脂層１２１を形成し（図５（ａ）参照）、透明基板１１２にブラックマトリクス用のパターンが形成された露光マスク１２０ＢＬを用いてパターン露光し（図５（ｂ）参照）、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置にブラックマトリクス１２１ａ及び図２（ａ）に示すアライメントマーク「＋」が形成された処理基板１４０を作製する（図５（ｃ）参照）。
【００２８】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス２１ａが形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層１３１Ｒが形成された処理基板１５０を作製する（図５（ｄ）参照）。
【００２９】
透明基板１１２に赤色フィルタ用のパターン及び図２（ｂ）に示すアライメントマーク「♯」が形成された露光マスク１２０Ｒのアライメントマーク「♯」と処理基板１５０に形成されたアライメントマーク「＋」とを図１に示す撮像手段４０にて読み込み、図１に示す画像処理手段５０にて露光マスク１２０Ｒと処理基板１５０との位置合わせを行う。さらに、処理基板１５０に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスク１２０Ｒに形成されたアライメントマーク「♯」について、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、許容値以内であればパターン露光を、設定された許容値から外れていればエラー信号を発する。
【００３０】
アライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定が許容値以内で有れば、図１に示す制御手段６０にてパターン露光の信号が光源部１０に発せられ、パターン露光が行われる（図５（ｅ）参照）。
【００３１】
次に、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に赤色フィルタ１３１Ｒ’を形成する（図５（ｆ）参照）。
【００３２】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ及び赤色フィルタ１３１Ｒ’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、緑色感光性樹脂層１３２Ｇが形成された処理基板１６０を作製する（図５（ｇ）参照）。
【００３３】
次に、透明基板１１２に緑色フィルタ用のパターン及び図２（ｂ）に示すアライメントマーク「♯」が形成された露光マスク１２０Ｇのアライメントマーク「♯」と処理基板１６０に形成されたアライメントマーク「＋」とを図１に示す撮像手段４０にて読み込み、図１に示す画像処理手段５０にて露光マスク１２０Ｇと処理基板１６０との位置合わせを行う。
さらに、処理基板１６０に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスク１２０Ｇに形成されたアライメントマーク「♯」について、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、許容値以内であればパターン露光を、設定された許容値から外れていればエラー信号を発する。
【００３４】
アライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定が許容値以内で有れば、図１に示す制御手段６０にてパターン露光の信号が光源部１０に発せられ、パターン露光が行われる（図６（ｈ）参照）。
【００３５】
次に、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に緑色フィルタ１３２Ｇ’を形成する（図６（ｉ）参照）。
【００３６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３１Ｒ’及び緑色フィルタ１３２Ｇ’が形成された透明基板上にスピンナー等を用いて塗布し、青色感光性樹脂層１３３Ｂが形成された処理基板１７０を作製する（図６（ｊ）参照）。
【００３７】
次に、透明基板１１２に青色フィルタ用のパターン及び図２（ｂ）に示すアライメントマーク「♯」が形成された露光マスク１２０Ｂのアライメントマーク「♯」と処理基板１７０に形成されたアライメントマーク「＋」とを図１に示す撮像手段４０にて読み込み、図１に示す画像処理手段５０にて露光マスク１２０Ｂと処理基板１７０との位置合わせを行う。
さらに、処理基板１７０に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスク１２０Ｂに形成されたアライメントマーク「♯」について、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、許容値以内であればパターン露光を、設定された許容値から外れていればエラー信号を発する。
【００３８】
アライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定が許容値以内で有れば、図１に示す制御手段６０にてパターン露光の信号が光源部１０に発せられ、パターン露光が行われる（図６（ｋ）参照）。
【００３９】
次に、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ１３３Ｂ’を形成し、ブラックマトリクス１２１ａが形成された透明基板１１１上に赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び緑色フィルタ１３３Ｂ’からなる着色フィルタ１３０を形成する（図６（ｌ）参照）。
【００４０】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、透明基板１１１上のブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び青色フィルタ１３３Ｂ’上に透明導電膜を成膜し、透明電極１４１を形成する（図７（ｍ）参照）。
【００４１】
次に、アクリル系のクリアレジストをスピンナー等にて塗布し、感光性樹脂層１５１が形成された処理基板１８０を作製する（図７（ｎ）参照）。
【００４２】
次に、透明基板１１２に柱状スペーサー用のパターン及び図２（ｂ）に示すアライメントマーク「♯」が形成された露光マスク１２０Ｓのアライメントマーク「♯」と処理基板１８０に形成されたアライメントマーク「＋」とを図１に示す撮像手段４０にて読み込み、図１に示す画像処理手段５０にて露光マスク１２０Ｓと処理基板１８０との位置合わせを行う。
さらに、処理基板１８０に形成されたアライメントマーク「＋」と露光マスク１２０Ｓに形成されたアライメントマーク「♯」について、予め登録されたアライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定を図１に示す比較・判定手段７０にて行い、許容値以内であればパターン露光を、設定された許容値から外れていればエラー信
号を発する。
【００４３】
次に、アライメントマーク「＋」とアライメントマーク「♯」との線幅、形状判定が許容値以内で有れば、図１に示す制御手段６０にてパターン露光の信号が光源部１０に発せられ、パターン露光が行われる（図７（ｏ）参照）。
【００４４】
次に、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、柱状スペーサ１５１Ｓを形成し、透明基板１１１上にブラックマトリクス１２１ａと、赤色フィルタ１３１Ｒ’、緑色フィルタ１３２Ｇ’及び青色フィルタ１３３Ｂ’からなる着色フィルタ１３０と、透明電極１４１と、柱状スペーサー１５１Ｓとが形成されたカラーフィルタ基板２００を得ることができる（図７（ｐ）参照）。
【００４５】
上記したように、本発明の露光方法及び露光装置を用いたフォトリソグラフィープロセスによれば、露光マスクと、感光層が形成された処理基板とを位置合わせしてパターン露光を行った後、処理基板及び露光マスクに形成されたアライメントマーク形状と、予め登録されたアライメントマーク形状との比較・判定処理を行い、許容値以内であればパターン露光を行い、許容値から外れていればパターン露光しないでエラー信号を発するようにしてあるため、アライメント不良による処理基板の品質、製造歩留まり等の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の露光装置の一実施例を示す模式構成断面図である。
【図２】（ａ）は、処理基板に形成されたアライメントマークの一例を示す模式平面図である。（ｂ）は、露光マスクに形成されたアライメントマークの一例を示す模式平面図である。
【図３】露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」と処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」との位置合わせ状態を示す説明図である。
【図４】露光マスクに形成されたアライメントマーク「♯」と処理基板に形成されたアライメントマーク「＋」に異物が付着した状態で位置合わした状態を示す説明図である。
【図５】（ａ）〜（ｇ）は、本発明の露光方法及び露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図６】（ｈ）〜（ｌ）は、本発明の露光方法及び露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図７】（ｍ）〜（ｐ）は、本発明の露光方法及び露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０……光源部
２０……マスク枠
３０……ステージ
４０……撮像手段
４１……ビームスプリッター
４２……照明用光源
５０……画像処理手段
６０……制御手段
７０……比較・判定手段
１００……露光装置
１１１、１１２……透明基板
１２１……黒色感光性樹脂層
１２１ａ……ブラックマトリクス
１３０……着色フィルタ
１３１Ｒ……赤色感光性樹脂層
１３１Ｒ’……赤色フィルタ
１３２Ｇ……緑色感光性樹脂層
１３２Ｇ’……緑色フィルタ
１３３Ｂ……青色感光性樹脂層
１３３Ｂ’……青色フィルタ
１４１……透明電極
１５１……感光性樹脂層
１５１Ｓ……柱状スペーサ
２００……カラーフィルタ基板
δｘ……Ｘ方向の中心移動量
δｙ……Ｙ方向の中心移動量
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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