(57)【要約】【課題】本発明は、真空源や真空排気する管路を用いることなく、塵埃の排出を抑えることができる往復直動装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、隣接するピストン室と塵埃集積室が設けられるシリンダと、前記ピストン室内に往復摺動自在に設けたピストンと、このピストンに設けられ、隣接壁および前記シリンダを貫通して前記シリンダの外側に延在するピストンと、前記ピストン室内に設けられ、前記ピストンを前記塵埃集積室の方向に押圧付勢する付勢バネとを有し、前記ピストンで、分けられた一方の前記ピストン室側に供給する圧搾空気により、付勢バネに抗して移動したピストンは、付勢バネの力で押し戻されるように作動し、このピストンの押し戻し作動に伴う空間体積の増加で気圧降下が生じる他方の前記ピストン室側に前記塵埃集積室内の気体が移動することを特徴とする。【選択図】  図１
2007255706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接するピストン室と塵埃集積室が設けられるシリンダと、前記ピストン室内に往復摺動自在に設けたピストンと、このピストンに設けられ、隣接壁および前記シリンダを貫通して前記シリンダの外側に延在するピストンロッドと、前記ピストン室内に設けられ、前記ピストンを前記塵埃集積室の方向に押圧付勢する付勢バネとを有し、
前記ピストンで、分けられた一方の前記ピストン室側に供給する圧搾空気により、付勢バネに抗して移動したピストンは、付勢バネの力で押し戻されるように作動し、
このピストンの押し戻し作動に伴う空間体積の増加で気圧降下が生じる他方の前記ピストン室側に前記塵埃集積室内の気体が移動することを特徴とする往復直動装置。
【請求項２】
請求項１記載の往復直動装置において、
前記付勢バネに圧縮タイプの付勢バネを用い、この圧縮タイプの付勢バネを前記他方の前記ピストン室側に内置することを特徴とする往復直動装置。
【請求項３】
隣接するピストン室と塵埃集積室が設けられるシリンダと、前記ピストン室内に往復摺動自在に設けたピストンと、このピストンに設けられ、前記シリンダ内の隣接壁および前記塵埃集積室の外側壁を貫通して前記シリンダの外側に延在するピストンロッドと、前記ピストンで分けられた一方の前記ピストン室内に置かれ、前記ピストンを前記塵埃集積室の方向に押圧付勢する付勢バネと、前記付勢バネが存在しない方の前記ピストン室側（付勢バネなしピストン室側）に圧搾空気を供給する圧搾空気ポンプと、前記圧搾空気を流通する圧搾空気管と、前記圧搾空気管に設けた流通切り替え電磁弁と、前記付勢バネが存在する方の前記ピストン室側（付勢バネありピストン室側）に連通する排気管と、この排気管に設けられ、排気中の塵埃を濾過するフィルタと、前記塵埃集積室と前記排気管または前記付勢バネありピストン室側とを連通する塵埃集積室排気管とを有し、
前記付勢バネありピストン室側から前記塵埃集積室に向かう流れを止める塵埃集積室排気管用逆支弁を前記塵埃集積室排気管に設け、前記フィルタから前記付勢バネありピストン室側に向かう流れを止める排気管用逆支弁を前記排気管に設けたことを特徴とする往復直動装置。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載された往復直動装置において、
前記ピストンは、ウエハクランプ機構やウエハ取扱搬送機構を操作することを特徴とする往復直動装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載された往復直動装置において、
前記圧搾空気ポンプ及び前記流通切り替え電磁弁は、塵埃清浄が行われないダウンフローエリアに置かれ、
前記圧搾空気ポンプ及び前記流通切り替え電磁弁以外は、塵埃清浄されたクリーンフローエリアに置かれることを特徴とする往復直動装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載された往復直動装置を有する製造装置。
【請求項７】
請求項６において、製造装置は半導体製造を行うことを特徴とする製造装置。
【請求項８】
請求項１〜５の何れかに記載された往復直動装置を有する検査装置。
【請求項９】
請求項８において、検査装置は半導体検査を行うことを特徴とする製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、往復直動装置用アクチュエータを用いた半導体製造・検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程では、ベアウエハにパターンを転写し、エッチングで削ることによって回路を形成してゆく。回路を形成していく様々な半導体デバイスの製造工程において、ウエハ表面に付着した異物や欠陥などは歩留まりを低下させる大きな要因となっている。ウエハ表面に付着した異物や欠陥は各製造工程において管理されており、ベアウエハ表面に付着している微小な異物や欠陥などをレーザ散乱方式を用いてウエハ表面で散乱された光を光電子増倍管のような受光素子で高感度、及び、高スループットで検出し光の散乱の程度を解析するものが、ウエハ表面検査装置である。
【０００３】
半導体デバイスのパターン微細化が進むに伴い、その製造・検査工程、特にウエハ処理工程における塵埃の存在が製品の歩留まりに与える影響は多大である。その為、ウエハ処理工程で使用する処理装置や検査装置においては、装置自体から発塵のない事が望まれている。
【０００４】
特に、３００ｍｍウエハプロセスにおいては、裏面側も鏡面仕上げされているが、裏面側に付着した異物や突起状の欠陥が、表面の平坦性を悪化させリソグラフィ工程における露光フォーカス異常を発生させたり、裏面付着異物が表面に転化し歩留まりを低下させたりしている。このため、裏面側の欠陥を検出する機能も求められている。
【０００５】
処理装置や検査装置における装置自体の発塵源としては、各種機構を駆動するアクチュエータ類がある。例えば往復直動装置用アクチュエータは、圧気をエネルギー源とするエアシリンダが広く利用されており、各種装置においてもウエハ搬送部、測定ステージチャック部等にエアシリンダを使用するものも多い。
【０００６】
往復直動装置用アクチュエータとしては、例えば、特開平７−２３５５７９公報（特許文献１）に記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平７−２３５５７９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
往復直動装置用アクチュエータは、特許文献１に加え、次のようなものがある。それについて、図３を引用して説明する。
【０００９】
この往復直動装置は、エアシリンダを採用し３点保持のクランプ機構の操作に用いられる。
【００１０】
しかし、シリンダ３の内部で発生した塵埃がピストンロッド５とシールリング７とのクリアランスからリークする圧気と共に排出される課題がある。
【００１１】
このため、ピストンロッド５とシールリング７の周辺部に塵埃を含んだ圧気を集積する塵埃集積室３Ｃを設けている。しかし、それによって真空源２１及び真空排気する管路１９が必要となり、レイアウトが著しく制限されるという課題を生じる。
【００１２】
上記の課題に対処し、本発明の目的は、往復直動装置の塵埃の排出を抑えることにより、処理装置や検査装置自体の発塵を抑制することである。本発明の他の目的は、往復直動装置の真空源や真空排気する管路を不要とし、処理装置や検査装置をコンパクトにすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の特徴は、隣接するピストン室と塵埃集積室が設けられるシリンダと、前記ピストン室内に往復摺動自在に設けたピストンと、このピストンに設けられ、隣接壁および前記シリンダを貫通して前記シリンダの外側に延在するピストンと、前記ピストン室内に設けられ、前記ピストンを前記塵埃集積室の方向に押圧付勢する付勢バネとを有し、前記ピストンで、分けられた一方の前記ピストン室側に供給する圧搾空気により、付勢バネに抗して移動したピストンは、付勢バネの力で押し戻されるように作動し、このピストンの押し戻し作動に伴う空間体積の増加で気圧降下が生じる他方の前記ピストン室側に前記塵埃集積室内の気体が移動する往復直動装置を備えた検査装置である。
【００１４】
本発明の他の特徴は、前記の往復直動装置が前記付勢バネに圧縮タイプの付勢バネを用い、この圧縮タイプの付勢バネを前記他方の前記ピストン室側に内置することを特徴とする検査装置である。
【００１５】
本発明のさらに他の特徴は、隣接するピストン室と塵埃集積室が設けられるシリンダと、前記ピストン室内に往復摺動自在に設けたピストンと、このピストンに設けられ、前記シリンダ内の隣接壁および前記塵埃集積室の外側壁を貫通して前記シリンダの外側に延在するピストンロッドと、前記ピストンで分けられた一方の前記ピストン室内に置かれ、前記ピストンを前記塵埃集積室の方向に押圧付勢する付勢バネと、前記付勢バネが存在しない方の前記ピストン室側（付勢バネなしピストン室側）に圧搾空気を供給する圧搾空気ポンプと、前記圧搾空気を流通する圧搾空気管と、前記圧搾空気管に設けた流通切り替え電磁弁と、前記付勢バネが存在する方の前記ピストン室側（付勢バネありピストン室側）に連通する排気管と、この排気管に設けられ、排気中の塵埃を濾過するフィルタと、前記塵埃集積室と前記排気管または前記付勢バネありピストン室側とを連通する塵埃集積室排気管とを有し、前記付勢バネありピストン室側から前記塵埃集積室に向かう流れを止める塵埃集積室排気管用逆支弁を前記塵埃集積室排気管に設け、前記フィルタから前記付勢バネありピストン室側に向かう流れを止める排気管用逆支弁を前記排気管に設けた往復直動装置を備えたことを特徴とする検査装置である。
【００１６】
本発明のさらに他の特徴は、前記何れかに記載された往復直動装置が、前記ピストンにてウエハクランプ機構やウエハ取扱搬送機構を操作することを特徴とする欠陥検査装置である。
【００１７】
本発明のさらに他の特徴は、前記何れかに記載された往復直動装置が、前記圧搾空気ポンプ及び前記流通切り替え電磁弁は、塵埃清浄が行われないダウンフローエリアに置かれ、前記圧搾空気ポンプ及び前記流通切り替え電磁弁以外は、塵埃清浄されたクリーンフローエリアに置かれることを特徴とする検査装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、往復直動装置の塵埃の排出が抑えられ、処理装置や検査装置自体の発塵を抑制することができる。また、往復直動装置の真空源や真空排気する管路が不要となり処理装置や検査装置のコンパクト化を計ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本実施例の往復直動装置は、検査装置のウエハ把持機構として使用した一例である。以下に図１、図２を引用して詳細を説明する。
【００２０】
往復直動装置１００は、クリーンフローエリア１に置かれる。ダウンフローエリア１７に圧力源１６（圧搾空気ポンプ）、及び流通切り替え電磁弁１５が置かれる。
【００２１】
クリーンフローエリア１は、半導体製造装置・検査装置等が置かれる微細塵の極めて少ないところである。ダウンフローエリア１７は、通常の空気調和が行われている環境のところである。
【００２２】
往復直動装置１００は、シリンダ３を有する。シリンダ３は、ピストン室３０と、塵埃集積室３Ｃを有する。ピストン室３０内には、ピストン４が往復摺動自在に置かれる。このピストン４でピストン室３０内は、二つ（３Ａ，３Ｂ）に分けられる。
【００２３】
３Ｂには、付勢バネ６が内置されるので、ここを付勢バネありピストン室側３Ｂと云う。付勢バネが置かれない隣を付勢バネなしピストン室側３Ａと云う。
【００２４】
ピストン室３０と塵埃集積室３Ｃは、隣接壁３１で仕切られている。ピストン４に設けられたピストンロッド５は、隣接壁３１および塵埃集積室の外側壁３２を貫通してシリンダ３の外側に延在する。
【００２５】
シールリング７は、ピストン４の外周面とピストン室３０の内周面とのシール、およびピストンロッド５の外周面と隣接壁３１や外側壁３２に設けた貫通穴とのシールを行う。
【００２６】
外側に延在したピストンロッド５の先端側にウエハクランプ機構やウエハ取扱搬送機構が連結される。ピストン４の往復移動により、ピストンロッド５を介してウエハクランプ機構やウエハ取扱搬送機構が操作される。
【００２７】
付勢バネ６は、圧縮コイルばねで形成されている。この圧縮タイプの付勢バネ６により、ピストン４は常に塵埃集積室３Ｃに向く方向に押圧力を受けている。付勢バネありピストン室側３Ｂは、ピストン４が付勢バネ６の付勢バネの力で押し戻されるように塵埃集積室３Ｃに向けて移動することにより、空間体積が増加して気圧降下が生じる。
【００２８】
付勢バネなしピストン室側３Ａに圧搾空気を供給する圧力源１６（圧搾空気ポンプ）は、圧搾空気管１１を介して付勢バネなしピストン室側３Ａに連通する。圧搾空気管１１には、流通切り替え電磁弁１５が設けられる。
【００２９】
排気中の塵埃を濾過するフィルタ１４は、付勢バネありピストン室側３Ｂに排気管１０を介して連通する。
【００３０】
フィルタ１４により、細塵が濾過された排気は、クリーンフローエリア１に排出される。細塵が濾過された排気であるので、クリーンフローエリア１の清浄環境は良好に保たれる。
【００３１】
塵埃集積室排気管９は、塵埃集積室３Ｃと排気管１０または付勢バネありピストン室側３Ｂとを連通する。塵埃集積室排気管用逆支弁１２は、前記塵埃集積室排気管９に設ける。
【００３２】
塵埃集積室排気管用逆支弁１２は、付勢バネありピストン室側３Ｂから塵埃集積室３Ｃに向かう流れを止める。逆向きの流れは、止められずに流通する。
【００３３】
排気管用逆支弁１３は、排気管１０に設けられる。この排気管用逆支弁１３より、フィルタ１４から付勢バネありピストン室側３Ｂに向かう流れは止められる。排気管用逆支弁１３は、塵埃集積室排気管９が排気管１０に接続される接続点とフィルタ１４との間に介在するように設けられる。
【００３４】
図２（ａ）に示すように、流通切り替え電磁弁１５を圧搾空気供給側にセットし、圧力源１６（圧搾空気ポンプ）により、圧搾空気管１１を介して付勢バネなしピストン室側３Ａに圧搾空気を供給すると、ピストン４は付勢バネ６に抗して付勢バネありピストン室側３Ｂに移動する。
【００３５】
このピストン４の移動により、付勢バネありピストン室側３Ｂの空間体積が縮小し、内部の気体（空気）が排気管１０、フィルタ１４を通過してクリーンフローエリア１に排出される。クリーンフローエリア１に排出さる気体は、フィルタ１４で細塵が濾過されているので、クリーンフローエリア１は汚れない。
【００３６】
なお、図２（ａ）の状態では、塵埃集積室排気管用逆支弁１２により、付勢バネありピストン室側３Ｂから塵埃集積室３Ｃに向かう排気の流れは止められる。
【００３７】
図２（ｂ）に示すように、流通切り替え電磁弁１５を圧気排出側にセットすると、圧縮した付勢バネ６の力でピストン４は塵埃集積室３Ｃに向けて押し戻される。付勢バネなしピストン室側３Ａ内の気体は、圧搾空気管１１と流通切り替え電磁弁１５を通過してダウンフローエリア１７内に排気される。
【００３８】
塵埃集積室３Ｃに向けてピストン４の移動に伴い、付勢バネありピストン室側３Ｂの空間体積は増加し、内部の気圧が降下する。このため、塵埃集積室３Ｃ内の気体は付勢バネありピストン室側３Ｂに吸引される。
【００３９】
このように、圧搾空気の供給に伴い、シールリング７より漏れて付勢バネなしピストン室側３Ａから塵埃集積室３Ｃに流入した気体（細塵埃を含む気体）は、付勢バネありピストン室側３Ｂに吸引される。このため、細塵埃を含む気体がシリンダ３からクリーンフローエリア１内に漏出が抑えられるので、クリーンフローエリア１の清浄な環境を良好に維持できる。
【００４０】
なお、図２（ｂ）の状態では、フィルタ１４、排気管１０を通じて付勢バネありピストン室側３Ｂに流入する流れは、排気管用逆支弁１３より止められる。このため、付勢バネありピストン室側３Ｂに生ずる吸引力は、もっぱら、塵埃集積室３Ｃ内の気体吸引に作用し、塵埃集積室３Ｃ内の気体を良好に吸うことができる。
【００４１】
本発明の実施例は、図３に示す従来例のような真空源２１及び真空排気する管路１９を必要としないので安価になる。また真空源２１及び真空排気する管路１９がいらないので、コンパクト化が可能である。
【００４２】
上記実施例では圧縮タイプの付勢バネを用いたが、引きバネを用いることも可能である。引きバネを用い場合には、引きバネを内置するところは付勢バネなしピストン室側になる。
【００４３】
図４は上述の往復直動装置１００を配設した検査装置の概略構成を示したものである。表面検査装置は、被検査物（ウェーハ）２の載置機能を兼ねた１以上のロードポート１５０、搬送部２００、プリアライメント部３００、検査部４００、光学部４５０、表裏面反転部（図省略）、及びデータ処理部５００から構成され、検査部４００の上方に光学部４５０が配設されている。
【００４４】
上記データ処理部５００は、ホストコンピュータ５１０、信号処理部５２０、キーボードやマウスまたはタッチパネルなどの入力装置５３０、ＣＲＴやフラットパネルディスプレイなどの表示装置５４０、プリンタ等の出力装置５５０、外部メディアを制御する外部記憶装置５６０から構成される。また、ホストコンピュータ５１０は演算処理装置５１１と、ＨＤＤ等の記憶装置５１２と、制御装置５１３等を含んで構成される。データ処理部５００は入力装置５３０を介して入力された指示に従い、検査装置の全体の制御を行う。設定条件や検査結果、及び装置の作動状態など、表示装置５４０に表示するほか出力装置５５０に出力する。
【００４５】
複数の被検査物２を収納したポッド１６０（カセット）は、ロードポート１５０に載置される。ポッド１６０近傍に配設された位置センサ（図省略）により、各棚段の被検査物２の有無を検出し、記憶装置５１２に被検査物２の配置を記憶する。
搬送部２００はデータ処理部５００の指示に従い、搬送装置２１０を駆動する。搬送装置２１０に配設されたハンドリングアーム２２０は、被検査物２を縁部（ベベル部）で把持し、ポッド１６０、プリアライメント部３００、検査部４００の各ユニット間をハンドリングする。
【００４６】
図５は上記ハンドリングアーム２２０の概略構成を示したものである。ハンドリングアーム２２０には、被検査物２を縁部で保持する複数の傾斜部２２１が突設されている。ハンドリングアーム２２０前方の傾斜部２２１には、被検査物２を縁部で押止するための側壁面２２２が構成され、後方には被検査物２の縁部を押圧する押圧機構２２３が配設されている。被検査物２は各傾斜部２２１の略中央に載置され、押圧機構２２３で縁部を押圧することにより、ハンドリングアーム２２０に把持される。この把持機構により、被検査物２の非検査面（裏側）は、ハンドリングアーム２２０の内表面と非接触の状態で搬送される。
【００４７】
図６は押圧機構２２３の概略構成と動作を示したものである。押圧機構２２３には、往復直動装置１００のピストンロッド５が接続されている。流通切り替え電磁弁１５の圧搾空気供給側１５ａより、圧搾空気管１１を介して付勢バネなしピストン室側３Ａに圧搾空気を供給する。ピストン４は付勢バネ６に抗して付勢バネありピストン室側３Ｂに移動し、押圧機構２２３の後退により、被検査物２の把持が解除される。
付勢バネありピストン室側３Ｂの雰囲気は、排気管１０、フィルタ１４を通過して搬送部２２０の下方に排出される。排出される雰囲気には、往復直動装置１００の摺動で発生した塵埃が含まれるが、フィルタ１４による塵埃のトラップで発塵が抑制される。また、塵埃集積室排気管用逆支弁１２が、付勢バネありピストン室側３Ｂから塵埃集積室３Ｃへの逆流を抑止し、ピストンロッド５とシールリング７の隙間からの発塵が抑制される。
【００４８】
切り替え電磁弁１５を圧気排出側１５ｂへ接続すると、圧縮した付勢バネ６の力でピストン４は塵埃集積室３Ｃに向けて押し戻され、押圧機構２２３の前進により被検査物２の縁部が把持される。
付勢バネなしピストン室側３Ａ内の気体は、圧搾空気管１１と流通切り替え電磁弁１５を通過して、搬送部２２０とは離れたダウンフローエリア１７内に排気される。この時、ピストン４の前進により付勢バネありピストン室側３Ｂの空間体積は増加し、内部の気圧が降下する。このため、塵埃集積室３Ｃ内の気体は付勢バネありピストン室側３Ｂに吸引され、圧搾空気の供給の際に付勢バネなしピストン室側３Ａから塵埃集積室３Ｃへリークした気体（塵埃を含む気体）も付勢バネありピストン室側３Ｂに吸引される。
【００４９】
このように、往復直動装置１００からの発塵(塵埃漏出)が抑止され、搬送部２２０周囲のクリーン度が維持される。よって駆動機構に起因した被検査物２への異物増加を防止できる。
【００５０】
プリアライメント部３００は、被検査物２の縁部を爪３１０で支持しながら回転させる。被検査物２の外縁部をセンサー３２０でセンシングし、被検査物２の位置ズレやノッチ位置をプリアライメントする。
【００５１】
プリアライメント部３００の近傍に、表裏面反転部（図省略）が配設されている。被検査物２の裏面を検査する場合には、この表裏面反転部で被検査物２の表裏面を反転する。
【００５２】
検査部４００には、被検査物２を縁部で把持するエッジグリップ方式の検査ステージ４０１が配設されている。この検査ステージ４０１は、図示しない回転機構（θ方向）と進退駆動機構（直線駆動機構）を備えている。
以上のように本検査装置は、被検査物２の非検査面（裏側）を搬送機構要素の内表面と非接触で搬送することができる。この構成により、被検査物２の表面及び裏面の検査を可能としている。
【００５３】
次に本実施例の検査装置における処理フローを説明する。ポッド１６０から搬出された被検査物２は、搬送装置２１０によりプリアライメント部３００へ搬送され爪３１０に載置される。
【００５４】
検査モードが被検査物２の裏面検査の場合には、その途中に表裏面反転部へ搬送され、被検査物２の表裏面を反転した後、爪３１０に載置される。
【００５５】
プリアライメント部３００では被検査物２の位置ズレのプリアライメントとノッチ位置調整が行われる。プリアライメントが終了した被検査物２は、再度搬送装置２１０によりハンドリングされ、検査部４００の検査ステージ４０１へ搬送される。この際、搬送装置２１０に配設された往復直動装置１００が、摺動による発塵を抑え、搬送工程の異物増加を抑制する。
【００５６】
検査ステージ４０１に固持された被検査物２は回転駆動機構で次第に回転速度を上げながら、検査開始位置へと移動する。回転速度が所定の速度に達した時点から、被検査物２の表面検査を開始する。
【００５７】
光学部４５０から出射されたレーザ光は、回転駆動機構による回転と進退駆動機構による一軸方向への直線運動により、被検査物２表面を螺旋状若しくは円状に走査する。レーザ光の照射により被検査物２表面の異物や欠陥から発生した散乱光は、光電子増倍管などの検出器によって受光される。回転駆動機構と進退駆動機構からの位置情報と関連付けてデータ処理部５００で信号処理され、異物や欠陥のサイズ、位置座標が算出される。この異物や欠陥のサイズ、位置座標は記憶装置５１２に記憶され、被検査物２表面の検査中若しくは終了した後、表示装置５４０や出力装置５５０に出力される。
検査を完了した被検査物２は、上記と逆の手順で、搬送装置２１０を介してハンドリングされ、ポッド１６０の同じ棚段に載置される。
【００５８】
本実施例ではレーザ光を用いて被検査物の欠陥（異物、汚れ、クラック、結晶欠陥、ＣＯＰ、パターン欠陥等）を検出する検査装置ついて説明したが、これに限定されるものではなく、ハロゲンランプや水銀ランプまたはＸｅランプなどの照明光、電子線やＸ線さらにはプローブを用いた検査にも広く適用することができる。
例えば、欠陥検査装置、異物検査装置、ディスク検査装置、外観検査装置、マスク検査装置、ベベル検査装置、電子顕微鏡、測長ＳＥＭ、走査型プローブ顕微鏡、原子間力顕微鏡など、被検査物のハンドリングを必要とする検査装置であれば、如何なるものにも適用する事ができる。また、検査装置に限らず処理装置や製造装置にも広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施例に係わるもので、往復直動装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施例に係わるもので、往復直動装置の動作説明を示す図である。
【図３】従来の往復直動装置を示す図である。
【図４】本発明の実施例に係わるもので、往復直動装置を用いた検査装置の概略構成を示す図である。
【図５】本発明の実施例に係わるもので、往復直動装置を用いた被検査物の把持機構を説明する図である。
【図６】本発明の実施例に係わるもので、往復直動装置と把持機構の動作を説明する図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  クリーンフローエリア
３  シリンダ
３Ａ  付勢バネなしピストン室側
３Ｂ  付勢バネありピストン室側
３Ｃ  塵埃集積室
４  ピストン
５  ピストンロッド
６  付勢バネ
７  シールリング
９  塵埃集積室排気管
１０  排気管
１１  圧搾空気管
１２  塵埃集積室排気管用逆支弁
１３  排気管用逆支弁
１４  フィルタ
１５  流通切り替え電磁弁
１５ａ  圧搾空気供給側（電磁弁）
１５ｂ  圧気排出側（電磁弁）
１６  圧力源（圧搾空気ポンプ）
１７  ダウンフローエリア
１００  往復直動装置
１５０  ロードポート
１６０  ポッド
２００  搬送部
２１０  搬送装置
２２１  傾斜部
２２２  側壁面
２２３  押圧機構
２２０  ハンドリングアーム
３００  プリアライメント部
３１０  爪
３２０  センサー
４００  検査部
４０１  検査ステージ
４５０  光学部
５００  データ処理部
５１０  ホストコンピュータ
５１１  演算処理装置
５１２  記憶装置
５１３  制御装置
５３０  入力装置
５４０  表示装置
５５０  出力装置
５６０  外部記憶装置
８４０  往復直動装置、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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