(57)【要約】【課題】スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化させて、良好な表示特性が得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程において、スプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布する。当該塗工液には、親水基および疎水基を有した分散剤を添加する。分散剤によりＭｇＯ粉体が塗工液中にて良好に分散し、スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化できる。当該スプレー法にて結晶ＭｇＯ層３４２を均一に形成でき、ＰＤＰの各放電セルにおいて放電遅れ・放電確率を均一化できる。均一な輝度および良好なスキャン特性を有したＰＤＰが得られる。【選択図】図７
2007103230.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記保護層を形成する保護層形成工程には、スプレーガンを用いたスプレー法により、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する工程が含まれ、
前記塗工液には、親水基および疎水基を有した分散剤を添加する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤の親水基は、水酸基である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤は、前記水酸基を前記溶剤と同数以上の価数分含有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤は、前記水酸基が１価の場合は分子量が１００以上であり、前記水酸基が２価の場合は分子量が６２以上であり、前記水酸基が３価の場合は分子量が６４以上である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤として、
アセチレンアルコール、１−ヘプタノール（ヘプチルアルコール）、１−オクタノール（オクチルアルコール）、１−ノナノール（ノニルアルコール）、１−デカノール（デシルアルコール）、１−ウンデカノール（ウンデシルアルコール）、１−ドデカノール（ドデシルアルコール）、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２−エタンジオール（エチレングリコール）、アセチレングリコール、グリセリンのいずれかを使用する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項２ないし請求項５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤の前記塗工液中における濃度は１０ｗｔ％以下である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤は、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーの少なくともいずれか一方である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記アニオン界面活性剤として、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウムのいずれかを使用し、
前記アニオンポリマーとして、アクリルアミド・アクリル酸ナトリウムを使用する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記アニオン界面活性剤として、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム、ミリスチル酸エーテルカルボン酸ナトリウム、バルミチルエーテルカルボン酸ナトリウム、ステアリルエーテルカルボン酸ナトリウム、ラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム、ミリスチルエーテル硫酸エステルナトリウム、バルミチルエーテル硫酸エステルナトリウム、ステアリルエーテル硫酸エステルナトリウム、ラウリルスルホン酸ナトリウム、ミリスチルスルホン酸ナトリウム、バルミチルスルホン酸ナトリウム、ステアミルスルホン酸ナトリウムのいずれかを使用する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項７ないし請求項９のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤として、前記アニオン界面活性剤および前記アニオンポリマーを混合して用いる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項７ないし請求項１０のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記分散剤の前記塗工液中における濃度は０．１ｗｔ％以上、３ｗｔ％以下である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記溶剤はアルコールである
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記酸化マグネシウム粉体は単結晶粉体である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層をスプレー法により形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介して互いに対向配置された一対の平面ガラス基板である前面基板および背面基板を備えており、背面基板の内面上に井桁状などの隔壁を設けて前記放電空間を複数個の放電セルに区画し、これら複数個の放電セル内で選択的に放電発光させることにより画像表示を実施する。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルの前面基板の内面側には、放電ギャップを介して対向する複数の透明電極およびこれら透明電極の一端部に積層するバス電極を備えた複数の表示電極対と、これら表示電極対間に設けられた複数のブラックストライプと、これら表示電極対およびブラックストライプ上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層と、などがそれぞれ設けられている。
【０００４】
上記保護層は、誘電体層が放電によりスパッタリングされることを防ぐと共に、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層としての役割も持っている。また、発光は保護層を通して前面基板側から観察されるため可視光に対する透明性も必要とされる。このため、保護層の材料としては、低スパッタ率、高二次電子放出係数、可視光に対する透明性などの特性により酸化マグネシウム（以下ＭｇＯと記す）が広く用いられている。
【０００５】
従来、このようなＭｇＯによる保護層の形成方法として、スプレーガンを用いたスプレー法により、ＭｇＯの微結晶粉末を溶剤に分散させた塗工液を基板に対して吹き付けるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
この特許文献１に記載の構成では、直径が１〜２μｍのＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールを分散溶媒として分散させ、吹き付けに用いる懸濁液としている。そして、スプレーガンに懸濁液と霧化用の高圧エアを供給し、懸濁液をガラス基板上にスプレー塗布した後、ガラス基板を２００℃に加熱しエチルアルコールを充分に蒸発させ、ＭｇＯ微結晶が積層したＭｇＯ膜を得る構成が採用されている。
【０００７】
このようなスプレー法による塗布を実施する塗工装置としては、従来、図１および図２に示すものが知られている。ここで、図１は従来の塗工装置を示す模式図である。図２は従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【０００８】
図１に示す塗工装置８００は、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置８００は、塗工液ＬＱを貯留する塗工液タンク８１０と、この塗工液タンク８１０に配管８１１を介して接続されて塗工液タンク８１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ８２０と、この液送ポンプ８２０に配管８２１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン８３０とを備えている。
このような塗工装置８００では、スプレー塗布を実施する場合にのみ、液送ポンプ８２０を駆動させて、塗工液ＬＱをスプレーガン８３０に供給する。
【０００９】
図２に示す塗工装置９００は、図１に示す塗工装置８００と同様に、単結晶ＭｇＯ粉末を溶剤に分散させた塗工液ＬＱをガラス基板Ｋに対してスプレー塗布する装置である。この塗工装置９００は、塗工液ＬＱを貯留する塗工液タンク９１０と、この塗工液タンク９１０に配管９１１を介して接続されて塗工液タンク９１０内の塗工液ＬＱを吸引する液送ポンプ９２０と、この液送ポンプ９２０に配管９２１を介して接続された三方弁９３０と、この三方弁９３０に配管９３１を介して接続されて塗工液ＬＱをガラス基板Ｋ上に対してスプレー塗布するスプレーガン９４０とを備えている。また、三方弁９３０は、配管９３２を介して塗工液タンク９１０内に接続されている。
【００１０】
このような塗工装置９００では、液送ポンプ９２０は常に駆動させておき、スプレー塗布を実施する場合にのみ、三方弁９３０をスプレーガン９４０側に切り換えて塗工液ＬＱをスプレーガン９４０に供給する。一方、スプレー塗布を実施しない間は、塗工液タンク９１０、配管９１１、液送ポンプ９２０、配管９２１、三方弁９３０、配管９３２、塗工液タンク９１０と順に塗工液ＬＱを循環させる。このようにして、スプレー塗布の実施の有無に関わらず、塗工液ＬＱを絶えず循環させているので、装置の各部において単結晶ＭｇＯ粉末が沈降することを防げる。
【００１１】
ここで、塗工装置８００，９００の各配管内で塗工液ＬＱの流速が遅い場合、または、塗工液ＬＱが滞留する部分や各配管の傾斜部分、弁などで流速差が生じる部分にて単結晶ＭｇＯが沈降・固着しやすい。
【００１２】
具体的には、溶剤中に分散した粒子の沈降速度は以下に示す式（１）にて与えられる。
この式（１）からも分かるように、単結晶ＭｇＯは真比重が約３でかつ溶剤の比重が通常１以下であるため、ＭｇＯ粉体の沈降速度ｖは大きくなる、すなわち、ＭｇＯ粉体が溶剤中で沈降しやすい。特に、沈降速度ｖは粒径の２乗に比例するため、ＭｇＯ粉体の粒径ｄが大きくなる程沈降しやすくなる。
【００１３】
〔数式〕
ｖ∝ｄ２×（ρｐ−ρｌ）×ｇ／μ（式１）
ｖ：終末沈降速度、ｄ:粒子の粒径、ρｐ:粒子の密度、ρｌ:溶剤の密度、ｇ:重力加速度
、μ：溶剤粘度
【００１４】
また、ＭｇＯ粉体は凝集性が高いために、塗工液タンク８１０，９１０内部や、各配管内で沈降が生じたときに、ＭｇＯ粉体同士が凝集して成長する。これにより塗工液ＬＱの流路にＭｇＯ粉体の凝集物が付着し、固着や閉塞を引き起こす。
【００１５】
このように、塗工液ＬＱの流路におけるＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じた場合、塗工液ＬＱの流れが妨げられ、スプレーガン８３０，９４０からの吐出量が減少しあるいは不安定となる。これによりガラス基板Ｋ上に付着するＭｇＯ量が一定とならず、塗工ムラが生じるおそれがある。
【００１６】
プラズマディスプレイパネルにおいては、所定の量の単結晶ＭｇＯが保護層として充分な厚さをもって堆積していない場合、放電遅れが大きくなり、選択不良等の問題を引き起すおそれがある。また、局所的にＭｇＯの塗布量にバラツキが生じた場合、輝度ムラなどの特性不良も引き起こすおそれがある。
【００１７】
【特許文献１】特開平７−２９６７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
この点において、上記特許文献１に記載の構成では、ＭｇＯの微結晶粉末をエチルアルコールに分散させて懸濁液を構成しているので、上記のようにＭｇＯが沈降・凝集し易くなってしまう。これにより、懸濁液の流路において、ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じ易く、基板上への吐出が不安定となり散布されるＭｇＯの量がばらついてしまうおそれがある。
【００１９】
そして、図１に示す塗工装置８００の場合、スプレー塗布を実施しないときには塗工液ＬＱの流れがないために、ＭｇＯ粉体が沈降しやすく、液経路内で固着・閉塞が発生しやすい。
また、図２に示す塗工装置９００の場合、塗工液ＬＱは絶えず循環しているので循環している液経路内で固着・閉塞が発生することは少ないが、三方弁９３０から配管９３１、スプレーガン９４０までの間は、スプレー塗布を実施しない間に塗工液ＬＱの流れがなく、結果として、固着・閉塞が発生してしまう。
そして、塗工装置８００，９００の双方とも、塗工液ＬＱの滞留が起き易い部分では、ＭｇＯ粉体の固着が生じ、それが成長して詰まりやすい状態となっている。
【００２０】
上記のように塗工液ＬＱの塗布量にムラが生じた場合、製造されたプラズマディスプレイパネルにおいては、放電遅れ・放電確率がセルにより異なってしまうため、輝度の不均一、スキャン不良を引き起こしてしまうおそれがある。
【００２１】
本発明は、上述したような問題点に鑑みて、スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化させて、良好な表示特性が得られるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
請求項１に記載の発明は、放電空間を介して対向配置された一対の基板と、これら一対の基板のうち一方の基板の内面上に形成された複数の電極対と、これら電極対上を被覆する誘電体層と、この誘電体層上を被覆する保護層とを備えたプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、前記保護層を形成する保護層形成工程には、スプレーガンを用いたスプレー法により、酸化マグネシウム粉体を溶剤に分散させた塗工液を塗布する工程が含まれ、前記塗工液には、親水基および疎水基を有した分散剤を添加する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（１）第１実施形態
以下、本発明の第１実施形態について図面に基づいて説明する。図３は、本発明の第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。図４は、プラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。図５は、図４のＶ−Ｖ線における断面図である。図６は、図４のＶＩ−ＶＩ線における断面図である。
なお、本実施の形態では、前面基板の保護層が薄膜ＭｇＯ層および結晶ＭｇＯ層からなる２層構造となったものを例示するが、当該保護層は結晶ＭｇＯ層からなる１層構造であってもよい。
【００２４】
(1-1)プラズマディスプレイパネルの構成
本実施形態において、図３に示すように、１はプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）であり、このＰＤＰ１は、例えば略平面長方形状に形成され、プラズマ放電による発光を利用して画像を表示する装置である。このＰＤＰ１は、画像表示領域を構成する放電空間Ｈを介して、互いに対向配置された一対の基板である背面基板２および前面基板３を備えている。
【００２５】
これら背面基板２および前面基板３は、それぞれの外周縁部に図示しないシールフリットが設けられて封着されている。そして、封着された当該空間内部は例えば６．７×１０４Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の減圧状態とされ、当該空間にはＨｅ−Ｘｅ（ヘリウム−キセノン）系やＮｅ−Ｘｅ（ネオン−キセノン）系の不活性ガスが充填されている。
【００２６】
背面基板２は、例えば板状ガラス材にて平面長方形状に形成されている。この背面基板２の内面上には、図３に示すように、複数の直線状のアドレス電極２１と、これらアドレス電極２１上を覆うアドレス電極保護層２２と、このアドレス電極保護層２２上に一体的に設けられた隔壁２３と、この隔壁２３の放電セル２３１内部に充填された蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）と、などがそれぞれ設けられている。
【００２７】
具体的には、アドレス電極２１は、例えばＡｌ（アルミニウム）などにて形成され、図３および４に示すように、背面基板２の長手方向に略直交して一定の間隔で配設されている。それぞれのアドレス電極２１の一端には図示しないアドレス電極引出部が形成されて、このアドレス電極引出部を介して各アドレス電極２１に図示しない列電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
【００２８】
アドレス電極保護層２２は、例えばガラスペーストなどにて形成され、図３，５および６に示すように、背面基板２の内面上におけるアドレス電極引出部を除いた略全面に亘り設けられている。このアドレス電極保護層２２は、パネル駆動時において、放電によるアドレス電極２１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する誘電体層として機能する。なお、アドレス電極保護層２２の外周縁部上には前述のシールフリットが設けられている。
【００２９】
隔壁２３は、図３および５に示すように、例えばアドレス電極保護層２２と同一成分のガラスペーストにて略梯子状に形成されている。そして、アドレス電極保護層２２上において、アドレス電極２１と略直交する複数の直線状の隙間Ｓ（図５参照）をそれぞれ間に挟んで、複数並列して設けられている。この隔壁２３により放電空間Ｈが複数に区画され、これにて複数の矩形状の放電セル２３１が形成されている。そして、隔壁２３は、その基端部から頂部までの高さがそれぞれ所定の高さ寸法に設定されており、背面基板２と前面基板３との間隙寸法を規定する。
【００３０】
蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、図３，５および６に示すように赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストが放電セル２３１内部に順に充填され、これが焼成されることにより形成される。これら蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）は、それぞれの放電セル２３１で発生した紫外光により励起され、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の可視光を発光する。
【００３１】
前面基板３は、ＰＤＰ１の表示面を構成し、例えば背面基板２と同一材料にて略同一形状に形成されている。この前面基板の内面上には、図３に示すように、アドレス電極２１と略直交して一定の間隔で配列された複数の表示電極対３１と、これら表示電極対３１間にそれぞれ設けられた複数のブラックストライプ３２と、これら表示電極対３１およびブラックストライプ３２上を覆う誘電体層３３と、この誘電体層３３を覆う保護層３４と、などがそれぞれ設けられている。
【００３２】
具体的には、表示電極対３１は、図４および５に示すように、放電ギャップＧ（図４参照）を介して対向する複数対の透明電極３１１ａ，３１１ｂと、これら透明電極３１１ａ，３１１ｂの一端部に積層する一対の直線状のバス電極３１２ａ，３１２ｂとを備えて構成されている。
【００３３】
透明電極３１１ａ，３１１ｂは、図４に示すように、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜で略Ｔ字形状に形成されており、所定の放電セル２３１に対応して一対ずつ設けられている。
【００３４】
バス電極３１２ａ，３１２ｂは、一対の透明電極３１１ａ，３１１ｂにおける放電ギャップＧ（図４参照）に対して反対側の端部に、それぞれ積層して設けられている。これらバス電極３１２ａ，３１２ｂのそれぞれの一端には図示しないバス電極引出部が形成され、このバス電極引出部を介して各透明電極３１１ａ，３１１ｂに図示しない行電極駆動部からの電圧パルスが印加されるようになっている。
このようなバス電極３１２ａ，３１２ｂは、図５に示すように、透明電極３１１ａ，３１１ｂ上に積層して設けられた黒色無機顔料などからなるバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと、これらバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂに積層して設けられたＡｇ（銀）などを主成分とする金属材料からなる主導電層３１４ａ，３１４ｂとを備えた２層構造となっている。
【００３５】
ブラックストライプ３２は、図４および５に示すように、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂと同質の材料にて、直線状に形成されている。このブラックストライプ３２およびバス電極黒層３１３ａ，３１３ｂにて、前面基板３の外方から照射された可視光が吸収されるようになっている。
【００３６】
誘電体層３３は、図５および６に示すように、例えばガラスペーストなどにて形成され、背面基板２のアドレス電極保護層２２と対向して設けられている。この誘電体層３３は、パネル駆動時において、放電による表示電極対３１の損耗を防止するとともに、駆動に必要な電荷を蓄積する。
【００３７】
保護層３４は、図３，５および６に示すように、誘電体層３３の内周面の全面を被覆するＭｇＯ（酸化マグネシウム）からなる薄膜ＭｇＯ層３４１と、この薄膜ＭｇＯ層３４１を被覆する結晶ＭｇＯ層３４２とを備えた２層構造となっている。
薄膜ＭｇＯ層３４１は、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより形成される。結晶ＭｇＯ層３４２は、後述するスプレー法にて形成される。
このような保護層３４は、誘電体層３３が放電によりスパッタリングされることを防ぐと共に、低電圧で放電を発生させるための二次電子の放出層として機能する。
【００３８】
(1-2)ＰＤＰ１の製造方法
次に、上述した構成のＰＤＰ１の製造方法について図面に基づいて説明する。図７は、スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【００３９】
まず、ＰＤＰ１の背面基板２の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に金属薄膜を形成して、フォトリソグラフィ法によりアドレス電極２１のパターンを形成する。このアドレス電極２１上にガラスペーストを塗布して、当該ガラスペーストを成形・焼成することによりアドレス電極保護層２２および隔壁２３を形成する。そして、放電セル２３１内部にスクリーン印刷法などにより赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体ペーストを塗布し、これを焼成して蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）を形成する。これにより、ＰＤＰ１の背面基板２が完成する。
【００４０】
次に、ＰＤＰ１の前面基板３の製造ラインにおいて、ガラス基板の内面側を超音波洗浄処理や中性洗剤を用いた水洗処理などにより十分に洗浄しておく。この後、当該ガラス基板の内面側の全面に透明電極材料層を形成して、フォトリソグラフィ法などにより複数の透明電極３１１ａ，３１１ｂを形成する。この透明電極対上にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを積層形成し、更にこのパターン上にＡｇペーストのパターンを積層形成する。そして、これらのパターンを焼成して、バス電極黒層３１３ａ，３１３ｂおよび主導電層３１４ａ，３１４ｂからなる２層構造のバス電極３１２ａ，３１２ｂを形成する。この後、これらバス電極３１２ａ，３１２ｂ間にスクリーン印刷法などにより黒色無機顔料のペーストパターンを塗布して、これを焼成して複数のブラックストライプ３２を形成する。さらに、透明電極３１１ａ，３１１ｂ、バス電極３１２ａ，３１２ｂおよびブラックストライプ３２を被覆する状態にダイコータなどによりガラスペーストを塗布して誘電体層３３を形成する。そして、この誘電体層３３の上に蒸着法やスパッタリング法などにより薄膜ＭｇＯ層３４１を成膜形成する。さらに、図７に示すように、この薄膜ＭｇＯ層３４１上に、図２に示す塗工装置９００を用いたスプレー法にて単結晶ＭｇＯ粉体層を形成し（以下に詳述）、これを焼成して結晶ＭｇＯ層３４２を形成する。これにより、ＰＤＰ１の前面基板３が完成する。
【００４１】
(1-3)スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程
次に、上記スプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程について説明する。
【００４２】
(1-3-1)スプレー法の構成
本実施形態では、図２に示す塗工装置９００を用いる。すなわち、塗工装置９００では、液送ポンプ９２０は常に駆動させておく。そして、スプレー塗布を実施する場合にのみ、三方弁９３０をスプレーガン９４０側に切り換えて塗工液ＬＱをスプレーガン９４０に供給し、スプレーガン９４０から薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗工液ＬＱを吹き付ける（図７参照）。一方、スプレー塗布を実施しない間は、塗工液タンク９１０、配管９１１、液送ポンプ９２０、配管９２１、三方弁９３０、配管９３２、塗工液タンク９１０と順に塗工液ＬＱを循環させ、スプレー塗布の実施の有無に関わらず塗工液ＬＱを絶えず循環させておく。
塗工液タンク９１０に貯留する塗工液ＬＱは、以下に示すＭｇＯ粉体、溶剤および分散剤を調合して得る。
【００４３】
(1-3-2)ＭｇＯ粉体の構成
ＭｇＯ粉体には、ＢＥＴ法によって測定した平均粒径が５００Å以上（好ましくは２０００Å以上）の気相法酸化マグネシウム単結晶粉体が用いられる。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて結晶ＭｇＯ層３４２を形成することにより、ＰＤＰ１の放電特性が改善（放電遅れの減少、放電確率の向上）されることになる。すなわち、放電によって発生する電子線の照射によって結晶ＭｇＯ層３４２に含まれる粒径の大きな単結晶ＭｇＯ粒から、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光に加えて、波長域２００〜３００ｎｍ（特に、２３５ｎｍ付近、２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光が励起される。そして、当該単結晶ＭｇＯ粒は、そのピーク波長に対応したエネルギー準位を有し、そのエネルギー準位によって電子を長時間（数ｍｓｅｃ以上）トラップすることができる。この電子が電界によって取り出されることで、放電開始に必要な初期電子が得られ、結果として、放電遅れが減少し、放電確率が向上する。
【００４４】
(1-3-3)溶剤の構成
ＭｇＯ粉体を分散させる溶剤は極性が強いものほど分散に対して有利に働く。強い分散を示す溶液としてはグリコールやＩＰＡ（２−プロパノール）などのアルコール等が挙げられる。スプレー法においては、早く揮発することが条件となるために、沸点が低く分散させやすいアルコールが好ましい。
また、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル化合物、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物、ジメチルホルムアミド等の窒素化合物においても分散が可能である。無極性の溶剤（炭化水素系）ではＭｇＯ粉体を分散させることはできない。
【００４５】
ＭｇＯ粉体の溶剤に対する分散はＭｇＯの酸素またはマグネシウムと親水基（水酸基、カルボキシル基、スルホン基、アミン基等）による水素結合もしくは静電引力（極性によるもの）により行なわれる。
【００４６】
(1-3-4)分散剤の構成
分散剤は、親水基および疎水基を有している。疎水基ならびに親水基を有する分散剤を用いることにより、ＭｇＯの分散性の向上が可能である。これは、親水基とＭｇＯが引き付け合うこと、および、分子量の大きい疎水基が存在することによる見かけ比重の低下によるものである。
【００４７】
親水基としては水酸基（−ＯＨ）が特に強い分散性を示す。アルデヒド基、アミン基、スルホン基などでも分散は可能であるが、分散剤機能としては弱い。なお、カルボキシル基（カルボン酸）を持つもの（酢酸など）ではＭｇＯを溶解させてしまうので好ましくない。
【００４８】
特に分散剤は、水酸基を溶剤と同数以上の価数分含有することが好ましい。これにより、ＭｇＯ粉体の良好な分散性を確保可能となり、このことは後述する(1-4-1)に示す実施例からも確認されている。
また、分散剤の水酸基の価数が多い程、分散剤がＭｇＯ粉体に良好に吸着することが言える。そして、分散剤としては、上述した見かけ比重の低下の度合いが大きい程、つまり、分散剤としては分子量が大きい程、ＭｇＯ粉体が良好に分散することが言える。このため、分散剤は、水酸基が１価の場合は分子量が１００以上であり、水酸基が２価の場合は分子量が６２以上であり、水酸基が３価の場合は分子量が６４以上であることが好ましい。このような分散剤とすることでＭｇＯ粉体が良好に分散する。このことは後述する(1-4-1)に示す実施例からも確認されている。
【００４９】
水酸基を持つ分散剤として効果が高いものは、グリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコール、アセチレンアルコール等が挙げられる。水酸基の場合では水酸基の価数が多い程、分散性が良好となる。そのため、水酸基が３価のグリセリンがこの中では最も分散性能が高い。
このようなグリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコールを分散剤として使用した場合では、配管等の液流路の表面を分散剤がコーティングする作用があり、それによりＭｇＯの液経路内での付着を減少させ、液経路での圧損が低減することで、安定した吐出を行なう事が可能となる。
【００５０】
疎水基としてはアルカン、アルケン、脂肪酸等が挙げられ、水酸基と疎水基を組み合わせた分散剤を用いることにより、ＭｇＯの分散性が向上する。
【００５１】
以上を踏まえ、本実施形態における分散剤としては、例えば、アセチレンアルコール、１−ヘプタノール（ヘプチルアルコール）、１−オクタノール（オクチルアルコール）、１−ノナノール（ノニルアルコール）、１−デカノール（デシルアルコール）、１−ウンデカノール（ウンデシルアルコール）、１−ドデカノール（ドデシルアルコール）、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２−エタンジオール（エチレングリコール）、アセチレングリコール、グリセリンのいずれかを適宜採用できる。
【００５２】
(1-4)実施例
本実施形態の効果を確認するための実施例を以下に示す。
【００５３】
(1-4-1)種々の分散剤の使用による詰まり性評価
分散剤の使用による詰まり性評価として、塗工を繰り返し行なったときの吐出量ばらつきを比較した。
ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体とし、塗工液ＬＱにおける濃度は５ｗｔ％とした。溶剤にはＩＰＡ（２−プロパノール）を使用した。
分散剤としては、グリセリン（実施例１−１）、アセチレングリコール（実施例１−２）、エチレングリコール（実施例１−３）、プロピレングリコール（実施例１−４）、ヘプチルアルコール（実施例１−５）、オクチルアルコール（実施例１−６）、デシルアルコール（実施例１−７）を用いて評価を行なった。この中ではアセチレングリコール以外は純物質を用いた。アセチレングリコールは分子量６００のものを使用した。また、これら実施例１−１〜１−７の分散剤濃度は全て１ｗｔ％とした（ＩＰＡ９４ｗｔ％、ＭｇＯ粉体５ｗｔ％、分散剤１ｗｔ％）。そして、比較例として、塗工液ＬＱに分散剤を添加しないもの（比較例１）を用意した。
【００５４】
スプレー法による塗工は、図２に示す塗工装置９００を用いた。液送ポンプ９２０は定量性のあるギヤポンプを使用し、スプレーガン９４０にはエア霧化方式の２流体ノズル（エア、塗工液）を用いた。また塗工液タンク９１０は沈降防止のために攪拌を行なった。
狙い吐出量は１０ｃｃ／ｍｉｎとし、吐出時間は１分間、休止時間は２分間を繰り返した。
表１に上記条件にて２００回吐出させたときの吐出量標準偏差を示す。ここでは、２００回の塗工時には配管内の洗浄は行っていない。
【００５５】
【表１】
2007103230.tif 000003
【００５６】
表１の結果より、アルコール価数の大きいもの（実施例１−１〜１−４）は標準偏差が小さく、ばらつきが小さいことが分かる。特に水酸基が３価であるグリセリンを添加した実施例１−１では、最小の標準偏差となり、吐出量が最も安定していることが確認できた。
水酸基が１価であるアルコール（実施例１−５、１−６、１−７）は分子量が大きいもの程、分散性が向上し吐出量の標準偏差が小さくなることが分かる。
【００５７】
そして、上記実験において、溶剤として、１価のアルコールであるＩＰＡに対して、実施例１−１〜１−７で用いた分散剤はすべて水酸基を１価以上含有している。このため、表１に示した実験結果より、分散剤の水酸基の価数が、溶剤としてのアルコールの価数と同数以上であれば、分散性が向上することが分かった。
【００５８】
また、上記実験において、水酸基が１価で分子量１００のヘプチルアルコール（実施例１−５）、水酸基が２価で分子量が６２のエチレングリコール（実施例１−３）、水酸器が３価で分子量が６４のグリセリン（実施例１−１）では、いずれもＭｇＯの分散性が向上する結果が得られている。これにより、分散剤として、水酸基が１価の場合は分子量１００のヘプチルアルコールと同数かそれ以上の分子量の分散剤、２価の場合は分子量６２のエチレングリコールと同数かそれ以上の分子量の分散剤、３価の場合は分子量６４のグリセリンと同数かそれ以上の分子量の分散剤をそれぞれ用いた場合であっても、表１の標準偏差と同等かそれ以上の良好な結果が得られることが分かった。
【００５９】
(1-4-2)分散剤濃度による詰まり性評価
ここで標準偏差の小さかった、グリセリン、アセチレングリコール（分子量６００）に関して分散剤濃度を変化させて、上記(1-4-1)と同条件にて２００回吐出させたときの吐出量標準偏差を調べた。表２にその結果を示す。
【００６０】
【表２】
2007103230.tif 000004
【００６１】
表２よりグリセリンの場合（実施例２−１〜２−５）では濃度３ｗｔ％（実施例２−２）で標準偏差が最小となり、濃度を高くすると標準偏差は大きくなった。特に、濃度が１０ｗｔ％よりも大きい場合（実施例２−５）は、標準偏差が比較的に大きくなってしまい、良好な分散性が得られないことが分かる。この結果は、グリセリンがＭｇＯ同士の接着剤（吸着剤）となり、凝集させやすい状態になったことによるものと考えられる。
アセチレングリコールの場合（実施例２−６〜２−１０）では、濃度を高くすると標準偏差が増加した。特に、濃度が１０ｗｔ％よりも大きい場合（実施例２−１０）は、標準偏差が比較的に大きくなってしまい、良好な分散性が得られないことが分かる。この結果は、グリセリンと同様に、アセチレングリコールがＭｇＯ同士の接着剤（吸着剤）となり、凝集させやすい状態になったことによるものと考えられる。
【００６２】
以上より分散剤添加量はグリセリンで３ｗｔ％、アセチレングリコールで１ｗｔ％が最適値であることが分かった。また、グリセリンならびにアセチレングリコールでは濃度が１０ｗｔ％以下であれば、良好な吐出安定性が得られることが分かった。そして、分散性能としてはアセチレングリコールよりもグリセリンの方が優れていることが分かる。
【００６３】
(1-4-3)分散剤の使用による透過性評価
次に、分散剤の使用によるガラス基板の透過性の評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤としてグリセリン３ｗｔ％を添加したものを用意した（実施例３）。また、比較例として、分散剤を添加しない塗工液（比較例３）を用意した。
そして、それぞれの塗工液について、あらかじめ２００回吐出させた後、構造物がない縦横１０００ｍｍのソーダガラス基板上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。さらに、ピーク温度３００℃で乾燥（蒸発）を行なった後に、それぞれの基板について、面内２０ポイントにて透過率を測定した。この透過率は拡散透過率ならびに直線透過率が混在しているものであり、指標として使用した。このときの透過率（空気の透過率を１００％と設定）の狙い値は７０％と設定した。この透過率の測定結果を図８に示す。
【００６４】
図８より、分散剤を使用しなかった比較例３（図中左の直線）では、面内での透過率ばらつきが大きいことが分かる。一方、グリセリンを添加した実施例３（図中右の直線）では、面内での透過率ばらつきが小さく、散布安定性が改善していることが分かる。これは、分散剤を添加することにより液経路の詰まり性が改善したためによるものと考えられる。
【００６５】
(1-4-4)分散剤の使用による放電遅れ評価
次に、分散剤の使用によるＰＤＰ１の放電遅れの評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤としてグリセリン３ｗｔ％を添加したもの（実施例４）を用意した。また、比較例として分散剤を添加しない塗工液（比較例４）を用意した。
それぞれの塗工液について、液経路に対して詰まり状態差が見やすいようにあらかじめ２００回吐出させた後、前面基板３に結晶ＭｇＯ層３４２を形成して、ＰＤＰ１を作製した。そして、それぞれのＰＤＰ１について、放電遅れ測定を前面基板３面内の２０ポイントで行なった。図９には面内２０点の放電遅れの測定結果（範囲）を示す。放電遅れは単結晶ＭｇＯ塗工を行なわないパネルの平均値で規格化した。
なお、放電遅れとは、放電を発生させるための電圧を印加させてから、実際に放電が起きるまでの時間を意味する。
【００６６】
図９より、分散剤を使用しなかった比較例４（図中左の直線）では、塗工ムラが生じたことから、面内での放電遅れのばらつきが大きいことが分かる。一方、グリセリンを添加した実施例４（図中右の直線）では、放電遅れのばらつきが小さく、安定した塗工が行なわれたことが分かった。
放電遅れがある程度以上大きくなると、アドレスのスキャンに対して放電が追いつかなくなるために、選択不良が発生する。分散剤を用いない比較例４では、放電遅れが大きい部分が存在するために、アドレス選択不良が発生する可能性が大きいと考えられる。
【００６７】
(1-4-5)分散剤の使用による塗工表面状態の評価
次に、分散剤の使用による塗工表面状態の評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤としてグリセリン３ｗｔ％を添加した。そして、あらかじめ２００回吐出させた後、構造物がないソーダガラス上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。また、これと同様にして分散剤を添加しない塗工液を用いて、構造物がないソーダガラス上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。そして、それぞれの基板の乾燥（蒸発）後に、それぞれの塗工表面状態を顕微鏡で観察し状態観察を行なった。
この結果、分散剤としてグリセリンを添加したものは、分散剤を使用しなかったものよりも、単結晶ＭｇＯの粒（乾燥凝集により起きる）の粒径の標準偏差が約６０％減少し、表面の分散状態も改善していた。
【００６８】
(1-5)ＰＤＰ１の製造方法の効果
上述したように、上記第１実施形態におけるＰＤＰ１の製造方法によれば、以下の効果を奏することができる。
【００６９】
(1-5-1)結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程において、図２に示す塗工装置９００を用いたスプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液ＬＱを薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布する。塗工液ＬＱには、親水基および疎水基を有した分散剤を添加する。
これにより、分散剤の親水基とＭｇＯが引き付け合い、分散剤における分子量の大きい疎水基が存在することにより見かけ比重が低下して、ＭｇＯ粉体が塗工液ＬＱ中において良好に分散する。このため、塗工液ＬＱの流路において、ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じ難くなり、スプレーガン９４０からの塗工液ＬＱの塗布量を安定化させることができ、散布されるＭｇＯのばらつきを小さくできる。
そして、このような塗工液ＬＱを用いたスプレー法によれば、結晶ＭｇＯ層３４２を均一に形成することができるので、ＰＤＰ１の各放電セル２３１において放電遅れ・放電確率を均一化することができる。このため、均一な輝度および良好なスキャン特性を有したＰＤＰ１を得ることができる。
したがって、スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化させて、良好な表示特性を有したプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【００７０】
(1-5-2)分散剤の親水基は、水酸基であることが好ましい。
水酸基は親水基の中でも特に強い分散性を示しかつＭｇＯを溶解させてしまうこともないので、塗工液ＬＱ中においてＭｇＯ粉体を良好に分散させることができる。
【００７１】
(1-5-3)分散剤は、水酸基を溶剤と同数以上の価数分含有することが好ましい。
このような分散剤によれば、分散剤にてＭｇＯ粉体の周囲を好適に取り囲むことができ、塗工液ＬＱ中においてＭｇＯ粉体を良好に分散させることができる。
【００７２】
(1-5-4)分散剤は、水酸基が１価の場合は分子量が１００以上であり、水酸基が２値の場合は分子量が６２以上であり、水酸基が３価の場合は分子量が６４以上であることが好ましい。
このような分散剤によれば、ＭｇＯ粉体を確実に分散させることができる。特に水酸基が３価のグリセリンを用いることにより高い分散性を得ることができる。
【００７３】
(1-5-5)分散剤として、アセチレンアルコール、１−ヘプタノール（ヘプチルアルコール）、１−オクタノール（オクチルアルコール）、１−ノナノール（ノニルアルコール）、１−デカノール（デシルアルコール）、１−ウンデカノール（ウンデシルアルコール）、１−ドデカノール（ドデシルアルコール）、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、１，２−エタンジオール（エチレングリコール）、アセチレングリコール、グリセリンのいずれかを使用することが好ましい。
これらの分散剤は、水酸基と疎水基とをＭｇＯ粉体の分散に適した状態で含有しているので、ＭｇＯ粉体を確実に分散させることができる。特に、グリセリン、エチレングリコール、アセチレングリコールを分散剤として使用した場合では、配管等の液流路の表面を分散剤がコーティングする作用があり、それによりＭｇＯの液経路内での付着を減少させ、液経路での圧損が低減することで、安定した吐出を行なう事が可能となる。
【００７４】
(1-5-6)分散剤の塗工液中における濃度は１０ｗｔ％以下であることが好ましい。分散剤の濃度が１０ｗｔ％以下であれば、分散剤がＭｇＯ同士の接着剤（吸着剤）とならずにＭｇＯ同士の凝集を防ぐことができ、スプレー法における塗工液の好適な吐出状態を得ることができる。
【００７５】
(1-5-7)溶剤はアルコールであることが好ましい。このような溶剤によれば、アルコールの強い極性によりＭｇＯ粉体を好適に分散させることができる。特にグリコールやＩＰＡ（２−プロパノール）などのアルコールであれば、水酸基の価数も高くかつ比較的沸点も低いので、ＭｇＯ粉体をより好適に分散させることができ、かつ、塗工後の溶剤を早く揮発させることができる。したがって、ＰＤＰ１の製造効率を向上できる。
【００７６】
(1-5-8)酸化マグネシウム粉体は単結晶粉体であることが好ましい。
このような単結晶ＭｇＯ粉体を用いて薄膜ＭｇＯ層３４１を形成すれば、ＰＤＰ１において、放電遅れが減少しかつ放電確率が向上するなど、放電特性を改善することができる。
【００７７】
(1-5-9)分散剤として、グリセリンを３ｗｔ％添加すること、あるいは、アセチレングリコールを１ｗｔ％添加することが好ましい。
これらの場合、ＭｇＯ粉体を最適な状態で分散させることができるので、非常に安定した吐出状態を得ることができる。
【００７８】
（２）第２実施形態
以下、本発明の第２実施形態について説明する。本実施形態は、図３ないし図７に示す第１実施形態のＰＤＰ１を製造する方法において、スプレー法に用いられる分散剤の構成のみが異なるものである。このため、第１実施形態と同様の構成については図示省略し、説明を適宜省略する。
(2-1)分散剤の構成
本実施形態における分散剤は、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーの少なくともいずれか一方であり、上記第１実施形態の分散剤と同様に、親水基および疎水基を有している。
アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーを用いることにより、ＭｇＯ粉体の分散性を向上させることが可能となる。すなわち、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーは、負電荷を発生するため、ＭｇＯ（Ｍｇ２＋）の静電引力によりＭｇＯに吸着する。そして、コロイドを形成し、見かけ比重を下げると共に、アニオン界面活性剤またはアニオンポリマー同士でのクーロン斥力により粒子間の距離が離れる。これによりＭｇＯ粉体の凝集・沈降が発生し難く、ＭｇＯ粉体の分散性が向上する。
また、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーを混合して用いることで、見掛け比重をさらに大きく下げる事ができるために、分散性がより一層向上する。
【００７９】
なお、強い負電荷を発生するアニオンポリマーを使用すると、ＭｇＯとポリマーの結合が強くなり、ポリマーが凝集剤の役割を果たしてしまうことで、ＭｇＯが凝集し沈降を促進してしまい、分散が行われないことがある。
【００８０】
このようなアニオン界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系、硫酸エステル系、スルホン酸系、アクリル酸系等のアニオン界面活性剤が挙げられる。
【００８１】
カルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム（R-O(CH2CH2O)nCH2COONa）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチル酸エーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテルカルボン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテルカルボン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもカルボン酸系のアニオン界面活性剤としては、アクリル酸塩、脂肪酸塩、多価カルボン酸塩、ロジン酸塩、ダイマー酸塩、ポリマー酸塩などが挙げられ、中でもカルボン酸塩（アクリル酸塩を含む）は好ましい。
【００８２】
硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム（R-O(CH2CH2O)nSO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルエーテル硫酸エステルナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアリルエーテル硫酸エステルナトリウムが好ましい。
この他にも硫酸エステル系のアニオン界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、トリスチレン化フェノール硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル塩等が挙げられる。
【００８３】
スルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸ナトリウム（R-SO3Na）が挙げられる。構造式中のＲはアルキル基である。特に、Ｒ部分の炭素数が１２のラウリルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１４のミリスチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１６のバルミチルスルホン酸ナトリウム、Ｒ部分の炭素数が１８のステアミルスルホン酸ナトリウムが好ましい。
この他にもスルホン酸系のアニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、ジフェニルエーテルスルホン酸塩等が挙げられる。
【００８４】
アニオンポリマーとしては、カルボン酸系のポリアクリルアミド・アクリル酸塩が挙げられ、特にアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム（-(CH2CHCONH2)m-(CH2-CH-COONa)n-）が好適である。構造式中のｍの部分はアクリルアミドであり、ｎの部分はアクリル酸ナトリウムである。
【００８５】
(2-2)実施例
本実施形態の効果を確認するための実施例を以下に示す。
【００８６】
(2-2-1)種々の分散剤の使用による詰まり性評価
分散剤の使用による詰まり性評価として、塗工を繰り返し行なったときの吐出量ばらつきを比較した。
ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体とし、塗工液ＬＱにおける濃度は５ｗｔ％とした。溶剤にはＩＰＡ（２−プロパノール）を使用した。
分散剤として、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム（実施例５−１）、ラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム（実施例５−２）、ラウリルスルホン酸ナトリウム（実施例５−３）、ステアリルスルホン酸ナトリウム（実施例５−４）の４種のアニオン界面活性剤を用いた。また、分散剤として、アニオンポリマーであるアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム（実施例５−５）を用いた。実施例５−５のポリマーは分子量約１００万のものとした。なお、これら実施例５−１〜５−５における分散剤濃度は全て０．５ｗｔ％とした（ＩＰＡ９４．５ｗｔ％、ＭｇＯ粉体５ｗｔ％、分散剤０．５ｗｔ％）。
さらに、分散剤として、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム（０．２５ｗｔ％）にアクリルアミド・アクリル酸ナトリウムポリマー（０．２５ｗｔ％）を合わせて、合計の分散剤量が０．５％となるもの（実施例５−６）も使用した。また、比較例として、分散剤を添加しないもの（比較例５）を用意した。
【００８７】
スプレー法による塗工は、図２に示す塗工装置９００を用いた。液送ポンプ９２０は定量性のあるギヤポンプを使用し、スプレーガン９４０にはエア霧化方式の２流体ノズル（エア、塗工液）を用いた。また塗工液タンク９１０は沈降防止のために攪拌を行なった。
狙い吐出量は１０ｃｃ／ｍｉｎとし、吐出時間は１分間、休止時間は２分間を繰り返した。
表３に上記条件にて２００回吐出させたときの吐出量標準偏差を示す。ここでは、２００回の塗工時には配管内の洗浄は行っていない。
【００８８】
【表３】
2007103230.tif 000005
【００８９】
表３の結果より、アニオン界面活性剤ならびにアニオンポリマーを添加したもの（実施例５−１〜５−６）は、アニオン界面活性剤を添加していないもの（比較例５）と比べ、スプレー吐出量のばらつきが小さくなっていることが分かる。
特にアニオン界面活性剤とアニオンポリマーを併用したもの（実施例５−６）は、最小の標準偏差となり、吐出量が最も安定していることが確認できた。アニオン界面活性剤とアニオンポリマーとの双方を組み合わせることによる相乗効果が確認できた。
実施例５−３および５−４より、アルキル基の炭素数が異なるアルキルスルホン酸ナトリウムでは、炭素数が多いステアリルスルホン酸ナトリウム（実施例５−４）の方がラウリルスルホン酸ナトリウム（実施例５−３）よりもばらつきが小さいことが分かる。これより、分散剤の分子量が増えるほど、スプレー吐出量のばらつきが小さくなることが分かった。
以上より、アニオン界面活性剤またはアニオンポリマーの少なくともいずれか一方を添加することで、ＭｇＯ粉体の分散性が向上し、塗工液ＬＱ経路内でＭｇＯの固着・閉塞が発生し難くなることが分かった。つまり、スプレー吐出量の安定化が図れることが分かった。
【００９０】
(2-2-2)分散剤濃度による詰まり性評価
ここで標準偏差の小さかった、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムならびにアクリルアミド・アクリル酸ナトリウムについて、分散剤濃度を変化させて、上記(2-2-1)と同条件にて２００回吐出させたときの吐出量標準偏差を調べた。また、各塗工液を３０分放置後の沈降の発生を調べた。表４にその結果を示す。
【００９１】
【表４】
2007103230.tif 000006
※沈降評価  ×：ＭｇＯ粉体の沈降・分離発生。○：発生せず。
【００９２】
表４よりラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムの場合（実施例６−１〜６−６）では濃度０．５〜１ｗｔ％（実施例６−３および６−４）で標準偏差が小さくなり、特に濃度が０．５ｗｔ％の場合（実施例６−３）が標準偏差が最小となっていることが分かる。一方、濃度が０．５ｗｔ％よりも低い場合（実施例６−１および６−２）や濃度が１ｗｔ％よりも多い場合（実施例６−５および６−６）では標準偏差は大きくなった。
そして、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムでは、濃度が０．１〜３ｗｔ％の範囲（実施例６−２〜６−５）であれば、より好ましくは０．５〜１ｗｔ％の範囲（実施例６−３，６−４）であれば、比較例６と比較して標準偏差が大きく下がっているので、良好な吐出安定性が得られることが分かる。
【００９３】
濃度が０．０５ｗｔ％の実施例６−１では、アニオン界面活性剤が逆にＭｇＯ粉体同士の凝集剤として作用し、凝集させやすい状態になり、結果としてＭｇＯ粉体の沈降が発生したものと考えられる。
濃度が０．５〜１ｗｔ％の実施例６−３および６−４では、ＭｇＯ粉体に対して十分にアニオン界面活性剤が存在するために、ＭｇＯ粉体の周囲をアニオン界面活性剤が覆う。そして、ＭｇＯコロイドを形成させることができ、コロイド同士間でクーロン反発が起きるために分散性が向上し、結果として吐出安定性が増したものと考えられる。
濃度が１ｗｔ％よりも大きい実施例６−５および６−６では、ＭｇＯ粉体の沈降は発生しなかったものの、吐出量標準偏差は大きくなっている。これは、分子量の高いアニオン界面活性剤の濃度が１ｗｔ％よりも大きくなったことにより、アニオン界面活性剤が接着剤として作用し、液経路へのＭｇＯコロイドの付着性を増加させたためと考えられる。
【００９４】
アクリルアミド・アクリル酸ナトリウムの場合（実施例６−７〜６−１２）でも、上記ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムの場合と略同様の結果を示した。つまり、濃度０．１〜１ｗｔ％（実施例６−８〜６−１０）で標準偏差が小さくなり、特に濃度が０．１ｗｔ％の場合（実施例６−８）が標準偏差が最小となっていることが分かる。一方、濃度が０．１ｗｔ％よりも低い場合（実施例６−７）や濃度が１ｗｔ％よりも多い場合（実施例６−１１および６−１２）では標準偏差は大きくなった。
そして、アクリルアミド・アクリル酸ナトリウムでは、濃度が０．１〜３ｗｔ％の範囲（実施例６−８〜６−１１）であれば、より好ましくは濃度が０．１〜０．５ｗｔ％の範囲（実施例６−８，６−９）であれば、比較例６と比較して標準偏差が大きく下がっているので、良好な吐出安定性が得られることが分かる。
この結果は、上記ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムの場合と同様の理由によるものと考えられる。
【００９５】
以上より、分散剤添加量はラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムで０．５ｗｔ％、アクリルアミド・アクリル酸ナトリウムで０．１ｗｔ％が最適値であることが分かった。また、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムならびにアクリルアミド・アクリル酸ナトリウムでは濃度が０．１〜３ｗｔ％の範囲であれば、良好な吐出安定性が得られることが分かった。
【００９６】
(2-2-3)分散剤の使用による透過性評価
次に、分散剤の使用によるガラス基板の透過性の評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤としてラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムを０．５ｗｔ％添加したもの（実施例７−１）およびアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム ポリマーを０．１ｗｔ％添加したもの（実施例７−２）を用意した。また、比較例として分散剤を添加しない塗工液（比較例７）を用意した。
そして、それぞれの塗工液について、あらかじめ２００回吐出させた後、構造物がない縦横１０００ｍｍのソーダガラス基板上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。さらに、ピーク温度３００℃で乾燥（蒸発）を行なった後に、それぞれの基板について、面内２０ポイントにて透過率を測定した。このときの透過率（空気の透過率を１００％と設定）の狙い値は７０％と設定した。この透過率の測定結果を図１０に示す。
【００９７】
図１０より、分散剤を使用しなかった比較例７（図中左の直線）では、面内での透過率ばらつきが大きいことが分かる。一方、アニオン界面活性剤・アニオンポリマーを添加した実施例７−１および７−２（図中中央および右の直線）では、比較例７と比べて散布安定性が改善していることが分かる。これは、分散剤を添加することにより液経路の詰まり性が改善したためによるものと考えられる。
【００９８】
(2-2-4)分散剤の使用による放電遅れ評価
次に、分散剤の使用によるＰＤＰ１の放電遅れの評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤としてラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムを０．５ｗｔ％添加したもの（実施例８−１）およびアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム ポリマーを０．１ｗｔ％添加したもの（実施例８−２）を用意した。また、比較例として分散剤を添加しない塗工液（比較例８）を用意した。
それぞれの塗工液について、液経路に対して詰まり状態差が見やすいようにあらかじめ２００回吐出させた後、前面基板３に結晶ＭｇＯ層３４２を形成して、ＰＤＰ１を作製した。そして、それぞれのＰＤＰ１について、放電遅れ測定を前面基板３面内の２０ポイントで行なった。図１１には面内２０点の放電遅れの測定結果（範囲）を示す。放電遅れは単結晶ＭｇＯ塗工を行なわないパネルの平均値で規格化した。
【００９９】
図１１より、分散剤を使用しなかった比較例８（図中左の直線）では、塗工ムラが生じたことから、面内での放電遅れのばらつきが大きいことが分かる。一方、アニオン界面活性剤・アニオンポリマーを添加した実施例８−１および８−２（図中中央および右の直線）では、放電遅れのばらつきが小さく、安定した塗工が行なわれたことが分かった。
放電遅れがある程度以上大きくなると、アドレスのスキャンに対して放電が追いつかなくなるために、選択不良が発生する。分散剤を用いない比較例８では、放電遅れが大きい部分が存在するために、アドレス選択不良が発生する可能性が大きいと考えられる。
【０１００】
(2-2-5)分散剤の使用による塗工表面状態の評価
次に、分散剤の使用による塗工表面状態の評価を行った。
塗工液ＬＱにおいて、溶剤としてＩＰＡを用い、ＭｇＯ粉体はＢＥＴ換算粒径５０００Åの単結晶粉体（濃度５ｗｔ％）とした。分散剤として、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム（０．５ｗｔ％添加）およびアクリルアミド・アクリル酸ナトリウム（０．１ｗｔ％添加）を採用した。そして、あらかじめ２００回吐出させた後、構造物がないソーダガラス上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。また、これと同様にして分散剤を添加しない塗工液を用いて、構造物がないソーダガラス上に単結晶ＭｇＯ粉体を塗工した。そして、それぞれの基板の乾燥（蒸発）後に、それぞれの塗工表面状態を顕微鏡で観察し状態観察を行なった。
この結果、分散剤として、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウムならびにアクリルアミド・アクリル酸ナトリウムを添加したものは、分散剤を使用しなかったものよりも、単結晶ＭｇＯの粒（乾燥凝集による粒の集合体）の粒径の標準偏差が約５０％減少し、表面の分散状態も改善していた。
【０１０１】
(2-3)ＰＤＰ１の製造方法の効果
上述したように、上記第２実施形態におけるＰＤＰ１の製造方法によれば、上記第１実施形態が奏する(1-5-1)、(1-5-7)および(1-5-8)の効果に加え、以下の効果を奏することができる。
【０１０２】
(2-3-1)分散剤は、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーの少なくともいずれか一方であることが好ましい。
このような分散剤によれば、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーがＭｇＯに吸着してコロイドを形成し、見かけ比重を下げると共に、クーロン斥力により粒子間の距離を離すことができる。これによりＭｇＯ粉体の凝集・沈降が発生し難く、ＭｇＯ粉体の分散性を向上できる。
【０１０３】
(2-3-2)アニオン界面活性剤として、アルキルエーテルカルボン酸ナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウムのいずれかを使用し、アニオンポリマーとして、アクリルアミド・アクリル酸ナトリウムを使用することが好ましい。
このような分散剤によれば、溶剤中にて上記アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーが負電荷を発生させてＭｇＯに好適に吸着するので、ＭｇＯ粉体の凝集・沈降が発生し難く、ＭｇＯ粉体の分散性をより向上できる。
【０１０４】
(2-3-3)アニオン界面活性剤として、ラウリルエーテルカルボン酸ナトリウム、ミリスチル酸エーテルカルボン酸ナトリウム、バルミチルエーテルカルボン酸ナトリウム、ステアリルエーテルカルボン酸ナトリウム、ラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム、ミリスチルエーテル硫酸エステルナトリウム、バルミチルエーテル硫酸エステルナトリウム、ステアリルエーテル硫酸エステルナトリウム、ラウリルスルホン酸ナトリウム、ミリスチルスルホン酸ナトリウム、バルミチルスルホン酸ナトリウム、ステアミルスルホン酸ナトリウムのいずれかを使用することが好ましい。
このような分散剤によれば、上記アニオン界面活性剤が溶剤中にて負電荷を発生させてＭｇＯに好適に吸着し、ＭｇＯコロイドを形成させることができる。そして、当該ＭｇＯコロイド粒の外周側に上記アニオン界面活性剤の炭素数の多いアルキル基が配置されるので、コロイド同士間で大きなクーロン反発が起きるため、分散性が向上する。したがって、スプレー法において塗工液ＬＱを好適に吐出させることができる。
【０１０５】
(2-3-4)分散剤として、アニオン界面活性剤およびアニオンポリマーを混合したものを用いることが好ましい。
このようにアニオン界面活性剤とアニオンポリマーとの双方を組み合わせることにより、より好適にＭｇＯ粉体を分散させることができ、塗工液ＬＱを安定して吐出させることができる。
【０１０６】
(2-3-5)分散剤の塗工液中における濃度は０．１ｗｔ％以上、３ｗｔ％以下であることが好ましい。
このような分散剤濃度とすれば、ＭｇＯ粉体の沈降が発生することを防止でき、好適にＭｇＯ粉体を分散させることができる。
【０１０７】
（３）実施形態の変形
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【０１０８】
例えば、前記実施形態のＰＤＰ１を、前面基板３に表示電極対３１を形成し誘電体層３３によって被覆しかつ背面基板２側に蛍光体層（２４Ｒ,２４Ｇ,２４Ｂ）とアドレス電極２１を形成した反射型交流ＰＤＰとするとしたが、これに限らない。すなわち、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆し、背面基板に蛍光体層を形成した反射型交流ＰＤＰや、前面基板側に蛍光体層を形成し背面基板側に表示電極対とアドレス電極を形成して誘電体層によって被覆した透過型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極対とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される三電極型交流ＰＤＰ、放電空間の表示電極とアドレス電極との交差部分に放電セルが形成される二電極型交流ＰＤＰなどの種々の形式のＰＤＰに適用することができる。
【０１０９】
前記実施形態では、隔壁２３を梯子状に形成するとしたが、これに限らず、井桁状やストライプ状の隔壁としてもよい。
【０１１０】
前記実施形態では、保護層３４は、誘電体層３３の全面を被覆するとしたが、これに限らず、例えば、誘電体層３３における透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分や逆に透明電極３１１ａ，３１１ｂに対向する部分以外の部分などのように、部分的にパターン化して形成するようにしてもよい。
【０１１１】
〔実施形態の作用効果〕
上述したように、前記第１および第２実施形態では、結晶ＭｇＯ層３４２の形成工程において、スプレー法にて、ＭｇＯ粉体を溶剤に分散させた塗工液を薄膜ＭｇＯ層３４１上に塗布する。この塗工液には、親水基および疎水基を有した分散剤を添加する。
これにより、分散剤の親水基とＭｇＯが引き付け合い、分散剤における分子量の大きい疎水基が存在することにより見かけ比重が低下して、ＭｇＯ粉体が塗工液中において良好に分散する。このため、塗工液の流路において、ＭｇＯ粉体の固着や閉塞が生じ難くなり、スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化させることができ、散布されるＭｇＯのばらつきを小さくできる。
そして、このような塗工液を用いたスプレー法によれば、結晶ＭｇＯ層３４２を均一に形成することができるので、ＰＤＰ１の各放電セル２３１において放電遅れ・放電確率を均一化することができる。このため、均一な輝度および良好なスキャン特性を有したＰＤＰ１を得ることができる。
したがって、スプレーガンからの塗工液の塗布量を安定化させて、良好な表示特性を有したプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】従来の塗工装置を示す模式図である。
【図２】従来の三方弁を備えた塗工装置を示す模式図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示した分解斜視図である。
【図４】前記実施形態におけるプラズマディスプレイパネルを模式的に示した正面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図６】図４のＶＩ−ＶＩ線における断面図である。
【図７】前記実施形態におけるスプレー法による単結晶ＭｇＯ粉体層の形成工程を示した模式図である。
【図８】前記実施形態におけるスプレー法にて結晶ＭｇＯ層が形成されたガラス基板の透過率の測定結果である。
【図９】前記実施形態におけるスプレー法にて形成された結晶ＭｇＯ層を具備したＰＤＰの放電遅れの測定結果である。
【図１０】本発明の第２実施形態におけるスプレー法にて結晶ＭｇＯ層が形成されたガラス基板の透過率の測定結果である。
【図１１】前記実施形態におけるスプレー法にて形成された結晶ＭｇＯ層を具備したＰＤＰの放電遅れの測定結果である。
【符号の説明】
【０１１３】
１…プラズマディスプレイパネル
２…背面基板
３…前面基板
３１…表示電極対
３３…誘電体層
３４…保護層
３４１…薄膜ＭｇＯ層
３４２…結晶ＭｇＯ層
９００…塗工装置
９１０…塗工液タンク
９２０…液送ポンプ
９３０…三方弁
９４０…スプレーガン
Ｈ…放電空間
ＬＱ…塗工液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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