(57)【要約】【課題】透明性、機械的強度、帯電防止性能及び反射防止性能の全てに優れる反射防止積層体、及びこの反射防止積層体を用いる光学部材を提供する。【解決手段】透明樹脂基材、その上の高屈折率層、及びその上の低屈折率層を含む反射防止積層体であって、前記高屈折率層が無機微粒子を含有し、前記低屈折率層は、特定のケイ素化合物（Ａ）および／または（Ａ）とフッ素との共重合体を含む組成物から形成される、分子中に−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり、表面抵抗値が１．０×１０10Ω／□以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、かつΔＹＩが４以下であることを特徴とする反射防止積層体；並びにこの反射防止積層体を備える光学部材。この光学部材は、好ましくは液晶表示装置における反射防止機能付偏光板である。【選択図】  図１
2007038447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂基材と、
前記透明樹脂基材上に設けられた高屈折率層と、
前記高屈折率層上に設けられた低屈折率層と
を含む反射防止積層体であって、
前記高屈折率層は、無機微粒子を含有する高屈折率層形成用組成物から形成され；
前記低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり；
表面抵抗値が１．０×１０10Ω／□以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、かつΔＹＩが４以下であることを特徴とする反射防止積層体。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物。
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体。
【請求項２】
前記低屈折率層形成用組成物は、さらに架橋性化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項３】
前記低屈折率層形成用組成物は、さらに中空微粒子を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止積層体。
【請求項４】
前記無機微粒子が、平均粒径５０ｎｍ以下の５酸化アンチモンを含み、
前記高屈折率層形成用組成物中には、前記５酸化アンチモンが５０〜７０体積％含まれていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止積層体。
【請求項５】
前記高屈折率層の屈折率が１．５５以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止積層体。
【請求項６】
前記高屈折率層の膜厚が０．５〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止積層体を備える光学部材。
【請求項８】
液晶表示装置における反射防止機能付偏光板である請求項７に記載の光学部材。
【請求項９】
請求項８に記載の光学部材を備える液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明樹脂基材上に設けられた高屈折率層及び低屈折率層を含む反射防止積層体及びこれを用いる光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、パーソナルコンピューター、テレビ、携帯電話等の電子機器のディスプレイ等の透明基材として透明プラスチックが広く使用されている。この透明プラスチックは、同じ透明基材であるガラスと比較して軽量で破損し難い等の利点を有するが、硬度が低く機械的強度に劣り、静電気による塵埃付着が生じやすい。そのため、プラスチック基材表面にハードコート層や帯電防止層等を設けることが一般的に行われている。
また、パーソナルコンピューター、テレビ、携帯電話等の電子機器のディスプレイの表示部には、外部光の映りこみ、反射、ギラツキ等を抑えたり、画面を見易くする（視認性を向上させる）ために、反射防止層を設けることも行われている。
【０００３】
さらに近年においては、電子機器の軽量化、薄型化の要求に応じて、帯電防止性能と反射防止性能を兼ね備えた反射防止フィルムも開発されている。
このような反射防止フィルムとしては、例えば、特許文献１には、金属アルコキシドとコロイド状金属酸化物及び／又は金属ハライドを主成分とする高屈折率層上に、屈折率１．３６以下の非晶質フッ素樹脂からなる低屈折率層を形成し、さらにその上に、フッ素系界面活性剤を含有する有機ポリシロキサンを主成分とするコート層を積層した反射防止フィルムが記載されている。特許文献２には、アンチモン酸亜鉛等の金属酸化物微粒子を分散させたハードコート層上に、屈折率１．４前後の、フッ素含有化合物からなる低屈折率層を形成した反射防止フィルムが記載されている。また特許文献３には、アンチモンをドープした酸化錫（ＡＴＯ）、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）等の金属酸化物微粒子が分散されたアニオン性基を有するポリマーバインダーからなる帯電防止層上に、屈折率１．２０〜１．５５の低屈折率層を積層した反射防止フィルムが記載されている。
【０００４】
しかし、これらの文献に記載された反射防止フィルムは、要求される透明性、機械的強度、帯電防止性能及び反射防止性能の全てを満足するものとはいえなかった。特に、金属酸化物微粒子を添加することで帯電防止性能を付与することはできるが、基材フィルムの透明性が著しく損なわれるという問題があった。
【０００５】
一方特許文献４には、５酸化アンチモン微粒子の金属酸化物薄膜上に、含フッ素重合体からなる屈折率１．３６以下の低屈折率層を積層した反射防止層付基材が開示されている。しかしながら、この金属酸化物薄膜は十分な強度、硬度を実現できず、加工工程が複雑になる等の問題があった。また、得られる反射防止層付基材の反射防止性能についても満足できるものではなかった。
【０００６】
【特許文献１】特開平９−２８８２０２号公報
【特許文献２】特開平１１−２１１９０１号公報
【特許文献３】特開平１１−２１８６０４号公報
【特許文献４】特開平１１−７２６０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、透明性、機械的強度、帯電防止性能及び反射防止性能の全てに優れる反射防止積層体、並びにこの反射防止積層体を用いる光学部材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、透明樹脂基材上に、特定成分を含む高屈折率層と、特定成分を含む低屈折率層とを設けた反射防止積層体であって、その表面抵抗値及び色度の指数を一定値以下とし、かつ、全光線透過率を一定値以上にした反射防止積層体は、透明性、機械的強度、帯電防止性能及び反射防止性能の全ての面において満足するものであることを見出した。また、この反射防止積層体を偏光子の少なくとも一面に貼り合わせることで、透明性、帯電防止性能及び機械的強度に優れる反射防止機能付偏光板を効率よく製造できることを見出し、本発明を完成するに到った。
【０００９】
かくして、本発明の第１によれば、透明樹脂基材と、前記透明樹脂基材上に設けられた高屈折率層と、前記高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを含む反射防止積層体であって、前記高屈折率層は、無機微粒子を含有する高屈折率層形成用組成物から形成され；前記低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり、表面抵抗値が１．０×１０10Ω／□以下であり、全光線透過率が９０％以上であり、かつΔＹＩが４以下であることを特徴とする反射防止積層体が提供される。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物。
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体。
が提供される。
【００１０】
本発明の反射防止積層体においては、前記低屈折率層形成用組成物が、さらに架橋性化合物及び／又は中空微粒子を含有することが好ましい。
【００１１】
本発明の反射防止積層体においては、前記無機微粒子が、平均粒径５０ｎｍ以下の５酸化アンチモンを含み、前記高屈折率層形成用組成物中には、前記５酸化アンチモンが５０〜７０体積％含まれていることが好ましい。
【００１２】
本発明の反射防止積層体においては、前記高屈折率層の屈折率が１．５５以上であることが好ましい。
本発明の反射防止積層体においては、前記高屈折率層の膜厚が０．５〜５．０μｍであることが好ましい。
【００１３】
本発明の第２によれば、本発明の反射防止積層体を備える光学部材が提供される。
本発明の光学部材は、液晶表示装置における反射防止機能付偏光板であるのが好ましい。
本発明の第３によれば、本発明の光学部材を備える液晶表示素子が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の反射防止積層体は、透明性、機械的強度、帯電防止性能と反射防止性能の全てに優れるものであり、生産性にも優れている。
本発明の光学部材は、本発明の反射防止積層体を用いているので、優れた反射防止性能、帯電防止性能及び機械的強度を有し、生産性に優れている。
本発明の液晶表示素子は、本発明の光学部材を備えるものであり、透明性、機械的強度、視認性、帯電防止性能及び反射防止性能の全てに優れ、低コストで製造可能なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を、１）反射防止積層体、２）光学部材、及び３）液晶表示素子に項分けして詳細に説明する。
１）反射防止積層体
本発明の反射防止積層体は、透明樹脂基材に、直接又はその他の層を介して、特定成分を含む高屈折率層及び低屈折率層がこの順序に積層されてなる反射防止積層体であって、表面抵抗値が１．０×１０10Ω／□以下、全光線透過率が９０％以上であり、かつΔＹＩが４以下であることを特徴とする。
【００１６】
本発明の反射防止積層体は、基材として透明樹脂基材を用いる。前記透明樹脂基材を構成する透明樹脂は、透明性に優れる樹脂であれば特に制限されないが、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上の合成高分子からなるものが好ましく、９０％以上の合成高分子からなるものがより好ましい。
【００１７】
前記合成高分子としては、例えば、脂環式構造含有重合体、セルロース系重合体、ポリエステル系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリオレフィン系重合体、ポリビニルアルコール系重合体、ポリ塩化ビニル系重合体、ポリメタクリレート系重合体等が挙げられる。
これらの重合体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【００１８】
これらの中でも、透明性に優れ、光学的に異方性がない観点から、脂環式構造含有重合体；セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体が好ましく、透明性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体、セルローストリアセテート、ポリエチレンテレフタレートがより好ましい。
【００１９】
脂環式構造含有重合体は、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体及び側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれも用いることができる。
【００２０】
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた基材フィルムを得ることができる。
【００２１】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。
【００２２】
脂環式構造含有重合体の具体例としては、（ｉ）ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。
【００２３】
ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環（共）重合体水素化物が特に好ましい。
【００２４】
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト-２-エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ-３，７-ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８-ベンゾトリシクロ［４．３．０．１2,5］デカ-３-エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカ-３-エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２５】
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。
【００２６】
ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
【００２７】
ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数２〜２０のα-オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４-ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α-オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
【００２８】
ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
【００２９】
ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素-炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得ることができる。
【００３０】
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を１，２-付加重合又は１，４-付加重合した重合体を挙げることができる。
【００３１】
ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物；スチレン、α-メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。
【００３２】
また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。
【００３３】
前記透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは１５，０００〜２５０，０００、より好ましくは２０，０００〜２００，０００の範囲である。分子量がこのような範囲にあるときに、基材の機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【００３４】
前記透明樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にあるとき、透明樹脂基材は、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００３５】
前記透明樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．０〜６．０、より好ましくは１．１〜４．０の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、透明樹脂基材の機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。
【００３６】
本発明の反射防止積層体に用いる透明樹脂基材は、上記透明樹脂を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
【００３７】
前記透明樹脂をフィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法又は溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Ｔダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
【００３８】
フィルム状に成形する方法として、Ｔダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における溶融温度は、用いる透明樹脂のガラス転移温度よりも８０〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、１００〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと劣化する可能性がある。
【００３９】
さらに、フィルム状に成形する前に、用いる透明樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、さらに押出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。
【００４０】
用いる透明樹脂は、その飽和吸水率が０．０５％未満であるものが好ましい。飽和吸水率が０．０５％未満であるものを使用することにより、反射防止積層体形成時に水分が放出されて品質が劣化したり、生産性が低下することがない。また、長期間使用しても吸湿によりフィルムが伸縮して、積層されている層が透明樹脂基材から剥離することがない。
透明樹脂の飽和吸水率は、ＪＩＳ  Ｋ７２０９に準拠して測定することができる。
【００４１】
また本発明においては、用いる透明樹脂基材として、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を施した透明樹脂基材を使用することにより、後述する高屈折率層等との密着性を向上させることができる。
【００４２】
表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。
【００４３】
透明樹脂基材の厚みは、取り扱い容易性、加工性等から、通常１０〜１０００μｍであり、透明性及び機械的強度の観点から、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは４０〜２００μｍである。
【００４４】
本発明の反射防止積層体においては、透明樹脂基材上に、後述する高屈折率層を直接設けることもできるが、透明樹脂基材と高屈折率層との間にその他の層を介在させることができる。その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられる。
【００４５】
ハードコート層は、透明樹脂基材の表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に規定される鉛筆硬度試験で、「ＨＢ」以上の硬度を示すものを好ましく用いることができる。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系等の有機系ハードコート材料；二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料；等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
【００４６】
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、通常０．５〜３０μｍ、好ましくは３〜１５μｍである。
【００４７】
プライマー層は、透明樹脂基材と高屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。
【００４８】
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。
【００４９】
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、２種以上を混合して用い、変性することもできる。
【００５０】
プライマー層の形成方法は特に制限されず、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材フィルム上に塗工して形成する方法等が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。
【００５１】
また、前記透明樹脂基材、ハードコート層及びプライマー層を構成する材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものを好ましく用いることができ、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；染料や顔料等の着色剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等の滑剤；トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸-塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤；多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤；等が挙げられる。
【００５２】
本発明の反射防止積層体の高屈折率層は、透明樹脂基材、及びこの高屈折率層に積層する低屈折率層の屈折率に比して大きな屈折率を有する層である。
【００５３】
高屈折率層を構成する主材料としては、層全体として、透明樹脂基材、低屈折率層及び他の層に比して大きな屈折率を有する合成樹脂であれば特に制限されないが、透明性及び機械的強度に優れる観点から、熱硬化型樹脂又は活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することが好ましく、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することがより好ましい。
【００５４】
前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられ、なかでも、表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性に優れる観点から、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が好ましい。
また、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用することができる。
【００５５】
活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーが、エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。
【００５６】
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。
【００５７】
前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン系モノマー；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-２-エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル等のメタクリル酸エステル類；アクリル酸-２-（Ｎ，Ｎ-ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸-２-（Ｎ，Ｎ-ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸-２-（Ｎ，Ｎ-ジベンジルアミノ）メチル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類；アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類；エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６-ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類；トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール類；等が挙げられる。本発明においては、これら分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５８】
本発明の反射防止積層体において、高屈折率層を形成するための高屈折率層形成用組成物は必須成分として無機微粒子を含有する。無機微粒子を含有させることにより、帯電防止膜としての機能を有する高屈折率層を形成することができる。
【００５９】
無機微粒子としては、導電性を有する各種の微粒子を好ましく挙げることができ、例えば、５酸化アンチモン、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、酸化スズ、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、５酸化アンチモンの使用が好ましい。
【００６０】
無機微粒子の粒子径は、高屈折率層の透明性を低下させないために、ＢＥＴ平均粒子径として、好ましくは５０ｎｍ以下である。５０ｎｍより大きいとヘイズ（濁り度）が大きくなるため好ましくない。粒子径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視により、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。
【００６１】
無機微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂からなる高屈折率層は、前記導電性微粒子、前記プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマー、並びに適当な溶媒を含有する高屈折率層形成用組成物を、前記透明樹脂基材又は該透明樹脂基材の表面に形成されたその他の層上に塗布し、得られた塗膜に、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合は活性エネルギー線を照射することにより、熱硬化型樹脂を含有する場合は加熱することにより、形成することができる。
【００６２】
前記高屈折率層形成用組成物は、前記無機微粒子、並びに前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーを、適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。
【００６３】
用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
【００６４】
高屈折率層形成用組成物中の前記プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーの含有量は、特に制限されないが、優れた塗布適性が得られることから、前記プレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーを５重量％〜９５重量％含有するものが好ましい。
【００６５】
高屈折率層形成用組成物中の無機微粒子の含有量は、特に制限されないが、好ましくは高屈折率層形成用組成物の全固形分中の３０体積％以上、より好ましくは４０体積％〜７０体積％、さらに好ましくは５０〜７０体積％である。無機微粒子の配合量が３０体積％未満であると、得られる反射防止積層体の帯電防止性が不良となるおそれがあり好ましくない。
【００６６】
高屈折率層の特に好ましい態様として、前記無機微粒子が平均粒径５０ｎｍ以下の５酸化アンチモンを含み、前記高屈折率層中の前記５酸化アンチモンの含有量が５０〜７０体積％であるものが挙げられる。このような高屈折率層を設けることにより、帯電防止効果と透明性とが特に良好に両立した反射防止積層体とすることができる。ここで、無機微粒子の体積含有量Ｘは、例えば、高屈折率層を皮膜とした際の屈折率Ｃと、高屈折率層形成用組成物のバインダ成分の屈折率Ａと、無機微粒子の屈折率Ｂとに基づいて、
式：Ｘ=(C-A)/(B-A)の式により求めることができる。
【００６７】
また、高屈折率層形成用組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、該組成物に光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤；芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤；等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の添加量は、高屈折率層形成用組成物１００重量部に対し、通常、０．１〜１０重量部である。また、この組成物中に光増感剤としてｎ-ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ-ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００６８】
前記高屈折率層形成用組成物には、有機反応性ケイ素化合物をさらに添加することもできる。用いる有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ-ｎ-プロポキシシラン、テトラ-ｎ-ブトキシシラン、テトラ-ｓｅｃ-ブトキシシラン、テトラ-ｔｅｒｔ-ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン等の、式：Ｒ5mＳｉ（ＯＲ'）n（式中、Ｒ5は水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ'は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｍ、ｎはそれぞれ独立して、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす正整数である。）で表せる有機ケイ素化合物；
【００６９】
γ-（２-アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-（２-アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β-（３，４-エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β-メトキシエトキシ）シラン等のシランカップリング剤；
【００７０】
片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物；３-（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３-（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物；等が挙げられる。
【００７１】
高屈折率層形成用組成物には、塗膜の均一性や密着性向上等を目的として、レベリング剤や分散剤を適宜添加することができる。用いるレベリング剤としては、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられ、分散剤としては、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
【００７２】
高屈折率層形成用組成物には、防眩性を付与する目的で、防眩性を付与する粒子を添加してもよい。防眩性を付与する粒子としては、防眩層の表面に凸凹が形成されれば特に限定されない。また、防眩層の表面に有効に凸凹を形成するために平均粒径が０．５〜１０μｍであることが好ましく、１〜７μｍであることがより好ましい。
【００７３】
防眩性を付与する粒子を構成する材料としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、又はＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＩＴＯ、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、アルミノシリケート等の無機粒子が挙げられる。
【００７４】
高屈折率層形成用組成物を透明樹脂基材表面に塗工する方法は、特に制限されず、公知の塗工法が採用できる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。
【００７５】
高屈折率層形成用組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、熱硬化型樹脂を含有する場合には加熱することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合には、活性エネルギー線を照射することにより、それぞれ硬化させて高屈折率層を形成することができる。
【００７６】
加熱温度及び加熱時間、活性エネルギー線の照射強度及び照射時間等は、特に限定されず、用いる硬化型樹脂組成物の組成等に応じて硬化条件を適宜設定することができる。
【００７７】
高屈折率層の厚みは、好ましくは０．５〜５．０μｍ、さらに好ましくは１．０〜３．０μｍである。０．５μｍより薄いと層の硬度、機械的強度が不良となり、一方５．０μｍより厚いと塗布する際に厚みムラが生じ易くなり、加工性が悪くなるおそれがある。
得られる高屈折率層の屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好ましくは１．６０以上である。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
【００７８】
また、高屈折率層に含まれる無機微粒子として導電性が高い微粒子を採用することにより帯電防止性能の高い高屈折率層としうる。高屈折率層の表面抵抗値は、好ましくは１．０×１０10Ω／□以下、より好ましくは５．０×１０9Ω／□以下である。
なお、表面抵抗値は、抵抗率計を用いて測定することができる。
【００７９】
本発明の反射防止積層体の低屈折率層は、その屈折率が１.４５以下の層とすることができる。特に、隣接する高屈折率層との屈折率差が０．０５〜０．４であることが好ましい。このような低屈折率層を設けることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れ、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた液晶表示装置を得ることができる。低屈折率層の厚みは、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、３０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【００８０】
本発明の反射防止積層体の低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を有する化合物（以下、「化合物Ｘ」ということがある。）を含む硬化膜である。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ）」ということがある。）、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（Ａ１）」ということがある。）、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（Ａ２）」ということがある。）からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物（以下、「化合物（Ａ）など」ということがある。）、
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体
【００８１】
〔分子中に−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を有する化合物Ｘ〕
＜ＲaＳｉＹ4-aで表される化合物（Ａ）など＞
本化合物（Ａ）において、置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４-メチルフェニル基、１-ナフチル基、２-ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３-フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ-クロロプロピル基、３，３，３-トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ-メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ-グリシドキシプロピル基、３，４-エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ-メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３-アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００８２】
Ｙは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ1（Ｒ2））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ1）＝Ｃ（Ｒ2）Ｒ3）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2）、アミド基（−Ｎ（Ｒ1）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ2）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。
【００８３】
ＲaＳｉＹ4-aで表される化合物（Ａ）としては、ａが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。
【００８４】
ａが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ａが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。ａが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００８５】
化合物（Ａ）の分子量は特に限定されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００がより好ましい。
【００８６】
化合物（Ａ）の少なくとも１種の部分加水分解生成物（化合物（Ａ１））および化合物（Ａ）の少なくとも１種の完全加水分解生成物（化合物（Ａ２））は、化合物（Ａ）の一種またはそれ以上を、全部または部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。
【００８７】
化合物（Ａ１），（Ａ２）は、たとえば、Ｓｉ（Ｏｒ）4（ｒは１価の炭化水素基を表す）で表されるシリコンテトラアルコキシドを、モル比〔Ｈ2Ｏ〕／〔Ｏｒ〕が１以上、例えば、１〜５、好ましくは１〜３となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を攪拌することにより行うことができる。
【００８８】
化合物（Ａ）を加水分解する場合には、必要に応じて触媒を使用してもよい。使用する触媒としては、得られる部分加水分解物および／または加水分解物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
【００８９】
用いる酸触媒としては、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの触媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて使用できる。
【００９０】
また、酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基性触媒を用いてもよい。
【００９１】
化合物（Ａ１），（Ａ２）の分子量は、通常、重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。
【００９２】
＜化合物（Ａ）などとフッ素化合物の共重合体（Ｂ）＞
本共重合体（Ｂ）は、化合物（Ａ）などのケイ素原子に、フッ素原子を有する有機基が結合した構造を含む化合物である。フッ素原子を有する有機基としては、パーフルオロアルキル基が好ましい。共重合体の形成に用いることのできるフッ素化合物としては、例えば、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、３，３，３−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類；パーフロロ（アルキルビニルエーテル）類もしくはパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、パーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；その他を挙げることができる。これらの化合物は、単独で、又は２種以上を併用することができる。
【００９３】
また、フッ素化合物としては、ゾル−ゲル反応により容易に共重合体を形成できる観点から、パーフルオロアルキルアルコキシシラン等のフッ素を含有する化合物を用いることが好ましい。パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式（２）：ＣＦ3（ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＲ4）3（式中、Ｒ4は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
【００９４】
共重合体（Ｂ）を得る方法としては、たとえば、ゾル−ゲル反応によって縮合可能なアルコキシシリル基を有するパーフルオロアルキルアルコキシシランと、化合物（Ａ）などを、アルコール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）中で有機酸（たとえばシュウ酸等）やエステル類の存在下で加熱し縮重合させることにより得られる。
【００９５】
なお、これらの反応成分の比率は特に制限されないが、通常、パーフルオロアルキルアルコキシシラン１モルに対して、化合物（Ａ）などを１〜１００モル程度、さらには２〜１０モルとするのが好適である。
【００９６】
共重合体（Ｂ）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が５０００以上であるのが好ましい。
【００９７】
共重合体（Ｂ）は、水酸基および／またはエポキシ基を有することが好ましい。共重合体（Ｂ）の水酸基および／またはエポキシ基は、化合物（Ａ）などまたは共重合体（Ｂ）の−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−構造と反応して、硬化膜の皮膜強度が強くなり、耐擦傷性をさらに向上させることができる。水酸基および／またはエポキシ基は、フルオロアルキル構造に導入されていいてもよく、−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−構造に導入されていてもよい。水酸基および／またはエポキシ基はこれら官能基を有する化合物を共重合することにより導入できる。
【００９８】
本発明の硬化性樹脂組成物中の前記化合物（Ａ）などと共重合体（Ｂ）の混合割合は、当該組成物から得られる硬化膜の用途に応じて適宜に調製される。化合物（Ａ）などの割合が多くなると、共重合体（Ｂ）の割合が少なくなり、硬化膜の屈折率が上昇したり、防汚染性が低下する傾向がある。一方、化合物（Ａ）などの割合が少なくなると、硬化膜の皮膜強度が弱くなり、耐擦傷性が低下する傾向がある。これらの観点から、硬化性樹脂組成物中、化合物（Ａ）などの割合は、化合物（Ａ）などと共重合体（Ｂ）の合計に対して、通常、固形分で５〜９０重量％であるのが好ましい。より好ましくは、３０〜７５重量％である。
【００９９】
〔架橋性化合物〕
低屈折率層形成用組成物には架橋性化合物を配合することができる。架橋性化合物としては、たとえば、メラミン樹脂、グリコール類、アクリル系樹脂、アジド類、イソシアネート類などがあげられる。これらのなかでも低屈折率層形成用組成物の保存安定性から、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化メラミンまたはこれらの誘導体などのメラミン樹脂が好ましい。架橋性化合物の使用割合は、フッ素化合物（Ｂ）１００重量部に対して、７０重量部以下が好ましい。より好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは５〜３０重量部である。
【０１００】
〔中空微粒子〕
低屈折率層形成用組成物には、中空微粒子を配合することができる。添加される中空微粒子は、無機化合物の中空状微粒子である。中空微粒子は、外殻の内部に空洞が形成されたものが好ましく、シリカ系中空微粒子が特に好ましい。低屈折率層形成用組成物に、化合物Ｘと併せて中空微粒子が添加されることにより、低屈折率性に加えて耐擦傷性の向上を図ることができる。
【０１０１】
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等の一種または二種以上を挙げることができる。中空微粒子としては、（Ａ）無機酸化物単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを利用できる。
【０１０２】
中空微粒子の外殻は、細孔を有する多孔質なものであってもよく、また、細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側で密閉されたものでもよい。外殻は、内側の第１無機酸化物皮膜層および外側の第２無機酸化物皮膜層からなる複数の無機酸化物皮膜層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物皮膜層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化できるとともに、内部の空洞を密封した中空微粒子を得ることができる。特に、第２無機酸化物皮膜層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合には、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより一層低屈折率になるとともに、有機溶媒への分散性が向上し、かつ低屈折率層の防汚性付与にも効果があるため好ましい。
【０１０３】
このような含フッ素有機珪素化合物としては、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-３，３，３-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【０１０４】
外殻の厚みは、１〜５０ｎｍ、特に、５〜２０ｎｍの範囲であることが好ましい。外殻の厚みが１ｎｍ未満であると、中空微粒子が所定の粒子形状を保持できない場合がある。また、外殻の厚みが５０ｎｍを超えると、中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分になるおそれがある。さらに、外殻の厚みは、中空微粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。
【０１０５】
上述のように第１無機酸化物皮膜層および第２無機酸化物皮膜層を外殻として設ける場合には、これらの層の厚みの合計が、上記１〜５０ｎｍの範囲となるようにすればよく、特に、第２無機酸化物皮膜層の厚みは２０〜４０ｎｍの範囲が好ましい。
【０１０６】
また、空洞には、中空微粒子を調製する際に用いた溶媒や乾燥する際に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻にわずかに付着してわずかに残存することもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
【０１０７】
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒や気体が存在していてもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い中空微粒子が得られ、この中空微粒子を配合して得られる透明皮膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【０１０８】
中空微粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、５〜２０００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さくなる。２０００ｎｍより大きいと、透明性が低下し、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【０１０９】
上述のような中空微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に詳細に記載されており、ここに記載された方法等により製造できる。また、市販されている無機中空微粒子を用いてもよい。
【０１１０】
中空微粒子の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０重量％であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに奏することができる。
【０１１１】
中空微粒子は、分散液の形で用いることができる。分散液に用いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｎ-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類を挙げることができる。これらの有機溶媒は１種単独で、または２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１１２】
〔酸発生剤〕
低屈折率層形成用組成物には酸発生剤を配合することができる。酸発生剤は、低屈折率層形成用組成物中で均一に溶解し、低屈折率層形成用組成物を分解したり、硬化膜の皮膜透明性を低下させないものが好ましい。酸発生剤としては、ｐ−トルエンスルホン酸、安息香酸等の有機酸や、トリアジン系化合物等の光酸発生剤などがあげられる。酸発生剤の使用割合は、フッ素化合物（Ｂ）１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましい。より好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。
【０１１３】
低屈折率層形成用組成物は、前記各成分を好ましくは前記割合となるように混合した溶液として調製できる。低屈折率層形成用組成物には、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セリア等をアルコール溶媒に分散したゾルなどを添加しても良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適宜に配合することができる。
【０１１４】
低屈折率層形成用組成物の調製に用いられる溶媒は、各成分等を分離することなく溶解できるものを特に制限なく使用することができる。たとえば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル酢酸ブチル等のエステル類があげられる。さらに、塗工性や溶液の安定性を向上させる目的で、各成分が析出しない範囲でアルコール類等の貧溶媒を用いることもできる。
【０１１５】
溶液濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。低屈折率層形成用組成物を厚み精度よく薄膜に形成することが好ましいため、通常、０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の程度とするのが、取扱い易く好ましい。
【０１１６】
低屈折率層形成用組成物（溶液）は他の層上に塗工した後、乾燥、硬化することにより低屈折率層の硬化膜を形成することができる。塗工方法は特に制限されず、通常の方法、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、スピンコート法、刷毛塗り法フレキソ印刷法などがあげられる。
【０１１７】
硬化条件は、低屈折率層形成用組成物に応じて、加熱または活性光線照射により行うことができる。乾燥条件、硬化条件は使用する溶媒の沸点や飽和蒸気圧、基材の種類等により適宜に決定できるが、基材の着色や分解を抑えるため、加熱する場合には、通常１６０℃以下、ＵＶ照射する場合には通常２Ｊ／ｃｍ2 以下とするのが好ましい。
【０１１８】
本発明の反射防止積層体は、低屈折率層等の他の層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層等の他の層上の最上層として防汚層をさらに有していてもよい。
【０１１９】
防汚層の形成材料としては、低屈折率層等の他の層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
【０１２０】
防汚層の形成材料の具体例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。
防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下、好ましくは１〜１０ｎｍである。
【０１２１】
本発明の反射防止積層体の表面抵抗値は１．０×１０10Ω／□以下、好ましくは５．０×１０9Ω／□以下である。本発明の反射防止積層体の表面抵抗値がこのような範囲にあると、帯電防止性に優れ、塵埃等が付着しにくい。
【０１２２】
また、本発明の反射防止積層体の全光線透過率は、９０％以上である。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１-１（ＩＳＯ１３４６８-１）に従いヘイズメーターを用いて測定することができる。
【０１２３】
本発明の反射防止積層体のΔＹＩは、４以下、好ましくは２以下である。このような低いΔＹＩを有することにより、表示素子に設けられた際に表示素子の色彩を損なわずに反射防止効果を得ることができる。
【０１２４】
本発明の反射防止積層体の、波長５５０ｎｍにおける光線反射率は、通常０．７％以下、好ましくは０．５％以下である。反射防止積層体が、反射防止性能及び視認性に優れていることが確認できる。波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける光線反射率は、１．２％以下が好ましい。光線反射率は、紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定することができる。
【０１２５】
本発明の反射防止積層体は機械的強度に優れる。本発明の好ましい反射防止積層体は、スチールウールに０．０２５ＭＰａの荷重をかけた状態で、積層された低屈折率層の表面を１０往復擦る試験（スチールウール試験）後であっても、目視観察において、全く傷が認められないものである。
【０１２６】
本発明の反射防止積層体の一例の層構成を図１に示す。図１に示す反射防止積層体２０は、透明樹脂基材１０上に形成された高屈折率層１２を有し、該高屈折率層１２上に低屈折率層１４が積層された構造を有する。本発明の反射防止積層体は図１に示すものに限定されず、例えば低屈折率層１４の上にさらに高屈折率層が積層され、その上にさらに低屈折率層が積層され、２対の高屈折率層及び低屈折率層が設けられたものであってもよい。さらに、その上に高屈折率層及び低屈折率層の積層が交互に繰り返され、３対以上の高屈折率層及び低屈折率層が設けられたものであってもよい。
【０１２７】
本発明の反射防止積層体は、透明性、機械的強度に優れ、優れた帯電防止性能及び反射防止性能を有し、フラットパネルの反射防止フィルムとして有用である。より具体的には、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル（登録商標）、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイ等の各種液晶表示パネルやエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等の反射防止フィルムとして有用である。
【０１２８】
２）光学部材
本発明の光学部材は、本発明の反射防止積層体を備えることを特徴とする。
光学部材としては、タッチパネルにおける反射防止フィルム、プラズマパネルディスプレイにおけるプラズマパネルディスプレイ前面板、液晶表示装置における反射防止機能付偏光板が挙げられる。なかでも、液晶表示装置における反射防止機能付偏光板が好ましい。
【０１２９】
タッチパネルは、現在約９割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明樹脂基材の片面に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）膜等の透明導電性薄膜を積層した入力側樹脂基材と、ガラス等の透明基材の片面にＩＴＯ膜等の透明導電性薄膜を積層した受圧側透明基材とを、絶縁スペーサを介して、各透明導電性薄膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。
【０１３０】
そして、入力は、ペンや指で入力側樹脂基材の入力面（透明導電性薄膜側とは反対側の面をいう）を押圧し、入力側樹脂基材の透明導電性薄膜と、受圧側透明基材の透明導電性薄膜とを接触させて行う。
【０１３１】
本発明の反射防止積層体を前記タッチパネルの反射防止フィルムとして用いる場合には、本発明の反射防止積層体の透明樹脂基材の高屈折率層及び低屈折率層が設けられている方の一面が表面側になるように、タッチパネルの視認側最表面に設けてもよい。また、透明樹脂基材の高屈折率層及び低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、ＩＴＯ膜等の透明導電性薄膜を設けたものを、タッチパネルの入力側樹脂基材として用いてもよい。
【０１３２】
本発明の反射防止積層体をプラズマディスプレイパネルのプラズマディスプレイパネル前面板として用いる場合には、通常、透明基板の片面若しくは両面に本発明の反射防止積層体を、透明樹脂基材の高屈折率層及び低屈折率層が設けられている方の面が視認側になるように積層して用いる。
【０１３３】
透明基板としては、透明であれば特に制限されず、例えば１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上、好ましくは９０％以上のものを用いることができる。より具体的には例えば、ガラス、透明樹脂基板が挙げられる。
本発明の反射防止積層体と透明基板との積層は、接着剤や粘着材等の適宜な接着手段を用いて貼り合せることができる。接着剤又は粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性に優れる点で、アクリル系の接着剤又は粘着剤が好ましい。
【０１３４】
液晶表示装置における偏光板は、液晶セルの出射側に設けられるが、通常入射側にも設けられている。この偏光板は、一般にポリビニルアルコールからなる基材フィルムにヨウ素や有機染料等の二色性材料を染色又は吸着させたのち、一方向に延伸配向させて偏光子を作製し、この両面にトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等の保護フィルムを貼り合わせることにより、製造されている。
【０１３５】
本発明の反射防止積層体を液晶表示装置における偏光板として用いる場合には、本発明の反射防止積層体の透明樹脂基材の高屈折率層及び低屈折率層が設けられていない側の一面に偏光子を積層し、偏光子の反対側に保護フィルムを積層して用いることができる。
【０１３６】
本発明の反射防止積層体と偏光子との積層、及び偏光子と保護フィルムとの積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合せることができる。
接着剤又は粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性に優れる点で、アクリル系の接着剤又は粘着剤が好ましい。
【０１３７】
保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されないが、透明性、低複屈折性、寸法安定性の観点から、セルローストリアセテート等のセルロース系重合体、脂環式構造含有重合体が好ましく、脂環式構造含有重合体が特に好ましい。なお、保護フィルムは位相差フィルムを兼ねていてもよい。
【０１３８】
反射防止機能付偏光板の一例の層構成断面図を図２に示す。図２に示す反射防止機能付偏光板３０は、本発明の反射防止積層体２０の高屈折率層１２及び低屈折率層１４が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層１６を介して、偏光子１８が積層され、さらに接着剤又は粘着剤層１６を介して、保護フィルム１０ａが積層された構造を有している。
【０１３９】
本発明の光学部材は、本発明の反射防止積層体を用いているので、優れた反射防止性能、帯電防止性能、透過率及び機械的強度を有し、生産性に優れている。
【０１４０】
３）液晶表示素子
本発明の液晶表示素子は、本発明の反射防止積層体を用いた、反射防止機能付偏光板などの光学部材を備える。本発明の液晶表示素子の一例の層構成断面図を図３に示す。図３に示す液晶表示素子は、下から順に、偏光板４０、位相差板５０、液晶セル６０、及び本発明の反射防止積層体を用いた反射防止機能付偏光板３０からなる。反射防止機能付偏光板３０は、液晶セル６０上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、貼り合わせられている。液晶セル６０は、例えば図４に示すように、透明電極７０を備えた電極基板８０の２枚をそれぞれ透明電極７０が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶９０を封入することにより作製される。図４中、１００はシールである。
【０１４１】
液晶９０の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。
【０１４２】
また、図３に示す液晶表示素子は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
【０１４３】
液晶セルの両側に偏光板や光学部品を設ける場合、それらは同じであってもよいし、異なるものであってもよい。液晶表示装置の形成に際しては、例えば、輝度向上フィルム、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【０１４４】
本発明の液晶表示素子は、視認性に優れるものである。すなわち、表示パネルを暗表示にして、前正面より目視で観察した際、過度に輝度が高い点や面が現われて見難かったり、不快感を抱いたり、光源から直接又は間接にギラギラしたまぶしさを受けたり（グレア）、また映りこみが見えることがない。また、本発明の液晶表示素子は、設けられた反射防止積層体が透明性が高いものであるため、色味が良好である、明度が高い等の効果を有する。
【実施例】
【０１４５】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。下記実施例において、量比は特に断らない限り重量比を示す。
【０１４６】
実施例及び比較例中の試験及び評価は以下の方法で行った。
屈折率
高速分光エリプソメーター（Ｍ-２０００Ｕ、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）を用いて測定した。測定波長２４５〜１０００ｎｍ、入射角５５°、６０°、６５°で測定し、その測定値を基に算出した値を屈折率とした。
光線反射率
透明樹脂基材の、低屈折率層等が設けられていない方の面に、黒ビニールテープNo.21（日東電工社製）を貼り、紫外可視近赤外分光光度計（Ｖ-５７０、日本分光社製）を用いて測定した。入射角５°にて反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率、最大反射率を求めた。
【０１４７】
全光線透過率、ヘイズ
ヘイズメーター（ＮＤＨ−３００Ａ、日本電色工業社製）を用いて測定した。「プラスチック透明材料の全光線透過率の試験方法」ＪＩＳ  Ｋ７３６１-１（ＩＳＯ１３４６８-１）に従い測定した。
【０１４８】
視認性
市販の液晶ディスプレイの偏光板保護フィルムのうち、視認側の保護フィルムを剥がし、その代わりに、実施例１〜４及び比較例１〜６の反射防止積層体それぞれを低屈折率層が最前面になるように貼り合わせた。そして、液晶表示を白表示にして、前正面より目視で観察し、下記の通り評価した。
○：透過色が白
×：透過色が色づいて見える
【０１４９】
表面抵抗値
抵抗率計（ＭＣＰ-ＨＴ２６０、三菱化学社製）を用いて測定した。サンプルを２０℃／６０％ＲＨの雰囲気下に一昼夜放置した後に、同雰囲気下で測定した。
帯電防止効果
反射防止積層体の表面に１ｍｍ角に切った紙片をふりかけ、その付着性、及び布による拭き取り性を以下の基準で評価した。
○：紙片の付着なし、又は拭き取り性良好
×：紙片の付着あり、又は拭き取り性不良
【０１５０】
ΔＹＩ
ＡＳＴＭ  Ｅ３１３に準拠して分光式色差計（日本電色工業製、ＳＥ２０００）を用いて測定した。なお、同様の測定を５回行い、その算術平均値をΔＹＩとした。
【０１５１】
(製造例１)原反フィルムの作製
ノルボルネン系重合体（日本ゼオン(株)製、製品名：ＺＥＯＮＯＲ １４２０Ｒ、ガラス転移温度１３６℃、飽和吸水率０.０１重量％未満）のペレットを、熱風乾燥器を用いて１１０℃で４時間乾燥した。リーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた算術平均粗さＲa０.０４μｍ、リップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを備えた単軸押出機を用いて、前記ペレットを２６０℃で溶融押出して、膜厚１００μｍ、幅６００ｍｍの原反フィルム１Ａを得た。得られた原反フィルム１Ａの飽和吸水率は０.０１重量％未満であった。また、面内のレターデーションＲeは、２ｎｍであった。
【０１５２】
(製造例２−１)高屈折率層形成用組成物（塗布液H1）の調製
５酸化アンチモンのメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度40%、触媒化成（株）製）１００部に、２−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８部、トリメチロールプロパントリアクリレート２部、光開始剤２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン０．４部を混合し、ＵＶ硬化型の高屈折率層用塗布液(H1)を得た。
【０１５３】
(製造例２−２)高屈折率層形成用組成物（塗布液H2）の調製
５酸化アンチモンのメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度40%、触媒化成（株）製）２５０部に、２−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８部、トリメチロールプロパントリアクリレート２部、光開始剤２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン０．４部を混合し、ＵＶ硬化型の高屈折率層用塗布液(H2)を得た。
【０１５４】
(製造例２−３)高屈折率層形成用組成物（塗布液H3）の調製
５酸化アンチモンのメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度40%、触媒化成（株）製）４０部に、２−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８部、トリメチロールプロパントリアクリレート２部、光開始剤２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン０．４部を混合し、ＵＶ硬化型の高屈折率層用塗布液(H3)を得た。
【０１５５】
(製造例２−４)高屈折率層形成用組成物（塗布液H4）の調製
アンチモンドープ酸化スズのエチルセロソルブゾル（商品名：Ｐ−３０５５、触媒化成社製、固形分濃度２５％）１００部に、２−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート８部、トリメチロールプロパントリアクリレート２部、光開始剤２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン０．４部を混合し、ＵＶ硬化型の高屈折率層用塗布液を得た。
【０１５６】
（製造例３）低屈折率層形成用組成物L1の調製
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（TSL８２５７、GE東芝シリコーン社製）4部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより低屈折率層形成用組成物１を調製した。
次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記低屈折率層形成用組成物１に、中空微粒子の割合が固形分基準で８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。
【０１５７】
（実施例１）
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ(株)社製、製品名：ＫＣ８ＵＸ２Ｍ）の一方の面に、水酸化カリウムの１.５mol／Ｌイソプロピルアルコール溶液を２５ｍＬ／ｍ2塗布し、２５℃で５秒間乾燥した。流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることによりフィルムの表面を乾燥した。このようにして、トリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。
もう一方の面に、高周波発信機（Ｔａｍｔｅｃ社製、製品名：コロナジェネレータＨＶ０５-２）を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力が０.０５５Ｎ／ｍの両面処理基材フィルムを得た。
次に、製造例２−１で得られた高屈折率層形成用組成物の塗布液H1を、前記基材フィルムのコロナ放電処理をした面に、ダイコーターを用いて塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を形成した。次いで、紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ2）して、厚さ５μｍの高屈折率層を形成し、積層フィルム１Ａを得た。高屈折率層の屈折率は１.６２、鉛筆硬度は２Ｈであった。
上記積層フィルム１Ａの高屈折率層側に、製造例３で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ１を、ワイヤーバーコーターを用いて塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、反射防止積層体を得た。当該低屈折率層の屈折率は１．４０であった。得られた反射防止積層体の透過率、表面抵抗率、ΔＹＩ、視認性及び帯電防止性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１５８】
（実施例２）
製造例１で得られた原反フィルムの両面に、高周波発信機（Ｔａｍｔｅｃ社製、製品名：コロナジェネレータＨＶ０５-２）を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力が０.０７２Ｎ／ｍの基材フィルムを得た。
次に、製造例２−１で得られた高屈折率層形成用組成物を前記基材フィルムの片面に、ダイコーターを用いて塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を形成した。次いで、紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ2）して、厚さ５μｍの高屈折率層を形成し、積層フィルム１Ｂを得た。高屈折率層の屈折率は１.６２、鉛筆硬度はＨであった。
上記積層フィルム１Ｂの高屈折率層側に、製造例３で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ１を、ワイヤーバーコーターを用いて塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、反射防止積層体を得た。当該低屈折率層の屈折率は１．４０であった。得られた反射防止積層体の透過率、表面抵抗率、ΔＹＩ、視認性及び帯電防止性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１５９】
（比較例１）
高屈折率層形成用組成物H1に代えて、製造例２−２で得られた高屈折率層形成用組成物H２を用いて高屈折率層を形成する以外は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を得た。得られた反射防止積層体の透過率、表面抵抗率、ΔＹＩ、視認性及び帯電防止性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１６０】
（比較例２）
高屈折率層形成用組成物H1に代えて、製造例２−３で得られた高屈折率層形成用組成物H３を用いて高屈折率層を形成する以外は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を得た。得られた反射防止積層体の透過率、表面抵抗率、ΔＹＩ、視認性及び帯電防止性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１６１】
（比較例３）
高屈折率層形成用組成物H1に代えて、製造例２−４で得られた高屈折率層形成用組成物H４を用いて高屈折率層を形成する以外は、実施例１と同様に操作し、反射防止積層体を得た。得られた反射防止積層体の透過率、表面抵抗率、ΔＹＩ、視認性及び帯電防止性能を評価した。結果を表１に示す。
【０１６２】
【表１】
2007038447.tif 000003
【０１６３】
表１の結果より、本発明の反射防止積層体（実施例１〜２）は、視認性及び帯電防止性能に優れた一方、比較例１〜３の反射防止積層体は視認性に劣るか、又は帯電防止性能に劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】図１は、本発明の反射防止積層体の一例の層構成断面図である。
【図２】図２は、本発明の反射防止積層体を備えた反射防止機能付偏光板の一例の層構成断面図である。
【図３】図３は、本発明の液晶表示素子の一例の層構成断面図である。
【図４】図４は、図３に示す液晶セルの層構成断面図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１０…透明樹脂基材、１０ａ…保護フィルム、１２…高屈折率層、１４…低屈折率層、１６…接着剤層、１８…偏光子、２０…反射防止積層体、３０…反射防止機能付偏光板、４０…偏光板、５０…位相差板、６０…液晶セル、７０…透明電極、８０…電極基板、９０…液晶、１００…シール
【図１】
2007038447.tif 000004
【図２】
2007038447.tif 000005
【図３】
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【図４】
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