(57)【要約】【課題】カラーフィルタのような薄膜に存在する不良箇所を除去し、インクジェット方式で材料液滴を塗布して再構成する際に、実際に修正する場所でインクジェットヘッドの着弾位置補正を実施することで、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑え、高精度に不良箇所を修正する。【解決手段】薄膜（カラーフィルタ層２）に存在する欠陥を除去し、修正インクを塗布する薄膜の修正方法は、欠陥を有する薄膜の上にコート膜（撥液材料２０２）を形成する工程、コート膜と共に薄膜を除去する工程、除去部位に修正液を塗布する工程を有する。コート膜と共に薄膜を除去する工程の前に、修正箇所を塗布目標位置としてコート膜上に着弾位置確認用液滴３０１を吐出させ、塗布目標位置とのずれ量を計測し、計測値に基づき塗布位置を補正する。着弾位置確認用液滴３０１は、薄膜及びコート膜と共にレーザ照射３０５して除去する。【選択図】図１２
2007061695.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、
前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有することを特徴とする薄膜の修正方法。
【請求項２】
前記修正液を塗布する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする請求項１に記載の薄膜の修正方法。
【請求項３】
前記コート膜を形成する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする請求項１に記載の薄膜の修正方法。
【請求項４】
前記コート膜の可視光透過率は、９０％以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の薄膜の修正方法。
【請求項５】
前記ずれ量は、落射照明光学系を用いて計測することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の薄膜の修正方法。
【請求項６】
薄膜の上にコート膜を形成する手段と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する手段と、除去部位に修正液を塗布する手段とを有し、前記除去部位の領域に薄膜の修正箇所を含んでいる薄膜の修正装置において、
前記コート膜と共に前記薄膜を除去する前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する手段と、前記塗布目標位置と前記修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する手段と、前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した前記修正液を除去する手段とを有することを特徴とする薄膜の修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜の修正方法及び修正装置に関し、さらに詳しくは、液晶パネル等を構成する薄膜に部分的に存在する微小な欠陥を取り除き、修正液を塗布して再構成する薄膜の修正方法及び修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今、液晶パネルの品質に対する要求が高くなっており、従来であれば許容されていたパネル内に存在する数画素の欠陥についても、より減少させることが求められている。その一方で、液晶ディスプレイの高精細化、パネルの大型化が進展しており、パネルあたりの画素数は大幅に増加している。そのため、パネル基板あたりの欠陥率は一段と低く抑えることが必要となっている。
【０００３】
なかでも、液晶パネルの構成要素であるカラーフィルタは、例えば、剥がれ、異物混入等による欠陥が発生するが、このような欠陥が生じた場合、非常に明確に視認される。そのため、これらの欠陥を検出し、可能な限り修正を行うことで良品とすることが求められている。
【０００４】
このような必要性に応えるため、従来においても、特許文献１、２に開示されているように、カラーフィルタの欠陥を検出し、欠陥部位に直接、ないし欠陥部位をレーザ光にて整形し、その箇所に新たにカラーフィルタを形成する液を入れることで、カラーフィルタを再形成する方法が知られている。
【０００５】
この場合、例えば次に示すような方法あるいは手段で再形成することになる。
まず、欠陥部位をレーザ光にて整形して穴を形成する。次に、形成された穴に対して、液の滴下と、その液の溶媒の除去を繰り返して、所望の固形分量を穴内に形成する。液の滴下と溶媒の除去を繰り返すのは、液の固形分濃度が一般に比較的低く、１回の液の滴下では所望の固形分量を形成できないためである。また、溶媒の除去方法としては溶媒を蒸発させることが簡便である。
【０００６】
また、カラーフィルタの修正に関し、特許文献３〜５には複数色の着色剤を吐出可能なインクジェットヘッドを用いてカラーフィルタの欠陥を修正することが開示されている。そして特許文献４にはインクジェットヘッドにより基板上に計測液を吐出して、吐出目標位置と実際の吐出位置とのずれ量を計測して吐出位置を補正することが開示され、特許文献５には吐出部位にインクを滴下して、ずれ及び不吐の有無を確認することが開示されている。また、修正箇所に前処理用インクをコーティングし、トリミングを行った後、修正用インクを塗布することも知られている。
【特許文献１】特開平１０−２８２３２２号公報
【特許文献２】特開平１１−２７１７５２号公報
【特許文献３】特開平７−３１８７２４号公報
【特許文献４】特開平９−１０１４１０号公報
【特許文献５】特開２００５−７５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
カラーフィルタパネル等の薄膜に生じた欠陥部を修正して再構成するため、修正用の液滴を所定の箇所に塗布している。しかし、例えば修正材料を塗布する手段としてインクジェット方式の塗布手段を用いた場合、事前に着弾補正を行うメンテナンス部あるいは修正する製造基板端において、インクジェットヘッドを用いて前もって着弾確認用インクを計測液として着弾させ、正規位置とのズレがあれば、着弾位置が正規位置となるように補正している。これは、例えば、所定の観察用カメラの規定した場所（例えば、画像中心位置）を液滴着弾位置とし、実際に１滴着弾させ、実際に着弾した位置と観察カメラの規定場所（画像中心位置）との差を補正値とし、インクジェットヘッドの着弾位置を新たに補正している。
【０００８】
しかしながら、このように前もって補正した状態と実際に修正する状態とで、ガラス基板の大型化に伴うステージの精度の悪化、またクリーンルーム内の環境によりエアフローの流れの方向、風量が修正場所により異なること等の理由で、実際の修正場所でない場所で前もって算出した補正値では十分正確に補正できず、修正用インク材料の溢れ漏れが発生し修正できない場合が発生する。また、基板の修正液を滴下する位置と、実際に修正する位置が大きく離れているため、ステージ移動の誤差が入りやすく、補正を行っても十分な精度が得られない。
【０００９】
したがって、本発明は、カラーフィルタパネルのような薄膜の不良箇所にインクジェット方式でカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所でインクジェットヘッドの着弾位置補正を実施することを可能とし、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑えることができ、高精度に不良箇所の修正を実施することができる薄膜の修正方法及び修正装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の技術手段は、薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
第２の技術手段は、第１の技術手段の薄膜の修正方法において、前記修正液を塗布する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする。
【００１２】
第３の技術手段は、第１の技術手段の薄膜の修正方法において、前記コート膜を形成する工程は、インクジェットヘッドを用いて塗布することを特徴とする。
【００１３】
第４の技術手段は、第１乃至３のいずれかの技術手段の薄膜の修正方法において、前記コート膜の可視光透過率は、９０％以上であることを特徴とする。
【００１４】
第５の技術手段は、第１乃至４のいずれかの技術手段の薄膜の修正方法において、前記ずれ量は、落射照明光学系を用いて計測することを特徴とする。
【００１５】
第６の技術手段は、薄膜の上にコート膜を形成する手段と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する手段と、除去部位に修正液を塗布する手段とを有し、前記除去部位の領域に薄膜の修正箇所を含んでいる薄膜の修正装置において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する手段と、前記塗布目標位置と前記修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記修正液を塗布する位置を補正する手段と、前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した前記修正液を除去する手段とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、薄膜の修正箇所にコート膜をコーティングし、コート膜の上に着弾位置確認用として修正液からなる計測液を滴下し、目標位置とのずれ量を計測した後に、修正箇所のトリミングにて計測液、コート膜、薄膜を共に除去するので、カラーフィルタのような薄膜の不良箇所にカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所で着弾位置の補正を実施することが可能となり、前もって計測した補正場所と実際に修正する場所での補正値の相違を最小限に抑えることができるため欠陥部を有する薄膜の修正を高精度に実施することができる。
【００１７】
また、本発明によれば、薄膜及びコート膜と共に着弾位置確認用として塗布した修正液を除去するので、着弾位置確認用の修正液の跡を残さず、修正箇所で精度を測ることが可能となる。
【００１８】
また、本発明によれば、実際に修正する場所と前もって計測した着弾位置の補正場所とが同じ場所であるので、薄膜が形成された基板に計測用の領域を設ける必要がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明は、カラーフィルタのような薄膜の不良箇所に例えばインクジェット方式でカラーフィルタを形成する材料液滴を塗布する際に、実際に修正する場所で着弾位置補正を実施することを可能とし、高精度に修正を実施することができる薄膜の修正方法及び修正装置を提供することを目的とする。そのため、本発明は、薄膜の上にコート膜を形成する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程と、除去部位に修正液を塗布することにより薄膜の再形成を行う工程とを有し、前記除去部位の領域に修正箇所を含んでいる薄膜の修正方法において、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する工程の前に、前記修正箇所を塗布目標位置として前記コート膜上に着弾位置確認用として前記修正液を塗布する工程と、前記塗布目標位置と前記着弾位置確認用の修正液の塗布位置とのずれ量を計測して前記塗布位置を補正する工程と、前記コート膜と共に前記薄膜を除去する際に、前記薄膜及びコート膜と共に前記着弾位置確認用の修正液を除去する工程とを有する。
【実施例１】
【００２０】
以下、本発明の薄膜の修正方法及び修正装置について実施例に基づいて説明する。
図３は、本発明の薄膜の修正方法を適用可能なカラーフィルタパネルの構造の部分を示す図で、図３（Ａ）はカラーフィルタパネルの上面図、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のカラーフィルタパネルを用いた液晶パネルのＩ−Ｉ断面に相当する断面図である。
カラーフィルタパネルは、ガラス基板１の上に薄膜としてカラーフィルタ層２及びブラックマトリクス層３が積層され、カラーフィルタ層２、ブラックマトリクス層３の上には透明電極膜がさらに形成されるが、図３では省略している。さらに、液晶層４、ＴＦＴ層５が積層されて液晶パネル１０が形成される。なお、カラーフィルタ層２に欠陥が存在する場合の修正作業は透明電極膜が形成される前に行われるのが好ましいが、透明電極膜形成後に行っても良い。
【００２１】
図１は、実施例１による薄膜の修正方法を実施する薄膜の修正装置の実施形態を示す図である。図１において、３軸Ｘ、Ｙ、Ｚを図示のように定める。
実施例１による薄膜の修正方法及び修正装置は、その修正対象がカラーフィルタパネルであって、Ｘ軸方向に移動するＸ軸移動ステージ３２とＹ軸方向に移動するＹ軸移動ステージ３３を備え、本発明の薄膜の修正方法によって修正されるカラーフィルタパネル６は、Ｙ軸方向ステージ３３上の吸着ステージに載置されている。Ｘ軸方向に移動するＸ軸移動ステージ３２には、欠陥位置を観察する顕微鏡２４、レーザ光照射装置２５、インクジェットヘッド２６を搭載し、それぞれ独立ないしは同時にＸ軸方向に移動することができる。
【００２２】
図２は、薄膜の修正装置において、顕微鏡、レーザ光照射装置、インクジェットヘッドの位置関係を示す平面図である。
図２において、１０１は顕微鏡の観察視野領域、１０２は観察用基準位置を示すマーカで、本実施例１では顕微鏡視野の中心とする。なお、１０２は本実施例１では顕微鏡視野中心としたが、視野内の適当な位置でもかまわない。２６はインクジェットヘッドであり、１０３〜１０６はそれぞれノズルを示し、１０４は赤インク材料を塗布するＲインク用ノズル、１０５は緑インク材料を塗布するＧインク用ノズル、１０６は青インク材料を塗布するＢインク用ノズルを示している。１０３は後述する撥液材料を塗布する撥液用ノズルを示している。
【００２３】
顕微鏡視野中心１０２をステージ移動座標の原点とすると、図１で示したＸ−Ｙ座標でそれぞれのノズル位置座標（Ｘ、Ｙ）は
撥液用ノズル１０３………（Ｘｈ、Ｙｃ）
Ｒインク用ノズル１０４…（Ｘｈ、Ｙｒ）
Ｇインク用ノズル１０５…（Ｘｈ、Ｙｇ）
Ｂインク用ノズル１０６…（Ｘｈ、Ｙｂ）
となる。本実施例１では１０３〜１０６のそれぞれのノズル位置座標はＸ軸上Ｘｈで同値としたが、それぞれ別の値でもかまわない。
【００２４】
次に、実施例１の薄膜の修正方法で行う着弾補正の方法及び修正プロセスについて説明する。
図４は、実施例１の薄膜の修正方法で用いられる修正装置のシステムブロック図であり、図５は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスフロー図である。なお、図５の（Ａ）欄にステージ座標、（Ｂ）欄に後述するプロセス状態を示す図番（図６〜１４）を記載している。
【００２５】
図５に示すプロセスフロー図において、プロセス開始時の「開始」（ステップ１）ではステージ座標は任意の位置で、このときのプロセス状態は、図５（Ｂ）欄に示すように、図６に示すようなものである。
図６は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第１の図で、修正欠陥を含むカラーフィルタ基板を示し、図６（Ａ）は平面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）のII−II断面図である。
図６（Ａ）に示すカラーフィルタ基板は、列方向にＲ，Ｇ，Ｂの３列の絵素を、行方向に５００−０〜５００−２の３行の絵素を示している。ここで、行列（５００−１，Ｇ）に欠陥２０１があり、欠陥２０１を含む断面II−IIを図６（Ｂ）に示している。なお、１はガラス基板、２はカラーフィルタ層、３はブラックマトリクス層である。
【００２６】
図５に示すプロセスフロー図における「欠陥修正位置移動工程」（ステップ２）では、カラーフィルタ基板の製造工程における上流工程の欠陥検査装置等の検査データを基に、例えば欠陥位置を［Ｘ，Ｙ］とした場合、顕微鏡視野内１０１にステージを移動する。
なお、［Ｘ，Ｙ］はガラス基板等の絶対座標を示し、後述する（ｘ、ｙ）はある座標を原点とする相対座標を示すこととし、「欠陥修正位置移動工程」（ステップ２）のステージ座標を、図５（Ａ）欄に示すように相対位置座標（０，０）とする。
【００２７】
次に、「撥液材料塗布位置確認工程」（ステップ３）では、次々工程（ステップ５）で撥液材料塗布する際の位置決めを行なう。このときのプロセス図の詳細を図７に基づいて説明する。
図７は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第２の図で、修正欠陥を顕微鏡視野で観察した様子を示し、図７（Ａ）は平面図、図７（Ｂ）は図７（Ａ）のII−II断面図である。
図７（Ａ）では欠陥部２０１を顕微鏡２４の顕微鏡視野１０１で観察し、顕微鏡視野中心１０２と欠陥部２０１とを一致させ、このときのステージ座標を（０，０）とする。
【００２８】
次に、「ステージ移動工程」（ステップ４）では、欠陥部２０１に撥液材料を塗布すべく、図２に示す撥液用ノズル１０３の位置になるよう欠陥部２０１を移動させる。このときのステージ移動は、顕微鏡視野中心１０２と撥液用ノズルの１０３位置の関係で、顕微鏡視野中心１０２から撥液用ノズル１０３へ移動させる際には、顕微鏡視野中心１０２を座標原点（０、０）として、ベクトル（（０、０）−（Ｘｈ、Ｙｃ））、すなわちベクトル（−Ｘｈ、−Ｙｃ）に移動することとなる。本実施例１では図１で説明したようにＹ軸はＹ軸移動ステージ３３側が移動し、Ｘ軸方向は顕微鏡２４、レーザ光照射装置２５、インクジェットヘッド２６が移動する。
【００２９】
次に、「撥液材料塗布工程」（ステップ５）では、ステージを（−Ｘｈ、−Ｙｃ）移動後、図２に示す撥液用ノズル１０３より撥液材料を塗布する。このときのプロセス図の詳細を図８に基づいて説明する。
図８は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第３の図で、修正欠陥に撥液材料を塗布した状態を示す図で、図８（Ａ）は平面図、図８（Ｂ）は図８（Ａ）のII−II断面図である。
塗布した撥液材料２０２は図８（Ａ）（Ｂ）に示すように画素上に広がる。撥液材料とカラーフィルタの濡れ性により異なるが、薄く広く広がる撥液材料が良い。
【００３０】
次に、「ステージ移動工程」（ステップ６）では、後続の工程（ステップ９）で修正材料の着弾位置を確認するため、顕微鏡視野中心１０２位置、即ち装置位置座標（０，０）に欠陥部２０１を移動する。
【００３１】
図９は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第４の図で、塗布した撥液材料を顕微鏡視野で観察した状態を示し、図９（Ａ）は平面図、図９（Ｂ）は図９（Ａ）のII−II断面図である。
「修正材料塗布位置確認工程」（ステップ７）では、欠陥部２０１を装置位置座標（０，０）に移動した結果、顕微鏡視野中心１０２が欠陥部２０１中心となり、図９に示したように顕微鏡視野１０１で塗布状態を確認する。なお、「ステージ移動工程」（ステップ６）、「修正材料塗布位置確認工程」（ステップ７）は、あくまで確認のためであるから、実施しなくても良い。
【００３２】
次に、「ステージ移動工程」（ステップ８）では、インクジェット着弾位置確認用の塗布を行うため、欠陥部２０１が図２に示すＧインク用ノズル１０５位置になるように移動させる。このときステージ移動は、顕微鏡視野中心１０２とＧインク用ノズル１０５の関係で、顕微鏡視野中心１０２からＧインク用ノズル１０５へ移動させる際には、顕微鏡視野中心１０２を座標原点（０、０）として、ベクトル（（０、０）−（Ｘｈ、Ｙｇ））、すなわちベクトル（−Ｘｈ、−Ｙｇ）に移動すればよい。また逆に、Ｇインク用ノズル１０５（Ｘｈ、Ｙｇ）から顕微鏡視野中心１０２に移動するにはベクトル（Ｘｈ、Ｙｇ）に移動すればよい。なお、座標の正負は、Ｘ，Ｙ軸を図表座標軸とし各象限に準ずる。
実施例１の修正方法では、欠陥部２０１が図６に示すようにＧ列にあるため、Ｇノズルで緑材料を用い修正する。
【００３３】
次に、「インクジェット着弾確認用塗布工程」（ステップ９）では、インクジェット着弾位置確認用の塗布を行うＧインク用ノズル１０５の位置に欠陥部２０１を移動後、Ｇインク用ノズル１０５にてＧインク材料液滴を塗布する。
図１０は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第５の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布した状態を示し、図１０（Ａ）は平面図、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）のIII−III断面図である。
図１０（Ａ）（Ｂ）に示す（第１の）着弾確認用液滴３０１が、Ｇインク用ノズル１０５にてＧインク材料を塗布した液滴である。撥液材料２０２の上に着弾した着弾確認用液滴３０１は撥液材料２０２の撥水作用により広がらず留まる。
【００３４】
次に、「ステージ移動工程」（ステップ１０）では、次工程（ステップ１１）の補正値計測を行うため、相対位置座標（０，０）に移動する。
「画像取り込み補正値計測［Ｘａ、Ｙａ］工程」（ステップ１１）では、以下の計測を行う。その詳細を図１１で説明する。
図１１は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第６の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の状態を示す。
顕微鏡視野１０１にて着弾確認用液滴３０１を画像として取り込む。本来着弾するのは顕微鏡視野中心１０２を狙っているため、この顕微鏡視野中心１０２と実際に着弾した第１の着弾確認用液滴３０１との距離を計測する。Ｘ，Ｙ軸のそれぞれを計測し、補正値［Ｘａ、Ｙａ］を算出する。
【００３５】
次に、「レーザ加工工程」（ステップ１２）では、補正値［Ｘａ、Ｙａ］を求めた後、修正すべき画素をレーザ照射し加工する。加工状態を図１２に基づいて説明する。
図１２は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第７の図で、欠陥部をレーザで加工する際の状態を示し、図１２（Ａ）は平面図、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）のIII−III断面図である。
図１２（Ｂ）に示すようにレーザ照射３０５を行い、修正箇所に穴をあけ、着弾確認用液滴３０１、撥液材料２０２、カラーフィルタ層２と共に除去する。なお、レーザ照射の面積は加工条件で定まるため、加工の大きさにより複数回に亘り実施する場合もある。
【００３６】
図１３は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第８の図で、欠陥部をレーザで加工した状態を示し、図１３（Ａ）は平面図、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）のII−II断面図である。
図１３（Ｂ）に示すレーザ加工部３０６は、先の加工により欠陥部２０１、緑の画素（Ｇ、５００−１）、及びそれらの上に塗布された撥液材料２０２を取り除くようレーザ加工する。
【００３７】
次に、「ステージ移動工程」（ステップ１３）では、次工程（ステップ１４）においてインクジェット塗布修正するため、Ｇインク用ノズル１０５の位置になるよう緑の画素（Ｇ、５００−１）中心を移動させる。このときステージ移動は、本実施例１の顕微鏡視野中心１０２とＧインク用ノズル１０５の関係では、ベクトル（−Ｘｈ、−Ｙｇ）に移動、及び先の図４における「画像取り込み補正値計例［Ｘａ、Ｙａ］工程」（ステップ１１）で求めた補正値  ［Ｘａ、Ｙａ］を加味し、ベクトル（−（Ｘｈ＋Ｘａ）、−（Ｙｇ＋Ｙａ））移動する。
【００３８】
次に、「インクジェット修正材料塗布工程」（ステップ１４）では、図２に示すＧインク用ノズル１０５にてＧインク材料液滴を塗布する。
図１４は、実施例１の薄膜の修正方法のプロセスを示す第９の図で、修正を完了した状態を示し、図１４（Ａ）は平面図、図１４（Ｂ）は図１４（Ａ）のII−II断面図である。
図１４（Ｂ）に示すように先のレーザ加工部に修正材料を塗布し、修正インク塗布箇所２１０を形成する。上記補正値［Ｘａ、Ｙａ］を加味することで、緑の画素（Ｇ、５００−１）の中心に塗布することができ、同画素の全体に修正材料が行きわたり、良好な修正ができる。
次に、図５に示すフロー図における「終了」（ステップ１５）で以上のフローを完了する。
【００３９】
次に、実施例１の薄膜の修正方法を実施するための修正装置について説明する。
実施例１の薄膜の修正装置は、図４に示すように、ＣＰＵ２０によって制御及び管理される。６は修正するカラーフィルタパネルであり、Ｙ軸移動ステージ３３上の吸着ステージ３４に載せられている。２４は欠陥位置を観察する顕微鏡、２５はレーザ光照射装置、２６はインクジェットヘッドである。これらは既に図２で説明したものと同じである。
【００４０】
図４において、ヘッド駆動回路２１は、インクジェットヘッド２６を駆動する回路であり、装置全体を制御するＣＰＵ２０で制御される。レーザ駆動回路２２はレーザ光照射装置２５を駆動する回路で、同じく装置全体を制御するＣＰＵ２０で制御される。画像取り込み／補正計測２３は顕微鏡２４に接続され顕微鏡視野の画像を取り込み、図５に示すプロセスフロー図における「画像取り込み補正値計測［Ｘａ、Ｙａ］工程」（ステップ１１）を行うブロックであり、装置全体を制御するＣＰＵ２０で制御される。ステージ移動データメモリ２７は、予めインクジェットヘッドの各ノズル１０３〜１０６と顕微鏡視野中心１０２との距離（Ｘｈ，Ｙｃ），（Ｘｈ，Ｙｒ），（Ｘｈ，Ｙｇ），（Ｘｈ，Ｙｂ）の値を保存しているメモリである。これは設計値でも初期に計測した値でも良い。
【００４１】
次に、ステージ移動補正データ２８は、実施例１の修正方法で求めた補正データである。加算器２９により予め保存していたインクジェットヘッドの各ノズル１０３〜１０６と顕微鏡視野中心１０２との距離（Ｘｈ，Ｙｃ），（Ｘｈ，Ｙｒ），（Ｘｈ，Ｙｇ），（Ｘｈ，Ｙｂ）と本発明の方法で求めた補正値を加算する。これらのステージ移動指令に基づきＸ軸駆動回路３０でＸ軸移動ステージ３２を、Ｙ軸駆動回路３１でＹ軸方向ステージ３３を移動させる。
【００４２】
補正値計測には「インクジェット着弾確認用塗布工程」（ステップ９）において、インクジェット修正材料を一滴塗布し、以降の計測を行ったが複数滴塗布し計測することでも良い。
図１５は、着弾位置計測のために着弾確認用液滴吐付したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の第２の方法を示す図である。
図５に示す修正方法のプロセスフロー図と対比すると、先の図１２と同じ工程である。図１２では（第１の）着弾確認用液滴３０１一滴で補正値を計測したが、図１５では第２の着弾確認用液滴３０２、第３の着弾確認用液滴３０３、第４の着弾確認用液滴３０４の計３滴塗布し、それぞれ位置を計測し、第２の着弾確認用液滴３０２の座標は（Ｘ２，Ｙ２），第３の着弾確認用液滴３０３の座標は（Ｘ３，Ｙ３），第４の着弾確認用液滴３０４の座標は（Ｘ４，Ｙ４）を得た。この場合、補正値は３点の平均でもよいし、３点の要因により各点の補正値に重みを付加し算出しても良い。
【００４３】
以上の補正値を求める修正方法として、インクジェットによる方法で説明したが、観察用軸（実施例１では顕微鏡を用い、顕微鏡視野１０１及び顕微鏡視野中心１０２で説明した）と修正する際の軸（実施例１では、Ｒ用インクノズル１０４、Ｇ用インクノズル１０５及びＢ用インクノズル１０６）に所定のオフセットがある他の修正方法でも使用できる。
【００４４】
撥液材料２０２は透過性の高い材料とすることで、実施例１の修正方法のように修正対象がカラーフィルタの場合、カラーフィルタの特性を損なわない。
【００４５】
図５に示すプロセスフロー図における「画像取り込み補正値計測［Ｘａ、Ｙａ］工程」（ステップ１１）及び図１１で（第１の）着弾確認用液滴３０１を撮像し計測する際には、ガラス基板１の裏面（図１１（Ｂ）では下側）から照明を行う透過照明による方法と、ガラス基板表面顕微鏡上部から行う落射照明の方法がある。液滴計測の際には液適量が微量であるため、カラーフィルタ修正の場合、カラーフィルタ液滴の色の認識がしにくい場合がある。落射照明では表面凹凸が比較的分かりやすいため、微少量の液滴を計測する際に有効である。なお、落射照明には、顕微鏡内部に光路を備える同軸落射方式、顕微鏡外部にリング照明等を用いる落射照明方法があるが、光量が得れればどちらでも良い。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明による薄膜の修正方法を実施する薄膜の修正装置の実施形態を示す図である。
【図２】本発明による薄膜の修正装置において、顕微鏡、レーザ光照射装置、インクジェットヘッドの位置関係を示す平面図である。
【図３】本発明による薄膜の修正方法を適用可能なカラーフィルタパネルの構造の部分を示す図である。
【図４】本発明による薄膜の修正方法で用いられる修正装置のシステムブロック図である。
【図５】本発明による薄膜の修正方法のプロセスフロー図である。
【図６】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第１の図で、修正欠陥を含むカラーフィルタ基板を示し、図６（Ａ）は平面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）のII−II断面図である。
【図７】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第２の図で、修正欠陥を顕微鏡視野で観察した様子を示し、図７（Ａ）は平面図、図７（Ｂ）は図７（Ａ）のII−II断面図である。
【図８】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第３の図で、修正欠陥に撥液材料を塗布した状態を示す図で、図８（Ａ）は平面図、図８（Ｂ）は図８（Ａ）のII−II断面図である。
【図９】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第４の図で、塗布した撥液材料を顕微鏡視野で観察した状態を示し、図９（Ａ）は平面図、図９（Ｂ）は図９（Ａ）のII−II断面図である。
【図１０】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第５の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布した状態を示し、図１０（Ａ）は平面図、図１０（Ｂ）は図１０（Ａ）のIII−III断面図である。
【図１１】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第６の図で、着弾位置計測のために着弾確認用液滴を塗布したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の状態を示す。
【図１２】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第７の図で、欠陥部をレーザで加工する際の状態を示し、図１２（Ａ）は平面図、図１２（Ｂ）は図１２（Ａ）のIII−III断面図である。
【図１３】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第８の図で、欠陥部をレーザで加工した状態を示し、図１３（Ａ）は平面図、図１３（Ｂ）は図１３（Ａ）のII−II断面図である。
【図１４】本発明による薄膜の修正方法のプロセスを示す第９の図で、修正を完了した状態を示し、図１４（Ａ）は平面図、図１４（Ｂ）は図１４（Ａ）のII−II断面図である。
【図１５】本発明による薄膜の修正方法において、着弾位置計測のために着弾確認用液滴吐付したものを顕微鏡視野で観察し、補正値を計測する際の第２の方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…ガラス基板、２…カラーフィルタ層、３…ブラックマトリクス層、４…液晶層、５…ＴＦＴ層、６…カラーフィルタパネル、１０…液晶パネル、２０…ＣＰＵ、２１…ヘッド駆動回路、２２…レーザ駆動回路、２３…画像取り込み／補正計測、２４…顕微鏡、２５…レーザ光照射装置、２６…インクジェットヘッド、２７…ステージ移動データメモリ、２８…ステージ移動補正データ、２９…加算器、３０…Ｘ軸駆動回路、３１…Ｙ軸駆動回路、３２…Ｘ軸移動ステージ、３３…Ｙ軸移動ステージ、３４…吸着ステージ、１０１…顕微鏡視野、１０２…顕微鏡視野中心、１０３…撥液用ノズル、１０４…Ｒインク用ノズル、１０５…Ｇインク用ノズル、１０６…Ｂインク用ノズル、２０１…欠陥部、２０２…撥液材料、２１０…修正インク塗布箇所、３０１…（第１の）着弾確認用液滴、３０２…第２の着弾確認用液滴、３０３…第３の着弾確認用液滴、３０４…第４の着弾確認用液滴４、３０５…レーザ照射、３０６…レーザ加工部、５００…カラーフィルタ列。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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