(57)【要約】【課題】設計が容易で、且つ、除害剤の有効利用を図り得る除害装置を提供する。【解決手段】排ガス２０中の有害物資を除害剤２によって除去する除害装置であって、除害剤２が充填される容器１を備え、容器１の除害剤２が充填される部分（除害剤充填部７）の壁面に、壁面に沿って流れる排ガス２０を、壁面から離れる方向へと流す整流部材３ａ〜３ｅが設けられた除害装置を用いる。容器１は縦置き可能な柱状に形成されているのが好ましく、除害剤２は、容器１が縦置きされたときに、容器１内部の天井面側と底面側とに空間８及び９が形成されるように充填されるのが好ましい。このとき、排ガス２０は、除害剤充填部７において、天井面側から底面側へと、又は底面側から天井面側へと流すのが好ましい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガス中に含まれる有害物質を除害剤によって除去する除害装置であって、
前記除害剤が充填される容器を備え、
前記容器の前記除害剤が充填される部分の壁面に、前記壁面に沿って流れる前記排ガスを、前記壁面から離れる方向へと流す整流部材が設けられていることを特徴とする除害装置。
【請求項２】
前記容器が縦置き可能な柱状に形成されており、
前記除害剤が、前記容器が縦置きされたときに、前記容器内部の天井面側と底面側とに空間が形成されるように、前記容器の内部に充填され、
前記排ガスが、前記除害剤が充填される部分において、前記天井面側から前記底面側へと、または前記底面側から前記天井面側へと流される請求項１に記載の除害装置。
【請求項３】
前記整流部材が、前記容器の内周に沿って形成された板材であり、前記容器の中心軸に垂直に配置されている請求項２に記載の除害装置。
【請求項４】
前記容器に二種類以上の除害剤が充填される請求項１から３のいずれかに記載の除害装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，半導体製造装置等から排出される排ガス中の有害物質を除去する除害装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示パネルの製造工程で用いられる半導体製造装置、例えば、プラズマエッチング装置やＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置等には、三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）、塩素（Ｃｌ2）、塩化水素（ＨＣｌ）の無機ハロゲン化合物ガスや、各種ＰＦＣガス、モノシラン（ＳｉＨ4）、ジシラン（Ｓｉ2Ｈ6）、ジボラン（Ｂ2Ｈ6）、ジクロロシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）といった特殊材料ガスが供給される。また、これらの装置からは、未反応の特殊材料ガスや副生成物である無機ハロゲン化合物ガスが排出される。そして、排ガス中には有害物質が含まれるため、除害装置によって有害物質の除去が行なわれる。
【０００３】
一般的に、除害装置は、排出されるガスの種類に応じた除害剤（薬剤）が充填された除害塔（処理筒）を備えている（例えば、特許文献１及び２参照）。図５及び図６を用いて従来からの除害装置について説明する。図５は、従来からの除害装置の一例を示す断面図である。図６は、従来からの除害装置の他の例を示す断面図である。
【０００４】
図５に示す除害装置は、縦置きされた円筒状の容器５１の内部に、除害剤５２を充填して構成されている（例えば、特許文献１参照。）。除害剤５２は、ペレット状の薬剤の集合体である。また、容器５１は、除害塔を構成しており、容器５１の内部の天井面側には仕切り板５３ａが配置され、底面側には仕切り板５３ｂが配置されている。仕切り板５３ａ及び５３ｂそれぞれには、複数の通気孔５４が形成されている。除害剤５２は仕切り板５３ａと仕切り板５３ｂとで囲まれた空間に充填されている。
【０００５】
また、容器５１には、半導体製造装置（図示せず）から排出された排ガス６０を導入するための導入ノズル５７と、有害物質が除去されたガス７０を排出するための排出ノズル５８とが設けられている。導入ノズル５７は、仕切り板５３ａと容器５１内部の天井面とで仕切られた空間５５に連通している。排出ノズル５８は、仕切り板５３ｂと容器５１内部の底面とで仕切られた空間５６に連通している。図５に示す除害装置では、半導体製造装置から排出された排ガス６０は、容器５１の除害剤５２が充填された部分において、上から下へと流れ、それによって排ガス６０中の有害物質の除去が行なわれる。
【０００６】
また、図６に示す除害装置も、円筒状の容器６１の内部にペレット状の除害剤６２を充填して構成されている（例えば、特許文献２参照。）。但し、図６の例では、容器６１は横置きされている。また、容器６１の内部は、仕切り板６３ａ〜６３ｅによって複数個の小室６５ａ〜６５ｆに区切られており、両端の二つの小室６５ａ及び６５ｆを除く、小室６５ｂ〜６５ｅそれぞれに除害剤６２が充填されている。
【０００７】
また、仕切り板６３ａ〜６３ｅそれぞれには、通気孔６４が設けられているが、仕切り板６３ａ〜６３ｅそれぞれの通気孔６４は、容器６１の中心軸（縦軸）方向において互いに重ならないように配置されている。更に、小室６５ａと連通するように導入ノズル６６が設けられ、小室６５ｆと連通するように排出ノズル６７が設けられている。
【０００８】
このような構成により、図６に示す除害装置では、図６の矢印に示すように、導入ノズル６６から導入された排ガス６０は、容器６１の内部を蛇行しながら流れ、排出ノズル６７から排出される。図６に示す除害装置によれば、図５に示す除害装置に比べて、排ガス６０の滞留時間を延ばすことができ、排ガス６０と除害剤６２との接触時間が延びるため、除害剤６２の処理効率が向上すると考えられる。
【０００９】
また、図５に示した除害装置や図６に示した除害装置で使用される除害剤としては、除害対象となるガス種に応じた化学的吸着作用又は物理的吸着作用を有したものが使用される。例えば、無機ハロゲン化合物を対象とする除害剤としては、酸化鉄系除害剤、酸化マンガン系除害剤、更には、金属酸化物（例えば、ＣｕＯやＺｎＯ）を担持させた活性炭や、単なる活性炭などが知られている（例えば、特許文献３参照。）。また、一つの除害装置には、一種類の除害剤のみが充填される場合や、二種類以上の除害剤が充填される場合もある。
【特許文献１】特開２００３−８００２３号公報
【特許文献２】特開２００３−１３５９２５号公報
【特許文献３】特開平６−３１９９４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記図５に示した除害装置においては、導入ノズル５７から導入された排ガス６０は、容器５１の中央付近よりも容器５１の壁面付近の方に流れやすく、よって除害剤５２の消費がガスの流れ方向に対して均一に進行せず、容器５１の壁面付近の除害剤５２の消費が先行してしまう。また、通常、除害装置においては、排出ノズル５８から排出されたガス７０中に含まれる有害物質の濃度が基準値に達した場合を、除害剤５２の交換時期としている。よって、壁面付近の除害剤の消費が先行すると、容器５１内部の中央部分に充填されている除害剤５２が未消費であっても除害剤５２全体の交換時期とされてしまう。このため、上記図５に示した除害装置においては、除害剤５２を有効に利用できないという問題がある。
【００１１】
また、上記図６に示した除害装置においては、排ガスを蛇行させる必要があるため、小室間をつなぐ通気孔６４の径を適切な大きさに設定するのが難しく、設定が適切でないと種々の問題が発生してしまう。具体的には、通気孔６４の径が適切な値よりも小さく設定されると、ガス圧に圧損が生じ、除害装置に排ガス６０を供給するドライポンプ（図示せず）が故障するという問題が発生する。また、通気孔６４の径が適切な値よりも大きく設定されると、排ガス６０の流れに偏りが生じ、上記図５に示した除害装置と同様に、除害剤６２を有効に利用できないという問題が生じてしまう。
【００１２】
本発明の目的は、上記問題を解消し、設計が容易で、且つ、除害剤の有効利用を図り得る除害装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために本発明における除害装置は、排ガス中に含まれる有害物質を除害剤によって除去する除害装置であって、前記除害剤が充填される容器を備え、前記容器の前記除害剤が充填される部分の壁面に、前記壁面に沿って流れる前記排ガスを、前記壁面から離れる方向へと流す整流部材が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
以上の特徴により、本発明における除害装置によれば、容器の壁面に沿って流れる排ガスが、容器の中央部分へと向かうため、除害剤の消費が不均一となるのを抑制でき、従来に比べて除害剤を有効に利用できる。また、本発明における除害装置は、構成が簡単なため、設計も容易である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明における除害装置は、本発明における除害装置は、排ガス中に含まれる有害物質を除害剤によって除去する除害装置であって、前記除害剤が充填される容器を備え、前記容器の前記除害剤が充填される部分の壁面に、前記壁面に沿って流れる前記排ガスを、前記壁面から離れる方向へと流す整流部材が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
また、上記本発明における除害装置は、前記容器が縦置き可能な柱状に形成されており、前記除害剤が、前記容器が縦置きされたときに、前記容器内部の天井面側と底面側とに空間が形成されるように、前記容器の内部に充填され、前記排ガスが、前記除害剤が充填される部分において、前記天井面側から前記底面側へと、または前記底面側から前記天井面側へと流される態様とするのが好ましい。
【００１７】
上記態様によれば、除害剤への排ガスの導入を効率良く行なうことができ、また、除害剤からの排ガスの排出も効率良く行なうことができるため、除害剤の有効利用をよりいっそう図ることができる。
【００１８】
また、上記本発明における除害装置においては、前記整流部材は、前記容器の内周に沿って形成された板材であり、前記容器の縦軸に垂直に配置されているのが好ましい。この場合は、壁面に沿って流れる排ガスを確実に壁面から離すことができる。更に、上記本発明における除害装置においては、前記容器に二種類以上の除害剤を充填することもできる。
【００１９】
（実施の形態１）
以下、本発明の実施の形態１における除害装置について、図１〜図３を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施の形態１における除害装置の概略構成を示す断面図である。図２は、図１に示す除害装置に用いられる整流部材の一例を示す平面図であり、図２（ａ）は整流部材が一体的に構成された例を示し、図２（ｂ）は整流部材が分割可能に構成された例を示している。図３は、図１に示す除害装置に用いられる仕切り板の一例を示す平面図である。
【００２０】
図１に示すように、除害装置は、プラズマエッチング装置やＣＶＤ装置に代表される半導体製造装置（図示せず）から排出された排ガス２０中の有害物質を、除害剤２によって除去する装置である。除害装置は、除害剤２が充填される容器１を備えている。また、容器１において除害剤２が充填される部分（除害剤充填部）７の壁面には、壁面に沿って流れる排ガスを壁面から離れる方向へと流すために、整流部材３ａ〜３ｄが設けられている。３０は除害剤２によって有害物質が除去されたガスを示している。
【００２１】
容器１は、除害装置において、いわゆる除害塔と呼ばれる部分である。除害装置は、実際には除害塔（容器１）以外にも各種ポンプやガス濃度検出装置等を備えているが、図１においては、これらの図示を省略している。本実施の形態１では、容器１は、四角柱状に形成され、縦置きされている。
【００２２】
本実施の形態１において、除害剤２は、ペレット状の薬剤の集合体である。除害剤２は、容器１が縦置きされたときに、容器１の内部の天井面側と底面側とに、それぞれ空間８及び９が形成されるように、容器１の内部に充填されている。具体的には、容器１の内部には、仕切り板５が配置されており、除害剤２は、仕切り板５の上に充填されている。図１の例では、仕切り板５は、容器１の壁面に、容器１の内周に沿って連続的に形成されたリブ４ｅの上に載置されている。
【００２３】
また、図１及び図３に示すように、仕切り板５は、複数の通気孔６が形成された、いわゆるパンチングプレートである。通気孔６の内径は、除害剤２を構成する薬剤粒子が通気孔６から零れ落ちないように設定されている。除害剤２の充填量は、容器１の天井面側に空間８が確保されるように調整されている。本実施の形態１においては、仕切り板５の上面から充填された除害剤２の上面までが、除害剤充填部７となる。
【００２４】
更に、図１に示すように、排ガス２０は、除害剤充填部７において、容器１の天井面側から底面側へと（上から下へと）流される。具体的には、天井面側の空間８と連通するように導入ノズル１０が設けられ、底面側の空間９と連通するように排出ノズル１１が設けられている。導入ノズル１０は、半導体製造装置で生成された排ガスを排出するドライポンプ（図示せず）に、それとの間に配置されたフィルター装置（図示せず）を介して接続されている。なお、導入ノズル１０は、フィルター装置を介さず、ドライポンプに直接接続される場合もある。また、排出ノズル１１は、他の除害装置や、有害物質が除去されたガスを屋外に排出するための排気ダクト等に接続されている。
【００２５】
また、本実施の形態１においては、図１及び図２（ａ）に示すように、整流部材３ａ〜３ｄは、容器の内周に沿って形成された枠状の板材で構成されており、中央部分に開口１２を有している。整流部材３ａ〜３ｄそれぞれの開口１２は、背景技術において図６に示した通気孔６４と異なり、容器１の中軸方向において互いに重なる位置関係にある。
【００２６】
また、除害剤充填部７において、容器１の壁面には、板状の整流部材３ａ〜３ｄを配置するため、リブ４ａ〜４ｄが設けられている。リブ４ａ〜４ｄは、上述したリブ４ｅと同様のものであり、容器１の内周に沿って連続的に形成されている。整流部材３ａ〜３ｄそれぞれは、対応するリブの上に配置され、このとき、容器１の中心軸に対して垂直となる。
【００２７】
以上の構成により、本実施の形態１における除害装置では、容器１に導入された排ガス２０は、除害剤充填部７において壁面に沿って流れようとしても、整流部材３ａ〜３ｄに衝突し、壁面から離れる方向、即ち、容器１の中心軸方向へと流れていく。このため、容器１の中央部分にある除害剤２の利用が促進される。よって、除害剤２の消費が不均一となるのが抑制され、従来に比べて除害剤２は有効に利用される。また、図１に示すように、本実施の形態１における除害装置の構成は簡単であり、設計も容易である。
【００２８】
更に、本実施の形態１では、導入ノズル１０から容器１の内部に導入された排ガス２０は、一旦、空間８に入り、空間８内で拡散した後、除害剤充填部７へと導入される。このため、充填された除害剤２の天井面側に露出した部分と排ガス２０とを均一に接触させることができ、排ガス２０の除害剤２への導入効率を高めることができる。
【００２９】
また、排出ノズル１１と除害剤２との間には、空間９が存在するため、除害剤２と接触して有害物質が除去されたガス３０は、空間９に拡散した後、排出される。
【００３０】
但し、図１の例では、容器１の内部には、空間８及び９が形成されているが、この態様に限定されるものではない。本実施の形態１においては、導入側及び排出側のいずれか一方にのみ空間が設けられた態様や、両方ともに空間が設けられていない態様であっても良い。
【００３１】
また、本実施の形態１において、容器１の形状は、特に限定されるものではなく、円柱状や四角柱以外の角柱状であっても良い。更に、容器１の大きさは、排ガス２０の排出量や、それを処理するために求められる除害剤２の量に応じて、適宜設定すれば良い。
【００３２】
容器１の構成材料も特に限定されないが、排ガス２０に対する耐腐食性の点からは、容器１は、ＳＵＳ３０４といったステンレス鋼で形成するのが好ましい。また、容器１の排ガス２０と接触する部分には、特に耐腐食性を高めるため、ポリエステル樹脂等の樹脂材料とガラス繊維とによるＦＲＰラインニングや、樹脂材料によるコーティングを施すのが好ましい。また、整流部材３ａ〜３ｄ、仕切り板５の構成材料としても、上記した容器１の構成材料と同一のものを用いるのが好ましい。
【００３３】
また、本実施の形態１において、整流部材３ａ〜３ｄの外形状は、容器１の断面形状に合わせて設定すれば良く、特に限定されるものではない。例えば、容器１の形状が円柱状である場合は、整流部材３ａ〜３ｄとしては、環状の板材を用いることができる。なお、図２（ａ）に示したように、本実施の形態１においては、整流部材３ａ〜３ｄは、容器１の内周に沿って連続的に形成されているが、これに限定されるものではない。整流部材３ａ〜３ｄは、容器１の内周に沿って不連続に形成されていても良い。この場合であっても、従来に比べて除害剤２の有効利用を図ることが可能である。
【００３４】
また、容器１の壁面に沿って流れる排ガス２０を効率良く壁面から離すため、整流部材３ａ〜３ｄと容器１の壁面との間に隙間が存在しないように、整流部材３ａ〜３ｄの外形状は、容器１の横断面の内周形状と整合するのが好ましい。但し、本実施の形態１においては、内周面に沿ってリブ４ａ〜４ｄが設けられており、整流部材３ａ〜３ｄと容器１の壁面との間に隙間が存在しても、リブ４ａ〜４ｄによって排ガス２０の流れを中心軸方向へと向けることができる。よって、本実施の形態１においては、整流部材３ａ〜３ｄの配置を容易にする点から、整流部材３ａ〜３ｄと容器１の壁面との間には、リブ４ａ〜４ｄの壁面からの突き出し長さを考慮して、隙間を設けることができる。
【００３５】
更に、図２（ｂ）に示すように、組み立てを容易にするため、整流部材３ａ〜３ｄは、分割可能に構成されたものであっても良い。この態様は、特に、除害剤を充填するための容器１の開口（図示せず）が、整流部材３ａ〜３ｄに対して十分な大きさを有していない場合に有効である。
【００３６】
また、整流部材３ａ〜３ｄは、除害剤２の上に載置しただけであっても良い。つまり、図１の例において、除害剤２の充填を５段階に分け、一定量の除害剤２を充填する度に、整流部材３ａ〜３ｄそれぞれを載置して、除害剤充填部７を構成しても良い。なお、このような態様においては、整流部材３ａ〜３ｄと容器１の壁面との間に隙間が発生し易いため、整流部材３ａ〜３ｄと容器１の壁面との間には、粘着テープ等によってシーリングを施しておくのが好ましい。
【００３７】
更に、図１及び図２の例では、整流部材３ａ〜３ｄの開口１２の形状は、矩形であるが、本実施の形態１においては特に限定されるものではなく、多角形や円形、楕円形等であっても良い。また、開口１２の面積は、導入ノズルから供給される排ガス２０の流量等に応じて適宜設定すれば良く、特に限定されるものではない。但し、開口１２が大きくなりすぎると、除害剤２の有効利用が困難になり、小さすぎると圧損が生じることから、開口１２の面積は、容器１内部における横断面の面積を１としたときに、０．１〜０．９、特には０．６〜０．８となるように設定するのが好ましい。
【００３８】
また、整流部材３ａ〜３ｄそれぞれの開口１２の形状は、全てが同一であっても良いし、それぞれ異なっていても良い。整流部材３ａ〜３ｄそれぞれの開口１２の面積も、全てが同一であっても良いし、それぞれ異なっていても良い。また、整流部材３ａ〜３ｄは、それぞれの開口１２の形状が同一であって、それぞれの開口１２の面積が徐々に変化する態様であっても良いし、それぞれの開口１２が形状及び面積のいずれの点でも互いに異なっている態様であっても良い。
【００３９】
また、図１の例では、整流部材３ａ〜３ｄは、容器の中心軸に対して垂直に配置されているが、これに限定されるものではない。整流部材３ａ〜３ｄは、容器の中心軸に垂直な面に対して傾斜していても良い。更に、整流部材３ａ〜３ｄは、螺旋状に形成されていても良い。また、整流部材３ａ〜３ｄは、除害剤充填部７において壁面に沿って流れる排ガス２０を壁面から離すことができるものであれば、その形状は限定されるものではなく、板状以外の形状の部材であっても良い。
【００４０】
更に、図１の例では、整流部材３ａ〜３ｄは、４枚配置されているが、これに限定されるものではない。本実施の形態１において、整流部材の数は、特に限定されるものではない。また、整流部材間のピッチも特に限定されるものではなく、等間隔としても良いし、不等間隔としても良い。更に、図１の例では、除害剤２は、最上部の整流部材３ａの上方にまで充填されているが、これに限定されるものではない。除害剤２は、その上面が最上部の整流部材３ａと一致するように充填されていても良いし、その上面が最上部の整流部材３ａの下方に位置するように充填されていても良い。
【００４１】
また、図３に示すように、本実施の形態１においては、仕切り板５の外周近く、具体的には、整流部材３ａ〜３ｄと重ね合わせたときに、これと重なる領域には、通気孔６は形成されていない。これは、仕切り板５にも、整流部材と同様の機能を持たせるためである。なお、仕切り板５としては、全面に均等に通気孔６が形成されているものを用いることもできるが、この場合も、外周近くの通気孔６は粘着テープ等でシーリングするのが好ましい。
【００４２】
更に、図１の例では、仕切り板５は、リブ４ｅによって配置されるが、本実施の形態１はこの態様に限定されるものではない。仕切り板５は、例えば、溶接等によって容器１の壁面に固定することもできる。なお、本実施の形態１においては、リブ４ａ〜４ｅは、容器１の内周に沿って連続的に形成されているが、これに限定されるものではない。リブ４ａ〜４ｅは、整流部材３ａ〜３ｄや仕切り板５の配置が可能なように形成されていれば良く、単なる突起といった、容器１の内周の一部分のみに沿って形成されたものであっても良い。
【００４３】
本実施の形態１において、有害物質の除去が可能な排ガス２０は特に限定されるものではない。具体的には、排ガス２０を排出する装置がエッチング装置の場合であれば、排ガス２０としては、三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）、塩素（Ｃｌ2）、塩化水素（ＨＣｌ）、フッ化水素（ＨＦ）等の無機ハロゲン化合物を含んだガスが挙げられる。排ガス２０を排出する装置がＣＶＤ装置の場合であれば、排ガス２０としては、モノシラン（ＳｉＨ4）、ジシラン（Ｓｉ2Ｈ6）、ジボラン（Ｂ2Ｈ6）、ジクロロシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）、ホスフィン（ＰＨ３）を含んだガスが挙げられる。
【００４４】
また、除害剤２の種類も、特に限定されるものではなく、排ガス２０の種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、除害剤２としては、酸化鉄系除害剤、酸化マンガン系除害剤、活性炭、金属酸化物（例えば、ＣｕＯやＺｎＯ）を担持させた活性炭、ゼオライト等が挙げられる。また、一つの容器１に、二種類以上の除害剤２を充填する態様であっても良く、この場合、２種類以上の除害剤２は混合された状態で容器１に充填されても良いし、種類毎に、容器１内部に積層された状態で充填されても良い。
【００４５】
（実施の形態２）
次に本発明の実施の形態２における除害装置について、図４を参照しながら説明する。図４は、本発明の実施の形態２における除害装置の概略構成を示す断面図である。
【００４６】
図４に示すように、本実施の形態２においては、排ガス２０は、容器１３の底面側の空間１５に導入され、除害剤充填部７において、容器１３の底面側から天井面側へと（下から上へと）流れ、容器１３の天井面側の空間１４を介して排出される。
【００４７】
また、本実施の形態２においては、容器１３の底面側の空間１５に排ガスを導入するため、導入ノズル１６は、容器１３の上面から仕切り板５までを貫通している。排出ノズル１７は、容器１の上面において、容器１３の天井面側の空間１４に連通するように形成されている。なお、上記した構成以外については、本実施の形態２における除害装置は、実施の形態１における除害装置と同様の構成を備えている。
【００４８】
このように、本実施の形態２によれば、導入ノズル１６と排出ノズル１７とが、同方向に突き出す位置関係にあるため、実施の形態１に比べて、除害装置内の配管の取り回しをよりコンパウトなものとできる。
【実施例１】
【００４９】
次に、本発明の実施例について説明する。図４に示した除害装置と同様の構成を有する除害装置を作成して、半導体製造装置から排出された排ガス中の有害物質の除去を行なった。具体的には、板厚１ｍｍのステンレス鋼板によって、内部空間の大きさが幅５５０ｍｍ、奥行き４００ｍｍ、高さ８００ｍｍとなる容器１３を作成した。
【００５０】
容器１３の内部には、底面からの高さが１００ｍｍの位置に、仕切り板５を取り付けるためのステンレス製のリブ４ｅを溶接によって取り付けた。リブ４ｅの壁面からの突出長さは５０ｍｍに設定されている。更に、底面からの高さが２５０ｍｍの位置にリブ４ｄ、底面からの高さが４００ｍｍの位置にリブ４ｃ、底面からの高さが５５０ｍｍの位置にリブ４ｂ、底面からの高さが７００ｍｍの位置にリブ４ａを溶接によって取り付けた。なお、リブ４ａ〜４ｄもステンレスで作成し、これらの壁面からの突出長さも５０ｍｍに設定した。
【００５１】
また、仕切り板５としては、導入ノズル１６（外径：４３ｍｍ、内径４０ｍｍ）を貫通させるための孔が形成されている以外は、図３に示したものと同様のパンチグプレート（ステンレス製、板厚１ｍｍ）を使用した。仕切り板５の大きさは、横５５０ｍｍ、縦４００ｍｍに設定した。なお、通気孔６の直径は１ｍｍとし、そのピッチは３ｍｍとした。また、仕切り板５の外縁から５０ｍｍの部分には通気孔６は形成していない。
【００５２】
また、整流部材３ａ〜３ｄとしては、図２（ａ）に示したものと同様の枠状の板材（ステンレス製、板厚１ｍｍ）を使用した。整流部材３ａ〜３ｄの外形の大きさは、仕切り板５と同様に、横５５０ｍｍ、縦４００ｍｍに設定した。また、開口１２の大きさは、横４５０ｍｍ、縦３００ｍｍに設定した。また、整流部材間のピッチは１５０ｍｍに設定されている。
【００５３】
仕切り板５、整流部材３ａ〜３ｄ、及び導入ノズル１６を容器１３に配置した後、除害剤２を容器１３に充填した。除害剤２としては、酸化鉄系の除害剤と、金属酸化物を担持させた活性炭との二種類を積層させた。また、充填した除害剤２の全重量は８０ｋｇであり、充填高さ（仕切り板５の上面からの高さ）は６００ｍｍであった。なお、酸化鉄系の除害剤と金属酸化物を担持させた活性炭との混合は、重量比率が１：７〜５：３の範囲で行なった。
【００５４】
（比較例１）
容器にリブ４ａ〜４ｄが設けられず、また、整流部材３ａ〜３ｄが配置されない以外は、実施例１と同様の除害装置を作成した。
【００５５】
［評価］
比較例１において、１：７〜５：３の範囲内で二種類の除害剤の重量比率を変えて複数回試行を行ない、最適な重量比率を見出した後、実施例１においても、同じ重量比率で二種類の除害剤を充填し、除害評価を実施した。評価対象の排ガスとして、三塩化ホウ素（ＢＣｌ3）ガスや塩素（Ｃｌ2）ガスを含む混合ガスを供給し、有害物質の除去を行なった。排出ノズル１７の出口には塩素系ガス検知機を取り付け、塩素系ガス検知機が検出した塩素（Ｃｌ2）ガスの濃度が０．５ｐｐｍに達するまで、排ガスの供給を行なった。また、両者において、導入ノズル１６から供給される排ガス２０の流量は希釈窒素を含め約１５０［Ｌ／分］とした。
【００５６】
結果、実施例１の除害装置において、塩素（Ｃｌ2）ガスの濃度が０．５ｐｐｍに達するまでにかかった時間は、１４４時間であった。一方、比較例１の除害装置において、塩素（Ｃｌ2）ガスの濃度が０．５ｐｐｍに達するまでにかかった時間は、１２０時間であった。更に、実施例１の除害装置及び比較例１の除害装置それぞれについて、除害剤２の増加重量を測定した。この結果、実施例１においては除害剤２の重量の増加は１３ｋｇであったのに対し、比較例１においては除害剤２の重量の増加は１０．５ｋｇであった。このことから、実施例１によれば、比較例１に比べて、長時間使用可能となり、除害剤の重量が同一の条件化において、多くの有害物質を除去でき、除害剤の有効利用を図ることができた。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
以上のように、本発明の除害装置は、半導体製造装置等から排出される排ガス中の有害物質の除去に有効であり、産業上の利用可能性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施の形態１における除害装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図１に示す除害装置に用いられる整流部材の一例を示す平面図であり、図２（ａ）は整流部材が一体的に構成された例を示し、図２（ｂ）は整流部材が分割可能に構成された例を示している。
【図３】図１に示す除害装置に用いられる仕切り板の一例を示す平面図である。
【図４】本発明の実施の形態２における除害装置の概略構成を示す断面図である。
【図５】従来からの除害装置の一例を示す断面図である。
【図６】従来からの除害装置の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１、１３  容器
２  除害剤（薬剤）
３ａ〜３ｄ  整流部材
４ａ〜４ｅ  リブ
５  仕切り板
６  通気孔
７  除害剤充填部
８、９、１４、１５  空間
１０、１６  導入ノズル
１１、１７  排出ノズル
２０  排ガス
３０  除害剤によって有害物質が除去されたガス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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