(57)【要約】【課題】安価且つコンパクトな治療器を提供する。【解決手段】治療器１は近紫外光を出射させるエレクトロルミネッセンス発光素子２を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
近紫外光を出射させるエレクトロルミネッセンス発光素子を備えた治療器。
【請求項２】
請求項１に記載された治療器において、
上記エレクトロルミネッセンス発光素子は発光／非発光を個別に制御可能な複数の発光領域を有する治療器。
【請求項３】
請求項１に記載された治療器において、
上記発光層は、ホスト材料として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルミニウムイオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンと、フッ素イオンとを含有し、
上記陽イオンに対する上記フッ素イオンの組成比が０．５より大きい治療器。
【請求項４】
請求項１に記載された治療器において、
上記発光層は、ホスト材料として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルミニウムイオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンと、フッ素イオンとを含む組成物を含有し、
上記陽イオンに対する上記フッ素イオンの組成比が化学量論比の２５％より大きい治療器。
【請求項５】
請求項３又は４に記載された治療器において、
上記発光層は、上記陽イオンとして、カルシウムイオン及び／又はマグネシウムイオンと、亜鉛イオンとを含み、
上記亜鉛イオンに対する上記カルシウムイオン及び上記マグネシウムイオンの組成比の総和が０．００００１以上０．１以下である治療器。
【請求項６】
請求項３又は４に記載された治療器において、
上記発光層はさらに酸素イオンを含有する治療器。
【請求項７】
請求項６に記載された治療器において、
上記フッ素イオンに対する上記酸素イオンの組成比が０．１以上１以下である治療器。
【請求項８】
請求項３又は４に記載された治療器において、
上記発光層は、発光中心として、ガドリニウム及び／又はユウロピウムを含む治療器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は治療器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アトピー性皮膚炎や床ずれといった皮膚病の治療法として近紫外光を患部に照射する方法が知られている（例えば、特許文献１）。患部に近紫外光を照射する治療器としては各種照明灯（例えば、キセノン照明灯等）を用いたものが知られている。しかしながら、一般的に、キセノン照明灯等の各種照明灯は複数の波長域の光を出射させる。このため、各種照明灯からは、治療に有益な近紫外光のみならず、人体に有害な波長域の光や治療を妨げる波長域の光等の不要な波長域の光も出射される。
【０００３】
このような問題に鑑み、例えば、特許文献２には、キセノン照明灯と、キセノン照明灯から出射される光のうち不必要な光をカットするフィルタとを備える光線治療器が開示されている。この光線治療器によれば、２８０ｎｍ以下の紫外光をカットし、治療に有益な光のみを患部に照射することができる。
【特許文献１】特開２００４−６５３３０号公報
【特許文献２】特開２００２−２６３２０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献２に記載された治療器はキセノン照明灯を用いるものである。上述の通り、キセノン照明灯は複数の波長域の光を出射する。具体的には、紫外波長域から赤外波長域にかけてブロードな放射スペクトルを有する。このため、人体に有害な紫外波長域の光、用途によっては人体を加熱する近赤外光、赤外光、さらには可視光が治療器から出射されないようにする必要がある。具体的には、紫外光カットフィルタ、赤外光カットフィルタ等の複数のフィルタを設ける必要がある。従って、製造コストが上昇し、装置が大型化するという問題がある。
【０００５】
本発明は、係る点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、安価且つコンパクトな治療器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
従来、発光素子の１種としてエレクトロルミネッセント発光素子は知られていた。しかしながら、波長の短い近紫外光を出射させるエレクトロルミネッセンス発光素子は知られていなかった。誠意研究した結果、本発明者は近紫外光を出射させるエレクトロルミネッセンス発光素子を初めて見出し、本発明を成すに至った。
【０００７】
すなわち、本発明に係る治療器は、本発明者が初めて見出した近紫外光を出射させるエレクトロルミネッセンス発光素子（以下、「ＥＬ発光素子」と略称する。）を備えている。
【０００８】
一般的に、ＥＬ発光素子は単一ピークの発光のみを有する。このため、患部の治療に有益な波長域（近紫外波長域）に発光ピークを有するＥＬ発光素子を用いることにより、カットフィルタ等を用いることなく、治療に有益ではない波長域の光（人体に有害な波長域の光、例えば紫外線等）を出射せず、治療に有益な近紫外光のみを出射させる治療器を容易且つ安価に実現することができる。また、カットフィルタ等が必要でない分、治療器を軽量、薄型かつコンパクトにすることができる。
【０００９】
尚、本発明において、ＥＬ発光素子は無機ＥＬ発光素子であってもよく、また有機ＥＬ発光素子であってもよい。そのうち、無機ＥＬ発光素子が特に好ましい。有機ＥＬ発光素子は比較的寿命が短く、近紫外光による劣化が激しいのに対して、無機ＥＬ発光素子は寿命が長く、近紫外光による劣化も比較的少ないからである。
【００１０】
尚、本明細書において「近紫外光」とは波長が２８０ｎｍ以上４３０ｎｍ以下の波長の光のことをいう。また、「紫外光」とは２８０ｎｍ未満の波長の光のことをいう。
【００１１】
本発明に係る治療器では、エレクトロルミネッセンス発光素子が発光／非発光を個別に制御可能な複数の発光領域を有することが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、患部にのみ光を照射し、患部以外の箇所に光を照射させないように、患部の位置大きさに合わせて発光させる領域を自由に調節することができる。具体的に、ＥＬ発光素子は、相互に並行に延びる複数の第１電極と、第１電極の延びる方向と交差する方向に相互に並行に延びる複数の第２電極と、複数の第１電極と複数の第２電極との間に設けられた発光層とを有する、所謂パッシブマトリクス方式の素子であってもよい。複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子を有するアクティブマトリクス基板を用いたアクティブマトリクス方式の素子であってもよい。また、セグメント方式の素子であってもよい。
【００１３】
本発明に係る治療器では、発光層が、ホスト材料として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルミニウムイオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンと、フッ素イオンとを含有し、陽イオンに対するフッ素イオンの組成比が０．５より大きいものであってもよい。言い換えれば、ホスト材料の組成は下記組成式１により表されるものであってもよい。
【００１４】
【化１】
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【００１５】
但し、上記組成式１中、Ｍはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルミニウムイオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンである。
【００１６】
一般的に、酸化物からなる発光層を有する従来のＥＬ発光素子では、発光層（詳細には発光層のホスト材）のバンドギャップエネルギーが比較的小さいため、近紫外光を出射させることは困難である。しかしながら、この構成のように、発光層にフッ素を含有させることにより、発光層のバンドギャップエネルギーを比較的大きくすることができる。従って、近紫外光を好適に出射することができるＥＬ発光素子を実現することができる。発光層（詳細には発光層のホスト材）のバンドギャップエネルギーは３．６ｅＶ以上（好ましくは３．８ｅＶ以上）７以下（好ましくは６ｅＶ以下、更に好ましくは４ｅＶ以下）であることが好ましい。
【００１７】
また、発光層はフッ素イオンを含有するため、例えば酸化物からなる発光層よりも低い電気抵抗を有する。このため、駆動電力の低い治療器を実現することができる。
【００１８】
この構成では、陽イオンに対するフッ素イオンの組成比が０．５よりも大きい。このため、フッ素イオンの結晶位置のうち、フッ素イオンが存在する結晶位置の割合を大きくすることができる。従って、ＥＬ発光素子の発光効率を高くすることができるため、高輝度で駆動電圧の低い治療器を実現することができる。
【００１９】
本発明に係る治療器では、発光層が、ホスト材料として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アルミニウムイオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンと、フッ素イオンとを含む組成物を含有し、陽イオンに対するフッ素イオンの組成比が化学量論比の２５％より大きいものであってもよい。
【００２０】
言い換えれば、発光層に含まれる陽イオンとフッ素イオンとを含む組成物が下記化学式２により表される場合に、組成物の組成が下記組成式３により表されるものであってもよい。
【００２１】
【化２】
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【００２２】
【化３】
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【００２３】
但し、上記化学式２、組成式３中、Ｍはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンである。
【００２４】
この構成のように、発光層にフッ素を含有させることにより、発光層（詳細には発光層のホスト材）のバンドギャップエネルギーを比較的大きくすることができる。従って、近紫外光を好適に出射することができるＥＬ発光素子を実現することができる。発光層（詳細には発光層のホスト材）のバンドギャップエネルギーは３．６ｅＶ以上（好ましくは３．８ｅＶ以上）７以下（好ましくは６ｅＶ以下、更に好ましくは４ｅＶ以下）であることが好ましい。
【００２５】
また、発光層はフッ素イオンを含有するため、例えば酸化物からなる発光層よりも低い電気抵抗を有する。このため、駆動電力の低い治療器を実現することができる。
【００２６】
この構成では、発光層における陽イオンに対するフッ素イオンの組成比が化学量論比の２５％より大きい。陽イオンに対するフッ素イオンの組成比を化学量論比の２５％より大きくすることによって、フッ素イオンの結晶位置のうち、フッ素イオンが存在する結晶位置の割合を大きくすることができる。従って、ＥＬ発光素子の発光効率を高くすることができるため、高輝度で駆動電圧の低い治療器を実現することができる。
【００２７】
より高輝度で駆動電圧の低い治療器を実現する観点から、フッ素イオンの結晶位置の数量に対するフッ素イオンが存在する結晶位置の数量の比が２５％以上であることがより好ましい。
【００２８】
発光層は、陽イオンとして、カルシウムイオン及び／又はマグネシウムイオンと、亜鉛イオンとを含み、亜鉛イオンに対するカルシウムイオン及びマグネシウムイオンの組成比の総和が０．００００１以上０．１以下であってもよい。言い換えれば、発光層はフッ化亜鉛を主成分とする組成物にカルシウムイオン及び／又はマグネシウムイオンを添加したものであってもよい。尚、この構成における発光層のホスト材料の組成は下記組成式４により表される。
【００２９】
【化４】
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【００３０】
上記組成式４中、Ｍ’はカルシウムイオン及び／又はマグネシウムイオンである。
【００３１】
フッ化亜鉛を主成分とする発光層にカルシウムイオン及び／又はマグネシウムイオンを添加することにより、発光層の結晶状態を安定化することができる。また、発光層の結晶状態が安定であるほど発光層から出射される光の強度が大きくなる。このため、ＥＬ発光素子の発光効率を高くすることができるため、高輝度で駆動電圧の低い治療器を実現することができる。
【００３２】
発光層はさらに酸素イオンを含有していてもよい。この構成によれば、発光層の結晶状態を安定にすることができる。よって、ＥＬ発光素子の発光効率を高くすることができるため、高輝度で駆動電圧の低い治療器を実現することができる。
【００３３】
フッ素イオンに対する酸素イオンの組成比は０．１以上１以下であることが好ましい。この構成における発光層のホスト材料の組成は下記組成式５により表される。
【００３４】
【化５】
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【００３５】
上記組成式５中、Ｍはアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンである。
【００３６】
上記本発明に係る第１乃至第４のそれぞれの治療器では、発光層が、発光中心として、ガドリニウム及び／又はユウロピウムを含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００３７】
以上説明したように、本発明によれば、安価且つコンパクトな治療器を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３９】
図１は本実施形態に係る治療器１の斜視図である。
【００４０】
図１に示すように、治療器１はＥＬ発光素子２と筐体７とを備えている。詳細には、ＥＬ発光素子２は発光面３が露出するように筐体７に組み込まれている。筐体７の内部にはＥＬ発光素子２を駆動させるための、外部電源（図示せず）に接続される駆動回路（図示せず）や制御回路（図示せず）等が設けられている。尚、筐体７は、例えばプラスティック、ステンレスやアルミニウム等の金属、セラミックス又は木材等によって形成することができる。
【００４１】
ＥＬ発光素子２は近紫外域に発光ピークを有する素子である。このため、ＥＬ発光素子２は、アトピー性皮膚炎等の皮膚病に有効な近紫外光を主として出射し、それ以外の光（例えば紫外光、可視光、赤外光等）はほとんど出射しない。従って、ＥＬ発光素子２を用いることによって、カットフィルタ等を用いることなく、皮膚病治療等に好適で、軽量、薄型、且つコンパクトな治療器１を容易且つ安価に実現することができる。
【００４２】
ＥＬ発光素子２は、発光面３に発光／非発光を個別に制御可能な複数の発光領域を有する。言い換えれば、発光面３には発光／非発光が個別制御可能な複数の発光領域が設けられており、例えば任意の形状寸法の面状光、線状光、又は点状光を出射させることができる。このため、発光面３のうち、所望の形状部分のみ（所望の発光領域のみ）を発光させることができる。特に、患部の近辺に近紫外光の照射により弊害が発生するおそれがある部位（例えば、目等の粘膜が外部に露出している部位等）がある場合には、患部にのみ近紫外光を選択的に照射し、近紫外光の照射により弊害が発生するおそれがある部位には近紫外光を照射しないようにすることが可能となる。
【００４３】
図２及び図３は治療器１の使用状態を示す模式図である。詳細には、図２は人４の背中にある患部に治療器１から出射される紫外光を照射しているところを表す模式図である。図３は、図２に示す、人４の背中にある患部に治療器１から出射される紫外光を照射しているところを人４の背中側から見た図である。尚、説明の便宜上、図３には人４の一部分のみを描画している。
【００４４】
例えば、図３に示すように、人４の背中にある患部５が治療器１の発光面３よりも小さい場合は、発光面３に設けられた複数の発光領域のうちの一部の発光領域を発光させ、患部５に対応する領域６のみから近紫外光を出射させることができる。このため、患部５以外の部分には近紫外光を照射せず、患部５にのみに的確に近紫外光を照射することができる。従って、駆動電圧を低下させることができる。
【００４５】
尚、治療器１は複数の発光領域の発光／非発光を個別に制御することができる制御手段を有するものであってもよい。具体的には、ＥＬ発光素子２に接続されており、発光させる発光領域を任意に選択することができるタッチパネル等を有していてもよい。
【００４６】
治療器１の形状寸法は特に限定されるものではなく、用途によって適宜決定することができる。例えば、短辺が１μｍ〜２ｍ程度の矩形であってもよい。
【００４７】
図４は本実施形態１に係る治療器１に組み込まれるＥＬ発光素子２の断面図である。
【００４８】
ＥＬ発光素子２は、基板１０と、基板１０の上に設けられた相互に並行に延びる複数の第１電極１１と、第１電極１１の上に設けられた第１絶縁層１２と、第１絶縁層１２の上に形成された発光層１３と、発光層１３の上に設けられた第２絶縁層１４と、第２絶縁層１４の上に設けられた、第１電極１１の延びる方向と交差する方向に相互に並行に延びる（典型的には第１電極１１の延びる方向に直交する方向に延びる）複数の第２電極１５と、周縁が基板１０に接着された封止基板１６と、封止基板１６により形成された封止空間に封入された絶縁性オイル１７とを有する。
【００４９】
基板１０は、例えばガラス（ホウ珪酸ガラス等でもよいが、好ましくは熱歪点が高いノンアルカリガラス等）等により構成されており、ＥＬ発光素子２の機械的強度を担保する機能を有する。発光層１３の光を基板１０側から取り出す場合、基板１０は光透過性材料により形成されていることが好ましい。
【００５０】
第１電極１１及び第２電極１５は発光層１３に電圧を印加する機能を有する。第１電極１１第１電極１１及び第２電極１５はインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アルミニウム（Ａｌ），銀（Ａｇ）等により形成することができる。その中でも、光を透過する透明電極とする場合は、非晶質であるインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が好ましい。また、光を反射させる反射電極とする場合は、光反射率が高く、電気抵抗の低いアルミニウム（Ａｌ）が好ましい。
【００５１】
第１絶縁層１２及び第２絶縁層１４は発光層１３への電荷供給量を増大させる機能を有する。第１絶縁層１２及び第２絶縁層１４は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯ2）やチッ化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）等の薄膜、又は酸化シリコン（ＳｉＯ2）の薄膜（例えば、層厚３０ｎｍ〜６０ｎｍ）とチッ化シリコン（ＳｉＮ4）の薄膜（例えば、層厚１５０ｎｍ〜３００ｎｍ）との積層体等によりそれぞれ形成することができる。
【００５２】
発光層１３は近紫外光を出射する。発光層１３は、ホスト材料として、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、及び希土類イオンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の陽イオンと、フッ素イオンとを含有する。具体的に、陽イオンとしては、亜鉛（Ｚｎ）、ストロンチウム（Ｓｒ），カルシウム（Ｃａ），マグネシウム（Ｍｇ）、イットリウム（Ｙ）、アルミニウム（Ａｌ）等が挙げられる。高い輝度の近紫外光を得る観点から、特にそれらの中でも亜鉛（Ｚｎ）が好ましい。
【００５３】
また、ホスト材料は窒素イオンを含有するものであってもよい。
【００５４】
発光層１３に含まれるホスト材料は、下記組成式１により表される。但し、下記組成式１中、Ｍは陽イオンを示す。
【００５５】
【化１】
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【００５６】
上記組成式１に示すように、ホスト材料にはフッ素が含まれる。このため、酸化物からなる従来の発光層よりも比較的バンドギャップエネルギーを大きくすることができる。このため、発光層１３は好適に近紫外光を出射させることができる。また、発光層１３はフッ素イオンを含むため、例えば酸化物からなる発光層と比較して電気抵抗が低い。このため、本実施形態に係るＥＬ発光素子２は駆動電圧が低い。
【００５７】
また、ホスト材料陽イオン（Ｍ）に対するフッ素イオンの組成比が０．５以上である。このため、ＥＬ発光素子２では、フッ素イオンの結晶位置のうち、フッ素イオンが存在する結晶位置の割合が比較的大きい。よって、発光層１３は高い結晶性を有する。従って、本実施形態に係るＥＬ発光素子２は高い発光輝度を有する。
【００５８】
尚、ホスト材料は、陽イオン（Ｍ）に対するフッ素イオンの組成比が５０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることがさらに好ましい。
【００５９】
発光層１３のホスト材料は、例えば、フッ化亜鉛（ＺｎＦ2）を主成分とし、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）及び／又はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を添加したものであってもよい。フッ化カルシウムやフッ化マグネシウムはそれぞれホタル石構造の比較的安定な結晶を形成する。このようなフッ化カルシウム及び／又はマグネシウムをフッ化亜鉛に添加することによって発光層１３中に、安定した結晶を容易に生成させることができる。このため、製造容易なＥＬ発光素子２を実現することができる。また、発光層１３の結晶性を向上させることにより、ＥＬ発光素子２の発光輝度を向上させることができる。
【００６０】
フッ化カルシウムやフッ化マグネシウムは、カルシウムイオン及びマグネシウムイオンの、亜鉛イオンに対する組成比が０．００００１以上０．１以下となるように添加することが好ましい。亜鉛イオンに対する組成比が０．００００１未満である場合は発光層１３の安定性が低下する傾向にある。一方、亜鉛イオンに対する組成比が０．１より大きくなると、発光層１３から出射される光の波長が長くなる傾向にある。
【００６１】
同様に、発光層１３中の結晶を安定化する観点から、ホスト材料に、陰イオンとして、フッ素イオンと共に酸素イオンを含有させることが好ましい。ホスト材料に酸素イオンを含有させることによって、発光層１３中の結晶を安定化することができるので、ＥＬ発光素子２の発光輝度を向上させることができる。
【００６２】
ホスト材料はフッ素イオンに対する組成比が０．１以上１以下となる範囲で酸素イオンを含有することが好ましい。フッ素イオンに対する組成比が０．１未満であると、発光層１３の安定性が低下する傾向にある。一方、フッ素イオンに対する組成比が１より大きいと、発光層１３から出射される光の波長が長くなる傾向にある。
【００６３】
発光層１３は発光中心を含む。発光中心としては、例えばガドリニウム（Ｇｄ）やユウロピウム（Ｅｕ）等が挙げられる。特に、フッ化亜鉛（ＺｎＦ2）をホスト成分とし、ガドリニウム（Ｇｄ）を発光中心とする（発光層１３をＺｎＦ2：Ｇｄとする）ことが好ましい。
【００６４】
図５は発光層１３をＺｎＦ2：Ｇｄとした場合に得られる発光スペクトルである。
【００６５】
図５に示すように、発光層１３をＺｎＦ2：Ｇｄとすると発光強度の高い近紫外光（中心波長：３１０ｎｍ〜３２０ｎｍ）が得られる。
【００６６】
次に、本実施形態に係るＥＬ発光素子２の製造方法について詳細に説明する。
【００６７】
まず、蒸着法やスパッタ法等の成膜方法及びフォトリソグラフィー法等のパターニング方法を用いて、基板１０上に第１電極１１を形成する。第１電極１１の上に第１絶縁層１２を形成する。第１絶縁層１２はＣＶＤ法、スパッタ法（ＲＦスパッタ法）、蒸着法等により形成することができる。
【００６８】
次に、第１絶縁層１２上に発光層１３を形成する。発光層１３は例えばスパッタ法により形成することができる。以下、スパッタ法により発光層１３を形成する工程について詳細に説明する。
【００６９】
まず、発光層１３の成分（ホスト材料及び発光中心）を含有するターゲットを作製する。例えば、ホスト材料をフッ化亜鉛（ＺｎＦ2）とし、発光中心をガドリニウム（Ｇｄ）とする場合、フッ化亜鉛にガドリニウム又は塩化ガドリニウム（ＧｄＣｌ3）を１ｍｏｌ％以上５ｍｏｌ％以下（好ましくは、１ｍｏｌ％以上３ｍｏｌ％以下）添加したターゲットを作製する。
【００７０】
減圧雰囲気中（好ましくは１Ｐａ以上３０Ｐａ以下、より好ましくは６Ｐａ以上２０Ｐａ以下）において、作製したターゲットと第１絶縁層１２を形成した基板１０との間に電圧を印加することによってターゲットに含まれるホスト材料及び発光中心を第１絶縁層１２上に積層することによって発光層１３を形成する。発光層１３の形成室は、不活性ガス（例えば、アルゴンガス、窒素ガス等）雰囲気であることが好ましい。
【００７１】
発光層１３を成膜する際、基板１０は常温以上３００℃程度であることが好ましい。より好ましくは、１００℃以上３００℃以下である。成膜レート（発光層１３を成膜する速度）は１ｎｍ／ｓ以上２０ｎｍ／ｓ以下であることが好ましい。より好ましくは１ｎｍ／ｓ以上１０ｎｍ／ｓ以下である。
【００７２】
発光層１３を形成した後、加熱処理を行うことが好ましい。具体的には、減圧雰囲気中（好ましくは１Ｐａ以上３０Ｐａ以下、より好ましくは６Ｐａ以上２０Ｐａ以下）、３００℃以上６００℃以下で、３０分以上１２０分以下アニールすることが好ましい。これによって、発光層１３の結晶化を促進することができる。また、急速加熱処理（ＲＴＡ：Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌｉｎｇ）やエキシマレーザーを用いたレーザーアニールを行ってもよい。急速加熱処理やレーザーアニールによれば、発光層１３の結晶化をより効果的に促進することができる。
【００７３】
次に、発光層１３の上に、第２絶縁層１４を形成する。第２絶縁層１４は第１絶縁層１２と同様に、ＣＶＤ法、スパッタ法（ＲＦスパッタ法）、蒸着法等により形成することができる。第２絶縁層１４の上に第２電極１５を形成することによってＥＬ発光素子２を製造することができる。第２電極１５は、第１電極１１と同様に、蒸着法やスパッタ法等を用いて形成することができる。
【００７４】
最後に、ＥＬ発光素子２の上から、発光層１３を外気から遮断するように、凹部が形成された封止基板１６を用いてＥＬ発光素子２を封止することによりＥＬ発光素子２を完成させる。尚、封止に際しては、封止基板１６とＥＬ発光素子２との間に絶縁性オイル１７（例えば、シリコンオイル等）を充填する。これにより発光層１３や第１電極１１及び第２電極１５が酸素や水分と接触することを効果的に抑制することができ、長寿命なＥＬ発光素子２を実現することができる。
【００７５】
（その他の実施形態）治療器１は平面視矩形状であるが、治療器１は例えば平面視において円状、楕円状、多角形状等であってもよい。
【００７６】
また、使用用途に応じて、ＥＬ発光素子２の発光面３の上に、散乱板、集光レンズ、マイクロレンズアレイ等の光学機能部材を配置してもよい。
また、上記実施形態では、スパッタ法を用いて発光層１３を形成する場合を説明したが、本発明は何らこれに限定されるものではない。フッ素雰囲気中において、蒸着法を用いて発光層１３を形成しても構わない。
【００７７】
また、上記実施形態では無機ＥＬ発光素子２を備えた治療器１について詳細に説明したが、治療器１は有機ＥＬ発光素子を備えたものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本実施形態に係る治療器１の斜視図である。
【図２】治療器１の使用状態を示す模式図である。
【図３】治療器１の使用状態を示す模式図である。
【図４】本実施形態１に係る治療器１に組み込まれるＥＬ発光素子２の断面図である。
【図５】発光層１３をＺｎＦ2：Ｇｄとした場合に得られる発光スペクトルである。
【符号の説明】
【００７９】
１      治療器
２      ＥＬ発光素子
３      発光面
４      人
５      患部
７      筐体
１０      基板
１１      第１電極
１２      第１絶縁層
１３      発光層
１４      第２絶縁層
１５      第２電極
１６      封止基板
１７      絶縁性オイル
【図１】
2007020949.tif 000009
【図２】
2007020949.tif 000010
【図３】
2007020949.tif 000011
【図４】
2007020949.tif 000012
【図５】
2007020949.tif 000013