(57)【要約】【課題】臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解することのできる水処理方法を提供すること。【解決手段】被処理水をラジカルにより浄化する水処理方法であって、糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を前記被処理水に注入することを含む水処理方法である。ラジカルは、オゾンと過酸化水素とを併用することにより生成させることが好ましい。また、電子供与物質は、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３０μｍｏｌ／Ｌとなるように被処理水に注入されることが好ましい。【選択図】図１
2007000767.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水をラジカルにより浄化する水処理方法であって、
糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を前記被処理水に注入することを含む水処理方法。
【請求項２】
前記ラジカルは、オゾンと過酸化水素とを併用することにより生成させたラジカルである請求項１に記載の水処理方法。
【請求項３】
前記電子供与物質は、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３０μｍｏｌ／Ｌとなるように前記被処理水に注入される請求項１または２に記載の水処理方法。
【請求項４】
被処理水をラジカルにより浄化する水処理装置であって、
糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を前記被処理水に注入する電子供与物質注入手段を備える水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、臭素イオン被処理水を効率よく浄化する水処理方法および水処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
オゾン処理は、高度浄水処理の主要プロセスである。オゾンは、浄水原水などの被処理水の殺菌、脱臭および脱色に有効であるが、被処理水中の臭素イオンは酸化されて発ガン性の疑いのある臭素酸イオンを生成する。臭素酸イオンの生成は、臭素イオンおよびオゾンによる生成経路（オゾンルート）と、臭素イオンおよびオゾンの自己分解により生成するヒドロキシラジカル（・ＯＨ）などラジカル種による生成経路（ラジカルルート）の２種類の経路がある。オゾンルートでは、被処理水中の臭素イオン（Ｂｒ−）は、オゾンと反応して次亜臭素酸イオン（ＯＢｒ−）を生成し、次亜臭素酸イオンはオゾンによりさらに酸化されて臭素酸イオン（ＢｒＯ３−）が生成する。ラジカルルートでは、ラジカルおよびオゾンにより臭素酸イオンが生成する。臭素酸イオンは、主にラジカルルートで生成することが報告されている。
【０００３】
そして、平成１６年の水道法の水質基準の改正にともない、臭素酸イオンは１０μｇ／Ｌ以下に規制され、浄水場では臭素酸イオンの生成を抑制する様々な対策がとられている。具体的な対策としては、オゾン注入率制御や溶存オゾン濃度制御などが挙げられる。
【０００４】
近年、河川水、湖水等の被処理水には、農薬類などオゾンでは分解されにくい難分解性有機物が溶存していることが問題となっており、これらを分解除去するためには高いオゾン注入率が必要となる。臭素酸イオンの生成量はオゾン注入率が高くなるほど増大することから、オゾン単独処理で難分解性有機物を分解除去すると同時に臭素酸イオンの生成を抑制することは難しい。そこで、オゾンよりも酸化力の強いラジカルを用いて難分解性有機物を分解除去する促進酸化処理技術を、浄水処理に適用する試みがなされている（例えば、特許文献１、２および３を参照）。これらの促進酸化処理技術は、オゾンでは分解されにくい難分解性有機物を分解除去するのに有効であるが、ラジカルにより臭素酸イオン生成が増大する恐れがある。河川水や湖水中の難分解性有機物は低濃度であるため、難分解性有機物の分解除去に必要なラジカルは微量である。しかし、従来の促進酸化処理技術では、難分解性有機物の分解除去に必要以上のラジカルが生成されため、臭素酸イオンの生成量が増大するという問題があった。
【０００５】
そこで、臭素酸イオンの生成を抑制する対策として、促進酸化処理技術の１つであるオゾン／過酸化水素処理において、過酸水素注入率を増大することにより臭素酸イオンの生成を抑制する方法が提案されている（例えば、特許文献４を参照）。しかし、過酸化水素注入率を増大することにより難分解性有機物の分解除去率が低下することが報告されており、また薬液費用の増加や余剰の過酸化水素の除去が必要となってコストが掛かるという欠点があった。そのため、促進酸化処理技術にはラジカル反応を最適化する処理方法が望まれていた。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１２７９号公報
【特許文献２】特開２００２−３５７７５号公報
【特許文献３】特開２００２−１１４８５号公報
【特許文献４】特表２００２−５１４１３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
河川水や湖水中の難分解性有機物は低濃度であるため、これらの有機物は微量のラジカルで分解除去できると考えられる。しかし、従来の促進酸化処理技術においては、難分解性有機物の分解除去に必要以上のラジカルが生成されるので、余剰のラジカルにより臭素酸イオンが生成するとともに、過酸化水素の消費量が増大するという問題があった。そこで、ラジカルが極めて低い濃度で生成される状態を維持することができれば、難分解性有機物を十分に分解除去する処理時間を確保でき、臭素酸イオンの生成量および過酸化水素の消費量を抑制することができる。すなわち、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解するためには、ラジカル反応を制御することが不可欠である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで、本発明者らは、河川水、湖水等の被処理水をラジカルにより浄化する水処理方法について鋭意検討した結果、被処理水に特定の電子供与物質を注入することで、難分解性有機物を安全な濃度域まで十分に分解でき、かつ臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量が顕著に低減することを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、被処理水をラジカルにより浄化する水処理方法であって、糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を前記被処理水に注入することを含む水処理方法である。
また、本発明は、被処理水をラジカルにより浄化する水処理装置であって、糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を前記被処理水に注入する電子供与物質注入手段を備える水処理装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、生成するラジカルを極めて低い濃度に維持することができるので、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。
図１において、実施の形態１に係る水処理装置は、被処理水導入ライン１と、被処理水導入ライン１の下流側に接続されたオゾン接触槽２と、オゾン接触槽２に接続された排水ライン３とを備えており、水質計４が被処理水導入ライン１の上流側に配設され、さらに水質計４の下流側に電子供与物質注入手段としての電子供与物質注入ライン５と、過酸化水素注入ライン６とが順次接続されている。そして、水質計４は、電子供与物質制御装置７を介して電子供与物質注入ライン５と接続されている。また、オゾン接触槽２内には、散気板８が配設されており、散気板８にはオゾンガス供給管９を介してオゾン発生器１０が接続されている。さらに、オゾン接触槽２の上部には、排オゾンガス排出管１１が接続されている。
【００１１】
次に、上記のように構成された水処理装置による水処理方法について説明する。まず、臭素酸イオンの生成源となる物質を含む被処理水が、被処理水導入ライン１に導入され、次いで、電子供与物質注入ライン５から電子供与物質および過酸化水素注入ライン６から過酸化水素がそれぞれ注入される。
【００１２】
電子供与物質の注入量は、水質計４で測定された被処理水の水質に合わせて、電子供与物質制御装置７で調整される。ここで、電子供与物質の注入量は、好ましくは、被処理水の全有機性炭素（ＴＯＣ）濃度が５ｍｇ／Ｌを超えない範囲で、かつ好ましくは、０．１μｍｏｌ／Ｌ〜３０μｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは、３μｍｏｌ／Ｌ〜３０μｍｏｌ／Ｌとなるように被処理水に注入すればよい。電子供与物質の注入量が０．１μｍｏｌ／Ｌ未満であると、ラジカル反応の制御が不十分となる場合があり、３０μｍｏｌ／Ｌを超えると、被処理水中のＴＯＣ濃度が高くなってＴＯＣ除去処理コストがかさむ恐れがある。また、過酸化水素の注入量は、０．０５〜５ｍｇ／Ｌであることが好ましい。
ここで用いられる電子供与物質は、糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択されるものである。糖類としては、例えば、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース、マルトース、スクロース、ラクトース、セロビオース、でんぷん、セルロース、アルギン酸ナトリウム、キチン、キトサンが挙げられる。アミノ酸としては、トリプトファン、ロイシン、リジン、イソロイシン、バリン、スレオニン、フェニルアラニン、メチオニン、ヒスチジン、アルギニン、シスチン、チロシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン、プロリン、セリン、ロイシン、トレオニンの２０種が挙げられる。脂質としては、例えば、レシチン、ビタミンＡ、ビタミンＤ、ビタミンＥ、ビタミンＫが挙げられる。
【００１３】
続いて、電子供与物質および過酸化水素が注入された被処理水は、オゾン接触槽２内に導入されるとともに、オゾン発生器１０で発生されたオゾンガスが、オゾンガス供給管９を通って散気板８からオゾン接触槽２内に吹き込まれ、被処理水中に溶解される。ここでオゾンガスの注入量は、０．１〜５．０ｍｇ／Ｌであることが好ましい。このように過酸化水素とオゾンとを併用することでラジカルが生成され、このラジカルにより難分解性有機物の分解反応が進行する。溶解しきれなかったオゾンガスや未反応のオゾンガスは、排オゾンガスとして排オゾンガス排出管１１を介して系外に排出される。本実施の形態１では、被処理水に電子供与物質が注入されているので、難分解性有機物の分解除去効果を維持しつつ、過酸化水素の消費量および臭素酸イオンの生成量を大幅に低減することができ、より安全性の高い処理水とすることができる。また、過酸化水素の消費量が大幅に低減されるので、過酸化水素注入量を抑制することができ、薬液費用および余剰の過酸化水素を除去する費用を抑えることができる。
そして、被処理水は、オゾン接触槽２内に一定時間滞留した後、難分解性有機物が分解除去された処理水として排水ライン３から系外に排水される。
【００１４】
このように本実施の形態１によれば、糖類、アミノ酸、脂質、フミン酸およびこれらの混合物からなる群から選択される電子供与物質を被処理水に注入することで、生成するラジカルを極めて低い濃度に維持することができ、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解することができる。これに対して、従来のオゾン／過酸化水素処理では、過酸化水素注入量を可能な限り小さくすることにより生成するＯＨラジカルの絶対量を抑制していたが、過酸化水素注入量を抑制するだけでは、ＯＨラジカルが瞬時に生成されて反応に消費されるため、難分解性有機物を安全な濃度域まで分解除去する処理時間を確保できなかった。さらに、過酸化水素の残留濃度が低下すると臭素酸イオンが急激に生成されるため、過酸化水素注入量を抑制することにより臭素酸イオン生成が増大する恐れがあった。すなわち、従来のオゾン／過酸化水素処理では、過酸水素注入量を低減すると、難分解性有機物を十分に分解できないうえに、臭素酸イオンの生成を抑制することはできないのである。
【００１５】
なお、本実施の形態１において、被処理水への電子供与物質と過酸化水素との注入順序に特に制限はなく、過酸化水素を注入した後に電子供与物質を注入してもよく、電子供与物質を注入した後に過酸化水素を注入してもよく、あるいは過酸化水素と電子供与物質とを同時に注入してもよい。また、電子供与物質の注入場所は、被処理水導入ライン１に限定するものではなく、オゾン接触槽２に直接注入することもできる。
また、本実施の形態１では、ラジカルによる被処理水の浄化法として、オゾン／過酸化水素処理を採用したが、オゾン／紫外線処理、紫外線／過酸化水素処理、オゾン／紫外線／過酸化水素処理などにおいても、難分解性有機物の分解除去、過酸化水素消費量低減、臭素酸イオン生成抑制を同時に達成することができる。また、本発明では、難分解性有機物の分解例を示したが、被処理水の殺菌、脱臭や脱色にも適用することができる。
【００１６】
実施の形態２．
図２は、本発明の実施の形態２に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。
図２において、実施の形態２に係る水処理装置は、オゾン接触槽２内に設置された紫外線ランプ１２と、紫外線ランプ１２を取り囲むようにオゾン接触槽２内に設置された紫外線ランプ保護管１３と、紫外線ランプ１２に接続され、オゾン接触槽２外に設置された紫外線ランプ電源１４とから構成される紫外線照射装置を備えている。その他の構成については、図１に示す構成と同様であるので、本実施の形態では、図１と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【００１７】
次に、上記のように構成された水処理装置による水処理方法について説明する。まず、被処理水が、被処理水導入ライン１に導入され、次いで、電子供与物質注入ライン５から電子供与物質が注入される。電子供与物質の注入量は、実施の形態１と同様である。また、電子供与物質としては、実施の形態１で例示したものを同様に用いることができる。
【００１８】
続いて、電子供与物質が注入された被処理水は、オゾン接触槽２内に導入されるとともに、オゾン発生器１０で発生されたオゾンガスが、オゾンガス供給管９を通って散気板８からオゾン接触槽２内に吹き込まれ、被処理水中に溶解される。溶解しきれなかったオゾンガスや未反応のオゾンガスは、排オゾンガスとして排オゾンガス排出管１１を介して系外に排出される。ここでオゾンガスの注入量は、０．１〜５．０ｍｇ／Ｌであることが好ましい。ここでは、オゾンガスが被処理水中に溶解されるのと同時に、オゾン接触槽２内に設置された紫外線照射装置から紫外線を照射することでラジカルが生成され、このラジカルにより難分解性有機物の分解反応が進行する。本実施の形態２では、被処理水に電子供与物質が注入されているので、難分解性有機物の分解除去効果を維持しつつ、臭素酸イオンの生成量を大幅に低減することができ、より安全性の高い処理水とすることができる。
そして、被処理水は、オゾン接触槽２内に一定時間滞留した後、難分解性有機物が分解除去された処理水として排水ライン３から系外に排水される。
【００１９】
このように本実施の形態２によれば、オゾン／紫外線処理過程において、電子供与物質を被処理水に注入することで、生成するラジカルを極めて低い濃度に維持することができ、臭素酸イオン生成量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解することができ、より安全性の高い処理水とすることができる。これに対して、従来のオゾン／紫外線処理では、オゾンとラジカルが共存するという処理方法の特性のため、臭素酸イオンの生成を抑制するための具体的な対策がなかった。
【００２０】
なお、本実施の形態２において、オゾン接触槽２内に設置される紫外線ランプ１２の本数は特に限定されるものではなく、必要に応じて紫外線ランプ１２を設置すればよい。
【００２１】
実施の形態３．
図３は、本発明の実施の形態３に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。本実施の形態３では、オゾン接触槽として、一般的な大規模浄水場向けの横流式向流二段オゾン接触槽を用いている。図３において、実施の形態３に係る水処理装置は、横流式向流二段オゾン接触槽２Ａと、横流式向流二段オゾン接触槽２Ａの一段目オゾン接触槽に接続された被処理水導入ライン１と、横流式向流二段オゾン接触槽２Ａの二段目オゾン接触槽に接続された排水ライン３とを備えており、水質計４が被処理水導入ライン１の上流に配設されている。そして、水質計４は電子供与物質制御装置７を介して電子供与物質注入ライン５と接続され、この電子供与物質注入ライン５は第１の電子供与物質注入ライン５ａと第２の電子供与物質注入ライン５ｂとに分岐して、一段目および二段目オゾン接触槽内にそれぞれ設置されている。また、過酸化水素注入ライン６も第１の過酸化水素注入ライン６ａと第２の過酸化水素注入ライン６ｂとに分岐して、一段目および二段目オゾン接触槽内にそれぞれ設置されている。さらに、一段目および二段目オゾン接触槽内には、散気板８がそれぞれ配設されており、散気板８にはオゾンガス供給管９を介してオゾン発生器１０が接続されている。横流式向流二段オゾン接触槽２Ａの上部には、排オゾンガス排出管１１が接続されている。
【００２２】
次に、上記のように構成された水処理装置による水処理方法について説明する。まず、被処理水が、被処理水導入ライン１を介して横流式向流二段オゾン接触槽２Ａ内に導入される。次いで、第１および第２の電子供与物質注入ライン５ａ，５ｂから電子供与物質、および第１および第２の過酸化水素注入ライン６ａ，６ｂから過酸化水素がそれぞれ被処理水に注入される。
【００２３】
電子供与物質および過酸化水素の注入量は、実施の形態１と同様である。また、電子供与物質としては、実施の形態１で例示したものを同様に用いることができる。
【００２４】
続いて、オゾン発生器１０で発生されたオゾンガスが、オゾンガス供給管９を通って散気板８から横流式向流二段オゾン接触槽２Ａ内に吹き込まれ、被処理水中に溶解される。ここでオゾンガスの注入量は、実施の形態１と同様である。このように過酸化水素とオゾンとを併用することでラジカルが生成され、実施の形態１と同様に、ラジカルにより難分解性有機物の分解反応が進行する。溶解しきれなかったオゾンガスや未反応のオゾンガスは、排オゾンガスとして排オゾンガス排出管１１を介して系外に排出される。
そして、被処理水は、横流式向流二段オゾン接触槽２Ａ内に一定時間滞留した後、難分解性有機物が分解除去された処理水として排水ライン３から系外に排水される。
【００２５】
このように本実施の形態３によれば、電子供与物質を被処理水に注入することで、生成するラジカルを極めて低い濃度に維持することができ、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を抑制しながら、難分解性有機物を十分に分解することができる。これに対して、従来のオゾン／過酸化水素処理では、過酸化水素注入量を可能な限り小さくすることにより生成するＯＨラジカルの絶対量を抑制していたが、過酸化水素注入量を抑制するだけでは、ＯＨラジカルが瞬時に生成されて反応に消費されるため、難分解性有機物を安全な濃度域まで分解除去する処理時間を確保できなかった。さらに、過酸化水素の残留濃度が低下すると臭素酸イオンが急激に生成されるため、過酸化水素注入量を抑制することにより臭素酸イオン生成が増大する恐れがあった。すなわち、従来のオゾン／過酸化水素処理では、過酸水素注入量を低減すると、難分解性有機物を十分に分解できないうえに、臭素酸イオンの生成を抑制することはできないのである。
【００２６】
なお、本実施の形態３において、被処理水への電子供与物質と過酸化水素との注入順序に特に制限はなく、過酸化水素を注入した後に電子供与物質を注入してもよく、電子供与物質を注入した後に過酸化水素を注入してもよく、あるいは過酸化水素と電子供与物質とを同時に注入してもよい。また、電子供与物質は、ラジカル処理をする時点で被処理水に注入されていればよいため、電子供与物質の注入場所を横流式向流二段オゾン接触槽２Ａ内に限るものではなく、被処理水導入ライン１で予め注入することができる。また、電子供与物質および過酸化水素の注入は、複数箇所に分けて同時にまたは別々に行ってもよいし、１箇所から注入してもよい。また、オゾン接触槽２がｎ個の多段槽の場合、電子供与物質の注入場所をｎ個設けることが望ましく、過酸化水素の注入場所も同様にｎ個設けることが望ましい。過酸化水素および電子供与物質の注入ラインがｎ個ある場合、注入箇所全ての注入量を一定にする必要はなく、個別に調整することができる。
【実施例】
【００２７】
〔実施例１および比較例１〕
図１に示したのと同じ構成の水処理装置を使用して、河川水をオゾン／過酸化水素処理した実験結果の例を示す。このときの実験条件を表１に示す。実施例１では、難分解性有機物のモデル物質としてジェオスミン（臭気物質）を用い、電子供与物質としてスクロースを０．０３〜３００μｍｏｌ／Ｌ注入した。比較例１では、難分解性有機物のモデル物質としてジェオスミン（臭気物質）を用い、従来の処理方法通りに電子供与物質を注入しなかった。
【００２８】
【表１】
2007000767.tif 000003
【００２９】
スクロース注入量を３μｍｏｌ／Ｌとしたときの、実施例１および比較例１のオゾン注入量に対するジェオスミン濃度、臭素酸イオン生成量および過酸化水素濃度の変化を図４、図５および図６にそれぞれ示した。この実験は半回分式、すなわち一定量の水を蓄えた容器にオゾンガスを連続的に通気したものであり、図４〜６の横軸は注入したオゾンの累積量、あるいは経過時間と読み替えることができる。これらの図から、実施例１では、スクロースを注入することによりジェオスミン分解速度は比較例１よりわずかに遅くなったものの、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量が低減したことが分かる。特に臭素酸イオン生成量は、比較例１より顕著に低減した。
【００３０】
また、異なる過酸化水素注入量における臭素酸イオン生成量の変化を図７に示した。オゾン注入量は５ｍｇ／Ｌである。従来の処理方法である比較例１では、過酸化水素注入量を多くすることで（Ｈ２Ｏ２／Ｏ３＝０．４ｇ／ｇ以上）、臭素酸イオン生成量が低減したが、実施例１では、過酸化水素注入量が低いにもかかわらず臭素酸イオン生成を抑制することができた。
【００３１】
異なるスクロース濃度におけるジェオスミン残存率の比較を図８に示した。オゾン注入率は１ｍｇ／Ｌまたは５ｍｇ／Ｌである。スクロースの注入量を０．０３〜３０μｍｏｌ／Ｌとすることで、ジェオスミンが特に効率よく分解された。また、異なるスクロース濃度における臭素酸イオン生成量の比較を図９に示した。スクロースの注入量を０．１μｍｏｌ／Ｌ以上とすることで、臭素酸イオン生成量を１０μｇ／Ｌ以下に抑制することができた。これらの結果から、５ｍｇ／Ｌ以下のオゾン注入量で、ジェオスミンを基準値以下にまで分解し、かつ臭素酸イオンの生成を抑制するためには、電子供与物質を０．１〜３０μｍｏｌ／Ｌの濃度範囲で注入することがより望ましいことが分かった。
【００３２】
以上の結果から、ラジカルにより被処理水を浄化する際に、電子供与物質としてスクロースを注入することで、生成するラジカルを低い濃度に維持することができたので、ジェオスミンを十分に分解除去すると同時に、臭素酸イオン生成量および過酸化水素消費量を大幅に抑制することができた。
本実施例では、難分解性有機物のモデル物質としてジェオスミンを用いたが、２−ＭＩＢ、環境ホルモン、農薬類においても同様の効果が得られた。
【００３３】
〔実施例２および比較例２〕
純水系で難分解性微量有機物をオゾン／紫外線半回分処理した実験結果の例を示す。このときの実験条件を表２に示す。実施例２では、難分解性微量有機物のモデル物質としてジェオスミンを用い、電子供与物質としてスクロースを０．０３〜３０μｍｏｌ／Ｌ注入した。比較例２では、難分解性微量有機物のモデル物質としてジェオスミンを用い、従来の処理方法と同様に電子供与物質を注入しなかった。
【００３４】
【表２】
2007000767.tif 000004
【００３５】
スクロース注入量を３μｍｏｌ／Ｌとしたときの、実施例２および比較例２のオゾン注入量に対するジェオスミン分解特性、臭素酸イオン生成特性および過酸化水素濃度変化を図１０、図１１および図１２それぞれに示した。これらの図から、実施例２では、スクロースを注入することによりオゾン注入量に対するジェオスミン分解速度が比較例２よりわずかに遅くなったものの、臭素酸イオン生成が顕著に低減したことが分かる。また、オゾン／紫外線処理過程で過酸化水素が生成されるが、実施例２と比較例２ではその生成特性も異なることが分かった。
また、従来のオゾン／紫外線処理では、オゾンとラジカルが共存するという処理方法の特性のため、臭素酸イオンの生成を抑制するための具体的な対策がなかった。しかし、オゾン／紫外線処理過程において、電子供与物質を注入することで、臭素酸イオン生成を抑制できることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施の形態１に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。
【図３】本発明の実施の形態３に係る水処理装置を説明するためのフロー図である。
【図４】実施例１および比較例１のオゾン注入量に対するジェオスミン濃度の変化を示す図である。
【図５】実施例１および比較例１のオゾン注入量に対する臭素酸イオン生成量の変化を示す図である。
【図６】実施例１および比較例１のオゾン注入量に対する過酸化水素濃度の変化を示す図である。
【図７】異なる過酸化水素注入量における臭素酸イオン生成量の変化を示す図である。
【図８】異なるスクロース濃度におけるジェオスミン残存率の比較を示す図である。
【図９】異なるスクロース濃度における臭素酸イオン生成量の比較を示す図である。
【図１０】実施例２および比較例２のオゾン注入量に対するジェオスミン分解特性を示す図である。
【図１１】実施例２および比較例２のオゾン注入量に対する臭素酸イオン生成特性を示す図である。
【図１２】実施例２および比較例２のオゾン注入量に対する過酸化水素濃度の変化を示す図である。
【符号の説明】
【００３７】
１  被処理水導入ライン、２  オゾン接触槽、２Ａ  横流式向流二段オゾン接触槽、３  排水ライン、４  水質計、５  電子供与物質注入ライン、５ａ  第一の電子供与物質注入ライン、５ｂ  第二の電子供与物質注入ライン、６  過酸化水素注入ライン、６ａ  第一の過酸化水素注入ライン、６ｂ  第二の過酸化水素注入ライン、７  電子供与物質制御装置、８  散気板、９  オゾンガス供給管、１０  オゾン発生器、１１  排オゾンガス排出管、１２  紫外線ランプ、１３  紫外線ランプ保護管、１４  紫外線ランプ電源。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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