(57)【要約】【課題】硬質表面上の各種の汚れに対し汎用的に用いることができ、ｐＨ変動が小さく、低温での洗浄においてもこれらの汚れに対して安定した溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤組成物を用いる硬質表面の洗浄方法を提供すること。【解決手段】〔１〕アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、ならびに〔２〕前記〔１〕記載の洗浄剤組成物を用いて硬質表面を洗浄する方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有する硬質表面用洗浄剤組成物。
【請求項２】
炭化水素が炭素数１０〜１８の化合物である請求項１記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
アルキルグリコシドがアルキルポリグルコシドである請求項１記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計量に対する各成分の割合が、アルキルグリコシド２０〜８０重量％、グリセリルエーテル２〜７０重量％、炭化水素３〜５０重量％である請求項１〜３いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
アルキルグリコシド／グリセリルエーテルの重量比が０．２８〜４０である請求項１〜４いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
さらに、アルカリ剤を含有する請求項１〜５いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
ｐＨが４〜１２である請求項１〜６いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
さらに、キレート剤および／または水溶性高分子カルボン酸を含有する請求項１〜７いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項９】
さらに、無機酸塩および／またはベンゾトリアゾール誘導体を含有する請求項１〜８いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項１０】
さらに、グリコールエーテルを含有する請求項１〜９いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項１１】
水の含有量が洗浄剤組成物中、２０〜９０重量％である請求項１〜１０いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項１２】
標準試験によるｐＨ変化が１以下である請求項１〜１１いずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２いずれか記載の洗浄剤組成物を用いた硬質表面の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬質表面用洗浄剤組成物に関し、さらに詳細には精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面（以下、単に硬質表面という場合がある）に存在する汚れの溶解・除去性およびすすぎ性に優れ、しかも安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物（以下、単に洗浄剤組成物という場合がある）に関する。また、該洗浄剤組成物を用いる硬質表面を洗浄する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、精密部品または組立加工工程に用いられる冶工具、部品などの硬質部材の表面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系ワックスなどの有機物を主体とする汚れ成分の除去には、トリクロロエタン、テトラクロロエチレンなどの塩素系溶剤、トリクロロフルオロエタンなどのフロン系溶剤、オルソケイ酸ソーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合したアルカリ性の洗浄剤、低沸点の炭化水素系溶剤などが使用されている。しかしながら、塩素系およびフロン系の溶剤は安全性、毒性、作業環境および環境汚染などに課題を有しており、また、アルカリ性洗浄剤は精密部品などに用いる場合には、被洗浄物表面に残存するとプラスチック部品などに悪影響を与えるという懸念、電機、電子部品においては電気特性に極めて悪影響を与えるという懸念があった。
【０００３】
この問題を解決するため、例えば、アルキルグリセリルエーテルとオクタデセンおよび／または水とからなる洗浄剤組成物（特許文献１）、特定のアルキルポリグルコシドを含む洗浄剤組成物（特許文献２）、アルキルグリコシド、アルキルポリグリセリルエーテルとからなる洗浄剤組成物（特許文献３）などが開示されている。
【０００４】
一方、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面の洗浄には、従来からアルカリ性洗浄剤が幅広く用いられている。アルカリ性洗浄剤が使用されている分野では、洗浄性を向上させるために、室温より洗浄温度を上げて洗浄を行うことが多い。例えば、製鉄所などにおける鋼板（鋼帯）を連続洗浄する場合、その洗浄設備は通常、コイル状に巻き取られた鋼板（鋼帯）を連続して洗浄する構造になっており、３０〜１１００ｍ／分程度の速度で操業され、鋼板の洗浄時間は最大でも数秒と極めて短時間である。従って、鋼板用の洗浄剤は、短時間で鋼板表面に付着している油分を落とすために、通常６０〜８０℃の洗浄温度で使用されるのが一般的である。
【０００５】
前記のような硬質表面用の洗浄剤組成物としては、ポリグリセリルエーテル型ノニオン界面活性剤とアルカリ剤とを含有するアルカリ性洗浄剤組成物（特許文献４）、グリセリルエーテル、テルペン系炭化水素、界面活性剤、アルカリ剤を含むアルカリ性洗浄剤組成物（特許文献５）などが開示されている。
【特許文献１】特開平６−３４６０９２号公報
【特許文献２】特開平８−３１９４９７号公報
【特許文献３】特開平３−１７４４９６号公報
【特許文献４】特開平５−１９４９９９号公報
【特許文献５】特開平１１−２５６２００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１〜３に開示されている洗浄剤組成物は、いずれもすすぎ性や工業用洗浄剤に求められる繰り返し洗浄性などの点で充分満足な効果を有するとはいえなかった。
【０００７】
また、これらの洗浄剤組成物を用いた洗浄方法としては、まず洗浄工程として洗浄剤原液または水で希釈した洗浄剤液で洗浄し、その後、すすぎ工程として水ですすぎ、その後、乾燥工程を経るのが一般的な洗浄方法となっている。
【０００８】
さらに、最近は精密部品の加工精度が向上し非常に凹凸が多く、凹部の隙間も非常に狭くなっており、さらには生産性向上から洗浄工程にかけられる時間もより短縮化される傾向にある。
【０００９】
特に、液晶汚れの除去については、液晶表示パネルの薄型化に伴い、液晶セルのギャップ間隔がより狭くなり、ギャップ間に存在する液晶の洗浄がより困難になってきている。かかる液晶汚れに対して、前記のような従来の洗浄剤組成物を用いた場合、表面に存在する液晶に対する洗浄性はたとえ良好であったとしてもギャップ間に存在する液晶の洗浄性は不十分であった。
【００１０】
これらのことから、精密部品または組立加工工程に用いられる冶工具、部品などの硬質部材の表面に存在する各種油脂汚れ（特に精密部品の狭い隙間、凹部に付着している汚れ）の溶解性、除去性に優れ、かつすすぎにも時間を必要としない洗浄剤が望まれていた。
【００１１】
一方、特許文献４および５に開示されている洗浄剤組成物は、低温（５０℃以下）かつ短時間の洗浄条件下における繰り返し洗浄性、低泡性などの点で充分とは言えない。
【００１２】
さらに、前記のような従来の洗浄剤組成物を用いて長時間洗浄を行うと、ｐＨが低下しやすく、例えば、アルミニウムなどを備える精密部品にｐＨの低下した洗浄剤組成物を使用すると、アルミニウムの腐食が問題となる場合があり、洗浄力自体の大幅な低下が認められなくても洗浄液の交換が必要となっていた。またｐＨの低下によって、通常考えられる洗浄力の低下を越えて洗浄力の低下がもたらされ、洗浄液の交換サイクルを早める必要がある場合もあった。
【００１３】
従って、本発明は、硬質表面上の各種の汚れに対し汎用的に用いることができ、ｐＨ変動が小さく、低温での洗浄においてもこれらの汚れに対して安定した溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤組成物を用いる硬質表面の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
即ち、本発明の要旨は、
〔１〕  アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、ならびに
〔２〕  前記〔１〕記載の洗浄剤組成物を用いて硬質表面を洗浄する方法、
に関する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、硬質表面上の各種の汚れに対し汎用的に用いることができ、ｐＨ変動が小さく、低温での洗浄においてもこれらの汚れに対して安定した溶解性、除去性を示し、かつ、今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物を提供することができ、精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面を安全に洗浄することができる硬質表面の洗浄方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の洗浄剤組成物は、アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有するものであり、かかる４成分を併用することを一つの特徴とする。
【００１７】
特に、本発明は、アルキルグリコシドとグリセリルエーテルを組み合わせることにより、本来水に溶解しない炭化水素を高含水域でも分散することができる。従って、高含水率でも硬質表面上に存在する油性汚れを溶解・除去することが可能であり、洗浄剤コストを大きく低減することができるだけでなく、従来の洗浄剤に比べ、引火性を考慮した厳密な水分管理を行う必要がなくなり扱いやすくなる。
【００１８】
また、従来の炭化水素を含む水系洗浄剤は、被洗浄物に付着した洗浄剤成分および再付着した油性汚れを洗い流すためのすすぎ時の負荷が大きかったが、本発明の洗浄剤組成物を用いることによりすすぎが格段と容易になる。
【００１９】
さらに、本発明の洗浄剤組成物は、液晶セルのギャップ間に存在する液晶を洗浄することができ、従来洗浄が困難であったギャップ間の狭い液晶セル内に存在する液晶汚れも洗浄できるという効果が奏される。
【００２０】
本発明の洗浄剤組成物は、低温でも十分な硬質表面の洗浄性を有するが、５０℃より高い温度においても、先に示した公知の洗浄剤より優れた洗浄性を示す。
【００２１】
《洗浄対象》
本発明の洗浄対象となる硬質表面とは、被洗浄物である精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面をいう。
【００２２】
本発明において精密部品とは、例えば、電子部品、金属部品、電機部品、樹脂加工部品、光学部品などをいう。電子部品としては、例えば、液晶パネル、半導体パッケージ、プリント配線基板、ＩＣリード、シリコーンやセラミックウエハなどの半導体材料、水晶振動子などが挙げられる。金属部品としては、例えば、精密駆動機器に用いられるベアリング、電子ポットや電子ジャーの深絞り容器や缶などの塑性加工品などが挙げられる。電機部品としては、例えば、ブラシ、ローター、ハウジングなどの電動機部品などが挙げられる。樹脂加工品としては、例えば、カメラ、自動車などに用いられる精密樹脂加工部品などが挙げられる。光学部品としては、例えば、カメラ、眼鏡、光学機器に用いられるレンズなどが挙げられる。
【００２３】
本発明において冶工具類とは、上記の精密部品の製造、加工、組立、仕上げなどの各種工程において使用される冶具、工具、精密部品を取り扱う各種機器、その部品などをいう。
【００２４】
《除去対象》
本発明の洗浄剤組成物の主な除去対象は、上記硬質表面上に付着する液晶、油成分、フラックス（はんだ付けの際に生じる残渣）などの各種の汚れである。本発明の洗浄剤組成物は、特に、液晶パネルのギャップに存在するもれ液晶汚れ、半導体パッケージまたはプリント配線基板に残存したフラックス、シリコンインゴット切削後に表面に付着した加工油、金属部品の塑性加工時に表面に付着した加工油に対して高い洗浄性を発揮する。さらに、これらの除去対象に金属粉、無機物粉、水分などが混入した汚れに対しても高い洗浄性を発揮する。
【００２５】
《アルキルグリコシド》
本発明に用いられるアルキルグリコシドは、下記の一般式（１）：
Ｒ１（ＯＲ２）ｘＧｙ          （１）
〔式中、Ｒ１は直鎖または分岐鎖の炭素数８〜１８のアルキル基、アルケニル基、またはアルキルフェニル基を示し、Ｒ２は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、Ｇは炭素数５〜６を有する還元糖に由来する残基を示し、ｘ（平均値）は０〜５を、ｙ（平均値）は１〜５を示す〕で表される。
【００２６】
式中、ｘは、好ましくは０〜２、より好ましくは０である。ｙは、好ましくは１〜１．５、より好ましくは１〜１．４である。Ｒ１の炭素数は、洗浄性の観点から、好ましくは９〜１６、さらに好ましくは１０〜１４である。Ｒ２は、好ましくはエチレン基である。Ｇは、原料として使用される単糖類または多糖類によってその構造が決定され、単糖類としては、グルコース、ガラクトース、キシロース、マンノース、リキソース、アラビノース、これらの混合物などが挙げられ、多糖類としては、マルトース、キシロビオース、イソマルトース、セロビオース、ゲンチビオース、ラクトース、スクロース、ニゲロース、ツラノース、ラフィノース、ゲンチアノース、メレジトース、これらの混合物などが挙げられる。これらのうち、単糖類としては、入手性および低コストの点からグルコースまたはフルクトースが好ましく、多糖類ではマルトースまたはスクロースが好ましい。尚、ｘおよびｙはプロトン（１Ｈ）ＮＭＲにより求める。
【００２７】
アルキルグリコシドとしては、前記一般式（１）を満たすものであれば特に限定はないが、例えば、高い洗浄性を得る観点からは、アルキルポリグルコシドが好ましく、中でも、デシルポリグルコシド、ドデシルポリグルコシド、ミリスチルポリグルコシドなどがより好ましい。
【００２８】
ここで、アルキルポリグルコシドとは、前記一般式（１）において、Ｇがグルコース由来の残基であり、ｙが１以上であるアルキルグリコシドをいい、例えば、単糖類または多糖類をその構造として含むものが挙げられる。
【００２９】
アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計量に対するアルキルグリコシドの割合は、高いすすぎ性を得る観点から、２０〜８０重量％が好ましく、３０〜７５重量％がより好ましく、４０〜７０重量％がさらに好ましく、４０〜６５重量％がさらにより好ましく、４０〜６２重量％がさらにより好ましい。
【００３０】
《グリセリルエーテル》
本発明に用いられるグリセリルエーテルとしては、洗浄性を落とさず、かつ、使用温度範囲で均一透明な製品性状を維持する観点から、炭素数４〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基を有するものが挙げられ、例えばｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基などの炭素数４〜１２のアルキル基を有するものが好ましく、炭素数５〜１０、さらに炭素数５〜８のアルキル基を１または２個、特に１個有するものがさらに好ましい。さらに本発明に用いるグリセリルエーテルとしては、グリセリル基が２個以上、好ましくは２〜３個のグリセリル基がエーテル結合で繋がった、モノアルキルジグリセリルエーテルまたはモノアルキルポリグリセリルエーテルでも良い。中でも、液晶汚れに対する除去性がより優れる観点から、モノアルキルグリセリルエーテル、モノアルキルジグリセリルエーテルが好ましい。中でもより好ましいグリセリルエーテルは、２−エチルヘキシルグリセリルエーテルである。これらのグリセリルエーテルは、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、かかるグリセリルエーテルを用いることで、有機溶剤と水との分散性を安定させることができるため、より汚れのひどい油性汚れおよび／または液晶汚れの洗浄性が得られるという利点がある。
【００３１】
アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計量に対するグリセリルエーテルの割合は、炭化水素と水との分散を安定にさせ、高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、２〜７０重量％が好ましく、２．５〜６５重量％がより好ましく、３〜６０重量％がさらに好ましい。また、洗浄剤組成物の油水分離性を良好に保つ観点から、当該割合は、５〜３０重量％が好ましく、８〜２０重量％がより好ましく、１０〜１８重量％がさらに好ましい。油水分離性とは、油水混合液から遊離水又は遊離油を分離する能力をいい、油水分離性が良好であれば、排水への油分の混入を低減できることから、排水処理時の負荷を下げられるという効果が奏される。
【００３２】
本発明の洗浄剤組成物において、アルキルグリコシド／グリセリルエーテルの重量比（アルキルグリコシド／グリセリルエーテル）は、０．２８〜４０が好ましい。中でも、洗浄時の泡立ち性を抑制する観点から、アルキルグリコシド／グリセリルエーテルの重量比は、２０以下が好ましく、また炭化水素と水を安定に分散させる観点から、０．５以上が好ましい。また、洗浄剤組成物の油水分離性を良好に保つ観点から、当該重量比は、１〜１０が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６がさらに好ましい。したがって、アルキルグリコシド／グリセリルエーテルの重量比は、より好ましくは０．５〜２０、さらに好ましくは０．７５〜２０、さらにより好ましくは０．７５〜１７、さらにより好ましくは１〜１０、さらにより好ましくは２〜７、さらにより好ましくは３〜６である。
【００３３】
《炭化水素》
本発明に用いられる炭化水素は、オレフィン系炭化水素および／またはパラフィン系炭化水素が好ましい。オレフィン系炭化水素およびパラフィン系炭化水素としては、炭素数１０〜１８、好ましくは１０〜１４の化合物が好ましく、例えば、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデセンなどの直鎖または分岐鎖の飽和または不飽和の炭化水素；シクロデカン、シクロドデセンなどのシクロ化合物などの脂環式炭化水素などが挙げられる。これらのうち、炭素数１０〜１８、好ましくは１０〜１４の直鎖または分岐鎖の飽和または不飽和の炭化水素が好ましく、より好ましくはオレフィン系炭化水素である。これらの炭化水素は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００３４】
また、本発明においては、前記オレフィン系炭化水素およびパラフィン系炭化水素に加えて、ノニルベンゼン、ドデシルベンゼンなどのアルキルベンゼン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレンなどのナフタレン化合物などの芳香族炭化水素も使用することができる。
【００３５】
アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計量に対する炭化水素の割合は、炭化水素と水との分散を安定にさせ、高い洗浄性とすすぎ性を両立する観点から、３〜５０重量％が好ましく、５〜５０重量％がより好ましく、７．５〜５０重量％がさらに好ましく、７．５〜４５重量％がさらにより好ましく、１０〜４５重量％がさらにより好ましい。
【００３６】
《好適な組み合わせ》
また、本発明における、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の好ましい組み合わせとしては、アルキルグリコシドがデシルポリグルコシドおよび／またはドデシルポリグルコシドであり、グリセリルエーテルが２−エチルヘキシルグリセリルエーテルおよび／またはヘキシルグリセリルエーテルであり、炭化水素がデセン、ドデセン、テトラデセン、デカン、ドデカンおよびテトラデカンからなる群より選択される少なくとも１種である組み合わせが挙げられる。
【００３７】
《アルカリ剤》
本発明の洗浄剤組成物は、アルキルグリコシド単独よりも表面張力を下げ、油汚れに対する浸透・溶解力を高めることが可能となるだけでなく、アルキルグリコシドによる乳化力、すすぎ易さを維持でき、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質表面に対する洗浄性をより向上する観点から、アルカリ剤を含有することが好ましい。これにより、本発明の洗浄剤組成物は、極めて短時間で、低温で効率よく油分を溶解・除去することが可能であり、繰り返し洗浄性や低泡性が求められる工業用洗浄剤、特に非常に短時間で脱脂性を要求される鋼板などの鋼板用洗浄剤分野に有用である。本発明に用いられるアルカリ剤としては、水溶性のアルカリ剤であればいずれのものも使用できる。具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、アンモニア、ジアミン、アルカノールアミン類などのアミン類などが挙げられ、脱脂性の観点から水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが好ましい。これらのアルカリ剤は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００３８】
アルカリ剤の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、５０〜７００重量部が好ましく、１００〜６００重量部がより好ましく、１５０〜５５０重量部がさらに好ましく、２００〜５００重量部がさらにより好ましい。一方、銅板洗浄に洗浄剤組成物が使用される場合、アルカリ剤の含有量は、洗浄性および変色防止の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、０．１〜２０重量部が好ましく、０．３〜１７重量部がより好ましく、０．５〜１５重量部がさらに好ましく、０．７〜１３重量部がさらにより好ましい。
【００３９】
本発明の洗浄剤組成物のｐＨは、洗浄対象に応じて適宜設定することができ、中でも、本発明の洗浄剤組成物を銅板表面に付着した圧延油等の洗浄に用いる場合、洗浄後の銅板表面の洗浄性を向上させる観点から、４〜１２であることが好ましく、７〜１２がより好ましく、９〜１２がさらに好ましい。該ｐＨは、例えば、塩酸、硝酸等の無機酸類、酢酸、クエン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ類、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等の有機アミン類等のｐＨ調整剤を用いて、調整することができる。
【００４０】
本発明の洗浄剤組成物は、鋼板（鋼帯）または銅板表面に付着した圧延油の連続洗浄に好適に利用できる観点から、さらにキレート剤、水溶性高分子カルボン酸、無機酸塩およびベンゾトリアゾール誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。
【００４１】
《キレート剤》
本発明に用いられるキレート剤としては、グルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類、エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類、クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類、アミノトリメチレンホスホン酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸などのホスホン酸類、およびこれらのアルカリ金属塩、低級アミン塩、アンモニウム塩、アルカノールアンモニウム塩が挙げられ、より好ましくは、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムおよびヒドロキシエチリデンジホスホン酸ナトリウムである。これらのキレート剤は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００４２】
キレート剤の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、３０〜２５０重量部が好ましく、５０〜２００重量部がより好ましく、７０〜１８０重量部がさらに好ましく、１００〜１５０重量部がさらにより好ましい。一方、銅板洗浄に洗浄剤組成物が使用される場合、キレート剤の含有量は、洗浄性および変色防止の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、０．１〜３重量部が好ましく、０．３〜２重量部がより好ましく、０．５〜１．５重量部がさらに好ましく、０．７〜１重量部がさらにより好ましい。
【００４３】
《水溶性高分子カルボン酸》
本発明に用いられる水溶性高分子カルボン酸としては、以下の一般式（２）：
【００４４】
【化１】
2007039627.tif 000002
【００４５】
〔式中、Ｒ３〜Ｒ８は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシル基、ＣＯＯＭまたはＯＨを示し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、炭素数１〜４のアルキルアミンまたは炭素数１〜６のアルカノールアミンを示し、ｍおよびｎはそれぞれ括弧内の構成単位のモル数を示し、ｍ／ｎ（モル比）は０／１０〜１０／１である。〕
で表される化合物が挙げられる。
【００４６】
一般式（２）の両末端の基としては、特に限定されないが、水素原子、ＯＨ、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシル基、ＳＯ３Ｍ（Ｍは前記と同じ）などが挙げられ、両末端の基は同じでも異なっていても良い。ｍは０でも構わない。また、一般式（２）で表される化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は好ましくは１，０００〜１００，０００、より好ましくは３，０００〜５０，０００、さらに好ましくは５，０００〜２０，０００である。重合形態はブロックでもランダムでもよい。
【００４７】
一般式（２）で表される水溶性高分子カルボン酸の具体例としては、アクリル酸ホモポリマー、アクリル酸−マレイン酸共重合体、α−ヒドロキシアクリル酸ホモポリマー、Ｃ５オレフィン−マレイン酸共重合体、イソブチレン−マレイン酸共重合体など、およびこれらのアルカリ金属塩もしくはアミン塩などが挙げられる。好ましくはアクリル酸ホモポリマーまたはアクリル酸−マレイン酸共重合体である。これらの水溶性高分子カルボン酸は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００４８】
水溶性高分子カルボン酸の含有量は、水の軟水化性能、洗浄性および低ＣＯＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｏｘｙｇｅｎ  ｄｅｍａｎｄ）の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、０．１〜１０重量部が好ましく、０．５〜７重量部がより好ましく、１〜５重量部がさらに好ましく、２〜３重量部がさらにより好ましい。０．１重量部以上とすることで、工業用水などの硬度の高い水を用いた場合に、カルシウムイオンやマグネシウムイオンが汚れとして混入してくる脂肪酸などと水不溶性の塩を作り、洗浄不良となるのを効果的に抑制することができる。
【００４９】
《無機酸塩》
本発明に用いられる無機酸塩としては、オルソ珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、セスキ珪酸ナトリウム（例えば、一号珪酸ナトリウム、二号珪酸ナトリウム、三号珪酸ナトリウム）などの珪酸塩、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどのリン酸塩、炭酸二ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸二カリウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸塩、ホウ酸ナトリウムなどのホウ酸塩などが挙げられ、中でも、オルソ珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウムおよび炭酸二ナトリウムが好ましい。これらの無機酸塩は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００５０】
無機酸塩の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、０．１〜３重量部が好ましく、０．３〜２重量部がより好ましく、０．５〜１．５重量部がさらに好ましく、０．７〜１重量部がさらにより好ましい。
【００５１】
《ベンゾトリアゾール誘導体》
本発明に用いられるベンゾトリアゾール誘導体としては、一般式（３）：
【００５２】
【化２】
2007039627.tif 000003
【００５３】
〔式中、Ｒ９は−Ｈ、−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨ、−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨ、−ＣＨ２Ｎ（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）２および−ＣＨ２ＮＨ−ＣＯＮＨ２からなる群より選択される１つであり、Ｒ１０は−Ｈまたは−ＣＯＯＨである〕
で表される化合物が挙げられる。中でも、洗浄液への溶解性および銅に対する防錆効果をさらに向上する観点から、一般式（３）におけるＲ９が−ＣＨ２ＣＨ（ＣＯＯＨ）ＣＨ２ＣＯＯＨまたは−ＣＨ２ＮＨ−ＣＯＮＨ２であり、Ｒ１０が−Ｈであるベンゾトリアゾール誘導体が好ましい。
【００５４】
一般式（３）で表されるベンゾトリアゾール誘導体の具体例としては、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−（１’，２’−ジカルボキシエチル）ベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）アミノメチル］トリルトリアゾールなどが挙げられる。
【００５５】
ベンゾトリアゾール誘導体の含有量は、洗浄性および経済性の観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、０．０１〜０．３重量部が好ましく、０．０３〜０．２重量部がより好ましく、０．０５〜０．１５重量部がさらに好ましく、０．０７〜０．１重量部がさらにより好ましい。
【００５６】
《グリコールエーテル》
本発明の洗浄剤組成物は、洗浄液の粘度を下げ、洗浄時の泡立ち性を抑制し、さらには、洗浄直後のすすぎ時〔以下予備すすぎと呼ぶ〕の排水負荷を低減する観点から、グリコールエーテルを含有することが好ましい。本発明に用いられるグリコールエーテルとしては、エチレングリコールモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、ジエチレングリコールモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、トリエチレングリコールモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、ベンジルグリコール、ベンジルジグリコール、フェニルグリコール、プロピレングリコールまたはジプロピレングリコールのモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテル、ジアルキルグリコール（炭素数２〜１２）のモノアルキル（炭素数１〜１２）エーテルなどが挙げられ、中でも、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルが好ましく、特許第２５３９２８４号公報に記載のすすぎ液の排水負荷を低減する洗浄方法（以下、油水分離法と呼ぶ）を行う観点からは、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレングリコールジブチルエーテルがより好ましい。これらのグリコールエーテルは、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００５７】
グリコールエーテルの含有量は、洗浄剤の曇点を３０℃以上とし高温で洗浄し、かつ油水分離法を行う観点から、アルキルグリコシド、グリセリルエーテルおよび炭化水素の合計の含有量を１００重量部として、１〜７０重量部が好ましく、５〜５０重量部がより好ましく、１５〜４０重量部がさらに好ましく、１５〜３６重量部がさらにより好ましい。
【００５８】
《その他の成分》
本発明の洗浄剤組成物は、洗浄剤の分離を抑制するための可溶化剤、洗浄剤の外観を白色懸濁状態にするスラリー化剤などを含有してもよい。
【００５９】
本発明に用いられる可溶化剤としては、脂肪酸およびその塩、ならびにアルキルサルフェートおよびその塩が挙げられ、具体的には炭素数６〜１８のアルケニルコハク酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、酪酸、吉草酸、イソ酪酸、２−エチルヘキサン酸、およびその塩が挙げられる。
【００６０】
本発明で用いられるスラリー化剤としては、前記水溶性高分子カルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレンジスルホン酸、フタル酸およびこれらのアルカリ金属塩またはアミン塩が挙げられる。
【００６１】
本発明の洗浄剤組成物はさらに、本発明の効果を損なわない範囲で、洗浄の工程で発生する泡を抑制する消泡剤（例えば、シリコーン、高級アルコール、高級脂肪酸およびその塩、プルロニック型コポリマー、テトラニック型コポリマー、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなど）、他の界面活性剤、防腐剤、防錆剤などを含有してもよい。
【００６２】
《水》
本発明に用いられる水としては、特に限定はなく、イオン交換水、純水などが挙げられ、精密部品洗浄用途には純水が好ましく、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器またはプラスチック洗浄用途にはイオン交換水が好ましい。なお、純水とは、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留し、必要に応じて所定のフィルターに通したものをいう。水の含有量は、本発明の洗浄剤組成物の使用態様にあわせて適宜設定すればよい。
【００６３】
《態様１》
例えば、本発明の洗浄剤組成物を水などの水性媒体で希釈して硬質表面の洗浄に用いる場合、水の含有量は、洗浄剤組成物が引火しないようにする観点および経済性の観点から、洗浄剤組成物中、２０〜９０重量％が好ましく、４０〜８０重量％がより好ましく、４５〜７５重量％がさらに好ましく、５０〜７０重量％がさらにより好ましい。
【００６４】
《態様２》
あるいは、本発明の洗浄剤組成物をそのまま硬質表面の洗浄に用いる場合、水の含有量は、使用時の排水負荷を低減する観点から、洗浄剤組成物中、５０〜９９．９重量％が好ましく、８０〜９９．９重量％がより好ましく、８５〜９９．８重量％がさらに好ましく、８６〜９９．７重量％がさらにより好ましい。
【００６５】
《調製方法》
以上の構成を有する本発明の洗浄剤組成物は、前記成分およびその他の成分などを常法により混合することにより製造することができる。例えば、前記アルキルグリコシド、前記グリセリルエーテル、前記炭化水素および前記グリコールエーテルを攪拌しながら混合し、さらに必要に応じてその他の成分を混合して、最後に水を添加することで、製造することができる。
【００６６】
《用途》
本発明の洗浄剤組成物は、精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの硬質部材の表面の洗浄に適用することができる。また、本発明の洗浄剤組成物は、低温での金属、ガラス、陶磁器、プラスチックスなどの硬質部材の表面の洗浄にも好適に適用することができ、特に製鉄所などにおける鋼板の連続洗浄、すなわち浸漬洗浄、スプレー洗浄、ブラシ洗浄、電解洗浄など、製鉄所などにおける銅板の連続洗浄、すなわち、浸漬洗浄、シャワー洗浄、浸漬超音波洗浄などにおいてその効果を発揮することができる。また、本発明の洗浄剤組成物は、すすぎ液の排水負荷を低減する油水分離法による洗浄にも適用することができる。以上のような洗浄に本発明の洗浄剤組成物を適用することにより、洗浄時間の短縮、省エネルギーなどの効果が奏される。従って、本発明はまた、前記洗浄剤組成物を用いる硬質表面の洗浄方法に関する。
【００６７】
《洗浄方法》
本発明の洗浄方法は、前記洗浄剤組成物を用いて硬質表面を洗浄する工程（以下、単に洗浄工程という場合がある）を含み、さらに硬質表面に残存している洗浄剤組成物の成分に可溶化した汚れおよび／または洗浄剤組成物の成分を洗い流すためのすすぎ工程および乾燥工程を含むことが好ましい。
【００６８】
前記洗浄工程において、前記したように本発明の洗浄剤組成物をそのまま硬質表面の洗浄に使用してもよいが、排水負荷の軽減の観点から、水などの水性媒体、好ましくは水で、好ましくは１〜１０倍、より好ましくは２〜８倍、さらに好ましくは３〜６倍に本発明の洗浄剤組成物を希釈して硬質表面の洗浄に使用してもよい。また、鋼板洗浄に本発明の洗浄剤組成物を使用する場合は、水などの水性媒体、好ましくは水で、好ましくは５〜５０倍、より好ましくは１０〜３０倍、さらに好ましくは１５〜２０倍に洗浄剤組成物を希釈して鋼板表面の洗浄に使用してもよい。
【００６９】
また、洗浄工程において、安定した溶解性および除去性を得る観点から、以下の標準試験によるｐＨ変化が１以下である本発明の洗浄剤組成物を使用することが好ましく、０．５以下である洗浄剤組成物を使用することがより好ましい。なお、標準試験におけるｐＨの校正方法は、ＪＩＳ  Ｚ８８０２に基づく。
〈標準試験〉
（１）洗浄剤組成物に純水（ｐＨ＝６〜７、１μＳ／ｃｍ以下）を加えて１０重量％水溶液を調製し、この水溶液の２５℃におけるｐＨを測定する。
（２）（１）で調製した水溶液１００ｍＬを１０００ｍＬガラス容器に６０℃にて２１日間密閉保管する。なお、保管中は、２４時間ごとに栓を外してガラス容器を１分間６０℃で放置後、再度栓をして、ガラス容器を５回振とうする。
（３）（２）における保管終了後、保管後の水溶液の２５℃におけるｐＨを測定する。
（４）（１）で測定したｐＨと（３）で測定したｐＨとの差の絶対値を求め、その値をｐＨ変化とする。
【００７０】
洗浄工程における洗浄温度は、硬質表面に付着する汚れに対して十分な溶解性および除去性を発揮する観点から、好ましくは４０℃以上、より好ましくは６０℃以上である。また、洗浄温度は、水分の蒸発を抑制する観点から、９０℃以下が好ましく、８０℃以下がより好ましい。
【００７１】
洗浄時間は、洗浄される硬質部材の種類および付着している汚れの量および種類によっても異なるので一概にはいえないが、３０〜６０分の洗浄時間で硬質表面から汚れが十分除去される。
【００７２】
洗浄手段としては、浸漬法、超音波洗浄法、浸漬揺動法、スプレー法、電解洗浄、手拭き法等の各種の公知の洗浄手段が挙げられ、硬質部材の種類にあわせて、これらの手段を単独でまたは適宜組み合わせて硬質表面を洗浄することができる。
【００７３】
すすぎ工程は、洗浄工程が終了した後、洗浄剤組成物を廃棄し、硬質表面に残存している洗浄剤組成物の成分に可溶化した汚れおよび／または洗浄剤組成物の成分を硬質表面から取り除くため行われる。乾燥工程は、すすぎ工程が終了した後、硬質表面に残存している水分を乾燥するために行われる。
【００７４】
また、本発明の洗浄剤組成物は、すすぎ液の排水負荷を低減する油水分離法による洗浄に用いることもできる。
【実施例】
【００７５】
なお、実施例１〜１０および２３〜２５、ならびに比較例１〜３および１２〜１３では、洗浄剤組成物の成分としての水はすべて純水を使用し、実施例１１〜２２、２６〜２８および比較例４〜１１では、洗浄剤組成物の成分としての水はすべてイオン交換水を使用した。
【００７６】
《液晶セル表面の洗浄性》
１．試験基板の作製
液晶セル（ギャップ間距離５μｍ）のギャップ内にＴＦＴ（薄膜トランジスター）液晶を封入し、室温で３０分間静置したものを試験基板とした。
【００７７】
２．洗浄剤組成物の調製
表１および表２に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例１〜１０および比較例１〜３の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。
【００７８】
３．洗浄試験
２．で調製した洗浄剤組成物を４０℃に加温し、その中に１．で作製した試験基板を入れ、１０分間超音波洗浄（３９ｋＨｚ、２００Ｗ）し、その後、４槽の各純水槽（４０℃）にて３分間すすぎを行なった後、９０℃の熱風乾燥機で３０分間乾燥を行い、観察サンプルとした。
【００７９】
〔洗浄性〕
観察サンプルのギャップ内に残留している液晶、ならびにすすぎ時に十分に排出されなかった液晶と洗浄剤組成物との混合物を偏光顕微鏡（倍率２５倍）で観察し、液晶セル表面の洗浄性を評価した。洗浄性の評価は、観察したギャップの全面積から液晶および液晶と洗浄剤組成物との混合物が残留した箇所の全面積を引いた面積を、観察したギャップの全面積で除した値を算出し、その値を元に以下の評価基準に従って評価した。その結果を表１および表２に示す。
〔評価基準〕
◎：９０％以上
○：８０〜９０％未満
△：４０〜８０％未満
×：４０％未満
【００８０】
４．繰り返し洗浄試験
洗浄剤組成物の繰り返し洗浄性を評価するために液晶飽和溶解濃度を調べた。２．で調製した洗浄剤組成物２０ｇを４０℃に加温し、その中にＴＦＴ液晶を０．０２ｇ添加し、３分間４０℃で保持した。その後、洗浄剤組成物を目視にて確認し、透明であればＴＦＴ液晶が溶解したものと判断して、洗浄剤組成物が白濁するまで同じ操作を繰り返した。洗浄液組成物が初めて白濁した液晶量から０．０１ｇを差し引いた量から飽和溶解濃度を算出し、液晶飽和溶解濃度と定義した。
【００８１】
例えば、ＴＦＴ液晶を０．２４ｇ加えた際に初めて白濁したと仮定すると、液晶飽和溶解濃度は、（０．２４−０．０１）／（２０＋０．２４−０．０１）×１００で算出される。かかる液晶飽和溶解濃度を用い、下記評価基準に基づいて繰り返し洗浄性を評価した。その結果を表１および表２に示す。なお、◎または○のものを合格とした。
〔評価基準〕
◎：２％以上
○：１％以上〜２％未満
△：０．５％以上〜１％未満
×：０．５％未満
【００８２】
５．すすぎ試験
（１）すすぎ水評価
すすぎ後のすすぎ水の状態を評価するために、各洗浄剤組成物の５重量％水溶液を予備すすぎ液、また各洗浄剤組成物の０．５重量％水溶液をすすぎ液と見なして調製し、６０℃でのこれら予備すすぎ液およびすすぎ液の状態を目視にて白濁しているか否かについて観察し、すすぎ水の評価とした。なお、少なくともすすぎ液が白濁していなければ合格とした。その結果を表１および表２に示す。
【００８３】
（２）すすぎ性評価
〈１〉  各洗浄剤組成物の１０重量％水溶液（５００ｇ）を６０℃に加温し、その中に１枚あたりＴＦＴ液晶が０．２ｍｇ付着したガラスパネル（３５×４８ｍｍ）を１８枚１０分間浸漬した。
〈２〉  その後、２０秒かけパネルをゆっくり引上げ、６０℃の純水５００ｇを入れた第１すすぎ槽に２分間浸漬した。
〈３〉  第１すすぎ槽から〈２〉と同様にパネルを引上げ、６０℃の純水５００ｇを入れた第２すすぎ槽に２分間浸漬した。
〈４〉  第２すすぎ槽から〈２〉と同様にパネルを引上げ、７０℃の純水５００ｇを入れた抽出槽（超音波槽）に浸漬し、超音波（３８ＫＨｚ、４００Ｗ）で１０分間処理し、パネル表面に残存した洗浄剤組成物の成分に可溶化した液晶および／または洗浄剤組成物の成分を抽出した。
〈５〉  次に各すすぎ槽（第１および第２）中のすすぎ水ならびに抽出槽中の抽出水の有機物濃度をＴＯＣ（全有機炭素計）により測定し、下式に従って、第１すすぎ槽における油分除去率を算出した。
式：第１すすぎ槽における油分除去率（％）＝
（第１すすぎ槽中のすすぎ水の有機物重量）／（第１すすぎ槽中のすすぎ水の有機物重量＋第２すすぎ槽中のすすぎ水の有機物重量＋抽出槽中の抽出水の有機物重量）×１００
〈６〉  〈５〉で算出した油分除去率を元に以下の評価基準に従ってすすぎ性を評価した。その結果を表１および表２に示す。なお、◎または○のものを合格とした。
〔評価基準〕
◎：第１すすぎ槽の油分除去率が９０％以上
○：第１すすぎ槽の油分除去率が７０％以上〜９０％未満
△：第１すすぎ槽の油分除去率が５０％以上〜７０％未満
×：第１すすぎ槽の油分除去率が５０％未満
【００８４】
【表１】
2007039627.tif 000004
【００８５】
【表２】
2007039627.tif 000005
【００８６】
表１の結果より、実施例１〜５および７〜１０で得られた洗浄剤組成物は、予備すすぎ液、すすぎ液も透明であり、すすぎ性評価も高く、洗浄性も高いことから、洗浄後のギャップには、液晶および液晶と洗浄剤組成物との混合物がなく、液晶に対して高い洗浄性を示していることがわかる。また実施例６では、油水分離法が可能な洗浄剤組成物であり、予備すすぎ液が白濁するものの、すすぎ液が透明であることから、残存している洗浄剤組成物の成分に可溶化した液晶および／または洗浄剤組成物の成分を十分にすすぎ可能であることが示された。
【００８７】
それに対し表２の結果より、比較例１と２で得られた洗浄剤組成物は、すすぎ水は透明であるが、炭化水素を含まないことから、洗浄性が低いことがわかる。従って、同じ洗浄液で繰り返し洗浄を行うことの多い工業用洗浄液として、これらの洗浄剤組成物は十分な性能を有していない。また比較例３は、炭化水素を含んでおり、液晶洗浄性はあるものの、すすぎ性が劣り、その結果、工業用洗浄液として、十分な性能を有していない。
【００８８】
《鋼板表面の洗浄性１》
１．試験鋼板の作製
厚さ０．５ｍｍに冷間圧延された、付着油分量３５０ｍｇ／ｍ２の鋼板を縦５０ｍｍ×横２５ｍｍの大きさに切断して試験鋼板とした。
【００８９】
２．洗浄剤組成物の調製
（１）洗浄剤組成物（汚れ無し洗浄剤組成物）の調製
表３に示す組成となるように、各成分を添加混合して実施例１１の洗浄剤組成物を調製し、イオン交換水を用いて１８倍に希釈して、特性評価に供した。
（２）疑似劣化洗浄剤組成物の調製
圧延機に付着し堆積したスカムからヘキサンで抽出して得たスカム抽出油を（１）で調製した洗浄剤組成物１００重量部に対して１．０重量部となるように、洗浄剤組成物に添加し、十分撹拌して疑似劣化洗浄剤組成物を調製した。
【００９０】
３．洗浄試験
２．で調製した洗浄剤組成物（汚れ無し洗浄剤組成物）および疑似劣化洗浄剤組成物を４０℃に加温し、その中にそれぞれ設置した縦１００ｍｍ×横５０ｍｍの大きさの電極板１対（電極板間距離は２０ｍｍ）から等距離かつ中心に試験鋼板を１秒浸漬し、その後電流密度１０Ａ／ｄｍ２で鋼板電位を負から正に一度切り替えて、それぞれ０．５秒ずつ電流を流し電解洗浄した。その後引き続きスプレーヘッドから１０ｃｍの位置で１秒間水スプレー（水温２０℃、水圧０．２ＭＰａ）によりすすぎ、６０℃の熱風乾燥機で１分間乾燥し、観察サンプルとした。
【００９１】
〔洗浄性〕
観察サンプルを５等分し、汚れ無し洗浄剤組成物および疑似劣化洗浄剤組成物について、それぞれ各観察サンプルの鋼板付着油分量を油分量測定装置「ＥＭＩＡ−１１１」（（株）堀場製作所製）を用い測定し、５枚の平均を測定値とした。その値が４５ｍｇ／ｍ２未満であれば合格として評価した。その結果を表３に示す。
【００９２】
４．泡立ち性試験
２５ｍＬ試験管に２．で調製した汚れ無し洗浄剤組成物を１０ｍＬ充填し、液温を４０℃に保持した。その後、試験管を手振りで１０回振とうさせ、静置直後の洗浄剤組成物と泡高さを合わせた体積を初期泡高さとした。また、その試験管を４０℃で１分間保持した後、静置直後の洗浄剤組成物と泡高さを合わせた体積を１分間静置後の泡高さとした。
【００９３】
〔初期泡立ち性および泡切れ性〕
初期泡高さ（初期泡立ち性）が１６ｍＬ以下であり、かつ１分間静置後の泡高さ（泡切れ性）が１１ｍＬ以下であれば合格として評価した。その結果を表３に示す。
【００９４】
【表３】
2007039627.tif 000006
【００９５】
表３の結果より、実施例１１で得られた洗浄剤組成物は、鋼板の洗浄性に優れ、低泡性のものであることがわかる。
【００９６】
《鋼板表面の洗浄性２》
１．試験鋼板の作製
《鋼板表面の洗浄性１》と同様に試験鋼板を作製した。
【００９７】
２．洗浄剤組成物の調製
（１）洗浄剤組成物（汚れ無し洗浄剤組成物）の調製
表４に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例１２〜１５および比較例４〜７の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。
（２）疑似劣化洗浄剤組成物の調製
《鋼板表面の洗浄性１》と同様に疑似劣化洗浄剤組成物を調製した。
【００９８】
３．洗浄試験
《鋼板表面の洗浄性１》と同様の試験を行った。
【００９９】
〔洗浄性〕
《鋼板表面の洗浄性１》と同様の評価を行った。その結果を表４に示す。
【０１００】
４．泡立ち性試験
《鋼板表面の洗浄性１》と同様の試験を行った。
【０１０１】
〔初期泡立ち性および泡切れ性〕
《鋼板表面の洗浄性１》と同様の評価を行った。その結果を表４に示す。
【０１０２】
【表４】
2007039627.tif 000007
【０１０３】
表４の結果より、実施例１２〜１５で得られた洗浄剤組成物は、いずれも比較例４〜７で得られたものよりも、鋼板の洗浄性に優れ、低泡性のものであることがわかる。
【０１０４】
《銅板表面の洗浄性》
１．試験銅板の作製
厚さ１ｍｍに冷間圧延された、付着油分量７０ｍｇ／ｍ２の銅板を縦３５ｍｍ×横１２０ｍｍの大きさに切断して試験銅板とした。
【０１０５】
２．洗浄剤組成物の調製
表５に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例１６〜２２、２６〜２８および比較例８〜１１の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。なお、実施例１７〜２２および２６〜２８の洗浄剤組成物は表５に示す組成となるように、各成分を添加混合して調製した後、イオン交換水で４倍に希釈して次の３．洗浄試験に用いた。
【０１０６】
３．洗浄試験
２．で調製した洗浄剤組成物を５０℃に加温し、その中に１．で作製した試験銅板を浸漬し、３０秒間超音波洗浄（２５ｋＨｚ、６００Ｗ）した。次いで、５０℃に加温したイオン交換水中で、この銅板を２〜３秒間揺動した。その後、試験銅板を２５℃の水道水で３０秒間シャワーし、次いで２５℃のクエン酸５重量％水溶液中に１０秒間浸漬した。さらにその後、試験銅板を２５℃の水道水で３０秒間シャワーし、次いで２５℃のイオン交換水中に５秒間浸漬した。最後に、試験銅板上に残留している水滴をエアブローすることで吹き飛ばし、試験銅板を９０℃の熱風乾燥機で１０分間乾燥し、観察サンプルとした。
【０１０７】
〔洗浄性〕
観察サンプルを５等分し、各観察サンプルの銅板付着油分量を油分量測定装置「ＥＭＩＡ−１１１」（（株）堀場製作所製）を用い測定し、５枚の平均を測定値とした。その値が１０ｍｇ／ｍ２未満であれば合格として評価した。その結果を表５に示す。
【０１０８】
〔錆または油性シミの発生〕
観察サンプルを目視にて確認し、錆または油性シミの発生の有無を確認し、以下の評価基準に従い評価した。その結果を表５に示す。なお、いずれの項目も◎または○のものを合格とした。
〔評価基準〕
◎：錆または油性シミの発生なし
○：錆または油性シミの発生をかすかに認める
△：明らかな錆または油性シミの発生を１点認める
×：明らかな錆または油性シミの発生を複数点認める
【０１０９】
【表５】
2007039627.tif 000008
【０１１０】
表５の結果より、実施例１６〜２２で得られた洗浄剤組成物は、いずれも比較例８〜１１で得られたものよりも、銅板の洗浄性、防錆効果およびシミ防止に優れることがわかる。また、実施例２６〜２８の結果より、油性シミの発生を防止する観点からは、洗浄剤組成物のｐＨが４〜１２であることが好ましく、７〜１２がより好ましく、９〜１２がさらに好ましいことがわかる。
【０１１１】
《ｐＨ安定性》
１．洗浄剤組成物の調製
表６に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例２３および比較例１２〜１３の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。
【０１１２】
２．ｐＨ安定性試験
前記標準試験に従ってｐＨ変化を測定した。その結果を表６に示す。
【０１１３】
【表６】
2007039627.tif 000009
【０１１４】
表６の結果より、実施例２３で得られた洗浄剤組成物の標準試験によるｐＨ変化は１以下であり、比較例１２〜１３で得られた洗浄剤組成物の標準試験によるｐＨ変化は１を超えていることがわかり、本発明の洗浄剤組成物は、各種汚れに対して長期間安定して優れた溶解性および除去性を維持できると考えられる。
【０１１５】
《油水分離性》
１．洗浄剤組成物の調製
表８に示す組成となるように、各成分を添加混合し、実施例２４および２５の洗浄剤組成物をそれぞれ調製した。なお、表８に示される該洗浄剤組成物の油水分離性以外の特性評価は上記の《液晶セル表面の洗浄性》と同様にして評価した結果である。
【０１１６】
２．油水分離性試験
１．で調製した各洗浄剤組成物について、水以外の成分が５重量％となるようにイオン交換水で希釈した洗浄剤組成物溶液を、直径４０ｍｍ、高さ１２０ｍｍ、容量１００ｍｌのガラス瓶に入れ、６０℃の雰囲気下にて１時間保温静置した。その後、各洗浄剤組成物溶液の状態１を観察し、該溶液が上下２層に分層している場合は、ガラス瓶を上下して激しく振ることにより該溶液を１０秒撹拌してさらに状態２を観察した。当該観察結果を表７に示す評価基準に従って評価した。その結果を表８に示す。なお、いずれの項目も◎または○のものを合格とした。
〔評価基準〕
【０１１７】
【表７】
2007039627.tif 000010
【０１１８】
【表８】
2007039627.tif 000011
【０１１９】
表８の結果より、実施例２４および２５の洗浄剤組成物は油水分離性に優れていることが分かる。このことから、本発明の洗浄剤組成物は、油水分離により油分を除去することで排水負荷を低減することができると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明の洗浄剤組成物は、例えば、精密部品、冶工具類、金属、ガラス、陶磁器、プラスチックなどの洗浄に好適に使用することができる。