(57)【要約】  【課題】フッ素含有廃液を排出する三フッ化ホウ素等の触媒を使用せず、更には、反応操作及び反応制御が容易な還元剤を使用する置換アダマンチルエタノールの製造方法を提供する。  【解決手段】アダマンタン化合物を原料として、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、（I）置換アダマンチル酢酸エステルを得る工程、又は（II）置換アダマンチル酢酸を経由して、置換アダマンチル酢酸ハライドを得る工程を経て、得られた化合物を還元剤と反応させる一般式（１）2007153803.tif 000021  （式中、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数を示す。）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とする一般式（１）
【化１】
2007153803.tif 000012
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数を示す。）
で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
（Ａ）一般式（２）
【化２】
2007153803.tif 000013
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じであり、Ｘ1は水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を一般式（３）
【化３】
2007153803.tif 000014
（式中、Ｒ2は炭素数１〜３のアルキル基を示す。）
で表されるアルコールと反応させて、一般式（４）
【化４】
2007153803.tif 000015
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎは、前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸エステルを得る工程、
（Ｂ）工程（Ａ）で得られた置換アダマンチル酢酸エステルを、還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程。
【請求項２】
前記工程（Ａ）の硫酸の濃度が８３〜９６質量％であり、反応温度が−１０〜５０℃である請求項１に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
【請求項３】
以下の工程（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする一般式（１）
【化５】
2007153803.tif 000016
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数を示す。）
で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
（Ｃ）一般式（２）
【化６】
2007153803.tif 000017
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じであり、Ｘ1は水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を水と反応させて、一般式（５）
【化７】
2007153803.tif 000018
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸を得る工程、
（Ｄ）工程（Ｃ）で得られた置換アダマンチル酢酸に、一般式（６）
【化８】
2007153803.tif 000019
（式中、Ｘ2はハロゲン原子を示す。）
で表されるハロゲン化チオニルを反応させて、一般式（７）
【化９】
2007153803.tif 000020
（式中、Ｒ1、Ｘ2及びｎは前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを得た後、得られた置換アダマンチル酢酸ハライドを還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程。
【請求項４】
前記工程（Ｃ）の硫酸の濃度が８３〜９６質量％であり、反応温度が−１０〜４０℃である請求項３に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
【請求項５】
前記工程（Ｃ）で得られた一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸を、晶析により精製する請求項３又は４に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、置換アダマンチルエタノールを高収率、高純度で得る製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アダマンタンは、シクロヘキサン環が４個、カゴ形に縮合した構造を有し、対称性が高く、安定な化合物であり、その誘導体は、特異な機能を示すことから、医薬品原料や高機能性工業材料の原料等として有用であることが知られている。例えば光学特性や耐熱性等を有することから、光ディスク基板、光ファイバーあるいはレンズ等に用いることが試みられている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
また、アダマンチルエステル類を、その酸感応性、ドライエッチング耐性、紫外線透過性等を利用して、フォトレジスト用樹脂原料として使用することが試みられている（例えば、特許文献３参照）。
近年、それらの誘導体のうち置換アダマンチルエタノール由来の構造を有する医薬品が、自己免疫性疾患の治療薬として有用なＴＮＦ−α産生阻害物質となりうることが見出され、原料としての置換アダマンチルエタノールの重要性が高まってきている（例えば、特許文献４参照）。
従来より、一部医薬品向け原料として置換アダマンチルエタノールの需要があり（例えば、特許文献５参照）、その製造方法が種々検討されてきた。
【０００３】
置換アダマンチルエタノールのうち、１−アダマンチルエタノールの製造方法としては、一般的に、１−アダマンチル酢酸又は１−アダマンチルアセトアルデヒドを一旦合成し、それらを還元する方法が知られている。
１−アダマンチル酢酸の製造方法としては、１−ブロモアダマンタンと塩化ビニリデンを三フッ化ホウ素の存在下、濃硫酸中で反応させる方法が報告されている（特許文献６参照）。
１−アダマンチルエタノールの製造方法としては、１−アダマンタノールとマロン酸ジエチルエステルを三フッ化ホウ素の存在下、ｎ−ヘキサン中で反応させ、１−アダマンチルマロン酸ジエチルエステルを合成した後、これをアルカリで分解して得た１−アダマンチル酢酸を水素化アルミニウムリチウムで還元する方法が報告されている（例えば、特許文献７参照）。
これらの方法は、いずれも三フッ化ホウ素を使用しており、フッ素含有廃液を処理するために特別な設備が必要となり、コストアップとなる欠点がある。
また、１−アダマンチルアセトアルデヒドの製造方法としては、上記の塩化ビニリデンの代わりにアセチレンを使用する方法がある（例えば、非特許文献１参照）。しかし、アセチレンは危険性が高い高圧ガスであり、使用に際しては特別な設備が必要となり、一般的な工業的製法とは言いがたい。
また、１−アダマンチル酢酸の還元は、還元剤として水素化アルミニウムリチウムを使用するか、又は２０ＭＰａ程度の高圧で接触水添する必要がある。しかし、水素化アルミニウムリチウムは反応時の発熱量が大きいためスケールアップが困難であり、アルミ廃液が発生するという問題がある。接触水添においては、特別な高圧反応器を使用する必要があり、いずれの方法もコスト面で不利である。
さらに、１−アダマンチル酢酸の製造方法としては、アダマンタンと塩化ビニリデンを、シクロヘキサン及びｔ−ブタノールの存在下、硫酸中で反応させて、１−アダマンチル酢酸を得る方法が報告されている（例えば、特許文献８参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−３０５０４４号公報
【特許文献２】特開平９−３０２０７７号公報
【特許文献３】特開平４−３９６６５号公報
【特許文献４】特開２００２−５３５５５号公報
【特許文献５】米国特許３５３４０８４号明細書
【特許文献６】英国特許１１４９２９１号明細書
【特許文献７】英国特許１１６８７８１号明細書
【特許文献８】特公昭４８−２８９０４号公報
【非特許文献１】Ｂｏｔｔ．Ｋ，Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９７２，７６６，５１−５７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような状況下、フッ素含有廃液を排出する三フッ化ホウ素等の触媒を使用せず、更には、反応操作及び反応制御が容易な還元剤を使用する置換アダマンチルエタノールの製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を原料として、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、（I）一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルを得る工程、又は（II）一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸を経由して、一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを得る工程を経て、得られた化合物を還元剤と反応させる方法により、本発明の目的が達成できることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
即ち、本発明は下記の通りである。
１．以下の工程（Ａ）及び（Ｂ）を含むことを特徴とする一般式（１）
【０００７】
【化１】
2007153803.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数を示す。）
で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
（Ａ）一般式（２）
【０００９】
【化２】
2007153803.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じであり、Ｘ1は水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を一般式（３）
【００１１】
【化３】
2007153803.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒ2は炭素数１〜３のアルキル基を示す。）
で表されるアルコールと反応させて、一般式（４）
【００１３】
【化４】
2007153803.tif 000005
【００１４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎは前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸エステルを得る工程、
（Ｂ）工程（Ａ）で得られた置換アダマンチル酢酸エステルを、還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程、
２．前記工程（Ａ）の硫酸の濃度が８３〜９６質量％であり、反応温度が−１０〜５０℃である上記１に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法、
３．以下の工程（Ｃ）及び（Ｄ）を含むことを特徴とする一般式（１）
【００１５】
【化５】
2007153803.tif 000006
【００１６】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数を示す。）
で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法、
（Ｃ）一般式（２）
【００１７】
【化６】
2007153803.tif 000007
【００１８】
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じであり、Ｘ1は水酸基又はハロゲン原子を示す。）
で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を水と反応させて、一般式（５）
【００１９】
【化７】
2007153803.tif 000008
【００２０】
（式中、Ｒ1及びｎは前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸を得る工程、
（Ｄ）工程（Ｃ）で得られた置換アダマンチル酢酸に、一般式（６）
【００２１】
【化８】
2007153803.tif 000009
【００２２】
（式中、Ｘ2はハロゲン原子を示す。）
で表されるハロゲン化チオニルを反応させて、一般式（７）
【００２３】
【化９】
2007153803.tif 000010
【００２４】
（式中、Ｒ1、Ｘ2及びｎは前記に同じである。）
で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを得た後、得られた置換アダマンチル酢酸ハライドを還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程、
４．前記工程（Ｃ）の硫酸の濃度が８３〜９６質量％であり、反応温度が−１０〜４０℃である上記３に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法、
５．前記工程（Ｃ）で得られた一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸を、晶析により精製する上記３又は４に記載の一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの製造方法。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、フッ素含有廃液を排出する三フッ化ホウ素等の触媒を使用せずに、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステル、又は一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを得ることができ、さらに、これらの化合物を還元することにより、容易に高純度の置換アダマンチルエタノールを高収率で得ることができる。
また、還元剤として、アルミニウム原子を含まない還元剤を使用した場合には、アルミ廃液を排出せず、さらに、反応操作及び反応制御が一層容易となり、高純度の置換アダマンチルエタノールを高収率で得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に、本発明の製造方法について詳細に説明する。
本発明の置換アダマンチルエタノール化合物の製造方法は２つあり、本発明１は、工程（Ａ）及び（Ｂ）を含む製造方法であり、本発明２は、工程（Ｃ）及び（Ｄ）を含む製造方法である。
【００２７】
まず、本発明１について説明する。
本発明１により生成する一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールにおいて、Ｒ1は炭素数１〜８のアルキル基、ｎは０〜１５の整数である。
炭素数１〜８のアルキル基としては、直鎖状、分岐状いずれでもよく、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基又は各種オクチル基等が挙げられる。ｎは０〜２の場合が好ましく、０の場合が特に好ましい。ｎが複数の場合、Ｒ1は同一でもよいし、異なっていてもよい。
上記一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールとしては、１−アダマンチルエタノール、３−メチル−１−アダマンチルエタノール、３，５−ジメチル−１−アダマンチルエタノール等が挙げられ、１−アダマンチルエタノールが好ましい。
本発明１で使用する一般式（２）で表されるアダマンタン化合物において、Ｘ1は水酸基又はハロゲン原子であり、Ｒ1、ｎは、上述した一般式（１）における説明と同じである。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは、塩素原子である。
上記一般式（２）で表されるアダマンタン化合物としては、１−アダマンタノール、１−クロロアダマンタン、１−ブロモアダマンタン、３，５−ジメチル−１−クロロアダマンタン、３，５−ジメチル−１−ブロモアダマンタン、３−メチル−１−クロロアダマンタン、３−メチル−１−ブロモアダマンタン等が挙げられ、１−アダマンタノール、１−ブロモアダマンタンが好ましい。
本発明１で使用する一般式（３）で表されるアルコールにおいて、Ｒ2は炭素数１〜３のアルキル基である。
炭素数１〜３のアルキル基としては、直鎖状、分岐状いずれでもよく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基である。
上記一般式（３）で表されるアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等が挙げられ、メタノール、エタノールが好ましい。
本発明１により中間生成物として生成する一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルにおいて、Ｒ1、Ｒ2及びｎは、上述した一般式（１）又は（３）における説明と同じである。
上記一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルとしては、１−アダマンチル酢酸メチル、１−アダマンチル酢酸エチル、１−アダマンチル酢酸ｎ−プロピル、１−アダマンチル酢酸ｉ−プロピル等が挙げられ、１−アダマンチル酢酸メチル、１−アダマンチル酢酸エチルが好ましい。
本発明１で使用するハロゲン化ビニリデンとしては、塩化ビニリデン、臭化ビニリデン等が挙げられ、塩化ビニリデンが好ましい。
【００２８】
［工程（Ａ）］
工程（Ａ）は、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中で、ハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を一般式（３）で表されるアルコールと反応させて、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルを得る工程である。
【００２９】
上記硫酸の濃度は、通常８３〜９６質量％の範囲であり、この範囲内であれば、アダマンタンジ酢酸等の不純物の生成量が少なく、反応転化率が向上する。硫酸の濃度としては、好ましくは８５〜９３質量％である。
硫酸は、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物に対して、通常３〜２０倍モルの範囲で使用する。この範囲内であれば、好ましい反応速度が得られ、副生成物の濃度上昇を抑えることができる。硫酸の使用量としては、好ましくは５〜１５倍モルの範囲である。
【００３０】
本工程において、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を含む硫酸溶液の調製方法としては、特に制限はないが、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を、通常−１０〜５０℃の範囲に保った硫酸中に添加し、攪拌しながら溶解又は懸濁させるのが好ましい。上記の温度としては、好ましくは０〜３０℃の範囲、より好ましくは０〜１０℃の範囲である。本工程において、溶媒は特に使用する必要はないが、使用することもできる。溶媒としては、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。
【００３１】
ハロゲン化ビニリデンの反応方法としては、特に制限はないが、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を含む硫酸混合溶液中に添加し、反応させる方法が好ましい。
上記ハロゲン化ビニリデンは、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物に対して、通常２〜２０倍モルの範囲で使用する。この範囲内であれば、高い反応転化率が得られ、副生成物濃度の上昇を抑えることができる。ハロゲン化ビニリデンの使用量としては、好ましくは５〜１５倍モルの範囲である。
反応温度は、通常−１０〜５０℃の範囲である。この範囲内であれば、反応速度、及び目的物の収率が低下することがない。反応温度としては、好ましくは０〜３０℃の範囲であり、より好ましくは０〜２５℃の範囲である。
反応時間としては、ハロゲン化ビニリデンを添加後、通常１〜５時間である。
【００３２】
一般式（３）で表されるアルコールの反応方法としては、特に制限はないが、上記で得られた反応液をアルコール溶液中に添加し、反応させる方法が好ましい。
上記一般式（３）で表されるアルコールは、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物１質量部に対して通常２〜２０質量部の範囲で使用する。この範囲内であれば、ほぼ定量的に一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルが生成する。一般式（３）で表されるアルコールの使用量としては、好ましくは一般式（２）で表されるアダマンタン化合物１質量部に対して５〜１５質量部の範囲である。
反応温度は、通常−１０〜５０℃の範囲である。この範囲内であれば、収率及び選択率の面で最適である。反応温度としては、好ましくは０〜３０℃の範囲であり、より好ましくは、０〜２０℃の範囲である。
反応時間は、通常０．５〜３時間である。
【００３３】
上記で得られた反応液から、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルを単離する方法としては、特に制限はないが、以下の方法が挙げられる。例えば、一般式（３）で表されるアルコールとの反応終了後、得られた反応液を不活性溶媒で抽出し、次いで、この抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液等の塩基性水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥させた後、溶媒を留去し一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルの粗生成物を得ることができる。不活性溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等を単独又は混合して使用することができる。
【００３４】
この粗生成物の精製方法としては、昇華、晶析、カラム分離等が挙げられ、生成物の性状と不純物の種類により選択することができ、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルが固体である場合、工業的な精製方法としては、晶析が好ましい。
晶析溶媒としては、種々のものが使用できるが、好ましくは、水、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等を単独又は混合して使用することができる。
晶析温度としては、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルの溶媒への溶解度によって最適な条件を選択すれば良い。
一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルの粗生成物は、精製せずに、次の還元反応に使用しても良いし、精製した後に還元反応に使用しても良い。
【００３５】
［工程（Ｂ）］
工程（Ｂ）は、工程（Ａ）で得られた一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルを、還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程である。
【００３６】
上記還元剤としては、一般的なものを使用することができる。例えば、水素化アルミニウムリチウム（ＬｉＡｌＨ4）、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、ＬｉＡｌＨ（Ｏ−Ｒ）3（Ｒはアルキル基）、ジボラン、ボラン／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）錯体、ボラン／１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタン錯体、ボラン／ｔ−ブチルアミン錯体、ボラン／Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン／ジメチルアミン錯体、ボラン／ジメチルスルフィド錯体、ボラン／モルフォリン錯体、ボラン／ピリジン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／トリメチルアミン錯体、ボラン／トリフェニルホスフィン錯体等が挙げられる。
アルミ廃液を排出しないという観点から、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、ジボラン、ボラン／テトラヒドロフラン錯体、ボラン／１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタン錯体、ボラン／ｔ−ブチルアミン錯体、ボラン／Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン／ジメチルアミン錯体、ボラン／ジメチルスルフィド錯体、ボラン／モルフォリン錯体、ボラン／ピリジン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／トリメチルアミン錯体、ボラン／トリフェニルホスフィン錯体等が挙げられ、より好ましくは、ボラン／テトラヒドロフラン錯体、ボラン／ｔ−ブチルアミン錯体、ボラン／ジメチルアミン錯体、ボラン／ピリジン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／トリフェニルホスフィン錯体である。
還元剤は、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルに対して、通常１〜１０倍モルの範囲、好ましくは１〜５倍モルの範囲で使用する。
上記還元剤は、ルイス酸とともに使用することができる。ルイス酸としては、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、塩化チタン（IV）等が挙げられる。フッ素含有廃液やアルミ廃液を排出しない製造方法の観点から、塩化チタン（IV）が好ましく、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステルに対して、通常１〜１０倍モルの範囲、好ましくは１〜５倍モルの範囲で使用する。
本工程において、溶媒として、一般的な有機溶媒を使用することができる。例えば、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルホルムアミド、スルホラン等の非プロトン性溶媒等が挙げられる。好ましくは、テトラヒドロフラン、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルである。有機溶媒の使用量としては、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステル１質量部に対して、通常３〜２０質量部の範囲、好ましくは５〜１０質量部の範囲である。
反応温度は、通常０〜５０℃の範囲である。この範囲内であれば、好適な収率で目的物が得られる。反応温度としては、好ましくは０〜４０℃の範囲であり、より好ましくは０〜３０℃の範囲である。
反応圧力は、通常絶対圧力で０．０１〜１０Ｍｐａの範囲が採用される。この範囲内であれば、特別な耐圧の装置が必要ではなく、経済的である。反応圧力としては、好ましくは常圧〜１ＭＰａである。
反応時間は、通常１〜５時間の範囲である。
【００３７】
得られた反応液から一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを単離する方法としては、特に制限はないが、以下の方法が挙げられる。例えば、反応終了後、得られた反応液と水と混合、攪拌した後、不活性溶媒で抽出し、次いで、この抽出液を飽和食塩水等の水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥させた後、溶媒を留去し、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの粗生成物を得ることができる。不活性溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等を単独又は混合して使用することができる。
【００３８】
この粗生成物の精製方法としては、昇華、晶析、カラム分離等が挙げられ、生成物の性状と不純物の種類により選択することができ、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールが固体である場合、工業的な精製方法としては、晶析が好ましい。
晶析方法としては、特に制限はないが、例えば、４０〜５０℃程度で最小量の単一又は混合溶媒に粗生成物を溶解させ、０℃付近で冷却して晶析させる方法、又は易溶性の溶媒を最小量加えて粗生成物を溶解させた後、低溶解性の溶媒を徐々に加え、結晶を晶析させる方法等が挙げられる。
晶析溶媒としては、種々のものが使用できるが、好ましくは水、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等を単独又は混合して使用することができる。
晶析温度としては、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールの溶媒への溶解度によって最適な条件を選択すれば良い。
【００３９】
次に、本発明２について説明する。
本発明２により生成する一般式（１）で表される１−アダマンチルエタノール、並びに本発明２で使用する一般式（２）で表されるアダマンタン化合物、及びハロゲン化ビニリデンは、本発明１で述べた通りである。
本発明２で中間生成物として生成する一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸において、Ｒ1、ｎは、上述した一般式（１）における説明と同じである。
上記一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸としては、１−アダマンチル酢酸、３−メチル−１−アダマンチル酢酸、３,５−ジメチル−１−アダマンチル酢酸等が挙げられ、１−アダマンチル酢酸が好ましい。
本発明２で使用する一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルにおいて、Ｒ2はハロゲン原子である。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
上記一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルとしては、塩化チオニル、臭化チオニル等が挙げられ、塩化チオニルが好ましい。
本発明２で中間生成物として生成する一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドにおいて、Ｒ1、Ｒ2及びｎは、上述した一般式（１）又は（６）における説明と同じである。
上記一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドとしては、１−アダマンチル酢酸クロライド、１−アダマンチル酢酸ブロマイド、３−メチル−１−アダマンチル酢酸クロライド、３−メチル−１−アダマンチル酢酸ブロマイド、３，５−ジメチル−１−アダマンチル酢酸クロライド、３，５−ジメチル−１−アダマンチル酢酸ブロマイド等が挙げられ、１−アダマンチル酢酸クロライドが好ましい。
【００４０】
［工程（Ｃ）］
工程（Ｃ）は、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を、硫酸中でハロゲン化ビニリデンと反応させた後、得られた反応液を水と反応させて、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸を得る工程である。
【００４１】
上記硫酸の濃度は、通常８３〜９６質量％の範囲であり、この範囲内であれば、アダマンタンジ酢酸等の不純物の生成量が少なく、反応転化率が向上する。硫酸の濃度としては、好ましくは８５〜９３質量％である。
硫酸は、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物に対して、通常３〜２０倍モルの範囲で使用する。この範囲内であれば、好ましい反応速度が得られ、副生成物の濃度上昇を抑えることができる。硫酸の使用量としては、好ましくは５〜１５倍モルの範囲である。
【００４２】
本工程において、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を含む硫酸溶液の調製方法としては、特に制限はないが、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を、通常−１０〜４０℃の範囲に保った硫酸中に添加し、攪拌しながら溶解又は懸濁させるのが好ましい。上記の温度としては、好ましくは０〜２０℃の範囲、より好ましくは０〜１０℃の範囲である。本工程において、溶媒は特に使用する必要はないが、使用することもできる。溶媒としては、ｎ−ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類等が挙げられる。
【００４３】
ハロゲン化ビニリデンの反応方法としては、特に制限はないが、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物を含む硫酸混合溶液中に添加し、反応させる方法が好ましい。
上記ハロゲン化ビニリデンは、一般式（２）で表されるアダマンタン化合物に対して、通常２〜２０倍モルの範囲で使用する。この範囲内であれば、高い反応転化率が得られ、副生成物濃度の上昇を抑えることができる。ハロゲン化ビニリデンの使用量としては、好ましくは５〜１５倍モルの範囲である。
反応温度は、通常−１０〜４０℃の範囲である。この範囲内であれば、反応速度、及び目的物の収率が低下することがない。反応温度としては、好ましくは、０〜３０℃の範囲であり、より好ましくは０〜２５℃の範囲である。
反応時間としては、ハロゲン化ビニリデンを添加後、通常１〜５時間である。
【００４４】
反応を終了させるには、十分な冷水へ反応液を加え、硫酸濃度を低下させることにより行う。または、反応液に水を加えることもできる。
その際の温度は、通常−１０〜４０℃の範囲である。この範囲内であれば、収率及び選択率の面で最適である。好ましくは０〜２０℃の範囲である。より好ましくは、０〜１０℃の範囲である。また、処理時間は、通常０．５〜３時間の範囲である。
【００４５】
上記で得られた反応液から一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸を単離する方法としては、特に制限はないが、以下の方法が挙げられる。例えば、反応終了後、得られた反応液を不活性溶媒で抽出し、次いで、この抽出液を水酸化ナトリウム等の塩基性水溶液で処理し、水相側に抽出した後、水相を塩酸等の酸性水溶液で強酸性にし、結晶を析出させる。析出した結晶をろ別、洗浄し、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸の粗生成物を得ることができる。不活性溶媒としては、酢酸エチル、トルエン、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等を単独又は混合して使用することができる。
【００４６】
一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸の精製方法としては、昇華、晶析、カラム分離等が挙げられ、生成物の性状と不純物の種類により選択することができ、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸が固体である場合、工業的な精製方法としては、晶析が好ましい。
晶析方法としては、特に制限はないが、例えば、４０〜５０℃程度で最小量の単一又は混合溶媒に粗生成物を溶解させ、０℃付近に冷却する方法、又は易溶性の溶媒を最小量加えて粗生成物を溶解させた後、低溶解性の溶媒を徐々に加え、結晶を析出させる方法等が挙げられる。
晶析溶媒としては、種々のものが使用できるが、好ましくは水、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等を単独又は混合して使用することができる。
晶析温度としては、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸の溶媒への溶解度によって最適な条件を選択すれば良い。
一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸の粗生成物は、精製せずに一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルと反応させても良いし、精製した後に反応させることもできる。
【００４７】
［工程（Ｄ）］
工程（Ｄ）は、工程（Ｃ）で得られた一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸に、一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルを反応させて、一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを得た後、得られた置換アダマンチル酢酸ハライドを還元剤と反応させて、一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを得る工程である。
【００４８】
上記一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルは、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸に対して、通常１〜２０倍モルの範囲、好ましくは１〜５倍モルの範囲、より好ましくは１〜２倍モルの範囲で使用する。
本工程において、一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルとの反応方法における反応温度は、通常０〜１２０℃、好ましくは１００〜１２０℃の範囲である。
反応時間は通常１〜５時間の範囲である。
一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルは、溶媒としても使用することができる。その使用量としては、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸に対して、通常１〜２０倍モルの範囲、好ましくは１〜３倍モルの範囲、より好ましくは１〜２倍モルの範囲である。
また、溶媒として他の溶媒を使用しても良い。他の溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ｎ−ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類等が挙げられる。
【００４９】
本工程における還元剤の反応方法としては、特に制限はないが、上記で得られた反応液中の一般式（６）で表されるハロゲン化チオニルを減圧留去した後、得られた一般式（７）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドを還元剤と反応させる方法が好ましい。
上記還元剤としては、一般的なものを使用することができる。例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、ＬｉＡｌＨ（Ｏ−Ｒ）3（Ｒはアルキル基）、ジボラン、ボラン／テトラヒドロフラン錯体、ボラン／１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタン錯体、ボラン／ｔ−ブチルアミン錯体、ボラン／Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン／ジメチルアミン錯体、ボラン／ジメチルスルフィド錯体、ボラン／モルフォリン錯体、ボラン／ピリジン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／トリメチルアミン錯体、ボラン／トリフェニルホスフィン錯体等が挙げられる。
アルミ廃液を排出しないという観点から、好ましくは、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、ジボラン、ボラン／テトラヒドロフラン錯体、ボラン／１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタン錯体、ボラン／ｔ−ブチルアミン錯体、ボラン／Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン／ジメチルアミン錯体、ボラン／ジメチルスルフィド錯体、ボラン／モルフォリン錯体、ボラン／ピリジン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／トリメチルアミン錯体、ボラン／トリフェニルホスフィン錯体等が挙げられ、より好ましくは、ボラン／テトラヒドロフラン錯体、ボラン／トリエチルアミン錯体、ボラン／ピリジン錯体、水素化ホウ素ナトリウムである。
還元剤は、一般式（５）で表される置換アダマンチル酢酸ハライドに対して、通常１〜２０倍モルの範囲、好ましくは１〜１０倍モルの範囲で使用する。
上記還元剤との反応において、溶媒として、一般的な有機溶媒を使用することができる。例えば、ｎ−ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルホルムアミド、スルホラン等の非プロトン性溶媒等が挙げられる。好ましくは、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、トルエンである。有機溶媒の使用量としては、一般式（４）で表される置換アダマンチル酢酸エステル１質量部に対して、通常５〜２０質量部の範囲、好ましくは５〜１０質量部の範囲である。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲である。この範囲内であれば、好適な収率で目的物が得られる。好ましくは５０〜１００℃の範囲であり、より好ましくは、７０〜９０℃である。
反応圧力は、通常絶対圧力で０．０１〜１０Ｍｐａの範囲が採用される。この範囲内であれば、特別な耐圧の装置を必要ではなく、経済的である。反応圧力としては、好ましくは常圧〜１ＭＰａである。
反応時間は、通常０．５〜５時間の範囲である。
【００５０】
得られた反応液から一般式（１）で表される置換アダマンチルエタノールを単離及び精製する方法としては、特に制限はないが、本発明１で述べた方法等が挙げられる。
【実施例】
【００５１】
次に、本発明を実施例により、更に詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
以下の実施例１〜１１及び比較例１により得られた生成物は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により、その純度を測定した。ＧＣ分析には、島津製作所製ＧＣ−１４Ａを使用し、分析条件は以下の通りである。
キャピラリーカラム［Ｊ＆Ｗ社製ＤＢ−１：コーティング剤（ジメチルポリシロキサン）；膜厚：０．２５μｍ］内径：０．２５ｍｍ、長さ：３０ｍ、昇温条件：１００℃から１０℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、この温度で２５分間保持した、インジェクション温度：２５０℃、検出器：ＦＩＤ、検出器温度：２５０℃、キャリアガス：Ｈｅ（１．０ｋｇ／ｃｍ2）、キャリアガス流量：１．１ｍＬ／ｍｉｎ、メイクアップガス：Ｎ2、メイクアップガス流量：５０ｍＬ／ｍｉｎ、スプリット比：１００：１
【００５２】
［１−アダマンチル酢酸メチルの合成］
実施例１
攪拌機、温度計を備えた３００ｍＬ三口フラスコに、水７．５ｇ、９６質量％硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を加え、攪拌しながら冷却して１０℃に保ち、１−アダマンタノール９．７５ｇ（６４ｍｍｏｌ）を攪拌しながら少しずつ添加した。ここに、１０℃に保った塩化ビニリデン５２．５ｇ（５４０ｍｍｏｌ）を滴下漏斗より９５分かけて滴下し、１０℃で３時間攪拌した。その後、反応温度を２０℃に上げ、１時間攪拌した。反応後、反応液を冷メタノール１５０ｍＬ（５℃）にゆっくりと注ぎ、５℃で３０分間攪拌した。次に、反応液を酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出し、酢酸エチル層を５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒を留去し、粗生成物を得た。この粗生成物にｎ−ヘキサン３０ｇを加えて溶解後、０℃で静置し、結晶化させた。析出した結晶をｎ−ヘキサンで洗浄しながら取り出し、恒量になるまで減圧乾燥させ、１−アダマンチル酢酸メチルを得た（収率９０．６％、ＧＣ純度：９８．８％）。
【００５３】
実施例２
実施例１において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、水１０．２ｇ、９６質量％濃硫酸７８．８ｇ（合計５０ｍＬ、８５質量％硫酸）を使用した以外は、実施例１と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸メチルを収率８４．１％、ＧＣ純度９４．４％で得た。
【００５４】
実施例３
実施例１において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、水３．２２ｇ、９６質量％濃硫酸９２ｇ（合計５０ｍＬ、９３質量％硫酸）を使用した以外は、実施例１と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸メチルを収率８９．３％、ＧＣ純度９９．１％で得た。
【００５５】
実施例４
実施例１において、１−アダマンタノール９．７５ｇ（６４ｍｍｏｌ）を使用する代わりに、１−ブロモアダマンタン１３．７７ｇ（６４ｍｍｏｌ）を使用した以外は、実施例１と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸メチルを収率８８．６％、ＧＣ純度９８．４％で得た。
【００５６】
実施例５
実施例１において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、水１２．３ｇ、９６質量％濃硫酸７８．２ｇ（合計５０ｍＬ、８３質量％硫酸）を使用した以外は、実施例１と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸メチルを収率４６．５％、ＧＣ純度８８．６％で得た。
【００５７】
実施例６
実施例１において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、９６質量％濃硫酸９０ｇ（５０ｍＬ）をそのまま使用した以外は、実施例１と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸メチルを収率６８．７％、ＧＣ純度８５．４％で得た。
【００５８】
［１−アダマンチルエタノールの合成］
実施例７
攪拌機、温度計を備えた５０ｍＬ三口フラスコに、１−アダマンチル酢酸メチル１ｇ（４．８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１０ｇを入れ、攪拌しながら冷却して５℃に保ち、ボラン／テトラヒドロフラン錯体（１ｍｏｌ／Ｌ）のテトラヒドロフラン溶液４．２ｇ（４．８ｍｍｏｌ）を滴下漏斗より１０分かけて滴下後、１０℃で３時間攪拌した。次に、反応液を２０ｍＬの氷水にゆっくりと注ぎ、５℃で３０分間攪拌した。この反応液を酢酸エチル５０ｍＬで３回抽出し、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒を留去し、粗生成物を得た。この粗生成物に水／メタノール＝１０／９０（容量％比）混合溶液５ｇを加えて溶解後、０℃で静置し、結晶化させた。析出した結晶を冷水で洗浄後、恒量になるまで減圧乾燥させ、１−アダマンチルエタノールを得た（収率８５．６％、ＧＣ純度：９９．１％）。
【００５９】
［１−アダマンチル酢酸の合成］
実施例８
攪拌機、温度計を備えた３００ｍＬ三口フラスコに、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を加え、攪拌しながら冷却して１０℃に保ち、１−アダマンタノール９．７５ｇ（６４ｍｍｏｌ）を攪拌しながら少しずつ添加した。ここに、１０℃に保った塩化ビニリデン５２．５ｇ（５４０ｍｍｏｌ）を滴下漏斗より９５分かけて滴下し、１０℃で３時間攪拌した。その後、反応温度を２０℃に上げ、１時間攪拌した。反応後、反応液を１５０ｍＬの氷水にゆっくりと注ぎ、５℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応液をトルエン１００ｍＬで３回抽出し、トルエン層を５質量％水酸化ナトリウム水溶液で処理し、水層側に抽出した。この水酸化ナトリウム水溶液を３５質量％塩酸で強酸性にし、析出した結晶を濾別し、水洗した。これを恒量になるまで減圧乾燥させ、１−アダマンチル酢酸を得た（収率９１．０％、ＧＣ純度：９９．２％）。
【００６０】
実施例９
実施例８において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、水１２．３ｇ、９６質量％濃硫酸７８．２ｇ（合計５０ｍＬ、８３質量％硫酸）を使用した以外は、実施例８と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸を収率４６．４％、ＧＣ純度８５．５％で得た。
【００６１】
実施例１０
実施例８において、水７．５ｇ、９６質量％濃硫酸８３．０ｇ（合計５０．１ｍＬ、８８質量％硫酸）を使用する代わりに、９６質量％濃硫酸９０ｇ（５０ｍＬ）をそのまま使用した以外は、実施例８と同様に反応を行なった。その結果、１−アダマンチル酢酸を収率６６．１％、ＧＣ純度８２．２％で得た。
【００６２】
［１−アダマンチル酢酸クロライドを経由する１−アダマンチルエタノールの合成］
実施例１１
攪拌機、温度計を備えた５０ｍＬ三口フラスコに、塩化チオニル１０ｇ（８４ｍｍｏｌ）、１−アダマンチル酢酸１ｇ（５．１ｍｍｏｌ）を入れ、還流下、１１０℃で３時間攪拌した。次に、塩化チオニルを減圧留去後、反応容器内にヘプタン１０ｇ、水素化ホウ素ナトリウム０．４ｇ（１１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応液を５０ｍＬの氷水にゆっくりと注ぎ、５℃で３０分間攪拌した。この反応液をトルエン３０ｍＬで３回抽出し、トルエン層を飽和食塩水で洗浄した。トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒を留去し、粗生成物を得た。この粗生成物に水／メタノール＝１０／９０（容量％比）混合溶液５ｇを加えて溶解後、０℃で静置し、結晶化させた。析出した結晶を冷水で洗浄後、恒量になるまで減圧乾燥させ、１−アダマンチルエタノールを得た（収率８１．４％、ＧＣ純度：９９．３％）。
【００６３】
比較例１
１−アダマンチル酢酸の合成は、実施例８と同様に反応を行い、得られた１−アダマンチル酢酸について、種々還元剤を検討したが、水素化アルミニウムリチウムを使用した場合以外は還元反応が進行しなかった。水素化アルミニウムリチウムを使用した例を次に記す。
攪拌機、温度計を備えた５０ｍＬ三口フラスコに１−アダマンチル酢酸１ｇ（５．１ｍｍｏｌ）、水素化アルミニウムリチウム０．４ｇ（１１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１０ｇを加え、５℃で３時間攪拌した。反応液を５０ｍＬの氷水にゆっくりと注ぎ、５℃で３０分間攪拌した。次に、トルエン３０ｍＬで３回抽出し、トルエン層を飽和食塩水で洗浄した。トルエン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エバポレーターで溶媒を留去し、粗生成物を得た。この粗生成物に水／メタノール＝１０／９０（容量％比）混合溶液５ｇを加えて溶解後、０℃で静置し、結晶化させた。析出した結晶を冷水で洗浄後、恒量になるまで減圧乾燥させ、１−アダマンチルエタノールを得た（収率８５．２％、ＧＣ純度：９９．２％）。
なお、水素化アルミニウムリチウムは反応時の発熱が多く、５℃に保つのが困難であった。
【００６４】
上記の実施例１〜１１及び比較例１における原料、目的生成物並びにその収率及びＧＣ純度を表１に示す。
【００６５】
【表１】
2007153803.tif 000011
【産業上の利用可能性】
【００６６】
フッ素含有廃液を排出する三フッ化ホウ素等の触媒を使用せず、更には反応操作及び反応制御が容易な還元剤を使用することにより、農薬、医薬の原料、特に自己免疫疾患の治療薬として有用なＴＮＦ−α産生阻害作用を有する医薬品の原料である置換アダマンチルエタノールの製造方法を提供する。