(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供すること。【解決手段】本発明の態様１にかかる液晶光学素子は、一対の透明基板１１、２１と、前記透明基板の各内面に形成された電極１２、２２と、前記透明基板の内面間に挟持された電界駆動型の液晶と硬化物との複合体５０と、を備えた液晶光学素子１であって、セルギャップが互いに異なる領域が形成されたものである。これにより、電極のパターニングが不要となる。また、従来、スタティック駆動方式では、表示できなかった意匠性に優れたデザインを実現できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の透明基板と、前記透明基板の各内面に形成された電極と、前記透明基板の内面間に挟持された電界駆動型の液晶と硬化物との複合体と、を備えた液晶光学素子であって、
セルギャップが互いに異なる領域が形成された液晶光学素子。
【請求項２】
前記セルギャップの比率が１．２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶光学素子。
【請求項３】
一方の前記透明基板の内面にのみ凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶光学素子。
【請求項４】
スタティック駆動方式であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
【請求項５】
前記硬化物は光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
【請求項６】
前記液晶は負の誘電異方性を有し、前記液晶を基板面に垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板に備えられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶光学素子に関し、特に、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶光学素子は、低消費電力、薄型、軽量等の利点を有するため、携帯電話、デジタルカメラ、携帯情報端末、テレビ等の多くの電子機器に広く用いられている。その中で、近年、電界により液晶分子の配列を制御して、光散乱状態を変化させる表示方式の液晶光学素子が提案されている。
【０００３】
特許文献１には、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子（以下、液晶／硬化物複合体素子という）が開示されている。具体的には、液晶と未硬化の光硬化性化合物との混合物中の光硬化性化合物を露光して光硬化させ、透過状態と散乱状態の透過率の差を大きくすることにより、コントラストが向上する。この液晶／硬化物複合体素子は、原理的に偏光板を必要としないため、光透過率が高い。また、非電圧印加時に、液晶が基板と垂直に配向して透過状態となり、電圧印加時に、液晶がランダム配向して散乱状態となる。このため、文字や模様を表示できるショーウィンドウ、各種掲示板、自動車のインストルメントパネル等の用途に適している。
【０００４】
上記用途における液晶光学素子の表示方式としては、通常、セグメント方式が用いられる。セグメント方式では、表示したい文字や模様の形状に透明電極をパターニングし、各々のセグメントに電圧を印加してスイッチングするスタティック駆動方式が主に用いられる。スタティック駆動方式の場合、各電極が独立に作動するため、セグメント同士が互いに影響を受けず、また、駆動回路が単純であるという利点を有す。
【特許文献１】特開２０００−１１９６５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、スタティック駆動方式では、上述の通り、フォトリソグラフィ法、エッチング法等により、表示したい文字や模様の形状に透明電極をパターニングする必要があり、製造工程が複雑となる問題があった。また、各々のセグメントに配線を敷設する必要があるため、文字や模様の形状によっては、駆動回路の形成できない問題もあった。すなわち、スタティック駆動方式では実現できないデザインがあった。
【０００６】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様１にかかる液晶光学素子は、一対の透明基板と、前記透明基板の各内面に形成された電極と、前記透明基板の内面間に挟持された電界駆動型の液晶と硬化物との複合体と、を備えた液晶光学素子であって、セルギャップが互いに異なる領域が形成されたものである。これにより、生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供できる。
【０００８】
本発明の態様２にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様におけるセルギャップの比率が１．２倍以上であることを特徴とするものである。これにより、確実に生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供できる。
【０００９】
本発明の態様３にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様における一方の透明基板の内面にのみ凹凸が形成されていることを特徴とするものである。これにより、さらに生産性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供できる。
【００１０】
本発明の態様４にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様において、スタティック駆動方式であることを特徴とするものである。これにより、さらに確実に生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供できる。
【００１１】
本発明の態様５にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様における硬化物が、光硬化性樹脂であることを特徴とするものである。これにより、液晶光学素子の表示性能や生産性を向上できる。
【００１２】
本発明の態様６にかかる液晶光学素子は、上記発明の態様における液晶が、負の誘電異方性を有し、液晶を基板面に垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板に備えられているものである。これにより、透過状態での透過率を高くすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、生産性および意匠性に優れる、液晶／硬化物複合体素子を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
実施の形態．
以下に、本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。
【００１５】
図１（ａ）は本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子１の平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ−Ｘ切断線による断面図、図１（ｃ）は図１（ｂ）の点線円内を拡大した断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子１は、第１の透明基板１１、第１の透明電極１２、第２の透明基板２１、第２の透明電極２２、シール材３０、スペーサ４０および複合体層５０を備えている。なお、図１（ａ）は所定の電圧を印加し、液晶光学素子にチェッカーフラッグ状の模様を表示した状態の図である。このチェッカーフラッグ状の模様は、スタティック駆動方式では、従来、実現できなかったデザインである。
【００１６】
具体的には、液晶光学素子１は、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１とが互いに対向し、第１および第２の透明基板１１、２１の間で液晶／樹脂の複合体層５０を挟持して構成されている。
【００１７】
第１および第２の透明基板１１、２１は絶縁基板であり、例えば、ガラス基板や、ポリカーボネート、アクリル樹脂などからなる樹脂基板または樹脂フィルム基板等が用いられる。本実施例では、図１（ｂ）に示すように、第２の透明基板２１の内面すなわち電極形成面は全体に平坦であるのに対し、第１の透明基板１１の内面すなわち電極形成面には凹凸が形成されている。したがって、図１に示す液晶光学素子１には、セルギャップが異なる領域が形成されている。詳細には後述する通り、セルギャップの変化により、閾値電圧が変化する。この原理を利用して、文字や模様を表示することができる。なお、両方の透明基板の内面に凹凸が形成されていてもよい。また、透明基板上に形成される透明電極膜の断裂を防止するため、凸部の角は面取りまたはＲ加工されたような形状であることが好ましい。
【００１８】
第１の透明基板１１の内面上には、第１の透明電極１２が一面に形成されている。一方、第２の透明基板２１の内面上には、第２の透明電極２２が一面に形成されている。第１および第２の透明電極１２、２２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。第１および第２の透明電極１２、２２のうち、いずれか一方は、Ａｌや誘電体多層膜の反射電極であってもよい。
【００１９】
第１および第２の透明基板１１、２１に各々形成された第１および第２の透明電極１２、２２上には配向膜（不図示）が形成されている。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成されている。ここで、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方は、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させることが好ましい。これにより、透過状態での透過率を高くすることができる。また、配向膜に配向処理を施してもよい。
【００２０】
シール材３０は、第１および第２の透明基板１１、２１の間において、第１および第２の透明基板１１、２１の周縁に沿って形成されている。第１および第２の透明基板１１、２１は、シール材３０により接合されている。シール材３０の材料には、例えば、紫外線硬化樹脂（以下、ＵＶ樹脂という）や熱硬化性樹脂が用いられる。
【００２１】
スペーサ４０は、第１および第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に、均一に散布されている。スペーサ４０は、最も小さいセルギャップを制御する。セルギャップすなわちスペーサ４０の直径は２〜５０μｍが好ましく、４〜３０μｍがさらに好ましい。セルギャップが小さすぎるとコントラストが低下し、大き過ぎると駆動電圧が上昇する。スペーサ４０は、例えば、ガラス粒子、シリカ粒子、架橋したアクリル粒子等の硬質な材料からなる。なお、球状でなく、リブ状のスペーサを一方の基板に形成したものでもよい。
【００２２】
複合体層５０は、第１および第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に封入されている。複合体層５０は、液晶と光硬化性樹脂の複合体からなる。具体的な構成物質については後で詳述する。液晶は垂直配向し、ドメイン構造を有するため、電圧印加時に散乱する。そのため、散乱表示部と呼ばれる。散乱表示部は、電圧非印加時に透過状態であり、電圧印加時に透過率が変化し、散乱状態となる。したがって、散乱表示部が、電圧により液晶が動作する動作領域となる。
【００２３】
液晶としては、電界駆動型の材料であるネマティック液晶などが用いられる。２種類以上の液晶を組み合わせて用いてもよい。また、電界による表示を目的とする場合、液晶の配向方向を垂直にすることで、透過状態での透過率を高くすることができるため、誘電率異方性が負のものを用いるのが好ましい。ただし、誘電率異方性の極性は、正負どちらでもよい。また、駆動電圧を低減するためには、誘電率異方性が大きい方が好ましい。さらに、詳細には後述する理由から、電圧に対する光透過率の変化が、閾値を境に急激に起こるものが好ましい。
【００２４】
本発明の実施の形態に好適な光硬化性樹脂について説明する。本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子に用いる複合体層５０は、少なくとも次の化学式（１）で示される二官能重合性化合物（Ａ）の一種以上と、化学式（２）で示される二官能重合性化合物（Ｂ）の一種以上と、非重合性の前記液晶とを含むことが好ましい。
【化１】
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【化２】
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【００２５】
二官能重合性化合物（Ａ）は、樹脂中で、剛直性を有する主骨格成分を形成する。一方、二官能重合性化合物（Ｂ）は、樹脂中で、衝撃吸収の役割を果たすことができる柔軟成分を形成する。このような異なる物性の化合物を組み合わせることにより、液晶光学素子１に好適な液晶／硬化物の複合体層５０が得られる。もちろん硬化物を形成する樹脂はこれに限定されるものではない。
【００２６】
二官能重合性化合物（Ａ）について説明する。二官能重合性化合物（Ａ）は化学式（１）を満たす化合物であれば、特に限定されない。
【００２７】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００２８】
Ｘ１、Ｘ２が、それぞれ独立に、単結合、酸素原子またはエステル結合である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、単結合または炭素原子間に一個または複数個のエーテル性酸素原子を有していてもよい直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００２９】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００３０】
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２がいずれもアクリロイルオキシ基である。
【００３１】
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１が、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｚ２、Ｚ３がいずれも単結合である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００３２】
本発明の液晶光学素子１で用いる液晶／硬化物の複合体層５０を形成するための、前記二官能重合性化合物（Ａ）の具体例としては、下記化学式（３）の化合物を例示することができる。
【化３】
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【００３３】
二官能重合性化合物（Ａ）は、その性質から液晶性を有する化合物と液晶性を有しない化合物に分けられる。液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を混合物の一成分として用いることができる。つまり、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）のみを用いる場合以外に、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）と液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を組み合わせて用いることもでき、液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を単独で用いることもできる。
【００３４】
次に、二官能重合性化合物（Ｂ）について説明する。二官能重合性化合物（Ｂ）は、化学式（２）を満たすものであれば、特に限定されない。例えば、下記条件を満たす化合物である。
Ａ３、Ａ４が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｒ３が、−Ｒ４−または−（Ｒ５−Ｏ）ｎ−Ｒ５−である。
【００３５】
ただし、Ｒ４は炭素数２〜２０の直鎖または分枝状アルキレン基であり、Ｒ５は炭素数２〜８の直鎖または分枝状アルキレン基であり、ｎは１〜１０の整数である。
または、Ｒ４が炭素数２〜２０の直鎖アルキレン基であり、Ｒ５が−（ＣＨ2）ｒ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−または−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ3）２−であり（ただし、ｒは２〜５の整数）、ｎが１〜６の整数である、化合物である。
【００３６】
二官能重合性化合物（Ｂ）は、単独で用いてもよく、２種類以上組み合わせて用いてもよい。下記化学式（４）に具体例を示す。
【化４】
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【００３７】
二官能重合性化合物（Ｂ）は重合性基Ａ３，Ａ４を有し、重合性基間を連結するＲ３を有する。Ｒ３としては原子間に単結合を有し分子内回転の自由度の高い基を選択する。このように構成することで、重合された高分子の柔軟性を向上させることができる。また、重合相分離の反応性を高めることもできる。
【００３８】
Ａ３，Ａ４間の炭素原子数、エーテル性酸素原子数が多いほど、柔軟性は向上する。一方、液晶との相溶性は原子数が多いほど低下する。そのため、原子数を適切に選択する。また、ＯＤＦ法を採用する場合、揮発性を考慮して、炭素原子数は８以上、好ましくは１１以上とする。エーテル性酸素原子は含まれていても含まれていなくてもよい。エーテル性酸素原子を含んでいる場合は、高分子の柔軟性が向上するので、好ましい。
【００３９】
化学式（Ｂ）の化合物は分子内にＱ１のような基を含まないためＲ３に含まれる炭素原子数を増やすことが比較的容易である。この構造の採用により、高分子の柔軟性が大きく向上する。
重合性モノマーを重合させるためには、重合開始剤を用いることが好ましい。このような重合開始剤としては、公知の重合触媒から適宜選択できる。例えば、光重合相分離法を用いる場合、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、フォスフィンオキサイド系などの一般的な光重合開始剤を用いることができる。
【００４０】
さらに、コントラスト比や安定性の向上を目的として、種々の化合物を添加することもできる。例えば、コントラストの向上を目的として、アントラキノン系、スチリル系、アゾメチン系、アゾ系等の各種二色性色素を用いることができる。その場合、二色性色素は、基本的に液晶化合物と相溶し、硬化性化合物とは不相溶であることが好ましい。この他に、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種可塑剤の添加も、安定性や耐久性向上の点から好ましい。
【００４１】
次に、上述した液晶光学素子１の動作について説明する。液晶光学素子１はスタティック駆動方式である。第１および第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加していないときは、液晶が配向しているため、複合体層５０は透過状態となる。一方、第１および第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加すると電極間の電界により液晶がランダムに配向して、複合体層５０は散乱状態となる。透過状態の複合体層５０は、液晶光学素子１の背面（反観察面）を観察することができる。このように電圧の印加、非印加により、散乱状態と透過状態が変化するため、所望の画像などを表示することができる。
【００４２】
一方、電圧印加時に透過状態となり、電圧非印加時に散乱状態となる液晶光学素子でもよい。ただし、車両用途などではフェールセーフの観点から、電圧印加時に散乱状態となり、電圧非印加時に透過状態となる液晶光学素子が好ましい。
【００４３】
一例として、図１に示した液晶光学素子１において、小さい方のセルギャップが４μｍ、大きい方のセルギャップが８μｍの場合について説明する。図２は光透過率の電圧依存性を示すグラフであり、図２中Ａはセルギャップが４μｍ、図２中Ｂはセルギャップが８μｍのグラフである。図２に示すように、セルギャップが大きくなることにより、閾値電圧がＶｔｈ（Ａ）からＶｔｈ（Ｂ）へ高電圧側にシフトする。これは、セルギャップが大きくなることにより、同一電圧下における電界強度が低下するからであり、電界駆動型の液晶に見られる現象である。この現象を利用して、セルギャップの小さい領域のみを散乱状態とし、文字や模様を表示することができる。
【００４４】
セルギャップの比率（小さい方のセルギャップに対する大きい方のセルギャップの比率）は１．２倍以上とすることが好ましい。１．２倍未満では、上述の閾値電圧Ｖｔｈのシフトする電圧差が小さすぎ、一方のセルギャップ領域を透過状態とし、他方のセルギャップ領域を散乱状態とすることができない。すなわち、所望の文字や模様を表示することができなくなる。
【００４５】
本実施の形態にかかる液晶光学素子では、透明電極を表示したい文字や模様にパターニングする必要がなく、また、電圧を印加するための端子も液晶光学素子全体に対し、１つ設置すればよいため、生産性を向上できる。また、本実施の形態に示したチェッカーフラッグ状の模様のように、従来、スタティック駆動方式では、配線が敷設できないために表示できなかった意匠性に優れたデザインを実現できる。
【００４６】
図１に示した液晶光学素子１の印加電圧による液晶表示の変化を図３に示す。セルギャップは４μｍと８μｍであり、図２に示す光透過率の電圧依存性を示すものである。図３（ａ）は電圧０Ｖ、（ｂ）は電圧２７Ｖ、（ｃ）は電圧５０Ｖの場合である。
【００４７】
図３（ａ）では、全体が透過状態であり、印加電圧を高くした場合、図２に示すＶｔｈ（Ａ）まで、この透過状態が継続する。
図３（ｂ）では、セルギャップが小さい領域のみが散乱状態であり、液晶光学素子１全体において、チェッカーフラッグ状の模様が表示される。ここで、電圧に対する光透過率の変化が、閾値を境に急激に起こる液晶であれば、図３（ｂ）における電圧制御が容易になるため、好ましい。
図３（ｃ）では、全体が散乱状態であり、４０Ｖ以上ではこの状態である。
なお、セルギャップや電圧の数値は、あくまで一例であり、これに限定されるものではない。また、本実施の形態では、互いに異なるセルギャップの領域は２つであるが、互いに異なるセルギャップの領域を１つ増やすごとに、異なる液晶表示を１つ増やすことができる。
【００４８】
次に、液晶光学素子１の製造方法について説明する。図４は、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。図４に示すように、本製造フローはＳＴ２０１〜ＳＴ２０９までの９ステップからなる。
【００４９】
まず、第１透明基板１１の内面すなわち第１の透明電極１２を形成する面上に、凹凸を形成する（ＳＴ２０１）。第１の透明基板１１がガラスの場合、例えば、サンドブラスト、フッ酸エッチング等により、この凹凸を形成できる。一方、第１の透明基板１１が樹脂の場合、精密金型成形等により、この凹凸を形成できる。なお、凹凸は、一方の透明基板の内面に形成される場合に限定されず、両方の透明基板の内面に形成してもよい。
【００５０】
次に、第１および第２の透明基板１１、２１の内面上に第１および第２の透明電極１２、２２を形成するための透明電極膜を、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成する（ＳＴ２０２）。透明電極膜としては、上述の通り、ＩＴＯが好適である。
【００５１】
次に、第１および第２の透明基板１１、２１の透明電極を形成した面上に、配向膜（不図示）を形成する（ＳＴ２０３）。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成する。上述の通り、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方を、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させるように形成する。
【００５２】
次に、第１または第２の透明基板１１、２１の内面上に、散布機を用いてスペーサ４０の粒子を散布する（ＳＴ２０４）。
【００５３】
次に、第１または第２の透明基板１１、２１の内面上に、当該第１または第２の透明基板１１、２１の周縁に沿って、シール材３０を塗布する（ＳＴ２０５）。ここで、シール材３０には、ＵＶ樹脂、熱硬化性樹脂等を用いることができる。なお、第１および第２の透明基板１１、２１の両方に分割して塗布してもよい。
【００５４】
次に、ＯＤＦ（one-drop-fill）法を用いて、第１または第２の透明基板１１、２１の内面に、ネマティック液晶と光硬化性化合物の混合物からなる液晶材料を滴下する（ＳＴ２０６）。このＯＤＦ法は、従来の吸引法（汲み上げ法）と比較して、簡単に、且つ、短時間で、液晶材料を透明基板１１、２１の間に配置することができる。このＯＤＦ法は、大型液晶光学素子を製造するのに、特に効果的である。ただし、吸引法やその他の方法を用いてもよい。なお、ＯＤＦ法は、液晶滴下法、真空滴下法などとも呼ばれる。
【００５５】
次に、減圧下で、第１および第２の透明基板１１、２１の間をシール材３０により貼り合わせる（ＳＴ２０７）。具体的には、アライメントマークなどを用いて、第１および第２の透明基板１１、２１を位置合せした後、第１および第２の透明基板間１１、２１を接着材３０により貼り合せる。また、２０Ｐａ以下の気圧が好ましく、一般的に真空中ともいえる。
【００５６】
次に、貼り合わされた透明基板１１、２１を減圧下から大気圧下に取り出す（ＳＴ２０８）。具体的には、図３に示す真空チャンバ１０３を大気開放すればよい。セル内外の圧力差により、２枚の透明基板が、スペーサにより保たれるセルギャップまで引き寄せられ、セル内に上記混合物が充満する。
【００５７】
次に、シール材３０および液晶材料中の光硬化性化合物を紫外線光源などにより露光し、硬化させる（ＳＴ２０９）。露光により、光硬化性化合物が硬化し、液晶／硬化物の複合体層５０が形成される。なお、シール材３０に光硬化性樹脂を用いない場合、シール材の硬化は別途行う必要がある。
【００５８】
以上説明したように、本発明にかかる液晶光学素子では、透明電極を表示したい文字や模様にパターニングする必要がなく、また、電圧を印加するための端子も液晶光学素子全体に対し、１つ設置すればよいため、生産性を向上できる。また、従来、スタティック駆動方式では、配線が敷設できないために表示できなかった意匠性に優れたデザインを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の光透過率の電圧依存性を示すグラフである。
【図３】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の電圧による表示の変化を模式的に示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  液晶光学素子
１１  第１の透明基板
２１  第２の透明基板
１２  第１の透明電極
２２  第２の透明電極
３０  シール材
４０  スペーサ
５０  複合体層
【図１】
2007334211.tif 000007
【図２】
2007334211.tif 000008
【図３】
2007334211.tif 000009
【図４】
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