(57)【要約】【課題】  記録層への干渉像記録機能を低下させることなく、高感度、かつ高多重記録が可能な光記録媒体及び光記録装置を提供すること。【解決手段】  バインダー、重合性モノマー及び重合開始剤を含む記録層と、バインダー及び重合性モノマーを含み、かつ重合開始剤を含まず、該記録層に対してモノマーを供給するモノマー供給層とを有し、該モノマー供給層が前記記録層に対して隣接して形成されたことを特徴とする光記録媒体である。前記記録層及び前記モノマー供給層が、基板上に形成され、該記録層及び該モノマー供給層の少なくともいずれかが、光熱変換剤を含むことを特徴とする光記録媒体である。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性モノマー及び重合開始剤を含む記録層と、バインダー及び重合性モノマーを含み、かつ重合開始剤を含まず、該記録層に対してモノマーを供給するモノマー供給層とを有し、該モノマー供給層が前記記録層に対して隣接して形成されたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
記録層及びモノマー供給層が基板上に形成されている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
記録層及びモノマー供給層の少なくともいずれかが、光熱変換剤を含む請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
光熱変換剤が、シアニン類、アズレニウム類、スクワリリウム類、トリアリールメタン類、インモニウム類、チオールニッケル錯体、フタロシアニン類、ナフトキノン類、アントラキノン類から選択される少なくともいずれか１種を含む請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
記録層に含まれる重合性モノマーと、モノマー供給層に含まれる重合性モノマーとが同一である請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
記録層の全固形分中におけるバインダーの含有量が、５０〜９９質量％、重合性モノマーの含有量が、１〜５０質量％、重合開始剤の含有量が、０．１〜１０質量％であり、モノマー供給層の全固形分中におけるバインダーの含有量が、６０〜９９質量％、重合性モノマーの含有量が、１〜４０質量％である請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
記録層の全固形分中における光熱変換剤の含有量が、０．０１〜１０質量％、モノマー供給層の全固形分中における光熱変換剤の含有量が、０．０１〜１０質量％である請求項１から６のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項８】
第一の基板と、記録層と、モノマー供給層と、フィルタ層と、第二の基板とを有する請求項１から７のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項９】
フィルタ層が、第一の光を透過し、第二の光を反射する請求項８に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
可干渉性を有する情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、請求項１から９に記載の光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射する光照射手段と、該情報光と該参照光との干渉による干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録する干渉像記録手段とを有することを特徴とする光記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体であって、高感度、かつ高多重記録が可能な光記録媒体及光記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。
【０００３】
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉縞を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し（再生）は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能である。デジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
前記光記録媒体としては、例えば、図１示すように、支持体１０及び１１の間に記録層を積層した光記録媒体２０や、情報光の光軸と参照光の光軸とが、同軸となるようにして、該情報光及び参照光を照射して記録する方式に用いられ、図２に示すように、第二の基板１、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、第一の基板５の順に積層された光記録媒体２１などが挙げられる。このような光記録媒体２０や２１における前記記録層への多重記録回数を示す指標として、「ある一定の回折効率を有するホログラムが何枚多重化できるか」を表すダイナミックレンジが用いられる。該ダイナミックレンジは、具体的には、多重化したホログラム１枚１枚の回折効率の平方根を、全てのホログラムについて加え合わせた値が用いられる。このようなダイナミックレンジを増大させる方法としては、記録層形成の改善、記録層の組成物の改善、記録方法の改善などが挙げられる。前記記録層形成の改善方法として、一般的に該記録層を多層化することにより厚みを増大させ前記ダイナミックレンジを向上させる方法が用いられる。しかし、多層回数が増大するほど、厚みむらの発生や製造効率が低下するという問題がある。
また、複数の記録層の一部の層を接着層として硬化処理した層とフォトポリマー層とを積層することにより、層の均一化及び生産効率の向上を図りダイナミックレンジを改善することが提案されている（特許文献２参照）。
しかし、このような多層化や層の均一化の記録層に用いられている感光材料は、光重合性モノマーやバインダーポリマーなどからなるフォトポリマーを主成分としている。
そのため、書き込みを繰り返して記録回数を増加させていくと、記録層の感度が低下し、前記ダイナミックレンジが低下し、前記多層化や層の均一化での改善にも限界がある。
前記ダイナミックレンジの低下する要因としては、画像形成要素となり、前記記録層に含まれるモノマーが、書き込み回数の累積により消費され画像形成機能が低下することが考えられる。
【０００４】
したがって、このような画像形成機能が低下することなく、高感度、かつ高多重記録が可能な記録層からなる光記録媒体及び光記録装置は未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開２００５−１１５０１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、記録層への干渉像記録機能を低下させることなく、高感度、かつ高多重記録が可能な光記録媒体及び光記録装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  バインダー、重合性モノマー及び重合開始剤を含む記録層と、バインダー及び重合性モノマーを含み、かつ重合開始剤を含まず、該記録層に対してモノマーを供給するモノマー供給層とを有し、該モノマー供給層が前記記録層に対して隣接して形成されたことを特徴とする光記録媒体である。
＜２＞  記録層及びモノマー供給層が基板上に形成されている前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  記録層及びモノマー供給層の少なくともいずれかが、光熱変換剤を含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜４＞  光熱変換剤が、シアニン類、アズレニウム類、スクワリリウム類、トリアリールメタン類、インモニウム類、チオールニッケル錯体、フタロシアニン類、ナフトキノン類、アントラキノン類から選択される少なくともいずれか１種を含む前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜５＞  記録層に含まれる重合性モノマーと、モノマー供給層に含まれる重合性モノマーとが同一である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜６＞  記録層の全固形分中におけるバインダーの含有量が、５０〜９９質量％、重合性モノマーの含有量が、１〜５０質量％、重合開始剤の含有量が、０．１〜１０質量％であり、モノマー供給層の全固形分中におけるバインダーの含有量が、６０〜９９質量％、重合性モノマーの含有量が、１〜４０質量％である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  記録層の全固形分中における光熱変換剤の含有量が、０．０１〜１０質量％、モノマー供給層の全固形分中における光熱変換剤の含有量が、０．０１〜１０質量％である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜８＞  第一の基板と、記録層と、モノマー供給層と、フィルタ層と、第二の基板とを有する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜９＞  フィルタ層が、第一の光を透過し、第二の光を反射する前記＜８＞に記載の光記録媒体である。
＜１０＞  フィルタ層が、第一の光を透過し、第二の光を反射する前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１１＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１２＞  各コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１３＞  各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１４＞  各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１５＞  各コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１６＞  第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである前記＜１５＞に記載の光記録媒体である。
＜１７＞  λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１８＞  λ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１９＞  コレステリック液晶層の厚みが、１〜１０μｍである前記＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２０＞  基板が、サーボピットパターンを有する前記＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２１＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜２０＞に記載の光記録媒体である。
＜２２＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜２１＞に記載の光記録媒体である。
＜２３＞  フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第一ギャップ層を有する前記＜１＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２４＞  記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記＜１＞から＜１２３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【０００８】
＜２５＞  可干渉性を有する情報光及び参照光を前記＜１＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光とにより干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録することを特徴とする光記録方法である。
＜２６＞  情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉による干渉像を記録層に形成する前記＜２５＞に記載の光記録方法である。
【０００９】
＜２７＞  可干渉性を有する情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、前記＜１＞から＜２４＞に記載の光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射する光照射手段と、該情報光と該参照光との干渉による干渉像を形成し、該干渉像を前記光記録媒体に記録する干渉像記録手段とを有することを特徴とする光記録装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、記録層への干渉像記録機能を低下させることなく、高感度、かつ高多重記録が可能な光記録媒体及び光記録装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、支持体上に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層、モノマー供給層及び必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
【００１２】
本発明の光記録媒体は、少なくとも一の支持体上に記録層を積層し、情報光と参照光とが異なる方向から照射される一般的なホログラムの記録に用いられる第一の形態と、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に用いられ、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層と、該記録層に隣接して積層された前記モノマー供給層及び必要に応じて適宜選択したその他の層とを有する第二の形態などが挙げられる。以下第一の形態及び第二の形態について順に説明する。
【００１３】
≪第一の形態≫
前記第一の形態は、一般のホログラム記録方法に用いられるもので、層構造としては、前記モノマー供給層が前記記録層に隣接して積層されているものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、図３に示すように、支持体１１の上に記録層４、モノマー供給層９及び保護層１０を積層した形態、図４に示すように、支持体１１の上にモノマー供給層９、記録層４、モノマー供給層９ａ及び保護層１０を積層した形態、図５及び図６に示すように、支持体１１の上に記録層４、モノマー供給層９、記録層４ａ、モノマー供給層９ａ及び保護層１０を積層した形態などが挙げられる。
【００１４】
＜モノマー供給層＞
前記モノマー供給層は、前記記録層に対してモノマーを供給する作用があり、該モノマー供給層を積層することにより、高多重記録可能な光記録媒体が得られる。
前記モノマー供給層は、前記記録層に多重に記録がなされ、該記録層内に残存するモノマーの減少を補う層である。該モノマー供給層に含まれるモノマーは、前記記録層に多重に記録がなされ、層全体のモノマー濃度が減少するにあたり、生じた層間のモノマー濃度の勾配により該モノマー供給層から前記記録層へと拡散するというメカニズムにより、該モノマー供給層から前記記録層に供給される。供給された該モノマーは、速やかに該記録層の内部で拡散し、記録によって減少したモノマー濃度を回復して、更なる記録をすることができる。
【００１５】
供給される前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後述の、前記記録層中に含まれる重合性モノマーとして記載された各種モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。前記記録層に含まれるモノマーが単一のモノマーからなる場合、これと同一のモノマーを用いてもよいし、異なるモノマーを用いてもよい。前記記録層に含まれるモノマーが２種以上からなる場合、同一のモノマーを同一の質量比で含んでもよいし、異なる質量比で含んでもよい。また、全く異なる種類のモノマーを配合してもよい。これらの中でも、少なくとも１種が同一のモノマーを含むことが好ましい。
【００１６】
前記モノマーが供給されたか否かの評価方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層に対する１０回多重記録後の該記録層における記録感度の低下の度合いを測定してもよい。該記録感度の低下の度合いは、記録されていない状態における記録層の記録感度を基準として、１０回多重記録後の該記録層における記録感度を測定し、該記録感度の低下量を百分率で表す方法でもよい。
【００１７】
具体的には、前記情報光及び参照光の照射により、前記記録層内に最初の記録が得られる最小光照射エネルギーをＸ１（ｍＪ／ｃｍ２）、以降、ｎ回目の記録が可能な最小光照射エネルギーが、Ｘｎ（ｍＪ／ｃｍ２）であったとき、次の計算式
Ｙｎ＝１００−｛（Ｘｎ÷Ｘ１）×１００｝
で与えられる値Ｙｎを以って、Ｙｎにおける感度の減少率（％）と定義し評価することができる。このような感度の減少率Ｙｎは、０〜９０％の範囲であることが好ましく、１〜７５％の範囲であることがより好ましく、２〜５０％の範囲内であることが特に好ましい。この範囲において、望ましい多重数で記録を行い高密度な情報記録を行うことが可能である。
この値が９０％を超える場合、更に高多重な記録を行おうとした際に極めて高い光照射エネルギーが必要となるため、望む多重記録が得られない場合がある。
【００１８】
前記照射エネルギーの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、予めレーザ光源の出力を固定しておき、記録に要する照射時間を調節することにより出力と照射時間の積から求める方法、予め照射用のレーザ光源の出力エネルギー（時間当たりのエネルギー量（Ｗ））を照度計などによって測定しておき、記録に要する照射時間を測定することにより、レーザ光の出力エネルギーと照射時間の積から算出する方法、又は、記録にかける照射時間を固定しておき、照射用のレーザ光源の出力エネルギーを変化させその都度、上記同様照度計などにより測定し算出する方法、実際の感光性材料に対する記録と同一の条件において、感度が既知である感光性材料を多数用意し、それと比較することにより求める方法などが挙げられる。これらの中でも、予めレーザ光源の出力を固定しておき、記録に要する照射時間を調節することにより出力と照射時間の積から求める方法が、機器調節の精度の点において最も好ましい。
【００１９】
−モノマー供給層の積層−
前記モノマー供給層の層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、単層でもよく、２以上の積層体でもよい。前記モノマー供給層の積層形態としては、前記記録層に隣接して積層されていれば、前記記録層の片面のみに積層してもよく、両面に積層してもよい。前記モノマーを前記記録層全体に供給するという観点において、両面に積層することが好ましい。また、前記記録層と前記モノマー供給層とを、交互に積層することも好ましい。
【００２０】
前記モノマー供給層の組成物としては、バインダー及び重合性モノマーを少なくとも含み、かつ重合開始剤を含まず、必要に応じて適宜選択したその他の組成物により形成される。前記重合開始剤を含まないとしたのは、該重合開始剤が含まれていると、光照射により、前記重合開始剤により、前記バインダー及び重合性モノマーが重合反応が開始、促進され、モノマーを前記記録層に供給すべき該モノマー供給層内のモノマーが減少し目的の機能が損なわれてしまうからである。
【００２１】
−バインダー−
前記バインダーとしては、酸、塩基又はラジカルに対して安定であり、光学的に透明性が高い材料が好ましい。該バインダーの屈折率は、用途、及び共に用いる重合性モノマーの種類により好ましい値に任意に設定及び調節することができる。前記バインダーとしては、熱硬化性バインダーが好ましく、ポリマーであることがより好ましい。また、前記バインダーは、三次元架橋していてもしていなくてもよい。
【００２２】
前記バインダーとしては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ノルボルネン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリシロキサン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ビニルエステル系樹脂などが挙げられる。共に使用する重合性モノマーの重合体の屈折率に依存して、用いられる好ましいバインダーを任意に選択することができる。特に重合性モノマーの重合体との屈折率差を大きくする目的で、前記樹脂類の水素原子をフッ素原子に置換したバインダーが好適に用いられる場合がある。また非架橋型ポリマーのバインダーを使用する際は、組成物層の機械的強度を向上させる目的で、該ポリマー中に架橋のための反応性基を導入することが可能である。
【００２３】
前記バインダーは、化合物そのものがバインダーとしての機能及び形態を有していてもよく、また、化合物単体ではバインダーとしての機能を有していないが、組成物を調製する際に行う操作によりバインダーとしての機能を発現する化合物系であってもよい。
【００２４】
前記バインダーとしては、例えば、ポリビニリデンフルオライド、ポリジメチルシロキサン、ポリトリフルオロエチルメタクリレート、ポリオキシプロピレン、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポリオキシエチレン、ポリビニルブチルエーテル、ポリビニルペンチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）、セルロースアセテートブチレート、ポリ（４−フルオロ−２−トリフルオロメチルスチレン）、ポリビニルオクチルエーテル、ポリ（ビニル２−エチルヘキシルエーテル）、ポリビニルデシルエーテル、ポリ（２−メトキシエチルアクリレート）、ポリブチルアクリレート、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート）、ポリビニルドデシルエーテル、ポリ（３−エトキシプロピルアクリレート）、ポリオキシカルボニルテトラメチレン、ポリビニルプロピオネート、ポリビニルアセテート、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチルアクリレート、エチレン−ビニルアセテート共重合体、（８０％〜２０％ビニルアセテート）セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、ベンジルセルロース、フェノール−フォルムアルデヒド樹脂、セルローストリアセテート、ポリビニルメチルエーテル（アイソタクティック）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート）、ポリ（２−エトキシエチルアクリレート）、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリ（１−デセン）、ポリプロピレン、ポリ（ビニルｓｅｃ−ブチルエーテル）、ポリドデシルメタクリレート、ポリオキシエチレンオキシスクシノイル、（ポリエチレンスクシネート）ポリテトラデシルメタクリレート、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰＲ−ゴム）、ポリヘキサデシルメタクリレート、ポリビニルフォルメート、ポリ（２−フルオロエチルメタクリレート）、ポリイソブチルメタクリレート、エチルセルロース、ポリビニルアセタール、セルロースアセテート、セルローストリプロピオネート、ポリオキシメチレン、ポリビニルブチラール、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリエチリデンジメタクリレート、ポリ（２−エトキシエチルメタクリレート）、ポリオキシエチレンオキシマレオイル、（ポリエチレンマレート）ポリ（ｎ−プロピルメタクリレート）、ポリ（３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリエチルメタクリレート、ポリ（２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート）、ポリトリエチルカルビニルメタクリレート、ポリ（１，１−ジエチルプロピルメタクリレート）、ポリメチルメタクリレート、ポリ（２−デシル−１，３−ブタジエン）、ポリビニルアルコール、ポリエチルグリコレートメタクリレート、ポリ（３−メチルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリ（シクロヘキシルα−エトキシアクリレート）、メチルセルロース、ポリ（４−メチルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリデカメチレングリコールジメタクリレート、ポリウレタン、ポリ（１，２−ブタジエン）、ポリビニルフォルマール、ポリ（２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン）、セルロースニトレート、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−クロロアクリレート）、ポリ（２−ヘプチ��−１，３−ブタジエン）、ポリ（エチルα−クロロアクリレート）、ポリ（２−イソプロピル−１，３ブタジエン、ポリ（２−メチルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリプロピレン、ポリイソブテン、ポリボルニルメタクリレート、ポリ（２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン）、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリ（シクロヘキサンジオール−１，４−ジメタクリレート）、ブチルゴム、ポリテトラハイドロフルフリルメタクリレート）、グッタペルカ（β）、ポリエチレンアイオノマー、ポリオキシエチレン（高分子量）、ポリエチレン、ポリ（１−メチルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリビニルクロロアセテート、ポリブテン、ポリビニルメタクリレート、ポリ（Ｎ−ブチル−メタクリルアミド）、グッタペルカ（α）、テルペン樹脂、ポリ（１，３−ブタジエン）、セラック、ポリ（メチルα−クロロアクリレート）、ポリ（２−クロロエチルメタクリレート）、ポリ（２−ジエチルアミノエチルメタクリレート）、ポリ（２−クロロシクロヘキシルメタクリレート）、ポリ（１，３−ブタジエン）（３５％シス；５６％トランス；７％１，２−含有量）、天然ゴム、ポリアリルメタクリレート、ポリビニルクロライド＋４０％ジオクチルフタレート、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリ（１，３−ブタジエン）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリイソプレン、ポリエステル樹脂リジッド（約５０％スチレン）、ポリ（Ｎ−（２−メトキシエチル）メタクリルアミド）、ポリ（２，３−ジメチルブタジエン）（メチルゴム）、ビニルクロライド−ビニルアセテート共重合体、ポリアクリル酸、ポリ（１，３−ジクロロプロピルメタクリレート）、ポリ（２−クロロ−１−（クロロメチル）エチルメタクリレート）、ポリアクロレイン、ポリ（１−ビニル−２−ピロリドン）、塩酸化ゴム、ナイロン６；ナイロン６，６；ナイロン６，１０、ブタジエン−スチレン共重合体、ブロック共重合体ポリ（シクロヘキシルα−クロロアクリレート）、ポリ（２−クロロエチルα−クロロアクリレート）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ（２−アミノエチルメタクリレート）、ポリフルフリルメタクリレート、ポリブチルメルカプチルメタクリレート、ポリ（１−フェニル−Ｎ−アミルメタクリレート）、ポリ（Ｎ−メチル−メタクリルアミド）、セルロース、ポリビニルクロライド、ウレアフォルムアルデヒド樹脂、ポリ（ｓｅｃ−ブチルα−ブロモアクリレート）、ポリ（シクロヘキシルα−ブロモアクリレート）、ポリ（２−ブロモエチルメタクリレート）、ポリジヒドロアビエチン酸、ポリアビエチン酸、ポリエチルメルカプチルメタクリレート、ポリ（Ｎ−アリルメタクリルアミド）、ポリ（１−フェニルエチルメタクリレート）、ポリビニルフラン、ポリ（２−ビニルテトラヒドロフラン）、ポリ（ｐ−メトキシベンジルメタクリレート）、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリ（ｐ−イソプロピルスチレン）、ポリクロロプレン、ポリ（オキシエチレン−α−ベンゾエート−ω−メタクリレート）、ポリ（ｐ，ｐ’−キシリレニルジメタクリレート）、ポリ（１−フェニルアリルメタクリレート）、ポリ（ｐ−シクロヘキシルフェニルメタクリレート）、ポリ（２−フェニルエチルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１−プロピル、ポリ（１−（ｏ−クロロフェニル）エチルメタクリレート）、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリ（１−フェニルシクロヘキシルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１，３−ジメチル−ブチリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（メチルα−ブロモアクリレート）、ポリベンジルメタクリレート、ポリ（２−（フェニルスルフォニル）エチルメタクリレート）、ポリ（ｍ−クレジルメタクリレート）、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンイソブチリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（ｏ−メトキシフェニルメタクリレート）、ポリフェニルメタクリレート、ポリ（ｏ−クレジルメタクリレート）、ポリジアリルフタレート、ポリ（２，３−ジブロモプロピルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−１−メチル−ブチリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（オキシ−２，６−ジメチルフェニレン）、ポリオキシエチレンオキシテレフタロイル、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンブチリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（１，２−ジフェニルエチルメタクリレート）、ポリ（ｏ−クロロベンジルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレン−ｓｅｃ−ブチリデン−１，４−フェニレン）、ポリオキシペンタエリスリトロキシフタロイル）、ポリ（ｍ−ニトロベンジルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンイソプロピリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（Ｎ−（２−フェニルエチル）メタクリルアミド）、ポリ（４−メトキシ−２−メチルスチレン）、ポリ（ｏ−メチルスチレン）、ポリスチレン、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンシクロヘキシリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（ｏ−メトキシスチレン）、ポリジフェニルメチルメタクリレート、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンエチリデン−１，４−フェニレン）、ポリ（ｐ−ブロモフェニルメタクリレート）、ポリ（Ｎ−ベンジルメタクリルアミド）、ポリ（ｐ−メトキシスチレン）、ポリビニリデンクロライド、ポリスルフィド（“Ｔｈｉｏｋｏｌ”）、ポリ（ｏ−クロロジフェニルメチルメタクリレート）、ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−（２，６−ジクロロ）フェニレン−イソプロピリデン−１，４−（２，６−ジクロロ）フェニレン）、ポリ（オキシカルボニロキシビス（１，４−（３，５−ジクロロフェニレン）））ポリペンタクロロフェニルメタクリレート、ポリ（ｏ−クロロスチレン）、ポリ（フェニルα−ブロモアクリレート）、ポリ（ｐ−ジビニルベンゼン）、ポリ（Ｎ−ビニルフタルイミド）、ポリ（２，６−ジクロロスチレン）、ポリ（β−ナフチルメタクリレート）、ポリ（α−ナフチルカルビニルメタクリレート）、ポリサルホン、ポリ（２−ビニルチオフェン）、ポリ（α−ナフチルメタクリレート）��ポリ（オキシカルボニロキシ−１，４−フェニレンジフェニル−メチレン−１，４−フェニレン）、ポリビニルフェニルスルフィド、ブチルフェノールフォルムアルデヒド樹脂、ウレア−チオウレア−フォルムアルデヒド樹脂、ポリビニルナフタレン、ポリビニルカルバゾール、ナフタレン−フォルムアルデヒド樹脂、フェノール−フォルムアルデヒド樹脂、ポリペンタブロモフェニルメタクリレートなどが挙げられる。
【００２５】
前記バインダーとしては、前記モノマー供給層の全固形分中における前記バインダーの含有量が、５０〜９９．５質量％が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９８質量％が特に好ましい。
【００２６】
−重合性モノマー−
前記重合性モノマーは、カチオン重合性モノマー、ラジカル重合性モノマーが利用可能であり、いずれか一種のみを使用してもよいし、併用してもよい。
【００２７】
前記カチオン重合性モノマーとしては、多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、具体的には、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、１，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル）シクロヘキサン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、オルソフタル酸ジグリシジルエステル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，６−ジメチロールパーフルオロヘキサンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【００２８】
また、芳香族エポキシドを含んでもよく、該芳香族エポキシドとしては、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテル、例えば、ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。ここで、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドなどが挙げられる。
【００２９】
前記グリシジルエーテル化合物のグリシジルエーテル基を、２−オキセタニル−ｎ−プロピルエーテル、２−オキセタニル−ｎ−ブチルエーテル、２−オキセタニル−ｎ−ペンチルエーテル、２−オキセタニル−ｎ−ヘキシルエーテル、２−オキセタニル−３−フェニルエチルエーテル、２−オキセタニル−２−ベンジル−エチルエーテル、３−オキセタニル−ｎ−ブチルエーテル、３−オキセタニル−ｎ−ペンチルエーテル、３−オキセタニル−ｎ−ヘキシルエーテル、３−オキセタニル−３−フェニル−ｎ−プロピルエーテル、４−オキセタニル−ｎ−ペンチルエーテル、４−オキセタニル−ｎ−ヘキシルエーテル、４−オキセタニル−ｎ−ヘプチルエーテル、４−オキセタニル−４−フェニル−ｎ−ブチルエーテル、５−オキセタニル−ｎ−ヘキシルエーテルで置換したものが、オキセタン化合物として使用可能である。これらの化合物のうち、入手の容易性などの点から、２−オキセタニル−ｎ−プロピルエーテル、２−オキセタニル−ｎ−ブチルエーテルを用いた化合物が特に好ましい。
【００３０】
更に、脂環式エポキシドを含んでもよく、該脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく、具体例としては、４，４’−ビス（２，３−エポキシプロポキシパーフルオロイソプロピル）ジフェニルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルオキシラン、１，２，５，６−ジエポキシ−４，７−メタノペルヒドロインデン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−３’，４’−エポキシ−１，３−ジオキサン−５−スピロシクロヘキサン、１，２−エチレンジオキシ−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメタン）、４’，５’−エポキシ−２’−メチルシクロヘキシルメチル−４，５−エポキシ−２−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレングリコール−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス−（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジ−２，３−エポキシシクロペンチルエーテルや、以下に示す化合物、などが挙げられる。
【００３１】
【化１】
2007041323.tif 000003
【００３２】
また、ビニルエーテル化合物を含んでもよく、前記ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物；エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテルビニル−２−クロロエチルエーテル等のモノビニルエーテル化合物；ビニルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
前記ラジカル重合性モノマーとして、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミカルボンカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基等の置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、前記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００３４】
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート、ベンジルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、ナフチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、などが挙げられる。
【００３５】
前記メタクリル酸エステルとしては、例えば、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン、などが挙げられる。
【００３６】
前記イタコン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート、などが挙げられる。
前記クロトン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート、などが挙げられる。
前記イソクロトン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート、などが挙げられる。
前記マレイン酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート、などが挙げられる。
【００３７】
その他のエステルとしては、特許２８４９０２１号公報に記載の９，９−ジアリールフルオレン骨格を有するエステル類；特開平８−１０１４９９号公報及び特許３５３２６７９号公報に記載のシロキサン結合含有（メタ）アクリレート類；特開２００１−１２５４７４号公報に記載のビフェニルを含んだ（メタ）アクリレート類；特開平７−１９９７７７号公報、特開平７−１９９７７９号公報、特開平７−１０４６４３号公報に記載のオリゴマー構造の（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
前記重合性モノマーとしては、前記モノマー供給層の全固形分中における前記重合性モノマーの含有量が、０．５〜５０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、２〜３０質量％が特に好ましい。前記モノマー供給層に含まれる重合性モノマーの含有量は、前記記録層の全固形分中における前記重合性モノマーの含有量よりも上回っていることが好ましい。
【００３９】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光熱変換剤、膨順剤等の添加剤を任意に含むことが可能である。
【００４０】
−光熱変換剤−
前記光熱変換剤は、光エネルギーを吸収して熱エネルギーに変換するもので、吸収した光エネルギーを効率よく変換することができる。具体的には、蛍光や燐光などの発光を起こしにくい無輻射過程に変換できる特性を有する。
前記光熱変換剤として使用できるものとしては、特に制限はなく、目的とする機能や性能に応じて適宜選択することができ、例えば、フォトポリマーとともに記録層へ添加する際の簡便さや、入射光の散乱などを引き起こさないといった特性から、有機染料色素が好ましく、また、記録に用いる光源の光を吸収、散乱しないといった点において、赤外線吸収色素が好ましい。
【００４１】
−赤外線吸収色素−
前記赤外線吸収色素は、特に制限なく用いうるが、中でも、以下に詳述するカチオン性色素、錯塩形成色素、及びキノン系中性色素が好ましい。また、本発明において用いられる赤外線吸収色素の極大吸収波長としては、６００〜１，０００ｎｍの範囲にあることが好ましく、特に７００〜９００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。
前記赤外線吸収色素は、記録層として用いる組成物中、あるいはモノマー供給層として用いる組成物の中のいずれか一方もしくは両方に含有させるか、若しくは、基板上にスピンコートなどにより薄層塗布して記録層若しくはモノマー供給層と隣接するように設置してもよい。スピンコートなどで薄層塗布する際は、水溶性の色素を用いてもよく、油溶性の色素を用いてもよい。組成物中に含有させる場合は、露光によるフォトポリマー成分の重合を阻害させないために、モノマー供給層へ添加することがより好ましい。
【００４２】
前記赤外線吸収色素の塗設量は、作製した記録材料において、赤外領域で最も吸光度が高い波長の吸光度で決定され。該吸光度としては、０．１〜２．５の範囲が好ましく、０．２〜２．０の範囲がより好ましい。
【００４３】
以下に、本発明において用いる赤外線吸収色素について詳細に説明する。
前記カチオン性色素としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（１）で表される色素などが挙げられる。
【化２】
2007041323.tif 000004
ただし、Ｄ１＋は、カチオン性色素母核を、Ｘ１−は、対アニオンを、ｍは、１〜４の整数を表す。
【００４４】
一般式（１）中のカチオン性色素母核である前記Ｄ１＋としては、ポリメチン（シアニンを含む）、アズレニウム、ピリリウム、チオピリリウム、スクワリリウム、トリアリールメタン、インモニウム、ジインモニウムなどが好ましい。前記Ｘ１−１／ｍは、対アニオンを形成できるものであれば特に限定されない。前記カチオン性色素としては、以下のような具体的色素が挙げられる。
（１）カチオン性色素
【００４５】
【化３】
2007041323.tif 000005
【００４６】
【化４】
2007041323.tif 000006
【００４７】
【化５】
2007041323.tif 000007
【００４８】
【化６】
2007041323.tif 000008
【００４９】
（２）錯塩形成色素
前記錯塩形成色素としては、チオールニッケル錯塩系、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素が好ましく、以下のようは具体的色素を挙げることができる。
【００５０】
【化７】
2007041323.tif 000009
【００５１】
（３）キノン系中性色素
キノン系中性色素としては、ナフトキノン系及びアントラキノン系色素が好ましく、以下のような具体的色素を挙げることができる。
【００５２】
【化８】
2007041323.tif 000010
【００５３】
−光熱変換剤に対する光照射の光源と照射方法−
前記光熱変換を起こす光源としてはコヒーレントなもので、発振波長が近赤外領域のものが好ましい。価格、安定性、小型化の点から半導体レーザが好ましい。  
前記レーザ光の照射のタイミングは、あるスポットに対する情報記録の後、同じスポット又はその近傍のスポットに次の書き込みが行われるまでの間であれば、情報書き込み時と同時であっても、やや遅れて行われてもかまわない。光熱変換を起こす光源は、情報書き込みおよびサーボ信号読み出しの機構と同一であっても、個別に分離していてもかまわない。
【００５４】
前記光熱変換剤の前記モノマー供給層の固形分中における含有量は、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．０１〜１０質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることが特に好ましい。この範囲において、十分な加熱効果を得ることができ、かつ、色素による重合阻害効果を抑えることが可能である。前記含有量が、０．０１質量％未満であると、光熱変換が非効率であり、３０質量％を超えると光の利用効率が下がることがある。
【００５５】
前記モノマー供給層の厚みは、１〜１００μｍが好ましく、２〜８０μｍがより好ましく、５〜５０μｍが特に好ましい。前記厚みが１μｍ未満である場合、モノマー供給層全体に含まれるモノマー量が供給されるべき量に満たないため効果をなさない。上限については特に技術的障害は少ないが、製膜時に膜厚分布が生じることにより、参照光と信号光のフォーカスのずれが生じるおそれがあり、厚みが前記範囲にある場合は、この障害を回避することが可能である。
【００５６】
−モノマー供給層の判別−
前記モノマー供給層が積層されているか否かは、光記録媒体をレーザ共焦点顕微鏡により層構造を解析して確認が可能である。特に、前記記録層と前記モノマー供給層との区別は、該当する光記録媒体に実際にホログラフ情報を記録し、それをレーザ共焦点顕微鏡で観察することにより、前記記録層中に干渉像が形成されたか否かで判断可能である。即ち、前記モノマー供給層は重合開始剤系を含まないがゆえに、前記記録層と異なり、光照射によって干渉像が形成されないからである。また、前記モノマー供給層と前記光記録媒体に含まれる接着剤層との区別は、以下の観察により行われる。
前記観察としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）などが挙げられる。これらの中でも、内部を観察するのに適しているＴＥＭが好ましい。
【００５７】
ＴＥＭでの試料作成及び観察の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）固定、（２）脱水及び置換、（３）樹脂包埋、（４）超薄切片の作製、（５）観察の手順で行う方法などが挙げられる。
前記光記録媒体の薄切片をオスミウム染色後、前記薄切片の断面を、透過電子顕微鏡により観察した際に、前記区別をすることができる。
【００５８】
前記固定は、観察すべき試料の相分離構造を安定化させ観察しやすくするために行う。前記固定としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学的固定法などが挙げられ、フォルムアルデヒドやグルタルアルデヒド、四酸化オスミウム等を単独もしくは複合して使用する。更に、固定後、もしくは固定操作の途中の段階で２〜４％寒天に包埋し、細切することで以後の取り扱いを簡便にすることができる。
【００５９】
前記脱水及び置換としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、包埋剤は普通水に溶けないので、試料の水分をこれと親和性のある溶媒に置き換える操作（脱水）を行い、さらに置換剤（脱水剤と包埋剤の仲介を行う溶媒）、包埋剤に浸漬する（置換）。脱水剤としてはエタノールやアセトン水溶液が用いられ、低濃度の溶液から段階的に１００％エタノール（アセトン）溶液に５〜１５分づつ浸漬して行う。引き続きプロピレンオキサイド等の置換剤、置換剤＋包埋剤混合液、さらに包埋剤混合液中で浸漬し包埋剤混合液に置換する。
【００６０】
前記樹脂包埋としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ樹脂、スパー樹脂などの包埋剤が用いられる。これらの中でも、粘度が低く試料への樹脂の浸透が優れているスパー樹脂が好ましい。前記樹脂の混合割合で種々の硬さに硬化するため、試料の硬さや使用する切削工具などに応じて適切な硬さに調整する。
【００６１】
前記超薄切片としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、試料を厚み１００ｎｍ以下の超薄切片に加工する。前記超薄切片の作製にはウルトラミクロトームなどが用いられ、使用するナイフはガラスナイフ、ダイヤモンドナイフ等がある。ダイヤモンドナイフは、大きな切片を比較的容易に作成することが可能である。樹脂包埋した試料ブロックを前記ナイフ等を用いて目的の試料までピラミッド状に整形し、ガラスナイフなどを使って一辺０．５〜１．０ｍｍ程度の長方形や台形にトリミング、観察面の面だしを行う。超薄切の条件はダイヤモンドナイフの場合、試料送り量６０〜８０ｎｍ、切削スピード１．０〜１．５ｍｍ／秒程度が好ましい。
【００６２】
前記観察としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無染色ではほとんどコントラストが生じないため、試料のコントラスト増強を行うため切片を、例えば、炭素不飽和結合ならばオスミウムなどの重金属で染めて、電子線により濃淡が着きやすいように調整をした後に観察する。染色されるか否かで判断可能である。
【００６３】
＜記録層＞
前記光記録層は、少なくともバインダー、重合性モノマー、及び重合開始剤を含み、更に必要に応じてその他の成分を含む記録層である。
【００６４】
−バインダー−
前記バインダーは、前記モノマー供給層において用いられたバインダーと同じバインダーでもよく、異なったバインダーでもよい。また、いずれか一種のみを使用してもよいし、併用してもよい。
【００６５】
前記バインダーの添加量としては、前記ホログラム記録層の全重量に対し、５０〜９９質量％の範囲が好ましく、６０〜９８質量％の範囲がさらに好ましく、７０〜９５％の範囲が特に好ましい。この範囲において感度、多重度、保存性に優れた記録層を得ることができる。前記バインダーが５０質量％を下回ると、長期間保存する際に情報が失われるおそれがあり、また、９９質量％を超えると、モノマーを十分に含むことが出来ないために感度、多重度において満足しうる記録層を得ることができない。
【００６６】
＜重合性モノマー＞
前記重合性モノマーは、前記モノマー供給層において用いられた重合性モノマーと同じ重合性モノマーでもよく、異なったものでもよい。また、いずれか一種のみを使用してもよいし、併用してもよい。
【００６７】
前記重合性モノマーの添加量としては、前記ホログラム記録層の全重量に対し、１〜５０質量％の範囲が好ましく、２〜４０質量％の範囲がより好ましく、３〜３０質量％の範囲が特に好ましい。この範囲において感度、多重度、保存性に優れた記録層を得ることができる。前記重合性モノマーが１質量％を下回ると、感度、多重度において満足しうる記録層が得られず、また、３０質量％を超えると、書き込み後長期間保存した際に情報が失われるおそれがある。
【００６８】
＜重合開始剤＞
前記重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の各種の系が利用可能ある。開始剤系は、単一の化合物でなる系でもよいし、複数の化合物からなる系であってもよい。開始剤系は、ラジカル重合を活性化する系と、カチオン重合又は開環重合を活性化する系とを、単一の開始剤系で行ってもよいし、異なる２つの開始剤系で各々行ってもよい。
【００６９】
前記光カチオン重合又は開環重合開始剤としては、光酸発生剤が好ましく、該光酸発生剤としては、例えば、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四アンモニウム塩類、スルホン酸エステル類、などが挙げられる。
【００７０】
前記トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類としては、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４，５−トリメトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、などが挙げられる。
【００７１】
前記ジアリールヨードニウム塩類としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００７２】
前記トリアリールスルホニウム塩類としては、例えば、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムテトラフルオロボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、４−ヒドロキシ−１−ナフタレニル）ジメチルスルホニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００７３】
前記第四アンモニウム塩類としては、例えば、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラメチルアンモニウムトリフルオロアセテート、テトラメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、テトラブチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラブチルアンモニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、テトラブチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラブチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモニウムトリフルオロアセテート、ベンジルトリメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルトリメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルトリメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムテトラフルオロボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムトリフルオロアセテート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロホスホネート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアルセネート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムトリフルオロアセテート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウム−ｐ−トルエンスルホナート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、Ｎ−シンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、Ｎーシンナミリデンエチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、などが挙げられる。
【００７４】
前記スルホン酸エステル類としては、例えば、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、α−ヒドロキシメチルベンゾイン−メタンスルホン酸エステル、ピロガロール−トリ（ｐ−トルエンスルホン酸）エステル、ピロガロール−トリ（トリフルオロメタンスルホン酸）エステル、ピロガロール−トリメタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２，４−ジニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、２−ニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−メタンスルホン酸エステル、４−ニトロベンジル−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−メタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド−メタンスルホン酸エステル、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、などが挙げられる。
【００７５】
これらの化合物のうち、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン又は２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン；ジアリールヨードニウム塩類としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート又は４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート；トリアリールスルホニウム塩類としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート又は４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート；第四アンモニウム塩類としては、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート；スルホン酸エステル類としては、２，６−ジニトロベンジル−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、２，６−ジニトロベンジル−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−ｐ−トルエンスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステル、などが挙げられる。
【００７６】
前記光ラジカル重合開始系としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、などが挙げられる。
【００７７】
前記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号公報、特開昭４８−３６２８１号公報、特開昭５５−３２０７０号公報、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開昭６１−１６９８３５号公報、特開昭６１−１６９８３７号公報、特開昭６２−５８２４１号公報、特開昭６２−２１２４０１号公報、特開昭６３−７０２４３号公報、特開昭６３−２９８３３９号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）」などに記載の化合物が挙げられる。これらの中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、Ｓ−トリアジン化合物が特に好ましい。
【００７８】
より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、などが挙げられる。
【００７９】
前記カルボニル化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体；２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン等のアセトフェノン誘導体；チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、などが挙げられる。
【００８０】
前記アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
【００８１】
前記有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）などが挙げられる。
【００８２】
前記メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報に記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体などが挙げられる。
【００８３】
前記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号明細書、米国特許第４，３１１，７８３号明細書、米国特許第４，６２２，２８６号明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙げられる。
【００８４】
前記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号公報、特開昭６２−１５０２４２号公報、特開平９−１８８６８５号公報、特開平９−１８８６８６号公報、特開平９−１８８７１０号公報、特開２０００−１３１８３７号公報、特開２００２−１０７９１６号公報、特許第二７６４７６９号公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体などが具体例として挙げられる。
【００８５】
前記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特開２００２−３２８４６５号公報等に記載される化合物が挙げられる。
【００８６】
前記オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ．  Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ  （１９７９）１６５３〜１６６０頁、Ｊ．Ｃ．Ｓ．  Ｐｅｒｋｉｎ  ＩＩ  （１９７９）１５６〜１６２頁、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２〜２３２頁、特開２０００−６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、具体的には以下に示す化合物が挙げられる。
【００８７】
【化９】
2007041323.tif 000011
【００８８】
前記オニウム塩化合物としては、カチオン重合開始剤として上述した化合物、更には、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号公報に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、米国特許第４，０６９，０５６号明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第一０４、１４３号明細書、米国特許第３３９，０４９号明細書、米国特許第４１０，２０１号明細書、特開平２−１５０８４８号公報、特開平２−２９６５１４号公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第３７０，６９３号明細書、欧州特許第３９０，２１４号明細書、欧州特許第二３３，５６７号明細書、欧州特許第二９７，４４３号明細書、欧州特許第二９７，４４２号明細書、米国特許第４，９３３，３７７号明細書、米国特許第一６１，８１１号明細書、米国特許第４１０，２０１号明細書、米国特許第３３９，０４９号明細書、米国特許第４，７６０，０１３号明細書、米国特許第４，７３４，４４４号明細書、米国特許第二，８３３，８２７号明細書、独国特許第二，９０４，６２６号明細書、独国特許第３，６０４，５８０号明細書、独国特許第３，６０４，５８１号明細書に記載のスルホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８  Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、などが挙げられる。
【００８９】
特に反応性、安定性の面から前記オキシムエステル化合物或いはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩はカチオン重合開始剤としての機能も有するが、同時にイオン性のラジカル重合開始剤としても機能する。この性質を利用して、単一の化合物でカチオン重合及びラジカル重合の両方を活性化することも可能である。
【００９０】
前記重合開始剤を更に増感するために、更に増感助剤を加えることが可能である。かかる増感助剤としては、例えば３−位及び／又は７−位に置換基を有するクマリン類、フラボン類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセン類等を用いることができる。
【００９１】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記ホログラム記録層の全重量に対し、０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、１〜７質量％の範囲がより好ましく、１．５〜５質量％の範囲が特に好ましい。この範囲において、感度、多重度ともに優れた記録層を得ることができる。下限を下回ると十分な感度を得ることができず、上限を上回ると、参照光、信号光を不必要に吸収してしまい、特に、信号の読み出しの際に十分な信号強度を得ることができないおそれがある。
【００９２】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光熱変換剤などが挙げられる。
【００９３】
前記光熱変換剤は、前記モノマー供給層で用いられたものと同一のものでもよく、異なったものでもよい。また、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９４】
前記光熱変換剤の前記記録層の全固形分中における含有量は、前記モノマー供給層の全固形分中の含有量と同じでもよく、異なっていてもよい。即ち、前記記録層の全固形分中の外光熱変換剤の含有量は、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましく、０．１〜１質量％であることが特に好ましい。この範囲において、十分な加熱効果を得ることができ、かつ、色素による重合阻害効果を抑えることが可能である。前記含有量が、０．０１質量％未満であると、光熱変換が非効率であり、３０質量％を超えると光の利用効率が下がることがある。
【００９５】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重記録、角度多重記録などの高多重記録を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００９６】
−支持体−
前記支持体としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００９７】
前記支持体の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【００９８】
前記支持体としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターなどにより回転して用いる場合には、過剰な負荷をかけることがある。
【００９９】
＜光記録媒体を記録及び再生する方法、装置＞
本発明の光記録媒体をホログラフィを利用して情報光及び参照光により記録及び再生する方法、装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、米国特許第５，７１９，６９１号明細書、同第５，８３８，４６７号明細書、同第６，１６３，３９１号明細書、同第６，４１４，２９６号明細書、米国特許出願公開第二００２−１３６１４３号明細書、特開２０００−９８８６２号公報、同２０００−２９８８３７号公報、同２００１−２３１６９号公報、同２００２−８３４３１号公報、同２００２−１２３９４９号公報、同２００２−１２３９４８号公報、同２００３−４３９０４号公報、同２００４−１７１６１１号公報、国際公開第９９／５７７１９号パンフレット、同第０２／０５２７０号パンフレット、第０２／７５７２７号パンフレットなどに記載された光記録方法、光記録装置などが挙げられる。
【０１００】
前記第一の形態における光情報記録方法では、以下のように記録される。即ち、図１４に示すように、光源６１から出射した光が、ハーフミラー６４を透過した情報光５１と、該ハーフミラー６４に反射した参照光５２に分割され、情報光５１はミラー６６及びビームエキスパンダ６８を経由して拡大され、光情報記録媒体５０の記録層面に照射される。他方、参照光５２は、ミラー６５及びビームエキスパンダ６７を経由して拡大され、情報光５１が照射される前記記録層面と反対側の記録層面に照射され、情報光５１と参照光５２とにより干渉縞が生成され、この干渉縞が光情報として前記記録層に記録される。
この記録方法により光記録媒体５０への多重記録は、図１４に示すように、光記録媒体５０を少しつづ移動させて記録を繰り返すことにより可能である。
【０１０１】
＜情報光及び参照光＞
前記情報光及び前記参照光の光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光源から出射される可干渉性のあるレーザ光などが好ましい。
前記レーザ光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長が、３６０〜８５０ｎｍから選択される１種以上の波長からなるレーザ光などが挙げられる。該波長は、３８０〜８００ｎｍが好ましく、４００〜７５０がより好ましく、可視領域の中心が最も見え易い５００〜６００ｎｍが最も好ましい。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、鮮明な立体画像が得られないことがあり、８５０ｎｍを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。
【０１０２】
前記レーザ光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、固体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器、液体レーザ光発振器、アルゴンなどの気体レーザ光発振器、Ｈｅ−Ｃｄレーザ発振器、周波数２倍ＹＡＧレーザ発振器、Ｈｅ−Ｎｅレーザ発振器、Ｋｒレーザ発振器などが挙げられる。これらの中でも、気体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器などが好ましい。
【０１０３】
前記情報光及び前記参照光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一の光源から出射される一のレーザ光などを分割して、該情報光及び該参照光として照射してもよく、異なる光源から出射される二つレーザ光などを照射してもよい。
前記情報光と前記参照光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光と前記参照光が異なった方向から照射されてもよく、同一方向で照射されもよい。また、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸と同軸となるようにして照射されるものでもよい。
【０１０４】
＜定着光＞
前記定着光の照射領域としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも１μｍ外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から１μｍを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。
【０１０５】
前記定着光の照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、１ｎｓ〜１００ｍｓが好ましく、１ｎｓ〜８０ｍｓがより好ましい。前記照射時間が、１ｎｓ未満であると、定着が不十分なことがあり、１００ｍｓを超えると過剰なエネルギーの照射となる。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して０〜６０°が好ましく、０〜４０°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、３５０〜８５０ｎｍであることが好ましく、４００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、材料が分解してしまうことがあり、８５０ｎｍを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。
【０１０６】
前記定着光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インコヒーレントな光を照射することが好ましく、蛍光灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが挙げられる。これらの中でも、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが好ましい。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、０．００１〜１Ｊ／ｃｍ２であることが好ましく、０．０１〜３００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
前記定着光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同一の光源から出射される光を照射してもよく、異なる光源から出射される光などを照射してもよい。
【０１０７】
≪第二の形態≫
前記第二の形態は、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われるコリニア方式に用いられる光記録媒体の形態で、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、該記録層に隣接して積層された本発明のモノマー供給層及び前記第二の基板と該記録層との間にダイクロイックミラー層とを有する光記録媒体、前記ダイクロイックミラー層の代わりにフィルタ層を積層した光記録媒体などが挙げられる。
【０１０８】
＜モノマー供給層＞
前記モノマー供給層は第一の形態に用いられた本発明のモノマー供給層と同様のモノマー供給層を用いることができる。
【０１０９】
＜記録層＞
前記記録層は第一の形態に用いられた記録層と同様の記録層を用いることができる。
【０１１０】
＜フィルタ層＞
前記フィルタ層は、複数種の光線の中から特定の光の波長のみを反射する、波長選択反射機能を有する。特に、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能もあり、前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ダイクロイックミラー層、色材含有層を有し、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック層及び必要に応じて適宜選択したその他の層の少なくともいずれかを積層した積層体により形成される。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
【０１１１】
−ダイクロイックミラー層−
前記ダイクロイックミラー層は、波長選択反射膜とするためには、複数層積層することが好ましい。前記積層数は、１〜５０層が好ましく、２〜４０層がより好ましく、２〜３０層が特に好ましい。前記積層数が、５０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、分光透過率特性の変化が小さくなり層数を増加するだけの効果は小さくなる。
【０１１２】
前記ダイクロイックミラー層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記ダイクロイックミラー層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λ／１が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【０１１３】
−色材含有層−
前記色材含有層は、色材、バインダー樹脂、溶剤及び必要に応じてその他の成分により形成される。
【０１１４】
前記色材としては、顔料及び染料の少なくともいずれかが好適に挙げられ、これらの中でも、５３２ｎｍの光を吸収し、６５５ｎｍ若しくは７８０ｎｍのサーボ光を透過させる観点から、赤色染料、赤色顔料が好ましく、赤色顔料が特に好ましい。
【０１１５】
前記赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１，８，１３，１４，１８，２６，２７，３５，３７，４２，５２，８２，８７，８９，９２，９７，１０６，１１１，１１４，１１５，１３４，１８６，２４９，２５４，２８９等の酸性染料；Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２，１２，１３，１４，１５，１８，２２，２３，２４，２７，２９，３５，３６，３８，３９，４６，４９，５１，５２，５４，５９，６８，６９，７０，７３，７８，８２，１０２，１０４，１０９，１１２等の塩基性染料；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１，１４，１７，２５，２６，３２，３７，４４，４６，５５，６０，６６，７４，７９，９６，９７等の反応性染料、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１６】
前記赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
これらの中でも、５３２ｎｍの光に対する透過率が１０％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上である透過スペクトルを示す赤色顔料が特に好ましく用いられる。
【０１１８】
前記色材の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し０．０５〜９０質量％が好ましく、０．１〜７０質量％がより好ましい。前記含有量が０．０５質量％未満であると、色材含有層の厚みが５００μｍ以上必要となってしまうことがあり、９０質量％を超えると、色材含有層の自己支持性がなくなり、色材含有層の作製工程中に膜が崩れてしまうことがある。
【０１１９】
−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体；塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体；塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニル／アクリロニロリル共重合体；エチレン／酢酸ビニル共重合体；ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体；ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基（エポキシ基、ＣＯ２Ｈ、ＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、ＰＯ３Ｍ２、ＯＰＯ３Ｍ２（ただし、Ｍは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていてもよい）を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂１グラム当り１０−６〜１０−４当量が好ましい。
以上列挙したバインダー樹脂は、イソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理されることが好ましい。
【０１２０】
前記バインダー樹脂の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し１０〜９９．９５質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましい。
【０１２１】
前記各成分は、適当な溶媒に溶解乃至は分散し、塗布液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法により後述する基材上に塗布することにより、色材含有層を形成することができる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２２】
前記塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。
【０１２３】
前記色材含有層の厚みは、例えば、０．５〜２００μｍが好ましく、１．０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが、０．５μｍ未満であると、色材を包んで膜とするためのバインダー樹脂を十分な量添加することができなくなることがあり、２００μｍを超えると、フィルタの厚みが大きくなりすぎて、照射光及びサーボ光の光学系として過大なものが必要になることがある。
【０１２４】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、前記色材含有層上に形成され、互いに屈折率の異なる誘電体薄層を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【０１２５】
前記誘電体薄層の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【０１２６】
前記高屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２、などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【０１２７】
前記低屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４、などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄層の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【０１２８】
前記誘電体薄層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ダイクロイックミラー層の積層に用いた積層方法と同様の方法を用いることができる。
前記誘電体薄層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λ／１が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【０１２９】
前記誘電体蒸着層においては、該誘電体蒸着層中を伝播する光の一部が、各誘電体薄層毎に多重反射し、それらの反射光が干渉するため、誘電体薄層の厚みと光に対する膜の屈折率との積で決まる光の波長のみが選択的に透過されることになる。また、誘電体蒸着層の中心透過波長は入射光に対して角度依存性を有しており、入射光を変化させると透過波長を変えることができる。
ただし、前記誘電体蒸着層の積層数を２０層以下としたことにより、数％〜数十％の選択反射波長光がフィルタを漏れて透過するが、該漏れ光を前記誘電体蒸着層の直下に仕込んだ色材含有層で吸収してしまう。なお、前記色材含有層は赤色顔料や赤色染料を含んでいるので、３５０〜６００ｎｍの光は吸収するが、サーボ光として使用する６００〜９００ｎｍの光は透過する。
前記色材含有層と前記誘電体蒸着層とを有する光記録媒体用フィルタの機能は、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、誘電体蒸着層、色材含有層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
【０１３０】
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、８０％以上が好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上であり、４０％以上が好ましい。
【０１３１】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【０１３２】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
したがって、前記コレステリック液晶層は、第一の光の波長を透過し、該第一の光と異なる第二の光の円偏光を反射することが好ましく、前記第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ前記第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。
【０１３３】
前記コレステリック液晶層の選択反射特性は、特定の波長帯域のみに限定され、可視光域をカバーすることは困難である。即ち、前記コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表される。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
【０１３４】
前記数式１で示すように、前記選択反射波長帯域幅Δλは、ネマチック液晶そのものの分子構造に依存する。前記数式１から、（ｎｅ−ｎｏ）を大きくすれば、前記選択反射波長帯域幅Δλを拡げられるが、（ｎｅ−ｎｏ）は通常０．３以下であり、０．３より大きくなると、液晶としてのその他の機能、例えば、配向特性、液晶温度等が不十分となり、実用化が困難となる。
【０１３５】
また、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長λは、下記数式２で表される。
＜数式２＞
λ＝（ｎｅ＋ｎｏ）Ｐ／２
ただし、前記数式２中、ｎｅ及びｎｏは上記数式１と同じ意味を表す。Ｐは、コレステリック液晶層の一回転ねじれに要する螺旋ピッチ長を表す。
【０１３６】
前記数式２で示すように、前記選択反射中心波長λは、コレステリック液晶層の螺旋ピッチが一定であれば、コレステリック液晶層の平均屈折率と螺旋ピッチ長Ｐに依存する。それ故、コレステリック液晶層の選択反射特性を拡げるには、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長が互いに異なり、前記コレステリック液晶層の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）が互いに同じであることが好ましい。また、前記コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は連続的であることが好ましい。ここで、前記「連続的」とは、選択反射波長帯域間にギャップがなく、波長λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（好ましくはλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°）の間にギャップがなく、実質的にこの範囲の反射率が４０％以上であることを意味する。
したがって、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長λ間の距離は、各選択反射波長帯域が少なくとも１つの他の選択反射波長帯域と連続となる範囲内であることが好ましい。
【０１３７】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
【０１３８】
また、複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を３層積層すると、図１０に示すような反射特性を有する光記録媒体用フィルタが得られる。この図１０は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で４０°傾斜した時は図１１に示すような反射特性を示す。
同様に、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を２層積層すると、図１２に示すような反射特性を有する光記録媒体用フィルタが得られる。この図１２は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で２０°傾斜した時は図１３に示すような反射特性を示す。
【０１３９】
なお、図１０に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲は光記録媒体用フィルタにおける±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタにおける各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、光記録媒体用フィルタ内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合は図１２に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層を２層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
したがって図１０〜図１３の結果から、本発明の光記録媒体用フィルタ内においては、複数層コレステリック液晶層の場合には、入射波長が０°〜２０°（好ましくは０°〜４０°）傾斜しても４０％以上の反射率が確保できているので、信号読み取りには何ら支障のない光記録媒体用フィルタが得られる。
【０１４０】
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【０１４１】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【０１４２】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記の化合物などが挙げられる。
【０１４３】
【化１０】
2007041323.tif 000012
【０１４４】
【化１１】
2007041323.tif 000013
【０１４５】
【化１２】
2007041323.tif 000014
【０１４６】
前記式中において、ｎは１〜１，０００の整数を表す。なお、前記各例示化合物においては、その側鎖連結基を、以下の構造に変えたものも同様に好適なものとして挙げられる。
【０１４７】
【化１３】
2007041323.tif 000015
【０１４８】
上記の各例示化合物のうち、ネマチック液晶化合物としては、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３、などが挙げられる。
【０１４９】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【０１５０】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層では、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５１】
【化１４】
2007041323.tif 000016
【０１５２】
【化１５】
2007041323.tif 000017
【０１５３】
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６、などが挙げられる。
【０１５４】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【０１５５】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５６】
【化１６】
2007041323.tif 000018
【０１５７】
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【０１５８】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【０１５９】
前記重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【０１６０】
前記重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【０１６１】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【０１６２】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【０１６３】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【０１６４】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【０１６５】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６６】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【０１６７】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【０１６８】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第二，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【０１６９】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【０１７０】
＜コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述したように、前記基材上に色材含有層を塗布形成し、該色材含有層上にコレステリック液晶層を塗布形成する方法、などが挙げられる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【０１７１】
前記光記録媒体用フィルタは、色材含有層とコレステリック液晶層とを組み合わせた構成では、フィルタ層内の±２０°における、６５５ｎｍでの光透過率が８０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が４０％以上であることが好ましい。
具体的には、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する光記録媒体用フィルタは、正面（０°）からの垂直入射光に対して十分な反射特性を有する。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、２０°傾斜時には反射特性の低下を示す。
本発明の光記録媒体用フィルタは、フィルタ層内の光が０°〜２０°傾斜しても５３２ｎｍでの４０％以上の反射率が確保でき、信号読み取りには何ら支障がなく、また、フィルタを通過した漏れ光（５３２ｎｍ）を吸収し、サーボ光（６５５ｎｍ）を通過させることができ、ノイズの発生を防止できるものである。
【０１７２】
＜基材＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の形態に用いられた支持体と同じ材料を用いることができる。
【０１７３】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。
【０１７４】
前記光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができ、ホログラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明のホログラム型の光記録媒体及びその製造方法並びに光記録方法及び再生方法に特に好適に使用することができる。
【０１７５】
＜反射膜、第一及び第二ギャップ層を有する光記録媒体＞
前記光記録媒体は、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に前記記録層と、前記第二の基板と前記記録層との間に前記フィルタ層及び前記記録層に隣接して積層された本発明のモノマー供給層とを有してなり、反射膜、第一ギャップ層、第二ギャップ層、更に必要に応じてその他の層を有してなる構成でもよい。
前記記録層及び前記フィルタ層としては、前記光記録媒体用フィルタが用いられる。
【０１７６】
−基板−
前記基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記基板材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【０１７７】
前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【０１７８】
前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【０１７９】
−反射膜−
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【０１８０】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【０１８１】
−第一ギャップ層−
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【０１８２】
−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル＝ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【０１８３】
ここで、本発明の前記反射膜、前記第一及び前記第二ギャップ層を有する光記録媒体の具体例について、図面を参照して更に詳しく説明する。
【０１８４】
＜光記録媒体の具体例＞
図７は、本発明の具体例における光記録媒体の構造を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２５では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図７では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
【０１８５】
第一ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって記録層４及び該記録層上に隣接して設けられたモノマー供給層を挟むことによって光記録媒体２５が構成される。
【０１８６】
図１５において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層からなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層によって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１８７】
具体例における光記録媒体２７は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第一ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、モノマー供給層は２０μｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９３ｍｍとなっている。
【０１８８】
次に、図１５を参照して、光記録媒体２７周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２７に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の光の波長を透過し、赤色の光の波長をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２７の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、モノマー供給層９、記録層４、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、記録層４、モノマー供給層９及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図１０に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲はフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合は図１２に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１８９】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１１によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２７に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、モノマー供給層９を通過し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成し、該干渉パターンを記録する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【０１９０】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の第二の形態の製造方法は、モノマー供給層形成工程、フィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１９１】
−モノマー供給層形成工程−
前記モノマー供給層形成工程は、記録層の表面に接して、本発明のモノマー供給層を積層する工程である。前記バインダー及び前記重合性モノマーを含み重合開始剤を含まない組成物溶液を調製し、該組成物溶液を前記記録層上にスピンコートなどにより塗工することにより形成する。
【０１９２】
−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。
ここで、本発明の前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１９３】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
【０１９４】
＜第二の形態における光記録方法及び再生方法＞
前記第二の形態における光記録方法は、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。
前記コリニア方式においても、前記第一の形態と同様に、光記録媒体における記録層の少なくとも一部の記録対象部分に対して、情報光及び参照光を照射することにより、高解像度、高回折効率の光記録媒体が得られる。
【０１９５】
前記再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された前記干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
【０１９６】
前記第二の形態の光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、前記第二の形態の光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
【０１９７】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図１６を参照して説明する。
図１６は、前記第二の形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２７が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２７の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２７に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２７に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２７に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２７の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１９８】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２７の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２７の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２７の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１９９】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２７のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【０２００】
前記第二の形態の光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用い、情報光及び参照光による干渉縞の記録後、前記記録層の任意の箇所において、定着露光がなされ、必要に応じて適宜選択したその他の手段かつ十分な定着がなされ、かつ未記録部分の感度に影響を与えず、高密度の回折効率の高い光記録媒体が得られる。
【実施例】
【０２０１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０２０２】
（実施例１）
本発明のモノマー供給層及び記録層などを積層した前記第二の形態の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価するために、情報光及び参照光を、作製した光記録媒体に照射し、干渉像を形成し前記記録層に記録した。波長選択反射膜を前記光記録媒体に形成する方法として、フィルム上にフィルタ層を積層した光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを積層することにより該光記録媒体を作製した。
【０２０３】
＜光記録媒体の作製＞
前記光記録媒体は、第一の基板、モノマー供給層、記録層、保護層（第二ギャップ層）、フィルタ層（ダイクロイックミラー層）、接着層（第一ギャップ層）、反射層及び第二の基板の順に積層された光記録媒体を作製した。
【０２０４】
−第一の基板の作製−
直径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂からなる第一の基板を作製した。
【０２０５】
−第二の基板の作製−
前記第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、サーボピットパターンは形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１４０ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射層を形成した。反射層の材料には銀（Ａｇ）を用いた。ＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み１５０ｎｍのＡｇ反射層を形成した。次に、該反射層の上に、接着剤（ＳＤ６４０：大日本インキ株式会社製）をスピンコートにより厚み２０μｍで塗工し接着層（第一ギャップ層）を形成した。
【０２０６】
−光記録媒体用フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）厚み１００μｍ上に、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、層数が３０、厚み３μｍのＡｇ膜からなるダイクロイックミラー層を蒸着により形成し、前記第二の基板に積層するため、該第二の基板と同形状のディスクに打ち抜き加工し、実施例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０２０７】
−光記録用組成物塗布液の調製−
次に、前記記録層の材料としては、下記組成からなるの光記録用組成物塗布液を、それぞれ湿度を除去し乾燥させた密閉タンク内で調合攪拌し、光記録媒体の積層の直前まで５℃で各タンクＡ及びＢ内に保存した。
−光記録用組成物塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
タンクＡ
・Ｂａｙｔｅｃｈ ＷＥ−１８０
（バイエル社製イソシアネートプレポリマー）・・・・・・・・・・・・・２００ｇ
・Ｍｏｎｄｕｒ  ＭＬ（バイエル社製イソシアネートプレポリマー）・・・２００ｇ
・トリブロモフェニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・４４．９３ｇ
・イルガキュア７８４・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・９．８４ｇ
・３，５ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン・・・・・・・・２５４ｍｇ
タンクＢ
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（平均分子量１，０００）・・・・８０７ｇ
・ターシャリーブチルペルオキサイド・・・・・・・・・・・・・・・・・３１０μｌ
・ジブチルラウレートスズ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２．５ｇ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０２０８】
−モノマー供給層塗布液の調製−
次に、モノマー供給層の材料としては、下記組成物からなる前記モノマー供給層塗布液を、調液環境が、温度２５℃、湿度４０％において調製した。
【０２０９】
−モノマー供給層塗布液の組成−
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・ポリビニルアルコール
（クラレ株式会社製、ポバールＰＶＡ２０５）・・・・・・・・・・９２質量％
・重合性モノマー（トリブロモフェニルアクリレート）・・・・・・・８質量％
・溶剤：メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０質量％
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【０２１０】
−光記録媒体の積層−
まず、反射層及び接着層（第一ギャップ層）が形成された前記第二の基板に、得られた光記録媒体用フィルタを、該光記録媒体用フィルタのベースフィルム面をサーボピットパターン側にして貼り付けた。貼り合わせには間隙に気泡が入らないようにして行った。以上により前記第二の基板上にフィルタ層を形成した。
次に、保護層（第二ギャップ層）として、ＳＤ６４０：大日本インキ株式会社製）をスピンコートにより厚み２０μｍになるように該フィルタ層上に塗工した。
次に、モノマー供給層用組成物を、前記第一の基板上にスピンコーターにてスピンコートした後、３０℃１時間加熱して溶剤を除去し、厚みが２０μｍのモノマー供給層を前記第一の基板上に形成した（設置形態Ａ）。
前記タンクＡから１．００ｇ、タンクＢから１．８０ｇの感光性組成物をそれぞれ取り出して温度２５℃湿度２０％の条件下ですばやく攪拌し、得られた前記第一の基板及び前記第二の基板を平行かつ水平に保持した間隙に注入し、前記両基板を平行に保ったまま１５分間保持したところ、前記感光性組成物は速やかに硬化し、光記録媒体が得られた。
なお、図３は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
【０２１１】
＜記録層への記録＞
光源には、Ａｒレーザ（４８８ｎｍ）を用い、情報光及び参照光として、照射エネルギー、約２．８ｍＪ／ｃｍ２を、得られた光記録媒体に照射し、干渉像を生成し、該干渉像を前記記録層に記録した。
前記情報光及び参照光が前記第一の基板側から入射し、前記記録層内には、前記第一の基板側を底面とする円錐形の干渉像が形成され、該干渉像が該記録層に記録されるが、前記円錐形の底面の部分が最も多重度が高くなると考えられる。そのため、前記モノマー供給層は、本実施例１のように、第一の基板側に形成されていることが好ましく、前記記録層の感度の低下を好適に防止することができる。
【０２１２】
＜記録媒体の選択反射特性＞
得られた光記録媒体について、光反射特性を分光反射測定器（光源として浜松ホトニクス株式会社製、Ｌ−５６６２、フォトマルチチャンネルアナライザーとして浜松ホトニクス株式会社製、ＰＭＡ−１１）を用いて測定した。
得られた光記録媒体に対して、図１５に示すように、情報光及び参照光として、偏光素子１６で直線偏光のレーザ光に変換し、１／４波長板１５により右回りの円偏光に変換した波長５３２ｎｍのレーザ光を照射し、サーボ用光として波長６５０ｎｍのレーザ光を照射した。その結果、前記サーボ用光は反射板２で反射されることが確認された。
【０２１３】
＜記録層の感度の評価＞
前記記録層の感度は、前記情報光及び参照光の照射エネルギーについて、レーザの出力エネルギーを固定し、照射時間を調節し、出力エネルギーと照射時間の積によって算出した。結果を表１に示す。
【０２１４】
（実施例２）
実施例１において、設置形態Ａに代え前記モノマー供給層を、前記記録層と保護層（第二ギャップ層）との間に（設置形態Ｂ）、厚み２０μｍで形成した以外は、実施例１と同様に、実施例２の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２１５】
（実施例３）
実施例１において、設置形態Ａに代え前記モノマー供給層を、第一の基板と記録層との間及び該記録層と保護層（第二ギャップ層）との間に（設置形態Ｃ）、両方の厚みがともに２０μｍで形成した以外は、実施例１と同様に、実施例３の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２１６】
（実施例４）
実施例１において、前記モノマー供給層の厚みを、２０μｍに代え５０μｍで形成した以外は、実施例１と同様に、実施例４の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。前記モノマー供給層の５０μｍの形成は、まず、スピンコート及び加熱を行ってモノマー供給層を設けた後、該モノマー供給層上に更にモノマー供給層組成物を積層するスピンコート及び加熱を行ってこの厚みを得た。
【０２１７】
（実施例５）
実施例１において、前記モノマー供給層の厚みを、２０μｍに代え５μｍで形成した以外は、実施例１と同様に、実施例５の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２１８】
（実施例６）
実施例１において、設置形態Ａに代え前記モノマー供給層を、第一の基板と記録層との間及び該記録層と保護層（第二ギャップ層）との間に（設置形態Ｃ）、第二の基板側に５μｍ、第一の基板側に５０μｍの厚みで形成した以外は、実施例１と同様に、実施例３の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２１９】
（実施例７）
実施例１において、前記モノマー供給層の塗布液の組成を下記の組成にした以外は、実施例１と同様に、実施例７の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２０】
−モノマー供給層塗布液の調製−
次に、モノマー供給層の材料としては、下記組成物からなる前記モノマー供給層塗布液を、調液環境が、温度２５℃、湿度４０％において調製した。
−モノマー供給層塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ポリビニルアルコール
（クラレ株式会社製、ポバールＰＶＡ２０５）・・・・・・・・・・９１．５質量％
・重合性モノマー（トリブロモフェニルアクリレート）・・・・・・・・・８質量％
・光熱変換剤
（下記ＤＹＥ−１２をメチルエチルケトンに溶解させたもの）・・・・０．５質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０２２１】
【化１７】
2007041323.tif 000019
【０２２２】
（実施例８）
実施例７において、前記モノマー供給層の厚みを、２０μｍに代え５μｍで形成した以外は、実施例７と同様に、実施例８の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２３】
（実施例９）
実施例７において、前記モノマー供給層の設置形態Ａを、設置形態Ｂに代えた以外は、実施例７と同様に、実施例９の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２４】
（実施例１０）
実施例７において、前記モノマー供給層の設置形態Ａを、設置形態Ｂに代え、厚み５０μｍは、スピンコート及び加熱を行ってモノマー供給層を設けた後、該モノマー供給層上に更にモノマー供給層組成物を積層するスピンコート及び加熱を行って形成した以外は、実施例７と同様に、実施例１０の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２５】
（実施例１１）
実施例７において、前記モノマー供給層の設置形態Ａを、設置形態Ｃに代え、厚みは、両方の厚みが各々２０μｍにした以外は、実施例７と同様に、実施例１１の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２６】
（実施例１２）
実施例７において、前記モノマー供給層の設置形態Ａを、設置形態Ｃに代え、厚みは、第二の基板側に５０μｍ、第一の基板側に５μｍの厚みで設置した以外は、実施例７と同様に、実施例１２の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２７】
（比較例１）
実施例１において、前記モノマー供給層を、下記塗布液を用いて形成した以外は、実施例２と同様に、比較例１の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２２８】
−モノマー供給層塗布液の調製−
次に、モノマー供給層の材料としては、下記組成物からなる前記モノマー供給層塗布液を、調液環境が、温度２５℃、湿度４０％において調製した。
【０２２９】
−モノマー供給層塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ポリビニルアルコール
（クラレ株式会社製、ポバールＰＶＡ２０５）・・・・・・・・・・・１００質量％
・溶剤：メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０２３０】
（比較例２）
実施例１において、前記モノマー供給層を、下記塗布液を用いて形成した以外は、実施例１と同様に、比較例２の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２３１】
−モノマー供給層塗布液の調製−
次に、モノマー供給層の材料としては、下記組成物からなる前記モノマー供給層塗布液を、調液環境が、温度２５℃、湿度４０％において調製した。
【０２３２】
−モノマー供給層塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ポリビニルアルコール
（クラレ株式会社製、ポバールＰＶＡ２０５）・・・・・・・・・・９９．５質量％
・光熱変換剤
（ＤＹＥ−１２をメチルエチルケトンに溶解させたもの）・・・・・・０．５質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０２３３】
（比較例３）
比較例２において、前記モノマー供給層の設置形態Ａを、設置形態Ｂに代えた以外は、比較例２と同様に、比較例３の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２３４】
（比較例４）
実施例１において、図２に示すように、前記モノマー供給層を形成しなかった以外は、実施例１と同様に、比較例４の光記録媒体を作製し、記録感度の低下を評価した。結果を表１に示す。
【０２３５】
【表１】
2007041323.tif 000020
モノマー供給層の設置形態
Ａは、第一の基板と記録層との間に積層した形態。
Ｂは、記録層と保護層（第二ギャップ層）との間に積層した形態。
Ｃは、第一の基板と記録層との間及び該記録層と保護層（第二ギャップ層）との間に積層した形態。
（＊１）両方の厚みがともに２０μｍ。
（＊２）まず、スピンコート及び加熱を行ってモノマー供給層を設けた後、該モノマー供給層上に更にモノマー供給層組成物を積層するスピンコート及び加熱を行ってこの厚みを得た。
（＊３）第二の基板側の厚み／第一の基板側の厚み  例：実施例６では第二の基板側に５μｍ、第一の基板側に５０μｍの厚みで設置。前記モノマー供給層に光熱変換剤を含み、かつ厚膜でモノマー供給層を設ける際は、光の吸収により感度の低下が起きることを防ぐため、モノマー供給層を第二の基板側に設けることが好ましい。
表１の結果から、実施例１〜１２は、モノマー供給層を形成した結果、記録層内のモノマーが不足したとしても、該モノマー供給層からモノマーが供給され、感度の低下を１０％以内に抑制できることが判った。比較例１は、モノマー供給層にモノマーを含まないため、該モノマー供給層から供給すべきモノマーが無いため、記録層の感度の低下を抑制することができず、感度の低下が１０５％と大きいことが判った。比較例４では、モノマー供給層自体が無いため感度の低下が１６０％と大きく減少することが判った。
【産業上の利用可能性】
【０２３６】
本発明の光記録媒体及び光記録装置は、記録回数が増加しても、感度の低下が少なく、高多重記録が可能であり、情報光及び参照光により形成する干渉像の高多重記録化を図ることができる光記録媒体及び光記録装置として好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０２３７】
【図１】図１は、従来の光記録媒体示す概略断面図である。
【図２】図２は、従来の光記録媒体示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図４】図４は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図５】図５は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図６】図６は、本発明の光記録媒体示す部分断面図である。
【図７】図７は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図８】図８は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図９】図９は、本発明の光記録媒体示す概略断面図である。
【図１０】図１０は、コレステリック液晶層の反射率特性を示すグラフである。
【図１１】図１１は、コレステリック液晶層の積層数と反射率特性を示すグラフである。
【図１２】図１２は、コレステリック液晶層の積層数と反射率特性を示すグラフである。
【図１３】図１３は、コレステリック液晶層の積層数と反射率特性を示すグラフである。
【図１４】図１４は、第一の形態の光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１５】図１５は、第二の形態の光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１６】図１６は、第二の形態の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０２３８】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボビットパターン
４      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ      コレステリック液晶層
７      第二ギャップ層
８      第一ギャップ層
９、９ａ      モノマー供給層
１０      保護層
１１      支持体
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波  長板
１６      偏光素子
１７      ハーフミラー
２０〜２７      光記録媒体
３１      ピックアップ
５０      光記録媒体
５１      情報光
５２      参照光
６１、６２    光源
６４      ハーフミラー
６５、６６      ミラー
６７、６８      ビームエキスパンダ
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカルサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      走査部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
2007041323.tif 000021
【図２】
2007041323.tif 000022
【図３】
2007041323.tif 000023
【図４】
2007041323.tif 000024
【図５】
2007041323.tif 000025
【図６】
2007041323.tif 000026
【図７】
2007041323.tif 000027
【図８】
2007041323.tif 000028
【図９】
2007041323.tif 000029
【図１０】
2007041323.tif 000030
【図１１】
2007041323.tif 000031
【図１２】
2007041323.tif 000032
【図１３】
2007041323.tif 000033
【図１４】
2007041323.tif 000034
【図１５】
2007041323.tif 000035
【図１６】
2007041323.tif 000036