(57)【要約】【課題】材料の損失が少なく、製造費用を節減できるディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。また、焼成温度を低下させ、基板などの変質を防止できるディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。さらに、外部の衝撃吸収力を強化し、厚さ及び重さを減少させたプラズマディスプレイパネルの前面フィルタを提供する。【解決手段】６５〜８５％の重量比を有する導電性物質１２０と、１０〜３０％の重量比を有し、セルロース、アクリル及びビニルのうち少なくとも一つを含む有機物１３０と、５〜１５％の重量比を有し、アルコール及びグリコールアセテートのうち少なくとも一つを含む溶媒１１０と、を含んで電磁波遮蔽膜製造用インクを構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
６５〜８５％の重量比を有する導電性物質と、
１０〜３０％の重量比を有し、セルロース、アクリル及びビニルのうち少なくとも一つを含む有機物と、
５〜１５％の重量比を有し、アルコール及びグリコールアセテートのうち少なくとも一つを含む溶媒と、を含んで構成される電磁波遮蔽膜製造用インク。
【請求項２】
前記導電性物質は、大きさが０．５〜５マイクロメートルのフレーク形状であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽膜製造用インク。
【請求項３】
前記導電性物質は、大きさが０．５〜２マイクロメートルの球形または六面体の形状であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽膜製造用インク。
【請求項４】
前記導電性物質は、銀、銅、アルミニウム、ステンレススチール及びニッケルからなる群から選択される物質であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波遮蔽膜製造用インク。
【請求項５】
基板上に、モールド印刷法またはオフセット印刷法のうち一つで導電性インク物質を転写する段階と、
前記導電性インク物質を焼成して導電性物質を形成する段階と、を含んで構成されるプラズマディスプレイ装置の製造方法。
【請求項６】
前記導電性物質上に、モールド印刷法またはオフセット印刷法のうち一つで黒色インク物質を転写する段階と、
前記黒色インク物質を焼成して黒色物質を形成する段階と、をさらに含む請求項５に記載のディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】
前記導電性インク物質は、ＰＥＴフィルム、ガラス及びディスプレイパネルのうち何れか一つに転写されることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ装置の製造方法。
【請求項８】
前記導電性インク物質は、１００〜２００℃で焼成されることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ装置の製造方法。
【請求項９】
映像情報が表示されるパネルと、
前記パネルの前面に形成されており、表面が曲面の形状をなす導電性物質からなる第１層を備えた電磁波遮蔽膜と、を含んで構成されるディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記電磁波遮蔽膜は、前記第１層上に形成されており、表面が曲面の形状をなす黒色物質からなる第２層をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ装置。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上に接合された樹脂層と、
前記樹脂層上に備えられ、導電性物質がパターニングされて形成された電磁波遮蔽膜と、を含んで構成されることを特徴とするディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１２】
前記基板は、ガラス、フィルムまたはプラズマディスプレイパネルの前面ガラスのうち何れか一つであることを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１３】
前記電磁波遮蔽膜は、前記導電性物質上に形成された黒色物質をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１４】
前記導電性物質は、カーボンを含む導電性インクが、樹脂層上に積層されて形成されることを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１５】
前記樹脂層は、ＰＤＭＳ、ＰＭＭＡ及びＥＶＡのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１６】
前記樹脂層は、厚さが３０〜７００マイクロメートルであることを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１７】
前記電磁波遮蔽膜は、厚さが２０〜２００マイクロメートルであることを特徴とする請求項１１に記載のディスプレイ装置の前面フィルタ。
【請求項１８】
陰刻が形成されたモールドを準備する段階と、
前記陰刻にインクを注入して電磁波遮蔽膜を形成する段階と、
前記電磁波遮蔽膜上に樹脂層と基板を順に塗布する段階と、
前記樹脂層を乾燥し、前記モールドを分離する段階と、を含んで構成されることを特徴とするディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【請求項１９】
前記陰刻は、１０〜３０マイクロメートルの線幅を有することを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【請求項２０】
前記陰刻は、それぞれ１５０〜５００マイクロメートルだけ離隔されて形成されることを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【請求項２１】
前記電磁波遮蔽膜を形成する段階は、
前記陰刻に黒色インクと導電性インクを順に注入することを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【請求項２２】
前記電磁波遮蔽膜を形成する段階は、
前記陰刻に、カーボンを含む導電性インクを注入することを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【請求項２３】
前記樹脂層は、５０〜３００℃で乾燥されることを特徴とする請求項１８に記載のディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ装置に関するもので、特に、前面フィルタ及びその材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代の到来とともに、一層細密で、一層大きく、一層自然色に近い色を表現できるディスプレイ装置の登場が要求されている。一方、４０インチ以上の大きな画面を構成するには、現在のＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）に限界があり、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）やＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）及びプロジェクション・テレビなどが高画質映像の分野への用途拡大のために急速に発展している。
【０００３】
上述したＰＤＰは、駆動過程で人体に有害な電磁波などが発生するので、これを遮断するために、画像が表示されるパネルの前面に前面フィルタが備えられている。
【０００４】
以下、上述したディスプレイ装置の一つであるＰＤＰの前面フィルタ及びその問題点を説明する。
【０００５】
ＰＤＰは、上部パネルと下部パネルとの間の放電空間内で放電が起きて紫外線が発生すると、この紫外線が蛍光体に入射されることで可視光線が発生し、この可視光線によって画面が表示されるように構成される。
【０００６】
ＰＤＰの前面には、ガラス型またはフィルム型の前面フィルタが備えられており、前面フィルタは、電磁波（Ｅｌｅｃｔｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ、ＥＭＩ）及び近赤外線（Ｎｅａｒ  Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｒａｙｓ、ＮＩＲ）を遮蔽する膜と、色補正膜と、外部から入射される光の反射を防止する膜と、から構成される。
【０００７】
以下、上述した電磁波遮蔽膜の構成を説明する。ベースフィルム上にメッシュ形状の導電性物質が備わり、前記導電性物質は、フレームによって支持されることもある。メッシュ形状は、導電性物質をフォトリソグラフィ、エッチング工程またはスパッタリング法などでＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）ベースフィルム上にパターニングすることで形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した従来の電磁波遮蔽膜には、次のような問題点があった。
【０００９】
第一に、フォトリソグラフィ及びエッチング工程でメッシュ構造の導電性物質を形成する場合、材料の損失が多く、増加した工程数によって工程が複雑になる。
【００１０】
第二に、スパッタリング法で電磁波遮蔽膜を形成する場合、工程時間が長くなり、抵抗が高くなるという問題点がある。
【００１１】
第三に、導電性物質などの焼成工程で温度が過度に高くなると、基板などの変質をもたらす可能性がある。
【００１２】
本発明は上述した従来の問題点を解決するためのもので、その目的は、材料の損失が少なく、製造費用を節減できるディスプレイ装置及びその製造方法を提供することにある。
【００１３】
本発明の他の目的は、焼成温度を低下させ、基板などの変質を防止できるディスプレイ装置及びその製造方法を提供することにある。
【００１４】
本発明の更に他の目的は、外部の衝撃吸収力を強化し、厚さ及び重さを減少させたプラズマディスプレイパネルの前面フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、６５〜８５％の重量比を有する導電性物質と、１０〜３０％の重量比を有し、セルロース、アクリル及びビニルのうち少なくとも一つを含む有機物と、５〜１５％の重量比を有し、アルコール及びグリコールアセテートのうち少なくとも一つを含む溶媒と、を含んで構成される電磁波遮蔽膜製造用インクを提供する。
【００１６】
本発明の他の実施形態によると、基板上に、モールド印刷法またはオフセット印刷法のうち一つで導電性インク物質を転写する段階と、前記導電性インク物質を焼成して導電性物質を形成する段階と、を含んで構成されるプラズマディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【００１７】
本発明の更に他の実施形態によると、映像情報が表示されるパネルと、前記パネルの前面に形成されており、表面が曲面の形状をなす導電性物質からなる第１層を備えた電磁波遮蔽膜と、を含んで構成されるディスプレイ装置を提供する。
【００１８】
本発明の更に他の実施形態によると、基板と、前記基板上に接合された樹脂層と、前記樹脂層上に備えられ、導電性物質がパターニングされて形成された電磁波遮蔽膜と、を含んで構成されることを特徴とするディスプレイ装置の前面フィルタを提供する。
【００１９】
本発明の更に他の実施形態によると、陰刻が形成されたモールドを準備する段階と、前記陰刻にインクを注入して電磁波遮蔽膜を形成する段階と、前記電磁波遮蔽膜上に樹脂層と基板を順に塗布する段階と、前記樹脂層を乾燥し、前記モールドを分離する段階と、を含んで構成されることを特徴とするディスプレイ装置の前面フィルタの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るディスプレイ装置及びその製造方法は、材料の損失が少なく、製造費用を節減できるという効果を有する。
【００２１】
本発明に係るディスプレイ装置及びその製造方法は、焼成温度を低下させ、基板などの変質を防止できるという効果を有する。
【００２２】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルの前面フィルタは、外部の衝撃吸収力を強化し、厚さ及び重さを減少できるという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の他の目的、特性及び利点は、図面に基づいた各実施例の詳細な説明を通して明らかになるだろう。
【００２４】
以下、上記の目的を具体的に実現するための本発明の好適な実施例を、図面に基づいて説明する。
【００２５】
図１は、本発明に係る電磁波遮蔽膜製造用インクの一実施例を示した図である。以下、本発明に係る電磁波遮蔽膜製造用インクの一実施例を、図１に基づいて説明する。
【００２６】
本実施例に係る電磁波遮蔽膜製造用インク１００は、溶媒１１０に導電性物質１２０及び有機物１３０が溶解されてなる。ここで、溶媒１１０は、アルコール及びグリコールアセテートのうち何れか一つであることを特徴とする。また、導電性物質１２０は、銀、銅、アルミニウム、ステンレススチール及びニッケルからなる群から選択される物質であることを特徴とする。導電性物質１２０は電気抵抗が低いので、電磁波遮蔽効果を向上させることができる。また、有機物１３０は、セルロース、アクリル及びビニルのうち少なくとも一つを含むことを特徴とする。そして、導電性物質１２０は、６５〜８５％の重量比を有し、有機物１３０は、１０〜３０％の重量比を有し、溶媒は、５〜１５％の重量比を有することを特徴とする。
【００２７】
導電性物質１２０は、「大きさ」が０．５〜５マイクロメートルである粉末であり、上述した「大きさ」は、粉末が球形であれば直径を意味し、六面体であればエッジの平均的な長さを意味する。導電性物質１２０は、図１に示すように、フレーク形態である。また、電磁波遮蔽膜製造用インク内では、フレーク形態の導電性物質１２０に多数個の有機物１３０が結合されるが、その理由は、後述する焼成工程の温度を低下させるためである。
【００２８】
そして、導電性物質１２０は、その形状が球形または六面体である場合、後述する所定温度で焼成工程を進行するために、０．５〜２マイクロメートルの大きさであることが好ましい。その理由は、フレーク形態であると、導電性物質１２０と外部環境との接触面積が広くなり、比較的低い温度でも焼成工程を迅速に行えるためである。また、焼成工程を通して各粉末が容易に接触することで、導電性物質１２０の電気抵抗を減少させることができる。
【００２９】
図２は、本発明に係るディスプレイ装置の製造方法のうち電磁波遮蔽膜製造工程の一実施例を示したフローチャートである。以下、本発明に係るディスプレイ装置の製造方法の一実施例を、図２に基づいて説明する。
【００３０】
まず、導電性物質を基板上にオフセット法で転写する（Ｓ２１０）。ここで、導電性物質の成分は、上述した電磁波遮蔽膜製造用インクの成分と同一である。次いで、導電性物質上にオフセット法で黒色物質を転写する（Ｓ２３０）。ここで、黒色物質は、銅酸化物、コバルト酸化物、ニッケル酸化物及びカーボンからなる群から選択される物質である。次いで、基板上に転写された導電性物質及び黒色物質を１００〜４００℃、好ましくは１００〜２００℃で焼成する（Ｓ２３０）。このとき、導電性物質と黒色物質の焼成工程は、それぞれ別途にまたは同時に行われる。
【００３１】
上述したように、導電性物質または黒色物質をなす粉末がフレーク形状であれば、焼成温度を２００℃以下に低下させることができる。焼成工程後には、溶媒及び有機物などがほとんど蒸発し、基板上には導電性物質及び黒色物質のみが残るようになる。
【００３２】
また、導電性物質は、ＰＥＴフィルム、ガラス及びディスプレイパネルのうち何れか一つに積層されることが好ましい。従来は、ディスプレイパネル上にインクを直接転写して焼成する場合、工程が高温で進行されて基板の変質をもたらす可能性があった。しかし、本発明では、従来より低温で工程が進行するので、ディスプレイパネル上に直接インクを転写して焼成することが可能である。
【００３３】
上述した工程を通して電磁波遮蔽膜が完成するが、ディスプレイ装置を製造する他の工程は、従来と同一である。以下、オフセット工程の各実施例を具体的に説明する。
【００３４】
まず、ブランケットの表面に陽刻または陰刻の形態でインクを積層する。その後、ブランケットを基板にローリングすると、インクがブランケットから「オフ」になった（分離された）後、基板上に「セット」（転写）されて電磁波遮蔽膜が形成される。その後、ブランケットの表面に形成された陽刻または陰刻の形態によって、基板上にはストライプまたはメッシュタイプなどの電磁波遮蔽膜がパターニングされる。
【００３５】
図３は、オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第１実施例を示した図である。以下、オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第１実施例を、図３に基づいて説明する。
【００３６】
本実施例では、ブランケットの表面に陰刻の形態でインクを注入し、オフセット工程を行う。具体的に説明すると、ブランケットロール３５０の表面にブランケット３６０が形成されており、ブランケット３６０の表面には、インク３１０注入のための陰刻が形成される。そして、ブランケット３６０が基板３００上にローリングされると、陰刻に注入されたインク３１０が基板３００上に転写される。ここで、インク３１０の組成などは、上述した通りである。
【００３７】
図４Ａ乃至図４Ｂは、オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第２実施例を示した図である。以下、オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第２実施例を、図４Ａ乃至図４Ｂに基づいて説明する。
【００３８】
本実施例では、ブランケットの表面に陽刻の形態でインクを注入し、オフセット工程を行う。まず、図４Ａに示すように、陰刻が形成されたマスターモールド３９０を準備する。次いで、陰刻にインク３１０を注入するが、インク３１０は、上述した電磁波遮蔽膜製造用インクと同一であることが好ましい。その後、ブランケットロール３５０に巻かれたブランケット３６０をマスターモールド３９０にローリングすると、陰刻に積層されたインク３１０がブランケット３６０上に転写される。次いで、図４Ｂに示すように、インク３１０が陽刻の形態で積層されたブランケット３６０を基板３００上にローリングすると、インク３１０が基板３００上に転写される。
【００３９】
上述したように、導電性物質をオフセット工程で基板上に転写した後、導電性物質上に黒色物質を転写する。黒色物質もオフセット工程で転写することができる。次いで、導電性物質及び黒色物質を焼成するが、焼成温度は、粒子の大きさ及び形状によって異なっており、具体的な内容は上述した通りである。
【００４０】
以下、上述した本発明に係るディスプレイ装置の製造方法の一実施例の作用を説明する。
【００４１】
ブランケット上に積層されたインクを基板上に直接転写して導電性物質などを基板上に転写することで、ディスプレイ装置をなす電磁波遮蔽膜の製造工程における材料の損失を減少させ、製造費用を節減することができる。また、オフセット工程は露光及び現像などの工程を必要としないので、製造工程を短縮することができる。さらに、上述したように、導電性物質をフレーク形態の粉末に製造するので、焼成温度を低下させて基板などの変質を防止することができる。
【００４２】
以下、本発明に係るディスプレイ装置の一実施例を説明する。
【００４３】
本実施例に係るディスプレイ装置は、従来のものと同一であるが、電磁波遮蔽膜が上述したオフセット工程によって形成されることを特徴とする。すなわち、映像情報が表示されるパネル上に電磁波遮蔽膜が形成されるが、電磁波遮蔽膜は、導電性物質からなる第１層と、黒色物質からなる第２層と、を含んで構成される。ここで、第１層は、上述した電磁波遮蔽膜製造用インクをオフセット工程で基板上に転写することで形成される。ただし、焼成工程後には、溶媒及びバインダーなどが蒸発してほとんど残っていない。そして、第１層は、厚さが１〜５マイクロメートルであることが好ましく、第２層は、厚さが０．５〜２マイクロメートルであることが好ましい。また、第２層をなす黒色物質も、オフセット工程で形成される。
【００４４】
また、オフセット工程で形成された第１層及び第２層は、図６Ｂに示すように、表面が曲面の形状をなすが、その理由は、図５に示すように、オフセット工程中に基板などに転写されず、ブランケット３６０にインク３１０'が残存するためである。したがって、第１層は、銅、銀、アルミニウム、ステンレススチール及びニッケルのうち少なくとも一つを含み、大きさが０．５〜５マイクロメートルであるフレーク形態である。そして、導電性物質は、球形または六面体の形状で形成されており、大きさが０．５〜２マイクロメートルであるときに上述した焼成温度で焼成される。そして、黒色物質は、銅酸化物、コバルト酸化物、ニッケル酸化物及びカーボンのうち何れか一つであることが好ましい。
【００４５】
以下、上述した本発明に係るディスプレイ装置の一実施例の作用を説明する。
【００４６】
導電性物質及び黒色物質を含む電磁波遮蔽膜がディスプレイ装置の前面に形成されることで、装置の内部から放出される電磁波を遮断することができる。また、導電性物質及び黒色物質がインクジェット法で形成されるので、製造工程、費用、時間及び材料などを減少させることができる。
【００４７】
図５は、オフセット工程後のブランケットを示した図で、具体的には、ブランケット３６０上に陰刻が形成され、この陰刻にインクが積層されることを示す実施例である。図５に示すように、オフセット工程後にもインク３１０’の一部が陰刻に残っている。したがって、本発明に係る電磁波遮蔽膜の機能を示した図６Ｂに示すように、導電性物質３１０は、基板３００上に半円形及び流線形で形成される。これにより、ディスプレイ装置の内部から外部に放出される可視光線などの放出量が増加し、色輝度を高めることができる。
【００４８】
図６Ａは、従来の電磁波遮蔽膜の機能を示した図である。図６Ａに示すように、導電性物質３１０が基板３００上に直角形状（矩形状）で形成されるので、可視光線の一部は、ディスプレイ装置の内部から外部に容易に放出されない。
【００４９】
上述した電磁波遮蔽膜以外のディスプレイ装置の他の構成は、従来技術の構成と同一である。また、上述した電磁波遮蔽膜は、プラズマディスプレイパネルのみならず、ＬＣＤ及び携帯用端末機などの他のディスプレイ装置にも用いられる。
【００５０】
図７Ａは、本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタの一実施例を示した断面図である。図７Ｂは、本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタの一実施例を示した平面図である。以下、本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタの一実施例を、図７Ａ及び図７Ｂに基づいて説明する。
【００５１】
本実施例に係る前面フィルタは、基板４００上に樹脂層４１０が形成され、樹脂層４１０上に導電性物質４２０がパターニングされて形成された電磁波遮蔽膜を含んで構成される。ここで、電磁波遮蔽膜は、電磁波がディスプレイ装置の内部からパネルの外部に放出されることを遮蔽する役割をする。電磁波遮蔽膜は、電気抵抗の低い導電性物質４２０をパターニングすることで形成される。
【００５２】
また、電磁波遮蔽膜は、銅（Ｃｕ）または銀（Ａｇ）などを含むインクや、Ａｇペースト、Ｃｕペースト、ＡｇＮＯ３錯塩状態のインク及びＡｇ錯塩状態のインクなどをパターニングした後、乾燥して形成される。上述したインクは、陰刻が形成されたモールドに注入されてパターニングされることを特徴とし、インクジェット法などで注入される。
【００５３】
一方、上述した導電性物質４２０のみで電磁波遮蔽膜を形成した場合、ディスプレイ装置の外部から入射される光の反射による眩しさが発生し得る。したがって、導電性物質上に黒色物質４３０をさらに含むことで、コントラストを向上させることができる。黒色物質４３０は、非伝導性を帯びるカーボン、ＣｏＯ系、ＲｕＯ系、Ｎｉ―Ｃｕ酸化物系などを用いたペーストまたはインクを所定パターンで積層した後、乾燥して形成される。ここで、黒色物質４３０は、電磁波遮蔽膜の厚さの１０〜５０％であることが好ましい。なお、上述した厚さは、導電性物質４２０と黒色物質４３０とを合せた電磁波遮蔽膜全体の厚さである。
【００５４】
また、他の実施例として、上述した銅または銀などの導電性物質を含むインクにカーボンなどを添加することで黒色を帯びるようにした後、上述した注入及び乾燥工程を通してコントラストを向上させることができる。
【００５５】
基板４００としては、ガラスまたはＰＥＴなどのフィルムが用いられてガラス型前面フィルタまたはフィルム型前面フィルタをなすが、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスが用いられてもよい。この場合、前面フィルタは、プラズマディスプレイパネルの前面ガラス上に直接形成され、基板４００及び樹脂層４１０上には、接着剤としてＰＳＡなどが用いられる。
【００５６】
また、樹脂層４１０は、ＰＤＭＳ、ＰＭＭＡ及びＥＶＡなどの粘弾性を有する物質を含んで構成され、樹脂層４１０の厚さは、３０〜７００マイクロメートルである。このとき、樹脂層４１０内に形成された電磁波遮蔽膜は、厚さが２０〜２００マイクロメートルである。そして、電磁波遮蔽膜をなす導電性物質４２０は、開口率の確保及び電磁波遮蔽効果のために１０〜３０マイクロメートルの線幅を有する。また、電磁波遮蔽膜はストライプタイプまたはメッシュタイプで形成され、電磁波遮蔽膜をなす各ラインは１５０〜５００マイクロメートルだけ離隔されるべきであり、３００マイクロメートルだけ離隔されて配列されることが好ましい。
【００５７】
そして、上述した樹脂層４１０上に近赤外線遮蔽膜、色補正膜及び反射防止膜などを形成することで、前面フィルタの性能を向上させることができる。また、色補正及び近赤外線遮蔽のための染料などを上述した樹脂層４１０上に含ませることで、前面フィルタの厚さ及び重さを減少させることもできる。
【００５８】
上述した本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタは、プラズマディスプレイパネルのみならず、電磁波遮蔽機能などを必要とする他の分野のディスプレイ装置にも適用される。
【００５９】
上述した前面フィルタを含むプラズマディスプレイパネルは、上部パネルと下部パネルが所定間隔をおいて接合されて形成される。そして、上部パネルにおいては、画像がディスプレイされる表示面である前面ガラス上に、対をなすスキャン電極とサステイン電極からなる複数の維持電極対が配列される。そして、下部パネルにおいては、後面ガラス上に、上述した複数の維持電極対と交差する複数のアドレス電極が配列され、上述した上部パネルと下部パネルは、所定距離をおいて平行に結合される。
【００６０】
下部パネルにおいては、複数個の放電空間、すなわち、放電セルを形成するためのストライプタイプ（またはウェルタイプ）の隔壁が平行を維持して配列される。そして、アドレス放電によって真空紫外線を発生させる多数のアドレス電極は、隔壁に対して平行に配置される。下部パネルの上側面には、アドレス放電時に画像表示のための可視光線を放出するＲ、Ｇ、Ｂ蛍光体が塗布される。また、アドレス電極と蛍光体との間には、アドレス電極を保護するための下部誘電体層が形成される。
【００６１】
そして、前面ガラス上には、上述した前面フィルタが形成される。前面フィルタは、上述したように、樹脂層上に導電性物質及び黒色インクをパターニングして電磁波遮蔽膜を形成することで得られる。そして、上述した電磁波遮蔽膜が形成された樹脂層上に近赤外線遮蔽膜、色補正膜及び反射防止膜などを形成することで、前面フィルタの性能を向上させることができる。そして、色補正及び近赤外線遮蔽のための染料などを上述した樹脂層上に含ませることで、前面フィルタの厚さ及び重さを減少させることもできる。
【００６２】
図７Ｂは、上述した前面フィルタの一実施例を示した平面図で、樹脂層４１０上に黒色物質４３０がストライプタイプでパターニングされたことを示している。上述した樹脂層４１０と黒色物質４３０との間に導電性物質が備わる。
【００６３】
図８乃至図１２は、本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタの製造工程の一実施例を示した図である。以下、本発明に係るディスプレイ装置の前面フィルタの製造工程の一実施例を、図８乃至図１２に基づいて説明する。
【００６４】
まず、図８に示すように、陰刻５１０が形成されたモールド５００を準備する。モールド５００は、後述するように、電磁波遮蔽膜を形成するためにインクなどを注入する手段である。したがって、モールド５００に形成された陰刻５１０は、図８に示すように、断面視において四角形、立体的には六面体の形状をなすが、形成しようとする電磁波遮蔽膜の形状によって他の形状に形成してもよい。すなわち、電磁波遮蔽膜をなす導電性物質などの線幅が前面フィルタの外部に行くほど狭くなる場合、陰刻５１０の形状もそれに合わせて形成される。このとき、後述するように、陰刻５１０の内部に注入される導電性インクなどの物質は、前面フィルタの最外部に形成される。
【００６５】
そして、陰刻５１０のパターンは、形成しようとする電磁波遮蔽膜のパターンによって異なっており、ストライプまたはメッシュタイプで形成されることが好ましい。そして、各陰刻５１０は、開口率の確保及び電磁波遮蔽効果のために１０〜３０マイクロメートルの幅を有する。また、各陰刻５１０は、１５０〜５００マイクロメートルだけ離隔されるべきであり、３００マイクロメートルだけ離隔されて配列されることが好ましい。上述した各陰刻５１０間の距離は、各陰刻５１０の中心間の距離である。そして、陰刻５１０の深さは、電磁波遮蔽膜の厚さと同一であることが好ましく、２０〜２００マイクロメートルである。
【００６６】
次いで、図９に示すように、陰刻５１０に黒色物質５２０を注入する。黒色物質５２０としては、非伝導性を帯びるカーボン、ＣｏＯ系、ＲｕＯ系、Ｎｉ―Ｃｕ酸化物系などを用いたペーストまたはインクなどが用いられる。そして、上述した黒色物質５２０は、陰刻５１０のパターンによって積層された後、乾燥される。導電性物質のみで電磁波遮蔽膜を形成する場合、ディスプレイ装置の外部から入射される光の反射による眩しさが発生し得るので、導電性物質上に黒色物質５２０を形成することで、コントラストを向上させることができる。黒色物質５３０は、非伝導性を帯びるカーボン、ＣｏＯ系、ＲｕＯ系、Ｎｉ―Ｃｕ酸化物系などを用いたペーストまたはインクを所定パターンで積層した後、乾燥して形成される。上述した黒色物質５２０は、インクジェット法などで塗布されるもので、陰刻５１０の全体の深さの１０〜５０％の深さまで注入される。
【００６７】
次いで、図１０に示すように、黒色物質５２０上に導電性物質５３０を注入する。このとき、導電性物質５３０は、黒色物質５２０が充填された陰刻の残りの空間に、インクジェット法などで注入されることが好ましい。そして、導電性物質５３０は、電気抵抗が低く、電磁波遮蔽効果に優れた物質であり、銅（Ｃｕ）または銀（Ａｇ）などを含むインクや、Ａｇペースト、Ｃｕペースト、ＡｇＮＯ３錯塩状態のインク及びＡｇ錯塩状態のインクなどであることが好ましい。
【００６８】
そして、モールド５００の乾燥工程は、上述した黒色物質５２０の乾燥工程と同時にまたは別個に進行される。また、多量の導電性物質及び／または黒色物質が陰刻に注入され、その一部がモールド５００の表面にまで噴出される場合、モールド５００の表面が滑らかでなくなる。この場合は、金属またはプラスチックブレードを用いたドクターリング（ｄｏｃｔｏｒｉｎｇ）工程を追加することもできる。
【００６９】
図９及び図１０においては、黒色物質及び導電性物質が２層構造で注入されたが、他の実施例では、上述した銅または銀などの導電性物質を含むインクにカーボンなどを添加させることで、黒色を帯びるようにした後、上述した注入及び乾燥工程を通してコントラストを向上させることができる。
【００７０】
次いで、図１１に示すように、陰刻内に黒色物質５２０と導電性物質５３０が順に注入されたモールド５００上に、樹脂層５４０を塗布して乾燥する。樹脂層５４０は、後述するように、基板上に接合されて電磁波遮蔽膜を固定する役割と、外部衝撃を吸収する役割を果たす。樹脂層５４０は、ＰＤＭＳ、ＰＭＭＡ及びＥＶＡなどの粘弾性を有する物質を含んで構成され、樹脂層５４０の厚さは、３０〜７００マイクロメートルである。上述した組成の樹脂層５４０は、乾燥工程を通して前面フィルタの形状を維持しながらも、外部の衝撃に対して従来より１．５〜２倍ほど強化された衝撃吸収力を有する。そして、樹脂層５４０は、前面フィルタの一部をなすので、透明な材質であることが好ましい。
【００７１】
次いで、図１２に示すように、樹脂層５４０上に基板５５０を接合する。基板５５０としてガラスを用いるとガラス型前面フィルタが形成され、ＰＥＴなどのフィルムを用いるとフィルム型前面フィルタが形成される。そして、本発明においては、プラズマディスプレイパネルの前面ガラス上に樹脂層５４０が直接形成されてもよい。また、樹脂層５４０と基板との間には、ＰＳＡなどの接合剤が用いられてもよい。
【００７２】
ここで、樹脂層５４０を乾燥した後、モールド５００を分離すると、図１２に示すように、ディスプレイ装置の前面フィルタが完成される。上述した乾燥温度は、５０〜３００℃であることが好ましい。乾燥工程を通して、樹脂層５４０によって基板５５０と導電性物質５３０との結合力が増加する。
【００７３】
上述した工程を通して完成された前面フィルタは、プラズマディスプレイパネルなどの電磁波遮蔽機能を必要とするディスプレイ装置の前面に備えられる。そして、プラズマディスプレイパネルに用いられる場合、樹脂層上に近赤外線遮蔽膜、色補正膜及び反射防止膜などを形成することで、前面フィルタの機能を向上させることができる。また、色補正及び近赤外線遮蔽のための染料などを上述した樹脂層５４０に添加することで、前面フィルタの重さ及び厚さを減少させることもできる
【００７４】
以上説明した内容を通して、当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で多様な変更及び修正が可能であることを理解できるだろう。
【００７５】
したがって、本発明の技術的範囲は、実施例に記載された内容に限定されることなく、特許請求の範囲によって定められるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明に係る電磁波遮蔽膜製造用インクの一実施例を示した図である。
【図２】本発明に係るディスプレイ装置の製造方法のうち電磁波遮蔽膜製造工程の一実施例を示したフローチャートである。
【図３】オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第１実施例を示した図である。
【図４Ａ】オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第２実施例を示した図である。
【図４Ｂ】オフセット法による電磁波遮蔽膜製造方法の第２実施例を示した図である。
【図５】オフセット工程後のブランケットを示した図である。
【図６Ａ】従来の電磁波遮蔽膜の機能を示した図である。
【図６Ｂ】本発明に係る電磁波遮蔽膜の機能を示した図である。
【図７Ａ】本発明に係るディスプレイパネルの前面フィルタの一実施例を示した断面図である。
【図７Ｂ】本発明に係るディスプレイパネルの前面フィルタの一実施例を示した平面図である。
【図８】本発明に係るディスプレイ装置の製造工程の一実施例を示した図である。
【図９】本発明に係るディスプレイ装置の製造工程の一実施例を示した図である。
【図１０】本発明に係るディスプレイ装置の製造工程の一実施例を示した図である。
【図１１】本発明に係るディスプレイ装置の製造工程の一実施例を示した図である。
【図１２】本発明に係るディスプレイ装置の製造工程の一実施例を示した図である。
【符号の説明】
【００７７】
１００  電磁波遮蔽膜製造用インク
１１０  溶媒
１２０  導電性物質
１３０  有機物
【図１】
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【図２】
2007308697.tif 000004
【図３】
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【図４Ａ】
2007308697.tif 000006
【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６Ａ】
2007308697.tif 000009
【図６Ｂ】
2007308697.tif 000010
【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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