(57)【要約】【課題】主として固体発酵を利用する酵素工業及び食品醸造工業における製麹装置のサニタリ維持方法に関する。【解決手段】空気を調製する空調装置14と、複数の空調用ダクトからなる空気循環ダク18と、麹を保持する製麹室3を主体として構成される製麹装置1の内部に、除菌効果のある調製液を散水又は噴霧の状態で噴霧可能とし、洗浄工程の薬品洗浄又は水洗浄後に、製麹装置1内部の空気及び各装置の表面の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。【選択図】        図1
2007000032.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として構成される製麹装置の空調装置内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とし、製麹工程中に空気と製麹装置内部の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。
【請求項２】
空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として構成される製麹装置の空調用ダクト内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とし、製麹工程中に空気と製麹装置内部の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。
【請求項３】
空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として構成される製麹装置の製麹室内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とし、製麹工程中に空気と製麹装置内部の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。
【請求項４】
空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として構成される製麹装置の空調装置内部と空調用ダクト内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とし、製麹工程中に空気と製麹装置内部の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。
【請求項５】
空気を調整する空調装置と、複数の空調用ダクトからなる空気循環ダクト、麹を保持する製麹室を主体として構成される製麹装置の内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とし、洗浄工程の薬品洗浄又は水洗浄後に、製麹装置内部の空気及び各装置の表面の除菌を行う、製麹装置のサニタリ維持方法。
【請求項６】
調整液が弱酸性に中和された次亜塩素酸ナトリウム溶液であり、調整液をドライフォグの状態で噴霧する、請求項1、請求項2、請求項3、請求項4又は請求項5記載の、製麹装置のサニタリ維持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、主として固体発酵を利用する酵素工業及び食品醸造工業における製麹装置のサニタリ維持方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
固体発酵である製麹工程は、液体発酵の無菌培養と異なり、微生物汚染があることを前提として利用されている。微生物汚染を低減する方法として、除菌フィルタ等を利用して外部の空気を浄化して導入する場合もあった。
【０００３】
製麹装置の内部には自動洗浄用の装置が組み込まれ、製麹工程が終了した後に装置内部の洗浄を行っていた。洗浄液には、除菌効果のある薬剤や水を使用していた。また、洗浄後に蒸気による熱殺菌を行う場合もある。
【特許文献１】特開平１１−２９９４７４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
製麹装置外部から取入れられる空気、及び麹層を通過してきた循環空気には、汚染微生物菌体と汚染微生物菌体が付着した粉塵が混在している。除菌フィルタを使用すれば清浄な空気を得ることができるが、コストが高く実用的でない。また、麹層を通過してきた循環空気は、高湿度で多量の粉塵を含有するため、除菌フィルタの寿命が極めて短くなる。
空調装置内部での散水により粉塵の一部を除去することも可能であるが、粉塵を除去するために多量の水を消費することは、水の使用量と廃水処理に問題を残すことになる。
このように、空気からの汚染が装置内部の汚染となり麹への汚染原因となっているが、利用微生物を培養している製麹工程中では、有効な除菌方法がなかった。
【０００５】
製麹装置内部の自動洗浄では、平面や曲面上の付着物を洗い流すことができる。しかし、構造物が複雑に組み合わされている部分等の付着物は、充分に洗浄することができなかった。強力な薬品を使用した場合には細部まで除菌することができるが、薬品による装置自体への影響と多量のすすぎ水を必要となる。また、強力な薬品を含有した排水は、廃水処理へも大きな影響を与える。
蒸気等による熱処理は、水洗浄後の有効な方法であるが、装置内部を70℃以上に維持するため、装置内部の冷却に時間が必要である。このため、製麹装置の使用後に、毎回熱殺菌を行うことができないのが現状である。
【０００６】
この発明方法の課題は、製麹工程中においても装置と麹に接触する空気の除菌を行いながら装置表面の除菌も行い、自動洗浄工程では洗浄しきれない部分の除菌を短時間に行なうことができる、製麹装置のサニタリ維持方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の請求項1では、空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として製麹装置を構成する。空調装置内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とする。製麹工程中に、空気と製麹装置内部の除菌を行う。
【０００８】
この発明の請求項2では、空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として製麹装置を構成する。空調用ダクト内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とする。製麹工程中に、空気と製麹装置内部の除菌を行う。
【０００９】
この発明の請求項3では、空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として製麹装置を構成する。製麹室内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とする。製麹工程中に、空気と製麹装置内部の除菌を行う。
【００１０】
この発明の請求項4では、空気を調整する空調装置と、空調用ダクト、麹を保持する製麹室を主体として製麹装置を構成する。空調装置内部と空調用ダクト内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とする。製麹工程中に空気と製麹装置内部の除菌を行う。
【００１１】
この発明の請求項5では、空気を調整する空調装置と、複数の空調用ダクトからなる空気循環ダクト、麹を保持する製麹室を主体として製麹装置を構成する。製麹装置の内部に、除菌効果のある調整液を散水又は噴霧可能とする。洗浄工程の薬品洗浄又は水洗浄後に、製麹装置内部の空気及び各装置の表面の除菌を行う。
【００１２】
この発明の請求項6では、調整液が弱酸性に中和された次亜塩素酸ナトリウム溶液である。調整液を散水又はドライフォグの状態で噴射する。
【発明の効果】
【００１３】
製麹工程中においても、麹菌の増殖と平行して汚染微生物の増殖を阻止し、麹原料への汚染を防止することができる。また、汚染微生物の増殖による正規装置への粘性物質の付着を防止することができるため、洗浄工程において容易に汚れを除去することができる。冷却時間を要する熱殺菌に比較して、短時間に製麹装置の細部まで除菌することができるため、一日の作業時間内に、出麹、洗浄、盛り込みの各工程を行うことができる。
【００１４】
以上の効果により、製麹工程中においても製麹装置と麹原料に接触する空気の除菌を行いながら装置表面の除菌も行い、自動洗浄工程では洗浄しきれない部分の除菌を短時間に行うことができて、各装置のサニタリ維持方法を提供することができる。、
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図によりこの発明方法の2実施例を説明する。図1は、実施例１しての製麹工程の加湿空調時のフロー図である。図2は、実施例２としての製麹装置内部の自動洗浄工程のフロー図である。
【００１６】
これらの実施例では、回転円盤型の製麹装置1を例として説明する。保温性のある断熱構造を備えた保温壁2により構成された製麹室3の内部に、通気性のある円形の培養床4を設ける。製麹室3は培養床4により、上室3aと下室3bに分割されている。回転する培養床4の回転中心部には固定した中心円筒5を備え、外周部には培養床4を支える支持構造6を設ける。培養床4の上方には麹原料7を盛込排出する昇降可能なスクリュウ型搬送装置8と、麹原料7を撹拌する昇降可能な手入装置9を設ける。
【００１７】
上室3aには保温壁2を貫通して排気ダクト10を設け、調節ダンパ11に接続している。調節ダンパ11に循環ダクト12が接続され、循環ダクト12には送風ファン13が設けられている。循環ダクト12は空調装置14に接続し、空調装置14に接続する給気ダクト15が保温壁2を貫通して下室3bに接続する。調節ダンパ11には、上室3aの空気を排気する排出ダクト16と外部の空気を取入れる外気ダクト17が接続している。これら複数のダクト類を総称して空気循環ダクト18とする。
【００１８】
これらの機構により、上室3aの内部空気が排気ダクト10により調節ダンパ11に導入される。排気ダクト10から導入された内部空気の一部が排出ダクト16へ排出され、外気ダクト17から導入される外部空気が残余の内部空気と混合しながら、空調装置14で調節された後、給気ダクト15により下室3bに供給される。
【００１９】
この空調装置14にはドライフォグノズル19を設けており、空調装置14に供給される空気への加湿を行っている。上室3a、下室3b、排気ダクト10、循環ダクト12、外気ダクト17にもドライフォグノズル19を単数又は複数設け、空気への加湿を行うことができる。
外気ダクト17から供給される外気には、汚染微生物や汚染微生物が付着した粉塵が含まれているため、通風経路のダクト内壁に付着し、汚染微生物の増殖を招いている。また、排気ダクト10から供給される内気には、麹原料7の微粉末や微粉末に付着した汚染微生物が混在しているため、通風経路のダクト内壁に付着し、微生物の増殖を招いている。このように、製麹装置1の空調ダクト18の壁は、汚染微生物と有機物が混在し、湿度が高いため、極めて微生物汚染が発生しやすい環境にある。同様に、麹原料7を培養している製麹室3の上室3aと下室3bにも、外気からの粉塵と内気からの粉塵による汚染が発生し、製麹中の麹に汚染を広げている。特に、麹原料7に使用される麹菌(糸状菌)より汚染細菌の増殖速度が速いため、このような汚染環境では、麹原料7に細菌汚染が拡大することとなる。
【００２０】
製麹工程中では、製麹室3に供給される空気のすべてが、空調装置14を通過する。空調装置14にはドライフォグノズル19が設けられているため、従来供給されていた水の代りに調整液を供給する。調整液には、金属腐食性がなく、除菌効果のある薬剤を選択する。空調装置14のドライフォグノズル19から調整液を噴霧した場合、上室3aからの内部空気と外気ダクト17からの外部空気の混合空気を除菌することができる。除菌された空気は、給気ダクト15を通って下室3bに供給される。なお、一流体ノズル等の散水装置を備えた空調装置14においても、同様に空気の除菌を行うことができる。
【００２１】
下室3bは培養床4からの微粒子の落下等により、床面が汚染を受けやすい状態にある。また、培養床4は上面の多孔板を支持するリブが複雑に構成されているため、多孔板からの微粒子の落下等により、汚染微生物が繁殖している。製麹工程中においても、空調装置14から供給される調整液が気化することにより、増殖した汚染微生物を除菌することができる。
【００２２】
ダクト内部は狭い空間であり、作業員が目視しながら洗浄することが困難であるため、汚染の度合いが激しい。また、製麹工程中に微生物の増殖に適した高温多湿の環境に維持されるため、製麹工程中の汚染が進行する。
【００２３】
排気ダクト10に調整液を噴霧した場合には、内部空気を除菌することができると共に、排気ダクト10内面と調節ダンパ11内面を除菌することができる。外気ダクト17に調整液を噴霧した場合には、外部空気を除菌することができ、外気ダクト17内面と調節ダンパ11内面を除菌することができる。循環ダクト12に調整液を噴霧した場合には、内部空気と外部空気を除菌することができると共に、循環ダクト12内面と送風ファン13内面を除菌することができる。調整液の供給方法としては噴霧することが望ましいが、調整液の水滴が麹原料7に混入しないように、循環ダクト12、外気ダクト17には、散水状態で吹付けてもよい。
【００２４】
製麹室3は麹原料7を保持し、麹菌の増殖に適合した状態に温度と湿度を維持している。この温度と湿度の条件は、汚染微生物にとっても増殖に適しているため、製麹工程中に汚染微生物の増殖が発生する。上室3aにはスクリュウ型搬送装置8と手入装置9が設けられているが、どちらも麹に直接接触するため、麹原料7が付着し汚染微生物が増殖しやすくなっている。特に、手入装置9は製麹工程中に4回から5回程度麹を撹拌するため、手入装置9に汚染微生物が増殖した場合には、麹全体に汚染微生物を拡散させることとなる。スクリュウ型搬送装置8と手入装置9は、麹原料7の上方に待避しているため、製麹工程中に洗浄することができない。
【００２５】
上室3aにドライフォグノズル19を設け調整液を気化して噴霧することにより、上室3aの天井部と側壁部を除菌することができる。麹菌に影響を与える可能性があるため、高濃度の調整液を使用することはできない。このため、麹原料に直接接触するスクリュウ型搬送装置8と手入装置9に対して、ドライフォグノズル19から調整液を直接吹付けてもよい。
【００２６】
下室3bにドライフォグノズル19を設け調整液を気化して噴霧することにより、下室3bの床部と側壁部を除菌することができる。下室3bの床部と側壁部には、調製液を散水状態で散布してもよい。下室3bには培養床4とそれを支える支持構造6が設けられている。培養床4は多孔板の下面に、格子状のリブを構成した構造である。このため、麹原料7の微粉末等がリブ等に付着し汚染微生物が増殖するため、粘着性のある汚染物質となっている。これらの汚染物質は通常の洗浄では落ちにくいため、製麹工程中にドライフォグノズル19を設け調整液を気化して噴霧することにより、汚染微生物の増殖を阻止し、汚れが落ちやすい状態で維持することができる。このため、製麹工程中のサニタリ性を維持すると共に、汚れを洗浄工程で容易に落とすことができる。
【００２７】
排気ダクト10、循環ダクト12、外気ダクト17、及び空調装置14にドライフォグノズル19又は散水装置を設けた場合には、内部空気と外部空気の除菌、各ダクト内面の除菌、調節ダンパ11、送風ファン13、及び空調装置14の除菌を製麹工程中に同時に行うことができる。このため、給気ダクト15から下室3bに吹込まれる調製空気は、極めて清浄な状態で供給することができる。
【００２８】
図2に示す洗浄工程において、製麹装置1の内面全体を洗浄することは、次回の製麹工程のサニタリ性を維持する上で重要である。薬品洗浄及び水洗浄だけでは、装置細部を完全に洗浄することができないため、装置内部を70℃以上に維持する熱殺菌を行っている。熱殺菌は有効な除菌方法であるが、冷却に時間が掛るため、始業時から出麹、洗浄、熱殺菌、冷却を実施しても、終業時までに冷却することができない。このため、一日の作業時間内に出麹と盛込を行う場合には、熱殺菌を行うことができない。
【００２９】
上記図2に示す洗浄工程でのフロー図では、散水手段として3次元ノズル20を各所に配置し、製麹装置1内部を洗浄する。洗浄後に熱殺菌を行う代わりに、ドライフォグノズル19を使用して調製液を噴霧する。この際、送風ファン13を使用して、製麹室3の下室3bから上室3a方向に空気を循環させることにより、製麹室1内部の殺菌を効率よく実施することができる。除菌の効率は落ちるが、ノズルによる調製液の散水によっても、同等の効果をえることができる。
【００３０】
製麹装置1に使用する調製液の条件としては、除菌効果を持ちながら、金属腐食性の少ない必要がある。また、人体に影響がなく、安価なコストで使用できる調製液が必要である。
オゾン水は、除菌効果があり比較的人体に影響が少ないが、金属腐食性とコストに問題がある。強酸性電解水は強い除菌効果を持つが、金属腐食性も大きい。市販されている次亜塩素酸ナトリウム溶液は安価であるが、アルカリ性であり酸化力が強いため、金属腐食性が強く、人体に影響が大きい。また、アルカリ性では水素イオンが解離しイオン（OCl-）領域にあるため、除菌力が低下している。
【００３１】
市販されている次亜塩素酸ナトリウム溶液をpH4.5からｐH5.5の弱酸性に調製した調製液は、次亜塩素酸(HOCl)領域にあるため、強い除菌効果を持ち、金属腐食性が少ない。次亜塩素酸(HOCl)は有機物と接触すると分解され、塩素ガスを発生させることがないため、人体に影響が少ない。さらに、安価な市販次亜塩素酸ナトリウム溶液を原料とするため、低コストで使用できる。
【００３２】
調整液をドライフォグ状態にすると、液粒の表面積が増大するため、気化性と反応性が増大する。このため、調整液が液体の状態で落下することが極めて少なく、製麹中の麹に浸透することがない。また、微細な霧状の一部が麹に接触しても、麹原料が有機物であるため、速やかに次亜塩素酸(HOCl)は分解し、麹菌等の有用微生物に与える影響は少ない。
このため、次亜塩素酸ナトリウム溶液をpH4.5からｐH5.5の弱酸性に調製した調製液をドライフォグの状態で製麹室1内に噴霧することにより、麹に影響を与えることなく、空気の除菌と共に装置表面の除菌を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例１としての、製麹工程の加湿空調時のフロー図である。
【図２】実施例２としての、洗浄工程でのフロー図である。
【符号の説明】
【００３４】
１    製麹装置
２    保温壁
３    製麹室    
3a    上室    
3b    下室    
４    培養床    
５    中心円筒    
６    支持構造    
７    麹原料
８    スクリュウ型搬送装置
９    手入装置  
10    排気ダクト
11    調節ダンパ  
12    循環ダクト
13    送風ファン    
14    空調装置
15    給気ダクト
16    排出ダクト
17    外気ダクト    
18    空気循環ダクト
19    ドライフォグノズル
20    3次元ノズル
【図１】
2007000032.tif 000003
【図２】
2007000032.tif 000004