(57)【要約】 【課題】液晶が外郭部に移動することを抑制して液晶不良を防止する表示パネル及びそれの製造方法を提供する。【解決手段】複数の薄膜トランジスタが形成される表示領域と、前記表示領域の外郭を取り囲む周辺領域とからなる第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に介在される液晶からなる液晶層と、前記周辺領域に沿って前記第１基板と第２基板との間に形成され、第１基板と第２基板との間に前記液晶を密封するシールラインと、前記シールラインから内側方向に所定間隔離隔された周辺領域に形成される複数の外部スペーサとを有する。【選択図】      図２
2007183632.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の薄膜トランジスタが形成される表示領域と、前記表示領域の外郭を取り囲む周辺領域とからなる第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板と第２基板との間に介在される液晶からなる液晶層と、
前記周辺領域に沿って前記第１基板と第２基板との間に形成され、第１基板と第２基板との間に前記液晶を密封するシールラインと、
前記シールラインから内側方向に所定間隔離隔された周辺領域に形成される複数の外部スペーサとを有することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記外部スペーサは、前記表示領域を取り囲む前記周辺領域内の閉ループに沿って配列配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記外部スペーサは、所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成し、該単位ブロックが前記周辺領域内の前記閉ループに沿って配列配置されることを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記単位ブロックは、４個の外部スペーサからなることを特徴とする請求項３に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記単位ブロックは、前記周辺領域内の複数の閉ループに沿って配列配置されることを特徴とする請求項３に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記閉ループの内のいずれか一つの閉ループに配置された単位ブロックは、前記いずれか一つの閉ループと隣接する他の閉ループに配置された単位ブロックの間に形成されることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記外部スペーサは球形状を有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記外部スペーサの直径は、３μｍ〜５μｍの範囲を有することを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記外部スペーサは、高分子有機物質を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記外部スペーサは、ジビニルベンゼンを含むことを特徴とする請求項９に記載の表示パネル。
【請求項１１】
前記外部スペーサは、前記シールラインから８μｍ〜１０μｍの範囲に離隔されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記表示領域内に形成され、前記第１基板と第２基板との間を所定のセルギャップで保持する複数の内部スペーサをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記内部スペーサは、前記薄膜トランジスタと対応する位置に形成されることを特徴とする請求項１２に記載の表示パネル。
【請求項１４】
前記内部スペーサは、所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成し、該単位ブロックは前記表示領域内にマトリックス形態に配置されることを特徴とする請求項１２に記載の表示パネル。
【請求項１５】
表示領域と該表示領域の外郭を取り囲む周辺領域とで構成された第１基板と対向する第２基板上の前記表示領域に対応する位置に内部スペーサを配列配置させ、前記第２基板上の前記周辺領域に対応する位置に外部スペーサを配列配置させる段階と、
前記第２基板の周辺領域に対応する領域内に前記外部スペーサから外側方向に所定間隔離隔したシールラインを形成する段階と、
前記第１基板に液晶を滴下する段階と、
前記第１基板と第２基板とを互いに結合する段階とを有することを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを配列配置させる段階は、前記表示領域と対応する位置に形成された複数の内部収納溝、及び前記周辺領域と対応する位置に形成された複数の外部収納溝を具備する印刷板を準備する段階と、
前記内部収納溝に前記内部スペーサを充填し、前記外部収納溝に前記外部スペーサを充填する段階と、
印刷ローラーを前記印刷板上で回転させ印刷ローラーの表面に前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを付着させる段階と、
前記印刷ローラーを回転させ前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを前記第２基板上に配列配置させる段階とを含むことを特徴とする請求項１５に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記各外部収納溝には４個の外部スペーサが充填されることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記各内部収納溝には、７個〜８個の内部スペーサが充填されることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記外部収納溝は、前記周辺領域内の閉ループに沿って配列配置され、前記閉ループは前記表示領域を取り囲むことを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記外部収納溝は、前記周辺領域内の複数の閉ループに沿って配列配置されることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２１】
前記閉ループの内のいずれか一つの閉ループに配置された外部収納溝は、前記いずれか一つの閉ループと隣接する他の閉ループに配置された外部収納溝の間に形成されることを請求項２０に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２２】
前記外部収納溝の直径は、１６μｍ〜１９μｍの範囲を有することを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２３】
前記内部収納溝の直径は、２１μｍ〜２５μｍの範囲を有することを特徴とする請求項１６に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項２４】
前記外部スペーサ及び前記内部スペーサの表面に熱硬化性インクが被覆されることを特徴とする請求項１５記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示パネル及びその製造方法に関し、より詳細には液晶不良を防止するための表示パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
代表的な平板表示装置である液晶表示装置は液晶を用いて画像を表示する。液晶表示装置は他の平板表示装置に比べて薄くて軽く、低消費電力、低駆動電圧を有するという長所を有する。
【０００３】
液晶表示装置は液晶による光透過率の変化を用いて画像を表示する液晶表示パネル及び液晶表示パネルの下部に配置され液晶表示パネルに光を提供するバックライトアセンブリを含む。
【０００４】
液晶表示パネルはスイッチング素子である薄膜トランジスタが形成されたアレイ基板と、アレイ基板と向き合って配置されカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板と、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に介在された液晶層とを具備する。この際、液晶表示パネルは画像が表示される表示領域と、表示領域の周辺に形成され画像が表示されない周辺領域とに区分される。
【０００５】
液晶表示パネルは、アレイ基板とカラーフィルタ基板とを結合させ、液晶層に形成された液晶を密封するシールラインをさらに含む。シールラインはアレイ基板とカラーフィルタ基板との間に介在し、周辺領域上に形成される。
【０００６】
一般的に、液晶層を形成する方法には液晶注入方式及び液晶滴下方式がある。液晶注入方式は真空状態で毛細管現象によって２つの基板の間に液晶を注入する方式を意味する。
【０００７】
一方、液晶滴下方式は常圧で２つの基板のうちいずれか一つの基板にシールラインを塗布し、他の一つの基板に液晶を滴下した後、真空状態で２つの基板を結合する方式を意味する。このような液晶滴下方式は液晶注入方式に比べて非常に短い工程時間内に行われるという長所を有するので、液晶層を形成する方法として最近主に使用されてる。
【０００８】
液晶が２つの基板のうちいずれか一つの基板に滴下されるとき、一般的に高密度に液晶を有する液晶液滴を複数箇所に滴下する。液晶液滴は２つの基板が結合された後、四方に広がることによって液晶層を形成する。この際、外郭部位に滴下された液晶液滴の液晶は結局シールラインまで広がり当接する。
【０００９】
しかし、シールラインが完全に硬化される前に、液晶液滴の液晶がシールラインと当接する場合、シールラインによって液晶が汚染される。即ち、シールラインの異物質が表示領域の液晶に流入してしまうことが起きる。このような液晶の汚染は縁部の染み及び異物質混入などの問題点を誘発し、画像の表示品質を低下させるという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、本発明は上記従来の表示パネルにおける問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、液晶が外郭部に移動することを抑制して液晶不良を防止する表示パネルを提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、上記表示基板を製造するための方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するためになされた本発明による複数の薄膜トランジスタが形成される表示領域と、前記表示領域の外郭を取り囲む周辺領域とからなる第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に介在される液晶からなる液晶層と、前記周辺領域に沿って前記第１基板と第２基板との間に形成され、第１基板と第２基板との間に前記液晶を密封するシールラインと、前記シールラインから内側方向に所定間隔離隔された周辺領域に形成される複数の外部スペーサとを有することを特徴とする。
【００１３】
前記外部スペーサは、前記表示領域を取り囲む前記周辺領域内の閉ループに沿って配列配置されることが好ましい。
前記外部スペーサは、所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成し、該単位ブロックが前記周辺領域内の前記閉ループに沿って配列配置されることが好ましい。
前記単位ブロックは、４個の外部スペーサからなることが好ましい。
前記単位ブロックは、前記周辺領域内の複数の閉ループに沿って配列配置されることが好ましい。
前記閉ループの内のいずれか一つの閉ループに配置された単位ブロックは、前記いずれか一つの閉ループと隣接する他の閉ループに配置された単位ブロックの間に形成されることが好ましい。
前記外部スペーサは球形状を有することが好ましい。
前記外部スペーサの直径は、３μｍ〜５μｍの範囲を有することが好ましい。
前記外部スペーサは、高分子有機物質を含むことが好ましい。
前記外部スペーサは、ジビニルベンゼンを含むことが好ましい。
前記外部スペーサは、前記シールラインから８μｍ〜１０μｍの範囲に離隔されることが好ましい。
前記表示領域内に形成され、前記第１基板と第２基板との間を所定のセルギャップで保持する複数の内部スペーサをさらに有することが好ましい。
前記内部スペーサは、前記薄膜トランジスタと対応する位置に形成されることが好ましい。
前記内部スペーサは、所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成し、該単位ブロックは前記表示領域内にマトリックス形態に配置されることが好ましい。
【００１４】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示パネルの製造方法は、表示領域と該表示領域の外郭を取り囲む周辺領域とで構成された第１基板と対向する第２基板上の前記表示領域に対応する位置に内部スペーサを配列配置させ、前記第２基板上の前記周辺領域に対応する位置に外部スペーサを配列配置させる段階と、前記第２基板の周辺領域に対応する領域内に前記外部スペーサから外側方向に所定間隔離隔したシールラインを形成する段階と、前記第１基板に液晶を滴下する段階と、前記第１基板と第２基板とを互いに結合する段階とを有することを特徴とする。
【００１５】
前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを配列配置させる段階は、前記表示領域と対応する位置に形成された複数の内部収納溝、及び前記周辺領域と対応する位置に形成された複数の外部収納溝を具備する印刷板を準備する段階と、前記内部収納溝に前記内部スペーサを充填し、前記外部収納溝に前記外部スペーサを充填する段階と、印刷ローラーを前記印刷板上で回転させ印刷ローラーの表面に前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを付着させる段階と、前記印刷ローラーを回転させ前記内部スペーサ及び前記外部スペーサを前記第２基板上に配列配置させる段階とを含むことが好ましい。
前記各外部収納溝には４個の外部スペーサが充填されることが好ましい。
前記各内部収納溝には、７個〜８個の内部スペーサが充填されることが好ましい。
前記外部収納溝は、前記周辺領域内の閉ループに沿って配列配置され、前記閉ループは前記表示領域を取り囲むことが好ましい。
前記外部収納溝は、前記周辺領域内の複数の閉ループに沿って配列配置されることが好ましい。
前記閉ループの内のいずれか一つの閉ループに配置された外部収納溝は、前記いずれか一つの閉ループと隣接する他の閉ループに配置された外部収納溝の間に形成されることが好ましい。
前記外部収納溝の直径は、１６μｍ〜１９μｍの範囲を有することが好ましい。
前記内部収納溝の直径は、２１μｍ〜２５μｍの範囲を有することが好ましい。
前記外部スペーサ及び前記内部スペーサの表面に熱硬化性インクが被覆されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係る表示パネル及びその製造方法によれば、外部スペーサが周辺領域に沿って閉ループを成して配置されることにより、アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に介在された液晶が外郭に移動することを抑制し、硬化されていないシールラインと接することを防止するという効果がある。
また、それにより、液晶がシールラインによって汚染されることを防止し、表示パネルの表示品質をより向上させるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に、本発明に係る表示パネル及びその製造方法を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態による表示パネルを示した斜視図である。
【００１９】
図１を参照すると、本実施形態による表示パネル４００は第１基板１００、第２基板２００及び液晶層３００を含み、光を用いて画像を外部に表示する。
【００２０】
第１基板１００はマトリックス形態に配置された複数の画素電極、各画素電極に駆動電圧を印加する薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタをそれぞれ作動させるための信号線を含む。
【００２１】
第２基板２００は第１基板１００と向き合うように配置される。第２基板２００は第１基板２００の上面に配置され透明で導電性の共通電極、及び画素電極と向き合うところに配置されたカラーフィルタを含む。
【００２２】
カラーフィルタは白色光のうち赤色光を選択的に通過させる赤色カラーフィルタ、白色光のうち緑色光を選択的に通過させる緑色カラーフィルタ、及び白色光のうち青色光を選択的に通過させる青色カラーフィルタを含む。
【００２３】
液晶層３００は第１基板１００と第２基板２００との間に介在され、画素電極と共通電極との間に形成された電場によって再配列される。再配列された液晶層３００は外部から供給される光の光透過率を調節し、光透過率が調節された光はカラーフィルタを通過することで画像が表示される。
【００２４】
図２は、図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図であり、図３は図１の表示パネルのうち第２基板を示した平面図であり、図４は図３の“Ａ”部分を拡大して示した平面図である。
【００２５】
図２及び図３を参照すると、本実施形態による表示パネル４００は第１基板１００、第２基板２００、液晶層３００及びシールライン３５０を含む。
【００２６】
まず、第１基板１００について説明すると、第１基板１００は第１透明基板１１０、ゲート配線（図示せず）、データ配線（図示せず）、ストレージ配線（図示せず）、ゲート絶縁膜１２０、薄膜トランジスタＴＦＴ、保護膜１３０及び画素電極１４０を含む。この際、第１基板１００は画像が表示される表示領域（ＡＲ１）及び表示領域（ＡＲ１）の外郭に形成された周辺領域（ＡＲ２）に区分される。
【００２７】
第１透明基板１１０はプレート形状を有し、透明な物質からなる。第１透明基板１１０は、例えば、ガラス、石英、サファイアまたはポリエステール、ポリアクリレート、ポリカボネート、ポリエテールケトン（ｐｏｌｙ  ｅｔｈｅｒ  Ｋｅｔｏｎｅ）などの透明な合成樹脂からなる。
【００２８】
第１透明基板１１０上には第１方向に複数のゲート配線（図示せず）が形成され、第１方向と交差する第２方向に複数のデータ配線（図示せず）が形成される。この際、第１方向は第２方向と直交する方向であることが望ましい。複数のストレージ配線（図示せず）はゲート配線と並行に形成される。
【００２９】
ゲート絶縁膜１２０はゲート配線及びストレージ配線を覆うように第１透明基板１１０上に形成される。ゲート絶縁膜１２０は、一例として、酸化シリコンまたは窒化シリコンなどの透明な絶縁性物質からなる。この際、ゲート配線はゲート絶縁膜１２０の下部に形成される反面、データ配線はゲート絶縁膜１２０の上部に形成される。これにより、ゲート配線及びデータ配線は互いに電気的に絶縁される。
【００３０】
ゲート配線及びデータ配線が互いに直交して交差することにより、第１基板１００の表示領域（ＡＲ１）上には複数の単位画素が画定される。各単位画素内には薄膜トランジスタＴＦＴ及び画素電極１４０が形成される。
【００３１】
薄膜トランジスタＴＦＴは各単位画素内に形成され、ゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ、アクティブ層Ａ及びオーミックコンタクト層Ｏを含む。
【００３２】
具体的に、例を挙げると、ゲート電極Ｇはゲート配線から第２方向に延長され第１透明基板上に形成される。ソース電極Ｓはデータ配線から第１方向に延長され、ゲート電極Ｇの一部と重なるように形成される。ドレイン電極Ｄはソース電極Ｓと向き合うようにソース電極Ｓから所定距離離隔され形成され、ゲート電極Ｇの一部と重なるように形成される。ドレイン電極Ｄはコンタクトホール１３２を介して画素電極１４０と電気的に連結される。アクティブ層Ａはゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄの間に形成され、ゲート電極Ｇをカバーするように形成される。オーミックコンタクト層Ｏはアクティブ層Ａとソース電極Ｓとの間、及びアクティブ層Ａとドレイン電極Ｄとの間に形成される。
【００３３】
保護膜１３０は薄膜トランジスタＴＦＴを覆うように基板全面に形成され、薄膜トランジスタを外部の熱や湿気から保護する。この際、各単位画素内に長く延長されたドレイン電極Ｄの上部には保護膜１３０の一部が開口されコンタクトホール１３２が形成される。
【００３４】
画素電極１４０は各単位画素内に形成され、透明で導電性の物質からなる。画素電極１４０は薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極Ｄとコンタクトホール１３２によって電気的に連結され、薄膜トランジスタＴＦＴから駆動電圧の印加を受け充電される。このように充電された画素電極１４０はストレージ配線によって駆動電圧が所定時間の間保持される。
【００３５】
画素電極１４０は、一例として、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化酸化物（ＩＺＯ）、アモルファスインジウム錫酸化物（ａ−ＩＴＯ）などをフォトリソグラフィ工程によってパターニングされ形成される。
【００３６】
続いて、第２基板２００について説明すると、第２基板２００は第１基板１００と対向するように配置される。第２基板２００は第１基板１００と同様に、表示領域（ＡＲ１）及び周辺領域（ＡＲ２）で区分される。
【００３７】
第２基板２００は第２透明基板２１０、遮光膜、カラーフィルタ２４０、平坦化膜２５０、共通電極２６０及び複数のスペーサ２７０を含む。ここで、遮光膜は内部遮光膜２２０及び外部遮光膜２３０を含む。
【００３８】
第２透明基板２１０はプレート形状を有し、透明な物質からなる。第２透明基板２１０は第１透明基板１１０と同一の材質からなることが望ましい。
【００３９】
内部遮光膜２２０は第２透明基板２１０の表示領域ＡＲ１の一部に形成され光の透過を遮断する。内部遮光膜２２０は、第１基板１００のゲート配線、データ配線、ストレージ配線及び薄膜トランジスタＴＦＴなどと対応する位置の第２透明基板２１０上に形成され、上記した構成要素が外部で識別されないように光の透過を遮断する。内部遮光膜２２０は、一例として、不透明な無機物質からなり、望ましくは、クロムＣｒからなる。
【００４０】
外部遮光膜２３０は第２透明基板２１０の周辺領域ＡＲ２に形成され光の透過を遮断する。外部遮光膜２３０は内部遮光膜２２０と同一の物質からなることが望ましい。外部遮光膜２３０は周辺領域ＡＲ２に沿って形成され閉ループを成し、外部遮光膜２３０の幅は２ｍｍ〜３ｍｍの範囲を有することが望ましい。
【００４１】
カラーフィルタ２４０は内部遮光膜２２０を覆うように第２透明基板２１０の表示領域ＡＲ１に形成される。カラーフィルタ２４０には、一例として、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ及び青色カラーフィルタなどがある。
【００４２】
平坦化膜２５０はカラーフィルタ２４０及び外部遮光膜２３０を覆うように第２透明基板２１０の全領域に形成される。平坦化膜２５０は、カラーフィルタ２４０及び外部遮光膜２３０などによって凹凸が生じる表面を平坦化させる。平坦化膜２５０は、一例として、透明な有機物質からなる。
【００４３】
共通電極２６０は平坦化膜２５０上に形成される。共通電極２６０は透明な導電性物質からなり、一例として、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アモルファスインジウム錫酸化物（ａ−ＩＴＯ）からなる。共通電極２６０は外部から共通電圧が印加され画素電極１４０との間で電場が形成される。
【００４４】
スペーサ２７０は第１基板１００と第２基板２００との間に配置され第１基板１００と第２基板２００との間のセルギャップを保持する。スペーサ２７０は内部遮光膜２２０と対応する位置に形成された内部スペーサ２７２、及び外部遮光膜２３０と対応する位置に形成された外部スペーサ２７４を含む。スペーサ２７０についてのより詳細な内容な後述する。
【００４５】
液晶層３００は、第１基板１００と第２基板２００との間に介在し、印加された電場によって再配列する液晶からなる。具体的には、液晶層３００は第１基板１００の画素電極１４０と第２基板２００の共通電極との間に形成された電場によって再配列する。
【００４６】
シールライン３５０は第１基板１００と第２基板２００との間に介在し、第２透明基板２１０の周辺領域ＡＲ２と対応する位置に形成され閉ループをなす。シールライン３５０は外部スペーサ２７４から外郭方向に向かって所定距離Ｉ、例えば、８μｍ〜１０μｍの範囲に離隔され形成される。シールライン３５０の幅は１ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲を有することが望ましい。
【００４７】
シールライン３５０は、一例として、シーラント（ｓｅａｌａｎｔ）からなり、第１基板１００と第２基板２００との間を互いに結合させる。シールライン３５０は周辺領域ＡＲ２の最外郭に形成され、第１基板１００と第２基板２００との間に介在する液晶が外部に流出しないように液晶を密封する。
【００４８】
図２、図３及び図４を参照すると、本実施形態によるスペーサ２７０は内部スペーサ２７２及び外部スペーサ２７４を含む。スペーサ２７０それぞれは球形状を有することが望ましい。即ち、各内部スペーサ２７２及び各外部スペーサ２７４は互いに同一の球形状を有する。各スペーサ２７０の直径３μｍ〜５μｍの範囲を有し、約４μｍであることが望ましい。スペーサ２７０それぞれは、所定の弾性力を有する高分子有機物質からなり、一例として、ジビニルベンゼン（ｄｉｖｉｎｙｌ  ｂｅｎｚｅｎｅ）からなる。
【００４９】
内部スペーサ２７２は内部遮光膜２２０と対応する位置に第１基板１００と第２基板２００との間に配置される。内部スペーサ２７２は所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成することが望ましく、内部スペーサ２７２による単位ブロックは表示領域ＡＲ１にマトリックス形態に配置される。この際、内部スペーサ２７２は７個〜８個でグループ化されることが望ましい。
【００５０】
内部スペーサ２７２は第１基板１００と第２基板２００との間に配置されることにより、第１基板１００及び第２基板２００はある程度の弾性を有しながら所定のセルギャップが保持される。
【００５１】
外部スペーサ２７４は外部遮光膜２３０と対応する位置に第１基板１００と第２基板２００との間に配置される。外部スペーサ２７４は周辺領域ＡＲ２の閉ループに沿って配置され、閉ループは表示領域ＡＲ１を取り囲む。このように外部スペーサ２７４が閉ループに沿って配置することにより、第１基板１００と第２基板２００との間に介在する液晶が外郭に移動することを抑制することができる。
【００５２】
ここで、外部スペーサ２７４は互いに接触した状態で閉ループに沿って配置することもでき、互いに所定間隔離隔した状態で閉ループに沿って配置することもできる。外部スペーサ２７４が互いに接触した状態で閉ループに沿って配置される場合は外部スペーサ２７４が所定間隔離隔され閉ループに沿って配置される場合よりも液晶が外郭に移動することをさらに抑制することができる。
【００５３】
外部スペーサ２７４は所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成することが望ましく、外部スペーサ２７４による単位ブロックは周辺領域ＡＲ２に閉ループに沿って配置される。例えば、各単位ブロックは４個の外部スペーサ２７４で構成される。
【００５４】
ここで、単位ブロックは互いに接触した状態で閉ループに沿って配置することもでき、互いに所定間隔に離隔した状態で閉ループに沿って配置することもできる。単位ブロックが互いに接触した状態で閉ループに沿って配置される場合は単位ブロックが所定間隔離隔した状態で閉ループに沿って配置される場合よりも液晶が外郭に移動することをさらに抑制することができる。図３、４では、一例として、所定間隔に離隔された単位ブロックを示した。
【００５５】
本実施形態によると、外部スペーサ２７４が周辺領域ＡＲ２の閉ループに沿って配置することにより、第１基板１００と第２基板２００との間に介在する液晶が外郭に移動することを抑制し、硬化が未完了のシールライン３５０との接触による汚染を遅延することができ、さらには、硬化が未完了のシールライン３５０からの異物質が表示領域ＡＲ１内部に流入することを防止することができる。
【００５６】
本実施形態による表示パネル４００は第２基板２００が遮光膜及びカラーフィルタ２４０を含む一般的な構造を有することとして示しているが、それとは異なり、表示パネル４００は第１基板１００が遮光膜及びカラーフィルタ２４０を含むＣＯＡ（ｃｏｌｏｒ  ｆｉｌｔｅｒ  ｏｎ  ａｒｒａｙ）構造及びそのほかに他の構造を有することもできる。即ち、ＣＯＡ構造及びそのほかの他の構造を有する表示パネルにおいても、本発明の内容が適用されてもよい。
【００５７】
図５は本発明の他の実施形態による表示パネルのうち第２基板の一部を抜粋して示した平面図である。本発明の他の実施形態による表示パネルはスペーサを除いては、前述した表示パネルと同一の構成を有するのでその重複された説明は省略し、同一の構成要素については同一の参照符号及び名称とすることにする。
【００５８】
図５を参照すると、本実施形態によるスペーサ２８０は内部スペーサ２８２及び外部スペーサ２８４を含む。スペーサ２８０それぞれは球形状を有することが望ましい。各スペーサ２８０の直径は３μｍ〜５μｍの範囲を有し、約４μｍであることが望ましい。スペーサ２８０それぞれは、所定の弾性力を有する高分子有機物質からなり、一例として、ジビニルベンゼンからなる。
【００５９】
内部スペーサ２８２は内部遮光膜２２０と対応する位置に第１基板１００と第２基板２００との間に配置される。内部スペーサ２８２は所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成することが望ましく、内部スペーサ２８２による単位ブロックは表示領域ＡＲ１にマトリックス形態に配置される。この際、内部スペーサ２７２は７個〜８個でグループ化されることが望ましい。
【００６０】
内部スペーサ２８２は表示領域ＡＲ１に対応する位置に第１基板１００と第２基板２００との間に配置されることで、第１基板１００と第２基板２００はある程度の弾性を有しながら所定のセルギャップを保持する。
【００６１】
外部スペーサ２８４は外部遮光膜２３０と対応する位置に第１基板１００と第２基板２００との間に配置される。外部スペーサ２８４は周辺領域ＡＲ２の複数の閉ループに沿って配列される。
【００６２】
最外郭の閉ループに沿って配置されたスペーサ２８０はシールライン３５０から８μｍ〜１０μｍの範囲で離隔されることが望ましい。また、外部スペーサ２８４が形成する閉ループの個数は液晶の流れの程度によって変更することができる。即ち、液晶が外郭に移動することをさらに遅延させるためには閉ループの個数を増加させ、反面、液晶が外郭にある程度移動するためには閉ループの個数を減少させる。
【００６３】
外部スペーサ２８４は所定の個数にグループ化され複数の単位ブロックを形成することが望ましく、外部スペーサ２８４による単位ブロックは周辺領域ＡＲ２に複数の閉ループを成すように配置される。この際、閉ループのうちいずれか一つの閉ループに配置された単位ブロックは一方の閉ループと隣接する他の閉ループに配置された単位ブロックの間、即ち、中間位置に形成することが望ましい。
【００６４】
例えば、外部スペーサ２８４による単位ブロックは内部閉ループ及び外部閉ループを成すように配置される。例えば、外部スペーサ２８４の単位ブロックは４個の外部スペーサ２８４を含む。また、内部閉ループに沿って配置された単位ブロックは外部閉ループに沿って配置された単位ブロックの間に配置されることが望ましい。
【００６５】
本実施形態によると、外部スペーサ２８４が周辺領域ＡＲ２に沿って複数の閉ループを成して配置することにより、第１基板１００と第２基板２００との間に介在する液晶が外郭に移動することをさらに抑制することができる。
【００６６】
図６〜図１３は本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面である。以下、図６〜図１３を用いて表示パネルの製造方法を説明する。
【００６７】
まず、図６は本実施形態による表示パネルを製造するとき、使用される印刷板を示した平面図であり、図７は図６のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【００６８】
図６及び図７を参照すると、収納溝５１０を具備する印刷板５００をステージ１０上に配置させる。具体的には、収納溝５１０は内部収納溝５１２及び外部収納溝５１４を含む。この際、印刷板５００は表示領域ＡＲ１及び表示領域ＡＲ１の外郭を取り囲む周辺領域ＡＲ２で区分される。
【００６９】
内部収納溝５１２は印刷板５００の表示領域ＡＲ１にマトリックス形態に形成される。外部収納溝５１４は印刷板５００の周辺領域ＡＲ２に少なくとも一つの閉ループを成して形成される。
【００７０】
図８は図６の印刷板にスペーサが配置された状態を示す断面図であり、図９は図８の“Ｂ”部分を拡大して示した断面図である。
【００７１】
図８及び図９を参照すると、内部収納溝５１２及び外部収納溝５１４に複数のスペーサ２７０を満たす。例えば、各内部収納溝５１２には７個〜８個のスペーサ２７０が収納され、各外部収納溝５１４には４個のスペーサ２７０が収納される。この際、内部収納溝５１２に収納されたスペーサ２７０を内部スペーサ２７２と定義し、外部収納溝５１４に収納されたスペーサ２７０を外部スペーサ２７４と定義する。
【００７２】
内部収納溝５１２の深さはスペーサ２７０一つを収納できる程度の深さであることが望ましく、内部収納溝５１２の幅Ｌ１は７個〜８個のスペーサが収納できるように２１μｍ〜２５μｍの範囲を有することが望ましい。外部収納溝５１４の深さはスペーサ２７０一つを収納できる程度の深さであることが望ましく、外部収納溝５１４の直径Ｌ２は４個のスペーサが収納できるように１６μｍ〜１９μｍの範囲を有することが望ましい。
【００７３】
一方、内部収納溝５１２及び外部収納溝５１４に複数のスペーサ２７０を充填するとき、所定のインク２０も共に充填することが望ましい。即ち、内部収納溝５１２及び外部収納溝５１４に収納されたスペーサ２７０の外表面にはインク２０が覆われる。この際、インク２０は所定の粘性を有し、熱によって硬化する性質を有する熱硬化性インクであることが望ましい。例えば、インク２０は白色インクであることが望ましく、メラミン樹脂またはポリエステル樹脂からなることができる。
【００７４】
図１０は、印刷板に配置されたスペーサを印刷ローラーの表面に付着させる段階を説明するための断面図である。
【００７５】
図１０を参照すると、印刷ローラー３０を回転させ印刷ローラー３０の表面にスペーサ２７０を付着させる。即ち、印刷ローラー３０を印刷板５００の表面と当接するように回転させ、収納溝５１０から印刷ローラー３０の表面にスペーサ２７０を付着させる。この際、スペーサ２７０の表面に形成されたインク２０が粘性を有することにより、スペーサ２７０は印刷ローラー３０の表面に容易に付着される。
【００７６】
図１１は、印刷ローラーに付着したスペーサを第２基板上に配置させる段階を説明するための断面図である。
【００７７】
図１１を参照すると、印刷ローラー３０を回転させ、印刷ローラー３０の表面に付着したスペーサ２７０を第２基板２００上に配置させる。即ち、印刷ローラー３０を第２基板２００と当接するように回転させ印刷ローラー３０の表面に付着されたスペーサ２７０を第２基板２００上に付着させる。この際、スペーサ２７０の表面に形成されたインク２０が粘性を有することにより、スペーサ２７０は第２基板２００の表面に容易に付着されることができる。
【００７８】
本実施形態においてはスペーサ２７０が印刷ローラー３０によってカラーフィルタが形成された第２基板２００上に配置されることを一例として説明しているが、それとは異なり、スペーサ２７０が印刷ローラーによって薄膜トランジスタが形成された第１基板１００上に配置されてもよい。
【００７９】
スペーサ２７０が第２基板２００上に配置されるとき、内部収納溝５１２に収納された内部スペーサ２７２は内部遮光膜２００の上部に配置され、外部収納溝５１４に収納された外部スペーサ２７４は外部遮光膜２３０の上部に配置される。
【００８０】
図１２は、第２基板上にシールラインを形成する段階を説明するための断面図である。
【００８１】
図１２を参照すると、第２基板２００上にシールライン３５０を形成する。シールライン３５０は周辺領域ＡＲ２と対応する位置に形成され閉ループをなす。シールライン３５０は外部スペーサ２７４から外郭方向に向かって所定距離、例えば、８μｍ〜１０μｍに離隔され形成される。シールライン３５０はシーラントからなり、シーラントは熱によって硬化する物質である。
【００８２】
また、図示してはいないが、第１透明基板１１０、ゲート絶縁膜１２０、薄膜トランジスタＴＦＴ、保護膜１３０及び画素電極１４０を含む第１基板１００上には複数の液晶液滴を滴下する。この際、液晶液滴は多量の液晶が集まっている状態を意味する。ここで、第１基板１００上にシールライン３５０を形成し、第２基板２００上に液晶液滴を滴下することもできる。
【００８３】
図１３は、第１及び第２基板を結合して表示パネルを製造する段階を説明するための断面図である。
【００８４】
図１３を参照すると、第１及び第２基板１００、２００を互いに結合する。この際、第２基板２００上に滴下された液晶液滴は第１基板１００と第２基板２００との間を移動して液晶層３００を形成する。シールライン３５０は第１基板１００と第２基板２００とを互いに結合させ、液晶層３００内の液晶が外部に流出されないように第１基板１００と第２基板２００との間を密封する。
【００８５】
続いて、結合された第１基板１００及び第２基板２００に所定の熱を印加してシールライン３５０（シーラント）を硬化させる。この際、シールライン３５０（シーラント）が硬化させるとき、スペーサ２７０の表面に形成されたインク２０も共に硬化させることができる。それにより、スペーサ２７０が付着した位置に固定される。
【００８６】
上述のように、スペーサ２７０はインク２０によって印刷板５００、印刷ローラー３００、第２基板２００の順に転写される。ここで、インク２０の接着性は印刷板５００より印刷ローラー３００に強く接着され、印刷ローラー３００より第２基板２００にさらに強く接着されることが望ましい。
【００８７】
一般的に、シールライン３５０（シーラント）が硬化する前に液晶と当接する場合、液晶が汚染し液晶不良が発生される。従って、本実施形態によると、外部スペーサ２７４を周辺領域ＡＲ２と対応する位置に配置させることにより、滴下された液晶が外郭に移動することを抑制することができ、その結果、液晶が硬化が完了していないシールライン３５０（シーラント）と接触して液晶汚染が発生することを防止することができる。
【００８８】
尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明の一実施形態による表示パネルを示した斜視図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図３】図１の表示パネルのうち第２基板を示した平面図である。
【図４】図３の“Ａ”部分を拡大した示した平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態による表示パネルのうち第２基板の一部を抜粋して示した平面図である。
【図６】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、本実施形態による表示パネルを製造するとき、使用される印刷板を示した平面図である。
【図７】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、図６のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図８】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、図６の印刷板にスペーサが配置された状態を示す断面図である。
【図９】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、図８の“Ｂ”部分を拡大して示した断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、印刷板に配置されたスペーサを印刷ローラーの表面に付着させる段階を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、印刷ローラーに付着したスペーサを第２基板上に配置させる段階を説明するための断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、第２基板上にシールラインを形成する段階を説明するための断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による表示パネルの製造方法を説明するための図面であり、第１及び第２基板を結合して表示パネルを製造する段階を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００９０】
１０      ステージ
２０      インク（熱硬化性インク）
３０      印刷ローラー
１００      第１基板
１１０      第１透明基板
１２０      ゲート絶縁膜
１３０      保護膜
１３２      コンタクトホール
１４０      画素電極
２００      第２基板
２１０      第２透明基板
２２０      内部遮光膜
２３０      外部遮光膜
２４０      カラーフィルタ
２５０      平坦化膜
２６０      共通電極
２７０      スペーサ
２７２、２８２    内部スペーサ
２７４、２８４    外部スペーサ
３００      液晶層
３５０      シールライン
４００      表示パネル
５００      印刷板
５１０      収納溝
５１２      内部収納溝
５１４      外部収納溝
【図１】
2007183632.tif 000003
【図２】
2007183632.tif 000004
【図３】
2007183632.tif 000005
【図４】
2007183632.tif 000006
【図５】
2007183632.tif 000007
【図６】
2007183632.tif 000008
【図７】
2007183632.tif 000009
【図８】
2007183632.tif 000010
【図９】
2007183632.tif 000011
【図１０】
2007183632.tif 000012
【図１１】
2007183632.tif 000013
【図１２】
2007183632.tif 000014
【図１３】
2007183632.tif 000015