(57)【要約】【課題】基板面内で均一な膜厚のパターンを形成することが可能な膜パターンの形成方法を提供する。【解決手段】本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液Ｌを基体Ｐ上に配置し、前記機能液Ｌを乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンＦを形成する方法であって、前記膜パターンＦが形成される前記基体Ｐの有効領域ＴE及び前記有効領域ＴEの周囲の非有効領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３に液体受容部ＰE，ＰDを形成する工程と、前記有効領域ＴEに形成された前記液体受容部ＰEに前記機能液Ｌを配置する工程と、前記非有効領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３に形成された前記液体受容部ＰDに前記機能液Ｌ又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３の前記液体受容部ＰDに配置する前記溶媒の量を、前記有効領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど多くすることを特徴とする。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする、膜パターンの形成方法。
【請求項２】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させることを特徴とする、請求項１記載の膜パターンの形成方法。
【請求項３】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くすることを特徴とする、請求項１又は２記載の膜パターンの形成方法。
【請求項４】
前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項５】
前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項６】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくすることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項７】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項８】
前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項９】
前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項１０】
前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の膜パターンの形成方法。
【請求項１１】
機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有する有機ＥＬ装置の製造方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする、有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１２】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させることを特徴とする、請求項１１記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１３】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くすることを特徴とする、請求項１１又は１２記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１４】
前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成することを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１５】
前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成することを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１６】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくすることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１７】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１８】
前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成することを特徴とする、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１９】
前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成することを特徴とする、請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項２０】
前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項２１】
機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする、カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２２】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させることを特徴とする、請求項２１記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２３】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くすることを特徴とする、請求項２１又は２２記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２４】
前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成することを特徴とする、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２５】
前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成することを特徴とする、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２６】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくすることを特徴とする、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２７】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２８】
前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成することを特徴とする、請求項２１〜２７のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項２９】
前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成することを特徴とする、請求項２１〜２８のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３０】
前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項２１〜２９のいずれか一項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３１】
機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置の製造方法であって、
前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、
前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、
前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させることを特徴とする、請求項３１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くすることを特徴とする、請求項３１又は３２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成することを特徴とする、請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成することを特徴とする、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３６】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくすることを特徴とする、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３７】
前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくすることを特徴とする、請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３８】
前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成することを特徴とする、請求項３１〜３７のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３９】
前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成することを特徴とする、請求項３１〜３８のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４０】
前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行なうことを特徴とする、請求項３１〜３９のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜パターンの形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機蛍光材料等の機能性材料をインク化し、該インク（機能液）を基体上に吐出する液滴吐出法により、機能性材料のパターニングを行う方法を採用して、一対の電極間に該機能性材料からなる機能層が挟持された構成の有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬ装置という）、特に機能性材料として有機発光材料を用いた有機ＥＬ装置の開発が行われている（例えば特許文献１〜４を参照）。また、該インク（機能液）の乾燥方法についての開発も行われている（例えば特許文献６〜８を参照）。
【０００３】
上述した機能性材料のパターニング法として、基体上に形成したＩＴＯ等からなる画素電極の周囲にバンクと呼ばれる隔壁を形成し、次に画素電極及びこの画素電極に隣接する前記バンクの一部を親液性に処理するとともにバンクの残りの部分を撥液性に処理した後、機能層の構成材料を含むインクを画素電極に吐出して乾燥することにより、該画素電極上に機能層を形成する方法が採用されている。具体的には、複数のノズルが副走査方向に沿って配列されてなるノズル列を有する液滴吐出ヘッドを用い、この液滴吐出ヘッドを基体に対して主走査方向に走査しつつ、前記ノズルからインクを吐出することにより、画素電極上に機能層を形成する方法が知られている。このような方法は、マイクロオーダーの液滴を画素領域に配することが可能なため、材料の利用効率を考えると、スピンコートなどの方法に比べて有効である。
【０００４】
しかしながら、画素電極が配された表示領域（有効領域）のうち周辺部では、インクから蒸発する溶媒分子の分圧が該表示領域の中央部よりも少なくなる場合がある。このような現象が生じると、周辺部において溶媒の蒸発速度が極端に速くなり、その結果、製造される有機ＥＬ装置において機能層の膜厚むらや１画素内での膜の偏り（膜の断面形状が斜めに傾いた状態）が生じる惧れがある。このような膜厚むらが生じた有機ＥＬ装置は、その特性が低下し、これを表示装置等として用いた場合には、表示むらを生じることもある。そこで、これを解決するために、例えば特許文献５のような技術が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−５４２７０号公報
【特許文献２】特開２００１−２９１５８７号公報
【特許文献３】特開２００４−３１３６０号公報
【特許文献４】特開２００４−１２７８９７号公報
【特許文献５】特開２００２−２２２６９５号公報
【特許文献６】特開２００３−２４５５８２号公報
【特許文献７】特開２００４−３１１２０６号公報
【特許文献８】特開２００４−３３０１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献５に開示された技術は、表示領域の外側に表示に寄与しないダミー領域（非有効領域）を形成し、該ダミー領域にも機能層と同一のインクを塗布することで、表示領域内における溶媒分子の分圧のばらつきを小さくするものである。通常は、ダミー領域に表示領域と同様のパターンのバンクを形成し、該バンクの開口部にインクを塗布するものとしている。この方法によれば、表示領域の中央部と周辺部で溶媒の乾燥が等しく進行するので、機能層の膜厚むらや膜の偏りのない高品質な膜を形成することが可能となる。  
【０００７】
ダミー領域に吐出されるインクは表示用の画素を形成するものではないので、表示領域に形成される画素（有効画素）と区別して、ダミー画素と呼ばれることがある。上記のような膜厚むらの発生を防止するためには、少なくとも数列から数十列分のダミー画素を形成する必要があるが、従来は全てのダミー画素を有効画素と同じピッチ、同じパターンで形成していたため、インクを表示領域と同様に塗布するのみでは、必ずしも十分な膜厚むらの解消には至らない場合があった。つまり、基体に吐出されたインクの乾燥は同心円状に周辺から進行するため、例えば矩形に設けられた表示領域の角部では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合があり、これにより膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があった。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、基板面内で均一な膜厚のパターンを形成することが可能な膜パターンの形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法、カラーフィルタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明の膜パターンの形成方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを形成する方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする。
この方法によれば、非有効領域の液体受容部に配置する溶媒の量を有効領域の中心部から遠い領域ほど多くしているので、乾燥が速く進む有効領域の角部等においても溶媒分子の分圧が急激に低下することがなく、有効領域全体で蒸発溶媒分子の分圧を均一化することが可能である。すなわち、従来の方法では、同じピッチ、同じサイズに形成された液体受容部に対して同じ量の溶媒しか配置しなかったため、中心部から最も遠い有効領域の角部で溶媒が速く乾燥してしまったが、本発明では、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等の領域で溶媒の量を多くし、有効領域内で溶媒の持続時間に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
【００１０】
本発明においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させるものとすることができる。  この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを形成することができる。
【００１１】
本発明においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部における膜厚不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜を形成することができる。
【００１２】
本発明においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化を図ることができる。
【００１３】
本発明においては、前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成するものとすることができる。  この方法によれば、非有効領域への液状体又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことができる。
【００１４】
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくするものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域の液体受容部に対して十分な量の溶媒を配置することができる。
【００１５】
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくするものとすることができる。
この方法によれば、より多くの溶媒が配置される液体受容部、すなわち有効領域の中心部から離れた液体受容部ほど大きなサイズで形成されるので、これら有効領域の中心部から離れた液体受容部で溶媒が溢れる等の不具合を回避することができる。また、液体受容部に配置された溶媒は流動によって液体受容部のサイズに濡れ広がるため、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等の領域において、より大きな溶媒の表面積を得ることができる。溶媒分子の分圧は、吐出された溶媒の表面積に依存し、表面積が大きいほど蒸発する溶媒分子の分圧は大きくなるが、本発明では、溶媒の表面積を液体受容部のサイズ及び溶媒の量によって調節し、これにより有効領域内で溶媒分子の分圧に偏りが生じないようにすることができるので、より均一性のよい膜を形成することができる。
【００１６】
本発明においては、前記有効領域における前記液体受容部の間隔（配列ピッチ）と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことができる。特に、液滴吐出法で機能液又は溶媒を吐出する場合には、有効領域と非有効領域とで吐出ピッチを変えることなく連続して吐出を行うことができるので、工程が簡単になる。
【００１７】
本発明においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することができる。
【００１８】
本発明においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行うものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行いやすい。
【００１９】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有する有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする。
この方法によれば、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等の領域で溶媒の量を多くし、有効領域内で溶媒の持続時間に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２０】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させるものとすることができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２１】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部における膜厚不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２２】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、微細化や細線化を図ることが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２３】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への液状体又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２４】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくするものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域の液体受容部に対して十分な量の溶媒を配置することが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２５】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくするものとすることができる。
この方法によれば、溶媒の表面積を液体受容部のサイズ及び溶媒の量によって調節し、これにより有効領域内で溶媒分子の分圧に偏りが生じないようにすることができるので、より均一性のよい膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２７】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２８】
本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行うものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行うことが可能な膜パターンを有する有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２９】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする。
この方法によれば、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等の領域で溶媒の量を多くし、有効領域内で溶媒の持続時間に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３０】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させるものとすることができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３１】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部における膜厚不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３２】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、微細化や細線化を図ることが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３３】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への液状体又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３４】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくするものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域の液体受容部に対して十分な量の溶媒を配置することが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３５】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくするものとすることができる。
この方法によれば、溶媒の表面積を液体受容部のサイズ及び溶媒の量によって調節し、これにより有効領域内で溶媒分子の分圧に偏りが生じないようにすることができるので、より均一性のよい膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３６】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３７】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３８】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行うものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を製造することができる。
【００３９】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、機能性材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる機能液を基体上に配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記機能性材料からなる膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記膜パターンが形成される前記基体の有効領域、及び前記有効領域の周囲の非有効領域に、液体受容部を形成する工程と、前記有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液を配置する工程と、前記非有効領域に形成された前記液体受容部に前記機能液又は前記溶媒を配置する工程とを有し、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど多くすることを特徴とする。
この方法によれば、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効領域の角部等の領域で溶媒の量を多くし、有効領域内で溶媒の持続時間に偏りが生じないようにしているので、有効領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えているので、表示性能の良好な液晶表示装置を製造することができる。
【００４０】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、前記有効領域の中心部からの距離に応じて３段階以上で変化させるものとすることができる。
この方法によれば、より乾燥むらの少ない膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４１】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記非有効領域の前記液体受容部に配置する前記溶媒の量を、矩形に設けられた前記有効領域の角部において最も多くするものとすることができる。
この方法によれば、従来最も問題となっていた有効領域の角部における膜厚不均一性を解消し、有効領域全体にわたって均一な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４２】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記液体受容部を、隔壁によって区画された領域として形成するものとすることができる。
この方法によれば、隔壁によって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁間の幅を狭くするなど、隔壁を適切に形成することにより、微細化や細線化を図ることが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４３】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部のサイズと前記非有効領域における前記液体受容部のサイズとを概ね同じサイズで形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への液状体又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４４】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域における前記液体受容部のサイズよりも大きくするものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域の液体受容部に対して十分な量の溶媒を配置することが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４５】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部のサイズを、前記有効領域の中心部から遠い領域ほど大きくするものとすることができる。
この方法によれば、溶媒の表面積を液体受容部のサイズ及び溶媒の量によって調節し、これにより有効領域内で溶媒分子の分圧に偏りが生じないようにすることができるので、より均一性のよい膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４６】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記有効領域における前記液体受容部の間隔と前記非有効領域における前記液体受容部の間隔とを概ね同じ間隔で形成するものとすることができる。
この方法によれば、非有効領域への機能液又は溶媒の配置を有効領域に配置する場合と同じ条件で行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４７】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記非有効領域における前記液体受容部を、前記有効領域の外周に沿って少なくとも２列以上形成するものとすることができる。
この方法によれば、より確実に乾燥むらを防止することが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
【００４８】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、前記機能液又は前記溶媒の配置を液滴吐出法により行うものとすることができる。
この方法によれば、液滴吐出法を用いることにより、スピンコート法などの他の塗布技術に比べて、液体材料の消費に無駄が少なく、基体上に配置する液体材料の量や位置の制御を行うことが可能な膜パターンを有するカラーフィルタ基板を備えた液晶表示装置を製造することができる。
本発明のデバイスとしては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス装置やカラーフィルタ基板等があり、これら有機エレクトロルミネッセンス装置の有機機能層（発光層、電荷輸送層等）や画素電極のパターン、又はカラーフィルタ基板のカラーフィルタパターンの形成工程等に、本発明の膜パターンの形成方法を好適に適用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
本発明の膜パターンの形成方法は、基体Ｐ上に機能性材料を含む機能液を配置し、前記機能液を乾燥することにより、前記基体Ｐ上に前記機能性材料からなる膜パターンを形成するものである。膜パターンが形成される領域のうち、膜本来の機能が有効に発揮される一群の膜パターンによって構成される領域を有効領域ＴEといい、膜パターンは形成されるが、膜本来の機能を発揮しない一群の膜パターンによって構成される領域を非有効領域ＴDという。
【００５０】
例えば、有機ＥＬ表示装置等の表示装置においては、有効領域ＴEとは、表示に用いられる一群の画素によって構成される１つのまとまった領域をいい、液晶表示装置等に使用されるカラーフィルタ基板においては、有効領域ＴEとは、表示に用いられる一群のカラーフィルタによって構成される１つのまとまった領域をいう。また、複数の電極や配線が形成される基板にあっては、当該複数の電極や当該複数の配線によって構成される１つのまとまった領域をいう。本発明の膜パターンの形成方法は、このような有効領域ＴEに前記機能液を選択的に配置することにより、所望の形状及び機能を有する一群の膜パターンを形成するものである。
【００５１】
図１では、有効領域ＴEを例えば複数の表示用の画素（有効画素）ＰEからなる有効光学領域とし、この有効光学領域ＴEの複数の有効画素ＰEに対して、それぞれ機能性材料を含む機能液を液滴吐出法により選択的に吐出する例を示している。
【００５２】
図１において、符号ＩＪは液滴吐出装置、符号２０は当該液滴吐出装置に備えられる液滴吐出ヘッド、符号８１は当該液滴吐出ヘッドに設けられたノズルをそれぞれ示している。図１では、ノズル８１の配列方向Ｊは有効画素ＰEの配列方向Ｘに対して傾いた状態とされているが、配列方向Ｊにおけるノズル８１の配列ピッチ（隣接するノズル８１の中心の間隔）がＸ方向における有効画素ＰEの配列ピッチ（隣接する有効画素ＰEの中心の間隔）と同じであれば、配列方向Ｊは有効画素ＰEの配列方向Ｘと一致した方向に設定される。液滴吐出ヘッド２０は、有効光学領域ＴEと平行な面内において角度θを回転可能に構成されており、ノズル８１のＸ方向における配列ピッチ（すなわち、ノズル８１をＸ軸に投影したときのノズル８１の配列ピッチ）と有効画素ＰEのＸ方向における配列ピッチとが一致するように、ノズル８１の配列方向Ｊが制御される。そして、このような配列方向Ｊを規定した状態で、液滴吐出ヘッド２０と基体ＰとをＸ方向又はＹ方向に相対移動できるように構成されている。
【００５３】
図２は、液滴吐出ヘッド２０の一例を示す分解斜視図である。
液滴吐出ヘッド２０は、複数のノズル８１を有するノズルプレート８０と、振動板８５を有する圧力室基板９０と、これらノズルプレート８０と振動板８５とを嵌め込んで支持する筐体８８とを備えている。
【００５４】
液滴吐出ヘッド２０の主要部構造は、図３の部分斜視図に示すように、圧力室基板９０をノズルプレート８０と振動板８５とで挟み込んだ構造とされている。ノズルプレート８０のノズル８１は、各々圧力室基板９０に区画形成された圧力室（キャビティ）９１に対応している。圧力室基板９０には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ９１が複数設けられている。キャビティ９１同士の間は側壁９２で分離されている。各キャビティ９１は供給口９４を介して共通の流路であるリザーバ９３に繋がっている。
【００５５】
振動板８５にはタンク口８６が設けられ、図示略の液体材料供給タンクからパイプを通じて任意の液体材料を供給可能に構成されている。振動板８５上のキャビティ９１に相当する位置には圧電体素子８７が配設されている。圧電体素子８７はＰＺＴ素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極および下部電極（図示せず）で挟んだ構造を備える。圧電体素子８７は図示略の制御装置から供給される吐出信号に対応して体積変化を発生可能に構成されている。
【００５６】
液滴吐出ヘッド２０から液滴を吐出するには、まず、制御装置が液滴を吐出させるための吐出信号を液滴吐出ヘッド２０に供給する。液滴は液滴吐出ヘッド２０のキャビティ９１に流入しており、吐出信号が供給された液滴吐出ヘッド２０では、その圧電体素子８７がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板８５を変形させ、キャビティ９１の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ９１のノズル８１から液滴が吐出される。液滴が吐出されたキャビティ９１には吐出によって減った液体材料が新たに液体材料供給タンクから供給される。
【００５７】
本実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪに備えられた液滴吐出ヘッド２０は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。
【００５８】
図４は、有効光学領域ＴEを含む基体Ｐの平面構成を示す模式図であり、図４（ａ）は有効光学領域ＴEの周辺部の構成を示す模式図、図４（ｂ）はその周辺部のうち有効光学領域ＴEの角部の領域Ｋを拡大して示す模式図である。
【００５９】
図４に示すように、本発明の膜パターンの形成方法では、有効光学領域（有効領域）ＴEの周囲に、非有効領域であるダミー領域ＴDを形成し、このダミー領域ＴDにダミーの液体材料を吐出することにより、有効光学領域ＴEの周囲にも有効光学領域ＴEと同じ溶媒雰囲気を形成する。ダミーの液体材料としては、通常は、有効光学領域に吐出するものと同一の液体材料である機能液が用いられるが、該機能液に含まれる溶媒と同じ溶媒を含む他の液体材料、又は当該溶媒のみからなる液体材料を吐出することも可能である。
【００６０】
ダミー領域ＴDは、有効光学領域ＴEの周囲を囲むように設けられており、有効光学領域ＴEと同様の画素構造を有している。ダミー領域ＴDに形成される画素ＰDは、有効光学領域ＴEに形成される有効画素ＰEに対して、ダミー画素と呼ばれる。ダミー画素ＰDは、表示に寄与しない画素であり、通常は画素電極やスイッチング素子は形成されないが、専ら検査を行うために画素電極やスイッチング素子を形成する場合もある。
【００６１】
液滴吐出法においては、吐出された液滴を精度良く所定の画素に配置するために、画素と画素との間に、バンクと呼ばれる画素を仕切るための隔壁Ｂ（図５を参照）を形成するのが一般的である。隔壁Ｂによって膜パターンの形状が規定されることから、例えば隣接する隔壁Ｂ、Ｂ間の幅を狭くするなど、隔壁Ｂを適切に形成することにより、膜パターンの微細化や細線化が図られる。特に、隔壁Ｂの表面に撥液処理を施した場合には、隔壁Ｂの開口部にのみ確実に液滴を配置することが可能になる。図４においては、隔壁Ｂによって区画された個々の領域が本発明の液体受容部であり、これら複数の液体受容部のうち、有効光学領域ＴEに配置された液体受容部が有効画素ＰEとなり、ダミー領域ＴDに配置された液体受容部がダミー画素ＰDとなる。
【００６２】
なお、隔壁Ｂを形成せずに、基体Ｐを表面処理するのみで、機能液の配置される領域と配置されない領域とを区画する場合もある。すなわち、基体Ｐの特定の領域に機能液に対して親和性（親液性）が低くなるような処理（撥液処理）を施すことで、有効画素ＰE及びダミー画素ＰDとなる領域を機能液に対して相対的に親和性の高い領域（親液領域）とし、それ以外を機能液に対して相対的に親和性の低い領域（撥液領域）とする場合もある。この場合には、隔壁Ｂを形成しなくても、親液領域である有効画素ＰE及びダミー画素ＴDのみに機能液を配置することが可能である。本発明においては、このような親液領域も液体受容部の概念に含まれる。
【００６３】
図４（ｂ）においては、ダミー画素ＰDの形状（隔壁Ｂの開口部の形状）、サイズ（隔壁Ｂの開口部の面積）及び配列ピッチ（隣り合うダミー画素ＰDの中心の間隔）は、有効画素ＰEの形状、サイズ及び配列ピッチと同じである。すなわち、有効光学領域ＴEと同じ隔壁構造が、有効光学領域ＴEの周辺部に拡張された状態となっている。この点については従来と同じであるが、本発明では、このようなダミー領域ＴDに対して、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほどダミーの溶媒の吐出量を多くしている点が異なる。例えば、ダミー画素ＰDへの溶媒の吐出量は、中心部Ｃからの距離に応じて３段階に分かれており、中心部Ｃから最も近い有効光学領域ＴEの縁辺中央部の領域Ｔ１では最も溶媒の吐出量が少なく、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域ＴEの角部の領域Ｔ３では最も吐出量が多くなっており、さらに、それらの中間の領域Ｔ２では、それらの中間の吐出量となっている。最も吐出量が少ない領域Ｔ１におけるダミー画素ＰDへの吐出量は、有効光学領域ＴEにおける有効画素ＰEへの吐出量と同じである。
【００６４】
基体Ｐに吐出された機能液の乾燥は同心円状に有効光学領域ＴEの周辺から進行するため、矩形に設けられた有効光学領域ＴEの角部Ｔ３又はその近傍Ｔ２では、それ以外の部分よりも溶媒の乾燥が速くなる場合がある。このため、従来のように単にダミー領域ＴDを設けるのみでは膜厚むらの発生を十分に回避できない場合があったが、本発明では、ダミー画素ＰDへのダミーの溶媒の吐出量を有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど多くしているので、乾燥が速く進む有効光学領域ＴEの角部においても溶媒分子の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で蒸発溶媒分子の分圧を均一化することが可能である。すなわち、従来の方法では、同じピッチ、同じサイズに形成されたダミー画素ＰDに対して同じ量の溶媒しか配置しなかったため、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域ＴEの角部で溶媒が速く乾燥してしまったが、本発明では、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効光学領域ＴEの角部の領域で溶媒の量を多くし、有効光学領域ＴE内で溶媒の持続時間に偏りが生じないようにしているので、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になり、膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
【００６５】
ダミー領域ＴDに占める領域Ｔ１〜Ｔ３の割合や、領域Ｔ１〜Ｔ３におけるダミー画素ＰDへの溶媒の吐出量は、これらの領域Ｔ１〜Ｔ３における機能液の乾燥速度に基づいて定められる。例えば、有効光学領域ＴEの中心部、有効光学領域ＴEの縁辺中央部及び有効光学領域ＴEの角部において乾燥時間を測定しておき、それらの部分における乾燥時間の差が十分に小さくなるように、各領域Ｔ１〜Ｔ３のダミー画素ＰDへの吐出量に分布を持たせるようにする。この場合、乾燥時間は、使用する溶媒や機能液の粘度等によって変わるので、当該吐出量の分布を定める場合には、これらの要素も十分に考慮するものとする。
【００６６】
次に、図５を用いて、本発明の膜パターンの形成方法を説明する。
まず、図５（ａ）に示すように、基体Ｐの有効光学領域ＴE及びダミー領域ＴD（Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３）に隔壁Ｂを形成する。
基体Ｐとしては、ガラス、石英ガラス、Ｓｉウエハ、プラスチックフィルム、金属板など各種のものが挙げられる。さらに、これら各種の素材基板の表面に半導体膜、金属膜、誘電体膜、有機膜などが下地層として形成されたものも含む。
【００６７】
隔壁Ｂの形成は、フォトリソグラフィ法や印刷法等、任意の方法で行うことができる。例えば、スピンコート法等により基体Ｐ全体に隔壁の材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、単層の隔壁を形成することができる。また、図５（ａ）に示すように、下層Ｂ１が無機物層、上層Ｂ２が有機物層とされた２層以上で隔壁Ｂを形成してもよい。この場合、ダミー画素ＰDでは、下層Ｂ１のパターニングを行ってもよいし、図５（ａ）に示すように下層Ｂ１のパターニングを行わない構成としてもよい。パターニングを行わない場合は、上層Ｂ２によって区画された領域がダミー画素ＰDとなる。なお、隔壁Ｂの材料は、耐熱性、撥液性、溶剤耐性、下地基板との密着性に優れたものであれば、特に限定されない。
【００６８】
隔壁Ｂには、必要に応じて、撥液処理や親液処理が施される。
親液処理としては、酸素を処理ガスとしたプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理等）や、酸素雰囲気中での紫外線照射処理等を用いることができる。
撥液処理としては、ＣＦ4、ＳＦ6、ＣＨＦ3等のフッ素成分を有するガス（フッ素含有ガス）を用いたプラズマ処理を用いることができる。撥液処理に代えて、隔壁Ｂの素材自体（例えば有機物層Ｂ２の形成材料）に予めフッ素基等の撥液成分を充填しておいてもよい。隔壁Ｂの表面を撥液化することにより、隔壁Ｂの開口部にのみ膜を形成し、隔壁Ｂの上面に不要な膜が形成されるのを防ぐことができる。
【００６９】
隔壁Ｂを形成したら、図５（ｂ）に示すように、隔壁Ｂによって区画された領域ＰE，ＰDに機能液Ｌを吐出する。機能液Ｌは、膜パターンＦを構成する材料を溶媒に溶解ないし分散させてなる液体材料である。
【００７０】
膜パターンＦを構成する材料としては、電気的機能や光学的機能等の種々の機能を持った材料（機能性材料）を用いることができる。例えば、有機ＥＬ素子の発光層を形成する場合には、機能性材料として蛍光あるいはリン光を有する材料を用いればよく、カラーフィルタを形成する場合には、顔料等の微粒子着色材料を用いればよい。また、液晶装置等の透明画素電極を形成する場合には、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の微粒子導電材料を用いればよい。
【００７１】
溶媒としては、上記の機能性材料を溶解ないし分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好適である。
【００７２】
機能液Ｌの吐出には、前述した液滴吐出装置ＩＪを用いる。
ダミー画素ＰDに吐出する溶媒の量は、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど多くする。係る領域では液滴の乾燥時間が短くなるため、吐出する溶媒の量を全てのダミー画素ＰDで同一とすると、有効光学領域ＴEの角部等で乾燥時間にばらつきが生じ、均一な乾燥が行えなくなるからである。一方、本発明のように、吐出する溶媒の量を有効光学領域ＴEの中心部Ｃからの距離に応じて調節した場合には、有効光学領域ＴE内で溶媒の持続時間に偏りが生じなくなり、有効光学領域全体で膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。なお、吐出する溶媒の量は、液滴のショット数や、吐出する液体材料中の溶媒比率等を変えることによって調節することができる。
【００７３】
本発明の膜パターンの形成方法では、ダミー画素ＰDへの液滴の吐出量が場所によって異なるものとされているが、図４のようにダミー画素ＰDの配列ピッチが有効画素ＰEの配列ピッチと同じであれば、液滴吐出ヘッド２０からの液滴の吐出は、有効光学領域ＴEとダミー領域ＴDの双方において、ノズル８１の配列方向Ｊ（図１の角度θ）を固定した状態で行うことができる。
【００７４】
機能液Ｌを吐出したら、図５（ｃ）に示すように、機能液Ｌの溶媒を乾燥により除去し、有効画素ＰEに前記機能性材料からなる膜パターンＦを形成する。
【００７５】
前述のように、本発明では、有効光学領域ＴEの周囲にダミーの液体材料を吐出しているので、機能液Ｌを乾燥するときに、有効光学領域ＴEにおける蒸発溶媒分子の分圧が、ダミー領域ＴDにおける蒸発溶媒分子の分圧に比して過剰に大きくなることはない。特に、ダミー領域ＴDに配置される単位面積当たりの溶媒の量が、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくなっているので、有効光学領域ＴEにおいて蒸発する溶媒分子の分圧及び溶媒の持続時間が該有効光学領域ＴEの中央部と周辺部とで略同一となり、その結果、有効光学領域全体で膜パターンＦの膜厚が均一化されるようになる。
【００７６】
［変形例］
次に、本実施形態の膜パターンの形成方法の変形例について説明する。
図６は、本変形例におけるダミー画素ＰDの平面構成を示す模式図である。この図は、第１実施形態における図４（ｂ）に相当するものである。
【００７７】
図６においては、ダミー画素ＰDのサイズは、有効画素ＰEのサイズよりも大きなものとなっている。ダミー画素ＰDの形状及びサイズは、領域Ｔ１、領域Ｔ２及び領域Ｔ３の全てについて共通とされており、これらの領域Ｔ１〜Ｔ３においては、ダミー画素ＰDに吐出される溶媒の量のみが異なったものとなっている。なお、各領域Ｔ１〜Ｔ３におけるダミー画素ＰDのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチは、有効光学領域ＴEにおける有効画素ＰEのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチと同じである。
【００７８】
図７は、有効画素ＰE及びダミー画素ＰDに機能液Ｌを吐出した状態を示す図である。ダミー画素ＰDへの機能液Ｌ（特に溶媒）の吐出量は、有効光学領域ＴEの中心部Ｃからの距離に応じて３段階に分かれており、中心部Ｃから最も近い有効光学領域ＴEの縁辺中央部の領域Ｔ１では最も吐出量が少なく、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域ＴEの角部の領域Ｔ３では最も吐出量が多くなっており、さらに、それらの中間の領域Ｔ２では、それらの中間の吐出量となっている。
【００７９】
第１実施形態のようにダミー画素ＰDのサイズを有効画素サイズと同一とした場合には、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから離れたダミー画素ＰD、とりわけ有効光学領域ＴEの角部に配置されたダミー画素ＰDで機能液Ｌが溢れる可能性があるが、本実施形態では、このようなダミー画素に対しても、係る不具合を生じることなく、十分な量の機能液Ｌを吐出することができる。
【００８０】
図８は、ダミー画素ＰDの他の構成を示す模式図である。
図８においては、ダミー画素ＰDのサイズは、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくなるように構成されている。例えば、ダミー画素ＰDのサイズは、中心部Ｃからの距離に応じて３段階に分かれており、中心部Ｃから最も近い有効光学領域ＴEの縁辺中央部の領域Ｔ１では最もサイズが小さく、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域ＴEの角部の領域Ｔ３では最もサイズが大きくなっており、さらに、それらの中間の領域Ｔ２では、それらの中間のサイズとなっている。最もサイズが小さい領域Ｔ１におけるダミー画素ＰDのサイズは、有効光学領域ＴEにおける有効画素ＰEのサイズと同じである。なお、各領域Ｔ１〜Ｔ３におけるダミー画素ＰDのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチは、有効光学領域ＴEにおける有効画素ＰEのＸ方向及びＹ方向の配列ピッチと同じである。
【００８１】
図９は、有効画素ＰE及びダミー画素ＰDに機能液Ｌを吐出した状態を示す図である。ダミー画素ＰDへの機能液Ｌ（特に溶媒）の吐出量は、有効光学領域ＴEの中心部Ｃからの距離に応じて３段階に分かれており、中心部Ｃから最も近い有効光学領域ＴEの縁辺中央部の領域Ｔ１では最も吐出量が少なく、中心部Ｃから最も遠い有効光学領域ＴEの角部の領域Ｔ３では最も吐出量が多くなっており、さらに、それらの中間の領域Ｔ２では、それらの中間の吐出量となっている。
【００８２】
この構成によれば、より多くの機能液Ｌが吐出されるダミー画素ＰD、すなわち有効光学領域ＴEの中心部Ｃから離れたダミー画素ＰDほど大きなサイズで形成されるので、これら中心部Ｃから離れたダミー画素ＰDにおいて機能液Ｌが溢れる等の不具合を回避することができる。また、ダミー画素ＰDに配置された機能液Ｌは流動によってダミー画素ＰDのサイズに濡れ広がるため、乾燥が速く、溶媒分子の分圧が急激に低下し易い有効光学領域ＴEの角部の領域Ｔ３において、より大きな溶媒の表面積を得ることができる。溶媒分子の分圧は、吐出された溶媒の表面積に依存し、表面積が大きいほど蒸発する溶媒分子の分圧は大きくなるが、本発明では、溶媒の表面積をダミー画素ＰDのサイズ及び溶媒の量によって調節し、これにより有効光学領域ＴE内で溶媒分子の分圧に偏りが生じないようにしているので、より均一性の高い膜を形成することができる。
【００８３】
［第２の実施の形態］
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法を有機ＥＬ装置の製造方法に適用した例について説明する。この有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ素子を画素として基体上に配列してなる有機ＥＬ装置であり、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
【００８４】
図１０は、有機ＥＬ装置７０の回路構成図、図１１は、同有機ＥＬ装置７０の平面模式図である。また図１２は、同有機ＥＬ装置７０に備えられた各画素ＰEの平面構造を示す図であって、（ａ）は画素ＰEのうち、主にＴＦＴ等の画素駆動部分を示す図、（ｂ）は画素間を区画するバンク（隔壁）Ｂ等を示す図である。また図１３は、図１２（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。
【００８５】
図１０に示すように、有機ＥＬ装置７０は、ガラス等からなる基体上に、複数の走査線（配線、電力導通部）１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線（配線、電力導通部）１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線（配線、電力導通部）１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素ＰEが設けられて構成されたものである。
【００８６】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素ＰEの各々には、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号（電力）を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１４３と、この駆動用ＴＦＴ１４３を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。そして、前記画素電極（第１電極）１４１と共通電極（第２電極）１５４と、有機機能層からなる発光部１４０とによって構成される素子が、有機ＥＬ素子である。
【００８７】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
【００８８】
次に、平面構造を見ると、図１１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置７０は、基体Ｐの中央部に、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子２００を具備している。
【００８９】
基体Ｐは、例えばガラス等の透明基板であり、基体Ｐの中央に位置し、有機ＥＬ素子２００が機能する有効光学領域（有効領域）ＴEと、基体Ｐの周縁に位置して有効光学領域ＴEの外周に配置され、有機ＥＬ素子２００が機能しないダミー領域（非有効領域）ＴDとに区画されている。有効光学領域ＴEは、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子２００によって形成される領域であり、有効表示領域とも言う。また、ダミー領域ＴDは、有効光学領域ＴEに隣接して形成され、表示に寄与しない領域として構成されている。有効光学領域ＴE及びダミー領域ＴDには、有効画素及びダミー画素を区画するバンクＢ（図１２参照）が形成されており、バンクＢによって区画される領域が、機能液を配置するための液体受容部を構成し、この液体受容部に機能液を配置することにより、後述の有機ＥＬ素子の有機機能層が形成される。すなわち、バンクＢによって区画された領域が画素であり、有効光学領域ＴEには、個々の画素に有機ＥＬ素子２００が形成されている。
【００９０】
共通電極１５４は、その一端が基体Ｐ上に形成された陰極用配線（図示略）に接続されており、図１１に示すように、この配線の一端部１５４ａがフレキシブル基板７５上の配線７７に接続されている。なお、この配線７７は、フレキシブル基板７５上に備えられた駆動ＩＣ７６（駆動回路）に接続されている。
【００９１】
また、図１１に示すように、基体Ｐのダミー領域ＴDには、前述の共通給電線１３３（１３３Ｒ、１３３Ｇ、１３３Ｂ）が配線されている。さらに、図１１において、有効光学領域ＴEの図示両横側には、前述の走査側駆動回路７３、７３が配置されている。この走査側駆動回路７３、７３はダミー領域ＴDの下側の回路素子部に設けられている。さらに回路素子部には、走査側駆動回路７３、７３に接続される駆動回路用制御信号配線７３ａと駆動回路用電源配線７３ｂとが設けられている。また、図１１において、有効光学領域ＴEの図示上側には検査回路７４が配置されている。この検査回路７４により、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができる。
【００９２】
次に、図１２（ａ）に示す画素ＰEの平面構造をみると、画素ＰEは、平面視略矩形状の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。また図１３に示す画素ＰEの断面構造をみると、基体Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基体Ｐ上に、有機ＥＬ素子２００が形成されている。有機ＥＬ素子２００は、基体Ｐ上に立設されたバンクＢに囲まれる領域内に設けられた有機機能層１４０を主体として構成され、この有機機能層１４０を、画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟持した構成を備える。
【００９３】
ここで、図１２（ｂ）に示す平面構造をみると、バンクＢは、画素電極１４１の形成領域に対応した平面視略矩形状の開口部１４９ｂ，１５１を有しており、この開口部１４９ｂ，１５１に先の有機機能層１４０が形成されるようになっている。
【００９４】
図１３に示すように、駆動用ＴＦＴ１４３は、半導体膜２１０に形成されたソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体膜２１０及びゲート絶縁膜２２０を覆う第１層間絶縁膜２３０が形成されており、この第１層間絶縁膜２３０を貫通して半導体膜２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４内に、それぞれドレイン電極２３６、ソース電極２３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域１４３ｂ、ソース領域１４３ａに導電接続されている。第１層間絶縁膜２３０には、第２層間絶縁膜２４０が形成されており、この第２層間絶縁膜２４０に貫設されたコンタクトホールに画素電極１４１の一部が埋設されている。そして画素電極１４１とドレイン電極２３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１（有機ＥＬ素子２００）とが電気的に接続されている。画素電極１４１の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク（第１隔壁層）１４９が形成されている。無機バンク１４９上には、有機材料からなる有機バンク（第２隔壁層）１５０が積層され、これら無機バンク１４９及び有機バンク１５０によって、有機ＥＬ装置７１における隔壁部材が形成されている。
【００９５】
上記有機ＥＬ素子２００は、画素電極１４１上に、電荷輸送層としての正孔注入層１４０Ａと、発光層１４０Ｂとを積層し、この発光層１４０Ｂと有機バンク１５０とを覆う共通電極１５４を形成することにより構成されている。正孔注入層１４０Ａは、画素電極１４１を覆って形成されており、その周端部は、有機バンク１５０の下層側に設けられた無機バンク１４９のうち、有機バンク１５０から画素電極１４１中央側に突出して配置された部分も覆って形成されている。
【００９６】
基体Ｐとしては、いわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、基体Ｐ側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板が用いられる。一方、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合には、有機ＥＬ素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。
【００９７】
画素電極１４１は、基体Ｐを介して光を取り出すボトムエミッション型の場合には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料により形成されるが、トップエミッション型の場合には透光性である必要はなく、金属材料等の適宜な導電材料によって形成できる。
【００９８】
共通電極１５４は、発光層１４０ＢとバンクＢの上面、さらにはバンクＢの側面部を形成する壁面を覆った状態で基体Ｐ上に形成される。この共通電極１５４を形成するための材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。ボトムエミッション型の場合には、透明導電材料のほか、アルミニウム等の不透明若しくは光反射性を有する導電材料を用いることができる。
【００９９】
共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極１５４を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる共通電極１５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、このような陰極保護層は、共通電極１５４の平面領域の外側の基体上まで、１０ｎｍから３００ｎｍ程度の厚みに形成される。
【０１００】
［有機ＥＬ装置の製造方法］
次に、有機ＥＬ装置７０の製造方法について図面を参照しながら説明する。本実施形態では、図１０から図１３に示した構成を備えた有機ＥＬ装置を液滴吐出法を用いて製造する例について説明する。
なお、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。また、液滴吐出装置については前述のものを用いることができる。
【０１０１】
以下、上記有機ＥＬ装置７０に備えられる有機ＥＬ素子２００の製造方法について図１４及び図１５を参照しながら説明する。図１４及び図１５には、有効光学領域ＴEとダミー領域ＴDの境界部分が図示されている。
【０１０２】
まず、図１４（ａ）に示すように、基体Ｐ上に画素電極１４１、該画素電極１４１を駆ができる。図１４（ａ）では、有効光学領域ＴEのみに画素電極１４１を形成しているが、ダミー領域ＴDに対しても同様の画素電極を形成することができる。この場合、ダミー領域ＴDに形成される画素（ダミー画素）は、検査用の素子として用いることが可能である。
【０１０３】
次に、画素電極１４１の周縁部と一部平面的に重なるように、酸化シリコン等の無機絶縁材料からなる無機バンク１４９を形成する。具体的には、画素電極１４１及び平坦化絶縁膜２４０を覆うように酸化シリコン膜を形成した後、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて酸化シリコン膜をパターニングし、画素電極１４１の表面を部分的に開口させることで形成できる。図１４（ａ）では、無機バンク１４９のパターニングを有効光学領域ＴEのみで行っているが、ダミー領域ＴDに対しても同様のパターニングを行うことができる。
【０１０４】
次に、図１４（ｂ）に示すように、無機バンク１４９上に、アクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料からなる有機バンク１５０を形成する。
【０１０５】
有機バンク１５０は、無機バンク１４９と共に、有機ＥＬ素子２００を区画するバンク（隔壁）Ｂを形成するものである。すなわち、有効光学領域ＴEにあっては、無機バンク１４９及び有機バンク１５０によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれ有効画素ＰEとなる。一方、ダミー領域ＴDにあっては、無機バンク１４９がパターニングされていないため、有機バンク１５０によって区画された各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部がそれぞれダミー画素ＰDとなる。
【０１０６】
ダミー画素ＰDのサイズ（すなわち、バンクＢの開口部１５１の面積）は、有効画素ＰEのサイズよりも大きくなっている。すなわち、有効画素よりも多くの機能液を保持できるようになっており、これにより、有効光学領域全体で機能液の乾燥を均一に進行させるものとなっている。
【０１０７】
有機バンク１５０の高さは、例えば１μｍ〜２μｍ程度に設定され、基体Ｐ上で有機ＥＬ素子２００の仕切部材として機能する。このような構成のもと、有機ＥＬ素子２００の正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲の有機バンク１５０との間に十分な高さの段差からなる開口部１５１が形成される。有機バンク１５０の開口部１５１と無機バンク１４９の開口部１４９ｂとは互いに連通しており、画素電極１４１はこれらの開口部内において露出した状態となっている。
【０１０８】
有機バンク１５０の開口部１５１のＸ方向及びＹ方向における間隔（配列ピッチ）は、有効画素ＰEとダミー画素ＰDとで同じ間隔とされる。すなわち、有効画素ＰEとダミー画素ＰDは同じ配置密度で形成されるが、ダミー画素の配置密度は領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３によって異ならせてもよい。
【０１０９】
有機バンク１５０を形成するに際しては、有機バンク１５０の開口部１５１の壁面を、無機バンク１４９の開口部１４９ｂから若干外側へ後退させて形成するのがよい。このように有機バンク１５０の開口部１５１内に無機バンク１４９を一部露出させておくことで、有機バンク１５０内での液体材料の濡れ広がりを良好なものとすることができる。
【０１１０】
有機バンク１５０を形成したら、有機バンク１５０及び画素電極１４１を含む基体上の領域に対して撥液処理を施す。有機バンク１５０は、有機ＥＬ素子２００を区画する仕切部材として機能するので、液滴吐出ヘッド２０から吐出される機能液に対して非親和性（撥液性）を示すものであることが好ましい。撥液処理としては、第１実施形態で説明したものを用いることができ、このような撥液処理により、有機バンク１５０に選択的に非親和性を発現させることができる。
【０１１１】
このような撥液処理では、基体Ｐの一面側全体に処理を施したとしても、ＩＴＯ膜や金属膜からなる無機材料の画素電極１４１の表面は有機材料からなる有機バンク１５０の表面よりも撥液化されにくく、有機バンク１５０の表面のみが選択的に撥液化され、有機バンク１５０に囲まれる領域内に機能液に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。
【０１１２】
なお、撥液処理に先立って、無機バンク１４９及び画素電極１４１の表面に親液処理を施しても良い。親液処理としては、第１実施形態で説明したものを用いることができる。親液処理としてＯ2プラズマ処理を行った場合には、画素電極１４１であるＩＴＯ上の洗浄，仕事関数の調整も兼ねることができる。なお、親液処理の後に撥液処理を行った場合には、画素電極１４１や無機バンク１４９の表面も撥液処理の影響を多少受けるが、有機バンク１５０に比べてこれらの影響は小さく、濡れ性に影響を与える事は少ない。
【０１１３】
基体Ｐ上にバンクＢを形成したら、図１４（ｃ）に示すように、液滴吐出ヘッドにより、正孔注入層１４０Ａを形成するための機能液Ｌ１をバンクＢによって区画された塗布位置（ダミー領域ＴDにあっては、有機バンク１５０に囲まれた領域）に選択的に塗布する。機能液Ｌ１は、正孔注入層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
【０１１４】
正孔注入層形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、ポリスチレンスルフォン酸、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルフォン酸との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等を例示することができる。また、溶媒としては、イソプロピルアルコール、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−イミダゾリノン等の極性溶媒を例示することができる。
【０１１５】
ダミー画素ＰDに吐出する機能液Ｌ１の量（特に溶媒の量）は、有効光学領域ＴEの中心部から遠い領域ほど多くする。係る領域では液滴の乾燥速度が速いため、吐出する溶媒の量を全てのダミー画素ＰDで同一とすると、有効光学領域ＴEの角部で乾燥時間にばらつきが生じ、均一な乾燥が行えなくなるからである。一方、吐出する溶媒の量を有効光学領域ＴEの中心部Ｃからの距離に応じて調節した場合には、有効光学領域ＴE内で溶媒の持続時間に偏りが生じなくなり、有効光学領域全体で膜厚むらや膜の偏りなどがない高品質な膜を形成することができる。
【０１１６】
機能液Ｌ１が液滴吐出ヘッドより基体Ｐ上に吐出されると、機能液Ｌ１は流動性によって水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンクＢが形成されているので、機能液Ｌ１はバンクＢを越えてその外側に広がらない。また、画素電極１４１や無機バンク１４９の表面は良好な親液性を保った状態であるので、吐出された機能液Ｌ１は画素電極等の表面全体に塗れ広がり、均一な塗膜を形成する。
【０１１７】
基体Ｐ上に機能液Ｌ１を配置したら、図１４（ｄ）に示すように、加熱あるいは光照射により機能液Ｌ１の溶媒を蒸発させて画素電極１４１上に固形の正孔注入層１４０Ａ（膜パターン）を形成する。または、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間で焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下（減圧環境下）に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
【０１１８】
この際、単位面積当たりに吐出されるダミーの機能液Ｌ１の量が、有効光学領域ＴEの中心部から遠い領域ほど大きくなっているので、乾燥が速く進む有効光学領域ＴEの角部においても溶媒分子の分圧が急激に低下することがなく、有効光学領域全体で乾燥速度が均一になる。このため、得られる正孔注入層１４０Ａも膜厚、膜質が均一であり、その表面の平坦性にも優れたものとなる。
【０１１９】
続いて、図１５（ａ）に示すように、液滴吐出ヘッドより、発光層１４０Ｂを形成するための機能液Ｌ２をバンクＢ内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。機能液Ｌ２は、発光層形成材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
【０１２０】
発光層形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の高分子発光材料である、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポリアルキルチオフェン（ＰＡＴ）や、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系などを好適に用いることができる。また、これらの発光材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【０１２１】
前記発光層形成材料については、極性溶媒に溶解ないし分散させて液体材料とし、この液体材料を液滴吐出ヘッドから吐出するのが好ましい。極性溶媒は、前記発光材料等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、液滴吐出ヘッドのノズル孔での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こしたりするのを防止することができる。
【０１２２】
このような極性溶媒として具体的には、水、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルイミダゾリン（ＤＭＩ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン等の有機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を２種以上適宜混合したものであってもよい。
【０１２３】
発光層１４０Ｂの形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素ＰEに吐出することによって行う。
【０１２４】
図１５（ａ）では、赤色有効画素に機能液Ｌ２を吐出する工程が示されている。この工程では、正孔注入層１４０Ａを形成したのと同じように、ダミー画素ＰDにも同様の機能液Ｌ２を吐出する。なお、図１５（ａ）では、機能液Ｌ２を全てのダミー画素ＰDに吐出しているが、一部のダミー画素ＰDのみに吐出するものとしてもよい。
【０１２５】
機能液Ｌ２を吐出したら、機能液Ｌ２中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図１５（ｂ）に示すように、赤色有効画素ＰEの正孔注入層１４０Ａ上に固形の赤色の発光層１４０Ｂ（膜パターン）が形成され、これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。
【０１２６】
この際、ダミー領域ＴDに配置する機能液の量及び表面積が有効光学領域ＴEの中心部からの距離に応じて適切に制御されているので、有効光学領域ＴE全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。しかも、機能液Ｌ２が配置される正孔注入層１４０Ａの表面が良好に平坦化されているので、その上に形成される発光層１４０Ｂも良好な平坦性を持って形成され、より均一かつ良好な発光特性、信頼性を備えた発光層となる。
【０１２７】
全ての有効画素ＰEに発光層１４０Ｂを形成したら、図１５（ｃ）に示すように、基体Ｐの表面全体にＩＴＯ等からなる共通電極１５４を形成し、必要に応じて、共通電極１５４の表面に保護膜１５５を形成する。これにより、有機ＥＬ素子２００が完成する。
なお、ダミー画素ＰDには、赤色、緑色及び青色の３つの発光層形成材料が形成されることになるが、図１５（ｃ）では、これらを纏めて符号１４０Ｄで示している。
【０１２８】
本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法では、ダミー領域ＴDに保持される単位面積当たりの溶媒の量及び表面積を、有効光学領域ＴEの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、機能液の乾燥工程においてダミー領域ＴDにおける溶媒の蒸発速度を有効光学領域ＴEにおける溶媒の蒸発速度に近づけることができる。このため、有効光学領域ＴEの外周部と中央部とにおいて均一な膜厚の正孔注入層又は発光層を形成できるようになり、これにより、容易に素子特性（表示特性）にむらの少ない信頼性に優れた有機ＥＬ装置を提供することができる。
【０１２９】
［第３の実施の形態］
次に、本発明のデバイスの製造方法の一実施の形態として、本発明の膜パターンの形成方法をカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例について説明する。このカラーフィルタ基板は、例えば液晶表示パネルの色表示手段として好適に適用可能なものである。
【０１３０】
図１６は、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を示す概念図である。
このカラーフィルタ基板の製造方法では、ガラスやプラスチック等からなる基体Ｐ上に、前述の液滴吐出ヘッド２０を用いて複数のカラーフィルタＦ（ＦR，ＦG，ＦB）を形成する。生産性を向上させる観点から、基体Ｐとしてはガラスやプラスチック等からなる大面積の基板（大型基板）を用い、この大型基板Ｐ上に形成された複数のパネル領域ＴEの内部に、ドット状に配列した複数のカラーフィルタＦを形成する。
【０１３１】
パネル領域ＴEは、表示用のカラーフィルタＦが形成される領域であり、本発明の有効領域に相当するものである。大型基板Ｐにおいてパネル領域ＴEの外側の領域は、表示に寄与しないダミー領域（非有効領域）ＴDである。パネル領域ＴE及びダミー領域ＴDにはバンク（隔壁）Ｂが形成されており、バンクＢによって区画される各々の領域が本発明の液体受容部であり、これらの液体受容部のうち、パネル領域ＴEに配置された液体受容部が有効画素ＰEとなり、ダミー領域ＴDに配置された液体受容部がダミー画素ＰDとなる。カラーフィルタＦは、有効画素ＰEである液体受容部に、顔料等の微粒子着色材料を含む機能液を配置することにより形成される。
【０１３２】
各パネル領域ＴEは、後で大型基板Ｐを切断することにより、表示パネルに適合するカラーフィルタ基板として用いることができる。パネル領域ＴEには、赤色着色材料を含む赤色カラーフィルタＦR、緑色着色材料を含む緑色カラーフィルタＦG、及び青色着色材料を含む青色カラーフィルタＦBが設けられており、これらのカラーフィルタＦR，ＦG，ＦBは、例えば、図１６（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド２０を矢印Ａ１及び矢印Ａ２で示す方向に複数回主走査させながら、それらの主走査の間に、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、及び青色着色材料を含む機能液をそれぞれ複数のノズル８１から所定の有効画素ＰEに選択的に吐出することにより形成される。
【０１３３】
ここで、カラーフィルタ基板は、赤、緑、青の各色のカラーフィルタをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等の形態で配列することによって製造される。すなわち、図１６（ｂ）に示す液滴吐出ヘッド２０によるカラーフィルタＦの形成は、赤、緑、青のうちの１色だけを吐出する液滴吐出ヘッド２０を赤、緑、青の３色に対応して予め３種類用意しておき、これらの液滴吐出ヘッド２０を前記３色に対応して順繰りに用いて、１枚の大型基板Ｐ上に赤、緑、青の３色の配列を形成することによって行われる。
【０１３４】
図１７に具体的な製造工程を示す。
図１７には、パネル領域ＴEとダミー領域ＴDの境界部分が図示されている。パネル領域ＴEには、赤色カラーフィルタＦRが形成される赤色有効画素、緑色カラーフィルタＦGが形成される緑色有効画素、及び青色カラーフィルタＦBが形成される青色有効画素の３つの有効画素ＰEが示されている。
【０１３５】
まず、図１７（ａ）に示すように、大型基板Ｐの一方の面にバンクＢを形成する。
バンクＢは、カラーフィルタＦが形成される領域を仕切る仕切り部材として機能するものである。バンクＢは、パネル領域ＴE、及び該パネル領域ＴEの周辺の領域（非有効領域）に形成される。パネル領域ＴEに形成されるバンクＢは、表示パネルの画素パターンに対応する開口部を有している。本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、バンクＢによって区画された領域に着色材料を含む機能液が配置され、この機能液が乾燥することにより、大型基板Ｐ上にカラーフィルタ（膜パターン）Ｆが形成される。この場合、バンクＢによってカラーフィルタＦの形状が規定されることから、例えば隣接するバンクＢの幅を狭くするなど、バンクＢを適切に形成することにより、カラーフィルタＦの微細化が図られる。
【０１３６】
バンクＢの形成方法は、第２実施形態の有機バンク１５０の形成方法と同じである。すなわち、大型基板Ｐ上にアクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることにより、所望の形状のバンクＢを形成する。有機絶縁材料として透光性のない材料（例えば黒色樹脂）を用いた場合には、バンクＢをブラックマトリクスとして機能させることができる。バンクＢの表面には、必要に応じて撥液処理を施すことができる。
【０１３７】
図１６に示したように、ダミー画素ＰDのサイズ（バンクＢの開口部のサイズ）は、パネル領域ＴEの中心部Ｃからの距離Ｒ１，Ｒ２に応じて異なっており、中心部Ｃに最も近い領域Ｔ１ではダミー画素ＰDのサイズは最も小さく、中心部Ｃから離れるに従ってダミー画素ＰDのサイズは大きくなっている。すなわち、ダミー領域ＴDに保持される単位面積当たりの機能液の量及び表面積は、パネル領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくなるように構成されており、これにより、パネル領域全体で機能液の乾燥が均一に進行するものとされている。
【０１３８】
ダミー画素ＰDのサイズは、パネル領域ＴEの縁辺中央部から角部に向けて複数段階で変化しているものとされる。すなわち、パネル領域ＴEの縁辺に沿ってダミー画素ＰDのサイズが異なる複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が設けられており、それぞれの領域においてはダミー画素ＰDのサイズは一定であり、このように構成された前記複数の領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３が、ダミー画素ＰDのサイズが大きいものほどパネル領域ＴEの中心部から遠い領域に配置されたものとなっている。各領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３におけるダミー画素ＰDのサイズや、各領域Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３がダミー領域ＴD内に占める割合は、パネル領域内で機能液の乾燥速度が一定となる条件の範囲内で適切に定められる。
【０１３９】
なお、図１７では、バンクＢを有機物層からなる単層構造としたが、第１実施形態のバンクＢのように無機物層と有機物層の２層構造とすることも可能である。
【０１４０】
バンクＢを形成したら、図１７（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッドにより、着色材料を含む機能液ＬをバンクＢに区画された領域に選択的に吐出する。機能液Ｌは、顔料等の着色材料を溶媒に溶解ないし分散させたものである。
【０１４１】
機能液の吐出は、赤色着色材料を含む機能液、緑色着色材料を含む機能液、青色着色材料を含む機能液を、それぞれ対応する有効画素ＰEに吐出することにより行う。
【０１４２】
図１７（ｂ）では、赤色有効画素に機能液Ｌを吐出する工程が示されている。この工程では、ダミー画素ＰDにも同様の機能液Ｌを吐出する。なお、図１７（ｂ）では、機能液Ｌを全てのダミー画素ＰDに吐出しているが、一部のダミー画素ＰDのみに吐出するものとしてもよい。
【０１４３】
ダミー画素ＰDに吐出する機能液Ｌの量（特に溶媒の量）は、有効光学領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど多くする。係る領域では液滴の乾燥速度が速いため、吐出する溶媒の量を全てのダミー画素ＰDで同一とすると、有効光学領域ＴEの角部で乾燥時間にばらつきが生じ、均一な乾燥が行えなくなるからである。本実施形態においては、ダミー画素ＰDのサイズを、パネル領域ＴEの中心部Ｃから遠い領域ほど大きくしているので、中心部Ｃから離れたダミー画素ＰDにおいても、吐出した機能液ＬがバンクＢの開口部から溢れる等の不具合は生じない。
【０１４４】
機能液Ｌを吐出したら、機能液Ｌ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図１７（ｃ）に示すように、赤色有効画素ＰEに固形の赤色のカラーフィルタＦRが形成される。この際、ダミー領域ＴDに配置する機能液の量及び表面積がパネル領域ＴEの中心部Ｃからの距離に応じて適切に制御されているので、パネル領域ＴE全体で乾燥速度が均一になり、膜厚及び膜質が均一なものとなる。
【０１４５】
赤色有効画素に赤色カラーフィルタＦRを形成したら、同様の手順で、緑色有効画素に緑色カラーフィルタＦGを形成し、さらに青色有効画素に青色カラーフィルタＦBを形成する。図１７（ｄ）は、全ての有効画素ＰEにカラーフィルタを形成した状態を示している。なお、ダミー画素ＰDには、赤色、緑色及び青色の３つの着色材料が形成されることになるが、図１７（ｄ）では、これらを纏めて符号ＦDで示している。
【０１４６】
全ての有効画素ＰEにカラーフィルタＦが形成されたら、必要に応じてカラーフィルタＦの表面に保護膜を形成する。
その後、大型基板Ｐをパネル領域ＴE，ＴEの間に設けたスクライブラインに沿って切断し、個々のカラーフィルタ基板を得る。これにより、カラーフィルタ基板が完成する。  
【０１４７】
本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法では、ダミー領域ＴDに保持される単位面積当たりの機能液の量をパネル領域ＴEの中心部から遠い領域ほど大きくしているので、パネル領域ＴEの外周部と中央部において乾燥速度にばらつきが生じることがなく、パネル領域全体にわたって均一な膜厚のカラーフィルタＦを形成することができる。このため、色むらが少なく、表示特性に優れたカラーフィルタ基板を提供することが可能である。また、カラーフィルタＦを平坦に形成することができるので、この上に電極を形成する場合には、断線等が生じにくい、信頼性に優れたカラーフィルタ基板となる。
【０１４８】
［実施例］
次に、本発明の膜パターンの形成方法の実施例について説明する。
図１８は、サンプル基板Ｐに形成した有効画素ＰE及びダミー画素ＰDの配置を示す平面模式図である。図１８（ａ）は、ダミー画素ＰDへの機能液（特に溶媒）の吐出量を有効領域ＴEの縁辺中央部から角部に向けて３段階で変化させた場合の模式図（サンプル１）、図１８（ｂ）は、機能液の吐出量を有効領域ＴEの縁辺中央部と角部の２段階で変化させた場合の模式図（サンプル２）、図１８（ｃ）は、機能液の吐出量を有効画素ＰEと同じ量とした場合の模式図（サンプル３）である。いずれのサンプルにおいても、有効画素の形状、サイズ及びピッチとダミー画素の形状、サイズ及びピッチは、同じものとされている。
【０１４９】
サンプル１では、ダミー画素ＰDに吐出される機能液の量は、有効領域ＴEの縁辺中央部から角部に向けて３段階で変化している。有効領域ＴEの中心部Ｃに近い領域Ｔ１では、１ダミー画素ＰD内に吐出される機能液の量は５０ｎｇであり、有効領域ＴEの中心部Ｃから最も遠い領域Ｔ３では、１ダミー画素ＰD内に吐出される機能液の量は１２０ｎｇである。また、領域Ｔ１と領域Ｔ３の中間の領域Ｔ２では、１ダミー画素ＰD内に吐出される機能液の量は８０ｎｇである。なお、有効画素ＰEに吐出される機能液の量は、領域Ｔ１のダミー画素ＰDに吐出される機能液の量と同じである。
【０１５０】
サンプル２では、ダミー画素ＰDに吐出される機能液の量は、有効領域ＴEの縁辺中央部から角部に向けて２段階で変化している。有効領域ＴEの中心部Ｃに近い領域Ｔ１では、１ダミー画素ＰD内に吐出される機能液の量は５０ｎｇであり、それ以外の領域Ｔ２では、１ダミー画素ＰD内に吐出される機能液の量は８０ｎｇである。なお、有効画素ＰEに吐出される機能液の量は、領域Ｔ１のダミー画素ＰDに吐出される機能液の量と同じである。
【０１５１】
サンプル３では、ダミー画素ＰDに吐出される機能液の量は、有効画素ＰEに吐出される機能液の量と同じ量とされている。この構成は、従来用いられてきた構成と同じである。
【０１５２】
本実施例では、サンプル１〜３の有効画素ＰE及びダミー画素ＰDに機能液を吐出し、これを乾燥することによって、有効領域内に膜パターンを形成する。使用する機能液は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを水（蒸気圧：２３３８Ｐａ、２０℃）及びジエチレングリコール（蒸気圧：１．３Ｐａ、２０℃）の混合溶媒に溶解させたものである。機能液の乾燥は、減圧槽内で圧力を管理した状態で行う。
【０１５３】
前述したサンプル１及びサンプル２におけるダミー画素ＰDの吐出量は、有効領域ＴEの中央部と角部における機能液の乾燥時間の差が十分に小さくなるような条件として規定されたものである。
【０１５４】
図１９は、有効領域ＴE内での膜厚の不均一性を示す図であり、図１９（ａ）、図１９（ｂ）、図１９（ｃ）は、それぞれサンプル１、サンプル２、サンプル３に対応している。図１９（ａ）〜図１９（ｃ）の横軸は、有効領域ＴEの中心部Ｃからの距離を示しており、縦軸は、１有効画素内での膜厚の不均一性を示している。膜厚の不均一性は、１有効画素内で最も膜厚が大きい部分と最も膜厚が薄い部分との膜厚差によって測定している。なお、縦軸の単位はオングストローム（Å）である。
【０１５５】
図１９に示すように、サンプル３においては、有効領域ＴEの長軸側の端部において大きな膜厚の不均一性が生じており、単にダミー領域ＴDを設けるのみでは、十分に膜厚むらを解消できないことがわかる。一方、サンプル２では、このような端部における膜厚の不均一性は小さくなっており、ダミーの機能液の吐出量を有効領域ＴEの中央部と端部で変えることが、有効領域ＴE内での膜厚均一性を改善する上で効果的であることがわかる。特に、サンプル３においては有効領域ＴE内での膜厚不均一性は殆ど生じておらず、ダミーの機能液の吐出量が３段階以上で調節されれば、概ね均一な膜厚のパターンが形成できることがわかる。
【０１５６】
［電子機器］
次に、本発明の電子機器の具体例について説明する。
図２０は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図２０において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は上記実施形態の有機ＥＬ装置又はカラーフィルタ基板を備えた表示部を示している。
図２０に示す電子機器は、上述した本発明の膜パターンの形成方法により形成された膜パターンを備えたものであるので、高い表示品質や高い性能が得られるものとなる。
なお、本発明の有機ＥＬ装置、カラーフィルタ基板等のデバイスは、前述した携帯電話機に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等がある。
【０１５７】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【０１５８】
また、上記実施形態では、本発明の膜パターンの形成方法を有機ＥＬ装置の製造方法やカラーフィルタ基板の製造方法に適用した例を示したが、本発明はこれに限らず、所定の領域内に複数の膜パターンを備えるデバイスの製造方法に適用することができる。上述の有機ＥＬ装置の例では、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂだけでなく、画素電極１４１のパターニングに本発明を適用することも可能である。また、データ線１３２、走査線１３１又は電源線１３３を含む各種の配線の形成や、フレキシブル基板７５と基体Ｐとを接続する複数の端子電極の形成にも、本発明の膜パターンの形成方法を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５９】
【図１】本発明の膜パターンの形成方法を示す概念図である。
【図２】機能液を配置する手段の一例である液滴吐出ヘッドの分解斜視図である。
【図３】同液滴吐出ヘッドの要部を示す部分斜視図である。
【図４】ダミー領域を含む基体の平面図である。
【図５】同膜パターンの形成工程の一例を示す工程図である。
【図６】ダミー画素の他の構成を示す平面図である。
【図７】ダミー画素に機能液を配置した状態を示す断面図である。
【図８】ダミー画素のさらに他の構成を示す平面図である。
【図９】ダミー画素に機能液を配置した状態を示す断面図である。
【図１０】本発明のデバイスの一例である有機ＥＬ装置の等価回路図である。
【図１１】同有機ＥＬ装置の全体構成を示す平面図である。
【図１２】同有機ＥＬ装置の１画素の構成を示す平面図である。
【図１３】図１２のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図１４】同有機ＥＬ装置の製造工程の一例を示す工程図である。
【図１５】図１４に続く工程図である。
【図１６】本発明のデバイスの一例であるカラーフィルタ基板の製造方法を示す概念図である。
【図１７】同カラーフィルタ基板の製造工程の一例を示す工程図である。
【図１８】実施例に係るサンプル基板の平面図である。
【図１９】同機能液を乾燥して得られた膜パターンのプロファイルを示す図である。
【図２０】本発明の膜パターンを備えた電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１６０】
７０…有機エレクトロルミネッセンス装置（デバイス）、１４０Ａ…正孔注入層（膜パターン）、１４０Ｂ…発光層（膜パターン）、Ｂ…隔壁、Ｆ…膜パターン、Ｌ，Ｌ１，Ｌ２…機能液、Ｐ…基体、ＰE…有効画素（液体受容部）、ＰD…ダミー画素（液体受容部）、ＴE…有効領域、ＴD…非有効領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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