(57)【要約】【課題】種々の被写体に対して高精度の合焦制御を実現することができる技術を提供する。【解決手段】本撮影前のコントラストＡＦ制御において、ＡＦ回路６００に備えられた相互に周波数特性が異なるハイパスフィルタ６０１、及びバンドパスフィルタ６０２〜６０４のうち、ハイパスフィルタ６０１を用いて取得されたＡＦ評価値を最優先に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。このように、一般的な被写体を撮影する際に画像データにおいて増加する高周波帯域の成分を重視して抽出するＨＰＦ６０１を優先的に使用するように設定されているため、種々の被写体に対して高精度の合焦制御を行うことができる。【選択図】図６
2007192859.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置の合焦制御を行う合焦制御装置であって、
光学レンズを光軸に沿って駆動させている間に、当該光学レンズを介して入射される被写体からの光に基づいて複数の画像データを時間順次に取得する画像取得手段と、
前記複数の画像データを相互に周波数特性が異なる複数のフィルタを用いてそれぞれ処理して、前記複数のフィルタを構成するフィルタ毎に評価値群を取得する評価値取得手段と、
前記評価値取得手段において前記複数のフィルタのうちの所定のフィルタを用いた処理によって取得された評価値群を、前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタを用いた処理によって取得された評価値群よりも優先的に用いて、前記光学レンズの合焦位置を検出する合焦検出手段と、
を備えることを特徴とする合焦制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載の合焦制御装置であって、
前記所定のフィルタが、
前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタよりも相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有することを特徴とする合焦制御装置。
【請求項３】
請求項１に記載の合焦制御装置であって、
前記合焦検出手段が、
前記複数のフィルタのうちの相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有するフィルタによって取得された評価値群を優先的に用いて、前記合焦位置を検出することを特徴とする合焦制御装置。
【請求項４】
請求項１に記載の合焦制御装置であって、
前記所定のフィルタが、
前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタよりも相対的に所定の周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有することを特徴とする合焦制御装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の合焦制御装置であって、
位相差方式を用いて前記光学レンズの合焦位置を検出する位相差検出手段と、
前記被写体からの光を、前記合焦検出手段及び前記位相差検出手段に対してそれぞれ導く第１及び第２の光路に分割する光分割手段と、
を更に備え、
前記位相差検出手段を用いた合焦制御と、前記合焦検出手段を用いた合焦制御とが並行して実行されることを特徴とする合焦制御装置。
【請求項６】
請求項５に記載の合焦制御装置であって、
前記合焦検出手段が、
前記位相差検出手段に係る合焦面とは相対的に異なる光学的な位置に合焦面を有し、
前記合焦制御装置が、
前記位相差検出手段を用いた合焦制御の開始後に、前記合焦検出手段を用いた合焦制御を開始するタイミング制御手段、
を更に備えることを特徴とする合焦制御装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の合焦制御装置を搭載したことを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合焦制御技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、銀塩カメラ等の撮像装置で実施されるオートフォーカス（ＡＦ）制御としては、いわゆる位相差方式を採用したものが多かった。しかし、この位相差方式のＡＦ制御は、特に小さなＦナンバーでの撮影においては、精度が良くないことが知られている。
【０００３】
一方、近年では、デジタルカメラの登場とともに、いわゆるコントラスト方式（山登り方式）のＡＦ制御が採用された撮像装置が広く普及している。そして、一般に、コントラスト方式のＡＦ制御の方が、位相差方式のＡＦ制御よりもＡＦ精度が高いことが知られている。
【０００４】
そこで、位相差方式とコントラスト方式のＡＦ制御を併用することで、ＡＦ精度の向上を図ることが考えられる。
【０００５】
ところで、コントラスト方式のＡＦ制御では、より高い周波数成分が多くなれば被写体画像が鮮鋭であると感じる人間の視覚特性に基づいて、ハイパスフィルタ等を用いて抽出された高周波成分を評価値として用いるのが一般的である。
【０００６】
しかし、撮影レンズによっては、被写体画像データから抽出される周波数帯域毎におけるＭＴＦ（Modulation Transfer Function）のピーク特性が異なるために、周波数帯域毎における評価値のピーク位置がずれてしまうことがある。例えば、図２０に示すように、ナイキスト周波数ｆｎの０．１倍（０．１ｆｎ）、０．３倍（０．３ｆｎ）、及び０．４倍（０．４ｆｎ）の３つの周波数について、ＭＴＦが最大となる像面位置がそれぞれ異なることがある。したがって、幅広い高周波帯域の成分を抽出する一般的なハイパスフィルタを用いると、周波数帯域毎におけるＭＴＦのずれに起因して、高周波成分を用いた評価値のピークが分散して、ピーク検出ができなくなり、フォーカスレンズの合焦位置が検出し難くなることがある。
【０００７】
また、被写体によっては、コントラストが比較的低く、画像に含まれる高周波成分が比較的少ない場合もある。このような場合には、低周波成分（０．１ｆｎ）でピーク検出してしまい、視覚特性にマッチした高周波ピーク（０．３ｆｎ以上）でズレが生じ、被写体に対して適正に合焦させることが難しい。
【０００８】
以上の問題点に対して、相互に周波数特性が異なる複数のフィルタを用いて、被写体画像から相互に異なる複数の周波数帯域の成分を抽出してＡＦ制御を行うことが考えられるが、どの周波数成分を用いてＡＦ制御を行うのか決定することは難しい。
【０００９】
このような問題に対し、相互に異なる複数の高周波帯域別の評価値に基づいて、それぞれ合焦位置までのフォーカスレンズの移動すべき距離（移動距離）を算出し、複数の移動距離と複数の高周波帯域を変数とするメンバーシップ関数とから複数の適合度を決定して、フォーカスレンズの移動距離を決定する技術が提案されている（例えば、特許文献１）。
【００１０】
【特許文献１】特開平０５−３０８５５６号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１で提案されている技術では、メンバーシップ関数を決定することが難しく、精度の高いＡＦ制御を行うことは困難である。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、種々の被写体に対して高精度の合焦制御を実現することができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明は、撮像装置の合焦制御を行う合焦制御装置であって、光学レンズを光軸に沿って駆動させている間に、当該光学レンズを介して入射される被写体からの光に基づいて複数の画像データを時間順次に取得する画像取得手段と、前記複数の画像データを相互に周波数特性が異なる複数のフィルタを用いてそれぞれ処理して、前記複数のフィルタを構成するフィルタ毎に評価値群を取得する評価値取得手段と、前記評価値取得手段において前記複数のフィルタのうちの所定のフィルタを用いた処理によって取得された評価値群を、前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタを用いた処理によって取得された評価値群よりも優先的に用いて、前記光学レンズの合焦位置を検出する合焦検出手段とを備えることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載の合焦制御装置であって、前記所定のフィルタが、前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタよりも相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項３の発明は、請求項１に記載の合焦制御装置であって、前記合焦検出手段が、前記複数のフィルタのうちの相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有するフィルタによって取得された評価値群を優先的に用いて、前記合焦位置を検出することを特徴とする。
【００１６】
また、請求項４の発明は、請求項１に記載の合焦制御装置であって、前記所定のフィルタが、前記複数のフィルタのうちの前記所定のフィルタとは異なる他のフィルタよりも相対的に所定の周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有することを特徴とする。
【００１７】
また、請求項５の発明は、請求項１から請求項４のいずれかに記載の合焦制御装置であって、位相差方式を用いて前記光学レンズの合焦位置を検出する位相差検出手段と、前記被写体からの光を、前記合焦検出手段及び前記位相差検出手段に対してそれぞれ導く第１及び第２の光路に分割する光分割手段とを更に備え、前記位相差検出手段を用いた合焦制御と、前記合焦検出手段を用いた合焦制御とが並行して実行されることを特徴とする。
【００１８】
また、請求項６の発明は、請求項５に記載の合焦制御装置であって、前記合焦検出手段が、前記位相差検出手段に係る合焦面とは相対的に異なる光学的な位置に合焦面を有し、前記合焦制御装置が、前記位相差検出手段を用いた合焦制御の開始後に、前記合焦検出手段を用いた合焦制御を開始するタイミング制御手段を更に備えることを特徴とする。
【００１９】
また、請求項７の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の合焦制御装置を搭載したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に記載の発明によれば、複数のフィルタのうちの所定のフィルタを用いて取得された評価値を優先的に使用して光学レンズの合焦位置を検出することで、例えば、一般的な被写体を撮影する際に高まる周波数を重視して抽出する所定のフィルタを優先的に使用するように設定すれば、種々の被写体に対して高精度の合焦制御を実現することができる。
【００２１】
また、請求項２及び請求項３のいずれに記載の発明によっても、複数のフィルタのうちの相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有する所定のフィルタを用いて取得された評価値を優先的に使用して、光学レンズの合焦位置を検出することで、例えば、より高い周波数成分が多くなれば被写体画像が鮮鋭であると感じる人間の視覚特性に対応した合焦制御が可能となるため、高精度の合焦制御ができる。
【００２２】
また、請求項４に記載の発明によれば、複数のフィルタのうちの他のフィルタよりも相対的に所定の周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有する所定のフィルタを用いて取得された評価値を優先的に使用して、光学レンズの合焦位置を検出することで、例えば、一般的な被写体を捉えた画像が合焦状態にある場合に増加する所定の高周波帯域の成分を重視した合焦制御が可能となるため、高精度の合焦制御ができる。
【００２３】
また、請求項５に記載の発明によれば、被写体からの光を２つの光路に分割して、分割された各光を用いて位相差方式の合焦制御とコントラスト方式の合焦制御とを並行して実施することで、例えば、位相差方式の合焦制御によって光学レンズを合焦位置近傍まで短時間で駆動させるとともに、コントラスト方式の合焦制御によって合焦制御の精度を確保することができるため、高速かつ精度の良い合焦制御が可能となる。
【００２４】
また、請求項６に記載の発明によれば、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出に係る合焦面の光学的な位置を相互に異ならせ、位相差方式の合焦制御の開始後に、コントラスト方式の合焦制御が開始される構成により、同時に２つの合焦制御が行われ、位相差方式の合焦制御による合焦状態の実現前に、コントラスト方式の合焦制御によってフォーカスレンズのレンズ合焦位置を検出することができるため、高速かつ高精度の合焦制御を実現することができる。また、例えば、フォーカスレンズを逆向きに移動させることなく合焦制御を行うことができるため、バックラッシュの問題の発生を防止することができる。更に、例えば、ファインダ等を介して視認される被写体が、ぼけた状態から合焦状態へとスムーズに変化するような合焦制御を行うことができるため、合焦フィーリングを向上させることができる。
【００２５】
また、請求項７に記載の発明によれば、請求項１から請求項６に記載の発明と同様な効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２７】
＜撮像装置の概要＞
図１は、本発明の実施形態に係る撮像装置１の概略構成を示す断面模式図である。
【００２８】
図１に示すように、撮像装置１は、いわゆる一眼レフ方式のデジタルカメラとして構成され、被写体からの光を撮影レンズユニット２を介して撮像装置本体３００に導くことで、被写体に係る撮影画像データ（撮影画像）を得ることができる。撮像装置本体３００には、撮像装置１においてオートフォーカス（ＡＦ）制御を行うためのユニット（以下「ＡＦ制御ユニット」とも「合焦制御装置」とも称する）１００が搭載されている。また、撮影レンズユニット２には、撮影レンズユニット２の光軸Ｌ上において、ＡＦ制御を実現するためのレンズ（フォーカスレンズ）を含む複数の撮影レンズからなるレンズ群が配設される。
【００２９】
図２は、撮像装置１の構成うちのＡＦ制御ユニット１００に係る構成に着目した模式図である。
【００３０】
ＡＦ制御ユニット１００は、主に、主ミラー１０、サブミラー２０、シャッター機構４、撮像素子であるＣ−ＭＯＳセンサ（以下「Ｃ−ＭＯＳ」と略する）５、及び位相差ＡＦモジュール３を備えて構成される。
【００３１】
主ミラー１０は、ハーフミラーにより構成され、被写体からの光の一部を撮像装置本体３００の上部に向けて反射することで反射光（以下「第１反射光」とも称する）をファインダー光学系に導く。具体的には、主ミラー１０は、被写体からの光を反射することで、ファインダー焦点板６に被写体像を投影する。この被写体像はペンタプリズム７によって正立像化され、接眼レンズ８を介してユーザーが被写体像の状況を確認することができる。また、主ミラー１０は、サブミラー２０に向けて被写体からの光の一部を透過させる。
【００３２】
サブミラー２０は、ハーフミラーにより構成され、被写体からの光のうち、主ミラー１０を透過した光（以下「第１透過光」とも称する）を撮像装置本体３００の下部に向けて反射することで、位相差ＡＦモジュール３に導く。その一方で、サブミラー２０は、Ｃ−ＭＯＳ５に向けて第１透過光の一部を透過させる。つまり、サブミラー２０は、被写体からの光を位相差ＡＦモジュール３とＣ−ＭＯＳ５とにそれぞれ導く２つの光路に分割する（分岐させる）。
【００３３】
位相差ＡＦモジュール３は、位相差方式を用いた合焦検出を行うユニットである。位相差ＡＦモジュール３は、コンデンサーレンズ３ａ、ミラー３ｂ、セパレータレンズ３ｃ、及び位相差検出用素子３ｄを備える。
【００３４】
コンデンサーレンズ３ａは、サブミラー２０によって反射された光（以下「第２反射光」とも称する）を位相差ＡＦモジュール３内部に導く。ミラー３ｂは、第２反射光をセパレータレンズ３ｃ側に向けて屈曲させる。セパレータレンズ３ｃは、位相差の検出を行う為の瞳分割用のレンズであり、第２反射光を瞳分割して、位相差検出用素子３ｄに投影させる。
【００３５】
図３から図５は、位相差方式の合焦制御の原理を説明するための図である。位相差方式の合焦制御では、図３から図５に示すように、合焦させたい被写体の表面（被写体面）ＰＰから発せられた光ＦＦを、撮影レンズユニット２、コンデンサーレンズ３ａ、及びセパレータレンズ３ｃを介して、位相差検出用素子３ｄに導く。このとき位相差検出用素子３ｄで検出される２つの被写体像の位相差、すなわち像間隔の変位量を測定してデフォーカス量を求める。ここでは、後述する撮像ホーム位置に設定されたＣ−ＭＯＳ５の撮像面と等価な面（以下「撮像等価面」とも称する）ＦＰで合焦するようにデフォーカス量が求められる。つまり、撮像等価面ＦＰは、位相差方式のＡＦ制御（位相差ＡＦ制御）によって合焦状態の被写体像が結像される面（以下「第１合焦面」とも称する）として構成される。
【００３６】
なお、例えば、図３に示すように被写体に対して合焦している場合には、像間隔が位相差ＡＦモジュール３の設計時に決められた所定値となるが、図４に示すように前ピンなら像間隔が狭くなり、図５に示すように後ピンであれば像間隔が広くなる。
【００３７】
シャッター機構４は、サブミラー２０を透過した光（以下「第２透過光」とも称する）の光路を開放／遮断することが可能であり、光路を開放することで、第２透過光をＣ−ＭＯＳ５上に照射させ、被写体像をＣ−ＭＯＳ５上に投影させる。
【００３８】
Ｃ−ＭＯＳ５は、被写体からの光のうちの第２透過光を受け付けることで画像信号を得る。Ｃ−ＭＯＳ５によって得られる画像信号は、記録用の撮影画像データを生成するために使用される一方、記録用の撮影画像データを取得する動作（本撮影動作）前に、いわゆるコントラスト方式のＡＦ制御（コントラストＡＦ制御）を行うためにも使用される。Ｃ−ＭＯＳ５の受光面（撮像面）は、コントラストＡＦ制御によって合焦状態の被写体像が結像される面（以下「第２合焦面」とも称する）として構成される。
【００３９】
また、Ｃ−ＭＯＳ５は、撮像装置本体３００に対して移動可能に保持されているため、第２透過光の光軸Ｌに沿って前後に移動可能である。このＣ−ＭＯＳ５の前後移動により、第１合焦面の光学的な位置に対して第２合焦面の光学的な位置が相互に異なる位置へと設定される。
【００４０】
なお、ここで言う「光学的な位置が相互に異なる」とは、第１合焦面において被写体像が合焦状態となるときに、第２合焦面において被写体像が合焦状態にはならないことを示しており、更に、第２合焦面において被写体像が合焦状態となるときに、第１合焦面において被写体像が合焦状態にはならないことを示している。
【００４１】
＜撮像装置の機能構成＞
図６は、本発明の第１実施形態に係る撮像装置１の機能構成を例示するブロック図である。
【００４２】
図６に示すように、撮像装置１は、撮影レンズユニット２、位相差ＡＦモジュール３、Ｃ−ＭＯＳ５、ミラー機構１０ａ、サブミラー機構２０ａ、制御部１０１、レンズ位置検出部２０１、操作部ＯＰ、Ｃ−ＭＯＳ移動制御部１５０、フォーカス制御部１３０、信号処理回路５００、及びＡＦ回路６００等を備える。
【００４３】
撮影レンズユニット２は、Ｃ−ＭＯＳ５で取得される画像信号において被写体が合焦状態となるような合焦状態を実現するための光学レンズ（フォーカスレンズ）２ａ等を備える。フォーカスレンズ２ａは、レンズの光軸に沿って前後に移動可能であり、フォーカス制御部１３０からの制御信号に応答してモータＭ１が駆動することで、フォーカスレンズ２ａのレンズ位置が移動される。フォーカス制御部１３０は、制御部１０１から入力される制御信号に基づいて制御信号を生成する。また、フォーカスレンズ２ａの位置は、レンズ位置検出部２０１によって検出され、フォーカスレンズ２ａの位置を示すデータが制御部１０１に送られる。
【００４４】
ミラー機構１０ａは、被写体からの光の経路（光路）から退避可能な主ミラー１０を含む機構であり、ミラー制御部１１０からの制御信号に応答してモータＭ２が駆動することで、主ミラー１０が光路から退避した状態（ミラーアップ状態）または光路を遮断した状態（ミラーダウン状態）に設定される。ミラー制御部１１０は、制御部１０１から入力される信号に基づいて制御信号を生成する。
【００４５】
サブミラー機構２０ａは、被写体からの光の経路から退避可能なサブミラー２０を含む機構であり、サブミラー制御部１２０からの制御信号に応答してモータＭ５が駆動することで、サブミラー２０が光路から退避した状態（ミラーアップ状態）または光路を遮断した状態（ミラーダウン状態）に設定される。サブミラー制御部１２０は、制御部１０１から入力される信号に基づいて制御信号を生成する。
【００４６】
シャッター機構４は、被写体からの光の経路を遮断／開放可能な機構であり、シャッタ制御部１４０からの制御信号に応答してモータＭ３が駆動することで、シャッター機構４が開閉する。シャッタ制御部１４０は、制御部１０１から入力される信号に基づいて制御信号を生成する。
【００４７】
Ｃ−ＭＯＳ５は、撮像（光電変換）を行い、撮像画像に係る画像信号を生成する。Ｃ−ＭＯＳ５は、タイミング制御回路１７０から入力される駆動制御信号（蓄積開始信号・蓄積終了信号）に応答して、受光面に結像された被写体像の露光（光電変換による電荷蓄積）を行い、当該被写体像に係る画像信号を生成する。
【００４８】
更に、Ｃ−ＭＯＳ５は、タイミング制御回路１７０から入力される読出制御信号に応答して、当該画像信号を信号処理部５１へ出力する。タイミング制御回路１７０は、制御部１０１から入力される信号に基づいて各種制御信号を生成する。また、タイミング制御回路１７０からのタイミング信号（同期信号）は、信号処理部５１及びＡ／Ｄ変換回路５２に入力される。
【００４９】
また、Ｃ−ＭＯＳ５は、Ｃ−ＭＯＳ駆動機構５ａによって被写体からの光の光軸に沿って前後に移動する。Ｃ−ＭＯＳ駆動機構５ａは、Ｃ−ＭＯＳ移動制御部１５０からの制御信号に応答してモータＭ４が駆動することで、Ｃ−ＭＯＳ５を、被写体からの光の光軸に沿って前後に移動する。Ｃ−ＭＯＳ移動制御部１５０は、制御部１０１から入力される信号に基づいて制御信号を生成する。
【００５０】
信号処理部５１は、Ｃ−ＭＯＳ５から与えられる画像信号に所定のアナログ信号処理を行い、処理後の画像信号はＡ／Ｄ変換回路５２によってデジタル画像データ（画像データ）に変換される。この画像データは、信号処理回路５００に入力されるとともに、コントラストＡＦ制御のためにＡＦ回路６００に対しても適時与えられる。
【００５１】
信号処理回路５００は、Ａ／Ｄ変換回路５２から入力される画像データに対してデジタル信号処理を行い、撮像画像に係る画像データを生成する。信号処理回路５００における信号処理は、画像信号を構成する画素信号ごとに行われる。信号処理回路５００は、黒レベル補正回路５３、ホワイトバランス（ＷＢ）回路５４、γ補正回路５５及び画像メモリ５６を備える。これらの構成のうち、黒レベル補正回路５３、ホワイトバランス（ＷＢ）回路５４およびγ補正回路５５は、デジタル信号処理を行う。
【００５２】
黒レベル補正回路５３は、Ａ／Ｄ変換回路５２が出力した画像データを構成する各画素データの黒レベルを基準の黒レベルに補正する。ＷＢ回路５４は、画像のホワイトバランス調整を行う。γ補正回路５５は、撮像画像の階調変換を行う。画像メモリ５６は、生成された画像データを一時的に記憶するための、高速アクセス可能な画像メモリであり、複数フレーム分の画像データを記憶可能な容量を有する。
【００５３】
ＡＦ回路６００は、コントラストＡＦ制御を行う際に、Ａ／Ｄ変換回路５２から、画像データの一部の領域（ＡＦエリア）に係る画像データを取得し、当該画像データから所定の周波数帯域の成分を抽出して、当該抽出した成分の総和を被写体の合焦状態を評価する値（ＡＦ評価値）として算出する。ＡＦ回路６００で算出されたＡＦ評価値は、制御部１０１に出力される。
【００５４】
図７は、ＡＦ回路６００の主な機能構成を例示するブロック図である。
【００５５】
図７に示すように、ＡＦ回路６００は、相互に周波数特性が異なる４つのフィルタ６０１〜６０４を有しており、各フィルタ６０１〜６０４の周波数特性を図８に示している。
【００５６】
図８では、横軸が周波数、縦軸がゲインを示しており、曲線Ｆ１〜Ｆ４が各フィルタ６０１〜６０４の周波数特性をそれぞれ示している。図８中に記載されたｆｎは、ナイキスト周波数（Nyquist frequency）、すなわち、サンプリング周波数の半分の周波数を示しており、ｆｎ以上の高い周波数は原理的に再現不可能な限界周波数となる。なお、ここでは、撮像素子の全画素によって得られる画像の画素間隔を１周期としたサンプリング周波数を採用しているため、２画素分の間隔を１周期とする周波数をナイキスト周波数ｆｎとしている。
【００５７】
フィルタ６０１は、曲線Ｆ１で示すように、幅広い高周波帯域の成分を抽出（透過）する一般的なハイパスフィルタ（以下「ＨＰＦ」とも称する）である。また、フィルタ６０２は、曲線Ｆ２で示すように、０．４ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）するバンドパスフィルタ（以下「ＢＰＦ（０．４ｆｎ）」とも称する）である。また、フィルタ６０３は、曲線Ｆ３で示すように、０．３ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）するバンドパスフィルタ（以下「ＢＰＦ（０．３ｆｎ）」とも称する）である。更に、フィルタ６０４は、曲線Ｆ４で示すように、０．１ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）するバンドパスフィルタ（以下「ＢＰＦ（０．１ｆｎ）」とも称する）である。
【００５８】
図９は、Ａ／Ｄ変換回路５２からＡＦ回路６００に出力される画像データの空間周波数の分布（出力分布）を例示した図である。図９では、横軸が周波数、縦軸が出力を示しており、曲線Ｃｖ１，Ｃｖ２が画像データの空間周波数の出力分布を示している。なお、一般的な撮影では、輪郭が明確な被写体が増加すると、設定にもよるが、曲線Ｃｖ１，Ｃｖ２に示すように、０．２ｆｎ〜０．４ｆｎ付近の高周波成分の出力が増加する。
【００５９】
各フィルタ６０１〜６０４では、図９で示すような画像データの空間周波数の出力に対して図８で示す周波数特性が各々乗ぜられて出力される。そして、各評価値演算部６１１〜６１４において、各フィルタ６０１〜６０４からの出力に基づき、それぞれＡＦ評価値を算出する。よって、ＡＦ回路６００では、１つの画像データについて、相互に周波数特性が異なる４つのフィルタ６０１〜６０４を用いて処理するとともに、評価値演算部６１１〜６１４によって４つの異なる周波数帯域に着目したＡＦ評価値がそれぞれ取得される。
【００６０】
また、コントラストＡＦ制御を行う際には、フォーカスレンズ２ａをレンズの光軸に沿って前後に移動させつつ、Ｃ−ＭＯＳ５等を用いて複数の画像データが取得され、ＡＦ回路６００において、フィルタ６０１〜６０４毎に、対応する複数のＡＦ評価値（ＡＦ評価値群）が取得される。つまり、４つのフィルタ６０１〜６０４にそれぞれ対応する４つのＡＦ評価値群がほぼ並行して取得される。
【００６１】
換言すれば、ＨＰＦ６０１を用いて幅広い高周波帯域の成分を重視して求められたＡＦ評価値群と、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２を用いて０．４ｆｎ付近の周波数帯域の成分を重視して求められた複数のＡＦ評価値群と、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３を用いて０．３ｆｎ付近の周波数帯域の成分を重視して求められた複数のＡＦ評価値群と、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４を用いて０．１ｆｎ付近の周波数帯域の成分を重視して求められた複数のＡＦ評価値群とが略同時に取得可能に構成される。
【００６２】
制御部１０１は、主にＣＰＵ、メモリ、及びＲＯＭ等を備えて構成され、ＲＯＭ内に格納されるプログラムを読み出してＣＰＵで実行することで、各種機能や制御が実現される。具体的には、制御部１０１は、コントラストＡＦ制御を実行するための機能として、コントラストＡＦ制御部１０５を有し、位相差ＡＦ制御を実行するための機能として、位相差ＡＦ制御部１０６を有し、ＡＦ制御全体を統括制御する機能として、ＡＦ全体制御部１０７を有している。
【００６３】
コントラストＡＦ制御部１０５は、コントラストＡＦ制御を行う際に、ＡＦ回路６００から入力される複数のＡＦ評価値群のうち、所定のルールに従って優先されるＡＦ評価値群について、ＡＦ評価値が最大となるフォーカスレンズ２ａのレンズ位置を被写体の合焦状態が実現される位置（レンズ合焦位置）として求める。また、コントラストＡＦ制御部１０５は、求められたレンズ合焦位置に応じた制御信号をフォーカス制御部１３０に対して出力し、フォーカスレンズ２ａをレンズ合焦位置へ移動させる。
【００６４】
位相差ＡＦ制御部１０６は、位相差ＡＦ制御を行う際に、位相差ＡＦモジュール３における検出結果に基づいて、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。そして、位相差ＡＦ制御部１０６は、適宜求められたレンズ合焦位置に応じた制御信号をフォーカス制御部１３０に対して出力し、フォーカスレンズ２ａをレンズ合焦位置へ移動させる。
【００６５】
ＡＦ全体制御部１０７は、コントラストＡＦ制御及び位相差ＡＦ制御を適宜実行させる。
【００６６】
操作部ＯＰは、シャッタースタートボタン（シャッターボタン）や各種ボタンやスイッチ等を備えて構成され、操作部ＯＰに対するユーザーの入力操作に応答して、制御部１０１が各種動作を実現する。なお、シャッターボタンは、半押し状態（Ｓ１状態）と全押し状態（Ｓ２状態）の２つの状態を検出可能な２段階検出ボタンである。なお、撮像装置１では、Ｓ１状態となると、ＡＦ制御を含む本撮影動作のための準備動作が行われ、更にＳ２状態となると、本撮影動作が行われる。
【００６７】
画像メモリ５６に一時記憶される画像データは、制御部１０１によって適宜ＶＲＡＭ１０２に転送されることで、撮像装置本体３００の背面に配置される液晶表示部（ＬＣＤ）１０３に画像データに基づく画像が表示される。
【００６８】
また、本撮影時には、画像メモリ５６に一時記憶される画像データは、制御部１０１において適宜画像処理が施され、カードＩ／Ｆ１０４を介してメモリカードＭＣに記憶される。
【００６９】
＜撮像装置の動作＞
図１０から図１３は、撮像装置１における撮影動作フローを例示するフローチャートである。本動作フローは、制御部１０１の制御によって実現される。また、図１４及び図１５は、撮像装置１におけるＡＦ制御のタイミングチャートを例示する図である。
【００７０】
図１４及び図１５では、横軸が状態Ｓ１となってからの時間経過を示している。そして、図１４では、上から順に、モータＭ１のモータ回転数、モータＭ１に入力されるパルス数（ＰＩ数）、フォーカスレンズ２ａの移動速度に対応する像面移動速度、ＡＦマイコンの起動、位相差ＡＦの測距、及びＣ−ＭＯＳ５の駆動のタイミングが示されている。更に、図１４の下方には、コントラストＡＦ制御においてＡＦ評価値を求めるためのＣ−ＭＯＳ５における露光タイミング、及びフォーカスレンズ２ａの位置とＡＦ評価値との関係が示されている。
【００７１】
また、図１５では、フォーカスレンズ２ａの位置（すなわち移動）を示す折れ線ＬＬ、及びＣ−ＭＯＳ５の撮像面（すなわち第２合焦面）の位置（すなわち移動）を示す折れ線ＬＳが示されている。なお、図１５の縦軸方向については、折れ線ＬＬの位置に対応した数値は省略されているが、折れ線ＬＳの位置に対応した数値（５００μｍ等）が付されている。更に、図１５では、折れ線ＬＬに対して、ＡＦ評価値を求めるための露光タイミングに対応するレンズ位置を示すマーク（短い縦長の線分）が付されているとともに、図１１の処理ステップに対応する部分にステップ番号（例えば、ステップＳ１４等）が付されている。
【００７２】
以下、図１４及び図１５を適宜参照しつつ、撮影動作フローについて説明する。なお、この撮影動作フローが開始される際には、Ｃ−ＭＯＳ５が実際に本撮影動作を行う所定の基準位置（「撮像ホーム位置」とも称する）に設定され、第１及び第２合焦面の光学的な距離が同一に設定されている。
【００７３】
まず、シャッターボタンが半押しされてＳ１状態となると、撮影動作フローが開始されて、図１０のステップＳ１に進む。
【００７４】
ステップＳ１では、Ｃ−ＭＯＳ５が起動する（図１４の０〜１０ｍｓ）。ここでは、Ｃ−ＭＯＳ５に通電し、制御部１０１からの信号に応じてタイミング制御回路１７０が制御信号を出力することで、Ｃ−ＭＯＳ５が２００ｆｐｓの電荷信号の読み出しを開始する。なお、撮像装置１では、光学ファインダーによって被写体を確認することができるため、省電力化のために、Ｓ１状態となるとＣ−ＭＯＳ５が起動する。
【００７５】
ステップＳ２では、コントラストＡＦ制御を行うために、シャッター機構４が開放される。なお、Ｓ１状態となる前、すなわち待機状態では、シャッター機構４が閉じられた状態にある。
【００７６】
このステップＳ１〜Ｓ２の処理中に、ＡＦマイコンすなわち制御部１０１の機能としてのコントラストＡＦ制御部１０５、位相差ＡＦ制御部１０６、及びＡＦ全体制御部１０７が起動する（図１４の０〜５０ｍｓ）。
【００７７】
ステップＳ３では、位相差ＡＦモジュール３及び位相差ＡＦ制御部１０６によって位相差ＡＦ制御による測距を行う（図１４の５０〜１００ｍｓ）。
【００７８】
ステップＳ４では、ＡＦ全体制御部１０７により、ステップＳ３における測距の結果に基づいて、現在のフォーカスレンズ２ａの位置とレンズ合焦位置とのズレ量を判定する。ここで、ズレ量の絶対値が第１の所定値（例えば、３０μｍ）未満である場合には、既に被写体の合焦状態が実現されていると判断し、図１１のステップＳ１８に進む。つまり、ＡＦ制御を実施することなく、本撮影動作に移行する。また、ズレ量の絶対値が第２の所定値（例えば、１０００μｍ）以上の場合には、ズレ量が十分であるとして、そのまま図１１のステップＳ１１に進む。更に、ズレ量の絶対値が第１の所定値以上、第２の所定値未満である場合には、ズレ量が不十分であるとして、ステップＳ５に進む。
【００７９】
ステップＳ５では、ＡＦ全体制御部１０７の制御下で、フォーカス制御部１３０からの制御信号に基づいてモータＭ１が駆動することで、フォーカスレンズ２ａが退避駆動を行う。ここでは、ズレ量が不十分であると、後述する第２合焦面の移動によってコントラストＡＦ制御におけるＡＦ評価値のピークを過ぎてしまう、といった不具合を防ぐために、十分なズレ量を確保するようにフォーカスレンズ２ａのレンズ位置を移動させる退避駆動を行う。なお、この退避駆動では、例えば、フォーカスレンズ２ａの移動可能な範囲の一端までフォーカスレンズ２ａを移動させる。
【００８０】
ステップＳ１１では、ステップＳ３における測距の結果に基づいて、Ｃ−ＭＯＳ５を遠側（繰り出し側）又は近側（繰り入れ側）に移動させる動作を開始する（図１４の９０ｍｓ）。ここでは、位相差ＡＦモジュール３による検出結果である測距値に応じて、撮像装置１を基準として、現在のフォーカス位置（ピントが合っている場所）よりも被写体が遠側にあれば、Ｃ−ＭＯＳ５を被写体に近づける方向に移動させる。一方、現在のフォーカス位置（ピントが合っている場所）よりも被写体が近側にあれば、Ｃ−ＭＯＳ５を被写体から遠ざける方向に移動させる。なお、Ｃ−ＭＯＳ５の移動は、例えば、２０〜３０ｍｍ／ｓｅｃ程度の速度で行われる。
【００８１】
ステップＳ１２では、ステップＳ１１において開始されたＣ−ＭＯＳ５の移動が終了したか否か判定する。ここでは、所定距離（例えば、５００μｍ）だけＣ−ＭＯＳ５が移動するまでステップＳ１２の判定を繰り返し、所定距離だけＣ−ＭＯＳ５が移動するとＣ−ＭＯＳ５の移動を終了させる（図１４及び図１５の９０〜１００ｍｓ）。
【００８２】
なお、所定距離は、撮像装置１の光学的な設計によって適宜設定される。また、撮影レンズユニット２のレンズ焦点距離（レンズ焦点距離が長い方が所定距離は長い）や、フォーカスレンズ２ａの移動比（フォーカスモーターＭ１の回転数に対してフォーカスレンズ２ａの移動量が長い場合は、所定距離は長い）によって適宜設定される。
【００８３】
このように、ステップＳ１１〜Ｓ１２においては、第１合焦面に対して第２合焦面の光学的な位置が相対的に異なる位置に移動される。具体的には、位相差ＡＦモジュール３による検出結果に応じて、第１及び第２合焦面の光学的な位置が同一に設定されている状態から、フォーカスレンズ２ａの位置を移動させつつＡＦ制御を行う際に第１合焦面よりも早期に第２合焦面において被写体の合焦状態が実現される状態に変更される。つまり、位相差ＡＦ制御による合焦点到達よりも先にコントラストＡＦ制御によって被写体の合焦状態が検出されるように設定される。
【００８４】
ステップＳ１３では、モータＭ１を立ち上げ、フォーカスレンズ２ａの移動を開始する（図１４の１００〜１３０ｍｓ）。このフォーカスレンズ２ａの移動は、位相差ＡＦ制御に従ったものである。
【００８５】
ステップＳ１４では、ＡＦ全体制御部１０７の制御下で、コントラストＡＦ制御を開始し、２００ｆｐｓのタイミングでＡＦ評価値を取得する動作を開始する（図１４及び図１５の１４５ｍｓ）。ここでは、像面移動速度が１１０μｍ／１０ｍｓとある程度遅くなった時点で、ＡＦ評価値を取得する動作を行う。なお、このコントラストＡＦ制御は、例えば、絞りを開放状態として実行される。
【００８６】
ステップＳ１５では、レンズ合焦位置を検出する。具体的には、ステップＳ１５に進むと、図１２のステップＳ１５１に進み、図１２に示すレンズ合焦位置の検出動作を実行する（図１４及び図１５の１４５〜２００ｍｓ）。
【００８７】
ここで、図１２に示すレンズ合焦位置の検出動作について説明する。
【００８８】
図２０で示したように、撮影レンズによっては、画像データから抽出される周波数帯域毎におけるＭＴＦのピーク特性が異なるために、周波数帯域毎におけるＡＦ評価値のピークがずれてしまうことがある。このような場合に、幅広い高周波帯域の成分を抽出するＨＰＦ６０１を用いると、周波数帯域毎におけるＭＴＦのずれに起因して、ＨＰＦ６０１を用いて取得されたＡＦ評価値のピークが鮮鋭なものとならず、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置が検出し難くなる。
【００８９】
このような問題に対して、周波数帯域毎のＭＴＦにずれがあったとしても、狭い周波数帯域の高周波成分を重視してＡＦ評価値を求めると、ＡＦ評価値が鮮鋭なピークを示すようになる。よって、特定の周波数帯域の成分を抽出するバンドパスフィルタ（ＢＰＦ）を用いてＡＦ評価値を算出し、ＡＦ評価値のピークに対応するレンズ合焦位置を求めることが考えられる。
【００９０】
しかしながら、ＢＰＦを用いてＡＦ評価値を算出すると、ＢＰＦが重視して抽出する特定の周波数帯域と、画像データに多く含まれる高周波成分の帯域とが少しずれると、ＡＦ評価値のピークを検出することができない。
【００９１】
そこで、撮像装置１におけるレンズ合焦位置の検出動作では、まず、素直に、幅広い高周波帯域の成分を抽出するＨＰＦ６０１を用いて求めたＡＦ評価値について、ＡＦ評価値のピークを検出することができれば、このＡＦ評価値のピークに対応するレンズ位置をレンズ合焦位置として検出する。また、ＨＰＦ６０１を用いて求めたＡＦ評価値についてピークを検出することができなければ、より高い周波数成分が多くなれば被写体画像が鮮鋭であると感じる人間の視覚特性に合わせて、相対的に高い周波数成分を重視したＢＰＦから順に採用して得られたＡＦ評価値のピーク検出を行い、このＡＦ評価値のピークに対応するレンズ位置をレンズ合焦位置として検出する。
【００９２】
つまり、撮像装置１におけるレンズ合焦位置の検出動作では、４つのフィルタ６０１〜６０４のうち、ＨＰＦ６０１を用いて求めたＡＦ評価値のピーク検出に対応したレンズ合焦位置の検出を最優先とし、その次に、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２を用いて求めたＡＦ評価値のピーク検出に対応したレンズ合焦位置の検出を優先し、また、その次に、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３を用いて求めたＡＦ評価値のピーク検出に対応したレンズ合焦位置の検出を優先する。そして、最後に、相対的に最も低い周波数成分を重視したＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４を用いて求めたＡＦ評価値についてピーク検出を行い、ピークを検出することができれば、このピークに対応したレンズ合焦位置を検出する。
【００９３】
なお、被写体のコントラストが極めて低い場合には、上記４つのフィルタ６０１〜６０４を用いたコントラストＡＦ制御では、レンズ合焦位置を検出することができない場合もある。このような場合には、撮像装置１では、位相差ＡＦ制御によって求まるレンズ合焦位置を採用する。
【００９４】
以下、図１２に示すレンズ合焦位置の検出動作について具体的に説明する。
【００９５】
ステップＳ１５１では、Ｃ−ＭＯＳ５における画像データの取得速度（フレームレート）に相当する２００ｆｐｓのタイミング毎の垂直同期信号（ＶＤパルス）が立ち下がったか否か判定する。ここでは、ＶＤパルスが立ち下がるまでステップＳ１５１の判定を繰り返し、ＶＤパルスが立ち下がればステップＳ１５２に進む。
【００９６】
ステップＳ１５２では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＨＰＦ６０１を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値を取得する。つまり、ＶＤパルスの立ち下がりに同期してＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値を取得する。
【００９７】
ステップＳ１５３では、ＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳ１６４に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳ１５４に進む。なお、図１４及び図１５では、一例としてＡＦ評価値のピークが見つかる場合について示している。
【００９８】
ステップＳ１５４では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値を取得する。
【００９９】
ステップＳ１５５では、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳ１５６に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳ１５７に進む。
【０１００】
ステップＳ１５６では、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定する。つまり、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値のピークを検出した後に、ＶＤパルスが３回立ち下がってＣ−ＭＯＳ５において３フレーム分の画像データが取得されたか否か判定する。ここでは、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データが取得されていなければ、ステップＳ１６３進み、３フレーム分の画像データが取得されていれば、ステップＳ１６４に進む。
【０１０１】
ここで、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定するのは、図２０で示したＭＴＦの周波数依存性に起因して、周波数帯域毎におけるＡＦ評価値のピークがずれてしまうことがあるため、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、フォーカスレンズ２ａの位置を若干移動させている間に、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値よりも優先的に使用されるＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値についてピークが検出される可能性があるからである。つまり、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定するのは、ＭＴＦの周波数依存性を考慮して、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２よりも高い周波数帯域を重視したＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値にピークが検出されるか否か待機するためである。
【０１０２】
そして、撮像装置１では、フォーカスレンズ２ａの位置を移動させて所定距離だけ像面位置を移動させる期間として、３フレーム分の画像データを取得する期間を採用し、その期間、より高い周波数帯域まで重視したＨＰＦ６０１を用いて求められたＡＦ評価値についてピークが検出されれば、ＨＰＦ６０１を用いて求められたＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出するように制御するようにしている。
【０１０３】
ステップＳ１５７では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３に係るＡＦ評価値を取得する。
【０１０４】
ステップＳ１５８では、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳ１５９に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳ１６０に進む。
【０１０５】
ステップＳ１５９では、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定する。ここでは、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データが取得されていなければ、ステップＳ１６３進み、３フレーム分の画像データが取得されれていれば、ステップＳ１６４に進む。
【０１０６】
なお、ここで、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定するのは、ステップＳ１５６と同様に、ＭＴＦの周波数依存性を考慮して、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３よりも高い周波数帯域を重視したＨＰＦ６０１及びＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２を用いて求められたＡＦ評価値についてピークが検出されるか否か待機するためである。
【０１０７】
そして、この待機中に、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３よりもより高い周波数帯域を重視した周波数特性を有するＨＰＦ６０１、及びＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２の何れかを用いて求められたＡＦ評価値にピークが検出されれば、当該ピークが検出されたＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出するように制御する。
【０１０８】
ステップＳ１６０では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４に係るＡＦ評価値を取得する。
【０１０９】
ステップＳ１６１では、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳ１６２に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳ１６３に進む。
【０１１０】
ステップＳ１６２では、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定する。ここでは、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データが取得されていなければ、ステップＳ１６３進み、３フレーム分の画像データが取得されれていれば、ステップＳ１６４に進む。
【０１１１】
なお、ここで、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定するのは、ステップＳ１５６，Ｓ１５９と同様に、ＭＴＦの周波数依存性を考慮して、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４よりも高い周波数帯域を重視したＨＰＦ６０１、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２、及びＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３を用いて求められたＡＦ評価値にピークが検出されるか否か待機するためである。
【０１１２】
そして、この待機中に、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４よりも高い周波数帯域を重視した周波数特性を有するＨＰＦ６０１、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２、及びＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３を用いて求められたＡＦ評価値にピークが検出されれば、当該ピークが検出されたＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出するように制御する。
【０１１３】
ステップＳ１６３では、位相差ＡＦ制御が終了したか否かを判定する。ここで、位相差ＡＦ制御が終了していなければ、ステップＳ１５１に戻り、位相差ＡＦ制御が終了していれば、Ｃ−ＭＯＳ５が撮像ホーム位置へ戻り（ステップＳ１６５）、図１１のステップＳ１８に進む。なお、ここでは、位相差ＡＦ制御の終了とともに、フォーカスレンズ２ａの移動も停止する。
【０１１４】
ステップＳ１６４では、ＡＦ評価値に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ここでは、ステップＳ１５３から進んで来た場合には、ＨＰＦ６０１に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ステップＳ１５６から進んで来た場合には、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ステップＳ１５９から進んで来た場合には、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ステップＳ１６２から進んで来た場合には、ＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する。
【０１１５】
ここで、ＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する手法について説明する。
【０１１６】
ここでは、まず、図１４に示すように、ＡＦ評価値が増加後、減少し始めたら、ＡＦ評価値の最大値Ｙｎとその前後のＡＦ評価値Ｙｎ−１、Ｙｎ＋１の３点のデータを用いて、下式（１）に示す２次補間近似計算によりＡＦ評価値がピークとなるフォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置Ｐを算出する。
【０１１７】
【数１】
2007192859.tif 000003
【０１１８】
なお、このような計算によってレンズ合焦位置Ｐが算出されるタイミングは、Ｃ−ＭＯＳ５からの電荷信号の読み出し、ＡＦ評価値の算出、ＡＦ評価値のピークの検出、及び上式（１）に沿った計算等にある程度時間を要するため、図１４に示すように、ＡＦ評価値の最大値Ｙｎに係る露光タイミングを過ぎて、ＡＦ評価値が連続して４回減少する電荷信号が得られる露光タイミングとなる。
【０１１９】
上記のようにして求められたレンズ合焦位置Ｐは、Ｃ−ＭＯＳ５を所定距離だけずらした、すなわち所定距離だけずれた撮像面に対するレンズ合焦位置である。このため、レンズ合焦位置Ｐに所定距離（例えば５００μｍ）の像面差を考慮した値を、実際に本撮影動作を行う撮像ホーム位置に対するレンズ合焦位置Ｑとして求める。
【０１２０】
このようにして、位相差ＡＦ制御によるフォーカスレンズ２ａの移動が終了する前に、レンズ合焦位置Ｑを求めることができる。
【０１２１】
そして、ステップＳ１６４の処理が終了すると、図１１のステップＳ１６に進む。
【０１２２】
ステップＳ１６では、Ｃ−ＭＯＳ５が撮像ホーム位置へ戻るように移動する（図１４及び図１５の２１０〜２２０ｍｓ）。
【０１２３】
ステップＳ１７では、レンズ合焦位置Ｑでフォーカスレンズ２ａの移動を停止する（図１４及び図１５の２３５ｍｓ）。
【０１２４】
ステップＳ１８では、シャッター機構４を閉じる。
【０１２５】
ステップＳ１９では、Ｃ−ＭＯＳ５に蓄積された電荷を排出することでリセットする。
【０１２６】
ステップＳ２０では、Ｓ１状態が解除されたか否か判定する。ここでは、例えば、ユーザーが操作部ＯＰを操作することでＳ１状態が解除されると、本動作フローを終了し、Ｓ１状態が解除されなければ、図１３のステップＳ３１に進む。
【０１２７】
ステップＳ３１では、Ｓ２状態になったか否かを判定する。ここでは、Ｓ２状態となるまで、ステップＳ２１及びステップＳ３１の判定を繰り返しつつ、待機する。そして、Ｓ
２状態となると、本撮影動作の指示がなされたものとして、ステップＳ３２に進む。
【０１２８】
ステップＳ３２では、主ミラー１０及びサブミラー２０がミラーアップ状態となるとともに、シャッター機構４が開かれた状態となる。
【０１２９】
ステップＳ３３では、Ｃ−ＭＯＳ５において、撮像すなわち本撮影動作の露光が行われる。
【０１３０】
ステップＳ３４では、シャッター機構４が閉じられた状態となる。
【０１３１】
ステップＳ３５では、主ミラー１０及びサブミラー２０がミラーダウン状態となるとともに、Ｃ−ＭＯＳ５から電荷信号が読み出されて、画像データがメモリカードＭＣに記憶されるチャージ駆動を行い、本動作フローを終了する。
【０１３２】
以上のように、本発明の実施形態に係る撮像装置１では、ＡＦ回路６００に備えられた４つ（一般的には複数）のフィルタ６０１〜６０４のうちのＨＰＦ６０１を用いて取得されたＡＦ評価値を最優先に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。このように、一般的な被写体を撮影する際に画像データにおいて増加する高周波帯域の成分を重視して抽出するＨＰＦ６０１が優先的に使用されるように設定されているため、種々の被写体に対して高精度の合焦制御を行うことができる。
【０１３３】
また、４つ（一般的には複数）のフィルタ６０１〜６０４のうちの相対的に高い周波数帯域の成分を重視して抽出する周波数特性を有する所定のフィルタ（ここでは、ＨＰＦ６０１）を用いて取得されたＡＦ評価値を優先的に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。このような構成を採用することで、例えば、より高い周波数成分が多くなれば被写体画像が鮮鋭であると感じる人間の視覚特性に対応した合焦制御が可能となるため、高精度の合焦制御ができる。
【０１３４】
また、被写体からの光を２つの光路に分割して、分割された各光を用いて位相差方式の合焦制御とコントラスト方式の合焦制御とを並行して実施する。このため、例えば、位相差方式の合焦制御によってフォーカスレンズ２ａをレンズ合焦位置近傍まで短時間で駆動させることができるとともに、コントラスト方式の合焦制御によって合焦制御の精度を確保することができる。その結果、高速かつ精度の良い合焦制御が可能となる。
【０１３５】
また、位相差方式及びコントラスト方式の合焦検出に係る合焦面の光学的な位置を相互に異ならせ、位相差方式の合焦制御の開始後に、コントラスト方式の合焦制御が開始される。このような構成により、同時に２つの方式の合焦制御が行われ、位相差方式の合焦制御による合焦状態の実現前に、コントラスト方式の合焦制御によってフォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出することができる。その結果、高速かつ高精度の合焦制御を実現することができる。また、例えば、フォーカスレンズ２ａを逆向きに移動させることなく合焦制御を行うことができるため、いわゆるバックラッシュの問題の発生も防止することができる。更に、例えば、ファインダ等を介して視認される被写体が、ぼけた状態から合焦状態へとスムーズに変化するような合焦制御を行うことができるため、合焦フィーリングを向上させることもできる。
【０１３６】
＜変形例＞
以上、この発明の実施形態について説明したが、この発明は上記説明した内容のものに限定されるものではない。
【０１３７】
◎例えば、上述した実施形態では、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３、及びＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４の３つの異なる周波数特性を有するバンドパスフィルタを採用したが、これに限られない。例えば、０．５ｆｎや０．２ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）するバンドパスフィルタを等を採用しても良い。すなわち、ｆｎのｎ倍（０＜ｎ＜１）付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）する１以上のバンドパスフィルタを採用しても良い。
【０１３８】
なお、撮影レンズユニット２が撮像装置本体３００に対して着脱自在に構成される態様では、複数の異なる周波数特性を有するバンドパスフィルタを準備しておき、撮像装置本体３００に対して撮影レンズユニット２が装着されると、制御部１０１が撮影レンズユニット２内のＲＯＭ等からレンズの特性を特定する情報（レンズ情報）を得て、１以上のバンドパスフィルタをコントラストＡＦ制御に用いるバンドパスフィルタとして選択的に採用しても良い。例えば、０．１ｆｎ、０．２ｆｎ、０．３ｆｎ、０．４ｆｎ、及び０．５ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）する５つのバンドパスフィルタを準備しておき、レンズ情報に応じて、０．１ｆｎ、０．３ｆｎ、及び０．４ｆｎ付近の周波数帯域の成分を主に抽出（透過）する３つのバンドパスフィルタをコントラストＡＦ制御に用いるバンドパスフィルタとして選択的に採用するようにしても良い。
【０１３９】
◎また、上記実施形態では、図８で示したＨＰＦ６０１、ＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３、及びＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４の４つの異なる周波数特性を有するフィルタを採用したが、これに限られない。
【０１４０】
例えば、図１６で示す２つの異なる周波数特性を有するハイパスフィルタを採用しても良い。図１６で示す曲線Ｆ１は、図８で示したＨＰＦ６０１の周波数特性を示している。また、曲線Ｆ２は、ＨＰＦ６０１と比較して、一般的な撮影において輪郭が明確な被写体の増加に応じて画像データの周波数成分が増加する所定の周波数帯域（例えば、０．２ｆｎ〜０．４ｆｎ）付近の高周波成分をより重視して抽出するＨＰＦの周波数特性を示している。なお、以下では、曲線Ｆ１の周波数特性を有するＨＰＦをＨＰＦ１、曲線Ｆ１１の周波数特性を有するＨＰＦをＨＰＦ２と称する。
【０１４１】
ＨＰＦ２では、ＨＰＦ１と比較して、１．０ｆｎ付近の高周波帯域に対するゲインが小さくなっているため、画像データにおける所謂ノイズ成分の抽出（透過）を防ぐことができる。また、上述したように、一般的な撮影において輪郭が明確な被写体の増加に応じて画像データの周波数成分が増加する所定の周波数帯域付近の高周波成分をより重視して抽出する。このため、ＨＰＦ１と比較して、ＨＰＦ２を用いて取得されるＡＦ評価値を用いた方が、ノイズ成分の影響を低減しつつ、被写体に対してより精度良く合焦させることができる。
【０１４２】
したがって、ＨＰＦ１，２を用いる場合には、合焦精度の観点から、２つのＨＰＦのうちのＨＰＦ１よりも相対的に所定の周波数帯域（ここでは、０．２ｆｎ〜０．４ｆｎ）の成分を重視して抽出する周波数特性を有する所定のＨＰＦ２を用いて取得されたＡＦ評価値（すなわち、ＡＦ評価値群）を優先的に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出することが好ましい。
【０１４３】
以下、撮像装置においてＨＰＦ１，２を用いたコントラストＡＦ制御を採用した場合における撮影動作フローについて説明する。なお、この撮影動作フローでは、図１０〜図１３で示した撮影動作フローのうち、ステップＳ１５のレンズ合焦位置の検出動作に係るフローが異なるが、他の動作については同様なものとなる。つまり、図１２で示したレンズ合焦位置の検出動作フローが異なる。
【０１４４】
図１７は、ＨＰＦ１，２を用いた場合におけるレンズ合焦位置の検出動作フローを示している。
【０１４５】
ステップＳＴ１５１では、Ｃ−ＭＯＳ５における画像データの取得速度（フレームレート）に相当する２００ｆｐｓのタイミング毎の垂直同期信号（ＶＤパルス）が立ち下がったか否か判定する。ここでは、ＶＤパルスが立ち下がるまでステップＳ１５１の判定を繰り返し、ＶＤパルスが立ち下がればステップＳＴ１５２に進む。
【０１４６】
ステップＳＴ１５２では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＨＰＦ２を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＨＰＦ２に係るＡＦ評価値を取得する。つまり、ＶＤパルスの立ち下がりに同期してＨＰＦ２に係るＡＦ評価値を取得する。
【０１４７】
ステップＳＴ１５３では、ＨＰＦ２に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳＴ１５８に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳＴ１５４に進む。
【０１４８】
ステップＳＴ１５４では、コントラストＡＦ制御部１０５が、ＨＰＦ１を用いて求められたＡＦ評価値を取得、すなわちＨＰＦ１に係るＡＦ評価値を取得する。
【０１４９】
ステップＳＴ１５５では、ＨＰＦ１に係るＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）についてＡＦ評価値のピークが見つかったか否か判定する。ここで、ＡＦ評価値のピークが見つかればステップＳＴ１５６に進み、ＡＦ評価値のピークが見つかっていなければステップＳＴ１５７に進む。
【０１５０】
ステップＳＴ１５６では、ＨＰＦ１に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定する。つまり、ＨＰＦ１に係るＡＦ評価値のピークを検出した後に、ＶＤパルスが３回立ち下がってＣ−ＭＯＳ５において３フレーム分の画像データが取得されたか否か判定する。ここでは、ＨＰＦ１に係るＡＦ評価値のピークを検出してから、３フレーム分の画像データが取得されていなければ、ステップＳＴ１５７進み、３フレーム分の画像データが取得されていれば、ステップＳＴ１５８に進む。
【０１５１】
ここで、３フレーム分の画像データを取得したか否か判定するのは、図２０で示したＭＴＦの周波数依存性も考慮して、ＨＰＦ１よりもＨＰＦ２を用いて取得されたＡＦ評価値を優先させるためである。
【０１５２】
ステップＳＴ１５７では、図１２のステップＳ１６３と同様な処理を行う。
【０１５３】
ステップＳＴ１５８では、ＡＦ評価値（すなわちＡＦ評価値群）に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ここでは、ステップＳＴ１５３から進んで来た場合には、ＨＰＦ２に係るＡＦ評価値に基づいてレンズ合焦位置を検出する。ステップＳＴ１５６から進んで来た場合には、ＨＰＦ１に係るＡＦ評価値に基づいてレンズ合焦位置を検出する。そして、ステップＳＴ１５８の処理が終了すると、図１１のステップＳ１６に進む。
【０１５４】
以上のような構成を採用した撮像装置では、ＡＦ回路６００に備えられた２つ（一般的には複数）のフィルタ（ＨＰＦ１，２）のうち、一般的な被写体を撮影する際に高まる周波数成分を重視して抽出するＨＰＦ２を用いて取得されたＡＦ評価値を最優先に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。このような構成により、種々の被写体に対して高精度の合焦制御を行うことができる。
【０１５５】
また、別の観点から言えば、２つ（一般的には複数）のフィルタ（ＨＰＦ１，２）のうちのＨＰＦ１よりも相対的に所定の周波数帯域（ここでは、０．２ｆｎ〜０．４ｆｎ）の成分を重視して抽出する周波数特性を有するＨＰＦ２を用いて取得されたＡＦ評価値を優先的に使用して、フォーカスレンズ２ａのレンズ合焦位置を検出する。このような構成を採用することで、例えば、一般的な被写体を捉えた画像が合焦状態にある場合に増加する所定の高周波帯域の成分を重視した合焦制御が可能となるため、高精度の合焦制御ができる。
【０１５６】
なお、上記では、一般的な撮影において輪郭が明確な被写体の増加に応じて画像データの周波数成分が増加する所定の周波数帯域として、０．２ｆｎ〜０．４ｆｎの周波数帯域を挙げたが、この所定の周波数帯域は、被写体の種類、撮影レンズユニット２の性質、撮影倍率、及び撮像素子の画素ピッチ等の条件の組合せに応じて適宜設定される。
【０１５７】
◎また、上記実施形態では、図８で示したＢＰＦ（０．４ｆｎ）６０２、ＢＰＦ（０．３ｆｎ）６０３、及びＢＰＦ（０．１ｆｎ）６０４の３つの異なる周波数特性を有するバンドパスフィルタを採用したが、これに限られない。
【０１５８】
例えば、図１８の曲線Ｆ１２，Ｆ１３で示すように、ＢＰＦの代わりに、所謂カットオフ周波数がｆｃｏ１，ｆｃｏ２である周波数特性をそれぞれ有する２つのＨＰＦを採用し、より高い周波数帯域の成分を重視して抽出するＨＰＦを用いて得られるＡＦ評価値から順に優先的に使用してレンズ合焦位置を検出するようにしても良い。なお、曲線Ｆ１，Ｆ１２，Ｆ１３で示される周波数特性をそれぞれ有する３つのＨＰＦをそれぞれＨＰＦａ，ＨＰＦｂ、ＨＰＦｃとすると、ＨＰＦａが、最も高い周波数帯域の成分を重視して抽出し、ＨＰＦｂが、次に高い周波数帯域の成分を重視して抽出し、ＨＰＦｃが、最も低い周波数帯域の成分を重視して抽出する。
【０１５９】
◎また、上記実施形態では、本撮影時に記録用の画像データを得るためのＣ−ＭＯＳ５を用いて得られた画像データに基づきコントラストＡＦ制御を行ったが、これに限られず、例えば、コントラストＡＦ制御のための画像データを取得する専用の撮像センサを設けても良い。
【０１６０】
◎また、コントラストＡＦ制御のために、例えば、所謂ベイヤー配列を有する複数のＲＧＢの３原色の画素を有する撮像センサが採用された場合、ＡＦ評価値を取得する際には、Ｇ色の画素値のみを用いてＡＦ評価値を算出するようにしても良いし、ＲＧＢの画素値から輝度値Ｙを算出して、当該輝度値Ｙを用いてＡＦ評価値を算出するようにしても良い。
【０１６１】
◎なお、上記実施形態では、フィルタ６０１〜６０４を電気的な回路として構成したが、制御部１０１においてプログラムを実行することでフィルタ６０１〜６０４の機能及びＡＦ評価値の演算機能を実現するようにすることもできる。但し、現状では、一般に電気的な回路で構成した演算機能の方が演算速度が高速であり実用的である。
【０１６２】
◎また、上記実施形態では、図２に示すようなＡＦ制御ユニット１００を採用したが、これに限られず、他のＡＦ制御ユニットの構成を採用しても良い。以下に、他のＡＦ制御ユニットの構成の一例としてＡＦ制御ユニット１００Ａを挙げて説明する。
【０１６３】
図１９は、変形例に係る撮像装置１Ａに含まれたＡＦ制御ユニット１００Ａに関する構成を模式的に例示する図である。
【０１６４】
上記実施形態に係る撮像装置１では、主ミラー１０がハーフミラーを備えて構成されたが、図１９に示すように、変形例に係る撮像装置１Ａでは、当該ハーフミラーとしてペリクルミラーを採用した主ミラー１０Ａを用いている。
【０１６５】
ペリクルミラーは、厚みが一般的なハーフミラーと比べて非常に薄い（例えば１００μｍ程度）ことが特徴である。このペリクルミラーは、極薄であるため、ミラーアップ駆動に適さない。よって、撮像装置１Ａでは、本撮影時に、主ミラー１０Ａはミラーアップせず、サブミラー２０Ａが被写体からの光の光路上から下方に退避するように構成されている。
【０１６６】
なお、その他の構成は、上記実施形態に係る撮像装置１と同様であり、機能及び動作等については、主ミラー１０及びサブミラー２０の双方が光路に対して退避状態／遮断状態となる代わりに、サブミラー２０Ａのみが光路に対して退避状態／遮断状態となる点が異なるだけで、その他の機能及び動作等についてはほぼ同様であるため、説明を省略する。
【０１６７】
以下、主ミラー１０Ａのハーフミラーにペリクルミラーを採用する利点について説明する。
【０１６８】
上記実施形態に係る撮像装置１では、一般的なハーフミラーの屈折率Ｎｄが約１．５であり、主ミラー１０とサブミラー２０の厚みをそれぞれａ、ｂとすると、ミラーアップ状態とミラーダウン状態とで約０．５（ａ＋ｂ）だけ焦点位置がユーザー側（図２では右側）にずれてしまう。
【０１６９】
そして、位相差ＡＦ制御とコントラストＡＦ制御とを併用する場合には、フォーカスレンズ２ａの位置を移動させつつ被写体の合焦状態を実現する際に第１合焦面よりも早期に第２合焦面において被写体の合焦状態が実現されるように、第１及び第２合焦面の光学的な位置を相互に異ならせる必要がある。よって、このとき、ハーフミラーによる焦点位置のずれ（約０．５（ａ＋ｂ））を見込んで、Ｃ−ＭＯＳ５を撮像ホーム位置から光軸Ｌに沿って余計に移動させなければならない。
【０１７０】
このような問題点に対して、極薄のペリクルミラーを用いることで、ハーフミラーによる焦点位置のずれを約０．５ｂまで抑制することができる。つまり、主ミラー１０によって生じる焦点位置のズレ量を抑制することができる。その結果、当該ズレ量を補正するためのＣ−ＭＯＳ５の移動量が少なくて済むため、Ｃ−ＭＯＳ５を移動させるための構成を簡素化することができる。
【０１７１】
◎また、上記実施形態では、位相差ＡＦ制御を行うタイプの撮像装置を挙げて説明したが、これに限られず、例えば、コントラストＡＦ制御のみを行う撮像装置であっても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１７２】
【図１】本発明の実施形態に係る撮像装置の概略構成を示す断面模式図である。
【図２】合焦制御ユニットに係る構成を模式的に例示する図である。
【図３】位相差方式の合焦制御の原理を説明するための図である。
【図４】位相差方式の合焦制御の原理を説明するための図である。
【図５】位相差方式の合焦制御の原理を説明するための図である。
【図６】撮像装置の機能構成を例示するブロック図である。
【図７】ＡＦ回路の主な機能構成を例示するブロック図である。
【図８】フィルタの周波数特性を例示する図である。
【図９】ＡＦ回路に入力される画像データの周波数成分を例示する図である。
【図１０】撮像装置における撮影動作フローを例示するフローチャートである。
【図１１】撮像装置における撮影動作フローを例示するフローチャートである。
【図１２】撮像装置における撮影動作フローを例示するフローチャートである。
【図１３】撮像装置における撮影動作フローを例示するフローチャートである。
【図１４】撮像装置における合焦制御のタイミングチャートを例示する図である。
【図１５】撮像装置における合焦制御のタイミングチャートを例示する図である。
【図１６】変形例に係るフィルタの周波数特性を例示する図である。
【図１７】変形例に係る撮影動作フローを示すフローチャートである。
【図１８】変形例に係るフィルタの周波数特性を例示する図である。
【図１９】変形例に係る合焦制御ユニットの構成を模式的に例示する図である。
【図２０】周波数成分によるＭＴＦのずれを説明するための図である。
【符号の説明】
【０１７３】
１，１Ａ  撮像装置
２  撮影レンズユニット
２ａ  フォーカスレンズ
３  位相差ＡＦモジュール
５  Ｃ−ＭＯＳ
１０，１０Ａ  主ミラー
１０ａ  ミラー機構
２０，２０Ａ  サブミラー
２０ａ  サブミラー機構
１００，１００Ａ  ＡＦ制御ユニット
１０１  制御部
１０５  コントラストＡＦ制御部
１０６  位相差ＡＦ制御部
１０７  ＡＦ全体制御部
１１０  ミラー制御部
１２０  サブミラー制御部
１３０  フォーカス制御部
１４０  シャッタ制御部
１５０  Ｃ−ＭＯＳ移動制御部
１７０  タイミング制御回路
２０１  レンズ位置検出部
３００  撮像装置本体
５００  信号処理回路
６００  ＡＦ回路
６０１  ハイパスフィルタ
６０２〜６０４  バンドパスフィルタ
６１１〜６１４  評価値演算部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
2007192859.tif 000021
【図１９】
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【図２０】
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