(57)【要約】【課題】  基板の被洗浄面に洗浄液を吐出する洗浄装置において、被洗浄面上における洗浄液の滞留の発生を防止し、被洗浄面上の付着微粒子の除去可能範囲を拡げ、洗浄能力を向上させかつ二次汚染を防止する。【解決手段】  基板搬送方向２８の上流側から下流側に向けて、高圧ノズル２および洗浄液吸引手段２６を基板４の被処理面４ａ上方に、被処理面４ａを臨みかつ被処理面４ａに間隔を開けて配置し、高圧ノズル２から洗浄液３を吐出することによって被処理面４ａ上に形成される速い流れ５と同じ吸引方向で洗浄液３を吸引回収する。【選択図】      図１
2007061714.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の被洗浄面に洗浄液を供給して、被洗浄面上の付着微粒子を除去する洗浄装置において、
基板の上方に、被洗浄面から間隔を開けて被洗浄面を臨むように設けられ、被洗浄面に対して基板搬送方向とは逆の方向に洗浄液を吐出する高圧ノズルと、
高圧ノズルよりも基板搬送方向上流側の基板の上方に、被洗浄面から間隔を開けて被洗浄面を臨むように設けられ、被洗浄面上の洗浄液を吸引する洗浄液吸引手段とを含むことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
洗浄液吸引手段は、
洗浄液を吸引するための吸引口を有し、
該吸引口の形状は、基板搬送方向に垂直な方向の長さが基板搬送方向の長さよりも大きい方形状であることを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
吸引口は、
高圧ノズルから吐出される洗浄液の被洗浄面への到達位置から基板搬送方向上流側へ１００ｍｍ以上離隔した位置に配置されるように設けられることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄装置。
【請求項４】
洗浄液吸引手段は、
その洗浄液吸引量が、高圧ノズルの洗浄液吐出量よりも多いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の洗浄装置。
【請求項５】
洗浄液吸引手段は、
被洗浄面の上方から基板に対して垂直に離隔する方向に延び、吸引された洗浄液がその内部を流過する縦部材と、
縦部材の内部に洗浄液を供給できるように連接され、縦部材の被洗浄面側の端部から基板の搬送方向下流側に延び、少なくとも下部に吸引口が形成される横部材とを有する吸引部材を含み、
吸引部材は、
基板搬送方向における断面形状がＬ字状であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の洗浄装置。
【請求項６】
洗浄液吸引手段は、
基板に垂直な方向における横部材の最下端面と被洗浄面との離隔距離が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。
【請求項７】
洗浄液吸引手段は、
横部材が３ｍｍ以上の基板搬送方向の長さを有することを特徴とする請求項５または６記載の洗浄装置。
【請求項８】
高圧ノズルは、
被洗浄面における洗浄液の流速が１０ｍ／ｓｅｃ以上になるように洗浄液を吐出することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクティブマトリックス型液晶表示装置は、薄膜トランジスタをスイッチ素子として用いることを特徴とする液晶表示装置であり、画素が部分的に暗くなり、ディスプレイ全体のコントラストを下げるクロストークが起こり難く、高精細化、大容量化に適することから、現在では、液晶テレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、モバイル機その他の電子電気機器において各種ディスプレイとして広く利用される。
【０００３】
アクティブマトリックス型液晶表示装置には、たとえば、液晶パネルと、液晶パネルを駆動する駆動回路と、光源とを含むものが挙げられ、液晶パネルは薄膜トランジスタマトリクス基板を含む。薄膜トランジスタマトリクス基板は、複数の工程を経て製造されるものであり、その表面には、各工程で用いられる材料、化学薬品などに由来する金属、金属化合物、有機化合物などを含む微粒子（パーティクル）が付着することが多い。このような微粒子は、アクティブマトリックス型液晶表示装置を電子電気機器に組み込む際に、動作不良を引き起こす原因になる。したがって、薄膜トランジスタマトリクス基板表面を洗浄し、該表面に付着する微粒子を除去することが必要不可欠になっている。
【０００４】
従来から、薄膜トランジスタマトリクス基板などの電子電気分野における各種基板の洗浄には、基板の被洗浄面に対して高圧ノズルから洗浄液を吐出する方式の洗浄装置が多用される。
【０００５】
図３は、従来の一般的な洗浄装置１の構成を模式的に示す断面図である。図４は、図３に示す洗浄装置１による洗浄機構を模式的に示す断面図である。洗浄装置１は、基板４の上方に、基板４の被洗浄面４ａから離隔しかつ被洗浄面４ａを臨むように設けられ、基板４の被洗浄面４ａに向けて洗浄液３を高速で吐出する高圧ノズル２を含んで構成される。洗浄装置１によれば、高圧ノズル２から吐出される洗浄液３は被洗浄面４ａを１方向の速い流れ５となって流過し、被洗浄面４ａに付着する微粒子６を除去しながらやがて滞留部に７になり、基板４の端面４ｂから流れ落ちる。微粒子６は、洗浄液３の速い流れ５の方向（流過方向）の、微粒子６よりも上流側の地点Ａにおける微粒子６に対する圧力と、微粒子６よりも下流側の地点Ｂにおける微粒子６に対する圧力との差、洗浄液３の粘性に起因して微粒子６と洗浄液３との界面に作用する応力などによって、被洗浄面４ａから除去される。除去された微粒子６は、洗浄液３の滞留部７中に拡散し、洗浄液３とともに端面４ｂから流れ落ちる。この洗浄装置１によれば、洗浄液２の１方向の速い流れが速いほど、地点Ａと地点Ｂとにおける圧力差が大きくなり、微粒子６の除去性能が増大し、洗浄能力は向上する。
【０００６】
しかしながら、洗浄装置１には、洗浄液３の滞留部７によって、１方向の速い流れ５が堰き止められ、微粒子６を除去できる範囲が狭まり、洗浄能力が低下するという問題がある。特に基板４が大型基板の場合には、基板４の端面４ｂに対する被洗浄面４ａの表面積の割合が大きいことから、滞留部７が顕著になり、洗浄能力の低下も大きくなる。また、除去された微粒子６は、端部４ｂから流れ落ちるまで滞留部７中に留まり、被洗浄面４ａ近傍を浮遊することから、被洗浄面４ａへの再付着を起こすという問題もある。
【０００７】
また、洗浄液の吐出口と排出口とを備え、洗浄液に超音波を印加する洗浄装置が提案されている（たとえば、特許文献１参照）。図５は、従来の洗浄装置１０の構成を模式的に示す断面図である。洗浄装置１０は、水平面に対して一定の傾斜を有するように設けられ、外部から供給される洗浄液３を基板４に向けて吐出する吐出管１１と、水平面に対して吐出管１１とは反対側の一定の傾斜を有するように設けられ、洗浄液３を基板４の被洗浄面４ａから排出する排出管１２と、吐出管１１と排出管１２とを洗浄液３が流過可能に接続し、吐出管１１から吐出される洗浄液３を被洗浄面４ａに接触させる開口部１４を有する洗浄部１３と、洗浄部１３の開口部１４と反対側に位置する天板１５に当接して設けられ、開口部１４を介して被洗浄面４ａに接触する洗浄液３にＭＨｚ帯の超音波を印加する超音波素子１６とを含んで構成される。洗浄装置１０には、洗浄に使用された後の洗浄液３を、被洗浄面４ａ上に滞留させることなく回収できるという利点がある。
【０００８】
しかしながら、洗浄装置１０の洗浄部１３における洗浄液３の基板搬送方向に平行な鉛直断面の流速分布１７によれば、流速は被洗浄面４ａと天板１５との中間部辺りで最大になり、被洗浄面４ａに近接するほど小さくなる。すなわち、洗浄装置１０は、被洗浄面４ａに付着する図示しない微粒子に対して洗浄液３の流れが最も作用し難い構成になっており、微粒子除去能力が不充分であるという問題を有する。特に、直径数μｍ程度の微粒子の除去には、被洗浄面４ａと洗浄液３との界面における洗浄液３の流速が大きいことが重要であることから、洗浄装置１０は、直径数μｍ程度の微粒子をほとんど除去できない。また、洗浄効果の向上を目的として超音波素子１６を用いるけれども、超音波素子１６の使用はコストを増大させるという問題を有する。
【０００９】
一方、被洗浄面４ａ上の洗浄液３を吸引して除去する吸引ノズルは従来から使用されている。しかしながら、従来の吸引ノズルは、そのノズル端部が洗浄により除去された微粒子を含む洗浄液３に接触する状態で吸引する構成を採るので、吸引ノズルの外側に微粒子が付着し、この微粒子が次の吸引の際に洗浄液３および被洗浄面４ａを二次汚染するという問題がある。特に、平板状の基板４を洗浄液３により洗浄する場合には、除去した微粒子を多く含む洗浄液３が被洗浄面４ａ上で膜状になって滞留または残留するので、二次汚染の機会が増大する。また、吸引ノズルの先端が被洗浄面４ａに接触して物理的な損傷を与えることもある。
【００１０】
このような問題に鑑み、吸引ノズルの先端面を洗浄液３の液面から離隔して配置する洗浄液吸引装置が提案されている（たとえば特許文献２参照）。図６は、洗浄液吸引装置２０の構成を模式的に示す断面図である。図７は、図６に示す洗浄液吸引装置２０の吸引動作を説明するための断面図である。
【００１１】
洗浄液吸引装置２０は、洗浄液３を吸引する吸引ノズルであって、吸引ノズルの先端面２１ａが被洗浄面４ａ上の膜状の洗浄液３上面に間隙を開けて配置され、吸引ノズルの先端面２１ａの面積が吸引ノズルの吸引孔面積の３倍以上である吸引ノズル２１と、吸引ノズル２１によって吸引される洗浄液３を一時的に貯留する貯留空間２２ａを有し、貯留空間２２ａを臨み、貯留空間２２ａ内に貯留される洗浄液３を排出する排出孔２２ｂが形成される箱体２２とを有し、吸引ノズル２１の上端面２１ｂが排出孔２２ｂの上端部２２ｘよりも高い位置に配置されて箱体２２に接続されることを特徴とする。この洗浄液吸引装置２０によれば、吸引ノズル２１の先端面２１ａと、膜状の洗浄液３の上面との間には、わずかな間隙が設けられることから、吸引ノズル２１は膜状の洗浄液３に接触しない状態で吸引除去を行うので、吸引ノズル２１が洗浄液３および被洗浄面４ａの二次汚染の原因になることはない。また、吸引ノズル２１が被洗浄面４ａに物理的な損傷を与えることもない。
【００１２】
このような利点を有する洗浄液吸引装置２０ではあるけれども、洗浄能力を向上させるために、被洗浄面４ａに対する洗浄液３の吐出圧力を一層高め、被洗浄面４ａにおいて洗浄液３の一層速い流れを形成しようとする現状にあっては、洗浄液３の滞留部７の液面は平坦な膜状ではなく凹凸が生じるので、吸引ノズル２１では洗浄液３を充分に吸引できない場合が発生するおそれがあり、さらなる改良が望まれる。
【００１３】
また、洗浄液吸引装置２０を用いても、高圧ノズル２から高速で大量の洗浄液３を被洗浄面４ａに吐出させると、被洗浄面４ａ上に洗浄液３の滞留部７を生じ、この滞留部７によって洗浄液３の流れが堰き止められて図示しない付着微粒子を除去できる範囲が狭まるという問題は解消されない。
【００１４】
【特許文献１】特開平１０−１７７９７８号公報
【特許文献２】特開２００１−１７０５７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の目的は、基板の被洗浄面に高速で大量の洗浄液を供給しても、被洗浄面での洗浄液の滞留が起こり難く、被洗浄面の全面で洗浄液が吐出当初の流過速度をほぼ維持しながら流れ、付着微粒子の除去可能範囲を被洗浄面のほぼ全面にまで拡げることができ、洗浄能力が高くかつ二次汚染のおそれが非常に少ない洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、基板の被洗浄面に洗浄液を供給して、被洗浄面上の付着微粒子を除去する洗浄装置において、
基板の上方に、被洗浄面から間隔を開けて被洗浄面を臨むように設けられ、被洗浄面に対して基板搬送方向とは逆の方向に洗浄液を吐出する高圧ノズルと、
高圧ノズルよりも基板搬送方向上流側の基板の上方に、被洗浄面から間隔を開けて被洗浄面を臨むように設けられ、被洗浄面上の洗浄液を吸引する洗浄液吸引手段とを含むことを特徴とする洗浄装置である。
【００１７】
また本発明は、
洗浄液吸引手段が洗浄液を吸引するための吸引口を有し、
該吸引口の形状は、基板搬送方向に垂直な方向の長さが基板搬送方向の長さよりも大きい方形状であることを特徴とする。
【００１８】
さらに本発明の洗浄装置は、
吸引口が、高圧ノズルから吐出される洗浄液の被洗浄面への到達位置から基板搬送方向上流側へ１００ｍｍ以上離隔した位置に配置されるように設けられることを特徴とする。
【００１９】
さらに本発明の洗浄装置は、
洗浄液吸引手段の洗浄液吸引量が、高圧ノズルの洗浄液吐出量よりも多いことを特徴とする。
【００２０】
さらに本発明の洗浄装置は、
洗浄液吸引手段が、
被洗浄面の上方から基板に対して垂直に離隔する方向に延び、吸引された洗浄液がその内部を流過する縦部材と、
縦部材の内部に洗浄液を供給できるように連接され、縦部材の被洗浄面側の端部から基板の搬送方向下流側に延び、少なくとも下部に吸引口が形成される横部材とを有する吸引部材を含み、
吸引部材の基板搬送方向における断面形状がＬ字状であることを特徴とする。
【００２１】
さらに本発明の洗浄装置は、
洗浄液吸引手段の基板に垂直な方向における横部材の最下端面と被洗浄面との離隔距離が５ｍｍ以下であることを特徴とする。
【００２２】
さらに本発明の洗浄装置は、
洗浄液吸引手段の横部材が３ｍｍ以上の基板搬送方向の長さを有することを特徴とする。
【００２３】
さらに本発明の洗浄装置は、
高圧ノズルが、被洗浄面における洗浄液の流速が１０ｍ／ｓｅｃ以上になるように洗浄液を吐出することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、高圧ノズルと洗浄液吸引手段とを含む洗浄装置において、基板の被洗浄面上方に被洗浄面から間隔を開けて、基板の搬送方向下流側から上流側に向けて高圧ノズルおよび洗浄液吸引手段を別々にこの順番で設け、高圧ノズルにより基板の搬送方向下流側から上流側に向けて洗浄液を吐出し、この洗浄液を洗浄液吸引手段により吸引する構成を採ることによって、被洗浄面上で洗浄液が滞留するのが防止され、被洗浄面上で常に洗浄液の速い流れが形成され、高い洗浄能力が発現される。また、洗浄液の速い流れが被洗浄面上で堰き止められることがなく、被洗浄面から除去される微粒子を含む洗浄液は速やかに被洗浄面から除去されるので、洗浄液および被洗浄面が二次汚染するおそれもない。また、洗浄液の流れのみでも被洗浄面上の付着微粒子を除去でき、超音波素子などの洗浄能力の向上を目的として設置される高コストの機器類を用いる必要がないので、経済的でもある。なお、本発明の洗浄装置においては、被洗浄面上における洗浄液の速い流れは、被洗浄面との摩擦により幾分減速するけれども、付着微粒子の除去に影響を及ぼすものではない。
【００２５】
本発明によれば、洗浄液吸引手段の吸引口の形状を、搬送方向に垂直な方向の長さが搬送方向の長さよりも大きい方形状とすることによって、除去された微粒子を含む洗浄液の吸引回収が円滑に実行され、被洗浄面での洗浄液の流れが安定し、高い洗浄能力が発揮される。
【００２６】
本発明によれば、洗浄液吸引手段の吸引口を、高圧ノズルから吐出される洗浄液の被洗浄面上での到達位置から基板搬送方向上流側へ１００ｍｍ以上離隔した位置に配置することによって、付着微粒子の除去可能範囲が著しく拡大し、付着微粒子の除去可能範囲以外の被洗浄面での洗浄液の滞留も起こらないので、被洗浄面の洗浄を効率良く実施できる。
【００２７】
本発明によれば、洗浄液吸引手段の洗浄液吸引量を、高圧ノズルの洗浄液吐出量よりも多くすることによって、被洗浄面上での洗浄液の滞留が一層少なくなり、洗浄能力の一層の向上、二次汚染のさらなる防止などを図ることができる。
【００２８】
本発明によれば、洗浄液吸引手段を、被洗浄面の上方から基板に対して垂直に離隔する方向に延びる縦部材と、縦部材に連接されて縦部材の被洗浄面側の端部から基板の搬送方向下流側に延び、少なくとも下部に吸引口が形成される横部材とを含み、その内部に、吸引口から吸引した洗浄液の流過路を有し、基板搬送方向における断面形状がＬ字状になるように構成することによって、洗浄液の吸引効率がさらに高まり、それに伴って洗浄液の速い流れの整流化が一層進行し、洗浄能力の向上が顕著になる。
【００２９】
本発明によれば、横部材の下端面と被洗浄面との基板に垂直な方向の離隔距離が５ｍｍ以下になるように洗浄液吸引手段を配置することによって、洗浄液を吸引する際に、空気を巻き込む吸引不良などが発生するのを防止し、洗浄液の吸引・回収を効率良くかつ安定的に実施できる。
【００３０】
本発明によれば、横部材の基板搬送方向の長さを３ｍｍ以上とすることによっても、洗浄液を吸引する際に、気体を巻き込む吸引不良などが発生するのを防止し、洗浄液の吸引・回収を効率良くかつ安定的に実施できる。
【００３１】
本発明によれば、高圧ノズルから吐出される洗浄液が、１０ｍ／ｓｅｃ以上の流速で被洗浄面上を流過するように構成することによって、たとえば、ガラス基板上に付着する径数μｍ程度の微粒子であっても、速やかに除去・回収できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
図１は、本発明の実施の第１形態である洗浄装置２５の構成を模式的に示す断面図である。図２は、図１に示す洗浄装置２５による洗浄機構を模式的に示す断面図である。
【００３３】
洗浄装置２５は、高圧ノズル２と、洗浄液吸引手段２６と、基板搬送手段２７とを含んで構成される。
【００３４】
高圧ノズル２は、基板４の被洗浄面４ａ上方において、その先端面２ａに形成される図示しないスリット状開口部である洗浄液吐出口が被洗浄面４ａを臨むように設けられ、該洗浄液吐出口から被洗浄面４ａに向けて基板搬送方向２８とは逆方向、すなわち基板搬送方向２８の下流側から上流側に洗浄液３を吐出する。被洗浄面４ａに吐出される洗浄液３は、被洗浄面４ａにおいて基板搬送方向２８とは逆方向の速い流れ（せん断流）５を形成し、被洗浄面４ａを流過する。
【００３５】
高圧ノズル２の長手方向、すなわち被洗浄面４ａにおける基板搬送方向２８に対して垂直な方向（以後特に断らない限り単に「搬送方向２８に垂直な方向」と称す）の長さは、基板４の幅（搬送方向２８に垂直な方向の長さ）よりも大きく形成される。また、高圧ノズル２の先端面２ａにおけるスリット状開口部におけるスリットも、搬送方向２８に対して垂直な方向に平行になるように形成される。
【００３６】
高圧ノズル２は、洗浄液３を貯留する図示しない洗浄液貯留タンクから図示しない洗浄液供給管を介して洗浄液３の供給を受ける。洗浄液３には、たとえば、純水などの不純物含有量が非常に少ない液体を使用できる。
【００３７】
また、その内部には、洗浄液３の吐出圧力を制御する吐出圧制御手段を有し、洗浄液３の吐出圧ひいては被洗浄面４ａにおける洗浄液３の速い流れ（せん断流）５の流速（以後「せん断流速」と称す）を適宜調整できるので、被洗浄面４ａを所望の清浄度に洗浄できる。したがって、基板４の用途に応じて、その用途に適する清浄度を選択できる。本実施の形態では、せん断流速が１０ｍ／ｓｅｃ以上になるように、高圧ノズル２における洗浄液３の吐出圧を調整する。たとえば、洗浄液３に純水を用いる場合は、２０〜６０ｍ／ｓｅｃ程度の流速で洗浄液３が吐出されるように、吐出圧を調整すればよい。洗浄液３の流速２０〜６０ｍ／ｓｅｃ程度での吐出により形成される、洗浄液３の速い流れ５は、被洗浄面４ａとの摩擦により幾分減速されるものの、１０ｍ／ｓｅｃ以上の高い流速を保持できるので、付着微粒子６の除去範囲を、洗浄液３の被洗浄面４ａ上での到達位置４ｂから基板搬送方向２８上流側へ、１００ｍｍ以上の範囲に拡げることができる。これによって、被洗浄面４ａに付着するのが径数μｍ程度の超微粒子であっても、容易に除去できる。
【００３８】
また、被洗浄面４ａに吐出される洗浄液３と被洗浄面４ａとがなす角度θは特に限定されないけれども、好ましくは４５〜９０°である。角度θを適宜選択することによって、高圧ノズル２から吐出される洗浄液３が被洗浄面４ａに衝突する際の衝撃力および衝突後のせん断流速を調節できる。
【００３９】
高圧ノズル２によれば、被洗浄面４ａに対して基板搬送方向２８の下流側から上流側に向けて洗浄液３を吐出する。吐出される洗浄液３は、速い流れ５を形成して被洗浄面４ａ上を基板搬送方向２８の下流側から上流側に流過する。速い流れ５中では、被洗浄面４ａに垂直な方向において被洗浄面４ａから離反するほど流速が大きくなる流速分布４０が生じ、被洗浄面４ａの近傍では流速が相対的に小さい。しかしながら、速い流れ５の中で、被洗浄面４ａから最も離反する位置である表面近傍における速い流れ４１の流速Ｄを１０ｍ／ｓｅｃ以上にすることによって、被洗浄面４ａ近傍の流速が相対的に小さい流れ部分の被洗浄面４ａに垂直な方向の厚みが薄くなり、その上の流速が相対的に大きい流れ部分が付着微粒子６に作用するようになる。したがって、被洗浄面４ａ上の数μｍ〜数十μｍの大きさを有する付着微粒子６を容易に除去できる。なお、除去される付着微粒子６は速い流れ５中によって基板搬送方向２８の下流側から上流側に向けて搬送され、洗浄液３とともに後述する洗浄液吸引手段２６により速やかに吸引・回収される。したがって、除去された付着微粒子６が清浄化された被洗浄面４ａに再度付着することもない。
【００４０】
洗浄液吸引手段２６は、吸引部材３０と、吸引部材３０に接続されて洗浄液３を吸引回収するための図示しない吸引回収吸手段と、吸引部材３０または吸引回収手段に接続されて吸引回収される洗浄液３を一時的に貯留する図示しない洗浄液回収槽とを含んで構成される。
【００４１】
吸引部材３０は、高圧ノズル２よりも基板搬送方向２８上流側の基板４の上方に、被洗浄面４ａから間隔を開けて被洗浄面４ａを臨むように設けられる。
【００４２】
吸引部材３０は、具体的には、被洗浄面４ａの上方から被洗浄面４ａに対して垂直に離隔する方向に延び、内部に吸引された洗浄液３を流過させる流過路３２を有する中空状縦部材である吸引管３１と、吸引した洗浄液３を流過路３２に供給できるように吸引管３１の被洗浄面４ａ側端部３１ａに連接されて該端部３１ａから被洗浄面４ａに平行にかつ基板搬送方向２８の下流側に延びる横部材３４とを含んで構成される。
【００４３】
また、吸引部材３０は、搬送方向２８に垂直な方向の両端部に図示しない側壁が設けられる。この側壁の被洗浄面４ａに近接する下端面は、吸引管３１の基板搬送方向２８上流側の背面壁３３における下端面３３ａから基板搬送方向２８の横部材端部３４ａの被洗浄面４ａに垂直な方向の下方まで、横部材３４に平行にかつ基板搬送方向２８に延びる。すなわち、吸引部材３０の吸引口３５は、吸引部材３０の搬送方向２８に垂直な方向の両端部に設けられる側壁と、吸引管３１の背面壁３３と、横部材３４とで構成される空洞部分を意味する。
【００４４】
また、吸引部材３０は、基板搬送方向２８における断面形状がＬ字状である。したがって、洗浄液３の速い流れ５に対向するように吸引口３５が設けられ、その洗浄液の速い流れ５が滞留部８を形成する前または同時くらいに洗浄液３を吸引できるので、洗浄液３の滞留部８の発生を防止するのに適する構成になっている。
【００４５】
吸引管３１は、被洗浄面４ａに対して垂直方向の一端すなわち端部３１ａが横部材３４に連接され、他端３１ｂが図示しない吸引回収手段および洗浄液回収槽に連結される中空状部材である。吸引管３１は、搬送方向２８に垂直な方向において、基板４よりも大きい長さに形成されるのが好ましい。また、吸引管３１に連結される吸引回収手段には公知のものを使用でき、たとえば、真空吸引ポンプなどが挙げられる。吸引回収手段により吸引管３１および横部材３４に吸引圧が付加され、それによって、洗浄液３の吸引・回収が実施される。
【００４６】
横部材３４は、一端が吸引管３１の端部３１ａに連接され、被処理面４ａに平行に基板搬送方向２８に延びる板状部材である。横部材３４は、吸引管３１と同様に、搬送方向２８に垂直な方向において、吸引管３１と同じ長さでかつ基板４よりも大きい長さに形成されるのが好ましい。吸引口３５から吸引される洗浄液３の流れが横部材３４の下面に接触することによって、洗浄液３の流れの表面が整流化され、吸引の際に気体を巻き込んで吸引不良が発生するのを防止し、洗浄液３の吸引を円滑に実行できる。したがって、除去された微粒子６を含む洗浄液６は遅滞なく吸引され、被洗浄面４ａ上で滞留することがなく、微粒子６の被洗浄面４ａへの再付着が防止される。
【００４７】
本実施の形態の吸引部材３０においては、横部材３４の基板搬送方向２８の長さよりも、吸引部材３０の搬送方向２８に垂直な方向の長さの方を大きく形成し、吸引口３５が方形状の空洞部分とするのが好ましい。これによって、被洗浄面４ａの全面にわたって洗浄液３の吸引が円滑に実行され、滞留が非常に発生し難い。
【００４８】
本実施の形態の吸引部材３０においては、吸引口３５は、高圧ノズル２から吐出される洗浄液３の被洗浄面４ａへの到達地点４ｂから基板搬送方向２８上流側へ１００ｍｍ以上離隔した位置に設けられる。ここで、吸引口３５の位置は、横部材３４の基板搬送方向２８下流側の端部３４ａを基準とする。すなわち、到達地点４ｂと、横部材端部３４ａを被洗浄面４ａに投影した位置４ｃとの距離Ｄ１が１００ｍｍ以上である。これによって、付着微粒子６の除去可能範囲が拡大し、基板４を効率良く洗浄できる。
【００４９】
本実施の形態の吸引部材３０においては、吸引部材３０の単位時間当たりの洗浄液吸引量が、高圧ノズル２の単位時間当たりの洗浄液吐出量よりも多くなるように設定するのが好ましい。これによって、被洗浄面４ａ上で洗浄液３の滞留部８が発生するのを一層防止できる。
【００５０】
本実施の形態の吸引部材３０においては、横部材３４の下面と、被洗浄面４ａとの間隔Ｄ２は、５ｍｍ以下に設定する。その上で、吸引管３１の背面壁３３の下端面３３ａと被洗浄面４ａとの間の長さが間隔Ｄ２よりも小さくなるように設定するのが好ましい。被洗浄面４ａ上での洗浄液３の速い流れ５は、被洗浄面４ａに垂直方向の厚みが最大でも５ｍｍ程度である。したがって、間隔Ｄ２を５ｍｍ以下に設定することによって、洗浄液３のみが吸引口３５内に導入され、吸引の際における気体の巻き込みによる吸引不良の発生が非常に少なくなり、洗浄液３を効率良く吸引できる。さらに、万が一吸引部材３０の吸引能力を超える洗浄液３が吸引口３５に導入されても、背面壁３３の下端面３３ａと被洗浄面４ａとの間に、僅かではあるけれども間隔が開けられるので、その部分から余分な洗浄液３を逃がし得るので、洗浄液３の逆流を防止できる。
【００５１】
本実施の形態の吸引部材３０においては、横部材３４の基板搬送方向２８下流側端部３４ａから上流側端部３４ｂまでの長さＤ３は、３ｍｍ以上に設定する。これによって、洗浄液３を吸引する際に、洗浄液３自体の粘性を利用して、洗浄液３を吸引口３５内に取り込むのが容易になる。その結果、吸引の際における気体の巻き込み量がさらに減少し、洗浄液３の吸引効率が高まり、被洗浄面４ａの洗浄を円滑に実行できる。
【００５２】
吸引部材３０によれば、基板４の被洗浄面４ａ上で速い流れ５を形成し、被洗浄面４ａから除去される微粒子６を含む洗浄液３を効率良く吸引・回収できるので、被洗浄面４ａ上で洗浄液３の滞留部８が発生して、微粒子６が被洗浄面４ａに再付着するのが防止される。また、吸引部材３０は、被洗浄面４ａに対して間隔を開けて設けられるので、その側壁などに付着する微粒子によって、被洗浄面４ａなどが二次汚染されることがない。
【００５３】
洗浄液吸引手段２６によれば、吸引部材３０により吸引される洗浄液３が、吸引部材３０から洗浄液回収槽に送給されて一時的に貯留され、さらに廃液として排出されるかまたは浄化処理を施されて再利用される。
【００５４】
基板搬送手段２７は、図示しない駆動手段により軸心回りに回転駆動可能に支持され、基板４を水平方向に移動可能に載置する複数の搬送ローラ３６を含んで構成され、基板４を矢符２８の方向に搬送する。
【００５５】
基板搬送手段２７によれば、搬送ローラ３６上に被洗浄面４ａが上を向くように基板４を載置し、矢符２８の方向に搬送する。その途中で、被洗浄面４ａへの高圧ノズル２による洗浄液３の吐出および洗浄液吸引手段２６による洗浄液３の吸引回収を受けて、被洗浄面４ａが洗浄された後、基板４は次工程に搬送される。
【００５６】
本発明の洗浄装置２５によれば、高圧ノズル２から吐出される洗浄液３が基板４の被洗浄面４ａ上の流過方向と同じ方向に洗浄液３を吸引するように洗浄液吸引手段２６を設けることによって、洗浄液３の滞留部８をなくし、洗浄液３の速い流れ５を形成する範囲を、従来の洗浄装置における除去可能範囲Ｄ５から除去可能範囲Ｄ４に拡大でき、被洗浄面４ａ上の付着微粒子６を除去し得る範囲が拡大する。このように、速い流れ５の範囲が拡大しても、洗浄液吸引手段２６による洗浄液３の吸引を行わない場合は、図１の点線部分に示す洗浄液３の滞留部８が起こり、洗浄液３の速い流れ５がせき止められて速い流れ５の領域が除去可能範囲Ｄ５に狭まるけれども、洗浄液吸引手段２６による洗浄液３の吸引が行われるので、除去可能範囲Ｄ４が狭まることがなく、高い洗浄能力が発現される。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施の第１形態である洗浄装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】図１に示す洗浄装置による洗浄機構を模式的に示す断面図である。
【図３】従来の一般的な洗浄装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図４】図３に示す洗浄装置による洗浄機構を模式的に示す断面図である。
【図５】従来の洗浄装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図６】従来の洗浄液吸引装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図７】図６に示す洗浄液吸引装置の吸引動作を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
２  高圧ノズル
３  洗浄液
４  基板
４ａ  被洗浄面
５  洗浄液の速い流れ
６  付着微粒子
７，８  滞留部
２５  洗浄装置
２６  洗浄液吸引手段
２７  基板搬送手段
２８  基板搬送方向
３０  吸引部材
３１  吸引管
３２  流過路
３３  吸引管背面壁
３４  横部材
３５  吸引口
３６  搬送ローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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