(57)【要約】【課題】回路基板等の製造時の工程離型シートとして好適な、安価な複合シートを提供する。【解決手段】離型面を形成するポリフェニレンサルファイド層の平均表面粗さが５ｎｍ以上であり、ポリフェニレンサルファイド層の厚みが０．１〜２００μｍの範囲にあり、ポリフェニレンサルファイド層が共押出により他の樹脂層と積層され、水冷下向きチューブラー方式あるいは空冷上向きインフレーション方式で製造された実質的に未延伸のシートからなる、ポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型面を形成するポリフェニレンサルファイド層の平均表面粗さが５ｎｍ以上であり、前記ポリフェニレンサルファイド層の厚みが０．１〜２００μｍの範囲にあり、前記ポリフェニレンサルファイド層が共押出により他の樹脂層と積層された実質的に未延伸のシートからなることを特徴とする、ポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項２】
前記離型面の平均表面粗さが１００ｎｍ以下である、請求項１に記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項３】
シートの加熱収縮率の最大値と最小値との差が０．５％以下である、請求項１または２に記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項４】
下向き水冷方式のチューブラー方式で製造された総厚み１０μｍ〜５００μｍのシートからなる、請求項１〜３のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項５】
上向き空冷方式のインフレーション方式で製造された総厚み１０μｍ〜５００μｍのシートからなる、請求項１〜３のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項６】
シートの幅方向端部がポリフェニレンサルファイド層で覆われた形態に形成されている、請求項４または５に記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項７】
前記他の樹脂層が、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフタレートの共重合体のいずれかからなる、請求項１〜６のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項８】
前記ポリフェニレンサルファイド層と前記他の樹脂層との間に、両層間の接着性、密着性を上げるための別の層が介在されている、請求項１〜７のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【請求項９】
各種製品の製造工程における離型シートとして用いられるものからなる、請求項１〜８のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートに関し、とくに、電子回路基板等の製造時に離型シートとして用いて好適な、離型表面層にポリフェニレンサルファイド層を持つ複合シートに関するものである。さらに詳しくは、離型時にフィルム表面の削れが少なく（耐汚染性に優れ）、加工時の離型性、および寸法安定性に優れたポリフェニレンサルファイド層が存在し、クッション性のある比較的安価な異素材とともに下向き水冷チューブラー方式か上向き空冷インフレーション方式にて製造されたシートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子機器、情報機器の需要拡大に伴い、ガラスエポキシを基板としたリジッドな電子回路に加え、いわゆるフレキシブルプリントサーキット（ＦＰＣ）と呼ばれるポリイミドを基板、カバーレーとして採用した電子回路の需要も大きく拡大している。これらの電子回路の製造においては、積層工程にてエポキシ樹脂等で接着する工程があり、現在はトリメチルペンテン（TPX）やポリビニルフロライド（PVF）、フロライドエチレンポリプロピレン（FEP）、トリエチレンフロライドエチレン（ETFE）などを工程離型用シートとして使用しているケースが多い。
【０００３】
また、電子機器は小型化、高機能化と低価格化が同時に進み、製造工程で使用される各材料も、性能を維持したままで低コストのものが求められている。
【０００４】
従って、離型用途に用いられるシートやフィルムにも品質要求、低価格化が厳しく求められてきている。回路基板の品質を阻害しないために、表面性や平面性に優れることはもちろんのこと、加工時の作業性をよくするために、クッション性や耐熱性、熱寸法安定性、耐薬品性、離型性、機械特性、耐汚染性（離型時にシートやフィルムの削れ粉が転写してしまうことや、シートやフィルム表面に別の離型塗料が塗布されていると離型時に該塗料等が被離型膜に転写してしまうことがあり、その恐れがないこと）等を兼ね備えている必要がある。
【０００５】
従来この分野に用いられていたフィルムやシートとしては下記のものを挙げることができる。
（１）ポリエチレンフィルム、シート
（２）ポリプロピレンフィルム、シート
（３）ポリエステルフィルム
（４）ポリイミドフィルム
（５）弗素系フィルム
（６）トリメチルペンテンフィルム、シート
加えて、ポリフェニレンサルファイドフィルムも特許文献１、２、３等で提案されている。
【０００６】
しかし、上記のフィルムやシートは次の問題点を有していた。（１）、（２）のフィルムやシートは離型性や耐薬品性に富むが耐熱性に問題がある。（３）のフィルムは耐熱性や耐薬品性、離型性の点で問題がある。該フィルムが離型分野に用いられる場合には、フィルム表面に離型塗料を塗布するケースが多く、汚染性が問題となる。また耐熱的には２００℃程度が限度で、それ以上の温度にさらされると急激に熱収縮してしまう。また、（４）のフィルムは耐熱性に富むが耐薬品性（特にアルカリに弱い）や離型性およびフィルムの均質性の問題があった。さらに、（５）のフィルムは離型性に富むが機械特性に問題があり、加工時に高張力がかかるとフィルムが変形してしまう。
【０００７】
一方、ポリフェニレンサルファイドフィルムは、耐熱性、熱寸法安定性、耐薬品性、機械特性、離型性に優れており、高機能膜等の離型フィルムとしては好適なものである。しかし、ポリフェニレンサルファイドフィルムは、単体では価格が高いので、ポリフェニレンサルファイドフィルム単体を、例えば離型フィルムとして用いようとすると、利用分野が制限されることとなっていた。
【特許文献１】特開昭５３−１０８８８３号公報
【特許文献２】特開昭５４−１３７５５４号公報
【特許文献３】特開２００５−７７４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明の課題は、ポリフェニレンサルファイドを素材とするシートやフィルムの優れた耐熱性、熱寸法安定性、耐薬品性、機械特性、離型性に着目し、これら優れた特性を活かしつつ、さらに衝撃吸収性（クッション性）等に富むシートを安価に構成可能で、回路基板製造時の離型用途等に用いて好適な、離型面がポリフェニレンサルファイドからなる、ポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明に係るポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートは、離型面を形成するポリフェニレンサルファイド層の平均表面粗さが５ｎｍ以上であり、前記ポリフェニレンサルファイド層の厚みが０．１〜２００μｍの範囲にあり、前記ポリフェニレンサルファイド層が共押出により他の樹脂層と積層された実質的に未延伸のシートからなることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明に係る複合シートにおいては、他の樹脂層との積層構成とすることにより、ポリフェニレンサルファイド層からなる離型層にクッション性を持たせることが可能になり、かつ、ポリフェニレンサルファイド層自体は薄層の構成可能であることから、比較的高価なポリフェニレンサルファイドの使用量を少量に抑えつつ他の樹脂層を比較的安価な素材で構成でき、シート全体は安価に形成可能となる。また、離型面を、耐熱性、熱寸法安定性、耐薬品性、機械特性、離型性に富み、表面粗大突起の少ないポリフェニレンサルファイド層で形成するので、優れた離型性とともに、離型時にシート表面の削れの少ない、耐汚染性に優れた面に形成でき、望ましい離型シートが構成される。
【００１１】
この本発明に係る複合シートにおいては、上記離型面の平均表面粗さは１００ｎｍ以下であることが好ましい。また、シートの加熱収縮率の最大値と最小値との差が０．５％以下であることが好ましい。
【００１２】
このような本発明に係る複合シートは、例えば、下向き水冷方式のチューブラー方式で製造された総厚み１０μｍ〜５００μｍのシートとして製造できる。あるいは、上向き空冷方式のインフレーション方式で製造された総厚み１０μｍ〜５００μｍのシートとして製造可能である。このような方式で製造された複合シートでは、シートの幅方向端部がポリフェニレンサルファイド層で覆われた形態に形成することができ、シート端部が表層材であるポリフェニレンサルファイドで覆われ、内部に上記他の素材が位置するシート形態とできるので、耐汚染性の一層の改善が可能になる。また、離型シートとして使用される際、内層を構成する上記他の樹脂層をポリフェニレンサルファイド層で包み込むことが可能になり、内層がはみ出す不具合を回避することも可能になる。
【００１３】
上記他の樹脂層としては、例えば、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレンナフタレートの共重合体のいずれかを使用できる。
【００１４】
また、上記他の樹脂層がポリフェニレンサルファイドと相溶性が低い場合には、上記ポリフェニレンサルファイド層と上記他の樹脂層との間に、両層間の接着性、密着性を上げるための別の層が介在されていてもよい。
【００１５】
このような複合シートは、例えば、各種製品（とくに、前述したような回路基板）の製造工程における離型シートとして好適に用いることが可能である。
【発明の効果】
【００１６】
このように、本発明に係るポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートによれば、耐熱性、熱寸法安定性、耐薬品性、機械特性、離型性に優れ、表面粗大突起の少なく、離型時にシート表面の削れが少ない、耐汚染性に優れた安価な離型用シートを提供できる。また、このポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートは、離型シートの最終製品幅にて、効率よく生産することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明について、望ましい実施の形態とともに、詳細に説明する。
本発明に係るポリフェニレンサルファイドと異素材との複合シートは、離型面を形成するポリフェニレンサルファイド層の平均表面粗さが５ｎｍ以上であり、ポリフェニレンサルファイド層の厚みが０．１〜２００μｍの範囲にあり、ポリフェニレンサルファイド層が共押出により他の樹脂層と積層された実質的に未延伸のシートからなる。
【００１８】
本発明における平均表面粗さとは、ＤＩＮ−４７６８、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１等の規格で定められた方法で測定したフィルム表面の微細凹凸の平均値でｎｍで表したものである。該平均粗さが５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下（より好ましくは７ｎｍ以上、２５ｎｍ以下）の範囲にないと、加工性が悪く、被離型膜の表面に欠陥が発生しやすくなり、本発明の目的が達成しにくくなる。すなわち、該平均表面粗さが５ｎｍ未満ではシートを巻き取ったときやシートの製造時または加工時に、搬送ロールを通した際にシート表面に擦り傷が入り、該傷が離型後の被離型膜に転写してしまうし、加工時の作業性も低下するおそれがある。さらには被離型膜との密着性が高くなるため剥離時の応力でシート表面が削れ、削れ粉が被離型膜の欠陥となるおそれもある。一方、平均表面粗さが１００ｎｍを越えると、シート表面に粗大突起を形成し、被離型膜に欠陥を発生させてしまうおそれがある。
【００１９】
本発明における実質的に未延伸とは製造工程内で自然に微延伸されることも含まれる概念である。
【００２０】
本発明における好適な態様の１つとして、シート幅方向の直線上の範囲内でシート幅方向および／またはシート長手方向の加熱収縮率の最大値と最小値の差が０．５％以下である離型用ポリフェニレンサルファイドフィルムと他の素材との共押出複合シートが挙げられる。以下、これについて詳細に説明する。
【００２１】
ここでシート幅方向の直線上の範囲内とは、シート製造時の工程においてシートが流れる方向（シート長手方向）に対して直交する方向がシート幅方向であり、このシート幅方向でのシート全幅に亘る直線上の範囲内であることを指す。加熱収縮率の差を有意に測定・評価するためには、前記シート全幅の長さは、５０ｃｍ以上であるべきである。ここでシートの方向が定かでない場合は、シートの超音波伝達速度を測定し、最も伝達速度の速い方向をシート長手方向（ＭＤ）としてもよい。
【００２２】
また、加熱収縮率（Ｓ）とは、２２０℃に加熱エージングする処理において、処理前シートの寸法（Ｘ）に対する、処理後シートの寸法（Ｙ）と処理前シートの寸法の差の比を百分率で表した特性（Ｓ＝１００×（Ｘ−Ｙ）／Ｘ［％］）であり、正が収縮率、負が膨脹率を意味し、％表示する。シート幅方向の直線上の範囲内で加熱収縮率を、シート長手方向、シート幅方向のそれぞれについて測定し、シート長手方向は長手方向同士、シート幅方向は幅方向同士の加熱収縮率を比較して最大値と最小値の差をそれぞれ求める、本発明ではその差の絶対値（｜最大値−最小値｜）は、シート幅方向とシート長手方向のいずれも、好ましくは０．５％以下（より好ましくは０．３％以下）である。該加熱収縮率差が０．５％を越えると加工工程での熱処理の際に熱収縮挙動がシート幅方向で均等ではなく、シートの厚み斑が顕在化するために被離型膜の均質性が悪くなり本発明の目的を達成できなくなるおそれがある。
【００２３】
上記最大値と最小値を求めるためには、例えば、適切な間隔でサンプリングして加熱収縮率を測定し、加熱収縮率変化曲線を推算してもよいが、本発明においては、以下の測定方法を用いることが適切である。
【００２４】
まず、シート幅方向の加熱収縮率については、シート幅方向の直線上の範囲内でフィルム幅方向長さ１０ｃｍの試料片を採取し、それらの加熱収縮率の最大値と最小値の差を求める。この差が０．５％以下である離型用ポリフェニレンサルファイドと異素材の共押出複合シートが好ましい。
【００２５】
一方、シート長手方向の加熱収縮率については、シート幅方向の直線上の範囲内でシート長手方向長さ１０ｃｍの試料片を採取し、それらの加熱収縮率の最大値と最小値の差を求める。この差が０．５％以下である離型用ポリフェニレンサルファイドと異素材の共押出複合シートが好ましい。
【００２６】
なお、上記シート幅方向の直線上の範囲内とは、シート幅方向に採った各サンプル点乃至はサンプル領域の対応部分がシート幅方向に平行な直線上に並んでいることも意味する。サンプル領域の対応部分とは、例えば、加熱収縮率を測定するために採取する試料片のシート長手方向の前（後）端部である。また、試料片の採り方としては、シート幅方向の一端から他端に向けて各試料片が隣接するように同寸法で採っていく。もし、他端において上記所定寸法に満たない余りが生じれば、その余りは試料片としては採取しないものとする。そして、左記の通りの余りが生じる場合には、上記採取した試料片とシート長手方向に隣接して、今度は逆に前記他端から一端へと同様にして試料片を採取する。そして、この２つの試料群を合せて測定および判定をすればよい。
【００２７】
本発明における離型とは、目的とする樹脂や樹脂組成物の層（あるいは膜、シート）を別の基材に一旦塗布やラミネートなどの方法で設けた後、少なくとも一度剥離工程を設けて、目的とする被離型膜を該基材から剥離分離して得ることをいい、このような用途に用いられる基材シートを離型用シートまたは離型シートという。本発明に係る離型シートの厚みは、総厚みとして、１０〜５００μｍであることが好ましく、１０〜２００μｍが本発明の効果を効率よく発揮でき特に好ましい。すなわち、該シートの厚みが１０μｍ未満ではシートの腰が弱すぎて加工後の剥離工程で被離型膜を剥離しにくくなる。また逆に厚みが５００μｍを越えると、シートの腰が強すぎて加工工程で被離型膜が剥離してしまうことがあり作業性が低下する。
【００２８】
本発明において、ポリフェニレンサルファイド層を構成するポリフェニレンサルファイドとは、繰り返し単位の８０モル％（好ましくは９０モル％以上）が下記化１で示される構成単位からなる重合体をいう。
【００２９】
【化１】
2007216627.tif 000002
【００３０】
かかる成分が８０モル％未満では、ポリマーの結晶性、軟化点等が低くなり、得られるシートの耐熱性、寸法安定性および機械的特性などを損なう。繰り返し単位の２０モル％未満（好ましくは１０モル％未満）であれば、共重合可能なスルフィド結合を含有する上記化１以外の構成単位が含まれていても差し支えない。該重合体の共重合の仕方はランダム、ブロックを問わない。
【００３１】
本発明において、上記のような成分からなるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物層は、上記ポリフェニレンサルファイド（好ましくはポリ−ｐ−フェニレンサルファイド）を９０重量％以上含む樹脂組成物からなる層である。樹脂組成物中の残りの１０重量％未満は、ポリフェニレンサルファイド以外のポリマーおよび／または充填剤、滑剤、着色剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤等の添加剤であってもかまわない。また、本発明における、このようなポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の溶融粘度は、温度３００℃、せん断速度２００ｓｅｃ-1のもとで１００〜５００００ポイズ、さらには５００〜１２０００ポイズの範囲にあることが、製膜性の面で好ましい。この数値範囲の下限値を下回るとポリマー粘度が高すぎるため溶融押出が困難となり、得られたシートの厚み斑も悪い。一方、上限値を上回るとシート状への成形が困難であり、製膜時のシート破れが多発する。
【００３２】
本発明のポリフェニレンサルファイドと異素材の共押出複合シートとは、上記のようなポリフェニレンサルファイド樹脂組成物と他素材とを溶融成形した共押出未延伸シートを含むものである。
【００３３】
次に、本発明の離型用ポリフェニレンサルファイドと異素材との共押出し複合シートの好ましい製造方法の例について説明する。但し、本発明に係る複合シートの製造方法はこの方法に限定されるものではない。
【００３４】
ポリフェニレンサルファイドの重合方法としては、硫化アルカリとジハロベンゼンを極性溶媒中で高温高圧下に反応させる方法を用いる。特に、硫化ナトリウムとジクロルベンゼンをＮ−メチルピロリドン等のアミド系高沸点溶媒中で反応させるのが好ましい。重合度を調整するために苛性アルカリ、カルボン酸アルカリ金属塩などの重合助剤を添加して、２３０〜２８０℃の温度で反応させるのが最も好ましい。重合系内の圧力および重合時間は、使用する助剤の種類や量および所望する重合度等によって適宜決定される。
【００３５】
重合を終わったポリマーを例えばＮ−メチルピロリドンのようなポリフェニレンサルファイドと親和性のある溶媒で高温洗浄した後に水洗、乾燥することでポリフェニレンサルファイド粉末が得られる。
【００３６】
このようにして得られた樹脂粉末をベースにして、ポリフェニレンサルファイド樹脂あるいはポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を製造する。まず、本発明の離型用ポリフェニレンサルファイド層により形成される離型面の平均表面粗さを本発明の範囲に制御するためには、無機または有機の滑剤を、上記粉状または粒状のポリマーに混ぜ、ヘンシェルミキサー等で均一混合した後、押出機に供給し、ガット状に溶融成形して長さ２〜１０ｍｍ程度にカットした樹脂あるいは樹脂組成物を作成する。また、上記滑剤等をベント構造の押出機に供給して溶融混練のみで行ってもよい。また、滑剤等の添加剤を使用濃度よりも高濃度にブレンドしたものを作成しておいて、シートの製造工程で適正濃度に希釈することもできる。なお、本発明において用いる滑剤としては、平均粒径０．１μｍ〜３μｍ、添加量０．０５〜１．５重量％の範囲が、上記平均表面粗さを本発明の範囲に制御しやすい点で特に好ましい。また、粒形は特に制限されない。
【００３７】
ポリフェニレンサルファイドと異素材との共押出し複合シートとするには、上述のようにして得られた粒子ペレットおよび／または無粒子ペレットを減圧下で乾燥した後、公知の押出機に供給して異素材と共にリング状スリットダイから溶融吐出させ、水か空気で急冷して非晶シートに成形する。ここで塵埃または添加物の凝集物など粗大異物を除去する目的で押出機と口金の間に瀘過装置を設けることは、欠点の少ないシートを得るうえで好ましい。成形法は常法が適用でき、例えばリング状スリットダイからポリマを他素材とともに吐出させ、水中あるいは空気中で冷却しシートとすることができる。とくに、下向き水冷方式のチューブラー方式で製造することが好ましいが、上向き空冷方式のインフレーション方式で製造することも可能である。
【００３８】
また、熱処理後の制限収縮率としては、本発明における加熱収縮率の差を規定の範囲に制御するために、１８０〜２２０℃の温度で１〜５％の範囲（より好ましくは１．５〜４．５％）で熱処理を行うことが好ましい。この制限収縮率が１％未満だと、加熱収縮率差を本発明の範囲に制御することが難しく、５％を越えるとシートの平面性が著しく損なわれる。
【００３９】
［特性の評価方法］
本発明の記述に用いた、特性の評価方法および評価の基準について説明する。
（１）シートの平均表面粗さ
ＤＩＮ−４７６８に従い、カットオフ：０．２５ｍｍ、試長：２．４ｍｍで測定した。また、測定倍率は縦方向に２００００倍、横方向に５０倍とした。用いた表面粗さ測定機は小坂研究所（株）製ＳＥ−３Ｆである。
【００４０】
（２）シート幅方向の直線上の範囲内での加熱収縮率の最大値と最小値の差
シートの方向を定めるために野村商事社製ＳＳＴ−２５０にて角度５°刻みで超音波伝達速度を測定し、伝達速度が最も早いものをＭＤ方向（シート長手方向）、それに直交する方向をＴＤ方向（シート幅方向）とした。
【００４１】
上記方法でシート方向を定めた後、前述したとおりの手法に従い、該シート幅（ＴＤ）方向の一方の端部からもう一方の端部へ向けてシートサンプル片を採取し（サンプル点がサンプル片の中央に位置するようにサンプルを取る）、各サンプル片について、２２０℃での加熱収縮率をシート長手方向、シート幅方向それぞれＪＩＳ−Ｃ２１５１に従って下記のとおり測定した。
【００４２】
試長１００ｍｍ、幅１０ｍｍのサンプル片を、それぞれ試長がシートの長手方向または幅方向となるように切り出し、８０ｍｍ間隔に標線を入れて、その間隔を正確に測定する。その間隔長をＸｍｍとする。次に２２０℃の温度にセットした熱風オーブン中で１０分間エージングした後、同様にして標線間隔長（Ｙｍｍ）を読み、次式で加熱収縮率を求めた。
加熱収縮率（Ｓ）［％］＝｛（Ｘ−Ｙ）／Ｘ｝×１００
ここで加熱収縮率の差は、採取したサンプルの加熱収縮率の最大値（Ｍａｘ）と最小値（Ｍｉｎ）をシート長手方向（ＭＤ）は長手方向同士（ＳMDMax、ＳMDMin）、シート幅方向（ＴＤ）はシート幅方向同士（ＳTDMax、ＳTDMin）で最大値と最小値の差をとった絶対値（｜ＳMDMax−ＳMDMin｜、｜ＳTDMax−ＳTDMin｜）とした。
【実施例】
【００４３】
次に、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
実施例１
（１）ポリフェニレンサルファイドの作製
５０Ｌオートクレーブ（ＳＵＳ３１６製）に水硫化ナトリウム（ＮａＳＨ）５６．２５モル、水酸化ナトリウム５４．８モル、酢酸ナトリウム１６モル、およびＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）１７０モルを仕込んだ。次に、窒素ガス気流下に撹拌しながら内温を２２０℃まで昇温させ脱水を行なった。脱水終了後、系を１７０℃まで冷却した後、５５モルのｐ−ジクロロベンゼン（ｐ−ＤＣＢ）と０．０５５モルの１，２，４−トリクロロベンゼン（ＴＣＢ）を２．５ＬのＮＭＰとともに添加し、窒素気流下に系を２．０ｋｇ／ｃｍ2まで加圧封入した。２３５℃にて１時間、さらに２７０℃にて３時間撹拌下にて加熱後、系を室温まで冷却し、得られたポリマーのスラリーを水２００モル中に投入し、７０℃で３０分間撹拌後、ポリマーを分離した。このポリマーをさらに約７０℃のイオン交換水（ポリマー重量の９倍）で撹拌しながら５回洗浄後、約７０℃の酢酸リチウムの５重量％水溶液にて窒素気流下にて約１時間撹拌した。さらに、約７０℃のイオン交換水で３回洗浄後、分離し、１２０℃、１ｔｏｒｒの雰囲気下で２０時間乾燥処理することによって白色のポリフェニレンサルファイド粉末を得た。
【００４４】
次に、このポリフェニレンサルファイド粉末を市販の窒素ガス雰囲気下７０℃のＮＭＰ（ポリフェニレンサルファイドポリマー重量の３倍量）にて３０分間の撹拌処理を２回行なった。このポリフェニレンサルファイド粉末をさらに約７０℃のイオン交換水で４回洗浄した後分離し、上記の乾燥処理のようにして乾燥することによって白色のポリフェニレンサルファイド粉末を得た。このポリフェニレンサルファイド粉末の３００℃における溶融粘度は５０００ポイズであった。
【００４５】
（２）ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の作製
平均粒径１．０μｍの球状のカルサイト型炭酸カルシウムをエチレングリコール中に５０重量％微分散させたスラリーを調製した後、このスラリーを１μｍカットフィルターで濾過した後上述のポリフェニレンサルファイド粉末にヘンシェルミキサを用いて炭酸カルシウムが５．０重量％となるよう混合した。次いで、２個所のベント孔を有する２軸押出機に供給し、溶融混練と同時にベント孔よりエチレングリコールを除去し、ガット状に押出し、水中で冷却後切断して粒子ペレットとした。また、ポリフェニレンサルファイド粉末のみを上記同様に溶融押出し、無粒子ペレットとした。
【００４６】
（３）下向き水冷方式ポリフェニレンサルファイド、ポリブチレンテレフタレート積層シート（複合シート）の作製
上述のポリフェニレンサルファイドの有粒子ペレットおよび無粒子ペレットを所定量混合したペレットを作成し、これとポリブチレンテレフタレートの無粒子ペレットをそれぞれを溶融し、溶融押出機に供給して、瀘過フィルターを通過後、リップ巾２００ｍｍ、スリット間隙（吐出厚み）５０μｍのステンレス製リングダイから吐出させ、水で冷却固化して、チューブ状非晶シートとし、ポリフェニレンサルファイドとポリブチレンテレフタレートの複合シートを得た。
【００４７】
該シートの平均表面粗さは２１ｎｍであり、加熱収縮率の差はシート長手方向は０．２％、シート幅方向は０．１％であった。該シートは加工性に優れ、シート表面の削れが少ないのものを得た。測定結果を表１にまとめて示した。
【００４８】
【表１】
2007216627.tif 000003
【００４９】
実施例２
ポリフェニレンサルファイドと共押出する素材をナイロンとする以外は実施例１と同様にシートを作成した。測定結果を上記表１にまとめて示した。
【００５０】
実施例３
スリット間隙（吐出厚み）を２５μｍとする以外は実施例１と同様にシートを作成した。測定結果を表１にまとめて示した。
【００５１】
実施例１、２、３ともに、目標とする、離型性、耐削れ性に優れた複合シートが得られた。このような複合シートは、回路基板等の製造における離型シートとして好適に用いられるものである。