(57)【要約】【課題】簡易な構成により成形型の温度を制御できるガラス成形装置、およびガラス成形方法を提供する。【解決手段】成形型２を載置する型台４と、成形型２を加圧する加圧装置１１と、成形型２を加熱するヒータブロック５と、を有するガラス成形装置１であって、成形型２の温度を検出する温度センサ９と、成形型２を加熱するヒータブロック５を成形型２に対して進退自在に移動させるエアシリンダ６１，６２と、温度センサ９の検出した成形型２の温度に基づいて、成形型２の温度が所定の設定値となるように、エアシリンダ６１，６２を往復動作させてヒータブロック５を成形型２に対して近接または離隔させる制御装置と、を備えたことを特徴とするガラス成形装置１。【選択図】図１
2007153690.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形型を載置する型台と、前記成形型を加圧する加圧装置と、前記成形型を加熱する加熱手段と、を有するガラス成形装置であって、
前記加熱手段を前記成形型に対して進退自在に移動させる移動手段と、
前記成形型の温度が所定の設定値となるように、前記移動手段の動作を制御する制御装置と、
を備えたことを特徴とするガラス成形装置。
【請求項２】
前記成形型の温度を検出する温度センサを備え、
前記制御装置は、前記温度センサの検出した前記成形型の温度に基づいて、前記移動手段の動作を制御することを特徴とする請求項１に記載のガラス成形装置。
【請求項３】
前記加熱手段は、抵抗加熱方式のヒータ部材であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のガラス成形装置。
【請求項４】
前記移動手段は流体シリンダを備え、
前記制御装置は、前記流体シリンダを往復動作させて、前記加熱手段を前記成形型に対して近接または離隔させることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のガラス成形装置。
【請求項５】
成形型にガラス素材を投入し、加熱しながら加圧成形するガラス成形方法において、
抵抗加熱方式のヒータ部材を前記成形型に対して近接または離隔させることで、前記成形型の温度を調整することを特徴とするガラス成形方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス成形装置、およびガラス成形方法に関し、特に簡易な構成により成形型の温度を制御できるガラス成形装置、およびガラス成形方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、高精度、高解像度が要求される光学レンズ等の光学部品を成形するガラス成形装置において、生産性を向上させるために、加熱して、成形して、徐冷するそれぞれの工程ごとに専用のステージを設け、各ステージを順次移動させて同時に複数個の光学部品を連続的に生産する技術が知られている（例えば、特許文献１，２）。
【特許文献１】特開平８−２５９２４０号公報（図１、明細書の段落００２１から００５０まで）
【特許文献２】特開２００１−５８８３７号公報（図１、明細書の段落００１０から００１２まで）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、各ステージを順次移動させると、その移動時間がサイクルタイムを増加させるだけでなく、移動させるために成形型に与えられていた加圧力を解除しなければならないため、同軸度や面粗さ等の成形精度に悪影響を及ぼすおそれがあった。
一方、１つのステージ内で加熱、成形、徐冷工程をすべて行なう成形装置も知られているが、温度制御のレスポンスが悪くサイクルタイムを増加させてしまっていた。また、成形型の温度制御のレスポンスを向上させるために急速な加熱ができる赤外線ランプで加熱するガラス成形装置も知られているが、高価であり、反射ミラー等の付帯装置も必要であるため構成も複雑化するという問題があった。
【０００４】
そこで、本発明は、前記した問題点を解決すべく、簡易な構成により成形型の温度を制御できるガラス成形装置、およびガラス成形方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するため、本発明に係るガラス成形装置は、成形型を載置する型台と、前記成形型を加圧する加圧装置と、前記成形型を加熱する加熱手段と、を有するガラス成形装置であって、前記加熱手段を前記成形型に対して進退自在に移動させる移動手段と、前記成形型の温度が所定の設定値となるように、前記移動手段の動作を制御する制御装置と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
かかる構成により、本発明は、成形型に対して加熱手段を進退自在に移動させる移動手段を設け、制御装置により移動手段の動作を制御することで、成形型と加熱手段との位置関係を調整する。そして、両者の位置関係を調整することで、加熱手段から成形型に伝達される熱量を調整して、成形型の温度が所定の設定値となるように制御する。
したがって、加熱手段の温度自体を上昇または下降させなくとも、加熱手段を成形型に近づければ成形型を急速に加熱することができ、加熱手段を成形型から遠ざければ急速に成形型を冷却することもできる。また、加熱手段を成形型に近づけたり、遠ざけたりして、成形型と加熱手段との位置関係を調整することで、一定の温度を保持したり、徐々に冷却したりすることもできる。
よって、予め加熱工程または冷却工程ごとにステージを設けて、各工程に成形型を移動させる必要がないので、サイクルタイムを短縮できる。また、成形型を移動させなければ加圧力を解除する必要もないため、成形精度に悪影響を及ぼすおそれもない。
【０００７】
前記した本発明において、成形型の温度を検出する温度センサを備え、前記制御装置は、前記温度センサの検出した前記成形型の温度に基づいて、前記移動手段の動作を制御する構成とすることができる。
かかる構成によれば、温度センサを設けて成形型の温度を検出して、この検出された成形型の温度と所定の設定温度とを比較しながら成形加工を行なうことで、より正確に成形型の温度を管理することが可能となる。
【０００８】
前記した本発明において、前記加熱手段には、抵抗加熱方式のヒータ部材を使用することができる。かかる構成によれば、例えば、抵抗加熱方式のカートリッジヒータ等を使用することで、簡易な構成で成形型を加熱することが可能となる。
【０００９】
前記した本発明において、前記移動手段は流体シリンダを備え、前記制御装置は、前記流体シリンダを往復動作させて、前記加熱手段を前記成形型に対して近接または離隔させることが望ましい。
かかる構成によれば、流体シリンダを往復移動させて、加熱手段を近接または離隔させる制御としたことで、簡易な制御機構により成形型の温度を管理することが可能となる。
【００１０】
また、本発明に係るガラス成形方法は、成形型にガラス素材を投入し、加熱しながら加圧成形するガラス成形方法において、抵抗加熱方式のヒータ部材を前記成形型に対して近接または離隔させることで、前記成形型の温度を調整することを特徴とする。
かかる構成によれば、抵抗加熱方式のヒータ部材を前記成形型に対して近接または離隔させることで、前記成形型の加熱温度を調整するため、簡易な構成により安価なガラス成形方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、簡易な構成により成形型の温度を制御できるガラス成形装置、およびガラス成形方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
参照する図面において、図１は本発明の実施形態に係るガラス成形装置の構成を説明するための正面から見た断面図であり、図２は本発明の実施形態に係るガラス成形装置の各構成要素の関係を説明するためのブロック図である。
【００１３】
本発明の実施形態に係るガラス成形装置１は、図１に示すように、成形型２を載置する型台４と、成形型２を加熱する加熱手段であるヒータブロック５と、成形型２およびヒータブロック５の温度を検出する温度センサ９と、ヒータブロック５を成形型２に対して近接または離隔させる移動手段であるエアシリンダ６１，６２と、エアシリンダ６１，６２の動作を制御する制御装置８（図２参照）と、成形型２を加圧する加圧装置１１とを備えている。
なお、本実施形態においては、ガラス素材Ｌを加熱成形して光学レンズを成形する場合を例として説明する。
【００１４】
成形型２は、光学レンズの鏡面を成形する成形面Ｌ１，Ｌ２を有し、下型台４１に固定された下型２１と、上型台４２に固定された上型２２と、下型２１と上型２２とをガイドして位置決めする胴型２３と、を備えている。なお、本実施形態においては、胴型２３を使用して下型２１と上型２２とを位置決めしているが、必ずしも必要ではなく下型２１と上型２２のみで位置決めすることも可能である。また、例えば、傾斜ブロック等を利用した他の位置決め手段を適宜適用してもよい。
成形型２において、下型２１にガラス素材Ｌが投入される。上型２２は加圧装置１１によって上昇・下降するように構成された上型台４２に固定されている。かかる構成により、上型２２を下降させて下型２１と上型２２とを型合わせした状態で加熱しながら加圧成形する。
【００１５】
型台４は、下型２１を固定する下型台４１と、上型２２を固定する上型台４２とを備えている。下型台４１はフレーム３の下部に固定され、下型２１を保持するホルダプレート４１ａと、下型２１からの熱を遮断する断熱材４１ｂと、ベース４１ｃと、を備えている。一方、上型台４２は、上型２２を保持するホルダプレート４２ａと、上型２２からの熱を遮断する断熱材４２ｂと、昇降プレート４２ｃと、を備え、昇降機構４３を介してフレーム３の上部に固定されている。昇降機構４３は、一例として、ガイドポスト４２ｄを摺動軸として昇降プレート４２ｃが上昇および下降できるように構成され、後記する加圧装置１１によって駆動される。
なお、本実施形態においては、各摺動部材等への熱影響を考慮して、断熱材４１ｂ，４２ｂを備えて型台４を構成したが、これに限定されるものではなく、適宜適所に配置されるものである。
【００１６】
ヒータブロック５は、下型２１の加熱手段である下型用ヒータブロック５１と、上型２２の加熱手段である上型用ヒータブロック５２と、を備えている。
ヒータブロック５は、例えば、耐熱性等を考慮したステンレス鋼材のブロックに抵抗加熱方式のカートリッジヒータを埋設して構成することができる。なお、本実施形態においては、加熱手段としてヒータブロック５を用いて構成したが、これに限定されるものではなく、いわゆる高周波誘導電流方式やハロゲンランプ等の他の加熱手段を使用することもできる。
また、下型用ヒータブロック５１には、下型用ヒータブロック５１を下型２１に対して近接または離隔させるエアシリンダ６１が連結され、上型用ヒータブロック５２には、上型用ヒータブロック５２を上型２２に対して近接または離隔させるエアシリンダ６２が連結されている。
【００１７】
移動手段は、下型用ヒータブロック５１の移動手段であるエアシリンダ６１と、上型用ヒータブロック５２の移動手段であるエアシリンダ６２とから構成されている。
エアシリンダ６１は、切り換えバルブ６１ａ（図２参照）で往き側と戻り側とを切り換えて、下型用ヒータブロック５１を下型２１に対して近接または離隔させることができるように構成されている。図１においては、下型用ヒータブロック５１が下型２１を保持するホルダプレート４１ａからδｄだけ離隔された位置にある状態を示している。
同様に、エアシリンダ６２は、切り換えバルブ６２ａ（図２参照）で往き側と戻り側とを切り換えて、上型用ヒータブロック５２を上型２２に対して近接または離隔させることができるように構成されている。図１においては、上型用ヒータブロック５２が上型２２を保持するホルダプレート４２ａからδｕだけ離隔された位置にある状態を示している。
ここで、下型用ヒータブロック５１がホルダプレート４１ａから離隔される距離δｄと、上型用ヒータブロック５２が上型２２を保持するホルダプレート４２ａから離隔される距離δｕとは、必ずしも同じにはならないことが想定される。下型用ヒータブロック５１と上型用ヒータブロック５２とが同じ熱量の場合であっても、熱は上方に伝達されやすいので上型２２よりも下型２１の方が温度が高くなり易いからである。
なお、本実施形態においては、移動手段としてエアシリンダ６１，６２を使用したが、これに限定されるものではなく、油圧シリンダであってもよい。また、エアシリンダ６１，６２に位置センサを内蔵して位置を検出したり、サーボモータ等の他の駆動源を使用して、ボールねじやリンク機構を介してヒータブロック５と成形型２との位置関係を調整したりすることもできる。
【００１８】
加圧装置１１は、図１に示すように、ガラス成形装置１の上部に配設され、駆動源としての加圧モータ１１ａと、加圧モータ１１ａに図示しない減速機を介して連結されたスクリュー１１ｂとを備えている。そして、スクリュー１１ｂには昇降プレート４２ｃが連結されている。かかる構成により、スクリュー１１ｂの回転運動を昇降プレート４２ｃの往復運動に変換している。このため、加圧モータ１１ａを正転または逆転させることで、昇降プレート４２ｃを下降または上昇させて型締めおよび型開きし、加圧力を適宜調整する。なお、図示は省略するが、スクリュー１１ｂ等の摺動部材がヒータブロック５からの熱の影響を受けないように、断熱部材が適所に設けられている。
【００１９】
制御装置８は、図２に示すように、予め所定の型温度を設定するメモリで構成された型温度設定部８１と、この設定された所定の型温度と温度センサ９で計測された成形型２の温度とを比較する演算部８２およびタイマ８４と、この演算結果に基づいて切り換えバルブ６１ａ，６１ｂを制御する制御部８３とを備えて構成されている。
ここで、温度センサ９は、下型２１の温度を測る下型用温度センサ９１と、上型２２の温度を測る上型用温度センサ９２と、下型用ヒータブロック５１の温度を測る下型用熱源センサ９１ａと、上型用ヒータブロック５２の温度を測る上型用熱源センサ９２ａと、を備えている。なお、下型用熱源センサ９１ａおよび上型用熱源センサ９２ａは、それぞれ熱源である下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２の温度を検知して、一定の温度に保つために設けられている。
これらの温度センサ９には熱電対等の種々の温度検出器を使用し、より正確な成形型２およびヒータブロック５の温度を検出できるように成形型２およびヒータブロック５に着脱自在に構成されている。
【００２０】
続いて、本発明の実施形態に係るガラス成形装置の動作について、適宜図１〜図３を参照しながら説明する。
本発明の実施形態に係るガラス成形装置１は、前記したように、下型２１に下型用ヒータブロック５１を、上型２２に上型用ヒータブロック５２を、それぞれ近接させて加熱しながら加圧成形する。このとき、下型２１および上型２２の温度（型温度）を所定の設定温度に制御するためそれぞれ下型用温度センサ９１および上型用温度センサ９２で型温度を検出して所定の設定温度と比較する。そして、下型用ヒータブロック５１を下型２１に対して近接または離隔させて下型２１の温度を制御し、上型用ヒータブロック５２を上型２２に対して近接または離隔させて上型２２の温度を制御するように構成されている。
【００２１】
ここで、成形時の型温度の制御について、図３を参照しながら詳細に説明する。
図３（ａ）は、成形型の温度の設定値を示すグラフであり、実際の成形時においても成形型２の温度はほぼこのように推移する。図３（ｂ），（ｃ）はヒータブロックを成形型に対して近接または離隔させる様子を示すグラフである。
なお、成形型の設定温度は、成形品のガラスの材質、形状、その他の成形条件により適宜決定される性質のものである。また、以下の説明において、説明の便宜上、下型２１および上型２２を総称して成形型２といい、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２を総称してヒータブロック５という場合がある。ただし、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２の動作は、それぞれの熱伝導性等の違いを考慮して別々に制御されているため（図２参照）、必ずしも動作自体が一致するものではない。
【００２２】
ガラス成形は、図３（ａ）に示すように、ガラスの結晶形が変化する転移点以上にガラス素材Ｌ（図１参照）を加熱する加熱工程と、ガラス素材Ｌを光学レンズの形状に成形する加圧成形工程を含んで構成されている。そして、加圧成形工程の間は、成形金型は保温状態で保持された後、急激に温度を下げないように徐冷しながら成形する。
まず、加熱工程においては、下型２１にガラス素材Ｌが投入され、加圧装置１１により上型２２を下降させて型締めが開始される（図１参照）。このときには、図３（ａ）に示すように、ガラスの成形が可能な転移点以上の所定の温度にガラス素材Ｌを加熱するため成形型２の温度を急激に上昇させることが必要である（ｔ０〜ｔ１）。
したがって、加熱工程においては、ヒータブロック５は、図３（ｂ）に示すように、成形型２に対して近接ないし当接させた位置で保持されている（ｔ０〜ｔ１）。
【００２３】
このようにして、成形型２の温度がガラス素材Ｌの転移点以上の所定の温度に到達すると（ｔ１）、加圧成形工程に移行し、型締め時よりも成形型２への加圧力が増強されて、成形加工が開始される。加圧成形工程においては、成形型２の温度は、成形精度の観点から、一定に保持された後（ｔ１〜ｔ２）、急激に下がらないよう徐々に冷却することが必要である（ｔ２〜ｔ３）。
したがって、成形型２の温度を一定に保持する時間内（ｔ１〜ｔ２）では、ヒータブロック５を成形型２に近接させた状態で成形型２に伝達される熱量ΔＱ１と、離隔させた状態で成形型２から放散される熱量ΔＱ１′とが同じになるように、近接（ないし当接、以下同じ）状態と離隔状態とを同程度で交互に繰り返している。また、成形型２の温度を徐々に冷却する時間内（ｔ２〜ｔ３）では、ヒータブロック５を成形型２に近接させた状態で成形型２に伝達される熱量ΔＱ２よりも、離隔させた状態で放散される熱量ΔＱ２′の方が多くなるように、近接状態と離隔状態とを交互に繰り返している。
【００２４】
ここで、加圧成形工程（ｔ１〜ｔ３）において、ヒータブロック５が成形型２に対して近接または離隔される制御について、図４を参照しながら具体的に説明する。図４は、本発明の実施形態に係るガラス成形装置の加圧成形工程を説明するためのフローチャートである。
まず、ステップＳ１において、型温度設定部８１に記憶された要求される所定の成形型２の設定温度と、下型用温度センサ９１および上型用温度センサ９２で検出された型温度とを演算部８２で比較する。
【００２５】
そして、演算部８２で比較した結果、前記設定温度の方が前記型温度よりも高い場合には、ステップＳ２に移行する。ステップＳ２では、成形型２の温度を上昇させるべくヒータブロック５を成形型２に近接させるように制御部８３から切り換えバルブ６１ａ，６２ａに信号が伝達される。
一方、演算部８２で比較した結果、前記設定温度の方が前記型温度よりも低い場合には、ステップＳ３に移行し、成形型２の温度を下降させるべくヒータブロック５を成形型２から離隔させるように制御部８３から切り換えバルブ６１ａ，６２ａに信号が伝達される。
このようにして、成形型２の温度を設定された所定の温度にトレースさせるようにヒータブロック５を成形型２に対して近接または離隔させることで、成形型２を保温したり徐冷したりすることができる。
その後、ステップＳ４に移行して、制御装置８に内蔵されたタイマ８４により時刻ｔ３を経過したかどうかを判断する。時刻ｔ３を経過した場合には、ステップＳ５に移行しヒータブロック５を離隔させたまま保持される。
一方、時刻ｔ３を経過していない場合には、ステップＳ１に戻り成形型２の温度制御が繰り返される（Ｓ２，Ｓ３〜Ｓ４）
【００２６】
加圧成形工程の終了後（ｔ３）は、光学レンズの形状が安定するまでヒータブロック５を成形型２から離隔させた状態で冷却し（ｔ３〜ｔ４）、その後、成形型２を開いて光学レンズを取り出して成形加工を終了する（ｔ４）。
【００２７】
以上のように、本実施形態においては、下型２１および上型２２（成形型２）に対して下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２（ヒータブロック５）を進退自在に移動させるエアシリンダ６１，６２を設け、制御装置８により切り換えバルブ６１ａ，６２ａを操作してエアシリンダ６１，６２の動作を制御することで、成形型２とヒータブロック５との位置関係を調整する。そして、両者の位置関係を調整することで、ヒータブロック５から成形型２に伝達される熱量を調整して、成形型２の温度が所定の設定値をトレースできるように制御する。
したがって、ヒータブロック５の温度自体を上昇または下降させなくとも、ヒータブロック５を成形型２に近づければ成形型２を急速に加熱することができ（加熱工程、ｔ０〜ｔ１）、ヒータブロック５を成形型２から遠ざければ急速に成形型２を冷却することもできる（ｔ３〜ｔ４）。また、ヒータブロック５を成形型２に近づけたり、遠ざけたりして、成形型２とヒータブロック５との位置関係を調整することで、成形型２の温度を保持し（保温、ｔ１〜ｔ２）、徐々に冷却することもできる（徐冷、ｔ２〜ｔ３）。
よって、予め加熱工程または冷却工程ごとにステージを設けて、各工程に成形型２を移動させる必要がないので、サイクルタイムを短縮できる。また、成形型２を移動させなければ加圧力を解除する必要もないため、成形精度に悪影響を及ぼすおそれもない。
【００２８】
続いて、本発明の他の実施形態について、図３（ｃ）を参照しながら説明する。
前記した実施形態においては、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２を２位置間で近接または離隔させ、その位置で保持する時間を変化させることで、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２からそれぞれ下型２１および上型２２に伝達される熱量を調整した。
ここで説明する他の実施形態は、下型用ヒータブロック５１と下型２１との距離δｄ（図１参照）を変化させることで、下型用ヒータブロック５１から下型２１に伝達される熱量を調整し、上型用ヒータブロック５２と上型２２との距離δｕ（図１参照）を変化させることで、上型用ヒータブロック５２から上型２２に伝達される熱量を調整するものである。
【００２９】
具体的には、加熱工程においては、前記した実施形態と同様に、下型用ヒータブロック５１は、図３（ｃ）に示すように、下型２１に対して近接ないし当接させた位置で保持され、上型用ヒータブロック５２は、上型２２に対して近接ないし当接させた位置で保持されている（ｔ０〜ｔ１）。
そして、加圧成形工程においては、成形型２の温度を一定に保持する時間内（保温、ｔ１〜ｔ２）では、下型用ヒータブロック５１から下型２１に伝達される熱量と、下型２１から放散される熱量とが同じになるように、下型用ヒータブロック５１と下型２１との距離δｄ（図１参照）をδ１に設定し、同様に、上型用ヒータブロック５２から上型２２に伝達される熱量と、上型２２から放散される熱量とが同じになるように、上型用ヒータブロック５２と上型２２との距離δｕ（図１参照）をδ１′に設定している。なお、この距離δｄおよびδｕに関して、δ１とδ１′を別々に設定しているのは、下型２１と上型２２とでは伝熱条件等が異なる場合があるからであり、この点では前記した実施形態でも事情は同様である。
【００３０】
また、成形型２の温度を徐々に冷却する時間内（徐冷、ｔ２〜ｔ３）では、ヒータブロック５から成形型２に伝達される熱量よりも、成形型２から放散される熱量の方が多くなるように、ヒータブロック５と成形型２との距離を設定している。具体的には、下型用ヒータブロック５１と下型２１との距離δｄ（図１参照）をδ２に設定し、上型用ヒータブロック５２と上型２２との距離δｕ（図１参照）をδ２′に設定している。
そして、成形型２を冷却する場合には、ヒータブロック５を成形型２から充分な距離δ３離隔して下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２から成形型２に熱が伝達されないようにしている。なお、この冷却の際には、エアを成形型２に吹きかける等により、積極的に冷却することもできる。
【００３１】
なお、成形型２の温度が所定の温度となるように、ヒータブロック５の温度、ヒータブロック５と成形型２との距離δ１，δ１′，δ２、δ２′、ないしヒータブロック５を近接または離隔するタイミング等を予め成形型２の試作段階で設定しておくことも可能である。そうすれば、ショットごとに温度センサ９で成形型２の温度を計測しなくともよいし、その日のロットの最初に決定することもできる。もっとも、ロットごとではなく、温度センサ９により、ショットごとに成形型２の温度を検出しながらヒータブロック５の位置を制御すれば、型温度のより的確な管理ができる。
【００３２】
したがって、かかる他の実施形態によれば、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２の温度自体を上昇または下降させなくとも、下型用ヒータブロック５１を下型２１に一定の距離δ１まで近づければ下型２１を保温状態に保つことができ、上型用ヒータブロック５２を上型２２に一定の距離δ１′まで近づければ上型２２を保温状態に保つことができる（ｔ１〜ｔ２）。また、下型用ヒータブロック５１を下型２１から一定の距離δ２まで遠ざければ下型２１を徐冷することができ、上型用ヒータブロック５２を上型２２から一定の距離δ２′まで遠ざければければ上型２２を徐冷することができる（ｔ２〜ｔ３）。
よって、予め加熱工程または冷却工程ごとにステージを設けて、各工程に成形型２を移動させる必要がないので、サイクルタイムを短縮できる。また、成形型２を移動させなければ加圧力を解除する必要もないため、成形精度に悪影響を及ぼすおそれもない。
【００３３】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記した実施形態に限定されず、適宜変更して実施することが可能である。
例えば、本実施形態においては、移動手段としてエアシリンダ６１，６２を用いて、切り換えバルブ６１ａ，６２ａで往き側と戻り側とを切り換えて、成形型２に対して近接または離隔させる２段階の位置制御としたが、これに限定されるものではなく、３段階以上の位置を設定してもよいし、ロータリエンコーダ等により位置を検出して任意の位置で停止できるように構成してもよい。また、本実施形態においては、切り換えバルブ６１ａ，６２ａを切り換えて近接または離隔させる構成としたが、これに限定されるものではなく、リミットスイッチ等の他の切り換え手段を使用してもよい。
そして、本実施形態においては、エアシリンダ６１，６２のスライド動作により下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２をスライド移動させることで、下型用ヒータブロック５１および上型用ヒータブロック５２を成形型２に対して近接または離隔させているが、これに限定されるものではなく、エアシリンダ６１，６２のスライド動作をリンク機構等により回転動作に変換してもよい。また、流体シリンダではなくサーボモータ等による回転動作で、ヒータブロック５を成形型２に対して近接または離隔させてもよい。
【００３４】
本実施形態においては、加圧成形工程における型温度の制御について便宜上簡略化して説明したが、型温度のオーバーシュートを防止するためには、遅れ時間を見越してヒータブロック５を近接または離隔させるタイミングを設定することもできる。このため、型温度の変化の速度勾配を基準としてヒータブロック５の位置を制御することも有効である。
【００３５】
本実施形態においては、加熱手段としてカートリッジヒータを埋設したヒータブロック５を使用し、このヒータブロック５を成形型２に近接または離隔させる構成を採用したが、これに限定されるものではなく、移動手段により、カートリッジヒータを成形型２に埋設されるように移動したり、離隔したりするように構成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施形態に係るガラス成形装置の構成を説明するための正面断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るガラス成形装置の各構成要素の関係を説明するためのブロック図である。
【図３】（ａ）は、成形型の温度の設定値を示すグラフである。そして、（ｂ）と（ｃ）はヒータブロックを成形型に対して近接または離隔させる様子を示すグラフであり、（ｂ）は本実施形態を示し、（ｃ）は他の実施形態を示す。
【図４】本発明の実施形態に係るガラス成形装置の加圧成形工程を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【００３７】
１      ガラス成形装置
２      成形型
３      フレーム
４      型台
５      ヒータブロック（加熱手段、ヒータ部材）
８      制御装置
９      温度センサ
１１    加圧装置
２１    下型
２２    上型
２３    胴型
４１    下型台
４２    上型台
５１    下型用ヒータブロック
５２    上型用ヒータブロック
６１    エアシリンダ（移動手段）
６２    エアシリンダ（移動手段）
９１    下型用温度センサ
９１ａ  下型用熱源センサ
９２    上型用温度センサ
９２ａ  上型用熱源センサ
Ｌ      ガラス素材
【図１】
2007153690.tif 000003
【図２】
2007153690.tif 000004
【図３】
2007153690.tif 000005
【図４】
2007153690.tif 000006