(57)【要約】【課題】パターン形状に優れたフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供すること。【解決手段】本発明のＦＰＤ部材の製造方法は、基板上に、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）を形成する工程、前記（Ａ１）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ１）を形成する工程、前記（Ｂ１）層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、現像処理により前記（Ｂ１）層のパターンを形成する工程、前記（Ｂ１）層のパターンを介して、現像処理により前記（Ａ１）層を選択的に溶解し、該（Ａ１）層のパターンを形成する工程および得られたパターンを焼成処理する工程を含み、前記（Ａ１）層の全光線透過率が前記（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）基板上に、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）を形成する工程、
（２）前記（Ａ１）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ１）を形成する工程、
（３）前記（Ｂ１）層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（４）現像処理により前記（Ｂ１）層のパターンを形成する工程、
（５）前記（Ｂ１）層のパターンを介して、前記現像処理により前記（Ａ１）層を選択的に溶解し、該（Ａ１）層のパターンを形成する工程、および
（６）得られたパターンを焼成処理する工程
を含み、前記（Ａ１）層の全光線透過率が前記（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことを特徴とするフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項２】
前記（Ｂ１）層がさらに色素を含有することを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項３】
前記（Ａ１）層および（Ｂ１）層がさらに色素を含有し、かつ、前記（Ｂ１）層中に含まれる色素の含有量が、前記（Ａ１）層中に含まれる色素の含有量より高いことを特徴とする請求項１に記載のフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項４】
（１）基板上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ２）を形成する工程、
（２）前記（Ｂ２）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ３）を形成する工程、
（３）前記（Ｂ３）層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（５）現像処理により前記（Ｂ３）層のパターンを形成する工程、
（６）前記（Ｂ３）層のパターンを介して、前記現像処理により前記（Ｂ２）層を選択的に溶解し、該（Ｂ２）層のパターンを形成する工程、および
（７）得られたパターンを焼成処理する工程
を含み、前記（Ｂ２）層の全光線透過率が前記（Ｂ３）層の全光線透過率より大きいことを特徴とするフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項５】
前記（Ｂ３）層がさらに色素を含有することを特徴とする請求項４に記載のフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記（Ｂ２）層および（Ｂ３）層がさらに色素を含有し、かつ、前記（Ｂ３）層中に含まれる色素の含有量が、前記（Ｂ２）層中に含まれる色素の含有量より高いことを特徴とする請求項４に記載のフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項７】
前記フラットパネルディスプレイ部材が、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも１種のプラズマディスプレイパネル部材であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項８】
前記プラズマディスプレイパネル部材が隔壁であることを特徴とする請求項７に記載のフラットパネルディスプレイ部材の製造方法。
【請求項９】
支持フィルム上に、無機粉体と、アルカリ可溶性樹脂と、必要に応じて感放射線性成分とを含む材料層が二層以上形成されており、
前記支持フィルム上に形成された材料層における任意の材料層（Ｉ）の全光線透過率が、該材料層（Ｉ）上に形成された他の材料層（ＩＩ）の全光線透過率よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【請求項１０】
前記無機粉体がガラス粉末であることを特徴とする請求項９に記載の転写フィルム。
【請求項１１】
前記材料層（Ｉ）が、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ１）であり、
前記材料層（ＩＩ）が、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）であることを特徴とする請求項９に記載の転写フィルム。
【請求項１２】
前記材料層（Ｉ）が、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ３）であり、
前記材料層（ＩＩ）が、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ２）であることを特徴とする請求項９に記載の転写フィルム。
【請求項１３】
請求項９に記載の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する二つ以上の材料層を基板上に転写する工程、
転写された材料層のパターンを、露光処理および現像処理により形成する工程、および
得られたパターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネルディスプレイ部材の製造方法および該製造方法に好適に用いられる転写フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）、フィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。ＰＤＰは、透明電極を形成し、近接した２枚のガラス板の間にアルゴンまたはネオンなどの不活性ガスを封入し、プラズマ放電を起こしてガスを光らせることにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。一方、ＦＥＤは、電界印可によって陰極から真空中に電子を放出させ、その電子を陽極上の蛍光体に照射することにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。
【０００３】
図１は交流型のＰＤＰの断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対向配置されたガラス基板、３および１１は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３、１１によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。
【０００４】
また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００５】
図２は特開昭６１−２２１７８３号公報（特許文献１）および特開平６−１２４６６９号公報（特許文献２）などに開示されている従来公知のＳｐｉｎｄｔ型ＦＥＤの断面形状を示す模式図である。図２において、２０１および２０２は対抗配置されたガラス基板であり、ガラス基板２０１の下側面にはアノード電極となる透明電極２０４および蛍光体２０７が形成され、ガラス基板２０２上にはカソード電極２０６が積層されている。カソード電極２０６上には、絶縁層２０３と円錐台状のエミッタ２０５が形成されている。絶縁層２０３の上には、多数のホールを有するゲート２０８が形成されており、ゲート２０８上に形成されたスペーサ２０９によってセルが区画されている。エミッタ２０５は高電界放出を用いる冷陰極のカソードであり、印加する電圧が低くてもエミッタの先端から電子を放出することが可能という特徴を有する。放出された電子が、電界を集中するゲート２０８を介して蛍光体２０７に衝突し、これにより蛍光体２０７の最外郭の電子が励起されることにより、画像の表示を行うことができる。
【０００６】
ＰＤＰ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好適である。ここで、フォトリソグラフィー法とは、無機粉体とビヒクルとを含むペースト状の感光性組成物からなる層を基板等の表面に形成し、これを露光、現像することによりパターンを形成し、次いでこのパターンを焼成して有機物質を除去し、無機粉体を焼結させる方法である。特に、感光性組成物からなる層を有する転写フィルムを用いて、基板等の表面に転写することを特徴とするフォトリソグラフィー法は、厚みの均一性に優れた膜が得られるとともに、作業
効率が改善されることから非常に好ましい。
【０００７】
上述した方法で、例えば隔壁を形成する場合、焼成工程で有機物質が除去されて膜厚が小さくなるので、転写層は形成すべき隔壁の膜厚の１．２〜２．０倍程度とすることが必要である。具体的には、隔壁の膜厚を１００〜２００μｍとするためには、転写層の厚みを１２０〜４００μｍ程度にする必要がある。
【０００８】
ここで、ＰＤＰを構成する隔壁は、良好な電気的特性を発現させる観点から、アスペクト比が高く、形状が均一であることが望ましい。しかしながら、転写層の厚みが大きいと、現像の際にパターンの側壁がえぐれた形状になりやすく、パターン形状が均一かつ良好な隔壁が得られにくい。また、現像の際にパターンの側壁がえぐられた状態で焼成処理を行うと、パターンが剥離したり、変形がひどくなったりする場合がある。
【０００９】
このような問題点を解決するため、例えばＰＤＰ用隔壁の製造方法において、隔壁形成用組成物の膜が、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とするＰＤＰ用隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば特許文献３参照。）
しかしながら、上記特許文献３に開示されている方法では、隔壁形成用組成物を構成する樹脂の共重合組成比を調整して溶解性を変化させているにすぎないため、必ずしも溶解性の違いが十分でない場合があり、パターン形状が均一かつ良好な隔壁を得る点ではいまだ問題があった。
【特許文献１】特開昭６１−２２１７８３号公報
【特許文献２】特開平６−１２４６６９号公報
【特許文献３】特開平９-９２１３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、パターン形状に優れたＦＰＤ部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る第一のＦＰＤ部材の製造方法（以下「ＦＰＤ部材の製造方法Ｉ」ともいう。）は、
（１）基板上に、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）を形成する工程、
（２）前記（Ａ１）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ１）を形成する工程、
（３）前記（Ｂ１）層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（４）現像処理により前記（Ｂ１）層のパターンを形成する工程、
（５）前記（Ｂ１）層のパターンを介して、前記現像処理により前記（Ａ１）層を選択的に溶解し、該（Ａ１）層のパターンを形成する工程、および
（６）得られたパターンを焼成処理する工程
を含み、前記（Ａ１）層の全光線透過率が前記（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことを特徴とする。
【００１２】
本発明に係る第二のＦＰＤ部材の製造方法（以下「ＦＰＤ部材の製造方法ＩＩ」ともいう。）は、
（１）基板上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ２）を形成する工程、
（２）前記（Ｂ２）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む
感光性層（Ｂ３）を形成する工程、
（３）前記（Ｂ３）層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（５）現像処理により前記（Ｂ３）層のパターンを形成する工程、
（６）前記（Ｂ３）層のパターンを介して、前記現像処理により前記（Ｂ２）層を選択的に溶解し、該（Ｂ２）層のパターンを形成する工程、および
（７）得られたパターンを焼成処理する工程
を含み、前記（Ｂ２）層の全光線透過率が前記（Ｂ３）層の全光線透過率より大きいことを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る転写フィルムは、支持フィルム上に、無機粉体と、アルカリ可溶性樹脂と、必要に応じて感放射線性成分とを含む材料層が二層以上形成されており、前記支持フィルム上に形成された材料層における任意の材料層（Ｉ）の全光線透過率が、該材料層（Ｉ）上に形成された他の材料層（ＩＩ）の全光線透過率よりも小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のＦＰＤ部材の製造方法によれば、パターン形状に優れたＦＰＤ部材が形成できる。また、本発明の転写フィルムを用いれば、膜厚が均一なＦＰＤ部材を形成でき、また、実質的に工程数が削減されるため作業効率が改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明に係るＦＰＤ部材の製造方法および該製造方法に好適に用いられる転写フィルムについて、詳細に説明する。
〔ＦＰＤ部材の製造方法Ｉ〕
本発明のＦＰＤ部材の製造方法Ｉは、［１］非感光性層（Ａ１）の形成工程、［２］感光性層（Ｂ１）の形成工程、［３］（Ｂ１）層の露光工程、［４］（Ｂ１）層および（Ａ１）層の現像工程および［５］焼成工程を含む。本製造方法Ｉにより、例えば、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくともひとつのＰＤＰ部材を形成することができる。本発明のＦＰＤ部材の製造方法Ｉは、ＰＤＰ用の隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
【００１６】
本発明のＦＰＤ部材の製造方法Ｉは、（Ａ１）層の全光線透過率が（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことを特徴とする。本発明における全光線透過率とは、各層（（Ａ１）層、（Ｂ１）層と、後述する（Ｂ２）層、（Ｂ３）層）をそれぞれ１５０ｍｍ×１５０ｍｍのソーダガラス基板（厚さ１．１ｍｍ）上に形成した試験片について、株式会社島津製作所製「ＭＰＣ−２２００」を用いて測定を行い、用いたソーダガラス基板を１００％透過として、４３６ｎｍでの透過率を読み取った値をいう。試験片の作成方法としては、以下のいずれかの方法が挙げられる。
【００１７】
１．後述する本発明の転写フィルムにおける（Ａ１）層と（Ｂ１）層、または（Ｂ２）層と（Ｂ３）層との積層を用い、各層をそれぞれ他層との界面から剥離して上記ソーダガラス基板上に転写する方法。
【００１８】
２．後述する、転写フィルム（Ａ１）、転写フィルム（Ｂ１）、転写フィルム（Ｂ２）および転写フィルム（Ｂ３）を用い、当該転写フィルムにおける各転写層をそれぞれ上記ソーダガラス基板上に転写する方法。
【００１９】
このように、（Ａ１）層の全光線透過率が（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことにより、（Ａ１）層は（Ｂ１）層よりも少ない光量で露光部が固化し、現像液に対し溶解しにくくなる。そのため、現像処理の際にパターンの側壁がえぐられにくくなり、パターン形状が優れたＦＰＤ部材を得ることができる。このような本発明の効果をより顕著にする
ためには、（Ｂ１）層の全光線透過率と（Ａ１）層の全光線透過率との差が、０．０１〜９９％であることが好ましく、０．０５％〜６０％であることがより好ましい。
【００２０】
なお、（Ａ１）層と（Ｂ１）層の全光線透過率を、両層を同じ膜厚で比較した場合にも、（Ａ１）層の全光線透過率が（Ｂ１）層の全光線透過率より大きいことが好ましい。（Ａ１）層と（Ｂ１）層の全光線透過率を同じ膜厚で比較する方法としては、例えば以下の方法で試験片を作成し、上述した全光線透過率の測定方法により各層の全光線透過率を測定する方法が挙げられる。
【００２１】
１’．後述する組成物（ａ１）および組成物（ｂ１）を用い、それぞれの組成物を上記ソーダガラス基板上に塗布し、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１０分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、厚さ９０μｍの材料層を有する試験片を作製する方法。
【００２２】
両層を同じ膜厚で比較した場合の（Ｂ１）層の全光線透過率と（Ａ１）層の全光線透過率との差が、０．０１〜９９％であることが好ましく、０．０５％〜６０％であることがより好ましい。
【００２３】
上記全光線透過率は、たとえば、（Ａ１）層および（Ｂ１）層中に必要に応じて含まれる色素の含有量を変えることにより、あるいは、（Ｂ１）層に含まれる感放射線性成分の含有量を変えることにより調整することができる。なお、（Ｂ１）層中に含まれる色素の含有量は、（Ａ１）層中に含まれる色素の含有量よりも大であることが好ましい。
【００２４】
以下、上記ＦＰＤ部材の製造方法Ｉの各工程について、隔壁の製造を例にとって説明する。
［１］非感光性層（Ａ１）の形成工程
この工程では、基板上に、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）を形成する。前記（Ａ１）層は、前記成分を含有する組成物（以下「組成物（ａ１）」ともいう。）を、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法など種々の方法によって基板上に塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。なお、前記組成物（ａ１）およびその構成成分等については後述する。また、得られる層の厚み均一性と作業の効率性との観点から、転写フィルムを用いて（Ａ１）層を基板上に形成してもよい。
【００２５】
ここで用いられる転写フィルムは、支持フィルム上に（Ａ１）層が形成されたフィルム（以下「転写フィルム（Ａ１）」ともいう。）である。また、この転写フィルムは、（Ａ１）層上に保護フィルムを有していてもよい。前記支持フィルムは、後述する本発明の転写フィルムにおける支持フィルムと同様のものを用いることができる。
【００２６】
転写工程の一例を以下に示す。まず、転写フィルム（Ａ１）の保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、（Ａ１）層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。その後、加熱ローラにより熱圧着をし、支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に（Ａ１）層が転写されて密着した状態となる。転写条件としては、加熱ローラの表面温度を３０〜１４０℃、ロール圧を１〜５０ｋｇ／ｃｍ2、移動速度を０．１〜１０
．０ｍ／分とすることができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００２７】
上記（Ａ１）層の膜厚としては、形成する部材によっても異なるが、隔壁の場合には、通常５０〜３００μｍ、好ましくは６０〜２００μｍである。
［２］感光性層（Ｂ１）の形成工程
この工程では、上記（Ａ１）層上に、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性
成分を含む感光性層（Ｂ１）を形成する。前記（Ｂ１）層は、前記成分を含有する組成物（以下「組成物（ｂ１）」ともいう。）を用いて、上記（Ａ１）層と同様にして形成することができる。したがって、前記（Ｂ１）層は、支持フィルム上に（Ｂ１）層が形成された転写フィルム（以下「転写フィルム（Ｂ１）」ともいう。）を用いて（Ａ１）層上に形成してもよい。この方法によれば、厚みの均一性に優れた層を形成することができ、かつ、作業効率が改善される。なお、前記組成物（ｂ１）およびその構成成分等については後述する。
【００２８】
上記（Ｂ１）層の厚みとしては、形成する部材によっても異なるが、隔壁の場合には、通常、５０〜３００μｍ、好ましくは６０〜２００μｍである。
上記工程［１］および工程［２］は別々に行ってもよいが、膜厚均一性および作業効率改善の観点から、後述する本発明の転写フィルムを用いて、工程［１］および［２］を一括して行う方法が特に好ましい。
【００２９】
［３］（Ｂ１）層の露光工程
この工程では、上記（Ａ１）層上に形成された（Ｂ１）層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的照射（露光）して、（Ｂ１）層のパターンの潜像を形成する。
【００３０】
ここで用いられる放射線照射装置は特に限定はされず、一般的なフォトリソグラフィー法で用いられる紫外線照射装置や、半導体もしくは液晶表示装置を製造する際に用いられる露光装置などを用いることができる。
【００３１】
［４］（Ｂ１）層および（Ａ１）層の現像工程
この工程では、露光された（Ｂ１）層を現像処理することにより、（Ｂ１）層のパターンを形成する。そして、形成された（Ｂ１）層のパターンを介して、現像処理により（Ａ１）層を選択的に溶解して（Ａ１）層のパターンを形成する。
【００３２】
現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度などの現像条件は、（Ｂ１）層および（Ａ１）層における樹脂の種類などに応じて適宜選択することができる。また、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法などの種々の現像方法で現像をすることができる。現像装置も特に制限されるものではない。
【００３３】
この現像工程により、（Ｂ１）層の残留部と（Ｂ１）層の除去部とから構成される（Ｂ１）層のパターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。このパターンは、連続的に現像される（Ａ１）層のマスクとして作用する。すなわち、前記（Ｂ１）層除去部に対応する（Ａ１）層部分が現像液に溶解し、選択的に除去され、さらに現像処理を継続すると、前記（Ｂ１）層除去部に対応する部分の基板表面が露出する。これにより、前記（Ｂ１）層のパターンの下に、該パターンに対応した（Ａ１）層のパターンが形成される。
【００３４】
［５］焼成処理工程
この工程では、上記工程［４］で形成されたパターンを有する層を焼成処理する。これにより、層中の有機物質が焼失して、無機物質からなる層が形成され、基板の表面に形成されたＦＰＤ部材を得ることができる。
【００３５】
焼成処理の温度としては、層中の有機物質が焼失する温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常、１０〜１８０分間である。
〔ＦＰＤ部材の製造方法ＩＩ〕
本発明のＦＰＤ部材の製造方法ＩＩは、［１］感光性層（Ｂ２）の形成工程、［２］感
光性層（Ｂ３）の形成工程、［３］（Ｂ３）層の露光工程、［４］（Ｂ３）層および（Ｂ２）層の現像工程および［５］焼成工程を含む。本製造方法ＩＩにより、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくともひとつのパネル部材を形成することができる。本発明のＦＰＤ部材の製造方法ＩＩは、ＰＤＰ用の隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
【００３６】
本発明のＦＰＤ部材の製造方法ＩＩは、（Ｂ２）層の全光線透過率が（Ｂ３）層の全光線透過率より大きいことを特徴とする。このように、（Ｂ２）層の全光線透過率が（Ｂ３）層の全光線透過率より大きいことにより、（Ｂ２）層は（Ｂ３）層より少ない光量で露光部が固化し、現像液に対し溶解しやすくなる。そのため、現像処理の際にパターンの側壁がえぐられにくく、パターン形状が優れたＦＰＤ部材が得られる。このような本発明の効果をより顕著にするためには、（Ｂ２）層の全光線透過率と（Ｂ３）層の全光線透過率との差が、０．０１〜９９％であることが好ましく、０．０５〜６０％であることがより好ましい。
【００３７】
なお、（Ｂ２）層と（Ｂ３）層の全光線透過率を、両層を同じ膜厚で比較した場合にも、（Ｂ２）層の全光線透過率が（Ｂ３）層の全光線透過率より大きいことが好ましい。（Ｂ２）層と（Ｂ３）層の全光線透過率を同じ膜厚で比較する方法としては、上述した（Ａ１）層と（Ｂ１）層の全光線透過率を同じ膜厚で比較する方法に準ずる。両層を同じ膜厚で比較した場合の（Ｂ１）層の全光線透過率と（Ａ１）層の全光線透過率との差が、０．０１〜９９％であることが好ましく、０．０５％〜６０％であることがより好ましい。
【００３８】
上記全光線透過率は、たとえば、（Ｂ２）層および（Ｂ３）層中に含まれる感放射線性成分または必要に応じて含まれる色素の含有量を変えることにより調整することができる。なお、（Ｂ３）層中に含まれる色素の含有量は、（Ｂ２）層中に含まれる色素の含有量よりも大であることが好ましい。
【００３９】
上記製造方法ＩＩにおける各工程は、上記製造方法Ｉの各工程に準じて行うことができる。また、上記製造方法ＩＩにおける工程［１］および［２］は別々に行ってもよいが、膜厚均一性および作業効率改善の観点から、後述する本発明の転写フィルムを用いて、工程［１］および［２］を一括して行う方法が特に好ましい。
【００４０】
以下に、本発明のＦＰＤ部材の製造方法ＩおよびＩＩの各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
＜基板＞
基板材料としては、例えば、ガラス、シリコン、アルミナ等の絶縁性材料などが挙げられる。この基板表面は、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。
【００４１】
＜露光用マスク＞
上記露光工程において使用される露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子のマスクが用いられる。
【００４２】
＜現像液＞
本発明で用いられる現像液は、通常、アルカリ現像液である。アルカリ現像液の有効成分としては、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等の無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリ性化合物などが挙げられる。
【００４３】
上記アルカリ現像液は、１種または２種以上の前記アルカリ性化合物を水などに溶解させることにより調整することができる。アルカリ現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常、０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％である。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００４４】
〔転写フィルム〕
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感放射線性成分を含む材料層が２層以上形成された多層フィルムであり、その１つの材料層（Ｉ）の全光線透過率が、該材料層（Ｉ）よりも上層（ただし、支持フィルム側を下層とする。）に形成されている他の材料層（ＩＩ）の全光線透過率よりも小さい。すなわち、基板上に転写したときに下層になる材料層（例えば、上記（Ａ１）層および（Ｂ２）層）の全光線透過率が、上層になる材料層（例えば、上記（Ｂ１）層および（Ｂ３）層）の全光線透過率より大きくなる構成を有する。また、この２層以上形成された材料層の上に保護フィルムを有していてもよい。
【００４５】
このような本発明の転写フィルムは、ＦＰＤ部材の製造方法に好適に用いることができる。すなわち、転写フィルムを構成する２以上の材料層を基板上に転写した後、前述したように、基板上に転写された材料層を露光処理および現像処理してパターンを形成し、得られたパターンを焼成することによりＦＰＤ部材を形成することができる。
【００４６】
上記転写工程は、上記製造方法Ｉにおいて例示した（Ａ１）層の転写方法と同様にして行うことができる。すなわち、転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、材料層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。その後、加熱ローラにより熱圧着をし、支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に２つ以上の材料層が転写されて密着した状態となる。転写条件としては、加熱ローラの表面温度を３０〜１４０℃、ロール圧を１〜５０ｋｇ／ｃｍ2、移動速度を０．１〜１０．０ｍ／分とす
ることができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
【００４７】
本発明の好ましい転写フィルムの態様は、下記の通りである。
１．ＦＰＤ部材の製造方法Ｉに好適な転写フィルム
上記ＦＰＤ部材の製造方法Ｉに好適に用いられる転写フィルムは、支持フィルム上に、上記材料層（Ｉ）として、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ１）を有し、上記材料層（ＩＩ）として、無機粉体およびアルカリ可溶性樹脂を含む非感光性層（Ａ１）を有し、（Ａ１）層の全光線透過率が（Ｂ１）層の全光線透過率よりも大きいことを特徴とする。また、（Ａ１）層および（Ｂ１）層はさらに色素を含有してもよい。なお、（Ｂ１）層が色素を含有する場合、（Ｂ１）層に含まれる色素の含有量は、（Ａ１）層に含まれる色素の含有量よりも大であることが好ましい。
【００４８】
２．ＦＰＤ部材の製造方法ＩＩに好適な転写フィルム
上記ＦＰＤ部材の製造方法ＩＩに好適に用いられる転写フィルムは、支持フィルム上に、上記材料層（Ｉ）として、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む
感光性層（Ｂ３）を有し、上記材料層（ＩＩ）として、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む感光性層（Ｂ２）を有し、（Ｂ２）層の全光線透過率が（Ｂ３）層の全光線透過率よりも大きいことを特徴とする。また、（Ｂ２）層および（Ｂ３）層はさらに色素を含有してもよい。なお、（Ｂ３）層が色素を含有する場合、（Ｂ３）層に含まれる色素の含有量は、（Ｂ２）層に含まれる色素の含有量よりも大であることが好ましい。
【００４９】
以下、本発明の転写フィルムの各構成要素について具体的に説明する。
＜支持フィルム＞
本発明の転写フィルムに用いられる支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を均一な膜厚で塗布することができ、ＦＰＤ部材形成用材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。このような支持フィルムを構成する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレン等の含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。支持フィルムの厚みは、たとえば、２０〜１００μｍである。
【００５０】
なお、上記支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、前述した転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
＜（Ａ１）層＞
本発明の転写フィルムにおける（Ａ１）層は、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、溶剤および必要に応じて色素を含有するペースト状で非感光性の組成物（ａ１）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００５１】
（無機粉体）
上記組成物（ａ１）に用いられる無機粉体は、形成材料の種類によって異なる。
ＰＤＰ、ＦＥＤ等の隔壁形成材料に用いられる無機粉体としては、ガラス粉末、例えば、低融点ガラスフリットを挙げることができる。このような低融点ガラスフリットとしては、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）系；酸化鉛、酸化
ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）系；酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素
、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）系；酸化鉛、酸化亜鉛、酸
化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）系；酸化ビスマス、酸化ホ
ウ素、酸化ケイ素（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2）系；酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化
ケイ素、酸化アルミニウム（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）系などが挙げられ
る。また、他の無機粉体、例えばアルミナ粉末を適宜添加してもよい。
【００５２】
ＰＤＰ、ＦＥＤ等の電極形成材料に用いられる無機粉体としては、たとえば、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属粉が挙げられる。また、透明電極形成材料に用いられる無機粉体としては、たとえば、酸化インジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた１種もしくは２種以上の金属を含む酸化亜鉛などの金属酸化物からなる粉体を挙げることができる。
【００５３】
ＰＤＰ、ＦＥＤ等の抵抗体形成材料に用いられる無機粉体としては、ＲｕＯ2の粉体な
どを挙げることができる。
ＰＤＰ、ＦＥＤ等の蛍光体形成材料に用いられる無機粉体としては、たとえば、
Ｙ2Ｏ3:Ｅｕ3+ 、Ｙ2ＳｉＯ5:Ｅｕ3+、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12:Ｅｕ3+、ＹＶＯ4:Ｅｕ3+、(Ｙ,Ｇｄ
)ＢＯ3:Ｅｕ3+、Ｚｎ3(ＰＯ4)2:Ｍｎなどの赤色用蛍光体；
Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4：
（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3（Ａｌ，Ｇａ）5Ｏ12：Ｔｂなどの緑色用蛍光体；
Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4）6Ｃ12：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇなどの青色用蛍光体などを挙げることができる。
【００５４】
ＰＤＰ、ＦＥＤ等のカラーフィルター形成材料に用いられる無機粉体としては、赤色用としてＦｅ2Ｏ3など、緑色用としてＣｒ2Ｏ3など、青色用としてＣｏＯ・Ａｌ2Ｏ3などを挙げることができる。
【００５５】
ＰＤＰ、ＦＥＤ等のブラックマトリックス形成材料に用いられる無機粉体としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒなどの金属粉や、ＣｕＯ−Ｃｒ2Ｏ3、ＣｕＯ−Ｆｅ2Ｏ3−Ｍｎ2Ｏ3、ＣｕＯ−Ｃｒ2Ｏ3−Ｍｎ2Ｏ3、ＣｏＯ−Ｆｅ2Ｏ3−Ｃｒ2Ｏ3などの複合酸化物の粉体を挙げることができる。
【００５６】
なお、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックスの形成材料などにおいて、低融点ガラスフリット以外の無機粉体を用いる場合には、隔壁形成材料に使用される低融点ガラスフリットを併用してもよい。この場合の低融点ガラスフリットの含有量は、用途によって異なるが、通常、低融点ガラスフリットを含む無機粉体全量１００重量部に対して５０重量部以下である。
【００５７】
（アルカリ可溶性樹脂）
上記組成物（ａ１）に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、上記アルカリ現像液に溶解する性質をいう。
【００５８】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、下記モノマー（i）から選ばれるモ
ノマーと、モノマー（ii）および／またはモノマー（iii）から選ばれるモノマーとの共
重合体が好ましい。モノマー（i）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を
付与することができる。なお、モノマー（i）由来の構成単位の含有量は、全構成単位中
、通常、１０〜９０重量％、好ましくは、１５〜８０重量％、特に好ましくは、２０〜７０重量％である。
【００５９】
上記モノマー（i）としては、たとえば、
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
などの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類
などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類が挙げられる。
【００６０】
特に好ましいモノマー（i）としては、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−
アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレートが挙げられる。
【００６１】
上記モノマー（ii）としては、たとえば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどのモノマー（i
）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類などに代表されるモノマー（i）と共重合可能なモノマー類が挙げられる。
【００６２】
上記モノマー（iii）としては、たとえば、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メ
チル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類などが挙げられる。
【００６３】
上記アルカリ可溶性樹脂の重合は、例えばラジカル重合によって行うことができる。ラジカル重合の開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイルなどを用いることができる。ラジカル重合の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどを用いることができる。重合温度は通常５０〜１００℃で行うことができ、重合時間は通常３０〜６００分である。
【００６４】
上記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常、５，０００〜２００，０００、好ましくは、１０，０００〜１００，０００である。Ｍｗが前記範囲にあることにより、パターン形状に優れたＰＤＰ部材を形成することができる。なお、アルカリ可溶性樹脂のＭｗは、たとえば、モノマーと重合開始剤との比で制御することができる。
【００６５】
上記組成物（ａ１）におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量は、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部、好ましくは５〜１００重量部、特に好ましくは１０〜５０重量部である。
【００６６】
（色素）
上記組成物（ａ１）に必要に応じて用いられる色素は、特に制限されるものではないが、染料や顔料が用いられ、特に染料を用いることが好ましい。染料としては、たとえば、アゾ化合物、トリアジン化合物、アミノケトン化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、キノン化合物、ベンゾフェノン化合物、安息香酸化合物、シアノアクリレート化合物、スピロ化合物、フルオレノン化合物、フルギド化合物、イミダゾール化合物、ペリレン化合物、フェナジン化合物、フェノチアジン化合物、ポリエン化合物、ジフェニルメタン化合物、トリフェニルメタン化合物、ポリメチン化合物、アクリジン化合物、アクリジンノン化合物、カルボオスチリル化合物、クマリン化合物、ジフェニルアミン化合物、キナクリドン化合物、キノフタロン化合物、フェノキサジン化合物、フタロペリノン化合物、フタロシアニン化合物などを挙げることができ、顔料としては無機酸化物などを挙げることができる。
【００６７】
上記染料の具体例としては、ｓｕｄａｎ  Ｒｅｄ（Ｃ17Ｈ14Ｎ2Ｏ2)、ｓｕｄａｎ I（
Ｃ16Ｈ12Ｎ2Ｏ）、ｓｕｄａｎ II（Ｃ18Ｈ14Ｎ2Ｏ）、ｓｕｄａｎ III（Ｃ22Ｈ16Ｎ4Ｏ）、ｓｕｄａｎ IV（Ｃ24Ｈ20Ｎ4Ｏ）、Ｏｉｌ  Ｏｒａｎｇｅ  ＳＳ（ＣＨ3Ｃ6Ｈ4Ｎ：Ｎ
Ｃ10Ｈ6ＯＨ）、Ｏｉｌ  Ｖｉｏｌｅｔ（Ｃ24Ｈ23Ｎ5）、Ｏｉｌ  Ｙｅｌｌｏｗ  ＯＢ（ＣＨ3Ｃ4Ｈ4Ｎ：ＮＣ10Ｈ4ＮＨ2）、２，２’，４，４−テトラハイドロオキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルフォン酸、２，２−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン−５，５’−ジスルフォン酸ナトリウム、１−フェニルアゾ−２−ナフトール、１，４−ジアミルアミノアントラキノンなどが挙げられる。顔料の具体例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ビスマス、酸化セリウム、酸化鉄、酸化アンチモンなどを挙げることができる。これらの色素は１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６８】
上記組成物（ａ１）に含まれる色素は、無機粉体１００重量部に対して、通常８重量部以下であり、好ましくは０．００５〜５重量部である。
（溶剤）
上記組成物（ａ１）を構成する溶剤は、該組成物（ａ１）に流動性または可塑性を付与するため、あるいは良好な膜を形成するために含まれる。
【００６９】
このような溶剤としては、特に制限されるものではなく、たとえば、エーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが挙げられる。
【００７０】
より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどが挙げられる。
【００７１】
上記組成物（ａ１）における溶剤の含有量は、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。また、上記溶剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７２】
（その他の成分）
上記組成物（ａ１）には、任意成分として、可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、分散剤、フィラー、低融点ガラス等の各種添加剤が含有されていてもよい。
【００７３】
＜（Ｂ１）層＞
本発明の転写フィルムにおける（Ｂ１）層は、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分、溶剤および必要に応じて色素を含有するペースト状で感光性の組成物（以下「組成物（ｂ１）」ともいう。）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００７４】
上記組成物（ｂ１）を構成する無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、色素および溶剤は、上記組成物（ａ１）の構成成分として記載したものと同様のものを用いることができる。また、上記組成物（ａ１）における任意成分も、同様に用いることができる。なお、上記組
成物（ｂ１）が色素を含有する場合、該組成物（ｂ１）における色素の含有量は、上記組成物（ａ１）における色素の含有量よりも大であることが好ましい。
【００７５】
（感放射線性成分）
上記組成物（ｂ１）を構成する感放射線性成分としては、たとえば、（１）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（２）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせが好ましく、上記（１）の組み合わせとしては、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００７６】
上記感放射線性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートとしては、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができる。これらは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７７】
上記感放射線性成分を構成する放射線重合開始剤としては、たとえば、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
上記組成物（ｂ１）における感放射線性成分の含有量は、上記無機粉体１００重量部に対して、通常１〜６０重量部、好ましくは５〜４０重量部である。特に、感放射線性成分として多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせを用いる場合は、無機粉体１００重量部に対して、多官能性モノマーの含有量は、通常１〜４０重量部、好ましくは５〜３０重量部であり、放射線重合開始剤の含有量は、多官能性モノマー１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは５〜３０重量部である。感放射線成分の含有量が前述した範囲を超えると、焼成後のＦＰＤ部材の形状が劣化することがある。
【００７９】
＜（Ｂ２）層＞
本発明の転写フィルムにおける（Ｂ２）層の構成成分および形成方法は、上記（Ｂ１）層の構成成分および形成方法と同じである。たとえば、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分、溶剤および必要に応じて色素を含むペースト状で感光性の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００８０】
＜（Ｂ３）層＞
本発明の転写フィルムにおける（Ｂ３）層の構成成分および形成方法は、上記（Ｂ１）層の構成成分および形成方法と同じである。たとえば、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分、溶剤および必要に応じて色素を含むペースト状で感光性の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
【００８１】
＜転写フィルムの形成方法＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、前述した、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および必要に応じて感放射線性成分を含有する各組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することを繰り返すことにより作製することができる。このとき、塗膜の乾燥は一層ずつ行うことが好ましいが、場合によっては積層された塗膜を一度に乾燥してもよい。また、必要に応じて、支持フィルム上にレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥してレジスト層を形成し、該レジスト層上に上記各組成物を塗布、乾燥して転写フィルムを作製してもよい。
【００８２】
各組成物を塗布する方法は、効率よく、膜厚が均一で厚みのある塗膜が形成できる方法であることが好ましい。たとえば、ロールコーターによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などが挙げられる。
【００８３】
塗膜の乾燥条件は、たとえば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後の溶剤の残存率（ＦＰＤ部材形成用材料層中の含有率）は、通常２重量％以内である。
上記のようにして支持フィルム上に形成される各材料層の厚みとしては、無機粉体の含有量、部材の種類やサイズなどによっても異なるが、たとえば、（Ａ１）層または（Ｂ２）層の厚みが１０〜１５０μｍ、（Ｂ１）層または（Ｂ３）層の厚みが１０〜１５０μｍである。
【００８４】
なお、転写フィルムは表面に保護フィルムを有していてもよいが、このような保護フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどが挙げられる。
【００８５】
また、本発明の転写フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに組成物を塗布して材料層を形成し、互いの材料層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。このような形成方法としては、たとえば、
（１）支持フィルム上に（Ｂ１）層を形成し、保護フィルム上に（Ａ１）層を形成して、（Ａ１）層の面と（Ｂ１層）の面とを重ね合わせて圧着する方法、
（２）支持フィルム上に（Ｂ３）層とを形成し、保護フィルム上に（Ｂ２）層を形成して、（Ｂ３）層の面と（Ｂ２）層の面とを重ね合わせて圧着する方法
などが挙げられる。
【００８６】
［実施例］
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【００８７】
また、Ｍｗは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。なお、ＧＰＣによる測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ」を用い、溶媒としてＴＨＦを用い、測定温度４０℃の条件で行った。
【００８８】
＜合成例１＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ベンジルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル０．５部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（１）」という。）のＭｗは４０，０００であった。
【００８９】
＜合成例２＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ベンジルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル０．１部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（２）」という。）のＭｗは２５０，０００であった。
【００９０】
＜調製例１＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV（和光純薬（株）製、Ｃ6Ｈ4
（ＣＨ3）Ｎ：ＮＣ6Ｈ3（ＣＨ3）Ｎ：ＮＣ10Ｈ6ＯＨ）０．１部および溶剤としてプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、非感光性組成物（ａ−１）を調製した。
【００９１】
＜調製例２＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（２）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV ０．１部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、非感光性組成物（ａ−２）を調製した。
【００９２】
＜調製例３＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV ０．１部、ならびに、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−１）を調製した。
【００９３】
＜調製例４＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（２）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV ０．１部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、ならびに、感放射線性成分として
トリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−２）を調製した。
【００９４】
＜調製例５＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV ０．５部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、ならびに、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−３）を調製した。
【００９５】
＜調製例６＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV １部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−４）を調製した。
【００９６】
＜調製例７＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV ０．５部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、ならびに、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１００部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−５）を調製した。
【００９７】
＜調製例８＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、色素としてｓｕｄａｎ IV １０部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、ならびに、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−６）を調製した。
【００９８】
＜調製例９＞
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、分散剤として３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、ならびに、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、感光性組成物（ｂ−７）を調製した。
【００９９】
＜全光線透過率の測定方法＞
ソーダガラス基板（１５ｃｍ角、厚さ１．１ｍｍ）の表面に、上記調製例１〜９で得られたＦＰＤ部材形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、９０℃で１０分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、厚さ９０μｍの材料層を有する試験片を作製した。ソーダガラス基板の正方形の試料を各３個採取し、株式会社島津製作所製「ＭＰＣ−２２００」を用いて測定を行った。用いたソーダガラス基板を１００％透過として、４３６ｎｍでの透過率を読み取った。
【０１００】
〔実施例１〕
＜転写フィルムの作製＞
調製例３で得られた感光性組成物（ｂ−１）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を９０℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ９０μｍの感光性層（ｂ−１）を形成した。次に、調製例１で得られた非感光性組成物（ａ−１）を用いて、感光性層（ｂ−１）と同様にして厚さ９０μｍの非感光性層（ａ−１）を形成した。次に、感光性層（ｂ−１）と非感光性層（ａ−１）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を５０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度１．０ｍ／分と
した。これにより、感光性層（ｂ−１）と非感光性層（ａ−１）の二層からなる隔壁形成用材料層（厚さ１８０μｍ）を形成し、本発明の転写フィルム（以下「転写フィルム（１）」という。）を作製した。
【０１０１】
＜ＰＤＰ用隔壁の製造＞
（転写工程）
６インチパネル用のガラス基板の表面に、非感光性層（ａ−１）の表面が当接されるように転写フィルム（１）を重ね合わせ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱
ローラの移動速度を１．０ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成用材料層が転写されて密着した状態となった。転写された隔壁形成用材料層（非感光性層（ａ−１）＋感光性層（ｂ−１））の厚みを測定したところ、１８０μｍ±５μｍの範囲にあった。
【０１０２】
（露光工程）
感光性層（ｂ−１）に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により紫外線を照射した。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１０３】
（現像工程）
露光工程の終了後、感光性層（ｂ−１）より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理された感光性層（ｂ−１）に対して、０．５重量％のエタノールアミン水溶液（２３℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の感光性層（ｂ−１）の部分を除去し、さらに、得られたパターンをマスクとして連続的に非感光性層（ａ−１）の現像を行った。次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行い、隔壁形成用パターンを得た。
【０１０４】
（焼成工程）
得られた隔壁形成用パターンを有するガラス基板を、焼成炉内で６００℃の温度の空気雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
【０１０５】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さ
が１８０μｍ±５μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ、隔壁のエッヂがシャープなパターンが得られたことを確認した。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。なお、現像処理後（焼成前）の断面形状についても観察し、形状が良好なことを確認した。
【０１０６】
〔実施例２〜３、比較例１〜５〕
表１に示す組成物を用いて、実施例１と同様にして転写フィルムを製造した。次いで、実施例１と同様にして、得られた転写フィルムの表１における第２層の表面が、ガラス基板上に当接されるように重ね合わせて隔壁形成用材料層を転写し、露光処理、現像処理および焼成処理を行った。実施例１〜３および比較例１〜５における評価結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
2007103188.tif 000002
【０１０８】
〔実施例４〕
＜転写フィルムの作製＞
調製例３で得られた感光性組成物（ｂ−１）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を９０℃で１０分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ９０μｍの感光性層（ｂ−１）を形成した。次に、調製例５で得られた感光性組成物（ｂ−３）を用いて、感光性層（ｂ−１）と同様にして厚さ９０μｍの感光性層（ｂ−３）を形成した。次に、感光性層（ｂ−１）と感光性層（ｂ−３）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を５０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度１．０ｍ／分とした。
これにより、感光性層（ｂ−１）と感光性層（ｂ−３）の二層からなる隔壁形成材料層（厚さ１８０μｍ）を形成し、本発明の転写フィルム（以下「転写フィルム（４）」という。）を作製した。
【０１０９】
＜ＰＤＰ用隔壁の製造＞
（転写工程）
６インチパネル用のガラス基板の表面に、感光性層（ｂ−１）の表面が当接されるよう
に転写フィルム（４）を重ね合わせ、この転写フィルム（４）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ロ
ーラの移動速度を１．０ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成用材料層が転写されて密着した状態となった。転写された隔壁形成用材料層（感光性層（ｂ−３）＋感光性層（ｂ−１））の厚みを測定したところ、１８０μｍ±５μｍの範囲にあった。
【０１１０】
（露光工程）
感光性層（ｂ−３）に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により紫外線を照射した。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１１１】
（現像工程）
露光工程の終了後、感光性層（ｂ−３）より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理された感光性層（ｂ−３）に対して、０．５重量％のエタノールアミン水溶液（２３℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の感光性層（ｂ−３）の部分を除去し、さらに、得られたパターンをマスクとして連続的に感光性層（ｂ−１）の現像を行った。次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行い、隔壁形成用パターンを得た。
【０１１２】
（焼成工程）
得られた隔壁形成用パターンを有するガラス基板を、焼成炉内で６００℃の温度の空気雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
【０１１３】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さが１８０μｍ±５μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ、隔壁のエッヂがシャープなパターンが得られたことを確認した。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。なお、現像処理後（焼成前）の断面形状についても観察し、形状が良好なことを確認した。
【０１１４】
〔実施例５〜８、比較例６〜９〕
表２に示す組成物を用いて、実施例４と同様にして転写フィルムを製造した。次いで、実施例４と同様にして、得られた転写フィルムの表２における第２層の表面が、ガラス基板上に当接されるように重ね合わせて隔壁形成用材料層を転写し、露光処理、現像処理および焼成処理を行った。実施例５〜８および比較例６〜９における評価結果を表２に示す。
【０１１５】
【表２】
2007103188.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】一般的なＰＤＰを示す模式的断面図である。
【図２】一般的なＦＥＤを示す説明用断面図である。
【符号の説明】
【０１１７】
１      ガラス基板
２      ガラス基板
３      隔壁
４      透明電極
５      バス電極
６      アドレス電極
７      蛍光体
８      誘電体層
９      誘電体層
１０    保護膜
１１    隔壁
２０１  ガラス基板
２０２  ガラス基板
２０３  絶縁層
２０４  透明電極
２０５  エミッタ
２０６  カソード電極
２０７  蛍光体
２０８  ゲート
２０９  スペーサ
【図１】
2007103188.tif 000004
【図２】
2007103188.tif 000005