(57)【要約】【課題】  コアを伝搬する光を基板反対方向に曲げるためポリマ光導波路を容易に作製することができる。【解決手段】  基板１１上に、コア１３と、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面１５と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッド１４とを備えたポリマ光導波路の製造方法において、基板１１上に、コア１３の反射面１５を形成するための傾斜面２２を有する犠牲層２１を形成し、基板１１上の少なくとも犠牲層２１の傾斜面２２を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコア１３を形成し、犠牲層２１を除去してコア１３の一方の端面を反射面１５に形成し、基板１１上にコア１３を含めて覆うオーバクラッド１４を形成する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。
【請求項２】
基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法。
【請求項３】
上記コアの反射面近傍のオーバクラッドを除去して出射窓を形成した請求項１または２記載のポリマ光導波路の製造方法。
【請求項４】
上記犠牲層の傾斜面を、略４５°の角度に形成した請求項１〜３いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。
【請求項５】
上記コア材に紫外線硬化樹脂を用い、基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分に紫外線硬化樹脂の層を形成した後、紫外線硬化樹脂の層に紫外線を照射して上記コアを形成すると共に、コア以外の部分を現像液により除去する請求項１，３，４いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。
【請求項６】
上記犠牲層を上記現像液に可溶な材料で形成し、上記現像液によりコアとなる部分以外の紫外線硬化樹脂の層を除去する際に、その現像液で上記犠牲層も同時に除去する請求項５記載のポリマ光導波路の製造方法。
【請求項７】
上記犠牲層は、熱可塑性樹脂を材料とし、型材を用いて形成される請求項１〜６いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法を用いて製造されたことを特徴とするポリマ光導波路。
【請求項９】
請求項８に記載のポリマ光導波路と、そのポリマ光導波路の反射面の上方に設けられた光源及び／又は光検出器とを備えたことを特徴とする光モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路に係り、特に、コア層内を伝搬する光信号を曲げて伝搬させるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びにそれを用いた光モジュールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ポリマ光導波路の光インターコネクションへの適用が図られている。光インターコネクションでは、光路を急峻に（例えば基板に対して垂直方向に）曲げる光路変換機能を有するポリマ光導波路を形成し、そのポリマ光導波路の表面に光源や検出器等の光部品を実装した光モジュールが用いられている。
【０００３】
一般に、ポリマ光導波路を作製する方法としては、ドライエッチングを用いる方法、パターン露光及び現像を用いる方法、金型を用いる方法がある。
【０００４】
光路を曲げるための光路変換部としては、コアをダイシングソーで切断し、その切断面を光反射面に形成する方法がある。
【０００５】
また、凹型の金型で反射面を有するコアを形成した後、そのコアをクラッドに転写し、最後にコアの周囲にオーバクラッドを設ける方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
他に、基板に凹部を形成し、その基板上にポリマ材料（コア材）を塗布してコアを形成し、基板上の凹部以外のコア材を除去した後、基板上全面にクラッドを設け、コア及びクラッドを別の基板に重ね合わせて転写する方法がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路の製造方法として、クラッドを平坦に形成し、そのクラッド上にミラーとなる金属層を形成し、その金属層を斜面を有するようにエッチングして金属ミラーを形成する方法がある（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−７８０８４号公報
【特許文献２】特開２００１−３３２８７０号公報
【特許文献３】特開２００２−１０７５６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来の光路変換部を備えたポリマ光導波路の製造方法には、以下の問題点がある。
【００１０】
（１）ダイシングソーを用いてコアを切断し、その切断面を反射面に形成する製造方法では、光導波路内の所望のコアのみを切断することは困難であり、コア以外の部分（基板等）を掘削或いは切断してしまい、光導波路の強度や特性に悪影響を及す可能性がある。
【００１１】
（２）反射面を有するコアを別途形成し、そのコアを基板やクラッド上に設ける製造方法では、製造工程数が多く、製造時間が掛かってしまう。ひいては、高コスト化となる要因にもなる。
【００１２】
また、コアを伝搬する光を基板と反対方向に曲げる光回路を形成するために、反射面を有するコアを型を用いて形成し、そのコアを基板上に貼り付けて製造する方法では、コアを基板上に接着層を介して設けるため、接着層の存在が、コアを伝搬する光に影響を及ぼし、損失等の光特性が悪化してしまう。
【００１３】
（３）また、反射面としてコアの端面に金属ミラーを設けたポリマ光導波路では、金属層を形成した後、その金属層をエッチングして反射面を形成するが、この方法では、金属層を厚く形成しなければならず、金属層の積層やエッチングに時間が掛かってしまう。
【００１４】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に短時間で作製できるポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びに光モジュールを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、上記基板上に、上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコア材を形成し、そのコア材をパターニングしてコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成するポリマ光導波路の製造方法である。
【００１６】
請求項２の発明は、基板上に、コアと、そのコアの一方の端面をオーバハング状の傾斜面に形成してコア内を伝搬する光を基板反対方向に反射させる反射面と、コアを含めて基板を覆うオーバクラッドとを備えたポリマ光導波路の製造方法において、
上記基板上に上記コアの反射面を形成するための傾斜面を有する犠牲層を形成し、コアの形状を有する型を載置し、その型にコア材を注入して上記基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分にコアを形成し、犠牲層を除去して上記コアの一方の端面を反射面に形成し、基板上にコアを含めて覆うオーバクラッドを形成することを特徴とするポリマ光導波路の製造方法である。
【００１７】
請求項３の発明は、上記コアの反射面近傍のオーバクラッドを除去して出射窓を形成した請求項１または２記載のポリマ光導波路の製造方法である。
【００１８】
請求項４の発明は、上記犠牲層の傾斜面と、犠牲層の基板側の面との角度が略４５°となるように犠牲層を形成した請求項１〜３いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。
【００１９】
請求項５の発明は、上記コア材に紫外線硬化樹脂を用い、基板上の少なくとも犠牲層の傾斜面を含む部分に紫外線硬化樹脂の層を形成した後、紫外線硬化樹脂の層に紫外線を照射して上記コアを形成すると共に、コア以外の部分を現像液により除去する請求項１，３，４いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。
【００２０】
請求項６の発明は、上記犠牲層を上記現像液に可溶な材料で形成し、上記現像液によりコアとなる部分以外の紫外線硬化樹脂の層を除去する際に、その現像液で上記犠牲層も同時に除去する請求項５記載のポリマ光導波路の製造方法である。
【００２１】
請求項７の発明は、上記犠牲層が、熱可塑性樹脂を材料とし、型材を用いて形成される請求項１〜６いずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法である。
【００２２】
請求項８の発明は、請求項１〜７のいずれかに記載のポリマ光導波路の製造方法を用いて製造されたポリマ光導波路である。
【００２３】
請求項９の発明は、請求項８記載のポリマ光導波路と、そのポリマ光導波路の反射面の上方に設けられた光源及び／又は光検出器とを備えた光モジュールである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、コア内を伝搬する光を基板反対方向に曲げるポリマ光導波路を容易に作製することができるといった優れた効果を発揮する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の好適な一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００２６】
図１は本発明に係るポリマ光導波路の好適な実施の形態を示した断面図である。
【００２７】
本実施の形態のポリマ光導波路１０は、基板１１と、基板１１上に設けられるアンダークラッド１２と、アンダークラッド１２上に設けられ断面が矩形状のコア１３と、コア１３を含めてアンダークラッド１２を覆うように形成されるオーバクラッド１４とを備える。コア１３は、例えば、基板１１の一辺から基板１１の中央部に延びて形成されている。
【００２８】
ポリマ光導波路１０では、コア１３の基板中央側の端面が反射面１５に形成されている。反射面１５は、基板１１中央側の端部がオーバハング状に形成されている。すなわち、反射面１５は、コアを伝搬した光を基板反対方向（図１中上側）に反射させる、或いはオーバクラッド１４上方から入射される光をコア内に反射させる向きに形成されている。
【００２９】
さらに、コア１３の反射面１５近傍のオーバクラッド１４には出射窓として溝１６が形成されている。これにより、コア１３の基板中央側の端面は空気に臨んでおり、コア１１と空気領域との界面を反射面１５としている。換言すれば、斜めに形成された端面の上側はコア領域であり、端面の下側が空気になっている。光反射面１５は、コアの底面（アンダークラッド１２側の面）に対して略１３５°（図１中、θ）の平面をなしている。
【００３０】
本実施の形態のポリマ光導波路１０では、基板１１上にアンダークラッド１２を設け、アンダークラッド１２上にコア１３を設けたが、コア１３よりも十分に屈折率の小さいポリマ材料で形成された基板１１を用いた場合、アンダークラッド１２は省略してもよい。
【００３１】
次に、ポリマ光導波路の製造方法について説明する。
【００３２】
まず、図２（ａ）に示すように、基板１１上に、アンダークラッド１２をほぼ平坦に形成する。基板１１としては、ガラス（石英）基板、シリコン基板、ポリイミド基板、フッ素化アクリル基板、フッ素化ポリイミド基板、或いはガラスエポキシ基板等が挙げられる。アンダークラッド１２を形成する材料としては、アクリル、エポキシ、ポリイミド、フッ素化アクリル、或いはフッ素化ポリイミド等が挙げられる。
【００３３】
図２（ｂ）に示すように、アンダークラッド１２上に犠牲層２１を設ける。犠牲層２１は、コア１３に反射面１５を形成するための型となる層であり、基板１１の中央部で傾斜面２２が形成されている。犠牲層２１は、図１の光反射面１５下方の空気領域を補完する形状に、かつ、後に形成するコア１３のコア幅以上の幅を有して形成される。傾斜面２２は、犠牲層２１の底面（アンダークラッド１２側の面）に対して略４５°の平面をなしている。
【００３４】
犠牲層２１は熱可塑性で、かつ有機溶剤やアルカリ現像液に可溶な樹脂で形成される。具体的には、アクリル樹脂、ポリカーボネイト等が挙げられる。
【００３５】
本実施の形態では、犠牲層２１は、アンダークラッド１２上に型材を用いて形成する。具体的には、アンダークラッド１２上に所望の形状を有する型材を接着固定させ、その型材に熱可塑性樹脂を注入した後、熱可塑性樹脂をアンダークラッド１２上で固化させ、型を外して得られる。型材をアンダークラッド１２上に接着固定させる際、型材のアンダークラッド１２への位置合わせは顕微鏡等で見ながら行われる。
【００３６】
次に、アンダークラッド１２及び傾斜面２２上に、コア材として液体状の紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化型樹脂）をスピンコートで塗布する。樹脂を塗布して乾燥させた後、所望のコアのパターンに応じてコア材に紫外線を照射させる。コア材は、少なくとも傾斜面２２上に塗布されればよいが、犠牲層２１の上面にも塗布されてよい。
【００３７】
図２（ｃ）に示すように、紫外線照射した後、コア材を含めた基板１１を現像液に浸漬し、コア材の未硬化部分を現像液に溶解させる。これにより、コア材は所望のパターンを有するコア１３に形成される。コア材がポジ型の紫外線硬化樹脂である場合、除去するコア材に紫外線を照射（露光）し、未照射箇所を硬化させる。コア材がネガ型の紫外線感光性樹脂である場合、パターンとして残すコア材に紫外線を照射し、照射箇所を硬化させる。いずれの紫外線硬化樹脂を用いても、硬化させた箇所がコア１３となり、コア１３以外のコア材を除去する。
【００３８】
ここで、本実施の形態では、コア材に紫外線を露光して硬化させ、コア材の未硬化部を現像液を用いて除去する直接露光法を用いて形成した。しかし、コアを形成する方法はこれに限らず、他に、コア材上にコア１３のパターンを有するマスク（例えば、レジストマスクやメタルマスク）を形成し、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）法を用いてコアをエッチング形成してもよい。他に、アンダークラッド１２上に所望のコアパターンを有する金型を載置し、その金型内に樹脂を注入し、その樹脂を硬化させてコア１３を形成してもよい。
【００３９】
図２（ｄ）に示すように、犠牲層２１を除去する。犠牲層２１は、有機溶剤やアルカリ現像液等に浸漬して除去される。このとき、犠牲層２１を熱可塑性樹脂で形成した場合、犠牲層２１を含む基板１１を温めて、犠牲層２１を液体状にして除去してもよい。
【００４０】
本実施の形態では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層２１とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層２１を同時に除去した。詳細には、コア材にネガ型の熱硬化性樹脂を用いることで、コア材の紫外線が照射された部分が硬化する。ここで、コア材への紫外線照射により、犠牲層２１の傾斜面２２下側の部分にも紫外線が照射されるが、犠牲層２１にはコア材を形成する樹脂と異なる、すなわち、紫外線照射により硬化しない（紫外線に反応しない）樹脂を用いている。したがって、コア材及び犠牲層２１を含む基板１１を現像液に浸漬すると、傾斜面２２の下側の部分を含む全ての犠牲層２１と、コア材の未硬化部分とが現像液に溶解し、コア１３の端面をオーバハング状に形成することができる。
【００４１】
図２（ｅ）に示すように、コア１３及びアンダークラッド１２上に、コア１３を覆うオーバクラッド１４を設ける。オーバクラッド１４を形成する材料は紫外線硬化樹脂が好ましい。
【００４２】
オーバクラッド１４を形成した後、反射面１５近傍のオーバクラッド１４を除去する。具体的には、オーバクラッド１４の上方に、反射面１５近傍では紫外線を透過し、それ以外の箇所には紫外線を遮断するフォトマスク２３を配置し、そのフォトマスク２３を介してオーバクラッド１４に紫外線ＵＶを照射する。本実施の形態ではオーバクラッド１４を形成する材料としてネガ型の紫外線硬化樹脂を用いており、オーバクラッド１４の紫外線が露光された箇所が硬化部となる。
【００４３】
図２（ｆ）に示すように、紫外線を照射した後、オーバクラッド１４を現像液に浸漬して未硬化部を除去し、溝１６が形成される。オーバクラッド１４の一部除去により形成された溝１６内にコア１３の端面が位置し、その端面が空気と接することで高反射率の反射面１５が形成される。以上の工程により、ポリマ光導波路１０が得られる。
【００４４】
本実施の形態では、オーバクラッド１４を紫外線硬化樹脂で形成し、溝１６を上述した直接露光法により形成している。この直接露光法は、現像液でクラッドの未硬化部を除去するので、コア１３の端面（反射面１５）の下側にも十分に現像液が回りこみ、コア端面下側のオーバクラッド材を除去することができ、コア１３の端面が空気層と接する反射面１５を形成することができる。
【００４５】
さらに、図２（ｇ）に示すように、オーバクラッド１４上に光源（例えば、レーザダイオード（ＬＤ））２５或いは光検出素子（例えば、フォトダイオード（ＰＤ））を設けて、ポリマ光導波路型の光モジュール２４が得られる。光源２５は、反射面１５の直ぐ上方に位置するように、光源保持部材２６で溝１６上に保持される。光源保持部材２６は半田バンプ２７でオーバクラッド１４上に接着されている。さらに、図３に示すように、光源２５と反射面１５との間に、光を集光するためのレンズ３１を設けてもよい。
【００４６】
本実施の形態のポリマ光導波路１０の製造方法によれば、慣用のポリマ光導波路の製造工程に、犠牲層２１を形成する工程と、コア１３形成後、犠牲層２１を除去する工程とを加えるだけで、コア１３を伝搬した光を基板１１と直角反対方向に曲げて伝送させる構造を有するポリマ光導波路を作製することができる。すなわち、慣用のポリマ光導波路の製造工程を利用して、大幅に変更することなく、コア１３を伝搬した光を基板１１と直角反対方向に曲げることのできるポリマ光導波路を容易に作製することができる。
【００４７】
ここで、図１のポリマ光導波路１０とは異なり、溝１６を有しない光導波路、すなわち光反射面１５に空気層が接しない光導波路では、コア１３の端面に反射膜を設ける必要がある。しかしながら、反射膜としてコアの端面に金属膜（例えば、金）を設けることは難しい。なぜなら、コアの厚さ及び幅は数μｍオーダであり、金属蒸着法を用いて、コアの端面だけに金属膜を蒸着することは困難なためである。
【００４８】
したがって、本実施の形態では、コア１３の基板１１中央側の端面を空気に臨むように形成し、コア１３の端面における反射率を高くした反射面としているので、ポリマ光導波路を短時間でかつ容易に作製することができる。
【００４９】
また、図２（ｄ）において、アンダークラッド１２上ではなく、別に所望のパターンの形状を有する金型を用い、その金型で形成したコアを、図２（ｄ）のように、コアの尖りが上側（図２中基板１１と反対側）となるようにアンダークラッドに貼付して形成することが考えられる。
【００５０】
しかしながら、金型で形成したコアを基板上に貼付するには、コア１３をアンダークラッドに接着する接着層が必要になる。接着層は、厚みを制御するのが難しく、厚さの不均一な接着層は、コアの光伝送特性に影響する。また、コア１３は微細なパターンを有して形成されるものであり、コアをアンダークラッド上に貼付する際に破損させてしまう虞がある。さらに、接着層は、コアやクラッドを形成する紫外線硬化樹脂に比べて、一般的に収縮しやすいものであり、接着層の収縮によりポリマ光導波路にたわみが生じてしまう。
【００５１】
したがって、本実施の形態のポリマ光導波路１０の製造方法によれば、犠牲層２１を形成した後、スピンコート等により、紫外線硬化樹脂をアンダークラッド１２上に直接塗布してコア材を形成することで、撓み等がなく、良好な光伝送特性を有するポリマ光導波路を作製できる。
【００５２】
また、本実施の形態のポリマ光導波路の製造方法によって作製されるポリマ光導波路１０は、コアを貼付る工程がない。したがって、微細なパターンを有するコアを貼り付けることにより生じる製作誤差を小さくすることができる。
【００５３】
本実施の形態のポリマ光導波路１０の製造方法では、コア材に紫外線を照射した後、コア材と犠牲層２１とが共に可溶な現像液を用いて、コア材の未硬化部と犠牲層２１を同時に除去したが、コア１３のパターンを形成した後、犠牲層２１を除去してもよい。
【００５４】
犠牲層２１は、オーバクラッド１４を形成した後に除去してもよい。その際、オーバクラッド１４には、犠牲層２１を形成していた熱可塑性樹脂を吐出させる流通路を形成するのが好ましい。
【００５５】
本実施の形態では、ポリマ光導波路１０の反射面１５を平面状に形成したが、曲面状に形成してもよい。例えば、反射面１５の焦点を光源２５とするようにコア１３の端面を凸面状に形成すれば、反射面１５に集光機能を持たせることができ、図３に示すレンズ３１を設ける必要がない。
【実施例】
【００５６】
次に、本発明の実施の形態について、実施例に基づいて説明するが、本発明の実施の形態はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５７】
（実施例１）  ガラスエポキシ基板上にＵＶ硬化型アクリル系材料（屈折率1.51）をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コア材としてＵＶ硬化型アクリル系材料（屈折率1.59）をスピンコート法で塗布し、そのコアのパターンを有するマスクを通してコア材にＵＶを照射し、コアを形成した。その後、現像液としてアセトンを用いてコア材の未硬化部及び犠牲層を同時に除去した。
【００５８】
次に、クラッド材をスピンコート法で塗布し、反射面近傍のオーバクラッドに溝が形成されるパターンを有するマスクを通してオーバクラッドに紫外線を照射してオーバクラッドを硬化させた。その後現像液としてアセトンを用いてオーバクラッド材の未露光部を除去して、ポリマ光導波路を得た。最後に、そのポリマ光導波路の反射面上方にＬＤを或いはＰＤを設けて、光モジュールを作製した。
【００５９】
（実施例２）  アンダークラッドを形成する材料として屈折率1.44のＵＶ硬化型アクリル系材料を用い、他は実施例１と同様にして光モジュールを作製した。
【００６０】
（実施例３）  ガラスエポキシ基板上にＵＶ硬化型アクリル系材料（屈折率1.51）をスピンコートで塗布し、そのアクリル系材料に紫外線を照射して硬化させてアンダークラッドを形成した。次に、犠牲層を、アセトンに可溶の熱可塑性樹脂を用い、金型による方法で形成した。犠牲層を形成した後、コアパターンを有する金型をアンダークラッド上に載置して、コアとなる紫外線硬化樹脂を金型内に注入し、その紫外線硬化樹脂を紫外線で硬化させてコアを形成した。
【００６１】
次に、オーバクラッドを形成した。オーバクラッドは、オーバクラッドに溝及び流通路が形成される金型を用いて形成した。その後、犠牲層をアセトンで除去し、オーバクラッド上にＬＤ或いはＰＤを設けて光モジュールを作製した。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に係るポリマ光導波路の好適な実施の形態を示す断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｆ）は、図１のポリマ光導波路の製造方法を説明する断面図であり、（ｇ）は、（ｆ）のポリマ光導波路を用いた光モジュールを示す断面図である。
【図３】図２（ｇ）の光モジュールの変形例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  ポリマ光導波路
１１  基板
１２  アンダークラッド
１３  コア
１４  オーバクラッド
１５  反射面
２１  犠牲層
２２  傾斜面
ＵＶ  紫外線
【図１】
2007041122.tif 000003
【図２】
2007041122.tif 000004
【図３】
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