(57)【要約】【課題】研磨テーブルの研磨面の異物を効果的に洗浄除去でき、且つ洗浄機構の飛散防止カバーに飛散した洗浄液等が滞留することなく、滞留した異物が研磨テーブルの研磨面に落下して、被研磨基板の研磨面に損傷を与え、被研磨基板を不良品とすることのない研磨テーブルの研磨面洗浄機構、及び研磨装置を提供すること。【解決手段】複数のノズル１３を具備する噴射ノズル１０を備え、該噴射ノズル１０から研磨テーブルの研磨面１１に洗浄液を噴射して該研磨面１１に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、噴射ノズル１０をその洗浄液噴射方向が研磨テーブルの研磨面１１に対して該研磨テーブルの移動方向（矢印Ｄ方向）に所定角度傾くように配置し、噴射ノズル１０の各ノズル１３の先端から研磨面１１までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバー１５を備えた。【選択図】図３
2007000968.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、
前記噴射ノズルをその洗浄液噴射方向が前記研磨テーブルの研磨面に対して該研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項２】
請求項１に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
前記噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備えたことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項３】
噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、
前記噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに前記研磨テーブルの研磨面から飛散する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項４】
請求項３に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
前記飛散防止カバーは内側飛散防止カバーと該内側飛散防止カバーの外側に位置する外側飛散防止カバーからなり、前記逃げ道は該内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項５】
噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、
前記噴射ノズルは直線状に並べた複数のノズルからなり、各ノズルは噴射される洗浄液の前記研磨面に平行な断面が長尺面を形成するように構成されており、該各ノズルは長尺面の両端部が互いに干渉しないように該長尺面の長軸方向を前記複数のノズルを並べた直線に対して所定の角度傾けて配置したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項６】
請求項５に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
前記噴射ノズルを各ノズルから噴射される洗浄液の噴射方向が前記研磨テーブルの研磨面に対して研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
前記噴射ノズルの各ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに前記研磨テーブルの研磨面から飛散して付着する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項８】
請求項７に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
前記飛散防止カバーは内側飛散防止カバーと該内側飛散防止カバーの外側に位置する外側飛散防止カバーからなり、前記逃げ道は該内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項９】
請求項１乃至８に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、
洗浄液と気体を混合させる混合機構を備え、前記噴射ノズルの各ノズルから該洗浄液と気体の混合流体を噴射することができるよう構成したことを特徴とする研磨テーブルの研磨面洗浄機構。
【請求項１０】
研磨面を具備する研磨テーブル、被研磨基板を保持する基板保持機構を備え、前記研磨テーブルの研磨面に前記基板保持機構で保持する被研磨基板を押し付け、該研磨面と被研磨基板の相対運動により該被研磨基板を研磨すると共に、研磨テーブルの研磨面洗浄機構を備え、該研磨テーブルの研磨面洗浄機構で前記研磨テーブルの研磨面を洗浄するように構成された研磨装置において、
前記研磨テーブルの研磨面洗浄機構に請求項１乃至９のいずれか１項に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構を用いたことを特徴とする研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨ケーブルの研磨面に基板保持機構で保持する半導体ウエハ等の被研磨基板を押し付け、該研磨面と被研磨基板の相対運動により、該被研磨基板を研磨する研磨装置の研磨テーブルの研磨面洗浄機構、及びこの研磨面洗浄機構を用いた研磨装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年のＬＳＩ、ＶＬＳＩ等の集積回路の高集積化に伴い、回路の線間距離が小さくなり、回路を形成するためのリソグラフィの光源として、焦点深度の従来以上に浅いものが使用されるようになっている。焦点深度の浅い光源を使用することにより、より高い平坦度が必要となっている。また、多層化に伴って各層形成後の表面のより高い平坦度が必要となってくる。この高い平坦度を得るために被研磨基板の平坦化を行う手段の一つとして、被研磨基板の表面を研磨する研磨装置がある。
【０００３】
この種の研磨装置は、上面に研磨パッドを貼り付けた研磨テーブルと、研磨しようとする被研磨基板を保持する基板保持機構であるトップリングを備え、該トップリングで保持する被研磨基板を前記研磨テーブルの研磨パッド表面に押し付けると共に、該研磨パッド表面に砥液供給手段から砥粒を含んだ砥液を供給しながら、研磨パッドと被研磨基板の相対運動により、被研磨基板の表面を研磨するように構成されている。研磨中、砥液が研磨パッド表面に供給され、砥液は一定時間、研磨パッド内及び研磨パッド表面に保持され、保持された砥液及び含まれる砥粒により被研磨基板の表面が研磨され、使用済みの砥液は、新鮮な砥液に順次置き換えられ、研磨テーブルの外へ排出される。
【０００４】
上記構成の研磨装置において、多数の半導体ウエハ等の被研磨基板の研磨を行うに従って、下記の原因により次第に研磨パッドの状態が研磨に好ましくない状態に変化する。
・使用済みの砥粒、即ち粒径が当初よりも小さくなり、研磨能力の低下した砥粒が十分に排出されず研磨パッド内に溜まった状態となる。
・研磨パッド内に保持された砥粒量に偏りが生じ、砥液の濃度の高いところと低いところがある状態となる。
・研磨パッドの繊維が該研磨パッド面に平行に倒され押し付けられて砥粒の保持能力が低下した状態になる。
・研磨パッドの弾力性が低下した状態になる。
【０００５】
上記のように研磨パッドの状態が研磨に好ましくない状態になると、研磨能力の低下と共に、研磨パッドに残留する異物（研磨パッド滓、砥液固着物等）により半導体ウエハ等の被研磨基板の研磨面に損傷（マイクロクラック）を与えるという問題があった。この対策として従来、研磨パッドを定期的に再生、即ちドレッシングしている。このドレッシングとしては、研磨パッド表面をブラッシングしたり、Ｎ2ガス等の気体と純水等の洗浄液の混合流体を噴射ノズルから研磨パッド表面に勢いよく噴射し、研磨パッド面上の異物（研磨パッド滓、砥液固着物等）を除去することを主たる目的とする、所謂アトマイザー方式の研磨面洗浄を行っている。
【０００６】
図１及び図２は従来のアトマイザー方式の研磨面洗浄機構を備えた研磨装置の構成例を示す図である。図示するように、研磨テーブル１０１の上面に貼り付けられた研磨パッド１０２に基板保持機構（トップリング）１０３で保持する半導体ウエハ等の被研磨基板１０４を押し付け、研磨テーブル１０１の回転による研磨パッド１０２の回転と基板保持機構１０３の回転による被研磨基板１０４の回転の相対運動により、該被研磨基板１０４を研磨する。噴射ノズル１０９は研磨テーブル１０１の半径方向に直線状に並べて配置した複数のノズルから構成され、各ノズル１０５に窒素ガス源１０６からの窒素（Ｎ2）ガスと純水源１０７からの純水（Ｈ2Ｏ）を供給し、窒素ガスと純水（Ｈ2Ｏ）を混合した混合流体１０８を研磨テーブル１０１の研磨面（研磨パッド１０２の上面）に噴射するようになっている。１枚の被研磨基板１０４の研磨終了後、基板保持機構１０３を所定の位置に退避させ、研磨テーブル１０１の研磨面にノズル１０５から混合流体１０８を噴射して、該研磨面を洗浄する。
【０００７】
噴射ノズル１０９の個々のノズル１０５は筐体１１０に研磨テーブル１０１の半径方向に対応するように取り付けられている。複数のノズル１０５を囲むように飛散防止カバー１１１が設けられている。飛散防止カバー１１１は各ノズル１０５の先端から研磨テーブル１０１の研磨面（研磨パッド１０２の上面）までの混合流体１０８の所定範囲外周を囲うように構成されている。また、筐体１１０内にはパイプ１１２、パイプ１１３が配置されると共に、各ノズル１０５の上部には混合空間１１４が配置されている。パイプ１１２には窒素ガス源１０６（図１参照）からの窒素（Ｎ2）ガスが供給され、パイプ１１３には純水源１０７（図１参照）からの純水（Ｈ2Ｏ）が供給されるようになっている。パイプ１１２内の窒素（Ｎ2）ガス及びパイプ１１３内の純水（Ｈ2Ｏ）はそれぞれ分岐管１１５、分岐管１１６を通して混合空間１１４に供給され、ここで窒素（Ｎ2）ガス及び純水（Ｈ2Ｏ）は混合され、混合流体１０８となって各ノズル１０５に供給される。なお、図２（ａ）は側断面図（（ｂ）のＡ−Ａ矢視断面）、図２（ｂ）正断面図である。
【特許文献１】特開平９−２９６１９号公報
【特許文献２】特開２００３−１３３２７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記従来のアトマイザー方式の研磨面洗浄装置は、噴射ノズル１０９の各ノズル１０５から研磨テーブル１０１の研磨面（研磨パッド１０２の上面）に対して、気体と洗浄液の混合流体１０８を垂直方向に噴射している。そのため混合流体や洗浄除去された異物（研磨パッド１０２の滓、砥液固着物等）が飛散し、飛散防止カバー１１０の内側に滞留し、異物が内壁面に付着堆積する。この堆積した異物が研磨パッド１０２の上面に落下し、被研磨基板の研磨に悪影響を与え、研磨面に損傷（マイクロクラック）が発生し、被研磨基板１０４を不良品としてしまうという問題があった。また、研磨パッド１０２の研磨面に異物が残ることにより、研磨パッド１０２の交換周期が短くなるという問題もあった。
【０００９】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、研磨テーブルの研磨面の異物を効果的に洗浄除去でき、且つ洗浄機構の飛散防止カバーに飛散した洗浄液等が滞留することなく、滞留した異物が研磨テーブルの研磨面に落下して、被研磨基板の研磨面に損傷を与え、被研磨基板を不良品とすることのない研磨テーブルの研磨面洗浄機構、及び研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、前記噴射ノズルをその洗浄液噴射方向が前記研磨テーブルの研磨面に対して該研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したことを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、前記噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備えたことを特徴とする。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、前記噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに前記研磨テーブルの研磨面から飛散する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたことを特徴とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、  前記飛散防止カバーは内側飛散防止カバーと該内側飛散防止カバーの外側に位置する外側飛散防止カバーからなり、前記逃げ道は該内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したことを特徴とする。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、噴射ノズルを備え、該噴射ノズルから研磨テーブルの研磨面に洗浄液を噴射して該研磨面に残留する異物を除去・洗浄する研磨テーブルの研磨面洗浄機構であって、前記噴射ノズルは直線状に並べた複数のノズルからなり、各ノズルは噴射される洗浄液の前記研磨面に平行な断面が長尺面を形成するように構成されており、該各ノズルは長尺面の両端部が互いに干渉しないように該長尺面の長軸方向を前記複数のノズルを並べた直線に対して所定の角度傾けて配置したことを特徴とする。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、前記噴射ノズルを各ノズルから噴射される洗浄液の噴射方向が前記研磨テーブルの研磨面に対して研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したことを特徴とする。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、請求項５又は６に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、前記噴射ノズルの各ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに前記研磨テーブルの研磨面から飛散して付着する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたことを特徴とする。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、前記飛散防止カバーは内側飛散防止カバーと該内側飛散防止カバーの外側に位置する外側飛散防止カバーからなり、前記逃げ道は該内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したことを特徴とする。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至８に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構において、洗浄液と気体を混合させる混合機構を備え、前記噴射ノズルの各ノズルから該洗浄液と気体の混合流体を噴射することができるよう構成したことを特徴とする。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、研磨面を具備する研磨テーブル、被研磨基板を保持する基板保持機構を備え、前記研磨テーブルの研磨面に前記基板保持機構で保持する被研磨基板を押し付け、該研磨面と被研磨基板の相対運動により該被研磨基板を研磨すると共に、研磨テーブルの研磨面洗浄機構を備え、該研磨テーブルの研磨面洗浄機構で前記研磨テーブルの研磨面を洗浄するように構成された研磨装置において、前記研磨テーブルの研磨面洗浄機構に請求項１乃至９のいずれか１項に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構を用いたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に記載の発明によれば、噴射ノズルをその洗浄液噴射方向が研磨テーブルの研磨面に対して該研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したので、研磨テーブルの研磨面に吹き付けられた洗浄液は研磨面を研磨テーブル移動方向にスムーズに流れ飛散しにくくなる。
【００２１】
請求項２に記載の発明によれば、噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備えたので、研磨テーブルの研磨面から飛散する少ない量の洗浄液や異物は飛散防止カバーで捕捉され、飛散することがない。また、研磨面から飛び跳ねて飛散防止カバー内に浸入し、滞留する洗浄液や異物の量も少ないので、内壁面に付着堆積して落下し、研磨に悪影響を与えることも少なくなる。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、噴射ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに研磨テーブルの研磨面から飛散する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたので、飛散防止カバー内に飛散した洗浄液や異物は該飛散防止カバー内壁面に付着することなく、逃げ道を飛散防止カバー外に流れるから、該内壁面に堆積した異物が研磨テーブルの研磨面に落下し、被研磨基板の研磨面に損傷を与えるという問題を回避できる。
【００２３】
請求項４に記載の発明によれば、飛散防止カバーを内側飛散防止カバーと外側飛散防止カバーの二重構造とし、異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道は内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したので、異物を含む洗浄液を内側飛散防止カバー内に滞留させることなく、且つ洗浄液の飛散を防止できる。
【００２４】
請求項５に記載の発明によれば、噴射ノズルの各ノズルから噴射される洗浄液の両端部が互いに干渉しないように該長尺面の長軸方向を複数のノズルを並べた直線に対して所定の角度傾けて配置しているので、各ノズルから噴射された洗浄液の両端部が互いに干渉することがなく、各ノズルから噴射される洗浄液は研磨テーブルの研磨面の洗浄に有効に作用することになる。
【００２５】
請求項６に記載の発明によれば、複数のノズルからなる噴射ノズルを各ノズルから噴射される洗浄液の噴射方向が研磨テーブルの研磨面に対して研磨テーブルの移動方向に所定角度傾くように配置したので、研磨テーブルの研磨面に吹き付けられた洗浄液は研磨面を研磨テーブル移動方向に流れ飛散しにくくなる。
【００２６】
請求項７に記載の発明によれば、噴射ノズルの各ノズルの先端から研磨面までの洗浄液噴射域の所定範囲外周を囲う飛散防止カバーを備え、該飛散防止カバーに研磨テーブルの研磨面から飛散して付着する異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を設けたので、飛散防止カバー内に飛散した洗浄液や異物は該飛散防止カバー内壁面に付着することなく、逃げ道を通って飛散防止カバー外に流れるから、該内壁面に異物が堆積することなく、堆積した異物が研磨テーブルの研磨面に落下し、研磨に悪影響を与え、被研磨基板の研磨面に損傷を与えるという問題を回避できる。
【００２７】
請求項８に記載の発明によれば、飛散防止カバーを内側飛散防止カバーと外側飛散防止カバーの二重構造とし、異物を含む洗浄液を逃がす逃げ道を逃げ道は内側飛散防止カバー及び外側飛散防止カバーに設けた切り込み溝で形成したので、異物を含む洗浄液を内側飛散防止カバー内に滞留させることなく、且つ洗浄液の飛散を防止できる。
【００２８】
請求項９に記載の発明によれば、洗浄液と気体を混合させる混合機構を備え、噴射ノズルの各ノズルから該洗浄液と気体の混合流体を噴射するので、研磨テーブルの研磨面に残る異物を効果的に洗浄除去できる。
【００２９】
請求項１０に記載の発明によれば、研磨テーブルの研磨面洗浄機構に請求項１乃至９のいずれか１項に記載の研磨テーブルの研磨面洗浄機構を用いるので、研磨テーブルの研磨面が洗浄され、該研磨面から飛び跳ねた洗浄液や異物が飛散防止カバーの内壁面に付着し、堆積した異物が一度に研磨テーブルの研磨面に落下することもなく、被研磨基板の研磨面に傷が発生して被研磨基板を不良品とすることもなく、且つ研磨テーブル上面に貼り付けた研磨パッドの交換周期も長くなる研磨装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態例を図面に基いて説明する。図３は本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の構成例を示す図で、図３（ａ）は（ｂ）のＣ−Ｃ矢視断面、図３（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面矢視図である。図示するように、本研磨テーブルの研磨面洗浄機構は研磨テーブル（図示せず）の研磨面１１（研磨テーブルの上面に貼り付けた研磨パッド上面（図１参照））に洗浄液（例えば純水）と気体（例えば窒素ガス）の混合流体１２を噴射する噴射ノズル１０を具備する。噴射ノズル１０は図示するように、複数個のノズル１３を備え、各ノズル１３は筐体１４に研磨テーブル（ここでは回転テーブル）の半径方向に対応するように直線上に並べて配置して取り付けられている。
【００３１】
複数のノズル１３を囲むように飛散防止カバー１５が設けられている。該飛散防止カバー１５は各ノズル１３の先端から研磨テーブルの研磨面１１までの混合流体１２の所定範囲外周を囲うように構成されている。なお、洗浄液（例えば純水）と気体（例えば窒素ガス）を混合し混合流体を造る混合機構の点は図２に示す従来例と略同じであるから、その図示と説明は省略する。
【００３２】
噴射ノズル１０を各ノズル１３から噴射される混合流体１２の噴射方向（混合流体１２の中心方向）が図３（ａ）に示すように、研磨テーブルの研磨面１１に対して研磨テーブルの移動方向（矢印Ｄ方向）に所定角度、即ち研磨面１１に直交する面に対して研磨テーブルの反移動方向にθ1°だけ傾くように筐体１４を傾けて、支持部材１６で支持して配置している。このように各ノズル１３から噴射される混合流体１２の噴射方向が研磨テーブルの研磨面１１に対して所定角度（９０°―θ1°）傾くように噴射ノズル１０を配置することにより、研磨面１１に吹き付けられた混合流体１２に研磨面に沿って流れる流れが生じ、研磨面から跳ね返る洗浄液の飛散量が少なくなる。その結果、飛散防止カバー１５内に飛散する混合流体や異物の量も減少し、内壁面に付着堆積する異物の量が少なくなり、研磨面１１に落下して研磨に悪影響を与える異物の量も少なくなる。上記角度θ1は１５°〜４５°に設定するのが好ましく、より好ましくは略３０°に設定する。
【００３３】
図３に示すように、噴射ノズル１０の複数個のノズル１３を筐体１４に研磨テーブルの研磨面１１の半径方向に対応するように直線上に配置して取り付けた場合、図４に示すように各ノズル１３から噴射される混合流体１２の研磨面１１に近い断面形状（研磨面１１に平行な断面）は細長い面形状（長尺形状）１２ａであり、研磨面１１の近傍では各に細長い面形状１２ａの両端Ｅ部分が互いに干渉し、このＥ部分の研磨面１１の洗浄及び異物除去作用が劣るという問題がある。そこで、ここでは図５に示すように、混合流体１２の研磨面１１の近傍の細長い面形状（長尺形状）１２ａが複数のノズル１３を配列した直線Ｌに対して所定角度θ2だけ傾けて位置するように、複数のノズル１３を配置している。これにより、混合流体１２の両端部が互いに干渉することなく、研磨テーブルの研磨面１１に直接吹き付けられるから、混合流体１２の両端部の洗浄作用も向上する。
【００３４】
図５に示すように、噴射ノズル１０の各ノズル１３をその噴射される混合流体１２の研磨面１１近傍での細長い面形状（長尺形状）１２ａを直線Ｌに対して所定角度θ2傾くように配置した場合、この噴射ノズル１０を研磨テーブルの研磨面１１の半径方向に配置すると、各ノズル１３から噴射される混合流体１２が形成する細長い面形状（長尺形状）１２ａの配置状態は図６に示すようになる。研磨テーブルの研磨面１１が回転中心Ｏを中心に矢印Ｆに示す方向に回転した場合、各ノズル１３から噴射された混合流体１２は矢印Ｇに示すように流れれる。なお、この場合も図３に示すように、噴射ノズル１０の各ノズル１３から噴射される混合流体１２の噴射方向は研磨テーブルの研磨面１１に対して所定角度、即ち研磨面１１に直交する面に対してθ1°回転方向である矢印Ｆとは反対側にθ1°傾くように配置するのがよい。
【００３５】
図２に示すように、噴射ノズル１０９の各ノズル１０５の先端から研磨テーブルの研磨面までの混合流体１０８の所定範囲外周を囲むように飛散防止カバー１１１を設けた場合、
研磨面から飛散した異物や洗浄液が飛散防止カバー１１１に滞留し、異物が内壁面に付着堆積し、この付着堆積した異物が研磨テーブルの研磨面に落下し、研磨に悪影響を与えるという問題がある。そこで本発明の実施形態例では、図７に示すように、飛散防止カバーを内側の飛散防止カバー１５と外側の飛散防止カバー１７の二重構造とし、各飛散防止カバー１５、１７に研磨テーブルの研磨面１１から飛散して浸入する洗浄液や異物を外部に逃がす逃げ道となるき切り込み溝１５ａ、切り込み溝１７ａを所定の間隔で設けている。
【００３６】
また、内側の飛散防止カバー１５と外側の飛散防止カバー１７の間にはスペーサ１８を介在させ、該飛散防止カバー１５と飛散防止カバー１７の間に所定の間隙１９を設けている。そして各飛散防止カバー１５、１７の切り込み溝１５ａ、１７ａは、図８に示すように千鳥足跡状に配置されている。即ち、内側の飛散防止カバー１５の切り込み溝１５ａは間隙１９を隔てて外側の飛散防止カバー１７の内壁面で閉塞するようになっている。噴射ノズル１０をこのように構成することにより、内側の飛散防止カバー１５の内部に浸入した洗浄液や異物は、切り込み溝１５ａ、間隙１９、及び切り込み溝１７ａを通って外部にスムーズ流れるため内側の飛散防止カバー１５内に滞留することはない。また、研磨面１１から飛散して内側の飛散防止カバー１５の内部に飛び込んだ異物や洗浄液の一部は切り込み溝１５ａを通って間隙１９に飛び込むが、これは外側の飛散防止カバー１７の壁面で衝突し阻止され、切り込み溝１７ａを通って外部に流れでるので、外部へ飛散することはい。なお、図７（ａ）は噴射ノズル１０の正面図、図７（ｂ）は外側の飛散防止カバー１７を外した状態の噴射ノズル１０の正面図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＨ−Ｈ断面図である。
【００３７】
なお、図７に示す構成の噴射ノズル１０も図３に示すように、研磨テーブルの研磨面１１に対して研磨テーブルの移動方向に所定角度傾けて配置するようにしてもよい。
【００３８】
また、上記実施形態例では、噴射ノズル１０の各ノズル１３から噴射される流体を洗浄液（例えば純水）と気体（例えば窒素ガス）の混合流体１２としているが、各ノズル１３から噴射される流体はこれに限定されるものではなく、純水又は薬液等の洗浄液のみ流体を噴射してもよい。例えば、噴射ノズル１０を図９に示すように、筐体内１４内に配置したパイプ２０に純水（Ｈ2Ｏ）や薬液等の洗浄液のみ供給し、該パイプ２０から分岐管２１を通して各ノズル１３に洗浄液を供給するように構成し、該噴射ノズル１０を研磨テーブルの研磨面１１に対して所定角度θ１°傾けて配置し、各ノズル１３から洗浄液２２を噴射するようにしてもよい。また、図１０に示すように、内側の飛散防止カバー１５と外側の飛散防止カバー１７からなる二重構造の飛散防止カバーを有する噴射ノズル１０の筐体内１４内に配置したパイプ２０に純水（Ｈ2Ｏ）や薬液等の洗浄液のみ供給し、該パイプ２０から分岐管２１を通して各ノズル１３に洗浄液を供給するように構成し、研磨テーブルの研磨面１１に各ノズル１３から洗浄液２２を噴射するように構成してもよい。
【００３９】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。なお直接明細書及び図面に記載のない何れの形状・構造・材質であっても、本願発明の作用・効果を奏する以上、本願発明の技術的思想の範囲内である。例えば、上記実施形態では、研磨テーブルの研磨面を回転テーブルを例に説明しているが、研磨テーブルは回転運動するテーブルに限定されるものではなく、直線運動、旋回運動をおこなう研磨テーブルでよいことは当然である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】従来の研磨テーブルの研磨面洗浄機構を備えた研磨装置の概略構成を示す図である。
【図２】従来の研磨テーブルの研磨面洗浄機構の概略構成を示す図である。
【図３】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の概略構成を示す図である。
【図４】研磨テーブルの研磨面洗浄機構の噴射ノズルから噴射される流体の平面形状を示す図である。
【図５】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の噴射ノズルから噴射される流体の平面形状を示す図である。
【図６】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の噴射ノズルから噴射される流体の平面形状と研磨面テーブルの研磨面の一部を示す図である。
【図７】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の概略構成を示す図である。
【図８】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の飛散防止カバーと噴射ノズルから噴射される流体の平面形状の平面位置関係を示す図である。
【図９】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の概略構成を示す図である。
【図１０】本発明に係る研磨テーブルの研磨面洗浄機構の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４１】
１０      噴射ノズル
１１      研磨面
１２      混合流体
１３      ノズル
１４      筐体
１５      飛散防止カバー
１６      支持部材
１７      飛散防止カバー
１８      スペーサ
１９      間隙
２０      パイプ
２１      分岐管
２２      洗浄液
【図１】
2007000968.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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