(57)【要約】【課題】ブラシ洗浄部材を用いて洗浄ブラシのブラシ部を確実に洗浄処理できるとともに、ブラシ洗浄部材からブラシ部への異物の再付着を、容易に軽減する構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。【解決手段】ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後の洗浄ブラシ１３のブラシ部１６に付着、蓄積した異物を、ブラシ洗浄部材３０を用いてブラシ部１６から除去することにより、ブラシ部１６を洗浄処理する製造装置１であって、ブラシ洗浄部材３０は、ブラシ部１６が接触される、台座３１から起立するとともに、台座３１の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部３２を有し、該突起部３２のみにブラシ部１６が接触されることにより、異物がブラシ部１６から除去されることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部に付着した異物を、ブラシ洗浄部材を用いて前記ブラシ部から除去することにより、前記ブラシ部を洗浄処理する電気光学装置の製造装置であって、
前記ブラシ洗浄部材は、前記ブラシ部が接触される、台座から起立するとともに、前記台座の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部を有し、該突起部のみに前記ブラシ部が接触されることにより、前記異物が前記ブラシ部から除去されることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項２】
前記被洗浄物は、表示領域にスイッチング素子及び画素電極が形成された第１の基板と該第１の基板に対向する対向電極が形成された第２の基板との間に、電気光学物質が挟持されて構成された電気光学装置の少なくとも一部であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項３】
前記ブラシ部は、前記台座面に略直交する前記突起部の起立面及び起立端面に、接触されることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項４】
前記突起部は、複数から構成されていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項５】
前記ブラシ部は、少なくとも１つのブラシ束から構成されており、前記突起部間の間隔は、前記ブラシ束の径以上であることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項６】
前記突起部は、前記台座面において、面方向に十字状を有して延在していることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項７】
前記突起部は、前記台座面において、面方向に放射状を有して延在していることを特徴とする請求項３の記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項８】
前記起立端面は、前記起立面の起立した方向に狭搾するテーパ面を有していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項９】
前記起立面は、起立した方向に狭搾するテーパ状に形成されていることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１０】
前記突起部の前記台座面からの起立高さは、前記ブラシ部の先端を前記台座面に接触させた際の前記台座面から前記ブラシ部の基部までの高さよりも高いことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１１】
前記ブラシ部に洗浄液を供給する液体供給ノズルを有していることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１２】
前記洗浄液に超音波を付与する超音波付与手段を前記液体供給ノズル内に有していること特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１３】
前記台座に、前記ブラシ部から除去した前記異物及び前記洗浄液を吸引する吸引孔が形成されていることを特徴とする請求項１１または１２の記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１４】
前記突起部は、前記台座と別体に形成されており、前記台座に対し、基部が固定されていることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１５】
前記ブラシ洗浄部材は、ブラシ洗浄室内に配設されており、前記ブラシ洗浄室内において、前記異物が、前記突起部により前記ブラシ部から除去されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１６】
前記ブラシ洗浄室は、前記被洗浄物を洗浄処理する被洗浄物洗浄装置とともに、液体処理室に配設されており、
前記液体処理室に、前記被洗浄物洗浄装置と前記ブラシ洗浄室とに対し、前記洗浄ブラシを搬送する洗浄ブラシ搬送機構がさらに配設されていることを特徴とする請求項１５に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１７】
前記液体供給ノズルは、前記ブラシ部に対して供給口が開口されているとともに、前記洗浄ブラシまたは前記洗浄ブラシ搬送機構に設けられていることを特徴とする請求項１６に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項１８】
被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部に付着した異物を、前記ブラシ部から除去する、台座から起立するとともに、前記台座の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部を具備する電気光学装置の製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法であって、
被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部を、前記突起部のみに接触させる手順と、
前記突起部と前記ブラシ部との接触により、前記ブラシ部に付着した異物を前記ブラシ部から除去することにより前記ブラシ部を洗浄処理する手順と、
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部に付着した異物を、ブラシ洗浄部材を用いてブラシ部から除去することにより、ブラシ部を洗浄処理する電気光学装置の製造装置、該製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、電気光学装置、例えば液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶が介在されて構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチング素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に挟持された液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置した素子基板と、この素子基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、その後、パネル組立工程においてシール材を介して高精度（例えばアライメント誤差１μ以内）に貼り合わされる。
【０００４】
このパネル組立工程を詳しく説明すると、先ず、各基板の製造工程において夫々製造された素子基板と対向基板との各液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜が形成される。その後、焼成が行われ、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理が施される。
【０００５】
次いで、例えば液晶封入方式により、素子基板と対向基板との間に液晶が介在される場合には、素子基板と対向基板との一方の基板上のシール材塗布領域に接着剤となるシール材が、一部に切り欠きを有するよう略周状に塗布され、このシール材が用いられて素子基板と対向基板とが貼り合わされ、次いでアライメントが施されて圧着硬化された後、シール材の一部に設けられた切り欠きを介して液晶が封入された後、切り欠きが封止材により封止されて、液晶装置は組み立てられる。
【０００６】
ここで、貼り合わされる前の素子基板及び対向基板、組み立てられた液晶装置等の被洗浄物は、製造中に付着した塵埃等の異物を除去するため、例えば被洗浄物を１つずつ洗浄する枚葉式の被洗浄物洗浄装置により洗浄処理される。
【０００７】
被洗浄物に対し、洗浄処理等を行うことができる枚葉式の被洗浄物洗浄装置には、スピン式の被洗浄物洗浄装置が周知であり、該スピン式の被洗浄物洗浄装置には、被洗浄物が載置され回動する回動台と、被洗浄物に、洗浄液等の液体を供給する液体供給ノズルと、被洗浄物を洗浄処理する洗浄ブラシとを有する構成が周知である。
【０００８】
このような構成を有する被洗浄物洗浄装置は、回動台に載置され回動する被洗浄物の被洗浄面に対し、液体供給ノズルから洗浄液を供給した状態で、洗浄ブラシのブラシ部を、被洗浄面に当接、摺動させることにより、被洗浄面をスクラブ洗浄処理する。
【０００９】
ところで、被洗浄物を洗浄処理した後、洗浄ブラシのブラシ部に、被洗浄面に付着していた有機物等の異物が付着、蓄積する。よって、ブラシ部に異物が蓄積したまま状態で、次の被洗浄物を洗浄処理すると、被洗浄物の被洗浄面に、ブラシ部に蓄積した異物が再付着してしまう場合があるため、被洗浄物の洗浄処理後、ブラシ部に蓄積した異物を確実に除去する必要がある。
【００１０】
このような事情に鑑み、例えば特許文献１に開示された洗浄処理装置においては、洗浄ブラシのブラシ部を、ブラシ洗浄部材である異物除去板の表面の全域に設けられた凹凸に所定の当接圧を以て摺動させることにより、ブラシ部に蓄積した異物を異物除去板の凹凸により確実に除去する技術の提案がなされている。
【特許文献１】特開平１１−２０７２７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１に開示された異物除去板においては、該異物除去板の凹凸への当接、摺動により、洗浄ブラシのブラシ部から除去された異物は、異物除去板に付着、蓄積する。尚、異物除去板に蓄積した異物は、例えば有機物であると、純水洗浄のみでは除去することができない。
【００１２】
このため、異物除去板に蓄積した状態のままで、再度、洗浄ブラシのブラシ部を異物除去板の表面に当接、摺動させて洗浄すると、異物除去板に蓄積した異物が洗浄ブラシのブラシ部に再付着してしまう場合がある。よって、このことを防止するため、ブラシ部を洗浄する度に、異物除去板の表面を洗浄する必要があることから、作業工数が増加してしまうといった問題がある。
【００１３】
本発明の目的は上記問題点に着目してなされたものであり、ブラシ洗浄部材を用いて洗浄ブラシのブラシ部を確実に洗浄処理できるとともに、ブラシ洗浄部材からブラシ部への異物の再付着を、容易に軽減する構成を有する電気光学装置の製造装置、該製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために本発明に係る電気光学装置の製造装置は、被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部に付着した異物を、ブラシ洗浄部材を用いて前記ブラシ部から除去することにより、前記ブラシ部を洗浄処理する電気光学装置の製造装置であって、前記ブラシ洗浄部材は、前記ブラシ部が接触される、台座から起立するとともに、前記台座の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部を有し、該突起部のみに前記ブラシ部が接触されることにより、前記異物が前記ブラシ部から除去されることを特徴とする。
【００１５】
また、前記被洗浄物は、表示領域にスイッチング素子及び画素電極が形成された第１の基板と該第１の基板に対向する対向電極が形成された第２の基板との間に、電気光学物質が挟持されて構成された電気光学装置の少なくとも一部であることを特徴とする。
【００１６】
本発明によれば、電気光学装置の少なくとも一部を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部を、ブラシ洗浄部材を用いて洗浄処理するに際し、ブラシ部は、ブラシ洗浄部材の台座から起立した突起部のみに接触することによって、該突起部により洗浄処理される。この際、ブラシ部から除去された異物は、突起部及び台座に付着するが、再度ブラシ部を洗浄処理するに際し、ブラシ部は、突起部のみしか接触しない、即ち台座に接触しないことから、台座からブラシ部に異物が再付着することがない。このことから、台座全体をブラシ部に接触させて洗浄処理するよりも、台座から起立した突起部のみをブラシ部に接触させて洗浄処理する方が、ブラシ部に対するブラシ洗浄部材の接触面積が減少するため、ブラシ洗浄部材からブラシ部への異物の再付着を容易に軽減することができる。
【００１７】
また、突起部は起立面を有していることから、該起立面に付着した異物は、台座に落下しやすい。よって、突起部からブラシ部への異物の再付着を効果的に防ぐことができる。さらに、ブラシ部へは、ブラシ洗浄部材の突起部のみが接触するが、突起部は、回動を伴って接触されたブラシ部の内部に進入することにより、ブラシ部を台座全体に接触させた場合と比べても異物の除去効率を低下させることなく、ブラシ部に付着、蓄積した異物を確実に除去する、即ち洗浄処理することができる。
【００１８】
さらに、前記ブラシ部は、前記台座面に略直交する前記突起部の起立面及び起立端面に、接触されることを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、台座の台座面に略直交する突起部の起立面及び起立端面に、ブラシ部が回動を伴って接触されることにより、ブラシ部に付着、蓄積した異物は、延在する棒状部材の起立面により確実に除去される、即ち洗浄処理されるといった効果を有する。
【００２０】
また、前記突起部は、複数から構成されていることを特徴とする。
【００２１】
さらに、前記ブラシ部は、少なくとも１つのブラシ束から構成されており、前記突起部間の間隔は、前記ブラシ束の径以上であることを特徴とする。
【００２２】
本発明によれば、ブラシ部と複数の突起部とを接触させた際、ブラシ部のブラシ束は、複数の突起部の突起部間に確実に進入する、即ち複数の突起部は、ブラシ束が複数の場合、ブラシ束間に確実に進入することから、複数の突起部は、確実にブラシ束に付着、蓄積した異物を除去することができるという効果を有する。
【００２３】
また、前記突起部は、前記台座面において、面方向に十字状を有して延在していることを特徴とする。
【００２４】
本発明によれば、突起部は、台座面において面方向に十字状を有して延在していることにより、ブラシ部が回動を伴って接触された際、突起部は、十字形状に起立する起立面により確実に、ブラシ部に付着、蓄積した異物を除去することができるという効果を有する。
【００２５】
さらに、前記突起部は、前記台座面において、面方向に放射状を有して延在していることを特徴とする。
【００２６】
本発明によれば、突起部は、台座面において面方向に放射状を有して延在していることにより、ブラシ部が回動を伴って接触された際、突起部は、放射形状に起立する起立面により確実に、ブラシ部に付着、蓄積した異物を除去することができるという効果を有する。
【００２７】
また、前記起立端面は、前記起立面の起立した方向に狭搾するテーパ面を有していることを特徴とする。
【００２８】
本発明によれば、突起部の起立端面は、起立面の起立した方向に狭搾するテーパ面を有している、即ち尖っていることにより、起立端面に異物が付着し難い。よって、突起部からブラシ部への異物の再付着を効果的に防ぐことができるといった効果を有する。
【００２９】
さらに、前記起立面は、起立した方向に狭搾するテーパ状に形成されていることを特徴とする。
【００３０】
本発明によれば、突起部の起立面は、起立した方向に狭搾するテーパ状に形成されている、例えば断面形状が三角状を有していることにより、該起立面に付着した異物は、テーパ状の傾斜により台座に落下しやすい。よって、突起部からブラシ部への異物の再付着を効果的に防ぐことができるといった効果を有する。
【００３１】
また、前記突起部の前記台座面からの起立高さは、前記ブラシ部の先端を前記台座面に接触させた際の前記台座面から前記ブラシ部の基部までの高さよりも高いことを特徴とする。
【００３２】
本発明によれば、ブラシ部を突起部に接触させた際、ブラシ部が台座に接触することがないため、ブラシ部に、台座に付着した異物が再付着することを確実に防止することができるといった効果を有する。
【００３３】
さらに、前記ブラシ部に洗浄液を供給する液体供給ノズルをさらに有していることを特徴とする。
【００３４】
また、前記洗浄液に超音波を付与する超音波付与手段を前記液体供給ノズル内に有していること特徴とする。
【００３５】
本発明によれば、洗浄ブラシのブラシ部に洗浄液を供給する液体供給ノズルを有しているとともに、洗浄液に超音波を付与する超音波付与手段を液体供給ノズル内に有していることにより、ブラシ部を洗浄処理するに際し、ブラシ部を突起部に接触させるとともに、超音波を付与した洗浄液をブラシ部に供給することにより、ブラシ部に付着、蓄積した異物を確実に除去することができるといった効果を有する。
【００３６】
さらに、前記台座に、前記ブラシ部から除去した前記異物及び前記洗浄液を吸引する吸引孔が形成されていることを特徴とする。
【００３７】
本発明によれば、台座の吸引孔から台座に付着した異物及び洗浄液が排出されるため、台座の台座面に異物及び洗浄液が残留、蓄積し難くなるといった効果を有する。
【００３８】
また、前記突起部は、前記台座と別体に形成されており、前記台座に対し、基部が固定されていることを特徴とする。
【００３９】
本発明によれば、突起部は、台座と別体に形成されていることから、突起部を台座に設けやすいといった効果を有する。
【００４０】
さらに、前記ブラシ洗浄部材は、ブラシ洗浄室内に配設されており、前記ブラシ洗浄室内において、前記異物が、前記突起部により前記ブラシ部から除去されることを特徴とする。
【００４１】
本発明によれば、ブラシ部の洗浄処理は、ブラシ洗浄室内において行われることにより、洗浄処理の際、洗浄液等が、周囲に飛散することがないといった効果を有する。
【００４２】
また、前記ブラシ洗浄室は、前記被洗浄物を洗浄処理する被洗浄物洗浄装置とともに、液体処理室に配設されており、前記液体処理室に、前記被洗浄物洗浄装置と前記ブラシ洗浄室とに対し、前記洗浄ブラシを搬送する洗浄ブラシ搬送機構がさらに配設されていることを特徴とする。
【００４３】
本発明によれば、洗浄ブラシを、被洗浄物洗浄装置とブラシ洗浄室とに対し搬送する洗浄ブラシ搬送機構を有していることにより、電気光学装置の少なくとも一部を洗浄処理した洗浄ブラシを、確実にブラシ洗浄室に搬送することができるとともに、ブラシ洗浄室にて洗浄処理された洗浄ブラシを、確実に被洗浄物洗浄装置に搬送することができるといった効果を有する。
【００４４】
さらに、前記液体供給ノズルは、前記ブラシ部に対して供給口が開口されているとともに、前記洗浄ブラシまたは前記洗浄ブラシ搬送機構に設けられていることを特徴とする。
【００４５】
本発明によれば、ブラシ部を洗浄処理するに際し、確実に洗浄液をブラシ部に供給することができるといった効果を有する。
【００４６】
本発明の電気光学装置の製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法は、被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部に付着した異物を、前記ブラシ部から除去する、台座から起立するとともに、前記台座の台座面の面方向に延在する棒状部材から形成された突起部を具備する電気光学装置の製造装置における洗浄ブラシの洗浄方法であって、被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部を、前記突起部のみに接触させる手順と、前記突起部と前記ブラシ部との接触により、前記ブラシ部に付着した異物を前記ブラシ部から除去することにより前記ブラシ部を洗浄処理する手順と、を具備することを特徴とする。
【００４７】
本発明によれば、被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部を洗浄処理するに際し、ブラシ洗浄部材からのブラシ部への異物の再付着を容易かつ確実に軽減して、洗浄ブラシを確実に洗浄処理することができるといった効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４８】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の電気光学装置の製造装置（以下、単に製造装置と称す）は、電気光学装置の少なくとも一部を構成する被洗浄物を洗浄処理後の洗浄ブラシのブラシ部を洗浄する製造装置である。
【００４９】
また、洗浄ブラシにより洗浄処理される被洗浄物は、電気光学装置、具体的には、表示領域にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のスイッチング素子及び画素電極が形成された第１の基板と該第１の基板に対向する対向電極が形成された第２の基板との間に、電気光学物質が挟持されて構成された液晶装置における第１の基板を例に挙げて、以下説明する。
【００５０】
先ず、本実施を示す製造装置の構成を説明するに先立って、製造装置の液体処理室で洗浄処理される第１の基板を有する液晶装置の構成について、図１を用いて簡単に説明する。図１は、本実施の製造装置の洗浄ブラシにおいて洗浄処理される第１の基板を用いた液晶装置の断面図である。
【００５１】
同図に示すように、液晶装置１００は、例えば、石英基板、ガラス基板、シリコン基板を用いた第１の基板である素子基板（以下、ＴＦＴ基板と称す）１１０と、該ＴＦＴ基板１１０に対向配置される、例えばガラス基板や石英基板を用いた第２の基板である対向基板１２０との間の内部空間に、電気光学物質である液晶１５０が介在されて構成されている。対向配置されたＴＦＴ基板１１０と対向基板１２０とは、シール材１５２によって貼り合わされている。
【００５２】
ＴＦＴ基板１１０の基板上に、画素を構成する画素電極（ＩＴＯ）１０９ａ及びスイッチング素子１０９ｂ等がマトリクス状に配置され、液晶１５０と接する面側に、液晶装置１００の表示領域を構成するＴＦＴ基板１１０の表示領域１１０ａが構成されている。
【００５３】
また、対向基板１２０の基板上の全面に、対向電極（ＩＴＯ）１２１が設けられており、対向電極１２１のＴＦＴ基板１１０の表示領域１１０ａに対向する位置の液晶１５０と接する面側に、液晶装置１００の表示領域を構成する対向基板１２０の表示領域１２０ａが構成されている。
【００５４】
ＴＦＴ基板１１０の画素電極１０９ａ上に、ラビング処理が施された第１の配向膜１１６が設けられており、また、対向基板１２０上の全面に渡って形成された対向電極１２１上にも、ラビング処理が施された第２の配向膜１２６が設けられている。
【００５５】
対向基板１２０に、ＴＦＴ基板１１０の表示領域１１０ａ及び対向基板１２０の表示領域１２０ａの外周を規定し区画する額縁としての遮光膜１５３が設けられている。
【００５６】
シール材１５２の外側の領域に、ＴＦＴ基板１１０の図示しないデータ線に画像信号を所定のタイミングで供給して該データ線を駆動するデータ線駆動回路１０１及び外部回路との接続のための外部接続端子１０２が、ＴＦＴ基板１１０の一辺に沿って設けられている。
【００５７】
次に、本実施の製造装置の構成について、図２〜図６を用いて説明する。
【００５８】
図２は、本実施を示す製造装置の構成の概略を示す透視斜視図、図３は、図２のブラシ洗浄室内に配設されたブラシ洗浄部材の斜視図、図４は、図３のブラシ洗浄部材の突起部の拡大斜視図、図５は、図２の洗浄ブラシのブラシ部の構成を、ブラシ部の先端側の方向からみて概略的に示す正面図、図６は、図２のブラシ洗浄部材に、洗浄ブラシのブラシ部が接触した状態を、ブラシ洗浄部材のみ断面にして示した部分断面図である。
【００５９】
図２に示すように、製造装置１の液体処理室２０の室内２０ｉに、被洗浄物洗浄装置１０とブラシ洗浄室５０とが配設されている。
【００６０】
被洗浄物洗浄装置１０は、液体処理室２０の室内２０ｉに搬入されたＴＦＴ基板１１０を洗浄処理する、既知の枚葉式のスピン洗浄装置である。被洗浄物洗浄装置１０は、液体処理室２０の底面に載置された回動装置１７と、この回動装置１７から上方に延出し、回動装置１７のオン動作によって回動する回動軸１８と、該回動軸１８に軸支された回動台１１と、液体供給ノズル１２と、洗浄ブラシ１３とにより主要部が構成されている。
【００６１】
回動台１１は、例えば円盤状を有しており、回動台１１に、該回動台１１の上面に載置されたＴＦＴ基板１１０を保持する図示しないチャックが形成されている。回動台１１は、回動軸１８に底面中央を軸支され、上面にＴＦＴ基板１１０が載置、保持された後、回動軸１８の回動に伴い回動する。尚、回動台１１の内部に、上面に載置されたＴＦＴ基板１１０を吸引保持する、真空装置に連通する真空吸引チャック（いずれも図示せず）が形成されていてもよい。
【００６２】
液体供給ノズル１２は、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理するに際し、回動台１１に載置され回動するＴＦＴ基板１１０の被処理面となる表面に純水等の洗浄液を供給する。尚、液体供給ノズル１２は、例えば液体処理室２０の室内２０ｉの底面から延出するアーム等に固定されている。
【００６３】
洗浄ブラシ１３は、回動台１１に載置され回動するＴＦＴ基板１１０の表面に接触、摺動することにより、ＴＦＴ基板１１０の表面をスクラブ洗浄処理するブラシ部１６を有している。
【００６４】
洗浄ブラシ１３は、被洗浄物洗浄装置１０とブラシ洗浄室５０とに、洗浄ブラシ１３を搬送する、例えば液体処理室２０の室内２０ｉに配設された洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アーム等に固定されている。洗浄ブラシ１３は、洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームが伸縮されることにより、ＴＦＴ基板１１０の表面に対し、ブラシ部１６が当接または離間する。
【００６５】
ブラシ部１６は、図５に示すように、少なくとも１つの、例えば直径Ｌ３の円形のブラシ束１６ｔから構成されている。尚、ブラシ束１６ｔの形状は、円形に限定されない。また、図５においては、ブラシ束１６ｔは、図面の簡略上、２つのみ図示しているが、実際は、ブラシ束１６ｔの直径Ｌ３が、洗浄ブラシ１３の、例えば円形の下端面１３ｋの直径よりも大幅に小さい場合、２つに限らず、洗浄ブラシ１３の下端面１３ｋ全体に、複数配設されている。また、この際、隣り合う各ブラシ束１６ｔは、Ｌ４（例えばＬ４＝２．０ｍｍ以上）の間隔を有して配設されている。
【００６６】
ブラシ束１６ｔは、例えばポリビニルアルコール等で形成された、後述する所定の高さｈ２を有する複数のブラシ１６ｍが束ねられることにより形成されている。
【００６７】
洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームに、洗浄ブラシ１３を洗浄処理する際、ブラシ部１６に、ブラシ部１６に対して開口された供給口から純水等の洗浄液Ｗを供給する液体供給ノズル１５が設けられている。尚、液体供給ノズル１５は、洗浄ブラシ１３に設けられていても構わない。
【００６８】
また、図６に示すように、液体供給ノズル１５内に、該液体供給ノズル１５から供給される洗浄液Ｗに超音波を付与する超音波付与手段である超音波付与装置６０が設けられている。尚、超音波付与装置６０は、液体供給ノズル１５内以外に設けられていても構わない。
【００６９】
ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉに、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後の洗浄ブラシ１３のブラシ部１６を洗浄処理するブラシ洗浄部材３０が配設されている。ブラシ洗浄室５０は、ブラシ洗浄部材３０を用いたブラシ部１６の洗浄処理が、室内５０ｉにおいて行われた際、洗浄液Ｗ等が、液体処理室２０の室内２０ｉに飛散するのを、内壁により防止する。
【００７０】
図３に示すように、ブラシ洗浄部材３０は、台座３１と、該台座３１の台座面３１ｄから起立した、例えば３本の突起部３２とから主要部が構成されている。尚、突起部３２は、後述するブラシ部１６との接触により発塵しない部材であって、静電気が発生し難く、耐液性に優れた部材であるとともに、ブラシ部１６を損傷させない部材、例えば静電塩化ビニル樹脂等により構成されている。
【００７１】
図４に示すように、突起部３２は、長手方向が、台座面３１ｄの面方向である図３中ｙ方向において台座３１に細長に延在する断面略長方形の棒状部材、即ち直方体から形成されている。
【００７２】
突起部３２は、３本の棒状部材が、台座３１に、例えば図３中ｘ方向に、後述する所定の間隔Ｌ１を有して各々平行に配設されている。
【００７３】
具体的には、台座３１に突起部３２を設けやすくするため、３本の突起部３２の図３中ｙ方向に延在する各基部３２ｋが、台座３１の台座面３１ｄにそれぞれ固定されることにより、突起部３２は、台座３１に配設されている。尚、突起部３２は、台座３１と一体的に形成されていても構わない。
【００７４】
突起部３２の図３，４中のｘ方向の径Ｌ２、具体的には、突起部３２の台座３１の台座面３１ｄと接触する基部３２ｋ及び該基部３２ｋに対向する起立端部３２ｔの図３中ｘ方向の径Ｌ２は、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の隣り合うブラシ束１６ｔの間隔Ｌ４以下の径Ｌ２（例えばＬ２＝２．０ｍｍ）に形成されている（Ｌ２≦Ｌ４）。
【００７５】
また、突起部３２の台座３１の台座面３１ｄからの起立高さｈ１、具体的には、突起部３２の台座面３１ｄに略直交する起立面３２ｓの起立高さｈ１は、図６に示すように、ブラシ部１６の先端を台座面３１ｄに接触させた際の台座面３１ｄから洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の基部までの高さｈ２よりも高いｈ１（例えばｈ１＝１．５〜２．０ｍｍ）に形成されている（ｈ１＞ｈ２）。
【００７６】
このことにより、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６がブラシ洗浄部材３０に接触した際、ブラシ部１６の突起部３２への当接圧に関わらず、ブラシ部１６が台座３１の台座面３１ｄに接触することがない。
【００７７】
また、隣り合う突起部３２の図３，４中ｘ方向の間隔Ｌ１は、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の１つのブラシ束１６ｔの径Ｌ３以上の間隔Ｌ１（例えばＬ１＝５．０ｍｍ）に形成されている（Ｌ１≧Ｌ３）。
【００７８】
図６に示すように、突起部３２は、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後の洗浄ブラシ１３のブラシ部１６が、図３中のｘ方向、即ち図６中では、回動Ｒを伴って、所定の当接圧で接触されることにより、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理後のブラシ部１６に付着、残留した、例えば有機物等の異物５（図８参照）を、起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面、起立面３２ｓと起立端部３２ｔの起立端面とのエッジ３２ｅを用いて、ブラシ部１６から除去する、即ちブラシ部１６を洗浄処理するものである。
【００７９】
具体的には、図３中ｙ方向に延在する起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面及びエッジ３２ｅがブラシ部１６の複数のブラシ束１６ｔの内部に、例えば０．５ｍｍ進入する所定の当接圧を有して、ブラシ部１６が突起部３２に接触することにより、図３，４中ｙ方向に延在する起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面及びエッジ３２ｅは、ブラシ部１６の先端１６ｔ付近に付着、残留した異物を除去する。
【００８０】
図３に示すように、台座３１に、図示しない吸引機構に連通する、台座面３１ｄに開口する複数の吸引孔３１ｈが形成されている。吸引孔３１ｈは、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６を、突起部３２を用いて洗浄処理した際、吸引機構の吸引により、ブラシ部１６から落下した異物５及び洗浄液Ｗを、台座面３１ｄ上に残留、蓄積し難くなるよう台座面３１ｄから排出する。
【００８１】
次に、本実施の作用について上述した図２〜図６及び図７、図８を用いて説明する。図７は、図６のブラシ洗浄部材を上方から概略的にみた上面図、図８は、本実施の作用を説明する図６のブラシ洗浄部材及び洗浄ブラシの一部の部分拡大断面図である。
【００８２】
先ず、液体処理室２０の室内２０ｉにおいて、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理した後の洗浄ブラシ１３が、洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームにより、ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉに搬送される。
【００８３】
次いで、洗浄ブラシ搬送機構４０のアームにより、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６が、ブラシ洗浄部材３０の３本の突起部３２の図３，４中ｙ方向に延在する各起立面３２ｓ及び起立端部３２ｔの起立端面に、回動Ｒを伴って、起立面３２ｓがブラシ部１６の複数のブラシ束１６ｔ間の内部に、例えば０．５ｍｍ進入する所定の当接圧を有して接触される。尚、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６を、図７中Ｆの方向に進行しながら、突起部３２に接触させてもよい。
【００８４】
この際、突起部３２の起立面３２ｓの起立高さｈ１は、上述した図６に示すように、台座３１の台座面３１ｄに対する洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の高さｈ２よりも高く形成されていることにより（ｈ１＞ｈ２）、ブラシ部１６の突起部３２への当接圧に関わらず、ブラシ部１６の先端１６ｔが台座３１の台座面３１ｄに接触することがない。即ち、ブラシ部１６は、突起部３２のみに接触する。
【００８５】
また、隣り合う突起部３２の図３，４中ｘ方向の間隔Ｌ１は、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の１つのブラシ束１６ｔの径Ｌ３以上の間隔Ｌ１に形成されている（Ｌ１≧Ｌ３）こと、さらには、突起部３２の基部３２ｋ及び起立端部３２ｔの図３，４中ｘ方向の径Ｌ２は、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６の隣り合うブラシ束１６ｔの間隔Ｌ４以下の径に形成されている（Ｌ２≦Ｌ４）ことにより、突起部３２は、確実にブラシ部１６の内部、即ち、隣り合うブラシ束１６ｔの間に確実に進入する。
【００８６】
洗浄ブラシ１３のブラシ部１６が洗浄部材３０の突起部３２に接触した後、液体供給ノズル１５から、図８に示すように、ブラシ部１６に、超音波付与装置６０により超音波が付与された純水等の洗浄液Ｗが供給される。超音波を付与した洗浄液Ｗをブラシ部１６に供給することにより、ブラシ部１６に付着、蓄積した異物５が、洗浄液のみを供給するよりもより確実に除去される。
【００８７】
ブラシ部１６が、液体供給ノズル１５から洗浄液Ｗの供給を受けて、図７に示すように、突起部３２の図３中ｙ方向に延在する起立面３２ｓ及び起立端部３２ｔの起立端面に回動を伴いながら接触することにより、洗浄ブラシのブラシ部１６に付着、蓄積していた異物５は、洗浄液Ｗとともに、接触された図３中ｙ方向に延在する起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面及びエッジ３２ｅにより確実に除去される。即ち、異物５は、図３中ｙ方向に延在する起立面３２ｓ及び起立端部３２ｔの起立端面に付着される（図８＊１）とともに、洗浄液Ｗに伴って、台座面３１ｄに落下する（図８＊２）。
【００８８】
尚、起立面３２ｓに付着した異物５は、起立面３２ｓが台座面３１ｄから起立した面であることから、洗浄液Ｗにより台座面３１ｄに落下しやすくなる（図８＊３）。よって、突起部３２においては、異物５は、起立面３２ｓには付着し難くなることから、起立端部３２ｔの起立端面に、異物５の大部分が付着、蓄積する。
【００８９】
台座面３１ｄに落下された洗浄液Ｗ及び異物５は、台座面３１ｄに開口された吸引孔３１ｈから、該吸引孔３１ｈに連通する吸引機構の吸引により排出される（図８＊４）。よって、洗浄液Ｗ及び異物５は、台座面３１ｄ上に残留、蓄積し難くなる。
【００９０】
次いで、ブラシ部１６の洗浄処理が終了した洗浄ブラシ１３は、洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームにより、ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉから搬出された後、被洗浄物洗浄装置１０に搬送され、再度、ＴＦＴ基板１１０の洗浄処理用いられる。
【００９１】
尚、図７に示すように、洗浄ブラシ１３のＦの方向へ進行させる場合は、ブラシ部１６の洗浄処理が終了した洗浄ブラシ１３は、洗浄ブラシ１３のＦの方向へのさらなる進行により、ブラシ部１６が突起部３２と接触されなくなった後、洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームにより、ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉから搬出され、被洗浄物洗浄装置１０に搬送され、再度、ＴＦＴ基板１１０の洗浄処理用いられる。
【００９２】
その後、洗浄ブラシ１３は、洗浄ブラシ搬送機構４０の伸縮アームにより、再度ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉに搬入された後、再度、ブラシ洗浄部材３０の突起部３２により、ブラシ部１６が洗浄処理される。
【００９３】
尚、このブラシ洗浄部材３０によるブラシ部１６の洗浄処理は、洗浄ブラシ１３を用いたＴＦＴ基板１１０の洗浄処理が行われる度に行われる。
【００９４】
このように、本実施においては、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６を、ブラシ洗浄部材３０の突起部３２のみに回動を伴って接触させることにより、ＴＦＴ基板１１０を洗浄処理した際、ブラシ部１６に付着、蓄積した異物５を、ブラシ部１６から、突起部３２の起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面及びエッジ３２ｅにより除去することによりブラシ部１６を洗浄処理すると示した。
【００９５】
このことによれば、ブラシ部１６の洗浄処理後、突起部３２によりブラシ部１６から除去された異物５は、突起部３２の起立面３２ｓ、起立端部３２ｔの起立端面及び台座３１の台座面３１ｄに付着、残留、蓄積するが、次工程において、再度ブラシ部１６を洗浄処理するに際し、ブラシ部１６は、突起部３２のみしか接触しない、即ち台座３１に接触しないことから、台座３１からブラシ部１６に異物５が再付着することがない。
【００９６】
このことから、ブラシ洗浄部材３０全体、即ち台座３１及び突起部３２をブラシ部１６に接触させて洗浄処理するよりも、台座３１から起立した突起部３２のみをブラシ部１６に接触させて洗浄処理する方が、ブラシ部１６に対するブラシ洗浄部材３０の接触面積が減少するため、ブラシ洗浄部材３０からブラシ部１６への異物５の再付着を容易に軽減することができる。
【００９７】
また、突起部３２は起立面３２ｓを有していることから、該起立面３２ｓに付着した異物５は、洗浄液Ｗとともに台座３１に落下しやすい。よって、異物の大部分は、起立端部３２ｔの起立端面に付着するのみとなるため、突起部３２からブラシ部１６への異物５の再付着を効果的に防ぐことができる。
【００９８】
さらに、ブラシ部１６へは、ブラシ洗浄部材３０の突起部３２のみが接触するが、突起部３２は、回動を伴って接触されたブラシ部１６の内部、即ちブラシ束１６ｔ間に確実に進入することにより、ブラシ部１６を、台座３１を含めたブラシ洗浄部材３０全体に接触させた場合と比べても異物５の除去効率を低下させることなく、ブラシ部１６に付着、蓄積した異物５を確実に除去する、即ち洗浄処理することができる。
【００９９】
尚、以下変形例を示す。図９は、図６に示す突起部の形状の変形例を示すブラシ洗浄部材の断面図、図１０は、図６に示す突起部の形状の別の変形例を示すブラシ洗浄部材の断面図である。
【０１００】
本実施においては、突起部３２は、長手方向が、図３中ｙ方向において台座３１に細長に延在する断面略長方形の棒状部材、即ち直方体から形成されていると示した。これに限らず、長手方向が、図３中ｙ方向において台座３１に細長に延在しておれば、図９に示すように、突起部３２は、該突起部３２の起立面３２ｓが、起立した方向に狭搾するテーパ状に形成されるとともに、起立端部３２ｔが起立した方向に狭搾する形状、即ち尖った形状に形成される、例えば断面形状が三角状となる形状であっても構わない。
【０１０１】
また、図１０に示すように、突起部３２は、起立端部３２ｔの起立端面が、起立面３２ｓの起立した方向に狭搾するテーパ面３２ｐを有した形状、即ち起立端部３２ｔのみが尖った形状であっても構わない。
【０１０２】
このような突起部３２の形状によれば、テーパ状の起立面３２ｓに付着した異物５は、起立面３２ｓのテーパ状の傾斜により台座３１に落下しやすいばかりか、起立端部３２ｔが尖っていることにより、起立端部３２ｔの起立端面に異物５が付着し難い。即ち、起立端部３２ｔから台座３１に異物５が落下しやすい。よって、本実施よりも、突起部３２からブラシ部１６への異物５の再付着を効果的に防ぐことができる。
【０１０３】
さらに、本実施においては、突起部３２は、台座３１に３本設けられている例を示したが、これに限らず、１本であっても構わないし、ブラシ洗浄部材３０のブラシ部１６への接触面積が過度に増大しない範囲であれば、何本であっても構わない。
【０１０４】
尚、以下さらに別の変形例を示す。図１１は、図３の突起部のさらに別の形状を示すブラシ洗浄部材を上方から概略的にみた上面図である。
【０１０５】
本実施においては、突起部３２は、長手方向が、図３中ｙ方向において台座３１に細長に延在する断面略長方形の３本の棒状部材から形成されていると示した。
【０１０６】
これに限らず、図１１に示すように、突起部３２は、台座３１の台座面３１ｄにおいて、面方向に十字状を有して延在するよう、台座３１に固定されていても構わない。このように突起部３２が十字状を有しておれば、ブラシ部１６が回動を伴って接触された際、突起部３２は、十字形状に起立する起立面３２ｓ、エッジ３２ｅが回動するブラシ部１６とより確実に接触するため、ブラシ部１６に付着、蓄積した異物をより確実に除去することができるという効果を有する。
【０１０７】
尚、以下さらに別の変形例を示す。図１２は、図３の突起部のさらにまた別の形状を示すブラシ洗浄部材を上方から概略的にみた上面図である。
【０１０８】
図１２に示すように、突起部３２は、台座３１の台座面３１ｄにおいて、面方向に放射状を有して延在するよう、台座３１に固定されていても構わない。このように突起部３２が放射状を有しておれば、ブラシ部１６が回動を伴って接触された際、突起部３２は、放射形状に起立する起立面３２ｓ、エッジ３２ｅが、回動するブラシ部１６と、図１１に示した十字状よりもより確実に接触するため、ブラシ部１６に付着、蓄積した異物をさらに確実に除去することができるという効果を有する。
【０１０９】
また、さらに本実施においては、ブラシ洗浄部材３０は、ブラシ洗浄室５０の室内５０ｉに配設されており、台座３１と、該台座３１から起立する突起部３２とにより構成されていると示した。
【０１１０】
これに限らず、台座３１を設けずに、突起部３２をブラシ洗浄室５０の室内５０ｉの底面から起立するよう、該底面に固定しても本実施と同様の効果を得ることができる。
【０１１１】
また、本実施においては、洗浄ブラシ１３のブラシ部１６は、複数のブラシ束１６ｔから構成されていると示したが、ブラシ部１６は、１つのブラシ束、即ち複数のブラシ１６ｍのみから構成されていても構わない。
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本実施においては、被洗浄物は、電気光学装置、具体的には、表示領域にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のスイッチング素子及び画素電極が形成された第１の基板と該第１の基板に対向する対向電極が形成された第２の基板との間に、電気光学物質が挟持されて構成された液晶装置１００の第１の基板であるＴＦＴ基板１１０を例に挙げて説明した。これに限らず、被洗浄物は、第２の基板である対向基板１２０であっても構わないし、さらには、組み立て工程終了後の液晶装置１００であっても構わない。
【０１１３】
さらに、液晶装置１００は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶装置は、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールであっても構わない。
【０１１４】
また、被洗浄物は、半導体基板に素子を形成する表示用デバイス、例えばＬＣＯＳ（Liquid Crystal On Silicon）等であっても構わない。ＬＣＯＳでは、素子基板として単結晶シリコン基板を用い、画素や周辺回路に用いるスイッチング素子としてトランジスタを単結晶シリコン基板に形成する。また、画素には、反射型の画素電極を用い、画素電極の下層に画素の各素子を形成する。
【０１１５】
また、被洗浄物は、片側の基板の同一層に、一対の電極が形成される表示用デバイス、例えばＩＰＳ（In-Plane Switching）や、片側の基板において、絶縁膜を介して一対の電極が形成される表示用デバイスＦＦＳ（Fringe Field Switching）等であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【０１１６】
【図１】本実施の製造装置の洗浄ブラシにおいて洗浄処理される第１の基板を用いた液晶装置の断面図。
【図２】本実施を示す製造装置の構成の概略を示す透視斜視図。
【図３】図２のブラシ洗浄室内に配設されたブラシ洗浄部材の斜視図。
【図４】図３のブラシ洗浄部材の突起部の拡大斜視図。
【図５】図２の洗浄ブラシのブラシ部の構成を、ブラシ部の先端側の方向からみて概略的に示す正面図。
【図６】図２のブラシ洗浄部材に、洗浄ブラシのブラシ部が接触した状態を、ブラシ洗浄部材のみ断面にして示した部分断面図。
【図７】図６のブラシ洗浄部材及び台座を上方から概略的にみた上面図。
【図８】本実施の作用を説明する図６のブラシ洗浄部材及び洗浄ブラシの一部の部分拡大断面図。
【図９】図６に示す突起部の形状の変形例を示すブラシ洗浄部材の断面図。
【図１０】図６に示す突起部の形状の別の変形例を示すブラシ洗浄部材の断面図。
【図１１】図３の突起部のさらに別の形状を示すブラシ洗浄部材を上方から概略的にみた上面図。
【図１２】図３の突起部のさらにまた別の形状を示すブラシ洗浄部材を上方から概略的にみた上面図。
【符号の説明】
【０１１７】
１…製造装置、５…異物、１０…被洗浄物洗浄装置、１３…洗浄ブラシ、１５…液体供給ノズル、１６…ブラシ部、１６ｔ…ブラシ束、２０…液体処理室、３０…ブラシ洗浄部材、３１…台座、３１ｄ…台座面、３１ｈ…吸引孔、３２…突起部、３２ｐ…テーパ面、３２ｓ…起立面、３２ｔ…起立端部、４０…洗浄ブラシ搬送機構、５０…ブラシ洗浄室、６０…超音波付与装置、１００…液晶装置、１０９ａ…画素電極、１０９ｂ…スイッチング素子、１１０…ＴＦＴ基板、１１０ａ…表示領域、１２０…対向基板、１２１…対向電極、１５０…液晶、ｈ１…突起部の起立高さ、ｈ２…ブラシ部の高さ、Ｌ１…突起部間の間隔、Ｌ３…ブラシ束の径、Ｗ…洗浄液。
【図１】
2007061785.tif 000003
【図２】
2007061785.tif 000004
【図３】
2007061785.tif 000005
【図４】
2007061785.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2007061785.tif 000009
【図８】
2007061785.tif 000010
【図９】
2007061785.tif 000011
【図１０】
2007061785.tif 000012
【図１１】
2007061785.tif 000013
【図１２】
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