(57)【要約】【課題】従来と比較して耐環境性を向上させる。【解決手段】光源１０〜１２から出射される光束を用いて情報の記録及び／または再生を行う光ピックアップ装置１の光路上に備えられる対物レンズ３は、基材３０と、基材３０の表面に形成された反射防止膜３１とを備える。反射防止膜３１は、交互に複数積層された、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．４以上で１．６以下の低屈折率層と、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．８以上で２．２以下の高屈折率層とを有する。複数の低屈折率層のうち、少なくとも２つの低屈折率層は、主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なる。【選択図】図１
2007041292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
この基材の表面に形成された反射防止膜とを備えた光学素子において、
前記反射防止膜は、
波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．４以上で１．６以下の低屈折率層と、
波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．８以上で２．２以下の高屈折率層とをそれぞれ複数有するとともに、
前記複数の低屈折率層と前記複数の高屈折率層とが交互に積層されてなり、
複数の前記低屈折率層のうち、少なくとも２つの低屈折率層は、
互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１記載の光学素子において、
光源から出射される光束を用いて情報の記録及び／または再生を行う光ピックアップ装置の光路上に備えられることを特徴とする光学素子。
【請求項３】
請求項２記載の光学素子において、
少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光から構成された光束を情報記録媒体に集光する対物レンズであることを特徴とする光学素子。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の光学素子において、
互いに主成分が同一であり、副成分の含有比率が異なる少なくとも１対の前記低屈折率層が、１つの前記高屈折率層を介して隣接することを特徴とする光学素子。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の光学素子において、
各低屈折率層は、
１つの前記高屈折率層を介して隣接する他の前記低屈折率層と、互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なることを特徴とする光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の光学素子において、
前記低屈折率層の主成分は二酸化ケイ素であることを特徴とする光学素子。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の光学素子において、
前記低屈折率層の副成分は酸化アルミニウムであることを特徴とする光学素子。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の光学素子において、
前記高屈折率層は、
酸化ハフニウム、酸化ジルコン、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ランタン、チタン酸ジルコン、酸化タンタル、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジウム及び酸化スカンジウムのうち、何れかの単体または混合物によって形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項９】
請求項８記載の光学素子において、
前記高屈折率層は、酸化ジルコンによって形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜は、７〜９層で形成されていることを特徴とする光学素子。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が１００〜１３０ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が２８〜３６ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が４６〜６０ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が４４〜５５ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が７５〜９５ｎｍであることを特徴とする光学素子。
【請求項１２】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が８５〜１０５ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１１〜１５ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が３０〜３８ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が５４〜６８ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が２０〜２５ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が３４〜４３ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が８５〜１０８ｎｍであることを特徴とする光学素子。
【請求項１３】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が１００〜１３０ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が４２〜５２ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が５０〜６３ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が５２〜６５ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が８５〜１０８ｎｍであることを特徴とする光学素子。
【請求項１４】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が８０〜１００ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が４６〜５８ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１４〜１８ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が３３〜４２ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が２７〜３５ｎｍであり、
８番目に前記基材側に位置する第８層は、膜厚が３５〜４５ｎｍであり、
９番目に前記基材側に位置する第９層は、膜厚が９４〜１１７ｎｍであることを特徴とする光学素子。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れか一項に記載の光学素子において、
前記基材は、
α-オレフィン及び環状オレフィンの共重合体からなる樹脂と、耐光安定剤とを有する樹脂組成物によって形成され、
前記環状オレフィンは、下記一般式（I）または（II）で表されることを特徴とする光学素子。
【化１】
2007041292.tif 000045
（式中、ｎは０または１であり、ｍは０または正の整数であり、ｋは０または１であり、Ｒ1〜Ｒ18ならびにＲaおよびＲbは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を表す。）
【化２】
2007041292.tif 000046
（式中、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または正の整数であり、ｒおよびｓはそれぞれ独立に０、１または２であり、Ｒ21〜Ｒ39はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。）
【請求項１６】
請求項１５記載の光学素子において、
前記耐光安定剤が、ヒンダードアミン系耐光安定剤であることを特徴とする光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を備える光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、波長７８０ｎｍ程度の光束を用いるＣＤや、波長６３５〜６５０ｎｍの光束を用いるＤＶＤ等の情報記録媒体を用いて情報の記録再生を行う装置として、光ピックアップ装置がある。この光ピックアップ装置は、光源から出射される光束をコリメータレンズや対物レンズ等の光学素子に通過させて情報記録媒体の記録面に集光することにより、情報の記録再生を行うようになっている。
【０００３】
近年、このような光ピックアップ装置に用いられる情報記録媒体として、波長４０５ｎｍ程度の光束を用いる高密度ＤＶＤ、例えばＡＯＤ（Advanced Optical Disc）やブルーレイディスク等が開発されている。
【０００４】
この高密度ＤＶＤに対応した光ピックアップ装置では、低屈折率層及び高屈折率層を複数積層して光学素子の反射防止膜を形成することにより、光学素子の耐光性を高めている（例えば、特許文献１参照）。また、ＣＤ、ＤＶＤ及び高密度ＤＶＤの３種類の情報記録媒体に対して互換性を有する光ピックアップ装置においても、低屈折率層及び高屈折率層を複数積層して反射防止膜を形成することにより、３波長の光束に対してそれぞれ反射を防止したり、集光スポットを小径化したり、透過光量のバランスを良好に保ったりしている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００５−１１４９４号公報
【特許文献２】特開２００５−３１３６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１，２に開示の反射防止膜では、各低屈折率層として同一組成の層しか用いられていないため、温度や湿度などの環境条件の変化によって反射防止膜に生じる膜応力のうち、低屈折率層に生じる膜応力が重畳的に作用する結果、反射防止膜中にクラックや剥離が生じる場合がある。つまり、反射防止膜の耐環境性が悪い。
【０００６】
本発明の課題は、従来と比較して耐環境性を向上させることができる光学素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１記載の発明は、
基材と、
この基材の表面に形成された反射防止膜とを備えた光学素子において、
前記反射防止膜は、
波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．４以上で１．６以下の低屈折率層と、
波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．８以上で２．２以下の高屈折率層とをそれぞれ複数有するとともに、
前記複数の低屈折率層と前記複数の高屈折率層とが交互に積層されてなり、
複数の前記低屈折率層のうち、少なくとも２つの低屈折率層は、
互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なることを特徴とする。
【０００８】
ここで、２つの低屈折率層の間で副成分の含有比率が異なるとは、例えば含有比率が少なくとも１％以上異なることをいい、また、一方の含有比率が０％より大きく、他方の含有比率が０％である場合を含む。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の光学素子において、
光源から出射される光束を用いて情報の記録及び／または再生を行う光ピックアップ装置の光路上に備えられることを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の光学素子において、
少なくとも波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長の単色光から構成された光束を情報記録媒体に集光する対物レンズであることを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の光学素子において、
互いに主成分が同一であり、副成分の含有比率が異なる少なくとも１対の前記低屈折率層が、１つの前記高屈折率層を介して隣接することを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の発明は、請求項１〜４の何れか一項に記載の光学素子において、
各低屈折率層は、
１つの前記高屈折率層を介して隣接する他の前記低屈折率層と、互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なることを特徴とする。
【００１３】
請求項６記載の発明は、請求項１〜５の何れか一項に記載の光学素子において、
前記低屈折率層の主成分は二酸化ケイ素であることを特徴とする。
【００１４】
請求項７記載の発明は、請求項１〜６の何れか一項に記載の光学素子において、
前記低屈折率層の副成分は酸化アルミニウムであることを特徴とする。
【００１５】
請求項８記載の発明は、請求項１〜７の何れか一項に記載の光学素子において、
前記高屈折率層は、
酸化ハフニウム、酸化ジルコン、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ランタン、チタン酸ジルコン、酸化タンタル、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジウム及び酸化スカンジウムのうち、何れかの単体または混合物によって形成されていることを特徴とする。
【００１６】
請求項９記載の発明は、請求項８記載の光学素子において、
前記高屈折率層は、酸化ジルコンによって形成されていることを特徴とする。
【００１７】
請求項１０記載の発明は、請求項１〜９の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜は、７〜９層で形成されていることを特徴とする。
【００１８】
請求項１１記載の発明は、請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が１００〜１３０ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が２８〜３６ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が４６〜６０ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が４４〜５５ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が７５〜９５ｎｍであることを特徴とする。
【００１９】
請求項１２記載の発明は、請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が８５〜１０５ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１１〜１５ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が３０〜３８ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が５４〜６８ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が２０〜２５ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が３４〜４３ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が８５〜１０８ｎｍであることを特徴とする。
【００２０】
請求項１３記載の発明は、請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が１００〜１３０ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が４２〜５２ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が５０〜６３ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１３〜１７ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が５２〜６５ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が８５〜１０８ｎｍであることを特徴とする。
【００２１】
請求項１４記載の発明は、請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、
前記反射防止膜に含まれる層のうち、
最も前記基材側に位置する第１層は、膜厚が８０〜１００ｎｍであり、
２番目に前記基材側に位置する第２層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
３番目に前記基材側に位置する第３層は、膜厚が４６〜５８ｎｍであり、
４番目に前記基材側に位置する第４層は、膜厚が１０〜１４ｎｍであり、
５番目に前記基材側に位置する第５層は、膜厚が１４〜１８ｎｍであり、
６番目に前記基材側に位置する第６層は、膜厚が３３〜４２ｎｍであり、
７番目に前記基材側に位置する第７層は、膜厚が２７〜３５ｎｍであり、
８番目に前記基材側に位置する第８層は、膜厚が３５〜４５ｎｍであり、
９番目に前記基材側に位置する第９層は、膜厚が９４〜１１７ｎｍであることを特徴とする。
【００２２】
請求項１５記載の発明は、請求項１〜１４の何れか一項に記載の光学素子において、
前記基材は、
α-オレフィン及び環状オレフィンの共重合体からなる樹脂と、耐光安定剤とを有する樹脂組成物によって形成され、
前記環状オレフィンは、下記一般式（I）または（II）で表されることを特徴とする。
【化１】
2007041292.tif 000003
（式中、ｎは０または１であり、ｍは０または正の整数であり、ｋは０または１であり、Ｒ1〜Ｒ18ならびにＲaおよびＲbは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を表す。）
【化２】
2007041292.tif 000004
（式中、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または正の整数であり、ｒおよびｓはそれぞれ独立に０、１または２であり、Ｒ21〜Ｒ39はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。）
【００２３】
請求項１６記載の発明は、請求項１５記載の光学素子において、
前記耐光安定剤が、ヒンダードアミン系耐光安定剤であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
請求項１〜１６の何れか一項に記載の発明によれば、従来と比較して耐環境性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、図を参照して説明する。
図１は光ピックアップ装置１の概略構成を示す断面図である。
この図に示す通り、光ピックアップ装置１は、本発明における光源として３種類のレーザー光源１０，１１，１２を有している。
【００２６】
レーザー光源１０は、ＢＤ（ブルーレイディスク）１００を情報記録媒体として情報の記録／再生を行う際に、波長３５０〜４５０ｎｍ中の特定波長（例えば４０５ｎｍ，４０７ｎｍ）の光束を出射するものである。なお、本実施の形態においては、ＢＤ１００の保護層の厚さは０．１ｍｍとなっている。
【００２７】
レーザー光源１１は、ＤＶＤ１０１を情報記録媒体として情報の記録／再生を行う際に、波長６２０〜６８０ｎｍ中の特定波長（例えば、６５５ｎｍ）の光束を出射するものであり、レーザー光源１２と一体化されて光源ユニット１３を形成している。なお、本実施の形態においては、ＤＶＤ１０１の保護層の厚さは０．６ｍｍとなっている。また、本明細書において、ＤＶＤとは、ＤＶＤ−ＲＯＭや、ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＤＶＤ−Ａｕｄｉｏ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ＋ＲＷ等、ＤＶＤ系列の情報記録媒体の総称である。
【００２８】
レーザー光源１２は、ＣＤ１０２を情報記録媒体として情報の記録／再生を行う際に、７５０〜８１０ｎｍ中の特定波長（例えば、７８５ｎｍ）の光束を出射するものである。なお、本実施の形態においては、ＣＤ１０２の保護層の厚さは１．２ｍｍとなっている。また、本明細書において、ＣＤとは、ＣＤ−ＲＯＭや、ＣＤ−Ａｕｄｉｏ、ＣＤ−Ｖｉｄｅｏ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ等、ＣＤ系列の情報記録媒体の総称である。
【００２９】
レーザー光源１０から出射される光束の光軸方向には、図１中下側から上側に向けてビームシェイパー２０、ビームスプリッタ２１、コリメートレンズ２２、ビームスプリッタ２３、１／４波長板２４、絞り２５、対物レンズ３が順に並んで配されている。対物レンズ３には、対物レンズ３を図１中上下方向に移動させる２次元アクチュエータ２６が配されている。対物レンズ３との対向位置には、情報記録媒体としてのＢＤ１００、ＤＶＤ１０１又はＣＤ１０２が配されるようになっている。
【００３０】
また、ビームスプリッタ２１に対し、図１中右側にはセンサーレンズ４０及び光検出器４３が順に並んで配されている。センサーレンズ４０は、シリンドリカルレンズ４１及び凹レンズ４２を備えている。
【００３１】
また、レーザー光源１１，１２から出射される光束の光軸方向には、図１中右側から左側に向けてビームスプリッタ５０，コリメートレンズ５１、ビームスプリッタ２３が順に並んで配されている。ビームスプリッタ５０の図１中上側にはセンサーレンズ６０及び光検出器６３が順に並んで配されている。センサーレンズ６０は、シリンドリカルレンズ６１及び凹レンズ６２を備えている。
【００３２】
続いて、光ピックアップ装置１における動作・作用を簡単に説明する。ＢＤ１００への情報の記録時やＢＤ１００中の情報の再生時には、レーザー光源１０が光束を出射する。この光束は、図１において実線でその光線経路を示すように、始めにビームシェイパー２０を透過して整形され、ビームスプリッタ２１を透過した後、コリメートレンズ２２で平行光に変換される。次に、この光束は、ビームスプリッタ２３及び１／４波長板２４を透過して絞り２５で絞られた後、対物レンズ３で集光されてＢＤ１００の情報記録面１００ａ上に集光スポットを形成する。このとき、対物レンズ３は、その周辺に配置された２次元アクチュエータ２６によってフォーカシングやトラッキングを行う。
【００３３】
次に、集光スポットを形成した光は、ＢＤ１００の情報記録面１００ａで情報ピットにより変調されて反射する。次に、この反射光は、対物レンズ３、１／４波長板２４、ビームスプリッタ２３及びコリメートレンズ２２を透過してビームスプリッタ２１で反射した後、センサーレンズ４０により非点収差が与えられて、光検出器４３に到達する。そして、光検出器４３の出力信号を用いることにより、ＢＤ１００中の情報の再生が行われる。
【００３４】
ＤＶＤ１０１への情報の記録時やＤＶＤ１０１中の情報の再生時には、レーザー光源１１が光を出射する。この光束は、図１において点線でその光線経路を示すように、始めにビームスプリッタ５０を透過した後、コリメートレンズ５１で平行光に変換される。次に、この光束は、ビームスプリッタ２３で反射して、１／４波長板２４を透過して絞り２５で絞られた後、対物レンズ３で集光されてＤＶＤ１０１の情報記録面１０１ａ上に集光スポットを形成する。このとき、対物レンズ３は、その周辺に配置された２次元アクチュエータ２６によってフォーカシングやトラッキングを行う。
【００３５】
次に、集光スポットを形成した光は、ＤＶＤ１０１の情報記録面１０１ａで情報ピットにより変調されて反射する。次に、この反射光は、対物レンズ３、１／４波長板２４を透過して、ビームスプリッタ２３，５０でそれぞれ反射した後、センサーレンズ６０により非点収差が与えられて、光検出器６３に到達する。そして、光検出器６３の出力信号を用いることにより、ＤＶＤ１０１中の情報の再生が行われる。
【００３６】
ＣＤ１０２への情報の記録時やＣＤ１０２中の情報の再生時には、レーザー光源１２が光を出射する。この光束は、図１において２点鎖線でその光線経路を示すように、始めにビームスプリッタ５０を透過した後、コリメートレンズ５１で平行光に変換される。次に、この光束は、ビームスプリッタ２３で反射して、１／４波長板２４を透過して絞り２５で絞られた後、対物レンズ３で集光されてＣＤ１０２の情報記録面１０２ａ上に集光スポットを形成する。このとき、対物レンズ３は、その周辺に配置された２次元アクチュエータ２６によってフォーカシングやトラッキングを行う。
【００３７】
次に、集光スポットを形成した光は、ＣＤ１０２の情報記録面１０２ａで情報ピットにより変調されて反射する。次に、この反射光は、対物レンズ３、１／４波長板２４を透過して、ビームスプリッタ２３，５０でそれぞれ反射した後、センサーレンズ６０により非点収差が与えられて、光検出器６３に到達する。そして、光検出器６３の出力信号を用いることにより、ＣＤ１０２中の情報の再生が行われる。
【００３８】
続いて、対物レンズ３の構成について詳細に説明する。
対物レンズ３は本発明に係る光学素子であり、各レーザー光源１０，１１，１２から出射された光束をＢＤ１００、ＤＶＤ１０１又はＣＤ１０２の情報記録面１００ａ，１０１ａ，１０２ａ上に集光する機能を有している。なお、対物レンズ３の開口数ＮＡは、レーザー光源１０，１１から出射される光束に対しては０．８５、レーザー光源１２から出射される光束に対しては０．４５〜０．５１となっている。また、対物レンズ３の屈折率は、１．５５となっている。
【００３９】
この対物レンズ３は、図２に示すように、単レンズであり、基材３０を１つ備えている。
基材３０は、２つの光学面がともに非球面となっている。これら２つの光学面のうち、少なくとも光源側の光学面は、図３に示すように、第１領域３０ａと第２領域３０ｂとに分割されている。第１領域３０ａは、レーザー光源１０，１１，１２から出射される光束が透過する領域であり、第２領域３０ｂは、レーザー光源１０，１１から出射される光束が透過する領域である。なお、この第２領域３０ｂは、レーザー光源１０，１１の２つの光束が透過する領域と、レーザー光源１１から出射される光束のみが透過する領域とに更に分割してもよい。
【００４０】
第１領域３０ａには、位相構造としての回折構造（図示せず）が形成されている。この回折構造は、光路差を発生させることによってレーザー光源１０，１１，１２からの各光束を、それぞれ対応する情報記録媒体の情報記録面１００ａ，１０１ａ，１０２ａに集光させるものである。このような回折構造の形状としては、従来より公知の形状を用いることができる。本実施の形態における回折構造は、光軸を中心とする複数の輪帯から構成され、光軸を含む断面形状が鋸歯形状となっている。
【００４１】
このような基材３０は、短波長の青紫色レーザに対する耐光性及び耐熱性に優れる樹脂組成物によって形成されることが好ましい。このような樹脂組成物としては、α-オレフィン及び環状オレフィンの共重合体からなる樹脂と耐光安定剤とを有する樹脂組成物、例えば、三井石油化学工業（株）の「ＡＰＥＬ」（製品名）等がある。
【００４２】
ここで、前記環状オレフィンは、下記一般式（I）または（II）で表されるものが好ましい。
【化３】
2007041292.tif 000005
【００４３】
但し、式中、ｎは０または１であり、ｍは０または正の整数であり、ｋは０または１である。なおｋが１の場合には、ｋを用いて表される環は６員環となり、ｋが０の場合にはこの環は５員環となる。
【００４４】
また、Ｒ1〜Ｒ18ならびにＲaおよびＲbは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。ここで、ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。
【００４５】
また、炭化水素基としては、通常、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基または芳香族炭化水素基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基およびオクタデシル基などが挙げられる。これらアルキル基はハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００４６】
ここで、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基が挙げられ、芳香族炭化水素基としてはフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。さらに上記一般式（Ｉ）において、Ｒ15とＲ16とが、Ｒ17とＲ18とが、Ｒ15とＲ17とが、Ｒ16とＲ18とが、Ｒ15とＲ18とが、あるいはＲ16とＲ17とがそれぞれ結合して（互いに共同して）、単環または多環の基を形成していてもよく、しかもこのようにして形成された単環または多環が二重結合を有していてもよい。ここで形成される単環または多環としては、具体的に以下のようなものが挙げられる。
【００４７】
【化４】
2007041292.tif 000006
【００４８】
なお上記例示において、１または２の番号を付した炭素原子は、前記一般式（Ｉ）においてそれぞれＲ15（Ｒ16）またはＲ17（Ｒ18）結合している炭素原子を表す。
【００４９】
また、Ｒ15とＲ16とで、またはＲ17とＲ18とでアルキリデン基を形成していてもよい。このようなアルキリデン基は、通常は炭素原子数２〜２０のアルキリデン基であり、このようなアルキリデン基の具体的な例としては、エチリデン基、プロピリデン基およびイソプロピリデン基が挙げられる。
【００５０】
【化５】
2007041292.tif 000007
【００５１】
但し、式中、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または正の整数であり、ｒおよびｓはそれぞれ独立に０、１または２である。また、Ｒ21〜Ｒ39はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基またはアルコキシ基である。
【００５２】
ここで、ハロゲン原子は上記一般式（Ｉ）中のハロゲン原子と同じである。また、炭化水素基としては、通常、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜１５のシクロアルキル基または芳香族炭化水素基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基およびオクタデシル基などが挙げられる。これらアルキル基はハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００５３】
シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基が挙げられ、芳香族炭化水素基としては、アリール基、アラルキル基などが挙げられ、具体的には、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ベンジル基、フェニルエチル基などが挙げられる。
【００５４】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。ここで、Ｒ29およびＲ30が結合している炭素原子と、Ｒ33が結合している炭素原子またはＲ31が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数１〜３のアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわち、上記二個の炭素原子がアルキレン基を介して結合している場合には、Ｒ29とＲ33とが、または、Ｒ30と31とが互いに共同して、メチレン基(-ＣＨ2-) 、エチレン基(-ＣＨ2ＣＨ2-)またはプロピレン基(-ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2-)の内のいずれかのアルキレン基を形成している。
【００５５】
さらに、ｒ＝ｓ＝０のとき、Ｒ35とＲ32またはＲ35とＲ39とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。具体的には、ｒ＝ｓ＝０のとき、Ｒ35とＲ32とにより形成される以下のような芳香族環が挙げられる。
【００５６】
【化６】
2007041292.tif 000008
【００５７】
ここで、ｑは一般式（II）におけるｑと同じである。上記のような一般式（Ｉ）または（II）に表される環状オレフィンとしては、具体的には、ビシクロ-2-ヘプテン誘導体（ビシクロヘプト-2-エン誘導体）、トリシクロ-3-デセン誘導体、トリシクロ-3-ウンデセン誘導体、テトラシクロ-3-ドデセン誘導体、ペンタシクロ-4-ペンタデセン誘導体、ペンタシクロペンタデカジエン誘導体、ペンタシクロ-3-ペンタデセン誘導体、ペンタシクロ-3-ヘキサデセン誘導体、ペンタシクロ-4-ヘキサデセン誘導体、ヘキサシクロ-4-ヘプタデセン誘導体、ヘプタシクロ-5-エイコセン誘導体、ヘプタシクロ-4-エイコセン誘導体、ヘプタシクロ-5-ヘンエイコセン誘導体、オクタシクロ-5-ドコセン誘導体、ノナシクロ-5-ペンタコセン誘導体、ノナシクロ-6-ヘキサコセン誘導体、シクロペンタジエン-アセナフチレン付加物、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン誘導体、1,4-メタノ-1,4,4a,5,10,10a-ヘキサヒドロアントラセン誘導体などが挙げられる。
【００５８】
以下に上記のような一般式（Ｉ）または（II）で表される環状オレフィンのより具体的な例を示す。
【化７】
2007041292.tif 000009
【００５９】
【化８】
2007041292.tif 000010
【００６０】
【化９】
2007041292.tif 000011
【００６１】
【化１０】
2007041292.tif 000012
【００６２】
【化１１】
2007041292.tif 000013
【００６３】
【化１２】
2007041292.tif 000014
【００６４】
【化１３】
2007041292.tif 000015
【００６５】
【化１４】
2007041292.tif 000016
【００６６】
【化１５】
2007041292.tif 000017
【００６７】
【化１６】
2007041292.tif 000018
【００６８】
【化１７】
2007041292.tif 000019
【００６９】
【化１８】
2007041292.tif 000020
【００７０】
【化１９】
2007041292.tif 000021
【００７１】
【化２０】
2007041292.tif 000022
【００７２】
【化２１】
2007041292.tif 000023
【００７３】
【化２２】
2007041292.tif 000024
【００７４】
【化２３】
2007041292.tif 000025
【００７５】
【化２４】
2007041292.tif 000026
【００７６】
【化２５】
2007041292.tif 000027
【００７７】
【化２６】
2007041292.tif 000028
【００７８】
【化２７】
2007041292.tif 000029
【００７９】
【化２８】
2007041292.tif 000030
【００８０】
また、前記共重合体を構成するα-オレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセンなどの直鎖状α-オレフィン；4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ブテンなどの分岐状α-オレフィンなどが挙げられる。好ましくは、炭素原子数が２〜２０のα-オレフィンが好ましい。このような直鎖状または分岐状のオレフィンは置換基で置換されていても良く、また１種単独、或いは２種以上組合せて用いることができる。
【００８１】
置換基としては、種々のものが挙げられ特に制限はないが、代表的なものとしてアルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アルキニル、複素環、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、ヒドロキシル及びメルカプトの各基、並びにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、スルホニル、スルフィニル、スルホニルオキシ、スルファモイル、ホスホリル、カルバモイル、アシル、アシルオキシ、オキシカルボニル、カルボキシル、シアノ、ニトロ、ハロゲン置換アルコキシ、ハロゲン置換アリールオキシ、ピロリル、テトラゾリル等の各基及びハロゲン原子等が挙げられる。
【００８２】
上記アルキル基としては炭素数１〜３２のものが好ましく、直鎖でも分岐でもよい。アリール基としてはフェニル基が好ましい。
アシルアミノ基としては、アルキルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基；スルホンアミド基としては、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基；アルキルチオ基、アリールチオ基におけるアルキル成分、アリール成分は上記のアルキル基、アリール基が挙げられる。
【００８３】
アルケニル基としては炭素数２〜２３のもの、シクロアルキル基としては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましく、アルケニル基は直鎖でも分岐でもよい。シクロアルケニル基としては炭素数３〜１２、特に５〜７のものが好ましい。
【００８４】
ウレイド基としてはアルキルウレイド基、アリールウレイド基；スルファモイルアミノ基としてはアルキルスルファモイルアミノ基、アリールスルファモイルアミノ基；複素環基としては５〜７員のものが好ましく、具体的には２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル等；飽和複素環としては５〜７員のものが好ましく、具体的にはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル等；複素環オキシ基としては５〜７員の複素環を有するものが好ましく、例えば３，４，５，６−テトラヒドロピラニル−２−オキシ、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ等；複素環チオ基としては５〜７員の複素環チオ基が好ましく、例えば２−ピリジルチオ、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジフェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ等；シロキシ基としてはトリメチルシロキシ、トリエチルシロキシ、ジメチルブチルシロキシ等；イミド基としては琥珀酸イミド、３−ヘプタデシル琥珀酸イミド、フタルイミド、グルタルイミド等；スピロ化合物残基としてはスピロ［３．３］ヘプタン−１−イル等；有橋炭化水素化合物残基としてはビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル、トリシクロ［３．３．１．１３．７］デカン−１−イル、７，７−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル等が挙げられる。
【００８５】
スルホニル基としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロゲン置換アルキルスルホニル基、ハロゲン置換アリールスルホニル基等；スルフィニル基としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基等；スルホニルオキシ基としては、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等；スルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル等；ホスホリル基としては、アルコキシホスホリル基、アリールオキシホスホリル基、アルキルホスホリル基、アリールホスホリル基等；カルバモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基等；アシル基としては、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基等；アシルオキシ基としては、アルキルカルボニルオキシ基等；オキシカルボニル基としては、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基等；ハロゲン置換アルコキシ基としてはα−ハロゲン置換アルコキシ基等；ハロゲン置換アリールオキシ基としては、テトラフルオロアリールオキシ基、ペンタフルオロアリールオキシ基等；ピロリル基としては１−ピロリル等；テトラゾリル基としては１−テトラゾリル等の各基が挙げられる。
【００８６】
上記置換基の他に、トリフルオロメチル、ヘプタフルオロ−ｉ−プロピル、ノニルフルオロ−ｔ−ブチル等の各基や、テトラフルオロアリール基、ペンタフルオロアリール基なども好ましく用いられる。更に、これらの置換基は、他の置換基で置換されてもよい。
【００８７】
本発明における共重合体中の非環状モノマー含有量は、成形性の観点から２０重量％以上であることが好ましく、２５％以上で９０％以下であることがより好ましく、３０％以上で８５％以下であることがさらに好ましい。
【００８８】
本発明における重合体又は共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは８０〜２５０℃、より好ましくは９０〜２２０℃、最も好ましくは１００〜２００℃の範囲である。数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算値で、好ましくは１０，０００〜１，０００，０００、より好ましくは２０，０００〜５００，０００、最も好ましくは５０，０００〜３００，０００の範囲である。分子量分布は、上記Ｍｎと、同様にＧＰＣで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で表したときに、好ましくは２．０以下である。
【００８９】
Ｍｗ／Ｍｎが大きすぎると、成形体の機械的強度や耐熱性が低下する。特に機械的強度、耐熱性、成形加工性を向上させるには、Ｍｗ／Ｍｎが１．８以下がより好ましく、１．６以下が特に好ましい。
【００９０】
重合時の温度は、０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃の範囲から選ばれ、圧力は大気圧〜１００気圧の範囲から選ばれる。また、重合体帯域に水素を存在させることによって、生成する重合体の分子量を容易に調整することができる。
【００９１】
本発明におけるオレフィン系樹脂は、１成分の環状モノマーから合成された高分子でもよいが、好適には２成分以上の環状モノマー、或いは環状モノマーと非環状モノマーを用いて合成された共重合体が選ばれる。この共重合体については、１００成分以上のモノマーを用いて製造しても良いが生産効率重合安定性からモノマーの混合は１０成分以下が好ましい。更に好ましいのは、５成分以下である。
また、得られた共重合体は、結晶性高分子でも非晶性高分子でもかまわないが、好ましくは非晶性高分子が良い。
【００９２】
本発明における重合体及び共重合体の炭素-炭素不飽和結合（芳香環含む）を水素添加する方法には、公知の方法を用いることができるが、中でも、水素添加率を高くし、且つ水素添加反応と同時に起こる重合体鎖切断反応を少なくするためには、有機溶媒中、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム及びレニウムから選ばれる少なくとも１つの金属を含む触媒を用いて水素添加反応を行うのが好ましい。水素化触媒は、不均一触媒、均一触媒のいずれも使用可能である。不均一系触媒は、金属または金属化合物のままで、又は適当な担体に担持して用いることができる。担体としては、例えば、活性炭、シリカ、アルミナ、炭化カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、炭化珪素等が挙げられ、触媒の担持量は、触媒合計重量に対する金属含有量で、通常０．０１〜８０重量％、好ましくは０．０５〜６０重量％の範囲である。均一系触媒は、ニッケル、コバルト、チタンまたは鉄化合物と有機金属化合物（例えば、有機アルミニウム化合物、有機リチウム化合物）とを組合せた触媒、またはロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体触媒を用いることができる。これらの水素添加触媒は、それぞれ単独で、或いは２種類以上組合せて使用することができ、その使用量は、重合体１００重量部に対して、通常、０．０１〜１００重量部、好ましくは０．０５〜５０重量部、より好ましくは０．１〜３０重量部である。
【００９３】
水素添加反応温度は、通常０〜３００℃の温度であり、好ましくは室温〜２５０℃、特に好ましくは５０〜２００℃の温度範囲である。
また、水素圧力は、通常０．１ＭＰａ〜３０ＭＰａ、好ましくは１ＭＰａ〜２０ＭＰａ、より好ましくは２ＭＰａ〜１５ＭＰａである。得られた水素添加物の水素添加率は、耐熱性や耐候性の観点から、１Ｈ-ＮＭＲによる測定において、主鎖の炭素-炭素不飽和結合の通常９０％以上、好ましくは９５％以上、より好ましくは９７％以上である。水素化率が低いと、得られる重合体の透過率、低複屈折性、熱安定性等の光学特性が低下する。
【００９４】
本発明の重合体及び共重合体の水素添加反応に於いて用いられる溶媒としては本発明の重合体及び共重合体を溶解し溶媒自体が水素添加されないものであればどのようなものでもよく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、デカリンなどの脂肪族環状炭化水素、メチレンジクロリド、ジクロロエタン、ジクロロエチレン、テトラクロロエタン、クロルベンゼン、トリクロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素等が挙げられ、これらは２種以上混合して使用してもよい。
【００９５】
本発明の重合体又は共重合体水素添加物の製造は、重合体溶液から重合体又は共重合体水素添加物を単離した後、再度溶媒に溶解しても可能であるが、単離することなく、上記有機金属錯体と有機アルミニウム化合物からなる水素添加触媒を加えることにより水素添加反応を行う方法を採用することもできる。 水素添加反応の終了後、公知の方法により重合体に残存する水素添加触媒を除去することができる。例えば、吸着剤による吸着法、良溶媒による溶液に乳酸等の有機酸と貧溶媒と水とを添加し、この系を常温下或いは加温下に於いて抽出除去する方法、更には良溶媒による溶液または重合体スラリーを窒素または水素ガスの雰囲気下でトリメチレンジアミン、アニリン、ピリジン、エタンジアミド、水酸化ナトリウム等の塩基性化合物で接触処理した後に、或いは接触処理と同時に酢酸、クエン酸、安息香酸、塩酸等の酸性化合物を接触処理した後、洗浄除去する方法等が挙げられる。
【００９６】
本発明の重合体又は共重合体水素添加物溶液から重合体水素化物の回収法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、撹拌下の貧溶媒中に反応溶液を排出し重合体水素化物を凝固させ濾過法、遠心分離法、デカンテーション法等により回収する方法、反応溶液中にスチームを吹き込んで重合体水素化物を析出させるスチームストリッピング法、反応溶液から溶媒を加熱等により直接除去する方法等が挙げられる。
【００９７】
本発明の水素添加方法を用いると水素添加率は９０％以上が容易に達成でき、９５％以上、特に９９％以上とすることが可能であり、そうして得られる重合体又は共重合体水素添加物は容易に酸化されることがなく、優れた重合体又は共重合体水素添加物となる。
【００９８】
（樹脂組成物の調製方法）
本発明に係る樹脂組成物の調製方法について説明する。
本発明に係る樹脂組成物は、成型する工程（成型プロセス）の前に特定の加工処理をすることが好ましく、加工処理の段階で通常樹脂に添加される可塑剤、酸化防止剤、その他の添加剤を加えても良い。
【００９９】
本発明に係る樹脂組成物の調製方法としては、混練プロセスまたは混合物を溶媒に溶解、溶媒除去、乾燥を経て組成物を得るプロセス等が好ましい調製方法として挙げられるが、更に好ましい調製方法は、混練プロセスである。また、混練プロセスとして、通常の樹脂の配合に用いるプロセスを用いることができる。例えば、ロール、バンバリーミキサ、二軸混練機、ニーダールーダなどを用いることができるが、好ましくは、バンバリーミキサ、二軸混練機、ニーダールーダ等が挙げられる。樹脂の酸化を防ぐ目的で、密閉系で混練り可能な装置が好適に使用され、さらに好ましくは、窒素やアルゴンなどの不活性ガス化で混練プロセスを行うことが望ましい。
【０１００】
本発明に係る樹脂組成物の調製時や樹脂組成物の成型工程においては、必要に応じて各種添加剤（配合剤ともいう）を添加することができる。添加剤については、格別限定はないが、酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤などの安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤、難燃剤、フィラーなどが挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができ、その配合量は本発明に記載の効果を損なわない範囲で適宜選択される。
【０１０１】
《酸化防止剤》
本発明に用いられる酸化防止剤について説明する。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成型時の酸化劣化等によるレンズの着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に係る重合体１００質量部に対して好ましくは０．００１〜５質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。
【０１０２】
フェノール系酸化防止剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレートなどの特開昭６３−１７９９５３号公報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリレート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン［ペンタエリスリメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート））、トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）などのアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物；などが挙げられる。
【０１０３】
リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４’イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが特に好ましい。
【０１０４】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。
【０１０５】
《耐光安定剤》
本発明に用いられる耐光安定剤について説明する。
耐光安定剤としては、ベンゾフェノン系耐光安定剤、ベンゾトリアゾール系耐光安定剤、ヒンダードアミン系耐光安定剤などが挙げられるが、本発明においては、レンズの透明性、耐着色性等の観点から、ヒンダードアミン系耐光安定剤を用いるのが好ましい。ヒンダードアミン系耐光安定剤（以下、ＨＡＬＳと記す。）の中でも、ＴＨＦを溶媒として用いたＧＰＣにより測定したポリスチレン換算のＭｎが１０００〜１００００であるものが好ましく、２０００〜５０００であるものがより好ましく、２８００〜３８００であるものが特に好ましい。Ｍｎが小さすぎると、該ＨＡＬＳをブロック共重合体に加熱溶融混練して配合する際に、揮発のため所定量を配合できなかったり、射出成型等の加熱溶融成型時に発泡やシルバーストリークが生じるなど加工安定性が低下したりする。また、ランプを点灯させた状態でレンズを長時間使用する場合に、レンズから揮発性成分がガスとなって発生する。逆にＭｎが大き過ぎると、ブロック共重合体への分散性が低下して、レンズの透明性が低下し、耐光性改良の効果が低減する。したがって、本発明においては、ＨＡＬＳのＭｎを上記範囲とすることにより加工安定性、低ガス発生性、透明性に優れたレンズが得られる。
【０１０６】
このようなＨＡＬＳの具体例としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−〔４，６−ビス−｛ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ｝−トリアジン−２−イル〕−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ〔（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕〕などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した高分子量ＨＡＬＳ等が挙げられる。
【０１０７】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物などのＭｎが２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１０８】
本発明に係る樹脂に対する上記配合量は、重合体１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０２〜１５質量部、特に好ましくは０．０５〜１０質量部である。添加量が少なすぎると耐光性の改良効果が十分に得られず、屋外で長時間使用する場合等に着色が生じる。一方、ＨＡＬＳの配合量が多すぎると、その一部がガスとなって発生したり、樹脂への分散性が低下したりして、レンズの透明性が低下する。
【０１０９】
また、本発明に係る樹脂組成物に、さらに最も低いガラス転移温度が３０℃以下である化合物を配合することにより、透明性、耐熱性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿度環境下での白濁を防止できる。
【０１１０】
すなわち本発明においては、本発明の樹脂組成物と、（１）軟質重合体、（２）アルコール性化合物、からなる群から選ばれる少なくとも１種類の配合剤を含んでなる樹脂組成物が提供される。これらの配合剤を配合することにより、透明性、低吸水性、機械的強度などの諸特性を低下させることなく、長時間の高温高湿度環境下での白濁を防止できる。
【０１１１】
これらの中でも、（１）軟質重合体、及び（２）アルコール性化合物が、高温高湿度環境下における白濁防止効果、得られる樹脂組成物の透明性に優れる。
【０１１２】
（１）軟質重合体
本発明に用いる軟質重合体は、通常３０℃以下のＴｇを有する重合体であり、Ｔｇが複数存在する場合には、少なくとも最も低いＴｇが３０℃以下であることが好ましい。
【０１１３】
これらの軟質重合体の具体例としては、例えば、液状ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−ブテン、エチレン・α−オレフィン共重合体、プロピレン・α−オレフィン共重合体、エチレン・プロピレン・ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）、エチレン・プロピレン・スチレン共重合体などのオレフィン系軟質重合体、ポリイソブチレン、イソブチレン・イソプレンゴム、イソブチレン・スチレン共重合体などのイソブチレン系軟質重合体；ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン・スチレンランダム共重合体、イソプレン・スチレンランダム共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体、スチレン・ブタジエン・スチレン・ブロック共重合体、イソプレン・スチレン・ブロック共重合体、スチレン・イソプレン・スチレン・ブロック共重合体などのジエン系軟質重合体、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、ジヒドロキシポリシロキサン、などのケイ素含有軟質重合体、ポリブチルアクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ブチルアクリレート・スチレン共重合体などのα，β−不飽和酸からなる軟質重合体、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、酢酸ビニル・スチレン共重合体などの不飽和アルコールおよびアミンまたはそのアシル誘導体またはアセタールからなる軟質重合体、エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、エピクロルヒドリンゴム、などのエポキシ系軟質軟質重合体、フッ化ビニリデン系ゴム、四フッ化エチレン−プロピレンゴム、などのフッ素系軟質重合体、天然ゴム、ポリペプチド、蛋白質、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマーなどのその他の軟質重合体、等が挙げられる。これらの軟質重合体は、架橋構造を有したものであってもよく、また、変性反応により官能基を導入したものでもよい。
【０１１４】
上記軟質重合体の中でもジエン系軟質重合体が好ましく、特に該軟質重合体の炭素−炭素不飽和結合を水素化した水素化物が、ゴム弾性、機械強度、柔軟性、分散性の点で優れる。
【０１１５】
（２）アルコール性化合物
また、アルコール性化合物は、分子内に少なくとも１つの非フェノール性水酸基を有する化合物で、好適には、少なくても１つの水酸基と少なくとも１つのエーテル結合またはエステル結合を有する。このような化合物の具体例としては、例えば２価以上の多価アルコール、より好ましくは３価以上の多価アルコール、さらに好ましくは３〜８個の水酸基を有する多価アルコールの水酸基の１つがエーテル化またはエステル化されたアルコール性エーテル化合物やアルコール性エステル化合物が挙げられる。
【０１１６】
２価以上の多価アルコールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、トリグリセロール、ジペンタエリスリトール、１，６，７−トリヒドロキシ−２，２−ジ（ヒドロキシメチル）−４−オキソヘプタン、ソルビトール、２−メチル−１，６，７−トリヒドロキシ−２−ヒドロキシメチル−４−オキソヘプタン、１，５，６−トリヒドロキシ−３−オキソヘキサンペンタエリスリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートなどが挙げられるが、特に３価以上の多価アルコール、さらには３〜８個の水酸基を有する多価アルコールが好ましい。またアルコール性エステル化合物を得る場合には、α、β−ジオールを含むアルコール性エステル化合物が合成可能なグリセロール、ジグリセロール、トリグリセロールなどが好ましい。
【０１１７】
このようなアルコール性化合物として、例えば、グリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンモノベヘネート、ジグリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリンジラウレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールモノベヘレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールジラウレート、ペンタエリスリトールトリステアレート、ジペンタエリスリトールジステアレートなどの多価アルコール性エステル化物；３−（オクチルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（デシルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（ラウリルオキシ）−１，２−プロパンジオール、３−（４−ノニルフェニルオキシ）−１，２−プロパンジオール、１，６−ジヒドロオキシ−２，２−ジ（ヒドロキシメチル）−７−（４−ノニルフェニルオキシ）−４−オキソヘプタン、ｐ−ノニルフェニルエーテルとホルムアルデヒドの縮合体とグリシドールの反応により得られるアルコール性エーテル化合物、ｐ−オクチルフェニルエーテルとホルムアルデヒドの縮合体とグリシドールの反応により得られるアルコール性エーテル化合物、ｐ−オクチルフェニルエーテルとジシクロペンタジエンの縮合体とグリシドールの反応により得られるアルコール性エーテル化合物などが挙げられる。これらの多価アルコール性化合物は単独でまたは２種以上を組合せて使用される。これらの多価アルコール性化合物の分子量は特に限定されないが、通常５００〜２０００、好ましくは８００〜１５００のものが、透明性の低下も少ない。
【０１１８】
（３）有機または無機フィラー
有機フィラーとしては、通常の有機重合体粒子または架橋有機重合体粒子を用いることができ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのハロゲン含有ビニル重合体；ポリアリレート、ポリメタクリレートなどのα，β‐不飽和酸から誘導された重合体；ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルなどの不飽和アルコールから誘導された重合体；ポリエチレンオキシド、またはビスグリシジルエーテルからから誘導された重合体；ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリスルフォンなどの芳香族縮合系重合体；ポリウレタン；ポリアミド；ポリエステル；アルデヒド・フェノール系樹脂；天然高分子化合物などの粒子または架橋粒子を挙げることができる。
【０１１９】
無機フィラーとしては、例えば、フッ化リチウム、硼砂（硼酸ナトリウム含水塩）などの１族元素化合物；炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウム、炭酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バリウムなどの２族元素化合物；二酸化チタン（チタニア）、一酸化チタンなどの４族元素化合物；二酸化モリブデン、三酸化モリブデンの６族元素化合物；塩化マンガン、酢酸マンガンなどの７族元素化合物；塩化コバルト、酢酸コバルトなどの８〜１０族元素化合物；沃化第一銅などの１１族元素化合物；酸化亜鉛、酢酸亜鉛などの１２族元素化合物；酸化アルミニウム（アルミナ）、フッ化アルミニウム、アルミノシリケート（珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト）などの１３族元素化合物；酸化珪素（シリカ、シリカゲル）、石墨、カーボン、グラファイト、ガラスなどの１４族元素化合物；カーナル石、カイナイト、雲母（マイカ、キンウンモ）、バイロース鉱などの天然鉱物の粒子が挙げられる。
【０１２０】
（１）〜（３）の化合物の配合量は脂環式炭化水素系共重合体と配合される化合物の組み合わせによって決まるが、一般に、配合量が多すぎれば、組成物のガラス転移温度や透明性が大きく低下し、光学材料として使用するのに不適である。また配合量が少なすぎれば、高温高湿下において成型物の白濁を生じる場合がある。配合量としては、脂環式炭化水素系共重合体１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部、好ましくは０．０２〜５質量部、特に好ましくは０．０５〜２質量部の割合で配合する。配合量が少なすぎる場合には高温高湿度環境下における白濁防止効果が得られず、配合量が多すぎる場合は成型品の耐熱性、透明性が低下する。
【０１２１】
《その他の配合剤》
本発明に係る樹脂組成物には、必要に応じて、その他の配合剤として、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、染料や顔料などの着色剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、蛍光増白剤などを配合することができ、これらは単独で、あるいは２種以上混合して用いることができ、その配合量は本発明の目的を損ねない範囲で適宜選択される。
【０１２２】
以上のような基材３０の少なくとも一方の光学面、本実施の形態においては両方の光学面には、図２に示すように、反射防止膜３１が設けられている。
反射防止膜３１は、高屈折率層及び低屈折率層を交互に複数積層して形成されており、好ましくは全７〜９層で形成されている。
【０１２３】
高屈折率層は、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．８以上で２．２以下となっている。なお、高屈折率層の材料としては、酸化ハフニウム、酸化ジルコン、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ランタン、チタン酸ジルコン、酸化タンタル、酸化シリコン、酸化トリウム、酸化イットリウム、酸化プラセオジウム及び酸化スカンジウムのうち、何れかの単体または混合物を用いることができ、酸化ジルコンを用いるのが好ましい。
【０１２４】
低屈折率層は、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が１．４以上で１．６以下となっている。これら複数の低屈折率層のうち、少なくとも２つの低屈折率層、好ましくは１つの前記高屈折率層を介して隣接する１対の低屈折率層は互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なっており、より好ましくは、各低屈折率層は、１つの前記高屈折率層を介して隣接する他の低屈折率層と互いに主成分が同一であるとともに、副成分の含有比率が異なっている。本実施の形態においては、複数の低屈折率層の副成分の含有比率は大小２つの値をとるようになっており、含有比率が大きい値をとる層（以下、第１の低屈折率層とする）と、小さい値をとる層（以下、第２の低屈折率層とする）とは高屈折率層を介在させて交互に積層されている。なお、低屈折率層の主成分としては、二酸化ケイ素を用いることができ、副成分としては、酸化アルミニウムを用いることができる。
【０１２５】
ここで、最も基材３０の側に位置する層を第１層、２番目に基材３０の側に位置する層を第２層、ｎ番目（ｎは整数）に基材３０の側に位置する層を第ｎ層とし、奇数番目の層を前記第１の低屈折率層、偶数番目の層を前記第２の低屈折率層とする場合には、上記のような反射防止膜３１の１例として、第１層の膜厚が１００〜１３０ｎｍ、第２層の膜厚が１０〜１４ｎｍ、第３層の膜厚が２８〜３６ｎｍ、第４層の膜厚が４６〜６０ｎｍ、第５層の膜厚が１３〜１７ｎｍ、第６層の膜厚が４４〜５５ｎｍ、第７層の膜厚が７５〜９５ｎｍであるものがある。
【０１２６】
また、この場合において、反射防止膜３１の他の１例としては、第１層の膜厚が８５〜１０５ｎｍ、第２層の膜厚が１１〜１５ｎｍ、第３層の膜厚が３０〜３８ｎｍ、第４層の膜厚が５４〜６８ｎｍ、第５層の膜厚が２０〜２５ｎｍ、第６層の膜厚が３４〜４３ｎｍ、第７層の膜厚が８５〜１０８ｎｍであるものがある。
【０１２７】
また、この場合において、反射防止膜３１の他の１例としては、第１層の膜厚が１００〜１３０ｎｍ、第２層の膜厚が１３〜１７ｎｍ、第３層の膜厚が４２〜５２ｎｍ、第４層の膜厚が５０〜６３ｎｍ、第５層の膜厚が１３〜１７ｎｍ、第６層の膜厚が５２〜６５ｎｍ、第７層の膜厚が８５〜１０８ｎｍであるものがある。
【０１２８】
また、この場合において、反射防止膜３１の他の１例としては、第１層の膜厚が８０〜１００ｎｍ、第２層の膜厚が１０〜１４ｎｍ、第３層の膜厚が４６〜５８ｎｍ、第４層の膜厚が１０〜１４ｎｍ、第５層の膜厚が１４〜１８ｎｍ、第６層の膜厚が３３〜４２ｎｍ、第７層の膜厚が２７〜３５ｎｍ、第８層の膜厚が３５〜４５ｎｍ、第９層の膜厚が９４〜１１７ｎｍであるものがある。
【０１２９】
以上の対物レンズ３によれば、環境条件が変化した場合に、この変化によって反射防止膜３１の各層に膜応力が生じる場合であっても、少なくとも２つの低屈折率層では、副成分の含有比率が異なるので、この膜応力の大きさや向きがこれら２つの低屈折率層の間で異なることとなる。従って、低屈折率層に生じる膜応力の重畳的な作用の程度を小さくすることができるため、従来と比較して、反射防止膜３１中にクラックや剥離が生じるのを防止することができる、つまり耐環境性を向上させることができる。
【０１３０】
なお、上記の実施の形態においては、本発明に係る光学素子を対物レンズ３として説明したが、コリメートレンズ２２やビームエキスパンダ等としても良い。
また、対物レンズ３は基材３０を１つのみ備えることとして説明したが、２つ以上備えることとしても良い。
【０１３１】
また、対物レンズ３は基材３０及び反射防止膜３１を備えることとして説明したが、基材３０と反射防止膜３１の間には、反射防止膜３１の付着性を向上させるための下地層を介在させても良い。また、反射防止膜３１の表面には、汚れ防止等のための防汚層を設けても良いし、撥水性の撥水層を設けても良いし、静電気による塵、埃等の付着を防止するための帯電防止層を設けても良い。ここで、「下地層」は、例えばシランカップリング処理層から構成されるのがよい。また、「防汚層」，「撥水層」は、フッ素系有機化合物やシリコン系有機化合物から構成されるのがよく、その膜厚は通常７ｎｍ以下とするのがよい。「防汚層」，「撥水層」をフッ素系有機化合物で構成する場合には、例えば、蒸着材料をＷＲ１（メルク（株）製商品名）としたパーフルオロアルキルシランの薄膜を真空蒸着で形成したり、フッ素系塗布液Ｌ−１８２５６０（住友スリーエム（株）製商品名）の塗布処理で形成したりするのがよい。他方、「防汚層」，「撥水層」をシリコン系有機化合物で構成する場合には、ジメチルジエトキシシラン（ＤＭＤＥＳ）の薄膜を大気圧プラズマ法で形成するのがよい（特開平２００３−１６１８１７号公報参照）。「帯電防止層」は、透明導電性の薄膜から構成するのがよく、その膜厚は通常１０ｎｍ以下とするのがよい。「帯電防止層」は、具体的に、真空蒸着法やスパッタリング法により酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛のいずれかの単体又はこれら化合物の２種以上の混合物で形成されるのがよい。
【実施例１】
【０１３２】
以下に、実施例および比較例を挙げることにより、本発明をさらに具体的に説明する。
＜対物レンズの構成＞
上記実施の形態における対物レンズの実施例（１）〜（３）及び比較例（１）〜（３）として、図４に示す層構成の反射防止膜を基材３０の光学面上に設けたものを形成した。
【０１３３】
より詳細には、実施例（１）〜（３）の対物レンズでは、以下の表１〜表３に示す層構成の反射防止膜を用いた。これらの反射防止膜中、第「１」層、第「３」層、第「５」層及び第「７」層は本発明における低屈折率層であり、第「２」層、第「４」層及び第「６」層は本発明における高屈折率層である。
また、比較例（１）〜（３）の対物レンズでは、以下の表４〜６に示す層構成の反射防止膜を用いた。
【０１３４】
【表１】
2007041292.tif 000031
【０１３５】
【表２】
2007041292.tif 000032
【０１３６】
【表３】
2007041292.tif 000033
【０１３７】
【表４】
2007041292.tif 000034
【０１３８】
【表５】
2007041292.tif 000035
【０１３９】
【表６】
2007041292.tif 000036
【０１４０】
なお、表１〜６中、屈折率（refractive index）とは、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率である。
【０１４１】
また、「Ｌ1」、「Ｌ2」及び「Ｌ3」は、二酸化ケイ素を主成分とする材料であり、それぞれ副成分として酸化アルミニウムを０％以上含有している。より詳細には、以下の表７に示すように、「Ｌ1」とは、副成分の含有比率が０％以上で１％未満の材料である。また、「Ｌ2」とは、副成分の含有比率が１％以上で４％未満の材料である。また、「Ｌ3」とは、副成分の含有比率が４％以上で６％未満の材料である。
【０１４２】
これら「Ｌ1」、「Ｌ2」及び「Ｌ3」の屈折率は、低屈折率層の製膜レートや製膜時の真空度、基材温度などの製膜条件を変化させることによって１．４〜１．６の範囲内で制御することが可能であるが、同一の製膜条件で製膜した場合には「Ｌ1」＜「Ｌ2」＜「Ｌ3」の順に大きくなるようになっている。本実施例においては、低屈折率層の製膜レートを約６Å／ｓ、製膜真空度を１×１０-3Ｐａ以下、製膜時の基材温度を約９０℃としており、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率が、「Ｌ1」では１．４９、「Ｌ2」では１．５０、「Ｌ3」では１．５２となっている。
【０１４３】
【表７】
2007041292.tif 000037
【０１４４】
＜反射率特性の評価＞
上記のように形成された実施例（１）〜（３），比較例（１）〜（３）の対物レンズの反射率特性を測定したところ、図５のような結果が得られた。これにより、何れの対物レンズにおいても、３５０〜４５０ｎｍ、６２０〜６８０ｎｍ及び７５０〜８１０ｎｍの波長域の光に対して良好な透過率を得られることが分かった。なお、図４では、便宜的に比較例（１），（２）の反射率特性のみを図示している。
【０１４５】
＜耐光性の評価＞
また、実施例（１）〜（３）、比較例（１）〜（３）の対物レンズに対し、波長４０５ｎｍの光束を、ピーク強度が１２０ｍＷ／ｍｍ2となるように照射し、１６８時間，３３６時間経過した時点で観察を行ったところ、上述の図４のような結果が得られた。
【０１４６】
これにより、実施例（１）〜（３）、比較例（１），（３）の対物レンズでは、比較例（２）の対物レンズと比較して耐光性が高いことが分かった。なお、図４中の耐光性の評価において、「○」は３３６時間経過時にも反射防止膜に剥離やクラックの発生がなく、光学面の変化も認められなかったことを示す。また、「△」は、１６８時間経過時には反射防止膜の剥離等が認められないが、３３６時間経過時には剥離等が認められたことを示す。
【０１４７】
＜耐環境性の評価＞
また、実施例（１）〜（３）、比較例（１）〜（３）の対物レンズに対し、耐熱試験，高温高湿試験を行ってから室温環境下で外観観察を行ったところ、上述の図４のような結果が得られた。ここで、耐熱試験としては、温度８０℃，８５℃，９０℃で乾燥状態の環境下に対物レンズを１６８時間放置する試験を行った。また、高温高湿試験としては、温度６０℃，湿度９０％の環境下に対物レンズを１６８時間放置する試験を行った。
【０１４８】
これにより、実施例（１）〜（３）の対物レンズでは、比較例（１）〜（３）の対物レンズと比較して耐環境性が高く、特に実施例（１）の対物レンズで耐環境性が良好であることが分かった。なお、図４の耐環境性の評価において、「◎」は、温度９０℃での耐熱試験と、高温高湿試験との両試験において、反射防止膜に剥離やクラックの発生がなかったことを示す。また、「○」は、温度８５℃の耐熱試験と、高温高湿試験との両試験において、反射防止膜に剥離やクラックの発生がなく、温度９０℃の耐熱試験において剥離またはクラックの発生があったことを示す。また、「△」は、温度８０℃の耐熱試験と、高温高湿試験との両試験において、反射防止膜に剥離やクラックの発生がなく、温度８５℃の耐熱試験において剥離またはクラックの発生があったことを示す。また、「×」は、温度８０℃の耐熱試験と、高温高湿試験との両試験において剥離またはクラックの発生があったことを示す。
【０１４９】
＜総合評価＞
以上の結果に基づき、光ピックアップ装置用の対物レンズとして最適であるか否かに着目して実施例（１）〜（３）及び比較例（１）〜（３）の対物レンズの総合評価を行ったところ、上述の図４のような結果が得られた。
【０１５０】
これにより、実施例（１）〜（３）の対物レンズでは、比較例（１）〜（３）の対物レンズと比較して光ピックアップ装置の対物レンズとして適していることが分かった。なお、図４の総合評価において、「○」は、耐光性及び耐環境性の評価が「○」または「◎」である結果、光ピックアップ装置の対物レンズとして最適であることを示す。また、「△」は、耐光性及び耐環境性の評価が「△」以上である結果、光ピックアップ装置の対物レンズとして適切であることを示す。また、「×」は、耐光性及び耐環境性の何れかの評価に「×」がある結果、光ピックアップ装置の対物レンズとして不適切であることを示す。
【実施例２】
【０１５１】
以下に、実施例および比較例を挙げることにより、本発明をさらに具体的に説明する。
＜対物レンズの構成＞
上記実施の形態における対物レンズの実施例（４）〜（７）及び比較例（４）〜（６）として、図６に示す層構成の反射防止膜を基材３０の光学面上に設けたものを形成した。
【０１５２】
より詳細には、実施例（４）〜（７）の対物レンズでは、以下の表８〜表１１に示す層構成の反射防止膜を用いた。これらの反射防止膜中、第「１」層、第「３」層、第「５」層、第「７」層及び第「９」層は本発明における低屈折率層であり、第「２」層、第「４」層、第「６」層及び第「８」層は本発明における高屈折率層である。
また、比較例（４）〜（６）の対物レンズでは、以下の表１２〜１４に示す層構成の反射防止膜を用いた。
【０１５３】
【表８】
2007041292.tif 000038
【０１５４】
【表９】
2007041292.tif 000039
【０１５５】
【表１０】
2007041292.tif 000040
【０１５６】
【表１１】
2007041292.tif 000041
【０１５７】
【表１２】
2007041292.tif 000042
【０１５８】
【表１３】
2007041292.tif 000043
【０１５９】
【表１４】
2007041292.tif 000044
【０１６０】
なお、表８〜１４中、屈折率（refractive index）とは、波長４５０ｎｍの光束に対する屈折率である。
また、「Ｌ1」、「Ｌ2」及び「Ｌ3」は、それぞれ上記実施例１と同様の材料である。
【０１６１】
＜反射率特性の評価＞
上記のように形成された実施例（４）〜（７），比較例（４）〜（６）の対物レンズの反射率特性を測定したところ、何れも図７のような結果が得られた。これにより、何れの対物レンズにおいても、３５０〜４５０ｎｍ、６２０〜６８０ｎｍ及び７５０〜８１０ｎｍの波長域の光に対して良好な透過率を得られることが分かった。
【０１６２】
＜耐光性の評価＞
また、実施例（４）〜（７）、比較例（４）〜（６）の対物レンズに対し、波長４０５ｎｍの光束を、ピーク強度が１２０ｍＷ／ｍｍ2となるように照射し、１６８時間，３３６時間経過した時点で観察を行ったところ、上述の図６のような結果が得られた。
【０１６３】
これにより、実施例（４）〜（７）、比較例（４），（５）の対物レンズでは、比較例（６）の対物レンズと比較して耐光性が高いことが分かった。
【０１６４】
＜耐環境性の評価＞
また、実施例（４）〜（７）、比較例（４）〜（６）の対物レンズに対し、上記実施例１と同様に、耐熱試験，高温高湿試験を行ってから室温環境下で外観観察を行ったところ、上述の図６のような結果が得られた。
【０１６５】
これにより、実施例（４）〜（７）の対物レンズでは、比較例（４）〜（６）の対物レンズと比較して耐環境性が高く、特に実施例（４），（７）の対物レンズで耐環境性が良好であることが分かった。
【０１６６】
＜総合評価＞
以上の結果に基づき、光ピックアップ装置用の対物レンズとして最適であるか否かに着目して実施例（４）〜（７）及び比較例（４）〜（６）の対物レンズの総合評価を行ったところ、上述の図６のような結果が得られた。
【０１６７】
これにより、実施例（４）〜（７）の対物レンズでは、比較例（４）〜（６）の対物レンズと比較して光ピックアップ装置の対物レンズとして適していることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】光ピックアップ装置の概略構成を示す図である。
【図２】対物レンズの断面図である。
【図３】対物レンズの光学面を示す図である。
【図４】実施例１における評価結果を示す図である。
【図５】比較例（１），（２）の対物レンズの反射率特性を示す図である。
【図６】実施例２における評価結果を示す図である。
【図７】実施例（４）〜（７），比較例（４）〜（６）の対物レンズの反射率特性を示す図である。
【符号の説明】
【０１６９】
１  光ピックアップ装置
３  対物レンズ（光学素子）
３０  基材
３１  反射防止膜
【図１】
2007041292.tif 000047
【図２】
2007041292.tif 000048
【図３】
2007041292.tif 000049
【図４】
2007041292.tif 000050
【図５】
2007041292.tif 000051
【図６】
2007041292.tif 000052
【図７】
2007041292.tif 000053