(57)【要約】【課題】十分な反射防止性能を有し、表面の耐擦傷性および防汚性に優れる、反射型または半透過型の液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子をこの順に有する。光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下である。出射側偏光子の光学異方体とは反対側に反射防止体が設けられる。反射防止体は、（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子、（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー、および（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物を含んでなる組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備える。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、
前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、
前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備えることを特徴とする、反射型又は半透過型の液晶表示装置。
（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記低屈折率層形成用組成物が、さらに架橋性化合物を含有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶表示装置において、
前記低屈折率層の屈折率が１．４０以下であり、かつ、前記低屈折率層に隣接する層との屈折率の差が０．０５〜０．４であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置において、
前記反射防止体は、前記低屈折率層の前記出射側偏光子側に積層された高屈折率層を備え、この高屈折率層の屈折率が１．５５以上であることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型または半透過型の液晶表示装置に関し、特に、反射防止性能を有し、耐擦傷性および防汚性に優れる、反射型または半透過型の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、その薄型・軽量という特徴を活かして、携帯情報端末のディスプレイとしての利用に期待が高まっている。携帯情報端末は、通常バッテリーで駆動するため、なるべく消費電力を抑えることが重要となる。そこで、携帯情報端末の液晶表示装置には、電力消費の大きなバックライトを使用しない反射型のものや、バックライトを必要に応じて使用する半透過型のものが注目されている。
【０００３】
反射型の液晶表示装置では、表示面側から入射される外光を利用しているため、暗い環境下で用いた場合には表示画面が見えにくいという欠点がある。このため、反射型の液晶表示装置において、反射板の代わりに入射光の一部を透過する半透過反射板を使用することにより、バックライトとともに、外光を利用して、表示する半透過型の液晶表示装置が提案されている。このような半透過型の液晶表示装置は、バックライト非点灯の際には、外光を利用した反射型（反射モード）として機能し、暗い環境下でのバックライト点灯の際には、バックライトの光を利用した透過型（透過モード）として機能する。
【０００４】
このような液晶表示装置では、カラー化・高精細化の流れの中で表示品位の高いものが求められている。このため、効率的に光を取り込んで輝度向上を図り、また、光漏れによる白ボケをなくしてコントラストを向上させることが課題となっている。しかしながら、これらの点を改善したとしても、外光の一部が表示装置の表面で反射して、表示画面のぎらつきや、映り込みによる表示品位の低下を起こすことがある。そこで、これらの表面反射を防止するために、表示装置には、防眩処理や、反射防止処理が施される場合がある。
【０００５】
具体的に、防眩処理としては、例えば、液晶表示装置の画面の表面に凸形状を有する防眩層を形成する技術が利用されている（特許文献１）。また、反射防止処理としては、例えば、複数の無機酸化物からなる反射防止体を画面の表面に形成する技術（特許文献２，３）が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２-３１８３８３号公報
【特許文献２】特開２０００-４７１８７号公報
【特許文献３】特開２００１-７４９１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に示すように、画面の表面に凸形状を有する防眩層を形成する場合には、この凸形状の部分において、画面の後方へ光散乱が生じてしまい、この光散乱がコントラストを低下させる場合がある。
また、特許文献２，３に示すような反射防止体では、コントラストへの悪影響を抑えることができるものの、必ずしも十分に光線反射を防止できないという問題がある。さらに、この場合には、反射防止体と基板との間での密着性が不十分な場合があるため、表面の耐擦傷性の向上が求められている。また、反射防止体の表面では、より一層の防汚性の向上が求められている。
【０００８】
本発明の目的は、十分な反射防止性能を有するとともに、表面の耐擦傷性および防汚性に優れた、反射型または半透過型の液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記問題点に鑑みて鋭意検討した結果、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体が少なくとも所定の化合物を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備える、反射型又は半透過型の液晶表示装置を構成することにより、反射防止性能に加えて、耐擦傷性に優れることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる低屈折率層を備えることを特徴とする。
（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物
【００１１】
ここで、前記低屈折率層形成用組成物が、架橋性化合物を含有することが好ましい。また、前記低屈折率層の屈折率が１．４０以下であり、かつ、前記低屈折率層に隣接する層との屈折率の差が０．０５〜０．４であることが好ましい。
【００１２】
また、前記反射防止体は、前記低屈折率層の前記出射側偏光子側に積層された高屈折率層を備え、前記高屈折率層の屈折率が１．５５以上であることが好ましい。この際、前記高屈折率層には、防眩性機能が設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の反射型または半透過型の液晶表示装置によれば、十分な反射防止性能を有し、表面の耐擦傷性に優れるという効果がある。また、本発明の液晶表示装置は、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、ＰＤＡ、携帯型ゲーム機等の携帯情報端末用のディスプレイとして好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、視認側に向けて、液晶セル、光学異方体、および出射側偏光子を、この順に有する液晶表示装置であって、前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、前記出射側偏光子の前記光学異方体とは反対側には、反射防止体が設けられ、前記反射防止体は、下記成分（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される低屈折率層を備えることを特徴とする。
（Ａ）粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子
（Ｂ）（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー
（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物
【００１５】
＜液晶セル＞
本発明に用いる液晶セルは、反射機能のない透明電極基板（以下、第１基板と称すことがある。）と、反射機能を全面又は一部に有する透明電極基板（以下、第２基板と称することがある。）と、これら２枚の透明電極基板間に封入された液晶性化合物とを備えている。透明電極基板として、全面に反射機能を有するものを用いた場合には、得られる液晶表示装置は反射型の液晶表示装置となり、透明電極基板として、一部に反射機能を有する基板を用いた場合には、得られる液晶表示装置は半透過型の液晶表示装置となる。
【００１６】
このような反射機能を有する基板を形成するためには、一般的には、第２基板に反射板が設けられる。この反射板としては、例えば、金属板が好ましく、この際、金属板の表面には、凹凸構造（特許２７５６２０６号参照）が設けられることがより好ましい。反射板の表面が平滑である場合には、正反射成分のみが反射されて視野角が狭くなる場合があるからである。なお、半透過型の液晶表示装置の場合には、第２基板には、光を透過する機能と光を反射する機能とが備えられる。
【００１７】
このような液晶セルとしては、封入する液晶性化合物の種類や、液晶性化合物の動作方式等によっては限定されない。例えば、動作方式としては、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＳＴＮ（SuperTwisted Nematic）方式、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、ＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）方式、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）方式、およびＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）方式などを用いることができる。さらに、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、および反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式を採用できる。
【００１８】
＜出射側偏光子＞
本発明の出射側偏光子は、自然光から直線偏光を取り出すことができる。出射側偏光子としては、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜を利用できる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムにより製造される。偏光子の厚みは、特に制限はないものの、例えば、５〜８０μｍが好ましい。
【００１９】
半透過型の液晶表示装置では、液晶セルの第２基板側に入射側偏光子がさらに設けられる。つまり、出射側偏光子と入射側偏光子との間に液晶セルが配置されることになる。入射側偏光子は、出射側偏光子と同じ機能・構成を備えている。半透過型の液晶表示装置では、出射側偏光子の透過軸と、入射側偏光子の透過軸とが、略垂直となるように配置されることが好ましい。
【００２０】
＜光学異方体＞
本発明の光学異方体としては、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、好ましくは１．００６以下である。比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の下限は好ましくは０．５、より好ましくは０．７である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が前記範囲に入る光学異方体を備えることにより、液晶表示装置では、発色のよいカラー表示を得ることができる。
【００２１】
なお、レターデーションには、フィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）とフィルム厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）がある。フィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｅ＝（ｎｘ-ｎｙ）×ｄで求めることができる。フィルム厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルム厚さ方向の屈折率をｎｚ、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｔｈ＝{（ｎｘ+ｎｙ）／２-ｎｚ}×ｄで求めることができる。Ｒｅ及びＲｔｈは、市販の自動複屈折計（王子計測社製、「ＫＯＢＲＡ-２１ＡＤＨ」）を用いて測定できる。
【００２２】
前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（５５０）が１２５〜１５０ｎｍであることが好ましい。また、前記光学異方体は、可視域全体における波長λでのレタ-デーションＲｅ（λ）と波長λの比Ｒｅ（λ）／λが通常０．２２〜０．２８、好ましくは０．２３〜０．２７、より好ましくは０．２４〜０．２６の範囲である。
【００２３】
前記光学異方体は、上記特性を有するものであれば、単層構造のものであっても積層構造のものであってもよい。例えば、好適な光学異方体として、１／４波長板と１／２波長板とをその遅相軸の方向をずらして重ね合わせた光学異方体が挙げられる。ここで、１／４波長板は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが１２５〜１５０ｎｍの光学異方体である。１／２波長板は波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが２５０〜３００ｎｍの光学異方体である。
【００２４】
１／４波長板や１／２波長板等の光学異方体は、透明樹脂フィルムを延伸配向することによって得ることができる。光学異方体の遅相軸は、通常、その延伸方向、またはそれと直交する方向に生じる。透明樹脂の延伸で得られた１／４波長板と１／２波長板の遅相軸交差角は好ましくは５６°〜６２°、より好ましくは５７°〜６１°である。遅相軸交差角が、上記範囲にあると、広帯域性に優れた光学異方体が得られる。なお、遅相軸とは、直線偏光を入射させた際に、位相の遅れが最大になる方向である。
【００２５】
１／４波長板や１／２波長板に用いる透明樹脂フィルムは、１ｍｍ厚における全光線透過率が８０％以上の樹脂により構成されることが好ましい。このような樹脂としては、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、およびポリビニルアルコール系重合体などの正の固有複屈折を有する樹脂；ビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体、ポリメチルメタクリレート系重合体、セルロースエステル系重合体、などの負の固有複屈折を有する樹脂を挙げることができる。なお、これらは２種以上を組み合わせて、あるいは単独で使用できる。
【００２６】
正の固有複屈折を有する樹脂の中では、脂環式構造を有する重合体樹脂や鎖状オレフィン系重合体が好ましく、特に透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などに優れるので脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、およびビニル脂環式炭化水素重合体を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なので好適に用いることができる。ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との開環共重合体及びこれら重合体の水素添加物；ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と他の単量体との付加共重合体及びこれらの重合体の水素添加物などを挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系単量体の開環重合体又は開環共重合体の水素添加物は、透明性に優れるので、特に好ましい。
【００２７】
負の固有複屈折を有する樹脂の中では、ビニル芳香族系重合体、ポリアクリロニトリル系重合体およびポリメチルメタクリレート系重合体の中から選択される少なくとも１種が好ましい。中でも複屈折発現性が高いという観点から、ビニル芳香族系重合体がより好ましい。ビニル芳香族系重合体とは、ビニル芳香族単量体の重合体、又はビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体との共重合体をいう。ビニル芳香族単量体としては、スチレン；４-メチルスチレン、４-クロロスチレン、３-メチルスチレン、４-メトキシスチレン、４-ｔｅｒｔ-ブトキシスチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン誘導体；などが挙げられる。これらを単独で使用しても２種以上併用してもよい。ビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体としては、プロピレン、ブテン等のオレフィン；アクリロニトリル等のα，β―エチレン性不飽和ニトリル単量体；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等のα，β―エチレン性不飽和カルボン酸；アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル；マレイミド；酢酸ビニル；塩化ビニル；などが挙げられる。ビニル芳香族系重合体の中でも、耐熱性が高い点で、スチレン又はスチレン誘導体と無水マレイン酸との共重合体が好ましい。
【００２８】
前記透明樹脂としては、フィルムの耐熱性に優れる点から、そのガラス転移温度Ｔｇが９０℃以上であるものが好ましく、１００℃以上であるものが特に好ましい。前記透明樹脂フィルムの形成方法は特に制限されず、例えば、溶液流延法や溶融押出法などの方法により形成できる。この中でも、溶剤を使用しない溶融押出法は、フィルムの揮発性成分の含有量を少なくでき、１００μｍ以上で、Ｒｔｈの大きいフィルムが作製しやすく、製造コストの観点からも好ましい。溶融押出法としては、Ｔダイを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
【００２９】
光学異方体のレターデーションは、例えば、フィルムの材質や、延伸前のフィルムの厚
み、延伸倍率や延伸温度等の延伸条件を適宜設定することによって制御できる。フィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ-３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ-１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸速度は、好ましくは５〜１０００ｍｍ／秒、より好ましくは１０〜７５０ｍｍ／秒である。延伸速度が上記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに面精度やレターデーションのバラツキが小さい光学異方体が得られる。
【００３０】
本発明に用いる光学異方体の厚み方向の屈折率ｎｚは特に制限されない。例えば、ｎｚと他の主屈折率ｎｘ及びｎｙとが、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙなる関係になるものが挙げられる。また、光学異方体は、その厚みが、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜２５０μｍ、特に好ましくは２０〜１２０μｍである。
【００３１】
また、１／４波長板および１／２波長板等の光学異方体は、液晶性化合物を配向固定することによって得ることもできる。液晶性化合物は光学異方性を有しており、これを一定方向に配列し固定化することによって光学異方性のあるフィルムを得ることができる。具体的には、重合開始剤又は架橋剤の存在下、紫外線又は熱により重合もしくは架橋する性質を有する低分子量又は高分子量の液晶性化合物、あるいはそれらの混合物を、実質的に均一に配向させた状態で重合又は架橋反応により固定化させて得ることができる。
【００３２】
光学異方体を得るために用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物、あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキノン類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、トラン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけでなく、高分子棒状液晶性化合物も用いることができる。さらに、棒状液晶性化合物の具体例として、特開平７-２９４７３５号公報、特開２００２-１７４７２４号公報及び特開平８-２８３７４８号公報に記載されている重合性液状組成物等が挙げられる。棒状液晶性化合物を用いた光学異方体の例として、液晶を垂直配向させた膜でｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ（なお、ｎｘとｎｙとが近似する場合も含む。）の関係を示すものが、傾斜配向させた膜でｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係を示すものがあげられる。傾斜配向させた膜として、商品名ＮＨフィルム（新日本石油社製）等の市販品も使用できる。
【００３３】
ディスコティック液晶性化合物としては、種々の文献（例えば、Ｃ．Ｄｅｓｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１年）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２，液晶の化学、第５章第１０章第２節（１９９４年）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔａｌ．，ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．ｐａｇｅ１７９４（１９８５年）；およびＪ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４年）；等）に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８-２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、連結基を介して重合性基を結合させる必要がある。このようなディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２０００-２８４１２６号公報に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物を用いた光学異方体として、商品名ＷＶフィルム（富士写真フィルム社製）等の市販品も使用できる。
【００３４】
液晶性化合物の配向は、通常、配向膜に液晶性化合物を塗布することによって行うことができる。配向膜は、通常、光学的に等方性を有する高分子化合物で形成される。具体的には、セルロース系樹脂、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、およびゼラチン等が挙げられる。これらは、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００３５】
また、液晶性化合物としてディスコティック液晶を用いる場合には、ディスコティック液晶分子を実質的にフィルム又は積層体の面方向に対して垂直（５０度から９０度の範囲の平均傾斜角）に配向させるのが好ましい。そのためには、配向膜を構成するポリマーの官能基によって配向膜の表面エネルギーを低下させ、これによりディスコティック液晶性化合物を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、フッ素原子や、炭素原子数が１０以上の炭化水素基が好ましく例示できる。フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子又は炭化水素基を導入するのが好ましい。フッ素原子を含有するポリマーのフッ素原子含有量は、好ましくは０．０５〜８０重量％、より好ましくは０．５〜６５重量％、さらに好ましくは１〜６０重量％である。炭化水素基としては、脂肪族基、芳香族基又はこれらの組合せが挙げられる。脂肪族基は、環状、分岐状、直鎖状のいずれであってもよいが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又はシクロアルケニル基が好ましい。炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１０〜１００、より好ましくは１０〜５０さらに好ましくは１０〜４０である。このようなポリマーの主鎖は、ポリイミド構造又はポリビニルアルコール構造を有するものであるのが好ましい。ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成することができる。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖又は側鎖にステロイド構造を形成するのが好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当し、ディスコティック液晶性化合物を垂直に配向させる機能を有する。また、ポリビニルアルコールとしては、例えば、フッ素原子を含む繰り返し単位を５〜８０モルの範囲で含むフッ素変性ポリビニルアルコール、炭素数が１０以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
【００３６】
配向膜を形成するためには、前記高分子化合物を製膜し、その高分子膜に配向処理を行う。配向処理としてはラビング処理が好適に用いられる。高分子膜をラビング処理する方法は特に制限されない。例えば、レーヨン、ナイロン等の布又はロールを用いて、高分子膜の表面を所定方向に擦する（ラビング）ことにより高分子膜表面に配向性を付与する方法が挙げられる。また、ラビング処理以外の配向処理としては、高分子膜上に直線偏光紫外線等の光を所定方向から照射する方法、高分子膜を延伸する方法等が挙げられる。また、高分子膜以外に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などの斜方蒸着層等も配向膜として用いることができる。配向膜の厚さは、通常０．００５〜１０μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍである。
【００３７】
１／４波長板又は１／２波長板などの光学異方体の上に、該光学異方体の遅相軸とのなす角度が５０〜７０度となる方向に配向処理された配向膜を形成し、該配向膜上に波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが２５０〜３００ｎｍである液晶性化合物の固定化膜（１／２波長板相当）又は波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが１２５〜１５０ｎｍである液晶性化合物の固定化膜（１／４波長板相当）を形成することで、１／４波長板と１／２波長板とを重ね合わせたものに相当する光学異方体を得ることができる。配向処理の方向は、基材となる光学異方体の遅相軸の方向に対して５０〜７０度、好ましくは５５〜６５度、より好ましくは５８〜６２度の範囲で交差するようにする。配向膜上に塗布された液晶性化合物は、配向膜の配向方向と一致する方向に配向する。従って、配向処理を前記のような角度で行うことによって、基材の光学異方体の遅相軸と、液晶性化合物で形成される光学異方体とが所定角度で交差する積層体にすることができる。
【００３８】
液晶性化合物の配向固定化膜からなる光学異方性層の厚みは特に制限されないが、入射光に対して１／４波長のレタ-デーションを与える１／４波長板として十分な機能を付与する上では、通常０．５〜５０μｍであるのが好ましい。液晶性化合物の固定化膜の種類と液晶性化合物の固定化膜層の厚みを所定のものに設定することで、液晶性化合物の固定化膜の層からなる１／４波長板を得ることができる。
【００３９】
液晶性化合物の固定化膜からなる光学異方体を形成するには、具体的には次のように行うことができる。まず、光学異方体上に、該光学異方体の延伸方向と該光学異方体の遅相軸とのなす角度が５０〜７０度となる方向に配向処理された配向膜を形成する。次に、液晶性化合物の有機溶剤溶液を該光学異方体の配向膜上に塗布し、加熱により溶剤を除去する。次いで、液晶性化合物が液晶状態となる温度まで冷却することにより、液晶性化合物を所定方向に配向させることができる。さらに、液晶性化合物が紫外線又は熱により重合もしくは架橋する場合には、液晶状態が保持された環境下で重合開始剤又は架橋剤の存在下、紫外線又は熱により重合若しくは架橋することにより、液晶性化合物の固定化膜を形成できる。
【００４０】
１／４波長板と１／２波長板とを積層する方法は、粘接着剤により貼り合せる方法、熱溶着や超音波融着により貼り合せる方法、共押出法などの、波長板を貼り合せる方法を用いることができるが、広帯域な波長板としてより広い波長領域で使用でき、耐久性にも優れたものとするためには、粘接着剤を用いて積層するのが好ましい。
【００４１】
本発明の液晶表示装置には、視野角を広くするなどの目的のために、前記光学異方体以外に、他の光学異方性を有するフィルムを任意の枚数で任意の場所に配置することができる。光学異方性を有するフィルムとしては、一軸性を有する位相差フィルム、二軸性を有する位相差フィルム、またはこれらの積層体が挙げられる。例えば、一軸性を有する位相差板としては、ＣプレートやＡプレートが挙げられる。
【００４２】
Ｃプレートは、面内のレターデーションがないかまたは極めて小さく、厚さ方向にのみ位相差を有する位相差層のことをいい、光軸がその面内方向と垂直な厚さ方向に存在する。Ａプレートは、厚さ方向のレターデーションがないかまたは極めて小さく、面内のみレターデーションを有するレターデーション層のことをいい、光軸が面内方向に存在する。
【００４３】
また、二軸性を有する位相差フィルムとしては、ポジティブ二軸位相差フィルム（ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ）、ネガティブ二軸位相差フィルム（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）が挙げられる。一軸性を有する位相差フィルムや二軸性を有する位相差フィルムとしては、固有複屈折値が正である材料からなるフィルムを延伸したフィルム、ポリスチレン樹脂などの固有複屈折値が負である材料からなる層の両面にノルボルネン系樹脂などの固有複屈折性が正である材料からなる層が積層されている積層体を延伸したもの、ディスコティック液晶を面に平行配向又は垂直配向させたものなどが挙げられる。複屈折性を示す層の面内のレターデーションＲｅや面に垂直な方向のレターデーションＲｔｈは、使用する液晶モードに応じて適宜調整すればよい。
【００４４】
本発明の液晶表示装置には、出射側偏光子の光学異方体とは反対側（視認側）の面に反射防止体が積層されている。この反射防止体は、後述する低屈折率層を有する。また、反射防止体は、出射側偏光子と低屈折率層との間に高屈折率層を有していてもよい。つまり、前記高屈折率層と、前記低屈折率層とを、液晶セルから離れる方向（視認側）に向かってこの順に有するものである。
【００４５】
＜反射防止体＞
〔高屈折率層〕
高屈折率層は、必要に応じて、出射側偏光子と低屈折率層との間に設けられる層である。高屈折率層は、表面硬度の高い層であり、具体的には、ＪＩＳ  Ｋ５６００-５-４に規定された鉛筆硬度試験で「ＨＢ」以上の硬度を持つ層である。高屈折率層の平均厚みは、特に限定されないが、通常０.５〜３０μｍ、好ましくは３〜１５μｍである。高屈折率層を形成する材料は、例えば、シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機材料；二酸化ケイ素などの無機材料；などを挙げることができる。これらの中で、ウレタンアクリレート系と多官能アクリレート系の材料は、接着力が大きく、生産性に優れるので、好適に用いることができる。
【００４６】
高屈折率層は、後述する低屈折率層よりも高い屈折率を有する層であり、その屈折率が１.５５以上であることが好ましく、１.６０以上であることがより好ましい。高屈折率層の屈折率がこれらの値であると、広帯域における反射防止性能及び耐擦傷性が向上し、高屈折率層の上に積層する低屈折率層の設計が容易になる利点がある。屈折率は、公知の分光エリプソメーター等を用いて求めることができる。
【００４７】
高屈折率層は、無機酸化物粒子をさらに含んでいてもよい。高屈折率層に無機酸化物粒子が添加されることにより、表面の耐擦傷性に優れ、屈折率が１.５５以上の高屈折率層を簡単に形成できる。高屈折率層に用いる無機酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましく、具体的には、屈折率が１.６以上、特に１.６〜２.３のものが好適である。このような無機酸化物粒子としては、例えば、チタニア（酸化チタン）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、リンをドープした酸化スズ（ＰＴＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、等を挙げることができる。これらの中でも、五酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるため、屈折率を調節するための成分として好適である。
【００４８】
高屈折率層は、基材となる出射側偏光子に、前記材料を塗布、乾燥し、硬化させることによって得ることができる。前記材料を塗布する前に、基材の表面にプラズマ処理、プライマー処理などを施し、高屈折率層の剥離強度を高めてもよい。硬化方法としては熱硬化法と、紫外線硬化法とを利用できる。また、基材用の樹脂と、高屈折率層用の材料とを、共押出成形して、基材用樹脂と前記材料とが積層された共押出フィルムを形成することができる。高屈折率層の表面には、防眩性機能が設けられていることが好ましく、例えば、当該表面に凸形状を形成することにより当該機能を実現できる。
【００４９】
〔低屈折率層〕
低屈折率層は、出射側偏光子の上側（視認側）、または、高屈折率層が設けられた場合には、この高屈折率層の上側に設けられる層である。低屈折率層は、その屈折率が１.４０以下の層であり、好ましくは１．３０〜１．４０、より好ましくは１．３５〜１．４０の層である。特に、隣接する出射側偏光子または高屈折率層との屈折率差が０．０５〜０．４であることが好ましい。このような低屈折率層を設けることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れ、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた液晶表示装置を得ることができる。低屈折率層の厚みは、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、３０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【００５０】
このような低屈折率層は、粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有するシロキサンオリゴマー（Ｂ）と、（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート化合物（Ｃ）とを含んでなる低屈折率層形成用組成物から形成される硬化膜からなる。なお、本発明において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイルとメタクリロイルを意味する。
【００５１】
〔中空粒子（Ａ）〕
本発明に用いる中空粒子は、中空部分が存在する粒子である。本発明の低屈折率層に含まれる中空粒子（Ａ）は、その粒径が５〜２０００ｎｍの範囲であり、２０〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。中空粒子（Ａ）の粒径が上記値より小さい場合には、低屈折率層の屈折率が十分に小さくならない。また、中空粒子（Ａ）の粒径が上記値を超える場合には、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなるおそれがある。なお、中空粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００５２】
中空粒子は、例えば、特開２００１-２３３６１１号公報に記載された方法に基づいて製造することができる。また、市販の中空粒子を用いてもよい。中空粒子の配合量は、特に限定されないが、化合物（Ａ）〜（Ｃ）を用いてなる低屈折率層形成用組成物の全体に対して１０〜３０重量％であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに奏することができる。
【００５３】
なお、中空粒子の中空部分には、中空粒子を調製するときに使用した溶媒や乾燥時に浸入する気体が存在してもよい。また、中空粒子の中空部分を形成するための、後述する空前駆体物質がその中空部分に残存していてもよい。前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
また、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると中空部分の容積が増大し、屈折率の低い中空粒子が得られ、この中空粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【００５４】
中空粒子（Ａ）は、無機中空粒子が好ましく、特にシリカ系中空粒子が好ましい。無機中空粒子を構成する無機化合物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３、ＴｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３−ＳｎＯ２などを例示できる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５５】
中空粒子（Ａ）の外殻は、細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔の外側が閉塞されて空洞が密封されているものであってもよい。外殻は、内側層と外側層などからなる多層構造であることが好ましい。外殻は、内側の第１無機酸化物皮膜層および外側の第２無機酸化物皮膜層からなる複数の無機酸化物皮膜層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物皮膜層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化できるとともに、内部の空洞を密封した中空粒子を得ることができる。中空粒子（Ａ）の外殻の厚みは、通常１〜５０ｎｍ、好ましくは５〜２０ｎｍである。また、中空粒子（Ａ）の外殻の厚みは、中空粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。
【００５６】
上述のように第１無機酸化物被覆層および第２無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記１〜５０ｎｍの範囲となることが好ましく、特に、緻密化された外殻において、第２無機酸化物被覆層の厚みは２０〜４０ｎｍの範囲が好適である。
【００５７】
また、中空粒子は、シロキサンオリゴマー（Ｂ）やアクリレート化合物（Ｃ）との結合性を高めるために、中空粒子と界面活性化剤またはカップリング剤とを反応させる方法などによって、中空粒子の表面に水酸基等の親水基やアクリロイル基を導入してもよい。界面活性化剤またはカップリング剤としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランなどの含フッ素有機珪素化合物などが挙げられる。
【００５８】
〔シロキサンオリゴマ―（Ｂ）〕
本発明の低屈折率層に含まれるシロキサンオリゴマー（Ｂ）は、（メタ）アクリロイル基およびフルオロアルキル基を有している。シロキサンオリゴマー（Ｂ）は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物（ｂ−１）と、フルオロアルキル基を有するフッ素化合物（ｂ−２）と、一般式ＸｊＳｉＹ４−ｊ（式中、Ｘは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ｊは０〜２の整数を表し、ｊが２の時、Ｘは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい）で表される加水分解性基を有するシラン化合物（ｂ−３）との縮合物であることが好ましい。
【００５９】
（ｂ−１）（メタ）アクリロイル基を有する化合物
（メタ）アクリロイル基を有する化合物（ｂ−１）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリロイル基を有するオルガノシラン類が挙げられる。前記（メタ）アクリロイル基を有するオルガノシラン類としては、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシメチルトリメトキシシラン、３−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、３−アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシメチルメチルジエトキシシランなどが例示されるが、これらの中で取扱い性、架橋密度、反応性などの点で、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。
【００６０】
（ｂ−２）フルオロアルキル基を有するフッ素化合物
前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物（ｂ−２）としては、フルオロアルキル基を有するシラン化合物の縮合物、フルオロアルキル基を有する単量体とこれと共重合可能な単量体との共重合体が挙げられる。
【００６１】
前記フルオロアルキル基を有するシラン化合物の縮合物としては、ゾル−ゲル反応により容易にシロキサンオリゴマ―を形成できる観点から、パーフルオロアルキルアルコキシシランを用いることが好ましい。
【００６２】
前記パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式（２）：ＣＦ3（ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＲ’）3（式中、Ｒ’は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物を挙げることができる。具体的には、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどを挙げることができる。これらの中でも、前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。これらの化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６３】
前記フルオロアルキル基を有する単量体としては、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、３，３，３−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類；パーフロロ（アルキルビニルエーテル）類もしくはパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、パーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；その他を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６４】
前記フルオロアルキル基を有する単量体と共重合可能な単量体としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、酢酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル化合物、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン化合物、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸化合物、および、これらの誘導体を挙げることができる。
【００６５】
（ｂ−３）一般式ＸｊＳｉＹ４−ｊで表される加水分解性基を有するシラン化合物
一般式ＸｊＳｉＹ４−ｊで表される加水分解性基を有するシラン化合物において、前記Ｘは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表している。置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４-メチルフェニル基、１-ナフチル基、２-ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３-フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ-クロロプロピル基、３，３，３-トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ-メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ-グリシドキシプロピル基、３，４-エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ-メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３-アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００６６】
前記Ｙは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ１（Ｒ２））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ１）＝Ｃ（Ｒ２）Ｒ３）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ１）Ｒ２）、アミド基（−Ｎ（Ｒ１）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。
【００６７】
一般式ＸｊＳｉＹ４−ｊで表されるシラン化合物（ｂ−３）としては、前記ｊが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。
【００６８】
前記ｊが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、前記ｊが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。前記ｊが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００６９】
シロキサンオリゴマー（Ｂ）の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層形成用組成物の全体に対して、３〜９０重量％であることが好ましく、５〜８０重量％であることがより好ましく、１０〜６０重量％であることがさらに好ましい。３重量％より少ない場合には、低屈折率層の屈折率が高くなり、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。また、９０重量％を超える場合には、低屈折率層の耐擦傷性が得られないおそれがある。
【００７０】
シロキサンオリゴマー（Ｂ）の分子量については特に制限はないが、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲルパーミエーションクロマトグラフで測定したポリスチレン換算による数平均分子量が５０００以上であるのが好ましい。
【００７１】
シロキサンオリゴマー（Ｂ）を得る方法としては、前記（メタ）アクリロイル基を有する化合物（ｂ−１）と、前記フルオロアルキル基を有するフッ素化合物（ｂ−２）と、前記シラン化合物（ｂ−３）とを縮合することにより得ることができる。この縮合において、各反応成分の比率は特に制限されないが、前記化合物（ｂ−１）／前記化合物（ｂ−２）／前記化合物（ｂ−３）のモル比で、５〜７０／３０〜７０／１〜５０モル％となるように配合することが好ましい。さらに、縮合において、各化合物をアルコール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）中で有機酸（たとえばシュウ酸等）やエステル類の存在下で加熱してもよい。
【００７２】
〔アクリレート化合物（Ｃ）〕
本発明の低屈折率層に含まれるアクリレート化合物（Ｃ）は、（メタ）アクリロイル基を有している。アクリレート化合物（Ｃ）は、反射防止体の硬度を効果的に高くできる観点から、フッ素原子を含有せず、かつ、（メタ）アクリロイル基を２個以上有することが好ましい。このような化合物としては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７３】
また、アクリレート化合物（Ｃ）は、低屈折率層の屈折率を効果的に低くできる観点から、フッ素原子を含有してもよい。フッ素原子を含有するアクリレート化合物としては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオール−ジエポキシ（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７４】
アクリレート化合物（Ｃ）の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層形成用組成物の全体に対して、５〜９０重量％であることが好ましく、１０〜８０重量％であることがより好ましく、１５〜６０重量％であることがさらに好ましい。上記の範囲の場合には、低屈折率層の耐擦傷性が良好であり、低屈折率層の屈折率が適切な範囲となり、十分な反射防止効果が得られる。
【００７５】
本発明の低屈折率層は、前記中空粒子（Ａ）と、前記シロキサンオリゴマ―（Ｂ）と、前記アクリレート化合物（Ｃ）とを含有する低屈折率層形成用組成物を、出射側偏光子や高屈折率層等の他の層上に膜状に塗工した後、乾燥させ、電離放射線、および／または加熱により硬化させて得ることができる。
【００７６】
前記低屈折率層形成用組成物は、中空粒子（Ａ）、シロキサンオリゴマー（Ｂ）、及び、アクリレート化合物（Ｃ）を分解させることのない有機溶剤に、前記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を混合して調整できる。そのような有機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或いはこれらの混合物を挙げることができる。有機溶剤と、前記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）との混合割合は、特に限定されないが、塗工液において、前記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を合計した際の濃度が０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％となるようにすることが好ましい。
【００７７】
前記低屈折率層形成用組成物には、塗工液中で、前記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を重合させるための重合開始剤（光ラジカル開始剤や熱ラジカル開始剤）、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）、あるいは、その他の成分を含有させても良い。
【００７８】
前記低屈折率層形成用組成物の塗工方法は特に限定されない。また、硬化方法には、加熱や活性光線照射が挙げられる。乾燥条件、硬化条件は、使用する溶媒の沸点、飽和蒸気圧等の種類により適宜決定できる。特に、塗工される他の層が着色したり、分解したりするのを抑えるために、加熱する場合には、５０〜１５０℃の範囲内の温度で１〜１８０分加熱するのが好ましく、７５〜１０５℃の範囲内の温度で５〜６０分加熱するのが更に好ましい。また、活性光線を照射する場合には、紫外線等を用いることができる。この際、照射エネルギーが、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１００〜４５０ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましく、２００〜４００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。
【００７９】
本発明の低屈折率層を形成する低屈折率層形成用組成物は、架橋性化合物を含有していてもよい。架橋性化合物としては、たとえば、メラミン樹脂、グリコール類、アクリル系樹脂、アジド類、イソシアネート類などを挙げることができる。その中でも、低屈折率層を構成する化合物の保存安定性の観点から、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化メラミンまたはこれらの誘導体などのメラミン樹脂が好ましい。架橋性化合物の使用割合は、前記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を合計したものの１００重量部に対して、７０重量部以下とすることが好ましく、より好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは５〜３０重量部である。
【００８０】
また、本発明の反射防止体には、前記低屈折率層の防汚性を高めるために、前記低屈折率層の視認側にさらに防汚層が設けられていてもよい。防汚層の形成材料としては、通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用でき、具体的には、パーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用できる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；ＣＶＤ等の化学的気相成長法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００８１】
本発明の反射防止体は、視認側からの、入射角５度、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍの光での反射率の最大値が、通常２．０％以下である。入射角５度の波長５５０ｎｍでの反射率が、通常１．０％以下である。又、入射角２０度の波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率の最大値が、通常２．０％以下である。入射角２０度の波長５５０ｎｍでの反射率が、通常１．０％以下である。各反射率が上記の範囲にあることにより、外部光の映りこみ及びギラツキがなく、視認性に優れた液晶表示装置とすることができる。反射率は、例えば、分光光度計（紫外可視近赤外分光光度計Ｖ-５５０、日本分光社製）を用いて測定できる。
【００８２】
また、反射防止体は、スチールウール試験前後の反射率の変動が、通常２０％以下、好ましくは１０％以下である。反射率の変動が２０％を超えると、画面のぼやけ、ギラツキが発生することがある。スチールウール試験は、スチールウール＃００００に荷重０.０２５ＭＰａをかけた状態で、低屈折率層の表面を１０回往復させて擦る試験のことである。反射率は、面内の任意の場所５箇所で５回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の反射率の変動は下記式で求めた。Ｒbはスチールウール試験前の反射率、Ｒaはスチールウール試験後の反射率を表す。
ΔＲ＝（Ｒb-Ｒa）／Ｒb×１００（％）                    （ｉ）
【００８３】
同様にスチールウール試験前後の全光線透過率の変動が、通常１０％以内であり、好ましくは８％以内、より好ましくは６％以内である。全光線透過率は、面内の任意の場所５箇所で５回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。スチールウール試験前後の全光線透過率の変動は下記式で求めた。Ｒｃはスチールウール試験前の全光線透過率、Ｒｄはスチールウール試験後の全光線透過率を表す。
ΔＲ＝（Ｒc-Ｒd）／Ｒc×１００  （％）                      （ii）
【００８４】
本発明の液晶表示装置においては、前記の出射側偏光子、入射側偏光子、光学異方体、液晶セル、及び反射防止体の他に、他のフィルムまたは層を設けてもよく、例えば、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、光拡散板、導光板、拡散シート、輝度向上フィルムなどを適宜な位置に、１層又は２層以上配置することができる。本発明の液晶表示装置においては、バックライトとして、冷陰極管、水銀平面ランプ、発光ダイオード、エレクトロルミネッセンスなどを用いることができる。
【００８５】
ここで、半透過型液晶表示装置の構成概要について説明する。
図１は、本発明に係る半透過型液晶表示装置を示す概略図である。図１において、半透過型液晶表示装置は、バックライト及び導光板２１と、バックライト及び導光板２１の上側に配置される偏光板２０と、偏光板２０の上側に配置される第１光学異方体と、この第１光学異方体の上側に配置される半透過型液晶セルと、半透過型液晶セルの上側に配置される第２光学異方体と、この第２光学異方体の上側に配置される偏光板１２と、偏光板１２の上側に配置される反射防止体１０とを備えている。
【００８６】
前記第１光学異方体は、偏光板２０の上側に配置される１／２波長板１９と、１／２波長板１９の上側に配置される１／４波長板１８とを備えている。１／２波長板１９と１／４波長板１８とは、約６０°の角度で遅相軸が交差している。前記半透過型液晶セルは、前記第１光学異方体側から順に、一部に反射機能を持った透明電極１７と、液晶層１６と、透明電極１５とを備えている。前記第２光学異方体は、１／４波長板１４と、１／２波長板１３とを備えている。１／２波長板１３と、１／４波長板１４とは、約６０°の角度で遅相軸が交差している。図示を省略するが、反射防止体１０は、例えば、偏光板１２の上側に設けられる高屈折率層と、この高屈折率層の上に積層される低屈折率層とを備えている。
【００８７】
次に、反射型液晶表示装置の構成概要について説明する。
図２は、本発明に係る反射型液晶表示装置を示す概略図である。図２において、反射型液晶表示装置は、反射板３７と、反射板３７の上側に配置される反射型液晶セルと、この反射型液晶セルの上側に配置される光学異方体と、光学異方体の上側に配置される偏光板３２と、偏光板３２の上側に配置される反射防止体３１とを備えている。
【００８８】
前記反射型液晶セルは、液晶層３６と、透明電極３５と、反射板３７側に設けられる透明電極とを備えている。前記光学異方体は、１／４波長板３４と、１／４波長板３４の上方に設けられる１／２波長板３３とを備えている。１／２波長板３３と、１／４波長板３４とは、約６０°の角度で遅相軸が交差している。図示を省略するが、反射防止体３１は、例えば、偏光板３２の上側に設けられる高屈折率層と、この高屈折率層の上に積層される低屈折率層とを備えている。なお、カラー表示を行う場合には、液晶セルの上側にカラーフィルター層がさらに設けられる。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例および比較例を示して、本発明をさらに詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例には限定されない。また、部および％は、特に断りのない限り重量基準である。実施例および比較例において行った測定や評価は、下記の通りである。
【００９０】
（１）厚さ
対象となる積層体をエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和工業製（株）、ＲＵＢ−２１００］を用いて０．０５μｍ厚にスライスし、透過電子顕微鏡を用いて断面を観察し、測定した。積層体については、各層ごとに測定した。
【００９１】
（２）主屈折率
自動複屈折計（王子計測器(株)、ＫＯＢＲＡ-２１）を用いて、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、波長５５０ｎｍで光学異方体の面内遅相軸の方向を求め、面内遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面内で遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙ、厚さ方向の屈折率ｎｚを測定した。
【００９２】
（３）レターデーション
高速分光エリプソメーター（Ｊ.Ａ.Ｗｏｏｌｌａｍ社、Ｍ-２０００Ｕ）を用い、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で測定した。
【００９３】
（４）反射率
分光光度計（日本分光社製：「紫外可視近赤外分光光度計Ｖ-５７０」）を用い、入射角５度で反射スペクトルを測定し、波長４３０〜７００ｎｍにおける最大値、及び波長５５０ｎｍにおける反射率を求めた。
【００９４】
（５）低屈折率層および高屈折率層の屈折率
高速分光エリプソメトリ（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ-２０００Ｕ）を用い、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、入射角度をそれぞれ５５、６０、６５度で測定した場合の、波長領域４００〜１０００ｎｍのスペクトルから算出した。
【００９５】
（６）耐傷性
スチールウール＃００００に荷重０.０２５ＭＰａをかけた状態で表面を１０往復させ、試験後の表面状態を目視で観察した。
○：傷が認められない
×：傷が認められる
【００９６】
（７）視認性
黒表示とした時のパネルを目視で観察し二段階で評価した。
○：グレアや映りこみが見られない
×:グレアや映り込みが見られる
【００９７】
（８）広帯域性
液晶表示パネルを周囲明るさ５００ルクスの環境に設置し、反射色を目視観察した。
○：反射色が黒
×：反射色が青
【００９８】
（９）コントラスト比
液晶表示パネルを周囲明るさ５００ルクスの環境に設置し、透過モードの液晶表示装置を用いて、暗表示の時と明表示の時の正面から５度の位置における輝度を色彩輝度計（トプコン社製、色彩輝度計ＢＭ−７）を用いて測定した。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比（＝明表示の輝度／暗表示の輝度）を計算し、これをコントラスト（ＣＲ）とした。コントラスト（ＣＲ）が大きいほど、視認性に優れている。
【００９９】
（１０）反射型表示装置の表示評価
作製した反射型液晶表示装置に、それぞれ、１ｋＨｚの矩形波電圧を印加した。白表示０Ｖ、黒表示４．５Ｖとして目視で評価を行った。
【０１００】
（１１）防汚性
低屈折率層表面にマジックインク（商品名：マッキー、ＺＥＢＲＡ社製）を付着させてから、セルロール製不織布（商品名：ベンコットＭ−３、旭化成社製）で拭き取ったときの状態を目視判定した。
○：完全に拭き取ることができる
×：拭き取り跡が残る
【０１０１】
（製造例１）原反フィルム１の作製
ノルボルネン系重合体（商品名：ＺＥＯＮＯＲ  １４２０Ｒ、日本ゼオン社製、ガラス転移温度：１３６℃、飽和吸水率：０．０１重量％未満）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて１１０℃で４時間乾燥した。次いで、リーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた平均表面粗さＲａ＝０．０４μｍのリップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出機を用いて、前記ペレットを２６０℃で溶融押出しして厚み１００μｍ、幅６００ｍｍの原反フィルム１を得た。レターデーション値Ｒｅ（５５０）は、３ｎｍであった。
【０１０２】
(製造例２)原反フィルム２の作製
製造例１で用いたノルボルネン系重合体からなる層（ＩＩ層）、スチレン-マレイン酸共重合体（ノヴァ・ケミカル社製、商品名「Ｄａｙｌａｒｋ  Ｄ３３２」、ガラス転移温度１３０℃、オリゴマー成分含有量３重量％）からなる層（Ｉ層）、及び変性したエチレン-酢酸ビニル共重合体（三菱化学社製、商品名「モディックＡＰ Ａ５４３」、ビカット軟化点８０℃）からなる接着剤層（ＩＩＩ層）を有する、ＩＩ層（３０μｍ）-ＩＩＩ層（６μｍ）-Ｉ層（１５０μｍ）-ＩＩＩ層（６μｍ）-ＩＩ層（３０μｍ）の未延伸積層体の原反フィルム２を共押出し成形により得た。
【０１０３】
(製造例３)高屈折率層形成用組成物Ｈ１の調製
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：ＮＫオリゴ  Ｕ-６ＨＡ、新中村化学社製）３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート（商品名：ＮＫ  エステル  ＩＢ、新中村化学社製）３０部、スチレンビーズ（粒径３．５μｍ）５部、２，２-ジフェニルエタン-１-オン１０部をホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子の４０重量％ＭＩＢＫ溶液（平均粒子径２０ｎｍ：水酸基がパイロクロア構造の表面に現われているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）を、五酸化アンチモン微粒子の重量が高屈折率層形成用塗工液全固形分の５０重量％占める割合で混合して、高屈折率層形成用組成物Ｈ１を調製した。
【０１０４】
（製造例４）低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いで、この溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中に、化合物（ｂ−２）としてのヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン５０部、化合物（ｂ−１としての３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン５０部、化合物（ｂ−３）としてのテトラメトキシシラン１０部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下で加熱を５時間続けた後冷却した。
【０１０５】
次に、アクリレート化合物（C）としてのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部と、重合開始剤である２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン５部、さらに、粒径が５〜２０００ｎｍの中空粒子としての中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を、中空粒子の割合が固形分基準で７０重量％になるように前記溶液に添加し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈して低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。
【０１０６】
（製造例５）低屈折率層形成用組成物Ｌ２の調製
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりに、含フッ素アクリレート化合物である３−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート２０部を用いた以外は製造例４と同様にして低屈折率層形成用組成物Ｌ２を調製した。
【０１０７】
（製造例６）低屈折率層形成用組成物Ｌ３の調製
ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン５０部の代わりに、フルオロアルキル基を有しないシロキサンオリゴマーとしてのテトラメトキシシラン６０部を用いた以外は製造例４と同様にして低屈折率層形成用組成物Ｌ３を調製した。
【０１０８】
（製造例７）低屈折率層形成用組成物Ｌ４の調製
テトラメトキシシラン１５２部にメタノール４１２部を加え、さらに水１８部及び０．０１Ｎの塩酸１８部を混合し、これを、ディスパーを用いてよく混合した。この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して、重量平均分子量を８５０に調整することにより、シリコーンレジンを得た。次に、このシリコーンレジン溶液に、シリカメタノールゾル（日産化学工業社製、ＰＭＡ-ＳＴ、平均粒子径１０〜２０ｎｍ）／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で重量比が８０／２０となるように添加し、さらに全固形分が３％になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用組成物Ｌ４を調製した。
【０１０９】
(製造例８)偏光子の作製
厚さ７５μｍのＰＶＡフィルム（クラレビニロン＃７５００）をチャックに装着しヨウ素０．２ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム６０ｇ／ｌよりなる水溶液中に３０℃にて２４０秒浸漬し、次いでホウ酸７０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム３０ｇ／ｌの組成の水溶液に浸漬するとともに、同時に６．０倍に一軸延伸しつつ５分間に渡ってホウ酸処理を行った。最後に室温で２４時間乾燥し偏光子を得た。偏光度は、９９．９９３％であった。
【０１１０】
（製造例９）偏光子Ｐの作製
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム（ＫＣ８ＵＸ２Ｍ）の一方の面に、１．５規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ／ｍ２塗布し、２５℃で５秒間乾燥した。流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにしてトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。ケン化処理したフィルム表面が製造例８で得られた偏光子の片面に重なる様にして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼りあわせて、偏光子の入射側面にトリアセチルセルロースフィルムを積層させ、偏光子Ｐを得た。
【０１１１】
（製造例１０）光学異方体Ｃ１、Ｃ２及びＣ３の作製
製造例１で得た原反フィルム１を、延伸機を使用して、オーブン温度（予熱温度、延伸温度、熱固定温度）１４０℃、延伸速度６ｍ／分、縦延伸倍率１．５倍と１．３倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体Ｃ１及びＣ２を得た。得られた光学異方体Ｃ１及びＣ２の波長５５０ｎｍのレターデーション値[Ｒｅ（５５０）]は、それぞれ、２６５ｎｍ、１３２．５ｎｍであった。上記の光学異方体Ｃ１の片面に、上記の光学異方体Ｃ２をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ３を得た。この光学異方体Ｃ３のＲｅ（５５０）と、波長４５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．００５であった。
【０１１２】
（製造例１１）光学異方体Ｃ４、Ｃ５の作製
原反フィルム２を、テンター延伸機を用いて、延伸温度１３８℃、延伸倍率１．５倍、延伸速度１１５％／ｍｉｎで幅方向に対して−１３°方向へ斜め延伸を行い、これを３０００ｍに渡ってロール状に巻き取って光学異方体Ｃ４を得た。得られた光学異方体Ｃ４の波長５５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（５５０）を測定したところ１３７．２ｎｍであった。上記の光学異方体Ｃ４の片面に、製造例１０で得られた光学異方体Ｃ１をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ５を得た。この光学異方体Ｃ５のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１であった。
【０１１３】
（製造例１２）光学異方体Ｃ６、Ｃ７及びＣ８の作製
製造例１で得た原反フィルム１を、延伸機を使用して、オーブン温度（予熱温度、延伸温度、熱固定温度）１７０℃、フィルム繰り出し速度６ｍ／分、縦延伸倍率１．７５倍と１．４５倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体Ｃ６及びＣ７を得た。得られた光学異方体Ｃ６及びＣ７の波長５５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（５５０）は、それぞれ、２６５ｎｍ、１３２．５ｎｍであった。上記の光学異方体Ｃ６の片面に、上記の光学異方体Ｃ７をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ８を得た。この光学異方体Ｃ８のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１０であった。
【０１１４】
（製造例１３）低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）の作製
コニカミノルタ社製トリアセチルセルロースフィルム（ＫＣ８ＵＸ２Ｍ）の一方の面に、１．５規定水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍｌ／ｍ２塗布し、２５℃で５秒間乾燥した。流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにしてトリアセチルセルロースフィルムの一方の表面のみをケン化した。もう一方の面に、高周波発信機（春日電機社製  高周波電源ＡＧＩ−０２４）を用いてコロナ放電処理を出力０．８ＫＷにて行い、表面張力が０．０５５Ｎ／ｍの両面処理基材フィルムを得た。
【０１１５】
次に、製造例３で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１を、前記基材フィルムのコロナ放電処理をした面に、ダイコーターを用いて塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）して、厚み５μｍの高屈折率層を積層した、積層フィルム１Ａを得た。高屈折率層の屈折率は１．６２、鉛筆硬度は２Ｈであった。
上記積層フィルム１Ａの高屈折率層側に、製造例４で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ１を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚み１００ｎｍの低屈折率層を積層した、低屈折率層付基材（ＴＡＣ基材）を得た。得られた低屈折率層付基材（ＴＡＣ基材）のケン化処理した表面が製造例８で得られた偏光子の片面に重なる様にして、ポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ａを得た。
【０１１６】
（製造例１４）低屈折率層付偏光板（ＣＯＰ基材）の作製
製造例１で得られた原反フィルムの両面に、高周波発信機（春日電機社製  高周波電源ＡＧＩ−０２４）を用いてコロナ放電処理を出力０．８ＫＷにて行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍの基材フィルムを得た。次に、製造例３で得られた高屈折率層形成用組成物Ｈ１を前記基材フィルムの片面に、ダイコーターを用いて塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を得た。その後、紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）して、厚み５μｍの高屈折率層を積層した、積層フィルム１Ｂを得た。高屈折率層の屈折率は１．６２、鉛筆硬度はＨであった。
【０１１７】
上記積層フィルム１Ｂの高屈折率層側に、製造例４で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ１を、ワイヤーバーコーターにより塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚み１００ｎｍの低屈折率層を積層した低屈折率層付基材（ＣＯＰ基材）を得た。得られた低屈折率層付基材（ＣＯＰ基材）の低屈折率層が積層されていない側の表面が製造例８で得られた偏光子の片面に重なる様にして、アクリル系接着剤を用いてロールトゥロール法により貼り合わせて、低屈折率層付偏光板（ＣＯＰ基材）２Ｃを得た。
【０１１８】
（製造例１５）観察者側偏光板ＰＯ１の作製
製造例１０で得られた光学異方体Ｃ３と、製造例１３で得られた低屈折率層付偏光板２Ａを、低屈折率層付偏光板２Ａの透過軸と光学異方体Ｃ３に積層されている光学異方体Ｃ１の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ３のＣ１側と低屈折率層付偏光板２Ａの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板ＰＯ１を作製した。
【０１１９】
（製造例１６）バックライト側偏光板ＰＢ１の作成
製造例１０で得られた光学異方体Ｃ３と、製造例９で得られた偏光子Ｐを、偏光子Ｐの透過軸と光学異方体Ｃ３に積層されている光学異方体Ｃ１の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ３のＣ１側と偏光子Ｐの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板ＰＢ１を作製した。
【０１２０】
（実施例１）液晶表示装置１の作製
液晶表示装置１において使用したＴＮモードの液晶セルは、基盤両界面のプレチルト角が２度、ツイスト角が左ねじれ７０度、Δｎｄが反射表示部で２３０ｎｍ、透過表示部で略２６２ｎｍのものである。液晶膜厚は反射電極領域（反射表示部）で３．５μｍ、透明電極領域（透過表示部）で４．０μｍとした。製造例１５で得られた観察者側偏光板ＰＯ１、上記液晶セル、および製造例１６で得られたバックライト側偏光板ＰＢ１を、この順序にて積層し、次に、バックライト側偏光板ＰＢ１に接する様に、拡散シート、導光板、バックライトをこの順序にて組み込み、液晶表示装置１を作製した。作製した液晶表示装置１の評価結果を表1に示す。
【０１２１】
（実施例２）液晶表示装置２の作製
製造例１３において、低屈折率層形成用組成物Ｌ１に換えて、製造例５で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ２を用いた他は、製造例１３と同じ方法で低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｂを得た。次いで、製造例１５における低屈折率層付偏光板２Ａに換えて、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｂを用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ２を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＰＯ１に換えて、観察者側偏光板ＰＯ２を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置２を作製した。作製した液晶表示装置２の評価結果を表1に示す。
【０１２２】
（実施例３）液晶表示装置３の作製
製造例１５において、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ａに換えて、製造例１４で得られた低屈折率層付偏光板（ＣＯＰ基材）２Ｃを用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ３を得た。さらに、実施例１における観察者側偏光板ＰＯ１に換えて、観察者側偏光板ＰＯ３を用いた他は、実施例１と同じ方法で液晶表示装置３を作製した。作製した液晶表示装置３の評価結果を表1に示す。
【０１２３】
（実施例４）液晶表示装置４の作製
製造例１５における光学異方体Ｃ３に換えて、製造例１１で得られた光学異方体Ｃ５を用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ４を得た。次に、製造例１６における光学異方体Ｃ３に換えて、製造例１１で得られた光学異方体Ｃ５を用いた他は製造例１６と同様の方法でバックライト側偏光板ＰＢ２を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＰＯ１に換えて観察者側偏光板ＰＯ４を用い、バックライト側偏光板ＰＢ１に換えてバックライト側偏光板ＰＢ２用いた他は、実施例１と同じ方法で液晶表示装置４を作製した。作製した液晶表示装置４の評価結果を表1に示す。
【０１２４】
（実施例５）液晶表示装置５の作製
製造例１５において、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ａに換えて、製造例１４で得られた低屈折率層付偏光板（ＣＯＰ基材）２Ｃを用い、光学異方体Ｃ３に換えて、製造例１１で得られた光学異方体Ｃ５を用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ５を得た。次に、実施例１における観察者側偏光板ＰＯ１に換えて観察者側偏光板ＰＯ５を用い、バックライト側偏光板ＰＢ１に換えて実施例４で得られたバックライト側偏光板ＰＢ２用いて、実施例１と同じ方法で液晶表示装置５を作製した。作製した液晶表示装置５の評価結果を表1に示す。
【０１２５】
（比較例１）液晶表示装置６の作製
製造例１２で得られた光学異方体Ｃ８と、製造例１３で得られた低屈折率層付偏光板２Ａを、低屈折率層付偏光板２Ａの透過軸と光学異方体Ｃ８に積層されている光学異方体Ｃ６の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ８のＣ６側と低屈折率層付偏光板２Ａの偏光子側が接する様に積層して、観察者側偏光板ＰＯ６を作製した。
次に製造例１２で得られた光学異方体Ｃ８と、製造例９で得られた偏光子Ｐを、偏光子Ｐの透過軸と光学異方体Ｃ８に積層されている光学異方体Ｃ６の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ８のＣ６側と偏光子Ｐの偏光子側が接する様に積層して、バックライト側偏光板ＰＢ３を作製した。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＰＯ１に換えて、観察者側偏光板ＰＯ６を用い、バックライト側偏光板ＰＢ１に換えて、バックライト側偏光板ＰＢ３を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置６を作製した。作製した液晶表示装置６の評価結果を表1に示す。
【０１２６】
（比較例２）液晶表示装置７の作製
製造例１３で得られた低屈折率層付偏光板２Ａにおいて、低屈折率層形成用組成物Ｌ１に換えて製造例６で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ３を用いた他は、製造例１３と同じ方法で低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｄを得た。ついで、製造例１５において、低屈折率層付偏光板２Ａに換えて、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｄを用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ７を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＰＯ１に換えて、観察者側偏光板ＰＯ７を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置７を作製した。作製した液晶表示装置７の評価結果を表1に示す。
【０１２７】
（比較例３）液晶表示装置８の作製
製造例１３で得られた低屈折率層付偏光板２Ａにおいて、低屈折率層形成用組成物Ｌ１に換えて製造例７で得られた低屈折率層形成用組成物Ｌ４を用いた他は、製造例１３と同じ方法で低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｅを得た。ついで、製造例１５において低屈折率層付偏光板２Ａに換えて、低屈折率層付偏光板（ＴＡＣ基材）２Ｅを用いた他は製造例１５と同様の方法で観察者側偏光板ＰＯ８を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＰＯ１に換えて、観察者側偏光板ＰＯ８を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置８を作製した。作製した液晶表示装置８の評価結果を表1に示す。
【０１２８】
【表１】
2007041334.tif 000002
【０１２９】
なお、表１において、ＴＡＣは、トリアセチルセルロースの略であり、ＣＯＰは、脂環式オレフィンポリマーの略であり、ＰＶＡはポリビニルアルコールの略である。
【０１３０】
以上の表１に示すように、実施例１〜５によれば、高コントラストで、かつ十分な反射防止性能（視認性）を確保できるとともに、耐傷性および防汚性にも優れていることが判明した。これに対して、比較例１では、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の比が１．０１であって、１．００７を超えていることにより、コントラストの点で劣っていることがわかる。また、比較例２では、フルオロアルキル基を有していないシロキサンオリゴマーを用いたことにより、防汚性が不十分であることがわかる。また、比較例３では、中空粒子を用いていないことにより、耐傷性が不十分であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明に係る半透過型の液晶表示装置を示す図である。
【図２】本発明に係る反射型の液晶表示装置を示す図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１０、３１      反射防止体
１２、２０、３２      偏光板
１３、１９、３３      １／２波長板
１４、１８、３４      １／４波長板
１５、３５      透明電極
１６、３６      液晶層
１７      透明電極
２１      バックライト及び導光板
３７      反射板
【図１】
2007041334.tif 000003
【図２】
2007041334.tif 000004