(57)【要約】    【課題】  被露光体上の機能パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光処理の時間を短縮する。    【解決手段】  表面に設定されたパターン領域の一端部の所定位置にアライメントマークが形成されたカラーフィルタ基板６を載置して、搬送手段１でアライメントマークが形成された側を先頭にして搬送し、撮像手段３でアライメントマークとピクセルとを撮像し、制御手段４で撮像手段３により取得されたアライメントマークの検出出力に基づいてカラーフィルタ基板６上の基準位置と露光光学系２のフォトマスク１７に予め設定された基準位置とのずれを算出して、該ずれを補正するように撮像手段３と露光光学系２とを搬送手段１のカラーフィルタ基板載置面に平行な面内にて、カラーフィルタ基板６の搬送方向に直交する方向に一体的に移動させ、露光光源１２から発射される露光光を、フォトマスク１７を介してカラーフィルタ基板６に照射する。【選択図】      図１
2007041447.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に設定されたパターン領域に多数の機能パターンが形成され、該パターン領域の一端部側の所定位置に少なくとも一つのアライメントマークが形成された被露光体を載置して、前記アライメントマークが形成された側を先頭にして搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の上方に配設され、露光光源から発射される露光光をマスクステージに載置されたフォトマスクを介して前記被露光体に照射する露光光学系と、
前記搬送手段の被露光体の載置面に平行な方向にて、前記被露光体の搬送方向に直交する方向に前記露光光学系と一体的に移動可能とされ、該移動方向に沿って並べて配設された多数の受光素子を有し、前記被露光体の機能パターンとアライメントマークとを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段により取得された前記アライメントマークの検出出力に基づいて前記被露光体上の基準位置と前記フォトマスクに予め設定された基準位置とのずれを算出して、該ずれを補正するように前記露光光学系と撮像手段とを移動させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記露光光学系は、前記マスクステージと前記搬送手段との間に前記フォトマスクに形成されたマスクパターンを前記被露光体上に投影する投影レンズを備えたことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記撮像手段は、前記マスクステージと前記投影レンズとの間にて前記露光光学系の光路と異なる方向に偏向された光路上に配設されたことを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記撮像手段は、前記露光光学系による露光位置の搬送方向手前側を撮像するように配設されたことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記フォトマスクの基準位置と所定の位置関係を有して前記撮像手段に予め設定された基準受光素子と前記被露光体のアライメントマークを検出した受光素子とのずれ量を算出して、該ずれ量がゼロとなるように前記撮像手段と前記露光光学系とを移動することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記撮像手段は、前記受光素子を一直線状に並べて配設したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
一方向に搬送されながら、フォトマスクを介して露光光が照射されて所定位置に所定形状の露光パターンが形成される被露光体であって、
表面に設定されたパターン領域に多数形成された機能パターンと、
前記パターン領域の一端部側の所定位置に、前記パターン領域に予め設定された基準位置と前記フォトマスクに予め設定された基準位置との位置ずれを補正してアライメントをとるために少なくとも一つ形成されたアライメントマークと、
を有することを特徴とする被露光体。
【請求項８】
前記アライメントマークの横に並べて、アライメント状態を確認するためのアライメント確認マークを前記パターン領域に複数配置された機能パターンと同じ間隔で形成したことを特徴とする請求項７記載の被露光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被露光体を載置して搬送し、フォトマスクを介して露光する露光装置に関し、詳しくは、載置面に平行な面内にて、搬送方向と直交する方向のフォトマスクと被露光体とのずれを補正して、被露光体上の機能パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上し、露光処理の時間を短縮しようとする露光装置及び被露光体に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置では、被露光体（以下、「カラーフィルタ基板」と記載する）の隅部等に設けられたアライメントマークとフォトマスクに設けられたアライメントマークとによって、カラーフィルタ基板とフォトマスクとの位置合わせを行なってから、露光を行うようになっており、大型のフォトマスクを用いてカラーフィルタ基板の全面を一括して露光する方式又は少ない回数で露光する方式（例えば、特許文献１参照）や、小型のフォトマスクを用いて、カラーフィルタ基板を分割して露光する方式（例えば、特許文献２参照）が知られている。
【特許文献１】特開平０９−１２７７０２号公報
【特許文献２】特開２００３−４３９３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、このような従来の露光装置において、特に、上記特許文献１に記載の露光装置では、カラーフィルタ基板とフォトマスクとのアライメントを取る手間が少なくてすむ利点はあるが、大型のフォトマスクを精度よく製作することが困難であることや、フォトマスクが撓むためフォトマスクとカラーフィルタ基板とのギャップ調整に手間がかかるという問題点がある。それ故、カラーフィルタ基板の画素（機能パターン）部と露光パターンとの重ね合わせ精度を向上することが困難であった。
【０００４】
また、上記特許文献２に記載の露光装置では、分割数に応じてアライメントを取る回数が増加し、全体として露光処理の時間がかかってしまう他、カラーフィルタ基板の画素（機能パターン）部分にアライメントマークを付けることにより、画素の一部が潰れてしまうという問題点があった。
【０００５】
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、被露光体上の機能パターンと露光パターンとの重ね合わせ精度を向上し、露光処理の時間を短縮しようとする露光装置及び被露光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、表面に設定されたパターン領域に多数の機能パターンが形成され、該パターン領域の一端部側の所定位置に少なくとも一つのアライメントマークが形成された被露光体を載置して、前記アライメントマークが形成された側を先頭にして搬送する搬送手段と、前記搬送手段の上方に配設され、露光光源から発射される露光光をマスクステージに載置されたフォトマスクを介して前記被露光体に照射する露光光学系と、前記搬送手段の被露光体の載置面に平行な方向にて、前記被露光体の搬送方向に直交する方向に前記露光光学系と一体的に移動可能とされ、該移動方向に沿って並べて配設された多数の受光素子を有し、前記被露光体の機能パターンとアライメントマークとを撮像する撮像手段と、前記撮像手段により取得された前記アライメントマークの検出出力に基づいて前記被露光体上の基準位置と前記フォトマスクに予め設定された基準位置とのずれを算出して、該ずれを補正するように前記露光光学系と撮像手段とを移動させる制御手段と、を備えたものである。
【０００７】
このような構成により、多数の機能パターンが形成されたパターン領域の一端部の所定位置にアライメントマークが少なくとも一つ形成された披露光体を載置して、搬送手段で上記アライメントマークが形成された側を先頭にして搬送し、搬送手段の被露光体の載置面に平行な面内にて、上記被露光体の搬送方向に直交する方向に沿って多数の受光素子が一直線状に並べて配設された撮像手段で上記アライメントマークと上記機能パターンとを撮像し、制御手段で撮像手段により取得された上記アライメントマークの検出出力に基づいて上記被露光体上の基準位置と露光光学系のマスクステージに載置されたフォトマスクに予め設定された基準位置とのずれを算出して、該ずれを補正するように上記撮像手段と露光光学系とを搬送手段の載置面に平行な方向にて、上記被露光体の搬送方向に直交する方向に一体的に移動させ、露光光学系で露光光源から発射される露光光を、上記フォトマスクを介して上記被露光体に照射する。
【０００８】
また、前記露光光学系は、前記マスクステージと前記搬送手段との間に前記フォトマスクに形成されたマスクパターンを前記被露光体上に投影する投影レンズを備えたものである。これにより、マスクステージと搬送手段との間に備えられた投影レンズでフォトマスクに形成されたマスクパターンを被露光体上に投影する。
【０００９】
さらに、前記撮像手段は、前記マスクステージと前記投影レンズとの間にて前記露光光学系の光路と異なる方向に偏向された光路上に配設されたものである。これにより、フォトマスクを載置するマスクステージと投影レンズとの間にて露光光学系の光路と異なる方向に偏向された光路上に配設された撮像手段で被露光体のアライメントマーク及び機能パターンを撮像する。
【００１０】
また、前記撮像手段は、前記露光光学系による露光位置の搬送方向手前側を撮像するように配設されたものである。これにより、撮像手段で露光光学系による露光位置の搬送方向手前側を撮像する。
【００１１】
さらに、前記制御手段は、前記フォトマスクの基準位置と所定の位置関係を有して前記撮像手段に予め設定された基準受光素子と前記被露光体のアライメントマークを検出した受光素子とのずれ量を算出して、該ずれ量がゼロとなるように前記撮像手段と前記露光光学系とを移動するものである。これにより、制御手段でフォトマスクの基準位置と所定の位置関係を有して撮像手段に予め設定された基準受光素子と被露光体のアライメントマークを検出した受光素子とのずれ量を算出し、該ずれ量がゼロとなるように撮像手段と露光光学系とを一体的に移動する。
【００１２】
そして、前記撮像手段は、前記受光素子を一直線状に並べて配設したものである。これにより、受光素子を一直線状に並べて配設した撮像手段で被露光体のアライメントマーク及びパターン領域の機能パターンを撮像する。
【００１３】
また、本発明による被露光体は、一方向に搬送されながら、フォトマスクを介して露光光が照射されて所定位置に所定形状の露光パターンが形成される被露光体であって、表面に設定されたパターン領域に多数形成された機能パターンと、前記パターン領域の一端部側の所定位置に、前記パターン領域に予め設定された基準位置と前記フォトマスクに予め設定された基準位置との位置ずれを補正してアライメントをとるために少なくとも一つ形成されたアライメントマークと、を有するものである。
【００１４】
このような構成により、一方向に搬送されながら、多数の機能パターンが形成されたパターン領域の一端部側の所定位置に少なくとも一つ形成されたアライメントマークでパターン領域に予め設定された基準位置とフォトマスクに予め設定された基準位置との位置ずれを補正してアライメントをとり、表面に設定された上記パターン領域にフォトマスクを介して露光光を照射して露光パターンを形成する。
【００１５】
さらに、アライメントマークの横に並べて、アライメント状態を確認するためのアライメント確認マークを前記パターン領域に複数配置された機能パターンと同じ間隔で形成したものである。これにより、アライメントマークの横に並べて、パターン領域に複数配置された機能パターンと同じ間隔で形成されたアライメント確認マークでアライメント状態を確認する。
【００１６】
そして、前記アライメントマークが形成された側を先頭にして搬送されるものである。これにより、先ずアライメントマークを撮像手段で検出してアライメント調整をする。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る発明によれば、被露光体のパターン領域の一端部にて搬送方向先頭側の所定位置に設けたアライメントマークを撮像手段で撮像して、該アライメントマークの検出出力に基づいてフォトマスクの基準位置と被露光体の基準位置とのずれを補正するものとしているので、被露光体上のパターン領域に同一形状の機能パターンが搬送方向と直交する方向に所定ピッチで一列に並べて形成されていても、ピッチずれを生じることなく位置合わせをすることができる。したがって、被露光体上の機能パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。また、披露光体を搬送しながら位置合わせをして露光するようにしているので、露光処理の時間を短縮することができる。
【００１８】
また、請求項２に係る発明によれば、露光光学系に投影レンズを備えているので、フォトマスクと被露光体とを離して配置することができる。したがって、フォトマスクにフォトレジストが付着して汚れたり傷ついたりするおそれがない。
【００１９】
さらに、請求項３に係る発明によれば、露光光学系の光路と異なる方向に偏向された光路上に撮像手段を配設しているので、披露光体の機能パターンとアライメントマークとが近接していても撮像手段が露光光学系の光路に影響を及ぼすことなく露光光学系による露光位置と撮像手段による撮像位置とを接近させることができる。したがって、撮像手段による機能パターンの撮像と露光光学系による露光とを略リアルタイムで実行することができ、被露光体上の機能パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度をより向上することができる。
【００２０】
また、請求項４に係る発明によれば、露光位置の搬送方向手前側を撮像するようにしているので、露光光学系によって露光が行なわれる前に、撮像手段でアライメントマーク並びに機能パターンを撮像して位置合わせをすることができる。したがって、フォトマスクを被露光体に近接させて露光する装置にも適用することができる。
【００２１】
さらに、請求項５に係る発明によれば、撮像手段に予め設定された基準受光素子と被露光体のアライメントマークを検出した受光素子とのずれ量を補正するようにしているので撮像手段の受光素子によるアライメントマークの検出出力に基づいて被露光体上の基準位置とフォトマスクの基準位置とのずれを補正することができる。したがって、搬送手段の載置面に平行な面内にて、被露光体の搬送方向に直交する方向の位置ずれを容易に補正することができる。
【００２２】
そして、請求項６に係る発明によれば、受光素子が一直線状に並べられているので、被露光体のアライメントマークを検出した受光素子を一つに特定することができ、アライメント制御が容易になる。
【００２３】
また、請求項７に係る発明によれば、パターン領域の一端部にて搬送方向先頭側にアライメントマークを設けているので、アライメントマークを撮像手段で撮像し、該アライメントマークの検出出力に基づいて、上記パターン領域の基準位置とフォトマスクの基準位置とのずれを容易に補正することができる。したがって、パターン領域に同一形状の機能パターンが搬送方向と直交する方向に所定ピッチで一列に並べて形成されていても、ピッチずれを生じることなく位置合わせをすることができる。これにより、被露光体上の機能パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上することができる。
【００２４】
そして、請求項８に係る発明によれば、アライメントマークに並べてアライメント確認マークを設けているので、アライメントマークでアライメントした後、そのアライメント状態をアライメント確認マークで確認することができる。また、上記アライメント確認マークのピッチを測定することにより、投影レンズの倍率、又は被露光体の膨張又は収縮状態を確認することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す概念図である。この露光装置は、披露光体を一方向に搬送しながら該披露光体上にフォトマスクを介して露光光を照射し、所定の露光パターンを形成するもので、搬送手段１と、露光光学系２と、撮像手段３と、制御手段４とからなる。以下、被露光体が例えばブラックマトリクスを形成したカラーフィルタ基板である場合について説明する。
【００２６】
上記搬送手段１は、カラーレジストが塗布されたカラーフィルタ基板６をステージ５上に載置して、図１に示す矢印Ａ方向に所定の速度で搬送するものであり、上記ステージ５を移動させる図示省略の例えば搬送ローラと、該搬送ローラを回転駆動するモータ等の搬送駆動部と、ステージ５の搬送速度を検出する速度センサーや位置を検出する位置検出センサー等を備えている。
【００２７】
上記カラーフィルタ基板６は、図２に示すように、表面に設定されたパターン領域７に多数形成されたブラックマトリクス８のピクセル９と、上記パターン領域７の一端部側の所定位置に、上記パターン領域７に予め設定された基準位置Ｓ１と後述するフォトマスク１７に予め設定された基準位置Ｓ２（図３参照）との位置ずれを補正してアライメントをとるために一つ形成された細長状のアライメントマーク１０と、を有するものであり、アライメントマーク１０が形成された側を先頭にして搬送されるようになっている。さらに、矢印Ａ方向に直交する方向には、上記アライメントマーク１０に並べて、アライメント確認マーク１１が形成されている。このアライメント確認マーク１１は、上記アライメントマーク１０によるアライメント状態を確認するためのものであり、上記アライメントマーク１０よりも短い長さを有して上記パターン領域７に複数配置されたブラックマトリクス８のピクセル９と同じ間隔で、上記アライメントマーク１０の左右に同数だけ形成されている。
【００２８】
なお、上記アライメントマーク１０は、露光開始マーカとしても使用される。即ち、後述する撮像手段３で上記アライメントマーク１０を検知すると後述する露光光学系２の露光光源１２が点灯されて露光が開始される。
【００２９】
上記搬送手段１のステージ５の上方には、露光光学系２が設けられている。この露光光学系２は、カラーフィルタ基板６上に露光光を照射し、所定の露光パターンを形成するものであり、露光光源１２と、マスクステージ１３と、投影レンズ１４と、ダイクロイックミラー１５とを備えている。
【００３０】
上記露光光源１２は、紫外線を含む露光光を発射するものであり、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプや紫外線発光レーザ等である。上記マスクステージ１３は、上記露光光源１２から発射される露光光の照射方向前方に設けられており、図３に示すように例えば透明なガラス基板上に形成された不透明膜に搬送方向（矢印Ａ方向）と直交する方向に所定ピッチで、光を透過する矩形状のマスクパターン１６を形成したフォトマスク１７を搬送手段１のカラーフィルタ基板６の載置面１ａと平行に載置できるようになっている。上記投影レンズ１４は上記搬送手段１のステージ５とマスクステージ１３との間に設けられており、上記フォトマスク１７に形成されたマスクパターン１６を上記カラーフィルタ基板６上に投影するものである。上記ダイクロイックミラー１５は上記マスクステージ１３と投影レンズ１４との間に設けられており、紫外線を透過し、可視光を反射するようになっていてカラーフィルタ基板６からの可視光を反射し、上記露光光学系２の光路と異なる方向に偏向して撮像手段３で受光可能とするものである。
【００３１】
上記マスクステージ１３と投影レンズ１４との間にて、上記露光光学系２の光路Ｌ１と異なる方向にて光路Ｌ１と交差する方向に偏向された光路Ｌ２上には、撮像手段３が設けられている。この撮像手段３は、露光光学系２による露光位置と近接した位置を撮像位置として、図２に示すカラーフィルタ基板６のブラックマトリクス８のピクセル９とアライメントマーク１０とを撮像するものであり、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内にて、図３に矢印Ａで示す搬送方向に直交する方向に一直線状に並べて多数の受光素子１８を配設し、アライメント機構１９によって、上記露光光学系２と一体となって、搬送手段１の載置面１ａに平行な方向にて、矢印Ａで示す搬送方向と直交する矢印Ｂ又はＣ方向に移動可能となっている他、フォトマスク１７の中心を中心軸として回転可能となっている。そして、図１に示すように、搬送手段１のステージ５の下方に配設された可視光を照射する照明光源２０によって、カラーフィルタ基板６が背面から照明されて該カラーフィルタ基板６上に形成されたブラックマトリクス８のピクセル９が鮮明に撮像できるようになっている。なお、上記照明光源２０の可視光に紫外線成分が含まれる場合には、照明光源２０の前面に紫外線カットフィルターを備えてカラーフィルタ基板６に塗布されたカラーレジストが露光されるのを防止するとよい。
【００３２】
上記搬送手段１と、露光光源１２と、撮像手段３と、アライメント機構１９と、照明光源２０とには、制御手段４が接続されている。この制御手段４は、撮像手段３により取得された上記アライメントマーク１０の検出出力に基づいて上記カラーフィルタ基板６上の基準位置Ｓ１（図２参照）と上記フォトマスク１７の基準位置Ｓ２（図３参照）との位置ずれを算出し、アライメント機構１９を駆動して該位置ずれを補正するように露光光学系２と撮像手段３とを、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内にて搬送方向に直交する方向へ移動及びフォトマスク１７の中心を中心軸として回転させるものであり、具体的には、図５（ａ）に示すように上記フォトマスク１７の基準位置Ｓ２と所定の位置関係を有して上記撮像手段３の受光素子１８に予め設定された基準受光素子１８ｓと、上記カラーフィルタ基板６のアライメントマーク１０を検出した受光素子１８ｎとのずれ量を算出して、該ずれ量がゼロとなるようにアライメント機構１９を駆動して撮像手段３と露光光学系２のフォトマスク１７とを一体的に移動するようになっている。そして、露光光源駆動部２１と、アライメント機構コントローラ２２と、画像処理部２３と、搬送手段コントローラ２４と、照明光源駆動部２５と、記憶部２６と、演算部２７と、制御部２８とを備えている。
【００３３】
ここで、上記露光光源駆動部２１は、露光光源１２を点灯駆動するものである。また、上記アライメント機構コントローラ２２は、アレイメント機構１３を駆動制御するものである。さらに、上記画像処理部２３は、撮像手段３で取得された画像を処理して画像データを作成すると共に該画像データと記憶部２６に保存されたルックアップテーブル（以下、「ＬＵＴ」と記載する）とを比較して、上記カラーフィルタ基板６のパターン領域７の基準位置Ｓ１を検出するものである。さらにまた、上記搬送手段コントローラ２４は、搬送手段１のステージ５を所定の方向に所定の速度で移動させるものである。また、上記照明光源駆動部２５は、照明光源２０を点灯駆動するものである。さらに、上記記憶部２６は、例えば、カラーフィルタ基板６上の基準位置Ｓ１を検出するためのＬＵＴや撮像手段３の基準受光素子１８ｓのセル番号等を記憶しておくものである。さらにまた、演算部２７は、フォトマスク１７の基準位置Ｓ２と所定の位置関係を有して撮像手段３に予め設定された基準受光素子１８ｓと上記カラーフィルタ基板６のアライメントマーク１０を検出した受光素子１８ｎとのずれ量等を算出するものである。そして、制御部２８は、上記各部を適切に駆動制御するものである。
【００３４】
次に、このように構成された第１の実施形態の露光装置の動作について説明する。
先ず、図示省略の起動スイッチが投入されると、制御手段４が起動して照明光源駆動部２５により照明光源２０が点灯され、撮像手段３が撮像を開始する。また、搬送手段１は、ステージ５上の所定位置にカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板６を載置して待機状態となっている。次に、図示省略の露光開始スイッチが投入されると、搬送手段１のステージ５が搬送手段コントローラ２４に制御されて矢印Ａ方向に所定の速度で移動を開始する。
【００３５】
ここで、図４は、アライメントマーク１０の形成されていない通常のカラーフィルタ基板６に対する露光パターンの露光ずれを示す説明図である。同図に示すように、カラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ１がブラックマトリクス８の左端ピクセル９ａの左上端隅部に設定されている場合に、制御手段４は、撮像手段３により取得された画像の画像データと記憶部２６から読み出したＬＵＴとを画像処理部２３で比較し、両者が一致したときピクセル９の左上端隅部を基準位置Ｓ１と判定する。この場合、露光光学系２のフォトマスク１７が矢印Ｂ方向にずれているとき、制御手段４は、例えば左端ピクセル９ａの右隣のピクセル９ｂの左上端隅部を基準位置Ｓ１と誤認し、フォトマスク１７の基準位置Ｓ２と所定の位置関係を有して撮像手段３に予め設定された基準受光素子１８ｓを上記ピクセル９ｂの左上端隅部に合わせるようにアライメント機構１９を制御してしまうおそれがある。このため、同図に示すように、ストライプ状の露光パターン２９が目標位置からずれた位置に形成されてしまうおそれがある。
【００３６】
一方、本発明の露光装置において使用されるカラーフィルタ基板６は、図２に示すように、ブラックマトリクス８が形成されたパターン領域７の一端部の所定位置に、矢印Ａ方向に延びる細長状のアライメントマーク１０が一つ形成されており、該アライメントマーク１０が形成された側を先頭にして搬送されるようになっているので、図５（ａ）に示すように、先ず、撮像手段３によって上記アライメントマーク１０が撮像される。これにより、露光光源駆動部２１が駆動されて露光光源１２が点灯され、露光が開始される。
【００３７】
同時に、制御部２８では、アライメントマーク１０の例えば左側縁部を検知した受光素子１８ｎのセル番号が予め記憶部２６に記憶された基準受光素子１８ｓのセル番号と比較される。そして、そのずれ量が演算部２７で算出され、該ずれ量がゼロとなるようにアライメント機構１９がアライメント機構コントローラ２２によって駆動制御され、搬送手段１の載置面１ａに平行な面内にて、同図（ｂ）に示す矢印Ｃ方向に露光光学系２のフォトマスク１７と撮像手段３とが一体的に移動される。これにより、上記アライメントマーク１０が撮像手段３の基準受光素子１８ｓに位置付けられると、上記アライメントマーク１０と所定の位置関係を有するカラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ１と、上記基準受光素子１８ｓと所定の位置関係を有するフォトマスク１７の基準位置Ｓ２とが合致して、図２に斜線を付して示すように、目標位置にストライプ状の露光パターン２９を形成することが可能となる。
【００３８】
次に、図５（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板６のブラックマトリクス８の各ピクセル９に対応して設けられ、アライメントマーク１０よりも長さの短いアライメント確認マーク１１が撮像手段３によって撮像される。そして、制御手段４は、アライメントマーク１０と該アライメントマーク１０の左右に配列された同数のアライメント確認マーク１１とを検出した各受光素子１８のセル番号を読み取ってそれらの平均値を演算部２７で演算し、その結果を基準受光素子１８ｓのセル番号と比較する。このとき、両者が一致している場合には、アライメントが正確に行なわれたと判断する。なお、アライメント確認マーク１１のピッチを撮像手段３により取得した画像データから読み取り、予め記憶部２６に記憶された設計値と比較することにより、そのずれ量から投影レンズ１４の倍率の正確さやカラーフィルタ基板６の膨張又は収縮を確認することができる。また、アライメント確認マーク１１による確認で異常が検出された場合には、露光動作を停止すると共に異常を警報するようにしてもよい。
【００３９】
その後は、撮像手段３により取得された画像データに基づいてアライメント機構１９の移動が制御され、カラーフィルタ基板６の基準位置Ｓ１である左端ピクセル９ａの左上端隅部にフォトマスク１７の基準位置Ｓ２が位置づけられて露光が進む。また、搬送中にカラーフィルタ基板６に回転ずれが生じた場合には、上記アライメント機構１９が制御されて、フォトマスク１７の中心を中心軸として露光光学系２と撮像手段３とを一体的に回転（θ）して回転ずれを調整する。これにより、フォトマスク１７は、カラーフィルタ基板６が左右に振れながら搬送されても、それに追従して動き、図２に示すように、目標とする位置に露光パターン２９が精度よく形成されることになる。
【００４０】
なお、上記実施形態において、アライメントマーク１０及びアライメント確認マーク１１は、図２に示すように、矢印Ａ方向に細長状に延びた形状に形成されたものであったが、これに限られず、撮像手段３の受光素子１８により検出可能であれば矩形状又は線状であってもよく、又はブラックマトリクス８のピクセル９の幅と略等しい幅に形成されてもよい。また、以上の説明においては、アライメントマーク１０が一つの場合について述べたが、これに限られず、所定間隔に複数形成されてもよい。
【００４１】
また、上記実施形態においては、撮像手段３が露光光学系２による露光位置と近接した位置を撮像するように配設された場合について説明したが、これに限られず、撮像手段３が露光光学系２による露光位置の搬送方向手前側を撮像するように配設されたものであってもよい。
【００４２】
さらに、上記実施形態においては、露光光学系２に投影レンズ１４が設けられている場合について説明したが、これに限られず、投影レンズ１４のない近接露光の装置にも適用することができる。
【００４３】
そして、以上の説明においては、被露光体がカラーフィルタ基板６である場合について述べたが、これに限られず、被露光体は、液晶表示パネルのＴＦＴ基板であってもよく、又は半導体基板であってもよい。この場合、被露光体が不透明基板である場合には、照明光源２０は、搬送手段１の上方に配設されて落射照明とするとよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明による露光装置の実施形態を示す概念図である。
【図２】上記露光装置において使用されるカラーフィルタ基板を示す平面図である。
【図３】上記第１実施形態において、フォトマスクによる露光位置と撮像手段による撮像位置との関係を示す説明図である。
【図４】通常のカラーフィルタ基板を使用した場合の露光位置ずれを示す説明図である。
【図５】上記カラーフィルタ基板に対するフォトマスクのアライメント調整を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４５】
１…搬送手段
１ａ…載置面
２…露光光学系
３…撮像手段
４…制御手段
５…ステージ
６…カラーフィルタ基板（被露光体）
７…パターン領域
８…ブラックマトリクス
９，９ａ，９ｂ…ピクセル（機能パターン）
１０…アライメントマーク
１１…アライメント確認マーク
１２…露光光源
１３…マスクステージ
１４…投影レンズ
１６，１６ａ…マスクパターン
１７…フォトマスク
１８，１８ｎ，１８ｓ…受光素子
２９…露光パターン
Ａ…搬送方向
Ｓ１…カラーフィルタ基板上の基準位置
Ｓ２…フォトマスクの基準位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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