(57)【要約】【課題】  液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することを目的とする。【解決手段】  一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、処理基板ＳＵＢが載置されるステージ１３１と、ステージ１３１上の処理基板ＳＵＢに対向して配置され処理基板ＳＵＢ上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッド１３２と、ステージ１３１上に載置された処理基板ＳＵＢと複数のヘッド１３２とが対向した状態でヘッド１３２のそれぞれが処理基板ＳＵＢの異なる領域に液滴を塗布するようにステージ１３１及びヘッド１３２の少なくとも一方を移動させる移動機構１３３と、処理基板ＳＵＢとヘッド１３２との間に閉空間Ｓを形成するためのカバー１３４と、を備えたことを特徴とする。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、
処理基板が載置されるステージと、
前記ステージ上の処理基板に対向して配置され、処理基板上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッドと、
前記ステージ上に載置された処理基板と複数の前記ヘッドとが対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成するためのカバーと、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
さらに、処理基板と前記ヘッドとの間に形成された閉空間内に、前記液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入する蒸気導入機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記カバーは、開閉可能に構成されたことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項４】
画素毎に第１電極を形成する工程と、
前記第１電極を形成済みの処理基板をステージ上に載置する工程と、
前記ステージ上に載置された処理基板と、前記第１電極上に前記光活性層を形成するための液滴を塗布する複数のヘッドと、が対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させて光活性層を形成する工程と、
各画素の前記光活性層を覆うように第２電極を形成する工程と、を備え、
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成した状態で液滴を塗布することを特徴とする塗布方法。
【請求項５】
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に形成された閉空間内に、前記液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入した状態で液滴を塗布することを特徴とする請求項４に記載の塗布方法。
【請求項６】
前記光活性層を形成する工程では、液滴を塗布するときに閉空間を形成するようにカバーを閉鎖し、液滴の塗布が終了したときにカバーを開放して処理基板の交換を可能とすることを特徴とする請求項４に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、塗布装置及び塗布方法に係り、特に、自発光性素子を構成する一対の電極間に保持された光活性層を形成するための液滴を塗布するインクジェット方式などの選択塗布方式を採用した塗布装置、及び、この塗布装置に適用可能な塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が注目されている。この有機ＥＬ表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
【０００３】
これらの特徴から、有機ＥＬ表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機ＥＬ表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む光活性層を挟持した有機ＥＬ素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。光活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などの選択塗布方式により形成される。
【０００４】
このような選択塗布方式を採用した場合、先に塗布した液滴と、後に塗布した液滴とでは、液滴が大気雰囲気に触れる条件が異なり、液滴の乾燥時間に差が生ずることがある。このような乾燥時間の差は、光活性層の形状の差異（乾燥ムラ）を生じさせ、表示ムラを生ずる原因となる。
【０００５】
このような課題に対して、液滴を塗布する以前に予め溶剤を塗布する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−０３１０７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載の技術によれば、４組のインクジェット機構を備え、１組のインクジェット機構は溶剤を吐出し、他の３組のインクジェット機構はそれぞれ赤、緑、青のインク（液滴）を吐出するように構成されている。このような構成によれば、これら４組のインクジェット機構が基板全体をスキャンするため、ステージのストロークが大きくなってしまう。このため、液滴が塗布された後にインクジェット機構から大きく離間した画素では、大気雰囲気に触れ、液滴の乾燥が促進されてしまう。したがって、液滴の乾燥時間に差が生ずる課題に十分に対処できないおそれがある。
【０００７】
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明の第１の態様による塗布装置は、
一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、
処理基板が載置されるステージと、
前記ステージ上の処理基板に対向して配置され、処理基板上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッドと、
前記ステージ上に載置された処理基板と複数の前記ヘッドとが対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成するためのカバーと、
を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明の第２の態様による塗布方法は、
画素毎に第１電極を形成する工程と、
前記第１電極を形成済みの処理基板をステージ上に載置する工程と、
前記ステージ上に載置された処理基板と、前記第１電極上に前記光活性層を形成するための液滴を塗布する複数のヘッドと、が対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させて光活性層を形成する工程と、
各画素の前記光活性層を覆うように第２電極を形成する工程と、を備え、
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成した状態で液滴を塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することができる。これにより、表示品位の良好な表示装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を例にして説明する。
【００１２】
有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、画像を表示する表示エリア１０２を有するアレイ基板１００を備えている。表示エリア１０２は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。
【００１３】
また、アレイ基板１００は、画素ＰＸの行方向（すなわち図１のＹ方向）に沿って配置された複数の走査線Ｙｍ（ｍ＝１、２、…）と、走査線Ｙｍと略直交する列方向（すなわち図１のＸ方向）に沿って配置された複数の信号線Ｘｎ（ｎ＝１、２、…）と、有機ＥＬ素子４０の第１電極６０側に電源を供給するための電源供給線Ｐと、を備えている。
【００１４】
さらに、アレイ基板１００は、表示エリア１０２の外周に沿った周辺エリア１０４に、走査線Ｙｍのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路１０７と、信号線Ｘｎのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路１０８と、を備えている。すべての走査線Ｙｍは、走査線駆動回路１０７に接続されている。また、すべての信号線Ｘｎは、信号線駆動回路１０８に接続されている。
【００１５】
各画素ＰＸ（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、画素回路及び画素回路によって駆動制御される表示素子を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ１０と、画素スイッチ１０を介して供給される映像信号に基づき表示素子へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ２０と、駆動トランジスタ２０のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子３０とを有している。これら画素スイッチ１０及び駆動トランジスタ２０は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
【００１６】
表示素子は、自発光素子である有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）によって構成されている。すなわち、赤色画素ＰＸＲは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢは、主に青色波長に対応した光を出射する有機ＥＬ素子４０Ｂを備えている。
【００１７】
各種有機ＥＬ素子４０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）は、基本的に同一構成であり、例えば、図２に示すように、画素毎ＰＸに独立島状に形成された第１電極６０と、第１電極６０に対向して配置され全画素ＰＸに共通に形成された第２電極６６と、これら第１電極６０と第２電極６６との間に保持された光活性層６４と、によって構成されている。
【００１８】
画素スイッチ１０は、ここでは走査線Ｙｍと信号線Ｘｎとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ１０のゲート電極は走査線Ｙｍに接続され、ソース電極は信号線Ｘｎに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子３０を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ２０のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ２０のソース電極は蓄積容量素子３０を構成する他方の電極及び電源供給線Ｐに接続され、ドレイン電極は有機ＥＬ素子４０の第１電極６０に接続されている。電源供給線Ｐは、表示エリア１０２の周囲に配置された図示しない第１電極電源線に接続されている。有機ＥＬ素子４０の第２電極６６は、表示エリア１０２の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第２電極電源線に接続されている。
【００１９】
図２に示すように、アレイ基板１００は、配線基板１２０上に配置された複数の有機ＥＬ素子４０を備えている。なお、配線基板１２０は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ１０、駆動トランジスタ２０、蓄積容量素子３０、走査線駆動回路１０７、信号線駆動回路１０８、各種配線（走査線、信号線、電源供給線等）などを備えて構成されたものとする。
【００２０】
有機ＥＬ素子４０を構成する第１電極６０は、配線基板１２０表面の絶縁膜（例えば平坦化層）上に配置され、陽極として機能する。
【００２１】
光活性層６４は、少なくとも発光層を含んでいる。この光活性層６４は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各色画素に形成される発光層と積層した２層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。光活性層６２においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色画素ＰＸＲの有機ＥＬ素子４０Ｒは、主に赤色に発光する光活性層６４Ｒを備えている。緑色画素ＰＸＧの有機ＥＬ素子４０Ｇは、主に緑色に発光する光活性層６４Ｇを備えている。青色画素ＰＸＢの有機ＥＬ素子４０Ｂは、主に青色に発光する光活性層６４Ｂを備えている。
【００２２】
第２電極６６は、光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）上に各有機ＥＬ素子４０に共通に配置される。この第２電極６６は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
【００２３】
次に、光活性層６４を形成するための液滴を塗布するための塗布装置について説明する。ここでは、インクジェット方式により液滴を選択的に塗布する塗布装置について説明する。例えば、図３に示すように、塗布装置１３０は、処理基板（すなわち第１電極６０を形成済みの配線基板１２０）ＳＵＢが載置されるステージ１３１と、ステージ１３１上方において処理基板ＳＵＢに対向して配置された複数のヘッド１３２と、ステージ１３１及びヘッド１３２の少なくとも一方を移動させる移動機構１３３と、を備えている。
【００２４】
複数のヘッド１３２は、処理基板ＳＵＢ上に向けてそれぞれ液滴を塗布する。各ヘッド１３２は、光活性層６４を形成するための液滴を吐出するノズルを備えている。このような構成のヘッド１３２は、例えば各ノズルに対応して配置された圧電素子などを備えて構成されており、この圧電素子に印加する電圧を制御することにより液滴の吐出量や吐出タイミングなどを制御している。
【００２５】
これらの複数のヘッド１３２は、マトリクス状に配置されている。すなわち、処理基板ＳＵＢにおいて、表示エリア１０２に対応した有効領域（塗布領域）Ａは、複数の領域Ａ１、Ａ２…によって構成されている。塗布装置１３０は、有効領域Ａを構成する領域数に対応する数のヘッド１３２Ａ、１３２Ｂ…を備えている。図４に示した例では、有効領域Ａは、５行５列の２５領域によって構成されており、これに対応して、塗布装置１３０は、マトリクス状に配置された２５個のヘッドを備えている。各ヘッドは、それぞれの領域に対応して設けられている。つまり、第１ヘッド１３２Ａは、第１領域Ａ１に対応して設けられ、第２ヘッド１３２Ｂは、第２領域Ａ２に対応して設けられ、同様にして、第２５ヘッド１３２Ｙは、第２５領域Ａ２５に対応して設けられている。
【００２６】
移動機構１３３は、ステージ１３１上に載置された処理基板ＳＵＢと複数のヘッド１３２とが対向した状態で、ヘッド１３２のそれぞれが処理基板ＳＵＢの異なる領域に液滴を塗布するように相対移動させる機構である。この実施の形態では、移動機構１３３は、ステージ１３１を移動させる。すなわち、移動機構１３３は、ステージ１３１の下方において互いにほぼ直交するように配置され、Ｘ方向に延在するレール１３３Ｘ及びＹ方向に延在するレール１３３Ｙを備えている。移動機構１３３は、ステージ１３１をレール１３３Ｘに沿ってＸ方向に移動可能であるとともに、レール１３３Ｙに沿ってＹ方向に移動可能である。
【００２７】
このような構成により、ステージ１３１に載置された処理基板ＳＵＢが、ヘッド１３２に対して、互いに略直交するＸ方向及びＹ方向の双方に相対移動可能である。このようなステージ１３１の移動に伴い、第１ヘッド１３２Ａは、第１領域Ａ１の各画素に液滴を塗布し、第２ヘッド１３２Ｂは、第２領域Ａ２の各画素に液滴を塗布し、同様にして、第２５ヘッド１３２Ｙは、第２５領域Ａ２５の各画素に液滴を塗布する。
【００２８】
このように、処理基板ＳＵＢ上の有効領域Ａを複数のヘッドで分担しながら同時に塗布するため、処理基板ＳＵＢ１枚辺りの塗布に要する時間を短縮することが可能となる。また、各ヘッドが塗布する領域の面積は有効領域に比べて小さいため、有効領域を１つのヘッドで塗布する場合と比較して、移動機構１３３によるステージ１３１のストロークを低減することが可能となる。図４に示した例では、ステージ１３１の移動範囲は、図中の矢印Ｍｘ及びＭｙで示した通りである。
【００２９】
また、上述した塗布装置１３０は、図３に示すように、処理基板ＳＵＢとヘッド１３２との間に閉空間Ｓを形成するためのカバー１３４を備えている。このカバー１３４は、例えば、ステージ１３１に対向して配置された四角形状の天板１３４Ａと、この天板１３４Ａの四方に連結された側板１３４Ｂとで構成されている。天板１３４Ａは、ヘッド１３２の少なくともノズルをステージ１３１に向けて配置可能とするようにヘッド１３２の一部を嵌合可能に形成されている。４つの側板１３４Ｂは、それぞれ天板１３４Ａからステージ１３１に向かって延在し、しかも、ステージ１３１の裏側（処理基板ＳＵＢが載置される面とは反対側）まで回り込んでいる。
【００３０】
なお、これらの側板１３４Ｂは、ステージ１３１の移動範囲及び移動機構１３３に干渉しないように設けられている。この実施の形態では、処理基板ＳＵＢ上の有効領域Ａを複数のヘッドで分担して塗布する構成としたため、ステージ１３１の移動範囲は十分に低減されており、移動機構１３３も小型化できる。このため、ステージ１３１を囲むカバー１３４の寸法を小さくすることができる。したがって、塗布装置全体の大きさも小型化が可能となる。
【００３１】
このような構成のカバー１３４により、閉空間Ｓが形成される。つまり、ステージ１３１上の処理基板ＳＵＢは、カバー１３４によって囲まれた閉空間Ｓに位置している。そして、処理基板ＳＵＢに対して閉空間Ｓ内でヘッド１３２から液滴を塗布することが可能となる。このため、閉空間Ｓ内の蒸気圧を制御することにより、塗布した液滴から、液滴の溶媒の蒸発つまり液滴の乾燥を抑制することが可能となる。例えば、閉空間Ｓ内に、液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気が充満していると、液滴からの溶媒の蒸発が抑制される。
【００３２】
上述したように、複数のヘッドで分担して塗布することによる塗布時間の短縮に加えて、塗布時間内での液滴からの溶媒の蒸発を抑制したことにより、閉空間Ｓ内に処理基板ＳＵＢが配置されている間は、塗布された液滴の乾燥を抑制することが可能となる。このため、後の乾燥工程でほぼ同時に液滴を乾燥することが可能となり、乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能となる。
【００３３】
なお、閉空間Ｓ内の蒸気圧を制御するために、塗布装置１３０は、図３に示したように、閉空間Ｓ内に液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入する蒸気導入機構１３５を備えていても良い。この蒸気導入機構１３５は、例えば、有機系材料の蒸気を発生する蒸気発生源１３５Ａと、この蒸気発生源１３５Ａと閉空間Ｓとをつなぐ導入路１３５Ｂとで構成されている。これにより、閉空間Ｓの内部の蒸気圧は、液滴の乾燥を抑制するように制御可能となる。
【００３４】
また、カバー１３４の側板１３４Ｂは、図３に示すように、開閉可能に構成されている。すなわち、側板１３４Ｂは、処理基板ＳＵＢに液滴を塗布する工程では、閉鎖し、ステージ１３１の裏面側まで囲むように配置される。これに対して、処理基板ＳＵＢをステージ１３１上に載置する際、及び、液滴の塗布が終了した処理基板ＳＵＢをステージ１３１から取り出す際には、側板１３４Ｂは、開放され、ステージ１３１から離間する。
【００３５】
また、カバー１３４は、ヘッド１３２を伴ってＺ方向すなわちステージ１３１の法線方向に移動可能に構成されている。すなわち、側板１３４Ｂが開放している状態において、カバー１３４の全体がステージ１３１から離間する方向に移動することにより、処理基板ＳＵＢの交換を容易に行うことが可能となる。
【００３６】
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、光活性層６４は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
【００３７】
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦４８０画素、横６４０×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）画素の合計９２万画素からなる表示エリア１０２を有した配線基板１２０を用意する。そして、図５Ａに示すように、配線基板１２０上の表示エリア１０２において画素毎に第１電極６０を形成する。この第１電極６０の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第１電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
【００３８】
続いて、図５Ｂに示すように、表示エリア１０２において第１電極６０を露出する隔壁７０を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、２２０℃で３０分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア１０２において互いに隣接する異なる色の画素列の間を分離する隔壁７０が形成される。
【００３９】
続いて、各画素列の画素毎に第１電極６０上に対応する色に発光する発光層を含む光活性層６４を形成する。すなわち、図５Ｃに示すように、塗布装置１３０において、カバー１３４を開放し、隔壁７０を備えた配線基板１２０を塗布装置１３０のステージ１３１上に載置した後、ヘッド１３２を配線基板１２０に対向配置し、カバー１３４を閉鎖する。これにより、ステージ１３１上の配線基板１２０とヘッド１３２との間に閉空間Ｓが形成される。このとき、配線基板１２０において画素列の延びる方向を塗布装置１３０におけるＸ方向に対応させるとともに、画素列の延びる方向と直交する方向を塗布装置１３０におけるＹ方向に対応させ、さらに、マトリクス状に配置された各ヘッド１３２がそれぞれ液滴を塗布する領域に対応するように配線基板１２０を位置決めする。
【００４０】
その後、図５Ｄに示すように、閉空間Ｓ内に、光活性層６４を形成するための液滴６４Ｌの溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入した状態で、各ヘッド１３２から対応する領域の各画素に発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴６４Ｌを塗布する。この液滴６４Ｌの塗布工程は、移動機構１３３により、各ヘッド１３２を対応する領域の全体にわたって相対的にスキャンしながら行う。
【００４１】
その後、図５Ｅに示すように、液滴の塗布が終了したのに基づき、カバー１３４を開放し、ヘッド１３２とともにカバー１３２を配線基板１２０から離間する方向に退避させた後、配線基板１２０を取り出し、全画素の液滴を一斉に乾燥させる。これにより、赤色画素からなる赤色画素列のそれぞれの第１電極６０上に光活性層６４Ｒが形成される。同様に、緑色画素からなる緑色画素列のそれぞれの第１電極６０上に光活性層６４Ｇが形成され、また、青色画素からなる青色画素列のそれぞれの第１電極６０上に光活性層６４Ｂが形成される。
【００４２】
続いて、図５Ｆに示すように、表示エリア１０２において各色画素の光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を覆うように第２電極６６を形成する。この第２電極６６は、先に形成された光活性層６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
【００４３】
一方で、アレイ基板１００上の表示エリア１０２を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板１００と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機ＥＬ素子４０は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
【００４４】
上述した製造方法によれば、表示エリア全体の各画素に短時間で液滴を塗布することが可能であるとともに、塗布された液滴をほぼ一斉に乾燥させることが可能である。このため、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することができた。また、このようにして製造した表示装置によれば、乾燥ムラに起因した表示ムラは確認されず、良好な表示品位が得られた。
【００４５】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、この発明の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２は、図１に示したアレイ基板の表示エリアをＹ方向で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、光活性層を形成する際に適用可能な塗布装置の構成を概略的に示す図である。
【図４】図４は、図３に示した塗布装置に適用可能なヘッドの構成及びステージの移動範囲を説明するための図である。
【図５Ａ】図５Ａは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第１電極を形成する工程を示す図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、隔壁を形成する工程を示す図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、光活性層を形成する工程のうちの塗布装置内に配線基板を配置する工程を示す図である。
【図５Ｄ】図５Ｄは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、光活性層を形成する工程のうちの液滴を塗布する工程を示す図である。
【図５Ｅ】図５Ｅは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、光活性層を形成する工程のうちの液滴を乾燥する工程を示す図である。
【図５Ｆ】図５Ｆは、有機ＥＬ素子を形成するための製造工程を説明するための図であり、第２電極を形成する工程を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１…有機ＥＬ表示装置、１０…画素スイッチ、２０…駆動トランジスタ、３０…蓄積容量素子、４０…有機ＥＬ素子、６０…第１電極、６４（Ｒ、Ｇ、Ｂ）…光活性層、６４Ｌ…液滴、６６…第２電極、７０…隔壁、１００…アレイ基板、１０２…表示エリア、１２０…配線基板、ＰＸ…画素、１３０…塗布装置、１３２…ヘッド、１３３…移動機構、１３４…カバー、１３５…蒸気導入機構、ＳＵＢ…処理基板
【図１】
2007103302.tif 000003
【図２】
2007103302.tif 000004
【図３】
2007103302.tif 000005
【図４】
2007103302.tif 000006
【図５Ａ】
2007103302.tif 000007
【図５Ｂ】
2007103302.tif 000008
【図５Ｃ】
2007103302.tif 000009
【図５Ｄ】
2007103302.tif 000010
【図５Ｅ】
2007103302.tif 000011
【図５Ｆ】
2007103302.tif 000012