(57)【要約】【課題】  支持体上に凹凸を有する塗布膜を歩留まりが良く、安定して形成可能な塗布方法を提供すること。【解決手段】  表面に凹凸を有するバックアップローラに保持され連続走行している支持体に、塗布機から前記バックアップローラ上で塗布液を供給することを特徴とする塗布方法。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に凹凸を有するバックアップローラに保持され連続走行している支持体に、塗布機から前記バックアップローラ上で塗布液を供給することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記バックアップローラは中空部分と、前記中空部分と前記バックアップローラの表面の凹部とを連通する連通孔とを有し、
前記中空部分が排気装置と接続されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項３】
前記バックアップローラは多孔質性であり、かつ、中空部分を有し、
前記中空部分が排気装置と接続されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【請求項４】
前記塗布機がエクストルージョン型ダイヘッドであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続走行する支持体に凹凸を有する塗布膜を形成する塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子情報に基づいて、静止画像や動画を表示するための表示装置として、ＣＲＴ表示装置、液晶表示装置、プラズマ表示装置等の様々な表示装置が用いられている。
【０００３】
例えば、液晶表示装置で画像を眺めると、画面に室内の照明装置や太陽が写って見えることがあり、画像の視認性を著しく損なってしまう。
【０００４】
このように、画面に室内の照明装置や、太陽が写って見えるのを防止する目的として防眩性フイルムが用いられているが、この防眩性フイルムの製造方法について様々な提案がされている。
【０００５】
その１つとして、均一に塗布された塗布膜に凹凸を持った版を押し当ててエンボス加工を行うことにより、微細な凹凸を有する塗布膜を備えた防眩性フイルムを得る方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
又、均一に塗布された塗布膜の表面に、微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして、塗膜硬化後に賦型フィルムを剥離して防眩性フイルムを得る方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００７】
更に、所望の形状の逆型形状の凹凸が形成されたエンボスローラを使用して、エンボスローラに塗布液を供給して支持体に転写する方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９２４０号公報
【特許文献２】特開平６−１６８５１号公報
【特許文献３】特開２００２−１８９１０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載された方法では、エンボス版が塗布膜と接触し回転している間に、エンボス板の凹部に塗布膜の一部が付着してしまい凹凸高さが変化する恐れがある。また、長時間運転時には凹部に付着した塗布膜が剥がれて異物となり、フイルム上に転写して故障の原因となる確率が増加する。更に、経時的に見て、エンボス加工した凹凸が戻ってしまう恐れがある。
【０００９】
また、特許文献２に記載された方法では、第一に賦型フィルムは剥離後に使用できず廃棄物が多く出てしまう問題がある。第二に塗布膜の厚み変動などにより賦型フィルムを引き剥がす際に塗布膜を破壊する場合がある。
【００１０】
更に、特許文献３に記載された方法では、エンボスローラに塗布液を供給するに際し転写後の残塗布液の影響が懸念される。すなわち、エンボスローラに塗布液が残っていると新たな塗布液を供給する際の故障の原因になるばかりでなく、転写時にスポット状の故障などを発生させる可能性がある。さらに、こうした故障の懸念は時間とともに増加し、長時間安定性に疑問が残る。
【００１１】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、支持体上に凹凸を有する塗布膜を歩留まりが良く、安定して形成可能な塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の目的は、下記の構成により達成することが出来る。
（１）
表面に凹凸を有するバックアップローラに保持され連続走行している支持体に、塗布機から前記バックアップローラ上で塗布液を供給することを特徴とする塗布方法。
（２）
前記バックアップローラは中空部分と、前記中空部分と前記バックアップローラの表面の凹部とを連通する連通孔とを有し、
前記中空部分が排気装置と接続されていることを特徴とする（１）に記載の塗布方法。
（３）
前記バックアップローラは多孔質性であり、かつ、中空部分を有し、
前記中空部分が排気装置と接続されていることを特徴とする（１）に記載の塗布方法。
（４）
前記塗布機がエクストルージョン型ダイヘッドであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の塗布方法。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１の発明によれば、表面に凹凸を有するバックアップローラに保持され連続走行している支持体に、塗布機から前記バックアップローラ上で塗布液を供給することにより、凹凸部の再現性に優れ、故障原因となる異物等の発生がなく、経時的にも凹凸が変化せず安定した塗布膜を得ることが出来る。
【００１４】
請求項２又は３の発明によれば、バックアップローラと支持体との間が負圧となり、支持体がバックアップローラの凹凸に忠実に変形し、再現性に優れた凹凸を有する塗布膜を形成することが出来る。
【００１５】
請求項４の発明によれば、塗布機をエクストルージョン型ダイヘッドにすることにより、塗布機から送り出される塗布液に吐出圧を持たせることが出来るため、バックアップローラ上の支持体の凹凸部に気泡を生じることなく確実に塗布液を送り込むことが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の実施の形態の一例を図面を用いて説明する。
【００１７】
なお、本欄の記載は請求項の技術的範囲や用語の意義を限定するものではない。また、以下の本発明の実施の形態における断定的な説明は、ベストモードを示すものであって、本発明の用語の意義や技術的範囲を限定するものではない。
【００１８】
図１は支持体上の塗布膜に凹凸を形成するための塗布装置１００の概略構成図である。
【００１９】
図１において、１０１はプラスチックフイルム等からなる支持体で、図の矢印方向に回転するバックアップローラ１０２に保持され連続走行している。
【００２０】
バックアップローラ１０２は、焼結金属等の多孔質材料から形成されるとともに、中空部分１０３を有し、中空部分１０３は負圧を発生させる排気装置１０４に接続されている。
【００２１】
バックアップローラ１０２の表面は、図２に詳細を示すように、機械加工、レーザー加工等により、微細な凹凸が形成されている。
【００２２】
かかる構成により、バックアップローラ１０２の表面と支持体１０１との間に負圧が発生し、バックアップローラ１０２の表面の凹凸に倣って支持体１０１が変形する。
【００２３】
図１で、１０５はエクストルージョン型ダイヘッドの塗布機であり、図３に示すように、送液ポンプ１０６から送液された塗布液１０７を図３の紙面に直交する方向に設けたスリット１０８からバックアップローラ１０２に保持された支持体１０１上に吐出するものであり、例えば、特開２００２−１１４０２に開示されたエクストルージョン型ダイヘッドを使用することが出来る。
【００２４】
なお、塗布機１０５としてエクストルージョン型ダイヘッドを用いる場合には、スリット１０８の支持体１０１の搬送方向上流側近傍を負圧にして塗布しても良く、このように負圧にすることにより、液切れの発生がなくより安定した塗布を行うことが可能になる。
【００２５】
同じく、図１で、１０９は塗布機１０５の下流側に設けた乾燥機である。
【００２６】
なお、塗布機１０５としては、本実施の形態のエクストルージョン型ダイヘッド以外にも、塗布液１０６を定量供給出来るものであれば特に限定されるものではなく、例えば、スライド塗布機、カーテン塗布機、ブレード塗布機等を使用することが出来る。
【００２７】
また、支持体１０１としては、製造が容易であること、塗布液との接着性が良好であること、等が好ましい要件として挙げられ、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等を使用することが可能である。
【００２８】
塗布液１０７としては、凹凸が形成可能で、支持体１０１との接着性が良好であれば、溶剤系塗布液、水溶性塗布液のどちらでも良く、例えば、純水にポリビニルアルコールを熔解したものを用いることが出来る。
【００２９】
次に、斯かる構成の塗布装置１００の動作について説明する。
【００３０】
不図示の元巻き装置から繰り出された支持体１０１はバックアップローラ１０２に保持されながら走行する。
【００３１】
バックアップローラ１０２上に設けた塗布機１０５のスリット１０８から吐出した塗布液１０７は、図４（ａ）に示すように、塗布液１０７の吐出圧によりレベリングされ上面がほぼ同一高さになるように形成される。即ち、支持体１０１の凹部では塗布液１０７が多く（厚く）、凸部では少なく（薄く）なるように塗布される。
【００３２】
続いて、支持体１０１はバックアップローラ１０２の保持から解放されるが、これに伴い支持体１０１は、図４（ｂ）に示すように、初期のフラットな状態に戻るが、塗布液１０７の表面は凹凸を保持したままで乾燥機１０９に進入して乾燥され、凹凸を有する塗布膜が形成される。
【００３３】
なお、本実施の形態では、バックアップローラ１０２として多孔質材料を用いたが、これに限定されることなく、例えば、図５に示すように、例えば、金属、樹脂等の表面に凹凸を形成したローラでも良く、または、図６に示すように、金属、樹脂等の表面に凹凸を形成し、凹部と中空部分１０３とを連通する連通孔１０２Ａを形成したローラであっても良い。
【００３４】
或いは、図７に示すように、定量供給可能な塗布機１０５から第１ローラ１１０上に塗布液１０７を供給し、ブレード１１１で塗布液厚さをコントロールした後、第２ローラ１１２上に転写し、転写された塗布液１０７を、表面に凹凸を有するバックアップローラ１０２上の支持体１０１に転写する方法でも良い。また、バックアップローラ１０２に中空部分１０３を設けて排気装置１０４に接続しても良い。
【００３５】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００３６】
バックアップローラ１０２としては、その表面の凹凸が凹部の底から凸部の頂点までの高さは２．５±０．２μｍで凸部の個数が１ｍｍ角あたり４００±５０個であるものを用いた。
【００３７】
支持体１０１としては、厚さ７５μｍ、幅３００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを用いた。
【００３８】
塗布液１０７としては、純水にポリビニルアルコールを固形分濃度として５質量％となるように溶解し、更に、活性剤を添加して濡れ性及び粘性をコントロールしたものを使用した。
【００３９】
塗布液１０７の粘度、濡れ性を測定したところ、粘度はＢ型粘度計で２５℃で１０．７ｍＰａ・ｓ、濡れ性を表す表面張力は３４．５ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
【００４０】
なお、塗布速度は５０ｍ／ｍｉｎとした。
【００４１】
このような条件の下で、以下に述べる何れの実験においても、最初に試し塗りを行い、塗布膜の微細な凹凸が、凹部の最下点から凸部の頂点までの高さが１±０．２μｍで、凸部の個数が１ｍｍ角あたり４００±５０個であることを確認した後、連続３００時間の塗布を行い、塗布した試料の凹凸を調査し、異物の発生回数をカウントした。
【００４２】
比較例としては、図８に示すように、表面が平滑なバックアップローラ１０２上に保持された支持体１０１に塗布機１０５により塗布液１０７を塗布し、乾燥機１０９で乾燥しながら、表面に凹凸を有するエンボスローラ１１３と対向ローラ１１４との間に支持体１０１を通過させ、支持体１０１上に凹凸を有する塗布膜を形成した。
【００４３】
以上の各条件における実験結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
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【００４５】
ここで、表１の実験条件Ｔ−１〜Ｔ−６は以下の通りである。
【００４６】
Ｔ−１；バックアップローラ１０２として図５に示すものを用いた。
【００４７】
Ｔ−２；バックアップローラ１０２として図６に示すものを用い、減圧度を５００Ｐａとした。
【００４８】
Ｔ−３；バックアップローラ１０２として図２に示すものを用い、減圧度を５００Ｐａとした。
【００４９】
Ｔ−４；バックアップローラ１０２として図５に示すものを用い、塗布方法として図７に示す構成ものを用いた。
【００５０】
Ｔ−５；バックアップローラ１０２として図６に示すもの、塗布方法として図７に示す構成のものを用い、減圧度を５００Ｐａとした。
【００５１】
Ｔ−６；バックアップローラ１０２として図２に示すもの、塗布方法として図７に示す構成のものを用い、減圧度を５００Ｐａとした。
【００５２】
表１から明らかなように、Ｔ−１〜Ｔ−６の何れの条件とも、比較例と比べて、１ｍｍ角あたりの凸部個数は変わりはないが、凹部の最下点から凸部の頂点までの高さは１．５倍程度高く形成することが出来た。また、異物の発生個数は明らかに差があり、１／１５〜１／５０に減少しており、両者の間に明らかに差があった。
【００５３】
以上説明したように、表面に凹凸を有するバックアップローラに保持され連続走行している支持体に、塗布機から前記バックアップローラ上で塗布液を供給することにより、凹凸部の再現性に優れ、故障原因となる異物等の発生がなく、経時的にも凹凸が変化せず安定した塗布膜を形成することが出来る。
【００５４】
また、排気装置を用いてバックアップローラ表面を負圧にすることにより、支持体がバックアップローラの凹凸に忠実に変形し、再現性に優れた凹凸を有する塗布膜を形成することが出来る。
【００５５】
更に、塗布機をエクストルージョンン型ダイヘッドにすることにより、塗布機から送り出される塗布液に吐出圧を持たせることが出来るため、バックアップローラ上の支持体の凹凸部に気泡を生じることなく確実に塗布液を送り込むことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】塗布装置１００の概略構成図。
【図２】バックアップローラ１０２の表面拡大断面図。
【図３】エクストルージョンン型ダイヘッドの要部断面図。
【図４】バックアップローラ１０２上の支持体１０１及び塗布液１０７の断面図。
【図５】バックアップローラ１０２の他の実施例（１）。
【図６】バックアップローラ１０２の他の実施例（２）。
【図７】塗布装置の他の実施例。
【図８】比較例としての塗布装置。
【符号の説明】
【００５７】
１０１  支持体
１０２  バックアップローラ
１０２Ａ  連通孔
１０３  中空部分
１０４  排気装置
１０５  塗布機
１０６  送液ポンプ
１０７  塗布液
１０８  スリット
１０９  乾燥機
１１０  第１ローラ
１１１  ブレード
１１２  第２ローラ
１１３  エンボスローラ
１１４  対向ローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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