(57)【要約】      （修正有）【課題】暗室コントラストの低下を最小限に留めつつ反射防止性能が良好であり、且つ簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角が著しく改善されたＩＰＳ型液晶表示装置を提供すること。【解決手段】少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、前記防眩層を有する第１保護膜または第２保護膜のいずれかが、透明支持体上に、少なくとも、防眩層及び該防眩層よりも屈折率の低い低屈折率層が積層された防眩性反射防止フィルムであり、該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜２０％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２に記載の防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が５〜２０％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩層を有する保護膜の内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかが、透明支持体上に、少なくとも、防眩層及び該防眩層よりも屈折率の低い低屈折率層が積層された防眩性反射防止フィルムであり、該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
前記防眩層が、透光性樹脂、透光性微粒子および複数の種類の溶媒を含有する塗布組成物から形成され、該複数の溶媒が、前記透明支持体を溶解しない主溶媒と、水酸基を有する少量溶媒とを含有することを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体であることを特徴とする、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記低屈折率層の屈折率が１．３０以上１．４８以下であり、且つ前記低屈折率層が含フッ素ポリマーを含み、該含フッ素ポリマーがフッ素原子を３０〜８０質量％含むことを特徴とする、請求項３または６に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記低屈折率層が架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主として含有する熱硬化性および／または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする、請求項３または６に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記低屈折率層が、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下である無機微粒子、（Ｃ）酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を、各々少なくとも１種を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の液晶表示装置。
一般式（１）
（Ｒ１０）m−Ｓｉ（Ｘ）4-m
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
【請求項１３】
前記防眩層および前記低屈折率層が、前記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記（Ｂ）の無機微粒子が中空構造を持つことを特徴とする、請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記低屈折率層が、（Ａ）フッ素を含有しないポリマー、（Ｂ）平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下であり、中空構造を持つ無機微粒子を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記光学補償領域が下記式（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかを満たす少なくとも１位相差領域を含むことを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。（Ａ）１００ｎｍ≦Ｒｅ≦４００ｎｍ、且つ−５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍ
（Ｂ）６０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ、且つ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１００ｎｍ
（Ｃ）０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ、且つ−４００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−５０ｎｍ
（Ｄ）３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ、且つ１００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
（ここでＲｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚み方向のレターデーションである。）
【請求項１７】
前記光学補償領域が第１位相差領域と第２位相差領域からなり、
第１位相差領域の面内のレターデーションＲｅが７０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、
第１位相差領域の値Ｎｚが０を超え０．５未満であり、
第２位相差領域の面内のレターデーションＲｅが０ｎｍ〜１００ｎｍであり、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、且つ第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であることを特徴とする請求項
１から請求項１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交していることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に平行であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記光学補償領域が第１位相差領域と第２位相差領域からなり、
第１位相差領域の面内のレターデーションＲｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、
第１位相差領域の値Ｎｚが１．５〜７であり、
第２位相差領域の面内のレターデーションＲｅが０ｎｍ〜５０ｎｍであり、
第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが−８０ｎｍ〜−４００ｎｍであり、且つ第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であることを特徴とする請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に平行であることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交していることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記第２位相差領域が、実質的に垂直配向した棒状液晶化合物を含有する位相差層を有することを特徴とする請求項２０から２２のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記第２偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍであることを特徴とする請求項１から請求項２３
のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
前記第２偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜がセルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムであることを特徴とする請求項１から２４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置及び水平方向に配向したネマチック液晶に横方向の電界を印加することにより表示を行うインプレーンスイッチングモードの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、二枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶分子による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して、液晶性分子がハイブリッド配向したフィルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性分子を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での階調反転が抑えきれないという問題を生じていた。
【０００３】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、ＴＶ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードが従来問題とされていなかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品位の低下の原因として顕在化してきた。
【０００４】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段として、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳモードにおいても検討されている。（例えば特許文献１）
【０００５】
一方、これら液晶表示装置においては、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に防眩性フィルムを配置することにより、液晶ディスプレイの高付加価値化が行われている。
防眩性フィルムは、表面散乱に加えて内部散乱性を有する防眩フィルムが知られている。（例えば特許文献２）
【０００６】
ここでＩＰＳモードの液晶表示装置に防眩性フィルムを適用する場合、液晶表示装置が光学補償を行ったものであっても、外光の反射による像の写りこみの防止効果が十分な防眩性フィルムを適用すると、暗室コントラストが低下する等の問題が顕在化することが本発明者らの検討で明らかとなった。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−３０７２９１号公報
【特許文献２】特許第３５１５４０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記問題に鑑みなされたものであって、暗室コントラストの低下を最小限に留めつつ反射防止性能が良好であり、且つ簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角が著しく改善されたＩＰＳ型液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための手段は以下のとおりである。
（１）少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
（２）少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、前記防眩層を有する第１保護膜または第２保護膜のいずれかが、透明支持体上に、少なくとも、防眩層及び該防眩層よりも屈折率の低い低屈折率層が積層された防眩性反射防止フィルムであり、該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
（３）（１）に記載の防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜２０％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
（４）（２）に記載の防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が５〜２０％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％であることを特徴とする液晶表示装置。
（５）少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩性を有する保護膜の内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％であることを特徴とする液晶表示装置。
【００１０】
（６）少なくとも、第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜、第２保護膜とがこの順序で配置され、黒表示時に該液晶層の液晶分子が前記一対の基板の表面に対して平行に配向する液晶表示装置であって、前記第１保護膜または第２保護膜のいずれかが、透明支持体上に、少なくとも、防眩層及び該防眩層よりも屈折率の低い低屈折率層が積層された防眩性反射防止フィルムであり、該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％であることを特徴とする液晶表示装置。
（７）前記防眩層が、透光性樹脂、透光性微粒子および複数の種類の溶媒を含有する塗布組成物から形成され、該複数の溶媒が、前記透明支持体を溶解しない主溶媒と、水酸基を有する少量溶媒とを含有することを特徴とする、（１）から（６）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（８）前記透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体であることを特徴とする、（７）に記載の液晶表示装置。（９）前記透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体であることを特徴とする、（７）に記載の液晶表示装置。
（１０）前記低屈折率層の屈折率が１．３０以上１．４８以下であり、且つ前記低屈折率層が含フッ素ポリマーを含み、該含フッ素ポリマーがフッ素原子を３０〜８０質量％含む
ことを特徴とする、（３）または（６）に記載の液晶表示装置。
【００１１】
（１１）前記低屈折率層が架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主として含有する熱硬化性および／または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする、（３）または（６）に記載の液晶表示装置。
（１２）前記低屈折率層が、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下である無機微粒子、（Ｃ）酸触媒の存在下で製造されてなる、下記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を、各々少なくとも１種を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、（１０）または（１１）に記載の液晶表示装置。
一般式（１）
（Ｒ１０）m−Ｓｉ（Ｘ）4-m
（式中、Ｒ１０は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘは水酸基または加水分解可能な基を表す。ｍは１〜３の整数を表す。）
（１３）前記防眩層および前記低屈折率層が、前記一般式（１）で表されるオルガノシランの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、（１）から（１２）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（１４）前記（Ｂ）の無機微粒子が中空構造を持つことを特徴とする、（１）から（１３）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（１５）前記低屈折率層が、（Ａ）フッ素を含有しないポリマー、（Ｂ）平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下であり、中空構造を持つ無機微粒子を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成された硬化膜であることを特徴とする、（１）から（１４）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【００１２】
（１６）前記光学補償領域が下記式（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかを満たす少なくとも１位相差領域を含むことを特徴とする（１）から（１５）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（Ａ）１００ｎｍ≦Ｒｅ≦４００ｎｍ、且つ−５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍ
（Ｂ）６０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ、且つ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１００ｎｍ
（Ｃ）０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ、且つ−４００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−５０ｎｍ
（Ｄ）３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ、且つ１００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
（ここでＲｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚み方向のレターデーションである。）
（１７）前記光学補償領域が第１位相差領域と第２位相差領域からなり、
第１位相差領域の面内のレターデーションＲｅが７０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、
第１位相差領域の値Ｎｚが０を超え０．５未満であり、
第２位相差領域の面内のレターデーションＲｅが０ｎｍ〜１００ｎｍであり、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、且つ第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であることを特徴とする（１）から（１６）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（１８）前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交していることを特徴とする（１７）に記載の液晶表示装置。
（１９）前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に平行であることを特徴とする（１７）に記載の液晶表示装置。
（２０）前記光学補償領域が第１位相差領域と第２位相差領域からなり、
第１位相差領域の面内のレターデーションＲｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、
第１位相差領域の値Ｎｚが１．５〜７であり、
第２位相差領域の面内のレターデーションＲｅが０ｎｍ〜５０ｎｍであり、
第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈが−８０ｎｍ〜−４００ｎｍであり、且つ第１偏光膜の透過軸が、黒表示時の液晶分子の遅相軸方向に平行であることを特徴とする（１）から（１６）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【００１３】
（２１）前記第１偏光膜、前記第１位相差領域、前記第２位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に平行であることを特徴とする（２０）に記載の液晶表示装置。
（２２）前記第１偏光膜、前記第２位相差領域、前記第１位相差領域及び前記液晶セルが、この順序で配置され、且つ前記第１位相差領域の遅相軸が、前記第１偏光膜の透過軸に実質的に直交していることを特徴とする（２０）に記載の液晶表示装置。
（２３）前記第２位相差領域が、実質的に垂直配向した棒状液晶化合物を含有する位相差層を有することを特徴とする（２０）から（２２）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（２４）前記第２偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍであることを特徴とする（１）から（２３）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（２５）前記第２偏光膜と前記基板との間に保護膜を有し、該保護膜がセルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムであることを特徴とする（１）から（２４）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、暗室コントラストの低下を最小に抑えつつ、液晶表示面への外光の映り込み・斜めの方位角方向から見た場合に２枚の偏光板の吸収軸が９０度からずれることから生ずる光漏れ、特に４５度の斜め方向からの光漏れを改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下において、本発明の液晶表示装置の一実施形態及びその構成部材について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１６】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。「実質的に平行」、「実質的に直交」、「実質的に垂直」も同様の意味を表す。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率および位相差の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５９０ｎｍでの値である。
【００１７】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１８】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、ある波長λｎｍにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒ
ｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。なお、本明細書において、特に断らない限り、測定波長は５９０ｎｍであり、２５℃、６０％ＲＨにおける測定値とする。
【００１９】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、光学補償領域と特定の光学特性を有する防眩層と、黒表示時に液晶分子が基板に対して平行配向である液晶セルを有する。
より具体的には、本発明の液晶表示装置は、少なくとも第１保護膜と、第１偏光膜と、光学補償領域と、液晶層及び該液晶層を挟持する一対の基板とを有する液晶セルと、第２偏光膜と、第２保護膜がこの順序で配置され、黒表示時に該液晶分子が前記一対の基板の表面に対し平行に配向する液晶表示装置である。更に第１保護膜または第２保護膜のいずれかに少なくとも防眩層が塗設されており、該防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％、あるいは内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の光学補償領域について説明する。本発明の光学補償領域は下記式（Ａ）〜（Ｄ）のいずれかを満たす少なくとも１位相差領域を含むことが好ましい。
（Ａ）１００ｎｍ≦Ｒｅ≦４００ｎｍ、且つ−５０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍ
（Ｂ）６０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ、且つ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦１００ｎｍ
（Ｃ）０ｎｍ≦Ｒｅ≦２０ｎｍ、且つ−４００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦−５０ｎｍ
（Ｄ）３０ｎｍ≦Ｒｅ≦１５０ｎｍ、且つ１００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４００ｎｍ
（ここでＲｅは面内のレターデーション、Ｒｔｈは厚み方向のレターデーションである。）
【００２１】
上記式（Ａ）を満たす位相差領域のＮｚは０．４５〜０．５５であることが好ましく、０．４８〜０．５２であることが特に好ましい。
【００２２】
上記の光学補償領域の中でも以下の第１の実施形態または第２の実施形態で説明する光学補償領域がより好ましく。第２の実施形態が特に好ましい。
【００２３】
＜第１の実施の形態＞
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。図２及び図３は、本発明の液晶表示装置の第一の実施形態の模式図である。
図２に示す液晶表示装置は、偏光膜８、２０と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２と、一対の基板１３、１７及びこれに挟持される液晶層１５からなる液晶セルとを有する。偏光膜８及２０は、それぞれ保護膜７ａと７ｂ及び１９ａと１９ｂによって挟持
されている。
本発明では保護膜７ａは第１保護膜であり、保護膜１９ｂは第２保護膜であり、第１保護膜と第２保護膜のいずれかに防眩層が塗設されている。第１保護膜７ａに防眩層が塗設されている場合は、第１保護膜７ａが視認側になり、第２保護膜１９ｂが背面側になる。また、第２保護膜１９ｂに防眩層が塗設されている場合は、第２保護膜１９ｂが視認側となり、第１保護膜７ａが背面側となる。
【００２４】
図２の液晶表示装置では、液晶セルは、基板１３及び１７と、これらに挟持される液晶層１５からなる。液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは透過モードにおいて、ねじれ構造を持たないＩＰＳ型では０．２〜０．４μｍの範囲が最適値となる。この範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。基板１３及び１７の液晶層１５に接触する表面には、配向膜（不図示）が形成されていて、液晶分子を基板の表面に対して略平行に配向させるとともに配向膜上に施されたラビング処理方向１４及び１８等により、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子配向方向が制御されていて、遅相軸１６の方向が決定されている。また、基板１３もしくは１７の内面には、液晶分子に電圧印加可能な電極（図２中不図示）が形成されている。
【００２５】
図１に、液晶層１５の１画素領域中の液晶分子の配向を模式的に示す。図１は、液晶層１５の１画素に相当する程度の極めて小さい面積の領域中の液晶分子の配向を、基板１３及び１７の内面に形成された配向膜のラビング方向４、及び基板１３及び１７の内面に形成された液晶分子に電圧印加可能な電極２及び３とともに示した模式図である。電界効果型液晶として正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った場合の、電圧無印加状態若しくは低印加状態での液晶分子配向方向は５ａ及び５ｂであり、この時に黒表示が得られる。電極２及び３間に印加されると、電圧に応じて液晶分子は６ａ及び６ｂ方向へとその配向方向を変える。通常、この状態で明表示を行なう。
また、本発明に用いられる液晶セルはＩＰＳモードに限定されることなく、黒表示時に液晶分子が前記一対の基板の表面に対して実質的に平行に配向する液晶表示装置であれば、いずれも好適に用いることができる。この例としては強誘電性液晶表示装置、反強誘電性液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置がある。
【００２６】
再び図２において、偏光膜８の透過軸９と、偏光膜２０の透過軸２１は直交して配置される。また、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が偏光膜８の透過軸９と直交に配置される。さらに、偏光膜８の透過軸９と、黒表示時の液晶層１４中の液晶分子の遅相軸１６とは平行であり、即ち、第１位相差領域１０の遅相軸１１と液晶黒表示時の液晶層１４の遅相軸１６とは直交である。本態様では、後述する特定の光学特性を示す第１位相差領域１０を、この様に配置するとともに、後述する特定の光学特性を有する第２位相差領域を第１位相差領域１０と液晶セルとの間に配置することで、液晶セルの視野角特性を改善している。
【００２７】
図２に示す液晶表示装置では、偏光膜８が二枚の保護膜７ａ及び７ｂに挟持された構成を示しているが、保護膜７ｂはなくてもよい。但し、保護膜７ｂを配置しない場合は、第１位相差領域１０は後述する特定の光学特性を有するとともに、偏光膜８を保護する機能も兼ね備えている必要がある。保護膜７ｂを配置する場合は、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａ及び１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。保護膜１９ａを配置する場合は、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈの好ましい範囲は、保護膜７ｂと同様である。また、保護膜７ｂ及び保護膜１９ａは、その厚みが薄いのが好ましく、具体的には６０μｍ以下であるのが好ましい。
【００２８】
図２の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと偏光膜８との間に配置されていてもよいし、液晶セルと偏光膜２０との間に配置されていてもよい。いずれの態様においても、第２位相差領域１２が液晶セルにより近くなるように配置する。
【００２９】
本発明の他の実施形態を図３に示す。図３中、図２と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図３に示す液晶表示装置では、第１位相差領域１０と第２位相差領域１２との位置が入れ替わり、第１位相差領域１０が、第２位相差領域１２と比較して偏光膜８からより遠い位置、即ち、より液晶セルに近い位置に配置される。また、図３に示す態様では、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が、偏光膜８の透過軸９と平行にして配置される。さらに、偏光膜８の透過軸９と、黒表示時の液晶層１４中の液晶分子の遅相軸１６とは平行であり、即ち、第１位相差領域１０の遅相軸１１と液晶黒表示時の液晶層１４の遅相軸１６とは平行である。本態様では、後述する特定の光学特性を示す第１位相差領域１０をこの様に配置するとともに、後述する特定の光学特性を有する第２位相差領域を第１位相差領域１０と偏光膜８との間に配置することで、液晶セルの視野角特性を改善している。
【００３０】
図３の液晶表示装置においても、上記と同様、７ａは第１保護膜であり、１９ｂは第２保護膜であり、第１保護膜と第２保護膜のいずれかに防眩層が塗設されており、防眩層が塗設されている保護膜が視認側であり、もう一方の保護膜が背面側である。また、保護膜７ｂまたは保護膜１９ａはなくてもよい。但し、保護膜７ｂがない場合は、第２位相差領域１２が、後述する特定の光学特性を有するとともに、偏光膜８を保護する機能も兼ね備えている必要がある。保護膜７ｂを配置する場合は、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａ及び１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。保護膜１９ａを配置する場合は、該保護膜の厚み方向のレターデーションＲｔｈの好ましい範囲は、保護膜７ｂと同様である。また、保護膜７ｂ及び保護膜１９ａは、その厚みが薄いのが好ましく、具体的には６０μｍ以下であるのが好ましい。
【００３１】
なお、図３の態様では、第１位相差領域１０及び第２位相差領域１２は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜８との間に配置されていてもよいし、液晶セルと背面側の偏光膜２０との間に配置されていてもよい。いずれの態様においても、第１位相差領域１０が液晶セルにより近くなるように配置する。
【００３２】
本発明の液晶表示装置は、図１〜図３に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶層と偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光膜の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図２及び図３の上側であっても下側であっても良いが、バックライトを下にしたほうがより好ましい。また、液晶層とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。
【００３３】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス
液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００３４】
以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材の好ましい光学特性や部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【００３５】
［第１位相差領域］
本発明の液晶表示装置の一態様では、第１位相差領域は、図２に示す様に、第２位相差領域と比較して液晶セルからより離れた位置に配置される。本態様においては、第１位相差領域は、面内のレターデーションＲｅが、７０ｎｍ〜３３０ｎｍである。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅは、９０ｎｍ〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、１１０ｎｍ〜１９０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、Ｎｚが０を超え０．５未満で、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、０．１以上０．４未満であるのがより好ましい。０．５を超えるとコントラストを向上させるために必要なＲｅの値が大きくなり、きわめて高精度な偏光板との貼合精度が必要になり、さらに第２位相差領域に必要なＲｔｈが大きくなり好ましくない。
【００３６】
なお、本態様の液晶表示装置では、第１位相差領域は、その遅相軸が、第１位相領域により近い位置に配置される偏光膜の透過軸及び液晶層の黒表示時の遅相軸と直交にして配置される。
【００３７】
また、本発明の液晶表示装置の他の態様では、第１位相差領域は、図３に示す様に、第２位相差領域と比較して液晶セルからより近い位置に配置される。本態様においては、第１位相差領域は、面内のレターデーションＲｅは、７０ｎｍ〜３３０ｎｍであり、８０ｎｍ〜２３０ｎｍが好ましい。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅは、１００ｎｍ〜２１０ｎｍであるのが好ましく、１１０ｎｍ〜１９０ｎｍであるのがより好ましい。また、Ｎｚは、０を超え０．５未満であり、０を超え０．４未満であるのが好ましい。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、０．１以上０．３５未満であるのがより好ましい。０．５を超えるとコントラストを向上させるために必要なＲｅの値が大きくなり、きわめて高精度な偏光板との貼合精度が必要になり、さらに第２位相差領域に必要なＲｔｈが大きくなり好ましくない。
【００３８】
なお、本態様の液晶表示装置では、第１位相差領域は、その遅相軸が、第１位相領域により近い位置に配置される偏光膜の透過軸及び液晶層の黒表示時の遅相軸と平行にして配置される。
【００３９】
本発明において、前記第１位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱した膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【００４０】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるもの、光弾性が小さいものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、ポリプロピレン等のポリオレフィン、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【００４１】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該フィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより行うことができる。また、面方向に一軸または二軸に延伸し、厚さ方向にも延伸する方法等により厚さ方向の屈折率を制御することにより得られる。また高分子ポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理して配向させる方法等により得られる（例  特開平５−１５７９１１号公報、特開平１１−１２５７１６号公報、特開２００１−１３３２４号公報）。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般的には薄型化の点より１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍがさらに好ましい。
【００４２】
［第２位相差領域］
本発明の液晶表示装置の一態様では、第２位相差領域は、図２に示す様に、第１位相差領域と比較して液晶セルからより近い位置に配置される。本態様においては、第２位相差領域の面内の屈折率ｎｘとｎｙが実質的に等しいのが好ましく、その差は０．０５以下であるのが好ましく、０．０２以下であるのがより好ましく、０．０１以下であるのがさらに好ましい。また、第２位相差領域は、面内のレターデーションＲｅが、１００ｎｍ以下であるのが好ましい。５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、第２位相差領域の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、３０ｎｍ〜１３０ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜１１０ｎｍであるのがさらに好ましい。
なお、本態様では、第２位相差領域の遅相軸の配置については特に限定されないが、第２位相差領域のＲｅが２０ｎｍを超える場合は、第２位相差領域は、その遅相軸を、より近い位置に配置される偏光膜の透過軸と平行にして配置されるのが好ましい。そのように配置すると、例えば、第１位相差領域の厚みを薄くできる。
【００４３】
さらに詳細には、第１位相差領域のＮｚ値を０．４程度に大きくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは３０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、一方、第１位相差領域のＮｚ値を、０．１程度と小さくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは８０〜１２０ｎｍが好ましい。第１位相差領域のＮｚ値がその中間である０．２５程度では、第２位相差領域のＲｔｈは６０〜１００ｎｍが好ましい。但し、前記好ましい範囲は、本態様の液晶表示装置が、液晶セルと偏光膜との間に偏光膜を保護する少なくとも一枚の保護膜を有し、且つ該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−１００ｎｍである場合の好ましい範囲である。
【００４４】
本発明の液晶表示装置の他の態様では、第２位相差領域は、図３に示す様に、第１位相差領域と比較して液晶セルからより離れた位置に配置される。本態様においては、第２位相差領域は、面内のレターデーションＲｅが、１００ｎｍ以下であるのが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、厚み方向のレターデーションＲｔｈは、１０ｎｍ〜１４０ｎｍであり、２０ｎｍ〜１２０ｎｍが好ましい。２５ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、３０ｎｍ〜８０ｎｍであるのがさらに好ましい。
なお、本態様では、第２位相差領域の遅相軸の配置については特に限定されないが、第２位相差領域のＲｅが２０ｎｍを超える場合は、第２位相差領域は、その遅相軸を、より近い位置に配置される偏光膜の透過軸と直交にして配置されるのが好ましい。そのように
配置すると、例えば、第１位相差領域の厚みを薄くできる。
【００４５】
さらに詳細には、第１位相差領域のＮｚ値を０．４程度に大きくした場合には、後述する第２位相差領域のＲｔｈは３０ｎｍ〜４０ｎｍが好ましく、一方、第１位相差領域のＮｚ値を０．１程度と小さくした場合には、第２位相差領域のＲｔｈは７０〜８０ｎｍが好ましい。第１位相差領域のＮｚ値がその中間である０．２５程度である場合には、第２位相差領域のＲｔｈは５０〜７０ｎｍが好ましい。但し、前記好ましい範囲は、本態様の液晶表示装置が、液晶セルと偏光膜との間に偏光膜を保護する少なくとも一枚の保護膜を有し、且つ該保護膜の厚み方向の位相差Ｒｔｈが４０ｎｍ〜−５０ｎｍである場合の好ましい範囲である。
【００４６】
前記第２位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料について特に制限はない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【００４７】
上記光学特性を有する複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜は、高分子フィルムを一軸及び二軸延伸することでも容易に形成できる（例  特開２００２−１３９６２１号公報、特開２００２−１４６０４５号公報）。また、延伸することなしに流延するだけでこの光学特性を発現するセルロースアシレート類を好適に用いることができる。かかるセルロースアシレートとして、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００１−１６６１４４号公報、特開２００２−１６１１４４号公報、特開２００２−９０５４１号公報に記載されているものを用いることができる。高分子フィルムの材料は、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、セルロースアシレート）が用いられる。
【００４８】
上記光学特性を有する液晶性化合物から形成された位相差層は、キラル構造単位を含んだ棒状コレステリック液晶性組成物を、支持体上もしくは仮支持体上に塗布し、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させた後、固定化することによって形成することができる。前記位相差層を仮支持体上に形成した場合は、支持体上に転写することで作製することができる。また、複屈折が負のディスコチック液晶性化合物を水平配向（ダイレクターは基板に垂直）させて、固定した位相差層、及びポリイミド高分子を基板上に流延固定した位相差層も、同様に用いることができ。さらに、一枚の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、上記光学特性を示す第２位相差領域を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体で上記光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を構成してもよい。
【００４９】
ディスコチック液晶性化合物から形成された位相差層を含む第２位相差領域は、ディスコチック液晶性化合物あるいは重合性開始剤や空気界面水平配向剤（例  特願２００３−３８８３０８号明細書に記載）及び前述の他の添加剤を含む塗布液を、支持体の上に形成された水平配向膜の上に塗布することで形成することができる。ディスコチック液晶層を水平に配向させるための配向膜としては有機酸や塩などの固形分含有量が０．１質量％未満のポリビニルアルコールやポリイミド、ポリアミド、アクリルなどの高分子配向膜を使用できる。配向膜を形成後にラビングは行なってもよいが、行なわなくてもよい。
その他、使用可能なディスコチック液晶性化合物の例、塗布液の調製に用いる溶媒の例、塗布方法の例、重合性開始剤及び重合性モノマー等の他の材料、及び位相差層の形成に用いられる支持体については、特願２００４−３７８３５号明細書に記載を同様に用いることができる。
【００５０】
＜第２の実施の形態＞
以下、図面を用いて本発明の第二の実施の形態について詳細に説明する。図４及び図５は、本発明の第二の実施の形態の液晶表示装置の模式図である。
図４に示す液晶表示装置は、偏光膜８及び２０と、第１位相差領域１０と、第２位相差領域１２と、基板１３及び１７と、該基板に挟持される液晶層１５とを有する。液晶セルの構成及び液晶層１５の一画素領域中の液晶分子の配向状態については、上記本発明の液晶表示装置の第一の実施形態と同様である。
偏光膜８及２０は、それぞれ保護膜７ａと７ｂ及び１９ａと１９ｂによって挟持されている。偏光膜８の透過軸９と、偏光膜２０の透過軸２１は直交して配置されている。第１位相差領域１０の遅相軸１１は、偏光膜８の透過軸９及び黒表示時の液晶層１５中の液晶分子の遅相軸方向１６に平行である。
図４に示す液晶表示装置では、偏光膜８が二枚の保護膜７ａ及び７ｂに挟持された構成を示しているが、保護膜７ｂはなくてもよい。また、偏光膜２０も二枚の保護膜１９ａ及び１９ｂに挟持されているが、液晶層１５に近い側の保護膜１９ａはなくてもよい。なお、図４の態様では、第１位相差領域及び第２位相差領域は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよいし（第１保護膜に防眩層が塗設されている場合）、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていても（第２保護膜に防眩層が塗設されている場合）よい。本実施形態では、いずれの構成においても、第２位相差領域が液晶セルにより近くなるように配置する。
第２の態様においても保護膜７ａは第１保護膜であり、保護膜１９ｂは第２保護膜であり、第１保護膜と第２保護膜のいずれかに防眩層が塗設されており、防眩層が塗設されている保護膜が視認側であり、もう一方の保護膜が背面側である。
【００５１】
本発明の他の実施形態を図５に示す。図５の液晶表示装置は、第２位相差領域１２が偏光膜８及び第１位相差領域１０の間に配置されている。図５の液晶表示装置において、７ａは第１保護膜であり、１９ｂは第２保護膜であり、第１保護膜と第２保護膜のいずれかに防眩層が塗設されており、防眩層が塗設されている保護膜が視認者側であり、もう一方の保護膜がバックライト側である。また、保護膜７ｂまたは保護膜１９ａはなくてもよい。図５に示す態様では、第１位相差領域１０は、その遅相軸１１が、偏光膜８の透過軸９と黒表示時の液晶層１５中の液晶分子の遅相軸方向１６に直交になるように配置される。なお、図５の態様では、第１位相差領域及び第２位相差領域は、液晶セルの位置を基準にして、液晶セルと視認側の偏光膜との間に配置されていてもよい（第１保護膜に防眩層が塗設されている場合）し、液晶セルと背面側の偏光膜との間に配置されていても（第２保護膜に防眩層が塗設されている場合）よい。本実施形態では、いずれの構成においても、第１位相差領域が液晶セルにより近くなるように配置する。
【００５２】
なお、図５には、上側偏光板及び下側偏光板を備えた透過モードの表示装置の態様を示したが、本発明は一の偏光板のみを備える反射モードの態様であってもよく、かかる場合は、液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎ・ｄの値は上記の１／２程度の値になる。
【００５３】
本発明の液晶表示装置は、図４〜図５に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶層と偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光膜の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。更に、本発明の防眩性反射防止フィルムを使用することが好ましい。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図２及び図３の上側であっても下側であっても良い。また、液晶層とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また
、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。
【００５４】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００５５】
以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材の好ましい光学特性や部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【００５６】
［第１位相差領域］
本発明の第二の実施の形態に含まれる第１位相差領域は、面内のレターデーションＲｅが２０ｎｍ〜１５０ｎｍであって、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＲｅは、４０ｎｍ〜１１５ｎｍであるのがより好ましく、６０ｎｍ〜９５ｎｍであるのがさらに好ましい。また、Ｎｚが１．５〜７であって、斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第１位相差領域のＮｚは、２．０〜５．５であるのがより好ましく、２．５〜４．５であるのがさらに好ましい。
【００５７】
基本的には前記第１位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、透明支持体上に高分子化合物を塗布後に加熱塩した膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【００５８】
複屈折ポリマーフィルムとしては、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。この場合、用いる高分子材料としては均一な二軸配向が達成できる高分子であれば特に制限はないが、従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるもの好ましく、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、セルロースアシレート、または、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。
【００５９】
フィルムの二軸配向は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより達成することができる。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。
また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍ、就中１０〜２００μｍ、特に２０〜１５０μｍとされる。
【００６０】
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可
能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルム（Ａ）の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
【００６１】
セルロースアシレートのアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよく、総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。これらの好ましいセルロースアシレートとしては、エステル部の総炭素数が２２以下のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、バレル、ヘプタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイルなど）、アリールカルボニル基（アクリル、メタクリルなど）、アリルカルボニルキ（ベンゾイル、ナフタロイルなど）、シンナモイル基を挙げることが出来る。これらの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどであり、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、好ましくはアセテートが総エステルの３０モル％以上であることが好ましい。
【００６２】
これらの中でも、セルロースアシレートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ましく、市販の写真用グレードのものは粘度平均重合度、置換度等の品質を満足して入手することができる。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０，３０，４０，５０，７０，３５，５５，１０５など）、イーストマンコダック社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、何れも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤、界面活性剤、レターデーション調節剤、ＵＶ吸収剤などを今後することが出来る（参考資料：特開２００２−２７７６３２号公報、特開２００２−１８２２１５号公報）。
【００６３】
透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で
行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことが出来る。
【００６４】
［第２位相差領域］
本発明の第２の実施の形態の液晶表示装置が有する、第２位相差領域の面内屈折率ｎｘとｎｙは実質的に等しく、厚み方向のレターデーションＲｔｈは、−８０ｎｍ〜−４００ｎｍである。前記第２位相差領域のＲｔｈのより好ましい範囲は、他の光学部材の光学特性に応じて変動し、特に、より近くに位置する偏光膜の保護膜（例えば、トリアセチルセルロースフィルム）のＲｔｈに応じて、大きく変動する。斜め方向の光漏れを効果的に低減するためには、第２位相差領域のＲｔｈは、−１００ｎｍ〜−３４０ｎｍであるのがより好ましく、−１２０ｎｍ〜−２７０ｎｍであるのがさらに好ましい。一方、第２位相差領域のｎｘとｎｙは、上記した様に、実質的に同一であり、Ｒｅは０近傍の値になる。具体的には、面内レターデーションＲｅは、０〜５０ｎｍであるのが好ましく、０〜２０ｎｍであるのがより好ましく、０〜１０ｎｍであるのがさらに好ましく、０〜５ｎｍであるのが特に好ましい。
【００６５】
前記第２位相差領域は、前記光学特性を有する限り、その材料及び形態については特に制限されない。例えば、複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜、及び透明支持体上に低分子あるいは高分子液晶性化合物を塗布もしくは転写することによって形成された位相差層を有する位相差膜など、いずれも使用することができる。また、それぞれを積層して使用することもできる。
【００６６】
上記光学特性を有する複屈折ポリマーフィルムからなる位相差膜は、高分子フィルムを膜の厚さ方向に延伸する方法や、ビニルカルバゾール系高分子を塗布して乾燥させる方法（特開２００１−０９１７４６号公報）で容易に形成できる。また、上記光学特性を有する液晶性化合物から形成された位相差層としては、キラル構造単位を含んだコレステリックディスコチック液晶化合物や組成物を、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層、屈折率異方性が正の棒状液晶化合物や組成物を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層などを例示することができる（例えば、特開平６−３３１８２６号公報や特許第２８５３０６４号等参照）。棒状液晶化合物は低分子化合物であってもよく、高分子化合物であってもよい。さらに、一の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、上記光学特性を示す第２位相差領域を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体で上記光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を構成してもよい。用いる棒状液晶化合物としては、配向固定させる温度範囲で、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、リオトロピック液晶相状態をとるものが好適に用いられる。揺らぎの無い均一な垂直配向が得られるスメクチックＡ相、Ｂ相を示す液晶が好ましい。特にまた、添加剤の存在下において、適切な配向温度範囲で、上記液晶状態となる棒状液晶性化合物については、該添加剤と棒状液晶性化合物を含有する組成物を用いて層を形成するのも好ましい。
【００６７】
《棒状液晶性化合物》
本発明の第２位相差領域は、棒状液晶性化合物を含む組成物から形成してもよい。前記棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。液晶分子には活性光線や電子線、熱などによっ
て重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は１〜６個、好ましくは１〜３個である。
【００６８】
第２位相差領域が、棒状液晶性化合物を配向状態に固定して形成された位相差層を含む場合は、棒状液晶性化合物を実質的に垂直配向させて、その状態に固定して形成した位相差層を用いるのが好ましい。実質的に垂直とは、フィルム面と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。これらの液晶性化合物は斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。斜め配向又はハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が最も好ましい。
【００６９】
棒状液晶性化合物から形成された位相差層は、棒状液晶性化合物、所望により、下記の重合性開始剤や空気界面垂直配向剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体の上に形成された垂直配向膜の上に塗布して、垂直配向させ、該配向状態を固定することで形成することができる。仮支持体上に形成した場合は、該位相差層を支持体上に転写することで作製することもできる。さらに、１層の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、上記光学特性を示す第２位相差領域を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体で上記光学特性を満たすようにして、第２位相差領域を構成してもよい。
【００７０】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００７１】
垂直配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【００７２】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。棒状液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／
ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。前記光学違法性層を含む第１位相差領域の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【００７３】
《垂直配向膜》
液晶性化合物を配向膜側で垂直に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させることが重要である。具体的には、ポリマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させ、これにより液晶性化合物を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、フッ素原子及び炭素原子数が１０以上の炭化水素基が有効である。フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子又は炭化水素基を導入することが好ましい。含フッ素ポリマーは、フッ素原子を０．０５〜８０質量％の割合で含むことが好ましく、０．１〜７０質量％の割合で含むことがより好ましく、０．５〜６５質量％の割合で含むことがさらに好ましく、１〜６０質量％の割合で含むことが最も好ましい。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族基又はそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）又はアルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）であることが好ましい。炭化水素基は、ハロゲン原子のような強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子数は、１０〜１００であることが好ましく、１０〜６０であることがさらに好ましく、１０〜４０であることが最も好ましい。ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造又はポリビニルアルコール構造を有することが好ましい。
【００７４】
ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテトラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用いて、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよい。フッ素原子又は炭化水素基は、テトラカルボン酸起源の繰り返し単位に存在していても、ジアミン起源の繰り返し単位に存在していても、両方の繰り返し単位に存在していてもよい。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖又は側鎖にステロイド構造を形成することが特に好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当し、液晶性化合物を垂直に配向させる機能を有する。本明細書においてステロイド構造とは、シクロペンタノヒドロフェナントレン環構造又はその環の結合の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない範囲）で二重結合となっている環構造を意味する。
【００７５】
さらに液晶性化合物を垂直に配向させる手段として、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、又はポリイミドの高分子に有機酸を混合する方法を好適に用いることができる。混合する酸としてはカルボン酸やスルホン酸、アミノ酸が好適に用いられる。後述の空気界面配向剤の内、酸性を示すものを使用してもよい。また、４級アンモニウム塩類も好適に用いることが出来る。その混合量は高分子に対して、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００７６】
上記ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【００７７】
棒状液晶性化合物を配向させる場合、配向膜は、側鎖に疎水性基を官能基として有するポリマーからなるのが好ましい。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【００７８】
配向膜を、主鎖に結合した架橋性官能基を有する側鎖を有するポリマー又は液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を有するポリマーを用いて形成し、その上に位相差膜を、多官能モノマーを含む組成物を用いて形成すると、配向膜中のポリマーと、その上に形成される位相差膜中の多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマー間だけではなく、配向膜ポリマー間及び多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間にも共有結合が形成され、配向膜と位相差膜とが強固に結合される。従って、架橋性官能基を有するポリマーを用いて配向膜を形成することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【００７９】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【００８０】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【００８１】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー及び架橋剤を含む組成物を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には位相差層表面の欠陥が著しく減少する。
【００８２】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【００８３】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋して使用する。棒状液晶性化合物の垂直配向にはラビング処理は行なわないことが好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して位相差層を形成し、位相差層のみをポリマーフィルム（又は透明支持体）上に転写してもよい。
【００８４】
《空気界面垂直配向剤》
通常、液晶性化合物は、空気界面側では傾斜して配向する性質を有するので、均一に垂直配向した状態を得るために、空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、空気界面側に偏在して、その排除体積効果や静電気的な効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を液晶塗布液に含有させて、位相差膜を形成するのが好ましい。
【００８５】
空気界面配向剤としては、特開２００２−２０３６３号公報、特開２００２−１２９１６２号公報に記載されている化合物を用いることができる。また、特開２００４−０５３９８１号公報の段落番号［００７２］〜［００７５］、特願２００２−２６２２３９号明細書の段落番号［００３７］〜［００３９］、特開２００４−００４６８８号公報の段落番号［００７１］〜［００７８］、特開２００４−１３９０１５号公報の段落番号［００５２］〜［００５４］、［００６５］〜［００６６］、［００９２］〜［００９４］、特開２００５−０９７３５７号公報の段落番号［００２８］〜［００３０］、特願２００４−００３８０４号明細書の段落番号［００８７］〜［００９０］に記載される事項も本発明に適宜適用することができる。また、これらの化合物を配合することによって塗布性が改善され、ムラ又はハジキの発生が抑制される。
【００８６】
液晶塗布液への空気界面配向剤の使用量は、０．０５質量％〜５質量％であることが好ましい。また、フッ素系空気界面配向剤を用いる場合は、１質量％以下であることが好ましい。
【００８７】
《位相差層中の他の材料》
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることが出来る。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【００８８】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性もしくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００８９】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特開２００５−０６２６７３号公報中の段落番
号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【００９０】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【００９１】
［偏光膜用保護膜］
本発明の液晶表示装置は、偏光膜を保護する偏光膜用保護膜を有していてもよい。偏光膜用保護膜は、可視光領域に吸収が無く、光透過率が８０％以上であり、複屈折性に基づくレターデーションが小さいものが好ましい。具体的には、面内のＲｅが０〜３０ｎｍが
好ましく、０〜１５ｎｍがより好ましく、０〜５ｎｍが最も好ましい。また、第１位相差領域が第２位相差領域と比較してより液晶セルに近い位置に配置される態様、例えば図２に示す態様では、液晶セル側に配置される保護膜（例えば図２中の７ｂ及び１９ａ）のＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ〜−１００ｎｍであるのがより好ましく、４０ｎｍ〜−５０ｎｍであるのがさらに好ましく、２０ｎｍ〜−２０ｎｍであるのがさらにより好ましい。また、第２位相差領域が第１位相差領域と比較してより液晶セルに近い位置に配置される態様、例えば図３に示す態様では、液晶セル側に配置される保護膜（例えば図３中の７ｂ及び１９ａ）のＲｔｈは、４０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ〜−５０ｎｍであるのがより好ましく、２０ｎｍ〜−２０ｎｍであるのがさらに好ましい。もう一方の保護膜（例えば、図２及び図３中の７ａ及び１９ｂ）の光学特性については特に制限はない。
【００９２】
また、保護膜の厚み、特に液晶セル側に配置される保護膜の厚身は、Ｒｔｈを小さくするという観点から、６０μｍ以下であるのが好ましく、５０μｍ以下であるのがより好ましく、４０μｍ以下があるのがさらに好ましい。但し、保護膜が上記光学特性を満たすために複数の層からなる場合は、厚みの好ましい範囲はこの範囲に限定されない。
【００９３】
保護膜には、上記特性を満足するフィルムであればいずれも好適に使用することができるが、偏光膜の耐久性の観点からは、セルロースアシレートやノルボルネン系のフィルムを含んでいるのがより好ましい。
ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【００９４】
セルロースアシレートとしては、そのアシル基が脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよく、総炭素数が２２以下のエステル基が好ましい。これらの好ましいセルロースアシレートとしては、エステル部の総炭素数が２２以下のアシル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、バレル、ヘプタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイルなど）、アリールカルボニル基（アクリル、メタクリルなど）、アリルカルボニルキ（ベンゾイル、ナフタロイルなど）、シンナモイル基を挙げることが出来る。これらの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートステアレート、セルロースアセテートベンゾエートなどであり、混合エステルの場合はその比率は特に限定されないが、好ましくはアセテートが総エステルの３０モル％以上であることが好ましい。
【００９５】
これらの中でも、セルロースアシレートが好ましく、特に写真用グレードのものが好ま
しく、市販の写真用グレードのものは粘度平均重合度、置換度等の品質を満足して入手することができる。写真用グレードのセルローストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学工業（株）（例えばＬＴ−２０，３０，４０，５０，７０，３５，５５，１０５など）、イーストマンコダック社（例えば、ＣＡＢ−５５１−０．０１、ＣＡＢ−５５１−０．０２、ＣＡＢ−５００−５、ＣＡＢ−３８１−０．５、ＣＡＢ−３８１−０２、ＣＡＢ−３８１−２０、ＣＡＢ−３２１−０．２、ＣＡＰ−５０４−０．２、ＣＡＰ−４８２−２０、ＣＡ−３９８−３など）、コートルズ社、ヘキスト社等があり、いずれも写真用グレードのセルロースアシレートを使用できる。また、フィルムの機械的特性や光学的な特性を制御する目的で、可塑剤、界面活性剤、レターデーション調節剤、ＵＶ吸収剤などを混合することができる（参考資料：特開２００２−２７７６３２、特開２００２−１８２２１５）。
【００９６】
透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法及び溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。光学特性の制御はこの延伸倍率と加熱温度を制御することによって行なうことができる。
【００９７】
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈを小さくする方法として、非平面構造性の化合物をフィルムに混合することが有効である。また、特開平１１−２４６７０４号公報、特開２００１−２４７７１７号公報、特願２００３−３７９９７５号明細書に記載の方法などが挙げられる。また、セルロースアシレートフィルムの厚みを小さくすることによっても、Ｒｔｈを小さくすることができる。
【００９８】
Ｒｔｈが負の光学特性を有する偏光板保護膜は、高分子フィルムを膜の厚さ方向に延伸する方法や（例  特開２０００−１６２４３６号）、ビニルカルバゾール系高分子を塗布して乾燥させる方法（例  特開２００１−０９１７４６号公報）で容易に形成できる。また、保護膜は、液晶材料を含んでいてもよく、例えば、Ｒｔｈが負の光学特性を有する液晶性化合物から形成された位相差層であってもよい。該位相差層としては、キラル構造単位を含んだコレステリックディスコチック液晶化合物や組成物を、その螺旋軸を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層、屈折率異方性が正の棒状液晶化合物や組成物を基板に略垂直に配向させたのち固定化して形成した層などを例示することができる（例えば、特開平６−３３１８２６号公報や特許第２８５３０６４号等参照）。棒状液晶化合物は低分子化合物であってもよく、高分子化合物であってもよい。さらに、一の位相差層のみならず複数の位相差層を積層して、Ｒｔｈが負の光学特性を示す保護膜を構成することもできる。また、支持体と位相差層との積層体全体でＲｔｈが負の光学特性を満たすようにして、保護層を構成してもよい。用いる棒状液晶化合物としては、配向固定させる温度範囲で、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、リオトロピック液晶相状態をとるものが好適に用いられる。揺らぎの無い均一な垂直配向が得られるスメクチックＡ相、Ｂ
相を示す液晶が好ましい。特にまた、添加剤の存在下において、適切な配向温度範囲で、上記液晶状態となる棒状液晶性化合物については、該添加剤と棒状液晶性化合物を含有する組成物を用いて層を形成するのも好ましい。
【００９９】
保護膜とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、フィルムに表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１００】
［防眩性反射防止フィルム］
本発明の防眩性反射防止フィルムについては以下のような公知の層構成を使用することができる。
たとえば、代表的な例としては
透明支持体／防眩層
透明支持体／防眩層／低屈折率層
透明支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
がある。
また透明支持体とそれよりも表面側の層の間に設けても良い層として、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、防湿層、密着改良層、虹ムラ（干渉ムラ）防止層等が挙げられる。また、透明支持体の上に防眩層を用い防眩層だけで硬度が不足する場合、透明支持体と防眩層との間にハードコート層を儲けても良い。
帯電防止層は透明支持体とその上の層との間以外の位置に儲けることもできる。
虹ムラ（干渉ムラ）防止層は、防眩層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
【０１０１】
本発明の好ましい実施態様の防眩性反射防止フィルムは、透明支持体と、透明支持体
上に形成された防眩層と、そして防眩層上に形成された低屈折率層とからなる。防眩層の上に低屈折率層を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
防眩層は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性微粒子とからなる。
本発明における反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
防眩層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、本実施形態においては、１層で形成されたものを例示しているが、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。また、本実施形態のように透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
【０１０２】
本発明の防眩性反射防止フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計するのが、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので、好ましい。Ｒａが０．０８未満では充分な防眩性が得られず、０．３０を超えるとギラツキ、外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。
また、Ｃ光源下でのＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間における反射光の色味がａ*値−２
〜２、ｂ*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の
比０．５〜０．９９とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ*値を０〜３とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色
味が低減され、好ましい。
【０１０３】
また、本発明の防眩性反射防止フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズと呼称する）が５％〜３５％であることが好ましく、５％〜３０％であることがより好ましく、５％〜２０％であることが更に好ましい。内部ヘイズが５％未満とするには、使用できる素材の組合せが限定され、高コストとなる。内部散乱が３５％を超えると、暗室コントラストが大幅に悪化してしまう。また、内部ヘイズが上記範囲にあるとき、表面散乱に起因するヘイズ（以後、表面ヘイズと呼称する）が１％〜１０％であることが好ましく、２％〜７％であることがより好ましく、更にくし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度５％〜３０％とするのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるので、好ましい。表面ヘイズが１％未満では防眩性が不足し、１０％を超えると外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。
また、内部ヘイズを５％以下に低下させると、コストが上昇するものの暗室コントラストの悪化を最小限に抑えることができ、好ましい。このとき、表面ヘイズは１％〜３０％であることが好ましく、１％〜２０％であることがより好ましく、更にくし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度５％〜３０％とするのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるので、好ましい。
【０１０４】
次に、防眩層について以下に説明する。
＜防眩層＞
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、防眩性を付与するための透光性微粒子、および溶媒を必須成分として含有する。
【０１０５】
＜透光性微粒子＞
透光性微粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２．０〜６．０μｍである。平均粒径が０．５μｍ未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こしたりするため、好ましくない。一方、１０μｍを超えると、防眩層の膜厚を厚くする必要が生じ、カールが大きくなる、素材コストが上昇してしまう、等の問題が生じる。
前記透光性微粒子の具体例としては、例えばポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。具体的には、後述するような本発明の防眩層に好ましく用いられる３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００重量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性微粒子の組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂と架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性微粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せが好ましい。
【０１０６】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。
【０１０７】
前記透光性微粒子は、形成された防眩層中に、防眩層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合される。より好ましくは５〜２０質量％である。３質量％未満であると、防眩性が不足し、３０質量％を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは
１００〜７００ｍｇ／ｍ2である。
【０１０８】
本発明における透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。屈折率を前記範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差（透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。この差が０．０３０を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１０９】
防眩層の膜厚は、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜８μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。
【０１１０】
＜透光性樹脂＞
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択することもできる。
【０１１１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１１２】
高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート類、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【０１１３】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記防眩層は、上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性微粒子および必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
【０１１４】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
【０１１５】
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３’、４、４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【０１１６】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には１、２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
【０１１７】
ボレート塩の例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
活性ハロゲン類の例にはＳ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、
２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。
【０１１８】
無機錯体の例にはビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，
６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１１９】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，８１９、９０７、１８７０（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）、ＯＸＥ０１）等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等が好ましい例として挙げられる。
【０１２０】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）などが挙げられる。
【０１２１】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１２２】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が
好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性微粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光拡散層を形成することができる。
【０１２３】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１２４】
防眩層には、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を低減するために、前記の透光性微粒子に加えて、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーを含有してもよい。これらの無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。
防眩層に用いられる無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーを用いる場合、その添加量は、防眩層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
【０１２５】
なお、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
また、防眩層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量は、含有層（添加層）の全固形分の０．００１〜５０質量％が好ましく、０．０１〜２０質量％がより好ましく、０．０５〜１０質量％が更に好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。
【０１２６】
＜防眩層用界面活性剤＞
本発明の防眩層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【０１２７】
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系ポリマー」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位及び、下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体であることが好ましい。
【０１２８】
（ｉ）下記一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
【０１２９】
【化１】
2007041514.tif 000003
【０１３０】
一般式イにおいてＲ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子ま
たは−Ｎ（Ｒ12）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２〜４の整数を表す。ｎは３であることが好ましい。Ｒ12は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
【０１３１】
（ｉｉ）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式ロで示されるモノマー
【０１３２】
【化２】
2007041514.tif 000004
【０１３３】
一般式ロにおいて、Ｒ13は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ15）−を表し、Ｒ15は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｙは酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、および−Ｎ（ＣＨ3）−が好ましい。
Ｒ14は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル
基を表す。Ｒ14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【０１３４】
本発明で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるこれらの一般式イで示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて１０質量％以上であり、好ましくは２０〜８０質量％であり、より好ましくは３５〜７０モル％の範囲である。
【０１３５】
本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜５０，０００がより好ましく、８，０００〜３０，０００が最も好ましい。
更に、本発明で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜１質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜０．５質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜０．２５質量％の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が０．００１質量％未満では効果が不十分であり、また１質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼす。
【０１３６】
以下、一般式イで表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーからなるフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０１３７】
【化３】
2007041514.tif 000005
【０１３８】
【化４】
2007041514.tif 000006
【０１３９】
【化５】
2007041514.tif 000007
【０１４０】
【化６】
2007041514.tif 000008
【０１４１】
【化７】
2007041514.tif 000009
【０１４２】
また防眩層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。防眩層塗布時にはフッ素系ポリマーを用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、防眩層塗布後にコロナ処理、ＵＶ処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手法を用いて、特に好ましいのはコロナ処理であるが、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。
【０１４３】
また、本発明の防眩層を形成する為の塗布組成物中に、チクソトロピー剤を添加しても良い。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【０１４４】
本発明の防眩層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶剤は重要な要因となる。要件としては、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解すること、上記透光性微粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいこと、支持体を溶解しないこと（平面性悪化、白化等の故障防止に必要）、逆に最低限の程度には支持体を膨潤させること（密着性に必要）、等が挙げられる。
具体例としては、支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、主溶媒として各種ケトン（メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、各種セロソルブ（エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）が好ましく用いられる。また、上記の中から選択した主溶媒に対し
て、水酸基を有する少量溶媒を添加することにより、防眩性が調整でき、特に好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、塗布組成物の乾燥工程において主溶媒よりも後まで残留することで防眩性を強くすることができるため、２０〜３０℃の範囲内のある温度における蒸気圧が前記主溶媒に対して低いことが好ましい。例えば、主溶媒をメチルイソブチルケトン（２１．７℃における蒸気圧：１６．５ｍｍＨｇ）に対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール（２０．０℃における蒸気圧：０．０８ｍｍＨｇ）の組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、重量比で９９：１〜５０：５０が好ましく、９５：５〜７０：３０がより好ましい。５０：５０を超えると、塗布液の安定性や、塗布後の乾燥工程における面質のバラツキが大きくなり、好ましくない。
【０１４５】
次に、前記低屈折率層について以下に説明する。
＜低屈折率層＞
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．３５〜１．４８の範囲である。
屈折率が１．３０未満であると、反射防止性能は向上するが、膜の機械強度が低下し、１．５５を超えると、反射防止性能が著しく悪化してしまう。
さらに、低屈折率層は下記数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（Ｉ）
（ｍ／４）×０．７＜ｎ１×ｄ１＜（ｍ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、前記数式（Ｉ）を満たすとは、前記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【０１４６】
低屈折率層としては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低屈折率層（態様１）、ゾルゲル法による低屈折率層（態様２）、および粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空隙を有する低屈折率層（態様３）等が用いられる。
熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の架橋からなる低屈折率層（態様１）を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
【０１４７】
＜低屈折率層用含フッ素ポリマー＞
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が０．０３〜０．２０、水に対する接触角が９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下であり、熱または電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０１４８】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を３０〜８０質量％の範囲で含有することが好ましく、また架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましい。例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分
解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
【０１４９】
前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１５０】
前記架橋反応性単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位；カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１５１】
また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０１５２】
前記含フッ素ポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【０１５３】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。
【０１５４】
本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式１で表される共重合体が挙げられる。
【０１５５】
【化８】
2007041514.tif 000010
【０１５６】
一般式１中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ及びＳから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ2）2−ＮＨ−＊＊，＊−（ＣＨ2）4−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ2）6−Ｏ−＊＊，＊−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−＊＊，＊−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−Ｏ−＊＊，＊−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＮＨ（ＣＨ2）3−Ｏ−＊＊（＊はポリマー主鎖側の連結部位を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍは０または１を表わす。
【０１５７】
一般式１中、Ｘは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１５８】
一般式１中、Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。
【０１５９】
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１６０】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５が好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦
２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式２が挙げられる。
【０１６１】
【化９】
2007041514.tif 000011
【０１６２】
一般式２においてＸは一般式１と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｎは２≦ｎ≦１０の整数を表わし、２≦ｎ≦６であることが好ましく、２≦ｎ≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式１におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
ｘ、ｙ、ｚ１およびｚ２はそれぞれの繰返し単位のｍｏｌ％を表わし、ｘ及びｙは、それぞれ３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０を満たすのが好ましく、更に好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５の場合である。ｚ１及びｚ２については、０≦ｚ１≦６５、０≦ｚ２≦６５を満たすのが好ましく、更に好ましくは０≦ｚ１≦３０、０≦ｚ２≦１０であることが好ましく、０≦ｚ１≦１０、０≦ｚ２≦５であることが特に好ましい。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ１＋ｚ２＝１００である。
【０１６３】
一般式１又は２で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式１又は２で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開２００４−４５４６２号公報の［００３５］〜［００４７］に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
【０１６４】
前記硬化性組成物は、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子、（Ｃ）後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
【０１６５】
＜低屈折率層用無機微粒子＞
無機微粒子の配合量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
【０１６６】
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１６７】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、下記数式（ＩＩ）：
（数式ＩＩ）
ｘ＝（４πａ3／３）／（４πｂ3／３）×１００
で表される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定を行い測定した。
【０１６８】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満である無機微粒子（以下「小サイズ無機微粒子」と称す）の少なくとも１種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子（以下「大サイズ無機微粒子」と称す）と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの３０〜１００％であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように１．１７〜１．４０であるものが特に好ましく用いられる。
【０１６９】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤と
して添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１７０】
次に、（Ｃ）オルガノシラン化合物について説明する。
＜低屈折率層用オルガノシラン化合物＞
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物等（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
【０１７１】
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式［Ａ］で表されるものが好ましい。
一般式［Ａ］
（Ｒ10）m−Ｓｉ（Ｘ）4-m
【０１７２】
前記一般式［Ａ］において、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Ｘは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ2ＣＯＯ（Ｒ2は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が
挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、特に好ましくは１である。
【０１７３】
Ｒ10あるいはＸが複数存在するとき、複数のＲ10あるいはＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１７４】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式［Ａ］で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式［Ｂ］で表さ
れるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
【０１７５】
【化１０】
2007041514.tif 000012
【０１７６】
前記一般式［Ｂ］において、Ｒ1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは  ＊−ＣＯＯ−＊＊，  ＊−ＣＯＮＨ−＊＊又は  ＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、  ＊−ＣＯＯ−＊＊および  ＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合および  ＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、  ＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊  は＝Ｃ（Ｒ1）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。
【０１７７】
Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
【０１７８】
ｎは０または１を表す。Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。ｎとして好ましくは０である。
Ｒ10は一般式［Ａ］と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Ｘは一般式［Ａ］と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【０１７９】
一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］の化合物は２種類以上を併用しても良い。以下に一般式［Ａ］、一般式［Ｂ］で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。
【０１８０】
【化１１】
2007041514.tif 000013
【０１８１】
【化１２】
2007041514.tif 000014
【０１８２】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、および（Ｍ−５）が特に好ましい。
【０１８３】
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数（ｐＫａ値（２５℃））が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、
特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
【０１８４】
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ3ＯＨ（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ4ＣＯＣＨ2ＣＯＲ5（式中、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を
示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる  金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ3）p1（Ｒ4ＣＯＣＨＣＯＲ5）p2、Ｔｉ（ＯＲ3）q1（Ｒ4ＣＯＣＨ
ＣＯＲ5）q2、およびＡｌ（ＯＲ3）r1（Ｒ4ＣＯＣＨＣＯＲ5）r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ3およびＲ4は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ5は
、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【０１８５】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【０１８６】
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
【０１８７】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ4ＣＯＣＨ2ＣＯＲ5で表されるβ−ジケトン化合物
および／またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ4は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ5は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、前
記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよび／またはアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を構成するＲ4およびＲ5は、前記金属キレート化合物を構成するＲ4およびＲ5と同様である。
【０１８８】
このβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。
【０１８９】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および／またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
【０１９０】
低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、５〜１００質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３５質量％が更に好ましく、１０〜３０質量％が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。
【０１９１】
前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーの詳細については後述する。
【０１９２】
［低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質］
前記硬化性組成物は、前述の（Ａ）含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機微粒子及び（Ｃ）オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤および後述するラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１９３】
低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して３０質量％以下の範囲とすることが好ましく、２０質量％以下の範囲とすることがより好ましく、１０質量％以下の範囲とすることが特に好ましい。
【０１９４】
また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１９５】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１８２１（以上商品名）やチッソ（株）製、ＦＭ−０７２５、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−５５２１、ＦＭ６６２１、ＦＭ−１１２１やＧｅｌｅｓｔ製ＤＭＳ−Ｕ２２、ＲＭＳ−０３３、ＲＭＳ−０８３、ＵＭＳ−１８２、ＤＭＳ−Ｈ２１、ＤＭＳ−Ｈ３１、ＨＭＳ−３０１、ＦＭＳ１２１、ＦＭＳ１２３、ＦＭＳ１３１、ＦＭＳ１４１、ＦＭＳ２２１（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１９６】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば−ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ，−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3，−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等）であっても、分岐構造（例えば−ＣＨ（ＣＦ3）2，−ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2，−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等）であっても
、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であっても良く、エーテル結合を有していても良い（例えば−ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17，−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2
ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株
）製、Ｒ−２０２０、Ｍ−２０２０、Ｒ−３８３３、Ｍ−３８３３（以上商品名）、大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７９Ａ、ディフェンサＭＣＦ−３００（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１９７】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低ｎ層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１５０（商品名）、東レダウコーニング（株）製、ＳＨ−３７４８（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１９８】
［低屈折率層用の溶剤］
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が１００℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
【０１９９】
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル  （９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
沸点が１００℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。
【０２００】
次に、ゾルゲル法による低屈折率層（態様２）について説明する。
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート（シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート）、オルガ  ノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物
が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラ  ン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙  げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン（ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキジシ  クロヘキシル）エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等）、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等）を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化および撥水・撥油性付与の点で好ましい。
低屈折率層として、無機もしくは有機の微粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドと  して形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｍｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜７０ｎｍであることがさらに好ましく、５〜４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。
【０２０１】
無機微粒子としては、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。
【０２０２】
無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することができる。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記載）または析出法（ＡＰＰＬＩＥＤＯＰＴＩＣＳ、２７、３３５６頁（１９８８）記載）により、分散物として直接合成することができる。
【０２０３】
また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。
【０２０４】
有機微粒子も、非晶質であることが好ましい。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５〜８０重量％であることが好ましく、４５〜７５重量％であることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。
粒子を形成するポリマーを架橋させるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの
２０モル％以上を多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノマーの割合は、３０〜８０モル％であることがさらに好ましく、３５〜５０モル％であることが最も好ましい。上記有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例として、フルオロオレフィン類（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）、アクリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル類（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル）、スチレン類（例、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル類（例、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル類（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル）、アクリルアミド類（例、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド類およびアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類  （例、ブタジエン、ペンタジエン）、多価アルコールとアクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジメタクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート）、ジビニル化合物（例、ジビニルシクロヘキサン、１，４−ジビニルベンゼン）、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類（例、メチレンビスアクリルアミド）およびビスメタクリルアミド類が挙げられる。
【０２０５】
粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも２個以上積み重ねることにより形成することができる。なお、粒径が等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填すると、２６体積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、４８体積％の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成と、微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の（光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない）値に容易に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることができる。粒子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーによって低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点もある。
【０２０６】
ミクロボイドを形成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は１よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００である。そのため、ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。
【０２０７】
低屈折率層は、５〜５０重量％の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１０〜３０重量％であることが好ましい。ポリマーで微粒子を
接着するためには、（１）微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、（２）微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、あるいは（３）微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用する、ことが好ましい。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、（２）のシェルポリマーまたは（３）のバインダーポリマーであることが好ましい。（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。（３）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記（１）〜（３）のうちの二つまたはすべてを組み合わせて実施することが好ましく、（１）と（３）の組み合わせ、または（１）〜（３）すべてを組み合わせで実施することが特に好ましい。（１）表面処理、（２）シェルおよび（３）バインダーについて、順次説明する。
【０２０８】
（１）表面処理
微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
【０２０９】
また、ケイ素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。
【０２１０】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ケイ素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。
【０２１１】
二種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその加水分解物が挙げられる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。
【０２１２】
（２）シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは３５〜８０重量％のフッ素原子を含むことが好ましく、４５〜７５重量％のフッ素原子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ  ソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
【０２１３】
シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。
【０２１４】
後述する（３）のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただし、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが５〜９０体積％含まれていることが好ましく、１５〜８０体積％含まれていることがさらに好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。
【０２１５】
（３）バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
【０２１６】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する。
重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、ア
ゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メ  チル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド  類の例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
【０２１７】
バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。
【０２１８】
本発明の防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
【０２１９】
＜透明支持体＞
本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。特に上記記載の偏光膜用保護膜上に形成されることが好ましい。
【０２２０】
［塗布液の調整］
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０２２１】
防眩層を形成する塗布液中には、直接その上に形成される低屈折率層の乾燥膜厚（５０ｎｍ〜１２０ｎｍ程度）に相当する異物を概ね全て（９０％以上を指す）除去できるろ過をすることが好ましい。光拡散性を付与する為の透光性微粒子が低屈折率層の膜厚と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性微粒子以外の全ての素材を添加した中間液に対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルターが入手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚（１〜１０μｍ程度）に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このような手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。
【０２２２】
［塗布方式］
塗布方式としては、各種公知の塗布方式を使用しても良い。すなわち、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法が面状の均一性の観点からより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。更に、特開２００３−２０００９７号公報、特開２００３−２１１０５２号公報に記載されているような、構成を工夫したダイを使用し
て塗布を行うことが最も好ましい。
【０２２３】
［乾燥］
防眩層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには１２０℃の温風中で数分以内にその数１０％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０２２４】
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が１〜５０％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【０２２５】
［硬化］
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線および／または熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度０．０１％〜５％が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で２％以下が好ましい。
【０２２６】
また、防眩層の硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および／または熱により低屈折率層を硬化した際に下層の防眩層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、防眩層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。
【０２２７】
前記のようにして製造された本発明の防眩性反射防止フィルムは、公知の粘着剤を付けて各種公知のディスプレー材料の表面フィルムとして用いたり、これを用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の反射防止フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
【０２２８】
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを２枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の反射防止フィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０２２９】
［鹸化処理］
（１）アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光散乱フィルムや反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０２３０】
鹸化処理することにより、透明支持体の防眩層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。  偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０度〜５０度、より好ましくは３０度〜５０度、さらに好ましくは４０度〜５０度となる。５０度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、１０度未満では、反射防止膜の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
【０２３１】
（２）アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を防眩層や反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（１）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０２３２】
前記（１）、（２）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の光散乱フィルムや反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。
【０２３３】
（３）防眩層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記（２）と同様に、防眩層および／または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不
足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記（２）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０２３４】
（４）防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０２３５】
（５）予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに防眩層や反射防止層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して防眩層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、防眩層または他の層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、防眩層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから防眩層または他の層を形成することで対処できる。また、防眩層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【実施例】
【０２３６】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０２３７】
＜ＩＰＳモード液晶セル１の作製＞
一枚のガラス基板上に、図１に示す様に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極（図１中２及び３）を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。図１中に示す方向４に、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０２３８】
＜第１位相差領域１、第１位相差領域２、第１位相差領域３の作製＞
厚さ８０μｍ、Ｒｅが１２０ｎｍのポリカーボネートフィルムの両面に、一軸延伸ポリエステルフィルム製の熱収縮性フィルムをその遅相軸が直交するようにアクリル系粘着層を介して接着し、これを１６０℃に加熱して熱収縮性フィルムを収縮させながら延伸装置を用いて、幅方向の長さをそれぞれ収縮前の９２％、８８％及び９６％にした後、熱収縮性のフィルムを剥がして、それぞれ第１位相差領域１、第１位相差領域２、第１位相差領域３を得た。
【０２３９】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定し、これらの光学特性を算出したところ、第１位相差領域１はＲｅが１６０ｎｍ、Ｒｔｈが−４０ｎｍで、Ｎｚが０．２５であり、第１位相差領域２はＲｅが１５０ｎｍ、Ｒｔｈが−６０ｎｍで、Ｎｚが０．１０であり、第１位相差領域３はＲｅが１４０ｎｍ、Ｒｔｈが−２１ｎｍで、Ｎｚが０．３５であることが確認できた。
【０２４０】
＜第１位相差領域４、第１位相差領域５の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子径４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック製）を５ｋｇ／ｃｍ2以下で用いてろ過した。
【０２４１】
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
────────────────────────────────────
【０２４２】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤Ａを８質量部、レターデーション上昇剤Ｂを１０質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４０質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０２４３】
【化１３】
2007041514.tif 000015
【０２４４】
【化１４】
2007041514.tif 000016
【０２４５】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてフィルムを作製した。
【０２４６】
このようにして得られたフィルム（第１位相差領域４）の厚さは８０μｍであった。作製した第１位相差領域４について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが７０ｎｍ、Ｒｔｈが１７５ｎｍであり、これからＮｚが３．０であることが分かった。
【０２４７】
別のミキシングタンクに、前記のレターデーション上昇剤Ａを１６質量部、レターデーション上昇剤Ｂを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製し、前述の第１位相差領域４同様に製膜した。このようにして得られたフィルム（第１位相差領域５）の厚さは８０μｍであった。作製した第１位相差領域５について、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが６０ｎｍ、Ｒｔｈが２１０ｎｍであり、これからＮｚが４．０であることが分かった。
【０２４８】
＜第２位相差領域１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、下記の組成を有するセルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液の組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート            １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                              ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                          １１質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４８７質量部にレターデーション上昇剤溶液６質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。
【０２４９】
【化１５】
2007041514.tif 000017
【０２５０】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、６０℃の温風で１分間乾燥し、フィルムをバンドから剥ぎ取った。次にフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分間乾燥し、厚さ８０μｍのフィルムを作製した。
このフィルムの光学特性は自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することにより求めたところ、ｎｘとｎｙは実質的に等しく、Ｒｅ＝５ｎｍ、Ｒｔｈ＝８０ｎｍであった。このフィルムを第２位相差領域１とした。
【０２５１】
＜第２位相差領域２、第２位相差領域３の作製＞
製作した第１位相差領域４、及び第１位相差領域５の表面のケン化処理を行い、このフィルム上に市販の垂直配向膜（ＪＡＬＳ−２０４Ｒ、日本合成ゴム（株）製）をメチルエチルケトンで１：１に希釈したのち、ワイヤーバーコーターで２．４ｍｌ／ｍ2塗布した。直ちに、１２０℃の温風で１２０秒乾燥した。
【０２５２】
次に、下記の棒状液晶化合物３．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を調製した。
この溶液を前記配向膜を形成したフィルムの配向膜側に、下記の番手のワイヤーバーでそれぞれ塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯により、２０秒間ＵＶ照射し棒状液晶化合物を架橋して、その後、室温まで放冷して位相差層を作製した。
【０２５３】
【化１６】
2007041514.tif 000018
【０２５４】
【化１７】
2007041514.tif 000019
【０２５５】
【表１】
2007041514.tif 000020
【０２５６】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、製作したフィルムのＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した支持体の寄与分を差し引くことによって、第２位相差領域のみの光学特性を算出したところ、それぞれ第２位相差領域２はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２２５ｎｍ、第２位相差領域３はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−２９５ｎｍであって、いずれも棒状液晶が略垂直に配向していることを確認した。
【０２５７】
＜位相差３の作製＞
上記で作製した第１の位相差領域５に対応するセルロースアシレートフィルムを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記の組成のアルカリ溶液をバーコーターにより、１４ｍｌ／ｍ2塗布し、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒間滞留させた後、同じくバーコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。このときのフィルム温度は４０℃であった。次いでファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返して後に、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
【０２５８】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
＜アルカリ溶液組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム                                        ４．７質量部
水                                                  １５．７質量部
イソプロパノール                                    ６４．８質量部
プロピレングリコール                                １４．９質量部
Ｃ16Ｈ33Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ（界面活性剤）            １．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５９】
＜第２位相差領域の作製＞
上記作製した長尺状の第１位相差領域５に対応するセルロースアシレートフィルムの鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布
した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０２６０】
【化１８】
2007041514.tif 000021
【０２６１】
下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を、上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から８０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、８０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を６０℃に保持して、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、第２位相差４を形成した。続いて、５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液中に作製したフィルムを２分間浸漬した後、水に浸漬し十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、３５℃の５ｍｍｏｌ／Ｌ硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。このようにして、第１位相差領域５と第２位相差領域４が積層された位相差３を作製した。
【０２６２】
棒状液晶化合物を含む塗布液（Ｓ１）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物（Ｉ）                        １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー                              ０．４質量部
下記のピリジニム塩                                      １質量部
メチルエチルケトン                                  １７２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６３】
【化１９】
2007041514.tif 000022
【０２６４】
【化２０】
2007041514.tif 000023
【０２６５】
【化２１】
2007041514.tif 000024
【０２６６】
作製した位相差３から棒状液晶性化合物を含む光学異方性層（第２位相差領域４）のみを剥離し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて光学特性を測定した。波長５９０ｎｍで測定した光学異方性層のみのＲｅは０ｎｍであり、Ｒｔｈは−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成されたことが確認できた。
【０２６７】
＜位相差４の作製＞
ポリカーボネートフィルムを二軸延伸して、Ｒｅが２６８ｎｍ、Ｒｔｈが１ｎｍ、Ｎｚが０．５０、厚さが６０μｍである位相差４を作製した。
【０２６８】
＜位相差５の作製＞
アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）を二軸延伸して、Ｒｅが１９５ｎｍ、Ｒｔｈが−２０ｎｍ、Ｎｚが０．４０、厚さが１３５μｍである第１位相差領域６を作製した。これ
を第２位相差領域に対応するフジタックＴ４０ＵＺ、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍと組み合わせることで位相差５を形成する。
＜位相差６の作製＞
アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）を一軸延伸して、Ｒｅが１７０ｎｍ、Ｒｔｈが８５ｎｍ、Ｎｚが１．００、厚さが７０μｍである第１位相差領域７を作製した。
第１位相差領域７に対応するフィルムの表面にコロナ放電処理を施し、その上に、上記位相差３と同様にして配向膜を形成した。さらに、上記の位相差３で用いた棒状液晶化合物を含む塗布液（Ｓ１）を用いて光学異方性層（第２位相差５）を形成した。第２位相差５のみのＲｅは０ｎｍであり、Ｒｔｈは−１３５ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成されたことが確認できた。このようにして、第１位相差領域７に第２位相差領域５が積層された位相差６を作製した。
【０２６９】
＜偏光板保護膜１、偏光板保護膜２の作製＞
（偏光板保護膜１）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール                                        １１質量部
【０２７０】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂ−１を調製した。
＜添加剤溶液Ｂ−１組成＞
メチレンクロライド                        ８０質量部
メタノール                                ２０質量部
下記光学的異方性低下剤                    ４０質量部
【０２７１】
【化２２】
2007041514.tif 000025
【０２７２】
セルロースアセテート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂ−１の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの偏光板保護膜１を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅ
の光入射角度依存性を測定し、光学特性を算出したところ、Ｒｅが１ｎｍ、Ｒｔｈが６ｎｍであることが確認できた。
【０２７３】
（偏光板保護膜２）
市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ）を用いて、その表面のケン化処理を行い、このフィルム上に市販の垂直配向膜（ＪＡＬＳ−２０４Ｒ、日本合成ゴム（株）製）をメチルエチルケトンで１：１に希釈したのち、ワイヤーバーコーターで２．４ｍｌ／ｍ2塗布した。直ちに、１２０℃の温風で１２０秒乾燥した。
【０２７４】
配向膜上に、下記の棒状液晶化合物１．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を、＃２．３のワイヤーバーで塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶化合物を架橋した。その後、室温まで放冷した。このようにして、偏光板保護膜２を製作した。
【０２７５】
【化２３】
2007041514.tif 000026
【０２７６】
【化２４】
2007041514.tif 000027
【０２７７】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、偏光板保護膜２のＲｅの光入射角度依存性を測定したところ、Ｒｅが２ｎｍ、Ｒｔｈが−１５ｎｍであった。また、偏光板保護膜２の全体の厚みは８３μｍであった。
【０２７８】
＜偏光板Ａの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜２にケン化処理を行い、そのセルロースアセテートフィルム側が偏光膜がわになるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ａを作製した。
【０２７９】
＜偏光板Ｂの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８
０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の偏光板保護膜１にケン化処理を行い、偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｂを作製した。
【０２８０】
＜偏光板Ｃの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴ４０ＵＺ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝３５ｎｍ、厚み４０μｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｃを作製した。
【０２８１】
＜偏光板Ｄの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両面に貼り付け偏光板Ｄを作製した。
【０２８２】
＜偏光板Ｅの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝４５ｎｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付け偏光板Ｅを形成した。
【０２８３】
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０２８４】
【化２５】
2007041514.tif 000028
【０２８５】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出
後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０２８６】
（ゾル液の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２８７】
（防眩層用塗布液Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５．４ｇをメチルイソブチルケトン４６．３ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１．３ｇ添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤（Ｐ−７）０．０４ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を５．２ｇ、分子量４０，０００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル（株）製）０．５０ｇを加えてエアーディスパーにて１２０分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２０であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を２１．０ｇ加えた後にエアーディスパーにて１０分間攪拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Ａを調製した。
【０２８８】
（防眩層用塗布液Ｂの調製）
主溶媒として用いるメチルイソブチルケトン（２１．７℃における蒸気圧：１６．５ｍｍＨｇ）４６．３ｇを４０．０ｇに変更し、更に水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール（２０．０℃における蒸気圧：０．０８ｍｍＨｇ）を６．３ｇ添加した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｂを調整した。
【０２８９】
（防眩層用塗布液Ｃの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２．７ｇをメチルイソブチルケトン１６．７ｇで希釈し、コロイダルシリカ分散液ＭｉＢＫ−ＳＴ（商品名、平均粒径１５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）４２．３ｇを添加した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１．３ｇ添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤（Ｐ−７）０．０４ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を５．２ｇ、分子量４０，０００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル（株）製）０．５０ｇを加えてエアーディスパーにて１２０分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５００であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．０μｍの架橋ポリ（メチルメタクリレート）粒子（架橋剤＝エチレングリコールジメタクリレートを１０％含有、屈折率１．４９２）の３０％メチルイソブチルケトン分散液を２１．０ｇ加えた後にエアーディスパーにて１０分間攪拌した。
前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Ｂを調製した。
【０２９０】
（防眩層用塗布液Ｄの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０７）に変更した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｄを調整した。
【０２９１】
（防眩層用塗布液Ｅの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝６０／４０、屈折率１．５２２）に変更した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｅを調整した。
【０２９２】
（防眩層用塗布液Ｆの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を添加しない以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｆを調整した。
【０２９３】
（防眩層用塗布液Ｇの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を共重合組成比を４０／６０（屈折率１．５４０）に変更し、その添加量を３０％メチルイソブチルケトン分散液として３９．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｇを調整した。
【０２９４】
（防眩層用塗布液Ｈの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を共重合組成比を４０／６０（屈折率１．５４０）に変更し、その添加量を３０％メチルイソブチルケトン分散液として２６．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Ｈを調整した。
【０２９５】
（防眩層用塗布液Iの調製）
前記平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５３０）を共重合組成比を３０／７０（屈折率１．５７０）に変更し、その添加量を３０％メチルイソブチルケトン分散液として３９．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液Ａと同様にして、防眩層用塗布液Iを調整した。
【０２９６】
（低屈折率層用塗布液Ａの調整）
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、前記ゾル液０．６ｇ、およびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ａを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
【０２９７】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調整）
（分散液Ａ−１の調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０ｇ、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５ｇ加え混合した後に、イオン交換水を９ｇを加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８ｇを添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２９８】
（塗布液Ｂの調製）
オプスターＪＴＡ１１３  （熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液（固形分６％）：ＪＳＲ（株）製）７８３．３質量部（固形分として４７．０質量部）に対して、分散液Ａ−１を１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、コロイダルシリカ分散物（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が１０対９０になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｂを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３９であった。
【０２９９】
（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）１５．２ｇ、中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）２．１ｇ、反応性シリコーンＸ−２２−１６４Ｂ（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液ａ  ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｃを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４０であった。
【０３００】
＜防眩性反射防止フィルムの作製＞
（１）防眩層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ）をロール形態で巻き出して、特開２００３−２１１０５２に記載の装置構成および下記の塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液Ａを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
【０３０１】
基本条件：スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで，スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧL  を、防眩層用塗布液を塗布する際には８０μｍ、低屈折率層用塗布液を塗布する際には５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧS  、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧB  はともに２００μｍとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、防眩層：防眩層用塗布液Ａ、Ｃの場合：塗布速度＝２０ｍ／分、ウエット塗布量＝１７．５ｍｌ／ｍ2で、防眩層用塗布液Ｂの場合：塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝１７．５ｍｌ／ｍ2で、低屈折率層：塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝５．０ｍｌ／ｍ2で塗布を行った。なお、塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。
【０３０２】
（２）低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Ａを塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Ａを上記の基本条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
【０３０３】
（３）防眩性反射防止フィルムの鹸化処理
前記低屈折率層の製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの防眩性反射防止フィルムを作製した。これをＡＧＦ１１−１とする。
【０３０４】
防眩層用塗布液Ａを防眩層用塗布液Ｂ、Ｃ及びＥに変更した以外はＡＧＦ１１−１と同様にして防眩層を形成し、更にＡＧＦ１１−１と同様にして低屈折率層の塗設、ケン化処理した。眩層用塗布液Ｂを塗布したものをＡＧＦ１１−２とし、防眩層用塗布液Ｃを塗布したものをＡＧＦ１１−３とし、防眩層用塗布液Ｅを塗布したものをＡＧＦ１１−４とした。また、防眩層用塗布液Ａを防眩層用塗布液Ｇ、Ｈ及びIに変更し、ウェット塗布量＝２１．０ｍｌ／ｍ2に変更した以外はＡＧＦ１１−１と同様にして防眩層を形成し、更にＡＧＦ１１−１と同様にして低屈折率層の塗設、ケン化処理した。眩層用塗布液Ｇを塗布したものをＡＧＦ１１−５とし、防眩層用塗布液Ｈを塗布したものをＡＧＦ１１−６とし、防眩層用塗布液Iを塗布したものをＡＧＦ１１−７とした。また、防眩層用塗布液Ａを防眩層用塗布液Ｄに変更した以外はＡＧＦ１１−１と同様にして防眩層を形成し、更にＡＧＦ１１−１と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理した。防眩層用塗布液Ｄを塗布したものをＡＧＦ６−１とし、防眩層用塗布液Ｆを塗布したものをＡＧＦ６−２とした。
【０３０５】
（防眩性反射防止フィルムの評価）
得られたフィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示す。
【０３０６】
（１）平均反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における鏡面分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面反射率の算術平均値を用いた。
【０３０７】
（２）ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ（Ｈ）、内部ヘイズ（Ｈｉ）、表面ヘイズ（Ｈｓ）を測定した。
１）ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
２）得られたフィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ  ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られたフィルムを光学的
に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。
３）上記１）で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記２）で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出した。
（３）像鮮明性
ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じて透過画像鮮明性を光学くし幅０．５ｍｍで測定した。
【０３０８】
（４）中心線平均粗さ
ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準じて得られたフィルムの中心線平均粗さＲａを測定した。
【０３０９】
（５）防眩性
得られたフィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ２）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる                ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる      ：△
蛍光灯がほとんどぼけない                    ：×
【０３１０】
【表２】
2007041514.tif 000029
【０３１１】
また、ＡＧＦ１１−１の低屈折率層用塗布液Ａを低屈折率層用塗布液Ｂに置き換えた以外は同様にして防眩性反射防止フィルムを作製したところ、平均反射率が１．２％に改良された。
また、ＡＧＦ１１−１の低屈折率層用塗布液Ａを低屈折率層用塗布液Ｃに置き換え、塗布後の紫外線を照射量９００ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして防眩性反射防止フィルムを作製したところ、平均反射率が１．５％に改良された。また、低屈折率層用塗布液Ｃは熱硬化と併用であるため、耐擦傷性を向上することができた。
【０３１２】
＜偏光板Ｈの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜１に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ｈを作製した。
【０３１３】
＜偏光板Ｉの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜２に鹸化処理を行い、そのセルロースアセテートフィルム側が偏光膜がわになるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ｉを作製した。
【０３１４】
＜偏光板Ｊの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍ、厚み８０μｍ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｊを作製した。
【０３１５】
＜偏光板Ｋの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にしてフィルム位相差１に鹸化処理を行い、第１位相差領域４側が偏光膜側となるように、且つ変更膜の透過軸と第１位相差領域４の遅相軸が平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｋを作製した。
【０３１６】
＜偏光板Ｌ１の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして位相差３を、セルロースアシレートフィルム（第１位相差領域５）側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸が平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｌ１を作製した。
【０３１７】
＜偏光板Ｌ２の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして位相差３を、セルロースアシレートフィルム（第１位相差領域５）側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸が平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｌ２を作製した。
【０３１８】
＜偏光板Ｌ３の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ６−１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして位相差３を、セルロースアシレートフィルム（第１位相差領域５）側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸が平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｌ３を作製した。
【０３１９】
＜偏光板Ｍ１の作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防
眩性反射防止フィルムＡＧＦ６−１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側に偏光板保護膜２に鹸化処理を行い、そのセルロースアセテートフィルム側が偏光膜がわになるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ｍ１を作製した。
【０３２０】
＜偏光板Ｍ２の作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ６−１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに偏光膜のもう片側市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、偏光板Ｍ２を作製した。
【０３２１】
＜偏光板Ｎの作製＞
次に延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、防眩性反射防止フィルムＡＧＦ６−１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にしてフィルム位相差１に鹸化処理を行い、第１位相差領域４側が偏光膜側となるように、且つ変更膜の透過軸と第１位相差領域４の遅相軸が平行になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｎを作製した。
＜偏光板Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ、Ｔの作製＞
防眩性反射防止フィルムＡＧＦ１１−２の代わりにＡＧＦ１１−１、ＡＧＦ１１−３、ＡＧＦ１１−４、ＡＧＦ１１−５、ＡＧＦ１１−６、ＡＧＦ１１−７を使用した以外は偏光板Ｉを作製した方法と同様の方法で偏光板Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ、Ｔを作製した。
【０３２２】
＜液晶表示装置ＬＲ１の作製＞
偏光板Ａの偏光板保護膜２側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。
【０３２３】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側（電極を配設していないガラス基板側）に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側（電極を配設したガラス基板側）に偏光板ＣをフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置ＬＲ１を作製した。
【０３２４】
＜液晶表示装置Ｌ１１の作製＞
偏光板Ｉの偏光板保護膜２側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。
【０３２５】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板ＣをフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｉとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置Ｌ１１を作製した。
【０３２６】
＜液晶表示装置Ｌ１２の作製＞
偏光板Ｈの偏光板保護膜１側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域２を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域２の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。
【０３２７】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域２の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｈとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置Ｌ１２を作製した。
【０３２８】
＜液晶表示装置Ｌ１３の作製＞
偏光板ＪのフジタックＴＤ８０ＵＦ側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域３を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域３の遅相軸が平行になるように貼り付けた。この構成では偏光板Ｊの保護膜であるフジタックＴＤ８０ＵＦ、Ｒｅ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝４８ｎｍが第２位相差領域に相当する。
【０３２９】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域３の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第１位相差領域３面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１のもう背面側に偏光板Ｃを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｊとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置Ｌ１３を作製した。このように作製した液晶表示装置の漏れ光を測定した。
【０３３０】
＜液晶表示装置Ｌ１４の作製＞
偏光板Ｋを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、第１位相差領域４の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域４の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域２面側が液晶セル側になるように偏光板Ｋを貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｋとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置Ｌ１４を作製した。
【０３３１】
＜液晶表示装置Ｌ１５の作製＞
偏光板ＪのＴＤ８０ＵＦ側にフィルム位相差２を、第２位相差領域３側が偏光膜側となるように、且つ偏光膜の透過軸と第１位相差領域５の遅相軸が直交になるようにアクリル樹脂系接着剤を用いて、貼り付け偏光板６を形成した。
【０３３２】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、第１位相差領域５の遅相軸が液晶セルのラビング方向と直交になるように（即ち、第１位相差領域５の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第１位相差領域５面側が液晶セル側になるように偏光板６を貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板６とはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置Ｌ１５を作製した。
【０３３３】
＜液晶表示装置Ｌ１６〜Ｌ２１の作製＞
偏光板Ｉの代わりに偏光板Ｏ、Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ、Ｔを使用する以外は液晶表示装置Ｌ１１と同様の方法で液晶表示装置Ｌ１６〜Ｌ２１を作製した。
【０３３４】
＜液晶表示装置ＬＲ８の作製＞
偏光板Ｍ１の偏光板保護膜２側にアクリル系接着剤を用いて、作製した第１位相差領域１を、偏光膜の透過軸と第１位相差領域１の遅相軸が直交になるように貼り付けた。さらにこれに第２位相差領域１をアクリル系接着剤を用いて貼合した。
【０３３５】
これを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域１の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交になるように）、且つ第２位相差領域１面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板ＣをフジタックＴ４０ＵＺ側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｍとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置ＬＲ８を作製した。
【０３３６】
＜液晶表示装置ＬＲ９の作製＞
偏光板Ｎを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、第１位相差領域４の遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域４の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、且つ第２位相差領域２面側が液晶セル側になるように貼り付けた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１側が液晶セル側になるように、且つ偏光板Ｎとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置ＬＲ９を作製した。
【０３３７】
本発明の実施例に対応する液晶表示装置Ｌ１１〜Ｌ２１及び、比較例に対応する液晶表示装置ＬＲ１、ＬＲ８〜ＬＲ９に対し、斜め漏れ光、暗室コントラスト、防眩性を下記の方法で評価し、表３にまとめた。
なお、上記の液晶表示装置では光学補償領域は全て視認側の偏光板と液晶層の間に設けられており、防眩性フィルムは第１の保護膜に対応する。
【０３３８】
（１）斜め漏れ光
暗室内に設定されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせない状態で液晶セル１を電極を配設した基板がシャーカステン側になるように置き、液晶セルのラビング方向を基準として左方向に４５度の方位で、且つ液晶セルの法線方向から６０度の方向に１ｍ離れたところに設置された輝度計（分光放射輝度計ＣＳ−１０００：ミノルタ（株）製）で輝度１を測定した。
次いで、上記と同じシャーカステン上に偏光板を貼り合わせた各液晶表示装置を置き、上記と同様に輝度２を測定し、これを輝度１に対する１００分率で表したものを斜め漏れ光とした。
【０３３９】
（２）暗室コントラスト
暗室内に設定されたシャーカステン上に、偏光板を貼り合わせた状態の各液晶表示装置を、電極を配設した基板がシャーカステン側になるように置き、液晶セルの法線方向に１ｍ離れたところに設置された輝度計（分光放射輝度計ＣＳ−１０００：ミノルタ（株）製）で、輝度の比（白表示／黒表示）であるコントラスト比を測定した。
【０３４０】
（３）防眩性
上記で作製した液晶表示装置の視認者側にむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を４５度の角度から映し、−４５度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                  ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる                  ：○
蛍光灯はぼやけているが、輪郭は識別できる      ：△
蛍光灯がほとんどぼけない                      ：×
【０３４１】
【表３】
2007041514.tif 000030
【０３４２】
※上記光学補償領域の欄に記載の（Ａ＋Ｂ）とは視認側偏光板のセル側保護膜に近い側か
ら位相差領域Ａ、位相差領域Ｂがこの順で搭載されていることを意味する。また、第Ｘ位Ｙとは第Ｘ位相差Ｙを意味する。
【０３４３】
表３の結果から以下のことが明らかである。
内部散乱に起因するヘイズ値が５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％、あるいは内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜３０％である防眩層を搭載した本発明の液晶表示装置は斜め漏れ光が少なく、暗室コントラストが高く、防眩性も高く、優れたものであった。
特に防眩層の内部散乱に起因するヘイズ値が５〜２０％且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％または内部散乱に起因するヘイズ値が０〜５％且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜２０％である防眩フィルムＡＧＦ１１−１〜１１−４を搭載した液晶表示装置Ｌ１２〜Ｌ１８では防眩フィルムを搭載していない液晶表示装置ＬＲ１と同等の正面コントラストが得られ、特に好ましい。
【０３４４】
＜液晶表示装置Ｌ２２の作製＞
偏光板Ｌ１を、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、セルロースアシレートフィルム（第１位相差領域５）の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、かつ第２位相差領域４が液晶セル側になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板Ｂを偏光板保護膜１が液晶セル側になるように、かつ偏光板Ｌ１とはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置Ｌ２２を作製した。
【０３４５】
＜液晶表示装置Ｌ２３の作製＞
偏光板Ｌ２を、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の背面側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、セルロースアシレートフィルム（第１位位相差領域５）の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行になるように）、かつ第２位相差領域４が液晶セル側になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の視認者側に偏光板Ｈを偏光板保護膜１が液晶セル側になるように、かつ偏光板Ｌ２とはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置Ｌ２３を作製した。
【０３４６】
＜液晶表示装置Ｌ２４の作製＞
偏光板Ｂの偏光板保護膜１側に位相差４を、アクリル粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、偏光膜の透過軸と光学補償フィルムの遅相軸とは直交するようにした。このようにして偏光板７を作成した。
偏光板７を、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の背面側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、位相差４の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交するように）、かつ位相差４が液晶セル側になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の視認者側に偏光板Ｈを偏光板保護膜１が液晶セル側になるように、かつ偏光板７とはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置Ｌ２４を作製した。
【０３４７】
＜液晶表示装置Ｌ２５の作製＞
偏光板ＣのフジタックＴ４０ＵＺ側に第１位相差領域６を、アクリル粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、偏光膜の透過軸と光学補償フィルムの遅相軸とは平行になるようにした。このようにして偏光板８を作成した。この構成ではＴ４０ＵＺが第２位相差領域に対応する。
偏光板８を、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の背面側に、偏光板の透過軸が液
晶セルのラビング方向とは平行となるように（即ち、第１位相差領域６の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と平行となるように）、かつ第１位相差領域６が液晶セル側になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の視認側に偏光板Ｈを偏光板保護膜が液晶セル側になるように、かつ偏光板８とはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置Ｌ２５を作製した。
【０３４８】
＜液晶表示装置Ｌ２６の作製＞
偏光板Ｂの偏光板保護膜１側に上記で作製した位相差６を、アクリル粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、位相差６に含まれる第２位相差領域５が偏光板Ｂ側になるようにし、かつ、偏光膜の透過軸と第１位相差領域７の遅相軸とは直交するようにした。このようにして偏光板９を作成した。
偏光板９を、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の背面側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように（即ち、第１位相差領域７の遅相軸が、黒表示時の液晶セルの液晶分子の遅相軸と直交するように）、かつ位相差６が液晶セル側になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の視認側に偏光板Ｈを偏光板保護膜が液晶セル側になるように、かつ偏光板９とはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置Ｌ２６を作製した。
【０３４９】
＜液晶表示装置ＬＲ１０の作製＞
偏光板Ｄを、前記で作製したＩＰＳモード液晶セル１の視認側に、偏光板の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように貼り合わせた。
続いて、このＩＰＳモード液晶セル１の背面側に偏光板ＣをＴ４０ＵＺが液晶セル側になるように、かつ偏光板Ｄとはクロスニコル配置になるように貼り合わせ、液晶表示装置ＬＲ１０を作製した。
【０３５０】
＜液晶表示装置ＬＲ１１の作製＞
上記液晶表示装置Ｌ２２に対し、視認側偏光板Ｌ１を偏光板Ｌ２に変更し、液晶表示装置ＬＲ１１を作製した。
【０３５１】
＜液晶表示装置ＬＲ１２の作製＞
上記液晶表示装置Ｌ２２に対し、視認側の偏光板Ｌ１を偏光板Ｊに、また、背面側の偏光板Ｂを偏光板Ｄに変更し、液晶表示装置ＬＲ１２を作製した。
【０３５２】
＜液晶表示装置ＬＲ１３の作製＞
上記液晶表示装置Ｌ２２に対し、視認側の偏光板Ｌ１を偏光板Ｍ２に、また、背面側の偏光板Ｂを偏光板Ｄに変更し、液晶表示装置ＬＲ１３を作製した。
【０３５３】
＜液晶表示装置ＬＲ１４の作製＞
上記液晶表示装置Ｌ２２に対し、視認側の偏光板Ｌ１を偏光板Ｌ３に変更し、液晶表示装置ＬＲ１４を作製した。
【０３５４】
本発明の実施例に対応する液晶表示装置Ｌ２２〜Ｌ２６及び、比較例に対応する液晶表示装置ＬＲ１０〜ＬＲ１４に対し、斜め漏れ光、暗室コントラスト、及び防眩性を評価し、表４と表５にまとめた。
なお、表４に記載の液晶表示装置Ｌ２２、ＬＲ１１、ＬＲ１４では光学補償領域が視認側の偏光板と液晶層の間に設けられて、防眩性フィルムは本発明の第１保護膜に対応する。また、表５に記載の液晶表示装置Ｌ２３〜Ｌ２６では光学補償領域が視認者側の偏光板と液晶層の間に設けられて、防眩性フィルムは本発明の第２保護膜に対応する。
【０３５５】
【表４】
2007041514.tif 000031
【０３５６】
【表５】
2007041514.tif 000032
【０３５７】
上記の結果から以下のことが明らかである。
黒表示時に液晶層の液晶分子が基板面に対して平行配向するＩＰＳ型液晶表示装置において、光学補償領域を設けた上で、内部散乱に起因するヘイズが５〜３５％、且つ表面散乱に起因するヘイズ値が１〜１０％である防眩層を搭載させることで、正面コントラストの低下を抑制しながら、防眩性を付与することができる。
なお、光学補償領域を設けないＩＰＳモードの液晶表示装置での比較では防眩層が上記範囲のＡＧＦ１１−２を搭載したものと防眩層を上記範囲外のＡＧＦ６−１を搭載したものの斜め漏れ光と暗室コントラストの差は僅かであり認知できないレベルであった。
更に、上記の光学補償フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねているＬ２２とＬ２３の態様の光学特性が特に優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０３５８】
【図１】本発明の液晶表示装置の画素領域例を示す模式図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の第一の実施形態の模式図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の第一の実施形態の模式図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の第二の実施形態の模式図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の第二の実施形態の模式図である。
【符号の説明】
【０３５９】
１  液晶素子画素領域
２、３  電極
４  ラビング方向
５ａ、５ｂ  黒表示の液晶化合物のダイレクター
６ａ、６ｂ  白表示の液晶化合物のダイレクター
７ａ  第１保護膜
７ｂ  保護膜
８  偏光膜
９  透過軸
１０  第１位相差領域
１１  遅相軸
１２  第２位相差領域
１３  基板
１４、１８  ラビング処理方向
１５  液晶層
１６  遅相軸
１７  基板
１９ａ  保護膜
１９ｂ  第２保護膜
２０  偏光膜
２１  透過軸
【図１】
2007041514.tif 000033
【図２】
2007041514.tif 000034
【図３】
2007041514.tif 000035
【図４】
2007041514.tif 000036
【図５】
2007041514.tif 000037