(57)【要約】【課題】発明の目的は、製造時にひび割れ等の欠陥がなく、折れ割れ等の取り扱い性に優れ、高いインク吸収性及び発色性を有するインクジェット記録用紙を提供することにある。【解決手段】支持体上に、側鎖にエチレン性二重結合を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物、重合開始剤として下記一般式（１）で表される化合物、及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜に電離放射線を照射して、前記親水性高分子化合物の側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成したことを特徴とするインクジェット記録用紙。    【化１】2007098710.tif 000012【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、側鎖にエチレン性二重結合を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物、重合開始剤として下記一般式（１）で表される化合物、及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜に電離放射線を照射して、前記親水性高分子化合物の側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成したことを特徴とするインクジェット記録用紙。
【化１】
2007098710.tif 000011
（式中、Ｒはｎ価の任意の基を表し、ポリマーであっても良い。ｎは２以上の整数を表す。）
【請求項２】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒが炭素数１〜３のアルキル基から導かれる２〜４価の基であり、ｎが２〜４の整数であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録用紙。
【請求項３】
前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒがメチレン基であり、ｎが２であることを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録用紙。
【請求項４】
前記一般式（１）で表される化合物中の４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）フェニル基（Ａ）の、親水性高分子化合物中のエチレン性二重結合（Ｂ）に対するモル比（Ａ／Ｂ）が１．０以上４．０以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙。
【請求項５】
微粒子として、一次粒径２０ｎｍ以下の気相法シリカを少なくとも用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット記録用紙に関し、詳しくは製造時にひび割れ等の欠陥がなく、折れ割れ等の取り扱い性に優れ、高いインク吸収性及び発色性を有するインクジェット記録用紙に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット記録方式においては、急速に画質向上が図られてきており、得られる画質は銀塩写真画質に迫りつつある。この様な写真画質をインクジェット記録で達成するための手段として、使用するインクジェット記録用紙においても急速な技術改良が試みられている。
【０００３】
インクジェット記録方式で用いられる支持体としては、インクジェット記録用紙として広く用いられている、紙等の吸水性支持体や、吸水性支持体をポリエステルフィルムや樹脂等で被覆した非吸収性支持体等が知られている。前者は、支持体自身がインクを吸収できるため、高インク吸収能を有している利点がある反面、支持体の吸水性に起因するプリント後にシワが発生（コックリングともいう）するという問題があり、高品位なプリントが得にくかったり、プリント時にコックリングに伴うヘッドによるプリント表面の擦りが起き易いなどの課題を有している。これに対し、非吸収性支持体を使用する場合には、上述の問題はなく、高品位なプリントが得られる利点がある。
【０００４】
一方、インク受容層として、例えば、高平滑性を有する支持体上に、インク吸収層としてゼラチンやポリビニルアルコール等の親水性バインダーを塗布してインク受容層を形成したインクジェット記録用紙が知られている。このタイプのインクジェット記録用紙は、バインダーの膨潤性を利用してインクを吸収する。
【０００５】
この様な膨潤型のインク受容層は水溶性樹脂を用いているがゆえに、プリント後のインク乾燥性に難があり、画像や皮膜が水分に対して弱く耐水性に乏しく、更に、昨今のインクジェットプリンターにおいては印字速度が早いため、バインダーの膨潤によるインク吸収能がインク吐出量や吐出速度に追いつかず、インク溢れやまだらとなり適応性がなくなっている等の問題があった。
【０００６】
一方、特開昭６３−１８３８７号には変性ポリビニルアルコールと耐水化剤により構成されるインク受容層が開示されている。また、特開平１−２８６８８６号には、電離放射線により架橋された親水性樹脂によるインク受容層を有する水性インク用記録シートが提案されている。硬化されたバインダーをインク受容層とすることにより、画像や皮膜の耐水性は解決されているが、本来、親水性樹脂の膨潤性によりインクを吸収させているため、インク吸収性は改善されていないのが現状である。
【０００７】
上記水溶性樹脂の膨潤性を利用してインクを吸収する膨潤タイプのインクジェット用記録用紙に対し、特開平１０−１１９４２３号等に記載されている微小な空隙を有する多孔質層をインク吸収層として設けたインクジェット記録用紙は、高インク吸収能と高速乾燥性を有しており、最も写真画質に近い画質が得られる方法の一つになりつつある。
【０００８】
この多孔質層は、主に親水性バインダーと微粒子とで形成されており、微粒子としては無機微粒子または有機微粒子が知られているが、一般的には、無機微粒子がより小粒径であり、散乱光も少なく、高濃度画像が得られ、かつ高光沢の多孔質層を実現できるため好ましく用いられる。このような無機微粒子に対して、比較的少量の親水性バインダーを使用することにより、無機微粒子間に空隙が形成されて、高空隙率の多孔質層が得られる。
【０００９】
この様にして形成された空隙は、毛管現象によりインクを吸収するので架橋剤等を併用してバインダーを架橋するため、耐水性を向上させてもインク吸収速度を損なうことはない。
【００１０】
特に、ポリエチレンコート紙のような非吸収性支持体上に、このような多孔質層を設けたインクジェット記録用紙の場合には、インクジェット記録する際、一時的にすべてのインクをインク受容層に保持する必要があるため、インク受容層は高空隙容量の多孔質層でなくてはならず、従って、高空隙率で、かつ厚い塗膜を形成させる必要がある。通常は、乾燥膜厚として２５μｍ以上であり、更には３０μｍ以上、５０μｍ以下となる。
【００１１】
このような多孔質層は、主成分が無機微粒子であり、元来硬い皮膜であることから、厚い膜厚の多孔質層を非吸収性支持体上に塗布する場合、乾燥時にひび割れが起きやすい。
【００１２】
一般に、多孔質層の製造過程においては、少量の親水性バインダーが無機微粒子の表面に吸着し、その親水性バインダー間で絡み合う、もしくはバインダー間の水素結合などの相互作用により無機微粒子を保持し、保護コロイドとして多孔質層を形成する。
【００１３】
その後、乾燥過程において塗膜の急激な収縮がおき、その収縮応力により膜面にひび割れが起こる。特に、皮膜の乾燥終点付近においてその現象が顕著である。
【００１４】
そのため、ひび割れなどがない良好な膜面を得るためには、生産性を犠牲にし、比較的穏やかな条件で乾燥させる必要があった。
【００１５】
更に、乾燥後の多孔質層においては、無機微粒子が比較的少量の親水性バインダーにより結着されているだけなので、耐水性が悪いという課題があった。
【００１６】
このような課題に対しては、特開２００１−１４６０６８号に記載されているホウ酸とイソシアネート系架橋剤を用いて皮膜耐水性を向上させたインクジェット記録用紙や、特開平７−４０６４９号に記載されている活性エネルギー線硬化型モノマーをバインダーとして用いたインクジェット記録用紙や、あるいは、特開２００２−１６０４３９号に記載されている電子線により架橋された親水性樹脂をバインダーとして用いたインクジェット記録用紙等が開示されている。
【００１７】
しかしながら、上述のように親水性バインダーに架橋剤を用いる場合には、十分な折れわれ耐性を得るには、多量の架橋剤が必要となり、結果として親水性バインダーと架橋剤を一液化できなくなってしまう。従って、インク受容層を塗工、乾燥後に架橋剤をオーバーコートする製造形態となり、インク受容層の乾燥時に発生するひび割れを抑制することができず、また、生産性にも劣るものであった。また、上述のように活性エネルギー線硬化型モノマーをバインダーとした場合、バインダー間の架橋により、乾燥塗膜において皮膜耐水性が改善されても、塗膜は緻密な三次元架橋を形成するため、柔軟性が失われ、皮膜の折れ割れ耐性を悪くするという新たな課題があった。
【００１８】
製造時のひび割れが良好で、かつ高いインク吸収性と折れ割れ耐性を備えた多孔質層を有するインクジェット記録用紙として、電離放射線により側鎖間で架橋結合させた親水性高分子と微粒子からなる多孔質層を備えたインクジェット記録用紙が知られている（特許文献１参照）。
【００１９】
しかしながら、該特許文献１に記載の方法では、側鎖間の架橋反応の効率が十分高くなく、十分なひび割れ耐性を得るには高エネルギーの電離放射線が必要であり、またインク吸収性や折れ割れ耐性も満足できるレベルにはなかった。
【００２０】
これに対し、親水性樹脂に加えてエチレン性二重結合を有する樹脂エマルジョンを用いることにより、高いひび割れ耐性、インク吸収性、高湿カール耐性、折れ割れ耐性を実現しているインクジェット記録用紙が知られている（特許文献２参照）。該特許文献２では親水性樹脂と樹脂エマルジョンの間で架橋結合させることにより、より柔軟な多孔質層を形成させて効果を発現しているものと思われる。しかしながら、電離放射線の利用効率が不十分であるためか、依然として高いエネルギーの電離放射線が必要でエネルギー効率が不十分であると同時に、エマルジョンによる光散乱のため発色性に劣るという欠点があった。
【００２１】
本発明者らは、架橋反応の効率を飛躍的に高めることにより、発色性を劣化させることなく、高いひび割れ耐性と折れ割れ耐性を実現し、かつ製造時のエネルギー利用効率にも優れるインクジェット記録用紙を見出し、本発明に至った。
【特許文献１】特開２００４−１３６６４４号公報
【特許文献２】特開２００５−２２５０２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、製造時にひび割れ等の欠陥がなく、折れ割れ等の取り扱い性に優れ、高いインク吸収性及び発色性を有するインクジェット記録用紙を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【００２４】
（１）支持体上に、側鎖にエチレン性二重結合を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物、重合開始剤として下記一般式（１）で表される化合物、及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜に電離放射線を照射して、前記親水性高分子化合物の側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成したことを特徴とするインクジェット記録用紙。
【００２５】
【化１】
2007098710.tif 000002
【００２６】
（式中、Ｒはｎ価の任意の基を表し、ポリマーであっても良い。ｎは２以上の整数を表す。）
（２）前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒが炭素数１〜３のアルキル基から導かれる２〜４価の基であり、ｎが２〜４の整数であることを特徴とする前記（１）項に記載のインクジェット記録用紙。
【００２７】
（３）前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒがメチレン基であり、ｎが２であることを特徴とする前記（２）項に記載のインクジェット記録用紙。
【００２８】
（４）前記一般式（１）で表される化合物中の４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）フェニル基（Ａ）の、親水性高分子化合物中のエチレン性二重結合（Ｂ）に対するモル比（Ａ／Ｂ）が１．０以上４．０以下であることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙。
【００２９】
（５）微粒子として、一次粒径２０ｎｍ以下の気相法シリカを少なくとも用いることを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれか１項に記載のインクジェット記録用紙。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、製造時にひび割れ等の欠陥がなく、折れ割れ等の取り扱い性に優れ、高いインク吸収性及び発色性を有するインクジェット記録用紙を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３２】
以下、本発明の詳細について説明する
製造時のひび割れ良好で、かつ高いインク吸収性と折れ割れ耐性を備えた多孔質層を有するインクジェット記録用紙として、特開２００４−１３６６４４号に記載されているように、電離放射線により側鎖間で架橋結合させた親水性高分子と微粒子からなる多孔質層を備えたインクジェット記録用紙が知られている。
【００３３】
しかしながら、特開２００４−１３６６４４号記載の方法では、側鎖間の架橋反応の効率が十分高くなく、十分なひび割れ耐性を得るには高エネルギーの電離放射線が必要であり、またインク吸収性や折れ割れ耐性も満足できるレベルにはなかった。
【００３４】
これに対し、特開２００５−２２５０２７では、親水性樹脂に加えてエチレン性二重結合を有する樹脂エマルジョンを用いることにより、高いひび割れ耐性、インク吸収性、高湿カール耐性、折れ割れ耐性を実現している。
【００３５】
特開２００５−２２５０２７号では親水性樹脂と樹脂エマルジョンの間で架橋結合させることにより、より柔軟な多孔質層を形成させて効果を発現しているものと思われる。しかしながら、電離放射線の利用効率が不十分であるためか、依然として高いエネルギーの電離放射線が必要でエネルギー効率が不十分であると同時に、エマルジョンによる光散乱のため発色性に劣るという欠点があった。
【００３６】
本発明者らは、架橋反応の効率を飛躍的に高めることにより、発色性を劣化させることなく、高いひび割れ耐性と折れ割れ耐性を実現し、かつ製造時のエネルギー利用効率にも優れるインクジェット記録用紙を見出し、本発明に至った。
【００３７】
本発明の一般式（１）に示すような１分子中に２つ以上の４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）フェニル基（以下、光重合性官能基ともいう。）を有する化合物は、１分子中に一つの光重合性官能基を有する化合物を等しい光官能基分用いるよりも高い重合反応性を有する。その詳細な機構は明らかにされていないが、１分子中に複数の光重合性官能基を有することにより、重合開始剤とエチレン性二重結合（以下、架橋性基ともいう。）との反応後に、ラジカル重合反応が停止してしまっても、重合開始剤を介して、複数の架橋性基が結合して架橋された状態を形成することができるためではないかと推定される。
【００３８】
本発明の一般式（１）で表される化合物について説明する。
【００３９】
前記一般式（１）において、Ｒはｎ価の任意の基を表し、ポリマーであっても良い。ｎは２以上の整数を表す。
【００４０】
Ｒはｎ価の任意の基を表し、ポリマーであっても良い。Ｒとして用いることのできる基としては、特に制限はないが、置換もしくは無置換のアルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、２−カルボキシプロピレン基、２−カルボキシブチレン基、２−スルホプロピレン基、２−スルホブチレン基、１−ヒドロキシエチレン基、２−ヒドロキシ−プロピレン基、２−ヒドロキシ−ブチレン基、２−シアノ−プロピレン基、２−クロロ−プロピレン基、２−ブロモ−プロピレン基、１−メトキシ−エチレン基、２−エトキシ−プロピレン基、２−エトキシカルボニルプロピレン基、２−フェノキシ−プロピレン基、２−アセチルオキシプロピレン基、２−プロピオニルオキシプロピレン基、１−アセチルエチレン基、１−カルバモイルエチレン基、１−モルホリノカルボニルエチレン基、１−スルファモイルエチレン基、１−（Ｎ，Ｎ，−ジメチルスルファモイル）エチレン基、１−（２−ピリジル）エチレン基、アリレン基、２−アミノプロピレン基、１−ジメチルアミノエチレン基、２−ジメチルアミノプロピレン基、メチルチオメチレン基、１−メチルスルホニルエチレン基、メチルスルフィニルメチレン基、１−アセチルアミノエチレン基、アセチルアミノメチレン基、トリメチルアンモニウムメチレン基、１−メルカプトエチレン基、１−トリメチルヒドラジノエチレン基、メチルスルホニルカルバモイルメチレン基、（２−メトキシ）エトキシメチレン基等）、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基（例えばシクロプロピレン基、シクロヘキシレン基等）、置換もしくは無置換のヘテロ環基（例えばピロリジン、ピペリジン、アジリジン、アゼチジン、モルホリン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペラジン、オキシラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリジン、オキサゾリドン、ピペリドン、ピロリドン、スクシンイミド誘導体、無水コハク酸誘導体、スルホラン、ピリジン、ピリミジン、フラン、ピロール、キノリン等各々から導かれるヘテロ環基）、置換もしくは無置換のアルケニル基（例えばエチニル基、プロピオニル基、３−クロロプロピオニル基等）、置換もしくは無置換のアリール基（例えばフェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等）、置換もしくは無置換のアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、３−ヒドロキシプロピオニル基等）、置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、２−ジメチルアミノエトキシ基、プロポキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基、ブトキシ基等）、置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ）、置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−ジメチルアミノフェノキシ基、ｐ−フルオロフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基等）、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、トリエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基等）、置換もしくは無置換のアリールアミノ基（例えばフェニルアミノ基、ｐ−ジメチルアミノフェニルアミノ基、ｐ−フルオロフェニルアミノ基、ｐ−メトキシフェニルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基等）、置換若しくは無置換のヒドロキシルアミノ基（例えばメチルヒドロキシルアミノ基、エチルヒドロキシルアミノ基、ｎ−プロピルヒドロキシルアミノ基、ｎ−ブチルヒドロキシルアミノ基等）、置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基）、置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基，モルホリノスルファモイル基、ピペリジノスルファモイル基）、置換もしくは無置換のカルボニル基（例えば２−カルボキシエチル基、カルボキシメチル基、３−カルボキシプロピル基、４−カルボキシブチル基、３−カルボキシブチル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル等）、置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基）、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、プロピルスルホニル基）、置換もしくは無置換のアルキルスルフィニル基（例えばメチルスルフィニル基）、置換もしくは無置換のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、置換もしくは無置換のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、イミド基などから導かれるｎ価の基が挙げられる。
【００４１】
また、Ｒとして、ポリアクリル酸やその誘導体、ポリメタクリル酸やその誘導体、ポリスチレンやその誘導体、ポリアリルアミンやその誘導体、ポリジメチルジアリルアンモニウムやその誘導体などのごときポリマー構造をとることもでき、またこれらの共重合体であっても良い化合物、などから導かれるｎ価の基が挙げられる。
【００４２】
これらの中で、Ｒが炭素数１〜３のアルキル基から導かれる２〜４価の基とすることが、塗工液中の相溶性を維持しやすく、取り扱い性にも優れているため好ましい。
【００４３】
さらに、Ｒが炭素数１〜３のアルキレン基とすることが、塗工液中の相溶性を維持しやすく、取り扱い性にも優れているためより好ましい。さらには、Ｒをメチレン基とした場合、塗工液中の相溶性や取り扱い性が最良となるだけでなく、重合開始剤と架橋性基との反応後に、ラジカル重合反応が停止し、重合開始剤を介して、複数の架橋性基が結合して架橋された状態において、架橋基間の距離が最短となるため、親水性高分子化合物の主鎖の分子運動をより束縛でき、大きな架橋効果を得ることができるため最も好ましい。
【００４４】
本発明の化合物（１）の同一分子中に、光重合反応性を低下させない範囲で、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定剤、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系などの紫外線吸収剤などを結合させておくことも有用である。
【００４５】
また、これらの酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤などを、本発明の一般式（１）で表される化合物の紫外線吸収を妨げないなどの光重合反応性を低下させない範囲で、別の添加剤として使用することも有用である
ｎは２以上の整数を表す。ｎの数に制限はないが、分子量の増大とともに水溶性が低下するなど取り扱い性が低下することなどから、ｎが２〜４の範囲とすることが好ましく、ｎが２であることが最も好ましい。
【００４６】
また、一般式（１）で表される化合物中の４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）フェニル基（Ａ）の、親水性高分子化合物中のエチレン性二重結合（Ｂ）に対するモル比（Ａ／Ｂ）が１．０以上４．０以下となる範囲で用いることが好ましい。
【００４７】
本発明で用いることのできる一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４８】
【化２】
2007098710.tif 000003
【００４９】
【化３】
2007098710.tif 000004
【００５０】
【化４】
2007098710.tif 000005
【００５１】
これらの化合物の中でも、重合反応性、保存安定性、水溶性等の観点から、例示化合物１−１が最も好ましく用いられる。
【００５２】
本発明においては、複数の塗工液を同時に塗工後電離放射線を照射して多孔質層を形成する場合、電離放射線に近い層の塗工液と遠い層の塗工液で、重合開始剤の使用量を変えることも好ましい態様である。特に屈折率の高い微粒子を用いた場合や、多孔質層の厚い場合は、電離放射線に近い層と遠い層で、実効照射量が異なってくるため、用いる重合開始剤の量を変化させることが好ましい。
【００５３】
本発明においては、他の重合開始剤や重合促進剤を併用することもできる。
【００５４】
併用する重合開始剤としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができる。
【００５５】
例えば、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、チオキサトン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン等のチオキサントン類、エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類、アセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、２，４，６−トリハロメチルトリアジン類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール２量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体の２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体、ベンジルジメチルケタール、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、フェナントレンキノン、９，１０−フェナンスレンキノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾイン類、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、ビスアシルフォスフィンオキサイド、及びこれらの混合物等が挙げられ、上記は単独で使用しても混合して使用してもかまわない。特に、水溶性の１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、チオキサントンアンモニウム塩、ベンゾフェノンアンモニウム塩等の水溶性開始剤が、混合性等に優れ架橋効率の観点からも好ましい。
【００５６】
これらの開始剤に加え、促進剤等を添加することもでき、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例中で「％」は、特に断りのない限り質量％を表す。
【００５８】
実施例１
《シリカ分散液Ｓ−１の作製》
予め均一に分散されている、一次粒子の平均粒径が約０．００７μｍの気相法シリカ（日本アエロジル社製；アエロジル３００）を３０％含有するシリカ分散液Ｂ１（ｐＨ２．６、エタノール０．５％含有）の１２００ｇとカチオン性ポリマー分散剤Ｐ−１を１２％、ｎ−プロパノールを１０％及びエタノールを２％含有する水溶液Ｃ−１（ｐＨ２．５、サンノプコ社製の消泡剤ＳＮ−３８１を６０ｇ含有）の３３０ｇに、室温で３０００ｒｐｍで攪拌しながら添加した。
【００５９】
次いで、三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで３０００Ｎ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で仕上げて、シリカ含有量２５％のほぼ透明なシリカ分散液Ｓ−１を得た。
【００６０】
【化５】
2007098710.tif 000006
【００６１】
《記録用紙１の作製》
得られたシリカ分散液Ｓ−１  ３０００ｇに、１０％に調整した特開２０００−１８１０６２号公報実施例を参照して調製した紫外線架橋型ポリビニルアルコール誘導体水溶液（化合物−１：主鎖ＰＶＡ重合度１５００、ケン化度８８％、架橋基変性率１ｍｏｌ％）１０００ｇとチバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％２−プロパノール溶液２２８ｇを攪拌しながら徐々に添加し、純水で６０００ｇに仕上げ、塗布液Ｔ−１を得た。ここで紫外線架橋型ポリビニルアルコールに含まれる架橋性基と重合開始剤は等モル含有されている。
【００６２】
得られた塗布液Ｔ−１をアドバンテックス東洋社製のＴＣＰ−１０タイプのフィルターを用いてろ過を行った。
【００６３】
次いで、上記調製した塗布液Ｔ−１を、厚さ１７０ｇ／ｍ2の原紙の両面をポリエチレンで被覆したポリエチレンコート紙（インク受容層側のポリエチレン中の８質量％のアナターゼ型酸化チタン含有；インク受容層面側に０．０５ｇ／ｍ2のゼラチン下引き層、反対側にＴｇが約８０℃のラテックス性ポリマーをバック層０．２ｇ／ｍ2として有する）に、シリカの付き量で１８ｇ／ｍ2となるように塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、波長３６５ｎｍにおける照度が６０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を用い、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した後、８０℃の熱風で乾燥してインクジェット記録用紙１を得た。
【００６４】
《記録用紙２の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇの代わりに、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア２９５９の２％２−プロパノール溶液１５０ｇを用いた以外は同様にして、インクジェット記録用紙２を得た。
【００６５】
《記録用紙３の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇの代わりに、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア３７９の２％２−プロパノール溶液２５４ｇを用いた以外は同様にして、インクジェット記録用紙３を得た。
【００６６】
《記録用紙４の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇの代わりに、日本化薬社製カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓの２％２−プロパノール溶液１７９ｇを用いた以外は同様にして、インクジェット記録用紙４を得た。
【００６７】
《記録用紙の特性評価》
〈ひび割れ耐性の評価〉
１ｍ2の塗布面をルーペ（倍率：１０倍）で観察し、ひび割れ状態を下記の基準で評価した。
Ａ：ひび割れがほとんど観察されない
Ｂ：０．５ｍｍ未満の微少なひび割れが数点観察される
Ｃ：０．５ｍｍ以上の粗大なひび割れが数点観察される
Ｄ：０．５ｍｍ以上の粗大なひび割れが全面に観察される
〈折れ割れ耐性の評価〉
２０℃２０％ＲＨで記録用紙を２４時間調湿した後、直径がそれぞれ１０ｍｍ、１５ｍｍ、２０ｍｍ、２５ｍｍ、３０ｍｍ、３５ｍｍ、４０ｍｍの円筒状のステンレス棒に巻きつけ、インク吸収層の折れ割れによりひび割れが生じるステンレス棒の直径を調べ、下記の基準で評価した。
Ａ：１０ｍｍでもひび割れが発生しない
Ｂ：１０〜２０ｍｍでひび割れが発生する
Ｃ：２０〜３５ｍｍでひび割れが発生する
Ｄ：３５ｍｍ以上でもひび割れが発生する
〈インク吸収性の評価〉
セイコーエプソン社製インクジェットプリンターＰＭ−９５０Ｃを用いて、青色のベタ画像をプリントし、その均一感を目視観察し、下記の基準で評価した。
Ａ：全く均一なベタ画像である
Ｂ：観察距離１０ｃｍ以上で均一に感じられる
Ｃ：観察距離２０ｃｍ以上で均一に感じられる
Ｄ：観察距離２０ｃｍでも、まだらに感じられる
結果を、表１に示す。
【００６８】
【表１】
2007098710.tif 000007
【００６９】
【化６】
2007098710.tif 000008
【００７０】
表１に記載の結果から明らかなように、支持体上に、側鎖にエチレン性二重結合を有する重合度が３００以上の親水性高分子化合物、重合開始剤として一般式（１）で表される化合物、及び微粒子を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成し、前記塗布膜に電離放射線を照射して、前記親水性化合物の側鎖間に架橋結合を生じさせ、多孔質層を形成したことを特徴とするインクジェット記録用紙は、比較例に対し、ヒビ割れ耐性、折れ割れ耐性、インク吸収性のすべてに優れていることがわかる。
【００７１】
実施例２
《記録用紙５の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇを、６８．４ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙５を得た。
【００７２】
《記録用紙６の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇを、１１４ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙６を得た。
【００７３】
《記録用紙７の作製》
記録用紙１と同様に作製した。
【００７４】
《記録用紙８の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇを、３４２ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙８を得た。
【００７５】
《記録用紙９の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇを、４５６ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙９を得た。
【００７６】
《記録用紙１０の作製》
記録用紙１において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア１２７の２％エタノール溶液２２８ｇを、５７０ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙１０を得た。
【００７７】
《記録用紙１１の作製》
記録用紙２において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア２９５９の２％エタノール溶液１５０ｇを、７５ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙１１を得た。
【００７８】
《記録用紙１２の作製》
記録用紙２と同様に作製した。
【００７９】
《記録用紙１３の作製》
記録用紙２において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア２９５９の２％エタノール溶液１５０ｇを、２２５ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙１３を得た。
【００８０】
《記録用紙１４の作製》
記録用紙２において、チバスペシャルティケミカルズ製イルガキュア２９５９の２％エタノール溶液１５０ｇを、３００ｇに変更した以外は同様にして、インクジェット記録用紙１４を得た。
【００８１】
実施例１と同様にして評価した結果を、表２に示す。
【００８２】
【表２】
2007098710.tif 000009
【００８３】
表２に記載の記録用紙７と記録用紙１４の比較、及び記録用紙６と記録用紙１２の比較から明らかなように、本発明の一般式（１）の化合物を用いて作製した記録用紙は、他の化合物を用いて等しい光重合性基量となるように適用した記録用紙よりも、ひび割れ、折れ割れ、インク吸収性のいずれにおいても優れており、本発明の一般式（１）の化合物の有効性は非常に特異的であることがわかる。
【００８４】
また、表２に記載の結果から明らかなように、一般式（１）で表される化合物中の光重合性基の親水性高分子化合物中のエチレン性二重結合に対するモル比がを１．０以上、４．０以下とすることが好ましい態様である。
【００８５】
実施例３
《記録用紙１５の作製》
記録用紙１において、紫外線の照射量をエネルギー量で２０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙１５を作製した。
【００８６】
《記録用紙１６の作製》
記録用紙１において、紫外線の照射量をエネルギー量で３０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙１６を作製した。
【００８７】
《記録用紙１７の作製》
記録用紙１と同様にして作製した。
【００８８】
《記録用紙１８の作製》
記録用紙１において、紫外線の照射量をエネルギー量で５０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙１８を作製した。
【００８９】
《記録用紙１９の作製》
記録用紙２において、紫外線の照射量をエネルギー量で２０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙１９を作製した。
【００９０】
《記録用紙２０の作製》
記録用紙２において、紫外線の照射量をエネルギー量で３０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙２０を作製した。
【００９１】
《記録用紙２１の作製》
記録用紙２と同様にして作製した。
【００９２】
《記録用紙２２の作製》
記録用紙２において、紫外線の照射量をエネルギー量で５０ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は同様にして、記録用紙２２を作製した。
【００９３】
実施例１と同様にして評価した結果を、表３に示す。
【００９４】
【表３】
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【００９５】
表３に記載の結果から明らかなように、本発明のインクジェット記録用紙は、より少ない紫外線照射量で、優れたひび割れ耐性、折れ割れ耐性、インク吸収性を得ることができる。