(57)【要約】【課題】簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角を改善し、階調反転が著しく改善された液晶表示装置、ＥＣＢ型、ＴＮ型、ＩＰＳ型液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、そして、光拡散層をこの順序で有する液晶表示装置用偏光板であって、光拡散層が透光性樹脂と、透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ該光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である液晶表示装置用用偏光板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、そして、光拡散層をこの順序で有する液晶表示装置用偏光板であって、該光拡散層が透光性樹脂と、透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ該光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である液晶表示装置用偏光板。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光板が、さらに光学補償層を有する液晶表示装置用偏光板。
【請求項３】
光拡散層の、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度が、０．０５〜０．３％の範囲にある請求項１または２に記載の液晶表示装置用偏光板。
【請求項４】
電極を一方に有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持され、電圧無印加時に該一対の基板の表面に対して略平行に配向したネマチック液晶材料とを含む液晶層からなる液晶セル、及び該液晶セルの外側の少なくとも片面に配置された偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板が第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、光拡散層をこの順序で有し、該拡散層が透光性樹脂と、該透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ該光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板が、さらに光学補償層を有する液晶表示装置。
【請求項６】
偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である請求項４または５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
液晶表示装置がＥＣＢ型液晶表示装置である請求項４〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項８】
液晶表示装置がＴＮ型液晶表示装置である請求項４〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
液晶表示装置がＩＰＳ型液晶表示装置である請求項４〜６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は保護膜に挟持される偏光膜からなる偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子（液晶表示パネルとも呼ばれる）やエレクトロルミネセンス素子（用いる蛍光材料により有機系、無機系に別れる、以下、ＥＬ素子）、電界放出素子（Ｆｉｅｌｄ
Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｅｖｉｃｅ：以下、ＦＥＤ素子）、電気泳動素子等を用いた表示装置は、ブラウン管（ＣＲＴ：Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）のように、表示画面の裏側に電子線を２次元的に走査させるための空間（真空筐体）を設けることなく画像表示を行うことができる。従って、これらの表示装置は、ブラウン管に比べて、薄く軽量であること、消費電力が低いこと等の特徴を持つ。これらの表示装置は、その外観上の特徴からフラット・パネル・ディスプレイ（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）と呼ばれることがある。
【０００３】
液晶表示素子、ＥＬ素子、又は電界放出素子等を用いた表示装置は、ブラウン管に対する上述の利点から、ノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなど各種用途において、ブラウン管を用いた表示装置に代わり広く普及しつつある。ブラウン管からフラット・パネル・ディスプレイへの置き換えが進んだ背景には、液晶表示素子やＥＬ素子等の視野角特性や表示色再現性領域の拡大等の画質向上といった技術革新がある。また最近は、マルチメディアやインターネットの普及により、動画表示性能の向上もある。さらには電子ペーパーや大型の公共、広告用情報ディスプレイといった、ＣＲＴには実現できない分野への進出もある。
【０００４】
液晶表示装置は、液晶セルと液晶セルに表示信号電圧を送る駆動回路、バックライト（背面光源）、入力画像信号を駆動回路に送る信号制御システムからなり、これらを合せて液晶モジュールと呼ぶ。
【０００５】
液晶セルは、通常、液晶分子、それを封入、挟持するための２枚の基板及び、液晶分子に電圧を加えるための電極層からなり、さらにその外側に偏光板が配置される。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには１枚以上の光学補償シートを配置することもある。また、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、１枚以上の光学補償シート及び偏光板の順に配置する。
【０００６】
液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行い、透過型及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００７】
光学補償膜は、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償膜としては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されている。また、延伸複屈折フィルムからなる光学補償膜に代えて、透明支持体上に低分子又は高分子液晶性分子から形成された光学補償層を有する光学補償膜を使用する
ことが提案されている。液晶性分子には多様な配向形態があるため、液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することができる。さらに、偏光板の保護膜に複屈折性を付加することで、保護膜と光学補償膜を兼ねる構成も提案されている。
【０００８】
光学補償膜の光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性分子を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償膜を製造することができる。液晶性分子を用いた光学補償膜では、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。
【０００９】
例えば、ＴＮ型液晶セル用光学補償膜は、電圧印加により液晶性分子がねじれ構造が解消しつつ基板面に傾斜した配向状態の光学補償を行い、黒表示時の斜め方向の光漏れ防止によるコントラストの視角特性を向上させる（特許文献１参照）。平行配向液晶セル用光学補償膜は、電圧無印加状態の黒表示時において、基板面に平行配向した液晶性分子の光学補償及び偏光板の直交透過率の視野角特性向上を兼ねている（特許文献２参照）。
【００１０】
しかし、ディスコティック液晶性化合物を均一にハイブリッド配向させた光学補償膜を用いても、液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。例えば、ＴＮ型液晶セルでは斜め方向から観察したときに、各階調での透過率が反転する階調反転現象が生じる。階調反転を生じさせないために、液晶セル中の液晶性分子のチルト角範囲を制限する方法が知られている（非特許文献１参照）。
【００１１】
一方においてＴＮ型液晶表示装置では、上記方法によって視野角特性が改善されるが、過酷な使用環境、例えば高温や高湿度環境では偏光板が収縮し、偏光板の周辺部で光漏れが生じる問題は解決されていなかった。この光漏れは偏光板の収縮が原因であり、偏光板の粘着剤の素材を選ぶことで改善できる例がある（特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】特許３３４２４１７号公報
【特許文献３】特開２００４−５１６３５９号公報
【非特許文献１】“Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｒｅｐｏｒｔ  ｏｆ  ＩＥＩＣＥ”，ＥＩＤ２００１−１０８，ｐ．４７−５２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、前記諸問題に鑑みなされたものであって、簡易な構成で、視野角特性を改善し、階調反転が著しく改善された液晶表示装置、特に液晶層にねじれ構造を持たない平行配向型のＥＣＢ型やＩＰＳ型液晶表示装置、ねじれ構造を有するＴＮ型液晶表示装置を提供することを課題とする。
さらに本発明は過酷な環境における信頼性を向上した液晶表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の課題は、下記手段により達成された。
［１］  第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、そして、光拡散層をこの順序で有する液晶表示装置用偏光板であって、該光拡散層が透光性樹脂と、透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ該光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である液晶表示装置用偏光板。
［２］  前記［１］に記載の偏光板が、さらに光学補償層を有する液晶表示装置用偏光板。
［３］  光拡散層の、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度が、０．０５〜０．３％の範囲にある前記［１］または［２
］に記載の液晶表示装置用偏光板。
［４］  電極を一方に有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持され、電圧無印加時に該一対の基板の表面に対して略平行に配向したネマチック液晶材料とを含む液晶層からなる液晶セル、及び該液晶セルの外側の少なくとも片面に配置された偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板が第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、光拡散層をこの順序で有し、該拡散層が透光性樹脂と、該透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ該光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である液晶表示装置。
［５］  前記［４］に記載の偏光板が、さらに光学補償層を有する液晶表示装置。
［６］  偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である前記［４］または［５］に記載の液晶表示装置。
［７］  液晶表示装置がＥＣＢ型液晶表示装置である前記［４］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［８］  液晶表示装置がＴＮ型液晶表示装置である前記［４］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［９］  液晶表示装置がＩＰＳ型液晶表示装置である前記［４］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明者らは、研究の結果、偏光板保護膜、光拡散層、表面フィルム及び液晶セルの素材と製造方法を調節することにより、従来の液晶表示装置と同じ構成で、液晶セルを光学的に補償する機能を併せ持つ偏光板を製造することに成功した。さらに、この偏光板をＥＣＢ型、ＩＰＳ型、ＴＮ型液晶セルに取り付けて液晶表示装置に用いたところ、表示品位のみならず、視野角が著しく改善された。また、従来の１枚又は複数の位相差フィルムと偏光板の角度を厳密に調整しながら積層する工程が不要になり、ロールｔｏロールでの偏光板の製造が可能となった。すなわち、本発明によれば、簡易な構成で、表示品位のみならず、視野角が著しく改善された液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、偏光機能を有するのみならず、液晶表示装置の視野角拡大に寄与し、階調反転を低減し、外光の写り込み防止を高度に実現し、しかも容易に作製可能な偏光板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本明細書で用いられる用語について説明する。
〔用語の説明〕
［レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ］
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は、それぞれ、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”｛王子計測機器（株）製｝において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１６】
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
【００１７】
Ｒｔｈ(λ)は、該Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、フィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０°ステップで、それぞれその傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”が算出する。
【００１８】
上記において、法線方向から、面内の遅相軸を回転軸としてある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”が算出する。
【００１９】
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。
数式（１）：
【００２０】
【数１】
2007264595.tif 000002
【００２１】
上記のＲｅ（θ）は、法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
【００２２】
数式（２）：Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ
【００２３】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
【００２４】
Ｒｔｈ(λ)は、上記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで、それぞれその傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ
２１ＷＲ”が算出する。
【００２５】
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は「ポリマーハンドブック」（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ  ＆  ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、及び各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００２６】
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”又は“ＫＯＢＲＡ  ２１ＷＲ”はｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００２７】
［分子配向軸］
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計｛“ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ”、王子計測（株）｝にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
【００２８】
［透過率］
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで透明度測定器（「ＡＫＡ光電管比色計」、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
【００２９】
［分光特性］
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計｛“Ｕ−３２１０”、（株）日立製作所｝にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表した。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。
【００３０】
本明細書において、角度について、「＋」は反時計周り方向を意味し、「−」は時計周り方向を意味するものとする。また、液晶表示装置上方向を１２時方向、下方向を６時方向としたときに、角度方向の絶対値０°方向とは３時方向（画面右方向）を意味することとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００３１】
また、各軸・方向間の角度について、「平行」「垂直」「４５°」等という場合には、「おおよそ平行」「おおよそ垂直」「おおよそ４５°」の意であり、厳密なものではない。それぞれの目的を達成する範囲内での、多少のズレは許容される。例えば「平行」とは、交差角がおおよそ０°ということであり、−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは−３°〜３°である。「垂直」とは、交差角がおおよそ９０°ということであり、８０°〜１００°、好ましくは８５°〜９５°、より好ましくは８７°〜９３°である。「４５°」とは、交差角がおおよそ４５°ということであり、３５°〜５５°、好ましくは４０°〜５０°、より好ましくは４２°〜４８°である。
【００３２】
また本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び、液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。さらに、偏光板は光学補償膜を含むこともあり、この場合、保護膜が光学補償膜を兼ねる構成であってもよい。光学補償膜が支持体上に液晶分子を有してなる光学異方性層を積層したものである場合には、保護膜が光学補償膜の支持体を兼ねる構成であってもよい。さらに、本願発明の偏光板は支持体を含んでいてもよい。また、「光学補償膜」とは、光学異方性層又は光学補償フィルムと同義で使われることがある。
【００３３】
以下本発明について詳しく説明する。
＜液晶表示装置＞
〔液晶表示装置の構成〕
本発明の液晶表示装置は、電極を一方に有する対向配置された一対の基板と、該基板間に挟持され、電圧無印加時に該一対の基板の表面に対して略平行に配向したネマチック液晶材料とを含む液晶層からなる液晶セル、及び該液晶セルの外側の少なくとも片面に配置された偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板が第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、光拡散層をこの順序で有し、該拡散層が透光性樹脂と、該透光性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する透光性微粒子を含む層であり、且つ前記光拡散層の内部ヘイズが４５％以上８０％以下である。
【００３４】
本発明の液晶表示装置としては、ＴＮ型液晶表示装置、ＥＣＢ型液晶表示装置、ＩＰＳ型液晶表示装置を用いることが好ましい。
【００３５】
ＥＣＢ型液晶表示装置は、電圧無印加状態で白表示、高電圧印加状態で透過率が低下して黒表示となるノーマリホワイト表示となる。黒表示は光学補償膜のＲｅ値と電圧印加状態の液晶層のレターデーション値が一致した時に得られる。このような構成においては、高コントラストの画像を広い範囲を得ることができ、且つ中間調表示領域においても階調反転が生じない。
【００３６】
なお、液晶表示装置としてＥＣＢ型液晶表示装置を用いる場合には偏光膜の吸収軸と前記液晶層の配向処理方向の交差角度は４０から５０°の範囲とすることが好ましく、４５°とすることがより好ましい。
【００３７】
ＴＮ型液晶表示装置は、電圧無印加状態で白表示、高電圧印加状態で透過率が低下して黒表示となるノーマリホワイト表示となる。黒表示は光学補償膜のＲｅ値と電圧印加状態の液晶層のレターデーション値が一致した時に得られる。この構成では、高コントラストの広い範囲が得られる。偏光板膜吸収軸が画面水平方向に対し，４５°あるいは−４５°の場合は，偏光膜の吸収軸と前記液晶層の配向処理方向の交差角度は−１０から１０°の範囲が好ましく、０°がより好ましい。また，偏光膜が画面水平方向に平行あるいは９０°の場合は，視野角を左右対称とするために，偏光膜の吸収軸と前記液晶層の配向処理方向の交差角度は２０〜７０°の範囲が好ましい。
【００３８】
またＩＰＳ型液晶表示装置は、電圧無印加状態で黒表示、高電圧印加状態で透過率が増加して白黒表示となるノーマリブラック表示となる。黒表示の視野角拡大には光学補償膜のＲｅ値とＲｔｈを最適化することで実現できる。この構成では、液晶セルより観察者側の偏光板は、偏光膜の吸収軸と前記液晶層の初期配向処理方向の交差角度は８０から１００°の範囲が好ましく，９０°がより好ましい。観察者側から液晶セルを挟んで遠い側の偏光板は、偏光膜の吸収軸と前記液晶層の初期配向処理方向の交差角度は−１０°から１０°の範囲が好ましく、０°がより好ましい。
【００３９】
第２保護膜には特定の光拡散層が積層されている。この光拡散層には、コントラスト視野角を広げたり、色味視野角の変化を小さくしたり、階調反転を減少したり、表示ムラを低減する効果がある。
【００４０】
さらに本発明の液晶表示装置においては、前記偏光板と前記液晶層の間に少なくとも一層の光学補償膜が配置されていることが好ましい。
【００４１】
光学補償膜については、特に制限されず、光学補償能を有する限り、如何なる構成であってもよい。例えば、複屈折性の高分子フィルムや、透明支持体と該透明支持体上に形成された液晶性分子からなる光学補償層の積層体などが挙げられる。後者の態様においては、偏光板の液晶層に近い側の透明保護膜が、前記光学補償膜の支持体を兼ねていてもよい。すなわち偏光板が光学補償層を有する態様であってもよい。
【００４２】
上記ＴＮ型，ＥＣＢ型液晶表示装置用光学補償膜としては、ディスコティック構造単位からなる光学補償膜であることが好ましい。本発明において、ディスコティック構造単位からなる光学補償膜の配向制御方向は、偏光板の偏光膜の吸収軸と概略平行であることが好ましい。
【００４３】
本発明の液晶装置においては、上記ディスコティック構造単位の円盤面が、偏光膜（又は透明支持体面）に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と偏光膜（又は透明支持体面）とのなす角度が、光学補償膜の膜面に垂直な方向（厚さ方向）において変化していることが好ましい。このような液晶表示装置では、コントラスト視野角
と階調反転のない表示を得ることが可能となる。
【００４４】
本発明で用いられる光学補償膜は、配向処理がなされた透明支持体と、当該支持体の上に設けられたディスコティック構造単位を有する化合物とから構成されるものだけではなく、延伸フィルムからなる光学補償膜であってもよい。光学補償膜は、電圧無印加状態で黒表示となるノーマリブラック表示の前記液晶セルが、２以上の絵素領域を有し、該絵素領域のそれぞれが、前記ネマチック液晶材料の分子の初期配向状態が互いに異なる２以上の領域、又は電圧印加状態において、該ネマチック液晶材料の分子の配向方向が連続的に変化する、互いに異なる２以上の領域を有する液晶表示装置について、黒表示の斜め方向の漏れ光を減少させる効果もある。
【００４５】
さらに、本発明の液晶表示装置においては、液晶セルの一画素が、さらに２以上の絵素領域を有し、当該絵素領域中のそれぞれの領域の液晶性分子の初期配向状態が互いに異なるか、あるいは電圧印加状態において当該２以上の絵素領域中のそれぞれの液晶性分子の配向方向が互いに異なった上でさらに連続的に変化する構成としてもよい。
【００４６】
このような構成は、電圧印加により液晶性分子が基板法線に対して傾斜するＥＣＢ型液晶表示装置において特に有効な態様であり、液晶性分子が一方向に傾斜するため、視野角に依存して輝度及び色調に偏りが生じるのを、１画素を初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは２又は４以上）の絵素領域で構成して平均化することで、低減することができる。
【００４７】
また、本発明は前記液晶表示装置において、偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である液晶表示装置に関する。
【００４８】
従来の液晶表示装置において、過酷な環境では偏光板は収縮を生じる。特に画面の長辺及び短辺に平行な方向での収縮が最大となる。このように偏光板に使われているフィルムに収縮や伸びなどの弾性力が加わると、レターデーション変化が生じる。このレターデーションの発生方向に偏光板吸収軸を４５°で交差させる構成においては、光の透過が最大となり漏れ光として観察されることになる。
【００４９】
従来のＥＣＢ型液晶表示装置又はＴＮ型液晶表示装置では、偏光板吸収軸は画面左右方向、すなわち偏光板端部長辺方向に対して４５°で交差していた。偏光板の収縮方向は偏光板端部の長辺及び短辺方向に平行であるため、この配置では漏れ光が最大となった。そこで、上記の通り、偏光板吸収軸を画面左右方向、すなわち偏光板端部長辺方向に平行又は垂直とすることで、特にＥＣＢ型液晶表示装置あるいはＴＮ型液晶表示装置において光漏れが改善できることを見出した。このようなＥＣＢ型液晶表示装置の例は図２において後述する。
【００５０】
ＴＮ型液晶表示装置では高精細で高コントラストな高画質表示を行うため、ＴＦＴ駆動を採用している。ＴＦＴ駆動はゲート配線と信号（又はソース）配線が画面水平方向及び垂直方向に配置されている。偏光板収縮方向はこの配線と平行又は垂直であるため、この配線に平行又は垂直に偏光板吸収軸を配置しても、該偏光板の最大収縮方向すなわち偏光板端部の長辺及び短辺方向に概略平行又は垂直に配置することになり、光漏れが改善できる。このようなＴＮ型液晶表示装置の例は図３において後述する。
【００５１】
一方、従来の構成の液晶表示装置において、前記のように該偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である構成を用いた場合、コントラスト１０°以上の正面からの角度範囲、又は正面に対して斜め方向から画面を見た場合の色味変化の左右対称性が低下する場合がある。しかし本発明の液晶表示装置は、特定の特性を有する光拡散層を
備えるものであり、該構成を用いることで前記左右対象性が改良されることが確認できた。
【００５２】
さらに前記本発明の液晶表示装置の構成はＩＰＳ型液晶表示装置に適用できる。本発明の構成をＩＰＳ型液晶表示装置に適用することで、従来のＩＰＳ型液晶表示装置における黒表示時の斜め方向からの漏れ光の着色が平均化され、無彩色化できることを見出した。このようなＩＰＳ型液晶表示装置の例は図４において後述する。
【００５３】
〔本発明の液晶表示装置の実施形態〕
以下、本発明の液晶表示装置の実施形態について図を用いて順次詳しく説明する。
【００５４】
［ＥＣＢ型液晶表示装置］
図１は、本発明の液晶表示装置の実施形態のうち、特に液晶表示装置がＥＣＢ型液晶表示装置である場合の好適例の一の模式図である。
【００５５】
図１において、液晶表示装置は、液晶セル５〜７と、液晶セルの両側に配置された一対の偏光板１及び２とを有する。偏光板は偏光膜及び一対の保護膜によって挟持されている。上側偏光板１の上側（視認側）保護膜１１の偏光膜１２から外側、または下側偏光板２の下側保護膜２１の偏光膜２２から見て外側には、光拡散層（不図示）が配置されている。保護膜１１および保護膜２１は光拡散層の支持体を兼ねている。さらに、液晶セルと一対の偏光板との間には、光学補償能を有する上側光学補償膜１４、及び下側光学補償膜２４が配置されている。上側偏光板１の下側保護膜１３は、上側光学補償膜１４の支持体を兼ねていてもよい。上側偏光板は光拡散層と部材１１〜１３と、さらに、好ましくは１４とが一体的に積層された構造体として液晶表示装置に組み込まれる。一方、下側偏光板の上側保護膜２３は、下側光学補償膜２４の支持体を兼ねていてもよい。下側偏光板は光拡散層と部材２１〜２３と、さらに、好ましくは２４とが一体的に積層された構造体として液晶表示装置に組み込まれる。
【００５６】
なお、本発明では、偏光板の少なくとも一方を、光拡散層と偏光板と、さらに好ましくは光学補償膜の積層体（例えば、上側偏光板として、光拡散層と部材１１〜１３、さらに、好ましくは１４）の積層体を用いればよく、図１のように双方の偏光板が前記構成の積層体である必要はない。すなわち、液晶表示装置は、光拡散層と偏光膜と、さらに、好適には光学補償膜とが一体的に積層された構造体を有していればよい。従って、図１に記載の構成に限定されるものではない。
【００５７】
本発明の液晶表示装置では、光拡散層の支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜と兼ねることができ、さらに、好適には光学補償膜の透明支持体を、偏光膜のもう一方の側の保護膜と兼ねることができるので、光拡散層、保護膜（支持体を兼用）、偏光膜及び保護膜（好適には透明支持体を兼用）、さらに、好適には光学補償膜の順序で積層した一体型偏光板を用いることができる。該偏光板は、偏光機能を有するのみならず、視野角の拡大、特にコントラスト視野角の拡大、色味視野角の変化の減少、階調反転の減少、表示ムラの軽減に寄与する。さらに、該偏光板は光学補償能を有する光学補償膜を備えているのが好ましく、簡易な構成で液晶表示装置を正確に光学補償することができる。液晶表示装置内では、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、光拡散層、保護膜、偏光膜及び透明支持体、さらに、好ましくは光学補償膜の順序で積層することが好ましい。
【００５８】
偏光膜１２及び２２の吸収軸１２Ｄ及び２２Ｄ、光学補償膜１４及び２４の配向方向ＲＤ、ならびに液晶性分子６の配向方向については、各部材に用いられる材料、表示モード、部材の積層構造等に応じて最適な範囲に調整することができる。高コントラストを得るためには、偏光膜１２及び２２の吸収軸１２Ｄ及び２２Ｄが、互いに実質的に直交してい
るように配置する。但し、本発明の液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。
【００５９】
次に、図１に示す液晶表示装置の具体的な構成についてさらに詳細に説明し、さらにその動作について説明する。
【００６０】
液晶セル５〜７の上側基板５のラビング方向５ＲＤと、下側基板７のラビング方向７ＲＤは平行に設定してあり、液晶層はツイスト構造を持たない平行配向となっている。上側基板５と下側基板７は、それぞれ、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有する。配向膜は液晶性分子６を配向させる機能を有する。電極層は液晶性分子６に電圧を印加する機能を有する。電極層としては、例えば透明なインヂウム錫オキシド（ＩＴＯ）を用いることができる。平行モードでは、上下基板間にΔｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（例えば、メルク社製の“ＭＬＣ−９１００”）を使用することができる。
【００６１】
ここで、厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。このため最大の明るさを得るために、Δｎ・ｄの値を０．２〜０．４μｍの範囲になるように設定することが好ましい。少なくとも片側の偏光膜吸収軸はこれに隣接する液晶セル配向方向（ラビング方向ＲＤ）と概略４５°交差し、且つ上下偏光膜吸収軸（１２Ｄ及び２２Ｄ）の交差角は概略９０°の直交ニコルである。
【００６２】
液晶セル基板５及び７の、それぞれの透明電極（不図示）に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶性分子６は、基板５及び７の面に対して概略平行に配向し、その結果通過する光は液晶性分子６の複屈折効果により偏光状態を変化し、偏光膜１２を通過する。この時透過光が最大となるように液晶層のΔｎ・ｄの値を設定する。これに対し、透明電極（不図示）に駆動電圧を印加した駆動状態では、印加した電圧の大きさに依存して液晶性分子６は基板５及び７の面に垂直に配向しようとする。しかし基板間の液晶層厚さ方向中央付近では基板面に対して概略垂直となるが、基板界面近傍では基板に対し、傾斜した方向に配向することになるため、液晶層厚さ方向中央付近に向かい連続的傾斜配向することになる。このような状態では完全な黒表示を得ることはむずかしい。同時にこの基板界面近傍の傾斜した液晶性分子の平均配向は観察する角度により変わり、視野角により透過率、明るさが変化する視野角依存性が生じることとなる。
【００６３】
このような問題を解決する手段として、まず基板界面近傍の液晶層の残留位相差を補償する光学補償膜を配置することが好ましく、完全な黒表示が得られ、正面コントラスト比が向上する。さらに前述の特許文献１に記載のように、連続的傾斜配向した液晶層を補償する光学フィルムを配置することが好ましく視野角特性が改善される。また、中間調表示時には液晶性分子６が傾斜しているので、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子６の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると、輝度や色調の視野角特性が平均化され改善される。
【００６４】
具体的には、画素のそれぞれを液晶性分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶性分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。
【００６５】
既に述べたように、本発明の好ましい態様の１つは、偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である態様である。図２には前記ＥＣＢ型液晶表示装置において
偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直とした態様を示した。
なお図２のような態様においてはディスコティック構造単位からなる光学補償膜の配向制御方向は、偏光膜の吸収軸と４０から５０°の範囲で交差することが好ましく、４５°とすることがより好ましい。またディスコティック構造単位からなる光学補償膜の配向制御方向と前記液晶層の配向処理方向との交差角は−２０から２０°の範囲であることが好ましい。
【００６６】
［ＴＮ型液晶表示装置］
次に、本発明をＴＮモードの液晶表示装置に適用した実施の形態について、図３として詳細に説明する。なお図３は本発明の好ましい態様の一つである、偏光膜の吸収軸と表示装置の画面左右方向が平行又は垂直である態様について示したものである。ここでは、電界効果型液晶として正の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてＴＦＴ（アクティブ）駆動を行った例で説明する。
【００６７】
液晶セル５〜７は、上側基板５及び下側基板７と、これらに挟持される液晶分子６から形成される液晶層とからなる。基板５及び７の液晶分子６に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、配向膜上に施されたラビング処理等により、電圧無印加状態又は低印加状態における液晶分子６の配向が制御されている。また、基板５及び７の内面には、液晶分子６からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。
【００６８】
ＴＮモード液晶表示装置では、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶セル中の液晶分子６は基板面に対して略平行に配向し、その配向方向は上下基板の間で９０°捩れている。透過型表示装置の場合、バックライトの光は下側偏光板２を通過することで直線偏光になる。直線偏光は液晶層の捩れ構造に沿って伝播し、偏光状態を維持したまま偏光面を９０°回転することで上側偏光板１をそのまま通過し、表示装置は白表示となる。
【００６９】
一方、印加電圧を大きくしていくと、液晶分子６は捩れを解消しながら基板面に対して垂直な方向に次第に立っていく。理想的高電圧印加状態でのＴＮモード液晶表示装置では、液晶分子６の捩れがほぼ完全に解消し、基板面に対してほぼ垂直に立ちきった配向状態となる。この時下偏光板２を通過した直線偏光は、液晶層にねじれ構造がないため、偏光面を回転することなく伝播し、上偏光板１の吸収軸に直交する角度で入射するため、光は遮断され黒表示となる。
【００７０】
このようにＴＮモードでは、偏光した光を遮断したり、透過させたりすることで表示装置としての機能をはたす。一般に、表示品質を表す数値として、白表示輝度と黒表示輝度の比をコントラスト比と定義して用いる。このコントラスト比が高いほど高品位な表示装置となり、コントラストを上げるためには、液晶表示装置での偏光状態を維持させて通過させることが重要となる。
【００７１】
以下、ＴＮモードの液晶セル構成の１例を示す。上下基板５、７間に誘電異方性が正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶を、ラビング配向させて液晶セルを作製する。液晶層の配向制御は配向膜とラビングにより制御する。液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角は、約０．１°から１０°の範囲に設定すると好ましく、ここでは３°に設定した。ラビング方向は、上下基板と互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後焼成して形成する。液晶層のツイスト角の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル剤により決まる。ここでは、ツイスト角が概略９０°になるようにするためピッチ６０μｍ程度のカイ
ラル剤を添加する。液晶層の厚さｄは５μｍに設定してある。
【００７２】
また液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きいほうが駆動電圧が低減できる。屈折率異方性△ｎは、小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、且つギャップのバラツキを少なくすることができる。また、Δｎが大きい方がセルギャップを小さくでき、高速応答が可能となる。一般にΔｎは０．０４〜０．２８の間、セルギャップは１〜１０μｍの間に設定し、Δｎとｄの積が０．２５〜０．５５μｍの間になるようにそれぞれ調整する。
【００７３】
上側偏光膜１２の吸収軸１２Ｄと下側偏光膜２２の吸収軸２２Ｄは概略直交に積層し、さらに上側偏光膜１２の吸収軸１２Ｄと液晶セルの上側基板５のラビング方向（配向軸）５ＲＤは概略平行に、下側偏光膜２２の吸収軸２２Ｄと液晶セルの下側基板７のラビング方向（配向軸）７ＲＤはそれぞれ概略平行になるように積層する。上側基板５及び下側基板７のそれぞれの配向膜の内側には透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶セル中の液晶分子６は基板面に対して略平行に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態は液晶分子６のねじれ構造に沿って伝播し、偏光面が９０°回転して出射する。すなわち、液晶表示装置では非駆動状態において白表示を実現する。これに対し、駆動状態では液晶分子６は基板面に対してある角度をなす方向に配向しており、下側偏光板２を通過した光は、光学補償層１４、２４により液晶層等のレターデーションが打ち消され、偏光状態を維持したまま液晶層６を通過し、偏光膜１２によって遮断される。換言すると、液晶表示装置では駆動状態において理想的黒表示が得られる。
【００７４】
上側偏光板１の上側（視認側）保護膜１１の偏光膜１２から外側、または下側偏光板２の下側保護膜２１の偏光膜２２から見て外側には、光拡散層（不図示）が配置されている。保護膜１１および保護膜２１は光拡散層の支持体を兼ねている。さらに、上側及び下側偏光板の液晶セルに近い側の保護膜２３、１３は、光学異方性層１４及び２４の支持体を兼ねていてもよく、上側偏光板１及び下側偏光板２は、光学異方性層１４及び２４と共に、一体的に積層された構造体として液晶表示装置に組み込まれていてもよい。
本発明の液晶表示装置では、光拡散層の支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜と兼ねることができ、さらに、好適には光学補償シートの透明支持体を、偏光膜のもう一方の側の保護膜と兼ねた構成、すなわち、光拡散層、透明保護膜（支持体を兼用）、偏光膜及び透明保護膜（好適には透明支持体を兼用）、さらに、好適には光学異方性層の順序で積層した一体型楕円偏光板を用いることができる。この一体型楕円偏光板は、コントラスト視野角の拡大、色味視野角の変化の減少、階調反転の減少、表示ムラの低減の効果がある。さらに、該偏光板は、光学補償能を有する光学異方性層を備えているのが好ましく、該一体型楕円偏光板を用いると、簡易な構成で液晶表示装置を正確に光学補償することができる。液晶表示装置内では、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、光拡散層、透明保護膜、偏光膜及び透明支持体、さらに、好ましくは光学異方性層の順序で積層することが好ましい。
【００７５】
さらに液晶表示装置において、一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると、上下左右の視野角特性が平均化され、表示品質が向上する。
【００７６】
［ＩＰＳモード液晶表示装置］
次に、本発明をＩＰＳモードの液晶表示装置に適用した実施の形態について、図４として詳細に説明する。
【００７７】
図４に示す液晶表示装置は、液晶セル５〜７、及び液晶セルを挟持して配置された上側
偏光板１と下側偏光板２とを有する。液晶セル５〜７は、液晶セル上側基板５と液晶セル下側基板７と、これらに挟持される液晶層６とからなり、液晶層６は、基板５及び７の対向面に施されたラビング処理の方向５ＲＤ及び７ＲＤによって、その配向方向が制御されている。
【００７８】
上側偏光板は、一対の透明保護膜１１及び１３、並びにこれらに挟持される偏光膜１２からなる（透明保護膜１３が液晶セルに近い側に配置されるものとする）。偏光膜１２の吸収軸１２Ｄは、透明保護膜１１，１３のロール送り方向（ＭＤ方向）１１Ｄ，１３Ｄとは実質的に平行であるのが好ましい。ＭＤ方向１１Ｄ，１３Ｄが平行であると、偏光板の機械的安定性の向上や、光学的性能の均一化の効果が得られるので好ましい。また、液晶セルに遠い側に配置される透明保護膜１１のＭＤ方向１１Ｄと、偏光膜１２の吸収軸１２Ｄとが実質的に平行であると、偏光板の寸法変化やカール防止といった機械的信頼性が向上する。ＭＤ方向１３Ｄと吸収軸１２Ｄが直交していても同様の効果が得られ、また、透明保護膜１１及び１３の厚さや剛性が充分であれば、吸収軸１２Ｄ、２枚の保護膜のＭＤ方向１１Ｄ，１３Ｄがそれぞれ異なる角度で交差しても、同様な効果が得られる。
【００７９】
下側偏光板も、上側偏光板と同様、図４に示す構成であるのが好ましく、偏光膜２２と偏光膜２２の上記液晶セルに近い側の保護膜２３のＭＤ方向２３Ｄは、互いに実質的に平行又は直交しているのが好ましい。透明保護膜２３及び２１のＭＤ方向２３Ｄ及び２１Ｄが互いに直交していると、それぞれの保護膜の複屈折を互いに打ち消すことにより、液晶表示装置に垂直入射した光の光学特性が劣化するのを低減することができる。また、ＭＤ方向２３Ｄ及び２１Ｄが互いに平行する態様では、液晶層に残留位相差がある場合には保護膜の複屈折でこの位相差を補償することができる。
【００８０】
図５はＩＰＳモード液晶セルを示す模式側断面図である。通常はマトリクス状の電極により複数の画素を有するが、その一画素の一部分を示している。透明な一対の基板５、７の内側に線状の電極９１が形成され、その上に配向制御膜（図示せず）が形成されている。基板５、７間に挟持されている棒状の液晶性分子６は、電界無印加時には線状電極９１の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。なお、この場合の液晶の誘電異方性は正を想定している。電界９Ｄを印加すると電界方向に液晶性分子６はその向きを変える。偏光板１、２を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。なお、基板７の表面に対する電界方向９Ｄのなす角は、好ましくは２０°以下で、より好ましくは１０°以下で、すなわち、実質的に平行であることが望ましい。以下、本発明では２０°以下のものを総称して平行電界と表現する。また、電極９１を上下基板に分けて形成しても、一方の基板にのみ形成してもその効果は変わらない。
【００８１】
このようにＩＰＳモードは、電圧無印加又は低電圧印加時に基板面に平行配向している。配向制御は配向膜塗布後にラビング処理を行うのが一般的であるが、この配向処理により配向ムラが発生しやすい。ＩＰＳは上記のように基板面に平行配向しているため、この配向ムラが大きなレターデーションムラとなり、特に黒表示時の光漏れの不均一な輝度ムラ発生につながる。一方、ＶＡ、ＴＮ、ＯＣＢの各モードでは、黒表示時には液晶分子が基板面に垂直に配向しているため、配向ムラが大きくてもレターデーションムラは小さく、輝度ムラは小さい。
図６は、ＩＰＳモードをより高速応答、高透過率化する場合の液晶セル模式断面図である。図５の場合とは異なり、電極が絶縁層９３を介した２層構造となっている。最下層の電極はパターニングされていない電極でも、線状などの電極でもよい。上層の電極は線状が好ましいが、下層電極９２からの電界が通過できる形状であれば、網目状、スパイラル状、点状などいずれでもよく、電位が中立なフローティング電極をさらに追加してもよい。また絶縁層９３はＳｉＯや窒化膜などの無機材料でも、アクリルやエポキシ系等の有機材料のいずれでもよい。
この方式では高透過率からコントラスト比が向上するため、黒表示時の面内配向ムラ起因の輝度ムラが観察されやすい。また電界強度が大きいため、低電圧印加時の輝度ムラも発生しやすい。
【００８２】
液晶材料ＬＣとしては、誘電率異方性△εが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とした。このように、レターデーション（Δｎ・ｄ）を０．２５μｍ超０．３２μｍ未満とすると、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない、透過率特性がより容易に得られる。後述の配向膜と偏光板の組み合わせにより、液晶性分子がラビング方向から電界方向に４５°回転したとき最大透過率を得ることができる。なお、液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズやガラス繊維、樹脂製の柱状スペーサでも同様のギャップを得ることができる。また液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きい方が、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性△ｎは小さい方が液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、且つギャップのバラツキを少なくすることができる。
【００８３】
ＩＰＳモードにも前記本発明の液晶表示装置用偏光板を適用して、本発明の液晶表示装置とすることができる。前述したように、光拡散層の支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜と兼ねることができ、さらに、好適には光学補償膜の透明支持体を、偏光膜のもう一方の側の保護膜と兼ねることができるので、光拡散層、保護膜（支持体を兼用）、偏光膜及び保護膜（好適には透明支持体を兼用）、さらに、好適には光学補償膜の順序で積層した一体型偏光板を用いている。該偏光板は、偏光機能を有するのみならず、視野角の拡大、特にコントラスト視野角の拡大、色味視野角の変化の減少、階調反転の減少、表示ムラの軽減に寄与する。さらに、該偏光板は光学補償能を有する光学補償膜を備えているのが好ましく、簡易な構成で液晶表示装置を正確に光学補償することができる。液晶表示装置内では、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、光拡散層、保護膜、偏光膜及び透明支持体、さらに、好ましくは光学補償膜の順序で積層することが好ましい。
【００８４】
本発明で用いられる液晶表示装置は、以上述べた表示モードのだけでなく、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＨＡＮモード、ＳＴＮ型に適用した態様も有効である。
【００８５】
本発明の液晶表示装置は、前述の構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、液晶セルと偏光板との間に、別途光学補償膜を配置することもできる。また、透過型として使用する場合は、冷陰極もしくは熱陰極蛍光管、又は発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。さらに本発明の液晶表示装置は反射型であってもよく、その場合には、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面又は液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。
【００８６】
本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような、３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００８７】
本発明は、特定の光拡散層を有する偏光板により、液晶表示装置のコントラスト視野角の拡大、色味視野角の変化の減少、階調反転の減少、輝度ムラや色ムラなどの表示ムラの低減の効果を得るものであり、さらには、偏光板の保護膜の遅相軸と、偏光膜の吸収軸とを所定の関係とすることで、液晶表示装置の視野角の改善を図ることができ、さらにまた
、偏光板と液晶セルとの間に光学補償膜を配置すると、より視野角が改善されるので好ましい。
【００８８】
以下、本発明の液晶表示装置に使用可能な種々の部材に用いられる材料、その製造方法等について、詳細に説明する。
【００８９】
〔偏光板〕
本発明では、第１保護膜、偏光膜、第２保護膜、そして、光拡散層をこの順序で有する液晶表示装置用偏光板が用いられる。偏光膜は、例えばポリビニルアルコールフィルム等をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって得られ、その両面を保護膜にて積層し、さらに少なくとも一方の保護膜に光拡散層を形成するか、または既に形成された光拡散層を有する光拡散膜を積層することによって得られる偏光板を用いることができる。該偏光板は液晶セルの外側に配置される。偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる一対の偏光板を、液晶セルを挟持して配置させるのが好ましい。
【００９０】
［保護膜］
本発明の偏光板は、偏光膜の両面に一対の保護膜を積層したものである。保護膜の種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。市販のポリマー［ノルボルネン系ポリマーでは、「アートン」｛ＪＳＲ（株）製]、「ゼオノア」｛日本ゼオン（株）製｝など］を用いてもよい。一方の保護膜として、上記の光学補償膜を用いることができる。なお、本発明の保護膜は、好ましくは透明保護膜である。
【００９１】
［光拡散層］
光拡散層は、透光性粒子と透光性樹脂からなる。光拡散層は、観察者側に最も近い保護膜の上に形成することが好ましいが、光源に近い外側の保護膜上に配置してもよい。もちろん保護膜内（例えば、偏光膜と保護膜の間）や光学補償膜内（例えば、光学補償膜と保護膜の間）、液晶セル内に配置してもよい。透光性粒子と透光性樹脂によりヘイズ値および散乱光プロファイルを調整する。本発明では、１種類の粒子を用いるほかに、２種類以上の粒径及び又は材質の透光性微粒子を用いることが好ましい。
【００９２】
（透光性微粒子）
透光性微粒子は、その屈折率と、光拡散層全体を構成する透光性樹脂の屈折率（後述する、層の屈折率調整のために無機微粒子等を透光性樹脂に添加した場合は、その光学的な平均屈折率）との差が０．０３〜０．３０であるものを用いることが好ましい。この屈折率差が０．０３以上であれば、両者の屈折率の差が小さくなりすぎることがなく、良好な光拡散効果が得られ、屈折率差が０．３０以下であれば、光拡散性が大きすぎて光拡散層全体が白化するなどの不具合が生じないので好ましい。屈折率の差は、０．０６〜０．２５であることがより好ましく、０．０９〜０．２０であることが最も好ましい。
【００９３】
（第１の透光性微粒子）
本発明の液晶表示装置の、表示品位を上げる（視角特性改善）ための透光性微粒子（第１の透光性微粒子）の粒子径は、０．５〜３．５μｍであることがより好ましく、０．５〜２．０μｍであることがより好ましい。この粒子径が０．５μｍ以上であれば、散乱の効果が大きく、視角特性が向上すると共に、後方散乱が大きくなりすぎることがなく明るさの減少も大きくならないので好ましい。一方、２．０μｍ以下であれば、散乱効果が小さくなって視角特性の向上が不十分となるなどの不具合が生じないので好ましい。粒子径は０．６〜１．８μｍであることがさらに好ましく、０．７〜１．６μｍであることが最も好ましい。粒子径を適宜調整することにより、光散乱の角度分布を得ることができる。
【００９４】
本発明に好適な光拡散層では、上記透光性粒子と光拡散層全体を構成する透光性樹脂との屈折率差、及び透光性微粒子の粒径を適宜組合せることによってヘイズ値および散乱光プロファイルを調整することが、視角特性と白化（ボケ）を両立させる点で特に好ましい。
【００９５】
光拡散層の光拡散効果は大きければ大きい程、視角特性は向上する。しかし、液晶表示装置の表示品位という点で正面の明るさを維持するためには、できる限り透過率を高めることも必要である。
【００９６】
（第２の透光性微粒子）
また本発明における光拡散層では、拡散効果付与を主目的としない透光性微粒子（第２の透光性微粒子）をさらに添加することも好ましい。第２の透光性微粒子は、光拡散層の表面に凹凸を設け、映り込み防止機能を設けるためなどに用いられる。第２の透光性微粒子の粒子径は、第１の透光性粒子の粒子径より大きいことが好ましく、２．５〜１０．０μｍであることがより好ましい。これにより、好適な表面散乱を付与することができる。粒子径が２．５μｍ以上であれば、所望の表面凹凸を設ける場合に、層の厚みを薄くする必要がないので膜硬度の点でも好ましく、一方、１０μｍ以下であれば、粒子１個１個の重量が大きくなりすぎることがないので、塗布液中の粒子沈降安定性も優れており好ましい。第２の透光性微粒子の粒子径は、２．７〜９μｍがさらに好ましく、３〜８μｍが最も好ましい。
【００９７】
本発明の液晶表示装置において良好な表示品位を達成するには、外光の写り込みを防止することも重要である。表面のヘイズ値が低いほど外光による白茶け感が小さくなり、明瞭なディスプレイ表示を得ることができるが、表面ヘイズ値が低すぎると、映り込みが大きくなるため、最外層に光拡散層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を設け、低反射率化することなどが必要になる。表面ヘイズ値を制御するには、第２の透光性微粒子により樹脂層表面に適度な凹凸を設けることが好ましいが、この限りではない。
【００９８】
第２の透光性粒子の屈折率は、光拡散層全体を構成する透光性樹脂の屈折率との差が第１の透光性粒子より小さいことが好ましい。
【００９９】
光拡散層の表面凸凹は、表面粗さＲａが０．５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以下であることが更に好ましく、最も好ましくは０．２μｍ以下である。表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）の測定は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１に準じて行える。
【０１００】
光拡散層のヘイズ値、特に透過光の拡散に寄与が大きい内部散乱へイズ（内部ヘイズ）は、視角特性改良効果と強い相関関係がある。バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光拡散層で拡散されることにより、視角特性が改善される。しかし、拡散されすぎると正面輝度が減少するため、本発明における光拡散層の内部ヘイズは、４５％以上８０％以下とすることが必要である。内部ヘイズとしては４５％以上７０％以下がより好ましく、４５％以上６０％以下が特に好ましい。内部散乱へイズを上昇させる方法として、拡散性付与を目的とする透光性微粒子の粒子濃度を上げる、もしくは、塗布膜厚を上げる、さらには、粒子と樹脂の屈折率差を大きくするなどの方法がある。
【０１０１】
本発明において、液晶表示装置の表示品位を上げる（視角特性改善）ためには、ゴニオフォトメータの散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を特定の範囲内にするのが特に好ましい。ゴニオフォトメータの、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度は、視覚特性の点から０．０５％以上が好ましく、正面輝度をあまり下げない点からは０．３％以下が好ましい。従って、本発明に
おける光拡散層の該散乱光強度は０．０５〜０．３％であることが好ましく、０．０５〜０．２％であることがより好ましく、０．０５〜０．１５％であることが特に好ましい。本発明における光拡散層は、該散乱光強度の好ましい範囲と、上記の内部ヘイズの好ましい範囲とを同時に満たすものであることが更に好ましい。
【０１０２】
本発明の偏光板の表面散乱起因のヘイズ（表面ヘイズ）は、映り込み低減と白茶け感低減の両立の観点から、０．１〜３０％であり、１０％以下が好ましく、５％以下が特に好ましい。外光による白茶け感低減を重視するのであれば、４％以下が好ましく、２％以下が更に好ましい。表面ヘイズを低減すると映り込みが大きくなるため、低屈折率層を設けて、５°入射光における積分反射率の、４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値を３．０％以下にすることが好ましく、２．０％以下がより好ましく、最も好ましくは１．０％以下である。本発明において、液晶表示装置の表示品位を上げる（視角特性改善）ことに関しては、前述の内部へイズの調整が必要であり、好適にはさらに内部散乱性の調整を行うことであり、さらに好適には、同時に表面ヘイズ及び／又は反射率を好適な範囲にすることで、明室下でのコントラストが改善され、最も好ましい効果を発現できる。
【０１０３】
前記の透光性微粒子は、単分散の有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。粒径にバラツキがないほど、散乱特性にバラツキが少なくなり、曇価（ヘイズ）の設計が容易となる。前記透光性微粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
【０１０４】
有機微粒子としては、ポリメチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５４）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．６８）等が用いられる。無機微粒子としては、シリカビーズ（屈折率１．４４〜１．４６）、アルミナビーズ（屈折率１．６３）等が用いられる。
透光性微粒子は、透光性樹脂１００質量部に対して３〜３０質量部含有させることが好ましく，さらに好ましくは５〜２０質量部である。３質量部未満では散乱性が不足し，３０質量部を超えると画質ぼやけや表面の白濁が生じやすい。
【０１０５】
上記のような透光性微粒子の場合には、樹脂組成物（透光性樹脂）中で透光性微粒子が沈降し易いので、沈降防止のために、シリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性微粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【０１０６】
（透光性樹脂）
透光性樹脂としては、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、すなわち、電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶媒を混合したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。ハードコート性を付与するためには、電離放射線硬化型樹脂が主成分であることが好ましい。
【０１０７】
光拡散層の厚さは、通常１．５μｍ〜３０μｍ、好ましくは３μｍ〜２０μｍとするとよい。光拡散層がハードコート層としての機能を兼ねる場合が一般的であるが、光拡散層の厚さが１．５μｍ以上となるようにすれば、ハードコート性が十分となる方向であり、一方、３０μｍ以下となるようにすれば、カールや脆性の点でも問題が生じることはない
ので好ましい方向である。
【０１０８】
透光性樹脂の屈折率は、低屈折率層を設ける場合は、好ましくは１．４６〜２．００であり、より好ましくは１．４８〜１．９０であり、更に好ましくは１．５０〜１．８０である。なお、透光性樹脂の屈折率は、透光性微粒子を含まずに測定した光拡散層平均の値である。光拡散層の屈折率が小さくしすぎなければ反射防止性が低下することはない。該屈折率が大きすぎなければ、反射光の色味が強くなることはなく、好ましい方向である。この点から上記範囲が好ましい。光拡散層の屈折率の設定は、反射防止性と反射光色味の点から所望の値に設定する。
【０１０９】
上記の透光性樹脂に用いる樹脂は、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また透光性樹脂は架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している樹脂を得るためには、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
【０１１０】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等｝、ビニルベンゼンの誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えばジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えばメチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３つの官能基を有するアクリレート又はメタアクリレートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有するアクリレートモノマーが、膜硬度、すなわち耐擦傷性の観点で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物が市販されており、特に好ましく用いられる。
【０１１１】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶媒に溶解、塗布、乾燥後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化することができる。
【０１１２】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、又はそれに加えて、架橋性基の反応による架橋構造を透光性樹脂中に導入してもよい。架橋性基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１１３】
透光性樹脂は、上記ポリマーに加えて、これに高屈折率を有するモノマー及び／又は高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成されることが好ましい。
【０１１４】
高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。
【０１１５】
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の酸化物からなり、粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子であることが好ましい。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子としては、アルミニウム、ジルコニウム、亜鉛、チタン、インジウム及び錫から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例としては、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ2が好ましく用いられる。
【０１１６】
高屈折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。
【０１１７】
光拡散層は、偏光膜の保護膜を兼ねる透明基材フィルム、好ましくはセルロースアセテートフィルムの上に塗布することにより、形成することが好ましい。光拡散層を形成するための塗布液の溶媒は、透明基材フィルムへの拡散層成分の過剰な染み込み防止と、拡散層と透明基材フィルムとの密着性確保の両立を図るために、透明基材フィルム（例えばトリアセチルセルロースフィルム）を溶解する少なくとも１種類以上の溶媒と、透明基材フィルムを溶解しない少なくとも１種類以上の溶媒から構成する。より好ましくは、透明基材フィルムを溶解する溶媒のうちの少なくとも１種類が、透明基材フィルムを溶解しない溶媒のうちの少なくとも１種類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましくは、透明基材フィルムを溶解する溶媒のうち最も沸点の高い溶媒と、透明基材フィルムを溶解しない溶媒のうち、最も沸点の高い溶媒との沸点温度差が３０℃以上であることであり、最も好ましくは４０℃以上であることである。
【０１１８】
透明基材フィルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解する溶媒としては、炭素数が３〜１２のエーテル類、具体的には、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等；炭素数が３〜１２のケトン類、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等；炭素数が３〜１２のエステル類、具体的には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−プチロラクトン等；２種類以上の官能基を有する有機溶媒、具体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、及びアセト酢酸エチル等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。透明基材を溶解する溶媒としてはケトン系溶媒が好ましい。
【０１１９】
透明基材フィルム（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶媒として、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブ
タノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、トルエンが挙げられる。これらはそれぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１２０】
透明基材フィルムを溶解する溶媒の総量（Ａ）と、透明基材フィルムを溶解しない溶媒の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。
【０１２１】
上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物の通常の硬化方法、すなわち、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。
【０１２２】
例えば、電子線硬化の場合には、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【０１２３】
（光開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号公報等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
【０１２４】
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−ジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン等が含まれる。
【０１２５】
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林等の“Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ”，４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔの“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，１巻（３号）（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物及びｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ−、ジ−又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【０１２６】
具体的な例には、各種のｓ−トリアジン化合物やオキサチアゾール化合物が知られており、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス
（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。
【０１２７】
具体的には特開昭５８−１５５０３号公報のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２号公報のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３号公報のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６号公報のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、米国特許第４，７０１，３９９号明細書のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。
【０１２８】
上記活性ハロゲン類の具体例は、以下の通りである。
【０１２９】
【化１】
2007264595.tif 000003
【０１３０】
【化２】
2007264595.tif 000004
【０１３１】
【化３】
2007264595.tif 000005
【０１３２】
【化４】
2007264595.tif 000006
【０１３３】
【化５】
2007264595.tif 000007
【０１３４】
【化６】
2007264595.tif 000008
【０１３５】
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
「最新ＵＶ硬化技術」、（株）技術情報協会、１９９１年、ｐ．１５９、及び、加藤清視著「紫外線硬化システム」、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１３６】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア（６５１，１８４，５００，９０７，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）」、サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組合せが好ましい例として挙げられる。
【０１３７】
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１３８】
［低屈折率層］
本発明では、前記に記載した範囲の光拡散層を少なくとも１層設けることで、本発明の目的を達成することができるが、さらに最外層にこれに隣接する層の屈折率よりも低い屈折率の層を適切な膜厚で塗設することにより、反射防止性能が得られ、外光の映り込みが抑えられ、明室環境下でのコントラストを上げることができるため、画像表示装置としてはより好ましいものとなる。
【０１３９】
次に低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
【０１４０】
（硬化性組成物）
本発明の低屈折率層は、含フッ素化合物を主成分としてなる硬化性組成物、又は分子内に複数個の結合性基を有するモノマーと低屈折率の粒子を含有する硬化組成物を塗布硬化
して、屈折率が１．２０〜１．５０の範囲に調節したものである。１．２５〜１．４５が好ましく、１．３０〜１．４０が更に好ましい。
【０１４１】
好ましい硬化物組成物の態様としては：
（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、
（２）含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物、
（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物。
【０１４２】
これにより、フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐擦傷性に優れた光学フィルムが得られる。硬化した低屈折率層表面の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０°である。
【０１４３】
（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物
架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーとしては、含フッ素モノマーと、架橋性又は重合性の官能基を有するモノマーとの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例えば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や“Ｍ−２０２０”｛ダイキン工業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
【０１４４】
架橋性基付与のためのモノマーとしては、１つの態様としては、グリシジルメタクリレートのように分子内に予め架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーを挙げることができる。また別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い、含フッ素共重合体を合成後、さらにそれら置換基を修飾して架橋性又は重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等｝が挙げられる。後者の態様は、特開平１０−２５３８８号公報及び特開平１０−１４７７３９号公報に開示されている。
【０１４５】
上記含フッ素ポリマーには、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーン成分を導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。
【０１４６】
含フッ素ポリマー主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド［市販のものでは“ＶＰＳ−０５０１”、“ＶＰＳ−１００１”｛商品名；ワコー純薬工業（株）製｝］等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。また、含フッ素ポリマー側鎖に導入する方法は、例えば“Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．”，２０００巻，ｐ．７８，１９５５年、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン［例えば「サイラプレーン」シリーズ｛チッソ（株）製｝など］を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。
【０１４７】
上記の含フッ素ポリマーに対しては、特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく、適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また特開２００４−１７０９０１号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。
【０１４８】
これら化合物は、特に含フッ素ポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に、耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【０１４９】
含フッ素ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えば含フッ素ポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。
【０１５０】
これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開２００３−２２２７０２号公報、特開２００３−１８３３２２号公報等に記載されている。
【０１５１】
（２）含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物
含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も、屈折率が低く塗膜表面の硬度が高いので好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開２００２−２６５８６６号公報、特開２００２−３１７１５２号公報に記載されている。
【０１５２】
（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でもよいが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開２００２−７９６１６号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は１．１５〜１．４０が好ましく、１．２０〜１．３０が更に好ましい。バインダーとしては、上記光拡散層の項で述べた２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。
【０１５３】
本発明の低屈折率層には、上記の光拡散層の項で述べた重合開始剤を添加することが好ましい。ラジカル重合性化合物を含有する場合には、該化合物に対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部の重合開始剤を使用できる。
【０１５４】
（無機粒子）
本発明の低屈折層には、無機粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚みの１５％〜１５０％、好ましくは３０％〜１００％、更に好ましくは４５％〜６０％の粒径を有する微粒子を使用することができる。
【０１５５】
（その他の添加剤）
本発明の低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。
【０１５６】
本発明において光拡散層を有するフィルムは、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のいずれかに対して、常温常湿で測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ2〜＋２００ｐｃ／ｃｍ2であることが好ましい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ〜＋１００ｐｃ／ｃｍ2であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ2〜＋５０ｐｃ／ｃｍ2であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ2である。ここで、単位のｐｃは、１０-12クーロンである。さらに好ましくは、常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−２００ｐｃ／ｃｍ2〜＋２００ｐｃ／ｃｍ2であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／ｃｍ2〜＋５０ｐｃ／ｃｍ2であり、最も好ましくは０ｐｃ／ｃｍ2である。
【０１５７】
垂直剥離帯電の測定方法は、以下の通りである。
測定サンプルは、予め測定温度湿度の環境下で２時間以上放置しておく。測定装置は、測定サンプルを置く台と相手のフィルムを保持して測定サンプルに上から圧着と剥離を繰り返すことができるヘッドからなり、このヘッドに帯電量を測定するエレクトロメーターが繋がっている。測定する防眩性反射防止性能を有するフィルムを台に乗せ、ヘッドにＴＡＣ又はＰＥＴを装着する。測定部分を除電したのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させることを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サンプルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離帯電とする。
【０１５８】
本発明の拡散層を有するフィルムの表面抵抗値は、１×１０7Ω／□以上１×１０15Ω／□以下が好ましく、１×１０7Ω／□以上１×１０14Ω／□以下がより好ましく、１×１０7Ω／□以上１×１０13Ω／□以下が最も好ましい。
【０１５９】
表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されている円電極法である。すなわち、電圧印加後、１分後の電流値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。
【０１６０】
表面抵抗値を下げるには、帯電防止層を設けることが好ましい。好ましい層構成を以下に示す。以下の層構成において、基材フィルムは第２保護膜を兼ねる。
・基材フィルム／光拡散層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／帯電防止層／光拡散層／低屈折率層
・基材フィルム／光拡散層（帯電防止層）／低屈折率層
・基材フィルム／光拡散層／中屈折率層（帯電防止層）／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／光拡散層（帯電防止層）／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／帯電防止層／光拡散層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／光拡散層／中屈折率層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
【０１６１】
なお、低屈折率層がなくても構わないし、また、上記構成に限るものではない。帯電防止層は導電性ポリマー粒子又は金属酸化物微粒子（例えば、ＡＴＯ、ＩＴＯ）を含む層であることが好ましく、塗布又は大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。防汚層を設ける場合は、上記構成の最上層に設けることができる。
【０１６２】
またフィルム硬度を高めるために（耐擦傷性付与のために）、本発明で記載のハードコート性を持たせた光拡散層を厚くする以外に、さらに別層として、ハードコート層（本発明の光拡散性があっても、なくても構わない）を少なくとも１層設けることも好ましい。好ましい層構成としては以下の通りである。以下の層構成において、基材フィルムは第２保護膜を兼ねる。
・基材フィルム／ハードコート層／光拡散層／低屈折率層
・基材フィルム／光拡散層／ハードコート層／低屈折率層
なお、低屈折率層がなくても構わないし、また、上記構成に限るものではない。さらに、上記帯電防止層を組み合わせることも好ましい。
【０１６３】
本発明における光拡散層を有するフィルムの、５°入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値は３．０％以下が好ましく、２．０％以下がより好ましく、最も好ましくは１．０％以下である。
【０１６４】
［透明基材フィルム］
透明基材フィルムの素材としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなどが使用できるが、透明基材フィルムの代わりに透明ガラス基材を使用することもできる。透明樹脂フィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（屈折率１．４８）、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム等が使用できる。また厚さは通常２５〜２００μｍ程度とする。好ましくは、３０〜１００μｍ、より好ましくは、４０〜８０μｍである。透明基材フィルムは、偏光板の最表面にも用いるため、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアセテートフィルムを使用することが好ましい。光拡散層の透明基材フィルムとしては、透明性が高く、表面が平滑なセルロースアセテートフィルムが好ましい。
【０１６５】
（セルロースアセテートフィルム）
本発明では透明基材フィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが特に好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
【０１６６】
また、本発明に使用するセルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０１６７】
一般に、セルロースアシレートにおいては、そのセルロース単位の２，３，６位の水酸基の置換度がそれぞれ１／３ずつ均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向にある。本発明ではセルロースアシレートのセルロース単位の６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて大きい方が好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらに該セルロース単位の６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。該セルロース単位の６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。本発明におけるセルロースアシレートとしては、特開平１１−５８５１号公報に記載の「００４３」〜「００４４」「実施例」（合成例１）、「００４８」〜「００４９」（合成例２）、「００５１」〜「００５２」（合成例３）の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【０１６８】
（ソルベントキャスト法に用いる有機溶媒）
セルロースアセテートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０１６９】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
【０１７０】
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１７１】
（可塑剤）
セルロースアセテートフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。
【０１７２】
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１７３】
セルロースアセテートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミンなど）を添加してもよい。劣化
防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、良好な劣化防止剤の効果が発揮される。添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などの不具合が生じにくい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１７４】
（セルロースアセテートフィルムの表面処理）
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜として使用する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。得られるセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。また、セルロースアセテートフィルム上に均一に塗工するために、塗工前に加熱処理を行い、セルロースアセテートフィルムの平面性を改善することも好ましい。
【０１７５】
（鹸化処理）
本発明の偏光板を作製する際には、保護フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０１７６】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３ｍｏｌ／Ｌであり、特に好ましくは１〜２ｍｏｌ／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。これらの鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬したりしてアルカリ成分を中和することが好ましい。
【０１７７】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【０１７８】
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受けるため、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０°〜５０°、より好ましくは３０°〜５０°、さらに好ましくは４０°〜５０°となる。５０°以下であれば、偏光膜との接着性に問題が生じることがないので好ましい。一方、１０°以上であれば、フィルムが受けるダメージが大きくなり
すぎることがなく、物理強度が保持されるので好ましい。
【０１７９】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を、塗布層を有する表面とは反対側の表面のみに適用し、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の適用とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布、噴霧、液を含んだベルト等への接触などによって行われることを意味する。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（ａ）の浸漬法が優れているが、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液と接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を使用することもできる。例えば、アルミニウムなどの蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
【０１８０】
上記（ａ）、（ｂ）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の基材フィルムから巻き出して各層を形成後に行うことができるため、フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。さらに、同様に巻き出した偏光膜との貼り合わせ工程も併せて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作製することができる。
【０１８１】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
上記（ｂ）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面に、ラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで、最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、塗布層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。上記（ｂ）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
【０１８２】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、例えば、ハードコート層とフッ素含有ゾル−ゲル膜の低屈折率層を有するフィルムの場合に、親水基を有する場合にはハードコート層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０１８３】
ｅ．予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを、予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に、直接又は他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０１８４】
［偏光板の作製］
本発明においては、セルロースアセテートフィルムなどの透明基材フィルムを、保護膜として偏光膜の両側に配置し、さらにその少なくとも一方の保護膜に光拡散層を形成するか、又は既に形成された光拡散層を有する光拡散膜を偏光膜に積層することによって本発
明の液晶表示装置用偏光板を作製することができる。使用される透明基材フィルムは、市販のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。更には、本発明の偏光板においては、一方の保護膜上に液晶性化合物を含む光学異方性層を有する光学補償膜を積層して用いることができ、また該保護膜が光学補償膜を兼ねることもできる。
【０１８５】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０１８６】
偏光板の生産性には保護膜の透湿性が重要である。偏光膜と保護膜は水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶媒は保護膜中を拡散することで乾燥される。保護膜の透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。保護膜の透湿性は、透明基材フィルムの種類やその厚み（保護膜が光学補償膜であるときには液晶化合物を含む厚み）、自由体積、親疎水性等により決定される。
【０１８７】
本発明の偏光板における保護膜の透湿性は、１００〜１０００ｇ／ｍ2・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ2・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
【０１８８】
透明基材フィルムの厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、又は、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。透明基材フィルムの自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。透明基材フィルムの親疎水性は、添加剤により調整することができる。該自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【０１８９】
光学フィルムの透明基材フィルムやセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置することもできる。
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。
【０１９０】
保護膜は、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護膜の配向軸（遅相軸）は何れの方向であってもよく、操作上の簡便性から、保護膜の配向軸は、長手方向に平行か垂直であることが好ましい。
【０１９１】
保護膜と偏光膜とを貼り合せる際には、少なくとも一方の保護膜（液晶表示装置に組み込まれる際に液晶セルに近い側に配置される保護膜）の遅相軸（配向軸）と、該偏光膜の吸収軸（延伸軸）とが交差することも可能であるが、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸は互いに平行であると、偏光板の寸法変化やカール防止といった偏光板の機械的安定性を向上させることができる。偏光膜及び一対の保護膜の合計３つのフィルムの少なくとも２つの軸、一方の保護膜の遅相軸と偏光膜吸収軸、又は２枚の保護膜の遅相軸などが実質的に平行であれば同じ効果が得られる。
【０１９２】
（接着剤）
偏光膜と保護膜との接着剤は、特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後で、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
【０１９３】
（偏光膜と保護膜の一貫製造工程）
本発明の液晶表示装置用偏光板は、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ、揮発分率を低下させる乾燥工程を有し、乾燥後又は乾燥中に、少なくとも片面に保護膜を貼り合わせた後、後加熱工程を設けることが好ましい。該保護膜が、光学補償層として機能する光学補償膜や光拡散層の基材フィルムを兼ねている態様では、片面に光拡散層を有する保護膜、反対側に光学補償膜を有する透明基材フィルムを貼り合わせた後、後加熱するのが好ましい。
【０１９４】
具体的な貼り付け方法として、偏光膜用フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に保護膜を貼り付け、その後両端を耳切りするか、又は乾燥後、両端保持部から偏光膜用フィルムを解除し、該フィルム両端を耳切りした後、保護膜を貼り付けるなどの方法がある。耳切りの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を向上させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０℃以上が好ましく、さらに好ましくは４０℃以上１００℃以下、さらに好ましくは５０℃以上９０℃以下である。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。
【０１９５】
（偏光板の性能）
本発明に関連する保護膜、偏光膜、光拡散層からなる液晶表示装置用偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品｛例えば（株）サンリッツ製“ＨＬＣ２−５６１８”等）と同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝1/2≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率の変化率（％）の絶対値が３以下、更には１以下、偏光度の変化率（％）は絶対値で１以下、更には０．１以下であることが好ましい。
【０１９６】
（光学補償膜）
光学補償膜は、液晶表示装置において画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられる。本発明では、前述した様に、光学補償膜は必須の部材ではなく、例えば、偏光板の一対の保護膜の一方又は双方に複屈折性を付加させて、光学補償膜として機能させる態様等では不要である。
【０１９７】
光学補償膜全体の面内レターデーション値（Ｒｅ）は、２０〜２００ｎｍであることが好ましい。光学補償膜全体の厚み方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）は、５０〜５００ｎｍであることが好ましい。
【０１９８】
光学補償膜としては、延伸複屈折ポリマーフィルムからなる光学補償膜、及び透明基材フィルム上に低分子又は高分子の液晶性化合物から形成された光学補償膜を有する光学補償膜があるが、本発明ではいずれも使用することができる。２層の光学補償膜の積層体をはじめ、積層構造の光学補償膜を用いることもできる。積層構造の光学補償膜については、厚さを考慮すると、高分子の延伸フィルムの積層体からなる光学補償膜よりも、塗布型の積層体からなる光学補償膜が好ましい。
【０１９９】
光学補償膜に用いられる高分子フィルムは、延伸された高分子フィルムであっても、また塗布型の高分子層と高分子フィルムとの併用でもよい。高分子フィルムの材料は、一般に合成ポリマー（例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂、トリアセチルセルロース）が用いられる。
【０２００】
（液晶性化合物からなる光学補償膜）
次に、液晶性化合物からなる光学補償膜を有する光学補償膜について詳細に説明する。
液晶性化合物には多様な配向形態があるため、液晶性化合物からなる光学補償膜は、単層で又は複数層の積層体により、所望の光学的性質を発現する。すなわち、光学補償膜は、基材フィルムと該基材フィルム上に形成された１層以上の光学補償膜とからなる態様であってもよい。かかる態様の光学補償膜全体のレターデーション値は、光学補償膜の光学異方性によって調整することができる。また、本発明で採用する低分子と高分子タイプがあり、いずれも使用することができる。
【０２０１】
（ディスコティック液晶性化合物からなる光学補償膜）
上記光学補償膜を形成する液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物を用いることができる。ディスコティック液晶性化合物は、ポリマーフィルム面に対して実質的に垂直（５０〜９０°の範囲の平均傾斜角）に配向させることが好ましい。
【０２０２】
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献｛Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻，ｐ．１１１（１９８１年）；日本化学会編、「季刊化学総説」のＮｏ．２２、「液晶の化学」、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの“Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．”，ｐ．１７９４（１９８５年）；Ｊ．Ｚｈａｎｇらの“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１６巻，ｐ．２６５５（１９９４年）｝に記載されているものを採用することができる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載のものを採用できる。
【０２０３】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物のディスコティックコアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。すなわち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（１）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（１）：Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄはディスコティックコアであり、Ｌは２価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。
【０２０４】
上記一般式（１）中のディスコティックコア（Ｄ）、２価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。
【０２０５】
これらの液晶性化合物は、光学補償膜中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。重合性基を有するディスコティック液晶性化合物の場合は、実質的に垂直配向させることが好ましい。実質的に垂直とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と光学補償膜の面との平均角度（平均傾斜
角）が５０°〜９０°の範囲内であることを意味する。ディスコティック液晶性化合物を斜め配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するように（ハイブリッド配向）させてもよい。斜め配向又はハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は５０°〜９０°であることが好ましい。
【０２０６】
光学補償膜は、液晶性化合物及び下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成することが好ましい。
【０２０７】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えばジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えばピリジン）、炭化水素（例えばベンゼン、ヘキサンなど）、アルキルハリド（例えばクロロホルム、ジクロロメタンなど）、エステル（例えば酢酸メチル、酢酸ブチルなど）、ケトン（例えばアセトン、メチルエチルケトンなど）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなど）が含まれる。アルキルハリド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法など）により実施できる。
【０２０８】
（液晶性化合物の配向状態の固定化）
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（例えば、米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書に記載のもの）、アシロインエーテル（例えば、米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（例えば、米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの）、多核キノン化合物（例えば、米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書に記載のもの）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組合せ（例えば、米国特許３５４９３６７号明細書に記載のもの）、アクリジン及びフェナジン化合物（例えば、特開昭６０−１０５６６７号公報に記載のもの、米国特許４２３９８５０号明細書に記載のもの）及びオキサジアゾール化合物（例えば、米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの）が含まれる。
【０２０９】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学補償膜の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。
【０２１０】
（配向膜）
光学補償膜の形成に際して、液晶性化合物を配向させるためには、配向膜を用いることが好ましい。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成、又はラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチルなど）の累積のような手段で設けることができる。さらに電場の付与、磁場の付与又は光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。
【０２１１】
ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには、配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償膜について種々の文献に記載がある。いずれの配向膜においても、液晶化合物と透明支持体の密着性を改善する目的で、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、又は環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることがより好ましく、かかる配向膜としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されている。
【０２１２】
配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０２１３】
なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学補償膜を形成し、光学補償膜のみを透明基材フィルム上に転写してもよい。
【０２１４】
光学補償膜を支持する基材フィルムについては、特に制限されず、種々の高分子フィルム等を用いることができる。例えば、トリアセチルセルロース、ノルボルネン樹脂等が挙げられる。また、上述した様に、偏光板の保護膜が光学補償膜の支持体を兼ねていてもよい。かかる態様における基材フィルムの材料の具体例については、偏光板の保護膜の材料の具体例と同一であり、前記した通りである。
【実施例】
【０２１５】
［実施例１］
図１に示す構成の液晶表示装置を作製した。即ち、観察方向（上）から上側偏光板１、上側光学補償膜１４、液晶セル（上基板５、液晶層に含まれる液晶性分子６、下基板７）、下側光学補償膜２４、下側偏光板２を積層し、さらに下側偏光板の下側には冷陰極蛍光灯を用いたバックライト（不図示）を配置した。
【０２１６】
以下に、用いた部材それぞれの作製方法を説明する。
【０２１７】
（ＥＣＢモード液晶セルの作製）
液晶セルは、セルギャップ３．５μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、液晶層７のΔｎ・ｄを３００ｎｍとした。液晶材料は誘電異方性が正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（例えばメルク社製のＭＬＣ−９１００）を使用した。また、液晶セルの交差角は０°であり、後で上下偏光板と貼り合わせる際に、液晶セルの上下基板ラビング方向（配向制御方向）は、支持体遅相軸（流延方向と平行方向）と４５°の交差角になるようにする。偏光板吸収軸は液晶セル配向方向（ラビング方向）と概略４５°交差し、且つ上下偏光板吸収軸の交差角は概略９０°の直交ニコルとした。
【０２１８】
（セルロースアセテートフィルムの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２１９】
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート        １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                    ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                １１質量部
【０２２０】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶媒量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフィルム（透明支持体、保護膜）について、前述の方法によって波長５４６ｎｍにおけるＲｅ値及びＲｔｈ値を測定した。Ｒｅは３ｎｍ、Ｒｔｈは８ｎｍであった。
作製したセルロースアセテートフィルムを２．０ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗し、その後乾燥させた。このセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーを接触法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。このようにして、保護膜用セルロースアセテートフィルムを作製した。
【０２２１】
（光学補償膜用の配向膜の作製）
このセルロースアセテートフィルム上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、形成した膜に、セルロースアセテートフィルムの面内遅相軸（流延方向と平行方向）に対して同じ方向にラビング処理を実施した。
【０２２２】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                    ２０質量部
水                                              ３６０質量部
メタノール                                      １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                    １．０質量部
【０２２３】
【化７】
2007264595.tif 000009
【０２２４】
（光学補償膜の作製）
上記の配向膜上に、下記のディスコティック液晶性化合物９１．０ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９．０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１-０．２、イーストマンケミカル社製）２．０ｇ、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１-１、イーストマンケミカル社製）０．５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３．０ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０ｇを、４１４ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃３．６のワイヤーバーで６．２ｍｌ／ｍ2（６．２ｃｃ／ｍ2）塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷して、光学補償膜を形成した。
【０２２５】
【化８】
2007264595.tif 000010
【０２２６】
作製した光学補償膜において、ディスコティック液晶性化合物は、円盤面と保護膜とのなす角度（傾斜角）が、保護膜から空気界面に向かって増加し、１１°〜６６°でハイブリッド配向していた。傾斜角はエリプソメーター（Ｍ-１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーション値を測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ
Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法で算出した。
【０２２７】
（楕円偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学補償膜を支持体面で偏光膜の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤ-８０Ｕ、富士フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の液晶セルと反対側に貼り付けた。偏光膜の吸収軸と光学補償膜の支持体の遅相軸（流延方向と平行方向）とは平行になるように配置した。このようにして偏光板を作製した。
また上側偏光板の偏光膜の吸収軸の軸角度を表示装置の水平方向を基準にして、４５°とし、上側光学補償膜の配向制御方向（ラビング方向）を４５°、液晶セル上基板の配向制御方向（ラビング方向）を９０°とし、同様に下側偏光板の軸角度を１３５°、下側光学補償膜の配向制御方向を１３５°、液晶セル下基板の配向制御方向（ラビング方向）を２７０°とした。
【０２２８】
（光拡散層の塗設）
（光拡散層ＨＣ−０１Ａ）
光拡散層を構成する透光性樹脂は、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ７４０４  ＪＳＲ（株）製）を１００部、透光性樹脂ＤＰＨＡ（日本化薬製；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物）を５７質量部を攪拌混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。この溶液に透光性微粒子として、架橋ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製 ＭＸ１５０、粒径１．５μｍ、屈折率１．４９）を１７質量部、及び架橋ポリメチルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製、ＭＸ３００ 粒径３．０μｍ、屈折率１．４９）を７質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるように調整したものを、前記楕円偏光板の光学補償膜を有する側とは偏光膜を挟んで反対側のトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量が０．４２ｇ／ｍ2になるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散層ＨＣ−０１Ａを有する偏光板を作製した。この光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。
【０２２９】
（光拡散層ＨＣ−０２Ａ〜１１Ａ）
光拡散層ＨＣ−０１Ａの１．５μｍ架橋ポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量を変更した以外は光拡散層ＨＣ−０１Ａと同様に光拡散層ＨＣ−０２Ａ〜ＨＣ−１１Ａを作製した。１．５μｍポリメチルメタクリレート系ビーズの塗布量は後述の表に示す通りである。
【０２３０】
（光拡散層ＨＣ−０１Ｂ）
光拡散層を構成する透光性樹脂は、ＤＰＨＡ（日本化薬製）を１４．７９質量部、ＰＥＴ-３０（日本化薬製；ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）を１３３．１１重量部（これら２種の樹脂を溶媒で希釈した後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であった）。これらの樹脂に、透光性微粒子として、高架橋ポリスチレン系ビーズ（積水化成製ＳＢＸ−８、粒径８μｍ、屈折率１．６２）をシクロヘキサノンでビーズ固形分３０％になるように調整したビーズ分散液を７．７質量部、及び、架橋ポリスチレン系ビーズ（綜研化学製、ＳＸ１３
０Ｈ、 粒径１．３μｍ、屈折率１．６１）をシクロヘキサノンでビーズ固形分３０％になるように調整したビーズ分散液を１７．９７質量部、イルガキュア１８４（重合開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を６質量部、イルガキュア９０７（重合開始剤；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）を１．０６質量部、ＦＺ２１９１（シリコーンレベリング剤、日本ユニカー製）を０．２２質量部、トルエン１３３．５質量部、シクロヘキサノン３９．２質量部を混合し、固形分４６％になるように調整したものを、前記楕円偏光板の光学補償膜を有する側とは偏光膜を挟んで反対側のトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、層厚が２０μｍになるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散層ＨＣ−０１Ｂを有する偏光板を作製した。１．３μｍ架橋ポリスチレン系ビーズの塗布量は１．１ｇ／ｍ2であった。
【０２３１】
（光拡散層ＨＣ−０１Ｃ）
光拡散層を構成する透光性樹脂はシリカ超微粒子分散物含有ハードコート液（デソライトＺ７５２６ ＪＳＲ（株）製、屈折率１．５１）を１００質量部、透光性微粒子として架橋ポリスチレン系ビーズ（綜研化学製 ＳＸ１３０Ｈ、粒径１．３μｍ、屈折率１．６１）を２５質量部、架橋ポリスチレン系ビーズ（綜研化学製 ＳＸ３５０Ｈ、粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を６質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分４５％になるように調整したものを、前記楕円偏光板の光学補償膜を有する側とは偏光膜を挟んで反対側のトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、１．３μｍ架橋ポリスチレン系ビーズの塗布量が０．９ｇ／ｍ2になるように塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ光拡散層ＨＣ−０１Ｃを有する偏光板を作製した。この光拡散層乾燥膜厚は３．０μｍであった。
【０２３２】
（光拡散層ＨＣ−０１Ｄ）
前記光拡散層ＨＣ−０１Ｂにおいて、（１）高架橋ポリスチレン系ビーズ（積水化成製ＳＢＸ−８、粒径８μｍ、屈折率１．６２）を、高架橋ポリスチレン系ビーズ（積水化成製ＳＢＸ−６、粒径６μｍ、屈折率１．６２）に置き換え、（２）光拡散層の乾燥膜厚を２０μｍから５．５μｍに変える以外は、光拡散層ＨＣ−０１Ｂと全く同様に調整したものを光拡散層ＨＣ−０１Ｄとした。
また、さらに、（３）１．３μｍ架橋ポリスチレン系ビーズの塗布量を下表のようにしたものを、光拡散層ＨＣ−０２Ｄ〜０４Ｄとした。
【０２３３】
（低屈折率層の塗設）
（ゾル液（ａ）の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器内において、メチルエチルケトン１１９質量部、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１０１質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液（ａ）を得た。ゾル液（ａ）の質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。最終的にはメチルエチルケトン溶液で作製し、固形分濃度２９重量％であった。
【０２３４】
（低屈折率層塗布液の調製）
低屈折率層塗布液ＬＮ-１〜ＬＮ-３については、下記の表に従って調整した。表中の数字は質量部の表記になっている。
【０２３５】
【表１】
2007264595.tif 000011
【０２３６】
上記の各々の塗布液を、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層塗布液（ＬＮ−１〜３）を完成させた。
【０２３７】
上記の各々の塗布液の作製に使用した化合物を以下に示す。
“ＪＴＡ−１１３”：熱架橋性の、シリコーン部位含有の含フッ素ポリマー溶液、屈折率１．４４、固形分濃度６質量％、
溶媒メチルエチルケトン、ＪＳＲ（株）製、
“Ｐ−３”：特開平２００４−４５４６２号公報に記載の含フッ素共重合体（Ｐ−３）、質量平均分子量約５００００、固形分濃度２３．８質量％、溶媒メチルエチルケトン、
“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”：シリカ粒子分散液、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、分散溶媒メチルエチルケトン、日産化学（株）製、
“ＰＭ９８０Ｍ溶液”：重合開始剤ＰＭ９８０Ｍ、和光純薬製を固形分濃度２質量％になるように溶媒メチルエチルケトンで希釈した溶液、
“ＭＰ−トリアジン”：光重合開始剤、（株）三和ケミカル製、
“ＲＭＳ−０３３”：反応性シリコーン樹脂、Ｇｅｌｅｓｔ社製をメチルエチルケトンで６質量部％とした、
“中空シリカ分散液”：ＣＳ−６０、分散溶媒イソプロピルアルコール、触媒化成工業（製）、屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、シェル厚み１０nm、の中空シリカ粒子に「ＫＢＭ−５１０３（信越化学（株）製シランカップリング剤）」を表面修飾した中空シリカ粒子分散液（表面修飾率：対中空シリカ３０質量％）であり、固形分濃度１８．２質量％の分散液である。
【０２３８】
（低屈折率層の塗設−１）
本発明の各種光拡散層を塗設した後、さらに、上記低屈折率層用塗布液ＬＮ-１〜２については、バーコーターにて、低屈折率層の乾燥膜厚が９５ｎｍになるようにウエット塗布し、続いて、１２０℃で１５０秒間乾燥の後、更に１００℃で８分間乾燥させてから、窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量１１０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取った。低屈折率層の屈折率は、ＬＮ-１が１．４５、ＬＮ-２が１．４１であった。
【０２３９】
（低屈折率層の塗設−２）
本発明の各種光拡散層を塗設した後、さらに、上記低屈折率層用塗布液ＬＮ-３については、ダイコーターにて、低屈折率層の乾燥膜厚が９５ｎｍになるようにウエット塗布し、続いて、１２０℃で７０秒間乾燥の後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させて巻き取った。低屈折率層の屈折率は１．３８であった。
【０２４０】
本発明試料１−１〜２０、比較例試料１〜５については下表に従って塗設し、光拡散層付きフィルムを完成させた。また、本発明試料１−１９は、本発明試料１−９の低屈折率層を塗設しなかったもの、本発明試料１−２０は、本発明試料１−１８の低屈折率層を塗設しなかったものである。
【０２４１】
（光拡散フィルムの評価）
得られた光拡散フィルムについて、以下の項目の評価を行った。
【０２４２】
（１）積分反射率
積分反射率の測定は、分光光度計"Ｖ−５５０"（日本分光（株）製）にアダプター"ＩＬＶ−４７１"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均の積分反射率を算出した。
【０２４３】
（２）内部ヘイズ
（１）ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準じて、得られた光学フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。
（２）光学フィルムの表面及び裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ１ｍｍのガラス板（ミクロスライドガラス品番Ｓ９１１１、ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ製）を２枚用いて裏表より挟んで、完全に２枚のガラス板と得られた光学フィルムを密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板２枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈｉ）として算出した。
（３）上記（１）で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記（２）で算出した内部ヘイズ（Ｈｉ）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈｓ）として算出する。
【０２４４】
（３）散乱光プロファイルの評価
自動変角光度計ＧＰ−５型（(株)村上色彩技術研究所製）を用いて、入射光に対して光拡散フィルムを垂直に配置し、全方位に渡って散乱光プロファイルを測定した。出射角０°の光強度に対する３０°の散乱光強度を求めた。
【０２４５】
（４）視野角
作製した液晶表示装置について、測定器（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ，ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で上方向の視野角を測定した。
コントラスト比が１０以上で、階調反転のない範囲を視野角とした。
評価は以下の４段階で行った。
○    ：  ７６°以上
△    ：  ７３°以上７６°未満
△×  ：  ７０°以上７３°未満
×    ：  ７０°未満
【０２４６】
（５）ボヤケ
作製した液晶表示装置に画像を表示させ、下記４段階で画像のボヤケを評価した。
○    ：  画像のボヤケが全く分からない。
○’  ：  画像のボヤケが極わずかであり気にならない。
△    ：  画像のボヤケがわずかに認められる。
×    ：  画像のボヤケが認識できる。
【０２４７】
【表２】
2007264595.tif 000012
【０２４８】
本発明試料１−１〜２０は、視角特性の改善とボヤケの低減が両立された。
さらに本発明試料１−１〜１８は、本発明試料１−１９、２０と比較し、低屈折率層の塗設により、積分反射率が低減しており、視角特性の改善／ボヤケの低減の両立に加え、さらに、外光の映り込みが抑え、明室環境下でのコントラストを上げることができる画像表示装置を提供できる点で特に好ましいものであった。
【０２４９】
［実施例２］
（比較例２−１）
実施例１の本発明試料１−１において、光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層しない以外の構成は同様にして液晶表示装置を作製した。
【０２５０】
（実施例２−２）
（液晶表示装置の作製）
実施例１の本発明試料１−１において、液晶セルの構成を下記の通り変更した以外は同様にして液晶表示装置を作製した。
図２において上側偏光板偏光膜１２の吸収軸１２Ｄ、上側偏光板保護膜１１の遅相軸１１Ｄは９０°、上側偏光板保護膜１３の遅相軸１３Ｄは０°、下側偏光板偏光膜２２の吸収軸２２Ｄ、下側偏光板保護膜２１の遅相軸２１Ｄは０°に、また上側光学異方性層１４の配向制御方向１４ＲＤを４５°、下側光学異方性層２４の配向制御方向２４ＲＤを２２５°になるように設定した。
また、液晶セルの上側（観察者側）基板５のラビング方向（配向軸）５ＲＤは４５°、下側（バックライト側）基板７のラビング方向（配向軸）７ＲＤは２２５°でねじれ角は０°とした。この様にしてノーマリーホワイトモードのＥＣＢ型液晶セルを作製した。この液晶表示装置の最表面には本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層した。
【０２５１】
（比較例試料２−２）
本発明試料１−２において、光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層しない以外の構成は同様にして液晶表示装置を作製した。
【０２５２】
（実施例２−３）
実施例１の本発明試料１−１において、液晶セルの構成を下記ＴＮ型液晶表示装置変更した以外は同様にして液晶表示装置を作製した。
図３において上側偏光板偏光膜１２の吸収軸１２Ｄ、上側偏光板保護膜１１、１３の遅相軸１１Ｄ、１３Ｄは４５°、下側偏光板偏光膜２２の吸収軸２２Ｄ、下側偏光板保護膜２１、２３の遅相軸２１Ｄ、２３Ｄは１３５°に、また上側光学異方性層１４の配向制御方向１４ＲＤを２２５°、下側光学異方性層２４の配向制御方向２４ＲＤを３１５°になるように設定した。
【０２５３】
（液晶セルの作製）
液晶セルは、セルギャップ（ｄ）４μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、液晶層６のΔｎ・ｄを４１０ｎｍとした（Δｎは液晶材料の屈折率異方性）。また、液晶セルの上側（観察者側）基板５のラビング方向（配向軸）５ＲＤは４５°、下側（バックライト側）基板７のラビング方向（配向軸）７ＲＤは３１５°で、ねじれ角は９０°とした。この様にしてＴＮ型の液晶セルを作製した。最表面に本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層した。
【０２５４】
（比較例２−３）
実施例２−３において、本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層しない以外の構成は同様にして液晶表示装置を作製した。
【０２５５】
（実施例２−４）
実施例２−３において、液晶セルの配向方向と偏光板吸収軸の角度を変更し、ＴＮ型液晶表示装置を作製した。
上側偏光板偏光膜１２の吸収軸１２Ｄ、上側偏光板保護膜１１、１３の遅相軸１１Ｄ、１３Ｄは９０°、下側偏光板偏光膜２２の吸収軸２２Ｄ、下側偏光板保護膜２１、２３の遅相軸２１Ｄ、２３Ｄは０°に、また上側光学異方性層１４の配向制御方向１４ＲＤを２
７０°、下側光学異方性層２４の配向制御方向２４ＲＤを１８０°になるように設定した。
また液晶セルは、セルギャップ（ｄ）４μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、液晶層６のΔｎ・ｄを４１０ｎｍとした（Δｎは液晶材料の屈折率異方性）。また、液晶セルの上側（観察者側）基板５のラビング方向（配向軸）５ＲＤは４５°、下側（バックライト側）基板７のラビング方向（配向軸）７ＲＤは３１５°で、ねじれ角は９０°とした。この様にしてＴＮ型の液晶セルを作製した。最表面に本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層した。
【０２５６】
（比較例２−４）
実施例２−４において、本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層しない以外の構成は同様にして液晶表示装置を作製した。
【０２５７】
（実施例２−５）
実施例１の本発明試料１−１において、液晶セルの構成を下記ＩＰＳ型液晶表示装置に，光学異方性層を市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）に変更した以外は同様にして液晶表示装置を作製した。
図４において上側偏光板偏光膜１２の吸収軸１２Ｄ、上側偏光板保護膜１１、１３の遅相軸１１Ｄ、１３Ｄは０°、下側偏光板偏光膜２２の吸収軸２２Ｄ、下側偏光板保護膜２１の遅相軸２１Ｄは９０°に、下側偏光板保護膜２３の遅相軸２３Ｄは０°に、また上側光学異方性層１４の配向制御方向１４ＲＤを０°になるように設定した。
また上記光学異方性層は通常偏光板に使用される保護膜と光学性能は同等であり，光学異方性層なしに相当する。
また液晶セルは、セルギャップ（ｄ）３μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、液晶層６のΔｎ・ｄを３００ｎｍとした（Δｎは液晶材料の屈折率異方性）。また、液晶セルの上側（観察者側）基板５のラビング方向（配向軸）５ＲＤは２７０°、下側（バックライト側）基板７のラビング方向（配向軸）７ＲＤは９０°で、ねじれ角は０°とした。この様にしてＩＰＳ型の液晶セルを作製した。最表面に本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層した。
【０２５８】
（比較例２−５）
実施例２−５において、本発明試料１−１の光拡散層ＨＣ−０１Ａを積層しない以外の構成は同様にして液晶表示装置を作製した。
【０２５９】
（作製した液晶表示装置の光学測定）
このように作製した液晶表示装置に６０Ｈｚの矩形波電圧を印加した。光学性能を測定する装置は（ＥＺ-Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用い、透過率の比（白表示／黒表示）であるコントラスト比と黒表示（Ｌ１）と白表示（Ｌ８）透過率を等間隔に切った８階調での透過率視野角を測定した。下方向で隣り合う階調の透過率が反転のない角度範囲、左右コントラスト比が１０：１以上の範囲角度の比、を表３に示す。
また目視観察による黒表示の視野角による色味変化（色むら）と、周辺部の輝度ムラ（光漏れ）の結果も表３に示す。
【０２６０】
色むらの評価は以下のとおり行った。
パネル黒表示字における，正面と方位角４５°極角６０°方向視野角の色差の評価を行った。輝度計で色差を測定するとLuv色度座標系において，色差Δu'v'が０．０２以下であれば目視観察で色ムラは観察されない（２段階評価で○）。０．０２以上では色ムラが認識される（２段階評価で△）。
【０２６１】
周辺部の輝度ムラの評価は以下のとおり行った。
４０℃８０％ＲＨの環境試験室に２４時間保管、室温に１時間放置後、パネル中央部と偏光板長辺端部の中央の黒表示時の輝度差を測定した。目視では偏光板の周辺部の長辺及び短辺部に円弧上に光漏れが観察される。上記輝度差が０．４ｃｄ/ｍ2以上であると画面の輝度ムラとして認識される（３段階評価で△）。輝度差が０．２〜０．４ｃｄ/ｍ2であれば光漏れは観察されるが，画面の輝度ムラとしては認識されない（３段階評価で○）。輝度差が０．１ｃｄ/ｍ2以下であれば光漏れも，画面の輝度ムラも認識されない（３段階評価で◎）。また，同パネルは白表示で４００ｃｄ/ｍ2でコントラスト比７００対１であった。
【０２６２】
【表３】
2007264595.tif 000013
【図面の簡単な説明】
【０２６３】
【図１】本発明のＥＣＢ型液晶表示装置の例を示す概略図である。
【図２】本発明のＥＣＢ型液晶表示装置の例を示す概略図である。
【図３】本発明のＴＮ型液晶表示装置の例を示す概略図である。
【図４】本発明のＩＰＳ型液晶表示装置の例を示す概略図である。
【図５】本発明のＩＰＳ型液晶表示装置の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のＩＰＳ型液晶表示装置の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０２６４】
１      ：上側偏光板
１１    ：上側偏光板保護膜
１１Ｄ  ：上側偏光板保護膜の遅相軸
１２    ：上側偏光板偏光膜
１２Ｄ  ：上側偏光板偏光膜の吸収軸
１３    ：上側偏光板保護膜
１３Ｄ  ：上側偏光板保護膜の遅相軸
１４    ：上側光学補償膜
１４ＲＤ：上側光学補償膜の配向方向
５    ：液晶セル上側基板
５ＲＤ：上側基板液晶配向用ラビング方向
６    ：液晶性分子、液晶層
７    ：液晶セル下側基板
７ＲＤ：下側基板液晶配向用ラビング方向
２４    ：下側光学補償膜
２４ＲＤ：下側光学異方性フィルムの配向方向
２    ：下側偏光板
２３    ：下側偏光板保護膜
２３Ｄ  ：下側偏光板保護膜の遅相軸
２２    ：下側偏光板偏光膜
２２Ｄ  ：下側偏光板偏光膜の吸収軸
２１    ：下側偏光板保護膜
２１Ｄ  ：下側偏光板保護膜の遅相軸
９Ｄ  ：電界方向
９１    ：線状電極
９３    ：絶縁膜
９２    ：電極
８０    ：光源
【図１】
2007264595.tif 000014
【図２】
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【図３】
2007264595.tif 000016
【図４】
2007264595.tif 000017
【図５】
2007264595.tif 000018
【図６】
2007264595.tif 000019