(57)【要約】【課題】  製造工程の工程数を削減できる電気光学装置、および電子機器を提供すること。【解決手段】  電気光学装置１は、複数の画素に対応して設けられた画素電極５５を有する素子基板６０と、素子基板６０に対向配置され複数の画素に対応して設けられた複数色のカラーフィルタおよび共通電極５６を有する対向基板７０と、素子基板６０と対向基板７０の間に挟持された電気光学物質と、を備えている。この電気光学装置１は、素子基板６０から対向基板７０の共通電極５６に電位を供給するための導通部７６を備え、この導通部７６は、対向基板７０の導通部６０に対応する領域に、カラーフィルタ７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇが積層されている。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素に対応して設けられた第１の電極を有する第１の基板と、
前記第１の基板に対向配置され前記複数の画素に対応して設けられた複数色のカラーフィルタおよび第２の電極を有する第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板の間に挟持された電気光学物質と、
前記第１の基板から前記第２の基板の第２の電極に電位を供給するための導通部と、を備え、
前記導通部は、前記第２の基板の導通部に対応する領域に、少なくとも前記複数色のカラーフィルタの着色層のうち１つが積層されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記導通部は、前記第２の基板の導通部に対応する領域の一部に形成された第１のカラーフィルタ層と、この第１のカラーフィルタ層の上から前記第２の基板の導通部に対応する領域の一部を含む領域に積層された第２のカラーフィルタ層と、を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記第１の基板の導通部に対応する領域には、塑性変形可能な金属層が設けられることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶などの電気光学物質を用いた電気光学装置、およびこの電気光学装置を有する電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、画像を表示する液晶装置等の電気光学装置が知られている。この液晶装置として、バックライトといった照明手段による照明光を利用する透過型表示と、自然光や室内光といった周囲光の反射光を利用する反射型表示と、を兼ね備えた半透過反射型の液晶装置がある。
【０００３】
このような液晶装置は、液晶パネルと、照明装置としてのバックライトと、からなる。この液晶パネルは、複数の画素を有する表示領域と、この表示領域の周辺に設けられて画素を駆動する走査線駆動回路およびデータ線駆動回路と、を備えている。
【０００４】
液晶パネルは、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ（以降、ＴＦＴと呼ぶ）が画素に対応して配置された素子基板と、この素子基板に対向配置された対向基板と、素子基板および対向基板の間に挟持された電気光学物質としての液晶と、から構成されている。
【０００５】
素子基板は、所定間隔おきに設けられた複数の走査線と、これら走査線に略直交しかつ所定間隔おきに設けられた複数のデータ線と、走査線と略平行かつ交互に設けられた複数の共通線と、各走査線と各データ線との交差部に対応して設けられたＴＦＴおよび画素電極と、を備えている。
対向基板は、画素電極に対向して設けられた共通電極と、画素に対応して設けられた複数色のカラーフィルタと、を備えている。対向基板に設けられた共通電極は、素子基板と対向基板との間に設けられた導通部により、素子基板に設けられた共通線と電気的に接続されている。
【０００６】
各画素は、上述のＴＦＴ、画素電極、および共通電極のほか、画素電極に一端が電気的に接続された蓄積容量で構成されている。
ＴＦＴのゲートには、走査線が接続され、ＴＦＴのソースには、データ線が接続され、ＴＦＴのドレインには、画素電極および蓄積容量が接続されている。
【０００７】
また、各画素は、透過型表示を行う領域（以下、透過領域と呼ぶ）と、反射型表示を行う領域（以下、反射領域と呼ぶ）と、を備えている。ここで、上述のＴＦＴや蓄積容量は、遮光性を有し、反射領域に形成され、画素電極や共通電極は、透明であり、透過領域および反射領域の全面に亘って形成されている。
また、反射領域には、液晶層の層厚を調整するための液晶層厚調整層と、入射した光を反射する反射層とが形成されている。
【０００８】
以上の液晶装置は、以下のように動作する。すなわち、走査線駆動回路から選択電圧を走査線に線順次で供給することで、ある走査線に係る画素を全て選択する。そして、これら画素の選択に同期して、データ線駆動回路からデータ線に画像信号を供給する。これにより、走査線駆動回路およびデータ線駆動回路で選択された画素に、データ線からスイッチング素子を介して画像信号が供給されて、画像データが画素電極に書き込まれる。
【０００９】
画素電極に画像データが書き込まれると、この画素電極と共通電極とに印加された電圧の電位差により、液晶に駆動電圧が印加される。したがって、画像信号の電圧レベルを変化させることで、液晶の配向や秩序を変化させて、各画素の光変調による階調表示を行う。
【００１０】
ここで、周囲光が少ない環境では、バックライトからの光を利用して、透過型の表示を行う。すなわち、バックライトから出射された光は、素子基板、液晶層、および対向基板を透過して液晶パネルから出射される。
【００１１】
一方、周囲光が十分にある環境では、反射型の表示を行う。すなわち、外部から入射した周囲光は、対向基板および液晶層を透過して、反射層で反射され、再び、液晶層および対向基板を透過して液晶パネルから出射される。
【００１２】
ところで、以上の液晶装置等の電気光学装置では、素子基板や対向基板とは別の製造工程でＡｇ、Ｎｉ、Ｃｕ等の低抵抗の金属粒子を添加した粒状の樹脂を形成しておき、この樹脂を素子基板と対向基板との間に挟み込んで導通部を形成している。（例えば、特許文献１参照）。
この特許文献１で示された電気光学装置によれば、低抵抗の金属粒子を添加した樹脂で導通部を形成したので、この樹脂を素子基板と対向基板との間に挟み込むだけで共通線と共通電極とを容易に電気的に接続できる。
【特許文献１】特開平８−３３４７７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところで、特許文献１で示された電気光学装置では、上述のように、導通部を形成する樹脂は、素子基板や対向基板とは別の製造工程で別部材として形成される。このため、電気光学装置の製造工程の工程数の削減が望まれていた。
【００１４】
本発明は、製造工程の工程数を削減できる電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の電気光学装置は、複数の画素に対応して設けられた第１の電極を有する第１の基板と、前記第１の基板に対向配置され前記複数の画素に対応して設けられた複数色のカラーフィルタおよび第２の電極を有する第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板の間に挟持された電気光学物質と、前記第１の基板から前記第２の基板の第２の電極に電位を供給するための導通部と、を備え、前記導通部は、前記第２の基板の導通部に対応する領域に、少なくとも前記複数色のカラーフィルタの着色層のうち１つが積層されていることを特徴とする。
【００１６】
この発明によれば、第２の基板の導通部に対応する領域に、複数色のカラーフィルタの着色層のうち少なくとも１つを積層した。
このような導通部を形成する手順は、例えば、以下のようになる。
すなわち、複数色のカラーフィルタは、カラーフィルタの着色層を第２の基板上に形成する工程を繰り返すことで形成される。そのため、各色のカラーフィルタの着色層を形成して複数色のカラーフィルタを形成する際に、このカラーフィルタの着色層を第２の基板の導通部に対応する領域にも形成することで、カラーフィルタの着色層を積層して導通部を形成する。
したがって、第２の基板の導通部に対応する領域に形成するカラーフィルタの着色層を適宜選択し、この選択したカラーフィルタの着色層の厚みを適宜調節することで、導通部の厚みを自在に設定できる。
【００１７】
また、カラーフィルタの製造工程を利用して、導通部を形成できるので、導通部を別部材として形成する必要がないから、電気光学装置の製造工程の工程数を削減できる。
【００１８】
また、カラーフィルタの製造工程を利用して、導通部を形成できるので、導通部とカラーフィルタとでは、製造工程で生じる厚み寸法の誤差をほぼ等しくできる。したがって、導通部を別部材として形成し、この別部材の導通部を第１の基板と第２の基板との間に介装した場合に比べ、電気光学装置の製造工程で生じる誤差の管理が容易になる。
【００１９】
本発明の電気光学装置では、前記導通部は、前記第２の基板の導通部に対応する領域の一部に形成された第１のカラーフィルタ層と、この第１のカラーフィルタ層の上から前記第２の基板の導通部に対応する領域の一部を含む領域に積層された第２のカラーフィルタ層と、を含むことが好ましい。
【００２０】
この発明によれば、第２の基板の導通部に対応する領域の一部に形成された第１のカラーフィルタ層と、この第１のカラーフィルタ層の上から第２の基板の導通部に対応する領域の一部を含む領域に積層された第２のカラーフィルタ層と、を含んで導通部を形成した。したがって、第２のカラーフィルタ層を形成する材料の量を第１のカラーフィルタ層を形成する材料の量と同じにしても、第２のカラーフィルタ層の層厚は、第１のカラーフィルタ層の層厚より薄くなる。よって、対向基板７０の上に形成する第１のカラーフィルタ層の形状を変化させるだけで、これらを形成する材料の量を変更することなく、導通部７６の厚みをより自在に設定できる。
【００２１】
本発明の電気光学装置では、前記第１の基板の導通部に対応する領域には、塑性変形可能な金属層が設けられることが好ましい。
【００２２】
この発明によれば、第１の基板の導通部に対応する領域に塑性変形可能な金属層を設けたので、この金属層を塑性変形させることで、導通部の厚みをより自在に設定できる。
【００２３】
本発明の電子機器は、上述の電気光学装置を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、上述した効果と同様の効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の実施形態および変形例の説明にあたって、同一構成要件については同一符号を付し、その説明を省略もしくは簡略化する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る電気光学装置１のブロック図である。
電気光学装置１は、液晶パネルＡＡと、照明装置としてのバックライトユニット８０（図２参照）と、からなる。この液晶パネルＡＡは、複数の画素５０を有する表示領域４１と、この表示領域４１の周辺に設けられて画素５０を駆動する走査線駆動回路１１およびデータ線駆動回路２１と、を備えている。
【００２５】
液晶パネルＡＡは、所定間隔おきに交互に設けられた複数の走査線１０および共通線（容量線）３０と、これら走査線１０に交差し所定間隔おきに設けられた複数のデータ線２０と、を備え、画素５０は、各走査線１０と各データ線２０との交差部に設けられている。
【００２６】
画素５０は、画素トランジスタ５１、第１の電極としての画素電極５５、この画素電極５５に対向する第２の電極としての共通電極５６、および、画素電極５５に一端が電気的に接続され他端が共通線３０に電気的に接続された蓄積容量５３で構成されている。
【００２７】
画素トランジスタ５１のゲート電極には、走査線１０が接続され、画素トランジスタ５１のソース電極には、データ線２０が接続され、画素トランジスタ５１のドレイン電極には、画素電極５５および蓄積容量５３が接続されている。また、画素電極５５と共通電極５６との間には、液晶が挟持されている。したがって、この画素トランジスタ５１は、走査線１０から選択電圧が印加されると、データ線２０と画素電極５５および蓄積容量５３とを導通状態とする。
【００２８】
共通電極５６は、液晶パネルＡＡの四隅に設けられた導通部７６およびこれら導通部７６同士を接続する共通配線３３を介して、共通線３０と接続されている。
【００２９】
走査線駆動回路１１は、画素トランジスタ５１をオン状態にする選択電圧を各走査線１０に線順次で供給する。例えば、ある走査線１０に選択電圧が供給されると、この走査線１０に接続された画素トランジスタ５１が全て導通状態になり、この走査線１０に係る画素５０が全て選択される。
データ線駆動回路２１は、画像信号を各データ線２０に供給し、オン状態の画素トランジスタ５１を介して、画素５０の画素電極５５に画像データを順次書き込む。ここで、データ線駆動回路２１は、共通電極５６の電圧を基準電圧として、この共通電極５６の電圧よりも高い電圧でデータ線２０に画像信号を供給する正極性書込と、共通電極５６の電圧よりも低い電圧でデータ線２０に画像信号を供給する負極性書込とを交互に行う。
【００３０】
以上の電気光学装置１は、以下のように動作する。
すなわち、走査線駆動回路１１から選択電圧を線順次で供給することで、ある走査線１０に係る画素５０を全て選択する。そして、これら画素５０の選択に同期して、データ線駆動回路２１からデータ線２０に画像信号を供給する。これにより、走査線駆動回路１１およびデータ線駆動回路２１で選択した全ての画素５０に、データ線２０から画素トランジスタ５１を介して画像信号が供給されて、画像データが画素電極５５に書き込まれる。この電気光学装置１では、データ線駆動回路２１より、上述の正極性書込と負極性書込とが交互に行われる。
【００３１】
画素５０の画素電極５５に画像データが書き込まれると、この画素電極５５と共通電極５６との電位差により、液晶に駆動電圧が印加される。したがって、画像信号の電圧レベルを変化させることで、液晶の配向や秩序を変化させて、各画素５０の光変調による階調表示を行う。
なお、液晶に印加される駆動電圧は、蓄積容量５３により、画像データが書き込まれる期間よりも３桁も長い期間に亘って保持される。
【００３２】
図２は、電気光学装置１の断面図である。
図２に示すように、上述の液晶パネルＡＡは、画素５０に対応してスイッチング素子としての薄膜トランジスタでなる画素トランジスタ５１が配置された第１の基板としての素子基板６０と、この素子基板６０に対向配置された第２の基板としての対向基板７０と、素子基板６０および対向基板７０の間に挟持された液晶と、から構成されている。
【００３３】
この液晶パネルＡＡを含んで構成される電気光学装置１は、表示領域４１と、非表示領域４２と、を備えている。
表示領域４１には、複数の画素５０が隣接して設けられており、各画素５０は、透過型表示を行う透過領域４１Ａと、反射型表示を行う反射領域４１Ｂと、を備えている。非表示領域４２には、基板間導通領域４２Ａが設けられており、この基板間導通領域４２Ａには、上述の導通部７６が設けられている。
本実施形態では、画素トランジスタ５１は、逆スタガ型のアモルファスシリコンＴＦＴであり、反射領域４１Ｂには、このＴＦＴ５１が形成される領域（図示省略）が設けられている。
まず、表示領域４１について説明する。
【００３４】
表示領域４１の素子基板６０は、ガラス基板６９を有し、このガラス基板６９上には、ガラス基板６９の表面荒れや汚れによるＴＦＴ５１の特性の変化を防止するために、全面に亘って下地膜６１が形成されている。
この下地膜６１の上の反射領域４１Ｂには、遮光性の導電材料からなる走査線１０および共通線３０のほか、共通線３０から延長された蓄積容量５３の共通電位側容量電極５３１が形成されている。
【００３５】
共通電位側容量電極５３１は、走査線１０と同じ導電材料からなり、共通電位に接続される。この共通電位側容量電極５３１は、ＴＦＴ５１が形成される領域（図示省略）を除いて、反射領域４１Ｂの大部分を占めるように形成されている。
【００３６】
以上の走査線１０、共通線３０、および共通電位側容量電極５３１の上には、反射領域４１Ｂおよび透過領域４１Ａを含む画素５０の全面に亘って、第２の絶縁層としてのゲート絶縁膜６２が形成される。
【００３７】
ゲート絶縁膜６２上のＴＦＴが形成される領域（図示省略）には、ゲート電極（図示省略）に対向して、アモルファスシリコンからなる半導体層（図示省略）、Ｎ＋アモルファスシリコンからなるオーミックコンタクト層（図示省略）が積層される。このオーミックコンタクト層には、ソース電極（図示省略）およびドレイン電極（図示省略）が積層されて、これにより、アモルファスシリコンＴＦＴが形成される。
【００３８】
ドレイン電極は、ゲート絶縁膜６２上の共通電位側容量電極５３１に対向する領域まで延設され、蓄積容量５３の画素電位側容量電極５３２として機能する。すなわち、このドレイン電極からなる画素電位側容量電極５３２は、この画素電位側容量電極５３２に対してゲート絶縁膜６２を挟んで対向する共通電位側容量電極５３１とともに、蓄積容量５３を構成する。したがって、画素電位側容量電極５３２と共通電位側容量電極５３１と間のゲート絶縁膜６２は、蓄積容量５３の誘電体膜として機能する。よって、反射領域４１ＢのうちＴＦＴ５１を除く領域に蓄積容量５３を形成することにより、蓄積容量５３の容量を増大させることができる。
【００３９】
ソース電極は、データ線２０と同一の導電材料（同層）で形成される。すなわち、データ線２０からソース電極が延出される構成となる。データ線２０は、走査線１０および共通線３０に対して交差するように配設されている。
【００４０】
このように、データ線２０と走査線１０および共通線３０との間にゲート絶縁膜６２を設けることにより、走査線１０および共通線３０とデータ線２０とが絶縁される。
【００４１】
ソース電極、ドレイン電極（画素電位側容量電極５３２）、およびデータ線２０上には、反射領域４１Ｂおよび透過領域４１Ａを含む画素５０の全面に亘って、絶縁層としてのパッシベーション膜６４が被覆される。
パッシベーション膜６４には、画素電極５５をドレイン電極に接続するためのコンタクトホール（図示省略）が形成されている。
【００４２】
パッシベーション膜６４の反射領域４１Ｂには、ＴＦＴ５１が形成される領域を含んで、アクリル樹脂からなる液晶層厚調整層６５が形成されている。
液晶層厚調整層６５の液晶層側の表面には、反射光を散乱させるための凹部６５１が複数かつ不規則に形成されている。
この液晶層厚調整層６５の上には、反射膜６６が形成されている。この反射膜６６は、液晶層厚調整層６５の凹部６５１に合わせて凹凸を形成し、光を散乱させる機能を有する。そして、反射膜６６のうち凹部６５１を除いた領域は、入射光を反射する機能を有する。
【００４３】
このパッシベーション膜６４の上（反射領域４１Ｂにおいては反射膜６６上）には、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）やＩＺＯ（Indium  Zinc  Oxide）などの透明電極からなる上述の画素電極５５が形成されている。
この画素電極５５は、パッシベーション膜６４に形成した上述のコンタクトホールを介して、画素電位側容量電極５３２およびＴＦＴ５１のドレイン電極に電気的に接続されている。
画素電極５５上には、ポリイミド膜などの有機膜からなる配向膜（図示省略）が形成されている。
【００４４】
表示領域４１の対向基板７０は、ガラス基板７５を有し、このガラス基板７５の走査線１０およびデータ線２０に対向する位置には、ブラックマトリクスを成す遮光膜７１が形成されている。
ガラス基板７５および遮光膜７１上には、カラーフィルタ７２（図２では、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ）が形成される。本実施形態では、透過領域４１Ａと反射領域４１Ｂを結ぶ方向に隣り合う画素５０は、同じ色のカラーフィルタの着色層を有している。カラーフィルタ７２上には、アクリル樹脂からなる液晶層厚調整層７３が形成されている。この液晶層厚調整層７３上には、画素電極５５に対向するＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）やＩＺＯ（Indium  Zinc  Oxide）などの透明導電膜からなる共通電極５６が形成されている。共通電極５６上には、配向膜（図示省略）が形成されている。
【００４５】
素子基板６０と対向基板７０との間には、液晶層が形成され、この液晶層は、素子基板６０および対向基板７０の周囲に形成されたシール材８２により封止されている。液晶層は、液晶層厚調整層６５が設けられた反射領域４１Ｂでは、層厚が薄く、透過領域４１Ａでは層厚が厚く構成され、反射表示と透過表示とで光が液晶層を通過する光路（距離）が同じようになるように調整されている。
【００４６】
素子基板６０および対向基板７０の表面には、図示しない偏光板や位相差板が設けられている。
素子基板６０に対向する位置には、光源としてのバックライトユニット８０が設けられる。
【００４７】
以上の電気光学装置１の表示領域４１では、以下のように反射型表示および透過型表示が行われる。
電気光学装置１の表示領域４１では、周囲光が少ない環境では、バックライトユニット８０からの光を利用して、透過型の表示が行われる。すなわち、図２中矢印で示すように、バックライトユニット８０から射出された光は、素子基板６０に設けられた偏光板（図示省略）で直線偏光となり、ガラス基板６９、下地膜６１、ゲート絶縁膜６２、パッシベーション膜６４、および画素電極５５を透過して、液晶層に入射する。
液晶層に入射した光は、液晶により印加電圧に応じて偏光方向が回転され、共通電極５６、液晶層厚調整層７３、カラーフィルタ７２（図２では、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ）、およびガラス基板７５を透過して、対向基板７０の偏光板（図示省略）に達する。偏光板に達した光は、液晶による偏光方向の回転量に応じて、偏光板を透過する。
【００４８】
一方、周囲光が十分にある環境では、反射型の表示が行われる。すなわち、図２中矢印で示すように、外部から入射した周囲光は、対向基板７０の偏光板（図示省略）で直線偏光となり、ガラス基板７５、カラーフィルタ７２（図２では、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ）、液晶層厚調整層７３、および共通電極５６を透過して、液晶層に入射する。
液晶層に入射した光は、画素電極５５を透過して、反射膜６６で反射され、再び画素電極５５を透過して、液晶層を通過する。この液晶層を通過する間に、印加電圧に応じて偏光方向が回転される。液晶層を通過した光は、再び、共通電極５６、液晶層厚調整層７３、カラーフィルタ７２（図２では、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ）、およびガラス基板７５を透過して、対向基板７０の偏光板に達する。偏光板に達した光は、液晶による偏光方向の回転量に応じて、偏光板を透過する。
【００４９】
次に、非表示領域４２について説明する。
非表示領域４２の基板間導通領域４２Ａに設けられた導通部７６は、素子基板６０に設けられた素子基板側導通部７６Ａと、対向基板７０に設けられた対向基板側導通部７６Ｂと、から構成されている。
【００５０】
非表示領域４２の素子基板６０は、上述のガラス基板６９上に、下地膜６１と、ゲート絶縁膜６２と、パッシベーション膜６４と、液晶層厚調整層６５と、第１の導通部電極５５Ａと、の順に積層された素子基板側導通部７６Ａを備えている。
この第１の導通部電極５５Ａは、上述の画素電極５５と同じ導電材料からなり、基板間導通領域４２Ａのゲート絶縁膜６２およびパッシベーション膜６４の間に設けられた共通配線３３に、パッシベーション膜６４に形成されたコンタクトホールを介して、電気的に接続されている。このため、第１の導通部電極５５Ａは、共通配線３３を介して、共通線３０に電気的に接続されている。
【００５１】
非表示領域４２の対向基板７０は、上述のガラス基板７５上に、着色積層部７６１と、液晶層厚調整層７３と、第２の導通部電極５６Ａと、の順に積層された対向基板側導通部７６Ｂを備えている。本実施形態では、着色積層部７６１は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒと、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂと、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇと、の順に積層して形成されている。
この第２の導通部電極５６Ａは、上述の共通電極５６と同じ導電材料からなり、表示領域４１の共通電極５６に電気的に接続されている。
【００５２】
ところで、カラーフィルタ７２は、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを対向基板７０上に形成する工程を繰り返すことで形成される。このため、上述のカラーフィルタ７２を形成する製造工程を対向基板７０の基板間導通領域４２Ａにも行うことで、着色積層部７６１を含む対向基板側導通部７６Ｂは、形成される。
【００５３】
以上の電気光学装置１では、素子基板側導通部７６Ａの第１の導通部電極５５Ａを、対向基板側導通部７６Ｂの第２の導通部電極５６Ａに接合させることで、対向基板７０に設けられた共通電極５６に、素子基板６０に設けられた共通線３０を電気的に接続している。
【００５４】
本実施形態によれば、以下のような効果がある。
（１）導通部７６の対向基板側導通部７６Ｂを、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを積層して形成した。したがって、対向基板側導通部７６Ｂに形成するカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを適宜選択し、この選択したカラーフィルタの着色層の厚みを適宜調節することで、導通部７６の厚みを自在に設定できる。
【００５５】
（２）カラーフィルタ７２の製造工程を利用して、導通部７６を形成できるので、導通部７６を別部材として形成する必要がなくなり、電気光学装置１の製造工程の工程数を削減できる。
【００５６】
（３）カラーフィルタ７２の製造工程を利用して、導通部７６を形成できるので、導通部７６とカラーフィルタ７２とでは、製造工程で生じる厚み寸法の誤差をほぼ等しくできる。したがって、導通部７６を別部材として形成し、この別部材の導通部を素子基板６０と対向基板７０との間に介装した場合に比べ、電気光学装置の製造工程で生じる誤差の管理が容易になる。
【００５７】
＜第２実施形態＞
図３は、本発明の第２実施形態に係る着色積層部７６１Ａの断面図である。
着色積層部７６１Ａは、対向基板７０に、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを積層して形成されている。この着色積層部７６１Ａは、対向基板７０に形成されている赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの形状が着色積層部７６１と異なる。
【００５８】
赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒは、基板間導通領域４２Ａの対向基板７０に、所定の間隔毎に形成されて凹凸をなしている。
青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの層厚は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの層厚よりも薄くなっており、この青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの表面の凹凸は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒによる凹凸より小さくなっている。
緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇの層厚は、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂよりは厚いが、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの層厚より薄くなっている。この緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇの表面の凹凸は、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの表面の凹凸より小さくなっている。
【００５９】
以上の着色積層部７６１Ａは、以下の方法により形成される。
以下の方法において、着色積層部７６１Ａは、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを形成する各材料を、単位面積あたり同じ量で塗布して形成されるものとする。
まず、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒを、基板間導通領域４２Ａの対向基板７０に、所定の間隔毎に形成する。
次に、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ上に、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂを形成する。すると、この青（Ｂ）のカラーフィルタの材料は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの凹凸の間に入り込み、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの層厚は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの層厚より薄くなる。また、界面張力が働くため、この青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの表面の凹凸は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒによる凹凸より小さくなる。
次に、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂ上に、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇを形成する。すると、この緑（Ｇ）のカラーフィルタの材料は、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの凹凸の間に入り込み、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇの層厚は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの層厚より薄くなる。また、界面張力が働くため、この緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｇの表面の凹凸は、青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂの表面の凹凸より小さくなる。
【００６０】
以上により、対向基板７０に所定の間隔毎に形成された赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの上に、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂ、７２Ｇの順に積層されて、着色積層部７６１Ａが形成される。
【００６１】
本実施形態によれば、以下のような効果がある。
（４）非表示領域４２の基板間導通領域４２Ａの対向基板７０の上に所定の間隔毎に形成した赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの上に、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂ、７２Ｇの順に積層して着色積層部７６１を形成した。したがって、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂ、７２Ｇを形成する各材料の塗布量を赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒを形成する材料の塗布量と同じにしても、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｂ、７２Ｇの層厚は、赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒの層厚より薄くなる。よって、対向基板７０に形成する赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇの形状を変化させるだけで、これらを形成する各材料の塗布量を変更することなく、導通部７６の厚みをより自在に設定できる。
【００６２】
＜第３実施形態＞
図４は、本発明の第３実施形態に係る電気光学装置１Ａの断面図である。
電気光学装置１Ａは、基板間導通領域４２Ａの一部に塑性変形可能な金属層９０が設けられている点が電気光学装置１と異なる。
【００６３】
塑性変形可能な金属層９０は、上述の基板間導通領域４２Ａで、かつ、素子基板６０の下地膜６１の上に形成されている。つまり、この塑性変形可能な金属層９０は、走査線１０、共通線３０、および蓄積容量５３の共通電位側容量電極５３１と同じ層に形成されている。なお、塑性変形可能な金属層９０は、走査線１０、共通線３０、および蓄積容量５３の共通電位側容量電極５３１と同一の材料で形成されていてもよいし、異なる材料で形成されていてもよい。
【００６４】
本実施形態によれば、以下のような効果がある。
（５）基板間導通領域４２Ａで、かつ、素子基板６０の下地膜６１の上に塑性変形可能な金属層９０を設けたので、この塑性変形可能な金属層９０を塑性変形させることで、導通部７６の厚みをより自在に設定できる。
【００６５】
＜変形例＞
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、本実施形態では、スイッチング素子としてアモルファスシリコンからなるＴＦＴ５１を設けたが、これに限らず、低温ポリシリコンからなるＴＦＴや、ＴＦＤ（Thin  Film  Diode）を設けてもよい。スイッチング素子としてＴＦＤを設けた場合には、着色積層部の上に共通電極を形成しなくてよい。また、画素スイッチング素子のないパッシブ型マトリクスでもよい。ＴＦＤやパッシブ型マトリクスでは、対向基板に設けられた共通電極を素子基板に設けられた共通線に電気的に接続するために、走査線やデータ線に対応して電極が設けられることになる。
【００６６】
また、本実施形態では、導通部７６を、素子基板６０の四隅に設けたが、これに限らず、例えば、素子基板６０の２辺や３辺に亘って設けてもよい。
【００６７】
また、本実施形態では、カラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを、それぞれ赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルタとしたが、これに限らず、例えば、それぞれシアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）としてもよい。
【００６８】
また、本実施形態では、着色積層部７６１を、３種類のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを積層して形成したが、これに限らず、例えば、２種類のカラーフィルタのみを積層して形成したり、１種類のカラーフィルタのみで形成してもよい。
【００６９】
また、本実施形態では、カラーフィルタ７２を、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３色のカラーフィルタの着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇで構成したが、これに限らず、例えば、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３色の他に、輝度を向上させるために白（Ｗ）の１色を加えたり、色再現性を向上させるためにシアン（Ｃ）の１色を加えて４色のカラーフィルタの着色層で構成してもよい。また、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３色の他に、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３色を加えた６色のカラーフィルタの着色層で構成してもよい。
【００７０】
また、本実施形態では、塑性変形可能な金属層９０を、走査線１０、共通線３０、および蓄積容量５３の共通電位側容量電極５３１と同じ層に形成したが、これに限らず、例えば、蓄積容量５３の画素電位側容量電極５３２、データ線２０と同じ層に形成してもよい。
【００７１】
また、本実施形態では、半透過反射型の電気光学装置としたが、これに限らず、例えば、透過型や反射型の電気光学装置であってもよい。
【００７２】
また、本実施形態では、着色積層部７６１Ａを、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の着色層７２Ｒ、７２Ｂ、７２Ｇを形成する各材料を塗布して形成したが、これに限らず、例えば、電着して形成してもよい。
【００７３】
また、上述の実施形態では、本発明を液晶を用いた電気光学装置１、１Ａに適用したが、これに限らず、液晶以外の電気光学物質を用いた電気光学装置にも適用できる。電気光学物質とは、電気信号（電流信号または電圧信号）の供給によって透過率や輝度といった光学的特性が変化する物質である。例えば、有機ＥＬ（Electro-Luminescent）や発光ポリマーなどのＯＬＥＤ素子を電気光学物質として用いた表示パネルや、着色された液体とこの液体に分散された白色の粒子とを含むマイクロカプセルを電気光学物質として用いた電気泳動表示パネル、極性が相違する領域毎に異なる色に塗り分けられたツイストボールを電気光学物質として用いたツイストボールディスプレイパネル、黒色トナーを電気光学物質として用いたトナーディスプレイパネル、あるいは、ヘリウムやネオン等の高圧ガスを電気光学物質として用いたプラズマディスプレイパネルなど各種の電気光学装置に対しても、上記実施形態と同様に本発明が適用され得る。
【００７４】
＜応用例＞
次に、上述した実施形態に係る電気光学装置１を適用した電子機器について説明する。
図５は、電気光学装置１を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１およびスクロールボタン３００２、ならびに電気光学装置１を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、電気光学装置１に表示される画面がスクロールされる。
【００７５】
なお、電気光学装置１が適用される電子機器としては、図５に示すものの他、パーソナルコンピュータ、情報携帯端末、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した電気光学装置が適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の構成を示すブロック図である。
【図２】前記実施形態に係る電気光学装置の断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る着色積層部の断面図である。
【図４】本発明の第３実施形態に係る電気光学装置の断面図である。
【図５】上述の電気光学装置を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７７】
１、１Ａ…電気光学装置、１０…走査線、２０…データ線、３０…共通線、３３…共通配線、４１…表示領域、４１Ａ…透過領域、４１Ｂ…反射領域、４２…非表示領域、４２Ａ…基板間導通領域、５０…画素、５５…画素電極（第１の電極）、５６…共通電極（第２の電極）、６０…素子基板（第１の基板）、６５、７３…液晶層厚調整層、７０…対向基板（第２の基板）、７２…カラーフィルタ、７２Ｒ…赤（Ｒ）のカラーフィルタの着色層、７２Ｂ…青（Ｂ）のカラーフィルタの着色層、７２Ｇ…緑（Ｇ）のカラーフィルタの着色層、７６…導通部、７６Ａ…素子基板側導通部、７６Ｂ…対向基板側導通部、７６１…着色積層部、９０…塑性変形可能な金属層、３０００…携帯電話機（電子機器）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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