(57)【要約】      （修正有）【課題】  複写防止用加圧発光インクの製造方法、加圧発光インクおよび印刷物の提供。【解決手段】  酸化チタンの光触媒等とチタンを複合してＮ型半導体を形成するＮ型半導体形成工程と、酸化チタンの光触媒等とアルミ、亜鉛等を複合してＰ型半導体を形成するＰ型半導体形成工程と、このＰ型半導体形成工程で形成されたＰ型半導体と前記Ｎ型半導体形成工程で形成されたＮ型半導体とを複合してＮ型／Ｐ型共有半導体を形成するＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程と、このＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程で形成されたＮ型／Ｐ型共有半導体が保有する自由電子を削減する還元作業を行なう還元作業工程と、この還元作業工程で自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化するインク化工程とで加圧発光インクの製造方法を構成している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化チタンの光触媒等とチタンを複合してＮ型半導体を形成するＮ型半導体形成工程と、酸化チタンの光触媒等とアルミ、亜鉛等を複合してＰ型半導体を形成するＰ型半導体形成工程と、このＰ型半導体形成工程で形成されたＰ型半導体と前記Ｎ型半導体形成工程で形成されたＮ型半導体とを複合してＮ型／Ｐ型共有半導体を形成するＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程と、このＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程で形成されたＮ型／Ｐ型共有半導体が保有する自由電子を削減する還元作業を行なう還元作業工程と、この還元作業工程で自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化するインク化工程とからなることを特徴とする加圧発光インクの製造方法。  
【請求項２】
自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させたことを特徴とする加圧発光インク。
【請求項３】
自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウム、あるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させた加圧発光インクと、この加圧発光インクと撹拌混合されたインクとからなることを特徴とする印刷用インク。
【請求項４】
印刷が可能な印刷基材と、この印刷基材に印刷加工によって形成されたプリントと、このプリントの一部あるいは全体を覆うように自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させた加圧発光インクを用いて印刷加工によって形成された加圧発光インク層とからなることを特徴とする印刷物。
【請求項５】
印刷が可能な印刷基材と、この印刷基材に自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛と複合させてインク化させた加圧発光インクにインクを混合させた印刷用インクを用いて印刷加工で形成されたプリントとからなることを特徴とする印刷物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はコピー機やスキャナー等での複写を防止することができる加圧発光インクの製造方法、加圧発光インクおよび印刷物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複写を防止する手段として、基材となる用紙の光学的反射係数の異なる酸化チタンを、用紙に絵柄としてあるいは帯層として付与し、偽造防止用紙を正面から見ると酸化チタンを付与した帯層を認識することはできないが、偽造防止用紙を傾けると、酸化チタンを付与した帯層が白っぽく見えたり、黒っぽく見えたりする変色機能を有する（特開２００１−１１５３９３）が発明されていた。
【０００３】
しかしながら、このような複写を防止する手段は次のような欠点があった。
(１)  用紙の光学的反射係数の異なる酸化チタンを用紙に絵柄として、あるいは帯層として付与した偽造防止用紙を傾けると、酸化チタンを付与した帯層が変色機能を有する技術においては、用紙の光学的反射係数と酸化チタンの利用により、用紙の反射角度によって複写の防止を得るもので、均一した発光の複写防止効果が得られなかった。
(２)  網点のモアレ（斑紋）を利用しての複写を防止する技術や印刷物が発明されていたが、原稿や製版作業において作業が困難であるため生産コストの問題等により多様がされていなかった。
(３)  フォログラムシート、マイクロ文字、パール印刷等の利用により複写を防止する技術や印刷物が発明されていたが、原稿や製版作業において作業が困難であり、フォログラムシートにおける基材のコストの問題や印刷物における色彩の限定やデザインの制約等の加工における欠点があった。
(４)  印刷後の印刷物において、任意の必要部分の複写を防止する加圧発光技術加工の提案と実施がなされていなかった。
【特許文献１】特開２００１−１１５３９３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、コピー機やスキャナー等で複写しようとして印刷物をセットする場合に生ずる押し圧力によって、印刷物のプリント部分が発光して複写を防止することができる加圧発光インクの製造方法、加圧発光インクおよび印刷物を提供することを目的としている。
【０００５】
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は次の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。
ただし、図面はもっぱら解説のためのものであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は酸化チタンの光触媒等とチタンを複合してＮ型半導体を形成するＮ型半導体形成工程と、酸化チタンの光触媒等とアルミ、亜鉛等を複合してＰ型半導体を形成するＰ型半導体形成工程と、このＰ型半導体形成工程で形成されたＰ型半導体と前記Ｎ型半導体形成工程で形成されたＮ型半導体とを複合してＮ型／Ｐ型共有半導体を形成するＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程と、このＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程で形成されたＮ型／Ｐ型共有半導体が保有する自由電子を削減する還元作業を行なう還元作業工程と、この還元作業工程で自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化するインク化工程とで加圧発光インクの製造方法を構成している。
【０００７】
本発明は自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させて加圧発光インクを構成している。
【０００８】
本発明は自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウム、あるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させた加圧発光インクと、この加圧発光インクと撹拌混合されたインクとで印刷用インクを構成している。
【０００９】
本発明を印刷が可能な印刷基材と、この印刷基材に印刷加工によって形成されたプリントと、このプリントの一部あるいは全体を覆うように自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化させた加圧発光インクを用いて印刷加工によって形成された加圧発光インク層とで印刷物を構成している。
【００１０】
本発明は印刷が可能な印刷基材と、この印刷基材に自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体とアルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛と複合させてインク化させた加圧発光インクにインクを混合させた印刷用インクを用いて印刷加工で形成されたプリントとで印刷物を構成している。
【発明の効果】
【００１１】
以上の説明から明らかなように、本発明にあっては次に列挙する効果が得られる。
【００１２】
（１）とからなるので、Ｎ型／Ｐ型共有半導体の自由電子を削減する還元作業を行なった後、アルミン酸ストロンチュウムあるいは硫化亜鉛とを複合させてインク化する作業で加圧発光インクを製造することができる。
したがって、製造が容易で、安価に製造することができる。
【００１３】
（２）前記（１）によって、製造された加圧発光インクは透明色であるため、印刷インクでプリントされた上に加圧発光インク層となるプリントを行なうことにより、コピー機やスキャナーで複写しようとすると加圧発光インク層が加圧されて発光するため、複写を防止することができる。
したがって、従来の複写を防止する手段に比べ、低コストで行なうことができる。
【００１４】
（３）前記（１）、（２）によって、複写を防止したい部位に加圧発光インク層をプリントで形成するだけでよいので、容易に必要部分の複写を、防止加工を低コストで行なうことができる。
【００１５】
（４）請求項2も前記（１）〜（３）と同様な効果が得られる。
【００１６】
（５）請求項３も前記（１）〜（３）と同様な効果が得られるとともに、従来の印刷基材への印刷加工でプリントするだけで、プリントン部分の複写防止を図ることができる。
【００１７】
（６）請求項４も前記（１）〜（３）と同様な効果が得られる。
【００１８】
（７）請求項５も前記（１）〜（３）、（５）と同様な効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面に示す本発明を実施するための最良の形態により、本発明を詳細に説明する。
【００２０】
図１ないし図１２に示す本発明を実施するための最良の第１の形態において、１はコピー機やスキャナーで複写される場合に加えられる加圧によって発光して複写を防止することができる本発明の加圧発光インクの製造方法で、この加圧発光インクの製造方法１は酸化チタンの光触媒２等とチタン３とを複合してＮ型半導体４を形成するＮ型半導体形成工程５と、酸化チタンの光触媒２等とアルミ６、亜鉛７を複合してＰ型半導体８を形成するＰ型半導体形成工程９と、このＰ型半導体形成工程９で形成されたＰ型半導体８と前記Ｎ型半導体形成工程５で形成されたＮ型半導体４とを複合してＮ型／Ｐ型共有半導体１０を形成するＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程１１と、このＮ型／Ｐ型共有半導体形成工程１１で形成されたＮ型／Ｐ型共有半導体１０が保有する自由電子を削減する還元作業１２を行ない、自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体１３を形成する還元作業工程１４と、この還元作業工程１４で形成した自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体１３とアルミン酸ストロンチュウム１５あるいは硫化亜鉛１６とを複合させて透明色（薄白色素）にインク化して加圧発光インク１７を形成するインク化工程１８とで構成されている。
【００２１】
上記の加圧発光インクの製造方法１で製造された加圧発光インク１７は図８に示すように、ロール巻きされた印刷基材１９に単色あるいは多色印刷機２０で単色あるいは多色のプリント２１を形成するとともに、前記加圧発光インク１７を用いた印刷機２２で、図９および図１０に示すように前記プリント２１の全体あるいは一部を覆った加圧発光インク層２３をプリント形成した印刷物２４に加工する。
このように加工された印刷物２４は図１１に示すように、コピー機２５で複写する場合には開閉蓋２６によって印刷物２４は押し圧され、この押し圧力で加圧発光インク層２３が発光して複写を防止することができる。
なお、図１２に示すように印刷物２４を移動させて読み込むタイプのコピー機やスキャナー２７も、読み込み時に印刷物２４が上下引き込みローラー２８、２９によって押し圧されるため、加圧発光インク層２３が発光して複写を防止することができる。
[発明を実施するための異なる形態]
【００２２】
次に、図１３ないし図１７に示す本発明を実施するための異なる形態につき説明する。なお、この本発明を実施するための異なる形態の説明に当って、前記本発明を実施するための最良の第１の形態と同一構成部分には同一符号を付して重複する説明を省略する。
【００２３】
図１３ないし図１７に示す本発明を実施するための第２の形態において、前記本発明を実施するための最良の第１の形態と主に異なる点は、加圧発光インク１７に各種の色のインク３０を撹拌混合して印刷用インク３１を製造する混合工程３２を行なって、加圧すると発光する印刷用インクの製造方法３３を行なった点で、このような印刷用インクの製造方法３３で製造された印刷用インク３１は、コピー機やスキャナーで読み取るときの圧力で発光させて、複写を防止することができる。
なお、加圧発光インク１７とインク３０の混合割合はコピー機やスキャナーで読み取る時の圧力によって、印刷基材１９に形成されたプリント２１部分が発光して正しく読み取れない状態にできる範囲で、かつ印刷用インク３１として通用する範囲で、使用目的に最適な混合割合に設定して使用される。
【００２４】
このようにして製造された印刷用インク３１は図１５および図１６に示すように、印刷基材１９に単色あるいは多色印刷機２０で、単色あるいは多色のプリント２１Ａを行なった印刷物２４Ａに加工する。
このように加工された印刷物２４Ａはプリント２１Ａの印刷用インク３１に加圧発光インク１７が混合されているので、複写しようとする時にプリント２１Ａ部分に圧力が加わると、プリント２１Ａ部分に含まれている加圧発光インク３１が発光して、効率よく複写を防止することができる。
【００２５】
なお、本発明を実施する各形態ではロール巻きされた印刷基材１９を用いて印刷物２４、２４Ａを形成するものについて説明したが、本発明はこれに限らず、シート状の印刷基材を用いてもよい。
また、印刷基材に印刷する方法は、現在行なわれている印刷方法であれば、どんな印刷方法であってもよい。
さらに、前記本発明を実施する各形態ではＮ型半導体形成工程５やＰ型半導体形成工程９で酸化チタンの光触媒２を用いるものについて説明したが、本発明はこれに限らず、酸化チタン以外の類似効果を有する他の光触媒や複合させるチタンやアルミ、亜鉛以外の類似効果を有する他の化学薬品を用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明は加圧発光インクの製造および印刷物を製造する産業で利用される。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明を実施するための最良の第１の形態の工程図。
【図２】Ｎ型半導体形成工程の説明図。
【図３】Ｐ型半導体形成工程の説明図。
【図４】Ｎ型／Ｐ型共有半導体形成工程の説明図。
【図５】還元作業工程の説明図。
【図６】インク化工程の説明図。
【図７】印刷工程の説明図。
【図８】プリントした状態の説明図。
【図９】一部に加圧発光インク層をプリントした状態の説明図。
【図１０】図９の１０−１０線に沿う断面図。
【図１１】コピー機で複写する状態の説明図。
【図１２】印刷物を移動させて複写する状態の説明図。
【図１３】本発明を実施するための第２の形態の工程図。
【図１４】混合工程の説明図。
【図１５】印刷物の説明図。
【図１６】図１５の１６−１６線に沿う断面図。
【図１７】コピー機で複写する状態の説明図。
【符号の説明】
【００２８】
１：加圧発光インクの製造方法、２：酸化チタンの光触媒、
３：チタン、                  ４：Ｎ型半導体、
５：Ｎ型半導体形成工程、      ６：アルミ、
７：亜鉛、                    ８：Ｐ型半導体、
９：Ｐ型半導体形成工程、      １０：Ｎ型／Ｐ型共有半導体、
１１：Ｎ型／Ｐ型共有半導体形成工程、
１２：還元作業、                            
１３：自由電子削減のＮ型／Ｐ型共有半導体、
１４：還元作業工程、          １５：アルミン酸ストロンチュウム、
１６：硫化亜鉛、              １７：加圧発光インク、
１８：インク化工程、          １９：印刷基材、
２０：印刷機、                ２１、２１Ａ：プリント、
２２：印刷機、                ２３：加圧発光インク層、
２４、２４Ａ：印刷物、        ２５：コピー機、
２６：開閉蓋、                ２７：コピー機やスキャナー、
２８：上引き込みローラー、    ２９：下引き込みローラー、
３０：インク、                ３１：印刷用インク、
３２：混合工程、              ３３：印刷用インクの製造方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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