(57)【要約】【課題】  液晶表示装置（ＬＣＤ）の偏光板を作製するために偏光子と貼り合わせて使用される光学フィルムについて、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であっても、得られた光学フィルムの膜強度や着色等が、再利用でない樹脂から製造した光学フィルムの膜強度や着色と同等の性能を有する光学フィルム、及びその製造方法を提供する。【解決手段】  光学フィルム製造方法は、溶融流延製膜法によるもので、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であって、該原材料が再利用される前に精製工程を経ている。精製工程は、溶剤による不純物の除去工程である。また、溶剤は超臨界流体であり、とくに超臨界流体として、二酸化炭素を用いるのが好ましく、超臨界流体の臨界温度は、再利用された原材料のガラス転移温度以下である。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であって、該原材料が再利用される前に精製工程を経ていることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
精製工程が、溶剤による不純物の除去工程であることを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
溶剤が、超臨界流体であることを特徴とする、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
超臨界流体の臨界温度が、再利用された原材料のガラス転移温度以下の超臨界流体であることを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
超臨界流体として、二酸化炭素を用いることを特徴とする、請求項４または５に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
光学フィルムの製造工程が、溶融流延製膜法による製造工程であることを特徴とする、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法で製造されたことを特徴とする、光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）の偏光板を作製するために偏光子と貼り合わせて使用される光学フィルム、及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄膜の液晶表示装置の表示品質に対する要求が高まっており、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢ等種々の液晶表示方式が提案され、位相差フィルムの必要性は高まっている。
【０００３】
従来、フィルムに位相差を与える手段としてポリカーボネートやシクロオレフィン系の樹脂フィルム、セルロースアセテート系の樹脂フィルムを延伸する方法が提案されている。ポリカーボネートやシクロオレフィン系のフィルムを用いる場合には、偏光板に位相差板を貼り合わせる必要があるが、特にセルロースアセテートフィルムの場合は、偏光板の保護フィルムが位相差フィルムを兼ねることもできるので、部材の減少、製造工程の簡略化、コストダウンが可能である。
【０００４】
さらに近年、大型液晶テレビの急速な普及により、保護フィルム及び位相差フィルムの需要が急速に伸びており、これらに対応するため、溶融流延製膜法で押出速度を上げていく検討が行われてきた。
【０００５】
また、有機溶剤を使用しない溶融流延製膜法は、環境面からも早急な開発が望まれていた。
【０００６】
しかし、溶融流延製膜法で製造した光学フィルムは樹脂の熱劣化が起こりやすく、膜強度の劣化をまねいたり、着色してしまう等の問題があった。これに対して、製造時の酸素遮断や酸化防止剤の開発が行われており、光学フィルムとして使用するのに問題無い光学フィルムも提案されている。
【０００７】
また、出荷検査時に性能の不足した光学フィルムや、所定のサイズに切断した際の余部の光学フィルム等は再度溶解して再利用されることがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記の再利用時には、溶融流延製膜法では、さらに熱が加わるため、樹脂の熱劣化が起こり、再利用した樹脂で製造した光学フィルムは、膜強度や着色等で、再利用でない樹脂から製造した光学フィルムに比べて、劣るという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、上記の従来技術の問題を解決し、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であっても、得られた光学フィルムの膜強度や着色等が、再利用でない樹脂から製造した光学フィルムの膜強度や着色と同等の性能を有する光学フィルム、及びその製造方法を提供しようとすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、請求項１の光学フィルム製造方法の発明は、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であって、該原材料が再利用される前に精製工程を経ていることを特徴としている。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法であって、精製工程が、溶剤による不純物の除去工程であることを特徴としている。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法であって、溶剤が、超臨界流体であることを特徴としている。
【００１３】
請求項４の発明は、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、超臨界流体の臨界温度が、再利用された原材料のガラス転移温度以下の超臨界流体であることを特徴としている。
【００１４】
請求項５の発明は、請求項３または４に記載の光学フィルムの製造方法であって、超臨界流体として、二酸化炭素を用いることを特徴としている。
【００１５】
請求項６の発明は、請求項１〜５のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法であって、光学フィルムの製造工程が、溶融流延製膜法による製造工程であることを特徴としている。
【００１６】
請求項７の光学フィルムの発明は、請求項１〜６のうちのいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法で製造されたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
上述のように、本発明による光学フィルム製造方法の発明は、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であって、該原材料が再利用される前に精製工程を経ているもので、本発明によれば、光学フィルムの原材料の全部または一部が、再利用された原材料であっても、得られた光学フィルムの膜強度や着色等が、再利用でない樹脂から製造した光学フィルムの膜強度や着色と同等の性能を有する光学フィルムを得ることができるという効果を奏する。
【００１８】
本発明による光学フィルムは、上記の光学フィルムの製造方法で製造されたものであるから、光学フィルムの膜強度や着色等が、再利用でない樹脂から製造した光学フィルムの膜強度や着色と同等の性能を有しているという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
つぎに、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００２０】
本発明のフィルムとしては、製造が容易であること、活性線硬化型樹脂層との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【００２１】
本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることをさし、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
【００２２】
本発明の精製工程とは、再利用する原材料中に含有されている原材料の劣化物や製造中に混入した異物を取り除く工程をいう。本発明の精製工程は公知の方法を利用することができるが、溶剤による不純物の除去工程であることが好ましい。
【００２３】
本発明の不純物の除去工程で用いる溶剤は不純物を溶解することができる溶剤であればどのような溶剤も使用することができるが、原材料に対し原材料の劣化物の方が溶解度の高い溶剤であることが好ましい。また、精製後の抽出液の処理の簡便さから超臨界流体が好ましい。また、原材料の分解が進まないガラス転移温度以下の温度で抽出することが好ましいことから、超臨界流体の臨界温度が原材料のガラス転移温度以下であることが好ましい。特に二酸化炭素の超臨界流体で精製するのが好ましい。
【００２４】
本発明において、超臨界流体とは、物質の温度と圧力を上げてゆき、臨界点を越えて、液体と気体の両方の性質をもつ状態になった物質をいう。例えば、二酸化炭素の臨界温度は３１℃、臨界圧力は７．３ＭＰａである。不純物の除去工程で用いる溶剤に超臨界状態の二酸化炭素を用いると、超臨界温度が、ほとんどの原材料のガラス転移温度より低いため原材料の分解を進めず精製が可能となるため好ましい。なお、水の場合は臨界温度は３７４℃、臨界圧力は２２ＭＰａまで上げると、超臨界の状態になる。
【００２５】
本発明における溶融製膜方法とは、光学フィルム構成材料が加熱溶融され流延する方法をいう。加熱溶融する成形法は、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等が挙げられる。特に、機械的強度及び表面精度などに優れることから、溶融押出法が好ましい。
【００２６】
ここで、フィルム構成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後ドラム上またはエンドレスベルトに押し出し製膜することが溶融流延製膜法として本発明の溶融流延製膜法に含まれる。
【００２７】
溶融流延法による製膜は、溶液流延法と著しく異なり、流延する材料に揮発成分が存在すると、フィルムの平面性及び透明性確保の点から好ましくない。これは製膜されたフィルムに揮発成分が混入すると透明性が低下すること、及びダイ−スリットから押し出しされて製膜されたフィルムを得る場合、フィルム表面に筋が入る要因となり平面性劣化を誘発することがある。
【００２８】
従って、フィルム構成材料を製膜加工する場合、加熱溶融時に揮発成分の発生を回避する観点から、製膜するための溶融温度よりも低い領域に揮発する成分が存在することは好ましくない。
【００２９】
前記揮発成分とは、フィルム構成材料中のいずれかが例えば吸湿した水分、または材料の購入前または合成時に混入している溶媒が挙げられ、加熱による蒸発、昇華あるいは分解による揮発が挙げられる。ここでいう溶媒とは、溶液流延として樹脂を溶液として調整するための溶媒と異なり、フィルム構成材料中に微量に含まれるものである。従ってフィルム構成材料を選択することは、揮発成分の発生を回避する上で重要である。
【００３０】
本発明の溶融流延に用いるフィルム構成材料は、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。この除去する方法は、いわゆる公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。これらの公知の乾燥方法を行うとき、フィルム構成材料が分解しない温度領域で行うことがフィルムの品質上好ましい。
【００３１】
例えば、前記乾燥工程で除去した後の残存する水分または溶媒は、各々フィルム構成材料の全体に質量に対して２０質量％以下、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは５質量％以下、さらに好ましくは１質量％以下にすることである。
【００３２】
このときの乾燥温度は、製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することができ、樹脂単独、または樹脂とフィルム構成材料の内樹脂以外の少なくとも１種以上の混合物または相溶物に分割して乾燥することができる。好ましい乾燥温度は１００℃以上乾燥する材料のガラス転移温度以下であることが好ましい。材料同士の融着を回避する観点を含めると、乾燥温度は、より好ましくは１００℃以上、（ガラス転移温度−５℃）以下、さらに好ましくは１１０℃以上、（ガラス転移温度−２０℃）以下である。好ましい乾燥時間は０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１８時間、さらに好ましくは１．５〜１２時間である。
【００３３】
これらの範囲よりも低いと揮発成分の除去率が低いか、または乾燥の時間にかかり過ぎることがあり、また乾燥する材料にガラス転移温度が存在するときには、ガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱すると、材料が融着して取り扱いが困難になることがある。
【００３４】
乾燥工程は２段階以上に分離してもよく、例えば予備乾燥工程による材料の保管と、製膜する直前〜１週間前の間に行う直前乾燥工程を介して製膜してもよい。
【００３５】
フィルム構成材料は、材料の変質や吸湿性を回避する目的で、構成する材料が一種または複数種のペレットに分割して保存することができる。ペレット化は、加熱時の溶融物の混合性または相溶性が向上でき、または得られたフィルムの性能の均一性が確保できることもある。
【００３６】
フィルム構成材料の保存あるいは製膜工程において、空気中の酸素による劣化反応が併発することがある。この場合、酸化防止剤の安定化作用とともに、空気中の酸素濃度を低減させる効果を用いることもできる。
【００３７】
これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら３者の内少なくとも１つの方法を酸化防止剤の含有させる方法と併用することができる。フィルム構成材料が空気中の酸素と接触する確率を低減することにより、該材料の劣化が抑制でき、本発明の目的のためには好ましい。
【００３８】
本発明の実施態様としては、加熱してフィルム構成材料を溶融する前に、樹脂等の合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくともいずれかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することもできる。
【００３９】
本発明の光学フィルムは、屈折率制御を延伸操作により行うことができる。以下、その延伸方法について説明する。
【００４０】
本発明の光学フィルムの製造において、樹脂の１方向に１．０〜１０．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜１０．０倍延伸するのが好ましい。例えばフィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。
【００４１】
また、互いに直交する２軸方向に延伸することは、本発明のフィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを制御するために有効な方法である。例えば溶融して流延した方向に延伸した場合、幅手方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制あるいは、幅手方向にも延伸することで改善できる。幅手方向に延伸する場合、幅手で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられることがあるが、幅手方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、該流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅手の位相差の分布を少なく改善できる。
【００４２】
さらに、互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。膜厚変動は、±３％、さらに±１％の範囲とすることが好ましい。
【００４３】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【００４４】
製膜工程のこれらの幅保持あるいは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【００４５】
本発明において、樹脂としては、エチレン性不飽和単量体単位を有する単独重合体または共重合体を挙げることができ、より好ましくは、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸プロピル、ポリアクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸アルキルの共重合体、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸アルキルエステル共重合体等のアクリル酸またはメタクリル酸エステルの単独重合体または共重合体であり、さらにアクリル酸またはメタクリル酸のエステルは透明性、相溶性に優れ、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル単位を有する単独重合体または共重合体、特に、アクリル酸またはメタクリル酸メチル単位を有する単独重合体または共重合体が好ましい。具体的にはポリメタクリル酸メチルが好ましい。ポリアクリル酸またはポリメタクリル酸シクロヘキサンのようなアクリル酸またはメタクリル酸の脂環式アルキルエステルは耐熱性が高く、吸湿性が低い、複屈折が低い等の利点を有し好ましい。
【００４６】
その他の樹脂としては、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のアシル基の置換度が１．８〜２．８０のセルロースエステル樹脂；セルロースメチルエーテル、セルロースエチルエーテル、セルロースプロピルエーテル等のアルキル基置換度２．０〜２．８０のセルロースエーテル樹脂；アルキレンジカルボン酸とジアミンとの重合物のポリアミド樹脂；アルキレンジカルボン酸とジオールとの重合物、アルキレンジオールとジカルボン酸との重合物、シクロヘキサンジカルボン酸とジオールとの重合物、シクロヘキサンジオールとジカルボン酸との重合物、芳香族ジカルボン酸とジオールとの重合物等のポリエステル樹脂；ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル樹脂；ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール樹脂；下記に示すようなエポキシ樹脂、下記に示すようなケトン樹脂、アルキレンジイソシアナートとアルキレンジオールの線状重合物等の下記に示すようなポリウレタン樹脂等を挙げることができ、これらから選ばれる少なくとも一つを含有することが好ましい。エポキシ樹脂としては、１分子中にエポキシ基を２個以上持った化合物が、開環反応によって樹脂を形成したもので、以下に示すようなエポキシ樹脂を挙げることができ、代表的な市販品としてアラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０（旭チバ株式会社製）がある。なお、アラルダイドＥＰＮ１１７９は重量平均分子量が約４０５である。ｎは重合度を示す。
【００４７】
中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましい。また、相溶性のあるポリマーを２種類以上ブレンドして後で述べるドープ溶解を行っても良いが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【化１】
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【００４８】
また、ケトン樹脂としては、ビニルケトン類を重合して得られるもので、以下に示すようなケトン樹脂を挙げることができ、代表的な市販品として、ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈ（日立化成株式会社製）がある。ｎは重合度を示す。
【化２】
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【００４９】
本発明において、フィルム構成材料中に、可塑剤の少なくとも一種を樹脂の加熱溶融前または加熱溶融時に添加することが好ましい。製膜するための溶融温度においても可塑剤自身が分解せずに機能することが求められる。
【００５０】
本発明において、可塑剤としては、下記一般式（１）で表される有機酸と３価以上のアルコールが縮合した構造を有するエステル化合物が挙げられ、１〜２５質量％含有することが好ましい。０．１質量％よりも少ないと可塑剤を添加する効果が認められず、２５質量％よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、フィルムの滑り性や経時安定性が低下するために好ましくない。より好ましくは上記可塑剤を３〜２０質量％含有する光学フィルムであり、さらに好ましくは５〜１５質量％含有する光学フィルムである。
【化３】
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【００５１】
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、樹脂単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度において樹脂単独よりも可塑剤を含むフィルム組成物の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、親水性を改善し、光学フィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能を有する。
【００５２】
ここで、フィルム組成物の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。一般的に樹脂を溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。しかし高温下では溶融と同時に熱分解によって分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼす樹脂もあるため、そのような樹脂においては、なるべく低い温度で溶融させる必要がある。フィルム組成物の溶融温度を低下させるためには、ガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することができる。本発明に用いられる、前記一般式（１）で表される有機酸と多価アルコールが縮合した構造を有する多価アルコールエステル系可塑剤は、セルロースエステルの溶融温度を低下させ、溶融流延製膜プロセスや製造後にも揮発性が小さく工程適性が良好であり、かつ得られる光学フィルムの光学特性・寸法安定性・平面性が良好となる点で優れている。
【００５３】
前記一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ５は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良く、Ｒ１〜Ｒ５のうち、少なくともいずれかは１つは水素原子ではない。Ｌは２価の連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。
【００５４】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるシクロアルキル基としては、同様に炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、フェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００５５】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００５６】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、もしくはｔ−ブトキシ等の各アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）、アルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい））、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。
【００５７】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数１〜８のシクロアルコキシ基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００５８】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。
【００５９】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００６０】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８の無置換のアシル基が挙げられ（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００６１】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基はさらに前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。
【００６２】
Ｒ１〜Ｒ５で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００６３】
また、Ｒ１〜Ｒ５で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【００６４】
また、これらＲ１〜Ｒ５のうち、少なくともいずれかは１つは水素原子ではない。なおＲ１〜Ｒ５のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していても良い。
【００６５】
また、Ｌで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、さらに前記のＲ１〜Ｒ５で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。
【００６６】
中でも、Ｌで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。
【００６７】
またこれら本発明において可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式（１）で表される有機酸としては、少なくともＲ１またはＲ２に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。
【００６８】
なお本発明においては３価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。
【００６９】
本発明において、前記一般式（１）で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する３価以上のアルコール化合物としては、好ましくは３〜２０価の脂肪族多価アルコールであり、本発明において３価以上のアルコールは下記の一般式（３）で表されるものが好ましい。
【００７０】
一般式（３）    Ｒ′−（ＯＨ）ｍ
式中、Ｒ′はｍ価の有機基、ｍは３以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、ｍとしては３または４の多価アルコールである。
【００７１】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７２】
アドニトール、アラビトール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、グルコース、セロビオース、イノシトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。
【００７３】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式（１）で表される有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸を予め酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
【００７４】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【化４】
2007264046.tif 000006
【００７５】
前記一般式（２）において、Ｒ６〜Ｒ２０は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良い。Ｒ６〜Ｒ１０のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ１１〜Ｒ１５のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ１６〜Ｒ２０のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。また、Ｒ２１はアルキル基を表す。
【００７６】
Ｒ６〜Ｒ２１のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記Ｒ１〜Ｒ５と同様の基が挙げられる。
【００７７】
この様にして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることがさらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００７８】
以下に、本発明に係わる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【化５】
2007264046.tif 000007
【化６】
2007264046.tif 000008
【化７】
2007264046.tif 000009
【化８】
2007264046.tif 000010
【化９】
2007264046.tif 000011
【化１０】
2007264046.tif 000012
【化１１】
2007264046.tif 000013
【化１２】
2007264046.tif 000014
【化１３】
2007264046.tif 000015
【００７９】
本発明の光学フィルムは、他の可塑剤と併用してもよい。
【００８０】
例えば、セルロースエステルフィルムの製造の場合、本発明に好ましい可塑剤である前記一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールからなるエステル化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。
【００８１】
なお、他の可塑剤を併用する際には、前記一般式（１）で表される可塑剤が、可塑剤全体の少なくとも５０質量％以上含有されることが好ましい。より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上含有されることが好ましい。このような範囲で用いれば、他の可塑剤との併用によっても、溶融流延時のフィルムの平面性を向上させることができるという、一定の効果を得ることができる。
【００８２】
例えば、セルロースエステルフィルムの製造において、好ましい他の可塑剤として下記の可塑剤が挙げられる。
【００８３】
多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く好ましい。
【００８４】
多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤：具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８５】
多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤：具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８６】
その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。
【００８７】
これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらに多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８８】
上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３２記載例示化合物１６が挙げられる。
【００８９】
多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤：具体的には、ジドデシルマロネート（Ｃ１）、ジオクチルアジペート（Ｃ４）、ジブチルセバケート（Ｃ８）等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ４−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−１，２−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−１，１−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ４−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００９０】
その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニル−１，２，３，４，５，６−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−１，２，４−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−１，２，３，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルトキシレート、ヘキサ４−メチルフェニルベンゼン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また１置換でもよく、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００９１】
上記多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、ジアルキルカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペート、トリデシルトリカルバレートが挙げられる。
【００９２】
本発明に用いられるその他の可塑剤としては、さらにリン酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。
【００９３】
リン酸エステル系の可塑剤：具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。
【００９４】
またエチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。
【００９５】
さらにリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。
【００９６】
なお本発明の光学フィルムは、着色すると光学用途として影響を与えるため、好ましくは黄色度（イエローインデックス、ＹＩ）が３．０以下、より好ましくは１．０以下である。黄色度はＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいて測定することができる。
【００９７】
可塑剤は、樹脂と同様に、製造時から持ち越される、あるいは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去する事が好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸、及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、樹脂を溶融流延製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【００９８】
本発明において、フィルム構成材料中に、酸化防止剤の少なくとも一種を樹脂の加熱溶融前または加熱溶融時に添加することが好ましい。製膜するための溶融温度においても酸化防止剤自身が分解せずに機能することが求められる。
【００９９】
本発明において、酸化防止剤は、樹脂に発生したラジカルを不活性化する、あるいは樹脂に発生したラジカルに酸素が付加したことが起因の樹脂の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でも、特にフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物が好ましい。これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１００】
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【化１４】
2007264046.tif 000016
【０１０１】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げらる。これらの置換基はさらに置換されても良い。また、Ｒ１１は水素原子、Ｒ１２、Ｒ１６はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネ
ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含ま���る。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、“Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び“Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。
【０１０２】
本発明において、ヒンダードアミン系化合物としては、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が好ましい。
【化１５】
2007264046.tif 000017
【０１０３】
式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。Ｒ２４は水素原子、メチル基、Ｒ２７は水素原子、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、Ｒ２６はメチル基が好ましい。
【０１０４】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。また、高分子タイプの化合物でも良く、具体例としては、Ｎ，Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合���た高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ'−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物などで、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１０５】
上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、“Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４”及び“Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０”、旭電化工業株式会社から“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【０１０６】
本発明において、リン系化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
【化１６】
2007264046.tif 000018
【化１７】
2007264046.tif 000019
【化１８】
2007264046.tif 000020
【０１０７】
式中、Ｐｈ１及びＰｈ'１はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ１及びＰｈ'１は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｘは単結合、硫黄原子または−ＣＨＲ６−基を表す。Ｒ６は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を表す。Ｐｈ２及びＰｈ'２はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ２及びＰｈ'２は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｐｈ３はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。またこれらは前記一般式（Ａ）記載と同義の置換基により置換されても良い。
【０１０８】
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピンなどのモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、旭電化工業株式会社から、“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”及び“ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”という商品名で市販されている。
【０１０９】
本発明において、イオウ系化合物としては、下記一般式（Ｄ）で表される化合物が好ましい。
【化１９】
2007264046.tif 000021
【０１１０】
式中、Ｒ３１及びＲ３２は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。Ｒ３１及びＲ３２はアルキル基が好ましい。
【０１１１】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｅｚｅｒ  ＴＰＬ−Ｒ”、及び“Ｓｕｍｉｌｅｚｅｒ  ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。
【０１１２】
酸化防止剤の添加量は、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜２５質量部、好ましくは０．０５〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。
【０１１３】
酸化防止剤は、製造時から持ち越される、あるいは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去する事が好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸、及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、樹脂を溶融流延製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【０１１４】
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【０１１５】
本発明において、紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。本発明において、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１１６】
本発明において、紫外線吸収剤の具体例としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を好ましく使用できる。
【０１１７】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。
【０１１８】
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１１９】
本発明において、紫外線吸収剤の含有量は０．０１〜５質量％が好ましく、特に好ましくは０．５〜３質量％である。
【０１２０】
本発明においては、これら紫外線吸収剤を単独で用いても良いし、異なる２種以上の混合で用いても良い。
【０１２１】
本発明の光学フィルムは、界面活性剤を含有してもよい。
【０１２２】
本発明において、界面活性剤としては、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系等界面活性剤が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。これらは、例えば特開昭６１−２４３８３７号公報等に記載されている。界面活性剤の添加量は、樹脂に対して０．００２〜２質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％未満であれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が２質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。
【０１２３】
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレンーポリオキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることができる。
【０１２４】
アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α−オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α−スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチル−Ｎオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物等である。
【０１２５】
カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジュム塩等を挙げることができ、第１〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩等）を挙げることができる。両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタイン等であり、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベタイン等である。
【０１２６】
フッ素系界面活性剤は、フルオロカーボン鎖を疎水基とする界面活性剤である。フッ素系界面活性剤としては、Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１０−ＯＳＯ３Ｎａ、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１６−Ｈ、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＯＯＫ、Ｃ７Ｆ１５ＣＯＯＮＨ４、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−（ＣＨ２）４−ＳＯ３Ｎａ、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）３・Ｉ−、Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｎ＋（ＣＨ３）２−ＣＨ２ＣＯＯ−、Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１６−Ｈ、Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）３・Ｉ-、Ｈ（ＣＦ２）８−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２ＣＨ（ＳＯ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）８−Ｈ、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１６−Ｈ、Ｈ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）３・Ｉ-、Ｈ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ２ＣＨ（ＳＯ３）ＣＯＯＣＨ２Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、Ｃ９Ｆ１７−Ｃ６Ｈ４−ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１６−Ｈ、Ｃ９Ｆ１７−Ｃ６Ｈ４−ＣＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）３・Ｉ−等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１２７】
本発明の光学フィルムは、粒子を含有しても良い。これによって、搬送や巻き取りをしやすくしたり、フィルムに傷が付き難くしたり、光学特性を変化させたりすることができる。
【０１２８】
本発明において、粒子としては、珪素含有物、ポリマー粒子、ポリスチレンあるいはアクリル樹脂の棒状もしくは短繊維状粒子、グラスファイバー、金属塩粒子等を上げることができる。
【０１２９】
珪素含有物としては、二酸化珪素が好ましい。本発明に好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されているものを挙げることができ、アエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２を好ましく用いることができる。
【０１３０】
ポリマー粒子としては、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（東芝シリコーン株式会社製）を挙げることができる。
【０１３１】
金属塩粒子としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸マンガン、炭酸コバルト、炭酸亜鉛、炭酸バリウム等の種々の炭酸塩、酸化チタンに代表される種々の酸化物、ＭｇＳＯ４・５Ｍｇ（ＯＨ）２・３Ｈ２Ｏ、６ＣａＯ・６ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ、９Ａｌ２Ｏ3・２Ｂ２Ｏ３等のウィスカー等が挙げられる。
【０１３２】
本発明において、粒子は、球状、板状、針状、棒状等、どのような形状のものでも良い。
【０１３３】
本発明において、粒子は、有機物によって表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどがあげられる。
【０１３４】
本発明において、粒子の粒子径に制限は無いが、１次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。特に、４００ｎｍ以下が好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の微粒子分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が発生せず好ましい。ただし、光の散乱を利用するフィルムを製造する場合には、フィルムの膜厚以下の粒子径であることが好ましい。
【０１３５】
本発明における粒子の添加量は、光学フィルム１ｍ２当たり０．００１〜１０ｇが好ましい。
【０１３６】
本発明の光学フィルムは、剥離促進剤を含有しても良い。
【０１３７】
剥離促進剤とは、剥離時の荷重を小さくするための添加剤で、それらは、界面活性剤が有効であり、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系等があるが、これらに特に限定されない。これらの剥離促進剤は、例えば特開昭６１−２４３８３７号公報等に記載されている。特開昭５７−５００８３３号公報には、ポリエトキシル化リン酸エステルが剥離促進剤として開示されている。特開昭６１−６９８４５号公報には、非エステル化ヒドロキシ基が遊離酸の形であるモノまたはジリン酸アルキルエステルをセルロースエステルに添加することにより迅速に剥離できることが開示されている。また、特開平１−２９９８４７号公報には、非エステル化ヒドロキシル基及びプロピレンオキシド鎖を含むリン酸エステル化合物と無機物粒子を添加することにより剥離荷重が低減できることが開示されている。
【０１３８】
また、下記式（２）または式（３）で表される化合物が含まれていることが好ましい。
【０１３９】
式（２）
（Ｒ１−Ｂ１−Ｏ）ｎ１−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＭ１）ｎ２
式（３）  Ｒ２−Ｂ２−Ｘ
式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ、炭素数４〜４０の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基またはアリール基であり；Ｍ１は、アルカリ金属、アンモニア、低級アルキルアミンであり；Ｂ１及びＢ２は、それぞれ、２価の連結基であり；Ｘは、カルボン酸またはその塩、スルフォン酸またはその塩、あるいは硫酸エステルまたはその塩であり；ｎ１は、１または２であり；そして、ｎ２は、３−ｎ１である。
【０１４０】
式（２）または式（３）で表される少なくとも一種の剥離剤を、セルロースアシレートフィルムが含有することを特徴とする。
【０１４１】
以下に、これらの剥離剤について記述する。Ｒ１とＲ２の好ましい例としては、炭素数４〜４０の置換、無置換のアルキル基（例えば、ブチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコサニル、ドコサニル、ミリシル、等）、炭素数４〜４０の置換、無置換のアルケニル基（例えば、２−ヘキセニル、９−デセニル、オレイル等）、炭素数４〜４０の置換、無置換のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニル、トリ−ｔ−ブチルフェニル、イソペンチルフェニル、オクチルフェニル、イソオクチルフェニル、イソノニルフェニル、ジイソノニルフェニル、ドデシルフェニル、イソペンタデシルフェニル）である。
【０１４２】
これらの中でもさらに好ましいのは、アルキルとしては、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコサニル、アルケニルとしてはオレイル、アリール基としてはフェニル、ナフチル、トリメチルフェニル、ジイソプロピルフェニル、トリイソプロピルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニル、トリ−ｔ−ブチルフェニル、イソオクチルフェニル、イソノニルフェニル、ジイソノニルフェニル、ドデシルフイソペンタデシルフェニルである。
【０１４３】
次に、Ｂ１、Ｂ２の２価の連結基について記述する。炭素数１〜１０のアルキレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシエチレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシプロピレン、ポリ（重合度１〜５０）オキシグリセリン、でありこれらの混合したものでもよい。これらで好ましい連結基は、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ポリ（重合度１〜２５）オキシエチレン、ポリ（重合度１〜２５）オキシプロピレン、ポリ（重合度１〜１５）オキシグリセリンである。
【０１４４】
次に、Ｘは、カルボン酸（または塩）、スルフォン酸（または塩）、硫酸エステル（または塩）であるが、特に好ましくはスルフォン酸（または塩）、硫酸エステル（または塩）である。塩としては、好ましくはＮａ、Ｋ、アンモニウム、トリメチルアミン及びトリエタノールアミンである。
【０１４５】
以下に、本発明の好ましい化合物の具体例を記載する。
【０１４６】
ＲＺ−１：Ｃ８Ｈ１７Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＨ）２
ＲＺ−２：Ｃ１２Ｈ２５Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）２
ＲＺ−３：Ｃ１２Ｈ２５ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）２
ＲＺ−４：Ｃ１５Ｈ３１（ＯＣＨ２ＣＨ２）５Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）２
ＲＺ−５：｛Ｃ１２Ｈ２５Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）５｝２−Ｐ（＝Ｏ）−ＯＨ
ＲＺ−６：｛Ｃ１８Ｈ３５（ＯＣＨ２ＣＨ２）８Ｏ｝２−Ｐ（＝Ｏ）−ＯＮＨ４
ＲＺ−７：（ｔ−Ｃ４Ｈ９）３−Ｃ６Ｈ２−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）２
ＲＺ−８：（ｉｓｏ−Ｃ９Ｈ１９−Ｃ６Ｈ４−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）５−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＫ）（ＯＨ）
ＲＺ−９：Ｃ１２Ｈ２５ＳＯ３Ｎａ
ＲＺ−１０：Ｃ１２Ｈ２５ＯＳ３Ｎａ
ＲＺ−１１：Ｃ１７Ｈ３３ＣＯＯＨ
ＲＺ−１２：Ｃ１７Ｈ３３ＣＯＯＨ・Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３
ＲＺ−１３：ｉｓｏ−Ｃ８Ｈ１７−Ｃ６Ｈ４−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−（ＣＨ２）２ＳＯ３Ｎａ
ＲＺ−１４：（ｉｓｏ−Ｃ９Ｈ１９）２−Ｃ６Ｈ３−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）３−（ＣＨ２）４ＳＯ３Ｎａ
ＲＺ−１５：トリイソプロピルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１６：トリ−ｔ−ブチルナフタレンスルフォン酸ナトリウム
ＲＺ−１７：Ｃ１７Ｈ３３ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ
ＲＺ−１８：Ｃ１２Ｈ２５−Ｃ６Ｈ４ＳＯ３・ＮＨ４
これらの化合物の使用量は、ドープ中に０．００２〜２質量％で含有することが好ましい。より好ましくは０．００５〜１質量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．５質量％である。その添加方法は、特に限定されないがそのまま液体あるいは固体のまま、溶解する前に他の素材と共に添加され溶液としてもよいし、予め作製されたセルロースアシレート溶液に後から添加してもよい。
【０１４７】
本発明ではその他の添加剤として、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の塩等の熱安定剤を加えてもよい。さらに帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も加える場合がある。
【０１４８】
本発明の光学フィルムは、偏光子と貼り合わせ偏光板を作製するために使用される。その偏光板を用いて液晶表示装置が作製される。
【０１４９】
偏光板の作製方法としては、一般的な方法で作製することができる。例えば、光学フィルムがセルロ−スエステルフィルムである場合、セルロ−スエステルフィルムをアルカリ鹸化処理し、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることができる。もう一方の面にも、本発明の光学フィルムや別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは市販のセルロースエステルフィルムを用いることができる。例えば、市販のセルロースエステルフィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が好ましく用いられる。あるいは、セルロースエステルフィルム以外の環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等のフィルムをもう一方の面の偏光板保護フィルムとして用いてもよい。この場合は、ケン化適性が低いため、適当な接着層を介して偏光板に接着加工することが好ましい。
【０１５０】
その偏光板に好ましく用いられる偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられ、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。該偏光子の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。本発明の光学フィルムがセルロ−スエステルフィルムである場合、好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。また、セルロースエステルフィルム以外の樹脂フィルムの場合は、適当な粘着層を介して偏光板に接着加工することができる。
【０１５１】
偏光子は一軸方向（通常は長手方向）に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸に対して直交する方向（通常は幅手方向）には伸びる。偏光板保護フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光子の延伸方向の収縮量が大きい。通常、偏光子の延伸方向は偏光板保護フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼り合わせるため、偏光板保護フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。特にセルロ−スエステルフィルムは寸法安定に優れるため、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。
【０１５２】
偏光板は、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。
【実施例】
【０１５３】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５４】
「セルロースエステルフィルムの製造」
セルロース樹脂（下記樹脂１）を用いて８０μｍのフィルムを、下記表１に示す実施例１〜４、および比較例１と２での、それぞれ条件で、溶融流延製膜法により製造し、セルロースエステルフィルムを得た。
【０１５５】
〈樹脂１〉
１    セルロースアセテートプロピオネート
（アセチル置換度：２．０，プロピオニル置換度：０．７）
２    ＣＡＰ４８２−２０（イーストマンケミカル社製）
３    ＣＡＢ１７１−１５（イーストマンケミカル社製）
〈可塑剤１〉
１    トリメチロールプロパントリベンゾエート
２    エチルフタリルエチルグリコレート
３    トリフェニルフォスフェート
〈酸化防止剤１〉
１    ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（チバスペシャルティケミカルズ社製）
「乾燥工程」
樹脂１を１２０℃で１時間空気中で乾燥を行い、室温まで放冷した。
【０１５６】
「樹脂のペレット化」
乾燥済みのセルロースアセテートプロピオネートを押出機を用いて加熱してペレットを作製し、放冷した。
【０１５７】
実施例１
図１は、本発明の光学フィルムの製造方法に使用する溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【０１５８】
図１を参照すると、ホッパー１に、上記セルロースアセテートプロピオネートのペレット、ホッパー２に可塑剤１、ホッパー３に酸化防止剤１を投入し、それぞれのホッパーから、２．０Ｋｇ／ｈｒ、０．４Ｋｇ／ｈｒ、０．１Ｋｇ／ｈｒの供給速度で、ヘンシェルミキサー４に原材料が運ばれ、混合される。ヘンシェルミキサー４で混合された原材料は、押出機５に運ばれ、２５０℃で加熱溶融され、Ｔ型ダイから押出成形される。押出機５から押出されたフィルムは、搬送ローラー６で運ばれて、延伸機７に導かれ、延伸機７において、１５０℃の温度で長手方向に延伸され、続いて、フィルムをテンターを用いて１６０℃の温度で幅手方向に延伸後、緩和され、３０℃で巻取りローラー８で巻き取ってロール状のフィルムを得た。
【０１５９】
巻取りローラー８で巻き取られたフィルムの検査を行い、基準に満たないフィルムは、反応機９に送られる。
【０１６０】
また、媒体貯蔵庫１１に貯められたアセトンは反応機９に送られ、フィルムとアセトンが混合され、分離機１０に送られる。分離機１０で抽出された抽出液は蒸留され、抽出物は廃棄物貯蔵庫１５に送られ、アセトンは媒体貯蔵庫１１に送られ再利用される、残存物は再利用原料貯蔵庫１３に送られる。再利用原料貯蔵庫１３に貯められた抽出残存物は、ホッパー１〜３から送られた新しい原材料と共に押出機５に送られ、同様に繰り返して、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製した。
【０１６１】
比較例１
図３は、比較のための光学フィルムの製造方法に使用する溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【０１６２】
図３を参照すると、ホッパー１に、上記セルロースアセテートプロピオネートのペレット、ホッパー２に可塑剤１、ホッパー３に酸化防止剤１を投入し、それぞれのホッパーから、２．０Ｋｇ／ｈｒ、０．４Ｋｇ／ｈｒ、０．１Ｋｇ／ｈｒの供給速度でヘンシェルミキサー４に原材料が運ばれ、混合される。ヘンシェルミキサー４で混合された原材料は押出機５に運ばれ、２５０℃で加熱溶融され、Ｔ型ダイから押出成形される。押出機５から押出されたフィルムは、搬送ローラー６で運ばれて、延伸機７に導かれ、延伸機７において、１５０℃の温度で長手方向に延伸され、続いて、フィルムをテンターを用いて１６０℃の温度で幅手方向に延伸後、緩和され、３０℃で巻取りローラー８で巻き取ってロール状のフィルムを得た。
【０１６３】
巻取りローラー８で巻き取られたフィルムの検査を行い、基準に満たないフィルムは再利用原材料貯蔵庫１３に送られる。貯蔵庫１３に貯められたフィルムは粉砕機１４に送られ、粉砕してホッパー１〜３から送られた新しい原材料と共に押出機５に送られ、同様に繰り返して、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製した。
【０１６４】
実施例２
図２は、本発明の光学フィルムの製造方法に使用する溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【０１６５】
図２を参照すると、ホッパー１に、上記セルロースアセテートプロピオネートのペレット、ホッパー２に可塑剤１、ホッパー３に酸化防止剤１を投入し、それぞれのホッパーから２．０Ｋｇ／ｈｒ、０．４Ｋｇ／ｈｒ、０．１Ｋｇ／ｈｒの供給速度でヘンシェルミキサー４に原材料が運ばれ、混合される。ヘンシェルミキサー４で混合された原材料は押出機５に運ばれ、２５０℃で加熱溶融され、Ｔ型ダイから押出成形される。押出機５から押出されたフィルムは、搬送ローラー６で運ばれて、延伸機７に導かれ、延伸機７において、１５０℃の温度で長手方向に延伸され、続いて、フィルムをテンターを用いて１６０℃の温度で幅手方向に延伸後、緩和され、３０℃で巻取りローラー８で巻き取ってロール状のフィルムを得た。
【０１６６】
巻取りローラー８で巻き取られたフィルムの検査を行い、基準に満たないフィルムは、反応機９に送られる。
【０１６７】
また、媒体貯蔵庫１１に貯められた水は、熱交換機１２で臨界温度、臨界圧力まで上げられ、超臨界流体となる。反応機９でフィルムと超臨界状態の水が混合され、分離機１０に送られる。分離機１０で抽出された抽出液の圧力と温度を下げ、抽出物は廃棄物貯蔵庫１５に送られ、水は媒体貯蔵庫１１に送られ、再利用される。残存物は再利用原料貯蔵庫１３に送られる。再利用原料貯蔵庫１３に貯められた抽出残存物は、ホッパー１〜３から送られた新しい原材料と共に押出機５に送られ、同様に繰り返して、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製した。
【０１６８】
実施例３
実施例２における超臨界流体である媒体を、水から二酸化炭素に変更した以外は、実施例２の場合と同様にして、セルロースアセテートプロピオネートフィルムを作製した。
【０１６９】
［評価方法の説明］
つぎに、上記実施例１〜３、および比較例１で得られた各セルロースアセテートプロピオネートフィルムについて、Ｘ−ＲＩＴＥ濃度計により透過のＢＬＵＥ濃度を測定し、得られた結果を下記の表１に、実施例１〜３で使用した精製流体と共に示した。また、作製したフィルムを手で引っ張り、裂けた時の掛けていた力により、膜強度を評価し、◎、○、△、×のランク分けで評価を行った。この場合、◎が、最も裂けにくく、膜強度が大きいことを意味する。得られた結果を下記の表１にあわせて示した。
【表１】
2007264046.tif 000022
【０１７０】
上記表２の結果から明らかなように、本発明の実施例１と比較例１との比較からわかるように、精製工程を行うことにより、フィルムの着色、膜強度共に改善されていることが明らかである。また、実施例１と実施例３との比較から、超臨界流体を用いて精製を行うと、フィルムの着色、膜強度の改良効果が大きいことが明らかである。さらに、実施例２と実施例３から明らかなように、精製を超臨界流体の二酸化炭素や水で行うことにより、精製後の廃溶剤の処理も簡便に行うことができる。なお、実施例２と実施例３との比較から、超臨界流体として二酸化炭素を用いるのがより好ましいことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１７１】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法に使用する溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【図２】本発明の光学フィルムの製造方法に使用するいま１つの溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【図３】比較のための光学フィルムの製造方法に使用する溶融流延製膜装置を模式的に示したフローシートである。
【符号の説明】
【０１７２】
１〜３：供給ホッパー
４：ヘンシェルミキサー
５：押出機
６：搬送ローラー
７：延伸機
８：光学フィルムの元巻
９：反応機
１０：分離機
１１：媒体貯蔵庫
１２：熱交換機
１３：再利用原材料貯蔵庫
１４：粉砕機
１５：廃棄物貯蔵庫
【図１】
2007264046.tif 000023
【図２】
2007264046.tif 000024
【図３】
2007264046.tif 000025