(57)【要約】【課題】高い導電性と優れた透明性を有し、しかも短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、ＰＥＴ等の柔軟性を有する透明フィルム１上に、プライマー層２、所定のパターン形状の触媒インク層３、同一パターン形状の金属層４を順次積層し、触媒インク層３は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明フィルム１のプライマー層２を所定の時間押圧させることにより、この触媒インクをプライマー層２上に転写したことを特徴とする。【選択図】図２
2007281290.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材であって、
前記触媒インク層は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写してなることを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材。
【請求項２】
柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法であって、
グラビア印刷用の版胴上に触媒インクを所定のパターンに塗布し、
次いで、この版胴上の触媒インクと、前記透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、
次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写することを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法。
【請求項３】
柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置であって、
表面に前記パターンと同一形状のパターン溝が形成されたグラビア印刷用の版胴と、該版胴上に触媒インクを塗布するディスペンサと、塗布された前記触媒インクのうち前記パターン溝以外の余剰部分を除去するブレードとを備え、
前記透明基材上の下地層を前記版胴に押圧された状態で所定時間保持した後に前記版胴から離間させ、前記触媒インクを前記下地層上に転写することを特徴とする電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置。
【請求項４】
前記版胴に、前記透明基材を押圧するための一対のロールを、これらのロール同士が離間した状態で前記版胴と平行に設け、
各ロールの押圧位置を調整することにより、前記透明基材が前記版胴に押圧される時間を制御することを特徴とする請求項３記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置。
【請求項５】
前記ブレードは、第１及び第２のブレードからなり、
前記第１のブレードにより前記触媒インクの余剰部分を除去した後、前記第２のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去することを特徴とする請求項３または４記載の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に好適に用いられ、高い導電性と優れた透明性を有し、しかも短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＣＲＴ等のディスプレイに使用されている電磁波遮蔽膜付き透明基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の透明基材上にスパッタ法等により電磁波シールド膜が形成されたものがある。
この電磁波シールド膜としては、スズ添加酸化インジウム（Indium Tin Oxide: ITO）薄膜や銀薄膜等のスパッタ膜が用いられている。また、最近注目されている大型ディスプレイであるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）においては、より高い電磁波遮蔽能が必要とされているため、主として透明フィルム上に形成された銅箔をフォトリソグラフィにより格子状としたエッチングメッシュ膜が使用されている。
【０００３】
ところで、従来のエッチングメッシュ膜では、表面、側面、裏面の４面、特に側面を黒色化することが難しく、ディスプレイに搭載した際に画像のコントラストに悪影響を及ぼすという問題点があった。そこで、エッチングメッシュ膜の銅表面を酸化させて黒色化する方法が主に用いられているが、この方法では、エッチングメッシュ膜の表面抵抗が高くなる等の問題点があった。
また、エッチングメッシュ膜は製造工程が多く、またエッチング条件の管理が難しいため歩留まりが悪い等の理由から、コストが高いという問題点があった。特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を民生用として普及させるためには、製造コストを含めたトータル的なコストダウンが要求されており、電磁波遮蔽膜においても低価格化が要求されている。
【０００４】
そこで、高導電率及び高透過率を有する電磁波遮蔽膜を比較的低コストで得る方法として、透明フィルム上に、スクリーン印刷法により貴金属触媒を含有せしめたペーストを印刷して微細パターンの下地層とし、この下地層上に銅を無電解メッキする方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１７０４２０号公報
【特許文献２】特開２００３−１４５７０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来のスクリーン印刷法を用いた電磁波遮蔽膜では、印刷された際のパターンの精度及び膜厚に限界があり、より高精度のパターニングが難しいという問題点があった。
また、従来のスクリーン印刷法では、比較的容易にかつ低コストで電磁波遮蔽膜を得ることができるものの、スクリーン印刷法自体が枚葉印刷であるために、印刷速度に限界があり、更なる生産性の向上を図ることが難しいという問題点があった。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、高い導電性と優れた透明性を有し、しかも短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、短工程かつ安価であり、しかも高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜付き透明基材について鋭意検討した結果、印刷法としてグラビア印刷法を採用し、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明基材上の下地層を所定の時間押圧させれば、透明基材上に高精度にパターニングされた電磁波遮蔽膜を低コストで安価に形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材であって、前記触媒インク層は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写してなることを特徴とする。
【０００９】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材では、触媒インク層を、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明基材上の下地層を所定の時間押圧させて下地層上に転写したことにより、触媒インク層が高精度のパターンを有するものとなる。
また、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクを透明基材上の下地層に転写したことにより、電磁波遮蔽膜のパターン精度が高精度となる。
【００１０】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法は、柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法であって、グラビア印刷用の版胴上に触媒インクを所定のパターンに塗布し、次いで、この版胴上の触媒インクと、前記透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写することを特徴とする。
【００１１】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法では、所定のパターンに塗布された版胴上の触媒インクと、透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写することにより、短工程かつ安価な製造プロセスにて電磁波遮蔽膜の高精度のパターニングが可能になる。
これにより、高い導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜が、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造される。
【００１２】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置は、柔軟性を有する透明基材上に、下地層、所定のパターンを有する触媒インク層、前記パターンと同一形状の金属層を積層してなる電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置であって、
表面に前記パターンと同一形状のパターン溝が形成されたグラビア印刷用の版胴と、該版胴上に触媒インクを塗布するディスペンサと、塗布された前記触媒インクのうち前記パターン溝以外の余剰部分を除去するブレードとを備え、
前記透明基材上の下地層を前記版胴に押圧された状態で所定時間保持した後に前記版胴から離間させ、前記触媒インクを前記下地層上に転写することを特徴とする。
【００１３】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置では、表面に前記パターンと同一形状のパターン溝が形成されたグラビア印刷用の版胴と、該版胴上に触媒インクを塗布するディスペンサと、塗布された前記触媒インクのうち前記パターン溝以外の余剰部分を除去するブレードとを備え、前記透明基材上の下地層を前記版胴に押圧された状態で所定時間保持した後に前記版胴から離間させ、前記触媒インクを前記下地層上に転写するとしたことにより、高い導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することが可能になる。
【００１４】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置は、前記版胴に、前記透明基材を押圧するための一対のロールを、これらのロール同士が離間した状態で前記版胴と平行に設け、各ロールの押圧位置を調整することにより、前記透明基材が前記版胴に押圧される時間を制御することとしてもよい。
【００１５】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置では、前記版胴に、透明基材を押圧するための一対のロールを、離間した状態で前記版胴と平行に設け、各ロールの押圧位置を調整して透明基材が版胴に押圧される時間を制御することにより、下地層上に転写される触媒インク層のパターンの精度が向上する。
【００１６】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置は、前記ブレードを、第１及び第２のブレードにより構成し、前記第１のブレードにより前記触媒インクの余剰部分を除去した後、前記第２のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去することとしてもよい。
【００１７】
この電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置では、第１のブレードにより触媒インクの余剰部分を除去した後、第２のブレードにより前記触媒インクの余剰部分をさらに除去することにより、下地層上に転写される触媒インク層のパターンの精度がさらに向上する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材によれば、前記触媒インク層を、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに前記透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより前記触媒インクを前記下地層上に転写したので、触媒インク層のパターンを高精度とすることができ、電磁波遮蔽膜のパターン精度を高精度とすることができる。
したがって、高い導電性と優れた透明性、及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を容易に実現することができる。
【００１９】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造方法によれば、所定のパターンに塗布された版胴上の触媒インクと、透明基材上に形成された下地層とを押圧させて所定の時間保持し、次いで、前記透明基材と前記版胴とを離間させて前記版胴上の触媒インクを前記透明基材の下地層上に転写するので、短工程かつ安価な製造プロセスにて電磁波遮蔽膜の高精度のパターニングを行うことができる。
したがって、高い導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。
【００２０】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置によれば、グラビア印刷用の版胴と、該版胴上に触媒インクを所定のパターンに塗布するディスペンサと、塗布された前記触媒インクの余剰部分を除去するブレードとを備え、前記透明基材上の下地層を前記版胴に押圧された状態で所定時間保持した後に前記版胴から離間させ、前記触媒インクを前記下地層上に転写することとしたので、高い導電性と優れた透明性及び高精度のパターンを有する電磁波遮蔽膜付き透明基材を、簡単な構成の装置を用いて、短工程かつ安価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材とその製造方法及び製造装置を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す平面図、図２は同部分拡大断面図であり、図において、１はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム（透明基材）、２は透明フィルム１の上面全体に形成されたプライマー層（下地層）、３はプライマー層２上にグラビア印刷法により所定のパターンに形成された触媒インク層、４は触媒インク層３上にメッキ法により形成された前記パターンと同一パターン形状の金属層である。
【００２３】
この触媒インク層３は、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明フィルム１のプライマー層２を所定の時間押圧させることにより、この触媒インクをプライマー層２上に転写したものであり、この触媒インク層３及び金属層４は、例えば、線幅Ｌが５〜１００μｍ、線間隔Ｓが１５０〜５００μｍの格子状とされている。
【００２４】
プライマー層２は、酸化物微粒子及び有機高分子を含む複合材料により構成されている。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
有機高分子としては、金属層３をメッキする際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
【００２５】
特に、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する樹脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版からプライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に追従して接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好ましい。
【００２６】
これら酸化物微粒子（Ｍ）と有機高分子（Ｒ）との比率（Ｍ／Ｒ）は、重量比で９０／１０〜１０／９０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜４０／６０である。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズが高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
【００２７】
また、このプライマー層２の厚みは、０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは１〜３μｍである。
プライマー層２の厚みが上記の範囲より薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、厚みが上記の範囲より厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞があるからである。
【００２８】
触媒インク層３は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子を含む複合材料により構成されている。
ここで、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子を用いたのは、貴金属微粒子を酸化物微粒子に担持させることにより、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性が得られ、良好な印刷形状が得られるからである。
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
また、酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等
の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
【００２９】
この貴金属微粒子（Ｎ）と酸化物微粒子（Ｍ）の比率（Ｎ／Ｍ）は、重量比で０．５／９９．５〜５／９５が好ましく、より好ましくは１／９９〜２／９８である。貴金属微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、無電解メッキの触媒として機能しないからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、無電解メッキの触媒としての機能が飽和するとともに、必要以上に高価な貴金属を使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
【００３０】
黒色顔料としては、カーボンブラック等が挙げられる。
有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。
【００３１】
また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子（ＮＭ）と、有機高分子（Ｒ）との比率（ＮＭ／Ｒ）は、重量比で４０／６０〜８０／２０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜７０／３０である。酸化物微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、含まれている貴金属微粒子が高分子樹脂でほとんど覆われてしまい、無電解メッキの触媒として機能しなくなるからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、印刷性が悪くなり、かつ高分子樹脂による印刷膜の硬化が不足し、透明フィルムとの密着性が得られなくなるからである。
【００３２】
金属層４は、電磁波遮蔽膜に導電性を付与するためのもので、無電解銅メッキ層またはニッケルメッキ層からなる１層構造のもの、または、電気銅メッキ層上に、例えば、黒色ニッケルメッキ層、黒色クロムメッキ層、ニッケル−スズ合金メッキ層等の黒色メッキ層を形成した２層構造のものが挙げられる。特に、低抵抗の電磁波遮蔽膜を得たい場合には、２層構造のものが好ましい。この黒色メッキ層は、表面及び両側面を同時に黒色化することが可能であり、しかも導電性を低下させることがない。
【００３３】
次に、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムの製造方法について説明する。
「プライマー層の形成」
まず、グラビア印刷法、バーコート印刷法、オフセット印刷法等により、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム１上にプライマー層形成用塗料を塗工し、その後乾燥させることにより、プライマー層２を形成する。
【００３４】
プライマー層形成用塗料としては、酸化物微粒子と、有機高分子と、有機溶剤を含む塗料が好適に用いられる。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
この酸化物微粒子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
酸化物微粒子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
【００３５】
有機高分子としては、金属層３をメッキする際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
この有機高分子の含有量は、０．２重量％〜１５重量％が好ましく、より好ましくは１重量％〜８重量％である。
有機高分子の含有量が０．２重量％未満であると、プライマー層２の厚みが薄く、触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、１５重量％を越えると、プライマー層２の厚みが厚く、印刷した触媒インク層に割れが生じるからである。
【００３６】
特に、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する樹脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版からプライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に追従して接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好ましい。
【００３７】
これら酸化物微粒子（Ｍ）と有機高分子（Ｒ）との比率（Ｍ／Ｒ）は、重量比で９０／１０〜１０／９０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜４０／６０である。
酸化物微粒子の比率が上記の範囲より高いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜付き透明フィルム自体の透過率が低下し、ヘーズが高くなるからであり、一方、比率が上記の範囲より低いと、透明フィルム１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層に垂れ、滲みを生じる虞があるからである。
【００３８】
有機溶剤としては、酸化物微粒子の分散が可能で、しかも有機高分子を溶解することが可能であればよく、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサノン等の環化脂肪族炭化水素、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類、イソプロピルアルコール等のアルコール類が好適に用いられる。
この有機溶剤に、酸化物微粒子の分散をし易くするために、リン酸エステル系の分散剤等を添加しても良い。
【００３９】
得られたプライマー層２の厚みは、０．５〜５．０μｍが好ましく、より好ましくは１．０〜３．０μｍである。プライマー層２の厚みが上記の範囲より薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなるからであり、一方、厚みが上記の範囲より厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞があるからである。
【００４０】
「触媒インク層の形成」
上記のプライマー層２上に、グラビア印刷法により触媒インクを所定のパターンにて塗布し、その後乾燥させることにより、触媒インク層３を形成する。
触媒インクとしては、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、黒色顔料と、有機高分子と、有機溶剤を含むインクが好適に用いられる。
この貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子は、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性、良好な印刷形状を得るために用いられる。
【００４１】
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
この貴金属微粒子の含有量は、０．０１重量％〜１．５重量％が好ましく、より好ましくは０．１０重量％〜０．５０重量％である。
貴金属微粒子の含有量が０．０１重量％未満であると、無電解めっきの触媒として機能しないからであり、一方、１．５重量％を越えると、高価な貴金属を必要以上に使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
【００４２】
この貴金属微粒子を担持させる酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
この酸化物微粒子の含有量は、３．０重量％〜２７．０重量％が好ましく、より好ましくは１３．０重量％〜２０．０重量％である。
酸化物微粒子の含有量が３．０重量％未満であると、触媒インクの粘度が低くかつチクソトロピー性を失うことで、印刷膜に垂れが生じ、印刷精度が低下するからであり、一方、２７．０重量％を越えると、触媒インクの粘度が高くなり、ブレードで余剰部分を除去する際に、除去が完全にできずに残ってしまうからである。
【００４３】
この貴金属微粒子（Ｎ）と酸化物微粒子（Ｍ）の比率（Ｎ／Ｍ）は、重量比で０．５／９９．５〜５／９５が好ましく、より好ましくは１／９９〜２／９８である。貴金属微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、無電解メッキの触媒として機能しないからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、無電解メッキの触媒としての機能が飽和するとともに、必要以上に高価な貴金属を使用することとなり、コストアップの原因となるからである。
【００４４】
黒色顔料としては、カーボンブラック等が挙げられる。
この黒色顔料の含有量は、０．０３重量％〜３．０重量％が好ましく、より好ましくは０．１重量％〜１．０重量％である。
黒色顔料の含有量が０．０３重量％未満であると、印刷膜裏面のメッシュの黒色度が不足し、ＰＤＰ等のディスプレイの表示面に搭載した場合、良好なコントラストが得られないからであり、一方、３．０重量％を越えると、印刷膜裏面のメッシュの黒色度が良好となり、良好なコントラストも得られるが、印刷性が悪くなるからである。
【００４５】
有機高分子としては、グラビア印刷に適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。中でも、エチルセルロースがグラビア印刷に好適である。
この有機高分子の含有量は、１．０重量％〜１５．０重量％が好ましく、より好ましくは６．０重量％〜１０．０重量％である。
有機高分子の含有量が１．０重量％未満であると、インクの粘度が低くなり過ぎて印刷に適しなくなるからであり、一方、１５．０重量％を越えると、インクの粘度が高くなり過ぎて印刷に適しなくなるからである。
【００４６】
また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子（ＮＭ）と、有機高分子（Ｒ）との比率（ＮＭ／Ｒ）は、重量比で４０／６０〜８０／２０が好ましく、より好ましくは６０／４０〜７０／３０である。酸化物微粒子の比率が上記の範囲よりも低いと、含まれている貴金属微粒子が高分子樹脂でほとんど覆われてしまい、無電解メッキの触媒として機能しなくなるからであり、一方、上記の範囲よりも高いと、印刷性が悪くなり、かつ高分子樹脂による印刷膜の硬化が不足し、透明フィルムとの密着性が得られなくなるからである。
【００４７】
有機溶剤としては、有機高分子の溶解が可能で、しかもグラビア印刷に適正があればよく、例えば、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、酢酸ブチル、シクロヘキサノン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、α−テルピネオール等が挙げられる。
【００４８】
この触媒インクの粘度は、１〜５００Ｐａ・ｓが好ましく、より好ましくは５０〜２００Ｐａ・ｓである。
触媒インクの粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると、インクのチクソトロピー性が無くなり、糸引き等の不具合が生じて良好な印刷形状が得られないからであり、一方、５００Ｐａ・ｓを越えると、グラビア印刷の際に均一にインクを供給することができず、印刷ムラが生じるからである。
【００４９】
プライマー層２上への触媒インク層３の形成は、図３に示す装置を用いて行う。
この装置は、グラビア印刷法により透明フィルム１のプライマー層２上に、所定のパターンを有する触媒インク層３を形成するための装置であり、図において、１１は円筒状の表面にパターン溝１２が形成されたグラビア印刷用の版胴、１３は版胴１１上に触媒インクＣを塗布するディスペンサ、１４は塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するブレード、１５、１６は透明フィルム１の一方の面にプライマー層２が形成されたグラビア印刷用透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させるバックアップロールである。
【００５０】
まず、透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させるために、バックアップロール１６を印刷速度に合わせて一定の押圧時間が得られるように位置調整する。この押圧時間は、０．５〜１０秒が好ましく、より好ましくは１〜５秒である。
押圧時間が０．５秒未満であると、プライマー層２への有機溶剤の吸収が不十分となり、版胴１１のパターン溝１２に充填された触媒インクの粘度が高くならず、糸引き等の不具合が発生して良好な印刷形状が得られないからであり、一方、押圧時間が１０秒を越えると、逆に有機溶剤が吸収され過ぎて触媒インクの粘度が高くなり過ぎてしまい、透明フィルムＦへの転写が困難となるからである。
【００５１】
次いで、ディスペンサ１３により版胴１１上に触媒インクＣを塗布し、ブレード１４により塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去する。
次いで、透明フィルムＦをバックアップロール１５、１６により版胴１１に押圧させつつ版胴１１に沿って回転移動させることにより、版胴１１上の触媒インクＣと透明フィルムＦのプライマー層２とを押圧させて所定の時間保持する。
次いで、バックアップロール１６により透明フィルムＦを引き出し、この透明フィルムＦを版胴１１から離間させることにより、版胴１１上の触媒インクＣを透明フィルムＦのプライマー層２上に転写する。
次いで、乾燥器等を用いて乾燥し、触媒インク層３とする。この乾燥は、透明フィルムＦの耐熱性と触媒インクＣの転写膜の乾燥割れを考慮して１００℃以下で行うことが好ましい。
以上により、透明フィルムＦのプライマー層２上に、グラビア印刷法により所定のパターンの触媒インク層３を形成することができる。
【００５２】
このように、上記の組成のプライマー層形成用塗料及び触媒インクを用いることにより、透明フィルムＦへの転写性と転写率が良く、更に転写シート（ブランケット）を使用する事無く、版胴１１から直接透明フィルムＦへ触媒インクＣを転写する「グラビア直刷り法」が可能となった。
【００５３】
また、この直刷り法によりブランケットが不要となり、円筒形状の版胴１１を用いることにより、シリンダー版によるエンドレス版が可能となった。
また、この版胴１１を用いることで、マスクレスの直描で版胴１１を作製することができ、パターン溝の深度を調整することで、ブランケットを使用するグラビア印刷に比べてより厚みのある膜の印刷が可能となり、触媒インクの厚みによる触媒総量が増加し、メッキの析出を容易にすることができる。
【００５４】
また、透明フィルムＦを版胴１１に所定時間押圧させることにより、パターン溝１２に充填された触媒インク中の溶剤が受容層であるプライマー層２中に吸収されるので、触媒インクの粘度が急激に高くなり、パターン溝１２に充填された触媒インクを版の画像形状をそのまま維持した状態で透明フィルムＦ側に転写させることができる。
また、プライマー層２に吸収された溶剤は、一旦プライマー層２表面の樹脂を溶解し、触媒インクと界面で相溶するので、乾燥後の透明フィルムＦと触媒インク層３との密着強度が強くなる。このように、線幅Ｌが１０〜２０μｍ程度のファインパターンを１０ｍ／分前後の高速で、設計された画像形状を維持したまま印刷することが可能となった。
【００５５】
「金属層の形成」
次いで、触媒インク層３が形成された透明フィルムＦを無電解銅メッキ浴またはニッケルメッキ浴中に浸漬し、触媒インク層３上に金属を析出させることにより、金属層４を形成する。
さらに、低抵抗のメッシュ膜を得たい場合には、触媒インク層３上に電気銅メッキを施して所定の抵抗値が得られた後、黒色メッキを行う。黒色メッキは銅メッキ表面の導電性を劣化させないことが好ましく、黒色ニッケルメッキ、黒色クロムメッキ、ニッケル−スズ合金メッキ等が挙げられる。
【００５６】
この黒色メッキは、メッシュ膜の表面と側面の３面を同時に黒色化することができ、かつ導電性を劣化させることもない。
一方、触媒インク層３の裏面側のメッシュ部も触媒インク中の黒色顔料により良好な黒色を呈しているので、メッシュ膜の表面、側面、裏面の４面の黒色化が可能であり、ディスプレイに搭載しても良好なコントラストを得ることができる。
以上により、高い導電性と優れた透明性を有し、しかも編目状のパターンの黒色性に優れた電磁波遮蔽膜付き透明基材を、短工程かつ安価な製造プロセスにて製造することができる。
【００５７】
図４は、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置の変形例を示す概略構成図であり、図３に示す電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置と異なる点は、ブレード１４の下流側に、このブレード１４と平行に（第２の）ブレード２１を設け、ブレード１４により触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去した後に、ブレード２１により触媒インクＣの余剰部分をさらに除去する構成である。
【００５８】
この製造装置においても、図３に示す製造装置と同様の効果を奏することができる。
しかも、ブレード１４、２１を用いて塗布された触媒インクＣのうちパターン溝１２以外の余剰部分を除去するので、プライマー層２上に転写される触媒インクのパターンの精度をさらに向上させることができる。
【実施例】
【００５９】
本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」
アルミナ粉末２４０ｇ、リン酸エステル系分散剤２８ｇをトルエン１３３２ｇに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。
【００６０】
次いで、エチルセルロース２４０ｇをトルエン１８０８ｇに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロヘキサノン５５２ｇとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）１８００ｇを加え、ホモジナイザーで混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。
次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は２μｍであった。
【００６１】
「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。
この触媒インク及び上記の透明フィルムを用い、図３に示す装置により１０ｍ／分の速度で透明フィルム上に、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
【００６２】
「金属層の形成」
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させた。その後、ニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させた。得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、表面抵抗は０．２Ω／□、可視光透過率は８４％であった。
【００６３】
（実施例２）
実施例１のアルミナ粉末をジルコニア粉末に変えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝２０／２３０μｍであり、表面抵抗は０．２Ω／□、可視光透過率は８４％であった。
【００６４】
（実施例３）
実施例１のアルミナ粉末をシリカ粉末に変えた以外は、実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムに、実施例１と同様にメッキ処理を施し、金属メッシュ膜を作製した。
得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝２０／２３０μｍであり、表面抵抗は０．２Ω／□、可視光透過率は８４％であった。
【００６５】
（実施例４）
実施例１と同様にして印刷メッシュフィルムを作製した。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
次いで、この印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に１０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させた。
次いで、この銅を析出させた印刷メッシュフィルムに、電気銅メッキ液  トップルチナＳＦ（奥野製薬社製）を用いて、３Ａ／ｄｍ２の電流密度で２５℃にて５分間、電気銅メッキ処理を施した。その後、ニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させた。得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、表面抵抗は０．０５Ω／□、可視光透過率は８４％であった。
【００６６】
（実施例５）
実施例１と同様にして透明フィルムを作製した。
次いで、実施例１の触媒インクのアルミナ粉末をジルコニア粉末に変えた以外は、実施例１と同様にして触媒インクを作製した。
この触媒インクを用い、図３に示す装置により２０ｍ／分の速度で上記の透明フィルム上に、Ｌ／Ｓ＝１０／２９０μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥し、印刷メッシュフィルムを得た。得られたメッシュパターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
その後、実施例４と同様にしてメッキ処理を施した。
得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝１０／２９０μｍであり、表面抵抗は０．１Ω／□、可視光透過率は９０％であった。
【００６７】
（比較例１）
「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」
アルミナ粉末２４０ｇ、リン酸エステル系分散剤２８ｇをトルエン１３３２ｇに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。
次いで、エチルセルロース２４０ｇをトルエン１８０８ｇに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロヘキサノン５５２ｇとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）１８００ｇを加え、ホモジナイザーで混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。
次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は２μｍであった。
【００６８】
「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。
この触媒インク及び上記の透明フィルムを用い、スクリーン印刷法により透明フィルム上に、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンを印刷し、９０℃にて１０分間、乾燥した。良好なメッシュパターンの形状が得られる限界の印刷速度は、１ｍ／分であった。
【００６９】
「金属層の形成」
上記の印刷メッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、メッシュパターン上に銅を析出させた。その後、ニッケル／スズの合金メッキを施し、メッシュパターンの表面を黒色化させた。得られた金属メッシュ膜はＬ／Ｓ＝２０／２８０μｍであり、表面抵抗は０．２Ω／□、可視光透過率は８４％であった。
【００７０】
（比較例２）
比較例１と同様にして透明フィルム及び触媒インクを作製した。
次いで、この触媒インク及び透明フィルムを用い、押圧時間を設定しない通常のグラビア印刷法により、１０ｍ／分の印刷速度で透明フィルム上に、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥した。得られた印刷メッシュフィルムは、良好なメッシュパターンが得られず、外観上の不具合が生じた。
次いで、比較例１と同様にして金属層を形成したが、印刷メッシュの形状が悪く、メッキ後の印刷メッシュフィルムにおいても印刷で生じた外観上の不具合が認められた。
【００７１】
（比較例３）
「触媒インクの作製」
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、固液分離した後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇからなる溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルで混合、分散し、触媒インクを作製した。
【００７２】
「触媒インク層の形成」
この触媒インクを用いて、図３に示す装置により１０ｍ／分の速度で厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、Ｌ／Ｓ＝２０／２８０μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、８０℃にて５分間、乾燥した。得られた印刷メッシュフィルムは、良好なメッシュパターンが得られず、外観上の不具合が生じた。
次いで、比較例１と同様にして金属層を形成したが、印刷メッシュの形状が悪く、メッキ後の印刷メッシュフィルムにおいても印刷で生じた外観上の不具合が認められた。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明の電磁波遮蔽膜付き透明基材は、印刷法としてグラビア印刷法を採用し、グラビア印刷用の版胴上の触媒インクに透明基材上の下地層を所定の時間押圧させることにより、透明基材上に高精度にパターニングされた電磁波遮蔽膜を低コストで安価に形成したものであるから、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）はもちろんのこと、その他の表示装置等へも適用可能であり、その工業的価値は極めて大きなものである。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明フィルムを示す部分拡大断面図である。
【図３】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置を示す概略構成図である。
【図４】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き透明基材の製造装置の変形例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００７５】
１  透明フィルム
２  プライマー層
３  触媒インク層
４  金属層
１１  版胴
１２  パターン溝
１３  ディスペンサ
１４  ブレード
１５、１６  バックアップロール
Ｃ  触媒インク
Ｆ  グラビア印刷用透明フィルム
【図１】
2007281290.tif 000003
【図２】
2007281290.tif 000004
【図３】
2007281290.tif 000005
【図４】
2007281290.tif 000006