(57)【要約】【課題】本発明は防汚染性と滑り性とを兼ね備えたハードコート層を開示する。【解決手段】本発明は、光学積層体に用いられるハードコート層であって、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含んでなり、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上であるものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学積層体に用いられるハードコート層であって、
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含んでなり、
前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上である、ハードコート層。
【請求項２】
前記ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、
前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が５％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が１５％以上である、請求項１に記載のハードコート層。
【請求項３】
前記ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたフッ素原子の全存在率をＸＦ％とし、
前記ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたフッ素原子の存在率をＹＦ％とした場合に、下記数式（Ａ）：
ＹＦ／ＸＦ≧１０      （Ａ）
を満たし、及び／又は、
前記ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたケイ素原子の全存在率をＸＳ％とし、
前記ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたケイ素原子の存在率をＹＳ％とした場合に、下記数式（Ｂ）：
ＹＳ／ＸＳ≧１０      （Ｂ）
を満たすものである、請求項１又は２に記載のハードコート層。
【請求項４】
光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記ハードコート層が請求項１〜３のいずれか一項に記載されたものである、光学積層体。
【請求項５】
前記光学積層体を構成する層の間または前記光学積層体の最表面に、低屈折率層、帯電防止層または防汚染層がさらに備えられてなる、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項６】
反射防止積層体として利用される、請求項４又は５に記載の光学積層体。
【請求項７】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項１〜６のいずれか一項に記載された光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面とは反対の面に備えてなる、偏光板
【請求項８】
透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
前記画像表示体の表面に、請求項１〜６のいずれか一項に記載された光学積層体、または請求項７に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート層及びそれを少なくとも備えてなる光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、反射防止層を形成させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。
【０００３】
従来、光学積層体の最表面は、様々な使用環境に晒され、傷が付きやすく、また汚れが付着し易いことが指摘されている。これに対して、特開平１０−１０４４０３号（特許文献１）では、画像表示面の耐擦傷性と汚染防止とを向上させるために、ハードコート層に防汚染剤を添加した光学積層体が提案されている。
【０００４】
しかしながら、本発明者らが確認したところ、光透過型基材の上に形成されたハードコート層における防汚染性と滑り性とを兼ね備えた光学積層体は未だ提案されていない。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−１０４４０３号公報
【０００６】
本発明者等は、本発明時において、ハードコード層に、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を包含させてなり、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤としての、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物に含まれるケイ素原子又はフッ素原子が特定の存在率にあることにより、防汚染性と滑り性とを兼ね備えたハードコート層を形成することができるとの知見を得た。よって、本発明はハードコード層に対して防汚染性と滑り性とを付与した光学積層体の提供を目的とするものである。
【０００７】
従って、本発明は、光学積層体に用いられるハードコート層であって、
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤として、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物を含んでなり、
前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上であるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
１．ハードコート層
「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。
【０００９】
ＸＰＳ解析
本発明によるハードコート層は、この層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率と、フッ素原子の存在率を特定の数値とされてなるものである。ＸＰＳ解析とは、試料（ハードコート層または光学積層体）を、角度により測定するものであり、具体的には、「最大エントロピー法」により角度プロファイルを深さプロファイルに容易に変換して行われるものである。ＸＰＳとは、Ｘ線光電子分光により試料表面に存在する元素及びその組成を分析する方法である。ＸＰＳの測定条件の一例を挙げると、Thermo Electron社製（VG  Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolvedにて行うことができ、測定角度も任意に変更させて行うことができる。本発明では、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行う。
【００１０】
本発明にあっては、ＸＰＳ解析は、ＸＰＳ解析装置を用いて行うことができ、その場合の解析条件は、ハードコート層に対して、ＸＰＳ解析角度を、角度も任意に変更させて行うことができる。本発明では、５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行う。Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolved、測定角度６段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件下で行うことができる。
【００１１】
本発明にあっては、ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上、好ましくは２０％以上であり、フッ素原子の存在率が２０％以上、好ましくは３０％以上で存在してなるものである。
【００１２】
また、本発明あっては、ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が５％以上、好ましくは１５％以上であり、フッ素原子の存在率が１５％以上、好ましくは２５％以上で存在してなるものである。
【００１３】
ハードコード層の最表面を布地で拭き取る方法は、特に限定されない。布地は、汚れを拭取ることができものであればいずれのものであってよく、例えば、織物、編物、不織布であってもよい。また、布地の素材も、天然繊維、合成繊維、半合成繊維またはこれらの混合繊維であってよい。本発明にあって、布地で拭き取る回数は、１０回程度の往復であってよい。
【００１４】
本発明にあっては、布地で拭き取る行為は、いわゆる乾拭きであってよく、また、必要に応じて、水、低級アルコール（好ましくはエタノール）及びこれらの混合物を含ませた布地で拭き取ってよい。また、本発明にあっては、本発明の範囲内において、低級アルコール以外にも、汚れを落とすことができる、有機溶剤、洗剤（水系、非水系）を使用してもよい。
【００１５】
本発明の好ましい態様によれば、光学積層体のハードコート層の面に対して、予めエタノール０．１ｇをしみこませたベムコットンに荷重２００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら１０往復させ、さらにベムコットンに荷重２００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら１０往復乾拭きすることが挙げられる。
【００１６】
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層は、
ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたフッ素原子の全存在率をＸＦ％とし、
ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたフッ素原子の存在率をＹＦ％とした場合に、下記数式（Ａ）：
ＹＦ／ＸＦ≧１０（好ましくは１５）      （Ａ）
を満たし、及び／又は、
ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたケイ素原子の全存在率をＸＳ％とし、
ハードコード層の最表面を布地で拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたケイ素原子の存在率をＹＳ％とした場合に、下記数式（Ｂ）：
ＹＳ／ＸＳ≧１０（好ましくは１５）      （Ｂ）
を満たすものが好ましい。
【００１７】
本発明のより好ましい態様によれば、ハードコート層は、
ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたフッ素原子の全存在率をＸＦ％とし、
ハードコード層の最表面を、アルコール含水液を含ませた０．１ｇ／ｃｍ２の布地で１０回の往復により拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたフッ素原子の存在率をＹＦ％とした場合に、下記数式（Ａ）：
Ｙ／Ｘ≧１０（好ましくは１５）      （Ａ）
を満たし、及び／又は、
ハードコート層全体をＸＰＳ解析し得られたケイ素原子の全存在率をＸＳ％とし、
ハードコード層の最表面を、アルコール含水液を含ませた０．１ｇ／ｃｍ２の布地で１０回の往復により拭き取った後に、前記ハードコート層の最表面をＸＰＳ解析して得られたケイ素原子の存在率をＹＳ％とした場合に、下記数式（Ｂ）：
ＹＳ／ＸＳ≧１０（好ましくは１５）      （Ｂ）
を満たすものが好ましい。
【００１８】
２）防汚染剤及び／又は滑り性付与剤
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤としては、ケイ素系化合物、フッ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。防汚染剤と滑り性付与剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。また、防汚剤はそれ自体が反応基を有するか否かは問わない。
【００１９】
本発明にあっては、ケイ素系化合物は、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケイ素系化合物としては、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）：
【化１】
2007264281.tif 000002
（上記式中、
Ｒは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよく、
Ｒ１はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、
Ｘは０〜１２００であり、
Ｙは０〜１２００である。）
で表されるものが挙げられる。
【００２０】
フッ素系化合物の具体例としては、下記一般式：
（Ａ）ｗ−（Ｂ）ｘ−（Ｄ）ｙ−ＣＦ３
（上記式中、
Ａは、ＣＦ２、ＣＦＣＦ２、Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｂは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣＦ（ＣＦ２）ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ（ＣＦ２）Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣ（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣ（ＣＦ２）２Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｄは、ＯＣＨ２ＣＨ２、 ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ２）ｚからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚは０超過５０以下の数を表す。）
で表されるものが挙げられる。
【００２１】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤は市販品として入手可能であり、好ましくはそれが利用される。反応基を有しない防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の具体例としては、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４４５、Ｆ４５５、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等が挙げられ；東芝シリコーン社製のＴＳＦシリーズ等が挙げられ；信越化学社製のＸ２２シリーズ、ＫＦシリーズ等が挙げられ；チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。
【００２２】
反応基を有する防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の具体例としては、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（重量平均分子量４２００；新中村化学社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（重量平均分子量２４７０；新中村化学社製）、Ebecryl１３６０（ダイセルユーシービー社製）、ＵＴ３９７１（日本合成社製）、テ゛イフェンサＴＦ３００１（大日本インキ社製）、テ゛イフェンサＴＦ３０００（大日本インキ社製）、テ゛イフェンサＴＦ３０２８（大日本インキ社製）、KRM７０３９（ダイセルユーシービー社製）、ライトプロコートＡＦＣ３０００（共栄社化学社製）、ＫＮＳ５３００（信越シリコーン社製）、ＵＶＨＣ１１０５（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ＵＶＨＣ８５５０（ＧＥ東芝シリコーン社製）、Ebecryl３５０（ダイセルユーシービー社製）、ＡＣＳ-１１２２（日本ペイント社製）が挙げられる。
【００２３】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、有機化合物の場合、その数平均分子量は限定されないが、５００以上１０万以下であり、好ましくは下限が７５０以上であり、より好ましくは１０００以上であり、好ましくは上限が７万以下であり、より好ましくは５万以下である。
【００２４】
本発明の好ましい態様によれば、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する２官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、２官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、 ３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、 ４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、 ６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、 ９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、 １０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００２５】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加量は、適宜定めることができるが、ハードコート層を形成する組成物の全重量に対して０．００１重量部以上９０重量部以下であり、好ましくは下限が０．０１重量部以上であり、より好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは上限が７０重量部以下であり、より好ましくは５０重量部以下である。防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加量が、上記範囲内にあることにより、十分な防汚染機能が発揮され、かつ、光学積層体の硬度をも有するので好ましい。
【００２６】
３）樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００２７】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられる。
【００２８】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
【００２９】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００３０】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラニン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００３１】
４）溶剤
本発明にあっては、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
【００３２】
本発明にあっては、浸透性溶剤を用いることができる。浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤を利用する。本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類、ケトン類が挙げられる。
【００３３】
浸透性溶剤のより具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１、 ４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ、 Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
【００３４】
浸透性溶剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．０１重量部以上５０重量部以下であり、好ましくは下限が０．１重量部（より好ましくは１重量部）以上であり、上限が２５重量部（より好ましくは１５重量部）以下である。
【００３５】
５）任意成分
本発明によるハードコート層は上記した成分によって形成されてなるが、ハードコート層の光学特性機能を高めるために、任意成分を添加してもよい。
開始剤
本発明にあっては、ハードコート層を形成する際、開始剤を用いてよい。開始剤は、任意のものを使用できるが、好ましくは、３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇｃｍ）以下の重合開始剤と、３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ ｃｍ）より大きい重合開始剤との両方からなるものを使用するのが好ましい。３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ・ｃｍ）以下の重合開始剤の具体例としては、市販品として、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３、ＤａｒｏｃｕｒｅＥＤＢ、ＤａｒｏｃｕｒｅＥＨＡ（チバケミカル社製）等が挙げられる。３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ ｃｍ）より大きい重合開始剤の具体例としては、市販品として、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１３００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８００、Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３、ＤａｒｏｃｕｒｅＴＰＯ、Ｄａｒｏｃｕｒｅ４２６５、ＣＧＩ２４２（チバケミカル社製）等が挙げられる。
【００３６】
安定剤
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート用組成物に安定剤を添加することが好ましい。安定剤は、ハードコート層を構成する成分が、天候又は経時変化により生じる変性を抑制することが可能となる。特に、安定剤を添加することにより、ハードコート層が、光又は熱による変色、特に、黄色化を抑制することができるものと思われる。安定剤が主として変色防止に用いられる場合には、安定剤は変色防止剤とされてよい。
【００３７】
安定剤の具体例としては、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードフェノール系、トリアジン系、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等が挙げられ、好ましくは、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系が挙げられる。
【００３８】
安定剤は、それ自体が反応基を有するか否かを問わず、また、安定剤が高分子物質である場合、その分子量は限定されるものではない。安定剤はそれ自体が反応基を有しない場合には、その安定剤は分子量が１０００以上のものが好ましくは利用される。分子量が１０００以上の安定剤は、ハードコート層内において安定剤としての特性を十分に発揮することが可能となる。
【００３９】
安定剤の添加量は、使用目的に応じて適宜定めてよいが、好ましくは、ハードコート層用組成物全量に対して、２０重量部以下、好ましくは５重量部以下である。添加量がこの範囲にされてなることにより、安定剤による安定化効果が十分に発揮することができ、かつ、ハードコート層中の樹脂の硬化が十分に行うことができ、ハードコート層のハードコート性能を達成することが可能となる。
【００４０】
安定剤は市販品を使用することができ、その具体例としては、ＲＵＶＡ９３（大塚化学社製）；Vanaresin  ＵＶＡ-１０２５Ｓ 、VanaresinＵＶＡ-１０５０Ｇ、 Vanaresin ＨＡＬ-１１０２５Ｓ（新中村化学社製）；ＦＡ７１１ＭＮ、ＦＡ７１２ＨＭ（日立化成社製）；ＲＳＡ０１１３Ｍ（山南合成社製）；旭電化社製のアデカスタブシリーズ、例えば、ＡＯ２２、ＡＯ３０、ＡＯ４０、ＡＯ５０、ＡＯ６０、 ＡＯ７０、 ＡＯ８０、ＡＯ３３０、Ａ６１１、Ａ６１２、Ａ６１３、ＡＯ５１、ＡＯ１５、ＡＯ１８、３２８、ＡＯ３７、ＰＥＰ４Ｃ、ＰＥＰ８、ＰＥＰ８Ｗ、 ＰＥＰ２４Ｇ、ＰＥＰ３６、ＰＥＰ３６Ｚ、ＨＰ１０、２１１２、２６０、５２２、１１７８、１５００、１３５Ａ、３０１０、ＴＰＰ、ＡＯ２３、ＡＯ４１２Ｓ、ＡＯ５０３、ＬＡ３２、ＬＡ３６、１４１３、ＬＡ５１、ＬＡ５２、ＬＡ５７、ＬＡ６２、ＬＡ６３、ＬＡ６７、ＬＡ７７、ＬＡ８２、ＬＡ８７、ＬＡ５０１、ＬＡ５０２、ＬＡ５０３、ＬＡ６０１、ＬＡ６０２等が挙げられ；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＴＩＮＵＶＩＮシリーズ、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ―ＰＳ、ＴＩＮＵＶＩＮ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ４１１Ｌ、ＴＩＮＵＶＩＮ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ４０５等が挙げられ；ＩＲＧＡＮＯＸシリーズ（長瀬産業）、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７、ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５等が挙げられ；住友化学社のスミライザーシリーズ、例えば、ＧＡ８０、ＧＳ等が挙げられ；及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいものとして、ＲＵＶＡ９３（大塚化学社製）、Vanaresin  ＵＶＡ-１０２５Ｓ 、VanaresinＵＶＡ-１０５０Ｇ（以上新中村化学社製）、ＦＡ７１１ＭＮ、ＦＡ７１２ＨＭ（以上日立化成社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。
【００４１】
６）その他の剤
ハードコート層は、所望の光学特性を発揮させる目的で、その他の剤、例えば、帯電防止剤、防汚染剤または防眩剤を添加してもよい。この場合、ハードコート層用組成物に、その他の剤を添加してハードコート層を形成することができる。
【００４２】
導電剤（帯電防止剤）
導電剤（帯電防止剤）の添加により、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。導電剤（帯電防止剤）の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
【００４３】
また、帯電防止剤として、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。
【００４４】
また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
【００４５】
帯電防止剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．０１重量部以上５０重量部以下であり、好ましくは下限が０．１重量部以上であり、上限が２５重量部以下である。
【００４６】
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
【００４７】
防眩剤を添加する際に、沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
【００４８】
防眩剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．００１重量部以上７５重量部以下であり、好ましくは下限が０．０１重量部以上であり、上限が５０重量部以下である。
【００４９】
防汚染剤
防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。また、防汚剤はそれ自体が反応基を有するか否かは問わない。防汚染剤の内容は先に説明したのと同様であってよい。
【００５０】
ハードコート層の用途
本発明によるハードコート層は光学積層体（光学機能性フィルム）に使用されるものであり、具体的には、光の反射を抑制する目的で使用され物品に用いられる。より具体的には、光学レンズ（フィルム）、光学機器の画像表示部、乗り物のフロントガラス、または特殊建築用資材等において使用される。好ましくは、光学機器の画像表示部に使用され、例えば、画像表示装置〔液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等〕における画像表示面に使用することができる。
【００５１】
２．光学積層体
本発明の別の態様によれば、光透過性基材の上に、本発明によるハードコート層を形成させた光学積層体が提案される。
ハードコート層
ハードコート層については先に説明したのと同様であってよい。
ハードコート層の形成
ハードコート層は、ハードコート層用組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、上記のハードコート層用組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加したハードコート層用組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。
【００５２】
ハードコート層用組成物を光透過性基材の上に形成する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。ハードコート層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５３】
光透過性基材
光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられ、より好ましくはセルローストリアセテートが挙げられる。
【００５４】
光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもよい。また、光透過性基材は、その上に光学特性層を形成する際に、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。
【００５５】
任意の層
本発明による光学積層体は、所望の光学特性を発揮させる目的で、その他の層を形成してもよい。本発明の好ましい態様によれば、ハードコート層の上に低屈折率層をさらに備えてなるものが好ましい。また、別の好ましい態様によれば、光学積層体を構成する層の間または光学積層体の最表面に、帯電防止層、防眩層、または防汚染層をさらに備えてなるものが好ましい。ハードコート層の下に帯電防止層をさらに備えてなるものが好ましい。
【００５６】
１）低屈折率層
低屈折率層は低屈折率剤と樹脂とにより形成されてよい。
低屈折率剤
低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率剤の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。  
【００５７】
低屈折率剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる組成物が挙げられる。
【００５８】
このフッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またはヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
【００５９】
このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１、 ２−ジクロロ−１、 ２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３、 ３、 ３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３、 ３−ジフルオロプロピレン、３、 ３、 ３−トリフルオロプロピレン、１、 １、 ２−トリクロロ−３、 ３、 ３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。
【００６０】
このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は６０〜７０重量％であることが好ましく、より好ましくは６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。添加割合がこのような範囲であることにより、溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有することにより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する光学積層体を形成することが可能となる。
【００６１】
フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
【００６２】
フッ素含有共重合体自体の屈折率は１．４５以下、好ましくは１．４２以下、より好ましくは１．４０以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される光学積層体の反射防止効果が好ましいものとなる。
【００６３】
樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、好ましくは３５〜５０重量％であることが好ましい。
【００６４】
添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、表面調整層の基材に対する密着性が良好となり、また、屈折率が高く良好な反射防止効果を得ることが可能となる。
【００６５】
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
【００６６】
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
【００６７】
塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
【００６８】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
【００６９】
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００７０】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、 ６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７１】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
【００７２】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
【００７３】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
【００７４】
重合開始剤
低屈折率層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア８１９、DAROCUR  TPO（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。
【００７５】
溶剤
低屈折率層を形成するには、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
【００７６】
２）帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とにより形成されてよい。帯電防止剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよく、樹脂は、先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂と溶剤とを含んでなるものである。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、５×１０７Ω／□以下となるよう行うことが好ましい。
【００７７】
３）防眩層
防眩層は、防眩剤と樹脂とにより形成されてよい。防眩剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよく、樹脂及び溶剤も先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。
光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
ハードコート層は先に説明したのと同様であってよい。他の任意の層の組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。分散処理した各層用組成物はその後、濾過してもよい。
【００７８】
層形成法
各層を形成する方法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
【００７９】
光学積層体の用途
本発明による光学積層体は下記の用途を有する。
偏光板
本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層等の光学機能層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。
【００８０】
偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。
【００８１】
画像表示装置
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置（バックライト）と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。
【００８２】
本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【実施の態様】
【００８３】
本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。
【００８４】
ハードコート層用組成物の調製
下記組成表（組成１〜組成１８）の成分を混合機において十分混合した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用組成物を調製した。
【００８５】
組成１
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．０重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３００１；大日本インキ社製）    １．０重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００８６】
組成２
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３００１；大日本インキ社製）    ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００８７】
組成３
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．０重量部
シリコーン系防汚染剤（ＵＴ３９７１；日本合成製）                  １．０重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００８８】
組成４
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
シリコーン系防汚染剤（ＵＴ３９７１；日本合成製）                  ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００８９】
組成５
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．０重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３０２８；大日本インキ製）      １．０重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９０】
組成６
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３００４；大日本インキ製）      ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９１】
組成７
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
シリコーン系防汚染剤（ＳＵＡ１９００Ｌ６；新中村化学製）          ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９２】
組成８
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
シリコーン系防汚染剤（Ebecryl３５０；ダイセルユーシービー社製）   ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部  
【００９３】
組成９
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
フッ素系防汚染剤（メガファックＭＣＦ３５０；大日本インキ製）      ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９４】
組成１０
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．９重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３０２７；大日本インキ製）      ０．１重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９５】
組成１１
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．０重量部
フッ素系防汚染剤（デイフェンサＴＦ３０２５；大日本インキ製）      １．０重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９６】
組成１２
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．９重量部
シリコーン系防汚染剤（ＴＳＦ４４６０；ＧＥ東芝シリコーン）        ０．１重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９７】
組成１３
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ９．５重量部
シリコーン系防汚染剤（ＵＶＨＣ１１０５；ＧＥ東芝シリコーン）      ０．５重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９８】
組成１４
ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成製）                ５．０重量部
シリコーン系防汚染剤（ＵＶＨＣ８５５０；ＧＥ東芝シリコーン）      ５．０重量部
重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバスペシャルティーケミカルズ）０．４重量部
メチルエチルケトン                                                  １０重量部
【００９９】
光学積層体の調製
実施例１
ハードコート層の形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、組成１のハードコート層用組成物を湿潤重量２０g／ｍ２(乾燥重量１０g／ｍ２)で塗布した。５０℃にて３０秒乾燥し、紫外線１００ｍＪ／ｃｍ２を照射して（高屈折率）ハードコート層を形成した。
【０１００】
実施例２〜８
ハードコート層用組成物を組成２〜８に変えた以外は、実施例１と全く同様な方法にて、実施例２〜８の光学積層体を得た。
【０１０１】
比較例１〜６
ハードコート層の形成において、ハードコート層用組成物を組成９〜１４に変えた以外は、実施例１と全く同様な方法にて、比較例１〜６の光学積層体を得た。
【０１０２】
評価試験
実施例及び比較例の光学積層体について、下記評価基準に基づいて評価し、その結果を下記表１に記載した。
なお、各実施例及び比較例のハードコート層表面のケイ素、及びフッ素の存在量は、Thermo Electron社製（VG  Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用して測定した。Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolved、測定角度は５段階（２８°、３８°、４８°、５８°、６８°）の条件にて行った。
表面拭き取り後の測定は、○○布で軽く１回拭き取ってから、上記と同様の測定方法により測定した。
評価１：防汚染性試験
光学積層体のハードコート層の面に対して、水と、人工指紋液（ＪＩＳ  Ｋ２２４６）とによる接触角度を測定した。人工指紋液（ＪＩＳ  Ｋ  ２２４６）は、水（５００ｍｌ）、メタノール（５００ｍｌ）、塩化ナトリウム（７ｇ）、尿素（１ｇ）、乳酸（４ｇ）とを混合した溶液を使用した。
評価基準１：水との接触角
評価◎：水の接触角度が９０°以上であった。
評価×：水の接触角度が９０°未満であった。
評価基準２）人工指紋液との接触角
評価◎：人工指紋液の接触角度が４０°以上であった。
評価×：人工指紋液の接触角度が４０°以下であった。
【０１０３】
評価２：硬さの評価試験
光学積層体のハードコート層の面を＃００００のスチールウールを用いて、６００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけながら１０往復摩擦し、傷の有無を評価した。
評価基準
評価◎：擦傷が確認できなかった。
評価×：擦傷が確認された。
【０１０４】
【表１】
2007264281.tif 000003