(57)【要約】【課題】情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、光保存性・湿熱保存性の良好な光情報記録媒体、および当該光情報記録媒体に最適な情報記録方法を提供する。【解決手段】基板上に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、前記記録層がカチオン部分とアニオン部分とからなる色素を含有し、その色素がカチオン性発色団およびアニオン性の対イオン、または、アニオン性発色団およびカチオン性の対イオンから成り、前記それぞれの対イオンが、有機性対イオンであり、かつ、立体パラメータであるＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を１以上含有することを特徴とする光情報記録媒体である。既述の本発明の光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、
前記記録層がカチオン部分とアニオン部分とからなる色素を含有し、その色素がカチオン性発色団およびアニオン性の対イオン、または、アニオン性発色団およびカチオン性の対イオンから成り、
前記それぞれの対イオンが、有機性対イオンであり、かつ、立体パラメータであるＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を１以上含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記色素が、下記一般式（１）で表されるシアニン発色団、または、下記一般式（２）で表されるスチリル発色団を含むことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【化１】
2007283500.tif 000072
【化２】
2007283500.tif 000073
［上記一般式（１）および（２）中、Ｘは各々独立に酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒを表し、Ｒ、Ｒa及びＲbは各々独立にアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｒa、Ｒbは互いに連結して環を形成していても良い。Ｚaは５員もしくは６員の複素環を完成させるために必要な原子群を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合は互いに連結して環を形成しても良い）、ｊは０又は１を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは、前記有機性対イオンとしての有機性対アニオンである。］
【請求項３】
前記一般式（１）及び前記一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（１−１）、下記一般式（２−１）、下記一般式（１−２）、下記一般式（２−２）、下記一般式（１−３）、下記一般式（２−３）のいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体。
【化３】
2007283500.tif 000074
（上記一般式（１−１）、上記一般式（２−１）及び上記一般式（１−２）、上記一般式（２−２）において、Ｚbは各々独立に、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核もしくはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表す。Ｘaは、酸素原子、硫黄原子、Ｃ（Ｒ3）（Ｒ4）もしくはＮ−Ｒ5を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｌ4、Ｌ5は置換又は無置換のメチン基を表す。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対アニオンである。Ｒa、Ｒbは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、互いに連結して環を形成していても良い。また、上記一般式（１−３）および上記一般式（２−３）において、Ｘb及びＸcは各々独立に、酸素原子、硫黄原子、もしくはＮ−Ｒ14を表す。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々独立に水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアリール基を表す。Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は各々独立に置換又は無置換のメチン基を表す。但し、Ｌ6〜Ｌ8上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成しても良い。ｋは０又は１を表す。上記と同様に、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。）
【請求項４】
前記一般式（１）中の前記カチオン性発色団がモノメチンシアニン（前記一般式（１）においてｊ＝０）であることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記色素が、下記一般式（３）で表されるオキソノールであることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【化４】
2007283500.tif 000075
［上記一般式（３）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、「ＡとＢ」もしくは「ＣとＤ」は連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは前記有機性対イオンとしての有機性対カチオンである。また、上記一般式（３）で表される色素の二つ以上（それらは同一でも異なっていてもよい）が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかを介して互いに連結していてもよく、そのように二つ以上連結したオキソノール色素も一般式（３）に含まれる。］
【請求項６】
前記一般式（３）中の前記アニオン性発色団が、モノメチンオキソノール（一般式（３）においてｍ＝０）であることを特徴とする請求項５に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
前記有機性対イオンとしての有機性対カチオンが下記一般式（Ｅ）で表されることを特徴とする請求項１または５に記載の光情報記録媒体。
【化５】
2007283500.tif 000076
（上記一般式（Ｅ）中、Ｒl、Ｒm、Ｒn、およびＲoはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０  のアルキル基または炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表し、ＲlおよびＲmまたはＲnおよびＲoはメチレン鎖となって互いに連結していてもよい。その際のメチレン鎖数は炭素数２〜１５の整数であり、ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立に０〜１０の整数である。）
【請求項８】
前記Ａ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基が、第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基、置換複素環基、ヘテロ原子含有基であることを特徴とする請求項１〜７にいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの１項に記載の光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体および情報記録方法に関するものである。特に、本発明は、波長４４０ｎｍ以下の短波長レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体および情報記録方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映により、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒ及び、可視レーザー光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザーとして高密度記録を可能とした追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）は、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが上市された。
【０００４】
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。具体的には、記録層の色素としてシアニン色素を用いた光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている（例えば、特許文献１〜５参照）。また、オキソノール色素を記録層の色素として用いた光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている（例えば、特許文献１〜２２参照）。
【特許文献１】特開２００１−２８７４６０号公報
【特許文献２】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献３】特開２００１−２５３１７１号公報
【特許文献４】特開２００１−３９０３４号公報
【特許文献５】特開２０００−３１８３１３号公報
【特許文献６】特開２０００−３１８３１２号公報
【特許文献７】特開２０００−２８０６２１号公報
【特許文献８】特開２０００−２８０６２０号公報
【特許文献９】特開２０００−２６３９３９号公報
【特許文献１０】特開２０００−２２２７７２号公報
【特許文献１１】特開２０００−２２２７７１号公報
【特許文献１２】特開２０００−２１８９４０号公報
【特許文献１３】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１４】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１５】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１６】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１７】特開２００２−３０１８７０号公報
【特許文献１８】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献１９】米国特許  ２００２／７６６４８Ａ１
【特許文献２０】特開２００３−９４８２８号公報
【特許文献２１】特開２００１−７１６３８号公報
【特許文献２２】特開２００４−１８８９６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者の検討によれば、特許文献１〜２１に記載された公知のシアニン色素はハロゲン原子や有機金属イオンを対アニオンとして用いており環境への配慮が充分ではなかった。また、公知のオキソノール色素を使用した光ディスクでは耐光性が満足できるレベルでなかった。特許文献２２に記載のオキソノール色素は、光保存性は充分ではあるが、波長４４０ｎｍ以下のレーザーにより情報記録可能な色素は記載されていない。さらに、上記特許文献に記載された公知のオキソノール色素を使用した光ディスクでは再生耐久性も満足できるレベルになく、実用上不満足な点があった。
【０００６】
以上から、本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すわなち、本発明は、４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ環境へ配慮した光保存性・湿熱保存性の良好な光情報記録媒体、および当該光情報記録媒体に最適な情報記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、光保存性がメチン色素の会合状態に起因することを見出し、会合を抑制する嵩高い置換基を導入することによって光保存性を向上させ、さらに嵩高い置換基の導入により湿熱保存性も向上させた環境配慮型色素を開発し、下記本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明の光情報記録媒体は、基板上に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有し、前記記録層がカチオン部分とアニオン部分とからなる色素を含有し、その色素がカチオン性発色団およびアニオン性の対イオン、または、アニオン性発色団およびカチオン性の対イオンから成り、前記それぞれの対イオンが、有機性対イオンであり、かつ、立体パラメータであるＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を１以上含有することを特徴とする。
【０００９】
既述のような色素は、色素が会合することにより励起状態の寿命が長くなり、そこから一重項酸素を発生し、色素分解へとつながる。そこで、有機性対イオンがＡ値２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上の置換基を１以上含有することで、会合を抑制する嵩高い置換基が導入されることになるため、光保存性を向上させ、かつ湿熱保存性も向上させることができる。
【００１０】
なお、ここで、有機性対イオンとは、ハロゲンイオンなどの無機イオンや有機金属錯体イオンなどを除く対イオンのことをいい、好ましくは、「Ｃ」および「Ｈ」を必須成分とし、「Ｏ」、「Ｎ」、および「Ｓ」の少なくともいずれかを適宜含む対イオンをいう。
【００１１】
本発明の光情報記録媒体には、下記第１から第５の態様のうち少なくともいずれかの態様が適用されることが好ましい。
【００１２】
（１）第１の態様は、前記色素が、下記一般式（１）で表されるシアニン発色団、または、下記一般式（２）で表されるスチリル発色団を含む態様である。
【００１３】
【化１】
2007283500.tif 000002
【００１４】
【化２】
2007283500.tif 000003
【００１５】
［上記一般式（１）および（２）中、Ｘは各々独立に酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒを表し、Ｒ、Ｒa及びＲbは各々独立にアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｒa、Ｒbは互いに連結して環を形成していても良い。Ｚaは５員もしくは６員の複素環を完成させるために必要な原子群を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合は互いに連結して環を形成しても良い）、ｊは０又は１を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは、前記有機性対イオンとしての有機性対アニオンである。］
【００１６】
上記一般式（１）で表されるシアニン発色団、および、上記一般式（２）で表されるスチリル発色団は、それぞれ、対イオンが嵩高く色素会合を抑制できるため、光堅牢性を向上させることができる。
【００１７】
（２）第２の態様は、前記一般式（１）及び前記一般式（２）で表される化合物が、下記一般式（１−１）、下記一般式（２−１）、下記一般式（１−２）、下記一般式（２−２）、下記一般式（１−３）、下記一般式（２−３）のいずれかで表される化合物である態様である。これらの化合物は、それぞれ、対イオンが嵩高く色素会合を抑制でき、さらにメチン鎖が短くなることにより一重項酸素の付加を受け難くなり、光堅牢性をさらに向上させることができる。
【００１８】
【化３】
2007283500.tif 000004
【００１９】
上記一般式（１−１）、上記一般式（２−１）及び上記一般式（１−２）、上記一般式（２−２）において、Ｚbは各々独立に、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核もしくはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表す。Ｘaは、酸素原子、硫黄原子、Ｃ（Ｒ3）（Ｒ4）もしくはＮ−Ｒ5を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｌ4、Ｌ5は置換又は無置換のメチン基を表す。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対アニオンである。Ｒa、Ｒbは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、互いに連結して環を形成していても良い。また、上記一般式（１−３）および上記一般式（２−３）において、Ｘb及びＸcは各々独立に、酸素原子、硫黄原子、もしくはＮ−Ｒ14を表す。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々独立に水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアリール基を表す。Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は各々独立に置換又は無置換のメチン基を表す。但し、Ｌ6〜Ｌ8上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成しても良い。ｋは０又は１を表す。上記と同様に、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。
【００２０】
（３）第３の態様は、前記一般式（１）中の前記カチオン性発色団がモノメチンシアニン（前記一般式（１）においてｊ＝０）である態様である。
【００２１】
上記モノメチンシアニンは、それぞれ、対イオンが嵩高く色素会合を抑制でき、さらにメチン鎖が短くなることにより一重項酸素の付加を受け難くなり、光堅牢性をさらに向上させることができる。
【００２２】
（４）第４の態様は、前記色素が、下記一般式（３）で表されるオキソノールである態様である。
【００２３】
【化４】
2007283500.tif 000005
【００２４】
［上記一般式（３）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、「ＡとＢ」もしくは「ＣとＤ」は連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよい。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは前記有機性対イオンとしての有機性対カチオンである。また、上記一般式（３）で表される色素の二つ以上（それらは同一でも異なっていてもよい）が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかを介して互いに連結していてもよく、そのように二つ以上連結したオキソノール色素も一般式（３）に含まれる。］
【００２５】
上記一般式（３）で表されるオキソノール色素は、対イオンが嵩高く色素会合を抑制できるため、光堅牢性を向上させることができる。
【００２６】
（５）第５の態様は、前記一般式（３）中の前記アニオン性発色団が、モノメチンオキソノール（一般式（３）においてｍ＝０）である態様である。
【００２７】
上記モノメチンオキソノールは、対イオンが嵩高く色素会合を抑制でき、さらにメチン鎖が短くなることにより一重項酸素の付加を受け難くなり、光堅牢性をさらに向上させることができる。
【００２８】
（６）第６の態様は、前記有機性対イオンとしての有機性対カチオンが下記一般式（Ｅ）で表される態様である。
【化５】
2007283500.tif 000006
【００２９】
上記一般式（Ｅ）中、Ｒl、Ｒm、Ｒn、およびＲoはそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表し、ＲlおよびＲmまたはＲnおよびＲoはメチレン鎖となって互いに連結していてもよい。その際のメチレン鎖数は炭素数２〜１５の整数であり、ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立に０〜１０の整数である。一般式（Ｅ）で表される有機性対カチオンは、嵩高く色素会合を抑制できるため光堅牢性を向上させることができるとともに湿熱堅牢性をも向上させることができる。
【００３０】
（７）第７の態様は、前記Ａ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基が、第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基、置換複素環基、ヘテロ原子含有基である態様である。上記置換基は、嵩高く色素会合を抑制するため、色素の光堅牢性を向上させることができる。
【００３１】
なお、上記置換基は、より好ましくは第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基であり、さらに好ましくは第三級アルキル基、第二級アルキル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基である。
【００３２】
また、本発明の情報記録方法は、光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする。本発明の情報記録方法には、既述の本発明の光情報記録媒体が使用されるため、情報の高密度記録及び再生を良好に行うことができる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ環境へ配慮した光保存性・湿熱保存性の良好な光情報記録媒体、および当該光情報記録媒体に最適な情報記録方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
＜光情報記録媒体＞
以下に本発明を詳細に説明する。なお、本発明において、特定の部分を「基」と称した場合には、特に断りの無い限りは、一種以上の（可能な最多数までの）置換基で置換されていても、置換されていなくても良いことを意味する。例えば、「アルキル基」とは、置換または無置換のアルキル基を意味する。また、本発明における化合物に使用できる置換基は、どのような置換基でも良い。さらに、本発明において、特定の部分を「環」と称した場合、あるいは「基」に「環」が含まれる場合は、特に断りの無い限りは単環でも縮環でも良く、置換されていても置換されていなくても良い。例えば、「アリール基」はフェニル基でもナフチル基でも良く、置換フェニル基でも良い。
【００３５】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に、波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有し、前記記録層がカチオン部分とアニオン部分とからなる色素を含有し、その色素がカチオン性発色団およびアニオンの性対イオン、または、アニオン性発色団およびカチオン性の対イオンから成り、前記それぞれの対イオンが、有機性対イオンであり、かつ、立体パラメータであるＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を１以上含有する。
【００３６】
置換基の大きさを表す立体パラメータとしては、大別して化学反応より誘導されたものとそうでないものとに分けることができる（例えば、「化学増刊１０７  構造活性相関とドラッグデザイン  藤田稔夫  編」、「ＭａｃＰｈｅｅ，Ｊ．Ａ．；Ｐａｎａｙｅ，Ａ．；Ｄｕｂｏｉｓ，Ｊ−Ｅ．；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，１９７８，３４，３５５３」、「特開２００５−３１３６３２号公報」、「Ｅｌｉｅｌ，Ｅ．Ｌ．；Ｗｉｌｅｎ，Ｓ．Ｈ．；Ｍａｎｄｅｒ，Ｌ．Ｎ．Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ：Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ：Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９４；ｐ６９５」など）。前者としては、エステルの酸加水分解反応速度より求められたＴａｆｔのＥs及びこれに関連したＥsCなどである。後者はさらに、分子サイズを表すｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ半径やこれに関連したＳＴＥＲＩＭＯＬパラメータなど分子全体の体積に関係している。
【００３７】
前者のパラメータは、化学反応の際などの動的な挙動の際には有効な定数とも考えられるが、本発明の際に用いるパラメータとしてはより静的な定数の方が好ましい。
【００３８】
これに対して立体パラメータＡ値は、シクロヘキサン環のアキシャル−エカトリアルの配座平衡の自由エネルギー差に起因する値であり、Ｔａｆｔ値に比べてより静的なパラメータということができる。またこれを用いて立体電子効果を議論する文献も見られる（例えば、「Ｓｈｉｍｉｚｕ，Ｍ．；Ｎａｋａｍａｋｉ，Ｃ．；Ｓｈｉｍｏｎｏ，Ｋ．；Ｓｃｈｅｌｐｅｒ，Ｍ．；Ｋｕｒａｈａｓｈｉ，Ｔ．；Ｈｉｙａｍａ，Ｔ．；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２００５，１２７，１２５０６」など）。
【００３９】
本発明は立体パラメータとしてＡ値を用いて定義するが、特開２００５−３１３６３２号公報に記載されるパラメータやＴａｆｔ値に由来するパラメータを用いて定義しても本発明の内容と本質的に変化はない。
【００４０】
立体パラメータであるＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）未満であると、色素が会合し光堅牢性が低下してしまう。好ましくは、２．０〜６・０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）であり、より好ましくは、２．０〜５．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）である。また、当該置換基の数は１以上であることを必須とするが、分子内に多数の嵩高い置換基が導入されるに従い屈折率が低下し記録性能が損なわれることを考慮すると、１〜１０であることが好ましく、１〜４であることがより好ましい。
【００４１】
記録層に含有される色素は、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される色素であることが好ましい。対アニオンに嵩高い置換基を導入する際には、下記一般式（１）で表されるシアニン発色団、下記一般式（２）で表されるスチリル発色団を含む色素が好ましい。
【００４２】
【化６】
2007283500.tif 000007
【００４３】
【化７】
2007283500.tif 000008
【００４４】
上記一般式（１）および（２）中、Ｘは各々独立に酸素原子、硫黄原子又はＮ−Ｒを表し、Ｒはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Ｚaは各々独立に、５員もしくは６員の複素環を完成させるために必要な原子群を表し、Ｌ1、Ｌ2、及びＬ3は各々独立に、置換又は無置換のメチン基を表し（但し、Ｌ1〜Ｌ3上に置換基がある場合互いに連結して環を形成しても良い）、ｊは０又は１を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑはハロゲンなどの無機カチオン、さらに有機金属錯体などのカチオンでないことを特徴とする。Ｒa、Ｒbはアルキル基またはアリール基を表し、互いに連結して環を形成していても良い。
【００４５】
以下、上記一般式（１）及び（２）で表されるポリメチン色素について詳細に述べる。式中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3で表されるメチン基は置換基を有していてもよく、その置換基をＶとすると、Ｖで示される置換基としては特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、フッ素）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数１から１０、好ましくは炭素数２から８、さらに好ましくは炭素数２から５のカルバモイル基（例えばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、モルホリノカルボニル、炭素数０から１０、好ましくは炭素数２から８、さらに好ましくは炭素数２から５のスルファモイル基（例えばメチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ピペリジノスルホニル、ニトロ基、炭素数１から２０、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−フェニルエトキシ）、炭素数６から２０、好ましくは炭素数６から１２、さらに好ましくは炭素数６から１０のアリールオキシ基（例えばフェノキシ、ｐ−メチルフェノキシ、ｐ−クロロフェノキシ、ナフトキシ）、
【００４６】
炭素数１から２０、好ましくは炭素数２から１２、さらに好ましくは炭素数２から８のアシル基（例えばアセチル、ベンゾイル、トリクロロアセチル）、炭素数１から２０、好ましくは炭素数２から１２、さらに好ましくは炭素数２から８のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数１から２０、好ましくは炭素数２から１２、さらに好ましくは炭素数２から８のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ）、炭素１から２０、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から８のスルホニル基（例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、ベンゼンスルホニルなど）、炭素１から２０、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から８のスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル）、炭素１から２０、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から８のスルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ、エタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど）、
【００４７】
アミノ基、炭素１から２０、好ましくは炭素数１から１２、さらに好ましくは炭素数１から８の置換アミノ基（例えばメチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンジルアミノ、アニリノ、ジフェニルアミノ）、炭素数０から１５、好ましくは炭素数３から１０、さらに好ましくは炭素数３から６のアンモニウム基（例えばトリメチルアンモニウム基、トリエチルアンモニウム基）、炭素数０から１５、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から６のヒドラジノ基（例えばトリメチルヒドラジノ基）、炭素数１から１５、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から６のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、炭素数１から１５、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から６のイミド基（例えばスクシンイミド基）、炭素数１から２０、好ましくは炭素数１から１２、さらに好ましくは炭素数１から８のアルキルまたはアリールチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、カルボキシエチルチオ、スルホブチルチオ、フェニルチオなど）、炭素２から２０、好ましくは炭素数２から１２、さらに好ましくは炭素数２から８のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル）、炭素６から２０、好ましくは炭素数６から１２、さらに好ましくは炭素数６から８のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、
【００４８】
炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から５の無置換アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル）、炭素数１から１８、好ましくは炭素数１から１０、さらに好ましくは炭素数１から５の置換アルキル基（ヒドロキシメチル、トリフルオロメチル、ベンジル、カルボキシエチル、エトキシカルボニルメチル、アセチルアミノメチル、また、ここでは好ましくは炭素数２から１８、さらに好ましくは炭素数３から１０、特に好ましくは炭素数３から５の不飽和炭化水素基（例えばビニル基、エチニル基、１−シクロヘキセニル基、ベンジリジン基、ベンジリデン基）も置換アルキル基に含まれることにする。）、炭素数６から２０、好ましくは炭素数６から１５、さらに好ましくは炭素数６から１０の置換または無置換のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、ｐ−カルボキシフェニル、ｐ−ニトロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、ｐ−シアノフェニル、ｍ−フルオロフェニル、ｐ−トリル）、
【００４９】
炭素数１から２０、好ましくは炭素数２から１０、さらに好ましくは炭素数４から６の置換されても良いヘテロ環基（例えばピリジル、５−メチルピリジル、チエニル、フリル、モルホリノ、テトラヒドロフルフリル）が挙げられる。
【００５０】
置換基として好ましいものは上述のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、シアノ基、スルホニル基、及びベンゼン環縮合であり、さらに好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、及びスルホニル基である。Ｌ1〜Ｌ3として好ましくは無置換メチン基である。ｊは０または１であり、ｊが１の時、メチン基が繰り返されるが同一である必要はない。
【００５１】
アルキル基としては、例えば炭素原子１から１８、好ましくは１から７、特に好ましくは１から４の無置換アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル、オクタデシル）、炭素原子１から１８、好ましくは１から７、特に好ましくは１から４の置換アルキル基｛例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換したアルキル基が挙げられる。
【００５２】
好ましくはアラルキル基（例えばベンジル、２−フェニルエチル）、不飽和炭化水素基（例えばアリル基）、ヒドロキシアルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル）、カルボキシアルキル基（例えば、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキシブチル、カルボキシメチル）、アルコキシアルキル基（例えば、２−メトキシエチル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル）、アリーロキシアルキル基（例えば２ーフェノキシエチル、２−（１−ナフトキシ）エチル）、
【００５３】
アルコキシカルボニルアルキル基（例えばエトキシカルボニルメチル、２−ベンジルオキシカルボニルエチル）、アリーロキシカルボニルアルキル基（例えば３−フェノキシカルボニルプロピル）、アシルオキシアルキル基（例えば２ーアセチルオキシエチル）、アシルアルキル基（例えば２−アセチルエチル）、カルバモイルアルキル基（例えば２−モルホリノカルボニルエチル）、スルファモイルアルキル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイルメチル）、スルホアルキル基（例えば、２−スルホエチル、３−スルホプロピル、３−スルホブチル、４−スルホブチル、２−〔３−スルホプロポキシ〕エチル、２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル、３−スルホプロポキシエトキシエチル）、スルホアルケニル基（例えば、スルホプロペニル基）、スルファトアルキル基（例えば、２−スルファトエチル基、３−スルファトプロピル、４−スルファトブチル）、複素環置換アルキル基（例えば２−（ピロリジン−２−オン−１−イル）エチル、テトラヒドロフルフリル）、アルキルスルホニルカルバモイルメチル基（例えばメタンスルホニルカルバモイルメチル基）｝が挙げられる。
【００５４】
アリール基としては、例えば炭素数６から２０、好ましくは炭素数６から１０、さらに好ましくは炭素数６から８の無置換アリール基（例えばフェニル基、１−ナフチル基）、炭素数６から２０、好ましくは炭素数６から１０、さらに好ましくは炭素数６から８の置換アリール基（例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換したアリール基が挙げられる。具体的にはｐ−メトキシフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−クロロフェニル基などが挙げられる。）が挙げられる。
【００５５】
複素環基としては、例えば炭素数１から２０、好ましくは炭素数３から１０、さらに好ましくは炭素数４から８の無置換複素環基（例えば２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、３−ピラゾリル、３−イソオキサゾリル、３−イソチアゾリル、２−イミダゾリル、２−オキサゾリル、２−チアゾリル、２−ピリダジル、２−ピリミジル、３−ピラジル、２−（１，３，５−トリアゾリル）、３−（１，２，４−トリアゾリル）、５−テトラゾリル）、炭素数１から２０、好ましくは炭素数３から１０、さらに好ましくは炭素数４から８の置換複素環基（例えば前述のＬ1などの置換基として挙げたＶが置換した複素環基が挙げられる。具体的には５−メチル−２−チエニル基、４−メトキシ−２−ピリジル基などが挙げられる。）が挙げられる。
【００５６】
一般式（１）および（２）において、Ｚａは各々独立に、５員もしくは６員の複素環を完成するために必要な原子群を表す。Ｚａを含む５員もしくは６員の複素環（核）としては、例えば、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、１，３−ジオキソラン核、及び１，３−ジチオラン核、などを挙げることができる。これらの中では、チアゾール核、チアゾリン核、ベンゾチアゾール核、オキサゾール核、オキサゾリン核、ベンゾオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔４，５ーｂ〕キノキサリン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、１，３−ジオキソラン核、及び１，３−ジチオラン核が好ましい。これらの環には、更にベンゼン環、ジオキソラン環、ナフトキノン環が縮合していても良い。但し、ｊが１を表すとき、即ち連結器のメチン基の数が３のときには、Ｚaを含む複素環はインドレニン核を構成しない。
【００５７】
上記の５員又は６員の含窒素複素環は置換基を有していても良い。好ましい置換基（原子）の例としては、ハロゲン原子、置換又は無置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、及びアルコキシカルボニル基を挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素原子数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。またアルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基（例、メトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ）を挙げることができる。アリール基としては、フェニルが好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基が好ましい。特に好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、アルコキシ基、及びアルコキシカルボニル基である。
【００５８】
一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物は、更に下記一般式（１−１）、下記一般式（２−１）、下記一般式（１−２）、下記一般式（２−２）または下記一般式（１−３）、下記一般式（２−３）で表される化合物であることが好ましい。
【００５９】
【化８】
2007283500.tif 000009
【００６０】
【化９】
2007283500.tif 000010
【００６１】
【化１０】
2007283500.tif 000011
【００６２】
【化１１】
2007283500.tif 000012
【００６３】
上記一般式（１−１）、上記一般式（２−１）及び上記一般式（１−２）、上記一般式（２−２）において、Ｚbは各々独立に、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核もしくはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表す。Ｘaは各々独立に、酸素原子、硫黄原子、Ｃ（Ｒ3）（Ｒ4）もしくはＮ−Ｒ5を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は各々独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｌ4、Ｌ5は置換又は無置換のメチン基を表す。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対アニオンである。Ｒa、Ｒbは各々独立にアルキル基またはアリール基を表し、互いに連結して環を形成していても良い。
【００６４】
上記Ｚbを含むインドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核もしくはベンゾチアゾール核は置換基を有していても良い。置換基（原子であっても良い）の例としては、前述した５員又は６員の複素環上に有する置換基の例を挙げることができ、その好ましい範囲も同一である。
【００６５】
上記Ｒ1及びＲ2は、前記一般式（１）におけるＲと同義でありその好ましい範囲も同一である。
【００６６】
上記Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、好ましくはアルキル基であり、更に好ましくは置換基を有しても良い炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。Ｒ3、Ｒ4及びＲ5で表されるアルキル基は、それぞれ炭素原子数１〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル）であることが特に好ましい。
【００６７】
【化１２】
2007283500.tif 000013
【００６８】
【化１３】
2007283500.tif 000014
【００６９】
上記一般式（１−３）および上記一般式（２−３）において、Ｘb及びＸcは各々独立に、酸素原子、硫黄原子、もしくはＮ−Ｒ14を表す。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々独立に水素原子、置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアリール基を表す。Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は各々独立に置換又は無置換のメチン基を表す。但し、Ｌ6〜Ｌ8上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成しても良い。ｋは０又は１を表す。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対アニオンである。Ｒa、Ｒbは各々独立に置換又は無置換のアルキル基または置換又は無置換のアリール基を表し、互いに連結して環を形成していても良い。
【００７０】
Ｘb及びＸcは、同時に酸素原子、硫黄原子、Ｎ−Ｒ14、酸素原子とＮ−Ｒ14もしくは硫黄原子とＮ−Ｒ14の組み合わせとなることが好ましい。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は好ましくは水素原子またはアルキル基であり、更に好ましくは水素原子又は置換基を有しても良い炭素原子数１〜１８の直鎖状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で表されるアルキル基は、それぞれ炭素原子数１〜６の直鎖状の無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル）であることが特に好ましい。
【００７１】
上記一般式（１−３）において、Ｌ6、Ｌ7及びＬ8は、それぞれ一般式（１）において説明したＬ1、Ｌ2及びＬ3と同義でありその好ましい範囲も同一である。
【００７２】
以下に、本発明に係る一般式（１）（一般式（１−１）、一般式（１−２）、又は（１−３）で表される化合物を含む）で表される化合物の好ましい具体例を対アニオンＱｙを除いた状態で以下に挙げる。
【００７３】
【化１４】
2007283500.tif 000015
【００７４】
【化１５】
2007283500.tif 000016
【００７５】
【化１６】
2007283500.tif 000017
【００７６】
【表１】
2007283500.tif 000018
【００７７】
【表２】
2007283500.tif 000019
【００７８】
【表３】
2007283500.tif 000020
【００７９】
【表４】
2007283500.tif 000021
【００８０】
【化１７】
2007283500.tif 000022
【００８１】
一般式（１）で表される化合物は、例えば、エフ・エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パブリシャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジエール（Ｎｉｋｏｌａｉ  Ｔｙｕｔｙｕｌｋｏｖ，Ｊｕｒｇｅｎ  Ｆａｂｉａｎ，Ａｃｈｉｍ  Ｕｌｅｈｌｈｏｒｎ，  Ｆｒｉｔｚ  Ｄｉｅｔｚ，Ａｌｉａ  Ｔａｄｊｅｒ）共著「ポリメチン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバシティ・プレス、ソフィア（Ｓｔ．Ｋｌｉｍｅｎｔ  ＯｈｒｉｄｓｋｉＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  Ｐｒｅｓｓ，Ｓｏｐｈｉａ）、２３頁ないし３８頁；デー・エム・スターマー（Ｄ．Ｍ．Ｓｔｕｒｍｅｒ）著、「ヘテロサイクリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｐｅｃｉａｌ  ｔｏｐｉｃｓ  ｉｎ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ（Ｒｏｄｄ’ｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｃａｒｂｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）」、（２ｎｄ．Ｅｄ．ｖｏｌ．ＩＶ，ｐａｒｔ  Ｂ，１９７７年刊）、第１５章、第３６９〜４２２頁、（２ｎｄ．Ｅｄ．ｖｏｌ．ＩＶ，ｐａｒｔ  Ｂ，１９８５年刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Ｅｌｓｖｉｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｃ  Ｃｏｍｐａｎｙ  Ｉｎｃ．）、ニューヨークなどに挙げられている。
【００８２】
以下に、本発明に係る一般式（２）（一般式（２−１）、一般式（２−２）、又は（２−３）で表される化合物を含む）で表される化合物の好ましい具体例を、対アニオンＱｙを除いた状態で以下に挙げる。
【００８３】
【化１８】
2007283500.tif 000023
【００８４】
【化１９】
2007283500.tif 000024
【００８５】
【化２０】
2007283500.tif 000025
【００８６】
【表５】
2007283500.tif 000026
【００８７】
【表６】
2007283500.tif 000027
【００８８】
【表７】
2007283500.tif 000028
【００８９】
【化２１】
2007283500.tif 000029
【００９０】
上記一般式（１）、（２）、（１−１）〜（１−３）、（２−１）〜（２−３）中のＱは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対アニオンであり、かつＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を少なくことも一つ以上含有する。
【００９１】
有機性対アニオンとしては、置換アリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロルベンゼンスルホン酸イオン）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン）、アルキル硫酸イオン、アルキルもしくはアリールカルボン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、アニオン性ポリマーを用いても良い。本発明では、スルホ基を「ＳＯ3-」と表記している。
【００９２】
さらにその置換基として具体的には、第三級アルキル基（好ましくは炭素数４から３０の置換もしくは無置換の第三級アルキル基、より好ましくはｔ−ブチル基、２―メチルブチル基、ネオペンチル基、３−メチルペンチル基）、第二級アルキル基（好ましくは炭素数３から３０の置換もしくは無置換の第二級アルキル基、より好ましくはイソプロピル基、３−メチルブチル基、２−エチルヘキシル基）、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えはシクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。また、置換フェニル基、置換複素環基、ヘテロ原子含有基なども挙げられる。
【００９３】
以下に説明する置換基の中のアルキル基［（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、置換アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｏ−トリル、ナフチル、ｏ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、置換複素環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族の複素環基である）、ヘテロ原子含有基（例えばメチルスルホニル基ＳＯ2Ｍｅ（２．５０），ジフェニルホスフィノオキシ基Ｏ＝Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2（２．４６），ジフェニルホスフィノスルフィドＳ＝Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2（３．１３），トリメチルシリル基ＳｉＭｅ3（２．５），トリメチルゲルミル基ＧｅＭｅ3（２．１），トリフェニルゲルミル基ＧｅＰｈ3（２．９））であり、より好ましくは第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基、置換複素環基、ヘテロ原子含有基であり、さらに好ましくは、第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基であり、最も好ましくは、第三級アルキル基、第二級アルキル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基である。なお、上記カッコ内の数値は、立体パラメータであるＡ値である。
【００９４】
以下に、本発明に係る有機性対アニオンの好ましい具体例を以下に挙げる。
【００９５】
【化２２】
2007283500.tif 000030
【００９６】
【化２３】
2007283500.tif 000031
【００９７】
【化２４】
2007283500.tif 000032
【００９８】
【化２５】
2007283500.tif 000033
【００９９】
多価の陰イオンを対イオンとして導入する手法は、まず適当な溶剤に対イオンを有する色素を溶かし、これに多価の酸またはその塩の溶液を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにくい溶剤を添加して、多価イオンを対イオンとする色素の結晶を析出せしめる方法が最も簡便でかつ大量の合成に適している。その他の方法としては、イオン交換樹脂を用いて対イオンを交換する方法が挙げられる。
【０１００】
本発明に係る前記一般式（１）および（２）で表される色素化合物は、単独で用いても良いし、または二種以上を併用しても良い。或いはまた本発明に係る色素化合物とこれら以外の従来から使用されている光情報記録媒体用の色素化合物と併用しても良い。これらの例としては、本発明で使用される以外のシアニン系色素、オキソノ−ル系色素、アゾ金属錯体、フタロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、ナフトキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、及びトリアリルメタン系色素等を挙げることが出来る。
【０１０１】
次に、下記一般式（３）で表されるポリメチン色素について詳細に述べる。本発明においてオキソノール色素とは、アニオン性色素を有するポリメチン色素と定義する。記録特性に優れる点で、下記一般式（３）で表されるオキソノール色素が特に好適に用いられる。
【０１０２】
【化２６】
2007283500.tif 000034
【０１０３】
一般式（３）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際Ｑは第４級アルキルアンモニウムカチオンもしくは第４級アニリニウムカチオンであることを特徴とする。また、一般式（３）で表される分子の二つ以上（それらは同一でも異なっていてもよい）が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかを介して互いに連結していてもよく、そのように二つ以上連結したオキソノール色素も一般式（３）に含まれる。
【０１０４】
一般式（３）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが「−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）」である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが「−ＣＯ−Ｅ」である場合、表記としては下記一般式（３−１）が一般的であり、このような表記のものも一般式（３）に含まれる。
【０１０５】
【化２７】
2007283500.tif 000035
【０１０６】
一般式（３−１）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙの定義は一般式（３）と同一である。Ｅは、置換基である。
【０１０７】
以下、上記一般式（３）で表されるオキソノール色素について説明する。一般式（３−１）において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、ＡとＢのハメットの置換基定数σｐ値の合計及びＣとＤのハメットの置換基定数σｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基を表す。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。また、ＡとＢ、もしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよい。Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値は、それぞれ独立に０．３０〜０．８５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、０．３５〜０．８０の範囲である。
【０１０８】
ハメットの置換基定数σｐ値（以下、σｐ値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）及びこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσｐ値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−１０Ｄ−Ｈ）基のσｐ値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσｐ値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσｐ値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσｐ値は異なる。
【０１０９】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１乃至１０のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル）、炭素原子数２乃至１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、デシルオキシカルボニル）、炭素原子数７乃至１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、炭素原子数１乃至１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル、エタンスルフェニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル）、ハロゲン原子、炭素原子数２乃至１０のアルキニル基（例、エチニル）、炭素原子数２乃至１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、３−ピリジル、５−（１Ｈ）−テトラゾリル、４−ピリミジル）であり、好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。
【０１１０】
一般式（３）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
【０１１１】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【０１１２】
Ｒとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１乃至８の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数１乃至８のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１０のアリールオキシ基、炭素原子数３乃至１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基（例：メチル、エチル、イソプロピル）、フェニル、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基（例：メトキシ、エトキシ）、フェノキシ、炭素原子数４乃至８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【０１１３】
ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表すが、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４乃至８が好ましく、特に５又は６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子又は窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。
【０１１４】
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（３）におけるＲで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【０１１５】
光ディスクに用いられる色素としては熱分解性の観点からＡとＢ、またはＣとＤが連結して環を形成することが好ましく、そのような環の例として以下のようなものが挙げられる。なお、例示中、Ｒa、Ｒb及びＲcは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【０１１６】
【化２８】
2007283500.tif 000036
【０１１７】
【化２９】
2007283500.tif 000037
【０１１８】
【化３０】
2007283500.tif 000038
【０１１９】
【化３１】
2007283500.tif 000039
【０１２０】
【化３２】
2007283500.tif 000040
【０１２１】
【化３３】
2007283500.tif 000041
【０１２２】
好ましい環は、ＡＯ−２、ＡＯ−８、ＡＯ−９、ＡＯ−１０、ＡＯ−１３、ＡＯ−１４、ＡＯ−１６、ＡＯ−１７，ＡＯ−３６、ＡＯ−３９、ＡＯ−４２、ＡＯ−５４、ＡＯ−５７、ＡＯ−５９、ＡＯ−６１、ＡＯ−６５、ＡＯ−６６、ＡＯ−６７及びＡＯ−６８で示されるものである。更に好ましくは、ＡＯ−２、ＡＯ−９、ＡＯ−１０、ＡＯ−１３、ＡＯ−１７，ＡＯ−４２、ＡＯ−５４、ＡＯ−５７、ＡＯ−５９、ＡＯ−６１、ＡＯ−６５、ＡＯ−６６、ＡＯ−６７及びＡＯ−６８で示されるものである。最も好ましくは、ＡＯ−１３、ＡＯ−１７，ＡＯ−５４、ＡＯ−５７、ＡＯ−５９、ＡＯ−６１、ＡＯ−６５、ＡＯ−６６、ＡＯ−６７及びＡＯ−６８で示されるものである。
【０１２３】
Ｒa、Ｒb及びＲcで表される置換基は、それぞれ前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。また、Ｒa、Ｒb及びＲcはそれぞれ互いに連結して炭素環又は複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、及びベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、及びピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。
【０１２４】
一般式（３）において、ｍは０乃至３の整数であるが、このｍの値によって該オキソノール色素の吸収波長が大きく変化する。記録再生に用いるレーザの発振波長に応じて最適な吸収波長の色素を設計する必要があるが、この点においてｍの値の選択は重要である。記録再生に用いるレーザの中心発振波長が７８０ｎｍの場合（ＣＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、一般式（３）においてｍは２又は３が好ましく、中心発振波長が６３５ｎｍ又は６５０ｎｍの場合（ＤＶＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、ｍは１又は２が好ましく、中心発振波長が５５０ｎｍ以下の場合（例えば、中心発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ）は、ｍは０又は１が好ましい。
【０１２５】
一般式（３）で表されるオキソノール発色団は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【０１２６】
一般式（３）で表される色素の中でも、下記一般式（４）で表される構造の色素を含有した光情報記録媒体が好ましい。
【０１２７】
【化３４】
2007283500.tif 000042
【０１２８】
上記一般式（４）中、Ｚａ5、Ｚａ6は酸性核を形成する原始群であり、Ｌ11の定義は一般式（１）のＬ11と同一であり、またＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙの定義は一般式（１）のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙと同一である。
【０１２９】
なお、一般式（４）にて、Ｚａ5、Ｚａ6を構成するいずれかの水素原子を抜く形で一般式（１）の色素残基として連結基Ｌ11，Ｌ2kと結合させることができる。
【０１３０】
Ｚａ1、Ｚａ2及びＺａ3としては炭素数３〜２５のオキサゾール核（例えば、２−３−メチルオキサゾリル、２−３−エチルオキサゾリル、２−３，４−ジエチルオキサゾリル、２−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−３−メチルチオエチルベンゾオキサゾリル、２−３−メトキシエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、２−３−メチル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−メチル−α−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−（３−ナフトキシエチル）ベンゾオキサゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾオキサゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾオキサゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾオキサゾリル）、
【０１３１】
炭素数３〜２５のチアゾール核（例えば、２−３−メチルチアゾリル、２−３−エチルチアゾリル、２−３−スルホプロピルチアゾリル、２−３−スルホブチルチアゾリル、２−３，４−ジメチルチアゾリル、２−３，４，４−トリメチルチアゾリル、２−３−カルボキシエチルチアゾリル、２−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチルベンゾチアゾリル、２−３−ブチルベンゾチアゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−メチル−β−ナフトチアゾリル、２−３−スルホプロピル−γ−ナフトチアゾリル、２−３−（１−ナフトキシエチル）ベンゾチアゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾチアゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−６−ヨード−３−エチルベンゾチアゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾチアゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾチアゾリルなどが挙げられる）、
【０１３２】
炭素数３〜２５のイミダゾール核（例えば、２−１，３−ジエチルイミダゾリル、２−１，３−ジメチルイミダゾリル、２−１−メチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，４−トリエチルイミダゾリル、２−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，５−トリメチルベンゾイミダゾリル、２−６−クロロ−１，３−ジメチルベンゾイミダゾリル、２−５，６−ジクロロ−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３−ジスルホプロピル−５−シアノ−６−クロロベンゾイミダゾリルなどが挙げられる）、炭素数１０〜３０のインドレニン核（例えば、３，３−ジメチルインドレニン）、炭素数９〜２５のキノリン核（例えば、２−１−メチルキノリル、２−１−エチルキノリル、２−１−メチル６−クロロキノリル、２−１，３−ジエチルキノリル、２−１−メチル−６−メチルチオキノリル、２−１−スルホプロピルキノリル、４−１−メチルキノリル、４−１−スルホエチルキノリル、４−１−メチル−７−クロロキノリル、４−１，８−ジエチルキノリル、４−１−メチル−６−メチルチオキノリル、４−１−スルホプロピルキノリルなどが挙げられる）、炭素数３〜２５のセレナゾール核（例えば、２−３−メチルベンゾセレナゾリルなどが挙げられる）、
【０１３３】
炭素数５〜２５のピリジン核（例えば、２−ピリジルなどが挙げられる）などが挙げられ、さらに他にチアゾリン核、オキサゾリン核、セレナゾリン核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、イミダゾリン核、イミダゾ［４，５−キノキザリン］核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を挙げることができる。これらは置換されても良く、置換基として好ましくは例えばアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル）、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）、アリール基（例えば、フェニル）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル、３−ピリジル、１−ピロリル、２−チエニル）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、カルバモイル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、スルホ基、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、スルファモイル基（例えばＮ−メチルスルファモイル）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、シアノ基などが挙げられ、好ましくは、オキサゾール核、イミダゾール核、チアゾール核である。これらの複素環はさらに縮環されていてもよい。縮環する環としてはベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環等が挙げられる。
【０１３４】
Ｚａ5、Ｚａ5及びＺａ6は各々酸性核を形成するのに必要な原子群を表わし、Ｊａｍｅｓ編、Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ、第４版、マクミラン社、１９７７年、第１９８頁により定義される。具体的には、２−ピラゾロン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソローダニン、ローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クマリンー２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ〔１，５−ｂ〕キナゾロン、ピラゾロピリドン、３−ジシアノメチリデニル−３−フェニルプロピオニトリル、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸などの核が挙げられ、好ましくは、２−ピラゾロン−５−オン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸、ピラゾリジン−３，５−ジオンである。
【０１３５】
一般式（１）において、Ｌ11、Ｌ2kは各々独立に、２価の連結基を表し、それらが結合した発色団間でπ共役系を形成しない以外に特に限定は無いが、好ましくはアルキレン基（炭素数１〜２０、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アリーレン基（炭素数６〜２６、例えばフェニレン、ナフチレン）、アルケニレン基（炭素数２〜２０、例えばエテニレン、プロペニレン）、アルキニンレン基（炭素数２〜２０、例えばエチニレン、プロピニレン）、メタロセニレン基（例えばフェロセン）、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ101）−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ102）−、−ＳＯ2−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ103）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ104）−、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ105）−、ヘテリレン基（炭素数１〜２６、例えば６−クロロ−１，３，５−トリアジル−２，４−ジイル基、ピリミジン−２，４−ジイル基）を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０〜１００以下、好ましくは１以上２０以下の連結基を表す。上記、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。また、Ｌ11、Ｌ2kで表される連結基は、それらが連結する２つのクロモフォア間で１つ以上複数個存在していてもよく、複数個（好ましくは２つ）が結合して環を形成してもよい。Ｌ11、Ｌ2kとして、各々好ましくは２つのアルキレン基（好ましくは、エチレン）が結合して環を形成したものである。その中でも、５または６員環（好ましくはシクロヘキシル）を形成した場合が更に好ましい。
【０１３６】
一般式（１）においてｎは０以上１０以下の整数を表し、好ましくは０〜５の整数であり、更に好ましくは０〜３の整数であり、特に好ましくは０〜２の整数である。
【０１３７】
一般式（１）においてｋは０以上かつｎ以下のすべての整数を表す。例えば、上記ｎが２の時、ｋは０、１、２の３つの整数を表し、Ｄｙｅ2kおよびＬ2kはそれぞれ独立にＤｙｅ20、Ｄｙｅ21、Ｄｙｅ22のクロモフォアおよびＬ20、Ｌ21、Ｌ22の連結基を表す。ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＤｙｅ2kは同一でもお互い異なっても良い。また、ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＬ２ｋは同一でもお互い異なっても良い。
【０１３８】
一般式（４）で表される色素の中でも、下記一般式（５）で表される構造の色素を含有した光情報記録媒体が最も好ましい。
【０１３９】
【化３５】
2007283500.tif 000043
【０１４０】
一般式（５）中、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙの定義は一般式（３）のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙと同一である。
【０１４１】
本発明の一般式（３）で表されるオキソノール色素のアニオン部位の具体例としては、特開平１０−２９７１０３号公報に記載されたオキソノール色素のアニオン部位を挙げることができ、また例示化合物として対アニオンＱｙを除いた状態で以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４２】
【表８】
2007283500.tif 000044
【０１４３】
【表９】
2007283500.tif 000045
【０１４４】
【表１０】
2007283500.tif 000046
【０１４５】
【表１１】
2007283500.tif 000047
【０１４６】
【表１２】
2007283500.tif 000048
【０１４７】
【表１３】
2007283500.tif 000049
【０１４８】
【表１４】
2007283500.tif 000050
【０１４９】
【表１５】
2007283500.tif 000051
【０１５０】
【表１６】
2007283500.tif 000052
【０１５１】
【表１７】
2007283500.tif 000053
【０１５２】
【表１８】
2007283500.tif 000054
【０１５３】
【表１９】
2007283500.tif 000055
【０１５４】
【表２０】
2007283500.tif 000056
【０１５５】
【表２１】
2007283500.tif 000057
【０１５６】
【表２２】
2007283500.tif 000058
【０１５７】
上記一般式（３）に挙げられるＱは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。
【０１５８】
この際、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。この際、Ｑは有機性対カチオンであり、かつＡ値が２．０（ｋｃａｌ／ｍｏｌ）以上である置換基を少なくことも一つ以上含有する。具体的には、第４級アルキルアンモニウムカチオン、第４級アルキルホスホニウムカチオン、第４級アニリニウムカチオン、第４級アリールホスホニウムカチオンが挙げられる。
【０１５９】
さらに上記置換基として具体的には第三級アルキル基（好ましくは炭素数４から３０の置換もしくは無置換の第三級アルキル基、より好ましくはｔ−ブチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、３−メチルペンチル基）、第二級アルキル基（好ましくは炭素数３から３０の置換もしくは無置換の第二級アルキル基、より好ましくはイソプロピル基、３−メチルブチル基、２−エチルヘキシル基）、トリフルオロメチル基、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えはシクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、
【０１６０】
置換アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｏ−トリル、ナフチル、ｏ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、置換複素環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族の複素環基である）、ヘテロ原子含有基（例えばメチルスルホニル基ＳＯ2Ｍｅ（２．５０），ジフェニルホスフィノオキシ基Ｏ＝Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2（２．４６），ジフェニルホスフィノスルフィドＳ＝Ｐ（Ｃ6Ｈ5）2（３．１３），トリメチルシリル基ＳｉＭｅ3（２．５），トリメチルゲルミル基ＧｅＭｅ3（２．１），トリフェニルゲルミル基ＧｅＰｈ3（２．９））であり、より好ましくは第三級アルキル基、第二級アルキル基、トリフルオロメチル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基、置換複素環基、ヘテロ原子含有基であり、さらに好ましくは第三級アルキル基、第二級アルキル基、脂肪族環状炭化水素基、置換フェニル基である。なお、上記カッコ内の数値は、立体パラメータであるＡ値である。
【０１６１】
有機性対イオンとしての有機性対カチオンとしては、下記一般式（Ｅ）で表されるものが好ましい。
【化３６】
2007283500.tif 000059
【０１６２】
上記一般式（Ｅ）中、Ｒl、Ｒm、Ｒn、およびＲoはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０  のアルキル基または炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表し、ＲlおよびＲmまたはＲnおよびＲoはメチレン鎖となって互いに連結していてもよい。その際のメチレン鎖数は炭素数２〜１５の整数であり、ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立に０〜１０の整数である。なお、ｎ＝０のとき、２つのＮ原子はＲl、Ｒm、Ｒn、およびＲoを介して連結してもよく、それらが脂環式複素環を形成してもよい。以下に、本発明に係る有機性対カチオンの好ましい具体例を以下に挙げる。なお、下記有機性対カチオンのうち、Ｅ−１〜Ｅ−４は、上記一般式（Ｅ）の好ましい具体例である。
【０１６３】
【化３７】
2007283500.tif 000060
【０１６４】
【化３８】
2007283500.tif 000061
【０１６５】
本発明で用いられる好ましい具体的な化合物例を下記の表２３に示す。なお、表中の「最大Ａ値」とは、対イオン構造の中に含まれる置換基の中で最も大きいＡ値のことである。
【０１６６】
【表２３】
2007283500.tif 000062
【０１６７】
本発明の情報記録媒体の記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式で表される化合物を挙げることができる。
【０１６８】
【化３９】
2007283500.tif 000063
【０１６９】
但し、Ｒ21は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてＱ-はアニオンを表わす。
【０１７０】
上記一般式において、Ｒ21は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ4-、ＡｓＦ6-、ＢＦ4-、及びＳｂＦ6-を挙げることができる。一般式（ＩＩ）で表される化合物例を下記表２４に記載する。
【０１７１】
【表２４】
2007283500.tif 000064
【０１７２】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０重量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５重量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に好ましくは５〜２５重量％の範囲である。
【０１７３】
＜光情報記録媒体の様態＞
本発明の光情報記録媒体は、様態（１）：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層と、をこの順に有する光情報記録媒体または様態（２）：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板と、をこの順に有する光情報記録媒体であることが好ましい。様態（１）においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、様態（２）においては前記基板に形成されるのプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。様態（１）の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層を有する様態であり、まずこれらに必須の部材について順に説明する。
【０１７４】
〔様態（１）の基板〕
好ましい様態（１）の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１７５】
プリグルーブのトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１７６】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１７７】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１７８】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、成型が困難となる。
【０１７９】
本発明において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【０１８０】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。また、基板の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【０１８１】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１８２】
〔様態（１）の追記型記録層〕
好ましい様態（１）の追記型記録層は、既述の色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０１８３】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１８４】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜５０℃の範囲であることが特に好ましい。
【０１８５】
このようにして形成された追記型記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることが更に好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。また、追記型記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。更に、グルーブ上の追記型記録層の厚さ／ランド上の追記型記録層の厚さの比は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【０１８６】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。追記型記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【０１８７】
〔様態（１）のカバー層〕
好ましい様態（１）のカバー層は、上述した追記型記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【０１８８】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されて  いてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１８９】
カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。
【０１９０】
カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【０１９１】
接着剤は、例えば、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１９２】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【０１９３】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【０１９４】
粘着剤は、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１９５】
〔様態（１）におけるその他の層〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層形成面側に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（後述）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、かかるレーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【０１９６】
〔様態（１）における光反射層〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【０１９７】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【０１９８】
〔様態（１）におけるバリア層（中間層）の形成工程〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体においては、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。該バリア層は、追記型記録層の保存性を高める、追記型記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
【０１９９】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることが更に好ましい。本発明におけるバリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【０２００】
次に好ましい様態（２）の光情報記録媒体について説明する。ここで、様態（２）の光情報記録媒体は、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
【０２０１】
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
【０２０２】
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。本発明の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【０２０３】
〔様態（２）の基板〕
好ましい様態（２）における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０２０４】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０２０５】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０２０６】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０２０７】
好ましい様態（２）において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は様態（１）の基板と同様である。また、基板の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０２０８】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は様態（１）の下塗層と同様である。
【０２０９】
〔様態（２）の追記型記録層〕
好ましい様態（２）の追記型記録層に関する詳細な説明は、様態（１）の追記型記録層に関するものと同様である。
【０２１０】
〔様態（２）の光反射層〕
好ましい様態（２）において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することがある。様態（２）の光反射層に関する詳細は様態（１）の光反射層と同様である。
【０２１１】
〔様態（２）の接着層〕
好ましい様態（２）における接着層は、上記光反射層と、保護基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【０２１２】
〔様態（２）の保護基板〕
好ましい様態（２）における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さとしては、厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０２１３】
〔様態（２）の保護層〕
好ましい様態（２）の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【０２１４】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０２１５】
〔様態（２）のその他の層〕
好ましい様態（２）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層の詳細な説明は様態（１）のその他の層と同様である。
【０２１６】
＜情報記録方法＞
本発明の情報記録方法は、光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする。本発明の情報記録方法には、既述の本発明の光情報記録媒体が使用されるため、情報の高密度記録及び再生を良好に行うことができる。
【０２１７】
具体的には、本発明の情報記録方法は、好ましい様態（１）または（２）の光情報記録媒体を用いて、次のように行われる。
【０２１８】
まず、光情報記録媒体を定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。本発明においては、記録光として３９０〜４４０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【０２１９】
以下、本発明に係る色素の合成例を示す。この他の本発明の化合物も類似の方法によって合成できる。
【０２２０】
〔色素Ｓ−７の合成〕
（１）スキーム（Ａ）
【０２２１】
【化４０】
2007283500.tif 000065
【０２２２】
化合物「２」６．２８ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド１１０ｍｌに加え、０℃に冷却した後に攪拌しながらトリエチルアミン１８．６ｍｌを添加し、その後に化合物「１」１０．５ｇを添加した。その後０℃で４時間反応させた後に、酢酸エチル４００ｍｌを添加し結晶を生成させ濾過して化合物「Ｈ−１」を１４．７ｇ得た。構造はＮＭＲで確認した。1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6））：δ＝１．１５（ｔ，１８Ｈ），２．０５（ｓ，
８Ｈ），２．６（ｔ，４Ｈ），３．０５〜３．２０（ｍ，１６Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ），８．８０（ｓ，２Ｈ）
【０２２３】
（２）スキームＢ
【０２２４】
【化４１】
2007283500.tif 000066
【０２２５】
化合物「３」１４．０ｇをイソプロピルアルコール１４０ｍｌに加え、攪拌しながら化合物「４」１０．０ｇを添加し、加熱還流した。その後室温まで冷却させた後に、エバポレーターで濃縮した。その後酢酸エチル４００ｍｌを添加し結晶を生成させ、濾過して化合物「５」を２３．４ｇ得た。構造はＮＭＲで確認した。1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）：δ＝１．３０〜１．９０（ｍ，２６Ｈ），２．１５（ｍ，６Ｈ），３．０３（ｓ，１２
Ｈ）
【０２２６】
（２）スキームＢ
【０２２７】
【化４２】
2007283500.tif 000067
【０２２８】
化合物「Ｈ−１」０．３８８ｇをメタノール１０ｍｌに加え、化合物「５」０．２０２ｇを添加し、しばらく攪拌した。その後に黄色結晶が析出し、１時間加熱還流した。室温まで冷却した後に、濾過して色素Ｓ−７を０．３０ｇ得た。構造はＮＭＲで確認した。1ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6））：δ＝１．１５（ｔ，１８Ｈ），１．３０〜１．９０（ｍ，２６Ｈ），２．０５（ｓ，８Ｈ），２．１５（ｍ，６Ｈ），２．６（ｔ，４Ｈ），３．０３（ｓ，１２Ｈ），３．０５〜３．２０（ｍ，１６Ｈ），７．８０（ｓ，２Ｈ）
【０２２９】
〔その他の合成例〕
化合物「Ｈ−２」の合成：
【０２３０】
【化４３】
2007283500.tif 000068
【０２３１】
化合物「Ｈ−１」０．６０ｇをメタノール１０ｍｌに加え、化合物「６」５．００ｇを添加し、しばらく攪拌した。その後、水を１０ｍｌ添加し１時間加熱還流した。室温まで冷却した後に、濾過して化合物「Ｈ−２」を０．４０ｇを得た。構造はＮＭＲで確認した。1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3））：δ＝１．００（ｔ，２４Ｈ），１．３５〜１．７５（ｍ，
３２Ｈ），２．２０（ｓ，８Ｈ），２．７５（ｔ，４Ｈ），３．２０（ｓ，１６Ｈ），８．２０（ｓ，２Ｈ）
【実施例】
【０２３２】
以下本発明を下記実施例により具体的に説明する。
【０２３３】
［実施例１〜４］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０２３４】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０２３５】
（追記型記録層の形成）
表２３の化合物（Ｓ−７）、（Ｓ−８）、（Ｓ−９）、（Ｓ−１１）それぞれ２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１２０ｎｍ、ランド上の厚さ１７０ｎｍ）を形成した。
【０２３６】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０２３７】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（ＺｎＯ：Ｇａ2Ｏ3＝３：７（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【０２３８】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
【０２３９】
（比較例１〜４）
化合物（Ｓ−７）、（Ｓ−８）、（Ｓ−９）、（Ｓ−１１）の代わりに下記化学式で表される比較化合物（Ａ）〜（Ｄ）を用いた以外は、実施例１〜４と全く同様な方法でディスクを作製した。
【０２４０】
これにより、実施例１〜４、比較例１〜４の光情報記録媒体が作製された。
【０２４１】
＜光情報記録媒体の評価＞
Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（アドバンテスト社製：ＴＲ４１７１）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー５．２ｍＷ、再生パワー０．３ｍＷであった。
【０２４２】
［実施例５〜８］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：４００ｎｍ、溝幅：１７０ｎｍ、溝深さ：１００ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０２４３】
（追記型記録層の形成）
表１に示す化合物（Ｓ−７）、（Ｓ−８）、（Ｓ−９）、（Ｓ−１１）それぞれ２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、基板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１７０ｎｍ、ランド上の厚さ１２０ｎｍ）を形成した。
【０２４４】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０２４５】
（光反射層の形成）
追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０２４６】
（保護基板の貼り合わせ）
光反射層上に、スピンコートにより、紫外線硬化樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ製）を塗布し、ポリカーボネート製の保護基板（プリグルーブを形成していない以外は上記基板と同様のもの）を貼り合わせ、紫外線を照射して、硬化させた。作製した光情報記録媒体における紫外線硬化樹脂からなる接着層の厚さは、２５μｍであった。
【０２４７】
（比較例５〜８）
化合物（Ｓ−７）、（Ｓ−８）、（Ｓ−９）、（Ｓ−１１）の代わりに下記化学式で表される比較化合物（Ａ）〜（Ｄ）を用いた以外は、実施例５〜８と全く同様な方法でディスクを作製した。
【０２４８】
これにより、実施例５〜８、比較例５〜８の光情報記録媒体が作製された。
【０２４９】
＜光情報記録媒体の評価＞
（１）Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価作製した光情報記録媒体を、４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．６５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓにて、０．２０４μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（アドバンテスト社製：ＴＲ４１７１）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。
【０２５０】
なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー１２ｍＷ、再生パワー０．５ｍＷであった。
【０２５１】
さらに作製した光情報記録媒体を温度６０℃，湿度８０％の環境下で２４時間保存し、同様の測定を行った。結果を表３に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、記録特性が好ましいことを指す。また、温度６０℃，湿度８０％の環境下で２４時間保存した後のＣ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、保存性が十分であり、実用上好ましいことを指す。
【０２５２】
【表２５】
2007283500.tif 000069
【０２５３】
【化４４】
2007283500.tif 000070
【０２５４】
上記表３の結果から、本発明の化合物を含有する記録層からなる記録媒体１〜８は、比較例１〜８に比べて高い再生信号強度が得られ、さらに高温高湿度下の保存性も良好であることがわかる。
【０２５５】
＜光堅牢性の評価＞
（ガラス基盤の作製）
既述の色素Ｓ−７、と比較化合物「Ｈ−１」、「Ｈ−２」をそれぞれ２０ｍｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、ガラス基板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。
【０２５６】
（評価）
その後、室温遮光下で１日保存したのちにガラス基盤をメリーゴーランド型耐光試験機（有限会社イーグルエンジニアリング社特注）を用いてキセノンランプ（ＵＳＨＩＯ  ＤＩＳＣＨＡＲＧＥ  ＬＡＭＰＳ社製  ＸＬ−５００Ｄ−Ｏ  ５００Ｗ）にフィルター（ＨＯＹＡ社製  Ｈ−Ａ−５０）をとりつけ、光源から距離８ｃｍに色素を塗布したガラス基盤を置いて光照射した。その後ＳＨＩＭＡＤＺＵ  ＵＶ−１６００にて吸光度を測定した。
【０２５７】
色素Ｓ−７と比較化合物としての「Ｈ−１」、「Ｈ−２」とを比較した。上記測定による吸光度の変化を下記表２６に示す。
【０２５８】
【表２６】
2007283500.tif 000071
【０２５９】
上記表より色素Ｓ−７が比較化合物「Ｈ−１」、「Ｈ−２」に比べて光保存性が高いことが分かる。これは本発明の有用性を示すものである。
【０２６０】
以上から、本発明に係る色素を用いることにより、環境に配慮しながらも、良好な記録特性を示し、かつ光・湿熱保存性も良好な光情報記録媒体を得ることができる。特にＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザーを用いて上記効果が得られることから、より高密度の情報記録媒体および記録再生法を提供することができる。