(57)【要約】【課題】  修正部と基板の結合が強く、クラックが発生し難く、修正作業時間が短い微細パターン修正方法を提供する。【解決手段】  この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。したがって、レーザパワーを強めることなく修正部３０の底まで十分な熱を与えることができる。【選択図】        図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの欠陥に修正ペーストを塗布し、塗布した修正ペーストからなる修正部にレーザ光を照射して焼成する微細パターン修正方法において、
前記修正部の側壁面に対して斜め上方から前記レーザ光を照射して焼成することを特徴とする、微細パターン修正方法。
【請求項２】
前記修正部の上方に対物レンズを設け、
前記対物レンズの中心から外れた所定の位置に前記レーザ光を上方から照射し、
前記対物レンズによって屈折されて焦点に向かうレーザ光を前記修正部の側壁面に照射することを特徴とする、請求項１に記載の微細パターン修正方法。  
【請求項３】
前記所定の位置を回転中心として前記対物レンズを回転移動させることにより前記対物レンズの位置を調整し、前記対物レンズによって屈折されたレーザ光を前記修正部の側壁面に上方から見て垂直に照射させることを特徴とする、請求項２に記載の微細パターン修正方法。  
【請求項４】
前記対物レンズを移動させるＸＹテーブルを設けたことを特徴とする、請求項３に記載の微細パターン修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は微細パターン修正方法に関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥に修正ペーストを塗布し、塗布した修正ペーストからなる修正部にレーザ光を照射して焼成する微細パターン修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図７は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構成を示す組立て分解図である。図７において、このプラズマディスプレイパネルは、前面ガラス基板７０および背面ガラス基板８０を含む。前面ガラス基板７０の裏面には、それぞれが広い幅の透明電極７１と狭い幅のバス電極７２からなる複数の複合電極が所定のピッチで形成され、それらは誘電体層７３および保護膜７４で被覆されている。背面ガラス基板８０の表面には、複数のアドレス電極８１が所定のピッチで形成され、それらは誘電体層８２で被覆されている。誘電体層８２の表面には、複数のリブ（隔壁）８３が所定のピッチで形成され、各谷間はＲ，ＧまたはＢの蛍光体層８４で被覆されている。
【０００３】
バス電極７２とアドレス電極８１が直交するようにして、前面ガラス基板７０と背面ガラス基板８０とがリブ８３を介して固着される。これにより、バス電極７２とアドレス電極８１の各交差部にセルと呼ばれる放電空間が形成される。複数のバス電極７２と複数のアドレス電極８１に選択的に電圧を印加すると、各セルが選択的に放電発光し、プラズマディスプレイパネルには、１枚の画像が表示される。
【０００４】
ところで、背面ガラス基板８０上にリブ８３を形成する際、異物の混入や製作工程上の不具合により、図８に示すように、リブ８３の一部が欠けたリブ欠け欠陥８５が発生したり、リブ８３の上面に突起欠陥８６が発生する場合がある。
【０００５】
このような欠陥８５，８６は、パネル点灯時に混色や暗い点を生じさせ、パネル品質を著しく低下させるので、蛍光体層８を形成する前に欠陥８５，８６を修正する必要がある。
【０００６】
これらの欠陥８５，８６を修正する方法として、塗布針を用いてリブ欠け欠陥８５に修正ペーストを塗布し、塗布した修正ペーストからなる修正部の上面にレーザ光を照射して焼成するとともに、突起欠陥８６を研磨して除去する方法がある（たとえば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−２９９０５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、従来の微細パターン修正方法では、リブ８３の高さが１２０〜２００μｍ程度あるのにレーザ光を修正部の上面に照射して焼成していたので、レーザ光の熱が修正部に接する正常リブ８３側に逃げ、修正部の底まで到達する熱量が少なくなって、その下の誘電体層８２すなわち背面ガラス基板８０との結合が弱くなるという問題があった。
【０００８】
これを防止しようとして、照射するレーザパワーを増加すると、加えられたエネルギーによって修正部の上部が過大に加熱されて溶解し、それが硬化時に収縮するなどして周囲の正常なリブ８３、下部の誘電体層８２などとの間で歪を生じこれに伴い内部応力が発生する。これらの応力は複合され、それが大きな場合には背面ガラス基板８０や、誘電体層８２、修正部などにクラックが発生する。また、修正ペーストをリブ欠け欠陥８５に複数層に分けて塗布し、１層塗布する毎に焼成し、それを繰り返して修正することもできるが、焼成回数が増加し、修正作業時間が長くなる。
【０００９】
それゆえに、この発明の主たる目的は、修正部と基板の結合が強く、クラックが発生し難く、修正作業時間が短い微細パターン修正方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明に係る微細パターン修正方法は、基板上に形成された微細パターンの欠陥に修正ペーストを塗布し、塗布した修正ペーストからなる修正部にレーザ光を照射して焼成する微細パターン修正方法において、修正部の側壁面に対して斜め上方からレーザ光を照射して焼成することを特徴とする。
【００１１】
好ましくは、修正部の上方に対物レンズを設け、対物レンズの中心から外れた所定の位置にレーザ光を上方から照射し、対物レンズによって屈折されて焦点に向かうレーザ光を修正部の側壁面に照射する。
【００１２】
また好ましくは、所定の位置を回転中心として対物レンズを回転移動させることにより対物レンズの位置を調整し、対物レンズによって屈折されたレーザ光を修正部の側壁面に上方から見て垂直に照射させる。
【００１３】
また好ましくは、対物レンズを移動させるＸＹテーブルが設けられる。
【発明の効果】
【００１４】
この発明に係る微細パターン修正方法では、修正部の側壁面に対して斜め上方からレーザ光を照射して焼成する。したがって、修正部の上面にレーザ光を照射していた従来に比べ、修正部の底まで十分な熱を与えることができ、修正部と基板の結合を強くすることができる。また、レーザパワーを大きくする必要がないので、内部応力が発生してクラックが発生することがない。また、１層塗布する毎に焼成する方法に比べ、修正作業時間が短くて済む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１（ａ）は、この発明の一実施形態による微細パターン修正装置の全体構成を示す外観図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ部拡大図である。図１（ａ）（ｂ）において、この微細パターン修正装置は、修正対象となるプラズマディスプレイパネル用の背面ガラス基板８０がその表面に載置され、背面ガラス基板８０と平行な図中Ｙ軸方向に移動するＹ軸テーブル１と、背面ガラス基板８０と垂直な図中Ｚ軸方向に移動するＺ軸テーブル２と、該Ｚ軸テーブル２を搭載して背面ガラス８０と平行でＹ軸と直交する図中Ｘ軸方向に移動するＸ軸テーブル３とを備える。
【００１６】
Ｚ軸テーブル２には、背面ガラス基板８０の表面に形成されたリブ８３の欠陥を観察するための観察光学系４と、リブ欠け欠陥８５に針を用いて修正ペーストを塗布する修正ペースト塗布機構５と、塗布した修正ペーストからなる修正部にレーザ光を照射して乾燥または焼成させる連続発振レーザ装置６と、該連続発振レーザ装置６の下方に設けられて対物レンズを搭載し、図中ＸＹ方向に移動し得る副ＸＹテーブル７と、リブ幅からはみ出した余分な修正ペーストをカットするパルス発振レーザ装置８と、カットされた余分な修正ペーストを針または真空吸引によって除去するスクラッチ機構９と、リブ８３上の突起欠陥８６やリブ８３上にはみ出した修正ペーストを研磨テープを用いて除去するテープ研磨ユニット１０と、Ｚ軸テーブル２と背面ガラス基板８０表面との間の距離を検出するレーザ変位計１１とが設けられている。Ｚ軸テーブル２は、Ｚ軸駆動モータ１２によって駆動される。
【００１７】
なお、修正ペーストは、塗布針を用いて塗布する代わりに、ディスペンサ方式で塗布してもよいし、インクジェット方式で塗布してもよいし、どのような方式で塗布してもよい。また、研磨テープを用いて突起欠陥８６などを研磨する代わりに、回転砥石を用いて研磨してもよい。
【００１８】
観察光学系４は、複数の対物レンズとそれらのうちのいずれか１つを選択するレボルバとを含む顕微鏡と、ＣＣＤカメラからなる。修正ペースト塗布機構５は、塗布針と、塗布針を上下に駆動させるアクチュエータと、修正ペーストのタンクなどを含む。観察光学系４、修正ペースト塗布機構５、レーザ装置６，８、副ＸＹテーブル７、スクラッチ機構９、テープ研磨ユニット１０、およびレーザ変位計１１は、修正ヘッドを構成する。
【００１９】
Ｚ軸テーブル２は、背面ガラス基板８０に垂直なＺ方向において基板８０と修正ヘッドの相対位置決めを行なうことにより、観察光学系４の焦点調整を行なったり、修正ペースト塗布機構５のＺ軸方向の位置決めを行なったり、スクラッチ機構９の針やテープ研磨ユニット１０の研磨ヘッドを突起欠陥８６などに接触させるために使用される。Ｘ軸テーブル３およびＹ軸テーブル１は、背面ガラス基板８０に平行なＸＹ平面内において、基板８０と修正ヘッドの相対位置決めを行なうために使用される。Ｘ軸テーブル３、Ｙ軸テーブル１およびＺ軸テーブル２の各々は、モータ、ボールねじなどにより駆動される。なお、位置決め機構の構成は、テーブル１〜３に限られるものではなく、基板８０と修正ヘッドの相対位置をＸ，Ｙ，Ｚ方向に調整できるものであればどのようなものでもよい。
【００２０】
また、この微細パターン修正装置は、微細パターン修正装置全体を制御する制御部１３と、ユーザインタフェースとなる操作部１４と、ＣＣＤカメラで撮影された画像を表示する画像表示部１５を備える。制御部１３は、操作部１４からの指令信号に基づき、微細パターン修正装置全体に制御信号を送る。操作部１４は、座標入力装置、各種動作の指示装置などからなる。
【００２１】
図２（ａ）〜（ｆ）は、この微細パターン修正装置を用いてリブ欠け欠陥８５を修正する方法を示す図である。まず図２（ａ）に示すように、リブ８３の形成された背面ガラス基板８０をＹ軸テーブル１上に載置し、Ｙ軸テーブル１およびＸ軸テーブル３を水平方向に移動させ、リブ欠け欠陥８５が修正ペースト塗布機構５の真下に来るように位置決めする。次いで修正ペースト塗布機構５は、図２（ｂ）に示すように、塗布針２０に修正ペースト２１を付着させ、リブ欠け欠陥８５に塗布する。修正ペースト塗布機構５としては、たとえば特開平９−２６５００７号公報の図８に示すような機構が用いられる。以下、リブ欠け欠陥８５に塗布された修正ペースト２１を修正部３０と称する。
【００２２】
次に図２（ｃ）に示すように、ＣＯ２レーザのような連続発振レーザ装置６によってレーザ光を修正部３０に照射して乾燥させる。図２（ｂ）（ｃ）の工程を複数回繰り返してリブ欠け欠陥８５を埋めてもよい。次いで図２（ｄ）に示すように、パルス発振レーザ装置７によってリブ８３の幅に沿ってレーザ光を照射することにより、修正部３０のうちのリブ８３の幅からはみ出した余分な修正ペースト２１をカットして分離する。
【００２３】
次に図２（ｅ）に示すように、スクラッチ機構８のスクラッチ針２２により、リブ８３から分離された修正ペースト２１のはみ出し部を除去する。スクラッチ機構部８にはバキューム機能（図示せず）が設けられており、スクラッチ針２２により除去された修正ペースト２１のかすを吸引することが可能となっている。このため、修正後も修正箇所を清浄状態に保つことが可能となる。
【００２４】
次に図２（ｆ）に示すように、図２（ｃ）の場合よりも強いレーザ光を後述の方法で修正部３０に照射し、リブ欠け欠陥８５に塗布し整形した修正部３０の焼成を行なう。最後に、テープ研磨ユニット１０の研磨テープにより、修正部３０のうちのリブ頂点からはみ出した修正ペースト２１を除去して、リブ欠け欠陥８５の修正が終了する。
【００２５】
以下、この実施の形態の特徴となる修正部３０の焼成方法について説明する。本発明においては図３に示すように、リブ欠け欠陥８５に塗布された修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に対し、上方斜め方向からレーザ光αを照射して焼成する。レーザ光αは、垂直線に対して所定の角度θで入射される。なお、修正部３０のうち正常リブ仮想線Ｌからはみ出た部分は、テープ研磨ユニット１０などによって除去される。レーザスポット３１の直径よりも修正部３０の方が長い場合は、図４に示すようにレーザスポット３１を修正対象のリブ８３の長さ方向に沿って移動させて焼成する。
【００２６】
図５は、修正部３０の側壁面にレーザ光αを斜めに照射するための光学系の構成を示す図である。図５において、修正部３０を有する背面ガラス基板８０に対してＸＹＺ方向に相対移動し得るＺ軸テーブル２に、対物レンズ３２を搭載した副ＸＹテーブル７が設置されている。連続発振レーザ装置６から出射されたコリメートされたレーザ光αは、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置（レーザ光照射点３３）に照射される。レーザ光αは、対物レンズ３２で屈折されて対物レンズ３２の中心線上の焦点Ｆに向かう。なお、レーザ光αの上方からの照射角度は、対物レンズ３２の焦点距離に基づいて選定する。また、焼成前の位置調整時では、レーザパワーは十分に低いレベルに調整される。
【００２７】
また図６に示すように、副ＸＹテーブル７を移動させてレーザ光照射点３３を中心として対物レンズ３２を回転移動させ、対物レンズ中心３２ａの位置を調整することにより、対物レンズ３２を透過したレーザ光αを修正部３０を有するリブ８３の側壁面に上方から見て垂直に照射させる。
【００２８】
この状態でテーブル１〜３を駆動し、連続発振レーザ装置６と副ＸＹテーブル７を搭載したＺ軸テーブル２を背面ガラス基板８０に対してＸＹＺ方向に移動させることにより、実際に焼成したい修正部３０の側壁面に対するレーザスポット３１の位置を調整する。これにより、対物レンズ中心３２ａおよびレーザ光照射点３３は、修正部３０の側壁面に対して最適位置、最適方向に設定される。これらの設定が完了した後、レーザパワーを所定のレベルに設定して所定時間だけレーザ光αを照射することにより焼成を行なう。なお、レーザスポット３１の直径に対して、修正部３０の長さが長いときは、修正部３０の端から端までレーザスポット３１を移動させて焼成を行なう。
【００２９】
この実施の形態では、修正部３０の側壁面に対して斜め上方からレーザ光αを照射して修正部３０を焼成する。したがって、修正部３０の底まで十分な熱を与えることができ、修正部３０と誘電体層８０の結合を強くすることができる。また、レーザパワーを大きくする必要がないので、内部応力が発生してクラックが発生することがない。また、１層塗布する毎に焼成する方法に比べ、修正作業時間が短くて済む。
【００３０】
なお、この実施の形態では、対物レンズ３２を副ＸＹテーブル７によって移動させて、対物レンズ３２を透過した後のレーザ光αの方向を調整したが、副ＸＹテーブル７の代わりに対物レンズ３２を保持するホルダを設け、レーザ光照射点３３を回転中心としてホルダを回転させることにより、対物レンズ３２を透過した後のレーザ光αの方向を調整してもよい。
【００３１】
また、この実施の形態では、ストライプ形状のリブ８３のリブ欠け欠陥８５の修正について説明したが、ワッフル形状のリブのリブ欠け欠陥も修正できることは言うまでもない。
【００３２】
また、この実施の形態では、本発明がプラズマディスプレイパネルのリブ欠け欠陥８５の修正に適用された場合について説明したが、これに限るものではなく、本発明は修正ペースト２１を欠陥に付着させて焼成することにより欠陥を修正するどのような方法にも適用可能である。また、電極や線にペーストを付けて焼成し、突起部を形成する場合にも適用可能である。
【００３３】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】この発明の一実施の形態による微細パターン修正装置の全体構成を示す図である。
【図２】図１に示した微細パターン修正装置を用いたリブ欠け欠陥の修正方法を示す図である。
【図３】図２に示した焼成方法を示す図である。
【図４】図２に示した焼成方法を示す他の図である。
【図５】図３に示した焼成方法を具体的に示す図である。
【図６】図３に示した焼成方法を具体的に示す他の図である。
【図７】プラズマディスプレイパネルの構成を説明するための図である。
【図８】図７に示したリブに発生した欠陥を示す図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  Ｙ軸テーブル、２  Ｚ軸テーブル、３  Ｘ軸テーブル、４  観察光学系、５  修正ペースト塗布機構、６  連続発振レーザ装置、７  副ＸＹテーブル、８  パルス発振レーザ装置、９  スクラッチ機構、１０  テープ研磨ユニット、１１  レーザ変位計、１２  Ｚ軸駆動モータ、１３  制御部、１４  操作部、１５  画像表示部、２０  塗布針、２１  修正ペースト、２２  スクラッチ針、３０  修正部、α  レーザ光、Ｌ  正常リブ仮想線、３１  レーザスポット、３２  対物レンズ、３２ａ  対物レンズ中心、Ｆ  対物レンズ焦点、３３  レーザ光照射点、７０  前面ガラス基板、７１  透明電極、７２  バス電極、７３，８２  誘電体層、７４  保護膜、８０  背面ガラス基板、８１  アドレス電極、８３  リブ、８４  蛍光体層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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