(57)【要約】      （修正有）【課題】偏光変換素子を製造する際の製造コストの低廉化を図ることが可能な偏光変換素子の製造方法を提供する。【解決手段】ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子の製造方法であって、第１の基板、偏光分離層、第２の基板、反射層の繰り返し構造を有する基板ブロックを作成する基板ブロック作成工程（Ｓ１００）と、基板ブロックを所定の角度で切断することにより偏光分離素子を作成する偏光分離素子作成工程（Ｓ２００）と、予め所定位置に遮光層を形成しておいた透光性部材を接着層を介して偏光分離素子の光入射面に貼り付けるとともに、予め所定位置に位相差板を貼り付けておいた透光性部材を接着層を介して偏光分離素子の光射出面に貼り付ける透光性部材貼り付け工程（Ｓ３００）とを含む偏光変換素子の製造方法。【選択図】図１
2007264010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子
の製造方法であって、
第１の基板、偏光分離層、第２の基板、反射層の繰り返し構造を有する基板ブロックを
作成する基板ブロック作成工程と、
前記基板ブロックを所定の角度で切断することにより偏光分離素子を作成する偏光分離
素子作成工程と、
前記偏光分離素子の光射出側に位相差板を配置し、前記偏光分離素子の光入射面及び光
射出面のうち少なくとも一方に透光性部材を接着層を介して貼り付ける透光性部材貼り付
け工程とを含むことを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材貼り付け工程において、
予め所定位置に遮光層を形成しておいた透光性部材を接着層を介して前記偏光分離素子
の光入射面に貼り付けることを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材貼り付け工程において、
予め所定位置に位相差板を貼り付けておいた透光性部材を接着層を介して前記偏光分離
素子の光射出面に貼り付けることを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材貼り付け工程で用いる接着剤の屈折率は、前記第１の基板の屈折率及び
前記第２の基板の屈折率並びに前記透光性部材の屈折率と略同一であることを特徴とする
偏光変換素子の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記遮光層は、光を反射する反射部材からなることを特徴とする偏光変換素子の製造方
法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材は、サファイア若しくは水晶からなる透光性基板又は透光性ガラスから
なる透光性基板であることを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材貼り付け工程において、
前記偏光分離素子の光入射面に貼り付ける前記透光性部材は、複数の小レンズを有する
レンズアレイであることを特徴とする偏光変換素子の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法において、
前記透光性部材貼り付け工程において、
前記偏光分離素子の光射出面に貼り付ける前記透光性部材は、前記偏光分離素子から射
出される各部分光束を被照明領域で重畳させる重畳レンズであることを特徴とする偏光変
換素子の製造方法。
【請求項９】
ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子
を少なくとも有し、照明光束を射出する照明装置と、
前記照明装置からの照明光束を画像情報に応じて変調する電気光学変調素子と、
前記電気光学変調素子で変調された照明光束を投写する投写光学系とを備えるプロジェ
クタであって、
前記偏光変換素子は、請求項１〜８のいずれかに記載の偏光変換素子の製造方法により
製造された偏光変換素子であることを特徴とするプロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光変換素子の製造方法及びプロジェクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成分を有する光に変換する偏光変
換素子の製造方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
従来の偏光変換素子の製造方法は、第１の基板、偏光分離層、第２の基板、反射層の繰
り返し構造を有する基板ブロックを作成する基板ブロック作成工程と、基板ブロックを所
定の角度で切断することにより偏光分離素子を作成する偏光分離素子作成工程と、偏光分
離素子における両面を研磨（鏡面研磨又はポリッシング加工）する研磨工程と、研磨工程
で研磨された偏光分離素子の光入射面における所定位置に遮光層を形成する遮光層形成工
程と、研磨工程で研磨された偏光分離素子の光射出面における所定位置に位相差板を貼り
付ける位相差板貼り付け工程とを含むものである。
【０００４】
このため、従来の偏光変換素子の製造方法によれば、多数の偏光分離素子をまとめて製
造することができるため、偏光変換素子を高い生産性で製造することが可能となる。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−３２１４３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近年、偏光変換素子を製造する際において、製造コストの低廉化を求める要
望が高まってきている。
【０００７】
そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、偏光変換素子を製造する
際の製造コストの低廉化を図ることが可能な偏光変換素子の製造方法を提供することを目
的とする。また、そのような優れた偏光変換素子の製造方法によって製造された偏光変換
素子を備える安価なプロジェクタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の偏光変換素子の製造方法は、ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成
分を有する光に変換する偏光変換素子の製造方法であって、第１の基板、偏光分離層、第
２の基板、反射層の繰り返し構造を有する基板ブロックを作成する基板ブロック作成工程
と、前記基板ブロックを所定の角度で切断することにより偏光分離素子を作成する偏光分
離素子作成工程と、前記偏光分離素子の光射出側に位相差板を配置し、前記偏光分離素子
の光入射面及び光射出面のうち少なくとも一方に透光性部材を接着層を介して貼り付ける
透光性部材貼り付け工程とを含むことを特徴とする。
【０００９】
このため、本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、基板ブロックを所定の角度で切
断することによって切断面（偏光分離素子の表面）が荒れたとしても、偏光分離素子の光
入射面及び光射出面のうち少なくとも一方の面に接着層を介して透光性部材を貼り付ける
ことにより、偏光分離素子の切断面と透光性部材の表面との間に接着剤が介在することと
なるため、偏光分離素子の切断面において光が乱反射することを防止することが可能とな
る。すなわち、本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、偏光分離素子作成工程で作成
された偏光分離素子の切断面（偏光分離素子の表面）を鏡面研磨又はポリッシング加工す
る必要がないため、従来の偏光変換素子の製造方法における研磨工程に要する作業時間や
作業の手間を軽減することが可能となり、偏光変換素子を製造する際の製造コストの低廉
化を図ることが可能となる。
【００１０】
なお、本発明の偏光変換素子の製造法においては、透光性部材貼り付け工程において、
偏光分離素子の光入射面及び光射出面の両面に透光性部材を接着層を介して貼り付けるこ
とが好ましい。この場合、上述の効果をさらに向上することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、少なくとも１枚の透光性部材と偏光
分離素子とは接着層を介して接着されるため、各部材間の界面における光散乱の発生が抑
制され、光透過率に優れた偏光変換素子を製造することができる。
【００１２】
また、本発明の偏光変換素子の製造方法によれば、偏光分離素子の光入射面と光射出面
とのうち少なくとも一方に透光性部材が接着されているため、偏光分離素子で発生した熱
を少なくとも１枚の透光性部材に伝達することが可能になる。その結果、偏光分離素子の
温度上昇を抑制することが可能となる。
【００１３】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材貼り付け工程において、
予め所定位置に遮光層を形成しておいた透光性部材を接着層を介して前記偏光分離素子の
光入射面に貼り付けることが好ましい。
【００１４】
このような方法とすることにより、比較的高価な偏光変換素子ではなく比較的安価な透
光性部材に遮光層を形成しているため、仮に遮光層の形成に失敗したとしても、透光性部
材の不良とされるだけであるため、製造コストの低廉化をそれほど阻むこともなくなる。
【００１５】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材貼り付け工程において、
予め所定位置に位相差板を貼り付けておいた透光性部材を接着層を介して前記偏光分離素
子の光射出面に貼り付けることが好ましい。
【００１６】
このような方法とすることにより、位相差板が透光性部材に貼り付けられているため、
位相差板で発生した熱を透光性部材に伝達することが可能になる。その結果、位相差板の
温度上昇を抑制でき、熱による位相差板の劣化を抑制することが可能となる。
【００１７】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材貼り付け工程で用いる接
着剤の屈折率は、前記第１の基板の屈折率及び前記第２の基板の屈折率並びに前記透光性
部材の屈折率と略同一であることが好ましい。
【００１８】
このような方法とすることにより、各部材間の界面における光散乱の発生がさらに抑制
され、より光透過率に優れた偏光変換素子を製造することができる。
【００１９】
上記観点から言えば、接着剤の屈折率と、第１の基板の屈折率及び第２の基板の屈折率
並びに透光性部材の屈折率との差ｎは、０≦ｎ≦０．１であることが好ましい。
【００２０】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記偏光分離素子作成工程において、ワ
イヤーソーを用いて基板ブロックを切断することが好ましい。
【００２１】
このような方法とすることにより、偏光分離素子の表面粗さを０．０５〜２０μｍにす
ることができるため、透光性部材と偏光分離素子との間における光散乱の発生を十分に抑
制することが可能となり、光透過率に優れた偏光変換素子を製造することができる。
【００２２】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記遮光層は、光を反射する反射部材か
らなることが好ましい。
【００２３】
このような方法とすることにより、遮光層では光が吸収されず反射されるため、放熱性
に優れた偏光変換素子を製造することができる。
【００２４】
遮光層としては、金属層又は誘電体多層膜を好適に用いることができる。この場合、遮
光層として金属層を用いた場合には、より放熱性に優れた偏光変換素子を製造することが
できる。
【００２５】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材は、サファイア若しくは
水晶からなる透光性基板又は透光性ガラスからなる透光性基板であることが好ましい。
【００２６】
透光性部材がサファイア又は水晶からなる透光性基板である場合には、これらの材料か
らなる透光性基板は熱伝導性に非常に優れているため、偏光変換素子で発生した熱を効率
よく系外に放散させることができ、放熱性に優れた偏光変換素子を製造することができる
。
【００２７】
一方、透光性部材が透光性ガラスからなる透光性基板である場合には、透光性ガラスか
らなる透光性基板は複屈折が小さいため、透光性部材を通過する光束の品質低下を抑制す
ることができ、高品質な偏光変換素子を製造することができる。
【００２８】
なお、透光性ガラスとしては、石英ガラス、ＢＫ７やパイレックス（登録商標）などの
硼珪酸ガラス、白板ガラス、結晶化ガラスなどを好適に用いることができる。
【００２９】
本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材貼り付け工程において、
前記偏光分離素子の光入射面に貼り付ける前記透光性部材として、複数の小レンズを有す
るレンズアレイを用いることもできる。
また、本発明の偏光変換素子の製造方法においては、前記透光性部材貼り付け工程にお
いて、前記偏光分離素子の光射出面に貼り付ける前記透光性部材として、前記偏光分離素
子から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させる重畳レンズを用いることもできる
。
【００３０】
本発明のプロジェクタは、ランダムな偏光成分を有する光を１種類の偏光成分を有する
光に変換する偏光変換素子を少なくとも有し、照明光束を射出する照明装置と、前記照明
装置からの照明光束を画像情報に応じて変調する電気光学変調素子と、前記電気光学変調
素子で変調された照明光束を投写する投写光学系とを備えるプロジェクタであって、前記
偏光変換素子は、上記した本発明の偏光変換素子の製造方法により製造された偏光変換素
子であることを特徴とする。
【００３１】
このため、本発明のプロジェクタは、上記した偏光変換素子の製造方法により製造され
た優れた偏光変換素子を備える安価なプロジェクタとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明の偏光変換素子の製造方法及びプロジェクタについて、図に示す実施の形
態に基づいて説明する。
【００３３】
［実施形態１］
実施形態１では、本発明の偏光変換素子の製造方法について説明する。
図１は、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法を説明するために示すフローチャー
トである。図２は、基板ブロック作成工程を説明するために示すフローチャートである。
図３は、基板ブロック作成工程を模式的に示す図である。図３（ａ）は基板準備工程を模
式的に示す図であり、図３（ｂ）は基板貼り合わせ工程を模式的に示す図であり、図３（
ｃ）は接着剤硬化工程を模式的に示す図である。
【００３４】
図４は、偏光分離素子作成工程を模式的に示す図である。図４（ａ）は第１の切断工程
を模式的に示す図であり、図４（ｂ）は第２の切断工程を模式的に示す図であり、図４（
ｃ）は偏光分離素子作成工程で作成された偏光分離素子３０を示す図である。図５は、透
光性部材貼り付け工程を説明するために示す図である。図５（ａ）は遮光層４０が形成さ
れた透光性基板５０の斜視図であり、図５（ｂ）は、位相差板６０が貼り付けられた透光
性基板７０の斜視図である。図６は、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によって
製造された偏光変換素子１４０を示す図である。
【００３５】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法は、ランダムな偏光成分を有する光を１種類
の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子１４０の製造方法であって、図１に示すよ
うに、「基板ブロック作成工程」、「偏光分離素子作成工程」、「透光性部材貼り付け工
程」が順次実施される。以下、これら各工程を順次説明する。
【００３６】
１．基板ブロック作成工程
基板ブロック作成工程（図１のステップＳ１００）は、第１の基板１２、偏光分離層１
４、第２の基板１６、反射層１８の繰り返し構造を有する基板ブロック１０（図３（ｃ）
参照。）を作成するための工程である。この「基板ブロック作成工程」は、「基板準備工
程」、「基板貼り合わせ工程」及び「接着剤硬化工程」を含む。以下、これら各工程を順
次説明する。
【００３７】
１−１．基板準備工程
まず、複数の第１の基板１２及び複数の第２の基板１６を準備する（図２のステップＳ
１１０）。そして、図３（ａ）に示すように、複数の第１の基板１２の片側の表面に偏光
分離層１４をそれぞれ形成する。また、複数の第２の基板１６の片側表面に反射層１８を
それぞれ形成する。
【００３８】
第１の基板１２及び第２の基板１６としては、例えば、白板ガラスからなる基板などを
好適に用いることができる。また、第１の基板１２及び第２の基板１６として同じ基板を
用いることにより、第１の基板１２及び第２の基板１６の厚さが同じになるため、偏光分
離層１４と反射層１８との間隔を均等にすることが可能となる。第１の基板１２及び第２
の基板１６の厚さは、適宜設定することができる。
【００３９】
なお、表面に偏光分離層１４が形成されていない第１の基板１２（又は表面に反射層１
８が形成されていない第２の基板１６）を１つ準備しておく。この第１の基板１２は、基
板ブロック１０における一方の端部に配設される基板となる。
【００４０】
１−２．基板貼り合わせ工程
次に、図３（ｂ）に示すように、片側表面に偏光分離層１４が形成された第１の基板１
２と、片側表面に反射層１８が形成された第２の基板１６とを、接着層Ｃを介して交互に
貼り合わせる（図２のステップＳ１２０）。このとき、各基板１２，１６を所定のずれ量
だけずらして貼り合わせている。最後に、表面に偏光分離層１４が形成されていない第１
の基板１２を貼り合わせる。
なお、接着剤としては、ＵＶ硬化性の接着剤を好適に用いることができる。また、当該
接着剤の屈折率と、第１の基板１２の屈折率及び第２の基板１６の屈折率との差ｎは、０
≦ｎ≦０．１である。
【００４１】
１−３．接着剤硬化工程
そして、図３（ｃ）に示すように、紫外線を照射して接着層Ｃを硬化させる（図２のス
テップＳ１３０）。これにより、第１の基板１２、偏光分離層１４、第２の基板１６、反
射層１８の繰り返し構造を有する基板ブロック１０を作成することができる。
【００４２】
２．偏光分離素子作成工程
偏光分離素子作成工程（図１のステップＳ２００）は、基板ブロック１０を所定の角度
で切断することにより偏光分離素子３０を作成するための工程である。この「偏光分離素
子作成工程」は、「第１の切断工程」及び「第２の切断工程」を含む。以下、これら各工
程を順次説明する。
【００４３】
２−１．第１の切断工程
図４（ａ）に示すように、基板ブロック１０を、ワイヤーソーを用いて、例えば偏光分
離層１４及び反射層１８に対して４５度の角度で切断する。これにより、複数のブロック
片２０が作成される。なお、基板ブロック１０を切断する際の角度については、必ずしも
４５度である必要は無い。
【００４４】
２−２．第２の切断工程
そして、図４（ｂ）に示すように、ブロック片２０の両端をワイヤーソーを用いて切断
する。これにより、図４（ｃ）に示すような偏光分離素子３０を作成することができる。
【００４５】
上記の「基板ブロック作成工程」及び「偏光分離素子作成工程」を実施することにより
、均質な偏光分離素子３０を多量に製造することができる。
【００４６】
なお、上記「第１の切断工程」の後、ブロック片２０の切断面を粗研磨（粗研削）して
もよい。
【００４７】
３．透光性部材貼り付け工程
透光性部材貼り付け工程（図１のステップＳ３００）は、所定位置に遮光層４０が形成
された白板ガラスからなる透光性基板５０を接着層Ｃを介して偏光分離素子３０の光入射
面に貼り付けるとともに、所定位置に位相差板６０が貼り付けられた白板ガラスからなる
透光性基板７０を接着層Ｃを介して偏光分離素子３０の光射出面に貼り付ける工程である
。この「透光性部材貼り付け工程」は、「透光性部材準備工程」、「第１の透光性部材貼
り付け工程」及び「第２の透光性部材貼り付け工程」を含む。以下、これら各工程を順次
説明する。
【００４８】
３−１．透光性部材準備工程
まず、偏光分離素子の光入射面に貼り付ける第１の透光性部材としての白板ガラスから
なる透光性基板５０と、偏光分離素子の光射出面に貼り付ける第２の透光性部材としての
白板ガラスからなる透光性基板７０とを準備する。
透光性基板５０は、偏光分離素子３０の光入射面に接着層Ｃを介して貼り付けられる平
面（図５（ａ）における手前側の面）と、当該平面に平行な他の平面（図５（ａ）におけ
る奥側の面）とを有する。
透光性基板７０は、偏光分離素子３０の光射出面に接着層Ｃを介して貼り付けられる平
面（図５（ｂ）における手前側の面）と、当該平面に平行な他の平面（図５（ｂ）におけ
る奥側の面）とを有する。
【００４９】
そして、透光性基板５０の片側表面（図５（ａ）における手前側の面）における所定位
置に、光を反射する反射部材として、アルミニウムからなる遮光層４０を形成する。また
、透光性基板７０の片側表面（図５（ｂ）における手前側の面）における所定位置に、位
相差板６０を接着層Ｃを介して貼り付ける。これにより、図５に示すように、所定位置に
遮光層４０が形成された白板ガラスからなる透光性基板５０及び所定位置に位相差板６０
が貼り付けられた白板ガラスからなる透光性基板７０を準備することができる。
透光性基板５０に遮光層４０を形成するための手段としては、例えば、蒸着法、スパッ
タリング法、ＣＶＤ法などの公知の手段を用いることができる。
【００５０】
なお、「透光性部材準備工程」は、上記「基板ブロック作成工程」及び「偏光分離素子
作成工程」に先立って実施してもよい。
【００５１】
３−２．第１の透光性部材貼り付け工程
次に、所定位置に遮光層４０が形成された白板ガラスからなる透光性基板５０を、接着
層Ｃを介して偏光分離素子３０の光入射面に貼り付ける。この際、透光性基板５０におけ
る遮光層４０が形成された面を偏光分離素子３０の光入射面に対向させて、透光性基板５
０と偏光分離素子３０とを接着層Ｃを介して貼り合わせる。
【００５２】
３−３．第２の透光性部材貼り付け工程
そして、所定位置に位相差板６０が貼り付けられた白板ガラスからなる透光性基板７０
を接着層Ｃを介して偏光分離素子３０の光射出面に貼り付ける。この際、透光性基板７０
における位相差板６０が貼り付けられた面を偏光分離素子３０の光射出面に対向させて、
透光性基板７０と偏光分離素子３０とを接着層Ｃを介して貼り合わせる。
【００５３】
なお、上記「第１の透光性部材貼り付け工程」と「第２の透光性部材貼り付け工程」と
は、実施する順番が逆になってもよい。
【００５４】
以上により、図６に示すような偏光変換素子１４０を製造することができる。
【００５５】
このように、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法は、ランダムな偏光成分を有す
る光を１種類の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子１４０の製造方法であって、
上述したように、基板ブロック作成工程と、偏光分離素子作成工程と、透光性部材貼り付
け工程とを含んでいる。
【００５６】
このため、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によれば、基板ブロック１０を所
定の角度（偏光分離層１４及び反射層１８に対して４５度の角度）で切断することによっ
て切断面（偏光分離素子３０の表面）が荒れたとしても、偏光分離素子３０の光入射面及
び光射出面の両面に接着層Ｃを介して透光性基板５０，７０を貼り付けることにより、偏
光分離素子３０の切断面と透光性基板５０，７０の表面との間に接着剤が介在することと
なるため、偏光分離素子３０の切断面において光が乱反射することを防止することが可能
となる。すなわち、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によれば、偏光分離素子作
成工程で作成された偏光分離素子３０の切断面（偏光分離素子３０の表面）を鏡面研磨又
はポリッシング加工する必要がないため、従来の偏光変換素子の製造方法における研磨工
程に要する作業時間や作業の手間を軽減することが可能となり、偏光変換素子１４０を製
造する際の製造コストの低廉化を図ることが可能となる。
【００５７】
また、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によれば、透光性基板５０と偏光分離
素子３０及び透光性基板７０と偏光分離素子３０は、それぞれ接着層Ｃを介して接着され
るため、各部材間の界面における光散乱の発生が抑制され、光透過率に優れた偏光変換素
子１４０を製造することができる。
【００５８】
また、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によれば、偏光分離素子３０の光入射
面に透光性基板５０が接着され、偏光分離素子３０の光射出面に透光性基板７０が接着さ
れているため、偏光分離素子３０で発生した熱を透光性基板５０，７０に伝達することが
可能になる。その結果、偏光分離素子３０の温度上昇を抑制することが可能となる。
【００５９】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、透光性部材貼り付け工程におい
て、予め所定位置に遮光層４０を形成しておいた透光性基板５０を接着層Ｃを介して偏光
分離素子３０の光入射面に貼り付けることとしている。すなわち、比較的高価な偏光変換
素子ではなく比較的安価な透光性基板５０に遮光層４０を形成しているため、仮に遮光層
の形成に失敗したとしても、透光性基板の不良とされるだけであるため、製造コストの低
廉化をそれほど阻むこともなくなる。
【００６０】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、透光性部材貼り付け工程におい
て、予め所定位置に位相差板６０を貼り付けておいた透光性基板７０を接着層Ｃを介して
偏光分離素子３０の光射出面に貼り付けることとしている。すなわち、位相差板６０が透
光性基板７０に貼り付けられているため、位相差板６０で発生した熱を透光性基板７０に
伝達することが可能になる。その結果、位相差板６０の温度上昇を抑制でき、熱による位
相差板６０の劣化を抑制することが可能となる。
【００６１】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、透光性部材貼り付け工程で用い
る接着剤の屈折率は、第１の基板１２の屈折率及び第２の基板１６の屈折率並びに透光性
基板５０，７０の屈折率と略同一であるため、各部材間の界面における光散乱の発生がさ
らに抑制され、より光透過率に優れた偏光変換素子１４０を製造することができる。
【００６２】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、偏光分離素子作成工程において
、ワイヤーソーを用いて基板ブロック１０を切断している。
【００６３】
これにより、偏光分離素子３０の表面粗さを０．０５〜２０μｍにすることができるた
め、透光性基板５０と偏光分離素子３０との間及び透光性基板７０と偏光分離素子３０と
の間における光散乱の発生を十分に抑制することが可能となり、光透過率に優れた偏光変
換素子１４０を製造することができる。
【００６４】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、遮光層４０は、アルミニウムか
らなる。
【００６５】
これにより、遮光層４０では光が吸収されず反射されることとなるとともに、アルミニ
ウムからなる遮光層４０は熱伝導率が高いため、放熱性に優れた偏光変換素子１４０を製
造することができる。
【００６６】
実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、第１の透光性部材及び第２の透
光性部材は、白板ガラスからなる透光性基板である。
【００６７】
白板ガラスからなる透光性基板は複屈折が小さいため、透光性基板５０，７０を通過す
る光束の品質低下を抑制することができ、高品質な偏光変換素子１４０を製造することが
できる。
【００６８】
［実施形態２］
実施形態２では、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によって製造された偏光変
換素子１４０を備えるプロジェクタについて説明する。
【００６９】
まず、実施形態２に係るプロジェクタ１０００の構成について、図７を用いて説明する
。
図７は、実施形態２に係るプロジェクタ１０００を説明するために示す図である。図７
（ａ）はプロジェクタ１０００の光学系を示す図であり、図７（ｂ）は偏光変換素子１４
０を示す図である。
【００７０】
実施形態２に係るプロジェクタ１０００は、図７（ａ）に示すように、照明装置１００
と、照明装置１００からの照明光束を赤色光、緑色光及び青色光の３つの色光に分離して
被照明領域に導光する色分離導光光学系２００と、色分離導光光学系２００で分離された
３つの色光のそれぞれを画像情報に応じて変調する電気光学変調装置としての３つの液晶
装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂと、これら３つの液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４０
０Ｂによって変調された色光を合成するクロスダイクロイックプリズム５００と、クロス
ダイクロイックプリズム５００によって合成された光をスクリーンＳＣＲ等の投写面に投
写する投写光学系６００とを備えたプロジェクタである。
【００７１】
照明装置１００は、被照明領域側に照明光束を射出する光源装置１１０と、光源装置１
１０から射出される照明光束を複数の部分光束に分割するための複数の第１小レンズ１２
２を有する第１レンズアレイ１２０と、第１レンズアレイ１２０の複数の第１小レンズ１
２２に対応する複数の第２小レンズ１３２を有する第２レンズアレイ１３０と、第２レン
ズアレイ１３０からの各部分光束を偏光方向の揃った１種類の直線偏光光に変換して射出
する偏光変換素子１４０と、偏光変換素子１４０から射出される各部分光束を被照明領域
で重畳させるための重畳レンズ１５０とを有している。
【００７２】
光源装置１１０は、リフレクタとしての楕円面リフレクタ１１４と、楕円面リフレクタ
１１４の第１焦点近傍に発光中心を有する発光管１１２と、楕円面リフレクタ１１４の反
射凹面と対向する反射面を有する副鏡１１６と、楕円面リフレクタ１１４で反射される集
束光を略平行な光に変換する凹レンズ１１８とを有している。光源装置１１０は、照明光
軸１００ａｘを中心軸とする光束を射出する。
【００７３】
発光管１１２は、管球部と、管球部の両側に延びる一対の封止部とを有している。
楕円面リフレクタ１１４は、発光管１１２の一方の封止部に挿通・固着される筒状の首
状部と、発光管１１２から放射された光を第２焦点位置に向けて反射する反射凹面とを有
している。
副鏡１１６は、発光管１１２の管球部を挟んで楕円面リフレクタ１１４と対向して設け
られ、発光管１１２から放射された光のうち楕円面リフレクタ１１４に向かわない光を発
光管１１２に戻し楕円面リフレクタ１１４に入射させる。
【００７４】
凹レンズ１１８は、楕円面リフレクタ１１４の被照明領域側に配置されている。そして
、楕円面リフレクタ１１４からの光を略平行化するように構成されている。
【００７５】
第１レンズアレイ１２０は、凹レンズ１１８からの光を複数の部分光束に分割する光束
分割光学素子としての機能を有し、照明光軸１００ａｘと直交する面内にマトリクス状に
配列される複数の第１小レンズ１２２を備えた構成を有している。図示による説明は省略
するが、第１小レンズ１２２の外形形状は、液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂの画
像形成領域の外形形状に関して相似形である。
【００７６】
第２レンズアレイ１３０は、上述した第１レンズアレイ１２０により分割された複数の
部分光束を集光する光学素子であり、第１レンズアレイ１２０と同様に照明光軸１００ａ
ｘに直交する面内にマトリクス状に配列される複数の第２小レンズ１３２を備えた構成を
有している。
【００７７】
偏光変換素子１４０は、第１レンズアレイ１２０により分割された各部分光束を１種類
の偏光成分を有する光に変換する偏光変換素子である。
偏光変換素子１４０は、偏光分離素子３０と位相差板６０と遮光層４０と透光性基板５
０と透光性基板７０とを備える。
【００７８】
偏光分離素子３０は、照明光軸１００ａｘに垂直な光入射面と、当該光入射面に平行な
光射出面と、当該光入射面に対して所定の角度で傾斜して配置される複数の偏光分離層１
４及び複数の反射層１８（ともに図４（ｃ）参照。）と、偏光分離層１４と反射層１８と
の間に交互に配置される第１の基板１２及び第２の基板１６（ともに図４（ｃ）参照。）
を備える。偏光分離層１４は、入射する光のうちｓ偏光成分とｐ偏光成分のうち少なくと
も一方を透過し他方を反射する。反射層１８は、偏光分離層１４で反射された光を偏光分
離層１４を透過した光と平行な方向に反射する。
【００７９】
透光性基板５０は、所定の位置に遮光層４０が設けられ、偏光分離素子３０の光入射面
に接着層Ｃを介して接着されている（図５（ｃ）及び図５（ａ）参照。）。遮光層４０は
、偏光分離素子３０における光入射面のうち偏光変換素子１４０に入射する光のうち偏光
分離層１４に入射しない光の一部を遮光する位置に設けられる。なお、遮光層４０は省略
することも可能であるが、偏光変換素子１４０から射出される光の偏光成分を１種類の偏
光成分にするためには遮光層４０を省略しないこととして、偏光分離層１４に入射しない
光を確実に遮光するのが好ましい。
【００８０】
透光性基板７０は、所定の位置に位相差板６０が設けられ、偏光分離素子３０の光射出
面に接着層Ｃを介して接着されている（図５（ｃ）及び図５（ｂ）参照。）。位相差板６
０は、偏光分離素子３０における光射出面のうち偏光分離層１４を透過した光が射出され
る位置に設けられる。位相差板６０は、偏光分離層１４を透過した一方の偏光成分を他方
の偏光成分に変換する。なお、位相差板６０は、偏光分離素子３０における光射出面のう
ち偏光分離層１４で反射された後反射層１８で反射される光が射出される位置に設けられ
てもよい。この場合には、位相差板６０は、偏光分離層１４で反射された後反射層１８で
反射される他方の偏光成分を一方の偏光成分に変換する。なお、実施形態２に係るプロジ
ェクタ１０００における偏光変換素子１４０は、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方
法によって製造されたものである。
【００８１】
重畳レンズ１５０は、第１レンズアレイ１２０、第２レンズアレイ１３０及び偏光変換
素子１４０を経た複数の部分光束を集光して液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂの画
像形成領域近傍に重畳させるための光学素子である。なお、図７（ａ）に示す重畳レンズ
１５０は１枚のレンズで構成されているが、複数のレンズを組み合わせた複合レンズで構
成されていてもよい。
【００８２】
色分離導光光学系２００は、ダイクロイックミラー２１０，２２０と、反射ミラー２３
０，２４０，２５０と、リレーレンズ２６０，２７０とを有している。色分離導光光学系
２００は、照明装置１００から射出される照明光束を赤色光、緑色光及び青色光の３つの
色光に分離して、それぞれの色光を照明対象となる液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００
Ｂに導く機能を有している。
【００８３】
ダイクロイックミラー２１０，２２０は、基板上に所定の波長領域の光束を反射し、他
の波長領域の光束を透過する波長選択膜が形成された光学素子である。光路前段に配置さ
れるダイクロイックミラー２１０は、赤色光成分を反射し、その他の色光成分を透過する
ミラーである。光路後段に配置されるダイクロイックミラー２２０は、緑色光成分を反射
し、青色光成分を透過するミラーである。
【００８４】
ダイクロイックミラー２１０で反射された赤色光成分は、反射ミラー２３０により曲折
され、集光レンズ３００Ｒを介して赤色光用の液晶装置４００Ｒの画像形成領域に入射す
る。
【００８５】
集光レンズ３００Ｒは、重畳レンズ１５０からの各部分光束を各主光線に対して略平行
な光束に変換するために設けられている。他の液晶装置４００Ｇ，４００Ｂの光路前段に
配設される集光レンズ３００Ｇ，３００Ｂも、集光レンズ３００Ｒと同様に構成されてい
る。
【００８６】
ダイクロイックミラー２１０を通過した緑色光成分及び青色光成分のうち緑色光成分は
、ダイクロイックミラー２２０によって反射され、集光レンズ３００Ｇを通過して緑色光
用の液晶装置４００Ｇの画像形成領域に入射する。一方、青色光成分は、ダイクロイック
ミラー２２０を透過し、入射側レンズ２６０、入射側の反射ミラー２４０、リレーレンズ
２７０、射出側の反射ミラー２５０及び集光レンズ３００Ｂを通過して青色光用の液晶装
置４００Ｂの画像形成領域に入射する。入射側レンズ２６０、リレーレンズ２７０及び反
射ミラー２４０，２５０は、ダイクロイックミラー２２０を透過した青色光成分を液晶装
置４００Ｂまで導く機能を有している。
【００８７】
なお、青色光の光路にこのような入射側レンズ２６０、リレーレンズ２７０及び反射ミ
ラー２４０，２５０が設けられているのは、青色光の光路の長さが他の色光の光路の長さ
よりも長いため、光の発散等による光の利用効率の低下を防止するためである。実施形態
４に係るプロジェクタ１０００においては、青色光の光路の長さが長いのでこのような構
成とされているが、赤色光の光路の長さを長くして、入射側レンズ２６０、リレーレンズ
２７０及び反射ミラー２４０，２５０を赤色光の光路に用いる構成も考えられる。
【００８８】
液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂは、入射した照明光束を画像情報に応じて変調
するものであり、照明装置１００の照明対象となる。なお、図示を省略したが、各集光レ
ンズ３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｂと各液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂとの間に
は、それぞれ入射側偏光板が配置され、各液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂとクロ
スダイクロイックプリズム５００との間には、それぞれ射出側偏光板が配置されている。
これら入射側偏光板、液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂ及び射出側偏光板によって
、入射する各色光の光変調が行われる。
液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂは、一対の透明なガラス基板に電気光学物質で
ある液晶を密閉封入したものであり、例えば、ポリシリコンＴＦＴをスイッチング素子と
して、与えられた画像信号に応じて、入射側偏光板から射出された１種類の直線偏光の偏
光方向を変調する。
【００８９】
クロスダイクロイックプリズム５００は、射出側偏光板から射出された色光毎に変調さ
れた光学像を合成してカラー画像を形成する光学素子である。このクロスダイクロイック
プリズム５００は、４つの直角プリズムを貼り合わせた平面視略正方形状をなし、直角プ
リズム同士を貼り合わせた略Ｘ字状の界面には、誘電体多層膜が形成されている。略Ｘ字
状の一方の界面に形成された誘電体多層膜は、赤色光を反射するものであり、他方の界面
に形成された誘電体多層膜は、青色光を反射するものである。これらの誘電体多層膜によ
って赤色光及び青色光は曲折され、緑色光の進行方向と揃えられることにより、３つの色
光が合成される。
【００９０】
クロスダイクロイックプリズム５００から射出されたカラー画像は、投写光学系６００
によって拡大投写され、スクリーンＳＣＲ上で大画面画像を形成する。
【００９１】
このように、実施形態２に係るプロジェクタ１０００は、上記したように、光源装置１
１０、第１レンズアレイ１２０、第２レンズアレイ１３０、実施形態１に係る偏光変換素
子の製造方法によって製造された偏光変換素子１４０及び重畳レンズ１５０を有し、照明
光束を射出する照明装置１００と、照明装置１００からの光を画像情報に応じて変調する
液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂと、液晶装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂによ
って変調された光を投写する投写光学系６００とを備えるため、安価なプロジェクタとな
る。
【００９２】
［実施形態３］
図８は、実施形態３に係るプロジェクタ１００２を説明するために示す図である。図８
（ａ）はプロジェクタ１００２の光学系を示す図であり、図８（ｂ）は偏光変換素子１４
２を示す図である。なお、図８において、図７と同一の部材については同一の符号を付し
、詳細な説明は省略する。
【００９３】
実施形態３に係るプロジェクタ１００２は、基本的には実施形態２に係るプロジェクタ
１０００とよく似た構成を有しているが、偏光変換素子の構成が実施形態２に係るプロジ
ェクタ１０００とは異なっている。
【００９４】
すなわち、実施形態３に係る１００２においては、偏光変換素子として、図８に示すよ
うに、偏光分離素子３０の光入射面に複数の第２小レンズ１３６を有する第２レンズアレ
イ１３４が貼り付けられ、偏光分離素子３０の光射出面に重畳レンズ１５２が貼り付けら
れた偏光変換素子１４２を用いている。
【００９５】
偏光変換素子１４２は、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法と同様の方法により
製造することができる。
すなわち、実施形態１では、偏光変換素子１４０を製造するにあたり、第１の透光性部
材として白板ガラスからなる透光性基板５０を用い、第２の透光性部材として白板ガラス
からなる透光性基板７０を用いたが、上記の偏光変換素子１４２を製造する場合には、実
施形態１に係る偏光変換素子の製造方法において、透光性基板５０に代えて、複数の第２
小レンズ１３６を有する第２レンズアレイ１３４を用い、透光性基板７０に代えて、偏光
分離素子３０から射出される各部分光束を被照明領域で重畳させる重畳レンズ１５２を用
いればよい。
【００９６】
このように、実施形態３に係るプロジェクタ１００２は、実施形態２に係るプロジェク
タ１０００とは偏光変換素子の構成が異なるが、実施形態２に係るプロジェクタ１０００
の場合と同様に、安価なプロジェクタとなる。
【００９７】
［実施形態４］
図９は、実施形態４に係るプロジェクタ１００４を説明するために示す図である。図９
（ａ）はプロジェクタ１００４の光学系を示す図であり、図９（ｂ）は偏光変換素子１４
４を示す図である。なお、図９において、図７と同一の部材については同一の符号を付し
、詳細な説明は省略する。
【００９８】
実施形態４に係るプロジェクタ１００４は、基本的には実施形態２に係るプロジェクタ
１０００とよく似た構成を有しているが、偏光変換素子の構成が実施形態２に係るプロジ
ェクタ１０００とは異なっている。
【００９９】
すなわち、実施形態４に係る１００４においては、偏光変換素子として、図９に示すよ
うに、２つの偏光分離ブロック３２ａ，３２ｂを組み合わせてなる偏光分離素子３２と、
所定位置に遮光層４２が形成された白板ガラスからなる透光性基板５２と、所定位置に位
相差板６２が貼り付けられた白板ガラスからなる透光性基板７２とを有する偏光変換素子
１４４を用いている。
【０１００】
偏光変換素子１４４は、実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法と同様の方法により
製造することができる。
すなわち、実施形態１では、偏光変換素子１４０を製造するにあたり、ブロック片２０
の端部を切断することにより偏光分離素子３０を作成していたが、上記の偏光変換素子１
４４を製造する場合には、ブロック片２０の端部を切断するとともに、ブロック片２０の
所定位置で切断することにより、偏光分離ブロック３２ａ，３２ｂを作成し、偏光分離ブ
ロック３２ａ，３２ｂのいずれか一方を反転させた後、偏光分離ブロック３２ａの端部と
偏光分離ブロック３２ｂの端部を接着することにより、図９（ｂ）に示す偏光分離素子３
２を作成することができる。そして、所定位置に遮光層４２が形成された白板ガラスから
なる透光性基板５２を偏光分離素子３２の光入射面に貼り付け、所定位置に位相差板６２
が貼り付けられた白板ガラスからなる透光性基板７２を偏光分離素子３２の光射出面に貼
り付けることにより、偏光変換素子１４４を製造することができる。
【０１０１】
このように、実施形態４に係るプロジェクタ１００４は、実施形態２に係るプロジェク
タ１０００とは偏光変換素子の構成が異なるが、実施形態２に係るプロジェクタ１０００
の場合と同様に、安価なプロジェクタとなる。
【０１０２】
以上、本発明の偏光変換素子の製造方法及びプロジェクタを上記の各実施形態に基づい
て説明したが、本発明は上記の各実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も
可能である。
【０１０３】
（１）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、基板ブロック１０を作
成する方法として、基板１２の表面に偏光分離層１４を形成し、基板１６の表面に反射層
１８を形成し、偏光層１４及び反射層１８が形成された複数の基板１２，１６を接着層Ｃ
を介して交互に貼り合わせた後、接着剤を硬化させることにより基板ブロック１０を作成
する場合を例示して説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、公知の基板ブ
ロックの作成方法（例えば、特許文献１、特開平１１−２１１９１５号公報及び特開２０
０１−２１７１９号公報参照。）により、実施形態１で説明した基板ブロック１０と同様
の基板ブロックを作成することができる。
【０１０４】
（２）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、第１の透光性部材及び
第２の透光性部材として、白板ガラスからなる透光性基板５０，７０を用いたが、本発明
はこれに限定されるものではない。第１の透光性部材及び第２の透光性部材として、サフ
ァイア又は水晶からなる透光性基板を用いてもよいし、光学ガラスや他の透光性のガラス
からなる透光性基板を用いてもよい。光学ガラスとしては、石英ガラス、ＢＫ７やパイレ
ックス（登録商標）などの硼珪酸ガラス、結晶化ガラスなどを好適に用いることができる
。
【０１０５】
（３）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、第１の透光性部材及び
第２の透光性部材として、ともに白板ガラスからなる透光性基板５０，７０を用いたが、
本発明はこれに限定されるものではない。例えば、第１の透光性部材がサファイア又は水
晶からなる透光性基板であり、第２の透光性部材が光学ガラスからなる透光性基板であっ
てもよい。
【０１０６】
（４）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、偏光分離素子作成工程
において基板ブロック１０およびブロック片２０の切断においてワイヤーソーを用いてい
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、各種切断機を適宜採用できる。
【０１０７】
（５）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、遮光層４０はアルミニ
ウムであったが、本発明はこれに限定されるものではなく、光を反射する部材、例えば誘
電体多層膜などを適宜採用できる。
【０１０８】
（６）上記実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法においては、偏光分離素子作成工程
で偏光分離素子３０の光入射面及び光射出面を研磨することなく偏光分離素子を作成し、
その後の透光性部材貼り付け工程で偏光分離素子３０の光入射面に透光性基板５０を貼り
付けるとともに偏光分離素子３０の光射出面に透光性基板７０を貼り付けることとしてい
たが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、偏光分離素子３０の光入射面及
び光射出面のいずれか一方のみを研磨することにより偏光分離素子を作成し、その後の透
光性部材貼り付け工程で偏光分離素子の光入射面又は光射出面のうち研磨されなかった面
にのみ透光性基板を貼り付けることとしてもよい。この方法は、実施形態１に係る偏光変
換素子の製造方法と比較すれば製造コスト低廉化の効果は小さいが、従来の製造方法と比
較すれば偏光分離素子の光入射面と光射出面のうち他方の面を研磨する必要がなくなるた
め、製造コスト低廉化に関して一定の効果を得ることができる。
【０１０９】
同様に、上記実施形態２に係るプロジェクタに用いる偏光変換素子１４０においては、
偏光分離素子３０の光入射面及び光射出面のそれぞれに透光性基板５０又は透光性基板７
０を貼り付けることとしているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、偏
光分離素子３０の光入射面及び光射出面のうち少なくとも一方に透光性基板が貼り付けら
れていればよい。なお、透光性基板５０のみを貼り付ける場合には、位相差板６０は偏光
分離素子３０の光射出側の所定の位置に貼り付ければよい。また、透光性基板７０のみを
貼り付ける場合は、遮光層４０は偏光分離素子３０の光入射側の所定の位置に貼り付けれ
ばよい。
【０１１０】
（７）上記実施形態２〜４に係るプロジェクタ１０００〜１００４においては、リフレク
タとして、楕円面リフレクタを用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、放物
面リフレクタも好ましく用いることができる。
【０１１１】
（８）上記実施形態２〜４に係るプロジェクタ１０００〜１００４は透過型のプロジェク
タであるが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は反射型のプロジェクタに
も適用することが可能である。ここで、「透過型」とは、透過型の液晶装置等のように光
変調手段としての電気光学変調装置が光を透過するタイプであることを意味しており、「
反射型」とは、反射型の液晶装置等のように光変調手段としての電気光学変調装置が光を
反射するタイプであることを意味している。反射型のプロジェクタにこの発明を適用した
場合にも、透過型のプロジェクタと同様の効果を得ることができる。
【０１１２】
（９）上記実施形態２〜４に係るプロジェクタ１０００〜１００４において、３つの液晶
装置４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂを用いたプロジェクタを例示して説明したが、本発明
はこれに限定されるものではなく、１つ、２つ又は４つ以上の液晶装置を用いたプロジェ
クタにも適用可能である。
【０１１３】
（１０）上記実施形態２〜４に係るプロジェクタ１０００〜１００４は、電気光学変調装
置として液晶装置を用いているが、本発明はこれに限定されるものではない。電気光学変
調装置としては、一般に、画像情報に応じて入射光を変調するものであればよく、マイク
ロミラー型光変調装置などを利用してもよい。マイクロミラー型光変調装置としては、例
えば、ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）（ＴＩ社の商標）を用いることができ
る。
【０１１４】
（１１）本発明は、投写画像を観察する側から投写するフロント投写型プロジェクタに適
用する場合にも、投写画像を観察する側とは反対の側から投写するリア投写型プロジェク
タに適用する場合にも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１５】
【図１】実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法を説明するために示すフローチャート。
【図２】基板ブロック作成工程を説明するために示すフローチャート。
【図３】基板ブロック作成工程を模式的に示す図。
【図４】偏光分離素子作成工程を模式的に示す図。
【図５】透光性部材貼り付け工程を説明するために示す図。
【図６】実施形態１に係る偏光変換素子の製造方法によって製造された偏光変換素子１４０を示す図。
【図７】実施形態２に係るプロジェクタ１０００を説明するために示す図。
【図８】実施形態３に係るプロジェクタ１００２を説明するために示す図。
【図９】実施形態４に係るプロジェクタ１００４を説明するために示す図。
【符号の説明】
【０１１６】
１０…基板ブロック、１２，１６…基板、１４…偏光分離層、１８…反射層、２０…ブロ
ック片、３０，３２…偏光分離素子、３２ａ，３２ｂ…偏光分離ブロック、４０，４２…
遮光層、５０，５２，７０，７２…透光性基板、６０，６２…位相差板、１００…照明装
置、１００ａｘ，１０２ａｘ，１０４ａｘ…照明光軸、１１０…光源装置、１１２…発光
管、１１４…楕円面リフレクタ、１１６…副鏡、１１８…凹レンズ、１２０…第１レンズ
アレイ、１２２…第１小レンズ、１３０，１３４…第２レンズアレイ、１３２，１３６…
第２小レンズ、１４０，１４２，１４４…偏光変換素子、１５０，１５２…重畳レンズ、
２００…色分離導光光学系、２１０，２２０…ダイクロイックミラー、２３０，２４０，
２５０…反射ミラー、２６０…入射側レンズ、２７０…リレーレンズ、３００Ｒ，３００
Ｇ，３００Ｂ…集光レンズ、４００Ｒ，４００Ｇ，４００Ｂ…液晶装置、５００…クロス
ダイクロイックプリズム、６００…投写光学系、１０００，１００２，１００４…プロジ
ェクタ、ＳＣＲ…スクリーン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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