(57)【要約】【課題】  亜鉛の酸化物を含む導電性積層体を用いた場合に、亜鉛を含む酸化物と接する接着材層が変質しない光学フィルターを提供することである。【解決手段】  高屈折率薄膜層と銀または銀合金を含む金属薄膜層とを積層し、さらに亜鉛の酸化物を含む層を設けた導電性積層体と接着材層との間に、周期表第５族または第６族の元素を少なくとも１つ含む薄膜層を形成することにより、接着材層の変質を抑制した耐環境性における信頼性の高い光学フィルターを提供することが可能となる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基材（Ａ）上に、高屈折率薄膜層（ａ）と、銀または銀合金を含む金属薄膜層（ｂ）とが、（ａ）／（ｂ）を構成単位として１単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）が積層され、さらに該亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）上に周期表の第５族または第６族の元素を少なくとも１つ含む薄膜層（ｄ）が形成された導電性積層体と、該薄膜層（ｄ）上に該薄膜層（ｄ）と接触するように形成された接着材層（Ｂ）を有することを特徴とする光学フィルター。
【請求項２】
前記（ａ）／（ｂ）の構成単位が１単位以上、７単位以下形成されたことを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項３】
薄膜層（ｄ）がタンタルまたはニオブから選ばれた元素を少なくとも１つ含んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネル用であることを特徴とする請求項１乃至３に記載の光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学的安定性に優れる光学フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
光エレクトロニクス関連部品、機器は日々著しく進歩している。中でも画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン受像機に加えて、コンピューターモニター装置用など急速に発展してきている。商用としてだけでなく、一般家庭への普及台数も急激に増加しており、利用場所も多様化してきている。これら発展とともに、特にディスプレイの大型化、薄型化、高画質に対する市場要求は高まる一方である。
【０００３】
上記の要求を満たすディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、リアプロジェクション等、いわゆるフラットパネルディスプレイが著しい発展を遂げている。中でも、プラズマディスプレイパネルは、大型・高画質・薄型のディスプレイとして中心的存在であり、プラズマディスプレイパネル市場の成長が期待されている。
【０００４】
プラズマディスプレイパネルの発光原理上、強度の電磁波と近赤外線が外部に放出される。プラズマディスプレイパネルを使用する上で、強度の電磁波および近赤外線の遮蔽が必要不可欠である。従来、その強度な電磁波を遮蔽する為に、低抵抗で透明な、電磁波遮蔽機能を有した光学フィルターが利用されている（例えば、特許文献１参照）。光学フィルターには、透明導電性薄膜を使用した光学フィルター、電磁波遮蔽能がより高い導電性メッシュを使用した光学フィルター等が利用されている。電磁波遮蔽能力は、光学フィルターの表面抵抗率が低いほど優れる傾向がある。
【０００５】
特に透明導電性薄膜を使用した光学フィルターは、低価格であり、また、プラズマディスプレイパネルから放出される電磁波と近赤外線を同時にカットすることが可能である為、非常に好ましく利用されている。透明導電性薄膜とは、透明であるにも関わらず導電性を有する薄膜である。代表例として、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる薄膜が挙げられ、その用途は幅広い。しかし、インジウムは非常に稀少な物質であることから、価格が不安定であり、その為、インジウムに替わる材料を使用した透明導電性薄膜の開発が望まれている。
【０００６】
また、従来から酸化亜鉛を含む材料が、インジウム、ＩＴＯの代替物質として期待されており、一部で既に利用されている。しかし、酸化亜鉛は両性酸化物であるため反応性が高く、多くの物質と相互作用（反応）を起こす傾向がある。そのため、酸化亜鉛を用いた光学フィルターでは、特に高温下、及び、高温高湿環境下で酸化亜鉛層と接着材層の間で反応が起こり、光学フィルターの光線透過率の低下や、変色などが生じることがあった。
【特許文献１】特許３００４２２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明が解決しようとする課題は、亜鉛の酸化物を含む透明導電性薄膜を用いた場合に、特に接着材層の性質の変化が少ない、信頼性に優れる光学フィルターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の課題を解決する為に、本発明者らは鋭意検討した。その結果、酸化亜鉛を用いても信頼性に優れる光学フィルターを提供する為には、亜鉛の酸化物を含む透明導電性薄膜と接触して形成する部材の間に周期表第５族または第６族の元素を少なくとも１つ含む薄膜層を形成することにより、その上に形成する材料の性質の変化を抑制した光学フィルターを提供できることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
即ち、第一の発明は、
（１）少なくとも透明基材（Ａ）上に、高屈折率薄膜層（ａ）と、銀または銀合金を含む金属薄膜層（ｂ）とが、（ａ）／（ｂ）を構成単位として１単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）が積層され、さらに該亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）上に周期表の第５族または第６族の元素を少なくとも１つ含む薄膜層（ｄ）が形成された導電性積層体と、該薄膜層（ｄ）上に該薄膜層（ｄ）と接触するように形成された接着材層（Ｂ）を有することを特徴とする光学フィルターである。
（２）（ａ）／（ｂ）を構成単位として１単位以上７単位以下形成された光学フィルターであることが、好ましい態様である。
（３）薄膜層（ｄ）がタンタルまたはニオブから選ばれた元素を少なくとも１つ含んでいる光学フィルターであることが、接着材層の変質防止、光学フィルターの光学特性、電気特性の点で好ましい態様である。
【００１０】
第二の発明は、
（４）プラズマディスプレイパネル用に使用することを目的とした前記の光学フィルターである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光学フィルターは、亜鉛の酸化物を含む材料を使用した導電性積層体に貼り合わせる部材の接着材層の変質を抑制することができるので、併用する材料を制限することなく用いることが可能である光学フィルターを作製することがでる。つまり、導電性積層体が有する高い耐久性、部材の安定した価格とともに、併用する部材同士の機能の相乗効果により、各部材の機能を最大限に利用した、高耐久・高画質・生産性に優れた光学フィルターを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明における光学フィルターは、透明基材（Ａ）上に形成された亜鉛の酸化物を含む材料を使用した導電性積層体上に周期表第５族または第６族の元素を少なくとも含む薄膜層（ｄ）を有し、薄膜層（ｄ）上に接着材層（Ｂ）が形成されていることを特徴とする。
【００１３】
本発明の光学フィルターを構成する透明基材（Ａ）は、主にフィルム状及び板状であり、透明性に優れ、用途に応じた十分な機械的強度を有するものが好ましい。ここで言うところの透明性に優れるとは、使用される状態での厚さにおいて、可視光透過率が４０％以上であることを意味する（測定法：ＪＩＳ  Ｒ３１０６）。透明基材（Ａ）として例えば、高分子フィルムまたは高分子板、ガラス板が好ましく使用される。本発明においては、上記のような公知の透明基材を制限なく用いることができる。
【００１４】
本発明の光学フィルターを構成する導電性積層体は、高屈折率薄膜層（ａ）と銀または銀合金からなる金属薄膜層（ｂ）が、（ａ）／（ｂ）を構成単位として１単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）、周期表周期表の第５族または第６族の元素を少なくとも１つ含む薄膜層（ｄ）が形成された導電性積層体であることを特徴とする。
【００１５】
本発明の光学フィルターにおける高屈折率薄膜層（ａ）に好適に用いることができる材料を例示すると、インジウムとスズとの酸化物（略称：ＩＴＯ）、カドミウムとスズとの酸化物（略称：ＣＴＯ）、亜鉛とスズの酸化物、亜鉛とガリウムの酸化物、インジウムとセリウムとの酸化物、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、亜鉛とアルミニウムとの酸化物（略称：ＡＺＯ）、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化シリコン、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セシウム、酸化チタン、酸化ビスマス等である。また、透明高屈折率硫化物を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン等があげられる。高屈折率薄膜層の材料としては、中でも、ＩＴＯ、酸化チタン、酸化亜鉛、ＡＺＯが特に好ましい。ＩＴＯ及びＡＺＯは、導電性を持つ上、可視光線領域における屈折率が２．０程度と高く、さらに可視光線領域の光をほとんど吸収しないため、好ましく使用される。また、酸化亜鉛を含む材料を使用することにより、ＩＴＯを利用した導電性積層体よりも材料としてコスト面・耐久性の面から安定した光学フィルターを供給することが可能となる。高屈折率薄膜層は、少なくとも上述の導電性物質を含んでいれば、その製膜性、生産性、耐久性等の理由でその他物質との複合体であっても、または、その他物質が添加されていても構わない。
【００１６】
本発明の光学フィルターに使用する高屈折率薄膜層（ａ）は、全ての層が同じ材料である必要はなく、各高屈折率薄膜層（ａ）が全く異なる材料、または、一部が異なる材料というように、複数の材料を同時に使用しても構わない。また、高屈折率薄膜層（ａ）は後述する酸化亜鉛を含む高屈折率薄膜層（ｃ）と同じ材料でも構わない。
【００１７】
金属薄膜層（ｂ）は、銀または銀合金を含むことが好ましい。銀合金としては、安定性を高くする為に銀と金、銀と銅、又は銀とパラジウム又は銀と白金等の合金を用いても良い。高屈折率薄膜層（ａ）と同様に、銀または銀合金を含んでいれば、その他物質との複合体であっても、その他物質が添加されていても構わない。その他の物質としては、ニオブ、スズ、インジウム、ビスマス、チタンなどが挙げられるが、公知のドーパント材を使用することができる。
【００１８】
酸化亜鉛を含む高屈折率薄膜層（ｃ）は、少なくとも導電性物質である亜鉛の酸化物を含んでいれば、その他物質との複合体であっても、その他物質が添加されていても構わない。その他の物質としては、ガリウム、アルミニウム、スズ、インジウム、マグネシウムハフニウム、チタン、ジルコニウムなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００１９】
薄膜層（ｄ）に使用される元素は、周期表第５族または第６族の元素であれば、得られる光学フィルターの光学特性、電気特性に合わせて特に制限なく用いることができる。周期表第５族または第６族の中から選ばれた元素を少なくとも１つ以上含んでいれば、金属、酸化物、窒化物、または、その混合物を薄膜層（ｄ）に使用することができる。特に、タンタル、または、ニオブを含む材料が好ましい。
【００２０】
本発明の薄膜層（ｄ）に使用した周期表第５族または第６族の元素は、電子親和力が高く安定した元素であり、耐食性に優れている。その為、導電性積層体上に周期表第５族または第６族から選ばれた元素を含む層を形成することによって、反応性の高い亜鉛の酸化物の貼り合わせた部材の接着材層（Ｂ）の変化を抑制することが可能となる。その為、接着材の種類を考慮することなく、接着機能に優れた部材の中から最適な部材を選ぶことが可能となる。
【００２１】
高屈折率薄膜層（ａ）、金属薄膜層（ｂ）、亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ｃ）、薄膜層（ｄ）の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法の他、公知のあらゆる方法を採用することができる。中でも、真空成膜法、特にはスパッタリング法を好ましく利用できる。複数の方法を利用して層を形成しても構わない。
【００２２】
（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）各層の間、及び、表面に様々な機能を有する機能層を有していても構わない。機能層を例示すると、密着改善層、ガスバリア層、耐環境性向上のための層などが挙げられる。
【００２３】
導電性積層体の各層の積層数、膜厚については目的とする電気特性、光学特性に合わせて決定する。導電性積層体の積層数としては、高屈折率薄膜層（ａ）と金属薄膜層（ｂ）との積層数が多いほど導電性と光透過性のバランスの観点からは好ましいが、コスト、品質安定性を考慮すると、（ａ）／（ｂ）の構成単位が１単位以上、７単位以下であることが好ましい。（ａ）層、（ｂ）層、（ｃ）層の層数の合計は、好ましくは１１層以下、より好ましくは９層以下である。
【００２４】
薄膜層（ｄ）の膜厚は、用いる元素、酸化物などの状態によって決定するが、好ましくは１ｎｍから２０ｎｍである。
【００２５】
本発明の光学フィルターは、少なくとも透明基材（Ａ）／亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層（ａ）と銀または銀合金からなる金属薄膜層（ｂ）とからなり、薄膜層（ｄ）が形成された導電性積層体／接着材層（Ｂ）の構成をもつフィルターであれば、本発明の光学フィルターに、他の機能を有する層を複数形成してもよい、他の機能を有する層を例示すると、調色層、導電層、接着材層、衝撃緩和層、電極層、反射防止層、防眩層、防汚層、ハードコート層、アンチニュートンリング層、紫外線吸収層等が挙げられる。これらの層は複数の機能を同時に有していても構わない。他の機能を有する層は、本発明の光学フィルターに直接形成してもよいし、他の機能を有する基材を本発明の光学フィルターに積層してもよい。
【００２６】
上記の調色層としては、色素を含有した層が挙げられる。色素は、目的に応じた色調を実現できれば、染料または顔料に限定せず使用することができる。本発明においては、染料、顔料の区別なく色素と記載する。染料や顔料を具体的に例示すると、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポリフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系、スクアリリウム系、シアニン系、オキソノール系の化合物、カーボンブラックなどが挙げられる。所望の光学特性に応じて、光学特性を調整するために前記色素以外の可視光領域、近赤外線領域、紫外線領域に吸収を有する色素を併用しても構わない。また、これに制限されるものではなく、２種類以上の色素を同時に併用しても構わない。また、調色層を２層以上同時に有しても、または、調色層とみなせる層が２層以上同時に存在していても構わない。
【００２７】
調色層を形成する方法としては、あらゆる公知の技術を用いることが出来る。具体的に例示すると、色素を（１）高分子成形体等の透明基材へ含有させる、（２）透明基材表面に塗布する、（３）接着材中に含有させる方法などが挙げられる。色素を含有させる方法としては、色素が均一に分布するのであれば公知のあらゆる技術を用いて構わない。
【００２８】
（１）色素を高分子成形体に含有させる方法を具体的に例示すると、色素と混ぜ合わせるベース樹脂の種類によって加工温度等の条件が異なるが、通常は、色素をベース樹脂の粉体あるいはペレットに添加し、樹脂の溶融温度を考慮しながら１５０℃から３５０℃に加熱、溶融させ、好ましくは混練した後、成形してプラスチックシート、プラスチック粒子を作製する方法が挙げられる。成形を容易にするなどの目的で可塑剤等の添加剤を加えても構わない。
【００２９】
その他の方法としては、キャスティングによる方法がある。キャスティング方法では、樹脂または、樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂液に色素を添加、溶解させ、必要に応じて可塑剤や重合開始剤、酸化防止剤等を加え、必要とする面状態を有する金型へ流し込み、溶剤揮発、乾燥、または、重合、溶剤揮発、乾燥させることにより高分子成形体を得ることができる。色素の添加量は、色素の吸収係数、高分子成形体の厚み、目的とする透過特性によって異なるが、通常、ベース樹脂成形体の１重量ｐｐｍから２０質量パーセントである。
【００３０】
（２）の色素を高分子成形体またはガラス表面に塗布する方法を具体的に例示する。色素をバインダー樹脂および有機系溶剤に溶解させて塗料としたもの、または、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（粒径５０ｎｍから５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料としたものを、バーコーター、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、あるいは、スプレーなどの従来公知のコーティング方法により塗布、乾燥させる方法が挙げられる。色素の濃度としては、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の光学特性により異なるが、バインダー樹脂に対して、１質量ｐｐｍから３０質量パーセントである。塗料中には酸化防止剤等を加えても構わない。また、コーティング面を保護することを目的として保護層を設けても構わない。
【００３１】
（３）色素を接着材中に含有させる方法を具体的に例示する。接着材としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂などのシート状、液状の接着材が挙げられる。これら接着材に色素を添加して色素入り粘着材とする。色素の添加量としては、色素の吸収係数、接着材の厚み、目的とする光学特性により異なるが、通常、ベース接着材の１ｐｐｍから３０質量パーセントである。
【００３２】
接着材の形成方法は、直接基材に接着剤を塗布して形成する、または、離型フィルムで挟んだ接着材の片方の離型フィルムを剥離して、基材に貼り合わせる方法が挙げられる。接着材の塗布方法としては、一般にバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法などにより塗布されるが、これに限定されるものではない。接着材の厚みは、特に制限はないが、０．５μｍから５０μｍ、好ましくは、１μｍから３０μｍである。
【００３３】
上記の接着材は、フィルムとフィルム、フィルムとガラスなど各種の貼り合わせにも用いることができ、色素を含有させる方法としては好ましい形態の１つである。
【００３４】
色素は耐光性に乏しいものもあり、光学フィルターとして使用した場合、装置自体の光や外光の紫外線、可視光線による変質が問題になることがある。この場合、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過させない部材（層）や、色素の変質を引き起こす波長の光を吸収する色素を含む部材や透過させない部材を併用することによって、色素の変質を低減することができる。これらの部材は、色素を含む層よりも紫外線や可視光線が入射する側に使用すると良い。この他にも公知の光遮断技術を用いることができる。
【００３５】
光に加えて熱や湿度、これらの複合した環境においても同様である。色素が変質すると光学フィルター自体の透過特性が変化し、色調が変化することがある。また、近赤外線カット能が変化することもある。そのため、耐高温性、耐湿熱性を有した色素はより好ましく用いることができる。さらに、色素を利用する場合、媒体や塗膜中に分散させる為に、溶媒への溶解性や分散性も重要となる為、溶解性、分散性が良い色素は好ましく用いることができる。
【００３６】
本発明の光学フィルターはプラズマディスプレイパネル用に好ましく使用できる。プラズマディスプレイパネルに使用する時の好ましい形態を例示すると、
（ｉ）光学フィルターを構成する少なくとも１つ以上の部材に色素を含有する構成
（ｉｉ）調色層を含む構成
が挙げられる。但し、プラズマディスプレイパネル用に用いられる本発明の光学フィルターには、従来公知のあらゆる手法を適用することができ、上記（ｉ）、（ｉｉ）に限定されるものではない。
【００３７】
本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターを構成する部材に付与される機能としては、具体的にハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、紫外線カット性、近赤外線カット能、色調調整機能、アンチニュートンリング層、後述する導電性メッシュの平坦化処理機能など公知の性能のうち、少なくとも１つ以上の機能が挙げられるが、付与する機能はこれに限定されるものではない。光学フィルターに付与する機能や構成は目的に合わせて適宜設計する。特に、紫外線カット能を有する層は光学フィルターのディスプレイに近い側ではなく、人側に配置することが好ましい。また、上記機能を有するものであれば、塗布膜、フィルム、接着材層、及び、その複合体等の任意の形態をとることができ、形成方法としては、特に限定されるものではなく、公知のあらゆる技術を用いることができる。また、機能を有する層は、２層以上形成してもよく、複数の機能を１つの層が有しても良い。また、各層の貼り合わせに使用する接着材層には、ディスプレイとしての色調を調整する機能をはじめとする上記の機能を付与しても構わない。
【００３８】
本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターは、少なくとも電磁波シールド機能および近赤外線遮蔽機能を有していることが好ましい。これは、プラズマディスプレイパネル等の表示装置は、その構造や動作原理上、漏洩電磁波や、近赤外線を発生することがあり、これらの遮蔽が必要なためである。
【００３９】
通常、電磁波を遮蔽するためには、ディスプレイの表面を導電性の高い導電物で覆うことが多い。上記導電物が電磁波を吸収し、これを電荷として逃がすことで電磁波シールド能が発現する。プラズマディスプレイパネル用光学フィルターに導電層を設けることで、電磁波を遮蔽することができる。
【００４０】
プラズマディスプレイパネルの電磁波遮蔽に必要な導電性は、要求される電磁波規格やプラズマディスプレイパネルからの放射強度にもよるが、導電層の表面抵抗率が１０Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは３Ω／□である。民生用途等で要求される厳しい電磁波規格の場合は、１．５Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは、１．０Ω／□以下である。
【００４１】
プラズマディスプレイパネルから発生する近赤外線を遮蔽するためには、光学フィルターの透過率を、波長８００〜１０００ｎｍの近赤外線波長領域において、２０％以下にすることが好ましい。
【００４２】
本発明の導電性積層体は、導電性メッシュ層よりも低コストな上、金属薄膜層を構成する金属の自由電子によって近赤外線を反射する特性を有するため、電磁波シールド機能と同時に近赤外線遮断機能を併せ持つという特徴がある。本発明においては、導電層として導電性積層体を好ましく使用した。  
【００４３】
以上のことから、本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターをプラズマディスプレイパネルの前面に配設することにより、電磁波遮蔽、近赤外線カットの他、ディスプレイとしてより優れた画像を提供することが可能となる。
【実施例】
【００４４】
本発明を実施例により具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定されるものではない。
［実施例１］
透明基材としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルム、厚さ：７５μｍ］を使用し、透明基材の一方の面上に直流マグネトロンスパッタリング法を使用して、亜鉛および錫の酸化物層、銀層、薄膜層（ｄ）としてタンタルを、ＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］／タンタル［膜厚：５ｎｍ］の順に積層して導電性積層体を形成した。亜鉛および錫の酸化物層の形成には、ターゲットとしてＺｎＳｎターゲット［ベカルト社製、Ｚｎ：Ｓｎ＝９５：５（重量比）］、スパッタリングガスとして、アルゴン・酸素ガスの混合ガス［全圧：２６６ｍＰａ、酸素分圧：１３３ｍＰａ］を使用した。銀層の形成には、ターゲットとして銀を使用し、スパッタリングガスとしてアルゴンガス［全圧：２６６ｍＰａ］を使用した。薄膜層（ｄ）にはタンタルターゲット［株式会社高純度化学研究所製］、スパッタリングガスとしてアルゴンガス［全圧：２６６ｍＰａ］を使用した。上記により形成した導電性積層体の薄膜層（ｄ）の上に、ポリエチレンフィルム［三井化学株式会社製、厚さ：５０μｍ］上に接着材層［厚さ：３μｍ］を有する保護フィルムを貼り合わせた。
厚さ３ｍｍの熱処理ガラスの一方の面上に、透明なアクリル系接着材を介して保護フィルムを貼り合わせた透明基材および導電性積層体からなるフィルムを、透明基材側が接着材となるように貼り合わせた。  
さらに、導電性積層体に貼り合わせた保護フィルムを剥離して、透明な接着材が付帯した反射防止フィルム[日本油脂株式会社製、厚さ：１０５μｍ]を導電性積層体上に貼り合わせて光学フィルターを作製した。
【００４５】
［実施例２］
積層構造をＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］／タンタル［膜厚：５ｎｍ］となるように導電性積層体を形成したこと以外は実施例１と同様に光学フィルターを作製した。
【００４６】
［実施例３］
薄膜層（ｄ）としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット［株式会社ニラコ製］を使用したこと以外は、実施例１と同様に光学フィルターを作製した。
【００４７】
［実施例４］
薄膜層（ｄ）としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット［株式会社ニラコ製］を使用したこと以外は、実施例２と同様に光学フィルターを作製した。
【００４８】
［実施例５］
透明基材としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルム、厚さ：７５μｍ］を使用し、透明基材の一方の面上に直流マグネトロンスパッタリング法を使用して、亜鉛および錫の酸化物層、銀層、薄膜層（ｄ）としてタンタルを、ＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］／酸化タンタル［膜厚：１０ｎｍ］の順に積層して導電性積層体を形成した。亜鉛および錫の酸化物層の形成には、ターゲットとしてＺｎＳｎターゲット［ベカルト社製、Ｚｎ：Ｓｎ＝９５：５（重量比）］、スパッタリングガスとして、アルゴン・酸素ガスの混合ガス［全圧：２６６ｍＰａ、酸素分圧：１３３ｍＰａ］を使用した。銀層の形成には、ターゲットとして銀を使用し、スパッタリングガスとしてアルゴンガス［全圧：２６６ｍＰａ］を使用した。薄膜層（ｄ）にはタンタルターゲット［株式会社高純度化学研究所製］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素ガスの混合ガス［全圧：２６６ｍＰａ、酸素分圧：１３３ｍＰａ］を使用した。上記により形成した導電性積層体の上に、ポリエチレンフィルム［三井化学株式会社製、厚さ：５０μｍ］上に接着材層［厚さ：３μｍ］を有する保護フィルムを貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
【００４９】
［実施例６］
積層構造をＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］／酸化タンタル［膜厚：１０ｎｍ］となるように導電性積層体を形成したこと以外は実施例５と同様に作製した。
【００５０】
［実施例７］
薄膜層（ｄ）としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット［株式会社ニラコ製］を使用し、酸化タンタルの代わりに酸化ニオブを形成したこと以外は実施例５と同様に作製した。
【００５１】
［実施例８］
薄膜層（ｄ）としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット［株式会社ニラコ製］を使用し、酸化タンタルの代わりに酸化ニオブを形成したこと以外は実施例６と同様に作製した。
【００５２】
［比較例１］
構成を、ＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：９０ｎｍ］／銀層［膜厚：１０ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３５ｎｍ］とし、薄膜層（ｄ）を形成しなかったこと以外は実施例１と同様に作製した。
【００５３】
［比較例２］
構成を、ＰＥＴ／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：１５ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：８０ｎｍ］／銀層［膜厚：８ｎｍ］／亜鉛および錫の酸化物層［膜厚：３０ｎｍ］とし、薄膜層（ｄ）を形成しなかったこと以外は実施例２と同様に作製した。
作製した光学フィルターに対して、恒温恒湿槽［楠本化成株式会社製、ＦＸ２２００］を用いて６０℃・９０％ＲＨの高温高湿の環境試験を実施した。作製した光学フィルターを該条件下で２５０時間保持し、２５０時間後の光学フィルターの光線透過率を分光光度計で測定し［測定法：ＪＩＳ  Ｒ３１０６］（測定機器：株式会社日立製作所製分光光度計、Ｕ−３４００）、試験前の波長４００ｎｍ、６５０ｎｍにおける光線透過率と比較した。環境試験前後で、光線透過率の変化ができるだけ少ないことが、光学フィルターとして使用する上で好ましい。
【００５４】
環境試験前後の光線透過率の変化量絶対値を表１に示す。なお、ここでいうところの光線透過率の変化量とは、（各波長位置における環境試験後の光線透過率［％］）と（各波長位置における環境試験前の光線透過率［％］）の差のことである。その結果、薄膜層（ｄ）を形成した本発明の光学フィルターは、光線透過率の変化量絶対値が薄膜層（ｄ）を持たない光学フィルターよりも小さく、変質を抑制していた。
【００５５】
【表１】
2007286165.tif 000002
【００５６】
［実施例９］
色素を含有した接着材を使用して反射防止（ＡＲ）フィルムを導電性積層体上に貼り合わせた以外は、実施例６と同様に作製した。
色素を含有した接着材は、酢酸エチルとトルエンの混合溶剤（比率５０：５０質量％）に、テトラアザポルフィリン化合物、アントラキノン化合物、キノフタロン化合物、カーボンブラックを分散・溶解させ、乾燥したとき、樹脂中の色素濃度がそれぞれ、１０００（ｗｔ）ｐｐｍ、８００（ｗｔ）ｐｐｍ、３００（ｗｔ）ｐｐｍ、４０００（ｗｔ）ｐｐｍになるように、アクリル系粘着材用の色素入り希釈剤を作製した。次に、アクリル系粘着剤（ブチルアクリレートおよびアクリル酸の共重合体（商品名、ＤＢボンド、ダイアボンド工業株式会社製））と色素入り希釈剤を８０：２０質量％で混合し、バーコーター法によりポリエチレンテレフタレートフィルムおよびシリコーン離型層からなる離型フィルムの離型層上に連続的に塗工し、乾燥させた。その後、別の離型フィルムを塗工面に貼り合わせ、異なる離型力を有した離型フィルムを両面に有する膜厚２５μｍの色素入り粘着材を作製し、上記ＡＲフィルムの貼り合わせに使用した。貼り合わせる際は、片面の離型フィルムを剥離して導電性積層体上に貼り合わせた後、もう片方の離型フィルムを剥離してＡＲフィルムを貼り合わせ、プラズマディスプレイパネル用の光学フィルターを作製した。
作製した導電性積層体の表面抵抗率は１．５Ω／□であり、プラズマディスプレイパネル用光学フィルターとしての近赤外線波長領域における光線透過率は、８００〜１０００ｎｍにわたって２０％以下であり、特に８２０ｎｍ、８５０ｎｍ、９５０ｎｍにおける光線透過率はそれぞれ、３．８％、２．４％、０．７％であった。表面抵抗率は、渦電流式で測定した（測定使用機器：ＨＥＨＩＧＨＴＯＮ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ，Ｉｎｃ．、Ｃｏｎｔａｃｔｌｅｓｓ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）。
また、環境試験後も透過率に大きな変化は見受けられず、本発明の光学フィルターは、耐久性・特性面からもプラズマディスプレイパネル用として十分に適した特性を有していることを確認した。
【産業上の利用可能性】
【００５７】
本発明は、導電性を有する薄膜が用いられるあらゆる光学部材に用いることができる。特定の元素を含む薄膜層を、亜鉛の酸化物を含む導電性積層体の表面に形成することにより、該導電性積層体上に設ける接着材層の変質を防ぐことにより、導電性積層体がもつ機能と貼り合わせる部材が持つ機能を活かした、耐久性・特性面で優れた光学フィルターを提供することが可能となり、産業上の利用価値は高い。