(57)【要約】【課題】  ４０５ｎｍ付近の波長で高い屈折率が得られる記録層を有する光記録媒体を提供すること。【解決手段】  光記録媒体１０は、一対の基板２，８間に記録層４が設けられた構成を有し、基板２と記録層４との間には反射層３が形成され、基板８と記録層４との間には、誘電体層６が形成されている。この記録層４は、モノメチン鎖の一端に炭素環又は複素環が結合され、他端にはベンゼン環が結合された構造を有し、更に、このベンゼン環に電子吸引性基が置換された構造を有する色素化合物を含有している。【選択図】  図１
2007083612.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、該一対の基板間に設けられた記録層と、を備え、
前記記録層は、下記一般式（１）で表される化合物を含む、ことを特徴とする光記録媒体。
【化１】
2007083612.tif 000009
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に一価の有機基を示し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５のうちの少なくとも一つは電子吸引性を有する基であり、Ｒ１６は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アリール基、アシル基、スルホンアミド基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアゾメチン基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基又はアルケニル基を示し、Ｒ１７は、置換基を有していてもよい炭素環又は置換基を有していてもよい複素環を構成する原子群を示す。］
【請求項２】
前記Ｒ１７は、下記一般式（２Ａ）〜（２Ｏ）で表される環構造のうちのいずれか一つを構成する原子群であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【化２】
2007083612.tif 000010
［式（２Ａ）〜（２Ｏ）中、Ｃ２１は前記式（１）におけるＣ２１であり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アリール基、アシル基、スルホンアミド基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアゾメチン基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基又はアルケニル基を示し、これらは更に置換基を有していてもよい。］
【請求項３】
前記一般式（２Ａ）〜（２Ｏ）は、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３又はＲ２４として、炭素数１〜６の直鎖アルキル基、炭素数１〜６の分岐アルキル基、アルコキシ基、アリル基、アリール基、ベンジル基又はアルキルアミノ基を有することを特徴とする請求項２記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記Ｒ１３は、電子吸引性を有する基である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記電子吸引性を有する基は、ニトロ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体は、記録層にレーザー等を照射し、記録層の形状変化、磁区変化、相変化等により情報を記録するものである。このような光記録媒体としては、基板上に色素材料を含む記録層が形成された円盤状の光記録媒体が知られている。色素材料を含む記録層を備える光記録媒体は、高感度の記録を行うことが可能であり、ＣＤ−ＲやＤＶＤ±Ｒとして広く普及している。
【０００３】
近年では、更なる高密度記録を実現するために、記録再生光の短波長化が試みられており、具体的には、青色半導体レーザー光（波長４０５ｎｍ）の使用が検討されている。しかし、従来のＣＤやＤＶＤに用いられてきた色素材料は、上記の波長域の光では情報の記録に必要な屈折率変化を生じ得ないため、そのままでは適用が困難である。そこで、上記の波長域の記録再生光に合わせた色素材料として、下記特許文献１又は２に示すような材料が開発されている。
【特許文献１】特開２００１−０７１６３９号公報
【特許文献２】特開２００３−１０３９３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来技術に開示されたような短波長化に対応した色素材料を記録層に用いた光記録媒体であっても、４０５ｎｍ付近の波長域の記録再生光を用いた場合に得られる信号強度が未だ不十分であった。
【０００５】
本発明者らが検討を行ったところ、上述した問題は、上記従来の色素材料は、４０５ｎｍ付近で高い吸収特性を示すものの、屈折率が長波長側にシフトしてしまい、これによって、十分な反射が得られ難くなっていることに起因していることを見出した。
【０００６】
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、４０５ｎｍ付近の波長で高い屈折率が得られる記録層を有する光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明者らが鋭意研究を行った結果、ベンゼン環とその他の環構造とがモノメチン鎖によって結合された構造を有する化合物において、モノメチン鎖に結合したベンゼン環の置換基の特性を変化させることで、当該化合物の屈折率のピークを好適に調整できるという新たな知見を見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の光記録媒体は、一対の基板と、この一対の基板間に設けられた記録層とを備え、記録層は、下記一般式（１）で表される色素化合物を含むことを特徴とする。
【０００９】
【化１】
2007083612.tif 000003
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に一価の有機基を示し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５のうちの少なくとも一つは電子吸引性を有する基であり、Ｒ１６は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アリール基、アシル基、スルホンアミド基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアゾメチン基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基又はアルケニル基を示し、Ｒ１７は、置換基を有していてもよい炭素環又は置換基を有していてもよい複素環を構成する原子群を示す。］
【００１０】
上記一般式（１）で表される化合物は、光記録媒体の記録層に適用し得る色素化合物である。そして、かかる化合物は、モノメチン鎖を含む骨格を有することから、４０５ｎｍ程度の短波長域での吸収特性を有しており、しかも、モノメチン鎖に結合したベンゼン環に電子吸引性の基が導入されていることから、屈折率のピークが十分に短波長化され、４０５ｎｍ付近の波長において高い屈折率を有するものとなる。このため、このような化合物を含む記録層によれば、４０５ｎｍ付近の記録再生光を用いる場合に優れた信号強度が得られるようになる。
【００１１】
上記本発明の光記録媒体において、Ｒ１７は、下記一般式（２Ａ）〜（２Ｏ）で表される環構造のうちのいずれか一つを構成する原子群であると好ましい。これにより、４０５ｎｍ付近においてより高い屈折率のピークを得やすくなる。
【化２】
2007083612.tif 000004
［式（２Ａ）〜（２Ｏ）中、Ｃ２１は式（１）におけるＣ２１であり、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アリール基、アシル基、スルホンアミド基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアゾメチン基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基又はアルケニル基を示し、これらは更に置換基を有していてもよい。］
【００１２】
さらに、上記一般式（２Ａ）〜（２Ｏ）で表される環構造は、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、又はＲ２４として、炭素数１〜６の直鎖アルキル基、炭素数１〜６の分岐アルキル基、アルコキシ基、アリル基、アリール基、ベンジル基又はアルキルアミノ基を有するとより好ましい。このように、モノメチン鎖に結合した炭素環又は複素環構造が電子供与性を有する基を有することで、上記一般式（１）で表される化合物は、上述した電子吸引性を有する基との相乗効果によって、屈折率のピークを更に短波長側にシフトさせることが可能となる。
【００１３】
また、上記一般式（１）で表される化合物においては、少なくともＲ１３で表される基が電子吸引性を有する基であると好ましい。これにより、当該化合物の屈折率のピークを更に短波長化させ易くなる。
【００１４】
さらに、上記電子吸引性を有する基としては、具体的には、ニトロ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基が好ましい。これらの基は、上記一般式（１）で表される化合物において確実に電子吸引性を発揮することができることから、上記一般式（１）の化合物は、更に４０５ｎｍ付近に屈折率のピークを有するものとなり易くなる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、４０５ｎｍ付近の波長で高い屈折率が得られる記録層を有する光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について説明する。
【００１７】
図１は、好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。図１に示す光記録媒体１０は、一対の基板２，８間に記録層４が設けられた構成を有している。また、基板２と記録層４との間には反射層３が、基板８と記録層４との間には誘電体層６がそれぞれ更に設けられている。さらに、基板２における記録層４と対向している面には、溝状のグルーブ１２が形成されている。かかる構造の光記録媒体１０は、基板８側から記録層４に記録又は再生光が照射されることによって、記録層４への情報の記録又は記録層４からの情報の読み出しが行われる。以下、まず、光記録媒体１０の各構成について説明する。
【００１８】
基板２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．３〜１．６ｍｍ程度のディスク状の形状を有するものである。この基板２の記録層４側の面には、上述の如く溝状のグルーブ１２が形成されており、グルーブ１２が形成されていない部分がランド１４となっている。グルーブ１２は、基板２を平面視してスパイラル状に形成されている。
【００１９】
基板２としては、必ずしも透明の材料から構成される必要はなく、樹脂、ガラス、セラミックス等からなるものを適用できる。特に、基板２としては、樹脂からなるものが好ましく、樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂などが好ましい。
【００２０】
グルーブ１２は、その深さ（ランド１４面とグルーブ１２面との高さの差）が、４０〜１５０ｎｍであると好ましく、６０〜１２０ｎｍであるとより好ましい。また、グルーブ１２の幅（グルーブ１２の深さの１／２の位置の幅）は、好ましくは１１０〜２１０ｎｍであり、より好ましくは１３０〜１９０ｎｍである。さらに、隣り合うグルーブ１２間の間隔（グルーブピッチ；グルーブ１２の幅方向の中心間の距離）は、２９０〜３５０ｎｍであると好ましく、３１０〜３３０ｎｍであるとより好ましい。これらにより、クロストークを低減することが可能となる。
【００２１】
反射層３は、高反射率の金属又は合金から形成されることが好ましい。この反射層３は、具体的には、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）及びこれらの少なくとも１種を含む合金から形成されることが好ましい。特に、Ａｇ又はＡｇを含む合金、例えば、ＡＩＳ（Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｎ）が、適切な反射率が得られるため好ましい。また、反射率を適切な数値とするために、反射層３の厚さは０〜２００ｎｍであると好ましい。なお、基板２と記録層４との組合せのみで充分な反射率が得られる場合は、必ずしも反射層３を設けなくてもよい。
【００２２】
記録層４は、上記一般式（１）で表される化合物（色素化合物）を含む色素材料からなる層である。かかる色素化合物は、上記一般式（１）で表されるように、モノメチン鎖の両側に環状の基を有しており、モノメチン鎖の２重結合側には炭素環又は複素環が、単結合側にはベンゼン環が結合した構造を有している。なお、当該化合物の幾何異性は特に限定されない。
【００２３】
上記一般式（１）におけるＲ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４及びＲ１５（以下、「Ｒ１１〜Ｒ１５」のように表記する）は、それぞれ独立に一価の有機基であり、これらのうちの少なくとも一つは電子吸引性を有する基（以下、「電子吸引基」という）である。ここで、「電子吸引基」とは、上記一般式（１）で表される構造において電子吸引性を発現し得る基であり、この「電子吸引性」には、当該官能基による誘起効果や共鳴効果等の全ての要因に起因するものが含まれる。
【００２４】
Ｒ１１〜Ｒ１５としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホン酸基、アリール基、アシル基、スルホンアミド基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、チオシアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、アルキルアゾメチン基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキル基又はアルケニル基が例示でき、これらは更に置換基を有していてもよい。
【００２５】
電子吸引基としては、上述した基のうちの電子吸引性を発現し得る基が選択されることが好ましい。具体的には、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、シアノ基が挙げられ、なかでも、ニトロ基（−ＮＯ２）、トリフルオロメチル基（−ＣＦ３）又はシアノ基（−ＣＮ）が、上記一般式（１）で表される構造において確実に電子吸引性を発現できることから好ましい。
【００２６】
電子吸引基は、Ｒ１１〜Ｒ１５のうちの１つ又は２つであると好ましく、１つであるとより好ましい。電子吸引基が１つである場合は、Ｒ１１、Ｒ１３又はＲ１５が電子吸引基であると好ましく、Ｒ１３が電子吸引基であるとより好ましい。つまり、電子吸引基は、それが結合しているベンゼン環において、モノメチン鎖への結合部位に対して好ましくはオルト位又はパラ位、より好ましくはパラ位に置換している。また、電子吸引基が２つである場合は、少なくともＲ１３が電子吸引基（上記パラ位）であることが好ましく、この場合、他の電子吸引基の置換位置は特に限定されない。これらにより、電位吸引基による電子吸引が効果的に生じ、色素化合物による屈折率のピークが短波長化して４０５ｎｍ付近にシフトし易くなる。
【００２７】
また、色素化合物の屈折率のピークをより短波長化する観点からは、Ｒ１１〜Ｒ１５で表される基のうち、電子吸引基以外の基は水素原子であると好ましい。つまり、モノメチン鎖に結合したベンゼン環は、電子吸引基以外の置換基を有していないことが好ましい。
【００２８】
Ｒ１６は、上述した各種の基であり、更に置換基を有していてもよい。特に、Ｒ１６としては、水素原子が好ましい。
【００２９】
Ｒ１７は、モノメチン鎖に結合した炭素原子及びこれに隣接するカルボニル炭素とともに、置換基を有していてもよい炭素環又は置換基を有していてもよい複素環を構成する原子群である。例えば、Ｒ１７としては、上記一般式（２Ａ）〜（２Ｏ）で表される環構造を構成する原子群が好ましい。なかでも、上記化学式（２Ａ）、（２Ｂ）、（２Ｉ）又は（２Ｌ）で表されるものが、屈折率の短波長化の観点から好ましい。
【００３０】
また、上述した複素環又は炭素環は、電子供与性を有する基（以下、「電子供与基」という）を有しているとより好ましい。炭素環又は複素環が電子供与基を有することで、上述した電子吸引基との相乗効果によって、色素化合物の屈折率のピークがより短波長化して４０５ｎｍ付近となり易くなる。電子供与基としては、炭素数１〜６の直鎖又は分岐アルキル基、アルコキシ基、アリル基、アリール基、ベンジル基、アルキルアミノ基等が好適である。上記化学式（２Ａ）〜（２Ｏ）で表される炭素環又は複素環は、これらの電子供与基を、Ｒ２１〜Ｒ２４で表される基として有することができる。
【００３１】
また、記録層４を構成する色素材料は、上述した色素化合物に加え、所望の特性に応じて他の成分をさらに含んでいてもよい。このような他の成分としては、モノメチンシアニン、ポルフィリン、フタロシアニン、クマリン、オキソノールや、その他、光記録媒体の記録材料として用いられる金属錯体等を、所望の特性に応じて更に含んでいてもよい。これらの成分の配合量は、記録層４の４００ｎｍ付近における屈折率が不都合なほどに低下し過ぎない程度とすることが望ましい。良好な特性を有する記録層４を得る観点からは、記録層４中、上記一般式（１）で表される化合物は１０質量％以上含まれていることが好ましく、２０質量％以上含まれていることがより好ましい。
【００３２】
誘電体層６は、記録層４の上に設けられ、記録層４を物理的及び／又は化学的に保護するほか、記録層４の光学特性を調整する干渉層としての機能を有している。この誘電体層６は、記録層４に対する光入射側に位置するため、記録再生光に対して透明な材料から構成される。誘電体層６の好適な厚さは１〜１００ｎｍであり、２〜１０ｎｍであるとより好ましい。
【００３３】
このような誘電体層６の構成材料としては、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｖ、Ｃｕ、ＦｅやＭｇ等の金属の酸化物、窒化物、硫化物又はフッ化物あるいはこれらの複合物が好ましい。特に、良好な屈折率及び消衰係数を有する光記録媒体１０を得る観点からは、誘電体層６の構成材料は、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＡＩＮ、Ｔａ２Ｏ３等が好ましい。
【００３４】
基板８は、光記録媒体１０において記録再生光が入射される側に設けられた基板である。したがって、基板８は、記録再生光の吸収や複屈折が小さく、記録再生光に対して透明な材料から構成される。このような基板８の構成材料としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、電子線硬化樹脂等の活性光線の照射による硬化が可能な活性光線硬化性樹脂が好ましい。また、記録再生光に対して透明であれば、基板８としては、上述した基板２と同様の材料からなるものも適用できる。
【００３５】
次に、上記の構成を有する光記録媒体１０の好適な製造方法について説明する。
【００３６】
光記録媒体１０の製造においては、まず、上述した構造を有する基板２を準備する。グルーブ１２を有する基板２は、上述したような基板２を構成するための樹脂を用いて射出成形等を行うことにより形成可能である。また、平板状の基板２を製造した後、その上に２Ｐ法等によりグルーブ１２となる凹部を有する樹脂層を形成し、基板２とかかる樹脂層との複合基板とすることによって得ることもできる。
【００３７】
次に、この基板２におけるグルーブ１２が設けられた面上に、反射層３を形成する。反射層３は、例えば、上述した反射層３の構成材料やそれらの合金、酸化物を用い、蒸着法、スパッタリング法等の気相成長法を行うことにより形成することができる。
【００３８】
それから、基板２上に形成された反射層３上に、上記の色素材料を含む塗布液を塗布した後、必要に応じて乾燥することにより溶媒を除去して記録層４を形成する。ここで、色素材料を含む塗布液は、上述した錯化合物や必要に応じてその他の成分を、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、フッ素系アルコール、ハロゲン化アルキル系等の溶媒に溶解することで調製することができる。また、塗布液は、必要に応じて、バインダー、分散剤、安定剤などを更に含有していてもよい。
【００３９】
また、塗布液の塗布は、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等により実施可能である。なかでも、平易に均一な厚さの塗布を行うことができるスピンコート法が好ましい。こうして形成された記録層４は、上述した塗布液から溶媒が除去された構成を有し、主として錯化合物及び適宜添加したその他の成分とから構成される層となる。なお、記録層４には、塗布液に用いた溶媒が特性に大きく影響しない程度に残存していてもよい。
【００４０】
次に、記録層４上に、イオンビームスパッタリング法、リアクティブスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法等により上述の誘電層６の構成材料を堆積させ、誘電層６を形成する。そして、誘電層６上に、活性光線硬化型樹脂をスピンコート法等により塗布した後、活性光線を照射して硬化させ、基板８を形成することで、光記録媒体１０を得ることができる。なお、基板８として基板２と同様の材料からなるものを適用する場合は、これらの材料をシート状又は板状に成形したものを、接着剤等を使用して誘電層６に貼り付けることにより基板８を形成してもよい。
【００４１】
上述のように構成された光記録媒体１０においては、基板８側から４０５ｎｍ付近の波長を有する記録光（レーザー等）を照射し、記録層４の記録光が照射された部位を化学的又は物理的に変化させてピットを形成することにより、所定の情報が記録される。そして、このようにしてピットが形成された記録層４に、記録光と同程度の波長の再生光を照射して、反射された光を検出する。この際、ピット形成部位とその他の部位とで屈折率が異なるため、この屈折率の差に基づいて記録層４に記録された情報を読み出すことができる。
【００４２】
このような光記録媒体１０は、記録層４に、上記一般式（１）で表される色素化合物を含むものである。この色素化合物は、上述した構造を有することから４０５ｎｍ付近で吸収特性を示すとともに、当該波長域に屈折率のピークを有しており、高い屈折率が得られやすい。したがって、このような化合物を含む記録層４を備える光記録媒体１０は、４０５ｎｍ付近の記録再生光を用いた場合に高い信号強度等が得られ、優れた記録再生特性を発揮し得る。
【００４３】
なお、本発明における光記録媒体は、上述した実施形態のものに限定されず、種々の態様をとり得るものである。すなわち、例えば、上述した実施形態では、光記録媒体は、一層の記録層のみを有していたが、これに限定されず、例えば、上記構成の光記録媒体１０を、その基板２側で張り合わせた両面光記録媒体としてもよく、基板の一側に複数の記録層を形成した多層光記録媒体としてもよい。
【００４４】
また、光記録媒体は、必ずしも上述したような誘電層を有している必要はない。例えば、光記録媒体は、上述した実施形態における基板８上に、直接記録層４を形成し、その上に更に反射層３及び基板２を設けた構成とすることもできる。この場合、基板８側から記録再生光を照射することにより、記録層４への情報の記録、及び、記録層４からの情報の読み出しを行うことができる。
【００４５】
さらに、光記録媒体は、誘電体層及び反射層の両方を有しないものであってもよく、一対の基板間に記録層のみが形成された形態であってもよい。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［光記録媒体の製造］
【００４７】
（実施例１〜２２、比較例１〜２）
まず、下記化学式（３Ａ）〜（３Ｌ）で表される色素化合物、下記化学式（４Ａ）〜（４Ｊ）で表される色素化合物、及び、下記化学式（５Ａ）〜（５Ｂ）で表される色素化合物を、それぞれ溶媒であるテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）に溶解して塗布液を調製した。また、グルーブが形成されたポリカーボネート基板を準備し、このグルーブ面上に、スパッタリング法によりＡＩＳからなる反射層を形成した。
【００４８】
次いで、基板上に形成された反射層上に、上記塗布液をスピンコート法により塗布した後、乾燥させて、基板上に記録層を形成した。その後、記録層上にスパッタリング法によりＳｉＯ２−ＺｎＳからなる誘電層を形成した後、この誘電層上に紫外線硬化性樹脂を塗布し、紫外線の照射により硬化させて基板を形成した。これにより、図１に示す構造を有する光記録媒体を得た。
【００４９】
なお、化学式（３Ａ）〜（３Ｌ）の色素化合物を用いた場合が実施例１〜１２に、化学式（４Ａ）〜（４Ｊ）で表される色素化合物を用いた場合が実施例１３〜２２に、化学式（５Ａ）〜（５Ｂ）で表される色素化合物を用いた場合が比較例１〜２に、それぞれ該当する。
【００５０】
【化３】
2007083612.tif 000005
【００５１】
【化４】
2007083612.tif 000006
【００５２】
【化５】
2007083612.tif 000007
［特性評価］
【００５３】
（色素化合物の４０５ｎｍにおける屈折率及び消衰係数の測定）
上記の実施例１〜２２及び比較例１〜２で用いた色素化合物について、ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−ＯＰＴＩＫ社製、ＥＴＡ−ＲＴにより吸収スペクトルを測定し、４０５ｎｍにおける屈折率（ｎ）及び消衰係数（ｋ）を測定した。各色素化合物で得られた結果をまとめて表１に示す。
【００５４】
（光記録媒体の未記録反射率の測定）
まず、実施例１〜２２及び比較例１〜２で得られた各光記録媒体をそれぞれ用い、これらに対して以下に示す方法で光記録を行った。すなわち、まず、光記録媒体を、光ディスク評価装置（商品名：ＤＤＵ１０００、パルステック社製）にセットし、記録に用いるレーザービームの波長を青色波長域（４０５ｎｍ）とするとともに、対物レンズのＮＡ（開口数）を０．８５とし、このレーザービームを記録ヘッド内の集光レンズで光透過側から集光し、ｉｎ−ｇｒｏｏｖｅ方式で記録層に対して光記録を行った。
【００５５】
そして、光記録が行われた各光記録媒体をそれぞれ用い、記録層における未記録部分に波長４０７ｎｍの再生光（０．３ｍＷ）を照射し、当該再生光の反射率（％）を測定した。この値を、各光記録媒体の未記録反射率とした。得られた結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2007083612.tif 000008
【００５７】
表１より、実施例１〜２２で用いた色素化合物は、比較例１及び２に比して、４０５ｎｍ付近で高い屈折率を有しており、また、４０５ｎｍでの消衰係数が小さくこの波長での吸収が小さいことが確認された。さらに、実施例１〜２２で得られた光記録媒体は、比較例１及び２に比して高い未記録反射率を有していた。これにより、実施例１〜２２で得られた光記録媒体は、４０５ｎｍ付近の記録再生光を適用する光記録媒体として優れた特性を有していることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】好適な実施形態に係る光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５９】
２…基板、３…反射層、４…記録層、６…誘電層、８…基板、１０…光記録媒体、１２…グルーブ、１４…ランド。
【図１】
2007083612.tif 000011