(57)【要約】【課題】通常のフォトリソグラフィーの工程において使用される塗布装置に対しユニットの追加等の大幅な装置の付加をすることなく、また塗布、乾燥等の工程を増やすことなく遮光パターンの上面にだけ撥インク性を付与することを可能にする感光性樹脂の塗布装置及び塗布方法を提供することが求められていた。【解決手段】基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置および塗布方法を提供する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
該減圧乾燥ユニットが、基板を搭載するステージ、ステージ上部に基板と平行に設置され、基板よりも大きな寸法の上部電極基板とを有し、ステージ及び上部電極間に高周波電力を印加することが出来る電源ユニットが接続され、フルオロカーボン系のガス導入部を備えた構造を有することを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
該フルオロカーボン系のガス導入部が、上部電極基板に設けられた複数のガス供給口に接続されていることを特徴とする請求項２記載の塗布装置。
【請求項４】
板状基板に感光性樹脂液をスリットノズルにて塗布したのち、減圧乾燥ユニット内で減圧乾燥して溶剤を除去し、ついで、該減圧乾燥ユニット内にフルオロカーボン系のガスを導入し、高周波電力を印加してプラズマ放電を誘起して、該感光性樹脂膜表面にフルオロアルキル化合物を形成することを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、板状などの基板の表面に感光性樹脂液等を塗布する為の塗布装置及び感光性樹脂液の塗布方法に関するものであり、特に、カラー液晶ディスプレイ等の表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造に用いる為の塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラー液晶ディスプレイ等のカラー表示装置に使用されるカラーフィルタの作製方法として、インクジェット方式が提案されている。
【０００３】
インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造方法としては、例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３等に記載されている方法が挙げられる。
【０００４】
特許文献１には、ガラス基板上の所望する着色領域外への着色インクの広がりを防止するため、予めブラックマトリックス（遮光パターン）にフッ素系撥水・撥油剤を含有させてパターン形成することによって、着色領域内のみに着色インクを定着させることが記載されている。また、特許文献２、特許文献３には、含フッ素化合物及び／または含ケイ素化合物を含有するブラックマトリックスを、着色工程におけるインクにじみ、混色を防止するための仕切り壁とすることが記載されている。
【０００５】
また、特許文献４には、遮光パターン上部の撥インク性と、遮光パターン間の撥インク性を水の接触角で、それぞれ、９０〜１２０°、３０°以下とすることにより、遮光パターン間での着色インクの広がりを良くし、遮光パターン上部には、着色インクが付着しにくくする発明が開示されている。この発明において、遮光パターン上部を撥インク性にする方法として、凸部を形成する材料として撥インク性が低い材料を用い、その上面のみを撥インク剤を含んだ液体を塗布することによって遮光パターン上部にのみ撥インク性を付与する方法が例示されている。
【０００６】
遮光パターンに撥インク性を付与する別の方法として、特許文献５には遮光パターンに表面処理としては、減圧雰囲気下導入ガスにフッ素またはフッ素化合物を含むガスを使用し、フッ素化合物及び酸素を含む減圧雰囲気下あるいは大気圧雰囲気下でプラズマ照射をする減圧プラズマ処理や大気圧プラズマ処理によって撥インク性を付与する方法が記載されている。
【０００７】
特許文献は以下の通り。
【特許文献１】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献２】特開平７−３５９１５号公報
【特許文献３】特開平７−３５９１７号公報
【特許文献４】特開平９−２０３８０３号公報
【特許文献５】特許第３３２８２９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、混色を防止する為に撥水性物質を含有させて遮光パターン（ブラックマトリックスやブラックストライプ）を形成する方法においては、遮光パターン全体が均一に撥インク機能を持つ為に、遮光パターン側面で着色インクがはじかれ、画素の平滑性が著しく悪くなり、色ムラ及び色抜け（白抜け）等が生じ易いという製造上及び特性上の不具合があった。また、遮光パターンを形成した後で、減圧雰囲気下導入ガスにフッ素また
はフッ素化合物を含むガスを使用し、フッ素化合物及び酸素を含む減圧雰囲気下あるいは大気圧雰囲気下でプラズマ照射をする減圧プラズマ処理や大気圧プラズマ処理によって撥インク性を付与する方法においても、遮光パターンの上面だけでなく側面も処理され撥インク性を生じてしまうことから、同じように、遮光パターン側面で着色インクがはじかれ、画素の平滑性が著しく悪くなり、色ムラ及び色抜け（白抜け）等が生じ易いという製造上及び特性上の不具合が生じやすい。
【０００９】
これに対し、遮光パターンの上面だけに撥インク性を付与する方法として開示されている、特許文献２、３の公知技術では仕切部材上部を撥インク性にするためだけに撥インク性を示す材料の塗布、乾燥、除去等が必要となり、工程数が多くならざるを得なかった。
【００１０】
本発明はこれらの課題を解決するものであり、通常のフォトリソグラフィーの工程において使用される塗布装置に対しユニットの追加等の大幅な装置の付加をすることなく、また塗布、乾燥等の工程を増やすことなく遮光パターンの上面にだけ撥インク性を付与することを可能にする感光性樹脂の塗布装置及び塗布方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
即ち、本発明は、基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置である。
【００１２】
また、本発明は、該減圧乾燥ユニットが、基板を搭載するステージ、ステージ上部に基板と平行に設置され、基板よりも大きな寸法の上部電極基板とを有し、ステージ及び上部電極間に高周波電力を印加することが出来る電源ユニットが接続され、フルオロカーボン系のガス導入部を備えた構造を有することを特徴とする請求項１記載の塗布装置である。
【００１３】
また、本発明は、該フルオロカーボン系のガス導入部が、上部電極基板に設けられた複数のガス供給口に接続されていることを特徴とする請求項２記載の塗布装置である。
【００１４】
本発明の塗布方法は、板状基板に感光性樹脂液をスリットノズルにて塗布したのち、減圧乾燥ユニット内で減圧乾燥して溶剤を除去し、ついで、該減圧乾燥ユニット内にフルオロカーボン系のガスを導入し、高周波電力を印加してプラズマ放電を誘起して、該感光性樹脂膜表面にフルオロアルキル化合物を形成することを特徴とする塗布方法である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の塗布装置を使用すれば、インクジェット方式でカラーフィルタを製造する為に使用するのに好適な、遮光パターンの上頂部のみが撥インク性を有しており、遮光パターンの側面は親インク性を有している遮光性隔壁、即ちブラックマトリクス基板の作製を通常の感光性樹脂のパターン形成と同じ塗布、露光、現像、ベークの手順で作製することが可能となる。このため、遮光パターン間に着色パターンを設けた際の、白抜け及び色ムラ等の不具合がなく、カラーフィルタとしての要求特性に優れ、特に平滑性が良く、色特性に優れたカラーフィルタを提供できる。
【００１６】
本発明の塗布方法では、遮光パターンを形成する黒色遮光剤を含む感光性樹脂の表面に導入ガスにフッ素またはフッ素化合物を含んだガスを含むプラズマ処理によりフルオロアルキル化合物からなる撥インク化合物を塗布の一連の工程の中で形成することが出来る。このため、隔壁パターンの頭頂部にだけ撥インク性を付与する目的で、撥インク性を示す材料の塗布、乾燥のための工程、設備を新たに使用する必要がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の塗布装置のユニット構成を図１に図示する。本塗布装置は、洗浄した基板を塗布ユニットの定盤上に設置する為のローダー、スリットノズルによって感光性樹脂液を塗布する塗布ユニット、感光性樹脂液を塗布した基板を減圧乾燥ユニットに搬送する搬送ユニット、塗布した感光性樹脂液から溶剤を除去する減圧乾燥ユニット、処理した基板を排出するアンローダユニットから構成される。また、使用する感光性樹脂液によっては、減圧乾燥後に加熱ベーク（プリベーク）処理を必要とする場合があり、このような場合には、減圧乾燥ユニットとアンローダの間にホットプレート等のプリベークユニットを付加しても良い。
【００１８】
ローダーは基板を塗布ユニットの基板定磐上に精度良く移載する為のものであり、コロ搬送方式のコンベヤーやロボット等が使用される。塗布ユニットは、面内の平面度が３０μｍ以下の高い平面性を有する精密定磐と、定磐の上部に門型のガントリーを配置し、このガントリーに搭載されたスリットノズル、スリットノズルに感光性樹脂液を供給する供給ユニット等から構成されている。
【００１９】
定磐に載せた基板上でスリットノズルの吐出口先端が基板に近接した状態で、ノズル先端から感光性樹脂液を吐出しながらノズルを移動して基板全面に感光性樹脂液を塗布する。
【００２０】
塗布膜の膜厚均一性は、基板とノズルの間隔、ノズルからの感光性樹脂液の吐出の均一性、ノズルの移動速度の均一性等によって決まる。カラーフィルタに使用するブラックマトリクスの場合は、外観でムラが見えないこと、画素形状が面内で均一であること等の性能が求められ、塗布膜厚の均一性はレンジで３％以下が目安となる。このような塗布均一性を実現する為に、スリットノズルはスリット隙間の均一性を通常はスリット隙間約１００μｍに対しその偏差が５μｍ以下とすることがもとめられる。またガントリーの移動速度の均一性も１％以下で安定した走行が必要であり、通常はエアースライド方式でリニアモータ駆動が採用される。
【００２１】
感光性樹脂液の送液系も同様に高い吐出精度を備えたポンプ送液系が使用され、ダイアフラム形式やチューブフラム形式の定流量ポンプが使用され、必要に応じて精密フィルタがスリットノズルとポンプとの間に搭載され、異物の除去に使用される。
【００２２】
感光性樹脂液を塗布した基板を減圧乾燥ユニットに移載する搬送ユニットは基板のたわみによる塗液の流動や基板の吸着による膜厚変化を起こさない為に基板の周辺のみで基板を保持する方式の移載コンベヤや非吸着方式のアームを使用したロボットが使用される。
【００２３】
減圧乾燥ユニットの構成を図２に示す。減圧乾燥ユニットは、側面に基板の投入口１２、排出口１３を備えたチャンバー１１の内部に、基板を乗せるステージ１４、ステージと平行に設置されている上部電極１５を備えている。基板ステージ１４には基板の支持ピンが設置されている。また、チャンバー下部には排気口が設けられ、この排気口から排気用の真空ポンプ（図示せず）に接続されている。上部電極は高周波電源１８に接続されており、基板ステージは接地されおり、基板ステージと上部電極間で高周波電力が印加できる構造となっている。
【００２４】
また、チャンバー１１にはフルオロカーボン系のガスを導入する為のガス供給口が設けられており、図２ではこのガス供給口１７が上部電極に接続され、この上部電極に設けられた複数のガス供給口から基板に向かってガスが導入される形式となっている状態を示しているが必ずしもこのような形態をとる必要はなく、上部電極とは別にガス導入口を設けても良い。
【００２５】
図２のような形式の場合にはガス導入が基板面に対して均一な状態を実現しやすいことから、プラズマ処理によるフルオロアルキル化合物の形成が基板面内で均一性良く実現できるという利点が生じる。
【００２６】
塗布ユニットで感光性樹脂液が塗布された基板１９は、搬送ユニットにて減圧乾燥ユニット内の基板ステージ１４上に移載される。次いで、排気口１６に接続されたバルブ（図示せず）が開かれ、排気用の真空ポンプにてチャンバー内が減圧に排気される。
【００２７】
塗液の膜厚の均一性を維持して乾燥する為に、通常は排気速度を初期は遅くし、ある程度の減圧状態となった後に排気速度を高くして所望の到達真空度まで排気するというステップの排気方法が通常行われる。到達真空度は塗膜中の残留溶剤量が一定のレベルとなるように設定され、この条件によって、露光感度、現像速度等が影響を受ける。この条件は使用する感光性樹脂に応じて最適条件を設定すれば良いが、到達真空度を１３３Ｐａ程度にする。
【００２８】
減圧乾燥によって、所望の真空度まで排気された後、ガス供給口からフルオロカーボン系のガスを供給する。使用するフルオロカーボン系のガスとしては、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ6、ＣＨＦ3等のガスが使用できるが、通常はＣＦ4ガスを使用する。ガスを供給する場合には、減圧乾燥で使用した排気用の真空ポンプをそのまま使用しても良いが、専用の真空ポンプを切り替えバルブを解して排気経路に並列して接続し、ガス導入前に切り替えて使用するほうがポンプの寿命、メンテナンスサイクル等の面から望ましい。
【００２９】
以下、ＣＦ4ガスの例で代表させて説明する。ＣＦ4ガスを導入量はチャンバー内圧力がプラズマ生成範囲になるように調整する。通常は、圧力は１３３Ｐａ前後に設定すればよく、上記の如く減圧乾燥の到達真空度とほぼ等しい圧力で良いため、減圧乾燥後に連続してプラズマ処理を行うことが可能である。また、チャンバー内圧力の調整方法としては、ガス流量はあらかじめ一定にしておき、真空ポンプの経路に開度調節バルブを配して、この開度を調節する方法も可能である。いずれの方法においても複数の基板を連続して処理する場合には最初に設定したガス流量、バルブ開度で連続して運転することが可能である。
【００３０】
ＣＦ4ガスを導入し、所定の圧力に達した後に、高周波電源より上部電極と基板ステージ間に高周波電力を印加する。印加する電力の周波数はプラズマ放電に適した周波数を選べば特に制約はないが、商用周波数である１３．５６ＭＨｚが通常は使用される。本発明の場合もこの周波数を使用すればよい。印加する電力は安定したプラズマ放電が得られる範囲で選択すればよく、０．００１〜０．１Ｗ／ｃｍ2の範囲で設定する。また処理時間は、処理後の感光性樹脂膜表面の接触角がインクジェット方式で塗布する着色インクに対して３０度乃至６０度の範囲と成るように処理時間を選択する。接触角が３０°以下では、着色インクが遮光パターン上ではじかれることがない為、隣の画素にあふれ出てしまい混色が生じる。また、６０°以上の接触角とすると、現像液に対する撥液性が高くなりすぎるため、黒色感光性樹脂の現像が均一に出来なくなるという問題が生じる。
【００３１】
プラズマ処理の後、電力の印加とガスの供給を遮断し、最後にチャンバー内に窒素ガスを導入して大気圧に戻し、排出口１３を開いて基板をアンローダへと排出する。
【００３２】
上記の手順で塗布された黒色感光性樹脂膜は表面のみにフルオロカーボン系の化合物が形成されて撥インク性を有している。この黒色感光性樹脂膜付きの基板は、所望のパターンのフォトマスクを介して、露光される。露光条件は撥インク処理を行わない黒色感光性樹脂膜とほぼ同一条件で良い。露光装置としてはフォトマスクと基板を近接して露光する
プロキシミティ方式の露光機、レンズあるいはミラーを介して投影露光する形式の露光機を使えばよい。露光後、現像を行う。現像にはスプレー現像方式が好ましい。表面に堆積したフルオロカーボン系の膜は撥インク処理していない黒色感光性樹脂膜に比べて現像液の濡れ性が低いが、現像液をスプレーすることで現像液が黒色感光性樹脂膜中に浸透していくため、現像性に問題が生じることはない。
【００３３】
現像により所望のパターンが形成された基板は、熱風オーブンもしくはホットプレートによってポストベークされる。ポストベーク条件も、撥インク処理を行わない黒色感光性樹脂と同一の条件で行えばよい。このようにして、表面がインクジェット法で塗工する着色インクに対する接触角が３０°以上かつ６０°以下である遮光パターンが形成されたブラックマトリクス基板が作製できる。
【００３４】
遮光パターンの材料には、黒色遮光材、光開始剤、分散剤、樹脂、溶媒を主成分とする黒色樹脂組成物が用いられ、一般的に顔料分散方式といわれるフォトリソグラフィーによりパターン形成を行うカラーフィルタの製造に用いられるアルカリ現像タイプの感光性樹脂をそのまま使用することが出来る。好適な例としては、ＪＳＲ社オプティマーＣＲ、新日鐵化学社製アルカリ現像型ブラックレジストインキＶ−２５９ＢＫＩＳ、東京応化工業社製ＣＦＰＲ  ＢＫ等が挙げられる。これらアルカリ現像型の感光性樹脂を用いることは、本発明の塗布装置を用いて表面にフルオロアルキル化合物からなる撥インク化合物を形成したのちに、現像する際、現像液がアルカリ性である為、液の濡れ性が極端に低下して現像性を阻害することがないという点で重要である。
【００３５】
次に、このブラックマトリクス基板に着色インクをインクジェット法によって塗布する。
【００３６】
着色インクの材料は、着色顔料、樹脂、分散剤、溶媒などで構成される。
【００３７】
着色剤として使用する顔料の具体例としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ９、１９、３８、４３、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９２、２１５、２１６、２０８、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ１５、１５：６、１６、２２、２９、６０、６４、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ７、３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ２０、２４、８６、８１、８３、９３、１０８、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６６、１６８、１８５、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ２３などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。さらに、これらは要望の色相を得るために２種類以上を混合して用いても構わない。
【００３８】
着色インクに使用する溶剤種としてはインクジェット方式における適性の表面張力範囲５０ｍＮ／ｍ以下で、且つ、沸点が１３０℃以上のものが好ましい。表面張力が５０ｍＮ／ｍ以上であるとインクジェット吐出時のドット形状の安定性に著しい悪影響を及ぼし、また、沸点が１３０℃以下であるとノズル近傍での乾燥性が著しく高くなり、その結果、ノズル詰まり等の不良発生を招くので好ましくない。具体的には、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エトキシエチルアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、２−エトキシエチルエーテル、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセテート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアセテート、２−フェノキシエタノール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどを挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、上記要件を満たす溶剤なら用いることができる。また、必要に応じて２種類以上の溶剤を混合して用いても
構わない。
【００３９】
着色インクの樹脂には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂などが用いられ、色素との関係にて適宜選択される。耐熱性や耐光性が要求される際にはアクリル樹脂が好ましい。
【００４０】
樹脂への色素の分散を向上させるために、分散剤を用いてもよく、分散剤として、非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテルなど、また、イオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、テトラアルキルアンモニウム塩など、その他に、有機顔料誘導体などがあげられる。分散剤は一種類を単独で使用してもよく、また、二種類以上を混合して使用してもよい。溶媒としては溶解性の他に経時安定性、乾燥性などが要求され、色素、樹脂との関係にて適宜選択される。
【００４１】
着色パターンの形成には、インクジェット法を用いる。使用するインクジェット装置としては、インク吐出方法の相違によりピエゾ変換方式と熱変換方式があり、特にピエゾ変換方式が好適である。インクの粒子化周波数は５〜１００ｋＨｚ程度、ノズル径としては５〜８０μｍ程度，ヘッドを３個配置し、１ヘッドにノズルを６０〜５００個組み込んだ装置が好適である。
【００４２】
インク吐出後、溶剤を蒸発させ、次いでインク中の樹脂を硬化させる。作製するカラー液晶ディスプレイの構造によっては、着色パターンを形成した後に、オーバーコート層や透明導電膜、ポストスペーサ、液晶配向用の突起やストライプ状パターンなどを形成して、カラーフィルタが完成する。
【実施例】
【００４３】
以下に本発明の実施例を具体的に説明する。
【００４４】
図１に示した構成の塗布装置に洗浄済みのガラス基板（コーニング製１７３７ガラス）を供給し、塗布ユニット部にて、黒色感光性樹脂として、東京応化工業製ＣＦＰＲ  ＢＫを使用し、塗布後の膜厚が２．４μｍとなるように塗布した。ついで、減圧乾燥ユニットに基板を搬送し、到達真空度１３３Ｐａの条件で減圧乾燥したのち、ＣＦ4ガスを５００ｓｃｃｍの流量で導入した。この状態でチャンバー内の圧力は１００Ｐａであった。この後、高周波電力を電力密度０．０１Ｗ／ｃｍ2となるように印加してプラズマ放電を開始、３０秒間処理したのち、電力供給およびガス導入を遮断し、さらに窒素ガスを導入してチャンバー内を大気圧まで戻した後に基板をアンローダ部から回収した。
【００４５】
その後、プロキミティ露光装置を使用して、ブラックマトリクスパターンのフォトマスクを介して１５０ｍＪ／ｃｍ2の条件で露光し、専用のアルカリ現像液を使用しスプレー現像装置にて現像時間９０秒にて現像、水洗、乾燥した。最後に、クリーンオーブンにて２３０℃２０分間ポストベークして高さ２μｍ、線幅２０μｍ、ピッチ１７０μｍのブラックマトリクス基板を作製した。
【００４６】
前記ブラックマトリックス上頂部の着色インク（表面張力３０ｍＮ／ｍ）に対する接触角を測定したところ、３９°であり、前記ブラックマトリックス上頂部が着色インクに対して、撥インク性が有ることを確認した。一方、プラズマ処理を行わないで、通常の工程を経て作製したブラックマトリクス基板の表面の着色インク（表面張力３０ｍＮ／ｍ）に対する接触角を測定したところ５°であった。この接触角は上記の表面に撥インク性を付与したブラックマトリクスの側面の接触角とみなすことが出来る。
【００４７】
（着色インクの調製）
メタクリル酸２０重量部（６０ｇ）、メチルメタクリレート１０重量部（３０ｇ）、ブチルメタクリレート５５重量部（１６５ｇ）、ヒドロキシエチルメタクリレート１５重量部（４５ｇ）を乳酸ブチル３００ｇに溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル０．７５部（２．２５ｇ）を加え７０℃にて５時間の反応によりアクリル共重合樹脂を得た。得られたアクリル共重合樹脂を樹脂濃度が１０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈しアクリル共重合樹脂の希釈液とした。この希釈液８０．１ｇに対し顔料１９．０ｇ、分散剤０．９ｇを添加して、３本ロールにて混練し、赤色、緑色、青色の各着色ワニスを得た。この各着色ワニスをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで顔料濃度が１２〜１５％、粘度が１５ｃｐｓになるように調整しＲ，Ｇ，Ｂ着色インクを得た。
【００４８】
（カラーフィルタの作製）
前記ブラックマトリックスの開口部に、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ各色の着色インクを使用し、１２ｐｌ，１８０ｄｐｉヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）各々の着色パターン（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）を形成した。
【００４９】
着色インクを吐出した後、先ずオーブンで９０℃２０分加熱して溶剤を蒸発させた。次にオーブンで２３０℃１時間加熱してインクを硬化させることにより、着色パターン５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）を形成した。
【００５０】
このようにして得られたカラーフィルタは、平滑性が良く、画素内の凹凸が０．１μｍ以下であり、△Ｅ*ａｂ＜１と色ムラの少ない良好なカラーフィルタであった。また、全面に亘って、インクのハジキや混色は見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の塗布装置のユニット構成を示す説明図である。
【図２】本発明の塗布装置の減圧乾燥ユニットの断面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１１…減圧乾燥チャンバー
１２…投入口
１３…排出口
１４…基板ステージ
１５…上部電極
１６…排気口
１７…ガス導入口
１８…高周波電源
１９…基板
【図１】
2007264187.tif 000003
【図２】
2007264187.tif 000004