(57)【要約】【課題】ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、高温で乾燥しても、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる乾燥膜を得ることが可能な隔壁形成用ガラスペーストを提供することである。【解決手段】本発明の隔壁形成用ペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で１〜５質量％含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で１〜５質量％含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項２】
酸化防止剤の含有量が、質量百万分率で１〜１００００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項３】
酸化防止剤が、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上であることを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項４】
セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合が、質量比で９０：１０〜４０：６０であることを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項５】
セルロース系樹脂が、エチルセルロースであることを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項６】
ブチラール樹脂が、１００００〜８００００の質量平均分子量（Ｍｗ）を有することを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【請求項７】
質量百分率で、ガラス粉末５０〜８０％、無機フィラー粉末３〜３０％、有機樹脂１〜５％、溶剤５〜３０％、酸化防止剤１〜１００００ｐｐｍの割合であることを特徴とする請求項１記載の隔壁形成用ガラスペースト。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイは、自己発光型のフラットディスプレイであり、軽量薄型、高視野角等の優れた特性を備えており、大画面化が容易であることから、最も将来性のある表示装置として注目されている。
【０００３】
図１は、このようなプラズマディスプレイパネルの構造を示す断面図である。図１に示すように、プラズマディスプレイパネルにおいては、一般に、前面ガラス基板１と背面ガラス基板２とが対向して設けられており、これらの基板の間の空間には、多数のガス放電部に区切るため、隔壁（バリアリブ）３が形成されている。前面ガラス基板１の上には、一対の透明電極４が形成されており、これらの透明電極４間で電圧が印加され、プラズマ放電が生じる。
【０００４】
透明電極４の上には、前面ガラス基板１の全面を覆うように誘電体層５が形成されている。誘電体層５の上には、プラズマを安定に形成するためのＭｇＯからなる保護層６が形成されている。
【０００５】
隔壁３間の背面ガラス基板２の上には、データ電極７が形成されている。隔壁３間の、隔壁３の側壁及び背面ガラス基板２の上には、データ電極７を覆うように蛍光体８が塗布されている。
【０００６】
透明電極４間に電圧が印加され、これによって隔壁３で仕切られたガス放電部内にプラズマ放電が生じ、プラズマ放電により発生した紫外線が蛍光体８に照射され、蛍光体８が発光する。
【０００７】
上記プラズマディスプレイパネルにおいて、隔壁３は、通常、背面ガラス基板２の上に形成される。そして、隔壁３を形成した背面ガラス基板２と前面ガラス基板１とが対向するように組み合わされることによりパネルが構成される。図１に示すパネル構造においては、背面ガラス基板２の上に直接隔壁３が形成されているが、背面ガラス基板２の上にデータ電極７を覆う電極保護用の誘電体層を形成した後、この誘電体層の上に隔壁を形成するパネル構造のものも知られている。
【０００８】
上記隔壁を形成する代表的な方法として、サンドブラスト法が知られている。サンドブラスト法は、隔壁形成用ガラスペーストをスクリーン印刷等により塗布し、乾燥させて隔壁材料層を所定の厚みとなるように背面ガラス基板上に、直接若しくは誘電体層の上に全面にわたって形成する。さらに、この上にドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）を塗布し露光、現像した後に、ドライフィルムレジスト膜が形成されていない箇所をサンドブラストにより除去し、残ったドライフィルムレジスト膜を剥離し、焼成することで所定箇所に隔壁を形成する方法である。
【０００９】
そのため、隔壁形成用ガラスペーストには、（１）サンドブラスト性が良好であること、（２）ガラスペーストを塗布、乾燥して得られる乾燥膜の強度が高く、サンドブラストによる隔壁破壊が起こりにくいこと、（３）基板やドライフィルムレジストとの密着性が高いこと、等の特性が求められる。
【００１０】
従来、これらの要求を満たすために、隔壁形成用ガラスペースト中にセルロース系樹脂が添加されている。セルロース系樹脂は、乾燥して得られる乾燥膜の基板やドライフィルムレジストとの密着性、及び膜強度を高める効果があるが、同時にサンドブラスト処理の際に時間が掛かり、プラズマディスプレイパネルの生産効率が低下する。生産効率向上のために、セルロース系樹脂の添加量を減少させると、乾燥膜の強度が劣化してサンドブラスト中に隔壁が破壊したり、隔壁と基板やドライフィルムレジストとの密着性が低下して、隔壁が欠落する等の問題が生じる。
【００１１】
そこで、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止して、生産効率を向上させるために、特許文献１に示すようなセルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いた隔壁形成用ガラスペーストが提案されている。
【特許文献１】特開２００３−２５７３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところで、近年、さらなる生産効率向上のために、ガラス基板に塗布したペーストを高温、短時間で乾燥する傾向にある。
【００１３】
しかしながら、特許文献１で開示されているようなセルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いた隔壁形成用ガラスペーストをガラス基板上に塗布し、塗布したペーストを短時間で乾燥させるために２００℃程度の温度で乾燥すると、ペースト中の有機樹脂が乾燥工程の熱によって酸化、分解されて（具体的には、セルロース樹脂やブチラール樹脂の酸化、水酸化によって起こる低炭化水素化、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ化による分解、ブチラール基の脱離を伴う分解）、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性、膜強度及びサンドブラスト性が低下することがあった。
【００１４】
本発明の目的は、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、高温で乾燥しても、基板やドライフィルムレジストとの密着性や膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる乾燥膜を得ることが可能な隔壁形成用ガラスペーストを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を合量で１〜５質量％含有する有機樹脂を用いたプラズマディスプレイの隔壁の形成に使用される隔壁形成用ガラスペーストであって、酸化防止剤を含有することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤の含有量が、質量百万分率で１〜１００００ｐｐｍであることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤が、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上であることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合が、質量比で９０：１０〜４０：６０であることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、セルロース系樹脂が、エチルセルロースであることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、ブチラール樹脂が、１００００〜８００００の質量平均分子量（Ｍｗ）を有することを特徴とする。
【００２１】
また、本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、質量百分率で、ガラス粉末５０〜８０％、無機フィラー粉末３〜３０％、有機樹脂１〜５％、溶剤５〜３０％、酸化防止剤１〜１００００ｐｐｍの割合であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、２００℃程度の温度で乾燥しても、有機樹脂の酸化分解反応が起こり難くなるため、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性が高く、しかも、乾燥膜の強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止できる。また、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間を短縮することができ生産効率を向上させることができる。それ故、プラズマディスプレイの隔壁形成用ガラスペーストとして好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、酸化防止剤を含有しているため、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を含む有機樹脂を用いたペーストをガラス基板上に塗布し、高い温度で乾燥しても、乾燥工程の熱による有機樹脂の酸化、分解（具体的には、セルロース樹脂やブチラール樹脂の酸化、水酸化によって起こる低炭化水素化、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ化による分解、ブチラール基の脱離を伴う分解）を抑えることができる。そのため、得られる乾燥膜は、基板やドライフィルムレジストとの密着性が高く、しかも、膜強度を維持しながらサンドブラスト性の低下を防止することできる。また、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間を短縮することができ生産効率を向上させることができる。
【００２４】
酸化防止剤の含有量としては、質量百万分率で１〜１００００ｐｐｍであることが好ましい。酸化防止剤が１ｐｐｍ以上であれば、ガラス基板上に塗布したペーストを短時間で乾燥するために、２００℃程度の温度で乾燥しても、乾燥工程の熱による有機樹脂の酸化、分解を防止することが可能となる。また、１００００ｐｐｍ以下であれば、乾燥膜を５００〜６００℃の温度で焼成する際に、有機樹脂、溶剤及び酸化防止剤の有機物の分解が完了し、これら有機物の残渣（炭化物）を少量に抑えることが可能となる。酸化防止剤の好ましい範囲は５〜６０００ｐｐｍである。
【００２５】
尚、本発明でいう酸化防止剤とは、ガラス基板上に塗布したペーストを乾燥させる際に、有機樹脂と酸素が結合して有機樹脂が分解することを抑制する効果を有するものをいう。
【００２６】
本発明で使用する酸化防止剤としては、リン系、フェノール系及び硫黄系の有機化合物の内、いずれか一種以上を使用することが好ましい。
【００２７】
リン系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、トリフェニルフォスフェイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等を用いることができる。
【００２８】
また、フェノール系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、２，６−ジ−ｔ−ブチル−Ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等を用いることができる。
【００２９】
また、イオウ系有機化合物を酸化防止剤として使用する場合、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート等を用いることができる。
【００３０】
尚、乾燥膜を焼成する際に生じる有機樹脂や溶剤及び酸化防止剤の残渣を少なくするには、フェノール系有機化合物を用いることが望ましい。また、ペーストの乾燥工程では、有機樹脂の酸化、分解を抑えることができ、乾燥膜の焼成工程では、有機物の分解が完了し、残渣を少なくするには、酸化防止剤の分子量が２００〜１０００（好ましくは２００〜８００）のものを使用することが望ましい。
【００３１】
本発明の隔壁形成用ガラスペーストは、上記の酸化防止剤の他に、ガラス粉末、フィラー粉末、有機樹脂及び溶剤を主成分とする。以下、各成分について説明する。
【００３２】
本発明において使用するガラス粉末は、熱膨張係数が６０〜９０×１０-7／℃（３０〜３００℃）で、４８０〜６３０℃の軟化点を有するガラスであれば制限はないが、特に、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系やＢａＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系やＺｎＯ−Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系のガラスを使用することが望ましい。
【００３３】
ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスとしては、質量百分率で、ＰｂＯ  ３５〜７５％、Ｂ2Ｏ3  ０〜５０％、ＳｉＯ2  ８〜３０％、Ａｌ2Ｏ3  ０〜１０％、ＺｎＯ  ０〜１０％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜１０％、ＳｎＯ2＋ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2  ０〜６％の組成を有するガラスを使用することができる。
【００３４】
ＢａＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスとしては、質量百分率で、ＢａＯ  ２０〜５０％、ＺｎＯ  ２５〜５０％、Ｂ2Ｏ3  １０〜３５％、ＳｉＯ２  ０〜１０％の組成を有するガラスや、ＢａＯ  ０〜２５％、ＺｎＯ  １５〜６０％、Ｂ2Ｏ3  １５〜３５％、ＳｉＯ2  ３〜３０％、Ａｌ2Ｏ3  ０〜２０％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ  １〜１５％の組成を有するガラスを使用することができる。
【００３５】
ＺｎＯ−Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系のガラスとしては、質量百分率で、ＺｎＯ  ２５〜４５％、Ｂｉ2Ｏ3  １５〜４０％、Ｂ2Ｏ3  １０〜３０％、ＳｉＯ2  ０．５〜１０％、ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ  ０〜２４％の組成を有するガラスを使用することができる。
【００３６】
ガラス粉末の含有量は、５０〜８０質量％であることが好ましい。ガラス粉末が５０％以上であれば、緻密な焼成層が得ることができる。また、８０％以下であれば、ペースト化が可能であり、焼成時の変形を少なくすることが可能となる。
【００３７】
尚、上記ガラス粉末の粒度分布は、５０％平均粒子径（Ｄ50）を１〜７μｍ、且つ、最大粒子径（Ｄmax）を５〜３０μｍにすることが望ましい。つまり、Ｄ50が１μｍ以上及びＤmaxが５μｍ以上であると、隔壁の形状維持性が良好になり、また、Ｄ50が７μｍ以下及びＤmaxが３０μｍ以下であれば、焼結性が高くなり、緻密な隔壁が得やすくなる。
【００３８】
本発明において使用する無機フィラー粉末は、石英ガラス、α−石英、アルミナ、チタニア（ルチル、アナターゼ型）、ジルコニア、無機顔料、ジルコン等から選ばれる１種以上からなる。特に、α−石英等のシリカ系材料を使用すると隔壁を低誘電率化でき、消費電力の低減が可能になる。また、隔壁の機械的強度を向上させるために、フィラーの一部又は全部を球状フィラーにしてもよい。
【００３９】
尚、ガラス粉末としてＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスを使用する場合は、無機フィラー粉末としてアルミナを、また、ガラス粉末としてＢａＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスやＺｎＯ−Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラスを使用する場合は、無機フィラー粉末としてムライトを使用すると、透過性に優れた焼成膜を得ることができる。
【００４０】
無機フィラー粉末の含有量は、３〜３０質量％であることが好ましい。フィラー粉末が３％以上であれば、焼成後の隔壁の十分な強度と形状を保つことができる。また３０％以下であれば、ガラスの焼結が可能で、焼成後十分な強度を得ることができる。
【００４１】
また、無機フィラー粉末の粒度分布を、平均粒子径（Ｄ50）が０．５〜８μｍ、かつ最大粒子径（Ｄmax）が５〜３０μｍにすることが望ましい。つまり、Ｄ50が０．５μｍ以上及びＤmaxが５μｍ以上であると、ペーストの粘性、焼結時の強度が良好になり、またＤ50が８μｍ以下及びＤmaxが３０μｍ以下であれば、焼成前後の表面粗さがスムーズとなり、前面板と合わせた時、前面板の破損が起こり難くなり良好である。
【００４２】
本発明において使用する有機樹脂は、セルロース系樹脂とブチラール樹脂を併用し、その含有量は、合量で１〜５質量％の範囲にすることが重要である。有機樹脂が１％より低いと、乾燥膜の強度が弱くなりすぎて隔壁を形成することが困難となり、５％より多いと、乾燥膜の強度が強くなりすぎてサンドブラスト性が低下し、生産効率が低下する問題が生じる。有機溶剤の好ましい範囲は１．２〜３．６質量％である。
【００４３】
また、セルロース系樹脂とブチラール樹脂の使用割合は、質量比で９０：１０〜４０：６０の範囲にすることが好ましい。セルロース系樹脂が多くなると、隔壁の乾燥膜強度が低下したり、ガラス基板やドライフィルムレジストとの密着性が低下する傾向にあり、ブチラール系樹脂が多くなると、サンドブラスト性が低下し、生産効率が低下する傾向にあるが、両者がこの範囲内であれば、適度なブラスト性等が得られる。セルロース系樹脂とブチラール樹脂のより好ましい使用割合は８８：１２〜５０：５０である。
【００４４】
尚、セルロース系樹脂は、乾燥膜の強度や基板とドライフィルムレジストとの密着性を向上させる効果がある。セルロース系樹脂としては、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が使用可能で、特にエチルセルロースは、隔壁材料層形成時の印刷やコーターに適したペースト特性となることから好ましい。
【００４５】
また、ブチラール樹脂は、基板とドライフィルムレジストとの密着性の確保に重要な役割を有する。その効果はセルロース系樹脂と共存させることにより有効に発揮される。ガラス基板やドライフィルムとの密着性をより向上させ、しかも、適度な乾燥膜の強度と柔軟性及び高い平滑性を得るためには、ブチラール樹脂としては、質量平均分子量（Ｍｗ）が１００００〜８００００のものを使用することが望ましい。さらに、ガラス基板やドライフィルムとの密着性を向上させるには、重合度が２００〜１０００、ブチラール化度が６５〜８０ｍｏｌ％（好ましくは７０〜８０ｍｏｌ％）のものを使用することが望ましい。
【００４６】
本発明において使用する溶剤は、材料をペースト化するための材料であり、その含有量は５〜３０質量％程度が一般的である。溶剤としては、ターピネオール、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタジオールモノイソブチレート等を単独あるいは混合して使用することができる。
【００４７】
尚、得られるペーストの粘度としては、ペーストの保管性や印刷性の点から、２３℃、ずり速度５．７／秒の条件で測定したときの値で１００〜１２００ポイズの範囲になるように調整することが望ましい。
【００４８】
以上の材料から構成される本発明のペーストを用いて、プラズマディスプレイの隔壁を形成するには、まず、ペーストをスクリーン印刷法や一括コート法等を用いて背面基板上に直接、或いはアドレス電極保護用誘電体層を介して塗布し、所定の膜厚の塗布層を形成した後、乾燥させる。次いで、レジスト膜を形成し、露光、現像する。続いて、サンドブラスト法で不要な部分を除去した後、焼成する。このようにして所定形状の隔壁を得ることができる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例に基づき本発明を説明する。
【００５０】
表１〜表７は本発明の実施例（試料Ｎｏ．１〜１４）及び比較例（試料Ｎｏ．１５〜１９）を示している。尚、試料Ｎｏ．１９については、比較のために、ペースト中の有機樹脂が酸化反応を起こさない温度条件で乾燥したものである。
【００５１】
【表１】
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【００５２】
【表２】
2007224275.tif 000004
【００５３】
【表３】
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【００５４】
【表４】
2007224275.tif 000006
【００５５】
【表５】
2007224275.tif 000007
【００５６】
【表６】
2007224275.tif 000008
【００５７】
【表７】
2007224275.tif 000009
【００５８】
まず、質量％で、ＢａＯ  １２％、ＺｎＯ  ５０％、Ｂ2Ｏ3  ２０％、ＳｉＯ2  １２％、Ｌｉ2Ｏ  １％、Ｎａ2Ｏ  ４％、Ｋ2Ｏ  １％の組成となるように各種酸化物原料を調合し、均一に混合した後、白金坩堝に入れて１２５０℃で２時間溶融して均一なガラス体を得た。これをアルミナボールミルで粉砕、分級を行い、平均粒子径Ｄ50が３μｍ、Ｄmaxが２０μｍのガラス粉末を得た。
【００５９】
このガラスの軟化点は５５０℃、線膨張係数は７５．０×１０-7／℃であった。尚、上記ガラス粉末の粒度分布の測定は、島津製作所製のＳＡＬＤ−２０００Ｊにて行った。また、最大粒子径Ｄmaxは、積算値が９９．９％である時の値として求めた。粒度分布の値の算出に用いる屈折率には、実数部は１．７５を、虚数部は０．０５ｉを使用した。
【００６０】
次に、表に示す割合で、ガラス粉末、フィラー粉末、有機樹脂、溶剤及び酸化防止剤を混合し、３本ロールミルで均一に混練した。尚、フィラー粉末として、α−石英粉末（Ｄ50  １．５μｍ、Ｄmax  １０μｍ）、ムライト粉末（Ｄ50  ２．０μｍ、Ｄmax  １５μｍ）及びアルミナ粉末（Ｄ50  ３．５μｍ、Ｄmax  １５μｍ）を用いた。セルロース系樹脂としてはエチルセルロースを用いた。また、ブチラール樹脂としては、重合度が約３００、ブチラール化度が７５ｍｏｌ％、液体クロマトグラフィにて測定される質量平均分子量が表に示すものを使用した。溶剤としてはターピネオールを用いた。
【００６１】
得られた隔壁形成用ペーストを用いて隔壁を形成した。まず、各ペースト試料を、アプリケーターにてペースト厚みが４００μｍとなるようにガラス板に塗布した。続いて、５０℃の乾燥機中でペーストのレベリングを行い、ＩＲ炉にて２００℃、２０分で乾燥（試料Ｎｏ．１９のみ、１５０℃、３０分で乾燥）させることにより、膜厚約１８０μｍの隔壁材料層を有する基板を２枚作製した。
【００６２】
１枚の基板は、乾燥膜の表面状態を観察した後、そのままサンドブラスト性の評価に用いた。
【００６３】
また、もう１枚の基板は、東京応化製ドライフィルムレジスト（商品名  オーディルＳ８０４０）をラミネートし、ネガ遮光フィルム（感光ライン４０〜２００μｍ幅、Ｌ／Ｓ  １／２）にて露光した。その後、０．５％炭酸ソーダ溶液で現像、水洗し、ドライフィルムレジストの不要部分を除去し、乾燥膜とドライフィルムレジストとの密着性を評価した。
【００６４】
さらに、ドライフィルムレジストとの密着性を評価した後のサンプルをサンドブラスト法により、レジストで覆われていない部分を除去して隔壁形状に成形した後に、１％苛性ソーダ溶液に浸漬してドライフィルムレジストを剥離、除去した後にシャワーにて水洗を行い、隔壁状の乾燥膜とガラス基板との密着性を評価した。
【００６５】
また、ガラス基板との密着性評価後のサンプルを５５０℃で１０分間焼成して隔壁を作製し、隔壁の状態及び焼成膜（隔壁）の着色を評価した。
【００６６】
上記のように、各試料について、乾燥膜の表面状態、サンドブラスト性、ドライフィルム及び基板との密着性、隔壁の状態及び焼成膜の着色について評価した。結果を各表に示す。
【００６７】
表から明らかなように、本発明の実施例である試料Ｎｏ．１〜１４は、乾燥膜の凹みの数が１０個以下と少なく表面は平滑であった。また、サンドブラスト性を示す研削深さが９３〜１３０μｍと適切であった。また、ドライフィルムレジストを現像した後の乾燥膜上に残ったドライフィルムレジストの幅は８０μｍ以下であり、ドライフィルムとの密着性は良好であった。また、ドライフィルムレジスト膜を除去した後の隔壁の欠損率も１０％以下と低くガラス基板との密着性についても良好であった。さらに、焼成して得られた隔壁は、ブラストによる欠け等が認められず、良好な隔壁形状を有していた。また、焼成膜の着色についても、Ｌ＊値が８５以上と高く、有機物の残渣による着色は少なく白色の焼成膜が得られた。尚、試料Ｎｏ．８については酸化防止剤の含有量が１１０００ｐｐｍと多く、試料Ｎｏ．１４については酸化防止剤の分子量が１１７８と大きいため、他の試料に比べてサンドブラスト性を示す研削深さが小さく、また、焼成膜のＬ＊値が低いものであった。また、試料Ｎｏ．９については有機樹脂中のブチラール樹脂の比率が低く、試料Ｎｏ．１１についてはブチラール樹脂の分子量が９０００と小さく、試料Ｎｏ．１３については酸化防止剤の分子量が小さいため、他の試料に比べてドライフィルムやガラス基板との密着性が劣るものであった。さらに、試料Ｎｏ．１０については有機樹脂中のブチラール樹脂の比率が高く、試料Ｎｏ．１２についてはブチラール樹脂の分子量が９００００と大きいため、他の試料に比べて乾燥膜の凹みの数が多く、また、サンドブラスト性を示す研削深さが小さいものであった。
【００６８】
一方、比較例である試料Ｎｏ．１５、１７及び１８は、ドライフィルムレジストを現像した後の乾燥膜上に残ったドライフィルムレジストの幅は１５０μｍ以上と大きく、また、ドライフィルムレジスト膜を除去した後の隔壁の欠損率も１３％以上と高く、ドライフィルムやガラス基板との密着性にも問題があった。さらに、焼成して得られた隔壁には、ブラストによる欠けが確認された。尚、試料Ｎｏ．１５については、サンドブラスト性を示す研削深さが１９０μｍと大きく、サンドブラスト性にも問題があった。
【００６９】
試料Ｎｏ．１６は、サンドブラスト性を示す研削深さが６５μｍと小さく、サンドブラスト性に問題があった。
【００７０】
さらに、試料Ｎｏ．１９は、サンドブラスト性、ガラス基板やドライフィルムとの密着性、焼成して得られた隔壁の状態及び外観については問題ないが、ガラス基板上に塗布したペーストの乾燥時間が長くかかるため、生産効率が低い。
【００７１】
尚、各評価は次のようにして実施した。
【００７２】
乾燥膜の表面状態は、乾燥膜の表面に横から光を当て、その表面（１００ｃｍ2の範囲）を実体顕微鏡（１０倍）にて観察し、凹みにより見られる直径１ｍｍ以上の影の個数をカウントした。この個数が少ない程、表面が平滑であり、表面状態が良好であり、具体的には、１０個以下であれば、表面状態が良好であると言える。
【００７３】
サンドブラスト性は、不二製作所製サンドブラスト機ニューマブラスターを用い、炭酸カルシウム粉末（Ｓ４＃６００）で９０秒サンドブラストして研削深さを測定した。この値が８５〜１４０μｍ程度であれば、サンドブラスト性が良好であると言える。
【００７４】
ドライフィルムとの密着性は、現像後に残るドライフィルムレジストの幅を測定した。ドライフィルムレジストの幅が細い程、密着性は高く、具体的には、８０μｍ以下であれば、ドライフィルムとの密着性は高いといえる。
【００７５】
また、ガラス基板との密着性については、ドライフィルムレジスト膜を剥離した後のガラス基板を目視観察して、幅８０μｍ長さ８０ｍｍの隔壁形状の乾燥膜１００本について欠損の有無を確認し、１００本当りの欠損した乾燥膜数を隔壁欠損率とし評価した。隔壁欠損率が低い程、ガラス基板との密着性は高く、具体的には、隔壁欠損率が１０％以下であれば、ガラス基板との密着性は高いと言える。
【００７６】
隔壁の状態は、焼成後の隔壁表面を実体顕微鏡（２０倍）にて観察したものであり、欠けやオーバーサンド（過度のサンドブラストにより、リブ中央部が削られすぎて断面形状が鼓形になる状態）の有無を観察した。これらが認められなければ○、認められるものを×として示した。
【００７７】
隔壁の着色は、焼成膜のＬ＊値（明るさ）を色差計で測定し評価した。尚、Ｌ＊値が大きい程、有機物の残渣が少なく、白色の焼成膜が得られていることを示し、具体的には、Ｌ＊値が８５以上（好ましくは８８以上）であれば、有機物の残渣による黒着色の無い白色の焼成膜であると言える。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】プラズマディスプレイパネルの構造を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７９】
１  前面ガラス基板
２  背面ガラス基板
３  隔壁
４  透明電極
５  誘電体層
６  保護層
７  データ電極
８  蛍光体
【図１】
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