(57)【要約】【課題】簡易な手順にて被評価水の評価を行うことが可能であると共に、基板の分析設備への搬送時における基板表面の変質や汚染を大幅に抑制することが可能な水質評価方法と、この水質評価方法に用いられる基板保持容器とを提供する。【解決手段】保持容器１０の給水口１４に連なる導入管１８のバルブ２０上流側にサンプリングチューブ３のチューブ継手４が着脱可能に接続されている。導入管１８、導出管１９、排水管１７には開閉バルブとしてボールバルブ２０〜２２がそれぞれ接続されている。給水口１４及び排水口１５と各管１６，１７との接続、並びに各管１８，１９，１７と各バルブ２０〜２２との接続は、いずれも螺じ込みにより行われている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に被評価水を接触させた後、該基板の表面を分析することによって被評価水中の不純物を検出又は測定する水質評価方法で使用される基板を収容して保持するための保持容器であって、
内部に被評価水を流入させるための給水口と、該内部から被評価水を排出するための排水口とを備えており、
該給水口に給水管が接続され、該排水口に排水管が接続された保持容器において、
該給水管の上流側は、導入管と導出管とに二叉に分岐しており、
該導入管、導出管及び排水管にそれぞれ開閉バルブが接続されており、
上記の接続はいずれも螺じ込みにより行われており、
該導入管の該開閉バルブの上流側に、被評価水供給用の配管を着脱可能に接続するための接続部が設けられていることを特徴とする保持容器。
【請求項２】
請求項１において、該開閉バルブはボールバルブであることを特徴とする保持容器。
【請求項３】
請求項１又は２において、該保持容器は搬送容器に収容されていることを特徴とする保持容器。
【請求項４】
基板に被評価水を接触させた後、該基板の表面を分析することによって被評価水中の不純物を検出又は測定する被評価水の水質評価方法であって、
該基板を収容した保持容器内に被評価水を通水して該基板に被評価水を接触させた後、該基板を分析設備に搬送して該基板の表面の分析を行う水質評価方法において、
該保持容器は請求項１ないし３のいずれか１項に記載のものであり、
該保持容器内に基板を収容し、前記導入管の開閉バルブの上流側の前記接続部に被評価水供給用の配管を接続し、該導入管、前記導出管及び前記排水管の各開閉バルブを開として該保持容器内に被評価水を通水し、該基板に被評価水を接触させた後、各開閉バルブを閉とし、その後、該被評価水供給用の配管を該接続部から取り外し、該保持容器内に基板を収容したまま、該保持容器を前記分析設備に搬送することを特徴とする水質評価方法。
【請求項５】
請求項４において、該保持容器を搬送容器に収容して前記分析設備に搬送することを特徴とする水質評価方法。
【請求項６】
請求項５において、該搬送容器は、密閉容器であることを特徴とする水質評価方法。
【請求項７】
請求項５又は６において、該搬送容器は、内部の温度を１５℃以下に保つ保冷手段を備えていることを特徴とする水質評価方法。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれか１項において、該搬送容器は、その内部に収容された保持容器を略水平に支持する支持部材を備えていることを特徴とする水質評価方法。
【請求項９】
請求項５ないし８のいずれか１項において、該搬送容器内に水が充填されており、保持容器はこの水中に浸漬された状態で搬送されることを特徴とする水質評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体、液晶などの電子材料を扱う産業において好適に使用される、超純水の水質評価方法に係り、特に、半導体ウェハ等の基板に超純水を接触させ、この基板の表面分析を行うことで、超純水の水質を評価する場合に好適な評価方法に関するものである。また、本発明は、この水質評価方法に用いられる、基板の保持容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子産業分野で使用される超純水の水質評価法として、半導体ウェハ等の基板を被評価水と接触させることにより被評価水中の不純物をこの基板に付着させ、この基板表面の付着物を分析、あるいは付着物を一旦溶離して溶離液を分析、あるいは基板表面の変化を分析するなどして、被評価水の水質を評価する方法がある。
【０００３】
例えば、特開２００１−２０８７４８号には、基板表面に付着した金属を全反射蛍光Ｘ線分析により検出することが記載されている。また、特開２００５−２７４４００号には、基板表面に付着した有機物をフーリエ変換赤外吸収分光法（ＦＴＩＲ）や熱脱離ガスクロマトグラフ法（ＴＤＧＣＭＳ）により検出することが記載されている。
【０００４】
上記特開２００１−２０８７４８号及び特開２００５−２７４４００号においては、基板を保持容器内に収容し、この保持容器内に被評価水を通水して被評価水と基板とを接触させた後、保持容器から基板を取り出し、この基板を密閉容器に入れて分析装置のある場所へ搬送し、分析を行っていた。
【特許文献１】特開２００１−２０８７４８号
【特許文献２】特開２００５−２７４４００号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特開２００１−２０８７４８号及び特開２００５−２７４４００号の評価方法においては、基板を保持容器から取り出した際に空気中の不純物が基板表面に付着するのを防止するために、保持容器への通水工程をクリーンルームのような清浄な雰囲気が形成される場所で行うか、又はこのような場所の近くで行わなければならない。
【０００６】
また、搬送中に基板に水が付着していると、基板成分が水に溶解し、基板表面が変質したり、汚染物質が水中に濃縮され、基板表面を汚染するおそれがあるため、搬送前に予め基板を乾燥しておく必要がある。
【０００７】
なお、保持容器に基板を収容したままこの保持容器ごと搬送することも考えられるが、上記特開２００１−２０８７４８号及び特開２００５−２７４４００号の保持容器にあっては、僅かながらも外気との接触が避けられず、外気からのコンタミネーション、酸化膜形成、表面状態の変化が微量の分析に影響を及ぼすことになる。
【０００８】
本発明は、上記従来の問題点を解消し、簡易な手順にて被評価水の評価を行うことが可能であると共に、基板の分析設備への搬送時における基板表面の変質や汚染を大幅に抑制することが可能な水質評価方法と、この水質評価方法に用いられる基板保持容器とを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明（請求項１）の保持容器は、基板に被評価水を接触させた後、該基板の表面を分析することによって被評価水中の不純物を検出又は測定する水質評価方法で使用される基板を収容して保持するための保持容器であって、内部に被評価水を流入させるための給水口と、該内部から被評価水を排出するための排水口とを備えており、該給水口に給水管が接続され、該排水口に排水管が接続された保持容器において、該給水管の上流側は、導入管と導出管とに二叉に分岐しており、該導入管、導出管及び排水管にそれぞれ開閉バルブが接続されており、上記の接続はいずれも螺じ込みにより行われており、該導入管の該開閉バルブの上流側に、被評価水供給用の配管を着脱可能に接続するための接続部が設けられていることを特徴とするものである。
【００１０】
請求項２の保持容器は、請求項１において、該開閉バルブはボールバルブであることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項３の保持容器は、請求項１又は２において、該保持容器は搬送容器に収容されていることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明（請求項４）の水質評価方法は、基板に被評価水を接触させた後、該基板の表面を分析することによって被評価水中の不純物を検出又は測定する被評価水の水質評価方法であって、該基板を収容した保持容器内に被評価水を通水して該基板に被評価水を接触させた後、該基板を分析設備に搬送して該基板の表面の分析を行う水質評価方法において、該保持容器は上記本発明のものであり、該保持容器内に基板を収容し、前記導入管の開閉バルブの上流側の前記接続部に被評価水供給用の配管を接続し、該導入管、前記導出管及び前記排水管の各開閉バルブを開として該保持容器内に被評価水を通水し、該基板に被評価水を接触させた後、各開閉バルブを閉とし、その後、該被評価水供給用の配管を該接続部から取り外し、該保持容器内に基板を収容したまま、該保持容器を前記分析設備に搬送することを特徴とするものである。
【００１３】
請求項５の水質評価方法は、請求項４において、該保持容器を搬送容器に収容して搬送することを特徴とするものである。
【００１４】
請求項６の水質評価方法は、請求項５において、該搬送容器は、密閉容器であることを特徴とするものである。
【００１５】
請求項７の水質評価方法は、請求項５又は６において、該搬送容器は、内部の温度を１５℃以下に保つ保冷手段を備えていることを特徴とするものである。
【００１６】
請求項８の水質評価方法は、請求項５ないし７のいずれか１項において、該搬送容器は、その内部に収容された保持容器を略水平に支持する支持部材を備えていることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項９の水質評価方法は、請求項５ないし８のいずれか１項において、該搬送容器内に水が充填されており、保持容器はこの水中に浸漬された状態で搬送されることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の水質評価方法及び基板の保持容器にあっては、被評価水供給用の配管が保持容器の導入管の開閉バルブ上流側の接続部に着脱可能に接続されているので、保持容器内に被評価水を通水して該被評価水と基板とを接触させた後、該接続部から被評価水供給用の配管を取り外すことにより、保持容器内に基板を収容したまま、この保持容器を分析設備に搬送することができる。
【００１９】
この際、導入管、導出管及び排水管の各開閉バルブを閉とすることにより、保持容器が密閉され、基板と外気との接触が防止される。また、本発明では、保持容器と各管との接続及び各管と各バルブとの接続がいずれも螺じ込みにより行われているので、これらの接続部の気密性も高く、これらの接続部から保持容器内へ外気が侵入することも防止される。
【００２０】
これにより、簡易な手順にて被評価水の評価を行うことが可能であると共に、基板の分析設備への搬送時における基板表面の変質や汚染も防止することが可能である。
【００２１】
導入管、導出管及び排水管の各開閉バルブをボールバルブとすることにより、各バルブを閉としたときの気密性を一層良好なものとすることができる。
【００２２】
本発明においては、保持容器を搬送容器に収容して分析設備に搬送するようにしてもよい。
【００２３】
この場合、搬送容器を密閉容器とすることにより、搬送時における基板表面の外気による汚染をより確実に防止することが可能である。
【００２４】
また、この搬送容器に、内部の温度を１５℃以下に保つ保冷手段を設けることにより、基板の表面状態の変化を抑えることができる。即ち、基板の表面状態の変化は、基板成分と汚染物質（例えば金属や有機物など）との化学反応から起こるため、温度を下げることによりその反応速度が遅くなり、表面状態の変化を抑制することができる。
【００２５】
搬送容器に、保持容器を略水平に支持する支持部材を設けておくことにより、基板が保持容器内でずれ動いて該保持容器の内面に接触したりすることが防止される。
【００２６】
搬送容器内に水を充填し、保持容器をこの水中に浸漬した状態で搬送することにより、保持容器内への外気の侵入が確実に防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００２８】
図１は実施の形態に係る水質評価方法に用いられる保持容器の縦断面図、図２はこの保持容器の底盤の斜視図、図３はこの保持容器への通水系の概略図、図４はこの保持容器の搬送容器の断面図である。また、図５は比較例に係る保持容器の縦断面図であり、図６、図７は実施例及び比較例の測定結果を示すグラフである。
【００２９】
この実施の形態における基板保持容器１０は、上面に基板Ｗを収容する円形の窪み１２ａを有した底盤１２と、この窪み１２ａを閉鎖する上蓋１３とからなる容器本体１１を備えている。上蓋１３の中央付近には、該窪み１２ａ内に被評価水（超純水）を供給するための給水口１４が設けられており、窪み１２ａの底面の中央付近には、該窪み１２ａ内から被評価水を排出するための排水口１５が設けられている。この給水口１４に給水管１６が接続され、排水口１５に排水管１７が接続されている。符号１２ｂは、底盤１２の下面から下方へ立設された脚を示している。なお、この脚１２ｂは、保持容器１０を略水平面上に配置したときに該保持容器１０を略水平に支持するよう構成されている。
【００３０】
給水管１６の下流側の外周面には雄ねじ１６ａが形成されており、給水口１４の内周面にはこの雄ねじ１６ａが螺合する雌ねじ（図示略）が形成されている。この雄ねじ１６ａがシール材（図示略）を介して給水口１４内に螺じ込まれることにより、給水管１６が給水口１４に接続されている。また、排水管１７の上流側の外周面には雄ねじ１７ａが形成されており、排水口１５の内周面にはこの雄ねじ１７ａが螺合する雌ねじ（図示略）が形成されている。この雄ねじ１７ａがシール材（図示略）を介して排水口１５内に螺じ込まれることにより、排水管１７が排水口１５に接続されている。
【００３１】
以下、このように一方に設けられた雄ねじが、他方に設けられた雌ねじに螺じ込まれることにより両者が接続されることを、螺じ込みによる接続と称する。
【００３２】
給水管１６の上流側は、導入管１８と導出管１９とに二叉に分岐している。なお、この実施の形態では、該給水管１６、導入管１８及び導出管１９は一連のＴ字管よりなり、該導入管１８と導出管１９とは各々の軸心線が略一直線状となるように互いに反対方向に延在しており、給水管１６はこれらと略直交方向に延在している。ただし、導入管１８と導出管１９とは二叉に分岐していれば、一直線状でなくともよい。
【００３３】
これらの導入管１８と導出管１９の先端側にそれぞれ開閉バルブとしてボールバルブ２０，２１が接続されている。導入管１８及び導出管１９とボールバルブ２０，２１との接続はそれぞれ螺じ込みにより行われている。符号１８ａは、導入管１８の先端外周に形成され、シール材（図示略）を介してボールバルブ２０の下流側接続口（符号略）に螺じ込まれた雄ねじを示し、符号１９ａは、導出管１９の先端外周に形成され、シール材（図示略）を介してボールバルブ２１の上流側接続口（符号略）に螺じ込まれた雄ねじを示している。
【００３４】
超純水供給用配管１から開閉バルブ２を介して保持容器１０に被評価水を供給するためのサンプリングチューブ３が分岐している。このサンプリングチューブ３がチューブ継手４に外嵌及びバンド留め等によって接続されている。このサンプリングチューブ３及びチューブ継手４により被評価水供給用配管が構成されている。導入管１８のボールバルブ２０の上流側接続口の内周面に、配管接続部としての雌ねじ（符号略）が設けられている。即ち、この実施の形態では、このチューブ継手４とボールバルブ２０との接続も螺じ込みにより行われている。符号４ａは、該チューブ継手４の先端外周に形成され、ボールバルブ２０の上流側接続口に螺じ込まれた雄ねじを示している。なお、チューブ継手４は、ボールバルブ２０の該上流側接続口に対し取り外し可能に螺合している。
【００３５】
排水管１７の下流側にも、開閉バルブとしてボールバルブ２２が接続されている。この排水管１７とボールバルブ２２との接続も螺じ込みにより行われている。符号１７ｂは、排水管１７の下流端外周に形成され、ボールバルブ２２の上流側接続口（符号略）に螺じ込まれた雄ねじを示している。
【００３６】
なお、この排水管１７は、排水口１５から下方へ延出した後、途中から略直角に折れ曲がるＬ字管よりなる。
【００３７】
前記導出管１９のボールバルブ２１の下流側及び排水管１７のボールバルブ２２の下流側には、それぞれ、該導出管１９及び排水管１７からの流出水を排水系に導く排水用配管５，６が接続されている。この実施の形態では、これらの配管５，６のボールバルブ２１，２２への接続も螺じ込みにより行われている。符号５ａ，６ａは、それぞれ、該配管５，６の上流端外周に形成され、該ボールバルブ２１，２２の下流側接続口（符号略）に螺じ込まれた雄ねじを示している。これらの配管５，６も、各ボールバルブ２１，２２の該下流側接続口に対し取り外し可能に螺合している。
【００３８】
ただし、これらの配管５，６は排水側であるので、各配管５，６と各バルブ２１，２２との接続についてはさほど気密性を考慮する必要はない。従って、各配管５，６と各バルブ２１，２２との接続は、螺じ込みによるものでなくてもよい。前記チューブ継手４とバルブ２０との接続も、必ずしも螺じ込みによるものでなくてもよいが、こちらは給水側であるので、気密性の高い螺じ込み式であることが好ましい。
【００３９】
前記底盤１２の円形の窪み１２ａの内径は保持すべき基板Ｗの直径よりも充分に大である。窪み１２ａの底面上には、基板Ｗの保持手段として、円周方向に等間隔に複数（この実施の形態では３条）の放射状畝２４が隆設されている。各放射状畝２４は窪み１２ａの半径方向に延在している。
【００４０】
基板Ｗは、板面を上に向けてこれらの放射状畝２４の上に略水平に保持される。各畝２４の外端部上には基板Ｗの周縁部が載置される段２６を有する階段形の支持台２５が設けられている。段２６の段差は基板Ｗの厚さに対応している。また、各畝２４の延在方向途中部には基板Ｗの半径方向の途中の下面を支持する支持部２７が突設されている。
【００４１】
底盤１２の上面からは、上蓋１３の位置決め用の複数の突起２３が突設されている。これらの突起２３は、窪み１２ａの周方向に略等間隔に配置されている。上蓋１３の下面には、これらの突起２３が係合する凹部（図示略）が設けられている。符号２８ｂは、該上蓋１３を底盤１２に固定するためのボルト２８ａが螺じ込まれるボルト孔を示している。
【００４２】
かかる構成の基板Ｗの保持容器１０を用いた超純水の水質評価手順について次に説明する。
【００４３】
まず、窪み１２ａ内に基板Ｗを配置し、上蓋１３を底盤１２に被せてボルト２８ａで固定する。次に、図３に示すように、被評価水供給用のサンプリングチューブ３を、チューブ継手４を介して導入管１８のボールバルブ２０の上流側接続口に接続する。また、導出管１９及び排水管１７の各ボールバルブ２１，２２の下流側接続口に、排水用配管５，６を接続する。
【００４４】
次いで、サンプリングチューブ３の開閉バルブ２と導入管１８及び導出管１９の各ボールバルブ２０，２１を開として該導入管１８、導出管１９及び各ボールバルブ２０，２１内に被評価水を流し、これらを清浄化する。
【００４５】
次に、排水管１７のボールバルブ２２を開として被評価水を保持容器１０内（窪み１２ａ内）に通水し、基板Ｗに被評価水を接触させる。
【００４６】
この際、導入管１８側のボールバルブ２０を一定開度とした状態にて、導出管１９側のボールバルブ２１の開度を調節することにより、被評価水の流速を調節する。なお、導入管１８側のボールバルブ２０の開度を調節することにより被評価水の流速を調節することも考えられるが、このようにすると、バルブ操作の際に各部の摩擦等によりバルブ構成材料が被評価水中に溶出したり、微粒子が被評価水中に混入するおそれがある。これに対し、導出管１９側のボールバルブ２１の開度を調節して被評価水の流速を調節した場合には、仮にボールバルブ２１から被評価水に構成材料の溶出や微粒子の混入が生じても、このボールバルブ２１は給水管１６よりも下流側に位置しているので、保持容器１０への供給水が汚染されることがない。
【００４７】
所定時間、被評価水を保持容器１０内に通水した後、各バルブ２，２０〜２２を閉として通水を終了する。その後、チューブ継手４をバルブ２０から取り外し、基板Ｗを保持容器１０内に収容したまま、該保持容器１０を基板分析設備に搬送する。
【００４８】
この際、図４に示すように、保持容器１０を搬送容器に収容して搬送することが好ましい。この実施の形態では、搬送容器３０は、内部の保持容器１０と外気との接触を遮断する密閉容器であると共に、その内部温度の上昇を防止するために断熱性の材料により構成されている。
【００４９】
なお、本発明においては、搬送容器３０の内部温度を１５℃以下、特に５℃以下に維持することが好ましい。このように搬送容器３０の内部を低温に保つことにより、基板Ｗの表面状態の変化を抑えることができる。即ち、基板Ｗの表面状態の変化は、基板Ｗの成分と汚染物質（例えば金属や有機物など）との化学反応から起こるため、温度を下げることによりその反応速度が遅くなり、表面状態の変化を抑制することができる。この結果、基板Ｗの表面状態の変化が分析結果に影響を与えることを防止することができる。
【００５０】
搬送容器３０の内部を低温に保つために、該搬送容器３０に冷却装置を設けてもよく、該搬送容器３０内に保持容器１０と共に冷却材を入れておいてもよい。
【００５１】
また、図示は省略するが、保持容器１０が搬送容器３０内でずれ動いたり、保持容器１０に衝撃が加えられたりすることを防止するために、該搬送容器３０内にクッション材等を充填してもよい。
【００５２】
あるいは、該搬送容器３０内に水（例えば被評価水と同じ超純水）を充填し、この水中に保持容器１０を浸漬した状態で搬送するようにしてもよい。このようにした場合、保持容器１０内への外気の侵入が確実に防止される。
【００５３】
ただし、このような搬送容器３０を使用する代わりに、単にビニール袋等に保持容器１０を入れ、この袋の口を縛って搬送するようにしてもよい。
【００５４】
保持容器１０を分析設備に搬送した後、保持容器１０内から基板Ｗを取り出してその表面を分析する。
【００５５】
このように、本発明の基板保持容器１０及びこの保持容器１０を用いた水質評価方法によれば、被評価水供給用のサンプリングチューブ３（チューブ継手４）が保持容器１０の導入管１８のボールバルブ２０上流側に着脱可能に接続されているので、保持容器１０内に被評価水を通水して該被評価水と基板Ｗとを接触させた後、該バルブ２０からサンプリングチューブ３を取り外すことにより、保持容器１０内から基板Ｗを取り出すことなく、この保持容器１０ごと分析設備に搬送することができる。
【００５６】
この際、導入管１８、導出管１９及び排水管１７の各ボールバルブ２０〜２２を閉とすることにより、保持容器１０が密閉され、基板Ｗと外気との接触が防止される。また、この保持容器１０にあっては、給水口１４及び排水口１５と各管１６，１７との接続及び各管１８，１９，１７と各バルブ２０〜２２との接続がいずれも螺じ込みにより行われているので、これらの接続部の気密性も高く、これらの接続部から保持容器１０内へ外気が侵入することも防止される。
【００５７】
この結果、簡易な手順にて被評価水の評価を行うことが可能であると共に、基板Ｗの分析設備への搬送時における基板Ｗ表面の変質や汚染も防止することが可能である。
【００５８】
特に、この実施の形態では、導入管１８、導出管１９及び排水管１７の各開閉バルブをボールバルブ２０〜２２としているので、各バルブ２０〜２２を閉としたときの保持容器１０の気密性がきわめて良好である。
【実施例】
【００５９】
以下に、実施例及び比較例を参照して本発明をさらに詳しく説明する。
【００６０】
実施例１
上記実施の形態の保持容器１０を用い、上記実施の形態と同様の手順にて基板表面の分析を行った。なお、基板としてはＳｉウェハを用いた。流速１Ｌ／ｍｉｎにて１時間、保持容器１０内に被評価水（超純水）を通水した後、各バルブ２０〜２２を閉鎖して３日間保管し、その後Ｓｉウェハを取り出して表面付着有機物の測定を行った。この測定は、ウェハ表面から有機物を昇温離脱し、ガスクロマトグラフ／マススペクトルにより行った。結果を図６に示す。
【００６１】
比較例１
Ｓｉウェハに、流速１Ｌ／ｍｉｎにて１時間、被評価水を接触させた後、直ちに表面付着有機物の測定を行った。この測定方法は実施例１と同様である。結果を図６に示す。
【００６２】
比較例２
図５に示す保持容器１０Ａを用いた。
【００６３】
図５の保持容器１０Ａは、図１の保持容器１０においてボールバルブ２０〜２２を用いる代わりにニードルバルブ４０〜４２を用い、これらのニードルバルブ４０〜４２をフッ素樹脂パイプ４３で導入管１８、導出管１９及び排水管１７にそれぞれ接続した構成となっている。
【００６４】
なお、該フッ素樹脂パイプ４３と各管１８，１９，１７との接続は、図示の通り、該パイプ４３の一端側を各管１８，１９，１７の先端に差し込み、次いでナット４４を各管１８，１９，１７に締め込んで固定することにより行われている。また、これと同様に、該パイプ４３と各バルブ４０〜４２との接続は、該パイプ４３の他端側を各バルブ４０〜４２の接続口（符号略）に差し込み、次いでナット４４を各バルブ４０〜４２に締め込んで固定することにより行われている。
【００６５】
一般的に、ニードルバルブ４０〜４２の閉鎖時の気密性はボールバルブ２０〜２２よりも低い。また、樹脂パイプ４３及びナット４４による各管１８，１９，１７と各バルブ４０〜４２との接続も、保持容器１０における各管１８，１９，１７と各バルブ２０〜２２との螺じ込みによる接続よりも、気密性が低い。
【００６６】
この保持容器１０Ａのその他の構成は図１の保持容器１０と同様であり、図５において図１と同一符号は同一部分を示している。
【００６７】
この保持容器１０ＡにＳｉウェハを収容し、該保持容器１０Ａ内に流速１Ｌ／ｍｉｎにて１時間、被評価水（超純水）を通水した後、各バルブ４０〜４２を閉鎖して３日間保管し、その後Ｓｉウェハを取り出して表面付着有機物の測定を行った。この測定方法は、実施例１と同様である。結果を図６に示す。
【００６８】
図６に示すように、実施例１にあっては、保持容器１０の気密性が高いため、被評価水接触後の基板の表面状態の変化（付着有機物の増加）が減少し、より長期間、基板の表面状態を維持できることが分かる。
【００６９】
実施例２
実施例１において、通水終了後、Ｓｉウェハの表面温度が５℃以下となるようにして３日間保管した後、Ｓｉウェハを取り出して表面付着有機物の測定を行った。この測定方法は、実施例１と同様である。結果を図７に示す。  
【００７０】
比較例３〜５
実施例１において、通水終了後、Ｓｉウェハの表面温度が１５℃（比較例３）、２５℃（比較例４）、及び４０℃（比較例５）となるようにして３日間保管した後、Ｓｉウェハを取り出して表面付着有機物の測定を行った。この測定方法は、実施例１と同様である。結果を図７に示す。  
図７に示すように、保管時（搬送時）の温度が低い方が、表面付着有機物の増加が抑えられ、被評価水接触後の基板表面の状態が維持されることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】実施の形態に係る水質評価方法に用いられる保持容器の縦断面図である。
【図２】保持容器の底盤の斜視図である。
【図３】保持容器への通水系の概略図である。
【図４】保持容器の搬送容器の断面図である。
【図５】比較例に係る保持容器の縦断面図である。
【図６】実施例及び比較例の測定結果を示すグラフである。
【図７】実施例及び比較例の測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００７２】
３  サンプリングチューブ
４  チューブ継手
１０  保持容器
１１  保持容器本体
１２  底盤
１３  上蓋
１４  給水口
１５  排水口
１６  給水管
１７  排水管
１８  導入管
１９  導出管
２０〜２２  ボールバルブ
【図１】
2007256181.tif 000003
【図２】
2007256181.tif 000004
【図３】
2007256181.tif 000005
【図４】
2007256181.tif 000006
【図５】
2007256181.tif 000007
【図６】
2007256181.tif 000008
【図７】
2007256181.tif 000009