(57)【要約】【課題】表面における撥水・撥油特性を向上させて、優れた防汚性を発揮することができる表面材及びその製造方法を提供する。【解決手段】表面材１７は、防汚性が求められる画像ディスプレイとしてのタッチパネル１０などを始めとする対象物の表面に配置されて使用される。この表面材１７は、その表面に凹凸部２０を有し、該凹凸部２０を構成する凸部の幅をａ（μｍ）、高さをｃ（μｍ）及び凹部の幅をｂ（μｍ）とした場合、それらのａ、ｂ及びｃが下記に示す式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすものである。すなわち、式（１）：０＜ｃ／ａ≦３０、式（２）：０．０１≦ｂ／ａ≦１０、及び式（３）：０．０１μｍ≦ａ≦５００μｍである。しかも、該凹凸部２０上にはさらに疎水化処理層が形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
防汚性が求められる表面材であって、表面に凹凸部を有し、該凹凸部を構成する凸部の幅をａ（μｍ）、高さをｃ（μｍ）及び凹部の幅をｂ（μｍ）とした場合、それらのａ、ｂ及びｃが下記に示す式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすと共に、前記凹凸部上に疎水化処理層が形成されていることを特徴とする表面材。
式（１）：０＜ｃ／ａ≦３０
式（２）：０．０１≦ｂ／ａ≦１０
式（３）：０．０１μｍ≦ａ≦５００μｍ
【請求項２】
元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位を加圧しながら未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる第２工程、元版を硬化された活性エネルギー線硬化型樹脂から剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の表面材の製造方法。
【請求項３】
元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される熱可塑性樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位の温度を熱可塑性樹脂の軟化点以上の温度にして加圧した後に常温まで冷却させる第２工程、元版を剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の表面材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、自動現金引出し預け入れ装置（ＡＴＭ：Automatic Teller Machine）、現金自動支払機（ＣＤ：Cash Dispenser）等の画像ディスプレイのほか、壁紙、台所タイル、ガラスケース等の対象物の表面に配置され、又は対象物自体に優れた防汚性を発揮することができる表面材及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報端末として、例えばナビゲーション装置、自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機、セキュリティーシステム端末等には、入出力部に画像ディスプレイが装着されている。ところが、これらの情報端末の使用時には、ディスプレイの表面に指を触れて操作するため、その表面に皮脂等の生体由来脂質成分による指紋等が付着し、それが目で認識されて入出力の操作がし難くなっていた。また、壁紙、台所タイル、ショウウインドーガラス、ガラスケース、プラスチックケース等の展示用ディスプレイ等は有機物等付着の汚染に晒され、外観が損なわれてしまう傾向にあった。そのため、指紋や種々の有機汚染物質がディスプレイの表面に付着するのを防止する対策の事例が提案されるようになってきた。その一つとして加水分解性金属アルコキシド、それと反応する官能基を有するフッ素化合物及び密着性向上剤からなる表面処理剤が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【特許文献１】再公表特許第Ｗ０２００２／０７７１１６号公報（第２頁〜第７頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、特許文献１に記載された表面処理剤では、フッ素化合物によって指紋が拭き取りやすくなるという利点を有するが、指紋の主成分である脂質を弾くには限度があり、問題のない程度まで弾くことはできなかった。そのため、指紋の付着による汚れが残り、ディスプレイ表面の視認性について実用レベルで満足することができないという問題があった。
【０００４】
そこで本発明の目的とするところは、表面における撥水・撥油特性を向上させて、優れた防汚性を発揮することができる表面材及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は上記の目的を達成するために鋭意研究した結果、最表面層を特定の凹凸を有する樹脂層とすることで前記課題が解決できることを見い出して本発明を完成するに到った。すなわち、本発明における第１の発明の表面材は、防汚性が求められる表面材であって、表面に凹凸部を有し、該凹凸部を構成する凸部の幅をａ（μｍ）、高さをｃ（μｍ）及び凹部の幅をｂ（μｍ）とした場合、それらのａ、ｂ及びｃが下記に示す式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすと共に、前記凹凸部上に疎水化処理層が形成されていることを特徴とするものである。
【０００６】
式（１）：０＜ｃ／ａ≦３０
式（２）：０．０１≦ｂ／ａ≦１０
式（３）：０．０１μｍ≦ａ≦５００μｍ
第２の発明の表面材の製造方法は、第１の発明の表面材の製造方法であって、元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位を加圧しながら未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる第２工程、元版を硬化された活性エネルギー線硬化型樹脂から剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含むことを特徴とするものである。
【０００７】
第３の発明の表面材の製造方法は、第１の発明の表面材の製造方法であって、元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される熱可塑性樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位の温度を熱可塑性樹脂の軟化点以上の温度にして加圧した後に常温まで冷却させる第２工程、元版を剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含むことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、次のような効果を発揮することができる。
第１の発明の表面材では、凹凸部を構成する凸部の幅ａ、高さｃ及び凹部の幅ｂが前記の式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすように設定される。すなわち、凸部の幅の範囲が規定され、その幅に対する凸部の高さの比と凹部の幅の比が所定範囲に設定され、凹凸部の凹凸形状が一定範囲の規則的なものとなる。従って、表面材表面とその表面に付着する水や油との間に空隙が形成され、水や油が弾かれるものと推測される。しかも、凹凸部上に疎水化処理層が形成され、その疎水化処理層の疎水性に基づいて撥水・撥油特性を高めることができる。
【０００９】
よって、表面材は、その表面における撥水・撥油特性が向上し、優れた防汚性を発揮することができる。
第２又は第３の発明の表面材の製造方法では、第１の発明の効果を有する表面材を簡便に製造することができると共に、得られる表面材は凹凸部が転写により形成されるため明瞭かつ均一な凹凸を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の最良と思われる実施形態について詳細に説明する。
本実施形態の表面材は防汚性が求められ、その表面に付着する指紋等による汚れを抑えて視認性を確保するためのものである。係る表面材は、フィルム等として対象物の表面に配置される第１の形態と、防汚性が求められる対象物自体である第２の形態とに分けられる。表面材として一般的には第１の形態で用いられることが多いが、第２の形態も採用される。上記対象物としては、ナビゲーション装置、自動現金引出し預け入れ装置、現金自動支払機、自動販売機、セキュリティーシステム端末、パーソナルコンピュータ、テレビ、携帯電話等の画像ディスプレイのほか、ガラスケース、プラスチックケース等の展示用ディスプレイ等も含まれる。
【００１１】
この表面材は、基材（好ましくは透明基材）のみ、又はその表面に樹脂層を有しているものであり、基材表面又は樹脂層表面に凹凸部が形成されている。係る凹凸部が特定形状に構成される。すなわち、該凹凸部を構成する凸部の幅をａ（μｍ）、高さをｃ（μｍ）及び凹部の幅をｂ（μｍ）とした場合、それらのａ、ｂ及びｃが下記に示す式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすように設定される。
【００１２】
式（１）：０＜ｃ／ａ≦３０
式（２）：０．０１≦ｂ／ａ≦１０
式（３）：０．０１μｍ≦ａ≦５００μｍ
言い換えれば、凸部の幅ａが一定範囲に設定され、その幅ａに対して凸部の高さｃ及び凹部の幅ｂ（凸部の間隔）が一定範囲になるように、凹凸部の形状が規則的なものに設定される。式（１）の範囲は好ましくは０．１≦ｃ／ａ≦２５、より好ましくは０．５≦ｃ／ａ≦１０、式（２）の範囲は好ましくは０．０５≦ｂ／ａ≦５、より好ましくは０．１≦ｂ／ａ≦０．４、式（３）の範囲は好ましくは０．０５≦ａ≦１００μｍ、より好ましくは０．１≦ａ≦５０μｍである。
【００１３】
前記ｃ／ａが３０より大きい場合には実質上製造が困難であり、及びｂ／ａが１０より大きい場合には凹部に水や油が浸透し易くなるため、表面材表面とその表面に付着する水や油との間で形成される空隙が少なくなる。よって、水や油が弾かれ難くなり、表面材の防汚性が低下する。また、ｂ／ａが０．０１より小さい場合には、凹部の幅（凸部間の間隔）が適度な幅とならず、表面材表面とその表面に付着する水や油との間に形成される空隙が少なくなることで水や油が弾かれ難くなり、水や油を弾く機能が発揮されなくなる。さらに、ａが０．０１μｍより小さい場合には、実質上製造が困難である。その一方、５００μｍより大きい場合には、凸部の幅が適度な幅とならず、表面材表面とその表面に付着する水や油との間に形成される空隙が少なくなることで水や油が弾かれ難くなり、水や油を弾く機能が発揮されなくなる。
【００１４】
凸部の平面形状や断面形状及び凸部の配列等については本発明の目的を達成できる限り適宜選択できるが、凸部を構成する柱状の形状が繰り返し単位となって表面材の表面全体を覆うことが必要である。前記凸部の柱状の形態は円柱、楕円柱、四角柱などの多角柱が挙げられるが、本発明の目的が達成可能な限りその類似形状も含まれる。これらの中では凹凸形状の作製の簡便さの点から平面視で長方形の四角柱が好ましい。そして柱状の上端面は平坦であることが好ましいが、本発明の目的が達成可能な限り凹形状ないし凸形状のいずれであっても何ら差し支えない。
【００１５】
上記のような凹凸部上には、表面の疎水性を高めるための疎水化処理層が設けられている。この疎水化処理層は、凹凸部表面をフッ素含有化合物、シラン化合物等の疎水性処理剤で疎水化処理することにより形成され、撥油性の観点からフッ素含有化合物がより好ましい。
【００１６】
前記基材としては、無機物質、有機物質何れも所定の凹凸部が形成できれば特に限定されず、無機物質の例としてはシリコンウエハ又は石英ガラスが、有機物質の例として樹脂成形物やフィルムが挙げられる。フィルムの厚さとしては、１０〜５００μｍのものが透明性及び作業性の点より好ましい。基材としては、樹脂フィルムが好適に使用される。樹脂フィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、再生セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アクリロニトリル／スチレン／ブタジエン３元共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ナイロン、ポリエチレン、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ノルボルネン系樹脂等が挙げられる。これらの中では、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート等の良好な透明性を有するものが好ましい。
【００１７】
前記樹脂層を形成する樹脂として、例えば活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が使用可能である。その中でも、生産性及び諸物性の観点から活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
【００１８】
活性エネルギー線硬化型樹脂を用いる場合、そのコーティング剤の構成成分として重合性成分が必須である。すなわち、重合性成分は、単官能単量体、多官能単量体、ビニル基や（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマー及びビニル基や（メタ）アクリロイル基を有する重合体の中から１種又は２種以上が選択して使用される。その他必要に応じ、光分解型又は熱分解型等の重合開始剤、ビニル基や（メタ）アクリロイル基を含まないオリゴマー、ビニル基や（メタ）アクリロイル基を含まない重合体、界面活性剤、希釈溶剤、光増感剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤等の添加剤を適宜添加してもよい。
【００１９】
前記単官能単量体としては、公知の単官能単量体が全て使用可能であるが、例えば次の単官能単量体が好ましい。すなわち、炭素数が１〜２０であるアルコールとのエステル化合物で、かつフッ素原子を含まない化合物として（メタ）アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、フマル酸エステルが挙げられる。さらに、炭素数が１〜１０であるアミンとのアミド化合物で、フッ素原子を含まない（メタ）アクリル酸アミドが挙げられる。加えて、スチレン及びフッ素原子を含まない置換スチレンが挙げられる。また、上記エステル化合物、アミド化合物又は置換スチレンで、フッ素原子を含む化合物を用いることもできる。その他、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン及び置換Ｎ−ビニル−２−ピロリドンが挙げられる。
【００２０】
具体的には以下の単官能単量体を例示することができる。すなわち、単官能単量体としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸セチル、（メタ）アクリル酸イソボニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ペンタメチルピペリジル、（メタ）アクリル酸ヘキサヒドロフタル酸エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピルフタル酸エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリエチレングリコール等の（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ（ｍ）−メトキシスチレン、フマル酸ジｔ−ブチル、フマル酸ジｎ−ブチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸モノ（ジ）メチル、イタコン酸モノ（ジ）エチル、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンを含むことが好ましい。
【００２１】
前記多官能単量体としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物、ウレタン変性（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２'−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等の３価以上のアルコール等が挙げられる。
【００２２】
前記ウレタン変性（メタ）アクリレートは、１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体とのウレタン化反応によって得ることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。
【００２３】
それらの中で、樹脂層の強度向上や入手の容易性の観点から、ジ（メタ）アクリル酸ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸ジエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、トリ（メタ）アクリル酸ポリメチロールプロパン、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ヘキサ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール等の（メタ）アクリル酸エステル類、ヘキサメチレンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、トリレンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体、アダクト変性イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルとの付加体が好ましい。
【００２４】
ビニル基や（メタ）アクリロイル基を含まないオリゴマーとしては、アクリルオリゴマー、ポリエステルオリゴマー、エポキシオリゴマー、ウレタンオリゴマー、ポリエーテルオリゴマー、アルキッドオリゴマー、ポリブタジエンオリゴマー、ポリチオールポリエンオリゴマー及びスピロアセタールオリゴマーの各オリゴマー、多価アルコールの多官能（メタ）アクリル酸エステルからなるオリゴマーが挙げられる。
【００２５】
ビニル基や（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマーとしては、上記オリゴマーにビニル基や（メタ）アクリロイル基を付加させたオリゴマーが挙げられる。ビニル基や（メタ）アクリロイル基を含まない重合体としては、上記ビニル基や（メタ）アクリロイル基を含まないオリゴマーの重合体タイプが挙げられる。ビニル基や（メタ）アクリロイル基を有する重合体としては、上記ビニル基や（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマーの重合体タイプが挙げられる。
【００２６】
重合開始剤としては、紫外線や光等の活性エネルギー線照射により重合を開始する公知の化合物が挙げられ、例えばベンゾフェノン類、アセトフェノン類、α−アミロキシムエステル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられ、具体的には、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、α−アミロキシムエステル、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチュウラムモノサルファイド等が挙げられる。
【００２７】
熱硬化性樹脂としては、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用できる。その他必要に応じ、界面活性剤、希釈溶剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤等を添加してもよい。
【００２８】
熱可塑性樹脂としては、その原料成分が前記活性エネルギー線硬化型樹脂の場合に用いられる単官能単量体を重合して得られる重合体、アクリル系官能基を含まない重合体が必須であり、その他として必要に応じ、界面活性剤、希釈溶剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤や酸化防止剤等を添加してもよい。
【００２９】
前述したように、基材そのものの表面に凹凸部を設けることができるが、その場合には基材として疎水性材料（疎水性樹脂）を用いることが好ましい。係る場合には、基材上に樹脂層を設ける必要がなく、基材と樹脂層とを兼ねることができる。そのような基材として例えばフッ素樹脂（ポリテトラフルオロエチレン等）、前述の単官能単量体としてフッ素原子を含む活性エネルギー線硬化型樹脂等を使用することができる。
【００３０】
表面材は、必要に応じて基材の裏面、又は基材と樹脂層との間に、所望の機能層、例えば粘着剤層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、反射防止層、軟質（耐衝撃）層、ハードコート層、導電層、帯電防止層、断熱層、反射層、プライマー層等の各層を単層又は複数層で設けることができる。
【００３１】
次に、上記の表面材を製造する場合には、以下の２つの転写による方法が好ましいが、表面材（素材）の表面に凹凸部を直接形成することもできる。第１の転写法は、元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位を加圧しながら未硬化の活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる第２工程、元版を硬化された活性エネルギー線硬化型樹脂から剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含む方法である。
【００３２】
第２の転写法は、元版の凹凸パターン面と表面材の最表面に配置される熱可塑性樹脂とを密着させる第１工程、密着した部位の温度を熱可塑性樹脂の軟化点以上の温度にして加圧した後に常温まで冷却させる第２工程、元版を剥離して凹凸部を有する表面材を得る第３工程、及び前記凹凸部上に疎水化処理を施して疎水化処理層を形成する第４工程を含む方法である。
【００３３】
前記第１〜第３工程による凹凸部の形成方法は特に限定されるものではなく、従来公知の方法を使用することが可能であるが、例えばリソグラフ法（フォトリソグラフ法、フォトメカニカル法）や、それにより得られる凹凸付与基板を元版として用いる転写法は好ましい方法である。リソグラフ法は、一般に光、電子線などを用いて物質表面に刻みを入れる方法である。すなわち、まず最初に元版作製用素材の一面にレジストを塗布し、電子線露光装置で、レジストの各領域にそれぞれ露光描画を行い、現像後、凹凸パターンを得ることができる。次いで、その凹凸パターンをマスキング材として元版作製用素材を所定のエッチングレート比でプラズマエッチングして、前記特定の凹凸パターンを賦形可能な凹凸パターンが形成された元版を得ることができる。例えば、元版作製用素材が石英ガラス基板である場合には、フッ素系のガスに酸素を所定量混入したガスをエッチングガスとして、エッチングレートを調整することができる。元版としては、例えば市販の賦型フィルム、賦型ロール、賦型プレス用平板金型等又は所定の凹凸形状を有するものを作製して使用することもできる。
【００３４】
また、元版を転写して表面材に凹凸部を形成する方法は特に限定されず、従来公知の方法を適用することができる。軟化点を有する熱可塑性樹脂の場合には、その軟化点以上の温度で元版の凹凸パターン面を基材又は樹脂層に押し付けて表面を変形させ（第１工程）、その後冷却する（第２工程）ことにより元版を転写する方法が好ましい。
【００３５】
一方、活性エネルギー線硬化樹脂の場合には、その硬化前の液状の状態で元版を基材又は樹脂層に押し付けて変形させ（第１工程）、その状態で硬化させる（第２工程）。硬化方法としては、紫外線硬化方法等の活性エネルギー線を用いる硬化方法や、熱分解型重合開始剤を用いる硬化方法などの公知の硬化方法が採用される。硬化後、元版を剥離する（第３工程）ことで元版の凹凸パターンが転写された表面材が得られる。樹脂を硬化させる前に元版を剥離した状態で硬化させてもよい。樹脂を硬化させる前に元版を剥離し、その状態で硬化させてもよい。
【００３６】
次に、前記第４工程によって疎水化処理層を形成する方法としては、通常使用されているフッ素含有化合物等の撥水・撥油性処理剤及びシラン化合物などを使用する疎水化処理によって行うことができる。撥水・撥油性処理剤としては、従来公知のものを問題なく使用することができる。工業的な観点より、フッ素含有化合物としてパーフルオロアルキル基又はパーフルオロエーテル基を含有する単量体とその他の単量体を共重合して得られる共重合体等が好ましく使用される。
【００３７】
シラン化合物としては、従来公知のフッ素化シランカップリング剤が挙げられる。具体的には、下記化学式で示される化合物が挙げられる。
ＣＦ３−（ＣＦ２）ｎ−Ｒ−Ｓｉ（ＸｐＹ３−Ｐ）
〔式中、ｎは０〜１２の整数、好ましくは３〜１２の整数であり、Ｒは炭素原子数１〜１０の２価の有機基（例えば、メチレン基、エチレン基）又はケイ素原子及び酸素原子を含む基であり、Ｘは水素又は炭素原子数１〜４の一価炭化水素基（例えば、アルキル基、アリル基）又はこれらの誘導体から選ばれる置換基であり、ｐは０、１又は２であり、Ｙは炭素原子数が１〜４のアルコキシル基である。〕
これらの化合物の中から、単独又は複数の化合物を組み合わせて使用することができる。前記フルオロアルキルシランの中で、例えばｎ＝７、Ｒ＝エチレン基、ｐ＝０、Ｙ＝エトキシ基であるヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランや、ｎ＝７、Ｒ＝エチレン基、ｐ＝０、Ｙ＝メトキシ基であるヘプタデカフルオロトリメトキシシラン等が特に好ましい。
【００３８】
疎水化処理層を形成する方法としては、従来公知の方法を問題なく使用することができる。例えば、気相吸着法等のドライコーティング法、ウェットコーティング法が挙げられる。この中で工業的な観点よりウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法としては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、ハケ塗り法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンフローコート法、リバースコート法、キスコート法、コンマコート法等公知のいかなる方法でもよい。塗布に際しては、必要に応じて層間密着性を向上させるために、予めコロナ処理等の何らかの前処理を施してもよい。疎水化処理層と凹凸部を有する樹脂層との密着性を向上させる目的で樹脂層のＵＶ処理、プラズマ処理、コロナ処理等を疎水化処理層の形成前に樹脂層の表面に施すことが好ましい。
【００３９】
疎水化処理層中にはさらに平均粒子径０．００１〜１０μｍの微粒子を含有させることが好ましい。その場合、微粒子を含まない疎水化処理層に比較して水や油の浸透が抑えられる結果、撥水・撥油性能の効果をより高めることができる。微粒子の平均粒子径は、好ましくは０．００１〜０．２０μｍ、さらに好ましくは０．００５〜０．０５μｍである。
【００４０】
使用する微粒子としては特に限定されないが、例えば無機微粒子やプラスチックビーズが挙げられる。無機微粒子としてはコロイダルシリカを使用することが好ましい。コロイダルシリカは、例えば高分子無機珪酸の超微粒子を水又は有機溶剤中に分散せしめたコロイド溶液として入手でき、代表例として日産化学工業（株）製の「スノーテックス」、触媒化成工業（株）製の「ＯＳＣＡＬ」等を挙げることができる。このような無機微粒子を用いる場合、微粒子表面を予め疎水化処理しておくことが好ましい。プラスチックビーズの材質としては、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、アクリル−スチレン共重合樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）等が挙げられる。
【００４１】
前記微粒子の配合量は、上記疎水化処理層の構成成分１００質量部に対して、通常１０〜７０質量部、好ましくは２０〜６０質量部である。微粒子の配合量が１０質量部未満の場合には樹脂層に微粒子による効果が十分に発現できず、撥水・撥油性が低下し、７０質量部より多い場合には疎水化処理層の強度が低下する傾向にある。
【００４２】
前記対象物としては、例えば自動現金引出し預け入れ装置（ＡＴＭ）、現金自動支払機（ＣＤ）、ナビゲーション装置、パーソナルコンピュータ、テレビ、携帯電話等のディスプレイ（表示装置）等のほか、壁紙、台所タイル、ショウウインドーガラス、ガラスケース、プラスチックケースなどが挙げられる。それらの対象物のうち、タッチパネル及びタッチパネル付きのディスプレイが、防汚性を付与して視認性を向上させるために好ましい。
【００４３】
該ディスプレイの具体例としてはＣＲＴ（ブラウン管）、ＬＣＤ（液晶表示装置）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）、ＥＬＤ（エレクトロルミネッセンスディスプレイ）やプロジェクションディスプレイなど公知のディスプレイが全て含まれる。
【００４４】
タッチパネルには上記のような各種ディスプレイに組み込まれた一体型のほか、各種ディスプレイ装置表示面上に配置されるセパレート型がある。タッチパネルの方式としては公知の方式が採用され、特に制限されない。具体的に示すと、例えば超音波方式、抵抗膜方式、静電容量方式、電気歪み方式、磁気歪み方式、赤外線方式、電磁誘導方式などのタッチパネルの方式が挙げられる。消費電力、価格の観点からは抵抗膜方式のタッチパネルが好ましく、分解能の観点からは電磁誘導方式のタッチパネルが好ましい。
【００４５】
図１（ａ）に示すように、抵抗膜方式のタッチパネル１０は、片面に透明導電性薄膜１１、１２が設けられた固定側（図中下側）及び可動側（図中上側）の透明樹脂シートよりなる基材１３、１４を透明導電性薄膜１１、１２同士が対向するように配置し、周囲を接着用補強材１５で接着して一定間隔を保持できるように構成されている。一方の透明導電性薄膜１１上には多数の絶縁スペーサ１６が点状に設けられ、対向する透明導電性薄膜１１、１２間が絶縁される構造となっている。上記基材１３、１４、透明導電性薄膜１１、１２、絶縁スペーサ１６等によりタッチパネル本体が構成されている。可動側の基材１４上には、前記表面材１７が設けられている。
【００４６】
或いは、図１（ｂ）に示すタッチパネル１０は、図１（ａ）の構成において、可動側の基材１４表面には、表面材１７として粘着剤層１８によって透明基材１９が接着され、その表面に凹凸部２０が設けられている。そして、入力ペン２１又は指で表面材１７を押圧することにより、可動側の透明導電性薄膜１２を固定側の透明導電性薄膜１１に接触させ電気的に導通させて入力できるように構成されている。
【００４７】
電磁誘導方式のタッチパネル１０は、図２に示すように、基材１４の表面には、表面材１７として粘着剤層１８によって透明基材１９が接着され、その表面に凹凸部２０が設けられている。基材１４の裏面には液晶素子（ＬＣＤ）に受信回路が張り巡らされたペン位置検出器２２が設けられて構成されている。さらに、図示しない送信コイルが内蔵された電磁型の入力ペン２１が備えられている。そして、入力ペン２１で凹凸部２０を押圧することにより、電磁誘導が引き起こされて発生した電磁波がペン位置検出器２２で検出されて入力位置が記録されるように構成されている。前記抵抗膜方式及び電磁誘導方式のいずれのタッチパネル１０においても、入力操作等に際して指、手等が表面材１７の表面に接触し、生体由来脂質成分が付着する。
【００４８】
このようなタッチパネル１０などのディスプレイの表面における視認性を損なわないという観点から、全光線透過率は好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上である。全光線透過率が８０％未満であると、ディスプレイ表面に暗さを感じ、視認性が悪くなる。また、ヘイズ値は好ましくは４０％以下、より好ましくは３０％以下である。ヘイズ値が４０％を越える場合、不透明感を感じて視認性が悪くなる。
【００４９】
表面材の凹凸部とは反対側の面に粘着剤層を形成することにより、例えばタッチパネル等のディスプレイの前面に設置することが容易になる。その場合の粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等を用いることができるが、透明性の点ではアクリル系粘着剤を用いることが好ましく、また再剥離性の点ではシリコーン系粘着剤を用いることが好ましい。
【００５０】
粘着剤には粘着性ポリマー成分のほか、可塑剤、粘着付与成分等を含ませることができるが、透明性を損なわないようにすることがより望ましい。アクリル系粘着剤の主成分である粘着性ポリマーとしては、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソオクチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸プロピル等の炭素数が１〜１０のアルキル基のアルコールと（メタ）アクリル酸とのアルキルエステルと、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等の官能基含有不飽和単量体との共重合体が好ましい。ゴム系粘着剤の主成分である粘着性ポリマ―としては、スチレン−ブタジエンランダム共重合体、スチレン−イソプレン系ブロック共重合体、天然ゴム等が好ましい。これらの成分による粘着剤層の厚さは、５〜１００μｍであることが好ましい。
【００５１】
さて、本実施形態の作用を説明すると、例えばリソグラフ法により対象物自体の表面に凹凸パターンが形成され、または、それを元版として用いた転写法によって表面に凹凸部が形成さる。そしてこれらの凹凸部の表面にフッ素含有化合物等を用いる疎水化処理が施されて疎水化処理層が形成される。表面材の凹凸部を構成する凸部の幅ａ、高さｃ及び凹部の幅ｂが前記の式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすように設定される。このため、凸部の幅の範囲が規定され、その幅に対する凸部の高さの比と凹部の幅の比が所定範囲に設定され、凹凸部の凹凸形状が一定範囲の規則的なものとなる。そして、凹凸部が前記の関係式を満たす状態で、表面材表面に水又は油が付着すると、付着した水や油と凹凸部との間に空隙が形成され、水や油が良好に弾かれ、撥水・撥油特性が発現されるものと推測される。しかも、表面材の凹凸部上に形成された疎水化処理層の性質に基づいて表面に疎水性が発現される。
【００５２】
以上の実施形態によって発揮される効果について、以下にまとめて記載する。
・  本実施形態の表面材では、凹凸部を構成する凸部の幅ａ、高さｃ及び凹部の幅ｂが前記の式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすように設定される。すなわち、凸部の幅の範囲が規定され、その幅に対する凸部の高さの比と凹部の幅の比が所定範囲に設定され、凹凸部の凹凸形状が一定範囲の規則的なものとなる。かつ、凹凸部上には疎水化処理層が形成される。従って、表面材は、その表面における撥水・撥油特性が向上し、優れた防汚性を発揮することができる。
【００５３】
・  前記凹凸部が疎水性樹脂で形成されることにより、疎水性樹脂の疎水性に基づいて撥水・撥油特性を高めることができる。
・  前記凹凸部上の疎水化処理層中に平均粒子径が０．００１〜１０μｍの微粒子が含まれていることにより、前記凹凸部の凹凸上に、疎水化処理層中の微粒子によるさらに微細な凹凸が形成され、撥水・撥油特性をより一層向上させることができる。
【００５４】
・  表面材の製造方法として、元版を用いる転写法を採用することにより、上記の効果を有する表面材を簡便に製造することができると共に、得られる表面材は凹凸部が転写により形成されるため明瞭かつ均一な凹凸を形成することができる。
【実施例】
【００５５】
以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げて前記実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。各例における凸部の幅ａ、凹部の幅ｂ、凸部の高さｃ、撥水・撥油性及び防汚性を次の方法により測定し、評価した。
１）凸部の幅ａ及び凹部の幅ｂ
凸部の幅ａ（μｍ）及び凹部の幅ｂ（μｍ）を走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製、Ｓ−３０００Ｎ）にて測定した。
２）凸部の高さｃ
凸部の高さｃ（μｍ）を表面粗さ測定機（（株）小坂研究所製、サーフコーダＳＥ４０００）にて測定した。
３）撥水・撥油性
接触角測定装置（協和界面科学（株）製、型式：Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ５００）を用いて４μｌの液滴を用いた接触角測定を行い、純水に対する接触角により撥水性を評価し、ドデカンに対する接触角により撥油性をそれぞれ評価した。
４）防汚性
上記撥水・撥油性の評価において、純水に対する接触角及びドデカンに対する接触角が大きいほど防汚性が高いものとして評価した。
（製造例１）
シリコンウエハを基材として用意し、熱酸化法を用いて、シリコン基板の一方の面に約０．１μｍのシリコン酸化膜を形成した。次に、日本ゼオン（株）製の感光性樹脂ＺＥＰ５２０Ａ（溶液）を単結晶シリコン基板のシリコン酸化膜上へ滴下し、１分間に４０００回転の速度で１分間スピンコートし、感光性樹脂膜を形成した。このスピンコート条件によって、感光性樹脂が平均膜厚約０．１μｍ、ウエハ面内ばらつき１０％で塗布することができた。なお、塗布膜厚は加工する溝のサイズによって適宜変化させることができる。
【００５６】
次に、１８０℃のオーブンで３０分間乾燥させ、基板を室温まで冷却後、フォトリソグラフ法により凹凸パターンを形成した。続いて、フッ酸によって溝予定領域のシリコン酸化膜をエッチング後、感光性樹脂を剥離液で除去した。次いで、ドライエッチング装置を使って、Ｃ及びＦを有するガスを使ったプラズマ合成膜を形成し、続いてドライエッチング装置内を排気した後、化学式ＳＦ６又はＣＦ４ガスのプラズマによってシリコンをエッチングした。上記のプラズマ重合及びプラズマエッチングを繰り返すことによって、シリコン基板の表面をエッチングして、凹部及び凸部を形成した。以上の手順により、凹凸パターンが前記ａ＝１０μｍ、ｂ＝２μｍ及びｃ＝５μｍの素材を作製した。
（製造例２〜１１）
製造例１と同様な手順により、凹凸パターンが表１に示すようになるような素材を作製した。
（実施例１）
製造例１の素材をヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランの気相吸着反応により疎水化処理を行い、疎水化処理層を形成して表面材を得た。得られた表面材の表面における接触角は対水接触角１４０度及び対ドデカン接触角１２８度であった。なお、疎水化処理層表面の凹凸パターンは製造例１の素材の凹凸パターンと実質的に同じであった。
（実施例２〜１１）
実施例１において、素材を表１に示す製造例の素材に変えた以外は実施例１と同様な手順にて凹凸樹脂層を形成し、その表面に疎水化処理層を形成して表面材を得た。そして、実施例１と同様にして対水接触角、対ドデカン接触角の評価を行った。それらの各評価結果を表１に示す。なお、実施例２〜１１における疎水化処理層表面の凹凸パターンは元の素材（表１に示す各製造例の素材）の凹凸パターンと実質的に同じであった。
（実施例１２〜１６）
テトラエトキシシラン１００．０質量部、コロイダルシリカ（日産化学（株）製、商品名：スノーテックＩＰＡ−ＳＴ、３０％イソプロパノール溶液、平均粒子径：１２ｎｍ）５０．０質量部、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン４３．０質量部及び０．１Ｎ塩酸水溶液１９．３質量部を攪拌して混合液を調製した。製造例３、４、９、１０、１１の素材上に、その混合液をスピンコーティング法によりコーティングした。そして、実施例１と同様にして対水接触角、対ドデカン接触角の評価を行った。得られた各評価結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
2007301773.tif 000003
表１に示した結果より、実施例１〜１１においては、凸部の幅ａ、高さｃ及び凹部の幅ｂに関する前記関係式が本発明の範囲に入っているため、比較例１の場合に比べて対水接触角及び対ドデカン接触角が大きく、撥水・撥油性に優れ、防汚性が向上した。特に、実施例１、３、５、７では、凸部の幅ａ、高さｃ及び凹部の幅ｂの関係式が前述の好ましい範囲にあるため、撥水・撥油性、さらには防汚性の評価が最も優れていた。
【００５８】
加えて、実施例１２〜１６では、疎水化処理層中にシリカ微粒子が含まれているため、対水接触角及び対ドデカン接触角が全般に大きく、撥水・撥油性、さらには防汚性に優れていた。
（実施例１７）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に活性エネルギー線硬化型樹脂（ペンタエリスリトールトリアクリレート／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン／メチルエチルケトン＝１００／２／１５０、各量単位：質量部）配合物を乾燥膜厚が３μｍとなるように塗布し、７０℃で６０秒間乾燥した。その上へ製造例９で作製した素材を元版として加圧して押し付け、元版と基材との間に位置する活性エネルギー線硬化型樹脂が所定の形状になるように固定した。
【００５９】
その後、１２０Ｗ高圧水銀灯（日本電池(株)製）により紫外線を照射（積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２）して硬化させた。転写した凹凸の凸部の幅ａが１０μｍ、ｃ／ａが５及びｂ／ａが０．１である凹凸樹脂層（凹凸部）を形成した。その表面をコロナ処理して親水化した後、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランの気相吸着反応により疎水化処理を行い、疎水化処理層を形成し、表面材を得た。その表面の接触角は対水接触角１４２度及び対ドデカン接触角１２２度であった。なお、実施例１７における疎水化処理層表面の凹凸パターンは元の素材の凹凸パターンと実質的に同じであった。
（比較例１）
ＰＥＴフィルム上に活性エネルギー線硬化型樹脂（ペンタエリスリトールトリアクリレート／１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン／メチルエチルケトン＝１００／２／１５０、質量比を表す）配合物を乾燥膜厚が３μｍとなるように塗布し、７０℃で６０秒間乾燥した。その後、１２０Ｗ高圧水銀灯（日本電池(株)製）により紫外線を照射し（積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２）して硬化後、その表面をコロナ処理して親水化し、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシランの気相吸着法により疎水化処理した。得られた表面材は、表面に凹凸部がなく平滑なものであった。その表面における接触角は対水接触角１２０度、及び対ドデカン接触角７０度であった。
【００６０】
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・  表面材の凹凸部を構成する凸部の高さの範囲を規定し、その高さに対する凸部の幅及び凹部の幅の比の範囲を設定することもできる。
【００６１】
・  凹凸部の凹凸形状を特定するために、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に規定されている最大高さ（Ｒｙ）、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）などを加味することも可能である。
・  撥油性を評価する場合、ドデカンに対する接触角に代えて、オレイン酸などに対する接触角を採用することもできる。
【００６２】
さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
・  前記凹凸部を構成するａ、ｂ及びｃが下記に示す式（４）、式（５）及び式（６）の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の表面材。
【００６３】
式（４）：０．１≦ｃ／ａ≦２５
式（５）：０．０５≦ｂ／ａ≦５
式（６）：０．０５≦ａ≦１００μｍ
このように構成した場合、請求項１の発明の効果をより一層向上させることができる。
【００６４】
・  前記凹凸部を構成するａ、ｂ及びｃが下記に示す式（７）、式（８）及び式（９）の関係を満たすことを特徴とする請求項１に記載の表面材。
式（７）：０．５≦ｃ／ａ≦１０
式（８）：０．１≦ｂ／ａ≦０．４
式（９）：０．１≦ａ≦５０μｍ
このように構成した場合、請求項１の発明の効果を最も向上させることができる。
【００６５】
・  疎水性樹脂で形成されている表面に凹凸部を有し、該凹凸部を構成する凸部の幅をａ（μｍ）、高さをｃ（μｍ）及び凹部の幅をｂ（μｍ）とした場合、それらのａ、ｂ及びｃが下記に示す式（１）、式（２）及び式（３）の関係を満たすことを特徴とする表面材。
【００６６】
式（１）：０＜ｃ／ａ≦３０
式（２）：０．０１≦ｂ／ａ≦１０
式（３）：０．０１μｍ≦ａ≦５００μｍ
このように構成した場合、凹凸部が疎水性樹脂で形成されていることから疎水化処理を省略することが可能である。
【００６７】
・  前記疎水化処理層中に平均粒子径が０．００１〜１０μｍの微粒子が含まれていることを特徴とする請求項１に記載の表面材。このように構成した場合、前記凹凸部の凹凸上に、疎水化処理層中の微粒子によるさらに微細な凹凸が形成され、請求項１の発明の効果を向上させることができる。
【００６８】
・  対象物の表面に配置されるフィルム状のものであることを特徴とする請求項１に記載の表面材。このように構成した場合、表面材を対象物の表面に配置することにより、請求項１に係る発明の効果を容易に発揮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】（ａ）は抵抗膜方式のタッチパネルを模式的に示す断面図、（ｂ）は別の形態の抵抗膜方式のタッチパネルを模式的に示す断面図。
【図２】電磁誘導方式のタッチパネルを模式的に示す断面図。
【符号の説明】
【００７０】
１７…表面材、２０…凹凸部。
【図１】
2007301773.tif 000004
【図２】
2007301773.tif 000005