(57)【要約】【課題】優れた表示特性を有し、かつ、薄型化可能な液晶パネルおよび液晶表示装置を提供すること。【解決手段】本発明の液晶パネルは、液晶セルと、該液晶セルの一方の側に配置されたｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／４板である第１の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第２の光学補償層および第１の偏光子と、該液晶セルの他方の側に配置された第３の光学補償層、第４の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第５の光学補償層および第２の偏光子とを備える。第１の光学補償層は、高分子フィルムの延伸フィルムである。第２の光学補償層および第５の光学補償層の両方は液晶材料を含むコーティング層である。第３の光学補償層は、光学的に負の一軸性を示す材料の傾斜配向層である。第４の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有する。【選択図】図１
2007264585.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルと、該液晶セルの一方の側に配置されたｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／４板である第１の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第２の光学補償層および第１の偏光子と、該液晶セルの他方の側に配置された第３の光学補償層、第４の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第５の光学補償層および第２の偏光子とを備え、
該第１の光学補償層が、高分子フィルムの延伸フィルムであり、
該第２の光学補償層および該第５の光学補償層の両方が液晶材料を含むコーティング層であり、
該第３の光学補償層が、光学的に負の一軸性を示す材料の傾斜配向層であり、
該第４の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有する
液晶パネル。
【請求項２】
前記液晶セルが電界制御複屈折（ＥＣＢ）モードである、請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記液晶材料を含むコーティング層の厚みが、０．５〜５μｍである、請求項１または２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記第２の光学補償層の遅相軸の方向が、前記第１の偏光子の吸収軸の方向に対して１０°〜２０°または−１０°〜−２０°である、請求項１から３のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記第１の光学補償層の遅相軸の方向が、前記第１の偏光子の吸収軸の方向に対して７０°〜８０°または−７０°〜−８０°である、請求項１から４のいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。より詳細には、本発明は、優れた表示特性を有し、かつ、薄型化可能な液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の表示モードとして、目的に応じて種々の表示モードが採用されている。代表例としては、垂直配向（ＶＡ）モード、電界複屈折制御（ＥＣＢ）モード、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード等が知られている。現在、単純な構成で視野角特性に優れる等の利点に起因して、ＶＡモードが広く採用されている。
【０００３】
ＥＣＢモードは、単純な構成でしかも比較的安定に多色カラー表示が可能であるので、ＶＡモードに対抗し得る表示モードとして期待されている。しかし、ＥＣＢモードの液晶パネル（結果として液晶表示装置）は薄型化が困難であるという問題がある。
【特許文献１】特開２００５−１９６０４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、優れた表示特性を有し、かつ、薄型化可能な液晶パネルおよび液晶表示装置（特に、ＥＣＢモードの液晶パネルおよび液晶表示装置）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液晶パネルは、液晶セルと、該液晶セルの一方の側に配置されたｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／４板である第１の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第２の光学補償層および第１の偏光子と、該液晶セルの他方の側に配置された第３の光学補償層、第４の光学補償層、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有するλ／２板である第５の光学補償層および第２の偏光子とを備える。第１の光学補償層は、高分子フィルムの延伸フィルムである。第２の光学補償層および第５の光学補償層の両方は液晶材料を含むコーティング層である。第３の光学補償層は、光学的に負の一軸性を示す材料の傾斜配向層である。第４の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有する。
【０００６】
好ましい実施形態においては、上記液晶セルは電界制御複屈折（ＥＣＢ）モードである。
【０００７】
好ましい実施形態においては、上記液晶材料を含むコーティング層の厚みは、０．５〜５μｍである。
【０００８】
好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層の遅相軸の方向は、上記第１の偏光子の吸収軸の方向に対して１０°〜２０°または−１０°〜−２０°である。
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層の遅相軸の方向は、上記第１の偏光子の吸収軸の方向に対して７０°〜８０°または−７０°〜−８０°である。
【００１０】
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。この液晶表示装置は、上記の液晶パネルを含む。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように、本発明によれば、所定の光学特性を有する光学補償層を組み合わせ、かつ、それらのうちの特定の光学補償層を液晶材料から形成することにより、非常に優れた表示特性を有し、かつ、非常に薄い液晶パネル（特に、ＥＣＢモードの液晶パネル）を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学補償層付偏光板の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Ｒｅ」は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Ｒｅは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数とは、ＲｅとＲｔｈの比であり、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で表される。
（５）「λ／２板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏光に（または、左円偏光を右円偏光に）変換したりする機能を有するものをいう。λ／２板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／２である。
（６）「λ／４板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／４である。
（７）「光学的に負の一軸性を示す材料」とは、一方向の主軸の屈折率が他の２方向の屈折率よりも小さいような屈折率分布を有する材料をいう。このような材料は、例えば、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚのような屈折率分布を有する。
（８）「平均光軸」とは、光学的に負の一軸性を示す材料分子のそれぞれの光軸の統計的な平均の方向をいう。
（９）本明細書に記載される用語や記号に付される添え字は、例えば、「１」は第１の光学補償層を表し、「２」は第２の光学補償層を表し、「３」は第３の光学補償層を表す。
（１０）角度に関しては、長辺に対して反時計回りを「＋」、時計回りを「−」と定義する。
【００１３】
Ａ．液晶パネル
Ａ−１．液晶パネルの全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。液晶パネル１００は、液晶セル１０と、液晶セル１０の一方の側（図示例では視認側）に配置された第１の光学補償層２０、第２の光学補償層３０および第１の偏光子４１と、液晶セル１０の他方の側に配置された第３の光学補償層５０、第４の光学補償層６０、第５の光学補償層７０および第２の偏光子４２とを備える。必要に応じて、それぞれの偏光子の少なくとも一方の側（すなわち、液晶パネルの最外側および／または偏光子の光学補償層側）には任意の適切な保護層が配置され得る。
【００１４】
それぞれの光学補償層の配置順序は、目的に応じて任意の適切な配置順序が採用され得るが、好ましくは図１に示すような配置順序である。このような配置順序の光学補償層とＥＣＢモードの液晶セルとを組み合わせると、薄型で、かつ、非常に優れた表示特性を有する液晶パネルが得られ得るからである。本発明においては、第１の光学補償層２０は、高分子フィルムの延伸フィルムである。第２の光学補償層３０および第５の光学補償層７０の両方は液晶材料を含むコーティング層である。第３の光学補償層５０は、光学的に負の一軸性を示す材料の傾斜配向層である。第４の光学補償層６０は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有する。それぞれの光学補償層の詳細については、後述する。
【００１５】
液晶セル１０は、一対の基板（代表的にはガラス基板、プラスチック基板）１１、１２と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層１３とを有する。一方の基板（アクティブマトリクス基板）１２には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている（いずれも図示せず）。他方のガラス基板（カラーフィルター基板）１１には、カラーフィルター（図示せず）が設けられる。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板１２に設けてもよい。基板１１、１２の間隔（セルギャップ）は、スペーサー１４によって制御されている。基板１１、１２の液晶層１３と接する側には、例えばポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。
【００１６】
液晶セル１０の駆動モードとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な駆動モードが採用され得る。好ましくは、駆動モードは、電界制御複屈折（ＥＣＢ）モードである。上記のような液晶パネルの全体構成と組み合わせることにより、優れた表示特性を維持しつつ、顕著な薄型化が可能となるからである。
【００１７】
ＥＣＢモードは、電圧無印加時には液晶セル内の液晶分子が所定の方向に並び、電圧印加時には液晶分子が所定の方向から一定の角度に傾くことにより、複屈折効果により偏光状態を変化させて表示を行う。さらに、ＥＣＢモードは、印加電圧の大きさに応じて液晶分子の傾きが変化し、その傾きに応じて透過光強度が変化する。したがって、白色光を入射させた場合、検光子（視認側の偏光子）を通過した光は干渉現象によって着色し、その色相は液晶分子の傾き（印加電圧の強さ）に応じて変化する。その結果、ＥＣＢモードは、単純な構成で（例えば、カラーフィルターを設けることなく）カラー表示が可能となるという利点を有する。本発明においては、上記のような駆動メカニズム（表示メカニズム）を有する限り、任意の適切なＥＣＢモードが採用され得る。具体例としては、ホメオトロピック（ＤＡＰ：Ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｐｈａｓｅｓ）方式、ホモジニアス方式、ハイブリッド（ＨＡＮ：Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式が挙げられる。以下、それぞれの方式の概略を説明する。
【００１８】
図２は、ＤＡＰ方式における液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。図２（ａ）に示すように、電圧無印加時には、液晶分子は基板１１、１２面に垂直に配向する。このような垂直配向は、垂直配向膜（図示せず）を形成した基板間に負の誘電率異方性を有するネマチック液晶（以下、Ｎｎ液晶とする）を配することにより実現され得る。電圧無印加時に、第２の偏光子４２を通過した光（直線偏光）を液晶セル１０に入射させると、入射光は、垂直配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、第２の偏光子４２と直交する吸収軸を有する第１の偏光子４１で吸収される。これにより電圧無印加時において暗状態の表示が得られる（ノーマリブラックモード）。一方、図２（ｂ）に示すように、しきい値以上の電圧が印加されると、基板近傍の液晶分子を除き、液晶分子が一定角度ψだけ傾斜する。この角度ψは、印加電圧が大きくなるにしたがって大きくなる。その結果、入射光（直線偏光）は楕円偏光に変化し、一部の光が第１の偏光子（検光子）４１を透過する。下記式に示すように、透過光の強度Ｉは、印加電圧に依存し、かつ、入射光の波長に依存する。したがって、入射光が白色光の場合、第１の偏光子（検光子）４１を通過する光は干渉現象によって着色し、その色相は印加電圧の強さに応じて変化する。このようにして、カラー表示が可能となる。
Ｉ＝Ｉ０ｓｉｎ２θｓｉｎ２｛πｄΔｎ（Ｖ）／λ｝
ここで、Ｉ０は入射偏光の強度、θは入射偏光方向とセル中の通常光の振動方向とのなす角度、ｄはセルの厚み、Δｎ（Ｖ）は電圧Ｖでの複屈折率、λは入射光の波長である。
【００１９】
図３は、ホモジニアス方式における液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。図３（ａ）に示すように、電圧無印加時には、液晶分子は基板１１、１２面に平行に配向する。このような配向は、配向膜（図示せず）を形成した基板間に正の誘電率異方性を有するネマチック液晶（以下、Ｎｐ液晶とする）を配することにより実現され得る。一方、図３（ｂ）に示すように、しきい値以上の電圧が印加されると、基板近傍の液晶分子を除き、液晶分子が一定角度ψだけ傾斜する。この角度ψは、印加電圧が大きくなるにしたがって大きくなる。ホモジニアス方式は、電圧印加時と無印加時の液晶分子の配向状態が反対になる以外はＤＡＰ方式と同様の表示原理にしたがって表示を行う。液晶分子の配向状態の違いに起因して、ホモジニアス方式は、次のような特徴を有する：（１）電圧印加による干渉色の色相変化の順序がＤＡＰ方式と逆になる、（２）Ｎｐ液晶はＮｎ液晶に比べて誘電率異方性が顕著に大きいので、ＤＡＰ方式に比べてしきい値電圧が小さい、（３）ＤＡＰ方式に比べて色相の変化が明瞭である。
【００２０】
図４は、ＨＡＮ方式における液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。図４（ａ）に示すように、電圧無印加時には、液晶分子は基板１２近傍では当該基板に対して平行に配向し、液晶セル１０の厚み方向に沿って基板に対する傾きの角度が大きくなり、基板１１近傍では当該基板に対して垂直に配向する。したがって、Ｎｐ液晶およびＮｎ液晶の両方を使用できる。電圧印加時の液晶分子の傾きθは、初期の弾性変形θ０と誘電変形φの和で表される。Ｎｐ液晶を使用する場合には、図４（ｂ）に示すような配向状態をとり、Ｎｎ液晶を使用する場合には、図４（ｃ）に示すような配向状態をとる。ＨＡＮ方式の性能上の特徴の１つは、しきい値電圧が存在しないということである。電圧無印加時にすでに弾性変形θ０が存在しているからである。その結果、きわめて低い電圧で電気光学効果が生じる。
【００２１】
Ｂ．第１の光学補償層
第１の光学補償層２０は、いわゆるλ／４板として機能し得る。λ／４板として機能する第１の光学補償層の波長分散特性を、λ／２板として機能する第２の光学補償層３０の光学特性によって補正することによって、広い波長範囲での楕円偏光機能を発揮することができる。このような第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ１は、好ましくは９０〜１８０ｎｍであり、さらに好ましくは９０〜１５０ｎｍであり、最も好ましくは１０５〜１３５ｎｍである。さらに、第１の光学補償層２０は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有することが好ましい。
【００２２】
第１の光学補償層２０は、高分子フィルムの延伸フィルムであってもよい。
【００２３】
上記高分子フィルムを構成するポリマーの代表例としては、環状オレフィン系樹脂およびセルロース系樹脂が挙げられる。環状オレフィン系樹脂が特に好ましい。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。具体例としては、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとの共重合体（代表的には、ランダム共重合体）、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト変性体、ならびに、それらの水素化物が挙げられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーが挙げられる。
【００２４】
上記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等；シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。
【００２５】
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等の反応性の二重結合を１個有する化合物が挙げられる。
【００２６】
上記環状オレフィン系樹脂は、トルエン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した数平均分子量（Ｍｎ）が好ましくは２５，０００〜２００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜１００，０００、最も好ましくは４０，０００〜８０，０００である。数平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、流延の操作性が良いものができる。
【００２７】
上記環状オレフィン系樹脂がノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られるものである場合には、水素添加率は、好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。このような範囲であれば、耐熱劣化性および耐光劣化性などに優れる。
【００２８】
上記環状オレフィン系樹脂は、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
【００２９】
上記セルロース系樹脂としては、任意の適切なセルロース系樹脂（代表的には、セルロースと酸とのエステル）が採用され得る。好ましくは、セルロースと脂肪酸とのエステルである。このようなセルロース系樹脂の具体例としては、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等が挙げられる。セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ）が特に好ましい。低複屈折性であり、かつ、高透過率だからである。ＴＡＣは、多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。
【００３０】
ＴＡＣの市販品の具体例としては、富士写真フィルム社製の商品名「ＵＶ−５０」、「ＵＶ−８０」、「ＳＨ−５０」、「ＳＨ−８０」、「ＴＤ−８０Ｕ」、「ＴＤ−ＴＡＣ」、「ＵＺ−ＴＡＣ」、コニカ社製の商品名「ＫＣシリーズ」、ロンザジャパン社製の商品名「三酢酸セルロース８０μｍシリーズ」等が挙げられる。これらの中でも、「ＴＤ−８０Ｕ」が好ましい。透過率および耐久性に優れるからである。「ＴＤ−８０Ｕ」は、特にＴＦＴタイプの液晶表示装置において優れた適合性を有する。
【００３１】
上記第１の光学補償層は、高分子フィルムを延伸することにより得られる。好ましくは、上記環状オレフィン系樹脂または上記セルロース系樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。高分子フィルムを形成する方法、好ましくは、環状オレフィン系樹脂またはセルロース系樹脂からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、注型（キャスティング）法等が挙げられる。押出成形法または注型（キャスティング）法が好ましい。平滑性が高く、かつ、良好な光学的均一性を有するフィルムを得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。なお、上記高分子フィルム、好ましくは、上記環状オレフィン系樹脂および上記セルロース系樹脂は、多くのフィルム製品が市販されているので、当該市販フィルムをそのまま延伸処理に供してもよい。
【００３２】
上記フィルムの延伸倍率は、光学補償層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度等に応じて変化し得る。具体的には、延伸倍率は、好ましくは１．３〜２．３倍、さらに好ましくは１．４〜２．２倍、最も好ましくは１．４〜２．０倍である。このような倍率で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有する光学補償層が得られ得る。上記フィルムの延伸温度もまた、得られる光学補償層に所望される面内位相差値および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、好ましくは１３０〜１５５℃、さらに好ましくは１３５〜１５０℃、最も好ましくは１３７〜１４３℃である。このような温度で延伸することにより、本発明の効果を適切に発揮し得る面内位相差を有する光学補償層が得られ得る。延伸方法としては、例えば、縦一軸延伸法、横一軸延伸法が挙げられる。
【００３３】
第１の光学補償層の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。第１の光学補償層が高分子フィルムの延伸フィルムである場合には、厚みは、好ましくは５〜５０μｍであり、さらに好ましくは１０〜４０μｍであり、最も好ましくは２０〜３５μｍである。
【００３４】
Ｃ．第２の光学補償層および第５の光学補償層
Ｃ−１．第２の光学補償層および第５の光学補償層の概略および光学特性
第２の光学補償層３０および第５の光学補償層７０はいずれも、いわゆるλ／２板として機能し得る。第２の光学補償層３０がλ／２板として機能することにより、λ／４板として機能する第１の光学補償層２０の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。さらに、第５の光学補償層７０がλ／２板として機能することにより、第３の光学補償層５０や第４の光学補償層６０と組み合わされて楕円偏光が生じ得る。第２の光学補償層の面内位相差Ｒｅ２およびＲｅ５はいずれも、好ましくは２４０〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０〜２９０ｎｍであり、最も好ましくは２６０〜２８０ｎｍである。さらに、第２の光学補償層３０および第５の光学補償層７０はいずれも、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有することが好ましい。
【００３５】
本発明の液晶パネルにおいては、第２の光学補償層３０および第５の光学補償層７０の両方が液晶材料を含むコーティング層である。このような構成を採用することにより、液晶パネルの全体厚みを薄型化することができる。
【００３６】
第２の光学補償層および第５の光学補償層の厚みはそれぞれ、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。第２の光学補償層および第５の光学補償層の厚みは、好ましくは０．５〜５μｍであり、さらに好ましくは１〜４μｍであり、最も好ましくは１．５〜３μｍである。
【００３７】
Ｃ−２．第２の光学補償層および第５の光学補償層を構成する材料およびこれらの層の形成方法
Ｃ−２−１．液晶材料
上記液晶材料としては、上記のような特性が得られる限りにおいて任意の適切な液晶材料が採用され得る。液晶相がネマチック相である液晶材料（ネマチック液晶）が好ましい。液晶材料を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジニアス配向であることが好ましい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
上記液晶材料が液晶性モノマーである場合、例えば、重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーであることが好ましい。これは、後述するように、液晶性モノマーを重合または架橋させることによって、液晶性モノマーの配向状態を固定できるためである。液晶性モノマーを配向させた後に、例えば、液晶性モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となる。
【００３９】
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。
【００４０】
また、液晶モノマーとしては、特開２００３−２８７６２３号公報の段落（００３５）〜（００４６）に記載の液晶モノマーを好ましく例示できる。
【００４１】
上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。
【００４２】
Ｃ−２−２．コーティング層の形成方法
液晶材料のコーティング層は、上記液晶材料を適切な溶媒に溶解または分散した塗工液の塗工膜を形成し、次いで当該塗工膜中の液晶材料を配向させることにより形成され得る。より具体的には、コーティング層は、隣接する層（例えば、偏光子に積層された保護層）の表面に配向処理を施し、当該表面に塗工液を直接塗工して形成してもよく、配向処理を施した任意の適切な基材にコーティング層を形成した後、所定の層の表面に転写してもよい。液晶材料の配向は、当該液晶材料が液晶相を示す温度で熱処理することにより行われ得る。所定温度で熱処理を行うことにより、施された配向処理の方向に応じて液晶材料が配向する。その結果、得られるコーティング層の遅相軸の方向（液晶材料の配向方向）は、配向処理の方向に実質的に一致する。
【００４３】
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。好ましくはラビング処理である。なお、各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【００４４】
上記ラビング処理の方法は、好ましくは、長尺基材フィルムの表面をラビングロールによって擦るラビング処理工程において、金属表面を有する搬送ベルトによって上記長尺基材フィルムを支持して搬送すると共に、上記長尺基材フィルムを支持する搬送ベルトの下面を支持し上記ラビングロールに対向するように複数のバックアップロールを配設し、以下の式（１）で定義されるラビング強度ＲＳを好ましくは８００ｍｍ以上、より好ましくは８５０ｍｍ以上、さらに好ましくは１０００ｍｍ以上、特に好ましくは２２００ｍｍ以上に設定するという方法である。
【００４５】
ＲＳ＝Ｎ・Ｍ（１＋２πｒ・ｎｒ／ｖ）  ・・・（１）
【００４６】
ここで、Ｎはラビング回数（ラビングロールの個数）（無次元量）を、Ｍはラビングロールの押し込み量（ｍｍ）を、πは円周率を、ｒはラビングロールの半径（ｍｍ）を、ｎｒはラビングロールの回転数（ｒｐｍ）を、ｖは長尺基材フィルムの搬送速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を意味する。なお、後述のように、ラビングロールに起毛布が巻回されている場合は、ｒは起毛布部分を含めたラビングロールの半径（ｍｍ）を意味する。
【００４７】
上記方法によれば、（１）ラビング処理を施す際に、長尺基材フィルムを支持して搬送する搬送ベルトの下面を支持する複数のバックアップロールを配設することにより、ラビングロールの押し込み量を大きくしたとしても、安定した状態でラビング処理を施すことが可能であり、（２）長尺基材フィルムにブロッキングが生じているような場合であっても、上記「ラビング強度」と称されるパラメータの値を所定値以上とすることにより、均一な配向特性（均一な光学特性）を得ることが可能であり、（３）ロールｔｏロール方式によって長尺基材フィルムに連続的にラビング処理を施すことが可能であるため低コストが実現可能となる。なお、上記方法における「ラビングロールの押し込み量」とは、上記長尺基材フィルム表面に対してラビングロールの位置を変動させた場合において、ラビングロールが最初に長尺基材フィルムの表面に接した位置を原点（０点）とし、上記原点から長尺基材フィルムに向けてラビングロールを押し込んだ量（位置の変動量）を意味する。なお、後述のように、ラビングロールに起毛布が巻回されている場合は、ラビングロールに巻回した起毛布の毛先が最初に長尺基材フィルムの表面に接した位置を原点（０点）とする。
【００４８】
上記ラビング処理の方法において、ラビング処理を施す際に、長尺基材フィルムを支持して搬送する搬送ベルトの下面を支持する複数の棒状のバックアップロールを互いに略平行に配設することにより、バックアップロールに支持される搬送ベルトの平坦度が高まり易い。この場合、隣接するバックアップロールの軸間距離を５０ｍｍよりも小さく設定する場合には、バックアップロールの外形を必然的に小さくする必要がある。この場合、長尺基材フィルムの搬送速度が一定であるとすると、バックアップロールの外径が大きい場合に比べて、ラビング処理時にバックアップロールが高速回転することになり、この際に発生する熱によって、搬送ベルトに支持された長尺基材フィルムが変形する等の問題が生じるおそれがある。一方、隣接するバックアップロールの軸間距離を９０ｍｍよりも大きく設定する場合には、搬送ベルトの平坦度が低下することにより、配向ムラが生じ、外観不良が発生し易いという問題がある。したがって、このような問題を回避するには、隣接するバックアップロールの軸間距離は、５０ｍｍ以上９０ｍｍ以下に設定することが好ましく、６０ｍｍ以上８０ｍｍ以下に設定することがより好ましい。この好ましい構成によれば、長尺基材フィルムに、より一層、均一な配向特性を付与することができ、ひいては、より一層、均一な光学特性を有する光学補償層を形成することが可能である。
【００４９】
上記バックアップロールの外径（直径）を３０ｍｍよりも小さく設定する場合には、長尺基材フィルムの搬送速度が一定であるとすると、バックアップロールの外径が大きい場合に比べて、ラビング処理時にバックアップロールが高速回転することになり、この際に発生する熱によって、搬送ベルトに支持された長尺基材フィルムが変形する等の問題が生じるおそれがある。一方、バックアップロールの外径を８０ｍｍよりも大きく設定する場合には、搬送ベルトの平坦度が低下することにより、配向ムラが生じ、外観不良が発生し易いという問題がある。したがって、このような問題を回避するには、上記バックアップロールの外径は、３０ｍｍ以上８０ｍｍ以下に設定することが好ましく、４０ｍｍ以上７０ｍｍ以下に設定することがより好ましい。
【００５０】
本発明において、上記ラビングロールには起毛布が巻回されていることが好ましい。上記起毛布としては、例えば、レーヨン、コットン、ナイロン、およびこれらの混合物のいずれかを用いることが好ましい。
【００５１】
上記搬送ベルトの厚みとしては、容易に弛まないようにする一方で可とう性を付与するべく、好ましくは０．５〜２．０ｍｍの範囲、より好ましくは０．７〜１．５ｍｍの範囲である。
【００５２】
以下、図面を参照しつつ、上記ラビング方法の一例について説明する。
【００５３】
図７は、上記ラビング処理の方法を実施するためのラビング処理装置の概略構成を示す斜視図である。図７に示すように、上記ラビング処理装置は、駆動ロール１、２と、駆動ロール１、２間に架設され、長尺基材フィルムＦを支持して搬送する無限軌道の搬送ベルト３と、搬送ベルト３の上方において上下方向に昇降可能に配設されたラビングロール４と、長尺基材フィルムＦを支持する搬送ベルト３の下面を支持しラビングロール４に対向するように配設された複数（この例では５つ）の棒状のバックアップロール５とを備えている。なお、ラビング処理装置の前後には、必要に応じて適切な静電気除去装置や除塵装置等を設置しても良い。本発明においてラビング処理装置には、バックアップロールが２〜６個配設されていることが好ましい。
【００５４】
搬送ベルト３は、長尺基材フィルムＦを支持する側の表面が鏡面仕上げされた金属表面（搬送ベルト３全体を金属製としてもよい）とされている。このような金属としては、銅や鋼等の各種金属材料を用いることができるが、強度、硬度、耐久性の点より、ステンレス鋼を用いることが好ましい。長尺基材フィルムＦとの密着性を確保するため、鏡面仕上げの程度としては、算術平均表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４年度版））を０．０２μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは０．０１μｍ以下である。また、長尺基材フィルムＦの弛みを防止するには、これを支持する搬送ベルト３の弛みを防止する必要がある。搬送ベルト３の弛みを防止すると共に、駆動ロール１、２間に架設するために、ある程度の可とう性を付与する必要があることに鑑みれば、搬送ベルト３の厚みは、０．５〜２．０ｍｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは０．７〜１．５ｍｍの範囲とされる。また、搬送ベルト３の弛みを防止すると共に、搬送ベルト３の張力強度を考慮すれば、搬送ベルト３に付与する張力は、０．５〜２０ｋｇ重／ｍｍ２の範囲にすることが好ましく、より好ましくは、２〜１５ｋｇ重／ｍｍ２の範囲にすることである。
【００５５】
ラビングロール４は、その外周面に起毛布が巻回されていることが好ましい。起毛布の材質や形状等は、ラビング処理を施される長尺基材フィルムＦの材質に応じて適宜選択すればよい。一般的には、起毛布として、レーヨン、コットン、ナイロン、またはこれらの混合物等を適用することができる。この例に係るラビングロール４の回転軸は、長尺基材フィルムＦの搬送方向（図７の矢符で示す方向）に対して直角方向から傾斜（例えば、傾斜角度０度〜５０度）させることができるように、すなわち、長尺基材フィルムＦの長辺（長手方向）に対して任意の軸角度に設定できるように構成されている。また、ラビングロール４の回転方向は、ラビング処理の条件に応じて適宜選択可能である。
【００５６】
複数のバックアップロール５は、前述のように、長尺基材フィルムＦを支持する搬送ベルト３の下面を支持しラビングロール４に対向するように配設されている。複数のバックアップロール５が配設されていることにより、ラビングロール４の回転軸を傾斜させた状態で押し込んだとしても、また、ラビングロール４の押し込み量を大きくしたとしても、安定した状態でラビング処理を施すことが可能である。
【００５７】
上記ラビング装置を用いて長尺基材フィルムＦにラビング処理を施すに際し、所定のロール（図示せず）に巻回した状態の長尺基材フィルムＦが、複数の搬送ロール（図示せず）を経て搬送ベルト３上に供給される。そして、駆動ロール１、２を回転駆動させることにより、搬送ベルト３の上部が図７の矢符で示す方向に移動し、これに伴い、長尺基材フィルムＦも搬送ベルト３と共に搬送され、ラビングロール４によってラビング処理が施されることになる。
【００５８】
本例のラビング処理工程においては、以下の式（１）で定義されるラビング強度ＲＳを、好ましくは８００ｎｍ以上、より好ましくは８５０ｎｍ以上、さらに好ましくは１０００ｎｍ以上、特に好ましくは２２００ｎｍ以上に設定している。
【００５９】
ＲＳ＝Ｎ・Ｍ（１＋２πｒ・ｎｒ／ｖ）  ・・・（１）
【００６０】
図８は、図７に示すラビング処理装置を部分的に表す正面図であり、図８（ａ）はラビングロール４近傍の正面図を、図８（ｂ）はラビングロール４と長尺基材フィルムＦ表面との接触箇所近傍を拡大して示す正面図である。前述のように、上記式（１）において、Ｎはラビング回数（ラビングロール４の個数に相当し、この例では１）（無次元量）を、Ｍはラビングロール４の押し込み量（ｍｍ）を、πは円周率を、ｒはラビングロール４（起毛布４ａを含む）の半径（ｍｍ）を、ｎｒはラビングロールの回転数（ｒｐｍ）を、ｖは長尺基材フィルムＦの搬送速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を意味する。なお、ラビングロールの押し込み量Ｍとは、図８（ｂ）に示すように、長尺基材フィルムＦ表面に対してラビングロール４の位置を変動させた場合において、ラビングロール４に巻回した起毛布４ａの毛先が最初に長尺基材フィルムＦの表面に接した位置（図８（ｂ）において破線で示す位置）を原点（０点）とし、上記原点から長尺基材フィルムＦに向けてラビングロール４を押し込んだ量（図８（ｂ）において実線で示す位置まで押し込んだ量）を意味する。
【００６１】
上記のように、ラビング強度ＲＳを好ましくは８００ｎｍ以上、より好ましくは８５０ｎｍ以上、さらに好ましくは１０００ｎｍ以上、特に好ましくは２２００ｎｍ以上に設定することにより、たとえ、長尺基材フィルムＦにブロッキングが生じていたとしても均一な配向特性を付与することができ、ひいては、均一な光学特性を有する光学補償層を製造することが可能である。なお、本例に係るラビング処理の適用対象となる長尺基材フィルムＦとしては、その表面をラビング処理するか或いはその表面に形成した配向膜をラビング処理することにより、表面に塗布した液晶化合物を配向させることのできる機能が付与される限りにおいて、その材質に特に制限はなく、上記した長尺基材フィルムが適用可能である。
【００６２】
なお、ラビング強度ＲＳを好ましくは８００ｎｍ以上、より好ましくは８５０ｎｍ以上、さらに好ましくは１０００ｎｍ以上、特に好ましくは２２００ｎｍ以上に設定する限りにおいて、その他のラビング処理条件（各パラメータ）は、任意に選択可能であり、上記長尺基材フィルムＦの搬送速度ｖは、例えば、好ましくは１〜５０ｍ／ｍｉｎの範囲、より好ましくは１〜１０ｍ／ｍｉｎの範囲であり、ラビングロール４の回転数ｎｒは、例えば、好ましくは１〜３０００ｒｐｍの範囲、より好ましくは５００〜２０００ｒｐｍの範囲であり、ラビングロール４の押し込み量Ｍは、例えば、好ましくは１００〜２０００μｍの範囲、より好ましくは１００〜１０００μｍの範囲である。
【００６３】
なお、本例では、好ましい構成として、互いに略平行に配設された複数の棒状のバックアップロール５について、隣接する各バックアップロール５の軸間距離（図８（ａ）のＬ１〜Ｌ４）が、好ましくは５０ｍｍ以上９０ｍｍ以下、より好ましくは６０ｍｍ以上８０ｍｍ以下に設定されている。このような構成により、バックアップロール５に支持される搬送ベルト３の平坦度が高まり易い。また、軸間距離Ｌ１〜Ｌ４が５０ｍｍ以上に設定されているため（これにより、バックアップロール５の外径が必然的にある程度大きくなる）、ラビング処理時にバックアップロール５が高速回転することがなく、この際に発生する熱によって、搬送ベルト３に支持された長尺基材フィルムＦが変形する等の問題が生じ難い。さらには、軸間距離Ｌ１〜Ｌ４が９０ｍｍ以下に設定されているため、搬送ベルト３の平坦度が低下することもなく、長尺基材フィルムＦに均一な配向特性を付与することができる。各バックアップロール５の外径は、好ましくは３０ｍｍ以上８０ｍｍ以下、より好ましくは４０ｍｍ以上７０ｍｍ以下に設定される。バックアップロール５の外径を３０ｍｍ以上に設定することにより、ラビング処理時にバックアップロール５が高速回転することがなく、この際に発生する熱によって、搬送ベルト３に支持された長尺基材フィルムＦが変形する等の問題が生じ難い。また、バックアップロール５の外径を８０ｍｍ以下に設定することにより、搬送ベルト３の平坦度が低下することもなく、長尺基材フィルムＦに均一な配向特性を付与することができる。なお、本例では、バックアップロール５が棒状ロールからなる場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、バックアップロール５として、複数の球状体を具備するプレート（ベアリングプレート）を適用することも可能である。
【００６４】
上記のように、配向処理の処理方向は、コーティング層の遅相軸の方向と一致させるのが好ましい。例えば、第２の光学補償層がコーティング層である場合には、配向処理の処理方向は、第２の光学補償層の遅相軸の方向が第１の偏光子の吸収軸の方向に対して好ましくは１０°〜２０°または−１０°〜−２０°、さらに好ましくは１２°〜１８°または−１２°〜−１８°、最も好ましくは１４°〜１６°または−１４°〜−１６°となるような方向である。
【００６５】
上記溶媒としては、上記液晶材料を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶材料の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００６６】
上記塗工液における液晶材料の含有量は、液晶材料の種類や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶材料の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４０重量％であり、最も好ましくは１５〜３０重量％である。
【００６７】
上記塗工液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶材料として液晶モノマーを用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合開始剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例えば、光学フィルムの表面を平滑にするために用いられ、具体例としては、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が挙げられる。
【００６８】
上記塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が２０重量％である場合、塗工量は、塗工される層の表面の単位面積（１００ｃｍ2）あたり好ましくは０．０３〜０．１７ｍｌであり、さらに好ましくは０．０５〜０．１５ｍｌであり、最も好ましくは０．０８〜０．１２ｍｌである。
【００６９】
塗工方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。
【００７０】
次いで、上記液晶材料を配向させる。上記のように、当該液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶材料が液晶状態をとり、塗工される層の表面の配向処理方向に応じて当該液晶材料が配向する。これによって、塗工により形成された層に複屈折が生じ、所定の光学補償層が形成される。
【００７１】
上記のように処理温度は、液晶材料の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、処理温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。また、処理時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上、最も好ましくは４分以上である。処理時間が３０秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、処理時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。処理時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。
【００７２】
また、液晶材料として液晶モノマーを用いる場合には、上記塗工により形成された層に、さらに重合処理または架橋処理を施すことが好ましい。重合処理を行うことにより、上記液晶モノマーが重合し、液晶モノマーがポリマー分子の繰り返し単位として固定される。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶モノマーが３次元の網目構造を形成し、液晶モノマーが架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向状態が固定される。なお、液晶モノマーが重合または架橋して形成されるポリマーまたは３次元網目構造は「非液晶性」であり、したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。
【００７３】
上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の種類によって適宜選択され得る。例えば、光重合開始剤または光架橋剤を使用する場合には光照射を行えばよく、紫外線重合開始剤または紫外線架橋剤を使用する場合には紫外線照射を行えばよい。光または紫外線の照射時間、照射強度、合計の照射量等は、液晶材料の種類、透明保護フィルムの種類および配向処理の種類、得られる光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。
【００７４】
Ｄ．第３の光学補償層
第３の光学補償層５０は、光学的に負の一軸性を示す材料の傾斜配向層である。第３の光学補償層を傾斜配向層とすることにより、ＥＣＢモードの完全に垂直になっていない液晶を好ましく補償でき、視覚特性が向上する。光学的に負の一軸性を示す材料の具体例としては、ポリイミド系材料などの非液晶系材料、ディスコチック液晶化合物などの液晶系材料が挙げられる。さらに、これらの材料を主成分として含有し、その他のポリマーまたはオリゴマーと混合および反応させて、負の一軸性を示す材料が傾斜配向した状態で固定化したフィルムも用いられ得る。液晶系材料が好ましく、ディスコチック液晶化合物が特に好ましい。ディスコチック液晶化合物を用いる場合には、その傾斜配向状態は、ディスコチック液晶化合物の種類および分子構造、配向膜の種類、添加剤（例えば、可塑剤、バインダー、界面活性剤）等を調整することにより制御され得る。
【００７５】
上記ディスコチック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼンや１，３，５−トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶性化合物をいう。ディスコチック液晶の代表例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。
【００７６】
本明細書における「傾斜配向」とは、第３の光学補償層内における光学的に負の一軸性を示す材料（例えば、ディスコチック液晶化合物）の分子が、当該光学補償層の平面に対して傾斜して並んでいる状態をいう。傾斜配向状態は、第３の光学補償層の厚み方向にしたがって分子の傾斜角度が変化してもよく、厚み方向で分子の傾斜角度が変化せず一定（チルト配向）であってもよい。本発明においては、光学的に負の一軸性を示す材料の光軸と第３の光学補償層の法線方向とのなす角度は、第４の光学補償層６０に近づくにしたがって増加し、第３の光学補償層５０と第４の光学補償層６０との界面において最大になることが好ましい。
【００７７】
第３の光学補償層における上記光学的に負の一軸性を示す材料の平均光軸は、該第３の光学補償層の法線方向に対して好ましくは５°〜５０°、さらに好ましくは１０°〜３０°、最も好ましくは１５°〜２５°の角度で傾斜している。傾斜角度を５°以上に制御することにより、液晶表示装置等に実装した場合に視野角拡大効果が大きい。傾斜角度を５０°以下に制御することにより、上下左右の４方向のいずれの方向においても視野角特性が良好となり、見る方向によって視野角特性が良くなったり悪くなったりすることを抑えることができる。
【００７８】
上記のような第３の光学補償層の面内位相差Ｒｅ３は、好ましくは０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは１〜１５０ｎｍである。さらに、厚み方向の位相差Ｒｔｈ３は、好ましくは１０〜４００ｎｍであり、さらに好ましくは５０〜３００ｎｍである。
【００７９】
第３の光学補償層の厚みは特に制限されないが、本発明においては好ましくは１〜２００μｍ、さらに好ましくは２〜１５０μｍである。
【００８０】
Ｅ．第４の光学補償層
Ｅ−１．第４の光学補償層の光学特性および構成材料
第４の光学補償層６０は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの屈折率分布を有する。第４の光学補償層の面内位相差Ｒｅ４は好ましくは２４０〜３５０ｎｍであり、さらに好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、特に好ましくは２６０〜２８０ｎｍであり、最も好ましくは２６５ｎｍ〜２７５ｎｍである。第４の光学補償層の面内位相差を可視波長の約１／２とすることによって、液晶表示装置の斜め方向のコントラスト比を高めることができる。
【００８１】
第４の光学補償層として厚み方向に屈折率が制御された光学補償層を用いることで、つまり、厚み方向の屈折率ｎｚを面内最小屈折率のｎｙよりも大きくすることで、ＥＣＢモードの完全に垂直になっていない液晶を好ましく補償でき、視覚特性が向上する。第４の光学補償層の厚み方向位相差Ｒｔｈ４は、好ましくは３５〜１９０ｎｍであり、さらに好ましくは９０〜１９０ｎｍであり、特に好ましくは１００〜１６５ｎｍであり、最も好ましくは１２０〜１５５ｎｍである。
【００８２】
第４の光学補償層６０は、上記の光学的特性を満足する限りにおいて、任意の適切な材料から構成され得る。好ましくは、第４の光学補償層は、変性ポリカーボネート系樹脂を含有する位相差フィルムを含む。さらに好ましくは、第４の光学補償層は、スチレン系樹脂とポリカーボネート系樹脂（以下、スチレン／ポリカーボネートブレンドともいう）を含有する位相差フィルムを含む。第４の光学補償層は、スチレン／ポリカーボネートブレンドを含有する位相差フィルム単独であってもよく、２枚以上の位相差フィルムの積層体であってもよく、位相差フィルムと他のフィルム（好ましくは、等方性フィルム）との積層体であってもよい。好ましくは、第４の光学補償層は、単独の位相差フィルムである。偏光子の収縮応力やバックライトの熱による位相差値のズレやムラを低減し、かつ、液晶パネルを薄くすることができるからである。なお、上記のような位相差フィルムは、代表的には高分子フィルムの延伸フィルムである。以下、簡単のため、第４の光学補償層がスチレン／ポリカーボネートブレンドを含有する位相差フィルム単独で構成される場合について説明する。
【００８３】
第４の光学補償層の光弾性係数は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した値の絶対値Ｃ〔５９０〕（ｍ２／Ｎ）が、好ましくは２．０×１０−１１〜８．０×１０−１１であり、さらに好ましくは２．０×１０−１１〜６．０×１０−１１であり、特に好ましくは３．０×１０−１１〜６．０×１０−１１であり、最も好ましくは４．０×１０−１１〜６．０×１０−１１である。このような範囲とすることによって、偏光子の収縮応力やバックライトの熱による位相差値のズレやムラが生じにくい、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を有する光学補償層を得ることができる。このような位相差フィルムを用いることにより、液晶表示装置の斜め方向の表示ムラが顕著に改善され得る。
【００８４】
第４の光学補償層の厚みは、好ましくは１０〜２００μｍ、さらに好ましくは１５〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１００μｍ、最も好ましくは５０〜８０μｍである。
【００８５】
上記スチレン／ポリカーボネートブレンドにおける上記スチレン系樹脂の含有量は、全固形分１００重量部に対して、好ましくは１０〜４０重量部であり、さらに好ましくは２０〜４０重量部であり、特に好ましくは２２〜３８重量部であり、最も好ましくは２５〜３５重量部である。上記の範囲であれば、光弾性係数が十分に小さく、かつ、耐久性、自己支持性、延伸性および剛性などに適したガラス転移温度を有する光学補償層が得られ得る。その結果、液晶表示装置に用いても応力によって位相差値のズレやムラが生じにくい、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を有する光学補償層を得ることができる。
【００８６】
上記スチレン系樹脂とは、スチレン系モノマーを任意の適切な方法で重合させることによって得られるスチレン系重合体をいう。上記スチレン系モノマーの具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン等が挙げられる。また、市販のスチレン系樹脂なども用いることができる。具体例としては、スチレン樹脂、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、アクリロニトリル・エチレン・スチレン樹脂、スチレン・マレイミド共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。また、上記スチレン系樹脂とスチレン系モノマーとを併用してもよい。
【００８７】
上記スチレン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするＧＰＣ法で測定されるポリスチレン換算で好ましくは２０，０００未満であり、さらに好ましくは１，０００〜１０，０００であり、特に好ましくは１，０００〜６，０００であり、最も好ましくは１，０００〜３，０００である。上記の範囲であれば、スチレン系樹脂とポリカーボネート系樹脂とが均質に混合され、透明性の高い光学補償層を得ることができる。
【００８８】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、芳香族２価フェノール成分とカーボネート成分とからなる芳香族ポリカーボネートが好ましい。芳香族ポリカーボネートは、通常、芳香族２価フェノール化合物とカーボネート前駆物質との反応によって得ることができる。すなわち、芳香族２価フェノール化合物を苛性アルカリおよび溶剤の存在下でホスゲンを吹き込むホスゲン法、あるいは芳香族２価フェノール化合物とビスアリールカーボネートとを触媒の存在下でエステル交換させるエステル交換法により得ることができる。ここで、カーボネート前駆物質の具体例としては、ホスゲン、上記２価フェノール類のビスクロロホーメート、ジフェニルカーボネート、ジ−ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等が挙げられる。ホスゲン、ジフェニルカーボネートが好ましい。
【００８９】
上記芳香族２価フェノール化合物の具体例としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジプロピルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。好ましくは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンが用いられる。特に、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとを併用することが好ましい。これらを併用することにより、光弾性係数が十分に低く、かつ、適切なＴｇおよび剛性を有する光学補償層が得られ得る。
【００９０】
芳香族２価フェノール化合物として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとを併用したポリカーボネート系樹脂は、下記式（２０）および（２１）で表される繰り返し単位を含む。
【００９１】
【化１】
2007264585.tif 000003
【００９２】
芳香族２価フェノール化合物として、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとを併用する場合は、両者の使用割合を変えることによって、第４の光学補償層のＴｇおよび／または光弾性係数を調整することができる。例えば、ポリカーボネート系樹脂中の１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンの含有率を高くすれば、Ｔｇを高め、光弾性係数を低くすることができる。ポリカーボネート系樹脂中の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとの重量比は、好ましくは２：８〜８：２であり、さらに好ましくは３：７〜６：４であり、特に好ましくは３：７〜５：５であり、最も好ましくは４：６である。このような重量比で併用することにより、光弾性係数が十分に低く、かつ、耐久性、自己支持性、延伸性および剛性などに適したガラス転移温度を有する光学補償層が得られ得る。
【００９３】
上記ポリカーボネート系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフランを展開溶媒とするＧＰＣ法で測定されるポリスチレン換算で好ましくは２５，０００〜２００，０００であり、さらに好ましくは３０，０００〜１５０，０００であり、特に好ましくは４０，０００〜１００，０００であり、最も好ましくは５０，０００〜８０，０００である。上記ポリカーボネート系樹脂の重量平均分子量を上記の範囲とすることによって、機械的強度に優れた光学補償層を得ることができる。
【００９４】
上記ポリカーボネート系樹脂とスチレン系樹脂との重量分子量（Ｍｗ）の差（ポリカーボネート系樹脂のＭｗ−スチレン系樹脂のＭｗ）は、好ましくは２４，０００〜９２，０００であり、さらに好ましくは２９，０００〜８７，０００であり、特に好ましくは３９，０００〜７７，０００であり、最も好ましくは４９，０００〜６７，０００である。上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、かつ、透明性の高い光学補償層を得ることができる。
【００９５】
第４の光学補償層は、例えば、スチレン／ポリカーボネートブレンドを含む高分子フィルムの片面または両面に収縮性フィルムを貼り合わせて、ロール延伸機にて縦一軸延伸法で加熱延伸して得ることができる。当該収縮性フィルムは、加熱延伸時に延伸方向と直交する方向の収縮力を付与し、得られる位相差フィルムの厚み方向の屈折率を大きくするために用いられる。上記収縮性フィルムを貼り合わせる方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、上記高分子フィルムと上記収縮性フィルムとの間にアクリル系粘着剤層を設けて接着する方法が、生産性および作業性に優れる点から好ましい。
【００９６】
Ｅ−２．第４の光学補償層の形成方法
第４の光学補償層の形成方法の一例について、図５を参照して説明する。図５は、第４の光学補償層の代表的な形成方法の概念を示す模式図である。例えば、スチレン系樹脂とポリカーボネート系樹脂とを含む高分子フィルム５０２は、第１の繰り出し部５０１から繰り出され、ラミネートロール５０７、５０８により、当該高分子フィルム５０２の両面に、第２の繰り出し部５０３から繰り出された粘着剤層を備える収縮性フィルム５０４と、第３の繰り出し部５０５から繰り出された粘着剤層を備える収縮性フィルム５０６とが貼着される。高分子フィルムの両面に収縮性フィルムが貼着された積層体は、加熱手段５０９によって一定温度に保持されながら、速比の異なるロール５１０、５１１、５１２および５１３でフィルムの長手方向の張力を付与され（同時に収縮性フィルムによって、厚み方向への張力を付与され）ながら、延伸処理に供される。第１の巻き取り部５１４および第２の巻き取り部５１６にて、延伸処理された積層体から収縮性フィルム５０４および５０６が粘着剤層と共に剥離され、位相差フィルム（延伸フィルム）５１８が得られる。必要に応じて、得られた位相差フィルム５１８は、第３の巻き取り部５１９で巻き取られる。この位相差フィルムが第４の光学補償層となる。
【００９７】
上記スチレン／ポリカーボネートブレンドを含有する高分子フィルムは、代表的には、キャスティング法や溶融押出法により得ることができる。キャスティング法が好ましい。平滑性が高く、かつ、良好な光学均一性を有する位相差フィルムが得られるからである。
【００９８】
上記のように、収縮性フィルムは、加熱延伸時に延伸方向と直交する方向の収縮力を付与し、得られる位相差フィルムの厚み方向の屈折率を大きくするために用いられる。上記収縮性フィルムに用いられる材料としては、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンが挙げられる。収縮均一性、耐熱性が優れる点から、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
【００９９】
上記収縮性フィルムは、好ましくは、二軸延伸フィルム、一軸延伸フィルム等の延伸フィルムである。上記収縮性フィルムは、例えば、押出法によりシート状に成形された未延伸フィルムを同時二軸延伸機等で所定の倍率で縦および／または横方向に延伸して得ることができる。なお、成形および延伸条件は、目的、用いる樹脂の組成または種類等に応じて適宜選択され得る。収縮均一性、耐熱性が優れる点から、二軸延伸ポリプロピレンフィルムが特に好ましい。
【０１００】
１つの実施形態においては、上記収縮性フィルムの１４０℃におけるフィルム長手方向の収縮率：Ｓ１４０（ＭＤ）は好ましくは２．７〜９．４％であり、かつ、幅方向の収縮率：Ｓ１４０（ＴＤ）は好ましくは４．６〜１５．８％である。別の実施形態においては、上記収縮性フィルムの１６０℃におけるフィルム長手方向の収縮率：Ｓ１６０（ＭＤ）は好ましくは１３〜２３％であり、かつ、幅方向の収縮率：Ｓ１６０（ＴＤ）は好ましくは３０〜４８％である。上記の範囲であれば、所望の位相差値を有し、かつ、均一性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【０１０１】
上記スチレン／ポリカーボネートブレンドを含有する高分子フィルムを加熱延伸する際の延伸温度は、当該高分子フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）以上であることが好ましい。位相差値が均一になり易く、かつ、得られるフィルムが結晶化（白濁）しにくいからである。延伸温度は、好ましくは、上記高分子フィルムのＴｇ＋１℃〜Ｔｇ＋３０℃である。
【０１０２】
上記高分子フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１１０〜１８５℃であり、さらに好ましくは１２０〜１７０℃であり、特に好ましくは１２５〜１５０℃である。Ｔｇが１１０℃以上であれば、熱安定性の良好なフィルムが得やすくなり、１８５℃以下の温度であれば延伸によってフィルム面内および厚み方向の位相差値を制御しやすい。
【０１０３】
上記高分子フィルムを加熱延伸する際の延伸倍率は、当該高分子フィルムの組成、揮発性成分等の種類、揮発性成分等の残留量、所望の位相差値等に応じて適切に設定され得る。延伸倍率は、例えば、１．０５〜２．００倍である。
【０１０４】
Ｆ．偏光子
上記第１の偏光子４１および第２の偏光子４２はそれぞれ、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。第１の偏光子４１および第２の偏光子４２は、同一であってもよく異なっていてもよい。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。
【０１０５】
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。
【０１０６】
ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１０７】
Ｇ．保護層
上記保護層としては、偏光板の保護フィルムとして使用できる任意の適切なフィルムが採用され得る。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましい。それぞれの保護層は同一であってもよく、異なっていてもよい。
【０１０８】
上記保護層は、透明で、色付きが無いことが好ましい。具体的には、厚み方向の位相差値が、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋８０ｎｍであり、最も好ましくは−７０ｎｍ〜＋７０ｎｍである。
【０１０９】
上記保護層の厚みとしては、上記の好ましい厚み方向の位相差が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、保護層の厚みは、好ましくは５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１ｍｍ以下であり、特に好ましくは１〜５００μｍであり、最も好ましくは５〜１５０μｍである。
【０１１０】
Ｈ．液晶表示装置
図６は、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。ここでは透過型液晶表示装置について例示するが、本発明は反射型および半透過型にも同様に適用され得る。液晶表示装置２００は、本発明の液晶パネル１００と、液晶パネル１００の両側に配置された保護層１１０、１１０’と、保護層１１０、１１０’のさらに外側に配置された表面処理層１２０、１２０’と、表面処理層１２０’の外側（図示例ではバックライト側）に配置された、輝度向上フィルム１３０、プリズムシート１４０、導光板１５０およびランプ１６０とを備える。上記Ｇ項で説明した保護層が第１の偏光子４１および第２の偏光子４２の外側に配置される場合には、保護層１１０、１１０’は省略され得る。上記表面処理層１２０、１２０’は、代表的には、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、拡散処理（アンチグレア処理ともいう）などを施した処理層である。上記輝度向上フィルム１３０の代表例としては、偏光選択層を有する偏光分離フィルム（例：住友３Ｍ（株）製  商品名「Ｄ−ＢＥＦシリーズ」）が挙げられる。これらの光学部材を目的に応じて適切に用いることによって、さらに表示特性の高い液晶表示装置を得ることができる。図６に記載した光学部材は例示であり、本発明の効果が得られる限りにおいて、その一部が省略されてもよく、他の光学部材で代替されてもよい。
【０１１１】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。
【０１１２】
（１）位相差の測定
試料フィルム（光学補償層）の屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを、自動複屈折測定装置（王子計測機器株式会社製，自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）により計測し、面内位相差Ｒｅおよび厚み方向位相差Ｒｔｈを算出した。測定温度は２３℃、測定波長は５９０ｎｍであった。
（２）厚みの測定
コーティングにより形成された試料フィルム（光学補償層）については、大塚電子製ＭＣＰＤ２０００を用いて干渉膜厚測定法によって測定した。その他の試料フィルムの厚みは、ダイヤルゲージを用いて測定した。
【実施例１】
【０１１３】
ａ．第１の光学補償層／第２の光学補償層／保護層／偏光子／保護層を有する積層体の作製
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）保護層／偏光子／ＴＡＣ保護層の構成を有する偏光板（日東電工株式会社製、商品名「ＳＥＧ１４２５ＤＵ」）を用意した。
【０１１４】
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名PaliocolorLC242、下記式（１０）で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。
【化２】
2007264585.tif 000004
【０１１５】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の条件は、ラビング回数（ラビングロール個数）は１、ラビングロール半径ｒは７６．８９ｍｍ、ラビングロール回転数ｎｒは１５００ｒｐｍ、フィルム搬送速度ｖは８３ｍｍ／ｓｅｃであり、ラビング強度ＲＳおよび押し込み量Ｍは表１に示すような５種類の条件（ａ）〜（ｅ）で行った。
【０１１６】
【表１】
2007264585.tif 000005
【０１１７】
配向処理の方向は、偏光板と貼り付ける際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て−７５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記塗工液をバーコーターにより塗工し、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶材料を配向させた。条件（ａ）〜（ｃ）では液晶の配向状態が非常に良好であった。条件（ｄ）および（ｅ）では液晶の配向に若干の乱れが生じたが、実用上は問題のないレベルであった。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて１ｍＪ/ｃｍ2の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ＰＥＴフィルム上に第２の光学補償層を形成した。第２の光学補償層の厚みは２μｍ、面内位相差Ｒｅ２は２７０ｎｍであった。さらに、第２の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。
【０１１８】
この第２の光学補償層を、イソシアネート系接着剤（厚み５μｍ）を用いて上記偏光板（日東電工株式会社製、商品名「ＳＥＧ１４２５ＤＵ」）の表面に貼り付けた。最後に、ＰＥＴフィルムを剥離して、第２の光学補償層／保護層／偏光子／保護層を有する積層体を得た。
【０１１９】
ノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製：商品名ゼオノア：厚み６０μｍ）を１４０℃で１．３２倍に一軸延伸することによって、第１の光学補償層を作製した。第１の光学補償層の厚みは５４μｍ、面内位相差Ｒｅ１は１４０ｎｍであった。さらに、第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。
【０１２０】
この第１の光学補償層を、該第１の光学補償層の遅相軸が偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て−１５°方向となるようにして、イソシアネート系接着剤（厚み５μｍ）を用いて上記第２の光学補償層の表面に貼り付けた。このようにして、第１の光学補償層／第２の光学補償層／保護層／偏光子／保護層を有する積層体Ａを得た。
【０１２１】
ｂ．第３の光学補償層／第４の光学補償層／第５の光学補償層／保護層／偏光子／保護層を有する積層体の作製
第３の光学補償層用フィルムとして、支持基材と液晶層とを有する複合フィルム（富士写真フィルム社製、ＷＶＳＡ１２Ｂ：厚み１１０μｍ）を用いた。この複合フィルムは、ＴＡＣ支持基材上にディスコチック液晶の傾斜配向層が設けられている。この複合フィルムの面内位相差Ｒｅ３は３０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ３は１６０ｎｍであり、平均光軸の傾斜角度は２０°であった。
【０１２２】
ポリカーボネートフィルム（厚み５８μｍ）の両側に、アクリル系粘着剤層（厚み１５μｍ）を介して二軸延伸ポリプロピレンフィルム〔東レ製  商品名「トレファン」（厚み６０μｍ）〕を貼り合せた。その後、ロール延伸機でフィルムの長手方向を保持して、１４７℃の空気循環式恒温オーブン内で１．２７倍に延伸し、二軸延伸ポリプロピレンフィルムを粘着剤層とともに剥離して、第４の光学補償層を得た。第４の光学補償層の厚みは６４μｍ、面内位相差Ｒｅ４は２７０ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ４は１３２ｎｍ、Ｎｚ係数は０．４９であった。なお、二軸延伸ポリプロピレンフィルムのＳ１４０（ＭＤ）は５．７％、Ｓ１４０（ＴＤ）は７．６％、Ｓ１６０（ＭＤ）は１８．０％、Ｓ１６０（ＴＤ）は３５．７％であった。
【０１２３】
上記第３の光学補償層用複合フィルムの液晶層と上記第４の光学補償層とを、遅相軸の向きをそろえて、イソシアネート系硬化型接着剤（厚み５μｍ）を用いて貼り合わせて、積層体Ｃを得た。
【０１２４】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板と貼り付ける際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て−１５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記と同様の液晶塗工液を塗工し、上記と同様にして液晶を配向および硬化させて、ＰＥＴフィルム上に第５の光学補償層を形成した。第５の光学補償層の厚みは２μｍ、面内位相差Ｒｅ５は２７０ｎｍであった。さらに、第５の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。この第５の光学補償層を、イソシアネート系接着剤（厚み５μｍ）を用いて上記第４の光学補償層の表面に貼り付けた後、ＰＥＴフィルムを剥離した。得られた積層体の第５の光学補償層に、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介してＴＡＣ保護層／偏光子／ＴＡＣ保護層の構成を有する偏光板（日東電工株式会社製、商品名「ＳＥＧ１４２５ＤＵ」）を貼り合わせた。このようにして、第３の光学補償層／第４の光学補償層／第５の光学補償層／保護層／偏光子／保護層を有する積層体Ｂを得た。
【０１２５】
ｃ．液晶パネルの作製
ＥＣＢモード（ＤＡＰ方式）の液晶セルを含む液晶表示装置〔Ａｐｐｌｅ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ社製、商品名ｉ−ｐｏｄ〕から液晶セルを取り出し、その上下のガラス基板表面を洗浄した。当該液晶セルの一方のガラス基板表面（視認側）に、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して上記積層体Ａを貼り付けた。積層体Ａの偏光子の吸収軸は、液晶セルの長辺に対して視認側から見て１５０°であった。このとき、保護層が最外層となるように貼り付けた。さらに、他方のガラス基板表面（バックライト側）に、アクリル系粘着剤（厚み１２μｍ）を介して上記積層体Ｂを貼り付けた。積層体Ｂの偏光子の吸収軸は、液晶セルの長辺に対して視認側から見て３０°であった。このとき、保護層が最外層となるように貼り付けた。さらに、積層体Ａの偏光子の吸収軸と積層体Ｂの偏光子の吸収軸とが、互いに直交するようにして貼り合わせた。このようにして、図１に示すような液晶パネル（１）を作製した。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の液晶パネルは、パーソナルコンピューター、液晶テレビ、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）等の液晶表示装置に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２７】
【図１】本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。
【図２】ＤＡＰ方式の液晶セルにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。
【図３】ホモジニアス方式の液晶セルにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。
【図４】ＨＡＮ方式の液晶セルにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。
【図５】第４の光学補償層の代表的な形成方法の概念を示す模式図である。
【図６】本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。
【図７】ラビング処理装置の概略構成を示す斜視図である。
【図８】図８（ａ）はラビングロール近傍の正面図を、図８（ｂ）はラビングロールと長尺基材フィルム表面との接触箇所近傍を拡大して示す正面図である。
【符号の説明】
【０１２８】
１，２        駆動ロール
３            搬送ベルト
４            ラビングロール
４ａ          起毛布
５            バックアップロール
Ｆ            長尺基材フィルム
１０          液晶セル
２０          第１の光学補償層
３０          第２の光学補償層
４１          第１の偏光子
４２          第２の偏光子
５０          第３の光学補償層
６０          第４の光学補償層
７０          第５の光学補償層
１００          液晶パネル
４００          液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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