(57)【要約】【課題】  図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、ＥＢ描画データ生成方法を提供すること。【解決手段】  ＥＢ描画データ生成方法は、ＣＰ方式のＥＢリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルに対してリサイズ処理を行う必要があるか判断し(S3)、リサイズ処理を行う必要がある場合、図形セルを構成するパターンと図形セルに含まれるセル配置枠との関係およびリサイズ量に基づいて、図形セルに対してリサイズ処理を行い程(S5-S7)、セル配置枠からＣＰ切り出し枠を生成し(S9)、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する(S10)。【選択図】      図１５
2007281184.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームリソグラフィに使用される描画データを作成するための電子ビーム描画データ生成方法であって、
キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルに対してリサイズ処理を行う必要があるか判断する工程と、
前記図形セルに対してリサイズ処理を行う必要がある場合には、前記図形セルを構成するパターンと前記図形セルに含まれるセル配置枠との関係、および、リサイズ量に基づいて、前記図形セルに対してリサイズ処理を行う工程と、
前記セル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程と、
前記キャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する工程と
を含むことを特徴とする電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項２】
前記図形セルに含まれるパターンデータの重なりを除去する工程をさらに含み、この工程時またはその後に、前記リサイズ処理を行うか、
または、前記リサイズ処理を行う工程において、
前記図形セルを構成するパターンと前記キャラクタ・パターン切り出し枠との関係は、前記図形セルを構成するパターンと前記キャラクタ・パターン切り出し枠との間の距離であることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項３】
前記リサイズ処理を行う工程において、
前記図形セルを構成するパターンの全てが、前記キャラクタ・パターン切り出し枠に接しないでその中に収まっている場合には、前記パターンの全ての辺をリサイズ量だけ前記パターンの内側に移動し、
前記図形セルを構成するパターンの中に、前記キャラクタ・パターン切り出し枠に接してその中に収まっているパターンがある場合には、前記パターンの前記キャラクタ・パターン切り出し枠に接している辺はそのまま移動させず、
前記図形セルを構成するパターンの中に、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出しているパターンがあり、かつ、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出している前記パターンの辺のはみ出し量が前記リサイズ量よりも大きい場合には、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出している前記パターンの前記辺を前記リサイズ量だけ前記パターンの内側に移動し、
前記図形セルを構成するパターンの中に、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出しているパターンがあり、かつ、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出している前記パターンの辺のはみ出し量が前記リサイズ量以下の場合には、前記キャラクタ・パターン切り出し枠の外にはみ出しているパターンの前記辺を前記キャラクタ・パターン切り出し枠に重ねることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項４】
前記キャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする工程と、
前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる工程と
をさらに含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項５】
電子ビームリソグラフィに使用される描画データを生成するための電子ビーム描画データ生成装置であって、
キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルに対してリサイズ処理を行う必要があるか判断する工程と、
前記図形セルに対してリサイズ処理を行う必要がある場合には、前記図形セルを構成するパターンと前記キャラクタ・パターン切り出し枠との関係、および、リサイズ量に基づいて、前記図形セルに対してリサイズ処理を行うリサイズ処理手段と、
前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する抽出手段と
を具備してなることを特徴とする電子ビーム描画データ生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビームリソグラフィに使用される描画データを作成するための電子ビーム描画データ生成方法および電子ビーム描画データ生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造において、電子ビーム（ＥＢ）リソグラフィは、光リソグラフィでは露光することができない微細なパターンの露光に使用されている。その中でもＥＢ直接描画技術は、露光するパターン毎にマスクを用意する必要がなく、ＱＴＡＴ、低コストの微細パターンの露光方法として注目されている。さらに、繰り返しショットするパターン形状の開口を利用したキャラクタ・プロジェクション（ＣＰ）方式は、従来の可変成形ビーム（ＶＳＢ）方式に較べ、ＥＢショット数を削減し、描画スループットを向上させることが可能である。このため、ＶＳＢ方式に加え、ＣＰ方式での描画を併用して行うことができる装置が開発されている。
【０００３】
ＣＰ方式でのＥＢ直接描画において、最も重要なことの一つとして、描画を行うパターンデータの中から、繰り返しパターン（キャラクタ・パターン）を抽出することがあげられる。
【０００４】
キャラクタ・パターンの抽出方法としては、描画を行うパターンデータから重なり除去を行ったデータを生成し、ビームの最大サイズ（通常数μｍ□）以下の同じ形状をしたパターンを抽出する方法や、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する方法（特許文献１）がある。
【０００５】
このようなキャラクタ・パターンを抽出する処理は、通常、半導体デバイスのレイアウ
トデータの形式として一般的なＧＤＳIIストリーム形式から、各ＥＢ描画装置固有の描画データ形式に変換を行う、データ変換の際に行われることが多い。
【０００６】
ここで、図形セルをキャラクタ・パターンとする場合には、データ変換処理の前に、二重露光を防止するために、キャラクタ・パターンとなる図形データの編集や修正を行う必要がある。
【０００７】
例えば、ロジックデバイスの設計において使用されているスタンダード・セルをキャラ
クタ・パターンとする場合、図１に示すようなパターンが、図２に示すように繰り返し配置される。そのとき、セルの配置はセル配置枠を基準にして行われる。図１および図２において、１０はセル配置枠、２１は重なり無しのコンタクト・ホール、２２は重なり有りのコンタクト・ホールを示している。
【０００８】
図１のように、セル配置枠１０に重なるパターンが存在する場合、セル全体をキャラクタ・パターンとすると、図２のように隣接するパターンと重なってしまう。これらの重なるパターンをそのままキャラクタ・ショットとしてＣＰ方式で描画を行うと、上記重なるパターンは二重露光されてしまうため、パターンの寸法精度が劣化する。
【０００９】
このような二重露光の問題を解決し、さらに、キャラクタ・パターンの修正作業によるユーザへの負荷を軽減することができる、図形セルのパターンデータから自動的にキャラクタ・パターンを抽出方法として、図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成し、このキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとしてＣＰ方式でショットするパターンに割り当てる方法が提案されている（特許文献２）。
【００１０】
例えば、図１のスタンダード・セルをキャラクタとする場合、図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、キャラクタ・パターンとする図形セルをセル配置枠１０の内外に分離することにより、他のパターンと重なるパターンと、他のパターンと重ならないパターンとに分けることができる。これにより、隣接するパターンと重ならないようにＣＰ方式でショットすることが可能な、キャラクタ・パターンのデータを生成することができる。図３（ａ）および図３（ｂ）において、２２ａおよび２２ｂは、それぞれ、図２に示した重なり有りのコンタクト・ホール２２のうち、セル配置枠１０の内側に位置するパターンおよびセル配置枠１０の外側に位置するパターンを示している。また、図３（ａ）はキャラクタ・パターン、図３（ｂ）は非キャラクタ・パターンを示している。
【００１１】
しかし、特許文献１にも記載されているように、抽出したキャラクタ・パターンに対してリサイズ処理を行うと、キャラクタ・パターン間の接続精度、接続部のパターンの寸法精度が劣化することがある。
【００１２】
さらに、特許文献１には、上記キャラクタ・パターン間の接続精度の問題を解決する方法として、抽出する図形セルを上層のセルに展開してから、キャラクタ・パターンを抽出する方法が述べられている。
【００１３】
しかし、この方法では、抽出したい図形セルを上層のセルに展開するために、キャラクタ・パターン抽出時の図形演算量が増加する。さらに、抽出したい図形セルを上層のセルに展開するために、抽出したい図形セルを図形セルとして扱えなくなる。そのため、セル配置枠をキャラクタ・パターン切り出し枠として使用できなくなるため、元の図形セルを抽出できなくなる。
【特許文献１】特開２０００−３４８０８４号公報
【特許文献２】特開２００５−２６８６５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成し、このキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、上記図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、上記キャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、電子ビーム描画データ生成方法および電子ビーム描画データ生成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係る電子ビーム描画データ生成方法は、電子ビームリソグラフィに使用される描画データを作成するための電子ビーム描画データ生成方法であって、キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルに対してリサイズ処理を行う必要があるか判断する工程と、前記図形セルに対してリサイズ処理を行う必要がある場合には、前記図形セルを構成するパターンと前記図形セルに含まれるセル配置枠との関係、および、リサイズ量に基づいて、前記図形セルに対してリサイズ処理を行う工程と、前記セル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程と、前記キャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する工程とを含むことを特徴とする。
【００１６】
本発明に係る電子ビーム描画データ生成装置は、電子ビームリソグラフィに使用される描画データを生成するための電子ビーム描画データ生成装置であって、キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルに対してリサイズ処理を行う必要があるか判断する工程と、前記図形セルに対してリサイズ処理を行う必要がある場合には、前記図形セルを構成するパターンと前記キャラクタ・パターン切り出し枠との関係、および、リサイズ量に基づいて、前記図形セルに対してリサイズ処理を行うリサイズ処理手段と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する抽出手段と  を具備してなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成し、このキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、上記図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、上記キャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、電子ビーム描画データ生成方法および電子ビーム描画データ生成装置を実現できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
まず、特許文献１に記載の電子ビーム描画データ生成方法に、リサイズ処理を適用した場合の特許文献２記載のキャラクタ・パターン抽出方法の問題点について、具体的に説明する。
【００１９】
図４は、セルベース設計されたデバイスパターン中でのキャラクタ・パターン候補の図形セルの配置例を示す図である。図５は、図４のキャラクタ・パターン候補の図形セルを示す図である。図６は、図４の図形セルをリサイズ処理により一律に太めて得られた図形セルを示す図である。図６に示すように、一律に太くするリサイズ処理が施された図形セルは、その一部が隣接セルの領域にはみ出る。しかし、はみ出たパターンの有無に関わらず、図７に示すように、セル配置枠から生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内のパターンのみがキャラクタ・パターンとして抽出されるため、隣接セルの領域は影響を受けない。
【００２０】
一方、図８は、図４の図形セルをリサイズ処理により一律に細めて得られた図形セルを示す図である。この場合、図９に示すように、セル配置枠から生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内のパターンがキャラクタ・パターンとして抽出される。この抽出されたキャラクタ・パターンをＣＰ方式でショットするパターンに割り当てて描画を行うと、図１０に示すように、本来はセル間で接続されるべきパターンが正しく繋がらなくなる。そのため、製作された半導体デバイスは、電子回路として機能しなくなる。また、キャラクタ・パターンのみでは接続ができないため、セル間の接続部分のパターンをＶＳＢ方式でショットすることで、描画パターンを補う必要がある。
【００２１】
（第１の実施形態）
上記の通り、リサイズ処理による細め処理を行ってキャラクタ・パターンを抽出する場合、図８−図１０に示したように、セル間のパターンの接続を考慮せずに、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルを構成するパターンの全てに対して一律にリサイズ（細め）処理を行うと、キャラクタ・パターン間に不要な隙間が生じる。そして、このキャラクタ・パターンを用いてＣＰ方式で回路パターンを描画する場合には、キャラクタ・パターン間の隙間（本来は接続部分である部分）をＶＳＢ方式で補う必要があることも先に述べた。
【００２２】
本実施形態では、図８−図１０のリサイズ（細め）処理の例に対して、図形セルがもつセル配置枠を利用したキャラクタ・パターン抽出の技術をもとに、セル間のパターンの接続不良や、接続部へのＶＳＢショットを抑制するため、キャラクタ・パターンとして最適な形状のパターンを抽出する方法について述べる。
【００２３】
図５に示した図形セルの右上部分の拡大図を、図１１に示す。図１１において、３０はセル配置枠、３１はセル配置枠３０内に収まっているパターン（図形）、３１ａはセル配置枠３０に重なっているパターン（図形）を示している。
【００２４】
元来、セル配置枠３０は、他のセルとの境界部分を示しており、セル配置枠３０内に収まるパターンは周囲のセル内のパターンとは干渉しない。
【００２５】
そこで、本実施形態では、セル配置枠３０内に収まっているパターン３１については、図１２に示すように、従来どおり、全ての辺を指定したリサイズ量だけ内側へ移動する、一律細め処理を行う。図１２において、パターン３１’は、リサイズ後のパターン３１を示している。
【００２６】
これに対して、パターンのある辺が、セル配置枠３０に接しているような図形については、この部分が隣接するセル内のパターンとの接続部分であると判断できる。従来技術では、この判断ができないため、上の階層のセルに、パターンを展開するしかなかった。
【００２７】
しかし、本実施形態では、セル配置枠を判断基準とすることにより、セル配置枠に接している辺はリサイズ処理により内側に移動すべきでないと判断する。
【００２８】
そこで、本実施形態では、図１２に示すように、セル配置枠３０に接している辺（点線で囲まれた領域３２内の辺）をもつパターン（図形）３１ａのリサイズ（細め）処理については、セル配置枠３０に接していない辺のみを内側にリサイズ量だけ移動することにより行う。図１２において、パターン３１ａ’は、リサイズ後のパターン３１ａを示している。
【００２９】
図１１に示した図形セルの場合は、セル配置枠３０に重なるように配置されたパターン３１ａのある辺がセル配置枠３０に接している。セル配置枠３０をはみ出ているパターン３１ａについては、セル配置枠（キャラクタ・パターン切り抜き枠と等価）内のパターンが最終的にはキャラクタ・パターンとして抽出されるため、移動対象とする辺がセル配置枠３０内外にかかわらず、図形の内側へリサイズ量だけ移動させればよい。
【００３０】
このように本実施形態では、特許文献２に記載されたセル配置枠を利用したキャラクタ・パターンの抽出を行うにあたって、リサイズ処理が必要な場合は、セル内の図形の重なり除去等の図形演算を行う際、あるいは、その図形演算の後にリサイズ処理を行う。そして、それに引き続いて、キャラクタ・パターン切り出し枠の生成や調整を行い、このキャラクタ・パターン切り出し枠内外のパターンを、キャラクタ・パターンと非キャラクタ・パターンに分離することができる。
【００３１】
本実施形態によれば、キャラクタ・パターン候補の図形セルがもつセル配置枠３０を基準に、周囲に配置される図形セル内のパターンとのパターンの接続の有無を判断することができるため、上層の階層のセルへの図形の展開を行う必要がない。したがって、キャラクタ・パターンの抽出時の図形演算の計算量の増加を抑制し、セル配置枠３０から生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠（ＣＰ切り出し枠）内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができるようになる。
【００３２】
また、セル配置枠３０に基づいて生成されるＣＰ切り出し枠を利用することにより、非キャラクタ・パターン(ＶＳＢショットでパターンを形成することになる)の発生を抑制したり、微小なＶＳＢショットの発生を抑制するなどの、高度なキャラクタ・パターン抽出を、少ない計算量で行うことが可能となる。
【００３３】
（第２の実施形態）
本実施形態では、キャラクタ・パターン抽出の対象とする図形セル内のパターンが、セル配置枠から、指定したリサイズ量よりも少ない量だけはみ出ている場合の、リサイズ（細め）処理について述べる。
【００３４】
図１３に、例として用いる図形セルの右上部分を拡大して示す。セル配置枠３０に重なってパターン４０が配置されており、矢印で示したリサイズ量ΔＸに従って、全ての辺を内側に移動したリサイズ後のパターン４０’は破線で示されている。この場合、リサイズ後のパターン４０’を採用すると、セル配置枠３０とパターン４０’の辺との間に隙間４２が発生してしまう。すなわち、キャラクタ・パターンのみでは、隣接する図形セルのパターンとは接続ができない。
【００３５】
そこで、本実施形態では、図１３に示したように、図形セル内のパターンが、セル配置枠からリサイズ量ΔＸよりも小さい量ΔＹ（はみ出し量ΔＹ）だけはみ出している辺４１を含む場合、第１の実施形態で示したような、セル配置枠３０内に全てが収まっているパターンや、辺がセル配置枠に接しているパターンとは異なる処理を行う。
【００３６】
すなわち、図１４に示すように、リサイズ量ΔＸだけパターンの辺４１を図形の内側へ移動した場合に、その辺４１がセル配置枠３０内に移動するなら、その移動量(リサイズ量＝ΔＸ’（＜ΔＸ)）は、セル配置枠３０に接するまでとする。言い換えれば、パターンがセル配置枠３０から、リサイズ量未満だけはみ出している場合は、はみ出している部分をセル配置枠３０に接する形とすることにより、隣接する図形セルのパターンとの接続を保ったまま、リサイズ処理を行って、キャラクタ・パターンの抽出を行うことができる。
【００３７】
本実施形態によれば、セル配置枠３０からパターンがはみ出している場合についても、
リサイズ処理をセル配置枠基準で行うことができ、周囲の図形セルとのパターンの接続を維持したまま、キャラクタ・パターンの抽出を行うことができる。
【００３８】
本実施形態のリサイズ処理でも、上層の階層のセルへの図形の展開を行う必要がないので、キャラクタ・パターンの抽出時の図形演算の計算量の増加を抑制できるとともに、セル配置枠３０から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができるようになる。
【００３９】
（第３の実施形態）
第１の実施形態と第２の実施形態とを組み合わせることにより、より一般的なセル配置枠を考慮したリサイズ処理を実現できるようになる。
【００４０】
すなわち、セル配置枠からはみ出しているパターンのはみ出し量とリサイズ量との大小関係により、リサイズ量だけ辺を内側に移動させるのか、リサイズ量以下ではあるが、セル配置枠に接する位置までの移動で止めるのか、という判断を行うことになる。これに、セル配置枠とパターンの辺とが接している場合 (はみ出し量が0の場合) を加えて、一般的なセル配置枠を考慮したリサイズ処理を含む電子ビーム（ＥＢ）描画データ生成方法のフローチャートを、図１５に示す。図１５において、破線で囲まれた領域はリサイズ処理のステップに相当する。
【００４１】
［ステップＳ１］
ＥＢ描画を行うデバイスパターンのレイアウトデータ等のパターンデータをデータ変換システムに入力し、図形セルを抽出する。このとき、リサイズ量のデータも入力される。上記データ変換システムには、セル配置枠を移動させるレイヤーについては、その移動方向と移動量を指定する。図形セルの抽出は、セルが回転や反転をしている場合には、反転の有無および回転の角度毎に、別のキャラクタとして抽出する。
【００４２】
［ステップＳ２］
抽出した図形セル内の処理対象とするレイヤーのパターンに対して、パターン間の重なりを除去する。セル配置枠パターンが複数含まれている場合には、それらの重なり除去も同様に行う。
【００４３】
［ステップＳ３］
抽出した図形セルに対してリサイズ処理が必要か否かが判断される。
【００４４】
［ステップＳ４］
ステップＳ３での判断の結果、リサイズ処理が必要なパターンがある場合には、それらのパターンの中から一つのパターンが選ばれ、この選ばれたパターンの各辺に対してリサイズ量ΔＸ、はみ出し量ΔＹに関する判断がなされる。具体的には、ΔＸ≧ΔＹ、ΔＹ＝０、ΔＸ＜ΔＹまたは選ばれたパターンがセル配置枠内であるかが判断される。
【００４５】
［ステップＳ５］
ステップＳ４での判断の結果、ΔＸ≧ΔＹの場合には、辺をセル配置枠内に重ねる。これは、図１４のパターン４０の辺４１のリサイズ処理に相当する。
【００４６】
［ステップＳ６］
ステップＳ４での判断の結果、ΔＹ＝０の場合には、辺は移動しない。これは、図１２のセル配置枠３０に接している辺（点線で囲まれた領域３２内の辺）をもつパターン３１ａのリサイズ処理に相当する。
【００４７】
［ステップＳ７］
ステップＳ４での判断の結果、ΔＸ＜ΔＹまたは選ばれたパターンがセル配置枠内である場合、辺をΔＸだけ内側に移動させる。これは、図１２のパターン３１ａのリサイズ処理または図１４のパターン４０の上下二つの辺のリサイズ処理に相当する。
【００４８】
［ステップＳ８］
ステップＳ５−Ｓ７の後、全てのパターンについて必要なリサイズ処理が行われたか否かが判断される。
【００４９】
［ステップＳ９］
ステップＳ８での判断の結果、リサイズ処理が必要な全てのパターンについてリサイズ処理が行われたと判断された場合には、セル配置枠パターンとして指定されたレイヤーの図形情報を読み込むことにより、セル配置枠のデータを抽出し、このセル配置枠のデータに基づいてＣＰ切り出し枠を生成する。ここで、抽出するデータとは、通常の図形データそのものである。なお、ステップＳ９は、ステップＳ４の前に行っても構わない。
【００５０】
一方、ステップＳ８での判断の結果、リサイズ処理が必要なパターンが残っていると判断された場合には、ステップＳ４に戻る。
【００５１】
［ステップＳ１０］
ＣＰ切り出し枠内の図形（ステップＳ５，Ｓ６またはＳ７のリサイズ処理が施されたパターン）をキャラクタ・パターンとして抽出し、この抽出したキャラクタ・パターンをキャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる。また、ステップＳ３での判断の結果、リサイズ処理が不要だと判断された図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出し、この抽出したキャラクタ・パターンをキャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる。
【００５２】
この後は、周知のステップが続く。すなわち、特許文献 2 に記載のとおり、ＣＰ切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとするステップ、非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てるステップ等が続く。
【００５３】
図１６に、本実施形態のＥＢ描画データ生成方法を実施するためのＥＢ描画データ生成装置を模式的に示す。
【００５４】
上記ＥＢ描画データ生成装置は、入力装置５０、図形セル抽出ユニット５１、パターンデータ重なり除去ユニット５２、リサイズ処理判断ユニット５３、どのようなリサイズ処理を行うか判断するための判断ユニット（使用リサイズ処理判断ユニット）５４、リサイズ処理ユニット５５−５７、リサイズ処理終了判断ユニット５８、ＣＰ切り出し枠生成ユニット５９およびキャラクタ・パターン抽出・割り当てユニット６０を備えている。
【００５５】
入力装置５０は、図形セル抽出ユニット５１にＥＢ描画を行うデバイスパターンのレイアウトデータやリサイズ量のデータなどを入力するための装置である。ユニット５１−６０は、それぞれ、ステップＳ１−１０を実施するためのユニットである。図１６において、破線で囲まれた領域は上記リサイズ処理のステップを実施するためのユニットに対応する。
【００５６】
図１６は描画データ生成用の専用の装置を示しているが、実施形態のＥＢ描画データ生成方法を実施するための描画データ生成装置をＥＢ描画装置内に設けることにより、ＥＢ描画装置内で描画データの生成を行うようにしても良い。また、上記ＥＢ描画装置としては、キャラクタ・プロジェクション方式の描画と可変成形ビーム方式の描画とを併用できるものであれば、その構成は如何なるものであっても良い。
【００５７】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施できる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】スタンダード・セルの一例を示す図。
【図２】スタンダード・セルをチップ内に配置した例を示す図。
【図３】セル配置枠によるキャラクタ・パターンの抽出例を示す図。
【図４】デバイスパターン中でのキャラクタ・パターン候補の図形セルの配置例を示す図。
【図５】キャラクタ・パターン候補の図形セルを示す図。
【図６】図４の図形セルに一律に太めるリサイズ処理を施して得られた図形セルを示す図。
【図７】リサイズ（太め）処理が施された図４の図形セルから抽出されたキャラクタ・パターンを示す図。
【図８】図４の図形セルに一律に細めるリサイズ処理を施して得られた図形セルを示す図。
【図９】リサイズ（細め）処理が施された図４の図形セルから抽出されたキャラクタ・パターンを示す図。
【図１０】図９の抽出されたキャラクタ・パターンを用いて描画されたパターンを示す図。
【図１１】図５の図形セルの右上部分の拡大図。
【図１２】図５の図形セルの右上部分に第１の実施形態のリサイズ（細め）処理を施して得られた図形セルを示す図。
【図１３】セル配置枠からリサイズ量よりも小さい量だけはみ出している辺を含むパターンを示す図。
【図１４】図１３の図形セルの右上部分に第２の実施形態のリサイズ（細め）処理を施して得られた図形セルを示す図。
【図１５】第３の実施形態のＥＢ描画データ生成方法を示すフローチャート。
【図１６】第３の実施形態のＥＢ描画データ生成方法を実施するためのＥＢ描画データ生成装置を模式的に示す。
【符号の説明】
【００５９】
１０…セル配置枠、２１…重なり無しのコンタクト・ホール、２２…重なり有りのコンタクト・ホール、２２ａ…セル配置枠の内側に位置するパターン、２２ｂ…セル配置枠の外側に位置するパターン、３０…セル配置枠、３１…セル配置枠内に収まっているパターン、３１ａ…セル配置枠に重なっているパターン、３１ａ’…リサイズ処理後のセル配置枠に重なっているパターン、４０…セル配置枠に重なってパターン、４０’…リサイズ後のパターン、４１…セル配置枠からリサイズ量よりも小さい量だけはみ出している辺、４２…隙間、５０…入力装置、５１…図形セル抽出ユニット、５２…パターンデータ重なり除去ユニット、５３…リサイズ処理判断ユニット、５４…使用リサイズ処理判断ユニット、５５−５７…リサイズ処理判断ユニット、５８…リサイズ処理終了判断ユニット、５９…ＣＰ切り出し枠抽出ユニット、６０…キャラクタ・パターン抽出・割当ユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007281184.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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