(57)【要約】【課題】  磁性層の厚さが１００μｍ以下の薄型のノイズ抑制シートにおいて、１０Ｍ〜１ＧＨｚ帯で高い電磁波ノイズ抑制特性を提供することを目的とする。【解決手段】  樹脂と磁粉からなる磁性層の厚さが１００μｍ以下のノイズ抑制シートであって、１０ＭＨｚにおける複素透磁率の実数部μ’が７０以上、１０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける複素透磁率の虚数部μ”のピーク値が２０以上であることを特徴とする。磁性層における磁粉の配向度（平均の配向角度）が±５度以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂と磁粉からなる磁性層の厚さが１００μｍ以下のノイズ抑制シートであって、１０ＭＨｚにおける複素透磁率の実数部μ’が７０以上、１０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける複素透磁率の虚数部μ”のピーク値が２０以上であることを特徴とするノイズ抑制シート。
【請求項２】
磁性層における磁粉の配向角度が±５度以下である請求項１に記載のノイズ抑制シート。
【請求項３】
前記磁粉の扁平度が５〜４０で、かつ磁粉の厚さの平均値が０．５μｍ〜１０μｍ、長さの平均値が２．５μｍ〜１００μｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項２に記載のノイズ抑制シート。
【請求項４】
前記ノイズ抑制シートの磁粉の充填率が３０ｖｏｌ％以上６０ｖｏｌ％以下であることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載のノイズ抑制シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は主に、電子機器などで発生する輻射性電磁波ノイズによる電子部品間の誤動作や、各種ＥＭＣ規制への対策に用いる電波吸収体であるノイズ抑制シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコンや携帯電話等に代表される電子機器類は急速に発達、普及しており、これらの機器が発生する不要な輻射性電磁波ノイズによる電磁環境問題が深刻化している。また、これらの機器は小型化の傾向にあり、それに伴って機器内部における輻射性電磁波ノイズの相互干渉による電子部品の誤動作等も問題となっている。
【０００３】
こうした問題の対策として種々の電磁波シールドが行われているが、その中でも軟磁性体粉末とゴム、プラスチック等の樹脂バインダーを混合しシート状とした電磁波ノイズ抑制シートが広く使われている。これらは、ゴム、プラスチック等の樹脂バインダーを使用することから可撓性に優れ、電子機器内の様々な場所に貼り付けることができ、また回路上に直接実装されるものではないため、電子機器の設計後に後付けの部品として簡便に使用することができる。特に最近、電子機器の小型化にともないノイズ抑制シートの薄型化、高性能化が求められている。
【０００４】
前記電磁波ノイズ抑制シートに用いられる樹脂バインダーには、塩素化ポリエチレン、クロロプレン等が提案されている。さらにハロゲンフリーの樹脂バインダー可撓性エチレン−メチルアクリレート共重合体とエチルアクリレート共重合体の混合物も提案されている。
【０００５】
また、前記電磁波ノイズ抑制シートに用いられる軟磁性体粉末の材料にはＦｅ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、ステンレス系合金、Ｆｅ基ナノ結晶軟磁性合金等を扁平状に加工した磁粉が使われている。特許文献１には、アスペクト比が５〜１００のＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ軟磁性合金粉末を用いてノイズ抑制用軟磁性粉末を用いることが記載されている。
【特許文献１】特開２００５−２８１７８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のノイズ抑制シートの製造方法は、磁粉とバインダーとなる樹脂を混合した後、混練し、圧延ロールで押出してシート成形する方法が広くとられている。しかしながらこの押出しロール法で成形可能な厚さは１００μｍより厚いものであり、これより薄くする場合にはドクターブレード等の塗工技術あるいはフレキソ等の印刷技術が用いられている。ノイズ抑制シートは、高い複素透磁率を得るために、シート方向に偏平状の磁粉を配向させる必要がある。例えば、押出しロール法ではロール通過時に働くせん断力により磁粉を長手方向に向けることができる。しかしながら塗工技術により磁性層を形成する場合は、偏平状の磁粉に対してブレードによる大きなせん断力は発生しない。同様に、印刷技術により磁性層を形成する場合も、樹脂と混合された偏平状磁粉がロールの間を通って転写されるだけで、偏平状の磁粉にシート面に平行に配向させるような大きな力は働かない。したがって磁性層が１００μｍ以下のノイズ抑制シートの作製方法に塗工や印刷技術を用いた場合は、偏平状磁粉を高配向させることが難しく、高い透磁率が得られなかった。
【０００７】
本発明は上述の現状に鑑みて、磁性層の厚さが１００μｍ以下の薄型のノイズ抑制シートにおいて、１０Ｍ〜１ＧＨｚ帯で高い電磁波ノイズ抑制特性を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
磁性層の厚さが１００μｍ以下の薄型のノイズ抑制シートは塗工あるいは印刷によってポリエチレンテレフタレート等の基板材の上に作製するが、高い透磁率を得るためには配向度を高くすることが最も重要であり、このためには磁粉の形状（扁平度）を所定の範囲に制御すれば良いことを見出した。
本発明で得られるノイズ抑制シートは、樹脂と磁粉からなる磁性層の厚さが１００μｍ以下のノイズ抑制シートであって、１０ＭＨｚにおける複素透磁率の実数部μ’が７０以上、１０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける複素透磁率の虚数部μ”のピーク値が２０以上であることを特徴とする。また、通常薄くなると配向させることが難しくなるが、本発明のノイズ抑制シートは、磁性層の厚さが６０μｍ以下、さらには３０μｍ以下であっても、上記と同等の磁気特性が得られる。磁性層の厚さが薄すぎても、配向度を高めることが難しい。好ましくは磁性層の厚さを５μｍ、さらには10μｍ以上とする。
【０００９】
本発明のノイズ抑制シートは、磁粉の配向角度が±５度以下であるという特徴を有する。この高い配向度を実現するため、磁粉は平均の扁平度が５〜４０のもの採用した。この磁粉は、厚さの平均値が０．５μｍ〜１０μｍ、長さの平均値が２．５μｍ〜１００μｍとすることが好ましい。磁粉の厚さを０．５μｍ以上としたのは、製造上困難なため、コストが高くなるためである。
【００１０】
また、磁粉の充填率は３０ｖｏｌ％以上６０ｖｏｌ％以下とすることが好ましい。３０ｖｏｌ％未満であると配向角度が大きくなり所望の磁気特性が得られず、６０ｖｏｌ％超だと成形性が悪化し、１００μｍ以下の磁性層が形成できない。好ましい充填率は３０〜５５ｖｏｌ％であり、さらに好ましい充填率は３５〜５０ｖｏｌ％である。
【００１１】
配向角度を小さくするため、公知の手段が採用可能である。例えば、樹脂層を複数枚重ねたのちロール圧延したり、樹脂層を１枚あるいは２枚以上重ねた状態で厚み方向に機械的に圧力をかけたりし、充填率および配向度を向上させることができる。
【００１２】
軟磁性体粉末は特に限定される必要はなくＦｅ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、ステンレス系合金、ナノ結晶軟磁性合金などを使用できる。
【００１３】
成形にはドクターブレード法、リップコーター法等の塗工技術およびフレキソやグラビア等の各種印刷技術を用いる事ができる。樹脂バインダーは特に限定される必要はなく、塩素化ポリエチレン、クロロプレン、ＭＥＫ、エチレン−メチルアクリレート共重合体とエチルアクリレート共重合体を混合したアクリル系樹脂バインダー等それぞれの塗工技術や印刷技術で汎用的に使われている材料を用いることができる。
【００１４】
このほかに、難燃性を向上させる目的で、金属水酸化物や赤燐などの、ハロゲン元素を含まない難燃剤を複合添加することができる。また、保存性を向上させるためにアミン系などの酸化防止剤や、加工性を向上させるための滑剤を添加しても良い。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、磁性層の厚さが１０μｍ以上１００μｍ以下の薄型のノイズ抑制シートにおいて、１０Ｍ〜１ＧＨｚ帯において高い電磁波ノイズ抑制特性が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、これら実施例により本発明が限定されるものではない。
図２は偏平度が異なるナノ結晶Ｆｅ基軟磁性合金を用いて、ドクターブレード法により８０μｍ厚のシート（磁性層）を作製して磁粉の充填率と平均の配向角度の関係を検討した結果である。磁粉８５重量部、塩素化ポリエチレン１５重量部、分散媒としてキシレン５０重量部を混合して作製したスラリーをドクターブレードにより５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート上に塗布した。ついで６０℃で４時間乾燥させた。
図４に偏平度と平均の配向角度の求め方を示す。偏平度はシート断面をＳＥＭで観察し、磁粉の断面像から厚さｔと長さｄを求めｄ/ｔの１００ケの平均値を「偏平度」とした。また平均の配向角度θは同じく断面ＳＥＭ像から、シート面に対する傾き角を１００ケの磁粉について求め、その平均をとった。配向角度θは、磁粉の両端部を結んだ方向とシート面の方向との角度である。
偏平度が５より小さい磁粉の場合は、充填率を高められるが、配向角度は約±９度であり、十分な配向度が得られない。偏平度が４０より大きいと、磁粉が樹脂中で丸まってしまい、配向角度は約±６度と大きくなった。また、成形性を確保するために充填率は３６ｖｏｌ％より高くすることができなかった。偏平度が５〜４０のとき、配向角度を±５度以下にでき、かつ充填率も３６ｖｏｌ％以上を得ることができた。
図１に平均の配向角度と充填率を変えて作製したノイズ抑制シートの複素透磁率の周波数特性を示す。複素透磁率の周波数特性は外径７ｍｍ、内径３ｍｍの円板に加工しネットワークアナライザーを用いＳパラメータ法により測定した。測定試料は図２のＡ、Ｂ、Ｃの点に相当する。Ｃ点において１０ＭＨｚにおけるμ’は１００を超えており高い透磁率が得られることがわかる。また高いμ’を反映してμ”は１５０ＭＨｚ付近で３８であり、２０を超える高い値である。Ａは充填率が４７ｖｏｌ％と高くなっているにも関わらず配向角度が９．２度と低いために透磁率は低い。Ｂの充填率は３６ｖｏｌ％と低いものの配向角度が５．９度と配向性が良いのでμ’が向上しているが、これ以上充填率をあげることができないので、透磁率はこの値にとどまっている。すなわち５〜４０の偏平度を有する磁粉を用いる事によって、平均の配向角度が±５度以下で、さらに充填率を３６ｖｏｌ％以上にすることができ、１０ＭＨｚにおけるμ’を１００以上、１０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおけるμ”を３０以上にすることができる。ただし磁性層の厚さが１０μｍより薄くなるとノイズ抑制効果が顕著でなくなるので１０μｍ以上とした。
このように作製するシートにおいて、磁粉の配向度を向上させるために、磁粉を樹脂に配合して塗工あるいは印刷する場合に、樹脂が硬化する前に磁界を印加する、あるいは塗工あるいは印刷後にシートに熱および機械的圧力をかけ、さらに充填率および配向度を向上させることができる。
透磁率を向上させることができる磁性粉の具体的な厚さと長さについて調べた結果を図３に示す。磁粉の厚さは０．５μｍ以上１０μｍ以下、磁粉の長さは５μｍ以上１００μｍ以下である必要があり、この範囲の中で偏平度が５以上４０以下を満足していなければならない。すなわちこの斜線で示されたこの範囲の寸法を有する磁粉を用いる事によって高い透磁率が実現できる。１００μｍ以下という限られた寸法の中で、配向度を高くできかつ充填率も高くできる磁粉の形状は限られた範囲にある。また、このような扁平度、厚さ、長さの磁粉を用いれば塗工方法、印刷方法あるいはノイズ抑制シートの樹脂バインダー材料によらず高い配向性を得ることができる。
【００１７】
磁粉の製造方法について述べる。扁平度の大きさは媒体攪拌型粉砕機であるアトライターやビーズミルの運転時間あるいはボール（ビーズ）の径によって変えることができる。具体的な運転時間は材質によって異なるが、いずれの場合も運転時間が2時間以下のときは扁平度が５より小さく、２０時間以上では扁平度が４０より大きくなった。したがって粉砕時間を２〜２０時間の間で適宜設定することで、扁平度を調整することができる。
【００１８】
（実施例１、比較例１）
以下、本発明のノイズ抑制シートについて実施例で詳述する。
軟磁性磁粉としてＦｅＳｉ３％アトマイズ粉を用いた。この磁粉の平均粒径をレーザー回折粒度分布測定器（堀場製作所製９２０型）で測定したところ３２μｍであった。このアトマイズ粉を媒体攪拌型ビーズミルを用いて１０時間かけて扁平化した。この偏平化磁粉は厚さ２μｍ、長さ４０μｍ、偏平度は２０であった。偏平化磁粉８５重量部、塩素化ポリエチレン１５重量部、分散媒としてキシレン５０重量部を混合して作製したスラリーをドクターブレードにより５０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート上に４０μｍの厚さで塗布した。ついで６０℃で４時間乾燥させた。
また、圧延ロールを用い、同じ偏平化磁粉を使い、磁粉８５重量部、塩素化ポリエチレン１５重量部で混合混練したのち、厚さ１００μｍの磁性層を形成しようとしたが、１３０μｍ以下への成形は困難であることが解った。
【００１９】
【表１】
2007281074.tif 000003
【００２０】
（実施例２）
次にＦｅＣｕＮｂＳｉＢ系のナノ磁性粉を用いて同様にドクターブレード法で磁性層の厚さ５０μｍのシートを作製し、充填率依存性を調べた。充填率が上がるほど磁粉の配向角度が向上するが、磁粉を６０ｖｏｌ％より多くすると磁性層が割れてしまい、形成することが困難であった。
【００２１】
【表２】
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【００２２】
（実施例３）
同じくＦｅＣｕＮｂＳｉＢナノ磁性粉を用いて、磁粉の形状が与える影響について調べた。図３に示す範囲においてのみ高い透磁率を得ることができた。
【００２３】
【表３】
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【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】ノイズ抑制シートの複素透磁率の周波数特性を示す図である。
【図２】磁粉充填率と配向度の関係を示す図である。
【図３】磁粉の長さと厚さとの関係を示す図である。
【図４】偏平度と平均の配向角度の求め方を説明するための図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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