(57)【要約】 【課題】  フォトマスクなどの被収納物の収納ケースの上蓋を開成した際に、ケース内部が負圧になって流れ込む外気流に起因して生じるパーティクルの汚染を防止する。【解決手段】  下皿部１と該下皿部１に開閉自在に冠着する上蓋２とからなり、板状の被収納物３を該下皿部１に保持して収納する収納ケース１０において、該被収納物３の周縁部を囲むように、該下皿部１に植立した下障壁１１と該上蓋１１に垂下した上障壁２１とを有し、該上蓋２が閉成した際には、該上障壁２１が該下障壁１１の内側に位置し、該上障壁１１と該下障壁２１とが上下方向に重なっているように構成する。【選択図】      図１
2007210655.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下皿部と該下皿部に開閉自在に冠着する上蓋とからなり、板状の被収納物を該下皿部に保持して収納する収納ケースにおいて、
該被収納物の周縁部を囲むように、該下皿部に植立した下障壁と該上蓋に垂下した上障壁とを有し、
該上蓋が閉成した際には、該上障壁が該下障壁の外側に位置し、該上障壁と該下障壁とが上下方向に重なっている
ことを特徴とする収納ケース。
【請求項２】
該下障壁が、該下皿部の内周縁に沿って植立しており、該上障壁が、該上蓋の内周縁に沿って垂下している
ことを特徴とする請求項１記載の収納ケース。
【請求項３】
該下障壁が２列に並設された内側下障壁と外側下障壁とからなり、
該上障壁が、該内側／外側両下障壁の間隙に垂下している
ことを特徴とする請求項１記載の収納ケース。
【請求項４】
該下障壁は、外側下障壁の方が内側下障壁よりも低く、
該上障壁が該外側下障壁寄りに垂下している
ことを特徴とする請求項３記載の収納ケース。
【請求項５】
該外側下障壁と該上障壁とが、水平方向に穿設された複数列の開口部を有し、
該開口部は、該外側下障壁と該上障壁とで上下方向に段違いになっている
ことを特徴とする請求項３記載の収納ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造工程に用いられるマスク、ガラス基板、半導体ウェーハなどのいろいろな薄板状の部材の収納ケースに係わり、特に微細な塵埃（以下、パーティクルと称す）を嫌うフォトマスクに適した収納するケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フォトマスクは半導体装置の高集積、高精度、高性能化に伴い、要求される性能は一段と厳しくなってきている。そうした状況の下、従来から継承してきた進歩の著しい技術の中で、未だ干渉されない課題はパーティクルによる汚染の問題である。
【０００３】
中でもフォトマスクは、回路パターンの原版として用いられるため、パーティクルの制御は、最も重要な課題である。
【０００４】
フォトマスクはハンドリング、移動、保管などの際に専用の収納ケースに納められて処置される。この収納ケースには高いレベルの清浄度が要求され、パーティクルがケース内に混入することを厳に阻止する必要がある。
【０００５】
図９はフォトマスクの収納ケースの一例の一部切欠斜視図である。収納ケース１０は、例えば、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）などの強靱なエンジニアリングプラスチックスの射出成形品からなり、下皿部１と上蓋２とから構成されている。
【０００６】
収納ケース１０は、ここで例示したような方形のフォトマスク５の対角線が、方形の収納ケース１０の周辺に平行に収納できる構成になっている。しかし、破線で示したような方形のフォトマスク５の周辺が方形の収納ケース１０の周辺と平行に収納することも併用できるようになっている構成もある。
【０００７】
つまり、下皿部１には、被収納物３の二つの収納方法に応じて、フォトマスク５の４隅の近傍の下面を点接触して保持する円錐状に突出した下突起部材１５が、４辺の中央部位と４隅の角近傍部位との４ケ所にそれぞれ設けられている。
【０００８】
また、フォトマスク５の二つの収納方法に応じて、フォトマスク５の４隅の角近傍辺部位か４辺の中央辺部位かが衝き当たって位置決めできる支持部材１６が、下皿部１の４辺の中央部位の４ケ所に設けられている。
【０００９】
上蓋２は、下皿部１に着脱自在に気密に近い状態で緩嵌するようになっている。ここでは、上蓋２を容易に上下に開閉する構成を例示したが、ヒンジで係止されて擺動するように開閉する構成もある。
【００１０】
上蓋２の天板内壁には、下皿部１の４ケ所の下突起部材１５に対向して図示してない上突起部材が４ケ所に垂下している。これらの上下の突起部材１５などは、例えば、シリコンゴムのようなゴム弾性体によって構成されている。従って、上蓋２を閉成すれば、下突起部材１５の上に載置されたフォトマスク５などの被収納物が外部からの衝撃によって上方向に跳ね上がろうとしても、上突起部材が蓋２の重みで押下して上下方向で遊ばないように弾発的に押さえるようになっている。
【００１１】
ところで、収納ケースの中に、通常の収納の仕方、すなわち、例えば、６インチ□程度の大きさのフォトマスクなどの被収納物を対角線に平行に収納した場合でも、４辺に平行に収納したときに７インチ□程度の大きさの被収納物を収納した場合でも、収納ケースそのものの大きさは、２０数ｃｍ□の大きさとなる。そのために、上蓋の開閉に際しては、静かに行ったとしても収納ケースの内外で気圧差に起因する気流が生じ、特に上蓋を開成した際に不具合が生じる。
【００１２】
つまり、上蓋を開けたときに生じる気流は、ケースの内部が一時的に負圧になってケース内外の差圧の影響を受ける。図１０は収納ケースの上蓋を開成した際の気流の振舞いを模式的に示したものである。
【００１３】
図１０において、収納ケース１０の上蓋２を開けた瞬間に、収納ケース１０の内部は容積が急激に拡大しようとするので負圧になる。その結果、収納ケース１０の周囲で生じる気流は、矢印で模式的に示したように収納ケース１０の外部の雰囲気を巻き込んで四方八方から被収納物３が収納されている下皿部１の内部に向かって流れ込む。
【００１４】
かつての収納ケースにおいては、上蓋を開成した際にケースの外部から気流が流れ込み、微細な異物、いわゆるパーティクルが混入したり、ケース内の雰囲気を擾乱させることを防ぐ機能がなかった。そのため、外気流の流入に伴うパーティクルの巻き込みが発生し、結果としてケース内および収納されているフォトマスクなどの被収納物にパーティクルが付着してしまう不具合が間々生じた。
【００１５】
近時、このようなフォトマスクなどの被収納物を収納ケースから出し入れする際にパーティクルが被収納物の表面に付着して汚す不具合を防ぐための提案がなされている。
【００１６】
その一つは、例えば、収納ケースの底部と上蓋とを密封できる構造にし、不活性ガスを充てんできるようにする。そして、ケース内には拡散部を設け、流入した不活性ガスがケース内で拡散するようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【００１７】
あるいは、ケースの外壁にフィルタを設け、上蓋を開けた際に入り込む外気がフィルタを通って流入するようにする。また、上蓋を開けた際に大量に流入した外気がケースの中を掻き回さないように、フィルタに対面して設けた制御体に一旦衝突させて被収納物と遮断させ、分散させている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−５３１３６号公報（〔００１３〕、〔図１〕）
【特許文献２】特開２００３−１７０９６９号公報（〔００１９〕、〔図１〕）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
このように、収納ケースの上蓋を開成した際にケース内に流れ込む気流を抑えてフォトマスクなどの被収納物がパーティクルで汚染することを防ぐには、厄介な機構を付設する必要があった。そのため、収納ケースの取り扱いが煩雑になり、被収納物の収脱などのハンドリング、運搬、保管といった収納ケース本来の機能を十分に活かせなかった。
【００１９】
そこで、本発明では、収納ケースの下皿部に立ち障壁と上蓋に垂れ障壁とを互いに交叉するように植設し、上蓋を開成した際に外部から流れ込む気流を両障壁で遮って収納されている被収納物がパーティクルで汚染することを防止した収納ケースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上で述べた課題は、請求項１において、下皿部と該下皿部に開閉自在に冠着する上蓋とからなり、板状の被収納物を該下皿部に保持して収納する収納ケースにおいて、該被収納物の周縁部を囲むように、該下皿部に植立した下障壁と該上蓋に垂下した上障壁とを有し、該上蓋が閉成した際には、該上障壁が該下障壁の外側に位置し、該上障壁と該下障壁とが上下方向に重なっているように構成された収納ケースによって解決される。
【００２１】
つまり、本発明の収納ケースは、被収納物の周縁部を囲むように、下皿部に下障壁と上蓋に上障壁とを設けるようにしている。そして、上蓋が閉成しているときには、上障壁が下障壁の外側に位置するようにし、上障壁と下障壁とが上下方向に重なって収納ケースの内外の雰囲気に対して遮蔽壁になるようにしている。
【００２２】
そうすると、上蓋を開けた直後に一時収納ケースの内部が急激に負圧になって、ケースの外部からケースの内部に流れ込む外気流の流れが被収納物を取り囲んで上下方向に重なっている障壁によって遮られる。
【００２３】
つまり、収納ケース内に流れ込む外気流は、まず下障壁に衝き当たって遮られ、次いで上方に蛇行して上障壁に突き当たって下方に蛇行して減速される。
【００２４】
その結果、外気流に含まれるパーティクルが巻き込まれて収納ケース内に流れ込んだり、収納ケース内のパーティクルを巻き上げたりすることを抑え、被収納物が汚染することを防止することができる。
【００２５】
次いで、請求項２において、該下障壁が、該下皿部の内周縁に沿って植立しており、該上障壁が、該上蓋の内周縁に沿って該下障壁の外側に位置するように垂下しているように構成された請求項１記載の収納ケースによって解決される。
【００２６】
つまり、下障壁を被収納物の周縁部よりもさらに大回りに下皿部の内周縁に沿って植立するようにしている。そして、上障壁を上蓋の内周縁に沿って下障壁の外側に位置するように垂下するようにしている。
【００２７】
下障壁と上障壁をこのような構成にすれば、両障壁に囲われる面積を収納ケースの面積一杯にすることができる。従って、被収納物を収納ケースの中に、対角線に平行に収納することも、４辺に平行に収納することもできる。
【００２８】
次いで、請求項３において、下障壁が２列に並設された内側下障壁と外側下障壁とからなり、該上障壁が、該内側／外側両下障壁の間隙に垂下しているように構成された請求項１記載の収納ケースによって解決される。
【００２９】
つまり、下障壁を内側下障壁と外側下障壁との二つの障壁を並行に並べた構成にし、上障壁が並べた二つの下障壁の間に垂れ下がるようにしている。
【００３０】
こうすると、上蓋を開けたときに流れ込む外気流が、先ず外側下障壁に衝き当たって上方向に蛇行したあと上障壁に衝き当たって下方向に蛇行し、さらに内側下障壁に衝き当たって上方向に蛇行したあとに収納ケース内に入り込む。
【００３１】
その結果、収納ケース内に流れ込む外気流の流速が大幅に減速される。従って、外気流が巻き込むパーティクルの量を減らすことができ、被収納物がパーティクルによって汚染されることを抑えることができる。
【００３２】
次いで、請求項４において、下障壁は、外側下障壁の方が内側下障壁よりも低く、該上障壁が該外側下障壁寄りに垂下しているように構成された請求項３記載の収納ケースによって解決される。
【００３３】
つまり、二つの障壁が並設しているうちの、外側下障壁を上障壁には重なる高さであるが、内側下障壁よりも低くなるようにしている。そして、上障壁が外側下障壁寄りに垂下しているようにしている。
【００３４】
こうすると、上蓋を開けた際に流れ込む外気流の振舞いは、外側下障壁に衝き当たって上方向に蛇行した気流が、上障壁に衝き当たって下方向に蛇行する気流に引き込まれるようになる。しかも、上蓋を開けた瞬間に流入する外気流は、上障壁と外側下障壁との間隙が狭いので、急速に流れが抑え込まれる。
【００３５】
その結果、外側下障壁から上障壁に衝き当たって内側下障壁へと蛇行しながら流れ込む気流の流れが穏やかに滑らかになり、なお一層のパーティクルの巻き込みを抑える効果が得られる。
【００３６】
次いで、請求項５において、該外側下障壁と該上障壁とが、水平方向に穿設された複数列の開口部を有し、該開口部は、該外側下障壁と該上障壁とで上下方向に段違いになっているように構成された請求項３記載の収納ケースによって解決される。
【００３７】
つまり、外側下障壁と該上障壁とに、開口部を水平方向に穿設するようにしている。そして、上蓋を開けた瞬間に収納ケースの中に流れ込む強い外気流が開口部から壁辺の裏側に逃げるようにしている。
【００３８】
その結果、外側下障壁にしろ上障壁にしろ、上蓋を開けた瞬間に収納ケースの中に流れ込む強い外気流が壁面に強い衝撃を与えて揺らされ、障壁同士が接触することを防いでいる。障壁同士が接触することは、パーティクルが生じることを意味している。
【発明の効果】
【００３９】
本発明になる収納ケースにおいては、下皿部に収納さている被収納物を囲むように、下皿部には下障壁を植立させ、上蓋には下障壁の内側に重なるように上障壁を垂下させた構成になっている。
【００４０】
この構成によって、上蓋を開いて収納ケースの内部が一時的に負圧になり、外気流がケース内に流れ込んでも上障壁と下障壁とに遮られて穏やかな流れとなる。そして、外気流がパーティクルを巻き込んだり、ケース内の雰囲気を擾乱してパーティクルを巻き上げたりすることが抑えられる。
【００４１】
その結果、収納ケース内に収納されたフォトマスクなどの被収納物がパーティクルによって汚染することを防ぐことができ、薄膜パターンをホトリソグラフィによって製造する半導体装置などの製造効率化に大きく寄与できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
図１は本発明の第一の実施例の模式的一部切欠斜視図、図２は図１のＸ−Ｙの模式的断面図、図３は本発明の第二の実施例の模式的断面図、図４は本発明の第三の実施例の模式的断面図、図５は本発明の第四の実施例の模式的断面図、図６は本発明の第五の実施例の模式的断面図、図７は本発明の第六の実施例の模式的断面図、図８は本発明の障壁の収納ケース内での配置例である。
〔実施例１〕
図１は本発明の第一の実施例の模式的一部切欠斜視図で、収納ケース１０は従来のものと同様、下皿部１と上蓋２とから構成しており、フォトマスクなどの被収納物３が１枚収納できるようになっている。
【００４３】
下皿部１も上蓋２も、例えば、ＰＰＳなどのエンジニアリングプラスチックスの射出成形品からなり、ここでは、下皿部１と上蓋２とが分離している構成を示したが、ヒンジによって下皿部１と上蓋２とが係止されており、開閉に際して上蓋２が擺動できる構成のものもある。
【００４４】
下皿部１の内表面には、被収納物３を取り囲むように、下障壁１１が植立しており、対向する上蓋２の内裏面には、下障壁１１の内側に重なって垂れ下がるように、上障壁２１を垂下させている。
【００４５】
図２は図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図で、図２（Ａ）は収納ケース１０の上蓋２が下皿部１の上に閉じており、内部には被収納物３が収納されている状態を示す。下障壁１１が下皿部１に植立しており、上蓋２の上障壁２１が下障壁１１の内側に重なるように垂下している。
【００４６】
図２（Ｂ）は、上蓋２が大矢印で示したように下皿部１の上で開きつつある瞬間の状態を示す。上蓋２の開成によって被収納物３が収納されている収納ケース１０の内部が負圧になるために流れ込む外気流の振舞いを模式的に矢印で示している。
【００４７】
外気流は、収納ケース１０の中に直接には流れ込まず、先ず下障壁１１に衝き当たって上方向に蛇行して下降するものと上障壁２１に衝き当たって下降するものとがあり、次いで上障壁２１の下縁部から収納ケース１０の内部に流れ込む。
【００４８】
つまり、上蓋２が開いた瞬間に流れ込もうとする外気流は、被収納物３を取り囲む下障壁１１と上障壁２１とによって遮られ、蛇行しながら流速を弱めて収納ケース１０の内部に流れ込むことになる。従って、収納ケース１０の外部のパーティクルを巻き込んだり、収納ケース１０の中のパーティクルを舞上げたりして、被収納物３がパーティクルによって汚染することを極力抑えることができる。
〔実施例２〕
図３は本発明の第二の実施例の模式的断面図であるが、図２と同様に、図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図相当するもので、図３（Ａ）は収納ケース１０の上蓋２が下皿部１の上に閉じており、内部には被収納物３が収納されている状態を示す。
【００４９】
収納ケース１０の下皿部１には、内側下障壁１２と外側下障壁１３との二つの障壁が並行して植立している。また、上蓋２には、二つの下障壁１２、１３の間の中央部位に上障壁２１が重なるように垂下している。
【００５０】
図３（Ｂ）は、上蓋２が大矢印で示したように下皿部１の上で開きつつある瞬間の状態を示す。上蓋２の開成によって被収納物３が収納されている収納ケース１０の内部が負圧になるために流れ込む外気流の振舞いは、模式的に矢印で示したようになる。
【００５１】
つまり、収納ケース１０の中に流れ込む外気流の振舞いは、先ず外側下障壁１３に衝き当たって上方向に蛇行して下降するものと上障壁２１に衝き当たって下降するものとがある。次いで上障壁２１の下縁部からさらに内側下障壁１２に衝き当たって上昇し、内側下障壁１２の上縁部から収納ケース１０の内部に流れ込む。
【００５２】
こうして、上蓋２が開いた瞬間に流れ込もうとする外気流は、被収納物３を取り囲む二つの下障壁１２、１３と上障壁２１とによって遮られ、三度蛇行しながら流速を弱めて収納ケース１０の内部に流れ込むことになる。従って、収納ケース１０の外部のパーティクルを巻き込んだり、収納ケース１０の中のパーティクルを舞上げたりして、被収納物３がパーティクルによって汚染することをより一層防ぐことができる。
〔実施例３〕
図４は本発明の第三の実施例の模式的断面図である。図２と同様に、図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図相当するもので、収納ケース１０の下皿部１に植立している二つの下障壁１２、１３のうち、外側下障壁１３の高さを内側下障壁１２よりも低くした構成になっている。
【００５３】
上蓋２を閉じた状態で図示しているが、矢印は、上蓋２が開いた瞬間に流れ込もうとする外気流が、被収納物３を取り囲む二つの下障壁１２、１３と上障壁２１とによってどのように振る舞うか示す。
【００５４】
負圧になった収納ケース１０の中に流れ込もうとする外気流は、先ず高さが低い外側下障壁１３に大量に流れ込もうとし、上障壁２１に衝き当たって遮られて下降し、上障壁２１の下縁部を蛇行して内側下障壁１２に衝き当たり、内側下障壁１２の上縁部から被収納物３の収納された収納ケース１０の中に流れ込む。
【００５５】
この構成によれば、上蓋２が開いてから直ぐに流れ込もうとする外気流を無理に遮らずに流れ込ませ、そのあとに蛇行させて減速させる。その結果、収納ケース１０の外部のパーティクルを巻き込んだり、収納ケース１０の中のパーティクルを舞上げたりする不具合を緩和させる効果がある。
〔実施例４〕
図５は本発明の第四の実施例の模式的断面図である。図２と同様に、図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図に相当するもので、収納ケース１０の上蓋２に垂下している上障壁２１が、下皿部１に植立している二つの下障壁１２、１３の間隙の中央部位ではなく、外側下障壁１３に近い位置に寄せた構成になっている。
【００５６】
上蓋２を閉じた状態で図示しているが、矢印は、上蓋２が開いた瞬間に流れ込もうとする外気流が、被収納物３を取り囲む二つの下障壁１２、１３と上障壁２１とによってどのように振る舞うかを模式的に示す。
【００５７】
負圧になった収納ケース１０の中に最初に流れ込もうとする流速の早い外気流は、先ず外側下障壁１３と上障壁２１との狭い隙間で遮って減速させ、そのあと上障壁２１の下縁部を蛇行させて上昇させ、内側下障壁１２の上縁部を回って被収納物３の収納されている収納ケース１０の中に流れ込むようにする。
【００５８】
この構成によれば、上蓋２が開いてから直ぐに流れ込もうとする外気流を一旦強く遮り、そのあとに蛇行させて減速させるようにする。その結果、収納ケース１０の外部のパーティクルを巻き込んだり、収納ケース１０の中のパーティクルを舞上げたりする不具合をより一層緩和させる効果がある。
〔実施例５〕
図６は本発明の第五の実施例の模式的断面図である。図６（Ａ）は図２と同様に、図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図に相当するもので、収納ケース１０の下皿部１に植立する外側下障壁１３の側面に水平方向に複数列の下開口部１４と、上蓋２に垂下する上障壁２１の側面に水平方向に複数列の上開口部２２を穿設する。矢印は、外気流の流れの振舞いを模式的に示したものである。
【００５９】
上蓋２を開成した瞬間に収納ケース１０の中が負圧になったために流れ込もうとする外気流は、外側下障壁１３と上障壁２１との狭い間隙を急速に流れる。そのため、間隙が負圧になって外側下障壁１３と上障壁２１との障壁面が互いに引き合って接触すると、パーティクルなどの異物が発生してしまう。下と上の開口部１４、２２は、この不具合を防ぐために設けるものである。
【００６０】
つまり、外側下障壁１３と上障壁２１との側面のそれぞれに穿設した下開口部１４と上開口部２２とによって、衝き当たった外気流の一部が開口部１４、２２に流れ込んで障壁を抜けて減速しながら被収納物３の収納された収納ケース１０の中に流れ込む。残りの外気流は三つの障壁１３、２１、１２に遮られて蛇行しながら被収納物３が収納されている収納ケース１０の中に流れ込む。
【００６１】
こうして、上蓋２が開成した瞬間の最も外気流が強く流れ込む際に、外側下障壁１３と上障壁２１との狭い間隙に流れ込む外気流の流速を緩和する。下開口部１４と上開口部２２は、上蓋２が閉じている状態で段違いになるように構成する方がより効果的である。
【００６２】
図６（Ｂ）は、下開口部１４や図示してない上開口部が連設した複数の丸孔が複数列並んでいる例を示し、図６（Ｃ）は、下開口部１４や図示してない上開口部が複数の長丸孔が複数列並んでいる例を示す。
【００６３】
このように構成すれば、上蓋２が開いた瞬間から収納ケース１０の中に流れ込もうとする外気流の衝撃は、三つの障壁１３、２１、１２と、二組の開口部１４、２とによって大幅に緩和されるようになる。その結果、流れ込む外気流によって収納ケース１０の外部のパーティクルを巻き込んだり、収納ケース１０の中のパーティクルを舞上げたりする不具合をより大幅に緩和させることができる。
〔実施例６〕
図７は本発明の第六の実施例の模式的断面図である。図７（Ａ）は図２と同様に、図１の切断線Ｘ−Ｘの模式的断面図に相当する。下皿部１に植立する内側下障壁１２や外側下障壁１３、図示してない下障壁１１、上蓋２に垂下する上障壁２１などは、下皿部１や上蓋２を射出成形する際に一体成形して構成することができる。しかし、既成の収納ケース１０を用いたり、図６に示したような開口部１４、２２を穿設したり、あるいは収納ケース１０の共用性を考慮した場合には、障壁を個別の部材として製造して接合した方が具合がよい。
【００６４】
つまり、下障壁１１、１２、１３、２１などを個別部材として、例えば、収納ケース１０と同様のＰＰＳやＰＰＯ、ＰＣ、ＰＢＴなどいろいろな熱可塑性のエンジニアリングプラスチックスで射出成形する。
【００６５】
障壁の厚さは高々１ｍｍ程度なので、強固な接合を行うために、図７に示したように、それぞれの障壁の断面形状を台形にして接着面４が広くなるようにする。その場合、壁面の斜面が収納ケース１０の内外のどちら側になってもよい。接着剤には、パーティクルの発生源にならない化学的に安定したものが好ましく、例えば、エポキシ系の常温硬化型の接着剤を用いる。
【００６６】
図７（Ｂ）は、本発明になる障壁を個別の部材として接合によって設ける場合に、障壁をより強固に接着できるように接着面４を大きくした構成例を示す。このような構成は、下障壁１１、１２、１３や上障壁２１に適用することができる。
【００６７】
図７（Ｃ）は、内側下障壁１２と外側下障壁１３とが並設した構成の場合に一体構成できる例を示す。
【００６８】
つまり、二つの下障壁１２、１３は、接着面４を共通部位として一体成形すれば、障壁の強度が増すとともに接着面４を大きくして、個別部材として接合する際にも強固な接着ができる。
【００６９】
図８は本発明の障壁の収納ケース内での配置例である。収納ケース１０の下皿部１を上から模式的に見たもので、太実線が下障壁１１の配置を示し、図示してないが、上障壁は上蓋を被せたときに下障壁１１に対向する上方の内側に配置される。
【００７０】
図８（Ａ）は、図１に示したような被収納物３の対角線が下皿部１の周辺に平行になるように収納されている場合で、被収納物３がフォトマスクなどのときに多用される収納の仕方である。収納ケース１０をこのように用いる場合には、下障壁１１が被収納物３を取り囲むように六角形に配置する。
【００７１】
図８（Ｂ）は、被収納物３の周辺が下皿部１の周辺と平行になるように収納されている場合で、収納ケース１０をこのように用いる場合には、下障壁１１を下皿部１の周辺に四角形に配置する。
【００７２】
障壁を図８（Ｂ）の配置にすれば、図８（Ａ）の配置と共用できる。しかし、被収納物３を図８（Ａ）のように収納する場合には、障壁を被収納物３が取り囲まれるように配置した方がパーティクルのような異物の付着染防止により効果的である。
【００７３】
因みに、従来の収納ケースと、本発明になる障壁を設けた収納ケースとによる異物汚染の程度を比較してみた。フォトマスクを試料とし、異物の付着率＝〔異物付着枚数／総試料枚数〕で比べた結果は、本発明の収納ケースの方が、従来の収納ケースよりも月平均で１／３〜１／４と少ない良好な結果であった。
【００７４】
ここでは、下皿部や上蓋に設ける障壁の細かい諸元は例示しなかったが、障壁による被収納物の汚染防止の本質を左右するものではなく、種々の変形が可能である。
【００７５】
また、障壁を収納ケースと一体成形で構成しても、収納ケースとは異なる材料で構成し個別部材として後付けしてもよく、種々の変形が可能である。ただし、障壁の効果は何ら変わらない。
【００７６】
さらに、収納ケースに本発明になる障壁を設けても、収納ケースの上蓋の開閉作業は、慎重に行うべきであることはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の第一の実施例の模式的一部切欠斜視図である。
【図２】図１のＸ−Ｘの模式的断面図である。
【図３】本発明の第二の実施例の模式的断面図である。
【図４】本発明の第三の実施例の模式的断面図である。
【図５】本発明の第四の実施例の模式的断面図である。
【図６】本発明の第五の実施例の模式的断面図である。
【図７】本発明の第六の実施例の模式的断面図である。
【図８】本発明の障壁の収納ケース内での配置例である。
【図９】フォトマスクの収納ケースの一例の一部切欠斜視図である。
【図１０】収納ケースの上蓋を開成した際の気流の振舞いの模式図である。
【符号の説明】
【００７８】
１    下皿部
１１  下障壁            １２  内側下障壁          １３  外側下障壁
１４  下開口部
２    上蓋
２１  上障壁            ２２  上開口部
３    被収納物
４    接着面
１０  収納ケース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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