(57)【要約】【課題】より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能な反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源を提供する。【解決手段】本発明の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる金属酸化物粒子と、バインダーとしての樹脂と、溶媒とを含有し、この金属酸化物粒子の１次粒子の平均粒径を０．１μｍ以上かつ１μｍ以下、かつ、その２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値を０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下としたことを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる金属酸化物粒子を含有してなることを特徴とする反射膜形成用塗布液。
【請求項２】
前記１次粒子の平均粒径は０．１μｍ以上かつ１μｍ以下であり、かつ、前記２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値は０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射膜形成用塗布液。
【請求項３】
前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化イットリウムの群から選択される１種または２種以上であることを特徴とする請求項１または２記載の反射膜形成用塗布液。
【請求項４】
請求項１、２または３記載の反射膜形成用塗布液を塗布し、乾燥または熱処理してなることを特徴とする反射膜。
【請求項５】
基材上に請求項４記載の反射膜を形成してなることを特徴とする反射膜付き基材。
【請求項６】
面状の光源体の少なくとも内部に、請求項４記載の反射膜を備えてなることを特徴とする面光源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源に関し、更に詳しくは、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能な反射膜形成用塗布液、この反射膜形成用塗布液を塗布・乾燥することで得られる反射膜及び反射膜付き基材、この反射膜を面状の光源体の内部に備えることで光の利用効率を向上させることが可能な面光源に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置は、表示部を構成する液晶ディスプレイの部分が非発光性であるために、液晶ディスプレイに光を供給するためのバックライトを設けている。このバックライトに用いられる蛍光ランプとしては、細管形状を有する冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）が主に用いられている。
この冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）を用いる場合、冷陰極蛍光ランプ（ＣＣＦＬ）の取付位置によって次の２つの方式に分かれる。
（１）液晶ディスプレイの端縁部に蛍光ランプを取り付け、この蛍光ランプからの光を導光板により多重反射させることで、得られた光を液晶ディスプレイに対して特定方向に入射させる方式。
（２）液晶ディスプレイの背面側に、複数の蛍光ランプを拡散板と反射板とで挟持した面発光部を配置し、この面発光部からの光を液晶ディスプレイに対して特定方向に入射させる方式。
【０００３】
しかしながら、これらの方式（１）及び（２）では、光路上に導光板や拡散板を設けているために、光効率の点から光損失が大きいという欠点があり、そこで、蛍光ランプの放電領域であるガラス管内に直接反射層を設け、特定方向に光を出射させる構造のものも提案されているが、この構造では、ガラス管内の反射層及び蛍光体層の状態で出射される光量が大きく異なり、光の利用効率を向上させることは難しい。
光の利用効率を向上させたバックライトとしては、ガラス管の内面に、反射材のグリーンシート状成形体及び蛍光体のグリーンシート状成形体を一体成形したものを配置し、これらを焼成することにより、ガラス管の内面に膜厚が均一な反射材層及び蛍光体層を順次形成した蛍光ランプ（特許文献１）、光源本体の内部に、二種以上の粒径を有する散乱粒子で構成される反射膜、蛍光膜を順次成膜した面光源装置（特許文献１）等が提案されている。
この反射膜の成膜方法としては、フローコート法、スプレーコート法、ディップコート法等により反射材を含む懸濁液をガラス板上、あるいはガラス管の内面に塗布する方法が広く用いられている。
【特許文献１】特開２０００−３０６５５０号公報
【特許文献２】特開２００５−２６８２１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、従来のバックライトでは、反射膜を構成する散乱粒子の粒径が大きいと、膜の表面に凹凸が生じ、この凹凸により光が散乱されてしまうために、光の利用効率を向上させることが難しいという問題点があった。また、反射膜の膜厚が十分でない場合には、光が透過してしまい、反射膜自体の反射率が低下するという問題点があった。
また、反射材層内に空隙が生じると、この空隙の内部にて散乱光が閉じこめられてしまい、反射体層自体の反射率が低下するという問題点があった。また、反射材層の膜厚が十分でない場合には、光が透過してしまい、反射体層自体の反射率が低下するという問題点があった。
【０００５】
一方、反射膜を構成する散乱粒子の粒径が小さい場合、膜の表面の凹凸は著しく低減することができるが、特に可視光線の波長より小さい粒径を有する粒子を用いた場合には、反射膜は光が透過し易くなる。そこで、反射膜として機能させるためには膜厚を厚くする必要があるが、膜厚を厚くした場合、成膜時にマイクロクラック等の不具合が生じ易くなるという問題点があった。
また、粒径の異なる粒子、例えば粒径１μｍ以上の粒子と粒径１μｍ以下の粒子とを混合した混合物を用いて反射膜を構成した場合、反射膜の表面の凹凸や内部の空隙は低減することができるが、光が透過し易くなる。したがって、反射率を向上させることが難しく、十分な効果が得られない可能性がある。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能な反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、反射膜の無機成分として金属酸化物粒子を選択し、この金属酸化物粒子を、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子とし、この１次粒子の平均粒径を０．１μｍ以上かつ１μｍ以下とし、かつ、２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値を０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下とすることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる金属酸化物粒子を含有してなることを特徴とする。
前記１次粒子の平均粒径は０．１μｍ以上かつ１μｍ以下であり、かつ、前記２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値は０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下であることが好ましい。
【０００９】
前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化イットリウムの群から選択される１種または２種以上であることが好ましい。
【００１０】
本発明の反射膜は、本発明の反射膜形成用塗布液を塗布し、乾燥または熱処理してなることを特徴とする。
本発明の反射膜付き基材は、基材上に本発明の反射膜を形成してなることを特徴とする。
本発明の面光源は、面状の光源体の少なくとも内部に、本発明の反射膜を備えてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射膜形成用塗布液によれば、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる金属酸化物粒子を含有したので、この金属酸化物粒子を塗布液中に均一分散させることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することができる。
【００１２】
また、この金属酸化物粒子を、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子としたので、同一径の１次粒子からなる金属酸化物粒子と比べて反射膜の機械的強度を高めることができ、マイクロクラック等が生じる虞が少なくなる。
【００１３】
さらに、前記１次粒子の平均粒径を０．１μｍ以上かつ１μｍ以下とし、かつ、前記２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値を０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下とすることにより、反射膜中における金属酸化物粒子の分散性を向上させることができ、反射膜中の金属酸化物粒子の分布の部分的な偏りを無くしてより均一化することができる。したがって、反射膜の厚みを増してもマイクロクラック等が生じる虞が少なくなる。また、金属酸化物粒子の分布を均一化するので、膜厚を薄くしても平坦性が失われることがなく、厚みの薄い平滑な反射膜を容易に得ることができる。よって、幅広い膜厚に対応した反射膜を容易に得ることができる。また、厚みを薄くすることにより、材料コストを削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の反射膜形成用塗布液と反射膜及び反射膜付き基材並びに面光源を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１５】
「反射膜形成用塗布液」
本実施形態の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる粒子と、バインダーとしての樹脂と、溶媒とを含有した塗布液である。
この金属酸化物粒子としては、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる粒子が好ましい。
【００１６】
この金属酸化物の１次粒子の平均粒径は０．１μｍ以上かつ１μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．３μｍ以上かつ０．８μｍ以下である。
また、この１次粒子を複数個集合した２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値（Ｄ５０）は０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．３μｍ以上かつ１．５μｍ以下である。
さらに、この２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が９０重量％の粒径値（Ｄ９０）は０．３μｍ以上かつ１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．３μｍ以上かつ５μｍ以下である。
【００１７】
ここで、１次粒子の平均粒径及びＤ５０を上記のように限定した理由は、１次粒子の平均粒径及びＤ５０が上記の範囲の値より大きい場合には、得られた反射膜の表面の凹凸が大きくなり、また、粒子同士の結合点も少なくなるので、２次粒子同士の結合力が小さくなり、したがって、膜の表面から粒子が脱落する虞があるからである。粒子が脱落した場合、この粒子は光源の内部に拡散し汚染する可能性が生じる。一方、１次粒子の平均粒径及びＤ５０が上記の範囲の値より小さい場合には、より緻密な膜が得られ易いものの、塗膜の乾燥時の熱収縮過程においては内部応力の緩和が難しくなり、特に膜厚を厚くした場合、膜にクラックが生じる虞がある。
【００１８】
この金属酸化物粒子の屈折率（ｎ）は大きい程好ましく、特に（ｎ＝）１．５以上であることが好ましい。
この様な高屈折率とすることにより、膜に入射した光を一定方向に効率よく反射させることができる。
【００１９】
上記の金属酸化物としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）の群から選択される１種または２種以上が好ましく、特に、（Ｎ＝）１．５以上の高屈折率材料である点で、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）が好ましい。
【００２０】
この金属酸化物に不純物として含まれるアルカリ金属は、少ないほうが好ましい。特に、ナトリウム（Ｎａ）は、蛍光ランプ中の水銀粒子と反応してアマルガムを形成することで水銀粒子が減少し、その結果、蛍光ランプの輝度が劣化する虞があるからである。
この金属酸化物粒子は、組成が互いに異なる複数種の金属酸化物粒子により構成してもよい。
【００２１】
樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリシクロヘキシルメタクリレート等のアクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリル酸エステル、ポリアミド、フェノール−ホルムアルデヒド（フェノール樹脂）、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、メチルメタクレート・スチレン共重合体（ＭＳ樹脂）、ポリ−４−メチルペンテン、ノルボルネン系ポリマー、ポリウレタン、エポキシ、シリコーン等が挙げられる。
【００２２】
溶媒は、基本的には、水および／または有機溶媒であるが、その他、高分子モノマーやオリゴマーの単体、もしくはこれらの混合物も好適に用いられる。
上記の有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、オクタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、アセト酢酸エステル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類が好適に用いられ、これらの溶媒のうち１種または２種以上を用いることができる。
【００２３】
この反射膜形成用塗布液は、上記以外に、その特性を損なわない範囲において、他の無機酸化物粒子、分散剤、分散助剤、カップリング剤、樹脂モノマー等を含有していてもよい。
【００２４】
この反射膜形成用塗布液における金属酸化物粒子の含有率は、１重量％以上かつ９０重量％以下が好ましく、より好ましくは１重量％以上かつ６０重量％以下である。
ここで、金属酸化物粒子の含有率を１重量％以上かつ９０重量％以下と限定した理由は、塗布液中の金属酸化物粒子の含有率が９０重量％を越えると、塗料化が困難となり、塗料の安定性、塗膜時の膜均一性、塗工性を損なう虞があるからであり、一方、塗布液中の金属酸化物粒子の含有率が１重量％未満であると、所定の膜厚（１μｍ以上）の膜を形成する場合、重ね塗りが必要となり、非効率となるからである。
【００２５】
「反射膜及び反射膜付き基材」
本実施形態の反射膜は、本実施形態の反射膜形成用塗布液を塗布して塗膜を形成し、次いで、この塗膜を大気中にて乾燥または熱処理することにより、得ることができる。
本実施形態の反射膜付き基材は、基材上に本実施形態の反射膜形成用塗布液を塗布し、次いで、この塗膜付き基材を大気中にて乾燥または熱処理することにより、得ることができる。
【００２６】
基材としては、乾燥または熱処理の際の温度に耐え得る基材であればよく、ガラス基板、透光性のセラミックス基板等が好適に用いられる。
なお、熱処理温度が２００℃〜２５０℃程度の場合、熱変形等が生じないのであれば、耐熱性プラスチック基板も用いることができる。
【００２７】
塗布方法としては、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、ロールコート法、メニスカスコート法、グラビア印刷法、インクジェット法等、塗布液を基材の表面に塗布する通常のウエットコート法を用いることができる。これらの内、スプレーコート法、バーコート法、スピンコート法は、短時間で薄膜を形成することができるので、特に好ましい塗布法である。
【００２８】
基材上に形成された塗膜を、熱風乾燥機等を用いて乾燥し、その後、塗膜中に含まれる樹脂を散逸させるために、高温焼成炉等の熱処理装置を用いて熱処理を施し、反射膜付き基材を得る。
熱処理の雰囲気は、樹脂を分解し散逸させる必要があることから、大気中が好ましい。
熱処理温度は、樹脂を分解し散逸させるに充分な温度であることが好ましく、例えば、５００℃以上が好ましい。
【００２９】
「面光源」
本発明の面光源は、面状の光源体の少なくとも内部に、本発明の反射膜を備えたものである。
図１は、本発明の一実施形態の面光源装置を示す断面図であり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の背面側に設けられる面光源装置の周縁部近傍を示したものである。
図において、１、２は所定の間隔をおいて対向配置されたガラス基板、３はガラス基板１、２の周縁部を封止する封止部材、４、５はガラス基板１、２間の空間部に蛇行した状態の放電領域を形成する隔壁、６は隔壁４、５によりガラス基板１、２間に形成された蛇行した状態の放電領域、７は反射膜、８は蛍光体層、９はガラス基板１の両側に設けられた電極である。
電極９はガラス基板１の上面の両側に設けられたもので、図１では、一方のみ図示している。
【００３０】
この面光源装置は、ガラス基板１、２の一端部側から隔壁４を、他端部側から隔壁５を、それぞれ延伸させることでガラス基板１、２間に１つの長い蛇行状態の放電領域６を形成している。
この面光源装置では、ガラス基板１の両側に設けられた一対の電極９間に所定の電圧を印加することにより、放電領域６にプラズマ放電を発生させ、このプラズマ放電により発生した紫外線により蛍光体層８を励起させ、所定の波長の光を放出するようになっている。
【００３１】
この面光源装置では、ガラス基板１上に本発明の反射膜６を形成したので、この反射膜６の表面が平滑な面となり、外部からの入射光を散乱させることなく反射させることができ、光の利用効率を向上させることができる。
また、反射膜６自体が緻密な膜であるから、反射率が低下するおそれも無い。
また、反射膜６の膜厚が薄い場合であっても、反射膜６を光が透過する虞が無く、高反射率を保持し続けることができる。
【００３２】
図２は、本実施形態の面光源装置の変形例を示す断面図であり、この面光源装置が図１に示す面光源装置と異なる点は、ガラス基板１の上面全面に反射膜７を形成し、この反射膜７上に、封止部材３、隔壁４、５及び蛍光体層８を形成した点である。
この面光源装置においても、図１に示す面光源装置と全く同様の効果を奏することができる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
実施例及び比較例共通のビヒクルとして、ニトロセルロース溶液を作製した。
ニトロセルロース１０重量部と、酢酸ブチル９０重量部とを混合タンクに投入し、次いで、この混合液を攪拌機を用いて２４時間以上撹拌し、ニトロセルロース溶液とした。
【００３４】
「実施例１」
１次粒子の平均粒径０．４μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値１．１μｍ、同Ｄ９０値２．５μｍであるアルミナ粒子３０重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、実施例１の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ａ１を得た。
【００３５】
「実施例２」
１次粒子の平均粒径０．４μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値１．１μｍ、同Ｄ９０値２．５μｍであるアルミナ粒子２１重量部、１次粒子の平均粒径０．１８μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．４５μｍ、同Ｄ９０値１．２５μｍであるアルミナ粒子９重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、実施例２の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ａ２を得た。
【００３６】
「実施例３」
１次粒子の平均粒径０．２３μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．３５μｍ、同Ｄ９０値０．９μｍであるチタニア粒子３０重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、実施例３の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ｔ１を得た。
【００３７】
「実施例４」
１次粒子の平均粒径０．４μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値１．１μｍ、同Ｄ９０値２．５μｍであるアルミナ粒子１５重量部、１次粒子の平均粒径０．２３μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．４５μｍ、同Ｄ９０値０．９μｍであるチタニア粒子１５重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、実施例４の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板ＡＴ１を得た。
【００３８】
「比較例１」
１次粒子の平均粒径２．０μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値２．５μｍ、同Ｄ９０値４．０μｍであるアルミナ粒子３０重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、比較例１の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ａ３を得た。
【００３９】
「比較例２」
１次粒子の平均粒径０．０２μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．４μｍ、同Ｄ９０値０．７μｍであるアルミナ粒子３０重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、比較例２の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ａ４を得た。
【００４０】
「比較例３」
１次粒子の平均粒径０．０３μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．４５μｍ、同Ｄ９０値０．８μｍであるチタニア粒子３０重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、比較例３の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板Ｔ２を得た。
【００４１】
「比較例４」
１次粒子の平均粒径０．０２μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．４μｍ、同Ｄ９０値０．７μｍであるアルミナ粒子１５重量部、１次粒子の平均粒径０．０３μｍ、２次粒子の累積粒度分布のＤ５０値０．３５μｍ、同Ｄ９０値０．８μｍであるチタニア粒子１５重量部、ニトロセルロース溶液９重量部、及び酢酸ブチル６１重量部を混合し、次いで、ボールミルを用いて２４時間、混合・分散させ、比較例４の塗布液を得た。
次いで、この塗布液をガラス基板上にスプレーコート法により塗布し、塗膜を得た。
次いで、この塗膜を熱乾燥機を用いて、大気中、１００℃にて３分間乾燥させ、その後、大気中、５００℃にて３０分間焼成を行い、反射膜付き基板ＡＴ２を得た。
【００４２】
「反射膜付き基板の評価」
実施例１〜４及び比較例１〜４それぞれの反射膜付き基板の膜厚、反射率、全光線透過率、密着度の各項目について、下記の装置または方法により評価を行った。また、膜の外観を目視にて観察した。
（１）膜厚
表面粗さ計 Ｔｅｎｃｏｒ Ｐ１０（ＫＬＣ社製）を用いて測定した。
（２）反射率
分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、５５０ｎｍの波長の光を照射したときの全反射率（拡散反射率）を測定した。
【００４３】
（３）全光線透過率
ヘイズメータ ＮＤＨ−２０００（日本電色社製）を用いて測定した。
（４）密着度
粘着テープ Scotch811（住友スリーエム社製）を塗膜の表面に貼り付け、塗膜の剥離性を目視にて観察した。評価としては、剥離が全く認められなかったものを「○」、一部剥離が認められたものを「△」、完全に剥離したものを「×」とした。
【００４４】
（５）膜の外観
膜の表面を目視にて観察し、凹凸やクラックが全く認められなかったものを「○」、凹凸やクラックが僅かに認められたものを「△」、凹凸やクラックが明らかに認められたものを「×」とした。
以上の評価結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】
2007256876.tif 000002
【００４６】
これらの評価結果によれば、実施例１〜４では、膜厚が５８μｍ以下と薄く、反射率、全光線透過率、密着度ともに良好であることが分かった。また、膜の表面には凹凸やクラックが全く認められず、平滑性に優れていることが分かった。
一方、比較例１では、膜厚が１８０μｍと極めて厚く、また、反射率及び全光線透過率は実施例１〜４と同等であるものの、密着度が低下していた。また、膜の表面は凹凸が大きく、平滑性に劣ったものであった。
また、比較例２〜４では、膜厚が１００μｍであり、反射率、全光線透過率ともに低下していることが分かった。また、膜の表面には凹凸が認められ、平滑性に劣っていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の反射膜形成用塗布液は、金属酸化物からなる１次粒子を複数個集合した２次粒子からなる金属酸化物粒子と、バインダーとしての樹脂と、溶媒とを含有し、この金属酸化物粒子の１次粒子の平均粒径を０．１μｍ以上かつ１μｍ以下、かつ、２次粒子の累積粒度分布の累積百分率が５０重量％の粒径値を０．１μｍ以上かつ３．０μｍ以下とすることにより、より均一でより緻密な反射膜を容易に形成することができるものであるから、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）はもちろんのこと、これ以外の様々な工業分野においても、その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の一実施形態の面光源装置を示す断面図である。
【図２】本発明の一実施形態の面光源装置の変形例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１、２  ガラス基板
３  封止部材
４、５  隔壁
６  放電領域
７  反射膜
８  蛍光体層
９  電極
【図１】
2007256876.tif 000003
【図２】
2007256876.tif 000004