(57)【要約】【課題】本発明は、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】感光体は、導電性支持体２１上に少なくとも感光層２２を有し、感光層２２は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する。【選択図】図２
2007310153.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、
該感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする感光体。
【請求項２】
前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、
該電荷輸送層は、前記グラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする請求項１に記載の感光体。
【請求項３】
導電性支持体上に少なくとも感光層及び保護層が積層されている感光体において、
該保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする感光体。
【請求項４】
前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする請求項３に記載の感光体。
【請求項５】
前記保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする請求項３又は４に記載の感光体。
【請求項６】
前記フィラーは、無機フィラーであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体。
【請求項７】
前記無機フィラーは、金属酸化物であることを特徴とする請求項６に記載の感光体。
【請求項８】
前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化チタン及び酸化アルミニウムの少なくとも一つを含有することを特徴とする請求項７に記載の感光体。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１１】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、電子写真方法とは、光導電性の感光体をまず暗所で、例えば、コロナ放電によって帯電させ、次に像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸させて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料等の着色剤と高分子物質等の結合剤から構成される検電微粒子（トナー）で現像し、可視化して画像を形成するようにした画像形成法の一つである。このような電子写真方法において、感光体に要求される基本的な特性としては、暗所で適当な電位に帯電できること、暗所において、電荷の散逸が少ないこと、光照射によって速やかに電荷を散逸できること等が挙げられる。
【０００３】
従来、電子写真方法で使用される感光体としては、導電性支持体上に、セレン又はセレン合金を主体とする感光層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）と、トリニトロフルオレノン、アゾ顔料等の有機光導電材料を用いたもの、非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に知られているが、近年では、コストの低さ、感光体の設計の自由度の高さ、低公害性等から有機系電子写真感光体が広く利用されるようになってきている。
【０００４】
有機系電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂型、ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質を組み合わせて用いる機能分離型の感光体等が知られており、特に、機能分離型の感光体が注目されている。
【０００５】
機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムについて、以下に説明する。感光体を帯電した後に光照射すると、光は、電荷輸送層を通過して、電荷発生層中の電荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質は、電荷担体を発生する。この電荷担体は、電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体の表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成する。機能分離型の感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生物質を組み合わせて用いることが知られており、上記の基本特性を満たすものが得られている。
【０００６】
近年、電子写真プロセスの高速化、小型化が進む中、感光体に対して、上記の基本特性以外に、長期間の繰り返しの使用に際しても高画質を保つことのできる信頼性及び高耐久性が強く要求されるようになっている。
【０００７】
感光体は、電子写真プロセスにおいて、様々な機械的、化学的負荷を受けている。このような負荷により、感光体は、摩耗し、膜厚の減少による異常画像が発生する。感光体の耐久性を向上させる手段として、感光体にフィラーを添加する技術、感光層の表面にフィラーを分散させた表面保護層を設ける技術が、特許文献１〜５に開示されている。
【０００８】
フィラーを含有する感光体において、高耐久化、高画質化、高安定化のためには、フィラーの分散状態が非常に重要である。
【０００９】
膜中にフィラーが不均一な状態又はフィラー凝集体が存在した場合、膜の透明性が低下し、フィラーによって書き込み光が散乱され、電荷発生が不均一になり、画像特性が低下する。さらに、このような状態では、感光層中で発生した電荷が感光体の表面に輸送される際にも、フィラーにより電荷輸送が妨げられ、感光体の表面で電位ムラが発生し、画像特性が低下する。また、感光体の表面にフィラー凝集体が存在する場合、クリーニング不良、クリーニングブレードの欠損等の問題も発生する。
【００１０】
これらの問題は、フィラーの凝集を低減した分散性の高い塗工液を調製することにより解消される。さらに、塗工液は、フィラーの分散安定性を高くすることが重要である。フィラーの分散安定性が低い塗工液は、長期間の保存に問題があるだけではなく、製膜途中においても、フィラーが沈降し、安定した感光体の作製が不可能となる。
【００１１】
膜中のフィラーの分散及び凝集状態、塗工液の分散安定性を改善する手法として、塗工液中に分散剤を添加する技術が、特許文献６、７に開示されている。
【００１２】
これらの分散剤は、極性を有するフィラーの表面を修飾し、塗工液中における溶媒や樹脂に対する分散性が向上し、分散性及び分散安定性が向上する。そして、これらの分散剤を含有する塗工液を用いて作製された感光体は、膜中でフィラーが均一に分散され、耐摩耗性及び画像特性が向上する。
【００１３】
また、特許文献８には、フィラーの表面に電荷輸送部分が連結基でグラフト結合され、優れた耐摩耗性を有する画像形成部材が得られることが開示されている。しかしながら、電荷輸送部分及びフィラー部分に連結基又は固着基を導入し反応させるため、材料の多様性への対応に難点がある。
【００１４】
このように、感光体の表面にフィラーを含有させることにより、感光体の高耐久化が図られているが、アモルファスシリコン感光体に比べて、機械的耐久性が低い。今後更なる高速化、小型化が進むことから、有機系電子写真感光体の高耐久化が望まれている。
【特許文献１】特開平１−２０５１７１号公報
【特許文献２】特開平７−３３３８８１号公報
【特許文献３】特開平８−１５８８７号公報
【特許文献４】特開平８−１２３０５３号公報
【特許文献５】特開平８−１４６６４１号公報
【特許文献６】特開２００３−１４９８４９号公報
【特許文献７】特開２００２−２６８２５７号公報
【特許文献８】特開２００６−６３３４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
請求項１に記載の発明は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、該感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする。
【００１７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の感光体において、前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、該電荷輸送層は、前記グラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、感光体において、導電性支持体上に少なくとも感光層及び保護層が積層されている感光体において、該保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする。
【００１９】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の感光体において、前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする。
【００２０】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は４に記載の感光体において、前記保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする。
【００２１】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の感光体において、前記フィラーは、無機フィラーであることを特徴とする。
【００２２】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の感光体において、前記無機フィラーは、金属酸化物であることを特徴とする。
【００２３】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の感光体において、前記金属酸化物は、酸化ケイ素、酸化チタン及び酸化アルミニウムの少なくとも一つを含有することを特徴とする。
【００２４】
請求項９に記載の発明は、画像形成装置において、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする。
【００２５】
請求項１０に記載の発明は、プロセスカートリッジにおいて、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を少なくとも有することを特徴とする。
【００２６】
請求項１１に記載の発明は、画像形成方法において、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
次に、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２９】
本発明の感光体の第一の実施形態は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有し、感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する。また、本発明の感光体の第二の実施形態は、導電性支持体上に少なくとも感光層及び保護層が積層されており、保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する。本発明において、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂とは、それぞれポリカーボネート骨格及びポリアリレート骨格を有する樹脂を意味し、これらの構造を有する共重合体も含まれる。
【００３０】
このような感光体を用いることにより、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性の全てが良好な画像形成装置を提供することができる。
【００３１】
まず、フィラーを含有する感光層又は保護層の摩耗メカニズムを説明する（図１参照）。電子写真プロセスにおいて、感光層（又は保護層）１１は、クリーニング部で機械的負荷を受ける。クリーニング部では、トナー１２やクリーニングブレード、クリーニングブラシが感光層（又は保護層）１１に接触し、機械的強度が低い部分から徐々に摩耗する。感光層（又は保護層）１１がフィラー１１ａを含有する場合は、選択的に結着樹脂１１ｂから摩耗する。図１のＡでは、感光層（又は保護層）１１の表面にフィラー１１ａが存在せず、結着樹脂１１ｂが摩耗する。図１のＢでは、結着樹脂１１ｂに比べて高硬度のフィラー１１ａは、摩耗せず、フィラー１１ａの周辺の結着樹脂１１ｂが摩耗する。しかし、フィラー１１ａが立体障害となり、結着樹脂１１ｂの摩耗速度は、減少する。図１のＣでは、フィラー１１ａが突出し、フィラー１１ａの周辺の結着樹脂１１ｂが徐々に摩耗され、フィラー１１ａと結着樹脂１１ｂの接触面積が減少して、フィラー１１ａと結着樹脂１１ｂの付着力が低下し、フィラー１１ａが離脱する。このようなＡ、Ｂ及びＣの過程を繰り返すことにより、感光層（又は保護層）１１の膜厚が減少する。
【００３２】
ここで、感光層又は保護層の摩耗量は、結着樹脂の機械的強度、フィラーの機械的強度、フィラー量、フィラー径等により、変化する。また、図１のＣにおいて、フィラーと結着樹脂の付着力が感光層又は保護層の摩耗に大きく寄与し、フィラーと結着樹脂の親和性を向上させることにより、耐摩耗性が向上する。また、フィラーと結着樹脂の親和性が高くなれば、塗工液中でのフィラーの分散性も向上し、塗工液のフィラー分散安定性や実際にその塗工液を用いて作製した感光層又は保護層中のフィラーの分散性が向上する。
【００３３】
本発明においては、フィラーに対する親和性が高い極性基を有するモノマーを結着樹脂にグラフト重合することにより、フィラーと結着樹脂の親和性を向上させることができる。
【００３４】
従来、感光層又は保護層には、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリオレフィン等のビニル重合体又はその共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート（ポリエステル）樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂等が用いられている。中でも、感光体としての製造上の特性、機械的強度、特に耐摩耗性が優れていることから、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好ましいが、本発明においては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより、フィラーと樹脂の親和性を高くして、フィラーの分散性を向上させることができる。その結果、感光層又は保護層の機械的強度を向上させることができる。
【００３５】
次に、本発明で用いられるポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体について説明する。
【００３６】
本発明において、グラフト重合は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂からの水素引き抜き反応を伴うものであり、通常、酸素ラジカル、電子線照射、芳香族ケトンへの光照射等を用いることができる。これらの中で、簡便であり、感光体に用いるのに適しているのは、酸素ラジカルを用いる方法である。酸素ラジカルは、過酸化物の分解により発生し、過酸化物としては、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、ハイドロパーオキサイド類を用いることができる。
【００３７】
また、グラフト重合に用いられる極性基を有するモノマーとしては、極性基を有するビニルモノマーが好ましい。具体的には、アクリル酸及びそのエステル類、メタクリル酸及びそのエステル類、イタコン酸及びそのエステル類、無水イタコン酸、アクリロニトリル、アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルピラジン、ビニルイミダゾール、ビニル安息香酸及びそのエステル類、ビニルベンジルクロライド等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で重合させてもよいし、二種以上混合して用いて共重合させてもよい。さらに、共重合させる場合には、スチレン、ビニルトルエン等の極性基を有さないモノマーを用いてもよい。
【００３８】
極性基を有するビニルモノマーのグラフト量については、ポリカーボネート構造又はポリアリレート構造１００〜２０００ユニット当たり、１ユニットがグラフトされていることが好ましい。グラフト量が上記範囲より大きいと、感光体の静電特性に影響を与え、酸性モノマーの場合、帯電性低下、また、塩基性モノマーの場合、残留電位上昇が問題となることがある。また、グラフト量が上記範囲より小さいと、フィラーの分散性に対する効果が小さくなることがある。
【００３９】
水素引き抜き反応としては、フェニル核上、フェニル核の置換基、アルキル基等の水素を引き抜く反応が挙げられる。中でも、反応のしやすさから、アルキル基の水素を引き抜く反応が好ましい。
【００４０】
以上のことから、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂は、一般式（１）
ＨＯ−Ｘ−ＯＨ
［式中、Ｘは、一般式
【００４１】
【化１】
2007310153.tif 000003
｛式中、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３及びＲ１０４は、それぞれ独立に、ハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３及びＲ１０４がそれぞれ複数個存在するときは、同一であっても異なっていてもよく、ｏ及びｐは、それぞれ独立に、０〜４の整数であり、ｑ及びｒは、それぞれ独立に、０〜３の整数であり、Ｙは、単結合、炭素数２〜４の直鎖状のアルキレン基、オキシ基、チオ基、一般式
【００４２】
【化２】
2007310153.tif 000004
（式中、Ｒ１０５は、ハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、ｓは、０〜４の整数であり、ｔは、１〜３の整数である。）
で表される２価基、一般式
【００４３】
【化３】
2007310153.tif 000005
（式中、Ｒ１０６及びＲ１０７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基であり、Ｒ１０６及びＲ１０７が結合して炭素数５〜１２の炭素環を形成していてもよい。）
で表される２価基、一般式
【００４４】
【化４】
2007310153.tif 000006
（式中、Ｒ１０８、Ｒ１０９、Ｒ１１０及びＲ１１１は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルコキシ基又は無置換若しくは置換のアリール基である。）
で表される２価基又は構造式
【００４５】
【化５】
2007310153.tif 000007
で表される２価基である。｝
で表される２価基である。］
で表されるアルキル基を有するビフェノール化合物又はビスフェノール化合物を用いて合成されていることが好ましい。
【００４６】
Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３及びＲ１０４において、ハロゲン基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられる。
【００４７】
炭素数１〜６のアルキル基としては、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が挙げられ、炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、フルオロ基、シアノ基、フェニル基又はハロゲン基若しくは炭素数１〜６の直鎖、分岐鎖、環状のアルキル基で置換されたフェニル基が挙げられる。炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、トリフルオロメチル基、２−シアノエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４８】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、アリール基の置換基としては、上記と同様のハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基が挙げられる。
【００４９】
Ｙにおいて、炭素数２〜４の直鎖状のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられる。
【００５０】
Ｒ１０５〜Ｒ１１１において、ハロゲン基、炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基、無置換若しくは置換のアリール基は、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３及びＲ１０４と同様である。
【００５１】
炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルコキシ基としては、上記の炭素数１〜６の無置換若しくは置換のアルキル基を有するアルコキシ基が挙げられる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【００５２】
また、Ｒ１０６及びＲ１０７が結合して形成される炭素数５〜１２の炭素環としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロオクタデカン等が挙げられる。
【００５３】
一般式（１）で表されるアルキル基を有するビフェノール化合物又はビスフェノール化合物の具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジメチルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ぺンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノナン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３，３’，３’−テトラメチル−６，６’−ジヒドロキシスピロ（ビス）インダン、３，３’，４，４’−テトラヒドロ−４，４，４’，４’−テトラメチル−２，２’−スピロビ（２Ｈ−１−ベンゾピラン）−７，７’−ジオール等が挙げられる。
【００５４】
次に、本発明で用いられるグラフト共重合体の合成例、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）の測定方法について説明する。
（合成例１）ビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネートの合成
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートＴＳ２０５０（帝人社製）３．０ｇ、４−ビニルピリジン０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート２．９７ｇを得た。
【００５５】
ＧＰＣによる重量平均分子量は、１４６３００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６８８ユニットのビスフェノールＺカーボネートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン８個分の積分値から計算した。なお、原料のビスフェノールＺ型ポリカーボネートのＧＰＣによる重量平均分子量は、１４７０００であった。
（合成例２）アクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネートの合成
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートＴＳ２０５０（帝人社製）３．０ｇ、アクリル酸０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート２．９５ｇを得た。ＧＰＣによる重量平均分子量は、１４６７００であった。
（合成例３）ビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリアリレートの合成
１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン２．６８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ｔ−ブチルフェノール１５．０ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム１．５２ｇ（３８ｍｍｏｌ）を水５０ｍｌに溶解させた後、相間移動触媒であるＢＴＥＡＣ（ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド）１３．６ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）を添加し、溶解させた（水相）。別に、テラフタル酸クロライドとイソフタル酸クロライドの１：１の混合物２．０３ｇ（１０．０２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４０ｍｌに溶解させた（有機相）。反応容器を２０℃に保ち、水相を６５０ｒｐｍで撹拌させながら有機相を添加した。この状態で５時間反応を行った後、撹拌を停止し、水相と有機相を分離させた。有機相を酢酸水溶液にて中和し、さらに有機相を３回水洗した。次に、メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のビスフェノールＺ型ポリアリレート３．８１ｇを得た。重合収率は、９５．４％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５３５００であった。
【００５６】
ビスフェノールＺ型ポリアリレート３．０ｇ、４−ビニルピリジン０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加えて、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリアリレート２．９６ｇを得た。
【００５７】
ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５３２００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６３５ユニットのビスフェノールＺアリレートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン１２個分の積分値から計算した。
（合成例４）アクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリアリレートの合成
ビスフェノールＺ型ポリアリレート３．０ｇ、アクリル酸０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリアリレート２．９３ｇを得た。ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５３１００であった。
（合成例５）ビニルピリジングラフトビスフェノールＥ型ポリカーボネートの合成
４，４’−エチリジンビスフェノール４．２８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ｔ−ブチルフェノール３０．０ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム６．００ｇ（１５０ｍｍｏｌ）とハイドロサルファイト９．０ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を水１２０ｍｌに室温で溶解させた。次に、トリホスゲン３．５６ｇ（１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶解させたトリホスゲン溶液を１５℃で添加し、そのまま１５分間撹拌した。さらに、触媒として、トリエチルアミン２０．２ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で９０分間反応させた後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、２重量％塩酸水溶液で洗浄し、３回水洗し、メタノールにより再沈殿させてビスフェノールＥ型ポリカーボネート４．１６ｇを得た。重合収率は、９７．５％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５１５００であった。
【００５８】
ビスフェノールＥ型ポリカーボネート３．０ｇ、４−ビニルピリジン０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、極薄黄白色のビニルピリジングラフトビスフェノールＥ型ポリカーボネート２．９５ｇを得た。
【００５９】
ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５０５００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６３０ユニットのビスフェノールＥ型カーボネートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量は、ビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン８個分の積分値から計算した。
（合成例６）アクリル酸グラフトテトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネートの合成
５．４３ｇ（１０ｍｍｏｌ）のテトラブロモビスフェノールＡと１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン２．６８ｇ（１０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ｔ−ブチルフェノール３０．０ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム６．００ｇ（１５０ｍｍｏｌ）とハイドロサルファイト９．０ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を水１２０ｍｌに室温で溶解させた。次に、トリホスゲン３．５６ｇ（１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶解させたトリホスゲン溶液を１５℃で添加し、そのまま１５分間撹拌した。さらに、触媒として、トリエチルアミン２０．２ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で９０分間反応させた後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、２重量％塩酸水溶液で洗浄し、３回水洗し、メタノールにより再沈殿させてテトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネート７．８６ｇを得た。重合収率は、９７．０％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は、１６１０００であった。
【００６０】
テトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネート３．０ｇ、アクリル酸０．３ｇ、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）０．１ｇを脱水トルエン４０ｍｌに溶解させ、アルゴンガス雰囲気下、１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温で放置した後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させた。次に、ジクロロメタンに溶解させ、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させて単離乾燥し、白色のアクリル酸グラフトテトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネート２．９４ｇを得た。ＧＰＣによる重量平均分子量は、１５９５００であった。
（ＧＰＣの測定方法）
ＧＰＣは、ＨＬＣ−８１２０型（東ソー社製）、プレカラムは、ＴＳＫｇｒａｎｄｃｏｌｕｍＳｕｐｅｒＨ−Ｈ（東ソー社製）、カラムは、ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ５０００、同Ｈ４０００、同Ｈ３０００、同Ｈ１０００（以上、東ソー社製）を連結したものを用いることができる。測定温度は、４０℃、キャリアは、テトラヒドロフラン、流速は、０．６ｍｌ／分とし、平均分子量は、ポリスチレンの標準試料を用いて算出することができる。
【００６１】
次に、本発明で用いられるフィラーについて説明する。
【００６２】
フィラーは、耐摩耗性を向上する目的で感光層又は保護層に添加されるが、有機フィラー及び無機フィラーのいずれであってもよい。有機フィラーとしては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末、カーボン粉末等が挙げられ、無機フィラーとしては、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化スズ、スズをドープした酸化インジウム等の金属酸化物、チタン酸カリウム等の無機材料が挙げられる。中でも、フィラーの硬度の点から、無機フィラーが好ましく、金属酸化物がさらに好ましく、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタンが特に好ましい。これらフィラーは、単独又は２種類以上混合して用いられる。
【００６３】
フィラーの平均一次粒径は、感光層又は保護層の光透過率や耐摩耗性の点から、０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。フィラーの平均一次粒径が０．０１μｍ未満の場合は、耐摩耗性の低下、分散性の低下等を引き起こすことがあり、０．５μｍを超える場合は、分散液中においてフィラーの沈降が促進されたり、トナーのフィルミングが発生したりすることがある。
【００６４】
感光層又は保護層中のフィラー濃度が高い程、耐摩耗性が高くなるが、８０重量％を超える場合には、残留電位の上昇、感光層又は保護層の書き込み光透過率の低下等の副作用を生じることがある。従って、フィラー濃度は、全固形分に対して、通常、８０重量％以下であり、５０重量％以下が好ましい。なお、フィラー濃度の下限値は、通常、５重量％である。
【００６５】
また、フィラーの分散性の面から、フィラーは、少なくとも一種の表面処理剤で表面処理されていることが好ましい。フィラーの分散性が低下すると、残留電位の上昇だけでなく、塗膜の透明性の低下や塗膜欠陥の発生、さらには、耐摩耗性の低下をも引き起こすため、高耐久化又は高画質化を妨げる大きな問題に発展する可能性がある。表面処理剤としては、従来用いられている表面処理剤を使用することができるが、フィラーの絶縁性を維持できる表面処理剤が好ましい。例えば、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤、高級脂肪酸等、これらとシランカップリング剤の混合処理；Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、シリコーン、ステアリン酸アルミニウム等、これらの混合処理がフィラーの分散性及び画像ボケの点から好ましい。シランカップリング剤による表面処理は、画像ボケの影響が強くなることがあるが、上記の表面処理剤とシランカップリング剤の混合処理を施すことにより、その影響を抑制することができる。表面処理量は、フィラーの平均一次粒径によって異なるが、３〜３０重量％が好ましく、５〜２０重量％がさらに好ましい。表面処理量が３重量％よりも少ないと、フィラーの分散性を向上させる効果が得られないことがあり、３０重量％よりも多いと、残留電位が上昇することがある。
【００６６】
次に、本発明の感光体の層構成について説明する。
【００６７】
図２は、導電性支持体２１上に、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する感光層２２を設けた構成例である。
【００６８】
図３は、導電性支持体２１上に、電荷発生層２２ａ並びにポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する電荷輸送層２２ｂを設けた構成例である。
【００６９】
図４は、導電性支持体２１上に、感光層２２並びにポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する保護層２３を設けた構成例である。
【００７０】
図５は、導電性支持体２１上に、電荷発生層２２ａ、電荷輸送層２２ｂ並びにポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する保護層２３を設けた構成例である。
【００７１】
なお、上記の感光体は、導電性支持体上に、モアレ防止、導電性支持体から感光層への電荷注入の阻止を目的として、下引き層が形成されていてもよい。
【００７２】
本発明の感光体は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体及びフィラーを含有する感光層又は保護層を少なくとも有していればよく、その他の層等が任意に組み合わされていても構わない。
【００７３】
導電性支持体としては、体積抵抗率が１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの；アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらを、押し出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等の表面処理した管等が挙げられる。また、特開昭５２−３６０１６号公報に開示されたエンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。
【００７４】
この他に、上記の支持体上に、導電性粉体を結着樹脂に分散させた導電性層を塗工したものも、導電性支持体として用いることができる。導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック；アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀等の金属粉体；導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物粉体等が挙げられる。また、結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。導電性層は、導電性粉体と結着樹脂を、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエン等の溶剤に分散して塗布することにより設けることができる。
【００７５】
さらに、円筒基体上に、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）等の素材に導電性粉体を含有させた熱収縮チューブを用いて導電性層を設けたものも、導電性支持体として用いることができる。
【００７６】
次に、感光層について説明する。感光層は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。まず、感光層が電荷発生層及び電荷輸送層から構成される積層構造である場合について説明する。
【００７７】
電荷発生層は、電荷発生物質を含有し、必要に応じて、結着樹脂をさらに含有してもよい。電荷発生層には、公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、電荷発生物質としては、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、他のフタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩系染料等が挙げられ、単独又は２種以上混合して用いられる。中でも、アゾ顔料及び／又はフタロシアニン顔料が好ましく、一般式
【００７８】
【化６】
2007310153.tif 000008
［式中、Ｒ２０１及びＲ２０２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基又はシアノ基である。Ｃｐ１及びＣｐ２は、それぞれ独立に、一般式
【００７９】
【化７】
2007310153.tif 000009
（式中、Ｒ２０３は、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基又はフェニル基等のアリール基である。Ｒ２０４、Ｒ２０５、Ｒ２０６、Ｒ２０７及びＲ２０８は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等のハロゲン基、トリフルオロメチル基、メチル基、エチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基又は水酸基であり、Ｚは、置換若しくは無置換の芳香族炭化水素環又は置換若しくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群である。）
で表されるカップラー残基である。］
で表されるアゾ顔料及びチタニルフタロシアニン（特に、ＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン）が特に好ましい。
【００８０】
結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。結着樹脂の添加量は、電荷発生物質１００重量部に対して、通常、０〜５００重量部であり、１０〜３００重量部が好ましい。
【００８１】
電荷発生層の膜厚は、通常、０．０１〜５μｍであり、０．１〜２μｍが好ましい。
【００８２】
電荷発生層は、電荷発生物質を、必要に応じて、結着樹脂と共に溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波等を用いて分散した塗布液を、導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。
【００８３】
溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられるが、中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が好ましい。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等を用いることができる。
【００８４】
電荷輸送層は、電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する。電荷輸送物質としては、正孔輸送物質及び電子輸送物質を用いることができる。
【００８５】
電子輸送物質としては、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等が挙げられる。
【００８６】
正孔輸送物質としては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）及びその誘導体、ポリグルタミン酸γ−カルバゾリルエチル及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等が挙げられる。
【００８７】
これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いることができる。また、電荷輸送機能とバインダー機能を併せ持つ高分子電荷輸送物質も使用することができる。
【００８８】
電荷輸送層が最表層となる場合、電荷輸送層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体、フィラー及び電荷輸送物質を含有する。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び／又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。
【００８９】
電荷輸送層が最表層とならない場合、結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂を用いることができる。
【００９０】
電荷輸送物質の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して、通常、２０〜３００重量部であり、４０〜１５０重量部が好ましい。
【００９１】
また、電荷輸送層には、必要に応じて、可塑剤、レベリング剤等を添加してもよい。可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル等の一般の樹脂の可塑剤として使用されているものが挙げられ、その使用量は、結着樹脂に対して、通常、０〜３０重量％である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマー又はオリゴマーが挙げられ、その使用量は、結着樹脂に対して、通常、０〜１重量％である。
【００９２】
なお、電荷輸送層の膜厚は、解像度・応答性の点から、２５μｍ以下であることが好ましい。下限値に関しては、使用するシステム（特に、帯電電位等）により異なるが、５μｍ以上であることが好ましい。
【００９３】
電荷輸送層は、電荷輸送物質及び結着樹脂を、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン等の溶剤に溶解又は分散した塗布液を電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成することができる。
【００９４】
次に、感光層が単層構造である場合について説明する。
【００９５】
感光層は、結着樹脂及び前述した電荷発生物質を含有し、前述した電荷輸送物質をさらに含有して機能分離タイプとしてもよい。
【００９６】
感光層が最表層になる場合、感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体、フィラー及び電荷発生物質を含有し、電荷輸送物質をさらに含有してもよい。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び／又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。
【００９７】
感光層が最表層とならない場合、結着樹脂としては、前述の電荷輸送層で用いられる結着樹脂を単独で用いてもよいし、前述の電荷発生層で用いられる結着樹脂と混合して用いてもよい。
【００９８】
電荷発生物質の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して、５〜４０重量部であることが好ましい。また、電荷輸送物質の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して、０〜１９０重量部であることが好ましく、５０〜１５０重量部がさらに好ましい。
【００９９】
また、感光層には、必要に応じて、可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。
【０１００】
なお、感光層の膜厚は、通常、５〜２５μｍである。
【０１０１】
感光層は、電荷発生物質及び結着樹脂を、必要に応じて、電荷輸送物質と共に、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶剤に溶解又は分散した塗布液を、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法等で塗布、乾燥することによって形成することができる。
【０１０２】
本発明の感光体は、導電性支持体と感光層の間に、下引き層をさらに有することができる。
【０１０３】
下引き層は、一般に、樹脂を主成分とするが、下引き層上に、溶剤を含有する塗布液を塗布することを考えると、樹脂は、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性が高いことが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層には、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料を添加してもよい。
【０１０４】
さらに、下引き層としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を用いることもできる。
【０１０５】
これらの他の下引き層としては、Ａｌ２Ｏ３を陽極酸化で設けたもの、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、ＣｅＯ２等の無機物を真空薄膜作成法で設けたもの等も用いることができる。
【０１０６】
下引き層の膜厚は、通常、０〜５μｍである。
【０１０７】
下引き層は、前述した感光層と同様の溶剤、塗工法を用いて形成することができる。
【０１０８】
本発明の感光体は、機械的耐久性を向上させることを目的として、感光層上に保護層を有することができる。
【０１０９】
保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する。これらのグラフト共重合体は、単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。このとき、ポリカーボネート樹脂由来のグラフト共重合体及びポリアリレート樹脂由来のグラフト共重合体を混合して用いてもよい。さらに、他のポリカーボネート樹脂及び／又はポリアリレート樹脂と混合して用いてもよい。
【０１１０】
保護層は、残留電位の低減、応答性の改良のため、電荷輸送物質を含有することが好ましい。電荷輸送物質は、前述の電荷輸送層で用いられる電荷輸送物質を用いることができる。なお、電荷輸送物質として、低分子の電荷輸送物質を用いる場合には、保護層中に濃度勾配を有しても構わない。このとき、耐摩耗性を向上させるためには、電荷輸送物質の表面側の濃度を低くすることが好ましい。また、保護層には、電荷輸送物質としての機能とバインダーの機能を持った高分子電荷輸送物質も用いることができる。
【０１１１】
保護層の膜厚は、１．０〜８．０μｍであることが好ましい。
【０１１２】
一般に、長期的に繰り返し使用される感光体は、機械的に耐久性が高く、摩耗しにくいものとするが、実機内では、帯電部材等から、オゾン、ＮＯｘガス等が発生し、感光体の表面に付着し、画像流れが発生する。画像流れを抑制するためには、感光層をある一定速度以上で摩耗する必要がある。このため、長期的な繰り返し使用を考慮した場合、保護層の膜厚は、１．０μｍ以上であることが好ましい。また、保護層の膜厚が８．０μｍより大きい場合は、残留電位の上昇や微細ドット再現性の低下が発生することがある。
【０１１３】
保護層の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等を用いることができるが、一般に、微小開口部を有するノズルより塗布液を吐出し、霧化することにより生成した微小液滴を感光層上に付着させて塗膜を形成するスプレー塗工法が用いられる。
【０１１４】
本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度の低下、残留電位の上昇を抑制する目的で、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、低分子の電荷輸送物質、レベリング剤等の添加剤を各層に添加することができる。また、塗布液中のフィラーの分散性を向上させるために、分散安定剤を添加することができる。これらの添加剤の具体例を以下に示す。
【０１１５】
各層に添加できる酸化防止剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）フェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェロール類等。
（ｂ）ｐ−フェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン等。
（ｃ）ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン等。
（ｄ）有機硫黄化合物類
３，３’−チオジプロピオン酸ジラウリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジステアリル、３，３’−チオジプロピオン酸ジテトラデシル等。
（ｅ）有機リン化合物類
トリフェニルホスフィン、トリス（ノニルフェニル）ホスフィン、トリス（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリス（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィン等。
【０１１６】
各層に添加できる可塑剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロロエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリス（２−エチルヘキシル）、リン酸トリフェニル等。
（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ビス（２−エチルヘキシル）、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチル等。
（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ−オクチル、オキシ安息香酸オクチル等。
（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）、アジピン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸ｎ−オクチル−ｎ−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ビス（２−エチルヘキシル）、セバシン酸ビス（２−エトキシエチル）、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチル等。
（ｅ）脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレエート、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリン等。
（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチル等。
（ｇ）エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシル等。
（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールビス（２−エチルブチラート）等。
（ｉ）含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチル等。
（ｊ）ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステル等。
（ｋ）スルホン酸誘導体
ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−エチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−エチル−ｏ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシル−ｐ−トルエンスルホンアミド等。
（ｌ）クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリス（２−エチルヘキシル）、アセチルクエン酸ｎ−オクチルデシル等。
（ｍ）その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチル等。
【０１１７】
各層に添加できる滑剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレン等。
（ｂ）脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等。
（ｃ）脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビス（ステアリルアミド）、エチレンビス（ステアリルアミド）等。
（ｄ）エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸のポリグリコールエステル等。
（ｅ）アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロール等。
（ｆ）金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等。
（ｇ）天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウ等。
（ｈ）その他
シリコーン化合物、フッ素化合物等。
【０１１８】
各層に添加できる紫外線吸収剤としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
（ａ）ベンゾフェノン系
２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等。
（ｂ）サルシレート系
サリチル酸フェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル等。
（ｃ）ベンゾトリアゾール系
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等。
（ｄ）シアノアクリレート系
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル等。
（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系）
ニッケル（２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）ｎ−ブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェート等。
（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン）
セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等。
【０１１９】
次に、図面を用いて、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を詳しく説明する。
【０１２０】
図６は、本発明の画像形成装置の一例を示す図であり、後述するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
【０１２１】
図６において、感光体３１は、本発明の感光体である。感光体３１は、ドラム状の形状を示しているが、シート状又はエンドレスベルト状であってもよい。帯電部材（ローラ）３２、転写前チャージャ３３、クリーニング前チャージャ３４には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャ）、帯電ローラ等の公知の手段が用いられる。帯電部材３２は、感光体３１に対して、接触又は近接配置したものが良好に用いられる。また、帯電部材３２により感光体３１を帯電する際に、帯電部材３２の直流成分に対して交流成分を重畳した電界により感光体３１に帯電を与えることにより、帯電ムラを低減することが可能で効果的である。このとき、不要な電荷は、イレーサ３５により、消去される。
【０１２２】
転写手段としては、転写ベルト３６の他に、上記の帯電器が使用できるが、転写チャージャと分離チャージャを併用したものが効果的である。
【０１２３】
また、画像露光部３７、除電ランプ３８等の光源としては、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等の発光物全般を用いることができるが、中でも、発光ダイオード、半導体レーザーが好ましい。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター干渉フィルター、色温度変換フィルター等の各種フィルターを用いることもできる。
【０１２４】
このような光源は、図６に示される工程の他に、光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、前露光等の工程を設けて、感光体３１に光を照射してもよい。
【０１２５】
現像ユニット３９により、感光体３１上に現像されたトナーは、レジストローラ４０により、感光体３１上への画像形成とタイミングを合わせて送られた転写紙４１に転写され、分離爪４２により、転写紙４０が分離される。このとき、感光体３１上のトナーは、全部が転写されるわけではなく、感光体３１上に残存するトナーも生じる。このようなトナーは、クリーニングブラシ４３及びクリーニングブレード４４により、感光体３１から除去される。クリーニングは、クリーニングブラシ４３だけで行われることもあり、クリーニングブラシ４３としては、ファーブラシ、マグファーブラシ等の公知のものが用いられる。
【０１２６】
感光体に正（又は負）帯電を施し、画像露光を行うと、感光体の表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（又は正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られ、また、正（又は負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
【０１２７】
このような現像手段には、公知の方法が適用され、また、除電手段にも公知の方法が適用される。
【０１２８】
図７に、本発明の画像形成装置の他の例を示す。感光体５１は、本発明の感光体である。感光体５１は、駆動ローラ５２ａ、５２ｂにより駆動され、帯電器（ローラ）５３による帯電、光源５４による画像露光、現像（図示せず）、帯電器５４を用いる転写、光源５５によるクリーニング前露光、クリーニングブラシ５６によるクリーニング、光源５７による除電が繰り返し行われる。図７においては、感光体５１に、導電性支持体側からクリーニング前露光の光照射が行われるが、この場合、導電性支持体は、透光性である。
【０１２９】
図７に示す画像形成方法は、本発明の実施形態を例示するものであり、他の実施形態も可能である。例えば、図７において、導電性支持体側からクリーニング前露光を行っているが、感光層側から行ってもよいし、また、像露光及び除電光の照射を導電性支持体側から行ってもよい。
【０１３０】
一方、光照射工程としては、像露光、クリーニング前露光、除電露光が図示されているが、これらの他に、転写前の露光や、画像露光のプレ露光を行ってもよいし、公知の光照射工程を設けて、感光体に光照射を行うこともできる。
【０１３１】
以上に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンター等の画像形成装置内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形で画像形成装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段等を含んだ１つの装置（部品）である。プロセスカートリッジの形状等は多く挙げられるが、一般的な例として、図８に示すものが挙げられる。図８のプロセスカートリッジは、感光体６１、帯電部材６２画像露光部６３、現像ローラ６４、転写ローラ６５及びクリーニングブラシ６６を有する。なお、感光体６１は、本発明の感光体である。
【実施例】
【０１３２】
以下、本発明を実施例及び比較例により説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。なお、部は、重量部を意味する。
（実施例１）
外径３０ｍｍアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が３．５μｍの下引き層を形成した。
（下引き層用塗工液Ａ）
アルキッド樹脂ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ（大日本インキ化学工業社製）３部
メラミン樹脂スーパーベッカミンＧ−８２１−６０（大日本インキ化学工業社製）２部
酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）２０部
メチルエチルケトン１００部
下引き層上に、感光層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が２５μｍの感光層を形成し、感光体を作製した。
（感光層用塗工液Ａ）
合成例１で合成したビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート（以下、ＶＰ−Ｐｃという）１０部
６部の構造式
【０１３３】
【化８】
2007310153.tif 000010
で表される正孔輸送物質Ａ
４部の構造式
【０１３４】
【化９】
2007310153.tif 000011
で表される電子輸送物質Ａ
０．４部のオキソチタニウムフタロシアニンＡ（ＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するオキソチタニウムフタロシアニン）
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）５部
テトラヒドロフラン１００部
シクロヘキサノン４部
（実施例２）
外径３０ｍｍのアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が３．５μｍの下引き層を形成した。
【０１３５】
下引き層上に、電荷発生層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
（電荷発生層用塗工液Ａ）
構造式
【０１３６】
【化１０】
2007310153.tif 000012
で表されるアゾ顔料５部
ポリビニルブチラールＸＹＨＬ（ＵＣＣ社製）１部
２−ブタノン１００部
シクロヘキサノン２００部
電荷発生層上に、電荷輸送層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が２７μｍの電荷輸送層を形成し、感光体を作製した。
（電荷輸送層用塗工液Ａ）
１０部のＶＰ−Ｐｃ
１０部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）４部
テトラヒドロフラン１１０部
（実施例３）
外径が３０ｍｍのアルミニウム製の導電性支持体に、下引き層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が３．５μｍの下引き層を形成した。
【０１３７】
下引き層上に、電荷発生層用塗工液Ａを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１３８】
電荷発生層上に、電荷輸送層用塗工液Ｂを浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚が２２μｍの電荷輸送層を形成した。
（電荷輸送層用塗工液Ｂ）
ビスフェノールＺ型ポリカーボネートＴＳ２０５０（帝人社製）（以下、Ｚ−Ｐｃという）１部
１部の正孔輸送物質Ａ
テトラヒドロフラン１０部
電荷輸送層上に、保護層用塗工液Ａをスプレー塗工し、１５０℃で２０分間加熱乾燥させ、膜厚が５μｍの保護層を形成し、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ａ）
合成例２で合成したアクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート０．５部
３．５部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
アルミナ粒子ＡＡ０３（住友化学社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（実施例４）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｂを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｂ）
０．５部のＶＰ−Ｐｃ
３．５部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（実施例５）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｃを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｃ）
合成例３で合成したビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリアリレート（以下、ＶＰ−Ｐａという）０．５部
合成例３で合成したビスフェノールＺ型ポリアリレート（以下、Ｚ−Ｐａという）３．５部
４部の正孔輸送物質Ａ
酸化チタン粒子ＣＲ−９７（石原産業社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例１）
感光層用塗工液Ａの代わりに、感光層用塗工液Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、感光体を作製した。
（感光層用塗工液Ｂ）
１０部のＺ−Ｐｃ
６部の正孔輸送物質Ａ
４部の電子輸送物質Ａ
０．４部のオキソチタニウムフタロシアニンＡ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）５部
テトラヒドロフラン１００部
（比較例２）
感光層用塗工液Ａの代わりに、感光層用塗工液Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、感光体を作製した。
（感光層用塗工液Ｃ）
１０部のＺ−Ｐｃ
６部の正孔輸送物質Ａ
４部の電子輸送物質Ａ
０．４部のオキソチタニウムフタロシアニンＡ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）５部
分散剤ＮＩＫＫＯＬ  ＴＡＭＮＳ−１０（日光ケミカルズ社製）０．０５部
テトラヒドロフラン１００部
シクロヘキサノン４部
（比較例３）
電荷輸送層用塗工液Ａの代わりに、電荷輸送層用塗工液Ｃを用いたこと以外は、実施例２と同様にして、感光体を作製した。
（電荷輸送層用塗工液Ｃ）
１０部のＺ−Ｐｃ
１０部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）４部
テトラヒドロフラン１１０部
（比較例４）
電荷輸送層用塗工液Ａの代わりに、電荷輸送層用塗工液Ｄを用いたこと以外は、実施例２と同様にして、感光体を作製した。
（電荷輸送層用塗工液Ｄ）
１０部のＺ−Ｐｃ
１０部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）４部
分散剤ＮＩＫＫＯＬ  ＴＡＭＮＳ−１０（日光ケミカルズ社製）０．０４部
テトラヒドロフラン１１０部
（比較例５）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｄを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｄ）
４部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
アルミナ粒子ＡＡ０３（住友化学社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例６）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｅを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｅ）
４部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
アルミナ粒子ＡＡ０３（住友化学社製）３部
分散剤ＢＹＫ−Ｐ１０４（ビックケミー社製）０．０６部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例７）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｆを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｆ）
４部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例８）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｇを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｇ）
４部のＺ−Ｐｃ
３部の正孔輸送物質Ａ
シリカ粒子ＫＭＰＸ１００（信越化学工業社製）３部
分散剤ＮＩＫＫＯＬ  ＴＡＭＮＳ−１０（日光ケミカルズ社製）０．０３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例９）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｈを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｈ）
４部のＺ−Ｐａ
４部の正孔輸送物質Ａ
酸化チタン粒子ＣＲ−９７（石原産業社製）３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例１０）
保護層用塗工液Ａの代わりに、保護層用塗工液Ｉを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（保護層用塗工液Ｉ）
４部のＺ−Ｐａ
４部の正孔輸送物質Ａ
酸化チタン粒子ＣＲ−９７（石原産業社製）３部
分散剤ＮＩＫＫＯＬ  ＴＡＭＮＳ−５（日光ケミカルズ社製）０．０３部
テトラヒドロフラン１７０部
シクロヘキサノン５０部
（比較例１１）
保護層を設けず、電荷輸送層の膜厚を２７μｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして、感光体を作製した。
（評価方法及び評価結果）
保護層用塗工液Ａ〜Ｉ（実施例３〜５、比較例５〜１０）の粒子の分散安定性の評価を行うために、沈降試験を行った。沈降管（１０ｍｌ）に１０ｍｌの保護層塗工液を入れ、１時間静置した。１時間後の沈降管中の液の懸濁状態を観察することにより評価した。なお、液面上部が懸濁しており、分散安定性が良好であるものを○、液全体が透明であり、分散安定性が悪いものを×として、判定した。結果を表１に示す。
【０１３９】
【表１】
2007310153.tif 000013
次に、画像露光光源を６５５ｎｍの半導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる書き込み）に改造したイマジオＮＥＯ２７１に感光体を搭載して、１０万枚通紙試験（Ａ４）を行った。そして、初期及びラン後のハーフトーン画像特性及び摩耗量を評価した。
【０１４０】
画像特性は、良好であるものを○、局所的に画像ムラが発生するものを△、全体に画像ムラが発生するものを×として、判定した。結果を表２に示す。
【０１４１】
【表２】
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摩耗量は、渦電流式膜厚計ＦｉｓｈｅｒｓｃｏｐｅＭＭＳを用いて、感光体上の２０点の膜厚を測定し、初期からの膜厚減少量を求めることにより、評価した。結果を表３に示す。
【０１４２】
【表３】
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【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】フィラーを含有する感光層又は保護層の摩耗メカニズムを説明する図である。
【図２】本発明の感光体の層構成の一例を示す図である。
【図３】本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。
【図４】本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。
【図５】本発明の感光体の層構成の他の例を示す図である。
【図６】本発明の画像形成装置の一例を示す図である。
【図７】本発明の画像形成装置の他の例を示す図である。
【図８】本発明のプロセスカートリッジの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１１    トナー
１２    感光層（又は保護層）
１２ａ    フィラー
１２ｂ    結着樹脂
１３    感光体の移動方向
２１    導電性支持体
２２    感光層
２２ａ    電荷発生層
２２ｂ    電荷輸送層
２３    保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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