(57)【要約】【課題】２層以上の記録層を有する場合に、各層に共通したアドレッシングを行うことができる光ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】光ディスク１は、第１の凹凸部２Ａ，２Ｂが形成された第１の基板２上に第１の記録層３、第１の反射層４が順次積層された第１の中間体Ａと、第２の凹凸部１０Ａ，１０Ｂが形成された第２の基板１０上に第２の反射層９、第２の記録層８が順次積層された第２の中間体Ｂとを第１の反射層４を第２の記録層８側に対向配置させ、光透過性接着剤層６によって貼り合わされている。第１の基板２側から記録再生用のレーザ光を照射して第１、第２の記録層３、８の記録再生を行う。第１、第２の基板２、１０における記録再生用レーザ光の入射面２０１に対して凸部となる領域にランドプリピット２Ｃ、１０Ｃを形成した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクにおいて、
前記レーザ光の入射面を有し、第１の凹部と第１の凸部が形成された光透過性の第１の基板に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とが順次積層された第１の中間体と、
第２の凹部と第２の凸部が形成された第２の基板上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とが順次積層された第２の中間体とを備え、
前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせてなり、
前記第１の中間体では前記第１の凹部と前記第１の凸部における前記入射面に近い側である前記第１の凹部上の前記第１の記録層を情報記録領域とし、
前記第２の中間体では前記第２の凹部と前記第２の凸部における前記入射面に近い側である前記第２の凹部上の前記第２の記録層を情報記録領域とし、
前記第１，第２の基板における前記入射面に遠い側である前記第１，第２の凸部に補助情報を示すプリピットが形成されていることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
前記第２の基板において、前記プリピットは、前記第２の凹部の表面よりも前記入射面側に近くなるように突き出ていることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
【請求項３】
前記第２の凹部上の前記第２の記録層の厚さは、前記第２の凸部の高さよりも厚いことを特徴とする請求項２記載の光ディスク。
【請求項４】
前記第２の凹部の深さは、２０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項３記載の光ディスク。
【請求項５】
記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクの製造方法において、
予め作製された第１のマスタスタンパを用いて、第１の凹部と第１の凸部及び前記第１の凸部に第１のプリピットを有し、前記レーザ光の入射面を有する光透過性の第１の基板を作製する工程と、
前記第１の基板の第１の凹部と第１の凸部上に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とを順次積層して第１の中間体を形成する工程と、
予め作製された第２のマスタスタンパを転写して得られたマザースタンパを用いて、第２の凹部と第２の凸部及び前記第２の凹部に第２のプリピットを有する第２の基板を作製する工程と、
前記第２の基板の第２の凹部と第２の凸部上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とを順次積層して第２の中間体を形成する工程と、
前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項６】
記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクの製造方法において、
予め作製された第１のマスタスタンパを用いて、第１の凹部と第１の凸部及び前記第１の凸部に第１のプリピットを有し、前記レーザ光の入射面を有する光透過性の第１の基板を作製する工程と、
前記第１の基板の前記第１の凹部と前記第１の凸部及び前記第１のプリピット上に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とを順次積層して第１の中間体を形成する工程と、
ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、露光及び現像を行って、前記フォトレジストに対して凹部と前記ガラス基板表面に達する貫通孔とを有するフォトレジストパターンを形成した後、前記貫通孔から露出した前記ガラスの基板に対して第１のドライエッチングを行って前記ガラスの基板に第１の溝を形成する工程と、
前記フォトレジストパターンのアッシングを行って前記凹部から前記ガラス基板を露出させ、前記ガラスの基板に対して第２のドライエッチングを行って、前記凹部に対応する第２溝及び前記第１溝を前記第２溝深さだけ深くした第３溝を形成した後、前記フォトレジストパターンを除去してガラス原盤を作製する工程と、
前記ガラス原盤を転写してマスタスタンパを作製し、次に、前記マスタスタンパを転写してマザースタンパを作製し、前記マザースタンパを用いて、第２の凹部と第２の凸部と前記第２の凹部に前記第２の凸部の高さよりも高い第２のプリピットを有する第２の基板を作製する工程と、
前記第２の基板の前記第２の凹部と前記第２の凸部及び前記第２のプリピット上に少なくとも第２の記録層と第２の反射層とを順次積層して第２の中間体を形成する工程と、
前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２層以上の記録層を有する光ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
大容量の情報の記録再生を行うために２層の記録層を有するＤＶＤが開発されてきた。
特許文献１には、ポリカーボネートからなる第１の基板上にＺｎＳ−ＳｉＯ2保護膜と、ＩｎＳｂＴｅからなる第１の記録層と、ＺｎＳ−ＳｉＯ2保護膜と、Ａｕ干渉膜と、ＵＶ硬化樹脂膜と、ＺｎＳ−ＳｉＯ2保護膜と、ＧｅＳｂＴｅからなる第２の記録層と、ＺｎＳ−ＳｉＯ2保護膜と、Ａｌ−Ｃｒ反射膜と、ポリカーボネートからなる第２の基板とが順次積層された片面２層の記録層を有する光ディスク（以下、片面２層光ディスクという。）について記載されている。
【０００３】
更に、片面２層光ディスクの第１の基板側からレーザ光の焦点を第１の記録層、第２の記録層に合わせることによりそれぞれの記録層再生を行うことができる。
【０００４】
上記した第１、第２の基板は、以下のようにして作製される。
図７は、第１、第２の基板の作製方法を示し、（Ａ）はフォトレジスト塗布を示す断面図、（Ｂ）はガラス原盤の形成を示す断面図、（Ｃ）はマスタスタンパの作製を示す断面図、（Ｄ）は第１の基板の作製を示す断面図である。
図７（Ａ）に示すように、ガラス基板２８上にフォトレジスト２９を塗布する。次に、図７（Ｂ）に示すように、このフォトレジスト２９上からレーザ光を用いて露光した後、現像を行って、フォトレジストパターン３０を形成してガラス原盤３１を作製する。次に、図７（Ｃ）に示すように、フォトレジストパターン３０上に電鋳法によりＮｉメッキを形成してスタンパ３２を作製する。
【０００５】
図７（Ｄ）に示すように、射出成型法により、このスタンパ３２を用いて、樹脂を転写してスパイラル状のグルーブとなる凹部３３Ａ及びランドとなる凸部３３Ｂを有した第１の基板３３を作製する。この凹部３３Ａの両側は、ウォブルされている。この際、ランドには、アドレス等の補助情報を示すランドプリピットが同時に凹部３３Ａと同じ深さで形成される。同様にして第２の基板を作製する。この場合、第１、２の基板上に前記した各層を形成した後、これらの基板同士を貼り合わせて、片面２層光ディスクが得られる。この際、作製時におけるランドにはランドプリピットが形成されている。
【特許文献１】特開２００１−２６６４０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この片面２層光ディスクの記録層の記録再生は、記録再生用レーザ光の入射面に対して凹部に形成された記録層に行われるので、上記した第１の記録層の記録再生では、グルーブ（凹部３３Ａ）上に形成された第１の記録層に対して行われるが、上記した第２の記録層の記録再生では、前記第２の基板を作製した際のランド（凸部）上に形成された第２の記録層に対して行われる。即ち、第２の基板では、記録再生用レーザ光の入射面に対して凹部に記録再生が行われるため、ランドプリピットを避けたアドレッシングを行う必要があり、第１の記録層と同様にした記録再生用レーザ光により記録再生を行うことができなかった。
【０００７】
また、第２の基板の凹凸部は、第２の基板上にフォトレジストパターンを形成した後、露光用レーザ光を照射した後、現像を行い、次に、フォトレジストパターンから露出した上記した第２の基板をエッチングして形成される。この第２の基板の凹凸部のうちの記録再生用レーザ光の入射面に対して凹部となる部分は、フォトレジストパターンで覆われているため、露光用レーザ光が照射されず、記録再生用レーザ光の入射面に対して凸部となる部分は、フォトレジストパターンから露出しているため、露光用レーザ光は、照射される。
【０００８】
露光用レーザ光は、中心の光強度が最も強く、周辺に行くに従って弱くなるガウス分布を有しているので、その周辺部では、十分な露光がされないため、記録再生用レーザ光の入射面に対して凸凹部分の境界は、不明瞭となる。上記したように、記録再生は、記録再生用レーザ光の入射面に対して凹部に形成された第２の記録層に行われるが、凸凹部分の境界は、不明瞭であるため、記録幅が一定とならない。このため、記録再生を行った際にジッタや振幅変動を生じるといった問題も生じていた。
以上述べた問題点は、３層以上の記録層を有する光ディスクに対しても同様に生じる。
【０００９】
更にまた、図８に示すように、上記した片面２層光ディスクにおける第２の記録層３４は、ランド（凸部３５）のランドプリピット３７が形成された領域とグルーブ（凹部３６）が形成された領域の両領域で同じ厚さで形成されている。
このため、記録用レーザ光を凹部３６に照射して、凹部３６の第２の記録層３４上に記録マークを形成した場合には、記録用レーザ光の熱拡散により、凸部３５の第２の記録層３４上にも記録マークが形成されてしまうため、再生用レーザ光で再生する際、記録マークの信号も取り込んでクロストークを生じるため、十分なランドプリピット信号の振幅を得ることができなかった。
【００１０】
更に、ランドプリピットに対する記録マークの形成位置によっても記録マークの広がり方が異なってくるため、ランドプリピット信号の振幅の大きさもばらついてしまっていた。
このため、エラー率が上昇するといった問題を生じていた。
【００１１】
そこで、本発明は、前述の課題に鑑みて提案されるものであって、第１の目的は、片面２層以上の記録層を有する場合に、各層に共通したアドレッシングを行うことができ、良好な記録再生を行うことができる光ディスク及びその製造方法を提供することである。
第２の目的は、記録再生用レーザ光の入射面に対して凹部に形成された第２の記録層に記録マークを形成した後でもランドプリピットの検出が確実にできる光ディスク及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本願発明の第１の発明は、記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクにおいて、前記レーザ光の入射面を有し、第１の凹部と第１の凸部が形成された光透過性の第１の基板に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とが順次積層された第１の中間体と、第２の凹部と第２の凸部が形成された第２の基板上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とが順次積層された第２の中間体とを備え、前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせてなり、前記第１の中間体では前記第１の凹部と前記第１の凸部における前記入射面に近い側である前記第１の凹部上の前記第１の記録層を情報記録領域とし、前記第２の中間体では前記第２の凹部と前記第２の凸部における前記入射面に近い側である前記第２の凹部上の前記第２の記録層を情報記録領域とし、前記第１，第２の基板における前記入射面に遠い側である前記第１、第２の凸部に補助情報を示すプリピットが形成されていることを特徴とする光ディスクを提供する。
第２の発明は、前記第２の基板において、前記プリピットは、前記第２の凹部の表面よりも前記入射面側に近くなるように突き出ていることを特徴とする請求項１記載の光ディスクを提供する。
第３の発明は、前記第２の凹部上の前記第２の記録層の厚さは、前記第２の凸部の高さよりも厚いことを特徴とする請求項２記載の光ディスクを提供する。
第４の発明は、前記第２の凹部の深さは、２０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項３記載の光ディスクを提供する。
第５の発明は、記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクの製造方法において、予め作製された第１のマスタスタンパを用いて、第１の凹部と第１の凸部及び前記第１の凸部に第１のプリピットを有し、前記レーザ光の入射面を有する光透過性の第１の基板を作製する工程と、前記第１の基板の第１の凹部と第１の凸部上に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とを順次積層して第１の中間体を形成する工程と、予め作製された第２のマスタスタンパを転写して得られたマザースタンパを用いて、第２の凹部と第２の凸部及び前記第２の凹部に第２のプリピットを有する第２の基板を作製する工程と、前記第２の基板の第２の凹部と第２の凸部上に少なくとも第２の反射層と第２の記録層とを順次積層して第２の中間体を形成する工程と、前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする光ディスクの製造方法を提供する。
第６の発明は、記録又は再生用のレーザ光を照射することにより情報の記録又は再生を行う光ディスクの製造方法において、予め作製された第１のマスタスタンパを用いて、第１の凹部と第１の凸部及び前記第１の凸部に第１のプリピットを有し、前記レーザ光の入射面を有する光透過性の第１の基板を作製する工程と、前記第１の基板の前記第１の凹部と前記第１の凸部及び前記第１のプリピット上に少なくとも第１の記録層と第１の反射層とを順次積層して第１の中間体を形成する工程と、ガラス基板上にフォトレジストを塗布し、露光及び現像を行って、前記フォトレジストに対して凹部と前記ガラス基板表面に達する貫通孔とを有するフォトレジストパターンを形成した後、前記貫通孔から露出した前記ガラスの基板に対して第１のドライエッチングを行って前記ガラスの基板に第１の溝を形成する工程と、前記フォトレジストパターンのアッシングを行って前記凹部から前記ガラス基板を露出させ、前記ガラスの基板に対して第２のドライエッチングを行って、前記凹部に対応する第２溝及び前記第１溝を前記第２溝深さだけ深くした第３溝を形成した後、前記フォトレジストパターンを除去してガラス原盤を作製する工程と、前記ガラス原盤を転写してマスタスタンパを作製し、次に、前記マスタスタンパを転写してマザースタンパを作製し、前記マザースタンパを用いて、第２の凹部と第２の凸部と前記第２の凹部に前記第２の凸部の高さよりも高い第２のプリピットを有する第２の基板を作製する工程と、前記第２の基板の前記第２の凹部と前記第２の凸部及び前記第２のプリピット上に少なくとも第２の記録層と第２の反射層とを順次積層して第２の中間体を形成する工程と、前記第１の反射層が前記第２の記録層に対向するように、前記第１の中間体と前記第２の中間体を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする光ディスクの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、記録再生用レーザ光の入射面に対して凸部に補助情報を示すプリピットが形成されているので、２層以上の記録層を有する場合に、各層に共通したレーザ光によるアドレッシングを行うことができる。
第２の基板におけるプリピットは、第２の凹部の表面よりもレーザ光の入射面側に近くなるように突き出ているので、第２の凹部上の第２の記録層に記録マークを形成した際に、記録マークが熱拡散によりプリピットの形成領域まで広がらないため、再生の際、クロストークが生じることを防止でき、十分なプリピット信号の振幅を得ることができる。
【００１４】
第２の凹部の深さは、２０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であるので、レーザ光の反射率を向上させることができ、かつ良好なトラッキングを得ることができる。
第１の基板は、マスタスタンパを用いて作製され、第２の基板は、マザースタンパを用いて作製されるので、記録再生用のレーザ光の入射面に対して凸部にプリピットを形成でき、凹部に情報記録をすることができる。
【００１５】
マザースタンパを用いて、第２の凹部と第２の凸部とこの第２の凹部に第２の凸部の高さよりも高い第２のプリピットを有する第２の基板を作製するので、第２の基板に、レーザ光の入射面に近い側である第２の凹部、遠い側である第２の凸部及び第２の凹部の面よりもレーザ光の入射面側に突き出た第２のプリピットを形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明に係る光ディスク及びその製造方法における各実施の形態について、図１乃至図６を参照して詳細に説明する。
従来と同一構成には同一符号を付し、その説明を省略する。
図１は、本発明の第１の実施の形態における光ディスクを示し、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ面から見た第１の基板の斜視図、（Ｃ）は、（Ａ）のＮＮ面から見た第２の基板の斜視図である。図２は、第１の実施の形態における第１の中間体の製造方法を示し、（Ａ）はフォトレジスト塗布を示す断面図、（Ｂ）は（第１の基板用ガラス原盤の形成工程）を示す断面図、（Ｃ）は（第１の基板用マスタスタンパの作製工程）を示す断面図、（Ｄ）は（第１の基板の作製工程）を示す断面図、（Ｅ）は（第１の記録層の形成工程）を示す断面図、（Ｆ）は（第１の反射層の形成工程）を示す断面図、（Ｇ）は、（第１の光透過性保護層の形成工程）を示す断面図である。図３は、第１の実施の形態における第２の中間体の製造方法を示し、（Ａ）はフォトレジスト塗布を示す断面図、（Ｂ）は（第２の基板のガラス原盤の形成工程）を示す断面図、（Ｃ）は（第２の基板用マスタスタンパの作製工程）を示す断面図、（Ｄ）は（マザースタンパの作製工程）を示す断面図、（Ｅ）は（第２の基板の作製工程）を示す断面図、（Ｆ）は（第２の反射層の形成工程）を示す断面図、（Ｇ）は（第２の記録層の形成工程）を示す断面図、（Ｈ）は、（第２の光透過性保護層の形成工程）を示す断面図である。図４は、第１の実施の形態における（貼り合わせ工程）を示す断面図である。
【００１７】
図５は、第２の実施の形態における光ディスクを示し、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は（Ａ）のＰＰ面から見た第２の基板の斜視図である。図６は、第２の実施の形態における第１の中間体の製造方法を示し、（Ａ）はフォトレジスト塗布を示す断面図、（Ｂ）は（フォトレジストパターンの形成工程）を示す断面図、（Ｃ）は（１回目ドライエッチング工程）を示す断面図、（Ｄ）は（アッシング工程）を行った断面図、（Ｅ）は（２回目ドライエッチング工程及びガラス原盤の形成工程）を示す断面図、（Ｆ）は（マスタスタンパの作製工程）を示す断面図、（Ｇ）は（マザースタンパの作製工程）を示す断面図、（Ｈ）は（第２の基板の作製工程）を示す断面図である。図１、図３、図４、図５中の第２の記録層８は、便宜上、その表面を平坦にして示している。
【００１８】
図１（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、光ディスク１は、記録再生用レーザ光の照射側となる円盤状の第１の凹凸部２Ａ、２Ｂを有する第１の基板２上に第１の記録層３、第１の反射層４、第１の光透過性保護層５、光透過性接着剤層６、第２の光透過性保護層７、第２の記録層８、第２の反射層９、円盤状の第２の凹凸部１０Ａ、１０Ｂを有する第２の基板１０が順次形成されたものである。
第１の基板２乃至第１の光透過性保護層５で第１中間体Ａを構成し、第２の光透過性保護層７乃至第２の基板１０で第２中間体Ｂを構成している。
【００１９】
以下では、第１、第２の基板２、１０に形成されている第１、第２凹凸部２Ａ，２Ｂ、１０Ａ，１０Ｂのうち、記録再生用レーザ光の入射面２０１に近い方を凹部といい、遠い方を凸部ということにする。そして、凹部をグルーブ、凸部をランドということにする。即ち、図１、図２中では、グルーブは２Ａ、１０Ａであり、ランドは２Ｂ、１０Ｂである。そして、グルーブ２Ａ、１０Ａ上の第１、２の記録層３、８には、情報が記録される。この情報が記録されるグルーブ２Ａ、１０Ａ上の第１、第２の記録層３、８の領域をそれぞれに対応して情報記録領域３Ａ、８Ａという。また、ランド２Ｂ、１０Ｂには、補助情報を示すランドプリピット２Ｃ、１０Ｃが形成されている。
【００２０】
第１の基板２の表面には、グルーブ２Ａとランド２Ｂが互いに隣接して交互に形成され、図１（Ｂ）に示すように、ランド２Ｂにはアドレスや同期信号等の補助情報を示すランドプリピット２Ｃが形成されている。具体的には、ランドプリピット２Ｃは、ランド２Ｂと同じ高さのパターンとして形成されている。
【００２１】
即ち、ランドプリピット２Ｃは、ランド２Ｂに点在した凹部となるピットとして形成される。
グルーブ２Ａ及びランド２Ｂは、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状に形成されている。更に、グルーブ２Ａの両側は、ウォブルされ、このグルーブ２Ａ上に形成されている第１の記録層３の情報記録領域３Ａに第１の情報が記録再生される。
【００２２】
また、第１の基板２に対向する第２の基板１０表面には、グルーブ１０Ａとランド１０Ｂが互いに隣接して交互に形成され、図１（Ｃ）に示すように、ランド１０Ｂにはランドプリピット１０Ｃが形成されている。具体的には、ランドプリピット１０Ｃは、グルーブ１０Ａと同じ高さのパターンとして形成されている。
【００２３】
即ち、ランドプリピット１０Ｃは、ランド１０Ｂに点在した凹部となるピットとして形成される。グルーブ１０Ａ及びランド１０Ｂは、グルーブ２Ａ及びランド２Ｂと同様に、内周から外周に向かって或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状に形成されている。更に、グルーブ１０Ａの両側は、ウォブルされ、このグルーブ１０Ａ上に形成されている第２の記録層８の情報記録領域８Ａに第２の情報が記録再生される。
【００２４】
第１の基板２としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂の光透過性の材料を用いることができる。第２の基板１０は、記録再生用レーザ光の照射側に配置されていないため、必ずしも光透過性でなくても良いが、第１の基板２と同じ材料を用いることが好ましい。
【００２５】
第１、第２の記録層３、８としては、極性溶剤であるアルコール系或いはセロソルブ系溶剤に可溶なシアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ系色素を用いることができる。グルーブ１０Ａ上の第２の記録層８の厚さは、ランド１０Ｂの高さよりも厚く形成されている。結果として、その第２の記録層８の表面の凹凸は、グルーブ１０Ａとランド１０Ｂによって形成される段差よりも低減され、平坦化されている。
【００２６】
第１、第２の記録層３、８に上記材料を用いた場合には、後述する光ディスク１の製造方法における貼り合わせ工程で第１、第２の記録層３、８を侵さないために光透過保護層５、７を設けることが好ましい。光透過保護層として用いることができる材料としては有機色素を溶解しない溶剤に溶解可能な透明樹脂等が好ましい。有機溶剤としては、非極性溶剤のシクロヘキサン、テトラリン、デカリン等が好ましく、非極性溶剤に溶解可能な透明樹脂として環状アモルファスポリオレフィン（例えば、商品名ゼオネックスやクイントン（日本ゼオン（株））が好ましい。この溶液を用いスピンコート法などで光透過保護層を形成することができる。
【００２７】
また、第１、第２の光透過性保護層５、７としては、半透過性の金属反射層や無機透明薄膜層を用いても良い。このとき、第１、第２の光透過性保護層５、７は、光学透過率を調整する機能を有しても良く、記録再生するレーザ光の波長に対する屈折率ｎ、吸収係数ｋ及び厚さを選択することにより、第１、第２の記録層３、８の反射率及び第２の記録層８への光透過を高めることができる。
【００２８】
具体的には、第１、第２の光透過性保護層５、７には、ＺｎＳ（ｎ＝２．４）、ＳｉＣ（ｎ＝２．２）、ＴｉＯ2（ｎ＝２．５）、ＳｉＮ（ｎ＝２．１）ＺｎＳ−ＳｉＯ2（ｎ＝２．１）等の硫化物、酸化物、窒化物の無機誘電体膜を用いることができる。更に、第１、第２の光透過性保護層５、７として、紫外線硬化樹脂中に金属、セラミックの微粒子を混合したものを用いることにより、第１、第２の光透過性保護層５、７の屈折率ｎを高めることができる。
更に、第１、第２の光透過性保護層５、７は、上記環状アモルファスポレオレフィンなどの光透過性樹脂薄膜層と半透過性の金属反射層や無機透明薄膜層との両方用いた２層構造にしても良い。
【００２９】
第１、第２の反射層４、９には、高い反射率が得られるＡｕ、Ａｌ、Ａｇ及びそれらの合金を用いることができる。第２の記録層８は、平坦化されているので、第２の反射層９で反射された記録再生レーザ光の反射率を向上させることができる。
【００３０】
光透過性接着剤層６には、生産性、歩留りの点からアクリレート系の紫外線硬化樹脂を使用するのが好ましい。紫外線硬化樹脂としては、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びそれらの混合物が主成分である紫外線硬化樹脂が好ましい。
これらの紫外線硬化樹脂を用いスピンコート法により塗布し、第１の中間体と第２の中間体を貼り合わせた後、紫外線を照射して接着固定する。こうして高反射率で、かつ十分な信号変調度を有した片側２層記録が可能な光ディスクを得ることができる。
【００３１】
以上のように、光ディスク１は、グルーブ２Ａ、１０Ａ上の第１、第２
の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａに情報の記録再生を行うようにしているので、共通のアドレッシングを行うことができ、良好な記録再生を行うことができる。
第２の記録層８は、グルーブ１０Ａ、ランド１０Ｂを覆い、その表面は第２の基板のグルーブ１０Ａとランド１０Ｂによって形成される段差より平坦化される。それにより生じる記録層８表面からの記録再生レーザ反射光の位相差で、光ディスクの反射率を向上させることができる。
【００３２】
次に、本発明の第１の実施の形態における光ディスク１の製造方法について図２乃至図４を用いて説明する。
（第１の基板用ガラス原盤作製工程）
図２（Ａ）に示すように、円盤状のガラス基板１１上にフォトレジスト１２を塗布する。図２（Ｂ）に示すように、このフォトレジスト１２上からレーザ光を照射して露光した後、現像を行なって、図１（Ａ）、（Ｂ）を用いて説明したグルーブ２Ａ、ランド２Ｂ及びランド２Ｂ上に形成されるランドプリピット２Ｃとなるフォトレジストパターン１３を内周から外周に向かって形成してガラス原盤１４を作製する。この際、フォトレジストパターン１３の両側は、ウォブルされる。そして、グルーブ２Ａに対応するフォトレジストパターン１３は、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状の１本の凹部として形成される。
【００３３】
（第１の基板用マスタスタンパの作製工程）
図２（Ｃ）に示すように、ガラス原盤１４上にスパッタリング法により厚さ５０〜２００ｎｍのＮｉを形成した後、電鋳法により、厚さ１００〜５００μｍのメッキ膜を形成することにより、ガラス原盤１４に形成されているフォトレジストパターン１３を転写してマスタスタンパ１５を作製する。マスタスタンパ１５に形成されるパターンは、ガラス原盤１４に形成されているフォトレジストパターン１３と逆の関係になる。
【００３４】
（第１の基板の作製工程）
次に、マスタスタンパ１５を射出成型機（図示せず）に装着して、図２（Ｄ）に示すように、射出成型法により、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かってグルーブ２Ａ及びランドプリピット２Ｃが形成されたランド２Ｂが螺旋状に形成された第１の基板２を得る。
【００３５】
（第１の記録層の形成工程）
次に、図２（Ｅ）に示すように、スピンコート法により、第１の基板２上にアルコール系溶剤に溶解した有機色素を塗布して第１の記録層３を得る。実際には、第１の記録層３の厚さは、グルーブ２Ａの方がランド２Ｂ上よりも厚くなる。このようになるのは、有機色素がランド２Ｂ上よりも低いグルーブ２Ａに流れて溜るからである。このため、ランド２Ｂ及びランドプリピット２Ｃの側壁には、有機色素は形成されない。また、ランドプリピット２Ｃが形成されているランド２Ｂの部分は、ピットのない他のランド部分に比べ色素層の膜厚は厚い。
【００３６】
（第１の反射層の形成工程）
次に、図２（Ｆ）に示すように、スパッタリング法或いは真空蒸着法により、第１の記録層３上に第１の反射層４を形成する。
【００３７】
（第１の光透過性保護層の形成工程）
次に、図２（Ｇ）に示すように、スピンコート法により、第１の反射層４上に非極性溶剤に溶解した熱可塑性樹脂からなる光透過性樹脂を塗布して第１の光透過性保護層５を形成する。上記した光透過性樹脂の代わりに半透過性の金属反射層や無機透明薄膜層を用いることもできる。こうして、第１の中間体Ａが作製される。
【００３８】
（第２の基板用マスタスタンパの作製工程）
次に、図３（Ａ）に示すように、円盤状のガラス基板１６上にフォトレジスト１２を塗布する。図３（Ｂ）に示すように、このフォトレジスト１２上からレーザ光を照射して露光した後、現像を行なって、図１（Ａ）、（Ｃ）を用いて説明したグルーブ１０Ａ、ランド１０Ｂ及びランド１０Ｂに形成されるランドプリピット１０Ｃとなるフォトレジストパターン１７を内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって形成してガラス原盤１８を作製する。この際、フォトレジストパターン１７の両側は、ウォブルされる。
【００３９】
（第２の基板用マスタスタンパの作製工程）
そして、グルーブ１０Ａに対応するフォトレジストパターン１７は、内周から外周に向かって、或いは外周から内周に向かって連続した螺旋状の１本の凹部として形成される。図３（Ｃ）に示すように、このガラス原盤１８上にスパッタリング法により厚さ５０〜２００ｎｍのＮｉを形成した後、電鋳法により、厚さ１００〜５００μｍのＮｉメッキ膜を形成してマスタスタンパ１９を作製する。このマスタスタンパ１９のパターンは、ガラス原盤１８と逆の関係になる。
【００４０】
（マザースタンパの作製工程）
次に、マスタスタンパ１９をガラス原盤１８から離間させた後、図３（Ｄ）に示すように、電鋳法により、マスタスタンパ１９上にＮｉメッキ膜を形成することにより、マスタスタンパ１９に形成されているパターンを転写してマザースタンパ２０を作製する。このマザースタンパ２０のパターンは、ガラス原盤１８と同じ関係になる。
【００４１】
（第２の基板の作製工程）
次に、マザースタンパ２０を射出成型機（図示せず）に装着して、図３（Ｅ）に示すように、射出成型法により、内周から外周に向かってグルーブ１０Ａ及びランドプリピット１０Ｃが形成されたランド１０Ｂが螺旋状に形成された第２の基板１０を得る。
【００４２】
（第２の反射層の形成工程）
次に、図３（Ｆ）に示すように、スパッタリング法或いは真空蒸着法により、第２の基板１０上に第２の反射層９を形成する。
【００４３】
（第２の記録層の形成工程）
次に、図３（Ｇ）に示すように、スピンコート法により、第２の反射層９上にアルコール系溶剤に溶解した有機色素を塗布して第２の記録層８を得る。グルーブ１０Ａ上の第２の記録層８の厚さは、ランド１０Ｂの高さよりも厚くする。結果として、その第２の記録層８の表面の凹凸は、グルーブ１０Ａとランド１０Ｂによって形成される段差よりも低減され、平坦化されている。
【００４４】
（第２の光透過性保護層の形成工程）
次に、図３（Ｈ）に示すように、スピンコート法により、第２の記録層８上に非極性溶剤に溶解した熱可塑性樹脂からなる光透過性樹脂を塗布して第２の光透過性保護層７を形成する。こうして、第２の中間体Ｂが作製される。
【００４５】
（貼り合わせ工程）
図４に示すように、第１の中間体Ａの第１の光透過性保護層５上に紫外線硬化樹脂からなる光透過性接着剤層６を塗布した後、第２の光透過性保護層７側を光透過性接着剤層６に対向配置させて、第２の中間体Ｂを光透過性接着剤層６上に重ねる。この状態で第１、第２の中間体Ａ、Ｂを回転させて全体に光透過性接着剤層６が行き渡るようにした後、紫外線を照射して硬化させて図１に示す片面に２層の記録層を有する光ディスク１を作製する。
【００４６】
なお、紫外線硬化樹脂の代わりに剥離シートの片面に粘着材が形成された粘着シートを用いても良い。この場合は、粘着材側を第１の中間体Ａの第１の光透過性保護層５に対向させて、上記した粘着シートを第１の中間体Ａに加圧、脱法して、接着した後、剥離シートだけを剥がし、次に第２の光透過性保護層７側を第１の光透過性保護層５に対向配置させて、第２の中間体Ｂを上記した粘着材上に重ねる。更に、加圧、脱法して接着して片面に２層の記録層を有する光ディスク１を作製することができる。
【００４７】
以上のように、第１の基板２の作製には、マスタスタンパ１５を用い、第２の基板１０の作製には、マザースタンパ２０を用いるので、ランド２Ｂ、１０Ｂにそれぞれランドプリピット２Ｃ、１０Ｃを形成できるため、グルーブ２Ａ、１０Ａ上に形成されている第１、第２の記録層３、８へのアドレッシングを同等に行うことができ、良好な記録再生を行うことができる。
【００４８】
次に、光ディスク１における各層の材料を変えて試料１〜３を作製して、記録再生特性について調べた。
光ディスク１の各試料は、以下のようにして作製した。
ここで用いられる第１、第２の基板２、１０の材料は、ポリカーボネート樹脂である。
【００４９】
（試料１）
まずは、第１の中間体Ａを作製する。
マスタスタンパ１５を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１６０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ２Ａ、グルーブ２Ａの底面からの高さが１６０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのランド２Ｂ、ランド２Ｂにランド２Ｂと同じ高さの１６０ｎｍのパターンを有するランドプリピット２Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第１の基板２を作製する。次に、極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、０．６ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第１の基板２上に塗布して第１の記録層３を形成する。この際、第１の基板２は、３０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５０】
このようにして形成された第１の記録層３の厚さは、グルーブ２Ａ上では、１２０ｎｍ、ランド上では、３０ｎｍである。スパッタリング法により、この第１の記録層３上に厚さ１０ｎｍのＡｇからなる第１の反射層４を形成する。次に、軟化点が１２５℃の熱可塑性樹脂であるシクロペンタジエン・ジクロペンタジエン共重合物からなる石油樹脂（日本ゼオン製：商品名クイントン１３２５）を非極性溶剤であるシクロヘキサンに溶解し、６．０ｗｔ％の溶液にして、スピンコート法により、第１の反射層４上に塗布して第１の光透過性保護層５を形成する。この際、第１の基板２を１０００ｒｐｍで回転させて行う。こうして、第１の中間体Ａを作製する。
【００５１】
次に、第２の中間体Ｂを作製する。
マザースタンパ２０を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが３０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ１０Ａ、グルーブ１０Ａの底面からの高さが３０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのランド１０Ｂ、ランド１０Ｂにグルーブ１０Ａと同じ高さの３０ｎｍのパターンを有するランドプリピット１０Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板１０を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板１０上に厚さ７０ｎｍのＡｕからなる第２の反射層９を形成する。
【００５２】
極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．０ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の反射層９上に塗布してグルーブ１０Ａ上の厚さが６０ｎｍとなるように第２の記録層８を形成する。この際、第２の基板１０を３０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５３】
次に、軟化点が１２５℃の熱可塑性樹脂であるシクロペンタジエン・ジクロペンタジエン共重合物からなる石油樹脂（日本ゼオン製：商品名クイントン１３２５）を非極性溶剤であるシクロヘキサンに溶解し、６．０ｗｔ％の溶液にして、スピンコート法により、第２の反射層８上に塗布して第２の光透過性保護層７を形成する。この際、第２の基板１０を１０００ｒｐｍで回転させて行う。こうして、第２の中間体Ｂを作製する。
【００５４】
次に、第１、第２の中間体Ａ、Ｂの貼り合わせを行う。
第１の中間体Ａの第１の光透過性保護層５上に紫外線硬化樹脂からなる光透過性接着剤層６を塗布した後、第２の光透過性保護層７側を光透過性接着剤層６に対向配置させて、第２の中間体Ｂを光透過性接着剤層６上に重ねる。この状態で第１、第２の中間体Ａ、Ｂを回転数２０００ｒｐｍで回転させて全体に厚さ４０μｍの光透過性接着剤層６が行き渡るようにした後、紫外線を照射して硬化させる。このとき、光透過性接着剤層６として用いられる紫外線硬化樹脂は、協立化学産業（株）製の変性ウレタンアクリレート（商品名ワールドロックＮｏ．８１１）である。
こうして、片面に２層の記録層３、８を有する試料１の光ディスク１を作製した。
【００５５】
（試料２）
まずは、第１の中間体Ａを作製する。
マスタスタンパ１５を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１５０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ２Ａ、グルーブ２Ａの底面からの高さが１５０ｎｍ及び幅０．４４μｍのランド２Ｂ、ランド２Ｂにランド２Ｂと同じ高さの１５０ｎｍのパターンを有するランドプリピット２Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第１の基板２を作製する。次に、極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．０ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第１の基板２上に塗布して厚さ４０ｎｍの第１の記録層３を形成する。この際、第１の基板２を３０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５６】
スパッタリング法により、この第１の記録層３上に厚さ１２ｎｍのＡｇ98Ｐｄ1Ｃｕ1（組成比は原子％である。）からなる第１の反射層４を形成する。次に、厚さ６６ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第１の光透過性保護層５を形成する。こうして、第１の中間体Ａを作製する。
【００５７】
次に、第２の中間体Ｂを作製する。
マザースタンパ２０を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１２０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ１０Ａ、グルーブ１０Ａの底面からの高さが１２０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのランド１０Ｂ、ランド１０Ｂにグルーブ１０Ａと同じ高さの１２０ｎｍのパターンを有するランドプリピット１０Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板１０を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板１０上に厚さ１００ｎｍのＡｇからなる第２の反射層９を形成する。
【００５８】
極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、０．７５ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の反射層９上に塗布してグルーブ１０Ａ上の厚さが３５ｎｍとなるように第２の記録層８を形成する。この際、第２の基板１０を１０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００５９】
次に、軟化点が１３５℃の熱可塑性樹脂であるシクロペンタジエン・ジクロペンタジエン共重合物からなる石油樹脂（日本ゼオン製：商品名ゼオネックス４８０Ｒ）を非極性溶剤であるデカリンに溶解し、２．０ｗｔ％の溶液にして、スピンコート法により、第２の反射層８上に塗布して第２の光透過性保護層７を形成する。この際、第２の基板１０を２５００ｒｐｍで回転させて行う。こうして、第２の中間体Ｂを作製する。
【００６０】
次に、試料１と同様に、第１、第２の中間体Ａ、Ｂの貼り合わせを行って、片面に２層の記録層３、８を有する試料２の光ディスク１を作製した。このとき用いる光透過性接着剤層６は、大日本インキ（株）製：商品名変性アクリレートＳＤ６６１であり、その厚さは４５μｍである。
【００６１】
（試料３）
第１の中間体Ａは、試料２と同様に作製した。
第２の中間体Ｂは、以下のように作製した。
マザースタンパ２０を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１２０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ１０Ａ、グルーブ１０Ａの底面からの高さが１２０ｎｍ及び幅０．４４μｍのランド１０Ｂ、ランド１０Ｂにグルーブ１０Ａを越える高さの１５０ｎｍのパターンを有するランドプリピット１０Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板１０を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板１０上に厚さ１００ｎｍのＡｇ合金からなる第２の反射層９を形成する。
【００６２】
軟化点が１３５℃の熱可塑性樹脂であるシクロペンタジエン・ジクロペンタジエン共重合物からなる石油樹脂（日本ゼオン製：商品名ゼオネックス４８０Ｒ）を非極性溶剤であるデカリンに溶解し、０．２ｗｔ％の溶剤にして、第２の基板１０を回転数２５００ｒｐｍで回転させた状態でスピンコート法により第２の反射層９上に図示しない光透過性樹脂層を形成する。
【００６３】
次に、極大吸収波長が５８５ｎｍ（ジクロロメタン溶液中）のシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６−ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、０．７５ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の基板１０を回転数１０００ｒｐｍで回転させた状態で前記図示しない光透過性樹脂層上にグルーブ１０Ａ上の厚さが３５ｎｍとなるように第２の記録層８を形成する。
【００６４】
軟化点が１３５℃の熱可塑性樹脂であるシクロペンタジエン・ジクロペンタジエン共重合物からなる石油樹脂（日本ゼオン製：商品名ゼオネックス４８０Ｒ）を非極性溶剤であるデカリンに溶解し、２．０ｗｔ％の溶液にして、スピンコート法により、第２の記録層８上に塗布して第２の光透過性保護層７を形成する。この際、第２の基板１０を２５００ｒｐｍで回転させて行う。こうして、第２の中間体Ｂを作製する。
【００６５】
次に、試料１、２と同様に、第１、第２の中間体Ａ、Ｂの貼り合わせを行って、片面に２層の記録層３、８を有する試料３の光ディスク１を作製した。このとき用いる光透過性接着剤層６は、大日本インキ（株）製：商品名変性アクリレートＳＤ６６１であり、その厚さは、４５μｍである。
【００６６】
（記録再生評価）
こうして得られた試料１〜３の光ディスク１の光ディスク標準評価機（パルステック社製、ＤＤＵ−１０００、ＮＡ＝０．６５の対物レンズ搭載）にセットして記録再生特性について調べた。
試料１〜３の光ディスク１を回転する際の線速度は、７ｍ／ｓ、記録再生用のレーザ光の波長は、６５８ｎｍである。記録再生用レーザ光は、第１の基板２側から照射して第１、第２の記録層３、８の情報記録領域３Ａ、８Ａに記録再生用レーザ光の焦点を合わせ、第１、第２の記録層３、８の情報記録領域３Ａ、８Ａに記録する記録ストラテジーは、ＤＶＤ−Ｒの規格書に掲載のパターンを用いて、記録ピークパワーを２４ｍＷでＤＶＤフォーマット信号を記録した。記録後の第１、第２記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａの反射率は、未記録部分が高く（Ｈｉｇｈ）、記録部分が低い（Ｌｏｗ）、いわゆるＨｉｇｈ  ｔｏ  Ｌｏｗ記録になった。
【００６７】
（試料１の評価結果）
第１の記録層３の情報記録領域３Ａでは、再生ジッタは、７．５％、変調度は、６２％、反射率は、１８％であり、第２の記録層８の情報記録層８Ａでは、再生ジッタは８．５％、変調度は６５％、反射率は１９％であり、両層とも良好な記録を行うことができた。更に、第１、第２の基板２、１０のランドプリピット２Ｃ、１０Ｃの検出ができ、良好なアドレッシングを行うことができた。
【００６８】
第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８ＡへのＤＶＤフォーマット信号での記録再生が可能であり、反射率は、再生専用の２層型ＤＶＤ（ＤＶＤデュアルレイヤー）の規格書の範囲内にあり、再生専用の２層型ＤＶＤと互換性があることがわかった。
【００６９】
（試料２の評価結果）
第１の記録層３の情報記録領域３Ａでは、反射率は、１８％であり、第２の記録層８の情報記録領域８Ａでは、反射率は、２０％であった。その他の再生ジッタ、変調度及びアドレッシングについては試料１と同様であった。
【００７０】
（試料３の評価結果）
第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａへの記録は、試料２よりも低いパワーで行うことができた。反射率は、第１、第２の記録層３、８共に２０％であった。その他の再生ジッタ、変調度及びアドレッシングについては試料１、２と同様であった。
以上のように、第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａへのアドレッシングは、それぞれ同等に行うことができ、良好な記録再生を行うことができることがわかった。
【００７１】
次に、第２の実施の形態について説明する。
図５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、第２の実施の形態における光ディスク２１は、第１の実施の形態の光ディスク１の第２の基板１０に形成されたランドプリピット１０Ｃがグルーブ１０Ａの面より記録再生用レーザ光の入射面２０１に近くなるように突き出ていること、及びグルーブ１０Ａの深さは、２０ｎｍ〜４０ｎｍであることが異なり、それ以外は同様である。
【００７２】
第２の実施の形態によれば、ランドプリピット１０Ｃは、グルーブ１０Ａの面より記録再生用レーザ光の入射面２０１に近くなるように突き出ているので、第２の記録層８の情報記録領域８Ａに記録マークを形成した際に、記録マークが熱拡散によりランドプリピット１０Ｃの形成領域まで広がらないため、再生の際、クロストークが生じることを防止でき、十分なランドプリピット信号の振幅を得ることができる。このため、光ディスク２１の再生エラー率は、低減される。
【００７３】
また、グルーブ１０Ａ上の第２の記録層８の厚さは、ランド１０Ｂの高さよりも厚いので、情報記録領域８Ａに記録された情報の再生の際にレーザ光の位相差による反射率の低下を防止でき、Ｃ／Ｎ比の高い信号を得ることができる。具体的には、グルーブ１０Ａ上の第２の記録層８の厚さをランド１０Ｂの高さの３倍以上にすることにより、表面が平坦化して反射率を高めることができる。
この際、グルーブ１０Ａは、２０ｎｍ〜４０ｎｍの深さを有しているので、安定した記録再生を行うことができる。
【００７４】
次に、第２の実施の形態における光ディスク２１の製造方法について図６を用いて説明する。
第１の実施の形態と同一構成には同一符号を付す。
まずは、第１の中間体Ａを第１の実施の形態と同様にして作製する。
【００７５】
次に、第２の中間体を以下のようにして作製する。
（フォトレジストパターン形成工程）
図６（Ａ）に示すように、円盤状のガラス基板１６上に厚さ９０ｎｍのフォトレジスト１２を塗布する。図６（Ｂ）に示すように、ガラス基板１６表面に到達しない第１のレーザパワーのレーザ光をフォトレジスト１２上から照射して露光を行った後、更に、ガラス基板１表面に到達する第１のレーザパワーよりも強い第２のレーザパワーのレーザ光をフォトレジスト１２上から照射して露光する。第１、第２のレーザパワーの順番は、逆でも良い。
【００７６】
この後、現像を行って、ガラス基板１６を露出させない凹部２２Ａとガラス基板１６を露出させる貫通孔２２Ｂを有するフォトレジストパターン２２を形成する。この際、貫通孔２２Ｂの両側は、ウォブルされる。
【００７７】
（１回目ドライエッチング工程）
次に、図６（Ｃ）に示すように、エッチングガスとしてＣＦ4を用いて、１回目のドライエッチングを行って、フォトレジストパターン２２の貫通孔２２Ｂから露出したガラス基板１６に深さ９０ｎｍの溝２３を形成する。
この際、フォトレジストパターン２２は、エッチングされない。
【００７８】
（アッシング工程）
次に、図６（Ｄ）に示すように、酸素ガスを用いて、フォトレジストパターン２２のアッシングを行って、凹部２２Ａからガラス基板１６の表面が露出するようにする。
この際、ガラス基板１６は、エッチングされない。
【００７９】
（２回目ドライエッチング及びガラス原盤作製工程）
次に、図６（Ｅ）に示すように、エッチングガスとしてＣＦ4を用いて、２回目のドライエッチングを行って、凹部２２Ａから露出したガラス基板１６を深さ３０ｎｍにして溝２４を形成する。このとき、溝２３から露出したガラス基板１６もエッチングされ、溝２３は、１回目のドライエッチングで形成された溝よりも３０ｎｍ深くなって、１２０ｎｍとなる。
次に、フォトレジストパターン２２を完全に除去するように、酸素ガスを用いてアッシングを行ってガラス原盤２５を作製する。
【００８０】
（マスタスタンパ作製工程）
次に、図６（Ｆ）に示すように、このガラス原盤２５上にスパッタリング法により厚さ５０ｎｍ〜２００ｎｍのＮｉを形成した後、電鋳法により、厚さ１００μｍ〜５００μｍのＮｉメッキ膜を形成して、底面２６Ｃ側から見て、凸部２６Ａと凸部２６Ａよりも高さの低い凹部２６Ｂを有したマスタスタンパ２６を作製する。このマスタスタンパ２６のパターンは、ガラス原盤２５と逆の関係になる。
【００８１】
（マザースタンパの作製工程）
次に、マスタスタンパ２６をガラス原盤２５から離間させた後、図６（Ｇ）に示すように、電鋳法により、マスタスタンパ２６上にＮｉメッキ膜を形成することにより、マスタスタンパ２６に形成されているパターンを転写して、底面２７Ｃから見て、溝２７Ａと溝２７Ａよりも低い溝２７Ｂを有したマザースタンパ２７を作製する。このマザースタンパ２７のパターンは、ガラス原盤２５と同じ関係になる。
【００８２】
（第２の基板の作製工程）
次に、マザースタンパ２７を射出成型機（図示せず）に装着して、図６（Ｈ）に示すように、射出成型法により、内周から外周に向かってグルーブ１０Ａ、ランド１０Ｂ及びランド１０Ｂにグルーブ１０Ａの面よりも高いランドプリピット１０Ｃが螺旋状に形成された第２の基板１０を得る。
【００８３】
更に、図３（Ｆ）乃至図３（Ｈ）に示す第１の実施の形態における（第２の反射層の形成工程）乃至（第２の光透過性保護層の形成工程）と同様な工程を行って、図５に示す第２の中間体Ｂを作製する。
【００８４】
そして、第１の実施の形態と同様な（貼り合わせ工程）を行って、第１の中間体Ａと第２の中間体Ｂを貼り合わせて、図５に示す片面に２層の記録層を有する光ディスク２１を作製する。
【００８５】
以上のように、底面２７Ｃ側から見て、溝２７Ａと溝２７Ａよりも低い溝２７Ｂを有したマザースタンパ２７を用いて、第２の基板１０を作製するので、グルーブ１０Ａ、ランド１０Ｂ及びランド１０Ｂにグルーブ１０Ａよりも入射面２０１に側に近くなるように突き出したランドプリピット１０Ｃが形成できる。このため、第２の記録層８の情報記録領域８Ａに記録マークを形成した後でも、再生の際、グルーブ１０Ａに記録された記録マークとランドプリピット１０Ｃとのクロストークを防止でき、確実にランドプリピットを検出できる光ディスク２１を得ることができる。
【００８６】
次に、光ディスク２１における各層の材料を指定した試料４及び比較試料１〜３を作製して、それらの記録再生特性について調べた。
光ディスク２１の試料４は、以下のようにして作製した。
ここで用いられる第１、第２の基板２、１０の材料は、ポリカーボネート樹脂である。
この試料４では、第１の光透過性保護層５の形成は行わない。
【００８７】
（試料４）
まずは、第１の中間体Ａを作製する。
図２（Ｃ）に示すマスタスタンパ１５を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが１６０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ２Ａ、グルーブ２Ａの底面からの高さが１６０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのランド２Ｂ、ランド２Ｂにランド２Ｂと同じ高さの１６０ｎｍのパターンを有するランドプリピット２Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第１の基板２を作製する。次に、極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６−ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．０ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第１の基板２上に塗布して第１の記録層３を形成する。この際、第１の基板２は、１５００ｒｐｍで回転させて行う。
【００８８】
このようにして形成された第１の記録層３の厚さは、５０ｎｍである。スパッタリング法により、この第１の記録層３上に厚さ１０ｎｍのＡｇ合金からなる第１の反射層４を形成する。こうして、第１の中間体Ａを作製する。
【００８９】
次に、第２の中間体Ｂを作製する。
図６（Ｈ）に示すように、マザースタンパ２７を用いて、トラックピッチが０．７４μｍ、深さが３０ｎｍ及び幅が０．３μｍのグルーブ１０Ａ、グルーブ１０Ａの底面からの高さが３０ｎｍ及び幅が０．４４μｍのランド１０Ｂ、ランド１０Ｂにグルーブ２Ａを越える高さの１２０ｎｍのパターンを有するランドプリピット１０Ｃを形成した厚さ０．６ｍｍの第２の基板１０を作製する。
スパッタリング法により、第２の基板１０上に厚さ１００ｎｍのＡｇからなる第２の反射層９を形成する。
【００９０】
極大吸収波長が５８５ｎｍのシアニン色素（林原生物化学研究所製：商品名Ｓ０６―ＤＸ００１）をテトラフルオロプロパノールに溶解し、１．２ｗｔ％の溶液にしてスピンコート法により、第２の反射層９上に塗布してグルーブ１０Ａ上の厚さが７０ｎｍとなるように第２の記録層８を形成する。この際、第２の基板１０を１０００ｒｐｍで回転させて行う。
【００９１】
更に、ＲＦスパッタリング法により、第２の記録層８上に厚さ２０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2（ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝２０：８０ｍｏｌ％）からなる第２の光透過性保護層７を形成する。
【００９２】
次に、第１、第２の中間体の貼り合わせを行う。
第１の中間体Ａの第１の記録層４上に紫外線硬化樹脂からなる光透過性接着剤層６を塗布した後、第２の光透過性保護層７側を光透過性接着剤層６に対向配置させて、第２の中間体Ｂを光透過性接着剤層６上に重ねる。この状態で第１、第２の中間体Ａ、Ｂを回転数６０００ｒｐｍで回転させて全体に厚さ５０μｍの光透過性接着剤層６が行き渡るようにした後、紫外線を照射して硬化させる。このとき、光透過性接着剤層６として用いられる紫外線硬化樹脂は、日本化薬（株）製のウレタンアクリレート（商品名ＤＶＤ１１４２）である。
こうして、片面に２層の記録層３、８を有する試料４の光ディスク２１を作製した。
【００９３】
（比較試料）
比較試料１〜３は、試料４における第２の記録層８の厚さをそれぞれ２５ｎｍ、６０ｎｍ、１００ｎｍにしたものであり、それ以外は同様である。
【００９４】
（記録再生評価）
こうして得られた試料４及び比較試料１〜３の光ディスク２１の光ディスク標準評価機（パルステック社製、ＤＤＵ―１０００、ＮＡ＝０．６５の対物レンズ搭載）にセットして記録再生特性について調べた。
試料４の光ディスク２１を回転する際の線速度は、７ｍ／ｓ、記録再生用のレーザ光の波長は、６５８ｎｍである。記録再生用レーザ光は、第１の基板２側から照射して第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａにレーザ光の焦点を合わせ、第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａに記録する記録ストラテジーは、ＤＶＤ−Ｒの規格書に掲載のパターンを用いて、記録ピークパワーを１４ｍＷでＤＶＤフォーマット信号を記録した。記録後の第１、第２の記録層３、８のそれぞれの情報記録領域３Ａ、８Ａの反射率は、未記録部分が高く（Ｈｉｇｈ）、記録部分が低い（Ｌｏｗ）、いわゆるＨｉｇｈ  ｔｏ  Ｌｏｗ記録になった。
【００９５】
第１の記録層３の情報記録領域３Ａでは、再生ジッタは、７．８％、反射率は１９％であり、第２の記録層８の情報記録領域８Ａでは、再生ジッタは８．０％、反射率は１９％であり、両層とも良好な記録を行うことができた。両層とも反射率は１９％であったが、これは、片面２層ＤＶＤの規格値以上の値である。
更に、記録前後のランドプリピット信号の品質を確認する指標であるＡＲ（Aperture Ratio）値の測定を行ったところ、第２の記録層８の情報記録領域８Ａから得られたＡＲ値は、片面２層ＤＶＤの規格値である１０％以上となる１５％であり、良好なランドプリピット信号が得られた。
【００９６】
一方、比較試料１〜３では、反射率がそれぞれ１０％、１４％、１６％であり、片面２層ＤＶＤの規格値を満たさなかった。
この結果より、グルーブ１０Ａ上の第２の記録層８の厚さは、ランド１０Ｂの高さよりも３倍以上必要であることがわかる。
【００９７】
次に、光ディスク２１における第２の基板１０のグルーブ１０Ａの深さを１０ｎｍ〜５０ｎｍの間で変化させた試料Ａ〜Ｉを作製してその反射率及びプッシュプル信号について調べた。第２の記録層８の厚さは、１４０ｎｍとした。
この結果を表１に示す。
【００９８】
【表１】
2007004956.tif 000003
【００９９】
表１に示すように、片面２層のＤＶＤ規格値である反射率が１６％以上、プッシュプル信号が０．２２以上の条件を満たすのは、試料Ｃ〜試料Ｇまでの間の各試料である。この結果より、中間体Ｂのグルーブ１０Ａの深さは、２０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲が必要であり、反射率の向上と共に良好なトラッキングが得られることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の第１の実施の形態における光ディスクを示す図である。
【図２】第１の実施の形態における第１の中間体の製造方法を示す図である。
【図３】第１の実施の形態における第２の中間体の製造方法を示す図である。
【図４】第１の実施の形態における第１、第２の中間体の貼り合わせを示す断面図である。
【図５】第２の実施の形態における光ディスクを示す断面図である。
【図６】第２の実施の形態における第１の中間体の製造方法を示す図である。
【図７】従来の第１、第２の基板の作製方法を示す断面図である。
【図８】グルーブとランドプリピット形成領域に同じ厚さで形成された第２の記録層を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１、２１…光ディスク、２…第１の基板、２Ａ、１０Ａ…グルーブ、２Ｂ、１０Ｂ…ランド、２Ｃ、１０Ｃ…ランドプリピット、３…第１の記録層、３Ａ、８Ａ…情報記録領域、４…第１の反射層、５…第１の光透過性保護層、６…光透過性接着剤層、７…第２の光透過性保護層、８…第２の記録層、９…第２の反射層、１０…第２の基板、１１、１６…ガラス基板、１２…フォトレジスト、１３、１７、２２…フォトレジストパターン、１４、１８、２５…ガラス原盤、１５、１９、２６…マスタスタンパ、２０、２７…マザースタンパ、Ａ…第１の中間体、Ｂ…第２の中間体、２２Ａ…凹部、２２Ｂ…貫通孔、２３、２４、２７Ａ、２７Ｂ…溝、凸部…２６Ａ、凹部２６Ｂ、２６Ｃ、２７Ｃ…底面、２１０…入射面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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