(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性及び収率が高く、コストが低いインクジェットヘッドの製造方法を提供することである。【解決手段】圧電素子を使用するインクジェットヘッドの製造方法において、複数の側壁とインクの通路となるチャネル１１とが交互に並設された圧電材料基板１をプラズマ処理した後、イオン銃によるイオン照射なしに蒸着により電極６を形成することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電素子を使用するインクジェットヘッドの製造方法において、複数の側壁とインクの通路となるチャネルとが交互に並設された圧電材料基板をプラズマ処理した後、イオン銃によるイオン照射なしに蒸着により電極を形成することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項２】
前記電極が、前記側壁の駆動用電極であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記駆動用電極が、Ｎｉ、ＣｕまたはＡｌを含む金属であることを特徴とする請求項２に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項４】
プラズマ処理時間が３０秒〜１０分であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記プラズマ処理時間が２〜１０分であることを特徴とする請求項４に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドの製造方法により得られたことを特徴とするインクジェットヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電素子を使用する高画質、高速、高密度インクジェットヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電素子を使用するシェアモード（剪断モード）インクジェットヘッドは、分極した圧電素子（圧電材料基板）に、インクチャネルを研削して、その溝の側壁に電極を形成し、この電極に電界を掛けると、溝の側壁がくの字型にせん断変形して、溝の中のインクに圧力がかかってインク滴を吐出するものである。このインクジェットヘッドには、溝内の側壁部と溝外の平面部に電極が必要となる。なお、側壁部は駆動用電極、平面部は接続用電極としてそれぞれ機能する。
【０００３】
従来のインクジェットヘッドの製造方法としては、圧電材料基板に溝加工を行い、溝の側壁と平面部に電極を形成するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この電極を形成する方法としては、ウエットプロセスであるメッキ法や、ドライプロセスである気相薄膜形成法の蒸着法、スパッタ法等があった。
【０００４】
メッキ法は側壁の１００％を被覆でき、かつ高生産性で低コストの利点を有するが、腐食しやすい問題があった。
【０００５】
一方、蒸着法は生産性が低く、材料費が高いデメリットがあるものの、平面部の電極形成が確実といった実績面では優れていた。
【０００６】
従来の蒸着法によるインクジェットヘッドの製造方法を説明する。
【０００７】
まず、分極した圧電材料基板に感光性ドライフィルムレジストを貼り付け、次に露光・現像工程で接続用電極のパターニングをする。さらにダイシング工程で複数のストレートな溝を形成する。
【０００８】
その後の蒸着工程は、以下のステップで行う。
（１）パターニング済の圧電材料基板をイオン銃付の真空蒸着装置の圧電材料基板ホルダーに設置する。
（２）所定の真空度（圧力）にまで真空ポンプで排気する。
（３）イオン銃から出るアルゴンイオンの照射で圧電材料基板をクリーニング（イオン照射クリーニング）する。
（４）イオン照射をしながら、電子ビームで蒸着源の入ったルツボ内を加熱して蒸着（イオンアシスト蒸着）を開始する。
（５）数分間後、イオン照射を止めて所定の膜厚まで蒸着する。
【０００９】
これで溝の片側の側壁への電極形成が終了するが、もう片方の側壁に電極形成をするために、圧電材料基板ホルダーの角度を変更するか、あるいは大気圧に戻して圧電材料基板をひっくり返した後、上記と同じ蒸着工程を行う。
【００１０】
蒸着工程の終了後、リフトオフ工程でドライフィルムを除去し、それぞれの溝ごとの電極が分離したチャネルプレートが得られる。
【００１１】
ところで、この蒸着工程で使用するイオン銃は、熱電子を発生させるフィラメントやイオンを加速する網目状電極が徐々に消耗するため、一定期間ごとに交換する必要があった。イオン銃の維持管理のために生産性低下を招いていたのである。
【００１２】
また、イオン照射状態がばらつくことがあり、収率低下の一因にもなっていた。しかも生産性向上のために多数の基板を同時処理しようとすると、蒸着可能領域を大面積化すると同時にイオン照射可能領域も大きくする必要があるが、イオン銃の大型化により多大なコストアップを伴うデメリットがあった。イオン銃は大型になるにつれて、急速に高額化する傾向があるためである。
【特許文献１】特開２００３−３４１０７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、生産性及び収率が高く、コストが低いインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成された。
【００１５】
１．圧電素子を使用するインクジェットヘッドの製造方法において、複数の側壁とインクの通路となるチャネルとが交互に並設された圧電材料基板をプラズマ処理した後、イオン銃によるイオン照射なしに蒸着により電極を形成することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
【００１６】
２．前記電極が、前記側壁の駆動用電極であることを特徴とする１に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【００１７】
３．前記駆動用電極が、Ｎｉ、ＣｕまたはＡｌを含む金属であることを特徴とする２に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【００１８】
４．プラズマ処理時間が３０秒〜１０分であることを特徴とする１〜３のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【００１９】
５．前記プラズマ処理時間が２〜１０分であることを特徴とする４に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
【００２０】
６．１〜５のいずれか１項に記載のインクジェットヘッドの製造方法により得られたことを特徴とするインクジェットヘッド。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、生産性及び収率が高く、コストが低いインクジェットヘッド及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明者は、上記課題鑑み鋭意検討を行った結果、圧電素子を使用するインクジェットヘッドの製造方法において、複数の側壁とインクの通路となるチャネルとが交互に並設された圧電材料基板をプラズマ処理した後、イオン銃によるイオン照射なしに蒸着により電極を形成するインクジェットヘッドの製造方法により、生産性及び収率が高く、コストが低いインクジェットヘッドの製造方法が得られることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２３】
不安定要因の多いイオン銃によるアルゴンイオン照射の代わりにプラズマ処理することで、蒸着膜の密着性を確保する。これにより、イオンアシスト蒸着と同等の機能を持つ電極形成がイオン銃なしで行うことができる。プラズマ処理は、大量処理が可能で維持コストがイオン銃に比べて安いメリットがある。
【００２４】
本発明は、このインクジェットヘッドの電極形成工程における新しい製造方法である。
【００２５】
本発明の新しい蒸着工程は、以下の通りである。
（１）パターニング済の圧電材料基板をプラズマ装置で処理する。
（２）プラズマ処理済の圧電材料基板を真空蒸着装置の圧電材料基板ホルダーに設置する。
（３）一定の真空度（圧力）にまで真空ポンプで排気（真空排気）する。
（４）イオン照射なしに、電子ビームで蒸着源の入ったルツボ内を加熱して所定の膜厚まで蒸着する。
【００２６】
従来方式と新方式を比較すると、以下のようになる。
【００２７】
従来方式                        新方式
前処理          なし                          （１）プラズマ処理
蒸着装置内    （１）圧電材料基板設置          （２）圧電材料基板設置
（２）真空排気                  （３）真空排気
（３）イオン照射クリ−ニング      なし
（４）イオンアシスト蒸着          なし
（５）蒸着（イオン照射なし）    （４）蒸着（イオン照射なし）
本発明では、蒸着の前処理としてプラズマ処理し、圧電材料基板の表面をクリ−ニングし、表面の活性化を行う。圧電材料基板の表面のクリ−ニング効果、表面の活性化の度合いは、プラズマ処理後の圧電材料基板の表面の水の接触角測定で知ることができる。
【００２８】
プラズマ処理装置としては、特に限定されないが、ＲＦ方式の平行平板電極型のプラズマ装置が好ましい。このタイプは、構造が単純のため、維持管理の手間がかからない、プラズマ処理条件も安定してばらつきが少ない、大面積化が容易で装置も比較的安価のため、単位枚数あたりの処理コストが安いという特徴を有する。
【００２９】
原料ガスは酸素が好ましい。
【００３０】
プラズマ処理時間は、圧電材料基板の表面のクリ−ニング効果、表面の活性化、生産性から決められるが、通常３０秒〜１０分が好ましく、２〜１０分がより好ましい。
【００３１】
本発明のインクジェットヘッドには、溝内の側壁部の駆動用電極と溝外の平面部の接続用電極が必要となるが、本発明の新しい蒸着方法は側壁部の駆動用電極の形成に適用することが好ましい。
【００３２】
以下に本発明に関する実施の形態の例を示すが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
【００３３】
まず、本発明のインクジェットヘッドの実施の形態について図面を用いて説明する。
【００３４】
図１（ａ）は、本発明のインクジェットヘッドの概要を示す部分破断斜視図、図１（ｂ）は同ヘッドの縦断面図である。図１において、１は圧電材料基板、２はインクチャネルの上面を閉鎖するカバー板である上壁、２０はインクチャネルの下面を閉鎖する下壁、３はノズルプレート、４はバックプレート、５はインクマニホールドである。
【００３５】
なお、本明細書においては、インクジェットヘッドからインクが吐出される側の面を「前面」といい、その反対側の面を「後面」という。また、インクジェットヘッドにおいて並設されるインクチャネルを挟んで図示上下に位置する外側面をそれぞれ「上面」及び「下面」という。
【００３６】
インクジェットヘッドは、２枚の基板２、２０との間に、少なくとも一部が圧電材料からなる駆動壁１３とインクチャネル１１とが交互に並設されている。インクチャネル１１の形状は、両側壁が基板２、２０に対してほぼ垂直方向に立ち上がっており、そして互いに平行である。図１に示すように、インクジェットヘッドの前面及び後面にそれぞれ各インクチャネル１１の出口と入口とが配設されると共に、各インクチャネル１１は、入口から出口に亘る長さ方向で大きさと形状がほぼ変わらないストレートタイプである。このようにインクチャネル１１がストレートタイプであることにより、泡抜けがよく、電力効率が高く、発熱が少なく、高速応答性がよいインクジェットヘッドとすることができる。
【００３７】
図１の実施形態では、インクチャネルは、インクチャネルの側壁を形成する前記駆動壁と前記インクチャネルの上面を閉鎖する上壁と前記インクチャネルの下面を閉鎖する下壁とにより形成される。
【００３８】
圧電材料基板１に用いられる圧電材料としては、電界を加えることにより変形を生じる公知の圧電材料を用いることができ、ＰＺＴが好ましい。特に成形、焼成等の工程を経て形成されるＰＺＴ圧電セラミックス基板が好ましい。
【００３９】
ＰＺＴとしては、ＰＺＴ（ＰｂＺｒＯ3−ＰｂＴｉＯ3）と、第三成分添加ＰＺＴがある。添加する第三成分としてはＰｂ（Ｍｇ1/2Ｎｂ2/3）Ｏ3、Ｐｂ（Ｍｎ1/3Ｓｂ2/3）Ｏ3、Ｐｂ（Ｃｏ1/3Ｎｂ2/3）Ｏ3等がある。
【００４０】
また、成形、焼成を必要としないで形成される基板として、例えば、ゾル−ゲル法、積層基板コーティング法等で形成することができる。
【００４１】
圧電材料基板１は、２枚の圧電材料基板１ａ、１ｂを分極方向を互いに反対に向けて（図中の矢印）上下に接合してなる。２枚の圧電材料基板１ａ、１ｂを接合する手段としては、エポキシ系接着剤等の接着剤を用いた接合を採用できるが、接合可能であれば特にこれに限定されない。接着剤を用いて接合する場合、その接着剤層の硬化後の厚みは、１〜１０μｍの範囲が好ましい。
【００４２】
ＰＬＺＴからなる１枚の下壁２０上に、前記圧電材料基板１をエポキシ系接着剤を用いて接合する。この接合基板に対して、圧電材料基板１側から下壁２０に到達するように、円盤状の砥石（ダイシングブレード）等の公知の研削機を用いて所定ピッチで互いに平行な複数列の溝を加工することにより、インクが貯留されるインクチャネル１１と各インクチャネル１１間の駆動壁１３とを交互に形成する。
【００４３】
この溝加工の後に、各駆動壁１３の壁面に金属の駆動電極６を形成する。駆動壁１３は分極方向の異なる２枚の圧電材料基板１ａ、１ｂからなるため、各駆動電極６は、それら両基板１ａ、１ｂを駆動させるべく、少なくとも各駆動壁１３を構成している圧電材料基板１ａ及び１ｂに亘る側面の全面に形成するが、必ずしも底面には形成しなくてもよい。この駆動電極６に不図示の駆動回路からの駆動電圧パルスが印加されて、駆動壁１３がせん断変形してインクが吐出される。また、圧電材料基板１の形態によっては、側面の一部に駆動電極を設ければよい。
【００４４】
駆動電極６を形成し得る金属としては、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ａｌ等を挙げることができるが、中でもＮｉ、Ｃｕ、Ａｌが好ましく、特に低コストかつ、耐食性に優れる点でＮｉを主成分とする金属を用いることである。
【００４５】
駆動電極６の形成は、一般に蒸着法、スパッタリング法、めっき法、ＣＶＤ（化学気相反応法）等の真空装置を用いた方法等によって金属被膜を形成する方法が挙げられるが、本発明では、前記新しい蒸着法によって金属被膜を形成する。金属被膜の厚みは０．５〜５μｍの範囲が好ましい。
【００４６】
ＰＬＺＴからなる上壁２は、駆動電極６を形成した後にエポキシ系接着剤等の接着剤を用いて接合される。
【００４７】
また、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、下壁２０を用いる代わりに圧電材料基板１ｂを厚手のものとし、薄手の圧電材料基板１ａ側から厚手の圧電材料基板１ｂの中途部にまで至る複数の平行な溝を研削することにより、高さ方向で分極方向が反対となる駆動壁１３の形成と同時に下壁２０の部分が圧電材料基板１ｂによって一体に形成されるようにしてもよい。
【００４８】
また、図１、図２は、インクチャネル１１が駆動壁１３を挟んで連続しているヘッドを示したが、図３の（ａ）、（ｂ）に示すようにインクが供給されるインクチャネル１１とインクが供給されない空気チャネル１２（空気チャネル）が駆動壁１３を挟んで交互に形成された独立チャネルヘッドとしてもよい。インクチャネル１１に対応してインク導入孔４１とノズル３１を設けることにより、ノズル３１からインクが吐出される。この場合、インクチャネル１１の駆動壁１３がせん断変形しても、隣接した他のインクチャネルに影響することがなく、インクチャネル１１の駆動壁の駆動が容易である。
【００４９】
図１〜図３のヘッドにおいて、上壁２を接合した後に、各チャネル１１、１２内に臨む壁面に保護膜の一例であるパリレン膜７を形成する。図示例では、パリレン膜７はインクチャネル１１、空気チャンネル１２内面全面に形成されているが、駆動電極６を絶縁するために、少なくとも駆動電極６の表面に形成される。また、図３のヘッドにおいて、空気チャネル１２の駆動電極６は、インクに接触しないため、パリレン膜７を形成しなくてもよいが、形成した方が駆動電極６の安定性が増すので好ましい。
【００５０】
本発明において、保護膜の材質は特に制限しないが、パリレン膜が好ましく、本実施形態では、保護膜としてパリレン膜７を用いている。
【００５１】
図４にＣＶＤ法（気相合成法）にてパリレン膜を形成する化学蒸着を行うための蒸着装置の一例を示す。この蒸着装置は、昇華炉１００、熱分解炉２００及び成膜槽３００より構成され、これら昇華炉１００、熱分解炉２００及び成膜槽３００はガス流路を形成する配管により図示するように連結されている。蒸着工程中、上記蒸着装置は真空度が１３３〜１３３００Ｐａに保たれる。また、昇華炉１００内は１００〜２００℃、熱分解炉２００内は４５０〜７００℃、成膜槽３００内は室温の各温度に保持される。
【００５２】
昇華炉１００内ではパリレン膜７の原料である固体二量体のジパラキシリレンの気化が行われる。熱分解炉２００内では、気化した二量体を熱分解させてパラキシリレンラジカルを発生させる熱分解が行われる。成膜槽３００内には１０ｒｐｍ程度で回転する回転台が設けられていて、この回転台上に駆動電極６を形成後の圧電材料基板１と上壁２との一体化物、あるいは、圧電材料基板１と上壁２と下壁２０の一体化物が置かれる。
【００５３】
熱分解炉２００内で発生したパラキシリレンラジカルは、成膜槽３００内で回転台上に置かれた圧電材料基板１と上壁２（及び下壁２０）に付着する。さらに、この成膜槽３００内で、圧電材料基板１と上壁２（及び下壁２０）に付着したパラキシリレンラジカルは、付着と同時に気相重合して高分子量のポリパラキシリレンの皮膜を形成する。
【００５４】
なお、パリレン膜７の膜厚は、１．０μｍよりも薄いと、十分な絶縁性を維持することが困難となる。また、膜厚が増加するに従って、膜自体の剛性により駆動壁１３の動きを規制するようになる。このため、パリレン膜の膜厚は１．０〜１０μｍ程度とすることが望まれるが、特に１．０〜５．０μｍとすることが好ましい。パリレン膜７が１．０〜５．０μｍの範囲にあるときは、パリレン膜７は十分に薄い膜としてインクチャネル１１内に形成されるため、インクチャネル１１の有効断面積を減少させることがなく、十分なインク吐出感度及びインク吐出特性を得ることができる。より好ましい膜厚の範囲は、１．０〜３．０μｍである。
【００５５】
パリレン膜７の膜厚は、成膜槽３００内での処理時間を調整することにより調整することができる。
【００５６】
本発明において、パリレン膜７を形成した後、さらにプラズマ処理を施すことは有利に働く。プラズマ処理としては、例えば次の処理を具体例として挙げることができる。
【００５７】
（処理条件）
装置：平行平板型反応装置
原料ガス：酸素
ガス流量：５０ｓｃｃｍ
圧力：１０Ｐａ
放電方法：高周波（１３．５６ＭＨｚ、出力２００Ｗ）
処理時間：２分間
この処理によれば、パリレン膜７は約０．５μｍエッチングされ、表面が活性化される。その結果、処理前の水の接触角８５°が、処理後１０°となり、濡れ性が大きく向上し、インクチャネル１１内へのインクの導入を円滑にし、気泡の混入を防ぐことができる。
【００５８】
なお、他に有効なプラズマ処理として、マイクロ波を用いた方法等が挙げられ、採用するガスも酸素に限らず、窒素や他のガスまたは酸素と不活性ガスの混合ガス等が挙げられる。
【００５９】
以上のようにして各チャネル１１、１２の内壁にパリレン膜７を形成した後、図１〜図３に示すように、圧電材料基板１の前端面に、インクを吐出するためのノズル孔３１を有するノズルプレート３をエポキシ系接着剤等の接着剤を用いて接合する。また、圧電材料基板１の後端面には、インク導入孔４１を有するバックプレート４を介して、インクチャネル１１内にインクを供給するインクマニホールド５を、同様にエポキシ系接着剤等の接着剤を用いて接合し、インクジェットヘッドを構成する。
【実施例】
【００６０】
実施例
（インクジェットヘッド１の作製：比較例）
以下の手順でインクジェットヘッド１を作製した。
【００６１】
分極した圧電材料基板（ＰＺＴ）にドライフィルム（レジスト）を貼り付け、次に露光・現像工程で接続用電極のパターニングをした。さらにダイシング工程で複数のストレートな溝を形成した。
【００６２】
次に、パターング済の圧電材料基板をイオン銃付の真空蒸着装置の圧電材料基板ホルダーに設置し、真空度が６．７×１０-4Ｐａ以下になるまで１時間ほど排気した。イオン銃にアルゴンガスを２０ｓｃｃｍ流し、イオン銃を動作させてアルゴンイオンの照射で圧電材料基板を三分間クリーニングした（加速電圧＝３００ｅＶ、照射電流＝３０ｍＡ）。
【００６３】
イオン照射しながら、蒸着源としてＡｌの入ったルツボ内を電子ビームで加熱して蒸着を開始し、このイオンアシスト蒸着を３分間続けた。イオン照射を止めて３０分間蒸着して、２μｍの膜厚になったところで蒸着を止めた。なお蒸着速度は７オングストーム／ｓｅｃであった。
【００６４】
蒸着後、真空蒸着装置から取り出し、リフトオフ工程でドライフィルムを除去し、インクジェットヘッド１を作製した。
【００６５】
（インクジェットヘッド２の作製：本発明）
以下の手順でインクジェットヘッド２を作製した。
【００６６】
分極した圧電材料基板（ＰＺＴ）にドライフィルム（レジスト）を貼り付け、次に露光・現像工程で接続用電極のパターニングをした。さらにダイシング工程で複数のストレートな溝を形成した。
【００６７】
次に、パターング済の圧電材料基板をプラズマ装置（ＲＦ方式の平行平板電極型）に設置し、排気した後、酸素を５０ｓｃｃｍ流し、１×１０Ｐａの真空度に調節した後、２００ＷのＲＦを印加して２分間プラズマ処理を行った。
【００６８】
パターング済の圧電材料基板をイオン銃付の真空蒸着装置の圧電材料基板ホルダーに設置し、真空度が６．７×１０-4Ｐａ以下になるまで１時間ほど排気した。蒸着源としてＡｌの入ったルツボ内を電子ビームで加熱して、３０分間蒸着して２μｍの膜厚になったところで止めた。なお蒸着速度は７オングストーム／ｓｅｃであった。
【００６９】
蒸着後、真空蒸着装置から取り出し、リフトオフ工程でドライフィルムを除去し、インクジェットヘッド２を作製した。
【００７０】
（インクジェットヘッドの評価）
作製したインクジェットヘッドについてテープ剥離テストをしたが、いずれも電極ハガレは発生しなかった。
【００７１】
本発明の新しい製造方法では、イオン照射をしないため、（１）イオン銃の維持管理の必要がなくなって生産性が向上し、（２）イオン照射状態のばらつきによる収率低下もなくなり、（３）生産性向上のための蒸着可能領域の大面積化もより低コストで対応できるようになるというメリットがある。
【００７２】
なお、プラズマ処理による本発明の新製造方法によっても、従来のイオン照射と同等の電極の密着性が確保され、膜ハガレは発生しなかった。また、平行平板方式のプラズマ装置は構造が単純のため、（１）イオン銃のフィラメントや網目状電極の交換といった維持管理の手間がかからない、（２）プラズマ処理条件も安定してばらつきが少ない、（３）大面積化が容易で装置も比較的安価のため、単位枚数あたりの処理コストがイオン銃に比べて安いという特徴を有する。これらの特徴が、上記のメリットを発揮する要因となっているのである。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】（ａ）は本発明のインクジェットヘッドの部分破断斜視図、（ｂ）は部分断面図である。
【図２】（ａ）は本発明の他のインクジェットヘッドの部分破断斜視図、（ｂ）は部分断面図である。
【図３】（ａ）は本発明の他のインクジェットヘッドの部分破断斜視図、（ｂ）は部分断面図である。
【図４】駆動電極の保護膜形成に用いる蒸着装置の構成の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７４】
１  圧電材料基板
２  上壁
３  ノズルプレート
４  バックプレート
５  インクマニホールド
６  駆動電極
７  パリレン膜
１１  インクチャネル
１２  空気チャネル
２０  下壁
１００  昇華炉
２００  熱分解炉
３００  成膜槽
【図１】
2007210194.tif 000003
【図２】
2007210194.tif 000004
【図３】
2007210194.tif 000005
【図４】
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