(57)【要約】【課題】インクジェット記録媒体の製造において、ひび割れ発生を抑制しながら、かつ高い生産性を確保する簡便な方法を提供する。【解決手段】支持体上に粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録媒体の製造方法において、乾燥は、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くするとともに、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を３０℃以下とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録媒体の製造方法において、
前記乾燥は、
前記塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、前記含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くするとともに、
前記塗布したインク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を、３０℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記塗布したインク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を、４０℃以上とすることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記塗布は、インク受容層を３０℃以上に加温するとともに、
前記乾燥は、２５℃以下で冷却した後に行うことを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記乾燥は、露点−５℃以下に除湿した空気で乾燥することを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記インク受容層が水溶性多価金属塩を含有することを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記インク受容層は、重層であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法により得られるインクジェット記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット記録媒体およびその製造方法に係り、特に、インク受容層のひび割れ発生を抑制するインクジェット記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術（ＩＴ）産業の急速な発展に伴い、種々の情報処理システムが開発され、それぞれの情報処理システムに適した記録方法及び記録装置も開発され、実用化されている。この様な記録方法の中でも、インクジェット記録方法は、多種の記録材料に記録可能なこと、ハード（装置）が比較的安価であること、コンパクトであること、及び低騒音に優れること等の利点から、オフィスは勿論、所謂ホームユースにおいても広汎に用いられて来ている。
【０００３】
また、近年のインクジェットプリンターの高解像度化に伴い、いわゆる写真ライクな高画質記録物を得ることも可能になり、更なるハード（装置）面の発展に伴って、インクジェット記録媒体も各種の改良が為されて来た。
【０００４】
インクジェット記録媒体に要求される特性としては、一般に、（１）速乾性があること（インクの吸収速度が速いこと）、（２）インクドットの径が適正で均一であること（滲みのないこと）、（３）粒状性が良好であること、（４）ドットの真円性が高いこと、（５）色濃度が高いこと、（６）彩度が高いこと（くすみのないこと）、（７）印画部の耐光性や耐水性が良好なこと、（８）記録シートの白色度が高いこと、（９）記録シートの保存性が良好なこと（長期保存で黄変着色を起こさないこと、長期保存で画像が滲まないこと）、（１０）変形し難く、寸法安定性が良好であること（カールが充分小さいこと）、（１１）ハードの走行性が良好であること、等が挙げられる。更に、いわゆる写真ライクな高画質記録物を得る目的に用いられるフォト光沢紙の用途では、上記特性に加えて、更に光沢性、表面平滑性、銀塩写真に類似した印画紙状の風合い等も要求される。
【０００５】
上記の諸特性を向上する目的で、近年ではインク受容層に多孔質構造を有するインクジェット記録媒体が開発され実用化されている。この様なインクジェット記録媒体は多孔質構造を有することで、インク受容性（速乾性）に優れ高い光沢度も有する。
【０００６】
例えば、無機顔料微粒子及び水溶性樹脂を含有し、高い空隙率を有する記録層(空隙層)が支持体に設けられたインクジェット記録媒体が提案されている(例えば、特許文献１〜２参照)。これら記録媒体、特に無機顔料微粒子としてシリカを用いた多孔質構造からなる層を設けたインクジェット記録媒体は、その多孔構造によりインク吸収性に優れ、高解像度の画像を形成し得る、高いインク受容性能を有し、かつ高光沢を示し得る。
【０００７】
無機微粒子及び水溶性樹脂から形成された高い空隙率のインク受容層は、一般に粒子径の小さい粒子を多量に含有させ形成することができるが、層形成のバインダー量を空隙が形成できるように少なくする必要があるため、塗布層を急激に乾燥させるとひび割れが発生し、インク受容層の透明性及び外観が損なわれる問題があった。
【０００８】
上記に関連して、減率乾燥手前において架橋剤でインク受容層を硬化させる技術が開示されている（例えば、特許文献３、４参照）。また、ひび割れを抑制する他の方法として、インク受容層の膜面温度を低く乾燥させる技術が開示されている（例えば、特許文献５参照）。さらに、ひび割れを抑制する他の方法として、固形分濃度９５重量％から乾燥終了までを比較的高湿の空気で乾燥させる技術が開示されている（例えば、特許文献６参照）。
【特許文献１】特開平１０−１１９４２３号公報
【特許文献２】特開平１０―２１７６０１号公報
【特許文献３】特開平１１−１１５３０８号公報
【特許文献４】特開平１１−３４８４１２号公報
【特許文献５】特開２０００−１０２０７号公報
【特許文献６】特開２０００−３５１２６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献３、４の方法では、インク受容層を硬膜させるために塗布する塗布層の分の水分量が増してしまうため、その分乾燥に時間がかかってしまうという問題がある。また、特許文献５の方法では、膜面温度を下げることで乾燥速度は遅くなってしまい、生産性の観点から好ましくない。そして、特許文献６の方法では、乾燥設備において、高湿の空気で乾燥させる為には新たに加湿設備を設けなければならず、簡便性に欠け不経済である。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、インクジェット記録媒体の製造において、ひび割れ発生を抑制しながら、乾燥速度を早くして高い生産性を確保することができる簡便な方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、前記目的を達成するために、支持体上に粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録媒体の製造方法において、前記乾燥は、前記塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、前記含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くするとともに、前記塗布したインク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を、３０℃以下とすることを特徴とする。
【００１２】
本発明の発明者は、上記課題に鑑みて、粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層の乾燥とひび割れとの関係を鋭意研究した結果、インク受容層を、インク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を３０℃以下にして乾燥することで、ひび割れ発生を抑制することができるという知見を得た。そして、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くして乾燥することで、さらにひび割れ発生を抑制することができる。また、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を、含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度よりも高くすることができるので、３０℃以下の所望の温度で乾燥し続けるよりも乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。
【００１３】
従って、請求項１の発明によれば、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くするとともに、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を、３０℃以下とすることで、簡便な方法により、ひび割れ発生を抑制しながら、かつ高い生産性を確保することができる。尚、インク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥温度は、含水率が３０％以下のときの乾燥温度よりも高ければよく、常に一定の乾燥温度に設定することには限られない。例えば、乾燥初期から含水率が３０％まで徐々に乾燥温度を低下させてもよい。この場合にはインク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥温度を平均温度として把握し、次式にて表すことができる。
【００１４】
【数１】
2007301763.tif 000002
【００１５】
Ｔ（ｘ）：乾燥開始点から距離ｘの位置における乾燥風の温度（℃）
α：乾燥開始点から塗膜の含水率が３０％となるまでの距離（ｍ）
また、ここで、含水率は、固形分に対する水分の重量％をいう。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、請求項１の発明において、前記塗布したインク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を、４０℃以上とすることを特徴とする。
【００１７】
請求項２の発明によれば、インク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を４０℃以上とすることで、さらに乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。
【００１８】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２の発明において、前記塗布は、インク受容層を３０℃以上に加温するとともに、前記乾燥は、２５℃以下で冷却した後に行うことを特徴とする。
【００１９】
請求項３の発明によれば、インク受容層の塗布液を３０℃以上に加温して塗布するとともに、２５℃以下で塗布膜を冷却して塗布膜をセットしてから乾燥することで、塗布膜に流れムラが発現するのを抑制することができるので、面質の良いインクジェット記録媒体を得ることができる。
【００２０】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか１に記載の発明において、前記乾燥は、露点−５℃以下に除湿した空気で乾燥することを特徴とする。
【００２１】
請求項４の発明によれば、インク受容層の水分を露点−５℃以下に除湿した空気で乾燥するので、水分の少ない乾燥風でインク受容層を乾かすことができ、さらに乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。
【００２２】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４の何れか１に記載の発明において、前記インク受容層が水溶性多価金属塩を含有することを特徴とする。
【００２３】
一般にインク受容層は、水溶性多価金属塩を含有すると、含有しないインク受容層と比べ、ひび割れが発現しやすい。しかし、水溶性多価金属塩を含有するインク受容層においても、本発明によれば、ひび割れを抑制することができる。
【００２４】
従って、請求項５の発明によれば、インク受容層が水溶性多価金属塩を含有する場合には、特に本発明は有効である。
【００２５】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の何れか１に記載の発明において、前記インク受容層は、重層であることを特徴とする。
【００２６】
本発明は、重層のインク受容層である場合にも有効である。
【００２７】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６の何れか１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法により得られるインクジェット記録媒体である。
【００２８】
本発明の製造方法により得られるインクジェット記録媒体は、インク受容層のひび割れが抑制されているので、高解像度の画像を形成することができる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層のひび割れ発生を抑制しながら、乾燥速度を早くして高い生産性を確保することができる簡便な方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００３１】
［インクジェット記録媒体の製造方法］
支持体上に粒子径が１μｍ以下の微粒子及び水溶性バインダーを含有するインク受容層を塗布し乾燥するインクジェット記録媒体の製造方法において、乾燥は、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くするとともに、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を、３０℃以下とすることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法である。
【００３２】
インク受容層を、インク受容層の含水率が３０％以下における乾燥風の温度を３０℃以下にして乾燥することで、ひび割れ発生を抑制することができる。そして、塗布したインク受容層の含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度を、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度よりも低くして乾燥することで、さらにひび割れ発生を抑制することができる。また、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を、含水率が３０％以下のときの乾燥風の温度よりも高くすることができるので、３０℃以下の所望の温度で乾燥し続けるよりも乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。尚、含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度は、３０℃以下にすることが好ましく、２５℃以下にすることがさらに好ましい。
【００３３】
また、塗布したインク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度は、４０℃以上とすることが好ましい。インク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度を４０℃以上とすることで、さらに乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。
【００３４】
さらに、インク受容層の支持体上への塗布は、インク受容層の塗布液を３０℃以上に加温するとともに、塗布したインク受容層の乾燥は、２５℃以下で冷却した後に行うことが好ましい。インク受容層の塗布液を３０℃以上に加温して塗布するとともに、２５℃以下で塗布膜を冷却してから乾燥することで、塗布膜に流れムラが発現するのを抑制することができるので、好適なインクジェット記録媒体を得ることができる。
【００３５】
ここで、塗布後の冷却は、冷却風を吹き付けることにより行うことが好ましく、吹き付ける冷却風の温度は０℃〜２５℃が好ましく、５℃〜１５℃にすることがさらに好ましい。
【００３６】
尚、冷却後の乾燥において、塗布したインク受容層の含水率が３０％よりも大きいときの乾燥風の温度は、４０℃〜１８０℃が好ましく、４５℃〜１３０℃にすることがさらに好ましい。また、より早く乾燥させるためには、ヒートロール等を用いて支持体を加熱することが好ましい。
【００３７】
また、冷却後の乾燥は、露点−５℃以下に除湿した空気で乾燥することが好ましい。インク受容層の水分を露点−５℃以下に除湿した空気で乾燥することで、水分の少ない乾燥風でインク受容層を乾かすことができるので、さらに乾燥時間を短くすることができ、高い生産性を確保することができる。
【００３８】
そして、乾燥終了後は、塗膜の含水分を調整する為に調湿ゾーンを設け調湿することが好ましい。調湿ゾーンの温度は２０℃〜４０℃が好ましく、相対湿度は４０％〜７０％が好ましい。
【００３９】
以下、本発明のインクジェット記録媒体について、その構成要素につき詳細に説明するが、本発明はこれらの説明事項や例示化合物等に限定されるものではない。
【００４０】
（水溶性樹脂）
本発明に用いられる水溶性樹脂としては、例えば、親水性構造単位としてヒドロキシ基を有する樹脂であるポリビニルアルコール系樹脂〔ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール等〕、セルロース系樹脂〔メチルセルロース（ＭＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等〕、キチン類、キトサン類、デンプン、エーテル結合を有する樹脂〔ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル（ＰＶＥ）等〕、カルバモイル基を有する樹脂〔ポリアクリルアミド（ＰＡＡＭ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリアクリル酸ヒドラジド等〕等が挙げられる。
【００４１】
また、解離性基としてカルボキシル基を有するポリアクリル酸塩、マレイン酸樹脂、アルギン酸塩、ゼラチン類等も挙げることができる。
【００４２】
本発明におけるインク受容層には、インク吸収性の観点から、上記の水溶性樹脂の中でも、ポリビニルアルコール系樹脂、セルロース系樹脂、工一テル結合を有する樹脂、ガルバモイル基を有する樹脂、カルボキシ基を有する樹脂、及びゼラチン類から選ばれる少なくとも１種を含有することがより好ましい。
【００４３】
本発明における水溶性樹脂としては、上記の中でも、特に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）であることが好ましい。
【００４４】
本発明に用いられるポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のケン化度としては、発色濃度の観点から、７５〜９５モル％が好ましく、７７〜９０モル％がより好ましく、８０〜９０モル％が特に好ましい。また、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の重合度としては、充分な膜強度を得る観点から、１４００〜５０００が好ましく、２３００〜４０００がより好ましい。尚、重合度１４００未満と重合度１４００以上のポリビニルアルコールを併用して使用してもかまわない。
【００４５】
水溶性樹脂のインク受容層中における含有量としては、該含有量の過少による、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、且つ、該含有量の過多によって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、インク受容層中に含まれる全固形分質量に対して、５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。
【００４６】
尚、インク受容層を主に構成する後述する微粒子と水溶性樹脂とは、それぞれ単一素材であってもよいし、複数素材の混合系であってもよい。
【００４７】
前記ポリビニルアルコールには、無変性のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）に加え、カチオン変性ＰＶＡ、アニオン変性ＰＶＡ、シラノール変性ＰＶＡ及びその他ポリビニルアルコールの誘導体も含まれる。ポリビニルアルコールは１種単独でもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４８】
前記ＰＶＡは、その構造単位に水酸基を有するが、この水酸基とシリカ微粒子表面のシラノール基とが水素結合を形成して、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造を形成し易くする。この様な三次元網目構造の形成によって、空隙率の高い多孔質構造のインク受容層を形成し得ると考えられる。
【００４９】
本発明により得られるインクジェット記録媒体において、上述のようにして得られた多孔質のインク受容層は、毛細管現象によって急速にインクを吸収し、インク滲みのない真円性の良好なドットを形成することができる。
【００５０】
（微粒子）
本発明における微粒子としては、有機微粒子、シリカ微粒子、コロイダルシリカ、アルミナ微粒子、及び擬ベーマイト型水酸化アルミニウム微粒子から選ばれる少なくとも１種の微粒子が挙げられる。本発明における微粒子としては、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、及び擬ベーマイト型水酸化アルミ微粒子が好ましい。
【００５１】
本発明における微粒子としては、その平均一次粒子径が５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、特に１５ｎｍ以下であることが好ましい。微粒子の平均一次粒子径が１５ｎｍ以下であると、インク吸収特性を効果的に向上させることができ、また同時にインク受容層表面の光沢性をも高めることができる。また、前記微粒子の平均一次粒子径の下限は特に限定はないが、１ｎｍ以上であることが好ましい。
【００５２】
上記微粒子の中でも、気相法にて製造された気相法シリカ又は気相法アルミナは、比表面積が特に大きいので、インクの吸収性及び保持の効率が高く、また屈折率が低いので、適切な微小粒子径まで分散を行なえばインク受容層に透明性を付与でき、高い色濃度と良好な発色性が得られるという利点がある。この様に受容層が透明であるということは、ＯＨＰ等透明性が必要とされる用途のみならず、フォト光沢紙等の記録用シートに適用する場合でも、高い色濃度と良好な発色性及び光沢度を得る観点より重要である。
【００５３】
特に、シリカ微粒子は、その表面にシラノール基を有し、該シラノール基の水素結合により粒子同士が付着し易いため、また該シラノール基と水溶性樹脂を介した粒子同士の付着効果のため、上記の様に平均一次粒子径が１５ｎｍ以下の場合にはインク受容層の空隙率が大きく、透明性の高い構造を形成することができ、インク吸収特性を効果的に向上させることができる。
【００５４】
一般にシリカ微粒子は、通常その製造法により湿式法（沈降法）粒子と乾式法（気相法）粒子とに大別される。上記湿式法では、ケイ酸塩の酸分解により活性シリカを生成し、これを適度に重合させ凝集沈降させて含水シリカを得る方法が主流である。一方、気相法は、ハロゲン化珪素の高温気相加水分解による方法（火炎加水分解法）、ケイ砂とコークスとを電気炉中でアークによって加熱還元気化し、これを空気で酸化する方法（アーク法）によって無水シリカを得る方法が主流であり、上記「気相法シリカ」とは、当該気相法によって得られた無水シリカ微粒子を指す。
【００５５】
気相法シリカは、上記含水シリカと表面のシラノール基の密度、空孔の有無等に相違があり、異なった性質を示すが、空隙率が高い三次元構造を形成するのに適している。この理由は明らかではないが、含水シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が５〜８個／ｎｍ2 多く、シリカ微粒子が密に凝集（アグリゲート）し易く、一方、気相法シリカの場合には、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2 少ないことから疎な軟凝集（フロキュレート）となり、その結果、空隙率が高い構造になるものと推定される。
【００５６】
本発明における微粒子としては、沈降法又は気相法にて合成された非晶質シリカ又はアルミナであることが好ましい。特に、平均一次粒子径が３０ｎｍ以下の気相法シリカ又は気相法アルミナを用いることが好ましく、該気相法シリカ又は気相法アルミナを全微粒子の５０質量％以上（好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上）用いた場合に顕著な効果が得られる。また、気相法シリカの場合、微粒子表面におけるシラノール基の密度が２〜３個／ｎｍ2 あるシリカ微粒子が好ましい。
【００５７】
本発明では、気相法アルミナは、気相法シリカと比較して発色濃度が高く、光沢度が高くできる特徴がある。これは気相法アルミナの屈折率が、気相法シリカの屈折率より高く、表面での光の反射が強いためによるものと考えられる。また、気相法アルミナは、擬ベーマイトのようなアルミナ水和物と比較して、粒子が球状であり、インク吸収性に優れるという特徴があり、本発明と組み合わせることによってさらにインク吸収性を向上させることが可能となる。
【００５８】
また、気相法アルミナを用いると、気相法シリカを使用した場合よりも塗膜の強度が向上する傾向があり、スクラッチなどの故障もおきにくくなる。さらに気相法シリカと比較して、顔料分散液の固形分を高くすることが可能となるため、最終的な塗布液の固形分を高めることが可能となり、乾燥負荷が小さく生産性の高い製造方法で製造できる利点も有する。気相法アルミナの水分散液を作製する場合には、酸性成分を少量使用すると分散固形分を更に高めることができる。このような酸性成分としては、特にホウ酸を顔料分散時に少量添加することが好ましい。
【００５９】
また顔料分散濃度を上げるために、公知の分散剤を使用することが好ましい。これらの分散剤としては、例えば、２級、３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するカチオン性ポリマーや、ノニオン性またはカチオン性界面活性剤、さらに低分子量のポリビニルアルコールなどを併用することが好ましい。
【００６０】
微粒子として気相法アルミナを使用する場合、その好ましい使用量は水溶性バインダー１質量部に対して４質量部〜１２質量部、更に好ましくは５質量部〜１０質量部、特に好ましくは６質量部〜９質量部であり、気相法シリカを用いる場合よりも少ないバインダー量で十分な膜強度を得ることが可能となる。
【００６１】
また重層構造のインク受容層とする場合には、最外層に気相法アルミナを含めることが、上記気相法アルミナの特徴を引き出すために好ましい。
【００６２】
本発明において微粒子は、一種単独で用いてもよいし、２種以上を併用して用いてもよい。２種以上の微粒子を併用する場合には、沈降法シリカと気相法シリカ、気相法アルミナを任意に併用する態様が好ましい。
【００６３】
本発明における微粒子として有機微粒子を用いる場合、インク受容層を形成した場合に、粒子状で存在することが必要である。該有機微粒子としては、例えば、乳化重合、マイクロエマルジョン系重合、ソープフリー重合、シード重合、分散重合、懸濁重合などにより得られるポリマー微粒子が挙げられ、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリアミド、シリコン樹脂、フェノール樹脂、天然高分子等の粉末、ラテックス又はエマルジョン状のポリマー微粒子等が挙げられる。有機微粒子は、表面がカチオン化されていることが好ましい。有機微粒子のＴｇは特に限定はないが、単独で用いる場合には、４０℃以上が好ましく、８０℃以上が更に好ましい。
【００６４】
−微粒子と水溶性樹脂との含有比−
本発明において、微粒子（好ましくはシリカ微粒子；ｘ）と水溶性樹脂（ｙ）との含有比〔ＰＢ比（ｘ／ｙ）、水溶性樹脂１質量部に対する微粒子の質量〕は、インク受容層の膜構造にも大きな影響を与える。即ち、ＰＢ比が大きくなると、空隙率や細孔容積、表面積（単位質量当り）が大きくなる。具体的には、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては、該ＰＢ比が大き過ぎることに起因する、膜強度の低下や乾燥時のひび割れを防止し、且つ該ＰＢ比が小さ過ぎることによって、該空隙が樹脂によって塞がれ易くなり、空隙率が減少することでインク吸収性が低下するのを防止する観点から、１．５／１〜１０／１が好ましい。
【００６５】
インクジェットプリンターの搬送系を通過する場合、記録用媒体に応力が加わることがあるので、インク受容層は充分な膜強度を有していることが必要である。更にシート状に裁断加工する場合、インク受容層の割れ及び剥がれ等を防止する上でも、インク受容層には充分な膜強度が必要である。この様な観点より、上記ＰＢ比（ｘ／ｙ）としては６／１以下が好ましく、インクジェットプリンターで高速インク吸収性をも確保する観点からは、３／１以上であることが好ましい。
【００６６】
例えば、平均一次粒子径が２０ｎｍ以下の無水シリカ微粒子と水溶性樹脂とをＰＢ比（ｘ／ｙ）が３／１〜６／１で水溶液中に完全に分散した塗布液を支持体上に塗布し、該塗布層を乾燥した場合、シリカ微粒子の二次粒子を鎖単位とする三次元網目構造が形成され、平均細孔径が３０ｎｍ以下、空隙率が５０％〜８０％、細孔比容積０．５ｍｌ／ｇ以上、比表面積が１００ｍ2／ｇ以上の、透光性の多孔質膜を容易に形成することができる。
【００６７】
（カチオン性ポリマー）
本発明におけるカチオン性ポリマーとしては、カチオン性基として、第１級〜第３級アミノ基、又は第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好適に用いられるが、カチオン性の非ポリマー媒染剤も使用することができる。
【００６８】
上記カチオン性ポリマーとしては、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、又は第４級アンモニウム塩基を有する単量体（媒染モノマー）の単独重合体や、該媒染モノマーと他のモノマー（以下、「非媒染モノマー」という。）との共重合体又は縮重合体として得られるものが好ましい。また、これらのポリマーは、水溶性ポリマー又は水分散性ラテックス粒子のいずれの形態でも使用できる。
【００６９】
上記単量体（媒染モノマー）としては、例えば、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メチル）ベンジル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−フェニル−Ｎ−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムクロライド；
トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムブロマイド、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムスルホネート、トリメチル−ｐ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、トリメチル−ｍ−ビニルベンジルアンモニウムアセテート、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチル−Ｎ−２−（３−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−２−（４−ビニルフェニル）エチルアンモニウムアセテート；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドのメチルクロライド、エチルクロライド、メチルブロマイド、エチルブロマイド、メチルアイオダイド若しくはエチルアイオダイドによる４級化物、又はそれらのアニオンを置換したスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、酢酸塩若しくはアルキルカルボン酸塩等が挙げられる。
【００７０】
具体的には、例えば、モノメチルジアリルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルオキシ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（メタクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリエチル−２−（アクリロイルアミノ）エチルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（メタクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリエチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド；
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムクロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムクロライド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムブロマイド、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムブロマイド、トリメチル−２−（メタクリロイルオキシ）エチルアンモニウムスルホネート、トリメチル−３−（アクリロイルアミノ）プロピルアンモニウムアセテート等を挙げることができる。
【００７１】
その他、共重合可能なモノマーとして、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール等も挙げられる。
【００７２】
また、アリルアミン、ジアリルアミンやその誘導体、塩なども利用できる。このような化合物の例としてはアリルアミン、アリルアミン塩酸塩、アリルアミン酢酸塩、アリルアミン硫酸塩、ジアリルアミン、ジアリルアミン塩酸塩、ジアリルアミン酢酸塩、ジアリルアミン硫酸塩、ジアリルメチルアミンおよびこの塩（該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など）、ジアリルエチルアミンおよびこの塩（該塩としては、例えば、塩酸塩、酢酸塩、硫酸塩など）、ジアリルジメチルアンモニウム塩（該塩の対アニオンとしてはクロライド、酢酸イオン硫酸イオンなど）が挙げられる。尚、これらのアリルアミンおよびジアリルアミン誘導体はアミンの形態では重合性が劣るので塩の形で重合し、必要に応じて脱塩することが一般的である。
【００７３】
また、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミドなどの単位を用い、重合後に加水分解によってビニルアミン単位とすること、及びこれを塩にしたものも利用できる。
【００７４】
前記非媒染モノマーとは、第１級〜第３級アミノ基およびその塩、又は第４級アンモニウム塩基等の塩基性あるいはカチオン性部分を含まず、インクジェットインク中の染料と相互作用を示さない、あるいは相互作用が実質的に小さいモノマーをいう。
【００７５】
上記非媒染モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸ベンジル等のアラルキルエステル；スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステル類；酢酸アリル等のアリルエステル類；塩化ビニリデン、塩化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等が挙げられる。
【００７６】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル部位の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル等が挙げられる。
【００７７】
中でも、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、ヒドロキシエチルメタアクリレートが好ましい。
【００７８】
上記非媒染モノマーも、一種単独で又は二種以上を組合せて使用できる。
【００７９】
更に、前記カチオン性ポリマーとして、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド、ポリメタクリロイルオキシエチル−β−ヒドロキシエチルジメチルアンモニウムクロライド、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びその誘導体、ポリアミド−ポリアミン樹脂、カチオン化でんぷん、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、ジメチル−２−ヒドロキシプロピルアンモニウム塩重合物、ポリアミジン、ポリビニルアミン、ジシアンジアミド−ホルマリン重縮合物に代表されるジシアン系カオチン樹脂、ジシアンアミド−ジエチレントリアミン重縮合物に代表されるポリアミン系カオチン樹脂、エピクロルヒドリン−ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリンアンモニウムクロリド−ＳＯ2共重合物、ジアリルアミン塩−ＳＯ2 重合物、第４級アンモニウム塩基置換アルキル基をエステル部分に有する（メタ）アクリレート含有ポリマー、第４級アンモニウム塩基置換アルキル基を有するスチリル型ポリマー等も好ましいものとして挙げることができる。
【００８０】
前記カチオン性ポリマーとして、具体的には、特開昭４８−２８３２５号、同５４−７４４３０号、同５４−１２４７２６号、同５５−２２７６６号、同５５−１４２３３９号、同６０−２３８５０号、同６０−２３８５１号、同６０−２３８５２号、同６０−２３８５３号、同６０−５７８３６号、同６０−６０６４３号、同６０−１１８８３４号、同６０−１２２９４０号、同６０−１２２９４１号、同６０−１２２９４２号、同６０−２３５１３４号、特開平１−１６１２３６号の各公報、米国特許２４８４４３０、同２５４８５６４号、同３１４８０６１号、同３３０９６９０号、同４１１５１２４号、同４１２４３８６号、同４１９３８００号、同４２７３８５３号、同４２８２３０５号、同４４５０２２４号、特開平１−１６１２３６号、同１０−８１０６４号、同１０−１１９４２３号、同１０−１５７２７７号、同１０−２１７６０１号、同１１−３４８４０９号、特開２００１−１３８６２１号、同２０００−４３４０１号、同２０００−２１１２３５号、同２０００−３０９１５７号、同２００１−９６８９７号、同２００１−１３８６２７号、特開平１１−９１２４２号、同８−２０８７号、同８−２０９０号、同８−２０９１号、同８−２０９３号、同８−１７４９９２号、同１１−１９２７７７号、特開２００１−３０１３１４号、特公平５‐３５１６２号、同５−３５１６３号、同５‐３５１６４号、同５−８８８４６号、特開平７−１１８３３３号、特開２０００−３４４９９０号、特許第２６４８８４７号、同２６６１６７７号等の各公報に記載のもの等が挙げられる。中でも、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド型ポリマー、又は第４級アンモニウム塩基をエステル部に有する（メタ）アクリレート含有ポリマーが好ましい。
【００８１】
カチオン性ポリマーとしては、特に、経時滲みの防止の観点から、重量平均分子量が２０００００以下のＩ／Ｏ値が３．０以下のカチオン性ポリマーが好ましい。
【００８２】
カチオン性ポリマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、カチオン性ポリマーと他の有機媒染剤及び／又は無機媒染剤を併用してもよい。
【００８３】
本発明において形成されるインク受容層中に含有されるカチオン性ポリマーの含有量としては、インク受容層中の全固形分質量に対して１〜３０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましく、３〜１０質量％がさらに好ましい。
【００８４】
（界面活性剤）
本発明のインクジェット記録媒体は、塗布性の付与、及び面状故障の抑制を図るために、インク受容層に、さらに、界面活性剤を含有することが好ましい。
【００８５】
界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、ノニオン性のうち任意の界面活性剤を用いることができる。このうち、微粒子の凝集を防止し、インクジェット記録後の画像の安定性に悪影響を与えないという観点からは、ノニオン系の界面活性剤を用いることが好ましい。ノニオン系の界面活性剤としては、ＨＬＢ値として１０．５以上のものが好ましく、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンイソデシルエーテル、ポリオキシエチレンイソトリデシルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレン分岐デシルエーテルが好ましい。更にこれらの中でも、ポリオキシエチレンイソデシルエーテルが特に好ましい。これらの界面活性剤としては、例えば、第一工業製薬(株)から市販されているノイゲンＳＤ６０、ノイゲンＳＤ７０、ノイゲンＸＬ１００などが挙げられる。このような界面活性剤を用いる事で、塗布液の粘度安定性が高まり、塗布筋などの面状故障を抑制することが出来る。
【００８６】
（架橋剤）
本発明において形成されるインク受容層は、前記微粒子及び水溶性樹脂等を含む層が、更に該水溶性樹脂を架橋し得る架橋剤を含むことが好ましく、特に微粒子と水溶性樹脂を架橋しうる架橋剤によって水溶性樹脂が架橋反応して硬化された多孔質構造を有する態様が好ましい。
【００８７】
架橋剤としては、インク受容層に含まれる水溶性樹脂との関係で好適なものを適宜選択すればよいが、中でも、架橋反応が迅速である点でホウ素化合物が好ましい。ホウ素化合物としては、例えば、硼砂、硼酸、硼酸塩（例えば、オルト硼酸塩、ＩｎＢＯ3、ＳｃＢＯ3、ＹＢＯ3、ＬａＢＯ3、Ｍｇ3（ＢＯ3）2、Ｃｏ3（ＢＯ3）2、二硼酸塩（例えば、Ｍｇ2Ｂ2Ｏ5、Ｃｏ2Ｂ2Ｏ5）、メタ硼酸塩（例えば、ＬｉＢＯ2、Ｃａ（ＢＯ2）2、ＮａＢＯ2、ＫＢＯ2）、四硼酸塩（例えば、Ｎａ2Ｂ4Ｏ7・１０Ｈ2Ｏ）、五硼酸塩（例えば、ＫＢ5Ｏ8・４Ｈ2Ｏ、Ｃａ2Ｂ6Ｏ11・７Ｈ2Ｏ、ＣｓＢ5Ｏ5）等を挙げることができる。中でも、速やかに架橋反応を起こすことができる点で、硼砂、硼酸、硼酸塩が好ましく、特に硼酸が好ましく、これを水溶性樹脂であるポリビニルアルコールと組合わせて使用することが最も好ましい。
【００８８】
本発明においては、上記架橋剤は、前記水溶性樹脂１．０質量部に対して、０．０５〜０．５０質量部含有されることが好ましく、０．０８〜０．３０質量部含有されることがより好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲であると、水溶性樹脂を効果的に架橋してひび割れ等を防止することができる。
【００８９】
前記水溶性樹脂としてゼラチンを用いる場合などには、ホウ素化合物以外の下記化合物も架橋剤として用いることができる。
【００９０】
例えば、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタールアルデヒド等のアルデヒド系化合物；ジアセチル、シクロペンタンジオン等のケトン系化合物；ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジクロロ−６−Ｓ−トリアジン・ナトリウム塩等の活性ハロゲン化合物；ジビニルスルホン酸、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（ビニルスルホニルアセタミド）、１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン等の活性ビニル化合物；ジメチロ−ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等のＮ−メチロール化合物；メラミン樹脂（例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン）；エポキシ樹脂；
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のイソシアネート系化合物；米国特許明細書第３０１７２８０号、同第２９８３６１１号に記載のアジリジン系化合物；米国特許明細書第３１００７０４号に記載のカルボキシイミド系化合物；グリセロールトリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物；１，６−ヘキサメチレン−Ｎ，Ｎ’−ビスエチレン尿素等のエチレンイミノ系化合物；ムコクロル酸、ムコフェノキシクロル酸等のハロゲン化カルボキシアルデヒド系化合物；２，３−ジヒドロキシジオキサン等のジオキサン系化合物；乳酸チタン、硫酸アルミ、クロム明ばん、カリ明ばん、酢酸ジルコニル、酢酸クロム等の金属含有化合物、テトラエチレンペンタミン等のポリアミン化合物、アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物、オキサゾリン基を２個以上含有する低分子又はポリマー等である。上記の架橋剤は、１種単独でも、２種以上を組合わせて用いてもよい。
【００９１】
本発明において架橋剤は、インク受容層を形成する際に、インク受容層塗布液中及び／又はインク受容層の隣接層を形成するための塗布液中に添加してもよく、或いは予め架橋剤を含む塗布液を塗布した支持体上に、上記インク受容層塗布液を塗布する、又は架橋剤非含有のインク受容層塗布液を塗布し乾燥後に架橋剤溶液をオーバーコートする等してインク受容層に架橋剤を供給することができる。製造効率の観点からは、インク受容層塗布液又はこの隣接層形成用の塗布液中に架橋剤を添加し、インク受容層の形成と同時に架橋剤を供給するのが好ましい。特に、画像の印画濃度及び光沢感の向上の観点より、インク受容層塗布液に含有するのが好ましい。また、インク受容層塗布液中の架橋剤の濃度としては、０．０５〜１０質量％が好ましく、０．１〜７質量％がより好ましい。
【００９２】
（水溶性多価金属塩）
本発明のインクジェット記録媒体は、形成画像の耐水性及び耐にじみ性の改善を図るために、インク受容層に、さらに、水溶性多価金属塩を含有することが好ましい。
【００９３】
水溶性多価金属塩としては、例えば、カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンから選ばれる金属の水溶性塩が挙げられる。
【００９４】
具体的には、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（ＩＩ）ニ水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、酢酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、塩化酸化ジルコニウム八水和物、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストりん酸ｎ水和物、１２タングストけい酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドりん酸ｎ水和物等が挙げられる。
【００９５】
水溶性多価金属塩としては、水溶性のアルミニウム化合物、ジルコニウム化合物及びチタン化合物より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００９６】
アルミニウム化合物としては、例えば無機塩としては塩化アルミニウムまたはその水和物、硫酸アルミニウムまたはその水和物、アンモニウムミョウバン等が知られている。さらに、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーである塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物がある。特に、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が好ましい。
【００９７】
塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物とは、主成分が下記の式１、２又は３で示され、例えば〔Ａｌ6（ＯＨ）15〕3+、〔Ａｌ8（ＯＨ）20〕4+、〔Ａｌ13（ＯＨ）34〕5+、〔Ａｌ21（ＯＨ）60〕3+、等のような塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいる水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
〔Ａｌ2（ＯＨ）nＣｌ6-n〕m                    式１
〔Ａｌ（ＯＨ）3〕nＡｌＣｌ3                  式２
Ａｌn（ＯＨ）mＣｌ(3n-m)  ０＜ｍ＜３ｎ      式３
これらのものは多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名で水処理剤として、浅田化学（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名で、また、（株）理研グリーンよりピュラケムＷＴの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って上市されており、各種グレードの物が容易に入手できる。本発明ではこれらの市販品をそのままでも使用できるが、ｐＨが不適当に低い物もあり、その場合は適宜ｐＨを調節して用いることも可能である。
【００９８】
ジルコニウム化合物としては、特に限定されず種々の化合物が使用できるが、例えば、酢酸ジルコニル、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム化合物等が挙げられる。特に酢酸ジルコニルが好ましい。
【００９９】
チタン化合物としては、特に限定されず種々の化合物が使用できるが、例えば、塩化チタン、硫酸チタンが挙げられる。
【０１００】
これらの化合物は、ｐＨが不適当に低い物もあり、その場合は適宜ｐＨを調節して用いることも可能である。本発明に於いて、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを目安とする。
【０１０１】
本発明において、水溶性多価金属塩を用いる場合、より広範囲の染料に対してにじみ抑制効果を付与する観点から、その少なくとも一種が酢酸ジルコニルであることが特に好ましい。インク受容層における酢酸ジルコニルの含有量としては、０．３ｇ／ｍ2 以下であることが好ましく、０．０１〜０．０２ｇ／ｍ2 がより好ましい。
【０１０２】
本発明において、水溶性多価金属塩のインク受容層中の含有量は、前記微粒子に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、更に好ましくは１〜１０質量％である。
【０１０３】
水溶性多価金属塩は、単独でも用いることができるが、２種以上を併用することが好ましい。
【０１０４】
＜カチオン変性されたラテックス樹脂＞
本発明のインクジェット記録媒体は、幅広い種類の染料に対して染料のニジミを抑制するために、カチオン変性されたラテックス樹脂（以下、単に「ラテックス樹脂」と称する場合がある。）をインク受容層に含有させることが好ましい。
【０１０５】
ラテックス樹脂とは、体積平均粒子径が０．００１〜０．１μｍのコロイダルディスパージョン、又は、体積平均粒子径０．１〜１０μｍのエマルジョン状の液体いう。
【０１０６】
本発明におけるラテックス樹脂としては、体積平均粒子径が０．００１〜０．１μｍ（好ましくは０．００１〜０．０５μｍ、より好ましくは０．００１〜０．０１μｍ）のカチオン変性された高分子を含むコロイダルディスパージョンであることが好ましい。
【０１０７】
ラテックス樹脂に含まれるカチオン変性された高分子として、より具体的には、例えば、１〜３級アミノ基、４級アンモニウム基等のカチオン性の基を有する重付加系もしくは重縮合系高分子化合物が挙げられる。
【０１０８】
カチオン変性された高分子として有効なビニル重合系ポリマーは、例えば、以下のビニルモノマーを重合して得られるポリマーが挙げられる。即ち、アクリル酸エステル類やメタクリル酸エステル類（エステル基は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−クロロエチル基、シアノエチル基、２−アセトキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、５−ヒドロキシペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシエチル基、３−メトキシブチル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２，２，２−テトラフルオロエチル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル基、フェニル基、２，４，５−テトラメチルフェニル基、４−クロロフェニル基等）；
ビニルエステル類、具体的には、置換基を有していてもよい脂肪族カルボン酸ビニルエステル（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート等）、置換基を有していてもよい芳香族カルボン酸ビニルエステル（例えば、安息香酸ビニル、４−メチル安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル等）；
アクリルアミド類、具体的には、アクリルアミド、Ｎ−モノ置換アクリルアミド、Ｎ−ジ置換アクリルアミド（置換基は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、シリル基であり、例えば、メチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、フェニル基、２，４，５−テトラメチルフェニル基、４−クロロフェニル基、トリメチルシリル等）；
メタクリルアミド類、具体的には、メタクリルアミド、Ｎ−モノ置換メタクリルアミド、Ｎ−ジ置換メタクリルアミド（置換基は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、シリル基であり、例えば、メチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、フェニル基、２，４，５−テトラメチルフェニル基、４−クロロフェニル基、トリメチルシリル等）；
オレフィン類（例えば、エチレン、プロピレン、１−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン等）、スチレン類（例えば、スチレン、メチルスチレン、イソプロピルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン等）、ビニルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル等）；等が挙げられる。
【０１０９】
その他のビニルモノマーとして、クロトン酸エステル、イタコン酸エステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、メチレンマロンニトリル、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート、ジブチル−２−アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジオクチル−２−メタクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
【０１１０】
前記カチオン性基を有するモノマーとしては、例えば、ジアルキルアミノエチルメタクリレート、ジアルキルアミノエチルアクリレート等の３級アミノ基を有するモノマー等が挙げられる。
【０１１１】
前記カチオン変性された高分子に適用可能なポリウレタンとしては、例えば、以下に挙げるジオール化合物とジイソシアネート化合物とを種々組み合わせて、重付加反応により合成されたポリウレタンが挙げられる。
【０１１２】
上記ジオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、２，２−ジメチルー１，３−プロパンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、３，３−ジメチルー１，２−ブタンジオール、２−エチル−２−メチルー１，３−プロパンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，５−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、２−メチルー２，４−ペンタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、１，２−オクタンジオール、１，８−オクタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ハイドロキノン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール（平均分子量＝２００，３００，４００，６００，１０００，１５００，４０００）、ポリプロピレングリコール（平均分子量＝２００，４００，１０００）、ポリエステルポリオール、４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニル−２，２−プロパン、４，４’−ジヒドロキシフェニルスルホン、ポリカーボネートポリオール等が挙げられる。
【０１１３】
上記ジイソシアネート化合物としては、メチレンジイソシアネート、エチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート，１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート，ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）等が挙げられる。
【０１１４】
前記カチオン性基を有するポリウレタンが含有するカチオン性基としては、１級〜３級アミン、４級アンモニウム塩の如きカチオン性基が挙げられる。本発明におけるラテックスに用いる高分子としては、３級アミン及び４級アンモニウム塩の如きカチオン性基を有するウレタン樹脂が好ましい。
【０１１５】
カチオン性基を有するポリウレタンは、例えば、ポリウレタンの合成の際、前記のごときジオールにカチオン性基を導入したものを使用することによって得られる。また４級アンモニウム塩の場合は、三級アミノ基を含有するポリウレタンを四級化剤で四級化してもよい。
【０１１６】
前記ポリウレタンの合成に使用可能なジオール化合物、ジイソシアネート化合物は、各々１種を単独で使用してもよいし、種々の目的（例えば、ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）の調整や溶解性の向上、バインダーとの相溶性付与、分散物の安定性改善等）に応じて、各々２種以上を任意の割合で使用することもできる。
【０１１７】
更に、前記カチオン変性された高分子に適用可能なポリエステルとしては、例えば、以下に挙げるジオール化合物と、ジカルボン酸化合物とを種々組み合わせて、重縮合反応により合成されたポリエステルが挙げられる。
【０１１８】
上記ジカルボン酸化合物としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ジメチルマロン酸、アジピン酸、ピメリン酸、α，α−ジメチルコハク酸、アセトンジカルボン酸、セバシン酸、１，９−ノナンジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２−ブチルテレフタル酸、テトラクロロテレフタル酸、アセチレンジカルボン酸、ポリ（エチレンテレフタレート）ジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、ω−ポリ（エチレンオキシド）ジカルボン酸、ｐ−キシリレンジカルボン酸等が挙げられる。
【０１１９】
前記ジカルボン酸化合物は、ジオール化合物と重縮合反応を行う際には、ジカルボン酸のアルキルエステル（例えば、ジメチルエステル）およびジカルボン酸の酸塩化物の形態で用いてもよいし、無水マレイン酸、無水コハク酸及び無水フタル酸のように酸無水物の形態で用いてもよい。
【０１２０】
前記ジオール化合物としては、上記ポリウレタンにおいて例示したジオール類と同様の化合物を用いることができる。
【０１２１】
前記カチオン性基を有するポリエステルは、一級、二級、三級アミン、四級アンモニウム塩の如きカチオン性基を有するジカルボン酸化合物を用いて合成することにより得られる。
【０１２２】
前記ポリエステルの合成に使用されるジオール化合物、ジカルボン酸類、およびヒドロキシカルボン酸エステル化合物は、各々１種を単独で用いてもよいし、種々の目的（例えば、ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）の調整や溶解性、染料との相溶性、分散物の安定性）に応じて、各々２種以上を任意の割合で混合して用いることもできる。
【０１２３】
前記カチオン変性された高分子におけるカチオン性基の含有量は、０．１〜５ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、０．２〜３ｍｍｏｌ／ｇがより好ましい。尚、上記カチオン性基の含量が少な過ぎると、ポリマーの分散安定性が小さくなり、多過ぎると、バインダーとの相溶性が低下してくる。
【０１２４】
前記カチオン変性された高分子としては、３級アミノ基或いは４級アンモニウム塩基の様なカチオン性基を有するポリマーが好ましく、特に前記のごときカチオン性基を有するウレタン樹脂が最も好ましい。
【０１２５】
前記カチオン変性された高分子をインク受容層に用いる場合、特に重要なのはそのガラス転移温度である。インクジェット記録により画像を形成した後の、画像の経時にじみを長期に亙り抑制するためには、カチオン変性された高分子のガラス転移温度が５０℃未満のものが好ましい。更に、該カチオン変性された高分子のガラス転移温度が３０℃以下のものがより好ましく、特にガラス転移温度が１５℃以下のものが最も好ましい。該ガラス転移温度が５０℃以上であると、寸度安定性（カール）が悪化することがある。尚、該ガラス転移温度の下限には特に制限はないが、通常の用途では−３０℃程度であり、これより低いと水分散物を調製する際の製造適性が低下する場合がある。
【０１２６】
ラテックス樹脂に含まれるカチオン変性された高分子の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、通常、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、３００，０００〜７００，０００がより好ましい。該分子量が１，０００〜１，０００，０００であると、安定な水分散物となり易く、溶解性が低下して液粘度が増加することがなく、水分散物の平均粒子径を小さくする、特に０．０５μｍ以下に制御することが容易である。
【０１２７】
ラテックス樹脂におけるカチオン変性された高分子の含有量としては、インク受容層を構成する全固形分の０．１〜３０質量％となるように決定されることが好ましく、０．３〜２０質量％がより好ましく、特に０．５〜１５質量％が最も好ましくい。該含有量が０．１〜３０質量％の範囲であると、経時にじみの改善効果を充分に発揮でき、後述する微粒子及びバインダー成分の割合が少なくなって高画質記録紙へのインク吸収性が低下することがない。
【０１２８】
ラテックス樹脂としては、写真用途としてこのましい光沢を得る観点から、体積平均粒径３０ｎｍ以下のカチオン性ウレタン樹脂を含むコロイダルディスパージョンであり、且つ該カチオン性ウレタン樹脂のガラス転移温度が５０℃未満であるものが特に好ましい。
【０１２９】
本発明におけるラテックス樹脂としては、市販品を用いることもでき、例えば、第一工業製薬（株）製の「スーパーフレックス６５０」、「スーパーフレックス６２０」、「スーパーフレックス６１０」、「スーパーフレックス６００」などが挙られる。
【０１３０】
（他の成分）
本発明におけるインク受容層は、必要に応じて下記成分を含有させて構成される。
【０１３１】
即ち、インク色材の劣化を抑制する目的で、各種の紫外線吸収剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤を含んでいてもよい。
【０１３２】
紫外線吸収剤としては、桂皮酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾリルフェノール誘導体等が挙げられる。例えば、α−シアノ−フェニル桂皮酸ブチル、ｏ−ベンゾトリアゾールフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−ｐ−クロロフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ｏ−ベンゾトリアゾール−２，４−ジ−ｔ−オクチルフェノール等が挙げられる。ヒンダートフェノール化合物も紫外線吸収剤として使用でき、具体的には少なくとも２位又は６位の内、１ヵ所以上が分岐アルキル基で置換されたフェノール誘導体が好ましい。
【０１３３】
また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤等も使用できる。例えば、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同３，７０７，３７５号明細書、同３，７５４，９１９号明細書、同４，２２０，７１１号明細書等に記載されている。
【０１３４】
蛍光増白剤も紫外線吸収剤として使用でき、例えば、クマリン系蛍光増白剤等が挙げられる。具体的には、特公昭４５−４６９９号公報、同５４−５３２４号公報等に記載されている。
【０１３５】
酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同３０９４０２号公報、同３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６０−１０７３８４号公報、同６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２８２８８５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同６６−８８３８１号公報、同６３−１１３５３６号公報；
同６３−１６３３５１号公報、同６３−２０３３７２号公報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、特開平２−２６２６５４号公報、同２−７１２６２号公報、同３−１２１４４９号公報、同４−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同５−６１１６６号公報、同５−１１９４４９号公報、同５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−４３２９５号公報、同４８−３３２１２号公報、米国特許第４８１４２６２号、同第４９８０２７５号公報等に記載のものが挙げられる。
【０１３６】
具体的には、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４，−テトラヒドロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチル−２−フェニルインドール等が挙げられる。
【０１３７】
これら褪色性防止剤は、単独でも２種以上を併用してもよい。褪色性防止剤は、水溶性化、分散、エマルション化してもよく、マイクロカプセル中に含ませることもできる。褪色性防止剤の添加量としては、インク受容層塗布液の０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１３８】
本発明におけるインク受容層は、カール防止用に高沸点有機溶媒を含有してもよい。高沸点有機溶媒としては、水溶性のものが好ましく、該水溶性の高沸点有機溶媒としては、例えば、エチレングリコール、ポロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＤＥＧＭＢＥ）、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、グリセリンモノメチルエーテル、１，２，３−ブタントリオール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，４−ペンタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、チオジグリコール、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコール（重量平均分子量が４００以下）等のアルコール類が挙げられる。好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（ＤＥＧＭＢＥ）である。
【０１３９】
高沸点有機溶剤のインク受容層塗布液中における含有量としては、０．０５〜１質量％が好ましく、特に好ましくは０．１〜０．６質量％である。
【０１４０】
また、無機顔料微粒子の分散性を高める目的で、各種無機塩類、ｐＨ調整剤として酸やアルカリ等を含んでいてもよい。
【０１４１】
更に、表面の摩擦帯電や剥離帯電を抑制する目的で、電子導電性を持つ金属酸化物微粒子を、表面の摩擦特性を低減する目的で各種のマット剤を含んでいてもよい。
【０１４２】
（インクジェット記録媒体の作製）
本発明において、媒染剤は、インク受容層表面から媒染剤が存在する部分の厚みがインク受容層の全厚みに対して１０〜６０％である様に存在させるのが好ましい態様である。例えば、（１）微粒子と水溶性樹脂及び架橋剤を含有する塗布層を形成し、媒染剤含有溶液をその上に塗布する方法、（２）微粒子と水溶性樹脂を含む塗布液と媒染剤含有溶液を重層塗布する方法、等の任意の方法で形成できる。また、媒染剤含有溶液中に無機微粒子、水溶性樹脂、架橋剤等が含有されていてもよい。上記の様に構成すると、媒染剤がインク受容層の所要の部分に多く存在するので、インクジェットのインク色材が十分に媒染され、色濃度や経時にじみ、印画部光沢、印字後の文字や画像の耐水性、耐オゾン性が更に向上するので好ましい。媒染剤の一部は最初に支持体に設ける層に含有させてもよく、その場合は、後から付与する媒染剤は同じものでも異なっていてもよい。
【０１４３】
本発明において、塗布液を調製する場合には、例えば、以下の様にして調製できる。
【０１４４】
即ち、平均一次粒子径２０ｎｍ以下のシリカ微粒子を水中に添加し（例えば、１０〜２０質量％）、カチオンポリマーを加えた後、高速回転湿式コロイドミル（例えば、エム・テクニック（株）製の「クレアミックス」）を用いて、例えば、回転数１００００ｒｐｍ（好ましくは５０００〜２００００ｒｐｍ）の高速回転の条件で２０分間（好ましくは、１０〜３０分間）かけて分散させた後、ホウ素化合物（例えば、シリカの０．５〜２０質量％）を加え、上記と同じ条件で分散を行ない、ポリビニルアルコール水溶液（例えば、シリカの１／３程度の質量のＰＶＡとなる様に）、界面活性剤を加え、更に上記と同じ回転条件で分散を行なうことにより調製することができる。得られた塗布液は均一ゾルであり、これを下記の塗布方法で支持体上に塗布し形成することにより、三次元網目構造を有する多孔質構造のインク受容層を得ることができる。
【０１４５】
塗液には、必要に応じて、更にｐＨ調整剤、分散剤、消泡剤、帯電防止剤等を添加することができる。
【０１４６】
分散に用いる分散機械としては、高速回転分散機、媒体撹拌型分散機（ボールミル、ビーズミル、サンドミルなど）、超音波分散機、コロイドミル分散機、高圧分散機等従来公知の各種の分散機を使用することができるが、発生するダマ状微粒子の分散を効率的に行なう為には、媒体撹拌型分散機やコロイドミル分散機又は高圧分散機（ホモジナイザー）が好ましい。
【０１４７】
本発明に適用される分散機としては、主として、ビーズミル等の媒体撹拌型分散機が好適に用いられるが、微粒化の促進及び高Ｄｍの点からは、高圧ホモジナイザー（例えば、（株）スギノマシン製のアルティマイザーなど）についても同様に使用される。
【０１４８】
また、各塗布液の調製に用いる溶媒としては、水や有機溶媒、又はこれらの混合溶媒を用いることができる。この塗布液に用いることができる有機溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。
【０１４９】
インク受容層塗布液の塗布は、例えば、エクストルージョンダイコーター、エアードクターコーター、ブレッドコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、バーコーター、スライドホッパー等の公知の塗布方法によって行うことができる。
【０１５０】
インク受容層塗布液の塗布は単層塗布であっても良いが、複数の組成の液を支持体上に同時塗布（重層塗布）してもよい。
【０１５１】
同時塗布（重層塗布）は、例えば、エクストルージョンダイコーター、カーテンフローコーター、スライドホッパーを用いた塗布方法により行なうことができる。
【０１５２】
支持体上にインク受容層を形成した後、該インク受容層は、例えば、スーパーカレンダ、グロスカレンダ等を用い、加熱加圧下にロールニップ間を通してカレンダー処理を施すことにより、表面平滑性や光沢度、透明性及び塗膜強度を向上させることが可能である。しかしながら、該カレンダー処理は、空隙率を低下させる要因となることがあるため（即ち、インク吸収性が低下することがあるため）、空隙率の低下が少ない条件を設定して行なう必要がある。
【０１５３】
カレンダー処理を行なう場合のロール温度としては、３０〜１５０℃が好ましく、４０〜１００℃がより好ましい。また、カレンダー処理時のロール間の線圧としては、５０〜４００ｋｇ／ｃｍが好ましく、１００〜２００ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
【０１５４】
本発明におけるインク受容層の層厚としては、インクジェット記録の場合では、液滴を全て吸収するだけの吸収容量を持つ必要があるため、層中の空隙率との関連で決定する必要がある。例えば、インク量が８ｎＬ／ｍｍ2 で、空隙率が６０％の場合であれば、層厚が約１５μｍ以上の膜が必要となる。この点を考慮すると、インクジェット記録の場合には、インク受容層の層厚としては、１０〜５０μｍが好ましい。
【０１５５】
インク受容層の細孔径は、メジアン径で０．００５〜０．０３０μｍが好ましく、０．０１〜０．０２５μｍがより好ましい。空隙率及び細孔メジアン径は、（株）島津製作所製の水銀ポロシメーター「ボアサイザー９３２０−ＰＣ２」を用いて測定することができる。
【０１５６】
本発明において形成されるインク受容層は、インク受容層の黄変防止の観点から、膜面ｐＨが３〜６の範囲が好ましく、３〜５の範囲であることがより好ましい。
【０１５７】
インク受容層の膜面ｐＨを調整する方法としては、既知の酸（塩酸、酢酸、硝酸、等）、塩基（ＮａＯＨ、アンモニア、等）やこれらの塩（炭酸アンモニウム、等）を塗布液に予め添加する方法、インク受容層形成後に逐次によりオーバーコートする方法、等がある。
【０１５８】
また、本発明において、インク受容層の膜面ｐＨの測定は、Ｊ．ＴＡＰＰＩ ４９で規定されている紙の表面ｐＨ測定法に従い、ｐＨ６．２〜７．２の純水を、インク受容層上に５０μｌ滴下後、３０〜４０秒後に測定を行うことにより求めることができる。
【０１５９】
インク受容層のインク吸収容量（空隙容量）としては、１８〜４０ｍｌ／ｃｍ2 であることが好ましく、２０〜３０ｍｌ／ｃｍ2 がより好ましい。
【０１６０】
また、インク受容層は、透明性に優れていることが好ましいが、その目安としては、インク受容層を透明フィルム支持体上に形成したときのヘイズ値が、３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましい。該ヘイズ値は、スガ試験機（株）製のヘイズメーター「ＨＧＭ−２ＤＰ」を用いて測定することができる。
【０１６１】
〔支持体等〕
支持体としては、プラスチック等の透明材料よりなる透明支持体、紙等の不透明材料からなる不透明支持体のいずれをも使用できる。インク受容層の透明性を生かす上では、透明支持体又は高光沢性の不透明支持体を用いることが好ましい。また、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の読み出し専用光ディスク、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等の追記型光ディスク、更には書き換え型光ディスクを支持体として用い、レーベル面側にインク受容層を付与することもできる。
【０１６２】
上記透明支持体に使用可能な材料としては、透明性で、ＯＨＰやバックライトディスプレイで使用される時の輻射熱に耐え得る性質を有する材料が好ましい。この様な材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類；ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等を挙げることができる。中でも、ポリエステル類が好ましく、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【０１６３】
上記透明支持体の厚みとしては、特に制限はないが、取り扱い易さの点で、５０〜２００μｍが好ましい。
【０１６４】
高光沢性の不透明支持体としては、インク受容層の設けられる側の表面が４０％以上の光沢度を有するものが好ましい。該光沢度は、ＪＩＳ  Ｐ−８１４２（紙及び板紙の７５度鏡面光沢度試験方法）に記載の方法に従って求められる値である。具体的には、下記の様な支持体が挙げられる。
【０１６５】
例えば、アート紙、コート紙、キャストコート紙、銀塩写真用支持体等に使用されるバライタ紙等の高光沢性の紙支持体；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル類、ニトロセルロース，セルロースアセテート，セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル類、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミド等のプラスチックフィルムに白色顔料等を含有させて不透明にした（表面カレンダー処理が施されていてもよい。）高光沢性のフィルム；或いは、前記各種紙支持体、前記透明支持体若しくは白色顔料等を含有する高光沢性のフィルムの表面に、白色顔料を含有若しくは含有しないポリオレフィンの被覆層が設けられた支持体等が挙げられる。
【０１６６】
白色顔料含有発泡ポリエステルフィルム（例えば、ポリオレフィン微粒子を含有させ、延伸により空隙を形成した発泡ＰＥＴ）も好適に挙げることができる。更に、銀塩写真用印画紙に用いられるレジンコート紙も好適である。
【０１６７】
不透明支持体の厚みについても特に制限はないが、取り扱い易さの点で、５０〜３００μｍが好ましい。
【０１６８】
また、上記支持体の表面には、濡れ特性及び接着性を改善するために、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理等を施したものを使用するのが好ましい。
【０１６９】
次に、レジンコート紙など紙支持体に用いられる原紙について述べる。
【０１７０】
上記原紙としては、木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプ、あるいはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。前記木材パルプとしては、ＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることができるが、短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。但し、ＬＢＳＰ及び／又はＬＤＰの比率としては、１０質量％〜７０質量％が好ましい。
【０１７１】
上記パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸パルプ）が好適に用いられ、漂白処理を行なって白色度を向上させたパルプも有用である。
【０１７２】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン等の白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することができる。
【０１７３】
抄紙に使用するパルプの濾水度としては、ＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌが好ましく、また、叩解後の繊維長が、ＪＩＳ  Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分質量％と４２メッシュ残分の質量％との和が３０〜７０％が好ましい。尚、４メッシュ残分は２０質量％以下であることが好ましい。
【０１７４】
原紙の坪量としては、３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さとしては、４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は、抄紙段階又は抄紙後にカレンダー処理して高平滑性を与えることもできる。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｍ2 （ＪＩＳ  Ｐ−８１１８）が一般的である。更に、原紙剛度としては、ＪＩＳ  Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。
【０１７５】
原紙表面には表面サイズ剤を塗布してもよく、表面サイズ剤としては、前記原紙中添加できるサイズと同様のサイズ剤を使用できる。
【０１７６】
原紙のｐＨは、ＪＩＳ  Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法により測定された場合、５〜９であることが好ましい。
【０１７７】
原紙表面及び裏面を被覆するポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）及び／又は高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが、他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することができる。
【０１７８】
特に、インク受容層を形成する側のポリエチレン層は、写真用印画紙で広く行なわれている様に、ルチル又はアナターゼ型の酸化チタン、蛍光増白剤、群青をポリエチレン中に添加し、不透明度、白色度及び色相を改良したものが好ましい。ここで、酸化チタン含有量としては、ポリエチレンに対して、概ね３〜２０質量％が好ましく、４〜１３質量％がより好ましい。ポリエチレン層の厚みは特に限定はないが、表裏面層とも１０〜５０μｍが好適である。更にポリエチレン層上にインク受容層との密着性を付与するために下塗り層を設けることもできる。該下塗り層としては、水性ポリエステル、ゼラチン、ＰＶＡが好ましい。また、該下塗り層の厚みとしては、０．０１〜５μｍが好ましい。
【０１７９】
ポリエチレン被覆紙は、光沢紙として用いることも、また、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理を行って通常の写真印画紙で得られる様なマット面や絹目面を形成したものも使用できる。
【０１８０】
支持体にはバックコート層を設けることもでき、このバックコート層に添加可能な成分としては、白色顔料や水性バインダー、その他の成分が挙げられる。
【０１８１】
バックコート層に含有される白色顔料としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、珪藻土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム等の白色無機顔料、スチレン系プラスチックピグメント、アクリル系プラスチックピグメント、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂等の有機顔料等が挙げられる。
【０１８２】
バックコート層に用いられる水性バインダーとしては、例えば、スチレン／マレイン酸塩共重合体、スチレン／アクリル酸塩共重合体、ポリビニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、澱粉、カチオン化澱粉、カゼイン、ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、スチレンブタジエンラテックス、アクリルエマルジョン等の水分散性高分子等が挙げられる。
【０１８３】
バックコート層に含有されるその他の成分としては、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤等が挙げられる。
【実施例】
【０１８４】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、本実施例では、インクジェット記録用媒体の一例としてインクジェット記録用シートを作製するものとし、また、実施例中の「部」及び「％」は、特に指定しない限り質量基準を表さすものとする。
【０１８５】
（支持体の作製）
アカシアからなるＬＢＫＰ５０部及びアスペンからなるＬＢＫＰ５０部をそれぞれディスクリファイナーによりカナディアンフリーネス３００ｍｌに叩解しパルプスラリーを調製した。
【０１８６】
ついで前記で得られたパルプスラリーに、対パルプ当り、カチオン変性でんぷん（日本ＮＳＣ製ＣＡＴ０３０４Ｌ）１．３％、アニオン性ポリアクリルアミド（星光ＰＭＣ製  ＤＡ4104）０．１５％、アルキルケテンダイマー（荒川化学製サイズパインＫ）０．２９％、エポキシ化ベヘン酸アミド０．２９％、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン（荒川化学（株）製：アラフィックス１００）０．３２％を加えた後、消泡剤０．１２％を加えた。
【０１８７】
前記のようにして調製したパルプスラリーを長網抄紙機で抄紙し、ウェッブのフェルト面をドラムドライヤーシリンダーにドライヤーカンバスを介して押し当てて乾燥する工程において、ドライヤーカンバスの引張り力を１．６ｋｇ／ｃｍに設定して乾燥を行なった後、サイズプレスにて原紙の両面にポリビニールアルコール（（株）クラレ製：ＫＬ−１１８）を１ｇ／ｍ２塗布して乾燥し、カレンダー処理を行った。なお、原紙の坪量は１６６ｇ／ｍ２で抄造し、厚さ１６０μｍの原紙（基紙）を得た。
【０１８８】
得られた基紙のワイヤー面（裏面）側にコロナ放電処理を行なった後、溶融押出機を用いて高密度ポリエチレンを厚さ２５ｇ／ｍ２となるようにコーティングし、マット面からなる熱可塑性樹脂層を形成した（以下、この熱可塑性樹脂層面を「裏面」と称する。）。この裏面側の熱可塑性樹脂層に更にコロナ放電処理を施し、その後、帯電防止剤として、酸化アルミニウム（日産化学工業（株）製の「アルミナジル１００」）と二酸化ケイ素（日産化学工業（株）製の「スノーテックスＯ」）とを１：２の質量比で水に分散した分散液を、乾燥質量が０．２ｇ／ｍ２となるように塗布した。続いて表面にコロナ処理し１０質量％の酸化チタンを有する密度０．９３ｇ／ｍ２のポリエチレンを２４ｇ／ｍ２になるように溶融押出機を用いてコーティングした。
【０１８９】
（インク受容層塗布液Ａの調整）
下記組成に示した、（１）気相法シリカ微粒子と、（２）イオン交換水と、（３）「シャロールＤＣ−９０２Ｐ」とを混合し、ビーズミル（例えば、ＫＤ−Ｐ（（株）シンマルエンタープライゼス製））を用いて分散させた後、分散液を４５℃に加熱し２０時間保持した。その後、これに下記（４）ホウ酸と、（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテルと、（６）ポリビニルアルコール溶解液と（７）カチオン変性ポリウレタン分散液と、（８）エタノール水と、（９）ポリオキシエチレンラウリルエーテル水溶液を３６℃で加え、インク受容層用塗布液Ａを調整した。
【０１９０】
＜インク受容層用塗布液Ａの組成＞
（１）気相法シリカ微粒子                                                １００部
（ＡＥＲＯＳｌＬ３００ＳＦ７５、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水                                                      ５５５部
（３）「シャロールＤＣ−９０２Ｐ」                                      ８．７部
（分散剤、第一工業製薬（株）製、５１．５％水溶液）
（４）ホウ酸（架橋剤）水溶液（７．５％）                                  ９２部
（５）ジエチレングリコールモノブチルエーテル                            ６．７部
（「ブチセノール２０Ｐ」、協和発酵（株）製）
（６）エタノール水（エタノール含有量５９％）                              ４３部
（７）ポリビニルアルコール（水溶性樹脂）溶解液                          ３６７部
−溶解液の組成−
・ポリビニルアルコール                            ２５．７部
（「ＰＶＡ２３５」、鹸化度８８％、重合度３５００、（株）クラレ製）
・イオン交換水                                  ３４１．３部
（８）カチオン変性ポリウレタン分散液                                  １２．４部
（スーパーフレックス６００−Ｂ、第一工業製薬（株）製）    
（９）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（１０％水溶液）                ７．４部
（エマルゲン１０９Ｐ、花王（株）製）  
（インク受容層塗布液Ｂの調製）
下記組成に示した、（１）気相法シリカ微粒子と、（２）イオン父換水と、（３）「シャロールＤＣ−９０２Ｐ」と、（４）「ＺＡ−３０」とを混合し、ビーズミル（例えば、ＫＤ−Ｐ（（株）シンマルエンタープライゼス製）を用いて分散させた後、分散液を４５℃に加熱し２０時間保持した。その後、これに下記（５）ホウ酸と、（６）ジエチレングリコールモノブチルエーテルと、（７）ポリビニルアルコール溶解液と（８）カチオン変性ポリウレタン分散液と、（９）エタノール水と、（１０）ポリオキシエチレンラウリルエーテル水溶液を３６℃で加え、インク受容層用塗布液Ｂを調製した。
【０１９１】
＜インク受容層用塗布液Ｂの組成＞
（１）気相法シリカ微粒子                                                １００部
（ＡＥＲＯＳｌＬ３００ＳＦ７５、日本アエロジル（株）製）
（２）イオン交換水                                                      ５５５部
（３）「シャロールＤＣ−９０２Ｐ」                                      ８．７部
（分散剤、第一工業製薬（株）製、５１．５％水溶液）
（４）酢酸ジルコニル                                                    ２．７部
（「ＺＡ−３０」、第一稀元素化学工業（株）製、５０％水溶液）
（５）ホウ酸（架橋剤）水溶液（７．５％）                                  ９２部
（６）ジエチレングリコールモノブチルエーテル                            ６．７部
（「ブチセノール２０Ｐ」、協和発酵（株）製）
（７）エタノール水（エタノール含有量５９％）                              ４３部
（８）ポリビニルアルコール（水溶性樹脂）溶解液                          ３６７部
−溶解液の組成−
・ポリビニルアルコール                            ２５．７部
（「ＰＶＡ２３５」、鹸化度８８％、重合度３５００、（株）クラレ製）
・イオン交換水                                  ３４１．３部
（９）カチオン変性ポリウレタン分散液                                  １２．４部
（スーパーフレックス６００−Ｂ、第一工業製薬（株）製）    
（１０）ポリオキシエチレンラウリルエーテル（１０％水溶液）              ７．４部
（エマルゲン１０９Ｐ、花王（株）製）  
（インク受容層塗布液Ｃの調整）
インク受容層塗布液Ｂのビーズミル分散を高圧ホモジナイザー（例えば、（株）スギノマシン製のアルティマイザー）での分散に変更し、エタノール水４３部を７０部に変更し、エマルゲン１０９Ｐ（１０％水溶液）７．４部を１９．１部に変更した以外はインク受容層塗布液Ｂと同様にして、インク受容層塗布液Ｃを調整した。
【０１９２】
（塗布膜ａの作成）
２０３ｍｌ／ｍ２の塗布量となるように流したインク受容層塗布液Ａに、５倍希釈のポリ塩化アルミ水溶液（ポリ塩化アルミは、アルファイン８３（大明化学工業株式会社製）を１１．２ｍｌ／ｍ２の速度でインラインミキシングした液を、塗布液温度３５℃においてスライドホッパー塗布法で前記支持体のオモテ面に塗布を行い、塗布膜aを得た。
【０１９３】
（塗布膜ｂの作成）
塗布膜ａのインク受容層塗布液Ａをインク受容層塗布液Ｂに変更した以外は塗布膜ｂと同様にして、塗布膜ｂを調整した。
【０１９４】
（塗布膜ｃの作成）
２０９ｍｌ／ｍ２の塗布量となるように流したインク受容層塗布液Ｃを、塗布液温度３５℃においてスライドホッパー法で前記支持体のオモテ面に塗布を行い、塗布膜ｃを得た。
【０１９５】
（塗布膜ｄの作成）
１８９ｍｌ／ｍ２の塗布量となるように流したインク受容層塗布液Ｂに、５倍希釈のポリ塩化アルミ水溶液（ポリ塩化アルミは、アルファイン８３（大明化学工業株式会社製）を１１．２ｍｌ／ｍ２の速度でインラインミキシングした液を下層、１４．３ｍｌ／ｍ２の塗布量となるように流したインク受容層塗布液Ｃを上層とするようにして、塗布液温度３５℃においてスライドホッパー塗布法で前記支持体のオモテ面に同時重層塗布を行い、塗布膜ｄを得た。
【０１９６】
（含水率測定方法）
上記で作成した塗膜について、以下に示すように各種乾燥条件で乾燥させ、インクジェット記録媒体を得た。塗膜の含水率Ｎについては、乾燥中の塗布膜を掻き取り、得られた塗膜の重量Ｇと、これを１０５℃１０％で３０分乾燥させた後の重量ｇから下式により求めた。
【０１９７】
（含水率Ｎ）＝  （Ｇ−ｇ）／ｇ
[比較例１]
塗布膜ａを、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０１９８】
[比較例２]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０１９９】
[比較例３]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度４５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２００】
[比較例４]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度２５℃の風で乾燥させ、それ以降を３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０１】
[比較例５]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度２５℃の風で乾燥させ、それ以降を４５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０２】
[比較例６]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０３】
[実施例１]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度３５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０４】
[実施例２]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度３５℃の風で乾燥させ、それ以降を２０℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０５】
[実施例３]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度４５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０６】
[実施例４]
塗布膜ａを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度５５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０７】
[比較例７]
塗布膜ｂを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０８】
[実施例５]
塗布膜ｂを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度４５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２０９】
[比較例８]
塗布膜ｃを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１０】
[実施例６]
塗布膜ｃを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度４５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１１】
[比較例９]
塗布膜ｄを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、乾燥温度３５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１２】
[実施例７]
塗布膜ｄを、１０℃の冷却風で１５秒冷却した後、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度４５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１３】
[実施例８]
塗布膜ｄを、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度４５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１４】
[実施例９]
塗布膜ｄを、露点−１０℃に除湿した空気を用いて、塗膜の含水率３０％までを乾燥温度５５℃の風で乾燥させ、それ以降を２５℃の風で乾燥させた後、２５℃６０％の空気で調湿してインクジェット記録媒体を作成した。
【０２１５】
〔評価試験〕
上記より得た実施例、及び比較例のインクジェット記録媒体の各々について、以下の評価試験を行なった。試験結果は下記の表１に示す。
【０２１６】
（ひび割れ評価）
得られたインクジェット記録媒体の面状（外観）の目視による評価、及び実体顕微鏡（実体顕微鏡ＳＭＺ、（株）ニコン製）による観察（倍率４０倍）を行い、下記の基準にしたがって判定した。
◎：目視、実体顕微鏡による観察ともに、ひび割れは見られない。
〇：目視による観察ではひび割れは見られないが、実体顕微鏡で１ｍ２当たり１〜１０個のひび割れが観察される。実用上は問題無し。
△：目視による観察ではひび割れは見られないが、実体顕微鏡で１ｍ２当たり１０個以上のひび割れが観察される。実用上問題無し。
×：目視による観察で１ｍ２当たり１〜１０個のひび割れが観察され、実用上問題あり。
××：目視による観察で１ｍ２当たり１０個以上のひび割れが観察され、実用上問題あり。
【０２１７】
（筋ムラ評価）
得られたインクジェット記録媒体を黒ベタでプリントし、巾手方向の筋ムラについて目視で評価を行った。
×：強い筋ムラがあり、実用上問題あり。
△：筋ムラがわずかに見えるが、実用上問題無い。
○：筋ムラは全く見られない。
【０２１８】
【表１】
2007301763.tif 000003
【０２１９】
表１に示されるように、実施例のインクジェット記録媒体は、乾燥時間を短くして生産性を上げても、目視で観察されるひび割れが無く、良好な面状であった。特に、比較例７と実施例５、及び比較例９と実施例７、の比較から、ＺＡ３０とアルファイン８３を配合させたインクジェット記録媒体を一回の塗布で製造する場合、従来の方法ではひび割れが悪化してしまうが、本発明の方法により、良好な面状を得る事が出来た。