(57)【要約】【課題】低ヘイズで、高度の防眩性が付与され、視野角特性も改善された防眩性偏光フィルム積層体を提供し、それをＴＮ型液晶表示装置に適用する。【解決手段】微細凹凸を有する防眩層１１と直線偏光子３０と光学異方性層４０とをこの順に積層して防眩性偏光フィルム積層体１０を構成し、それを液晶セル５０の視認側に配置する。防眩層１１は、ヘイズが５％以下で、０.５mm、１.０mm及び２.０mm の３種の光学くしを用いた入射角４５゜の反射鮮明度の合計が５０％以下で、３０゜入射光に対し、正反射率Ｒ（３０）が２％以下、４０゜の反射率Ｒ（４０）が ０.００３％以下、６０°以上の反射率Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）が ０.００１以下で、表面凸部の頂点を母点としてボロノイ分割したときの多角形の平均面積が５０〜１,５００μm2 である。光学異方性層４０は負又は正の一軸性で、光学軸がフィルム法線から５〜５０゜傾斜している。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に微細な凹凸が形成されている防眩層と、直線偏光子と、光学異方性層とが、この順に積層されてなり、
前記防眩層は、垂直入射光に対するヘイズが５％以下であり、
暗部と明部の幅が０.５mm、１.０mm及び２.０mm である３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が５０％以下であり、
入射角３０゜で入射した光に対し、反射角３０゜の反射率Ｒ（３０）が２％以下、反射角４０゜の反射率Ｒ（４０）が ０.００３％以下で、かつ反射角６０°以上の任意の方向における反射率をＲ（６０以上）として、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が ０.００１以下であり、そして
該防眩層表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が５０μm2以上１,５００μm2 以下であり、
前記光学異方性層は、光学的に負又は正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜したものであることを特徴とする、防眩性偏光フィルム積層体。
【請求項２】
防眩層表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が３００μm2以上１,０００μm2 以下である、請求項１に記載の防眩性偏光フィルム積層体。
【請求項３】
防眩層は、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その金属の凹凸面に無電解ニッケルメッキを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いで凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことにより得られる微細な凹凸を有する樹脂フィルムで構成される、請求項１又は２に記載の防眩性偏光フィルム積層体。
【請求項４】
透明樹脂フィルムは、紫外線硬化樹脂又は熱可塑性樹脂である、請求項３に記載の防眩性偏光フィルム積層体。
【請求項５】
光学異方性層は、光学的に負の一軸性である、請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性偏光フィルム積層体。
【請求項６】
２枚の電極基板間にツイステッドネマティック型液晶を挟持してなる液晶セルの両面に偏光板が配置された液晶表示装置であって、表示面側に位置する偏光板は、請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性偏光フィルム積層体であり、その光学異方性層側が液晶セルに面するように配置されていることを特徴とする、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置などに好適に用いられる偏光フィルム積層体及びそれを用いた液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、軽量、薄型、低消費電力などの特徴から、携帯用テレビ、ノート型パーソナルコンピュータなどに利用が進んでおり、今日では、大型テレビ等の映像観賞用機器への応用も進んでいる。テレビ受像機等、映像を表示する目的で用いられる液晶表示装置では、視認性、特に正面から観察したときのコントラスト比と、斜め方向から観察したときのコントラスト比、すなわち視野角特性が重要視される。
【０００３】
従来のツイステッドネマティック（以下、ＴＮと略称する）型液晶表示装置では、セル内の液晶物質のプレチルトに起因する屈折率の異方性により、視野角特性が十分なものではなかった。そこで、特開平 6-214116 号公報（特許文献１）には、負の一軸性を示し、その光学軸がフィルム面に対して斜め方向となるように配置された光学異方性層を、ＴＮ型液晶表示装置における液晶セルと偏光板の間に配置することが開示されている。また、特開平 10-186356号公報（特許文献２）には、正の一軸性を示す液晶性高分子が液晶状態において形成したネマティックハイブリッド配向を固定化してなる光学補償フィルムが開示されており、この光学補償フィルムをＴＮ型液晶表示装置に適用して、視野角の拡大を図ることも開示されている。このような、光学軸がフィルム面に対して斜め方向にある光学異方性層を光学補償フィルムとして用いることにより、ＴＮ型液晶表示装置における視野角の改良がなされている。
【０００４】
一方で、液晶表示装置をはじめとする画像表示装置は、その画像表示面に外光が映り込むと、視認性が著しく損なわれるため、画質や視認性を重視するテレビやパーソナルコンピュータ用モニターなどの用途では、これらの映り込みを防止する処理が表示装置表面になされるのが通例である。映り込み防止処理としては、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかすいわゆる防眩処理が、比較的安価に実現できるため、大型のパーソナルコンピュータやモニター、テレビなどの用途に好適に用いられている。
【０００５】
このような防眩性を付与するフィルムとして、例えば、特開 2002-365410号公報（特許文献３）には、表面に微細な凹凸が形成された光学フィルムであって、そのフィルムの表面に、法線に対して−１０°方向から光線を入射し、表面からの反射光のみを観測したときの反射光のプロファイルが特定の関係を満たす防眩性光学フィルムが開示されている。また、特開 2002-189106号公報（特許文献４）には、エンボス鋳型と透明樹脂フィルムの間に電離放射線硬化性樹脂を挟んだ状態で当該電離放射線硬化性樹脂を硬化させることにより、三次元１０点平均粗さ及び、三次元粗さ基準面上における隣接する凸部どうしの平均距離が、それぞれ所定値となる微細な凹凸を形成させ、その凹凸が形成された電離放射線硬化性樹脂層を前記透明樹脂フィルム上に設けた形の防眩フィルムが開示されている。
【０００６】
さらに、表面に凹凸を有するフィルムの製造に用いられるロールの作製方法として、例えば特開 2004-90187 号公報（特許文献５）には、エンボスロールの表面に金属メッキ層を形成する工程、金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、鏡面研磨した金属メッキ層面に、セラミックビーズを用いてブラスト処理を施す工程、及び必要に応じてピーニング処理する工程を経て、エンボスロールを作製する方法が開示されている。
【０００７】
さて、従来一般に、外光の映り込みを防ぎ、十分な視認性を確保するためには、１０％以上の高いヘイズ値を示す防眩フィルムを用いることが必要といわれており、このようなヘイズ値の高い防眩フィルムが、ノート型パーソナルコンピュータやテレビなどに多く用いられてきた。しかしながら、１０％以上の高いヘイズ値を示す防眩フィルムは、その広い反射散乱特性のため、明室内で測定されるコントラストが低下するという問題点があった。また、液晶表示装置が本来有するところの、暗室内で測定されるコントラストをも低下させることが問題であった。
【０００８】
かかる問題に対して、特開 2006-53371 号公報（特許文献６）には、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、そこに無電解ニッケルメッキを施して凹凸表面がなまらされた状態の金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写することにより、ヘイズが低く、反射プロファイルが所定の値となる防眩フィルムとすることが開示されている。また特開 2006-53511 号公報（特許文献７）には、防眩層と直線偏光子と光学異方性層とがこの順に積層されてなり、その防眩層が所定のドメイン面積に分割されている防眩性偏光フィルム積層体をＴＮ型液晶表示装置に適用することで、その液晶表示装置の視認性を改良することが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報（特許請求の範囲、段落０００１）
【特許文献２】特開平１０−１８６３５６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献３】特開２００２−３６５４１０号公報（特許請求の範囲）
【特許文献４】特開２００２−１８９１０６号公報（請求項１〜６、段落００４３〜００４６）
【特許文献５】特開２００４−９０１８７号公報（請求項１及び２）
【特許文献６】特開２００６−５３３７１号公報（請求項１及び２）
【特許文献７】特開２００６−５３５１１号公報（請求項１及び６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明者らは、上記特許文献７に開示されるような、防眩層と直線偏光子と光学異方性層とがこの順に積層されてなる防眩性偏光フィルム積層体に対し、上記特許文献６に開示されるような、反射プロファイルの改良された防眩フィルムを適用した形態を基本としながら、さらに防眩性能などの向上を図るべく研究を行ってきた。その結果、直線偏光子の片面に、特定の光学特性を与え、しかも特定の表面形状を有する防眩層を配置し、防眩層と反対側の面には、フィルム法線方向から傾斜した光学軸を有する光学異方性層を配置した防眩性偏光フィルム積層体は、ヘイズが低く、それを液晶表示装置に適用したときに、コントラストなどがより一層改良されることを見出し、さらに種々の検討を加えて、本発明を完成するに至った。
【００１１】
そこで本発明の目的は、ヘイズ値を高めることなく、高度の防眩性が付与され、視野角特性も改善された防眩性偏光フィルム積層体を提供することにある。本発明のもう一つの目的は、この防眩性偏光フィルム積層体を用いて、十分な防眩性を有し、表示特性も良好な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
すなわち、本発明による防眩性偏光フィルム積層体は、表面に微細な凹凸が形成されている防眩層と、直線偏光子と、光学異方性層とが、この順に積層されてなり、前記防眩層は、垂直入射光に対するヘイズが５％以下であり、暗部と明部の幅が ０.５mm、１.０mm 及び２.０mm である３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が５０％以下であり、入射角３０゜で入射した光に対し、反射角３０゜の反射率
Ｒ（３０）が２％以下、反射角４０゜の反射率Ｒ（４０）が ０.００３％以下で、かつ反射角６０°以上の任意の方向における反射率をＲ（６０以上）として、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が ０.００１以下であり、そして、防眩層表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が、５０μm2以上
１,５００μm2 以下、好ましくは３００μm2以上１,０００μm2 以下のもので構成されており、さらに前記光学異方性層は、光学的に負又は正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜したもので構成されている。
【００１３】
この防眩性偏光フィルム積層体において、前記の防眩層は、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その金属の凹凸面に無電解ニッケルメッキを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いで凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことにより得られる微細な凹凸を有する樹脂フィルムで構成されるのが有利である。ここで、透明樹脂フィルムは、紫外線硬化樹脂又は熱可塑性樹脂であることができる。また、前記の光学異方性層は特に、光学的に負の一軸性であるのが有利である。
【００１４】
さらに本発明によれば、２枚の電極基板間にＴＮ型液晶を挟持してなる液晶セルの両面に偏光板が配置された液晶表示装置であって、表示面側に位置する偏光板は、上記いずれかの防眩性偏光フィルム積層体であり、その光学異方性層側が液晶セルに面するように配置されている液晶表示装置も提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の防眩性偏光フィルム積層体は、表面に微細な凹凸が形成されて防眩性を有するにもかかわらず、ヘイズ値を低くしたものであり、それを液晶表示装置、特にＴＮ型液晶の配向状態を制御して表示を行う液晶表示装置に適用したときに、高いコントラストを得ることができる。また本発明の液晶表示装置は、高い防眩性能を有するとともにコントラストも高くできるので、明るくて視認性に優れたものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、添付の図面も適宜参照しながら、本発明を詳細に説明する。図１は、本発明に係る防眩性偏光フィルム積層体の例を示す断面模式図であり、図２は、防眩層に対する光の入射方向と反射方向とを模式的に示した斜視図であり、図３は、図２において防眩層１１の法線１５から３０°の角度で入射した入射光１６に対する、反射光１８の反射角と反射率（反射率は対数目盛）をプロットしたグラフ（反射プロファイル）の一例であり、図４は、防眩フィルムの凸部判定のアルゴリズムを模式的に示した斜視図であり、図５は、防眩層表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割した例であり、図６は、防眩層を製造するのに好ましい方法を工程毎に示す断面模式図であり、図７は、無電解ニッケルメッキ後に表面を研磨した状態を示す断面模式図であり、図８は、本発明に係る液晶表示装置の一例を示す断面模式図であり、図９は、本発明に係る液晶表示装置のもう一つの例を示す断面模式図である。
【００１７】
図１を参照して、本発明の防眩性偏光フィルム積層体１０は、防眩層１１と直線偏光子３０と光学異方性層４０とがこの順に積層されたものである。この防眩層１１は、表面に微細な凹凸が形成された防眩面を有するものであって、垂直入射光に対するヘイズが５％以下であり、暗部と明部の幅が０.５mm、１.０mm及び２.０mm である３種類の光学くしを用いて光の入射角４５゜で測定される反射鮮明度の合計が５０％以下であり、また入射角３０゜で入射した光に対し、反射角３０゜の反射率Ｒ（３０）が２％以下、反射角４０゜の反射率Ｒ（４０）が ０.００３％以下で、かつ反射角６０°以上の任意の方向における反射率をＲ（６０以上）として、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が ０.００１以下であり、さらに、防眩層表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が、５０μm2以上１,５００μm2 以下、好ましくは３００μm2以上１,０００μm2 以下であるもので構成する。一方、光学異方性層４０は、光学的に負又は正の一軸性であり、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜したもので構成する。
【００１８】
まず、防眩層１１について説明する。防眩層１１は、後述するような方法によって好適に製造され、表面に微細な凹凸が形成された防眩面を有するものであって、その垂直方向から入射した光に対するヘイズが５％以下とされたものである。このように、防眩層１１は、その表面に凹凸が形成されて防眩性能を有するにもかかわらず、ヘイズを低く抑えたことで、防眩性偏光フィルムを表示装置に適用したときのコントラストの低下を抑えることができる。
【００１９】
また防眩層１１は、４５°入射光に対する反射鮮明度が５０％以下となるようにする。反射鮮明度は、 JIS K 7105 に規定される方法で測定される。この JISでは、像鮮明度の測定に用いる光学くしとして、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が ０.１２５mm、０.５mm、１.０mm及び２.０mmである４種類が規定されている。このうち、幅０.１２５mmの光学くしを用いた場合、本発明で規定する防眩層においては、反射鮮明度が小さく、その測定値の誤差が大きくなることから、幅０.１２５mm の光学くしを用いた場合の測定値は和に加えないこととし、幅が０.５mm、１.０mm及び２.０mm である３種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度の和をもって反射鮮明度と呼ぶことにする。この定義による場合の反射鮮明度の最大値は３００％である。この定義による反射鮮明度が５０％を超えると、光源などの像が映り込むことになり、防眩性が低下する。
【００２０】
ただし、反射鮮明度が５０％以下になると、反射鮮明度だけからでは防眩性の優劣を決定することが難しくなる。なぜなら、上記の定義による反射鮮明度が５０％以下の場合、幅０.５mm、１.０mm及び２.０mm の光学くしを用いたそれぞれの反射鮮明度が、たかだか１０％〜２０％程度になり、測定誤差等による反射鮮明度の振れが無視できなくなるからである。
【００２１】
そこで、防眩性能を定めるためのもう一つの指標として採用した反射率の角度依存性について、図２及び図３を参照しながら説明する。図２は、防眩層（防眩フィルム）に対する光の入射方向と反射方向とを模式的に示した斜視図である。本発明では、防眩層１１の法線１５から３０°の角度で入射した入射光１６に対して、反射角３０°の方向、すなわち、正反射方向１７への反射光の反射率（つまり正反射率）をＲ（３０）としたときに、Ｒ（３０）が２％以下となるようにする。この正反射率Ｒ（３０）は、 １.５％以下、とりわけ ０.７％以下であるのがより好ましい。正反射率Ｒ（３０）が２％を超えると、十分な防眩機能が得られず、視認性が低下してしまう。図２では、任意の反射角θでの反射光の方向を符号１８で表しており、反射率を測定するときの反射光の方向１７，１８は、入射光の方向１６とフィルム法線１５とを含む面１９内とする。
【００２２】
図３は、図２において防眩層１１の法線１５から角度３０゜で入射した入射光１６に対する反射光１８の、反射角と反射率（反射率は対数目盛）をプロットしたグラフの一例である。このような反射角と反射率の関係を表すグラフ、又はそれから読み取られる反射角毎の反射率を、反射プロファイルと呼ぶことがある。このグラフに示した如く、正反射率Ｒ（３０）は３０゜で入射した入射光１６に対する反射率のピークであり、正反射方向から離れるほど反射率は低下する傾向にある。
【００２３】
また本発明では、図２において防眩層１１の法線１５から角度３０゜で入射した入射光１６に対し、反射角４０゜の反射率をＲ（４０）としたとき、Ｒ（４０）は ０.００３％以下となるようにする。Ｒ（４０）が ０.００３％を上回ると白ちゃけが起こりやすくなるので、Ｒ（４０）はあまり大きくならないようにするのが好ましい。一方、Ｒ（４０）があまり小さすぎても十分な防眩性を示さなくなることから、一般には ０.００００５％以上であるのが好ましい。ただし、Ｒ（４０）の好ましい範囲を厳密に定義することは難しい。なぜなら、映り込みや白ちゃけは、目視による主観的評価であり、最終的には消費者の好みを反映した特性であるからである。
【００２４】
さらに本発明では、図２において防眩層１１の法線１５から角度３０゜で入射した入射光１６に対し、反射角６０゜以上の任意の方向における反射率をＲ（６０以上）としたときに、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が ０.００１以下となるようにする。Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）は、好ましくは０.０００５以下であり、より好ましくは０.０００１以下である。ここで反射角６０゜以上の任意の方向とは、具体的には反射角６０°〜９０°の間であり、後述するような方法で作製した防眩フィルムは、その代表的な反射プロファイルを図３に示すように、正反射方向の反射率をピークとし、反射角が大きくなるにつれて反射率は斬減することが多いので、その場合は、反射角６０°の反射率をＲ（６０）として、Ｒ（６０）／Ｒ（３０）で、Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値を代表させることができる。Ｒ（６０以上）／Ｒ（３０）の値が ０.００１を超えると、防眩層に白ちゃけが発生してしまい、視認性が低下する。すなわち、例えば、表示装置の最前面に防眩層を配置した状態で表示面に黒を表示した場合でも、周囲からの光を拾って表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生してしまう。
【００２５】
図３に示す反射プロファイルの例では、正反射率Ｒ（３０）が約 ０.４％、Ｒ（４０）が約０.０００６％、そしてＲ（６０）が約０.００００３％となっている。
【００２６】
また、本発明の防眩層は、上記した反射プロファイルに加え、形状因子として、表面凹凸の凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が、５０μm2以上１,５００μm2 以下、好ましくは３００μm2以上１,０００μm2 以下であることを満たすようにする。
【００２７】
まず、防眩層の凹凸表面における凸部の頂点を求めるアルゴリズムについて説明する。防眩層の表面における任意の点に着目したときに、その点の周囲において、着目した点よりも標高の高い点が存在せず、かつ、その点の凹凸面における標高が凹凸面の最高点の標高と最低点の標高との中間より高い場合に、その点が凸部の頂点であるとする。より具体的には、図４に示すように、防眩層表面の任意の点８１に着目し、その点８１を中心として、防眩層基準面８３に平行な半径２μm〜５μmの円を描いたとき、その円の投影面８４内に含まれる防眩層表面８２上の点の中に、着目した点８１よりも標高の高い点が存在せず、かつ、その点の凹凸面における標高が凹凸面の最高点の標高と最低点の標高との中間より高い場合に、その点８１が凸部の頂点であると判定する。その際、上記円８４の半径は、サンプル表面の細かい凹凸をカウントせず、また、複数の凸部を含まない程度の大きさであることが求められ、３μm 程度が好ましい。この手法によれば、凹凸表面単位面積あたりの凸部の数を決定することもできる。
【００２８】
ここで求められた凸部の頂点の数は、映り込みや白ちゃけを発生させずに良好な視認性を発現するためには、２００μm ×２００μm の領域内に５０個以上１５０個以下であることが好ましい。凹凸表面における凸部の数が少ないと、高精細の画像表示装置と組み合わせて使用した場合に、画素との干渉によるぎらつきが発生し、画像が見えにくくなるので、好ましくない。また、質感も低下する。凸部の数が多くなりすぎると、結果として表面凹凸形状の傾斜角度が急峻なものとなり、白ちゃけが発生しやすくなる。２００μm ×２００μm の領域内における凸部の数は、好ましくは１２０個以下であり、また好ましくは７０個以上である。
【００２９】
次に、ボロノイ分割について説明すると、平面上にいくつかの点（母点という）が配置されているとき、その平面内の任意の点がどの母点に最も近いかによってその平面を分割してできる図をボロノイ図といい、その分割のことをボロノイ分割という。図５に、防眩層の表面における凸部の頂点を母点として、その表面をボロノイ分割した例を示す。図５において、四角の点８５，８５が母点であり、一つの母点を含む個々の多角形８６，８６が、ボロノイ分割により形成される領域であって、ボロノイ領域とかボロノイ多角形とか呼ばれるものであるが、以下ではボロノイ多角形と呼ぶ。この図において、周囲の薄く塗りつぶしてある部分８７，８７については、後で説明する。ボロノイ図においては、母点の数とボロノイ多角形の数は一致する。なお、図５においては、一部の母点及びボロノイ多角形に対してのみ引き出し線と符号を付しているが、母点とボロノイ多角形が多数存在することは、以上の説明とこの図から容易に理解されるであろう。
【００３０】
凸部の頂点を母点としたボロノイ分割を行うことにより得られるボロノイ多角形の平均面積を求めるにあたっては、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により表面形状を測定し、防眩層表面の各点の三次元的な座標値を求めてから、以下に示すアルゴリズムによりボロノイ分割を行い、ボロノイ多角形の平均面積を求める。すなわち、上述のアルゴリズムに従って、まず防眩層の凹凸表面における凸部の頂点を求め、次に防眩層基準面にその凸部の頂点を投影する。その後、表面形状の測定により得られた三次元座標全てをその基準面に投影し、それら投影された全ての点を最近接の母点に帰属させることによりボロノイ分割を行い、分割されて得られる各多角形の面積を求め、平均することにより、ボロノイ多角形の平均面積とする。測定に際しては、誤差を少なくするために、測定視野の境界に接するボロノイ多角形は算入しない。すなわち図５において、視野の境界に接し、薄く塗りつぶされているボロノイ多角形８７，８７は、平均面積の算出にカウントしない。また、測定誤差を少なくするために、２００μm ×２００μm 以上の領域を３点以上測定し、その平均値をもって測定値とすることが好ましい。
【００３１】
本発明では、先に述べたとおり、凹凸表面における凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が、５０μm2 以上 １,５００μm2 以下となるようにする。好ましくは、このボロノイ多角形の平均面積が、３００μm2以上１,０００μm2 以下となるようにする。このボロノイ多角形の平均面積が５０μm2を下回る場合には、防眩層表面の傾斜角度が急峻なものとなり、結果として白ちゃけが発生しやすくなるので、好ましくない。一方、ボロノイ多角形の平均面積が１,５００μm2 より大きい場合には、凹凸表面形状が粗くなり、最近の高精細な画像表示装置に適用したときにギラツキが発生しやすく、また質感も低下するので、好ましくない。
【００３２】
ここで測定した三次元的な座標を用いることによって、JIS B 0601（＝ISO 4287）に規定される断面曲線の算術平均高さＰa、最大断面高さＰtを計算することができる。また、防眩層凹凸面における各点の標高をヒストグラムで表すことも可能である。ここで、映り込みや白ちゃけを発生させず良好な視認性を発現するためには、断面曲線の算術平均高さＰaは０.０８μm以上０.１５μm以下であることが好ましく、最大断面高さＰtは０.４μm以上０.９μm以下であることが好ましい。凹凸表面の断面曲線における算術平均高さＰa が０.０８μm未満である場合には、防眩層表面がほぼ平坦となり、十分な防眩性能を示さなくなるので好ましくない。断面曲線における算術平均高さＰa が０.１５μmより大きい場合には、表面形状が粗くなり、白ちゃけやぎらつきなどの問題が発生するので、やはり好ましくない。一方、凹凸表面の断面曲線における最大断面高さＰt が０.４μm未満である場合には、やはり防眩層表面がほぼ平坦となり、十分な防眩性能を示さなくなるので、好ましくない。断面曲線における最大断面高さＰt が０.９μmより大きい場合には、やはり表面形状が粗くなり、白ちゃけやぎらつきなどの問題が発生するので、好ましくない。
【００３３】
また、防眩層凹凸面における各点の標高をヒストグラムで表したときには、ヒストグラムのピークが、最高点（高さ１００％）と最低点（高さ０％）の中間点（高さ５０％）を中心に±２０％以内の範囲に存在することが好ましい。これは、ヒストグラムのピークが最高点の標高と最低点の標高との差（最大標高）に対して３０％から７０％の範囲にあるのが好ましいことを意味する。中間点から±２０％以内にピークが存在しない場合、換言すれば、ピークが、最大標高に対して７０％より大きい位置又は３０％より小さい位置に現れる場合には、結果として表面形状が粗くなり、ぎらつきが発生しやすくなるので、好ましくない。また、外観の質感も低下する傾向にある。
【００３４】
標高のヒストグラムを求めるにあたっては、まず、防眩層（防眩フィルム）表面の標高の最高点と最低点を求め、次に測定点の標高と最低点の標高との差（その点の高さ）を、最高点と最低点の差（最大標高）で除することによって、各店の相対的な高さを求める。得られる相対的な高さを、最高点を１００％、最低点を０％としたヒストグラムで表すことによって、ヒストグラムのピーク位置を求める。ヒストグラムは、ピーク位置がデータの誤差の影響を受けない程度に分割する必要があり、一般には１０〜３０程度に分割するのが適当である。例えば、最低点（高さ０％）から最高点（高さ１００％）までを５％刻みで分割し、ピークとなる位置を求めればよい。
【００３５】
上記のような特性を示す防眩層を構成する防眩面は、事実上平坦な面がない凹凸で覆い尽くされた形状である。このような表面形状を有する防眩面は、例えば、研磨された金属の表面に微粒子をぶつけて凹凸を形成し、その金属の凹凸面に無電解ニッケルメッキを施して金型とし、その金型の凹凸面を透明樹脂フィルムに転写し、次いで凹凸面が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がす方法によって、有利に製造できる。
【００３６】
このようにして防眩層（防眩フィルム）を製造するのに好適な方法を、図６に基づいて説明する。図６は、金属板を用いた場合を例として、表面に凹凸を有する金型を作製し、さらにその凹凸をフィルムに転写して防眩フィルムを得るまでの工程を模式的に示した断面図である。図６の（Ａ）は、鏡面研磨後の金属基板２１の断面を示すもので、その表面に研磨面２２が形成されている。このような鏡面研磨後の金属表面に微粒子をぶつけることで、表面に凹凸を形成する。図６の（Ｂ）は、微粒子をぶつけた後の金属基板２１の断面模式図であり、微粒子がぶつけられることで、部分球面状の微細な凹面２３が形成されている。さらに、こうして微粒子による凹凸が形成された面に、無電解ニッケルメッキを施すことにより、金属表面の凹凸形状をなまらせる。図６の（Ｃ）は、無電解ニッケルメッキを施した後の断面模式図であり、金属基板２１に形成された微細な凹面上に、ニッケルメッキ層２４が形成され、その表面２６は、無電解ニッケルメッキにより、（Ｂ）の凹面２３に比べてなまった状態、換言すれば凹凸形状が緩和された状態になっている。このように、金属の表面に微粒子をぶつけて形成される部分球面状の微細凹面２３に、無電解ニッケルメッキを施すことにより、実質的に平坦部がなく、好ましい光学特性を示す防眩フィルムを得るのに好適な凹凸が形成された金属金型を得ることができる。
【００３７】
図６の（Ｄ）は、（Ｃ）の無電解ニッケルメッキにより形成された金型の凹凸をフィルムに転写する状態を示す断面模式図であり、金属基板２１上に形成されたニッケルメッキ層２４の凹凸面に、樹脂層を形成して、その凹凸形状が転写されたフィルム１１が得られる。フィルム１１は、熱可塑性の透明樹脂１枚で構成することができ、この場合は、熱可塑性樹脂フィルムを加熱状態で金型の凹凸面２６に押し当て、熱プレスにより賦型すればよい。またフィルム１１は、図６（Ｄ）に例示する如く、透明な基材フィルム１２の表面に電離放射線硬化型樹脂層１３を形成したもので構成することもでき、この場合は、電離放射線硬化型樹脂層１３を金型の凹凸面２６と接触させ、電離放射線を照射してその樹脂層１３を硬化させることにより、金型の凹凸形状が電離放射線硬化型樹脂層１３に転写される。これらのフィルムについては、後で詳しく説明する。図６の（Ｅ）は、（Ｄ）において金型上に形成されたフィルム１１を金型から剥離した状態を示す断面模式図である。
【００３８】
図６に示す方法において、金型の作製に好適に用いることのできる金属としては、アルミニウム、鉄、銅、ステンレススチールなどを挙げることができる。これらの中でも、微粒子がぶつかることで金属表面の変形が起こりやすいもの、具体的には、硬度があまり高くないものが好ましく、アルミニウム、鉄、銅などを用いることが好ましい。コストの観点からは、アルミニウムや軟鉄がさらに好ましい。金属金型の形状は、平らな金属板であってもよいし、円筒状の金属ロールであってもよい。金属ロールを用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができる。
【００３９】
これらの金属は、表面が研磨された状態で、微粒子がぶつけられるのであるが、特に、鏡面に近い状態に研磨されていることが好ましい。なぜなら、金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより金属表面に加工目が残っていることが多いためである。深い加工目がある状態では、微粒子をぶつけて金属表面を変形させても、微粒子により形成される凹凸よりも加工目のほうが深い場合があり、加工目の影響が残って、光学特性に予期できない影響を与えることがある。
【００４０】
金属表面の研磨方法に特別な制限はなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。研磨後の表面粗度は、中心線平均粗さＲa で表して、Ｒa が１μm 以下であることが好ましく、より好ましくはＲa が０.５μm以下、さらに好ましくはＲa が０.１μm以下である。Ｒa があまり大きくなると、微粒子をぶつけて金属表面を変形させても、変形前の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。Ｒa の下限については特に制限はないが、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。
【００４１】
金属の表面に微粒子をぶつける方法としては、噴射加工法が好適に用いられる。噴射加工法には、サンドブラスト法、ショットブラスト法、液体ホーニング法などがある。これらの加工に用いられる粒子としては、鋭い角があるような形状よりは、球形に近い形状であるほうが好ましく、また加工中に破砕されて鋭い角が出ないような、硬い材質の粒子が好ましい。これらの条件を満たす粒子として、セラミックス系の粒子では、球形のジルコニアビーズやアルミナビーズが好ましく用いられる。また金属系の粒子では、スチールやステンレススチール製のビーズが好ましい。さらには、樹脂バインダーにセラミックスや金属の粒子を担持させた粒子を用いてもよい。
【００４２】
ここで、金属表面にぶつける微粒子として、平均粒径が１０〜７５μm のもの、好ましくは１０〜３５μm のもの、特に球形の微粒子を用いることにより、本発明で規定するところの、凹凸表面における凸部の頂点を母点としてその表面をボロノイ分割したときに形成される多角形の平均面積が、５０μm2以上１,５００μm2 以下、好ましくは３００μm2以上１,０００μm2 以下という要件を含む形状因子を満たす防眩フィルムを製造することができる。この微粒子は、粒径がほぼそろっているもの、すなわち単分散のものがとりわけ好ましい。微粒子の平均粒径が小さすぎると、金属表面に十分な凹凸を形成することが困難なうえに、その表面の傾斜角度が急峻なものとなり、白ちゃけが発生しやすくなる。一方、微粒子の平均粒径が大きすぎると、表面凹凸が粗くなり、ぎらつきが発生したり、質感が低下したりする。
【００４３】
このようにして凹凸が形成された金属表面に無電解ニッケルメッキを施すことにより、凹凸の表面をなまらせて金属版を作る。凹凸のなまり具合は、下地金属の種類、ブラストなどの手法により得られた凹凸のサイズと深さ、またメッキの種類と厚みなどにより異なるため、一概には言えないが、なまり具合を制御するうえで最も大きな因子はメッキ厚みである。無電解ニッケルメッキの厚みが薄いと、ブラストなどの手法により得られた凹凸の表面形状をなまらせる効果が十分に得られず、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、メッキ厚みが厚すぎると、生産性が悪くなってしまう。そこで、無電解ニッケルメッキの厚みは３〜７０μm 程度であるのが好ましく、さらには５μm 以上、また５０μm 以下がより好ましい。
【００４４】
金属板や金属ロールなどの表面に、マクロ的に見て均一な厚みでメッキすることが可能である無電解メッキ、殊にメッキ層の硬度が高い無電解ニッケルメッキが、好ましく採用される。さらに好ましい無電解ニッケルメッキとしては、硫黄などの光沢剤を含んだメッキ浴を用いるいわゆる光沢ニッケルメッキ、ニッケル−リン合金メッキ（低リンタイプ、中リンタイプ又は高リンタイプ）、ニッケル−ホウ素合金メッキなどが例示される。
【００４５】
背景技術の項に掲げた特許文献４で採用されているハードクロムメッキ、特に電解クロムメッキでは、金属板や金属ロールの端部への電界集中が起こり、メッキ厚みが中央部と端部で異なることになる。そのため、上記ブラストなどの手法により凹凸が版全面にわたり均一な深さで形成されていたとしても、メッキ後の凹凸のなまり具合が版の場所により異なり、結果として得られる凹凸の深さが異なってくるため、電解メッキを用いることは好ましくない。
【００４６】
ハードクロムメッキは、メッキ表面にざらつきが出ることがある点でも、防眩層用の金属金型作製には向いていない。すなわち、ざらつきを消すためにはハードクロムメッキ後にメッキ表面を研磨することが一般的に行われているが、後述するように、本発明ではメッキ後の表面の研磨が好ましくないからである。
【００４７】
ただし、凹凸をつけた金属表面に無電解ニッケルメッキを施した後に、表面硬度を上げるため、最表面にごく薄くクロムメッキを施す、いわゆるフラッシュクロムメッキまでは否定しない。フラッシュクロムメッキを施す場合の当該フラッシュクロムメッキ厚みは、下地の無電解ニッケルメッキの形状を損なわない程度に薄くする必要があり、好ましくは３μm 以下、より好ましくは１μm 以下にすべきである。
【００４８】
また、前記特許文献５に開示されている、メッキ後に金属板又はロールを研磨することも、やはり好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、形状の制御因子が増えるため、再現性の良い形状制御が困難になることなどの理由からである。図７は、微粒子をぶつけて得られた凹凸面に無電解ニッケルメッキを施してなまらせた面を研磨した場合に、平坦面が生じた金属版の断面模式図であり、具体的には、図６（Ｃ）の状態から、そのニッケルメッキ層２４の表面を研磨した状態に相当する。研磨により、金属２１の表面に形成されたニッケルメッキ層２４の表面凹凸２６のうち、一部の凸が削られて、平坦面２９が生じている。
【００４９】
図６（Ｃ）のようにして表面に凹凸が形成された金属金型を用い、図６（Ｄ）に示すように、その凹凸形状をフィルム１１の表面に転写して、防眩面を形成する。この際、任意の方法でフィルム表面に金型の形状を転写することができる。例えば、熱可塑性樹脂フィルムを、金型の凹凸面２６に熱プレスし、熱可塑性樹脂フィルムの表面に金型の凹凸形状を転写する方法や、電離放射線硬化型樹脂を透明樹脂フィルムの表面に塗布し、未硬化状態でその電離放射線硬化型樹脂塗布層を金型の凹凸面２６に密着させ、フィルム越しに電離放射線を照射して硬化させ、金型の凹凸形状２６を転写する方法などが採用できる。転写後は、図６の（Ｅ）に示すように、金型からフィルムを剥離して、防眩フィルム１１が得られる。表面の傷つき防止など、機械的強度の観点からは、電離放射線硬化型樹脂を用いる方法が好ましく採用される。
【００５０】
このときに用いられる透明樹脂は、実質的に光学的な透明性を有するフィルムであればよい。具体的には、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートの如きセルロース系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリ塩化ビニルなどが例示される。シクロオレフィン系ポリマーは、ノルボルネンやジメタノオクタヒドロナフタレンのような環状オレフィンをモノマーとする樹脂であり、市販品としては、ＪＳＲ株式会社から販売されている“アートン”、日本ゼオン株式会社から販売されている“ゼオノア”や“ゼオネックス”（いずれも商品名）などがある。
【００５１】
これらの中で、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィン系ポリマーなどからなる熱可塑性を有する透明樹脂フィルムは、凹凸形状を有する金型に適当な温度でプレス又は圧着した後、剥離することで、金型表面の凹凸形状をフィルム表面に転写するのに用いることができる。また、透明フィルムとして偏光板を用い、直接偏光板表面に金型の凹凸形状を転写することもできる。
【００５２】
一方、電離放射線硬化型樹脂を使用して形状を転写する場合の電離放射線硬化型樹脂としては、分子内に１個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましく用いられるが、防眩面の機械的強度を向上させるためには、３官能以上のアクリレート、すなわち、分子内に３個以上のアクリロイルオキシ基を有する化合物が、より好ましく用いられる。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが例示される。また、防眩面に可撓性を付与して割れにくくするために、分子内にウレタン結合を有するアクリレート化合物も好ましく用いられる。具体的には、トリメチロールプロパンジアクリレートやペンタエリスリトールトリアクリレートの如き、分子内にアクリロイルオキシ基とともに少なくとも１個の水酸基を有する化合物２分子が、ヘキサメチレンジイソシアネートやトリレンジイソシアネートの如きジイソシアネート化合物に付加した構造のウレタンアクリレートが例示される。この他、エーテルアクリレート系、エステルアクリレート系等、電離放射線によりラジカル重合を開始し、硬化するその他のアクリル系樹脂も用いることができる。
【００５３】
また、エポキシ系やオキセタン系等、カチオン重合性の電離放射線硬化型樹脂も、硬化後に凹凸が賦型される樹脂として用いることができる。この場合は例えば、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼンやビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテルの如きカチオン重合性多官能オキセタン化合物と、（４−メチルフェニル）〔４−（２−メチルプロピル）フェニル〕ヨードニウム  ヘキサフルオロフォスフェートの如き光カチオン開始剤との混合物が用いられる。
【００５４】
アクリル系の電離放射線硬化型樹脂を紫外線の照射により硬化させる場合は、紫外線の照射を受けたときにラジカルを発生し、重合・硬化反応を開始させるために、紫外線ラジカル開始剤が添加されて用いられる。紫外線の照射は、透明樹脂フィルム面側からなされるが、フィルムを透過することが可能な波長領域でラジカル反応を開始するために、可視域から紫外線域でラジカル反応を開始する開始剤が用いられる。
【００５５】
紫外線照射によりラジカル反応を開始する紫外線ラジカル開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどのほか、特に紫外線吸収剤を含有する透明樹脂フィルム越しに紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させる場合には、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等、可視領域に吸収を持つリン系の光ラジカル開始剤が好適に用いられる。
【００５６】
表面に微細な凹凸を有するメッキ面が形成された金型が平板状である場合には、金型凹凸面と、未硬化の電離放射線硬化型樹脂が塗布された透明樹脂フィルムとを、金型凹凸面が塗布面と接するように密着させた状態で、透明樹脂フィルム面側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化型樹脂を硬化させた後、金型から基材フィルムごと剥離され、金型の凹凸形状が透明フィルム表面に転写される。
【００５７】
表面に微細な凹凸を有するメッキ面が形成された金型がロール状であり、かつ電離放射線硬化型樹脂を用いて金型の凹凸形状を転写する場合、透明樹脂フィルムは、未硬化の電離放射線硬化型樹脂が塗工された面を金型ロールに密着させた状態で電離放射線が照射され、硬化の後にロール金型から基材フィルムごと剥離することにより、連続的にその形状を透明フィルム表面に転写できる。
【００５８】
電離放射線は、紫外線や電子線でありうるが、取扱いの容易さや安全性の観点から、紫外線が好ましく用いられる。紫外線の光源としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが好ましく用いられるが、紫外線吸収剤を含む透明基材越しに照射される場合は特に、可視光成分を多く含むメタルハライドランプなどが好適に用いられる。また、フュージョン社製の“Ｖ−バルブ”や“Ｄ−バルブ”（いずれも商品名）なども、好ましく用いられる。照射線量は、紫外線硬化型樹脂が金型から離型できるまで固化するために十分な線量であればよいが、表面硬度をさらに向上させるために、離型後、塗工面側から再度照射を行ってもよい。
【００５９】
以上のような方法によれば、得られる防眩層（防眩フィルム）は、そのヘイズ値を５％以下とすることができる。ヘイズ値は、 JIS K 7136 に規定されており、（拡散透過率／全光線透過率）×１００（％）で表される値である。
【００６０】
こうして、表面に事実上平坦面のない微細な凹凸が形成された金属金型を用い、その形状を透明樹脂フィルム上に転写した場合には、得られる透明樹脂フィルムの防眩面も、事実上平坦面がなく、微細な凹凸が形成されたものとなる。
【００６１】
本発明では、図１を参照して先に説明した如く、以上のようにして得られる防眩層１１を直線偏光子３０の一方の面に配置し、直線偏光子３０の他方の面には光学異方性層４０を配置して、防眩性偏光フィルム積層体１０とする。直線偏光子３０は、フィルム面内で直交する一方の向きに振動する直線偏光を透過し、他方の向きに振動する直線偏光を吸収するタイプの、一般に偏光フィルム又は偏光板として知られるものでよい。具体的には、ポリビニルアルコールフィルムに一軸延伸と高二色性色素による染色を施し、さらにホウ酸架橋を施したものを用いることができる。高二色性色素としてヨウ素を用いたヨウ素系偏光子や、高二色性色素として二色性有機染料を用いた染料系偏光子があるが、いずれも用いることができる。また、このようなポリビニルアルコール系の直線偏光子そのものであってもよいし、ポリビニルアルコール系直線偏光子の片面又は両面に、トリアセチルセルロースなどの透明高分子からなる保護フィルムが積層された偏光板であってもよい。
【００６２】
直線偏光子３０の一方の面に配置される光学異方性層４０は、光学的に負又は正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０°傾斜したもので構成する。
【００６３】
まず、光学的に負の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜している光学異方性層について説明する。光学的に負の一軸性とは、光学軸方向の屈折率がこれに垂直な平面内の平均屈折率よりも小さい負の屈折率異方性を発現するものである。このような負の屈折率異方性を発現し、その光学軸の方位角度がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜しているものを、光学異方性層４０として用いることができる。このような光学異方性層としては、例えば、前記特許文献１に記載されるような、有機化合物、中でも液晶性を示し、円盤状の分子構造を有する化合物や、液晶性を示さないが、電界又は磁界により負の屈折率異方性を発現する化合物が、トリアセチルセルロースなどからなる透明樹脂フィルム上に塗布され、光学軸がフィルム法線方向から５〜５０°の間で傾斜するように配向せしめられたフィルムなどが好ましく用いられる。配向は、一方向のみならず、例えば、フィルムの片面から他面に向かって順次傾きが大きくなる、いわゆるハイブリッド配向であってもよい。
【００６４】
液晶性を示す円盤状の分子構造を有する有機化合物としては、低分子又は高分子のディスコティック液晶、例えば、トリフェニレン、トルクセン、ベンゼンなどの平面構造を有する母核に、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換ベンゾイルオキシ基、アルコキシ置換ベンゾイルオキシ基などの直鎖状の置換基が放射状に結合したものが例示される。中でも、可視光領域に吸収を示さないものが好ましい。
【００６５】
これらの円盤状の分子構造を有する有機化合物は、１種類を単独で用いるのみならず、本発明に必要な配向を得るために、必要に応じて何種類かを混合して用いたり、あるいは高分子マトリクスなど、他の有機化合物と混合して用いたりすることができる。上記の混合して用いる有機化合物としては、円盤状の分子構造を有する有機化合物と相溶性を有するか、円盤状の分子構造を有する有機化合物を、光を散乱しない程度の粒径に分散できるものであれば特に限定されない。セルロース系樹脂からなる透明基材フィルムに、かかる液晶性化合物からなる層が設けられ、光学軸がフィルム法線に対して傾斜しているフィルムは、例えば、富士写真フイルム株式会社から“ＷＶフィルム”の商品名で販売されているので、これを使用することができる
【００６６】
次に、光学的に正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜している光学異方性層について説明する。光学的に正の一軸性とは、光学軸方向の屈折率がこれに垂直な平面内の平均屈折率よりも大きい正の屈折率異方性を発現するものである。このような正の屈折率異方性を発現し、その光学軸の方位角度がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜しているものを、光学異方性層４０として用いることもできる。このような光学異方性層としては、例えば、前記特許文献２に記載されるような、細長い棒状構造を有する有機化合物、中でもネマティック液晶性を示し、正の光学異方性を与える分子構造を有する化合物や、液晶性を示さないが、電界又は磁界により正の屈折率異方性を発現する化合物が、セルロース系樹脂などからなる透明基材フィルム上に製膜され、光学軸がフィルム法線方向から５〜５０°の間で傾斜するように配向させて得られるフィルムが挙げられる。配向は、一方向のみならず、例えば、フィルムの片面から他面に向かって順次傾きが大きくなる、いわゆるハイブリッド配向であってもよい。透明基材フィルムにネマティック液晶化合物からなる層が設けられ、光学軸がフィルム法線に対して傾斜しているフィルムは、例えば、新日本石油株式会社から“ＮＨフィルム”の商品名で販売されているので、これを使用することができる。
【００６７】
また、真空蒸着により薄膜の形成が可能で、蒸着を行ったときに正の屈折率異方性を発現する誘電体を、透明基材フィルム上に、その法線に対して傾斜した方向から蒸着することにより、光学的に正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜している光学異方性層を得ることもできる。このために用いられる誘電体は、無機化合物からなる誘電体、有機化合物からなる誘電体のいずれでもよいが、真空蒸着時に作用する熱に対する安定性の点で、無機誘電体が好ましく用いられる。無機誘電体としては、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化タングステン（ＷＯ3）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ5）、酸化ネオジム（Ｎｄ2Ｏ3）などの金属酸化物が、透明性に優れるなどの点で好ましく用いられる。金属酸化物の中でも、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ビスマスなど、屈折率異方性が発現しやすく、かつ膜質の硬いものが、より好ましく用いられる。
【００６８】
上で説明したような直線偏光子３０の片側に、賦型処理が施された防眩層１１を貼り合わせ、直線偏光子３０の反対側の面には、光学的に負又は正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５゜〜５０゜傾斜している光学異方性層４０を積層して、防眩性偏光フィルム積層体１０とされる（図１）。この際、防眩層１１は、その賦型処理が施された面（凹凸面）が外側、すなわち直線偏光子３０に面しない側となるように積層される。また、光学異方性層４０が、透明基材フィルム上に屈折率異方性を発現する物質の層を設けたものである場合は、その透明基材フィルム側が、直線偏光子３０側となるように積層される。積層には、アクリル系粘着剤など、透明性に優れる接着剤が有利に用いられる。
【００６９】
光学的に負の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜の間で傾斜している光学異方性層が、直線偏光子の片面に貼合された偏光板、すなわち、図１において直線偏光子３０／光学異方性層４０の構成からなる積層体も、市販されている。例えば、住友化学株式会社から販売されている“スミカラン SRH862A”は、このタイプのものである。このような、光学的に負の一軸性でその光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜傾斜している光学異方性層が直線偏光子に貼合された積層偏光板の光学異方性層とは反対側に、上で説明した防眩層１１を貼合して、防眩性偏光フィルム積層体１０とすることができる。
【００７０】
図１に示すような防眩性偏光フィルム積層体１０は、２枚の基板間にＴＮ型液晶を挟持してなる液晶セルと組み合わせて、液晶表示装置とすることができる。この場合の例を、図８及び図９に示す。これらの例において、液晶セル５０は、それぞれ向かい合う片面に電極５４，５５が形成された２枚のセル基板５１，５２の間に、ＴＮ型液晶５７が挟持されたものである。
【００７１】
このようなＴＮ型液晶セル５０は通常、その両面に偏光板が配置されるが、本発明ではその一方の偏光板、特に表示面、すなわち視認側に位置する偏光板を、図１に示したような、防眩層１１／直線偏光子３０／光学異方性層４０からなる防眩性偏光フィルム積層体１０で構成する。この際、光学異方性層４０側が、液晶セル５０に面するように配置される。防眩性偏光フィルム積層体１０の光学異方性層４０と液晶セル５０とは、粘着剤６０を介して貼着されている。また、液晶セル５０の背面側には、バックライト７０が配置され、液晶セル５０のための光源となっている。
【００７２】
防眩性偏光フィルム積層体１０、液晶セル５０及びバックライト７０の構成は、図８と図９で共通しているが、液晶セル５０とバックライト７０の間の構造が相違している。すなわち、図８に示す例では、液晶セル５０の背面側に、粘着剤６０を介して偏光板３５が配置されている。一方、図９に示す例では、液晶セル５０の背面側に、粘着剤６０を介して、光学異方性層４５及び偏光板３５がこの順に配置されている。
【００７３】
背面側の偏光板３５は、フィルム面内で直交する一方の向きに振動する直線偏光を透過し、他方の向きに振動する直線偏光を吸収するタイプの、一般の偏光板でよい。具体的には、ポリビニルアルコールフィルムに一軸延伸と高二色性色素による染色を施し、さらにホウ酸架橋を施したものを用いることができ、通常はその片面又は両面に透明高分子からなる保護フィルムが積層された状態で用いられる。図９に示す例における背面側の光学異方性層４５は、防眩性偏光フィルム積層体１０に用いた光学異方性層４０と同様、光学的に負又は正の一軸性で、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０°傾斜したものであることができる。
【００７４】
視野角特性と表示特性を良好ならしめるためには、図９のように、背面側にも光学異方性層４５を配置するのが好ましい。この場合、先に説明したような、光学的に負の一軸性でその光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０゜の間で傾斜している光学異方性層が、直線偏光子の片面に貼合された偏光板を、図８における光学異方性層４５／偏光板３５の積層品として用いることができる。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例をもって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００７６】
［実施例１］
（ａ）金型の作製
直径３００mmのアルミニウムロール（JIS による A5056）の表面を鏡面研磨した。得られた鏡面研磨アルミニウムロールの外側表面に、ブラスト装置〔（株）不二製作所から入手〕を用いて、東ソー（株）製のジルコニアビーズ“TZ-SX-17”（商品名、平均粒径２０μm ）をブラスト圧力０.１MPa（ゲージ圧、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミニウムロールに無電解光沢ニッケルメッキ加工を行い、金属金型を作製した。メッキ厚みは１２μm に設定し、メッキ後にメッキ厚みをβ線膜厚測定器〔商品名“フィッシャースコープ MMS”、（株）フィッシャー・インストルメンツから入手〕を用いて実測したところ、１２.３μmであった。
【００７７】
（ｂ）防眩フィルムの作製と評価
大日本インキ化学工業（株）製の光硬化性樹脂組成物“GRANDIC 806T”（商品名）を酢酸エチルに溶解して、５０重量％濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤である“ルシリン TPO”（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を、硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して、塗布液を調製した。厚さ８０μm のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが５μm となるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、上で作製した金属金型の凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層がニッケルメッキ層側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態で、ＴＡＣフィルム側より、強度２０mW／cm2 の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００mJ／cm2 となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。
【００７８】
JIS K 7136 に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター“HM-150”型を用いて、防眩フィルムのヘイズを測定したところ、 ０.９％であった。サンプルは、反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから測定に供した。
【００７９】
透過鮮明度は、JIS K 7105 に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器“ICM-1DP”を用いて測定した。測定にあたっては、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でサンプル（防眩フィルム）の裏面側から光を入射し、測定を行った。結果は以下のとおりであった。
【００８０】
透過鮮明度 
幅０.１２５mm の光学くし：    ３１.２％ 
幅０.５mm の光学くし    ：    ２７.９％ 
幅１.０mm の光学くし    ：    ３２.１％ 
幅２.０mm の光学くし    ：    ５７.０％ 
合    計            ：  １４８.２％ 
【００８１】
反射鮮明度は、上と同じ写像性測定器“ICM-1DP” を用いて測定した。測定にあたっては、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるよう、ガラス基板に貼合してから測定に供した。また、裏面ガラス面からの反射を防止するために、防眩フィルムを貼ったガラス板のガラス面に２mm厚みの黒色アクリル樹脂板を水で密着させて貼り付け、この状態でサンプル（防眩フィルム）側から光を入射し、測定を行った。結果は以下のとおりであった。
【００８２】
反射鮮明度
幅０.１２５mm の光学くし      ：    ３.２％（合計値には入れない） 
幅０.５mm の光学くし          ：    １.５％ 
幅１.０mm の光学くし          ：    ５.４％ 
幅２.０mm の光学くし          ：  １４.８％ 
０.５mm 以上の光学くし値の合計：  ２１.７％ 
【００８３】
また反射率は、防眩フィルムの凹凸面に、フィルム法線に対して３０゜傾斜した方向からＨｅ−Ｎｅレーザーからの平行光を照射し、フィルム法線と照射方向を含む平面内における反射率の角度変化の測定を行った。反射率の測定には、いずれも横河電機（株）製の“3292 03 オプティカルパワーセンサー”と “3292 オプティカルパワーメーター”を用いた。その結果、Ｒ（３０）＝０.３７４％、Ｒ（４０）＝０.０００６４％、Ｒ（６０）／Ｒ（３０）＝０.０００１０であった。
【００８４】
Sensofar 社製の共焦点顕微鏡“PLμ2300”を用いて、防眩フィルムの表面形状を測定した。測定にあたっては、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。対物レンズの倍率は５０倍とした。測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、ボロノイ多角形の平均面積を求めたところ、５８２μm2であった。また三次元座標情報より、全面が微細な凹凸になっており、平坦部は存在していないことが確認された。
【００８５】
以上の金型作製条件、光学特性、及び表面形状（ボロノイ多角形の平均面積）を表１にまとめた。
【００８６】
また、上の表面形状測定で得られた三次元的な座標をもとに、２００μm×２００μmの領域における凸部の頂点の数、断面曲線の算術平均高さＰa及び最大断面高さＰt、並びに標高のヒストグラムのピーク位置を計算し、その結果を表２に示した。
【００８７】
（ｃ）防眩性偏光フィルム積層体の作製
光学的に負の一軸性であるディスコティック液晶分子が基板上に塗布固定され、その光学軸がフィルムの法線方向から５〜５０°の間で順次傾斜したハイブリッド配向し、全体としての見かけの光学軸が法線から約１８°の方向にある光学異方性層〔商品名“ＷＶフィルム”、富士写真フイルム（株）製〕が、ポリビニルアルコール−ヨウ素系直線偏光子の片面に貼着され、偏光子のもう一方の面にはトリアセチルセルロースフィルムが貼着されている、直線偏光子／光学異方性層積層品〔商品名“スミカラン SRH862A”、住友化学（株）製〕を用意した。そのトリアセチルセルロースフィルム側に、上の（ｂ）で得た防眩フィルムをその平坦面側で貼合して、防眩性偏光フィルム積層体を作製した。
【００８８】
（ｄ）液晶表示装置の作製と評価
市販のＴＮ型ＴＦＴ液晶表示素子が搭載されたパーソナルコンピュータ用モニターの表示面側及び背面側の偏光板を剥離し、それらオリジナルの偏光板の代わりに、背面側には上の直線偏光子／光学異方性層積層品“スミカラン SRH862A”を、その吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致し、かつ光学異方性層が液晶セル側となるように、粘着剤を介して貼合し、表示面側には上の（ｃ）で得た防眩性偏光フィルム積層体を、その吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致し、かつ光学異方性層が液晶セル側となるように、粘着剤を介して貼合した。こうして、防眩層付き液晶表示装置を作製した。
【００８９】
暗室内でパーソナルコンピュータを起動し、（株）トプコン製の輝度計“BM5A”型を用いて、黒表示状態及び白表示状態における液晶表示装置の輝度を測定し、コントラストを算出した。ここでコントラストは、黒表示状態の輝度に対する白表示状態の輝度の比で表される。その結果、液晶表示装置の暗室内で測定したコントラストは５６９であった。一方、この評価系を明室内に移し、黒表示状態として、映り込み状態を目視観察した。その結果、映り込みはほとんど観察されず、この液晶表示装置は良好な防眩性を有していることが確認された。この評価結果を表３にまとめた。
【００９０】
［実施例２〜３］
メッキ厚を表１のように変更し、その他は実施例１と同様にして表面に凹凸を有する金属金型を作製した。それぞれの金型を用い、実施例１と同様にして、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる透明な防眩フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの光学特性と表面形状（ボロノイ多角形の平均面積）を表１に示した。またそれぞれのフィルムについて、実施例１と同様にして凸部頂点の数、断面曲線の算術平均高さＰa及び最大断面高さＰt、並びに標高のヒストグラムのピーク位置を求め、その結果を表２に示した。さらに、これらのフィルムを用いて実施例１と同様に防眩層付き液晶表示装置を作製し、そのコントラストと防眩性を評価し、結果を表３に示した。
【００９１】
なお、表１における透過鮮明度は、暗部と明部の幅がそれぞれ０.１２５mm、０.５mm、１.０mm及び２.０mmである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値であり、また反射鮮明度は、暗部と明部の幅がそれぞれ０.５mm、１.０mm及び２.０mm である３種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。
【００９２】
［比較例１〜５］
比較例として、住友化学（株）が販売する偏光板“スミカラン”の防眩フィルムとして使用されており、紫外線硬化樹脂中にフィラーが分散されてなる防眩フィルム “AG1”、“AG3”、“AG5”、“AG6”及び“AG8”（それぞれ比較例１から比較例５とする）の光学特性とボロノイ多角形の平均面積を、実施例１〜３の結果と併せて表１に示した。またこれらのフィルムについて、ボロノイ多角形の平均面積を求める際に得られた三次元的な座標をもとに、凸部の頂点の数、断面曲線の算術平均高さＰa及び最大断面高さＰt、並びに標高のヒストグラムのピーク位置を実施例１と同様に計算し、その結果を実施例１〜３の結果と併せて表２に示した。さらに、これらの防眩フィルムを用いて実施例１と同様に防眩層付き液晶表示装置を作製し、そのコントラストと防眩性を評価し、結果を実施例１〜３の結果と併せて表３に示した。
【００９３】
【表１】
2007256765.tif 000003
【００９４】
【表２】
2007256765.tif 000004
【００９５】
【表３】
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【００９６】
表１及び表３に示すように、ヘイズ、反射プロファイル及び表面形状が本発明の規定を満たす実施例１〜３のサンプルは、優れた防眩性（映り込みなし）を示すとともに、コントラストも高く、視認性に優れていた。また、ぎらつき及び白ちゃけの程度も低かった。
【００９７】
一方、比較例１及び２では、Ｒ（３０）が２％以下であり、Ｒ（４０）が ０.００３％以下であり、またＲ（６０）／Ｒ（３０）が ０.００１以下であるため、白ちゃけはみられなかった。しかし、ボロノイ多角形の平均面積が１,５００μm2 を上回っているため、ぎらつきが発生していた。さらに、比較例の防眩フィルムから防眩性偏光フィルム積層体を作製し、それを液晶表示装置に適用した結果では、表３に示すように、比較例１及び２においてコントラストがそれぞれ４９２及び４２０と高かったものの、防眩性能が不十分であり、視認性に劣ることが確認された。これに対し、比較例３〜５では、Ｒ（４０）が０.００３％を上回っており、また、Ｒ（６０）／Ｒ（３０）が０.００１を上回るため、本発明のサンプルよりも白ちゃけていた。これらの比較例３〜５では、ヘイズが高いために、表３に示すようにコントラストが低下する傾向がみられた。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明に係る防眩性偏光フィルム積層体の例を示す断面模式図である。
【図２】防眩層に対する光の入射方向と反射方向とを模式的に示した斜視図である。
【図３】防眩層の法線から３０°の角度で入射した光に対する反射光の反射角と反射率（反射率は対数目盛）をプロットしたグラフの一例である。
【図４】防眩フィルムの凸部判定のアルゴリズムを模式的に示した斜視図である。
【図５】防眩フィルムの凸部頂点を母点としてボロノイ分割したときの例を示すボロノイ図である。
【図６】防眩層を製造するのに好ましい方法を工程毎に示す断面模式図である。
【図７】無電解ニッケルメッキ後に表面を研磨した状態を示す断面模式図である。
【図８】本発明に係る液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。
【図９】本発明に係る液晶表示装置のもう一つの例を示す断面模式図である。
【符号の説明】
【００９９】
１０……防眩性偏光フィルム積層体、
１１……防眩層、
１２……透明基材フィルム、
１３……電離放射線硬化型樹脂又はその硬化物、
１５……フィルム法線、
１６……入射光線方向、
１７……正反射方向、
１８……任意の反射方向、
１９……入射光線方向とフィルム法線方向を含む面、
θ  ……反射角、
２１……金属基板、
２２……研磨面、
２３……微粒子をぶつけて形成される凹面、
２４……ニッケルメッキ層、
２６……メッキ後に残る凹凸面、
２９……メッキ後の表面を研磨したときに発生する平坦面、
３０……直線偏光子、
３５……背面側偏光板、
４０……光学異方性層、
４５……背面側光学異方性層、
５０……液晶セル、
５１，５２……セル基板、
５４，５５……電極、
５７……ＴＮ型液晶、
６０……粘着剤、
７０……バックライト、
８１……防眩フィルム上の任意の点、
８２……防眩フィルム表面、
８３……フィルム基準面、
８４……防眩フィルム上の任意の点を中心とする円のフィルム基準面への投影円、
８５……凸部頂点の投影点（ボロノイ分割の母点）、
８６……ボロノイ多角形、
８７……平均値にカウントしない測定視野境界に接するボロノイ多角形。
【図１】
2007256765.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
2007256765.tif 000011
【図８】
2007256765.tif 000012
【図９】
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【図５】
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