(57)【要約】【課題】本発明は、レーザー光の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能なゲート電極又はドレイン電極の形状を有し、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる液晶表示装置及びその欠陥画素修復方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、複数のゲート配線１と、ゲート配線１と略直交するように形成された複数のソース配線３と、ゲート配線１とソース配線３との交差部毎に、マトリクス状に形成された画素電極６と、ゲート配線１と接続されたゲート電極２と、ソース配線３と接続されたソース電極４と、画素電極６と接続されたドレイン電極５とを有し、それぞれの画素電極６に対応して形成されたＴＦＴとを備える液晶表示装置である。そして、本発明に係るＴＦＴは、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２及びドレイン電極５のうち少なくとも一方に孔１５，１６を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された複数のゲート配線と、
前記ゲート配線と略直交するように形成された複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差部毎に、マトリクス状に形成された画素電極と、
前記ゲート配線と接続されたゲート電極と、前記ソース配線と接続されたソース電極と、前記画素電極と接続されたドレイン電極とを有し、それぞれの前記画素電極に対応して形成された薄膜能動素子とを備える液晶表示装置であって、
前記薄膜能動素子は、前記ゲート電極と前記ドレイン電極とが平面的に重なり合う位置の前記ゲート電極及び前記ドレイン電極のうち少なくとも一方に孔を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置であって、
前記孔は、同一の電極内に複数設けられることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
基板上に形成された複数のゲート配線と、
前記ゲート配線と略直交するように形成された複数のソース配線と、
前記ゲート配線と前記ソース配線との交差部毎に、マトリクス状に形成された画素電極と、
前記ゲート配線と接続されたゲート電極と、前記ソース配線と接続されたソース電極と、前記画素電極と接続されたドレイン電極とを有し、それぞれの前記画素電極に対応して形成された薄膜能動素子とを備える液晶表示装置であって、
前記薄膜能動素子は、前記ゲート電極と前記ドレイン電極とが平面的に重なり合う位置の前記ゲート電極及び前記ドレイン電極のうち少なくとも一方に少なくとも１つのコの字形状の開口部を備えることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置であって、
前記開口部は、同一の電極内に複数設けられることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の液晶表示装置の欠陥画素を修復する方法であって、
前記薄膜能動素子の動作不良による欠陥画素を特定する工程と、
特定された前記欠陥画素の前記薄膜能動素子に設けられた前記孔又は前記開口部の周縁部に所定のレーザー光を照射して、前記ゲート電極と前記ドレイン電極とを接続する工程とを備えることを特徴とする液晶表示装置の欠陥画素修復方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその欠陥画素修復方法に係る発明であって、特に、薄膜能動素子の動作不良による欠陥画素を修復可能な液晶表示装置及びその欠陥画素修復方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴともいう）を備える液晶表示装置の製造方法は以下の通りである。まず、ガラス基板（透明な絶縁基板）にゲート配線及びゲート電極を形成し、その上に絶縁膜を形成する。さらに、絶縁膜上に、半導体能動膜であるアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）膜を形成する。そして、アモルファスシリコン膜上に、ソース配線、ソース電極及びドレイン電極を形成し、その上に絶縁膜を積み、最後に画素電極を形成する。なお、ドレイン電極と最上層の画素電極とを電気的に接続するためにコンタクトホールを形成する。また、上述の工程で製造されるアレイ基板とは別に、カラーフィルタ等が形成された対向基板が製造される。そして、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせて液晶材料を注入し、ドライバ回路等を設けることで液晶表示装置が形成される。
【０００３】
以上のように形成された液晶表示装置のＴＦＴに動作不良がある場合、画素電極に正常な電圧が印加されず、輝点欠陥として視認されることになる。なお、液晶表示装置としては、画素電極と対向電極との間に電圧が印加されない時に光を通すＮ／Ｗ（ノーマリーホワイト）の場合を想定している。
【０００４】
従来、このようなＴＦＴの動作不良による輝点欠陥が発生した場合、特許文献１に開示された欠陥画素修復方法が行われる。特許文献１では、レーザーリペア装置を使用してゲート電極とドレイン配線とを接続して、ドレイン電極とコンタクトホールを介して繋がっている画素電極にゲート電圧を印加する。これによりＮ／Ｗの液晶表示装置では、ＴＦＴの動作不良による輝点欠陥を黒点化させることができる。
【０００５】
なお、黒点欠陥は輝点欠陥に比べて視認性が低いため、上述のリペアにより輝点欠陥を黒点化できれば、液晶表示装置の品質上好ましく、歩留も向上させることが可能となる。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２１０１１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
背景技術で述べた黒点化のリペアを行う場合、レーザー光の照射を、ＴＦＴが形成された面（表面）から行う方法と、ＴＦＴが形成された面の裏、つまりガラス基板側（裏面）から行う方法とがある。但し、アレイ基板状態でＴＦＴの動作不良の有無を確認できれば、表面からのリペアが可能である。しかし、アレイ基板と対向基板とが貼り合わされた状態でＴＦＴの動作不良を確認し、黒点化のリペアを行うのが一般的である。そのため、アレイ基板と対向基板との貼り合わせ後に行うリペアは、対向基板に形成された遮光膜の影響で必然的に裏面のガラス基板側から行う必要がある。
【０００８】
しかし、ガラス基板側から黒点化のリペアを行う場合、ゲート電極が最下層（最もガラス基板に近い層）に形成されているため、ドレイン電極との重なり部分が視認できない問題があった。そのため、レーザー光の照射位置は、ゲート電極とドレイン電極とが重なるゲート配線際となる。このゲート配線際の長さは、ドレイン電極の幅に制約されるため、レーザー光を照射する箇所が少ない。照射箇所が少ないと、レーザー照射後に、接続が外れて輝点に戻ることが考えられる。
【０００９】
また、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせた状態でゲート電極とドレイン電極とを接続するには、貼り合わせ前のアレイ基にレーザー光を照射する場合に比べて、照射エネルギーを強める必要があった。レーザー光の照射エネルギーを強めると、ゲート電極に孔を開ける以外に、ゲート電極の上に形成された絶縁膜及びドレイン電極に与える影響が大きくなる。具体的には、レーザー光の照射エネルギーにより、ゲート電極のメタルが捲れ上がったり、ドレイン電極のメタルが塊として吹き飛んだりして液晶中に浮遊する。
【００１０】
アレイ基板と対向基板とを貼り合わせた状態のセルギャップ（アレイ基板と対向基板との距離）は約４μｍである。そのため、導電性のメタル捲れや、導電性のメタル塊の浮遊が、画素電極等と対向電極との短絡を発生させ、輝点もしくは線欠陥を発生させる可能性があった。
【００１１】
そこで、本発明は、レーザー光の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能なゲート電極又はドレイン電極の形状を有し、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる液晶表示装置及びその欠陥画素修復方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る解決手段は、基板上に形成された複数のゲート配線と、前記ゲート配線と略直交するように形成された複数のソース配線と、前記ゲート配線と前記ソース配線との交差部毎に、マトリクス状に形成された画素電極と、前記ゲート配線と接続されたゲート電極と、前記ソース配線と接続されたソース電極と、前記画素電極と接続されたドレイン電極とを有し、それぞれの前記画素電極に対応して形成された薄膜能動素子とを備える液晶表示装置であって、前記薄膜能動素子は、前記ゲート電極と前記ドレイン電極とが平面的に重なり合う位置の前記ゲート電極及び前記ドレイン電極のうち少なくとも一方に孔を備える。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に記載の液晶表示装置は、薄膜能動素子が、ゲート電極とドレイン電極とが平面的に重なり合う位置のゲート電極及びドレイン電極のうち少なくとも一方に孔を備えるので、レーザー光の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能となり、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
（実施の形態１）
図１（ａ）（ｂ）に、本実施の形態に係る液晶表示装置の平面図及び断面図を示す。なお、図１（ａ）は、アレイ基板の１画素分の平面図を示し、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ’での断面図を示している。本実施の形態に係る液晶表示装置は、マトリクス状に画素が配置され、薄膜能動素子である薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）により個々の画素が駆動される構成である。
【００１５】
本実施の形態に係る液晶表示装置は、図１（ａ）（ｂ）に示すように、ガラス基板８（透明な絶縁基板）上に、１層目としてゲート配線１及びゲート電極２を設け、２層目に絶縁膜９を設け、さらに３層目に半導体能動膜であるアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）膜１０を設けている。そして、本実施の形態に係る液晶表示装置は、４層目にソース配線３、ソース電極４及びドレイン電極５を設け、５層目に絶縁膜９を設け、最後に６層目に画素電極１１を設けている。なお、ドレイン電極５と画素電極６との間に電気的なコンタクトを行うため、当該絶縁膜９にコンタクトホールが設けられている。
【００１６】
さらに、本実施の形態に係る液晶表示装置では、図１（ａ）に示すようにＣｓ（蓄積容量）配線７が設けられている。このＣｓ配線７は、ゲート配線１等と同じ層に形成され、画素電極６との間で蓄積容量を形成する。また、図１（ａ）では、ゲート配線１とソース配線３との交差部、及びＣｓ配線７とソース配線３との交差部での絶縁性をより高くするためにアモルファスシリコン膜１０を利用している。
【００１７】
そして、本実施の形態に係る液晶表示装置は、図１（ｂ）に示すようにＴＦＴが形成されたアレイ基板に対向する位置に、対向基板を設けている。この対向基板は、ガラス基板８に対向電極１３が設けられている。なお、対向基板には、図示していないがカラーフィルタや遮光膜等が設けられる場合がある。アレイ基板と対向基板とにより、液晶材料１２が挟持されている。
【００１８】
次に、図１（ａ）のＢ領域の拡大図を図２に示す。図２は、本実施の形態に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大図である。図２では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に孔１５を設ける。設ける孔１５は、どのような形状でもよく、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置にありさえすればよい。
【００１９】
ゲート電極２に孔１５を開けることで、ガラス基板側（裏面）からも孔１５の場所が確認することができる。そのため、ＴＦＴの動作不良による輝点欠陥が発生し黒点化のリペアを行う場合、図１（ｂ）に示すようにガラス基板側（裏面）からレーザー光１４を照射し、ゲート電極２の孔１５を利用してゲート電極２とドレイン電極５とを接続することができる。つまり、ゲート電極２の孔１５の周縁部にレーザー光１４を照射することで、確実にゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分にレーザー光１４を照射することができる。
【００２０】
さらに、従来は、ガラス基板側（裏面）から確認でき、且つレーザー光１４の照射できるゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分は、ゲート電極２の一辺のみであった。しかし、ゲート電極２に孔１５を設けることで、ガラス基板側（裏面）から確認でき、且つレーザー光１４の照射できるゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分が、孔１５の周縁部の四辺と増えることになる。従って、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２の孔１５を利用することでゲート電極２とドレイン電極５とを接続できる箇所が増えることになる。
【００２１】
また、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２に孔１５を設け、当該周縁部でゲート電極２とドレイン電極５とを接続するので、ゲート電極２とドレイン電極５とを接続するために使用していた従来のレーザー光のエネルギーに比べて、弱いエネルギーで加工することができる。そのため、本実施の形態に係る液晶表示装置では、弱いエネルギーのレーザー光を用いることで、ドレイン電極５のメタルを捲れ上がりや、メタル塊の飛散を減少させることが可能となる。
【００２２】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に孔１５を備えるので、レーザー光１４の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能で、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる。
【００２３】
また、本実施の形態に係る液晶表示装置の欠陥画素修復方法は、ＴＦＴの動作不良による欠陥画素を点灯検査等で特定する工程と、特定された欠陥画素のＴＦＴに設けられた孔１５の周縁部に所定のレーザー光１４を照射して、ゲート電極２とドレイン電極５とを接続する工程とを備えるので、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できると共に、確実にリペアすることができる。
【００２４】
なお、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２に設けた孔１５は一つであったが、本発明はこれに限られない。ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に複数の孔１５を設けメッシュ形状にしても、本実施の形態と同様、レーザー光１４の照射位置がガラス基板側（裏面）から確認でき、確実にリペアすることが可能である。そのため、本発明は、複数の孔１５を同一のゲート電極２に設けても、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる効果を得ることができる。
【００２５】
（実施の形態２）
図３に、本実施の形態に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大図を示す。図３では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５に孔１６を設けている。設ける孔１６は、どのような形状でもよく、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置にありさえすればよい。なお、本実施の形態では、ゲート電極２に孔１５を設けない。
【００２６】
なお、本実施の形態では、ゲート電極２に孔１５を開けていないため、ガラス基板側からドレイン電極５に設けた孔１６の場所を確認することができない。そのため、ＴＦＴの動作不良による輝点欠陥が発生し、図１（ｂ）に示すようにガラス基板側（裏面）からレーザー光１４を照射しゲート電極２とドレイン電極５とを接続する場合、孔１６を利用してレーザー光１４の照射位置を特定することができない。
【００２７】
しかし、ドレイン電極５に孔１６を設けずに、レーザー光１４を照射しゲート電極２とドレイン電極５とを接続する場合に比べ、本実施の形態ではドレイン電極５に孔１６を設けているので導電性のメタル塊の飛散を抑制することができる。つまり、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ドレイン電極５に孔１６を設けることでゲート電極２とドレイン電極５とを接続する部分のメタルの量を少なくでき、レーザー光１４の照射時に飛散するメタルの量を抑制することができる。そのため、本実施の形態では、レーザー光１４の照射時に発生する導電性のメタル塊が、画素電極６等と対向電極１３とを短絡させる程度の大きさになることを防ぐことができる。
【００２８】
なお、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ドレイン電極５に設けた孔１６は一つであったが、本発明はこれに限られない。ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５に複数の孔１６を設けメッシュ形状にしても、本実施の形態と同様の効果が得られる。
【００２９】
（実施の形態３）
実施の形態１に係る液晶表示装置では、図２に示すようにゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に孔１５を設ける構成であった。一方、実施の形態２に係る液晶表示装置では、図３に示すようにゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５に孔１６を設ける構成であった。
【００３０】
本実施の形態に係る液晶表示装置では、実施の形態１と実施の形態２とを組み合わせた構成である。つまり、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に孔１５を設け、且つゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５に孔１６を設ける構成である。本実施の形態に係る液晶表示装置の図面は、図２と図３とを組み合わせたものとなるため、図面は省略する。
【００３１】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に孔１５、ドレイン電極５に孔１６を設けるので、レーザー光の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能で、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる。
【００３２】
なお、本実施の形態に係る液晶表示装置では、孔１５及び孔１６の形状、位置、大きさが同じ必要はなく、それぞれ別々の形状、位置、大きさであってもよい。但し、孔１５及び孔１６の位置は、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う範囲内に限定される。
【００３３】
なお、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２に設けた孔１５及びドレイン電極５に設けた孔１６はそれぞれ一つであったが、本発明はこれに限られない。ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２及びドレイン電極５のそれぞれに複数の孔１６を設けメッシュ形状にしても、本実施の形態と同様の効果が得られる。
【００３４】
（実施の形態４）
図４に、本実施の形態に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大図を示す。図４では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２にコの字形状の開口部１７を設けている。設ける開口部１７は、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置にありさえすれば、どのような大きさでもよい。
【００３５】
ゲート電極２に開口部１７を開けることで、ガラス基板側からも開口部１７の場所が確認することができる。そのため、ＴＦＴの動作不良による輝点欠陥が発生し、図１（ｂ）に示すようにガラス基板側（裏面）からレーザー光１４を照射しゲート電極２とドレイン電極５とを接続する場合に、ゲート電極２の開口部１７を利用することができる。つまり、ゲート電極２の開口部１７の周縁部にレーザー光１４を照射することで、確実にゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分にレーザー光１４を照射することができる。
【００３６】
さらに、従来は、ゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分のゲート電極２の一辺のみがレーザー光１４の照射できる場所であったが、開口部１７を設けることで、開口部１７の周縁部の三辺がレーザー光１４の照射できる場所となる。従って、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２の開口部１７を利用することでゲート電極２とドレイン電極５とを接続できる箇所が増える。
【００３７】
また、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極２に開口部１７を設け、当該周縁部でゲート電極２とドレイン電極５とを接続するので、従来ゲート電極２とドレイン電極５とを接続するために使用していたレーザー光のエネルギーに比べて、弱いエネルギーで加工することができる。そのため、本実施の形態に係る液晶表示装置では、弱いエネルギーのレーザー光を用いるため、ドレイン電極５のメタルを捲れ上がりや、メタルの飛散を減少させることが可能となる。
【００３８】
なお、図４に示す例では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２にコの字形状の開口部１７を設けているが、本発明はこれに限られず、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５にコの字形状の開口部、又は当該ゲート電極２及びドレイン電極５の両方にコの字形状の開口部を設けてもよい。
【００３９】
但し、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５にのみコの字形状の開口部を設ける場合、開口部を利用してレーザー光１４の照射位置を特定することはできないが、レーザー光１４の照射時に飛散するメタルの量を抑制することはできる。
【００４０】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ゲート電極とドレイン電極とが平面的に重なり合う位置のゲート電極及びドレイン電極の少なくとも一方にコの字形状の開口部を設けるので、レーザー光１４の照射位置が明確で、確実にリペアすることが可能で、導電性のメタル捲れやメタル塊の飛散を抑制できる。
【００４１】
（実施の形態５）
図５に、本実施の形態に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大図を示す。図５では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５にコの字形状の開口部１７を複数設けている。つまり、本実施の形態に係るドレイン電極５は櫛状の形状を有している。なお、設ける開口部１７のそれぞれは、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置にありさえすれば、数や大きさは限定されない。
【００４２】
図５に示す形状のドレイン電極５を有する場合、ガラス基板側（裏面）からはゲート電極２により開口部１７を視認できず、当該開口部１７を利用してレーザー光１４の照射位置を特定することはできないが、レーザー光１４の照射時に飛散するメタルの量を抑制することはできる。
【００４３】
以上のように、本実施の形態に係る液晶表示装置では、ドレイン電極５に複数の開口部１７を設けるので、レーザー光１４の照射で飛散するドレイン電極５のメタルを小さくすることが可能となり、飛散したメタル起因の欠陥発生を防ぐことができる。
【００４４】
なお、図５に示す例では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５にコの字形状の開口部１７を複数設けているが、本発明はこれに限られず、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２にコの字形状の開口部を複数設けても、又は当該ゲート電極２及びドレイン電極５の両方にコの字形状の開口部を複数設けてもよい。
【００４５】
ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２にコの字形状の開口部を複数設ける場合は、ガラス基板側から開口部１７の場所が確認することができる。そのため、ＴＦＴの動作不良による輝点欠陥が発生し、図１（ｂ）に示すようにガラス基板側（裏面）からレーザー光１４を照射しゲート電極２とドレイン電極５とを接続する場合に、ゲート電極２の開口部１７を利用することができる。つまり、ゲート電極２の開口部１７の周縁部にレーザー光１４を照射することで、確実にゲート電極２とドレイン電極５との重なり合う部分にレーザー光１４を照射することができる。
【００４６】
さらに、本発明に係る液晶表示装置では、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２及びドレイン電極５のそれぞれに設ける孔や開口部の構成に、実施の形態１乃至実施の形態５のいずれかに示した孔や開口部を組み合わせることも可能である。例えば、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のゲート電極２に実施の形態１に示す孔を設け、ゲート電極２とドレイン電極５とが平面的に重なり合う位置のドレイン電極５に実施の形態５に示す複数の開口部を設ける組み合わせが考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の平面図及び断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大平面図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大平面図である。
【図４】本発明の実施の形態４に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大平面図である。
【図５】本発明の実施の形態５に係る液晶表示装置のＴＦＴの拡大平面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  ゲート配線、２  ゲート電極、３  ソース配線、４  ソース電極、５  ドレイン電極、６  画素電極、７  Ｃｓ配線、８  ガラス基板、９  絶縁膜、１０  アモルファスシリコン膜、１１  コンタクトホール、１２  液晶材料、１３  対向電極、１４  レーザー光、１５，１６  孔、１７  開口部。
【図１】
2007310180.tif 000003
【図２】
2007310180.tif 000004
【図３】
2007310180.tif 000005
【図４】
2007310180.tif 000006
【図５】
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