(57)【要約】      （修正有）【課題】周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録する。【解決手段】フィルタの長手方向が主走査方向に沿う第１の向きでフィルタパターンを記録するときの主走査方向に沿ったフィルタパターンのピッチＰ1、フィルタの長手方向が副走査方向に沿う第２の向きで記録媒体にフィルタパターンを記録するときの主走査方向に沿ったフィルタパターンのピッチＰ2との最小公倍数を演算し、第１の向き及び第２の向きのうち、演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きで記録媒体にフィルタパターンを記録する。【選択図】図２０
2007071984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ前記記録媒体に対して前記第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、前記記録媒体上に周期的なパターンを記録するにあたり、
前記周期的なパターンが、前記複数の記録素子によって前記記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ前記記録媒体に前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチと、前記記録媒体に前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチが相違している場合に、
前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチ及び前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチについて、前記第１のピッチとの最小公倍数を各々演算し、
前記第１の向き及び前記第２の向きのうち、前記演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択し、
前記周期的なパターンを前記選択した向きで前記記録媒体に記録することを特徴とするパターン記録方法。
【請求項２】
前記周期的なパターンは、基板上に矩形状のカラーフィルタをストライプ状に多数形成するためのストライプパターン、又は、対向配置される一対の基板を一定間隔に保持するスペーサ、又は、前記カラーフィルタを囲むように形成されるブラックマトリックス、又は、液晶表示パネルの液晶層内に設けられる液晶配向制御用突起を基板のＸ方向及びＹ方向に異なるピッチで形成するためのパターンであることを特徴とする請求項１記載のパターン記録方法。
【請求項３】
前記複数の記録素子は、前記記録媒体上での記録位置がｍ行ｎ列のマトリクス状に配列されていると共に、前記記録媒体上での記録位置のマトリクス状の配列における行方向及び列方向が前記第１方向に対して各々傾斜されており、
前記周期的なパターンを前記記録媒体上に第１の向きで記録するときの、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の前記第１方向に沿ったピッチと、前記周期的なパターンの前記第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数、及び、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の前記第１方向に沿ったピッチと、前記周期的なパターンの前記第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数を演算すると共に、前記周期的なパターンを前記記録媒体上に第２の向きで記録するときの、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の前記第１方向に沿ったピッチと、前記周期的なパターンの前記第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数、及び、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の前記第１方向に沿ったピッチと、前記周期的なパターンの前記第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数を演算し、
前記第１の向き及び前記第２の向きのうち、前記演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスが最大値を示す最小公倍数に対応する向きと異なる向きを選択することを特徴とする請求項１記載のパターン記録方法。
【請求項４】
前記複数の記録素子は、前記記録媒体上に前記周期的なパターンを記録するための記録データに基づいて、対応する記録位置が前記記録媒体上のドット記録位置に到達したタイミングでドットを記録するように駆動され、
前記記録媒体上でのドット記録位置の配置と、前記記録データが表す記録対象パターンとの関係で生じるジャギーのジャギーピッチ又はジャギー振幅が所定値以下となるように、前記行方向及び前記列方向と前記第１方向との傾斜角度、前記行方向又は前記列方向に沿った前記ドット記録位置のピッチ、前記ドット記録位置の前記第２方向に沿ったピッチ、及び、前記ドット記録位置の配列方向の少なくとも１つを調整することを特徴とする請求項３記載のパターン記録方法。
【請求項５】
記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ前記記録媒体に対して前記第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、前記記録媒体上に画像を記録する画像記録装置であって、
前記記録媒体に記録する画像が、前記複数の記録素子によって前記記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ前記記録媒体に前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチと、前記記録媒体に前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチが相違している周期的なパターンである場合に、前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチ及び前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチについて、前記第１のピッチとの最小公倍数を各々演算する演算手段と、
前記第１の向き及び前記第２の向きのうち、前記演算手段によって演算された最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択する選択手段と、
前記周期的なパターンを前記選択手段によって選択された向きで前記記録媒体に記録させるパターン記録制御手段と、
を備えたことを特徴とする画像記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターン記録方法及び画像記録装置に係り、特に、記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ記録媒体に対して第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、記録媒体上に周期的なパターンを記録するためのパターン記録方法、及び、該パターン記録方法を適用可能な画像記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、表示画素の光透過率や表示輝度を個々の表示画素毎に独立に変化させるための機構が、間隔を隔てて対向配置された一対の基板内に設けられて構成されており、カラー画像を表示可能なＦＰＤでは、更に個々の表示画素に対応する矩形状のＲ,Ｇ,Ｂのカラーフィルタがストライプ状に配置されたフィルタパターンが一方の基板上に形成されている。このフィルタパターンは、例えば特許文献１に記載の記録装置等を用いて形成することができる。
【０００３】
特許文献１に記載の記録装置では、支持層と受像層が積層されて成る受像シートを支持体に密着させ、受像層を支持体に転写した後に支持層を剥離し、続いて支持層、光熱変換層及び画像形成層（トナー層）が積層されて成る特定色の転写シートを支持体に密着させ、レーザ光の照射によって複数の記録スポットから成り主走査方向及び副走査方向に傾斜させた記録スポット列Ｓｐを転写シート上に形成し、フィルタパターンを表す画像データに基づいて記録スポット列Ｓｐの個々の記録スポットのオンオフ制御を行いながら記録スポット列Ｓｐを転写シート上で走査させる。これにより、転写シートのトナー層が受像層に転写され、転写シートを剥離することで受像層に特定色のパターン画像が形成される。上記処理がＲ,Ｇ,Ｂ,Ｋ各色について繰り返されることで、フィルタパターンを形成することができる。
【特許文献１】特開２００４−１６７９９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のように主走査方向（及び副走査方向）に沿った位置の異なる複数の記録位置での記録を並列に行うことで、フィルタパターンのような周期的なパターンを形成する場合、形成した周期的なパターンに、視認可能なむらが主走査方向に沿って周期的に現れることがある、という問題があった。このような周期的なむらは、形成したパターンの顕著な画質低下として視認されるので望ましくない。
【０００５】
本発明は上記事実を考慮して成されたもので、周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録できるパターン記録方法及び画像記録装置を得ることが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明者等は、記録媒体上での記録位置が、主走査方向に沿って一定のピッチで配置されかつ記録媒体に対して主走査方向と直交する副走査方向に相対移動される複数の記録素子によって、フィルタパターンのような周期的な種々のパターンを記録させ、記録させたパターンに現れている主走査方向に沿った周期的なむらについて、その周期（ピッチ）を計測すると共に、むらの周期（ピッチ）を計測した結果に基づいて、むらを低減するための対策について検討した。その結果、上記のむらは、記録した周期的なパターンの主走査方向に沿ったピッチが、主走査方向に沿った記録位置のピッチの整数倍であるときには発生しないものの、記録した周期的なパターンの主走査方向に沿ったピッチが、主走査方向に沿った記録位置のピッチの整数倍でない場合（実際にはこの場合が殆どである）に発生すると共に、むらが発生した場合の周期が、主走査方向に沿った記録位置のピッチと、記録した周期的なパターンの主走査方向に沿ったピッチの最小公倍数に相当する周期となることが判明した。
【０００７】
詳しくは、記録媒体上での記録位置が主走査方向に沿って離間している（主走査方向に沿って離散的に並んでいる）複数の記録素子によって記録媒体に画像を記録する場合、記録画像のエッジは記録媒体上での記録位置の中間部に位置させる必要があるので、記録媒体上での本来のエッジの位置に対して記録媒体上での実際のエッジの記録位置にずれ（丸め誤差）が生ずることがあるが、記録媒体に記録する画像が周期的なパターンであり、かつ該パターンの主走査方向に沿ったピッチが、主走査方向に沿った記録位置のピッチの非整数倍である場合、上記のずれ（丸め誤差）の大きさは、主走査方向に沿った記録位置のピッチの１／２を最大値、最小値を０として、主走査方向に沿った記録位置のピッチと、上記パターンの主走査方向に沿ったピッチの最小公倍数に相当する周期で変動する。前述した周期的なむらは、記録媒体上での本来のエッジの位置に対する実際のエッジの記録位置のずれ（丸め誤差）の大きさが、主走査方向に沿って周期的に変動していることが原因であることが判明した。
【０００８】
そして本願発明者等は、周期的なむらに対する人間の視覚系のレスポンス（視認され易さ）はむらの周期に応じて変化することに基づき、周期的なパターンが記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ記録媒体に第１の向きで記録するときの主走査方向に沿ったピッチと、記録媒体に第２の向きで記録するときの主走査方向に沿ったピッチが相違している場合には、第１の向きで記録するときと第２の向きで記録するときとで上記のむらの周期が相違し、これに伴ってむらの視認され易さも相違することから、周期的なパターンの記録に際してその向きを適切に選択すれば、周期的なむらが視認されにくくなることに想到して本発明を成すに至った。
【０００９】
上記に基づき請求項１記載の発明に係るパターン記録方法は、記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ前記記録媒体に対して前記第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、前記記録媒体上に周期的なパターンを記録するにあたり、前記周期的なパターンが、前記複数の記録素子によって前記記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ前記記録媒体に前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチと、前記記録媒体に前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチが相違している場合に、前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチ及び前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチについて、前記第１のピッチとの最小公倍数を各々演算し、前記第１の向き及び前記第２の向きのうち、前記演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択し、前記周期的なパターンを前記選択した向きで前記記録媒体に記録することを特徴としている。
【００１０】
請求項１記載の発明では、記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ記録媒体に対して第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、記録媒体上に周期的なパターンが記録される。なお周期的なパターンとしては、具体的には、例えば請求項２に記載したように、基板上に矩形状のフィルタをストライプ状に多数形成するためのストライプパターンや、対向配置される一対の基板を一定間隔に保持するスペーサ、又は、カラーフィルタを囲むように形成されるブラックマトリックス、又は、液晶表示パネルの液晶層内に設けられる液晶配向制御用突起を基板のＸ方向及びＹ方向に異なるピッチで形成するためのパターンを適用することができる。
【００１１】
ここで、請求項１記載の発明では、周期的なパターンが、複数の記録素子によって記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ記録媒体に第１の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチと、記録媒体に第２の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチが相違している場合に（上記のストライプパターンや上記のスペーサを形成するためのパターンはこの条件を満足する）、第１の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチ及び第２の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチについて、第１のピッチとの最小公倍数を各々演算し、第１の向き及び第２の向きのうち、演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択し、周期的なパターンを選択した向きで記録媒体に記録する。
【００１２】
これにより、第１の向きと第２の向きのうち、発生する周期的なむらがより視認されにくい向きが選択され、選択された向きで記録媒体に周期的なパターンが記録されることになるので、周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録することができる。
【００１３】
なお、請求項１記載の発明において、複数の記録素子は、記録媒体上での記録位置がｍ行ｎ列のマトリクス状に配列されていると共に、記録媒体上での記録位置のマトリクス状の配列における行方向及び列方向が第１方向に対して各々傾斜されていてもよい。この構成において、マトリクス状の配列における列方向と第１方向の成す角度が、マトリクス状の配列における列方向と第１方向の成す角度と等しくない場合、記録媒体上での第１方向に沿った記録位置のピッチ（第１のピッチ）には、ｉ行目ｊ列目，ｉ＋１行目ｊ列目，ｉ＋２行目ｊ列目，…の各記録位置の第１方向に沿ったピッチと、ｉ行目ｊ列目，ｉ行目ｊ＋１列目，ｉ行目ｊ＋２列目，…の各記録位置の第１方向に沿ったピッチの２種類のピッチが存在することになる。
【００１４】
このような場合には、例えば請求項３に記載したように、周期的なパターンを記録媒体上に第１の向きで記録するときの、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチと、周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数、及び、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチと、周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数を演算すると共に、周期的なパターンを記録媒体上に第２の向きで記録するときの、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチと、周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数、及び、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチと、周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチとの最小公倍数を演算し（これにより個々の向き毎に２つの最小公倍数が演算される）、第１の向き及び第２の向きのうち、演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスが最大値を示す最小公倍数に対応する向きと異なる向きを選択することが好ましい。これにより、複数の記録素子の記録媒体上での記録位置がｍ行ｎ列のマトリクス状に配列されている場合にも、発生する周期的なむらがより視認されにくい向きを確実に選択することができる。
【００１５】
また、請求項３記載の発明のように、記録媒体上での記録位置のマトリクス状の配列における行方向及び列方向を第１方向に対して各々傾斜させた場合、記録媒体に記録する周期的なパターンによっては無視できないジャギーが発生する恐れがある。これを考慮すると、例えば請求項４に記載したように、複数の記録素子は、記録媒体上に周期的なパターンを記録するための記録データに基づいて、対応する記録位置が記録媒体上のドット記録位置に到達したタイミングでドットを記録するように駆動され、記録媒体上でのドット記録位置の配置と、記録データが表す記録対象パターンとの関係で生じるジャギーのジャギーピッチ又はジャギー振幅が所定値以下となるように、行方向及び列方向と第１方向との傾斜角度、行方向又は列方向に沿った記録位置のピッチ、ドット記録位置の第２方向に沿ったピッチ、及び、ドット記録位置の配列方向の少なくとも１つを調整することが好ましい。これにより、周期的なパターンを記録するに際し、周期的なむらに加えてジャギーも視認されにくくすることができる。
【００１６】
請求項５記載の発明に係る画像記録装置は、記録媒体上での記録位置が、第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ前記記録媒体に対して前記第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって、前記記録媒体上に画像を記録する画像記録装置であって、前記記録媒体に記録する画像が、前記複数の記録素子によって前記記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ前記記録媒体に前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチと、前記記録媒体に前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチが相違している周期的なパターンである場合に、前記第１の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチ及び前記第２の向きで記録するときの前記第１方向に沿ったピッチについて、前記第１のピッチとの最小公倍数を各々演算する演算手段と、前記第１の向き及び前記第２の向きのうち、前記演算手段によって演算された最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択する選択手段と、前記周期的なパターンを前記選択手段によって選択された向きで前記記録媒体に記録させるパターン記録制御手段と、を備えたことを特徴としているので、請求項１記載の発明と同様に、周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録することができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上説明したように本発明は、記録媒体上での記録位置が第１方向に沿って第１のピッチで配置されかつ記録媒体に対して第１方向と直交する第２方向に相対移動される複数の記録素子によって記録媒体上に記録する周期的なパターンが、記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ第１の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチと、第２の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチが相違している場合に、第１の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチ及び第２の向きで記録するときの第１方向に沿ったピッチについて、第１のピッチとの最小公倍数を各々演算し、第１の向き及び前記第２の向きのうち、演算した最小公倍数に相当するピッチで現れるむらに対する人間の視覚系のレスポンスがより小さい向きを選択し、周期的なパターンを選択した向きで記録媒体に記録するようにしたので、周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録できる、という優れた効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の実施形態の一例を詳細に説明する。図１には、本実施形態に係るフラットベッドタイプの画像露光装置１０が示されている。画像露光装置１０は本発明に係る画像記録装置に対応しており、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して移動ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置されている。移動ステージ１８には、記録媒体８４（詳細は後述）が吸着保持される。定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにコ字状のゲート２０が設置される。ゲート２０の一方の側部には、記録媒体８４に記録されたアラインメントマークを検出するカメラ２２ａ、２２ｂが固定され、他方の側部には、記録媒体８４に対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。
【００１９】
なお、画像露光装置１０は、入力された画像データ（描画用ラスタデータ）が表す画像（例えば基板に形成すべきフィルタパターンや配線パターン等）をデジタル描画方式により基板（記録媒体８４）に直接描画することで、ＦＰＤ用のカラーフィルタ基板や、電気・電子回路の部品を搭載するためのプリント配線基板を製造する機能を備えた装置であり、例えばカラーフィルタ基板の製造は、図２に示す各工程の処理が順次行われることで実現される。
【００２０】
すなわち、まず図２(Ａ)に示す支持体８６が移動ステージ１８上に載置され、この支持体８６が吸着保持されることで移動ステージ１８上に固定される。なお、支持体８６はＦＰＤの基板として使用可能な平板上で光透過性を有する部材であり、例えばガラスや合成樹脂等の材質で構成されている。
【００２１】
次に、移動ステージ１８の移動経路上の任意の位置に配設された受像シート供給部（図示省略）によって図２(Ｂ)に示す受像シート８８が供給され、この受像シート８８が支持体８６に重ね合わされることで積層される。受像シート８８は、ＰＥＴ（ポリエチレン・テレフタレート）又はＴＡＣ（トリアセチルセルロース）又はＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）から成る支持層８６Ａと、転写されるトナーを受け止める働きをする受像層８８Ｂが積層されて構成されており、受像層８８Ｂが支持体８６に接する向きで積層される。支持体８６に受像シート８８が積層されると、図示しないスクイズローラによって受像シート８８を支持体８６側へ押圧することで、受像シート８８の受像層８８Ｂを支持体８６に密着させる。なお、ヒートローラを用いて受像シート８８を支持体８６へ加熱密着（ラミネート）させる処理を更に加えてもよい。
【００２２】
次に、移動ステージ１８の移動経路上の任意の位置に配設された剥離処理部（図示省略）により、図２(Ｃ)に示すように受像シート８８の支持層８８Ａが剥離される。これにより、受像層８８Ｂが支持体８６に転写される。
【００２３】
続いて、移動ステージ１８の移動経路上の任意の位置に配設された転写シート供給部（図示省略）によって図２(Ｄ)に示す特定色の転写シート９０が供給され、この転写シート９０が支持体８６に重ね合わされることで積層される（工程Ｄ）。転写シート９０は、支持層９０Ａ、光熱変換層９０Ｂ及び画像形成層（トナー層）９０Ｃが順に積層されて構成されている。なお、支持層９０Ａは光透過性を有する材料であればよく、例えば受像シート８８の支持層８８Ａと同様の材料で構成することができる。また、光熱変換層９０Ｂは照射されたレーザ光のエネルギーを熱エネルギーに変換する機能を有する材料であればよく、例えばカーボンや黒色物質、赤外吸収色素、特定波長吸収物質等の一般的な光熱変換材料から任意の材料を選択することができる。またトナー層９０Ｃとしては種々の色が用意されているが、ＦＰＤ用のカラーフィルタ基板を製造する際には、Ｒ,Ｇ,Ｂ,Ｋのうちの何れかの色のトナー層９０Ｃが設けられた４種類の転写シート９０が用いられる。転写シート９０はトナー層９０Ｃが受像層８８Ｂに接する向きで積層され、図示しないスクイズローラによって支持体８６側へ押圧することで、トナー層９０Ｃが受像層８８Ｂに密着される。なお、ヒートローラを用いて転写シート９０を支持体８６側へ加熱密着（ラミネート）させる処理を更に加えてもよい。
【００２４】
画像露光装置１０のスキャナ２６の構成については後述するが、スキャナ２６は、図２(Ｄ)に示すように、支持体８６に受像層８８Ｂが転写されると共に転写シート９０が積層・密着された状態の記録媒体８４を画像露光記録の対象としており、特定色の転写シート９０が積層・密着された状態の記録媒体８４に対し、入力された画像データのうち特定色の画像データ（特定色のフィルタパターンを表す画像データ）に基づいて、スキャナ２６の複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊから射出されるレーザ光を変調して記録媒体８４に照射させる（図２(Ｅ)も参照）ことで、特定色のフィルタパターンの画像を記録媒体８４に露光記録する（工程Ｅ）。これにより、記録媒体８４のうちレーザ光が照射された部分で転写シート９０のトナー層９０Ｃが受像層８８Ｂへ転写され、支持体８６上に特定色のフィルタパターンが形成される。そして、前述の剥離処理部（図示省略）により、図２(Ｆ)に示すように転写シート９０が剥離される（工程Ｆ）。
【００２５】
カラーフィルタ基板を製造する場合には、上述した工程Ｄ〜工程ＦがＲ,Ｇ,Ｂ各色毎に１回で計３回（Ｒ,Ｇ,Ｂのフィルタの間にブラックストライプを形成する場合には、Ｒ,Ｇ,Ｂ,Ｋ各色毎に１回で計４回）が繰り返される。これにより、図２(Ｇ)に示すように、支持体８６上に各色のフィルタがストライプ状に配置されたカラーフィルタ基板が完成することになる。なお、プリント配線基板を製造する際には、上記の支持体８６に代えて、ガラスエポキシから成る平板状の基材の表裏面に銅製の導電層が形成された基板が用いられ、この基板に、ＰＥＴ等から成り光透過性を有する支持層と、感光材料から成る感光層が積層されて構成されたレジストフィルムが貼着された状態で、形成すべき配線パターンに応じて変調したレーザ光が照射されることで、配線パターンの露光記録が成される。
【００２６】
次に画像露光装置１０のスキャナ２６について説明する。スキャナ２６に設けられている個々の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、図３に示すように、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザ光Ｌが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザ光Ｌが導入された光ファイバ３０の射出端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４、及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列されており、ロッドレンズ３２を透過して反射ミラー３４で反射されたレーザ光ＬはＤＭＤ３６の全面に照射される。
【００２７】
図４に示すように、ＤＭＤ３６はＳＲＡＭセル（メモリセル）３８上に、各々画素（ピクセル）を構成する多数の微小ミラー（マイクロミラー）４０が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。各ピクセルにおいて、最上部には支柱に支えられたマイクロミラー４０が設けられており、マイクロミラー４０の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＤＭＤ３６は、ＳＲＡＭセル３８にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー４０が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（例えば±１２度）の範囲で傾斜される。なお、図５はマイクロミラー４０がオン状態である＋α度傾斜された状態を示し、図６はマイクロミラー４０がオフ状態である−α度傾斜された状態を示す。
【００２８】
ＤＭＤ３６には制御ユニット４２が接続されており、制御ユニット４２は、記録媒体８４へ記録すべき画像を表す画像データに応じて、ＤＭＤ３６のマイクロミラー４０の傾きを各ピクセル毎に独立にオン状態又はオフ状態に制御する。これにより、ＤＭＤ３６に入射したレーザ光Ｌは、個々のピクセルを単位として、各ピクセルのマイクロミラー４０の傾き方向へ反射される。オン状態のマイクロミラー４０で反射されたレーザ光Ｌの射出方向には、当該レーザ光を記録媒体８４へ導く光学系（後述）が配置されている一方、オフ状態のマイクロミラー４０で反射されたレーザ光Ｌの射出方向には光吸収体（図示省略）が配置されている。従って、ＤＭＤ３６に入射されたレーザ光Ｌは、制御ユニット４２に入力された画像データに応じて、ＤＭＤ３６の個々のピクセルを単位として、オン（記録媒体８４に照射）又はオフ（記録媒体８４への照射停止）が制御され、記録媒体８４へ照射された照射されたレーザ光（オン状態のマイクロミラー４０で反射されたレーザ光）によって記録媒体８４にドットが露光記録されることで、画像データに応じた画像が記録媒体８４に露光記録されることになる。
【００２９】
また、オン状態のマイクロミラー４０によって反射されたレーザ光Ｌの射出側には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレイ４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列されている。なお、マイクロレンズアレイ４８の前後には、迷光を除去すると共に、レーザ光Ｌを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレイ５４、５６が配設されている。
【００３０】
また露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、図７に示すように、記録媒体８４の走査方向（移動ステージ１８の移動方向：以下便宜的に副走査方向と称する）と直交する方向（以下便宜的に主走査方向と称する）に２列かつ千鳥状に配列される。各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込まれているＤＭＤ３６は、記録媒体８４に露光記録する画像の高解像度化を実現するために、図８に示すように副走査方向（及び主走査方向）に対して所定角度傾斜されており、これに伴い、記録媒体８４上におけるＤＭＤ３６の各ピクセルに対応するレーザ光の照射位置（記録位置）の配列も副走査方向に対して所定角度傾斜されている。これにより、ＤＭＤ３６の各ピクセルに対応するレーザ光の照射位置の主走査方向に沿ったピッチが小さくなり、主走査方向の解像度を向上させることができる。なお、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊによる記録媒体８４上の露光エリア５８ａ〜５８ｊは、各露光エリア５８ａ〜５８ｊの間に未露光の領域が生じないように、主走査方向に沿って隣り合う露光エリアと一部重なるように設定されている。
【００３１】
図９に示すように、画像露光装置１０の制御ユニット４２は、エンコーダ６２から出力される移動ステージ１８の位置を表す位置データに基づいて同期信号を生成する同期信号生成部６４と、生成された同期信号に基づいて移動ステージ１８を走査方向に移動させる露光ステージ駆動部６６と、記録媒体８４に露光記録すべき画像のデータを記憶する画像データ記憶部６８と、同期信号及び画像データに基づいてＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル３８を変調制御し、マイクロミラー４０を駆動するＤＭＤ変調部７０を備えている。また制御ユニット４２は、同期信号生成部６４によって生成された同期信号を調整する周波数変更部７２、位相差変更部７４及び移動速度変更部７５を備えている。
【００３２】
周波数変更部７２は、ＤＭＤ３６の個々のマイクロミラー４０のオンオフ制御のタイミングを決定する周波数を変更する周波数変更信号を同期信号生成部６４に供給することで、記録媒体８４に露光記録される画素の副走査方向に沿ったピッチを調整する。また位相差変更部７４は、主走査方向に隣接して配列されたマイクロミラー４０のオンオフ制御のタイミングの位相差を変更する信号を同期信号生成部６４に供給することで、記録媒体８４に露光記録される画素の副走査方向に沿った位相差を調整する。移動速度変更部７５は、移動ステージ１８の移動速度を変更する移動速度変更信号を同期信号生成部６４に供給することで移動ステージ１８の移動速度を調整する。
【００３３】
また制御ユニット４２には、必要に応じて、露光ヘッド回転駆動部７６及び光学倍率変更部７８を配設してもよい。露光ヘッド回転駆動部７６は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊをレーザ光Ｌの光軸回りに所定角度回転させることで、記録媒体８４上に形成される画素配列の走査方向に対する傾斜角度を調整する。なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの一部の光学部材を回転させることによって、画素配列の傾斜角度を調整するようにしてもよい。また光学倍率変更部７８は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの第２結像光学レンズ５０、５２により構成されるズーム光学系７９を制御して光学倍率を変更し、隣接するマイクロミラー４０により記録媒体８４上に形成される画素の配列ピッチ又は同一のマイクロミラー４０によって露光記録される画素の副走査方向に沿ったピッチを調整する。
【００３４】
次に本実施形態の作用として、最初に、記録媒体８４に画像を露光する際の画像露光装置１０の動作を説明する。記録媒体８４に画像を露光する場合、制御ユニット４２は、移動ステージ１８に記録媒体８４を吸着保持させた後に、露光ステージ駆動部６６を駆動することで、移動ステージ１８をガイドレール１６に沿って所定方向へ移動させる。移動ステージ１８がゲート２０間を通過する際、記録媒体８４の所定位置に記録されているアライメントマークがカメラ２２ａ、２２ｂによって読み取られる。制御ユニット４２は、カメラ２２ａ、２２ｂによって読み取られたアライメントマークの位置を表す位置データに基づいて、記録媒体８４の位置を補正するための位置補正データを算出する。
【００３５】
制御ユニット４２は、位置補正データを算出した後、移動ステージ１８を所定方向と逆方向（副走査方向）へ移動させ、スキャナ２６による記録媒体８４への画像の露光記録を開始させる。これにより、光源ユニット２８から射出されたレーザ光Ｌが、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入され、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射される。一方、制御ユニット４２では、画像データ記憶部６８から読み出され、前述の位置補正データにより補正された画像データが、ＤＭＤ変調部７０において、同期信号生成部６４から供給される同期信号に従ったタイミングで変調されてＤＭＤ３６に供給される。これにより、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０が、同期信号に応じたタイミングで、画像データに従ってオンオフ制御される。
【００３６】
ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０のうちオン状態のマイクロミラー４０によって反射されたレーザ光Ｌは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレイ５４、マイクロレンズアレイ４８及びマイクロアパーチャアレイ５６を介し、ＤＭＤ３６の個々のピクセル（マイクロミラー４０）に対応するレーザ光毎に所定のビーム径に調整され、続いて、光学倍率変更部７８を構成する第２結像光学レンズ５０、５２によって所定の倍率に調整されて記録媒体８４に照射される。このとき、移動ステージ１８はガイドレール１６に沿って副走査方向へ一定速度で移動されているので、移動ステージ１８に吸着保持されている記録媒体８４には、画像データが表す画像が露光ヘッド２４ａ〜２４ｊによって順次露光記録される。
【００３７】
ところで、本実施形態に係る画像露光装置１０は、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０のうちオン状態のマイクロミラー４０によって反射されたレーザ光Ｌを記録媒体８４に各々照射し、照射した個々のレーザ光Ｌによって記録媒体８４上にドットを各々形成させることで、記録媒体８４上に画像を露光記録する構成であり、画像データが表す画像（オリジナル画像）は、記録媒体８４上に離散的に配置・形成された多数のドットにより画像として再現されるため、オリジナル画像と記録媒体８４上におけるドット記録位置の配置との関係で、記録媒体８４に露光記録した画像にジャギーが発生したり、オリジナル画像における線幅に対し露光記録した画像における線幅の変化が許容範囲から外れる等の不具合が発生する恐れがある。このため、本実施形態では記録媒体８４上におけるドット記録位置の配置を調整することでジャギーの発生等を抑制している。以下、その調整方法を説明する。
【００３８】
図１０には、単一のＤＭＤ３６を構成する多数のマイクロミラー４０の配列を模式的に示す。なお、ＤＭＤ３６の個々のマイクロミラー４０は本発明に係る記録素子に各々対応している。また、図１０に示す配列は、各マイクロミラー４０に対応するレーザ光の記録媒体８４上での照射位置（本発明に係る記録位置）の位置関係も表しており、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０が全てオン状態の場合、各マイクロミラー４０に対応するレーザ光は、図１０に示す位置関係を維持したまま記録媒体８４に照射される。図１０において、記録媒体８４の移動方向（副走査方向）をｙ、副走査方向ｙと直交する主走査方向をｘとし、副走査方向ｙにおよそ沿って（僅かに傾斜されて）配列されるマイクロミラー４０の列をスワス７７と定義する。この場合、スワス７７は、描画される画像のｘ方向に対する解像度を高めるため、ｘ方向に対して所定の角度θｓ（≠９０゜）（以下、スワス傾斜角度θｓという）に設定される。なお、スワス７７上で隣接する２つのマイクロミラー４０をＤＭＤ画素Ａ、Ｂとする。
【００３９】
また図１１には、上記のように傾斜されたＤＭＤ３６を用いて記録媒体８４上に形成可能なドットの位置を表すアドレス格子点（制御点）と（図１１ではアドレス格子点を実線及び破線の円で示す）、記録媒体８４上に露光記録すべき直線状のオリジナル画像８０との関係を模式的に示す。図１１の例において、オリジナル画像８０は、実線の円で示す複数のアドレス格子点に各々形成されたドットによって再現される。なお、レーザ光Ｌは、各アドレス格子点を中心とする所定のビーム径（ドット径）でドットを形成するので、記録媒体８４上に実際に露光記録される画像は、図１１に外郭線８２として示すように、実線で示すアドレス格子点の輪郭よりも線幅が広がった画像となる。
【００４０】
アドレス格子点の並びには、図１１及び図１２に示すように、格子点列１〜３の３種類がある。各格子点列１〜３を特徴づけるパラメータとしては、格子点列１〜３のｘ方向に対する傾斜角度θｇｉ（ｉ＝１〜３）、格子点列１〜３を構成するアドレス格子点の格子点ピッチｐｇｉ（ｉ＝１〜３）、及び、格子点列１〜３の列ピッチｄｇｉ（ｉ＝１〜３）がある。これらのパラメータは、スワス７７上で隣接するＤＭＤ画素Ａ,Ｂ（図１０参照）により記録媒体８４上に形成されるアドレス格子点（以下、アドレス格子点Ａ,Ｂとも言う）の配列ピッチｐｓ、スワス傾斜角度θｓ（ｘ方向を基準として反時計回りを＋とする）、各アドレス格子点のｙ方向に沿ったピッチｐｙにより決定される。以下、これらのパラメータの関係を説明する。
【００４１】
（ａ） 傾斜角度θｇｉ（ｉ＝１〜３）
図１２に示す３つの隣接するアドレス格子点Ａ,Ｂ',Ｂ″を考える。格子点列３の傾斜角度θｇ３は、
θｇ３＝９０゜  …(１)
である。また、格子点列１、２の傾斜角度θｇ１,θｇ２については、
Ｎ１＝integer(ｐｓ・sinθｓ／ｐｙ)
（integer( )は、切り捨て演算を表す）
Ｎ２＝Ｎ１＋１
とすると、アドレス格子点Ａに対するアドレス格子点Ｂ',Ｂ"のｙ方向の距離Δｙ１,Δｙ２（位相差）は、
Δｙｉ＝ｐｓ・sinθｓ−ｐｙ・Ｎ１    (但しｉ＝１,２)
となる。また、アドレス格子点Ａ,Ｂ',Ｂ"のｘ方向に沿ったピッチｐｘは、
ｐｘ＝ｐｓ・cosθｓ
であるから、
tanθｇｉ＝Δｙｉ／ｐｙ    (但しｉ＝１,２)  …(２)
となる。従って、格子点列１〜３の傾斜角度θｇ１,θｇ２は、
θｇｉ＝tan-1｛(ｐｓ・sinθｓ−ｐｙ・Ｎｉ)／(ｐｓ・cosθｓ)｝  …(３)
(但しｉ＝１、２)
上記(３)式から求まる。
【００４２】
（ｂ） 格子点ピッチｐｇｉ(ｉ＝１〜３)
格子点列３は、ｙ方向に配列されたアドレス格子点で構成されているので、
ｐｇ３＝ｐｙ  …(４)
である。また、
ｐｇｉ＝ｐｘ／cosθｇｉ    (但しｉ＝１,２)  …(５)
である。
【００４３】
（ｃ） 列ピッチｄｇｉ(ｉ＝１〜３)
格子点列３の列ピッチｄｇ３は、
ｄｇ３＝ｐｘ  …(６)
である。また、
ｄｇｉ＝ｐｙ・cosθｇｉ    (但しｉ＝１,２)  …(７)
である。
【００４４】
一方、オリジナル画像８０をアドレス格子点によって再現した際に発生するジャギーは、格子点列１〜３によって発生するため、上記で求めた格子点列１〜３のパラメータ及びオリジナル画像８０のｘ方向に対する傾斜角度θＬを用いて定義することができる。この場合、ジャギーをジャギーピッチｐｊ１〜ｐｊ３、ジャギー振幅ａｊ１〜ａｊ３で表す。
【００４５】
（ｄ） ジャギーピッチｐｊｉ(ｉ＝１〜３)
ジャギーピッチｐｊｉは、格子点列１〜３の列ピッチｄｇｉと、格子点列１〜３の傾斜角度θｇｉ及びオリジナル画像８０の傾斜角度θＬの差（θｇｉ−θＬ）とで決まる。この場合、各格子点列１〜３上にアドレス格子点が連続的に形成されるものと仮定したときの、平均値としてのジャギーピッチｐｊｉは、
ｐｊｉ＝ｄｇｉ／sin(θｇｉ−θＬ)     (但しｉ＝１〜３)  …(８)
となる。
【００４６】
（ｅ） ジャギー振幅ａｊｉ（ｉ＝１〜３）
図１３は、格子点列１と画像データが表すオリジナル画像８０との関係で発生するジャギーを説明する図である。図１３において、オリジナル画像８０の境界と格子点列１との交点間の距離がジャギーピッチｐｊ１となる。また、ジャギー振幅ａｊ１は、格子点列１及び格子点列２と、格子点列１及び格子点列３との間でそれぞれ定義できる。これらのジャギー振幅ａｊ１のうち、小さい方を代表値としてのジャギー振幅ａｊ１に選択すると、図１３に示す関係から、
ａｊ１＝ｐｊ１・tanθ'１・tanθ'２／(tanθ'２−tanθ'１)
(θ'１＝θｇ１−θＬ)
となる。従って、ジャギー振幅ａｊｉは、
ａｊｉ＝ｐｊｉ・tanθ'ｉ・tanθ'ｋ／(tanθ'ｋ−tanθ'ｉ)  …（９）
（但しｉ＝１〜３，θ'ｉ＝θｇｉ−θＬ，ｋ＝１〜３，ｉ≠ｋ）
である。なお、θ'ｋは、選択されたジャギー振幅ａｊｉの小さい格子点列とオリジナル画像８０とのなす角度である。
【００４７】
記録媒体８４上に露光記録される画像におけるジャギーは、ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉが共にある程度大きい場合に視認される。露光記録される画像を構成する各ドット（画素）は、図１１に示すアドレス格子点を中心として、レーザ光Ｌのビーム径に応じた所定の径のドットとして形成されるため、ジャギーピッチｐｊｉが小さい場合には、ジャギー振幅ａｊｉが大きくてもジャギーが視認されることはない。従って、ジャギーの視認を低下させるためには、ジャギーピッチｐｊｉ又はジャギー振幅ａｊｉの何れかが所定値以下となるように、パラメータを設定すればよいことになる。なお、所定値としては、例えばレーザ光Ｌのビーム径を用いることができる。
【００４８】
ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉは、(１)〜(９)式から、画像データが表すオリジナル画像８０のｘ方向に対する傾斜角度θＬ、スワス傾斜角度θｓ（請求項４に記載の「行方向及び列方向と第１方向との傾斜角度」に相当）、スワス７７上で隣接するＤＭＤ画素Ａ,Ｂの配列ピッチｐｓ、アドレス格子点のｙ方向に沿ったピッチｐｙ（請求項４に記載の「ドット記録位置の第２方向に沿ったピッチ」に相当）の各パラメータによって決定される。従って、これらのパラメータを個別に調整するか、これらのパラメータのうちの２つ以上のパラメータを同時に調整することで、ジャギーの視認性を低下させた画像を露光記録することができる。
【００４９】
但し、傾斜角度θＬは、記録媒体８４に描画するオリジナル画像８０によって予め決まっている。スワス傾斜角度θｓは、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに組み込まれたＤＭＤ３６の傾斜角度によって決定されるが、この傾斜角度θｓは、露光ヘッド回転駆動部７６により露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを光軸回りに所定角度回転させることで調整することができる。なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの一部の光学部材、例えば、マイクロレンズアレイ４８、マイクロアパーチャアレイ５４、５６を回転させることで傾斜角度θｓを調整することもできる。また、光学像を回転させるダブプリズム等の像回転素子を配設し、この像回転素子を回転させて傾斜角度θｓを調整することもできる。上記の像回転素子は、例えば第２結像光学レンズ５０、５２の後に配置することができる。また、第２結像光学レンズ５０、５２を配設することなく、マイクロレンズアレイ４８により直接記録媒体８４上にレーザ光Ｌを結像させる装置構成であれば、上記の像回転素子をマイクロレンズアレイ４８の後段に配置すればよい。
【００５０】
配列ピッチｐｓは、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の間隔に依存するが、光学倍率変更部７８によりズーム光学系７９を構成する第２結像光学レンズ５０、５２の位置を変更することで、ＤＭＤ画素Ａ,Ｂに対応する記録媒体８４上のアドレス格子点Ａ,Ｂの配列ピッチｐｓ（請求項４に記載の「行方向又は列方向に沿ったドット記録位置のピッチ」に相当）を調整することができる。アドレス格子点のｙ方向に沿ったピッチｐｙは、同期信号生成部６４により生成される同期信号の出力タイミングを周波数変更部７２からの周波数変更信号によって調整するか、移動速度変更部７５からの移動速度変更信号を同期信号生成部６４に供給して同期信号の出力タイミングを変更し、露光ステージ駆動部６６により移動ステージ１８のｙ方向への移動速度を変更することで調整することができる。なお、画像データが表すオリジナル画像８０が、傾斜角度θＬがｙ方向に沿った位置によって変化する画像である場合には、スワス傾斜角度θｓをオリジナル画像８０の傾斜角度θＬに応じて迅速に変更することは困難であるため、例えば周波数変更部７２によってアドレス格子点のｙ方向に沿ったピッチｐｙを変更するのが適当である。
【００５１】
更に、ジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉは、例えばＤＭＤ画素Ａ,Ｂの変調を同時に行わずに、位相差変更部７４によってＤＭＤ画素Ａ,Ｂの変調タイミングを所定時間ずらすことにより、ＤＭＤ画素Ａに対応する記録媒体８４上のアドレス格子点Ａとｘ方向に隣接して形成されるアドレス格子点Ｂ',Ｂ"の位相差Δｙｉ（ｙ方向に沿った距離、図１２参照）を変更し、この結果として傾斜角度θｇｉ（請求項４に記載の「ドット記録位置の配列方向」に相当）を変更して調整することもできる。
【００５２】
図１４〜図１６はジャギー抑制のための調整方法を適用しない場合、図１７〜図１９は本実施形態に係る調整方法を適用して各パラメータを所定の値に設定した場合について、先の(８)及び(９)式に従い各格子点列１〜３のジャギーピッチｐｊｉ及びジャギー振幅ａｊｉを計算した結果を示す。なお、格子点列間で生じるジャギー振幅については、小さい方の値の絶対値を選択した。また、ジャギーピッチｐｊｉの許容範囲を−５μｍ〜＋５μｍ、ジャギー振幅ａｊｉの許容範囲を−１μｍ〜＋１μｍとした。
【００５３】
図１４に示す格子点列１では、オリジナル画像８０の傾斜角度θＬ＝０゜〜55゜の範囲で許容範囲を越えるジャギーが発生し、図１５に示す格子点列２では、オリジナル画像８０の傾斜角度θＬ＝110゜〜135゜の範囲で許容範囲を越えるジャギーが発生し、図１６に示す格子点列３では、ジャギーが発生しないことが予測されている。この場合、例えばオリジナル画像８０に傾斜角度15゜前後の直線が含まれていると、この直線に格子点列１に起因する許容できないジャギーが発生する恐れがある。これに対して、パラメータ変更後を示す図１７〜図１９の格子点列１〜３では、オリジナル画像８０の傾斜角度15゜の前後で何れもジャギーが発生しておらず、記録媒体８４に露光記録した画像におけるジャギーの視認性を低下させることができる。
【００５４】
次に、本実施形態において、記録媒体８４に露光記録する画像が、例えばカラーフィルタ基板の製造におけるフィルタパターン等の周期的なパターンである場合に、上述したジャギー低減のためのパラメータの設定を行うことで、ＤＭＤ３６の各ピクセル（各マイクロミラー４０）に対応するレーザ光の記録媒体８４上での照射位置（本発明に係る記録位置）のｘ方向（主走査方向）に沿ったピッチが確定した後で行われる、記録媒体８４に露光記録する画像の向きの選択について説明する。
【００５５】
上述したように、本実施形態に係る画像露光装置１０は、ＤＭＤ３６の各ピクセル（各マイクロミラー４０）に対応するレーザ光が、記録媒体８４上で主走査方向（及び副走査方向）に沿って異なる位置に照射され、各記録位置がドット記録位置（アドレス格子点）に一致したときにドットを形成（露光記録）することを並列に行うことで、記録媒体８４上に画像を露光記録するが、この種の記録方式によってフィルタパターンのような周期的なパターンを形成する際には、記録媒体８４上に露光記録する周期的なパターンにおける主走査方向に沿ったピッチが、ドット記録位置の主走査方向に沿ったピッチの整数倍でない殆どの場合、形成した周期的なパターンに、視認可能なむらが主走査方向に沿って周期的に現れる。このような周期的なむらは、形成したパターンの顕著な画質低下として視認されるので望ましくない。
【００５６】
また、上記のむらはドット記録位置の主走査方向に沿ったピッチと、記録媒体８４上に露光記録する周期的なパターンにおける主走査方向に沿ったピッチの最小公倍数に相当する周期で現れるが、図２０にも示すように、カラーフィルタ基板を製造するために記録媒体８４に形成すべきフィルタパターン（Ｒ,Ｇ,Ｂ各色のフィルタの配列）は、個々のフィルタがおよそ矩形状とされ、個々のフィルタの長手方向に沿ったフィルタパターンのピッチと、個々のフィルタの長手方向に直交する方向に沿ったフィルタパターンのピッチは相違しているので、個々のフィルタの長手方向が主走査方向に一致する向きで記録媒体８４にフィルタパターンを形成した場合と、個々のフィルタの長手方向が副走査方向に一致する向きで記録媒体８４にフィルタパターンを形成した場合では、発生するむらの周期も相違することになる。そして、むらの視認され易さ（人間の視覚のレスポンス）はむらの周期によって相違している。
【００５７】
このため、画像露光装置１０の制御ユニット４２は、ジャギー低減のためのパラメータの設定を行った後に、記録媒体８４に露光記録する画像がフィルタパターンのような周期的な画像であった場合に、ＤＭＤ３６の各ピクセル（各マイクロミラー４０）に対応するレーザ光の記録媒体８４上での照射位置（以下、これを記録位置と称する）の主走査方向に沿ったピッチを演算する。本実施形態に係る画像露光装置１０ではスワス傾斜角度θｓ≠９０゜とされているので、記録位置の主走査方向に沿ったピッチには、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の主走査方向に沿ったピッチＰｘと、ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の主走査方向に沿ったピッチＰsxの２種類があり、制御ユニット４２はこのピッチＰｘ,Ｐsxを各々演算する。
【００５８】
また制御ユニット４２は、記録媒体８４に記録すべきフィルタパターンを表す画像データに基づいて、個々のフィルタの長手方向に沿ったフィルタパターンのピッチＰ1(図２０(Ａ)参照)と、個々のフィルタの長手方向に直交する方向に沿ったフィルタパターンのピッチＰ2(図２０(Ｂ)参照）を各々演算する。そして制御ユニットは、個々のフィルタの長手方向が主走査方向に一致する向きでフィルタパターンを形成した場合に発生するむらの周期として、ピッチＰｘとピッチＰ1の最小公倍数、ピッチＰsxとピッチＰ1の最小公倍数を各々演算すると共に、個々のフィルタの長手方向が副走査方向に一致する向きでフィルタパターンを形成した場合に発生するむらの周期として、ピッチＰｘとピッチＰ2の最小公倍数、ピッチＰsxとピッチＰ2の最小公倍数を各々演算する。
【００５９】
なお、ピッチＰｘ,Ｐsxのうちの何れか一方が請求項３に記載の「ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ＋１行目ｊ列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチ」に、他方が請求項３に記載の「ｉ行目ｊ列目の記録位置とｉ行目ｊ＋１列目の記録位置の第１方向に沿ったピッチ」に各々対応していると共に、フィルタパターンのピッチＰ1,Ｐ2のうちの何れか一方が請求項３に記載の「周期的なパターンを記録媒体上に第１の向きで記録するときの、…周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチ」に、他方が請求項３に記載の「周期的なパターンを記録媒体上に第２の向きで記録するときの、…周期的なパターンの第１方向に沿ったピッチ」に各々対応しており、上述した処理は請求項５に記載の演算手段に対応している。
【００６０】
また、制御ユニット４２の図示しない不揮発性の記憶手段には、例として図２１に示すような人間の視覚の空間周波数特性を表すデータが予め記憶されており、制御ユニット４２は、上記で演算した４種類の最小公倍数を各々空間周波数に換算し、それぞれの空間周波数におけるレスポンスを、上記の空間周波数特性を表すデータから各々導出する。なお、空間周波数特性を表すデータとしては、関数やテーブル等の任意の形態で空間周波数特性を表すデータを用いることができる。そして制御ユニット４２は、導出したレスポンスの中の最大値を抽出し、記録媒体８４にフィルタパターンを記録する向きとして、抽出した最大値に対応する向きと異なる向きを選択する。
【００６１】
具体的には、例えばピッチＰｘ＝0.0011mm、ピッチＰsx＝0.0656mm、ピッチＰ1＝0.3mm、ピッチＰ2＝0.1mmの場合、ピッチＰｘとピッチＰ1の最小公倍数は3.3mm、ピッチＰsxとピッチＰ1の最小公倍数は24.6mmとなるのに対し、ピッチＰｘとピッチＰ2の最小公倍数は1.1mm、ピッチＰsxとピッチＰ2の最小公倍数は8.2mmになる。ここで、ピッチＰｘとピッチＰ2の最小公倍数であるピッチ1.1mmを空間周波数に換算すると0.9〔cycles/mm〕となり、図２１からも明らかなように、人間の視覚のレスポンスはこの空間周波数でほぼ最大となるので、個々のフィルタの長手方向が副走査方向に一致する向きでフィルタパターンを形成した場合、非常に視認され易い周期のむらが発生することが理解できる。従って、この例では、抽出した最大値に対応する向きと異なる向きとして、個々のフィルタの長手方向が主走査方向に一致する向き（図２０(Ａ)に示す向き）が選択される。なお、上記で挙げた数値は単なる一例であり、ピッチＰｘ,Ｐsx,Ｐ1,Ｐ2の値によっては、周期的なむらが視認されにくい向きとして、個々のフィルタの長手方向が副走査方向に一致する向き（図２０(Ｂ)に示す向き）が選択されることも生じ得ることは言うまでもない。上述した処理は請求項５に記載の選択手段に対応している。
【００６２】
上記のようにして、記録媒体８４にフィルタパターンを記録する向きを選択すると、制御ユニット４２は、フィルタパターンを先に選択した向きで記録媒体８４に記録するために、必要に応じて画像データの回転等の処理を行った後に、記録媒体８４へのフィルタパターンの露光記録を行う。これにより、記録媒体８４にフィルタパターン等の周期的なパターンを露光記録するにあたり、当該周期的なパターンを、周期的なむらが視認されにくくなるように記録することができ、記録媒体８４に露光記録する周期的なパターンの画質を向上させることができる。
【００６３】
なお、上記では周期的なパターンの一例として、カラーフィルタ基板に形成すべきフィルタパターンを説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、記録媒体上に第１の向き及び第２の向きで記録可能で、かつ第１の向きで記録するときの主走査方向（副走査方向と直交する方向）に沿ったピッチと、第２の向きで記録するときの主走査方向に沿ったピッチが相違している任意の周期的なパターンを記録する際に適用可能である。また、本発明に係る周期的なパターンは画像に限定されるものでもない。例えば、ＦＰＤの一種であるＬＣＤのカラーフィルタ基板を製造する際には、特開2004-4228号公報にも記載されているように、フィルタパターンの形成時に、基板の間隔を一定に保持するためのスペーサも各フィルタの間隙に形成されることがあるが、このスペーサも基板上に一定ピッチで形成されるので周期的なむらとして視認される可能性がある。このような場合にも本発明を適用し、一定ピッチで形成されるスペーサに起因する周期的なむらが視認されにくい向きを選択し、選択した向きでスペーサを記録・形成するようにしてもよい。
【００６４】
また、本発明を適用して記録・形成時の向きを選択する周期的なパターンは、以下で説明する製造工程を経て液晶パネルに形成されるスペーサやブラックマトリックス、液晶配向制御用パターンであってもよい。すなわち、図２２には液晶パネルの製造工程の概要が示されている。液晶パネルは、カラーフィルタ基板製造工程１００において製造されたカラーフィルタ基板と、アレイ基板製造工程１０２において製造されたＴＦＴアレイ基板とを、液晶セル製造工程１０４において貼り合せることにより製造される。
【００６５】
カラーフィルタ基板製造工程１００及びアレイ基板製造工程１０２では、通常、１枚の透明基板１０６上に、製品パネル数枚分のカラーフィルタ構造、もしくはＴＦＴアレイ構造が形成される。例えば、図２３に例示するカラーフィルタ基板４は、横幅約２メートルの透明基板上に２０インチ液晶パネル１６個分のカラーフィルタ構造１０８を形成したものである。透明基板１０６上には、カラーフィルタ構造領域１０８のほか、基板上の主な位置（四隅、中心など）を示すマーク１１０Ａ、１１０Ｂ、１１０Ｃ、１１０Ｄ、１１０Ｅ、１１０Ｆ、１１０Ｇ、１１０Ｈ及び１１０Ｊが形成される。ＴＦＴアレイ基板製造工程１０２でも同様に、１枚の透明基板上に液晶パネル複数個分のアレイ構造と、基板上の位置を示すマークが形成される。カラーフィルタ基板とＴＦＴアレイ基板は、液晶セル製造工程１０４において、基板同士を貼り合せる前に、もしくは貼り合せた後に、製品サイズに分割され、これにより液晶パネルが完成する。
【００６６】
以下、カラーフィルタ基板製造工程１００について説明する。図２４は、カラーフィルタ基板製造工程１００の詳細を示すフローチャートである。カラーフィルタ基板は、透明基板上に図２４のフローチャートの各ステップに示される部材を形成することにより製造される。透明基板としては、表面に酸化珪素被膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板またはプラスチックフィルムを用いることができる。カラーフィルタ基板製造工程１００では、まず透明基板上にブラックマトリックスを形成する（ステップ１３０）。図２５はステップ１３０のブラックマトリックス形成工程を経た基板の一部（約１画素分に相当する領域）を拡大したものであり、図２５(Ａ)は基板の上面、図２５(Ｂ)は基板の断面を示している。
【００６７】
図２５(Ａ)及び図２５(Ｂ)に示すように、ステップ１３０では膜厚０．５〜５μｍ程度のブラックマトリックスパターン１１２が形成される。ブラックマトリックスパターン１１２は、一方向（図２５(Ａ)の縦方向）に平行に伸びた複数の線から、各線と垂直な方向（図の横方向）に１００μｍ弱の短い線と、それより更に短い線が、縦方向に約１５０μｍ間隔で交互に突き出た構造となっている。この構造では、一画素分のパターンはアルファベットのＥを３個並べたような形になる。後述するように、本実施形態では、カーボンブラックなどの黒色顔料を含む感光性レジストを露光・現像により上記形状に加工することによりブラックマトリックスパターン１１２が形成される。但し、本発明においてブラックマトリックスの形成方法、パターン形状、材料は特に限定されず、あらゆる公知技術を用いることができる。例えば特開２００４−３６１４４７号に開示されているように、金属微粒子を含有する感光性組成物によりブラックマトリックスを形成してもよい。また、ブラックマトリックス形成工程では、ブラックマトリックスパターン１１２と共に、図２３に示したマーク１１０Ａ〜１１０Ｊが形成される。すなわち、黒色感光性レジストの所定箇所に、図２３に示した十文字形状のパターンが露光される。
【００６８】
続いて、透明基板１０６上にＲ（赤）の着色画素層が形成される（ステップ１３２）。図２６(Ａ)及び(Ｂ)に示すように、Ｒ画素パターン１１６は、透明基板１０６上のブラックマトリックスパターン１１２の上記平行に伸びた複数の線の間に３列に１列の割合で形成される。Ｒ画素パターン１１６の材料としては、顔料成分等の赤色着色剤及びバインダーを主成分とし、必要に応じて光重合性のモノマーやオリゴマーからなる光重合成化合物、光重合開始材等を含む材料を用いることができる。Ｒ画素パターン１１６は、上記材料を露光・現像により上記パターン形状に加工することによって形成される。
【００６９】
続いて、緑色着色剤、青色着色剤を含む材料を用いて、同様の方法により、Ｒの着色画素層が形成されていない列に、Ｇ（緑）の着色画素層とＢ（青）の着色画素層が形成される（ステップ１３４，１３６）。図２７(Ａ)及び(Ｂ)に、Ｇ画素パターン１１８、Ｂ画素パターン１２０形成後の状態を示す。なお、着色画素パターンの材料は特に限定されず、カラーフィルタの材料として公知のあらゆる材料を採用することができる。３色の着色画素層を形成したら、次に、それらの層を覆うように透明樹脂から成る保護膜１２４が形成される（ステップ１３８）。更に、その上にスパッタリングにより透明電極１２６（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）が形成される（ステップ１４０）。なお、保護膜１２４の膜厚は例えば１μｍ程度、透明電極１２６の膜厚は例えば８００Å程度とすることができる。これらの層についても、公知の保護膜あるいは透明電極の材料を採用することができる。
【００７０】
続いて、透明電極１２６上にスペーサ１２２が形成される（ステップ１４２）。スペーサ１２２は、液晶セルのギャップを均一に制御できる程度の間隔で、ブラックマトリックスパターン１１２の線と重なるように形成される。本実施形態では、図２７(Ａ)及び(Ｂ)に示すように、Ｒ画素パターン１１６の周囲を囲むように形成されたブラックマトリックスパターンのＥ型の短いほうの横線と縦線との交点上に、２〜４μｍ程度の高さの円柱状のスペーサ１２２が配置される。スペーサ１２２は、公知の感光性樹脂を露光・現像により上記パターン形状に加工することによって形成される。スペーサ１２２の材料としては透明樹脂を採用することが好ましいが、光透過性が低い材料を採用することも可能である。なお、液晶セルのギャップを制御するスペーサとしては、液晶セル製造工程において基板上に散布するビーズ状のスペーサボールが知られているが、本明細書では、上記のとおり、カラーフィルタ基板製造工程１００において、基板上の所定の位置に露光により形成される柱状の部材をスペーサと称する。
【００７１】
次に透明電極１２６の上に配向制御部材（リブ材）が形成される（ステップ１４４）。図２８(Ａ)及び(Ｂ)に配向制御部材形成後の基板の状態を示す。図２８(Ａ)に示すように、配向制御部材は、着色画素パターン１１６，１１８，１２０上で、一の方向に平行に形成された複数の線状パターンと、その方向と略垂直な方向に平行に形成された複数の線状パターンとからなる。また図２８(Ｂ)に示すように、線状パターン１２８は高さ１μｍ程度の突起状のパターンである。この突起状のパターンはカラーフィルタ基板とアレイ基板の貼り合せ後、液晶セルの液晶分子を所定の向きに配向する。配向制御部材の材料としては、公知の透明感光性樹脂を用いることができる。
【００７２】
上記のように、カラーフィルタ基板４を構成する各構造部材は露光及び現像により形成されるが、露光・現像による構造部材の形成手順について、以下で更に説明する。
【００７３】
図２９は、図２４のステップ１３０のブラックマトリックス形成工程の詳細を示すフローチャートである。まず、透明基板が洗浄され（ステップ１５０）、洗浄された基板の全面もしくはカラーフィルタ構造を形成する領域に、黒色のネガ型感光性レジストが塗布される（ステップ１５２）。続いて、レジスト材料に応じた適切な温度でベーキングが行われ（プリベーク：ステップ１５４）、塗布されたレジスト層がブラックマトリックスパターンの形状に露光される。この露光には、先に説明した画像露光装置１０等が用いられ、デジタル記録によりブラックマトリックスパターン１１２が露光記録される（ステップ１５６）。具体的には、ブラックマトリックスパターン１１２を表す２値画像を生成し、その２値画像の各画素値に基づいて、値が１の画素に対応する箇所は露光され、値が０の画素に対応する箇所は露光されないように、基板への光の照射が制御される。
【００７４】
続いて、露光後の基板が現像される（ステップ１５８）。本実施形態では、レジストはネガ型レジストであるため、露光された部分がパターンとして基板上に残る。このパターンに対して再度ベーキングが行われる（ポストベーク）ことでパターンが基板上に固定される（ステップ１６０）。以上により、図２５(Ａ)及び (Ｂ)に示すブラックマトリックスパターン１１２が形成される。
【００７５】
図３０は、図２４のＲ画素形成工程（ステップ１３２）、Ｇ画素形成工程（ステップ１３４）、Ｂ画素形成工程（ステップ１３６）、スペーサ形成工程（ステップ１４２）、配向制御部材形成工程（ステップ１４４）に共通な、部材形成工程を示すフローチャートである。まず、パターンが形成された基板が洗浄される（ステップ１６４）。例えばＲ画素形成工程ではブラックマトリックスが形成された基板が洗浄される。また、配向制御部材形成工程では、ブラックマトリックス、着色画素層及びスペーサが形成された基板が洗浄される。続いて、形成する部材の材料となるレジストが塗布される（ステップ１６６）。本実施形態では、ネガ型の感光レジストが塗布される。続いて、レジスト材料に応じた適切な温度でベーキング（プリベーク）が行われる（ステップ１６８）。
【００７６】
その後、下層に形成されているパターンと、これから形成するパターンとの位置を合わせるために、基板の読取り（ステップ１７０）と、画像の補正（ステップ１７２）が行われるが、これらの処理については説明を省略する。続いて、塗布されたレジストが、補正された画像に描かれているパターン形状に露光される（ステップ１７４）。露光はブラックマトリックス形成時と同様、画像露光装置１０を用いたデジタル記録により行われる。そして、露光後の基板が現像され（ステップ１７６）、現像後基板上に残ったパターンに対して再度ベーキング（ポストベーク）が行われることで基板上に固定される（ステップ１７８）。以上の工程により各部材のパターンが形成される。
【００７７】
上記で説明した製造工程を経て液晶パネルに形成されるスペーサやブラックマトリックス、液晶配向制御用パターンのうち、特に図２７，２８に示すスペーサ１２２は、基板上における形成ピッチが画像露光装置１０による記録位置のピッチの整数倍でない場合に、周期的なむらとして視認され易い。このような場合も本発明を適用し、一定ピッチで形成されるスペーサ１２２に起因する周期的なむらが視認されにくい向きを選択し、選択した向きでスペーサ１２２を記録・形成するようにすれば、周期的なむらが視認されにくくなるようにスペーサ１２２を形成することができる。
【００７８】
また、上述したスペーサや液晶配向制御用パターン（リブ材となる液晶配向制御用突起）は、以下のような製造工程を経て液晶パネルに形成することも可能である。すなわち、先に説明したように３色の着色画素層から成るカラーフィルタ膜、保護膜、透明電極を基板上に順次形成した後に、光感度の高い第１のネガ型感光性透明樹脂層（第１透明層）と、これに対し相対的に光感度の低い第２のネガ型感光性透明樹脂層（第２透明層）が形成された転写シートを、基板上の透明電極と接するように貼り合わせてラミネートすることにより、透明電極側から順次、第１透明層と第２透明層を設けた後、基板側から、液晶配向制御用突起部位となる領域には低エネルギー量にて、スペーサ部位となる領域には高エネルギー量にてレーザ露光し、その後現像することで、図３１に示すように、配向制御用突起１８０及びスペーサ１８２を形成する。なお、低エネルギー量／高エネルギー量の切替えは、例えば液晶配向制御用突起部位に対しては１回の副走査のみにおいてレーザ露光を行い、スペーサ部位に対しては２回の副走査において共にレーザ露光を行う、という操作によって実現可能である。
【００７９】
これにより、配向制御用突起１８０は第１透明層のみが残った凸部で構成され、スペーサ１８２は第１及び第２透明層が残った柱部で構成される。図３１に示すように、第１透明層と第２透明層とが残されて成るスペーサ１８２は、第１透明層のみが残されて成る液晶配向制御用突起１８０と比べて、厚みが第２透明層の厚み分だけ厚くなっている。ネガ型感光性透明樹脂層の各々の厚みを適宜所望に応じて選択することで、好適な厚み、つまり高さを持つ配向制御用突起１８０やスペーサ１８２を形成することができる。上記の製造工程を経て配向制御用突起１８０又はスペーサ１８２を一定ピッチで形成する場合にも本発明を適用し、一定ピッチで形成される配向制御用突起１８０又はスペーサ１８２に起因する周期的なむらが視認されにくい向きを選択し、選択した向きで配向制御用突起１８０又はスペーサ１８２を記録・形成するようにすれば、周期的なむらが視認されにくくなるように配向制御用突起１８０又はスペーサ１８２を形成することができる。
【００８０】
また、上記では記録媒体８４上でのレーザ光の照射位置（記録位置）マトリクス状に配列されていると共に、記録媒体８４上での記録位置のマトリクス状の配列における行方向及び列方向が主走査方向に対して各々傾斜されている態様を説明したが、これに限定されるものではなく、例えば行方向及び列方向の一方が主走査方向に沿い、他方が副走査方向に沿うように各記録位置が配列されている場合や、記録位置が主走査方向に沿って一列に配列されている場合にも適用可能である。この場合は、記録位置の主走査方向に沿ったピッチとして１種類のピッチを求め、求めたピッチと、周期的なパターンをそれぞれの向きで記録するときの主走査方向に沿ったピッチとの最小公倍数を各々演算すればよい。
【００８１】
また、上記では画像露光装置１０の制御ユニット４２が、周期的なむらが視認されにくい向きを自動的に選択し、選択した向きで周期的なパターンを記録する態様を説明したが、最小公倍数の演算や周期的なパターンを記録する向きの選択をオペレータが行い、選択した向きを画像露光装置１０に入力することで、選択した向きでの周期的なパターンの記録を行わせるようにしてもよい。また、画像露光装置１０で記録する可能性の有る各種のパターンについて、周期的なむらが視認されにくい向きを事前に判断し、各パターンのＩＤと対応付けて画像露光装置１０に予め登録しておき、画像露光装置１０は記録するパターンのＩＤと対応付けて登録されている向きを読み出すことで、周期的なむらが視認されにくい向きを認識するようにしてもよい。
【００８２】
また、上記で説明した反射型空間光変調素子であるＤＭＤ３６に代えて、例えば透過型空間光変調素子(ＬＣＤ)を使用してもよく、ＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems)タイプの空間光変調素子(ＳＬＭ：SpacialLight Modulator)や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子(ＰＬＺＴ素子)、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイ等、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ：Grating Light Valve）を複数並べて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。
【００８３】
更に、上記では光源として半導体レーザを挙げて説明したが、固体レーザ、紫外ＬＤ、赤外ＬＤ等を用いてもよい。更に、複数の発光点が二次元状に配列された光源（例えば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）を使用してもよい。
【００８４】
また、上記では本発明に係る画像記録装置として、フラッドベッドタイプの画像露光装置１０を例に説明したが、感光材料がドラムの外周面に巻きつけられるアウタードラムタイプの画像露光装置、感光材料がシリンダの内周面に装着されるインナードラムタイプの画像露光装置であってもよい。
【００８５】
また、上述した画像露光装置１０は、プリント配線基板(ＰＷＢ：PrintedWiring Board)の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト(ＤＦＲ：Dry Film Resist)の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成以外に、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に用いることができる。なお、感光材料が基板上に塗布されたものを本発明の対象としてもよい。
【００８６】
更に、上述した画像露光装置１０には、露光により直接情報が記録されるフォトンモード感光材料、露光により発生した熱で情報が記録されるヒートモード感光材料の何れも使用できる。フォトンモード感光材料を使用する場合、レーザ光源としてＧａＮ系半導体レーザ、波長変換固体レーザ等が使用され、ヒートモード感光材料を使用する場合、レーザ光源としてＡｌＧａＡｓ系半導体レーザ（赤外レーザ）、固体レーザが使用される。
【００８７】
また、本発明では、画像露光装置に限らず、例えば、インクジェット記録ヘッドに同様の構成を採用することが可能である。すなわち、一般にインクジェット記録ヘッドでは、記録媒体（例えば、記録用紙やＯＨＰシート等）に対向するノズル面に、インク滴を吐出するノズルが形成されているが、インクジェット記録ヘッドのなかには、このノズルを格子状に複数配置し、ヘッド自体を走査方向に対して傾斜させて、高解像度で画像を記録可能なものがある。このような二次元配列が採用されたインクジェット記録ヘッドに本発明を適用した場合にも、画像上での周期的なむら（やジャギー）の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本実施形態に係る画像露光装置の外観を示す斜視図である。
【図２】ＦＰＤ用のカラーフィルタ基板の製造工程を説明するための概略図である。
【図３】露光ヘッドの概略構成図である。
【図４】ＤＭＤを部分的に拡大して示す斜視図である。
【図５】ＤＭＤのマイクロミラーのオン状態を示す斜視図である。
【図６】ＤＭＤのマイクロミラーのオフ状態を示す斜視図である。
【図７】露光ヘッドとシートフイルムとの位置関係を示す斜視図である。
【図８】露光ヘッドによるシートフイルム上の露光エリアを示す平面図である。
【図９】画像露光装置の制御系の概略構成を示すブロック図である。
【図１０】ＤＭＤ（のマイクロミラーの配列）の傾斜を示す平面図である。
【図１１】記録媒体上のアドレス格子点と記録媒体上に露光記録すべきオリジナル画像の一例を各々示す概略図である。
【図１２】アドレス格子点の３種類の並びを示す概略図である。
【図１３】格子点列１と画像データが表すオリジナル画像との関係で発生するジャギーを説明するための概略図である。
【図１４】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更する前の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図１５】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更する前の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図１６】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更する前の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図１７】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更した後の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図１８】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更した後の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図１９】本実施形態に係る調整方法に従ってパラメータを変更した後の、オリジナル画像の主走査方向に対する傾斜角度θＬと、露光記録される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅との関係の一例を示す線図である。
【図２０】記録媒体上でのドット記録位置の配列と記録媒体に記録するフィルタパターンの配列との関係の一例を示す概略図である。
【図２１】人間の視覚の空間周波数特性の一例を示す線図である。
【図２２】液晶パネルの製造工程の概要を示す概略図である。
【図２３】カラーフィルタ基板の一例を示す平面図である。
【図２４】カラーフィルタ基板製造工程の詳細を示すフローチャートである。
【図２５】ブラックマトリックス形成工程後の基板を拡大して示す、(Ａ)は平面図、(Ｂ)は断面図である。
【図２６】Ｒ画素パターン形成工程後の基板を拡大して示す、(Ａ)は平面図、(Ｂ)は断面図である。
【図２７】全着色画素パターン形成工程後の基板を拡大して示す、(Ａ)は平面図、(Ｂ)は断面図である。
【図２８】配向制御部材形成工程後の基板を拡大して示す、(Ａ)は平面図、(Ｂ)は断面図である。
【図２９】ブラックマトリックス形成工程を示すフローチャートである。
【図３０】各部材の形成工程を示すフローチャートである。
【図３１】液晶パネルを拡大して示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００８９】
１０  画像露光装置
１６  ガイドレール
１８  移動ステージ
２４  各露光ヘッド
２６  スキャナ
３６  ＤＭＤ
４０  マイクロミラー
４２  制御ユニット
８４  記録媒体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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