(57)【要約】【課題】  優れた防湿性を有する放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】  支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルであって、少なくとも前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を少なくとも１層含むコーティング層が形成されていることを特徴とする放射線像変換パネルである。また、支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を、ＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を少なくとも含むことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルであって、
少なくとも前記蛍光体層の非積層面側に、金属を含有する金属含有層を少なくとも１層含むコーティング層が形成されていることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記金属含有層が、金属酸化物および金属窒化物の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記金属含有層が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素および酸化アルミニウムよりなる群から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項２に記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記コーティング層が前記金属含有層と樹脂層とを含み、前記非積層面側から前記樹脂層と前記金属含有層とが順次形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記金属含有層が、ＣＶＤ法により形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
前記ＣＶＤ法が、プラズマＣＶＤ法であることを特徴とする請求項５に記載の放射線像変換パネル。
【請求項７】
支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルの製造方法であって、
前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層をＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を、少なくとも含むことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項８】
前記非積層面側全体に前記金属含有層を同時に形成することを特徴とする請求項７に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
歯科用途のイメージングプレート（ＩＰ）は、取り扱い上の傷やある程度の水滴付着等に対し、十分な耐久性を有することが必要とされる。このような耐久性を有する歯科用途のイメージングプレートについては、これまで種々の研究がなされてきた。
【０００３】
特に水滴付着等による劣化を防止するために、輝尽性蛍光体シートのエッジ部と該エッジ部近傍の支持体トレー表面部位とが封止部材でされた放射線像変換パネルが提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、側面が接着樹脂層およびシクロオレフィンコポリマー層によりこの順に被覆された放射線像変換パネルが提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかし、いずれの場合も、有機高分子の主鎖、側鎖の熱運動等に起因する樹脂特有の比較的高い透湿性のためのため、未だ防湿性については十分とはいえない。また、防湿性不足を補うため、封止厚をアップすることによる画像領域狭小化等の弊害もある。
【特許文献１】特開２００４−１２４１３号公報
【特許文献２】特開２００４−２９４１７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、優れた防湿性を有する放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明により当該課題を解決できることを見出した。
【０００６】
すなわち、本発明は、支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルであって、少なくとも前記蛍光体層の非積層面側に、金属を含有する金属含有層を少なくとも１層含むコーティング層が形成されていることを特徴とする放射線像変換パネルである。
【０００７】
本発明の放射線像変換パネルは、下記第１〜第５の態様のうち少なくとも１の態様を具備することが好ましい。
【０００８】
（１）第１の態様は、前記金属含有層が、金属酸化物および金属窒化物の少なくともいずれかを含む態様である。
（２）第２の態様は、前記金属含有層が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素および酸化アルミニウムよりなる群から選択される少なくとも１種を含む態様である。
（３）第３の態様は、前記コーティング層が前記金属含有層と樹脂層とを含み、前記非積層面側から前記樹脂層と前記金属含有層とが順次形成されている態様である。
（４）第４の態様は、前記金属含有層が、ＣＶＤ法により形成される態様である。
（５）第５の態様は、前記ＣＶＤ法が、プラズマＣＶＤ法である態様である。
【０００９】
また、本発明は、支持体上に少なくとも蛍光体層が積層された放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を、ＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を、少なくとも含むことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。当該ＣＶＤ工程においては、前記非積層面側全体に前記金属含有層を同時に形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、優れた防湿性を有する放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
［放射線像変換パネル］
図１に、本発明の放射線像変換パネルの層構成を例示する部分断面図を示す。図１に示すように、本発明の放射線像変換パネルは、支持体１０上に蛍光体層１２と保護層１４とが順次形成されている。そして、蛍光体層１２の非積層面である側面に樹脂層２０Ａと金属含有層２０Ｂとからなるコーティング層２０が形成されている。樹脂層２０Ａだけでは十分な防水性能が得られないが、金属含有層２０Ｂを設けることで、欠陥の少ない緻密な膜となり高い防水効果を発揮することができる。なお、金属含有層２０Ｂだけでも十分な防水効果が得られる。
【００１２】
化学的、物理的安定性、膜の緻密性等の観点から、金属含有層２０Ｂは金属酸化物および金属窒化物の少なくともいずれかであることが好ましい。なお、本発明において、金属含有層２０Ｂの金属としては、Ｓｉを含むものとする。
【００１３】
上記金属酸化物および金属窒化物としては、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化窒化アルミニウム、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素および酸化アルミニウム等が挙げられる。なかでも、膜の緻密性、コスト等の観点から、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素および酸化アルミニウムのうちの少なくとも１種であることが好ましい。
【００１４】
金属含有層２０Ｂの平均厚みは、０．００１〜１．０μｍであることが好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがより好ましい。金属含有層２０Ｂは、コーティング層２０中で２層以上形成してもよいが、その場合は、合計の平均厚みが上記範囲にあることが好ましい。
【００１５】
金属含有層２０Ｂが、緻密な膜を形成する観点から、ＣＶＤ法により形成されることが好ましく、特にプラズマＣＶＤ法により形成されることが好ましい。なお、ＣＶＤ法の詳細については、後述する。
【００１６】
コーティング層２０中の樹脂層２０Ａは任意の層ではあるが、金属含有層２０Ｂを形成しやすくし、密着性を向上させるために設けることが好ましい。樹脂層２０Ａの平均厚みは、０．１〜１００μｍであることが好ましく、１〜５０μｍであることがより好ましい。樹脂層２０Ａは、コーティング層２０中で２層以上形成してもよいが、その場合は、合計の平均厚みが上記範囲にあることが好ましい。
【００１７】
樹脂層２０Ａとしては、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール、これらの共重合体等が挙げられる。
【００１８】
コーティング層が形成される領域としては、少なくとも蛍光体層の非積層面側（特に、非積層面）であるが、ここでいう「蛍光体層の非積層面」とは、図１の場合のように蛍光体層上に層が形成されていない面、すなわち側面をいう。また、蛍光体層上に保護層が形成されていない場合には、側面および支持体が形成されている面とは反対側の面（上面）をいう。
【００１９】
以下、本発明の放射線像変換パネルを構成する各層の材料などについて説明する。
【００２０】
（支持体）
支持体は、ＰＥＴ、ポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好適に用いられる。特に、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８５℃以上、好ましくは１００℃以上の基材であることが望ましく、８５℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものが好ましい。さらに、１００℃以上のガラス転移温度を有するポリシクロオレフィン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＴとＰＥＩ（ポリエーテルイミド）のナノアロイポリマー、透明アラミド等の材料からなるものがより好ましい。
【００２１】
（蛍光体層）
蛍光体層に用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平７−８４５８８号等に記載されている一般式（Ｍ1-f・ＭfI）Ｘ・ｂＭIIIＸ３’’：ｃＡ（一般式（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式（Ｉ）におけるＭIとしては、Ｒｂ，Ｃｓおよび／またはＣｓを含有したＮａ、同Ｋが好ましく、特にＲｂおよびＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。ＭIIIとしてはＹ，Ｌａ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ’’としては、Ｆ，ＣｌおよびＢｒから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。ＭIIIＸ３’’の含有率を表すｂ値は０≦ｂ≦１０-2の範囲から選ばれるのが好ましい。
【００２２】
一般式（Ｉ）において、賦活剤ＡとしてはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｇｄ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましく、特にＥｕ，Ｃｅ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は１０-6＜Ｃ＜０．１の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好ましい。
【００２３】
また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いることができる。米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されているＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ2：Ｅｒ、およびＬａ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、
【００２４】
特開昭５５−１２１４２号公報に記載されているＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ、ＢａＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：Ｅｕ（ただし、０．８≦ｘ≦１０）、および、ＭIIＯ・ｘＳｉＯ2：Ａ（ただし、ＭIIはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，Ｃｄ、またはＢａであり、ＡはＣｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉまたはＭｎであり、ｘは０．５≦ｘ≦２．５である）、
【００２５】
特開昭５５−１２１４３号公報に記載されている（Ｂａ1-x-y，ＭｇＸ，Ｃａｙ）ＦＸ：ａＥｕ2+（ただし、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦０．６、かつｘｙ≠０であり、ａは、１０-6≦ａ≦５×１０-2である）、
【００２６】
特開昭５５−１２１４４号公報に記載されているＬｎＯＸ：ｘＡ（ただし、ＬｎはＬａ，Ｙ，Ｇｄ、およびＬｕのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種、ＡはＣｅおよびＴｂのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜０．１である）、
【００２７】
特開昭５５−１２１４５号公報に記載されている（Ｂａ1-X，Ｍ2+Ｘ）ＦＸ：ｙＡ（ただし、ＭはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ、およびＣｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種、ＡはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒのうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）、
【００２８】
特開昭５５−１６００７８号公報に記載されているＭIIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（ただし、ＭIIはＢａ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｍｇ，ＺｎおよびＣｄのうちの少なくとも一種、ＡはＢｅＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，ＺｎＯ，Ａｌ2Ｏ3，Ｙ2Ｏ3，Ｌａ2Ｏ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＳｉＯ2，ＴｉＯ2，ＺｒＯ2，ＧｅＯ2，ＳｎＯ2，Ｎｂ2Ｏ5，Ｔａ2Ｏ5およびＴｈＯ2のうちの少なくとも一種、ＬｎはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，ＳｍおよびＧｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙはそれぞれ５×１０-5≦ｘ≦０．５、および０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００２９】
特開昭５６−１１６７７７号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３０】
特開昭５７−２３６７３号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＢ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３１】
特開昭５７−２３６７５号公報に記載されている（Ｂａ1-x，ＭIIx）Ｆ2・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、ＭIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０-6≦ｙ≦２×１０-1、および０＜ｚ≦５×１０-1である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３２】
特開昭５８−６９２８１号公報に記載されているＭIIIＯＸ：ｘＣｅ（ただし、ＭIIIはＰｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはＣｌおよびＢｒのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３３】
特開昭５８−２０６６７８号公報に記載されているＢａ1-XＭX/2ＬX/2ＦX：ｙＥｕ2+（ただし、ＭはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし；Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし；そして、ｘは１０-2≦ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３４】
特開昭５９−２７９８０号公報に記載のＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３５】
特開昭５９−４７２８９号公報に記載されているＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０-6≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３６】
特開昭５９−５６４７９号公報に記載されているＢａＦＸ・ｘＮａＸ’：ａＥｕ2+（ただし、ＸおよびＸ’は、それぞれＣｌ、Ｂｒ、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３７】
特開昭５９−５６４８０号公報に記載されているＭIIＦＸ・ｘＮａＸ’：ｙＥｕ2+：ｚＡ（ただし、ＭIIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ’は、それぞれＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦０．２、およびｚは０＜ｚ≦１０-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３８】
特開昭５９−７５２００号公報に記載されているＭIIＦＸ・ａＭIＸ’・ｂＭ’IIＸ’’2・ｃＭIIIＸ3・ｘＡ：ｙＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭIはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｍ’IIはＢｅおよびＭｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；ＭIIIはＡｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ’，Ｘ’’およびＸは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦１０-2、ｃは０≦ｃ≦１０-2、かつａ＋ｂ＋ｃ≧１０-6であり；ｘは０＜ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００３９】
特開昭６０−８４３８１号公報に記載されているＭIIＸ2・ａＭIIＸ’2：ｘＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ’はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつＸ≠Ｘ’であり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００４０】
特開昭６０−１０１１７３号公報に記載されているＭIIＦＸ・ａＭIＸ’：ｘＥｕ2+（ただし、ＭIIはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘはそれぞれ０≦ａ≦４．０および０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００４１】
特開昭６２−２５１８９号公報に記載されているＭIＸ：ｘＢｉ（ただし、ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００４２】
特開平２−２２９８８２号公報に記載のＬｎＯＸ：ｘＣｅ（但し、ＬｎはＬａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕのうちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは０＜ｘ≦０．２であり、ＬｎとＸとの比率が原子比で０．５００＜Ｘ／Ｌｎ≦０．９９８であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが５５０ｎｍ＜λ＜７００ｎｍ）で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
【００４３】
また、上記特開昭６０−８４３８１号公報に記載されているＭIIＸ2・ａＭIIＸ’2：ｘＥｕ2+輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物が含まれていてもよい。
【００４４】
すなわち、特開昭６０−１６６３７９号公報に記載されているｂＭIＸ’’（ただし、ＭIはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０．０である）；特開昭６０−２２１４８３号公報に記載されているｂＫＸ’’・ｃＭｇＸ2・ｄＭIIIＸ’3（ただし、ＭIIIはＳｃ，Ｙ，Ｌａ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ’’、ＸおよびＸ’はいずれもＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦２．０、０≦ｄ≦２．０であって、かつ２×１０-5≦ｂ＋ｃ＋ｄである）；特開昭６０−２２８５９２号公報に記載されているｙＢ（ただし、ｙは２×１０-4≦ｙ≦２×１０-1である）；特開昭６０−２２８５９３号公報に記載されているｂＡ（ただし、ＡはＳｉＯ2およびＰ2Ｏ5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｂは１０-4≦ｂ≦２×１０-1である）；特開昭６１−１２０８８３号公報に記載されているｂＳｉＯ（ただし、ｂは０＜ｂ≦３×１０-2である）；特開昭６１−１２０８８５号公報に記載されているｂＳｎＸ’’2（ただし、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０-3である）；特開昭６１−２３５４８６号公報に記載されているｂＣｓＸ’’・ｃＳｎＸ2（ただし、Ｘ’’およびＸはそれぞれＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０-6≦ｃ≦２×１０-2である）；および特開昭６１−２３５４８７号公報に記載されているｂＣｓＸ’’・ｙＬｎ3+（ただし、Ｘ’’はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、ＬｎはＳｃ，Ｙ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０-6≦ｙ≦１．８×１０-1である）。
【００４５】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体（例えばＢａＦＩ：Ｅｕ）ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体（例えばＣｓＢｒ：Ｅｕ）、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すことから好ましく用いることができる。
【００４６】
（保護層および裏面層）
蛍光体層の上に形成される保護層は、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレートなどのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、ポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護膜形成用シートを別に作製して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したもの、などが用いられる。
【００４７】
また、有機溶媒可溶性のフッ素系樹脂の塗布膜により形成され、パーフルオロオレフィン樹脂粉末もしくはシリコーン樹脂粉末等の微粒子を分散、含有させた保護層であってもよい。
【００４８】
蛍光体層が形成される側とは反対側の支持体上には、物理的、化学的耐久性、搬送性付与を目的として、裏面層が形成されることがある。裏面層の材料としては、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、金属（箔または粒子）、紙等が挙げられ、ラミネート、圧着、熱融着、塗布、蒸着等により形成することができる。
【００４９】
（中間層）
中間層は、蛍光体層と支持体との密着性を良好のする接着層の役割を果たす層であり、適宜設けられる層である。中間層は、例えば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、ＰＥＴ、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質を用いることができる。中間層を形成するこれらの合成高分子物質はポリマーとして用いても、モノマーとして用いてもかまわないが、熱、可視光、ＵＶ光、電子線などの照射によって架橋するものであることが好ましい。
【００５０】
中間層を支持体上に設ける場合、密着性を向上させるためにシランカップリング剤や、チタネートカップリング剤等のカップリング剤を添加することが好ましい。さらに、中間層組成物の塗布性および硬化後の薄膜の物性の改善や、塗膜に対する感光性の付与等を目的として、例えば水酸基を有する種々のポリマーやモノマー、顔料または染料等の着色剤、黄変防止剤、老化防止剤や紫外線吸収剤等の安定化剤、熱酸発生剤、感光性酸発生剤、界面活性剤、溶剤、架橋剤、硬膜剤、重合禁止剤等の各種の添加剤を目的に応じて含有させることができる。
【００５１】
また、中間層には、耐久性の向上、ニジムラを防止するため、有機または無機の粉末が含まれていてもよい。含有させる場合は、中間層重量当り０．５〜６０重量％程度であることがより好ましい。粉末は特定の帯域に吸収を有するもの、例えば群青等や、概して３００〜９００ｎｍの波長域で特異な吸収を示さない白色粉末が好ましい。これら粉末の体積平均粒径は０．０１〜１０μｍ程度が好ましく、０．３〜３μｍ程度がより好ましい。一般に、これら粒子の粒子サイズには分布があるが、分布が狭い方が好ましい。
【００５２】
［放射線像変換パネルの製造方法］
本発明の放射線像変換パネルの製造方法は、前記蛍光体層の非積層面側に金属を含有する金属含有層を、ＣＶＤ法により形成するＣＶＤ工程を少なくとも含む。本発明の放射線像変換パネルの製造方法は、上記ＣＶＤ工程を含むものであれば特に限定されない。
【００５３】
本発明の放射線像変換パネルの製造方法としては、例えば、支持体上に中間層を形成する中間層形成工程（当該工程は任意）と、仮支持体上に蛍光体材料を塗布し仮支持体から剥離することで蛍光体材料を含有する蛍光体シートを作製する蛍光体シート作製工程と、蛍光体シートを中間層上に貼り合わせて蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、所望の大きさに裁断する裁断工程等を含む。そして、上記ＣＶＤ工程は蛍光体層の非積層面側に金属含有層を設ける工程であるため、上記蛍光体シート作製工程、蛍光体層形成工程、または、裁断工程の後に設けられることが好ましい。以下、各工程について説明する。
【００５４】
（ＣＶＤ工程）
ＣＶＤ工程は、既述のように蛍光体層の非積層面側にＣＶＤ法により金属含有層を設ける工程である。ＣＶＤ法は、塗布法やスパッタリング法に比べ、分子レベルの粒子が堆積されることによる層形成がなされるため、緻密な膜を形成することができる。ＣＶＤ法としては、基板（支持体）の温度を上げて推積させる熱ＣＶＤ法；化学反応や熱分解を促進させるために光を照射する光ＣＶＤ法；ガスをプラズマ状態に励起するプラズマＣＶＤ法；等があるが、クラックやマイクロポアをより少なくしより緻密な膜を形成できるプラズマＣＶＤ法を適用することが好ましい。
【００５５】
熱ＣＶＤにより金属含有層を形成する場合、その条件としては、下記の通りとすることが好ましい。すなわち、原料ガスの装置内への流入速度を１０〜１００００ｍｌ／ｍｉｎ程度とし、装置内の圧力を１〜１０6Ｐａ程度とすることが好ましい。原料ガスとしては、形成しようとする金属含有層の材料によるが、シラン、ジシラン、アンモニア、トリメチルアルミニウム、窒素、酸素等が挙げられる。装置内の支持体の温度は、５０〜２００℃とすることが好ましい。
【００５６】
また、プラズマＣＶＤにより金属含有層を形成する場合、その条件としては、下記の通りとすることが好ましい。すなわち、原料ガスの装置内への流入速度を１０〜１００００ｍｌ／ｍｉｎ程度とし、装置内の圧力を１〜１０6Ｐａ程度とすることが好ましい。原料ガスとしては、形成しようとする金属含有層の材料によるが、シラン、ジシラン、アンモニア、トリメチルアルミニウム、窒素、酸素等が挙げられる。装置内の支持体の温度は、０〜２００℃とすることが好ましい。プラズマを発生させるには、周波数１０-4〜１０ＭＨｚの高周波電力を放電電極に投入することが好ましい。
【００５７】
以上のようなＣＶＤ工程を経て形成された金属含有層は、ヒビ、ワレ、点状の欠陥が少なく、緻密な膜となっているため、防水性に非常に優れている。
【００５８】
なお、金属含有層を形成する前に、少なくとも金属含有層を形成しようとする領域に樹脂層を形成することが好ましい。樹脂層の材料としては、既述の通りである。形成方法としては、ディップ法や刷毛およびスプレーなどを使用した塗布法など種々の方法を適用することができる。また、金属含有層を形成する場合、および、樹脂層を形成する場合は、適宜マスキングを行って、所望の領域のみに選択的に当該層を形成することができる。さらに、生産性を考慮すると、当該ＣＶＤ工程においては、前記非積層面側全体に前記金属含有層を同時に形成することが好ましい。
【００５９】
（中間層形成工程）
中間層形成工程は、支持体と蛍光体層との密着性を高めるために、支持体上に中間層を形成する工程である。形成方法としては、まず、支持体上に、中間層を形成するための中間層形成用分散液をドクターブレード、ナイフコーター、バーコーター法等の方法により塗布する。次に、５０〜２００℃で乾燥して、中間層を形成する。当該中間層の厚みは、１〜２００μｍであることが好ましい。
【００６０】
中間層形成用分散液は、結合剤、可塑剤等を溶剤に溶解して調製することができる。結合剤としては、既述の高分子物質を用いることができる。可塑剤としては、フタル酸エステル、アジピン酸エステル、ポリエステル可塑剤等が挙げられる。また、溶剤としては、メチルエチルケトン等のケトン系有機溶剤、エステル系有機溶剤、芳香族系有機溶剤等が挙げられる。
【００６１】
（蛍光体シート作製工程）
当該工程は、仮支持体上に輝尽性蛍光体材料からなる層を形成し仮支持体から剥離することで蛍光体材料を含有する蛍光体シートを作製する工程である。
【００６２】
蛍光体層は、蒸着法、スパッタ法、塗布法など公知の方法により仮支持体上に形成することができる。
【００６３】
蒸着法においては、まず仮支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して１０-4Ｐａ程度の真空度とする。次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて仮支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。蒸着工程を複数回に分けて蛍光体層を形成することも可能である。また、蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、仮支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に蛍光体層を形成することもできる。蒸着終了後、蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００６４】
スパッタ法においては、蒸着法と同様に仮支持体をスパッタ装置内に設置した後装置内を一旦排気して１０-4Ｐａ程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてＡｒ，Ｎｅ等の不活性ガスをスパッタ装置内に導入して１０-1Ｐａ程度のガス圧とする。次に、輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、仮支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。スパッタ工程においても蒸着法と同様に、複数回に分けて蛍光体層を形成することも可能であるし、また、それぞれ異なった輝尽性蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時あるいは順次、ターゲットをスパッタリングして蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法においては、必要に応じてＯ2、Ｈ2やハロゲン等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。スパッタ終了後、蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００６５】
塗布法においては、蛍光体を溶剤とともに充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製し、この塗布液を支持体の表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いることにより行うことができる。
【００６６】
塗布法にて蛍光体層を形成する場合、当該蛍光体層には、輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する結合剤とを含有する。その他、蛍光体層中には着色剤などの添加剤が含まれていてもよい。当該蛍光体層は、次のような公知の方法により仮支持体上に形成することができる。
【００６７】
まず、輝尽性蛍光体と結合剤とを溶剤に加え、これを充分に混合して、結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製する。塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類などによって異なるが、一般には結合剤と輝尽性蛍光体との混合比（質量比）は、１：１〜１：１００の範囲から選ばれ、特に１：８〜１：４０の範囲から選ぶことが好ましい。
【００６８】
なお、結合剤としては、ゼラチン等のたんぱく質；アラビアゴム等の天然高分子化合物；ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル等の合成高分子物質；を挙げることができる。
【００６９】
塗布液調製用の溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライド等の塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル；これら２以上の混合物；を挙げることができる。なお、必要に応じて、公知の分散剤、可塑剤、黄変防止剤等を含有させてもよい。
【００７０】
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なり、２０μｍ〜１ｍｍ程度とするのが一般的であるが、５０μｍ〜５００μｍとすることがより好ましい。なお、仮支持体としては、フッ素樹脂やシリコーン樹脂等が少なくとも片面に付与された離型性を有するフイルム等を使用することができる。
【００７１】
（蛍光体層形成工程）
当該工程は、蛍光体シートを中間層上に貼り合わせて蛍光体層を形成する工程である。貼り合わせの際には、圧力付与処理を施すことが好ましい。圧力を付与しながら貼り合わせることで、放射線像変換パネルの表面をより硬くすることが可能となる。圧力付与処理を伴う貼り合わせ方法としては、カレンダ処理による貼り合わせを適用することが好ましい。
【００７２】
カレンダ処理を行う場合、圧力は、１〜１００ＭＰａとすることが好ましい。１〜１００ＭＰａとすることで、特性劣化を抑えながら密着強度を上げることができる。また、ロールの温度は、２５〜２００℃とすることが好ましい。２５〜２００℃とすることで、各層の変質を抑制しつつ密着強度を上げることができる。さらに、ロールの送り速度は、０．１〜１００ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。０．１〜１００ｍ／ｍｉｎであることで、生産性と均一性を両立することができる。
【００７３】
（裁断工程）
当該工程は、オス刃、メス刃により、打ち抜き処理を施して放射線像変換パネルの所望の形状にする工程である。
【００７４】
以上のような工程のほかに、保護層を形成する工程など種々の工程を適宜設けることができる。また、支持体上への蛍光体層や保護層の形成方法としては、既述のような態様のほかに、順次層を形成する方法を適用してもよい。この場合、ＣＶＤ工程は蛍光体層が形成された後に設けられることになる。
【実施例】
【００７５】
［実施例１］
（中間層形成工程）
結合剤として軟質アクリル樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、クリスコートＰ−１０１８ＧＳ（２１％トルエン溶液））３４００ｇと、可塑剤としてフタル酸エステル（大八化学（株）製、＃１０）１２０ｇと、をメチルエチルケトン３６００ｇ中に加えて混合し、ディスパーを用いて分散、溶解して、中間層形成用分散液（粘度０．６Ｐａ・ｓ（２０℃））を調製した。
【００７６】
この中間層形成用分散液を、支持体（カーボン練りこみポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製  Ｘ−３０、厚さ：１８８μｍ））上に均一に塗布して塗膜を形成し乾燥した。このようにして、層厚が２０μｍの中間層を形成した。
【００７７】
（蛍光体シート作製工程）
蛍光体層となる蛍光体シートを下記のようにして作製した。まず、蛍光体シート形成用塗布液として、蛍光体（ＢａＦＢｒ0.85Ｉ0.15：Ｅｕ2+、メジアン径３．５μｍ）１０００ｇと、結合剤であるポリウレタンエラストマー（大日本インキ化学工業（株）製、パンデックスＴ５２６５Ｈ（固形））３６ｇと、架橋剤であるポリイソシアネート（日本ポリウレタン工業（株）製、コロネートＨＸ（固形分１００％））４ｇと、黄変防止剤であるエポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株）、＃１００１エピコート（固形））１０ｇと、着色剤である群青（第一化成工業（株）、ＳＭ−１）２ｇと、をメチルエチルケトンと酢酸ブチルとの混合溶剤１２０ｇ（メチルエチルケトン／酢酸ブチル（質量比）＝６／４）に加え、ディスパーを用いて羽根回転速度２５００ｒｐｍで１時間分散させて、粘度４．０Ｐａ・ｓ（２５℃）の塗布液を調製した。なお、着色剤は予め樹脂が添加された溶媒中、ボールミルで分散されたものを使用した。
【００７８】
この塗布液を仮支持体（シリコーン系離型材が塗布されたポリエチレンテレフタレート、厚み：１８０μｍ）上に均一に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離して蛍光体シート（厚み１５０μｍ）を作製した。
【００７９】
（蛍光体層形成工程）
続いて、蛍光体シートの仮支持体剥離面を中間層上にカレンダーロールを用いて圧力６０ＭＰａ、ロール温度５０℃、送り速度１．０ｍ／ｍｉｎで連続的に圧縮操作を行い重ね合わせた。この加熱圧縮により、蛍光体シートは支持体上に中間層を介して完全に密着した状態となり、支持体上に蛍光体層が形成された。
【００８０】
（裁断工程）
不飽和ポリエステル樹脂溶液（東洋紡績（株）製、パイロン３０ＳＳ）を塗布し、乾燥して接着層（接着剤塗布量３ｇ／ｍ2）を形成した厚み２５μｍの延伸ポリプロピレンフィルム（以下、「ＰＰフィルム」という）を作製した。支持体の蛍光体層が形成されていない側の面と、ＰＰフィルムの接着層とが接するように重ね合わせ、ラミネートロールを用いて両者を接着し裏面層を形成したシートを作製した。
【００８１】
続いて、このシートを打抜刃（オス刃、メス刃）により適切なサイズ（３ｃｍ×３ｃｍの正方形）に打抜いた。
【００８２】
（ＣＶＤ工程）
裁断後のシートの蛍光体層の非積層面（支持体と接触していない面）にコーティング層としての樹脂層をディップ法により形成した。樹脂層の形成に使用した樹脂はポリエステル樹脂で、層の平均厚みは３μｍであった。次に、樹脂層表面に熱ＣＶＤ法によりコーティング層としての金属含有層（ＳｉＯＮ層、平均厚み０．２μｍ）を形成した。熱ＣＶＤ法の処理条件は、下記の通りである。
【００８３】
（１）原料ガスおよび流速・・・ＳｉＨ4：１００ｃｃ／ｍｉｎ、ＮＨ3：６００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス微量
（２）装置内の圧力・・・１０5Ｐａ
（３）温度・・・５０℃
【００８４】
以上のような工程を経て、実施例１に係る放射線像変換パネルを作製した。
【００８５】
［実施例２］
実施例１と同様にして蛍光体層形成工程を経た後、下記のようにして蛍光体層上に保護層を形成した。すなわち、不飽和ポリエステル樹脂溶液（東洋紡績（株）製、パイロン３０ＳＳ）を塗布し乾燥して接着層（接着剤塗布量２ｇ／ｍ2）を形成した厚み６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」という）と、上記蛍光体層が形成された支持体と、を支持体の蛍光体層およびＰＥＴフィルムの接着層とが接するように重ね合わせ、ラミネートロールを用いて両者を接着し、さらにエンボスロールで処理することにより保護層を形成した。
【００８６】
保護層を形成した後、実施例１と同様にして、裁断工程を経てシートを作製した。蛍光体層の非積層面（側面）に実施例１と同様にして樹脂層（但し、厚みは２μｍ）を形成した。その後、下記処理条件にて、誘導結合プラズマ装置によりプラズマを発生させながら、樹脂層上にプラズマＣＶＤ法で金属含有層（ＳｉＯＮ層、平均厚み０．１５μｍ）を形成した。
【００８７】
（１）原料ガスおよび流速・・・ＳｉＨ4：１００ｃｃ／ｍｉｎ、ＮＨ3：６００ｃｃ／ｍｉｎ、酸素ガス微量
（２）装置内の圧力・・・１０5Ｐａ
（３）温度・・・５０℃
【００８８】
以上のような工程を経て、実施例２に係る放射線像変換パネルを作製した。
【００８９】
［実施例３］
金属含有層上に、さらに、ＳｉＮからなる金属含有層（平均厚み０．２μｍ）をプラズマＣＶＤ法により形成した以外は、実施例２と同様にして放射線像変換パネルを作製した。なお、ＳｉＮからなる金属含有層の形成条件は、下記の通りである。
【００９０】
（１）原料ガスおよび流速・・・ＳｉＨ4：１００ｃｃ／ｍｉｎ、ＮＨ3：６００ｃｃ／ｍｉｎ
（２）装置内の圧力・・・１０5Ｐａ
（３）温度・・・５０℃
【００９１】
［実施例４］
金属含有層上に、さらに、シリコーン樹脂からなる樹脂層（平均厚み      μｍ）をディップ法により形成した以外は、実施例２と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００９２】
［実施例５］
実施例２と同様にして、保護層を形成した後、裁断工程を経てシートを作製した。その後、縁部から１ｍｍの領域を残した保護層上に再剥離可能な粘着フィルムを貼り付けてマスキングを行った。この状態で、シートを真空蒸着装置（日本真空技術（株）社製）に装着した。当該装置を使ってＤＣマグネトロンスパッタリングによりコーティング層としての金属含有層（ＳｉＯ2層、平均厚み１００ｎｍ）を形成した。その後、マスキングのための粘着フィルムを剥がして放射線像変換パネルを作製した。
【００９３】
［比較例１］
実施例１と同様にして、裁断工程を経てシートを作製した。蛍光体層の非積層面（支持体と接触していない面）にポリエステル樹脂をディップ法によりコーティングし平均厚さ３μｍのポリエステル樹脂層を形成して放射線像変換パネルを作製した。
【００９４】
［耐水テスト］
蒸留水を含んだろ紙（３．５ｃｍ×３．５ｃｍの正方形）を、放射線像変換パネル表面を覆うように接触させた状態で袋に入れ密封した。３０℃２４時間放置後、放射線像変換パネル表面の水分を拭き取って乾燥させた後、１０ｍＲのＸ線を曝射した。放射線像変換パネル読取スキャナで曝射後の画像を読み取り、濃度１．２でフィルム出力した。フィルム出力後に、放射線像変換パネルの縁周囲に減感（ムラ）がまったく見られないものを「◎」とし、減感がごく僅かに見られるが実用上まったく問題ないものを「○」とし、減感が見られ実用上問題のあるものを「×」として評価した。結果を下記表１に示す。
【００９５】
【表１】
2007085797.tif 000003
【００９６】
表１より、比較例１では耐水性が低かったのに対し、実施例１〜５の放射線像変換パネルはいずれも耐水性が良好であった。すなわち、水滴付着等に対する耐久性に優れていることが確認できた。また、ＣＶＤ法によりコーティング層を形成した実施例１〜４は、特に緻密な膜（具体的には、ヒビ、ワレ、点欠陥がすくない）が形成されていたため、実施例５の放射線像変換パネルよりも良好な防水性を有していた。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の放射線像変換パネルの層構成を例示する部分断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１０・・・支持体
１２・・・蛍光体層
１４・・・保護層
２０・・・コーティング層
２０Ａ・・・樹脂層
２０Ｂ・・・金属含有層
【図１】
2007085797.tif 000004