(57)【要約】【課題】  カラーフィルターのような色彩を有する物質と共に存在する透明膜領域を容易に検出する。【解決手段】所定の色を有する物質２５と透明膜２６の積層した被測定物１４における前記透明膜の測定システムであって、前記所定の色の光波長を含まないかまたは他の光波長に対して相対的に強度を減じた光を前記透明膜に照射する光源手段５と、前記照射により反射した光を受光して前記透明膜を画像処理する画像処理手段Ｂ１とを具備してなる透明膜の測定システム。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の色を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定システムであって、前記所定の色の光波長を含まないかまたは他の光波長に対して相対的に強度を減じた光を前記透明膜に照射する光源手段と、
前記照射により反射した光を受光して前記透明膜を画像処理する画像処理手段とを具備してなる透明膜の測定システム。
【請求項２】
所定の色を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定システムであって、
白色光を出射する光源と、
前記光源から出射する白色光のうち、前記色の反射を低減させる波長域の光を透過させる光学フィルターと、
前記光学フィルターを透過した光を前記被測定物に照射し前記透明膜の光学像を形成する光学系と、
前記光学系により得られた光学像を撮像する撮像素子と、
前記撮像素子に撮像された前記光学像の画像情報を加工処理する画像処理装置と、
を有することを特徴とする透明膜の測定システム。
【請求項３】
前記色の反射を低減させる波長域の光は、前記色の色相環における補色に相当する光であることを特徴とする請求項２に記載の透明膜の測定システム。
【請求項４】
前記色の種類に対応して、前記透過する光波長域が異なる光学フィルターに切り換える、光学フィルターの切換え機構が備えられていることを特徴とする請求項２又は３に記載の透明膜の測定システム。
【請求項５】
前記切換え機構は、色光の三原色に対応した３種類の光学フィルターを備え、更に白色光を透過できる構造になっていることを特徴とする請求項４に記載の透明膜の測定システム。
【請求項６】
所定のパターンに加工されている前記透明膜のパターン寸法の計測あるいは前記透明膜パターンの欠陥検出をすることを特徴とする請求項２ないし５のいずれか一項に記載の透明膜の測定システム。
【請求項７】
前記所定の色の光波長を含まないか他の光波長に対して相対的に強度を減じた光を発光する光源を有し、この光源が赤、緑、青の単色光を独立に発光することが可能な発光素子からなる請求項１に記載の透明膜の測定システム。
【請求項８】
所定の色を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定方法であって、
光源から出射する白色光のうち、前記色の反射を低減させる波長域の光を光学フィルターにより透過させ、前記光学フィルターを透過した前記波長域の光を前記被測定物に照射させる光学系によって、前記透明膜の光学像を形成することを特徴とする透明膜の測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばカラーフィルターのような色彩を有する膜上に存在する透明膜領域を容易に検出することのできる透明膜の測定システムおよび測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板等の表面に形成されたパターンの線幅あるいはパターンの欠陥を測定するために、光学顕微鏡を用い、その光学像を画像処理しその画像情報を所定のアルゴリズムにより加工することが一般的に行われている。
【０００３】
半導体装置あるいはＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）などの表示装置の製造工程においては、半導体基板もしくはガラス基板上に種々の材料からなるパターンが形成される。そこで、例えば、上記パターンが適正な線幅に形成されているか、あるいは、パターンにキズなどの欠陥が存在していないかを調べるために光学顕微鏡が用いられ、その光学像がディスプレイに表示され検査される。そして、更に、上記光学像が画像処理され所望の画像情報に加工されて、上記パターンの線幅あるいは欠陥等の自動測定がされる。
【０００４】
図８に、このような光学顕微鏡を用いた従来の測定システムを示す。このシステムは、その基本構造として、光学顕微鏡１０１、撮像素子１０２、画像処理装置１０３およびそれを制御するためのコンピューター１０４から構成される。この中で光学顕微鏡１０１は、基本的に、白色光あるいはレーザ光を出射する光源１０５、ハーフミラー１０６、対物レンズ１０７、結像レンズ１０８および試料台１０９から構成される。このような光学顕微鏡１０１において、光源１０５を発した光は、例えば光ファイバー内を伝送して実線矢印で示した方向に進行し、ハーフミラー１０６面で反射した後に対物レンズ１０７を通過して、試料台１０９に載置した被測定物１１０に照射する。
【０００５】
そして、被測定物１１０表面から反射した光は、点線矢印で示した方向に進行し、再び対物レンズ１０７、ハーフミラー１０６を通過し、例えば光ファイバーにより伝送され結像レンズ１０８を通ってＣＣＤのような撮像素子１０２に入射する。撮像素子１０２に入射した光学像情報は、コンピューター１０４により制御された画像処理装置１０３で加工処理され表示される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような光学顕微鏡を用いた従来の測定システムの場合、例えば液晶表示パネルのカラーフィルターのような色彩を有する膜上に形成された透明電極パターンの境界が明確に認識できないという問題があった。このために、パターンが適正な線幅に形成されているか、あるいは、パターンにキズなどの欠陥が存在しているか、高精度に計測／検出することができなかった。
【０００７】
これについて、図９を参照して説明する。被測定物１１０は、図９（ａ）の断面図に示すように、例えばガラス基板１１１に形成した赤（Ｒ）、緑（Ｇ）あるいは青（Ｂ）のカラーフィルター１１２およびその上部に積層する透明電極パターン１１３である。ここで、透明電極は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の光透過性材料からなる。
【０００８】
この透明電極パターン１１３の上記測定システムにより得られる平面の光学像は、下地のカラーフィルターあるいは透明電極パターン１１３のテーパーの影響を非常に受け易くなる。このために、図９（ｂ）に示すように、透明電極パターン１１３の境界が幾重にもなる。また、上記パターンの境界が不明瞭になり易い。そして、対物レンズ１０７の僅かな焦点位置のズレにより透明電極パターン１１３の境界が複数になったりすることから、これまで、透明電極パターン１１３の境界が明確に認識できなかった。
【０００９】
本発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、例えばカラーフィルターのような色彩を有する物質と共に存在する透明膜領域を容易に検出することのできる透明膜の測定システムおよび測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明にかかる透明膜の測定システムは、所定の色を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定システムであって、前記所定の色の光波長を含まないかまたは他の光波長に対して相対的に強度を減じた光を前記透明膜に照射する光源手段と、前記照射により反射した光を受光して前記透明膜を画像処理する画像処理手段とを有している。
【００１１】
さらに、色彩を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定システムであって、白色光を出射する光源と、前記光源から出射する白色光のうち、前記色彩の彩度を低減させる波長域の光を透過させる光学フィルターと、前記光学フィルターを透過した光を前記被測定物に照射し前記透明膜の光学像を形成する光学系と、前記光学系により得られた光学像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子に撮像された前記光学像の画像情報を加工処理する画像処理装置と、を有する構成になっている。
【００１２】
そして、本発明にかかる透明膜の測定方法は、色彩を有する物質と透明膜の積層した被測定物における前記透明膜の測定方法であって、光源から出射する白色光のうち、前記色彩の彩度を低減させる波長域の光を光学フィルターにより透過させ、前記光学フィルターを透過した前記波長域の光を前記被測定物に照射させる光学系によって、前記透明膜の光学像を形成するという構成になっている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、例えばカラーフィルターのような色彩を有する物質と共に存在する透明膜領域を容易に精度よく検出する透明膜の測定システムおよび測定方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の好適な実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本実施形態にかかる透明膜の測定システムの一例を示す概略構成図である。図２は、レボルバ式の光学フィルターを模式的に示す斜視図であり、図３は、スライド式の光学フィルターを模式的に示す斜視図である。図４，５は、被測定物である２種類の透明電極パターンの断面構造と、上記測定システムを用いて計測したその光学像の平面図となっている。そして、図６は、透明電極パターンの欠陥検出の一例を示す光学像の平面図である。ここで、互いに同一または類似の部分には共通の符号を付している。
【００１５】
図１に示すように、本実施形態の透明膜の測定システムは、その基本構造としては、光学ユニットＡ１と、撮像素子２、画像処理装置３およびコンピューター４によりなる画像処理ユニットＢ１で構成される。そして、さらに光源５、光学フィルター部６、光学フィルター部６の複数の光学フィルターを切り換えるフィルター切換え駆動部７とからなる光源装置Ｃ１が備えられている。光学ユニットＡ１はハーフミラー８、対物レンズ９、結像レンズ１０を有し、その直下に可動ステージ１１が配置されている。このようにして、光源５から出射した白色光１２は、光学フィルター部６において後述するような特定の波長域の例えば補色光１３に変換される。そして、この補色光１３が被測定物１４を照射するようになる。
【００１６】
上記構成において、光源５は、例えばハロゲンランプ、Ｘｅランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）等の白色光源から成る。そして、光学フィルター部６は、所定の波長域を透過する光学素子を有する。例えば光学レンズ、光ファイバーあるいは平板ガラス等から成る複数の光学フィルターが取り付けられている。ここで、光学フィルター部６は、複数の光学フィルターを、レボルバ式（回転式）の構造あるいはスライド式の構造に備えていると好適である。
【００１７】
図２に示すように、上記レボルバ式構造のものでは、例えば複数の光学レンズあるいは光ファイバーからなる第１の光学フィルター１５、第２の光学フィルター１６、第３の光学フィルター１７、第４の光学フィルター１８の４個の光学フィルターが、回転軸１９の周りに配置されている。そして、これ等の光学フィルターは、フィルター切換え駆動部７を通した回転軸１９の回転駆動により回転軸１９を中心に転動するようになっている。
【００１８】
そして、上記光学フィルターは、被測定物１４にある例えば透明膜パターンの下地の色彩に対応して、色相環上においてその補色の関係にある色の光、すなわち補色光１３に、白色光１２を変換させる。例えば、下地の色彩が色光の三原色の１つである赤の場合には、第１の光学フィルター１５は、青緑の光波長域すなわちシアン光を透過する光学レンズあるいは光ファイバーとする。また、色彩が緑の場合には、第２の光学フィルター１６は、赤紫の光波長域すなわちマゼンタ光を透過する光学レンズあるいは光ファイバーとする。そして、色彩が青の場合には、第３の光学フィルター１７は、緑赤の光波長域すなわち黄色光を透過する光学レンズあるいは光ファイバーとする。更に、色彩が無彩色（白、黒、グレー）の場合には、第４の光学フィルター１８は、白色の光波長域を透過する光学レンズあるいは光ファイバーとする。
【００１９】
同様に、上記スライド式構造のものでは、例えば平板ガラス面の異なる領域に異なる干渉膜がコーティングされ、１枚の平板ガラスに一体形成された複数の干渉フィルターが用いられる。図３に示すように、例えば平板ガラスの第１の光学フィルター２０、第２の光学フィルター２１、第３の光学フィルター２２、第４の光学フィルター２３の例えば４個の光学フィルターが一列に配置されている。そして、この平板ガラスの光学フィルターは、フィルター切換え駆動部７により矢印方向に移動し、白色光１２をそれぞれ補色光１３に変換するようになっている。
【００２０】
この場合も、図２で説明したように被測定物１４の色彩に合わせて、白色光１２は、その補色光１３に変換される。そこで、例えば第１の光学フィルター２０は、青緑の光波長域を透過する干渉フィルターとする。また、第２の光学フィルター２１は、赤紫の光波長域を透過する干渉フィルターとする。そして、第３の光学フィルター２２は、黄赤の光波長域を透過する干渉フィルターとする。更に、第４の光学フィルター２３は、白色の光波長域を透過する平板ガラスとする。
【００２１】
そして、ハーフミラー８は、上記変換され光ファイバー１３ａを通過した補色光１３を反射し対物レンズ９に入射させる。対物レンズ９は、被測定物１４に対して上記補色光１３を照射するようになっている。また、この対物レンズ９は、自動合焦点機構（不図示）により、被測定物１４上の例えば透明電極パターンの光学像が自動的に結像できるようになっていると好適である。
【００２２】
そして、ハーフミラー８は、被測定物１４から出射する光を透過させる。結像レンズ１０は、上記ハーフミラー８を透過した上記被測定物１４からの光により、例えば透明電極パターンの光学像をＣＣＤのような撮像素子２に結像させるようになっている。
【００２３】
そして、画像処理装置３は、撮像素子２に入射した光学像情報を所望の画像情報に加工処理する。また、コンピューター４は、この画像処理装置３、および上述したフィルター切換え駆動部７を統括して制御するようになっている。
【００２４】
上記透明膜の測定システムにおいて、可動ステージ１１は、その駆動機構部（不図示）によりＸ−Ｙ平面駆動する構造になっており、被測定物１４における測定位置の座標が特定できるようになっていると好適である。この場合、コンピューター４は、上記駆動機構部も合わせて総括的に制御する構成になる。
【００２５】
また、上記光源５から出射する白色光１２、光学フィルター部６を通過した後の補色光１３あるいは被測定物１４から反射した光は、それぞれ光ファイバー１３ａ，１０ａを用いて所望の領域に伝送される構造になっていてもよい。
【００２６】
更には、上記光学フィルター部６を通過した補色光１３あるいは白色光の光量を調整するように、光量絞り機構部が光学フィルター部６の後の光路上に取り付けられる構造になっていてもよい。
【００２７】
次に、この実施形態における上記測定システムの動作および透明膜の測定方法、そして、その効果について説明する。
【００２８】
上記透明膜の測定システムを用い、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）あるいはＢ（青）の色彩を有する液晶表示パネルのカラーフィルター上に形成された透明電極パターンの境界を測定する場合について具体的に説明する。図１に示した可動ステージ１１上に、例えば図４（ａ）に示すような断面構造の被測定物１４を載置する。図４（ａ）に示すように、被測定物１４は、透明ガラス基板２４に形成されたＲ、ＧあるいはＢのカラーフィルター２５およびその上部に配設されている透明電極パターン２６である。ここで、透明電極パターン２６は、その断面の境界が垂直形状の場合である。なお、この透明電極は、従来の技術のところで説明したようにＩＴＯ、ＺｎＯ等の光透過材料の膜からなる。
【００２９】
上記カラーフィルターが赤Ｒの場合、初めに、測定システムにおいて光源５からの白色光１２により生成した光学像が検知される。そして、コンピューター４がフィルター切換え駆動部７を自動的に駆動し、光学フィルター部６を青緑の光波長域を透過する第１の光学フィルター１５，２０に切り換える。このような切換え機構により、青緑の光波長域の補色光１３が上記Ｒのカラーフィルター２５および透明電極パターン２６を照射するようになる。したがって、カラーフィルター２５からのＲの光はなく、透明電極から反射した上記青緑の光波長域の補色光１３が、対物レンズ９および結像レンズ１０によって透明電極パターン２６の光学像を形成し光ファイバー１０ａを介して撮像素子２に結像させる。
【００３０】
すなわち、上記カラーフィルター２５に照射される補色光１３はＲ波長領域を欠いているため、原理的にはＲ光を反射しない。さらにこの部分のＧ，Ｂ光は吸収されるので反射量はわずかになる。このため実質的な反射光はフィルターからの分は無彩色に近い暗色となり、反射光の大部分が透明電極に入射した波長成分の光成分になり、特に透明電極エッジ部分において乱反射光が顕著に発生する。
【００３１】
実際には上記フィルターの赤光のわずかな反射と同フィルターで吸収されるその補色光である青緑の光のわずかな反射により、得られる光学像は略無彩色のグレー色が背景となる青緑光による透明電極パターンになる。撮像素子２に取り込まれた光学像情報は、コンピューター４により制御された画像処理装置３において所望の画像情報に加工処理され、あるいは表示される。これにより画像情報はフィルターパターン情報量が大幅に低減し情報処理が極めて簡便にしかも正確に行えるようになる。また、透明電極パターン２６の領域とそれ以外の領域のカラーフィルター２５上でのコントラスト差が非常に高くなる。このようにして、上記透明電極パターン２６の境界は、図４（ｂ）に示すように、黒い線状の明確な境界ライン２６ａに画されるようになる。
【００３２】
同様に、カラーフィルター２５がＧあるいはＢとなる場合、コンピューター４がフィルター切換え駆動部７を自動的に制御し、光学フィルター部６を第２の光学フィルター１６，２１あるいは第３の光学フィルター１７，２２に選択して切り換える。そして、それぞれの補色光１３がカラーフィルター２５および透明電極パターン２６を照射する。そして、いずれの場合でも、カラーフィルター２５上の透明電極パターン２６の平面光学像は、略補色になり撮像素子２に結像される。このようにして、カラーフィルター２５がいずれの色彩の場合でも、補色の透明電極パターンが得られ、その境界は線状の明確な境界ライン２６ａに画されるようになる。
【００３３】
また光源に青の光学フィルターを使用すると、赤、青のカラーフィルター境界面の透明膜のエッジのコントラストを高めることができる。
【００３４】
また、透明電極パターン２６がカラーフィルター２５上に配設されないで、透明ガラス基板２４上に直接に被着して配設される場合がある。あるいは、透明電極パターン２６が透明ガラス基板２４上に形成された例えばアルミ金属からなる反射膜上に配設される場合がある。このような場合には、光学フィルター部６は上述したように第４の光学フィルター１８，２３に切り換えられて、白色光１２をそのまま通過させるようにする。この白色光は、上記透明ガラス基板２４上あるいは反射膜上の透明電極パターン２６に照射され、透明電極パターン２６の境界は明確な線状に画される。光源は赤外光を利用することができる場合もある。
【００３５】
次に、図５（ａ）に示すような場合について説明する。すなわち、被測定物１４が透明ガラス基板２４に形成されたＲ、ＧあるいはＢのカラーフィルター２５およびその上部に配設されている透明電極パターン２６であり、透明電極パターン２６の断面の境界がテーパー形状にある場合である。
【００３６】
このような場合において、図４（ａ）の場合について説明したのと全く同様に、光学フィルター部６により補色光１３を適宜に生成して、カラーフィルター２５および透明電極パターン２６の無彩色の平面光学像を撮像素子２に結像させる。このようにすると、図５（ｂ）に示すように、透明電極パターン２６のテーパー領域は、帯状の明確な境界バンド２６ｂになる。
【００３７】
以上のように、本実施形態の透明膜の測定システムにより、透明電極パターン２６の境界が明確に測定できる。ここで、透明電極パターン２６がテーパー状に形成されている場合には、透明電極パターン２６の上面の境界と底面の境界が測定できることになる。このようにして、透明電極パターン２６の境界を明確にすることにより、画像処理装置３およびコンピューター４を通して、配線として配設されているような透明電極パターン２６の線幅を正確に算出することが可能になる。
【００３８】
上記測定システムによる透明電極パターン２６の境界の明確な測定は、透明電極パターン２６における欠陥検出を同様に可能にする。図６に示す透明電極パターン２６の光学像では、境界ライン２６ａに発生した微細なライン欠損２７が明確に検出される。同様に、透明電極パターン２６の境界ライン２６ａから内部に延在する線状の亀裂２８も鮮明に検出できるようになる。更には、透明電極パターン２６上の小さな付着物２９も容易に検出される。このように、図７で説明したような光学顕微鏡を組み込んだ従来の測定システムでは、極めて困難であった透明電極パターン２６の欠陥が容易に検出されるようになる。
【００３９】
上記実施形態においては、図５（ｂ）に示したように、透明電極パターン２６がテーパー形状に形成されている場合に、そのテーパー領域が境界バンド２６ｂとして明確に認識できる。このために、そのテーパー角度を計測することにより、境界バンド２６ｂの幅の計測と合わせて、透明電極パターン２６の膜厚をコンピューター３により算出し計測することができるようになる。
【００４０】
本実施形態の測定システムでは、上述したように、被測定物の光学像は、下地のカラーフィルターあるいは透明電極パターンのテーパー形状の影響を受けにくい。このため、従来の技術において生じていた、透明電極パターンの境界が多重構造になったり、また、対物レンズの僅かな焦点位置のズレにより透明電極パターンの境界が複数になったりすることが皆無になる。このようにして、透明電極パターンの境界の画像情報が明確になる。
【００４１】
そして、上記実施形態では、例えば液晶表示パネルのカラーフィルターのような色彩を有する膜上に形成された透明電極パターンの境界が明確に認識できるようになる。また、透明電極パターンが適正な線幅に形成されているか否か、あるいは、透明電極パターンにキズあるいは付着物などの欠陥が存在している否か、高精度に計測することができるようになる。
【００４２】
上記実施形態では、光源５から出射する白色光１２を光学フィルターに通して補色光１３に変換する場合について説明しているが、上記光学フィルターが、着色被測定物１４の色反射を低減させる波長域の光を選択的に透過させる場合でもよい。このような場合には、透明電極パターン２６の光学像は、無彩色にはならないが、程度の差はあるものの上記好適な実施形態で説明したのと同様な効果が生じる。
【００４３】
図７は本発明の他の実施形態を示すものである。光源だけを示し、光学ユニット、画像処理ユニット等は図１の実施形態と同様であるので説明を省略する。本実施形態は光源にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各単色を発光する例えばＬＥＤの発光素子３０Ｒ、３０Ｇ、３０Ｂを近接配置して、背後に凹面反射鏡３１を配置した構造を有している。各発光素子は電源３２により独立して点灯制御することができ、光源としての発光色を任意に選ぶことができる。例えばＲとＢを発光させるとマゼンタ色の光源光となり、ＧとＢを発光させるとシアン色の光源光となる。
【００４４】
一方、エッジ検出すべき透明電極が積層されたカラーレジスト層を形成するカラーフィルターは赤、緑、青フィルターであり、例えば緑フィルター上の透明膜のエッジを検出するときに、Ｒ−Ｇ発光素子を光源としてマゼンタ光を出射する。緑フィルターは緑色光Ｇのみを反射し他の色光Ｒ，Ｂを吸収するので、マゼンタ光を照射すると、緑フィルターから反射によって戻る反射光は可視光領域全体にわたって少ない。しかし、一方、透明電極はマゼンタ光を反射するので、特に光を乱反射する透明膜のエッジ部分がマゼンタ光で浮き立って観測されることになる。この場合、マゼンタ光でなくても緑色光Ｇ以外の波長領域の光源光であれば、エッジ部分の観測が可能である。例えばＲ光のみを照射しても、緑フィルターからの反射は少なく、エッジ部分から赤色光のみが乱反射されるので、検出が可能である。
【００４５】
以上の関係は緑フィルター以外の赤、青の他色フィルターについても同様である。特定色のフィルターに対して反射せずまたは反射が弱く、透明電極では反射する光波長成分の光を照射することにより、透明膜のエッジ検出精度を向上することができる。
【００４６】
以上、この発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施の形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
【００４７】
例えば、上記実施形態において、液晶表示パネルのカラーフィルターのような色彩を有する膜上に形成された透明電極パターンを測定する場合について説明したが、本発明はそのような場合に限定されるものではない。その他に、有機ＥＬパネル、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）、ＳＥＤ（サーフェスエミッションディスプレイ）等の表示パネルに使用されるようなカラーフィルター上の透明電極パターンの測定の場合でも同様に適用できる。あるいは、上記カラーフィルターのような色光の三原色の場合の他に、種々の色彩を有する物質と共に形成された透明膜の境界を検出する場合にも全く同様に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施形態にかかる透明膜の測定システムの一例を示す概略構成図。
【図２】本発明の実施形態にかかるレボルバ式の光学フィルターを示す斜視図。
【図３】本発明の実施形態におけるスライド式の光学フィルターを示す斜視図。
【図４】本発明を説明するための被測定物の図であって、（ａ）は透明ガラス基板上に形成されたカラーフィルターおよび透明電極パターンの断面図、（ｂ）は上記透明電極パターンの光学像の平面図。
【図５】本発明を説明するための別の被測定物の図であって、（ａ）は透明ガラス基板上に形成されたカラーフィルターおよびテーパー状の透明電極パターンの断面図、（ｂ）は上記透明電極パターンの光学像の平面図。
【図６】本発明を説明するための透明電極パターンの欠陥を示す光学像の平面図。
【図７】本発明の他の実施形態を説明する略図。
【図８】従来の技術にかかる光学顕微鏡を用いた測定システムの一例を示す概略構成図。
【図９】従来の技術を説明するための被測定物の図であって、（ａ）は透明ガラス基板上に形成されたカラーフィルターおよび透明電極パターンの断面図、（ｂ）は上記透明電極パターンの光学像の平面図。
【符号の説明】
【００４９】
Ａ１…光学ユニット
Ｂ１…画像処理ユニット
Ｃ１…光源装置
１…光学顕微鏡
２…撮像素子
３…画像処理装置
４…コンピューター
５…光源
６…光学フィルター部
７…フィルター切換え駆動部
８…ハーフミラー
９…対物レンズ
１０…結像レンズ
１１…可動ステージ
１２…白色光
１３…補色光
１４…被測定物
１５，２０…第１の光学フィルター
１６，２１…第２の光学フィルター
１７，２２…第３の光学フィルター
１８，２３…第４の光学フィルター
１９…回転軸
２４…透明ガラス基板
２５…カラーフィルター
２６…透明電極パターン
２６ａ…境界ライン
２６ｂ…境界バンド
２７…ライン欠損
２８…亀裂
２９…付着物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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