(57)【要約】【課題】シート耳部での塗布欠陥の発生を抑制し、製品ロスとなる耳部の切除幅を減少させる。【解決手段】吐出側に向かって幅が連続的に減少しているスロット部から塗布液を吐出するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行するシート状体の表面に塗布液層を形成した後、前記塗布液層に対して凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法であって、前記スロット部の幅の減少面積をＳ［ｍｍ２］、前記塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］としたとき、次式１００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００を満たすことを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供することにより、前記課題を解決する。【選択図】  図２
2007283261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出側に向かって幅が連続的に減少しているスロット部から塗布液を吐出するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行するシート状体の表面に塗布液層を形成した後、前記塗布液層に対して凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法であって、
前記スロット部の幅の減少面積をＳ［ｍｍ２］、前記塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］としたとき、次式
１００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００
を満たすことを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
【請求項２】
前記シート状体は、３０［ｍ／ｍｉｎ］以下の速度で連続走行することを特徴とする請求項１に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項３】
シート状体を連続走行させる走行手段と、
吐出側に向かって幅が連続的に減少しているスロット部から塗布液を吐出するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行する前記シート状体の表面に塗布液層を形成する塗布手段と、
連続走行する前記シート状体の表面に形成された前記塗布液層に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する転写手段と、
を備え、
前記スロット部の幅の減少面積をＳ［ｍｍ２］、前記塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］としたとき、次式
１００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００
を満たすことを特徴とする凹凸状シートの製造装置。
【請求項４】
前記走行手段は、前記シート状体を３０［ｍ／ｍｉｎ］以下の速度で連続走行させることを特徴とする請求項３に記載の凹凸状シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シートの製造方法及び装置に係り、特に、エクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行するシート状体の表面に塗布液層を形成した後、塗布液層に対して凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このような凹凸状シートの製造方法として、エクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行するシートの表面に塗布液層を形成した後、シート表面に形成された塗布液層に対して凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する方法が知られている。
【０００３】
エクストルージョン型の塗布ヘッドは、ポケット部に送液した塗布液をポケット部に連通するスロット部から外部に押し出す構成となっている。また、スロット部の両端位置には塗布幅規制板（スペーサ）が液密状態で挿入配置され、塗布幅をシート幅に応じて変更できる構成となっている。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、塗布幅規制板として、平面三角形のガイドを有するデッケル（スペーサ）をスロットの端部に挿入したことが記載されている。同文献によれば、スロット幅はデッケルによってスロット出口付近で広がりながら塗布幅に規制される。同様に、特許文献２に記載の塗布ヘッドは、スロットの出口付近においてスロット幅が広がるように構成されている。また、特許文献３の塗布ヘッドは、スロット幅が二段階で広がるように構成されている。これらの特許文献１〜３は、スロット幅がスロット出口付近において広がるように構成されるため、スロット出口付近での塗布液の流速が低下する。したがって、特許文献１〜３によれば、幅方向の端部（以下、耳部という。）での厚塗りを防止できるとされている。
【特許文献１】特開平７−６８２０７号公報
【特許文献２】特開昭６２−２４１５７４号公報
【特許文献３】特開２００３−７１３５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜３の塗布ヘッドでは、１０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度の塗布液をウェット膜厚５〜３０μｍの低塗布量で塗布した際に、ビード（即ち、塗布ヘッドの先端とシートとの間に形成される塗布液溜まり）が耳部において不安定になり、シート耳部の膜厚が中央部に比べて低下してしまう塗布欠陥が生じてしまい、シートの切除幅を大きくしなければならず、製品ロスが大きいという問題があった。
【０００６】
このような問題を防ぐ方法として、塗布液層の膜厚を全体的に厚くなるように塗布液を塗布する方法が考えられる。しかし、製品価格の増加、カールの増大等の別の問題が生じてしまうことから得策ではない。
【０００７】
また、スロット幅を規制するスペーサを変更し、スロット幅が吐出側にかけて減少するような構成のものを採用する方法が考えられる。しかし、ライン速度（シート走行速度）、即ち、塗布速度が３０ｍ／ｍｉｎ以下の低速条件下では、ビードが耳部でピンすることによってシート耳部が厚塗り状態となってしまい、その影響が内側にも及ぶことでさらに薄塗り部を顕著に発生させてしまう問題がある。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、シート耳部での塗布欠陥の発生を抑制し、製品ロスとなる耳部の切除幅を減少させることのできる凹凸状シートの製造方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために、吐出側に向かって幅が連続的に減少しているスロット部から塗布液を吐出するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行するシート状体の表面に塗布液層を形成した後、前記塗布液層に対して凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法であって、前記スロット部の幅の減少面積をＳ［ｍｍ２］、前記塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］としたとき、次式 １００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００ を満たすことを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
【００１０】
また、このために、本発明は、シート状体を連続走行させる走行手段と、吐出側に向かって幅が連続的に減少しているスロット部から塗布液を吐出するエクストルージョン型の塗布ヘッドを用いて、連続走行する前記シート状体の表面に塗布液層を形成する塗布手段と、連続走行する前記シート状体の表面に形成された前記塗布液層に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する転写手段と、を備え、前記スロット部の幅の減少面積をＳ［ｍｍ２］、前記塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］としたとき、次式 １００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００ を満たすことを特徴とする凹凸状シートの製造装置を提供する。
【００１１】
本発明によれば、塗布ヘッドのスロット部の端部での塗布液の流れを安定させることができ、シート耳部での塗布欠陥の発生を抑制でき、製品ロスとなる切除幅を減少させることができる。
【００１２】
なお、スロット部の幅の減少面積とは、スロット部が先端（吐出側）から一定幅で形成された場合に比べて減少した面積（欠損面積）をいう。
【００１３】
本発明において、シート状体の走行速度は３０［ｍ／ｍｉｎ］以下であることが好ましい。塗布ヘッドのスロット部の端部での塗布液の流れをより安定させることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、塗布ヘッドのスロット部の端部での塗布液の流れを安定させることができ、シート耳部での塗布欠陥の発生を抑制でき、製品ロスとなる切除幅を減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、塗布手段１２と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８、等とより構成される。
【００１６】
シート状体供給手段であるシート状体供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００１７】
塗布手段１２は、塗布液として放射線硬化樹脂液をシートＷの表面に塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源１２Ａと、液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂと、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ（バックアップローラ）１２Ｄと、液供給源１２Ａより塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。なお、本発明の特徴部分である塗布ヘッド１２Ｃの構成については後で詳説する。
【００１８】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された樹脂液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００１９】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００２０】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。
【００２１】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００２２】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００２３】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００２４】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００２５】
ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００２６】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００２７】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化させるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００２８】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００２９】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００３０】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００３１】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００３２】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布手段１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻き取り手段１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００３３】
次に、本発明の特徴部分である塗布ヘッド１２Ｃの構造について説明する。以下では、まず塗布ヘッド１２Ｃの概略構造を説明し、次いで、その詳細構造について説明する。
【００３４】
図２は、塗布ヘッド１２Ｃの幅方向に平行な断面図である。塗布ヘッド１２Ｃには、その幅方向に平行なスリット状の隙間（以下、スロット２８）が形成されている。スロット２８の幅方向の両端部には、スペーサ３０、３０が設けられており、スペーサ３０、３０によってスロット２８が液封される。このスペーサ３０、３０によってスロット２８の幅寸法が規制されており、その幅寸法はスロット２８の先端（すなわち、支持ローラ１２Ｄ側の端部であり、塗布液の吐出口となる端部）において塗布幅と略等しい寸法に設定される。
【００３５】
また、塗布ヘッド１２Ｃには、スロット２８に連通するポケット３２が形成されている。ポケット３２は、塗布ヘッド１２Ｃの幅方向に形成された塗布液の液溜空間であり、その断面形状は台形に形成される。なお、ポケット３２の断面形状は台形に限定するものではなく、たとえば円形や楕円形であってもよい。
【００３６】
図２に示すように、ポケット３２の幅方向の一方側端部には、塗布液の供給ライン３４が接続された栓部材３８が液密状態で取りつけられている。なお、塗布液の供給ライン３４の接続位置は、塗布ヘッド１２Ｃの側面側に限定されるものではなく、塗布ヘッド１２Ｃの幅方向の中央部において後端側（スロット２８の反対側）に接続するようにしてもよい。この場合にはポケット３２の幅方向の両端部に、対称形状の栓部材を液密状態で設けるとよい。
【００３７】
上記の如く構成された塗布ヘッド１２Ｃは、その先端が支持ローラ１２Ｄに対して所定のリップクリアランス、たとえば１３０〜５００μｍの位置に配置され、不図示の架台に固定される。
【００３８】
次に、塗布ヘッド１２Ｃの詳細構造について説明する。スロット２８の両端部には、台形のスペーサ３０、３０が設けられている。スペーサ３０は、スロット２８の先端になるほど、スロット２８の内側に突出する傾斜面３０Ａ、３０Ａを有している。したがって、スロット２８の幅寸法は、傾斜面３０Ａ、３０Ａに規制され、先端側（吐出側）にかけて連続的に且つ一定の割合で小さくなるように構成される。すなわち、スロット２８の先端の幅寸法Ｗ１は後端の幅寸法Ｗ２よりも小さくなっている。なお、スロット２８の先端の幅寸法Ｗ１は、塗布幅に設定される。ここで、スロット２８を一定幅Ｗ１で形成する場合（図２に２点鎖線で示す場合）と比べて、スペーサ３０が減少した三角形部分を欠損部２８Ｓと称し、その面積（以下、欠損面積という。）をＳ［ｍｍ２］とする。欠損面積Ｓは、スロット２８の先端での塗布液の粘度をｎ［ｍＰａ・ｓ］とした際に、次式を満たすように設定される。
【００３９】
１００＜（Ｓ・ｎ）＜１０００      ・・・（１）
欠損面積Ｓと粘度ｎが式（１）を満たすことによって、シート耳部での薄塗りや厚塗りといった塗布欠陥が発生することを防止することができる。
【００４０】
図２に示すように、ポケット３２の幅方向端部に設けた栓部材３６は、隣接するスペーサ３０に対して逆の傾斜が設けられている。すなわち、ポケット３２の幅寸法は先端側にかけて徐々に大きくなるように形成される。これにより、栓部材３６の反対側の供給ライン３４から供給された塗布液が栓部材３６の付近で滞留することを防止でき、塗布液を先端側のスロット２８にスムーズに送液することができる。なお、スロット２８の側面（傾斜面３０Ａ）とポケット３２の側面は、図２に示すように連続して形成することが好ましいがこれに限定するものではなく、不連続であってもよい。たとえば図３（Ａ）に示すようにポケット３２の側面をスロット２８の側面位置の外側に配置したり、図３（Ｂ）に示すようにポケット３２の側面をスロット２８の側面位置の内側に配置したりしても良い。ただし、図３（Ａ）のようにポケット３２よりもスペーサ３０が液流路を塞ぐ場合は、エアー溜まり部になりやすく塗布直後に泡起因の故障が発生するケースもみられるため、塗布ヘッド１２Ｃへの受液時は十分な注意が必要になる。
【００４１】
また、図２には、スロット２８の側面（傾斜面３０Ａ）が平面で構成された例を示したが、スロット２８（スペーサ３０）の形状はこれに限定するものではない。たとえば、図４（Ａ）に示すように、スペーサ３０の側面の先端部のみに傾斜面３０Ｂを設けることにより、欠損部２８Ｓを台形状に形成し、スロット２８の幅寸法が先端側で急激に狭くなるようにしてもよい。また、図４（Ｂ）に示すように、スペーサ３０の先端側の側面を円弧状の曲面３０Ｃとすることによって、スロット２８の幅寸法が先端側で急激に狭くなるようにしてもよい。さらに、図４（Ｃ）に示すように、スペーサ３０の側面に二段階の傾斜面３０Ｄ、３０Ｅを設け、スロット２８の幅寸法が先端にかけて二段階で狭くなるように構成してもよい。
【００４２】
図５は、塗布ヘッド１２Ｃの先端部分とシートＷとの位置関係を示す概略断面図である。同図に示すように、塗布ヘッド１２Ｃは、支持ローラ１２Ｄに支持されて連続走行するシートＷに対して、スロット２８から塗布液Ｆをビードにして塗布することにより、シートＷ上に塗布膜を形成するものである。
【００４３】
スロット２８は、シートＷの幅方向に平行なスリット状の隙間であり（図２参照）、その方向（シートＷの幅方向）に垂直な方向の開口幅（スロットクリアランス）ｄは、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍに設定される（図５参照）。
【００４４】
なお、スロット２８の、ポケット３２との境界部から開口部までの距離（シートＷに向けた流路の長さ；以下、「スロット長」という）は、スロット２８のシートＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がシートＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスロット２８から供給できればよい。たとえば、スロット２８のシートＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００４５】
スロット２８は、フロントエッジ４０とバックエッジ４２とにより形成される。塗布ヘッド１２Ｃの上面（シートＷと対向する面）には、シートＷの走行方向の上流側より、フロントエッジ面４０ａ（先端リップ）、バックエッジ面４２ａ（後端リップ）がそれぞれ形成されている。図５に示されるように、フロントエッジ面４０ａは及びバックエッジ面４２ａは、断面が略直線状に形成されている。
【００４６】
次に、減圧チャンバー４４について説明する。図６は、塗布ヘッド１２Ｃ及びその周辺を示す斜視図である。塗布ヘッド１２Ｃに対し、シートＷの走行方向側とは反対側に、塗布液Ｆのビードに対して充分な減圧調整を行えるよう、シートＷと接触しない位置に減圧チャンバー４４が設置されている。
【００４７】
減圧チャンバー４４には、減圧配管４４ａが接続されており、減圧配管４４ａは減圧手段（ブロワー、真空ポンプ等）に接続されており、チャンバー内が減圧状態に維持されるようになっている。なお、減圧チャンバー４４は、本発明にとって必須の構成ではない。
【００４８】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００４９】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００５０】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００５１】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００５２】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。
【００５３】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００５４】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５５】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５６】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５７】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００５８】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５９】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００６０】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００６１】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００６２】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００６４】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００６５】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００６６】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００６７】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００６８】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００６９】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００７０】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上  大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００７１】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００７２】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００７３】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００７４】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００７５】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００７６】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００７７】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００７８】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００７９】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、１〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００８０】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は１０〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００８１】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００８２】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５５以上が好ましく、１．５６以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００８３】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００８４】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート状体供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。
【００８５】
塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、所定量の溶剤分が蒸発する。なお、乾燥手段１９を機能させずに、シートＷに塗布された樹脂液の溶剤を蒸発させない運転方法も採用できる。
【００８６】
次いで、溶剤が残留している状態の樹脂層のシートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。この際の樹脂層の溶剤含有率（溶剤濃度）は、１〜１０重量％が好ましく、２〜６重量％がより好ましい。
【００８７】
次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【００８８】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、樹脂液中の溶剤を蒸発させて樹脂層の溶剤含有率（溶剤濃度）を制御することもでき、このために、剥離ローラ１６の下流側に乾燥手段１９と同様の装置を設けることもできる。
【００８９】
また、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【００９０】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。
【００９１】
このように、シートＷ表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ１３による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【００９２】
特に、本発明においては  塗布ヘッド１２Ｃのスロット幅を先端にかけて連続的に狭くなるように構成し、更に、塗布液の粘度ｎとスロット２８の欠損面積Ｓとの積ｎ・Ｓが既述した式（１）を満足するように構成したことによって、スロット２８の端部でビードがピンすることなく安定し、シート耳部での薄塗りや厚塗りといった塗布欠陥の発生を抑制することができ、製品ロスとなる切除幅を減少させることができる。
【００９３】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００９４】
たとえば、本実施形態の例では、塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液を乾燥し、所定量の溶剤分を蒸発させたが、既述したように、乾燥手段１９を機能させずに、シートＷに塗布された樹脂液の溶剤を蒸発させない運転方法も採用できる。
【００９５】
同様に、シートＷを剥離した後、樹脂液中の溶剤を蒸発させて樹脂層の溶剤含有率（溶剤濃度）を制御することもできる。
【００９６】
また、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【実施例】
【００９７】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
［樹脂液の調整］
図７の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、液粘度の異なる２種類の樹脂液１、２を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
【００９８】
ＥＢ３７００：エベクリル３７００、ダイセルＵＣ（株）製、
ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート、
（粘度：２２００ｍＰａ・ｓ／６５°Ｃ）
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、
（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＢＲ−３１  ：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬工業（株）製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
（常温で固体、融点５０°Ｃ以上）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、
エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＭＥＫ      ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【００９９】
シートＷとして、幅１０００ｍｍ、厚さ１８０μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【０１００】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図を図８に示す。
【０１０１】
塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを用い、フロントエッジ面４０ａ（先端リップ）のランド長さを１５００μｍ、バックエッジ面４２ａ（後端リップ）のランド長さを５００μｍ、スロット２８のクリアランスｄを５００μｍ、スロット長を３０ｍｍとした。また、シートＷと塗布ヘッド１２Ｃとの距離（リップクリアランス）を２５０μｍとした。
【０１０２】
また、スロット２８の先端の幅寸法Ｗ１（図１参照）を４５０ｍｍに設定し、スロット２８の欠損面積Ｓが０、３０、６０、１５０ｍｍ２となるような複数種類のスペーサ３０を準備した。なお、栓部材３６としては、各々のスペーサ３０に適合するように適当な大きさのものを選定し、ポケット３２内部の栓部材３６の付近に滞留部を形成しないようにした。
【０１０３】
塗布液として、図７の表に記載の樹脂液１、２を使用した。
【０１０４】
ライン速度（塗布速度）を５ｍ／ｍｉｎとし、塗布液（樹脂液１、２）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が１４μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液の供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【０１０５】
乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。塗布後の乾燥条件（熱風の温度等）により、塗布液中の溶剤濃度を調整した。
【０１０６】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【０１０７】
樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。
【０１０８】
なお、製品としては、幅４４０ｍｍ以上のものを採取する必要がある。
【０１０９】
以上により、図９の表に示された塗布液の粘度ｎとスロット２８の欠損面積Ｓを組み合わせた各例（例１〜８）に対応する、凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。
【０１１０】
［サンプル幅の評価］
得られたシートＷを製品として使用可能なサイズに切断することにより、図９に記載の各例（例１〜８）に対応するサンプルをそれぞれ得た。そして、各サンプルの幅を測定し、サンプル幅が４４０ｍｍ以上のものを○と、４４０ｍｍ未満のものを×として評価を行った。評価結果を図９の表にまとめて記載する。
【０１１１】
図９の表によれば、塗布液の粘度ｎとスロット２８の欠損面積Ｓとの積ｎ・Ｓが既述した式（１）の範囲内である例２、３、６、７、８の場合には、いずれもサンプル幅が４４０ｍｍ以上と所望のサイズより大きなものを得ることができ、評価は○となった。
【０１１２】
一方、塗布液の粘度ｎとスロット２８の欠損面積Ｓとの積ｎ・Ｓが既述した式（１）の範囲より小さい例１、５の場合には、シート耳部が薄塗りとなり、製品として使用可能なサンプル幅は４４０ｍｍ未満となってしまい、評価は×であった。また、これとは逆に、塗布液の粘度ｎとスロット２８の欠損面積Ｓとの積ｎ・Ｓが既述した式（１）の範囲より大きい例４の場合には、シート耳部が厚塗りとなり、同じく製品として使用可能なサンプル幅は４４０ｍｍ未満となってしまい、評価は×であった。
【０１１３】
以上の結果より、本発明の方法を用いることにより、３０ｍ／ｍｉｎの低速度で塗布が行われる際、シート耳部での塗布欠陥の発生を抑制でき、製品ロスとなる切除幅を減少させることができるという本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１１４】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】塗布ヘッドの構成例を示す断面図
【図３】塗布ヘッドの他の構成例を示す断面図
【図４】塗布ヘッドの他の構成例を示す部分断面図
【図５】塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図６】塗布ヘッド及びその周辺を示す斜視図
【図７】樹脂液の調合を示す表
【図８】エンボスローラの概要を示す断面図
【図９】サンプル幅の評価結果を示す表
【符号の説明】
【０１１５】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート状体供給手段、１２…塗布手段、１２Ｃ…塗布ヘッド、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、１９…乾燥手段、２８…スロット、３０…スペーサ、３２…ポケット、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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