(57)【要約】【課題】本発明は、圧出加工及びローリング加工を通じてヒートシンクを製作して製作過程が単純で、製作費用がチープなプラズマディスプレイ装置のヒートシンクを提供するためのものである。【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出加工及びローリング加工によって横方向空気流路及び縦方向空気流路が形成されるから加工が容易いだけでなく、前記圧出加工及びローリング加工が連続的に成るところ、生産性が従来に比べて数等向上する効果がある。【選択図】図５
2007310341.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧出台による圧出加工及び成形ローラーによって加圧されるローリング加工によって複数個の放熱部が突き出されるように形成されるプレート部であって、前記突き出された複数個の放熱部によって横方向空気流路及び縦方向空気流路が形成された前記プレート部を含んで構成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項２】
前記ヒートシンクは前記プレート部で前記放熱部の突き出方向と反対に突き出された折り曲げ部がさらに形成されたことを特徴とする 請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。 
【請求項３】
前記プレート部で前記折り曲げ部と前記放熱部の間は平坦に形成された平坦部がさらに形成されたことを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項４】
前記折り曲げ部は前記プレート部の両側端にそれぞれ形成されたことを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項５】
前記ヒートシンクは一対が結合されたペアヒートシンク形態に製作されて、前記ペアヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に切断して分離することを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項６】
前記ヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に対称になるように形成されたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項７】
前記ヒートシンクは一対が結合されたペアヒートシンク形態に製作されて、前記ペアヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に切断して分離することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項８】
前記プレート部で前記放熱部が形成された反対面には熱伝逹部材が安着される溝形態の熱伝逹部材設置部がさらに形成されたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項９】
前記ヒートシンクの横方向空気流路及び縦方向空気流路の内何れの一つは圧出加工によって形成されて、他の一つはローリング加工によって形成されることを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項１０】
前記プレート部で前記折り曲げ部と前記放熱部は平坦に形成された平坦部がさらに形成されて、前記熱伝逹部材設置部は前記平坦部の反対面に形成されたことを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項１１】
前記ヒートシンクの横方向空気流路及び縦方向空気流路の内何れの一つは圧出加工によって形成されて、他の一つはローリング加工によって形成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項１２】
前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成することを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項１３】
前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成して、 前記端は傾くように形成されたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク。
【請求項１４】
前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成して、
記端は曲面に形成されたことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ装置のヒートシンク
【請求項１５】
圧出台による圧出加工を通じて横方向空気流路または縦方向空気流路の内何れか一つが形成されるプレート部と、
前記プレート部を加圧する成形ローラーによるローリング加工を通じて前記横方向空気流路または前記縦方向空気流路の内他の一つが前記プレート部で突き出されるように形成された突出部とからなるヒートシンクを含んで構成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成することを特徴とする請求項１５記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記ヒートシンクは一対が結合されたペアヒートシンク形態に製作されて、前記ペアヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に切断して分離することを特徴とする請求項１５記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記ヒートシンクの横方向空気流路及び縦方向空気流路の内何れの一つは圧出加工によって形成されて、他の一つはローリング加工によって形成されることを特徴とする請求項１５記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成することを特徴とする請求項１５記載のプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイ装置のヒートシンクに関し、より詳細には圧出加工及びローリング加工を通じてヒートシンクを製作して製作過程が単純で、製作費用がチープなプラズマディスプレイ装置のヒートシンクに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置(以下 “PDP”だとする)はプラズマ放電を利用して画像を表示する平板表示装置として、早い応答速度を持つことと同時に大面積の画像を表示するのに適合して高解像度テレビ、モニター及び屋内/外広告用ディスプレイに利用されている。
【０００３】
図１は従来技術によるプラズマディスプレイ装置のヒートシンクが示された斜視図である。
【０００４】
従来技術によるヒートシンクはプラズマディスプレイ装置の放熱部分に密着されるヒートシンクベース１と、前記ヒートシンクベース１と組み立てされて大気中に熱を発散させる冷却板２で構成される。
【０００５】
ここで前記ヒートシンクベース１は前記プラズマディスプレイ装置の横方向に長く設置されて、前記冷却板２は前記プラズマディスプレイ装置の縦方向に設置される。
【０００６】
そして前記冷却板２には前記ヒートシンクベース１から伝導された熱が上側に対流されることができるように上/下方向に冷却ピン３が形成されて、前記冷却ピン３の形成方向は前記ヒートシンクベース１の形成方向と直交されて形成される。
【０００７】
また前記ヒートシンクベース１及び前記冷却板２の製造費用の節減のためにそれぞれ圧出方式によって製造される。
【０００８】
それで前記ヒートシンクベース１は折り曲げるれたまま長手方向に長く成形されながら圧出されて形成されて、前記冷却板２は前記冷却ピン３が形成された方向に長く圧出されて形成される。
【０００９】
そして前記ヒートシンクベース１と前記冷却板２には別途の締結部材５が締結されて組み立てされて、前記締結部材５の組み立てのために前記ヒートシンクベース１と前記冷却板２にはそれぞれ締結ホール４が加工される。
【００１０】
ところが、前記のように製造される前記プラズマディスプレイ装置のヒートシンクはヒートシンクを構成するヒートシンクベース１及び冷却板２が圧出によって製造されることはするが、各部品1、2が別途の組み立て過程を通じて結合されるから製作時間及び作業過程が煩わしい問題点がある。
【００１１】
また、従来技術によるヒートシンクは前記ヒートシンクベース１及び前記冷却板２の組み立て過程で締結ホールを加工する別途の工程が発生されるから製作過程が複雑な問題点があるだけではなく、このために作業者の作業過程が多量発生される問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は前記のような問題点を改善するために案出されたこととして、圧出方法を通じて製作されることで製作過程が単純なプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置を提供することにある。
【００１３】
本発明の他の目的は、圧出される方向と相異な方向に空気流路を形成させるプラズマディスプレイ装置のヒートシンクを提供することにある。
【００１４】
本発明のまた他の目的は、圧出される時捻れまたは曲がることを抑制させるプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係るプラズマディスプレイ装置及びそれによるヒートシンクは圧出台による圧出加工及び成形ローラーによって加圧されるローリング加工によって複数個の放熱部が突き出されるように形成されるが、前記突き出された複数個の放熱部によって横方向空気流路及び縦方向空気流路が形成されたプレート部を含んで構成されたことを特徴とする。
【００１６】
ここで前記ヒートシンクは前記プレート部で前記放熱部の突き出方向と反対に突き出された折り曲げ部がさらに形成されて、前記プレート部で前記折り曲げ部と前記放熱部の間は平坦に形成された平坦部がさらに形成されて、  
前記折り曲げ部は前記プレート部の両側端にそれぞれ形成される。
【００１７】
特に、前記ヒートシンクは一対が結合されたペアヒートシンク形態に製作されて、前記ペアヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に切断されて分離する。
【００１８】
そして前記ヒートシンクの横方向空気流路及び縦方向空気流路の内何れか一つは圧出加工によって形成されて、他の一つはローリング加工によって形成される。
【００１９】
一方、前記ヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に対称されるように形成されて、前記ヒートシンクは一対が結合されたペアヒートシンク形態に製作されて、前記ペアヒートシンクは縦方向または横方向の内で少なくとも何れか一方方向に切断されて分離する。
【００２０】
また、前記プレート部で前記放熱部が形成された反対面には熱伝逹部材が安着される溝形態の熱伝逹部材設置部がさらに形成される。
【００２１】
そして前記プレート部で前記折り曲げ部と前記放熱部は平坦に形成された平坦部がさらに形成されて、前記熱伝逹部材設置部は前記平坦部の反対面に形成される。
【００２２】
また前記横方向空気流路と前記縦方向空気流路は高低が相異する端を形成して、前記端は傾くように形成されるとか曲面に形成される。
【発明の効果】
【００２３】
前記のように構成される本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出加工及びローリング加工によって横方向空気流路及び縦方向空気流路が形成されるから加工が容易いだけでなく、前記圧出加工及びローリング加工が連続的に成るところ、生産性が従来に比べて数等向上する効果がある。
【００２４】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出成形によってヒートシンクが製造されるにもかかわらず成形ローラーを通じて排出方向と異なる方向に縦方向空気流路が形成されるから作り方が単純化される効果がある。
【００２５】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出物を連続的に加工する圧出台または成形ローラーが使われるから設置されるプラズマディスプレイ装置の大きさによって多様な長さで切断して使うことができる。
【００２６】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出加工及びローリング加工を通じてヒートシンクを製作するから製作されたヒートシンクの平滑度及び偏平度をより精緻に形成させる効果がある。
【００２７】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は圧出台による圧出加工を通じてヒートシンクが加工されるから前記圧出台の製作による費用がダイカストやその他プレス加工に比べて数等チープなだけでなく、製作時圧出台の損傷がめっきり少なくて耐久性の高い効果がある。
【００２８】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンク作り方及びそれによる製造装置は成形ローラーに形成された付加歯形を通じて横方向空気流路と縦方向空気流路間に形成された段差を最小化するからヒートシンクによる空気の疎通がより円滑な効果がある。
【００２９】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンクは両側端がお互いに対称を成すペアヒートシンク形態に製作されるから圧出台で圧出される時何れか一方方向に撓むか変形されることを防止する効果がある。
【００３０】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンクは圧出成形によって形成された横方向空気流路とローリング加工によって形成された縦方向空気流路の端が付加歯形によって加圧されて緩く繋がれるから、対流される空気の流動が隣り合う空気流路より円滑に移動される効果がある。
【００３１】
また本発明に係るプラズマディスプレイ装置のヒートシンクは両側端がお互いに対称を成すペアヒートシンク形態に製作されるから圧出台で圧出される時何れか一方方向に曲がるとか変形されることを防止する効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明に係る具体的な実施形態を添付の図面を参照しつつ説明する。
【００３３】
図２は本発明に係るプラズマディスプレイ装置が示された一部切開斜視図で、図３は本発明に係るプラズマディスプレイ装置のモジュールが示された背面図である。
【００３４】
図２または図３に示されたように本発明に係るプラズマディスプレイ装置(以下 “PDP”だとする)は上板と下板に合着されて、内部に不活性混合ガスが充填されて電流の印加の時放出された電子によって可視光線を放出するパネル１０と、前記パネル１０の背面に附着する放熱板２０と、前記放熱板２０の背面に設置される駆動ボード４０と、前記パネル１０の端と前記放熱板２０をカバーするケース３０を含んで構成される。
【００３５】
前記パネル１０は使用者に露出する前面基板６１０と、前記前面基板６１０の後方に配置されて前記前面基板と合着される背面基板６２０と、前記の前/背面基板（６１０）（６２０） 内部に充填される不活性混合ガスを含んで構成される。
【００３６】
ここで前記パネル１０内部には複数個のスキャン電極(図示せず)と、前記スキャン電極と交差する方向に形成された複数のアドレス電極(図示せず)と、前記パネル１０の内部に塗布されて前記スキャン電極とアドレス電極の間の電流が印加される場合放電によって可視光線を発生させる蛍光体(図示せず)を含んで構成される。
【００３７】
特にＰＤＰは前記パネル１０、放熱板２０及び前記駆動ボード４０を含んでモジュール３００を構成して、前記モジュール３００の外側をくるむように前記ケース３０が設置される。
【００３８】
前記放熱板２０は前記パネル１０の背面に設置されて前記パネル１０を支持することと同時にパネル１０から発生される熱を吸収して放出させる。
【００３９】
そして前記放熱板２０の背面には前記パネル１０に電流を印加する前記駆動ボード４０が設置される。
【００４０】
前記駆動ボード４０は前記パネル１０のアドレス電極(図示せず)に電流を印加するデータドライバーボード５０と、前記パネル１０のスキャン電極(図示せず)に電流を印加するスキャンボード６０と、前記パネル１０のサステイン電極(図示せず)に電流を印加するサステインボード７０と、前記データドライバーボード５０、前記スキャンボード６０及び前記サステインボード７０を制御するメインコントローラー８０と、前記各ボード５０，６０，７０，８０に５Ｖ、１２Ｖ等の電圧の電源を供給するＰＳＵを備える電源部９０と、を含んで構成される。
【００４１】
前記データドライバーボード５０は前記パネル１０に形成されたアドレス電極に電流を印加して前記パネル１０に形成された複数個の放電セル(図示せず)中放電する放電セルのみを選択する。
【００４２】
ここで前記データドライバーボード５０はシングルスキャン方式またはデュアルスキャン方式に従って前記パネル１０の上側または下側に片側または両側に設置されて、本実施形態では前記パネル１０がデュアルスキャン方式なので前記パネル１０の上側及び下側の両側に設置される。
【００４３】
また前記データドライバーボード５０は前記メインコントローラー８０と繋がれてデータ信号を前記アドレス電極に印加する。
【００４４】
ここで前記データドライバーボード５０には前記アドレス電極に印加される電流を制御するようにデータＩＣ(図示せず)が設置されて、前記データＩＣでは印加される電流を制御するためにスイチングが発生されて多量の熱が発生される。
【００４５】
それで前記データドライバーボード５０には前記制御過程で発生された発熱を解消するためにヒートシンク１００が設置される。
【００４６】
前記スキャンボード６０は、図３に示されたように、前記メインコントローラー８０と繋がれるスキャンサステインボード６２と、前記スキャンサステインボード６２と前記パネル１０を連結するスキャンドライバーボード６４で構成される。
【００４７】
ここで前記スキャンドライバーボード６４は本実施形態で上/下２部分で分けられて設置されて、本実施形態と異なり単数個で設置されるとかさらに多い複数個で設置されても関係ない。
【００４８】
そして前記スキャンドライバーボード６４には前記パネル１０のスキャン電極で電流を印加するスキャンＩＣ６５が設置されて、前記スキャンＩＣ６５は前記スキャン電極にリセット、スキャン及びサステイン段階の波形を連続で印加する。
【００４９】
また、前記電源部９０は、前記ＰＳＵ（ｐｏｗｅｒ ｓｕｐｐｌｙ ｕｎｉｔ)で提供しない電圧（４．６Ｖ等の微調整された電圧）を前記各ボード５０，６０，７０、８０に供給する。
【００５０】
図４は本発明に係るヒートシンク製造装置によって製作されたペアヒートシンクが示された斜視図で、図５は本発明に係るヒートシンクが示された斜視図である。
【００５１】
図４または図５に示されたように、本発明に係るヒートシンク１００は一対で成り立ったペアヒートシンク２００に製作された後２個に分離して使われる。
【００５２】
ここで前記ヒートシンク１００は熱伝導度が高く圧出成形が容易いアルミニウム６０６２ 材質を使うが、前記モジュール３００の端をくるみながら設置される折り曲げ部１０２と、前記モジュール３００の発熱部分に密着されるプレート部１０４で構成されて、前記プレート部１０４には複数個の放熱部１０６が突き出されて形成される。
【００５３】
前記放熱部１０６は四角形形態に突き出されて形成されて、凹凸形状の前記放熱部１０６と空気が熱交換されて、熱交換された前記空気は対流されて移動される。
【００５４】
ここで前記放熱部１０６は前記プレート部１０４の横方向及び縦方向に配列されて、前記放熱部１０６の配列によって前記加熱された空気が移動される縦方向空気流路１１２及び横方向空気流路１１０が形成される。
【００５５】
前記横方向空気流路１１０は前記ヒートシンク１００の長手方向と等しい方向に長く形成されて、前記縦方向空気流路１１２は前記横方向空気流路１１０と交差されるように形成されて前記モジュール３００の設置時上/下方向に配置されて、前記横方向空気流路１１０ 及び前記縦方向空気流路１１２は前記放熱部１０６の間に形成された凹溝の形状に形成される。
【００５６】
そして前記複数個の放熱部１０６の内最下側に設置された放熱部１０６の上/下長さが一番長く、上側に行くほどその長さが漸進的に短くなるように形成されて対流される空気の混合及び移動が円滑に成るようにする。
【００５７】
一方、前記ヒートシンク１００の底面すなわち、前記放熱部１０６の反対面には前記熱伝逹が効率的に成るようにグラファイトなどが附着する熱伝逹部材設置部１０８が形成される。
【００５８】
ここで前記熱伝逹部材設置部１０８は前記ヒートシンク１００の長手方向に長く形成されて、前記熱伝逹部材１０５であるグラファイトが安定的に設置されて附着するように、突出部１０９が形成されて前記熱伝逹部材１０５をくるむ。
【００５９】
また、前記プレート部１０４で前記熱伝逹部材設置部１０８の反対面には所定面積が横方向で平坦に形成された平坦部１０３が形成される。
【００６０】
ここで前記平坦部１０３には追後工程で通じて締結ホール(図示せず)などが形成されて、 前記締結ホールを通じてプラズマディスプレイ装置の放熱板２０に固定される。
【００６１】
それで前記平坦部１０３は前記折り曲げ部１０２と前記放熱部１０６の間に形成される。
【００６２】
図６は本発明に係るヒートシンク製造装置が示された概略斜視図であり、図７は本発明に係るヒートシンク製造装置が示された概略側面図であり、図８は本発明に係るヒートシンク製造装置の成形ローラーとペアヒートシンクが示された断面図であり、図９は本発明に係るヒートシンク製造装置の圧出台が示された正面図であり、図１0は本発明に係る成形ローラーによって縦方向流路が形成されたペアヒートシンクの一部拡大図である。
【００６３】
本発明に係るヒートシンク製造装置は溶融された金属を圧出成形して前記横方向空気流路１１０が形成された圧出物４０１を製作する圧出台４１０と、前記圧出台４１０で圧出された圧出物４０１を加圧して前記縦方向空気流路１１２を形成させる成形ローラー４２０と、前記圧出物４０１を基準として前記成形ローラー４２０の反対側に位置されて前記成形ローラー４２０で加えられる荷重を支持する支持ローラー４３０を含んで構成される。
【００６４】
前記圧出台４１０は加熱された金属を圧出成形して前記横方向空気流路１１０が形成されるように前記圧出物４０１を加工して、前記圧出台４１０を通じて圧出される圧出物４０１は両側端にそれぞれ折り曲げ部１０２が形成されたペアヒートシンク２００の形態に加工される。
【００６５】
ここで前記のようにペアヒートシンク２００の形態で前記圧出物４０１を製作すれば、 前記圧出物４０１に加えられる摩擦及び圧力が対称を成すから前記圧出台４１０を通じて排出された圧出物４０１が何れか一方方向に変形されるとか曲がることを防止する。
【００６６】
それで前記圧出台４１０の圧出具は両側端が対称となるように形成されて前記折り曲げ部１０２が前記ペアヒートシンクの圧出方向中心から互いに対称となるように形成される。
【００６７】
特に、前記本発明に係るヒートシンク１００は一側にだけ折り曲げ部１０２が形成される形態であるから、ヒートシンク１００形態で圧出台４１０を製作すれば適正な圧力で金属を圧出成形しても排出される圧出物４０１が摩擦が少ない方で曲がりながら変形される
【００６８】
それで本実施形態では圧出物４０１の両側が対称されるように前記圧出台４１０を製作して前記ペアヒートシンク２００形態でヒートシンク１００を生産する。
【００６９】
一方、前記圧出台４１０を通じて圧出物４０１が排出されれば、前記圧出物４０１には前記圧出物４０１が排出される方向に複数個の横方向空気流路１１０に並んで形成されるバリアー４１５が横方向で複数個形成される。
【００７０】
それで前記バリアー４１５の間で前記横方向空気流路１１０が形成されて、前記バリアー４１５は後述する歯形４２２によって前記放熱部１０６に成形される。
【００７１】
また前記圧出物４０１の底面には前記熱伝逹部材設置部１０８及び前記突出部１０９が同時に成形される。
【００７２】
前記成形ローラー４２０は前記圧出物４０１のバリアー４１５に縦方向空気流路１１２を形成させるためのものとして、円筒状に形成されて、外周面に軸中心に対して放射状で複数個の歯形４２２が形成される。
【００７３】
前記歯形４２２は前記圧出物４０１のバリアー４１５表面を加圧して前記縦方向空気流路１１２を形成させるところ、本実施形態で前記歯形４２２は前記横方向空気流路１１０と直交されるように形成されて、前記成形ローラー４２０の外周に付いて軸方向に長く形成される。
【００７４】
本実施形態で示すさなかったが前記縦方向空気流路１１２は前記横方向空気流路１１０を連結させるためのものであるから、前記のように前記横方向空気流路１１０と直交されないで交差されて形成されても関係ない。
【００７５】
共に前記歯形４２２の外側端４２３には前記横方向空気流路１１０に挿入されて前記バリアー４１５の下端を加圧する付加歯形４２４がさらに形成されて、前記付加歯形４２４は前記歯形４２２の外側にさらに突き出されて形成される。
【００７６】
すなわち、前記付加歯形４２４は前記成形ローラー４２０の放射状にさらに突き出されて形成されて、前記圧出物４０１と前記歯形４２２が圧着される時、前記付加歯形４２４は前記バリアー４１５の根部分をさらに加圧して前記横方向空気流路１１０と前記縦方向空気流路１１２の段差を最小化する。
【００７７】
ここで前記横方向空気流路１１０は圧出成形過程で形成されることで、前記縦方向空気流路１１２は前記成形ローラー４２０の圧着によって形成されることであるところ、前記成形ローラー４２０の圧力が十分だとしても前記横方向空気流路１１０と前記縦方向空気流路１１２を等しい高さで形成させることは実質的に難しい。
【００７８】
それで前記付加歯形４２２は前記横方向空気流路１１０と前記縦方向空気流路１１２間の端１１５をさらに圧着して高さの差が緩く形成されるようにする。
【００７９】
図１０に示されたように、本発明に係る成形ローラー４２０の歯形４２２によって前記バリアー４１５が加工されれば、図示されたｈの高さの差で前記縦方向空気流路１１２が形成される。
【００８０】
ここで前記歯形４２２によるバリアー４１５の加圧時示された点線（１）形態で前記端１１５が形成される。
【００８１】
ところが、前記歯形４２２と共に前記付加歯形４２４によって前記端１１５が加圧されれば示された実線（２）の形態で前記端１１５が緩く変形される。
【００８２】
一方、前記圧出物４０１の下側には前記支持ローラー４３０が設置されて、前記支持ローラー４３０は前記成形ローラー４２０と対応されて前記成形ローラー４２０で加えられる荷重を支持する。
【００８３】
特に前記支持ローラー４３０には前記突出部１０９が挿入されるように溝４３９が形成されて、前記溝４３９は前記支持ローラー４３０の外周に付いて形成される。
【００８４】
特に前記支持ローラー４３０は前記圧出物４０１の折り曲げ部１０２内側に位置されて前記圧出物４０１の移動方向が直線になるように案内して、移動過程で前記圧出物４０１が垂れるとか変形されることを防止する。
【００８５】
共に前記成形ローラー４２０と前記支持ローラー４３０は前記圧出物４０１を加工するために前記圧出物４０１の移動方向で複数個設置される。
【００８６】
ここで前記各成形ローラー４２０及び前記支持ローラー４３０が形成する各対は前記圧出物４０１を複数回加工して前記縦方向空気流路１１２の深み（ｈ）を漸進的に増加させて前記横方向空気流路１１０と前記縦方向空気流路１１２の段差を最小化する。
【００８７】
そして成形ローラー４２０と前記支持ローラー４３０は前記圧出物４０１の圧出速度と連動されてそれぞれ回転されることで前記圧出物４０１の成形過程で前記圧出物４０１が排出される方向に延伸されることを防止する。
【００８８】
また、前記圧出物４０１は成形される過程で前記成形ローラー４２０側または前記支持ローラー４３０側で撓むことを防止するために前記成形ローラー４２０と前記支持ローラー４３０の回転数が調整される。
【００８９】
それで前記圧出物４０１は前記圧出台４１０で圧出される時、両側端の形態が対称となるようにされて両側端の内で何れか一方方向に変形されるのが防止されて、前記成形ローラー４２０及び前記支持ローラー４３０によって稼動される時で回転数が調整されて前記成形ローラー４２０または前記支持ローラー４３０側で撓んで変形されるのが防止される。
【００９０】
以下、本発明に係るヒートシンク作り方を図１１の手順図を参照してより詳細に説明する。
【００９１】
図１１は本発明に係るヒートシンクの作り方が示された手順図である。
【００９２】
図１１に示されたように、本発明に係るヒートシンク１００は横方向空気流路１１０が形成されるように加熱された金属を圧出成形する圧出加工段階（Ｓ１０）と、歯形４２２が形成された成形ローラー４２０を通じて加圧して前記圧出加工（Ｓ１０）によって形成された圧出物４０１の横方向空気流路１１０と交差されるように縦方向空気流路１１２を形成させるローリング加工段階（Ｓ２０）と、前記ローリング加工段階（Ｓ２０）を経て横方向空気流路１１０及び縦方向空気流路１１２がそれぞれ形成された圧出物４０１を長手方向で切断して一対のヒートシンク１００を製作する切断加工段階（Ｓ３０）と、前記ヒートシンク１００のプレート部１０４にホール１０１を形成させるホール加工段階（Ｓ４０）を含んで構成される。
【００９３】
前記圧出加工段階（Ｓ１０）は前記圧出台４１０によって金属が圧出される段階で、前記圧出台４１０で圧出された金属は横方向空気流路１１０が複数個形成された圧出物４０１を形成する。
【００９４】
前記ローリング加工段階（Ｓ２０）は前記成形ローラー４２０及び支持ローラー４３０を通じて前記圧出物４０１のバリアー４１５に縦方向空気流路１１２を形成させる段階で、 前記ローリング加工段階（Ｓ２０）は前記圧出物４０１に過度な変形が発生されることを抑制するために複数回段階で分けて実施されるのが望ましい。
【００９５】
前記切断加工段階（Ｓ３０）は両側端が対称されるように形成されたペアヒートシンク２００を長手方向で切断して２個のヒートシンク１００を得る段階である。
【００９６】
前記ホール加工段階（Ｓ４０）は前記ヒートシンク１００にホール１０１を形成させる段階で、前記ホール１０１は前記モジュールに前記ヒートシンク１００を固定させる過程で使われる。
【００９７】
ここで前記ホール加工段階（Ｓ４０）は前記切断加工段階（Ｓ３０）以前に施行されても関係ない。
【００９８】
図１２は本発明の第２実施形態によるヒートシンク製造装置が示された側面図である。
【００９９】
本発明に係る第２実施形態は第１実施形態で前記成形ローラーが複数個の形態で構成されたことを除いて第１実施形態と等しい。
【０１００】
すなわち、前記圧出台４１０で圧出された圧出物４０１を初めてローリング加工する第１列の成形ローラー５２０には第１実施形態と異なり付加歯形４２４が形成されない歯形４２２だけが形成されていて、第２例の成形ローラー４２０には第１実施形態と共に歯形４２２及び付加歯形４２４が共に形成される。
【０１０１】
それで第１例の成形ローラー５２０は前記圧出物４０１を圧着して縦方向空気流路１１２のみを形成させて、第２例の成形ローラー４２０は付加歯形４２４を通じて端１１５を緩やかな傾斜に加工する。
【０１０２】
共に前記第２例の成形ローラー４２０は前記第１例の成形ローラー５２０ 歯形４２２より歯の高さをさらに高くして前記縦方向空気流路１１２の深みをさらに深く形成する。
【０１０３】
また、前記第２例成形ローラー４２０以後にも複数個の成形ローラーが設置されることができる。
【０１０４】
以下、第２実施形態による残り構成は第１実施形態と等しいので詳しい説明を略する。
【０１０５】
以下、本発明に係るパネルの望ましい実施形態を添付された図面を参照して詳しく説明する。
【０１０６】
図１３は本発明に係るプラズマディスプレイパネルに対する一つの実施形態を斜視図に示すものである。図１３に示されたように、プラズマディスプレイパネルは前面基板１０ 上に形成される維持電極対であるスキャン電極１１及びサステイン電極１２、背面基板２０上に形成されるアドレス電極２２を含む。
【０１０７】
前記維持電極対（１１、１２）は通常インジウムティンオキサイド（Indium-Tin-Oxide : ITO）で形成された透明電極（１１ａ、１２ａ）とバス電極（６１１ｂ、６１２ｂ）を含み、前記バス電極（１１ｂ、１２ｂ）は銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）などの金属またはクロム/銅/クロム（Ｃｒ/Ｃｕ/Ｃｒ）の積層型やクロム/アルミニウム/クロム（Ｃｒ/Ａｌ/Ｃｒ）の積層型に形成されることができる。バス電極(11b、 12b)は透明電極(11a、 12a) 上に形成されて、 抵抗が高い透明電極（１１ａ、１２ａ）による電圧降下を減らす役目をする。
【０１０８】
一方、本発明の一つの実施形態によれば維持電極対（１１、１２）は透明電極（１１ａ、１２ａ）とバス電極（１１ｂ、１２ｂ）が積層された構造だけでなく、透明電極（１１ａ、１２ａ）がなしにバス電極（１１ｂ、１２ｂ）だけでも構成されることができる。このような構造は透明電極（６１１ａ、６１２ａ）を使わないので、パネル製造の単価を低めることができる長所がある。このような構造に使われるバス電極（１１ｂ、１２ｂ）は上に列挙した材料以外に感光性銀など多様な材料が可能である。
【０１０９】
スキャン電極１１及びサステイン電極１２の透明電極（１１ａ、１２ａ）とバス電極（１１ｂ、１１ｃ）の間には上部基板１０の外部で発生する外部光を吸収して反射を減らしてくれる光遮断の機能と上部基板１０のピュリティ（Ｐｕｒｉｔｙ）及びコントラストを向上させる機能をするブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ、 １５）が配列される。
【０１１０】
本発明の一つの実施形態によるブラックマトリックス１５は上部基板１０に形成されるが、隔壁２１と重畳される位置に形成される第１ブラックマトリックス１５と、透明電極（１１ａ、１２ａ）とバス電極（１１ｂ、１２ｂ）の間に形成される第2ブラックマトリックス（１１ｃ、１２ｃ）で構成されることができる。ここで、第１ブラックマトリックス１５とブラック層またはブラック電極層とも言う第２ブラックマトリックス（１１ｃ、１２ｃ）は形成過程で同時に形成されて物理的に繋がれることができるし、同時に形成されなくて物理的に繋がれないこともある。
【０１１１】
また、物理的に繋がれて形成される場合、第１ブラックマトリックス１５と第２ブラックマトリックス（１１ｃ、１２ｃ）は等しい材質で形成されるが、物理的に分離して形成される場合には他の材質で形成されることができる。
【０１１２】
スキャン電極１１とサステイン電極１２が並んで形成された前面基板１０には上部誘電体層１３と保護膜１４が積層される。上部誘電体層１３には放電によって発生された荷電粒子が蓄積されて、維持電極対（１１、１２）を保護する機能を遂行することができる。保護膜１４はガス放電の時発生された荷電粒子のスパッタリングから上部誘電体層１３を保護して、２次電子の放出効率を高めるようになる。また、保護膜１４は通常酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が使われて、シリコーン（Ｓｉ）が添加されたＳｉ−ＭｇＯが利用されることもできる。ここで、保護膜１４に添加されるシリコーン（Ｓｉ）の含有量は重量パーセント（ｗｔ %）基準で５０ＰＰＭ乃至２００ＰＰＭ が可能だろう。
【０１１３】
一方、アドレス電極２２はスキャン電極１１及びサステイン電極１２と交差される方向に形成される。また、アドレス電極２２が形成された背面基板２０上には下部誘電体層２３と隔壁２１が形成される。
【０１１４】
また、下部誘電体層２３と隔壁２１の表面には型光体層が形成される。 隔壁２１は縦隔壁２１ａと横隔壁２１ｂが閉鎖型に形成されて、放電セルを物理的に区分して、 放電によって生成された紫外線と可視光が隣り合う放電セルに漏洩することを防止する。
【０１１５】
本発明の一つの実施形態には図１３に示された隔壁２１の構造だけではなく、多様な形状の隔壁２１構造も可能だろう。例えば、縦隔壁２１ａと横隔壁２１ｂの高さが異なり差等型隔壁構造、縦隔壁２１ａ または横隔壁２１ｂ中の一つ以上に排気通路で使用可能なチャンネル（Ｃｈａｎｎｅｌ）が形成されたチャンネル型隔壁構造、縦隔壁２１ａ または横隔壁２１ｂ中の一つ以上に溝（Ｈｏｌｌｏｗ）が形成された溝型隔壁構造などが可能だろう。
【０１１６】
ここで、差等型隔壁構造の場合には横隔壁２１ｂの高さが高いことがさらに望ましくて、 チャンネル型隔壁構造や溝型隔壁構造の場合には横隔壁６２１ｂにチャンネルが形成されるとか溝が形成されることが望ましいだろう。
【０１１７】
一方、本発明の一つの実施形態ではＲ、Ｇ及びＢ放電セルそれぞれが等しい線上に配列されることで図示及び説明されているが、他の形状に配列されることも可能だろう。例えば、Ｒ、Ｇ及ＣＢ放電セルが三角形形状に配列されるデルタ（Ｄｅｌｔａ）タイプの配列も可能だろう。また、放電セルの形状も四角形状だけでなく、 五角形、 六角形などの多様な多角形状も可能だろう。
【０１１８】
また、前記型光体層はガス放電の時発生された紫外線によって発光されて赤色(R)、緑色 (G)または青色(B)中何れか一つの可視光を発生するようになる。 
ここで、上部/下部基板（６１０、６２０）と隔壁６２１の間に用意された放電空間には放電のためのＨｅ+Ｘｅ、Ｎｅ+Ｘｅ及びＨｅ+Ｎｅ+Ｘｅなどの不活性混合ガスが注入される。
【０１１９】
図１４はプラズマディスプレイパネルの電極配置に対する一つの実施形態を示すもので、プラズマディスプレイパネルを構成する複数の放電セルは図２に示されたようにマトリックス形態に配置されることが望ましい。複数の放電セルはそれぞれスキャン電極ライン（Ｙ１乃至Ｙｍ）、サステイン電極ライン（Ｚ１乃至Ｚｍ）及びアドレス電極ライン（Ｘ１内Ｘｎ）の交差部に用意される。スキャン電極ライン（Ｙ１乃至Ｙｍ）は順に駆動されるとか同時に駆動されることができるし、サステイン電極ライン（Ｚ１乃至Ｚｍ）は同時に駆動されることができる。アドレス電極ライン（Ｘ１乃至Ｘｎ）は奇数番目ラインと偶数番目ラインに分割されて駆動されるとか順に駆動されることができる。
【０１２０】
図１４に示された電極配置は本発明に係るプラズマパネルの電極配置に対する一つの実施形態に過ぎないので、本発明は図２に示されたプラズマディスプレイパネルの電極配置及び駆動方式に限定されない。例えば、前記スキャン電極ライン（Ｙ１乃至Ｙｍ）の内で２個のスキャン電極ラインが同時にスキャニングされるデュアルスキャン（ｄｕａｌ ｓｃａｎ）方式も可能である。また、前記アドレス電極ライン（Ｘ１乃至Ｘｎ）はパネルの中央部分で上、下に分割されて駆動されることもできる。
【０１２１】
図１５は一つのフレーム（ｆｒａｍｅ）を複数のサブフィールドで分けて時分割駆動させる方法に対する一つの実施形態をタイミング図に示すものである。単位フレームは時分割階調表示を実現するために所定個数例えば８個のサブフィールド（ＳＦ１、．．．、ＳＦ８）に分割されることができる。また、各サブフィールド(ＳＦ１、．．．ＳＦ８)はリセット区間(図示せず)と、アドレス区間（Ａ１、．．．、Ａ８）及び、サステイン区間（Ｓ１、．．．、Ｓ８）に分割される。
【０１２２】
ここで、本発明の一つの実施形態によればリセット区間は複数個のサブフィールドの内で少なくとも一つで省略されることができる。例えば、リセット区間は最初のサブフィールドでばかり存在するとか、最初のサブフィールドと全体サブフィールドの内で中間位のサブフィールドでばかり存在することもできる。
【０１２３】
各アドレス区間（Ａ１、．．．、Ａ８）では、アドレス電極（Ｘ）に表示データ信号が印加されて、各スキャン電極（Ｙ）に相応するスキャンパルスが順に印加される。
【０１２４】
各サステイン区間（Ｓ１、．．．、Ｓ８）では、スキャン電極(Ｙ)とサステイン電極（Ｚ）にサステインパルスが交互に印加されて、アドレス区間（Ａ１、．．．、Ａ８）で壁電荷が形成された放電セルでサステイン放電を起こす。
【０１２５】
プラズマディスプレイパネルの輝度は単位フレームで占めるサステイン放電区間（Ｓ１、．．．、Ｓ８）内のサステイン放電パルス個数に比例する。１画像を形成する一つのフレームが、８個のサブフィールドと２５６階調に表現される場合に、各サブフィールドには順に １、２、４、８、１６、３２、６４、１２８の割合でお互いに異なるサステインパルスの数が割り当てされることができる。もし１３３階調の輝度を得るためには、サブフィールド１ 区間、サブフィールド３区間及びサブフィールド８区間間セルをアドレッシンしてサステイン放電すれば良い。
【０１２６】
各サブフィールドに割り当てされるサステイン放電数は、ＡＰＣ（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ｃｏｎｔｒｏｌ）段階によるサブフィールドの加重値によって可変的に決まることができる。すなわち、一フレームを８個のサブフィールドで分割する場合を例であげて説明したが本発明はそれに限定されなくて、一フレームを形成するサブフィールドの数を設計仕様によって多様に変形することが可能である。例えば、一フレームを１２または１６サブフィールドなどのように、８サブフィールド以上に分割してプラズマディスプレイパネルを駆動させることができる。
【０１２７】
また各サブフィールドに割り当てされるサステイン放電数はガンマ特性やパネル特性を考慮して多様に変形することが可能である。例えば、サブフィールド４に割り当てされた階調度を８から６に低めて、サブフィールド６に割り当てされた階調度を３２から３４に高めることができる。
【０１２８】
図１６は前記分割された一つのサブフィールドに対して、プラズマディスプレイパネルを駆動させるための駆動信号に対する第１実施形態をタイミング図に示すのである。
【０１２９】
前記サブフィールドはスキャン電極（Ｙ）上に正極性壁電荷を形成してサステイン電極（Ｚ）上に負極性壁電荷を形成するためのプリリセット（ｐｒｅ ｒｅｓｅｔ）区間、プリリセット区間によって形成された壁電荷分布を利用して全画面の放電セルを初期化するためのリセット（ｒｅｓｅｔ）区間、放電セルを選択するためのアドレス（ａｄｄｒｅｓｓ）区間及び選択された放電セルの放電を維持させるためのサステイン（ｓｕｓｔａｉｎ） 区間を含む。
【０１３０】
リセット区間はセットアップ（ｓｅｔｕｐ）区間及びセットダウン（ｓｅｔｄｏｗｎ）区間から成り、前記セットアップ区間ではすべてのスキャン電極で上昇ランプ波形（Ｒａｍｐ−ｕｐ）が同時印加されてすべての放電セルで微細放電が発生されて、これによって壁電荷が生成される。 
【０１３１】
前記セットダウン区間には前記上昇ランプ波形（Ｒａｍｐ−ｕｐ）のピーク電圧より低い正極性電圧から下降する下降ランプ波形（Ｒａｍｐ−ｄｏｗｎ）がすべてのスキャン電極（Ｙ）に同時に印加されてすべての放電セルで消去放電が発生されて、これによってセットアップ放電によって生成された壁電荷及び空間電荷の内で不要電荷を消去させる。
【０１３２】
アドレス区間にはスキャン電極で負極性のスキャン信号（ｓｃａｎ）が順に印加されて、 これと同時に前記アドレス電極（Ｘ）に正極性のデータ信号（ｄａｔａ）が印加される。   
このような前記スキャン信号（ｓｃａｎ）とデータ信号（ｄａｔａ）の間の電圧差と前記リセット区間間生成された壁電圧によってアドレス放電が発生されてセルが選択される。 
【０１３３】
一方、前記セットダウン区間とアドレス区間の間に前記サステイン電極にはサステイン電圧を維持する信号が印加される。
【０１３４】
前記サステイン区間にはスキャン電極とサステイン電極に交互にサステインパルスが印加されてスキャン電極とサステイン電極の間に面放電形態でサステイン放電が発生される。
【０１３５】
図１６に示された駆動波形は本発明に係るプラズマディスプレイパネルを駆動させるための信号に対する第１実施形態として、前記図１６に示された 駆動波形によって本発明は限定されない。例えば、前記プリリセット区間が省略されることができるし、図１６に示された駆動信号の極性及び電圧レベルは必要によって変更が可能で、前記サステイン放電が完了した後壁電荷消去のための消去信号がサステイン電極に印加されることもできる。 また、前記サステイン信号がスキャン電極（Ｙ）とサステイン（Ｚ）電極の内で何れか一つにだけ印加されてサステイン放電を起こすシングルサステイン（ｓｉｎｇｌｅ ｓｕｓｔａｉｎ）駆動も可能である。
【０１３６】
以上のように本発明を例示された図面を参照で説明したが、本発明は本明細書に記載した実施形態と図面に限定されなく、本発明の技術思想が保護される範囲以内で当業者によって応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】従来技術によるプラズマディスプレイ装置のヒートシンクが示された斜視図。
【図２】本発明に係るプラズマディスプレイ装置が示された一部切開斜視図。
【図３】本発明に係るプラズマディスプレイ装置のモジュールが示された背面図。
【図４】本発明に係るヒートシンク製造装置によって製作されたペアヒートシンクが示された斜視図。
【図５】本発明に係るヒートシンクが示された斜視図。
【図６】本発明に係るヒートシンク製造装置が示された概略斜視図。
【図７】本発明に係るヒートシンク製造装置が示された概略側面図。
【図８】本発明に係るヒートシンク製造装置の成形ローラーとペアヒートシンクが示された断面図。
【図９】本発明に係るヒートシンク製造装置の圧出台が示された正面図。
【図１０】本発明に係る成形ローラーによって縦方向流路が形成されたペアヒートシンクの一部拡大図。
【図１１】本発明に係るヒートシンクの作り方が示された手順図。
【図１２】本発明の第２実施形態によるヒートシンク製造装置が示された側面図。
【図１３】本発明に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造が示された斜視図
【図１４】本発明に係るパネルの電極配置が示された平面図。
【図１５】本発明に係る一つのフレーム（ｆｒａｍｅ）を構成する複数のサブフィールドが時分割されたタイミング図。
【図１６】本発明に係るパネル駆動のための駆動信号が示されたタイミング図。
【図１】
2007310341.tif 000003
【図２】
2007310341.tif 000004
【図３】
2007310341.tif 000005
【図４】
2007310341.tif 000006
【図５】
2007310341.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2007310341.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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