(57)【要約】【課題】ベースゴム層の外周部に形成される絶縁層の影響を防止した現像ロールを提供する。【解決手段】軸体１の外周面に、金型成形によりベースゴム層２が形成され、その金型の型面の転写面となるベースゴム層２の外周面に、レーザエッチングによる多数の凹部Ａが、その開口縁部が重なり合った状態で分布形成されて外周面の少なくとも一部が削除され、その削除された部分が元の外周面の表面積の８０％以上に設定されている。そして、その外周に最外層３が形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸体と、この軸体の外周面に金型成形により形成されたベースゴム層と、このベースゴム層の外周に直接もしくは他の層を介して形成された最外層とを有する現像ロールであって、金型の型面の転写面となるベースゴム層の外周面に、レーザエッチングによる多数の凹部が、その開口縁部が重なり合った状態で分布形成されて外周面の少なくとも一部が削除され、その削除された部分が元の外周面の表面積の８０％以上に設定されていることを特徴とする現像ロール。
【請求項２】
上記凹部が、直径１１０μｍ以上、深さ２μｍ以上である請求項１記載の現像ロール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機，プリンター等の電子写真機器類に用いられる現像ロールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複写機，プリンター等の電子写真機器に用いられる現像ロールは、通常、図７に示すように、軸体１の外周面にベースゴム層２が形成され、このベースゴム層２の外周に直接もしくは他の層を介して（図７では直接）最外層３が形成されている（例えば、特許文献１参照）。そして、上記ベースゴム層２および最外層３等の抵抗調整を行うことにより、ゴースト（本来印刷すべき画像に前回印刷した画像が残る現象）の発生を抑制している。
【特許文献１】特開平１０−２３９９８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ゴーストは、上記のようにしても、依然として発生することがあった。そこで、本発明者らは、そのゴーストの原因について研究を重ねた。その結果、ベースゴム層２の外周面に絶縁層２１が形成されており、それが原因となって、現像ロールの表面に電荷が残留し易くなっていることを突き止めた。また、この絶縁層２１が形成される原因は、ベースゴム層２を成形する際に、金型の型面に接する外周面から所定の厚みの部分が加硫の熱により加硫が促進されることにあることも突き止めた。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、ベースゴム層の外周部に形成される絶縁層の影響を防止した現像ロールの提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するため、本発明の現像ロールは、軸体と、この軸体の外周面に金型成形により形成されたベースゴム層と、このベースゴム層の外周に直接もしくは他の層を介して形成された最外層とを有する現像ロールであって、金型の型面の転写面となるベースゴム層の外周面に、レーザエッチングによる多数の凹部が、その開口縁部が重なり合った状態で分布形成されて外周面の少なくとも一部が削除され、その削除された部分が元の外周面の表面積の８０％以上に設定されているという構成をとる。
【０００６】
本発明は、本発明者らの前記知見に基づき、さらに研究を重ねてなされたものである。すなわち、本発明は、金型成形によりベースゴム層を形成した後、その金型の型面の転写面以下の所定厚みに形成される絶縁層にレーザエッチングを施し、そのレーザエッチングにより形成される凹部を、その開口縁部が重なり合うよう多数分布形成することにより、上記絶縁層の殆どが削除され、ゴーストの発生が防止されるようになる。このレーザエッチングは、上記金型の型面の転写面（元の外周面）の表面積の８０％以上が削除されるよう行うことにより、ゴースト発生が防止されるようになる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の現像ロールは、金型の型面の転写面となるベースゴム層の外周面に、レーザエッチングによる多数の凹部が、その開口縁部が重なり合った状態で分布形成されて外周面の少なくとも一部が削除され、その削除された部分が元の外周面の表面積の８０％以上に設定されているため、ベースゴム層の外周部に形成された絶縁層の殆どが、上記レーザエッチングにより削除されている。このため、現像ロールの表面に電荷が殆ど残留しなくなり、その結果、ゴーストを防止することができ、良質の画像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。但し、本発明は、これに限定されるわけではない。
【０００９】
図１は、本発明の現像ロールの一実施の形態を示している。この実施の形態の現像ロールは、円柱状の軸体１と、この軸体１の外周面に形成されたベースゴム層２と、このベースゴム層２の外周面に形成された最外層３とから構成されている。上記ベースゴム層２は、金型成形により形成されたものであり、この実施の形態では、その金型の型面の転写面となるベースゴム層２の元の外周面全体（元の外周面の表面積の１００％）に、レーザエッチングによる凹部Ａが、その開口縁部が重なり合った状態で多数分布形成されている。この凹部Ａの形成により、ベースゴム層２は、その外周部に形成されていた絶縁層が全体的に削除されたものとなっている。特に、この実施の形態のように、ベースゴム層２の元の外周面（金型の型面の転写面）全体にレーザエッチングが施されると、ベースゴム層２の外周面は、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３〜０．５μｍ程度の粗面に形成される。そして、そのレーザエッチング処理面に、上記最外層３が形成され、その最外層３の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０９〜０．３０μｍ程度の粗面に形成され、現像ロールとして適正な表面粗さに形成される。
【００１０】
より詳しく説明すると、レーザエッチングにより形成される、重なり合う前の各凹部の形状は、形成容易性の観点から、各凹部の開口形状が好ましくは円形状に形成され、各凹部の凹面形状が好ましくは球面状の一部からなる曲面（例えば、半球面状）に形成される。そして、そのような各凹部の開口縁部が重なり合うように形成されることにより、上記絶縁層が略均一に削除される。また、重なり合う前の各凹部の開口形状としては、上記円形状に限定されず、楕円状，四角形状等でもよい。
【００１１】
重なり合う前の各凹部の寸法形状は、上記絶縁層（厚み１〜３μｍ程度）を削除する観点から、開口形状を直径１１０〜１４０μｍの範囲内の円形状とし、凹面形状を深さ２〜１０μｍの範囲内の球面状の一部とすることが好ましい。そして、各凹部の開口縁部の重なり度合いは、凹部直径の０〜１２％の範囲内で重なり合うようにすることが好ましい。ここで、「凹部直径の０％で重なり合う」とは、隣り合う凹部の開口縁部が接した状態を意味する。また、重なり合う前の各凹部の開口形状の形状寸法および凹面形状の形状寸法は、各凹部の形成に用いられるレーザマーカーにおいて、レーザ光の出力，レンズによるレーザ光の収束程度，照射時間等を調節することにより設定される。
【００１２】
そして、重なり合った後の各凹部Ａの寸法は、直径１１０μｍ以上、深さ２μｍ以上にすることが好ましく、より好ましくは直径１１０〜１２５μｍの範囲内、深さ２〜８．５μｍの範囲内である。また、凹部Ａの分布形成は、軸方向および周方向に規則的になされてもよいし、ランダムになされていてもよい。ここで、上記直径は、ベースゴム層２の外周面を電子顕微鏡で見て、各凹部Ａの最大径と最小径の平均値をとり、それを任意の１０個の凹部Ａで測定し、それらの平均値で表される。また、上記深さは、ベースゴム層２を厚み方向に切断し、その断面を電子顕微鏡で見て、凹部Ａの深さを任意の１０個の凹部Ａで測定し、それらの平均値で表される。
【００１３】
このような現像ロールの作製は、つぎに説明するように、軸体１の外周面にベースゴム層２を形成した後、レーザエッチングにより上記凹部Ａを形成し、その後、最外層３を形成することにより行われる。
【００１４】
より詳しく説明すると、まず、軸体１の外周面に、必要に応じて接着剤等を塗布し、これを成形用金型の中空部に同軸的に設置し、密封した後、ベースゴム層２の形成材料を注入して成形する。ついで、オーブン加硫等により加硫し、上記ベースゴム層２（通常、厚み０．５〜５ｍｍ程度）を形成した後、脱型する。
【００１５】
そして、そのベースゴム層２の外周面（金型の型面の転写面）全体に、レーザエッチングを施す。このレーザエッチングは、レーザ光をレンズ系により微小な点状に収束させ、ベースゴム層２の外周面にレーザ光密度の高い点状部分を形成することにより、その点状部分でベースゴム層２がレーザ光を吸収してアブレーション（溶発）を起こし、その点状部分に微小な上記凹部Ａを形成することができる。例えば、上記レンズ系を上記ロール体の軸方向に沿って直線状に複数個配置することにより、上記レーザ光が点状に収束した点状部分を、ベースゴム層２の外周面に、軸方向に沿って一端縁から他端縁まで直線状に多数点在させるようにすると、それら点在部分を一度に上記凹部Ａに形成することができる。さらに、上記ロール体を断続的に軸周りに回転させ、その回転に同調させて断続的にレーザ光を照射すると、上記ベースゴム層２の外周面に多数の凹部Ａを分布形成することができる。このようなレーザエッチングが可能な装置としては、例えば、ミヤチテクノス社製のFine Marker ML-7110Bがある。
【００１６】
この凹部Ａの形成において、開口縁部の重なり度合いの設定は、隣接する凹部Ａと凹部Ａとの開口縁部が相互に重なり合うよう、レンズ系を調節してレーザ光の点状収束部分が所定ピッチになるよう調節するとともに、ロール体の断続的回転が所定角度になるよう調節することにより行われる。また、重なり合う前の各凹部の大きさは、上述したように、レーザ光の出力，レンズによるレーザ光の収束程度，照射時間等を調節することにより行われる。このようにして、上記現像ロールを作製することができる。なお、上記レーザ光としては、通常、Ｎｄ−ＹＡＧレーザまたはエキシマレーザを用いる。また、上記凹部Ａの形成は、１個のレーザ光をロール体の軸方向に走査させ、その走査の過程でレーザ光の照射を断続させるようにしてもよい。
【００１７】
ついで、上記レーザエッチングされた、ベースゴム層２の外周面に、最外層３の形成材料を、ロールコーティング法，スプレーコーティング法，ディッピング法等により塗布した後、硬化させて最外層３（通常、厚み３〜３０μｍ程度）を形成する。
【００１８】
このような現像ロールは、上記レーザエッチングによる凹部Ａの形成により、ベースゴム層２の外周部に形成されていた絶縁層が全体的に削除されているため、実機での使用において、現像ロールの表面に電荷が殆ど残留しなくなり、その結果、ゴースト発生を防止することができ、良質の画像を得ることができる。
【００１９】
特に、この実施の形態のように、ベースゴム層２の外周面全体にレーザエッチングが施されると、ベースゴム層２の外周面の表面粗さは比較的小さく〔上記算術平均粗さ（Ｒａ）０．３〜０．５μｍ程度〕なり、これにより、上記最外層３の外周面の表面粗さも比較的小さく〔上記算術平均粗さ（Ｒａ）０．０９〜０．３０程度〕なるため、トナーの劣化が抑制される。
【００２０】
ここで、本発明の現像ロールを構成する軸体１，ベースゴム層２，最外層３の形成材料等について説明する。
【００２１】
上記軸体１は、特に限定されるものではなく、中実でも中空でもよい。また、上記軸体１の材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、鉄，鉄にめっきを施したもの，ステンレス，アルミニウム等があげられる。そして、上記軸体１の表面には、通常、接着剤やプライマー等が塗布される。さらに、上記接着剤やプライマー等は、必要に応じて、導電化してもよい。
【００２２】
上記ベースゴム層２の形成材料としては、通常、下記の主材料に導電剤が含有されているものが用いられる。すなわち、その主材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリウレタン系エラストマー，エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），シリコーンゴム，アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ），水素添加アクリロニトリル−ブタジエンゴム（Ｈ−ＮＢＲ），クロロプレンゴム（ＣＲ）等があげられる。なかでも、低硬度でへたりが少ないという観点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。また、必要に応じて、シリコーンオイル，加硫剤，加硫促進剤，滑剤，助剤等を適宜に添加してもよい。
【００２３】
上記最外層３の形成材料としては、下記の主材料に導電剤が含有されているものが用いられる。すなわち、その主材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、ウレタン樹脂，ポリアミド樹脂，アクリル樹脂、アクリルシリコーン樹脂、ブチラール樹脂（ＰＶＢ），アルキッド樹脂，ポリエステル樹脂，フッ素ゴム，フッ素樹脂，フッ素ゴムとフッ素樹脂の混合物，シリコーン樹脂，シリコーングラフトアクリルポリマー，アクリルグラフトシリコーンポリマー，ニトリルゴム，ウレタンゴム等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。なかでも、耐摩耗性の観点から、ウレタン樹脂が好ましい。
【００２４】
図２は、本発明の現像ロールの他の実施の形態を示している。この実施の形態の現像ロールは、レーザエッチングにより凹部Ａが形成される部分が、金型の型面の転写面（ベースゴム層２の元の外周面）２ａの表面積の８０％以上１００％未満となっており、残部は、上記型面の転写面２ａのまま残っている。このようにレーザエッチングが施されると、表面粗さが上記実施の形態よりも大きくなり、ベースゴム層２の外周面は、算術平均粗さ（Ｒａ）０．５〜２．０μｍ程度の粗面に形成され、最外層３の外周面は、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３〜１．０μｍ程度の粗面に形成される。
【００２５】
このように、ベースゴム層２の外周面に型面の転写面２ａが残っていたとしても、それが僅か（転写面２ａの表面積の２０％以下）であれば、図１に示す現像ロールと同様に、ゴースト発生を防止することができ、良質の画像を得ることができる。
【００２６】
上記金型の型面の転写面（ベースゴム層２の外周面）２ａにおけるレーザエッチングが施される割合は、レーザエッチングにより形成する凹部の外径と、各凹部の開口縁部の重なり度合いとの設定値から、計算により算出することができる。また、その割合の確認は、電子顕微鏡で観ることにより行うことができる。
【００２７】
なお、上記各実施の形態において、場合により、ベースゴム層２と最外層３との間には、中間層を形成してもよい。この中間層の形成材料としては、通常、下記の主材料に導電剤が含有されているものが用いられる。すなわち、その主材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、水素添加アクリロニトリル−ブタジエンゴム（水素化ニトリルゴム：Ｈ−ＮＢＲ），アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ニトリルゴム：ＮＢＲ），ポリウレタン系エラストマー，クロロプレンゴム（ＣＲ），天然ゴム，ブタジエンゴム（ＢＲ），アクリルゴム（ＡＣＭ），イソプレンゴム（ＩＲ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），ヒドリンゴム（ＥＣＯ，ＣＯ），ウレタンゴム，フッ素ゴム等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。なかでも、接着性およびコーティング液の安定性の観点から、Ｈ−ＮＢＲ，ポリウレタン系エラストマーが特に好ましい。
【００２８】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【実施例１】
【００２９】
〔軸体〕
外径８ｍｍ、長さ３５０ｍｍの鉄製の中実円柱状の軸体を準備した。
【００３０】
〔ベースゴム層の形成材料〕
導電性シリコーンゴム（Ｘ３４−２７０Ａ／Ｂ、信越化学工業社製）をニーダーにより混練してベースゴム層の形成材料を調製した。
【００３１】
〔最外層の形成材料〕
ポリカーボネートジオール系ウレタン樹脂（ニッポラン５１９６、日本ポリウレタン社製）１００重量部に対して、カーボンブラック（デンカブラックＨＳ−１００、電気化学工業社製）４０重量部の割合で用い、ボールミルにより混練した後、ＭＥＫ４００重量部を加えて混合，攪拌して最外層の形成材料を調製した。
【００３２】
〔現像ロールの作製〕
成形用金型を用いて成形（１９０℃×３０分間）することにより、軸体の外周面にベースゴム層（厚み４ｍｍ、長さ２４０ｍｍ）を形成した。そして、Ｎｄ−ＹＡＧレーザを用い、そのベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）の８０％に、レーザエッチングを施すことにより、多数の凹部を開口縁部が重なるよう分布形成した。つぎに、このようにして得られたロール体の外周面に、上記最外層の形成材料をロールコーティング法により塗工した後、乾燥（硬化）させ、最外層（厚み３０μｍ）を形成した。なお、上記レーザエッチングには、レーザエッチング装置としてミヤチテクノス社製のFine Marker ML-7110Bを用いた。また、レーザエッチングの条件は、出力：２６Ａ、周波数：１７．６ｋＨｚ、スピード：２０５０ｍｍ／秒、ベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）とレーザ光収束用レンズとの距離：３６０ｍｍ（レーザ光収束用レンズの本来の焦点距離３５０ｍｍ）とした。
【実施例２】
【００３３】
上記実施例１において、レーザエッチングを施す部分をベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）全体（１００％）とした。また、レーザエッチングの条件のうちベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）とレーザ光収束用レンズとの距離を３７０ｍｍとした。それ以外は、上記実施例１と同様にした。
【実施例３】
【００３４】
上記実施例２において、レーザエッチングの条件のうちベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）とレーザ光収束用レンズとの距離を３７５ｍｍとした。それ以外は、上記実施例１と同様にした。
【実施例４】
【００３５】
上記実施例２において、レーザエッチングの条件のうちベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）とレーザ光収束用レンズとの距離を３８０ｍｍとした。それ以外は、上記実施例１と同様にした。
【００３６】
〔比較例１〕
上記実施例１において、レーザエッチングを施す部分をベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）の７０％とした。また、レーザエッチングの条件のうちベースゴム層の外周面（金型の型面の転写面）とレーザ光収束用レンズとの距離を３５０ｍｍとした。それ以外は、上記実施例１と同様にした。
【００３７】
〔比較例２〕
上記実施例１において、レーザエッチングを施すことなく、最外層を形成した。それ以外は、上記実施例１と同様にした。
【００３８】
〔ベースゴム層の表面抵抗および体積抵抗〕
上記実施例１〜４および比較例１，２において、最外層の形成に先立って、ベースゴム層の表面抵抗および体積抵抗を測定した。
【００３９】
そのうち表面抵抗は、つぎのようにして測定した。すなわち、図３に示すように、隙間をあけて平行に設置された２本の金属ローラ（外径１２ｍｍ）２１，２２の上に、測定対象となる上記ロール体１０を載置し、６０ｒｐｍで回転させるとともに、軸体１の両端部に下方向に合計９．８Ｎ（各端部に４．９Ｎずつ）の荷重Ｗをかけた。この状態で、一方の金属ローラ２１から上記ロール体１０の表面に−１０Ｖの直流電圧を印加して、他方の金属ローラ２２から基準抵抗Ｒ2 にかかる電位差Ｖ2 を検出し、上記ロール体１０（ベースゴム層２）の表面の周方向に流れる電流値Ｉ2 （＝Ｖ2 ／Ｒ2 ）を算出した。そして、この電流値Ｉ2 と上記印加電圧（−１０Ｖ）から上記ロール体１０（ベースゴム層２）の表面抵抗Ｒ1 （＝１０／Ｉ2 ）を算出した。そして、その表面抵抗Ｒ1 を下記の表１に併せて表記した。なお、上記基準抵抗Ｒ2 は、上記ロール体１０と比較して非常に低い抵抗であり、測定結果に影響を与えないものである。
【００４０】
また、体積抵抗は、図４に示すように、１本の金属ローラ（外径３０ｍｍ）２３の上に、測定対象となる上記ロール体１０を載置し、６０ｒｐｍで回転させるとともに、軸体１の両端部に下方向に合計９．８Ｎ（各端部に４．９Ｎずつ）の荷重Ｗをかけた。この状態で、上記ロール体１０の軸体１から−１０Ｖの直流電圧を印加して、金属ローラ２３から基準抵抗Ｒ4 にかかる電位差Ｖ4 を検出し、上記ロール体１０（ベースゴム層２）の厚み方向に流れる電流値Ｉ4 （＝Ｖ4 ／Ｒ4 ）を算出した。そして、この電流値Ｉ4 と上記印加電圧（−１０Ｖ）から上記ロール体１０（ベースゴム層２）の体積抵抗Ｒ3 （＝１０／Ｉ4 ）を算出した。
【００４１】
〔ベースゴム層の表面粗さ〕
また、ベースゴム層の両端からそれぞれ軸方向内側５ｍｍの位置および軸方向中央の３つの位置において、それぞれの位置の外周の任意の３点での算術平均粗さ（Ｒａ）を、表面粗さ計（東京精密社製、サーフコム１４００Ｄ）を用いて測定した。そして、その合計９点（３点×３つの位置）での算術平均粗さ（Ｒａ）の平均値を算出し、その結果を下記の表１に併せて表記した。
【００４２】
〔現像ロールの表面抵抗および体積抵抗〕
最外層の形成後、現像ロールの表面抵抗および体積抵抗を、上記ベースゴム層の場合と同様にして測定した。すなわち、図３，４において、ロール体１０に代えて現像ロールを測定対象とした。そして、その結果を下記の表１に併せて表記した。
【００４３】
〔現像ロールの表面粗さ〕
また、最外層の両端からそれぞれ軸方向内側５ｍｍの位置および軸方向中央の３つの位置において、それぞれの位置の外周の任意の３点での算術平均粗さ（Ｒａ）を、表面粗さ計（東京精密社製、サーフコム１４００Ｄ）を用いて測定した。そして、その合計９点（３点×３つの位置）での算術平均粗さ（Ｒａ）の平均値を算出し、その結果を下記の表１に併せて表記した。
【００４４】
〔残留電荷の減衰率〕
図５（ａ）に示すように、現像ロールを回転させ、その表面にコロトロンＴから１００μＡの定電流を流し、その電流を流した位置から９０°回転した位置での現像ロール表面の電荷を電位として測定した。この測定は、プローブ（電位検出器）Ｐを用い、軸方向中央の位置で行った。そして、その測定結果を示す図５（ｂ）において、上記定電流停止時の残留電荷値と、０．５秒後の残留電荷値との比率から、下記の式（１）により、減衰率を算出し、その結果を下記の表１に併せて表記した。ここで、減衰率が高い現像ロールほど、減衰率に優れ、ゴースト防止に有効であると言える。
【００４５】
【数１】
2007232760.tif 000003
【００４６】
〔ゴースト濃度比率〕
図６に示すように、現像ロール１周目では濃度の濃い色となり、２周目以降は濃度の薄い色となるような画像を印刷した。そして、現像ロール２周目以降の画像Ｃの濃度（本来印刷されるべき画像Ｃの濃度）に対し、２周目の画像Ｂがどの程度の濃度で印刷されたかの比率を、下記の式（２）により算出した。このゴースト濃度比率は１００％に近いほどよい。なお、濃度測定には、濃度計として、Macbeth PROCESS MEASUREMENTSを用いた。
【００４７】
【数２】
2007232760.tif 000004
【００４８】
【表１】
2007232760.tif 000005
【００４９】
上記表１の結果から、実施例１〜４の現像ロールでは、残留電荷の減衰率が高く、そのため、ゴーストの発生が防止されていることがわかる。これに対して、比較例１，２の現像ロールでは、残留電荷の減衰率が低く、そのため、ゴーストが発生していることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の現像ロールの一実施の形態を模式的に示した説明図である。
【図２】本発明の現像ロールの他の実施の形態を模式的に示した説明図である。
【図３】表面抵抗の測定方法を模式的に示した説明図である。
【図４】体積抵抗の測定方法を模式的に示した説明図である。
【図５】（ａ）は残留電荷の測定方法を模式的に示した説明図であり、（ｂ）はその測定結果を示すグラフである。
【図６】ゴースト濃度の測定方法を示した説明図である。
【図７】従来の現像ロールを示す説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１  軸体
２  ベースゴム層
３  最外層
Ａ  凹部
【図１】
2007232760.tif 000006
【図２】
2007232760.tif 000007
【図３】
2007232760.tif 000008
【図４】
2007232760.tif 000009
【図５】
2007232760.tif 000010
【図７】
2007232760.tif 000011
【図６】
2007232760.tif 000012