(57)【要約】【課題】本発明の目的は、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタとして好適な光学フィルタを提供することにある。【解決手段】透明支持体の少なくとも片側に２種以上の染料または顔料を含み、前記染料の少なくとも１種がスクワリウム構造を有する染料であり、且つ分散剤、および水溶性バインダを含む赤外遮蔽機能を有することを特徴とする光学フィルタ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体の少なくとも片側に２種以上の染料または顔料を含み、前記染料の少なくとも１種がスクワリウム構造を有する染料であり、且つ分散剤、および水溶性バインダを含む赤外遮蔽機能を有することを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記スクワリウム構造を有する染料が下記一般式（Ｉ）で表される染料であることを特徴とする請求項１記載の光学フィルタ。
【化１】
2007264384.tif 000018
（一般式（Ｉ）において、Ｘは硫黄原子又は酸素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2は１価の置換基を表し、ｍ、ｎは０、１、２、３又は４を表す。）
【請求項３】
前記光学フィルタが８００〜１０００ｎｍの近赤外線透過率が０％以上３０％以下であることを特徴とする請求項１または２記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記分散剤が疎水性ポリマーであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記光学フィルタの少なくとも１層に紫外線吸収層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルタに関し、詳しくは、保存性及び耐候性の優れた近赤外線吸収材料にかかわる光学フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させ該紫外線で蛍光体を発光させるが、このとき近赤外線も放射されるので、リモコン等の操作素子の誤作動を防ぐ必要があり、８００−１０００ｎｍの近赤外線放出の遮蔽に関する要求が高まっている。近赤外線は周辺に害を及ぼすものであり、周辺機器ごとに違いがあるが、家電用のテレビやクーラー等のリモコン、その他業務用等特殊なリモコン、および通信用とプラズマディスプレイがそれぞれ発する波長が同波長である。したがって、プラズマディスプレイが設置されている周辺の機器が、このプラズマディスプレイの発する波長により、誤動作を生じる原因となる。この要求に対して、ＰＤＰの前面硝子に近赤外線吸収フィルムを貼る方式は、簡便でコスト面でも有利であることからこの方式が主流となっている。しかし、ＰＤＰの発熱や紫外線のために、近赤外線吸収フィルムの劣化が課題で、耐熱性のある近赤外線吸収染料の開発や吸収効率のよい紫外線吸収剤の併用等工夫がされているが満足な性能になっていない。
【０００３】
近赤外線吸収色素の劣化は、水分の影響が大きいので水の影響を受けないように非水系で塗布する方法（例えば、特許文献１参照）があるが、有機溶媒の揮発物の作業衛生上や製造後に揮発する、残留有機溶媒による劣化変動を受けやすいという問題点があり、無溶媒の疎水性樹脂の重合時に色素を存在させて、モノマーと重合開始剤から形成されたものを成型して使用する方法（例えば、特許文献２参照）があるが、高速塗布が難しく生産性が劣る等の問題点がある。
【０００４】
水系溶媒に色素を微粒子固体分散する方法（例えば、特許文献３参照）が提案されている。しかし、この方法は水分の影響を少なからず受けて保存性が劣る等の問題点がある。
【０００５】
また、高速薄膜塗布で高生産性に有利なゼラチン分散水系塗布（例えば、特許文献４参照）は、分散性のよいゼラチン中に近赤外線吸収色素を分散して塗布する水系塗布ということで、高い生産性が得られる反面、保存性に弱いとう欠点を有している。この問題点は、ゼラチンという素材がもつ保水性のために、近赤外線吸収色素の高温高湿保存の劣化が避けられないというのが現状であり、上記の種々の問題点の解決が要望されている。
【特許文献１】特開平１０−１８６１２７号公報段落［００５９］
【特許文献２】特開平１１−１０９１２６号公報段落［００４２］〜［００４３］
【特許文献３】特開平１１−１０９５６０号公報段落［０１０５］
【特許文献４】特開平１０−３３３２９５号公報段落［００７１］〜［０１３１］
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタとして好適な光学フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【０００８】
１．透明支持体の少なくとも片側に２種以上の染料または顔料を含み、前記染料の少なくとも１種がスクワリウム構造を有する染料であり、且つ分散剤、および水溶性バインダを含む赤外遮蔽機能を有することを特徴とする光学フィルタ。
【０００９】
２．前記スクワリウム構造を有する染料が下記一般式（Ｉ）で表される染料であることを特徴とする１記載の光学フィルタ。
【００１０】
【化１】
2007264384.tif 000002
【００１１】
（一般式（Ｉ）において、Ｘは硫黄原子又は酸素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2は１価の置換基を表し、ｍ、ｎは０、１、２、３又は４を表す。）
３．前記光学フィルタが８００〜１０００ｎｍの近赤外線透過率が０％以上３０％以下であることを特徴とする１または２記載の光学フィルタ。
【００１２】
４．前記分散剤が疎水性ポリマーであることを特徴とする１〜３のいずれか１項記載の光学フィルタ。
【００１３】
５．前記光学フィルタの少なくとも１層に紫外線吸収層を有することを特徴とする１〜４のいずれか１項記載の光学フィルタ。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタとして好適な光学フィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００１６】
以下、本発明と構成要素について詳細に説明する。
【００１７】
（近赤外線吸収染料及び顔料）
本発明において使用できる近赤外線吸収染料及び顔料の具体例としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。ＰＤＰ用光学フィルタで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収や電子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する染料が好ましく、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、スクアリリウム化合物系が好ましい。
【００１８】
特に、本発明においては、近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる２種以上の化合物を含み、うち１種はスクアリリウム化合物であることが特徴である。スクアリリウム化合物としては特開２００１−８３６５５号に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料、又スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。
【００１９】
尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に１−シクロブテン−２−ヒドロキシ−４−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に１−シクロペンテン−２−ヒドロキシ−４，５−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下本明細書ではこれらの色素を便宜的に一括してスクアリリウム染料とよぶ。
【００２０】
本発明において好ましく用いられるスクアリリウム染料として、前記一般式（Ｉ）で示される構造を有する一般式（Ｉ）で表される染料を挙げることができる。
【００２１】
本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表される染料について説明する。
【００２２】
本発明の一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2は各々１価の置換基を表す。１価の置換基には特に制限はないが、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基、メトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、２−エチルヘキシル基、２−ヘキシルデシル基、ベンジル基等）、アリール基（例えばフェニル基、４−クロロフェニル基、２、６−ジメチルフェニル基等）であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、ターシャリーブチル基であることが特に好ましい。Ｒ1、Ｒ2は共同して環を形成してもよい。ｍ、ｎは各々０から４の整数を表し、２以下であることが好ましい。
【００２３】
以下に本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表される染料を例示する。しかしながら本発明はこれらの染料に限定されない。
【００２４】
【化２】
2007264384.tif 000003
【００２５】
【化３】
2007264384.tif 000004
【００２６】
【化４】
2007264384.tif 000005
【００２７】
【化５】
2007264384.tif 000006
【００２８】
これらのスクアリリウム染料については特願平１０−３０９４９３号に記載された方法により合成が出来る。
【００２９】
本発明において、また好ましく用いることができる、ジイモニウム系化合物としては、下記一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。
【００３０】
【化６】
2007264384.tif 000007
【００３１】
一般式（II）において、Ｒ12〜Ｒ19は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基を示しており、それらは直鎖状でもあるいは分岐鎖状のいずれでもよい。また、それぞれ同じであっても異なっていても良い。また、Ｘは陰イオンを示す。
【００３２】
Ｒ12〜Ｒ19において、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基としては、次のものがある。
【００３３】
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基（炭素数１〜１０のものが好ましい。）が；置換アルキル基としては、例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエチル基、カルボキメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スルフェイトプロピル基、４−スルフェイトブチル基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチルスルファミル）ブチル基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、４−シアノブチル基、３−シアノブチル基、２−シアノブチル基、５−シアノペンチル基、４−シアノペンチル基、３−シアノペンチル基、２−シアノペンチル基、６−シアノヘキシル基、５−シアノヘキシル基、４−シアノヘキシル基、３−シアノヘキシル基、２−シアノヘキシル基等が；環式アルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基等が；アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等が；アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基等が；置換アラルキル基賭しては、例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジル基等が；それぞれ挙げられる。上記これらのＲ12〜Ｒ19により示される基において、炭素数が３〜６のアルキル基やシアノ基が置換されたアルキル基がより好適に用いられる。
【００３４】
Ｘは１価の陰イオンまたは２価の陰イオンである。
【００３５】
１価の陰イオンとしては、有機酸１価アニオン、無機１価アニオン等が挙げられる。有機酸１価アニオンとしては、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の有機カルボン酸イオン；、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スルホン酸イオン；、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン；、等が挙げられ、好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルスルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イオンが挙げられる。
【００３６】
無機１価アニオンとしては、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン等が挙げられ、好ましいものとしては、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等が挙げられる。
【００３７】
Ｘのうち２価の陰イオンとしては、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２−オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。
【００３８】
これらの陰イオンのうち、好ましいものとしては、例えば過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【００３９】
ジイモニウム化合物の具体例を下記に示す。
【００４０】
（Ｉ−１）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−２）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・過塩素酸）
（Ｉ−３）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−アミルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−４）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−５）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ヘキシルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−６）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−７）  ７Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ペンチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−８）  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−メチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
ジイモニウム系化合物としては、下記一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。
【００４１】
本発明において、また好ましく用いることができる、ニッケルジチオール錯体化合物としては、下記一般式（III）で表される化合物を挙げることができる。
【００４２】
【化７】
2007264384.tif 000008
【００４３】
式中、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基を表す。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。
【００４４】
Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23において、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基としてはつぎのものがある。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等；、アルキルとして、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等；、シクロアルキル基として、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等；、アリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−ニトロフェニル基等；、アルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等；、アリールチオ基として、例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基等；、アルコキシ基として例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基等；、アリールオキシ基として、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、ナフトキシ基等；、アルキルアミノ基として、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ペンチルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−ペンチルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−ヘプチルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−（２−エチルヘキシル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、アリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等；を表す。式中、ｒは１〜５の整数を表す。
【００４５】
好ましい具体例を下記に示す。
【００４６】
【化８】
2007264384.tif 000009
【００４７】
【化９】
2007264384.tif 000010
【００４８】
本発明において、また好ましく用いることができる、フタロシアニン化合物としては、下記一般式（IV）で表される化合物を挙げることができる。
【００４９】
【化１０】
2007264384.tif 000011
【００５０】
式中、Ｒ24からＲ27は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基を表している。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。また、Ｍは２価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表す。
【００５１】
Ｒ24からＲ27の例としては、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基としては、次のものがある。ハロゲン原子として、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等；、置換又は未置換のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、１，３−ジメチル−ブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、γ−エトキシプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピル基等のハロゲン化アルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等；、置換または未置換のアルコキシ基の例として、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシルオキシ基、１，３−ジメチル−ブチルオキシ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１，２−ジメチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１−エチル−３−メチルブチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプ��ピルオキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジメトキシエトキシ基、ジエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルコキシ基、クロロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピルオキシ基等のハロゲン化アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノエトキシ基などのアルキルアミノアルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基等；、置換又は未置換のアリール基として、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フッ素化フェニル基、ヨウ素化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ピリジル基等；置換又は未置換のアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アルキルフェノキシ基等；、置換又は未置換のアルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｉｓｏ−ペンチルチオ基、ｎｅｏ−ペンチルチオ基、１，２−ジメチル−プロピルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシルチオ基、１，３−ジメチル−  ブチルチオ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、１，４−ジメチルペンチルチオ基、２−メチル１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１−エチル−３−メチルブチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルチオ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルチオ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルチオ基、ｎ−ノニルチオ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等；置換又は未置換のアリールチオ基の例として、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アルキルフェニルチオ基等を挙げることができる。
【００５２】
Ｍとしては、次のものがある。２価の金属として、例えばＣｕ（II）、Ｚｎ（II）、Ｃｏ（II）、Ｎｉ（II）、Ｒｕ（II）、Ｒｈ（II）、Ｐｄ（II）、Ｐｔ（II）、Ｍｎ（II）、Ｍｇ（II）、Ｔｉ（II）、Ｂｅ（II）、Ｃａ（II）、Ｂａ（II）、Ｈｇ（II）、Ｐｂ（II）、Ｓｎ（II）等；１置換の３価金属の例として、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｉ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｉｎ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃ6Ｈ5、Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ3）3〕、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｒｕ−Ｃｌ等；、２置換の４価金属として、ＣｒＣｌ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＦ2、ＳｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＧｅＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＦ2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＳｎＲ2、ＧｅＲ2〔Ｒはアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Ｓｉ（ＯＲ’）2、Ｓｎ（ＯＲ’）2、Ｇｅ（ＯＲ’）2、Ｔｉ（ＯＲ’）2、Ｃｒ（ＯＲ’）2〔Ｒ’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Ｓｎ（ＳＲ”）2、Ｇｅ（ＳＲ”）2（Ｒ”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す）など；オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯ等；を挙げることができる。ｐは１〜４の整数を表す。また、置換基が隣接する場合、５員又は６員の環を形成してもよい。該化合物の合成方法は特開２００５−１４５８９６号公報を参考にすることができる。
【００５３】
フタロシアニン化合物の合成方法は特開２００５−１４５８９６号公報を参考にすることができる。好ましいフタロシアニン化合物を下記に示す。
【００５４】
【化１１】
2007264384.tif 000012
【００５５】
【化１２】
2007264384.tif 000013
【００５６】
【化１３】
2007264384.tif 000014
【００５７】
本発明に係る近赤外線吸収染料としての市販品は、ジイモニウム化合物は、ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０４０（これらは日本化薬株式会社製商品名である）、ニッケルジチオール錯体化合物は、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２（これらは三井化学株式会社製商品名である）、フタロシアニン系化合物は、ＩＲ−１０，ＩＲ−１２（以上、日本触媒株式会社商品名）などを挙げることができる。
【００５８】
（近赤外線吸収染料の分散）
本発明においては、支持体上の少なくとも１層に、分散物（近赤外線吸収染料）粒子の平均分散粒径が０．１２μｍ以下の分散液を含有する。この分散液中には、非水溶性（２５℃において、蒸留水１００ｇに対し溶解度が３ｇ以下、好ましくは１ｇ以下）有機化合物を含有することも可能である。非水溶性有機化合物の例としては、紫外線吸収剤、色濁り防止剤、褪色防止剤などが挙げられる。
【００５９】
本発明に係る分散液中分散物（近赤外線吸収染料）粒子の平均粒径は０．１２μｍ以下であり、好ましくは０．０２〜０．１１μｍ、より好ましくは０．０４〜０．１０μｍである。平均分散粒径は、界面活性剤の種類や量の最適化や、分散液の粘度調整、分散乳化装置の乳化時間変化、圧力、剪断力の調整などを組み合わせることにより調整される。なお、平均分散粒径は、英国コールター社製ナノサイザーによって測定できる。
【００６０】
本発明に係る近赤外吸収染料の分散液は分散物を水混和性の有機溶媒中に分散剤と共に溶解した後、超音波分散等の方法により微細な分散物として得ることができるものが好ましい。水混和性の有機溶媒としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。また、分散剤としてはポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン共重合体、などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成ポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特開昭５２−９２７１６号、ＷＯ８８／０４７９４号などに記載のアニオン性界面活性剤、特願平７−３５０７５３号に記載の化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができるが、本発明においては疎水性ポリマーを用いるのが好ましい。
【００６１】
疎水性ポリマーとしては、従来公知の高分子化合物を用いることができる。Ｔｇが７０℃〜１０５℃、数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜５００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、マレイン酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等のエチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体よりなる化合物、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。これらの高分子化合物に、特に制限はなく、誘導される重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃〜１０５℃の範囲にあれば、単独重合体でも共重合体でもよい。
【００６２】
上記疎水性ポリマーの含有量は、近赤外線吸収層のバインダ総量の１〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは３〜２５質量％、最も好ましくは５〜２０質量％である。
【００６３】
（バインダ）
赤外吸収染料を含有する層はバインダを用いることによって形成することができる。ここで用いるバインダとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ニトロセルロース、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ノルボルネン系樹脂、エポキシ系樹脂及び紫外線硬化樹脂等が好ましいが、更に好ましくは、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂である。本発明のバインダに用いられるアクリル系樹脂としては、下記一般式（３）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位を１０質量％以上含む重合体もしくは共重合体が好ましい。
【００６４】
【化１４】
2007264384.tif 000015
【００６５】
［式中、Ｒ31は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ32は−ＣnＨ2n+1（ｎは１〜１０の整数）を表す。］
これらのバインダの例としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、ポリブチルメタアクリレート、ポリメタアクリル酸、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルメタアクリレート及びこれらポリマーを構成するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（三菱レーヨン（株）製）等のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましい樹脂を適宜選択することもできる。上記のバインダは、他のバインダと混合して用いてもよい。このようなバインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸（塩）のような水溶性ポリマー、セルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース）、ポリスチレン及びポリエーテルケトン及びこれらの共重合体、ポリビニルアルコール、カゼイン、寒天、アラビアゴム、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセテートなどのポリマー等が挙げられる。
【００６６】
また、本発明のバインダに用いられるポリエステル系樹脂としては、溶剤溶解性のポリエステルが好ましく、例えば、東洋紡（株）のバイロン１０３、バイロン２００、バイロン３００、バイロン６３０、ユニチカ（株）のエリーテルＵＥ−３２１０、ＵＥ−３３００、東レ（株）のエステルレジン１００、住友化学（株）のスミカスーパーＳ２００、Ｓ３００等が挙げられる。赤外吸収染料を含有する層の成分は、その上に塗設される層の塗布溶剤に対して溶解または膨潤するものであることが好ましい。また、赤外吸収染料を含有する層の厚みは０．１μｍ以上、１５μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上、１０μｍ以下が特に好ましい。赤外吸収染料を含有する層は赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を塗設によって設けることができる。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を調製する際に使用する溶媒は、各成分を溶解あるいは分散することができる溶媒であればいかなる溶媒であってもよく、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類が挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を併用してもよい。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液の塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。
【００６７】
（近赤外線吸収層）
本発明の光学フィルタは、８００〜１０００ｎｍの近赤外線透過率が０％以上３０％以下であることが好ましく、０％以上１０％以下であることがより好ましい。近赤外線透過率が上記範囲であることにより、プラズマディスプレイが設置されている周辺の機器が、このプラズマディスプレイの発する近赤外線により、誤動作を生じることを好適に防止することができる。尚、上記近赤外線透過率における近赤外線とは７５０〜１１００ｎｍの赤外線を意味する。
【００６８】
本発明に係る近赤外線吸収層は水系の塗布液を塗布後乾燥して形成する。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒（分散媒）の３０質量％以上が水であることをいう。
【００６９】
当該塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。
【００７０】
具体的な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール＝７０／３０、水／エタノール＝９０／１０、水／イソプロパノール＝９０／１０、水／ジメチルホルムアミド＝９５／５、水／メタノール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メタノール／ジメチルホルムアミド＝９０／５／５（ただし数字は質量を表す）。
【００７１】
本発明に係る近赤外線吸収層の１層当たりの全バインダ量は１ｍ2当たりの塗布量で示して０．２〜３０ｇ／ｍ2、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。近赤外線吸収層の１層当たりの膜厚は０．３〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは１．５〜３０μｍである。
【００７２】
なお、本発明においては、近赤外吸収染料を含有する層のバインダには親水性ポリマーを用いることが好ましい。
【００７３】
（親水性ポリマー）
本発明においては、親水性ポリマーとしては中でもゼラチンが最も好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンなど、どのようなものでも良い。さらにゼラチン誘導体を用いてもよい。また、バインダーとしては親水性ポリマーに加えて、スチレン、メタクリル酸メチル、アクリル酸、ブチルアクリレート、エチルアクリレート、などのホモまたはコポリマーのラテックスを加えてもよい。これらのラテックスは、水分性を向上させるためのノニオン基（ポリエチレングリコールとアクリル酸のエステル）、アニオン基（例えば、イタコン酸、アクリル酸等のカルボン酸基を持つモノマー）、スルホン酸基（例えば、スチレンスルホン酸、Ｎ−ジメチルスルホプロパンアクリルアミド）のあるモノマーを１モル％〜２０モル％の範囲で共重合させると水分散性を向上させることができる。
【００７４】
（塗布方式）
本発明に係る塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押し出しコーター、エアードクター、スライドコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で１〜１００μｍが適当で、好ましくは１０〜８０μｍである。塗布速度は好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎで行われる。
【００７５】
（特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層）
特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、ＰＤＰが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、５９５ｎｍ付近の光を吸収する染料を含有する。このような特定波長を吸収する染料としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系染料が特に好ましい。
【００７６】
（支持体）
本発明では、支持体として、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００７７】
透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはＰＥＴ、ＰＥＮ，ＴＡＣであることが好ましい。
【００７８】
ディスプレイ用の近赤外線吸収材料では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは７０〜１００％であり、より好ましくは８０〜１００％であり、さらに好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００７９】
（粘着剤）
本発明に係る近赤外線吸収材料をＰＤＰに貼るに際しての粘着剤としては透明性の高いものがよい。例えば、酢酸ビニル系、エポキシ系、ウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ウレタン−アクリレート系、エポキシ−アクリレート系等が好ましい。中でも透明性、及び無色系のエポキシ−アクリレート、エチレン−酢酸ビニル系がより好ましい。本発明における透明性フィルムに反射防止効果を持たせるには、シリカ微粉末、酸化スズ、酸化チタンの微粉末をアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂等をトルエン等芳香族炭化水素、グリコールエーテル系、プロピレングリコール系のエステル系有機溶剤に溶解した透明性印刷インキに添加した溶液を透明性フィルムに塗布しても良い。これら微粉末の平均粒径としては、０．０１〜１０μｍが好ましく、更に好ましくはこれら粒径が違うものを複数種混ぜることである。これは、透明性フィルム表面に凹凸形状を持たせることで反射光を乱反射させることにより視感の反射率を低減させることである。次に、薄層を透明性フィルムに設け、薄層の界面における光の反射と屈折の効果を利用する方法がある。すなわち、該薄層の厚みがλ／４（λ：光の波長）の場合には、薄層の上面反射光と下面反射光との光の位相が干渉によって打ち消し合う様にずれ、その反射光を合成すると光の強度が低下すること、及び薄層材の屈折率をｎｆとし、該薄層を形成するための透明性フィルムの屈折率をｎｂとしたときにｎｆとｎｂの１／２乗値が等しいとき、光の反射が最も低くなる原理を応用する。従って、薄層の厚みは反射を防ぎたい光の波長の１／４が目標となる。すなわち好ましくは薄層の厚みは０．０５〜０．２５μｍである。また、透明性フィルムと薄層１の間にさらに薄層２を設けた場合、薄層２の屈折率が関係し、薄層２の屈折率をｎｂに用いて上記の計算方法で反射を防止することが出来る。また、一般的にはそれを完全に満足する組み合わせは、得られないが、薄層材の屈折率は透明性フィルムの屈折率よりも極力低いことが必要で、屈折率が１．２８〜１．４５のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。透明性フィルムがポリエチレンテレフタレートの場合は屈折率が１．６４なので適当な例として上げることが出来る。また、三酢酸セルロースの透明性フィルムの場合は屈折率が１．５０なので薄層としてフッ素系樹脂を用いる場合には、透明性フィルムと薄層の間に屈折率が１．５９のジアリルフタレート樹脂層を設けたり、屈折率が２．００の酸化錫の層を設けたり、酸化錫と屈折率が１．４９のアクリル樹脂を混合して屈折率を１．５９に調整した層を設けるのも好ましい。
【００８０】
（帯電防止性能）
透明性フィルムに帯電防止性能を持たせるには、界面活性剤を塗布もしくはコーティングして設けるのがよい。透明性フィルムに酸化スズ、酸化チタン、ＩＴＯ等の透明性導電性物質を印刷インキに添加して塗布しても良いし、スパッタリング等で薄層にして設けるのも良い。必要に応じ、先に述べた透明性フィルムに透明性導電剤の層を設けたり、酸化スズの印刷インキを塗布したりした後、フッ素系樹脂を設けることで、帯電防止性能と反射防止性能の両方の性能を設けることもでき、更に好ましい。帯電防止性能付与のために表面の導電性が重要で、表面抵抗が１０6Ω〜１０12Ω／□が好ましい。
【００８１】
（紫外線吸収剤）
なお、近赤外線吸収能を有する染料を、色調補正層に含有させる場合、上記の染料のうちいずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。近赤外線吸収染料の紫外線による劣化を避けるために紫外線吸収剤を使用することが好ましい。
【００８２】
紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、Ｓ−トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。
【００８３】
好ましい具体例としては、下記のもの等が挙げられる。
【００８４】
（Ｕ−１）  ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−２）  ５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−３）  ５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−４）  ５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−５）  ５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−６）  ２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−７）  ５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−８）  ５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−９）  ５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−１０）  ５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−１１）  ２，４−ビス（４−ビフェニルイル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン
（Ｕ−１２）  ２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ※−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（※はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す。）
（Ｕ−１３）  ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン
（Ｕ−１４）  ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−１５）  ２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
（Ｕ−１６）  ２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール
紫外線吸収剤を含む層は近赤外線吸収染料と同一層でも良いが、それ以外でも良い。
【００８５】
（滑り剤）
本発明において用いることができる滑り剤としてはシリコン化合物（例えば、ジメチルシロキサンポリマー）、高級脂肪酸アミド（例えば、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、アラキジン酸アミド等）、高級脂肪酸のフタル酸エステル（例えば、フタル酸ジラウリルエステル）、高級脂肪酸と高級アルコールのエステル、パラフィンなど当業界で公知な化合物を用いてよい。公知の滑り剤として好ましいものは、例えば、米国特許第４，２７５，１４６号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第３，９３３，５１６号に記載の高級脂肪酸もしくはその金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル化合物等を挙げることができる。また、天然物の油脂、ワックス、オイル、例えば、蜜蝋なども併用することができる。さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤として、市販または合成によって入手可能なシリコン系化合物を挙げることができる。シリコン系化合物にあってもポリオルガノシロキサン類が好ましい。これらの水溶液での利用に当たっては分散体の形で添加させることがこのましい。
【００８６】
本発明で用いる滑り剤は、水溶液中で分散物の形で最上層に添加される。この場合、水分散系で他の有機溶媒を適宜選択して含有することが出来る。その中で利用できる有機溶剤としては、例えばケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（炭素数１〜８の低級アルコール、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコールなど）、グリコール誘導体類（セロソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、炭素数１〜５の低級脂肪酸エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチルなど）、ハロアルカン類（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、トリクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素など）、炭化水素類（オクタン、ソルベントナフサ、テレピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、フェノール類（フェノール、レゾルシノールなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、リン酸エステル類（トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェートなど）、アミド系のＤＭＦその他ＤＭＳＯなどを挙げることができる。好ましくはアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類である。特に、水を混合使用する溶媒系においては、水と均一溶媒となるアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類の中から選ばれる溶媒であり、水不使用の場合の溶媒としては炭化水素類、ケトン類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類の使用が好ましい。
【００８７】
この場合、水と有機溶剤の比率は１００〜５０：０〜５０（容量％）であり、より好ましくは１００〜７５：０〜２５（容量％）である。これらにより水系塗布液中での滑り剤の分散物の安定性、塗布性、得られる塗膜の平滑性、ゴミ等の付着防止、耐傷性に優れるものである。なお、上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類の溶媒と２種以上を混合して用いてもよい。微細分散物は公知の分散技術、例えば、機械的な剪断力による分散、超音波分散、２液混合による析出法などにより得られる。滑り剤の添加量としては１ｍ2当たりの塗布量で示して、０．２〜５００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１〜３００ｍｇ／ｍ2が好ましい。滑り剤は１種のみ用いても２種以上を併用してもよい。滑り剤により、フィルムがステンレスローラーの上を搬送されるときの傷の発生を押させることができるので、動摩擦係数は０．３以下０．１以上であることが好ましい。０．１以下であると滑り性が大きくなり．精度のよい搬送が困難になるので好ましくない。塗布液は塗布される前に塗布液中に存在する粗大粒子をろ過で除去することは必要である。ここで述べる「ろ過」とは、ろ過フィルターによるろ過であり、ろ過フィルターの種類や構造の詳細は特に限定されず、本発明の２〜１０μｍの孔径を通過しない異物を除去できるろ過フィルターであればどのようなものでもよい。それらのろ過フィルターを用いて粗大粒子を除去するためのシステムも特に限定されず、ろ過に大きな問題を発生しなければ、特に限定されない。
【００８８】
（その他の機能性層）
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波遮蔽材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。
【００８９】
これらの機能性膜はＰＤＰに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルタ（または単にフィルタ）と呼ぶことができる。
【００９０】
反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルタ上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００９２】
実施例１
《近赤外線吸収フィルタ試料−１００（比較）の作製》
（支持体１の作製）
透明のポリエチレンテレフタレートフィルムベース（厚み１００μｍ）の片方の面に、０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ａを用いて下引き層Ａが、乾燥膜厚０．２μｍになるように塗設した。さらに、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ｂ、Ａを用い、下引き層Ｂ、Ａが、それぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体−１を作製した。
【００９３】
〈下引き塗布液Ａ〉
ブチルアクリレート４０質量％、ｔ−ブチルアクリレート１０質量％、スチレン２５質量％、及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）２７０ｇと界面活性剤（ＵＬ−１）０．６ｇ及び鹸化度８０％のポリビニルアルコール１ｇを混合した。さらにシリカ粒子（サイロイド３５０、富士シリシア製）１．３ｇを水１００ｇ中にあらかじめ超音波分散機〔アレックス社（ＡＬＥＸ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製、商品名：ウルトラソニック・ジェネレーター（Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）、周波数２５ｋＨｚ、６００Ｗ〕にて３０分、分散を行っておいた液を加え、最後に水で１０００ｍｌに仕上げて、下引き塗布液Ａとした。
【００９４】
【化１５】
2007264384.tif 000016
【００９５】
〈コロイド状酸化スズ分散液の合成〉
塩化第２スズ水和物６５ｇを水／エタノール混合溶液２０００ｍｌに溶解して均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し全量を２０００ｍｌとする。更に３０％アンモニア水を４０ｍｌ加え水溶液中で加温したあとで、さらに加温して４７０ｍｌになるまで濃縮して、コロイド状酸化スズ分散液を得た。
【００９６】
〈下引き塗布液Ｂ〉
前記コロイド状酸化スズ分散液の合成で合成したＳｎＯ2ゾル液３７．５ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１０質量％、ｔ−ブチルアクリレート３５質量％、スチレン２７質量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２８質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０質量％）３．７ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０質量％、スチレン２０質量％、グリシジルメタクリレート４０質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）１４．８ｇと塗布助剤として界面活性剤（ＵＬ−１）０．１ｇを混合し水で１０００ｍｌに仕上げて下引き塗布液Ｂとした。
【００９７】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−０）の調製）
ポリビニルブチラール粉末（ＢＬ−５Ｚ、積水化学社製）２０ｇを室温でメチルエチルケトン８０ｇに溶解した後、赤外吸収染料（本発明の一般式（Ｉ）で表される染料）例示化合物１−１の０．０４ｇを撹拌しながら添加し、近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−０を調製した。
【００９８】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１００）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−０を、支持体−１の下引き層Ｂ、Ａを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５５℃で３０分間乾燥し、試料−１００（比較）を作製した。
【００９９】
《近赤外線吸収フィルタ試料−１０１（比較）の作製》
（支持体−２の作製）
支持体とする厚さ１００μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面を１００Ｗ／ｍ2・分コロナ処理した後、片面に屈折率１．５５、２５℃における弾性率１００ＭＰａ、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、Ｘ４０７Ｃ５）を３００ｎｍの厚さに塗布し、下塗り層を形成した。この下塗り層の上には屈折率１．５０、２５℃における弾性率１２０ＭＰａ、ガラス転移温度５０℃のアクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル（株）製）を乾燥後の厚さ８０ｎｍとなるように塗布し、第２下塗り層を形成した。さらに、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に上記の下引き塗布液Ｂ、Ａをこの順に用い、下引き層Ｂ、Ａが、それぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体−２を作製した。
【０１００】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−１）の調製）
酢酸エチル２．６ｇに赤外吸収染料（本発明の一般式（Ｉ）で表される染料）例示化合物１−１の０．０３ｇを添加し、撹拌溶解した。
【０１０１】
別の容器に純水２４ｇ、ゼラチン２．８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液４．９ｇを添加し、溶解した。
【０１０２】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、赤外吸収染料の分散物Ｂ−１を調製した。
【０１０３】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−１）の調製）
ゼラチン５．２ｇを純水６３ｇに４０℃にて溶解した後、上記分散物Ｂ−１を３３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−１を調製した。
【０１０４】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０１）の作製）
上記近赤外線吸収染料層の塗布液Ｃ−１を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０１（比較）を作製した。
【０１０５】
《近赤外線吸収フィルタ試料−１０２（本発明）の作製》
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−２）の調製）
酢酸エチル２．６ｇに赤外吸収染料（本発明の一般式（Ｉ）で表される染料）例示化合物１−１の０．０１ｇ、例示化合物１−１４の０．０１ｇ、例示化合物１−１４の０．０１ｇ、を添加し、撹拌溶解した。
【０１０６】
別の容器に純水２４ｇ、ゼラチン２．８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液４．９ｇを添加し、溶解した。
【０１０７】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、赤外吸収染料の分散物Ｂ−２を調製した。
【０１０８】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−２）の調製）
ゼラチン５．２ｇを純水６３ｇに４０℃にて溶解した後、上記分散物Ｂ−２を３３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−２を調製した。
【０１０９】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０２）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−２を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０２（本発明）を作製した。
【０１１０】
《近赤外線吸収フィルタ試料−１０３（本発明）の作製》
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−３）の調製）
酢酸エチル２．６ｇにポリビニルブチラール粉末（ＢＬ−５Ｚ、積水化学社製）１．５ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料（本発明の一般式（Ｉ）で表される染料）例示化合物１−１の０．０１ｇ、例示化合物１−１４の０．０１ｇ、例示化合物１−１４の０．０１ｇ、を添加し、撹拌溶解した。
【０１１１】
別の容器に純水２４ｇ、ゼラチン２．８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液４．９ｇを添加し、溶解した。
【０１１２】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、赤外吸収染料の分散物Ｂ−３を調製した。
【０１１３】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−３）の調製）
ゼラチン５．２ｇを純水６３ｇに４０℃にて溶解した後、上記分散物Ｂ−３を３３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−３を調製した。
【０１１４】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０３）の作製）
上記近赤外線吸収染料層の塗布液Ｃ−３を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０３（本発明）を作製した。
【０１１５】
《近赤外線吸収フィルタ試料−１０４（本発明）の作製》
（紫外線吸収剤塗布液の調製）
紫外線吸収剤Ｕ−１５（本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体的例示化合物Ｕ−１５：２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール）０．３ｇを純水１００ｇ、ゼラチン１０ｇに溶解し、紫外線吸収剤塗布液とした。
【０１１６】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０４）の作製）
試料−１０３上に、紫外線吸収剤溶解液をウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０４（本発明）を作製した。
【０１１７】
《評価方法》
（耐光性の評価）
得られた試料−１００〜１０４について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１０００ｎｍの近赤外部の透過率を算出した。耐光性劣化試験はスガ試験機株式会社製スーパーキセノンウエザーメーターＳＸ７５を使用し、相対湿度５０％、照射強度５０Ｗ／平米、１００時間試験後の吸収劣化の割合を求めた。
【０１１８】
（耐湿熱性の評価）
得られた試料−１００〜１０４について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、６０℃相対湿度９０％の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を求めた。
【０１１９】
（耐熱性の評価）
得られた試料−１００〜１０４について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、８０℃（湿度は成り行き）の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を求めた。
【０１２０】
結果を表１に示す。
【０１２１】
【表１】
2007264384.tif 000017
【０１２２】
表１から、本発明に係る試料は、比較例よりも、近赤外部の透過率、耐光性、耐湿熱性、耐熱性、において優れていることがわかる。
【０１２３】
実施例２
（赤外線遮蔽フィルタとしてのプラズマディスプレイ用前面フィルタへの適用）
パイオニア製プラズマディスプレイ（ＰＤＰ−４３５ＨＤＬ）の前面に貼られた光学フィルタを剥がし（除去し）、白表示をさせて、ＯｃｅａｎＯｐｔｉｃｓ社製超小型スペクトロメータ
ＵＳＢ２０００にて赤外の発光スペクトルを測定したところ、８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍに強いピークが認められた。その後、試料−１０４（３０ｃｍ×３０ｃｍ）をパネル表面に貼付し、ＵＳＢ２０００で同様の測定をした所、赤外の発光スペクトルは全て消失していることを確認した。
【０１２４】
赤外線遮蔽フィルタとしてのプラズマディスプレイ用前面フィルタへの適用の好適であることがわかる。