(57)【要約】【課題】亀裂の発生を抑制でき、かつ、屈折率が向上しやすい薄膜形成用組成物、これを用いた高屈折率薄膜を提供すること。【解決手段】チタンアルコキシドと、アルコール類を含む溶媒と、アルコール可溶性ポリアミドとを少なくとも含む組成物であって、当該組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度が５以上である薄膜形成用組成物を用いる。アルコール可溶性ポリアミドの含有量は、チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して１０〜５０重量％の範囲内にあると良い。この組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線を照射することにより、高屈折率薄膜を形成する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンアルコキシドと、アルコール類を含む溶媒と、アルコール可溶性ポリアミドとを少なくとも含む組成物であって、
当該組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度が５以上であることを特徴とする薄膜形成用組成物。
【請求項２】
前記アルコール可溶性ポリアミドの含有量は、前記チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して、１０〜５０重量％の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の薄膜形成用組成物。
【請求項３】
紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の薄膜形成用組成物。
【請求項４】
前記紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤は、アセチルアセトンを含むことを特徴とする請求項３に記載の薄膜形成用組成物。
【請求項５】
請求項１から４の何れかに記載の薄膜形成用組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線が照射されて形成されていることを特徴とする高屈折率薄膜。
【請求項６】
透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、請求項５に記載の高屈折率薄膜を少なくとも１層以上含む積層構造を有していることを特徴とする透明積層フィルム。
【請求項７】
透明支持基体の少なくとも一方面に、粘着剤層を介して、請求項６に記載の透明積層フィルムが積層されていることを特徴とする透明積層体。
【請求項８】
請求項６に記載の透明積層フィルムまたは請求項７に記載の透明積層体を有することを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成用組成物、高屈折率薄膜、透明積層フィルム、透明積層体およびプラズマディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学的機能、電気的機能などの高次機能を実現するため、様々な産業分野において各種の機能性薄膜が用いられている。
【０００３】
例えば、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel、以下「ＰＤＰ」という。）などの表示装置に関する分野などでは、電磁波遮蔽機能、近赤外線遮蔽機能などを付与する目的で、透明高分子フィルム上に、高屈折率薄膜と、金属薄膜とを交互に積層した透明積層フィルムが使用されている。
【０００４】
従来、上記高屈折率薄膜は、真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相成長法（ＰＶＤ）や、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤなどの化学的気相成長法（ＣＶＤ）といった気相法により製造するのが主流であった。
【０００５】
ところが、これら気相法は、真空設備などの大型設備が必要であるため高コストになりやすく、生産性に劣るなどの欠点がある。そのため、最近では、大気中で成膜できる、低コストである、気相法に比較して生産性に優れるなどの利点がある液相法、中でもゾル−ゲル法を用いて高屈折率薄膜を製造する方法が注目を浴びるようになっている。
【０００６】
例えば、特許文献１には、テトラブトキシチタン７量体などのチタンアルコキシドをアルコール類などの有機溶媒中に溶解した薄膜形成用組成物、この組成物を透明高分子フィルム上に塗工し、乾燥させて薄膜前駆体を形成した後、この薄膜前駆体に特定照度、特定光量の紫外線を照射して合成したチタンの酸化物を含む高屈折率薄膜、この高屈折率薄膜を有する透明積層フィルムなどが開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１９７１８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献１に記載の技術は、以下の点で未だ改良の余地が残されていた。
【０００９】
すなわち、チタンアルコキシドを、アルコール類などの有機溶媒中に溶解した薄膜形成用組成物を用いて、ゾル−ゲル法と紫外線照射法とを組み合わせてチタンの酸化物を含む高屈折率薄膜を製造する場合、薄膜前駆体の内部まで加水分解・縮合反応が十分に進行し難く、得られた薄膜中に、チタンアルコキシドなど、出発原料が残存しやすい。
【００１０】
そのため、未反応成分の残存量を少なくし、できるだけ高い屈折率を得るためには、薄膜前駆体に対して照射する紫外線光量をできるだけ多くし、これにより加水分解・縮合反応を促進させて未反応成分を少なくするようにすることが望ましい。
【００１１】
しかしながら、このようなことを行うと、高屈折率薄膜に亀裂が発生しやすくなるといった問題があった。
【００１２】
これは、紫外線の照射によって、薄膜は、面方向に収縮しようとするが、透明高分子フィルムに拘束されているので収縮することができず、これにより生じた膜中の歪みに耐えきれないことが原因であると考えられる。
【００１３】
さらに、量産時には、長尺フィルム上に連続して高屈折率薄膜を形成することになるが、紫外線光量を多くするには、ライン速度を遅くしなければならず、生産性も悪化する。
【００１４】
そのため、紫外線光量の増加幅はできるかぎり抑えつつ、薄膜の高屈折率化を図りたいといった要望があった。
【００１５】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、亀裂の発生を抑制でき、かつ、屈折率が向上しやすい薄膜形成用組成物を提供することにある。
【００１６】
また、他の課題は、この薄膜形成用組成物を用いた高屈折率薄膜、この高屈折率薄膜を有する透明積層フィルム、この透明積層フィルムを有する透明積層体、この透明積層フィルムまたは透明積層体を有するプラズマディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するため、本発明に係る薄膜形成用組成物は、チタンアルコキシドと、アルコール類を含む溶媒と、アルコール可溶性ポリアミドとを少なくとも含む組成物であって、当該組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度が５以上であることを要旨とする。
【００１８】
ここで、上記アルコール可溶性ポリアミドの含有量は、上記チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して、１０〜５０重量％の範囲内にあると良い。
【００１９】
また、上記組成物は、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤をさらに含んでいると良い。
【００２０】
上記紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤は、アセチルアセトンを含んでいると良い。
【００２１】
一方、本発明に係る高屈折率薄膜は、上記薄膜形成用組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線が照射されて形成されていることを要旨とする。
【００２２】
また、本発明に係る透明積層フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、上記高屈折率薄膜を少なくとも１層以上含む積層構造を有していることを要旨とする。
【００２３】
また、本発明に係る透明積層体は、透明支持基体の少なくとも一方面に、粘着剤層を介して、上記透明積層フィルムが積層されていることを要旨とする。
【００２４】
また、本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルムまたは上記透明積層体を有することを要旨とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る薄膜形成用組成物は、組成物中にアルコール可溶性ポリアミドを含んでいる。そのため、上記組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線を照射して高屈折率薄膜を製造する場合、紫外線照射による膜収縮などに起因する応力が、アルコール可溶性ポリアミドにより緩和され、亀裂の発生を抑制することができる。
【００２６】
また、本発明に係る薄膜形成用組成物は、当該組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度が５以上であるので、屈折率が向上しやすい。これは、特定の平均重合度以上まで加水分解・縮合反応が進んでいるチタンアルコキシドを当初より原料に用いることで、以降の紫外線照射によるチタンアルコキシドの加水分解・縮合反応が促進されやすいためであると考えられる。
【００２７】
そのため、紫外線光量の増加幅をできる限り抑えつつ、高屈折率化を図ることが可能になる。これにより、高屈折率薄膜の量産時にライン速度を高速化しやすくなり、生産性が向上するなどの利点がある。
【００２８】
この際、上記アルコール可溶性ポリアミドの含有量が、上記チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して、１０〜５０重量％の範囲内とされている場合には、亀裂抑制効果と高屈折率化とのバランスに優れる。
【００２９】
また、上記組成物が、アセチルアセトンなど、チタンアルコキシドと反応して紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤をさらに含んでいる場合には、紫外線の照射による加水分解・縮合反応がより促進されるので、より高い屈折率を有し、かつ、安定性の高い薄膜を得やすくなる。
【００３０】
本発明に係る高屈折率薄膜は、上記薄膜形成用組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線が照射されて形成されているので、亀裂の発生が抑制されており、屈折率にも優れる。
【００３１】
本発明に係る透明積層フィルムは、実質的に亀裂のない高屈折率薄膜を備えているので、信頼性などに優れる。
【００３２】
本発明に係る透明積層体は、上記透明積層フィルムを有しているので、信頼性などに優れる。
【００３３】
本発明に係るプラズマディスプレイは、上記透明積層フィルムまたは上記透明積層体を有しているので、信頼性などに優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本実施形態に係る薄膜形成用組成物（以下、「本組成物」という。）、高屈折率薄膜（以下、「本高屈折率薄膜」という。）、透明積層フィルム（以下、「本フィルム」という。）、透明積層体（以下、「本積層体」という。）およびプラズマディスプレイ（以下、「本ディスプレイ」という。）について詳細に説明する。
【００３５】
１．本組成物
本組成物は、チタンアルコキシドと、アルコール類を含む溶媒と、アルコール可溶性ポリアミドとを少なくとも含んでいる。
【００３６】
上記チタンアルコキシドの種類としては、具体的には、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタンなどのＭ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンアルコキシドを例示することができる。これらは１種または２種以上用いても良い。
【００３７】
ここで、本組成物中に含まれるチタンアルコキシドは、その平均重合度の下限値が少なくとも５以上である必要がある。したがって、本組成物中には、少なくとも５量体以上の多量体である上記チタンアルコキシドが１種または２種以上含まれていることになる。
【００３８】
上記チタンアルコキシドの平均重合度の好ましい下限値としては、具体的には、例えば、６以上、７以上、８以上などを例示することができる。
【００３９】
一方、本組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度の上限値については、特に限定されるものではなく、チタンアルコキシドの製造し易さ、安定性などを考慮して適宜選択することができる。
【００４０】
上記チタンアルコキシドの平均重合度の下限値と組み合わせ可能な、上記チタンアルコキシドの平均重合度の好ましい上限値としては、具体的には、例えば、２００以下、１００以下、５０以下などを例示することができる。
【００４１】
本願において、上記平均重合度は、次のようにして求めることができる。先ず、原料のチタンアルコキシドを加熱処理することにより、二酸化チタンの生成率を測定する。
【００４２】
具体的には、チタンアルコキシドの重量を測定し、ルツボに入れる。次いで、ルツボを６０℃で２時間加熱後、さらにバーナーにて１時間加熱する。次いで、ルツボの中に残った白色残渣（二酸化チタン）の重量を測定する。次いで、下記式（１）より二酸化チタンの生成率（％）を求める。
二酸化チタンの生成率（％）＝生成後の二酸化チタン重量／チタンアルコキシドの重量×１００・・・（１）
【００４３】
一方、各重合度のチタンアルコキシドから生成し得る二酸化チタンの理論生成率（％）を予め下記式（２）より求めておく。
二酸化チタンの理論生成率（％）＝（チタンアルコキシド１分子当たりのチタン原子数×二酸化チタンの分子量）／チタンアルコキシドの分子量・・・（２）
【００４４】
具体的には、例えば、テトラブトキシチタン１０量体、２０量体であれば、各二酸化チタンの理論生成率（％）は、それぞれ３５．８％、３６．９％である。
【００４５】
そして、式（１）による二酸化チタンの生成率（％）と、式（２）による二酸化チタンの理論生成率（％）とを照合すれば、組成物の原料に用いたチタンアルコキシドの平均の重合度を求めることができる。
【００４６】
なお、測定対象の組成物中に含まれるチタンアルコキシドは、赤外吸光分析を用いて、チタンアルコキシドの種類毎に、特有の波数に表れる吸収ピークを検出するなどし、例えば、Ｔｉ−Ｏのピークと、アルコキシ基のピークを検出すれば、その種類を特定することができる。また、２種以上のチタンアルコキシドが含まれる場合には、検出された異なるアルコキシ基の割合から各チタンアルコキシドの割合を特定することができる。
【００４７】
また、本組成物は、当該組成物中に含まれるチタンアルコキシドの平均重合度が５以上となっておれば、５量体未満の多量体のチタンアルコキシド、単量体のチタンアルコキシドが１種または２種以上含まれていても構わない。
【００４８】
本組成物中に占める上記チタンアルコキシドの含有量としては、その好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０、１５、１０重量％などを例示することができる。これら好ましい上限値と組み合わせ可能な好ましい下限値として、具体的には、例えば、１、３、５重量％などを例示することができる。
【００４９】
また、本組成物は、必須溶媒としてアルコール類を含んでいる。このアルコール類の存在により、アルコール可溶性ポリアミドを均一に分散させて溶解させることができる。
【００５０】
上記アルコール類としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘプタノール、イソプロピルアルコールなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００５１】
この際、上記溶媒量としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、チタンアルコキシドの固形分重量に対して５、１０倍量などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、チタンアルコキシドの固形分重量に対して５０、３０、２０倍量などを例示することができる。
【００５２】
上記溶媒量が５０倍量より多くなると、一回の塗工で形成できる薄膜の膜厚が薄くなり、所望の膜厚を得るために多数回の塗工が必要となる傾向が見られる。一方、５倍量より少なくなると、薄膜が厚くなり過ぎ、チタンアルコキシドの加水分解・縮合反応が十分に進行し難くなる傾向が見られる。したがって、上記溶媒量は、これらを考慮して選択すると良い。
【００５３】
また、本組成物は、上述したアルコール類に可溶なポリアミドを含んでいる。このアルコール可溶性ポリアミドは、その主鎖中にアミド結合を含んでいる。
【００５４】
上記アルコール可溶性ポリアミドとしては、具体的には、例えば、Ｎ−メトキシメチル−ポリアミドなどのアミド基部位がアルコキシメチル化されたポリアミド、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドなどを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００５５】
これらアルコール可溶性ポリアミドのうち、薄膜に生じる亀裂を抑制する効果に優れるなどの観点から、好ましくは、重合脂肪酸、ダイマー酸、カルボン酸とアミンとの重縮合により形成されうるポリアミドを好適に用いることができる。
【００５６】
また、上記アルコール可溶性ポリアミドの含有量としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して１０、１５、２０重量％などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、チタンアルコキシド中に含まれるチタン重量に対して５０、４５、４０重量％などを例示することができる。
【００５７】
上記組成物中に含まれるアルコール可溶性ポリアミドの含有量が、１０重量％より少なくなると、薄膜に生じる亀裂を抑制する効果などが小さくなる傾向が見られる。一方、５０重量％より多くなると、例えば、表示装置など、高屈折率が要求される用途に適した屈折率が得難くなるなどの傾向が見られる。したがって、アルコール可溶性ポリアミドの含有量の選択には、これらに留意すると良い。
【００５８】
上記本組成物は、上記必須成分以外に、必要に応じて以下の任意成分を１種または２種以上含んでいても良い。
【００５９】
例えば、本組成物は、上記チタンアルコキシド以外にも、加水分解・縮合反応により金属酸化物を形成しうる金属の有機化合物などが必要に応じて１種または２種以上混合されていても良い。
【００６０】
他の金属の有機化合物としては、具体的には、例えば、イソプロポキシチタンステアレートなどのＭ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有するチタンアシレートや、ジイソプロポキシチタンビスアセチルアセトナート、ジヒドロキシビスラクタトチタン、ジイソプロポキシビストリエタノールアミナトチタン、ジイソプロポキシビスエチルアセトアセタトチタンなどのチタンキレートなど、チタンアルコキシド以外のチタンの有機化合物を例示することができる。
【００６１】
上記以外にも、例えば、亜鉛の有機化合物、インジウムの有機化合物、スズの有機化合物、マグネシウムの有機化合物、アルミニウムの有機化合物、ジルコニウムの有機化合物、ニオブの有機化合物、セリウムの有機化合物などを例示することができる。
【００６２】
また、例えば、本組成物における溶媒は、上記アルコール可溶性ポリアミドの可溶性を損なわない範囲内であれば、アルコール類に加えて、他の溶媒を含んでいても良い。他の溶媒としては、具体的には、例えば、酢酸エチルなどの有機酸エステル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロキシフラン、ジオキサンなどのシクロエーテル類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの酸アミド類、ヘキサンなどの炭化水素類、トルエンなどの芳香族類、水などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００６３】
また、例えば、本組成物には、必要に応じて、各種の添加剤が添加されていても良い。添加剤としては、具体的には、例えば、チタンアルコキシドと反応して紫外線吸収性のキレートを形成するものなどを好適なものとして例示することができる。本組成物は、基本的に、紫外線を用いて加水分解・縮合反応を進行させる。そのため、チタンアルコキシドと反応して紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤が添加されている場合には、比較的低温下において高い屈折率を有し、かつ、安定性の高い薄膜が得やすくなるからである。
【００６４】
この種の添加剤としては、具体的には、例えば、βジケトン類、アルコキシアルコール類、アルカノールアミン類などの添加剤を例示することができる。より具体的には、上記βジケトン類としては、例えば、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、マロン酸ジエチルなどを例示することができる。上記アルコキシアルコール類としては、例えば、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−メトキシ−２−プロパノールなどを例示することができる。上記アルカノールアミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００６５】
これらのうち、とりわけ、βジケトン類が好ましく、中でもアセチルアセトンを最も好適に用いることができる。
【００６６】
また、上記添加剤の配合割合としては、上記チタンアルコキシドにおけるチタン原子１モルに対して、例えば、０．１〜２倍モルの範囲などを例示することができる。
【００６７】
以上の構成を有する本組成物は、例えば、所定割合となるように秤量した平均重合度が５以上のチタンアルコキシドと、アルコール類を含む溶媒と、アルコール可溶性ポリアミドと、必要に応じて添加される他の任意成分とを、攪拌機などの撹拌手段により所定時間撹拌・混合するなどの方法により製造することができる。
【００６８】
この場合、各成分の混合は、上記のように１回で混合しても良いし、複数回に分けて混合しても良い。複数回に分けて混合する場合、例えば、平均重合度が５以上のチタンアルコキシドおよびアルコール類を含む溶媒を撹拌・混合して調製した溶液と、アルコール類を含む溶媒およびアルコール可溶性ポリアミドを撹拌・混合して調製した溶液とを準備し、これら２液を撹拌・混合する方法などを例示することができる。
【００６９】
２．本高屈折率薄膜
本高屈折率薄膜は、可視光領域において透明性を有し、高い屈折率を有している。ここで、高屈折率とは、６３３ｎｍの光に対する屈折率が１．７５以上ある場合をいう。本高屈折率薄膜は、例えば、表示装置など、高い屈折率が要求される用途に好適に用いることができるなどの観点から、屈折率は、好ましくは１．８０以上、より好ましくは１．８５以上、最も好ましくは１．９０以上あると良い。
【００７０】
本高屈折率薄膜は、主成分としてチタンの酸化物を含み、他にアルコール可溶性ポリアミドを必須成分として少なくとも含んでいる。
【００７１】
上記チタンの酸化物としては、具体的には、例えば、酸化チタン（IV）（ＴｉＯ２）、チタン酸塩などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。なお、チタンの酸化物は、２種以上のチタンの酸化物が複合した複酸化物であっても良い。
【００７２】
また、上記アルコール可溶性ポリアミドとしては、上述したものと同様のものを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【００７３】
ここで、本高屈折率薄膜中に含まれるアルコール可溶性ポリアミドの含有量としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、膜を構成するチタンの酸化物中に含まれるチタン重量に対して１０、１５、２０重量％などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、同チタンの酸化物中に含まれるチタン重量に対して５０、４５、４０重量％などを例示することができる。
【００７４】
本高屈折率薄膜中に含まれるアルコール可溶性ポリアミドの含有量が、１０重量％より少なくなると、薄膜に生じる亀裂を抑制する効果などが小さくなる傾向が見られる。一方、５０重量％より多くなると、例えば、表示装置など、高屈折率が要求される用途に適した屈折率が得難くなるなどの傾向が見られる。したがって、本高屈折率薄膜中に含まれるアルコール可溶性ポリアミドの含有量が上記範囲内になるように、例えば、本組成物中に添加するアルコール可溶性ポリアミドの添加量を調整すると良い。
【００７５】
また、本高屈折率薄膜は、必要な屈折率を確保でき、かつ、光学特性などに悪影響を及ぼさない範囲内であれば、上記チタンの酸化物、アルコール可溶性ポリアミド以外に、以下の任意成分を１種または２種以上含んでいても良い。
【００７６】
例えば、本高屈折率薄膜は、副成分として、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを１種または２種以上含んでいても良い。
【００７７】
また、本高屈折率薄膜は、チタンの酸化物の合成時に使用したチタンの酸化物の前駆体、具体的には、例えば、チタンアルコキシドや、各種の添加剤、不可避不純物など、上記必須成分以外の物質を１種または２種以上含んでいても良い。なお、チタンアルコキシドを少量含んでいる場合には、後述する透明積層フィルムの柔軟性が向上するなどの利点がある。
【００７８】
また、本高屈折率薄膜の膜厚は、透明性や色調などを考慮して種々調節することができる。本高屈折率薄膜の膜厚としては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、１０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１５０ｎｍ、１００ｎｍなどを例示することができる。
【００７９】
このような本高屈折率薄膜は、基本的には、本組成物を出発溶液とするゾル−ゲル法と紫外線照射法とを組み合わせて製造することができる。すなわち、本組成物より形成した薄膜前駆体に紫外線を照射することにより、チタンアルコキシドを加水分解・縮合反応させてチタンの酸化物を合成すれば、本高屈折率薄膜を形成することが可能である。以下、本高屈折率薄膜の製造方法について詳細に説明する。
【００８０】
先ず、本組成物より薄膜前駆体を形成するには、フィルム基材、ガラス基板などの適当な支持体上に、本組成物を膜状に塗工し、乾燥させれば良い。
【００８１】
上記塗工方法としては、マイクログラビア法、グラビア法、リバースロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコート法など、各種の塗工方法を例示することができる。
【００８２】
また、本組成物の塗工厚としては、形成する本高屈折率薄膜の膜厚が所望の厚みになるように種々調節すれば良い。
【００８３】
また、上記乾燥方法としては、例えば、膜状に形成された本組成物を公知の乾燥装置に入れるなどすれば良い。この際、乾燥条件としては、具体的には、例えば、８０℃〜１２０℃の温度範囲、０．５分〜５分の乾燥時間などを例示することができる。
【００８４】
次に、上記薄膜前駆体に対して紫外線を照射するにあたり、用いる紫外線照射機としては、具体的には、例えば、水銀ランプ、キセノンランプ、重水素ランプ、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを例示することができる。
【００８５】
また、照射する紫外線の光量としては、測定波長３００〜３９０ｎｍのとき、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２、５００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、８０００ｍＪ／ｃｍ２、５０００ｍＪ／ｃｍ２などを例示することができる。
【００８６】
３．本フィルム
本フィルムは、透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、本高屈折率薄膜を少なくとも１層以上含む積層構造を有している。
【００８７】
本フィルムにおいて、透明高分子フィルムは、薄膜を形成するためのベースとなるものである。その材料としては、可視光領域において透明性を有し、その表面に薄膜を支障なく形成できるものであれば、何れのものでも用いることができる。
【００８８】
上記透明高分子フィルムの材料としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリウレタン、シクロオレフィンポリマーなどの高分子材料を例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００８９】
これらのうち、とりわけ、透明性、耐久性、加工性などに優れるなどの観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィンポリマーなどを好適なものとして例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。
【００９０】
また、上記透明高分子フィルムの厚みは、用いる材料などを考慮して種々調節することができる。その好ましい下限値として、具体的には、例えば、１０μｍ、２５μｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、５００μｍ、２５０μｍなどを例示することができる。
【００９１】
本フィルムにおいて、上記積層構造の基本単位としては、具体的には、例えば、透明高分子フィルム側から、高屈折率薄膜│金属薄膜、金属薄膜│高屈折率薄膜などを例示することができる。これら基本単位は、単数または複数繰り返し積層されていても良い。
【００９２】
ここで、上記積層構造において、本高屈折率薄膜は、何れの層に位置していても良い。すなわち、上記積層構造中に含まれる全ての高屈折率薄膜が、本組成物を用いて形成されていても良いし、一部の高屈折率薄膜については、本発明の趣旨を損なわない範囲内で、例えば、本組成物からアルコール可溶性ポリアミドを除いた組成物などを用いて形成されていても良い。
【００９３】
また、前者の基本単位を用いる場合には、金属薄膜を劣化し難くする、透明性を確保しやすいなどの観点から、透明高分子フィルムから最も遠い表面に、別途、高屈折率薄膜を積層するのが好ましい。
【００９４】
また、本フィルムにおいて、高屈折率薄膜、金属薄膜は、一度に形成されたものであっても良いし、分割形成されたものであっても良い。この場合、その分割数は、各薄膜ごとに同じであっても良いし、異なっていても良い。
【００９５】
また、金属薄膜を構成する金属元素が高屈折率薄膜中へ拡散するのを抑制するなどの観点から、金属薄膜の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア膜が形成されていても良い。
【００９６】
また、上記積層構造の積層数は、高屈折率薄膜、金属薄膜などの材料や膜厚、要求される光学特性、導電性などを考慮して適宜選択することができる。高屈折率薄膜、金属薄膜を１層として数えれば、その積層数としては、具体的には、例えば３〜９層などを例示することができる。
【００９７】
なお、高屈折率薄膜、金属薄膜が、複数の分割層よりなる場合には、複数の分割層よりなる高屈折率薄膜、金属薄膜をそれぞれ１層として数える。また、金属薄膜に接してバリア膜が形成されている場合には、バリア膜を含めた金属薄膜を１層として数える。
【００９８】
また、上記積層構造において、高屈折率薄膜、金属薄膜の組成または材料は、それぞれ同一の組成または材料から形成されていても良いし、異なる組成または材料から形成されていても良い。なお、各薄膜が複数の分割層を有する場合も同様である。
【００９９】
また、上記積層構造において、高屈折率薄膜、金属薄膜の厚みは、それぞれほぼ同一であっても良いし、各薄膜ごとに異なっていても良い。
【０１００】
本フィルムは、概略、上述した積層構造を有している。本フィルムにおいて、高屈折率薄膜は、可視光領域において透明性を有し、主として高屈折率層として機能するものである。
【０１０１】
本フィルム中の各高屈折率薄膜の厚みは、上記機能が発揮しやすくなるように選択すれば良い。高屈折率薄膜の厚みとしては、具体的には、例えば、その好ましい下限値として、１０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、１５０ｎｍ、１００ｎｍなどを例示することができる。
【０１０２】
なお、高屈折率薄膜を形成する方法については、既に上述した方法と同様であるので、その説明は省略する。
【０１０３】
一方、本フィルムにおいて、金属薄膜は、主として電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層として機能するものである。
【０１０４】
上記金属薄膜を主に構成する金属（合金も含む）としては、具体的には、例えば、銀、金、白金、銅、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛、スズ、ニッケル、コバルト、ニオブ、タンタル、タングステン、ジルコニウム、鉛、パラジウム、インジウムなどの金属や、これら金属を１種以上含む合金などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。
【０１０５】
上記金属としては、導電性、赤外線反射性、積層時の可視光透過性などに優れるなどの観点から、とりわけ、銀を好適に用いることができる。また、熱、光、水蒸気などの環境に対する安定性を向上させるなどの観点から、必要に応じて、金、白金、パラジウム、銅などの金属を１種以上銀に加えた銀合金を用いても良い。この場合、銀合金中の銀以外の金属としては、金属薄膜の耐久性に優れるなどの観点から、金、パラジウムなどを好適に用いることができる。
【０１０６】
また、銀合金を用いる場合、銀以外の金属の割合としては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、０．１重量％、０．５重量％などを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、２０重量％、１０重量％などを例示することができる。
【０１０７】
また、本フィルム中の各金属薄膜の厚みは、表面抵抗と可視光透過率とのバランスなどを考慮して種々調節することができる。一般に、金属薄膜の厚みが過度に厚すぎると、可視光透過率が低下する傾向が見られる。一方、その厚みが過度に薄すぎると、表面抵抗が増大する傾向が見られる。したがって、各金属薄膜の厚みの選択には、これらに留意すると良い。
【０１０８】
上記金属薄膜の厚みとしては、その好ましい下限値として、具体的には、例えば、５ｎｍ、１０ｎｍなどを例示することができる。一方、これら好ましい下限値と組み合わせ可能な好ましい上限値として、具体的には、例えば、３０ｎｍ、２０ｎｍなどを例示することができる。
【０１０９】
上記金属薄膜を形成する方法としては、具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法、レーザーアブレーションなどといった物理的気相成長法（ＰＶＤ）、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤなどといった化学的気相成長法（ＣＶＤ）などの気相法、導電性ペーストを塗工し、焼結する方法などを例示することができる。上記積層構造中の各金属薄膜は、これらのうち何れか１つの手法により形成されていても良いし、あるいは、２つ以上の手法を用いて形成されていても良い。
【０１１０】
より具体的には、例えば、真空蒸着法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、抵抗加熱、レーザ加熱、電子ビーム加熱などにより、金属を加熱蒸着させて金属薄膜を形成すれば良い。
【０１１１】
また、例えば、スパッタリング法を用いる場合には、ターゲットとして所望の金属を用いるとともに、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスを用い、ターゲットと透明高分子フィルムとの間に直流（ＤＣ）電圧（ＤＣスパッタリング法）または高周波（ＲＦ）電圧（ＲＦスパッタリング法）を印加し、金属薄膜を形成すれば良い。成膜速度を速くする観点から、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグネトロンスパッタリング法を用いても良い。
【０１１２】
また、例えば、イオンプレーティング法を用いる場合には、蒸発源として所望の金属を用い、真空蒸着装置内に低圧ガスを導入し電界をかけてプラズマを発生させ、蒸発源からの蒸発粒子をイオン化しながら蒸着させ、金属薄膜を形成すれば良い。
【０１１３】
なお、必要に応じて、例えば、スパッタリングガスとしてアルゴン、ネオンなどの不活性ガスに、さらに反応性ガスとして酸素を含むガスを混合し、金属と酸素とを反応させる反応性スパッタリング法などの気相法を用いて、金属薄膜の少なくとも一方面に、金属酸化物よりなるバリア膜を形成しても良い。
【０１１４】
上記バリア膜を主として形成する金属酸化物としては、具体的には、例えば、チタンの酸化物、亜鉛の酸化物、インジウムの酸化物、スズの酸化物、インジウムとスズとの酸化物、マグネシウムの酸化物、アルミニウムの酸化物、ジルコニウムの酸化物、ニオブの酸化物、セリウムの酸化物などを例示することができる。これらは１種または２種以上含まれていても良い。好ましくは、チタンの酸化物を含んでいると良い。
【０１１５】
本フィルムにおいて、透明高分子フィルムの表面に、高屈折率薄膜と、金属薄膜とを順次積層し、上記積層構造を形成するには、具体的には、例えば、次のような方法などによれば良い。
【０１１６】
すなわち、透明高分子フィルムの表面上に、高屈折率薄膜を形成した後、これをロールに巻き取る。この際、高屈折率薄膜を複数の分割層より形成する場合には、上記操作を分割数だけ繰り返せば良い。
【０１１７】
次いで、このロールを、上述した気相法による薄膜形成装置の成膜室内に装着し、ロールを繰り出しながら、高屈折率薄膜の表面上に金属薄膜を形成し、これを再びロールに巻き取る。この際、金属薄膜を複数の分割層より形成する場合には、上記操作を分割数だけ繰り返せば良い。
【０１１８】
このような操作を所望回数繰り返し行えば、高屈折率薄膜と、金属薄膜とを順次積層することができる。なお、バリア膜は、金属薄膜を形成する前後などに、金属薄膜の積層に準じて形成すれば良い。
【０１１９】
４．本積層体
本積層体は、本フィルムを用いている。すなわち、本積層体は、透明支持基体の少なくとも一方面に、粘着剤層を介して、本フィルムを積層した構成を有している。この際、本積層体において、本フィルムは、その積層構造面側が透明支持基体側となるように積層されていても良いし、透明高分子フィルム面側が透明支持基体側となるように積層されていても良い。
【０１２０】
ここで、透明支持基体の材料は、透明性に優れ、十分な機械的強度を有するものであれば、特に限定されることなく使用することができる。具体的には、例えば、半強化ガラス、強化ガラスなどのガラスや、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの高分子材料などを例示することができる。
【０１２１】
また、透明支持基体の形状は、板状などの平面状が好ましい。また、透明支持基体の厚みは、機械的強度や剛性などを考慮して、種々調節することができる。一般的には、１．０〜５．０ｍｍの範囲などを例示することができる。
【０１２２】
また、粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらは１種または２種以上混合されていても良い。このうち、透明性および耐熱性に優れるなどの観点から、アクリル系粘着剤などを好適に用いることができる。また、粘着剤の形態としては、シート状、液状などを例示することができる。
【０１２３】
また、粘着剤の厚みは、特に限定されるものではなく、一般的には、５〜１００μｍの範囲などを例示することができる。
【０１２４】
そして、例えば、シート状の粘着剤を用いて本積層体を製造する場合には、透明支持基板および／または本フィルムにシート状の粘着剤を貼り付けた後、両者をラミネートするなどして貼り合わせれば良い。また、液状の粘着剤を用いて本積層体を製造する場合には、例えば、透明支持基板および／または本フィルムに粘着剤を塗布して両者を貼り合わせた後、室温に放置したり、加熱したりするなどして粘着剤を硬化させれば良い。
【０１２５】
なお、液状の粘着剤を塗布する塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法などの塗布方法が挙げられ、粘着剤の種類、粘度、塗布量などを考慮して適宜選択することができる。
【０１２６】
また、光学特性を著しく損なわない限度内で、必要に応じて、反射防止機能、防眩機能、衝撃吸収機能、耐環境機能、調色機能などの各種の機能を有する機能性フィルムを、本積層体の片面または両面に、上述した粘着剤層を介して１つまたは２つ以上さらに貼り合わせても良い。
【０１２７】
５．本ディスプレイ
本ディスプレイは、上記本フィルムまたは上記本積層体を有している。
【０１２８】
上記本ディスプレイは、例えば、次のようにして得ることができる。すなわち、前者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本フィルムの表面に、上記した粘着剤層を形成したり、必要に応じて、反射防止機能などを有する機能性フィルムを粘着剤層を介して貼り付けたりした後、これをＰＤＰの前面表示部に直接貼り付ける。一方、後者のディスプレイの場合、具体的には、例えば、本積層体を、光学フィルターとして、空気層を介してプラズマディスプレイ本体の前面側に配設する。
【０１２９】
そして、両ディスプレイの場合とも、本フィルムの積層構造と、アース接続されたＰＤＰの裏面金属筐体や本体外装、接地端子などとを、導電性テープや導電性ガスケットなどの導電性部材を任意に介して、電気的に接続すれば、本ディスプレイを得ることができる。
【０１３０】
本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で種々の改変が可能である。例えば、上記実施形態では、本フィルム、本積層体をＰＤＰに用いた場合について説明したが、本フィルム、本積層体は、ＰＤＰ以外の表示装置にも適用可能である。
【０１３１】
また、本フィルム、本積層体は、表示装置用途以外にも、例えば、熱線カットガラス、車両用ガラスなどの赤外線遮蔽用途や、冷却ショーケース用ガラス、融雪ガラス、暖房用パネルヒーター、調理用パネルヒータなどの電熱性用途や、計測機器用ガラス窓、インテリジェントビルガラス、車両用ガラスなどの電磁波遮蔽用途など、導電機能および／または赤外線遮蔽機能、可視光透過性が要求される各種の用途に使用することができる。
【実施例】
【０１３２】
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
１．薄膜形成用組成物の調製
（実施例１）
初めに、以下の手順により、実施例１に係る薄膜形成用組成物を調製した。すなわち、チタンアルコキシドとして、テトラブトキシチタン１０量体（日本曹達（株）製、「Ｂ１０」、平均重合度１０）４．３ｇに対し、紫外線吸収性のキレートを形成する添加剤として、アセチルアセトン２．３５ｇを添加し、攪拌機にて１分間撹拌した。その後、これを１−ブタノール（和光純薬（株）製、試薬１級）３２．２５ｇと２−プロパノール（和光純薬（株）製、試薬１級）３０ｇとの混合溶媒により希釈し、さらに１０分間撹拌して溶液Ａを調製した。
【０１３３】
次いで、アルコール可溶性ポリアミドとして、Ｃ３８ダイマー酸とジアミンとの重縮合により形成されたポリアミド（ハリマ化成（株）製、「ニューマイド８２５」）０．２８５ｇを、１−ブタノール３０ｇに添加後、攪拌機にて３０分間撹拌し、溶液Ｂを調製した。
【０１３４】
その後、これら２溶液を混合し、攪拌機にて１０分間撹拌することにより、実施例１に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン１０量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１３５】
（実施例２）
アルコール可溶性ポリアミドとして、Ｎ−メトキシメチル−ポリアミド（ナガセケムテックス（株）製、「トレジンＦ３０Ｋ」）０．２８５ｇを用いた点以外は、上記実施例１と同様にして、実施例２に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン１０量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１３６】
（実施例３）
アルコール可溶性ポリアミドとして、重合脂肪酸とポリアミンとの重縮合により形成されたポリアミド（三和化学工業（株）製、「サンマイド５５０」）０．２８５ｇを用いた点以外は、上記実施例１と同様にして、実施例３に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン１０量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１３７】
（実施例４）
テトラブトキシチタン１０量体に代えて、テトラブトキシチタン２０量体（日本曹達（株）製、「Ｂ２０」、平均重合度２０）４．２０ｇを用いた点以外は、上記実施例１と同様にして、実施例４に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン２０量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１３８】
（実施例５）
テトラブトキシチタン１０量体に代えて、テトラブトキシチタン３０量体（日本曹達（株）製、「Ｂ３０」、平均重合度３０）４．１５ｇを用いた点以外は、上記実施例１と同様にして、実施例５に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン３０量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１３９】
（比較例１）
アルコール可溶性ポリアミドを全く添加しなかった点以外は、上記実施例１と同様にして、比較例１に係る薄膜形成用組成物を調製した。
【０１４０】
（比較例２）
テトラブトキシチタン１０量体に代えて、テトラブトキシチタン４量体（日本曹達（株）製、「Ｂ４」、平均重合度４）４．７ｇを用いた点以外は、上記実施例１と同様にして、比較例２に係る薄膜形成用組成物を調製した。なお、当該組成物中のアルコール可溶性ポリアミド含有量は、テトラブトキシチタン４量体中に含まれるチタン重量に対して３１重量％である。
【０１４１】
２．高屈折率薄膜の作製および評価
次に、得られた各薄膜形成用組成物を用いて、以下のように、各高屈折率薄膜を作製し、評価を行った。なお、各高屈折率薄膜の作製時に用いた各薄膜形成用組成物の種類は、後述する表１中に記載した通りである。
【０１４２】
２．１  屈折率測定
φ５０ｍｍ、厚み１ｍｍのガラス基板（ファイブラボ（株）製、「ＢＫ−７」）の一方面に、スピンコーターにより各薄膜形成用組成物を塗工した。なお、スピンコート条件は、溶液の滴下量０．３ｃｃ、予備回転５００ｒｐｍ×３秒、本回転２１００ｒｐｍ×３０秒とした。
【０１４３】
次いで、乾燥装置を用いて、上記塗工した組成物をガラス基板ごと１００℃にて２分間乾燥させ、ガラス基板上に各薄膜前駆体を形成した。
【０１４４】
次いで、ＵＶランプ（高圧水銀ランプ）を用いて、各薄膜前駆体に対して紫外線（ＵＶ）照射を行った。この際、実施例１Ｔ〜５Ｔ、比較例１ｔおよび２ｔに係る高屈折率薄膜の作製時には、紫外線の照射は、照度１０００ｍＷ／ｃｍ２で５秒間とした。一方、実施例６Ｔ〜８Ｔに係る高屈折率薄膜の作製時には、紫外線の照射は、照度１０００ｍＷ／ｃｍ２で２秒間とした。
【０１４５】
以上により、ガラス基板の一方面に、実施例１Ｔ〜８Ｔ、比較例１ｔおよび２ｔに係る高屈折率薄膜（厚み約３０ｎｍ）を形成した。
【０１４６】
次いで、各高屈折率薄膜の屈折率を自動エリプソメーター（（株）溝尻光学工業所製、「ＤＨＡ−ＸＡ」）により測定した。なお、屈折率の測定光の波長は、６３３ｎｍである。
【０１４７】
２．２  亀裂の有無の確認
次に、上記と同じガラス基板の一方面に、粘着フィルム（日東電工（株）製、「両面接着テープＣＳ９６２１」）を介して、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（「コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００」、東洋紡績（株）製）（以下、「ＰＥＴフィルム」という。）を貼り付けた。
【０１４８】
以降は、２．１と同様にして、ＰＥＴフィルムの一方面に、実施例および比較例に係る高屈折率薄膜（厚み約３０ｎｍ）を形成した。さらに、上記と同様の操作を繰り返し、各高屈折率薄膜を３層積みして厚膜化した。
【０１４９】
この際、１層目、２層目、３層目の高屈折率薄膜を形成するごとに、マイクロスコープ（（株）キーエンス製、「ＶＨＸ−１００ｆ」）（倍率×４５０）を用いて、膜表面の亀裂の有無を確認し、３層目の高屈折率薄膜まで亀裂が発生しなかったものを合格とした。
【０１５０】
なお、上記厚膜化を行ったのは、膜厚が増加するにつれて、亀裂が発生しやすくなるからである。また、１層目から亀裂が発生したものについては、それ以上の厚膜化を行っていない。
【０１５１】
２．３  各高屈折率薄膜の評価結果
表１に、各高屈折率薄膜の評価結果を示す。
【０１５２】
【表１】
2007224063.tif 000002
【０１５３】
表１によれば、次のことが分かる。すなわち、比較例１ｔに係る高屈折率薄膜の評価結果から分かるように、薄膜形成用組成物が、アルコール可溶性ポリアミドを含んでいない場合には、亀裂が発生しやすいことが分かる。
【０１５４】
これに対して、実施例１Ｔ〜８Ｔに係る高屈折率薄膜のように、薄膜形成用組成物中にアルコール可溶性ポリアミドを含有させておけば、亀裂の発生を効果的に抑制できることが分かる。
【０１５５】
次に、実施例１Ｔ〜５Ｔに係る高屈折率薄膜は、平均重合度４のテトラブトキシチタンを用いた比較例２に係る薄膜形成用組成物より形成した比較例２ｔに係る高屈折率膜（＝同アルコール可溶性ポリアミド含有量、同紫外線光量）に比較して、より高い屈折率を有していることが分かる。
【０１５６】
つまり、紫外線光量が同じでも、当該組成物中に含まれるテトラブトキシチタンの平均重合度が５以上である場合には、屈折率が向上しやすいことが分かる。
【０１５７】
これは、実施例１Ｔ〜５Ｔに係る高屈折率薄膜は、平均重合度４のテトラブトキシチタンに比較して、本願で規定される平均重合度５以上まで加水分解・縮合反応が進んでいる、平均重合度１０、２０、３０のテトラブトキシチタンを当初より原料に用いているので、以降の紫外線照射によるテトラブトキシチタンの加水分解・縮合反応が促進されやすいためであると考えられる。
【０１５８】
また、実際に、実施例６Ｔ〜８Ｔに係る高屈折率薄膜と、比較例２ｔに係る高屈折率薄膜との比較から分かるように、実施例６Ｔ〜８Ｔに係る高屈折率薄膜は、紫外線照射時間を短く（＝紫外線光量を少なく）しても、比較例２ｔに係る高屈折率薄膜と同レベルの屈折率が得られている。
【０１５９】
そのため、実施例１〜５に係る薄膜形成用組成物によれば、平均重合度が５未満のテトラブトキシチタンを用いた比較例２に係る薄膜形成用組成物に比較して、紫外線光量の増加幅をできる限り抑えつつ、高屈折率化を図ることが可能であると言える。
【０１６０】
したがって、本発明に係る薄膜形成用組成物を用いれば、例えば、長尺フィルム上に連続して高屈折率膜を形成していく量産時に、ライン速度を高速化しやすく、生産性を向上させることができると言える。
【０１６１】
以上の結果から、本発明に係る薄膜形成用組成物は、亀裂の発生を抑制でき、かつ、屈折率が向上しやすいことが確認できた。
【０１６２】
３．透明積層フィルム
（実施例１Ｆ）
次に、透明高分子フィルム上に、実施例１に係る薄膜形成用組成物により形成した高屈折率薄膜と、金属薄膜とが交互に積層された積層構造を有する、実施例１Ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１６３】
すなわち、上記ＰＥＴフィルムの一方面に、グラビアコーターを用いて、実施例１に係る薄膜形成用組成物を塗工した。次いで、これを８０℃で１分間乾燥し、薄膜前駆体を形成した。
【０１６４】
次いで、この薄膜前駆体に対して、ＵＶランプ〔高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）〕により、線速４ｍ／ｍｉｎで紫外線を１回照射（光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）し、高屈折率薄膜（厚み３０ｎｍ）を形成した。なお、この高屈折率薄膜の屈折率を、ＦｉｌｍＴｅｋ３０００（Scientific Computing International社製）により測定したところ、測定波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．９４であった。
【０１６５】
次いで、ターゲットに純銀（純度：４Ｎ、１２６ｍｍ×５０６ｍｍサイズ）、スパッタガスにアルゴンガスを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法［電力：１．１ｋＷ（１．５６Ｗ／ｃｍ２）、真空度：０．３Ｐａ、成膜温度：４０℃、成膜部開口長：５ｃｍ、ターゲット／ＰＥＴフィルム間距離：７ｃｍ］により、ライン線速２ｍ／分にて、銀薄膜（厚み１０ｎｍ）を形成した。
【０１６６】
その後も、上記と同様の高屈折率薄膜の形成と、銀薄膜の形成を交互に行った。これにより、ＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）の表面に、高屈折率薄膜（厚み３０ｎｍ）│銀薄膜（厚み１０ｎｍ）│高屈折率薄膜（厚み６０ｎｍ、但し、２回成膜による）│銀薄膜（厚み１０ｎｍ）│高屈折率薄膜（厚み６０ｎｍ、但し、２回成膜による）│銀薄膜（厚み１０ｎｍ）│高屈折率薄膜（厚み３０ｎｍ）の順で各薄膜が積層された７層積層構造を有する、実施例１Ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１６７】
（実施例２Ｆ〜５Ｆ、比較例１ｆ、２ｆ）
上記実施例１Ｆに係る透明積層フィルムの作製において、実施例１に係る薄膜形成用組成物に代えて、実施例２〜５に係る薄膜形成用組成物、比較例１、２に係る薄膜形成用組成物を用いた以外はほぼ同様にして、実施例２Ｆ〜５Ｆに係る透明積層フィルム、比較例１ｆ、２ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１６８】
（実施例６Ｆ〜８Ｆ）
上記実施例１Ｆに係る透明積層フィルムの作製において、紫外線照射時の線速を５ｍ／ｍｉｎに変えた以外はほぼ同様にして、実施例６Ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１６９】
また、上記実施例１Ｆに係る透明積層フィルムの作製において、実施例１に係る薄膜形成用組成物に代えて、実施例４に係る薄膜形成用組成物を用いた点、紫外線照射時の線速を５ｍ／ｍｉｎに変えた以外はほぼ同様にして、実施例７Ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１７０】
また、上記実施例１Ｆに係る透明積層フィルムの作製において、実施例１に係る薄膜形成用組成物に代えて、実施例５に係る薄膜形成用組成物を用いた点、紫外線照射時の線速を５ｍ／ｍｉｎに変えた以外はほぼ同様にして、実施例８Ｆに係る透明積層フィルムを作製した。
【０１７１】
表２に、使用した薄膜形成用組成物と作製した透明積層フィルムとの対応表を示す。
【０１７２】
【表２】
2007224063.tif 000003
【０１７３】
４．透明積層体
（実施例１Ｂ）
次に、透明支持基体としてガラス板（厚み１ｍｍ）を用い、このガラス板の一方面に、粘着剤層（アクリル系接着テープ、日東電工（株）製、「ＣＳ９６２１」）（厚み２５μｍ）を介して、実施例１Ｆに係る透明積層フィルムのＰＥＴフィルム面側を貼り合わせた。
【０１７４】
次いで、上記実施例１Ｆに係る透明積層フィルムの積層構造側の表面およびガラス板の他方面に、上記粘着剤層（厚み２５μｍ）を介して、反射防止フィルムのフィルム面側を貼り合わせた。これにより、実施例１Ｂに係る透明積層体を作製した。
【０１７５】
なお、上記反射防止フィルムは、厚み５０μｍのＰＥＴフィルムの表面に、屈折率１．３７の反射防止用塗料（ＪＳＲ（株）製、「オプスターＪＭ」）を、乾燥厚み１００ｎｍで塗工して形成したものである。
【０１７６】
（実施例２Ｂ〜８Ｂ、比較例１ｂ、２ｂ）
上記実施例１Ｂに係る透明積層体の作製において、実施例１Ｆに係る透明積層フィルムに代えて、実施例２Ｆ〜８Ｆに係る透明積層フィルム、比較例１ｆ、２ｆに係る透明積層フィルムを用いた点以外はほぼ同様にして、実施例２Ｂ〜８Ｂに係る透明積層体、比較例１ｂ、２ｂに係る透明積層体をそれぞれ作製した。
【０１７７】
なお、これら実施例１Ｂ〜８Ｂ、比較例１ｂ、２ｂに係る透明積層体は、ＰＤＰの光学フィルターとして適用するためのものである。
【０１７８】
５．各透明積層体（各透明積層フィルム）の評価
次に、各透明積層体につき、可視光反射率、可視光透過率、赤外光透過率、表面抵抗値を測定した。この際、可視光反射率および可視光透過率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠し、分光光度計（島津製作所（株）製、「ＵＶ３１００」）を用いて、波長３００〜１０００ｎｍの透過スペクトルを測定し、可視光反射率および可視光透過率を計算することにより行った。
【０１７９】
また、赤外光透過率については、上記分光光度計を用いて、波長８５０ｎｍの透過率と、波長８００〜２０００ｎｍの平均透過率とを求めた。また、表面抵抗値の測定には、渦電流計（コペル電子（株）製、「非接触抵抗率計モデル７１７」）を用いた。
【０１８０】
また、各透明積層体の表面を、上記マイクロスコープ（同倍率）により観察し、積層構造中の亀裂の有無を確認した。
【０１８１】
表３に、各透明積層体（各透明積層フィルム）の評価結果を示す。
【０１８２】
【表３】
2007224063.tif 000004
【０１８３】
表３の結果から次のことが分かる。すなわち、比較例１ｂに係る透明積層体は、高屈折率薄膜に亀裂が発生していたため、これに起因して、他の透明積層体に比べて表面抵抗が高くなった。
【０１８４】
これに対し、実施例１Ｂ〜８Ｂに係る透明積層体は、ＰＤＰの光学フィルターとして十分な光学特性、導電性を有していることが確認できた。また、各高屈折率薄膜に亀裂が発生しておらず、高い信頼性を有してることが確認できた。
【０１８５】
６．プラズマディスプレイ
次に、市販のプラズマディスプレイにおける既設光学フィルターを取り外し、代わりに、上記実施例１Ｂ〜８Ｂに係る各透明積層体を、光学フィルターとして、空気層を介してディスプレイ本体の前面に取り付けた。これにより、実施例１Ｄ〜８Ｄに係るプラズマディスプレイを得た。