(57)【要約】【課題】柱状フォトスペーサを配置する間隔（ピッチ）を従来技術と同様にしながらも外部から荷重が加わっても、基板の変位量が少なく、かつ、変位範囲も狭く、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置を提供すること。【解決手段】本発明は、複数の画素領域が形成された一対の基板ＣＦ及びＡＲが液晶層ＬＣを介して対向配置され、前記一対の基板間に前記液晶層の厚さを規定するスペーサが配置された液晶装置１０Ａにおいて、前記スペーサは、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサ２０及び２１が併設されたものからなる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素領域が形成された一対の基板が液晶層を介して対向配置され、前記一対の基板間に前記液晶層の厚さを規定するスペーサが配置された液晶装置において、
前記スペーサは、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたものからなることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、非画素領域に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、非画素領域の交差部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、２つの柱状フォトスペーサの間に、該２つの柱状フォトスペーサよりも高さの高い柱状フォトスペーサが設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項５】
前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、所定のピッチで設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項６】
前記画素領域は略矩形状であり、前記所定のピッチは、前記画素領域の幅方向には複数個おきであり、前記画素領域の長さ方向にはそれぞれの画素領域毎であることを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記一対の基板の一方には、複数のそれぞれ互いに異なる色のカラーフィルタ層を備える画素領域からなる画素が複数個マトリクス状に設けられ、前記所定のピッチは前記画素毎であることを特徴とする請求項５に記載の液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルギャップ調整用のフォトレジストからなる柱状フォトスペーサを有する液晶装置に関し、特に、高さの高い柱状フォトスペーサに高さの低い柱状フォトスペーサが併設され、外力が加わってもセルギャップを均一に維持し得る表示画質の良好な液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報通信機器のみならず一般の電気機器においても液晶装置の適用が急速に普及している。この液晶装置は、一般に第１の透明な基板上にマトリクス状に設けられた複数の画素電極を有するアレイ基板と、第２の透明基板上にそれぞれの画素電極に対向するように設けられた複数のカラーフィルタ層及び対向電極を有するカラーフィルタ基板とを有し、このアレイ基板の画素電極及びカラーフィルタ基板の対向電極が対向するように周囲をシール材で貼り合わせ、両基板間に液晶を封入した構成を備えている。
【０００３】
そして、それぞれの画素電極及び対向電極間の間隔、すなわち液晶層の幅（セルギャップ）が一定となるようにするため、従来は微細なシリカ粒子やポリスチレン粒子からなるスペーサ粒子を表示領域に散布することが行われていた。しかしながら、このようなスペーサ粒子を用いるセルギャップの調整方法では、スペーサ粒子の分布のバラツキによりセルギャップの部分的変動が生じたり、スペーサ粒子の存在に基づく光漏れが発生する等、表示画質への悪影響が目立つため、近年では表示領域に散布するスペーサ粒子に代えて柱状のフォトレジストからなるフォトスペーサを設けることが行われるようになってきた。
【０００４】
このようなフォトスペーサは、それぞれの画素電極の周縁に対応する位置、すなわち非画素領域に均一な高さでバラツキなく設けることができるために、セルギャップを画素領域全体にわたってバラツキなく一定に維持できるという優れた効果を奏する。しかしながら、液晶装置は使用中に外部から荷重がかかることがあるが、この荷重によりアレイ基板ないしカラーフィルタ基板が変形し、それによってセルギャップの分布にバラツキが生じ、表示ムラが生じる。
【０００５】
このような外部から加えられた荷重に基づく表示ムラの発生を防止するために、下記特許文献１には、図７Ａに示すように、２枚の透明基板４１及び４２と、それらの透明基板４１及び４２の間に封入された液晶層４３と、上記透明基板４１及び４２の間の間隔を一定に保つために少なくとも高さの異なる２種類の柱状スペーサ、例えば、高さの高い（高さＨ１）柱状スペーサ４４と高さが低い（高さＨ２）柱状スペーサ４５とを設けた液晶装置４０が開示されている。この下記特許文献１に開示されている液晶装置４０によれば、液晶装置４０に微小な荷重がかけられた場合は、例えば図７Ｂに示すように、高さの高い柱状スペーサ４４にのみ荷重がかかることとなるが、高さの高い柱状スペーサ４４を荷重に対する抗力が小さいものとすることによって変形し易くし、液晶装置４０の変位量を大きなものとすることができる。
【０００６】
一方、液晶装置４０に大きな荷重がかけられた場合は、例えば図７Ｃに示すように、荷重は高さの高い柱状スペーサ４４及び高さの低い柱状スペーサ４５の両者によって高さＨ２で支えられることとなるため、液晶装置４０にかかる荷重は分散され、その高さの低い柱状スペーサ４５により下方への液晶装置４０の変位が起こり難くなって、それ以上の液晶装置４０の変位を少ないものとすることができる。この下記特許文献１に開示されている液晶装置４０によれば、少なくとも重力ムラ等がなく、かつ局所的な荷重がかけられた場合であっても、変形等のない、高品質な液晶装置とすることができるというものである。
【０００７】
一方、下記特許文献２には、液晶装置は使用時にバックライトからの熱によって温度が上昇するため、特に液晶が熱膨張して基板が変形することがあるが、このような場合に柱状のフォトスペーサを用いた液晶装置ではフォトスペーサがこの熱膨張に追従することができず、フォトスペーサと基板の間が離れてしまい、セルギャップが局部的に変動して表示ムラが生じることがある。そこで、下記特許文献２に開示された発明では、柱状のフォトスペーサとして高さが異なるものを組み合わせて使用した液晶装置が開示されている。
【０００８】
この下記特許文献２に開示されている横方向電界（ＩＰＳ）方式の液晶装置のカラーフィルタ基板５０は、図８に示したように、透明基板５１上にブラックマトリクス５２、カラーフィルタ層５３、オーバーコート層（平坦化層）５４、ＩＴＯからなる共通電極５５、高さが低い第１の柱状スペーサ（フォトスペーサ）５６、高さが高い第２のフォトスペーサ５７、配向膜５８及び偏光板５９を備えている。
【０００９】
この第１のフォトスペーサ５６及び第２のフォトスペーサ５７は、それぞれブラックマトリクス５２、カラーフィルタ層５３及びオーバーコート層５４を形成した後、このオーバーコート層５４上に直接、別々に形成される。なお、これらブラックマトリクス５２、カラーフィルタ層５３、第１の柱状スペーサ５６及び第２の柱状スペーサ５７は全てフォトリソグラフィ法で形成される。このうち、第２のフォトスペーサ５７は所要のセルギャップにほぼ等しい高さｈ２に形成され、第１のフォトスペーサ５６はこれよりも僅かに低い高さｈ１、すなわち、ｈ２>ｈ１とされている。そして、それぞれのフォトスペーサ５６及び５７の形成材料は、第２のフォトスペーサ５７の方が第１のフォトスペーサ５６よりも大きな弾力性を有するものが用いられている。
【００１０】
従って、図８に示したカラーフィルタ基板５０が図示しないアレイ基板と組合わされて液晶装置とされ、この液晶装置の使用時に、温度変化により液晶が膨張してアレイ基板ないしカラーフィルタ基板が変形すると、その変形応力は第２のフォトスペーサ５７が変形することにより吸収され、両基板は最大で第１のフォトスペーサ５６がアレイ基板と接触するまで変形することができる。従って、ｈ１はｈ２よりも僅かに小さいだけであるから、下記特許文献２に開示された発明によれば、外部から応力が加わっていなくても、外部から応力が加わった場合でも、セルギャップは実質的に一定に維持されるため、表示画質の低下が生じ難いというものである。
【特許文献１】特開２００５−１２２１５０号公報（特許請求の範囲、段落［００２２］、［００２４］〜［００３２］、図１、図２）
【特許文献２】特開２００２−  ３１８０５号公報（特許請求の範囲、段落［００４６］〜［００５２］、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上記特許文献１及び２にそれぞれ開示された発明によれば、高さが異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサを備えることにより、液晶装置に外部から荷重が加わった場合ないし温度変化により液晶層が膨張ないし収縮した場合においても、液晶装置のアレイ基板及びカラーフィルタ基板の両者の変位を少なくすることができ、セルギャップが部分的に変動することによる表示ムラを減少させることができるという効果を奏するものである。
【００１２】
しかしながら、上記特許文献１及び２に開示されている液晶装置においては、高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサをパネルの表示領域内に分散して形成されていることが記載されており、それによって一対の基板間に大きな荷重が加わった際でも高さの低いスペーサによって抗力（耐性）を有して支えられ、基板間を所定のギャップ以下にならないようにセルギャップが保持されるとは一応認めることはできるが、上記特許文献１及び２にはそれぞれのスペーサを設ける具体的位置については明示の記載はない。
【００１３】
この場合、例えば２種類の高さの柱状フォトスペーサを液晶装置の各画素のそれぞれの画素電極の周縁に対応する位置の交差部、すなわち非画素領域の交差部に設けた場合には、液晶装置６０の模式的平面図である図９に示すように、それぞれの画素電極に対応する位置である画素領域６１の四隅の非画素領域６２に高さの高い柱状フォトスペーサ６３と高さの低い柱状フォトスペーサ６４とが相互に配置されることになる。
【００１４】
そうすると、高さの高い柱状フォトスペーサ６４の間隔は、それぞれの画素領域６１の幅方向及び長さ方向共に２画素領域分（２ドット分）ずつとなるから、外部から一対の基板６５、６６間に荷重が加えられた場合、これらの基板の一方は、図９のＸ−Ｘ線模式断面図である図１０に示すように、少なくとも２ドット分の幅ないし長さに亘って変位することとなる。すなわち、高さの高い柱状フォトスペーサ６４と高さの低い柱状フォトスペーサ６５との距離（ピッチ）が広いため、一対の基板６５、６６間に荷重が加わった際に、基板間隙のたわみ量が大きくなってしまい、画素領域全体において均一なセルギャップを維持することが困難である。
【００１５】
本発明は上述のような従来技術の問題点に対処するためになされたものであり、その目的は、柱状フォトスペーサを配置する間隔（ピッチ）を従来技術と同様にしながらも外部から荷重が加わっても、基板の変位量が小さく、かつ、変位範囲も狭く、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するため、本発明の液晶装置は、複数の画素領域が形成された一対の基板が液晶層を介して対向配置され、前記一対の基板間に前記液晶層の厚さを規定するスペーサが配置された液晶装置において、前記スペーサは、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたものからなることを特徴とする。
【００１７】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、非画素領域に設けられていることを特徴とする。
【００１８】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、非画素領域の交差部に設けられていることを特徴とする。
【００１９】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、２つの柱状フォトスペーサの間に、該２つの柱状フォトスペーサよりも高さの高いフォトスペーサが設けられていることを特徴とする。
【００２０】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサは、所定のピッチで設けられていることを特徴とする。
【００２１】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記画素領域は略矩形状であり、前記所定のピッチは、前記画素領域の幅方向には複数個おきであり、前記画素領域の長さ方向にはそれぞれの画素領域毎であることを特徴とする。
【００２２】
また、本願の液晶装置に係る発明は、上記液晶装置において、前記一対の基板の一方には、複数のそれぞれ互いに異なる色のカラーフィルタ層を備える画素領域からなる画素が複数個マトリクス状に設けられ、前記所定のピッチは前記画素毎であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明は上記のような構成を備えることにより、以下に述べるような優れた効果を奏する。すなわち、本発明によれば、スペーサは互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたものからなるため、一対の基板間に大きな荷重が加わった際でも高さの低いスペーサによって抗力（耐性）を有して支えられるため、所定のギャップ以下にならないようにセルギャップが保持され、しかも、この変形が別のスペーサ部分にまで伝わることが少ないため、画素領域全体において均一なセルギャップを確保することができる。そのため、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置が得られる。この発明に於いては、高さの高い柱状フォトスペーサに加重に対する変位量が大きく復元率の高い材料を使用し、高さの低い柱状フォトスペーサに変位量が小さく復元率の小さい材料を使用すると、特に効果が顕著に表れる。
【００２４】
また、本発明によれば、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサを非画素領域に設けた場合、このスペーサが画素領域の液晶分子に対して影響を与えることが少なく、しかも液晶層を通過する光に対しても影響を与えることが少ないから、表示画質が良好な液晶装置となる。
【００２５】
また、本発明によれば、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサを非画素領域の交差部に設けた場合、この非画素領域の交差部の最大幅は非画素領域の幅よりも大きいから、スペーサの断面積を大きくできるため、外部から液晶装置に加わった荷重が一定であれば、より基板の変位量が少なく、変位範囲も狭く、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置が得られる。
【００２６】
また、本発明によれば、互いに高さの異なる少なくとも２種類の柱状フォトスペーサが併設されたスペーサを２つの高さの低い柱状フォトスペーサの間に高さの高い柱状フォトスペーサが設けられたものとすると、高さが低い２つの柱状フォトスペーサによって耐えられる力が大きくなるから、外部から液晶装置により強い荷重が加わっても、基板の変位量は少なく、変位範囲も狭くなるから、セルギャップが変化する量が少なく、その範囲も狭くなるので、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置が得られる。
【００２７】
また、本発明によれば、画素領域、すなわちそれぞれの画素電極に対応する領域は近年矩形状のものが多く採用されるようになってきているが、このような画素領域の形状が矩形状のものでは、柱状フォトスペーサを画素領域の幅方向においては複数個おきとし、画素領域の長さ方向には画素領域毎とすると、容易に柱状フォトスペーサの配置を画素領域の幅方向及び長さ方向ともに実質的に同じとなるようにすることができ、外部から液晶装置により荷重が加わっても、画素領域の幅方向及び長さ方向共に基板の変位量及び変位範囲を同等とすることができ、表示品質が良好な液晶装置となる。
【００２８】
また、本発明によれば、カラーフィルタを使用したカラー液晶装置においては、それぞれ互いに異なる色のカラーフィルタ層を備える画素領域により１サブ画素が形成され、それぞれ互いに色の異なるサブ画素を色の数だけをまとめて１画素が形成されるから、カラー液晶装置においても画素領域の幅方向及び長さ方向共に基板の変位量及び変位範囲を同等とすることができ、表示品質が良好な液晶装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明に係る液晶装置の具体例を図面を参照して詳細に説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するための液晶装置を例にとり説明するものであって、本発明をこれに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に示した技術思想を逸脱することなく種々の変形例にも等しく適用し得るものである。なお、図１は実施例１の液晶装置におけるカラーフィルタ基板を透視して表した数画素分の平面図であり、図２はカラーフィルタ基板をも含めた図１の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図であり、図３は実施例２の液晶装置におけるカラーフィルタ基板側から見た平面図であり、図４は図３の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図であり、図５は実施例３の液晶装置におけるカラーフィルタ基板側から見た平面図であり、図６は図５の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図である。
【実施例１】
【００３０】
実施例１に係る液晶装置１０Ａは、図１及び図２に示すように、アレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦが対向配置され、両基板間に液晶ＬＣが配置された構成を備えている。アレイ基板ＡＲは、透明基板１１上にマトリクス状に多数の走査線１２及び信号線１３が互いに絶縁状態に設けられており、走査線１２及び信号線１３の交点近傍に図示しないＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子が設けられている。なお、図２においては走査線、信号線等の構成は省略してある。
【００３１】
そして、走査線１２及び信号線１３に囲まれた領域毎に略矩形状の画素電極１４が設けられている。この画素電極が設けられた領域（或いは、液晶層を挟持する一対の基板の対向面側にそれぞれ形成された電極同士が平面的に重なる領域）が画素領域に該当し、その他の部分が非画素領域を構成する。一方、カラーフィルタ基板ＣＦには、第２の透明基板１６の表面に例えば赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂ等の各色のカラーフィルタ層１７が形成され、このカラーフィルタ層１７の表面全体にわたり共通電極１８が形成されている。
【００３２】
そして、実施例１の液晶装置１０Ａには、カラーフィルタ基板ＣＦ側の非画素領域に対応する位置、すなわちカラーフィルタ基板ＣＦの図示しない遮光部材（ブラックマトリクス、或いはブラックストライプ）が存在する位置に、画素領域の長手方向にはそれぞれの画素領域毎に、画素領域の幅方向（短手方向）には数画素領域毎（図２では３画素領域）に、高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１とが併設して設けられている。なお、本発明における「併設」とは、高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１とは、両者が一体化されていてもよく、あるいは両者が分離していてもよいが、両者が分離している場合は両者間の距離が小さく、両者が一体で一つのスペーサと見なし得る状態を意味する。つまり、柱状フォトスペーサが設けられる個所（部位）には、高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１とが一緒（一揃い・組）として設けられている状態を意味する。
【００３３】
そうすると、高さが高い柱状フォトスペーサ２０は、カラーフィルタ基板ＣＦとアレイ基板ＡＲの両者に接触し、高さが低い柱状フォトスペーサ２１はアレイ基板ＡＲとは接触しない状態となる。したがって、この液晶装置２０においては、高さが高い柱状フォトスペーサ２０によって液晶装置２０のセルギャップが一定に保たれている。なお、高さが高い柱状フォトスペーサ２０の形成材料としては荷重に対する変位量が大きく、復元率の高い材料が使用され、高さが低い柱状フォトスペーサの形成材料としては荷重に対する変位量が小さく、復元率の小さい材料が使用される。また、高さが高い柱状フォトスペーサ２０は高さの低い柱状フォトスペーサ２１の直径（或いは、形成された平面上の面積）が大きく設定されている。
【００３４】
そうすると、実施例１の液晶装置１０Ａにおいては、例えばカラーフィルタ基板ＣＦ側から加重が加わると、カラーフィルタ基板ＣＦが変位し、高さの高い柱状フォトスペーサ２０が変位して両基板間距離が小さくなるが、直ちに高さの低い柱状フォトスペーサ２１がアレイ基板の表面と接触するため、実質的にそれ以上変位しなくなる。しかも、この変位は、この高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１とが実質的に一つのスペーサと見なせるほど互いに近い位置に配置されているため、他の部分にまで伝達されることがなくなる。
【００３５】
したがって、実施例１の液晶装置１０Ａにおいては、一対の基板間に大きな荷重が加わった際でも高さの低い柱状スペーサ２１によって抗力（耐性）を有して支えられるため、所定のギャップ以下にならないようにセルギャップが保持され、しかも、この変形が別のスペーサ部分にまで伝わることが少ないため、画素領域全体において均一なセルギャップを確保することができ、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置が得られる。
【００３６】
なお、実施例１の液晶装置１０Ａにおいては、画素電極１４として長手方向（長さ方向）と短手方向（幅方向）とを有する略矩形状のものを使用し、画素領域の長さ方向にはそれぞれの画素領域毎に、画素領域の幅方向には３画素領域毎に高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１とを併設したが、画素電極として正方形状のものを使用する場合には縦方向及び横方向ともに数画素領域毎に併設するようにしてもよい。また、実施例１の液晶装置１０Ａにおいては、通常カラーフィルタ基板ＣＦとしてＲ、Ｇ、Ｂの３色のカラーフィルタ層１７が使用されるため、画素領域の長さ方向にはそれぞれの画素領域毎、画素領域の幅方向には３画素領域毎に高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１を併設して設けた例を示したが、これはＲ、Ｇ、Ｂの３サブ画素領域＝１画素毎に高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１を併用して設けたことを意味する。しかしながら、本来この間隔は任意であり、セルギャップのバラツキに悪影響を与えない範囲で、この間隔を小さくしてもよいし、大きくしてもよい。
【実施例２】
【００３７】
実施例１の液晶装置１０Ａとしては、高さが高い柱状フォトスペーサ２０と高さが低い柱状フォトスペーサ２１を併設して非画素領域に設けた例を示したが、実施例２の液晶装置１０Ｂでは、図３及び図４に示すように、２本の高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２の間に高さが高い柱状フォトスペーサ２０を配置し、かつ、これらの柱状フォトスペーサをカラーフィルタ基板ＣＦにおいて、高さが高い柱状フォトスペーサ２０を非画素領域の交点に、高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２をそれぞれ同色のカラーフィルタ間の非画素領域に配置するようにした。その他の部分の構成及び使用材料は実施例１の液晶装置１０Ａのものと実質的に同一であるので、詳細な説明は省略する。
【００３８】
このような構成とすると、非画素領域１５の交点の最大幅は画素領域の幅よりも大きいので、液晶分子の配向に影響を及ぼすことなく高さが高い柱状フォトスペーサ２０の幅を大きくすることができ、これに加えて２個の高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２の存在のために、実施例２の液晶装置１０Ｂは、実施例１の液晶装置１０Ａよりも外部から加えられた加重に対する耐性が大きいため、より画素領域全体において均一なセルギャップを確保することができ、表示ムラが生じ難い表示品質の良好な液晶装置が得られる。
【実施例３】
【００３９】
実施例２の液晶装置１０Ｂとしては、２本の高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２の間に高さが高い柱状フォトスペーサ２０を配置し、かつ、これらの柱状フォトスペーサをカラーフィルタ基板ＣＦにおいて、高さが高い柱状フォトスペーサ２０を非画素領域の交点に、高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２をそれぞれ同色のカラーフィルタ間の非画素領域に配置するようにしたものを示したが、高さが高い柱状フォトスペーサ２０を非画素領域の交点に、高さが低い柱状フォトスペーサ２１１及び２１２をそれぞれ異なる色のカラーフィルタ間の非画素領域に配置するようにすることも可能である。この変形例を実施例３の液晶装置１０Ｃとして図５及び図６に示す。この実施例３の液晶装置１０Ｃの作用・効果は、実質的に実施例２の液晶装置１０Ｂの場合と同様になる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】実施例１の液晶装置におけるカラーフィルタ基板を透視して表した数画素分の平面図である。
【図２】カラーフィルタ基板をも含めた図１の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図である。
【図３】実施例２の液晶装置におけるカラーフィルタ基板側から見た平面図である。
【図４】図３の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図である。
【図５】実施例３の液晶装置におけるカラーフィルタ基板側から見た平面図である。
【図６】図５の矢印方向から見た柱状フォトスペーサと画素電極との配置関係を示す模式断面図である。
【図７】従来例の液晶装置において加重が印加された際の変形状態を示す断面図である。
【図８】別の従来例の液晶装置のフォトスペーサ配置を示す部分断面図である。
【図９】従来例の液晶装置の模式的平面図である。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線模式断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
１０Ａ〜１０Ｃ    液晶装置
１１、１６    透明基板
１２    走査線
１３    信号線
１４    画素電極
１５    非画素領域
１７    カラーフィルタ層
１８    共通電極
２０    高さが高いフォトスペーサ
２１、２１１、２１２    高さが低いフォトスペーサ
【図１】
2007232839.tif 000003
【図２】
2007232839.tif 000004
【図３】
2007232839.tif 000005
【図４】
2007232839.tif 000006
【図５】
2007232839.tif 000007
【図６】
2007232839.tif 000008
【図７】
2007232839.tif 000009
【図８】
2007232839.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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