(57)【要約】【課題】マルチギャップ構造のカラー液晶表示装置において、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のゲートパルスオフ時の画素電極電位のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとし、フリッカーを低減する。【解決手段】画素容量をＣｌｃとし、補助容量をＣｓとし、寄生容量をＣｇｓとすると、ゲートパルスがオフするときに、画素電極電位にレベルシフト電圧ΔＶ＝（Ｃｇｓ）／（Ｃｇｓ＋Ｃｌｃ＋Ｃｓ）が生じる。マルチギャップ構造の場合、各画素の画素容量Ｃｌｃが異なる。そこで、各画素のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとするため、例えば補助容量Ｃｓを補正する。このため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量電極４８Ｒ、４８Ｇ、４８Ｂの面積はこの順で小さくなっている。【選択図】      図１
2007264656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のカラーフィルタ要素の厚さが異なることにより前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップが相違するカラー液晶表示装置において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画像信号取込終了時のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとするレベルシフト電圧補正手段を備えていることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量電極の面積が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素電極と走査線との重合面積が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素容量が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素電極の面積が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の寄生容量が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の薄膜トランジスタのチャネル幅が異なるものであることを特徴とするカラー液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はカラー液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図８は従来のカラー液晶表示装置の一例におけるアクティブ基板の一部の透過平面図を示し、図９は図８のＸ−Ｘ線に沿う断面図を示し、図１０は図８のＹ−Ｙ線に沿う部分における対向基板を含む断面図を示したものである。
【０００３】
図１０に示すように、このカラー液晶表示装置では、アクティブ基板１とこのアクティブ基板１の上方に位置する対向基板２とがほぼ方形枠状のシール材（図示せず）を介して貼り合わされ、シール材と両基板１、２との間に形成された空間に液晶３が封入されたものからなっている。
【０００４】
そして、図８に示すように、アクティブ基板１上には複数の走査線４および複数の信号線５がそれぞれ行方向および列方向に延びて設けられている。両線４、５の各交点近傍には、両線４、５に接続された薄膜トランジスタ６およびこの薄膜トランジスタ６によって駆動される画素電極７がマトリクス状に配置されている。また、画素電極７を挾んで走査線４とは反対側に補助容量線８が画素電極７と重ね合わされて行方向に延びて設けられている。
【０００５】
次に、薄膜トランジスタ６等の具体的な構造について、図９を参照して説明する。アクティブ基板１の上面（対向基板２との対向面）の所定の個所にはゲート電極１１を含む走査線４が設けられ、他の所定の個所には補助容量線８が設けられ、その上面全体にはゲート絶縁膜１２が設けられている。
【０００６】
ゲート絶縁膜１２の上面の所定の個所には真性アモルファスシリコンからなる半導体薄膜１３が設けられている。半導体薄膜１３の上面ほぼ中央部にはチャネル保護膜１４が設けられている。チャネル保護膜１４の上面両側およびその両側における半導体薄膜１３の上面にはｎ型アモルファスシリコンからなるコンタクト層１５、１６が設けられている。
【０００７】
一方のコンタクト層１５の上面にはソース電極１７が設けられている。他方のコンタクト層１６の上面およびゲート絶縁膜１２の上面の所定の箇所にはドレイン電極１８を含む信号線５が設けられている。
【０００８】
そして、ゲート電極１１、ゲート絶縁膜１２、半導体薄膜１３、チャネル保護膜１４、コンタクト層１５、１６、ソース電極１７およびドレイン電極１８により、薄膜トランジスタ６が構成されている。
【０００９】
薄膜トランジスタ６等を含むゲート絶縁膜１２の上面全体には平坦化膜１９が設けられている。平坦化膜１９のソース電極１７の所定の箇所に対応する部分にはコンタクトホール２０が設けられている。平坦化膜１９の上面の所定の個所にはＩＴＯからなる画素電極７が設けられている。画素電極７はコンタクトホール２０を介してソース電極１７に接続されている。
【００１０】
次に、対向基板２について、図１０を参照して説明する。対向基板２の下面（アクティブ基板１との対向面）の各所定の個所にはブラックマトリクス２１およびＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂが設けられている。このうちカラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂは、対応する画素電極７に対向して設けられている。
【００１１】
ブラックマトリクス２１およびカラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂの下面にはＩＴＯからなる共通電極２３が設けられている。そして、画素電極７とこれに対向配置された共通電極２３とその間の液晶３とによって画素容量部が形成されている。この場合、画素電極７の面積は同じであるので、画素容量部の画素容量は同じである。
【００１２】
ここで、図８に示すように、補助容量線８のうちの画素電極７と重ね合わされた部分は補助容量電極８ａとなっている。そして、この重ね合わされた部分によって補助容量部が形成されている。この場合、補助容量電極８ａの面積は同じであるので、補助容量部の補助容量は同じである。
【００１３】
ところで、カラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂの厚さは、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長別に液晶３の透過光強度が異なるため、これを補正する目的から、互いに異なっている。すなわち、カラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂの各厚さはこの順で厚くなっている。
【００１４】
一方、各カラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂに対応する各画素電極７は、平坦化膜１９上に設けられているため、同一の平面上に配置されている。従って、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップｄ１、ｄ２、ｄ３はこの順で小さくなっている。このような構造は、一般に、マルチギャップ構造と呼ばれている。
【００１５】
次に、図１１は上記従来のカラー液晶表示装置の等価回路を示したものである。符号３１は画素容量部、３２は補助容量部、３３は薄膜トランジスタ６のゲート電極１１とソース電極１７との間の寄生容量部を示す。この場合、画素容量部３１の薄膜トランジスタ６に接続されない側の電極である共通電極２３と、補助容量部３２の薄膜トランジスタ６に接続されない側の電極である補助容量電極８ａは、共通電源（電圧Ｖｃｏｍ）３４に接続されている。
【００１６】
次に、図１２（ａ）は液晶３に印加される信号電圧の波形を示し、図１２（ｂ）は走査線４に印加される走査電圧（ゲートパルス）を示したものである。そして、画素容量部３１の画素容量をＣｌｃとし、補助容量部３２の補助容量をＣｓとし、寄生容量部３３の寄生容量をＣｇｓとすると、ゲートパルスがオフし、各画素の画像信号取込が終了した時点で、各画素電極電位Ｖｓｉｇに次の式で求められるレベルシフト電圧ΔＶが生じる。
ΔＶ＝（Ｃｇｓ）／（Ｃｇｓ＋Ｃｌｃ＋Ｃｓ）
【００１７】
このレベルシフト電圧ΔＶは、信号線５に印加される信号電圧の極性に関係なく、常に画素電極電位ＶｓｉｇをΔＶだけ下げることになる。そこで、共通電極２３の電位Ｖｃｏｍを信号線５の中心電位Ｖｃに対してこのレベルシフト電圧ΔＶの分だけ低く設定すると、液晶３に印加される電圧が正負ほぼ対称な波形となり、フリッカーを防止することができる。
【００１８】
ところで、上述の如く、カラーフィルタ要素２２Ｒ、２２Ｇ、２２Ｂの各厚さがこの順で厚くなっているため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップｄ１、ｄ２、ｄ３がこの順で小さくなっている。また、画素容量Ｃｌｃはε・Ｓ／ｄ（ε：液晶誘電率、Ｓ：画素電極面積、ｄ：ギャップ）で表される。
【００１９】
従って、画素容量Ｃｌｃは、ギャップｄが小さくるほど大きくなる。すなわち、Ｒ画素の場合、ギャップｄ１が最も大きく、画素容量Ｃｌｃが最も小さくなるため、レベルシフト電圧ΔＶが最も大きくなる。一方、Ｂ画素の場合、ギャップｄ３が最も小さく、画素容量Ｃｌｃが最も大きくなるため、レベルシフト電圧ΔＶが最も小さくなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
このように、上記従来のカラー液晶表示装置では、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶがこの順で小さくなり、フリッカー発生の原因となってしまうという問題があった。
この発明の課題は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとすることである。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
請求項１に記載の発明は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のカラーフィルタ要素の厚さが異なることにより前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップが相違するカラー液晶表示装置において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画像信号取込終了時のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとするレベルシフト電圧補正手段を備えていることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量電極の面積が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素電極と走査線との重合面積が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素容量が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素電極の面積が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記レベルシフト電圧補正手段は、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップの相違に対応して前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の寄生容量が異なるものであることを特徴とするものである。
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の発明において、前記Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の薄膜トランジスタのチャネル幅が異なるものであることを特徴とするものである。
そして、この発明によれば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画像信号取込終了時の画素電極電位のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとするレベルシフト電圧補正手段を備えているので、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとすることができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、この発明によれば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画像信号取込終了時の画素電極電位のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとするレベルシフト電圧補正手段を備えているので、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとすることができ、従ってフリッカーを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１はこの発明の第１実施形態としてのカラー液晶表示装置におけるアクティブ基板の一部の透過平面図を示し、図２は図１のＸ−Ｘ線に沿う断面図を示し、図３は図１のＹ−Ｙ線に沿う部分における対向基板を含む断面図を示したものである。
【００２４】
図３に示すように、このカラー液晶表示装置では、アクティブ基板４１とこのアクティブ基板４１の上方に位置する対向基板４２とがほぼ方形枠状のシール材（図示せず）を介して貼り合わされ、シール材と両基板４１、４２との間に形成された空間に液晶４３が封入されたものからなっている。
【００２５】
そして、図１に示すように、アクティブ基板４１上には複数の走査線４４および複数の信号線４５がそれぞれ行方向および列方向に延びて設けられている。両線４４、４５の各交点近傍には、両線４４、４５に接続された薄膜トランジスタ４６およびこの薄膜トランジスタ４６によって駆動される画素電極４７がマトリクス状に配置されている。また、画素電極４７を挾んで走査線４４とは反対側に補助容量線４８が画素電極４７と重ね合わされて行方向に延びて設けられている。
【００２６】
次に、薄膜トランジスタ４６等の具体的な構造について、図２を参照して説明する。アクティブ基板４１の上面（対向基板４２との対向面）の所定の個所にはゲート電極５１を含む走査線４４が設けられ、他の所定の個所には補助容量線４８が設けられ、その上面全体にはゲート絶縁膜５２が設けられている。
【００２７】
ゲート絶縁膜５２の上面の所定の個所には真性アモルファスシリコンからなる半導体薄膜５３が設けられている。半導体薄膜５３の上面ほぼ中央部にはチャネル保護膜５４が設けられている。チャネル保護膜５４の上面両側およびその両側における半導体薄膜５３の上面にはｎ型アモルファスシリコンからなるコンタクト層５５、５６が設けられている。
【００２８】
一方のコンタクト層５５の上面にはソース電極５７が設けられている。他方のコンタクト層５６の上面およびゲート絶縁膜５２の上面の所定の箇所にはドレイン電極５８を含む信号線４５が設けられている。
【００２９】
そして、ゲート電極５１、ゲート絶縁膜５２、半導体薄膜５３、チャネル保護膜５４、コンタクト層５５、５６、ソース電極５７およびドレイン電極５８により、薄膜トランジスタ４６が構成されている。
【００３０】
薄膜トランジスタ４６等を含むゲート絶縁膜５２の上面全体には平坦化膜５９が設けられている。平坦化膜５９のソース電極５７の所定の箇所に対応する部分にはコンタクトホール６０が設けられている。平坦化膜５９の上面の所定の個所にはＩＴＯからなる画素電極４７が設けられている。画素電極４７はコンタクトホール６０を介してソース電極５７に接続されている。
【００３１】
次に、対向基板４２について、図３を参照して説明する。対向基板４２の下面（アクティブ基板４１との対向面）の各所定の個所にはブラックマトリクス６１およびＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂが設けられている。このうちカラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂは、対応する画素電極４７に対向して設けられている。
【００３２】
ブラックマトリクス６１およびカラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂの下面にはＩＴＯからなる共通電極６３が設けられている。そして、画素電極４７とこれに対向配置された共通電極６３とその間の液晶４３とによって画素容量部が形成されている。この場合、画素電極４７の面積は同じであるので、画素容量部の画素容量は同じである。
【００３３】
ここで、図１に示すように、補助容量線４８のうちの画素電極４７と重ね合わされた部分は補助容量電極４８ａとなっている。そして、この重ね合わされた部分によって補助容量部が形成されている。この場合、図３に示すカラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂにそれぞれ対応する画素電極４７と重ね合わされた補助容量電極４８ａの各面積は、この順で、その各線幅が小さくなっていることにより、小さくなっている。従って、補助容量部の補助容量はＲ、Ｇ、Ｂの順で小さくなっている。
【００３４】
ところで、カラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂの厚さは、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長別に液晶４３の透過光強度が異なるため、これを補正する目的から、互いに異なっている。すなわち、カラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂの各厚さはこの順で厚くなっている。
【００３５】
一方、各カラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂに対応する各画素電極４７は、平坦化膜５９上に設けられているため、同一の平面上に配置されている。従って、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップｄ１、ｄ２、ｄ３はこの順で小さくなっている。
【００３６】
次に、図４はこのカラー液晶表示装置の等価回路を示したものである。符号７１は画素容量部、７２は補助容量部、７３は薄膜トランジスタ４６のゲート電極５１とソース電極５７との間の寄生容量部を示す。この場合、画素容量部３１の薄膜トランジスタ４６に接続されない側の電極である共通電極６３と、補助容量部３２の薄膜トランジスタ４６に接続されない側の電極である補助容量電極４８ａは、共通電源（電圧Ｖｃｏｍ）７４に接続されている。
【００３７】
次に、図５（ａ）は液晶４３に印加される電圧の波形を示し、図５（ｂ）は走査線４４に印加される走査電圧（ゲートパルス）を示したものである。そして、画素容量部７１の画素容量をＣｌｃとし、補助容量部７２の補助容量をＣｓとし、寄生容量部７３の寄生容量をＣｇｓとすると、ゲートパルスがオフし、各画素の画像信号取込が終了した時点で、画素電極電位Ｖｓｉｇに次の式で求められるレベルシフト電圧ΔＶが生じる。
ΔＶ＝（Ｃｇｓ）／（Ｃｇｓ＋Ｃｌｃ＋Ｃｓ）
【００３８】
このレベルシフト電圧ΔＶは、信号線４５に印加される信号電圧の極性に関係なく、常に画素電極電位ＶｓｉｇをΔＶだけ下げることになる。そこで、共通電極６３の電位Ｖｃｏｍを信号線４５の中心電位Ｖｃに対してこのレベルシフト電圧ΔＶの分だけ低く設定すると、液晶４３に印加される電圧が正負ほぼ対称な波形となり、基本的には、フリッカーを防止することができる。
【００３９】
ところで、上述の如く、カラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂの各厚さがこの順で厚くなっているため、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のギャップｄ１、ｄ２、ｄ３がこの順で小さくなっている。また、画素容量Ｃｌｃはε・Ｓ／ｄ（ε：液晶誘電率、Ｓ：画素電極面積、ｄ：ギャップ）で表される。従って、画素容量Ｃｌｃは、ギャップｄが小さくなるほど大きくなる。
【００４０】
一方、上述の如く、カラーフィルタ要素６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂにそれぞれ対応する画素電極４７と重ね合わされた補助容量電極４８ａの各面積はこの順で小さくなっている。従って、補助容量Ｃｓは、補助容量電極４８ａの面積が小さくなるほど小さくなる。
【００４１】
そして、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素容量をＣｌｃ１、Ｃｌｃ２、Ｃｌｃ３とすると、Ｃｌｃ１＜Ｃｌｃ２＜Ｃｌｃ３となる。また、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の補助容量をＣｓ１、Ｃｓ２、Ｃｓ３とすると、Ｃｓ１＞Ｃｓ２＞Ｃｓ３となる。そこで、Ｃｌｃ１＋Ｃｓ１＝Ｃｌｃ２＋Ｃｓ２＝Ｃｌｃ３＋Ｃｓ３となるように、補助容量Ｃｓを補正すると、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶを同じとすることができる。従って、フリッカーを低減することができる。
【００４２】
次に、この発明の第２実施形態として、画素容量Ｃｌｃを補正する場合について、図６を参照して説明する。図６では、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の画素電極４７の各面積Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３はこの順で小さくなっている。すなわち、Ｒ用の画素電極４７の右下角は切り欠かれていないが、Ｇ用の画素電極４７の右下角は小さく切り欠かれ、Ｂ用の画素電極４７の右下角はそれよりもやや大きく切り欠かれている。この場合、補助容量電極４８ａの面積は同じとなっている。
【００４３】
そして、画素容量Ｃｌｃは、ε・Ｓ／ｄで表されるので、ギャップｄが小さくなるほど大きくなるが、画素電極面積Ｓが小さくなるほど小さくなる。そこで、Ｓ１／ｄ１＝Ｓ２／ｄ２＝Ｓ３／ｄ３となるように、画素容量Ｃｌｃを補正すると、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶを同じとすることができる。従って、フリッカーを低減することができる。
【００４４】
次に、この発明の第３実施形態として、寄生容量Ｃｇｓを補正する場合について、図７を参照して説明する。図７では、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の画素電極４７と走査線４４との各重合面積はこの順で大きくなっている。この場合、補助容量電極４８ａの面積は同じとなっている。
【００４５】
そして、この場合の寄生容量Ｃｇｓは、薄膜トランジスタ４６のゲート電極５１とソース電極５７との間の寄生容量と、画素電極４７と走査線４４との重合部間の寄生容量との合計値となる。このうち、薄膜トランジスタ４６のゲート電極５１とソース電極５７との間の寄生容量は、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素で同じである。一方、画素電極４７と走査線４４との重合部間の寄生容量は、その重合面積がＲ、Ｇ、Ｂの順で大きくなっているので、Ｒ、Ｇ、Ｂの順で大きくなっている。
【００４６】
そこで、レベルシフト電圧ΔＶ＝Ｃｇｓ／（Ｃｇｓ＋Ｃｌｃ＋Ｃｓ）であるから、画素容量Ｃｌｃがギャップｄ１、ｄ２、ｄ３の違いにより異なっても、これを合計寄生容量Ｃｇｓの違いにより補正すると、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶを同じとすることができる。従って、フリッカーを低減することができる。
【００４７】
次に、この発明の第４実施形態として、寄生容量Ｃｇｓを別の方法で補正する場合について説明する。図示していないが、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の各画素電極にそれぞれ接続された各薄膜トランジスタのチャネル幅をこの順で大きくする。すなわち、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の各画素電極にそれぞれ接続された各薄膜トランジスタのソース電極のチャネル幅方向の長さをこの順で大きくする。
【００４８】
すると、この場合のＲ、Ｇ、Ｂの各画素の寄生容量Ｃｇｓはこの順で大きくなる。そこで、レベルシフト電圧ΔＶ＝Ｃｇｓ／（Ｃｇｓ＋Ｃｌｃ＋Ｃｓ）であるから、画素容量Ｃｌｃがギャップｄ１、ｄ２、ｄ３の違いにより異なっても、これを寄生容量Ｃｇｓの違いにより補正すると、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶを同じとすることができる。すなわち、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の画素容量をＣｌｃ１、Ｃｌｃ２、Ｃｌｃ３とし、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素の寄生容量ＣｇｓをＣｇｓ１、Ｃｇｓ２、Ｃｇｓ３とするとき、Ｃｇｓ１／（Ｃｇｓ１＋Ｃｌｃ１＋Ｃｓ）＝Ｃｇｓ２／（Ｃｇｓ２＋Ｃｌｃ２＋Ｃｓ）＝Ｃｇｓ３／（Ｃｇｓ３＋Ｃｌｃ３＋Ｃｓ）とする。これにより、フリッカーを低減することができる。
【００４９】
なお、上記各実施形態では、カラーフィルタ要素の透過率がＲ、Ｇ、Ｂの順に大きい場合とし、カラーフィルタ要素Ｒ、Ｇ、Ｂの各厚さはこの順で厚くなっている例で説明したが、この発明は、カラーフィルタ要素Ｒ、Ｇ、Ｂの各厚さが上記とは異なる順序で厚くなる場合にも適用可能である。また、上記実施形態１〜４は、上述の如く、それぞれ、単独の形態を適用してもよいが、上記各実施形態１〜４を適宜に組合わせて適用してもよい。この場合の組合わせは、いずれか２つの実施形態の組合わせであってもよく、またいずれか３つの実施形態の組合わせであってもよく、さらに全部の実施形態の組合わせであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】この発明の第１実施形態としてのカラー液晶表示装置におけるアクティブ基板の一部の透過平面図。
【図２】図１のＸ−Ｘ線に沿う断面図。
【図３】図１のＹ−Ｙ線に沿う部分における対向基板を含む断面図。
【図４】上記第１実施形態のカラー液晶表示装置の等価回路を示す図。
【図５】上記第１実施形態のカラー液晶表示装置の液晶に印加される電圧の波形等を示す図。
【図６】この発明の第２実施形態としてのカラー液晶表示装置におけるアクティブ基板の一部の透過平面図。
【図７】この発明の第３実施形態としてのカラー液晶表示装置におけるアクティブ基板の一部の透過平面図。
【図８】従来のカラー液晶表示装置の一例におけるアクティブ基板の一部の透過平面図。
【図９】図８のＸ−Ｘ線に沿う断面図。
【図１０】図８のＹ−Ｙ線に沿う部分における対向基板を含む断面図。
【図１１】上記従来のカラー液晶表示装置の等価回路を示す図。
【図１２】上記従来のカラー液晶表示装置の液晶に印加される電圧の波形等を示す図。
【符号の説明】
【００５１】
４１  アクティブ基板
４２  対向基板
４３  液晶
４４  走査線
４５  信号線
４６  薄膜トランジスタ
４７  画素電極
４８  補助容量線
４８ａ  補助容量電極
６２Ｒ、６２Ｇ、６２Ｂ  カラーフィルタ要素
６３  共通電極
【図１】
2007264656.tif 000003
【図２】
2007264656.tif 000004
【図３】
2007264656.tif 000005
【図４】
2007264656.tif 000006
【図５】
2007264656.tif 000007
【図６】
2007264656.tif 000008
【図７】
2007264656.tif 000009
【図８】
2007264656.tif 000010
【図９】
2007264656.tif 000011
【図１０】
2007264656.tif 000012
【図１１】
2007264656.tif 000013
【図１２】
2007264656.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月24日(2007.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
色成分毎にカラーフィルタの厚さが異なるとともに、それぞれの画素に前記色成分のうちの何れか一色が対応付けられているアクティブマトリクス型表示装置であって、
画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して前記画素毎に異なっていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項２】
前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、
前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とする請求項１記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項３】
カラーフィルタの厚さが厚い色成分に対応する画素の方が、カラーフィルタの厚さが薄い色成分に対応する画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とする請求項２記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項４】
カラーフィルタの厚さが厚い色成分に対応する画素の方が、カラーフィルタの厚さが薄い色成分に対応する画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とする請求項１から３の何れかに記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項５】
各画素における液晶層の厚さが色成分毎に異なっているアクティブマトリクス型表示装置であって、
画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して前記画素毎に異なっていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項６】
前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、
前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とする請求項５記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項７】
液晶層の厚さが薄い画素の方が、液晶層の厚さが厚い画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とする請求項６記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項８】
液晶層の厚さが薄い画素の方が、液晶層の厚さが厚い画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とする請求項５から７の何れかに記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項９】
画素容量が色成分毎に異なっているアクティブマトリクス型表示装置であって、
画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して画素毎に異なっていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項１０】
前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、
前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とする請求項９記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項１１】
前記画素容量が大きい画素の方が、前記画素容量が小さい画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とする請求項１０記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【請求項１２】
前記画素容量が大きい画素の方が、前記画素容量が小さい画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とする請求項９から１１の何れかに記載のアクティブマトリクス型表示装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明はアクティブマトリクス型表示装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項１に記載の発明は、色成分毎にカラーフィルタの厚さが異なるとともに、それぞれの画素に前記色成分のうちの何れか一色が対応付けられているアクティブマトリクス型表示装置であって、画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して前記画素毎に異なっていることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、カラーフィルタの厚さが厚い色成分に対応する画素の方が、カラーフィルタの厚さが薄い色成分に対応する画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明は、請求項１から３の何れかに記載の発明において、カラーフィルタの厚さが厚い色成分に対応する画素の方が、カラーフィルタの厚さが薄い色成分に対応する画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明は、各画素における液晶層の厚さが色成分毎に異なっているアクティブマトリクス型表示装置であって、画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して前記画素毎に異なっていることを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の発明において、液晶層の厚さが薄い画素の方が、液晶層の厚さが厚い画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とするものである。
請求項８に記載の発明は、請求項５から７の何れかに記載の発明において、液晶層の厚さが薄い画素の方が、液晶層の厚さが厚い画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とするものである。
請求項９に記載の発明は、画素容量が色成分毎に異なっているアクティブマトリクス型表示装置であって、画素電極にスイッチング素子を介して接続される走査線と当該画素電極との間で生じる寄生容量が、前記色成分に対応して画素毎に異なっていることを特徴とするものである。
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の発明において、前記画素電極は、前記走査線の上層側に形成されるとともに、面内方向に前記走査線の一部と重合するように形成され、前記各画素は、前記色成分に対応して前記重合部の面積が異なっていることを特徴とするものである。
請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の発明において、前記画素容量が大きい画素の方が、前記画素容量が小さい画素よりも、前記重合部の面積が大きくなっていることを特徴とするものである。
請求項１２に記載の発明は、請求項９から１１の何れかに記載の発明において、前記画素容量が大きい画素の方が、前記画素容量が小さい画素よりも、当該画素に対して生じる前記寄生容量が大きくなっていることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明によれば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各画素のレベルシフト電圧ΔＶをほぼ同じとすることができ、従ってフリッカーを低減することができる。