(57)【要約】【課題】特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及びこれを生産性よく製造するための製造方法、前記光学補償フィルムを用いた偏光板、並びに液晶表示装置の提供。【解決手段】第１の光学異方性層が、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して下記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られることを特徴とする光学補償フィルムである。第１の光学異方性層がアセチル化度２．５〜２．９５のセルロースアセテートを含み、延伸温度が１１０〜１６０℃である態様、などが好ましい。前記光学補償フィルムを含む偏光板である。前記偏光板を有する液晶表示装置である。式（Ｉ）  Ｔｇ−３０≦Ｔ≦Ｔｇ＋３０【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学異方性層が、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して下記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られることを特徴とする光学補償フィルム。
式（Ｉ）  Ｔｇ−３０≦Ｔ≦Ｔｇ＋３０
【請求項２】
第１の光学異方性層がアセチル化度２．５〜２．９５のセルロースアセテートを含み、延伸温度が１１０〜１６０℃である請求項１に記載の光学補償フィルム。
【請求項３】
第１の光学異方性層が、下記式（II）〜（IV）を満たす請求項１から２のいずれかに記載の光学補償フィルム。
式(II)  ０．５０≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｅ１（６３０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．５０
式(III)  ０．５０≦Ｒｔｈ１（４５０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｔｈ１（６３０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦１．５０
式(IV)  １０＜Ｒｅ１（５５０）＜１００、
２０＜Ｒｔｈ１（５５０）＜１５０
但し、前記式(II)〜(IV)中、Ｒｅ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
【請求項４】
第１の光学異方性層に、下記式（Ｖ）〜（VII）を満たす第２の光学異方性層を積層した請求項３に記載の光学補償フィルム。
式（Ｖ）  １．２０≦Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｅ２（６３０）／Ｒｅ２（５５０）≦０．９９
式(VI)  １．２０≦Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｔｈ２（６３０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦０．９９
式(VII)  −１０＜Ｒｅ２（５５０）＜１０、
２０＜Ｒｔｈ２（５５０）＜１６０
ただし、前記式（Ｖ）〜(VII)中、Ｒｅ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
【請求項５】
第１の光学異方性層における、延伸後の延伸方向の寸度変化率を、延伸方向と直交する方向の寸度変化率で割った値である、延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）が、１．２〜２．５倍である請求項１から４のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
第２の光学異方性層に、ハイブリット配向した円盤状化合物を含む第３の光学異方性層を積層した請求項４から５のいずれかに記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の光学補償フィルムを製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の光学補償フィルムを含むことを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項８に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶セルを有する請求項９に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及びこれを生産性よく製造するための製造方法、前記光学補償フィルムを用いた偏光板、並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は、一般的に保護膜及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。
透過型液晶表示装置では、前記偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。一方、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。
前記液晶セルは、液晶性化合物、それを封入するための二枚の基板、及び前記液晶性化合物に電圧を加えるための電極層からなる。前記液晶セルとしては、液晶性化合物の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＨＡＮ（ＨｙｂｒｉｄＡｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
このような液晶表示装置（ＬＣＤ）の中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶性化合物を用い、薄膜トタンジスタにより駆動する９０°ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。
しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する、階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなる視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。更に、ＴＮモードでは応答速度に限界があり、より高速応答の液晶モードを用いたＬＣＤの開発が望まれている。
【０００４】
従来、ＴＮ方式の液晶表示装置用に光学補償フィルムが開発されていたが、近年、液晶テレビの需要が増加するに連れ、動画に尾引き、残像現象が生じるなど、応答速度に問題があることが指摘されつつある。そこで、応答速度の速さに特長を持つＯＣＢモード（あるいはベンドモード）に注目が集まっている。
しかし、ＯＣＢモードで広い視角特性を得るのは難しく、光学補償フィルムを使う必要がある。
そこで、例えば、特許文献１及び２では、ＯＣＢ方式の液晶表示装置に、液晶性化合物からなる層を有し、かつ所定の光学パラメータを制御した光学補償フィルムを適用した提案がされている。
しかし、これらの提案のような、従来知られている光学パラメータを制御しただけでは、良好な視角特性を得ることは困難であった。
【０００５】
また、近年、特定のアセチル化度を有するセルロースアセテートからなる高分子フィルムを配向することで、波長４００〜７００ｎｍにおいて複屈折Δｎが長波長ほど大きい特性を有する（即ち、逆波長分散を有する）位相差板が提案されている（特許文献３）。
しかし、前記提案では、液晶セルの正確な光学補償に必須なパラメータの一つである厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）の波長分散については何も触れられていない。また、上記提案の位相差板では、特にＯＣＢモードの液晶セルの補償において、黒表示時の液晶分子の内、垂直に立ちきれない液晶成分（厚み方向に連続的にダイレクターの向きが変化している）を補償することはできない。
また、セルロースアセテートを延伸する際、１７０℃の高温とする必要があり、延伸装置の製作にかかるコスト、ランニングコストが大きくなる他、セルロースアセテートのＴｇを超え、軟化温度近辺であるため、連続製造の際、搬送を一時停止した時に軟化したフィルムがロール上に接着してしまう、フィルムを切断してしまう、等のハンドリング上の問題があり、製造適性に劣っていた。
【０００６】
したがって、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及びこれを生産性よく製造するための製造方法、前記光学補償フィルムを用いた偏光板、並びに液晶表示装置の開発が強く望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−２１１４４４号公報
【特許文献２】特開平１１−３１６３７８号公報
【特許文献３】特開２０００−１３７１１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及びこれを生産性よく製造するための製造方法、前記光学補償フィルムを用いた偏光板、並びに液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  第１の光学異方性層が、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して下記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られることを特徴とする光学補償フィルムである。
式（Ｉ）  Ｔｇ−３０≦Ｔ≦Ｔｇ＋３０
＜２＞  第１の光学異方性層がアセチル化度２．５〜２．９５のセルロースアセテートを含み、延伸温度が１１０〜１６０℃である前記＜１＞に記載の光学補償フィルムある。
＜３＞  第１の光学異方性層が、下記式（II）〜（IV）を満たす前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
式(II)  ０．５０≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｅ１（６３０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．５０
式(III)  ０．５０≦Ｒｔｈ１（４５０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｔｈ１（６３０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦１．５０
式(IV)  １０＜Ｒｅ１（５５０）＜１００、
２０＜Ｒｔｈ１（５５０）＜１５０
但し、前記式(II)〜(IV)中、Ｒｅ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
＜４＞  第１の光学異方性層の上に、下記式（Ｖ）〜（VII）を満たす第２の光学異方性層を積層した前記＜３＞に記載の光学補償フィルムである。
式（Ｖ）  １．２０≦Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｅ２（６３０）／Ｒｅ２（５５０）≦０．９９
式(VI)  １．２０≦Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｔｈ２（６３０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦０．９９
式(VII)  −１０＜Ｒｅ２（５５０）＜１０、
２０＜Ｒｔｈ２（５５０）＜１６０
ただし、前記式（Ｖ）〜(VII)中、Ｒｅ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
＜５＞  第１の光学異方性層に、第２の光学異方性層を積層したフィルムが、下記式(VIII)〜（Ｘ）を満たす前記＜４＞に記載の光学補償フィルムである。
(VIII)  ０．７０≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．３０
(IX)  １．００≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．５０
０．７０≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００
（Ｘ）  １０＜Ｒｅ（５５０）＜１００、
１０＜Ｒｔｈ１（５５０）＜２００
ただし、前記式（VIII）〜(Ｘ)中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
＜６＞  第１の光学異方性層における、延伸後の延伸方向の寸度変化率を、延伸方向と直交する方向の寸度変化率で割った値である、延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）が、１．２〜２．５倍である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜７＞  第２の光学異方性層の上に、ハイブリット配向した円盤状化合物を含む第３の光学異方性層を積層した前記＜４＞から＜６＞のいずれかに記載の光学補償フィルムである。
＜８＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償フィルムを製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法である。
＜９＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償フィルムを含むことを特徴とする偏光板である。
＜１０＞  前記＜９＞に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
＜１１＞  ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶セルを有する前記＜１０＞に記載の液晶表示装置である。
【００１０】
本発明の光学補償フィルムは、第１の光学異方性層が、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して前記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られることにより、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する。
【００１１】
本発明の光学補償フィルムの製造方法は、本発明の前記光学補償フィルムを生産性よく製造できる。
【００１２】
本発明の偏光板及び液晶表示装置は、本発明の前記光学補償フィルムを用いることにより、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によると、従来における前記問題を解決することができ、特にＯＣＢモードの液晶セルを光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及びこれを生産性よく製造するための製造方法、前記光学補償フィルムを用いた偏光板、並びに液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本明細書において、「４５゜」、「平行」、あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。前記厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味する。更に、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。加えて、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらにまた屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１５】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いられる。本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味する。
【００１６】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。
本発明では、Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）により、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値と入力された膜厚値とを基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する。
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
これら平均屈折率の仮定値及び膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００１７】
（光学補償フィルム）
本発明の光学補償フィルムは、液晶表示装置、特にＯＣＢモードの液晶表示装置の視野角コントラストの拡大、及び視野角に依存した色ずれの軽減に寄与する。
本発明の光学補償フィルムは、観察者側の偏光板と液晶セルとの間に配置してもよいし、背面側の偏光板と液晶セルとの間に配置してもよいし、双方に配置してもよい。
具体的には、例えば、独立の部材として液晶表示装置内部に組み込むこともできるし、偏光膜を保護する保護膜に、光学特性を付与して透明フィルムとしても機能させて、偏光板の一部材として、液晶表示装置内部に組み込むこともできる。
本発明の光学補償フィルムは、少なくとも第１の光学異方性層を有し、好ましくは第２の光学異方性層及び第３の光学異方性層を有する。
【００１８】
［第１の光学異方性層］
前記第１の光学異方性層は、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して下記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られる。
式（Ｉ）  Ｔｇ−３０≦Ｔ≦Ｔｇ＋３０
【００１９】
前記第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）は、目的に応じて適宜選択することができるが、７０℃以上が好ましく、８０〜２５０℃がより好ましく、９０〜２００℃が特に好ましい。前記ガラス転移温度がこの範囲であると、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【００２０】
前記第１の光学異方性層をシート又はフィルム状に成形する方法としては、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも挙げられる。
前記加熱溶融成形法としては、例えば、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が特に好ましい。
成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択できるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、１００〜４００℃であることが好ましく、１５０〜３５０℃であることがより好ましい。
前記シート又はフィルムの厚みは、０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。
【００２１】
前記シート又はフィルムの延伸における温度は、前記第１の光学異方性層のガラス転移温度をＴｇとするとき、前述のようにＴｇ−３０℃からＴｇ＋３０℃以下の温度範囲であり、Ｔｇ−２０℃からＴｇ以下の温度範囲が好ましい。前記温度がＴｇ−３０℃未満であると、高延伸倍率まで延伸できず、途中で破断してしまう。
前記延伸は、少なくとも一方向に１．０１〜２倍の延伸倍率で行うことが好ましい。
前記第１の光学異方性層が、好ましい例の一つであるアセチル化度２．５〜２．９５のセルロースアセテートの場合、添加する可塑剤の種類と添加量にも依存するが、Ｔｇは１４０℃前後となるため、延伸温度１１０℃〜１６０℃の間が好ましく、１１０℃〜１４０℃の間がより好ましく、１２０℃〜１４０℃の間が特に好ましい。
また、延伸方向の寸度変化を直交方向の寸度変化で割って得られる延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）が、１．２倍〜２．５倍の範囲であることが好ましく、１．３倍〜２．２倍の範囲がより好ましい。前記ＡＲが、１．２倍未満では必要な光学特性に到達しないことがあり、２．５倍を超えるとフィルムが切断したり、微小な破断によるフィルムの白濁（クレーズ）が発生し易くなることがある。
【００２２】
延伸の具体的な方法としては、例えば以下に示す方法が挙げられる。
（１）シートを、一定温度に加熱されたロール（加熱ロール）に通して所望の温度に調整する。
（２）次いで、温度を調整されたシートを、回転速度の比較的遅い第一ロールから回転速度のより速い第二ロールの順に通過させることにより延伸する。第一ロールの回転速度と第二ロールの回転速度との速度比を制御することにより延伸倍率を１〜４倍の範囲で調整することができる。なお、加熱ロール、第一ロール、及び第二ロールの間に、赤外線ヒータなどを設置して、シートの温度を一定に保持するのが好ましい。
（３）延伸されたフィルムを、冷却ロールに通して冷却する。
（４）冷却された延伸フィルムを巻き取りロールで巻き取って回収する。巻取りによるフィルム同士のブロッキングを防止する目的で、延伸フィルムと同程度の幅のマスキングフィルムを重ねて一緒に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方の端、好ましくは両方の端に、弱い粘着力の幅細のテープ等を貼り付けながら一緒に巻き取ってもよい。
【００２３】
上記方法の工程（１）で、加熱ロールを通過させるシートは、その温度が加熱ロールよりも高い状態、すなわち押出機等によって成形された直後の状態のものであってもよいが、高い延伸倍率にすることができることから、加熱ロールよりも低い温度のものが好ましく、室温のものがより好ましい。該低い温度のシートは、シート成形した後に一旦冷却し、ロールに巻き取り回収することによって得ることができる。
また、延伸速度は、５〜１０００ｍｍ／秒が好ましく、１０〜７５０ｍｍ／秒がより好ましい。前記延伸速度が５〜１０００ｍｍ／秒であると、延伸制御が容易となり、更に面精度やレターデーションの面内バラツキ（変動幅）が小さくなる。
【００２４】
前記第１の光学異方性層は、下記式（II）〜（IV）を満たすことが好ましい。
式（II）  ０．５０≦Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｅ１（６３０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．５０
式（III）  ０．５０≦Ｒｔｈ１（４５０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｔｈ１（６３０）／Ｒｔｈ１（５５０）≦１．５０
式（IV）  １０＜Ｒｅ１（５５０）＜１００、
２０＜Ｒｔｈ１（５５０）＜１５０
但し、前記式(II)〜(IV)中、Ｒｅ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ１（λ）は第１光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
【００２５】
前記第１の光学異方性層は、上記光学特性を満たせば、光学的に一軸であってもよいし、二軸であってもよい。
前記第１の光学異方性層の膜厚は、Ｒｅが１０〜１００ｎｍであれば特に制限はない。前記第１の光学異方性層の材料としても、特に制限はなく、液晶塗布層であってもよいし、ポリマーフィルムであってもよい。
【００２６】
前記第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成することができる。前記棒状液晶性化合物としては、重合性基を有しているのが好ましい。
前記重合性基を有する棒状液晶性化合物の場合は、実質的に水平（ホモジニアス）配向に固定化することが好ましい。前記実質的に水平とは、棒状液晶性化合物分子の長軸方向と光学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が０〜１０°の範囲内であることを意味する。
前記棒状液晶性化合物分子は、斜め配向させてもよい。前記斜め配向の場合は、平均傾斜角が０〜２０°であることが好ましい。
【００２７】
−棒状液晶性化合物−
前記棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビ
フェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン
酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジ
ン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびア
ルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好適に挙げられる。なお、前記棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。すなわち、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
前記棒状液晶性化合物としては、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章、及び第１１章、並びに液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載されたものが挙げられる。
【００２８】
前記棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
前記棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。前記重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がより好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
【００２９】
特に好ましく用いられる、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記
一般式（Ｉ）の棒状液晶性化合物が挙げられる。
一般式（Ｉ）
Ｑ１−Ｌ１−Ａ１−Ｌ３−Ｍ−Ｌ４−Ａ２−Ｌ２−Ｑ２
一般式（Ｉ）中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、及びＬ４は、それぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、Ａ１及びＡ２は炭素原子数２〜２０のスペーサー基を表し、Ｍはメソゲン基を表す。
【００３０】
前記第１の光学異方性層としては、ポリマーフィルムからなるものが好ましい。前記ポリマーフィルムとしては、例えば、国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載されているものが挙げられる。
前記ポリマーフィルムのその他の具体例としては、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、芳香族系高分子（例えばポリサルフォン等）、セルロースアシレートなど従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート系高分子及びセルロースアシレートが好ましい。
【００３１】
前記第１の光学異方性層は、例えば、押出し成形方式や流延製膜方式等の、適宜選択した方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなるフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより形成することができる。
前記のロールによる縦延伸方式としては、加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜選択した加熱方法が挙げられる。
前記テンターによる二軸延伸方式としては、全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜選択した方法が挙げられる。
【００３２】
また、前記第１の光学異方性層としては、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。前記第１の光学異方性層の厚さは、位相差等により適宜選択することができるが、一般には薄型化の点より、１〜３００μｍが好ましく、１０〜２００μｍがより好ましく、２０〜１５０μｍが特に好ましい。
【００３３】
前記ノルボルネン系高分子としては、例えば、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレン及びその誘導体などのノルボルネン系モノマーを主成分とするモノマーの重合体が挙げられる。
前記モノマーの重合体としては、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、これらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が特に好ましい。
前記ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体、環状共役ジエンの重合体の分子量は、目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の質量平均分子量で、５，０００〜５００，０００が好ましく、８，０００〜２００，０００がより好ましく、１０，０００〜１００，０００が特に好ましい。前記質量平均分子量が、５，０００〜５００，０００の範囲にあると、フィルム（Ａ）の機械的強度と成形加工性とが高度にバランスされて好適である。
【００３４】
前記ポリカーボネート系高分子としては、ポリカーボネート及びその他のポリマーとの混合物が挙げられる。
【００３５】
前記ポリアリレート系高分子としては、例えば、ポリオキシベンゾエート及びその他のポリマーとの混合物等が挙げられる。
前記ポリエステル系高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２．６−ナフタレート、及びその他のポリマーとの混合物等が挙げられる。
【００３６】
前記芳香族系高分子としては、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン、及びその他のポリマーとの混合物等が挙げられる。
【００３７】
−セルロースアシレート−
前記セルロースアシレートとしては、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が好ましい。更に、前記セルロースアシレートとしては、その他のポリマーとの混合物であってもよい。
前記セルロースアシレートの原料綿としては、例えば、発明協会公開技法２００１−１７４５等に記載の公知の原料が挙げられる。
前記セルロースアシレートの合成方法としても、例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）等に記載の公知の方法が挙げられる。
前記セルロースアシレートの粘度平均重合度は、２００〜７００が好ましく、２５０〜５００がより好ましく、２５０〜３５０が特に好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。
具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．５〜５．０であることが好ましく、２．０〜４．５であることがより好ましく、３．０〜４．０であることが特に好ましい。
【００３８】
前記セルロースアシレートより得られたフイルムのアシル基は、特に制限はないが、アセチル基、プロピオニル基を用いることが好ましく、アセチル基がより好ましい。
全アシル基の置換度は、２．５〜３．０が好ましく、２．５〜２．９５がより好ましい。本明細書において、アシル基の置換度とは、ＡＳＴＭ  Ｄ８１７に従って算出した値である。
前記アシル基としては、アセチル基であることが特に好ましい。前記アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５６．３〜６２．５％が好ましく、５６．３〜６２．０％がより好ましい。前記酢化度が５６．３〜６２．５％であると、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることもなく、面内ばらつきも少なく、温湿度によってレターデーション値の変化も少ない。また、６位のアシル基の置換度は、Ｒｅ、Ｒｔｈのばらつきを抑制する観点から、０．９以上が好ましい。
【００３９】
［第２の光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムは、前記第１の光学異方性層に第２の光学異方性層を積層することが好ましい。
前記第２の光学異方性層としては、下記式（Ｖ）〜（VII）を満たすことが好ましい。
式（Ｖ）  １．２０≦Ｒｅ２（４５０）／Ｒｅ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｅ２（６３０）／Ｒｅ２（５５０）≦０．９９
式（VI）  １．２０≦Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦２．００、
０．５０≦Ｒｔｈ２６３０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦０．９９
式（VII）  −１０＜Ｒｅ２（５５０）＜１０、
２０＜Ｒｔｈ２（５５０）＜１６０
ただし、前記式（Ｖ）〜(VII)中、Ｒｅ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ２（λ）は第２光学異方性層の波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
【００４０】
前記第２光学異方性層の膜厚は、Ｒｅが１０ｎｍ以下であれば特に制限はないが、０．１〜５μｍが好ましい。前記膜厚が、０．１μｍ未満では上記光学特性が実現できないことがあり、５μｍより大きいと、フィルムへの着色や、素材コストの上昇等の問題が起こることがある。
【００４１】
前記第２の光学異方性層の構成材料としては、上記光学特性を満たせば特に制限はなく、液晶塗布層であってもよいし、ポリマーフィルムであってもよい。
前記第２の光学異方性層は、例えば、棒状液晶性化合物又は円盤状化合物（ディスコティック化合物）を含有する組成物から形成することができる。
前記棒状液晶性化合物としては、例えば、前記第１の光学異方性層の項で挙げたものを好ましく用いることができる。
前記円盤状化合物としては、例えば、後述する第３の光学異方性層で述べるものを好ましく用いることができる。前記円盤状化合物を用いる場合、前記第２の光学異方性層と、後述する第３の光学異方性層とで、用いる円盤状化合物は、同一であってもよいし、異なってもよい。
また、前記ポリマーフィルムの具体例としては、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、芳香族系高分子、トリアセチルセルロースなど従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが挙げられる。前記芳香族系高分子としては、例えばポリサルフォン等が挙げられる。
【００４２】
前記第２の光学異方性層を形成する際は、配向膜を利用してもよい。前記配向膜については、後述する第３の光学異方性層で用いられるものと同様のものを用いることができ、好ましい範囲も同様である。
前記第２の光学異方性層は、円盤状化合物を水平配向させて、該水平配向状態に固定して形成することが望ましい。水平配向剤としては、下記のものを用いることができる。
【００４３】
−水平配向剤−
光学異方性層を形成する円盤状化合物は、下記一般式（II）、（III）、及び（IV）で表される化合物の少なくとも一種を併用することで、実質的に水平配向させることができる。なお、本発明で「水平配向」とは、液晶層の水平面（例えば、液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対して円盤状化合物の長軸方向（すなわち、コアの円盤面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、コアの円盤面と水平面とのなす傾斜角が１０°未満の配向を意味する。
前記傾斜角は、５°以下が好ましく、３°以下がより好ましく、２°以下が更に好ましく、１°以下が特に好ましい。前記傾斜角は０°であってもよい。
【００４４】
以下、下記一般式（II）、（III）、（IV）について、順に説明する。
一般式（II）
【化１】
2007256306.tif 000002
ただし、前記一般式（II）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は単結合又は二価の連結基を表す。
【００４５】
一般式（III）
【化２】
2007256306.tif 000003
ただし、前記一般式（III）中、Ｒは置換基を表し、ｍ５は０〜５の整数を表す。ｍ５が２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なってもよい。
【００４６】
一般式（IV）
【化３】
2007256306.tif 000004
一般式（IV）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
【００４７】
以下に更に一般式（II）、（III）、又は（IV）により表される化合物について詳細に説明する。まず、一般式（II）により表される化合物について説明する。
前記一般式(II)におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３で各々表される置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基、シリル基が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００４８】
前記アルキル基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
前記アルケニル基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。
前記アルキニル基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。
前記アリール基としては、炭素原子数６〜３０が好ましく、炭素原子数６〜２０がより好ましく、炭素原子数６〜１２が特に好ましい。
具体的には、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
前記アミノ基としては、置換基を有してもよく、炭素原子数０〜４０が好ましく、炭素原子数０〜３０がより好ましく、炭素原子数０〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる。
【００４９】
前記アルコキシ基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、炭素原子数６〜４０が好ましく、炭素原子数６〜３０がより好ましく、炭素原子数６〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。
前記アシル基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基としては、炭素原子数７〜４０が好ましく、炭素原子数７〜３０がより好ましく、炭素原子数７〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。
前記アシルオキシ基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
【００５０】
前記アシルアミノ基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。
前記アルコキシカルボニルアミノ基としては、炭素原子数２〜４０が好ましく、炭素原子数２〜３０がより好ましく、炭素原子数２〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニルアミノ基としては、炭素原子数７〜４０が好ましく、炭素原子数７〜３０がより好ましく、炭素原子数７〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。
前記スルホニルアミノ基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。
前記スルファモイル基としては、炭素原子数０〜４０が好ましく、炭素原子数０〜３０がより好ましく、炭素原子数０〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。
前記カルバモイル基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。
具体的には、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。
前記アルキルチオ基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。
前記スルホニル基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる。
前記スルフィニル基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。
前記ウレイド基としては、炭素数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。
前記リン酸アミド基としては、炭素原子数１〜４０が好ましく、炭素原子数１〜３０がより好ましく、炭素原子数１〜２０が特に好ましい。具体的には、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
前記ヘテロ環基としては、炭素原子数１〜３０が好ましく、炭素原子数１〜１２がより好ましい。
具体的には、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基が挙げられる。
より具体的には、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる。
前記シリル基としては、炭素原子数３〜４０が好ましく、炭素原子数３〜３０がより好ましく、炭素原子数３〜２４が特に好ましい。具体的には、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。
【００５１】
前記置換基としては、アルキル基、アリール基、置換基を有してもよいアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子が好ましい。
【００５２】
Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲａ−（Ｒａは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
前記二価の連結基は、アルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。
前記アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。前記二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
前記アルキレン基、アルケニレン基及び二価の芳香族基は、例えば、可能であればアルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基等の、前述のＲ１、Ｒ２、及びＲ３の置換基として例示された基によって置換されてもよい。
【００５３】
前記一般式（II）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIａ）又は（IIｂ）で表さ
れる化合物が特に好ましい。
【００５４】
【化４】
2007256306.tif 000005
前記一般式（IIａ）中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、及びＲ３ａは、各々水素原子又は置換基を表し、Ｘ１ａ、Ｘ２ａ、及びＸ３ａは、各々−ＮＨ−、−Ｏ−、又は−Ｓ−を表し、ｍ１ａ、ｍ２ａ、及びｍ３ａは、１〜３の整数を表す。
【００５５】
【化５】
2007256306.tif 000006
ただし、一般式（IIｂ）中、Ｒｆ１、Ｒｆ２、及びＲｆ３は、各々末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００５６】
まず、前記一般式（IIａ）にて表される化合物について説明する。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、及びＲ３ａで各々表される置換基は、前記一般式（II）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。
前記Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、及びＲ３ａで各々表される置換基としては、末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルコキシ基が特に好ましい。該アルコキシ基中に含まれるアルキル鎖は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよい。前記アルキル鎖の炭素原子数は、４〜２０が好ましく、炭素原子数４〜１６がより好ましく、炭素原子数６〜１６が特に好ましい。
前記末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルコキシ基は、アルコキシ基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基である。
該アルコキシ基は、アルコキシ基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。以下に、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、及びＲ３ａで表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルコキシ基の例を示す。
【００５７】
Ｒ１：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−Ｏ−
Ｒ２：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−Ｏ−
Ｒ３：ｎ−Ｃ４Ｆ９−Ｏ−
Ｒ４：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
Ｒ５：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
Ｒ６：ｎ−Ｃ４Ｆ９−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
Ｒ７：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−（ＣＨ２）３−Ｏ−
Ｒ８：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）３−Ｏ−
Ｒ９：ｎ−Ｃ４Ｆ９−（ＣＨ２）３−Ｏ−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ２）８−Ｏ−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ２）６−Ｏ−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ２）４−Ｏ−
Ｒ１３：Ｈ−（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）−Ｏ−
Ｒ１４：Ｈ−（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）−Ｏ−
Ｒ１５：Ｈ−（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）−Ｏ−
Ｒ１６：Ｈ−（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
Ｒ１７：Ｈ−（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
Ｒ１８：Ｈ−（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）−Ｏ−（ＣＨ２）２−Ｏ−
【００５８】
前記一般式（IIａ）におけるＸ１ａ、Ｘ２ａ、及びＸ3aはそれぞれ、−ＮＨ−又は−Ｏ−が好ましく、−ＮＨ−が特に好ましい。ｍ１ａ、ｍ２ａ、及びｍ３ａはそれぞれ、２が好ましい。
【００５９】
次に、一般式（IIｂ）により表される化合物について説明する。
前記一般式（IIｂ）におけるＲｆ１、Ｒｆ２、及びＲｆ３で表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよい。前記アルキル基は、炭素原子数４〜２０が好ましく、炭素原子数４〜１６がより好ましく、炭素原子数６〜１６が特に好ましい。
前記アルキル基は、ＣＦ３基及びＣＦ２Ｈ基以外の置換基を有していてもよい。前記末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。
該アルキル基は、アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのが特に好ましい。
前記Ｒｆ１、Ｒｆ２、及びＲｆ３で表される、末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【００６０】
Ｒｆ１：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ４Ｆ９−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−（ＣＨ２）２−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）２−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ４Ｆ９−（ＣＨ２）２−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ２）８−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ２）６−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ２）４−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）−
【００６１】
前記一般式(IIａ)におけるＹ１、Ｙ２、及びＹ３は各々、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基
を少なくとも二つ組み合わせた基が好ましく、最も好ましくは、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＨ２）ｒ−Ｏ−が特に好ましい。なお、前記ｒは１〜８の整数を表す。前記ｒは、３が特に好ましい。
【００６２】
次に、一般式（III）で表される化合物について説明する。
前記一般式（III）中、Ｒで表される置換基としては、前記一般式（II）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３で表される置換基と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。ｍは、１〜３の整数が好ましく、２又は３が特に好ましい。
【００６３】
前記一般式（III）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIIａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００６４】
【化６】
2007256306.tif 000007
前記一般式（IIIａ）中、Ｒｆ１ａ、Ｒｆ２ａ、及びＲｆ３ａは各々独立に、末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ１ａ、Ｙ２ａ、及びＹ３ａは各々独立に、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００６５】
前記一般式（IIIａ）におけるＲｆ１ａ、Ｒｆ２ａ、及びＲｆ３ａで表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基としては、前記一般式（IIｂ）におけるＲｆ１、Ｒｆ２、及びＲｆ３で表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。
前記一般式(IIIａ)におけるＹ１ａ、Ｙ２ａ、及びＹ３ａとしては、前記一般式（IIｂ）におけるＹ１、Ｙ２、及びＹ３と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。
前記Ｙ１ａ、Ｙ２ａ、及びＹ３ａは、アルキレン基、−Ｏ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であるのが特に好ましい。
【００６６】
次に、一般式（IV）により表される化合物について説明する。
前記一般式（IV）におけるＲ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９で各々表される置換基としては、一般式（II）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３で表される置換基と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。
【００６７】
前記一般式（IV）で表される化合物の中でも、下記一般式（IVａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００６８】
【化７】
2007256306.tif 000008
ただし、前記一般式（IVａ）中、Ｒｆ１１ａ、Ｒｆ２２ａ、Ｒｆ３３ａ、Ｒｆ４４ａ、Ｒｆ５５ａ、及びＲｆ６６ａは各々独立して、末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ１１ａ、Ｙ２２ａ、Ｙ３３ａ、Ｙ４４ａ、Ｙ５５ａ、及びＹ６６ａは各々独立して、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００６９】
前記Ｒｆ１１ａ、Ｒｆ２２ａ、Ｒｆ３３ａ、Ｒｆ４４ａ、Ｒｆ５５ａ、及びＲｆ６６ａで各々表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基としては、前記一般式（IIｂ）におけるＲｆ１、Ｒｆ２、及びＲｆ３で表される末端にＣＦ３基又はＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。
前記Ｙ１１a、Ｙ２２a、Ｙ３３ａ、Ｙ４４ａ、Ｙ５５ａ、及びＹ６６ａとしては、前記一般式（IIｂ）におけるＹ１、Ｙ２、及びＹ３と同じ意を表し、その好ましい範囲も同一である。前記Ｙ１１a、Ｙ２２a、Ｙ３３ａ、Ｙ４４ａ、Ｙ５５ａ、及びＹ６６ａとしては、アルキレン基、−Ｏ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基が特に好ましい。
【００７０】
前記一般式（II）、（III）、又は（IV）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．Ｉ−１〜３９は一般式（II）、Ｎｏ．Ｉ−４０〜５０は一般式（III）、Ｎｏ．Ｉ−５１〜５９は一般式（IV）で表される化合物の例である。
【００７１】
【化８】
2007256306.tif 000009
【００７２】
【化９】
2007256306.tif 000010
【００７３】
【化１０】
2007256306.tif 000011
【００７４】
【化１１】
2007256306.tif 000012
【００７５】
【化１２】
2007256306.tif 000013
【００７６】
本発明において、前記一般式（II）、（III）、又は（IV）により表される化合物の添加量は、円盤状化合物の量の、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（II）、（III）、又は（IV）により表される化合物は、１種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００７７】
前記第１の光学異方性層に、第２の光学異方性層を積層したフィルムは、光学特性が下記式(VIII)〜（Ｘ）を満たすことが好ましい。
(VIII)  ０．７０≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９９、
１．００≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）≦１．３０
(IX)  １．００≦Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．５０
０．７０≦Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００
（Ｘ）  １０＜Ｒｅ（５５０）＜１００、
１０＜Ｒｔｈ１（５５０）＜２００
ただし、前記式（VIII）〜(Ｘ)中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける面内レターデーション値（ｎｍ）であり、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション値（ｎｍ）である。
【００７８】
［第３の光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムは、前記第２の光学異方性層に、ハイブリッド配向した円盤状化合物を含む第３光学異方性層を積層することが好ましい。
前記第３の光学異方性層は、支持体の表面に直接形成してもよいし、支持体上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成してもよい。また、別の基材に形成した液晶性化合物層を、粘着剤、接着剤等を用いて、支持体上に転写してもよい。
【００７９】
前記第３の光学異方性層の形成には、円盤状化合物（ディスコティック化合物）を少なくとも一種含有する組成物を用いる。
前記円盤状化合物は、円盤状液晶性化合物であるのが好ましいが、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性化合物が熱又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。
【００８０】
−円盤状液晶性化合物−
前記円盤状液晶性化合物としては、例えば、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告であるＭｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載のベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告であるＭｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載のトルキン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告であるＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載のシクロヘキサン誘導体、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告であるＪ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告であるＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載のアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが挙げられる。
【００８１】
前記円盤状液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も挙げられる。これらの中でも、分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
【００８２】
前記円盤状液晶性化合物の好ましい例としては、特開平８−５０２０６号公報に記載されているものが挙げられる。また、前記円盤状液晶性化合物の重合方法としては、特開平８−２７２８４号公報に記載されている方法が挙げられる。
【００８３】
前記円盤状液晶性化合物を重合により固定するためには、前記円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。したがって、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記一般式（Ｖ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００８４】
一般式（Ｖ）
Ｄ（−Ｌ−Ｑ）ｎ１
ただし、前記一般式（Ｖ）中、Ｄは円盤状コアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｑは重合性基を表し、ｎ１は４〜１２の整数を表す。
【００８５】
前記円盤状コアＤの例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（又はＱＬ）は、二価の連結基Ｌと重合性基Ｑとの組み合わせを意味する。
【００８６】
【化１３】
2007256306.tif 000014
【００８７】
【化１４】
2007256306.tif 000015
【００８８】
【化１５】
2007256306.tif 000016
【００８９】
【化１６】
2007256306.tif 000017
【００９０】
前記一般式（Ｖ）における二価の連結基Ｌとしては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
前記二価の連結基Ｌとしては、アルキレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、及びＳ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。
前記二価の連結基Ｌとしては、アルキレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが特に好ましい。
前記アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。前記アリ−レン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【００９１】
前記二価の連結基Ｌの例を以下に示す。なお、以下の基においては、左端側の結合が円盤状コアＤに結合し、右端側の結合が重合性基Ｑに結合する。また、ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリ−レン基を表す。更に、アルキレン基、アルケニレン基、及びアリ−レン基は、置換基（例えば、アルキル基）を有してもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００９２】
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００９３】
前記一般式（II）における重合性基Ｑとしては、重合反応の種類に応じて決定することができる。
前期重合性基Ｑとしては、不飽和重合性基又はエポキシ基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
前記一般式（II）において、前述の通り、ｎは４〜１２の整数であるが、具体的な数字は、円盤状コアＤの種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱとの組み合わせは、異なってもよいが、同一であることが好ましい。
【００９４】
本発明において、前記第３の光学異方性層中、前記円盤状化合物の分子は、ハイブリッド配向状態に固定されている。
前記円盤状化合物における分子対称軸の、前記支持体側の界面における配向平均方向は、該支持体の面内の遅相軸との交差角が略４５°である。なお、本明細書において、「略４５°」とは、４５°±５°の範囲の角度をいい、４２〜４８°が好ましく、４３〜４７°がより好ましい。
前記第３の光学異方性層中の円盤状化合物における分子対称軸の平均方向は、支持体の長手方向（すなわち、支持体の進相軸方向）に対して４３〜４７°であることが好ましい。
【００９５】
前記円盤状化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に円盤状化合物もしくは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。
例えば、第３の光学異方性層形成用配向膜をラビング処理によって作製する場合は、支持体の遅相軸に対して４５°の方向にラビング処理することで、円盤状化合物の分子対称軸の、少なくとも支持体側界面における配向平均方向が、支持体の遅相軸に対して４５°である第３の光学異方性層を形成することができる。
具体的には、例えば、本発明の光学補償フィルムは、遅相軸が長手方向と平行な長尺状の支持体を用いると連続的に作製できる。
より具体的には、長尺状の支持体の表面に連続的に配向膜形成用塗布液を塗布して配向膜を作製した後、該配向膜の表面を連続的に長手方向に４５°の方向にラビング処理し、次に作製した配向膜上に連続的に液晶性化合物を含有する第１光学異方性層形成用塗布液を塗布して液晶性化合物の分子を配向させ、その状態に固定することで光学異方性層を、長尺状の光学補償フィルムを連続的に作製することができる。
長尺状に作製された光学補償フィルムは、液晶表示装置内に組み込まれる前に、所望の形状に裁断される。
【００９６】
また、円盤状化合物の表面側（空気側）の分子対称軸の配向平均方向について、空気界面側における円盤状化合物の分子対称軸の配向平均方向は、支持体の遅相軸に対して略４５°であるのが好ましく、４２〜４８°であるのがより好ましく、４３〜４７°であるのが特に好ましい。
前記空気界面側における円盤状化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に、円盤状化合物又は円盤状化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。
前記円盤状化合物と共に使用する添加剤としては、例えば、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー、重合性ポリマーなどが挙げられる。
前記分子対称軸の配向方向の変化も、上記と同様に、円盤状化合物と添加剤との選択により調整できる。
【００９７】
前記円盤状化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤、及び重合性モノマーは、円盤状化合物と相溶性を有し、円盤状化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。この観点からは、前記添加剤としては、重合性モノマーが好ましく、前記重合性モノマーの中でも、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイ
ル基、又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。
前記化合物の添加量は、円盤状化合物に対して、１〜５０質量％の範囲にあることが好ましく、５〜３０質量％の範囲にあることがより好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【００９８】
前記重合性ポリマーとしては、円盤状化合物を用いる場合には、円盤状化合物とある程度の相溶性を有し、円盤状化合物に傾斜角の変化を与えられるポリマーを用いるのが好ましい。
前記ポリマーとしては、例えば、セルロースエステルを挙げることができる。前記セルロースエステルのとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロ−ス、セルロースアセテートブチレ−トが好適に挙げられる。
円盤状化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、円盤状化合物に対して、０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがより好ましい。
前記円盤状化合物の円盤状ネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がより好ましい。
【００９９】
本発明において、前記第３の光学異方性層は、少なくとも面内光学異方性を有する。前記第３の光学異方性層の、面内レターデーションＲｅは、３〜３００ｎｍであるのが好ましく、５〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜１００ｎｍであるのが特に好ましい。
前記第３の光学異方性層における厚み方向のレターデーションＲｔｈについては、２０〜４００ｎｍであるのが好ましく、５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。
前記第３の光学異方性層の厚みは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがより好ましく、１〜１０μｍであることが特に好ましい。
【０１００】
［配向膜］
前記第３の光学異方性層を形成する際は、配向膜を利用してもよい。前記配向膜は、最終的に本発明の光学補償フィルムに含まれていてもよいし、前記第３の光学異方性層を形成する際にのみ用い、最終的には本発明の光学補償フィルムに含まれなくてもよい。
本発明において、前記配向膜は、架橋されたポリマーからなる層であるのが好ましい。前記配向膜に使用されるポリマーとしては、それ自体架橋可能なポリマーであってもよいし、架橋剤により架橋されるポリマーであってもよい。
上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、ｐＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成する；又は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【０１０１】
架橋されたポリマーからなる配向膜は、通常、上記ポリマー又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱等を行なうことにより形成することができる。
前記架橋されたポリマーからなる配向膜は、前記ラビング処理において、配向膜の発塵を抑制するために、架橋度を上げておくことが好ましい。
前記塗布液中に添加する架橋剤の量（Ｍｂ）に対し、架橋後に残存している架橋剤の量（Ｍａ）の比率（Ｍａ／Ｍｂ）を１から引いた値（１−（Ｍａ／Ｍｂ））を架橋度と定義した場合、架橋度は、５０〜１００％が好ましく、６５〜１００％がより好ましく、７５〜１００％が特に好ましい。
【０１０２】
前記配向膜に使用されるポリマーとしては、例えば、ポリメチルメタクリレ−ト、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコ−ルおよび変性ポリビニルアルコ−ル、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等のポリマー、シランカップリング剤等の化合物が挙げられる。
好ましいポリマーとしては、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーが挙げられる。これらの中でも、ゼラチン、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビルアルコール、変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【０１０３】
前記ポリビニルアルコールとしては、鹸化度７０〜１００％のものが好ましく、鹸化度８０〜１００％のものがより好ましく、鹸化度８２〜９８％のものが特に好ましい。前記ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３，０００の範囲が好ましい。
前記変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの、連鎖移動により変性したもの、ブロック重合による変性をしたもの等のポリビニルアルコールの変性物が挙げられる。
前記共重合変性したものは、変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）３、Ｎ（ＣＨ３）３・Ｃｌ、Ｃ９Ｈ１９ＣＯＯ、ＳＯ３Ｎａ、Ｃ１２Ｈ２５等が導入される。
前記連鎖移動により変性したものは、変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ12Ｈ25等が導入される。
前記ブロック重合により変性をしたものは、変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＯＲ、Ｃ6Ｈ5等が導入される。
前記変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３，０００の範囲が好ましい。これらの中でも、鹸化度８０〜１００％の未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ましく、鹸化度８５〜９５％の未変性乃至アルキルチオ変性ポリビニルアルコールがより好ましい。
【０１０４】
前記配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとしては、下記一般式（VI）で表される化合物とポリビニルアルコールとの反応物が好ましい。
【０１０５】
一般式（VI）：
【化１７】
2007256306.tif 000018
ただし、前記一般式(VI)中、Ｒ１ｄは無置換のアルキル基、又はアクリロリル基、メタクリロイル基もしくはエポキシ基で置換されたアルキル基を表し、Ｗはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｘ１ｄは活性エステル、酸無水物、又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表し、ｌは０又は１を表し、ｎは０〜４の整数を表す。
【０１０６】
また、前記配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとして、下記一般式（VII）で表される化合物とポリビニルアルコールとの反応物も好ましい。
【０１０７】
【化１８】
2007256306.tif 000019
ただし、前記一般式（VII）中、Ｘ２ｄは活性エステル、酸無水物、又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表し、ｍは２〜２４の整数を表す。
【０１０８】
前記一般式（VI）又は一般式（VII）により表される化合物と反応させるために用いられるポリビニルアルコ−ルとしては、上記変性されていないポリビニルアルコール及び上記共重合変性したもの、すなわち連鎖移動により変性したもの、ブロック重合による変性をしたもの等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。上記特定の変性ポリビニルアルコールの好ましい例としては、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載されている。
前記配向膜にポリビニルアルコール等の親水性ポリマーを使用する場合、硬膜度の観点から、含水率を制御することが好ましい。
前記含水率は、０．４〜２．５％であることが好ましく、０．６〜１．６％であることがより好ましい。前記含水率は、市販のカールフィッシャー法の水分率測定器で測定することができる。なお、前記配向膜は、１０μｍ以下の膜厚であるのが好ましい。
【０１０９】
（偏光板）
本発明の偏光板は、本発明の前記光学補償フィルムを含む。前記偏光板は、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる偏光板を用いることができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる偏光板を用いることができる。
前記偏光板は、後述する液晶表示装置において、液晶セルの外側に配置される。前記偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる一対の偏光板を、液晶セルを挟持して配置させるのが好ましい。なお、前記液晶セル側に配置される保護膜は、本発明の光学補償フィルムを構成している第１〜３のいずれかの光学異方性層である。
【０１１０】
−保護膜−
前記保護膜としては、特に制限はなく、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステルなどが挙げられる。
【０１１１】
前記保護膜は、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、前記保護膜の配向軸（遅相軸）は、何れの方向であってもよく、操作上の簡便性から、長手方向に平行であることが好ましい。
【０１１２】
前記保護膜を支持体として機能させない態様では、前記保護膜のレターデーションは低いことが好ましい。
前記レターデーションの低い高分子フィルムとしては、セルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のようなポリオレフィン類が好ましく用いられる。その他、例えば、特開平８−１１０４０２号公報及び特開平１１−２９３１１６号公報に記載されているような非複屈折性光学樹脂材料が挙げられる。
【０１１３】
前記保護膜と偏光膜とを貼り合す際には、少なくとも一方の保護膜の遅相軸（配向軸）と、前記偏光膜の吸収軸（延伸軸）とが交差する様に、保護膜と偏光膜とを積層するのが好ましい。前記少なくとも一方の保護膜は、液晶表示装置に組み込まれる際に液晶セルに近い側に配置される保護膜であることが好ましい。
具体的には、偏光膜の吸収軸と前記保護膜の遅相軸との角度は、１０〜９０°が好ましく、２０〜７０゜がより好ましく、４０〜５０゜が更に好ましく、４３〜４７゜が特に好ましい。
他方の保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸との角度については、特に制限はなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できるが、上記偏光膜の吸収軸と一方の保護膜の遅相軸との角度の範囲であるのが好ましく、一対の保護膜の遅相軸が一致しているのが好ましい。
【０１１４】
なお、保護膜の遅相軸と偏光膜の吸収軸を互いに平行にすると、偏光板の寸法変化やカ
ール防止といった偏光板の機械的安定性を向上させることができる。偏光膜及び一対の保護膜の合計３つのフィルムの少なくとも２つの軸、一方の保護膜の遅相軸と偏光膜吸収軸、あるいは２枚の保護膜の遅相軸などを実質的に平行にすることによっても同様の効果が得られる。
【０１１５】
−接着剤−
前記偏光膜と保護膜との接着剤としては、特に制限はないが、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。前記ポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡも挙げられる。
前記接着剤の層厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍがより好ましい。
【０１１６】
−偏光膜と保護膜の一貫製造工程−
本発明の偏光板は、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ、揮発分率を低下させる乾燥工程を有することが好ましいが、乾燥後又は乾燥中に少なくとも片面に保護膜を貼り合わせた後、加熱工程を有することがより好ましい。
前記保護膜が、透明フィルムとして機能する光学異方性層の支持体を兼ねている態様では、片面に保護膜、反対側に光学異方性層を有する支持体を貼り合わせた後、加熱するのが好ましい。
具体的な貼り付け方法としては、例えば、フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に保護膜を貼り付け、その後両端を切断する方法、乾燥後、両端保持部から偏光膜用フィルムを解除し、フィルム両端を切断した後、保護膜を貼り付ける方法などが挙げられる。
前記切断の方法としては、刃物等のカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術が挙げられる。
前記偏光膜と保護膜とは、貼り合わせた後に、前記接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。
前記加熱の条件としては、接着剤により異なるが、前記接着剤が水系の場合は、３０℃以上が好ましく、４０〜１００℃がより好ましく、５０〜９０℃が特に好ましい。
これらの工程は、一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上、極めて好ましい。
【０１１７】
−偏光板の性能−
本発明に関連する保護膜、偏光膜、及び支持体からなる偏光板の光学的性質、並びに耐久性（短期及び長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の性能を有することが好ましい。
具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２≧０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間、及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。前記偏光度の変化率は、絶対値に基づいて１％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましい。
【０１１８】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、本発明の前記偏光板を有する。本発明の液晶表示装置の一例を、図１に示す。
図１に示すＯＣＢモードの液晶表示装置は、電圧印加時、すなわち黒表示時に、液晶が基板面に対してベンド配向する液晶層６とそれを挟む液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７からなる液晶セルとを有する。
前記液晶セルを挟持して上偏光膜１及び下偏光膜１１が配置されている。上偏光膜１及び下偏光膜１１と液晶セルとの間には、上第３の光学異方性層４及び下第１光学異方性層８、上第１の光学異方性層３及び下第１の光学異方性層９、上第２の光学異方性層２及び下第２の光学異方性層１０がそれぞれ配置されている。
前記第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、及び第３の光学異方性層の積層順序については、特に制限はない。図１に示した順序、すなわち、（偏光膜）→第２の光学異方性層→第１の光学異方性層→第３の光学異方性層→（液晶セル）以外に、図２に示すように、（偏光膜）→第１の光学異方性層→第２の光学異方性層→第３の光学異方性層→（液晶セル）の積層順序も可能である。なお、前記第１〜３の光学異方性層に加えて、更に（第４、第５の）光学異方性層を設けてもよい。
【０１１９】
また、前記第１〜第２の光学異方性層を一体化した部材として液晶表示装置に組み込んでもよいし、それぞれ個別の部材として組み込んでもよい。更に、第１〜第２の光学異方性層を２以上組み合わせて一体化した部材を作製し、該部材を液晶表示装置に組み込んでもよい。また、前記第１〜第２の光学異方性層は、液晶セルと表示面側の偏光膜との間に配置されていても、液晶セルとバックライド側の偏光膜との間に配置されていてもよい。また、前記第１〜第２の光学異方性層のうち、いくつかの光学異方性層を表示面側に、他のいくつかの光学異方性層をバックライト側に配置してもよい。この場合は、第３の光学異方性層、第２光学異方性層の組み合わせを一方の側に、液晶セルを挟んで反対側に、第１の光学異方性層、第３の光学異方性層を配置するのが好ましい。
【０１２０】
液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７は、液晶面に配向処理が施してあり、配向制御方向（ラビング方向）を矢印で示している（５ａ・７ａ）。
上第３の光学異方性層４及び下第３の光学異方性層８は、円盤状化合物を配向させるために配向処理が施してあり、ラビング方向を矢印で示している（４ａ・８ａ）。なお、図中の矢印のうち、裏面の場合は破線矢印で示してある。
上偏光膜１及び下偏光膜１１の、上偏光膜透過軸１ａ及び下偏光膜透過軸１１ａは、互いに直交に、かつ液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７の配向制御方向５ａ・７ａと４５度になるように配置される。
上第３の光学異方性層４及び下第３の光学異方性層８の配向制御方向４ａ・８ａは、液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７の配向制御方向５ａ・７ａとアンチパラレルになるように、上偏光膜１及び下偏光膜１１の、上偏光膜透過軸１ａ及び下偏光膜透過軸１１ａの方向と４５度になるように配置されている。
上第１の光学異方性層３及び下第１の光学異方性層９の遅相軸３ａ・９ａは、それぞれ上偏光膜１及び下偏光膜１１の透過軸１ａ・１１ａの方向と平行に、液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７の、ラビング方向５ａ及び７ａと４５度になるように配置されている。
【０１２１】
前記液晶セルは、液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７と、これらに挟持される液晶分子から形成された液晶層６からなる。
液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７の液晶分子に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子の配向がプレ傾斜角（プレチルト角）をもった平行方向に制御されている。また、液晶セル上電極基板５及び液晶セル下電極基板７の内面には、液晶分子からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。
本発明では、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５μｍとするのが好ましく、０．２〜１．５μｍとするのがより好ましく、０．２〜１．２μｍとするのが更に好ましく、０．６〜０．９μｍとするのが特に好ましい。前記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが、０．１〜１．５μｍの範囲内では、白電圧印加時における白表示輝度が高いことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。
前記液晶セルに用いる液晶材料としては、特に制限はないが、上下液晶セル電極基板間に電界が印加される態様では、例えば、電界方向に平行に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が正の液晶材料を用いることができる。
【０１２２】
前記液晶セルをＯＣＢモードの液晶セルとする場合は、上下液晶セル電極基板間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．０８、Δε＝５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。
液晶層の厚さｄについては特に制限はないが、前記ネマチック液晶材料を用いる場合、５μｍ程度に設定することができる。厚さｄと、白電圧印加時の屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化するので、白電圧印加時において十分な明るさを得るためには、無印加状態における液晶層のΔｎ・ｄは０．６〜１．５μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。
【０１２３】
なお、ＯＣＢモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。また、マルチドメイン構造とする場合には、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整するのに有利である。
マルチドメイン構造とは、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割した構造をいう。例えば、ＯＣＢモードにおいて、マルチドメイン構造にすると、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。
具体的には、画素のそれぞれを液晶分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。
【０１２４】
次に、図１の液晶表示装置の画像表示の原理について説明する。
上下液晶セル基板５・７のそれぞれの透明電極（不図示）に、黒に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層６中の液晶分子はベンド配向をし、そのときの面内のレターデーションを、上下第３の光学異方性層４・８の面内レターデーションで相殺し、その結果、入射した光の偏光状態はほとんど変化しない。上下偏光膜透過軸１ａ・１１ａは直交しているので、下側（例えば背面電極）から入射した光は、下偏光膜１１によって偏光され、偏光状態を維持したまま液晶セルを通過し、上偏光膜１によって遮断される。すなわち、図１の液晶表示装置では、駆動状態において理想的な黒表示を実現する。
これに対し、透明電極（不図示）に白に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層中の液晶分子は、黒に対応するベンド配向と異なったベンド配向になり、正面における面内レターデーションが黒のときと変化する。その結果、第３の光学異方性層４・８の面内のレターデーションで相殺しなくなり、液晶セルを通過することによって偏光状態が変化し、上偏光膜１を通過する。すなわち、白表示が得られる。
【０１２５】
従来、ＯＣＢモードにおいて、正面のコントラストが高くても斜め方向では低下するという課題があった。
具体的には、黒表示時に、正面では液晶セルと光学異方性層との補償により、高コントラストが得られるのに対し、斜めから観察した場合は、液晶分子に複屈折及び偏光軸の回転が生じる。更に、上下偏光膜透過軸１ａ・１１ａの交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°からずれる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下し、全ての波長において補償をすることができないため、色づきの問題を抱えていた。
【０１２６】
本発明は、入射光が法線方向とそれに対して傾いた斜め方向、例えば、極角６０度方向とで、レターデーションの波長分散が異なる光学特性を有する光学補償フィルムを用い、該光学補償フィルムのかかる光学特性を積極的に用いることで、左右の黒の光ぬけ・左右の色ずれを同時に改善している。かかる原理を利用する限り、本発明の範囲は、液晶層の表示モードによって限定されず、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢモード等、いずれの表示モードの液晶層を有する液晶表示装置にも用いることができる。
【０１２７】
本発明の液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。
また、前記液晶表示装置を透過型として使用する場合は、例えば、冷陰極、熱陰極蛍光管、発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子等を光源とするバックライトを背面に配置することができる。
【０１２８】
また、本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型、及び光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｌａｎｓｉｓｔｏｒ）やＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ−Ｍｅｔａｌ）のような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。更に、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【実施例】
【０１２９】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１）
−光学補償フィルムの調製−
［第１の光学異方性層の作製］
室温において、平均酢化度６０．２％（アセチル置換度２．８１）のセルロースアセテート１３５質量部、トリフェニルホスフェート８．７９質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート７．０１質量部、微粒子（シリカ（粒径２０ｎｍ））０．２３質量部、メチレンクロリド６８９．８０質量部、及びメタノール１０３．０７質量部を混合して、溶液（ドープ）を調製した。
【０１３０】
得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、７０℃で６分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は２０質量％であった。得られたセルロースアセテートフィルムをガラス板から剥離し、１００℃で１０分間、１４０℃で２０分間乾燥した。この時点でフィルムの厚みは９２μｍであり、ＤＳＣ（示差走査熱量計、ＴＡインステュルメンツジャパン社製、ＤＳＣ２９１０）にて昇温速度１０℃／分で測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は１３５℃であった。
上記のフィルムを流延方向に１００ｃｍ、幅方向に８ｃｍの長方形に切断した後、ロール一軸延伸機を用い、１３０℃で流延方向に１．４０倍延伸した。延伸ロール間の距離は１７．５ｃｍとし、延伸速度は６０％／分とした。延伸後、室温まで冷却した後、延伸フィルムを取り出した。延伸後の溶剤残留量は０．２質量％であった。得られたフィルムの厚さは、８７μｍであった。また、延伸方向と直交する方向の幅は６．５ｃｍであったので、寸度変化率は０．８１であり、延伸方向の寸度変化率は１．４０であったので、延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）は１．７３倍であった。
得られたセルロースアセテートフィルムの特性値は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）にて、波長５５０ｎｍにおいて、本明細書〔００１６〕に記載の方法により測定したところ、Ｒｅ＝５４ｎｍ、Ｒｔｈ＝８３ｎｍであった。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．７９、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１０、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．８７、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＝１．０６であった。
また、上記ガラス板上で流延したフィルムと同じ特性を有する長さ１００ｍのロール状フィルムを、バンド製膜機を用いて作製し、連続延伸を実施したところ、切断等のウェブハンドリング上の問題もなく、安定して上記光学異方性層と同じ特性を有する光学異方性フィルムを製造することができた。
【０１３１】
［第２の光学異方性層の作製］
支持体としてのフジタック（富士写真フイルム（株）製）上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ２塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に９０℃の温風で１５０秒乾燥し、配向膜を作製した。
【０１３２】
【表１】
2007256306.tif 000020
【０１３３】
【化１９】
2007256306.tif 000021
【０１３４】
上記支持体上に形成した配向膜上に、＃２．４のワイヤーバーで下記の組成１の円盤状液晶性化合物を含む塗布液を５０ｍ連続塗布した。
【０１３５】
（組成１）
下記円盤状液晶性化合物（１）・・・１８．４質量部
上記水平配向剤Ｉ−６・・・０．０３質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・１．８２質量部
下記重合開始剤・・・０．９６質量部
下記界面活性剤（４０％メチルエチルケトン溶液）・・・０．２０質量部
メチルエチルケトン・・・５８．６質量部
【０１３６】
重合開始剤
【化２０】
2007256306.tif 000022
【０１３７】
円盤状液晶性化合物（１）
2007256306.tif 000023
【０１３８】
界面活性剤（１）
【化２１】
2007256306.tif 000024
【０１３９】
上記塗布液を塗布した後、続いて１３０℃の乾燥ゾーンで２分間加熱乾燥し、円盤状液晶性化合物を配向させた。次に、ＵＶ照射ゾーンにて８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用い、４秒間ＵＶ照射して円盤状液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷し、巻き取りを行った。
作製した光学異方性層は、本明細書〔００１６〕に記載の方法により測定したところ、光学的に負の屈折率異方性を示し、膜厚１．２μｍ、波長５５０ｎｍにおいて、Ｒｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝７８ｎｍであった。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．２２、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９６、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝１．２２、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９６であった。前記第２の光学異方性層の円盤状液晶性化合物は±１°の範囲で水平配向していた。
【０１４０】
［第３の光学異方性層の作製］
前記第２の光学異方性層の作製で用いた配向膜を、フィルムの長手方向に対して４５°の方向にラビング処理を実施した。
【０１４１】
前記配向膜の上に、下記の組成２の円盤状液晶性化合物を含む塗布液を＃３のワイヤーバーで塗布した。これを１２０℃の恒温槽中で３分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させ、紫外線を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定した。
このようにして第３の光学異方性層を作製した。作製した第３の光学異方性層の厚さは、１．５μｍであった。また、上記方法により測定した波長５５０ｎｍにおけるＲｅは３０ｎｍであった。
【０１４２】
（円盤状液晶層の塗液組成２）
下記の円盤状液晶性化合物（２）・・・９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・０．９質量部
セルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製、ＣＡＢ５３１−１）・・・０．１５質量部
イルガキュアー９０７（チバスペシャルティーケミカルズ社製）・・・０・３０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）・・・０．１０質量部
以上をメチルエチルケトンに溶解して、固形分濃度が３８質量％の塗布液を調製した。
【０１４３】
円盤状液晶性化合物（２）
【化２２】
2007256306.tif 000025
【０１４４】
前記第２の光学異方性層を、粘着シートを介して第１の光学異方性層の上に転写した。前記第１の光学異方層と第２の光学異方層とを貼り合せて得られたフィルムの特性値は、本明細書〔００１６〕に記載の方法により測定したところ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ＝５５．０ｎｍ、Ｒｔｈ＝１８０．３ｎｍであった。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８０、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝１．０２、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９９であった。
更に、前記第３の光学異方性層を、前記第２の光学異方性層の上に貼り合わせ、光学補償フィルムを調製した。
【０１４５】
−偏光板の作製−
偏光膜の片側に鹸化処理した保護膜（富士写真フイルム（株）製フジタック、セルローストリアセテート）を、もう片側に前記光学補償フィルムを、第１光学異方性層が偏光膜と接する向きにしてポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
【０１４６】
−液晶表示装置の作製−
ＯＣＢモードの液晶セル（ナナオ製、ＶＴ２３ＸＤ１）の両側の偏光板を剥がし、それぞれの面に前記偏光板を貼り合せて液晶表示装置に組み込んだ。
【０１４７】
＜輝度及び色ずれの評価＞
この液晶表示装置の黒表示時の右方向４５°と左方向４５°の輝度とそれらの色ずれ（Δｕ’ｖ’）を輝度計（ＥＬＤＩＭ社製、ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ）にて測定した。結果を表２に示す。
【０１４８】
（実施例２）
実施例１において、第１の光学異方性層を以下のように作製した以外は、実施例１と同様にして偏光板及び液晶表示装置を作製し、前記液晶表示装置の輝度及び色ずれの評価を行なった。結果を表２に示す。
【０１４９】
［第１の光学異方性層の作製］
実施例１における第１の光学異方性層の乾燥後の膜厚を９２μｍから１２０μｍに変更した以外は同様にして、フィルムを得た。前記ＤＳＣにて昇温速度１０℃／分で測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は１３５℃であった。
上記のフィルムを延伸倍率を１．３０倍に変更した以外は実施例１と同様にして第１の光学異方性層を作製した。延伸後の溶剤残留量は０．２質量％であった。得られたフィルムの厚さは、１１３μｍであった。また、延伸方向と直交する方向の幅は７．０ｃｍであったので、寸度変化率は０．８８であり、延伸方向の寸度変化率は１．３０であったので、延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）は１．４８倍であった。
得られたセルロースアセテートフィルムの特性値は、波長５５０ｎｍにおいて、本明細書〔００１６〕に記載の方法により測定したところ、Ｒｅ＝５１ｎｍ、Ｒｔｈ＝８７ｎｍであった。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．７６、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０８、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．８９、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＝１．０４であった。
【０１５０】
（比較例１）
実施例１において、第１の光学異方性層を以下のように作製した以外は、実施例１と同様にして偏光板及び液晶表示装置を作製し、前記液晶表示装置の輝度及び色ずれの評価を行なった。結果を表２に示す。
【０１５１】
［第１の光学異方性層の作製］
実施例１における第１の光学異方性層の延伸条件を、延伸温度：１７０℃、延伸倍率：１．３０倍に変更した以外は同様にして、第１の光学異方性層を作製した。延伸後の溶剤残留量は０．１質量％であった。
前記延伸条件では、延伸を停止したり、ウェブの搬送速度を遅くしたりした際に、搬送ロール上でフィルムが流動状態となって接着したり、そこからフィルムが切断したり、ハンドリング上、問題が大きかった。
得られたフィルムの厚さは、９０μｍであった。また、延伸方向と直交する方向の幅は６．２ｃｍであったので、寸度変化率は０．７８であり、延伸方向の寸度変化率は１．３０であったので、延伸方向／直行方向の変形比（ＡＲ）は１．６８倍であった。
得られたセルロースアセテートフィルムの特性値は、波長５５０ｎｍにおいて、本明細書〔００１６〕に記載の方法により測定したところ、Ｒｅ＝５１ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。また、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．６７、Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１４、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．７７、Ｒｔｈ（６３０）／Ｒｔｈ（５５０）＝１．１０であった。
【０１５２】
【表２】
2007256306.tif 000026
表２の結果から、第１の光学異方性層が、該第１の光学異方性層のガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）に対して下記式（Ｉ）を満たす延伸温度（Ｔ）（℃）で延伸して得られた光学補償フィルムを用いた実施例１及び２の液晶表示装置は、比較例１の液晶表示装置と比較していずれも、左右４５°における黒表示時の透過率が低く、かつ正面との色ずれも小さいことが判った。
式（Ｉ）  Ｔｇ−３０≦Ｔ≦Ｔｇ＋３０
【産業上の利用可能性】
【０１５３】
本発明の光学補償フィルムは、特にＯＣＢモードの液晶セルにおける黒状態の視覚補償をほぼ全ての波長において可能にするので、液晶表示装置における偏光板に好適に用いることができ、特に本発明の液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の液晶表示装置は、本発明の前記偏光板を用いることにより、黒表示時の斜め方向の光抜けが軽減され、視野角コントラストが改善されるので、特にＯＣＢモードの液晶表示装置として好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】図１は、液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図２】図２は、液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１５５】
１・・・上偏光膜
１ａ・・・上偏光膜透過軸
２・・・上第２の光学異方性層
３・・・上第１の光学異方性層
３ａ・・・上第１の光学異方性層遅相軸
４・・・上第３の光学異方性層
４ａ・・・上第３の光学異方性層配向制御軸
５・・・液晶セル上電極基板
５ａ・・・上基板配向制御方向
６・・・液晶層
７・・・液晶セル下電極基板
７ａ・・・下基板配向制御方向
８・・・下第３の光学異方性層
８ａ・・・下第３の光学異方性層配向制御軸
９・・・下第１の光学異方性層
９ａ・・・下第１の光学異方性層遅相軸
１０・・・下第２の光学異方性層
１１・・・下偏光膜
１１ａ・・・下偏光膜透過軸
１３・・・下偏光膜
１３ａ・・・下偏光膜透過軸
１４・・・上光学異方性層支持体
１４ａ・・・上光学異方性層支持体遅相軸
１５・・・下光学異方性層支持体
１５ａ・・・下光学異方性層支持体遅相軸
【図１】
2007256306.tif 000027
【図２】
2007256306.tif 000028