(57)【要約】【課題】従来の遮光羽根に形成された塗膜は、不均一であって表面あらさおよびその摩擦係数が共に大きく、フィラーが剥落する可能性もあった。【解決手段】光路を開閉し得る本発明の遮光羽根４３は、基材の表面に摩擦低減層が形成され、この摩擦低減層の静摩擦係数が０.３以下かつ表面あらさが３μm以下であることが好ましい。また、摩擦低減層は、アクリル樹脂およびメラミン樹脂を主成分とし、平均粒径が０.１〜５μmのセラミックスおよび/またはフッ素樹脂を０.５〜５０重量％含むものであってよい。また、基材がアルミニウムまたはアルミニウム合金にて形成され、その表面に陽極酸化処理膜が形成され、この陽極酸化処理膜の上に摩擦低減層を形成したものであってよい。あるいは、基材がチタンまたはチタン合金にて形成され、その表面に化成処理膜が形成され、この化成処理膜の上に摩擦低減層を形成したものであってよい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光路を開閉し得る遮光羽根であって、基材の表面に摩擦低減層が形成されていることを特徴とする遮光羽根。
【請求項２】
前記摩擦低減層の静摩擦係数が０.３以下であって、その表面あらさが３μm以下であることを特徴とする請求項１に記載の遮光羽根。
【請求項３】
前記摩擦低減層は、アクリル樹脂およびメラミン樹脂を主成分とし、平均粒径が０.１から５μmの摩擦抵抗調整用添加材を０.５から５０重量％含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遮光羽根。
【請求項４】
前記基材がアルミニウム，アルミニウム合金，チタンおよびチタン合金の何れかにて形成され、その表面に化成処理膜が形成されており、この化成処理膜の上に前記摩擦低減層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３の何れかに記載の遮光羽根。
【請求項５】
光路を横切るように配されて当該光路を開閉し得る光路開閉装置であって、請求項１から請求項４の何れかに記載の遮光羽根が１枚以上組み込まれていることを特徴とする光路開閉装置。
【請求項６】
レンズを用いて結像媒体に画像を結像させるカメラであって、前記レンズと結像媒体との間の光路を横切るように配される請求項５に記載の光路開閉装置が組み込まれていることを特徴とするカメラ。
【請求項７】
光路を開閉し得る遮光羽根の製造方法であって、
前記光路に臨む基材の端部を所定形状に仕上げ加工するステップと、
仕上げ加工された前記基材の表面に電着塗装によって摩擦低減層を形成するステップと
を具えたことを特徴とする遮光羽根の製造方法。
【請求項８】
前記基材がアルミニウム，アルミニウム合金，チタンおよびチタン合金の何れかにて形成され、前記摩擦低減層の形成に先立って化成処理膜をその表面に形成するステップをさらに具えたことを特徴とする請求項７に記載の遮光羽根の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光路を開閉するための遮光羽根およびこの遮光羽根の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラなどの光学機器に組み込まれるシャッターや絞りは、これら光学機器の光路の一部を開閉または絞る機能を有する。このため、その主要部を構成する遮光羽根は、遮光性を有することはもちろん、円滑な開閉動作を実現するために表面の摩擦抵抗が小さく、帯電しにくいことも要求される。これは、複数枚の遮光羽根を相互に重ね合わせて使用することが一般的なためである。また、相互に重なり合う遮光羽根の間からの漏光を防ぐため、遮光羽根の表面の光反射率が低いことも重要であり、遮光羽根の表面の高い平坦性も求められる。この平坦性、つまり遮光羽根の平面度は、その開閉作動の際に遮光羽根相互の衝突による破損を防止する上でも重要である。
【０００３】
このような要求を満足するため、従来から種々の材料や各種処理を施した遮光羽根が提案されている。例えば、特許文献１にはポリエステルなどの結晶性高分子化合物からなる複数のフィルム層の間に少なくとも一層の金属層を挟んだり、同様な複数のフィルム層の間に一層以上の黒色塗装膜を挟んだりした遮光羽根が開示されている。また、この特許文献１には少なくとも１層のプラスチック製フィルムに黒色顔料や黒色染料を混練した遮光羽根も開示されている。特許文献２には、フィルム厚が７０μmの場合に１０程度以上の光学濃度が得られるような組成を持つ１００μm程度以下の厚みの二軸延伸ポリエステルフィルムを用いる遮光羽根が開示されている。この遮光羽根の表面には、熱硬化性艶消し塗料が塗布され、さらに帯電防止剤が付着している。特許文献３には、熱可塑性樹脂を主成分とするフィルムの両面にカーボンブラック，滑材，艶消し剤を含有する熱硬化性樹脂からなる層を接合した遮光羽根が開示されている。
【０００４】
このように、従来の遮光羽根には、遮光性，摺動性，非反射性，非帯電性などの要求に応じた特性を持つ塗料層がその表面に形成される。より具体的には遮光羽根の主要部を構成するフィルムの基材にスプレー法や浸漬法などで塗膜を形成し、乾燥および焼成を行って塗料層をフィルム基材の表面に定着させ、プレスなどで所定形状の遮光羽根を切り出すようにしている。なお、塗膜を形成する際に塗料中に摺動性や非帯電性を高める目的で無機または有機フィラーを添加することも知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開昭５７−６０３１５号公報
【特許文献２】特開昭５７−１１８２２６号公報
【特許文献３】特開平９−２７４２１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
遮光羽根の製造に際してフィルム基材の表面に塗料層をスプレー法により形成する場合、塗料の塗布効率が悪く、さらにフィラーの含有量を上げると塗料の粘度上昇およびフィラーの沈降によって塗料自体の取り扱い性が低下するという問題がある。さらに、塗料に対するフィラーの密着強度が低いため、硬化後の塗膜からフィラーが脱落し、これが光学機器に対して悪影響を与えるおそれがあった。特に、撮像素子を用いるデジタルカメラにおいては、撮像素子の表面に塵埃が付着することは、そのまま画像の品質低下をもたらすこととなる。このため、遮光羽根からフィラーなどが剥落することは、撮像素子に対して悪影響を及ぼす可能性が高く、これはデジタルカメラにおいて極めて重要な問題となっている。しかしながら、このような問題を避けるためにフィラーの含有量を低下させると、遮光羽根の摺動性も低下して高硬度の塗膜を形成することができない。
【０００７】
一方、浸漬法によって塗料層を形成する場合も同様な問題があり、塗料中に含まれるフィラーが自重で沈降するため、厚みや組成が共に均一な塗膜を形成することが極めて困難である。特に、厚い塗膜を形成する必要がある場合、塗料の流動性などによって遮光羽根の端縁部の塗膜が異常に厚くなってしまう可能性が高かった。また、塗膜自体も塵埃などが混入したり、ピンホールが発生したりする場合があり、信頼性の高い遮光羽根を得ることができない。
【０００８】
加えて、上述した従来の塗装方法は、多量の有機溶剤を併用し、有害性・安全性の面で作業環境としては好ましいものではなかった。
【０００９】
本発明は、遮光羽根に関する上述した従来の課題を解決するためになされたものである。すなわち、その目的は、表面あらさおよびその静摩擦係数が共に小さく、表層を構成する一部の部材の剥落が発生せず、高品質かつ均一な表層を持った遮光羽根およびこのような遮光羽根を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の形態は、光路を開閉し得る遮光羽根であって、基材の表面に摩擦低減層が形成されていることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明において光路を開閉すべく遮光羽根を駆動した場合、相互に重なり合う遮光羽根の表面に形成された摩擦低減層がこれらの間に発生する摩擦を軽減して静電気の発生を抑制する。
【００１２】
本発明の第２の形態は、光路を横切るように配されて当該光路を開閉し得る光路開閉装置であって、本発明の第１の形態による遮光羽根が１枚以上組み込まれていることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明においても光路を開閉すべく遮光羽根を駆動した場合、相互に重なり合う遮光羽根の表面に形成された摩擦低減層がこれらの間に発生する摩擦を軽減し、静電気の発生を抑制することとなる。
【００１４】
本発明の第３の形態は、レンズを用いて結像媒体に画像を結像させるカメラであって、レンズと結像媒体との間の光路を横切るように配される本発明の第２の形態による光路開閉装置が組み込まれていることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明においては、光路開閉装置が光路を開閉すべく遮光羽根を駆動した場合、相互に重なり合う遮光羽根の表面に形成された摩擦低減層がこれらの間に発生する摩擦を軽減し、静電気の発生を抑制することとなる。
【００１６】
本発明の第４の形態は、光路を開閉し得る遮光羽根の製造方法に関するものである。この方法は、前記光路に臨む基材の端部を所定形状に仕上げ加工するステップと、仕上げ加工された前記基材の表面に電着塗装によって摩擦低減層を形成するステップとを具えたことを特徴とする。
【００１７】
本発明においては、すべり摩擦抵抗に影響を与える微粒子を含んだ電着塗料を用い、金属か、または導電性を持った非金属フィルムにて形成される基材に対し、電気泳動によって樹脂および微粒子を析出させることにより摩擦低減層が形成される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の第１の形態の遮光羽根によると、基材の表面に摩擦低減層を形成してあるので、遮光羽根を駆動した場合に相互に重なり合う遮光羽根の摩擦を低減して静電気の発生を抑制することが可能となる。この結果、空気中の微小な塵埃が遮光羽根に付着したり、結像媒体にこれが付着したりするような不具合を軽減させることができる。
【００１９】
本発明の第２の形態の光路開閉装置によると、本発明の第１の形態による遮光羽根が１枚以上組み込まれているので、遮光羽根を駆動した場合に相互に重なり合う遮光羽根の摩擦を低減して静電気の発生を抑制することが可能となる。この結果、空気中の微小な塵埃が遮光羽根に付着したり、結像媒体にこれが付着したりするような不具合を軽減させることができる。
【００２０】
本発明の第３の形態のカメラによると、本発明の第２の形態による光路開閉装置がレンズと結像媒体との間の光路を横切るように配されているので、遮光羽根を駆動した場合に相互に重なり合う遮光羽根の摩擦を低減して静電気の発生を抑制することが可能となる。この結果、空気中の微小な塵埃が遮光羽根に付着したり、結像媒体にこれが付着したりするような不具合を軽減させることができる。これは特に、結像媒体として塵埃の付着を嫌うＣＣＤなどを用いたデジタルカメラの場合に有効である。
【００２１】
本発明の第４の形態の遮光羽根の製造方法においては、光路に臨む基材の端部を所定形状に仕上げ加工し、仕上げ加工された基材の表面に電着塗装によって摩擦低減層を形成するようにしている。このため、水性塗料を使用することにより有機溶剤を使用する必要がほとんどなくなり、スプレー法や浸漬法による塗装環境よりもその作業環境を大幅に改善することができる。また、摩擦低減層の厚みをより均一化させることができる上にピンホールも少なくすることができ、良好な品質の摩擦低減層を効率よく形成することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明による光路開閉装置をデジタル一眼レフレックスカメラのフォーカルプレーンシャッタに応用した一実施形態について、図１〜図３を参照しながら詳細に説明する。ただし、本発明はこのような実施形態のみに限らず、特許請求の範囲に記載された本発明の概念に包含されるあらゆる変更や修正が可能であり、従って本発明の精神に帰属する他の技術にも当然応用することができる。
【００２３】
本実施形態におけるデジタル一眼レフレックスカメラ（以下、単にカメラと略称する）の概念を図１に模式的に示し、そのフォーカルプレーンシャッターユニットの正面形状を図１に示し、そのIII−III矢視断面構造を図３に示す。すなわち、このカメラ１０の本体１１の前面部には、通過光量を調整するための絞り装置１２を組み込んだ撮影レンズ１３が配されており、本体１１の背面部には、この撮影レンズ１３を通過した光が導かれるＣＣＤなどの撮像素子１４が配されている。また、この撮像素子１４の直前には、撮像素子１４に入射する光のうち、サンプリング周波数の１／２以上の高周波成分除去する低域フィルタ１５が配されている。すなわち、サンプリング周波数の１／２以上の高周波成分が入射光に含まれていると、折り返し信号によるモアレ状の偽色が発生する。このため、低域フィルタ１５を撮影レンズ１３と撮像素子１４との間の光路中に配置し、入射光中の低周波成分のみを撮像素子１４に導くことによって上述した偽色の発生を防止している。この偽色は、電気回路による画像処理などの信号処理では除去することが困難であるので、低域フィルタ１５によりこの問題に対処する必要がある。さらにこの低域フィルタ１５の直前には撮影レンズ１３から撮像素子１４に至る光路を開閉するためのフォーカルプレーンシャッターユニット（以下、単にシャッターユニットと記述する）１６が配されている。
【００２４】
本体１１の上部には、正立プリズム（図示例ではペンタプリズム）１７および接眼レンズ１８が配されている。正立プリズム１７の直下には焦点板１９が配され、その下方には撮影レンズ１３とシャッターユニット１６との間に配されて撮影レンズ１３を通過した光を焦点板１９に導く反射鏡２０が配されている。この反射鏡２０は、撮影レンズ１３の光軸に対して傾斜状態となっており、この状態では撮影レンズ１３を通った光は焦点板１９に導かれ、撮像素子１４側へは達しない。しかしながら、シャッターユニット１６の開閉時には焦点板１９と近接状態となるように跳ね上げられ、撮影レンズ１３からの光がシャッターユニット１６を介して撮像素子１４側へ導かれるようになっている。
【００２５】
本実施形態では、焦点板１９の所定領域に到達した光量を検出する露光センサ２１が正立プリズム１７の光出射端面に近接して組み込まれている。この露光センサ２１により、検出された光量に基づいて撮像素子１４に対する露光量を制御できるようになっており、絞り装置１２およびシャッターユニット１６の何れか一方の開度が自動的に調整される。
【００２６】
従って、撮影者が接眼レンズ１８を覗きながら撮影レンズ１３を操作して被写体の画像を焦点板１９に結像させ、図示しないシャッターレリーズボタンを操作すると、まず反射鏡２０が焦点板１９側に跳ね上がる。次いで、シャッターユニット１６の後述する先幕２２が遮光位置から露光位置へ移動して光路を開き、撮影レンズ１３からの光が撮像素子１４に入射することとなる。先幕２２が露光位置へ移動を開始してから所定時間後、後述する後幕２３が露光位置から遮光位置へ移動して光路を閉じ、再び反射鏡２０が図示の状態に戻って一連の撮影動作が完了する。
【００２７】
本実施形態におけるシャッターユニット１６は、いわゆる縦走りタイプと呼称されているものである。本実施形態では、図１中、上下方向に走行する先幕２２および後幕２３として相互に重なり合う複数枚（図示例ではそれぞれ５枚および４枚）の遮光羽根２４，２５，２６，２７，２８，２９，３０，３１，３２を用いている。複数のスペーサ３３を介して相互に平行に組み付けられた枠状のカバー板３４と枠状のシャッター地板３５との間には、先幕２２と後幕２３とを仕切る枠状の仕切り板３６が傾斜状態で組み付けられている。先幕２２はカバー板３４と仕切り板３６との間に配され、後幕２３は仕切り板３６とシャッター地板３５との間に配されている。先幕２２を構成する遮光羽根２４〜２８の長手方向一端側（図１中、左側）には、先幕支持アーム３７と先幕駆動アーム３８とがそれぞれピン止めされている。同様に、後幕２３を構成する遮光羽根２９〜３２の長手方向一端側にも後幕支持アーム３９と後幕駆動アーム４０とがそれぞれピン止めされている。これら先幕駆動アーム３８および後幕駆動アーム４０は、カバー板３４およびシャッター地板３５に形成された円弧状の案内溝４１，４２に対してそれぞれ摺動自在に係合している。さらに、これらの基端部が先幕２２および後幕２３を開閉するための図示しない駆動源にそれぞれ連結されている。
【００２８】
なお、このようなシャッターユニット１６自体の具体的構成は、特開平１０−１８６４４８号公報，特開２００２−２２９０９７号公報，特開２００３−２８００６５号公報などで周知の通りである。
【００２９】
本実施形態における遮光羽根２４〜３２のうちの１枚の遮光羽根（以下、便宜的にこれらを代表して４３として示す）の作成状況を図４に示す。この遮光羽根４３は、基材の表面に摩擦低減層を形成したものである。より具体的には、基材となる図４に示す如き帯状のシート材４４に対して先の遮光羽根４３の輪郭形状の一部を残してプレス加工したものに摩擦低減層を電着塗装により形成した後、余剰部分４５を機械的にトリミングして遮光羽根４３に仕上げている。
【００３０】
本実施形態のように、電着塗装を行う前に遮光羽根４３の主たる輪郭形状を仕上げておくことが好ましい。シート材４４の表面に電着塗装を行ってから遮光羽根４３の輪郭形状をプレス加工した場合、未塗装の剪断面が露出した状態となり、この部分が光の乱反射をもたらす可能性がある。本実施例では、最終的に余剰部分４５をトリミングした部分が未塗装状態となるため、このトリミング部を撮影レンズ１３からの光が到達しないような位置に設定しておくことが好ましい。剪断面を後から塗装する必要性を無くすことができる。電着塗装を行うことにより、従来のスプレー法や浸漬法による不具合を完全に解消することが可能である。
【００３１】
通常、この遮光羽根４３の基材としては導電性を有するものであれば利用可能であるが、体積抵抗率が１０２〜１０９Ω・cmの範囲内にあるものが好ましい。ほとんどの金属は、このような条件に合致するので、鉄，銅，亜鉛，ニッケル，アルミニウム，チタン，マグネシウム，タングステン，クロムおよびこれらを含む合金など、任意の金属を基材として使用することができる。ただし、この遮光羽根をカメラ１０のシャッターユニット１６に組み込む場合、比重が比較的小さい、例えば約４g/cm３以下の密度の金属が有利である。このような条件を満たす金属としては、アルミニウム，マグネシウム，チタンおよびこれらのそれぞれ合金を挙げることができる。この他、基材として金属以外の樹脂フィルムなどの非導電性部材を選択する場合、一般的に知られる触媒処理および化学めっき処理などの工程により、適当な導電化処理を施す必要がある。さらに、炭素繊維およびそのプリプレグおよびその硬化物でも電着塗装により摩擦低減層を形成可能であり、不織布などでも上記の体積抵抗率を有するものであれば、基材として使用することができる。このように、遮光羽根４３が導電性を有しているため、先の摩擦低減層と相俟って静電気の発生を抑制することが可能となる。
【００３２】
この遮光羽根４３の表面あらさ(中心線平均あらさ)Ｒaが３μmを越えると、相互に重なり合う遮光羽根４３間の摩擦抵抗が増大してその摺動性の低下を招来する。このため、遮光羽根４３の高速動作を企図した場合に不利となり、摩擦低減層が剥離して塵埃の発生原因を招く可能性も大きくなる。つまり、本発明においては遮光羽根４３の表面あらさを３μm以下に設定することが好ましく、２μm以下に設定することが特に有効である。同様な理由で、摩擦低減層の静摩擦係数を０.３以下に設定することが好ましく、０.１６以下に設定することが特に有効であると言える。
【００３３】
摩擦低減層は、電着塗装を可能とするアクリル樹脂およびメラミン樹脂を主成分とし、これに摩擦抵抗調整用添加材を含むものであってよい。この場合、摩擦抵抗調整用添加材として、セラミックスやフッ素樹脂を採用することができる。この摩擦抵抗調整用添加材の粒径および添加量を調整することにより、摩擦低減層の表面あらさを調整することが可能となる。摩擦抵抗調整用添加材の粒径が大きくなると、バインダーとしての樹脂の割合が少なくなって摩擦低減層から摩擦抵抗調整用添加材が剥落しやすくなり、その品質が経時的に低下することとなる。逆に、摩擦抵抗調整用添加材の粒径が小さすぎると、静摩擦係数を低減させるための効果が得にくくなる。２〜２０μm程度が摩擦低減層の厚みとして採用されることを考慮すると、摩擦抵抗調整用添加材の粒径を０.１〜５μm、より好ましくは０.２〜２μm、さら好ましくは０.２〜０.７μmの範囲に設定すべきである。この摩擦低減層の主成分であるアクリル樹脂やメラミン樹脂に対して摩擦抵抗調整用添加材を０.５〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％、特に好ましくは５〜１０重量％の割合に設定すべきである。
【００３４】
摩擦抵抗調整用添加材として、カーボンブラックなどの顔料を遮光羽根４３の表面の光反射率を低減させるために添加することも有効である。このような反射低減用顔料は、電着塗料中の樹脂１００重量部に対し、０.２〜１０重量％、好ましくは０.５〜５重量％添加することでその目的を達成することができる。この反射低減用顔料としては、アルミニウム，銅，ニッケル，銀などの金属粉体や金属箔または金属短繊維を採用することができる。あるいは、酸化アンチモン，酸化インジウム，酸化スズなどの金属酸化物や、炭素繊維，カーボンブラック，グラファイト粉末などの微粒子を採用することができる。
【００３５】
摩擦抵抗調整用添加材の形状は、定形または不定形の何れでも構わない。また、これを樹脂に添加する場合、ボールミルで２４時間以上混練した後、脱塩水を用いて樹脂濃度が５〜２０重量％、好ましくは７〜１７重量％の範囲となるように調整する。その後、必要に応じて顔料などを添加することも可能である。
【００３６】
摩擦抵抗調整用添加材が静摩擦係数を低減する目的の場合、酸化モリブデン，二硫化モリブデン，モリブデン，グラファイト粉末，フッ素樹脂などを採用することができる。摩擦抵抗調整用添加材が摩擦低減層の表面硬度を向上させる目的の場合、アルミナ，炭化珪素，窒化珪素などのセラミックスを採用することができる。この場合、アルミナは遠赤外線を選択的に吸収するので、焼成温度を著しく低温化することが可能となる。
【００３７】
遮光羽根４２の基材をアルミニウム，アルミニウム合金，チタンおよびチタン合金の何れかにて形成した場合、その表面に化成処理膜を形成した後、この化成処理膜の上に摩擦低減層を形成するようにしてもよい。化成処理としては、表面強度および耐食性の向上を目的として、めっき，陽極酸化皮膜、化成皮膜などを形成し、陽極酸化皮膜や化成皮膜などを黒色染料などで着色した後、電着塗装を行うことができる。基材がアルミニウムまたはアルミニウム合金の場合、化成処理膜として陽極酸化処理によるアルミナを形成することができる。
【００３８】
電着塗装に用いられる樹脂としては、アクリル・メラミン系，アクリル系，エポキシ系，ウレタン系およびアルキッド系のアニオン性またはカチオン性の樹脂を挙げることができる。ここで、アニオン系の樹脂としては、例えばアクリル樹脂，マレイン樹脂，ポリエステル樹脂，エポキシ樹脂，ポリブタジエン樹脂などの樹脂にカルボキシル基，スルフォン基などのアニオン性基を導入した樹脂を用いることができる。これらの樹脂は、電着塗料中でトリエチルアミン，ジエチルアミン，ジメチルメタノール，アンモニアなどの塩基性物質で水に可溶化または分散した状態となる。また、カチオン系の樹脂としては、例えばエポキシ樹脂，アクリル樹脂，ウレタン樹脂，ポリアミド樹脂，ポリブタジエン樹脂などの樹脂にアミノ基，アンモニウム塩基，イミノ基のようなカチオン性基を導入した樹脂を用いることができる。これらの樹脂は、電着塗料中でギ酸，酢酸，プロピオン酸，乳酸などの酸性物質により水に可溶化または分散した状態となる。
【００３９】
アニオン系の場合には基材側を陽極とし、カチオン系では基材側を陰極とし、通常は浴温２０〜３０℃，印加電圧４０〜２００Ｖ，処理時間１〜７分で処理される。
【００４０】
この通電プロセスにおいて、アニオン性樹脂が遮光羽根基材である陽極表面に移動し、水の電気分解で陽極近傍に生成している酸基（Ｈ＋）と反応し、電着塗装膜として析出する。また、カチオン性樹脂は、遮光羽根基材である陰極表面に移動し、水の電気分解で陰極近傍に生成している塩基（ＯＨ−）と反応し、電着塗装膜として析出する。
【００４１】
次いで、基材を電着槽から取り出し、水洗いして乾燥させる。
【００４２】
このようにして形成された電着塗装膜は、好ましくはさらに加熱または光照射などによって硬化処理を行い、耐候性および耐薬品性の向上を図る。アニオン性樹脂の場合には、例えばアニオン性樹脂に導入されたヒドロキシル基またはメチロール化アミド基と、メラミン樹脂およびベンゾグアナミン樹脂などのアミノ樹脂とを反応させてアニオン性樹脂を硬化させる。この時、アミノ樹脂は架橋剤として作用する。また、アニオン性樹脂の二重結合を利用した配化重合による硬化がある。カチオン性樹脂の場合には、例えばカチオン性樹脂のヒドロキシル基やカチオン化のために導入されたアミノ基にイソシアネート化合物を反応させて硬化させたり、酸化重合によって硬化させたり、あるいはエステル交換反応によって硬化させることができる。通常、１００℃以上に設定された加熱炉内にて２０〜１２０分保持することにより、硬化を完了させることができる。さらに、この硬化前に４０〜７０℃の範囲で予備乾燥を行うことも有効である。
【００４３】
このように、摩擦低減層を電着塗装にて基材の表面に形成することにより、基材に対する摩擦低減層の密着性を高めることができ、これにより摩擦低減層に含まれるフィラーなどの剥落を抑制することが可能となる。また、有機溶剤をほとんど使用する必要がなくなるので、作業環境を改善することができ、しかも有機溶剤処理用の特殊な排気装置が不要となり、そのためのコストを削減することができる。
【００４４】
次に、本発明による遮光羽根４３の各種特性を実施例１〜４として比較参考のための比較例１，２と共に以下の表１に示す。なお、遮光羽根４３の表面の耐摩耗性は、摩耗試験機（スガ試験機株式会社製）にて２０００番のラッピングテープを用い、３００ｇの荷重を遮光羽根４３の表面に与えた状態で４００回往復動させ、その重量減を測定することで判定した。摩擦低減層の厚みは、表面あらさ計を使用して中心線平均あらさＲaを測定すると共に摩擦低減層の一部を剥離し、その段差を測定することによって求めた。摩擦低減層の静摩擦係数に関しては、表面測定機（新東科学株式会社製）を用いて測定した。また、実施例１〜４および比較例１，２にて得られる遮光羽根４３を図１〜図３に示すシャッターユニット１０の先幕１１および後幕１２として組み込み、常温常湿にて５０万回の開閉試験を行い、その耐久性および摩擦低減層の剥落の有無も調べた。
【００４５】
（実施例１）
基材となる７０μmの厚みを有するアルミニウムシート（Ａ２０２４）を用意し、これに図４に示すようなプレス加工を施して余剰部分４５を介して遮光羽根４３がつながったシート材４４を得た。次いで、このシート材４４を硫酸水溶液中に浸漬して通電し、その表面に陽極酸化皮膜を形成した。さらに、この陽極酸化処理されたシート材４４の皮膜に黒色染料を含浸させ、いわゆるブラックアルマイト皮膜を作成した。
【００４６】
一方、アクリル・メラミン系樹脂クリアー原液５０％（商品名：ハニーブライトＣ−１，ハニー化成株式会社製）に対し、平均粒径が０.５μmのＰＴＦＥ粉末を１０重量％添加し、ボールミルで２４時間以上分散処理を行った。しかる後、脱塩水を用いて樹脂濃度が１０％となるように希釈し、さらに光反射防止のためにカーボンブラックを１.５重量％分散状態で添加して電着塗料を得た。
【００４７】
液温２３±１℃，pＨ８.１±０.１に調整されたこの電着塗料中にブラックアルマイト皮膜が表面に形成されたシート材４４を陽極，ＳＵＳ板を陰極として浸漬した。そして、これらの間に７０Ｖの電圧を２分間印加し、シート材４４の表面に摩擦低減層となる塗膜を付着させた。その後、このシート材４４を電着塗料から引き上げて水洗および脱塩水洗を行い、さらに１８０±５℃の焼成炉で３０分間焼付し、シート材４４のブラックアルマイト皮膜の表面に摩擦低減層を形成した。
【００４８】
（実施例２）
実施例１と同じブラックアルマイト皮膜が形成されたシート材４４を用意した。
【００４９】
一方、実施例１と同じアクリル・メラミン系樹脂クリアー原液５０％に対し、平均粒径が０.５μmのＰＴＦＥ粉末および平均粒径が０.６７μmのアルミナ粉末をそれぞれ５重量％ずつ添加し、ボールミルで２４時間以上分散処理を行った。しかる後、脱塩水を用いて樹脂濃度が１０％となるように希釈し、さらに光反射防止のためにカーボンブラックを１.５重量％分散状態で添加して電着塗料を得た。
【００５０】
液温２３±１℃，pＨ８.１±０.１に調整されたこの電着塗料中にブラックアルマイト皮膜が表面に形成されたシート材４４を陽極，ＳＵＳ板を陰極として浸漬した。そして、これらの間に７０Ｖの電圧を２分間印加し、シート材４４の表面に摩擦低減層となる塗膜を付着させた。その後、このシート材４４を電着塗料から引き上げて水洗および脱塩水洗を行い、さらに１８０±５℃の焼成炉で３０分間焼付し、シート材４４のブラックアルマイト皮膜の表面に摩擦低減層を形成した。
【００５１】
（実施例３）
実施例１と同じブラックアルマイト皮膜が形成されたシート材４４を用意した。
【００５２】
一方、実施例１と同じアクリル・メラミン系樹脂クリアー原液５０％に対し、平均粒径が０.２μmの二硫化モリブデン粉末を１０重量％添加し、ボールミルで２４時間以上分散処理を行った。しかる後、脱塩水を用いて樹脂濃度が１０％となるように希釈し、さらに光反射防止のためにカーボンブラックを１.５重量％分散状態で添加して電着塗料を得た。
【００５３】
液温２３±１℃，ｐＨ８.１±０.１に調整されたこの電着塗料中にブラックアルマイト皮膜が表面に形成されたシート材４４を陽極，ＳＵＳ板を陰極として浸漬した。そして、これらの間に７０Ｖの電圧を２分間印加し、シート材４４の表面に摩擦低減層となる塗膜を付着させた。その後、このシート材４４を電着塗料から引き上げて水洗および脱塩水洗を行い、さらに１８０±５℃の焼成炉で３０分間焼付し、シート材４４のブラックアルマイト皮膜の表面に摩擦低減層を形成した。
【００５４】
（実施例４）
基材となる７０μmの厚みを有するアルミニウムシート（Ａ２０２４）を用意し、これに図４に示すようなプレス加工を施して余剰部分４５を介して遮光羽根４３がつながったシート材４４を得た。次いで、このシート材４４を硫酸水溶液中に浸漬して通電し、その表面に陽極酸化皮膜を形成した。
【００５５】
一方、実施例１と同じ電着塗料を用意し、実施例１と同じ電着条件にてシート材４４に形成された陽極酸化皮膜の上に摩擦低減層を形成した。
【００５６】
（比較例１）
実施例１と同じブラックアルマイト皮膜が形成されたシート材４４を用意した。
【００５７】
一方、平均粒径が０.５μmのＰＴＦＥ粉末を１０重量％分散させたエポキシ系塗料を作成し、シンナーにてその粘度調整を行った後、これをシート材４４の表面にスプレー法により付着させた。しかる後、１８０±５℃の焼成炉で２０分間焼付し、シート材４４のブラックアルマイト皮膜の表面に約５μmの厚みの摩擦低減層を形成した。
【００５８】
（比較例２）
実施例１と同じブラックアルマイト皮膜が形成されたシート材４４を用意した。
【００５９】
一方、平均粒径が０.５μmのＰＴＦＥ粉末を１０重量％分散させたエポキシ系塗料にシンナーを添加して粘度を調整した浸漬塗料を作成した。
【００６０】
この浸漬塗料中に先のシート材４４を浸漬して引き上げ、その後、１８０±５℃の焼成炉で２０分間焼付し、シート材４４のブラックアルマイト皮膜の表面に約５μmの厚みの摩擦低減層を形成した。
【００６１】
【表１】
2007264089.tif 000003
【００６２】
比較例１の試料の場合、端縁部の肉厚が他の部分よりも厚くなってしまっていた。また、その表面に擦過痕が発生し、摩擦低減層の剥落も見られた。この擦過痕は比較例２の場合も同様に発生しており、摩擦低減層の剥落も確認された。さらに、比較例２の試料では端縁部の一部に摩擦低減層のタレが見られた。スプレー塗装したサンプルおよび比較例２の含浸により作成したサンプルは、磨耗試験による重量減が大きい。さらに開閉試験により表面に羽根の摺動によるキズが目立ち、大量のゴミが発生した。
【００６３】
これに対し、実施例１〜４による遮光羽根４３は比較例１，２のような不具合が発生していないことを確認できた。
【００６４】
次に、実施例１および比較例１における試料の表面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で５００倍に拡大して観察した結果を、図５，図６に示す。図６に示したスプレー法により摩擦低減層を形成した比較例１の場合、表面の凹凸が大きく、粒状の塗料付着が見られるのに対し、図５の電着塗装にて摩擦低減層を形成した実施例１では、その表面がより平滑になっていることを確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明による光路開閉装置をデジタル一眼レフレックスカメラのフォーカルプレーンシャッターユニットに応用した一実施形態の概略構造を表すシステム概念図である。
【図２】図１に示した実施形態におけるシャッターユニットの正面図である。
【図３】図２に示したシャッターユニットのIII−III矢視断面図である。
【図４】図２に示したシャッターユニットの一部を構成する遮光羽根の製造途中の状態を表す平面図である。
【図５】図４に示した遮光羽根の表面を５００倍に拡大した電子顕微鏡写真である。
【図６】従来の方法により塗膜を形成した遮光羽根の表面を５００倍に拡大した電子顕微鏡である。
【符号の説明】
【００６６】
１０  カメラ（デジタル一眼レフレックスカメラ）
１１  本体
１２  絞り装置
１３  撮影レンズ
１４  撮像素子
１５  低域フィルタ
１６  シャッターユニット（フォーカルプレーンシャッターユニット）
１７  正立プリズム（ペンタプリズム）
１８  接眼レンズ
１９  焦点板
２０  反射鏡
２１  露光センサ
２２  先幕
２３  後幕
２４〜３２  遮光羽根
３３  スペーサ
３４  カバー板
３５  シャッター地板
３６  仕切り板
３７  先幕支持アーム
３８  先幕駆動アーム
３９  後幕支持アーム
４０  後幕駆動アーム
４１，４２  案内溝
４３  遮光羽根
４４  シート材
４５  余剰部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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