(57)【要約】【課題】空間的にフィルファクタの変化が可能であり、かつ生産性が高い、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置を提供する。【解決手段】サブ波長の微細凹凸構造の光学素子製作等のため、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法おいて、光の分割に回折により光を分割する回折光学素子を用い、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを光源と光を分離する回折光学素子の間に設けることを特徴とする周期構造パターン形成方法を主たる構成とすることにより、空間的にフィルファクタの変化が可能であり、かつ生産性が高い、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置の提供を実現することができる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、
前記光の分割に、回折により光を分割する回折光学素子を用い、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記光源と前記回折光学素子との間に設け、分離した光束を露光面上で合成して露光することを特徴とする周期構造パターン形成方法。
【請求項２】
光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、
空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記露光面に密着させて設け、分離した光束を露光面上で合成して露光することを特徴とする周期構造パターン形成方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の周期構造パターン形成方法において、前記分割後の光束を互いに対称とし、前記分割した光の露光面での照射を一致させることを特徴とする周期構造パターン形成方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の周期構造パターン形成方法において、前記分割後の光束を互いに対称とし、干渉させる光の光量を一致させることを特徴とする周期構造パターン形成方法。
【請求項５】
干渉性を有する光束を発する光源と、該光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、
前記光を分割する分割手段は回折光学素子であり、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記光源と前記分割手段との間に設けたことを特徴とする干渉露光装置。
【請求項６】
干渉性を有する光束を発する光源と、該光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて露光面上に干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、
空間的に濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記露光面に密着させたことを特徴とする干渉露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置に関し、特に光の干渉を使った露光方法、露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来、使用する光の波長よりも小さい周期を有する微細凹凸構造、サブ波長構造を利用した光学素子が提案され、開発されつつある。サブ波長構造は、例えば、ガラスと空気のように互いに屈折率の異なる２つの媒質の境界面に、使用波長以下の微小周期をもった凹凸構造を形成する。サブ波長構造を持つ光学素子は、凹凸構造の周期が使用波長以下であるため高次の回折を生じることが無く、このため、光利用効率の高い素子の実現が可能である。
【０００３】
従来では、このように使用する波長以下の微細な構造を作る方法として、電子ビームによる露光法、ステッパによる投影露光法、干渉パターンを利用した露光法などが提案されている。
【０００４】
電子線ビームによる露光法は、基板上に電子線用フォトレジスト層を形成し、集光された電子線ビームを走査することによって微細パターンを形成する方法である。この方法は、電子線ビームは非常に微細な形状を作製することが可能であり、また電子ビームを走査することによって任意の場所に任意のパターンを形成することが可能である。
【０００５】
ステッパによる投影露光法は、所望のパターンが形成されたマスクを介して縮小投影露光することにより、フォトレジスト上に微細パターンを転写する。ステッパによる投影露光は、このようにマスクからの転写を行うことができるため、量産性に優れた方法である。
【０００６】
光の干渉を利用した露光法は、干渉性を有する光源から発せられた光束を分割し、露光面で再び合成させて、光の干渉によるパターンをフォトレジスト上に形成させる方法である。この方法は、微細パターンを一括で作製することが可能であり、また装置が簡易であることが特徴である。
【０００７】
電子ビームを使った露光法は、任意性、微細形状形成には優れるが、描画に非常に時間がかかるという問題が生じるため、生産性が必要とされる場合は適さない。
【０００８】
ステッパによる露光法は、一度マスクを作製してしまえば転写が可能なため、量産性には優れる。しかし微細パターンを作製しようとすると、装置が非常に高価、かつ大掛かりになるという欠点が生じる。
【０００９】
干渉露光法は、一括して微細パターンの形成が可能であるため、生産性には優れ、かつ装置も簡易なもので実現可能である。しかし、均一なパターンを形成する時には非常に有効な方法であるが、空間的に形状、パターンの変化が必要な構造の作製が困難であるという欠点がある。
【００１０】
そこで、干渉露光法の欠点を補うために、いくつかの方法が提案され、その一例として、２光束干渉露光において微細周期パターンの潜像を形成し、その後に通常のパターンを多値的に露光させる方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。これにより、均一な周期パターンに変調を加えることが可能になる。
【００１１】
また、フォトレジストとして化学増感型感光剤の露光後現像前のPEB（Post Exposure Bake）処理時に、この化学増感型感光剤に与える熱量に分布を持たせ、露光された周期配列構造の内の十分な熱量が与えられた部分には干渉による微細周期パターンが与えられることを特徴とするパターン形成方法および形成装置の発明が提案されている（例えば特許文献２参照）。これにより、均一な周期パターンに変調を加えることが可能になる。
【特許文献１】特開２００１−７０２０号公報
【特許文献２】特開２００５−９９５３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記従来の方法には以下の問題がある。
特許文献１記載の方法では、干渉による微細周期パターンと通常のパターンとを重ねて露光している。これにより、空間的に露光量の多い部分と少ない部分とができるため、フィルファクタを空間的に変化させることは可能である。
しかし、干渉縞による微細な周期構造をフォトレジスト上に形成するため、露光部と、非露光部とのコントラストが悪くなってしまう、という問題が発生する。
【００１３】
図１は、フィルファクタが空間的に徐々に変化（一次関数的に減少）している光学素子のサブ波長構造を示す模式図である。
例えば図１に示すように、ピッチＡが一定で構造幅aが空間的に徐々に変化しているサブ波長構造を考える。この場合、構造が波長以下のサイズで形成されているため、実質的には屈折率が空間的に変化する。つまり空間的に光の位相が変化していることになり、フレネルレンズあるいは位相変調素子と同等の役割を果たすことができる。
【００１４】
このようにピッチＡに対する構造幅aの比、すなわちフィルファクタｆ ＝ a／Ａを変化させるためには、露光量を空間的に変化させる必要がある。これを重ね露光で行うと、図２(a)に示す干渉露光によるパターンと、図２(b)に示す通常パターンとを重ねて露光することになる（図２(a)＋図２(b)＝図２(c)）。そのため、図２(c)に示すように重ね露光における光量が多い部分は、露光しない部分のｏｆｆレベルが上がってしまい、コントラストが高くとれないことになる。尚、２１は非露光部の露光量レベルであり、２２は露光部の露光量レベルである。
図２(a)、(b)、(c)は、従来のフィルファクタ変調のための露光法の模式説明図である。
【００１５】
特許文献２に記載の方法では、与える熱量により露光感度を変化させ、空間的なフィルファクタを変化させている。しかしこの方法では、熱の隣接への移動があるため、細かいフィルファクタの変化がつけにくいという問題がある。
【００１６】
そこで、本発明は、上述した実情を考慮してなされたもので、空間的にフィルファクタの変化が可能であり、かつ生産性が高い、周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、前記光の分割に、回折により光を分割する回折光学素子を用い、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記光源と前記回折光学素子との間に設け、分離した光束を露光面上で合成して露光することを特徴とする。
【００１８】
また、請求項２に記載の発明は、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記露光面に密着させて設け、分離した光束を露光面上で合成して露光することを特徴とする。
【００１９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の周期構造パターン形成方法において、前記分割後の光束を互いに対称とし、前記分割した光の露光面での照射を一致させることを特徴とする。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１又は２に記載の周期構造パターン形成方法において、前記分割後の光束を互いに対称とし、干渉させる光の光量を一致させることを特徴とする。
【００２１】
請求項５に記載の発明は、干渉性を有する光束を発する光源と、該光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、前記光を分割する分割手段は回折光学素子であり、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記光源と前記分割手段との間に設けたことを特徴とする。
【００２２】
請求項６に記載の発明は、干渉性を有する光束を発する光源と、該光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて露光面上に干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、空間的に濃淡のパターンを有する光学フィルタを前記露光面に密着させたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光を分割する分割手段として回折により光を分波する回折光学素子を使用し、空間的な濃淡パターンを有する光学フィルタを回折光学素子の前に設けているので、空間的に濃淡パターンを有する光学フィルタにより、非露光部の光量をゼロにしたまま露光部の光量を変化させることが可能になる。また光を分割する素子として回折を利用した光学素子を使っているため、露光面で合成するパターンが一致することになり、空間的にフィルファクタが変調した微細凹凸構造を有する光学素子を一括露光で作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して、本発明に係る周期構造パターン形成方法および露光装置の実施形態について詳細に説明する。
請求項１に記載の発明は、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、光の分割に回折により光を分割する回折光学素子を用い、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを、光源と回折光学素子との間に設けることを特徴とする。
【００２５】
請求項１に記載の発明に係る周期構造パターン形成方法を、図３を用いて説明する。
図３は、本発明に係る周期構造パターン形成装置（露光装置）の構成の一例を示した模式説明図である。
レーザ光源３１から出射されたレーザビーム３２を平行かつ適度なビーム径に調整する。この調整された光束はコヒーレントな光束であり、これを空間的な濃淡パターンが形成されたグレーフィルタ３３に通過させる。その後、この通過光を分割させるための回折格子３４に入射させる。回折格子３４によりこれら分割された光はそれぞれ、ミラー３５で反射させ、再び露光原盤３６上で２光束を重ねる。
【００２６】
ここで光を分割する素子としてはハーフミラーが簡易であり最も使われるが、本実施の形態では不都合が生じる。それは、グレーフィルタ３３を通過した光は空間的に濃淡分布を有しているが、フィルタの濃淡の分布が対称でない場合、露光面で分割された光を重ねても濃淡の分布が重ならない。そのため、所望のフィルファクタ分布になるようにグレーフィルタを入れても、露光面でそれが反映されないことになる。
【００２７】
しかし回折格子を使って光の分離を行うと、露光面上で光を合成させた時に位置関係がずれないため、目的としたフィルファクタ分布の微細周期構造の形成が可能になる。また、部分における各露光量が変化しているので、重ね露光の場合と異なり露光部と非露光部とのコントラストを下げずに、微細な周期凹凸構造を形成することができる。
【００２８】
請求項２に記載の発明では、光源からの光を２以上の光束に分離した光束を露光面上で合成して露光する周期構造パターン形成方法において、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを、露光面に密着させて設けることを特徴とする。
この場合も請求項１に記載の発明と同様、露光部と非露光部とのコントラストを下げることなく、微細な周期凹凸構造を形成することができる。また請求項２に記載の発明では、光学フィルタを薄くし、露光面に密着させて、位置合わせが容易になるという格別なメリットがある。
【００２９】
請求項３に記載の発明は、分波（分割）後の光束は互いに対称であり、分波した光の露光面での照射を一致させることを特徴とする。
このように分割した光を対称となる構成にし、露光面での合成する位置を一致させれば、グレーフィルタ上に形成された濃淡のパターンがそのまま光量の差になるため、目的とするフィルファクタの分布をもった微細周期構造を形成することができる。
【００３０】
請求項４に記載の発明は、分割後の光束は互いに対称であり、干渉させる光の光量を一致させることを特徴とする。すなわち、分波後の光路が互いに対称であり、干渉させる光の光量を略同一にしている。これは光を分波する回折格子の周期構造が、分派させる方向に対して対称にできていれば、例えば±１次光を２つの干渉光として使用する場合、２光束の光量が同じになる。干渉させる２光束の光の光量が同じ場合に、微細周期構造作製のための露光・非露光のコントラストが最大となるため、露光、現像後にだれの少ない急峻な凹凸構造を作製することが可能になる。
【００３１】
請求項５に記載の発明は、干渉性を有する光束を発する光源と、光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、光を分割する分割手段は回折光学素子であり、空間的な濃淡のパターンを有する光学フィルタを光源と分割手段との間に設けたことを特徴とする。
【００３２】
露光装置をこのような構成とすることにより、干渉露光においても空間的にフィルファクタの変化する分布を有する微細周期構造を作製することができる。
【００３３】
請求項６に記載の発明は、干渉性を有する光束を発する光源と、光源からの光を分割する分割手段とを有し、分割した光を再び合成させて露光面上に干渉パターンを形成する合成手段とを備えた干渉露光装置において、空間的に濃淡のパターンを有する光学フィルタを露光面に密着させたことを特徴とする。
これにより、空間的にフィルファクタの変化する分布を有する微細周期構造を容易に作製することができる。
【実施例１】
【００３４】
次に本発明の干渉露光装置の実施例について、図４を用いて説明する。
図４は、本発明に係る干渉露光装置の全体構成の一例を示す図である。
干渉露光を行うための光源として、コヒーレンス性の優れたレーザを用いるのが好ましい。本実施例では、露光面上に形成するパターンの解像度も考慮して、波長３５５ｎｍの紫外固体レーザ４０を用いた。このレーザ光源４０から出た光は、ミラー４８ａ、４８ｂで２回折り返された後、ビームエキスパンダ４１によってビーム径が広げられる。
【００３５】
これは、ビームエキスパンダ４１の真中にあるピンホールを通すことによってビームの整形を行うと同時に、ビーム径を広げて干渉露光をさせる面積を大きくし、生産性を上げる効果がある。そのビームエキスパンダ４１の後にシャッター４２が設置されている。シャッター４２による露光時間を調整可能であり、全体の露光量を設定することができる。
そのシャッター４２の後には、可変ピンホール４３が設置されている。ビームエキスパンダ４１でビーム径を広げ、この可変ピンホール４３で、実際に露光面に形成される干渉領域の面積およびその形状を決定することができる。
【００３６】
このようにしてビーム径が決定された後、空間的な濃淡を有する光学フィルタ４４を設置する。この光学フィルタ４４は、空間的に透過率を変化させるフィルタになっている。ポジ型フォトレジストを用いて図５(a)に示すような空間的にフィルファクタｆが変化（線形的にかつ周期的に変化）している微細周期構造を作製しようとする場合、図５(b)に示すのこぎり歯状の透過率を有する光学フィルタを使用する。
【００３７】
こののこぎり歯状のフィルタを通過した図２(a)に示す規則的な光強度を有する光束は、フィルファクタｆを小さくするところは光量を大きくし、フィルファクタｆを大きくするところは光量を小さくすることによって、ビーム（光束）の中に空間的な光量分布を作ると、光を干渉させたときに図５(c)に示すように干渉パターンの露光部の光量が光学フィルタの透過率に合わせて空間的に変化するようになる。このとき重ね露光した場合と異なり、非露光部の光量はほぼゼロとすることができる。これにより露光・非露光のコントラストが大きくなり、微細周期構造を解像度よく形成することができる。
尚、図５(a)は、空間的にファイルファクタｆが変化した微細周期構造であり、図５(b)は、のこぎり歯状の透過率を有する光学フィルタであり、図５(c)は、図５(a)に示した微細構造と図５(b)に示した光学フィルタとを組み合わせたときの透過分布と露光面での光量分布を示す図である。
【００３８】
このようにしてビームの中に空間的な光量分布を作った後、ビーム分波用の回折格子４５に光を通す。
本実施例では１つの光束を２光束に分割する構成を例にして説明した。ここでの回折格子には、ビームを垂直入射した場合＋１次光と−１次光とが逆方向に同じ角度で、同じ光量で出るような構造のものを使う。０次光が出る場合は、露光面にあたらないように光を止める必要がある。＋１次光と−１次光に分波（分割）された光は複数（図では２枚であるが限定されない）のミラー４６でそれぞれ反射して露光用基板４７に照射される。
【００３９】
ここで分波用素子として回折格子を使っているため、ビームに空間的な光量分布がある場合でも露光領域で２光束を合わせたときに分布が一致することになる。また２光束の光量が同じ場合には、非露光部分の光量がゼロになるため、コントラストを大きくすることができる。
【００４０】
露光基板６１面に形成される干渉パターンのピッチＡは図６に示す片側入射角度θ、露光波長λを使って、Ａ＝λ／sinθ と表せる。
図６は、本発明に係る干渉露光におけるピッチを決める要因の説明図である。
つまり露光波長λが光源波長で一定であるため、ピッチＡを変えるためには片側入射角度θを変えることになる。それには露光用基板の位置を微調整することによって、精密に変化させることができる。このようにして、一括に微細構造形成が可能な干渉露光法を用いて、空間的にフィルファクタの異なる構造を精密かつ容易に作製することが可能になる。
【実施例２】
【００４１】
本発明における干渉露光のもう一つの実施例を図７を参照しながら説明する。
図７は、本発明に係る干渉露光方法の一例を示した模式図である。
基本的構成は実施例１と同様の構成となっているが、光学フィルタを入れる場所、光を分割する方法が異なった方法を示している。ここでは光を２分割して２光束の干渉露光を行う方法及び露光装置を示す。
【００４２】
実施例１と同様に、本実施例では可変フィルタで適当な大きさ、形状に整形されたビームは、ハーフミラー８１により、透過光と、反射光とで５０％づつに分けられる。このときのハーフミラー８１は４５°入射のときに反射光と透過光の光量が同じになるものを選ぶ。ここではハーフミラー８１を用いたが、もちろん実施例１と同様回折格子を用いて光の分離を行ってもよい。
【００４３】
このようにして２光束に分けられた光を、ミラー８２によって基板上で合成し干渉させる。このとき、基板上に光学フィルタ８３を密着して設置する。この光学フィルタ８３は、所望のフィルファクタの分布に合わせて、空間的に透過率が変調されているものである。このときの光学フィルタ８３は露光面上の光量と空間的な分布とを一致させるためになるべく薄いものが好ましい。本実施例では、１００μｍ厚の光学フィルタを使用した。
【００４４】
このようにして、フォトレジスト上に空間的に露光量の異なる潜像が形成され、比較的簡易な方法で、フィルファクタが空間的に異なっている光学素子を作製することができる。
【実施例３】
【００４５】
本発明に係る周期パターンの形成方法および干渉露光装置を用いて作られる光学素子の作製方法を説明する。
表面を精密に研磨した平行平板状の円形の石英ガラス基板を用意し、その表面を純水により洗浄、さらにＵＶ／Ｏ3（紫外線／オゾン）により、有機物の洗浄を行った。洗浄後、表面のプライマー処理を行い、フォトレジストをスピンコート法により塗布し、膜厚２００ｎｍのフォトレジスト層を形成した。フォトレジストは、ｉ線系ポジ型フォトレジストを使用した。
【００４６】
フォトレジスト層が形成された石英基板をホットプレートに載せ、１００℃、９０秒間熱処理し、フォトレジスト中の溶媒を蒸発させ、感度を安定化させた。このようにして作製されたフォトレジスト基板を、干渉露光装置に載せた。ピッチＡは露光基板への入射角度を変えることによって調整し、所望のフィルファクタ分布を得るためのパターンを、光学フィルタに濃淡のパターンとして形成した。全体の露光パワーは、レーザ光源のパワーを一定にし、シャッターを開けておく時間を制御することによって調節した。
このようにして露光パターンが形成された後、現像、リンス、乾燥処理を行って、露光された部分を除去し、空間的にフィルファクタが変化している微細凹凸パターンを形成した。
【００４７】
その後、Ｃｒ蒸着を行い、厚さ１００ｎｍのＣｒ蒸着膜を形成した。続いて有機溶媒を用いてリフトオフを行い、レジストパターンを除去した。このようにして石英ガラス基板上に残ったＣｒ蒸着膜をマスクとして、ＣＦ4ガスを導入してＲＩＥ（Reactive Ion Etching）エッチングを行う。Ｃｒ蒸着膜は石英ガラス基板との選択比を大きくとれるため、石英ガラス基板を深く、垂直に近くエッチングすることが可能になる。この実施例では、石英ガラス基板は１．５μｍエッチングを行った。ここでエッチングを深くする代わりに、基板表面にＴｉＯ2などの光屈折率膜を形成し、その薄膜をエッチングすることも可能である。このとき薄膜は高屈折率であるため、エッチング深さを浅くできるというメリットがある。
最後に、石英ガラス基板の表面に残ったＣｒパターンを過塩素酸と硝酸アンモニウムセリウムの混合液を用いて除去し、微細凹凸構造を有する光学素子が得られる。
【実施例４】
【００４８】
微細構造を有する光学素子作製用型の作製方法を説明する。
実施例３より得られた微細凹凸構造を有するガラス基板を用い、表面にＮｉのスパッタ薄膜を形成させる。Ｎｉのスパッタ膜厚は５０ｎｍとした。このＮｉ薄膜を電極として、Ｎｉによる電鋳を行った。はじめは弱電流密度で通電し、その後所定の通電量まで上昇させ、電鋳初期のピットや剥離を防止するようにした。このようにして、厚さ３００μｍの電鋳層を形成し、石英ガラスから基板を剥離することにより、型押し用のスタンパを得ることができた。
【００４９】
本発明のパターン形成方法およびパターン形成装置は、上記した各実施例においてその数値等は単なる例示であり、その数値等は単なる例示に過ぎず、また、光源の数、分割した光束数などは、説明上使用したに過ぎず、本発明は、これらの数に制限されて解釈されるべきものではないのは当然である。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明に係る周期構造パターン形成方法及び干渉露光装置は、光学的な波長よりも１桁以下の大きさのサイズに使用可能な技術である。このような微細技術は、光学系の様々な素子の製造等に応用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】フィルファクタが空間的に徐々に変化（一次関数的に減少）している光学素子のサブ波長構造を示す模式図である。
【図２】従来のフィルファクタ変調のための露光法の模式説明図である。
【図３】本発明に係る周期構造パターン形成装置（露光装置）の構成の一例を示した模式説明図である。
【図４】本発明に係る干渉露光装置の全体構成の一例を示す図である。
【図５】(a)は、空間的にファイルファクタｆが変化した微細周期構造であり、(b)は、のこぎり歯状の透過率を有する光学フィルタであり、(c)は、(a)に示した微細構造と(b)に示した光学フィルタとを組み合わせたときの透過分布と露光面での光量分布を示す図である。
【図６】本発明に係る干渉露光におけるピッチを決める要因の説明図である。
【図７】本発明に係る干渉露光方法の一例を示した模式図である。
【符号の説明】
【００５２】
２１    非露光部の露光量レベル
２２    露光部の露光量レベル
３１、４０    レーザ光源
３２    レーザビーム
３３    グレーフィルタ
３４、４５    回折格子
３５、４６、４８a、４８ｂ、８２    ミラー
３６    露光原盤
４１    ビームエキスパンダ
４２    シャッター
４３    可変ピンホール
４４、８３    光学フィルタ
４７、６１、８４    露光用基板
８１    ハーフミラー
８５    露光用ビーム
８３    光学フィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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