(57)【要約】【課題】異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止する。【解決手段】マスク２に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。また、基板１に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスク２と基板１との位置合わせを行う。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光装置であって、
マスク及び基板が、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークを有し、
マスクと基板との位置合わせを行う位置合わせ手段と、
マスクのアライメントマーク及び基板のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得手段と、
前記複数の画像取得手段が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出する画像信号処理手段と、
前記画像信号処理手段の検出結果に基づき、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とがそれぞれ合う様に前記位置合わせ手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とするカラーフィルタ基板の露光装置。
【請求項２】
マスク及び基板が、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを有することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の露光装置。
【請求項３】
マスク及び基板が、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを有することを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板の露光装置。
【請求項４】
アライメントマークが、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とから成ることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の露光装置。
【請求項５】
１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光方法であって、
着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設け、
マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスクと基板との位置合わせを行うことを特徴とするカラーフィルタ基板の露光方法。
【請求項６】
着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルタ基板の露光方法。
【請求項７】
着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルタ基板の露光方法。
【請求項８】
アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成することを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等のカラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法に係り、特に１つのマスクを用いて複数の着色パターンの露光を行うのに好適なカラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板とカラーフィルタ基板との間に液晶を封入して構成されている。カラーフィルタ基板の製造は、露光装置を用いたフォトリソグラフィー技術により、基板上にブラックマトリクス及びＲ、Ｇ、Ｂの着色パターンを形成して行われる。着色パターンの露光は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３回に分けて行われるが、露光用のマスクが高価なため、通常、１つのマスクを用いて３つの着色パターンの露光を順番に行っている。
【０００３】
マスク及び基板には、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークが、着色パターン毎にそれぞれ設けられている。露光装置は、アライメントマークの画像を取得する画像センサーを有し、画像センサーの画像信号を処理してマスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出し、マスクと基板との位置合わせを行った後に基板の露光を行う。なお、この様な露光装置としては、例えば、特許文献１に記載のものがある。
【特許文献１】特開２００５−１８１９３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークの形状は、露光装置において画像信号の処理を容易にするため、各着色パターンについて同じであった。従って、露光装置の操作者は、アライメントマークの形状から、そのアライメントマークがどの着色パターン用のものであるかを識別することができなかった。このため、従来は、アライメントマークの近傍に「Ｒ」、「Ｇ」、「Ｂ」等の表示を付けていた。しかしながら、この様な表示は、露光装置において画像信号の処理を容易にするため、画像センサーの視野から外れる場所にしか設けることができなかった。従って、画像センサーで取得した画像から、そのアライメントマークがどの着色パターン用のものであるかを識別することはできなかった。
【０００５】
また、一般に、アライメントマークは、マスクに対する基板のθ方向の回転を防止するため、マスク及び基板の周辺部に複数設けられているが、従来は、複数のアライメントマークの間隔が、各着色パターンについて同じであった。従って、マスクと基板とで異なる着色パターン用のアライメントマークを選択しても、複数のアライメントマークの位置をそれぞれ合わせることができるという不都合があった。このため、誤って、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行う恐れがあり、その結果、製品の不良が発生するという問題があった。
【０００６】
図１１は、従来のアライメントマークの配置の一例を示す図である。本例は、縦方向に長い着色パターンを露光する場合である。図１１（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図１１（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。図１１（ｂ）において、基板１には、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔は、すべて同じあり、今、これらの間隔をＡとする。また、基板１に露光されるＲの着色パターン１Ｒ，Ｇの着色パターン１Ｇ、及びＢの着色パターン１Ｂのピッチを、Ｐとする。
【０００７】
図１１（ａ）において、マスク２には、露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃが設けられており、また、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔は、すべて同じあり、これらの間隔はＡ＋Ｐである。
【０００８】
図１２は、正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｇとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより、着色パターン１Ｇが基板１上の正しい位置に露光される。
【０００９】
図１３は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｒとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより露光される着色パターン１Ｇは、正しい位置からずれるので、製品の不良が発生する。
【００１０】
図１４は、従来のアライメントマークの配置の他の例を示す図である。本例は、横方向に長い着色パターンを露光する場合である。図１４（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図１４（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。図１４（ｂ）に示す様に、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂは、図１１（ｂ）と同様の配置である。
【００１１】
図１４（ａ）において、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂは、それぞれ縦方向に着色パターンのピッチＰだけずれている。隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔はすべて同じあり、これらの間隔はＡである。
【００１２】
図１５は、正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、図１２と同様、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｇとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより、着色パターン１Ｇが基板１上の正しい位置に露光される。
【００１３】
図１６は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、図１３と同様、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｒとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより露光される着色パターン１Ｇは、正しい位置からずれるので、製品の不良が発生する。
【００１４】
本発明の課題は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止することである。また、本発明の課題は、アライメントマークの画像から、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明のカラーフィルタ基板の露光装置は、１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光装置であって、マスク及び基板が、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークを有し、マスクと基板との位置合わせを行う位置合わせ手段と、マスクのアライメントマーク及び基板のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得手段と、複数の画像取得手段が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出する画像信号処理手段と、画像信号処理手段の検出結果に基づき、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とがそれぞれ合う様に位置合わせ手段を制御する制御手段とを備えたものである。
【００１６】
また、本発明のカラーフィルタ基板の露光方法は、１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光方法であって、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設け、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスクと基板との位置合わせを行うものである。
【００１７】
着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けるので、マスクと基板とで異なる着色パターン用のアライメントマークを用いた場合、１箇所でアライメントマークの位置を合わせても、他の箇所ではアライメントマークの位置が合わない。従って、誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うことがない。
【００１８】
着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けてもよく、また着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けてもよい。マスク及び基板の周辺部には、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークだけでなく、他のアライメントマーク、パターンの重ね合わせ精度等の検査用マーク、製品識別情報等が設けられる。着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設けると、マスク及び基板の縦方向の周辺部では、他のマークや製品識別情報等のために必要な空間が制約を受けない。逆に、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設けると、マスク及び基板の横方向の周辺部では、他のマークや製品識別情報等のために必要な空間が制約を受けない。
【００１９】
また、本発明のカラーフィルタ基板の露光装置は、アライメントマークが、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とから成るものである。また、本発明のカラーフィルタ基板の露光方法は、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成するものである。アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分によって、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。また、各着色パターンに共通な部分を、従来のアライメントマークと同様の形状とすると、それらの画像信号に従来と同様の処理を行って、マスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設け、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスクと基板との位置合わせを行うことにより、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止することができる。
【００２１】
さらに、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることにより、マスク及び基板の縦方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。逆に、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることにより、マスク及び基板の横方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。
【００２２】
さらに、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成することにより、アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分によって、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、本発明の一実施の形態によるカラーフィルタ基板の露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式の露光装置の例を示している。露光装置は、チャック１０、ベース１３、Ｘガイド１４、Ｘステージ１５、Ｙガイド１６、Ｙステージ１７、θステージ１８、Ｚ−チルト機構１９、マスクホルダ２０、カメラ３０、カメラ移動機構３１、入出力装置４０、画像信号処理装置５０、制御装置６０、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７、θステージ駆動回路７８、及びＺ−チルト機構駆動回路７９を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、露光用光源、基板１を搬入する搬入ユニット、基板１を搬出する搬出ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。
【００２４】
図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスクホルダ２０によってマスク２が保持されている。基板１は、露光位置から離れた受け渡し位置において、図示しない搬入ユニットによりチャック１０へ搭載され、また図示しない搬出ユニットによりチャック１０から回収される。
【００２５】
チャック１０は、Ｚ−チルト機構１９を介してθステージ１８に搭載されており、θステージ１８の下にはＹステージ１７及びＸステージ１５が設けられている。Ｘステージ１５は、ベース１３に設けられたＸガイド１４に沿ってＸ方向
（図面横方向）へ移動する。Ｘステージ１５のＸ方向への移動によって、チャック１０は受け渡し位置と露光位置との間を移動する。Ｙステージ１７は、Ｘステージ１５に設けられたＹガイド１６に沿ってＹ方向（図面奥行き方向）へ移動する。θステージ１８はθ方向へ回転し、Ｚ−チルト機構１９はＺ方向（図面縦方向）へ移動及びチルトする。
【００２６】
露光位置において、Ｘステージ１５のＸ方向への移動、Ｙステージ１７のＹ方向への移動、及びθステージ１８のθ方向への回転によって、マスク２に対する基板１の位置合わせが行われる。また、Ｚ−チルト機構１９のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ制御が行われる。Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７、θステージ駆動回路７８、又はＺ−チルト機構駆動回路７９は、制御装置６０の制御により、それぞれＸステージ１５、Ｙステージ１７、θステージ１８、又はＺ−チルト機構１９を駆動する。
【００２７】
マスクホルダ２０の上空には、複数のカメラ３０が設置されている。各カメラ３０は、マスク２のアライメントマーク及び基板１のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を画像信号処理装置５０へ出力する。画像信号処理装置５０は、複数のカメラ３０が出力した画像信号を処理して、マスク２のアライメントマークの位置と基板１のアライメントマークの位置とのずれ量を検出し、検出結果を制御装置６０へ出力する。制御装置６０は、画像信号処理装置５０の検出結果に基づき、Ｘステージ１５、Ｙステージ１７及びθステージ１８の移動量を算出し、移動指令信号をＸステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７又はθステージ駆動回路７８へ出力する。
【００２８】
Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７又はθステージ駆動回路７８は、制御装置６０の移動指令信号に従って、それぞれＸステージ１５、Ｙステージ１７又はθステージ１８を駆動する。これにより、マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とがそれぞれ合う様に基板１が移動され、マスク２に対する基板１の位置合わせが行われる。
【００２９】
図２は、本発明の一実施の形態によるアライメントマークの一例を説明する図である。図２（ａ）はマスク２に設けるＲの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｂ）はマスク２に設けるＧの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｃ）はマスク２に設けるＢの着色パターン用のアライメントマークを示す。また、図２（ｄ）は基板１に設けるＲの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｅ）は基板１に設けるＧの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｆ）は基板１に設けるＢの着色パターン用のアライメントマークを示す。
【００３０】
本発明では、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成する。図２（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す様に、マスク２に設けるアライメントマークは、各着色パターンに共通な部分４Ｒ，４Ｇ，４Ｂと、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂとで構成されている。着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂは、形状は同じであるが、着色パターン毎に配置が異なっている。
【００３１】
また、図２（ｄ），（ｅ），（ｆ）に示す様に、基板１に設けるアライメントマークは、各着色パターンに共通な部分３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂとで構成されている。着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、形状は同じであるが、着色パターン毎に配置が異なっている。
【００３２】
本実施の形態においては、各着色パターンの露光を行う前に、露光装置の操作者が、マスク２に設けられた３種類のアライメントマークのうち位置合わせに用いるアライメントマークを指定し、また基板１に設けられた３種類のアライメントマークのうち位置合わせに用いるアライメントマークを指定して、露光装置へ登録する。
【００３３】
図１において、まず、制御装置６０は、カメラ３０がマスク２に設けられた３種類のアライメントマークの画像を順次取得する様に、カメラ移動機構３１を制御して、カメラ３０を移動する。各カメラ３０が取得したマスク２のアライメントマークの画像は、画像信号処理装置５０から入出力装置４０へ送られて、入出力装置４０に表示される。操作者は、入出力装置４０に表示されたマスク２のアライメントマークの画像を見て、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別し、露光を行う着色パターン用のアライメントマークを位置合わせに用いるアライメントマークとして入出力装置４０により指定する。制御装置６０は、カメラ３０がマスク２の指定されたアライメントマークの画像を取得する様に、カメラ移動機構３１を制御する。
【００３４】
続いて、制御装置６０は、カメラ３０が基板１に設けられた３種類のアライメントマークの画像を順次取得する様に、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７及びθステージ駆動回路７８を制御して、基板１を移動する。各カメラ３０が取得した基板１のアライメントマークの画像は、画像信号処理装置５０から入出力装置４０へ送られて、入出力装置４０に表示される。操作者は、入出力装置４０に表示された基板１のアライメントマークの画像を見て、着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別し、露光を行う着色パターン用のアライメントマークを位置合わせに用いるアライメントマークとして入出力装置４０により指定する。制御装置６０は、カメラ３０が基板１の指定されたアライメントマークの画像を取得する様に、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７及びθステージ駆動回路７８を制御する。
【００３５】
画像信号処理装置５０は、複数のカメラ３０が出力した画像信号を処理する際、マスク２のアライメントマークの着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ、及び基板１のアライメントマークの着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを認識し、それらの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別して、識別結果を制御装置６０へ出力する。制御装置６０は、画像信号処理装置５０の識別結果に基づき、各カメラ３０の画像について、マスク２のアライメントマークと基板１のアライメントマークとが同じ着色パターン用のものであるか否かを判断する。マスク２のアライメントマークと基板１のアライメントマークとが違う着色パターン用のものであると判断した場合、制御装置６０は、エラー表示を入出力装置４０に表示する。
【００３６】
本実施の形態によれば、露光装置の操作者及び画像信号処理装置５０は、カメラ３０で取得した各アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの配置、あるいは着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの配置によって、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。
【００３７】
また、マスク２に設ける各着色パターンに共通な部分４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ、及び基板１に設ける各着色パターンに共通な部分３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを、従来のアライメントマークと同様の形状とすると、画像信号処理装置５０は、それらの画像信号に従来と同様の処理を行って、マスク２のアライメントマークの位置と基板１のアライメントマークの位置とのずれ量を検出することができる。このとき、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ、５Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、小さな点であるので、画像信号の処理に影響を与えない。
【００３８】
さらに、本実施の形態によれば、もし、操作者が誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを登録しても、エラー表示を入出力装置４０に表示するので、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うのを防止することができる。
【００３９】
図３は、本発明の一実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。また、図４は、本発明の他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１１と同様に縦方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図３（ａ）及び図４（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図３（ｂ）及び図４（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。
【００４０】
図３（ｂ）及び図４（ｂ）において、基板１には、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来は、図１１（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡであった。
【００４１】
図３（ｂ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。
【００４２】
図４（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。
【００４３】
図３（ａ）及び図４（ａ）において、マスク２には、露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃが設けられており、また、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来は、図１１（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡ＋Ｐであった。
【００４４】
図３（ａ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｐ＋Ｘとなっている。
【００４５】
図４（ａ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｐ−Ｘとなっている。
【００４６】
図５及び図６は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１４と同様に横方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図５（ａ）及び図６（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図５（ｂ）及び図６（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。
【００４７】
従来は、図１４（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡであった。また、図１４（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔も、すべて同じＡであった。
【００４８】
図５（ｂ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。
【００４９】
図６（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。
【００５０】
図５（ａ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。
【００５１】
図６（ａ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。
【００５２】
図３及び図５に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ短くなっている。
【００５３】
同様に、図３及び図５に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ短くなっている。
【００５４】
図４及び図６に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ短くなっている。
【００５５】
同様に、図４及び図６に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ短くなっている。
【００５６】
この様に、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けるので、マスク２と基板１とで異なる着色パターン用のアライメントマークを用いた場合、１箇所でアライメントマークの位置を合わせても、他の箇所ではアライメントマークの位置が合わない。従って、誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うことがない。
【００５７】
図３乃至図６に示した実施の形態によれば、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けることにより、マスク２及び基板１の縦方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。
【００５８】
図７及び図８は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１１と同様に縦方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図７（ａ）及び図８（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図７（ｂ）及び図８（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。
【００５９】
従来は、図１１（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒ，３Ｇ，３Ｇが、縦方向に同じ高さに配置されていた。また、図１１（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒ，４Ｇ，４Ｇも、縦方向に同じ高さに配置されていた。
【００６０】
図７（ｂ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６１】
図８（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６２】
図７（ａ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６３】
図８（ａ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６４】
図９及び図１０は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１４と同様に横方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図９（ａ）及び図１０（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図９（ｂ）及び図１０（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。
【００６５】
従来は、図１４（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒ，３Ｇ，３Ｇが、縦方向に同じ高さに配置されていた。また、図１４（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、すべて同じＰであった。
【００６６】
図９（ｂ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６７】
図１０（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。
【００６８】
図９（ａ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、縦方向にＹだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｐ＋Ｙとなっている。
【００６９】
図１０（ａ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＹだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙ−Ｐとなっている（但し、これはＹ＞Ｐの場合であって、Ｙ＜Ｐの場合には、Ｐ−Ｙとなる）。
【００７０】
図７及び図９に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ短くなっている。
【００７１】
同様に、図７及び図９に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ短くなっている。
【００７２】
図８及び図１０に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ短くなっている。
【００７３】
同様に、図８及び図１０に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ短くなっている。
【００７４】
この様に、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けるので、マスク２と基板１とで異なる着色パターン用のアライメントマークを用いた場合、１箇所でアライメントマークの位置を合わせても、他の箇所ではアライメントマークの位置が合わない。従って、誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うことがない。
【００７５】
図７乃至図１０に示した実施の形態によれば、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けることにより、マスク２及び基板１の横方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。
【００７６】
以上説明した実施の形態によれば、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設け、マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスク１と基板２との位置合わせを行うことにより、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の一実施の形態によるカラーフィルタ基板の露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態によるアライメントマークの一例を説明する図である。
【図３】本発明の一実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図４】本発明の他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図５】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図６】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図７】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図８】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図９】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図１０】本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図１１】従来のアライメントマークの配置の一例を示す図である。
【図１２】正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。
【図１３】異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。
【図１４】従来のアライメントマークの配置の他の例を示す図である。
【図１５】正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。
【図１６】異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。
【符号の説明】
【００７８】
１  基板
１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ  着色パターン
２  マスク
２ａ，２ｂ，２ｃ  露光用パターン
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ，４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ  アライメントマーク（各着色パターンに共通な部分）
５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ，６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ  アライメントマーク（着色パターン毎に特有な部分）
１０  チャック
１３  ベース
１４  Ｘガイド
１５  Ｘステージ
１６  Ｙガイド
１７  Ｙステージ
１８  θステージ
１９  Ｚ−チルト機構
２０  マスクホルダ
３０  カメラ
３１  カメラ移動機構
４０  入出力装置
５０  画像信号処理装置
６０  制御装置
７５  Ｘステージ駆動回路
７７  Ｙステージ駆動回路
７８  θステージ駆動回路
７９  Ｚ−チルト機構駆動回路  
【図１】
2007256581.tif 000003
【図２】
2007256581.tif 000004
【図３】
2007256581.tif 000005
【図４】
2007256581.tif 000006
【図５】
2007256581.tif 000007
【図６】
2007256581.tif 000008
【図７】
2007256581.tif 000009
【図８】
2007256581.tif 000010
【図９】
2007256581.tif 000011
【図１０】
2007256581.tif 000012
【図１１】
2007256581.tif 000013
【図１２】
2007256581.tif 000014
【図１３】
2007256581.tif 000015
【図１４】
2007256581.tif 000016
【図１５】
2007256581.tif 000017
【図１６】
2007256581.tif 000018