(57)【要約】【課題】各種の描画対象体に対して十分に小さい図画を容易に描画し得る描画方法を提供する。【解決手段】描画対象体（物体：基材１０）の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画Ｇａ（星の絵）を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置（形成位置Ｐｂ１０，Ｐｃ１０・・）に描画用ビームを照射して描画用ビームの照射領域に描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点（マーク４ａ）を所定位置に形成して図画Ｇａを描画する。【選択図】図３
2007146224.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画対象体の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画を構成する各画素に対応する当該一面上の各所定位置に描画用ビームを照射して当該描画用ビームの照射領域に前記描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、当該描画対象体の前記一面とは電気抵抗値が相違する点を前記所定位置に形成して前記図画を描画する描画方法。
【請求項２】
前記描画すべき図画における前記各画素毎の色情報または階調情報に応じた電気抵抗値の前記点を前記各所定位置毎に形成する請求項１記載の描画方法。
【請求項３】
請求項１記載の描画方法に従って前記図画が描画された物体から当該図画を読み取る際に、
前記物体の一面における各部位と、前記物体における前記各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、当該各部位と当該所定部位との間を導通する電流値を当該各部位毎に測定し、当該各部位毎に測定した電流値に基づいて前記一面における前記点の形成位置を特定して前記図画を読み取る読取り方法。
【請求項４】
請求項２記載の描画方法に従って前記図画が描画された物体から当該図画を読み取る際に、
前記物体の一面における各部位と、前記物体における前記各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、当該各部位と当該所定部位との間を導通する電流値を当該各部位毎に測定し、当該各部位毎に測定した電流値に基づいて前記一面における前記点の形成位置を特定すると共に当該測定した電流値に基づいて当該点に対応付けられた前記色情報または前記階調情報を特定して前記図画を読み取る読取り方法。
【請求項５】
描画対象体の一面に描画用ガスを吹き付けるガス吹き付け部と、当該描画対象体に描画用ビームを照射するビーム照射部と、前記ガス吹き付け部および前記ビーム照射部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記ガス吹き付け部を制御して前記描画用ガスを前記一面に吹き付けさせると共に、描画すべき図画を構成する各画素に対応する前記一面の各所定位置に前記ビーム照射部を制御して前記描画用ビームを照射させて当該描画用ビームの照射領域に前記描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、当該描画対象体の前記一面とは電気抵抗値が相違する点を前記所定位置に形成して前記図画を描画する描画装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記ガス吹き付け部および前記ビーム照射部を制御して前記描画すべき図画における前記各画素毎の色情報または階調情報に応じた電気抵抗値の前記点を前記各所定位置毎に形成させる請求項５記載の描画装置。
【請求項７】
請求項１記載の描画方法に従って前図画が描画された物体から当該図画を読取り可能に構成され、
前記物体の一面における各部位および当該物体における当該各部位とは相違する所定部位の間に電圧を印加する電圧印加部と、前記各部位および前記所定部位の間を導通する電流値を測定する電流測定部と、前記電圧印加部および前記電流測定部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記電圧印加部を制御して前記電圧を印加させると共に前記電流測定部を制御して前記電流値を測定させ、前記各部位毎に測定された電流値に基づいて前記一面における前記各点の形成位置を特定して前記図画を読み取る読取り装置。
【請求項８】
請求項２記載の描画方法に従って前図画が描画された物体から当該図画を読取り可能に構成され、
前記物体の一面における各部位および当該物体における当該各部位とは相違する所定部位の間に電圧を印加する電圧印加部と、前記各部位および前記所定部位の間を導通する電流値を測定する電流測定部と、前記電圧印加部および前記電流測定部を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記電圧印加部を制御して前記電圧を印加させると共に前記電流測定部を制御して前記電流値を測定させ、前記各部位毎に測定された電流値に基づいて前記一面における前記各点の形成位置を特定すると共に当該測定した電流値に基づいて当該点に対応付けられた前記色情報または前記階調情報を特定して前記図画を読み取る読取り装置。
【請求項９】
前記物体から読み取った前記図画を表示する表示部を備え、
前記制御部は、前記特定した前記形成位置に対応して図画表示用の点を前記表示部に表示させる請求項７または８記載の読取り装置。
【請求項１０】
請求項１または２記載の描画方法に従って前記図画が前記一面に描画されている物体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
描画すべき図画を構成する各画素に対応する複数の点を描画対象体に形成することによって図画を描画する描画方法および描画装置、その描画方法に従って図画が描画された物体、並びに、その物体から図画を読み取る読取り方法および読取り装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の描画方法として、ステンレス製の板等の描画対象物にレーザービームを照射することで絵柄（図画）等を多色で描画する描画方法が特開２００４−８２４９３号公報に開示されている。この描画方法では、まず、クロム酸と硫酸とを含有する溶液にステンレス製の板（以下、「金属板」ともいう）を浸漬する。この際には、溶液に対する金属板の浸漬時間に応じて、最初に、金属板の表面にアンバーの酸化被膜が形成され、次いで、アンバーの酸化被膜の上にブルーの酸化被膜が形成され、続いて、ゴールドの酸化被膜、レッドの酸化被膜、グリーンの酸化被膜、およびスーパブラックの酸化被膜が各酸化被膜の上に順次形成される。次いで、描画すべき図画に応じて金属板（酸化被膜）にレーザービームを照射することで金属板上から所望の酸化被膜を部分的に（点的に）除去することにより、金属板上に所望の色の点（凹部）を形成する。具体的には、例えばグリーンの点を金属板上に形成する際には、スーパブラックの酸化被膜のみが金属板上から除去されるようにレーザービームを照射する。また、レッドの点を金属板上に形成する際には、スーパブラックの酸化被膜とグリーンの酸化被膜とが金属板上から除去されるようにレーザービームを照射する。このように、描画すべき図画に応じてアンバー、ブルー、ゴールド、レッドおよびグリーンのいずれかの点を金属板上に形成することで金属板に対する図画の描画処理が完了する。
【特許文献１】特開２００４−８２４９３号公報（第３−４頁、第１−４図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、従来の描画方法には、以下の問題点がある。すなわち、従来の描画方法では、酸化処理用の溶液に浸漬することで色の相違する酸化被膜を金属板の上に形成し、所望の色の酸化被膜を露出させることで所望の色の点を形成して図画を描画している。したがって、従来の描画方法には、酸化被膜の形成が困難な各種の物体（例えば、樹脂成形品やガラス製品等）に図画を描画することができないという問題点がある。また、従来の描画方法に従って例えば２５６色の図画を描画しようとしたときには、金属板の上に色が相違する２５６層の酸化被膜を形成する必要がある。このため、従来の描画方法には、描画すべき図画を構成する点の色数が多いときに（多色の図画を描画するときに）、多数の酸化被膜を形成する処理が非常に煩雑であるという問題点も存在する。一方、今日では、製造メーカや商品のロゴなどを電子部品や機械部品等に描画することが一般的に行われている。この場合、ナノテクノロジーの発展が目まぐるしい今日においては、電子部品や機械部品等の微細化に伴い、製造メーカ等のロゴを描画すべき描画対象体が非常に小さくなっている。また、描画対象体が十分に大きい場合であっても、例えば、肉眼での認識が困難な程度に十分に小さい図画を描画したいこともある。しかしながら、従来の描画方法では、レーザービームの照射部位を金属板上から除去することで図画を描画しているため、レーザービームのビームウエスト径を下回る直径の点を形成することができない。したがって、従来の描画方法には、極く小さな図画を描画するのが困難であるため、微細化が進む各種の部品等にロゴ等の図画を描画するのが困難であると共に、十分に小さい図画を描画するのが困難であるという問題点も存在する。
【０００４】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、各種の描画対象体に対して十分に小さい図画を容易に描画し得る描画方法および描画装置、その描画方法に従って描画された図画を確実に読み取ることが可能な読取り方法および読取り装置、並びに、図画が描画された物体を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく本発明に係る描画方法は、描画対象体の一面に描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画を構成する各画素に対応する当該一面上の各所定位置に描画用ビームを照射して当該描画用ビームの照射領域に前記描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、当該描画対象体の前記一面とは電気抵抗値が相違する点を前記所定位置に形成して前記図画を描画する。
【０００６】
また、本発明に係る描画方法は、前記描画すべき図画における前記各画素毎の色情報または階調情報に応じた電気抵抗値の前記点を前記各所定位置毎に形成する。
【０００７】
また、本発明に係る読取り方法は、上記の描画方法に従って前記図画が描画された物体から当該図画を読み取る際に、前記物体の一面における各部位と、前記物体における前記各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、当該各部位と当該所定部位との間を導通する電流値を当該各部位毎に測定し、当該各部位毎に測定した電流値に基づいて前記一面における前記点の形成位置を特定して前記図画を読み取る。
【０００８】
また、本発明に係る読取り方法は、上記の描画方法に従って前記図画が描画された物体から当該図画を読み取る際に、前記物体の一面における各部位と、前記物体における前記各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、当該各部位と当該所定部位との間を導通する電流値を当該各部位毎に測定し、当該各部位毎に測定した電流値に基づいて前記一面における前記点の形成位置を特定すると共に当該測定した電流値に基づいて当該点に対応付けられた前記色情報または前記階調情報を特定して前記図画を読み取る。
【０００９】
また、本発明に係る描画装置は、描画対象体の一面に描画用ガスを吹き付けるガス吹き付け部と、当該描画対象体に描画用ビームを照射するビーム照射部と、前記ガス吹き付け部および前記ビーム照射部を制御する制御部とを備え、前記制御部が、前記ガス吹き付け部を制御して前記描画用ガスを前記一面に吹き付けさせると共に、描画すべき図画を構成する各画素に対応する前記一面の各所定位置に前記ビーム照射部を制御して前記描画用ビームを照射させて当該描画用ビームの照射領域に前記描画用ガス中の描画材料を堆積させることにより、当該描画対象体の前記一面とは電気抵抗値が相違する点を前記所定位置に形成して前記図画を描画する。
【００１０】
さらに、本発明に係る描画装置は、前記制御部が、前記ガス吹き付け部および前記ビーム照射部を制御して前記描画すべき図画における前記各画素毎の色情報または階調情報に応じた電気抵抗値の前記点を前記各所定位置毎に形成させる。
【００１１】
また、本発明に係る読取り装置は、上記の描画方法に従って前図画が描画された物体から当該図画を読取り可能に構成され、前記物体の一面における各部位および当該物体における当該各部位とは相違する所定部位の間に電圧を印加する電圧印加部と、前記各部位および前記所定部位の間を導通する電流値を測定する電流測定部と、前記電圧印加部および前記電流測定部を制御する制御部とを備え、前記制御部が、前記電圧印加部を制御して前記電圧を印加させると共に前記電流測定部を制御して前記電流値を測定させ、前記各部位毎に測定された電流値に基づいて前記一面における前記各点の形成位置を特定して前記図画を読み取る。
【００１２】
また、本発明に係る読取り装置は、上記の描画方法に従って前図画が描画された物体から当該図画を読取り可能に構成され、前記物体の一面における各部位および当該物体における当該各部位とは相違する所定部位の間に電圧を印加する電圧印加部と、前記各部位および前記所定部位の間を導通する電流値を測定する電流測定部と、前記電圧印加部および前記電流測定部を制御する制御部とを備え、前記制御部が、前記電圧印加部を制御して前記電圧を印加させると共に前記電流測定部を制御して前記電流値を測定させ、前記各部位毎に測定された電流値に基づいて前記一面における前記各点の形成位置を特定すると共に当該測定した電流値に基づいて当該点に対応付けられた前記色情報または前記階調情報を特定して前記図画を読み取る。
【００１３】
さらに、本発明に係る読取り装置は、前記物体から読み取った前記図画を表示する表示部を備え、前記制御部が、前記特定した前記形成位置に対応して図画表示用の点を前記表示部に表示させる。
【００１４】
また、本発明に係る物体は、上記の描画方法に従って前記図画が前記一面に描画されている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る描画方法および描画装置によれば、描画対象体の一面に描画材料を含む描画用ガスを吹き付けると共に描画すべき図画を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置に描画用ビームを照射して描画用ビームの照射領域に描画用ガス中の描画材料を堆積させることで描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点を所定位置に形成して図画を描画することにより、描画対象体の表面に図画描画用の酸化被膜を形成することなく、各画素に対応する点を描画対象体の表面に直接形成して図画を描画することができる。したがって、酸化被膜の形成自体が困難な各種の描画対象体に対して所望の図画を描画することができる。また、本発明における描画用ビームとしてそのビームウエスト径が十分に小さいビームを使用することで、その大きさが十分に小さい複数の点で形成した十分に小さい図画を確実かつ容易に描画することができる。
【００１６】
また、本発明に係る描画方法および描画装置によれば、描画すべき図画における各画素毎の色情報または階調情報に応じた電気抵抗値の点を各所定位置毎に形成することにより、描画すべき図画に用いる色数に応じて多数の酸化被膜を形成する必要がある従来の描画方法とは異なり、描画対象体の表面に予め規定された電気抵抗値の点を形成するだけで、多色の図画を確実かつ容易に描画することができる。
【００１７】
また、本発明に係る読取り方法および読取り装置によれば、上記の描画方法に従って図画が描画された物体から図画を読み取る際に、物体の一面における各部位と、物体における各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、各部位と所定部位との間を導通する電流値を各部位毎に測定し、各部位毎に測定した電流値に基づいて一面における点の形成位置を特定して図画を読み取ることにより、その大きさが十分に小さくなるように図画が描画されていたとしても、物体に描画されている図画を確実かつ容易に読み取ることができる。
【００１８】
また、本発明に係る読取り方法および読取り装置によれば、上記の描画方法に従って図画が描画された物体から図画を読み取る際に、物体の一面における各部位と、物体における各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、各部位と所定部位との間を導通する電流値を各部位毎に測定し、各部位毎に測定した電流値に基づいて一面における点の形成位置を特定すると共に測定した電流値に基づいて点に対応付けられた色情報または階調情報を特定して図画を読み取ることにより、その大きさが十分に小さくなるように多色の図画が描画されていたとしても、物体に描画されている図画を構成する各画素毎の形成位置および色情報を確実かつ容易に読み取ることができる。
【００１９】
また、本発明に係る読取り装置によれば、特定した形成位置に対応して制御部が図画表示用の点を表示部に表示させることにより、制御部による読取り結果（読み取った図画）を容易に認識させることができる。
【００２０】
さらに、本発明に係る物体によれば、上記の描画方法に従って一面に図画を描画したことにより、図画描画用の酸化被膜を形成することなく、各画素に対応する点が形成されて図画が描画されているため、その美観に優れ、しかも、図画を描画した酸化被膜の剥がれによって図画の読み取りが不可能となるような事態を回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る描画方法、読取り方法、描画装置、読取り装置および物体の最良の形態について説明する。
【００２２】
最初に、本発明に係る描画方法、描画装置および物体について、図面を参照して説明する。
【００２３】
図１に示す描画装置１は、本発明に係る描画方法に従って各種の図画を描画する装置であって、一例として、パーソナルコンピュータ等の外部装置に接続されて外部装置から出力された画像データＤｇに対応する図画を描画対象体に描画可能に構成されている。この場合、この描画装置１では、金属材料、樹脂材料、ガラスおよびセラミック等の各種材料で形成された各種の描画対象体に図画を描画することができるように構成されているが、本発明についての理解を容易とするために、一例として、シリコンで平板状に形成された基材１０を描画対象体として図画を描画する例について以下に説明する。一方、描画装置１は、描画処理部１１、排気ポンプ１２、ガス供給部１３、イオンビーム照射部１４、操作部１５、表示部１６、制御部１７および記憶部１８を備えている。また、描画処理部１１は、真空容器２１、載置台２２および移動機構２３を備えている。真空容器２１は、載置台２２、移動機構２３および描画対象体（この例では、基材１０）を収容可能に構成されると共に、排気ポンプ１２によって内部空間の空気が排気されることによって描画対象体の周囲を真空状態に維持する。載置台２２は、基材１０等の描画対象体を載置可能に形成されている。移動機構２３は、制御部１７の制御に従い、載置台２２をその載置面（同図における上面）に沿って移動させることによって載置台２２上の描画対象体を移動させる。排気ポンプ１２は、制御部１７の制御に従って真空容器２１内の空気を排気する。
【００２４】
ガス供給部１３は、本発明におけるガス吹き付け部に相当し、ガス源収容部３１、ヒータ３２、排気ポンプ３３およびノズル３４を備えて構成されている。ガス源収容部３１は、本発明における描画用ガスを発生させるためのガス発生用材料（一例として、ヘキサカルボニルタングステン等の有機金属材料、または、フェナントレン等の芳香族炭化水素）を収容する。ヒータ３２は、制御部１７の制御に従い、ガス源収容部３１を介してガス発生用材料を加熱して蒸発または昇華させることにより、ガス源収容部３１内に描画用ガスを発生させる。この場合、ガス発生用材料としてヘキサカルボニルタングステンやフェナントレンを使用したときには、描画用ガスとして炭化水素ガスＧが発生する。なお、本明細書では、フェナントレンを使用して炭化水素ガスＧを描画用ガスとして発生させる例を記載する。排気ポンプ３３は、ガス源収容部３１内に発生した炭化水素ガスＧをノズル３４に配管３４ａを介して送気する。ノズル３４は、真空容器２１内に配置されて排気ポンプ３３によって送気される炭化水素ガスＧを載置台２２上の基材１０に向けて吹き付ける。
【００２５】
イオンビーム照射部１４は、本発明におけるビーム照射部に相当し、イオン源４１、ブランキング制御部４２、集束レンズ４３，４５、非点補正電極部４４および偏向電極部４６を備え、制御部１７の制御に従って載置台２２上の描画対象体（基材１０）に向けてイオンビームＩＢを照射可能に構成されている。具体的には、イオン源（イオン発生部）４１は、金属エミッタ（図示せず）の先端部に液体金属（一例として、ガリウム）を供給した状態において、エミッタ先端部と引き出し電極（図示せず）との間に所定の電界を付与することでエミッタの先端部にイオン（この例では、ガリウムイオン）を発生させ、このイオンを引き出し電極に向けて加速させることによって引き出し電極からイオンビームＩＢ（本発明における描画用ビームの一例）を出力する。なお、ガリウムに代えて、金、金クラスタおよびビスマス等の各種液体金属を使用することもできる。ブランキング制御部４２は、制御部１７の制御に従い、イオン源４１から出力されたイオンビームＩＢをブランキング制御（オン／オフ制御）する。集束レンズ（ビーム成形レンズ）４３，４５は、イオンビームＩＢを成形（細径化）する。非点補正電極部４４は、ビームスポット形状が真円形となるようにイオンビームＩＢを成形する。偏向電極部４６は、集束レンズ４５によって成形されたイオンビームＩＢを制御部１７の制御に従って偏向して、描画対象体（基材１０）に対する照射位置を変化させる。
【００２６】
操作部１５は、描画装置１の動作状態を設定操作するための複数の操作スイッチ（図示せず）を備えている。表示部１６は、描画処理の進行状況に関する情報や、各種のエラー情報等を表示する。制御部１７は、描画装置１の各部を総括的に制御することにより、本発明に係る描画方法に従い、外部装置から出力された画像データＤｇのデータ内容に対応する複数のマーク４ａ〜４ｃ（図２参照）を描画対象体の表面（基材１０上）に形成する。この場合、画像データＤｇは、描画すべき図画を構成する各画素の色情報または階調情報、およびその図画を描画すべきサイズ等が記録されたデータで構成されている。記憶部１８は、描画処理についての描画手順が描画された描画手順データＤｐを記憶する。
【００２７】
この描画装置１では、図２に示すように、画像データＤｇのデータ内容に応じて、高さ（厚み）が相違する３種類のマーク４ａ〜４ｃのうちのいずれか（以下、区別しないときには「マーク４」ともいう）を各形成位置Ｐ，Ｐ・・に形成することで、図画Ｇａ，Ｇｂ（図３，４参照）を描画する。具体的には、描画装置１は、モノクロ画像についての画像データＤｇに基づいて図画Ｇａ（図３参照）等を描画する際には、画像データＤｇに基づいて特定した各形成位置Ｐに例えばマーク４ａのみを形成する。また、カラー画像についての画像データＤｇに基づいて図画Ｇｂ（図４参照）等を描画する際には、画像データＤｇに基づいて特定した各形成位置Ｐにマーク４ａ〜４ｃのうちのいずれかを形成する。この場合、図２に示すように、マーク４ａは、一例として、高さＨ１が１ｎｍ以上３ｎｍ以下の範囲内（例えば、２ｎｍ）となるように形成される。また、マーク４ｂは、一例として、高さＨ２が４ｎｍ以上６ｎｍ以下の範囲内（例えば、５ｎｍ）となるように形成される。さらに、マーク４ｃは、一例として、高さＨ３が１１ｎｍ以上１３ｎｍ以下の範囲内（例えば、１２ｎｍ）となるように形成される。これにより、各マーク４ａ〜４ｃは、その高さ（厚み）の相違に起因して電気抵抗値が互いに相違する状態に形成される。
【００２８】
また、この描画装置１では、基材１０上にグリッド状に規定された例えば８×１０１０箇所／平方インチの複数の形成位置Ｐに画像データＤｇのデータ内容に応じてマーク４を形成することで基材１０に図画Ｇａ，Ｇｂ等を描画する。この場合、基材１０上において隣接するマーク４，４を離間させ過ぎると、基材１０上の単位面積内に形成可能なマーク４の数が少なくなることに起因して小さなサイズの図画を描画するのが困難となる。したがって、十分に小さなサイズの図画を描画するためには、基材１０上において隣接するマーク４，４を可能な限り接近させるのが好ましい。具体的には、マーク４の直径Ｌ１を１００ｎｍとした場合には、一例として、隣接する形成位置Ｐ，Ｐの中心間距離を２００ｎｍ以下（マーク４の直径Ｌ１に対する２００％以下）に規定するのが好ましい。一方、基材１０上において隣接するマーク４，４を接近させ過ぎて隣接するマーク４，４が重なり合って形成されたときには、基材１０からの図画の読み取りに際して各マーク４を個別的に識別するのが困難となる。したがって、基材１０上において隣接するマーク４，４が重なり合って形成される事態を回避するには、隣接する形成位置Ｐ，Ｐの中心間距離をマーク４の直径Ｌ１よりも十分に拡げて規定する必要がある。具体的には、マーク４の直径Ｌ１を１００ｎｍとした場合には、一例として、隣接する形成位置Ｐ，Ｐの中心間距離を１１０ｎｍ以上（マーク４の直径Ｌ１に対する１１０％以上）に規定するのが好ましい。この例では、隣接する形成位置Ｐ，Ｐの中心間距離を１５０ｎｍに規定した。
【００２９】
次いで、描画装置１によって基材１０にモノクロ画像を描画する描画方法（単色での図画の描画方法）について、図面を参照して説明する。
【００３０】
この描画装置１による図画の描画処理に際しては、図１に示すように、まず、図画を描画すべき面を上向きにして基材１０を載置台２２上にセットする。次いで、制御部１７が、排気ポンプ１２を制御して真空容器２１内の空気を排気させると共に、ヒータ３２を制御してガス源収容部３１内のフェナントレンを加熱させることでガス源収容部３１内に炭化水素ガスＧを発生させる。続いて、制御部１７は、排気ポンプ３３を制御してガス源収容部３１からノズル３４に配管３４ａを介して炭化水素ガスＧを供給させると共に、外部装置から出力された画像データＤｇに基づき、移動機構２３を制御して、基材１０における例えば形成位置Ｐｂ１０（図３参照）がイオンビーム照射部１４の下方に位置するように載置台２２を移動させる。次いで、制御部１７は、画像データＤｇと、記憶部１８に記憶されている描画手順データＤｐとに基づき、イオンビーム照射部１４を制御して基材１０上の所定位置にイオンビームＩＢを照射させる。
【００３１】
この場合、図３に示すように、一例として、画像データＤｇに基づいて「星の絵（図画）」を複数の点によって描画するときには、制御部１７は、「星」を描画すべき位置に対応する形成位置Ｐにマーク４ａを形成すべく、最初に、基材１０上の例えば形成位置Ｐｂ１０に向けてイオンビームＩＢを照射させる。この際に、形成位置Ｐｂ１０に向けて照射されたイオンビームＩＢによって基材１０から二次電子が発生し、ノズル３４から基材１０に向けて吹き付けられている炭化水素ガスＧが二次電子の影響によって気体成分と固体成分（カーボン）とに分離させられる。また、分離した気体成分は、排気ポンプ１２によって真空容器２１の外部に排気され、固体成分であるカーボンは、基材１０上（形成位置Ｐｂ１０）に堆積する。これにより、同図に示すように、カーボンの堆積物であるマーク４ａが形成位置Ｐｂ１０に形成される（気相成長法によるマーク４の形成処理）。この際に、ブランキング制御部４２が制御部１７の制御に従って基材１０に向けてイオンビームＩＢを照射する照射時間を調節することで基材１０上に堆積させるカーボンの量を変化させ、高さＨ１〜Ｈ３が相違する記録マーク４ａ〜４ｃのうちの任意の１つ（この例では、マーク４ａ）を形成位置Ｐｂ１０に形成する（本発明におけるマーク形成処理）。
【００３２】
次いで、制御部１７は、イオンビーム照射部１４の偏向電極部４６を制御してイオンビームＩＢの照射先を基材１０上の形成位置Ｐｃ１０に変更させた状態において、イオンビームＩＢを照射させる。この際には、形成位置Ｐｃ１０に向けて照射されたイオンビームＩＢによって炭化水素ガスＧが気体成分と固体成分とに分離させられ、固体成分であるカーボンが基材１０上に堆積する。これにより、カーボンの堆積物であるマーク４ａが形成位置Ｐｃ１０に形成される。次いで、制御部１７は、形成位置Ｐｄ１０等についても、上記の形成位置Ｐｂ１０，Ｐｃ１０に対するマーク形成処理と同様にイオンビームＩＢを照射させる。この際に、制御部１７は、偏向電極部４６によるイオンビームＩＢの偏向可能範囲を外れた形成位置Ｐにマーク４ａを形成するときには、移動機構２３を制御して、その形成位置Ｐがイオンビーム照射部１４の下方に位置するように載置台２２を移動させる。これにより、基材１０上における各形成位置Ｐに複数のマーク４ａ（点）が形成されて図画Ｇａ（星の絵）の単色での描画が完了する。なお、同図および図４では、本発明に係る描画方法についての理解を容易とするために、横１９ドット、縦１９ドットの図画（３６１画素の図画）を描画した例を図示しているが、実際には、描画すべき図画についての画像データＤｇに基づき、例えば、横６４０ドット、縦４８０ドットの図画（３０万画素の）を描画する際には、横方向に６４０箇所の形成位置Ｐを規定し、縦方向に４８０箇所の形成位置Ｐを規定して、画像データＤｇに基づいて特定した形成位置Ｐにマーク４ａを形成する。
【００３３】
続いて、描画装置１によって基材１０にカラー画像を描画する描画方法（多色での図画の描画方法）について、図面を参照して説明する。なお、上記のモノクロ画像の描画方法と同様の手順については、その説明を省略する。また、以下の説明においては、一例として、マーク４ａが黒色に対応付けられ、マーク４ｂが白色に対応付けられ、マーク４ｃが青色に対応付けられているものとする。
【００３４】
まず、制御部１７は、記憶部１８に記憶されている描画手順データＤｐと、描画すべき図画Ｇｂ（図４参照）についての画像データＤｇとに基づき、図画Ｇｂを構成する各画素に対応する各形成位置Ｐにマーク４ａ〜４ｃのうちのいずれを形成すべきかを特定する。次いで、制御部１７は、ガス供給部１３を制御して炭化水素ガスＧを供給させると共に、移動機構２３を制御して、基材１０における例えば形成位置Ｐａ１（図４参照）がイオンビーム照射部１４の下方に位置するように載置台２２を移動させる。続いて、制御部１７は、特定した情報に基づき、イオンビーム照射部１４を制御して基材１０上の各形成位置Ｐに所定量のイオンビームＩＢを照射させる。この場合、図４に示すように、一例として、画像データＤｇに基づいて「星の絵（図画）」を複数の点によって描画するときには、制御部１７は、「星」および「背景」の各部位に画像データＤｇによって指示された色に対応付けられたマーク４を形成する。具体的には、制御部１７は、まず、イオンビーム照射部１４を制御して背景の一部を構成する形成位置Ｐａ１に向けてイオンビームＩＢを照射させる。この際に、ブランキング制御部４２が制御部１７の制御に従って基材１０に向けてイオンビームＩＢを照射する照射時間を調整することで（描画用ビームの照射量の調整）、基材１０上に堆積させるカーボンの量を調整し、高さＨ２のマーク４ｂを形成位置Ｐａ１に形成する（本発明におけるマーク形成処理）。
【００３５】
次いで、制御部１７は、イオンビーム照射部１４の偏向電極部４６を制御してイオンビームＩＢの照射先を基材１０上の形成位置Ｐａ２に変更させた状態において、イオンビームＩＢを照射させ、形成位置Ｐａ２にマーク４ｂを形成する。続いて、制御部１７は、形成位置Ｐａ３〜Ｐａ１９および形成位置Ｐｂ１〜Ｐｂ９についても、上記の形成位置Ｐａ１，Ｐａ２に対するマーク形成処理と同様にイオンビームＩＢを照射させることでマーク４ｂを形成する。この際に、制御部１７は、偏向電極部４６によるイオンビームＩＢの偏向可能範囲を外れた形成位置Ｐにマーク４ｂを形成するときには、移動機構２３を制御して、その形成位置Ｐがイオンビーム照射部１４の下方に位置するように載置台２２を移動させる。次いで、制御部１７は、イオンビーム照射部１４の偏向電極部４６を制御してイオンビームＩＢの照射先を基材１０上の形成位置Ｐｂ１０に変更させた状態において、イオンビームＩＢを照射させ、形成位置Ｐｂ１０に高さＨ１のマーク４ａを形成する。続いて、制御部１７は、形成位置Ｐｂ１１〜Ｐｏ９についても同様にしてマーク形成処理を実行してマーク４ａ，４ｂのいずれかを画像データＤｇに応じて形成する。次いで、制御部１７は、イオンビーム照射部１４の偏向電極部４６を制御してイオンビームＩＢの照射先を基材１０上の形成位置Ｐｏ１０に変更させた状態において、イオンビームＩＢを照射させ、形成位置Ｐｏ１０に高さＨ３のマーク４ｃを形成する。この後、制御部１７は、形成位置Ｐｏ１１〜Ｐｒ１９についても同様にしてマーク形成処理を実行してマーク４ａ〜４ｃのうちのいずれかを画像データＤｇに応じて形成する。これにより、基材１０上における各形成位置Ｐに複数のマーク４ａ〜４ｃ（点）が形成されて「星の絵」の多色での描画が完了する。
【００３６】
このように、この描画装置１による描画方法によれば、描画対象体（この例では、基材１０）の一面に炭化水素ガスＧを吹き付けると共に描画すべき図画Ｇａ（単色の「星の絵」）を構成する各画素に対応する一面上の各所定位置にイオンビームＩＢを照射してイオンビームＩＢの照射領域に炭化水素ガスＧ中の描画材料（この例では、カーボン）を堆積させて描画対象体の一面とは電気抵抗値が相違する点（マーク４ａ）を所定位置に形成して図画を描画することにより、描画対象体（この例では、基材１０）の表面に図画描画用の酸化被膜を形成することなく、各画素に対応する点（マーク４）を描画対象体の表面に直接形成して図画を描画することができる。したがって、酸化被膜の形成自体が困難な各種の描画対象体に対して所望の図画を描画することができる。また、本発明における描画用ビームとしてそのビームウエスト径が十分に小さいビーム（この例では、イオンビームＩＢ）を使用することで、その大きさが十分に小さい複数の点で形成した十分に小さい図画を確実かつ容易に描画することができる。
【００３７】
また、この描画装置１による描画方法によれば、描画すべき図画Ｇｂ（多色の「星の絵」）における各画素毎の色情報に応じた電気抵抗値の点（マーク４ａ〜４ｃ）を各所定位置毎に形成することにより、描画すべき図画に用いる色数に応じて多数の酸化被膜を形成する必要がある従来の描画方法とは異なり、描画対象体（この例では、基材１０）の表面に予め規定された電気抵抗値の点を形成するだけで、多色の図画を確実かつ容易に描画することができる。
【００３８】
さらに、上記の描画方法に従って図画を描画した物体（基材１０）によれば、上記の描画方法に従って一面に図画を描画したことにより、図画描画用の酸化被膜を形成することなく、各画素に対応する点（マーク４）が形成されて図画が描画されているため、その美観に優れ、しかも、図画を描画した酸化被膜の剥がれによって図画の読み取りが不可能となるような事態を回避することができる。
【００３９】
なお、本発明は、上記した構成および方法に限定されない。例えば、本発明における描画対象体は、基材１０のような板体に限定されず、テープ状またはフィルム状の各種の物体や、パイプ、ワイヤ、ピン、ギア等の各種部品などがこれに含まれる。また、上記の描画装置１では、図画の描画処理に際してイオンビームＩＢを基材１０に照射してマーク４を形成しているが、イオンビームＩＢに代えて、電子ビーム等の各種荷電粒子ビームを照射することで描画対象体（基材１０等）の表面に描画材料を堆積させてマーク４を形成する構成を採用することもできる。また、描画装置１では、ブランキング制御部４２がイオンビームＩＢの照射時間を調整することで各形成位置Ｐに対する照射量を変化させて所望の高さ（厚み）のマーク４ａ〜４ｃを形成する構成が採用されているが、イオンビーム照射部１４から出力するイオンビームＩＢのパワーを調整することでイオンビームＩＢの照射量を変化させて所望の高さ（厚み）のマーク４ａ〜４ｃを形成する構成を採用することもできる。
【００４０】
また、マーク４の種類の数は、３種類に限定されず、２種類以上の各種マーク４を形成して図画を多色またはグレースケールで記録する構成を採用することもできる。この場合、グレースケールの図画を描画する際には、画像データＤｇによって指示された各画素毎の階調情報に基づいて各形成位置Ｐに形成するマーク４の厚み（電気抵抗値）を規定すればよい。さらに、各形成位置Ｐに形成するマーク４の電気抵抗値を変化させる方法は、基材１０上に堆積させるカーボンの高さ（厚み）を変化させる上記の描画方法に限定されない。例えば、イオンビームＩＢの照射によって分離する固体成分の電気抵抗値が相違する２種類以上の描画用ガスを基材１０に向けて吹き付け可能に構成して、各形成位置Ｐ毎に形成すべき電気抵抗値のマーク４が形成されるように所望の描画用ガスを基材１０に吹き付けつつ描画用ビームを照射することにより、電気抵抗値が相違する固体成分からなる各種のマーク４を基材１０上に形成する方法を採用することもできる。
【００４１】
次に、本発明に係る読取り方法および読取り装置について、図面を参照して説明する。
【００４２】
図５に示す読取り装置２は、本発明に係る読取り方法に従って各種物体から図画を読み取る装置であって、一例として、パーソナルコンピュータ等の外部装置に接続され、図画が描画された物体（マーク４が形成された基材１０等）から読み取った図画を表示すると共に、読取り結果を記録した画像データＤｇを外部装置に出力可能に構成されている。この読取り装置２は、載置台５１、移動機構５２、プローブ５３、電極５４，５４、測定部５５、操作部５６、表示部５７、制御部５８および記憶部５９を備えている。載置台５１は、図画が描画された物体（基材１０）を載置可能に形成されている。移動機構５２は、制御部５８の制御に従い、プローブ５３を載置台５１上の基材１０等における表面に沿って移動させる。プローブ５３は、接触型のコンタクトプローブであって、その基端部が移動機構５２に固定されると共に、信号ケーブルを介して測定部５５に電気的に接続されている。この読取り装置２では、一例として、先端部の曲率半径が１０ｎｍ程度の単結晶シリコンプローブの表面にＰｔＩｒをコーティングすることで導電性を持たせたプローブ５３を使用する。
【００４３】
電極５４は、一例としてアルミニウム等の導電性材料で板状に形成されると共に、信号ケーブルを介して測定部５５に電気的に接続されている。この電極５４は、図６に示すように、例えば基材１０の対向する両端部（本発明における所定部位）に電気的に接続されるようにして配設される。なお、図画が描画された物体が極く小さい場合には、その物体に対して電気的に接続可能な各種形状の電極５４を使用することができる。測定部５５は、本発明における電流値測定部に相当し、制御部５８の制御に従い、プローブ５３と電極５４との間に１．５Ｖ程度の電圧を印加すると共に、プローブ５３および電極５４間を導通する電流値を測定して測定結果についての測定データＤｍを制御部５８に出力する。操作部５６は、読取り装置２の動作状態を設定操作するための複数の操作スイッチ（図示せず）を備えている。
【００４４】
表示部５７は、再生処理の進行状況に関する情報や、各種のエラー情報等を表示すると共に、制御部５８から出力される画像データＤｇに基づき、基材１０等から読み取られた図画を表す表示画面６１ａ，６１ｂ（図７，８参照）を表示する。制御部５８は、読取り装置２の各部を総括的に制御すると共に、測定部５５によって測定された基材１０上の各部位（前述した各形成位置Ｐ）毎に測定される電流値（各測定データＤｍ）に基づいて基材１０のいずれの部位にマーク４が形成されているか、そのマーク４がマーク４ａ〜４ｃのいずれであるかを特定することで、基材１０から図画を読み取る（本発明に係る読取り方法の実行）。また、制御部５８は、基材１０から読み取った図画についての画像データＤｇを生成して表示部５７および外部装置に出力する。記憶部５９は、測定部５５によって測定された電流値に基づいて基材１０とから図画を読み取るための基準データＤｒや、測定部５５から出力された測定データＤｍなどを記憶する。
【００４５】
次いで、読取り装置２によってモノクロ画像を読み取る方法（単色の図画の読取り方法）について、図面を参照して説明する。
【００４６】
この読取り装置２による図画の読取りに際しては、まず、図６に示すように、図画Ｇａが描画された面を上向きにして基材１０を載置台５１上にセットすると共に、基材１０の両端部に電極５４，５４を配設する。次いで、操作部５６の所定の操作ボタンが操作されて図画の読取り開始が指示されたときには、制御部５８が移動機構５２を制御して基材１０の表面における例えば形成位置Ｐａ１（図３参照）にプローブ５３を接触させると共に、測定部５５を制御して基材１０上の各部位についての電流値の測定を開始させる。次いで、制御部５８は、移動機構５２を制御して基材１０の表面にプローブ５３を接触させた状態を維持させつつ、形成位置Ｐａ１９（図３参照）に向けて矢印Ｂの向きでプローブ５３を移動させる。この際に、測定部５５は、形成位置Ｐａ１から形成位置Ｐａ１９までの各部位において測定した測定結果（電流値）を表す測定データＤｍを生成して制御部５８に出力し、制御部５８は、出力された測定データＤｍを記憶部５９に記憶させる。この場合、図３に示すように、基材１０上の形成位置Ｐａ１から形成位置Ｐａ１９の間には、マーク４ａが存在しないため、プローブ５３が形成位置Ｐａ１から形成位置Ｐａ１９まで移動する間において測定部５５によって測定される電流値は、基材１０の電気抵抗値に応じて極く小さな値（一例として、０．２ｐＡ程度）となる。
【００４７】
次いで、制御部５８は、移動機構５２を制御して基材１０の表面における形成位置Ｐｂ１にプローブ５３を接触させ、基材１０の表面にプローブ５３を接触させた状態を維持させつつ、形成位置Ｐｂ１９に向けて矢印Ｂの向きでプローブ５３を移動させる。この場合、基材１０上の形成位置Ｐｂ１から形成位置Ｐｂ１９の間には、前述した描画装置１によって形成位置Ｐｂ１０にマーク４ａが形成されている。したがって、形成位置Ｐｂ１０は、マーク４ａが形成されていない部位と比較して、マーク４ａを構成しているカーボンの分だけ電気抵抗値が小さくなっている。このため、マーク４ａが形成されていない部位（例えば形成位置Ｐｂ１〜Ｐｂ９，Ｐｂ１１〜Ｐｂ１９）にプローブ５３を接触させた状態で測定される電流値よりも、形成位置Ｐｂ１０（マーク４ａが形成されている部位）にプローブ５３が接触したときに測定される電流値が大きな値（一例として、１ｐＡ±０．５ｐＡ程度）となる。
【００４８】
続いて、制御部５８は、移動機構５２を制御して基材１０の表面における形成位置Ｐｃ１にプローブ５３を接触させ、基材１０の表面にプローブ５３を接触させた状態を維持させつつ、形成位置Ｐｃ１９に向けて矢印Ｂの向きでプローブ５３を移動させる。この場合、基材１０上の形成位置Ｐｃ１から形成位置Ｐｃ１９の間には、前述した描画装置１によって形成位置Ｐｃ１０にマーク４ａが形成されている。したがって、形成位置Ｐｃ１から形成位置Ｐｃ１９に向かってプローブ５３を移動させた際には、形成位置Ｐｃ１０にプローブ５３が接触したときに測定される電流値が他の部位において測定される電流値よりも大きな値となる。この後、制御部５８は、形成位置Ｐｄ１から形成位置Ｐｄ１９等についても同様にして電流値を測定し、形成位置Ｐｒ１９までの電流値の測定を完了したときに、測定処理を終了してマーク４ａの形成位置特定処理を実行する。
【００４９】
具体的には、制御部５８は、記憶部５９に記憶させた各測定データＤｍと基準データＤｒとに基づき、基材１０上のいずれの部位にマーク４ａが形成されているかを特定する。この際に、前述したように、マーク４ａの形成部位は、マーク４ａが形成されていない部位（基材１０の表面）と比較して大きな値の電流値が測定される。したがって、制御部５８は、基材１０上の各部位のうちの大きな電流値が測定された部位にマーク４ａ（点）が形成されているもとのとして、その形成位置を特定する。具体的には、制御部５８は、測定データＤｍに基づき、電流値が０．２ｐＡ以下のときには、その形成位置Ｐにマーク４ａが形成されていないと判別し、電流値が１ｐＡ±０．５ｐＡ以上のときには、その形成位置Ｐにマーク４ａが形成されていると判別する。次いで、制御部５８は、特定した形成位置に基づき、一例として、各マーク４ａの形成位置に対応する部位（大きな電流値が測定された部位）を黒色で表し、マーク４ａが形成されていない部位（小さな電流値が測定された部位）を白色で表した画像の画像データＤｇを生成すると共に、生成した画像データＤｇを表示部５７に出力する。これにより、図７に示すように、各マーク４ａに対応する黒色の複数の点６４ａ（本発明における「図画表示用の点」の一例）で「星」が描かれた表示画面６１ａが表示部５７に表示される。一方、制御部５８は、表示部５７に表示画面６１ａを表示させる処理と並行して、画像データＤｇ（「星の絵」の単色の画像データ）を外部装置に出力する。これにより、外部装置の表示部に「星の絵（図画）」が表示される（図示せず）。以上で、読取り装置２による一連のデータ読取り処理が完了する。
【００５０】
続いて、読取り装置２によってカラー画像を読み取る方法（多色の図画の読取り方法）について、図面を参照して説明する。なお、上記のモノクロ画像の読取り方法と同様の手順については、その説明を省略する。
【００５１】
まず、図画Ｇｂが描画された面を上向きにして基材１０を載置台５１上にセットすると共に、基材１０の両端部に電極５４，５４を配設する。次いで、操作部５６の所定の操作ボタンが操作されて図画の読取り開始が指示されたときには、制御部５８が移動機構５２を制御して基材１０の表面における例えば形成位置Ｐａ１（図４参照）にプローブ５３を接触させると共に、測定部５５を制御して基材１０上の各部位についての電流値の測定を開始させる。次いで、制御部５８は、移動機構５２を制御して基材１０の表面にプローブ５３を接触させた状態を維持させつつ、形成位置Ｐａ１９（図４参照）に向けて矢印Ｂの向きでプローブ５３を移動させる。この場合、図４に示すように、基材１０上の形成位置Ｐａ１から形成位置Ｐａ１９の間には、１９個のマーク４ｂが形成されているため、プローブ５３が形成位置Ｐａ１から形成位置Ｐａ１９まで移動する間において各形成位置Ｐで測定部５５によって測定される電流値は、基材１０の電気抵抗値よりも大きな値（一例として、３ｐＡ±１ｐＡ程度）となる。
【００５２】
次いで、制御部５８は、移動機構５２を制御して基材１０の表面における形成位置Ｐｂ１にプローブ５３を接触させ、基材１０の表面にプローブ５３を接触させた状態を維持させつつ、形成位置Ｐｂ１９に向けて矢印Ｂの向きでプローブ５３を移動させる。この場合、基材１０上の形成位置Ｐｂ１から形成位置Ｐｂ１９の間には、前述した描画装置１によって形成位置Ｐｂ１〜Ｐｂ９，Ｐｂ１１〜Ｐｂ１９にマーク４ｂが形成されると共に、形成位置Ｐｂ１０にマーク４ａが形成されている。したがって、形成位置Ｐｂ１〜Ｐｂ１９では、マーク４が形成されていない部位と比較して、マーク４ｂを構成しているカーボンの分だけ電気抵抗値が小さくなっている。このため、形成位置Ｐｂ１〜Ｐｂ９，Ｐｂ１１〜Ｐｂ１９にプローブ５３を接触させた状態では３ｐＡ±１ｐＡ程度の電流値が測定され、形成位置Ｐｂ１１では１ｐＡ±０．５ｐＡ程度の電流値が測定される。続いて、制御部５８は、形成位置Ｐｃ１から形成位置Ｐｃ１９等についても同様にして電流値を測定し、形成位置Ｐｒ１９までの電流値の測定を完了したときに、測定処理を終了してマーク４の形成位置特定処理を実行する。この場合、形成位置Ｐｏ１０等には、前述した描画装置１によってマーク４ｃが形成されている。したがって、この形成位置Ｐｏ１０等にプローブ５３を接触させた状態では、８ｐＡ±２ｐＡの電流値が測定される。
【００５３】
一方、制御部５８は、形成位置特定処理に際して、記憶部５９に記憶させた各測定データＤｍに基づき、基材１０上のいずれの部位にマーク４が形成されているか、そのマーク４がマーク４ａ〜４ｃのいずれであるかを特定する。この際に、前述したように、基材１０には、高さＨ１〜Ｈ３が相違する３種類のマーク４ａ〜４ｃが形成されているため、各形成位置Ｐに形成されているマーク４の高さ（厚み）の差異に応じて各形成位置Ｐにおいて測定された電流値が相違している。具体的には、例えば、マーク４ａが形成されている場合には、１ｐＡ程度の電流値が測定され、マーク４ｂが形成されている場合には、３ｐＡ程度の電流値が測定され、マーク４ｃが形成されている場合には、８ｐＡ程度の電流値が測定される。また、隣接する形成位置Ｐ，Ｐの間（マーク４が形成されていない部位）では、極く僅かな０．２ｐＡ程度の電流値が測定される。したがって、制御部５８は、記憶部５９に記憶されている各形成位置Ｐについての測定データＤｍと基準データＤｒとに基づき、電流値が１ｐＡ±０．５ｐＡのときには、マーク４ａが形成されていると特定し、電流値が３ｐＡ±１ｐＡのときには、マーク４ｂが形成されていると特定し、電流値が８ｐＡ±２ｐＡのときには、マーク４ｃが形成されていると特定する。
【００５４】
次いで、制御部５８は、特定したマーク４の形成位置についての情報、およびマーク４ａ〜４ｃのいずれが形成されているかの情報に基づき、各マーク４ａの形成位置に対応する部位を黒色で表し、各マーク４ｂの形成位置に対応する部位を白色で表し、各マーク４ａの形成位置に対応する部位を青色で表した画像の画像データＤｇを生成すると共に、生成した画像データＤｇを表示部５７に出力する。これにより、図８に示すように、各マーク４ａに対応する黒色の複数の点６４ａ（本発明における「図画表示用の点」の一例）で「星」が描かれると共に、各マーク４ｂに対応する白色の複数の点６４ｂおよび各マーク４ｃに対応する青色の複数の点６４ｃ（本発明における「図画表示用の点」の他の一例）で「背景」が描かれた表示画面６１ｂが表示部５７に表示される。一方、制御部５８は、表示部５７に表示画面６１ｂを表示させる処理と並行して、画像データＤｇ（「星の絵」の多色の画像データ）を外部装置に出力する。これにより、外部装置の表示部に「星の絵（図画）」が表示される（図示せず）。以上で、読取り装置２による一連のデータ読取り処理が完了する。
【００５５】
このように、この読取り装置２による読取り方法によれば、前述した描画装置１によって単色の図画Ｇａが描画された物体（この例では、基材１０）から図画Ｇａを読み取る際に、物体の一面における各部位と、物体における各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、各部位と所定部位との間を導通する電流値を各部位毎に測定し、各部位毎に測定した電流値に基づいて一面における点（マーク４ａ）の形成位置を特定して図画Ｇａを読み取ることにより、その大きさが十分に小さくなるように図画が描画されていたとしても、物体に描画されている図画を確実かつ容易に読み取ることができる。
【００５６】
また、この読取り装置２による読取り方法によれば、前述した描画装置１によって例えば多色の図画Ｇｂが描画された物体（この例では、基材１０）から図画Ｇｂを読み取る際に、物体の一面における各部位と、物体における各部位とは相違する所定部位との間に電圧を印加しつつ、各部位と所定部位との間を導通する電流値を各部位毎に測定し、各部位毎に測定した電流値に基づいて一面における点（マーク４ａ〜４ｃ）の形成位置を特定すると共に測定した電流値に基づいて各点に対応付けられた色情報を特定して図画Ｇｂを読み取ることにより、その大きさが十分に小さくなるように多色の図画が描画されていたとしても、物体に描画されている図画を構成する各画素毎の形成位置および色情報を確実かつ容易に読み取ることができる。
【００５７】
また、この読取り装置２によれば、測定した電流値に基づいて特定した形成位置に対応して制御部５８が図画表示用の点６４を表示部５７に表示させることにより、制御部５８による読取り結果（読み取った図画）を容易に認識させることができる。
【００５８】
なお、本発明は、上記した構成および方法に限定されない。例えば、マーク４ａに対応する点６４ａを黒色で表示させ、マーク４ｂに対応する点６４ｂを白色で表示させ、マーク４ｃに対応する点６４ｃを青色で表示させる例について説明したが、基材１０等に描画された図画がグレースケールの場合には、各マーク４ａ〜４ｃに対応付けられた階調の点（単色で階調が相違する図画表示用の点）で図画を表示すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】描画装置１の構成を示す構成図である。
【図２】マーク４ａ〜４ｃが形成された基材１０の断面図である。
【図３】各形成位置Ｐに対するマーク４ａの形成によって図画Ｇａが描画された基材１０の平面図である。
【図４】各形成位置Ｐに対するマーク４ａ〜４ｃの形成によって図画Ｇｂが描画された基材１０の平面図である。
【図５】読取り装置２の構成を示す構成図である。
【図６】マーク４ａの形成によって図画Ｇａ（Ｇｂ）が描画された基材１０の他の平面図である。
【図７】図３に示す図画Ｇａについての読取り結果を表す表示画面６１ａを表示部５７に表示させた状態の表示画面図である。
【図８】図４に示す図画Ｇｂについての読取り結果を表す表示画面６１ｂを表示部５７に表示させた状態の表示画面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  描画装置
２  読取り装置
４ａ，４ｂ，４ｃ  マーク
１０  基材
１１  描画処理部
１２  排気ポンプ
１３  ガス供給部
１４  イオンビーム照射部
１７  制御部
５３  プローブ
５４  電極
５５  測定部
５７  表示部
５８  制御部
６１ａ，６１ｂ  表示画面
６４ａ〜６４ｃ  点
Ｇ  炭化水素ガス
ＩＢ  イオンビーム
Ｐ１〜Ｐ１３，Ｐ２１〜Ｐ２４，Ｐａ１〜Ｐｒ１９  形成位置
【図１】
2007146224.tif 000003
【図２】
2007146224.tif 000004
【図３】
2007146224.tif 000005
【図４】
2007146224.tif 000006
【図５】
2007146224.tif 000007
【図６】
2007146224.tif 000008
【図７】
2007146224.tif 000009
【図８】
2007146224.tif 000010