(57)【要約】【課題】感光性記録媒体に対する光ビームのデフォーカスの影響を受けることなく、安定した品質からなる画像を高精度に記録する。【解決手段】出力エネルギ設定部８６において、ビーム径変動に対する線幅変動が最小となる出力エネルギを設定するとともに、補正データ設定部８８において、前記出力エネルギで記録する際の線幅の誤差を補正データとして設定し、画像データ入力部７０からの画像データを前記補正データにより補正し、前記出力エネルギからなるレーザビームＬＢを補正された前記画像データに従って変調して基板Ｆに照射することで、所望の画像パターンを露光記録する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録方法において、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定するステップと、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームにより記録される前記画像要素のサイズを前記画像データに基づく所望のサイズに補正する補正データを設定するステップと、
前記補正データにより前記画像データを補正するステップと、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームを補正された前記画像データにより変調し、前記感光性記録媒体に画像を記録するステップと、
からなることを特徴とする画像記録方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記ビーム径は、前記感光性記録媒体に記録される前記画像要素の所望のサイズ及び前記感光性記録媒体の感度特性に基づいて設定されることを特徴とする画像記録方法。
【請求項３】
請求項１記載の方法において、
前記光ビームは、画像データに応じてオンオフ制御されることを特徴とする画像記録方法。
【請求項４】
画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録装置において、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定する出力エネルギ設定部と、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームにより記録される前記画像要素のサイズを前記画像データに基づく所望のサイズに補正する補正データを設定する補正データ設定部と、
前記補正データにより前記画像データを補正する画像データ補正部と、
前記光ビームを出力する光源を設定された前記出力エネルギにより制御する光源制御部と、
前記画像データ補正部で補正された前記画像データにより前記光ビームを制御し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録部と、
を備えることを特徴とする画像記録装置。
【請求項５】
請求項４記載の装置において、
前記画像記録部は、前記光ビームを前記画像データに応じてオンオフ制御する空間光変調素子からなることを特徴とする画像記録装置。
【請求項６】
画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する際、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定するステップと、
設定された前記出力エネルギに対応して前記画像データを補正し、前記画像データにより記録される画像パターンの少なくとも一部のサイズを調整するステップと、
からなることを特徴とする画像記録装置の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録方法及び装置並びにその調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、レーザ技術や空間光変調器の技術が急速に発展しており、この技術を用いた画像記録装置が種々開発されている。例えば、レーザ光源から出力されるレーザビームを空間光変調器によりオンオフ制御して感光性記録媒体に導き、レーザビーム及び感光性記録媒体を相対的に移動走査させることで、２次元の画像パターンを記録するデジタル露光方式が普及している。このような画像記録装置は、プリント基板や液晶パネルの製造分野、写真製版の印刷分野等に適用することができる。
【０００３】
ところで、これらの分野では、画像パターンの微細化が進んでおり、生成される画像パターンの不均一性を回避することが重要な課題となっている。ここで、画像パターンが不均一となる原因としては、感光性記録媒体のうねり、自動焦点調節機構によるレーザビームの合焦精度の限界、光学系の像面湾曲等に起因する焦点位置の不均一、露光後の感光性記録媒体に対する現像処理等の処理むら、感光性記録材料の感度変動等が挙げられる。
【０００４】
そこで、特許文献１では、上述した要因による画像パターンの不均一性を回避するため、デフォーカスが生じた場合であっても、記録される画像パターンの線幅又はドットサイズが略一定となるように、感光性記録媒体が発色する閾値レベルを基準としてレーザビームの出力エネルギを調整する方法を提案している。
【０００５】
また、特許文献１では、レーザビームの出力エネルギを増大させると、デフォーカスや、感光性記録媒体の感度変動等によらず、線幅等の変動を小さくすることが可能となる一方、それに伴う消費エネルギの増加や、アブレーションの発生を回避するため、複数の画素からなる画像のエッジ部分を形成するレーザビームの出力エネルギのみを増大させる方法を提案している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２８４３４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、レーザビームの出力エネルギを変更すると、ビーム径が変化するため、記録される画像要素のサイズも変化してしまい、所望の線幅等が得られなくなってしまう。また、レーザビームを画像データに従ってオンオフ制御することで画像を形成する画像記録装置では、画像のエッジ部分の出力エネルギのみを増大させて線幅等の変動を抑制すること自体ができない。
【０００８】
本発明は、前記の不具合を解消するためになされたものであり、感光性記録媒体に対する光ビームのデフォーカスの影響を受けることなく、安定した品質からなる画像を高精度に記録することのできる画像記録方法及び装置並びにその調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記の課題を解決するために、本発明は、画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録方法において、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定するステップと、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームにより記録される前記画像要素のサイズを前記画像データに基づく所望のサイズに補正する補正データを設定するステップと、
前記補正データにより前記画像データを補正するステップと、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームを補正された前記画像データにより変調し、前記感光性記録媒体に画像を記録するステップと、
からなることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録装置において、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定する出力エネルギ設定部と、
前記出力エネルギに設定された前記光ビームにより記録される前記画像要素のサイズを前記画像データに基づく所望のサイズに補正する補正データを設定する補正データ設定部と、
前記補正データにより前記画像データを補正する画像データ補正部と、
前記光ビームを出力する光源を、設定された前記出力エネルギにより制御する光源制御部と、
前記画像データ補正部で補正された前記画像データにより前記光ビームを制御し、前記感光性記録媒体に画像を記録する画像記録部と、
を備えることを特徴とする。
【００１１】
さらに、本発明は、画像データに応じて変調された光ビームにより感光性記録媒体を相対的に走査し、前記感光性記録媒体に画像を記録する際、
前記感光性記録媒体に対する前記光ビームのデフォーカスによるビーム径の変動に対して、前記感光性記録媒体に記録される画像要素のサイズの変動が小さい前記光ビームの出力エネルギを設定するステップと、
設定された前記出力エネルギに対応して前記画像データを補正し、前記画像データにより記録される画像パターンの少なくとも一部のサイズを調整するステップと、
からなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の画像記録方法及び装置並びにその調整方法では、感光性記録媒体に対する光ビームのデフォーカスによるビーム径変動に対して、記録される画像要素のサイズ変動が最小となる光ビームの出力エネルギを設定し、前記サイズ変動分を画像データにおいて予め補正することにより、感光性記録媒体に対する光ビームのデフォーカスの影響を受けることなく、所望のサイズからなる画像要素からなる安定した品質の画像を高精度に記録することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１は、本発明の画像記録方法及び装置並びにその調整方法が適用される実施形態であるプリント配線基板等の露光処理を行う露光装置１０を示す。露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料（感光性記録媒体）が塗布された矩形状の基板Ｆが吸着保持される。
【００１４】
定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、露光ステージ１８に対する基板Ｆの装着位置を検出するＣＣＤカメラ２２ａ及び２２ｂが固定され、コラム２０の他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、基板Ｆの走査方向（露光ステージ１８の移動方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。ＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂには、ロッドレンズ６２ａ、６２ｂを介してストロボ６４ａ、６４ｂが装着される。ストロボ６４ａ、６４ｂは、基板Ｆを感光することのない赤外光からなる照明光をＣＣＤカメラ２２ａ、２２ｂの撮像域に照射する。
【００１５】
また、定盤１４の端部には、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に延在するガイドテーブル６６が装着されており、このガイドテーブル６６には、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊから出力されたレーザビームＬＢの光量を検出するフォトセンサ６８が矢印方向に移動可能に配設される。
【００１６】
図２は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに接続される光源ユニット２８ａ〜２８ｊを構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬＢが合波され、光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬＢが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４及びデジタル・マイクロ・ミラーデバイス（ＤＭＤ）３６（空間光変調素子）が順に配列される。
【００１７】
ＤＭＤ３６は、図３に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）３８の上にマトリクス状に配列された多数のマイクロミラー４０を揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラー４０の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセル３８にＤＭＤコントローラ４２から画像データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラー４０が所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬＢのオンオフ状態が実現される。
【００１８】
オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬＢの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー４０に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２、自動焦点調整機構を構成する２枚のプリズム５１、５３が順に配列される。プリズム５１、５３は、矢印方向に移動させて相対的な位置関係を調整し、レーザビームＬＢの光路長を変化させることにより、基板Ｆに対するレーザビームＬＢの焦点位置を調整する。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬＢを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。
【００１９】
露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを構成するＤＭＤ３６は、図４に示すように、高い解像度を実現すべく、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの走査方向に対して所定角度傾斜した状態に設定される。すなわち、ＤＭＤ３６を基板Ｆの移動方向に対して傾斜させることで、ＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０の配列方向の間隔よりも基板Ｆの移動方向と直交する方向の間隔を狭くし、解像度を高く設定することができる。
【００２０】
図５は、露光装置１０の制御回路ブロック図である。
【００２１】
露光装置１０は、基板Ｆに画像パターンを露光記録するための画像データを入力する画像データ入力部７０と、入力された二次元の画像データを記憶するフレームメモリ７２と、フレームメモリ７２に記憶された画像データを補正する画像データ補正部７３と、補正された画像データをＤＭＤ３６のマイクロミラー４０のサイズ及び配置に応じた解像度からなる画像データに変換する解像度変換部７４と、解像度の変換された画像データを各マイクロミラー４０に割り当てられた出力データとする出力データ演算部７６と、割り当てられた出力データに従ってＤＭＤ３６を制御するＤＭＤコントローラ４２と、ＤＭＤコントローラ４２によって制御されたＤＭＤ３６を用いて、基板Ｆに所望の画像パターンを露光記録する露光ヘッド２４ａ〜２４ｊ（画像記録部）とを備える。
【００２２】
また、露光装置１０は、レーザビームＬＢの出力エネルギＥを設定する出力エネルギ設定部８６と、画像データ補正部７３に供給され、出力エネルギＥに応じて画像データを補正する補正データを設定する補正データ設定部８８と、設定された出力エネルギＥに従って光源ユニット２８ａ〜２８ｊを制御する光源制御部９０とを備える。なお、光源制御部９０には、各光源ユニット２８ａ〜２８ｊから出力された各レーザビームＬＢの光量の測定データがフォトセンサ６８より供給される。
【００２３】
本実施形態の露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その調整方法及び動作について説明する。
【００２４】
図６は、レーザビームＬＢの出力エネルギＥの分布特性と、感光材料が反応する閾値レベルをｔｈとして、基板Ｆに形成される画像パターンの線幅Ｌとの関係を示す。なお、横軸は、レーザビームＬＢの光軸中心からの距離ｒであり、レーザビームＬＢのビーム径ｄは、出力エネルギＥのピーク値の１／ｅ2として定義する。
【００２５】
閾値レベルｔｈは、感光材料の感度特性により異なるため、レーザビームＬＢのビーム径ｄと、形成される画像パターンの線幅Ｌとの関係も感光材料毎に異なる。図７は、レーザビームＬＢのビーム径ｄと、そのビーム径ｄからなるレーザビームＬＢによって感光材料Ａ〜Ｃに形成される画像パターンの線幅Ｌとの関係を表す。
【００２６】
そこで、露光装置１０の仕様として基板Ｆに塗布される感光材料が特定され、当該基板Ｆに形成する画像パターンの最小の線幅Ｌが設定されると、線幅Ｌの画像パターンを形成するために必要なレーザビームＬＢのビーム径ｄが決定され、このビーム径ｄを実現すべく露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが設計される。
【００２７】
ところで、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊと基板Ｆとの距離は、図１の矢印方向に移動する露光ステージ１８やガイドレール１６による位置変動、基板Ｆのうねり、自動焦点調整機構を構成するプリズム５１、５３による合焦精度の限界、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを構成する光学系の像面湾曲等により誤差が含まれる。
【００２８】
図８は、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊから出力されるレーザビームＬＢの焦点ｆの位置と、基板Ｆの表面の位置Ｐ１〜Ｐ３との関係を示す。この場合、レーザビームＬＢの出力エネルギＥの分布特性は、図９に示すように、レーザビームＬＢが合焦される位置Ｐ１で最もシャープな形状となり（特性Ｑ１）、位置Ｐ１から離れるに従ってピークが下がり、且つ、ビーム径ｄが大きくなる（特性Ｑ２、Ｑ３）。従って、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊと基板Ｆとの距離が変動すると、基板Ｆ上でのレーザビームＬＢのビーム径ｄも変動するため、画像パターンの線幅Ｌが変動することになる。
【００２９】
図１０は、レーザビームＬＢのビーム径ｄと、画像パターンの線幅Ｌの設計値からの誤差ΔＬとの関係を、レーザビームＬＢの出力エネルギＥ別に表したものである。特性Ｅ０は、ビーム径ｄを５μｍとしたとき、設計値として所望の線幅Ｌが得られるレーザビームＬＢの出力エネルギＥを表し、特性Ｅ−１４は、特性Ｅ０の出力エネルギＥを１４％減少させた場合、特性Ｅ２０は、特性Ｅ０の出力エネルギＥを２０％増加させた場合、特性Ｅ７０は、特性Ｅ０の出力エネルギＥを７０％増加させた場合をそれぞれ示している。
【００３０】
この場合、レーザビームＬＢのビーム径ｄと線幅Ｌの誤差ΔＬとの関係は、レーザビームＬＢの出力エネルギＥにより異なっており、それぞれが極大点ΔＬｍａｘ０、ΔＬｍａｘ−１４、ΔＬｍａｘ２０、ΔＬｍａｘ７０を有する特性曲線となっている。また、各特性曲線の極大点ΔＬｍａｘ０、ΔＬｍａｘ−１４、ΔＬｍａｘ２０、ΔＬｍａｘ７０は、出力エネルギＥが大きくなるに従い、ビーム径ｄが大きくなる方向にシフトしている。
【００３１】
この理由は、例えば、図８及び図９に示すように、レーザビームＬＢの合焦位置である位置Ｐ１から基板Ｆがずれるに従い、ビーム径ｄが大きくなって線幅Ｌが増加して誤差ΔＬが大きくなる一方、出力エネルギＥのピークが下がるため、図６に示す感光材料の閾値レベルｔｈ以上となる範囲が少なくなり、これによって線幅Ｌの誤差ΔＬが減少に転ずることによる。また、レーザビームＬＢの出力エネルギＥが大きくなると、ビーム径ｄも大きくなるため、各曲線特性の極大点もビーム径ｄが大きくなる方向にシフトする。
【００３２】
そこで、設計データとして決定されているビーム径ｄに対する誤差ΔＬが極大となる出力エネルギＥを出力エネルギ設定部８６に設定する。例えば、設計データであるビーム径ｄが１０μｍであるとき、極大点ΔＬｍａｘ０を有する出力エネルギＥ０が選択される。この場合、ビーム径ｄが１０μｍの近傍で変動するとき、線幅Ｌの誤差ΔＬの変動が最も小さくなる。
【００３３】
一方、出力エネルギＥからなるレーザビームＬＢを用いて基板Ｆに画像パターンを形成した場合、線幅Ｌが誤差ΔＬだけずれてしまうため、この誤差ΔＬを補正する補正データを補正データ設定部８８に設定する。例えば、出力エネルギ設定部８６で出力エネルギＥ０が設定された場合、極大点ΔＬｍａｘ０における線幅Ｌの誤差ΔＬ＝１．８０μｍが補正データとして設定される。
【００３４】
所望の出力エネルギＥ及び補正データが設定された後、露光ステージ１８を移動させて露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの下部にフォトセンサ６８を配置した後、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊを駆動する。この場合、各光源ユニット２８ａ〜２８ｊから出力されたレーザビームＬＢは、ＤＭＤ３６を介してフォトセンサ６８に導かれ、その光量が測定される。そして、光源制御部９０は、測定された各レーザビームＬＢの光量から算出した出力エネルギが、出力エネルギ設定部８６で設定された出力エネルギとなるように、各光源ユニット２８ａ〜２８ｊを調整する。
【００３５】
そこで、画像データ入力部７０から所望の画像パターンを形成するための画像データが入力される。入力された画像データは、フレームメモリ７２に記憶された後、画像データ補正部７３において、補正データ設定部８８から供給される補正データにより画像データを補正する。例えば、補正データが誤差ΔＬ＝１．８０μｍとして設定されている場合、この補正データを画像データから減算する。
【００３６】
なお、全ての画像データを補正データによって一律に補正する必要は必ずしもない。例えば、画像パターンとして重要な部分のみを補正データによって補正するようにしてもよい。また、画像データの補正は、適切な補正データを設定し、画像データに補正データを減算又は加算し、あるいは、画像データに補正データを乗算又は除算して行うようにすることもできる。
【００３７】
次いで、補正された画像データを解像度変換部７４に供給し、ＤＭＤ３６の解像度に応じた解像度変換を行い、出力データ演算部７６に供給する。出力データ演算部７６は、解像度の変換された画像データからＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー４０のオンオフ信号である出力データを算出し、この出力データをＤＭＤコントローラ４２に供給する。ＤＭＤコントローラ４２は、出力データに基づいてＤＭＤ３６を駆動し、各マイクロミラー４０をオンオフ制御する。
【００３８】
光源制御部９０により出力エネルギＥが調整された光源ユニット２８ａ〜２８ｊから出力されたレーザビームＬＢは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入され、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬＢは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定のビーム径ｄに調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率とされた後、自動焦点調整機構を構成するプリズム５１、５３を介して基板Ｆに導かれる。露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより、所望の線幅Ｌからなる画像パターンが露光記録される。
【００３９】
この場合、基板Ｆに照射される各レーザビームＬＢの出力エネルギＥは、基板Ｆのデフォーカスによるビーム径ｄの変動に起因した線幅Ｌの変動がもっとも小さくなる出力エネルギＥに設定されている。従って、露光記録処理を行っている間に露光ステージ１８が上下に変動し、あるいは、自動焦点調整機構を構成するプリズム５１、５３による調整限界を超えている場合であっても、ビーム径ｄの変動による線幅Ｌの変動を最小限とすることができる。また、設定されたビーム径ｄで画像パターンを形成した際の所望の線幅Ｌからの誤差ΔＬに従って画像データを補正することにより、所望の線幅Ｌからなる画像パターンを形成することができる。
【００４０】
画像パターンの露光記録が終了した基板Ｆは、露光装置１０から取り外された後、現像処理、エッチング処理、剥離処理が施される。この場合、最終処理の完了した画像パターンが所望の線幅Ｌとなるように画像データを補正すれば、現像処理、エッチング処理及び剥離処理後において、所望の線幅Ｌからなる画像パターンを得ることができる。
【００４１】
なお、上述した露光装置１０の光源ユニット２８ａ〜２８ｊには、半導体レーザ、固体レーザ、発光素子等を二次元状に配列したもの、あるいは、レーザダイオード等の光源と二次元状に配列した光ファイバーアレイとを組み合わせたものを利用することができる。
【００４２】
また、光ビームを画像記録媒体に導くＤＭＤ以外の空間光変調素子として、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＬＺＴ（Ｐｌｏｍｂ  Ｌａｎｔｈａｎｕｍ  Ｚｉｒｃｏｎａｔｅ  Ｔｉｔａｎａｔｅ）を用いた空間光変調素子、ＧＬＶ（Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｌｉｇｈｔ  Ｖａｌｖｅ）等を利用することができる。
【００４３】
また、上述した露光装置１０は、例えば、多層プリント配線基板（ＰＷＢ：Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｗｉｒｉｎｇ  Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ：Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明は、印刷分野、写真分野での露光装置にも適用することができる。
【００４４】
また、露光走査の方式としては、フラットベッド走査方式、エクスターナルドラム走査方式、インターナルドラム走査方式等を採用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本実施形態の露光装置の外観斜視図である。
【図２】本実施形態の露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。
【図３】図２に示す露光ヘッドを構成するＤＭＤの説明図である。
【図４】図２に示す露光ヘッドによる露光記録状態の説明図である。
【図５】本実施形態の露光装置における制御回路ブロック図である。
【図６】レーザビームの出力エネルギの分布特性と、感光材料に形成される画像パターンの線幅との関係説明図である。
【図７】レーザビームのビーム径と、そのビーム径からなるレーザビームによって形成される画像パターンの線幅との関係を表す感材特性の説明図である。
【図８】露光ヘッドから出力されるレーザビームの焦点位置と、感光材料の位置との関係説明図である。
【図９】レーザビームの分布特性の説明図である。
【図１０】レーザビームのビーム径と、画像パターンの線幅の誤差との関係説明図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０…露光装置                      １４…定盤
１８…露光ステージ                  ２２ａ、２２ｂ…ＣＣＤカメラ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド          ２６…スキャナ
２８ａ〜２８ｊ…光源ユニット        ３６…ＤＭＤ
４２…ＤＭＤコントローラ            ６８…フォトセンサ
７３…画像データ補正部              ８６…出力エネルギ設定部
８８…補正データ設定部              ９０…光源制御部
Ｆ…基板                            ＬＢ…レーザビーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
2007310263.tif 000005
【図４】
2007310263.tif 000006
【図５】
2007310263.tif 000007
【図６】
2007310263.tif 000008
【図７】
2007310263.tif 000009
【図８】
2007310263.tif 000010
【図９】
2007310263.tif 000011
【図１０】
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