(57)【要約】【課題】基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光領域の露光中に、その露光用の光ＥＬに対してブラインド部材２０を横切って上流側へ移動させることにより、露光領域の数に関わらず、一本のブラインド部材２０を用いて非露光領域の露光を回避できる。【選択図】図４
2007310007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光用の光を照射する照射部と、
露光領域と非露光領域とを有する基板を保持して、前記照射部から出射された露光用の光を横切って所定の方向に移動させる基板駆動部と、
前記照射部と前記基板との間に配置され、前記所定方向に対して交差する方向に延在し、光を遮光する第１の遮光部材と、
前記第１の遮光部材を、前記照射部から出射された露光用の光を遮る位置に移動させる第１の駆動部と、
前記照射部と前記基板との間に配置され、前記所定方向に対して交差する方向に延在し、光を遮光する第２の遮光部材と、
前記第２の遮光部材を保持して、前記第１の遮光部材に対して独立して前記照射部から出射された露光用の光を遮る位置に移動させる第２の駆動部と、を有し、
前記第１の駆動部は、前記照射部から前記露光領域に光を照射している間に、少なくとも１度、前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動するように前記第１の遮光部材を駆動し、
前記第２の駆動部は、前記第１の遮光部材の動作に応じて前記第２の遮光部材を駆動することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１の遮光部材は、１本の帯状の遮光部を有し、前記第２の遮光部材は、２本の帯状の遮光部を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１の遮光部材は、前記所定方向における幅を可変とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１の遮光部材は、中間結像領域に合わせてエッジを形成していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の遮光部材の速度又は加速度に応じて、前記照射部から前記露光領域に向かう光の一部が遮光されることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好適な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。従来のこの種の分割逐次露光装置としては、例えば、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている。特に、特許文献１の技術では、基板に対して、それより小型のマスクと光源とを同期して移動させることで、大型の基板にマスクのパターンを露光できるようになっている。
【特許文献１】特開平１１−２３７７４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、大型のガラス基板から複数のパネルを切り出す場合、パネルに対応するガラス基板上の領域には、露光パターンを露光転写するが、隣接するパネル同士の間に対応する領域は、露光用の光を照射してはならない非露光領域である。そこで、光源とガラス基板との間に遮光部材を設けて、非露光領域を覆うようにすることで、非露光領域に露光用の光が到達しないようにすることが考えられる。ところが、１枚のガラス基板から切り出すパネルの種類や数が異なる場合、それに応じて多種多様な形状の遮光部材を設けなくてはならず、コストの増大やスペースが嵩む等の問題がある。
【０００４】
そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上述の目的を達成するために、本発明の露光装置は、
露光用の光を照射する照射部と、
露光領域と非露光領域とを有する基板を保持して、前記照射部から出射された露光用の光を横切って所定の方向に移動させる基板駆動部と、
前記照射部と前記基板との間に配置され、前記所定方向に対して交差する方向に延在し、光を遮光する第１の遮光部材と、
前記第１の遮光部材を、前記照射部から出射された露光用の光を遮る位置に移動させる第１の駆動部と、
前記照射部と前記基板との間に配置され、前記所定方向に対して交差する方向に延在し、光を遮光する第２の遮光部材と、
前記第２の遮光部材を保持して、前記第１の遮光部材に対して独立して前記照射部から出射された露光用の光を遮る位置に移動させる第２の駆動部と、を有し、
前記第１の駆動部は、前記照射部から前記露光領域に光を照射している間に、少なくとも１度、前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動するように前記第１の遮光部材を駆動し、
前記第２の駆動部は、前記第１の遮光部材の動作に応じて前記第２の遮光部材を駆動することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の露光装置によれば、前記第１の駆動部は、前記照射部から前記露光領域に光を照射している間に、少なくとも１度、前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動するように前記第１の遮光部材を駆動するので、単一の第１の遮光部材のみで、非露光領域の幅や数に関わらず、露光用の光が到達しないように適切に遮光できる。又、コンパクトで軽量な構成であるため、露光装置全体の簡素化・コンパクト化を図れる。更に、前記第２の駆動部は、前記第１の遮光部材の動作に応じて前記第２の遮光部材を駆動するので、例えば前記第１の遮光部材が前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動する際に、前記照射部からの光の一部を遮るように配置することで露光量のバラツキを抑制することができる。
【０００７】
前記第１の遮光部材は、１本の帯状の遮光部を有し、前記第２の遮光部材は、２本の帯状の遮光部を有すると好ましい。前記第２の遮光部材は、コ字状もしくはロ字状としてもよい。
【０００８】
前記第１の遮光部材は、前記所定方向における幅を可変とすると、非露光領域の幅に関わらず適切な遮光を行うことができる。又、前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動する際に幅を小さくすれば、露光領域における露光量の低下も抑制できる。
【０００９】
前記第１の遮光部材は、中間結像領域に合わせてエッジを形成していると、境界のボケなどを抑制できるので好ましい。
【００１０】
前記第１の遮光部材の速度又は加速度に応じて、前記照射部から前記露光領域に向かう光の一部が遮光されると、前記照射部からの光を横切って前記所定の方向とは逆方向に移動する際の露光量の減少を抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかる露光装置の上面図であり、図２は、本実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面図である。尚、以下の実施の形態で、Ｘ軸方向とＹ軸方向とで水平面が規定され、Ｚ軸方向が垂直方向を規定するものとする。
【００１２】
図１において、ベース１上で、大版薄板状の基板Ｗは基板チャック（基板駆動部）２により把持され、レール２ａに沿って、基板チャック２と共に左から右に移動可能となっている。ベース１上には、マスクＭを吸着保持する保持装置１０が、マスク搬送ライン（マスク搬送路ともいう）Ｌを挟んで左側（上流側）に７個、右側（下流側）に６個（計１３個）配置されている。保持装置１０により保持された基板Ｗに比較すると小型のマスクＭは、マスク搬送ラインＬを挟んで千鳥状に交互に配置される。なお、図１においては、左側の７個の保持装置１０と、右側の上から３個の保持装置１０は、露光位置にあり、右側の下から３個の保持装置１０は、マスクの受け渡し位置にある。
【００１３】
各保持装置１０は、ベース１上でＸ軸方向となる図２の左右方向（図１のマスク搬送ラインＬに対して直交する方向であり、基板ＷはＸ軸方向に沿って左から右へと移動するものとする）に不図示のフレームに対して移動可能に配置されたアーム１１と、アーム１１の先端に配置され、下面にマスクＭを吸着保持する保持部１２と、アーム１１に対して保持部１２をＺ軸方向（図２で上下方向）に駆動するＺ軸移動装置１３と、ベース１の上面の法線回りに保持部１２を回転駆動するθ軸移動装置１４と、アーム１１に対して保持部１２をＹ軸方向（図２で紙面垂直方向）に駆動するＹ軸移動装置１５とを有する。保持部１２は、不図示の矩形開口を有している。ベース１には、基板Ｗの下面に対向して吐出吸引ユニット（不図示）を取り付けている。
【００１４】
本実施の形態の露光装置を用いて行う露光動作時には、まず不図示の駆動部より、レール２ａに沿って、基板チャック２と共に基板Ｗを左から右に移動する。このとき、基板Ｗは吐出ユニット（不図示）の上面から浮上した状態でＸ軸方向に搬送され、基板Ｗの下面側に傷等が付くことを防止されている。
【００１５】
基板Ｗを所定位置に移動させながら、上方の露光ユニット（照射部）ＯＰＵ内の光源ＬＳから露光用光ＥＬを投射すると、かかる露光用光ＥＬは、保持装置１０により保持されたマスクＭを通過し、そのパターンを基板Ｗに露光転写する。このとき、基板Ｗの移動誤差によるパターンのズレは、保持装置１０のＺ軸移動装置１３、θ軸移動装置１４，及びＹ軸移動装置１５により、マスクＭの位置を微調整することで補正することができる。同様にして、連続露光することで、基板Ｗ全体にパターンの露光を行うことができる。なお、本実施の形態において、マスク搬送ラインＬの両側で保持されたマスクＭが千鳥状に配置されているので、マスク搬送ラインＬの片側におけるマスクＭが隔置して並べられていても、基板Ｗ上に隙間なくパターンを形成することができる。
【００１６】
ところで、基板Ｗから複数のパネルを切り出す場合、パネルに対応する基板Ｗ上の領域には、露光パターンを露光転写するが、隣接するパネル同士の間に対応する領域は、露光用の光を照射してはならない非露光領域となる。そこで、本実施の形態においては、固定された露光ユニットＯＰＵと基板Ｗとの間に、ブラインド（第１のブラインド）２０とアパーチャ部材３０とを配置している。
【００１７】
図３は、ブラインドとアパーチャ部材と基板とを示す斜視図であるが、マスク等は省略している。以下、理解しやすいように基板は一列の露光領域のみ有するものとして描いているが、実際には複数列が存在する。図３において、第１の遮光部材であるブラインド部材２０は、Ｘ軸方向に直交して（すなわちY軸方向に）延在する２枚の板材（遮光部）２１，２２を有する。板材２１，２２は、Ｘ軸方向に互いに相対移動可能であって、重ねられた状態で一本の直線帯状を有し、それらの端部はリニアモータＬＭ１に連結されている。第１の駆動部であるリニアモータＬＭ１は、不図示のドライバにより、ガイドレールＧＳ１に沿ってＸ軸方向に移動自在となっている。板材２１，２２をＸ軸方向に相対移動させることで、非露光領域に合わせて遮光部の幅を任意に変更可能となっている。
【００１８】
一方、第２の遮光部材である略口字状のアパーチャ部材３０は、Ｘ軸方向に延在する一対の縦部材３１，３２と、縦部材３１，３２の両端をそれぞれ連結しＹ軸方向に延在する２本帯状の横部材（遮光部）３３，３４と、縦部材３１の中央をリニアモータＬＭ２に連結してなる連結部材３５とからなる。第2の駆動部であるリニアモータＬＭ２は、不図示のドライバにより、ガイドレールＧＳ２に沿ってＸ軸方向に移動自在となっている。ブラインド部材２０とアパーチャ部材３０とは、露光用の光ＥＬを遮光可能な位置に移動自在となっている。
【００１９】
次に、露光時におけるブラインド部材２０とアパーチャ部材３０の動作について説明する。図４は、Ｚ軸方向にブラインド部材２０とアパーチャ部材３０と基板Ｗとを見た図であり、露光時の動作を概略的に示している。図５は、露光動作を示すフローチャートである。尚、中間結像を有する光学系を用いた場合、ブラインド部材２０及びアパーチャ部材３０の動作と、遮光される非露光領域（影）の動く向きが逆になる場合があるが、ここでは理解を容易とするために、影の動きをブラインド部材２０及びアパーチャ部材３０の動作として説明する。又、中間結像を有する光学系を用いた場合、ブラインド部材２０及びアパーチャ部材３０の移動量と、遮光される非露光領域（影）の動いた量とが異なる場合があるが、ここでは理解を容易とするために、影の動いた量をブラインド部材２０及びアパーチャ部材３０の移動量として説明する。
【００２０】
図４（ａ）は、露光用の光ＥＬに対する、ブラインド部材２０とアパーチャ部材３０と基板Ｗの形状及び相対位置の関係を示している。ここで、基板Ｗの露光領域（ＥＲ１、ＥＲ２，ＥＲ３）をハッチングで示し、非露光領域（ＮＲ１，ＮＲ２，ＮＲ３、ＮＲ４）を白抜きで示す。尚、以下に詳細は示さないが、ブラインド部材２０とアパーチャ部材３０とは、基板Ｗの移動に同期して、リニアモータＬＭ１，ＬＭ２（図３）を駆動することによりＸ軸方向両方向に移動可能となっている。
【００２１】
ここで、基板Ｗが露光用の光ＥＬの照射領域（一点鎖線で図示）に向かってＸ軸方向（図で右方）に移動すると、まず最初の非露光領域ＮＲ１が、露光用の光ＥＬの照射領域に接近する。そこで、図４（ｂ）に示すように、アパーチャ部材３０をＸ軸方向（図で左方）に移動させ、横部材３３により露光用の光ＥＬを遮光する（図５のステップＳ１０１）。かかる遮光状態で、基板Ｗをアパーチャ部材３０の下方に侵入させることにより、非露光領域ＮＲ１の露光を回避できる。
【００２２】
更に基板Ｗが同方向に移動することで、露光領域ＥＲ１が露光用の光ＥＬの照射領域に接近してくる。このとき、アパーチャ部材３０を基板Ｗに対して相対的に静止させて、横部材３３で露光用の光ＥＬを遮光し続けると、露光領域ＥＲ１の露光を行えない。そこで、図４（ｃ）、（ｄ）に示すように、アパーチャ部材３０の横部材３３を、非露光領域ＮＲ１の移動に同期させて図で右方に移動させ、露光用の光ＥＬが露光領域ＥＲ１に照射されるようにする（図５のステップＳ１０２、Ｓ１０３）。アパーチャ部材３０は、横部材３３が露光用の光ＥＬの照射領域を抜けた時点で停止される。
【００２３】
更に基板Ｗが同方向に移動することで、図４（ｅ）に示すように、露光領域ＥＲ１の露光が終了に近づき、非露光領域ＮＲ２が露光用の光ＥＬの照射領域に接近する。このとき、アパーチャ部材３０の横部材３３は、露光用の光ＥＬの照射領域の反対側に位置するので、これを用いて、非露光領域ＮＲ２を遮光することはできない。そこで、図４（ｆ）に示すように、露光用の光ＥＬの照射領域の上流側で待機させておいた（基板Ｗと同期して移動する状態を含む、以下同じ）ブラインド部材２０により露光用の光ＥＬを遮光する（図５のステップＳ１０５）。ブラインド部材２０により遮光したまま、基板Ｗをブラインド部材２０の下方に侵入させることにより、非露光領域ＮＲ２の露光を回避できる。
【００２４】
更に基板Ｗが同方向に移動することで、露光領域ＥＲ２が露光用の光ＥＬの照射領域に接近する。非露光領域ＮＲ２の幅に対応させたブラインド部材２０は、基板Ｗと同じ速度で同方向に移動させることで、図４（ｇ）に示すように、非露光領域ＮＲ２に引き続いて露光領域ＥＲ２の露光を行うことができる（図５のステップＳ１０６）。
【００２５】
ところで、ブラインド部材２０が、露光用の光ＥＬの照射領域の下流側に位置したままでは、次の非露光領域ＮＲ３を遮光する遮光部がないこととなる。そこで、本実施の形態においては、露光領域ＥＲ２を露光中に、ブラインド部材２０を露光用の光ＥＬの照射領域の下流側から上流側に向かって（右側から左側に照射領域を横切って）移動させる。
【００２６】
より具体的に説明すると、図４（ｈ）及び図４（ｉ）に示すように、露光領域ＥＲ２を露光中に、ブラインド部材２０を露光用の光ＥＬの照射領域を横切って下流側から上流側へと移動させる（図５のステップＳ１０７）。このとき、板材２１，２２を重ね合わせるようにして、ブラインド部材２０の幅を狭めることで、露光への影響を極力小さくすることができる。
【００２７】
更に基板Ｗが同方向に移動することで、図４（ｊ）に示すように、露光領域ＥＲ２の露光が終了に近づき、非露光領域ＮＲ３が露光用の光ＥＬの照射領域に接近する。この時点では、ブラインド部材２０が露光用の光ＥＬの照射領域の上流側で待機しているので、図４（ｋ）に示すように、これを用いて露光用の光ＥＬを遮光する（図５のステップＳ１０５）。ブラインド部材２０により遮光したまま、基板Ｗをブラインド部材２０の下方に侵入させることにより、非露光領域ＮＲ３の露光を回避できる。
【００２８】
更に基板Ｗが同方向に移動することで、露光領域ＥＲ３が露光用の光ＥＬの照射領域に接近する。上述と同様に、非露光領域ＮＲ３の幅に対応させたブラインド部材２０は、基板Ｗと同じ速度で同方向に移動させることで、非露光領域ＮＲ３に引き続いて露光領域ＥＲ３の露光を行うことができる（図５のステップＳ１０６）。
【００２９】
更に、図４（ｌ）に示すように、露光領域ＥＲ３を露光中に、ブラインド部材２０を露光用の光ＥＬの照射領域を横切って下流側から上流側へと移動させる（図５のステップＳ１０７）。このとき、板材２１，２２を重ね合わせるようにして、ブラインド部材２０の幅を狭めることで、露光への影響を極力小さくすることができる。
【００３０】
露光領域が４以上である場合には、同様な動作を繰り返し、全ての露光領域の露光が終了した後（図５のステップＳ１０８）、図４（ｍ）に示すように、アパーチャ部材３０をＸ軸方向に移動させ、横部材３４により露光用の光ＥＬを遮光することができ、これにより非露光領域ＮＲ４の露光を回避できる（図５のステップＳ１１０）。尚、非露光領域ＮＲ４は、ブラインド部材２０を上流側に移動させて遮光しても良い。
【００３１】
本実施の形態によれば、露光領域の露光中に、その露光用の光ＥＬに対してブラインド部材２０を横切って上流側へ移動させることにより、露光領域の数に関わらず、一本のブラインド部材２０を用いて非露光領域の露光を回避できる。尚、図４では、露光用の光ＥＬが露光領域ＥＲ１全体に照射されていないが、露光されなかった残り（上下の部分（図４（ｍ）の右上がりハッチング部））は、下流側（もしくは上流側）の露光用の光ＥＬで露光されることとなる（図１参照）。
【００３２】
ところで、露光中にブラインド部材２０が横切って移動する露光領域（ＥＲ２等）においては、露光中にブラインド部材２０が横切らない露光領域（ＥＲ１）よりも平均露光量が低下する。そこで、本実施の形態では、ブラインド部材２０の動作に応じて、ブラインド部材２０やアパーチャ部材３０を照射領域に所定量はみ出させることで、露光領域における露光量のアンバランスを抑えている。かかる実施の態様について説明する。
【００３３】
図６は、ブラインド部材２０とアパーチャ部材３０の位置を横軸に、時間を縦軸にとって示すタイムチャート図であるが、ブラインド部材２０で遮光される領域と、アパーチャ部材３０の横部材３３，３４により遮光される領域とを区別して示している。図７は、基板ＷをＺ軸方向に見た図である。
【００３４】
まず、図６の時刻ｔ１では、非露光領域をアパーチャ部材で遮光して露光準備に入るが、ブラインド部材２０を露光用の光ＥＬの照射領域の上流側に幅Δだけはみ出して配置する。時刻ｔ２から露光領域ＥＲ１の露光を開始すると、露光領域ＥＲ１の先行する側にある点Ａ（図７）は、露光時間（露光用の光ＥＬに曝されている時間）がＥＴとなる。更に、時刻ｔ３において、アパーチャ部材３０の横部材３３をＸ軸方向に移動させ、ブラインド部材２０に重ねる。
【００３５】
時刻ｔ４で、ブラインド部材２０は助走のために、一旦上流側へ移動するため、横部材３３が露光用の光ＥＬの照射領域の上流側に幅Δだけはみ出して配置された状態になる。従って、露光領域ＥＲ１の後行する側にある点Ｂ（図７）においても、露光時間はＥＴとなる。ブラインド部材２０は上流側から加速しながら下流側へと移動する。従って、時刻ｔ５では一定速度で基板Ｗに同期して移動する。これにより、非露光領域ＮＲ１（図７の点Ｃ）は遮光されることとなる。このときのブラインド部材２０の幅をＤ１とする。この間にアパーチャ部材３０の横部材３３は上流側に退避する。
【００３６】
時刻ｔ６で、露光領域ＥＲ２の露光を開始する。時刻ｔ７で、アパーチャ部材３０の横部材３４を、露光用の光ＥＬの照射領域の下流側に幅Δだけはみ出して配置する。下流側においてアパーチャ部材３０をはみ出させた理由は、ブラインド部材２０の移動後の減速を非露光域で行うためである。露光領域ＥＲ２の先行する側にあってブラインド部材２０が通過しない点Ｄ（図７）においても、露光時間はＥＴとなる。時刻ｔ８で非露光領域ＮＲ１の遮光が終了した後、ブラインド部材２０はオーバーストロークし、更に上流側へ戻るために方向を変えて加速を開始する。従って、時刻ｔ９では一定速度で基板と逆方向に同期して移動する。このときのブラインド部材２０の幅はＤ２（≦Ｄ１）とする。
【００３７】
ここで、露光領域ＥＲ２の中央にある点Ｅは、逆走するブラインド部材２０に遮光されるので、それが通過する時間だけ露光量が低下する。しかしながら、時刻ｔ１０で、アパーチャ部材３０の横部材３４を、露光用の光ＥＬの照射領域の下流側に退避させるので、その中央の点Ｅ（図７）では露光用の光ＥＬの照射領域の端から端まで使って露光されることとなる。即ち、点Ｅ上をブラインド部材２０が通過する前の露光時間をＥＴ１、ブラインド部材２０が通過した後の露光時間をＥＴ２とすると、ＥＴ１＋ＥＴ２＝ＥＴとなって、ブラインド部材２０に遮光されるか否かを問わず、全ての露光領域における露光量は一定となる。その後、時刻ｔ１１で、アパーチャ部材３０の横部材３３が露光用の光ＥＬの照射領域の上流側に幅Δだけはみ出して配置された状態になり、露光領域ＥＲ２の後行する側にある点Ｆ（図７）においても、露光時間はＥＴとなる。以下同様の動作が繰り返される。
【００３８】
図８〜図１２は、別な実施の形態にかかる図６と同様なチャート図であるが、符号ａ〜ｅは図４（ａ）に示す寸法に対応する。又、図８〜図１１の例では、露光用の光ＥＬの照射領域を抜ける手前でブラインド部材２０を基板Ｗに対して相対的に静止させ、アパーチャ３０でなくブラインド部材２０を照射領域内にはみ出させて遮光している。
【００３９】
前、後部のはみ出し量Δは、以下の式により求めることができる。
Ｌｍ＝Ｌｂ×（Ｖｗ／（Ｖｗ＋Ｖｂ））        （１）
Ｌｕ＝Ｌｂ×（Ｖｗ／（Ｖｗ＋Ｖｂ））        （２）
但し、
Ｌｍ：前部遮光長さ（ｍｍ）
＝ブラインド部材２０，アパーチャ部材３０のはみ出し量Δ
Ｌｕ：後部遮光長さ（ｍｍ）
＝ブラインド部材２０，アパーチャ部材３０のはみ出し量Δ
Ｖｗ：ワーク移動速度（ｍｍ／ｓ）
Ｖｂ：ブラインド部材戻し速度（ｍｍ／ｓ）
Ｌｂ：ブラインド部材戻し幅（ｍｍ）
【００４０】
まず、図８の例では、露光用の光ＥＬの照射領域のＸ軸方向の幅を５０ｍｍとし、ブラインド部材２０の幅を２０ｍｍで一定とし、ブラインド部材２０と基板Ｗとを１００ｍｍ／ｓでＸ軸方向に移動させ、その後ブラインド部材２０を逆方向に１００ｍｍ／ｓで移動させており、このときブラインド部材２０のはみ出し量Δは１０ｍｍとする。この例では、ブラインド部材２０が露光領域を横切らない場合と比べ、露光量が２０％低下する。
【００４１】
図９の例では、露光用の光ＥＬの照射領域のＸ軸方向の幅を５０ｍｍとし、遮光時のブラインド部材２０の幅を２０ｍｍとするが、戻り時の幅を１０ｍｍとし、ブラインド部材２０と基板Ｗとを１００ｍｍ／ｓでＸ軸方向に移動させ、その後ブラインド部材２０を逆方向に１００ｍｍ／ｓで移動させており、このときブラインド部材２０のはみ出し量Δは５ｍｍとする。この例では、ブラインド部材２０が露光領域を横切らない場合と比べ、露光量が１０％低下する。即ち、ブラインド部材２０の幅を戻り時に狭めると、露光量の低下を抑えることができる。
【００４２】
図１０の例では、露光用の光ＥＬの照射領域のＸ軸方向の幅を５０ｍｍとし、遮光時のブラインド部材２０の幅を２０ｍｍとするが、戻り時の幅を１０ｍｍとし、ブラインド部材２０と基板Ｗとを１００ｍｍ／ｓでＸ軸方向に移動させ、その後ブラインド部材２０を逆方向に２００ｍｍ／ｓで移動させており、このときブラインド部材２０のはみ出し量Δは３．３ｍｍとする。この例では、ブラインド部材２０が露光領域を横切らない場合と比べ、露光量が６．７％低下する。即ち、ブラインド部材２０の戻り時の速度を増大させると、露光量の低下を抑えることができる。
【００４３】
図１１の例では、露光用の光ＥＬの照射領域のＸ軸方向の幅を５０ｍｍとし、遮光時のブラインド部材２０の幅を２０ｍｍとするが、戻り時の幅を１０ｍｍとし、ブラインド部材２０と基板Ｗとを１００ｍｍ／ｓでＸ軸方向に移動させた後、ブラインド部材２０の速度を２００ｍｍ／ｓと増大させて戻すが、その際の加速度を０．２Ｇとしている。このときブラインド部材２０のはみ出し量Δは３．３ｍｍとする。この例では、ブラインド部材２０の加減速による露光量の減少が生じるものの、最大露光量に対して最小露光量は９８．９％で、加速度の影響は限定的であり、実用的といえるが、より高精度な露光を所望する場合、以下に述べる図１２の例が好適である。
【００４４】
図１２の例では、図１１の例に対して、ブラインド部材２０をオーバーストロークさせ、代わりにアパーチャ部材３０を照射領域内にはみ出させて遮光している。そのはみ出し量は３．３ｍｍである。図１２から明らかであるが、露光用の光ＥＬの照射領域外でブラインド部材２０の加減速が行われ、照射領域内では一定速度で移動するようにすれば、露光量の減少は生じない。
【００４５】
図１３は、変形例にかかるブラインド２０をＹ軸方向に見た図である。図１３に示すブラインド２０は、積層された４枚の羽根部材２０ａ〜２０ｄを有する。図１３に示すように、互いの間隔をあけないようにして羽根部材２０ａ〜２０ｄをＸ軸方向に相対移動させることで、遮光範囲ＳＲを任意の長さに（この例では最小から約４倍まで）調整することができる。尚、Ｘ軸方向において両端を決定する羽根部材２０ａ、２０ｂの側縁をテーパ面としてエッジＥＧを形成し、かかるエッジＥＧを、Ｚ軸方向において露光装置の中間結像位置ＦＰに一致させることで、解像度の高い露光を行うことができる。
【００４６】
図１４は、別な変形例にかかるブラインド２０をＹ軸方向に見た図である。図１４に示すブラインド２０は、１枚の板材を折り曲げた形状を有する。図１４に示すように、折り曲げ角度θを変更することで、遮光範囲ＳＲを任意の長さに調整することができる。尚、ブラインド２０は、Ｘ軸方向において両端を決定するエッジＥＧを、Ｚ軸方向において露光装置の中間結像位置ＦＰに一致させることで、解像度の高い露光を行うことができる。
【００４７】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。例えば露光領域と非露光領域の数は任意である。又、複数のブラインドを併設する場合、ブラインドを戻すタイミングを変えることで、露光ムラを目立たなくすることができる。更に、ブラインド部材の幅は可変でなく固定とし、基板の非露光領域に応じて、対応する幅のブラインド部材に交換しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】第１の実施の形態にかかる露光装置の上面図である。
【図２】本実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面図である。
【図３】ブラインドとアパーチャ部材と基板とを示す斜視図である。
【図４】Ｚ軸方向にブラインド２０とアパーチャ部材３０と基板Ｗとを見た図である。
【図５】露光動作を示すフローチャートである。
【図６】ブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図７】基板ＷをＺ軸方向に見た図である。
【図８】変形例にかかるブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図９】変形例にかかるブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図１０】変形例にかかるブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図１１】変形例にかかるブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図１２】変形例にかかるブラインド２０の移動のタイムチャート図である。
【図１３】別な変形例にかかるブラインド２０をＹ軸方向に見た図である。
【図１４】別な変形例にかかるブラインド２０をＹ軸方向に見た図である。
【符号の説明】
【００４９】
１ ベース
２ 基板チャック
２ａ レール
１０ 保持装置
１１ アーム
１２ 保持部
１３ Ｚ軸移動装置
１４ θ軸移動装置
１５ Ｙ軸移動装置
２０ ブラインド
２０ａ〜２０ｄ 羽根部材
２１、２２ 板材
３０ アパーチャ部材
３１、３２ 縦部材
３３、３４ 横部材
３５ 連結部材
ＥＧ エッジ
ＥＬ 露光用の光
ＥＲ１ 露光領域
ＥＲ２ 露光領域
ＥＲ３ 露光領域
ＦＰ 中間結像位置
ＧＳ１ ガイドレール
ＧＳ２ ガイドレール
Ｌ マスク搬送ライン
ＬＭ１，ＬＭ２ リニアモータ
ＬＳ 光源
Ｍ マスク
ＮＲ１ 非露光領域
ＮＲ２ 非露光領域
ＮＲ３ 非露光領域
ＮＲ４ 非露光領域
ＯＰＵ 露光ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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