(57)【要約】【課題】配向膜にダメージを与えることなくスペーサ粒子を配置して液晶表示装置を製造する方法を提供すること。【解決手段】一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、一対の基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、スペーサ粒子が分散しているスペーサ粒子分散液を用い、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上にスペーサ粒子分散液を吐出し、該基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させてスペーサ粒子を該基板の配向膜上に配置した後、該配向膜に光配向処理を行う。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、前記一対の基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記スペーサ粒子が分散しているスペーサ粒子分散液を用い、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上に前記スペーサ粒子分散液を吐出し、該基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させて前記スペーサ粒子を該基板の配向膜上に配置した後、該配向膜に前記光配向処理を行うことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、前記一対の基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置であって、前記スペーサ粒子が分散しているスペーサ粒子分散液を用い、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上に前記スペーサ粒子分散液を吐出し、該基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させて前記スペーサ粒子を該基板の配向膜上に配置した後、該配向膜に前記光配向処理が行われていることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶表示装置は、一対の基板の間に形成される隙間に液晶が封入されてなる液晶セルを備えている。液晶セルは、一対の基板の間に、その隙間を一定に保持するためのスペーサ粒子が配置されたものがある。近年、スペーサ粒子は、液晶表示装置の表示部となる絵素領域に配置されると、画質が低下することから、遮光領域のみに配置されるようになってきた。例えば、基板がカラーフィルター基板の場合、スペーサ粒子はブラックマトリックスの上に配置される。
【０００３】
スペーサ粒子を基板上の所定の位置に正確に配置する方法として、インクジェット装置を用いてスペーサ粒子を分散媒に分散させたスペーサ粒子分散液を基板に吐出させて、基板表面の任意の位置にスペーサ粒子を配置する方法が公知である（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
図９（ａ）〜（ｄ）はスペーサ粒子を基板表面に配置する場合の説明図である。図９（ａ）に示すように、基板７０に形成されたポリイミド等からなる配向膜７１の表面は、所定の照射角で光エネルギー７２を照射する光配向処理が施されており、これにより液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制することができるようになっている。
【０００５】
このような配向膜７１上にスペーサ粒子７３を配置する場合、図９（ｂ）に示すように、インクジェット装置のノズル７４からスペーサ粒子分散液を、基板７０のブラックマトリックス７５の位置となる配向膜７１の表面に吐出する。配向膜７１の上に吐出されたスペーサ粒子分散液の液滴７７は着弾の瞬間に濡れ広がり、ブラックマトリックス７５をはみ出して絵素領域７８の上にも液滴が載った状態となる。
【０００６】
次いで図９（ｃ）に示すように、基板７０を乾燥してスペーサ粒子分散液の液滴７７の溶媒を揮発させて液滴７７を縮小させてブラックマトリックス７５上に集める。最後に図９（ｄ）に示すように、基板を１００℃以上に加熱してスペーサ粒子７３の表面を溶融させ、配向膜７１に固着させることで、スペーサ粒子７３は基板上の所定の位置に配置される。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４０９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、配向膜７１に接触したスペーサ分散液の液滴７７の痕跡部分（図９中の矢印Ｆで示された範囲）における液晶分子７９の配向規制力が、図１０に示されるように他の部分に比べて弱くなっていると現象が発生していた。
【０００９】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、配向膜にダメージを与えることなくスペーサ粒子を配置して液晶表示装置を製造する方法を提供すること、及びスペーサ粒子の配置の際に配向膜にダメージを与えずに表示画質の優れた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、光配向処理を施こす前の配向膜上に、スペーサ粒子を配置し、その後、配向膜に光配向処理を施すことで、上記のようなスペーサ粒子散布液の液滴によって配向膜の配向規制力が低下してしまうことが抑制されることに着眼した。つまり、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、前記一対の基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、前記スペーサ粒子が分散しているスペーサ粒子分散液を用い、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上に前記スペーサ粒子分散液を吐出し、該基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させて前記スペーサ粒子を該基板の配向膜上に配置した後、該配向膜に前記光配向処理を行うことを要旨とするものである。
【００１１】
また、本発明に係る液晶表示装置は、一対の基板間に封入された液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理が施された配向膜と、前記一対の基板間の間隔を一定に保持するスペーサ粒子とを備えた液晶表示装置であって、前記スペーサ粒子が分散しているスペーサ粒子分散液を用い、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上に前記スペーサ粒子分散液を吐出し、該基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させて前記スペーサ粒子を該基板の配向膜上に配置した後、該配向膜に前記光配向処理が行われていることを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
上記構成を有する液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置によれば、インクジェット方式によりいずれか一方の基板上にスペーサ粒子分散液を吐出し、基板を乾燥させて吐出された液滴を収縮させてスペーサ粒子を基板の配向膜上に配置した後に、液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための光配向処理を配向膜に施すという構成なので、従来技術のように、スペーサ粒子散布液の液滴によって配向膜の配向規制力が低下してしまうことが抑制される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明に係る液晶表示装置の製造方法の実施の形態について図面を参照して説明する。図１は本発明に係る製造方法が適用される液晶表示装置の１絵素の概略を拡大して示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ線における断面図である。
【００１４】
この液晶表示装置の液晶パネル１には、図２に示すように、一対の相互に対向するガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０とガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０の間に、垂直方向に配向された液晶分子を有する液晶層４０が形成されており、下側のガラス基板１０上には、絵素電極１７がマトリクス状に形成されている。
【００１５】
先ず、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０について説明する。図１に示すように、各絵素電極１７の周囲には、相互に平行となった各一対のアルミニウム等からなるゲートバスライン１１とソースバスライン１２とが相互に垂直になるように形成されている。ゲートバスライン１１とソースバスライン１２とは、その交差部において、ソースバスライン１２が上側、ゲートバスライン１１が下側となるように交差しており、交差部においてゲートバスライン１１とソースバスライン１１とが電気的に絶縁されている。
【００１６】
絵素電極１７を取り囲む横方向に延びる一対のゲートバスライン１１の下側と、縦方向に延びる一対のソースバスライン１２の左側との交差部には、ゲートバスライン１１の一部であるゲート電極１１ａに接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１３が形成されている。
【００１７】
このゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは、同じ配線層（第１の配線層）に形成されている。つまり、ゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは同一の導電膜をパターニングすることにより形成されたものである。そして、ゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは、窒化シリコン等からなるゲート絶縁膜１４に覆われている（図２参照）。
【００１８】
ＴＦＴ１３位置のゲート絶縁膜１４の上には、アモルファスシリコン等からなる図示しない半導体層が、ゲート電極１１ａに重畳するように形成されている。そのゲート絶縁膜１４の上には、ＴＦＴ１３のソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂが形成されている。ソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂは、ゲート電極１１ａ上の半導体層の両側に相互に離隔して形成されている。ソース電極１３ａはソースバスライン１２に接続され、ドレイン電極１３ｂはコンタクトホール１５を介して絵素電極１７に接続されている。これらソースバスライン１２、ソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂは、図２には示されないが、ゲート絶縁膜１４上の同じ配線層（第２の配線層）に形成されている。
【００１９】
そして、ソースバスライン１２及びＴＦＴ１３は、ゲート絶縁膜１４の上に形成された層間絶縁膜１６に覆われている。この層間絶縁膜１６は感光性アクリル樹脂（感光性有機膜）材料からなり、ＴＦＴ１３や前述した第１及び第２の配線層（ゲートバスライン１１，ソースバスライン１２等）と絵素電極１７との間に配置されて、両導電体間を絶縁するものである（図２参照）。
【００２０】
層間絶縁膜１６の上には、各絵素領域毎に、絵素電極１７が形成されている。この絵素電極１７は例えばＩＴＯ（indium-tin oxide：インジウム酸化スズ）材料等の透明導電体により形成される。絵素電極１７は、層間絶縁膜１６に形成されたコンタクトホール１５を介してＴＦＴ１３のドレイン電極１３ｂに電気的に接続されている。そして、この絵素電極１７の上側には下側配向膜２１が形成されている。下側配向膜２１は、例えばポリイミド樹脂により形成されている。
【００２１】
次に、ガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０について説明する。図２に示すように、ガラス基板３０の下にはブラックマトリクス３１が形成されている。このブラックマトリクス３１により、ガラス基板１０側のゲートバスライン１１、ソースバスライン１２及びＴＦＴ１３が形成された領域が遮光されるようになっている。
【００２２】
そして、ガラス基板３０の下には、各絵素毎に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のうちのいずれか１色の着色部３２が形成されている。この実施の形態では、水平方向に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の着色部３２が順番に繰り返し並び、垂直方向には同色の着色部３２が並んでいる。
【００２３】
この着色部３２の下には、各絵素共通の共通電極３３が形成されている。この共通電極３３も、ＩＴＯ材料等の透明導電体により形成されている。この共通電極３３の下側には上側配向膜３５が形成されている。この上側配向膜３５により共通電極３３の表面が覆われている。上側配向膜３５は、例えばポリイミド樹脂により形成されている。上述した下側配向膜２１と上側配向膜３５の表面には後述する光配向処理によって液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための配向処理が施されている。
【００２４】
このような構成のガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０とガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０との間には、負の誘電率異方性を有する液晶層４０が形成されている。また、ガラス基板１０の下側及びガラス基板３０の上側にはそれぞれ偏光板（図示せず）が配置されている。
【００２５】
そして、図示されるようにブラックマトリクス３１下位置には、球形のスペーサ粒子３６が配置されている。このスペーサ粒子３６は基板１０，３０間の間隔を規制し、適正な液晶層４０の厚み（セルギャップ）を保持する目的で使用されるものである。
【００２６】
次に、上述した構成の液晶パネル１におけるスペーサー粒子３６の配置方法及び配向膜２１，３５への配向処理方法について図３〜図７を用いて説明する。
【００２７】
図３は、上述した液晶パネル１の所定の位置にスペーサー粒子３６を配置するスペーサー粒子配置装置５０を示している。このスペーサー粒子配置装置５０は、この場合、配向膜３５が形成されたガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０、配向膜２１が形成されたガラス基板（ＴＦＴ側アレイ基板）１０のいずれか一方に対して、インクジェット方式でスペーサー粒子３６を含んだ分散液５４を、ブラックマトリクス３１やゲートバスライン１１やソースバスライン１２などの遮光領域となる部分に塗布することにより、基板上に均一にスペーサー粒子３６を配置するものである。
【００２８】
図示されるように、このスペーサー粒子配置装置５０は、インクジェットヘッド５１、ステージ５２を備えている。長尺状のインクジェットヘッド５１には、タンク５３から供給管を介してスペーサー粒子３６を含む分散液５４が供給される。
【００２９】
このインクジェットヘッド５１には、複数のノズル５１ａがピッチＰａで配列されており、この場合、ガラス基板３０の大面積に、スペーサー粒子３６を塗布できるようになっている。それぞれのノズル５１ａには図示しないピエゾ素子が備えられており、制御部５５からの制御信号によって、任意のノズル５１ａからスペーサー粒子３６を含む分散液５４の液滴を吐出することが可能になっている。
【００３０】
ステージ５２は、ガラス基板３０を吸着保持可能となっており、ガラス基板３０を任意の方向（ＸＹＺ方向）に走査可能となっている。すなわち、ステージ５２は、インクジェットヘッド５１のノズル５１ａの配列方向に対して平行方向（Ｘ方向）又は垂直方向（Ｙ方向）への移動が可能であると共に、ガラス基板３０とインクジェットヘッド５１との距離の調整（Ｚ方向に移動）が可能となっている。制御部５５は、ガラス基板３０が保持されたステージ５２を移動させる際の速度等を制御する。
【００３１】
図４は、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０及びガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０に形成された配向膜２１，３５に光配向処理を行う光配向処理装置６０を示している。光配向処理とは、配向膜に所定の方向から紫外線などの光エネルギーを照射することにより、配向膜の表面に所定の配向特性を与える処理である。近年では、液晶パネルの視野角特性の改善のため、この光配向処理において、１絵素内において液晶分子の配向規制方向が異なる複数の領域を設ける分割配向の技術が用いられている。この分割配向の技術は、配向膜の上方にスリット状の開口部を有するマスクを配置し、マスク上方から所定の照射角度で紫外線などを照射し、続いてマスクの位置を変え異なる照射角度で再度紫外線などを照射するというものである。
【００３２】
図示される光配向処理装置６０は、ガラス基板１０に紫外線を照射する露光ユニット６１と、載置されたガラス基板１０を移動させるステージ６２を備える。図中の矢印Ｂはステージ６２によるガラス基板１０の移動の向きを示している。尚、図４は、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０に対して露光を行っている状態を示しているが、ガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０に対しても同様に行うことができる。
【００３３】
露光ユニット６１は、紫外線を発する図示しない光源を備え、マスク６３を介してガラス基板１０の表面に対して所定の照射角度で紫外線を照射できるように構成されている。マスク６３は、板状の部材であり、図６（ａ）に示すようにスリット状の開口部６３ａが複数設けられている。従って、ガラス基板１０が搬送されてマスク６３の直下を通過すると、マスク６３の開口部６３ａの直下を通過した領域のみが露光される。この結果、ガラス基板１０の表面の所定の細長い線状の領域が露光されることになる。
【００３４】
図５（ａ），（ｂ）は、配向膜２１が形成されたガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０と配向膜３５が形成されたガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０のそれぞれの絵素に対する光配向処理の形態を模式的に示したもので、図５（ａ）がガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０に形成される絵素、図５（ｂ）がガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０に形成される絵素を示している。また、図５（ｃ）は、これら両基板を貼り合わせて構成される液晶パネルの各絵素における液晶分子の配向の向きを示した図である。
【００３５】
図５（ａ）に示すように、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０の配向膜２１の光配向処理については、各絵素内にその両側のソースバスライン１２の略中間で二分されて形成される２つの領域になるように処理されている。具体的には、それぞれの領域に対して、絵素の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線が照射されており、また、各領域に対する紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素の面に投影した場合に、こららの投影した光軸がソースバスライン１２に平行で且つ互いに１８０°異なる向きとなっている。
【００３６】
また、図５（ｂ）に示すように、ガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０の配向膜３５の光配向処理については、上述のガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０と貼り合わせた際にそのガラス基板１０のゲートバスライン１１に平行となる２辺の略中央で二分されて形成される２つの領域になるように処理されている。具体的には、それぞれの領域に対して、絵素の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から紫外線が照射されており、また、各領域に対する紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される紫外線の光軸を絵素の面に投影した場合に、こららの投影した光軸が、ガラス基板１０のゲートバスライン１１に平行で且つ互いに１８０°異なる向きとなっている。
【００３７】
このようにそれぞれ光配向処理が施された基板同士を貼り合わせて液晶パネルを構成すると、図５（ｃ）に示すように、両基板の間に充填される液晶分子は、各基板の各領域に施された配向処理の向き、すなわち紫外線の照射方向に従って配向する。その結果、各絵素内には、液晶分子の配向の向きが互いに異なる複数のドメイン領域が形成される。
【００３８】
図６（ａ）は、上述したガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０の配向膜２１への光配向処理の際に用いられるアレイ基板用マスク６３の正面図を示している。また、図６（ｂ）は、このアレイ基板用マスク６３と、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０に形成される絵素のパターンとの寸法及び位置関係を示した図である。
【００３９】
図示されるように、アレイ基板用マスク６３は、略長方形の板状の部材で構成され、紫外線が通過できるスリット状の開口部６３ａが、所定のピッチＰｂで複数平行に形成されている。この開口部６３ａのピッチＰｂは、図６（ｂ）に示すように、ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）１０に形成されるソースバスライン１２のピッチに等しく設定されている。また、開口部６３ａの寸法（ピッチ方向の寸法）Ｌａは、各絵素のパターンの前記ピッチの約１／２の寸法に設定されている。図中の矢印Ｂは、アレイ基板用マスク６３に対するガラス基板１０の進行方向を示している。尚、上述したガラス基板（カラーフィルタ側基板）３０の配向膜３５への光配向処理の際に用いられるカラーフィルタ基板用マスクについても同様の構成であるので図示せず説明も省略する。
【００４０】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、図３に示したスペーサ粒子配置装置５０を用いて、スペーサ粒子を含むスペーサ粒子分散液の液滴を配向処理が施されていない配向膜上の所定の位置に着弾させる吐出工程と、吐出した液滴の溶媒を揮発させて該液滴を収縮させる乾燥工程と、基板を加熱してスペーサ粒子を固着させる固着工程を経て、その後、図４に示した光配向処理６０を用いて、スペーサ粒子が配置された配向膜に対して、液晶分子の電圧無印加時の配向状態を規制するための配向処理を施す配向処理工程とから構成される。
【００４１】
基板へのスペーサ粒子配置工程と配向膜への配向処理工程の手順について、図７を用いて説明する。図７（ａ）に示すように、吐出工程は、上述したスペーサ粒子配置装置５０のインクジェットヘッド５１に設けられたノズル５１ａから、配向膜３５が形成されたカラーフィルター基板３０に対して、スペーサ粒子分散液５４を所定の位置に吐出する。この配向膜３５には、後述する光配向処理が施される前の状態である。
【００４２】
スペーサ粒子分散液５４の吐出位置は、ブラックマトリックス３１の部分を目標とする。図７（ａ）に示すように、インクジェットヘッド５１のノズル５１ａからスペーサ粒子分散液５４を、カラーフィルター基板３０のブラックマトリックス３１の位置となる配向膜３５の表面に吐出する。配向膜３５の上に吐出されたスペーサ粒子分散液の液滴５４ａは着弾の瞬間に濡れ広がり、ブラックマトリックス３１をはみ出して絵素領域の上にも液滴が載った状態となる。
【００４３】
乾燥工程は、カラーフィルター側基板３０を常温で減圧乾燥し、スペーサ粒子分散液の液滴５４ａの溶媒を揮発させる。図７（ｂ）に示すように、液滴５４ａは溶媒が揮発して収縮し、ブラックマトリックス３１の上に配置される。この乾燥工程は、加熱して行ってもよく、更に減圧することで、乾燥時間を短縮することができる。
【００４４】
固着工程は、１００℃以上の温度で数分間加熱を行う。この工程では、完全に溶媒を揮発させると共に、図７（ｃ）に示すように、スペーサ粒子３６の表面を一部溶融させて、配向膜３５の表面にスペーサ粒子３６を固着させる。加熱温度及び加熱時間等の加熱条件は、スペーサ粒子３６が溶融して配向膜３５に固着可能であればよく、スペーサ粒子３６の種類等に応じて、温度、時間等を適宜選択することができる。
【００４５】
次に図８（ａ）に示すように、上述した光配向処理装置６０を用いて、配向膜３５に対して所定の照射角で紫外線等の光エネルギーＥを照射し、液晶分子４０の電圧無印加時の配向状態を規制するための配向処理を配向膜３５表面に施す。
【００４６】
このように光配向処理を施こす前の配向膜３５上に、スペーサ粒子を配置し、その後、配向膜３５に光配向処理を施すことで、図８（ｂ）に示すように、分散液５４による液滴５４ａが形成された範囲Ｄにおける液晶分子４０に対しても、電圧無印加時の配向状態を規制する（プレチルト角を与える）ことが可能になり、従来技術で説明したようなスペーサ粒子散布液の液滴によって配向膜の配向規制力が低下してしまうことが抑制される。
【００４７】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法が適用される液晶表示装置の１絵素の概略を拡大して示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】本発明に係る液晶表示装置の製造方法に用いられるスペーサー粒子配置装置の概略構成を示した図である。
【図４】本発明に係る液晶表示装置の製造方法に用いられる光配向処理装置の概略構成を示した図である。
【図５】配向膜への光配向処理の態様を示した図である。
【図６】配向膜への光配向処理のための分割露光におけるマスクと基板との位置関係を示した図である。
【図７】本発明に係る液晶表示装置の製造方法におけるスペーサー粒子を配置する手順を示した図である。
【図８】本発明に係る液晶表示装置の製造方法における配向膜への配向処理の手順と液晶分子の配向規制の状態を示した図である。
【図９】従来用いられてきた配向膜への配向処理及びスペーサー粒子の配置の手順を示した図である。
【図１０】図９（ｄ）に示した基板による液晶分子の配向規制の状態を示した図である。
【符号の説明】
【００４９】
１  液晶パネル
１０  ガラス基板（ＴＦＴアレイ側基板）
２１  下側配向膜
３０  ガラス基板（カラーフィルター側基板）
３１  ブラックマトリックス
３５  上側配向膜
３６  スペーサ粒子
４０  液晶層（液晶分子）
５０  スペーサー粒子配置装置
５１  インクジェットヘッド
５１ａ  ノズル
５４  スペーサー粒子分散液
５４ａ  液滴
６０  光配向処理装置
６１  露光ユニット
６３  マスク
６３ａ  開口部
Ｄ  分散液の液滴形成範囲
Ｅ  光エネルギー
【図１】
2007240702.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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