(57)【要約】【課題】感光層中に適正な量の有機溶媒を含有し、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れた感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。【解決手段】支持体と、該支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物からなる感光層を有してなり、前記感光層における前記有機溶媒の含有量が０．０１〜３質量％である感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法である。前記有機溶媒が、沸点の異なる少なくとも２種以上の有機溶媒である態様等が好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物からなる感光層を有してなり、
前記感光層における前記有機溶媒の合計含有量が０．０１〜３質量％であることを特徴とする感光性フィルム。
【請求項２】
有機溶媒が、沸点の異なる少なくとも２種以上の有機溶媒である請求項１に記載の感光性フィルム。
【請求項３】
バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む請求項１から２のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項４】
バインダーが、高分子化合物の酸性基の一部に環状エーテル基を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもの、及び高分子化合物の環状エーテル基の一部又は全部にカルボキシル基を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもののいずれかから選択される高分子化合物であり、前記触媒が酸性化合物及び中性化合物のいずれかから選択される請求項１から３のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項５】
バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む請求項１から４のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項６】
バインダーが、エポキシ化合物に、エチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物を含む請求項１から５のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項７】
バインダーが、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体を含む請求項１から６のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項８】
重合性化合物が、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種を含む請求項１から７のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項９】
光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも１種を含む請求項１から８のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項１０】
熱架橋剤が、エポキシ樹脂化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも１種を含む請求項１から９のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の感光性フィルムの製造方法であって、支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物を塗布し、乾燥させて、該有機溶媒の含有量が０．０１〜３質量％である感光層を形成する感光層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする感光性フィルムの製造方法。
【請求項１２】
乾燥が、８０〜２００℃で、３０秒間以上行われる請求項１１に記載の感光性フィルムの製造方法。
【請求項１３】
請求項１１から１２のいずれかに記載の感光性フィルムにおける感光層を、基体の表面に転写した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１４】
露光が、３９５〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項１３に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１５】
保護膜、層間絶縁膜、及び、ソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項１３から１４のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジスト等の永久パターンの形成に好適な感光性フィルム及び該感光性フィルムの製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジスト等の永久パターンを形成するにためには、支持体上に感光性組成物を塗布、及び乾燥することにより感光層を形成させた感光性フィルムが用いられている。
この場合、前記感光層に含有される有機溶媒量が多すぎると、塗布後の乾燥では、該有機溶媒が除去されずに残ってしまい、（１）感光層のタック性（粘着性、べたつき）が強くなるため、取り扱い性が低下したり、また、前記感光性フィルムが該感光層上の前記支持体とは反対側の面に保護フィルムを有する場合、該保護フィルムを剥がす際の剥離力が高くなるため、該感光層の破れが生じたり、剥離跡が残ったりする、という問題がある。また、（２）基板上に感光性フィルムをラミネートする際に気泡が入りやすく、ラミネートしにくくなるという問題がある。一方、該感光層に含有される有機溶媒量が少なすぎると、該感光層のタック性は良好であるが、該基板への該感光層の追従性が劣るという問題がある。
【０００３】
このような問題を解決するために、例えば、前記基板上の凹凸に対する前記感光層の追従性を高める目的で、該感光層が、（Ａ）バインダーポリマー、及び（Ｂ）エチレン性不飽和共重合体の総量１００質量部に対して、（Ａ）バインダーポリマーを４０〜８０質量部、（Ｂ）エチレン性不飽和共重合性モノマーを２０〜６０質量部、（Ｃ）光重合開始剤を０．００１〜１０質量部、及び（Ｄ）有機溶媒を０．００１〜５質量部含有する感光性フィルムが提案されている（特許文献１参照）。
しかし、前記感光性フィルムは、プリント配線形成用に用いられるレジストであり、プリント配線形成工程が終わると除去されるものである。
【０００４】
したがって保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジスト等の永久パターンの形成を目的として、前記感光層中に適正な量の有機溶媒を含有し、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れた感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法は未だ提供されていないのが現状である。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２１２５８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、感光層中に適正な量の有機溶媒を含有し、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れた感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体と、該支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物からなる感光層を有してなり、
前記感光層における前記有機溶媒の合計含有量が０．０１〜３質量％であることを特徴とする感光性フィルムである。
該＜１＞に記載の感光性フィルムは、支持体と、該支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物からなる前記感光層を有してなり、該感光層における該有機溶媒の合計含有量が０．０１〜３質量％であるため、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れ、保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジスト等の高精細な永久パターンの形成などに好適である。
＜２＞  有機溶媒が、沸点の異なる少なくとも２種以上の有機溶媒である前記＜１＞に記載の感光性フィルムである。
＜３＞  バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜４＞  バインダーが、高分子化合物の酸性基の一部に環状エーテル基を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもの、及び高分子化合物の環状エーテル基の一部又は全部にカルボキシル基を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもののいずれかから選択される高分子化合物であり、前記触媒が酸性化合物及び中性化合物のいずれかから選択される前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜５＞  バインダーが、酸性基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含む前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜６＞  バインダーが、エポキシ化合物に、エチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物を含む前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜７＞  バインダーが、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体を含む前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜８＞  バインダーが、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して０．１〜１．２当量の１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜９＞  重合性化合物が、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種を含む前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１０＞  光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、及びケトオキシムエーテルから選択される少なくとも１種を含む前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１１＞  熱架橋剤が、エポキシ樹脂化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも１種を含む前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１２＞  前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の感光性フィルムの製造方法であって、支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物を塗布し、乾燥させて、該有機溶媒の含有量が０．０１〜３質量％である感光層を形成する感光層形成工程を少なくとも含むことを特徴とする感光性フィルムの製造方法である。
該＜１２＞に記載の感光性フィルムの製造方法は、支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物を塗布し、乾燥させて、該有機溶媒の含有量が０．０１〜３質量％である感光層を形成する前記感光層形成工程を少なくとも含む。このため、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れ、高精細な永久パターンの形成などに好適な本発明の感光性フィルムが効率よく形成される。
＜１３＞  乾燥が、８０〜２００℃で、３０秒間以上行われる前記＜１２＞に記載の感光性フィルムの製造方法である。
＜１４＞  前記＜１２＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性フィルムにおける感光層を、基体の表面に転写した後、露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。
該＜１４＞に記載の永久パターン形成方法は、本発明の感光性フィルムにおける前記感光層を、基体の表面に転写した後、露光し、現像する。このため、高精細な永久パターンが効率よく形成可能される。
＜１５＞  露光が、３９５〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる前記＜１２＞から＜１４＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜１６＞  現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う前記＜１２＞から＜１５＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
該＜１６＞に記載の永久パターン形成方法においては、現像が行われた後、前記感光層に対して前記硬化処理が行われる。その結果、前記感光層の硬化領域の膜強度が高められる。
＜１７＞  硬化処理が、全面露光処理及び１２０〜２００℃で行われる全面加熱処理の少なくともいずれかである前記＜１６＞に記載の永久パターン形成方法である。
該＜１７＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記全面露光処理において、前記重合性組成物中の樹脂の硬化が促進される。また、前記温度条件で行われる全面加熱処理において、硬化膜の膜強度が高められる。
＜１８＞  保護膜、層間絶縁膜及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する前記＜１４＞から＜１７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
該＜１８＞に記載の永久パターン形成方法においては、保護膜、層間絶縁膜及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかが形成されるため、該膜の有する絶縁性、耐熱性などにより、配線が外部からの衝撃や曲げなどから保護される。
＜１９＞  前記＜１４＞から＜１８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法により形成されることを特徴とする永久パターンである。
該＜１９＞に記載の永久パターンは、前記永久パターン形成方法により形成されるため、優れた耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを有し、かつ高精細であり、半導体や部品の多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの高密度実装に好適に適用可能である。
＜２０＞  保護膜、層間絶縁膜及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかである前記＜１９＞に記載の永久パターンである。
該＜２０＞に記載の永久パターンは、保護膜、層間絶縁膜及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかであるため、該膜の有する絶縁性、耐熱性、などにより、配線が外部からの衝撃や曲げなどから保護される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によると、従来における前記諸問題を解決することができ、感光層中に適正な量の有機溶媒を含有し、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れた感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
（感光性フィルム）
本発明の感光性フィルムは、支持体と、該支持体上に、感光性組成物からなる感光層を有してなり、更に必要に応じて、保護フィルム、その他の層、などを有してなる。
【００１０】
＜感光層＞
前記感光層は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤及び有機溶媒を少なくとも含み、更に必要に応じて適宜選択した、増感剤、その他の成分、などを含んでなる感光性組成物を用いて形成される。
【００１１】
−有機溶媒−
前記有機溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、などのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、メトキシプロピルアセテート、などのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン、などの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン、などのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、などのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、などが挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましい。
前記有機溶媒としては、溶媒の蒸散量を調整し、良好な塗布面状を得られる点で、沸点の異なる少なくとも２種以上の組合せであることが好ましい。このような沸点の異なる少なくとも２種以上の溶媒の組み合わせとしては、例えば、メチルエチルケトンと、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの少なくともいずれかとの組合せなどが挙げられる。
前記有機溶媒の沸点の差としては、５℃以上が好ましく、１０℃以上がより好ましい。該有機溶媒の沸点の範囲としては、４０〜２００℃が好ましく、５０〜１６０℃がより好ましい。
【００１２】
前記有機溶媒の前記感光層における合計含有量としては、０．０１〜３質量％であり、０．１〜２質量％が好ましく、０．１〜１質量％が好ましい。該含有量が、０．０１質量％未満であると、タック性が著しく小さくなるため、基板に追従しにくくなることがあり、３質量％を超えると、タック性が大きくなるため、取り扱い性が低下したり、ラミネートの際に気泡が入りやすく、ラミネートしにくくなったりすることがある。なお、該「有機溶媒の合計含有量」とは、該有機溶媒の総含有量を意味し、有機溶媒が２種以上の場合には、該有機溶媒の合計含有量を意味する。
なお、前記感光層中における有機溶媒の含有量は、ガスクロマトグラフィーにより測定することができる。具体的には、感光性フィルムの一定面積をスクリュー管式ガラス製ビンに入れ、有機溶媒含有量の測定用サンプルとし、ガスクロマトグラフ装置を用いて測定することができる。
前記感光層における前記有機溶媒の合計含有量の範囲としては、後述する感光性フィルムの製造方法において、前記感光性組成物の乾燥条件（乾燥温度、乾燥時間）を調節することにより達成することができる。
【００１３】
−バインダー−
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、水に不溶で、かつ、アルカリ性水溶液により膨潤あるいは溶解する化合物が好ましく、酸性基とエチレン性不飽和結合を側鎖に含む高分子化合物がより好ましい。
前記酸性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、などが挙げられる。これらの中でも、原料入手が容易である点でカルボキシル基が好ましい。
前記エチレン性不飽和結合としては、例えば、（メタ）アクリレート基、（メタ）アクリルアミド基等のアクリル基；ビニル基、アリル基、などが挙げられる。
ここで、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート、メタアクリレート及びそれらの混合物の総称を意味し、他の類似の表現についても同様である。
前記酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に含む高分子化合物の具体例としては、例えば、酸性基としてカルボキシル基を含有するアクリル樹脂に、環状エーテル基含有重合性化合物（例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、桂皮酸等の不飽和脂肪酸のグリシジルエステル、シクロヘキセンオキシド等の脂環式エポキシ基）と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物等のエポキシ基含有の重合性化合物）を付加させて得られる化合物；酸性基及び水酸基を含有するアクリル樹脂に、イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基を含有する重合性化合物を付加させて得られる化合物；無水物基を含有するアクリル樹脂に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を含有する重合性化合物を付加させて得られる化合物；グリシジルメタクリレート等の環状エーテル基含有重合性化合物と（メタ）アクリロイルアルキルエステル等のビニルモノマーとを共重合し、側鎖のエポキシ基に（メタ）アクリル酸を付加させて得られる化合物、などが挙げられる。これらの詳細な例としては、例えば、特許２７６３７７５号公報、特開平３−１７２３０１号公報、特開２０００−２３２２６４号公報等に記載の化合物などが挙げられる。
【００１４】
前記バインダーとしては、これらの中でも、高分子化合物の酸性基の一部に環状エーテル基（例えばエポキシ基及びオキセタン基のいずれかを部分構造に有する基）を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもの、及び高分子化合物の環状エーテル基の一部又は全部にカルボキシル基を含有する重合性化合物を触媒共存下で付加させたもののいずれかから選択される高分子化合物であることがより好ましい。該触媒としては、酸性化合物及び中性化合物から選択されるものであることが好ましい。
更に、前記バインダーとしては、これらの中でも感光性組成物の経時での現像安定性に優れる点で、カルボキシル基と、ヘテロ環を含んでもよい芳香族基と、エチレン性不飽和結合と側鎖に含む高分子化合物が特に好ましい。
【００１５】
−ヘテロ環を含んでもよい芳香族基−
前記ヘテロ環を含んでもよい芳香族基（以下、単に「芳香族基」と称することもある。）としては、例えば、ベンゼン環を基礎骨格とする基、２個又は３個のベンゼン環が縮合環を形成したものを基礎骨格とする基、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを基礎骨格とする基、などが挙げられる。
前記芳香族基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基、などが挙げられる。これらの中でも、炭化水素芳香族基が好ましく、フェニル基、ナフチル基、などがより好ましい。
【００１６】
前記芳香族基としては、置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アミノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、オキシ基、ヘテロ環基、などが挙げられる。これらは、置換基で更に置換されていてもよい。
【００１７】
前記芳香族基が有していてもよい前記アルキル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、炭素原子数１から２０までの直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、環状のアルキル基、などが挙げられる。
前記アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基、などが挙げられる。これらの中でも、炭素原子数１から１２の直鎖状のアルキル基、炭素原子数３から１２の分岐状のアルキル基、炭素原子数５から１０の環状のアルキル基、などが好ましい。
【００１８】
前記アルキル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基などが挙げられる。
前記水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基の具体例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）及びその共役塩基基（スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィイナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基（ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）（以下、「ａｌｋｙｌ」はアルキル基を意味する。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｒｙｌ）２）（以下、「ａｒｙｌ」はアリール基を意味する。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（アルキルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基（ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基（アリールホスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基、などが挙げられる。
【００１９】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるアルキル基としては、例えば、前述のアルキル基などが挙げられる。
【００２０】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、などが挙げられる。
【００２１】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、などが挙げられる。
【００２２】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるアルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、などが挙げられる。
【００２３】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるアシル基（Ｒ０１ＣＯ−）のＲ０１としては、例えば、水素原子、前述のアルキル基、前述のアリール基、などが挙げられる。
【００２４】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ピペリジニル基、などが挙げられる。
【００２５】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基などが挙げられる。
【００２６】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるスルホニル基（Ｒ０２−ＳＯ２−）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｒ０２が一価の非金属原子団からなる基であるものなどが挙げられる。
前記一価の非金属原子団からなる基としては、例えば、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基として示したものなどが挙げられる。
前記スルホニル基の具体例としては、例えば、ブチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、などが挙げられる。
【００２７】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるスルホナト基（−ＳＯ３−）とは、前述のとおり、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンとともに使用されるのが好ましい。
前記対陽イオンとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択して用いることができ、例えば、オニウム類（例えば、アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、金属イオン類（例えば、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋等）、などが挙げられる。
【００２８】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるカルボニル基（Ｒ０３−ＣＯ−）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｒ０３が一価の非金属原子団からなる基であるものなどが挙げられる。該一価の非金属原子団からなる基としては、例えば、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基として示したものなどが挙げられる。
前記カルボニル基としては、例えば、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ’−アリールカルバモイル基、などが挙げられる。
これらの中でも、前記カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、などが好ましく、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、などがより好ましい。
前記カルボニル基の具体例としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、などが好適に挙げられる。
【００２９】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるスルフィニル基（Ｒ０４−ＳＯ−）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、Ｒ０４が一価の非金属原子団からなる基のものなどが挙げられる。該一価の非金属原子団からなる基としては、例えば、前述のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基として示したものなどが挙げられる。
前記スルフィニル基としては、例えば、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、などが挙げられる。これらの中でも、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、などが好ましい。
前記置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基、などが好適に挙げられる。
【００３０】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるホスホノ基とは、ホスホノ基上の水酸基の一つ乃至二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味する。
前記ホスホノ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基、などが好ましく、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、などがより好ましい。
前記ホスホノ基の具体例としては、例えば、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基、などが好適に挙げられる。
【００３１】
前記アルキル基が有していてもよい置換基におけるホスホナト基（−ＰＯ３Ｈ２−、−ＰＯ３Ｈ−）とは、前述のとおり、前記ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ２）の、酸第一解離、又は酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。
前記対陽イオンとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、金属イオン類（Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋等）、などが挙げられる。
前記ホスホナト基としては、前記ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であってもよく、このようなホスホナト基の具体例としては、例えば、前述のモノアルキルホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））の共役塩基、などが挙げられる。
【００３２】
これらの中でも、前記アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール基、アルケニル基、などが好ましい。
【００３３】
これらの置換基を有するアルキル基（以下、「置換アルキル基」と称することもある）の具体例としては、例えば、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ｓ−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、Ｎ−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、などが好適に挙げられる。
【００３４】
前記芳香族基が有していてもよい前記アリール基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゼン環を基礎骨格とする基、２個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したものを基礎骨格とする基、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを基礎骨格とする基、などが挙げられる。
前記アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、などが挙げられる。これらの中でも、フェニル基、ナフチル基、などが好ましい。
前記アルキル基は、置換基で更に置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基などが挙げられる。
前記水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基としては、例えば、前述した、アルキル基、置換アルキル基、該アルキル基が有していてもよい置換基として示した水素原子以外の一価の非金属原子団などが好ましい。
【００３５】
前記置換基を有するアリール基（以下、「置換アリール基」と称することもある）の具体例としては、例えば、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、などが好適に挙げられる。
【００３６】
前記芳香族基が有していてもよい前記アルケニル基（−Ｃ（Ｒ０５）＝Ｃ（Ｒ０６）（Ｒ０７））及び前記アルキニル基（−Ｃ≡Ｃ（Ｒ０８））としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該Ｒ０５、該Ｒ０６、該Ｒ０７、及び該Ｒ０８が一価の非金属原子団からなる基であるものなどが挙げられる。
前記一価の非金属原子団としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子；前述した、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基；などが挙げられる。これらの中でも、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１から１０までの直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、環状のアルキル基、などが好ましい。
【００３７】
前記アルケニル基及びアルキニル基の具体例としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロロ−１−エテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、フェニルエチニル基、などが好適に挙げられる。
【００３８】
前記芳香族基が有していてもよい前記ヘテロ環基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記置換アルキル基における置換基として例示したピリジル基などが挙げられる。
【００３９】
前記芳香族基が有していてもよい前記オキシ基（Ｒ０９Ｏ−）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｒ０９が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基であるものなどが挙げられる。
前記一価の非金属原子団としては、例えば、アルキル基、アリール基、アシル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルホ基、アリールスルホ基、ホスホノ基、ホスホナト基、などが挙げられる。これらの中でも、アルキル基、アリール基、アシル基、アリールスルホ基、などが好ましい。
前記アルキル基及びアリール基としては、例えば、前述した、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、などが挙げられる。また、前記アシル基（Ｒ０１０ＣＯ−）としては、例えば、該Ｒ０１０が、前述した、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、又は置換アリール基であるものなどが挙げられる。
【００４０】
前記オキシ基の具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、などが挙げられる。
【００４１】
前記芳香族基が有していてもよい前記アミノ基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、例えば、第１級アミノ基（Ｒ０１１ＮＨ−）、第２級アミノ基（（Ｒ０１２）（Ｒ０１３）Ｎ−）、などが挙げられる。
前記アミノ基は、置換基で置換されていてもよく、該置換基（Ｒ０１１、Ｒ０１２、及びＲ０１３）としては、例えば、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基などが挙げられる。なお、前記第２級アミノ基における前記Ｒ０１２と前記Ｒ０１３とは結合して環を形成していてもよい。
前記置換基を有するアミノ基（以下、「置換アミノ基」と称することもある）の具体例としては、例えば、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、などが挙げられる。これらにおけるアルキル基及びアリール基としては、例えば、前述した、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、及び置換アリール基として示したものなどが挙げられる。また、アシル基（Ｒ０１０ＣＯ−）のＲ０１０は前述の通りである。これらの中でも、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基が好ましく、具体的には、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基、などが好ましい。
【００４２】
前記高分子化合物における芳香族基は、芳香族基を含有するラジカル重合性化合物を少なくとも１種以上と、必要に応じて、共重合成分として他のラジカル重合性化合物１種以上とを通常のラジカル重合法にて重合することによって製造することできる。
前記ラジカル重合法としては、例えば、懸濁重合法、溶液重合法、などが挙げられる。
【００４３】
前記芳香族基を含有するラジカル重合性化合物としては、例えば、下記構造式（Ａ）で表される化合物、下記構造式（Ｂ）で表される化合物、などが好適に挙げられる。
【化１】
2007047771.tif 000003
【化２】
2007047771.tif 000004
ただし、前記構造式（Ａ）及び（Ｂ）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子及び１価の有機基のいずれかを表す。これらの中でも、非画像部の除去性（現像性）に優れる点で、Ｒ１及びＲ２は水素原子、Ｒ３はメチル基であるのが好ましい。
Ａｒは、ヘテロ環を含んでいてもよい芳香族基を表す。
【００４４】
前記構造式（Ａ）中、Ｌは、有機基又は単結合を表す。
前記有機基としては、例えば、非金属原子からなる多価の有機基であり、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から形成されるものなどが挙げられる。
前記有機基の具体例としては、例えば、下記の構造単位の組合せから構成される基、多価ナフタレン、多価アントラセン、などを挙げることができる。
【化３】
2007047771.tif 000005
【００４５】
前記有機基は、置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、例えば、前述のハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホナト基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換オキシ基、置換スルホニル基、置換カルボニル基、置換スルフィニル基、スルホ基、ホスホノ基、ホスホナト基、シリル基、ヘテロ環基、などが挙げられる。
これらの中でも、前記有機基としては、非画像部の除去性（現像性）に優れる点で炭素数１〜４のアルキレン基が好ましい。
【００４６】
前記構造式（Ａ）で表される化合物、及び構造式（Ｂ）で表される化合物の中でも、感度に優れる点で該構造式（Ａ）で表される化合物が好ましい。該構造式（Ａ）で表される化合物の中でも、安定性に優れる点で前記Ｌが有機基であるものが好ましく、該有機基としては、非画像部の除去性（現像性）に優れる点で炭素数１〜４のアルキレン基が好ましい。
前記構造式（Ａ）で表される化合物は、下記構造式（Ｉ）で表される構造単位となる。また、前記構造式（Ｂ）で表される化合物は、下記構造式（ＩＩ）で表される構造単位となる。これらの中でも、保存安定性の点で構造式（Ｉ）で表される構造単位が好ましい。
【００４７】
【化４】
2007047771.tif 000006
【化５】
2007047771.tif 000007
ただし、前記構造式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｌ、及びＡｒは前記構造式（Ａ）及び（Ｂ）と同じ意を表す。
【００４８】
前記構造式（Ａ）で表される化合物又は構造式（Ｂ）で表される化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下の例示化合物（１）〜（３０）が挙げられる。
【００４９】
【化６】
2007047771.tif 000008
【００５０】
【化７】
2007047771.tif 000009
【００５１】
前記例示化合物（１）〜（３０）の中でも、保存安定性及び現像性に優れる点で、（５）、（６）、（１１）、（１４）、及び（２８）が好ましく、（５）及び（６）がより好ましい。
【００５２】
前記ヘテロ環を含んでもよい芳香族基の前記高分子化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、該高分子化合物の全構造単位１００ｍｏｌ％に対して、前記構造式（Ｉ）で表される構造単位が、２０ｍｏｌ％以上であるのが好ましく、３０〜４５ｍｏｌ％がより好ましい。該含有量が、２０ｍｏｌ％未満であると、保存安定性が低くなることがあり、４５ｍｏｌ％を超えると、現像性が低下することがある。
【００５３】
−エチレン性不飽和結合−
前記エチレン性不飽和結合としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、下記構造式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるものなどが好ましい。
【００５４】
【化８】
2007047771.tif 000010
ただし、前記構造式（ＩＩＩ）中、Ｒ１は、１価の有機基を表す。該１価の有機基としては、例えば、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、など挙げられる。これらの中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基、などが好ましい。
前記構造式（ＩＩＩ）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。該１価の有機基としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基、などが挙げられる。これらの中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、などが好ましい。
前記置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、などが挙げられる。
前記構造式（ＩＩＩ）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ−Ｒ４を表す。
【００５５】
前記構造式（ＩＶ）中、Ｒ４〜Ｒ８は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。該１価の有機基としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基、などが挙げられる。これらの中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、などが好ましい。
前記置換基としては、前記構造式（ＩＩＩ）において挙げたものと同様である。
前記構造式（ＩＶ）中、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ−Ｒ４を表す。
【００５６】
前記構造式（Ｖ）中、Ｒ９は、１価の有機基を表す。該１価の有機基としては、例えば、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、などが挙げられる。これらの中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基、などが好ましい。
前記構造式（Ｖ）中、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立に、１価の有機基を表す。該１価の有機基としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基、置換基を有していてもよいアリールスルホニル基、などが挙げられる。これらの中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、などが好ましい。
前記置換基としては、構造式（ＩＩＩ）において挙げたものが例示される。
前記構造式（Ｖ）中、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−ＮＲ１２−、及び置換基を有していてもよいフェニレン基のいずれかを表す。該Ｒ１２は、水素原子、及び１価の有機基のいずれかを表す。該１価の有機基としては、置換基を有していてもよいアルキル基などが挙げられる。これらの中でも、ラジカル反応性が高い点で、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、などが好ましい。
【００５７】
前記構造式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）で表されるエチレン性不飽和結合の中でも、重合反応性が高く、感度に優れる点で、構造式（ＩＩＩ）で表されるものが好ましい。
前記エチレン性不飽和結合の前記高分子化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５〜３．０ｍｅｑ／ｇが好ましく、１．０〜３．０ｍｅｑ／ｇがより好ましく、１．５〜２．８ｍｅｑ／ｇが特に好ましい。該含有量が、０．５ｍｅｑ／ｇ未満であると、硬化反応量が少ないため低感度となることがあり、３．０ｍｅｑ／ｇを超えると、保存安定性が劣化することがある。
なお、前記含有量（ｍｅｑ／ｇ）は、例えば、ヨウ素価滴定により測定することができる。
【００５８】
前記エチレン性不飽和結合を側鎖に導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、側鎖にカルボキシル基を有する高分子化合物とエチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物とを付加反応させる方法が挙げられる。
前記側鎖にカルボキシル基を含有する高分子化合物としては、例えば、カルボキシル基を含有するラジカル重合性化合物を少なくとも１種以上と、必要に応じて、共重合成分として他のラジカル重合性化合物１種以上とを通常のラジカル重合法にて重合することによって製造することできる。
前記ラジカル重合法としては、例えば、懸濁重合法、溶液重合法、などが挙げられる。
【００５９】
前記カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物しては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルスチレン、などがあり、特に好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸、などが挙げられる。
【００６０】
前記エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する化合物としては、該エチレン性不飽和結合及び該エポキシ基を有していれば特に制限はないが、例えば、下記構造式（ＶＩ）で表される化合物、下記構造式（ＶＩＩ）で表される化合物、などが好ましい。これらの中でも、感度に優れる点で構造式（ＶＩ）で表される化合物がより好ましい。
【化９】
2007047771.tif 000011
ただし、前記構造式（ＶＩ）中、Ｒ１は、水素原子及びメチル基のいずれかを表す。Ｌ１は、有機基を表す。
【化１０】
2007047771.tif 000012
ただし、前記構造式（ＶＩＩ）中、Ｒ２は、水素原子及びメチル基のいずれかを表す。Ｌ２は、有機基を表す。Ｗは、４〜７員環の脂肪族炭化水素基を表す。
前記構造式（ＶＩ）で表される化合物及び構造式（ＶＩＩ）で表される化合物の中でも、該構造式（ＶＩ）で表される化合物が好ましい。該構造式（ＶＩ）で表される化合物の中でも、Ｌ１が炭素数１〜４のアルキレン基であるものがより好ましい。
【００６１】
前記構造式（ＶＩ）で表される化合物又は構造式（ＶＩＩ）で表される化合物の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下の例示化合物（３１）〜（４０）などが挙げられる。
【化１１】
2007047771.tif 000013
【００６２】
前記エチレン性不飽和結合の前記高分子化合物の側鎖への導入反応としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の３級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルフォスフィン、などを触媒として有機溶媒中、反応温度５０〜１５０℃で数時間〜数十時間反応させることにより行うことができる。
【００６３】
前記エチレン性不飽和結合を側鎖に有する構造単位としては、特に制限はないが、例えば、下記構造式（ｉ）で表される構造単位、構造式（ｉｉ）で表される構造単位、及びこれらの混合により表されるものが好ましい。
【化１２】
2007047771.tif 000014
ただし、前記構造式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ｒａ〜Ｒｃは、それぞれ独立に、水素原子及び１価の有機基のいずれかを表す。Ｒ１は、水素原子及びメチル基のいずれかを表す。Ｌ１は、有機基及び単結合のいずれかを表す。
【００６４】
前記構造式（ｉ）で表される構造単位及び構造式（ｉｉ）で表される構造単位の高分子化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０ｍｏｌ％以上が好ましく、２０〜５０ｍｏｌ％がより好ましく、２５〜４５ｍｏｌ％が特に好ましい。該含有量が、２０ｍｏｌ％未満であると、硬化反応量が少ないため低感度となることがあり、５０ｍｏｌ％を超えると、保存安定性が劣化することがある。
【００６５】
−カルボキシル基−
前記カルボキシル基は、酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、前記高分子化合物に付与することができる。
前記酸基としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基、などが挙げられる。これらの中でも、カルボン酸が好ましい。
前記カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルスチレン、などが挙げられる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、ｐ−カルボキシルスチレン、などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
前記カルボキシル基の前記高分子化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．０〜４．０ｍｅｑ／ｇが好ましく、１．５〜３．０ｍｅｑ／ｇがより好ましい。該含有量が、１．０ｍｅｑ／ｇ未満であると、現像性が不十分となることがあり、４．０ｍｅｑ／ｇを超えると、アルカリ水現像による画像強度ダメージを受けやすくなることがある。
【００６７】
前記高分子化合物は、画像強度などの諸性能に優れる点で、前述のラジカル重合性化合物の他に、更に他のラジカル重合性化合物を共重合させることが好ましい。
前記他のラジカル重合性化合物としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類、などが挙げられる。
【００６８】
前記アクリル酸エステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルキルアクリレート、アリールメタクリレート、などが挙げられる。
前記アルキルアクリレートとしては、例えば、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、置換基で置換されていてもよい。
前記アルキルアクリレートの具体例としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、などが挙げられる。
前記アリールアクリレートとしては、例えば、フェニルアクリレートなどが挙げられる。
【００６９】
前記メタクリル酸エステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルキルメタクリレート、アリールメタクリレート、などが挙げられる。
前記アルキルメタクリレートとしては、例えば、炭素原子数は１〜２０のものが好ましく、置換基で置換されていてもよい。
前記アルキルメタクリレートの具体例としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー卜、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、などが挙げられる。
前記アリールメタクリレートとしては、例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、などが挙げられる。
【００７０】
前記スチレン類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチレン、ハロゲンスチレン、などが挙げられる。
前記アルキルスチレンとしては、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、などが挙げられる。
前記アルコキシスチレンとしては、例えば、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、などが挙げられる。
前記ハロゲンスチレンとしては、例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、などが挙げられる。
これらのラジカル重合性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７１】
前記高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合してもよい。
【００７２】
前記高分子化合物の質量平均分子量としては、１０，０００以上が好ましく、１０，０００〜５０，０００がより好ましい。該質量平均分子量が、１０，０００未満であると、硬化膜強度が不足することがあり、５０，０００を超えると、現像性が低下する傾向にある。
また、前記高分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、該単量体の該高分子化合物における含有量としては、１５質量％以下が好ましい。
【００７３】
前記高分子化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、他の高分子化合物と併用してもよい。この場合、前記他の高分子化合物の前記本発明の高分子化合物における含有量は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
【００７４】
前記バインダーとしては、エポキシ樹脂にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物も好適である。また、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体も好適である。
【００７５】
−エポキシ樹脂にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物−
前記エポキシ樹脂にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物（エポキシアクリレート）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ基含有重合性化合物と不飽和カルボン酸とを反応させた反応生成物、エポキシ基含有重合性化合物と不飽和カルボン酸とを反応させ、更に多塩基酸無水物を付加させた反応生成物、などが挙げられる。
【００７６】
前記エポキシ基含有重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、等のビスフェノール型エポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ノボラック型ビフェニル型エポキシ樹脂、等のノボラック型エポキシ樹脂；脂環式エポキシ樹脂；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等の多官能グリシジルアミン樹脂；テトラフェニルグリシジルエーテルエタン等の多官能性グリシジルエーテル樹脂；フェノール、ｏ−クレゾール、ナフトール、等のフェノール化合物と、フェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物；フェノール化合物とジビニルベンゼンやジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応によって得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物；４−ビニルシクロヘキセン−１−オキサイドの開環重合物を過酢酸等でエポキシ化したもの；トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環を有するエポキシ樹脂；などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
前記不飽和カルボン酸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、β−スチルアクリル酸、β−アクリロキシプロピオン酸、１個の水酸基と１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物と二塩基酸無水物との反応物、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
前記多塩基酸無水物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニルコハク酸無水物、無水クロレンド酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
これらの中でも、前記エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物としては、下記構造式（１）で表される化合物、下記構造式（２）で表される化合物、などが好ましい。
【化１３】
2007047771.tif 000015
ただし、前記構造式（１）中、Ｘは、水素原子、及び少なくとも酸性基を含む置換基のいずれかを表す。Ｙは、メチレン基、イソプロピリデン基、及びスルホニル基のいずれかを表す。ｎは、１〜２０の整数を表す。
【００８０】
【化１４】
2007047771.tif 000016
ただし、前記構造式（２）中、ｎは、１〜２０の整数を表す。
【００８１】
前記構造式（１）で表される化合物の中でも、下記構造式（３）で表されるビスフェノールＦ型エポキシアクリレート化合物、下記構造式（４）で表されるビスフェノールＡ型エポキシアクリレート化合物がより好ましい。
【化１５】
2007047771.tif 000017
【化１６】
2007047771.tif 000018
【００８２】
前記エポキシ樹脂にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物の質量平均分子量としては、２００〜１，５００が好ましく、３００〜１，０００がより好ましい。該質量平均分子量が、２００未満であると、感光層表面のタック性が強くなるため、後述する感光層の硬化後において、膜質が脆くなる、あるいは、表面硬度が劣化することがあり、１，０００を超えると、現像性が悪化することがある。
【００８３】
また、前記バインダーとしては、例えば、不飽和−塩基酸共重合樹脂とエポキシ基含有不飽和化合物との反応により得られる不飽和樹脂、エポキシ基含有共重合樹脂と酸基含有不飽和化合物との反応により得られる不飽和樹脂、などが挙げられる。
これら不飽和樹脂としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。該市販品としては、例えば、サイクロマーＰシリーズ（ダイセル社製）、などが挙げられる。
【００８４】
−側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体−
前記側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば（１）酸性基を有するビニルモノマー、（２）必要に応じて後述する高分子反応に利用可能な官能基を有するビニルモノマー、及び（３）必要に応じてその他の共重合可能なビニルモノマーのビニル（共）重合で得られた（共）重合体を合成し、更に（４）該（共）重合体中の酸性基、又は高分子反応に利用可能な官能基の少なくとも１種に対して反応性を有する官能基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物を高分子反応させることによって得られる共重合体などが挙げられる。
前記（１）酸性基を有するビニルモノマーにおける、該酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられる。これらの中でも、カルボキシル基が好ましい。
前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）と環状無水物（例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物）との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、などが挙げられる。これらの中でも、共重合性、コスト、溶解性、などに優れる点で（メタ）アクリル酸が特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いてもよい。
【００８５】
前記（２）の高分子反応に利用可能な官能基を有するビニルモノマーにおける、高分子反応に利用可能な官能基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸基、アミノ基、イソシアネート基、エポキシ基、酸ハライド基、活性ハライド基、などが挙げられる。また前述（１）のカルボシキル基や酸無水物基も利用可能な官能基として挙げられる。
前記水酸基を有するビニルモノマーとしては、例えば、下記構造式（５）〜（１３）で表される化合物が挙げられる。
【化１７】
2007047771.tif 000019
【化１８】
2007047771.tif 000020
【化１９】
2007047771.tif 000021
【化２０】
2007047771.tif 000022
【化２１】
2007047771.tif 000023
【化２２】
2007047771.tif 000024
【化２３】
2007047771.tif 000025
【化２４】
2007047771.tif 000026
【化２５】
2007047771.tif 000027
ただし、前記構造式（５）〜（１３）中、Ｒ１は、水素原子及びメチル基のいずれかを表す、ｎ、ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に、１以上の整数を表す。
【００８６】
前記アミノ基を有するビニルモノマーとしては、例えば、ビニルベンジルアミン、アミノエチルメタクリレート、などが挙げられる。
【００８７】
前記イソシアネート基を有するモノマーとしては、例えば、下記構造式（１４）〜（１６）で表される化合物が挙げられる。
【化２６】
2007047771.tif 000028
【化２７】
2007047771.tif 000029
【化２８】
2007047771.tif 000030
ただし、前記構造式（１４）〜（１６）中、Ｒ１は、水素原子及びメチル基のいずれかを表す。
【００８８】
前記エポキシ基を有するビニルモノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、下記構造式（１７）で表される化合物、などが挙げられる。
【化２９】
2007047771.tif 000031
ただし、前記構造式（１７）中、Ｒは、Ｈ及びＭｅのいずれかを表す。
【００８９】
前記酸ハライド基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸クロリド、などが挙げられる。
前記活性ハライド基を有するビニルモノマーとしては、例えば、クロロメチルスチレンなどが挙げられる。
これらの市販品としては、例えば、「カネカレジンＡＸＥ；鐘淵化学工業（株）製」、「サイクロマー（ＣＹＣＬＯＭＥＲ）  Ａ−２００；ダイセル化学工業（株）製」、「サイクロマー（ＣＹＣＬＯＭＥＲ）  Ｍ−２００；ダイセル化学工業（株）製」、「リポキシＳＰＣＰ１Ｘ、リポキシＳＰＣＰ２Ｘ、リポキシＳＰＣＰ３Ｘ；昭和高分子（株）製」、などを用いることができる。
また、前述した各モノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９０】
前記（３）の必要に応じて用いられるその他の共重合可能なモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２―アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２―アクリロイルオキシエチルエステル）、官能基（例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、イミド基）を有するビニルモノマー、などが挙げられる。
【００９１】
前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、などが挙げられる。
【００９２】
前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、などが挙げられる。
【００９３】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニル、などが挙げられる。
【００９４】
前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、などが挙げられる。
【００９５】
前記フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチル、などが挙げられる。
【００９６】
前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、などが挙げられる。
【００９７】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、などが挙げられる。
【００９８】
前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、などが挙げられる。
【００９９】
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、スチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ−Ｂｏｃ等）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン等）、などが挙げられる。
【０１００】
前記官能基としてウレタン基又はウレア基を有するビニルモノマーとしては、例えば、イソシアナート基と水酸基及びアミノ基のいずれかとの付加反応生成物が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、イソシアナート基を有するモノマーと、水酸基を１個含有する化合物及び１級又は２級アミノ基を１個有する化合物のいずれかとの付加反応生成物、モノイソシアネートと、水酸基を有するモノマー及び１級又は２級アミノ基を有するモノマーとの付加反応生成物、などが挙げられる。
前記イソシアナート基を有するモノマーとしては、例えば、前述の（２）に示したものと同様に、前記構造式（１０）〜（１２）で表される化合物などが挙げられる。
前記モノイソシアネートとしては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、ｎ−ブチルイソシアネート、トルイルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート、などが挙げられる。
前記水酸基を１個含有する化合物としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−オクタデカノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール等）、フェノール類（例えば、フェノール、クレゾール、ナフトール等）、更に置換基を含むものとして、フロロエタノール、トリフロロエタノール、メトキシエタノール、フェノキシエタノール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、メトキシフェノール、アセトキシフェノール等が挙げられる。
前記水酸基を有するモノマーとしては、例えば、前述の（２）に示したものと同様に、前記構造式（１）〜（９）で表される化合物などが挙げられる。
前記１級又は２級アミノ基を１個含有する化合物としては、例えば、アルキルアミン（メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン）、環状アルキルアミン（シクロペンチルアミン、シクロへキシルアミン等）、アラルキルアミン（ベンジルアミン、フェネチルアミン等）、アリールアミン（アニリン、トルイルアミン、キシリルアミン、ナフチルアミン等）、更にこれらの組合せ（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミン等）、更に置換基を含むアミン（トリフロロエチルアミン、ヘキサフロロイソプロピルアミン、メトキシアニリン、メトキシプロピルアミン等）、などが挙げられる。
前記１級又は２級アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、ビニルベンジルアミンなどが挙げられる。
【０１０１】
これらのモノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
これらをビニル（共）重合させることにより酸性基、酸無水物基および必要に応じて水酸基、アミノ基、イソシアネート基、エポキシ基、酸ハライド基、活性ハライド基、などを含有するビニル（共）重合体が得られる。
前記ビニル（共）重合体は、それぞれ相当するモノマーを公知の方法により常法に従って共重合させることで合成することができる。これらの合成方法としては、例えば、該モノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）、水性媒体中に前記モノマーを分散させた状態でいわゆる乳化重合等で重合させる方法、などが挙げられる。
このようにして得られた（共）重合体に対して、前記（４）として、これらの共重合体中の酸性基、及び必要に応じて水酸基、アミノ基、イソシアネート基、グリシジル基、酸ハライド基の少なくとも１種に対して反応性を有する官能基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物を高分子反応させることによって得られる。
【０１０２】
前記（４）の（共）重合体中の酸性基、又は高分子反応に利用可能な官能基の少なくとも１種に対して反応性を有する官能基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、前述の（２）に示した化合物などが利用できる。
これらの高分子反応を行なう場合の官能基の組合せの例としては、例えば、酸性基（カルボキシル基等）を有する共重合体とエポキシ基を有するビニルモノマーとの組合せ、アミノ基を有する共重合体とエポキシ基を有するビニルモノマーとの組合せ、アミノ基を有する共重合体とイソシアネート基を有するビニルモノマーとの組合せ、水酸基を有する共重合体とイソシアネート基を有するビニルモノマーとの組合せ、水酸基を有する共重合体と酸ハライド基を有するビニルモノマーとの組合せ、アミノ基を有する共重合体と活性ハライド基を有するビニルモノマーとの組合わせ、酸無水物基を有する共重合体と水酸基を有するビニルモノマーとの組合せ、イソシアネート基を有する共重合体とアミノ基を有するビニルモノマーとの組合せ、イソシアネート基を有する共重合体と水酸基を有するビニルモノマーとの組合せ、活性ハライド基を有する共重合体とアミノ基を有するビニルモノマーとの組合わせ、などが挙げられる。またこれらの組合せは２種以上を併用しても構わない。
【０１０３】
−その他のバインダー−
前記バインダーは、前述したバンダー以外にも、その他のバインダーを用いてもよい。
前記その他のバインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マレアミド酸系共重合体などが挙げられる。
前記マレアミド酸系共重合体は、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して１級アミン化合物を１種以上反応させて得られる共重合体である。該共重合体としては、下記構造式（ＶＩＩ）で表される、マレイン酸ハーフアミド構造を有するマレアミド酸ユニットＢと、該マレイン酸ハーフアミド構造を有しないユニットＡと、を少なくとも含むマレアミド酸系共重合体であるのが好ましい。
前記ユニットＡ及びユニットＢは１種であってもよいし、２種以上であってもよい。例えば、前記ユニットＢが１種であるとすると、前記ユニットＡが１種である場合には、前記マレアミド酸系共重合体は２元共重合体となり、前記ユニットＡが２種である場合には、前記マレアミド酸系共重合体は３元共重合体となる。
前記ユニットＡとしては、置換基を有していてもよいアリール基と、後述するビニル単量体であって、該ビニル単量体のホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体（ｃ）との組合せなどが好適に挙げられる。
【化３０】
2007047771.tif 000032
ただし、前記構造式（１８）中、Ｒ１は、例えば、（−ＣＯＯＲ１０）、（−ＣＯＮＲ１１Ｒ１２）、置換基を有していてもよいアリール基、（−ＯＣＯＲ１３）、（−ＯＲ１４）、（−ＣＯＲ１５）、などの一価の有機基を表す。該Ｒ１０〜Ｒ１５は、それぞれ独立に、水素原子（−Ｈ）、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基及びアラルキル基のいずれかを表す。該アルキル基、アリール基及びアラルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。
前記Ｒ１０〜Ｒ１５の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、アリル基、ｎ−ヘキシル基、シクロへキシル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、メトキシエチル基、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチル基、クロロフェニル基、などが挙げられる。
前記Ｒ１の具体例としては、例えば、フェニル基、α−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、等のベンゼン誘導体；ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、メチルオキシカルボニル基、などが挙げられる。
【０１０４】
前記構造式（１８）中、前記Ｒ２は、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基、などの一価の有機基を表す。これらの一価の有機基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。
前記Ｒ２の具体例としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニル−１−プロピル基、４−フェニル−１−ブチル基、５−フェニル−１−ペンチル基、６−フェニル−１−ヘキシル基、α−メチルベンジル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、２−（ｐ−トリル）エチル基、β―メチルフェネチル基、１−メチル−３−フェニルプロピル基、２−クロロベンジル基、３−クロロベンジル基、４−クロロベンジル基、２−フロロベンジル基、３−フロロベンジル基、４−フロロベンジル基、４−ブロモフェネチル基、２−（２−クロロフェニル）エチル基、２−（３−クロロフェニル）エチル基、２−（４−クロロフェニル）エチル基、２−（２−フロロフェニル）エチル基、２−（３−フロロフェニル）エチル基、２−（４−フロロフェニル）エチル基、４−フロロ−α，α−ジメチルフェネチル基、２−メトキシベンジル基、３−メトキシベンジル基、４−メトキシベンジル基、２−エトキシベンジル基、２−メトキシフェネチル基、３−メトキシフェネチル基、４−メトキシフェネチル基、メチル基、エチル基、プロピル基、１−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ラウリル基、フェニル基、１−ナフチル基、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、２−ブトキシエチル基、２−シクロへキシルオキシエチル基、３−エトキシプロピル基、３−プロポキシプロピル基、３−イソプロポキシプロピルアミン基、などが挙げられる。
【０１０５】
、前記構造式（１８）中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子及び低級アルキル基のいずれかを表す。ｘ及びｙは、繰り返し単位のモル分率を表し、例えば、前記ユニットＡが１種の場合、ｘは８５〜５０モル％であり、ｙは１５〜５０モル％である。
【０１０６】
前記マレアミド酸系共重合体は、これらの中でも、（ａ）無水マレイン酸と、（ｂ）芳香族ビニル単量体と、（ｃ）ビニル単量体であって、該ビニル単量体のホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体と、からなる共重合体の無水物基に対して１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体であるのが好ましい。該（ａ）成分と、該（ｂ）成分と、からなる共重合体では、後述する感光層の高い表面硬度を得ることはできるものの、ラミネート性の確保が困難になることがある。また、該（ａ）成分と、該（ｃ）成分と、からなる共重合体では、ラミネート性は確保することができるものの、前記表面硬度の確保が困難になることがある。
【０１０７】
＜＜（ｂ）芳香族ビニル単量体＞＞
前記芳香族ビニル単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、本発明の感光性組成物（重合性組成物）を用いて形成される感光層の表面硬度を高くすることができる点で、ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上である化合物が好ましく、１００℃以上である化合物がより好ましい。
前記芳香族ビニル単量体の具体例としては、例えば、スチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１００℃）、α−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１６８℃）、２−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１３６℃）、３−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝９７℃）、４−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝９３℃）、２，４−ジメチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１１２℃）、などのスチレン誘導体が好適に挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０８】
＜＜（ｃ）ビニル単量体＞＞
前記ビニル単量体は、ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であることが必要であり、該ガラス転移温度としては、４０℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。
前記ビニル単量体としては、例えば、ｎ−プロピルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−３７℃）、ｎ−ブチルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５４℃）、ペンチルアクリレート、あるいはヘキシルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５７℃）、ｎ−ブチルメタクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−２４℃）、ｎ−ヘキシルメタクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５℃）、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
＜＜１級アミン化合物＞＞
前記１級アミン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンジルアミン、フェネチルアミン、３−フェニル−１−プロピルアミン、４−フェニル−１−ブチルアミン、５−フェニル−１−ペンチルアミン、６−フェニル−１−ヘキシルアミン、α−メチルベンジルアミン、２−メチルベンジルアミン、３−メチルベンジルアミン、４−メチルベンジルアミン、２−（ｐ−トリル）エチルアミン、β−メチルフェネチルアミン、１−メチル−３−フェニルプロピルアミン、２−クロロベンジルアミン、３−クロロベンジルアミン、４−クロロベンジルアミン、２−フロロベンジルアミン、３−フロロベンジルアミン、４−フロロベンジルアミン、４−ブロモフェネチルアミン、２−（２−クロロフェニル）エチルアミン、２−（３−クロロフェニル）エチルアミン、２−（４−クロロフェニル）エチルアミン、２−（２−フロロフェニル）エチルアミン、２−（３−フロロフェニル）エチルアミン、２−（４−フロロフェニル）エチルアミン、４−フロロ−α，α−ジメチルフェネチルアミン、２−メトキシベンジルアミン、３−メトキシベンジルアミン、４−メトキシベンジルアミン、２−エトキシベンジルアミン、２−メトキシフェネチルアミン、３−メトキシフェネチルアミン、４−メトキシフェネチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、１−プロピルアミン、ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、アニリン、オクチルアニリン、アニシジン、４−クロルアニリン、１−ナフチルアミン、メトキシメチルアミン、２−メトキシエチルアミン、２−エトキシエチルアミン、３−メトキシプロピルアミン、２−ブトキシエチルアミン、２−シクロヘキシルオキシエチルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロピルアミン、などが挙げられる。これらの中でも、ベンジルアミン、フェネチルアミン、などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１０】
前記１級アミン化合物の反応量としては、前記無水物基に対して０．１〜１．２当量であることが必要であり、０．１〜１．０当量が好ましい。該反応量が１．２当量を超えると、前記１級アミン化合物を１種以上反応させた場合に、溶解性が著しく悪化することがある。
【０１１１】
前記（ａ）無水マレイン酸の前記マレアミド酸系共重合体における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５〜５０ｍｏｌ％が好ましく、２０〜４５ｍｏｌ％がより好ましく、２０〜４０ｍｏｌ％が特に好ましい。該含有量が、１５ｍｏｌ％未満であると、アルカリ現像性の付与ができないことがあり、５０ｍｏｌ％を超えると、耐アルカリ性が劣化し、また、前記共重合体の合成が困難になり、正常な永久パターンの形成を行うことができないことがある。
また、この場合における、前記（ｂ）芳香族ビニル単量体、及び（ｃ）ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体の前記バインダーにおける含有量としては、それぞれ２０〜６０ｍｏｌ％、１５〜４０ｍｏｌ％が好ましい。該含有量が該数値範囲を満たす場合には、表面硬度及びラミネート性の両立を図ることができる。
【０１１２】
前記マレアミド酸系共重合体の質量平均分子量としては、３，０００〜５００，０００が好ましく、８，０００〜１５０，０００がより好ましい。該質量平均分子量が、３，０００未満であると、後述する感光層の硬化後において、膜質が脆くなり、表面硬度が劣化することがあり、５００，０００を超えると、前記重合性組成物の加熱積層時の流動性が低くなり、適切なラミネート性の確保が困難になることがあり、また、現像性が悪化することがある。
【０１１３】
また、前記その他のバインダーとしては、更に、特開平５−７０５２８号公報記載のフルオレン骨格を有するエポキシアクリレートに酸無水物を付加させて得られる化合物、特開平１１−２８８０８７号公報記載のポリアミド（イミド）樹脂、特開平２−０９７５０２号公報や特開２００３−２０３１０号公報記載のアミド基を含有するスチレン又はスチレン誘導体と酸無水物共重合体、特開平１１−２８２１５５号公報記載のポリイミド前駆体、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【０１１４】
前記フルオレン骨格を有するエポキシアクリレートに酸無水物を付加させて得られる化合物、前記ポリアミド（イミド）、前記アミド基含有スチレン／酸無水物共重合体、前記ポリイミド前駆体、などのその他のバインダーの質量平均分子量としては、３，０００〜５００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がより好ましい。該質量平均分子量が、３，０００未満であると、感光層表面のタック性が強くなることがあり、後述する感光層の硬化後において、膜質が脆くなる、あるいは、表面硬度が劣化することがあり、５００，０００を超えると、現像性が劣化することがある。
【０１１５】
前記バインダーの前記重合性組成物固形分中の固形分含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、５質量％未満であると、後述する感光層の膜強度が弱くなりやすく、該感光層の表面のタック性が悪化することがあり、７０質量％を超えると、露光感度が低下することがある。
【０１１６】
−重合性化合物−
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。
【０１１７】
前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単官能アクリレートや単官能メタクリレート（例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等）、多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの（例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等）、ウレタンアクリレート類（例えば、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているもの）、ポリエステルアクリレート類（例えば、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているもの）、多官能アクリレートやメタクリレート（例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等）、などが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１８】
前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、５質量％未満であると、現像性の悪化、露光感度の低下、などの問題を生ずることがあり、５０質量％を超えると、感光層の粘着性が強くなりすぎることがあり、好ましくない。
【０１１９】
−光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、該光重合開始剤としては、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよいし、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。
【０１２０】
前記光重合開始剤の具体例としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、などが好適に挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２１】
前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許第１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許第３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載の化合物、などが挙げられる。
【０１２２】
前記若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物としては、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２３】
前記英国特許第１３８８４９２号明細書記載の化合物としては、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２４】
前記特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２５】
前記独国特許第３３３７０２４号明細書記載の化合物としては、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２６】
前記Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物としては、例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２７】
前記特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２８】
前記特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、などが挙げられる。
【０１２９】
前記特開平５−３４９２０号公報記載化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、などが挙げられる。
【０１３０】
前記米国特許第４２１２９７６号明細書に記載の化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール等）、などが挙げられる。
【０１３１】
前記オキシム誘導体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、などが挙げられる。
【０１３２】
前記ケトン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシー２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン等）、などが挙げられる。
【０１３３】
また、上記以外の光重合開始剤としては、アシルホスフィンオキサイド類が挙げられる。該アシルホスフィンオキサイド類の具体例としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ、などが挙げられる。
【０１３４】
更に、上記以外の光重合開始剤としては、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号公報等に記載のクマリン化合物など）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル、ペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ，ＯＤＢＩＩ等）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレット等）、メタロセン類（例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェート（１−）等）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に記載された化合物、などが挙げられる。
【０１３５】
前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤の特に好ましい例としては、後述する露光において、波長が４０５ｎｍのレーザ光に対応可能である、前記ホスフィンオキサイド類、前記α−アミノアルキルケトン類、前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物と後述する増感剤としてのアミン化合物とを組合せた複合光開始剤、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、チタノセン、などが挙げられる。
【０１３６】
前記光重合開始剤の前記感光性組成物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％が特に好ましい。
【０１３７】
また、前記感光性フィルムは、後述する感光層への露光における露光感度や感光波長を調整する目的で、前記光重合開始剤と共に、増感剤を併用することが可能である。
前記増感剤としては、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光・可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。
【０１３８】
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、等）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル、等）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン、等）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン、等）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー、等）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、等）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン等）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム等）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン、等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン；特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号等の各公報に記載のクマリン化合物、等）、などが挙げられる。
【０１３９】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］等の組合せなどが挙げられる。
【０１４０】
前記増感剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光性フィルム中の全成分に対し、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．２〜１０質量％が特に好ましい。該含有量が、０．０５質量％未満であると、活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性が低下することがあり、３０質量％を超えると、保存時に前記感光層から前記増感剤が析出することがある。
【０１４１】
−熱架橋剤−
前記熱架橋剤は、前記感光性フィルムを用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で用いることができる。
前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、エポキシ樹脂化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、メラミン誘導体などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４２】
前記エポキシ樹脂化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ樹脂化合物が挙げられる。該エポキシ樹脂化合物の具体例としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂（「ＹＸ４０００；ジャパンエポキシレジン社製」等）又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂（「ＴＥＰＩＣ；日産化学工業社製」、「アラルダイトＰＴ８１０；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製」等）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、グリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ナフタレン基含有エポキシ樹脂（「ＥＳＮ−１９０，ＥＳＮ−３６０；新日鉄化学社製」、「ＨＰ−４０３２，ＥＸＡ−４７５０，ＥＸＡ−４７００；大日本インキ化学工業社製」等）、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂（「ＨＰ−７２００，ＨＰ−７２００Ｈ；大日本インキ化学工業社製」等）、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂（「ＣＰ−５０Ｓ，ＣＰ−５０Ｍ；日本油脂社製」等）、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂、などが挙げられるが、これらに限られるものではない。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４３】
また、前記エポキシ樹脂化合物は、１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有する前記エポキシ化合物以外に、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも１分子中に２つ含むエポキシ化合物を用いることもでき、β位がアルキル基で置換されたエポキシ基（より具体的には、β−アルキル置換グリシジル基など）を含む化合物が特に好ましい。
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、１分子中に含まれる２個以上のエポキシ基のすべてがβ−アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも１個のエポキシ基がβ−アルキル置換グリシジル基であってもよい。
【０１４４】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物は、室温における保存安定性に優れる点で、前記感光性組成物中に含まれる前記エポキシ化合物全量中における、全エポキシ基中のβ−アルキル置換グリシジル基の割合が、３０％以上であるのが好ましく、４０％以上であるのがより好ましく、５０％以上であるのが特に好ましい。
前記β−アルキル置換グリシジル基としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルグリシジル基、β−エチルグリシジル基、β−プロピルグリシジル基、β−ブチルグリシジル基、などが挙げられる。これらの中でも、前記感光性組成物の保存安定性を向上させる点、及び合成の容易性の点で、β−メチルグリシジル基が好ましい。
【０１４５】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物としては、例えば、多価フェノール化合物とβ−アルキルエピハロヒドリンとから誘導されたエポキシ化合物が好ましい。
【０１４６】
前記β−アルキルエピハロヒドリンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルエピクロロヒドリン、β−メチルエピブロモヒドリン、β−メチルエピフロロヒドリン等のβ−メチルエピハロヒドリン；β−エチルエピクロロヒドリン、β−エチルエピブロモヒドリン、β−エチルエピフロロヒドリン等のβ−エチルエピハロヒドリン；β−プロピルエピクロロヒドリン、β−プロピルエピブロモヒドリン、β−プロピルエピフロロヒドリン等のβ−プロピルエピハロヒドリン；β−ブチルエピクロロヒドリン、β−ブチルエピブロモヒドリン、β−ブチルエピフロロヒドリン等のβ−ブチルエピハロヒドリン；などが挙げられる。これらの中でも、前記多価フェノールとの反応性及び流動性に優れる点で、β−メチルエピハロヒドリンが好ましい。
【０１４７】
前記多価フェノール化合物としては、１分子中に２以上の芳香族性水酸基を含有する化合物であれば、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物、ビフェノール、テトラメチルビフェノール等のビフェノール化合物、ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等のナフトール化合物、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物等のフェノールノボラック樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド重縮合物等の炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物、キシレノール−ホルムアルデヒド重縮合物等の炭素数１〜１０のジアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物、ビスフェノールＡ−ホルムアルデヒド重縮合物等のビスフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物、フェノールと炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノールとホルムアルデヒドとの共重縮合物、フェノール化合物とジビニルベンゼンの重付加物、などが挙げられる。これらの中でも、例えば、流動性及び保存安定性を向上させる目的で選択する場合には、前記ビスフェノール化合物が好ましい。
【０１４８】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジ−β−アルキルグリシジルエーテル；ビフェノールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、テトラメチルビフェノールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビフェノール化合物のジ−β−アルキルグリシジルエーテル；ジヒドロキシナフタレンのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビナフトールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のナフトール化合物のβ−アルキルグリシジルエーテル；フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；クレゾール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等の炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；キシレノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等の炭素数１〜１０のジアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；ビスフェノールＡ−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；フェノール化合物とジビニルベンゼンの重付加物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；などが挙げられる。
これらの中でも、下記構造式（ｉｉｉ）で表されるビスフェノール化合物、及びこれとエピクロロヒドリンなどから得られる重合体から誘導されるβ−アルキルグリシジルエーテル、及び下記構造式（ｉｖ）で表されるフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテルが好ましい。
【化３１】
2007047771.tif 000033
ただし、前記構造式（ｉｉｉ）中、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基のいずれかを表す。ｎは、０〜２０の整数を表す。
【化３２】
2007047771.tif 000034
ただし、前記構造式（ｉｖ）中、Ｒは、水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基のいずれかを表し、Ｒ’は、水素原子、及びＣＨ３のいずれかを表す。ｎは、０〜２０の整数を表す。
これらβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また１分子中に少なくとも２つのオキシラン環を有するエポキシ化合物、及びβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物を併用することも可能である。
【０１４９】
前記オキセタン化合物としては、例えば、ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタン基と、ノボラック樹脂、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、シルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂、等とのエーテル化合物、などが挙げられ、この他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体なども挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５０】
前記エポキシ樹脂化合物及びオキセタン化合物の前記感光性組成物中の固形分含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、１質量％未満であると、硬化膜の吸湿性が高くなるため、絶縁性の劣化を生じたり、半田耐熱性や耐無電解メッキ性等などが低下したりすることがあり、５０質量％を超えると、現像性の悪化や露光感度の低下が生ずることがある。
【０１５１】
前記エポキシ樹脂化合物及び前記オキセタン化合物は、これらの熱硬化を促進するために、例えば、アミン化合物（例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等）、４級アンモニウム塩化合物（例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等）、ブロックイソシアネート化合物（例えば、ジメチルアミン等）、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩（例えば、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等）、リン化合物（例えば、トリフェニルホスフィン等）、グアナミン化合物（例えば、メラミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等）、Ｓ−トリアジン誘導体（例えば、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等）、などの熱硬化を促進可能な化合物と併用することができる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記熱硬化を促進可能な化合物としては、前記エポキシ樹脂化合物や前記オキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基との反応を促進することができるものであれば、特に制限はなく、上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもよい。
前記エポキシ樹脂化合物、前記オキセタン化合物、及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記感光性フィルム固形分中の固形分含有量としては、通常０．０１〜１５質量％である。
【０１５２】
前記ポリイソシアネート化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、特開平５−９４０７号公報記載のポリイソシアネート化合物が挙げられる。該ポリイソシアネート化合物の具体例としては、例えば、少なくとも２つのイソシアネート基を含む脂肪族、環式脂肪族又は芳香族基置換脂肪族化合物から誘導されていてもよい。具体的には、２官能イソシアネート（例えば、１，３−フェニレンジイソシアネートと１，４−フェニレンジイソシアネートとの混合物、２，４−及び２，６−トルエンジイソシアネート、１，３−及び１，４−キシリレンジイソシアネート、ビス（４−イソシアネート−フェニル）メタン、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）、該２官能イソシアネートと、トリメチロールプロパン、ペンタリスルトール、グリセリン等との多官能アルコール；該多官能アルコールのアルキレンオキサイド付加体と、前記２官能イソシアネートとの付加体；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート及びその誘導体等の環式三量体；などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
前記ポリイソシアネート及びその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記イソシアネート基のブロック剤としては、アルコール類（例えば、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、ラクタム類（例えば、ε−カプロラクタム等）、フェノール類（例えば、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール等）、複素環式ヒドロキシル化合物（例えば、３−ヒドロキシピリジン、８−ヒドロキシキノリン等）、活性メチレン化合物（例えば、ジアルキルマロネート、メチルエチルケトキシム、アセチルアセトン、アルキルアセトアセテートオキシム、アセトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等）、などが挙げられる。これらの他、特開平６−２９５０６０号公報記載の分子内に少なくとも１つの重合可能な二重結合及び少なくとも１つのブロックイソシアネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。
【０１５４】
前記メラミン誘導体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン（メチロール基を、メチル、エチル、ブチル等でエーテル化した化合物）、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度あるいは硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンがより好ましい。
【０１５５】
前記熱架橋剤の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１〜４０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。該固形分含有量が１質量％未満であると、硬化膜の膜強度の向上が認められず、４０質量％を超えると、現像性の低下や露光感度の低下を生ずることがある。
【０１５６】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、例えば、熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤（着色顔料あるいは染料）、体質顔料、基材表面への密着促進剤、その他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤等）などが挙げられる。
前記感光性フィルムは、これらの成分を適宜含有させることにより、安定性、写真性、膜物性、などの性質を調整することができる。
【０１５７】
−−熱重合禁止剤−−
前記熱重合禁止剤は、前記重合性化合物の熱的な重合又は経時的な重合を防止する作用を有する
前記熱重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５８】
前記熱重合禁止剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記重合性化合物に対して、０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜２質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。該含有量が、０．００１質量％未満であると、保存時の安定性が低下することがあり、５質量％を超えると、活性エネルギー線に対する感度が低下することがある。
【０１５９】
−−着色顔料−−
前記着色顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フタロシアニングリーン、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、カーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、必要に応じて、公知の染料の中から、適宜選択した染料を使用することができる。
【０１６０】
前記着色顔料の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量としては、永久パターン形成の際の感光層の露光感度、解像性を考慮して決めることができ、前記着色顔料の種類により異なるが、一般的には０．０５〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
【０１６１】
−−体質顔料−−
前記体質顔料は、永久パターンの表面硬度の向上、線膨張係数の抑制、硬化膜自体の誘電率や誘電正接の抑制、などの作用を有する。
前記体質顔料としては、無機顔料、有機微粒子、などが挙げられる。
前記無機顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カオリン、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸化ケイ素、気相法シリカ、無定形シリカ、結晶性シリカ、溶融シリカ、球状シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、マイカ、などが挙げられる。
前記無機顔料の平均粒径としては、１０μｍ未満が好ましく、３μｍ以下がより好ましい。該平均粒径が、１０μｍ以上であると、光錯乱により解像度が劣化することがある。
前記有機微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、などが挙げられる。また、平均粒径１〜５μｍ、吸油量１００〜２００ｍ２／ｇ程度のシリカ、架橋樹脂からなる球状多孔質微粒子、なども用いることができる。
【０１６２】
前記体質顔料の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜６０質量％が好ましい。該含有量が、５質量％未満であると、十分に線膨張係数を低下させることができないことがあり、６０質量％を超えると、感光層表面に硬化膜を形成した場合に、該硬化膜の膜質が脆くなり、永久パターンを用いて配線を形成する場合において、配線の保護膜としての機能が損なわれることがある。
【０１６３】
−−密着促進剤−−
前記密着促進剤は、各層間の密着性、又は感光層と基材との密着性を向上する作用を有する。
前記密着促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報、特開平６−４３６３８号公報等に記載の化合物などが好適挙げられる。該密着促進剤の具体例としては、例えば、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオン、２−メルカプト−５−メチルチオ−チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、アミノ基含有ベンゾトリアゾール、シランカップリング剤、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６４】
前記密着促進剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光性組成物中の全成分に対して、０．００１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。
【０１６５】
前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、３〜１００μｍが好ましく、５〜７０μｍがより好ましい。
【０１６６】
＜支持体＞
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。
【０１６７】
前記支持体となる合成樹脂製フィルムは、透明であるものが好ましく、例えば、ポリエステル樹脂製フィルムが好ましく、二軸延伸ポリエステルフィルムであることが特に好ましい。
【０１６８】
前記ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリテトラメチレン−２，６−ナフタレート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６９】
前記ポリエステル樹脂以外の樹脂としては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系樹脂、ナイロン樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１７０】
前記合成樹脂製フィルムは、１層からなるものであってもよく、２層以上の層からなるものであってもよい。２層以上の層からなる場合、感光層から最も遠くに位置する層に前記不活性微粒子を含有させることが好ましい。
【０１７１】
また、前記合成樹脂製フィルムは、機械的強度特性及び光学的特性に優れる点で二軸延伸ポリエステルフィルムであることが好ましい。
前記二軸延伸ポリエステルフィルムの二軸配向方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ポリエステル樹脂をシート状に溶融押出し、急冷して未延伸フィルムをつくり、該未延伸フィルムを二軸延伸する際に延伸温度を８５〜１４５℃、縦方向及び横方向の延伸倍率を２．６〜４．０倍とし、必要に応じて二軸延伸した後のフィルムを１５０〜２１０℃で熱固定することにより調製する方法などが挙げられる。
前記二軸延伸は、未延伸フィルムを縦方向又は横方向に延伸して一軸延伸フィルムとし、次いで該一軸延伸フィルムを横方向又は縦方向に延伸することによる逐次二軸延伸法であってもよく、該未延伸フィルムを縦方向及び横方向に同時に延伸する同時二軸延伸法であってもよい。また、前記二軸延伸フィルムは必要に応じて縦方向及び横方向の少なくともいずれかの方向に更に延伸することができる。
【０１７２】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２〜１５０μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、８〜５０μｍが特に好ましい。
【０１７３】
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。該長尺状である支持体の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍが挙げられる。
【０１７４】
＜保護フィルム＞
前記保護フィルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオルエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、などが好ましい。
前記保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜３０μｍがより好ましい。
前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力Ａと、前記感光層及び保護フィルムの接着力Ｂとが、接着力Ａ＞接着力Ｂの関係であることが好ましい。
前記支持体と保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレート、などが挙げられる。また、支持体及び保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、上述のような接着力の関係を満たすことができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理、などが挙げられる。
【０１７５】
また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数としては、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。該静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【０１７６】
前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、フッ素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃（特に５０〜１２０℃）で１〜３０分間乾燥させることにより形成させることができる。
【０１７７】
＜その他の層＞
前記感光性フィルムにおけるその他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クッション層、酸素遮断層（ＰＣ層）、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層、などの層が挙げられる。該感光性フィルムは、これらの層を、１種単独で有していてもよく、２種以上を有していてもよい。
前記クッション層は、常温ではタック性が無く、真空・加熱条件で積層した場合に溶融し、流動する層である。
前記ＰＣ層は、通常ポリビニルアルコールを主成分として形成された０．５〜５μｍ程度の被膜である。
【０１７８】
前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されるのが好ましい。該長尺状である感光性フィルムの長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００〜１，０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止することができる点で、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置するのが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。
【０１７９】
本発明の感光性フィルムは、前記感光層の感度低下を抑制できるため、より小さいエネルギー量の光で露光することができ、露光スピードが上がるため処理スピードが上がる点で有利である。
【０１８０】
本発明の感光性フィルムは、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能であるため、プリント配線版、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等のディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフ等の永久パターンなどの形成用として広く用いることができ、特に、本発明の永久パターン形成方法に好適に用いることができる。
【０１８１】
（感光性フィルムの製造方法）
本発明の感光性フィルムの製造方法は、支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物を塗布し、乾燥させて、該有機溶媒の含有量が０．０１〜１質量％である感光層を形成する感光層形成工程を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
【０１８２】
−感光層形成工程−
前感光層形成工程は、支持体上に感光層を形成する工程である。該感光層形成工程は、具体的には、支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物を塗布し、乾燥させて、該有機溶媒の含有量が０．０１〜１質量％である感光層を形成することにより行なうことができる。
前記塗布及び乾燥の方法としても、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記支持体の表面に、前記感光性組成物を、水又は溶剤に、溶解、乳化、又は分散させて感光性組成物を調製し、該溶液を塗布し、乾燥させる方法が好ましい。
【０１８３】
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーター、などを用いて、塗布する方法が挙げられる。
【０１８４】
前記乾燥の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、該乾燥の条件としては、前記感光層中における有機溶媒の含有量を０．０１〜３質量％に調節可能な点で、８０〜２００℃で３０秒間以上行われることが好ましく、１００〜１３０℃で１〜５分間行うことがより好ましい。
【０１８５】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、保護フィルム、その他の層等の層を形成する工程などが挙げられる。
なお、前記その他の層等の層を形成する工程は、前記感光層工程と同様の条件で行うことができる。
【０１８６】
本発明の画像記録材料の製造方法によると、本発明の前記画像記録材料を、効率よく製造することができる。
【０１８７】
（パターン形成装置及び永久パターン形成方法）
【０１８８】
本発明のパターン形成装置は、本発明の前記感光性フィルムを備えており、光照射手段と光変調手段とを少なくとも有する。
本発明のパターン形成方法は、本発明の感光性フィルムにおける感光層を基材の表面に転写して積層体を形成する積層工程、露光工程、及び現像工程を少なくとも含み、適宜選択したその他の工程を含む。なお、本発明の前記パターン形成装置は、本発明の前記永久パターン形成方法の説明を通じて明らかにする。
【０１８９】
［積層工程］
前記積層工程は、発明の感光性フィルムにおける感光層を基材の表面に転写して積層体を形成する工程である。
前記積層体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかにより前記基体上に積層することが好ましい。なお、前記感光性フィルムが、前記保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基材に感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。
【０１９０】
前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜１３０℃が好ましく、８０〜１１０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．０１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．０５〜１．０ＭＰａがより好ましい。
【０１９１】
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒートプレス、ヒートロールラミネーター（例えば、大成ラミネータ社製、ＶＰ−ＩＩ）、真空ラミネーター（例えば、名機製作所製、ＭＶＬＰ５００）、などが好適に挙げられる。
【０１９２】
＜＜基材＞＞
前記基材としては、特に制限はなく、公知の材料の中から表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで適宜選択することができるが、板状の基材（基板）が好ましく、具体的には、公知のプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）、ガラス板（例えば、ソーダガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板、などが好適に挙げられる。
【０１９３】
前記積層体における層構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記基材と前記感光層と前記支持体とをこの順有する層構成が好ましい。該感光層に対し、後述する露光工程により露光した領域を硬化させ、後述する現像工程によりパターンを形成することができる。
【０１９４】
［露光工程］
前記露光工程は、前記積層工程において形成された前記積層体の前記感光層に対し、露光を行う工程である。
前記露光方法について、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査して露光することで２次元画像の形成を行なうマスクレスのパターン露光方式（デジタル露光）を利用した露光工程を中心に説明する。
【０１９５】
前記デジタル露光は、２次元状に並んだ空間光変調デバイスを用い、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査することで２次元画像の形成を行なう露光方法であり、露光光を透過させない又は弱めて透過させる材質で、画像（露光パターン；以下、パターンともいう。）が形成された「マスク」と呼ばれる物体を、該露光光の光路に配置し、感光性の層（感光層）を該画像に対応したパターン状に露光する従来のマスク露光方式（アナログ露光ともいう。）に対して、該「マスク」を用いずに感光層をパターン状に露光する露光方式のことである。
【０１９６】
前記デジタル露光に用いる光源としては、例えば、超高圧水銀灯、レーザー、などが挙げられる。
前記超高圧水銀灯とは、石英ガラスチューブなどに水銀を封入した放電灯であり、該水銀の蒸気圧を高く設定して発光効率を高めたものである（点灯時の水銀の蒸気圧はおよそ５ＭＰａになるものもある。（Ｗ．  Ｅｌｅｎｂａａｓ  ：  Ｌｉｇｈｔ  Ｓｏｕｒｃｅｓ  、Ｐｈｉｌｉｐｓ  Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｌｉｂｒａｒｙ  １４８−１５０参照））。輝線スペクトルのうち、４０５ｎｍ±４０ｎｍの単一露光波長が用いられ、ｈ線（４０５ｎｍ）が主として用いることができる。
【０１９７】
前記レーザーとしては、反転分布を持った物質中で起きる誘導放出の現象を利用し、光波の増幅、発振によって干渉性と指向性が一層強い単色光を作り出す発振器及び増幅器、励起媒質として、結晶、ガラス、液体、色素、気体、などを用いて、これらの媒質から固体レーザー（ＹＡＧレーザー）、液体レーザー、気体レーザー（アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー）、半導体レーザー、などの公知のレーザーを前記波長領域において用いることができる。
【０１９８】
前記半導体レーザーは、搬送子の注入、電子ビームによる励起、衝突によるイオン化、光励起、などによって電子と正孔とが接合部に流出する際に、ｐｎ接合で可干渉光を誘導放出するような発光ダイオードを用いるレーザーである。この放出される可干渉光の波長は、半導体化合物によって決まる。前記レーザーの波長は、４０５ｎｍ±４０ｎｍの単一露光波長である。
【０１９９】
本発明における単一露光波長とは、レーザーによる場合は主波長のことを意味し、超高圧水銀灯による場合は４０５ｎｍ以外の輝線をＮＤフイルターなどで３６５ｎｍや４０５ｎｍより大きい波長をカットして主波長を１波長のみにしたものを意味する。
【０２００】
前記露光方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、これらの中でもレーザーを用いたデジタル露光が好ましい。
【０２０１】
前記デジタル露光の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開２００５−２５８４３１号公報に記載されている、光を照射する光照射手段、形成するパターン情報に基づいて該光照射手段から照射される光を変調させる光変調手段、などが挙げられる。
【０２０２】
前記デジタル露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、形成するパターン形成情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行うことが好ましく、例えば、前記感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行う方法が好ましい。
【０２０３】
本発明において「Ｎ重露光」とは、前記感光層の被露光面上の露光領域の略すべての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、前記被露光面上に照射されたＮ本の光点列（画素列）と交わるような設定による露光を指す。ここで、「光点列（画素列）」とは、前記描素部により生成された描素単位としての光点（画素）の並びうち、前記露光ヘッドの走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとする。なお、前記描素部の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。
ここで、露光領域の「略すべての領域」と述べたのは、各描素部の両側縁部では、描素部列を傾斜させたことにより、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が減るため、かかる場合に複数の露光ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、該露光ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用描素部の描素部列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や描素部配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った描素部のピッチが他の部分の描素部のピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。なお、以下の説明では、Ｎが２以上の自然数であるＮ重露光を総称して「多重露光」という。  前記Ｎ重露光のＮとしては、２以上の自然数であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３以上２０以下の自然数が好ましく、３以上７以下の自然数がより好ましい。
【０２０４】
本発明におけるレーザーの波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光性組成物の露光時間の短縮を図る目的から、３３０〜６５０ｎｍが好ましく、３６５〜４４５ｎｍがより好ましく、３９５〜４１５ｎｍであることが特に好ましい。
【０２０５】
レーザーのビーム径としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、濃色離隔壁の解像度に優れる点で、ガウシアンビームの１／ｅ２値で５〜３０μｍが好ましく、７〜２０μｍがより好ましい。
レーザービームのエネルギー量としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、露光時間短くすることができる点、及び解像度に優れる点で、１〜１００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、５〜２０ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【０２０６】
本発明ではレーザー光を画像データに応じて空間光変調することが必要である。前記空間光変調としては、特開２００５−２５８４３１号公報[００１６]〜[００４７]に記載の空間光変調素子であるデジタル・マイクロ・デバイスを用いて行なうことが好ましい。
【０２０７】
前記露光工程に用いる露光装置としては、例えば、レーザーダイレクトイメージング装置（「ＩＮＰＲＥＸ  ＩＰ−３０００」；富士写真フイルム製）などが挙げられるが、本発明における露光装置はこれに限定されるものではない。
【０２０８】
［現像工程］
前記現像工程は、前記露光工程により前記感光層を露光し、該感光層の露光した領域を硬化させた後、未硬化領域を除去することにより現像し、永久パターンを形成する工程である。
【０２０９】
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。
【０２１０】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物若しくは炭酸塩、炭酸水素塩、アンモニア水、４級アンモニウム塩の水溶液、などが好ましい。これらの中でも、炭酸ナトリウム水溶液がより好ましい。
【０２１１】
前記現像液としては、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、ベンジルアミン、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶媒（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）、などと併用してもよい。また、該現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶媒を混合した水系現像液であってもよく、有機溶媒単独であってもよい。
【０２１２】
［その他の工程］
前記その他の工程としては、例えば、硬化処理工程などが好適に挙げられる。
【０２１３】
＜＜硬化処理工程＞＞
前記硬化処理工程は、前記現像工程が行われた後、形成された永久パターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程である。
【０２１４】
前記硬化処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理、などが好適に挙げられる。
【０２１５】
前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像工程の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性フィルム中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯等のＵＶ露光機などが好適に挙げられる。
【０２１６】
前記全面加熱処理の方法としては、前記現像工程の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が、１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性フィルム中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間としては、１０〜１２０分間が好ましく、１５〜６０分間がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーター、などが挙げられる。
【０２１７】
なお、前記基材が多層配線基板などのプリント配線板である場合には、該プリント配線板上に本発明の永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。
即ち、前記現像工程により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント配線板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体や部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜あるいは絶縁膜（層間絶縁膜）としての機能を発揮し、外部からの衝撃や隣同士の電極の導通が防止される。
【０２１８】
本発明の永久パターン形成方法においては、前記永久パターン形成方法により形成される永久パターンが、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンであるのが好ましい。前記永久パターン形成方法により形成される永久パターンが、前記保護膜、前記層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンであると、配線を外部からの衝撃や曲げから保護することができ、特に、前記層間絶縁膜である場合には、例えば、多層配線基板、ビルドアップ配線基板、などへの半導体や部品の高密度実装に有用である。
【０２１９】
本発明の永久パターン形成方法は、感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であるため、高精細な露光が必要とされる各種パターンの形成などに好適に使用することができ、特に高精細な永久パターンの形成に好適に使用することができる。
【実施例】
【０２２０】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０２２１】
（合成例１）
１，０００ｍＬ三口フラスコに１−メトキシ−２−プロパノール１５９ｇを入れ、窒素
気流下、８５℃まで加熱した。これに、ベンジルメタクリレート６３．４ｇ、メタクリル酸７２．３ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬製）４．１５ｇの１−メトキシ−２−プロパノール１５９ｇ溶液を、２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に５時間加熱して反応させた。次いで、加熱を止め、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（３０／７０ｍｏｌ％比）の共重合体を得た。
次に、前記共重合体溶液の内、１２０．０ｇを３００ｍＬ三口フラスコに移し、グリシジルメタクリレート１６．６ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．１６ｇを加え、撹拌し溶解させた。溶解後、トリフェニルホスフィン２．４ｇを加え、１００℃に加熱し、付加反応
を行った。グリシジルメタクリレートが消失したことを、ガスクロマトグラフィーで確認し、加熱を止めた。１−メトキシ−２−プロパノールを加え、固形分４５質量％の下記構造式で表される高分子化合物１の溶液を調製した。
得られた高分子化合物の質量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により測定した結果、１５，０００であった。また、水酸化ナトリウムを用いた滴定から、固形分あたりの酸価（カルボキシル基の含有量）は、２．２ｍｅｑ／ｇであった。
更に、ヨウ素価滴定により求めた固形分あたりのエチレン性不飽和結合の含有量（Ｃ＝Ｃ価）は、２．１ｍｅｑ／ｇであった。
【化３３】
2007047771.tif 000035
【０２２２】
（実施例１）
−感光性組成物の作製−
＜硫酸バリウム分散液の調製＞
下記の成分を予め混合した後、モーターミルＭ−２００（アイガー社製）で、直径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓにて３時間分散して硫酸バリウム分散液調製した。
〔硫酸バリウム分散液の組成〕
・硫酸バリウム（「Ｂ３０」；堺化学工業（株）製）・・・３０質量部
・熱硬化促進剤（ジシアンジアミド）・・・０．５０質量部
・ＨＥＬＩＯＧＥＮ  ＢＬＵＥ  Ｄ７０８６（ＢＡＳＦ社製）・・・０．２質量部
・ＰＡＬＩＯＴＯＬ  ＹＥＬＬＯＷ  Ｄ１１５５（ＢＡＳＦ社製）・・・０．０５質量部
・前記合成例１で得られた高分子化合物１（前記１−メトキシ−２−プロパノール溶液中に固形分質量４５質量％）・・・５７．４質量部
・酢酸ｎ−プロピル・・・４０質量部
【０２２３】
＜分散液の平均粒径の測定＞
調製した分散液における分散粒子の平均粒径を、粒子径測定装置（「ＬＢ−５００」；（株）堀場製作所製）により測定したところ、０．２５μｍであった。
【０２２４】
＜感光性組成物溶液の調製＞
下記の各成分と上記硫酸バリウム分散液分散液４０質量部とを混合して、感光性組成物溶液を調製した。
〔感光性組成物溶液の組成〕
・バインダー（前記合成例１で得られた高分子化合物１の固形分濃度４５質量％の１−メトキシ−２−プロパノール溶液）・・・８４．６質量部
・重合性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）・・・１２質量部
・光重合開始剤（「イルガキュア８１９」；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、アシルホスフィンオキシド化合物）・・・６質量部
・増感剤（下記式Ｓ−１で表されるチオキサントン系化合物）・・・０．６質量部
・フッ素系界面活性剤（「メガファックＦ−７８０Ｆ」；大日本インキ化学工業（株）製、３０質量％２−ブタノン溶液）・・・０．２質量部
・有機溶媒（メチルエチルケトン）・・・１５質量部
・熱架橋剤（下記構造式（ｖ）で表されるビスフェノールＡ型β―メチルエポキシ樹脂、エポキシ当量：２１４ｇ／ｅｑ、粘度：６２Ｐａ・ｓ）・・・１１質量部
【化３４】
2007047771.tif 000036
【化３５】
2007047771.tif 000037
【０２２５】
−感光性フィルムの作製−
得られた感光性組成物溶液を、前記支持体としての厚み１６μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（「１６ＦＢ５０」；東レ社製）上に、塗布し、表３に示す乾燥条件で、熱風対流式乾燥機（「トランスジャンプオーブンＴＲＯ−２２」；株式会社カトー製）を用いて乾燥させて、膜厚３０μｍの感光層を形成した。次いで、該感光層の上に、前記保護フィルムとして２０μｍ厚のポリプロピレンフィルムをラミネートで積層し、感光性フィルムを製造した。
【０２２６】
＜有機溶媒の含有量の測定＞
塗布し、乾燥させた直後の感光性フィルムを３ｃｍ×３ｃｍに裁断し、スクリュー管式ガラス製ビンに素早く入れ、有機溶媒含有量の測定用サンプルとした。測定は、ガスクロマトグラフ装置（「ＧＣ−２０１０型」；島津製作所製）を用いて行った。測定条件として、カラムはＤＶ−ＶＲＸ型、カラム温度は、１２０℃〜２２０℃まで昇温（速度＝７℃／ｍｉｎ．）、キャリヤーガスは、Ｎ２で５０ｍＬ／ｍｉｎ．、注入口温度は２００℃とした。検出器はＦＩＤを用いて２２０℃で検出した。結果を表３に示す。
【０２２７】
＜保護フィルムと感光層との間の剥離力＞
感光性フィルムを２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下で１時間以上調湿した後、デジタルフォースゲージ（ＳＩＮＰＯ社製）を用いて測定した。感光性フィルムを４．５ｃｍ×１５ｃｍのサイズに裁断した後、感光性フィルムの支持体側をフォースゲージ測定用試料台に両面テープで両端を固定した後、１，６００ｍｍ／分の速度で、保護フィルムを剥離し、剥離力を測定した。測定はｎ＝５にて行い、その平均値で表した。結果を表４に示す。
【０２２８】
＜ラミネート後の基板との追従性＞
ライン幅／スペース幅＝１００／１００μｍの凸凹を有する基板に感光性フィルムを真空ラミネーター（「ＭＶＬＰ５００」；名機製作社製）を用いて、ラミネートを行った。圧着条件は、圧着温度９０℃、圧着圧力０．４ＭＰａ、速度１ｍ／分で行った。ラミネート後の基板上の感光性フィルムを３ｃｍ×３ｃｍの範囲を目視観察して、下記基準で気泡の発生レベルを評価した。結果を表４に示す。
〔評価基準〕
○：気泡なし
△：気泡あり２０個未満
×：気泡あり２０個以上
【０２２９】
＜タック性＞
作製した感光性フィルムにおける感光層の表面のタック性についても下記基準に基づいて評価した。結果を表４に示す。
〔評価基準〕
○：感光層の表面に強いタック性が認められる状態
△：感光層の表面にややタック性が認められる状態
×：感光層の表面に強いタック性が認められる状態
【０２３０】
（実施例２〜４）
実施例１において、感光性フィルムを作製する際の乾燥条件を表３に示す条件に代えた以外は、実施例１と同様に感光性フィルムを作製し、更に永久パターンを作製し、有機溶媒の含有量測定、保護フィルムと感光層との間の剥離力、ラミネート後の基板との追従性、タック性を評価した。これらの結果を表３及び表４に示す。
【０２３１】
（実施例５）
実施例１において、前記感光性組成物中の前記高分子化合物１の８４．６質量部を前記高分子化合物１の２１．９質量部と下記構造式（２）で表されるバインダー（固形分濃度６８質量％のジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）２３．５質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターンを作製し、有機溶媒の含有量測定、保護フィルムと感光層との間の剥離力、ラミネート後の基板との追従性、タック性を評価した。これらの結果を表３及び表４に示す。
【化３６】
2007047771.tif 000038
ただし、前記構造式（２）中、ｎは、６〜７を表す。
【０２３２】
（実施例６）
実施例１において、前記硫酸バリウム分散液中の前記高分子化合物１（固形分濃度４５質量％の１−メトキシ−２−プロパノール溶液）５７．４質量部を前記構造式（２）で表されるバインダー（６８質量％のジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）３８質量部に代え、前記感光性組成物溶液成分中の前記高分子化合物１（固形分濃度４５質量％の１−メトキシ−２−プロパノール溶液）８４．６質量部を前記構造式（２）で表されるバインダー（６８質量％のジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）５６質量部に代えた以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターンを作製し、有機溶媒の含有量測定、保護フィルムと感光層との間の剥離力、ラミネート後の基板との追従性、タック性を評価した。これらの結果を表３及び表４に示す。
【０２３３】
（実施例７）
実施例１において、前記構造式（ｖ）で表される熱架橋剤をエポトートＹＤ−８１２５（東都化成社製、エポキシ当量１７０ｇ／ｅｑ、アルカリ不溶性ビスフェノールＡ系エポキシ化合物）に代えた以外は、実施例１と同様にして、感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターンを作製し、有機溶媒の含有量測定、保護フィルムと感光層との間の剥離力、ラミネート後の基板との追従性、タック性を評価した。これらの結果を表３及び表４に示す。
【０２３４】
（比較例１〜３）
実施例１において、感光性フィルムを作製する際の乾燥条件を表３に示す条件に代えた以外は、実施例１と同様に感光性フィルムを作製し、更に永久パターンを作製し、有機溶媒の含有量測定、保護フィルムと感光層との間の剥離力、ラミネート後の基板との追従性、タック性を評価した。これらの結果を表３及び表４に示す。
【０２３５】
【表３】
2007047771.tif 000039
【０２３６】
【表４】
2007047771.tif 000040
【０２３７】
−永久パターンの形成−
−−積層体の調製−−
次に、前記基材として、配線形成済みの銅張積層板（スルーホールなし、銅厚み１２μｍ）の表面に化学研磨処理を施して調製した。該銅張積層板上に、前記感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネーター（「ＭＶＬＰ５００」；名機製作所製）を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）とがこの順に積層された積層体を調製した。
圧着条件は、圧着温度９０℃、圧着圧力０．４ＭＰａ、ラミネート速度１ｍ／分とした。
【０２３８】
−−露光工程−−
前記調製した積層体における感光層に対し、ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）側から、以下に説明するパターン形成装置を用いて、波長が４０５ｎｍのレーザ光を、直径の異なる穴部が形成されるパターンが得られるように照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。
【０２３９】
−パターン形成装置−
前記光照射手段として図３〜８に示す合波レーザ光源と、前記光変調手段として図１に示す主走査方向にマイクロミラーが１，０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列された内、１，０２４個×２５６列のみを駆動するように制御したＤＭＤ５０と、図２に示した一方の面がトーリック面であるマイクロレンズ４７４をアレイ状に配列したマイクロレンズアレイ４７２及び該マイクロレンズアレイを通した光を前記感光層に結像する光学系４８０、４８２とを有するパターン形成装置を用いた。
【０２４０】
−−現像工程−−
室温にて１０分間静置した後、前記積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、アルカリ現像液として、１質量％炭酸ソーダ水溶液を用い、３０℃にて６０秒間シャワー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。その後、水洗し、乾燥させ、永久パターンを形成した。
【０２４１】
−−硬化処理工程−−
前記永久パターンが形成された積層体の全面に対して、１６０℃で３０分間加熱処理を施し、永久パターンの表面を硬化し、膜強度を高めた。
また、前記永久パターン形成済みのプリント配線基板に対して、常法に従い金メッキを行った後、水溶性フラックス処理を行った。次いで、２６０℃に設定された半田槽に５秒間にわたって、３回浸漬し、フラックスを水洗で除去した。
【０２４２】
実施例１〜７の感光性フィルムは、いずれも良好な永久パターンを効率よく形成することができた。
【産業上の利用可能性】
【０２４３】
本発明の感光性フィルムは、高精細なパターンを形成可能であるため、プリント配線版、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等のディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフ等の永久パターン、などの形成用として広く用いることができ、本発明の永久パターン形成方法に好適に用いることができる。
また、本発明の感光性フィルムの製造方法は、本発明の前記感光性フィルムを、効率よく製造することができる。
また、本発明の永久パターン形成方法は、本発明の前記感光性フィルムを用いるため、プリント配線版、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等のディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフ等の永久パターン、などの製造などに好適に用いることができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２４４】
【図１】図１（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤの使用領域の例を示す図の一例である。
【図２】図２（Ａ）は、結合光学系の異なる他の露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った断面図の一例であり、図２（Ｂ）は、マイクロレンズアレイ等を使用しない場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例であり、図２（Ｃ）は、マイクロレンズアレイ等を使用した場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例である。
【図３ａ】図３ａ（Ａ）は、ファイバアレイ光源の構成を示す斜視図であり、図３ａ（Ｂ）は、（Ａ）の部分拡大図の一例であり、図３ａ（Ｃ）及び（Ｄ）は、レーザ出射部における発光点の配列を示す平面図の一例である。
【図３ｂ】図３ｂは、ファイバアレイ光源のレーザ出射部における発光点の配列を示す正面図の一例である。
【図４】図４は、マルチモード光ファイバの構成を示す図の一例である。
【図５】図５は、合波レーザ光源の構成を示す平面図の一例である。
【図６】図６は、レーザモジュールの構成を示す平面図の一例である。
【図７】図７は、図６に示すレーザモジュールの構成を示す側面図の一例である。
【図８】図８は、図６に示すレーザモジュールの構成を示す部分側面図である。
【符号の説明】
【０２４５】
Ｂ１〜Ｂ７            レーザビーム
ＬＤ１〜ＬＤ７        ＧａＮ系半導体レーザ
１０                  ヒートブロック
１１〜１７            コリメータレンズ
２０                  集光レンズ
３０〜３１            マルチモード光ファイバ
３０ａ〜３１ａ          コア
４４                  コリメータレンズホルダー
４５                  集光レンズホルダー
４６                  ファイバホルダー
５０                  デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）
６０                  メモリセル
６２                  マイクロミラー
６３                  保護板
６４                  レーザモジュール
６５                  支持板
６６                  ファイバアレイ光源
６８                  レーザ出射部
４５４                レンズ系
４６８                露光エリア
４７２                マイクロレンズアレイ
４７４                マイクロレンズ
４７６                アパーチャアレイ
４７８                アパーチャ
４８０                レンズ系
【図２】
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【図３ａ】
2007047771.tif 000042
【図５】
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【図６】
2007047771.tif 000044
【図７】
2007047771.tif 000045
【図８】
2007047771.tif 000046
【図１】
2007047771.tif 000047
【図３ｂ】
2007047771.tif 000048
【図４】
2007047771.tif 000049