(57)【要約】【課題】ケン化時のムラを防止し、ケン化液の寿命を向上させて生産性が向上し、且つＲｅ、Ｒｔｈが小さく、欠陥やムラのないセルロースアシレートフィルムを得るためのセルロースアシレートフィルム積層体の提供。またこのフィルム積層体を用いた、高性能の偏光板の保護フィルムの作製、及びこれらを用いて廃材の少ない環境に配慮した液晶表示装置の提供。【解決手段】特定のレターデーション範囲を有するセルロースアシレートフィルムと、熱可塑性フィルムとを含有するフィルム積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記数式（１）及び（２）を満たすセルロースアシレートフィルムと、熱可塑性フィルムとを含有することを特徴とするフィルム積層体。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおけるセルロースアシレートフィルムの正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおけるセルロースアシレートフィルムの膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
【請求項２】
セルロースアシレートフィルムがＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（４）を満たす範囲で含有する請求項１に記載のフィルム積層体。
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
Ａ：セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλを低下させる化合物の質量（％）、
である。
【請求項３】
Ｒｔｈを低下させる化合物が、一般式（１）又は（２）で表される化合物である請求項１又は２に記載のフィルム積層体。
一般式（１）：
【化１】
2007144874.tif 000035
一般式（２）：
【化２】
2007144874.tif 000036
［上記一般式（１）及び（２）において、Ｒ11はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。またＲ21はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。］
【請求項４】
セルロースアシレートフィルムが｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む請求項１〜３のいずれかに記載のフィルム積層体。
【請求項５】
｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物およびオキシベンゾフェノン系化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物である請求項４に記載のフィルム積層体。
【請求項６】
セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１〜５のいずれかに記載のフィルム積層体。
【請求項７】
熱可塑性フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムである請求項１〜６のいずれかに記載のフィルム積層体。
【請求項８】
アルカリ水溶液でケン化処理が施された請求項１〜７のいずれかに記載のフィルム積層体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体の製造方法であって、セルロースアシレートを溶媒に溶解する工程、流延する工程、乾燥する工程及び流延後のいずれかの工程
で熱可塑性樹脂を貼合する工程を含むことを特徴とするフィルム積層体の製造方法。
【請求項１０】
流延工程後、延伸する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載のフィルム積層体の製造方法。
【請求項１１】
請求項８に記載のフィルム積層体から熱可塑性フィルムを剥ぎ取ることで得られた片面のみがケン化されたセルロースアシレートフィルム。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体、請求項１０又は１１に記載の製造方法により製造されたフィルム積層体、または請求項１１に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１枚、偏光膜の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体、請求項１０又は１１に記載の製造方法により製造されたフィルム積層体、請求項１１に記載のセルロースアシレートフィルム、又は請求項１２に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に有用なセルロースアシレートフィルム及びその積層体に関し、さらに該セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板などの光学材料および液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、セルロースアシレートフィルムは、その透明性や光学的欠点のない特性から、液晶表示装置の部材である偏光板の保護フィルムとして好ましく使用されている。
【０００３】
一般的な偏光板は、延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムを、ヨウ素又は二色性色素で染色することによって得られる偏光膜の少なくとも片側に、保護フィルムを貼合することによって形成されている。セルロースアシレートフィルムは、ＰＶＡに対して直接貼り合わせできる優位性を持ち、特にトリアセチルセルロースフィルムが多くの場合用いられている。
【０００４】
偏光膜の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右するため、その要求品質は年々高度化している。最近の液晶表示装置においては、斜め方向からの表示性能、すなわち視野角特性の改善がより強く要求されるようになっている。視野角特性を改善するためには、偏光板の保護フィルムや他に使用される光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が適切であることが重要で、通常はこの目的のために光学補償フィルムが使用される。
【０００５】
光学補償フィルムによってレターデーション値の調整を行う場合においては、保護フィルムには、余計なレターデーション値を持たせず、できるだけ小さいことが望ましい。特に保護フィルムにおいては、正面レターデーション値（Ｒｅ）もさることながら、膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）を小さくすることが視野角依存性良化に有利である。
【０００６】
特許文献１には正面レターデーション値（Ｒｅ）及び膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）を小さくしたセルロースアセテートフィルムが開示されている。
【特許文献１】特開２００５−２０６７３２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らの研究の結果、上記特許文献１に開示されている光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムは、製造時のローラ接触や巻き取り時の応力により微妙に屈折率が変化し、ムラが発生し得る等の懸念点があることがわかった。また、Ｒｅ、Ｒｔｈ又は波長分散を調節するために添加する材料は、セルロースアセテートフィルムの偏光板への密着向上のために行うケン化処理時に、わずかに溶解し、光学的ムラ又は物理的面状欠陥の原因になると同時に、ケン化液の寿命を短くする可能性があり、その改善が望まれていた。
【０００８】
さらにセルロースアシレートフィルムを偏光板に加工する場合、フィルムをケン化後、偏光素子に貼合し、更にプロテクトフィルムやリリースフィルムを貼合する必要があり、廃材が多くなり、環境上の解決すべき課題であった。
【０００９】
本発明の課題は、Ｒｅ、Ｒｔｈが小さく、かつ欠陥やムラのないセルロースアシレートフィルムを提供することである。更に、本発明の課題は、ケン化時のムラを防止し、ケン
化液の寿命を向上することにより生産性を向上したセルロースアシレートフィルムを提供することである。さらなる本発明の課題は、セルロースアシレートフィルムを液晶表示装置に適用する場合に、廃材の少ない環境に配慮したセルロースアシレートフィルム積層体を提供することにある。本発明の別の課題は、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることにより視野角特性に優れた偏光板の保護フィルムなどを作製し、これらを用いた液晶表示装置を提供することである。
【００１０】
本発明の発明者らは、製造時に特定の光学的数値を満たすセルロースアシレートフィルムに熱可塑性フィルムを貼合することにより、光学ムラや物理的欠陥が少ない優れたセルロースアシレートフィルムを製造することに成功した。さらに、セルロースアシレートに添加する化合物とその量等を制御することで、Ｒｅ、Ｒｔｈを低下させて液晶画像表示装置等に用いるのに好ましい光学特性を実現すると同時に、光学ムラや物理的欠陥が少ない優れたセルロースアシレートフィルムを製造することに成功した。また、ケン化時のムラを防止し、ケン化液の寿命を向上することにより生産性を向上したセルロースアシレートフィルムを提供することに成功した。更にまた、該フィルムにより液晶表示装置の製造にあたって、廃材の少ない環境に配慮したセルロースアシレートフィルムを提供することができた。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は以下の構成により達成された。
【００１２】
１．  少なくとも下記数式（１）及び（２）を満たすセルロースアシレートフィルムと、熱可塑性フィルムとを含有することを特徴とするフィルム積層体。
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおけるセルロースアシレートフィルムの正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおけるセルロースアシレートフィルムの膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
２．  セルロースアシレートフィルムがＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、下記数式（４）を満たす範囲で含有する前記１に記載のフィルム積層体。
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
ここで、
Ａ：セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλを低下させる化合物の質量（％）、
である。
３．  Ｒｔｈを低下させる化合物が、一般式（１）又は（２）で表される化合物である前記１又は２に記載のフィルム積層体。
一般式（１）：
【００１３】
【化１】
2007144874.tif 000002
【００１４】
一般式（２）：
【００１５】
【化２】
2007144874.tif 000003
【００１６】
［上記一般式（１）及び（２）において、Ｒ11はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。またＲ21はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。］
４．  セルロースアシレートフィルムが｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ7
00｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含む前記１〜３のいずれかに記載のフィルム積層体。
５．  ｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物およびオキシベンゾフェノン系化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物である前記４に記載のフィルム積層体。
６．  セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである前記１〜５のいずれかに記載のフィルム積層体。
７．  熱可塑性フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルムまたはポリプロピレンフィルムである前記１〜６のいずれかに記載のフィルム積層体。
８．  アルカリ水溶液でケン化処理が施された前記１〜７のいずれかに記載のフィルム積層体。
９．  前記１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体の製造方法であって、セルロースアシレートを溶媒に溶解する工程、流延する工程、乾燥する工程及び流延後のいずれかの工程で熱可塑性樹脂を貼合する工程を含むことを特徴とするフィルム積層体の製造方法。
１０．  流延工程後、延伸する工程を含むことを特徴とする前記９に記載のフィルム積層体の製造方法。
１１．  前記８に記載のフィルム積層体から熱可塑性フィルムを剥ぎ取ることで得られた片面のみがケン化されたセルロースアシレートフィルム。
１２．  前記１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体、前記１０又は１１に記載の製造方法により製造されたフィルム積層体、または前記１１に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１枚、偏光膜の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
１３．  前記１〜８のいずれかに記載のフィルム積層体、前記１０又は１１に記載の製造方法により製造されたフィルム積層体、前記１１に記載のセルロースアシレートフィルム、又は前記１２に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のセルロースアシレートフィルム積層体を用いることにより、好ましい光学特性を実現すると同時に、光学ムラや物理的欠陥が少なく、生産性の向上したセルロースアシレートフィルムを製造することに成功した。さらに本発明のセルロースアシレートフィルムをＩＰＳモードの液晶表示装置に用いると、斜め方向からの色味変化を小さくすることができ黒表示時の光漏れが小さく有効である。またＶＡモードの液晶表示装置に用いると、斜め方向からのコントラスト視野角特性を良化できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１９】
＜セルロースアシレートフィルム積層体＞
〔セルロースアシレートフィルム〕
本発明における添加剤を含有したセルロースアシレートフィルムの光学性能は、液晶表示装置において視野角依存性を良化するに当たっては、下記数式（１）及び（２）を満たすことが必要であり、（１−２）及び（２−２）を満たすことがより望ましく、（１−３）及び（２−３）を満たすことがさらに望ましい。
【００２０】
数式（１）：０≦Ｒｅ630≦１０で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５
数式（２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
数式（１−２）：０≦Ｒｅ630≦８で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２３
数式（２−２）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦８で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３０
数式（１−３）：０≦Ｒｅ630≦５で且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２０
数式（２−３）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ70０｜≦２５
【００２１】
［セルロースアシレートフィルムの性能評価］
（レターデーション及びその波長分散特性）
本明細書において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚み方向のレターデーションを表す（２５℃、６０％ＲＨの環境下）。Ｒｅλは“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝を用いて、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。またＲｔｈλは、このＲｅλと、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値と、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から、波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値との、計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”が算出する。
【００２２】
この際、パラメーターとして平均屈折率ｎが必要になるが、これはアッベ屈折計｛（株）アタゴ社製の「アッベ屈折計２−Ｔ」｝により測定した値を用いた。測定装置により３以上の異なる波長（例としてλ＝４７９．２、５４６．３、５８９．３、６３２．８、７４５．３ｎｍ）を用いて測定し、それぞれの波長からＲｅ、Ｒｔｈを得た。これらの値をコーシーの式（第３項まで、Ｒｅ＝Ａ＋Ｂ／λ2＋Ｃ／λ4）にて近似して値Ａ、Ｂ、Ｃをもとめた。以上より波長λにおけるＲｅ、Ｒｔｈをプロットし直し、そこから波長４００、６３０、７００ｎｍでのＲｅ及びＲｔｈ値であるＲｅ400、Ｒｅ630、Ｒｅ700、Ｒｔｈ400、Ｒｔｈ630、Ｒｔｈ700をもとめた。
【００２３】
セルロースアシレートフィルムの膜厚は１０〜１２０μｍであることが好ましい。より好ましくは、２０〜１００μｍである。
【００２４】
［セルロースアシレート］
（セルロースアシレート原料綿）
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
【００２５】
（セルロースアシレート置換度）
次に、上記のセルロースを原料に製造される本発明で用いられるセルロースアシレートについて記載する。
本発明で用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素数が２のアセチル基から炭素数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明におけるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
【００２６】
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、アシル置換度が高いほど、セルロース主鎖由来のＲｅ、Ｒｔｈをアシル置換基側鎖で打ち消すことができるために、Ｒｅ、Ｒｔｈを低下させることができる。従ってアシル置換度の大きいセルロースアシレートを原料に用いれば、添加剤として加えるＲｔｈ低下剤の量を減らすことができ、添加剤量が多すぎることに起因するＴｇの極端な低下を抑制することが可能となる。
【００２７】
具体的に本発明のセルロースアシレートフィルムのアシル置換度は、２.８５〜３．００であることが好ましく、２．９０〜３．００であることがさらに好ましい。ここでいうアシル置換度は全置換度のことであり、置換基が異なるものが混在する場合でもそれを総計した置換度のことをいう。
【００２８】
セルロースの水酸基を置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく、特に限定されず、また単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【００２９】
（セルロースアシレート溶液の有機溶媒）
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、この方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明における主溶媒として、好ましく用いられる有機溶媒は、炭素数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル及び、炭素数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００３０】
以上、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく、特に限定されるものではない。
【００３１】
その他、本発明におけるセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含めて以下の特許公報に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの公報によると、本発明におけるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
【００３２】
［セルロースアシレートへの添加剤］
本発明におけるセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、Ｒｔｈを低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。これら添加剤の添加時期は、ドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
【００３３】
（Ｒｔｈを低下させる化合物）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう）を、下記数式（４）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（４）において、より望ましくは、
数式（４−２）：０．０１≦Ａ≦２０
であり、さらに望ましくは、
数式（４−３）：０．０１≦Ａ≦１５
である。
ここで、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλ低下剤の質量（％）である。
【００３４】
また、本発明のセルロースアシレートフィルムは、Ｒｔｈ低下剤を、下記数式（３）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
上記数式（３）において、より望ましくは、
数式（３−２）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−２．０
であり、さらに望ましくは、
数式（３−３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−３．０
である。
ここで、ＲｔｈλAはＲｔｈλ低下剤をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ0はＲｔｈλ低下剤を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλ低下剤の質量（％）である。
【００３５】
さらには、本発明のセルロースアシレートフィルムは、Ｒｔｈ低下剤を、下記数式（３）および（４）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（３）、（４）において、より望ましくは、
数式（３−２）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−２．０
数式（４−２）：０．０１≦Ａ≦２０
であり、さらに望ましくは、
数式（３−３）：（ＲｔｈλA−Ｒｔｈλ0）／Ａ≦−３．０
数式（４−３）：０．０１≦Ａ≦１５
である。
ここで、ＲｔｈλAはＲｔｈλ低下剤をＡ質量％含有したフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ0はＲｔｈλ低下剤を含有しないフィルムのＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときのＲｔｈλ低下剤の質量（％）である。
【００３６】
（Ｒｔｈ低下剤の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈ低下剤について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈが共にゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【００３７】
（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制してＲｔｈ低下剤のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【００３８】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。
【００３９】
（Ｒｔｈ低下剤の物性）
Ｒｔｈ低下剤は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。またＲｔｈ低下剤は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【００４０】
Ｒｔｈ低下剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【００４１】
Ｒｔｈ低下剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．０５〜２５質量％であることがより好ましく、０．１〜２０質量％であることが特に好ましい。
【００４２】
Ｒｔｈ低下剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。Ｒｔｈ低下剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００４３】
このようなＲｔｈ低下剤としては、下記の一般式（１）で表される化合物が好ましい。次ぎに一般式（１）の化合物について説明する。
一般式（１）：
【００４４】
【化３】
2007144874.tif 000004
【００４５】
上記一般式（１）において、Ｒ11はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましく、またこれらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。
【００４６】
置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。
【００４７】
アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルなど）が特に好ましい。
【００４８】
アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルなど）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００４９】
【化４】
2007144874.tif 000005
【００５０】
【化５】
2007144874.tif 000006
【００５１】
【化６】
2007144874.tif 000007
【００５２】
【化７】
2007144874.tif 000008
【００５３】
Ｒｔｈ低下剤としては、また下記の一般式（２）で表される化合物を例示することができる。
一般式（２）：
【００５４】
【化８】
2007144874.tif 000009
【００５５】
上記一般式（２）において、Ｒ21はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ22及びＲ23は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。さらに、Ｒ21及びＲ22の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましく、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。
【００５６】
上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。
【００５７】
以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００５８】
【化９】
2007144874.tif 000010
【００５９】
【化１０】
2007144874.tif 000011
【００６０】
【化１１】
2007144874.tif 000012
【００６１】
【化１２】
2007144874.tif 000013
【００６２】
【化１３】
2007144874.tif 000014
【００６３】
【化１４】
2007144874.tif 000015
【００６４】
（波長分散調整剤）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、そのフィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物、すなわちレターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。以下、波長分散調整剤について説明する。
【００６５】
本発明のセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（５）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（６）及び（７）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。
数式（５）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜
数式（６）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−２．０
数式（７）：０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（６）及び（７）において、より望ましくは、
数式（６−２）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−３．０
数式（７−２）：０．０５≦Ｂ≦２５
であり、さらに望ましくは、
数式（６−３）：（ΔＲｔｈB−ΔＲｔｈ0）／Ｂ≦−４．０
数式（７−３）：０．１≦Ｂ≦２０
である。
ここでΔＲｔｈBは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）
、Ｒｔｈ0は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。
【００６６】
（波長分散調整剤の添加方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【００６７】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。
【００６８】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが本発明での波長分散調整剤として好ましく用いられる。
一般式（３）：Ｑ31−Ｑ32−ＯＨ
（式中、Ｑ31は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ32は芳香族環を表す。）
【００６９】
Ｑ31は含窒素方向芳香族へテロ環をあらわし、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
【００７０】
Ｑ31で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００７１】
Ｑ32で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【００７２】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。
【００７３】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００７４】
Ｑ32で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ32は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。
【００７５】
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００７６】
一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物である。
一般式（３−１）：
【００７７】
【化１５】
2007144874.tif 000016
【００７８】
上記一般式（３−１）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37及びＲ38は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【００７９】
Ｒ31及びＲ33として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００８０】
Ｒ32、及びＲ34として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００８１】
Ｒ35及びＲ38として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００８２】
Ｒ36及びＲ37として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００８３】
一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物である。
一般式（３−２）：
【００８４】
【化１６】
2007144874.tif 000017
【００８５】
式中、Ｒ31、Ｒ33、Ｒ36及びＲ37は、上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００８６】
以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【００８７】
【化１７】
2007144874.tif 000018
【００８８】
【化１８】
2007144874.tif 000019
【００８９】
以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。
【００９０】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては、一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（４）：
【００９１】
【化１９】
2007144874.tif 000020
【００９２】
式中、Ｑ41及びＱ42は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ41はＮＲ41（Ｒ41は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【００９３】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【００９４】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【００９５】
Ｑ41及びＱ42で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００９６】
Ｑ41及びＱ42であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
【００９７】
Ｑ41及びＱ42は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【００９８】
Ｘ41は、ＮＲ41（Ｒ41は水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ41として好ましくは、ＮＲ41（Ｒ41として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。
【００９９】
一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物である。
一般式（４−１）：
【０１００】
【化２０】
2007144874.tif 000021
【０１０１】
式中、Ｒ411、Ｒ412、Ｒ413、Ｒ414、Ｒ415、Ｒ416、Ｒ417、Ｒ418及びＲ419は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
【０１０２】
Ｒ411、Ｒ413、Ｒ414、Ｒ415、Ｒ416、Ｒ418及びＲ419として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１０３】
Ｒ412として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【０１０４】
Ｒ417として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【０１０５】
一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物である。
一般式（４−２）：
【０１０６】
【化２１】
2007144874.tif 000022
【０１０７】
式中、Ｒ420は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ420として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ-ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【０１０８】
一般式（４）であらわされる化合物は、特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【０１０９】
以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１１０】
【化２２】
2007144874.tif 000023
【０１１１】
【化２３】
2007144874.tif 000024
【０１１２】
また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。
一般式（５）：
【０１１３】
【化２４】
2007144874.tif 000025
【０１１４】
式中、Ｑ51及びＱ52は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ51及びＸ52は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ51及びＱ52で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【０１１５】
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【０１１６】
芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【０１１７】
Ｑ51及びＱ52であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ51及びＱ52は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。
【０１１８】
Ｘ51及びＸ52は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ51及びＸ52で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ51及びＸ52はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ51及びＸ52は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１１９】
Ｘ51及びＸ52として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ51（Ｒ51は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１２０】
一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物である。
一般式（５−１）：
【０１２１】
【化２５】
2007144874.tif 000026
【０１２２】
式中、Ｒ511、Ｒ512、Ｒ513、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ517、Ｒ518、Ｒ519及びＲ520は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ511及びＸ512は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ51及びＸ52と同義である。
【０１２３】
Ｒ511、Ｒ512、Ｒ514、Ｒ515、Ｒ516、Ｒ517、Ｒ519及びＲ520として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１２４】
Ｒ513及びＲ518として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１２５】
一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物である。
一般式（５−２）：
【０１２６】
【化２６】
2007144874.tif 000027
【０１２７】
式中、Ｒ513及びＲ518は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ513は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。
【０１２８】
Ｘ513は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ513として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ52（Ｒ52は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。
【０１２９】
一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物である。
一般式（５−３）：
【０１３０】
【化２７】
2007144874.tif 000028
【０１３１】
式中、Ｒ513及びＲ518は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ521は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ521として、好ましくは、Ｒ513及びＲ518が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。
【０１３２】
Ｒ521として、好ましくはＲ513及びＲ518が水素以外の場合には、一般式（５−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１３３】
本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。
【０１３４】
以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１３５】
【化２８】
2007144874.tif 000029
【０１３６】
【化２９】
2007144874.tif 000030
【０１３７】
【化３０】
2007144874.tif 000031
【０１３８】
〔熱可塑性フィルム〕
本発明に使用する熱可塑性フィルムとしては、公知のフィルムを使用することができる。具体的には、「工業用プラスチックフィルム」（南智幸、小坂田篤著  ＣＴＩ加工技術研究会発行  １９９１年）、「工業用フィルム市場」（シーエムシー発行  １９９３年）等に記載のポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルクロライド、ポリビニアルコール、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリエステルエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール等を例示することができる。この中でも、フィルムの光学特性、物理特性、価格等の観点からポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートを好適に使用することができる。
【０１３９】
熱可塑性フィルムの厚みは好ましくは１０〜１００μｍ、特に好ましくは２０〜６０μｍ、さらに好ましくは２０〜５０μｍである。上記フィルムの製造に際し、防汚層、帯電防止層、易滑性層、接着剤層、バリアー層等の機能性層を設けてもよい。この際、コロナ放電処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
【０１４０】
本発明で用いられる熱可塑性フィルムとしては、市販のプロテクトフィルム、リリースフィルムも好適に使用することができ、サンエー化研、日東電工、日立化成工業、積水化学工業、帝人デュポンフィルム、藤森工業、東レフィルム加工、リンテック、三菱化学ポリエステルフィルム等から上市されるプロテクトフィルム及びリリースフィルムを使用することができる。
【０１４１】
〔接着剤層〕
本発明において、セルロースアシレートフィルムと熱可塑性フィルムを接着させるための接着剤層としては、公知の接着剤から要求特性に合わせて選択すればよく、接着剤の種類を特に制限するものではなく、アクリル系の一液型または二液型の接着剤、ゴム系接着剤、シリコーン系接着剤をはじめとする種々の接着剤を使用することができる。形態別に言えば、無溶剤タイプ、溶剤タイプ、エマルジョンタイプなどがあげられる。光学用途に使用するものであるため、使用する接着剤は、経時により黄変等、色合いの変化しないものがよい。
【０１４２】
これらの中では、アクリル二液タイプで溶剤型のアクリル系接着剤が使用されることが多く、具体的には、ソフトセグメントとなるモノマー（エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等）と、ハードセグメントとなるモノマー（メチルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等）とを共重合したもの、あるいはこれらにさらにアクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタクリレート等の官能基含有モノマーも共重合したアクリル系の接着剤が好適に用いられる。
【０１４３】
本発明における接着剤は、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アミン系化合物、金属キレート系化合物及びアジリジン系化合物などの多官能性化合物により、予め架橋して使用することができる。また、該化合物などを配合した二液型とし、塗布後に乾燥、硬化して架橋反応させることもできる。
【０１４４】
接着剤層の形成は、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティング、ドクターナイフコーティングなどの種々の方法によりなされる。
【０１４５】
接着剤層の設置は、熱可塑性フィルム上に接着剤を上記など適宜の方法により塗工し、加熱乾燥後にセルロースアシレートフィルムに貼着する方法を採用してもよいし、セルロースアシレートフィルムに同様の方法により接着剤を塗工し、加熱乾燥後に熱可塑性フィルムと貼り合わせる方法を採用してもよい。
【０１４６】
接着剤層の厚みは、特に限定はないものの、１〜２００μｍ程度、好ましくは５〜５０μｍ程度とする。
【０１４７】
上記の接着剤層の上からは、リリースフィルムを被覆してもよい。リリースフィルムの代表例は、ポリエステルフィルムの表面にシリコーン系剥離剤などを用いて剥離処理を施したものを使用することができる。
【０１４８】
〔セルロースアシレートフィルム及びフィルム積層体の製造工程〕
［溶解工程］
本発明において、セルロースアシレートフィルムの製造に用いられるセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製に際しては、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解方法でもよく、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
【０１４９】
（ドープの透明度）
本発明におけるセルロースアシレート溶液である、ドープの透明度としては、８５％以上であることが望ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることが望ましい。本発明においては、セルロースアシレートドープ溶液に、各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープの透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計“ＵＶ−３１５０”｛（株）島津製作所製｝を用いて５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみを予めブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度とドープの吸光度との比から、ドープの透明度を算出した。
【０１５０】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、溶液流延、溶融流延等の従来公知の製膜方法でフィルム化することができるが、光学フィルムとして使用する場合、平面性、光学特性の均一性等を考慮すると、溶液流延法を好適に使用することができる。更には、膜物性の改良あるいは所望の光学特性を実現するために、前記添加剤を加える場合にも、溶液流延法は容易に均一に混和できるばかりか、溶流流延のような高温での加熱が必要なく、添加剤の分解等生じにくく、好適に使用することができる。
【０１５１】
（製膜）
セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来の製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープを貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、テンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。
【０１５２】
調製したドープは無端金属支持体上、例えば金属ドラムまたは金属支持体（バンドあるいはベルト）上に流延し、溶剤を蒸発させてフィルムを形成することが好ましい。流延前のドープは、セルロースアシレート量が１０〜３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には−５０〜２０℃の金属支持体温度であることが好ましい。
さらに特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平７−０３２３９１号、特開平３−１９３３１６号、特開平５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平２−１１１５１１号、および特開平２−２０８６５０号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では応用できる。
【０１５３】
（重層流延）
セルロースアシレート溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のポリマー溶液を流延してもよい。
複数のポリマー溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。
また、２つの流延口からポリマー溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度溶液の流れを低粘度の溶液で包み込み、その高，低粘度のポリマー溶液を同時に押出す流延方法でもよい。更にまた、特開昭６１−９４７２４号および特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するポリマー溶液は同一の溶液でもよいし、異なるポリマー溶液でもよく特に限定されない。複数のポリマー層に機能を持たせるために、その機能に応じたポリマー溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにポリマー溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、マット剤層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【０１５４】
単層液では必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のポリマー溶液を押出すことが必要であり、その場合、溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となりやすい。この解決として、複数のポリマー溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚な溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の添加物濃度が異なる溶液を共流延して、積層構造のフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。劣化防止剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。また、コア層とスキン層で劣化防止剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の劣化防止剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。また、流延時の溶液の粘度もスキン層とコア層で異なっていても良く、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア
層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。
【０１５５】
（流延）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶剤の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられる溶液の温度は、−１０〜５５℃が好ましくより好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
【０１５６】
（乾燥）
セルロースアシレートフィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体（例えばドラム或いはバンド）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より１〜１０度低い温度に設定することが好ましい。尚、流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【０１５７】
（剥離）
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗（剥離荷重）が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅１ｃｍあたり０．２５Ｎ以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは０．２Ｎ／ｃｍ以下、さらに好ましくは０．１５Ｎ以下、特に好ましくは０．１０Ｎ以下である。剥離荷重０．２Ｎ／ｃｍ以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。
剥離荷重の測定は次のようにして行う。製膜装置の金属支持体と同じ材質・表面粗さの金属板上にドープを滴下し、ドクターブレードを用いて均等な厚さに展延し乾燥する。カッターナイフでフィルムに均等幅の切れ込みを入れ、フィルムの先端を手で剥がしてストレンゲージにつながったクリップで挟み、ストレンゲージを斜め４５度方向に引き上げながら、荷重変化を測定する。剥離されたフィルム中の揮発分も測定する。乾燥時間を変えて何回か同じ測定を行い、実際の製膜工程における剥離時残留揮発分と同じ時の剥離荷重を定める。剥離速度が速くなると剥離荷重は大きくなる傾向があり、実際に近い剥離速度で測定することが好ましい。
剥離時の好ましい残留揮発分濃度は５質量％〜６０質量％である。１０質量％〜５０質量％が更に好ましく、２０質量％〜４０質量％が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断したり、伸びてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
【０１５８】
（延伸処理）
本発明の有するセルロースアシレートフィルムを延伸処理する場合は、剥離のすぐ後の未だフィルム中に溶剤が十分に残留している状態で行うのが好ましい。延伸の目的は、（１）しわや変形のない平面性に優れたフィルムを得るため及び、（２）フィルムの面内レターデーションを大きくするために行う。（１）の目的で延伸を行うときは、比較的高い温度で延伸を行い、延伸倍率も１％からせいぜい１０％までの低倍率の延伸を行う。２％〜５％の延伸が特に好ましい。（１）と（２）の両方の目的、あるいは（２）だけの目的で延伸する場合は、比較的低い温度で、延伸倍率も５％〜1５０％で延伸する。
【０１５９】
フィルムの延伸は、縦あるいは横だけの一軸延伸でもよく同時あるいは逐次２軸延伸でもよい。ＶＡ液晶セルやＯＣＢ液晶セル用位相差フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなることが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。
【０１６０】
（後乾燥）
セルロースアシレートフィルムは延伸後更に乾燥し、残留揮発分を２％以下にして巻き取る。巻き取る前にフィルムの両端にナーリングを施すことが好ましい。ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは１〜５０μｍであり、好ましくは２〜２０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。
【０１６１】
［貼合工程］
本発明は、セルロースアシレートフィルムと熱可塑性樹脂とを貼り合わせてフィルム積層体とすることにより、後述のケン化処理に際して、セルロースアシレートフィルムの片面のみを確実にケン化することができ、得られたフィルム積層体を用いて偏光板を作製したときは、その偏光板に、再度プロテクトフィルムやリリースフィルムを貼合する必要がなく、その偏光板の使用に際して、それらのフィルムを剥離するなど無駄な廃材を生じることがなくなり、環境に配慮した製造が可能となる。
また、フィルム積層体から熱可塑性フィルムを剥ぎとることで片面のみがケン化されたセルロースアシレートフィルムを得ることができ、該セルロースアシレートフィルムは、光学的欠陥やムラが少ない優れたものが得られる。
【０１６２】
セルロースアシレートフィルムと熱可塑性樹脂の貼合は、セルロースアシレートフィルムの流延工程以後のいずれの工程で行ってもよいが、巻き取り直前に行うのが好ましい。貼合の方法としては、予め熱可塑性フィルムに接着剤層を設けたフィルムを表記アシレートフィルムとローラ等により圧力を印加しつつ貼合することが好ましい。貼合に際しては、同時に加熱することも可能である。また、「工業用プラスチックフィルム」（南智幸、小坂田篤著  ＣＴＩ加工技術研究会発行  １９９１年）等に記載のドライラミネート、無溶媒ラミネート、ウェットラミネート等の方法を用いることもできる。
【０１６３】
［ケン化処理］
ケン化処理としては、アルカリ溶液中にセルロースアシレートフィルム積層体を浸漬する方法、又はフィルム積層体表面にアルカリ溶液を吹き付けもしくは塗布する方法等のいずれの方法も用いることができる。浸漬方法によるケン化処理は、特に有機溶媒を含むアルカリケン化では、有機溶媒を含まないものと比較し、格段に処理速度を早くすることが可能となる。
【０１６４】
ケン化処理は、処理するフィルム積層体の変形、処理液の変質等が生じない温度１２０℃を超えない範囲の処理温度で行うことが好ましく、さらには温度１０℃以上１００℃以下、特には温度２０〜６０℃の温度範囲で行うことが好ましい。また、ケン化処理の時間は、アルカリ溶液、処理温度により適宜調整して決定するが、１秒から６０秒の範囲で行われるのが好ましい。
【０１６５】
（アルカリ溶液）
本発明においてケン化処理に用いられるアルカリ溶液は、ｐＨ１１以上のアルカリ溶液が好ましい。より好ましくはｐＨ１２〜１４である。
【０１６６】
（アルカリ剤）
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の無機アルカリ剤；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。
【０１６７】
これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの使用が、これらの量の調整により広い領域でのｐＨ調整が可能となるため好ましい。
【０１６８】
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリ剤の種類、反応温度及び反応時間に応じて決定されるが、アルカリ剤の含有量は、アルカリ溶液中の０．１〜３モル／ｋｇが好ましく、０．５〜２モル／ｋｇがより好ましい。
【０１６９】
（溶媒）
アルカリ溶液の溶媒は、水及び水溶性有機溶媒の混合溶液が好ましい。有機溶媒としては、水と混和可能な有機溶媒であればいずれも用いることができるが、沸点が１２０℃以下、更には６０〜１２０℃、特には１００℃以下のものが好ましい。
【０１７０】
溶媒は、無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）が０．５以上で、且つ溶解度パラメーターが１６〜４０［ｍＪ／ｍ3］1/2の範囲のものが好ましい。より好ましくは、Ｉ／Ｏ値が０．６〜１０で、且つ溶解度パラメーターが１８〜３１［ｍＪ／ｍ3］1/2の範囲のものである。Ｉ／Ｏ値がその上限値以下で（無機性が強すぎず）、且つ溶解度パラメーターがその下限値以上であれば、アルカリケン化速度が低下したり、またケン化度の全面均一性が不満足となったりするなどの不都合が生じないので好ましい。一方、Ｉ／Ｏ値がその下限値以上で（有機性側に偏りすぎず）、且つ溶解度パラメーターがその上限値以下であれば、ケン化速度が速く、ヘイズを生じ易くなるなどの不都合を生じることがないので、全面均一性の点で優れたものとなるので好ましい。
【０１７１】
また、有機溶媒、とりわけ上記有機性と溶解性の各範囲の有機溶媒を、後述する界面活
性剤、相溶化剤等と組み合わせて用いると、高いケン化速度が維持されて、且つ全面に亘るケン化度の均一性が向上する。すなわち、上記のアルカリケン化処理のアルカリ溶液が、沸点が６０〜１２０℃以下の水溶性有機溶媒、並びに界面活性剤及び相溶化剤の少なくともいずれかを含有するアルカリ溶液であるのが好ましい。
【０１７２】
好ましい特性値を有する有機溶媒は、例えば、有機合成化学協会編、「新版溶剤ポケットブック」｛（株）オーム社、１９９４年刊｝等に記載のものが挙げられる。また、有機溶媒の無機性／有機性値（Ｉ／Ｏ値）については、例えば、田中善生著「有機概念図」（三共出版社１９８３年刊）ｐ．１〜３１に解説されている。
【０１７３】
具体的には、一価脂肪族アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等）、脂環式アルカノール（例えば、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、メトキシシクロヘキサノール、シクロヘキシルメタノール、シクロヘキシルエタノール、シクロヘキシルプロパノール等）、フェニルアルカノール（例えば、べンジルアルコール、フェニルエタノール、フェニルプロパノール、フェノキシエタノール、メトキシベンジルアルコール、ベンジルオキシエタノール等）、複素環式アルカノール類（例えば、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等）、グリコール化合物のモノエーテル類（例えば、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピルセルソルブ、メトキシメトキシエタノール、ブチルセルソルブ、ヘキシルセルソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、エトキシトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等）ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）及びエーテル類（例えば、テトラヒドロフラン、ピラン、ジオキサン、トリオキサン、ジメチルセルソルブ、ジエチルセルソルブ、ジプロピルセルソルブ、メチルエチルセルソルブ、ジメチルカルビトール、ジメチルカルビトール、メチルエチルカルビトール等）等が挙げられる。有機溶媒は、単独もしくは２種以上を混合して用いてもよい。
【０１７４】
有機溶媒を単独又は２種以上を混合する場合の、少なくとも１種の有機溶媒は、水への溶解性が大きなものが好ましい。有機溶媒の水への溶解度は、５０質量％以上が好ましく、水と自由に混合するものがより好ましい。これによりアルカリ剤、ケン化処理で副生する脂肪酸の塩、空気中の二酸化炭素を吸収して生じた炭酸の塩等への溶解性が充分なアルカリ溶液を調製できる。
【０１７５】
有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性（溶解性）、反応温度及び反応時間に応じて決定する。
水と有機溶媒の混合比は、３／９７〜８５／１５質量比が好ましい。より好ましくは５／９５〜６０／４０質量比であり、更に好ましくは１５／８５〜４０／６０質量比である。この範囲において、セルロースアシレートフィルムの光学特性を損なうことなく容易にフィルム全面が均一にケン化処理される。
【０１７６】
本発明に用いるアルカリ溶液が含有する有機溶媒として、上記した好ましいＩ／Ｏ値を有する有機溶媒とは異なる有機溶媒（例えばフッ化アルコール等）を、後述の界面活性剤、相溶化剤の溶解助剤として併用してもよい。その含有量はアルカリケン化処理に使用する液の総質量に対して０．１〜５質量％が好ましい。
【０１７７】
（界面活性剤）
本発明に用いるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を添加することによって、表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の均一性を上げてハジキ故障を防止したり、且つ有機溶媒が存在すると起こり易いヘイズを抑止したり、さらにはケン化反応が均一に進行するなどの利点がある。その効果は、後述する相溶化剤の共存によって特に顕著となる。用いられる界面活性剤には特に制限はなく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよい。
【０１７８】
具体的には、例えば、吉田時行著「界面活性剤ハンドブック（新版）」（工学図書、１９８７年刊行）、「界面活性剤の機能創製・素材開発・応用技術」第１編（技術教育出版、２０００年刊行）等記載の公知の化合物が挙げられる。
【０１７９】
これらの界面活性剤の中でも、カチオン性界面活性剤としての４級アンモニウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての各種のポリアルキレンレングリコール誘導体類、各種のポリエチレンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好ましい。
【０１８０】
アルカリ溶液には、ノニオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤又はノニオン性界面活性剤とカチオン性界面活性剤を共存させて用いることも本発明の効果が高められて好ましい。これらの界面活性剤のアルカリ溶液に対する添加量は、溶液全体中好ましくは、０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．０１〜５質量％の範囲が挙げられる。
【０１８１】
（相溶化剤）
本発明に用いられるアルカリ溶液には、相溶化剤を含有させることも好ましい。本発明において、「相溶化剤」とは、温度２５℃において、相溶化剤１００ｇに対して水の溶解度が５０ｇ以上となるような親水性化合物をいう。相溶化剤への水の溶解度は、相溶化剤１００ｇに対して、水８０ｇ以上であるのが好ましく、１００ｇ以上であるのがより好ましい。また、相溶化剤が液状化合物である場合は、沸点が１００℃以上であるのが好ましく、１２０℃以上であるのがより好ましい。
【０１８２】
相溶化剤は、アルカリ溶液を貯留する浴等で壁面に付着したアルカリ溶液の乾燥を防止し、固着を抑制し、アルカリ溶液を安定に保持する作用を有する。また、光学フィルムの表面にアルカリ溶液を塗布して一定時間保持した後、ケン化処理を停止するまでの間に、塗布されたアルカリ溶液の薄膜が乾燥し、固形物の析出を生じ、水洗工程での固形物の洗い出しを困難にするなどの問題の発生を防止する作用を有する。さらには、溶媒となる水と有機溶媒との相分離を防止する。特に、界面活性剤と有機溶媒と上述した相溶化剤との共存によって、処理されたフィルム積層体は、ヘイズが少なく、且つ、長尺の連続ケン化処理の場合であっても安定して全面均一なケン化度となる。
【０１８３】
相溶化剤は、上記の条件を満たす材料であれば、特に限定されないが、例えば、ポリオール化合物、糖類等のヒドロキシル基及び／又はアミド基を有する繰り返し単位を含む水溶性重合体が好適に挙げられる。
【０１８４】
ポリオール化合物は、低分子化合物、オリゴマー化合物及び高分子化合物のいずれも用いることができる
【０１８５】
脂肪族ポリオール類としては、例えば、炭素数２〜８のアルカンジオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘ
キサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等）；ヒドロキシル基を３個以上含有する炭素数３〜１８のアルカン類（例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、イノシトール等）が挙げられる。
【０１８６】
ポリアルキレンオキシポリオール類としては、上記のような同じアルキレンジオール同士が結合していてもよく、異なるアルキレンジオールが互いに結合していてもよいが、同じアルキレンジオール同士が結合したポリアルキレンポリオールがより好ましい。いずれの場合もの結合数は３〜１００であるのが好ましく、３〜５０であるのがより好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ（オキシエチレン・オキシプロピレン）が挙げられる。
【０１８７】
糖類としては、例えば、高分子学会高分子実験学編集委員会編「天然高分子」第二章｛共立出版（株）、１９８４年刊｝、小田良平等編「近代工業化学２２、天然物工業化学ＩＩ」｛（株）朝倉書店、１９６７年刊｝等に記載されている水溶性化合物が挙げられる。中でも、遊離のアルデヒド基及びケトン基を持たない、還元性を示さない糖類が好ましい。
【０１８８】
糖類は、一般に、グルコース、スクロース、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類されるが、いずれも本発明に好適に用いられる。例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズルシット、還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１８９】
ヒドロキシル基及び／又はアミド基を有する繰り返し単位を有する水溶性重合体としては、例えば、天然ガム類（例えば、アラビアガム、グアーガム、トラガンドガム等）、ポリビニルピロリドン、ジヒドロキシプロピルアクリレート重合体、セルロース類又はキトサン類とエポキシ化合物（エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド）との付加反応体が挙げられる。
【０１９０】
相溶化剤としては、これらの中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
【０１９１】
相溶化剤の含有量は、アルカリ溶液全体中０．５〜２５質量％であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましい。
【０１９２】
本発明に用いられるアルカリ溶液は、その他の添加剤を含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、消泡剤、アルカリ溶液安定化剤、ｐＨ緩衝剤、防腐剤、防菌剤等の公知のものが挙げられる。その他の添加剤の含有量は、アルカリ溶液全体中０．００１〜３０質量％であるのが好ましく、０．００５〜２５質量％であるのがより好ましい。
【０１９３】
フィルム積層体の表面を、所定の温度でアルカリ溶液によりケン化処理するには、アルカリ溶液の塗布前に、その表面温度を予め所定の温度に調整する工程、アルカリ液を予め所定の温度に調整しておく工程、又はこれらを組み合わせた工程等が挙げられる。塗布する前に予め所定の温度に調整する工程と組み合わせることが好ましい。
【０１９４】
ケン化処理後は、水洗、中和後水洗等により、フィルム表面からアルカリ溶液及びケン化処理反応物を洗浄し除去することが好ましい。具体的には、例えば国際公開第０２／４６８０９号パンフレット等に記載の内容が挙げられる。
【０１９５】
本発明においては、ケン化処理の効果を向上させるために、同時に、コロナ処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、フレームプラズマ処理等を実施することができる。具体的には、発明協会公開技法公技番号２００１−１７４５号（発行２００１年３月１５日）ｐ．３０〜３１に記載の内容、特開２００１−９９７３号公報等の物理処理が挙げられる。これらの処理は、ケン化処理の前後、いずれの工程で行ってもよい。
【０１９６】
＜フィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムの用途＞
〔光学補償フィルム〕
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることができ、特に液晶表示装置の光学補償フィルムに用いると効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
【０１９７】
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、Ｒｅ及びＲｔｈが０≦Ｒｅ630≦１０ｎｍで且つ｜Ｒｔｈ630｜≦２５ｎｍと光学異方性が小さく、｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０で且つ｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５と波長分散が小さいことが必要であり、このことによって、必要以上の異方性が生じないため、複屈折を持つ光学異方性層を積層して光学補償フィルムとするときには、該光学異方性層の光学性能のみの発現を可能にすることができる。
【０１９８】
従って、このような本発明のセルロースアシレートフィルムまたは該セルロースアシレートフィルムを含有するフィルム積層体を液晶表示装置の光学補償フィルムに用いる場合、積層する光学異方性層のＲｅ及びＲｔｈは、Ｒｅ630＝０〜２００ｎｍで且つ｜Ｒｔｈ630｜＝０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でもよい。
【０１９９】
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムが使用される、液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式は特に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も積層することができる。用いる光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成してもよいし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成してもよい。また、これらの光学異方性層を組み合わせて用いてもよい。
【０２００】
［液晶性化合物を含有してなる光学異方性層］
光学異方性層として、液晶性化合物を含有してなる光学異方性層を用いる場合、液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物が好ましい。
【０２０１】
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献［Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”，７１巻，ｐ．１１１（１９８１年）；日本化学会編「季刊化学総説」第２２号「液晶の化学」第５章、第１０章第２節（１９９４年）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの“Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．”，ｐ．１７９４（１９８５年）；Ｊ．Ｚｈａｎｇらの“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１６巻，ｐ．２６５５（１９９４年）］に記載の化合物が含まれる。
【０２０２】
光学異方性層において、ディスコティック液晶性化合物の分子は、配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性化合物について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。
【０２０３】
（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。
【０２０４】
光学異方性層において、棒状液晶性化合物の分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、“Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．”，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、“Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”，５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同第５６２２６４８号明細書、同第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同第９５／２４４５５号パンフレット、同第９７／００６００号パンフレット、同第９８／２３５８０号パンフレット、同第９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。
【０２０５】
［ポリマーフィルムからなる光学異方性層］
前記した様に、本発明における光学異方性層は、ポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなど）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル及びセルロースエステル（例えば、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテートなど）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体又はポリマー混合物を用いてもよい。
【０２０６】
ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸又は二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、又はポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、２枚以上のポリマーフィルムを用いて、２枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。
【０２０７】
また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトンからなる群から選ばれる少なくとも１種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好まし
く用いることができる。この際、これらのポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学補償フィルムとする手法も好ましく用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムは、この場合の基材として好ましく用いることができる。また、これらポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを該基材から剥離させたのちに本発明のセルロースアシレートフィルムと貼合して、あわせて光学補償フィルムとして用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。
【０２０８】
〔偏光板〕
次ぎに、本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムの偏光板への用途について説明する。
【０２０９】
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。本発明のフィルム積層体またはセルロースアシレートフィルムを、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも片面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液などを用いて貼り合わせる方法がある。またアルカリ処理の代わりに、特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報などに記載されているような易接着加工を施してもよい。
【０２１０】
保護フィルムケン化処理面と偏光膜を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
【０２１１】
偏光板は、偏光膜及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、通常、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは、偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶セルへ貼合する面の反対面側に用いられる。またセパレートフィルムは、液晶セルへ貼合する接着剤層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
【０２１２】
偏光板の保護フィルムとして、本発明のフィルム積層体を用いることにより、これらのプロテクトフィルムやセパレートフィルムを貼合する必要がなくなり、偏光板の使用に際して、それらのフィルムを剥離するなど無駄な廃材を生じることがなく、環境に配慮した偏光板の製造が可能となる。
【０２１３】
〔液晶表示装置〕
［一般的な液晶表示装置の構成］
次ぎに、本発明のフィルム積層体、セルロースアシレートフィルム及び偏光板の、液晶表示装置の部材としての用途について説明する。
【０２１４】
液晶表示装置には、通常、２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されている。本発明のフィルム積層体、セルロースアシレートフィルムまたは偏光板は、どの部位に配置してもよいが、光学異方性が小さい特性を活かすためには液晶セル側に配置することが好ましい。特に、液晶セル側に本発明の光学補償フィルムを適用することが好ましい。また、液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、本発明のセルロースアシレートフィルムをこの部分に用
いることも好ましい。
【０２１５】
前記のとおり、本発明のフィルム積層体、セルロースアシレートフィルム及び偏光板は液晶表示装置に好適に用いられる。液晶表示装置は、２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、及びその両側に配置された２枚の偏光板を有して構成され、好適には該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも１枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
【０２１６】
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムの基材として用いる場合は、偏光膜の透過軸と、セルロースアシレートフィルム基材の光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。
【０２１７】
液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層又は（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０２１８】
［液晶表示装置の種類］
本発明のフィルム積層体、セルロースアシレートフィルム及び偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような、様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のフィルム積層体、セルロースアシレートフィルム及び偏光板は、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０２１９】
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材又は偏光板の保護フィルムとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（“Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．”，３６巻（１９９７年）ｐ．１４３及びｐ．１０６８）に記載がある。
【０２２０】
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材又は偏光板の保護フィルムとして用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性化合物の分子が９０〜３６０゜の範囲にねじられており、棒状液晶性化合物の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ・ｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０２２１】
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材又は偏光板の保護フィルムとして好ましく用いることができる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムのレターデーション値Ｒｅを０〜１５０ｎｍとし、レターデーション値Ｒｔｈを７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。レターデーション値Ｒｅは、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に２枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのレターデーション値Ｒｅは７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのレターデーション値Ｒｔｈは１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
【０２２２】
（ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモード及びＥＣＢモードの液晶セルを有する、ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材、又は偏光板の保護フィルムとして特に好ましく用いられる。これらのモードは、黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で、液晶分子を基板面に対して平行配向させて黒表示する。これらの態様において、本発明のフィルム積層体またはセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護フィルムのうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護フィルム（セル側の保護フィルム）に、光学異方性の小さいセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を、少なくとも液晶セルの片側に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護フィルムと液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
【０２２３】
（ＯＣＢ型液晶表示装置及びＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材又は偏光板の保護フィルムとしても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムには、レターデーションの絶対値が最小となるような方向が、光学補償フィルムの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、基材の光学的性質及び光学的異方性層と基材との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文｛“Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．”，３８巻（１９９９年）ｐ．２８３７｝に記載がある。
【０２２４】
（反射型液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償フィルム又は偏光板の保護フィルムにも有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。
【０２２５】
（その他の液晶表示装置）
本発明のフィルム積層体およびセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有する、ＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償フィルムの基材又は偏光板の保護フィルムとしても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）らの論文｛Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，“ＳＩＤ  ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９”，（１９９８年）｝に記載がある。
【０２２６】
〔ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか又はそれらの全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。また前記した偏光板の表面にハードコート層、防眩層、反射防止層の少なくともいずれかを付与してこれらの機能性偏光板とすることもでき、該機能性偏光板は液晶表示装置に好適に用いることができる。
【実施例】
【０２２７】
以下に本発明の実施例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【０２２８】
＜セルロースアシレートフィルム積層体の作製＞
実施例１−１
〔フィルム積層体（１０１−Ｌ）の作製〕
［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、９０℃、４００ｋＰａの高温高圧条件で攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート原液を調製した。なおセルロースアシレートとしては、アシル化度（Ａｃ：ＯＨ＝２．９８：０．０２）を用いた。ここで、カッコ内のＡｃはアセチル置換基、ＯＨは置換されていない水酸基を表し、比率はアシル化度の比率である。
【０２２９】
｛セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）組成｝
セルロースアシレート（アシル化度Ａｃ＝２．９８）１００．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                            ６０．０質量部
【０２３０】
［マット剤溶液（ＭＬ−１）の調製］
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子｛“ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製｝２０質量部及びメタノール８０質量部を、３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液（ＭＬ−１）を調製した。
【０２３１】
｛マット剤溶液（ＭＬ−１）組成｝
シリカ粒子（平均粒径１６ｎｍ）の分散液            １０．０質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                      ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ３．４質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）            １０．３質量部
【０２３２】
［添加剤溶液（ＡＤ−１）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液（ＡＤ−１）を調製した。
【０２３３】
｛添加剤溶液（ＡＤ−１）組成｝
Ｒｔｈ低下剤剤（１１９）                          ３３．２質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）                      ５．７質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                      ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                              ８．７質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）            １２．８質量部
【０２３４】
［セルロースアシレートフィルム（１０１）の作製］
前記のセルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）９４．６質量部、マット剤溶液（ＭＬ−１）１．３質量部及び添加剤溶液（ＡＤ−１）４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。この組成で、Ｒｔｈ低下剤（１１９）及び波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）のセルロースアシレートに対する質量比は、それぞれ６質量％、１質量％であった。残留溶媒量５０質量％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で１５分間乾燥させ膜厚８０μｍ、残留溶媒量０．１質量％未満のセルロースアシレートフィルム（１０１）を得た。
【０２３５】
［熱可塑性フィルム（ＴＰＬ−１）の製作］
質量平均分子量１２０万のアクリル酸エステル共重合体（アクリル酸ブチル単位９７質量％、アクリル酸単位３質量％）１００質量部、架橋剤としてトリメチロールプロパン（変性）トリレンジイソシアネート０.０５質量部、及びラジカル捕捉剤としてフェノール系酸化防止剤である２,６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０.１質量部を、トルエン２００質量部に加えて粘着剤溶液を調製した。次に、片面にシリコーン樹脂を塗布した厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［リンテック（株）製、商品名：“ＳＰ  ＰＥＴ３８”］からなる剥離材のシリコーン樹脂塗布面上に、上記粘着剤溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥処理し、厚さ３０μｍの粘着剤層を有する熱可塑性フィルム（ＴＰＬ−１）を作製した。
【０２３６】
［フィルム積層体（１０１−Ｌ）の作製］
セルロースアシレートフィルム（１０１）の片面に、粘着剤層を有する熱可塑性フィルム（ＴＰＬ−１）を連続的に貼合し、フィルム積層体（１０１−Ｌ）を作製した。
【０２３７】
実施例１−２
［添加剤溶液（ＡＤ−２）の調製］
添加剤溶液（ＡＤ−１）の調製において、Ｒｔｈ低下剤（１１９）を用いる代わりに、Ｒｔｈ低下剤剤（２６５）を用いる以外は同様にして添加剤溶液（ＡＤ−２）を調製した。
【０２３８】
［セルロースアシレートフィルム（１０２）の作製］
セルロースアシレートフィルム（１０１）の作製において、添加剤溶液（ＡＤ−１）を用いる代わりに、添加剤溶液（ＡＤ−２）を用いる以外は同様にして、セルロースアシレートフィルム（１０２）を作製した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（１０２）の残留溶媒量は０．１質量％未満であり、膜厚は８０μｍであった。
【０２３９】
［フィルム積層体（１０２−Ｌ）の作製］
セルロースアシレートフィルム１０２の片面にＴＰＬ−１を連続的に貼合し、フィルム積層体（１０２−Ｌ）を作製した。
【０２４０】
実施例１−３
［セルロースアシレートフィルム（１０３）の作製］
セルロースアシレートフィルム（１０２）の作製において、残留溶媒量３０質量％でフィルムをバンドから剥離する以外はセルロースアシレートフィルム（１０２）の作製と同様にして、セルロースアシレートフィルム（１０３）を作製した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（１０３）の残留溶媒量は０．１質量％未満であり、膜厚は８０μｍであった。
【０２４１】
［フィルム積層体（１０３−Ｌ）の作製］
セルロースアシレートフィルム１０３の片面にＴＰＬ−１を連続的に貼合し、フィルム積層体（１０３−Ｌ）を作製した。
【０２４２】
実施例１−４
［添加剤溶液（ＡＤ−３）の調製］
添加剤溶液（ＡＤ−２）の調製において、Ｒｔｈ低下剤（２６５）の量を増量し、それ以外の試薬の調整は同様にして添加剤溶液（ＡＤ−３）を調製した。
【０２４３】
［添加剤溶液（ＡＤ−３）組成］
Ｒｔｈ低下剤剤（２６５）                        １７７．１質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）                      ５．７質量部
メチレンクロリド（第１溶媒）                      ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                              ８．７質量部
セルロースアセテート原液（ＣＡＬ−１）            １２．８質量部
【０２４４】
［セルロースアシレートフィルム（１０４）の作製］
セルロースアシレートフィルム（１０２）の作製において、添加剤溶液（ＡＤ−２）を用いる代わりに、添加剤溶液（ＡＤ−３）を用いた。この組成で、Ｒｔｈ低下剤（２６５）及び波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）のセルロースアシレートに対する質量比は、それぞれ３２質量％、１質量％であった。残留溶媒量８０質量％でフィルムをバンドから剥離し、１１５℃で２０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム（１０４）を作成した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（１０４）の残留溶媒量は０．１質量％未満であり、膜厚は８０μｍであった。
【０２４５】
［熱可塑性フィルム（ＴＰＬ−２）の製作］
厚み２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、カチオン性高分子からなる帯電防止剤｛コニシ（株）製の「ボンディップ−Ｐ主剤」｝と、エポキシ樹脂硬化剤｛コニシ（株）製の「ボンディップ−Ｐ硬化剤」｝とを、固形分の質量比で１００：４７の割合で混合した混合物の、水−アルコール溶液をコーティングして乾燥することにより、乾燥基準で０．２ｇ／ｍ2の帯電防止層を形成した。ついでその上から、アミノアルキッド樹脂｛日立化成ポリマー（株）製の“ＴＡ３１−２０９Ｅ”｝と酸性触媒｛日立化成ポリマー（株）製の「ドライヤ−９００」｝とを、固形分の質量比で１００：３の割合で混合して溶媒で希釈して得た溶液をコーティングして乾燥することにより、乾燥基準で０．２ｇ／ｍ2の防汚層を形成した。次に、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの反対面に、２−エチルヘキシルアクリレート−ブチルアクリレート−酢酸ビニル共重合体からなるアクリル系の溶剤タイプの粘着剤溶液を、コーティングして乾燥することにより、乾燥基準で２５ｇ／ｍ2の微粘着剤層を形成した。このようにして熱可塑性フィルム（ＴＰＬ−２）を作製した。
【０２４６】
［フィルム積層体（１０４−Ｌ）の作製］
セルロースアシレートフィルム１０４の片面にＴＰＬ−２を連続的に貼合し、フィルム積層体（１０４−Ｌ）を作製した。
【０２４７】
実施例１−５
［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）の調製］
セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）の調製において、アセチル化度２．９８（Ａｃ：ＯＨ＝２．９８：０．０２）のセルロースアシレートを用いる代わりに、プロピオニル基を含み、アシル化度２．８７（Ａｃ：Ｐｒｏ：ＯＨ＝２．０８：０．７９：０．１３）のセルロースアシレートを用いる以外は同様にして、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を調製した。
【０２４８】
［マット剤溶液（ＭＬ−２）の調製］
マット剤溶液（ＭＬ−１）の調製において、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）を用いる代わりに、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を用いる以外は同様にして、マット剤溶液（ＭＬ−２）を調製した。
【０２４９】
［添加剤溶液（ＡＤ−４）の調製］
添加剤溶液（ＡＤ−１）の調製において、添加剤溶液の組成を変え、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）を用いる代わりに、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を用い、Ｒｔｈ低下剤（１１９）を用いる代わりに、エチルフタリルエチルグリコレート（ＥＰＥＧ）を用い、且つセルロースアシレートに対する質量比を８質量％となるようにし、さらに波長分散調整剤を用いない以外は同様にして添加剤溶液（ＡＤ−４）を調製した。
【０２５０】
［セルロースアシレートフィルム（１０５）の作製］
セルロースアシレートフィルム（１０１）の作製において、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）、マット剤溶液（ＭＬ−１）、加剤溶液（ＡＤ−１）を用いる代わりに、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）、マット剤溶液（ＭＬ−２）、添加剤溶液（ＡＤ−４）を用いる以外はセルロースアシレートフィルム（１０１）の作製と同様にして、セルロースアシレートフィルム（１０５）を作製した。出来上がったセルロースアシレートフィルム（１０５）の残留溶媒量は０．１質量％未満であり、膜厚は８０μｍであった。
【０２５１】
［フィルム積層体（１０５−Ｌ）の作製］
セルロースアシレートフィルム１０５の片面にＴＰＬ−２を連続的に貼合し、フィルム積層体（１０５−Ｌ）を作製した。
【０２５２】
比較例１−１〜１−５
上記実施例１−１〜１−５において、作製したセルロースアシレートフィルム（００１）〜（００５）を、熱可塑性フィルムを積層せずそのまま比較例用の試料とした。
【０２５３】
上記により作製した本発明のセルロースアシレートフィルムの試料（１０１―Ｌ）〜（１０５−Ｌ）、及び比較試料（１０１）〜（１０５）について、各試料の組成及び得られたセルロースアシレートフィルムのＴｇ、並びにセルロースアシレートフィルム及びフィルム積層体の構成を表１に示す。表１においてＥＰＥＧは便宜上Ｒｔｈ低下剤の項目に示す。
【０２５４】
【表１】
2007144874.tif 000032
【０２５５】
［試料の評価］
試料の光学特性および光学ムラの評価を行った。この際、本発明の積層フィルム試料（１０１−Ｌ）〜（１０５−Ｌ）については熱可塑性フィルムを剥がした後のセルロースアシレートフィルムについて評価を行った。結果を表２に示す。
【０２５６】
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
明細書記載の方法に従い、２５℃６０％ＲＨの環境における波長６３０ｎｍでのＲｅ、Ｒｔｈを測定した。
【０２５７】
（光学ムラの評価）
光学ムラは、クロスニコルに配置した偏光板にセルロースアシレートフィルムを挟持して目視観察した。
○：光学ムラが観察されない
△：若干の光学ムラが認められるが実用許容範囲内
×：光学ムラが観察され実用に耐えない
【０２５８】
【表２】
2007144874.tif 000033
【０２５９】
製造時に熱可塑性フィルムを用いたフィルムは、いずれもＲｅ及びＲｔｈが所望の小さな値を示したばかりか、光学的ムラが小さく、優れた光学特性を有していた。
【０２６０】
＜偏光板の作製＞
本発明のセルロースアシレートフィルム積層体を、偏光板の保護フィルムとして用い性能を評価した。
【０２６１】
実施例２−１
〔アルカリ鹸化処理〕
［アルカリ鹸化溶液（Ｓ−１）の調整］
下記処方のアルカリ鹸化水溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）を調整した。
【０２６２】
｛アルカリ鹸化水溶液（Ｓ−１）処方｝
アルカリ剤（ＫＯＨ）                                ５６０質量部
界面活性剤｛Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｈ｝          １００質量部
消泡剤                                                  ２質量部
「サーフィノールＤＦ１１０Ｄ」：日信化学工業（株）製水                                                                            ９３３８質量部
【０２６３】
［鹸化処理フィルムの作製］
本発明のフィルム積層体試料（１０１−Ｌ）を、６０℃に加熱した誘電式加熱ロールを通過させ、４０℃まで昇温した後に、４０℃に保温したアルカリ鹸化水溶液（Ｓ−１）を、ロッドコーターを用いてセルロースアシレートフィルム面側に２０ｃｃ／ｍ2塗布した。１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテッド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に７秒滞留させた後に（フィルムの表面温度は４０〜５０℃）、同じくロッドコーターを用いて純水を２０ｃｃ／ｍ2塗布し、アルカリを洗い落とした。この時、フィルム温度は４０〜４５℃に維持されており、純水塗布後の塗膜のＫＯＨ濃度は０．５ｍｏｌ／Ｌとなった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返し、アルカリを洗い落とした後に、７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理フィルムを作製した。
同様にして、本発明の試料（１０２−Ｌ）〜（１０５−Ｌ）、及び比較例の試料（１０
１）〜（１０５）をアルカリケン化処理した。
【０２６４】
〔偏光板（Ｐ１−１）の作製〕
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。次いで、ポリビニルアルコール“ＰＶＡ−１１７Ｈ”｛（株）クラレ製｝３質量％水溶液を接着剤として、上記の鹸化処理した本発明のフィルム積層体試料（１０１−Ｌ）及び（１０４−Ｌ）をセルロースアシレートフィルムが偏光膜側になるように偏光膜を間に挟んで貼り合わせ、両面がフィルム試料によって保護された偏光板（Ｐ１−１）を得た。この際、両側のフィルム試料の鹸化面を偏光膜側にし、またフィルム試料の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付けた。この偏光板（Ｐ１−１）において、鹸化した２枚のフィルム試料と偏光膜とは、十分な貼り合わせ密着性を保ち、十分な偏光度を示した。
【０２６５】
実施例２−２
実施例２−１において、フィルム積層体試料（１０１−Ｌ）に代えて（１０２−Ｌ）を使用する以外は、全く同様の方法により偏光板（Ｐ１−２）を作製した。この偏光板（Ｐ１−２）において、鹸化した２枚のフィルム試料と偏光膜とは、十分な貼り合わせ密着性を保ち、十分な偏光度を示した。
【０２６６】
実施例２−３
実施例２−１において、フィルム積層体試料（１０１−Ｌ）に代えて（１０３−Ｌ）を使用する以外は、全く同様の方法により偏光板（Ｐ１−３）を作成した。この偏光板（Ｐ１−３）において、鹸化した２枚のフィルム試料と偏光膜とは、十分な貼り合わせ密着性を保ち、十分な偏光度を示した。
【０２６７】
比較例２−１〜２−３
実施例２−１において、本発明のフィルム積層体試料（１０１−Ｌ）及び（１０４−Ｌ）に代えて、比較のフィルム試料（１０１）〜（１０３）及び（１０４）を使用する以外は、全く同様の方法により偏光板（Ｐｒ１−１〜Ｐｒ１−３）を作製した。
【０２６８】
得られた偏光板の構成を表３に示す。
【０２６９】
【表３】
2007144874.tif 000034
【０２７０】
上記により作製した偏光板は、２枚のフィルム試料と偏光膜とは、十分な貼り合わせ密着性を示した。但し、偏光板（Ｐ１−１）から（Ｐ１−３）は、十分な偏光度と良好な均一性を示したが、偏光板（Ｐｒ１−１）から（Ｐｒ１−３）は、ケン化液塗布時の裏周り、水洗ムラ又は乾燥ムラと思われる不均一性が発生し、性能の十分満足できるものではなかった。
【０２７１】
実施例３
本発明のフィルム積層体試料（１０１−Ｌ）を特開２００４−２７２０４３号公報の比較例３に従って、連続ケン化した。補充液及び界面活性剤補充液の追加供給は、それぞれ、３Ｌと１Ｌとすることにより、異物、濁りもなく良好なケン化を維持することができた。
【０２７２】
比較例３
実施例３において、本発明のフィルム積層体試料（１０１−Ｌ）に代えて、比較のフィルム試料（１０１）を使用する以外は、全く同様の方法によりケン化処理を行った。ケン化終了時には、処理液に濁りが発生し、水洗にても十分に異物を洗浄することができず、
フィルムに若干の異物の付着が観測された。