(57)【要約】【課題】  簡単な構成で汚れを強力に落とすことができる自動分析装置及びその洗浄方法を提供する。【解決手段】  被検試料と試薬とを及び洗浄液を反応容器４に分注するサンプル分注プローブ１６、第１試薬分注プローブ１４、及び第２試薬分注プローブ１５と、反応容器４に分注された被検試料と試薬との混合液を撹拌する撹拌ユニット１１の撹拌子と、反応容器４内の混合液を測定温度に設定する恒温部２３と、測定温度に設定した混合液を測定する測定ユニット１３と、測定後の混合液が入った反応容器４を洗浄する洗浄ユニット１２とを備え、恒温部２３を用いて洗浄液を測定温度よりも高温の洗浄温度に設定して、反応容器４、サンプル分注プローブ１６、第１試薬分注プローブ１４、第２試薬分注プローブ１５、撹拌ユニット１１の撹拌子の少なくとも１つを洗浄する。【選択図】  図１
2007047027.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応容器に被検試料を分注するサンプル分注プローブと、
前記反応容器に試薬を分注する試薬分注プローブと、
前記反応容器に分注された前記被検試料と前記試薬との混合液を撹拌する撹拌子と、
前記撹拌子で撹拌された前記反応容器内の前記混合液を、前記反応容器を介して測定温度に設定する温度設定手段と、
前記温度設定手段により前記測定温度に設定された前記混合液を測定する測定手段と、
前記測定温度よりも高温の洗浄温度で、前記反応容器、前記サンプル分注プローブ、前記試薬分注プローブ、及び前記撹拌子の少なくとも１つを洗浄するように前記温度設定手段を制御する高温洗浄制御手段とを
備えたことを特徴とする自動分析装置。
【請求項２】
前記温度設定手段により設定された前記測定温度で、前記測定手段により測定された前記混合液の入った前記反応容器を一定のサイクルで洗浄する洗浄ユニットを有し、
前記高温洗浄手段は、前記洗浄ユニットを用いて前記反応容器を洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記温度設定手段は、前記反応容器に熱を伝達する熱媒体と、この熱媒体の温度を前記測定温度及び前記洗浄温度に設定する恒温ユニットとを有することを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記高温洗浄手段は、前記反応容器に分注された洗浄液を前記温度設定手段で前記洗浄温度に設定し、前記洗浄温度に設定された前記洗浄液を前記サンプル分注プローブ内に吸引させて高温洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記高温洗浄手段は、前記反応容器に分注された洗浄液を前記温度設定手段で前記洗浄温度に設定し、前記洗浄温度に設定された前記洗浄液を前記試薬分注プローブ内に吸引させて高温洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記高温洗浄手段は、前記反応容器に分注された洗浄液を前記温度設定手段で前記洗浄温度に設定し、前記洗浄温度に設定された前記洗浄液が分注された前記反応容器内に前記撹拌子を入れて高温洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記高温洗浄手段は、前記反応容器に分注された洗浄液を前記温度設定手段で前記洗浄温度に設定した後、前記反応容器内に洗浄時間保持させて高温洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の自動分析装置。
【請求項８】
反応容器にサンプル分注プローブを用いて被検試料を分注し、
前記反応容器に試薬分注プローブを用いて試薬を分注し、
前記反応容器に分注された前記被検試料と前記試薬との混合液を撹拌子を用いて撹拌し、
前記撹拌子で撹拌された前記反応容器内の前記混合液を測定温度に設定し、
前記測定温度に設定された前記混合液を測定し、
測定された前記混合液の入った前記反応容器を洗浄した後に、
前記測定温度よりも高温の洗浄温度で、前記反応容器、前記サンプル分注プローブ、前記試薬分注プローブ、及び前記撹拌子の少なくとも１つを洗浄することを特徴とする自動分析装置の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検試料の成分を分析する自動分析装置及びその洗浄方法に係り、特に、ヒトの血清や尿などの体液中に含まれる成分を分析する自動分析装置及びその洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動分析装置としては、被検体から採取された被検試料と試薬とを反応容器に分注して混合した混合液の反応によって生ずる色調の変化を、光の透過量を測定することにより、被検試料中の様々な成分（項目）の濃度や活性を測定する装置が知られている。
【０００３】
この自動分析装置では、被検試料毎に分析条件の設定により測定可能になった多数の項目の中から検査に応じて選択された測定項目の測定が行われる。そして、被検試料及び項目に該当する試薬はサンプル及び試薬分注プローブを使用して反応容器に分注され、反応容器に分注された被検試料及び試薬は撹拌子を使用して混合され、混合された混合液は恒温ユニットを使用して反応容器を介して測定するための測定温度に保持されてから測定され、更に被検試料及び試薬に接触したサンプル及び試薬分注プローブ、混合液に接触した反応容器及び撹拌子は繰り返して測定に使用される。
【０００４】
そこで、被検試料間、試薬間、及び混合液間のクロスコンタミネーションを防ぐために、サンプル及び試薬分注プローブ、撹拌子は、一般には被検試料及び試薬の分注毎、混合液の撹拌毎に常温の水などを使用して洗浄が行われ、更に検査が終了すると、常温の洗浄液などを用いて自動洗浄が行われる。また、反応容器は、混合液間のクロスコンタミネーションを防ぐために、一般には混合液の測定終了毎に測定温度の反応容器に常温の洗浄液、水などを吐出及び吸引させて洗浄が行われ、更に検査が終了すると、測定終了後毎と同様の洗浄や、測定温度の反応容器内に所定時間洗浄液を入れた自動洗浄が行われる。
【０００５】
しかしながら、多数の被検試料をしかも多項目に亘って測定する自動分析装置においては、長期間使用する間にサンプル及び試薬分注プローブ、撹拌子、及び反応容器に、測定中の洗浄や自動洗浄だけでは除去しきれない汚れが蓄積して、被検試料間、試薬間、混合液間のクロスコンタミネーションを大きくさせて測定結果に悪影響を及ぼす問題があった。
【０００６】
そこで、サンプル及び試薬分注プローブにおいては、サンプル及び試薬分注プローブの近傍、サンプル及び試薬分注プローブに通じる配管流路内の洗浄液を加熱して強力に洗浄する高温加熱装置を設けた自動分析装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平１１−９４８４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、高温加熱装置を設けた自動分析装置においては、サンプル及び試薬分注プローブの強力な洗浄は行えるが、撹拌子、反応容器に対しては、自動洗浄のなどの通常の洗浄では完全に除去しきれない汚れが蓄積して、測定時の混合液間のクロスコンタミネーションを大きくさせて測定結果に悪影響を及ぼす問題がある。また、専用の高温加熱装置を設ける必要もあり装置が大掛かりになり、コストが掛かってしまう問題がある。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、簡単な構成で汚れを強力に落とすことができる自動分析装置及びその洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、請求項１に係る本発明の自動分析装置は、反応容器に被検試料を分注するサンプル分注プローブと、前記反応容器に試薬を分注する試薬分注プローブと、前記反応容器に分注された前記被検試料と前記試薬との混合液を撹拌する撹拌子と、前記撹拌子で撹拌された前記反応容器内の前記混合液を、前記反応容器を介して測定温度に設定する温度設定手段と、前記温度設定手段により前記測定温度に設定された前記混合液を測定する測定手段と、前記測定温度よりも高温の洗浄温度で、前記反応容器、前記サンプル分注プローブ、前記試薬分注プローブ、及び前記撹拌子の少なくとも１つを洗浄するように前記温度設定手段を制御する高温洗浄制御手段とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
また、請求項８に係る本発明の自動分析装置の洗浄方法は、反応容器にサンプル分注プローブを用いて被検試料を分注し、前記反応容器に試薬分注プローブを用いて試薬を分注し、前記反応容器に分注された前記被検試料と前記試薬との混合液を撹拌子を用いて撹拌し、前記撹拌子で撹拌された前記反応容器内の前記混合液を測定温度に設定し、前記測定温度に設定された前記混合液を測定し、測定された前記混合液の入った前記反応容器を洗浄した後に、前記測定温度よりも高温の洗浄温度で、前記反応容器、前記サンプル分注プローブ、前記試薬分注プローブ、及び前記撹拌子の少なくとも１つを洗浄することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、簡単な構成で通常の洗浄では除去できない汚れを強力に落とすことが可能となり、クロスコンタミネーションによる影響を受けることなく分析データの測定精度の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明による自動分析装置の実施例を、図１乃至図１０を参照して説明する。
図１は、本発明の実施例に係る自動分析装置の構成を示したブロック図である。この自動分析装置１００は、被検試料やキャリブレータの測定を行う分析部１９と、分析部１９の測定動作、高温洗浄動作などの制御を行う分析制御部３０と、分析部１９から出力された分析信号を処理して分析データを算出する分析データ処理部４０と、分析データ処理部４０からの分析データを出力する出力部５０と、分析条件、高温洗浄条件、各種コマンド信号などを入力する操作部６０と、上述したこれらのユニットを統括して制御するシステム制御部７０とを備えている。
【００１３】
分析部１９は、項目毎のキャリブレータ、被検体から得られた被検試料などのサンプルを取り扱うサンプル部２０と、サンプルと化学反応させるための試薬を取り扱う試薬部２１と、サンプル及び試薬の混合液を取り扱う反応部２２と、混合液及び様々なユニットを洗浄するための洗浄液を、測定するための測定温度に、又高温洗浄するための洗浄温度に上げることが可能な恒温部２３とを備えている。
【００１４】
分析制御部３０は、分析部１９のサンプル部２０、試薬部２１、及び反応部２２に含まれる各ユニットを駆動する各機構を備えた機構部３１と、恒温部２３に含まれる各ユニットを駆動する各機構及び機構部３１の各機構を制御する制御部３２とを備えている。
【００１５】
分析データ処理部４０は、分析部１９から出力されたキャリブレータ信号、分析信号などからキャリブレーションテーブルの作成、分析データの算出などを行う演算部４１と、演算部４１で作成されたキャリブレーションテーブルや算出された分析データなどを保存する記憶部４２とを備えている。
【００１６】
演算部４１は、分析部１９から出力された各項目のキャリブレータ信号から各項目のキャリブレーションテーブルを作成して出力部５０に出力すると共に記憶部４２に保存する。また、演算部４１は、分析部１９から出力された各項目の分析信号に対して、その分析信号の項目に対応したキャリブレーションテーブルを記憶部４２から読み出した後、このキャリブレーションテーブルを用いて分析データを算出して出力部５０に出力すると共に記憶部４２に保存する。
【００１７】
記憶部４２は、ハードディスクなどを備え、演算部４１から出力されたキャリブレーションテーブル、分析データなどを被検試料毎に保存する。
【００１８】
出力部５０は、分析データ処理部４０から出力されたキャリブレーションテーブル、分析データなどを印刷出力する印刷部５１及び表示出力する表示部５２を備えている。そして、印刷部５１は、プリンタなどを備え、分析データ処理部４０から出力されたキャリブレーションテーブル、分析データなどを予め設定されたフォーマットに基づいて、プリンタ用紙に印刷出力する。また、表示部５２は、ＣＲＴや液晶パネルなどのモニタを備え、分析データ処理部４０から出力されたキャリブレーションテーブル、分析データなどの表示や、システム制御部６０からの指示により分析条件を設定するための画面、分析部１９を高温洗浄する高温洗浄条件を設定するための画面などの表示を行う。
【００１９】
操作部６０は、キーボード、マウス、ボタン、タッチキーパネルなどの入力デバイスを備え、分析条件の設定、高温洗浄条件の設定、被検体の被検体ＩＤや被検体名などの被検体情報の入力、被検体の被検試料毎の測定項目の選択、各項目のキャリブレーション操作、被検試料分析操作などの様々な操作が行われる。
システム制御部７０は、図示しないＣＰＵと記憶回路を備え、操作部６０から供給される操作者のコマンド信号、分析条件、高温洗浄条件、被検体情報、被検試料毎の測定項目などの情報を記憶した後、これらの情報に基づいて、分析部１９を構成する各ユニットを一定サイクルの所定のシーケンスで測定動作させる制御、分析部１９を構成する各ユニットを高温洗浄動作させる制御、キャリブレーションテーブルの作成、分析データの算出と出力に関する制御などシステム全体の制御を行う。
【００２０】
次に、分析部１９及び分析制御部３０の詳細を図２乃至図３を参照して説明する。  
図２は、分析部１９のサンプル部２０、試薬部２１、及び反応部２２の構成を説明するための斜視図である。
【００２１】
サンプル部２０は、被検試料、キャリブレータなどのサンプルを納める試料容器１７と、試料容器１７を回動可能に保持するディスクサンプラ６と、試料容器１７からサンプルを吸引して反応部２２に吐出するサンプル分注プローブ１６と、サンプル分注プローブ１６をディスクサンプラ６と反応部２２間の回動、ディスクサンプラ６と反応部２２における上下動を可能に保持するサンプル分注アーム１０とを備えている。
【００２２】
サンプル分注プローブ１６は、同一試料容器１７からの被検試料の吸引を終え、新たな試料容器１７からの被検試料の吸引前毎に、被検試料間のクロスコンタミネーションを防ぐためにその内外壁が洗浄される。
【００２３】
試薬部２１は、サンプルに対して選択的に反応する複数の第１試薬、第１試薬と対の複数の第２試薬、洗浄液などを納める試薬ボトル７ａ，７ｂと、試薬ボトル７ａ，７ｂを夫々収納する試薬ラック１ａ，１ｂと、第１試薬及び洗浄液用の試薬ボトル７ａを収納した試薬ラック１ａを回動可能に保持する試薬庫２と、第２試薬及び洗浄液用の試薬ボトル７ｂを収納した試薬ラック１ｂを回動可能に保持する試薬庫３とを備えている。
【００２４】
また、試薬部２１は、第１及び第２試薬吸引位置にある試薬ボトル７ａ，７ｂから第１及び第２試薬や、洗浄液を吸引して反応部２２に吐出する第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５と、第１及び第２試薬吸引位置と反応部２２間で回動させ、又第１及び第２試薬吸引位置と反応部２２で第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の上下動を可能に保持する第１試薬分注アーム８及び第２試薬分注アーム９とを備えている。
【００２５】
第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５は、試薬庫２及び３の試薬ボトル７から第１及び第２試薬を吸引及び吐出毎に、第１及び第２試薬間のクロスコンタミネーションを防ぐために内外壁が洗浄される。
【００２６】
反応部２２は、サンプル部２０のディスクサンプラ６から反応部２２のサンプル吐出位置に回動したサンプル分注プローブ１６により吐出されたサンプル、試薬部２１の第１及び第２試薬吸引位置から反応部２２の第１及び第２試薬吐出位置に回動した第１試薬プローブ１４及び第２試薬プローブ１５により吐出された第１試薬及び第２試薬や洗浄液を納める反応容器４と、円周上に配置された複数の反応容器４を回転可能に保持する反応ディスク５と、反応部２２の撹拌位置に停止した反応容器４内のサンプルと試薬の混合液、洗浄液などを撹拌する撹拌子を持つ上下動可能な撹拌ユニット１１とを備えている。
【００２７】
また、反応部２２は、撹拌後の混合液の入った測光位置に移動された反応容器４に光を照射して、透過した光から設定波長における吸光度を測定する測光ユニット１３と、洗浄・乾燥位置に停止した反応容器４の測定を終えた混合液の吸引及び洗浄・乾燥を行う洗浄ノズルや乾燥ノズルを有した上下動可能な洗浄ユニット１２とを備えている。
【００２８】
反応容器４は、混合液の測定終了毎に、混合液間のクロスコンタミネーションを防ぐために洗浄ユニット１２によりその内側が洗浄・乾燥され、再び測定に使用される。
【００２９】
測光ユニット１３は、回転移動する反応容器４に測光位置から光を照射して混合液の吸光度変化を測定し、その測定から得られた被検試料或いはキャリブレータの分析信号或いはキャリブレーション信号を分析データ処理部４０に出力する。
【００３０】
撹拌ユニット１１は、反応容器４内の混合液の撹拌毎に、混合液間のクロスコンタミネーションを防ぐために撹拌子の表面が洗浄される。
【００３１】
図３は、分析部１９の恒温部２３の構成を説明するための図である。この恒温部２３は、反応部２２の反応容器４に熱を伝達する熱媒体８１と、反応容器４及び熱媒体８１の温度を一定に保持する恒温槽８２と、熱媒体８１を加熱或いは冷却して反応容器４内の混合液或いは洗浄液を測定温度或いは洗浄温度に制御する恒温ユニット８３と、恒温槽８２内に収納した熱媒体８１の液面の位置を検出する位置センサ８９と、外部に配置された熱媒体８１を恒温槽８２内に供給する供給ポンプ９０とを備えている。
【００３２】
熱媒体８１は、比熱が大きく且つ流動性のある水などが使用され、恒温ユニット８３からの熱を反応容器４の側面及び底面を介して反応容器４内に吐出された混合液や洗浄液に伝達する。
【００３３】
恒温槽８２は、回転移動する反応容器４の円軌道に合わせて上側が開口した円形の流路を形成し、その流路内に反応容器４が配置される。
【００３４】
恒温ユニット８３は、熱媒体８１を冷却する冷却器８４と、冷却器８４からの熱媒体８１を加熱する加熱器８５と、冷却器８４、加熱器８５、及び恒温槽８２内の熱媒体８１を循環させるための循環ポンプ８６とを備え、システム制御部７０からの測定指示或いは高温洗浄指示に基づく分析制御部３０における制御部３２の制御により、測定時には反応容器４内の混合液を例えば３７℃の測定温度に、また高温洗浄時には反応容器４内の洗浄液を例えば７０〜８０℃と測定温度よりも高い洗浄温度に上げて保持する。
【００３５】
冷却器８４は、熱媒体８１を冷却する冷却フィンと、この冷却フィンを冷却するファンとを備え、制御部３２の制御により、熱媒体８１が測定温度或いは洗浄温度よりも高いときにファンを回して強制的に冷却する。
【００３６】
加熱器８５は、循環ポンプ８６から送り込まれた熱媒体８１を加熱するヒータ８７と、熱媒体８１の温度を検出する温度センサ８８とを備え、温度センサ８８は加熱器８５内の検出された温度を温度検出信号として制御部３２に出力し、温度センサ８８からの温度検出信号に基づく制御部３２の制御により、熱媒体８１が測定温度或いは洗浄温度よりも低いときにヒータ８７で加熱する。
【００３７】
循環ポンプ８６は、恒温槽８２から熱媒体８１を吸引すると共に、吸引した熱媒体８１を冷却器８４、加熱器８５、及び恒温槽８２等に送り込む。恒温槽８１内においては熱媒体８１を反応容器４の回転方向と逆方向に流す。
【００３８】
恒温槽８２における熱媒体８１の液面の位置を検出する位置センサ８９は、その位置検出信号を分析制御部３０に出力する。
【００３９】
供給ポンプ９０は、位置センサ８９からの位置検出信号に基づく制御部３２の制御により、恒温槽８２内の熱媒体８１の液面の位置が正常の高さよりも低いときに、正常の高さになるまで外部からの熱媒体を恒温槽８２内に供給する。
【００４０】
次に、分析制御部３０の構成を詳細に説明する。分析制御部３０の機構部３１は、分析部１９のディスクサンプラ６や試薬庫２及び３の各回動、反応ディスク５の回転、サンプル分注アーム１０、第１試薬分注アーム８、及び第２試薬分注アーム９の各回動及び上下動、撹拌ユニット１１及び洗浄ユニット１２の各上下動を行う機構を備えている。
【００４１】
また、機構部３１は、サンプル分注プローブ１６を介してサンプルの吸引及び吐出を行うサンプル分注ポンプ、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５を介して第１及び第２試薬や洗浄液の吸引及び吐出を行う第１及び第２試薬ポンプ、洗浄ユニット１２の複数の洗浄ノズルを介して反応容器４内の混合液や洗浄液の吸引、反応容器４内に対して反応容器洗浄液や純水の吐出及び吸引を行う洗浄ポンプ、乾燥ノズルを介して洗浄後の残存液の吸引を行う乾燥ポンプなどの機構を備えている。
【００４２】
更に、機構部３１は、撹拌ユニット１１の撹拌子を駆動する機構を備えている。
【００４３】
制御部３２は、機構部３１のディスクサンプラ６、試薬庫２及び３、反応ディスク５、サンプル分注アーム１０、第１試薬分注アーム８、第２試薬分注アーム９、撹拌ユニット１１、洗浄ユニット１２、サンプル分注ポンプ、第１及び第２試薬ポンプ、洗浄ポンプ、乾燥ポンプなどの各機構を制御する制御回路を備えている。
【００４４】
また、制御部３２は、分析部１９の恒温部２３における温度センサ８８や位置センサ８９から出力された温度検出信号や位置検出信号に基づいて恒温部２３のヒータ８７、冷却器８４のファンや供給ポンプ９０を制御する制御回路を備えている。
【００４５】
次に、図１乃至図１０を参照して自動分析装置１００の高温洗浄動作について説明する。
【００４６】
図４は、高温洗浄条件を設定する画面の一例を示した図である。この高温洗浄条件設定画面５３は、高温洗浄条件を表示する洗浄条件表示エリア５４と、この洗浄条件表示エリア５４に表示された各高温洗浄条件を選択して設定するための設定エリア５５から構成され、操作部６０からの洗浄条件設定画面表示操作により表示部５２に表示される。
【００４７】
洗浄条件表示エリア５４には、分析部１９の反応容器４の高温洗浄に対応した「反応容器の洗浄」、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄に対応した「サンプル分注プローブの洗浄」、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄に対応した「試薬分注プローブの洗浄」、撹拌ユニット１１の撹拌子の高温洗浄に対応した「撹拌子の洗浄」、及び反応容器４の「反応容器の洗浄」よりも強力な高温洗浄に対応した「反応容器洗浄液入れ洗浄」が表示される。
【００４８】
設定エリア５５には、高温洗浄条件を選択して設定するための四角枠５５ａ乃至５５ｅが表示され、夫々洗浄条件表示エリア５４に表示された「反応容器の洗浄」、「サンプル分注プローブの洗浄」、「試薬分注プローブの洗浄」、「撹拌子の洗浄」、「反応容器洗浄液入れ洗浄」に対応している。
【００４９】
そして、操作部６０からの高温洗浄条件設定操作により、システム制御部７０は、表示部５２における高温洗浄条件設定画面５３の設定エリア５５の四角枠５５ａ乃至５５ｅ内に「レ」を表示させると共に、選択設定した高温洗浄条件を内部の記憶回路に保存する。
【００５０】
図５は、表示部５２に表示された高温洗浄条件設定画面５３の各高温洗浄条件に対応した自動分析装置１００の高温洗浄動作を示したフローチャートである。
【００５１】
図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）に示した高温洗浄動作の各工程は、高温洗浄条件設定画面５３の設定エリア５５の夫々四角枠５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ、５５ｅを選択設定することにより実行される。
【００５２】
図５（ａ）は、反応容器４の高温洗浄動作に対応し、分析部１９の恒温槽８２内の熱媒体８１を洗浄温度に上げるまでの洗浄温度設定工程Ｓ１と、反応容器４を洗浄温度の状態で高温洗浄する反応容器洗浄工程Ｓ１０から構成される。
【００５３】
図５（ｂ）は、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄動作に対応し、洗浄温度設定工程Ｓ１と、サンプル分注プローブ１６を洗浄温度の洗浄液を用いて高温洗浄するサンプル分注プローブ洗浄工程Ｓ２０から構成される。
【００５４】
図５（ｃ）は、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄動作に対応し、洗浄温度設定工程Ｓ１と、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５を洗浄液温度の洗浄液を用いて高温洗浄する試薬分注プローブ洗浄工程Ｓ３０から構成される。
【００５５】
図５（ｄ）は、撹拌ユニット１１の撹拌子の高温洗浄動作に対応し、洗浄温度設定工程Ｓ１と、撹拌ユニット１１の撹拌子を洗浄温度の洗浄液を用いて高温洗浄する撹拌子洗浄工程Ｓ４０から構成される。
【００５６】
図５（ｅ）は、反応容器４内への洗浄液入れによる高温洗浄動作に対応し、洗浄温度設定工程Ｓ１と、反応容器４に洗浄液を入れて洗浄温度になった洗浄液で高温洗浄する反応容器洗浄液入れ洗浄工程Ｓ５０から構成される。
【００５７】
図６は、反応容器４の高温洗浄動作の詳細を示したフローチャートである。予め操作部６０を操作して表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から四角枠５５ａ内に選択設定し、更に高温洗浄開始操作により、自動分析装置１００は、高温洗浄動作を開始する（ステップＳ０）。
【００５８】
まず洗浄温度設定工程Ｓ１では、システム制御部７０からの分析制御部３０の制御部３２への高温洗浄の指示により、制御部３２は、分析部１９の恒温部２３における位置センサ８９からの液面検出信号から恒温槽８２内の熱媒体８１の液面が正常の高さになっているか否かを判定する（ステップＳ２）。
【００５９】
そして、恒温槽８２内の熱媒体８１の液面が正常の高さになっている場合（ステップＳ２のはい）、制御部３２は、恒温部２３のヒータ８７に恒温槽８２内の熱媒体８１を洗浄温度まで上げさせる（ステップＳ４）。
【００６０】
また、恒温槽８２内の熱媒体８１の液面が正常の高さよりも低い場合（ステップＳ２のいいえ）、制御部３２は、恒温部２３の供給ポンプ９０に液面が正常の高さになるまで恒温槽８２内に熱媒体８１を供給させる（ステップＳ３）。その後、ステップＳ４へ移行する。
【００６１】
洗浄温度設定工程Ｓ１の後に引き続き行われる反応容器洗浄工程Ｓ１０では、制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２の機構、洗浄ポンプ、乾燥ポンプなどの各ユニットの駆動機構を駆動し、反応部２２の洗浄・乾燥位置の反応容器４を高温洗浄させる（ステップＳ１１）。そして、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、高温洗浄を終えた反応容器４を回転方向の隣の反応容器４の位置に回転（１ピッチ）移動させる。
【００６２】
そして、洗浄・乾燥位置の反応容器４が高温洗浄されていない場合（ステップＳ１２のいいえ）、ステップＳ１１に戻る。また、洗浄乾燥位置の反応容器４が高温洗浄されていた場合（ステップＳ１２のはい）、反応容器洗浄工程Ｓ１０が終了する。反応容器洗浄工程Ｓ１０の終了により、システム制御部７０は、制御部３２に指示をして機構部３１及び恒温部２３の各ユニット駆動機構による高温洗浄動作を停止させる（ステップＳ１００）。
【００６３】
以上の洗浄ユニット１２を用いた反応容器４の高温洗浄により、汚れの１成分である油脂成分が溶けたり汚れの粘度が低下して動きやすくなり除去しやすくなる、熱エネルギーによって反応容器４表面から汚れを引き離しやすくなるなどの作用で、反応容器４の内壁に付着した汚れを強力に落とすことができる。
【００６４】
図７は、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄動作の詳細を示したフローチャートである。予め操作部６０を操作して表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から四角枠５５ｂ内に選択設定しておくことにより、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄が行われる。なお、前述した工程については説明を省略する。
【００６５】
洗浄温度設定工程Ｓ１に引き続き行われるサンプル分注プローブ洗浄工程Ｓ２０では、まず制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２及び反応ディスク５の駆動機構、洗浄ポンプ、乾燥ポンプなどの各ユニット駆動機構を駆動し、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄用のＬ個の反応容器４を洗浄ユニット１２を用いた高温洗浄をさせる（ステップＳ２１）。
【００６６】
次に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、高温洗浄を終えた反応容器４を反応部２２の第１試薬吐出位置に回転移動させた後、機構部３１の試薬庫２及び第１試薬分注アーム８の機構、第１試薬ポンプに、試薬庫２に配置された例えば界面活性剤を含むアルカリ系洗剤、酸性洗剤などの用途に応じた洗浄液が収納された試薬ボトル７から洗浄液を吸引させて、第１試薬吐出位置の反応容器４内に吐出させる。この動作をＬ回繰り返して、高温洗浄を終えたＬ個の反応容器４に洗浄液を吐出させる（ステップＳ２２）。
【００６７】
Ｌ個の反応容器４内の洗浄液が洗浄温度に達した所定時間後に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、洗浄液の入った反応容器４を反応部２２のサンプル吐出位置に回転移動させる（ステップＳ２３）。次いで、機構部３１のサンプル分注アーム１０の機構、サンプル分注ポンプを駆動してサンプル分注プローブ１６を反応容器４内の洗浄液に浸漬させた状態で洗浄液を複数回吸引及び吐出させて高温洗浄を行う（ステップＳ２４）。
【００６８】
そして、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄がＬ個の反応容器４の洗浄液を用いてＬ回の高温洗浄に達してない場合（ステップＳ２５のいいえ）、ステップＳ２３に戻る。また、サンプル分注プローブ１６の高温洗浄がＬ個の反応容器４の洗浄液を用いてＬ回の高温洗浄を終えた場合（ステップＳ２５のはい）、サンプル分注プローブ洗浄工程Ｓ２０が終了する。
【００６９】
以上の洗浄温度の洗浄液を用いたサンプル分注プローブ１６の高温洗浄により、反応容器４の高温洗浄と同様の作用で、サンプル分注プローブ１６の内外壁に付着した汚れを強力に落とすことができる。
【００７０】
図８は、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄動作の詳細を示したフローチャートである。予め操作部６０を操作して表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から四角枠５５ｃ内に選択設定しておくことにより、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄が行われる。なお、前述した工程については説明を省略する。
【００７１】
洗浄温度設定工程Ｓ１に引き続き行われる試薬分注プローブ洗浄工程Ｓ３０では、制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２及び反応ディスク５の各駆動機構を駆動し、洗浄ポンプ、乾燥ポンプの各ユニット駆動機構を駆動し、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄用の２Ｍ個の反応容器４を洗浄ユニット１１を用いた高温洗浄をさせる（ステップＳ３１）。
【００７２】
次に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、高温洗浄を終えた反応容器４を反応部２２の第１及び第２試薬吐出位置に回転移動させた後、機構部３１の試薬庫２及び３の各駆動機構、第１試薬分注アーム８及び第２試薬分注アーム９の各駆動機構、更には第１及び第２試薬ポンプを駆動して、試薬庫２及び３に配置された洗浄液を収納した試薬ボトル７から洗浄液を吸引させて、第１及び第２試薬吐出位置の反応容器４に吐出させる。この動作をＭ回繰り返して、高温洗浄を終えた２Ｍ個の反応容器４に洗浄液を吐出させる（ステップＳ３２）。
【００７３】
２Ｍ個の反応容器４内の洗浄液が洗浄温度に達した所定時間後に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、洗浄液の入った反応容器４を反応部２２の第１及び第２試薬吐出位置に回転移動させる（ステップＳ３３）。次いで、機構部３１の第１試薬分注アーム８及び第２試薬分注アーム９の各駆動機構、第１及び第２試薬ポンプを駆動して、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５を反応容器４内の洗浄液に浸漬させた状態で洗浄液を複数回吸引及び吐出させて高温洗浄を行う（ステップＳ３４）。
【００７４】
そして、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄が２Ｍ個の反応容器４の洗浄液を用いて各Ｍ回の高温洗浄に達してない場合（ステップＳ３５のいいえ）、ステップＳ３３に戻る。また、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄が２Ｍ個の反応容器４の洗浄液を用いて各Ｍ回の高温洗浄を終えた場合（ステップＳ３５のはい）、試薬分注プローブ洗浄工程Ｓ３０が終了する。
【００７５】
以上の洗浄温度の洗浄液を用いた第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の高温洗浄により、反応容器４の高温洗浄と同様の作用で、第１試薬分注プローブ１４及び第２試薬分注プローブ１５の内外壁に付着した汚れを強力に落とすことができる。
【００７６】
図９は、撹拌ユニット１１の撹拌子の高温洗浄動作の詳細を示したフローチャートである。予め操作部６０を操作して表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から四角枠５５ｄ内に選択設定しておくことにより、撹拌子の高温洗浄が行われる。なお、前述した工程については説明を省略する。
【００７７】
洗浄温度設定工程Ｓ１に引き続き行われる撹拌子洗浄工程Ｓ４０では、制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２及び反応ディスク５の駆動機構を駆動し、洗浄ポンプ、乾燥ポンプの各ユニット駆動機構を駆動し、撹拌子の高温洗浄用のＮ個の反応容器４を洗浄ユニット１１を用いた高温洗浄をさせる（ステップＳ４１）。
【００７８】
次に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、高温洗浄を終えた反応容器４を反応部２２の第１試薬吐出位置に回転移動させた後、機構部３１の試薬庫２及び第１試薬分注アーム８の各駆動機構、第１試薬ポンプを駆動して、試薬庫２に配置された洗浄液を収納した試薬ボトル７から洗浄液を吸引させて、第１試薬吐出位置の反応容器４に吐出させる。この動作をＮ回繰り返して、高温洗浄を終えたＮ個の反応容器４に洗浄液を吐出させる（ステップＳ４２）。
【００７９】
Ｎ個の反応容器４内の洗浄液が洗浄温度に達した所定時間後に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、洗浄液の入った反応容器４を反応部２２の撹拌位置に回転移動させる（ステップＳ４３）。次いで、機構部３１の撹拌ユニット１１の各駆動機構を駆動して撹拌子を反応容器４内の洗浄液に浸漬させた状態で撹拌動作させて高温洗浄を行う（ステップＳ４４）。
【００８０】
そして、撹拌ユニット１１の撹拌子の高温洗浄がＮ個の反応容器４の洗浄液を用いてＮ回の高温洗浄に達してない場合（ステップＳ４５のいいえ）、ステップＳ４３に戻る。また、撹拌子の高温洗浄がＮ個の反応容器４の洗浄液を用いてＮ回の高温洗浄を終えた場合（ステップＳ４５のはい）、撹拌子洗浄工程Ｓ４０が終了する。
【００８１】
以上の洗浄温度の洗浄液を用いた撹拌ユニット１１の撹拌子の高温洗浄動作により、反応容器４の高温洗浄と同様の作用で、撹拌子の表面に付着した汚れを強力に落とすことができる。
【００８２】
図１０は、反応容器４内への洗浄液入れによる高温洗浄動作の詳細を示したフローチャートである。予め操作部６０を操作して表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から四角枠５５ｅ内に選択設定しておくことにより、反応容器４内への洗浄液入れによる高温洗浄が行われる。なお、前述した工程については説明を省略する。
【００８３】
洗浄温度設定工程Ｓ１に引き続き行われる反応容器洗浄液入れ洗浄工程Ｓ５０では、制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２及び反応ディスク５の各駆動機構、洗浄ポンプ、乾燥ポンプの各ユニット駆動機構を駆動し、反応部２２の洗浄・乾燥位置に停止した反応容器４を洗浄ユニット１１を用いた高温洗浄をさせる（ステップＳ５１）。
【００８４】
次に、制御部３２は、機構部３１の反応ディスク５の駆動機構を駆動し、高温洗浄を終えた反応容器４を１ピッチ移動させる。そして、高温洗浄を終えた反応容器４が反応部２２の第１或いは第２試薬吐出位置に停止したときに、機構部３１の試薬庫２或いは３、第１試薬分注アーム８或いは第２試薬分注アーム９の各駆動機構、第１或いは第２試薬ポンプの駆動機構を駆動して、試薬庫２或いは３に配置された洗浄液を収納した試薬ボトル７から洗浄液を吸引させて、第１及び第２試薬吐出位置の反応容器４に吐出させる（ステップＳ５２）。
【００８５】
そして、同様の動作を繰り返して全ての反応容器４に洗浄液を入れ終えた後、制御部３２は、例えば５〜１５分間の所定時間、反応容器４に洗浄液を入れて洗浄温度に保った状態で高温洗浄させる（ステップＳ５３）。
【００８６】
前記所定時間経過後、制御部３２は、機構部３１の洗浄ユニット１２及び反応ディスク５の各駆動機構、洗浄ポンプ、乾燥ポンプの各ユニット駆動機構を駆動して、洗浄ユニット１２に全ての反応容器４から洗浄液を吸引させると共に高温洗浄させる（ステップＳ５４）。そして、全ての反応容器４の高温洗浄が終了した時点で、反応容器洗浄液入れ洗浄工程Ｓ５０が終了する。
【００８７】
以上の反応容器４への洗浄液入れによる高温洗浄により、反応容器４の高温洗浄と同様の作用で、図６に示した反応容器４の高温洗浄動作による高温洗浄よりも強力に反応容器４の内壁に付着した汚れを落とすことができる。
【００８８】
以上述べた本発明の実施例によれば、被検試料及び試薬の混合液を測定温度に保持するための恒温部２３を使用して、測定温度よりも高い洗浄温度に上げた洗浄液を用いて反応容器４、サンプル分注プローブ、第１試薬分注プローブ、第２試薬分注プローブ、撹拌ユニット１１の撹拌子などを高温洗浄することにより、これらのユニットに付着した汚れを強力に洗い落とすことができるので、分析データの測定精度の向上を図ることができる。
【００８９】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、表示部５２の高温洗浄条件設定画面５３から複数の洗浄条件を選択設定して、反応容器４、サンプル分注プローブ１６、第１試薬分注プローブ１４、第２試薬分注プローブ１５、及び撹拌ユニット１１の撹拌子の中から複数のユニットを高温洗浄させるように実施してもよい。
【００９０】
このように、複数のユニットを同時に選択設定して高温洗浄させることにより、各ユニットを個々に選択設定して高温洗浄させるよりも共通の洗浄工程を減らすことができ洗浄時間を短縮することができる。
【００９１】
また、反応部２２に洗浄液を分注する洗浄液分注部を設け、反応容器４、サンプル分注プローブ１６、第１試薬分注プローブ１４、第２試薬分注プローブ１５、及び撹拌ユニット１１の撹拌子を高温洗浄するための洗浄液を洗浄液分注部から反応容器４に分注させて実施するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の実施例に係る自動分析装置の構成を示すブロック図。
【図２】本発明の実施例に係る分析部の構成を示す図。
【図３】本発明の実施例に係る恒温部の構成を示す図。
【図４】本発明の実施例に係る高温洗浄条件設定画面の一例を示す図。
【図５】本発明の実施例に係る高温洗浄工程を示す図。
【図６】本発明の実施例に係る反応容器の高温洗浄動作を示すフローチャート。
【図７】本発明の実施例に係るサンプル分注プローブの高温洗浄動作を示すフローチャート。
【図８】本発明の実施例に係る試薬分注プローブの高温洗浄動作を示すフローチャート。
【図９】本発明の実施例に係る撹拌子の高温洗浄動作を示すフローチャート。
【図１０】本発明の実施例に係る反応容器の洗浄液入れ高温洗浄動作を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００９３】
１９  分析部
２０  サンプル部
２１  試薬部
２２  反応部
２３  恒温部
３０  分析制御部
３１  機構部
３２  制御部
４０  分析データ処理部
４１  演算部
４２  記憶部
５０  出力部
５１  印刷部
５２  表示部
６０  操作部
７０  システム制御部
１００  自動分析装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2007047027.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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