(57)【要約】【課題】ラビング処理において、異物付着を防止し、さらにラビングローラの毛並みを整えることにより、配向不良の発生を抑える電気光学装置を提供する。【解決手段】電気光学装置１は、素子基板１０と対向基板２０の間に液晶３０を封入して構成される。素子基板１０は、基板上の表示領域２３の外側の領域に設けられた溝部５０を有する。溝部５０は、長手方向の軸が配向膜のラビング処理によるラビング方向に対して所定の角度θ１をなして形成された複数の溝からなる。【選択図】図３
2007079211.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板の間に液晶を封入して構成される電気光学装置であって、
少なくとも一方の基板上の表示領域の外側の領域に設けられ、長手方向の軸が配向膜のラビング処理によるラビング方向に対して所定の角度をなして形成された複数の溝からなる溝部を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記表示領域は、前記一方の基板を平面視したときに、矩形形状を有し、
前記溝部は、前記矩形形状の前記表示領域の一辺に沿って形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記表示領域は、前記一方の基板を平面視したときに、矩形形状を有し、
前記溝部は、前記矩形形状の前記表示領域の、隣り合う二辺に沿って形成されていることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記溝部は、前記溝部の両端を通り、かつ互いに平行な所定の方向における２本の仮想線の間に、前記表示領域の全てが含まれるように形成されていることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１つに記載の電気光学装置を有する電子機器。
【請求項６】
２枚の基板の間に液晶を封入して構成される電気光学装置の製造方法であって、
少なくとも一方の基板表面をラビング処理する際に、前記基板上の表示領域の外側の領域に形成された複数の溝からなる溝部をラビングローラにより擦った後に、前記溝部を擦った前記ラビングローラの部分が、前記表示領域を擦るようにラビング処理を行う工程を有し、
前記ラビング処理による前記配向膜のラビング方向は、前記複数の溝の各長手方向の軸に対して所定の角度を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電子機器及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。画像表示装置としての液晶装置では、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ。以下、ＴＦＴという）等の能動素子をマトリックス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置する。両基板間に封止された液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化されることによって、画像表示が行われる。
【０００３】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して配置される対向基板とは、別々に製造され、組み立てられるが、各基板の製造工程において、夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面上、すなわち対向基板およびＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでその配向膜に対してラビング処理が行われる。
【０００４】
ラビング処理は、ラビングクロスが周囲に設けられた円筒形状のラビングローラを、基板表面に形成された配向膜に回転させながら接触させて、配向膜上に細かな溝を形成することによって、配向膜を配向異方性膜にするための処理である。
【０００５】
このようなラビング処理においては、製造過程で配向膜表面に付着した異物による配向不良の問題があった。すなわち、異物が配向膜上に付着した状態でラビング処理を行うと、異物によってラビング処理が適切に行われず、結果として基板上への異物の付着及び液晶分子の配向不良が生じてしまう。そのような異物付着等の問題を解決するために、電極パッド部をチャック治具により覆ってラビング処理を行う技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平7-199191号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上述した提案に係る方法では、ラビング処理を行う工程において、チャック治具を配置し、そのチャック治具の位置、動作制御等を行わなければならず、ラビング処理工程が複雑になるという問題がある。
【０００７】
また、ＴＦＴ基板上には、電極端子としての電極パッドが複数形成されているため、ラビング処理において、ラビングローラの表面のラビング布の毛先が、電極パッドに当たるため、毛並みが乱れる場合がある。また、ラビングローラが基板の角に当たった部分においても、毛並みが乱れてしまう場合もある。このような毛並みが乱れた状態のラビングローラでラビングを行うと、配向膜表面が均一にラビングされず、やはり配向不良の問題が生じる。
【０００８】
本発明は、このような問題に鑑みて成されたものであり、電気光学装置の製造工程におけるラビング処理において、異物付着を防止し、さらにラビングローラの毛並みを整えることにより、配向不良の発生を抑えることができる電気光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の電気光学装置は、２枚の基板の間に液晶を封入して構成される電気光学装置であって、少なくとも一方の基板上の表示領域の外側の領域に設けられ、長手方向の軸が配向膜のラビング処理によるラビング方向に対して所定の角度をなして形成された複数の溝からなる溝部を有する。
【００１０】
このような構成によれば、ラビング処理において、異物付着を防止し、さらにラビングローラの毛並みを整えることにより、配向不良の発生を抑えることができる電気光学装置を提供することができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置において、前記表示領域は、前記一方の基板を平面視したときに、矩形形状を有し、前記溝部は、前記矩形形状の前記表示領域の一辺に沿って形成されていることが望ましい。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置において、前記表示領域は、前記一方の基板を平面視したときに、矩形形状を有し、前記溝部は、前記矩形形状の前記表示領域の、隣り合う二辺に沿って形成されていることが望ましい。
【００１３】
このような構成によれば、ラビング処理において、ラビング布への異物付着防止と、ラビングローラの毛並みを整えることを、表示領域の一辺又は二辺に溝部を設けるという簡単な構成により、容易に行うことができる。
【００１４】
また、前記溝部は、前記溝部の両端を通り、かつ互いに平行な所定の方向における２本の仮想線の間に、前記表示領域の全てが含まれるように形成されていることが望ましい。
【００１５】
このような構成によれば、表示領域の全部に渡って、配向不良の発生を抑えることができる。
【００１６】
また、本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を有することが望ましい。
【００１７】
このような構成によれば、画質のよい電子機器を実現することができる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、２枚の基板の間に液晶を封入して構成される電気光学装置の製造方法であって、少なくとも一方の基板表面をラビング処理する際に、前記基板上の表示領域の外側の領域に形成された複数の溝からなる溝部をラビングローラにより擦った後に、前記溝部を擦った前記ラビングローラの部分が、前記表示領域を擦るようにラビング処理を行う工程を有し、前記ラビング処理による前記配向膜のラビング方向は、前記複数の溝の各長手方向の軸に対して所定の角度を有する。
【００１９】
このような構成によれば、ラビング処理において、異物付着を防止し、さらにラビングローラの毛並みを整えることにより、配向不良の発生を抑えることができる電気光学装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明に用いた各図においては、各要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各構成要素毎に縮尺を異ならせてある。  
始めに、図１と図２を用いて電気光学装置としての液晶装置の構造について説明する。液晶装置1は、図１及び図２に示すように、ＴＦＴ基板などの素子基板１０と対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。図１は、液晶装置１の斜視図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´線に沿った液晶装置１の断面図である。
【００２１】
図２に示すように、対向基板２０には、表示領域を区画する遮光膜（額縁）としての遮光膜２１が設けられている。遮光膜２１は、例えば、図示しないＴＦＴのチャネル領域、ソース領域、及びドレイン領域に対向基板２０側から光が入射されるのを防止するための遮光膜（図示せず）と、同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
【００２２】
液晶３０を封入するシール材２２が、液晶装置用基板１０と対向基板２０との間に形成されている。シール材２２は、対向基板２０の輪郭形状に略一致するように配置され、素子基板１０と対向基板２０とを相互に固着する。シール材２２は、素子基板１０の１辺の一部において欠落しており、貼り合わされた素子基板１０及び対向基板２０の相互の間隙には、液晶３０を封入するための液晶封入口（図示せず）が形成される。その液晶封入口より液晶３０が封入された後、液晶封入口を封止材で封止するようになっている。図１において、額縁としての遮光膜２１によって囲まれた表示領域２３に、画像が表示される。表示領域２３は、素子基板１０を平面視したときに、矩形形状を有する。
【００２３】
実装端子としての複数の電極パッド（以下、単にパッドという）１１が、素子基板１０の一辺に沿って、素子基板１０のシール材２２の外側の領域に設けられている。さらに、素子基板１０のシール材２２の外側の領域には、データ線駆動回路及び走査線駆動回路（図示せず）が設けられている。
【００２４】
そして、素子基板１０上には、一列に設けられた複数のパッド１１と並んで、溝部５０が設けられている。溝部５０は、複数の溝を有し、後述するように、ラビングローラのラビング布の毛先がその溝に入り込むことによって、異物の掻き取りと、ラビング布の毛並みを整える機能を果たす。
【００２５】
図３は、素子基板１０の表面のラビング処理を説明するための図である。図３に示すように、素子基板１０の配向膜表面に対して、ラビングローラ１０１が回転しながら擦るように移動する。配向膜表面にラビング処理を施すことによって、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例えばポリイミド（ＰＩ）を約数十ナノメーターの厚さで塗布することにより形成される。
【００２６】
ラビングロール１０１は周面にレーヨンのラビング布が設けられている。ラビングロール１０１を矢印で示す方向に回転させながら素子基板１０を搬送させて、ラビングロール１０１の回転及び素子基板１０の搬送によって、ラビング布で基板全面を擦ってラビング処理を行う。ラビング布の表面では、レーヨンの毛先が例えば１．０〜２．０ｍｍ程度伸びている。
【００２７】
ラビング処理のとき、素子基板１０の表面の表示領域の外側の領域に設けられた溝部５０によって、異物が掻き取られ、かつラビング布の毛並みが揃えられた後に、表示領域２３の表面の配向膜に対してラビング処理が施される。その結果、表示領域２３における配向膜の配向不良の発生が抑えられる。本実施の形態では、表示領域２３の対角線の長さは、１．３〜１．８ｃｍ程度である。
【００２８】
より具体的に、図３を説明する。図３において、素子基板１０の配向膜が形成される側の表面には、金属製の複数のパッド１１が、基板表面から突出するように設けられている。溝部５０は、表示領域２３と、複数のパッド１１の間に配設される。溝部５０は、素子基板１０の表面に形成された複数の溝５１から構成されている。複数の溝５１の構成については後述する。
【００２９】
一方、ラビングローラ１０１は、ラビングクロスが周囲に設けられた円筒形状を有する。そのラビングローラ１０１は、ローラ軸１０１ａの周りに回転しながら接触して、素子基板１０の表面、すなわち配向膜を擦るようにして移動する。これにより、配向膜上に細かな溝が形成されることによって、配向膜が配向異方性膜となる。図３の場合、ラビング方向Ｌは、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍと同じである。
【００３０】
従って、ラビングローラ１０１が素子基板１０の配向膜をラビング処理するときは、ラビングローラ１０１は、基板表面上のパッド１１に接触した後に溝部５０に接触し、溝部５０を擦るように接触した後に表示領域２３を擦るように接触しながら、移動する。
【００３１】
溝部５０の、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍに直交する方向における長さd1は、表示領域２３の、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍに直交する方向における長さ（幅）Ｄ以上であるが、図３では、長さd1は長さDと略同じである。図３の場合は、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍは、矩形の表示領域２３の二辺２３ａと平行であるので、溝部５０は、その二辺２３ａに直交する他の二辺２３ｂの長さ以上の長さd1を有していればよい。  
また、溝部５０の、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍにおける長さ（幅）d2は、直線状に並んだパッド１１から矩形の表示領域２３の縁部までの距離以下の長さである。
【００３２】
次に、図４と図５を用いて、溝部５０の構成についてより詳細に説明する。図４は、溝部５０の部分拡大図である。図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。図４に示すように、素子基板１０上において、複数のパッド１１と表示領域２３の間に溝部５０が設けられており、溝部５０は、素子基板１０上に形成された直線状の複数の溝５１からなる。各溝５１は、素子基板１０の絶縁膜６０上に形成されている。絶縁膜の下には、例えば駆動回路などの回路要素、配線等が形成されている。各溝５１は、細長い、直線状の溝であり、溝の長手方向の軸（以下、長手軸という）ＧＬが、ラビング方向Ｌと平行ではない、所定の角度θ１を成すように形成されている。その角度θ１は、ラビング方向Ｌに対して、９０度未満の角度であって、好ましくは、１０度から４５度である。
【００３３】
一列に並んだ複数のパッド１１は、矩形、ここでは正方形であり、各パッドの一辺の長さd3は、１５０μｍである。各パッド１１の表示領域２３側の辺から表示領域２３の一辺の縁部までの距離d4は、例えば１〜２ｍｍである。
【００３４】
従って、溝部５０は、直線状に並んだパッド１１と矩形の表示領域２３の縁部との間に、距離d4以下の幅d2（１〜２ｍｍ）に渡って設けられる。
【００３５】
また、溝５１の長手軸ＧＬに直交する方向における幅d5は、例えば、５〜１０μｍである。溝５１のピッチd6は、表示領域２３の画素ピッチと同じ１０〜２０μｍである。
【００３６】
図５は、溝５１の長手軸ＧＬに直交する平面における断面図である。溝５１は、素子基板１０の表面の絶縁膜６０上に形成される。溝５１は、フォトレジストを用いたドライエッチ、あるいはウエットエッチを含むドライエッチにより形成される。溝５１は、表面からの深さd7が、５０〜５００ｎｍである。
【００３７】
なお、図５において点線で示すように、基板表面に対して直交する溝の深さ方向に対して、所定の角度θ２を有するテーパ部５２を、溝５１の、基板表面側に設けるようにしてもよい。その場合、角度θ２は、例えば３０度である。
【００３８】
以上説明したような溝部５０は、素子基板１０に付着した異物の掻き取りを行う機能と、ラビングローラ１０１の毛並みを揃える機能とを有する基板上の領域である。
【００３９】
以下、ラビング処理時の溝部５０の作用は、次の通りである。  
ラビング処理を行う場合、素子基板１０の表示領域２３がラビング処理される前に、ラビングローラ１０１は、パッド１１に接触する。そのため、ラビングローラ１０１のラビング布の毛先は乱れる。ラビング布の毛先が乱れた状態のラビングローラ１０１は、次に、溝部５０を擦るように接触する。溝部５０を擦りながらラビングローラ１０１が移動すると、ラビング布の毛先は、ラビング方向Ｌに対して斜めに形成された、溝部５０の各溝５１の中に入り込んで、あたかも人の髪の毛が櫛で解かされるように、毛先の方向が整えられる。
【００４０】
すなわち、ラビングローラ１０１が回転しながら溝部５０を擦りながら通過するので、ラビング布の毛先は、溝５１の中に何度も入り込むので、その結果、溝部５０を通過した後のラビング布の毛先は整えられる。
【００４１】
また、溝の長手軸ＧＬが、ラビング方向Ｌに対して所定の角度θ１を成しているので、毛先に付着した異物も、溝５１の表面と側壁のなす縁部に接触したときに、毛先から掻き落とされる。
【００４２】
このように、溝部５０は、表示領域２３のラビングがされる前の領域に設けられて、溝部５０によって毛先の異物が除去され、かつ毛並みが揃えられる。その後、ラビング布が、表示領域２３をラビングする。よって、表示領域２３の配向膜において配向不良の発生が抑えられる。
【００４３】
特に、溝部５０の、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍに直交する方向における長さd1は、表示領域２３の、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍに直交する方向における長さDと略同じである。言い換えると、溝部５０は、溝部５０の両端を通り、かつ互いに平行な所定の方向における２本の仮想線ＶＡの間に、表示領域２３の全てが含まれるように形成されている。その結果、溝部５０は、ラビング処理において、溝部５０を擦ったラビング布の部分が表示領域２３の全てをラビングするような長さを有するので、表示領域２３の全部の領域の配向不良の発生を抑えることができる。
【００４４】
なお、上述した図３の例では、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍと表示領域２３の対向する２辺が平行であったため、溝部５０の長さd1は、対向する２辺に直交する方向の幅Ｄと略同じであった。しかし、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍが、表示領域２３のその対向する２辺に対して所定の角度θ３を成している場合は、溝部５０の長さd1'は、ラビングローラ１０１の表示領域２３に接触する範囲d8に対応する長さとなる。図６は、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍが、表示領域２３のその対向する２辺に対して所定の角度θ３を成している場合のラビング処理を説明するための図である。図６では、d8＝d1'×cosθ３の関係を満たす長さd1'を、溝部５０は有する。
【００４５】
言い換えると、溝部５０は、ラビングローラ１０１の表示領域２３を擦る範囲d8のラビング布が、その複数の溝５１によって毛先が整えられるように、素子基板１０上を通過する範囲（長さd1（＝D）、あるいは長さd1'）に渡って、素子基板１０の表面に複数の溝５１を有する。図６の場合は、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍが、表示領域２３のその対向する２辺に対して所定の角度θ３を成しており、溝部５０の長手軸方向において、素子基板１０に溝部５０を形成する余裕があるため、溝部５０の長さを長くしている。
【００４６】
なお、図７に示すように、表示領域２３の２辺に沿って溝部５０AをL字状に形成してもよい。図７は、表示領域２３の２辺に沿って溝部５０AがL字状に形成されている素子基板を説明するための図である。図７の場合も、溝部５０Aは、ラビングローラ１０１の表示領域２３を擦る範囲d9のラビング布が、その複数の溝５１によって毛先が整えられるように、素子基板１０上を通過する範囲（長さd1''）に渡って、素子基板１０の表面に複数の溝５１を有する。また、図７の場合においても、各溝５１は、長手軸ＧＬがラビング方向Ｌに対して所定の角度を成すように形成されている。
【００４７】
以上のように、少なくとも表示領域２３を擦る範囲のラビング布の毛先だけが、溝部５０、５０Ａを通過すれば、表示領域２３は、異物が落とされ、かつ毛並みの揃ったラビング布によって擦られる。すなわち、表示領域２３をラビングする範囲のラビング布の毛先は、少なくとも溝部５０，５０Ａを擦りながら通過するようにすることによって、表示領域２３の配向不良の発生を、溝部５０を設けるという簡単な構成により、容易に抑えることができる。
【００４８】
図６及び図７の場合も、溝部５０及び５０Ａは、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍに直交する方向において、溝部５０及び５０Ａを擦ったラビング布の部分が表示領域２３の全てをラビングするような長さを有する。言い換えると、溝部５０及び５０Ａは、溝部５０及び５０Ａの両端を通り、かつ互いに平行な所定の方向における２本の仮想線ＶＡ１及びＶＡ２の間に、表示領域２３の全てが含まれるように形成されている。その結果、溝部５０及び５０Ａは、ラビング処理において、溝部５０及び５０Ａを擦ったラビング布の部分が表示領域２３の全てをラビングするような長さを有するので、表示領域２３の全部の領域の配向不良の発生を抑えることができる。
【００４９】
なお、図３に点線で示すように、複数のパッド１１ａは、表示領域２３の溝部５０がある辺とは異なる辺に沿って設けるようにしてもよい。図３において、複数のパッド１１ａは、ラビングローラ１０１の表示領域２３を擦る範囲d1外に設けられている。これにより、ラビングローラ１０１がパッドに当たって、毛並みが乱れる領域が、表示領域２３を擦らないので、表示領域２３の配向不良の発生をより抑えることができる。
【００５０】
さらに、上述した例のラビング方法においては、ラビング方向Ｌと、ラビングローラ１０１の移動方向Ｍが同じ場合であるが、ラビング方向Ｌと移動方向Ｍが異なる、所謂斜めラビング方法においても、本実施の形態のラビング方法は適用可能である。その場合も、ラビング方向Ｌと移動方向Ｍが異なっていても、溝の長手軸ＧＬの方向が、ラビング方向Ｌに対して、０度でない所定の角度θ１を有するように、溝部の各溝が形成される。
【００５１】
さらになお、上述した例では、素子基板１０の配向膜に対するラビング処理を説明したが、本実施の形態に係る溝部を対向基板２０に設けて、そのような対向基板２０に対して上述したようなラビング処理を行うようにしてもよい。
【００５２】
また、溝部の各溝の形状は、平面視したときの形状は、図８に示すような形状でもよい。図８は、各溝の形状の他の例を示す図である。図８（ａ）は、ラビング方向Lに対して、図３の溝５１とは逆方向に斜めに傾いている角度を有し、平面視したときに直線状である溝５１ａからなる溝部５０ａを示す。
【００５３】
図８（ｂ）は、ラビング方向Lに対して、図３の溝５１と同じ方向に傾いている角度を有しているが、平面視したときに、ややＳ字形状に曲がっている溝５１ｂからなる溝部５０ｂを示す。ここでも、溝５１ｂは、図３の溝５１と逆方向に傾いていてもよい。図８（ｂ）の場合、ここでは所定の角度は、溝５１ｂの両端部を結んだ線（長手軸ＧＬ）の、ラビング方向Lに対する角度である。
【００５４】
図８（ｃ）は、ラビング方向Lに対して、図３の溝５１と同じ方向に傾いている角度を有しているが、平面視したときに、直線状の部分５０ｃ１と曲線状の部分５０ｃ２からなる溝５１ｃからなる溝部５０ｃを示す。ここでも、溝５１ｃの曲線部５０ｃ２は、図３の溝５１と逆方向に傾いていてもよい。図８（ｃ）の場合、ここでは所定の角度は、溝５１ｃの両端部を結んだ線（長手軸ＧＬ）の、ラビング方向Lに対する角度である。
【００５５】
さらにまた、各溝は、基板表面に直交する断面の形状が三角波の溝でもよい。図９は、基板表面に直交する断面の形状が三角波の溝部の部分平面図である。図１０は、図９のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。図９に示すように、各溝の断面形状がＶ字形状であっても、ラビング布の毛先は、ラビング方向Ｌに対して斜めに形成された、溝部５０Ｂの各溝５１ｄの中に入り込んで、あたかも人の髪の毛が櫛で解かされるように、毛先の方向が整えられる。
【００５６】
また、本実施の形態の電気光学装置は、アクティブマトリクス型の液晶表示装置（例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）だけでなく、パッシブマトリクス型の液晶表示装置やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示装置にも同様に適用することが可能である。
【００５７】
次に、以上詳細に説明した電気光学装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図１１は、投射型カラー表示装置の説明図である。
【００５８】
図１１において、本実施形態における投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ１１００は、駆動回路がＴＦＴアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを３個用意し、それぞれＲＧＢ用のライトパルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ１１００では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット１１０２から投射光が発せられると、３枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロックミラー１１０８によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ、Ｇ及びＢに分けられ、各色に対応するライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂにそれぞれ導かれる。この際特に、Ｂ光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ１１２２、リレーレンズ１１２３及び出射レンズ１１２４からなるリレーレンズ系１１２１を介して導かれる。そして、ライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム１１１２により再度合成された後、投射レンズ１１１４を介してスクリーン１１２０にカラー画像として投射される。そして、投射されたカラー画像は、配向不良の少ない液晶装置によって形成されるので、画質のよいカラー画像となる。
【００５９】
なお、本発明に係る電気光学装置が適用できる電子機器としては、投射型カラー表示装置（プロジェクタ）の他に、携帯電話、PDA(Personal Digital Assistants(携帯情報端末)、携帯型パーソナルコンピュータ、デジタルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、絵気相テレビ、ビューファインダ型もしくは直視型ビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末機等がある。
【００６０】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施の形態に係わる液晶装置の斜視図。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線に沿った液晶装置１の断面図。
【図３】素子基板の表面のラビング処理を説明するための図。
【図４】溝部の部分拡大図。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図。
【図６】素子基板の表面のラビング処理を説明するための図。
【図７】溝部がL字状に形成されている素子基板を説明するための図。
【図８】各溝の形状の他の例を示す図。
【図９】基板表面に直交する断面の形状が三角波の溝部の部分平面図。
【図１０】図９のＸ−Ｘ線に沿った断面図。
【図１１】投射型カラー表示装置の説明図。
【符号の説明】
【００６２】
１  液晶装置、１０  素子基板、１１  パッド、２０  対向基板、２１  遮光膜、２２  シール材、２３  表示領域、３０  液晶、５０、５０Ａ、５０ａ、５０ｂ、５０ｃ  溝部、５１、５１ａ、５１ｂ、５１ｃ  溝、１０１  ラビングローラ、１１００  液晶プロジェクタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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