(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、３次元的に屈折率が制御された薄型の複屈折フィルムを提供することである。【解決手段】屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種含む、複屈折フィルム。（ここで、Ｍは、対イオンを表す。）このような複屈折フィルムは、高い面内の複屈折率を示すため、従来の複屈折フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所望の位相差値を得ることができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種含む、複屈折フィルム。
（ここで、Ｍは、対イオンを表す。）
【請求項２】
前記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎ［５９０］）が、０．０５以上である、請求項１に記載の複屈折フィルム。
【請求項３】
前記複屈折フィルムの厚みが、０．０５μｍ〜１０μｍである、請求項１又は２に記載の複屈折フィルム。
【請求項４】
前記複屈折フィルムが、下記一般式（Ｉ）で表されるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体を含む、請求項１から３までのいずれかに記載の複屈折フィルム。
（式中、ｉ、ｊ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｍはそれぞれ同一でも異なっていても良い対イオンを表す。ただし、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。）
【化１】
2007316592.tif 000013
【請求項５】
前記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである、請求項１から４までのいずれかに記載の複屈折フィルム。
【請求項６】
前記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）と厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）との差が、１０ｎｍ〜８００ｎｍである、請求項１から５までのいずれかに記載の複屈折フィルム。
【請求項７】
前記複屈折フィルムのＮｚ係数が、０を超え１未満である、請求項１から６までのいずれかに記載の複屈折フィルム。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれかに記載の複屈折フィルムと基材とを少なくとも備える、積層フィルム。
【請求項９】
次の（１）〜（３）の工程を含む、複屈折フィルムの製造方法：
（１）−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種（Ｍは、対イオンを表す）と、溶媒とを含有し、ネマチック液晶相を示す溶液を調製する工程、
（２）少なくとも一方の表面が、親水化処理された基材を準備する工程、
（３）上記工程（２）で準備した基材の親水化処理された表面に、上記工程（１）で調製した溶液を塗工し、乾燥させる工程。
【請求項１０】
前記親水化処理は、コロナ処理、プラズマ処理、アルカリ処理、又はアンカーコート処理である、請求項９に記載の複屈折フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記基材が、ガラス基板又は高分子フィルムである、請求項９又は１０に記載の複屈折フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜７までのいずれかに記載の複屈折フィルムと、偏光子とを少なくとも備える、偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種含み、３次元的に屈折率が制御された、薄型の複屈折フィルム、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（以下、ＬＣＤ）は、液晶分子の電気光学特性を利用して、文字や画像を表示する素子であり、携帯電話やノートパソコン、液晶テレビ等に広く普及している。しかし、ＬＣＤは、光学異方性を持った液晶分子を利用するため、ある一方向には優れた表示特性を示していても、他の方向では、画面が暗くなったり、不鮮明になったりするといった課題がある。複屈折フィルムは、このような課題を解決するために、ＬＣＤに広く採用されている。従来、複屈折フィルムの一つとして、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足するものが開示されている（例えば、特許文献１参照）。このような屈折率の関係を有する複屈折フィルムは、高分子フィルムの両側に収縮性フィルムを貼着して、厚み方向に膨張するように延伸して作製される。このため、従来の複屈折フィルムは、分厚くなり易く、液晶ディスプレイの薄型化を困難にする原因となっていた。このためかかる課題の解決が望まれていた。
【特許文献１】特開２００６−０７２３０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、３次元的に屈折率が制御された薄型の複屈折フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意検討した。その結果、以下に示す複屈折フィルムにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
本発明の複屈折フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種含む。（ここで、Ｍは、対イオンを表す。）
【０００６】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎ［５９０］）が、０．０５以上である。
【０００７】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムの厚みが、０．０５μｍ〜１０μｍである。
【０００８】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムが、下記一般式（Ｉ）で表されるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体を含む。
（式中、ｉ、ｊ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｍはそれぞれ同一でも異なっていても良い対イオンを表す。ただし、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。）
【化１】
2007316592.tif 000002
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）が、２０ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）と厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）との差が、１０ｎｍ〜８００ｎｍである。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記複屈折フィルムのＮｚ係数が、０を超え１未満である。
【００１２】
本発明の別の局面によれば、積層フィルムが提供される。この積層フィルムは、上記複屈折フィルムと基材とを少なくとも備える。
【００１３】
本発明の別の局面によれば、複屈折フィルムの製造方法が提供される。この製造方法は、次の（１）〜（３）の工程を含む、：
（１）−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種（Ｍは、対イオンを表す）と、溶媒とを含有し、ネマチック液晶相を示す溶液を調製する工程、
（２）少なくとも一方の表面が、親水化処理された基材を準備する工程、
（３）上記工程（２）で準備した基材の親水化処理された表面に、上記工程（１）で調製した溶液を塗工し、乾燥させる工程。
【００１４】
好ましい実施形態においては、上記親水化処理は、コロナ処理、プラズマ処理、アルカリ処理、又はアンカーコート処理である。
【００１５】
好ましい実施形態においては、上記基材が、ガラス基板又は高分子フィルムである。
【００１６】
本発明の別の局面によれば、偏光板が提供される。上記偏光板は、上記複屈折フィルムと、偏光子とを少なくとも備える。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の複屈折フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、且つ、高い面内の複屈折率を示すため、従来の複屈折フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所望の位相差値を得ることができる。また、本発明の複屈折フィルムの製造方法は、基材に塗工して乾燥するという生産性に優れた方法で、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、薄型の複屈折フィルムを作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
〔Ａ．本発明の複屈折フィルムの概要〕
本発明の複屈折フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足する。また、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を含む、少なくとも１種の多環式化合物から形成されてなる。すなわち、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種含む。ここで、Ｍは、対イオンを表す。上記−ＳＯ３Ｍ基は、スルホン酸基又はスルホン酸塩を表し、上記−ＣＯＯＭ基は、カルボン酸基又はカルボン酸塩を表す。
【００１９】
本明細書において「複屈折フィルム」とは、面内及び／又は厚み方向に複屈折を示すものをいい、波長５９０ｎｍにおける面内及び／又は厚み方向の複屈折率が、１×１０−４以上であるものを包含する。「ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ」とは、複屈折フィルムの面内において屈折率の最大となる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘ、面内において遅相軸方向と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとした場合の複屈折フィルムの光学的な異方性を表す。
【００２０】
上記多環式化合物は、分子構造中に、芳香環及び／又は複素環を２以上有する有機化合物であり、好ましくは芳香環及び／又は複素環を３個〜８個有する有機化合物であり、さらに好ましくは芳香環及び／又は複素環を４個〜６個有する有機化合物である。上記のような多環式化合物であれば、可視光の領域で吸収がないか又は小さい、透明な複屈折フィルムを得ることができる。
【００２１】
このような複屈折フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、且つ、高い面内の複屈折率を示すため、従来の複屈折フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所望の位相差値を得ることができる。本発明者等の推定によれば、本発明の複屈折フィルムが、高い複屈折性を示す理由は、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を含む多環式化合物が、溶液中で、会合体を形成し易く、この会合体を形成した状態の秩序性が高いために、かかる溶液から形成されたフィルムも高い配向性を示すものと考えられる。本発明において、多環式化合物に含まれる−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基の、複屈折フィルムに及ぼす作用は、１つは多環式化合物の溶媒に対する溶解性を向上させ、ソルベントキャスティング法による成膜を可能にすることであり、もう１つは、３次元的に屈折率を制御し、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足する屈折率楕円体を得ることである。
【００２２】
本発明の複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の複屈折率（Δｎ［５９０］＝ｎｘ−ｎｙ）は、好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．１〜０．５であり、特に好ましくは０．２〜０．４である。なお、上記Δｎ［５９０］は、多環式化合物の分子構造により、上記範囲に、適宜、調整することができる。従来、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、且つ、Δｎ［５９０］が０．０５以上である複屈折フィルムは得られていなかった。本発明によれば、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を含む多環式化合物を用いることによって、このような特性を満足する複屈折フィルムを初めて得ることができる。
【００２３】
上記複屈折フィルムの厚みは、好ましくは０．０５μｍ〜１０μｍであり、さらに好ましくは０．１μｍ〜８μｍであり、特に好ましくは０．１μｍ〜６μｍである。上記範囲の厚みとすることによって、例えば、液晶表示装置に用いた場合に、表示特性の改善に有用な位相差値の範囲を得ることができる。
【００２４】
〔Ｂ．多環式化合物〕
本発明に用いられる多環式化合物は、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有するものであれば、任意の適切な多環式化合物が用いられ得る。上記多環式化合物は、好ましくは、溶液状態で液晶相を呈すものである（すなわち、リオトロピック液晶）。上記液晶相は、配向性に優れるという点で、好ましくは、ネマチック液晶相である。
【００２５】
上記複屈折フィルムは、好ましくは、多環式化合物として、下記一般式（Ｉ）で表されるアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体を含む。式中、ｉ、ｊ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｍはそれぞれ同一でも異なっていても良い対イオンを表す。ただし、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。上記複屈折フィルムは、上記一般式（Ｉ）で表される多環式化合物であって、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基の置換位置が異なるものを、２種類以上含んだ組成物から形成されていてもよい。
【００２６】
【化２】
2007316592.tif 000003
【００２７】
このような多環式化合物は、溶液中で、安定な液晶相を形成することができ、溶液からのソルベントキャスティング法によって、高い面内の複屈折率を有し、可視光の領域で吸収がないか又は小さい、透明な複屈折フィルムを作製することができる。
【００２８】
上記一般式（Ｉ）中、Ｍは、対イオンであり、好ましくは、水素イオン（水素原子）、Ｎａ＋、Ｋ＋などのアルカリ金属イオン（アルカリ金属原子）、アルカリ土類金属イオン（アルカリ土類金属原子）、その他の金属イオン（その他の金属原子）、又は置換若しくは無置換のアンモニウムイオンである。上記その他の金属イオンとしては、例えば、Ｎｉ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｕ２＋、Ａｇ＋、Ｚｎ２＋、Ａｌ３＋、Ｐｄ２＋、Ｃｄ２＋、Ｓｎ２＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｅ３＋等が挙げられる。例えば、本発明の複屈折フィルムが水溶液から形成される場合、上記Ｍは、当初、水への溶解性を向上させる基を選択しておき、成膜後は、フィルムの耐水性を高めるために、水に不溶性又は難溶性の基に置換することもできる。
【００２９】
上記アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体は、以下のように、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンカルボン酸誘導体を、硫酸、発煙硫酸、又はクロロスルホン酸でスルホン化することによって得ることができる。
【００３０】
【化３】
2007316592.tif 000004
【００３１】
式中、ｉ、ｊ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｍはそれぞれ同一でも異なっていても良い対イオンを表す。ただし、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。
【００３２】
あるいは、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン誘導体は、以下のように、ベンゼン−１，２−ジアミンのスルホ及び／又はカルボキシ誘導体と、アセナフトキノンのスルホ及び／又はカルボキシ誘導体とを縮合反応させて得ることもできる。
【００３３】
【化４】
2007316592.tif 000005
式中、ｉ、ｊ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して０〜４の整数であり、ｍ、ｎはそれぞれ独立して０〜６の整数であり、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｍはそれぞれ同一でも異なっていても良い対イオンを表す。ただし、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、及びｎは、同時に０ではない。
【００３４】
〔Ｃ．複屈折フィルムの諸物性〕
上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける透過率は、好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【００３５】
上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）は、目的に応じて、適切な値に設定され得る。上記Ｒｅ［５９０］は、１０ｎｍ以上であり、好ましくは２０ｎｍ〜１０００ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、特に好ましくは１００ｎｍ〜４００ｎｍである。本明細書において、面内の位相差値（Ｒｅ［λ］）は、２３℃で波長λ（ｎｍ）における面内の位相差値をいう。Ｒｅ［λ］は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ［λ］＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求めることができる。
【００３６】
上記複屈折フィルムのＲｔｈ［５９０］は、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足する範囲で、適切な値に設定され得る。上記複屈折フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内の位相差値（Ｒｅ［５９０］）と厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［５９０］）との差は、好ましくは１０ｎｍ〜８００ｎｍであり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜４００ｎｍであり、特に好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍである。本明細書において、厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ［λ］）は、２３℃で波長λ（ｎｍ）における厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ［λ］は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ［λ］＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求めることができる。
【００３７】
上記複屈折フィルムのＮｚ係数は、好ましくは０を超え１未満であり、さらに好ましくは０．１〜０．８であり、特に好ましくは０．１〜０．７であり、最も好ましくは０．１〜０．６である。Ｎｚ係数が上記の範囲であれば、本発明の複屈折フィルムは、様々な駆動モードの液晶セルの光学補償に利用することができる。本明細書において、Ｎｚ係数とは、Ｒｔｈ［５９０］／Ｒｅ［５９０］から算出される値である。
【００３８】
上記複屈折フィルムの波長分散値（Ｄ）は、好ましくは１．０５以上であり、さらに好ましくは１．０６〜１．１５であり、最も好ましくは１．０７〜１．１２である。本明細書において、波長分散値（Ｄ）は、次式；Ｄ＝Ｒｅ［４８０］／Ｒｅ［５５０］から算出される値である。従来、高分子フィルムを延伸して作製した複屈折フィルムでは、このような急峻な波長依存性を示すものは得られていなかった。本発明の複屈折フィルムは、短波長の光で測定した位相差値が、長波長の光で測定した位相差値よりも十分に大きい。このように、急峻な位相差の波長依存性を示すことも、本発明の複屈折フィルムの特徴である。
【００３９】
〔Ｄ．複屈折フィルムの製法〕
１つの実施形態において、本発明の複屈折フィルムは、次の（１）〜（３）の工程を含む方法により作製される。
（１）−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物を少なくとも１種（Ｍは、対イオンを表す）と、溶媒とを含有し、ネマチック液晶相を示す溶液を調製する工程、
（２）少なくとも一方の表面が、親水化処理された基材を準備する工程、
（３）上記工程（２）で準備した基材の親水化処理された表面に、上記工程（１）で調製した溶液を塗工し、乾燥させる工程。
このような製法によれば、複屈折フィルムと基材とを少なくとも備える積層フィルムを得ることができる。
【００４０】
上記工程（１）で用いられる−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する多環式化合物（Ｍは、対イオンを表す）は、上述したものから適宜、適切なものが選択され得る。上記工程（１）において、上記溶液は、好ましくは、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基の置換位置の異なる２種類以上の多環式化合物を、溶媒に溶解して調製される。上記溶液に含まれる多環式化合物の種類は、不純物として微量に含まれるものを除いて、好ましくは２種類以上であり、さらに好ましくは２種類〜６種類であり、特に好ましくは２種類〜４種類である。
【００４１】
上記溶媒は、上記多環式化合物を溶解して、ネマチック液晶相を発現させるために用いられる。上記溶媒は、任意の適切なものが選択され得る。上記溶媒は、例えば、水などの無機溶剤であってもよいし、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、脂肪族および芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アミド類、セロソルブ類などの有機溶剤であってもよい。上記溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどが挙げられる。これらの溶媒は、単独で、又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００４２】
特に好ましくは、上記溶媒は、水である。上記水の電気伝導率は、好ましくは２０μＳ／ｃｍ以下であり、さらに好ましくは０．００１μＳ／ｃｍ〜１０μＳ／ｃｍであり、特に好ましくは０．０１μＳ／ｃｍ〜５μＳ／ｃｍである。上記水の電気伝導率の下限値は、０μＳ／ｃｍである。水の電気伝導率を上記の範囲とすることによって、高い面内の複屈折率を有する複屈折フィルムが得られ得る。
【００４３】
上記溶液の多環性化合物の濃度は、用いる多環式化合物の種類によって、ネマチック液晶相を示す範囲に適宜、調製され得る。上記溶液の多環性化合物の濃度は、好ましくは５重量％〜４０重量％であり、さらに好ましくは５重量％〜３５重量％であり、特に好ましくは５重量％〜３０重量％である。溶液の濃度を上記範囲とすることによって、該溶液は、安定な液晶状態を形成し得る。上記ネマチック液晶相は、偏光顕微鏡で観察される液晶相の光学模様によって、確認、識別することができる。
【００４４】
上記溶液は、任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、界面活性剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤などが挙げられる。上記添加剤の添加量は、好ましくは、溶液１００重量部に対して、０を超え１０重量部以下である。
【００４５】
上記溶液は、界面活性剤をさらに含有し得る。界面活性剤は、多環式化合物の基材表面へのぬれ性、塗工性を向上させるために使用される。上記界面活性剤は、好ましくは、非イオン界面活性剤である。上記界面活性剤の添加量は、好ましくは、溶液１００重量部に対して、０を超え５重量部以下である。
【００４６】
上記工程（２）における「親水化処理」とは、基材の水の接触角を低下させる処理をいう。上記親水化処理は、多環性化合物を塗工する基材表面のぬれ性、塗工性を向上させるために用いられる。上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、処理前に比べて、好ましくは１０％以上低下させる処理であり、さらに好ましくは１５％〜８０％低下させる処理であり、特に好ましくは２０％〜７０％低下させる処理である。なお、この低下させる割合（％）は、式；{（処理前の接触角−処理後の接触角）／処理前の接触角}×１００により求められる。
【００４７】
さらに、上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、処理前に比べて、好ましくは５°以上低下させる処理であり、さらに好ましくは、１０°〜６５°低下させる処理であり、特に好ましくは２０°〜６５°低下させる処理である。
【００４８】
さらに、上記親水化処理は、基材の２３℃における水の接触角を、好ましくは５°〜６０°とする処理であり、さらに好ましくは５°〜５０°とする処理であり、特に好ましくは５°〜４５°とする処理である。基材の水の接触角を上記範囲とすることによって、高い面内の複屈折率を示し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムが得られ得る。
【００４９】
上記親水化処理は、任意の適切な方法が採用され得る。上記親水化処理は、例えば、乾式処理でもよく、湿式処理でもよい。乾式処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、及びグロー放電処理などの放電処理、火炎処理、オゾン処理、ＵＶオゾン処理、紫外線処理および電子線処理などの電離活性線処理などが挙げられる。湿式処理としては、例えば、水やアセトンなどの溶媒を用いた超音波処理、アルカリ処理、アンカーコート処理などが挙げられる。これらの処理は、単独で用いてもよいし、２つ以上を組み合せて用いてもよい。
【００５０】
好ましくは、上記親水化処理は、コロナ処理、プラズマ処理、アルカリ処理、又はアンカーコート処理である。上記の親水化処理であれば、高い配向性を有し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムを得ることができる。上記親水化処理の条件、例えば、処理時間や強度などは、基材の水の接触角が上記の範囲となるように、適宜、適切に調整され得る。
【００５１】
上記コロナ処理は、代表的には、接地された誘電体ロールと絶縁された電極との間に高周波、高電圧を印加することにより、電極間の空気が絶縁破壊してイオン化し発生するコロナ放電内へ、基材を通過させることによって、基材表面を改質する処理である。上記プラズマ処理は、代表的には、低圧の不活性ガスや酸素、ハロゲンガスなど無機気体中でグロー放電を起こすと、気体分子の一部がイオン化して発生する低温プラズマ内へ、基材を通過させることによって、基材表面を改質する処理である。上記超音波洗浄処理は、代表的には、水や有機溶媒中に基材を浸漬させて超音波をあてることにより、基材表面の汚染物を除去し、基材のぬれ性を改善する処理である。上記アルカリ処理は、代表的には、塩基性物質を水又は有機溶剤に溶解したアルカリ処理液に、基材を浸漬することによって、基材表面を改質する処理である。上記アンカーコート処理は、代表的には、基材表面にアンカーコート剤を塗工する処理である。
【００５２】
本発明に用いられる基材は、上記多環性化合物と溶媒とを含有する溶液を、均一に流延するために用いられる。上記基材は、任意の適切なものが選択され得る。上記基材としては、例えば、ガラス基板、石英基板、高分子フィルム、プラスチックス基板、アルミや鉄などの金属板、セラミックス基板、シリコンウエハーなどが挙げられる。上記基材は、好ましくは、ガラス基板又は高分子フィルムである。
【００５３】
上記ガラス基板としては、任意の適切なものが選択され得る。好ましくは、上記ガラス基板は、液晶セルに用いられるものであり、例えば、アルカリ成分を含むソーダ石灰（青板）ガラス、又は低アルカリ硼砂酸ガラスである。上記ガラス基板は、市販のものをそのまま用いてもよい。市販のガラス基板としては、例えば、コーニング社製  ガラスコード：１７３７、旭硝子（株）製  ガラスコード：ＡＮ６３５、ＮＨテクノグラス（株）製  ガラスコード：ＮＡ−３５などが挙げられる。
【００５４】
上記高分子フィルムを形成する樹脂としては、任意の適切なものが選択され得る。好ましくは、上記高分子フィルムは、熱可塑性樹脂を含有する。上記熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂などが挙げられる。上記の熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上を組み合せて用いられる。また、上記の熱可塑性樹脂は、任意の適切なポリマー変性を行ってから用いることもできる。上記ポリマー変性としては、例えば、共重合、架橋、分子末端、立体規則性などの変性が挙げられる。
【００５５】
本発明に用いられる基材は、好ましくは、セルロース系樹脂を含有する高分子フィルムである。多環性化合物のぬれ性に優れ、高い面内の複屈折率を有し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムが得られ得るからである。
【００５６】
上記セルロース系樹脂は、任意の適切なものが採用され得る。上記セルロース系樹脂は、好ましくは、セルロースの水酸基の一部または全部がアセチル基、プロピオニル基および／またはブチル基で置換された、セルロース有機酸エステルまたはセルロース混合有機酸エステルである。上記セルロース有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等が挙げられる。上記セルロース混合有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。上記セルロース系樹脂は、例えば、特開２００１−１８８１２８号公報［００４０］〜［００４１］に記載の方法により得ることができる。
【００５７】
本発明に用いられる基材は、市販の高分子フィルムをそのまま用いることができる。あるいは、市販の高分子フィルムに延伸処理および／または収縮処理などの２次的加工を施したものを用いることができる。市販のセルロース系樹脂を含有する高分子フィルムとしては、例えば、富士写真フィルム（株）製  フジタックシリーズ（商品名；ＺＲＦ８０Ｓ，ＴＤ８０ＵＦ，ＴＤＹ−８０ＵＬ）、コニカミノルタオプト（株）製  商品名「ＫＣ８ＵＸ２Ｍ」などが挙げられる。
【００５８】
上記基材の厚みは、好ましくは、２０μｍ〜１００μｍである。基材の厚みを上記の範囲とすることによって、基材のハンドリング性や塗工性が優れる。
【００５９】
上記工程（３）における、溶液の塗工速度は、好ましくは５０ｍｍ／秒以上であり、さらに好ましくは１００ｍｍ／秒以上である。塗工速度を上記の範囲にすることによって、本発明に用いられる溶液に、多環性化合物が配向するのに適したせん断力がかかり、高い面内の複屈折率を有し、且つ、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムが得られ得る。
【００６０】
上記溶液を基材の表面に塗工する方法としては、適宜、適切なコータを用いた塗工方式が採用され得る。上記コータとしては、例えば、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、ファウンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ディップコータ、ビードコータ、ブレードコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコータ、押出コータ、ホットメルトコータなどが挙げられる。上記コータは、好ましくは、リバースロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、スロットダイコータ、スロットオリフィスコータ、カーテンコータ、及びファウンテンコータある。上記のコータを用いた塗工方式であれば、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムを得ることができる。
【００６１】
上記溶液を乾燥させる方法は、適宜、適切な方法が採用され得る。乾燥方法は、例えば、熱風又は冷風が循環する空気循環式恒温オーブン、マイクロ波もしくは遠赤外線などを利用したヒーター、温度調節用に加熱されたロール、ヒートパイプロール又は金属ベルトなどの乾燥手段が挙げられる。
【００６２】
上記溶液を乾燥させる温度は、上記溶液の等方相転移温度以下であり、低温から高温へ徐々に昇温して乾燥させることが好ましい。上記乾燥温度は、好ましくは１０℃〜８０℃であり、さらに好ましくは２０℃〜６０℃である。上記の温度範囲であれば厚みバラツキの小さい複屈折フィルムを得ることができる。
【００６３】
上記溶液を乾燥させる時間は、乾燥温度や溶媒の種類によって、適宜、選択され得るが、厚みバラツキの小さい複屈折フィルムを得るためには、例えば１分〜３０分であり、好ましくは１分〜１０分である。
【００６４】
本発明の複屈折フィルムの製造方法は、好ましくは、上記工程（１）〜（３）の後に、工程（４）をさらに含む：
（４）上記工程（３）で得られたフィルムに、アルミニウム塩、バリウム塩、鉛塩、クロム塩、ストロンチウム塩、及び分子内に２個以上のアミノ基を有する化合物塩からなる群から選択される少なくとも１種の化合物塩を含む溶液を接触させる工程。
【００６５】
本発明において、上記工程（４）は、得られる複屈折フィルムを、水に対して、不溶化又は難溶化させるために用いられる。上記化合物塩としては、例えば、塩化アルミニウム、塩化バリウム、塩化鉛、塩化クロム、塩化ストロンチウム、４，４’−テトラメチルジアミノジフェニルメタン塩酸塩、２，２’−ジピリジル塩酸塩、４，４’−ジピリジル塩酸塩、メラミン塩酸塩、テトラアミノピリミジン塩酸塩などが挙げられる。このような化合物塩であれば、耐水性に優れた複屈折フィルムが得られ得る。
【００６６】
上記の化合物塩を含む溶液の、化合物塩の濃度は、好ましくは３重量％〜４０重量％であり、特に好ましくは、５重量％〜３０重量％である。複屈折フィルムを上記範囲の濃度の化合物塩を含む溶液と接触させることによって、耐久性に優れたものが得られ得る。
【００６７】
上記工程（３）で得られた複屈折フィルムを、上記化合物塩を含む溶液と接触させる方法としては、例えば、当該複屈折フィルムの表面に上記化合物塩を含む溶液を塗工する方法、当該複屈折フィルムを上記化合物塩を含む溶液に浸漬する方法など、任意の方法が採用され得る。これらの方法が採用される場合、得られた複屈折フィルムは、水又は任意の溶剤で洗浄することが好ましく、さらに乾燥させることで、基材と複屈折フィルムとの界面の密着性に優れた積層体が得られ得る。
【００６８】
〔Ｅ．複屈折フィルムの用途〕
本発明の複屈折フィルムの用途は、特に制限はないが、代表的には、液晶表示装置のλ／４板、λ／２板、視野角拡大フィルム、フラットパネルディスプレイ用反射防止フィルムが挙げられる。１つの実施形態においては、上記複屈折フィルムは、偏光子と積層して、偏光板として用いてもよい。以下、この偏光板について説明する。
【００６９】
〔Ｆ．本発明の偏光板〕
本発明の偏光板は、上記複屈折フィルムと偏光子とを少なくとも備える。上記偏光板は、基材と複屈折フィルムとを少なくとも備える積層フィルムを含んでいてもよいし、他の複屈折フィルムや、任意の保護層を含んでいてもよい。実用的には、上記偏光板の、構成部材の各層の間には、任意の適切な接着層が設けられ、偏光子と各構成部材とが貼着される。
【００７０】
上記偏光子としては、自然光又は偏光を直線偏光に変換するものであれば、適切なものが採用され得る。上記偏光子は、好ましくは、ヨウ素又は二色性染料を含有するポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする延伸フィルムである。上記偏光子の厚みは、通常、５μｍ〜５０μｍである。
【００７１】
上記接着層は、隣り合う部材の面と面とを接合し、実用上十分な接着力と接着時間で、一体化させるものであれば、任意の適切なものが選択され得る。上記接着層を形成する材料としては、例えば、接着剤、粘着剤、アンカーコート剤が挙げられる。上記接着層は、被着体の表面にアンカーコート剤層が形成され、その上に接着剤層または粘着剤層が形成されたような多層構造であってもよいし、肉眼的に認知できないような薄い層（ヘアーラインともいう）であってもよい。偏光子の一方の側に配置された接着層と他方の側に配置された接着層は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００７２】
上記偏光板の、偏光子と複屈折フィルムと貼着する角度は、目的に応じて、適宜、設定され得る。上記偏光板は、例えば、反射防止フィルムとして用いられる場合は、上記偏光子の吸収軸方向と上記複屈折フィルムの遅相軸方向とのなす角度が、好ましくは２５°〜６５°であり、さらに好ましくは３５°〜５５°である。視野角拡大フィルムとして用いられる場合は、上記偏光板は、上記偏光子の吸収軸方向と上記複屈折フィルムの遅相軸方向とのなす角度が、実質的に平行又は実質的に直交である。本明細書において「実質的に平行」とは、偏光子の吸収軸方向と複屈折フィルムの遅相軸方向とのなす角度が、０°±１０°の範囲を包含し、好ましくは０°±５°である。「実質的に直交」とは、偏光子の吸収軸方向と複屈折フィルムの遅相軸方向とのなす角度が、９０°±１０°の範囲を包含し、好ましくは９０°±５°である。
【実施例】
【００７３】
本発明について、以下の実施例を用いて更に説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、実施例で用いた各分析方法は、以下の通りである。
（１）厚みの測定方法：
厚みが１０μｍ未満の場合、薄膜用分光光度計［大塚電子（株）製  製品名「瞬間マルチ測光システム  ＭＣＰＤ−２０００」］を用いて測定した。
（２）透過率（Ｔ［５９０］）、面内の複屈折率（Δｎ［５９０］）、位相差値（Ｒｅ［λ］、Ｒｔｈ［λ］）の測定方法：
王子計測機器（株）製  商品名「ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ」を用いて、２３℃で測定した。なお、平均屈折率は、アッベ屈折率計［アタゴ（株）製  製品名「ＤＲ−Ｍ４」］を用いて測定した値を用いた。
（３）電気伝導度の測定方法：
濃度を０．０５重量％に調製した水溶液で、溶液電導率計［京都電子工業（株）製  製品名「ＣＭ−１１７」］の電極を洗浄した後、電極に接続された１ｃｍ３の容器に試料を満たして、表示された電気伝導度が一定の値を示したところを、測定値とした。
（４）水の接触角の測定方法：
固液界面解析装置［協和界面科学（株）製  製品名「Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ３００」］を用いて、基材に液を滴下した後、５秒間経過した後の接触角を測定した。測定条件は、静的接触角測定である。水は、超純水を用い、液滴は０．５μｌとした。それぞれの基材について、繰り返し回数１０回の平均値を、測定値とした。
【００７４】
［合成例１］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸の合成＞
５００ｍｌのジメチルホルムアミドを、精製した１０ｇのアセナフテンキノリンと、８．４ｇの３，４−ジアミノ安息香酸の混合物に添加した。反応物を、室温で２１時間攪拌し続けた。沈殿物をろ過して、粗生成物を得た。この粗生成物は、熱したジメチルホルムアミドに溶解して、再度、ろ過し、ジメチルホルムアミド及び水で洗浄して精製した。
【００７５】
［合成例２］
＜２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、及び５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウムの混合物の合成＞
下記反応経路に示すように、合成例１で得られる３ｇのアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸を、３０％発煙硫酸（１５ｍｌ）に加えた。反応物を７０℃で１７．５時間攪拌した。得られた溶液を４０℃〜５０℃で、３３ｍｌの水により希釈し、さらに１２時間攪拌した。沈殿物をろ過し、５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸と、２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸とを含む混合物を得た。
【００７６】
この混合物を、２リットルの純水（電気伝導度：１．７μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化アンモニウムを加えて、酸を水酸化アンモニウムで中和した。得られた水溶液は、供給タンクに入れ、日東電工（株）製  逆浸透膜フィルター  商品名「ＮＴＲ−７４３０」を備えた３連平膜評価装置を用いて、この装置の廃液の電気伝導度が、１４．３μＳ／ｃｍ（１重量％換算）となるまで、精製した。次に、この精製した水溶液を、ロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中の多環性化合物の濃度が２１．１重量％となるように調製した。ここで得られた水溶液を、偏光顕微鏡観察すると、２３℃でネマチック液晶相を示した。液体クロマトグラフ分析により、２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、及び５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウムの混合比を定量したところ、組成比は４６：５４であった。
【００７７】
【化５】
2007316592.tif 000006
【００７８】
［合成例３］
＜２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、３−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、４−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、及び５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウムの混合物の合成＞
下記反応経路に示すように、５０ｇのアセナフテンキノンを２０％の発煙硫酸（１５０ｍｌ）に加え、２５℃で１２時間攪拌した。得られた溶液を４０℃で、１４０ｍｌの水により希釈して、さらに１２時間攪拌した。沈殿物をろ過し、ろ紙に溜まったケーキを３００ｍｌの酢酸中に懸濁した。沈殿物を再びろ過し、２００ｍｌのアセトンに溶解した。得られた溶液を、７００ｍｌのジクロロメタンで希釈した。沈殿物を再びろ過し、加熱せずに空気乾燥させ、１，２−ジオキソアセナフチレン−４−スルホン酸及び１，２−ジオキソアセナフチレン−５−スルホン酸を得た。
【００７９】
３０ｍｌの酢酸中に、１．５ｇの３，４−ジアミノ安息香酸を含む懸濁液を、１００ｍｌの酢酸に、１，２−ジオキソアセナフチレン−４−スルホン酸及び１，２−ジオキソアセナフチレン−５−スルホン酸を含む懸濁液（２．６ｇ）に添加した。得られた反応物を１２時間攪拌した。沈殿物をろ過した。ろ紙上のケーキを３００ｍｌの水に溶解させた。その溶液をガラス繊維フィルターでろ過し、３００ｍｌの濃塩酸で希釈した。沈殿物をろ過し、２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸、３−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸、４−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸、及び５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸の混合物を得た。
【００８０】
この混合物を１リットルの純水（電気伝導度：１．７μＳ／ｃｍ）に溶解し、さらに水酸化アンモニウムを加えて、酸を中和した。得られた水溶液は、供給タンクに入れ、日東電工（株）製  逆浸透膜フィルター  商品名「ＮＴＲ−７４３０」を備えた３連平膜評価装置を用いて、この装置の廃液の電気伝導度が、２５２μＳ／ｃｍ（１重量％換算）となるまで、精製した。次に、この精製した水溶液を、ロータリーエバポレーターを用いて、水溶液中の多環性化合物の濃度が２３．５重量％となるように調製した。ここで得られた水溶液を、偏光顕微鏡観察すると、２３℃でネマチック液晶相を示した。液体クロマトグラフ分析により、２−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、３−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、４−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウム、及び５−スルホ−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸アンモニウムの混合比を定量したところ、組成比は２３：２５：２５：２７であった。
【００８１】
【化６】
2007316592.tif 000007
【００８２】
［合成例４］
＜９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンの合成＞
撹拌機を備えた反応容器に、１Lの氷酢酸と精製した１８．２ｇのアセナフテンキノンを添加し、窒素バブリング下で１５分間撹拌後、１２．２ｇの３，４−ジアミノトルエンを添加し、窒素バブリング下で３時間撹拌を続けることで反応させた。得られた反応液にイオン交換水を添加した後、沈殿物をろ過し、粗生成物を得た。得られた粗生成物について、熱氷酢酸を用いて再結晶を行い、精製された９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを得た。
【００８３】
［合成例５］
＜９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、合成例４で得られた２５ｇの９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを、３０％発煙硫酸（１７５ｍｌ）に加えて、１２０℃で２０時間攪拌し、反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、３５０ｍｌのイオン水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過した後、アセトン３００ｇに懸濁させた後にろ過を行うという洗浄操作を３回繰り返し、ろ過後の固形分を１２時間真空乾燥し、９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸を得た。
【化７】
2007316592.tif 000008
【００８４】
［合成例６］
＜４，５−ジアミノ−２−メチル−ベンゼンスルホン酸の合成＞
下記反応経路に示すように、３０ｇの３，４−ジアミノトルエンを、４％発煙硫酸（２００ｍｌ）に加えて、１４０℃で４時間攪拌し、反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、４００ｍｌのイオン水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過した後、水で再結晶を行い、４，５−ジアミノ−２−メチル−ベンゼンスルホン酸を得た。
【化８】
2007316592.tif 000009
【００８５】
［合成例７］
＜１０−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−スルホン酸の合成＞
撹拌機を備えた反応容器に、１．５Lの氷酢酸と精製した１８．２ｇのアセナフテンキノンを添加し、窒素バブリング下で１５分間撹拌後、合成例６で得られた４，５−ジアミノ−２−メチル−ベンゼンスルホン酸を２０．２ｇ添加し、窒素バブリング下で３時間撹拌を続けることで反応させた。得られた反応液にイオン交換水を添加した後、沈殿物をろ過し、粗生成物を得た。得られた粗生成物について、氷酢酸を用いて再結晶を行い、精製された１０−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−スルホン酸を得た。
【化９】
2007316592.tif 000010
【００８６】
［合成例８］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドの合成＞
撹拌機を備えた反応容器に、１．５Ｌの氷酢酸と精製した１８．２ｇのアセナフテンキノンを添加し、窒素バブリング下で１５分間撹拌後、２０．７ｇのＮ−ブチルベンズアミドを添加し、窒素バブリング下で３時間撹拌を続けることで反応させた。得られた反応液にイオン交換水を添加した後、沈殿物をろ過し、粗生成物を得た。得られた粗生成物について、氷酢酸を用いて再結晶を行い、精製されたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドを得た。
【００８７】
［合成例９］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドスルホン化物の合成＞
下記反応経路に示すように、合成例８で得られた３０ｇのアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドを、３０％発煙硫酸（２１０ｍｌ）に加えて、室温で４８時間攪拌し、反応させた。得られた溶液を４０℃〜５０℃に保ちながら、５００ｍｌのイオン水を加えて希釈し、さらに３時間攪拌した。沈殿物をろ過した後、アセトン４００ｇに懸濁させた後にろ過を行うという洗浄操作を３回繰り返し、ろ過後の固形分を室温で１２時間真空乾燥し、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドスルホン化物を得た。
【化１０】
2007316592.tif 000011
【００８８】
［実施例１］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロースを主成分とする高分子フィルム［富士写真フィルム（株）製  商品名「ＺＲＦ８０Ｓ」］を、水酸化ナトリウムを溶解させた水溶液に浸漬し、その表面にアルカリ処理（鹸化処理ともいう）を施した。上記高分子フィルムの２３℃における水の接触角は、処理前は６４．６°であり、処理後は２６．５°であった。次に、上記高分子フィルムのアルカリ処理した表面に、上記合成例２で得られた水溶液を、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で塗工表面に風を吹き付けながら乾燥させた後、さらに４０℃の空気循環式乾燥オーブン内で３分間乾燥させた。その結果、トリアセチルセルロースを主成分とする高分子フィルムの表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＡを得た。この複屈折フィルムＡの特性を表１に示す。
【００８９】
［実施例２］
上記合成例３で得られた水溶液を用いて、実施例１と同様の方法で塗工、乾燥して、トリアセチルセルロースを主成分とする高分子フィルムの表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＢを得た。この複屈折フィルムＢの特性を表１に示す。
【００９０】
［実施例３］
上記合成例５で得られた９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸１０ｇをイオン交換水５００ｍｌに溶解させた。得られた水溶液を５％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨ＝７まで中和した後、ロータリーエバポレーターを用いて２９％まで濃縮し、コーティング剤を調製した。このコーティング剤を、厚さ１．３ｍｍのガラス基板上に、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で自然乾燥させた。その結果、ガラス基板の表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＣを得た。この複屈折フィルムＣの特性を表１に示す。
【００９１】
［実施例４］
上記合成例５で得られた９−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２，５−ジスルホン酸１０ｇをイオン交換水５００ｍｌに溶解させた。得られた水溶液を５％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝７まで中和した後、ロータリーエバポレーターを用いて２５％まで濃縮し、コーティング剤を調製した。このコーティング剤を、厚さ１．３ｍｍのガラス基板上に、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で自然乾燥させた。その結果、ガラス基板の表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＤを得た。この複屈折フィルムＤの特性を表１に示す。
【００９２】
［実施例５］
上記合成例７で得られた１０−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−スルホン酸１０ｇをイオン交換水５００ｍｌに溶解させた。得られた水溶液を５％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨ＝８まで中和した後、ロータリーエバポレーターを用いて１８％まで濃縮し、コーティング剤を調製した。このコーティング剤を、厚さ１．３ｍｍのガラス基板上に、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で自然乾燥させた。その結果、ガラス基板の表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＥを得た。この複屈折フィルムＥの特性を表１に示す。
【００９３】
［実施例６］
上記合成例７で得られた１０−メチル−アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−スルホン酸１０ｇをイオン交換水５００ｍｌに溶解させた。得られた水溶液を５％水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝７まで中和した後、ロータリーエバポレーターを用いて１８％まで濃縮し、コーティング剤を調製した。このコーティング剤を、厚さ１．３ｍｍのガラス基板上に、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で自然乾燥させた。その結果、ガラス基板の表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＦを得た。この複屈折フィルムＦの特性を表１に示す。
【００９４】
［実施例７］
上記合成例９で得られたアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ブチルアミドスルホン化物１０ｇをイオン交換水５００ｍｌに溶解させた。得られた水溶液を５％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨ＝７まで中和した後、ロータリーエバポレーターを用いて１５％まで濃縮し、コーティング剤を調製した。このコーティング剤を、厚さ１．３ｍｍのガラス基板上に、バーコータ［ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  商品名「ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」］を用いて、塗工し、２３℃の恒温室内で自然乾燥させた。その結果、ガラス基板の表面に、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を示す複屈折フィルムＧを得た。この複屈折フィルムＧの特性を表１に示す。
【００９５】
【表１】
2007316592.tif 000012
【００９６】
［評価］
実施例１〜７で示すように、−ＳＯ３Ｍ基及び／又は−ＣＯＯＭ基を有する、少なくとも１種の多環式化合物と、溶媒とを含む溶液を基材表面に塗工することによって、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、且つ、高い面内の複屈折率を示す複屈折フィルムを得ることができた。これらの複屈折フィルムは、従来の高分子フィルムタイプの複屈折フィルムに比べて、格段に薄い厚みで、所定の位相差値を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
以上のように、本発明の複屈折フィルムは、屈折率楕円体がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの関係を満足し、高い面内の複屈折率を示すため、例えば、液晶表示装置に用いる場合には、表示特性の向上と、薄型化に大きく貢献することができる。また、本発明の製造方法によれば、特殊な延伸法を用いなくても、溶液を基材に塗工するだけで、上記のような優れた特性を有する複屈折フィルムを得ることができるため、複屈折フィルムの生産性向上に極めて有用である。