(57)【要約】【課題】剥離液濃度を常時一定範囲に維持でき、新液交換時期の延長とランニングコストの低減化が可能な水系レジスト剥離液の管理方法とその管理装置を提供する。【解決手段】まず、水系フォトレジスト剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予めこの変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶する（ステップＳ１）。次に、レジスト剥離に際して、剥離液中の複数成分のうちの特定成分を、剥離液の代表成分として選択する（ステップＳ２）。代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定し（ステップＳ３）、両測定値が予め記憶した代表成分の相対関係の管理範囲内にあるか判断し（ステップＳ４）、範囲内にある場合は終了するがない場合は偏差値が解消するまで制御する（ステップＳ５〜Ｓ６）。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト剥離設備で使用する水系フォトレジスト剥離液を調整槽内で管理する水系フォトレジスト剥離液の管理方法であって、
前記水系フォトレジスト剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予め該変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶しておき、
レジスト剥離に際して、前記剥離液中の複数成分のうちの特定成分を剥離液の代表成分として選択し、該代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定しつつ、該両測定値を、前記記憶している代表成分の相対関係の中の適正値範囲内に制御することを特徴とする水系フォトレジスト剥離液の管理方法。
【請求項２】
剥離液に含まれる複数成分は、少なくとも、溶解劣化レジスト、水分、モノエタノールアミン、ブチルジグリコールおよびカルバミン酸からなる５成分で、かつ、このうちの溶解劣化レジストおよび水分の２成分を前記代表成分として選択するとともに、
レジスト剥離に際して、前記２成分の濃度比（モノエタノールアミン／ブチルジグリコール）を一定値範囲内に管理しつつ、前記制御をすることを特徴とする請求項１に記載の水系フォトレジスト剥離液の管理方法。
【請求項３】
前記代表成分は、モノエタノールアミン単成分であることを特徴とする請求項１に記載の水系フォトレジスト剥離液の管理方法。
【請求項４】
レジスト剥離設備で使用する水系フォトレジスト剥離液を調整槽内で管理する水系フォトレジスト剥離液の管理装置であって、
前記水系フォトレジスト剥離液を貯留する調整槽と、
前記剥離液の導電率を測定する導電率計と、
前記剥離液の超音波伝播速度を測定する超音波伝播速度計と、
前記調整槽への水分供給手段と、
前記調整槽に剥離新液を補充する剥離新液供給手段と、
前記調整槽にモノエタノールアミン単成分を補充するモノエタノールアミン供給手段と、
前記水系フォトレジスト剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予めこの変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶する記憶手段、
レジスト剥離に際して、前記剥離液中の複数成分のうちの特定成分を剥離液の代表成分として選択する選択手段、および該代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定しつつ、該両測定値を前記記憶手段内の適正値と比較し、偏差値を演算する比較・演算手段を含む制御手段と、
前記偏差値を、前記水分供給手段、剥離新液供給手段、およびモノエタノールアミン供給手段のうちの少なくとも一つの供給手段に出力する流量調節手段と、
を備えたことを特徴とする水系フォトレジスト剥離液の管理装置。
【請求項５】
前記調整槽に、剥離液が超音波伝播速度計と導電率計とを経由して前記調整槽に還流する循環ラインを設けると共に、該ライン内の前記超音波伝播速度計または導電率計の近傍に、剥離液の超音波伝播速度と導電率の温度補償をするための温度計を設けたことを特徴とする請求項４に記載の水系レジスト剥離液の管理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体や液晶ディスプレイ装置のフォトレジスト剥離工程で用いられる水系レジスト剥離液の管理方法および管理装置に関する。  
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体製造工程や液晶ディスプレイ製造工程においては、現像工程に続くレジスト剥離工程で、ウエハ上から不要となったレジストを除去する方法として、乾式、湿式剥離法またはこれらの併用方法が用いられている。
【０００３】
このうち、湿式剥離法では、レジスト剥離液として、ウエハやガラス基板上の材料膜により異なるが、例えばモノエタノールアミン（以下、ＭＥＡという。）、ブチルジグリコール（以下、ＢＤＧという。）等の種々の有機アルカリ液や、溶剤、薬液を組み合わせた混合液から成るものが用いられている（例えば、特許文献１、特許文献２）。
【０００４】
また、これら剥離液は、ウエハやガラス基板等のレジスト膜上にスプレーまたは浸漬された後、溶解劣化レジスト成分を含む剥離液として調整槽に回収され、循環使用され、所定の基板枚数処理後に新液と全量交換されるのが一般的である。
【０００５】
この場合、剥離処理中の剥離性能を一定に維持するために、回収液の成分管理とその濃度管理が重要であることが知られ、また、その際、剥離液に適量の水分を加えると引火点が低下し、金属腐食の問題が解決することから、水分の濃度管理も必要であることが知られている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
しかし、この場合、調整槽に回収した溶解劣化レジスト成分を含むレジスト剥離液（以下、剥離液という。）に対して何らの濃度制御もしないと、図７に示すように、ウエハ等の処理枚数の増加と共に溶解劣化レジスト成分Ｒが逐次濃縮し、また、ＭＥＡ成分も剥離枚数の増加共に失活し、同時に空気中の炭酸ガスを吸収してカルバミン酸を生成するので、本来の剥離機能が失われる。
【０００７】
一方、水分Ｗは、剥離枚数の増加と共に調整槽から蒸発するので、その濃度が低下する。そのため、従来技術では、剥離処理枚数が一定枚数に達すると回収液の剥離新液への全量交換が頻繁に行われていた。
【０００８】
このように、剥離液中のＭＥＡ成分の不活化により当初の剥離機能が損なわれるとウエハ等への剥離液の再付着の問題が生じ、また、水分濃度低下は設備防爆構造の信頼性低下の問題を生じ、ひいては製品歩留まりの低下、ランニングコスト上昇の問題を招く。
【０００９】
よって、調整槽内の回収液は、常時、当初設定した適正濃度範囲内に維持、管理しなければならない。この場合、調整槽内の回収液には、上記溶解劣化レジスト成分、カルバミン酸、水分、ＭＥＡ成分等の複数成分が含まれおり、かつ、剥離液の濃度を検出しようとした場合にこれら成分は検出濃度に相互に影響し合うので、できれば個々の成分毎の濃度と、相互の関係とを把握した上でリアルタイムな濃度管理を行うことが望ましい。
【００１０】
これらの問題点に関する従来技術として、上記特許文献１では劣化レジスト成分、水分、ＭＥＡ成分等の濃度管理の必要性を述べている。
【００１１】
しかしながら、特許文献１の技術は、水分濃度を吸光光度計で、一方劣化レジスト成分濃度は導電率計でというように個別に計測して管理する手法であり、各成分間の関係とその具体的な調整方法については考慮していない。
【００１２】
また、特許文献１および特許文献２の技術が溶解劣化レジスト成分の濃度測定に用いている吸光光度計は、剥離液の劣化と共にセンサーの汚染が進行するため、リアルタイムの正確な濃度測定ができないことに加え、本発明者の追試によると希釈倍率が１００倍程度以下の高濃度領域では測定範囲を超えてしまうために測定不能であることが判明した。
【００１３】
他の従来技術についても事情は同様であり、特に上述した各成分間の濃度の相関関係とその具体的な調整方法についてはいずれの従来技術においても具体的提案が行われていないのが現状である。
【特許文献１】特開２００３−５３８７号公報(請求項１、図１)
【特許文献２】特開平１１−１３３６３０号公報（請求項１、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、調整槽内のレジスト剥離液の濃度管理方法および調整槽への補充液の供給方法を改善することにより、剥離液の濃度を常時一定値内に維持できるとともに、新液交換時期の延長とランニングコストの低減化が可能な水系レジスト剥離液の管理方法およびその管理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、請求項１に係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法は、レジスト剥離設備で使用する水系フォトレジスト剥離液を調整槽内で管理する水系フォトレジスト剥離液の管理方法であって、
前記水系フォトレジスト剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予め該変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶しておき、
レジスト剥離に際して、前記剥離液中の複数成分のうちの特定成分を剥離液の代表成分として選択し、該代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定しつつ、該両測定値を、前記記憶している代表成分の相対関係の中の適正値範囲内に制御することを特徴とする。
【００１６】
請求項２係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法は、請求項１に従属し、
剥離液に含まれる複数成分は、少なくとも、溶解劣化レジスト、水分、ＭＥＡ、ＢＤＧおよびカルバミン酸からなる５成分で、かつ、このうちの溶解劣化レジストおよび水分の２成分を前記代表成分として選択するとともに、
レジスト剥離に際して、前記ＭＥＡおよびＢＤＧ間の濃度比（ＭＥＡ／ＢＤＧ）を一定値範囲内に管理しつつ、前記制御をすることを特徴とする。
【００１７】
請求項３係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法は、請求項１に従属し、
前記特定成分は、ＭＥＡ単成分であることを特徴とする。
【００１８】
請求項４に記載の水系フォトレジスト剥離液の管理装置は、
レジスト剥離設備で使用する水系フォトレジスト剥離液を調整槽内で管理する水系フォトレジスト剥離液の管理装置であって、
前記水系フォトレジスト剥離液を貯留する調整槽と、
前記剥離液の導電率を測定する導電率計と、
前記剥離液の超音波伝播速度を測定する超音波伝播速度計と、
前記調整槽への水分供給手段と、
前記調整槽に剥離新液を補充する剥離新液供給手段と、
前記調整槽にＭＥＡ単成分を補充するＭＥＡ供給手段と、
前記水系フォトレジスト剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予めこの変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶する記憶手段、
レジスト剥離に際して、前記剥離液中の複数成分のうちの特定成分を剥離液の代表成分として選択する選択手段、および該代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定しつつ、該両測定値を前記記憶手段内の適正値と比較し、偏差値を演算する比較・演算手段を含む制御手段と、
前記偏差値を、前記水分供給手段、剥離新液供給手段、およびモノエタノールアミン供給手段のうちの少なくとも一つの供給手段に出力する流量調節手段と、
を備えたことを特徴とする。
【００１９】
請求項５に記載の水系レジスト剥離液の管理装置は、請求項４に従属し、
前記調整槽に、剥離液が超音波伝播速度計と導電率計とを経由して前記調整槽に還流する循環ラインを設けると共に、該ライン内の前記超音波伝播速度計または導電率計の近傍に、剥離液の超音波伝播速度と導電率の温度補償をするための温度計を設けたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法によれば、レジスト剥離に際して、予め剥離液を構成している複数の特定成分の濃度に関する相関関係を記憶しておき、その中の代表成分の適正値範囲に基づいて濃度管理を行うから、実質的には各成分全体の濃度変化の推移を把握した正確な濃度管理がリアルタイムに得られる。
【００２１】
その結果、特定の代表成分に基づく濃度管理でありながら、調整槽内の剥離液濃度を常時適正値範囲内に維持・管理することが可能となり、操業時間の連続化と、これに伴う剥離新液補充量の減少およびランニングコストの低減化が達成できる。
【００２２】
請求項２に係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法によれば、調整槽中の回収液の主要構成成分である、溶解劣化レジスト、水分、ＭＥＡ、ＢＤＧおよびカルバミン酸からなる５成分のうち、剥離機能に大きく影響する溶解劣化レジスト成分と水分の２成分を代表成分として選択し、かつ、ＭＥＡとＢＤＧ成分間の濃度比（ＭＥＡ／ＢＤＧ）の相関関係に基づいて、剥離液の濃度を適正値範囲内に制御するから、水分濃度を高精度に維持、管理しつつ、同時にＭＥＡ成分の失活をも防止できる。
【００２３】
請求項３に係る水系フォトレジスト剥離液の管理方法によれば、特定成分として、ＭＥＡ単成分を選択したので、レジスト剥離液の失活を直接防止しつつ、同時に他成分の濃度も制御可能になり、さらに従来の新液と異なりＭＥＡ自体は安価であるから、剥離液のランニングコストの低減化が可能となる。
【００２４】
請求項４に係る水系フォトレジスト剥離液の管理装置によれば、レジスト剥離液の構成成分が複数成分であっても、特定の代表成分に基づくリアルタイムの濃度管理に関する自動制御が可能となる。
【００２５】
また、従来技術の吸光光度計に代えて、超音波伝播速度計を用いているから、全操業時間を通じた正確で、かつ、信頼性の高い濃度測定と制御が可能となる。
【００２６】
請求項５に係る水系レジスト剥離液の管理装置によれば、調整槽を経由する循環ラインと温度計を設けたから、調整槽内の剥離液濃度が平均化され、より一層正確な濃度測定が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明を実施するための最良の形態（実施例）を詳しく説明する。
【実施例１】
【００２８】
まず、本発明に係る水系レジスト剥離液の管理方法の一例を、その図面を参照しながら説明する。
【００２９】
図１は、本発明に係る管理方法の一例の処理手順を示すフローチャート、図３および図４はこの処理手順中で用いられるグラフ１と、グラフ２をそれぞれ示す図である。
【００３０】
＜ステップＳ１＞
図１に示すように、まず、処理枚数の増大に伴って生じる複数成分からなる剥離液の濃度変化と、これに対応する導電率（σ）および超音波伝播速度（Ｖｕｓ）の両変化との相対関係を把握するために剥離液を構成する種々の成分について、予め処理枚数の変化に対応するレジスト剥離液の導電率と超音波伝播速度とを測定し、得られた種々の相関関係を適当な記憶手段に記憶しておく（Ｓ１）。
【００３１】
また、その際、得られた相関関係内にて、制御すべき好ましい濃度適正値範囲を決定し、その範囲も予め記憶しておく。
【００３２】
この場合、処理枚数の増大に伴う導電率と超音波伝播速度との相関関係を求める対象成分としては、劣化レジスト成分、ＭＥＡ、ＢＤＧ、水分、カルバミン酸等の全ての成分について求めることは経済的困難を伴うので、実用的には特定成分（代表成分）の劣化レジスト成分（本発明では溶解レジスト成分およびカルバミン酸を指す。）と、水分とで十分である。
【００３３】
劣化レジスト成分と水分とは、図２に示すように、剥離液中に混在していても、相互に影響し合って、導電率および超音波伝播速度との相関関係に影響を及ぼすが、いずれも導電率と超音波伝播速度に対して一次相関関係があるので測定可能である。
【００３４】
また、剥離設備の環境温度に対応させるために、上記相関関係は複数の剥離液温度について求めておくのが好ましい。
【００３５】
このようにして得られた相関関係の一例として示したのが図３のグラフ１で、この図は、処理枚数（Ｎ）の増大に伴う剥離液中の劣化レジスト成分（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３………Ｒｎ）および水分の濃度変化（Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３………Ｗｎ）と、これに対応する導電率（σ）および超音波伝播速度（Ｖｕｓ）の変化を示し、図中の斜線ゾーンの領域Ｚが求める制御すべき適正値範囲を示している。
【００３６】
このように、本ステップＳ１では、種々の構成成分について、予め上記のような相対関係を求めておき、適当な記憶手段により記憶しておく。
【００３７】
＜ステップＳ２＞
次に、前述の記憶手段に記憶した複数成分の相関関係の中から、特定成分の相関関係を、すなわち前述した図３のような好ましい相対関係を選択する（Ｓ２）。
【００３８】
この場合、何を特定成分とするかは、レジスト剥離液成分を特定するに支配的な成分を代表成分として選択するのが好ましく、剥離液の構成成分の中から被処理物、剥離工程条件等を考慮した成分を選択する。前述のステップＳ１の例では、劣化レジスト成分と水分である。
【００３９】
＜ステップＳ３＞
次に、実際のレジスト剥離工程において、上記代表成分の導電率（σ）と超音波伝播速度（Ｖｕｓ）とを、導電率計と超音波伝播速度計とにより測定する（Ｓ３）。
【００４０】
＜ステップＳ４＞
次に、ステップＳ３で測定した代表成分の導電率と超音波伝播速度との測定値が、ステップＳ１で記憶した好ましい適正値範囲（例えば図３の領域Ｚ）内にあるかどうかを判断する。
【００４１】
設定すべき好ましい適正値範囲としては、工程条件等により定まるが、例えば水分については、１３〜２０重量％の範囲内に管理するのが好ましい。１３重量％未満では引火の危険性が危惧され、一方、２０重量％を超えるとアルミニウム等の金属配線に対する腐食の問題が生じるからである。
【００４２】
かくして、代表成分の導電率（σ）と超音波伝播速度（Ｖｕｓ）とが適正値範囲内に入っている場合は、ステップＳ３で測定した導電率と超音波伝播速度の値をモニターに表示して終了する（エンド）。
【００４３】
一方、測定値が適正値範囲内に入っていない場合は、その測定値をモニターに表示後、次のステップＳ５に進む。
【００４４】
＜ステップＳ５＞
このステップでは、ステップＳ３で測定した代表成分の導電率と超音波伝播速度との測定値を、ステップＳ１およびステップＳ２で説明した好ましい適正値範囲内の導電率と超音波伝播速度の値と比較し、適正値との偏差値を求める。
【００４５】
＜ステップＳ６＞
次に、上記偏差値を解消するに必要なＭＥＡ、ＢＤＧ、水分のいずれかまたはこれら成分の組み合わせからなる補充液を調整槽中の剥離液に供給することにより、偏差値を解消させ、代表成分の濃度が適正管理値範囲内に入るように流量を制御する。
【００４６】
流量制御が終われば前述のステップＳ３に戻り、濃度確認のため再度代表成分の導電率と超音波伝播速度とを測定し、代表成分の濃度が管理範囲内になるまで以降のステップを繰り返す。
【００４７】
この場合の補充液およびその供給方法としては、種々の方法があるが代表的なものを例示すると、次のとおりである。
【００４８】
まず、第１の供給方法は、剥離液に新液を必要量補充する方法である。
【００４９】
新液の構成成分としては、例えばジメチルスルホキシド系新液、Ｎ−メチルピロリドン系新液、ジグリコール系新液、アルカノールアミンとグライコールエーテル系溶剤との混合液、またはこれらに純水や各種薬剤が添加されたものである。
【００５０】
上記アルカノールアミンとしては、上記ＭＥＡの他、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、アミノエチルタノールアミン等の同種のものであっても良い。
【００５１】
補充する新液の成分比としては、ＢＤＧ：ＭＥＡ：水分比が、それぞれ６０重量％、２０重量％、２０重量％程度のものが好ましい。
【００５２】
ここで、ＭＥＡとＢＤＧについては、本発明者の実験により、操業中における両成分の濃度比（ＭＥＡ／ＢＤＧ）が、常時０．３１〜０．３３の範囲内にあるように剥離液の濃度管理をすると、水分濃度を±１％以内の高精度に容易に制御できることを見出した。これに対し、濃度比が上記範囲内から外れている場合は、水分の計測精度が悪くなる傾向があることが分かった。
【００５３】
第２の供給方法は、適正値範囲内からの偏差値に対応するＭＥＡ単成分を直接供給する方法である。
【００５４】
この供給方法により、劣化レジスト成分の増大と、ＭＥＡの失活相当分およびカルバミン酸生成分に見合うＭＥＡを直接補充することが可能となり、レジスト剥離液のＭＥＡ成分の失活を防止しつつ、劣化レジスト成分に対する高精度の濃度管理が可能となる。
以上のステップを終了し、代表成分が適正管理範囲内に制御されたことの一例を示したのが図４であり、この図は剥離処理枚数（横軸：Ｎ）が増加しても、劣化レジスト成分（縦軸：曲線Ｒ）と、水分（縦軸：曲線Ｗ）とがいずれも管理範囲内の一定値を推移することを示している。
【００５５】
以上の説明においては、本発明の管理方法は、レジスト剥離液を構成する複数成分の中から特定の代表成分の前記相対関係を使用して剥離液全体の濃度制御を行っているが、剥離液成分の濃度測定装置として、実施例２で後述するＭＥＡ（ＢＤＧ）成分濃度検出装置（図６）を使用すれば、複数の剥離液構成成分中の任意成分を抽出して、その濃度を直接検出し、高精度の濃度制御をすることもできる。この具体的内容は次の実施例２で説明する。
【実施例２】
【００５６】
次に、以上に述べた本発明に係る水系レジスト剥離液の管理方法は、例えば次の管理装置により具体的に実施できる。
【００５７】
図５は、本発明に係る水系レジスト剥離液の管理装置の全体構成を示す管理系統図であり、以下に説明する。
【００５８】
図５において、符号Ｕは、図示しない前工程からローラコンベア１によりレジスト剥離工程に搬送されてきた、例えばウエハ、ガラス基板等である。
【００５９】
ウエハＵ上には、現像工程を経たフォトレジス膜が形成されており、その膜が上部のスプレー装置２からスプレーされる水系フォトレジスト剥離液Ａによって部分的に剥離され、その溶解劣化レジスト成分を含む剥離液が下部の受槽３を経由して、調整槽４に回収されるようになっている。
【００６０】
また、調整槽４には、剥離液の濃度調整をするための純水供給手段５、剥離新液供給手段６およびＭＥＡ供給手段７とそれぞれの供給量制御をする電磁弁８、９、１０が設けられている。電磁弁８、９、１０の少なくとも一つは、流量調節手段１１からの指令により適宜選択されるとともに、その開閉量の指示を受ける。
【００６１】
調整槽４には、水系フォトレジスト剥離液Ａと各供給手段５、６、７から供給された純水、剥離新液およびＭＥＡからなる混合液を、ポンプ１２、フイルター１３を経て、再びスプレー装置２に供給し、調整槽４に回収する閉回路で構成される第１循環ラインと、調整槽内の上記剥離液Ａを定流量ポンプ１４、熱交換器１５、流量計１６、測定筒１７から調整槽４に至る閉回路で構成される第２循環ラインとが接続されている。
【００６２】
前記測定筒１７には、剥離液Ａの導電率を測定する導電率計１８と、超音波伝播速度を測定する超音波伝播速度計１９とが設けられており、それぞれのセンサーが測定筒１７内部に差し込まれ、測定信号が制御手段２０に送られるようになっている。
【００６３】
制御手段２０は、剥離液に含まれる複数成分の濃度変化を、予めこの変化に対応する導電率および超音波伝播速度変化の相対関係として記憶する記憶手段と、レジスト剥離に際して、複数成分のうちの特定成分を剥離液の代表成分として選択する選択手段と、導電率計１８と超音波伝播速度計１９とで測定した代表成分の導電率を、記憶手段に記憶している適正値と比較し、その偏差値を演算する比較・演算手段とを内蔵している。
【００６４】
また、制御手段２０は、前述の流量調節手段１１に接続されているとともに、測定値の導電率と超音波伝播速度をリアルタイムに表示するモニター２１とも接続されている。
【００６５】
なお、調整槽左側の符号ＬＳは、調整槽４内の剥離液液面を常時検知して制御手段１１に出力すると共に、制御手段１１からの指示により液面ラインを常時一定レベルに制御するための液位調節手段である。
【００６６】
なお、符号２２は、各循環ラインに設けられている定流量弁、符号２３は剥離液Ａの温度を検出するために測定筒１７に設けられた温度計である。
【００６７】
本発明に係る管理装置は、次のようにして前述の本発明の管理方法を実施できる。
【００６８】
まず、処理枚数（Ｎ）の変化に対応する複数成分の濃度変化と、これに対応する導電率（σ）および超音波伝播速度（Ｖｕｓ）の変化との相対関係を把握するために、予め処理枚数の変化に対応させた状態で導電率と超音波伝播速度とを、導電率計１８と超音波伝播速度計１９とで測定する。
【００６９】
得られた両者の相関関係は、制御手段２０に記憶させておく。同時に、相対関係内において、好ましい濃度適正値範囲（図３の領域Ｚ）を決定し、その範囲も予め記憶しておく（ステップＳ１）。
【００７０】
次に、実際の剥離工程において、被処理対象、工程条件等に基づき、制御手段２０の中の選択手段が、ステップＳ１で記憶した複数の相関関係の中から、制御手段の中の選択手段が代表成分の相関関係として選択する（ステップＳ２）。
【００７１】
次に、実際のレジスト剥離工程において、スプレー装置２からのレジスト剥離液Ａを調整槽４に回収し、ポンプ１２、１４を運転し、循環ラインを稼動する。
【００７２】
そして、上記代表成分（例えば劣化レジスト成分と水分）の導電率（σ）と超音波伝播速度（Ｖｕｓ）とを、導電率計１８と超音波伝播速度計１９とで測定する（ステップＳ３）。
【００７３】
次に、制御手段２０の中の比較・演算手段が、ステップＳ３で測定した代表成分の導電率と超音波伝播速度との測定値がステップＳ１で記憶した好ましい適正値範囲内にあるかどうかを判断する。
【００７４】
両測定値が適正値範囲内に入っている場合は、測定値をモニター２１に表示して終了する（エンド）。
【００７５】
一方、適正値範囲内にない場合は、その測定値をモニターに表示後、制御手段２０の中の比較・演算手段が、測定した代表成分の導電率と超音波伝播速度との測定値と、適正値範囲の導電率と超音波伝播速度の値とを比較し、適正値との偏差値を計算する（ステップＳ５）。流量制御手段１１の指示により、電磁弁８〜１０のうちの少なくとも一つが開かれ、上記偏差値を解消する。
【００７６】
以上の作用により、本発明の管理装置は、調整槽内の剥離液Ａの濃度を常時一定値に制御できる。
【００７７】
以上に述べた本発明に係る剥離液の管理装置において、レジスト液の供給方法はスプレー方式のものについて説明したが、剥離槽内に薬液を貯め、その中にウエハ等を浸漬して剥離するディップ方式のものについても、濃度管理の手法についてはスプレー方式と同じであるから同様に適用できる。
【００７８】
また、以上に述べた本発明の管理装置は、特定の代表成分のみの濃度測定に基づく濃度管理しかできなかったが、複数の剥離液構成成分中の任意成分の濃度を直接検出して高精度の濃度制御を行うこともできる。
【００７９】
このような濃度測定装置の要部を示したのが図６の管理系統図であり、以下に説明する。
【００８０】
なお、図６中の符号１６〜２０、２３は、図５で説明したものと同じ部材を示している。
【００８１】
図６において、符号３０は、測定成分として例えばＭＥＡ（ＢＤＧ含む）成分の濃度を個別に測定し得るＭＥＡ成分濃度検出装置で、図５の測定筒１７の調整槽４への還流配管と並列にサンプリング管３１で接続されている。
【００８２】
ＭＥＡ成分濃度検出装置３０は、サンプリング管３１を介して取り込んだ剥離液Ａを第１ブースターポンプ３２が、昇圧してその吐出先に設けられた劣化レジスト成分濾過器３３に供給する。
【００８３】
劣化レジスト成分濾過器３３は、内部に劣化レジスト成分のみを選択的に濾過し得るメンブレン膜３４を内蔵する濾過器で、ここでサンプリング液は、劣化レジスト成分のみが濾過され、濾過済の残渣は調整槽４に還流される。
【００８４】
劣化レジスト成分のみが濾過された剥離液は、第２ブースターポンプ３５に送られ、このポンプは、サンプリング液を昇圧してその吐出先に設けられた水分濾過器３６に供給する。
【００８５】
水分濾過器３６は、内部に水分のみを選択的に濾過するメンブレン膜３７が内蔵されており、ここで水分のみが選択的に濾過され調整槽４に回収される。
【００８６】
一方、劣化レジスト成分と水分とが濾過されたサンプリング液は、次の超音波伝播速度計３９が付設されているＭＥＡ成分濃度測定装置３８に送られる。
【００８７】
測定されたＭＥＡ成分濃度は、図５の制御手段２０に濃度信号が送られ、一方、測定が終了したサンプリング液は、調整槽４に回収される。
【００８８】
このように、ＭＥＡ成分の濃度を直接測定し、その不足分を補充することができるから、レジスト剥離液の失活を直接防止しつつ、同時に他成分の濃度も個別に制御可能となる。
【００８９】
よって、新液を補充する場合よりも安価なＭＥＡを直接必要に応じて補充することができ、ランニングコストの低減化を実現できる。
【００９０】
他の特定成分の濃度測定についても、同様にして直接測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明に係る管理方法の一例の処理手順を示すフローチャートである。
【図２】図１のフローチャートの処理手順（ステップＳ１）中で用いられるグ相関関係の説明図である。
【図３】図１のフローチャートの処理手順（ステップＳ２）中で用いられるグラフ１の詳細図である。
【図４】図１の処理手順中で用いられるグラフ２の詳細図である。
【図５】本発明に係る管理装置の全体構成の一例を示す管理系統図である。
【図６】図５の管理装置の変形例の要部のみを示した系統図である。
【図７】従来技術における水分と劣化レジスト成分の推移図である。
【符号の説明】
【００９２】
１  ローラコンベア
２  スプレー装置
３  受槽
４  調整槽
５  純水供給手段
６  剥離新液供給手段
７  ＭＥＡ供給手段
８、９、１０  電磁弁
１１  流量調節手段
１２、１４  ポンプ
１８  導電率計
１９  超音波伝播速度計
２０  相対関係記憶手段
２３  温度計
３０  ＭＥＡ（ＢＤＧ）成分濃度検出装置
Ａ  水系フォトレジスト剥離液
Ｕ  ウエハ
【図１】
2007316360.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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