(57)【要約】【課題】  大記録容量光ディスクは４０５ｎｍレーザー光の利用、対物レンズの高開口数、小さなトラックピッチや記録マーク長で実現している。その為にディスクの反りにより収差が発生し、書き込みや読み出しエラーにつながってしまう。そのため１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さいことが要求される。さらに耐久試験を行った場合においても反りが大きくならないことが要求される。  １００μｍの厚みの保護層を形成した際、保護性能に優れ、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光ディスクを提供する。【解決手段】  活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有しない成分と活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分とを含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を実質的に有しない樹脂成分（Ａ）１０〜６０重量部と、活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（Ｂ）４０〜９０重量部とを含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項２】
樹脂成分（Ａ）が環状構造を有するポリエステル樹脂であることを特徴とする請求項１記載の光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
請求項１または２記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化させてなる硬化物層を有する光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクの記録層の保護を目的とする保護層として用いられる硬化後の硬度、透明性、耐熱性、耐湿性等に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびそれを用いた反りの少ない機械的精度に優れた光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から情報記録媒体として、コンパクトディスク、デジタルバーサタイルディスク、追記型光ディスク、相変化型光ディスク等の光ディスクが多く用いられている。これらの光ディスクは微細なグルーブ等を形成したポリカーボネート等の樹脂基板上に金属材料や無機材料で記録層や反射層を形成し、これらの劣化を防ぐ為に活性エネルギー線硬化型樹脂による保護層を設けて製造することが一般的である。
【０００３】
近年、テレビの高精細化や地上波デジタル放送の開始等により情報記録媒体の大容量化が進んでおり、次世代の大記録容量光ディスクが実用化されつつある。次世代の大記録容量光ディスクとしては特許文献１等に記載されているような樹脂基板上に記録層や反射層、さらに厚み約１００μｍの保護層を形成した光ディスクが提唱されている。
【特許文献１】特開平８−２３５６３８号公報
【０００４】
保護層の形成方法としては、厚み１００μｍの透明フィルムを貼り付ける方法、活性エネルギー線硬化型樹脂をスピンコートして１００μｍの厚みに塗工して硬化する方法等が挙げられる。このような保護層の形成に用いる活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば特許文献２や特許文献３等に記載される組成物など公知の光ディスク記録層保護用の組成物が挙げられる。
【特許文献２】特開２００４−２１７８７９号公報
【特許文献３】特開２００４−３５７１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記した大記録容量光ディスクは４０５ｎｍレーザー光の利用、対物レンズの高開口数、小さなトラックピッチや記録マーク長で実現している。その為にディスクの反りにより収差が発生し、書き込みや読み出しエラーにつながってしまう。
そのため１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さいことが要求される。さらに耐久試験を行った場合においても反りが大きくならないことが要求される。
【０００６】
またディスク表面に傷がついた場合にも書き込みや読み出しエラーにつながってしまう。そのため大記録容量光ディスクには表面硬度が要求される。光ディスクの表面はハードコート層を形成するのが一般的であるが、その表面硬度は保護層の硬度にも影響されるため、保護層にも表面硬度が要求される。
【０００７】
しかしながら前記した光ディスク記録層保護用の組成物では保護層の表面硬度が低いという課題があった。また特許文献４等に記載されるようなカチオン重合性紫外線硬化型樹脂組成物では、表面硬度は高いが、カチオン性光重合開始剤により記録膜や反射膜を腐食してしまう恐れがあった。
【特許文献４】特開２００４−３３１８７２号公報
【０００８】
本発明は、１００μｍの厚みの保護層を形成した際、保護性能に優れ、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光ディスクを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決する為に、活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有しない成分（A）１０〜６０重量部と活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）４０〜９０重量部を含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることにより、１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度に優れた光ディスクが得られることを発見した。
【００１０】
即ち、第１の発明は活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を実質的に有しない樹脂成分（A）１０〜６０重量部と活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）４０〜９０重量部を含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物である。
第２の発明は樹脂成分（A）が環状構造を有するポリエステル樹脂であることを特徴とする第１の発明の光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物である。
第３の発明は第１もしくは第２の発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化させてなる硬化物層を有する光ディスクである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を実質的に有しない樹脂成分（A）１０〜６０重量部と活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）４０〜９０重量部を含有することを特徴とする光ディスク用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いることにより、１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度に優れた光ディスクを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を、詳細に説明する。
本発明に係る活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を実質的に有しない樹脂成分（A）としては、特に環状構造を有するポリエステル樹脂であることが好ましい。この樹脂成分（A）は、本発明の樹脂組成物の硬化収縮低減に効果があり、１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合に光ディスクの反りが大きくならない効果があり、さらに表面硬度を付与する成分である。
【００１３】
本発明の環状構造を有するポリエステル樹脂はアルコールと酸のエステル化反応によって得られる。環状構造を有するアルコールとしてはシクロヘキサノール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールA、水素化ビスフェノールA、ビスフェノールF、水素化ビスフェノールF等が挙げられる。また環状構造を有しないアルコールとしてはノルマルブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、３−メチルペンタンジオール、２，４−ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール等が挙げられる。これらは単独でも、２種類以上を併用してもよい。
【００１４】
環状構造を有する酸としては安息香酸、パラ−ｔ−ブチル安息香酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸等が挙げられる。また環状構造を有しない酸としてはオレイン酸、アマニ油脂肪酸、大豆油脂肪酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、無水マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。これらは単独でも、２種類以上を併用してもよい。
【００１５】
環状構造を有するポリエステル樹脂の合成は、前記したアルコールと酸を用い、公知の方法を適宜選択して行えばよく、特に限定されるものではない。
環状構造を有するポリエステル樹脂の数平均分子量は１０００〜１００００であることが好ましく、さらに好ましくは２０００〜８０００であることが好ましい。数平均分子量が１０００より低いと、樹脂組成物の硬化物の表面硬度が低くなりやすく、１００００より高いと活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）への溶解性が悪くなりやすい。
環状構造を有するポリエステル樹脂以外にも、樹脂成分（A）として必要に応じて環状構造を有しないポリエステル樹脂や、アクリル樹脂、スチレンアクリル共重合樹脂、石油樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、塩ビ樹脂、塩酢ビ樹脂などを併用することができる。
【００１６】
本発明の組成物において、成分（A）の含有量は、成分（A）及び（B）の合計量１００重量部中、１０〜６０重量部が好ましく、２０〜５０重量部がより好ましい。成分（A）の含有量を１０〜６０重量部にすることで、１００μｍの厚みの保護層を形成した際に生じる樹脂組成物の硬化収縮による光ディスクの反りの抑制と、表面硬度の両立を図ることができる。
【００１７】
本発明に係る活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）としては、ラジカル重合系モノマーが用いられ、分子中にα，β−不飽和二重結合を有する２官能以上の多官能モノマーおよびもしくは単官能のモノマー、ビニル型モノマー、アリル型モノマー、アクリレート型もしくはメタクリレート型（以下、（メタ）アクリレート型という）モノマー等のラジカル重合系モノマーが挙げられる。また（メタ）アクリレート型モノマーは、α，β−不飽和二重結合以外の官能基を有する場合も有る。また、ラジカル重合系モノマーは、単独でも、または架橋密度を調整すべく２種類以上のモノマーを併用し得る。
【００１８】
（Ｂ）成分としては、上記したような比較的低分子量、例えば分子量が１０００未満のいわゆる狭義のモノマーの他、ある程度分子量の大きい、例えば重量平均分子量が１０００以上１００００未満のオリゴマー、プレポリマーも用いることができる。α，β−不飽和二重結合を有するオリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル化マレイン酸変性ポリブタジエン等を挙げることができる。
【００１９】
ビニル型モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、N−ビニルピロリドン、酢酸ビニル、N−ビニルホルムアルデヒド、N−ビニルカプロラクタム、アルキルビニルエーテル等が、アリル型モノマーとしては、トリメタクリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート等が挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートモノマーとして具体的には２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、クレゾール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、コハク酸（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（メタ）アクリレート、及びこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【００２０】
多官能（メタ）アクリレートモノマーとして具体的には１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールFジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエートトリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及びこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
【００２１】
本発明の組成物において、成分（B）の含有量は、成分（A）及び（B）の合計量１００重量部中、４０〜９０重量部が好ましく、５０〜８０重量部がより好ましい。
【００２２】
また、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には光重合開始剤を配合することができる。光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。例えば、ベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフォニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２−ヒドロキシ−２−メチル−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノールオリゴマー、イソプロピルチオキサントン、（４−（メチルフェニルチオ）フェニル）フェニルメタン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、エチルアントラキノン等であり、これらは単独でも、２種類以上を併用してもよい。
【００２３】
また光重合開始剤とともに、増感剤としてn-ブチルアミン、トリエチルアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチル等の脂肪族アミン、芳香族アミンを併用しても良い。光重合開始剤は活性エネルギー線線硬化型樹脂組成物の固形分を基準として２０重量％以下の割合で使用することができる。
【００２４】
また、上記活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合基を実質的に有しない樹脂成分（A）、および活性エネルギー線硬化性をもつ不飽和二重結合を有する成分（B）以外にレベリング剤、消泡剤、接着助剤、分散剤、乾燥調整剤、耐摩擦剤等の塗料添加剤を配合することができる。
塗工時の適度な粘度の確保、分散等の目的で、乾燥工程で基材への影響がない範囲内で溶剤が含まれてもよい。溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系化合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチル等のエステル系化合物、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系化合物、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族化合物、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素化合物、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノール等のアルコール類、水等が挙げられる。これら溶剤は単独でも、２種類以上を併用してもよい。
活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の組成物を上記の様な活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を実質的に有しない樹脂成分（A）と活性エネルギー線硬化性を持つ不飽和二重結合を有する成分（B）を主体とするものにすることにより、１００μｍの厚みの保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度にも優れる。
【００２５】
［実施例］
以下に実施例および比較例を挙げて本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、部、％は特に断りの無い限り重量基準である。
【００２６】
[実施例１]
成分（A）として１，６−ヘキサンジオール３２部、トリメチロールプロパン８部、テトラヒドロ無水フタル酸６０部を加熱重合して得られる、数平均分子量３１００、酸価５６の環状構造を有するポリエステル樹脂（PE−１）４０重量部、成分（B）としてウレタンアクリレート  フォトマー６２１０（コグニス社製）１５重量部、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート２０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２０重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。得られた組成物について光ディスク形状を有する厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板の片面に、前記樹脂組成物をスピンコーターで塗布して塗膜を形成し、これを１６０W／ｃｍメタルハライドランプ（アイグラフィック（株）社製）にて積算光量３０００ｍJ／ｃｍ２のエネルギー量で硬化させて、平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００２７】
[実施例２]
成分（A）として前記環状構造を有するポリエステル樹脂（PE−１）２５重量部、成分（B）としてウレタンアクリレート  紫光UV７５５０B（日本合成化学（株）社製）４０重量部、フェノキシエチルアクリレート３０重量部、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノールオリゴマー５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００２８】
[実施例３]
成分（A）として１，４−シクロヘキサンジメタノール４０部、１，６−ヘキサンジオール２０部、テトラヒドロ無水フタル酸４０部を加熱重合して得られる、数平均分子量５０００、水酸基価４５の環状構造を有するポリエステル樹脂（PE−２）４０重量部、成分（B）としてエポキシアクリレート  フォトマー３０１６（コグニス社製）２５重量部、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート１０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２０重量部、光重合開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノールオリゴマー５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００２９】
[実施例４]
成分（A）として前記環状構造を有するポリエステル樹脂（PE−２）２５重量部、成分（B）としてウレタンアクリレート  紫光UV７０００B（日本合成化学（株）社製）３０重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、フェノキシエチルアクリレート３０重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００３０】
[比較例１]
ウレタンアクリレート  紫光UV７５５０B（日本合成化学（株）社製）４０重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５重量部、フェノキシエチルアクリレート４０重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００３１】
[比較例２]
ウレタンアクリレート  フォトマー６１８４（コグニス社製）４０重量部、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート２０重量部、フェノキシエチルアクリレート３５重量部、２−ヒドロキシ−２−メチル−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノールオリゴマー５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００３２】
[比較例３]
ウレタンアクリレート  紫光UV６３００B（日本合成化学（株）社製）５０重量部、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート２０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２５重量部、２−ヒドロキシ−２−メチル−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノールオリゴマー５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００３３】
[比較例４]
ウレタンアクリレート  フォトマー６２１０（コグニス社製）６０重量部、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート１０重量部、テトラヒドロフルフリルアクリレート３５重量部、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン５重量部を添加して混合溶解して組成物を得た。これを実施例１と同条件で平均膜厚が１００μｍの硬化物層を有する光ディスクを作成した。
【００３４】
＜評価方法＞
以上のようにして得られた評価用光ディスクを下記の評価方法で評価した。
＜初期反り角＞
得られた評価用光ディスクについて、光ディスク特性測定装置（DR.Schenk（株）製、PROmeteusMT-136）を用いて、25℃、５０％RH環境下にて光ディスクの中心から半径５５ｍｍ位置における半径方向最大そり角を測定しこれを初期の反り角とし、下記評価基準により評価する。
○：０．２度以下
×：０．２度以上
＜試験後反り角＞
得られた評価用光ディスクを８０℃、８５％RHの環境条件下に１００時間放置した後、２５℃、５０％RH環境下にて１００時間放置した後の反り角を、前記と同様の方法で評価する。
＜鉛筆硬度＞
得られた評価用光ディスクに形成された硬化物層表面の硬度について、JIS−５４００に準拠して鉛筆硬度を測定し、下記基準により評価する。
○：HBより硬い
×：HBより柔らかい
＜４０５ｎｍ透過率＞
得られた評価用光ディスクから剥離した硬化物層について、紫外可視分光光度計UV３６００（島津製作所（株）製）を用い、空気をリファレンスとして波長４０５ｎｍにおける光線透過率（％）を測定し、下記評価基準により評価する。
○：８５％以上
×：８５％以下
＜評価結果＞
実施例で示した活性エネルギー線硬化型樹脂組成物では、初期反り角、試験後反り角、鉛筆硬度、４０５ｎｍ透過率を問題なく満足した。
実施例１から４及び比較例１から４の評価結果を表１にまとめて示す。
【００３５】
【表１】
2007234189.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を用いると、保護層を形成した際、光ディスクの反りが小さく、耐久試験を行った場合においても反りが大きくならず、さらに表面硬度に優れた光ディスクを得ることができる。