(57)【要約】【課題】現像工程に起因して着色膜の局所的な剥がれが発生するのを抑制し、これにより、点欠陥等の不良の発生率を低減することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】カラーフィルタ層５をなすストライプ状の各着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇがスピンコーティング法を用いた現像を含む工程により作製される。このような場合に、着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇから局所的に張り出す張り出し部５１について、現像液の滴下箇所９１から見て遠い側へと張り出すように設ける。【選択図】図１
2007240888.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一主面上に、交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線、及び、これらの交差部毎に配置された画素電極を駆動するスイッチング素子を有するアレイ基板と、スペーサ及びシール材を介して前記アレイ基板に貼り合わされた対向基板と、前記アレイ基板及び前記対向基板によりそれぞれの配向膜を介して挟持された液晶層と、前記アレイ基板または前記対向基板上に各色の着色膜パターンからなる一つの塗り分けストライプパターンとして形成されたカラーフィルタ層と、前記着色膜パターンの塗り分け境界が局所的に一方へと張り出して形成された着色膜パターン張り出し部とを備え、この着色膜パターン張り出し部は、前記着色膜パターンを形成するための現像液の流れの下流方向側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記着色膜パターン張り出し部は画像表示エリアの中央部に対して夫々反対方向に位置するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記着色膜パターン張り出し部の上に選択的に柱状スペーサが設けられたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
一主面上に、交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線、及び、これらの交差部毎に配置された画素電極を駆動するスイッチング素子を有するアレイ基板と、スペーサ及びシール材を介して前記アレイ基板に貼り合わされた対向基板と、前記アレイ基板及び前記対向基板によりそれぞれの配向膜を介して挟持された液晶層と、前記アレイ基板または前記対向基板上に各色の着色膜パターンからなる一つの塗り分けストライプパターンとして形成されたカラーフィルタ層と、前記着色膜パターンの塗り分け境界が局所的に一方へと張り出して形成された着色膜パターン張り出し部とを備える液晶表示装置の製造方法であって、
前記各着色膜パターンを形成する際には、前記のアレイ基板もしくは対向基板、または、これらのいずれかを切り出す前の原基板上で、樹脂材料の塗布または成膜と、パターニングと、スピンを用いた現像とが行われ、このパターニングの際には、前記各着色膜パターン張り出し部が、前記での現像液滴下箇所から見て遠い側へと張り出すように設けられることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記カラーフィルタ層の形成の後、その着色膜パターン張り出し部上に、選択的に柱状スペーサが形成されることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対向基板もしくはアレイ基板に着色層（カラーフィルタ層）を形成した液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、配向膜を有する２枚の電極基板（アレイ基板及び対向基板）を配向膜が対向するように配置し、２枚の基板間に液晶層を挟持している。この２枚の電極基板は周辺領域に配置されたシール材および封止材によって貼り合わされており、この２枚の基板間には、基板間の距離を一定に保つために粒状（球状）スペーサが配置されるか、またはフオトリソグラフイー法により形成された樹脂からなる柱状スペーサが配置される。カラー表示を行う場合には、通常、一方の基板に、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の各着色膜パターンからなる一つのカラーフィルタ層が配置される。作製の容易さなどから各着色膜パターンがストライプパターンで形成されることが多い。
【０００３】
画素ドット間にて一の着色膜パターンとその隣の着色膜パターンとの継ぎ目ができる箇所は多少の段差になることが多い。そのため、カラーフィルタ層の上に柱状スペーサを設ける場合には、着色膜パターン同士の継ぎ目を避けて配置することにより、基板間の間隔（セルギャップ）の均一性を向上させることができる。
【０００４】
しかし、例えば透過画素ドットの開口率を向上するため、または、別の回路や構造物を配置するために、画素ドット間に柱状スペーサを設けるべき場合もあった。そこで、赤色（Ｒ）のストライプパターンからのタブ状張り出し部と、その隣の緑色（Ｇ）のストライプパターンからのタブ状張り出し部とを重ね合わせ、さらに青色（Ｂ）の着色膜のパッチ状パターンを重ね合わせるというような方式で、画素ドット間の箇所に柱状スペーサを設けることも提案されている（特許文献１）。
【０００５】
一方、近年、厚型の樹脂絶縁膜を介して、画素電極の四周の縁部を信号線及び走査線と重ね合わせることが行われている。樹脂絶縁膜は、例えば１μｍ以上の厚さを有する低誘電率の有機樹脂からなり、これを介して重ねられる画素電極と信号線等との間での、電気容量の発生や短絡のおそれを充分に小さくすることを可能にするものである。このような樹脂絶縁膜の配置により、画素開口率または光反射率ないし光源光の利用率を向上させることができる。特には、透過型液晶表示装置にあって、位置合わせマージンに起因する画素開口の損失をなくすことができるので、画素開口率を大きく向上することができる。このようなアレイ基板上の樹脂絶縁膜は、同時にカラーフィルタ層として用いられることが可能であり、例えば、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の各着色膜パターンがそれぞれ顔料を分散させた樹脂材料の塗布、マスクパターンを用いた露光、及び現像の工程を経て設けられる（例えば特許文献２）。
【特許文献１】特開２００１−３１８３６９公報
【特許文献２】特開２００２−１８２２３６公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本件発明者は、各着色膜パターンにタブ状張り出し部を設けた場合に、設けない場合に比べ、現像工程中に、着色膜の一部が剥がれやすいという問題に気づいた。着色膜に剥がれ箇所が生じた場合、その箇所から白色光が漏れ出すことから画素表示不良を発生させることがある。また、着色膜が、アレイ基板上にて樹脂絶縁膜を兼ねている場合、信号線等の配線を露出させ、輝点（常に白表示となる点欠陥）や滅点（常に黒表示となる点欠陥）を発生させる可能性もある。
【０００７】
そこで、本件発明者らは鋭意検討した結果、スピン現像の現像液の流れる方向と、タブ状張り出し部の向きによって、着色膜の剥がれの頻度が異なることを発見し、本発明に至った。
【０００８】
以上のように、本発明は、カラーフィルタ層をなす各着色膜パターンが、樹脂材料の塗布または成膜、及びパターニングと、スピン現像とにより形成される場合において、着色膜の局所的な剥がれが発生するのを抑制し、これにより、不良の発生率を低減することのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液晶表示装置は、一主面上に、交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線、及び、これらの交差部毎に配置された画素電極を駆動するスイッチング素子を有するアレイ基板と、スペーサ及びシール材を介して前記アレイ基板に貼り合わされた対向基板と、前記アレイ基板及び前記対向基板によりそれぞれの配向膜を介して挟持された液晶層と、前記アレイ基板または前記対向基板上に各色の着色膜パターンからなる一つの塗り分けパターンとして形成されたカラーフィルタ層と、前記着色膜パターンの塗り分け境界が局所的に一方へと張り出して形成された着色膜パターン張り出し部とを備え、この着色膜パターン張り出し部は、前記着色膜パターンを形成するための現像液の流れの下流方向側に形成されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一主面上に、交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線、及び、これらの交差部毎に配置された画素電極を駆動するスイッチング素子を有するアレイ基板と、スペーサ及びシール材を介して前記アレイ基板に貼り合わされた対向基板と、前記アレイ基板及び前記対向基板によりそれぞれの配向膜を介して挟持された液晶層と、前記アレイ基板または前記対向基板上に各色の着色膜パターンからなる一つの塗り分けストライプパターンとして形成されたカラーフィルタ層と、前記着色膜パターンの塗り分け境界が局所的に一方へと張り出して形成された着色膜パターン張り出し部とを備える液晶表示装置の製造方法であって、前記各着色膜パターンを形成する際には、前記のアレイ基板もしくは対向基板、または、これらのいずれかを切り出す前の原基板上で、樹脂材料の塗布または成膜と、パターニングと、スピン現像とが行われ、このパターニングの際には、前記各着色膜パターン張り出し部が、前記スピン現像での現像液滴下箇所から見て遠い側へと張り出すように設けられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、現像工程に起因して着色膜の局所的な剥がれが発生するのを抑制し、これにより、点欠陥等の不良の発生率を低減することができる。そのため、現像時間のエラーマージンといった加工マージンを大きくとることもできる。また、張り出し部に柱状スペーサを配置する場合には、基板間の間隔（セルギャップ）の均一性を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
＜実施形態の基本構成＞
本発明の実施形態になる液晶表示装置及びその製造方法について、まず図１を用いて説明する。
【００１３】
図１の、ごく模式的な平面図ないしは説明図には、個々のアレイ基板１０（図３の場合）もしくは対向基板１０２（図４の場合）を切り出すための大型の原基板（マザー基板）１を示す。カラーフィルタ層５をなす各色の着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇの配置構成について、スピン現像における現像液の流れ９２等との関連で模式的に示す。
【００１４】
図１中に模式的に示すように、スピン現像を行う基板１０，１０２’には、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇが、ストライプ状に配列されており、図示の例では、信号線３１に沿った方向に、信号線３１の箇所をその塗り分けの境界５２とするように配置されている。また、各着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇには、その長さ方向における一定の間隔ごとに、塗り分けの境界５２が局所的に一方へと矩形のタブ状に張り出した張り出し部５１が設けられる。
【００１５】
図示の例において、張り出し部５１は、走査線１１と信号線３１との交差部に、それぞれ設けられており、各張り出し部５１の形状及び寸法は互いに等しく、隣り合う着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇ間で、信号線３１方向における同一の位置に張り出し部５１が配置される。また、図示の一具体例においては、各張り出し部５１は、信号線３１方向に長い長方形であり、走査線１１方向の寸法が信号線１１方向の寸法の１／２乃至１／３である。さらには、各着色膜パターン５Ｒ、５Ｂ及び５Ｇの各張り出し部５１の３個に１個、換言すれば、各着色膜パターン５Ｒ、５Ｂ及び５Ｇの各張り出し部５１の各組に１個の割合で、所定の張り出し部（図示の場合は青色の着色膜パターン５Ｂの張り出し部）５１上に柱状スペーサ８が設けられる。
【００１６】
図１中に示すように、現像を行う基板１０，１０２’の中心部、すなわち現像液の滴下箇所９１を基準にして、張り出し部５１は、いずれも放射方向の外側に来るように配置されている。したがって、図１の例において、現像液の滴下箇所９１に対して、図示の状態における右半分では、張り出し部５１が各着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇから右側へと張り出しており、左半分では、張り出し部５１が各着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇから左側へと張り出している。
【００１７】
着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇを順次形成するにあたり、各現像工程がスピン現像装置を用いた現像液の滴下と流動・排出により行われる。この際、図１中に示すように、基板のスピン９４による遠心力９３が滴下された現像液に作用する結果、露光工程を経た着色膜パターンには、現像液の流れ９２に沿って流動した現像液が衝突することとなる。しかし、着色膜パターンの各張り出し部５１がいずれも現像液の流れる方向の下流側に位置し、上流側にはこの各張り出し部５１が形成されるべき対応する凹部が位置する。そのため、現像液の流れ９２による応力が集中するような尖端部などが形成されない。したがって、現像液の流れ９２に沿って流動した現像液が直接張り出し部５１に衝突することによる着色膜パターンの剥がれは、最小限に抑えられる。
【００１８】
次に、図２を用いて、一例としての液晶表示装置１００について説明する。図２に示す例では、図１の原基板１から、カラーフィルタ層５を形成したアレイ基板１０または対向基板１０２’が切り出され、図示しないカラーフィルタ層５を備えない別異の原基板から切り出された対向基板１０２またはアレイ基板１０とが組み合わされて液晶表示装置１００が組み立てられている。例えば、原基板１から切り出されたカラーフィルタ層５を有する複数のアレイ基板１０または対向基板１０２´のうち、現像液の滴下箇所９１直下に位置していたアレイ基板１０または対向基板１０２´においては、画像表示エリア１００Ａの向かって右半分においては、着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇの各張り出し部５１が、右側に張り出して設けられている。また、画像表示エリア１００Ａの向かって左半分においては、着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇの各張り出し部５１が、左側に張り出して設けられている。
【００１９】
なお、カラーフィルタ層５を設けるための現像が、アレイ基板１０または対向基板１０２のサイズに切り出された単体単位の状態で行われる場合にも、全く同様である。また、例えば、図１のような原基板１から９個の同一サイズのアレイ基板１０または対向基板１０２が切り出される場合、中心に位置する１個については、図２のような液晶表示装置が得られるが、その他の箇所に位置する個々のアレイ基板１０または対向基板１０２´の場合には、現像液の流れる方向に対して各張り出し部５１は下流方向側に形成されるが、その形成方向は全て同一方向に形成され、その原基板１に対する配置位置に応じて全て右側もしくは左側に向いた状態として形成される。また、図１のような原基板１から大小の異なるサイズのアレイ基板１０または対向基板１０２が切り出される場合、切り出されたもののうち、あるものは、図２のような状態となることが考えられる。なお、この場合、張り出し部５１が右側に張り出した領域と、左側へと張り出す領域との境界が、左右方向の中心線近傍に来るとは限らない。
【００２０】
＜カラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）の実施形態（図３）＞
図３の模式的な積層断面図には、カラーフィルタ層５をアレイ基板１０上に設けた場合、すなわちカラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）方式の液晶表示装置１００を示す。液晶表示装置１００は、カラーフィルタ層５を有するアレイ基板１０と、対向基板１０２との間に液晶層１０１を挟持しており、これら２枚の基板間の距離は、樹脂からなる柱状スペーサ８によって保持されている。アレイ基板１０と対向基板１０２とは、図２に示すように、液晶注入口８６を除く基板外周を囲むように配置されるシール材１０９よって接着され、液晶注入口には封止材８５が塗布されている。
【００２１】
図３中に示すように、アレイ基板１０は、ガラス板等からなる透明基板１８上に、画素ドットごとのスイッチング素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７と、該ＴＦＴ７のソース電極３３に導通された画素ドットごとの画素電極６とを備えている。そして、ＴＦＴ７を覆うように、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇが、ストライプ状に配列されている。画素電極６は、着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇの上に配置されており、各着色膜パターンに形成されているスルーホール５３を介して、ＴＦＴ７のソース電極３３に導通されている。更には、画素電極６、及び着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ及び５Ｇを覆うように基板全面に配向膜１０６が配置されている。
【００２２】
以下に、図３に示す液晶表示装置１００の製造工程について説明する。
【００２３】
(１) アレイ配線層１０Ａ
ガラス板等からなる透明基板１８上にて、成膜及びフォトリソグラフィーによるパターニングを繰り返して、走査線（ゲート電極）１１、信号線（ドレイン電極）３１、及びこれらの交差部ごとに配置されるＴＦＴ７を含むアレイ配線層１０Ａを形成した。ＴＦＴ７がアモルファスシリコン活性層からなるボトムゲート型である場合、例えば次のようにしてアレイ配線層１０Ａが設けられる。モリブデン膜をスパッタリングにより成膜し、フォトリソグラフィーにより所定の形状にパターン形成して、走査線（ゲート線、ゲートバスライン）１１を作成する。その上に、二酸化珪素あるいは窒化珪素から成る膜厚０．１５μｍのゲート絶縁膜１５を形成し、引き続き、その上にＴＦＴの半導体層（図示せず）を設ける。次いで、膜厚０．３μｍのアルミニウム金属（AL）層から成る信号線（ドレインバスライン）３１とソース電極３３を形成し、ＴＦＴ７を完成させる。
【００２４】
(２) カラーフィルタ層
続いて、赤色の顔料を分散させた感光性レジスト樹脂をスピンナー（spinner; spin coater）で全面塗布し、９０℃で約５分の乾燥（プリベーク）後、赤色の着色層を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介して、露光量が１５０ｍＪ／ｃｍ2となるように露光を行う。次に、スピン現像装置にて、テトラメチル・アンモニウム・ハイドライド（ＴＭＡＨ）の０．１ｗｔ％水溶液を用いて約６０秒間現像し、さらに水洗い後、約２００℃で約１時間焼成（ポストベーク）することにより、ＴＦＴ７の近傍に張り出し部５１を有する赤色の着色膜パターン５Ｒを形成した。同様の工程にて、緑色及び青色の顔料をそれぞれ分散させた感光性レジスト樹脂を用いて、張り出し部５１を有する緑色及び青色の着色膜パターン５Ｇ及び５Ｂを順次形成した。
【００２５】
このようにして、厚型樹脂膜としての膜厚約１．５μｍのカラーフィルタ層５と、直径１５μｍの円形のコンタクト・ホール５３とを形成した。
【００２６】
(３) 画素電極及び黒色樹脂パターン
次いで、インジウム・スズ酸化物（ITO）を、例えば膜厚約０．１μｍにスパッタリングしてフォトリソグラフィーにより画素電極６のパターンを形成した。
【００２７】
また、感光性の黒色樹脂をスピンナーで塗布し、９０℃で約５分の乾燥（プリベーク）後、画像表示エリア１００Ａの外周部にだけ紫外線が照射されるようなフォトマスクを介して、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2で露光を行った。その後、スピン現像装置にて、テトラメチル・アンモニウム・ハイドライド（ＴＭＡＨ）の０．１ｗｔ％水溶液を用いて約６０秒間現像し、さらに水洗い後、約２００℃で約１時間焼成（ポストベーク）することにより、額縁状の遮光膜８２のパターンを形成した。
【００２８】
その後、ポリイミドからなる配向膜材料を基板全面に塗布し成膜した後、配向処理を施して配向膜１０６を形成した。
【００２９】
次いで、アクリル樹脂からなる感光性レジスト樹脂を全面に塗布し、青色の着色膜パターン５Ｂの張り出し部５１上に柱状スペーサ８が形成されるようにパターニングされたフォトマスクを用いて同様な露光、現像工程によって張り出し部５１上に柱状スペーサ８を形成した。
【００３０】
(４) 液晶パネルの組立
一方で、対向基板１０２を作製しておいた。すなわち、ガラス板等からなる透明基板１８上に、インジウム・スズ酸化物（ITO）を画素電極６の形成の場合と同様に堆積して対向電極１０７を設け、さらにアレイ基板１０の場合と同様にして配向膜１０６を形成した。
【００３１】
そして、対向基板１０２の外周に沿ってシール材１０９を、液晶注入口８６を除いて塗布した。塗布後、アレイ基板１０を貼り合わせると、空状態の「セル」が完成する。
【００３２】
次に、カイラル材が添加されたネマティック液晶材料を、注入口８６からセル内に真空注入した後、封止材８５としての紫外線硬化樹脂を用いて封止した後、セルの両側にそれぞれ偏光板を配置する。このようにして完成した液晶パネル本体（液晶セル）に、駆動ＩＣ及び配線基板を実装することにより液晶表示装置が得られる。
【００３３】
なお、これら液晶パネル本体（液晶セル）を原基板１上で複数個まとめて一斉に形成した場合には、空のセルの状態、あるいは封止材８５で封止した状態、もしくは偏光板を装着した状態で個々に切り出し、その後の同様な製造工程を経ることで形成することも可能である。
【００３４】
以上のような液晶表示装置の製造方法であると、カラーフィルタ層５を作製するための現像時間を長く設定しても現像液の流れによる着色膜パターンの剥がれも抑制することができ表示不良の発生率が少なかった。また、着色膜のパターンに張り出し部５１を設けずに柱状スペーサ８を配置する場合と比較して、基板間の間隔（セルギャッブ）の均一性が向上した。
【００３５】
＜カラーフィルタ基板の実施形態（図４）＞
図４の模式的な積層断面図には、カラーフィルタ層５を対向基板１０２’上に設けた場合、すなわち対向基板がカラーフィルタ基板である場合の液晶表示装置１００’を示す。
【００３６】
対向基板１０２’にあっては、透明基板１８上に、図２の場合と同様の遮光膜８２及びカラーフィルタ層５が設けられ、これを覆うようにＩＴＯからなる対向電極１０７及び配向膜１０６がこの順に積層されている。また、柱状スペーサ８が着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ，５Ｇの張り出し部５１に設けられる。
【００３７】
一方、アレイ基板１０´上には、カラーフィルタ層５に代えて、窒化シリコン等からなる層間絶縁膜４が配置されており、遮光膜８２は設けられていない。
【００３８】
以下に、図４に示す実施形態の液晶表示装置の製造工程について説明する。
【００３９】
まず、ガラス板等からなる透明基板１８上に、感光性の黒色樹脂をスピンナーで塗布し、９０℃で約５分の乾燥（プリベーク）後、表示エリア１００Ａの外周部に紫外線が照射されるようなフォトマスクを介して、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2で露光を行った。その後、スピン現像装置にて、テトラメチル・アンモニウム・ハイドライド（ＴＭＡＨ）の０．１ｗｔ％水溶液を用いて約６０秒間現像し、さらに水洗い後、約２００℃で約１時間焼成（ポストベーク）することにより、遮光膜８２のパターンを形成した。
【００４０】
次いで、図３の実施形態の場合と全く同様にして、カラーフィルタ層５を形成し、この後、カラーフィルタ層５を覆うように、インジウム・スズ酸化物（ITO）を全面にスパッタリングして対向電極１０７を形成した。続いて、遮光膜８２を設けたと同様の工程により、柱状スペーサ８を、着色膜５Ｒ，５Ｂ，５Ｇの張り出し部５１上に、例えば３個に１個の割合で形成した。この後、同様にして配向膜１０６を形成した。
【００４１】
一方、上記と同様にアレイ基板１０’を作製した。但し、カラーフィルタ層５に代えて、ＣＶＤ法により層間絶縁膜４を設け、遮光膜８２及び柱状スペーサ８は設けていない。そして、上記と同様にシール材を対向基板１０２’に塗布した後、貼り合わせて、液晶表示装置１００’を得た。
【００４２】
このようにして図４の液晶表示装置１００’を製造する場合、図３の液晶表示装置の場合と全く同様に、カラーフィルタ層５を作製するための現像時間を長く設定しても現像液の流れによる着色膜パターンの剥がれも抑制することができ表示不良の発生率が少なかった。また、着色膜のパターンに張り出し部５１を設けずに柱状スペーサ８を配置する場合と比較して、基板間の間隔（セルギャッブ）の均一性が向上した。
【００４３】
なお、本発明は、上記の実施の形態に限定されることなく種々の応用や変形が可能である。例えば、シール材１０９は対向基板１０２，１０２´側に塗布する代わりにアレイ基板１０，１０´側に設けるようにしても同様に構成することが可能であり、また同様に、遮光膜８２も図３の場合に対向基板１０２側に、図４の場合にはアレイ基板１０´側に形成しても同様の効果がある。更に、柱状スペーサ８は必ずしも青色の着色膜パターン５Ｂの張り出し部５１に形成する必要はなく、いずれかの着色膜パターン５Ｒ，５Ｂ，５Ｇの張り出し部５１に形成されればよい。また、この柱状スペーサ８は当該張り出し部５１の全てにわたって形成すればセルギャップの点で有利であるが、セルギャップが確保できるのであれば、その個数を減少させて、例えば１つ置きに形成したり、あるいは画像表示エリア１００Ａの中央部付近では密に、周辺部では粗となるようにアンバランスに形成しても差し支えない。
【００４４】
また、張り出し部は図示したようなタブ形状だけでなく、台形であったり半円形状であっても良く、また角の部分を丸めたりカットした形状にしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】カラーフィルタ層をなす各色の着色膜パターンの塗り分け構成、及びスピンナー装置による現像液の供給及び排出について説明するための、実施形態に係る模式的な平面図である。
【図２】一実施形態の液晶表示装置についてその構成の要部を説明するための平面図である。
【図３】カラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）構造の場合の一実施形態の液晶表示装置についての模式的な積層断面図である。
【図４】対向基板がカラーフィルタ基板である場合の一実施形態の液晶表示装置についての模式的な積層断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  原基板              １０、１０´  アレイ基板      １０Ａ  アレイ配線層
１００  液晶表示装置        １００Ａ  画像表示エリア      １０１  液晶層
１０２、１０２´  対向基板  １０６    配向膜              １０７  対向電極
１０９    シール材            １１  走査線                  ３１  信号線  
５  カラーフィルタ層    ５Ｒ，５Ｂ，５Ｇ  赤色、青色及び緑色の着色膜
５１  着色膜張り出し部    ５２  着色膜の塗り分け境界        ６  画素電極  
７  ＴＦＴ                ８  柱状スペーサ              ８２  遮光膜
９１  滴下箇所            ９２  現像液の流れ方向          ９３  遠心力方向
【図１】
2007240888.tif 000003
【図２】
2007240888.tif 000004
【図３】
2007240888.tif 000005
【図４】
2007240888.tif 000006