(57)【要約】【課題】従来の反射防止構造体は、これを成形するための成形型の作製が困難であり、これにより微細凹凸の大きさや形状が制約されるので、反射防止機能をより高めることが難しいという問題点があった。【解決手段】基礎面上に可視光線の波長よりも小さいピッチで多数の微細凸部（微細構造）Ａ１を配列させた反射防止構造体であって、微細凸部Ａ１が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成すものとすることで、当該反射防止構造体を成形するための成形型を容易に作製することを可能にし、微細凸部Ａ１を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基礎面上に可視光線の波長よりも小さいピッチで多数の微細構造を配列させた反射防止構造体であって、微細構造が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成していることを特徴とする反射防止構造体。
【請求項２】
微細構造において、最下段の平面形状を決定する円の直径Ｄ１が、１００ｎｍ＜Ｄ１＜３８０ｎｍであると共に、各段の段差Ｔが、１ｎｍ＜Ｔ＜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の反射防止構造体。
【請求項３】
微細構造において、最上段の平面形状を決定する円の直径Ｄｔが、Ｄｔ＜５０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止構造体。
【請求項４】
微細構造において、その高さＨと最下段の平面形状を決定する円の直径Ｄ１との比Ｈ／Ｄ１が、０．５＜Ｈ／Ｄ１＜５であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止構造体。
【請求項５】
微細構造において、最下段から最上段に至る各段の上面のエッジが、底面に平行な軸をＸ軸、底面に垂直な軸をＺ軸、微細構造の高さをＨ、微細構造の底面の平面形状に外接する円の直径をＤとしたときに、Ｘ＝（Ｄ／２）×（１−（Ｚ／Ｈ）ｎ）の１次〜３次の線形式で表される直線又は曲線を稜線とする錐体に内接していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止構造体。
【請求項６】
微細構造において、最下段から最上段に至る各段の上面のエッジが、底面に平行な軸をＸ軸、底面に垂直な軸をＺ軸、微細構造の高さをＨ、微細構造の底面の平面形状に外接する円の直径をＤとしたときに、Ｚ＝（Ｈ／（（Ｄ／２）ｎ））×Ｘｎの１次〜３次の線形式で表される直線又は曲線を稜線とする錐体に内接していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止構造体。
【請求項７】
微細構造が、隣接する微細凸部の最下段同士を接触させた状態で配列してあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止構造体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止構造体を基材の少なくとも１面に形成したことを特徴とする反射防止成形品。
【請求項９】
基材の１面が多層反射防止膜から成ることことを特徴とする請求項８に記載の反射防止成形品。
【請求項１０】
透明材料を用いて形成したことを特徴とする請求項８又は９に記載の反射防止成形品。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の反射防止成形品を製造するに際し、多数の微細構造に対応する反転した微細構造を備えた成形型を作製し、成形型及び基材の少なくとも一方を加熱して成形型及び基材を互いに圧接させることにより、基材の表面に多数の微細構造を転写することを特徴とする反射防止成形品の製造方法。
【請求項１２】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の反射防止成形品を製造するに際し、多数の微細構造に対応する反転した微細構造を備えた成形型を作製し、成形型と基材の間に活性エネルギー線により硬化する樹脂を充填した後、この樹脂に活性エネルギー線を照射して基材の表面に多数の微細構造を形成することを特徴とする反射防止成形品の製造方法。
【請求項１３】
請求項８〜１０のいずれか１項に記載の反射防止成形品を用いたことを特徴とする自動車用部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば車両の計器類などの各種表示装置において、その表示部を覆うのに用いられる反射防止構造体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の反射防止構造体としては、透明材料から成る基材の表面に、可視光線の波長よりも小さいピッチで断面正弦波状、断面三角形状及び断面台形状のいずれかを成す多数の微細凹凸を形成し、その微細凹凸によって厚み方向に光の屈折率を変化させることで、反射光を抑制するものがあった（特許文献１）。この反射防止構造体は、例えば光の屈折率が異なる複数種の膜を積層して成る多層反射防止膜に比べて、反射率を大幅に低減させることができる。
【特許文献１】特開２００２−２６７８１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、上記したような従来の反射防止構造体は、微細凹凸が断面正弦波状、断面三角形状又は断面台形状であることから、当該反射防止構造体を成形するための成形型を作製する際、微細凹凸の斜面に対応する部分を形成するのが非常に困難であり、これにより微細凹凸の大きさや形状が制約されるので、反射防止機能をより高めることが難しいという問題点があり、このような問題点を解決することが課題であった。
【０００４】
本発明は、上記従来の課題に着目して成されたものであって、当該反射防止構造体を成形するための成形型を容易に作製することが可能であり、微細構造を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現することができる反射防止構造体を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の反射防止構造体は、基礎面上に可視光線の波長よりも小さいピッチで多数の微細構造を配列させ、微細構造により厚み方向に光の屈折率を変化させることで反射光を抑制するものである。
【０００６】
そして、反射防止構造体は、微細構造が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成していることを特徴としており、より好ましくは、微細構造において、最下段の平面形状を決定する円の直径Ｄ１が、１００ｎｍ＜Ｄ１＜３８０ｎｍであると共に、各段の段差Ｔが、１ｎｍ＜Ｔ＜１００ｎｍであることを特徴としている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の反射防止構造体は、微細構造が階段状を成していることから、当該反射防止構造体を成形するための成形型を作製する際には、電子線描画装置などにより垂直に掘り進むのみで微細構造に対応した反転した階段状の微細構造を形成することができ、成形型を容易に作製することができる。そして、反射防止構造体は、上記の成形型を用いて成形することで、微細構造を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の反射防止構造体は、透明パネル等の基材の基礎面上に、可視光線の波長（最小波長：３８０ｎｍ）よりも小さいピッチで多数の微細凸部（微細構造）を配列させたものであり、図１〜図３に示すように、微細凸部が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成している。
【０００９】
図１（ａ）（ｂ）に示す微細凸部Ａ１は、平面形状が円であって、頂部に向けて面積が漸次減少する円形の各段を同心状に備えており、図１（ｃ）に示すように、基礎面上に六方細密配列のパターンで設けてある。
【００１０】
図２（ａ）（ｂ）に示す微細凸部Ａ２は、平面形状が矩形であって、頂部に向けて面積が漸次減少する矩形の各段を同心状に備えており、図２（ｃ）（ｄ）に示すように、基礎面上に正方配列や六方細密配列のパターンで隙間無く設けてある。
【００１１】
図３（ａ）（ｂ）に示す微細凸部Ａ３は、平面形状が三角形であって、頂部に向けて面積が漸次減少する三角形の各段を同心状に備えており、図３（ｃ）に示すように、基礎面上に隙間無く設けてある。
【００１２】
上記構成を備えた反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３が階段状を成していることから、当該反射防止構造体を成形するための成形型を作製する際には、電子線描画装置などにより垂直に掘り進むのみで微細凸部Ａ１〜Ａ３に対応した階段状の微細凹部（反転した微細構造）を形成することができる。よって、斜面を有する微細凹凸を備えた従来のものに比べて、成形型を容易に作製することが可能となる。
【００１３】
本発明の反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３において、最下段の平面形状を決定する円の直径Ｄ１、すなわち図１に示す円形の微細凸部Ａ１ではその直径Ｄ１、図２及び図３に示す矩形及び三角形の微細凸部Ａ２，Ａ３ではこれらに外接する円の直径Ｄ１が、１００ｎｍ＜Ｄ１＜３８０ｎｍの範囲であることが望ましく、また、各段の段差Ｔが、１ｎｍ＜Ｔ＜１００ｎｍの範囲であることが望ましい。
【００１４】
これは、円の直径Ｄ１を１００ｎｍ以下にすると、成形方法に制約を受けて当該反射防止構造体の製造や当該反射防止構造体を成形するための成形型の作製が困難になるからであり、また、円の直径Ｄ１を３８０ｎｍ以上つまり可視光線の最小波長以上にすると、可視光線の一部が構造を認識することで拡散が生じ、充分な反射防止機能が得られなくなるからである。したがって、円の直径Ｄ１を上記範囲とすることで、当該反射防止構造体の製造や電子線描画装置などを用いた成形型の作製が容易になり、且つ充分な反射防止機能が得られることとなる。
【００１５】
また、本発明の反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３において、最上段の平面形状を決定する円の直径Ｄｔが、Ｄｔ＜５０ｎｍの範囲であることが望ましい。
【００１６】
これは、円の直径Ｄｔを５０ｎｍ以上にすると、（損傷を受け難くなるものの）反射特性が低下するからである。したがって、円の直径Ｄｔを５０ｎｍ未満とすることで、充分な反射特性が確保される。
【００１７】
さらに、本発明の反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３において、その高さＨと最下段の平面形状を決定する円の直径又は多角形に外接する円の直径Ｄ１との比（アスペクト比）Ｈ／Ｄ１が、０．５＜Ｈ／Ｄ１＜５の範囲であることが望ましく、より好ましくは比Ｈ／Ｄ１を１＜Ｈ／Ｄ１＜３の範囲とし、さらに好ましくは比Ｈ／Ｄ１を１．５＜Ｈ／Ｄ１＜３の範囲とする。
【００１８】
これは、アスペクト比Ｈ／Ｄ１を０．５以下にすると、微細凸部Ａ１〜Ａ３の高さＨが過小となって充分な反射防止機能が得られなくなるからであり、また、アスペクト比Ｈ／Ｄ１を５以上にすると、微細凸部Ａ１〜Ａ３の高さＨが過大となってその成形や成形型からの離型が困難になるからである。したがって、アスペクト比Ｈ／Ｄ１を上記範囲にすることで、充分な反射防止機能が得られ、且つ成形性も良いものとなる。
【００１９】
さらに、本発明の反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３において、最下段から最上段に至る各段の上面のエッジが、底面に平行な軸をＸ軸、底面に垂直な軸をＺ軸、微細凸部の高さをＨ、微細凸部の底面の円又は多角形に外接する円の直径をＤとしたときに、
Ｘ＝（Ｄ／２）×（１−（Ｚ／Ｈ）ｎ）                                （式１）
Ｚ＝（Ｈ／（（Ｄ／２）ｎ））×Ｘｎ                                  （式２）
（式１）又は（式２）の１次〜３次の線形式で表される直線又は曲線を稜線とする錐体に内接していることが望ましい。
【００２０】
すなわち、図１に示す円形の微細凸部Ａ１では、図１（ｄ）に示すように、１次の線形式で表される直線を稜線とする錐体である円錐に各段の上面のエッジが内接している。換言すれば、最下段から最上段に至る各段の上面のエッジを結ぶ軌跡が１次の線形式で表される直線となっている。また、図２に示す矩形の微細凸部Ａ２では、図２（ｅ）に示すように、２次の線形式で表される曲線を稜線とする錐体である概略四角錐又は概略円錐に各段の上面のエッジが内接している。
【００２１】
これにより、微細凸部Ａ１〜Ａ３を理論計算上の最適な形状にすることができ、反射防止効果をより高めることができる。
【００２２】
さらに、本発明の反射防止構造体は、微細凸部（微細構造）Ａ１〜Ａ３が、図１（ｃ）、図２（ｃ）、図２（ｄ）及び図３（ｃ）に示すように、隣接する微細凸部の最下段同士を接触させた状態で配列してあることが望ましく、これにより、微細凸部Ａ１〜Ａ３において、最上段から最下段に至る間で屈折率がなだらかに変化することとなり、反射防止効果をより高めることができる。
【００２３】
上記の反射防止構造体は様々な反射防止成形品に適用することができ、この場合、成形品の基材の少なくとも１面に反射防止構造体を形成することで、反射防止効果を得ることができる。また、反射防止成形品は、基材の１面が、光の屈折率が異なる複数種の膜を積層した多層反射防止膜から成るものとすることができ、この場合には、反射防止構造体及び多層反射防止膜の両方の反射防止効果が相俟って、反射防止機能のさらなる向上を実現することができる。
【００２４】
さらに、反射防止成形品は、透明材料を用いたものとすることができ、これにより光学用途での利用が可能になると共に、各種表示装置の表示部を覆うパネルなどに非常に好適なものとなり、また、基材の層と微細構造の層で光の屈折率を変えて反射防止効果をより高めることも可能となる。
【００２５】
上記の反射防止成形品の具体例としては、各種乗り物のメータパネルや家電製品の表示部を覆うパネルなどがあり、とくに好適な例として、自動車のフードレスメータのパネルや高明彩度インストルメントパネルといった自動車用部品を挙げることができる。このような自動車用部品に反射防止成形品を用いれば、インテリアの意匠性を高めたうえでパネルにおける外光の反射を阻止することができ、表示部の視認性をより一層高めることができる。
【００２６】
上記の反射防止成形品の製造方法としては、主として熱プレス法が用いられるほか、射出成形法なども採用することができる。熱プレス法のなかでも、可視光線の波長以下の微細構造を容易に成形できる方法として、ナノインプリントを用いることができ、このナノインプリントでは、熱を用いたり活性エネルギー線を用いたりすることができる。
【００２７】
熱を用いたナノインプリントの場合には、多数の微細構造に対応する反転した微細構造を備えた成形型を作製し、成形型及び基材の少なくとも一方を加熱して成形型及び基材を互いに圧接させることにより、基材の表面に多数の微細構造を転写する構成とすることができ、この際、反射防止構造体（微細構造）には熱可塑性樹脂を用いることができる。
【００２８】
一方、活性エネルギー線を用いたナノインプリントの場合には、多数の微細構造に対応する反転した微細構造を備えた成形型を作製し、成形型と基材の間に活性エネルギー線により硬化する樹脂を充填した後、この樹脂に活性エネルギー線を照射して基材の表面に多数の微細構造を形成する構成とすることができ、この際、反射防止構造体（微細構造）には紫外線硬化樹脂を用いることができる。
【００２９】
上記の反射防止成形品の製造に用いる成形型は、本発明の反射防止構造体である微細構造を成形することができれば良く、生産性やコストなどを考慮して作製すれば良い。この成形型には、その表面に微細構造に対応する反転した微細構造が形成されることとなるが、その方法がとくに限定されることはなく、例えば電子線描画法やフォトリソグラフィ等の方法の中から所望の加工精度に応じて選択すれば良い。
【００３０】
また、上記の成形型をセットするプレス装置としては、成形型や基材に対して加熱機構を有するものや、光透過性成形型を通して基材に活性エネルギー線を照射可能にした機構を有するものが用いられる。
【００３１】
上記の成形型の材料としては、シリコンウエハ、各種金属材料、ガラス、セラミックス及びプラスチックなどであって、強度と要求される精度の加工性を有するものであれば良く、具体的には、Ｓｉ，ＳｉＣ，ＳｉＮ，多結晶Ｓｉ，ガラス，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ及びこれらを１種以上含むものが良い。
【００３２】
また、反射防止成形品に用いる材料としては、透明性を有していることに加えて、上述したように、熱を用いる方法や活性エネルギー線を用いる方法により微細構造を付与できるものであれば良い。
【００３３】
熱を用いる場合、基材の材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニール、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ガラス強化ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶性ポリマー、フッ素樹脂、ポリアレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、及び熱可塑性ポリイミド等の熱可塑性樹脂や、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリアミドビスマレイミド、及びポリビスアミドトリアゾール等の熱硬化性樹脂、並びにこれらを２種以上ブレンドしたものが挙げられる。
【００３４】
一方、活性エネルギー線を用いる場合、反射防止構造体（微細構造）の材料としては、活性エネルギー線により重合を開始できる樹脂が用いられ、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂、及び紫外線硬化型エポキシ樹脂が挙げられ、必要に応じて活性エネルギー線を照射することでラジカルを発生する重合開始剤を用いることもでき、より強固に固めるためイソシアネートのような硬化剤を加えることもできる。
【００３５】
また、ここで用いられる活性エネルギー線としては、一般に紫外線やＸ線、その他電子線、及び電磁波などが挙げられるが、とくに限定されるものではない。
【００３６】
さらに、活性エネルギー線を用いる場合、基材の材料としては、とくに限定されることはないが、例えば、ガラス、（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド樹脂、及びポリエチレン樹脂などが挙げられ、とくに反射防止の観点から、反射防止構造（微細構造）を形成する材料と基材の材料は、屈折率差が小さいものを組み合わせると良い。
【００３７】
さらに、反射防止成形品は、上記のように成形型を用いて製造するほかに、図４に示すように、リソグラフィーによって微細凸部（微細構造）を形成する製造方法も採用し得る。
【００３８】
すなわち、図４（ａ）に示す基材１に、図４（ｂ）に示すように微細凸部となるレジスト膜２を塗布し、その後、図４（ｃ）に示すように、レジスト膜２の部分に電子線Ｅにより所定のパターンを描画するのに続いて、図４（ｄ）に示す如くイオンエッチングＩを行なうことで、図４（ｅ）に示すように、階段状の微細凸部Ａを有する反射防止成形品Ｓを得ることができるほか、電子線硬化性又は電子線分解性のレジスト膜を採用すると共に、所望の形状に電子線を照射できるマスクを用い、段階的にレジスト膜を硬化又は分解して、硬化していない部分を除去する方法で反射防止成形品Ｓを得ることができる。
【実施例】
【００３９】
（実施例１）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を３００ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを２０ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが６００ｎｍの多段構造（６０段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする円錐に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００４０】
そして、成形型に、市販の電子線描画装置によって上記の微細凸部の反転形状である微細凹部を形成した後、この成形型を１５０℃に加熱すると共に、ポリメチルメタクリレートを材料とする基材の両面に、同成形型を１０ＭＰａの圧力で１時間圧接させ、その後７０℃以下まで冷却して成形型から基材を離型させることにより、基材の両面に反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００４１】
（実施例２）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする円錐に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００４２】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００４３】
（実施例３）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５０ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする円錐に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００４４】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００４５】
（実施例４）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５ｎｍとし、各段の段差Ｔを２５ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（３０段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする円錐に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００４６】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００４７】
（実施例５）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、上記した（式１）の２次の線形式で表される曲線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００４８】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００４９】
（実施例６）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２６０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを１０ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、上記した（式２）の２次の線形式で表される曲線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００５０】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００５１】
（実施例７）
微細凹部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を３００ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを１０ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが９００ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凹部は、各段の上面のエッジが、上記した（式１）の２次の線形式で表される曲線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００５２】
そして、成形型に、上記微細凹部に対応する微細凸部を形成した後、基材上に紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂を塗布し、成型型を押し当て、８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプを用いて該樹脂を硬化させ、反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００５３】
（比較例１）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を５００ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５０ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００５４】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００５５】
（比較例２）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを１００ｎｍとし、各段の段差Ｔを１０ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（７５段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００５６】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００５７】
（比較例３）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５ｎｍとし、各段の段差Ｔを７５ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（１０段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、１次の線形式で表される直線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００５８】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００５９】
（比較例４）
微細凸部（微細構造）は、最下段の円の直径Ｄ１を２５０ｎｍとし、最上段の円の直径Ｄｔを５ｎｍとし、各段の段差Ｔを７５ｎｍとして、高さＨが７５０ｎｍの多段構造（１０段）とした。また、微細凸部は、各段の上面のエッジが、０．５次の線形式で表される線を稜線とする錐体に内接するものとし、六方細密配列のパターンとした。
【００６０】
そして、成形型に、上記微細凸部に対応する微細凹部を形成した後、ＰＭＭＡを材料とする基材を用いて、実施例１と同じ要領で反射防止構造体（微細構造）を有する反射防止成形品を作成した。
【００６１】
（比較例５）
ＰＭＭＡを材料とする基材の両面に、基材側から、膜厚１８１．９ｎｍで屈折率１．３８の第１層、膜厚１２．８ｎｍで屈折率２．５の第２層、膜厚３４．９ｎｍで屈折率１．４５の第３層、膜厚３７．４ｎｍで屈折率２．５の第４層、膜厚２２．３ｎｍで屈折率１．４５の第５層、膜厚２８．６ｎｍで屈折率２．５の第６層、膜厚９７．１ｎｍで屈折率１．３８の第７層を積層して成る多層反射防止膜を作製し、これを反射防止成形品とした。
【００６２】
実施例１〜７及び比較例１〜５における反射防止成形品の３８０ｎｍ〜７８０ｎｍでの平均値反射率の結果を表１に示す。なお、平均値反射率の測定には、変角分光光度計（大塚電子製）を用い、光の入射角度０°観測角度０°での反射率を３８０ｎｍ〜７８０ｎｍまで１０ｎｍごとに測定を行い、その平均値を３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの平均値反射率とした。
【００６３】
【表１】
2007240854.tif 000003
【００６４】
表１から明らかなように、実施例１〜７の反射防止形成品は、比較例１〜５のいずれに対しても平均値反射率が低く、充分な反射防止効果が得られることを確認した。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の反射防止構造体の一実施形態を示す微細凸部の側面図（ａ）、平面図（ｂ）、配置図（ｃ）及び微細凸部が内接する錐体を説明する側面図（ｄ）である。
【図２】本発明の反射防止構造体の他の実施形態を示す微細凸部の側面図（ａ）、平面図（ｂ）、配置図（ｃ）、他の配置図（ｄ）及び微細凸部が内接する錐体を説明する側面図（ｅ）である。
【図３】本発明の反射防止構造体のさらに他の実施形態を示す微細凸部の側面図（ａ）、平面図（ｂ）及び配置図（ｃ）である。
【図４】リソグラフィーによる反射防止成形品又は成形型の製造過程を示す各々断面説明図（ａ）〜（ｄ）である。
【符号の説明】
【００６６】
Ａ１〜Ａ３  微細凸部
Ｓ          反射防止成形品
１          基材
２          レジスト膜
【図１】
2007240854.tif 000004
【図２】
2007240854.tif 000005
【図３】
2007240854.tif 000006
【図４】
2007240854.tif 000007