(57)【要約】【課題】  本発明における課題は、二色性色素の配向薄膜を塗布で形成したのちの製膜プロセスにおいて、溶媒の蒸発速度を制御することにより、二色性色素の配向構造を発達させた、偏光性能をより向上させた偏光素子を製造する方法を提供するものである。【解決手段】  本発明は、二色性色素を溶媒に溶解させた塗布材料を基材上に塗布し塗布膜を形成し、該塗布膜を乾燥させ偏光素子を製造する方法において、該塗布材料に含有される溶媒の飽和水蒸気量、または蒸発が不可能な環境下に該塗布膜を置き、塗布材料の乾燥を一時停止させる工程、乾燥を一時停止させた後、塗布材料の乾燥を進行させる工程を有することを特徴とする偏光素子の製造方法を提供するものである。また、前記乾燥を一時停止させる工程において、乾燥を停止させる時間が１０秒以上であることを特徴とする偏光素子の製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
二色性色素を溶媒に溶解させた塗布材料を基材上に塗布し塗布膜を形成し、該塗布膜を乾燥させ偏光素子を製造する方法において、該塗布材料に含有される溶媒の飽和水蒸気量、または蒸発が不可能な環境下に該塗布膜を置き、塗布材料の乾燥を一時停止させる工程、乾燥を一時停止させた後、塗布材料の乾燥を進行させる工程を有することを特徴とする偏光素子の製造方法。
【請求項２】
前記乾燥を一時停止させる工程において、乾燥を停止させる時間が１０秒以上であることを特徴とする請求項１に記載の偏光素子の製造方法。
【請求項３】
前記乾燥を一時停止させる工程において、乾燥を停止させる時間が１００秒から１０００秒であることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光素子の製造方法。
【請求項４】
前記乾燥を一時停止させる工程において、二色性色素の配列状態を監視し、配向発達が最終平衡状態の９０％以上に達したことにより、配向発達の完了を判断する工程を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の偏光素子の製造方法。
【請求項５】
前記乾燥を進行させる工程において、６０％ＲＨ以上の蒸気量を保った条件下で乾燥を進行させることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の偏光素子の製造方法。
【請求項６】
前記乾燥を進行させる工程において、前記塗布膜の表面の少なくとも一部を覆うカバー内で乾燥を進行させることにより、該塗布膜周囲の蒸気量を制御することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の偏光素子の製造方法。
【請求項７】
前記カバーが開放度の調整が可能な一または複数の排気口を有することを特徴とする請求項６に記載の偏光素子の製造方法。
【請求項８】
前記塗布膜を形成する工程において、塗布方法がスロットダイ塗布方式またはワイヤーバーによる塗布方式であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の偏光素子の製造方法。
【請求項９】
前記スロットダイ塗布方式において、塗布速度をスロットダイのヘッド先端と基材とのクリアランスで除して得られるせん断速度が１００［１／ｓ］以上であることを特徴とする請求項８に記載の偏光素子の製造方法。
【請求項１０】
前記ワイヤーバーによる塗布方式において、塗布速度が１０ｍｍ／ｓ以上であることを特徴とする請求項８に記載の偏光素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかの製造方法によって製造されることを特徴とする偏光素子。
【請求項１２】
基材に塗布材料を塗布する塗布部と、該塗布材料を搬送する可動部と、該可動部により搬送された塗布材料を乾燥させる乾燥部を備える偏光素子の製造装置において、該乾燥部が開放度の調節が可能な一または複数の排気口を有し、該排気口の開放度を調節し、該塗布材料の乾燥を一時停止および／または進行させることにより乾燥速度の制御が可能であることを特徴とする偏光素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に二色性色素を塗布し偏光素子を製造する方法に関するものである。本発明により、二色性色素の配高度を高め、優れた二色性比を有する偏光素子を得ることが可能となる。
【背景技術】
【０００２】
偏光素子の利用形態に液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと略す）があげられる。ＬＣＤに要求される性能にコントラストがあり、偏光素子の性能に大きく依存する。偏光素子の性能を表す値に二色性比があり、二色性比の優れた偏光素子をＬＣＤに組み込むと、ＬＣＤのコントラストが向上する。
【０００３】
偏光素子の製造技術には、二色性色素を添加したポリビニルアルコールのフィルムを延伸し、二色性色素を配向させる方法がある。
【０００４】
延伸法以外の偏光素子の製造方法のひとつに、二色性色素を基材上に塗布する方法がある。水溶性の二色性色素を水溶媒中に溶解させると、濃度によって液晶性を示すことがある。液晶性を発現した二色性色素からなる塗布材料を基材上に塗布すると、塗布流動により液晶の配向が統一され、二色性色素の配向構造が塗布膜内で形成される。配向構造を有した二色性色素の薄膜は、偏光機能を発現するため偏光素子として利用できる。
【０００５】
どちらの方法でも、二色性色素の配向度が低くなると偏光性能は低下し、配向度が高くなると偏光性能は高くなる。
【０００６】
形成される二色性色素の薄膜は、塗布材料塗布後の乾燥工程において溶媒の除去と同時に生じる。二色性色素の配高度の高さは、この乾燥条件に非常に影響を受ける。色素を溶解させた溶媒を除去する工程においては、塗布膜の表面形態の著しい変化が伴うので、膜表面上の対流が最小限の状態で、溶媒の除去がゆっくりと起こる条件を整えることが重要である。これにより、結晶化の速度が遅くなり、ある所定の方向に配向させるための好ましい状態が生じる。
【０００７】
この穏やかな条件を作り出す方法として、乾燥工程を半透過性多孔膜に覆われたエンクロージャ内、または塗布方向に隙間幅を有するスリットが塗布方向に並進移動するスリットを有するエンクロージャ内で行い、結晶膜上方の容積を制限する方法がある（特許文献１参照）。結晶膜上方の容積を制限することにより、多孔膜により形成膜の表面に対して垂直方向に湿度勾配が生じ、形成膜上方の溶媒蒸気圧を上げる条件を作り出し、溶媒気化速度が低下するようにする。
【０００８】
しかし、この半透過性多孔膜による乾燥方法では形成膜に対して垂直に湿度勾配が生じるため、溶媒気化により色素を配向させたい方向に対して垂直方向に塗布膜の流動が生じる恐れがあり、色素の配向に乱れが生じることが考えられる。また、塗布方向にスリットを並進移動させ乾燥を行う方法では、スリット直下の溶媒気化速度が速いうえスリットが形成膜上を並進移動するために形成膜全体の溶媒気化速度が速くなり、求めている穏やかな条件とはならないことが考えられる。
【特許文献１】特表２００４−５１９０１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の課題は、二色性色素の配向薄膜を塗布で形成したのちの製膜プロセスにおいて、溶媒の蒸発速度を制御することにより、二色性色素の配向構造を発達させた、偏光性能をより向上させた偏光素子を製造する方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、二色性色素を溶媒に溶解させた塗布材料を基材上に塗布し塗布膜を形成し、該塗布膜を乾燥させ偏光素子を製造する方法において、該塗布材料に含有される溶媒の飽和水蒸気量、または蒸発が不可能な環境下に該塗布膜を置き、塗布材料の乾燥を一時停止させる工程、乾燥を一時停止させた後、塗布材料の乾燥を進行させる工程を有することを特徴とする偏光素子の製造方法である。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記乾燥を一時停止させる工程において、乾燥を停止させる時間が１０秒以上であることを特徴とする請求項１に記載の偏光素子の製造方法である。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、前記乾燥を一時停止させる工程において、乾燥を停止させる時間が１００秒から１０００秒であることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光素子の製造方法である。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、前記乾燥を一時停止させる工程において、二色性色素の配列状態を監視し、配向発達が最終平衡状態の９０％以上に達したことにより、配向発達の完了を判断する工程を有することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の偏光素子の製造方法である。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、前記乾燥を進行させる工程において、６０％ＲＨ以上の蒸気量を保った条件下で乾燥を進行させることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の偏光素子の製造方法である。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、前記乾燥を進行させる工程において、前記塗布膜の表面の少なくとも一部を覆うカバー内で乾燥を進行させることにより、該塗布膜周囲の蒸気量を制御することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の偏光素子の製造方法である。
【００１６】
請求項７に記載の発明は、前記カバーが開放度の調整が可能な一または複数の排気口を有することを特徴とする請求項６に記載の偏光素子の製造方法である。
【００１７】
請求項８に記載の発明は、前記塗布膜を形成する工程において、塗布方法がスロットダイ塗布方式またはワイヤーバーによる塗布方式であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の偏光素子の製造方法である。
【００１８】
請求項９に記載の発明は、前記スロットダイ塗布方式において、塗布速度をスロットダイのヘッド先端と基材とのクリアランスで除して得られるせん断速度が１００［１／ｓ］以上であることを特徴とする請求項８に記載の偏光素子の製造方法である。
【００１９】
請求項１０に記載の発明は、前記ワイヤーバーによる塗布方式において、塗布速度が１０ｍｍ／ｓ以上であることを特徴とする請求項８に記載の偏光素子の製造方法である。
【００２０】
請求項１１に記載の発明は、請求項１から１０のいずれかの製造方法によって製造されることを特徴とする偏光素子である。
【００２１】
請求項１２に記載の発明は、基材に塗布材料を塗布する塗布部と、該塗布材料を搬送する可動部と、該可動部により搬送された塗布材料を乾燥させる乾燥部を備える偏光素子の製造装置において、該乾燥部が開放度の調節が可能な一または複数の排気口を有し、該排気口の開放度を調節し、該塗布材料の乾燥を一時停止および／または進行させることにより乾燥速度の制御が可能であることを特徴とする偏光素子の製造装置である
【発明の効果】
【００２２】
二色性色素を含む塗布材料を基材上に塗布し、塗布膜に含まれる溶媒の蒸発を一旦停止する乾燥停止工程により、二色性色素の配向構造を発達させることが可能である。また、溶媒の蒸発を低速で行うため、乾燥停止により発達した配向構造を損なうことなく結晶化することができる。そのため、二色性色素の結晶は高い配高度を保つことが可能であり、偏光性能の優れた偏光素子を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に本発明を詳細に説明する。  
二色性色素を溶媒中に溶解させ、結晶性を発現させる。結晶性が発現する二色性色素の一例として、化学式（１）に示す構造を有する色素があげられる。ディスク状の分子構造を有したこのような色素は、会合体を形成し、溶媒中では色素が形成する棒状粒子が分散した状態となる。この状態は、色素濃度によっては液晶性を示す、リオトロピック液晶であることが知られている。
【００２４】
【化１】
2007240906.tif 000002
【００２５】
液晶性の二色性色素を塗布し偏光素子を作製するためには、液晶相にするだけでなく、液晶相の中のネマチック相を示す濃度に調整する。
【００２６】
液晶状態にある二色性色素のインキを、スロットダイコーターやワイヤーバーなどの塗布装置を利用して基材上に塗布する。塗布時の流動は、二色性色素の配向構造に影響を与える。スロットダイコーターを利用する場合、塗布速度をスロットダイ先端と基材間とのクリアランスで除して得られるせん断速度を管理値として利用する。せん断速度は、せん断流動の強さを表現する値である。せん断流動中は低い配向状態であり、流動を停止すると配向性が発達する。流動停止後の配向性の発達速度は、与えるせん断速度により変化し、高いせん断速度を与えると、発達速度は速くなる。塗布工程においてこの現象は再現され、乾燥完了までの配向性発達に差が生じ、高いせん断速度では配向性の発達した塗布膜が得られる。配向性の発達した塗布膜を、短い乾燥停止時間で得るために、スロットダイコーターを利用する場合、せん断速度１００［１／ｓ］以上で製膜する。ワイヤーバーで塗布する場合、塗布速度１０ｍｍ／ｓ以上で製膜する。
【００２７】
基材としては、ガラス基材や樹脂基材などを利用する。偏光素子として利用することを考慮し、透過率が高く、複屈折の小さい基材が好ましい。
【００２８】
次に、上記方法により形成された塗布膜を溶媒の蒸気量が飽和蒸気量に達した環境下に配置し、塗布膜の溶媒蒸発を停止させる乾燥停止工程を実施する。乾燥を停止するため、図１に示す排気口６を有する乾燥制御カバー５を塗布直後の塗布膜に被せる。排気口のバルブは閉じた状態である。乾燥制御カバーを被せた直後は溶媒が蒸発するものの、蒸発が進行すると乾燥制御カバー内部は飽和水蒸気量または蒸発が不可能な状態になり、乾燥は停止する。
【００２９】
ここで、排気口を有する乾燥制御カバーの形状を説明する。
【００３０】
乾燥制御カバーは、本発明を膜全体で実施し膜全体にて配向性を向上させるには、塗布膜全体または基材全体を覆うことができる大きさであることが好ましく、乾燥制御カバーを被せてから乾燥が停止するまでの時間を短くすること、また、乾燥制御カバー内部の蒸気量を一様にすることを考慮し、カバーの高さを５ｍｍ程度にすることが好ましい。
【００３１】
排気口の形状や大きさ、排気口を設ける数は特に制限されないが、高い配向性を得るために溶媒の蒸発を低速で進行させることが可能であればよい。また、乾燥制御カバー上に排気口を設ける位置は特に制限されないが、排気口直下では湿度低下が速く、塗布膜の乾燥速度が速くなるため、塗布膜の排気口直下の部分では本発明の効果である乾燥停止および低速乾燥による配向構造の発達を十分に達成できない可能性が他の部分よりも高くなることが考えられる。よって、塗布膜の塗布方向の端または端外側の上方に排気口を設けることにより、排気口直下に塗布膜が存在し、その部分で本発明の効果が十分に得られなくなる可能性を回避することが好ましい。
【００３２】
排気口を有する乾燥制御カバーの一つの例として、口径１ｍｍの排気口を５ｍｍ間隔で塗布膜の配向させたい方向と垂直になる方向、すなわち塗布膜の幅方向に配置する乾燥制御カバーが考えられる。口径が大きくなると乾燥制御カバー内の湿度が急激に低下してしまい、乾燥速度が速くなる恐れがあるので、排気口の口径は小さいことが好ましい。
また、排気口を設ける位置は、塗布膜の塗布方向の端または端外側の上方となるようにする。塗布面の端は塗布方向では両端の２箇所存在するが、各々の上方または外側上方に排気口を配置してもよく、またどちらか一方だけに配置してもよい。排気口の配置を２箇所に分散させることで、蒸気量の変化を分散させることができ、局所的な蒸気量低下を回避することが可能となり、本発明をより効果的に実施することができる。
【００３３】
また、スリット形状の排気口でもよく、０．５ｍｍ幅のスリットを塗布膜の配向させたい方向と垂直になる方向、すなわち塗布膜の幅方向に配置する乾燥制御カバーも考えられる。スリット幅が大きくなると乾燥制御カバー内の湿度が急激に低下してしまい、乾燥速度が速くなる恐れがあるので、スリット幅は小さいことが好ましい。また、排気口を設ける位置は、塗布膜の塗布方向の端または端外側の上方となるようにする。塗布面の端は塗布方向では両端の２箇所存在するが、各々の上方または外側上方に排気口を配置してもよく、またどちらか一方だけに配置してもよい。排気口の配置を２箇所に分散させることで、蒸気量の変化を分散させることができ、局所的な蒸気量低下を回避することが可能となり、本発明をより効果的に実施することができる。
【００３４】
また、排気口は開放度の調整を可能とするバルブを有していることが好ましい。カバー内部の湿度に合わせて開放度を調整することにより、カバー内部を常に適切な任意の蒸気量に設定することが可能である。
【００３５】
また、塗布膜周辺の蒸気量を適正に管理するために、乾燥制御カバーに湿度計を備える。湿度計の示す値を管理値として、バルブの開放度を決定する。低速で乾燥を進行させるために、蒸気量は６０％ＲＨ以上であることが好ましい。バルブは常に開放したままでもよいが、バルブを一時的に閉じ、カバー内部の蒸気量を一様に近づけてもよい。
【００３６】
上述した乾燥工程においては、排気口のバルブは閉じた状態である。このため、乾燥制御カバーを被せた直後は溶媒が蒸発するものの、蒸発が進行すると乾燥制御カバー内部は飽和水蒸気量または蒸発が不可能な状態になり、乾燥は停止する。
【００３７】
液晶状態の二色性色素を基材上に塗布し偏光素子の膜を形成する際、塗布時に発生するせん断を主とする流動により、二色性色素の配向を制御する。液晶性の二色性色素のせん断配列挙動を解析し、せん断流動により配向方向の制御は行われるものの、せん断流動付与中には低い配向性しか成立しなく、配向はせん断流動停止後に発達する。塗布プロセスにおいても同様のことが成立し、塗布直後には低い配向性のみが得られ、塗布から時間が経過すると配向性が発達する。このことを考慮すると、塗布を行った後に配向性を発達させるプロセスが重要である。通常の乾燥工程では、配向性が発達する前に乾燥が完了してしまうため、塗布膜の配向状態は発達途上にある。そこで、乾燥停止工程を組み入れることにより、配向性が十分に発達する前に乾燥が完了してしまうことを回避することが可能となる。
【００３８】
また、色素濃度が高くなると、色素の挙動が遅くなるため配向性の発達速度は低下する。乾燥停止工程により、色素濃度が低い状態を保つことができるため、その間に配向性を発達させることが可能となり、短時間で配向性が十分に発達した状態を得ることができる。
【００３９】
乾燥を停止させる時間は、１０秒以上である。より好ましくは、１００秒から１０００秒であり、１０００秒間乾燥を停止させることにより、十分な効果を得ることができる。１０秒よりも短時間であると、配向状態が発達途上である恐れがある。
【００４０】
乾燥停止を終了させる時間を適正かつ正確に判断するためには、ポラリメーター８を使用する。乾燥を停止させることにより配向構造が発達すると、ポラリメーターで検出される光学異方性が大きくなる。配向構造の発達が飽和すると、光学異方性も飽和するので、光学異方性の飽和から乾燥停止の終了時間を判断する。
【００４１】
乾燥停止終了の判断方法の一例としては、以下の方法が挙げられる。
あらかじめ最終平衡状態を事前の測定で確認し、それに対して９０％以上の配向状態に達したか判断を行う。塗布を行った後、乾燥停止状態にある塗布膜のコントラストや二色性比等の偏光に係わる情報を、ポラリメーターで測定する。乾燥停止を行うと、時間の経過とともにそれらの値は増加し、最大値で平衡状態となる。平衡状態で得られる最大値を予め求め、この値の９０％を配向性発達の基準とし配向性発達の判断を行う。
【００４２】
また、乾燥停止状態にある塗布膜のコントラストや二色性比等はステップ応答的に増加する。配向性の発達過程におけるコントラストや二色性比を測定し、時間経過による増加関数を求め、平衡状態の値を予測する。予測される平衡状態の値の９０％を基準に配向性発達の判断を行うこともできる。
【００４３】
乾燥停止後、溶媒を蒸発させ塗布膜を結晶化させる。乾燥制御カバーの排気口のバルブを開放し、カバー内部の溶媒分を外部に放出する。排気口下ではカバー内部の蒸気量が小さくなり、排気口下を基点として塗布膜の乾燥が進行する。塗布膜の塗布方向の端または端外側の上方に排気口を配置すると、塗布膜の端を基点に塗布方向に乾燥が進行する。溶媒の蒸発が完了した部分と完了していない部分との境界はエッジと呼ばれる。エッジでは乾燥速度がその周辺部分よりも高くなるため、エッジ方向に向かい流動が発生する現象が生じる。この流動には、エッジ方向へのせん断要素が含まれる。塗布方向に乾燥が進行すると、二色性色素に塗布方向へのせん断をさらに加えることができ、配向性をさらに高めることが期待できる。
【００４４】
また、乾燥制御カバーを被せた状態で排気口のバルブのみを開放するので、溶媒の蒸発を低速で進行させることが可能である。これにより、乾燥停止で発達した配向構造を損なうことなく結晶化することができるため、二色性色素の結晶は高い配高度を保ったままであり、偏光性能の優れた偏光素子を得ることができる。
【００４５】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施形態に限定されるものではない。
【実施例１】
【００４６】
基材としてガラス基板（コーニング社製）を用い、基材を硫酸中に一時間浸漬後、超音波洗浄器にて基材の洗浄を行った。化学式（１）で表される化合物を水溶媒中に１０ｗ％添加し、室温にてネマチック相を示す液晶性の二色性色素を含む塗布液を準備した。この塗布液を基材上に、スロットダイ塗布装置で製膜した。塗布速度を１０ｍｍ／ｓ、スロットダイヘッドと基材間とのクリアランスを５０μｍとなるように設定し、塗布を行った。塗布後、溶媒の蒸発を停止させるため、高さ５ｍｍの乾燥制御カバーで塗布膜全体を覆った。この乾燥制御カバーは、口径１ｍｍの排気口を５ｍｍ間隔で塗布膜の配向させたい方向と垂直になる方向、すなわち塗布膜の幅方向に配置している。その後、乾燥制御カバーの排気口を開放し、１０００秒で乾燥を終了させ、二色性色素が塗布膜内で配向した偏光素子を得た。
【００４７】
＜評価＞
二色性比の評価を、偏光素子を組み込んだ偏光分光評価システム（オーシャンオプティクス社製）を利用して行った。その結果、二色性比は２８であった。二色性比Ｋｄは次式で定義される値である。
【００４８】
【化２】
2007240906.tif 000003
【００４９】
Ｔｐｅｒは偏光素子の吸収軸の透過率、Ｔｐａｌは偏光素子の透過軸の透過率であり、各々の偏光方向における吸収度の比である。
【実施例２】
【００５０】
基材としてガラス基板（コーニング社製）を用い、基材を硫酸中に一時間浸漬後、超音波洗浄器にて基材の洗浄を行った。化学式（１）で表される化合物を水溶媒中に１０ｗ％添加し、室温にてネマチック相を示す液晶性の二色性色素を含む塗布液を準備した。この塗布液を基材上にスロットダイ塗布装置で製膜した。塗布速度を１０ｍｍ／ｓ、スロットダイヘッドと基材間とのクリアランスを５０μｍとなるように設定し、塗布を行った。塗布後、溶媒の蒸発を停止させるため、高さ５ｍｍの乾燥制御カバーで塗布膜全体を覆った。この乾燥制御カバーは、口径１ｍｍの排気口を５ｍｍ間隔で塗布膜の配向させたい方向と垂直になる方向、すなわち塗布膜の幅方向に配置している。その後、乾燥制御カバーの排気口を開放し、５０秒で乾燥を完了させ、二色性色素が塗布膜内で配向した偏光素子を得た。
【００５１】
＜評価＞
二色性比の評価を、偏光素子を組み込んだ偏光分光評価システムを利用して行った結果、二色性比は２６であった。
【実施例３】
【００５２】
基材としてガラス基板（コーニング社製）を用い、基材を硫酸中に一時間浸漬後、超音波洗浄器にて基材の洗浄を行った。化学式（１）で表される化合物を水溶媒中に１０ｗ％添加し、室温にてネマチック相を示す液晶性の二色性色素を含む塗布液を準備した。この塗布液を基材上にスロットダイ塗布装置で製膜した。塗布速度を１０ｍｍ／ｓ、スロットダイヘッドと基材間とのクリアランスを５０μｍとなるように設定し、塗布を行った。塗布後、溶媒の蒸発を停止させるため、高さ５ｍｍの乾燥制御カバーで塗布膜全体を覆った。この乾燥制御カバーは、口径１ｍｍの排気口を５ｍｍ間隔で塗布膜の配向させたい方向と垂直になる方向、すなわち塗布膜の幅方向に配置している。その後、乾燥制御カバーを外し、送風乾燥により５秒以内で乾燥を完了させ、二色性色素が塗布膜内で配向した偏光素子を得た。  
【００５３】
＜評価＞
二色性比の評価を、偏光素子を組み込んだ偏光分光評価システムを利用して行った結果、二色性比は２３であった。
【００５４】
＜比較例＞
基材としてガラス基板（コーニング社製）を用い、基材を硫酸中に一時間浸漬後、超音波洗浄器にて基材の洗浄を行った。化学式（１）で表される化合物を水溶媒中に１０ｗ％添加し、室温にてネマチック相を示す液晶性の二色性色素を含む塗布液を準備した。この塗布液を基材上にスロットダイ塗布装置で製膜した。塗布速度を１０ｍｍ／ｓ、スロットダイヘッドと基材間とのクリアランスを５０μｍとなるように設定し、塗布を行った。塗布後、送風乾燥により５秒以内で乾燥を完了させ、二色性色素が塗布膜内で配向した偏光素子を得た。
【００５５】
＜評価＞
二色性比の評価を、偏光素子を組み込んだ偏光分光評価システムを利用して行った結果、二色性比は１７であった。
【００５６】
実施例１から３および比較例で得られた偏光素子の二色性比を表１に示す。比較例および実施例３より、乾燥停止工程を行うことにより二色性比が向上することが確認された。また、実施例１から３より、乾燥停止工程後の再乾燥をより低速で行うことで、二色性比が向上することが確認された。
【００５７】
【表１】
2007240906.tif 000004
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】乾燥制御機構を備えた塗布装置例の概略図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  リニアステージ
２  基材
３  スロットダイヘッド
４  インキ
５  乾燥制御カバー
６  開閉バルブおよび排気口
７  湿度センサー
８  ポラリメーター
【図１】
2007240906.tif 000005