(57)【要約】 【課題】   ランプ露光、レーザー光、特に紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であると共に、耐薬品性、及び基板に対する密着性に優れた感光性組成物であって、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供する。 【解決手段】   （Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始系、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物であって、（Ｂ）光重合開始系が（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤、及び（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。  【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始系、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物であって、（Ｂ）光重合開始系が（ｂ１）下記一般式（１）又は（２）で表される化合物、及び（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。  
【化１】
2007199135.tif 000037
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ１'とと
もに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２の
アルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）： 
【化２】
2007199135.tif 000038
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ 
芳香環を含む任意の置換基を示す。） 
【請求項２】
（ｂ１）の化合物の平均粒子径が０．００１μｍ以上１５０μｍ以下である請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
（ｂ１）の化合物が、３４０〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有する請求項１又は２に記載の感光性組成物。 
【請求項４】
３４０〜４３０ｎｍの波長域に分光感度の極大ピークを有する請求項１乃至３の何れか１項に記載の感光性組成物。 
【請求項５】
（ｂ１）一般式（１）又は（２）で示される化合物が、一般式（３）又は（４）で表される化合物である請求項１乃至４の何れか１項に記載の感光性組成物。
【化３】
2007199135.tif 000039
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ3あるい
はＲ7とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7は互いに
結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン
原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基又は、−ＯＲ8、−ＳＲ9、−ＳＯＲ9、−ＳＯ2Ｒ9もしくは−ＮＲ10Ｒ11を示し、
かつ、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一つは、−ＯＲ8、−ＳＲ9又は−ＮＲ10
Ｒ11を示す。ただし、Ｒ8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２
のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ｍ
は１〜２０の整数）、又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ9は、水素
原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１５のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアル
キル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表し、Ｒ3〜Ｒ7は互いに結合して、またＲ1と共に環構造を
形成してもよい。）： 
【化４】
2007199135.tif 000040
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ｒ3あるいはＲ7とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1bとＲ3あるいは／およ
びＲ7は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞ
れ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ
≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2bは、それぞれ置換
されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は一般式（３）におけると同義である。）
【請求項６】
（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂がカルボキシル基含有エポキシ樹脂及び／又はカルボキシル基含有ビニル系樹脂である請求項１乃至５の何れか１項に記載の感光性組成物。 
【請求項７】
（Ｃ）のアルカリ可溶性樹脂が、カルボキシル基含有ビニル系樹脂であって、エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する各構成繰返し単位の含有量が、共重合体の全構成繰返し単位に対して、各々、１０〜５０重量％、１５〜８０重量％、及び１〜４０重量％である請求項１乃至５の何れか１項に記載の感光性組成物。 
【請求項８】
さらに（Ｉ）無機充填剤を含有することを特徴とする請求項１乃至７に記載の感光性組成物。 
【請求項９】
さらに（Ｊ）色材を含有することを特徴とする請求項１乃至８に記載の感光性組成物。
【請求項１０】
仮支持フィルム上に請求項１乃至９の何れか１項に記載の感光性組成物の層が形成されてなることを特徴とする画像形成材料。 
【請求項１１】
被加工基板上に請求項１０に記載の画像形成材料が感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とする画像形成材。 
【請求項１２】
請求項１１に記載の画像形成材の感光性組成物層を、波長３４０〜４３０ｎｍのレーザ
ー光により走査露光し、現像処理して画像を現出させることを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ、カラーフィルター、フォトスペーサー、リブ材、保護膜、有機エレクトロルミネッセンス等における導体回路や電極加工基板等の形成のためのエッチングレジスト、メッキレジスト、ソルダーレジスト、ドライフィルム、カバーレイ等に使用される感光性組成物であって、特にドライフィルムおよびソルダーレジスト用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法に関する。 
【背景技術】
【０００２】
従来より、プリント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、大規模集積回路、薄型トランジスタ、半導体パッケージ、カラーフィルター、フォトスペーサー、リブレジスト、有機エレクトロルミネッセンス等における導体回路や電極加工基板等の形成には、リソグラフィー法という手法が広く用いられている。 
リソグラフィー法には、通常（１）ドライフィルムレジスト材（仮支持フィルム上に感光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させて感光性組成物層を形成し、その感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆った画像形成材料）等を被加工基板上に積層することにより作製した感光性画像形成材や、（２）被加工基板上に直接に感光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させて感光性組成物層を形成し、必要に応じてその感光性組成物層表面を保護層で覆うことにより作製した画像形成材が用いられる。 
【０００３】
そして、以下の（１）〜（３）の手順で画像形成が行われる。（１）被加工基板上の感光性組成物層を、回路や電極パターンが描かれたマスクフィルムを通して画像露光する。（２）仮支持フィルム、或いは保護層を剥離し、露光部と非露光部の現像液に対する溶解性の差を利用して現像処理することによって回路パターンに対応したレジスト画像を形成する。（３）前記レジスト画像をレジストとして被加工基板をエッチング加工、メッキ加工、或いはソルダー加工等した後、レジスト画像を除去することにより、マスクフィルムに描かれた回路や電極パターンを基板上に形成する。 
【０００４】
一方、近年、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクフィルムを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから注目されるに到り、それに伴い、リソグラフィー法においてもレーザー光の利用が盛んに研究されている。 
ところで、レーザー光は、紫外から赤外領域までの種々の光源が知られているが、画像露光に利用できるレーザー光としては、出力、安定性、感光能力、及びコスト等の点から、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、ＹＡＧレーザー、及び半導体レーザー等の可視から赤外領域の光を発するものが主力となっており、例えば、波長４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザー、波長５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザーを用いたリソグラフィー法は既に実用化に到っている。 
【０００５】
しかしながら、従来の感光性組成物は、レーザー光による直接描画法においては、未だ感度が充分とは言えなかった。又、近年のレーザー技術の著しい進歩により、青紫色領域で安定的に発振できる半導体レーザーも利用できるようになったものの、その出力が他の可視領域等に比して低いこともあって、それに対応する感光性組成物の感度、及び現像性等は、直接描画法においてはもとよりリソグラフィー法においても実用化できるレベルには達していないのが現状である。 
【０００６】
上記課題に対しては、例えば感光性組成物の感度、現像性、及びそれにより形成された画像の耐久性等の改良を目的として、エポキシ樹脂のα，β−不飽和モノカルボン酸付加体に、多価カルボン酸若しくはその無水物を付加させた、アルカリ可溶性の変性エポキシアクリレート樹脂を含有させた感光性組成物、並びに、該感光性組成物をドライフィルムレジスト材として基板上に積層するか、或いはその組成物塗布液を基板上に塗布し乾燥させて感光性組成物層を形成したフォトレジスト用画像形成材を高圧水銀灯、或いは可視レーザー、或いは赤外レーザーで露光し現像処理する画像形成方法等が知られている。また、感度や解像性を改善する目的で特定のオキシム化合物と無機微粒子あるいはエポキシ樹脂のα，β−不飽和モノカルボン酸付加体に、多価カルボン酸若しくはその無水物を付加させた、アルカリ可溶性の変性エポキシアクリレート樹脂を含有させた組成物が提案されている（例えば、特許文献１〜６参照。）。また、表面硬化性（耐薬品性）の改善を目的として、オキシムエステル基を有する化合物と硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含む硬化性組成物が開示されている（特許文献７） 
【０００７】
しかしながら、上記感光性組成物は感度、及び現像性において、依然として改良の余地を残すものであると共に、得られるレジスト材としての耐熱性、及び基板に対する密着性等も不十分であった。特に青紫色半導体レーザーに対応する感光性組成物の感度が不十分であった。さらに、ソルダーレジストに供する場合の耐薬品性の問題も、依然改良の余地があり、実用化には十分とはいえなかった。
【特許文献１】特開平５−２０４１５０号公報
【特許文献２】特開２０００−１４７７６７号公報
【特許文献３】特開２００１−２２８６１１号公報
【特許文献４】特開２００２−１０５１１２号公報
【特許文献５】特開２００２−１０７９２６号公報
【特許文献６】特開２００３−２８０１９３号公報
【特許文献７】特開２００５−１８２００４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前述の従来技術に鑑みてなされたものであって、従って、本発明は、ランプ露光はもとより、レーザー光、特に紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であると共に、耐薬品性、及び基板に対する密着性に優れた感光性組成物であって、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供することを目的とする。 
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有するオキシムエステル系光重合開始剤（以下、「オキシム開始剤」と称することがある。）のうち、紫外から青紫光に高感度であるものは、一般に溶剤に難溶性であることを見出した。そこで上記オキシム開始剤のうち難溶性のものは、これを微細化し、平均粒子径を従来より小さいものとした。また、これら小粒系のオキシム開始剤にさらに硫黄原子を有するベンゾフェノン化合物を組合せて共存させたところ、これを含有する感光性組成物が紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であるばかりでなく、耐薬品性、及び基板に対する密着性に格段に優れることを見出した。また、オキシム開始剤のうち、青紫光に高感度を有し、かつ溶剤に対して可溶性であるものを見出し、これを含有する感光性組成物も同様に、硫黄原子を有するベンゾフェノン化合物を組合せて共存させたところ、感度、耐薬品性、及び基板に対する密着性に優れることを見出した。即ち本発明は以下に示す複数の発明に存する。 
（１）（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始系、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物であって、（Ｂ）光重合開始系が（ｂ１）下記一般式（１）又は（２）で示される化合物、及び（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
【００１０】
【化５】
2007199135.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ１'とと
もに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２の
アルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）： 
【００１２】
【化６】
2007199135.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）
（２）仮支持フィルム上に前記（１）に記載の感光性組成物の層が形成されてなることを特徴とする画像形成材料。 
（３）被加工基板上に前記（２）に記載の画像形成材料が感光性組成物層側で積層されてなることを特徴とする画像形成材。 
（４）前記（３）に記載の画像形成材の感光性組成物層を、波長３４０〜４３０ｎｍのレーザー光により走査露光し、現像処理して画像を現出させることを特徴とする画像形成方法。 
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、レーザー光に対して高感度であると共に、耐薬品性、及び基板に対する密着性に優れ、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるのに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供することができる。 
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に記載する本発明の構成要件は、本発明の実施態様の代表例であり、これらの内容には特定されない。 
［１］感光性組成物 
本発明の感光性組成物は、その構成要素として、（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始系、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を必須成分として含有し、且つ（Ｂ）光重合開始系が（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤、及び（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含有することを必須とする。
また、本発明の感光性組成物は、要すれば、更に前記以外の成分を含有していても良い。 
【００１６】
以下に本発明の感光性組成物の構成成分を詳述する。尚、本発明において、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」又は／及び「メタクリル」を意味するものとする。 
【００１７】
［１−１］（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物 
本発明の感光性組成物を構成する（Ａ）成分のエチレン性不飽和基含有化合物は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する（Ｂ）成分の光重合開始剤を含む光重合開始系の作用により付加重合し、場合により架橋、硬化するようなラジカル重合性のエチレン性不飽和結合を分子内に少なくとも１個有する化合物である。 
【００１８】
本発明におけるエチレン性不飽和基含有化合物としては、エチレン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物であれば良いが、重合性、架橋性、及びそれに伴う露光部と非露光部の現像液溶解性の差異を拡大できる等の点から、エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物であるのが好ましく、又、その不飽和結合が（メタ）アクリロイルオキシ基に由来するアクリレート化合物が特に好ましい。 
【００１９】
エチレン性不飽和結合を分子内に１個以上有する化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸、及びそのアルキルエステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、スチレン等が挙げられる。 
エチレン性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸とポリヒドロキシ化合物とのエステル類、（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とのウレタン（メタ）アクリレート類、及び、（メタ）アクリル酸又はヒドロキシ（メタ）アク
リレート化合物とポリエポキシ化合物とのエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。 
【００２０】
そのエステル類としては、例えば、前記の如き不飽和カルボン酸と、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（付加数２〜１４）、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（付加数２〜１４）、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、及びそれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールプロピレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等、及び同様のクロトネート、イソクロトネート、マレエート、イタコネート、シトラコネート、及びカプロラクタンを複数開環付加させた骨格を有するジペンタエリスリトール（メタ）アクリレート系化合物（例えば日本化薬社製ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０等）等が挙げられる。 
【００２１】
更に、そのエステル類として、前記の如き不飽和カルボン酸と、ヒドロキノン、レゾルシン、ピロガロール、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡ等の芳香族ポリヒドロキシ化合物、或いはそれらのエチレンオキサイド付加物との反応物、具体的には、例えば、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡビス〔オキシエチレン（メタ）アクリレート〕、ビスフェノールＡビス〔グリシジルエーテル（メタ）アクリレート〕等、又、前記の如き不飽和カルボン酸と、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート等、又、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸とポリヒドロキシ化合物との反応物、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸とフタル酸とエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とマレイン酸とジエチレングリコールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とテレフタル酸とペンタエリスリトールとの縮合物、（メタ）アクリル酸とアジピン酸とブタンジオールとグリセリンとの縮合物等が挙げられる。 
【００２２】
また、その（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類としては、（メタ）アクリロイルオキシ基を含有するホスフェート化合物であれば特に限定されないが、中で、下記一般式（IVａ）又は（IVｂ）で表されるものが好ましい。 
【００２３】
【化７】
2007199135.tif 000004
【００２４】
〔式（IVａ）及び（IVｂ）中、Ｒ51は水素原子又はメチル基を示し、ｎは１〜２５の整数、ｍは１、２、又は３である。〕 
ここで、ｎは１〜１０、特に１〜４であるのが好ましく、これらの具体例としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェート、ビス〔（メタ）アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、（メタ）アクリロイルオキシエチレングリコールホスフェート等が挙げられ、これらはそれぞれが単独で用いられても混合物として用いられてもよい。 
【００２５】
また、そのウレタン（メタ）アクリレート類としては、例えば、ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物との反応物等が挙げられる。 
上記ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。 
ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（ メタ）アクリレート、
テトラメチロールエタントリ（ メタ） アクリレート。 
上記ポリイソシアネート化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。 
ヘキサメチレンジイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン等の脂肪族ポリイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等の芳香族ポリイソシアネート、イソシアヌレート等の複素環式ポリイソシアネート。 
中でも、ウレタン（メタ）アクリレート類としては、１分子中に４個以上のウレタン結合〔−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−〕及び４個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましい。該化合物は、例えば、以下のものが挙げられる。 
【００２６】
（ｉ−１）１分子中に４個以上の水酸基を有する化合物に、ジイソシアネート化合物を反応させて得られた化合物。 
上記「１分子中に４個以上の水酸基を有する化合物」としては、例えばペンタエリスリトール、ポリグリセリン等が挙げられる。上記ジイソシアネート化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等が挙げられる。 
【００２７】
（ｉ−２）１分子中に２個以上の水酸基を有する化合物に、１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する化合物を反応させて得られた化合物。 
１分子中に２個以上の水酸基を有する化合物としては、例えばエチレングリコール等が挙げられる。 
１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、以下のもの
が挙げられる。 
旭化成工業社製「デュラネート２４Ａ−１００」、同「デュラネート２２Ａ−７５ＰＸ」、同「デュラネート２１Ｓ−７５Ｅ」、同「デュラネート１８Ｈ−７０Ｂ」等ビウレットタイプ、同「デュラネートＰ−３０１−７５Ｅ」、同「デュラネートＥ−４０２−９０Ｔ」、同「デュラネートＥ−４０５−８０Ｔ」等のアダクトタイプ。 
【００２８】
（ｉ−３）１分子中に４個以上、好ましくは６個以上のイソシアネート基を有する化合物。例えば、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート等を重合若しくは共重合させて得られた化合物が挙げられる。 
更に具体的には、例えば、旭化成工業社製「デュラネートＭＥ２０−１００」（ｉ）と、１分子中に１個以上の水酸基及び２個以上、好ましくは３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｉｉ）とを、反応させることにより得ることができる。 
（ｉｉ）は、例えばペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【００２９】
ここで、前記化合物（ｉ）の重量平均分子量は、５００〜２００，０００であるのが好ましく、１，０００〜１５０，０００であるのが特に好ましい。又、前記のようなウレタン（メタ）アクリレート類の分子量は、６００〜１５０，０００であるのが好ましい。又、ウレタン結合を６個以上有するのが好ましく、８個以上有するのが特に好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基を６個以上有するのが好ましく、８個以上有するのが特に好ましい。 
【００３０】
尚、このようなウレタン（メタ）アクリレート類は、例えば、前記化合物（ｉ）と前記化合物（ｉｉ）とを、トルエンや酢酸エチル等の有機溶媒中で、前者のイソシアネート基と後者の水酸基とのモル比を１／１０〜１０／１の割合として、必要に応じてジラウリン酸ｎ−ブチル錫等の触媒を用いて、１０〜１５０℃で５分〜３時間程度反応させる方法により製造することができる。 
【００３１】
本発明において、前記ウレタン（メタ）アクリレート類の中でも、下記一般式（Ｖ）で表されるものが特に好ましい。 
【００３２】
【化８】
2007199135.tif 000005
【００３３】
〔式（Ｖ）中、Ｒａはアルキレンオキシ基又はアリーレンオキシ基の繰り返し構造を有し、且つＲｂと結合し得るオキシ基を４〜２０個有する基を示し、Ｒｂ及びＲｃは各々独立して炭素数が１〜１ ０のアルキレン基を示し、Ｒｄは（メタ）アクリロイルオキシ基を１〜１０個有する有機残基を示し、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、及びＲｄは置換基を有していてもよく、ｘは４〜２０の整数、ｙは０〜１ ５の整数、ｚは１〜１５の整数である。〕 
ここで、式（Ｖ）中のＲａのアルキレンオキシ基の繰り返し構造としては、例えば、プロピレントリオール、グリセリン、ペンタエリスリトール等に由来するものが、又、アリーレンオキシ基の繰り返し構造としては、例えば、ピロガロール、１，３， ５−ベンゼントリオール等に由来するものが、それぞれ挙げられる。又、Ｒｂ及びＲｃのアルキレン基の炭素数は、各々独立して１〜５であるのが好ましく、又、Ｒｄにおける（メタ）アクリロイルオキシ基は１〜７個であるのが好ましい。又、ｘは４〜１５、ｙは１〜１０、ｚは１〜１０であるのが、それぞれ好ましい。 
【００３４】
更に、Ｒａとしては下記式〔尚、式中、ｋは２〜１０の整数である。〕であるのが、又、Ｒｂ及びＲｃとしては各々独立して、ジメチレン基、モノメチルジメチレン基、又は、トリメチレン基であるのが、又、Ｒｄとしては下記式であるのが、それぞれ特に好ましい。 
【００３５】
【化９】
2007199135.tif 000006
【００３６】
また、そのエポキシ（メタ）アクリレート類としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、又は前記の如きヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ −，ｍ−，ｐ−）クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノールＦポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の複素環式ポリエポキシ化合物、等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。 
【００３７】
また、その他のエチレン性不飽和基含有化合物として、前記以外に、例えば、エチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド類、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物類、エーテル結合含有エチレン性不飽和化合物のエーテル結合を５硫化燐等により硫化してチオエーテル結合に変えることにより架橋速度を向上せしめたチオエーテル結合含有化合物類、及び、例えば、特許
第３１６４４０７号公報及び特開平９−１００１１１号公報等に記載の、多官能（メタ）アクリレート化合物と、粒子径５〜３０ｎｍのシリカゾル〔例えば、イソプロパノール分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＩＰＡ−ＳＴ」）、メチルエチルケトン分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＭＥＫ−ＳＴ」）、メチルイソブチルケトン分散オルガノシリカゾル（日産化学社製「ＭＩＢＫ−ＳＴ」）等〕とを、イソシアネート基或いはメルカプト基含有シランカップリング剤を用いて結合させた化合物等の、エチレン性不飽和化合物にシランカップリング剤を介してシリカゾルを反応させ結合させることにより硬化物としての強度や耐熱性を向上せしめた化合物類、等が挙げられる。 
【００３８】
以上のエチレン性不飽和化合物は、それぞれ単独で用いられても２種以上が併用されてもよい。本発明において、以上の（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物として、エステル（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリロイルオキシ基含有ホスフェート類、又は、ウレタン（メタ）アクリレート類が好ましく、エステル（メタ）アクリレート類が特に好ましく、そのエステル（メタ）アクリレート類の中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、或いはビスフェノールＡ のポリエチレンオキサイド付加物等のポ
リオキシアルキレン基を含み、（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上含むエステル（メタ）アクリレート類が殊更好ましい。 
【００３９】
［１−２］（Ｂ）光重合開始系 
本発明の感光性組成物を構成する（Ｂ）成分の光重合開始系は、（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤、及び（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を含有することを必須とする。また、本発明の目的、効果を損なわない範囲で、他の光重合開始系成分を併用することも出来る。
【００４０】
［１−２−１］（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤
本発明に係る（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤は、感光性組成物が活性光線の照射を受けたときに、ラジカル、酸、又は塩基等の活性種を発生し、前記（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物を重合に到らしめる活性化合物である。
本発明に係る（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤は、溶剤に難溶性である場合は、平均粒子径０．００１μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましい。 また、紫外から青紫色半導体レーザー用に用いる場合は、３４０〜４３０ｎｍの波長域に吸収極大を有することが好ましい。 
【００４１】
［１−２−１−１］（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤の構造 
また、本発明の感光性組成物に係る上記オキシム開始剤は下記一般式（１）又は（２）で表されることが特徴である。
【００４２】
【化１０】
2007199135.tif 000007
【００４３】
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０
のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ１'とと
もに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２の
アルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）
【００４４】
一般式（１）中、好ましくは、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換
基を示す。 
【００４５】
【化１１】
2007199135.tif 000008
【００４６】
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ｒ１'とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳香環を含む任意の置換基を示す。）
【００４７】
一般式（２）中、好ましくは、Ｒ1bは、炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ１'は芳香環あるいはヘテロ芳
香環を含む任意の置換基を示す。 
【００４８】
一般式（１）又は（２）で示されるオキシムエステル系化合物中、好ましい化合物は一般式（３）又は（４）で表される化合物である。
【００４９】
【化１２】
2007199135.tif 000009
【００５０】
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ｒ3あるい
はＲ7とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7は互いに
結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２５のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン
原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基又は、−ＯＲ8、−ＳＲ9、−ＳＯＲ9、−ＳＯ2Ｒ9もしくは−ＮＲ10Ｒ11を示し、
かつ、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一つは、−ＯＲ8、−ＳＲ9又は−ＮＲ10
Ｒ11を示す。ただし、Ｒ8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２
のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ｍ
は１〜２０の整数）、又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ9は、水素
原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１５のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表し、Ｒ3〜Ｒ7は互いに結合して、またＲ1と共に環構造を
形成してもよい。）
【００５１】
一般式（３）中、好ましくは、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ
1aは、Ｒ3あるいはＲ7とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1とＲ3あるいは／およびＲ7は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞ
れ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ
≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互い
に独立して、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、−ＳＲ9又は−ＮＲ10Ｒ11を示し、かつ、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一つは、−ＳＲ9又は−ＮＲ10Ｒ11を示す。ただし、Ｒ9は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１５のシクロアルキル基又は炭素数６〜２０のフェニル基を示し、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表し、Ｒ3
〜Ｒ7は互いに結合して、またＲ1と共に環構造を形成してもよい。
【００５２】
【化１３】
2007199135.tif 000010
【００５３】
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ｒ3あるいはＲ7とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1bとＲ3あるいは／およ
びＲ7は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞ
れ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ
≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、 Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基を示し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は前記一般式（３）におけると同義である。） 
【００５４】
一般式（４）中、好ましくはＲ1bは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、互いに独立して、
水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリーロイル基、−ＳＲ9又は−ＮＲ10Ｒ11を示し、かつ、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6及びＲ7の少なくとも一つは、−ＳＲ9又は−ＮＲ10Ｒ11を示す。ただし、Ｒ9は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１５のシクロアルキル基又は炭素数６〜２０のフェニル基を示し、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す）、Ｒ3〜Ｒ7は互いに結合して、またＲ1bと共に環構造を形成してもよい。
更に好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式（５）〜（７）のいずれかで示される化合物である。 
【００５５】
【化１４】
2007199135.tif 000011
【００５６】
（式中、Ｒ1a、Ｒ2aは、前記一般式（３）におけると同義であり、 Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ10Ｒ11であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ16は互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｌ１は、直接結合又はケトン基であ
り、Ｌ２は、スルフィド結合又は−Ｎ（Ｒ16）−を表す。ただし、Ｒ16は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくは炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基又は炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基を表し、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15と互いに結合して環構造を形成してもよい。）
【００５７】
好ましくは、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１５のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１５のジアルキルアミノアルキル基、炭素数３〜１５のＮ−アシルオキシ−Ｎ−アシルアミノアルキル基であるか、Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7が互いに結合してそれぞれ置換基を有して
いてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−あるいはその組み合わ
せを形成する場合である。 
【００５８】
さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１２のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜８のアミノ基であるか、Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−あるいはその組み合わせ
を形成する場合である。なお、上記においてｎは０〜３の整数であるが、１又は２が好ましい。 
【００５９】
好ましくは、Ｒ2aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケノイル基、炭素数３〜８のシクロアルカノイル基、炭素数７〜１５のベンゾイル基、炭素数１〜１５のヘテロアリーロイル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基又は炭素数７〜２０のフェノキシカルボニル基、炭素数３〜１２のジアルキルアミノカルボニル基又は炭素数７〜１５のフェニルアミノカルボニル基を示す。 
【００６０】
好ましくは、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原
子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のフェニル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基又は、−ＯＲ8もしくは−ＮＲ10Ｒ11を示し、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は互いに結合して、また、Ｒ1aとともに環構造を形成してもよい。 
【００６１】
好ましくは、Ｒ16は、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のフェニル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ル基、炭素数７〜１２のベンジル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数３〜２０のヘテロアリーロイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数３〜２０のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルキル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基又は炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基を表す。ここに、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ16は、互いに結
合して、また、Ｒ1aとともに環構造を形成してもよい。 
【００６２】
ただし、Ｒ8は、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル
基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルケノイル基、炭素数６〜１２のフェニル基、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ｍは１〜２０
の整数、好ましくは１〜５）又は炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基を示し、Ｒ9は
、水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、炭素数３〜１２のアルケニル基又は炭素数６〜１２のフェニル基を示し、Ｒ10およびＲ11は、互いに独立して水素原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシルアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基または炭素数６〜２０のフェニル基を表す。 
【００６３】
【化１５】
2007199135.tif 000012
【００６４】
（式中、Ｒ1b、Ｒ2bは、前記一般式（４）におけると同義であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12
〜Ｒ15、Ｌ１、及びＬ２は、前記一般式（５）におけると同義である。 ）
好ましくは、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜１５のフェニル基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１５のアルカノイル基、炭素数７〜１５のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜１２のフェノキシカルボニル基、炭素数１〜１５のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１５のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数１〜１５のジアルキルアミノアルキル基、炭素数３〜１５のＮ−アシルオキシ−Ｎ−アシルアミノアルキル基であるか、Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。 
【００６５】
さらに好ましくは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜１５のフェニル基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数７〜１２のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくは炭素数７〜１２のフェノキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜１２のアルケニル基、炭素数３〜１２のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールチオアルキル基、炭素数２〜８のアミノ基であるか、Ｒ1bとＲ3あるいは／およびＲ7が互いに結合してそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−あるいはその組み合わせを形成する場合である。なお、上記においてｎは０〜
３の整数であるが、１又は２が好ましい。 
【００６６】
好ましくは、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１５のヘテロアリール基、炭素数１〜１５のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜１５のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜１５のフェノキシカルボニルアルカノイル基、炭素数３〜１５のヘテロアリ−ルオキシキシカルボニルアルカノイル基、炭素数２〜１０のアミノカルボニル基である。好ましいＲ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15、Ｌ１、及びＬ２は、前記
の一般式（５）におけるＲ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15、Ｌ１、及びＬ２の好ましい範囲と
同じである。 
【００６７】
【化１６】
2007199135.tif 000013
【００６８】
（式中、Ｒ1aは、それぞれ前記の一般式（４）におけると同義であり、Ｒ2は、前記の一
般式（３）におけるＲ2a及び一般式（４）におけるＲ2bを示し、 Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ10Ｒ11であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12
〜Ｒ16は互いに結合して環構造を形成してもよく、且つＲ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ16のう
ち少なくとも一つがそれぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。Ｌ１、及びＬ２は、前記一般式（５）におけると同義である。） 
【００６９】
本発明のオキシムエステル化合物を示す化学式中、Ｒ1a、Ｒ1a、Ｒ2a、Ｒ2b、Ｒ2〜Ｒ16の「それぞれ置換されていてもよい置換基」としては、それぞれ独立に、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；シアノ基；任意の有機基などを挙げることができ、その任意の有機基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜１８のシクロアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔ−アミルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、アミルチオ基、ｔ−アミルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基；ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基；ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基；−ＣＯＲ17で表されるアシル基；カルボキシル基；−ＯＣＯＲ18で表されるアシルオキシ基；−ＮＲ19Ｒ20で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ21で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ22で表されるカーバメート基；−ＣＯＮＲ23Ｒ24で表されるカルバモイル基；−ＣＯＯＲ25で表されるカルボン酸エステル基；−ＳＯ3ＮＲ26Ｒ27で表されるスルファモイル基；−ＳＯ3Ｒ28で表されるスルホン酸エステル基；２−チエニル基、２−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキサイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基、トリメチルシリル基などのトリアルキルシリル基等が挙げられる。 
【００７０】
また、本発明の置換基としては、この他に、＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ2のような置換基が
挙げられる。このような化合物として、Ｒ1a、Ｒ1bが、＝Ｎ−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ2で置換さ
れている炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、又は炭素数１〜２０のアミド基であってもよい。 
【００７１】
上記において、複数の置換基同士が結合して環を形成してもよく、形成された環は飽和あるいは不飽和の芳香環あるいは複素環であってもよく、環状にさらにそれぞれ置換基を有していてよく、置換基がさらに環を形成してもよい。 
【００７２】
Ｒ17〜Ｒ28は、それぞれ水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基、または置換されていてもよいアラルキル基を表す。これらの位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっていてもよい。 
【００７３】
以上、一般式（５）〜（７）で示される化合物について詳述したが、各置換基の組み合わせにおいて好ましい化合物を総括すると、次の通りである。 
【００７４】
一般式（５）において、Ｒ1aが、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ1aは、Ｒ3あるいはＲ7とともに環を形成してもよく、その場合Ｒ1aとＲ3あるいは／および
Ｒ7は互い結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置
換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ
）n−、あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数） 、Ｒ2aは、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、水素原
子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ10Ｒ11であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は互いに
結合して環構造を形成してもよく、Ｌ１は、直接結合又はケトン基であり、Ｌ２は、スルフィド結合又は−Ｎ（Ｒ16）−である化合物。 
【００７５】
一般式（６）において、Ｒ1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、  Ｒ2bが、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい
炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ10Ｒ11であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は互いに結合して環構造を形成してもよく、Ｌ１は、直接結
合又はケトン基であり、Ｌ２は、スルフィド結合又は−Ｎ（Ｒ16）−である化合物。 
【００７６】
一般式（７）において、Ｒ1bが、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基であるか、またはＲ1aは、Ｒ3あるいはＲ7とともに環を形成してもよく、その場合Ｒ1aとＲ3あるいは／およびＲ7は互い結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−、あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2が 、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は、水素原子、ハロゲン原子、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケノイル基、炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数７〜２０のベンジル基もしくはベンゾイル基、又は−ＮＲ10Ｒ11であり、Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15は互いに結合して環構造を形成してもよ
く、且つＲ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ12〜Ｒ15のうち少なくとも一つがそれぞれ置換されていても
よい炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルカノイル基もしくはヘテロアリーロイル基及び炭素数３〜１５のトリアルキルシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、Ｌ１は、直接結合又はケトン基であり、Ｌ２は、スルフィド結合又は−Ｎ（Ｒ16）−である化合物。 
【００７７】
その他、好ましいオキシムエステル系化合物は、下記一般式（８）又は（９）で示される化合物である。 
【００７８】
【化１７】
2007199135.tif 000014
【００７９】
（式中、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、また、Ｒ1aは、Ａｒ1とと
もに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2aは、前記一般式（１）におけると同義であり、Ａｒ1は
、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、ｐは、２〜５の整数を表す。）
【００８０】
一般式（８）において、好ましくは、Ｒ1aは、それぞれ置換されていてもよい炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示す。また、Ｒ1aは、Ａｒ1とともに環を形成してもよく、その場合、Ｒ1aとＡｒ1は互いに結合してともに２価あるいは３価の連結基を形成し、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2aが、置換されていてもよい炭素数２〜１２のアルカノイル基である。 
【００８１】
【化１８】
2007199135.tif 000015
【００８２】
（式中、Ｒ1bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数６〜２０のフェニル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、炭素数７〜２０のベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基もしくはフェノキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアミド基、ニトロ基、炭素数２〜２５のアルケニル基、炭素数１〜１０のヘテロアリールアルキル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルキル基、炭素数１〜２０のヘテロアリールオキシカルボニルアルキル基もしくはヘテロアリールチオアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、又は炭素数１〜２０のアミノアルキル基を示し、またＲ1bは、Ａｒ1とともに環を形成してもよく、その連結基は、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜１０アルキレン基、−（ＣＨ＝ＣＨ）n−、−（Ｃ≡Ｃ）n−あるいはその組み合わせであり（ｎは０〜３の整数）、Ｒ2bは、前記一般式（２）におけると同義であり、Ａｒ1は、置換基を有していてもよい芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環を表し、ｐは、２〜５の整数を表す。）  
【００８３】
一般式（９）において、好ましくは、Ｒ1bは、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ2bは、それぞれ置換されていてもよい炭素数１〜２０のヘテロアリール基、炭素数１〜２０のヘテロアリールアルカノイル基、炭素数３〜２０のアルコキシカルボニルアルカノイル基、炭素数８〜２０のフェノキシカルボニルアルカノイル基又は炭素数２〜１０のアミノカルボニル基である。 
【００８４】
また、Ａｒ1は、本発明の化合物が光を吸収するために必要な部分であり、２００ｎｍ
以上、好ましくは２００〜５００ｎｍ、さらに好ましくは２５０〜５００ｎｍに吸収をもつような化合物であれば好ましく用いられる。具体的にはＡｒ1は、ベンゼン環、フェナ
ントレン環、アズレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、インデン環およびその縮合環からなる芳香環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、チアジゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、およびその縮合環からなる環、さらにはアクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、ベンゾチアゾール環等の芳香環と複素環からなる縮合環などがあげられる。 
【００８５】
ｐは、上記の芳香環、ヘテロ芳香環、縮合芳香環又は縮合ヘテロ芳香環から選ばれるＡｒ1中に存在する置換可能な水素原子数に対応するもので、通常２〜５、好ましくは２〜
３の範囲から選択される。
次に、本発明の好ましい化合物の具体例を以下に示す。 
【００８６】
【化１９】
2007199135.tif 000016
【００８７】
【化２０】
2007199135.tif 000017
【００８８】
【化２１】
2007199135.tif 000018
【００８９】
【化２２】
2007199135.tif 000019
【００９０】
前述のように本発明に係る上記オキシム開始剤はそれ自体公知の化合物を含み、例えば前述の特許文献１〜６に記載の化合物の中から適宜使用することが出来る。 
尚、本発明の感光性組成物を構成する（ｂ１）オキシム開始剤は、後述する任意の光重合開始剤とを併せた光重合開始剤全体に対して１０〜１００重量％、好ましくは５０〜１００重量％、更に好ましくは８０〜１００重量％含有される。オキシム開始剤が少なすぎると感度の低下を起こしやすい。 
【００９１】
［１−２−１−２］（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤の平均粒子径 
上記特定構造を有するオキシム開始剤は前記特許文献１〜６において公知の化合物を含むものである。本発明においては、該オキシム開始剤の平均粒子径が０．００１μｍ以上、好ましくは０．０１μｍ以上であり、１５０μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下、とりわけ好ましくは２μｍ以下であることにより、感光性組成物の感度が格段に優れたものとなる。これは、感光性組成物中に十分量のオキシム開始剤が均一に分散されるため、吸光効率が高まり、均一に感光される組成となったためと考えられる。また、感光性組成物の経時におけるオキシム開始剤の析出・結晶化も抑制することが出来る点でも優れる。即ち、上記平均粒径の範囲は、オキシム開始剤が溶剤に対して難溶性であることが前提となる。可溶性では、粒子径の存在するオキシム開始剤は組成物中に存在しないからである。尚、本願に規定する「平均粒子径」は、重量平均粒子径又は数平均粒子径を意味するものであり、公知の測定法により測定することができる。本発明における平均粒子径の規定はオキシム開始剤を微粒化するという技術思想に基くものであり、かかる平均粒子径の範囲においては重量平均粒子径又は数平均粒子径のいずれによる測定値であっても本発明の目的を達成することができる。 
また、上記オキシム開始剤の平均粒子径の下限は通常０．００１μｍであり、好ましくは０．０１μｍである。 
【００９２】
本発明において、上記オキシム開始剤の平均粒子径を０．００１μｍ以上１５０μｍ以
下とするための方法は特に限定はないが、例えばペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ピコミル、ホモジナイザー等を用いて十分に分散処理するのが好ましい。分散処理においては、塗布液、分散機能を有する有機結合剤、あるいは、特開２００５−１２８４８３号公報に記載されるように、ノニオン、カチオン、アニオン等の界面活性剤、高分子分散剤等を適当に併用した系にて処理するのが好ましい。中でも好ましい分散処理としてはサンドグラインダーが挙げられる。 
また、分散用ビーズとしては、平均粒子径が通常０．１〜８ｍｍ、好ましくは０．２〜２ｍｍの硝子ビーズ又はジルコニアビーズが用いられる。 
また、分散温度（気温）は通常０〜１００℃であり、好ましくは、室温〜８０℃の範囲である。分散時間は分散溶液の組成およびサンドグラインダーの装置サイズ等により、適正時間が異なるため適宜調整される。 
【００９３】
［１−２−１−３］（ｂ１）特定構造を有するオキシム開始剤の吸収極大の波長域 
本発明の感光性組成物を構成する前記オキシム開始剤は紫外から青紫色半導体レーザー用に用いる場合は、３４０ｎｍ以上、好ましくは３４５ｎｍ以上、更に好ましくは３５０ｎｍ以上、特に好ましくは３５５ｎｍ以上であり、４３０ｎｍ以下、好ましくは４１５ｎｍ以下の波長域に吸収極大を有するものが好ましい。吸収極大が長波長側に寄りすぎると、黄色灯下で感光しやすくなりセーフライト性が低下するか、または黄色灯下でも感光しないように感光性組成物層の透明性を上げた場合には、青紫色レーザー光を吸収しにくくなるので感度が低下する。また、吸収極大が短波長側に寄りすぎると、照射された光エネルギーを効率的に光重合反応に使えないため低感度となる。前記のオキシム開始剤のうち、上述の吸収極大を有するものは、一般に溶剤に難溶性であることが多いが、例えば前述の（Ｘ−２０）、（Ｘ−２２）、（Ｘ−２８）等の様な、複数のアルキル基又はアルキルオキシル基を有するフェニル基を置換基として導入したもの又は長鎖のアルキル基又はアルコキシ基を有するフェニル基を置換基として導入したもの等は、可溶性を示すことがある。かかるオキシム開始剤は感光性組成物との相溶性に優れ、経時による結晶の析出等の問題もないため好ましい。
尚、オキシム開始剤の吸収極大は、例えば光重合開始剤を約１０-5モル濃度となるようにテトラヒドロフラン溶媒に溶解させた溶液を通常の紫外、可視光吸収スペクトルメーターで測定する等により容易に求められる。
【００９４】
［１−２−２］（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物
本発明に係る（ｂ２）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物は、光増感剤として作用するだけでなく、前記（ｂ１）のオキシム開始剤との組合せにより、特にソルダーレジスト用途において、感度、解像性、及び現像液に対する感光層の非画線部の溶解性（現像性）の向上の他、耐薬品性を増加させる効果を有する。
本発明に用いられる硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物としては、例えば、４-
ベンゾイルジフェニルスルフィド化合物が挙げられる。この化合物の４-ベンゾイル基が
結合したベンゼン環には、塩素原子、炭素数１〜５のアルキル基、メトキシ基、及びエトキシ基から選ばれる１つ又は２つの置換基が置換されていてもよく、ベンゾイル基が結合していないベンゼン環には、塩素原子、炭素数１〜５のアルキル基、メトキシ基、及びエトキシ基から選ばれる１つの置換基が置換されていてもよい。４-ベンゾイルジフェニル
スルフィド化合物の具体例としては、４-ベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド（日本化薬社製カヤキュアーＢＭＳ）、４-ベン
ゾイル−４’−エチルジフェニルスルフィド、４-ベンゾイル−４’−プロピルジフェニ
ルスルフィド、４-ｏ−メチルベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｐ−メチルベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｍ−メチルベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｍ，ｍ’−ジメチルベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｏ−クロロベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｐ−クロロベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｐ−ｔ−ブチルベンゾイルジフェニルスルフィド、４-ｍ−メトキシベンゾイルジフェニルスルフィド等が挙げられる。
硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物は単独又は２種以上を併用して用いることが出来る。
【００９５】
［１−２−３］（Ｂ）光重合開始系の任意成分 
本発明の感光性組成物を構成する（Ｂ）成分の光重合開始系は、必要に応じてその他の１以上の光重合開始剤、増感剤等を併用して用いることも出来る。 
【００９６】
［１−２−３−１］その他の光重合開始剤
上記のその他の１以上の光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ヒドロキシベンゼン類、チオキサントン類、アントラキノン類、ケタール類、ヘキサアリールビイミダゾール類、チタノセン類、ハロゲン化炭化水素誘導体類、有機硼素酸塩類、有機過酸化物類、オニウム塩類、スルホン化合物類、カルバミン酸誘導体類、スルホンアミド類、トリアリールメタノール類、塗布溶媒に可溶性のオキシムエステル化合物等が挙げられる。  
そのアセトフェノン類としては、例えば２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−トリクロロメチル−（ｐ −ブチ
ルフェニル）ケトン、α−ヒドロキシ−２−メチルフェニルプロパノン、及び後述するαーアミノアセトフェノン等が、又、ベンゾフェノン類としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、ミヒラーケトン等が、又、ヒドロキシベンゼン類としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が、又、チオキサントン類としては、例えば、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等が、又、アントラキノン類としては、例えば、２−メチルアントラキノン等が、又、ケタール類としては、例えば、ベンジルジメチルケタール等が、それぞれ挙げられる。 
【００９７】
また、ヘキサアリールビイミダゾール類としては、例えば２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’ −テトラフェニルビイミダゾール、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ， ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２， ２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）ビイミダゾール、２， ２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）ビイミダゾール等が挙げられる。中でも、ヘキサフェニルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の２，２’−位に結合したベンゼン環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが更に好ましく、そのイミダゾール環上の４，４’，５，５’−位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子或いはアルコキシカルボニル基で置換されたものが特に好ましい。 
【００９８】
また、そのチタノセン類としては、例えば、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４−ジフルオロフェニル） 、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
（２， ６−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，
６−トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）フェニル〕等が挙げられる。中でも、ジシクロペンタジエニル構造とビフェニル構造を有するチタン化合物が好ましく、ビフェニル環のｏ−位がハロゲン原子で置換されたものが特に好ましい。 
【００９９】
また、そのハロゲン化炭化水素誘導体類としては、ハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体類が挙げられ、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２ −メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４， ６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４， ６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ −メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシ−ｍ−ヒドロキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−エトキシカルボニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２ −フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４， ６−ビス（トリクロロメチル ）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル化ｓ−トリアジン誘導体類が挙げられ、中でも、ビス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン類が好ましい。 
【０１００】
また、その有機硼素酸塩類としては、例えば、有機硼素アンモニウム錯体、有機硼素ホスホニウム錯体、有機硼素スルホニウム錯体、有機硼素オキソスルホニウム錯体、有機硼素ヨードニウム錯体、有機硼素遷移金属配位錯体等が挙げられ、その有機硼素アニオンとしては、例えば、ｎ−ブチル−トリフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３−フルオロ−４−メチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２， ６−ジフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，６−トリフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６ −ジフルオロ−３−ピロリルフェニル）−硼素アニオン等のアルキル−トリフェニル硼素アニオンが好ましく、又、対カチオンとしては、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン等のオニウム化合物が好ましく、テトラアルキルアンモニウム等の有機アンモニウムカチオンが特に好ましい。 
また、その有機化酸化物としては、例えば、ｔ−ブチル安息香酸過酸化エステル、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等が挙げられる。 
【０１０１】
また、そのオニウム塩類としては、例えば、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド等のアンモニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムカンファースルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジシクロヘキシルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジシクロヘキシルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルヨードニウムカンファースルホネート等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリシクロヘキシルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリシクロヘキシルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリシクロヘキシルスルホニウムカンファースルホネート等のスルホニウム塩等が挙げられる。 
【０１０２】
また、そのスルホン化合物類としては、例えば、ビス（フェニルスルホニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニルスルホニル）メタン、ビス（ｐ−メトキシフェニルスルホニル）メタン、ビス（α−ナフチルスルホニル）メタン、ビス（β−ナフチルスルホニル）メタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）メタン、ビス（ｔ−ブチルスルホニル）メタン、フェニルスルホニル（シクロヘキシルスルホニル）メタン等のビス（スルホニル）メタン化合物、フェニルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、ナフチルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（ナフチルスルホニル）メタン、シクロヘキシルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、ｔ−ブチルカルボニル（フェニルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（シクロヘキシルスルホニル）メタン、フェニルカルボニル（ｔ−ブチルカルボニル）メタン等のカルボニル（スルホニル）メタン化合物、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ −メトキシフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（α−ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（β−ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｔ−ブチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（スルホニル）ジアゾメタン化合物、フェニルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ナフチルカルボニル（ フェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（ナフチルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ｔ−ブチルカルボニル（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルカルボニル（ｔ−ブチルカルボニル）ジアゾメタン等のカルボニル（スルホニル）ジアゾメタン化合物等が挙げられる。 
【０１０３】
また、そのカルバミン酸誘導体類としては、例えば、ベンゾイルシクロヘキシルカルバメート、２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、３，５−ジメトキシベンジルシクロヘキシルカルバメート、３−ニトロフェニルシクロヘキシルカルバメート等が、又
、そのスルホンアミド類としては、例えば、Ｎ−シクロヘキシル−４−メチルフェニルスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシル−２ −ナフチルスルホンアミド等が、又、そのトリ
アリールメタノール類としては、例えば、トリフェニルメタノール、トリ（４−クロロフェニル）メタノール等が、それぞれ挙げられる。 
また、そのオキシムエステル化合物としては、例えば特開２０００−８００６８号公報に記載されているオキシムエステル化合物が挙げられる。具体的には、例えば１,２−オ
クタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（Ｏ-ベンゾイルオキシ
ム）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ-アセチルオキシム）等が挙げられる。 
【０１０４】
以上の併用可能な光重合開始剤の中で、本発明においては、アセトフェノン類としてのα−アミノアセトフェノン誘導体が好ましく、下記一般式（VI）で表されるものが特に好ましい。 
【０１０５】
【化２３】
2007199135.tif 000020
【０１０６】
〔式（VI）中、Ｒ32は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ33は、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリル基を示し、Ｒ34及びＲ35は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ34とＲ35とが互いに連結して、又は、Ｒ34若しくはＲ35とＲ32若しくはＲ33とが互いに連結して、環状構造を形成していてもよく、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕 
ここで、前記一般式（VI）におけるＲ32、Ｒ33、Ｒ34、及びＲ35のアルキル基としては、炭素数１〜１５、特には１〜１０のものが好ましい。又、アルキル基、アリル基、及びフェニル基における置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基、アセトキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルカルボニルアルキル基、アルキルチオ基、ハロアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、Ｒ34とＲ35とが互いに連結して、又は、Ｒ34若しくはＲ35とＲ32若しくはＲ33とが互いに連結して、形成している環状構造としては、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、オキサゾリジン、ピリジン等が挙げられる。 
【０１０７】
また、ベンゼン環における置換基としては、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、フェノキシ基、ベンゾイル基、シリルオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリルチオ基、シクロアルキルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アルキルアミノ基、アリルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ハロゲン原子等が挙げられ、又、ベンゼン環は縮合環を形成していてもよく、その縮合環としては、フルオレノン、ジベンゾスベロン、インドリン、キノキサリン、カルバゾール、フェナジン、アクリダノン、ベンゾジオキソール、ベンゾフラン、キサンテン、キサントン、フェノキサジン、ベンゾチアゾール、フェノチアジン等が挙げられる。 
【０１０８】
以上の前記一般式（VI）で表されるα−アミノアセトフェノン誘導体として、具体的に、化合物の基本骨格により分類してその炭素数毎に例示すれば、以下の化合物が挙げられ、これらの中で、特に好ましいものは、Ｒ３２及びＲ３３が各々独立して、メチル基、エチル基、又はベンジル基であり、Ｒ３４とＲ３５が、それぞれメチル基、又は互いに連結して環状構造を形成したモルホリノ基であり、ベンゼン環が、無置換、又は置換基としてメチルチオ基、ジメチルアミノ基、又はモルホリノ基を有する、特に好ましくはｐ−位にのみモルホリノ基を有する化合物である。 
【０１０９】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数３に分類するプロパン−１−オンとして、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−メチルフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−メチルチオフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−フルオロフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（２−クロロフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−クロロフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−ブロモフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−ベンゾイルフェニル）−プロパン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１，３−ジフェニル−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−３−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−ベンゾイルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１ −オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−メチルフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３ −（４−メトキシフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（３，４−ジメトキシフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４ −メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−フルオロフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（２ −クロロフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−クロロフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−ブロモフェニル）−プロパン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−３−（４−ベンゾイルフェニル）−プロパン−１−オン、１，３−ビス（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−プロパン−１−オン、１−（４−ブチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−３−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−シクロヘキシルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−３−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−ベンジルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −ジメチルアミノ−２−ベンジル−３−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（２−クロロペンテニル）−プロパン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル） −２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−３−フェニル−プロパン−１−オン、１−（Ｎ−メチルインドリン−５−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン、１−（Ｎ−ブチルフェノキサジン−２−イル）−２−モルホリノ−２−ベンジル−プロパン−１−オン等が挙げられる。 
【０１１０】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数４に分類するブタン−１−オンとして、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２ −
ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−アリルオキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−エトキシカルボニルメトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（１，１，２−トリメチルプロピルジメチルシリルオキシ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１ −（４−クロロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（２， ４−ジクロロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３，４ −ジクロロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３，５−ジクロロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ブロモフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メルカプトフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２ −ジブチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジ（２−メトキシエチル）アミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（２−メトキシエチルチオ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（２ −ヒドロキシエチルチオ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−オクチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１ −（４−メチルスルホニルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ベンゼンスルホニルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルスルフィニルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−アミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−メチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−イソプロピルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−ドデシルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（１−クロロヘキセニルメチル）−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（２−ピネン−１０−イル）−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノ−３−エチルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ジエチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−イソプロピルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ブチル−ブタン−１−オン、１−〔４−（２−メトキシエチルアミノ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１ −〔４−（３−メトキシプロピルアミノ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−アセチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（Ｎ−アセチルメチルアミノ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（Ｎ−アセチル−３−メトキシプロピルアミノ）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−ピペリジノフェニル） −２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２ −ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（３，４−ジメチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−エチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−イソプロピルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−ブチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−イソブチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４ −ドデシルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−ヒドロキシメチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−アセトキシエチルベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２ −ジメチルアミノ−２−（４−メトキシベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−ブトキシベンジル）−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−メトキシエトキシ）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−（２−メトキシエトキシ）エトキシカルボニル）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２ −ジメチルアミノ−２−〔４−（２−（２−（２−メトキシエトキシ）エトキシカルボニ��）エチル）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル） −２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−ブロモエチル）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（ ２−ジエチルアミノエチル）ベンジル〕−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン−トリフルオロアセテート、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン−ドデシルベンゼンスルホネート、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン−ｐ−トルエンスルホネート、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン−カンファースルホネート、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジエチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジ（２−メトキシエチル）アミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−（４−イソプロピルベンジル） −ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジブチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（３−クロロ−４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−〔４−（２，６−ジメチルモルホリン−４−イル）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（１，４−ジメチル−１，２，３， ４−テトラヒドロキノキサリン−６−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（Ｎ−ブチルカルバソール−３−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（２，３−ジヒドロベンゾフラン−５−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（キサンテン−２−イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、１−（２，３−ジヒドロ−２，３−ジメチルベンゾチアゾール−５ −イル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタン−１−オン、２−（２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノイル）−フルオレノン、２−（２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノイル）−ジベンゾスベロン、３，６−ジ（２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノイル）−９ −ブチル−カルバゾール等が挙げられる。 
【０１１１】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数５に分類するペンタン−１−オンとして、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−アリル−ペンタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ペンタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（２−イソプロピルベンジル）−ペンタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−（４−イソブチルベンジル）−ペンタン−１−オン、１ −（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−（４−ブトキシベンジル）−ペンタン−１−オン等が挙げられる。 
【０１１２】
更に、ペンテン−１−オンとして、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−フェニル−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−フェニル−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−フェニル−２−モルホリノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１，２−ジフェニル−２−モルホリノ−４−ペンテン−１−オン、１ −（４−メチルフェニル）−２−モルホ
リノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−ジブチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−ピペリジノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−オキサゾリジノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メトキシフェニル）−２−モルホリノ−２−フェニル−４−ペンテン−１−オン、１−（３，４−ジメトキシフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−メトキシエトキシ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−メトキシエトキシ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４ −イソプロピルオ
キシフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブチルオキシフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１ −〔４−（２−アリルオキシエトキシ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−アリルオキシエトキシ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−トリメチルシリルオキシフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４ −ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−５−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−フルオロフェニル）−２−モルホリノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（３，４−ジクロロフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（３，５−ジクロロ−４−メトキシフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブロモフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブロモフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４ −ペンテン−１−オン、１−（４−ブロモフェニル）−２−モルホリノ−２−ｔ−ブチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−フェニル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４ −ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−ピペリジノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−フェニル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−エチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−イソプロピルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−アリルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１ −オン、１���〔４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４ −ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル〕−２ −モルホリノ−２−プロピル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−ｔ−ブチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２−メトキシカルボニルエチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−メチルスルホニルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブチルスルフィニルフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（４−メチルフェニルスルホニル）フェニル〕−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−クロロフェニルチオフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４ −ジメチルアミノフェニル）−２−メチルフェニルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−（ピロリジン−１−イル）−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４ −ジメチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４ −ジメチルアミノフェニル）−２−（２，６−ジメチルモルホリン−４イル）−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジエチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−ビス（２−メトキシエチル）アミノフェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブチルアミノフェニル）−２−ジブチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ブチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジブチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ジアリルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（ピロリジン−１−イル）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−ピペリジノフェニル）−２ −ピペリジノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（ピペラジン−１−イル）フェニル〕−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−���−オン、１−〔４−（４−メチルピペラジン−１−イル）フェニル〕−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（Ｎ−メチルピペラジン−１−イル）フェニル〕−２−（Ｎ−メチルピペラジン−１−イル）−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−イソプロピル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジエチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジ（２ −メトキシエチル）アミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−アリルメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジアリルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルメチルアミノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−（ピペラジン−１−イル）−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１ −（４−モルホリノフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン−ドデシルベンゼンスルホネート、１−（４−モルホリノフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４ −ペンテン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−モルホリノ−２−ベンジル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２，６−ジメチルモルホリン−４−イル）フェニル〕−２−モルホリン−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−〔４−（２，６−ジメチルモルホリン−４ −イル）フェニル〕−２−（２，６−ジメチルモルホリン−４−イル）−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（Ｎ−ブチルインドリン−５−イル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（１，４−ジブチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン−６−イル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（Ｎ−ブチルカルバゾール−３−イル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（５，１０−ジブチル−５，１０−ジヒドロフェナジン−６−イル）−２−ジメチルアミノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（ベンゾフラン−３−イル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（ベンゾフラン−６−イル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ペンテン−１−オン、１−（２，３−ジヒドロベンゾフラ��−５−イル）−２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテン−１−オン、１−（Ｎ −メチルフェノチアジン−２−イル）−２−ジメチルアミノ−２−アリル−４−ペンテン−１−オン、３，６−ジ（２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテノイル）−カルバゾール、２−（２−ジメチルアミノ−２−アリル−４−ペンテノイル）−アクリダノン、２−（２−モルホリノ−２−メチル−４−ペンテノイル）−キサントン、２−（４−モルホリノベンゾイル）−２−エチル−Ｎ−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン等が挙げられる。 
【０１１３】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数６に分類するヘキサン−１−オンとして、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−アリル−ヘキサン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ヘキサン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−４，５，５−トリメチル−ヘキサン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ブチルメチルアミノ−２−（４−ブチルベンジル）−ヘキサン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２−ジオクチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−ヘキサン−１−オン等が挙げられる。 
【０１１４】
更に、ヘキセン−１−オンとして、１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−メチル−４−ヘキセン−１−オン、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２，４， ５−トリメチル−４−ヘキセン−１−オン、１−
（４−ジメチルアミノフェニル）−２−モルホリノ−２−エチル−４−ヘキセン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２ −モルホリノ−２−エチル−４−ヘキセン−
１−オン等が挙げられる。 
【０１１５】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数７に分類するヘプタン−１−オンとして、１−（４−ジメチルアミノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−〔４−（２−メトキシ）ベンジル〕−ヘプタン−１−オン、１−（４ −モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ヘプタン−１−オン等が挙げられる。 
更に、ヘプタ−１，６−ジエンとして、４−ベンゾイル−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−メトキシベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−メトキシベンゾイル）−４−モルホリノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−フェノキシベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−フルオロベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−フルオロベンゾイル）−４−モルホリノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−メチルチオベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−メチルチオベンゾイル）−４−モルホリノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４ −（４−ジメチルアミノベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−４−モルホリノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−モルホリノベンゾイル）−４−ジメチルアミノ−ヘプタ−１，６−ジエン、４−（４−モルホリノベンゾイル）−４−モルホリノ−ヘプタ−１，６−ジエン等が挙げられる。 
【０１１６】
前記一般式（VI）の基本骨格の炭素数８に分類するオクタン−１−オンとして、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−オクタン−１−オン、１−（４−モルホリノフェニル）−２−ジメチルアミノ−２−（４−ドデシルベンジル）−オクタン−１−オン等が挙げられる。
本発明の感光性組成物において、前記その他の光重合開始剤の含有割合は、光重合開始剤全体に対して、通常０〜９０重量％、好ましくは０〜５０重量％、更に好ましくは０〜２０重量％含有される。
【０１１７】
［１−２−３−２］その他の増感色素 
本発明の感光性組成物は、組成物の感度向上等の目的として、増感色素成分を含有するのが好ましく、その増感色素としては、波長３４０〜４３０ｎｍの紫外〜青紫色領域に吸収極大を有する光吸収色素であり、ジアルキルアミノベンゼン系化合物、ピロメテン系化合物、トリヒドロキシピリミジン誘導体等が挙げられる中で、ジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。 
【０１１８】
その好ましいジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、特に、ジアルキルアミノベ
ンゾフェノン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物、及びカルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。 
【０１１９】
そのジアルキルアミノベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式（VII）で表され
るものが好ましい。 
【０１２０】
【化２４】
2007199135.tif 000021
【０１２１】
〔式（VII）中、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ66、及びＲ67は各々独立して、置換基を有していてもよ
いアルキル基を示し、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ68、及びＲ69は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ62とＲ63、Ｒ62とＲ64、Ｒ63とＲ65、Ｒ66とＲ67、Ｒ66とＲ68、及びＲ67とＲ69とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよい。〕 
ここで、式（VII）中のＲ62、Ｒ63、Ｒ66、及びＲ67のアルキル基の炭素数、並びに、
Ｒ64、Ｒ65、Ｒ68、及びＲ69がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましい。 
【０１２２】
また、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、Ｒ62とＲ64、Ｒ63とＲ65、Ｒ66とＲ68、又はＲ67とＲ69が６員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、Ｒ62とＲ63とＲ64とＲ65、又は／及び、Ｒ66とＲ67とＲ68とＲ69がジュロリ ジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、２位にアルキル基を置換基とし
て有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。 
【０１２３】
前記一般式（VII）で表される化合物の具体例としては、例えば、４，４’−ビス（ジ
メチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’ −ビス（ジエチルアミノ） ベンゾフェノン、及び、下記構造の化合物が挙げられる。 
【０１２４】
【化２５】
2007199135.tif 000022
【０１２５】
また、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物における複素環基としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を含む５又は６員環のものが好ましく、縮合ベンゼン環を有する５員環が特に好ましく、下記一般式（VIII）で表されるものが好ましい。 
【０１２６】
【化２６】
2007199135.tif 000023
【０１２７】
〔式（VIII）中、Ｒ70及びＲ71は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を
示し、Ｒ72及びＲ73は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ70とＲ71、Ｒ70とＲ72、及びＲ71とＲ73とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｘ は、酸素原子、硫黄原子、ジアルキルメチレン基、イミノ基、
又はアルキルイミノ基を示し、複素環に縮合するベンゼン環は置換基を有していてもよい。〕 
ここで、式（VIII）中のＲ70及びＲ71のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ72及びＲ73がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましく、Ｒ70とＲ72、Ｒ71とＲ73が６員環のテトラヒドロキノリン環を形成しているのが好ましく、Ｒ70とＲ71とＲ72とＲ73がジュロリジン環を形成しているのが特に好ましい。更に、２位にアルキル基を置換基として有するテトラヒドロキノリン環、或いは該テトラヒドロキノリン環を含むジュロリジン環が殊更好ましい。又、Ｘがジアルキルメチレン基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ましく、アルキルイミノ基であるときのアルキル基の炭素数は１〜６であるのが好ま 
しい。 
【０１２８】
前記一般式（VIII）で表される化合物の具体例としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ベンゾイミダゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−３，３−ジメチル−３Ｈ−インドール、及び、下記構造の化合物が挙げられる。 
【０１２９】
【化２７】
2007199135.tif 000024
【０１３０】
また、前記一般式（VIII）で表される化合物以外の、ベンゼン環上のアミノ基に対して
ｐ−位の炭素原子に複素環基を置換基として有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、例えば、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリジン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリミジン、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５ −ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル
）−１，３，４−チアジアゾール等が挙げられる。 
【０１３１】
また、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式(VI) で表され
るものが好ましい。 
【０１３２】
【化２８】
2007199135.tif 000025
【０１３３】
〔式（IX）中、Ｒ74及びＲ75は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ76及びＲ77は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ74とＲ76、Ｒ74とＲ76、及びＲ75とＲ77とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ78は１価基、又は水素原子を示し、Ｒ79は１価基を示す。〕 
ここで、式（IX）中のＲ74及びＲ75のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ76及びＲ77がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましいが、Ｒ76及びＲ77は水素原子であるのが好ましい。 
【０１３４】
また、Ｒ78及びＲ79の１価基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アリールアルケニル基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、カルバモイル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、イミノ基、シアノ基、及び複素環基等が挙げられる。これらの中で、Ｒ78としては水素原子が、又、Ｒ79としてはアリール基が好ましい。 
また、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表されるものが好ましい。 
【０１３５】
【化２９】
2007199135.tif 000026
【０１３６】
〔式（Ｘ）中、Ｒ80、Ｒ81、及びＲ84は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ82及びＲ83は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ80とＲ81、Ｒ80とＲ82、及びＲ81とＲ83とは各々独立して、含窒素複素環を形成していてもよく、Ｒ85は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は水素原子を示す。〕 
ここで、式（Ｘ）中のＲ80 、Ｒ81、及びＲ84のアルキル基の炭素数、並びに、Ｒ82、
Ｒ83、及びＲ85がアルキル基であるときの炭素数は１〜６であるのが好ましく、又、含窒素複素環を形成する場合、５又は６員環であるのが好ましいが、Ｒ82及びＲ83は水素原子であるのが好ましい。又、Ｒ85としてはフェニル基であるのが好ましい。
【０１３７】
以上の増感度色素として、本発明においては、前記一般式（VII）で表されるジアルキ
ルアミノベンゾフェノン系化合物、前記一般式（IX）で表される、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ −位の炭素原子にスルホニルイミノ基を含む置換基を有するジアルキルア
ミノベンゼン系化合物、又は、前記一般式（Ｘ）で表される、カルボスチリル骨格を形成したジアルキルアミノベンゼン系化合物が特に好ましい。
本発明の感光性組成物において、前記その他の増感色素の含有割合は、増感剤全体に対して、通常０〜９０重量％、好ましくは０〜５０重量％、更に好ましくは０〜２０重量％含有される。
【０１３８】
［１−３］（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂 
本発明の感光性組成物を構成する（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基含有樹脂、及び、カルボキシル基含有樹脂等が挙げられる。例えば、ポリビニルフェノール樹脂、及び、ノボラック樹脂、レゾール樹脂等のフェノール樹脂、カルボキシル基含有ビニル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂が好ましく、これらの中で、カルボキシル基含有ビニル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂が更に好ましい。特に本発明の感光性組成物を塗設した画像形成材料をオーバーコートを用いない単層画像形成材料として用いる際には空気中酸素による感度低下の抑制、更には耐熱性、耐薬品性の向上の目的からカルボキシル基含有エポキシ樹脂が殊更好ましい。以下に好ましい（Ｃ）成分としての、カルボキシル基含有ビニル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂を詳述する。 
【０１３９】
［１−３−１］カルボキシル基含有ビニル系樹脂 
カルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル等の他のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。これらカルボキシル基含有ビニル系樹脂は、酸価が５０〜３００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇであるのが好ましく、１００〜２５０ＫＯＨ・ｍｇ／ｇであるのが特に好ましい。又、ポリスチレン換算の重量平均分子量が１０，０００〜２００，０００であるのが好ましく、２０，０００〜１００，０００であるのが特に好ましい。 
【０１４０】
これらの中で、本発明における感光性組成物に含有されるカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する構成繰返し単位を含む共重合体であるのが好ましく、その共重合体としては、エチレン性不飽和カルボン酸類、アルキル（メタ）アクリレート類、及びスチレン類に由来する構成繰返し単位を、各々、１０〜５０重量％、１５〜８０重量％、及び１〜４０重量％の割合で含むのが好ましく、各々、１５〜５０重量％、１５〜８０重量％、及び１〜１５重量％の割合で含むのが更に好ましく、各々、１５〜３５重量％、３０〜８０重量％、及び５〜１５重量％で含むのが特に好ましい。 
【０１４１】
ここで、前記共重合体におけるスチレン系単量体としては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン等のα−置換アルキルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン等の核置換アルキルスチレン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン等の核置換ヒドロキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ジブロモスチレン等の核置換ハロゲン化スチレン等が挙げられ、又、アクリル酸エステル系単量体としては、具体的には、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ここで、（メタ）アクリル酸の炭素数は、好ましくは炭素数１〜１２、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキルエステル、及び、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の置換アルキルエステル等が挙げられる。 
【０１４２】
尚、前記共重合体としては、前記スチレン系単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及び（メタ）アクリル酸の各単量体に由来する構成繰返し単位の外に、更に、例えば、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸や、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル酸誘導体、及び、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル化合物等の共重合可能な他単量体に由来する構成繰返し単位を含有していてもよい。これらの他単量体に由来する構成繰返し単位の含有量は、共重合体全体の１０モル％以下であるのが好ましい。 
【０１４３】
また、その他のカルボキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するカルボキシル基含有ビニル系樹脂が挙げられる。カルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、例えば、以下のものが挙げられる。 
（ｉ）カルボキシル基含有重合体に、脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物又は脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を反応させて得られた反応生成物。 
脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物としては、例えばアリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等が挙げられる。 
脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【０１４４】
上記脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物又は脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を反応させる割合は、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基に対して、通常５〜９０モル％、好ましくは３０〜７０モル％である。 
（ｉｉ）２種以上の不飽和基を有する化合物と、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを共重合させて得られた反応生成物。 
２種以上の不飽和基を有する化合物としては、例えばアリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、ビニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル（メタ）アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
上記不飽和カルボン酸を反応させる割合は、不飽和基を有する化合物の全体に対して通常１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％である。 
【０１４５】
また、前記カルボキシル基含有ビニル系樹脂の側鎖にエチレン性二重結合を有するアクリル系樹脂も好ましく、かかるアクリル系樹脂の使用により、本発明の感光性組成物をカラーフィルター用着色樹脂組成物として用いる場合、光硬化性が向上するので、カラーフィルタの解像性、画素と基板との密着性を一層向上させることができる。 
アクリル系樹脂の側鎖にエチレン性二重結合を導入する方法としては、例えば、特公昭５０−３４４４３号公報、特公昭５０−３４４４４号公報などに記載されている方法、即ち、 
（１）アクリル系樹脂が有するカルボキシル基に、グリシジル基やエポキシシクロヘキシル基と（メタ）アクリロイル基とを併せ持つ化合物を反応させる方法 
（２）アクリル系樹脂が有する水酸基にアクリル酸クロライド等を反応させる方法 
などが挙げられる。 
【０１４６】
具体的には、カルボキシル基や水酸基を有するアクリル系樹脂に、（メタ）アクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、（イソ）クロトン酸グリシジルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アリルクロライド等の化合物を反応させることにより、側鎖にエチレン性二重結合基を有するアクリル系樹脂を得ることができる。中でも、カルボキシル基や水酸基を有するアクリル系樹脂に、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレートの様な脂環式エポキシ化合物を反応させたものが好ましい。 
【０１４７】
［１−３−２］カルボキシル基含有エポキシ樹脂 
不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエポキシ化合物又はエポキシ樹脂のエポキシ基にα，β−不飽和モノカルボン酸のカルボキ
シル基が開環付加されて形成されたエステル結合（−ＣＯＯ−）を介してエチレン性不飽和結合が付加されていると共に、その際生じた水酸基に多価カルボン酸若しくはその無水物のカルボキシル基が反応して形成されたエステル結合を介して残存するカルボキシル基が付加されたものが挙げられる。 
【０１４８】
ここで、そのエポキシ樹脂としては、例えば前記フェノール性水酸基含有樹脂のフェノール基にエピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、ヒドロキシメチルエポキシ等をアルカリ又は酸触媒等により反応付加させたもの等が挙げられ、具体的にはビスフェノールＡエポキシ樹脂、ビスフェノールＦエポキシ樹脂、ビスフェノールＳエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂等を挙げることができる。中でも、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェノールフルオレンジグリシジルエーテル及びその繰り返し単位を有するエポキシ樹脂が特に好ましい。 
【０１４９】
また、そのα，β−不飽和モノカルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等、及び、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート無水琥珀酸付加物、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート無水琥珀酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート無水フタル酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物、（メタ） アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物等が挙げ られ、中で、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。 
【０１５０】
また、その多価カルボン酸若しくはその無水物としては、具体的には、例えば、琥珀酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、３−メチルテトラヒドロフタル酸、４−メチルテトラヒドロフタル酸、３−エチルテトラヒドロフタル酸、４−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、３−メチルヘキサヒドロフタル酸、４−メチルヘキサヒドロフタル酸、３−エチルヘキサヒドロフタル酸、４−エチルヘキサヒドロフタル酸、及びそれらの無水物等が挙げられ、中でも、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、又はヘキサヒドロフタル酸無水物が好ましく、テトラヒドロフタル酸無水物が特に好ましい。 
【０１５１】
以上の中で、本発明においては、感光性組成物としての感度、解像性、及び基板に対する密着性等の面から、エポキシ樹脂がフェノールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、ビスフェノールＦエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック樹脂、トリフェノールとエピクロロヒドリンとの重縮合樹脂、ビフェノールフルオレンジグリシジルエーテル及びその繰り返し単位を有するエポキシ樹脂であり、α，β−不飽和モノカルボン酸が（メタ）アクリル酸であり、多価カルボン酸若しくはその無水物がテトラヒドロフタル酸無水物、又はコハク酸無水物であるものが特に好ましい。具体的には、 例えばビフェノールフルオレンジグリシジルエーテルにペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物を付加させた後、さらにテトラヒドロフタル酸無水物を開環付加させたものが挙げられる。なお、「ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートテトラヒドロ無水フタル酸付加物」は、（メタ）アクリレート基が部分付加反応した構造を有する。 
【０１５２】
また、酸価が２０〜２００ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであるものが好ましく、３０〜１８０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであるのが更に好ましい。又、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる重量平均分子量が２，０００〜２００，０００であるものが好ましく、３，０００〜１５０，０００であるのが更に好ましい。 
本発明における前記不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂は、従来公知の方法により製造できる。具体的には、前記エポキシ樹脂をメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の有機溶剤に溶解させる。次いでトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリベンジルアミン等の第３ 級アミン類、又は、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の第４級アンミニウム塩類、トリフェニルホスフィン等の燐化合物、又は、トリフェニルスチビン等のスチビン類等の触媒の存在下、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルハイドロキノン等の熱重合禁止剤の共存下に反応させる。反応は、前記α，β−不飽和モノカルボン酸を、エポキシ樹脂のエポキシ基の１化学当量に対して通常０．７〜１．３化学当量、好ましくは０．９〜１．１化学当量となる量で加え、通常６０〜１５０℃、好ましくは８０〜 １２０℃の温度で付加反応させる。引き続き、多価カルボン酸若しくはその無水物を前記反応で生じた水酸基の１化学当量に対して通常０．１〜１．２化学当量、好ましくは０．２〜１．１化学当量となる量で加えて、前記条件下で反応を続ける等の方法により製造することができる。 
【０１５３】
以上の（Ｃ） 成分としての不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂の構成繰返
し単位の具体例を以下に示す。 
【０１５４】
【化３０】
2007199135.tif 000027
【０１５５】
更に、（Ｃ）成分としての不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂は、フレキシブル配線板等、耐折性が要求される用途において、得られるレジストに可撓性を付与するために、ウレタン結合、シロキサン結合、又はポリアクリロニトリル−ブタジエン構造を導入しても良い。 
上記ウレタン結合の導入方法としては、例えば、特開２００３−１５５３２０号公報等
に記載される様に、エポキシ樹脂とα，β−不飽和モノカルボン酸を反応させ、イソホロンジイソシアネート等の多官能インシアネートとを反応させて得られるウレタン結合を導入する方法が挙げられる。また、上記方法により得られた化合物に、更に必要に応じて２−ジメチロールプロピオン酸等の、分子中の２個の水酸基を有するカルボン酸、不飽和基含有カルボン酸、或いは単価又は多価の酸無水物を反応させても良い。 
上記ウレタン結合の導入された樹脂の例としては、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのウレタン変性樹脂が挙げられる。具体的には日本化薬社製「ＵＸＥ３００２」（酸価１００）、「ＵＸＥ３００９」（酸価６０）等が挙げられる。 
上記シロキサン結合の導入方法としては、エポキシ樹脂のエポキシ基に、モノ又はジアミノシロキサン、モノ又はジメルカプトジメチルシロキサン等をも反応させる方法が挙げられる。また、上記方法により得られた化合物に、更に必要に応じて不飽和基含有カルボン酸、或いは単価又は多価の酸無水物を反応させても良い。 
上記ポリアクリロニトリル−ブタジエン構造の導入方法としては、エポキシ樹脂のエポキシ基に、両末端をカルボン酸変性したアクリロニトリル−ブタジエン共重合体を反応させる方法が挙げられる。これによりゴム特性を付与することができる。また、上記方法により得られた化合物に、更に必要に応じて不飽和基含有カルボン酸、或いは単価又は多価の酸無水物を反応させても良い。 
【０１５６】
［１−３−３］その他の好ましい樹脂 
その他の好ましい（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂としては、ポリビニルフェノール樹脂、ノボラック樹脂その他のフェノール性水酸基含有樹脂が挙げられる。 
ポリビニルフェノール樹脂としては、例えば、ｐ−ヒドロキシ（α−メチル）スチレン、〔ここで、「（α−メチル）スチレン」とは、「スチレン」又は／及び「α−メチルスチレン」を意味するものとする。〕と（α−メチル）スチレンとの共重合体等が挙げられる。 
【０１５７】
ノボラック樹脂その他のフェノール性水酸基含有樹脂としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔ−ブチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール、４，４’−ビフェニルジオール、ビスフェノール−Ａ、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、１，２，４−ベンゼントリオール、フロログルシノール、トリフェノールメタン等のフェノール類の少なくとも１種を、アルカリ又は酸触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、パラアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフラール等のアルデヒド類、又は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、ヒドロキシメチルエポキシ等の脱離基を有するエポキシ化合物、ジシクロペンタジエン等の不飽和多環状炭化水素類の少なくとも１種と重縮合させたものが、それぞれ挙げられる。 
【０１５８】
なお、これらのフェノール性水酸基含有樹脂は、重量平均分子量が１，５００〜５０，０００であるのが好ましい。 
なお、本発明において、（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂としては、前記［１−３−１］〜［１−３−３］に記載のアルカリ可溶性樹脂以外のアルカリ可溶性樹脂を更に含有していてもよく、そのアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、マレイン酸、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独又は共重合体、並びに、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アセチルセルロース等が挙げられるが、中で、アルカリ現像性等の面から、カルボキシル基含有ビニル系樹脂が好適である。 
【０１５９】
そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ） アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、Ｎ， Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ， Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル等のビニル化合物との共重合体等が挙げられる。 
【０１６０】
これらの中で、スチレン−（メタ）アクリレート−（メタ）アクリル酸共重合体が好ましく、スチレン３〜３０モル％、（メタ）アクリレート１０〜７０モル％、（メタ）アクリル酸１０〜６０モル％からなる共重合体が更に好ましく、スチレン５〜２５モル％、（メタ）アクリレート２０〜６０モル％、（メタ）アクリル酸１５〜５５モル％からなる共重合体が特に好ましい。又、これらカルボキシル基含有ビニル系樹脂は、酸価が３０〜２５０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇ、ポリスチレン換算の重量平均分子量が１，０００〜３００，０００であるのが好ましい。 
【０１６１】
更に、そのカルボキシル基含有ビニル系樹脂として、側鎖にエチレン性不飽和結合を有するものが好適であり、具体的には、例えば、カルボキシル基含有重合体に、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシメチル（メタ） アクリレー
ト等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物を、カルボキシル基含有重合体の有するカルボキシル基の５〜９０モル％、好ましくは３０〜７０モル％程度を反応させて得られた反応生成物、及び、アリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シンナミル（メタ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、メタリル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド等の２種以上の不飽和基を有する化合物、又は、ビニル（メタ）アクリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、１−プロペニル（メタ） アクリレート、ビニルクロトネート、ビニル（メタ）アクリルアミド等の２種
以上の不飽和基を有する化合物と、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸、又は更に不飽和カルボン酸エステルとを、前者の不飽和基を有する化合物の全体に占める割合を１０〜９０モル％、好ましくは３０〜８０モル％程度となるように共重合させて得られた反応生成物等が挙げられる。 
【０１６２】
更に、前記不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂以外のアルカリ可溶性樹脂としては、フレキシブル配線板等、耐折性が要求される用途用として、両末端をカルボン酸変性したアクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、両末端をエポキシ変性したジメチルシロキサン樹脂が挙げられる。更に、例えば、特開平１０−１４２７９１号公報等の記載される、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレートの水酸基、あるいは、フェノールノボラック樹脂等のフェノール樹脂の水酸基と、イソホ
ロンジイソシアネート等の多官能イソシアネートとを反応させて得られるウレタン結合を導入したフェノール樹脂等が挙げられる。 
【０１６３】
本発明の感光性組成物において、前記（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物の全量に対して、（Ａ）成分が通常１重量％以上、好ましくは５重量％以上であり、通常７０重量％以下、好ましくは５０重量％以下である。
前記（ｂ１）成分のオキシム開始剤は、感光性組成物の全量に対して、通常０．００１重量％以上、好ましくは０．０１重量％以上であり、通常５０重量％以下、好ましくは、２０重量％以下である。
前記（ｂ２）成分の硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物は、通常０．１重量％以上、好ましくは０．５重量％以上であり、通常２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。
前記（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂の各含有割合は、通常５重量％以上、好ましくは１０重量％以上であり、通常７０重量％以下、好ましくは５０重量％以下である。
前記各成分が少なすぎる場合は、組成物としての感度、光硬化性等が劣る傾向となる。一方、前記各成分が多すぎる場合は、組成物としてのタック性が不十分となったり、現像時に地汚れが生じる等の問題が発生する傾向となる。 
【０１６４】
［１−４］その他の成分 
本発明の感光性組成物は、前記以外の構成要素に加え、更に下記の成分を含有していても良い。 
［１−４−１］（Ｄ）エポキシ化合物 
本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、光硬化膜の強度向上、耐熱性向上等を目的として、（Ｄ）成分のエポキシ化合物を含有するのが好ましい。エポキシ化合物としては、所謂エポキシ樹脂の繰返し単位を構成する、ポリヒドロキシ化合物とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエーテル化合物、ポリカルボン酸化合物とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルエステル化合物、及び、ポリアミン化合物とエピクロルヒドリンを反応させて得られるポリグリシジルアミン化合物等であって、低分子量物から高分子量物にわたる化合物が好ましい。 
【０１６５】
そのエポキシ化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル型エポキシ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）のジグリシジルエーテル型エポキシ、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）のジグリシジルエーテル型エポキシ、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル型エポキシ、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル型エポキシ、テトラメチルビスフェノールＡのジグリシジルエーテル型エポキシ、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル型エポキシ及びこれらの繰り返し単位を構成するエポキシ樹脂等のポリグリシジルエーテル化合物、ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジルエステル型エポキシ、フタル酸のジグリシジルエステル型エポキシ等のポリグリシジルエステル化合物、ビス（４−アミノフェニル）メタンのジグリシジルアミン型エポキシ等のポリグリシジルアミン化合物、及び［１−３−２］に記載のカルボキシル基含有エポキシ樹脂の前駆体であるエポキシ樹脂等が挙げられる。 
【０１６６】
更に、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルメチル）オキセタン、１，４−ビス｛〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕メチル｝ベンゼン、１，４−ベンゼンカルボン酸ビス〔（３−エチル−３−アキセタニル）メチル〕エステル、フェノールノボラックオキセタン、クレゾールノボラックオキセタン等のオキセタン誘導体が挙げられる。 
【０１６７】
その他、更にエポキシ基を側鎖に有するビニル系重合体と、共重合可能な他のビニル系化合物との共重合体等が挙げられる。 
そのエポキシ基を側鎖に有するビニル系重合体としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモノグリシジルエステル、フマル酸モノアルキルモノグリシジルエステル、マレイン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物、又は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、２，３−エポキシシクロペンチルメチル（メタ）アクリレート、７，８−エポキシ〔トリシクロ［５．２．１．０］デシ−２−イル〕オキシメチル（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ基含有不飽和化合物等が挙げられる。
その共重合可能な他のビニル系化合物ととしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、特開２００１−８９５３３に記載されるジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 
【０１６８】
また、更なる光硬化膜の強度向上、耐熱性向上等を目的として、必要に応じて融点が５０℃以上の結晶性エポキシ化合物を含むことが出来る。 
その結晶性エポキシ化合物の融点は６０〜１６０℃であるのが好ましく、７０〜１５０℃であるのが特に好ましい。又、該化合物は炭素数が９〜３０であるのが好ましく、１０〜２５であるのが特に好ましく、１〜５官能であるのが好ましく、２〜３官能であるのが特に好ましい。 
【０１６９】
このような結晶性エポキシ化合物としては、具体的には、例えば、イソシアヌル酸とエピクロルヒドリンとの反応で得られるトリグリシジルアミン型エポキシ化合物であるトリグリシジルイソシアヌレート、及び、ビフェノール誘導体とエピクロルヒドリンとの反応で得られるジグリシジルエーテル型エポキシである、ビキシレノールジグリシジルエーテル、ビキシレノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビフェノールフルオレンジグリシジルエーテルなどが挙げられる。 
また、上記の結晶性エポキシ化合物に代えて、又は併用して、更に高融点の結晶性エポキシ化合物を使用することが出来る。結晶性のエポキシは、一般に非結晶性のエポキシに比べ、膜強度の向上、耐湿度性の向上、感度の向上等の利点があるが、分散時に分散による発熱のために溶融しやすい。従って、融点が通常１５０℃以上、好ましくは１８０℃以上、更に好ましくは１９５℃以上の結晶性エポキシは分散時の溶融、溶解を防げるので好ましい。 
このような高融点の結晶性エポキシ化合物としては、例えば、テトラフェノール誘導体とエピクロルヒドリンとの反応で得られるテトラグリシジルエーテル型エポキシであるテトラグリシジルキシレイルエタン、テトラグリシジルフェニロールエタン等が挙げられる。 
【０１７０】
本発明の感光性組成物において、（Ｄ）成分のエポキシ化合物の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、０．５〜７０重量％であるのが好ましく、２〜５０重量％であるのが更に好ましい。（Ｄ）成分の含有量が少なすぎると、得られる硬化物の強度も不十分となる傾向となる。一方、（Ｄ）成分の含有量が多すぎると、画像形成性が低下する傾向となる。
【０１７１】
［１−４−２］（Ｅ）アミノ化合物 
本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、得られる硬化物の耐熱性や耐薬品性の向上等を目的として、官能基としてメチロール基、それを炭素数１〜８のアルコール縮合変性したアルコキシメチル基を少なくとも２個有するアミノ化合物（Ｅ）成分を含有するのが好ましく、それらのアミノ化合物として、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたメラミン樹脂、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとを重縮合させたベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリルとホルムアルデヒドとを重縮合させたグリコールウリル樹脂、尿素とホルムアルデヒドとを重縮合させた尿素樹脂、メラミン、ベンゾグアナミン、グリコールウリル、又は尿素等の２種以上とホルムアルデヒドとを共重縮合させた樹脂、及び、それら樹脂のメチロール基をアルコール縮合変性した変性樹脂等が挙げられる。 
【０１７２】
具体的には、メラミン樹脂及びその変性樹脂として、三井サイテック社の「サイメル」（登録商標） ３００、３０１、３０３、３４０、７３６、７３８、３７０、７７１、３
２５、３２７、７０３、７０１、２６６、２６７、２８５、２ ３２、２３ ５、２３８、１１４１、２７２、２５４、２０２、１１５６、１１５８、及び、三和ケミカル社の「ニカラック」（登録商標）ＭＷ−１００ＬＭ（旧商品名はＥ−２１５１）、ＭＸ−７５０ＬＭ、ＭＸ−３０２が、又、ベンゾグアナミン樹脂及びその変性樹脂として、「サイメル」（登録商標）１１２３、１１２５、１１２８、又、グリコールウリル樹脂及びその変性樹脂として、「サイメル」（登録商標）１１７０、１ １７１、１１７４、１１７２、及び
、「ニカラック」（登録商標）ＭＸ−２７０、又、尿素樹脂及びその変性樹脂として、三井サイテック社の「ＵＦＲ」（登録商標）６５、３００、及び、「ニカラック」（登録商標）ＭＸ−２９０、等が挙げられる。 
【０１７３】
これらのアミノ化合物（Ｅ）成分として、本発明においては、メラミン樹脂及びその変性樹脂が好ましく、メチロール基の変性割合が、７０％以上の変性樹脂が更に好ましく、８０％以上の変性樹脂が特に好ましい。 
本発明の感光性組成物において、前記（Ｅ）成分のアミノ化合物の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、０．１〜２０重量％であるのが好ましく、０．５〜１０重量％であるのが更に好ましい。 
【０１７４】
［１−４−３］（Ｆ）エポキシ硬化剤 
本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、組成物の光硬化性、熱硬化性の向上等の目的として、エポキシ硬化剤（Ｆ）成分を含有していてもよく、その（Ｆ）成分のエポキシ硬化剤としては、例えば、琥珀酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、３−メチルテトラヒドロフタル酸、４−メチルテトラヒドロフタル酸、３−エチルテトラヒドロフタル酸、４−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、３−メチルヘキサヒドロフタル酸、４−メチルヘキサヒドロフタル酸、３−エチルヘキサヒドロフタル酸、４−エチルヘキサヒドロフタル酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸等の多価カルボン酸及びそれらの無水物類、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス−２−シアノエチルホスフィン等の有機ホスフィン類、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ジシアンジアミド、ベンジルメチルアミン、４−メチルベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、４−メトキシベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、４−ジメチルアミノベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン等のアミン化合物類、２，４，６−トリアミノ−ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のアミノ−ｓ−トリアジン類、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩類、トリ−ｎ−ブチル−２，５−ジヒドロキシフェニル−ホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩類等が挙げられ、これらの中で、−ＮＨ−基を有するものが好ましく、アミン化合物類及びアミノ−ｓ−トリアジン類が好ましく、ジシアンジアミド、２，４，６−トリアミノ−ｓ−トリアジンが特に好ましい。また、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸等の安息香酸化合物を挙げることも出来る。
本発明の感光性組成物において、前記（Ｆ）成分のエポキシ硬化剤の含有割合は、感光性組成物としての経時安定性の面から、感光性組成物の全量に対して、０．１重量％以下であるのが好ましい。 
【０１７５】
［１−４−４］（Ｇ）熱酸発生剤
本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、耐薬品性、密着性向上の目的で、熱の作用により酸を発生させる化合物（熱酸発生剤）（Ｇ）成分を含有していてもよい。
（Ｇ）成分の熱酸発生剤としては、例えば芳香族ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリルスルフォニウム塩、トリアリルセレニウム塩等の各種オニウム塩系化合物、スルフォン酸エステル、ハロゲン化合物等が挙げられる。 
具体例として、芳香族ジアゾニウム塩としては、クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト、ナフチルジアゾニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジメチルアミノナフチルジアゾニウムテトラフルオロボレート等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジフェニルヨードニウムトリフレート、４，４´−ジ−ｔ−ブチル−ジフェニルヨードニウムトリフレート、４，４´−ジ−ｔ−ブチル−ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４，４ ´−ジ−ｔ−ブチル−ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェイト等が挙げられる。 
【０１７６】
モノフェニルスルフォニウム塩としては、ベンジル−ｐ−ヒドロキシフェニルメチルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、ｐ−ヒドロキシフェニルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−アセトキシフェニルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−ｐ−ヒドロキシフェニルメチルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、下記一般式（１０）に示す化合物等モノフェニルスルフォニウム塩タイプ、またはベンジルフェニルスルフォニウム塩タイプ等が挙げられる。
【０１７７】
【化３１】
2007199135.tif 000028
【０１７８】
（式中、Ｚはフェニル基を示す。） 
トリアリルスルフォニウム塩としては、トリフェニルスルフォニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト、トリ（ｐ−クロロフェニル）スルフォニウムテトラフルオロボレート、トリ（ｐ−クロロフェニル）スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリ（ｐ−クロロフェニル）スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト、４−ｔ−ブチルトリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェイト、及び下記一般式（１１）に示す化合物で等が挙げられる。 
【０１７９】
【化３２】
2007199135.tif 000029

【０１８０】
トリアリルセレニウム塩としては、トリアリルセレニウムテトラフルオロボレート、トリアリルセレニウムヘキサフルオロフォスフェイト、トリアリルセレニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト、ジ（クロロフェニル）フェニルセレニウムテトラフルオロボレート、ジ（クロロフェニル）フェニルセレニウムヘキサフルオロフォスフェイト、ジ（クロロフェニル）フェニルセレニウムヘキサフルオロアンチモネ−ト等が挙げられる。 
【０１８１】
スルフォン酸エステルとしては、ベンゾイントシレート、ｐ−ニトロベンジル−９，１０−エトキシアントラセンー２−スルフォネート、２−ニトロベンジルトシレート、２，６−ジニトロベンジルトシレート、２，４−ジニトロベンジルトシレート等が挙げられる。 
ハロゲン化合物としては、２−クロロ−２−フェニルアセトフェノン、２，２´，４´−トリクロロアセトフェノン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４´−メトキシ−１´−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ビス−２−（４−クロロフェニル）−１，１，１−トリクロロエタン、ビス−１ −（４−
クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタノール、ビス−２−（４−メトキシフェニル）−１， １，１−トリクロロエタン等が挙げられる。 
【０１８２】
これら熱酸発生剤の中ではモノフェニルスルフォニウム塩タイプ、ベンジルフェニルスルフォニウム塩タイプ、又は上記一般式（１１）で表される化合物が好ましい。 
本発明の感光性組成物において、前記（Ｇ）成分の熱酸発生剤の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、通常０．１重量％以上、好ましくは０．５重量％以上であり、通常２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下である。 
［１−４−５］（Ｈ）重合加速剤 
本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、組成物の光重合開始能力の向上等の目的として、重合加速剤（Ｈ）成分を含有していてもよく、その（Ｈ）成分の重合加速剤として、アミノ酸のエステル又は双極イオン化合物を含むのが好ましく、そのアミノ酸のエステル又は双極イオン化合物としては、下記一般式（Ｘ１ａ） 又は（
Ｘ１ｂ）で表されるものが好ましい。 
【０１８３】
【化３３】
2007199135.tif 000030
【０１８４】
〔式（Ｘ１ａ）及び（Ｘ１ｂ）中、Ｒ26及びＲ27は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は水素原子を示し、Ｒ28及びＲ29は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、又は水素原子を示し、Ｒ30は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ31は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、ｓは０〜１０の整数である。〕 
ここで、式（Ｘ１ａ）及び（Ｘ１ｂ）中のＲ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、及びＲ31のアルキル基としては、炭素数が１〜８であるのが好ましく、１〜４であるのが更に好ましい。又、Ｒ30のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等が、又、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ30、及びＲ31のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が、又、Ｒ26、Ｒ27、及びＲ30の複素環基としては、例えば、フリル基、フラニル基、ピロリル基、ピリジル基等が、それぞれ挙げられる。 
【０１８５】
また、それらのアルキル基、及びアルケニル基における置換基としては、例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、フェニル基、ハロゲン原子等が、又、それらのアリール基、複素環基における置換基としては、例えば、更にアルコキシ基やフェニル基等の置換基を有していてもよいアルキル基、同じくアルコキシ基、同じくアルケニル基、同じくアルケニルオキシ基、同じくアシル基、同じくアシルオキシ基、同じくアルコキシカルボニル基、同じくフェノキシ基、同じくアルキルチオ基、同じくアルキルスルホニル基、及び、アルデヒド基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【０１８６】
本発明において、以上の前記一般式（Ｘ１ａ）又は（Ｘ１ｂ）で表されるアミノ酸のエステル又は双極イオン化合物の中で、式（Ｘ１ａ）中のＲ26及びＲ27の一方が水素原子で他方が置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｒ28及びＲ29が共に水素原子であり、Ｒ３０が置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基であり、ｓが０、１、又は２であるアミノ酸エステル、又は、式（Ｘ１ｂ）中のＲ26及びＲ27が共に水素原子であるか、或いは一方が置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ28及びＲ29が共に水素原子であり、Ｒ３１が置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基であり、ｓ が０、１、又は２であるアミノ酸双極イオン化合物であるのが好ましい。前記一般式（Ｘ１ａ）においてｓが０、Ｒ26及びＲ27の一方が水素原子で他方がフェニル基、Ｒ28及びＲ29が共に水素原子であるＮ−フェニルグリシンのエステル、中でも、Ｒ30がベンジル基であるＮ−フェニルグリシンベンジルエステル、又は、前記一般式（Ｘ１ｂ）においてｓが０、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、及びＲ29のいずれもが水素原子であり、Ｒ31がフェニル基であるＮ−フェニルグリシンの双極イオン化合物が特に好ましい。 
【０１８７】
なお、本発明において、（Ｈ）成分の重合加速剤としては、前記アミノ酸のエステル又は双極イオン化合物以外の重合加速剤を更に含有していてもよく、その重合加速剤としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ） −キナゾリン、β−メルカプトナフタレン、エチレングリコール
ジチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等のメルカプト基含有化合物類、ヘキサンジチオール、トリメチロールプロパントリスチオグリコネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート等の多官能チオール化合物類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、Ｎ−フェニルグリシン又はそのアンモニウム塩やナトリウム塩等の塩等の誘導体、フェニルアラニン又はそのアンモニウムやナトリウム塩等の塩、エステル等の誘導体等の、芳香族環を有するアミノ酸又はその誘導体類等が挙げられる。 
本発明の感光性組成物において、前記（Ｈ）成分の重合加速剤の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、２０重量％以下であるのが好ましく、１〜１０重量％であるのが更に好ましい。 
【０１８８】
［１−４−５］（Ｉ）無機充填剤 
また、本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、硬化物としての強度の向上等を目的として、無機充填剤（Ｉ）成分を含有していてもよく、その（Ｉ）成分の無機充填剤としては、例えば、日本タルク社製「ＳＴ−２０００」、「ＢＳＴ」等のタルク、日本アエロジル社製「Ｒ９７２」「Ｒ９７４」等のシリカ、アルミナ、堺化学社製「Ｂ−３０」「ＢＦ−１」「ＢＦ−４０」等の硫酸バリウム、酸化マグネシウム等が挙げられる。これら無機充填剤は、必要に応じてシランカップリング剤等により表面処理を施すことが出来る。平均粒子径は通常０．００５μｍ以上であり、通常５０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下に分散して用いられる。 
【０１８９】
本発明の感光性組成物において、前記（Ｉ）成分の無機充填剤の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、７０重量％以下であるのが好ましく、１〜５０重量％であるのが更に好ましい。 
【０１９０】
［１−４−６］（Ｊ）色材 
また、本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、（Ｊ）色材を含有していても良い。（Ｊ）色材は、特に、本発明の感光性組成物をカラーフィルター、ソルダーレジストその他の着色組成物として使用する際に、該組成物を着色するものをいう。色材としては、染顔料が使用できるが、耐熱性、耐光性等の点から顔料が好ましい。顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。以下に、使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。なお、以下に挙げる「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。 
【０１９１】
赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、
１２、１４、１５、１６、１７、２１、２２、２３、３１、３２、３７、３８、４１、４７、４８、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５２：２、５３、５３：１、５３：２、５３：３、５７、５７：１、５７：２、５８：４、６０、６３、６３：１、６３：２、６４、６４：１、６８、６９、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、８３、８８、９０：１、１０１、１０１：１、１０４、１０８、１０８：１、１０９、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５１、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２３０、２３１、２３２、２３３、２３５、２３６、２３７、２３８、２３９、２４２、２４３、２４５、２４７、２４９、２５０、２５１、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６２、２６３、２６４、２６５、２６６、２６７、２６８、２６９、２７０、２７１、２７２、２７３、２７４、２７５、２７６を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、１２２、１６８、１７７、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２、２５４、更に好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２２４、２５４を挙げることができる。 
【０１９２】
青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１：２、９、１４、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、１９、２５、２７、２８、２９、３３、３５、３６、５６、５６：１、６０、６１、６１：１、６２、６３、６６、６７、６８、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、更に好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を挙げることができる。 
【０１９３】
緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、２、４、７、８、１０、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２６、３６、４５、４８、５０、５１、５４、５５を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６を挙げることができる。 
黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、１：１、２、３、４、５、６、９、１０、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４１、４２、４３、４８、５３４５、６１、６２、６２：１、６３、６５、７３、７４、７５，８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０４、１０５、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１７、１１９、１２０、１２６、１２７、１２７：１、１２８、１２９、１３３、１３４、１３６、１３８、１３９、１４２、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１５７、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９１：１、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９７、１９８、１９９、２００、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１５４、１５５、１８０、１８５、更に好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１３８、１３９、１５０、１８０を挙げることができる。 
【０１９４】
オレンジ顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、４９、６１、６２、６４、６５、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７７、７８、７９を挙げることができる。この中でも、好ましくは、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３８、７１を挙げることができる。 
【０１９５】
紫色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１：１、２、２：２、３、３：１、３：３４５：１、１４、１５、１６、１９、２３、２５、２７、２９、３１、３２、３７、３９、４２、４４、４７、４９、５０を挙げることができる。この中でも、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、更に好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を挙げることができる。 
【０１９６】
また、色材としては、黒色の色材を用いることもできる。黒色色材は、黒色色材を単独でも良く、又は赤、緑、青等の混合によるものでも良い。また、これら色材は無機又は有機の顔料、染料の中から適宜選択することができる。   
【０１９７】
黒色色材を調製するために混合使用可能な色材としては、ビクトリアピュアブルー（４２５９５）、オーラミンＯ（４１０００）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミンＢ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、Ｎｏ．１２０／リオノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８ＧＦ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５（１２３４５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）、リオノールブルーＥＳ（ピグメントブルー１５：６）、リオノーゲンレッドＧＤ（ピグメントレッド１６８）、リオノールグリーン２ＹＳ（ピグメントグリーン３６）等が挙げられる（なお、上記の（  ）内の数字は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する）。 
【０１９８】
また、更に他の混合使用可能な顔料についてＣ．Ｉ．ナンバーにて示すと、例えば、Ｃ．Ｉ．黄色顔料２０、２４、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１４７、１４８、１５３、１５４、１６６、Ｃ．Ｉ．オレンジ顔料３６、４３、５１、５５、５９、６１、Ｃ．Ｉ．赤色顔料９、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、Ｃ．Ｉ．バイオレット顔料１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、Ｃ．Ｉ．青色顔料１５、１５：１、１５：４、２２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．緑色顔料７、Ｃ．Ｉ．ブラウン顔料２３、２５、２６等を挙げることができる。 
【０１９９】
また、単独使用可能な黒色色材としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。 
これらの中で、カーボンブラック、チタンブラックが遮光率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの例としては、以下のようなカーボンブラックが挙げられる。 
三菱化学社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、ＭＡ６００、＃５、＃１０、＃２０、＃２５、＃３０、＃３２、＃３３、＃４０、＃４４、＃４５、＃４７、＃５０、＃５２、＃５５、＃６５０、＃７５０、＃８５０、＃９５０、＃９６０、＃９７０、＃９８０、＃９９０、＃１０００、＃２２００、＃２３００、＃２３４０、＃２４００、＃２６００、＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３６００、＃３７５０、＃３９５０、＃４０００、＃４０１０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ、ＯＩＬ３１デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ３、Ｐｒｉｎｔｅｘ３ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ６０、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ８０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｌ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｇ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｐ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ  Ｖ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ３４０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ２５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ１００、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ１、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ２、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ２Ｖ、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  ＦＷ２００、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ１６０、Ｃｏｌｏｒ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ１７０キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ８８０、Ｍｏｎａｒｃｈ９００、Ｍｏｎａｒｃｈ１０００、Ｍｏｎａｒｃｈ１１００、Ｍｏｎａｒｃｈ１３００、Ｍｏｎａｒｃｈ１４００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、ＲＥＧＡＬ５５Ｒ０、ＲＥＧＡＬ６６０Ｒ、ＢＬＡＣＫ  ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ７２Ｒ、ＥＬＦＴＥＸ−８コロンビヤン  カーボン社製：ＲＡＶＥＮ１１、ＲＡＶＥＮ１４、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ１６、ＲＡＶＥＮ２２ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０、ＲＡＶＥＮ１０６０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１０８０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１１７０、ＲＡＶＥＮ１１９０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１２５０、ＲＡＶＥＮ１５００、ＲＡＶＥＮ２０００、ＲＡＶＥＮ２５００Ｕ、ＲＡＶＥＮ３４００、ＲＡＶＥＮ５０００、ＲＡＶＥＮ５２５０、ＲＡＶＥＮ５７５０、ＲＡＶＥＮ７０００ 
また、チタンブラックは以下のものが挙げられる。 
【０２００】
チタンブラックの作製方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気下で加熱し還元させる方法（特開昭４９−５４３２号公報）、 四塩化チタンの高温加水
分解で得られた超微細二酸化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法（特開昭５７−２０５３２２号公報）、二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存  在下で高温還元する方法（特開昭６０−６５０６９号公報、特開昭６１−２０１６１０号公報）、二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６１−２０１６１０号公報）、などがあるがこれらに限定されるものではない。 
【０２０１】
チタンブラックのの市販品の例としては、三菱マテリアル製チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ−Ｃ等が挙げられる。 
他の黒色顔料の例としては、アニリンブラック、酸化鉄系黒色顔料、及び、赤色、緑色、青色の三色の有機顔料を混合して黒色顔料として用いることができる。 
また、顔料として、硫酸バリウム、硫酸鉛、酸化チタン、黄色鉛、ベンガラ、酸化クロム等を用いることもできる。 
【０２０２】
上述の各種の顔料は、複数種を併用することもできる。例えば、色度の調整のために、顔料として、緑色顔料と黄色顔料とを併用したり、青色顔料と紫色顔料とを併用したりすることができる。 
また、色材として使用できる染料としては、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料等が挙げられる。 
【０２０３】
アゾ系染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１１，Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７，Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３７，Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８０，Ｃ．Ｉ．アシッドブルー２９，Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド２８，Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド８３，Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２，Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ２６，Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２８，Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン５９，Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー２，Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７，Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１２０，Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック５，Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５，Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５８，Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー１６５，Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー４１，Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１８，Ｃ．Ｉ．モルダントレッド７，Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー５，Ｃ．Ｉ．モルダントブラック７等が挙げられる。 
【０２０４】
アントラキノン系染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．バットブルー４，Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０，Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５，Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー１９，Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー４９，Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド６０，Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー５６，Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー６０等が挙げられる。 
この他、フタロシアニン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．パッドブルー５等が、キノンイミン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー３，Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー９等が、キノリン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３，Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３，Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー６４等が、ニトロ系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１，Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ３，Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー４２等が挙げられる。 
【０２０５】
本発明の感光性組成物に用いられる色材は、例えばソルダーレジスト用途である場合にはハロゲン原子を含まないものを使用するのが好ましい。 
また、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める色材が無機、有機顔料の場合は、顔料の平均粒子径を通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下、更に好ましくは０．２５μｍ以下に分散して用いられる。 なお、顔料分散には分散性、分散安定性の向上のために、分散材及び／または分散助剤を併用する事が好ましい。
分散剤としては、通常、界面活性剤、高分子分散剤などが使用されるが、特に高分子分散剤を用いると経時の分散安定性に優れるので好ましい。高分子分散剤としては、例えば特開２００５−１２６６７４号公報等に記載される窒素原子含有分散剤が好ましく、このような窒素原子含有分散剤としては、例えばウレタン系分散剤、窒素原子を含有するグラフト共重合体、側鎖に４級アンモニウム塩基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基を有さないＢブロックとからなる、Ａ−Ｂブロック共重合体及び／又はＢ−Ａ−Ｂブロック共重合体等が挙げられる。分散剤は、１種を単独で使用しても、２種類以上を混合しても用いても良い。 
本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｊ）色材の割合は、通常１〜７０重量％、好ましくは１０〜７０重量％、更に好ましくは２０〜６０重量％である。色材の含有割合が少なすぎると、着色力が低くなり、色濃度に対して膜厚が厚くなりすぎて、液晶セル化の際のギャップ制御などに悪影響を及ぼす。また、逆に色材の含有割合が多すぎると、分散安定性が悪化し、再凝集や増粘等の問題が起きる危険性がある。 
【０２０６】
［１−４−７］（Ｋ）界面活性剤 
また、本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分以外に、更に、組成物塗布液としての塗布性、及び感光性組成物層の現像性の向上等を目的として、ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性、及び弗素系等の界面活性剤（Ｋ）成分を含有していてもよい。 
そのノニオン性界面活性剤としては、具体的には、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル類、ペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンペンタエリスリット脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル類等が挙げられる。これらの市販品としては、花王株式会社製の「エマルゲン１０４Ｐ」、「エマルゲンＡ６０」等のポリオキシエチレン系界面活性剤等が挙げられる。 
【０２０７】
また、フッ素系およびシリコーン系のものを好適に使用することができる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物が好適であり、具体的には、1,1,2, 2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2 −テトラフロロプロピル) エーテル、 1,1,2,2 −テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフロロブチル) エーテル、ヘキサエチレングリコールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル)エー テル、オクタプロピレングリコールジ(1,1,2, 2−テトラフロロブチル) エーテル、ヘキ
サプロピレングリコールジ(1,1,2,2,3,3 −ヘキサフロロペンチル) エーテル、パーフロ
ロドデシルスルホン酸ナトリウム、 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10 −デカフロロドデカン、1,1,2,2,3,3 −ヘキサフロロデカン等を挙げることができる。またこれらの市販品としては 、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ 社製「ＢＭ−1000」、「ＢＭ−1100 」 、大日本インキ化学工業株式会社製「メガファックＦ１４２Ｄ」、「同Ｆ１７２」 、「同Ｆ１７３」、「同Ｆ１８３」 、「同Ｆ４７０」、住友３Ｍ株式会社製「ＦＣ４３０」、ネオス株式会社製「ＤＦＸ−１８」等を挙げることができる。 
【０２０８】
またシリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーン株式会社製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「同ＳＨ７ＰＡ」，「同ＤＣ11ＰＡ」，「同ＳＨ21ＰＡ」，「同ＳＨ28ＰＡ」、「同ＳＨ29ＰＡ」、「同ＳＨ30ＰＡ」、「同ＳＨ８４００」、東芝シリコーン株式会社製「ＴＳＦ−4440」、「ＴＳＦ−4300」、「ＴＳＦ−4445」、「ＴＳＦ−444(4)(5)(6)(7)6」、「ＴＳＦ−44 60」、「ＴＳＦ−4452」、シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、ビッグケミー社製「BYK323」、「BYK330」等の市販品を挙げることができる。 
【０２０９】
これらのうち、シリコーン系界面活性剤が好ましく、ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤が更に好ましい。 
また、上記アニオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、特殊高分子系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、特殊高分子系界面活性剤が好ましく、特殊ポリカルボン酸型高分子系界面活性剤が更に好ましい。 
【０２１０】
市販のものとしては、例えば、アルキル硫酸エステル塩類では、花王株式会社製「エマール１０」等、アルキルナフタレンスルホン酸塩類では花王株式会社製「ペレックスＮＢ−Ｌ」等、特殊高分子系界面活性剤では花王株式会社製「ホモゲノールＬ−１８」、「ホモゲノールＬ−１００」等が挙げられる。 
また、上記カチオン性界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩類、イミダゾリン誘導体類、アミン塩類等が、また、両性界面活性剤としては、ベタイン型化合物類、イミダゾリウム塩類、イミダゾリン類、アミノ酸類等が挙げられる。これらのうち、第４級アンモニウム塩類が好ましく、ステアリルトリメチルアンモニウム塩類が更に好ましい。市販のものとしては、例えば、アルキルアミン塩類では花王株式会社製「アセタミン２４」等、第４ 級アンモニウム塩類では花王株式会社製「コータミン２４Ｐ」、「コータミン８６Ｗ 」等が挙げられる。 
【０２１１】
界面活性剤は２種類以上の組み合わせでも良く、シリコーン系界面活性剤／ 弗素系界
面活性剤、シリコーン系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤、弗素系界面活性剤／特殊高分子系界面活性剤の組み合わせ等が挙げられる。中でも、シリコーン系界面活性剤／弗素系界面活性剤が好ましい。このシリコーン系界面活性剤／弗素系界面活性剤の組み合わせでは、ポリエーテル変性シリコーン系界面活性剤／オリゴマー型弗素系界面活性剤等が挙げられる。具体的には、例えば、ジーイー東芝シリコーン社製「ＴＳＦ４４６０ 」／
ネオス社製「ＤＦＸ−１８」、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００」「ＢＹＫ−３３０」／セイミケミカル社製「Ｓ−３９３」、信越シリコーン社製「ＫＰ３４０」／大日本インキ社製「Ｆ−４７８」、トーレシリコーン社製「ＳＨ７ＰＡ」／ダイキン社製「ＤＳ−４０１」、日本ユニカー社製「Ｌ−７７」／住友３Ｍ社製「ＦＣ４４３０」等が挙げられる。
また、本発明の感光性組成物は、主に上記界面活性剤を適宜選択することにより、該感光性組成物の液滴の清浄ガラス面に対する接触角θ（度）と、表面張力σ（ｍＮ／ｍ ）
が下記式(1) 、(2) 、及び(3) を満足するように調整するのが好ましい。下記式(1) 、(2) 、及び(3) のいずれかを満足させることにより、塗布ムラと乾燥ムラの発生を防ぐことが出来る。 
【０２１２】
θ≦５×（σ0 −σ）   (1) 
σ≦σ0 −１           (2) 
θ≦１５              (3) 
【０２１３】
〔但し、前記式中、σ0 は感光性組成物に用いられている溶剤単独の表面張力（ｍＮ／ｍ）である。〕
また、本発明の感光性組成物は、下記式( 1')、(2')、及び(3')を満足するのが好まし
く、下記式(1'') 、(2'') 、及び(3'') を満足するのが更に好ましく、下記式 (2''')、
及び(3''')を満足するのが特に好ましい。 
【０２１４】
θ≦４×（σ0 −σ）   (1') 
σ≦σ0 −１．５       (2') 
θ≦１２               (3') 
【０２１５】
θ≦３×（σ0 −σ）   (1'') 
σ≦σ0 −２           (2'') 
θ≦９                 (3'') 
【０２１６】
σ≦σ0 −２           (2''') 
θ≦５                 (3''') 
【０２１７】
また、本発明の感光性組成物は、レベリング性の面から、該感光性組成物に用いられている溶剤によって溶剤重量が２倍になるまで希釈したときの表面張力σ'（ｍＮ／ ｍ）と希釈前の表面張力σ（ｍＮ／ ｍ）が、下記式(4) を満足するのが好ましく、下記式(4')
を満足するのが更に好ましく、下記式(4'')を満足するのが特に好ましい。 
【０２１８】
｜σ−σ'｜≦０ ．４   (4) 
｜σ−σ'｜≦０ ．３   (4') 
｜σ−σ'｜ ≦０．２   (4'') 
【０２１９】
なお、本発明において、前記接触角、前記表面張力は、それぞれ以下の方法により測定し、前記希釈の方法は、以下の方法による。 
【０２２０】
＜接触角＞ 
（ｉ）液晶パネル用ガラス基板を洗浄剤よって洗浄後、ＵＶオゾン処理により光洗浄を施す。前記洗浄により、純水による接触角が０（ゼロ）度、即ち完全に濡れ広がる清浄なガラス基板とする。なお、洗浄剤は、例えば界面活性剤含有タイプのアルカリ系洗浄剤が挙げられ、無機アルカリが好ましい。具体例としてはライオン社製「サンウォッシュＴＬ−１００」、横浜油脂社製「セミクリーンＫＧ」等が挙げられる。ＵＶオゾン処理は低圧水銀灯照射装置（例えばオーク製作所社製「ＶＵＭ」）にて、照度が通常１〜１００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは５〜２０ｍＷ／ｃｍ２で１０〜３００秒間、好ましくは３０〜１２０秒間の条件で行われる。
【０２２１】
（ｉｉ）（ｉ）により作製したガラス基板に対する樹脂組成物の静的な接触角を、液滴法による接触角測定装置を使用して２３℃において測定する。ここで「静的な接触角」とは、流動等による時間に伴う状態変化が生じない条件における接触角をいう。また、液滴法は通常は液滴を形成した後に１分間以内に測定、好ましくは５秒〜２０秒以内に測定することにより行う。接触角測定装置は、例えば直読式、画像処理式等が用いられる。直読式接触角測定装置としては、例えば協和界面科学社製「ＣＡ−ＤＴ」等が挙げられる。画像処理式接触角測定装置としては、例えば協和界面科学社製「ＭＣＡ−２」、ＫＲＵＳＳ社製「ＤＳＡ１００」等が挙げられる。
【０２２２】
＜表面張力＞ 
表面をアルコールランプ等で充分に赤熱し清浄化した白金プレートを用意し、樹脂組成物の静的な表面張力を、平板法による表面張力計を使用して２３℃において測定する。ここで「静的な表面張力」とは、流動等による時間に伴う状態変化が生じない条件における表面張力をいう。表面張力計は、例えば協和界面科学社製「ＣＢＶＰ−Ａ３」、ＫＳＶ社製「Ｓｉｇｍａ７００」等が挙げられる。
【０２２３】
＜希釈方法＞ 
室温にて、ビーカー中の樹脂組成物に、該樹脂組成物に用いられていると同一の溶媒を、攪拌下で少量ずつ滴下して希釈する。具体的には、例えばマグネチックスターラー等により、３０〜１２０ｒｐｍ程度に攪拌しながら、１０〜３０分間かけて滴下希釈する。
尚、本発明の前記式(1) 、(2) 、及び(3)、更には(4)を満足する感光性組成物を調製するのは、前述の（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤、溶剤等各成分の種類、量、組合せ等を選択し、界面活性剤の親水性・疎水性、親油性・疎油性、分子量と溶媒の極性のバランスを調整することによって、実現することが重要である。これらの調節は単に具体的な界面活性剤の分子構造等から推察できるというものではなく、組成物全体が前記式を満たすか否かにより特定されるものである。
本発明の感光性組成物において、（Ｋ）界面活性剤成分の含有割合は、感光性組成物の全量に対して、１０重量％以下であるのが好ましく、０．００１〜５重量％であるのが更に好ましい。 
【０２２４】
［１−４−８］その他添加剤 
更に、本発明の感光性組成物は、各種添加剤、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等の熱重合防止剤を、感光性組成物の全量に対して２重量％以下、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤を同じく４０重量％以下、三級アミンやチオール等の感度特性改善剤を同じく１０重量％以下、色素前駆体を同じく３０重量％以下、及び非ハロゲン縮合リン酸エステル等の難燃剤（具体的には例えば大八化学社製芳香族縮合リン酸エステル「ＣＲ−７３３Ｓ」「ＣＲ−７４１」「ＣＲ−７４７」「ＰＸ−２００」等が挙げられる）を同じく４０重量％以下の割合で含有していてもよい。
【０２２５】
［１−５］分光感度特性及び最小露光量 
本発明の感光性組成物は、通常３４０〜４３０ｎｍ、好ましくは３５０〜４３０ｎｍ、更に好ましくは３５５〜４３０ｎｍ、特に好ましくは３６０〜４３０ｎｍの波長域に分光感度の極大ピークを有する。分光感度の極大ピークが短波長側に過ぎると、感光性組成物として波長３４０〜４３０ｎｍのレーザー光に対する感度が劣る傾向となり、一方、分光感度の極大ピークが長波長側に過ぎると、黄色灯下でのセーフライト性が劣る傾向となる。 
【０２２６】
なお、本発明において、分光感度の極大ピークとは、例えば、「フォトポリマー・テクノロジー」（山岡亜夫著、昭和６３年日刊工業新聞社発行、第２６２頁）等に詳述されているように、基板表面に光硬化性組成物層を形成した光硬化性画像形成材試料を、分光感度測定装置を用い、キセノンランプ又はタングステンランプ等の光源から分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して照射して露光した後、現像処理することにより、各露光波長の感度に応じた画像が得られ、その画像高さから画像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることにより得られる分光感度曲線における極大ピークを指す。 
具体的な測定例としては、例えば以下のものが挙げられる。 
画像形成材を５０×６０ｍｍの大きさに切り出したサンプルを、回折分光照射装置（ナルミ社製「ＲＭ−２３」）を用い、キセノンランプ（ウシオ電機社製「ＵＩ−５０１Ｃ」）を光源として３３０〜６５０ｎｍの波長域で分光した光を、横軸方向に露光波長が直線的に、縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して１０秒間照射して露光する。 
【０２２７】
次いで、３０℃の１重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として０．１５ＭＰａとなるように吹き付け、最小現像時間の２倍の時間でスプレー現像することにより、各露光波長の感度に応じた画像が得られる。その画像高さから画像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることにより得られる分光感度曲線における極大ピークを読みとる。 
【０２２８】
また、本発明の感光性組成物は、波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ410 〕が５０ｍＪ／ｃｍ2 以下であるのが好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ2 以下であるのが更に好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2 以下であるのが特に好ましい。この最小露光量〔Ｓ410 〕が多すぎると、レーザー光源の露光強度にもよるが、露光時間が長くなって実用性が低下する傾向となる。尚、この最小露光量〔Ｓ410 〕の下限は小さい程好ましいが、通常１ｍＪ／ｃｍ2 以上である。 
【０２２９】
また、本発明の感光性組成物は、前記〔Ｓ410 〕の波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 （ｍＪ／ｃｍ2 ）〕に対する比〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕が０．１以下であるのが好ましく、０．０５以下であるのが更に好ましい。この比〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕が大きすぎると、青紫色レーザー感光性と黄色灯下でのセーフライト性を両立させることが困難な傾向となる。 
【０２３０】
また、本発明の感光性組成物は、波長４５０ｎｍ超過６５０ｎｍ以下の各波長における画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450-650 （ｍＪ／ｃｍ2 ）〕の波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 （ｍＪ／ｃｍ2 ）〕に対する比〔Ｓ450-650 ／Ｓ450 〕が１超過であるのが好ましい。この比〔Ｓ450-650 ／Ｓ450 〕が前記範囲以下では、青紫色レーザー感光性と黄色灯下でのセーフライト性を両立させることが困難な傾向となる。
【０２３１】
尚、前記波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ410 〕、波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 〕、及び、波長４５０ｎｍ超過６５０ｎｍ以下の各波長における画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450-650 （ｍＪ／ｃｍ2 ）〕は、前述した分光感度測定装置を用いての分光感度の極大ピークの測定において、得られる画像高さから算出される画像形成可能な露光エネルギーとして求められ、その際の、現像液の種類、現像温度、現像時間等の現像条件を変化させて決定される最適現像条件で画像を形成し得る最小露光量を意味し、その最適現像条件としては、通常、温度２５〜４０℃、ｐＨ１１〜１４のアルカリ現像液を０．１〜０．５ＭＰａの圧力で０．５〜３分スプレーする条件が採られる。 
【０２３２】
［２］画像形成材料、画像形成材及び画像形成方法 
本発明の感光性組成物は、本発明の画像形成材料を形成するのに用いることができる。画像形成材料は、通常、前記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液として、仮支持フィルム上に塗布し乾燥させ、必要に応じて、形成された感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことにより形成される。この様な画像形成材料としては、例えばドライフィルムレジスト材等が挙げられる。 
【０２３３】
また、上記画像形成材料は、更に本発明の画像形成材を形成するのに用いることができる。画像形成材は、通常、２タイプの作成方法がある。一つは、画像形成材料の感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合にはその被覆フィルムを剥離して、被加工基板上に積層することにより作成される。もう一つは、以下の手順で作成される。（１）前記のネガ型青紫色レーザー感光性組成物の各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液とする；（２）被加工基板上に直接に塗布し乾燥させる；（３）被加工基板上に本発明のネガ型青紫色レーザー感光性組成物の層が形成される。 
更に、画像形成材は、以下の画像形成方法に好適に用いられる。即ち、画像形成材の感光性組成物層を、例えば波長３４０〜４３０ｎｍのレーザー光により走査露光し、現像処理して画像を現出させる 。 
【０２３４】
［２−１］画像形成材料及び画像形成材 
本発明の画像形成材料、特にドライフィルムレジスト材等に用いられる仮支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。該仮支持体フィルムは膜厚１０〜３０μｍ、ヘイズ値１．５％以下、直径１０μｍ以上のアンチモン等の金属含有粒子またはその凝集体が１０個／１０ｃｍ２以下であるものが好ましい。その際、それらのフィルムが画像形成材料の作製時に必要な耐溶剤性や耐熱性等を有しているものであるときは、それらの仮支持フィルム上に直接に感光性組成物塗布液を塗布し乾燥させて本発明の画像形成材料を作製することができ、又、それらのフィルムが耐溶剤性や耐熱性等の低いものであっても、例えば、ポリテトラフルオロエチレンフィルムや離型フィルム等の離型性を有するフィルム上に先ず感光性組成物層を形成した後、その層上に耐溶剤性や耐熱性等の低い仮支持フィルムを積層し、しかる後、離型性を有するフィルムを剥離することにより、本発明の画像形成材料を作製することも出来る。 
また、感光層の転写性を高める目的で、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等の仮支持フィルム上に、厚さが通常１０〜５０μｍのエチレン酢酸ビニル共重合体等の熱硬化性転写層を設けることも出来る。 
【０２３５】
又、塗布液に用いられる溶剤としては、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶剤、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の高極性溶剤、及びこれらの混合溶剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が挙げられる。溶剤の使用割合は、光硬化性組成物の各成分の総量に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲である。 
【０２３６】
又、その塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、スクリーン塗布、及びカーテン塗布等を用いることができる。その際の塗布量は、後述する画像形成、及びそれに引き続くエッチングやメッキ等の加工性等の面から、乾燥膜厚として５μｍ以上であるのが好ましく、１０μｍ以上であるのが更に好ましく、又、感度等の面から、２００μｍ以下であるのが好ましく、１００μｍ 以下であるのが更に好ましい。尚、その際の乾燥温度は、例えば、３０〜１５０℃程度、好ましくは４０〜１１０℃程度である。乾燥時間は、例えば、５秒〜６０分間程度、好ましくは１０秒〜３０分間程度である。 
【０２３７】
又、ドライフィルムレジスト材等としての画像形成材料として用いられる場合には、その画像形成材料が被加工基板に積層されるまでの間、形成された光感光性組成物層表面を被覆フィルムで覆うことが好ましく、その被覆フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム等の従来公知のフィルムが用いられる。具体的には、例えば三菱ポリエステル社製４０μｍ膜厚ポリエステルフィルム「Ｓ１２０」等が好ましく用いられる。また、該被覆フィルムは、膜厚が１０〜５０μｍ、直径８０μｍ以上のフィッシュアイが１０個／ｍ２以下であるものが好ましく、中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍであるものが好ましい。 
【０２３８】
又、前記画像形成材料の感光性組成物層側を、被覆フィルムで覆われている場合には、その被覆フィルムを剥離して、加熱、加圧等して積層することにより、又は、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、本発明の画像形成材を作製する。その場合、被加工基板は、その上に形成される感光性組成物層をレーザー光等により露光し現像処理することによって現出されたネガ画像をレジストとしてエッチング加工、メッキ加工、或いはソルダー加工等することにより、その表面に回路や電極等のパターンが形成されるものであり、銅、アルミニウム、金、銀、クロム、亜鉛、錫、鉛、ニッケル等の金属板そのものであってもよいが、通常、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、弗素樹脂等の熱可塑性樹脂等の樹脂、紙、ガラス、及び、アルミナ、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無機物、又は、ガラス布基材エポキシ樹脂、ガラス不織布基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材フェノール樹脂等の複合材料等からなり、その厚さが０．０２〜１０ｍｍ程度の絶縁性支持体表面に、前記金属或いは酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫等の金属酸化物等の金属箔を加熱、圧着ラミネートするか、金属をスパッタリング、蒸着、メッキする等の方法により、その厚さが１〜１００μｍ程度の導電層を形成した金属張積層板が、好ましく用いられる。 
【０２３９】
尚、前記感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより、本発明の画像形成材を作製した場合には、前述の如くして前記被加工基板上に形成された前記感光性組成物層上に、感光性組成物の酸素による重合禁止作用を防止する等のために、感光性組成物層上に、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース等の溶液を塗布し乾燥させることにより保護層が形成されてもよい。 
【０２４０】
以上の如くして被加工基板上に積層された感光性組成物層を構成する本発明の感光性組成物は、前記（Ａ）成分のエチレン性不飽和基含有化合物、前記（Ｂ）成分の光重合開始剤、及び前記（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂、並びに、必要に応じて用いられる前記（Ｄ）〜（Ｉ） 成分等を含有している。前記（Ｄ） 成分が、粒子径５μｍ以下の粒子が全粒子の５０％以上を占める微粒子状で前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する他成分中に分散していることが好ましく、粒子径５μｍ以下の粒子が全粒子の８０％以上を占める微粒子状で分散しているのが好ましく、粒子径３μｍ以下の粒子が全粒子の８０％以上を占める微粒子状で分散しているのが特に好ましい。 
【０２４１】
前記（Ｄ）成分の分散状態が前記微粒子状以外では、感光性組成物としての経時安定性が劣ることとなるか、基板に対する密着性が劣ることとなって、本発明の目的を達成できない。 
本発明において、（Ｄ）成分を前記の如く微粒子状で分散せしめるには、例えば、前記（Ｄ）成分をミルロール等による機械的剪断応力下で前記微粒子状に微粉砕した後、他の各成分と共に塗布溶剤に分散させてもよいが、前記（Ｄ）成分を前記（Ｃ）成分のアルカリ可溶性樹脂と共に、ミルロール等による機械的剪断応力下で前記微粒子状に微粉砕した後、他の各成分と共に塗布溶剤に分散させる方法を採るのが好ましい。 
【０２４２】
［２−２］画像形成方法 
そして、本発明の感光性組成物層を被加工基板上に有する本発明の前記画像形成材は、前記画像形成材料により感光性組成物層が形成されている場合には仮支持フィルムを剥離した後、又は、感光性組成物塗布液を直接に塗布し乾燥させることにより感光性組成物層が形成されている場合であって、前記保護層等を有する場合にはその保護層等を剥離した後、その感光性組成物層を、レーザー光を露光光源として走査露光した後、現像処理することにより、前記被加工基板上にネガ画像が形成される。 
【０２４３】
その露光光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、及び、ＨｅＮｅレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、ＨｅＣｄレーザー、半導体レーザー、ルビーレーザー等のレーザー光源が挙げられるが、特に、波長域３４０〜４３０ｎｍの紫外から青紫色領域のレーザー光を発生する光源が好ましく、その中心波長が約４０５ｎｍのものであるのが更に好ましい。具体的には、４０５ｎｍの中心波長を発振する窒化インジウムガリウム半導体レーザー等が挙げられる。 
【０２４４】
又、レーザー光源による走査露光方法は、特に限定されるものではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げられ、走査露光条件としては、レーザーの出力光強度を、好ましくは１〜１００ｍＷ、更に好ましくは３〜７０ｍＷ、発振波長を、好ましくは３55〜４３０ｎｍ、更に好ましくは４００〜４２０ｎｍ、ビームスポット径を、好ましくは２〜３０μｍ、更に好ましくは４〜２０μｍ、走査速度を、好ましくは５０〜５００ｍ／秒、更に好ましくは１００〜４００ｍ／秒、走査密度を、好ましくは２，０００ｄｐｉ以上、更に好ましくは４，０００ｄｐｉ以上として、走査露光する。 
【０２４５】
又、前記レーザー走査露光後の現像処理は、好ましくはアルカリ成分と界面活性剤とを含有する水性現像液を用いてなされる。そのアルカリ成分としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等の無機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、モノブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン等の有機アミン化合物等が挙げられ、その０．１〜５重量％程度の濃度で用いられる。 
【０２４６】
又、界面活性剤としては、前記感光性組成物において挙げたと同様の界面活性剤が挙げられ、中で、ノニオン性、アニオン性、又は両性界面活性剤が好ましく、特に両性界面活性剤、就中、ベタイン型化合物類が好ましい。尚、前記界面活性剤は、好ましくは０．０００１〜２０重量％、更に好ましくは０．０００５〜 １０重量％、特に好ましくは０．００１〜５重量％の濃度で用いられる。 
【０２４７】
更に、現像液には、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤を必要に応じて含有させることができる。又、現像液のｐＨは、９〜１４ とするのが好ましく、１１〜１４とするのが更に好ましい。 
尚、現像は、通常、前記現像液に画像形成材を浸漬するか、画像形成材に前記現像液をスプレーする等の公知の現像法により、好ましくは１０〜５０℃程度、更に好ましくは２０〜４０℃程度の温度で、５秒〜１０分程度の時間でなされる。又、現像処理後、硬化物として形成されたネガ画像のレジストとしての耐熱性や耐薬品性等を向上させるため、例えば１４０〜１６０℃程度の温度で１０分間〜１時間加熱処理することが好ましい。また、必要に応じ加熱処理前に前記の露光光源を用い、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の全面露光を行うこともできる。 
【実施例】
【０２４８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 
【０２４９】
［１］実施例１、２、比較例１ 
［１−１］ソルダーレジスト用感光性画像形成材料の作成 
［１−１−１］実施例１ 
下記表１に記載の（ｂ１−１）成分以外の成分及びイソブチルメチルアセテート（ＭＩＢＫ）溶液２０重量部をペイントシェーカーより分散処理を行い、感光性組成物溶液（ＰＡ１）を得た。 
次に下記の（ｂ１−１）成分の難溶解性光重合開始剤分散溶液、(ｂ２）成分の下記式
で表される硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物（ｂ２−１）及び感光性組成物溶液（ＰＡ１）を混合し、超音波分散機により１０分間攪拌し塗布溶液を得た。
【０２５０】
【化３４】
2007199135.tif 000031
【０２５１】
次に、前述の調液した塗布液を、仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１９μｍ）上に、ワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が４０μｍとなる量で塗布し、８０ ℃のオーブンで５分間乾燥させ、形成された感光性組成物層上に、被覆フィ
ルムとしてのポリエチレンフィルム（厚み２５μｍ） を積層し感光性画像形成材料を作
製した。 
【０２５２】
［１−１−２］実施例２
実施例１において、光重合開始剤（ｂ１−１）成分の代わりに溶剤に可溶性のオキシム開始剤（ｂ１−３）を用いた外は同様に感光性画像形成材料を作成した（下記表１参照）。 
［１−１−３］比較例１ 
実施例１において、光重合開始剤（ｂ１−１）の代わりに光重合開始剤（ｂ１−２）を用いた外は同様に感光性画像形成材料を作成した（下記表１参照）。 
【０２５３】
【表１】
2007199135.tif 000032
【０２５４】
*)（ｂ１−１）（ｂ１−２）（ｂ１−３）の含有量は、オキシム開始剤の化合物のみの量を示す。 
（Ａ１）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 
（Ｂ１）１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−２−メチル−プロパン−１−オン 
（ｂ１−１）下記式で表される光重合開始剤（吸収極大３８３ｎｍ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）とイソブチルメチルケトン（ＭＩＢＫ）（重量比  ４０：３０：３０重量比）になるように混合した後、アイメックス社製サンドグラインダー（ＲＭＨ−０３型）により分散処理を行い、平均粒子径０．４μｍに分散された光重合開始剤分散液。
【０２５５】
【化３５】
2007199135.tif 000033
【０２５６】
なお、上記光重合開始剤の平均粒子径は、日機装社製レーザー回折散乱型粒度分布測定装置（ＭＴ３３００ＥＸ）を用い測定を行った。 
また、上記光重合開始剤分散液を仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１９μｍ） 上に、ワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が４０μｍとなる量で
塗布し、８０ ℃のオーブンで５分間乾燥させた塗布試料について、デジタル測長装置を
有するニコン社製光学顕微鏡「Ｌ−２００」を用いて、塗布膜中の光重合開始剤の粒子径を測定したところ７０％以上の光重合開始剤の粒子径が２μｍ以下であった。 
（ｂ１−２）下記式で表される光重合開始剤、及びアルカリ可溶性樹脂（Ｃ１）を重量比４０：３０になるように混合した後、三本ロールミルにより混練処理を行った光重合開始剤分散液。 
【０２５７】
【化３６】
2007199135.tif 000034
【０２５８】
なお、上記光重合開始剤の平均粒子径を日機装社製レーザー回折散乱型粒度分布測定装置（ＭＴ３３００ＥＸ）を用い測定したところ、粒子径が２００μｍ以上の沈降粒子が多数存在したため測定不能であった。 
なお、上記光重合開始剤分散液を仮支持フィルムとしてのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１９μｍ） 上に、ワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が４０μｍとなる量で
塗布し、８０ ℃のオーブンで５分間乾燥させた塗布試料について、デジタル測長装置を
有するニコン社製光学顕微鏡「Ｌ−２００」を用いて、塗布膜中の光重合開始剤の粒子径を測定したところ、７０％以上の光重合開始剤の粒子径が１７０μｍ以上であった。 
（ｂ１−３）下記式で表される光重合開始剤（吸収極大３８３ｎｍ） 
【０２５９】
【化３７】
2007199135.tif 000035
【０２６０】
（Ｃ１）下記の構成繰返し単位の、不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂（酸価１００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇ、重量平均分子量５，０００、昭和高分子社製「ＰＲ−３００ＰＧ」）のイソプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡ）溶液（固形分６３重量％） 
（Ｃ２）下記の構成繰返し単位の、不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂（酸価１００ＫＯＨ・ｍｇ／ｇ、重量平均分子量４，０００、日本化薬社製「カヤラッドＺＡＲ−１５２７」）のイソブチルメチルケトン（ＭＩＢＫ）溶液（固形分濃度７０重量％） 
【０２６１】
【化３８】
2007199135.tif 000036
【０２６２】
（Ｄ１） クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（重量平均分子量４，０００、ジャパン エポキシレジン社製「１８０Ｓ７０」） 
（Ｅ１） メタノール変性メラミン化合物（三和ケミカル社の「ニカラック」（登録商標 ）ＭＷ１００ＬＭ） 
（Ｉ１）タルク 
（Ｉ２） 硫酸バリウム 
（Ｊ１）フタロシアニンブルー 
（Ｋ１）ビックケミカル社製界面活性剤「ＢＹＫ３３０」 
【０２６３】
［１−２］画像形成材の作成 
厚み３５μｍの銅箔を貼り合わせたポリイミド樹脂の銅張積層基板（厚み１．５ｍｍ、大きさ２５０ｍｍ×２００ｍｍ） の銅箔表面を、住友スリーエム社製「スコッチブラ イトＳＦ」を用いてバフロール研磨し、水洗し、空気流で乾燥させて整面し、次いで、これをオーブンで６０℃ に予熱した後、その銅張積層板の銅箔上に、前記で得られた感光性
画像形成材料を、そのポリエチレンフィルムを剥離しながらその剥離面で、ハンド式ロールラミネーターを用いて、ロール温度１００℃、ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／分でラミネートすることにより、銅張積層基板上に感光性組成物層が形成された画像形成材を製造した。 
【０２６４】
［１−３］レーザー露光感度 
得られた画像形成材の感光性組成物層について、以下に示す方法で露光感度を測定した。結果を表１に示す。即ち、得られた画像形成材の感光性組成物層を、直径７ｃｍのアルミニウム製シリンダー上に固定し、毎分１０〜１００回転で回転数を変化させながら、中心波長４０５ｎｍ、レーザー出力５ｍＷのレーザー光源（日亜化学工業社製「ＮＬＨＶ５００Ｃ」）を用いて、像面照度２ｍＷ、ビームスポット径２０μｍで、ビーム走査間隔及び走査速度を変えながら走査露光し、次いで、３０℃の１重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として０．１５ＭＰａとなるように吹き付け、最小現像時間の２倍の時間でスプレー現像することによりネガ画像を現出させた。得られた画像について、２０μｍの線幅が再現するのに要する露光量を求め、青紫色レーザーに対する感度とした。 
【０２６５】
［１−４］分光感度の極大ピーク 
更に、以下に示す方法で分光感度の極大ピークを測定したところ、約４００ｎｍであった。 
画像形成材を５０×６０ ｍｍの大きさに切り出したサンプルを、回折分光照射装置（ナルミ社製「ＲＭ−２３」）を用い、キセノンランプ（ウシオ電機社製「ＵＩ−５０１Ｃ」）を光源として３４０ 〜６５０ｎｍの波長域で分光した光を、横軸方向に露光波長が 直線的に、縦軸方向に露光強度が対数的に変化するように設定して１０秒間照射して露光し、次いで、３０℃の１重量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として０．１５ＭＰａとなるように吹き付け、最小現像時間の２倍の時間でスプレー現像することにより、各露光波長の感度に応じた画像が得られ、その画像高さから画像形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットすることにより得られる分光感度曲線における極大ピークを読み取った。 
【０２６６】
［１−５］〔Ｓ410 〕、〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕、及び〔Ｓ450-650／Ｓ450 〕 
又、以下に示す方法で、波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ410 （ｍＪ／ｃｍ2）〕を測定したところ、表１の通りであった。又、波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な該最小露光量〔Ｓ410 〕の波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 （ｍＪ／ｃｍ2）〕に対する比〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕、及び波長４５０ｎｍ超
過６５０ｎｍ以下の各波長における画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450-650 （ｍＪ／ｃｍ2）〕の波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 （ｍＪ／ｃｍ2）〕に対する比〔Ｓ450-650 ／Ｓ450 〕を測定し、以下の基準で評価したところ、表１の通りであった。 
前記と同様にして３４０〜６５０ｎｍの波長域で波長を変化させて露光し、現像したときの、波長４１０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ410 （ｍＪ／ｃｍ2）〕と
波長４５０ｎｍにおける画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450 （ｍＪ／ｃｍ2） 〕、及び、波長４５０ｎｍ超過６５０ｎｍ以下の各波長における画像形成可能な最小露光量〔Ｓ450-
650（ｍＪ／ｃｍ2）〕をそれぞれ求め、その比〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕、及び〔Ｓ450-650 ／Ｓ450 〕を算出し、以下の基準で評価した。 
【０２６７】
［１−５−１］〔Ｓ410 ／Ｓ450 〕の評価基準 
Ａ：Ｓ410 ／Ｓ450 が０．０３以下。 
Ｂ：Ｓ410 ／Ｓ450 が０．０３ 超過０．０ ５以下。 
Ｃ：Ｓ410 ／Ｓ450 が０．０ ５超過０．１以下。 
Ｄ：Ｓ410 ／Ｓ450 が０．１ 超過。 
［１−５−２］〔Ｓ450-650／Ｓ450 〕の評価基準 
Ａ：Ｓ450-650 ／Ｓ450 が１０超過。 
Ｂ：Ｓ450-650 ／Ｓ450 が５超過１０以下。 
Ｃ：Ｓ450-650／Ｓ450 が１超過５以下。 
Ｄ：Ｓ450-650 ／Ｓ450 が１以下。 
【０２６８】
［１−６］黄色灯下でのセーフライト性 
別に、得られた感光性画像形成材につき、以下に示す方法で、黄色灯下でのセーフライト性を評価したところ、表１の通りであった。 
画像形成材を黄色灯照明（約４７０ｎｍ以下の波長の光を遮断した条件）下に、１分間、２分間、５分間、１０分間、２０分間、３０分間放置した後、前記露光感度の測定におけると同様にして、走査露光及び現像処理を行い、前記に比して画像に変化が生じるまでの放置時間を求め、以下の基準で評価した。 
Ａ：２０分以上 
Ｂ：１０分以上２０分未満 
Ｃ：１分以上１０分未満 
Ｄ： １分未満 
【０２６９】
［１−７］無電解ニッケル金メッキ耐薬品性
三菱瓦斯化学社製化学研磨処理剤ＣＰＥ９００を用い表面化学研磨処理された０４ｍｍ厚の銅張りガラエポ基板（三菱瓦斯化学社製ＥＬ１７０）を、上村工業社製脱脂剤（ＡＣＬ００９）２０十倍希釈液を用いて２５℃６０秒浸漬、さらに水洗し得られた基板を用いて、前述の実施例１と同様の方法により作成した画像形成材料を画像形成に必要な最小露光量でレーザー露光、ついで、現像処理を施し、幅２０μｍの細線画像を銅基板上に形成させた。次に、この基板を１５０℃１時間過熱効果処理を施し、感光層細線を熱硬化させた画像形成材料を得た。
【０２７０】
この、画像形成材料を上村工業社製  脱脂剤（ＡＣＬ９９０）２０倍希釈水溶液に５０℃５分間の浸漬後、水洗、さらに１０重量％硫酸水溶液２５℃３０分間浸漬、水洗処理を施しメッキ前処理を行った後、１Ｌ中に１０重量％の過硫酸ナトリウムと１．８体積％硫酸を含有する水溶液中に２５℃３０分間浸漬、さらに水洗しソフトエッチング処理を行った。続いて、１．８体積％硫酸水溶液中に２５℃３０分間浸漬させた後、無電解ニッケルメッキ用触媒（１Ｌ中に１００ｍｌの上村工業社製ＫＡＴ−４５０と１８ｍｌの硫酸を含有させた水溶液）中に２５℃３０分間浸漬、ついで水洗処理を行ったのち、無電解ニッケルメッキ溶液（１Ｌ中に１５０ｍｌの上村工業社製に無電ニッケル試薬ＮＰＲ−Ｍ、４５ｍｌのニムデン−ＮＰＲ−Ａ、３ｍｌのニムデン−ＮＰＲ−Ｄを含有する水溶液）中に８０℃１８分間浸漬、水洗、３μｍ厚のニッケルメッキ層を形成させた。続いて、無電解金メッキ溶液（１Ｌ中に５０ｍｌ上村工業社製  ＴＫＫ−５１  Ｍ２０とシアン化第一金カリ水溶液）中に８５℃７分間浸漬、ついで水洗して０．０３μｍ厚の金メッキ層を形成させた。こうして得られたメッキ処理画像形成材料の細線レジスト部分にセロファンテープ（ニチバン社製）を密着、テープを剥離して、テープに付着転写した細線レジストの割合を測定、メッキ耐薬性の評価を行った。
【０２７１】
Ａ：剥離したテープに転写した細線レジストが、元のレジストに対し５％未満であっ  
た。
Ｂ：剥離したテープに転写した細線レジストが、元のレジストに対し５％以上２０％未
満であった。
Ｃ：剥離したテープに転写した細線レジストが、元のレジストに対し２０％以上５０％
未満であった。
Ｄ：剥離したテープに転写した細線レジストが、元のレジストに対し５０％以上であっ
た。
【０２７２】
また、実施例１、２、及び比較例１で、（ｂ２−１）硫黄原子を含有するベンゾフェノン化合物を除いた以外は実施例１、２、及び比較例１と同様にして得られた感光性画像形成材料（実施例１’、２’及び比較例１’とする）について、上記無電解ニッケル金メッキ耐薬品性評価を行ったところ、いずれも評価は「Ｄ」であった。
なお、実施例１においては、上記無電解ニッケル金メッキ耐薬品性評価において、銅張りガラエポ基板の代わりに、旭硝子社製カラーフィルター用ガラス板「ＡＮ１００」に１０ｎｍ厚に金蒸着を施した基板を用いた以外は、上記評価試験と同じ評価を行っても同様の効果が期待できる。