(57)【要約】【課題】ロールトゥロールの手法を用いた連続製造が可能で、かつ、種々のパターンのコア形状に対応可能な光導波路の製造方法およびそれにより得られる光導波路を提供する。【解決手段】コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法である。コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされたコア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。【選択図】図１
2007164011.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行うことを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項２】
コアと、該コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされた前記コア材料を現像する現像工程と、を含む請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記現像工程後に、現像された前記コア材料上に上部クラッド材料を積層するラミネート工程を含む請求項２記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
コアと、該コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされた前記コア材料を加熱するか、または、該コア材料表面に光照射を行って、該コア材料を硬化させるコア硬化工程と、を含む請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記硬化工程後に、硬化した前記コア材料上に上部クラッド材料を積層するラミネート工程を含む請求項４記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記ラミネート工程後に、前記コア材料と該コア材料を挟持する前記上下クラッド材料とを導波路形状に打ち抜く打抜工程を含む請求項３または５記載の光導波路の製造方法。
【請求項７】
前記パターニング工程に先立って、前記下部クラッド材料上に前記コア材料を塗布する塗布工程を含む請求項２〜６のうちいずれか一項記載の光導波路の製造方法。
【請求項８】
コア形状のパターニングを集光した直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法であって、該集光した直接レーザー光の照射により、コア材料を部分的に高屈折率化することでコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、該コア形状がパターニングされたコア材料を加熱するか、または、該コア材料表面に対し前記集光した直接レーザー光とは異なる波長の光の照射を行って、前記パターニングされたコア以外の部分のコア材料を硬化させるコア硬化工程と、を含む請求項１記載の光導波路の製造方法。
【請求項９】
前記硬化工程後に、少なくとも前記コア材料を導波路形状に打ち抜く打抜工程を含む請求項８記載の光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記パターニング工程に先立って、支持フィルム上に前記コア材料を塗布する塗布工程を含む請求項８または９記載の光導波路の製造方法。
【請求項１１】
ロールトゥロールプロセスにより実施される請求項１〜１０のうちいずれか一項記載の光導波路の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のうちいずれか一項記載の光導波路の製造方法により製造されたことを特徴とする光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光導波路の製造方法（以下、単に「製造方法」とも称する）に関し、詳しくは、ロールトゥロールの手法による連続製造工程の適用が可能な光導波路の製造方法およびそれにより得られる光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の光通信技術の発展に伴い、光スイッチや光合分波器などの光通信用部品を構成する基本素子として、高性能の光導波路の開発が望まれている。光導波路は一般に、基板上に、直接または下部クラッドを介して、コアおよび上部クラッドを順次形成してなる構造を基本構造とする。そのコアの材料としては、従来より、光伝播損失が小さいなどの利点から、光ファイバと同様に主として石英ガラス等の無機材料が用いられているが、最近では、加工性やコスト性に優れる合成樹脂などの有機材料を用いたポリマー光導波路（フィルム導波路）について、検討が進められてきている。
【０００３】
このような光導波路を製造するに際しては、特に、コア／クラッドのパターニング工程が重要となる。従来の光導波路の製造方法としては、フォトリソグラフィを用いる方法や、金型を用いたプレス成型による方法の他、ＬＡＭＭ法（Ｌａｒｇｅ−ａｒｅａ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍｉｃｒｏ  Ｍｏｌｄｉｎｇ）と呼ばれるシリコン樹脂鋳型を用いた方法などが知られている。
【０００４】
また、例えば、特許文献１には、長尺の基材上に光導波路を形成するにあたり、長尺の基材を所定方向に送り出すステップと、この長尺の基材表面に第１のポリマ前駆体を塗布するステップと、コアの形状に応じた溝を形成するステップと、この溝に第２のポリマ前駆体を充填するステップと、この第２のポリマ前駆体を硬化してコアにするステップと、長尺の基材およびコアの表面に第３のポリマ前駆体を塗布するステップと、第３のポリマ前駆体を硬化して上部クラッドとするステップとを含む光導波路の製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００３−０２１７４１号公報（特許請求の範囲等）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の製造技術は、そのほとんどがバッチ方式の工程によるものであるため、生産効率の点で問題があった。また、特許文献１に記載の技術は、光導波路の連続生産を可能にするものであるが、溝の形成を、表面に凹凸が形成されたロール状金型を接触させることにより行うものであるため、パターンを変更する際にはロール状金型をその都度取り替える必要があるなど、十分なものではなかった。
【０００６】
そこで本発明の目的は、ロールトゥロールの手法を用いた連続製造が可能で、かつ、種々のパターンのコア形状に対応可能な光導波路の製造方法およびそれにより得られる光導波路を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、コア形状のパターニング工程に、直接レーザー光の照射を用いた、いわゆるコンピュータ・トゥ・プレート（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｔｏ  Ｐｌａｔｅ；ＣＴＰ）の技術を適用することで、上記目的を達成しうることを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち、本発明の光導波路の製造方法は、コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行うことを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の製造方法は、具体的には、コアと、該コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされた前記コア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。この場合、より好適には、前記現像工程後に、現像された前記コア材料上に上部クラッド材料を積層するラミネート工程を含むものとする。
【００１０】
また、本発明の製造方法は、コアと、該コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされた前記コア材料を加熱するか、または、該コア材料表面に光照射を行って、該コア材料を硬化させるコア硬化工程と、を含むものとすることもでき、この場合も、より好適には、前記硬化工程後に、硬化した前記コア材料上に上部クラッド材料を積層するラミネート工程を含むものとする。
【００１１】
本発明においては、前記ラミネート工程後に、前記コア材料と該コア材料を挟持する前記上下クラッド材料とを導波路形状に打ち抜く打抜工程を含むことが好ましく、前記パターニング工程に先立って、前記下部クラッド材料上に前記コア材料を塗布する塗布工程を含むことも好ましい。
【００１２】
さらに、本発明の製造方法は、コア形状のパターニングを集光した直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法であって、該集光した直接レーザー光の照射により、コア材料を部分的に高屈折率化することでコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、該コア形状がパターニングされたコア材料を加熱するか、または、該コア材料表面に対し前記集光した直接レーザー光とは異なる波長の光の照射を行って、前記パターニングされたコア以外の部分のコア材料を硬化させるコア硬化工程と、を含むものとすることもできる。この場合、前記硬化工程後に、少なくとも前記コア材料を導波路形状に打ち抜く打抜工程を含むことが好ましく、また、前記パターニング工程に先立って、支持フィルム上に前記コア材料を塗布する塗布工程を含むことも好ましい。
【００１３】
本発明においては、前記パターニング工程に先立って、前記下部クラッド材料上に前記コア材料を塗布する塗布工程を含むことも好適である。本発明の製造方法は、ロールトゥロールプロセスにより、好適に実施することができる。
【００１４】
また、本発明の光導波路は、上記本発明の光導波路の製造方法により製造されたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、上記構成としたことにより、ロールトゥロールの手法を用いた連続製造が可能であって、かつ、種々のパターンのコア形状に対応可能な光導波路の製造方法およびそれにより得られる光導波路を実現することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明の光導波路の製造方法においては、コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射を用いた、コンピュータ・トゥ・プレート（ＣＴＰ）の手法により行うことが重要である。
【００１７】
より具体的には、例えば、コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路を製造するにあたり、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光、特には、集光した直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行った後（パターニング工程）、（１）コア形状がパターニングされたコア材料を現像する（現像工程）かまたは、（２）コア形状がパターニングされたコア材料を加熱し、若しくはコア材料表面に光照射を行って、コア材料を硬化させる（コア硬化工程）。
【００１８】
本発明によれば、直接レーザー光の照射によりコア形状のパターニングを行うものとしたことで、微細なコアパターンを直接描画形成することができるため、連続工程での光導波路の製造が可能となるとともに、プログラムの変更により容易にコア形状のパターンを変更することができ、より生産性に優れた製造方法を実現することが可能となった。従って本発明は、特には、図１に示すように、下部クラッド材料を長尺状に形成して、この長尺状の下部クラッド材料を、送出ロール２１から送り出して巻取ロール２２に巻き取る間に光導波路形成のための一連の工程を行う、ロールトゥロールプロセスにより好適に実施できるものである。
【００１９】
なお、本発明においては、直接レーザー光を集光して使用することが好ましく、これにより、コア形状をよりシャープにパターニングすることができ、即ち、得られる光導波路においてコアとクラッドとの界面部分における凹凸の発生を防止して、より光損失の小さい光導波路を得ることが可能となる。
【００２０】
直接レーザー光の照射を用いたコア形状のパターニングは、コア材料のうちコア形状に対応する部分を、光照射により硬化させるか、または、高屈折化させることにより行う。かかる硬化または高屈折率化を確実に行うことができるものであれば、直接レーザー光によるパターニングに用いる光は、紫外線（ＵＶ）、可視光、近赤外線（ＩＲ）のいずれの領域の光であっても適用可能である。光源としては、例えば、超高圧，高圧，低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を用いることができ、照射時間は、光源の種類および強さによるため一概には決められないが、数秒〜数十分程度とする。
【００２１】
なお、本発明の製造方法を、特にロールトゥロールプロセスにより実施する場合には、あらかじめ支持フィルム上に下部クラッド材料を担持させた状態で工程に供することが好ましい。但し、下部クラッド材料がある程度の厚みを有し、下部クラッド材料単独でも送出ロール２１と巻取ロール２２との間を走行させることが可能である場合には、支持フィルムを用いることは必ずしも必要ではない。支持フィルムは、所望に応じ、製造工程終了後に下部クラッド材料との間で剥離することができるよう形成する。また、いずれの場合においても、送出ロール２１または巻取ロール２２に巻回する際には、表面と裏面とが付着しないよう、下部クラッド材料表面に剥離フィルムを積層することが好ましい。
【００２２】
図２に、支持フィルムを用いた場合の本発明の製造方法の各工程の流れを示す概略断面図を示す。まず、支持フィルム１０上に、常法に従い、下部クラッド材料１１を介してコア材料１２を積層形成する（図１中の（ａ））。ここで、図１に示すようなロールトゥロールプロセスにより本発明を実施する場合には、コア材料１２は、前もって下部クラッド１１上に形成した状態で巻き取っておいてもよいが、巻き出し後、パターニング工程に先立って、下部クラッド材料１１上にコア材料１２を塗布形成することが好ましい（塗布工程）。
【００２３】
次いで、符号１で示す直接レーザー光の照射によりコア形状１２Ａのパターニングを行った後（パターニング工程，図１中の（ｂ））、（１）コア形状１２Ａがパターニングされたコア材料１２を現像する（現像工程，図１中の（ｃ−１））かまたは、（２）コア形状１２Ａがパターニングされたコア材料を加熱し、若しくはコア材料表面に光照射を行って、コア材料を硬化させる（コア硬化工程，図１中の（ｃ−２））（図１中の符号２）。このうち光照射を用いる場合には、好適には、集光した直接レーザー光とは異なる波長の光を用いる。これら（１）現像工程または（２）コア硬化工程のいずれの工程を経るかについては、コア材料の選択により決定され、パターニング工程においてコア形状１２Ａを光照射により硬化させた場合には、硬化したコア形状１２Ａ以外の部分について（１）現像工程により現像を行い、また、パターニング工程においてコア形状１２Ａを光照射により高屈折化させた場合には、その後の（２）コア硬化工程により、コア材料全体を硬化させる。この際の現像工程に用いる現像液としては、水など、下部クラッド材料およびコア材料に悪影響を及ぼさないものを用いることが必要である。
【００２４】
ロールトゥロールプロセスの場合には、この現像工程または硬化工程の後に、いったん巻き取ってから後の工程に供することもできるが、生産効率の観点からは、図１に示すように、巻き取り前に、現像または硬化されたコア材料上に上部クラッド材料１３を積層することが好ましい（ラミネート工程，図１中の（ｄ））。
【００２５】
次いで、図示はしないが、上記ラミネート工程後に、コア材料１２Ａとそれを挟持する上下クラッド材料１１，１３とを導波路形状に打ち抜くことで（打抜工程）、コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路を製造することができる。さらに、ラミネート工程後、打抜工程の前ないし後に、加熱または光照射を行うことにより上部クラッド材料１３を硬化させる（クラッド硬化工程）。これら打抜工程および硬化工程についても、ラミネート工程と同様に、いったん巻き取った後に別途行ってもよいが、巻き取り前に行ってもよく、これにより本発明においては、ロールトゥロールプロセスにより一連の製造工程を行うことが可能となる。
【００２６】
以下、本発明に適用可能な材料について説明する。
本発明に用いるコア材料としては、パターニング工程においてコア形状を硬化させる場合には、ＵＶ、ＩＲまたは可視光により硬化する光硬化材料を用いる。
【００２７】
光硬化材料は、（ａ）重クロム酸塩系感光性樹脂、（ｂ）光分解型感光性樹脂、（ｃ）光二量化型感光性樹脂、（ｄ）光重合型感光性樹脂に分類される。このうち（ａ）重クロム酸塩系感光性樹脂としては、ゼラチン、グルー、卵白、アラビアゴム、セラミックなどの天然高分子、あるいは、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）、ポリアクリルアミドのような合成高分子に、重クロム酸アンモニウムあるいは重クロム酸カリウムを加えたものを挙げることができる。また、（ｂ）光分解型感光性樹脂としては、芳香族ジアゾニウム塩系樹脂、ｏ−キノンジアジド類樹脂、アジド化合物含有樹脂があり、（ｃ）光二量化型感光性樹脂としては、桂皮酸エステル系樹脂が挙げられる。
【００２８】
さらに、（ｄ）光重合型感光性樹脂としては、不飽和二重結合のラジカル重合反応を利用した光ラジカル重合系組成物、二重結合へのチオール基の付加反応を利用した光付加反応系組成物、および、エポキシ環、オキセタン環などの開環付加反応（カチオン重合）を利用した光カチオン重合系組成物等が挙げられる。光重合型感光性樹脂は、一般に、光重合性官能基を有する反応性ポリマー、光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する化合物（モノマーおよびオリゴマー）、光重合開始剤、および、所望により他の添加剤から構成される。
【００２９】
光重合性官能基を有する反応性ポリマーとしては、例えば、アルキルアクリレート（メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等）および／またはアルキルメタクリレート（メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等）から得られる単独重合体または共重合体（即ち、アクリル樹脂）であって、かつ、主鎖または側鎖に光重合性官能基を有するものを挙げることができる。このような重合体は、例えば、１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応しかつ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。従って、光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂が好ましい。
【００３０】
かかる反応性ポリマーは、光重合性官能基を通常１〜５０モル％、特には５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。また、この反応性ポリマーのガラス転移温度は、一般に２０℃以下であり、数平均分子量は通常５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００であり、また、重量平均分子量は通常５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００である。
【００３１】
光重合性官能基を有する化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸またはこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記多塩基酸またはこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２’−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリス��トールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【００３２】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、アシルホスフィンオキサイド系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸などの安息香酸系または、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみを１種または２種以上混合して使用することができる。光重合開始剤は、光重合型感光性樹脂中に、通常０．１〜２０質量％、特には１〜１０質量％含有させることが好ましい。 
【００３３】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、上記の他、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン等が挙げられ、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、上記の他、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。また、アシルホスフィンオキサイド系としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルホスフィンオキサイド等の化合物が挙げられる。  
【００３４】
上記アセトフェノン系重合開始剤の中でも、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。また、上記ベンゾフェノン系重合開始剤の中でも、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。
【００３５】
さらに、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。以上のように、光重合開始剤は、通常、上記３成分を組み合わせることにより使用する。
【００３６】
光重合型感光性樹脂における上記反応性ポリマー：光重合可能な官能基を有する化合物：光重合開始剤の質量比は、通常４０〜１００：０〜６０：０．１〜１０、特には６０〜１００：０〜４０：１〜１０である。
【００３７】
また、カチオン重合系の化合物として、オキセタン環を１個有する重合性モノマーの具体例としては、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−〔１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、４−メトキシ−〔１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、〔１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル〕フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。オキセタン環を２個有する重合性モノマーの具体例としては、１，４−ビス｛〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕メチル｝ベンゼン、ビス｛〔（１−エチル）３−オキセタニル〕メチル｝エーテル、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕ベンゼン、１，３−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ〕ベンゼン、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、１，２−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕エタン、１，２−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレンビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ブタン、１，６−ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。オキセタン環を３乃至５個有する重合性モノマーの具体例としては、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【００３８】
また、グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、例えば、芳香族核を有する多価フェノール類またはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等が挙げられる。具体的には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、水添ビスフェノールＳ、ビスフェノールフルオレンまたはこれらフェノール類のアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールまたはそのアルキレンオキサイド付加体等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル；ネオペンチルグリコール、ジブロモネオペンチルグリコールまたはこれらグリコールのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル；トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリンまたはこれら３価アルコールのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル；ペンタエリスリトールのジ、トリまたはテトラグリシジルエーテル等の多価アルトールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテル；ノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック樹脂；並びにこれら化合物の芳香族核がハロゲン置換された化合物；などが挙げられる。
【００３９】
さらに、脂環式エポキシ化合物としては、例えば、シクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素や過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物等が挙げられる。具体的には、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシ化テトラベンジルアルコール、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。また、カチオン重合系の化合物としては、スピロオルトカーボネート化合物も使用可能である。
【００４０】
カチオン重合系の光重合開始剤の市販品としては、例えば、ユニオンカーバイド社製のＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７０（ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フェニルスルフィド］、ＵＶＩ−６９７４（ビス［４−ジフェニルスルホニオ］−フェニル）スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートとジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートとの混合物）、ＵＶＩ−６９９０（ＵＶＩ６９７４のヘキサフルオロホスフェイトの塩）、旭電化
業（株）製のアデカオプトマーＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０（ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエチル）フェニル）スルホニオ）−フェニルスルフィド］、ＳＰ−１５０（ＳＰ−１７０のヘキサフルオロホスフェイト）、チバガイギー社製のＩｒｇａｃｕｒｅ  ２６１（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１，２，３，４，５，６−η）−（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄（１＋）−ヘキサフルオロフォスフェート（１−））、日本曹達（株）製のＣＩ−２４８１、ＣＩ−５１０２、ＣＩ−２８５５、ＣＩ−２０６４ＣＤ−１０１０、サートマー社製のＫＩ８５、ＣＤ−１０１１、ＣＤ−１０１２（４−（２−ヒドロキシテトラデカニルオキシ）ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）、みどり化学（株）製のＤＴＳ−１０２、ＤＴＳ−１０３、ＮＡＴ−１０３、ＮＤＳ−１０３（（４−ヒドロキシナフチル）−ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＴＰＳ−１０２（トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェイト）、ＴＰＳ−１０３（トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＭＤＳ−１０３（４−メトキシフェニル−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＭＰＩ−１０３（４−メトキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）、ＢＢＩ−１０１（ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート）、ＢＢＩ−１０２（ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート）、ＢＢＩ−１０３（ビス（４−ｔｅｒｔ−フェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）、デグサ社製のＤｅｇａｃｕｒｅ  Ｋ１２６（ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロホスフェイト）、ローディア社製のロードシルフォトイニシエータ２０７４等の商品名で入手できるものが挙げられる。これらは、１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４１】
また、特に、可視光またはＩＲ照射によりパターニングを行う場合には、光酸発生剤と、７６０〜１０００ｎｍに吸収を有する色素と、光カチオン重合系組成物とを含み、可視光またはＩＲの照射により酸を発生し、カチオン重合反応を開始して硬化する光硬化材料を好適に用いることができる。この場合、可視光またはＩＲを吸収した色素と光酸発生剤との間で電子移動が起こり、光酸発生剤が、酸を発生する。
【００４２】
本発明に用いる７６０〜１０００ｎｍに吸収を有する色素としては、例えば、ピリリウム系、チオピリリウム系、シアニン系、インドリウム系、トリアジン系等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。具体的には例えば、２−［７−（１，３−ジヒドロ−１，１，３−トリメチル−２Ｈ−ベンズインドル−２−イリジン）−１，３，５−ヘプタトリエニル］−１，１，３−トリメチル−１Ｈ−ベンズインドリウムパークロレート、３−エチル−２−［２−［３−［２−（３−エチル−２（３Ｈ）−ベンゾチアゾリリジン）エチリジン］−２−ジフェニルアミノ−１−シクロペンタン−１−イル］エテニル］ベンゾチアゾリウムパークロレート、１−エチル−２−［７−（１−エチル−２（１Ｈ）−キノリジン）−１，３，５−ヘプタトリエニル］キノリニウムイオダイド、８−［（６，７−ジヒドロ−２，４−ジフェニル−５Ｈ−１−ベンゾピラン−８−イル）メチレン］５，６，７，８−テトラヒドロ−２，４−ジフェニル−１−ベンゾピリリウムパークロレート、ビス（ジチオベンジル）ニッケル、ビス［２'−クロロ−３−メトキシ−４−（２−メトキシエトキシ）ジチオベンジル］ニッケル、１−エチル−４−［７−（エチル−４（１Ｈ）−キノリリジン）−１，３，５−ヘプタトリエニル］キノリニウムイオダイド、４−４'−［３−［２−（１−エチル−４（１Ｈ）−キノリニリジン）エチリジン］プロペニレン］ビス（１−エチルキノリニウムイオダイド）、株式会社林原生物化学研究所製のＮＫ−４４３２、ＮＫ−４６８０、ＮＫ−５５５７、ＮＫ−５５５９、ＮＫ−５９１１、ＮＫ−２８８２、ＮＫ−４４８９、ＮＫ−４４７４、ＮＫ−５０２０、ＮＫ−２０１４、ＮＫ−２９１２などがある。かかる色素は、光硬化材料中に、通常０．１〜２０質量％、特には１〜１０質量％程度にて含有させることができる。
【００４３】
また、光酸発生剤としては、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ナトリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸メチル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エチル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸カプリル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸セチルなどや、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸メチル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エチル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ヘキシル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ラウロイル、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸ステアリルなど、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ナトリウム、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カリウム、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸メチル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エチル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸カプロイル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸デシル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸ステアリル、１，２−ベンゾキノン−２−ジアジドなどを挙げることができる。
【００４４】
また、その他、次のようなものも用いることができる。
エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１６−ヘキサデカンジオールなどの脂肪族ジオールと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４（または−５）−スルホン酸クロリドとの縮合物、フエノール、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール等の水酸化芳香族と１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４（または−５）スルホン酸クロリドとの縮合物、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフエノン、２，２′，３，４，４′−ペンタヒドロキシベンゾフエノン、などのポリヒドロキシベンゾフエノンと１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４（または−５）スルホン酸クロリドとの縮合物、例えば、トリヒドロキシベンゾフエノンジ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸）エステル、トリヒドロキシベンゾフエノントリ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノンジ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノントリ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノンテトラ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸）エステル、トリヒドロキシベンゾフエノンジ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、トリヒドロキシベンゾフエノントリ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノンジ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノントリ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸）エステル、テトラヒドロキシベンゾフエノンテトラ（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸）エステルなどや、２−ジアゾ−５，５−ジメチル−シクロヘキサン−１，３−ジオン、２，２−ジメチル−５−ジアジド−４，６−ジケト−１，３−ジオキサンなどである。
【００４５】
特には、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩およびスルホン酸エステル化合物からなる群から選ばれるいずれか１種以上の光酸発生剤を用いる。また、近赤外線の照射により、ブレンステッド酸またはルイス酸を発生する光酸発生剤が好適である。光酸発生剤は、本発明の樹脂組成物中に、通常０．１〜２０質量％、特には１〜１０質量％程度にて含有させることができる。
【００４６】
また、パターニング工程においてコア形状に対応する部分を高屈折率化する場合には、コア材料中に、フォトブリーチング材料、即ち、光照射により屈折率が変化する材料を含有させる。かかるフォトブリーチング材料としては、特に制限されるものではなく、従来使用されているもののうちから適宜選択して用いることができ、例えば、ポリシランやアクリル系ポリマー等を代表的に挙げることができる。また、本発明においては、コアとなる部分（コア形状部）１２Ａとクラッドとなる部分１３との屈折率差を十分得るために（図２（ｃ−２）参照）、光照射による屈折率変化量が０．００１以上であるフォトブリーチング材料を用いることが好ましい。
【００４７】
コア材料は、上記フォトブリーチング材料のみで形成してもよいが、上記フォトブリーチング材料と他の材料とを適宜組み合わせて形成することもでき、特に制限されるものではない。フォトブリーチング材料と併用できる他の材料としては、通常この分野においてコア材料またはクラッド材料として用いられるもののうちから、適宜選択して用いることができる。伝送損失の低減を図る観点からは、上部クラッド材料（および、好適には下部クラッド材料）と同等の屈折率を有する材料を用いて形成することが好ましい。
【００４８】
かかる他の材料としては、具体的には例えば、先に挙げた光硬化材料や、以下のような熱硬化材料を好適に用いることができ、いずれの材料を用いるかにより、その後のコア硬化工程において、加熱または光照射を行う。
【００４９】
かかる熱硬化材料としては、シリコン系材料、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、（メタ）アクリル系樹脂、フッ素化（メタ）アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素化ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、フッ素系樹脂、これら樹脂の重水素化物などが挙げられる。これらの材料は、単品もしくはブレンドして用いてもよく、ブレンドの場合には、ブレンドされる各々の材料の３次元網目構造が相互貫通している構造（ＩＰＮ構造）をとってもよい。上記材料の成分をブロックとして、共重合体としてもよい。また、熱硬化材料中には、熱重合開始剤（熱硬化剤）として、例えば、有機過酸化物を含有させることができ、かかる有機過酸化物としては、例えば、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ｎ−ブチル−４，４'−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、メチルエチルケトンパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート、ブチルハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキサイド、ヒドロキシヘプチルパーオキサイド、クロロヘキサノンパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、サクシニックアシッドパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）、ｍ−トルオイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。有機過酸化物としては、これらのうちの少なくとも１種が単独または混合して用いられ、その添加量は、通常、前記ポリマー１００重量部に対し、０．１〜１０重量部とする。
【００５０】
また、本発明に用いる上下クラッド材料としては、特に制限されるものではなく、通常用いられる材料のうちから適宜選択して用いることができる。但し、クラッドはコアよりも低屈折率にて形成することが必要となるので、コア材料との関連で選択することが必要である。例えば、コア材料として上記した各種光硬化材料および熱硬化材料等を用いることができるほか、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエチレン−ポリビニルアルコール共重合体、フッ素樹脂、シリコン樹脂、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、フッ素ゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。
【００５１】
この中でも、屈折率が低いシリコーン系ポリマーやフッ素系ポリマーが特に好ましく、具体的にはポリジメチルシロキサンポリマー、ポリメチルフェニルシロキサンポリマー、フルオロシリコーンポリマー等のシリコーン系ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）、四フッ化エチレン−パーフロロアルコキシエチレン共重合体（ＰＦＥ）、ポリクロルトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、四フッ化エチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニルフルオライド、フッ化ビニリデン−三フッ化塩化エチレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン−四フッ化エチレン三元共重合体、四フッ化エチレンプロピレンゴム、フッ素系熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。これらの材料は単独または２種以上を適宜混合して用いることができる。
【００５２】
これらコア材料および上下クラッド材料には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、所望により他の添加剤として、例えば、老化防止剤、染料、加工助剤、酸化防止剤、可塑剤等を含有させてもよい。
【００５３】
なお、上記各層の塗工溶液の調製に用いる溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、酢酸セロソルブ、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼン、シクロヘキサノン等の慣用の有機溶剤から適宜選択して用いることができる。
【００５４】
また、支持フィルム１０としては、特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムやアクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリイミド（ＰＩ）フィルムなどを使用することができる。
【００５５】
さらに、本発明においては、上記のようにして作製した光導波路の表面に、ハードコートや吸湿防止層などを積層して用いてもよい。光導波路において光の経路となって情報を伝達する部位はコア１２Ａであるので、コア１２Ａが傷つかなければ光導波路としての性能に問題は生じないが、そのような大きな損傷を防止するために、表面にハードコートを設けることが必要となる場合もある。かかるハードコートの材料としては、（メタ）アクリレートモノマー、例えば、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３官能以上の（メタ）アクリレートや、多官能のエポキシ、（メタ）アクリルオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、共重合系（メタ）アクリレート、エポキシオリゴマーに、光開始剤を加えて重合させる（メタ）アクリレート系またはエポキシ系ハードコート材料や、シラン化合物、有機金属化合物、無機酸化物微粒子、硬化用触媒、および、所望に応じその他の材料を含むシリコーン系ハードコート材料（プライマー処理を用いてもよい）、オルガノアルコキシシラン系、アルコキシシラン・ジルコネート系、水系シリケート系、水性アルミナ系、オルガノアルコキシシラン・樹脂ハイブリッド系、アルコキシシラン・ジルコネート・樹脂ハイブリッド系、水系シリケート・樹脂ハイブリッド系などの無機系ハードコート材料、光カチオン硬化型有機・無機ハイブリッド材料などの有機・無機ハイブリッド型ハードコート材料等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施の形態に係る光導波路の製造工程を示す説明図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る光導波路の製造方法の各工程の流れを示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  直接レーザー光の照射
２  洗浄／コア硬化工程
１０  支持フィルム
１１  上部クラッド材料
１２，１２Ａ  コア材料
１３  下部クラッド材料
２１  送出ロール
２２  巻取ロール
【図１】
2007164011.tif 000003
【図２】
2007164011.tif 000004