(57)【要約】【課題】  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体への記録容量を倍増することができ、かつ高品質である光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録媒体に対応した光記録装置及び光再生装置を提供すること。【解決手段】  少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを有し、他方の表面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを有することを特徴とする光記録媒体である。【選択図】      図４
2007079164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを有し、他方の表面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
サーボ基板の一方の表面及び他方の表面の少なくともいずれかの面に、サーボピットパターンが形成された請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
サーボ基板が、２以上の基板からなる請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる光記録媒体。
【請求項５】
少なくとも請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、サーボ基板の一方の表面と他方の表面とに、それぞれギャップ層Ｇ２を形成するギャップ層Ｇ２形成工程と、
前記ギャップ層Ｇ２上にフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程と、
前記フィルタ層上にギャップ層Ｇ１を形成するギャップ層Ｇ１形成工程と、
前記ギャップ層Ｇ１上に記録層を形成する記録層形成工程と、
前記記録層上にトップ基板を形成するトップ基板形成工程と
を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
サーボ基板が、２以上の基板からなる請求項５に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、トップ基板と、ギャップ層Ｇ１と、ギャップ層Ｇ２と、フィルタ層とを有する光記録媒体であって、２個の前記光記録媒体における前記サーボ基板の他方の表面どうしを接合することにより形成する請求項６に記載の光記録方法の製造方法。
【請求項８】
請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体の一方の面に対して、サーボ用光を照射し、該サーボ用光の焦点と集光レンズとの距離を表す焦点距離を検出する焦点距離検出手段と、
検出した前記サーボ用光の焦点距離に基づいて、情報光及び参照光の光軸方向の焦点距離を制御する焦点距離制御手段と、
前記情報光及び前記参照光を照射し干渉像を生成し、該干渉像を記録層に記録する干渉像記録手段と、
該干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対し、前記干渉像記録手段により記録可能になるように光記録媒体の表裏を反転する表裏反転手段と
を有することを特徴とする光記録装置。
【請求項９】
干渉像記録手段によって記録された光記録媒体に対して、再生光を照射し、記録された干渉像を再生する干渉像再生手段を有する請求項８に記載の光記録装置。
【請求項１０】
請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体の一方の面に対して、サーボ用光を照射し、該サーボ用光の焦点と集光レンズとの距離を表す焦点距離を検出する焦点距離検出手段と、
検出した前記サーボ用光の焦点距離に基づいて、記録に用いた参照光と同じ再生光の光軸方向の焦点距離を制御する焦点距離制御手段と、
前記再生光を照射し、記録された干渉像を再生する干渉像再生手段と、
該干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対し、前記干渉像再生手段により再生可能になるように光記録媒体の表裏を反転する表裏反転手段と
を有することを特徴とする光再生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録装置及び光再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。
しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録することができるホログラム型光記録方法が注目されている。
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出す（再生する）際は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能であり、大容量化の要請にマッチしている。このような多重記録にデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できるホログラム型の光記録媒体が得られる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００３】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、サーボ基板１の表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン３の表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜２の上に記録層４と、この記録層４の上にトップ基板５とを有する光記録媒体２０が提案されている（特許文献２参照）。
更に、図２に示すように、サーボ基板１と記録層４との間に、サーボ基板１の表面を平滑化し、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するギャップ層Ｇ１８、前記情報光及び参照光の波長のみを選択して反射するフィルタ層６及び１／４波長板９を形成し、前記情報光及び参照光による効率のよい記録を得る改善がなされている（特許文献３参照）。
また、このような光記録媒体の記録容量を増大させるため、種々の提案がなされている。例えば、光記録用組成物にカルコゲナイトガラス及び金属粒子を用いて、光照射により光学特性を変化させ光照射部と未照射部との透過率の差を利用して高多重記録を可能とすることにより記録容量の増大をはかる提案がなされている（特許文献４参照）。更に、情報光及び参照光の入射角度をそれぞれ変化させ、記録層の異なる領域に順次記録する角度変化による高多重記録を可能とすることにより記録容量の増大をはかる提案もなされている（特許文献５参照）。
しかしながら、このような光記録媒体の場合、いずれの提案においても、光記録媒体における基板の一面にのみ、記録層などを形成し、記録及び再生も前記基板の一面から光照射することにより行われる。そのため、前記一面にのみ形成された記録層では、ホログラムを記録する容量にも一定の限界があり、該記録層に対する高多重記録の改善がなされても、記録容量の限界があるという問題がある。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２６５４７２号公報
【特許文献４】特開２００４−３０３３１９号公報
【特許文献５】特開２００１−１４７６３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体への記録容量を倍増することができ、かつ高品質である光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録媒体に対応した光記録装置及び光再生装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを有し、他方の表面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを有することを特徴とする光記録媒体である。
＜２＞  サーボ基板の一方の表面及び他方の表面の少なくともいずれかの面に、サーボピットパターンが形成された前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  サーボ基板が、２以上の基板からなる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜４＞  前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体に対する、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる光記録媒体である。
＜５＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜６＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  色材が、赤色顔料である前記＜６＞に記載の光記録媒体である。
＜８＞  赤色顔料における５３２ｎｍの光に対する透過率が、３３％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が、６６％以上である前記＜７＞に記載の光記録媒体である。
＜９＞  フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１０＞  色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂がポリビニルアルコール樹脂である前記＜５＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１１＞  色材含有層表面が、ラビング処理されている前記＜５＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１２＞  フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記＜５＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１３＞  該誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層した前記＜９＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１４＞  誘電体蒸着層が、誘電体薄膜を２〜２０層積層した前記＜９＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１５＞  フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記＜５＞から＜１４いずれかに記載の光記録媒体である。
＜１６＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体である前記＜５＞から＜１５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜１６＞に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を２層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、更に再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が１０以上になると、１つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
＜１７＞  フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜５＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１８＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記＜６＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１９＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜６＞から＜１８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２０＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜６＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２１＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記＜６＞から＜２０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２２＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が１００ｎｍ以上である前記＜６＞から＜２１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２３＞  フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記＜１＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２４＞  第一の波長の光が、３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍである前記＜２３＞に記載の光記録媒体である。
＜２５＞  フィルタ層内の±４０°以内の光における６５５ｎｍでの光透過率が、５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上である前記＜１＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２６＞  フィルタ層が、入射角度±４０°における６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上である前記＜１＞から＜２５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２７＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である前記＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２８＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２９＞  フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１＞から＜２８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３０＞  フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜１＞から＜２９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３１＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜３０＞に記載の光記録媒体である。
＜３２＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜２＞に記載の光記録媒体である。
＜３３＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜３２＞に記載の光記録媒体である。
【０００７】
＜３４＞  前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体に対する情報光及参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われることを特徴とする光記録方法である。
＜３５＞  光記録媒体が反射型ホログラムである前記＜３４＞に記載の光記録方法である。
【０００８】
＜３６＞  少なくとも前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、サーボ基板の一方の表面と他方の表面とに、それぞれギャップ層Ｇ２を形成するギャップ層Ｇ２形成工程と、前記ギャップ層Ｇ２上にフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程と、前記フィルタ層上にギャップ層Ｇ１を形成するギャップ層Ｇ１形成工程と、前記ギャップ層Ｇ１上に記録層を形成する記録層形成工程と、前記記録層上にトップ基板を形成するトップ基板形成工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
＜３７＞  サーボ基板が、２以上の基板からなる前記＜３６＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜３８＞  少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、トップ基板と、ギャップ層Ｇ１と、ギャップ層Ｇ２と、フィルタ層とを有する光記録媒体であって、２個の前記光記録媒体における前記サーボ基板の他方の表面どうしを接合することにより形成する前記＜３６＞から＜３７＞のいずれかに記載の光記録方法の製造方法である。
＜３９＞  前記＜３６＞から＜３８＞に記載の光記録媒体の製造方法であって、前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体におけるフィルタ層からなる光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記サーボ基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
＜４０＞  サーボ基板上に、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記＜３６＞から＜３９＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
【０００９】
＜４１＞  前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体の一方の面に対して、サーボ用光を照射し、該サーボ用光の焦点と集光レンズとの距離を表す焦点距離を検出する焦点距離検出手段と、検出した前記サーボ用光の焦点距離に基づいて、情報光及び参照光の光軸方向の焦点距離を制御する焦点距離制御手段と、前記情報光及び前記参照光を照射し干渉像を生成し、該干渉像を記録層に記録する干渉像記録手段と、該干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対し、前記干渉像記録手段により記録可能になるように光記録媒体の表裏を反転する表裏反転手段とを有することを特徴とする光記録装置である。
＜４２＞  干渉像記録手段によって記録された光記録媒体に対して、再生光を照射し、記録された干渉像を再生する干渉像再生手段を有する前記＜４１＞に記載の光記録装置である。
【００１０】
＜４３＞  前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体の一方の面に対して、サーボ用光を照射し、該サーボ用光の焦点と集光レンズとの距離を表す焦点距離を検出する焦点距離検出手段と、検出した前記サーボ用光の焦点距離に基づいて、記録に用いた参照光と同じ再生光の光軸方向の焦点距離を制御する焦点距離制御手段と、前記再生光を照射し、記録された干渉像を再生する干渉像再生手段と、該干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対し、前記干渉像再生手段により再生可能になるように光記録媒体の表裏を反転する表裏反転手段とを有することを特徴とする光再生装置である。
【００１１】
＜４４＞  前記＜３４＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法である。
＜４５＞  再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜４４＞に記載の光記録再生方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体への記録容量を倍増することができ、かつ高品質である光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録媒体に対応した光記録装置及び光再生装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを有し、他方の表面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有することが特徴である。また、本発明の光記録媒体は、前記情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法（コリニア方式）に用いられる。
【００１４】
＜サーボ基板＞
前記サーボ基板は、前記光記録媒体の中心部に配置され、該サーボ基板の両面に、各々ギャップ層Ｇ２と、フィルタ層と、ギャップ層Ｇ１と、記録層と、トップ基板とが積層される。また、光記録媒体へ記録するための前記情報光及び参照光の照射位置に関する情報が該サーボ基板面上に形成されるとともに、前記光記録媒体の機械的強度メンバーとして作用する支持体としての機能を有する。
【００１５】
前記サーボ基板の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単一構造でもよく、二以上の基板などの部材からなる接合構造でもよい。これらの中でも、生産性やコストなどの観点から単一構造が好ましい。
前記サーボ基板の形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる形状のものを選定する必要があるが、前記トップ基板と外形状が同形状であることが好ましい。
前記サーボ基板の材料としては、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要であるが、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられ、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記サーボ基板としては、前記トップ基板と同様に、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００１６】
前記サーボ基板における光照射位置に関する情報としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トラッキング情報、フォーカス情報、アドレス情報、ディスク条件情報などが挙げられる。
前記トラッキング情報は、例えば、ウォブルピット、ウォブルグルーブ、トラッキングピットなどが挙げられる。
前記フォーカス情報は、例えば、該サーボ基板表面に形成した反射膜、フォーカス用ミラー部分、フォーカス用ピットなどが挙げられる。
アドレス情報は、例えば、前記ウォブルピット上に形成した凹凸、エンコードしたピット列、ウォブル変調信号などが挙げられる。
前記各情報を複合的に形成してもよい。例えば、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアを所定の角度間隔で設け、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間をデータエリアとしてもよい。該アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によってサーボピットパターンを記録することにより形成してもよい（プリフォーマット）。
なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００１７】
前記サーボ基板の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ディスク形状の場合は、その直径が、５０〜３００ｍｍが好ましく、８０〜１３０ｍｍがより好ましく、１２０〜１３０ｍｍが特に好ましい。
前記直径が、５０ｍｍ未満であると、記録エリアがクランプエリアに近づき過ぎて記録再生ヘッドが内周までアクセスできないことがあり、３００ｍｍを超えると回転トルクが大きすぎて高速アクセスが出来なくなることがある。
前記カード形状の場合は、１０〜１００ｍｍ×１０〜１００ｍｍが好ましい。
【００１８】
前記サーボ基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記サーボ基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスクやカード保存時の機械的強度が低下し、形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスクなど全体の重量が大きくなってドライブモーターなどに過剰な負荷をかけることがある。
【００１９】
前記サーボ基板における前記サーボピットパターンの表面に前記反射膜を形成してもよい。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００２０】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００２１】
＜第一及び第二のトップ基板＞
前記第一及び第二のトップ基板（以下、単に「トップ基板」と称することがある。）は、前記サーボ基板と対向配置され、光記録媒体の最外層に位置し、前記光記録媒体における記録層などの保護部材として、また、機械的強度メンバーとして作用する支持体としての機能を有する。
【００２２】
前記トップ基板の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単一構造でもよく、二以上の部材からなる接合構造でもよい。これらの中でも、生産性やコストなどの観点から単一構造が好ましい。
前記トップ基板の形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる形状のものを選定する必要があるが、前記サーボ基板と外形状が同形状であることが好ましい。
【００２３】
前記トップ基板の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ディスク形状の場合は、その直径が、５０〜３００ｍｍが好ましく、８０〜１３０ｍｍがより好ましく、１２０〜１３０ｍｍが特に好ましい。
前記直径が、５０ｍｍ未満であると、記録エリアがクランプエリアに近づき過ぎて記録再生ヘッドが内周までアクセスできないことがあり、３００ｍｍを超えると回転トルクが大きすぎて高速アクセスが出来なくなることがある。
前記カード形状の場合は、１０〜１００ｍｍ×１０〜１００ｍｍが好ましい。
前記トップ基板の材料としては、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要であるが、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料及び有機材料のいずれも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
前記樹脂としては、前記サーボ基板に用いた樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
前記トップ基板としては、前記サーボ基板と同様に、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００２４】
前記トップ基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記トップ基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、５〜１，２００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。前記トップ基板の厚みが、５μｍ未満であると、記録層を保護する役割が低下することがあり、１，２００μｍを超えると、ディスク表面から記録層、ピットが形成された層までの距離が遠くなり、記録再生の光の焦点距離が長すぎることがある。
【００２５】
＜第一の記録層及び第二の記録層＞
前記第一の記録層及び前記第二の記録層（以下、単に「記録層」と称することがある。）は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料などが用いられる。
【００２６】
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。これらの中でも、前記（１）のフォトポリマーが特に好ましい。
【００２７】
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００２８】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００２９】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００３０】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であっても構わない。また、光架橋反応を利用したものであっても構わない。
【００３１】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化１】
2007079164.tif 000003
【００３２】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用しても構わない。
【化２】
2007079164.tif 000004
【００３３】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。
【００３４】
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００３５】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３７】
前記（３）のフォトクロミック材料としては、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物が特に好ましい。
【００３８】
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２．０体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２．０体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【００３９】
−記録層の厚み−
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００４０】
＜第一のフィルタ層及び第二のフィルタ層＞
前記第一のフィルタ層及び前記第二のフィルタ層（以下、単に「フィルタ層」と称することがある。）は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層の機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上が好ましく、４０％以上がより好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック液晶層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
【００４１】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００４２】
前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００４３】
前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００４４】
前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００４５】
前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８が特に好ましい。
【００４６】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、更に必要に応じて重合性モノマーなどのその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【００４７】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から、特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
【００４８】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表されることから、（ｎｅ−ｎｏ）の大きな液晶を用いることが好ましい。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願２００４−３５２０８１号明細書に記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やＵＶ照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
【００４９】
また、複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５０】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いるなどにより配向させ、そのまま冷却などして固定化させることにより固相として使用することができる。
【００５１】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【００５２】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００５３】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６などが挙げられる。
【００５４】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００５５】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００５６】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【００５７】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【００５８】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００５９】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加することができる。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００６０】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【００６１】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００６２】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００６３】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００６５】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【００６６】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【００６７】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００６８】
＜コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば、打ち抜き加工）されて、光記録媒体のサーボ基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接サーボ基板上に設けることもできる。
【００６９】
＜基材＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記トップ基板に用いられた材料と同じ材料を用いることができる。
【００７０】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【００７１】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。
【００７２】
＜第一のギャップ層Ｇ１及び第二のギャップ層Ｇ１＞
前記第一のギャップ層Ｇ１及び前記第二のギャップ層Ｇ１（以下、単に「ギャップ層Ｇ１」と称することがある。）は、前記サーボ基板の表面を平滑化する目的で形成され、サーボ信号光の焦点とホログラム信号光の焦点をずらすことによって、ホログラム信号光のＳ／Ｎ比を上げるというメカニズムにより、前記記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。
前記ギャップ層Ｇ１の材料は、該ギャップ層Ｇ１上にフィルタ層などを積層しても、積層時の熱により該ギャップ層Ｇ１が軟化することはなく、該フィルタ層にしわやクラックが発生することのない耐熱性の面で安定した材料であることが好ましく、非熱軟化性材料であることが好ましい。
【００７３】
−非熱軟化性材料−
前記非熱軟化性材料としては、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における荷重たわみ温度が、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、７０℃以上であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料でもよく、無機材料でもよい。
前記非熱軟化性材料が、無機材料の場合は、前記積層時の熱による軟化は生じにくいが、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下に準ずる条件の下で測定した場合に、前記樹脂と同様に７０℃以上の、耐熱性は少なくとも有する。
前記準ずる条件としては、例えば、大きさ、１２７ｍｍ×１２．７ｍｍ、厚み０．１ｍｍの加重たわみ温度が十分に低いフィルム材料に無機材料を蒸着などにより成膜したものを用いて、試験片を作製し、樹脂と同一の４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件の下、昇温速度２℃／分により測定することができる。
【００７４】
前記有機材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロースなどのアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルポルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましい。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７５】
前記無機材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２、Ｔｉ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＢａＴｉＯ３などが挙げられる。これらの中でも、屈折率、透明性及び汎用性の観点からＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
−ギャップ層Ｇ１の形成方法−
前記ギャップ層Ｇ１の形成方法として、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ基板上に対して、スピン塗布による方法、非熱軟化性シートを貼付する方法、蒸着、スパッタリング、バーコータ、スリットコータ、プラズマＣＶＤなどが挙げられる。これらの中でも、前記ギャップ層Ｇ１を均一に形成でき、膜厚のコントロールが容易であるできる観点からスピン塗布による方法、非熱軟化性シートを貼付する方法、蒸着、スパッタリングがより好ましい。
【００７７】
−−スピン塗布−−
前記スピン塗布は、材料を溶媒に溶解させた塗布液を、高速で回転する基板上に滴下し、回転の遠心力を利用して基板表面に均一に塗布し、その後、熱処理を加えて溶媒の揮発除去と原料の化学反応を行って層として形成する方法である。
前記スピン塗布に用いる塗布装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコータ、スリットコータ、バーコータなどが挙げられる。
【００７８】
前記材料としては、前記非熱軟化性材料における有機材料のうち、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）などのような樹脂が、透明性の観点から好ましい。
【００７９】
前記スピン塗布用の塗布液としては、例えば、前記ポリカーボネート（ＰＣ）や、前記ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）にＵＶ硬化材料を添加したものなどが挙げられる。
前記ポリカーボネート（ＰＣ）の場合、溶媒として、メチルエチルケトンを用いて、溶解、分散し調製したものを用いることができる。
前記ポリカーボネート（ＰＣ）にＵＶ硬化材料を添加した塗布液としては、モノマー、オリゴマー、光開始剤及びその他の添加剤などからなる塗布液を調製したものを用いることができる。
前記モノマーとしては、東亞合成製アロニックスＭ−３０９，Ｍ−３１０などが挙げられる。
前記オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられる。
前記光開始剤としては、ＣＩＢＡ製ＩＲＧＡＣＵＲＥシリーズなどが挙げられる。
【００８０】
前記塗布液の塗布領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となる。
【００８１】
前記塗布後は、６０〜１００℃、１０〜６０分間乾燥させて硬化してもよく、波長１００〜４００ｎｍの紫外線を照射し、該紫外線エネルギーを用いて化学変化させ硬化させてもよい。
【００８２】
−−非熱軟化性シート−−
前記非熱軟化性シートは、非熱軟化性材料からなるフィルム状のシートであり、該シートを前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面に、接着剤などを用いて貼付して前記ギャップ層Ｇ１を形成することができる。
【００８３】
前記非熱軟化性シートの材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）などのような透明樹脂フィルム、又はＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルム、日本ゼオン社製商品名ゼオノアのようなリボルネン系樹脂フィルムなどが挙げられる。
これらの中でも、等方性の高いフィルムが好ましく、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、商品名ＡＲＴＯＮフィルム、商品名ゼオノアが特に好ましい。
【００８４】
前記非熱軟化性シートの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。
【００８５】
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ接着剤、アクリル接着剤、エポキシ接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。これらの中でも、透明性、硬化の簡便性の観点からＵＶ接着剤が好ましい。
前記接着条件としては、温度２０〜３０℃、湿度２０〜８０％などが好ましい。
【００８６】
前記非熱軟化性シートの貼付方法としては、前記サーボ基板表面を洗浄、乾燥し、該非熱軟化性シートをラミネーター（型名ＨＡＬＬ１１０ａａ、三共社製）、真空貼り付け装置（芝浦メカトロニクス社製）などを用いて圧着することにより貼付することができる。ラミネーターでの圧着条件は、圧着ロール温度２０〜３０℃、圧着ロール圧力０．１〜１．０ＭＰａ、そして圧着速度０．１〜５．０ｍ／分が好ましい。
【００８７】
−−蒸着−−
前記蒸着の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着、分子線蒸着（ＭＥＢ）、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、電子ビーム蒸着法などが挙げられる。前記真空蒸着は、真空容器の中に蒸発源と被蒸着基板を載置し、通常、１０−２〜１０−４Ｐａ程度の圧力下で成膜する。
前記分子線蒸着（ＭＥＢ）は、ほぼ方向のそろった分子線を用い、蒸発源は抵抗過熱のルツボの蒸気噴出口にオリィフィスを付けたクヌーセンセル（Ｋセル）が用いられ、通常、１０−７〜１０−９Ｐａの超高真空下で、単原子単位で成膜する。前記イオンプレーティングは、種々の方法があるが、例えば、マトックス法では、被蒸着基板に数ｋＶの負電圧を印加し、数Ｐａの圧力下で成膜する方法で、導入されたイオンを高速度で被蒸着基板に衝突させ、該エネルギーで付着させるため付着力の強い膜を得ることができる。前記イオンビーム蒸着は、イオン源で薄膜物質のイオンビームを作り、これを加速して薄膜化する方法で、前記イオンプレーティングの１種でもあり、クラスタイオンビーム蒸着が代表的な方法で結晶性の良好な膜が得られる。
前記蒸発源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記無機材料の中から、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が、屈折率、透明性及び汎用性の観点から好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
蒸着領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となる。
【００８８】
−−スパッタリング−−
前記スパッタリングは、１．３×１０−２〜１．３Ｐａの真空中にＡｒガスなどの不活性ガスを導入しながら、被成膜基板とターゲット（成膜させる物質）間に直流高電圧を印加し、グロー放電によりイオン化したＡｒなどを陰極である前記ターゲットに衝突させて、はじき飛ばされた（スパッタリング）前記ターゲット物質を、陽極である被成膜基板に成膜させる方法である。また、前記Ａｒガスと共に微量のＯ２、Ｎ２ガスなどの反応性ガスを入れることにより、反応性スパッタリング（ＩＴＯ、ＴｉＮなど）を行うことができる。
前記ターゲットとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記無機材料の中から、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が、屈折率、透明性及び汎用性の観点から好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記スパッタリング領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となることが好ましい。
【００８９】
−−ギャップ層Ｇ１の厚み−−
前記スピン塗布、乾燥後、前記非熱軟化性シート貼付後、前記蒸着後、前記スパッタリング後の前記ギャップ層Ｇ１の各々の場合の厚みは、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが、５μｍ未満であると、サーボ信号光とホログラム信号光が混合され、ホログラム信号光のＳ／Ｎ比が低下して、エラーレートがアップすることがあり、２００μｍを超えると製造時の第一ギャップ層の形成時間が多くかかったり、ディスク総厚みが厚くなりディスク重量が大きくなることがある。
【００９０】
＜第一のギャップ層Ｇ２及び第二のギャップ層Ｇ２＞
前記第一のギャップ層Ｇ２及び前記第二のギャップ層Ｇ２（以下、単に「ギャップ層Ｇ２」と称することがある。）は、前記記録層と前記フィルタ層との間に形成される。
前記ギャップ層Ｇ２は、光記録媒体の多重記録能力の低下を防止する機能がある。即ち、前記情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが前記記録層内に存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると、過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こってしまい、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明なギャップ層Ｇ２を設けることにより、無反応領域が形成され前記過剰消費を抑制することができ、高多重記録能を維持することができる。
【００９１】
前記ギャップ層Ｇ２の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
【００９２】
前記ギャップ層Ｇ２の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましく、３０〜１００μｍがより好ましい。
前記ギャップ層Ｇ２の厚みが、１μｍ未満であると、ホログラム記録時のホログラム記録層の中のモノマーの消費が大きすぎて感度低下や多重度低下を招くことがあり、２００μｍを超えると、ホログラム記録時のホログラム記録層の領域が焦点から遠のくため感度低下や多重度低下を招くことがある。
【００９３】
＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体の光学特性を改善する光学補償層、１／４波長板などが挙げられる。
【００９４】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、少なくともサーボ情報を検出可能に形成されたサーボ基板の、一方の表面に、ホログラフィを利用して情報を記録する第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを有し、他方の表面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体の製造方法であって、組成物調製工程、記録層積層工程、フィルタ層形成工程、ギャップ層Ｇ１形成工程、ギャップ層Ｇ２形成工程、積層体形成工程及び必要に応じて適宜選択したその他の工程により行われる。
前記各工程は、第一及び第二の各層を形成する工程を含み、第一の各層を形成する第一の各工程、即ち、サーボ基板の、一の面に、第一の記録層と、第一のトップ基板と、第一のギャップ層Ｇ１と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層とを形成し、更に、第二の各層を形成する第二の各工程、即ち、前記一の面に対向する他の面に、第二の記録層と、第二のトップ基板と、第二のギャップ層Ｇ１と、第二のギャップ層Ｇ２と、第二のフィルタ層とを形成してもよく、逆に、第二の各層を形成する第二の各工程を経て、更に第一の各層を形成する第一の各工程を行ってもよい。
前記第一の各工程を行い、第一のサーボ基板と、前記第一の記録層と、前記第一のトップ基板と、前記第一のギャップ層Ｇ１と、前記第一のギャップ層Ｇ２と、前記第一のフィルタ層とを有する光記録媒体を２個作製し、前記第一のサーボ基板どうしを接合することにより、両面に各層を有する光記録媒体を作製することができる。前記第二の各工程によっても前記第一の各工程で行ったと同様に両面に各層を有する光記録媒体を作製することができる。
前記サーボ基板の一の面及び他の面に形成される、前記第一の記録層と前記第二の記録層とが、前記第一のトップ基板と前記第二のトップ基板とが、前記第一のギャップ層Ｇ１と前記第二のギャップ層Ｇ１とが、前記第一のギャップ層Ｇ２と前記第二のギャップ層Ｇ２とが、前記第一のフィルタ層と前記第二のフィルタ層とが、形状、大きさ、厚みが同一となるように形成することが好ましい。前記一の面と前記他の面を反転させて記録及び再生のいずれかを行う際に、情報光、参照光及び再生光のフォーカスが、前記一の面と前記他の面とで異なっていると、それらの焦点距離を調整する必要が生じ、記録再生効率が低下するからである。
以下、本発明の光記録媒体の製造方法における各工程について順を追って説明する。
【００９５】
＜組成物調製工程＞
前記組成物調製工程は、光記録用組成物を調製する工程であり、モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分を含む光記録用組成物を、溶剤により、溶解、分散、混合などにより調製する。前記調製の条件としては、例えば、温度２３℃、湿度１０％、低温度乾燥の環境で行われる。
【００９６】
＜記録層積層工程＞
前記記録層積層工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トップ基板上にスペーサを配置し、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を該スペーサにより形成された溝部分に充填する第一の形態、前記フィルタ層又は該フィルタ層上にギャップ層Ｇ２が積層されたサーボ基板における最外層上にスペーサを配置し、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を該スペーサにより形成された溝部分に充填する第二の形態、などが挙げられる。
前記第一の形態及び前記第二の形態のいずれにおいても、前記記録層を充填し、乾燥硬化させる際に、該記録層の体積全体が収縮し、生じた収縮応力により、前記トップ基板又は前記サーボ基板面が変形することがある。このように変形した、前記トップ基板及び前記サーボ基板を最終的に重ね合わせ一体化するので、変形は倍増されることがある。
このような変形の生じた光記録媒体を記録及び再生に用いると、該光記録媒体の回転の際に厚み方向の振れである面振れが生じ、記録及び再生時に記録エラー、再生エラーの原因となる。本発明の記録層積層工程においては、このような面振れが生じないよう、前記記録層が積層される前記トップ基板及び前記サーボ基板の厚みを厚く形成することにより、該トップ基板及びサーボ基板の剛性を増大させ、前記記録層の収縮応力に耐えうる機械的強度を保つことができる。
【００９７】
−記録層積層工程の第一の形態−
前記第一の形態は、図１２〜図１５に示すように、トップ基板上にスペーサを配置し、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を該スペーサにより形成された溝部分に充填する形態である。
まず、図１２に示すように、中央部に開口部を有する円盤状のトップ基板５の一面に、外形状が前記トップ基板５と同一であり、断面形状が四角形である外周スペーサ３７を、配置しＵＶ接着剤で接着する。更に、中心部にトップ基板５の開口部と同一の大きさの開口部を有し、断面形状が前記外周スペーサ３７と同一の内周スペーサ３８を、前記開口部どうしの中心軸が一致するように、トップ基板５の前記一面上に配置し、ＵＶ接着剤で接着する。
次に、図１３に示すように、外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８で形成された窪み部分に、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物溶液を流し込む。
図１４に示すように、前記トップ基板５、外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８からなる積層体は、水平を保ったまま、８０℃で１時間オーブンに載置し、前記光記録用組成物を硬化させる。
その後は、図１５に示すように、フィルタ層６が積層されたサーボ基板１と前記積層体が、後述の積層体形成工程において貼り合わされる。
【００９８】
−記録層積層工程の第二の形態−
前記第二の形態は、図１６〜図１９に示すように、前記フィルタ層又は該フィルタ層上にギャップ層Ｇ２が積層されたサーボ基板における最外層上にスペーサを配置し、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を該スペーサにより形成された溝部分に充填する形態である。
まず、図１６及び図１７に示すように、中央部に開口部を有し、フィルタ層６及び該フィルタ層６上面にギャップ層Ｇ２７が塗布形成された円盤状のサーボ基板１のギャップ層Ｇ２７の面上に、外形状が前記サーボ基板１と同一であり、断面形状が四角形である外周スペーサ３７を、配置しＵＶ接着剤で接着する。更に、中心部にサーボ基板１の開口部と同一の大きさの開口部を有し、断面形状が前記外周スペーサ３７と同一の内周スペーサ３８を、前記開口部どうしの中心軸が一致するように、ギャップ層Ｇ２７の面上に配置し、ＵＶ接着剤で接着する。
次に、図１８に示すように、外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８で形成された窪み部分に、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物溶液を流し込む。
更に、前記サーボ基板１、外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８からなる積層体を水平を保ったまま、８０℃で１時間オーブンに載置し、前記光記録用組成物を硬化させる。
その後は、図１９に示すように、トップ基板５と前記積層体が、後述の積層体形成工程において貼り合わされる。
【００９９】
以上の方法により、前記積層体は前記記録層の収縮応力に耐え、変形すること無く硬化することにより厚みは一定し、高品質の光記録媒体が得られる。
【０１００】
＜スペーサ＞
前記スペーサは、前記記録層の厚みを一定にし、高精度の厚みを有する光記録媒体を得ることができとともに、該スペーサを用いることにより、光記録媒体の端面からの水分やその他有害ガスの侵入や記録層の乾燥を防止することができる機能がある。
前記スペーサは、前記光記録媒体の外形と略同一の外形を有し、前記記録層の外周部分の厚みを一定にする作用のある外周スペーサと、前記光記録媒体の中心部に設けられている開口と略同一の開口を有し、前記外周スペーサとともに、前記記録層の内周部分の厚みをいっていにする作用のある内周スペーサとがある。
本発明のスペーサは、前記外周スペーサ及び前記内周スペーサの少なくともいずれかを意味する。前記外周スペーサと、前記内周スペーサとにより、前記記録層の厚みを高精度に作製することができる。
【０１０１】
−外周スペーサ−
前記外周スペーサの形状は、外周が光記録媒体の外周形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記外周スペーサの断面形状は、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。図３に示すスペーサは、その断面が四角形の一例である。
前記外周スペーサの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の厚みと略同一の厚みであることが好ましい。具体的には、前記記録層の厚みと同じ１００〜１，０００μｍであることが好ましい。
前記外周スペーサの幅としては、少なくとも０．５ｍｍあれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．５〜５ｍｍが好ましく、０．５〜３ｍｍがより好ましく、０．５〜２ｍｍが特に好ましい。前記幅が、０．５ｍｍ未満であると、前記記録層の厚みを一定にするための保持機能が機械強度の面や支持面積の面で低下することがあり、５ｍｍを超えるとホログラム記録領域が狭められ、記録容量が損なわれることがある。
【０１０２】
前記外周スペーサの材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石英、シリコン、などが挙げられるが、成形性やコストの点から下記有機材料が好ましい。
前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【０１０３】
前記スペーサの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、射出成形、ブロー成形、圧縮成形、真空成形、押し出し成形、削り出し加工などが挙げられる。
【０１０４】
−内周スペーサ−
前記内周スペーサの形状は、内周が光記録媒体に設けられている開口部の形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記内周スペーサの断面形状は、前記外周スペーサと同じ形状が好ましく、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。
前記内周スペーサの厚みは、前記記録層の厚みの均一性の観点から前記外周スペーサと同一であることが求められる。
前記内周スペーサの幅は、前記記録層の厚みの均一性保持機能の観点、及び記録層の記録領域の確保の観点から前記外周スペーサと同一であってもよく、異なっていてもよい。  前記内周スペーサの材料及び製造方法は外周スペーサと異なっていてもよく、同一であってもよい。
【０１０５】
＜フィルタ層形成工程＞
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記サーボ基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。ここで、前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ、前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１０６】
＜ギャップ層Ｇ１形成工程＞
前記ギャップ層Ｇ１形成工程は、前記サーボ基板と前記フィルタ層との間に、ギャップ層Ｇ１を形成する工程である。該ギャップ層Ｇ１の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ基板上に対して、前記スピン塗布による方法、前記非熱軟化性シートを貼付する方法、前記蒸着及び前記スパッタリングなどが挙げられる。
【０１０７】
＜積層体形成工程＞
前記積層体形成工程は、前記記録層積層工程、前記フィルタ層形成工程及び前記ギャップ層Ｇ１形成工程により、前記記録層、前記フィルタ層及びギャップ層Ｇ１が形成されたサーボ基板と、前記トップ基板とを貼り合わせて積層体を形成し、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む工程である。
前記貼り合わせ方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記トップ基板と前記サーボ基板と必要に応じて適宜選択したその他の層とを、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法、真空中で貼り合わせる方法などが挙げられる。
前記接着剤で接着する方法は、前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、外周を合致させ、各層間に接着剤を塗布し、外側から０．００１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。
該接着の際に、気泡が生ずることが無く密着させるためには、真空中で貼り合わせることが好ましい。
【０１０８】
−接着剤−
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。
これらの中でも、透明性などの観点から、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤がより好ましい。
【０１０９】
前記接着剤を用いず圧着する方法は、各層の有する接着性を利用して密着させて積層体を形成することも可能である。前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、各外周を合致させ、外側から０．００１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。該密着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【０１１０】
＜その他の工程＞
前記その他の工程としてとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光学特性を改善する光学補償層形成工程、１／４波長板形成工程などが挙げられる。
【０１１１】
（光記録方法及び光再生方法）
前記光記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録媒体に情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるようにて照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。
前記光再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
【０１１２】
前記光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
【０１１３】
＜光記録再生装置＞
本発明の光記録再生装置は、前記光記録方法及び再生方法に使用され、光記録装置と再生装置を含んでなり、本発明の光記録媒体の一方の面に対して、サーボ用光を照射し、該サーボ用光の焦点と集光レンズとの距離を表す焦点距離を検出する焦点距離検出手段と、
検出した前記サーボ用光の焦点距離に基づいて、情報光及び参照光の光軸方向の焦点距離を制御する焦点距離制御手段と、前記情報光及び前記参照光を照射し干渉像を生成し、該干渉像を記録層に記録する干渉像記録手段と、該干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対し、前記干渉像記録手段により記録可能になるように光記録媒体の表裏を反転する表裏反転手段と、必要に応じて適宜選択したその他の手段とを有することが特徴である。
【０１１４】
更に、前記各手段に加えて、前記干渉像記録手段によって記録された光記録媒体に対して、記録に用いた参照光と同じ再生光を照射し、記録された干渉像を再生する干渉像再生手段を有することも特徴である。
【０１１５】
前記干渉像記録手段は前記光記録方法を行う手段であり、前記干渉像再生手段は前記光再生方法を行う手段である。
前記表裏反転手段は、光記録媒体の一方の面に記録又は再生が行われた後、他方の面について、記録又は再生を行うため光記録媒体を裏返す手段である。
前記表裏反転手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知のディスク反転手段、特開平１１−２５９９４６号公報に記載のディスク反転装置、ディスク外周端を回転中心として反転してから元の位置にスライドさせるディスク反転装置、ディスクを水平にスライドさせた後、ディスク外周端を回転中心として反転させるディスク反転装置、ディスク外周端を回転中心として反転させた位置にもうひとつの回転機構を設けたディスク反転装置などが挙げられる。
前記表裏反転手段の機構としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ディスク内周クランプ部分をチャックしてディスクを反転させる機構、ディスクの外周端を保持してディスクを反転させる機構、ディスクの内周穴の端面を保持してディスクを反転させる機構などが挙げられる。
これらの中でも、ディスクを容易に保持できて保持力が強い点で、ディスク内周クランプ部分をチャックしてディスクを反転させる機構が特に好ましい。
前記表裏反転手段の具体的な機構としては、例えば、図１０に示すように、光記録媒体２１の中央開口部２１ａが、矢印方向に移動して、光記録媒体ホルダ２５に挿入され、クランプ２５ａにより保持されると、シャーシ２７に支持され回転軸２８と連結されている回転アーム２６が、駆動装置（不図示）により矢印方向に１８０°回転し、保持されている光記録媒体２１は表裏が反転する。反転した光記録媒体２１は、光記録再生装置に再度セットされる。前記光記録媒体２１を１８０°回転させると、図１１に示すように、前記光記録媒体２１表裏が反転し、前記干渉像記録手段により干渉像が記録された記録層とは反対側にある記録層に対して前記干渉像記録手段により記録可能となる。
前記表裏反転手段は、光記録装置の外付けであってもよく、内臓であってもよい。前記表裏反転手段により反転した前記光記録媒体は、前記光記録装置のディスク保持部分に装着される。
【０１１６】
前記焦点距離検出手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、容量検出方式や、光学的検出方式では斜入射方式、ピンホール方式ウオブリング方式、非点収差方式、ナイフエッジ方式、ウエッジプリズム方式、臨界角方式などが挙げられる。
前記焦点距離検出手段の具体的な方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メインビーム斜入射方式、別ビーム斜入射方式、半光束法、２ピンホール方式、鮮鋭度検知方式、１ピンホール方式、光源ウオブル法、対物レンズウオブル法などが挙げられる。
これらの中でも、ナイフエッジ方式、非点収差方式が、光学系が簡単で感度が高く、誤差の検出範囲が広いことなどの観点から特に好ましい。
【０１１７】
前記焦点距離制御手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空気力学的手段、電磁気学的手段などが挙げられる。
前記焦点距離制御手段の具体的な方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空気流による集光レンズーディスク間の距離の制御する、また、前記の焦点距離検出手段により焦点ずれ検出を行い、コイルやピエゾ素子などの電磁気学的に集光レンズを制御するなどが挙げられる。
これらの中でも、コイルにより電磁気学的に集光レンズを制御する方法が、機構が簡単で、動作範囲が広く、制御精度が高いなどの観点から特に好ましい。
【０１１８】
前記その他の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体の回転方向を認識する回転方向認識手段などが挙げられる。
前記回転方向認識手段は、光記録媒体の回転方向の正逆を認識する回路を備えたもので、前記サーボ基板の片面にのみサーボピットパターンが形成されている場合に必要となる。即ち、該サーボピットパターンは、表側及び裏側のいずれから前記情報光及び参照光が照射された場合にも共通して用いられるように形成されているため、例えば、表側で用いられるときは、光記録媒体の回転方向が正回転とすると、裏側にして用いられるときは、逆回転となってしまうため、表裏反転した際には、光記録装置及び光再生装置において、前記サーボピットパターンを検出する際に、逆回転として認識する回転方向認識手段が必要となる。
【０１１９】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図９を参照して説明する。図９は、前記光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１２０】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２０の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１２１】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１におけるデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
更に、表裏反転機構部（不図示）が備えられ、光記録媒体の一の面に記録がなされた後、他の面に更に記録を行う場合に、該表裏反転機構部により、光記録媒体の表裏が反転するようになっている。光記録媒体を再生する際にも、記録と同様に、一の面の再生が終了後、他の面を再生する場合に、前記表裏反転機構部により、該光記録媒体の表裏が反転するように構成されている。前記表裏反転機構部により、光記録媒体の表裏が反転すると、前記焦点距離検出手段により、該光記録媒体の記録すべき適正な位置の検出がなされ、前記焦点距離制御手段により、記録すべき適正な位置になるように前記情報光及び参照光の焦点距離を移動する。
【０１２２】
ここで、本発明の光記録媒体の具体例１〜３について、図面を参照して更に詳しく説明する。
【０１２３】
＜光記録媒体の具体例１＞
図４は、本発明の具体例１における光記録媒体２１の構成を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂又はガラスのサーボ基板１の両面にサーボピットパターン３及び３ａが形成され、該サーボピットパターン３及び３ａ上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２及び２ａが設けられている。なお、図４ではサーボ基板１の全面にサーボピットパターン３及び３ａが形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３及び３ａの高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。
【０１２４】
第一のギャップ層Ｇ１８及び第二のギャップ層Ｇ１８ａは、紫外線硬化樹脂等の材料をサーボ基板１の反射膜２及び２ａ上にスピンコート等により塗布して形成される。第一のギャップ層Ｇ１８及び第二のギャップ層Ｇ１８ａは、反射膜２及び２ａを保護するとともに、第一の記録層４及び第二の記録層４ａ内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、第一の記録層４及び第二の記録層４ａにおいて、記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要性に対応して、第一の記録層４及び第二の記録層４ａとサーボピットパターン３及び３ａとの間にギャップを設けることが有効となる。
第一のギャップ層Ｇ１８上には第一のフィルタ層６が設けられ、更に第二のギャップ層Ｇ１８ａ上には第二のフィルタ層６ａが設けられ、また、第一のフィルタ層６と第一の記録層４との間に第一のギャップ層Ｇ２７が設けられ、更に第二のフィルタ層６と第二の記録層４との間に第一のギャップ層Ｇ２７が設けられ、図３及び図４に示すように、該第一のフィルタ層６と第一のトップ基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって第一のギャップ層Ｇ２７及び第一の記録層４を挟み、更に該第二のフィルタ層６ａと第二のトップ基板５ａによって第二のギャップ層Ｇ２７ａ及び第二の記録層４ａを挟むことによってサーボ基板１の両面に各層が積層された光記録媒体２１が構成される。
なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第一のギャップ層Ｇ２７及び第二のギャップ層Ｇ２７ａを設けることが有効となる。
【０１２５】
図４において、第一のフィルタ層６及び第二のフィルタ層６ａは、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、第一のフィルタ層６及び第二のフィルタ層６ａを透過せず、反射膜２及び２ａまで達することなく、戻り光となり、入出射面となる第一のトップ基板及び第二のトップ基板のいずれかから出射することになる。
この第一のフィルタ層６及び第二のフィルタ層６ａは、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層からなる。このコレステリック液晶層からなる第一のフィルタ層６及び第二のフィルタ層６ａは、第一のギャップ層Ｇ１８及び第二のギャップ層Ｇ１８ａ上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層によって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１２６】
具体例１における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、サーボ基板１は０．６ｍｍ、第一のギャップ層Ｇ１８は１００μｍ、第二のギャップ層Ｇ１８ａは１００μｍ、第一のフィルタ層６は２〜３μｍ、第二のフィルタ層６ａは２〜３μｍ、第一のギャップ層Ｇ２７は７０μｍ、第二のギャップ層Ｇ２７ａは７０μｍ、第一の記録層４は０．６ｍｍ、第二の記録層４ａは０．６ｍｍ、第一のトップ基板５は０．６ｍｍ、第二のトップ基板５ａは０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約３．４ｍｍとなっている。
【０１２７】
次に、図８を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。前記光記録媒体２１は、両面に同様の層が形成されており、各面において同様の光学的動作が行われる。一の面において、まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一のトップ基板５、第一の記録層４、第一のギャップ層Ｇ２７、第一のフィルタ層６、及び第一のギャップ層Ｇ１８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一のギャップ層Ｇ１８、第一のフィルタ層６、第一のギャップ層Ｇ２７、第一の記録層４、及び第一のトップ基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。第一の記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が第一の記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、第一の記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２からの戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図７に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲はフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合はλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１２８】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が第一の記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、第一の記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は第一の記録層４を通過し、第一のフィルタ層６に入射するが、該第一のフィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。第一のフィルタ層６は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、第一のフィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度第一のフィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
前記一の面の動作が全て終了すると、前記光記録媒体２１を表裏反転させ、更に前記一の面において行われたサーボ用光によるサーボ情報の検出が他の面においてなされ、該サーボ情報の検出結果に基づいて、情報光及び記録用参照光により第二の記録層４ａに記録がなされる。
【０１２９】
＜光記録媒体の具体例２＞
図５は、前記具体例２における光記録媒体２２の構成を示す概略断面図である。この具体例２に係る光記録媒体２２では、前記サーボ基板１の片面にのみサーボピットパターン３及び反射膜２が形成されている以外は具体例１の光記録媒体２１と同様に構成される。
該光記録媒体２２周辺での光学的動作についても、前記光記録媒体２１周辺での光学的動作と同様に行われる。ただし、前記一の面の動作が全て終了し、前記光記録媒体２２を具体例１と同様に表裏反転させ、更に前記一の面において行われたサーボ用光によるサーボ情報の検出が他の面においてなされる際に、前記サーボピットパターン３を一の面に用いたものを用いるために、該光記録媒体２２の回転方向が逆回転となるように検出されてしまうため、その回転方向が反対方向になるように修正される点で具体例１と異なっている。
具体例２における光記録媒体２２は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２２では、サーボ基板１は０．６ｍｍ、第一のギャップ層Ｇ１８は１００μｍ、第二のギャップ層Ｇ１８ａは１００μｍ、第一のフィルタ層６は２〜３μｍ、第二のフィルタ層６ａは２〜３μｍ、第一のギャップ層Ｇ２７は７０μｍ、第二のギャップ層Ｇ２７ａは７０μｍ、第一の記録層４は０．６ｍｍ、第二の記録層４ａは０．６ｍｍ、第一のトップ基板５は０．６ｍｍ、第二のトップ基板５ａは０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約３．４ｍｍとなっている。
【０１３０】
＜光記録媒体の具体例３＞
図６は、前記具体例３における光記録媒体２３の構成を示す概略断面図である。この具体例３に係る光記録媒体２３では、前記サーボ基板１の片面にのみ各層が形成された光記録媒体２個の該サーボ基板１どうしを接合することにより、光記録媒体２３が作製されている以外は具体例１の光記録媒体２１と同様に構成される。
該光記録媒体２３周辺での光学的動作及び表裏反転後の光学的動作についても、前記光記録媒体２１周辺での光学的動作と同様に行われる。
具体例３における光記録媒体２３は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２３では、サーボ基板１は１．２ｍｍ、第一のギャップ層Ｇ１８は１００μｍ、第二のギャップ層Ｇ１８ａは１００μｍ、第一のフィルタ層６は２〜３μｍ、第二のフィルタ層６ａは２〜３μｍ、第一のギャップ層Ｇ２７は７０μｍ、第二のギャップ層Ｇ２７ａは７０μｍ、第一の記録層４は０．６ｍｍ、第二の記録層４ａは０．６ｍｍ、第一のトップ基板５は０．６ｍｍ、第二のトップ基板５ａは０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約４．０ｍｍとなっている。
【実施例】
【０１３１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１３２】
（実施例１）
＜光記録媒体の作製＞
実施例１の光記録媒体は、第一のトップ基板と、第一の記録層と、第一のギャップ層Ｇ２と、第一のフィルタ層と、第一のギャップ層Ｇ１と、サーボ基板とをこの順に積層した光記録媒体を２個作製し、この２個の光記録媒体のサーボ基板面どうしを接合することにより、以下のように作製した。前記第一のフィルタ層は、フィルム状のフィルタを作製して、積層することにより以下のように形成した。前記第一の記録層は外周スペーサ及び内周スペーサによりその厚みを保持する構造とした。
【０１３３】
−光記録層用組成物溶液の組成−
下記の組成からなる光記録層用組成物溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー
（Ｅｃｈｏ  Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・・・・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・・・１質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１３４】
−フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）厚み１００μｍ上に、ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、商品名ＭＰ２０３）を厚み１μｍとなるように塗布したベースフィルムを用意する。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
【０１３５】
次に、下記表１に示す組成のコレステリック液晶層用塗布液Ａ、Ｂ及びＣを常法により調製することができる。
【０１３６】
【表１】
2007079164.tif 000005
＊ＵＶ重合性液晶：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２
＊カイラル剤：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６
＊光重合開始剤：チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア３６９
＊増感剤：ジエチルチオキサントン
＊溶剤：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
【０１３７】
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ａをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ａを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ａ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｂを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ｂ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｃを形成した。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである３層構造の実施例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０１３８】
次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜いた。
【０１３９】
−第一のトップ基板−
前記第一のトップ基板は、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面は滑らかであり、サーボピットパターンなどの凹凸のないものを用いた。
【０１４０】
−サーボ基板−
前記サーボ基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成され、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。更に、サーボ基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。
【０１４１】
−第一のギャップ層Ｇ１−
−−第一のギャップ層Ｇ１用塗布液の調製−−
ＳＤ−６４０（大日本インキ製）を使用し溶解、分散して、前記第一のギャップ層Ｇ１用の塗布液を調製した。
【０１４２】
得られた第一のギャップ層Ｇ１用塗布液を、Ａｌ反射膜を成膜した前記サーボ基板における反射膜表面に、スピンコーター（型名１Ｈ−Ｂ７、ミカサ社製）により、１，５００ｒｐｍ、１５秒間条件の下、スピン塗布し、温度２３℃、１，５００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ照射により硬化した。硬化厚みは２５μｍであった。これを３回繰り返して総膜厚は７５μｍであった。
【０１４３】
−第一のギャップ層Ｇ２−
前記第一のギャップ層Ｇ２として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用いた。
【０１４４】
−外周スペーサ−
前記外周スペーサは、第一のトップ基板及びサーボ基板の外形と同一の直径１２０ｍｍの円形で、面方向の幅は、０．５ｍｍ±１００μｍ、厚みは第一の記録層４の厚みと同じ５００μｍ、したがって、断面形状は０．５ｍｍ×５００μｍの四角形となる。
前記外周スペーサの材料は、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型（住友重工株式会社製）により作製した。
【０１４５】
−内周スペーサ−
前記内周スペーサは、図３に示すように、第一のトップ基板５及び第一のサーボ基板１の開口部５ａ及び１ａの開口径と同じ外形である１５ｍｍの円形で、面方向の幅は、０．５ｍｍ±１００μｍ、厚みは第一の記録層４の厚みと同じ５００μｍ、したがって、断面形状は外周スペーサと同一の０．５ｍｍ×５００μｍの四角形となる。
前記内周スペーサの材料は、外周スペーサと同一の、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型（住友重工株式会社製）により作製した。
【０１４６】
−積層体の形成−
図１４に示すように、第一のギャップ層Ｇ１８がスピン塗布された第一のサーボ基板１上に、前記フィルタを、隙間に気泡が入らないように、接着剤（型名ＳＤ−６４０、大日本インキ社製）を塗布した後、積層して第一のフィルタ層６を形成し、該第一のフィルタ層６上に、ラミネーター装置（型名ＨＡＬ１１０ａａ、三共社製）により、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０  ｍ／分の条件の下、第一のギャップ層Ｇ２７を貼付した。
更に、図１５に示すように、該第一のギャップ層Ｇ２７の表面に、得られた外周スペーサ３７を、第一のサーボ基板１の外形と外周スペーサ３７の外形が合致するように接着し、更に、内周スペーサ３８を、該内周スペーサの中心と、第一のサーボ基板１の中心が合致するように接着した。前記接着剤は、ＵＶ接着剤（ＳＤ−６４０、大日本インキ社製）を用いた。
外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８により形成された、深さ５００μｍの溝部に、得られた光記録層用組成物塗布液を流し込んだ。
前記流し込みの条件は、温度２３℃、液粘度３００ｍＰａｓ、湿度５０％とした。
前記流し込み後に、温度８０℃、４０分間の条件の下、光記録層用組成物を硬化させ第一の記録層４を形成した。該第一の記録層４の厚みは５００μｍであった。
本発明の外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８により形成された溝部分に、記録層を形成するので、該第一の記録層４の厚みは高精度で一定の厚みに保持される。
該第一の記録層４上に、接着剤（型名ＧＭ−９００２、ブレニー技研社製）を積層し、その上に第一のトップ基板５を配置し、該第一のトップ基板５の外側及び前記サーボ基板１の外側を、０．０８ＭＰａの圧力で、８０℃で、４０分間、加圧し、積層体を形成し、乾燥硬化させることにより、光記録媒体を２個作製した。
得られた光記録媒体の前記サーボ基板１どうしを、その外形及び内径が一致するように重ね合わせ接着剤を用いて接着した。前記接着材料は、接着剤（型名ＧＭ−９００２、ブレニー技研社製）を使用し、各光記録媒体の最外層を０．０８ＭＰａの圧力で、８０℃で、４０分間、加圧し、図６に示す光記録媒体２３と同様の、実施例１の光記録媒体を作製した。前記光記録媒体の厚みは４．０ｍｍであった。
【０１４７】
−光記録媒体の記録及び評価−
得られた光記録媒体を、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機ＳＨＯＴ−１０００を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径２００μｍで一連の多重ホログラムを書き込み、感度（記録エネルギー）、多重数について測定、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１４８】
−感度の測定−
記録時の照射光パワー（ｍＪ／ｃｍ２）を変化させ、再生信号のエラー確率（ＢＥＲ：Ｂｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  Ｒａｔｅ）の変化を測定した。通常、記録光パワーの増加に伴い再生信号の輝度が増加することにともない、再生信号のＢＥＲが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像（ＢＥＲ＜１０−３）が得られる最低の記録光パワーを記録材料の記録感度とした。その結果、記録感度記録光パワー１５０ｍＪ／ｃｍ２にてＢＥＲ＜１０−３が得られた。（記録感度  ７５ｍＪ／ｃｍ２）結果を表２に示す。
【０１４９】
−多重数の評価−
光記録媒体の多重評価手法として、ＩＳＯＭ’０４、Ｔｈ−Ｊ−０６、ｐｐ．１８４−１８５、Ｏｃｔ．２００４に記載されている記録スポットをスパイラル状にシフトさせて評価する手法により行った。ここで、記録ホログラム数１１×１１＝１２１ホログラム、記録ピッチは２８．５μｍとした。最終１２１個目のホログラム記録時の多重度は４９多重となる。記録ホログラム数の増加に従い多重度が増加するため、記録材料の多重特性が不十分であると記録数の増加に従いＢＥＲが増加する。ここではＢＥＲ＞１０−３となる記録ホログラム数を材料の多重特性Ｍとした。この手法により多重特性Ｍとして１２１多重相当の特性が得られることを確認した。
【０１５０】
−記録容量の増加率の測定−
前記記録容量の増加率は、従来の片面に各層が形成された光記録媒体の記録容量を基準として、本発明の光記録媒体の記録容量が増加した量を百分率で表した。結果を表２に示す。
【０１５１】
（実施例２）
実施例１において、光記録媒体を２個作製し、サーボ基板面どうしを接着して作製した図６に示す構成の光記録媒体に代え、両面にサーボピットパターン３及び３ａを設けたサーボ基板１の一の面に、第一のギャップ層Ｇ１８、第一のフィルタ層６、第一のギャップ層Ｇ２、第一の記録層４、第一のトップ基板をこの順に形成し、他の面に、第二のギャップ層Ｇ１８、第二のフィルタ層６、第二のギャップ層Ｇ２、第二の記録層４、第二のトップ基板をこの順に形成した以外は、実施例１と同様に、図４に示す光記録媒体２１と同様の、実施例２の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の増加率について評価した。前記光記録媒体の厚みは３．４ｍｍであった。結果を表２に示す。
【０１５２】
（実施例３）
実施例１において、光記録媒体を２個作製し、サーボ基板面どうしを接着して作製した図６に示す構成の光記録媒体に代え、片面にサーボピットパターン３を設けたサーボ基板１の一の面に、第一のギャップ層Ｇ１８、第一のフィルタ層６、第一のギャップ層Ｇ２、第一の記録層４、第一のトップ基板をこの順に形成し、他の面に、第二のギャップ層Ｇ１８、第二のフィルタ層６、第二のギャップ層Ｇ２、第二の記録層４、第二のトップ基板をこの順に形成した以外は、実施例１と同様に、図５に示す光記録媒体２２と同様の、実施例２の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の増加率について評価した。結果を表２に示す。前記光記録媒体の厚みは３．４ｍｍであった。
【０１５３】
（比較例１）
実施例１において、光記録媒体を２個作製し、サーボ基板面どうしを接着して作製した図６に示す構成の光記録媒体に代え、２個のうちの１個を比較例１の光記録媒体として用いた以外は、実施例１と同様に、比較例１の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及び記録容量の増加率について評価した。結果を表２に示す。
【０１５４】
【表２】
2007079164.tif 000006
【０１５５】
表２の結果から、本発明により、実施例１〜３は、比較例１に対して、記録感度、多重特性は変わらないが、光記録媒体の厚みは１．７〜２．０倍になっており、記録容量の増加率は１００％である。実施例１〜３では、光記録媒体の記憶容量アップに顕著な改善が図られていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１５６】
本発明の光記録媒体は、記録容量を倍増することができ、かつ高品質であり、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、記録容量を倍増することができ、かつ高品質である光記録媒体を効率よく製造することができ、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１５７】
【図１】図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す部分断面図である。
【図４】図４は、本発明による具体例１における光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、本発明による具体例２に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、本発明による具体例３に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図７】図７は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図８】図８は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図９】図９は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【図１０】図１０は、本発明の光記録媒体の表裏反転機構の一例を示す部分斜視図である。
【図１１】図１１は、本発明の光記録媒体の表裏反転機構の一例を示す部分斜視図である。
【図１２】図１２は、本発明の記録層積層工程における第一の形態を表す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の記録層積層工程における第一の形態を表す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の記録層積層工程における第一の形態を表す断面図である。
【図１５】図１５は、本発明の記録層積層工程における第一の形態を表す断面図である。
【図１６】図１６は、本発明の記録層積層工程における第二の形態を表す断面図である。
【図１７】図１７は、本発明の記録層積層工程における第二の形態を表す断面図である。
【図１８】図１８は、本発明の記録層積層工程における第二の形態を表す断面図である。
【図１９】図１９は、本発明の記録層積層工程における第二の形態を表す断面図である。
【符号の説明】
【０１５８】
１、１ａ      サーボ基板
１ｂ    開口部
２      反射膜
３      サーボビットパターン
４      記録層
５、５ａ      トップ基板
５ｂ    開口部
６      フィルタ層
７      ギャップ層Ｇ２
８      ギャップ層Ｇ１
９      １／４波長板
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２０ａ、２１、２２、２３      光記録媒体
２５      光記録媒体ホルダ
２５ａ    クランプ
２６      回転アーム
２７      シャーシ
２８      回転軸
３１      ピックアップ
３７      外周スペーサ
３８      内周スペーサ
３９      接着層
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
2007079164.tif 000007
【図２】
2007079164.tif 000008
【図３】
2007079164.tif 000009
【図４】
2007079164.tif 000010
【図５】
2007079164.tif 000011
【図６】
2007079164.tif 000012
【図７】
2007079164.tif 000013
【図８】
2007079164.tif 000014
【図９】
2007079164.tif 000015
【図１０】
2007079164.tif 000016
【図１１】
2007079164.tif 000017
【図１２】
2007079164.tif 000018
【図１３】
2007079164.tif 000019
【図１４】
2007079164.tif 000020
【図１５】
2007079164.tif 000021
【図１６】
2007079164.tif 000022
【図１７】
2007079164.tif 000023
【図１８】
2007079164.tif 000024
【図１９】
2007079164.tif 000025