(57)【要約】【課題】表示不良の有無だけでなく、その表示不良の原因を特定することができる表示パネルの検査方法を提供する。【解決手段】液晶表示パネル１にマトリクス状に配置された絵素電極１２に接続されたスイッチング素子２２に入力する検査用ソース信号として矩形波状に変動する信号Ｓｐまたは定電圧信号Ｓｃを入力するとともに、検査用ゲート信号としてパルス信号Ｇｐまたは定電圧信号Ｇｃを入力して液晶表示パネル１に画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて表示不良の原因を判別する。【選択図】図４
2007316112.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【請求項２】
対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として周期的に変動する電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【請求項３】
対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオンオフ制御するパルス信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【請求項４】
請求項１の表示パネルの検査方法において欠陥が検出されなかった表示パネルを請求項２の表示パネルの検査方法により検査する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【請求項５】
請求項１の表示パネルの検査方法において欠陥が検出されなかった表示パネルを請求項３の表示パネルの検査方法により検査する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【請求項６】
前記スイッチング素子に、前記検査用ゲート信号として該スイッチング素子をオンオフ制御するパルス信号を入力するとともに、前記検査用ソース信号として周期的に変動する電圧信号を入力して、表示パネルに画像を表示させ表示不良の有無に基づいて表示パネルの欠陥を検出する欠陥検出工程において欠陥が検出された表示パネルを請求項１から３のいずれかに記載の表示パネルの検査方法により検査する工程を含むことを特徴とする表示パネルの検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示パネルの検査方法に関し、さらに詳しくは、表示パネルの基板に形成された電極等の位置ズレによる表示不良の原因を特定することができる表示パネルの検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの電気製品の表示部として、たとえば液晶表示パネルなどの平面型の表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、一般に、微小な間隔をおいて対向して配設される二枚の基板を備え、これらの基板の間に液晶が充填される構成を有する。
【０００３】
これらの基板のうちの一方の基板（アクティブマトリクス基板、以下ＡＭ基板と称す。）には、透明基板上に多数の透明な絵素電極がマトリクス状に配置され、各絵素電極にはスイッチング素子が接続されている。このスイッチング素子としては、例えば薄膜トランジスタなどが適用される。この薄膜トランジスタには、ゲート電極が半導体層を介してソース電極およびドレイン電極と部分的に重なり合うように積層されて形成されるものが多く用いられている。このドレイン電極は絵素電極に接続されており、ソース電極はソース配線と、ゲート電極はゲート配線と一体的に形成されている。そしてゲート配線とソース配線は、ゲート絶縁膜を介して互いに交差するように設けられている。
【０００４】
また、他方の基板（カラーフィルタ基板、以下ＣＦ基板と称す。）には、ＡＭ基板の絵素電極に対応する赤色、緑色、青色の各色のカラーフィルタや、これらの各カラーフィルタの間の光の漏れを遮光するブラックマトリックスなどが形成されるとともに、それらの表面には透明な導電性材料からなる対向電極（共通電極）などが形成される。これらの基板を所定の間隙を介して対向させて貼り合わせ、この間隙に液晶を封入することで液晶表示パネルが構成される。
【０００５】
これにより、このＡＭ基板の絵素電極とＣＦ基板の対向電極との間の液晶層によって液晶容量が形成される。また、絵素電極には補助容量（蓄積容量）が電気的に接続されるため、前記薄膜トランジスタには負荷としてドレイン電極に液晶容量と補助容量が接続されていることになる。
【０００６】
さらに、これらの基板の上に形成された各電極は、ゲート絶縁膜や半導体層を介して、重なり合ってまたは隣り合って配置された他の電極との間で寄生容量を発生させる。例えば、ゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量Ｃｇｄ、および、ソース電極とドレイン電極との間の寄生容量Ｃｓｄなどである。これらの寄生容量は、半導体層やゲート絶縁膜を介して重なり合う各種電極の重なり具合などの相対的な位置関係により変動する。
【０００７】
この液晶表示パネルを構成する基板に、電極や配線などのパターンを形成するために、フォトリソグラフィー法が適用される場合がある。フォトリソグラフィー法では、まず透明基板上に各種配線または電極等を形成する薄膜を生成し、フォトレジスト材料を塗布し、遮光マスクを介してフォトレジストを選択的に露光、現像して、電極等を形成する薄膜の層の上にフォトレジストのパターンを形成する。そして、このフォトレジストを介して該薄膜を選択的にエッチングする。この一連の処理を、電極や半導体層などの各パターン毎に繰り返すことでＡＭ基板やＣＦ基板が完成する。
【０００８】
前記塗布したフォトレジスト材料をフォトマスクを通じて露光する工程において、分割露光が用いられることがある。分割露光とは、基板上の露光対象領域を複数の分割露光領域に分けて、順次露光することで、小面積のフォトマスクを用いて大面積の露光対象領域を露光できるというものである。
【０００９】
ただし、このような分割露光において、一枚のフォトマスク内に表示パネルが収まらないような場合には、前記分割露光領域の境界を、表示パネルの表示領域内に設定せざるを得ないことがある。そして、何らかの理由により、分割露光領域ごとの露光位置にずれが生じると、本来であれば表示パネルの表示領域の全域にわたって連続して形成されるべきパターンが、分割露光領域の境界において不連続となることがある。
【００１０】
このように、液晶表示パネルの表示領域内において、透明基板上に形成される電極等の配置にばらつきが生じると、表示領域内に特性の異なる絵素が形成される。たとえば、ドレイン電極とゲート電極との重なり具合がずれると、ドレイン電極とゲート電極との間に生じる寄生容量Ｃｇｄの大きさが変化する。また、ソース電極、ゲート電極、ドレイン電極および半導体層などの相対的な位置関係がずれると、ソース電極とゲート電極との間に生じる寄生容量Ｃｓｄの大きさが変化する。そして、寄生容量ＣｇｄまたはＣｓｄの大きい絵素と、寄生容量ＣｇｄまたはＣｓｄが小さい絵素とが入り交じった状態のＡＭ基板を液晶表示パネルに適用した場合、各絵素毎に表示輝度のばらつきが生じてしまう。
【００１１】
また、露光時のアライメントずれ等により、例えばＣＦ基板上のブラックマトリックスや各色のカラーフィルタ等の配置がずれると、ＡＭ基板とＣＦ基板を対向して貼り合わせた際に、一方の基板の表面に形成されるパターンと他方の基板の表面に形成されるパターンとの位置関係がずれてしまうおそれがある。そしてこのようなズレが色ムラなどとして視認可能に現れることがある。
【００１２】
このため、表示品位の優れた液晶表示パネルを製造するためには、製造後において、液晶表示パネルに画像を表示させて、基板上に形成された電極等の位置ズレなどに起因した輝度差や色ムラなどの表示不良を検査する必要がある。そして、このような位置ズレの発生の傾向を把握して、工程の管理や評価を行う必要がある。
【００１３】
たとえば、特許文献１に記載の検査方法は、スイッチング素子をオンオフ制御するゲート信号のオン期間を通常よりも短くし、絵素電極へソース信号が印加される書き込み時間を短くして、表示不良を精度よく検出することができるというものである。
【００１４】
【特許文献１】特開平１１−３０７９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
このように、液晶表示パネルの表示領域に画像を表示させて検査すると、輝度差や色ムラなどの表示不良から、液晶表示パネルの基板に形成された電極等の配置にズレやばらつきがないかを検査することができる。しかしながら、液晶表示パネルのＡＭ基板またはＣＦ基板のどの電極等に位置ズレが生じているかは、液晶表示パネルを分解し、顕微鏡等を用いて観察して解析しなければ突き止めることができず、位置ズレの発生部位の特定に時間と手間を要していた。
【００１６】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、表示パネルに画像を表示させて検査するに際し、表示不良の有無だけでなく、その表示不良の原因を特定することができる表示パネルの検査方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
このような課題を解決するために、本発明に係る表示パネルの検査方法は、対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを要旨とするものである。
【００１８】
そして、本発明に係る他の表示パネルの検査方法は、対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として周期的に変動する電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを要旨とするものである。
【００１９】
また、本発明に係るさらに別の表示パネルの検査方法は、対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの、一方の透明基板上にマトリクス状に配置された多数の絵素電極のそれぞれにスイッチング素子が接続され、このスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオンオフ制御するパルス信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出する工程を含むことを要旨とするものである。
【００２０】
また、上記表示パネルの検査方法を、組み合わせて行ってもよい。
【００２１】
さらに、前記スイッチング素子に、前記検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオンオフ制御するパルス信号を入力するとともに、前記検査用ソース信号として周期的に変動する電圧信号を入力して、表示パネルに画像を表示させ表示不良の有無に基づいて表示パネルの欠陥を検出する欠陥検出工程において欠陥が検出された表示パネルを上記表示パネルの検査方法またはこれらの組み合わせにより検査するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る表示パネルの検査方法によれば、対をなす透明基板間に表示媒体を挟持してなる表示パネルの各絵素電極に接続されたスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出するので、ソース電極とドレイン電極との間の寄生容量、および、ゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量に起因した表示不良は表示されない。従って、この表示パネルの検査方法において表示不良が検出されれば、対をなす透明基板の一方の透明基板に形成される電極等のパターンと、他方の基板の表面に形成される電極等のパターンとの相対的な位置関係のズレに起因した表示不良であることがわかる。
【００２３】
また、本発明に係る他の表示パネルの検査方法は、表示パネルの絵素電極に接続されたスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオン状態に維持する定電圧信号を入力するとともに、検査用ソース信号として周期的に変動する電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出するので、ゲート電極とドレイン電極の間の寄生容量に起因した表示不良は表示されない。従って、この検査方法において表示不良が検出されれば、ソース電極とドレイン電極の間の寄生容量と、対をなす透明基板の一方の透明基板に形成される電極等のパターンと、他方の基板の表面に形成される電極等のパターンとの相対的な位置関係のズレとの、いずれかまたは両方に起因した表示不良であることがわかる。
【００２４】
また、本発明に係る別の表示パネルの検査方法は、表示パネルの絵素電極に接続されたスイッチング素子に、検査用ゲート信号として前記スイッチング素子をオンオフ制御するパルス信号を入力するとともに、検査用ソース信号として定電圧信号を入力して表示パネルに画像を表示させ、表示不良の有無に基づいて該表示パネルの欠陥を検出するので、ソース電極とドレイン電極との間の寄生容量に起因した表示不良は表示されない。従って、この検査方法において表示不良が検出されれば、ゲート電極とドレイン電極の間の寄生容量と、対をなす透明基板の一方の透明基板に形成される電極等のパターンと、他方の基板の表面に形成される電極等のパターンとの相対的な位置関係のズレとの、いずれかまたは両方に起因した表示不良であることがわかる。
【００２５】
このように、本発明に係る表示パネルの検査方法によれば、表示パネルを分解して解析することなく、表示パネルのどの電極等の位置ズレに起因して発生している不具合か判別することができ、表示不良の原因の特定が容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態について図１〜図５を参照して詳細に説明する。
【００２７】
検査用のショートリングを備えた液晶表示パネル１の概略を図１に示す。図２はこの液晶表示パネル１の断面の概略を示す図である。この液晶表示パネル１は、図２に示すように、一方の透明基板１０に多数の絵素電極１２がマトリクス状に配置されたアクティブマトリクス基板２（以下、ＡＭ基板と称する。）と、他方の透明基板１４に前記絵素電極１２と対向する対向電極１６（共通電極）が設けられたカラーフィルタ基板３（以下、ＣＦ基板と称する。）とを所定の間隔で離間させた状態で対向させて貼り合わせ、その間に表示媒体として液晶４を封入したものである。
【００２８】
ＡＭ基板２は透明基板１０上に絵素電極１２などがマトリクス状に配置されたものである。一方、ＣＦ基板３は、透明基板１４上に絵素間の光漏れを遮光するブラックマトリクス１８と、各絵素に対応するカラーフィルタ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ（例えば、赤、緑、青等のカラーフィルタ）と、絵素電極１２と対向して液晶４を駆動する対向電極１６（共通電極）とが形成されている。
【００２９】
また、図１に示すようにＡＭ基板２のゲート配線２４Ｇの一方の端部には、ゲートドライバ（図示せず）が接続されるドライバ用端子部２６Ｇが形成されている。このドライバ用端子部２６Ｇの先端側には、すべてのゲート配線２４Ｇを互いに接続するゲート配線用ショートリング２８Ｇが設けられている。このゲート配線用ショートリング２８Ｇの両端には、検査用ゲート信号を入力するための検査用端子部３０Ｇが形成されている。なお、これらのゲート配線２４Ｇ、ドライバ用端子部２６Ｇ、ゲート配線用ショートリング２８Ｇおよび検査用端子部３０Ｇは同時に一体的に形成することができる。
【００３０】
さらに、ソース配線２４Ｓの一方の端部には、ソースドライバ（図示せず）が接続されるドライバ用端子部２６Ｓが設けられ、このドライバ用端子部２６Ｓの先端側には、すべてのソース配線２４Ｓを互いに接続するソース配線用ショートリング２８Ｓが設けられている。このソース配線用ショートリング２８Ｓの両端には、検査用のソース信号を入力するための検査用端子部３０Ｓが形成されている。このソース配線２４Ｓの先端に設けられたドライバ用端子部２６Ｓ、ソース配線用ショートリング２８Ｓおよび検査用端子部３０Ｓは、ソース配線２４Ｓを形成する工程と同時に形成することができる。
【００３１】
図３（ａ）は、図１に示した液晶表示パネル１のＡＭ基板２の１絵素分を拡大して示した平面図であり、図３（ｂ）は、この液晶表示パネル１の１絵素分の等価回路を示した図である。ＡＭ基板２は、透明基板１０上にマトリクス状に配置された各絵素電極１２に、スイッチング素子が接続されてなるものである。ここでは、スイッチング素子として薄膜トランジスタ２２（以下、ＴＦＴと称する。）が適用される例を示す。図３（ａ）に示したＴＦＴ２２は、ゲート電極Ｇを覆うように半導体層２２ａが形成され、この半導体層２２ａを介してゲート電極Ｇと部分的に重なり合うようにソース電極Ｓおよびドレイン電極Ｄが形成されてなるものである。
【００３２】
図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、このＴＦＴ２２のゲート電極Ｇにはゲート配線２４Ｇが、ソース電極Ｓにはソース配線２４Ｓが、ドレイン電極Ｄにはコンタクトホール１２Ｄを介して絵素電極１２が接続されている。これらのゲート配線２４Ｇおよびソース配線２４Ｓは、ゲート配線２４Ｇ同士およびソース配線２４Ｓ同士は略平行に配置され、ゲート配線２４Ｇとソース配線２４Ｓとが、ゲート絶縁膜を介して互いに交差するように設けられている。
【００３３】
このＡＭ基板２の絵素電極１２とＣＦ基板３の対向電極１６との間の液晶４によって液晶容量ＣＣＬが形成される。また、絵素電極１２には補助容量ＣＳ（蓄積容量）が電気的に接続されるため、ＴＦＴ２２には負荷としてドレイン電極Ｄに液晶容量ＣＣＬと補助容量ＣＳが接続されていることになる。
【００３４】
さらに、これらのＡＭ基板２に形成された各電極は、半導体層２２ａおよび／またはゲート絶縁膜等を介して、重なり合ってまたは隣り合って配置された他の電極との間で寄生容量を発生させる。従って、ドレイン電極Ｄには、さらに、図３（ｂ）に点線で示したゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｇｄ、および、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｓｄが接続されていることになる。
【００３５】
尚、これらＡＭ基板２およびＣＦ基板３を製造し、液晶４を介在させた状態で互いに貼り合わせて液晶表示パネル１を製造する方法については、従来用いられてきたフォトリソグラフィ法等を適用することができるので、詳細な説明は省略する。
【００３６】
次に、この液晶表示パネル１の背面に照明光が照射された状態で、液晶表示パネル１にマトリクス状に配置された絵素電極１２に接続されたＴＦＴ２２にソース信号とゲート信号を入力した際の表示状態について、絵素電極１２の電位Ｖｐの変化に基づいて説明する。図４は液晶表示パネルに入力されるソース信号とゲート信号および絵素電極１２の電位Ｖｐの変化を表す図である。
【００３７】
まず、液晶表示パネル１のＴＦＴ２２のゲート電極Ｇに図４（ａ）に示す検査用ゲート信号Ｇｐを入力するとともに、ソース電極に図４（ａ）に示す検査用ソース信号Ｓｐを入力した場合の絵素電極の電位Ｖｐの変化について説明する。
【００３８】
ここで、検査用ゲート信号Ｇｐは、ＴＦＴ２２をオンオフ制御する信号として、ＴＦＴ２２をＯＮ状態にするＯＮレベル電圧（例えば＋３０Ｖ）とＴＦＴ２２をオフ状態にするＯＦＦレベル電圧（例えば−１０Ｖ）が交互に印加されるパルス信号（パルス幅２０〜３０μｓ、周波数６０Ｈｚ）が入力される例を示している。また、検査用ソース信号Ｓｐは、検査用ゲート信号Ｇｐとほぼ同じパルス幅（２０〜３０μｓ）で±２．５Ｖの間を周期的に変動する矩形波状の電圧信号の例を示している。尚、液晶表示パネル１のＣＦ基板３側に設けられた対向電極１６に印加される対向電極電圧Ｖｃｏｍは、液晶表示パネル１の表示輝度が、表示欠陥を検出しやすい中間階調になるように絵素電極１２の電位Ｖｐに対応して調整される。
【００３９】
このような検査用ゲート信号Ｇｐおよび検査用ソース信号Ｓｐが液晶表示パネル１に入力されると、ゲート電極ＧにＯＮレベル電圧が入力されてＴＦＴ２２がオンされている間は、ソース電極Ｓに入力される検査用ソース信号Ｓｐがドレイン電極Ｄに印加され、ゲート信号がＯＦＦレベル電圧になった時のドレイン電極の電位（すなわちドレイン電極Ｄに接続された絵素電極１２の電位Ｖｐ）が、原則的には、ゲート電極Ｇに次のＯＮレベル電圧が入力されてＴＦＴ２２がオンされるまで維持される。
【００４０】
しかし、ゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｇｄおよびソース電極Ｓとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｓｄの影響を受けて絵素電極１２の電位Ｖｐは変動する。図４（ａ）に示すように、検査用ゲート信号ＧｐがＯＮレベルからＯＦＦレベルに立ち下がるときは、寄生容量Ｃｇｄの影響を受けて絵素電極１２の電位ＶｐはΔＶｇｄだけ低下する。また、検査用ソース信号Ｓｐが立ち上がる時は、寄生容量Ｃｓｄの影響を受けて絵素電極１２の電位ＶｐはΔＶｓｄだけ上昇し、検査用ソース信号Ｓｐが立ち上がるときは、同じく寄生容量Ｃｓｄの影響で絵素電極１２の電位ＶｐはΔＶｓｄだけ下降する。
【００４１】
ここで、もし、液晶表示パネル１表示領域内で、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン電極Ｄや半導体層２２ａなどのパターンの相対的な位置関係にばらつきがあると、前述の寄生容量ＣｇｄおよびＣｓｄの容量にもばらつきが生じ、変動電圧ΔＶｇｄおよびΔＶｓｄにもばらつきが発生する。そして、液晶表示パネル１の表示領域内で、寄生容量ＣｇｄまたはＣｓｄの大きい絵素と、寄生容量ＣｇｄまたはＣｓｄが小さい絵素とが入り交じった状態であれば、それぞれの絵素電極１２の電位Ｖｐにもばらつきが生じ、表示領域に輝度ムラが現れる。
【００４２】
また、例えばＣＦ基板３のブラックマトリックス１８や各色のカラーフィルタ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂなどのパターンの位置に表示領域内でばらつきがある場合などは、液晶表示パネル１の表示領域内で、ＡＭ基板２に形成されたパターンとＣＦ基板３の表面に形成されたパターンの相対的な位置関係にばらつきが生じ、このようなズレが色ムラなどとして視認可能に現れる。
【００４３】
そこで、本発明の第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法では、液晶表示パネル１のゲート配線２４Ｇに、ゲート配線用ショートリング２８Ｇを介して、図４（ｂ）に示す検査用ゲート信号Ｇｃを入力するとともに、ソース配線用ショートリング２８Ｓを介してソース配線２４Ｓに図４（ａ）に示す検査用ソース信号Ｓｃを入力する。
【００４４】
検査用ゲート信号Ｇｃは、ＴＦＴ２２をＯＮ状態に維持するＯＮレベル電圧の定電圧信号であり、検査用ソース信号Ｓｃも、所定の電圧（例えば＋２．５Ｖなど）の定電圧信号である。
【００４５】
そして、ＴＦＴ２２に検査用ソース信号Ｓｃおよび検査用ゲート信号Ｇｃを入力するとともに、液晶表示パネル１の背面から照明光を照射して画像を表示させた状態で、表示不良の有無を検査する。
【００４６】
この第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法においては、検査用ソース信号Ｓｃおよび検査用ゲート信号Ｇｃは、ともに定電圧信号であるため、絵素電極１２の電位Ｖｐは、ゲート信号の立ち下がりで発生するゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｇｄの影響も、ソース信号の立ち上がりおよび立ち下がりで発生するソース電極Ｓとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｓｄの影響も受けることがない。従って、もし、検査用ソース信号Ｓｃおよび検査用ゲート信号Ｇｃを入力して、表示不良が検出されれば、その原因はＡＭ基板２とＣＦ基板３の表面に形成されるパターンの相対的な位置関係のズレのばらつきに起因したものであることがわかる。
【００４７】
一方、この第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法において、表示不良が検出されなければ、この液晶表示パネル１はＡＭ基板２とＣＦ基板３の表面に形成されるパターンの相対的な位置関係のばらつきが無いことがわかる。また、パルス信号である検査用ゲート信号Ｇｐおよび矩形波状に変化する検査用ソース信号Ｓｐを入力した際には表示不良が確認されて、この第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法によって表示不良が確認されなければ、表示不良の原因はＡＭ基板２側の寄生容量Ｃｇｄまたは寄生容量Ｃｓｄのいずれか若しくは両方であることがわかる。
【００４８】
また、本発明の第２の実施形態に係る表示パネルの検査方法においては、液晶表示パネルのゲート配線用ショートリング２８Ｇを介してゲート配線２４Ｇに、図４（ｃ）に示す検査用ゲート信号Ｇｃを入力するとともに、ソース配線用ショートリング２８Ｓを介してソース配線に、図４（ｃ）に示す検査用ソース信号Ｓｐを入力し、液晶表示パネル１の背面から照明光を照射して画像を表示させた状態で、表示不良の有無を検査する。
【００４９】
この第２の実施形態に係る表示パネルの検査方法においては、検査用ソース信号Ｓｐは、図４（ａ）に示した検査用ソース信号Ｓｐと同じ矩形波状に変動する信号であり、検査用ゲート信号Ｇｃは、図４（ｂ）に示した検査用ゲート信号Ｇｃと同じ定電圧信号である。従って、液晶表示パネル１の表示画像は、検査用ソース信号Ｓｐの立ち上がりおよび立ち下がりで発生するソース電極Ｓとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｓｄの影響は受けるが、ゲート信号の立ち下がりで発生するゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｇｄの影響は受けない。従って、もし、この第２の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が検出されれば、それはソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｓｄのばらつきに起因したものか、ＡＭ基板２とＣＦ基板３の相対的な位置関係のばらつきに起因したものか、または、これらの両方であることがわかる。
【００５０】
また、前記第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が検出されずに、この第２の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が検出されれば、表示不良の原因は寄生容量Ｃｓｄのばらつきであることがわかる。さらに、パルス信号である検査用ゲート信号Ｇｐおよび矩形波状に変化する検査用ソース信号Ｓｐを入力した際には表示不良が確認されて、前記第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が確認されずに、この第２の実施形態に係る表示パネルの検査方法においても表示不良が確認されなければ、表示不良の原因は寄生容量Ｃｇｄのばらつきであることがわかる。
【００５１】
また、本発明の第３の実施形態に係る表示パネルの検査方法においては、図４（ｄ）に示すように、液晶表示パネル１のゲート配線用ショートリング２８Ｇを介してゲート配線２４Ｇに検査用ゲート信号Ｇｐを入力するとともに、ソース配線用ショートリング２８Ｓを介してソース配線２４Ｓに検査用ソース信号Ｓｃを入力し、表示不良の有無を検査する。
【００５２】
この検査用ゲート信号Ｇｐは図４（ａ）に示した検査用ソース信号Ｇｐと同じパルス信号であり、検査用ソース信号Ｓｃは図４（ｂ）に示した検査用ソース信号Ｓｃと同じ定電圧信号である。そうすると、絵素電極１２の電位Ｖｐは、検査用ゲート信号Ｇｐの立ち下がりで発生するゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｇｄの影響は受けるが、ソース電極Ｓとドレイン電極Ｄの間の寄生容量Ｃｓｄの影響は受けない。従って、もし、この第３の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が検出されれば、それはゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｇｄのばらつきに起因したもの、若しくは、ＡＭ基板とＣＦ基板との相対的な位置関係のばらつきに起因したもののいずれか、またはその両方であることがわかる。
【００５３】
一方、パルス信号である検査用ゲート信号Ｇｐおよび矩形波状に変化する検査用ソース信号Ｓｐを入力した際には表示不良が検出されて、前記第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法において表示不良が検出されずに、この第３の実施形態に係る表示パネルの検査方で表示不良が検出されなければ、表示不良の原因は寄生容量Ｃｓｄのばらつきであることがわかる。
【００５４】
そして、これらの検査が終了し、表示不良が検出されなかった液晶表示パネル１は、この液晶表示パネル１の周縁部に形成されたショートリング部分は切断され、その他の検査工程および組み立て工程等を経て、製品として完成する。
【００５５】
このように検査用ゲート信号としてパルス信号Ｇｐまたは定電圧信号Ｇｃと、検査用ソース信号としてパルス信号Ｓｐまたは定電圧信号Ｓｃとを適宜選択して組み合わせて、液晶表示パネルに入力することで、表示欠陥の有無に基づいて液晶表示パネルの表示不良の原因を判別することができる。従って、液晶表示パネルを分解するなどの繁雑な作業を行わなくても、製造工程のどの段階で欠陥が発生したのか知ることができ、工程の管理や評価を行うことができる。
【００５６】
尚、前記第１〜第３の実施形態に係る表示パネルの検査方法は、それぞれ単独で行っても良いし、複数を組み合わせて行ってもよい。
【００５７】
以下に、前記第１〜第３の実施形態に係る表示パネルの検査方法を組み合わせて行う場合の組み合わせの一例を、図５を参照して説明する。
【００５８】
まず、液晶表示パネル１のＴＦＴ２２に図４（ａ）に示す検査用ゲート信号Ｇｐを入力するとともに、同じく図４（ａ）に示す検査用ソース信号Ｓｐを入力する（Ｓ１）。そして、液晶表示パネル１の背面から照明光を照射して画像を表示させた状態で、輝度ムラや色ムラなどの表示不良の有無を検査する（Ｓ２）。ここで、表示不良が検出されなければ（ＮＯ）、検査は終了する（Ｓ３）。一方、ここで、表示不良が検出されれば（ＹＥＳ）、さらに検査してその原因を判別する。
【００５９】
次に、液晶表示パネル１のＴＦＴ２２に、図４（ｂ）に示す検査用ゲート信号Ｇｃを入力するとともに、図４（ａ）に示す検査用ソース信号Ｓｃを入力する（Ｓ４）。そして、液晶表示パネルの背面から照明光を照射して画像を表示させた状態で、表示不良の有無を検査する（Ｓ５）。
【００６０】
ここで、表示不良が確認されれば（ＹＥＳ）、その原因はＡＭ基板２とＣＦ基板３の表面に形成される各電極、ブラックマトリックス１８やカラーフィルタ２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂなどのパターンの相対的な位置関係のばらつきに起因したものであることがわかる（Ｓ６）。一方、この第１の実施形態に係る表示パネルの検査方法において、表示不良が検出されなければ（ＮＯ）、次の検査に移る。
【００６１】
続いて、図４（ｃ）に示すように、液晶表示パネル１のＴＦＴ２２に検査用ゲート信号Ｇｃおよび検査用ソース信号Ｓｐを入力し（Ｓ７）、液晶表示パネル１の背面から照明光を照射して画像を表示させた状態で、表示不良の有無を検査する（Ｓ８）。
【００６２】
もし、ここで表示不良が確認されれば（ＹＥＳ）、それはソース電極Ｓとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｓｄのばらつきに起因したものであることがわかる（Ｓ９）。一方、表示不良が確認されなければ（ＮＯ）、さらに次の検査に移る。
【００６３】
そして、図４（ｄ）に示すように、液晶表示パネル１のＴＦＴ２２に検査用ゲート信号Ｇｐおよび検査用ソース信号Ｓｃを入力し（Ｓ１０）、表示不良の有無を検査する（Ｓ１１）。
【００６４】
もし、ここで表示不良が確認されれば（ＹＥＳ）、それはゲート電極Ｇとドレイン電極Ｄとの間の寄生容量Ｃｇｄのばらつきに起因したものであることがわかる（Ｓ１２）。一方、もし、ここで表示不良が検出されなければ（ＮＯ）、寄生容量Ｃｓｄ，ＣｇｄおよびＡＭ基板２とＣＦ基板３とのパターンの相対的な位置関係のいずれにも該当しない別の原因である場合が考えられる。
【００６５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることはもちろんである。たとえば、検査用ソース信号や検査用ゲート信号の電圧、パルス幅、周波数等は、表示欠陥を確認しやすい表示輝度が得られるように適宜変更してもかまわないことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】検査用のショートリングを備えた液晶表示パネルの概略を示す図である。
【図２】図１に示した液晶表示パネルの断面の概略を示す図である。
【図３】（ａ）は図１に示した液晶表示装置のＡＭ基板の１絵素分を拡大して示した平面図であり、（ｂ）はこの液晶表示パネルの１絵素分の等価回路を示した図である。
【図４】（ａ）は、検査用ゲート信号Ｇｐと検査用ソース信号Ｓｐが入力されたときの絵素電極の電位Ｖｐの変化について説明する図であり、（ｂ）は、検査用ゲート信号Ｇｃおよび検査用ソース信号Ｓｃが入力されたときの絵素電極の電位Ｖｐの変化を、（ｃ）は、検査用ゲート信号Ｇｃおよび検査用ソース信号Ｓｐが入力されたときの絵素電極の電位Ｖｐの変化を、（ｄ）は、検査用ゲート信号Ｇｐおよび検査用ソース信号Ｓｃが入力されたときの絵素電極の電位Ｖｐの変化を示す図である。
【図５】本発明に係る液晶表示パネルの検査方法の流れの概略を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６７】
１      液晶表示パネル
２      アクティブマトリクス基板（ＡＭ基板）
３      カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）
４      液晶
１２    絵素電極
１６    対向電極
２２    薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
２４Ｇ  ゲート配線
２４Ｓ  ソース配線
２８Ｇ  ゲート配線用ショートリング
２８Ｓ  ソース配線用ショートリング
Ｄ      ドレイン電極
Ｇ      ゲート電極
Ｓ      ソース電極
ＣＣＬ    液晶容量
Ｃｇｄ，Ｃｓｄ  寄生容量
【図１】
2007316112.tif 000003
【図２】
2007316112.tif 000004
【図３】
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【図４】
2007316112.tif 000006
【図５】
2007316112.tif 000007