(57)【要約】【課題】基板の中央部に異物がたまりにくく、基板表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法の提供を目的とする。【解決手段】矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄装置１は、フォトマスク基板８を回転させる回転板３と、フォトマスク基板８の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段とを具備し、処理液噴出手段５が、フォトマスク基板８の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔５１１と、フォトマスク基板８の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔５２１，５３１を有する構成としてある。【選択図】  図２
2007222755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を洗浄処理するためのスピン洗浄装置において、
前記基板を回転させる回転部材と、
前記基板の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段と
を具備し、
前記処理液噴出手段が、前記基板の中央部に前記処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔と、前記基板の中央部より外周側に前記処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔を有することを特徴とするスピン洗浄装置。
【請求項２】
前記処理液が前記基板の中央部に吹き付けられた後、前記中央部の中心方向に流れるように、前記スポット用噴出孔が、前記基板の中央部の斜め上方に設けられたことを特徴とする請求項１記載のスピン洗浄装置。
【請求項３】
前記スポット用噴出孔を有する配管とライン用噴出孔を有する配管が、同一の取付け部材に設けられたことを特徴とする請求項１又は２記載のスピン洗浄装置。
【請求項４】
前記スポット用噴出孔とライン用噴出孔に前記処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のスピン洗浄装置。
【請求項５】
前記ライン用噴出孔が、基板中心側に位置する中心側ライン用噴出孔群と基板外周側に位置する外周側ライン用噴出孔群を有し、前記中心側ライン用噴出孔群と外周側ライン用噴出孔群に前記処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のスピン洗浄装置。
【請求項６】
基板を洗浄するスピン洗浄方法において、
回転している前記基板の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段が、スポット用噴出孔から前記基板の中央部に前記処理液をスポット状に吹き付け、複数のライン用噴出孔から前記基板の中央部より外周側に前記処理液をライン状に吹き付けることを特徴とするスピン洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピン洗浄装置及びスピン洗浄方法に関し、特に、基板の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段が、基板の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔と、基板の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔を有することにより、汚れが落ちにくい基板の中央部における洗浄品質を向上させることができるスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ用フォトマスクやＬＣＤ用大型フォトマスク等のフォトマスクは、製造プロセス中にさまざまな汚染にさらされるため、製造プロセス中又は最終製品において洗浄される。この洗浄方法としては、一般的に、ディップ式の洗浄方法が用いられていた。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽，リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合わせが用いられる。
【０００３】
上記ディップ式の洗浄方法は、例えばＬＳＩ用フォトマスク等のマスクサイズが小さい基板に対しては、一度に複数枚の基板を処理することができるため、スループットも高く適しているが、ＬＣＤ用大型フォトマスク等の矩形の大型基板に対しては、各槽が大型化し、薬液も大量に必要となるなどの問題があった。ましてや、近年、液晶表示パネル等の表示パネルやそれらを製造するためのフォトマスクの基板サイズは、さらに大型化する傾向にある。すなわち、例えば、液晶パネルの製造においては、多面取りや大画面化の傾向にあることから液晶パネル基板が大型化し、それにともない、液晶パネルを製造するためのフォトマスクも大型化している。このように基板が大型化し、また高精度化する傾向にあるなか、大型の薬液槽において清浄な洗浄液で洗浄しようとすると、多大な量の薬液が必要となるため、ディップ方式の洗浄を行うのが困難となってきたのが実状である。
【０００４】
上記実情を解決する技術として、枚葉式スピン洗浄法が注目され開発されている。この枚葉式スピン洗浄法は、回転する基板保持部材にフォトマスク基板等を保持し、回転させながら、洗浄、リンス、乾燥を連続的に行う方法である。すなわち、まず処理室内において水平に保持した基板を回転させながら、該基板に対し、処理液として洗浄液を噴出するなどして洗浄する薬液洗浄、ブラシ等によるスクラブ洗浄（接触洗浄）、供給する処理液や純水に超音波を与える超音波洗浄等の洗浄を行った後、純水等でリンスを行い、次いで、基板を所定時間だけ高速回転させることにより乾燥を行う。この方法によれば、上記のディップ方式に比べ、同じ処理室内で一連の処理が可能となるため装置が小型化でき、洗浄液が少なくてすみ、かつ洗浄時間も短くてすむという利点がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、特許文献２には、大型の基板であっても、洗浄水によりスループットおよび洗浄能力を高くして洗浄することができる基板洗浄装置の技術が開示されている。この基板洗浄装置は、基板を回転させる回転機構と、基板に洗浄液をライン状に吐出するライン状吐出ノズルと、ライン状吐出ノズルを基板上で移動させる移動機構とを具備しており、基板回転機構より基板を回転させ、かつ移動機構によりライン状吐出ノズルを基板上で移動させつつ、ライン状吐出ノズルから基板に洗浄液を吐出させる。
【特許文献１】特開２００４−２９０９３４号公報
【特許文献２】特開２０００−３２５８９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献２に記載された技術では、ライン状吐出ノズルが、基板端部に移動してきたとき、基板の中央部に洗浄液が行き渡らないので、異物が除去されない液溜りが発生し、基板の中央部に異物が溜まり、洗浄残りになるといった問題があった。
特に、近年においては、液晶パネル用基板や、液晶パネル製造用フォトマスク基板は、さらなる大型化の傾向にあり、たとえば、８００×９２０ｍｍあるいはそれ以上に大きな基板を洗浄する必要がある。このような大型基板に対し、ライン状吐出ノズルを基板上で移動させても、基板表面全面に均等に洗浄液を供給することが困難であり、洗浄品質が低下するといった問題があった。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、基板が大型基板であっても、基板の中央部に異物がたまりにくく、基板表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことが可能なスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄装置は、基板を洗浄処理するためのスピン洗浄装置において、前記基板を回転させる回転部材と、前記基板の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段とを具備し、前記処理液噴出手段が、前記基板の中央部に前記処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔と、前記基板の中央部より外周側に前記処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔を有する構成としてある。
このようにすると、基板が回転することによって生じる遠心力が小さく、汚れが落ちにくい基板の中央部に、多くの洗浄液を勢いよく吹き付けることができるので、基板の中央部における洗浄品質を向上させることができる。
【０００９】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記処理液が前記基板の中央部に吹き付けられた後、前記中央部の中心方向に流れるように、前記スポット用噴出孔が、前記基板の中央部の斜め上方に設けられた構成としてある。
このようにすると、基板の中央部に効果的に処理液を吹き付けることができ、基板の中央部における洗浄品質をさらに向上させることができる。
【００１０】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記スポット用噴出孔を有する配管とライン用噴出孔を有する配管が、同一の取付け部材に設けられた構成としてある。
このようにすると、構造を単純化できるので、製造原価のコストダウンを図ることができる。
【００１１】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記スポット用噴出孔とライン用噴出孔に前記処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立している構成としてある。
このようにすると、たとえば、基板が小型の場合、スポット用噴出孔だけに処理液を供給して洗浄することができるので、処理液を有効利用することができる。また、スポット用噴出孔とライン用噴出孔から噴出される処理液の条件、たとえば、噴出流量，噴出時間，噴出タイミングなどを自在に制御することができるので、洗浄品質を効果的に向上させることができる。
【００１２】
また、本発明のスピン洗浄装置は、前記ライン用噴出孔が、基板中心側に位置する中心側ライン用噴出孔群と基板外周側に位置する外周側ライン用噴出孔群を有し、前記中心側ライン用噴出孔群と外周側ライン用噴出孔群に前記処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立している構成としてある。
このようにすると、たとえば、基板が中型の場合、スポット用噴出孔と中心側ライン用噴出孔群だけに処理液を供給して洗浄することができるので、処理液を有効利用することができる。
【００１３】
また、上記目的を達成するために、本発明のスピン洗浄方法は、基板を洗浄するスピン洗浄方法において、回転している前記基板の表面に処理液を吹き付ける処理液噴出手段が、スポット用噴出孔から前記基板の中央部に前記処理液をスポット状に吹き付け、複数のライン用噴出孔から前記基板の中央部より外周側に前記処理液をライン状に吹き付ける方法としてある。
このように、本発明はスピン洗浄方法としても有効であり、基板が回転することによって生じる遠心力が小さく、汚れが落ちにくい基板の中央部に、多くの洗浄液を勢いよく吹き付けることができるので、基板の中央部における洗浄品質を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のスピン洗浄装置及びスピン洗浄方法によれば、基板が大型基板であっても、基板の中央部に異物がたまりにくく、基板表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［スピン洗浄装置］
図１は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
同図において、スピン洗浄装置１は、処理カップ２，回転板３，処理液噴出手段５及びコントローラ（図示せず）を備えた直方体状の筐体構造としてある。
なお、スピン洗浄装置１は、投入回収手段（図示せず）を備えており、洗浄前のフォトマスク基板８がスピン洗浄装置１に投入され、洗浄後のフォトマスク基板８が回収される。また、フォトマスク基板８は、フォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【００１６】
（処理カップ）
処理カップ２は、円筒状の容器としてあり、スピン洗浄装置１のほぼ中央部に設置されている。この処理カップ２は、フォトマスク基板８が収容される処理室を形成している。
【００１７】
（回転板）
回転板３は、処理カップ２の中央部に、回転自在に突設されている。この回転板３は、一対の位置決めピン（図示せず）などの保持手段が設けられた円板としてあり、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材（図示せず）を保持する。スピン洗浄装置１は、回転板３を回転させるための駆動手段（図示せず）を備えており、この駆動手段は、コントローラによって回転方向，回転速度及び回転時間などが制御され、洗浄工程の諸条件に応じて、回転板３を回転させる。
【００１８】
（処理液噴出手段）
図２は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、処理液噴出手段の構成を説明するための概略図であり、（ａ）は平面図を、（ｂ）はＡ−Ａ拡大断面図を示している。
また、図３は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、処理液噴出手段の噴射状態を説明するための概略斜視図を示している。
図２，３において、処理液噴出手段５は、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２，外周側シャワーパイプ５３，取付けアーム５４及び回動軸５５を備えている。この処理液噴出手段５は、処理カップ２の正面側に、回動自在に設けられており、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液による洗浄，リンスなど）を行う。
【００１９】
処理液噴出手段５は、取付け部材として取付けアーム５４を備えており、この取付けアーム５４は、左側端部が回動軸５５によって回動自在に軸支されている。スピン洗浄装置１は、取付けアーム５４を水平方向に回動させるための回動手段（図示せず）を備えている。この回動手段は、コントローラによって制御され、処理カップ２の外部と処理カップ２内のフォトマスク基板８（のほぼ中央部）上との間で、取付けアーム５４を回動させる。
【００２０】
また、取付けアーム５４は、下部が開口された溝型鋼状の形状としてあり、内部に、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３が収納されている。このように、一つの取付けアーム５４に、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３を設けることにより、構造を単純化でき、製造原価のコストダウンが図られる。
なお、本実施形態は、一つの取付けアーム５４に、スポットノズル５１，シャワーパイプ５２，５３を設けた構造としてあるが、この構造に限定されるものではなく、たとえば、スポットノズル５１，シャワーパイプ５２，５３を、それぞれ異なる取付け部材（図示せず）に設ける構造としてもよい。
また、図示してないが、上記取付けアーム５４，スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３の代わりに、スポット用噴出孔５１１やライン用噴出孔５２１，５３１を有する流路の形成されたアーム状部材を用いる構造としてもよい。
【００２１】
スポットノズル５１は、取付けアーム５４の右側端部、すなわち、フォトマスク基板８の中央部に接近する側の端部に設けられており、フォトマスク基板８の中央部に処理液をスポット状に吹き付けるスポット用噴出孔５１１を有している。ここで、処理液をスポット状に吹き付けるとは、噴出された処理液がほぼ分散することなく、所定の太さを有する一本の流れを形成した状態で吹き付けられることをいう（図４参照）。このようにすると、フォトマスク基板８が回転することによって生じる遠心力が小さく、汚れが落ちにくいフォトマスク基板８の中央部に、多くの洗浄液を勢いよく吹き付けることができるので、フォトマスク基板８の中央部における洗浄品質が向上する。
【００２２】
また、本実施形態では、スポット状の処理液が、フォトマスク基板８の中央部に吹き付けられた後、フォトマスク基板８の中央部の中心方向に流れるように、スポット用噴出孔５１１が、フォトマスク基板８の中央部の斜め上方に設けられている。すなわち、スポットノズル５１は、フォトマスク基板８の中央部の外周付近又は中央部より外周側の上方に位置し、斜め下方に噴出される処理液が、フォトマスク基板８の中央部に吹き付けられ、さらに、吹き付けられた処理液がフォトマスク基板８の中心（すなわち、フォトマスク基板８の回転中心）方向に流れるように設けられている。このようにすると、フォトマスク基板８の中央部に効果的に処理液を吹き付けることができ、フォトマスク基板８の中央部における洗浄品質をさらに向上させることができる。
【００２３】
中心側シャワーパイプ５２と外周側シャワーパイプ５３は、それぞれフォトマスク基板８の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける複数のライン用噴出孔５２１，５３１を有している。ここで、処理液をライン状に吹き付けるとは、噴出された処理液が分散することなく、極めて細い一本の流れを形成した状態で吹き付けられることをいう（図４参照）。また、上記複数のライン用噴出孔５２１，５３１は、取付けアーム５４の長手方向に所定の間隔をあけて穿設してある。すなわち、中心側シャワーパイプ５２の複数のライン用噴出孔５２１は、フォトマスク基板８の中心側に位置する中心側ライン用噴出孔群を構成し、外周側シャワーパイプ５３の複数のライン用噴出孔５３１は、フォトマスク基板８の外周側に位置する外周側ライン用噴出孔群を構成する。
【００２４】
また、処理液噴出手段５は、上記スポットノズル５１がフォトマスク基板８の中央部を洗浄し、中心側シャワーパイプ５２が中央部の外周側（円環部）を洗浄し、さらに、外周側シャワーパイプ５３がさらに外周側（フォトマスク基板８の外周部）を洗浄する。すなわち、処理液噴出手段５は、フォトマスク基板８が一回転すると、フォトマスク基板８の中央部から外周部までの全表面に対して、処理液を吹きかけることができるので、効率よくフォトマスク基板８を洗浄する。
【００２５】
また、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３は、それぞれ独立した配管５１２，５２２，５３２を介して、処理液が供給される。このように、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３に処理液を供給する供給経路が、それぞれ独立していることによって、たとえば、フォトマスク基板８が小型の場合、スポットノズル５１だけに処理液を供給して洗浄することができ、フォトマスク基板８が中型の場合、スポットノズル５１と中心側シャワーパイプ５２だけに処理液を供給して洗浄することができるので、処理液を有効利用することができる。さらに、スポット用噴出孔５１１やライン用噴出孔５２１，５３１から噴出される処理液の条件、たとえば、噴出流量，噴出時間，噴出タイミングなどを自在に制御することができるので、洗浄品質を効果的に向上させることができる。
なお、処理液噴出手段５は、通常、一つ設けられるが、複数の処理液噴出手段５を設ける構成としてもよい。
【００２６】
（コントローラ）
スピン洗浄装置１は、コントローラが設けてある。このコントローラは、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、スピン洗浄装置１を制御する。また、コントローラは、洗浄等に関する制御も行い、たとえば、回転板３の回転数，回転方向や、処理液噴出手段５におけるスポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３の噴出の有無，噴出流量，噴出時間，噴出タイミングなどの制御を行う。すなわち、スピン洗浄装置１は、コントローラに制御されることにより、複数の洗浄工程（たとえば、薬液洗浄，リンス，乾燥など）を自動的に実施する。
【００２７】
次に、上記構成のスピン洗浄装置１における処理液噴出手段による洗浄動作について、図面を参照して説明する。
図４は、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の処理液噴出手段による洗浄動作を説明するための要部の概略図であり、（ａ）は小型基板を洗浄する際の平面図を、（ｂ）は中型基板を洗浄する際の平面図を、（ｃ）は大型基板を洗浄する際の平面図を示している。
同図（ａ）において、スピン洗浄装置１は、処理液噴出手段５が、小型のフォトマスク基板８ａを洗浄している。この処理液噴出手段５は、スポットノズル５１が、基板中心の手前にスポット状の処理液を斜め上方から吹き付けている。フォトマスク基板８ａ上に吹き付けられた処理液は、フォトマスク基板８ａの中央部を通って、フォトマスク基板８ａの外周部まで流れており、フォトマスク基板８ａが一回転すると、フォトマスク基板８ａの全表面を洗浄する。なお、スポットノズル５１による洗浄可能範囲は、基板中心から半径ｒ１までの範囲であり、この範囲がスポットノズル５１による洗浄範囲８１１となる。したがって、洗浄範囲８１１内に収まるフォトマスク基板８ａに対しては、スポットノズル５１が処理液を噴出させることにより、フォトマスク基板８ａを洗浄することができる。
【００２８】
同図（ｂ）において、スピン洗浄装置１は、処理液噴出手段５が、中型のフォトマスク基板８ｂを洗浄している。この処理液噴出手段５は、スポットノズル５１が、基板中心の手前にスポット状の処理液を斜め上方から吹き付けており、さらに、中心側シャワーパイプ５２がライン状に処理液を下方に吹き付けている。スポットノズル５１は、フォトマスク基板８ｂの上記洗浄範囲８１１（基板中心から半径ｒ１までの範囲）内を洗浄する。また、中心側シャワーパイプ５２からフォトマスク基板８ａ上に吹き付けられた処理液は、フォトマスク基板８ｂの外周部に吹き付けられ、フォトマスク基板８ｂの外周方向に流れる。すなわち、中心側シャワーパイプ５２は、フォトマスク基板８ｂが一回転すると、内径ｒ２及び外径ｒ３を有する円環状の洗浄範囲８１２を洗浄する。ここで、処理液噴出手段５は、ｒ１>ｒ２としてあるので、処理液噴出手段５は、フォトマスク基板８ｂの全表面を洗浄する。すなわち、洗浄範囲８１１及び洗浄範囲８１２内に収まるフォトマスク基板８ｂに対しては、スポットノズル５１及び中心側シャワーパイプ５２が処理液を噴出させることにより、フォトマスク基板８ｂを洗浄することができる。
【００２９】
同図（ｃ）において、スピン洗浄装置１は、処理液噴出手段５が、大型のフォトマスク基板８ｃを洗浄している。この処理液噴出手段５は、スポットノズル５１が、基板中心の手前にスポット状の処理液を斜め上方から吹き付けており、さらに、中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３がライン状に処理液を下方に吹き付けている。スポットノズル５１は、フォトマスク基板８ｃの上記洗浄範囲８１１内を洗浄し、中心側シャワーパイプ５２は、上記洗浄範囲８１２内を洗浄する。また、外周側シャワーパイプ５３からフォトマスク基板８ｃ上に吹き付けられた処理液は、フォトマスク基板８ｃの外周部に吹き付けられ、フォトマスク基板８ｃの外周方向に流れる。すなわち、外周側シャワーパイプ５３は、フォトマスク基板８ｃが一回転すると、内径ｒ３及び外径ｒ４を有する円環状の洗浄範囲８１３を洗浄するので、処理液噴出手段５は、フォトマスク基板８ｃの全表面を洗浄する。すなわち、洗浄範囲８１１，洗浄範囲８１２及び洗浄範囲８１３内に収まるフォトマスク基板８ｃに対しては、スポットノズル５１，中心側シャワーパイプ５２及び外周側シャワーパイプ５３が処理液を噴出させることにより、フォトマスク基板８ｃを洗浄することができる。
【００３０】
このように、本実施形態のスピン洗浄装置１によれば、フォトマスク基板８大型基板であっても、フォトマスク基板８の中央部に異物がたまりにくく、フォトマスク基板８の表面全面を効率よく洗浄し、洗浄残りの発生を防止し高品質な洗浄を行うことができる。
【００３１】
［スピン洗浄方法］
また、本発明は、スピン洗浄方法としても有効であり、本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄方法は、矩形のフォトマスク基板８を洗浄するスピン洗浄方法において、回転しているフォトマスク基板８の表面に、処理液を吹き付ける処理液噴出手段５が、スポット用噴出孔５１１からフォトマスク基板８の中央部に処理液をスポット状に吹き付け、複数のライン用噴出孔５２１，５３１からフォトマスク基板８の中央部より外周側に処理液をライン状に吹き付ける方法としてある。
このように、本発明はスピン洗浄方法としても有効であり、フォトマスク基板８が回転することによって生じる遠心力が小さく、汚れが落ちにくいフォトマスク基板８の中央部に、多くの洗浄液を勢いよく吹き付けることができるので、フォトマスク基板８の中央部における洗浄品質を向上させることができる。
【００３２】
以上、本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、スピン洗浄装置１は、ライン用噴出孔５２１，５３１からの処理液を真下方向に噴出する構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、フォトマスク基板８に斜めに吹き付ける構成としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明のスピン洗浄方法及びスピン洗浄装置は、フォトマスク基板を洗浄する構成に限定されるものではなく、セラミック板や、金属板などの洗浄装置及び洗浄方法に利用することができる。また、基板形状も矩形に限らず、正方形、円形などの基板にも用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の概略平面図を示している。
【図２】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、処理液噴出手段の構成を説明するための概略図であり、（ａ）は平面図を、（ｂ）はＡ−Ａ拡大断面図を示している。
【図３】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の、処理液噴出手段の噴射状態を説明するための概略斜視図を示している。
【図４】本発明の一実施形態にかかるスピン洗浄装置の処理液噴出手段による洗浄動作を説明するための要部の概略図であり、（ａ）は小型基板を洗浄する際の平面図を、（ｂ）は中型基板を洗浄する際の平面図を、（ｃ）は大型基板を洗浄する際の平面図を示している。
【符号の説明】
【００３５】
１  スピン洗浄装置
２  処理カップ
３  回転板
５  処理液噴出手段
８，８ａ，８ｂ，８ｃ  フォトマスク基板
５１  スポットノズル
５２  中心側シャワーパイプ
５３  外周側シャワーパイプ
５４  取付けアーム
５５  回動軸
８１  基板保持部材
５１１  スポット用噴出孔
５１２  配管
５２１  ライン用噴出孔
５２２  配管
５３１  ライン用噴出孔
５３２  配管
８１１，８１２，８１３  洗浄範囲
【図１】
2007222755.tif 000003
【図２】
2007222755.tif 000004
【図３】
2007222755.tif 000005
【図４】
2007222755.tif 000006