(57)【要約】      （修正有）【課題】フォトマスクを保管し輸送するための装置および方法を提供すること。【解決手段】フォトマスク保管容器２０は、流体の漏れない壁、フォトマスクをこの容器に出し入れするための開口２８、および保管流体用の封止可能な入口３２を有する。本方法は、開口を通してフォトマスクを保管容器の中に入れること、入口を通して保管流体を容器の中に導入すること、容器開口を閉じること、および保管流体入口を封止することを含み、それにより保管流体はフォトマスクに対して本質的に不活性である。そして、本方法は、容器開口を開くこと、およびフォトマスク表面から保管流体を除去するようにフォトマスクを保管容器から取り出している間じゅう、フォトマスクの表面をアルコール含有ガスと接触させることを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクを保管し輸送する方法であって、
流体の漏れない壁、前記フォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口、および保管流体用の封止可能な入口を有する前記フォトマスク保管容器を設けるステップと、
前記開口を通して前記フォトマスクを前記保管容器の中に入れるステップと、
前記入口を通して保管流体を前記容器の中に導入するステップと、
前記開口を閉じるステップと、
前記入口を封止するステップと、を含み、
前記保管流体が前記フォトマスクに対して本質的に不活性である方法。
【請求項２】
前記保管容器に封止可能な流体出口を設けるステップ、および前記保管流体が前記保管容器の中に導入されるときに前記保管容器からガスを排出するステップ、およびその後前記流体出口を封止するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記保管容器に前記保管流体のためのフィルタがさらに設けられており、さらに、前記流体が前記保管容器の中に導入されるときに前記保管流体から汚染物をフィルタ除去するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記保管流体の導入より前に、前記フォトマスクの表面の特性を変える薬品と前記マスクの表面を接触させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記保管流体の導入より前に、前記フォトマスクの表面をより親水性にする薬品と前記マスクの表面を接触させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記保管流体の導入より前に、前記フォトマスクの表面のゼータ特性を変える薬品と前記マスクの表面を接触させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記開口を開けるステップ、および、前記フォトマスクの表面から前記保管流体を除去するように前記フォトマスクを前記保管容器から取り出している間じゅう、前記フォトマスクの表面をアルコール含有ガスと接触させるステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記保管容器が、フォトマスク汚染物を引き付ける力のある材料をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
フォトマスク汚染物を前記材料に引き付けるように、前記フォトマスクと前記引き付ける力のある材料の間に電荷を加えるステップを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記引き付ける力のある材料が、酸化アルミニウムを備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
フォトマスクを輸送する方法であって、
流体の漏れない壁と、前記フォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口とを有する前記フォトマスク保管容器を設けるステップと、
フォトマスクおよび前記フォトマスクのまわりの保管流体を前記フォトマスク保管容器の中に供給するステップであって、前記保管流体が前記フォトマスクに対して本質的に不活性であるステップと、
前記開口を開くステップと、
前記フォトマスクの表面から前記保管流体を除去するように前記フォトマスクを前記保管容器から取り出している間じゅう、前記フォトマスクの表面をアルコール含有ガスと接触させるステップと、を含む方法。
【請求項１２】
前記保管容器に流体ポートがさらに設けられ、さらに、前記保管容器にたまった可能性がある粒子を除去するために、前記フォトマスクを前記保管容器から取り出すより前に前記保管容器の中に液体を導入するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
取り出すより前に前記保管流体の前記フォトマスクの表面との接触面積を最大にすることができるように、前記保管容器の内壁から間隔を開けて前記フォトマスクを配置するステップを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記保管流体が水を備え、前記水が、導電性を高める添加物、または前記水の表面特性を変える添加物を含む、請求項１または１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記保管流体が水を備え、前記水が、アンモニア、硫酸カリウム、塩化アルミニウム、およびこれらの組合せから成るグループから選ばれた添加物を含む、請求項１または１１に記載の方法。
【請求項１６】
前記フォトマスクの表面と、前記保管流体の表面からある距離だけ下のところとの間で前記アルコール含有ガスの濃度の差を維持するステップをさらに含む、請求項１または１１に記載の方法。
【請求項１７】
フォトマスクを保管し輸送するための装置であって、
流体の漏れない壁、前記フォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口、および保管流体用の封止可能な入口を有する前記フォトマスク保管容器を備え、前記開口を通して前記フォトマスクを前記保管容器の中に入れることができ、さらに、前記フォトマスクに対して本質的に不活性でかつフォトマスク汚染の本質的にない環境を前記フォトマスクのまわりに実現するように、前記入口を通して保管流体を前記容器の中に導入することができる装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、微小電子回路または他の装置のリソグラフィ製作に関し、より詳細には、リソグラフィ製作で使用されるマスクを保管し輸送するための方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ技術を使用して集積回路および他の装置を製造する際に、所望のパターンを有する欠陥の無いレチクルまたはフォトマスクを作ることが目標であり、そして、このレチクルまたはフォトマスクは、回路を作るためのリソグラフィ処理中に、ウェーハ上のレジスト層に投影露光される。レチクルまたはフォトマスクに付いた粒子汚染物は、リソグラフィの像形成中に問題を引き起こすことがある。マスクの前（パターンが形成された）側に付いた粒子の像はウェーハに形成されることがあり、歩留り損失の原因になることがある。以前はマスクの前面に保護ペリクルを配置してこの問題を軽減したので、その結果、粒子はマスク自体ではなくペリクルに堆積している。ペリクルは、露光波長に対して透明であり、そして、粒子（粒子汚染物）がウェーハに像を形成しないように、粒子を焦点の範囲外に保っている。マスクの裏側に付いた粒子は、焦点面からすでに０．２５インチ（６．３５ｍｍ）離れているので、像を形成しそうにない。しかし、大きなものは露光光を変えることがあるので、また粒子は他の望ましくない位置に動くかもしれないので、これらの裏側の粒子でも望ましくない。マスク透過率を変えることがある曇りを形成することができる小さな粒子で、他の問題が生じる。裏側チャッキングを必要とする用途では、チャッキング不平坦につながることがある。１５７ｎｍ、１３．４ｎｍ極端紫外、および〜１ｎｍＸ線などの現在の１９３ｎｍ世代以降の露光波長を使用するリソグラフィ・システムでは、露光エネルギー対して透明でかつ保護するペリクルの解決策は知られていない。同様に、電子投影リソグラフィ（ＥＰＬ）および低エネルギー電子投影リソグラフィ（ＬＥＥＰＬ）で使用される電子またはイオン投影リソグラフィ（ＩＰＬ）で使用されるイオンのような粒子ビームを使用するリソグラフィ露光システムに関して、ペリクル解決策は無い。
【０００３】
明らかになっている問題は、特に、硫酸塩およびアンモニアなどのマスク表面に吸着された汚染物である。最新のステッパで使用される高エネルギー露光条件では、これらの汚染物は、ウェーハに印刷できるほど大きく成長した粒子を形成することがある。これらの汚染物は、元は空気で運ばれた可能性があり、または製造、輸送および保管中にマスク表面に持ち込まれた可能性がある。最近の解析で、水素またはオゾンが溶解している超純水で洗滌した後でも、有機物、フッ素化化合物、硫黄化合物、およびシロキサンによる顕著な表面汚染が依然として生じ得ることが明らかになった。そのような表面汚染は、ほとんど外部発生源からであり、洗浄後に持ち込まれた、空気で運ばれた汚染であると考えられる。
【０００４】
現在のマスク用保管ポッドには、化学的汚染からではなく空気で運ばれる外部粒子からの影響を最小限にするためのフィルタがある。保護ペリクルの無いマスク表面の吸着汚染物だけでなく粒子も無くする方法が必要とされている。
【特許文献１】U.S.Patent No.6,029,371
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、従来技術のこれらの問題および欠点を心に留めて、本発明の目的は、微小電子回路のリソグラフィによる製作に使用されるフォトマスクを保管し輸送するための改良されたシステムおよび方法を提供することである。
【０００６】
本発明の他の目的は、マスク表面の汚染物を著しく減少させる、フォトマスクを保管し輸送するためのシステムおよび方法を提供することである。
【０００７】
本発明のさらなる目的は、保管流体を充填し直すことのない保管期間の延長を可能にする、フォトマスクを保管し輸送するためのシステムおよび方法を提供することである。
【０００８】
本発明のさらなる他の目的は、保管流体から取り出されるときにマスク表面を洗浄する、フォトマスクを保管するためのシステムおよび方法を提供することである。
【０００９】
本発明のさらなる他の目的および有利点は、本明細書から一部は明々白々であり、また一部は明らかになるだろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
当業者には明らかな上述および他の目的は、フォトマスクを保管し輸送する方法に向けられた本発明で達成され、本方法は、流体の漏れない壁、フォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口、および保管流体用の封止可能な入口を有するフォトマスク保管容器を設けること、開口を通してフォトマスクを保管容器の中に入れることを含む。そして、本方法は、入口を通して保管流体を容器の中に導入すること、容器開口を閉じること、および保管流体入口を封止することを含み、保管流体はフォトマスクに対して本質的に不活性である。
【００１１】
本保管容器は、好ましくは、封止可能な流体出口を含み、本方法は、保管流体が保管容器の中に導入されるときに保管容器からガスを排出すること、およびその後出口を封止することを含む。保管容器に保管流体のためのフィルタがさらに設けられてもよく、本方法は、流体が保管容器の中に導入されるときに保管流体から汚染物をフィルタ除去することを含む。フィルタは、好ましくは、入口と関連しており、そして、保管流体が保管容器の中に導入されるときに保管流体から汚染物がフィルタ除去される。
【００１２】
本方法は、さらに、保管流体の導入より前に、フォトマスクの表面をマスク表面の特性を変える薬品と接触させて、例えば、マスク表面をより親水性にし、またはマスク表面のゼータ特性を変えることを含むことができる。
【００１３】
保管容器は、フォトマスク汚染物を引き付ける力のある材料、例えば酸化アルミニウムをさらに含むことができ、さらに本方法は、フォトマスク汚染物をその材料に引き付けるようにフォトマスクとその引き付ける力のある材料の間に電荷を加えることを含むことができる。
【００１４】
他の態様では、本発明は、フォトマスクを輸送する方法に向けられ、本方法は、流体の漏れない壁およびフォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口を有するフォトマスク保管容器を設けること、および、フォトマスクおよびフォトマスクのまわりの保管流体をフォトマスク保管容器の中に供給することを含み、保管流体はフォトマスクに対して本質的に不活性である。そして、本方法は、容器開口を開くことおよび、保管流体をフォトマスク表面から除去するようにフォトマスクを保管容器から取り出している間じゅう、フォトマスクの表面をアルコール含有ガスと接触させることを含む。
【００１５】
本方法は、フォトマスクを保管容器から取り出している間、フォトマスク表面に当たるガスの流れを維持すること、および、マスク表面と保管流体の表面からある距離だけ下のところとの間でアルコール含有ガスの濃度の差を維持することをさらに含むことができる。
【００１６】
保管容器は、流体ポートを含むことができ、さらに、本方法は、保管容器にたまった可能性がある粒子を除去するために、フォトマスクを保管容器から取り出すより前に保管容器の中に液体を導入することを含むことができる。
【００１７】
保管流体は、好ましくは水のような液体を含み、この水は、水の導電性を高める、または水の表面特性を変える添加物を含むことができる。この添加物には、アンモニア、硫酸カリウム、塩化アルミニウム、およびこれらの組合せがある。
【００１８】
さらに他の態様では、本発明は、フォトマスクを保管し輸送するための装置に向けられ、本装置は、流体の漏れない壁、フォトマスクをフォトマスク保管容器に出し入れするための開口、および保管流体用の封止可能な入口を有するフォトマスク保管容器を備える。開口を通してフォトマスクを保管容器の中に入れることができ、さらに、フォトマスクに対して本質的に不活性でかつフォトマスク汚染の本質的に無い環境をフォトマスクのまわりに実現するように、入口を通して保管流体を容器の中に導入することができる。
【００１９】
本装置は、好ましくは、保管流体のフォトマスクの表面との接触面積を最大にすることができるように、保管容器の内壁から間隔を開けてフォトマスクを配置するための縁保護具を含む。
【００２０】
新規であると考えられる本発明の特徴および本発明の特徴的な要素は、添付の特許請求の範囲の特徴で明らかになる。図は、例示の目的のためだけのものであり、一定の比率で描かれていない。しかし、本発明自体、すなわち本発明の設計および動作方法は、添付の図面に関連して行われる次の詳細な説明を参照して、最適に理解することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施形態の説明において、本明細書で図１〜５の図面を参照する。これらの図面で、同様な数字は本発明の同様な特徴を参照している。
【００２２】
本発明は、レチクルまたはフォトマスクを流体環境中で輸送し、保管するための手段および方法を提供する。マスクの処理および検査が完了し、リソグラフィの製造施設に送る用意が完了すると、この環境を導入することができる。ステッパで使用する前に、低濃度のアルコールを含むガス相を処理チャンバに導入しながら、マスクを流体保管容器からゆっくりと引き出すことができる。これによって、流体および存在する可能性のあるどんな粒子もマスク表面から除去される。これは、好ましくは、露光用マスク・チャックのできるだけ近くで、より好ましくはステッパと同じ環境で行われる。必要であれば、アルコール乾燥処理で残ったどんな微量の有機物も除去するように、露光より前にマスクのＵＶ／オゾン洗浄を行うことができる。
【００２３】
流体をマスク保管環境に使用するために、本発明は、流体漏れがなく保管流体と共存可能であり、かつウェーハ露光の準備が完了しているようにマスクの容易な取出しおよび洗浄を可能にするレチクルまたはフォトマスク保管容器を提供する。両方のことがこの開示で取り扱われる。
【００２４】
フォトマスク用の保管容器としての携帯ケースまたはボックス２０の好ましい実施形態を、図１、２、３および４に示す。ボックス２０は、所望のフォトマスクを収容できる十分な大きさに作られており、一般に、フォトマスクの寸法は、６インチ×６インチ×０．２５インチ（１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍ×６．３５ｍｍ）である。四角形のフォトマスク２２の直角の角２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄが、ボックス２０の内側の角にある可撓性の面取りされた縁保護具２４の対応する切欠きで保持されている。可撓性面取り縁保護具２６は、ボックスの内側の側縁部２０ｃ、２０ｄに沿って位置し、マスク２２の側縁に接触している。追加の面取り縁保護具２６を、ボックス２０の上および下の内側縁部に沿って位置付けすることができる。縁保護具２４、２６は、フォトマスク２２と最小限に接触し、ボックス２０の内面から間隔を開けてフォトマスク２２を配置し、かつボックス内でのマスク２２の滑動を防止する。フォトマスク２２の前面（表面）２２”および裏面（表面）２２’とボックスの対応する前の面２０ｂおよび後ろの面２０ａとの間、およびフォトマスク２２の側縁とボックス２０の対応する側端部２０ｃ、２０ｄとの間に、スペースが存在している。フォトマスク２２の適切な懸架を行うことの他に、エッジ保護具２４、２６は、ボックス２０の内部の体積を減少させて保管流体の量を減少させる。保管流体３８は、導入されたとき、フォトマスク２２の表面２２’、２２”とボックス２０の内面の間のボックス２０のスペースを基本的に満たし、フォトマスクの前面２２”および裏面２２’に接触する。ボックス２０は、ボックス２０が受ける内圧および外圧に耐えるように組み立てられるべきであり、その壁は、重合体、低ガス放出ポリカーボネイト、またはステンレス鋼のような金属などの任意の適切な材料で作ることができる。また、その寸法および材料は、好ましくは、導電材料または知られている実施形態を使用して、静電気放電（ＥＳＤ）事象を最小限にすべきである。
【００２５】
出し入れを行うために、ボックスはカバーまたは蓋２８を含み、この蓋２８は、通常、保管流体３８に対して不活性な可撓性重合体または他の封止材で作られたガスケットで封止されている。フォトマスクの挿入および取出しを行うために、蓋２８は、ボックス２０から完全に取り外すことができてもよく、または蝶番で接続されていてもよい。クリップまたは他の固定手段を使用して、蓋を所定の位置に固定することができる。
【００２６】
保管流体３８は、ボックス２０の上端および下端にそれぞれ位置付けされた入口ポート３２または出口ポート３０によってボックス２０の中に充填され、また排出される。場合によっては、ポート３０、３２各々は、保管流体３８が通過するときにその保管流体３８から不純物を除去するフィルタ３４および開口を封止する弁３６を含む。流体充填および排出を可能にするように他のポートを追加して設けることができる。ボックス２０は、流体漏れがなく、保管流体３８を充填し直すことのない長い期間を可能にすべきである。
【００２７】
保管流体３８は、好ましくは水のような液体であるが、石英、クロムおよびＭｏＳｉなどのマスク製作で使用される材料と共存可能、すなわち不活性でなければならない。流体のゼータ電位を調整するだけでなくＥＳＤを減少させるように保管流体３８を導電性にするために、非常に薄いアンモニア、塩化アルミニウム、または硫酸カリウムなどの導電性を高める微量の添加物を加えることができる。また、粒子がマスク表面に確実にくっつかないようにするために、ゼータ電位を調整することが好ましい。さらに、粒子がマスク表面２２’、２２”に確実にくっつかないようにするために、表面活性剤、凝集剤、またはキレート剤のような重合体を表面改質特性を高めるための添加物として水に加えることができる。表面活性剤は、溶液の表面張力および粘性を減少させ、したがってマスク表面２２’、２２”の境界層を減少させて粒子がくっつきにくいようにするので、有益であるかもしれない。凝集剤は、粒子の表面特性を変えて、粒子を、マスク表面２２’、２２”ではなく、互いにくっつき合いやすくする傾向があり、そして結果として、最終的に、システムから水で洗い流すのがより簡単なより大きな粒子を作ることになる。凝集剤と同様に、キレート剤は、特定の型の粒子の表面電荷を変えて（これらの粒子が互いに引き付け合うようにすることなく）、１つのゼータ電位に調整された溶液が他の材料のために機能することができるようにする。例えば、塩基性溶液は、一般に、二酸化珪素粒子がマスク２２の表面２２’、２２”にくっつかないようにゼータ電位を調整するために使用される。しかし、金属粒子は、塩基性溶液中でマスク２２の表面２２’、２２”に容易にくっつく。キレート分子は、金属粒子に付着し対応して表面電荷を変えて金属粒子がマスク２２の表面２２’、２２”にくっつくのを防止するように、調整することができる。さらに、ゼータ電位差を利用し、かつ粒子をマスク表面２２’、２２”から離すように引き付けるために、ボックス２０内面とフォトマスク２２の間のボックス２０内に膜を配置することができる。この膜は、酸化アルミニウムの簡単な膜でもよく、またはマスク表面２２’、２２”から離れるように粒子を引っ張る電圧場を生じさせる一定電荷を有する金属膜のようなもっと複雑なものでもよい。マスク表面２２’、２２”を清浄に保つためにゼータ電位の影響が最大であるように、保管流体３８と膜の両方が構成されるべきである。
【００２８】
作業中に、蓋２８はボックス２０から取り外され、フォトマスク２２は、内側の下縁部品２４に押し付けて配置される。それから、上縁部品２４が挿入され、蓋２８がボックス２０に封止される。保管流体３８は、好ましくは、下のポート３２を通してゆっくりと導入されて、保管流体３８中に気泡を生じることなくフォトマスクとボックス壁の間のスペースを満たす。最初にフォトマスク表面２２’、２２”を改質する流体を導入することが望ましいことがある。例えば、オゾン化水によるマスクの洗浄または乾燥ＵＶ／オゾン洗浄は、表面を親水性にし、その結果として気泡を生じ難く、または粒子を吸着し難くする。ボックス２０の表面も親水性であるように改質するために、ボックス２０に同様な処理が必要であることがある。また、ボックス２０をオゾンでフラッシングすると、元のＤＩ水供給に存在することがあるどんなバクテリアも殺すという追加の利点があるだろう。このバクテリアは、ことによると長期保管中にマスク２２を汚染するかもしれない。さらに、この最初のフラッシング中にメガソニックまたは超音波システムにボックス２０およびフォトマスク２２を同時にかけて、微量の粒子を除去するのを助けることができる。入口ポート３２の１つまたは複数のフィルタ３４は、導入される保管流体３８中の微量のイオン種、有機物、および粒子を除去するために設けられている。これが行われているときに、ボックス２０の反対側の上端のポート３０の弁１６を開けられて、ボックス２０内のどんなガスも排出し、かつ、閉じ込められた空気ポケットが形成されることなく、保管流体３８がボックス２０を完全に満たすことができるようにする。保管流体３８が全ての空気に取って代わったとき、両方のポートの弁３６が閉じられ、そのとき、ボックス２０は、フォトマスク２２の気密封止された保管輸送用容器となる。リソグラフィ・ステッパで露光のために必要とされるまで、マスク２２はこの状態のままであってもよい。
【００２９】
マスク２２をボックス２０から取り出すときには、ボックス２０を開く前に、最初に、十分な流体の流れを生じさせるようにポート３２を通してボックス２０の底に水供給源を導入して、ボックス２０の底にたまっている可能性のある粒子を除去し、パージし、そして開いているボックス２０の上部ポート３０からフラッシングすることができる。それから、蓋２８および上縁部品２４を取り除き、そして、図５に示すように、保管流体３８およびボックス２０から方向４０の方へ上に向かってフォトマスク２２を動かす。小さな滴がフォトマスク２２の表面２２’、２２”のしみになるのを防止するために、空気／流体界面３８ａのマスク表面２２’、２２”全体にわたってガス５０を吹きつけることができる。前および後ろのフォトマスク表面２２”および２２’全体にわたってガス５０が吹きつけられるように、複数のノズル５２が設けられる。これは、U.S.PatentNo.6,029,371に記載されているようにＧｉｂｂｓ−Ｍａｒａｎｇｏｎｉ現象を利用する。この現象は、流体槽に２つの変化する表面張力領域があるときに生じる。そのような効果は、シリコン・ウェーハの乾燥に応用されている。本発明では、有機溶剤を含む乾燥ガス、例えばイソプロピル・アルコール（ＩＰＡ）のようなアルコールに富んだ蒸気がノズル５２を通して導入される。好ましくは、約８０から１７０℃の温度の乾燥ガス中に体積ＩＰＡで約３％から８０％の濃度で、より好ましくは１００から１２０℃で約４０から５０％ＩＰＡの濃度で、窒素のような不活性ガスと混合されたＩＰＡを、乾燥ガスは含む。（「良好な」乾燥ガスに関してはU.S.Patent No.6,029,371の表１にも記載されている。）マスク２２’、２２”表面で、アルコール濃度は非常に高くなり、このために、表面張力はより小さくなる。保管流体３８の表面から深いほど、アルコール濃度は低くなる。この濃度差は望ましく、そして、マスク２２の抜き取りの間じゅう、アルコールが保管流体３８の中に拡散する時間が確実に無くなるように保管流体３８の流れを維持することによって、この濃度差を大きくすることができる。この濃度差は、また、２つの領域の表面張力の差に相当し、そして今度は、この差は、マスク表面２２’、２２”から離れるように流れを引き起こす。この流れは、水およびどんな残留粒子もマスク２２の表面２２’、２２”から除去する。乾燥し粒子の無いステッパ露光チャンバにマスク２２を導入することができるように、マスク表面２２’、２２”から水が強制的に除去される。マスクの露光が完了したとき、マスク２２は、流体３８で満ちているボックス２０に戻すことができる。
【００３０】
このように、本発明は、マスク表面汚染物の発生を著しく減少させ、保管流体を充填し直すことの無い保管期間の延長を可能にし、さらに、マスクが保管流体から取り出されるときにマスク表面を洗浄する、フォトマスクを保管し輸送するためのシステムおよび方法を提供する。
【００３１】
本発明は、特定の好ましい実施形態に関連して詳細に説明したが、前記の説明を考慮して多くの代替え物、修正物および変形物が当業者には明らかになることは明白である。したがって、添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲および精神の範囲内に含まれるどんなそのような代替え物、修正物および変形物も含む、と考えられる。
【００３２】
このように、本発明を説明したので、特許請求の範囲は、添付の通りである。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明のフォトマスク保管容器の好ましい実施形態を示す前面断面正面図である。
【図２】図１の線２−２に沿ったフォトマスク保管容器を示す断面図である。
【図３】図１のフォトマスク保管容器を示す上面図である。
【図４】図１の線３−３に沿ったフォトマスク保管容器を示す断面図である。
【図５】本発明の好ましい方法に従って、図１のフォトマスク保管容器から引き出されるフォトマスクの上部の側面正面図である。
【符号の説明】
【００３４】
２０  ボックス
２２  フォトマスク
２４  縁保護具
２６  縁保護具
２８  蓋
３０  出口ポート
３２  入口ポート
３４  フィルタ
３６  弁
３８  保管流体
５２  ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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