(57)【要約】【課題】使用領域の各濃度に渡って分光透過率の平坦性が良好なＮＤフィルタを得る。【解決手段】最高濃度部の傾きに対応する分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００の値は、（ａ）１．０５、（ｂ）１．０、（ｃ）０．９２、（ｄ）０．８５である。使用領域である０〜５ｍｍにおいて、透過率平坦性を比較すると最高濃度部の傾きが正（Ｔ７００／Ｔ４００＞１）である（ａ）は、位置４〜５ｍｍで平坦性が１０％を超過しており好ましくない。傾きが０（Ｔ７００／Ｔ４００＝１）である（ｂ）も６％を若干超え、好ましくない。（ｃ）は０〜５ｍｍで平坦性が６％以下で良好である。（ｄ）は位置５ｍｍを越えると平坦性が悪化しているが０〜５ｍｍでは良好である。最高濃度部の分光透過率の傾きを負、即ち分光透過率比では０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５にする。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層して光減衰膜を形成し、濃度が一方向に連続的に変化する領域を有するＮＤフィルタであって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、前記光減衰膜は０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように調整した膜構成を有することを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記光減衰膜は前記分光透過率の平坦性が良い平坦部と、前記分光透過率の平坦性が悪い非平坦部とから成り、前記高濃度側端部は前記非平坦部に含むことを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記光吸収層と前記誘電体層は前記高濃度側から低濃度側に向けて連続的に膜厚が薄くなるように構成したことを特徴とする請求項１又は２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
前記光吸収層はＴｉＯｘ膜であり、前記誘電体層はＡｌ2Ｏ3膜、ＳｉＯ2膜、ＳｉＯ膜の何れかから選択し、最表層の反射防止膜はＭｇＦ2膜又はＳｉＯ2膜であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載のＮＤフィルタ。
【請求項５】
基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層した光減衰膜を形成し、濃度が連続的に一方向に変化する領域を有するＮＤフィルタの製造方法であって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように前記光減衰膜の成分を調整することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層して光減衰膜を形成し、濃度が一方向に連続的に変化する領域を有するＮＤフィルタであって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、前記光減衰膜は０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように調整した膜構成を有するＮＤフィルタと、該ＮＤフィルタを取り付けた光量調節部材と、該光量調節部材を駆動する駆動手段とを有し、前記光量調節部材を駆動して開口部を通過する光量を調節するように構成した光量絞り装置であって、前記ＮＤフィルタは前記光減衰膜の前記分光透過率の平坦性が良い平坦部と、前記分光透過率の平坦性が悪い非平坦部を有し、該非平坦部は前記光量調節部材への取付代となる領域に配置したことを特徴とする光量絞り装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カメラ等の撮影装置や光学機器等に使用されるＮＤフィルタ及びその製造方法及び光量絞り装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、デジタルカメラやビデオカメラ等の光学機器には、その光量調節のために絞り装置が組み込まれている。そして、この絞り装置においては、通常では絞り羽根を用いて光量調節することが行われている。しかし、特に高輝度被写体に対しては、その絞り開口部が小さくなり過ぎると回折による解像力の劣化が生ずる。
【０００３】
そのため、絞り開口部の大きさが小さくなり過ぎることを防止するために、光量調節部材として光減衰膜から成るＮＤ（Neutral Density）フィルタ等を用いて、通過光量を減少させることにより画質低下を防止している。具体的には、絞り羽根の一部に別部材のＮＤフィルタを接着することにより、被写体が高輝度の時に絞り開口部を極端に小さくなるまで絞り込まなくとも、ＮＤフィルタにより通過光量を減少するようにしている。
【０００４】
また近年では、撮像素子の感度が向上するに従い、ＮＤフィルタの濃度を濃くすることにより光の透過率を更に低下させ、高感度のＣＣＤ、ＣＭＯＳ等から成る固体撮像素子を使用した場合でも、絞り開口部が小さくなり過ぎないようにしている。
【０００５】
しかし、このようにＮＤフィルタの濃度が濃くすると、ＮＤフィルタを透過した光束と、ＮＤフィルタが存在しない部分を通過した光束の光量差が大きく異なることになる。そのため、画面内で明るさが異なるシェーディング現象が生じたり、解像度が低下してしまうという欠点がある。この欠点を解決するために、ＮＤフィルタの濃度を光軸に対してＮＤフィルタを移動させた際に、一方向に透過率が変化するような分布とする必要がある。
【０００６】
一般的なＮＤフィルタは、フィルム状を成すセルロースアセテート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、塩化ビニル等から成る基材が用いられる。この基材中に、光を吸収する有機色素又は顔料を混入して練り込むか、基材に光を吸収する有機色素又は顔料を塗布して作製される。しかし、これらの方法では同一フィルタ内で濃度が変化するグラデーション勾配を有するＮＤフィルタを作製することは極めて困難である。
【０００７】
そこで、特許文献１に示すように、このグラデーション勾配を有するＮＤフィルタを銀塩フィルムに撮影して作製するマイクロ写真法が提案されている。しかし、近年のＣＣＤ等の固体撮像素子の更なる高感度化、小型化、高画質対応に伴い、銀塩粒子による光の散乱の影響は無視できない。そこで、特許文献２に示すように基板に対して所定の間隔をおいて配置したスリットマスクを用いて、ＮＤ膜を蒸着する蒸着法が提案されている。
【０００８】
ＮＤフィルタの重要な特性としては、透過率、透過率平坦性、反射率等が挙げられる。透過率平坦性とは各波長における測定した分光透過率の変化の大きさを示す値であり、次式で表される最大透過率と最小透過率の差が小さいほど、透過率平坦性の値は小さくなり、分光透過率の平坦性が良いことを示している。
透過率平坦性＝（最大透過率−最小透過率）／（５００〜６００ｎｍ平均透過率）
【０００９】
分光透過率はＮＤフィルタの透過率を各波長ごとに測定したものであり、蒸着膜を構成する材料や膜厚、成膜条件等により変化するが、均一濃度のＮＤフィルタであれば、例えば図１６に示すような透過率曲線が得られる。
【００１０】
ＮＤフィルタにおいては、可視領域である波長４００〜７００ｎｍの範囲で分光透過率の変化が少ない、つまり上述の透過率平坦性が良いことが要求され、かつ低反射であることが望ましい。従って、それらの条件を満たすような膜構成や成膜条件を調整する必要がある。
【００１１】
この透過率平坦性は小さい方が良く、一般的なカメラやビデオカメラでは数〜１０％程度であるが、６％以下であればより好ましい。
【００１２】
【特許文献１】特開平６−１７５１９３号公報
【特許文献２】特開２００４−６１９００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかし、上述したスリットマスクを用いた蒸着法により作製したグラデーション勾配を有するＮＤフィルタにおいては、連続的に膜厚が変化しているために、図１７に示すように各濃度Ｄ（０．１〜１．５）で異なる分光透過率となる。なお、濃度Ｄは透過率ＴからＤ＝ｌｏｇ10（１／Ｔ）で求めた値である。
【００１４】
当然のことながら、グラデーション勾配を有するＮＤフィルタにおいても、各濃度Ｄにおいて透過率平坦性が小さく良好であることが要求されるため、均一濃度のＮＤフィルタと比較すると最適な膜構成や成膜条件を見い出すことが格段に困難となる。しかも、グラデーション部の膜厚はスリット開口部からの位置と所定の相関をもって自動的に決定してしまうため、各濃度Ｄにおいて膜構成を変えることができず、全領域で透過率平坦性を良好にすることは至難である。
【００１５】
本発明の目的は、上述の問題点を解消し、使用領域の各濃度に渡って分光透過率の平坦性が良いＮＤフィルタ及びその製造方法及び光量絞り装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するための本発明に係るＮＤフィルタの技術的特徴は、基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層して光減衰膜を形成し、濃度が一方向に連続的に変化する領域を有するＮＤフィルタであって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、前記光減衰膜は０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように調整した膜構成を有することにある。
【００１７】
また、本発明に係るＮＤフィルタの製造方法の技術的特徴は、基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層した光減衰膜を形成し、濃度が連続的に一方向に変化する領域を有するＮＤフィルタの製造方法であって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように前記光減衰膜の成分を調整することにある。
【００１８】
更に、本発明に係る光量絞り装置の技術的特徴は、基板上に少なくとも光吸収層と誘電体層を交互に積層して光減衰膜を形成し、濃度が一方向に連続的に変化する領域を有するＮＤフィルタであって、波長４００ｎｍの分光透過率をＴ４００、波長７００ｎｍの分光透過率をＴ７００とした場合に、分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００が前記連続的に濃度が増加する領域の高濃度側端部において、前記光減衰膜は０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５となるように調整した膜構成を有するＮＤフィルタと、該ＮＤフィルタを取り付けた光量調節部材と、該光量調節部材を駆動する駆動手段とを有し、前記光量調節部材を駆動して開口部を通過する光量を調節するように構成した光量絞り装置であって、前記ＮＤフィルタは前記光減衰膜の前記分光透過率の平坦性が良い平坦部と、前記分光透過率の平坦性が悪い非平坦部を有し、該非平坦部は前記光量調節部材への取付代となる領域に配置したことにある。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係るＮＤフィルタ及びその製造方法及び光量絞り装置によれば、使用領域の各濃度に渡って分光透過率が十分に平坦であるため、これにより各色の透過光量の均一性が向上し、撮像装置の高画質化が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明を図１〜図１５に図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
図１は本実施例における撮影光学系の構成図を示し、レンズ１、光量絞り装置２、レンズ３〜５、ローパスフィルタ６、ＣＣＤ等から成る固体撮像素子７が順次に配列されている。光量絞り装置２においては、絞り羽根支持板８に一対の絞り羽根９ａ、９ｂが可動に取り付けられている。絞り羽根９ａには、絞り羽根９ａ、９ｂにより形成される略菱形形状の開口部を通過する光量を減光するためのＮＤフィルタ１０が接着されている。
【００２１】
図２はこのＮＤフィルタ１０を製造するための真空蒸着機におけるチャンバの構成図を示している。チャンバ２１内には、蒸着源２２、回転可能な蒸着傘２３が設けられ、この蒸着傘２３には基板を固定するための治具２４が設けられている。蒸着傘２３に固定された基板は、この蒸着傘２３と共に回転し成膜が行われる。
【００２２】
図３は治具２４の断面図であり、この治具２４の成膜面側には厚さ７５μｍのシート状のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）から成る基板３１が取り付けられている。更に、厚さ５ｍｍのスペーサ３２を介して、基板３１の一部を遮蔽するようにスリット３３ａを有するスリットマスク３３が設けられている。
【００２３】
基板３１上にスリットマスク３３がセットされた治具２４を、図２に示すチャンバ２１内にセットし、ヒータにより基板温度を１００℃に加熱しながら真空引きを行う。チャンバ２１内においては、基板３１上に成膜して、一度に多数枚のＮＤフィルタ１０を製作するため、蒸着膜厚や基板温度を均一にするため蒸着傘２３は回転しており、蒸着傘２３と共に治具２４及び基板３１も回転している。
【００２４】
図４は基板３１上にスリットマスク３３を配置した状態の平面図を示し、基板３１上の蒸着面側にはスペーサ３２を挟んで３本の帯状のスリット３３ａを有するスリットマスク３３が配置される。蒸着源２２と基板３１との位置関係から、蒸着する蒸着粒子はスリットマスク３３を廻り込んで基板３１に到達したり、スリットマスク３３に遮られて基板３１まで到達できなかったりすることになる。
【００２５】
これにより、図５に示すようなグラデーション勾配を有する膜厚分布を得ることとなり、膜厚が厚くなるほど光透過率は低く、つまり濃度が濃くなり膜厚分布と同形状の濃度分布を得ることができる。
【００２６】
膜厚分布はスリットマスク３３のスリット３３ａの幅や形状、基板３１とマスク３３との距離などによって異なるものとなる。これらを調整し、基板３１から切り出すことにより、所望の濃度とグラデーション幅のグラデーション勾配を有するＮＤフィルタ１０を得ることができる。本実施例においては、スリット３３ａの形状は帯状の直線としたが、作製すべきＮＤフィルタ１０のグラデーション濃度分布によって、鋸歯型や櫛型等の様々な形状のスリットマスクを用いることができる。
【００２７】
図６は本実施例におけるＮＤフィルタ１０の膜構成図を示しており、基板３１上には誘電体膜であるＡｌ2Ｏ3膜４１と、可視光を吸収するための可視光吸収膜であるＴｉＯｘ膜４２が交互に積層されている。更に、最表層である第９層に反射防止膜としてＭｇＦ2膜４３が積層されている。本実施例においては、誘電体膜にＡｌ2Ｏ3膜４１を用いたが、ＳｉＯ2膜、ＳｉＯ膜を用いてもよい。また、反射防止膜にはＭｇＦ2膜４３の代りにＳｉＯ2膜を用いることもできる。更に、本実施例においては計９層の膜構成としたが、層数は９〜１３層で、特性や生産性に応じて使い分けることができる。
【００２８】
グラデーション勾配を有するＮＤフィルタ１０においては、フィルタ面内で濃度勾配を設けるために、図７に示すように各層の膜厚が連続的に変化するように薄膜を積層している。しかし、膜厚が変化すれば光の干渉も変化してくるために、従来例で説明した図１７に示すように各濃度毎に異なった分光透過率曲線が存在し、つまり透過率平坦性も場所により異なることとなる。
【００２９】
本発明者らは各濃度において透過率平坦性を求め、位置、濃度との関係を精査し、また膜構成を変化させることにより透過率平坦性の調整を行った。これにより、最高濃度部の分光透過率の傾きを、０を含まない所定の範囲内の負の値に調整することで、グラデーション部の分光透過率曲線をより平坦に調整できることを見い出した。
【００３０】
ここで、分光透過率の傾きは波長４００ｎｍにおける分光透過率をＴ４００とし、波長７００ｎｍにおける分光透過率をＴ７００とし、その比、即ち分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００と対応させて表す。Ｔ７００／Ｔ４００＝１で傾きは０、Ｔ７００／Ｔ４００＞１で傾きは正、Ｔ７００／Ｔ４００＜１で傾きは負となる。
【００３１】
図８は分光透過率比のグラフ図を示し、最高濃度部の傾きを調整することにより、グラデーション部の傾きに対応する分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００を示している。このグラフ図は最低濃度が０．１であるグラデーション勾配を有するＮＤフィルタ１０の特性を表し、最低濃度部を位置０ｍｍとし５ｍｍまでが使用領域である。
【００３２】
図９は図８のＮＤフィルタ１０の平坦性を示したグラフ図である。図８、９において、それぞれの最高濃度部の傾きに対応する分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００の値は（ａ）１．０５、（ｂ）１．０、（ｃ）０．９２、（ｄ）０．８５である。
【００３３】
このＮＤフィルタ１０の使用領域である０〜５ｍｍにおいて、透過率平坦性を比較すると、最高濃度部の傾きが正（Ｔ７００／Ｔ４００＞１）である（ａ）は、位置４〜５ｍｍで平坦性が１０％を超過して悪化しており好ましくない。傾きが０（Ｔ７００／Ｔ４００＝１）である（ｂ）も、６％を若干超えているため好ましくない。（ｃ）は０〜５ｍｍで平坦性が６％以下で良好である。（ｄ）は位置５ｍｍを越えると平坦性が大きくなり悪化しているが、０〜５ｍｍで平坦性が６％内に入っているので良好である。
【００３４】
このように、使用領域である０〜５ｍｍにおいて平坦性を６％以下の良好な状態にするには、最高濃度部の分光透過率の傾きを負、即ち分光透過率比では０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５にすることが好ましい。更に望ましくは、０．９５≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．９とすればよい。
【００３５】
図１０はＮＤフィルタ１０の分光透過率比から求められる傾きのグラフ図を示し、ＴｉＯｘ膜４２のｘの値により上述したＴ７００／Ｔ４００で表される。（Ａ）はＴ４００≒Ｔ７００で分光透過率比は１であり傾きは０、（Ｂ）はＴ４００＜Ｔ７００で分光透過率比は１よりも大きく傾きは正、（Ｃ）はＴ４００＞Ｔ７００で分光透過率比は１よりも小さく傾きは負となる。
【００３６】
傾き０付近の平坦性が最も小さく良好であり、正方向及び負方向に大きくなるほど平坦性は大きくなり悪化する。ここで、ＴｉＯｘ膜４２におけるｘの好ましい値は０〜２であり、概ねｘ＝１．２以下のときに波長の短い光の透過率が低くなるように、分光透過率曲線が傾く傾向がある。
【００３７】
本実施例においては、上述した最高濃度部の分光透過率の傾きを０を含まない所定の範囲の負の値に調整することにより、最高濃度部以外の平坦性が良好になる。実際に傾きを変える方法としては、蒸着中のチャンバ２１内の酸素分圧を調整し、酸素分圧を高くすると傾きは負方向に傾き、酸素分圧を低くすると正方向に傾く。また、分光透過率の傾きはチャンバ２１の大きさや清浄度で変ってくるため、それも考慮して酸素分圧の値を調整する必要がある。
【００３８】
本実施例においては、図８の（ｃ）に示すように最高濃度部の分光透過率比が０．９２になるように酸素分圧を調整した。そして、Ａｌ2Ｏ3膜４１とＴｉＯｘ膜４２を交互に積層し、最高濃度部の濃度が１．５、濃度０．１〜１．５のグラデーション幅が６ｍｍの蒸着膜を成膜する。その後に、スリットマスク３３を取り外し、基板３１の全面に最表層としてＭｇＦ2膜４３を光学膜厚でλ／４（λ＝５４０ｎｍ）成膜し、図１１に示すようなＮＤフィルタシート５１を作製し、グラデーションを有する光学膜厚を成膜する。
【００３９】
このようにして得られたＮＤフィルタシート５１を図１２に示すように三角形のフィルタ形状に切断して、ＮＤフィルタ１０を作製した。図１２中のＸ０〜Ｘ１は濃度Ｄが０．１〜１．３にグラデーションで変化する使用領域であり、Ｘ１〜Ｘ２は濃度１．５付近の最高濃度部である。
【００４０】
本実施例において製作したＮＤフィルタ１０の濃度分布を、測定スポット直径０．１ｍｍの顕微分光測定器を使用して測定すると、図９の（ｃ）の透過率平坦性を示す。高濃度側の５ｍｍを越える位置では、平坦性が低下し８％以上になっているが、５ｍｍ以下の使用領域では５％以下で良好な平坦性となっていることが分かる。
【００４１】
このようにして作製したＮＤフィルタ１０を、図１３に示すようにＸ１〜Ｘ２の領域を絞り羽根の開口領域に侵入しないように絞り羽根９ａに重ね、重なり部分を絞り羽根９ａに接着する。これにより、開口部の透過率平坦性が良好な絞り装置を得ることができる。
【００４２】
また、図１４は０〜４ｍｍが使用領域のＮＤフィルタ１０の特性のグラフ図を示す。５ｍｍ付近の最高濃度部が均一濃度領域になっていないグラデーション勾配を有する一点鎖線で示すＮＤフィルタ１０においても、最高濃度部の分光透過率の傾きを調整することで、実線で示すように低濃度側の平坦性を良好にすることができる。そして、最高濃度部を絞り羽根９ａとの接着代とすることで、透過率平坦性の優れた光量絞り装置を得ることができる。
【００４３】
なお、本実施例においては平坦性の悪い領域を接着代として利用したが、これに限定されるものではなく、例えば接着をしない場合でも平坦性の悪い部分を光束の通過しない領域に配設すれば、光量絞り装置として同等の効果が得られる。
【００４４】
比較例として、上述した蒸着中の酸素分圧のみを調整した以外は本実施例と同様とし、最高濃度部の分光透過率比を０．８〜１．１まで変化させてグラデーション勾配を有するＮＤフィルタを製作した。
【００４５】
図１５はこのとき得られたグラデーション勾配を有するＮＤフィルタの透過率平坦性を示している。この結果から、透過率平坦性を６％内に抑制し、良好な特性とするには、最高濃度部の分光透過率比Ｔ７００／Ｔ４００を０．９７≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．８５にすればよいことが分かる。
【００４６】
更に望ましくは、０．９５≧Ｔ７００／Ｔ４００≧０．９とすれば、グラデーション部の分光透過率が平坦であるグラデーション勾配を有するＮＤフィルタを得ることができる。このＮＤフィルタを用いて光量絞り装置を作製し、その光量絞り装置を撮影装置に組み込むことで、高画質な撮影装置が得られる。
【００４７】
なお、本発明は上述の実施例に基づいて説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】撮影光学系の構成図である。
【図２】真空蒸着機のチャンバの構成図である。
【図３】治具の断面図である。
【図４】基板上にスリットマスクを配置した平面図である。
【図５】膜厚分布のグラフ図である。
【図６】ＮＤフィルタの膜構成図である。
【図７】ＮＤフィルタの断面図である。
【図８】分光透過率比のグラフ図である。
【図９】ＮＤフィルタの分光透過率の平坦性のグラフ図である。
【図１０】分光透過率比から求められる傾きのグラフ図である。
【図１１】ＮＤフィルタシートの平面図である。
【図１２】ＮＤフィルタの平面図である。
【図１３】絞り羽根にＮＤフィルタと取り付けた状態の構成図である。
【図１４】ＮＤフィルタの分光透過率平坦性のグラフ図である。
【図１５】ＮＤフィルタの分光透過率平坦性のグラフ図である。
【図１６】分光透過率平坦性のグラフ図である。
【図１７】分光透過率平坦性のグラフ図である。
【符号の説明】
【００４９】
１、３〜５  レンズ
２  光量絞り装置
６  ローパスフィルタ
７  固体撮像素子
８  絞り羽根支持板
９ａ、９ｂ  絞り羽根
１０  ＮＤフィルタ
２１  チャンバ
２２  蒸着源
２３  蒸着傘
２４  治具
３１  基板
３２  スペーサ
３３  スリットマスク
３３ａ  スリット
４１  Ａｌ2Ｏ3膜
４２  ＴｉＯｘ膜
４３  ＭｇＦ2膜
５１  ＮＤフィルタシート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図６】
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【図７】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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