(57)【要約】【課題】  露光点データに基づいてマイクロミラーにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。【解決手段】  基板１２上のマイクロミラーの仮想描画軌跡に対応する露光点データを複数の仮想描画軌跡についてそれぞれ取得し、その取得した露光点データを圧縮してテンプレート記憶部５６ｂに記憶し、実際の露光画像の露光の際の基板１２上のマイクロミラーの描画軌跡情報を複数取得し、その複数の描画軌跡情報のうちの一部の描画軌跡情報を選択し、その選択した描画軌跡情報に近似する仮想描画軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画軌跡情報に対応する露光点データを解凍して取得し、その解凍した露光点データを用いて上記複数の描画軌跡情報に対応する露光点データを取得する。【選択図】          図５
2007079383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得するための仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを予め取得するとともに、前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係を予め取得し、
前記取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施し、
該圧縮処理を施した複数の圧縮処理済仮想描画データを予め記憶し、
前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための条件であって、互いに異なる前記実位置関係に基づく描画データ取得条件を複数取得し、
該取得した描画データ取得条件のうちの一部の描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件を取得し、
該取得した仮想描画データ取得条件に対応する圧縮処理済仮想描画データを前記記憶した複数の圧縮処理済仮想描画データの中から前記対応関係に基づいて選択し、
該選択した圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施し、
前記取得した複数の描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件をそれぞれ特定し、
前記解凍処理を施した仮想描画データの中から前記特定した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、
該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
【請求項２】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応する仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ予め取得するとともに、該仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め取得し、
前記取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施し、
該圧縮処理を施した複数の圧縮処理済仮想描画データを予め記憶し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を複数取得し、
該取得した複数の描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該取得した複数の描画点データ軌跡情報の一部の描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得し、
該取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する圧縮処理済仮想描画データを前記記憶した複数の圧縮処理済仮想描画データの中から前記対応関係に基づいて選択し、
該選択した圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施し、
前記取得した複数の描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定し、
前記解凍処理を施した仮想描画データの中から前記特定した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、
該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得することを特徴とする描画データ取得方法。
【請求項３】
前記基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、
該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項２記載の描画データ取得方法。
【請求項４】
請求項１から請求項３いずれか１項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項５】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて前記画像を表す原画像データから前記描画データを取得するための仮想的な条件であって、互いに異なる前記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを予め取得する仮想描画データ取得部と、
前記仮想描画データ取得条件と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
前記仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施す圧縮処理部と、
該圧縮処理部により圧縮処理の施された複数の圧縮処理済仮想描画データを記憶する仮想描画データ記憶部と、
前記画像の描画の際の前記基板上の描画面と前記描画点形成領域との実位置関係に基づいて前記原画像データから前記描画データを取得するための条件であって、互いに異なる前記実位置関係に基づく描画データ取得条件を複数取得する描画データ取得条件取得部と、
該描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件のうちの一部の描画データ取得条件に近似する前記仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、
該仮想描画データ取得条件取得部によって取得された仮想描画データ取得条件に対応する圧縮処理済仮想描画データを前記仮想描画データ記憶部に記憶された複数の圧縮処理済仮想描画データの中から前記対応関係に基づいて選択する仮想描画データ選択部と、
該描画データ選択部によって選択された圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施す解凍処理部と、
前記描画データ取得条件取得部によって取得された複数の描画データ取得条件に対応する前記仮想描画データ取得条件をそれぞれ特定する仮想描画データ取得条件特定部と、
前記解凍処理部において解凍処理の施された仮想描画データの中から前記仮想描画データ取得条件特定部により特定された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得する描画データ取得部を備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
【請求項６】
描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
該仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
前記仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施す圧縮処理部と、
該圧縮処理部により圧縮処理の施された複数の圧縮処理済仮想描画データを記憶する仮想描画データ記憶部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を複数取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部によって取得された複数の描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
該描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の描画点データ軌跡情報の一部の描画点データ軌跡情報に近似する前記仮想描画点データ軌跡情報を取得する近似仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
該近似仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報に対応する圧縮処理済仮想描画データを前記仮想描画データ記憶部に記憶された複数の圧縮処理済仮想描画データの中から前記対応関係に基づいて選択する仮想描画データ選択部と、
該描画データ選択部によって選択された圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施す解凍処理部と、
前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定する仮想描画点データ軌跡情報特定部と、
前記解凍処理部において解凍処理の施された仮想描画データの中から前記仮想描画点データ軌跡情報特定部によって特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを前記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、該特定した仮想描画データを前記描画データとして取得する描画データ取得部を備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
【請求項７】
前記基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得部をさらに備え、
前記描画軌跡情報取得部が、前記検出位置情報取得部によって取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項７記載の描画データ取得装置。
【請求項８】
請求項５から７いずれか１項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法および装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
【０００５】
そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００６】
ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パターンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを各層において形成する必要がある。
【０００７】
また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを形成する必要がある。
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２３３７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにおいて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画像データに基づいて露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像データの生成に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。
【００１０】
そこで、上記のような基板の変形を想定し、その基板の変形に応じた露光画像データを画像処理装置で予め複数種類生成して露光部に予め記憶しておき、実際に露光する際に、基板の変形量の情報を取得し、その変形量に応じた露光画像データを読み出して利用することによって、上記のような生産効率の低下を招くことなく露光画像データを取得する方法が考えられる。
【００１１】
本発明は、上記のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法および装置の改良に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の第１の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得するための仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを予め取得するとともに、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係を予め取得し、その取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施し、その圧縮処理を施した複数の圧縮処理済仮想描画データを予め記憶し、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための条件であって、互いに異なる上記実位置関係に基づく描画データ取得条件を複数取得し、その取得した描画データ取得条件のうちの一部の描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する圧縮処理済仮想描画データを上記記憶した複数の圧縮処理済仮想描画データの中から上記対応関係に基づいて選択し、その選択した圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施し、上記取得した複数の描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件をそれぞれ特定し、上記解凍処理を施した仮想描画データの中から上記特定した仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得することを特徴とする。
【００１３】
本発明の第２の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいてその仮想描画点データ軌跡に対応する仮想描画データを原画像データからそれぞれ予め取得するとともに、その仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め取得し、上記取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施し、その圧縮処理を施した複数の圧縮処理済仮想描画データを予め記憶し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を複数取得し、その取得した複数の描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、その取得した複数の描画点データ軌跡情報の一部の描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する圧縮処理済仮想描画データを上記記憶した複数の圧縮処理済仮想描画データの中から上記対応関係に基づいて選択し、その選択した圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施し、上記取得した複数の描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定し、上記解凍処理を施した仮想描画データの中から上記特定した仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の第２の描画方法においては、基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。
【００１５】
本発明の描画方法は、上記本発明の第１または第２の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、その取得した描画データに基づいて基板上に画像を描画することを特徴とする。
【００１６】
本発明の第１の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域によって基板上に画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、基板上の描画面と描画点形成領域との予め設定された位置関係に基づいて画像を表す原画像データから描画データを取得するための仮想的な条件であって、互いに異なる上記位置関係に基づく複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを予め取得する仮想描画データ取得部と、仮想描画データ取得条件と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施す圧縮処理部と、圧縮処理部により圧縮処理の施された複数の圧縮処理済仮想描画データを記憶する仮想描画データ記憶部と、画像の描画の際の基板上の描画面と描画点形成領域との実位置関係に基づいて原画像データから描画データを取得するための条件であって、互いに異なる上記実位置関係に基づく描画データ取得条件を複数取得する描画データ取得条件取得部と、描画データ取得条件取得部によって取得された描画データ取得条件のうちの一部の描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得する仮想描画データ取得条件取得部と、仮想描画データ取得条件取得部によって取得された仮想描画データ取得条件に対応する圧縮処理済仮想描画データを仮想描画データ記憶部に記憶された複数の圧縮処理済仮想描画データの中から上記対応関係に基づいて選択する仮想描画データ選択部と、描画データ選択部によって選択された圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施す解凍処理部と、描画データ取得条件取得部によって取得された複数の描画データ取得条件に対応する仮想描画データ取得条件をそれぞれ特定する仮想描画データ取得条件特定部と、解凍処理部において解凍処理の施された仮想描画データの中から仮想描画データ取得条件特定部により特定された仮想描画データ取得条件に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得する描画データ取得部を備えたことを特徴とする。
【００１７】
本発明の第２の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる描画データを取得する描画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、互いに異なる複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の仮想描画軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいてその仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施す圧縮処理部と、圧縮処理部により圧縮処理の施された複数の圧縮処理済仮想描画データを記憶する仮想描画データ記憶部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を複数取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部によって取得された複数の描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する描画点データ軌跡情報取得部と、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の描画点データ軌跡情報の一部の描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得する近似仮想描画点データ軌跡情報取得部と、近似仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された仮想描画点データ軌跡情報に対応する圧縮処理済仮想描画データを仮想描画データ記憶部に記憶された複数の圧縮処理済仮想描画データの中から上記対応関係に基づいて選択する仮想描画データ選択部と、描画データ選択部によって選択された圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施す解凍処理部と、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画点データ軌跡情報をそれぞれ特定する仮想描画点データ軌跡情報特定部と、解凍処理部において解凍処理の施された仮想描画データの中から仮想描画点データ軌跡情報特定部によって特定された仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいてそれぞれ特定し、その特定した仮想描画データを描画データとして取得する描画データ取得部を備えたことを特徴とする。
【００１８】
また、上記本発明の第２の描画データ取得装置においては、基板上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する検出位置情報取得部をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得部を、検出位置情報取得部によって取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。
【００１９】
本発明の描画装置は、上記本発明の第１または第２の描画データ取得装置と、その描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。
【００２１】
なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め用意されたそれぞれ圧縮されている複数の仮想描画データセットから、使用が予想されるその一部を選択して解凍し、且つ、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係に基づいて、解凍した仮想描画データセットから最適なものを選択する方法／装置であってもよい。この場合、仮想描画データセットの選択・解凍を、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係の巨視的な分析に基づいて行い、最適な仮想描画データセットの選択を、描画点形成領域と描画面との間の実際の位置関係の微視的な分析に基づいて行うようにしてもよい。また、仮想描画データセットは、セット毎に圧縮されていてもよいし、数セットずつまとめて圧縮されていてもよい。また、各仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの集合であってもよいし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられるデータの集合であってもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の第１の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画データ取得条件を用いて複数の仮想描画データを予め取得し、その取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施して予め記憶し、画像の描画の際、互いに異なる複数の描画データ取得条件のうちの一部の描画データ取得条件に近似する仮想描画データ取得条件を取得し、その取得した仮想描画データ取得条件に対応する圧縮処理済仮想画像データに解凍処理を施し、その解凍処理の施された仮想画像データを用いて上記複数の描画データ取得条件に対応する描画データを取得するようにしたので、仮想画像データの解凍処理時間および転送時間を短縮することができ、生産効率の低下を招くことなく、基板の変形などに応じた描画データを取得することができる。
【００２３】
本発明の第２の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる複数の仮想描画点データ軌跡情報を用いて複数の仮想描画データを予め取得し、その取得した複数の仮想描画データにそれぞれ圧縮処理を施して予め記憶し、画像の描画の際、互いに異なる複数の描画点データ軌跡情報のうちの一部の描画点データ軌跡情報に近似する仮想描画点データ軌跡情報を取得し、その取得した仮想描画点データ軌跡情報に対応する圧縮処理済仮想描画データに解凍処理を施し、その解凍処理の施された仮想描画データを用いて上記複数の描画点データ軌跡情報に対応する描画データを取得するようにしたので、仮想画像データの解凍処理時間および転送時間を短縮することができ、生産効率の低下を招くことなく、基板の変形などに応じた描画データを取得することができる。
【００２４】
そして、本発明の描画方法および装置においても、上記と同様の効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターンを露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。
【００２６】
露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。
【００２７】
設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。
【００２８】
ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。
【００２９】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。
【００３０】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００３１】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図３（Ａ）に示すように、移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０毎の帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００３２】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。
【００３３】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００３４】
次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。
【００３５】
本露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光すべき露光パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータに所定の処理を施す画像処理部５０と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得部５１と、検出位置情報取得部５１により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部５２と、露光軌跡情報取得部５２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に基づいて露光画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取得する露光点データ軌跡情報取得部５３と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する露光点データ情報を取得する露光点データ情報取得部５４と、露光点データ軌跡情報取得部５３により取得された露光点データ軌跡情報に基づいて、後述する配線部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データをサンプリングするサンプリングデータ取得部５５と、露光点データ情報取得部５４により取得された露光点データ情報に基づいて、後述する表部データから各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得部５６、露光点データ取得部５６により取得された露光点データに基づいて各マイクロミラーに供給される制御信号を生成し、その制御信号を各露光ヘッド３０に出力する露光ヘッド制御部５８と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。
【００３６】
また、本露光装置１０は、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０を備えている。移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
【００３７】
なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
【００３８】
次に、本露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。
【００３９】
本露光装置１０は、移動ステージ１４上に設置された基板１２を、ステージ移動方向に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０に制御信号を出力し、基板１２上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パターンを基板１２上に露光するものである。
【００４０】
そして、本露光装置１０は、予め露光点データ取得部５６に記憶されたテンプレートデータから所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を取得し、その取得した露光点データ列に基づいて露光ヘッド制御部５８から露光ヘッド３０の各マイクロミラー３０に制御信号を出力して基板１２に露光パターンを露光するものである。
【００４１】
まずは、露光点データ取得部５６に予め記憶されるテンプレートデータおよびその作成方法について説明する。
【００４２】
[テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パターンＲは、図６に示すように、（ｒ、ｇ、ｂ）を表示するための３つのＴＦＴからなるＬＣＤ画素Ｐが直交する方向に２次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される配線からなる配線部とから構成される。なお、図６においては、ｒを表示するためのＴＦＴをＴ１、ｇを表示するためのＴＦＴをＴ２、ｂを表示するためのＴＦＴをＴ３で表し、配線部を実線で表している。データ作成装置４０においては、図６に示すような露光パターンＲを表すベクトルデータが作成される。
【００４３】
そして、データ作成装置４０において作成されたベクトルデータは、画像処理部５０に出力される。そして、画像処理部５０において、表示部を表わす表示部データと、配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部データは、それぞれラスターデータに変換され、それぞれ一時記憶される。
【００４４】
そして、上記のようにして一時記憶された表示部データについて、テンプレートデータが作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレートデータを作成しないが、配線部データから露光点データを取得する方法については後述する。
【００４５】
画像処理部５０においては、図７に示すように、表示部データＤにおける１つのＬＣＤ画素データＰＤと各マイクロミラー３８により露光される基板上の露光点の座標系とが対応付けられ、１つのＬＣＤ画素データＰＤ内の所定の始点s（x1,y1）から所定の終点e（x2,y2）までを結んだベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上のＬＣＤ画素データが、所定のサンプリングピッチでサンプリングされ、部分露光点データ列が取得される。なお、図７におけるｙ方向は、マイクロミラー３８の基板１２に対する走査方向に対応する方向であり、ｘ方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向である。つまり、ベクトルＶ１は、マイクロミラー３８の像が基板１２上を通過し得る軌跡の一部を意味する。
【００４６】
ここで、ｙ方向に平行な方向のベクトルで、かつ、ｙ方向について所定の長さＬ0を有するベクトルを基準ベクトルとし、所定の露光点データ数をN、基準ベクトルのｙ方向サンプリングピッチをpitch_y0とする。
【００４７】
また、ベクトルＶ１の始点をs(x1, y1)、終点をe(x2, y2)、露光点データのｘ方向のサンプリングピッチをpitch_x、ｙ方向のサンプリングピッチをpitch_y、終点eの変動幅をｘ方向にΔx、ｙ方向にΔyとすると、以下の様な関係になる。
【００４８】
L0  ＝  N  ×  pitch_y0                                    ・  ・  ・  (1)
Δx  ＝  x2 − x1                                          ・  ・  ・  (2)
Δy  ＝  y2 −(y1+L0)                                      ・  ・  ・  (3)
pitch_x  ＝  Δx／N                                        ・  ・  ・  (4)
pitch_y  ＝  pitch_y0  ×  (L0+Δy)／L0                    ・  ・  ・  (5)
具体的には、例えば、N = 4096、pitch_y0 = 0.75μm等となる。
【００４９】
また、延長ベクトルＶ１ｔとは、ベクトルＶ１の終点e(x2,y2)をベクトルＶ１の終点側に延長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。
【００５０】
Ｖ１ｔ  ＝  Ｖ１  ×  ( 1 + ｋ)                            ・  ・  ・  (6)
ここで、ｋ＝（ＬＣＤ画素データのｙ方向サイズ＋余裕値α）/L0  ・  ・  ・  (7)
とすることが望ましい。
【００５１】
ただし、ｋ>0は必須ではなく、k=0(即ちＶ１ｔ＝Ｖ１)とすることも可能である。
【００５２】
そして、具体的には、図７に示すように、１つのＬＣＤ画素データ内の１つの始点sに対して、上記基準ベクトルＶ１が設定され、その基準ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitchi_y0でサンプリングされるとともに、上記基準ベクトルＶ１の始点sと、基準ベクトルの終点eを中心とした所定の変動範囲Ｗに位置する複数の終点ｅとをそれぞれ結んだベクトルＶ１が設定され、その設定された各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ上におけるＬＣＤ画素データＰＤがサンプリングピッチpitch_x、pitch_yでサンプリングされ、各ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、変動範囲Ｗのサイズは、基板１２の変形の程度に応じて予め設定されているものとする。
【００５３】
そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置が始点sとされ、それぞれの始点ｓについて、上記と同様に、所定の変動範囲Ｗに位置する終点ｅまでを結んだベクトルＶ１が設定され、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、上記のようにして取得された部分露光点データ列を、以下「トレースデータ」という。
【００５４】
そして、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中の全ての始点ｓの座標（ｘ１,ｙ１）とその始点ｓに結ばれた終点ｅの変動量（Δｘ,Δｙ）との組み合わせについて、図８に示すように、トレースデータ番号が付される。なお、上記変動量（Δｘ,Δｙ）とは、上述したように、上記基準ベクトルの終点ｅの位置を基準とした場合における、変動範囲Ｗ内の各終点ｅのｘ方向およびｙ方向へのずれ量を示すものである。したがって、上記基準ベクトルの終点ｅの変動量Δｘ,変動量Δｙはともに０ということになる。
【００５５】
そして、図８に示す対応関係と、表における各トレースデータ番号に対応するトレースデータが、画像処理部５０から出力される。そして、図８に示す対応関係は、露光点データ情報取得部５４に設定され、各トレースデータは、露光点データ取得部５６の圧縮・解凍処理部５６ａに出力される。
【００５６】
そして、圧縮・解凍処理部５６ａにおいて、各トレースデータに対して圧縮処理が施され、その圧縮処理済トレースデータはテンプレート記憶部５６ｂに出力される。そして、図９に示すようにトレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとしてまとめられて記憶される。なお、このときの圧縮処理としてはランレングス圧縮を用いることができるが、ランレングス圧縮に限らずその他の圧縮処理を施すようにしてもよい。
【００５７】
なお、上記のようにしてトレースデータを取得する際、たとえば、図１０（Ａ）に示すように、マイクロミラー３８により露光される露光点の解像度が０．０５μｍであり、表示部データＤの解像度が０．２５μｍであって上記露光点の解像度よりも大きい場合には、始点ｓのｙ方向の位置が同じであって、かつ表示部データにおける１つの表示画素データのｘ方向の範囲に始点と終点の両方が含まれる複数のベクトルＶ１が存在する。
【００５８】
そして、この複数のベクトルＶ１については、そのベクトルＶ１上の露光点データが同じである。したがって、これらのトレースデータは共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにしてもよい。上記のように共通化すれば、トレースデータのデータ量を削減することができ、テンプレート記憶部５６ａの容量を削減することができる。
【００５９】
なお、図１０（Ｂ）に示すように、始点が共通でも終点が１つの表示画素データのＸ方向の範囲に含まれないベクトルＶ１については、そのベクトルＶ１上の露光点データが異なるので、別個のトレースデータとして取得する必要がある。なお、上記表示画素データとは、表示部データＤの解像度によって決定されるものであり、つまり、表示部データＤを構成する最小単位のデータであり、露光パターンＲのＬＣＤ画素データとは異なるものである。
【００６０】
また、上記のようにして各ベクトルＶ１について取得されたトレースデータを互いに比較し、全ての露光点データが一致するベクトルＶ１同士については、そのトレースデータを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにすればよい。
【００６１】
また、上記説明においては、１つのＬＣＤ画素データＰＤ中における全ての露光点の位置を始点ｓとし、それぞれの始点ｓについてベクトルＶ１を設定し、その各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔ毎にそれぞれトレースデータを取得するようにしたが、必ずしも全ての露光点の位置を始点ｓとしなくてもよい。
【００６２】
たとえば、Ｘ方向に並ぶ一列の露光点のうちの一部の露光点については始点ｓとしないようにしてベクトルＶ１の数を減らすように、つまりトレースデータの容量を減らすようにしてもよい。また、終点ｅについても、変動範囲Ｗに位置する露光点の全てを終点ｅとする必要はなく、変動範囲Ｗに位置する露光点のうち一部の露光点のみを終点ｅとすることによってベクトルＶ１の数を減らすようにしてもよい。
【００６３】
また、ベクトルＶ１上の露光点データをサンプリングする際のｙ方向のサンプリングピッチが、たとえば、図１１（Ａ）に示すように、０．７５μｍであり、表示部データにおける１つの表示画素データのｙ方向の解像度が０．２５μｍである場合には、０．２５μｍの範囲おいてベクトルＶ１の始点sを動かしても各ベクトルＶ１上の露光点データは全て同じものとなる。
【００６４】
したがって、ベクトルＶ１の始点ｓのｙ方向の位置は、上記表示画素データのｙ方向の解像度に対応した３つ（０．０７５μｍ/０．２５μｍ）のパターンのみを考えればよい（図１１（Ａ）〜（Ｃ）参照）。よって、ｙ方向については、３つの始点sのみを考慮して各ベクトルＶ１のトレースデータを取得するようにすればよい。なお、上記サンプリングピッチが上記ｙ方向の解像度の自然数ｎ倍のときは、上記と同様に考えることができ、そのｎ箇所の位置についてのみベクトルＶ１の始点sを動かしてそれぞれの位置でのトレースデータを取得するようにすればよい。
【００６５】
また、各ベクトルＶ１を所定の量子化ピッチで量子化するようにしてもよい。たとえば、各ベクトルＶ１を特定するための数値である、各ベクトルＶ１の始点ｓ、終点ｅ、中点の座標値および各ベクトルＶ１の傾き等を量子化するようにすればよい。
【００６６】
具体的には、入力値(例えば座標値xまたはy)をv、量子化結果をv’ 、量子化ピッチをstpとすると、
v ’ = INT( v / stp ) ×  stp                              ・  ・  ・  (8)
または
v ’ = ( INT( v / stp ) + 0.5 ) ×  stp                    ・  ・  ・  (9)
とする。
【００６７】
例えば、量子化幅をｘ方向にstp_x=0.05μm、ｙ方向にstp_y=0.25μmとし、(8)式または(9)式の変数stpに当てればよい。
【００６８】
上記のように量子化することによりベクトルＶ１の数を減らすことができ、その分ベクトルＶ１に対応するトレースデータの数を減らすことができ、テンプレート記憶部５６ａの容量を削減することができる。
【００６９】
また、本実施形態においては、始点sと終点eとを直線で結ぶようにしたが、これに限らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結ぶようにしてもよい。
【００７０】
また、本実施形態においては、ラスターデータとされた表示部データＤからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしたが、必ずしもラスターデータにする必要はなく、ベクトルデータのままの表示部データからベクトルＶ１に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。具体的には、たとえば、図１２に示すように、ベクトルデータで表される露光パターンＦの輪郭ベクトルＶＲを取得し、この輪郭ベクトルＶＲとベクトルＶ１との交点Ｃ１、Ｃ２を求め、ベクトルＶ１の始点ｓから交点Ｃ１までの部分ベクトルＶｐ１については０の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、交点Ｃ１から交点Ｃ２までの部分ベクトルＶｐ２については１の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、交点Ｃ２から終点ｅまでの部分ベクトルＶｐ３については０の露光点データを所定のサンプリングピッチで取得し、これらを繋ぎ合わせてベクトルＶ１に対応するトレースデータを取得するようにしてもよい。なお、各ベクトルＶ１の設定方法については上記と同様である。
【００７１】
または、交点Ｃ１、Ｃ２のｙ座標を、それぞれｙ方向サンプリングピッチpitch_yで割り、整数化したデータ間の差を用いて、０または１の連続するデータ個数を計算する方法でもデータ列を取得できる。
【００７２】
なお、上記同様、各ベクトルＶ１の延長ベクトルＶ１ｔと輪郭ベクトルＶＲとの交点計算も可能である。この場合、図１２の各ベクトルＶ１の延長方向に延長ベクトルＶ１ｔが延び、ベクトルＶ１の終点eの右側に延長ベクトルＶ１ｔの終点e ’点が存在するものとする。
【００７３】
[露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにしてテンプレート記憶部５６ａに記憶された圧縮処理済トレースデータは、露光点データ情報取得部５４において取得された露光点データ情報（トレースデータ番号）に基づいて読み出されるが、次に、その露光点データ情報取得部５４における露光点データ情報（トレースデータ番号）の取得について説明する。
【００７４】
まず、コントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を、図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。
【００７５】
そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得部５１に入力される。検出位置情報取得部５１は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標系は各マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。
【００７６】
そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得部５１から露光軌跡情報取得部５２に出力される。
【００７７】
そして、露光軌跡情報取得部５２において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得部５２には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が、各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図１３に、プレス工程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー３８により露光される露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報１２ｃにおける複数の基準点１２ｅ（図１３に示す白丸）によって区切られるベクトルＶ２の長さと、上述した基準ベクトルの長さとは同じ長さに設定されている。
【００７８】
そして、露光軌跡情報取得部５２においては、図１４に示すように、通過位置情報１２ｃと検出位置情報１２ｄとが対応付けられ、通過位置情報１２ｃにおける各基準点１２ｅについて、検出位置情報１２ｄとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図１５に示すように、基準点１２ｅとその基準点１２ｅを囲む検出位置情報１２ｄとで決定される矩形Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準点１２ｅについてそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃ毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部５３に出力される。
【００７９】
そして、露光点データ軌跡情報取得部５３は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得する。
【００８０】
具体的には、露光点データ軌跡取得部５３には、図１６に示すように、露光画像データの座標系における基準マーク１２ａの位置情報１２ｆが予め設定されており、以下の式(10)を満たすようなトレース点１２ｇの座標が、各基準点１２ｅについてそれぞれ求められる。そして、図１６に示すように、各トレース点１２ｇを結んだベクトルＶ３の情報が露光点データ軌跡情報として露光点データ情報取得部５４に出力される。
【００８１】
Ｓａ：Ｓｂ：Ｓｃ：Ｓｄ＝Ｔａ：Ｔｂ：Ｔｃ：Ｔｄ            ・  ・  ・  (10)
そして、露光点データ情報取得部５４は、１つのマイクロミラー３８の露光点データ軌跡情報における複数のベクトルＶ３のうちの１つのベクトルＶ３を選択し、その選択したベクトルＶ３についてのトレースデータ番号およびそのベクトルＶ３に近似するベクトルのトレースデータ番号を取得する。
【００８２】
具体的には、露光点データ情報取得部５４は、選択したベクトルＶ３の始点sと終点eの座標値を取得し、その座標値を、１つのＬＣＤ画素データ中の露光点の座標系における座標値に相対変換し、その相対変換された始点と終点の座標値に基づいて終点の変動量（Δｘ,Δｙ）を求め、上記相対変換された始点の座標値および終点の変動量（Δｘ,Δｙ）と、図８に示す対応関係とに基づいて、選択したベクトルＶ３に近似するベクトルのトレースデータ番号を求める。
【００８３】
たとえば、選択したベクトルＶ３が、図１７（Ａ）に示すようなベクトルである場合には、このベクトルＶ３と始点sの座標値および終点eのｙ方向についての座標値が同じベクトルＶ３１〜Ｖ３７（図１７（Ｂ）参照）に対応するトレースデータ番号を求め、さらに、そのベクトルＶ３１〜Ｖ３７のうちベクトルＶ３との傾きの差異が±αのベクトルＶ３１〜Ｖ３３のトレースデータ番号を求める。なお、図１７（Ｂ）におけるベクトルＶ３２は、図１７（Ａ）に示すベクトルＶ３と始点sおよびその傾きが共通なベクトルである。
【００８４】
なお、上記説明では、ベクトルＶ３に近似するベクトルとして、ベクトルＶ３と始点の座標値および終点のｙ方向についての座標値が同じであり、かつその傾きがベクトルＶ３の傾きに対して±αのベクトルを取得するようにしたが、その取得方法は上記のような方法に限らない。たとえば、ベクトルＶ３が、図１８（Ａ）に示すようなベクトルである場合には、このベクトルＶ３と始点sの座標値が同じであるとともに平行なベクトルであって、かつ長さがベクトルＶ３の長さの±βのベクトルＶ３１０〜Ｖ３１２（図１８（Ｂ）参照）を取得するようにしてもよい。なお、図１８（Ｂ）においては、図示の都合上、ベクトルＶ３８〜Ｖ３１４の始点sの位置が異なる位置になっているが、これらは同じ位置であるものとする。また、ベクトルＶ３１１は、図１８（Ａ）に示すベクトルＶ３と始点およびその傾きが共通なベクトルである。
【００８５】
また、ベクトルＶ３に近似するベクトルとして、ベクトルＶ３と始点の座標値が同じであり、かつその傾きがベクトルＶ３の傾きに対して±αのベクトルであり、さらにその長さがベクトルＶ３の長さの±βのベクトルを取得するようにしてもよい。
【００８６】
そして、露光点データ情報取得部５４は、上記のようにして取得したベクトルＶ３に近似するベクトルのトレースデータ番号を露光点データ取得部５６に出力する。
【００８７】
そして、露光点データ取得部５６は、入力されたトレースデータ番号に対応する圧縮処理済トレースデータをテンプレート記憶部５６ｂから読み出し、圧縮・解凍処理部５６ａにおいて解凍処理を施し、その解凍処理の施されたトレースデータをバッファメモリ（図示省略）に記憶する。
【００８８】
[露光点データの取得]
次に、上記のようにして露光点データ取得部５６のバッファメモリに記憶されたトレースデータに基づいて、各マイクロミラー３８毎の表示部データの露光点データを取得する方法を説明する。
【００８９】
まず、露光点データ情報取得部５４において上記のようにして選択されたベクトルＶ３については、そのトレースデータ番号に対応するトレースデータがバッファメモリから読み出され、上記選択されたベクトルＶ３に対応する露光点データが取得される。
【００９０】
また、露光点データ情報取得部５４において選択されなかったベクトルＶ３については、上記と同様にして、露光点データ情報取得部５４において、図８に示す対応関係に基づいて、始点sの座標値および変動量が同じであるトレースデータ番号が取得される。そして、そのトレースデータ番号は、露光点データ取得部５６に出力され、露光点データ取得部５６において、上記トレースデータ番号に対応するトレースデータがバッファメモリから読み出され、上記選択されなかったベクトルＶ３に対応する露光点データが取得される。なお、露光点データは上記露光点データ数Nだけ読み出すようにすればよい。
【００９１】
また、トレースデータ番号とトレースデータの記憶領域との関係については、たとえば、図１９に示すような、トレースデータ番号とそのトレースデータ番号のトレースデータが記憶された記憶領域の先頭アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすればよい。
【００９２】
また、露光点データ情報取得部５４に、図１９に示すような対応関係を予め設定しておき、各ベクトルＶ３について求められたトレースデータ番号と図１９に示す対応関係とから先頭アドレスを求め、その先頭アドレスを露光点データ取得部５６に出力し、露光点データ取得部５６が、入力された先頭アドレスから露光点データを読み出すようにしてもよい。
【００９３】
そして、上記のように各ベクトルＶ３について、それぞれ露光点データを取得し、これらを繋ぎ合わせることによって１つのマイクロミラー３８の露光点データ軌跡に対応した露光点データ列が取得される。
【００９４】
そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報と検出位置情報とに基づいて、各マイクロミラー３８毎の表示部データ上における露光点データ軌跡情報が求められ、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報に基づいて、トレースデータ番号が求められ、その各マイクロミラー３８毎のトレースデータ番号に基づいて、バッファメモリに記憶されたトレースデータが読み出されて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。
【００９５】
なお、トレースデータを作成する際、ベクトルＶ１を所定のピッチで量子化した場合には、その量子化に合わせて各ベクトルＶ３を量子化するようにしてもよい。量子化の方法については、ベクトルＶ１の量子化の方法と同様である。上記のように各ベクトルＶ３を量子化することにより、ベクトルＶ３に対応するトレースデータをより高速に取得することができる。
【００９６】
たとえば、各ベクトルＶ３の始点ｓ、終点ｅ、中点の座標値および各ベクトルＶ３の傾き等を量子化するようにすればよい。
【００９７】
具体的には、例えば、量子化幅をｘ方向にstp_x=0.05μm、ｙ方向にstp_y=0.25μmとし、上記(8)式または(9) 式の該当する変数に適用し、量子化後の値を取得するようにすればよい。
【００９８】
ここまで表示部データからの露光点データの取得について説明したが、次に、配線部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。
【００９９】
上述したように、配線部データはラスター変換されて画像処理部５０に一時記憶されてある。そして、画像処理部５０に一時記憶された配線部データは、サンプリングデータ取得部５５に出力される。また、上記のようにして露光点データ軌跡情報取得部５３において取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報もサンプリングデータ取得部５５に出力される。そして、サンプリングデータ取得部５５は上記露光点データ軌跡情報の各ベクトルＶ３と配線部データとを対応付け、各ベクトルＶ３上の配線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光点データとして読み出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎露光点データ列を露光点データ取得部５６に出力する。なお、配線部データにおける表示部データに該当する部分は０データになっているものとする。
【０１００】
そして、露光点データ取得部５６において、トレースデータを読み出すことによって取得された、表示部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列と、サンプリングデータ取得部５６において取得された、配線部データについての各マイクロミラー３８毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光パターンＲを表す、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が生成される。なお、上記合成は、各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡情報について、トレースデータを読み出すことによって取得された露光点データ列とサンプリングデータ取得部５６において取得された露光点データ列との論理和を演算することによって行われる。
【０１０１】
[露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて基板１２上に露光する方法について説明する。
【０１０２】
上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データは露光ヘッド制御部５８に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。
【０１０３】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。
【０１０４】
なお、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図２０に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたＬ個の露光点データ列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図２０に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図２１に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜Ｌを生成し、このフレームデータ１〜Ｌを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。
【０１０５】
そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。
【０１０６】
なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づいてトレースデータを読み出すようにすればよい。
【０１０７】
また、上記実施形態においては、基板１２上における基準マーク１２ａを検出し、その検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得するようにしたが、これに限らず、たとえば、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に基づいてベクトルＶ３からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトルＶ３について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。
【０１０８】
また、移動ステージ１４のヨーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
【０１０９】
また、基準マーク１２ａの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌跡情報を取得するようにしてもよい。
【０１１０】
また、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設け、速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に基づいて、基板１２の移動の速度が遅い基板１２上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上記基準ベクトルのサンプリングピッチpitch_y0を小とし、露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。
【０１１１】
また、上記実施形態においては、露光点データ情報取得部５４において選択されたベクトルＶ３およびその選択されたベクトルＶ３に近似するベクトルに対応する圧縮処理済トレースデータに対し解凍処理を施し、その解凍処理の施されたトレースデータを用いて、マイクロミラー３８の露光点データ軌跡に応じた露光点データ列を取得するようにしたが、たとえば、基板１２上の露光面を図２２に示すようにｙ方向について分割し、その分割領域毎のベクトルＶ３の情報を取得し、分割領域毎のベクトルＶ３に対応する圧縮処理済トレースデータに対し解凍処理を施し、その解凍処理の施されたトレースデータを用いてベクトルＶ３に対応する露光点データを取得するようにしてもよい。
【０１１２】
具体的には、上記のように分割領域毎のベクトルＶ３の情報を取得し、その分割領域毎のベクトルＶ３のトレースデータ番号を取得し、そのトレースデータ番号を第１のバッファメモリに一時記憶しておくとともに、上記分割領域の情報を取得し、その分割領域に露光される露光画像に応じた圧縮処理済トレースデータに対して解凍処理を施して第２のバッファメモリに記憶し、上記解凍処理が終了した時点で第１のバッファメモリからトレースデータ番号を読出して、そのトレースデータ番号に対応したトレースデータを取得してそのトレースデータを第３のバッファメモリに記憶し、そのバッファメモリに記憶されたトレースデータに基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する。
【０１１３】
そして、分割領域毎のベクトルＶ３のトレースデータ番号の取得から各マイクロミラー３８毎の露光点データの取得までを分割領域毎に順次繰り返して行うようにすればよい。
【０１１４】
また、上記説明では、基板１２上の露光面をｙ方向について分割し、その分割領域毎について露光点データの取得を行うようにしたが、たとえば、基板１２上の露光面を図２３に示すように、ｘ方向について分割し、その分割領域毎に露光を行うようにする場合には、ｘ方向について分割された分割領域毎に、上記と同様の処理を行うようにすればよい。
【０１１５】
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
【０１１６】
また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。
【０１１７】
また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。
【０１１８】
また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。
【０１１９】
また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
【０１２０】
その他、図８において、トレースデータ番号に対応付ける情報として、変動量ΔｘおよびΔｙの替わりに、サンプリングピッチpitch_x、およびpitch_yを用いることでもよい。
【０１２１】
また、テンプレート化する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度も現れる画像であってもよい。
【０１２２】
また、テンプレート化する画像パターンは、デジタル的に一致したパターンでなくても、実質上同一のものと近似できるパターンであってもよい。例えば、露光時の誤差の範囲の相違は、無視するようにしてもよい。
【０１２３】
また、露光対象をＬＳＩとしてもよく、その場合メモリセル等の同一パターンをテンプレート化することもできる
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】本発明の一実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図
【図６】液晶ディスプレイの露光パターンを示す図
【図７】トレースデータの作成方法を説明するための図
【図８】ベクトルＶ１（仮想描画点データ軌跡情報）とトレースデータとの対応関係を示す図
【図９】テンプレートデータを示す図
【図１０】ベクトルＶ３（描画点データ軌跡情報）に対応する露光点データの共通化について説明するための図
【図１１】ベクトルＶ３（描画点データ軌跡情報）に対応する露光点データの共通化について説明するための図
【図１２】ベクトルデータから露光点データを取得する方法を説明するための図
【図１３】理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図
【図１４】マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図
【図１５】マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図
【図１６】マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する方法を説明するための図
【図１７】ベクトルＶ３（描画点データ軌跡情報）に近似するベクトルを取得する方法を説明するための図
【図１８】ベクトルＶ３（描画点データ軌跡情報）に近似するベクトルを取得する方法を説明するための図
【図１９】トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図
【図２０】各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図
【図２１】各フレームデータを示す図
【図２２】基板上の分割領域を示す図
【図２３】基板上の分割領域を示す図
【符号の説明】
【０１２５】
１０    露光装置
１２    基板
１２ａ    基準マーク
１２ｂ    基準マーク位置情報
１２ｃ    通過位置情報
１２ｄ    検出位置情報
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
５０    画像処理部（仮想描画データ取得部、仮想描画点データ軌跡情報取得部）
５１    検出位置情報取得部
５２    露光軌跡情報取得部（描画軌跡情報取得部）
５３    露光点データ軌跡情報取得部（描画点データ軌跡情報取得部、描画データ取
得条件取得部）
５４    露光点データ情報取得部（対応関係設定部、近似仮想描画点データ軌跡情報
取得部、仮想描画点データ軌跡情報特定部、仮想
描画データ取得条件取得部、仮想描画データ取得
条件特定部）
５６    露光点データ取得部（仮想描画データ選択部、描画データ取得部）
５６ａ  圧縮・解凍処理部（圧縮処理部、解凍処理部）
５６ｂ  テンプレート記憶部（仮想描画データ記憶部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
2007079383.tif 000017
【図１６】
2007079383.tif 000018
【図１７】
2007079383.tif 000019
【図１８】
2007079383.tif 000020
【図１９】
2007079383.tif 000021
【図２０】
2007079383.tif 000022
【図２１】
2007079383.tif 000023
【図２２】
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【図２３】
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