(57)【要約】【課題】  墓域に建立する石塔・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部５に置かれる水鉢・花立・香炉などの仏具にレ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設した墓域内の建立物及び仏具である。【解決手段】  厚さ６ｃｍ程度の透明クリスタル基板の中面に，単一彫刻の大きさは０．５ミクロン画素（５／１００００ｍｍ）〜５０ミクロン画素（５０／１０００ｍｍ）のレ−ザ光軸で焦点を合わせてスパ−クさせて彫刻し，単一又は複数のレ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を作成し，必要に応じ，透明クリスタル基板の裏面・側面をブラックコ−ティングし，前記凹部にレ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設したことを特徴とする墓域内の建立物及び仏具。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
本発明は、墓域に建立する石塔１・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部５に置かれる水鉢・花立２・香炉３などの仏具の正面部に，正方形，縦長，円形，楕円形などの凹部４を設け，該凹部４の内周面に任意の段階部を設け，一方、厚さ６ｃｍ程度の透明クリスタル基板６の中面７に，単一彫刻の大きさは０．５ミクロン画素（５／１００００ｍｍ）〜５０ミクロン画素（５０／１０００ｍｍ）のレ−ザ光軸で焦点を合わせてスパ−クさせて彫刻し，彫刻可能数は１０００×１０００×１０００＝１０９／ｍｍ〜１０×１０×１０乃至１００×１００×１００＝１６６／ｍｍとなる単一又は複数のレ−ザ光８を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板６を作成し，必要に応じ，透明クリスタル基板６の裏面１０・側面１１をブラックコ−ティングし，前記凹部４にレ−ザ光８を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板６を埋設したことを特徴とする墓域内の建立物及び仏具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、墓地の中の墓域に建立される石塔・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部に置かれる水鉢・花立・香炉などの仏具に，レ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設し，墓域内の雰囲気を荘厳にするとともに，清潔感を保持し，石塔等の表面の彫刻部分に埃，汚れ，かび等が付着しないばかりか，汚れが酷い場合は，ガラスクリ−ナを布に塗布して拭くだけで，永久的に美しい建立物や仏具が保たれるようにすることを目的とし，レ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設した建立物や仏具である。
【背景技術】
【０００２】  墓域に建立される石塔・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物の多くは，標準型では芝石に中台が置かれ，その上に上台，さらに石塔が配置され、中台の前部の芝石の上部に水鉢・花立が置かれ，中台の水鉢の前部のカロ−ト蓋の上部に香炉が置かれ，寺院洋型では芝石に中台が置かれ，その上に石塔が配置されているのが普通で，石塔には丸スリン付きや上下蓮華付きがあり，墓域内には墓所の入口の両端に据えられる親柱，外棚根石・ハメ石のほか，五輪塔・墓碑・塔婆立などが配設されている。【０００３】  また，石塔等の表面には，個々の戒名や本名を刻んでいたものが大半であったが，最近では合祀墓が多くなってきたことから，○○家供養塔，○○家先祖代々之墓，○○之墓，先祖代々之墓，戒名霊位，○○家霊位などが多くなり，そのほか，宗門ごとの梵字，無・夢・和・愛・静・寂・浄・憩・眠・空等の文字，花，家紋等のデザインを陰刻した彫りの石塔が圧倒的に多く，石塔等の表面に埃，汚れ，かび等が付着して墓域の荘厳さを失い，かつ，古色蒼然となり，暗澹たる雰囲気になるという欠点があった。【０００４】  また，金属やポリマ−の表面にレ−ザ光を照射して物品の外面の領域にわたって陰刻する加工技術が多く見られるが，金属やポリマ−の表面にレ−ザ光を照射して陰刻する場合には，表面に埃，汚れ，かび等が付着して墓石の荘厳さを失うという欠点もあった。
【特許文献】特開２００３−２１６９７９
【特許文献】特表２００３−５１７９４８
【特許文献】特表２００６−５１２１３３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  本発明では、従来の墓域，石塔の欠点を改良するために、墓域に建立される石塔・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部に置かれる水鉢・花立・香炉などの仏具に，レ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設し，墓域内の雰囲気を荘厳にするとともに，清潔感を保持し，石塔等の表面の彫刻部分に埃，汚れ，かび等が付着しないばかりか，汚れが酷い場合は，ガラスクリ−ナを布に塗布して拭くだけで，永久的に美しい建立物や仏具が保たれるようにすることを可能とすることが必要となっていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  本発明を図面に従って詳細に説明すると，墓域に建立する石塔１・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部５に置かれる水鉢・花立２・香炉３などの仏具の正面部に，正方形，縦長．円形，楕円形などの凹部４を設け，該凹部４の内周面に任意に段階部１２を設け，埋設する透明クリスタル基板６の定着時に透明クリスタル基板６の裏面に若干の空隙を設け，一方，基準として，厚さ６ｃｍ程度の透明クリスタル基板６の中面７にレ−ザ光８を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板６を作成し，前記凹部４に埋設したことを特徴とするレ−ザ光を照射して３Ｄ加工した透明クリスタル基板を埋設した墓域内の建立物及び仏具である。【０００７】  また，透明クリスタル基板６の厚さを６ｃｍ程度としているが，これは普通の石塔の大きさや厚さから判断して最適なものとしたものである。【０００８】  透明クリスタル基板６の加工方法として，透明クリスタル基板６の中面７にレ−ザ光８を照射して３Ｄ加工しているが，レ−ザポイント照射技術により透明クリスタル基板６の中面７にレ−ザ光８により１つの点の大きさが数ミクロンの点をつくりだし，連続して立体的に形作られるものである。【０００９】  レ−ザ光８の照射にあたっては，墓域に建立する石塔１・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物や，石塔前部５に置かれる水鉢・花立２・香炉３などの仏具の大きさやデザインなどによって，照射技術の選択を行なうのはいうまでもない。【００１０】  作品の精細さと鮮明度の高い対象物に当たっては，単一彫刻の大きさは０．５ミクロン画素（５／１００００ｍｍ）の単方向からのレーザ光軸で焦点を合わせてスパークさせて彫刻し，彫刻可能数は１０００×１０００×１０００＝１０９／ｍｍとなり，パルス持続時間はフェムト（１０−１５）秒となっている。一般には５０ミクロン画素（５０／１０００ｍｍ）の二方向或いは三方向からのレーザ光軸を交差させた場所でスパ−クさせて彫刻し，彫刻可能数は１０×１０×１０乃至１００×１００×１００＝１６６／ｍｍとなり，凹凸自由の彫刻が可能となったばかりか，彫刻部分に雨や埃，汚れ，かび等が付着しないため，透明クリスタル基板６の表面を拭くだけで，簡単に掃除ができるようになった。【００１１】  また，透明クリスタル基板６の表面が汚れで酷くなった場合は，例えば，ガラスクリ−ナを布に塗布して透明クリスタル基板６の表面を拭くだけで，永久的に美しい石塔が保たれるようになり，墓域の雰囲気を明るいものにした。【００１２】  また，墓域に建立する石塔１・五輪塔・墓碑・塔婆立などの建立物の表面に○○家供養塔，○○家先祖代々之墓，先祖代々之墓，○○家霊位，○○之墓，戒名霊位などのほか，宗門ごとの梵字，無・夢・和・愛・静・寂・浄・憩・眠・空等の文字，さらに，花，家紋等のデザインをレ−ザ光で照射して彫刻するが，石塔前部５に置かれる水鉢・花立２・香炉３などの仏具にもレ−ザ光で照射して彫刻することもあり，デザインのバリエ−ションも花・動物・写真・文字など建立主のニ−ズに応えられ，簡単にできるようになった。【００１３】  透明クリスタル基板の裏面・側面を任意にブラックコ−ティングすることによって，レ−ザ光照射による彫刻が光の反射によって文字��デザインを浮きだたせることができるようになった。
【発明の効果】
【００１４】  本発明は，透明クリスタル基板の中面に，単一又は複数のレ−ザ光を照射して３Ｄ加工しているため，凹凸自由の彫刻が可能となったばかりか，彫刻部分に雨や埃，汚れ，かび等が付着しないため，透明クリスタル基板の表面を拭くだけで，簡単に掃除ができるようになった。【００１５】  また，汚れが酷い場合は，ガラスクリ−ナを布に塗布して拭くだけで，永久的に美しい墓石が保たれるようになった。【００１６】  また，石塔等の表面に名前，花，家紋等のデザインを彫刻するが，デザインのバリエ−ションも花・動物・写真・文字等建立主のニ−ズに応えられるようになった。【００１７】  透明クリスタル基板の裏面・側面を任意にブラックコ−ティングすることによって，文字やデザインを浮きだたせることができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】  本発明の１実施例の墓域内の建立物及び仏具。
【図２】  透明クリスタル基板の斜面図。
【図３】  透明クリスタル基板の平面図。
【図４】  石塔の断面図図。
【符号の説明】
【００１９】  １：石塔
２：花立
３：香炉
４：凹部
５：石塔前部
６：透明クリスタル基板
７：中面
８：レ−ザ光
９：前面
１０：裏面
１１：側面
１２：段階部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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