(57)【要約】【課題】蒸着精度をより簡単に把握できるようにし、蒸着条件の変更を容易にする有機EL表示装置の構造を実現するものである。【解決手段】複数の有機層が一対の電極間に挟み込まれた発光素子と該発光素子を駆動する画素回路を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成され、その複数の素子は、第１有機層を備えた第１発光素子と、第１発光素子には含まれない第２有機層を前記第１有機層と同層に備えた第２素子とを含み、発光層と基板の間であって、画素領域の列又は行方向の辺の外側で対向配置され、画素に囲まれていない配線該辺に対して垂直に伸びた光学的に観察可能な部材を備えさせた構造とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の有機層が一対の電極間に挟み込まれた発光素子と該発光素子を駆動する画素回路を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成され、
その複数の素子は、第１有機層を備えた第１発光素子と、第１発光素子には含まれない第２有機層を前記第１有機層と同層に備えた第２素子とを含み、
発光層と基板の間であって、画素領域の列又は行方向の辺の外側で対向配置され、画素に囲まれていない配線該辺に対して垂直に伸び、光学的に観察可能な部材を備えていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記表示領域と前記光学的に観察可能な部材との間にダミー画素領域を備えていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記光学的に観察可能な部材は、金属配線の一部、他の配線から独立した金属、ＴＦＴを構成する電極、コンタクトホールのいずれかであることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記光学的に観察可能な部材は、前記基板の裏面から観察可能な位置に配置されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記発光層の上方には、カソードとして金属電極が配置され、
前記発光層の下方には、アノードとして透明導電膜による電極が形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項１において、
前記基板上には、各画素毎に、その画素の発光層の発光量を制御するアクティブ素子が形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記光学的に観察可能な部材は、各色毎の画素の垂直方向に長辺が存在することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
請求項６において、
前記光学的に観察可能な部材は、表示領域の垂直方向に対向する２辺に設けられていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置に関し、特許文献１には、有機ＥＬ表示装置の有機層を蒸着する場合に、蒸着マスクと有機ＥＬ表示装置の基板との位置合わせをするために、蒸着マスクとその基板とのマークを設け、その差を測り、補正することで蒸着精度を向上させようとするものが記載されている。この特許文献に記載されたように、従来は、蒸着ズレを評価する場合、マークのズレ量のみを基準に考えていた。
【特許文献１】特開２００４−１５２７０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、実際に、色々な要因を考慮してマスクの位置合わせマークと基板の位置合わせマークを配置し、そのマークによって位置決めしても、製造条件（熱源やマスクにかかる張力の変化等）に起因して、マスクが捩れたりする。
【０００４】
蒸着技術には長い歴史があり、種々の技術が開発されてきたが、上述したような蒸着条件を全て最適にコントロールすることはできていない。これまでは、位置決めマーク同士のズレ量を、全体のズレ量として把握していた。
【０００５】
しかし、異なる色に発光する発光層を塗り分け、発光層からその色を発光させる有機ＥＬ表示装置の場合、位置決めマーク同士のズレ量が低くても、実際のパネルでは、全面に均一な色の光が出ない場合があった。
【０００６】
本発明者らの検討の結果、それらは蒸着ズレのズレ量を面内で把握していないことに起因しているとわかった。特に、画素の発光層を列方向にストライプ状に塗り分ける場合、列方向のズレは他の色の発光層があるわけではないので大きな問題とならないが、行方向の蒸着ズレは異なる発光層と大きく重なると混色などの問題が生じる。
【０００７】
本発明の目的は、蒸着ズレの状態を面内でより正確に把握しやすい構造を採用し、表示品位の高い有機ＥＬ表示装置を量産できるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
複数の有機層が一対の電極間に挟み込まれた発光素子と該発光素子を駆動する画素回路を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成され、
その複数の素子は、第１有機層を備えた第１発光素子と、第１発光素子には含まれない第２有機層を前記第１有機層と同層に備えた第２素子とを含み、
発光層と基板の間であって、画素領域の列又は行方向の辺の外側で対向配置され、画素に囲まれていない配線該辺に対して垂直に伸び、光学的に観察可能な部材を備えた構造とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、蒸着ズレ量を面内に渡って正確に把握しやすくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を適用した実施例を記載する。
【実施例１】
【００１１】
図８は、有機ＥＬ表示装置の平面レイアウトを示す図である。有機ＥＬ表示装置の基板ＳＵＢには、フレキシブル基板ＦＰＣと、水平系駆動回路ＨＤＲＶ、垂直系駆動回路ＶＤＲＶ、電流供給バスラインＣＳＢＬ、電流供給線ＣＳＬ、データ線ＤＡＴＡ、水平系駆動回路用制御線ＨＰＷＲ、カソードバスラインＣＢＬ、カソードコンタクトＣＳＣＨを備えている。
【００１２】
フレキシブル基板ＦＰＣはガラス基板の外部端子に接続されている。このフレキシブル基板を介して、外部から水平系駆動回路ＨＤＲＶと垂直系駆動回路ＶＤＲＶに電源とクロックと階調信号の基になる映像信号、カソード電源、電流供給用電源が基板上の外部端子に入力される。
【００１３】
外部端子に入力された電源電圧はカソードバスラインＣＢＬと、電流供給バスラインＣＳＢＬと、水平系駆動回路用制御線ＨＰＷＲ、垂直系駆動回路ＶＤＲＶとに供給される。クロックと映像信号は垂直系駆動回路ＶＤＲＶに供給され、水平系駆動回路ＨＤＲＶには、水平駆動回路用制御線を介して、クロック信号が供給される。
【００１４】
各画素には、水平系駆動回路ＨＤＲＶから延びた制御線Ｇ１〜Ｇ３で制御信号が供給され、垂直系駆動回路ＶＤＲＶから延びたデータ線ＤＡＴＡでデータ信号が供給され、電流供給バスラインＣＳＢＬから延びた電流供給線ＣＳＬで電流が供給される構造となっている。有機膜は、ストライプ状に発光色毎に蒸着パターンＢＣが形成されている。また、表示領域の外周には、列方向に上下１画素ずつ、行方向に左右３画素ずつダミー画素が配置されている。
【００１５】
図１に、画素のレイアウトを示す。図１において、制御線Ｇ１〜Ｇ３が行方向に伸び、データ線ＤＡＴＡと電流供給線ＣＳＬが列方向に伸びている。制御線Ｇ１〜Ｇ３が密集し、データ線ＤＡＴＡと電流供給線ＣＳＬとで挟みこまれている領域には画素形成回路ＰＣが形成され、制御線Ｇ１〜Ｇ３が大きく開き、データ線ＤＡＴＡと電流供給線ＣＳＬとで挟みこまれている領域が発光画素領域ＰＸＬが形成されている。この発光画素領域ＰＸＬには有機ＥＬ素子が配置されており、この有機ＥＬ素子の発光制御を画素回路形成領域に形成した画素回路によって行っている。
【００１６】
図２に、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す。蒸着中央基準線Ｃが各色の蒸着パターンの中央に引いた場合に、ダミー画素の外側に、画素下蒸着中央基準部材ＣＲ−ＤＮを設けている。この画素下蒸着中央基準部材ＣＲ−ＤＮは、データ線ＤＡＴＡと同層に同材料、同プロセスで形成されているので、基板裏面から観察可能になっている。この形状は、画面の垂直方向に長くなっている。つまり、データ線に沿って長辺がある。この画素下蒸着中央基準部材ＣＲ−ＤＮは蒸着中央基準線Ｃ上に存在しているので、蒸着ズレが簡単に把握できる。特に、蒸着の境界がデータ線ＤＡＴＡや電流供給線ＣＳＬで隠れないように、画素下蒸着中央基準部材ＣＲ−ＤＮが配線のない部分に存在しているので、蒸着ズレ量を容易に把握できる。なお、この画素構造は、ダミー画素がない場合、表示画素の最も列方向の最上部に配置された画素に適用される。
【００１７】
図３に、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す。蒸着中央基準線Ｃが各色の蒸着パターンの中央に引いた場合に、ダミー画素の外側に、画素上蒸着中央基準部材ＣＲ−ＵＰを設けている。この画素上蒸着中央基準部材ＣＲ−ＵＰが蒸着中央基準線Ｃ上に存在することにより、蒸着ズレが簡単に把握できる。
【００１８】
特に、蒸着の境界がデータ線ＤＡＴＡや電流供給線ＣＳＬで隠れないように、画素上蒸着中央基準部材ＣＲ−ＵＰが配線のない部分に存在しているので、蒸着ズレ量を容易に把握できる。なお、この画素構造は、ダミー画素がない場合、表示画素の最も列方向の最下部に配置された画素で採用される構造である。
【００１９】
図４に、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す。図３との相違点は、データ線ＤＡＴＡと画素上蒸着中央基準部材ＣＲ−ＵＰとが接続されている点である。この接続部ＰＡＤテスト用のパッドとして使用できるように、検査端子を当てられる面積や形状を確保するためにデータ線ＤＡＴＡが一部膨らんでいる。
【００２０】
このような接続部ＰＡＤは列方向の上下画素外に配置してもよいし、上方向のみに配置してもよい。なお、この画素構造は、ダミー画素がない場合、表示画素の最も列方向の最下部に配置された画素で採用される構造である。
【００２１】
図５に、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す。データ線ＤＡＴＡの一部で中央基準部材を共用するために、データ線中央基準部ＣＲ−ＤＴを設ける。このデータ線中央基準部ＣＲ−ＤＴは中央基準線上に配置している。このデータ線中央基準部ＣＲ−ＤＴは行方向の端から左右３画素であって、列方向の端部から上下１画素に位置するダミー画素で適用される構造である。なお、この画素構造は、ダミー画素がない場合、表示画素の最も列方向の最下部に配置された画素で採用される構造である。
【００２２】
図６に、画素のレイアウトの一例を示す。ダミー画素及び表示画素の画素回路の一つのコンタクトホールの中心を、蒸着中央線Ｃと重なる位置に配置し、中央基準コンタクトホールＣＲ−ＣＨとする。なお、この画素構造は最外画素以外の画素でも、最外画素でもどちらでも採用可能な構造である。
【００２３】
図７に、画素のレイアウトの一例を示す。ダミー画素及び表示画素の画素回路の一つのゲート電極の中心を、蒸着中央線Ｃと重なる位置に配置し、中央基準ゲート電極ＣＲ−ＧＴとする。なお、この画素構造は最外画素以外の画素でも、最外画素でもどちらでも採用可能な構造である。
【００２４】
図１〜図７のレイアウトは任意に組み合わせ可能で、例えば画素の領域の垂直方向の端の画素に対して適用することも、垂直方向１列全部の画素に対して適用することも本発明の範疇内である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、画素のレイアウトを示す図である。
【図２】図２は、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す図である。
【図３】図３は、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す図である。
【図４】図４は、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す図である。
【図５】図５は、ダミー画素近傍のレイアウトの一例を示す図である。
【図６】図６は、画素レイアウトの一例を示す図である。
【図７】図７は、画素レイアウトの一例を示す図である。
【図８】図８は、有機ＥＬ表示装置の平面レイアウトを示す図である。
【符号の説明】
【００２６】
ＤＡＴ…データ線、ＣＳＬ…電球供給線、Ｇ１…制御線、Ｇ２…制御線、Ｇ３…制御線、ＴＦＴ…薄膜トランジスタ、ＣＲ−ＧＴ…中央基準ゲート電極、ＣＲ−ＣＨ…中央基準コンタクトホール、Ｃ…蒸着中央線、ＣＲ−ＵＰ…画素上部中央基準部材、ＣＲーＤＮ…画素下蒸着中央基準部材、ＣＲ−ＤＴ…データ線中央基準部、ＰＡＤ…テストパッド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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