(57)【要約】【課題】フォトマスクの大サイズ化に伴いペリクルが大サイズ化した場合に生じる問題を解消し、大サイズ化を達成できるペリクル付きフォトマスクを提供する。【解決手段】フォトマスク４表面に装着したペリクル１のペリクル膜３が透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜３のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであるペリクル付きフォトマスクである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写パターンが形成された主要領域と非主要領域を有するフォトマスクと、外枠及び該外枠に支持されかつ前記外枠の内側を覆うペリクル膜からなるペリクルとを有し、該ペリクルの外枠を前記フォトマスク表面の非主要領域に装着することによって、少なくとも前記フォトマスクの主要領域が前記ペリクルのペリクル膜により覆われたペリクル付きフォトマスクであって、
前記ペリクル膜は透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであることを特徴とするペリクル付きフォトマスク。
【請求項２】
前記フォトマスクに対する前記ペリクルの外枠の装着面の幅が２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のペリクル付きフォトマスク。
【請求項３】
透光性を有する剛性材料がガラス材料であることを特徴とする請求項１又は２に記載のペリクル付きフォトマスク。
【請求項４】
ガラス材料が合成石英であることを特徴とする請求項３に記載のペリクル付きフォトマスク。
【請求項５】
前記ペリクル膜の厚さが０．１ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載のペリクル付きフォトマスク。
【請求項６】
前記フォトマスクは、液晶パネルの製造工程に用いるフォトマスクであることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載のペリクル付きフォトマスク。
【請求項７】
外枠及び該外枠に支持されかつ前記外枠の内側を覆うペリクル膜からなり、前記外枠を、転写パターンが形成された主要領域と非主要領域を有するフォトマスク表面の非主要領域に装着することによって、少なくとも前記フォトマスクの主要領域が前記ペリクル膜により覆うことが可能なペリクルであって、
前記ペリクル膜は透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであることを特徴とするペリクル。
【請求項８】
前記フォトマスクに対する前記ペリクルの外枠の装着面の幅が２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載のペリクル。
【請求項９】
前記ペリクル膜がガラス材料で構成されていることを特徴とする請求項７又は８に記載のペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペリクル付きフォトマスク（レチクルを含む、以下同様。）及びペリクルに関し、特に液晶パネルなどの液晶表示装置製造用の大型フォトマスクに好適に適用できるペリクル付きフォトマスク及びペリクルに関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクは、例えば透光性基板上に遮光膜パターンが形成された微細パターン転写の原版として知られている。
また、フォトマスクの表面（パターン形成面）上に異物が付着することを防止するため、ペリクルと呼ばれる防塵カバーを装着することが多い。ペリクルの一般的な構造としては、金属、セラミックス、樹脂などからなる外枠の片側に、透明な樹脂の薄膜を貼り付け、その反対側に、フォトマスクに貼り付けるための粘着層を設けたものが挙げられる。例えば、ペリクルは、フォトマスクの形状に合わせた形状を有する外枠の一方の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或いはセルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ外枠の他方の縁面が粘着層を介してフォトマスクの表面に貼着される。フォトマスクの表面に異物が付着した場合、その異物が被転写基板上に形成されたフォトレジスト上に結像してパターン欠陥の原因となるが、フォトマスクのパターン形成面に上記ペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に異物が付着してもフォーカス位置がずれる（デフォーカスされる）ために、被転写基板上に形成されたフォトレジスト上に結像することがなく、パターン欠陥を生じさせることがない。
従来、フォトマスクにペリクルを装着する場合、フォトマスクの形状に合わせた形状を有しフォトマスク表面のほぼ全面が覆われるペリクルを用いている（例えば特許文献１の図９参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１０９１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネルの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板等、表示装置の製造工程におけるマスクアライナーを用いた露光工程に用いられる、表示装置製造用フォトマスクは、画素パターン等からなる表示画面（１枚のディスプレイパネルに相当する）の大面積化（大サイズ化）や、多数画面を一枚の基板から一度に製造する要求（多面取り効率を上げる要求）等により、基板サイズが大型化する傾向にあり、これに伴い、フォトマスクの大サイズ化を余儀無くされている。フォトマスクが大サイズ化するということは、ペリクルサイズも現在より更に大サイズ化することが要求される。今までは大サイズといえば、フォトマスクのサイズとして、例えば５２０×６１０ｍｍ、表面積で３０００ｃｍ２程度のサイズであったが、最近ではこれを更に超える大サイズ化の傾向が著しく、表面積が４０００ｃｍ２以上の例えば５２０×８００ｍｍや、更には１０００×１０００ｍｍ以上のサイズのフォトマスク及びペリクルが要求されるようになってきた。
【０００５】
しかしながら、第１の問題として、ペリクルサイズが現在より更に大サイズ化すると、例えば現状で使用されているニトロセルロース膜等の樹脂製のペリクル膜が撓みやすくなり、特に中央部での撓みが大きく、しかもペリクル膜とフォトマスク表面との距離はペリクル膜の撓みがないときで７ｍｍ程度しかないので、急激な気圧の変動等（例えば航空機でペリクル付きマスクを搬送した場合など）によってフォトマスク表面にペリクル膜が接触又は付着する恐れが大きくなるという問題があった。フォトマスク表面にペリクル膜が接触又は一時的に付着すると、その跡がペリクル膜に残る恐れがあり、光学特性に悪影響を与える恐れがあるので好ましくない。最悪の場合、そのフォトマスクをパターン転写に用いることが困難になる。また、フォトマスク表面にペリクル膜が恒常的に付着してしまった場合にも、そのフォトマスクをパターン転写に用いることが困難になる。
【０００６】
また、第２の問題として、ペリクル膜に一定の膜張力を持たせた状態でペリクル膜が外枠に支持されていないと、ペリクル膜が撓んでフォトマスク表面に接触又は付着する恐れがある。セルロース系等のポリマーで製作したペリクル膜の場合、一定の膜張力を引き出すためには、それを支持する外枠の変形は避けられない。外枠が変形すると、ペリクル膜にもゆがみ（歪み）や撓みが生じやすくなり、光学特性等に悪影響を与える恐れが大きくなるという問題がある。この問題は、ペリクルサイズが大きくなるとより顕著に現われる。そもそも、樹脂製のペリクル膜の場合、一定の膜張力で支持されていても、ペリクルサイズが大きくなると、特に中央部が撓みやすいという問題（上述の第１の問題）があり、外枠の変形はその撓みの問題を更に悪化させることになる。また、外枠の変形は、ペリクルのフォトマスクに対する貼り付け位置精度を悪化させるという問題もある。外枠の変形を低減しようとすると、外枠を頑丈に構成する必要があり、そのため外枠の貼着面の幅が大きくなるという新たな問題が生じる。
【０００７】
さらに、ペリクル付きフォトマスクは、ペリクルの付いていないフォトマスクの本来の機能を低減させるものであってはならない。このため、ペリクル膜の透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥、膜張力等を厳密に制御する必要がある。しかし、フォトマスクの大サイズ化が実現しても、ペリクル膜保証（透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥、膜張力）された大サイズ化したペリクル膜が実現しなければ、大サイズ化に対応したペリクル膜付きフォトマスクを実現できないという第３の問題がある。しかも、ペリクル膜保証（透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥、膜張力）するため高度な技術力を要求され、歩留りも小・中サイズに比べ悪化することになり、その結果ペリクルの高価格、ひいてはペリクル付きフォトマスクの高価格につながるという問題がある。
以上の問題は、ペリクルのサイズが大サイズ化、特に表面積で４０００ｃｍ２以上のサイズになると、より一層深刻となる。
【０００８】
そこで本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、フォトマスクの大サイズ化に伴うペリクルのサイズが大サイズ化した場合であっても、ペリクル膜を有するペリクル付きフォトマスクに関し、上述の問題、即ちペリクル膜が大きく撓みフォトマスク表面に接触又は付着するという問題、外枠の変形に起因して光学特性に悪影響を与える恐れがある問題、ペリクル膜保証の問題、等を解消しうるペリクル付きフォトマスク及びペリクルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を有する。
（構成１）転写パターンが形成された主要領域と非主要領域を有するフォトマスクと、外枠及び該外枠に支持されかつ前記外枠の内側を覆うペリクル膜からなるペリクルとを有し、該ペリクルの外枠を前記フォトマスク表面の非主要領域に装着することによって、少なくとも前記フォトマスクの主要領域が前記ペリクルのペリクル膜により覆われたペリクル付きフォトマスクであって、前記ペリクル膜は透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであることを特徴とするペリクル付きフォトマスクである。
（構成２）前記フォトマスクに対する前記ペリクルの外枠の装着面の幅が２０ｍｍ以下であることを特徴とする構成１に記載のペリクル付きフォトマスクである。
【００１０】
（構成３）透光性を有する剛性材料がガラス材料であることを特徴とする構成１又は２に記載のペリクル付きフォトマスクである。
（構成４）ガラス材料が合成石英であることを特徴とする構成３に記載のペリクル付きフォトマスクである。
（構成５）前記ペリクル膜の厚さが０．１ｍｍ〜５ｍｍであることを特徴とする構成１乃至４の何れかに記載のペリクル付きフォトマスクである。
（構成６）前記フォトマスクは、液晶パネルの製造工程に用いるフォトマスクであることを特徴とする構成１乃至５の何れかに記載のペリクル付きフォトマスクである。
【００１１】
（構成７）外枠及び該外枠に支持されかつ前記外枠の内側を覆うペリクル膜からなり、前記外枠を、転写パターンが形成された主要領域と非主要領域を有するフォトマスク表面の非主要領域に装着することによって、少なくとも前記フォトマスクの主要領域が前記ペリクル膜により覆うことが可能なペリクルであって、前記ペリクル膜は透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであることを特徴とするペリクルである。
（構成８）前記フォトマスクに対する前記ペリクルの外枠の装着面の幅が２０ｍｍ以下であることを特徴とする構成７に記載のペリクルである。
（構成９）前記ペリクル膜がガラス材料で構成されていることを特徴とする構成７又は８に記載のペリクルである。
【００１２】
構成１のペリクル付きフォトマスクは、フォトマスク表面に装着したペリクルにおけるペリクル膜が透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズである。
構成１のペリクル付きフォトマスクによれば、フォトマスクの大サイズ化に伴い、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズ（例えば５２０×８００ｍｍや、更には１０００×１０００ｍｍ以上のサイズ）になっても、膜張力を引き出すための負荷が外枠にほとんどかからないため、従来のペリクル膜を支持する外枠が膜張力のために変形する問題を解消することができ、よって従来の外枠の変形を低減するために外枠を頑丈に構成してフォトマスク表面に貼り付けた時の外枠の貼着面の幅が大きくなるという問題を解消することができる。また、ペリクル膜を支持する外枠の変形を防止できることで、外枠の変形に起因して光学特性に悪影響を与える恐れがある問題を解消できるため、従来ペリクル膜張力要因でロスしていた設計公差分、露光エリアを拡大することができる。さらに、ペリクル膜張力のストレスを受けずにペリクルを製造できることにより、従来のペリクルのフォトマスクに対する貼り付け位置精度を悪化させるという問題も解消できる。
【００１３】
また、構成１によれば、フォトマスクの大サイズ化に伴うペリクルのサイズが大サイズ化した場合であっても、前述したペリクル膜が撓んでフォトマスク表面に接触又は付着して光学特性に悪影響を与える恐れがある問題を解消し、さらにペリクル膜の透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥等が厳密に制御されペリクル膜保証された、しかも高価格化を出来るだけ抑制可能な、大サイズ化に対応したペリクル膜付きフォトマスクを提供することが出来る。
構成２のペリクル付きフォトマスクによれば、フォトマスクに対するペリクルの外枠の装着面の幅を２０ｍｍ以下とすることができるので、フォトマスクに対するペリクルの貼り付け等による装着位置のマージンを大きく取ることができる。
【００１４】
構成３にあるように、上記ペリクル膜を構成する透光性を有する剛性材料としては、例えばガラス材料が好ましく挙げられる。ガラス材料は、透光性を有し、また剛性に優れ、平滑性及び平坦性にも優れているため、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズになっても、フォトマスク表面と接触又は付着することなく一定の間隙を保つことが可能である。また、ガラス材料は、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズであっても、ペリクル膜保証（透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥）されたペリクルを高歩留りで実現することが容易である。
【００１５】
上記ガラス材料としては、例えば、ソーダライムガラス、低膨張ガラス、合成石英等が挙げられる。これらのガラス材料は、面内の透過率ばらつきが少なく、大型サイズでも面内の透過率制御が容易であるため、本発明にとって好適である。とりわけ、構成４にあるように合成石英が好ましく挙げられる。合成石英は、ガラス中の欠陥が少なく、特に高純度の合成石英を用いることで、ガラス中の欠陥を無視することができ、ペリクル膜保証には好適である。
【００１６】
また構成５にあるように、前記ペリクル膜の厚さは、０．１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましい。特に、０．３ｍｍ〜３ｍｍの範囲であることが好適である。ペリクル膜の厚さを上記の範囲とすることで、ペリクル膜保証が得られやすく、ペリクルの付いていないフォトマスクの光学特性等を何ら損なう恐れがないからである。また、ペリクル膜の厚さを上記の範囲とすることにより、ペリクル膜をガラス等の剛性材料で構成した場合でも、ペリクル膜を支持する外枠への負担を軽減できる。
また、フォトマスク面とペリクル膜間の距離は、主に露光装置の仕様（露光波長など）で決められるが、ペリクル膜をガラス等の剛性材料とすることによって、気圧変動等によるペリクル膜の撓みを低減できるので、フォトマスク面とペリクル膜間の距離を接近させることも可能であり、使用できる露光装置の選択の自由度が大きい。
【００１７】
また、構成６のように、液晶パネルの製造工程に用いるフォトマスクは、基板サイズの大型化の傾向が著しく、それに対応する大型サイズのペリクルの実現は急務であるため、本発明のペリクル付きフォトマスクは特に好適である。
【００１８】
また、構成７のペリクルは、ペリクル膜は透光性を有する剛性材料で構成され、前記ペリクル膜のサイズが、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズであり、構成８のペリクルは、構成７のペリクルの外枠の装着面の幅を２０ｍｍ以下としたものであり、構成７又は８のペリクルを用いて上述のペリクル付きフォトマスクを好適に実現することができる。
また前述したように、上記ペリクルのペリクル膜を構成する透光性を有する剛性材料としては、例えばガラス材料が好ましく挙げられる（構成９）。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のペリクル付きフォトマスクによれば、フォトマスクの大サイズ化に伴い、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズになっても、従来のペリクル膜を支持する外枠が変形する問題を解消できる。また、ペリクルの外枠の装着面の幅を２０ｍｍ以下とすることができるので、ペリクルのフォトマスク表面に対する貼り付け等による装着位置のマージンを大きく取ることができ、製造上有利である。また、従来の外枠の変形に起因して光学特性に悪影響を与える恐れがある問題、外枠の変形によるペリクルのフォトマスクに対する貼り付け位置精度を悪化させるという問題も解消できる。またさらに本発明によれば、フォトマスクの大サイズ化に伴いペリクルのサイズが大サイズ化した場合であっても、ペリクル膜がフォトマスク表面に接触又は付着した場合に生じる光学特性上の問題が起こらず、さらにペリクル膜保証された、しかも高価格化を出来るだけ抑制可能な、大サイズ化に対応したペリクル膜付きフォトマスクを提供することが出来る。
【００２０】
また、本発明のペリクルによれば、本発明のペリクル付きフォトマスクを好適に実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本発明のペリクル付きフォトマスクの一実施の形態を示す断面図であり、図２は、表示装置用大型フォトマスクに本発明のペリクルを装着した状態を示す平面図である。
図１に示すペリクル付きフォトマスクは、マスク表面に転写パターン５が形成された主要領域を有するフォトマスク４と、該フォトマスク４表面に装着されたペリクル１とからなる。ペリクル１は、フォトマスク４の形状に合わせた形状を有する外枠２と、該外枠２に支持されかつ外枠２の内側を覆うペリクル膜３とから構成されている。すなわち、ペリクル１の外枠２をフォトマスク４表面の周辺領域（上記主要領域以外の非主要領域）に貼着することによって、少なくともフォトマスク４表面の転写パターン５が形成されている主要領域が、ペリクル１のペリクル膜３により覆われた状態である。
【００２２】
本実施の形態において、上記ペリクル１のペリクル膜３は透光性を有する剛性材料で構成されており、このペリクル膜３のサイズは、表面積が４０００ｃｍ２以上となるサイズである。また、本実施の形態において、上記ペリクル１の外枠２のフォトマスク４表面への装着（貼着）面幅（Ｗ）は１５ｍｍとしている。
【００２３】
本実施の形態に係るペリクル１は、基板サイズが表面積で４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズ（例えば５２０×８００ｍｍや、更には１０００×１０００ｍｍ以上のサイズ）のフォトマスクに好適に用いられる、ペリクル膜３の表面積が４０００ｃｍ２以上であるような大型サイズのペリクルである。ペリクル１がこのような大型サイズになっても、膜張力を引き出すための負荷が外枠２にほとんどかからないため、従来のペリクル膜を支持する外枠が膜張力のために変形する問題を解消することができる。また、外枠２の貼着面の幅を２０ｍｍ以下とすることができるので、フォトマスク４表面に対するペリクル１の貼り付け等による装着位置のマージンを大きく取ることができる。ペリクルの貼り付け位置のマージンを大きく取れることは、ペリクル付きフォトマスクを製造する上で大変有利である。また、ペリクル膜を支持する外枠の変形を防止できることで、従来の外枠の変形に起因して光学特性に悪影響を与える恐れがある問題、ペリクルのフォトマスクに対する貼り付け位置精度を悪化させるという問題も解消することができる。
【００２４】
上記ペリクル膜３は剛性材料で構成されるが、ペリクルは、ペリクルの付いていないフォトマスクの光学特性等を損うものであってはならないため、上記ペリクル膜３は透光性を有する必要がある。このようなペリクル膜３を構成する透光性を有する剛性材料としては、例えばガラス材料が好ましく挙げられる。ガラス材料は、良好な透光性を有し、剛性に優れ、平滑性及び平坦性にも優れているため、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上の大型サイズでも、フォトマスク表面と接触又は付着することなく一定の間隙を保つことが可能であるからである。また、ガラス材料は、ペリクル膜の表面積が４０００ｃｍ２以上の大型サイズになっても、ペリクル膜保証（透過率、膜厚ばらつき、膜中欠陥）されたペリクルを高歩留りで得ることが容易であるからである。
【００２５】
上記ガラス材料としては、例えば、ソーダライムガラス、低膨張ガラス、合成石英等が挙げられるが、この中でも、合成石英が特に好ましく挙げられる。これらのガラス材料は、面内の透過率ばらつきが少なく、大型サイズでも面内の透過率制御が容易であり、ペリクル膜保証を得られやすく好適である。とりわけ、合成石英は、ガラス中の欠陥が少なく、特に高純度の合成石英を用いることで、ガラス中の欠陥を無視することができるので、高ペリクル膜保証されたペリクルを得るのに好適である。
【００２６】
上記ペリクル膜３の厚さは特に制約はされないが、０．１ｍｍ〜５ｍｍの範囲であることが好ましい。ペリクル膜３の厚さを上記の範囲とすることで、ペリクル膜保証が得られやすく、ペリクルの付いていないフォトマスクの光学特性等を損なう恐れがないからである。また、ペリクル膜３の厚さを上記の範囲とすることにより、ペリクル膜３をガラス等の材料で構成した場合でも、ペリクル膜３を支持する外枠２への負担を軽減できるからである。本発明においては、ペリクル膜３の厚さは、０．３ｍｍ〜３ｍｍの範囲であることが特に好適である。
【００２７】
また、上記外枠２は、フォトマスク４の形状に合わせた形状を有する厚さ（高さ）例えば数ミリ程度の枠体である。外枠２の厚さは、ペリクル膜３とフォトマスク４表面との間隙を規制するので、外枠２の厚さを変更することにより、ペリクル膜３とフォトマスク４表面との距離を調整することができる。また、外枠２は、例えばアルミニウム等の金属、セラミックス、樹脂等の材料で構成することができるが、例えば、外枠２の一方の縁面が粘着材を介してペリクル膜３に貼着されてペリクル１となる。そして、ペリクルマウンター等を用いて、外枠２の他方の縁面が粘着材を介してフォトマスク４表面に貼着されるので、ペリクル１をフォトマスク表面に貼り付けて装着する場合は、ペリクル膜３及びフォトマスク４との接着性などを考慮して外枠２の材質を決定することが望ましい。
【００２８】
尚、ペリクル膜３は外枠２に支持されているが、その方法は、上述の粘着材によって貼り合せる方法には限定されない。例えば、外枠２の縁面に溝を設けて、ペリクル膜３の縁部を嵌め込むようにしてもよい。また、ペリクル１をフォトマスク４表面に装着する方法についても、ペリクル１の外枠２を粘着材を介してフォトマスク４表面に貼着する方法には限定されない。例えば、露光時に、ペリクルの外枠がフォトマスク表面に接触している（貼着されてはいない）状態に保持（固定）されるようにしてもよい。本発明のペリクルは外枠の変形が起こらないので、必ずしもフォトマスクに貼り付けなくても、ペリクル膜とフォトマスク表面との一定の間隙を良好に保つことができる。
【００２９】
本発明においては、上記外枠２のフォトマスク４表面に対する装着面の幅（Ｗ）は２０ｍｍ以下としているが、さらに好ましくは１５ｍｍ以下である。また、その下限値については特に制約はされないが、強度の観点からは５ｍｍ以上とすることが望ましい。尚、上述したように、ペリクル１をフォトマスク４表面に装着する方法は、ペリクル１の外枠２を粘着材によりフォトマスク４表面に貼着する方法に限定されないので、外枠２の装着面という場合、外枠２がフォトマスク表面に接触しているが貼着（接着）はされていない状態の装着面も含まれる。
【００３０】
図２は、一例として、基板サイズが例えば５２０ｍｍ×８００ｍｍの表示装置用大型フォトマスクであってマスク上に２画面を配置したフォトマスクマスク４（２面取りのフォトマスク）に本発明のペリクル１を装着した状態を示している。
本発明のペリクル付きフォトマスクは、例えば、液晶パネルなどの液晶表示装置用の薄膜トランジスタ基板の製造工程に用いるフォトマスクとして特に好適である。液晶表示装置用の薄膜トランジスタ基板は、表示画面の大面積化及び多数画面を一枚の基板から一度に製造する要求（所謂多面取り）等により、基板サイズの大型化の傾向が著しく、これに伴い、フォトマスクの大サイズ化が余儀無くされており、従ってそれに対応する大型サイズのペリクル及びペリクル付きフォトマスクの実現も急務だからである。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明のペリクル付きフォトマスクの一実施の形態を示す断面図である。
【図２】表示装置用大型フォトマスクに本発明のペリクルを装着した状態を示す平面図である。
【符号の説明】
【００３２】
１  ペリクル
２  外枠
３  ペリクル膜
４  フォトマスク
５  転写パターン
【図１】
2007003747.tif 000003
【図２】
2007003747.tif 000004