(57)【要約】【課題】感光性転写材料によって形成された感光性樹脂層を露光後に現像する場合、現像後の現像残渣の低減が可能な現像液とそれを用いた画像形成方法の提供。【解決手段】転写された感光性樹脂層を露光後に、アルカリ現像液により現像して画像形成する工程を設け、前記アルカリ現像液に炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含有せしめ、前記炭酸塩がナトリウムイオン及び／又はカリウムイオンを含有させ、かつ、該炭酸塩の濃度を０．０４〜０．５モル／ｋｇとし、前記陰イオン界面活性剤に、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）とポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）とを含有させ、かつ、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合を２０質量％〜６０質量％とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含有し、該炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩を含有し、かつ、炭酸塩の濃度が０．１〜１．０モル／ｋｇであり、該陰イオン界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）とを含有し、かつ、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である感光性樹脂用アルカリ現像液。
【請求項２】
炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含有し、該炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩を含有し、かつ、該炭酸塩の濃度が０．０４〜０．５モル／ｋｇであり、該陰イオン界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）とを含有し、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である感光性樹脂用アルカリ現像液を用いて、基板に転写された感光性樹脂層を露光後に現像する画像形成方法。
【請求項３】
請求項２に記載の画像形成方法を含む工程を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
基板上に感光性転写材料を用いて画像形成する工程と、前記画像が形成された基板上に感光性樹脂層を塗布により形成する工程とを有し、前記感光性転写材料を用いて画像形成する工程が、請求項２に記載の画像形成方法を含むカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項３又は４に記載のカラーフィルタの製造方法を含む工程を設けて製造されたカラーフィルタ。
【請求項６】
請求項５に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂用アルカリ現像液、それを用いた画像形成方法、カラーフィルタの製造方法、該製造方法によって製造されたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを有する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタは、近年、顔料分散レジストを基板に塗布する方法を中心に発達して来た。但し、この方法ではスピン塗布法などを用いるため、顔料分散レジストのロスが多い、均一に塗布するための条件コントロールが難しい、という問題を持っていた。その解決手段として、熱可塑性樹脂層を有する感光性転写材料を用いる方法が提案された。この感光性転写材料を用いる方法では、予め仮支持体上に均一に塗布された感光性樹脂層（顔料や感光性樹脂を含む）を、基板に転写（ラミネート）するため、スピンコーターのように、感光性樹脂が多量にロスすることも無く、膜厚も均一に形成できた。この感光性転写材料を用いる方法では、熱可塑性樹脂層を用いる事で、転写時に感光性樹脂層を基板の凹凸に追従させ、感光性樹脂層の基板上での厚みを一定に保つことができるが、感光性樹脂層の現像前に、熱可塑性樹脂層を除去する必要があった。この目的で、１％トリエタノールアミン水溶液で処理するなどの方法がとられていた（この工程を、以降ＰＤ工程と呼ぶことにする）。また、感光性樹脂層の現像後に、感光性樹脂層に含まれている成分が現像残渣として残存することがあり、この現像残渣を減らす目的で種々の処理液が提案されている。例えば特許文献１には炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含むアルカリ現像液が開示されている。
また、現像残渣を除去する目的で、現像工程の後に、洗浄剤(界面活性剤を主成分として含む現像残膜除去用液)中で回転ブラシにより擦る方法が提案された（この工程を以降ＳＤ工程と呼ぶことにする）。これにより、製造されるカラーフィルタの現像残渣が著しく減り、カラーフィルタ品質が向上した。
【０００３】
また、最近では、コストダウンの観点から、顔料分散レジストをスリット状ノズルを用いて塗布し顔料分散レジストの省液化を行うカラーフィルタの製造法（以下、スリットコート法と呼ぶ）が導入されているが、黒用材料等の一部の材料はスリットコート法ではスジが出やすいなどの問題を持っており、このような黒用材料等を転写法で形成し、それ以外をスリットコート法で形成すると、生産性良くカラーフィルタが製造できるとされている。
【特許文献１】特開平０５−２０４１６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ＳＤ工程の導入により現像残渣が著しく減少したが、基板の大型化に伴い回転ブラシの軸長も長くなる傾向にある。ブラシの当たり方が弱い部分は残渣除去が不十分となる可能性があるため、より精度の高いブラシ管理が必要になりつつある。
また、黒用材料等を転写法で形成し、それ以外をスリットコート法で形成する場合、転写法で画素を形成した基板上の非画素部分等に現像残渣が残存すると、その後塗布する際に塗布欠陥が発生する傾向があり、問題となる。特にスリット状ノズルで塗布する場合その影響が顕著である。
本発明は、この点に着目して成し得たものである。すなわち、本発明の課題は、カラーフィルタ画素の形成に感光性転写材料を用いるに際して、現像終了時の仕上がり（非画素部分等の残渣が少ない事）を高め、回転ブラシの精度管理を厳しく行わなくても、高い品質の画像（カラーフィルタ含む）を製造できる感光性樹脂用アルカリ現像液並びにこれを用いた画像形成方法及びカラーフィルタの製造方法を提供する事にある。更にはこれにより製造された品質の良いカラーフィルタ及び表示装置を提供する事にある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、鋭意検討の結果、アルカリ現像液として、以下のものを用いると、現像の後工程であるＳＤ工程のブラシ管理を軽減できる事を見出し、本発明に至った。すなわち：
＜１＞炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含有し、該炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩を含有し、かつ、炭酸塩の濃度が０．１〜１．０モル／ｋｇであり、該陰イオン界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）とを含有し、かつ、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である感光性樹脂用アルカリ現像液である。
＜２＞炭酸塩と陰イオン界面活性剤とを含有し、該炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩を含有し、かつ、該炭酸塩の濃度が０．０４〜０．５モル／ｋｇであり、該陰イオン界面活性剤が、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）とを含有し、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である感光性樹脂用アルカリ現像液を用いて、基板に転写された感光性樹脂層を露光後に現像する画像形成方法である。
＜３＞前記＜２＞に記載の画像形成方法を含む工程を有するカラーフィルタの製造方法である。
＜４＞基板上に感光性転写材料を用いて画像形成する工程と、前記画像が形成された基板上に感光性樹脂層を塗布により形成する工程とを有し、前記感光性転写材料を用いて画像形成する工程が、前記＜２＞に記載の画像形成方法を含むカラーフィルタの製造方法である。
＜５＞前記＜３＞又は＜４＞に記載のカラーフィルタの製造方法を含む工程を設けて製造されたカラーフィルタである。
＜６＞前記＜５＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、カラーフィルタ画素の形成に感光性転写材料を用いるに際して、現像終了時の仕上がり（非画素部分等の残渣が少ない事）を高め、回転ブラシの精度管理を厳しく行わなくても、高い品質の画像（カラーフィルタ含む）を製造できる感光性樹脂用アルカリ現像液並びにこれを用いた画像形成方法及びカラーフィルタの製造方法を提供する事ができる。更にはこれにより製造された品質の良いカラーフィルタ及び表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
＜感光性樹脂用アルカリ現像液＞
本発明の感光性樹脂用アルカリ現像液（以下、現像液と略す）は、炭酸塩の少なくとも１種と陰イオン界面活性剤の少なくとも１種とを含有する。
（炭酸塩）
本発明における炭酸塩は、ナトリウム塩及び／又カリウム塩を含有する。炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩であることで、必要なｐＨ領域での緩衝液を得ることができる。また、感光性樹脂層の現像に際して低残渣効果を得ることができる。
本発明における炭酸塩は、本発明の効果を損なわない範囲でナトリウムイオン及びカリウムイオン以外の他の陽イオンを含有してもよい。他の陽イオンとしては、リチウムイオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンを挙げることができる。
このように炭酸塩中にナトリウムイオンとカリウムイオン以外の陽イオンが含有される場合、ナトリウムイオンとカリウムイオンの含有量の和は、炭酸塩中の全陽イオンに対して、６０質量％〜１００質量％であることが好ましく、９０質量％〜１００質量％であることがより好ましい。
例えば、炭酸塩がリチウム塩のみの場合には、必要なｐＨ領域で良好な緩衝力を得ることができず、また、アンモニウム塩のみの場合には、良好な低残渣効果を得ることができない。
【０００８】
本発明における炭酸塩は、現像液中に適切な濃度で含まれなければならない。本発明の現像液で感光性樹脂層を現像する場合（これを以下、使用時または使用時濃度と呼ぶ）の該炭酸塩の濃度は、０．０４〜０．５モル／ｋｇであり、より好ましくは０．０６〜０．５モル／ｋｇ、最も好ましくは０．０８〜０．４モル／ｋｇである。
炭酸塩濃度を０．０４モル／ｋｇ以上とすることで低残渣効果を充分に得ることができる。また、０．５モル／ｋｇ以下とすることで、画素のエッジ付近に残膜が残ることを抑制することができる。
【０００９】
また本発明の現像液は、使用状態より濃い液を製造し、これを輸送・ストックしておき、使用時に適宜希釈するのが、コスト上好ましい。従って、本発明の現像液が生産された状態（これを以下、保存時または保存時濃度と呼ぶ）をも考慮すると、該炭酸塩の濃度は、０．１〜１．０モル／ｋｇである。
０．１モル／ｋｇ以上とすることで非画像部の低残渣効果及び画素近傍の残膜抑制効果を得るとともにコスト上有利になり、１．０モル／ｋｇ以下とすることで、輸送・保存時に析出物が発生することを抑制することができる。したがって、本発明の現像液は保存時濃度が使用時濃度に対し、好ましくは２〜６倍、より好ましくは３〜６倍、最も好ましくは４〜５倍である。
【００１０】
本発明の現像液は、使用時濃度におけるｐＨとして、好ましくはｐＨ９．３〜１０．９、より好ましくはｐＨ９．５〜１０．７、最も好ましくはｐＨ９．７〜１０．６である。ｐＨ９．３以上とすることで、現像速度を早めることができスループットが良好となる。加えて、良好な緩衝力を得ることができる。また、ｐＨ１０．９以下とすることで、良好な残渣除去性を得ることができ、加えて良好な緩衝力を得ることができる。
【００１１】
（陰イオン界面活性剤）
本発明の現像液は、陰イオン界面活性剤として、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）の少なくとも1種と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）の少なくとも1種を含有する。
本発明におけるナフタレンスルホン酸誘導体塩は、ナフタレンスルホン酸の塩及び少なくとも１つのアルキル基を有するアルキルナフタレンスルホン酸の塩から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。アルキルナフタレンスルホン酸のアルキル基としては、炭素数１〜６の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましく、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基がより好ましく、ブチル基が更に好ましい。アルキルナフタレンスルホン酸のアルキル基の置換基数としては１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
ナフタレンスルホン酸誘導体の具体例としては、ナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸を挙げることができる。
上記ナフタレンスルホン酸誘導体はそれぞれ単独でもまた２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用することが好ましい。また、ナフタレンスルホン酸誘導体塩としてはナトリウム塩及び／又はカリウム塩であることが好ましい。
【００１２】
また、本発明におけるポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩は、下記一般式（Ｉ）に示す化合物の少なくとも1種を含有することが好ましい。
【００１３】
【化１】
2007316337.tif 000002
【００１４】
式（Ｉ）中、ｎは＝１〜２０の整数を表し、Ｍはナトリウム原子又はカリウム原子を表す。ｎとしては、本現像液の保存時の析出を防止する観点から、２〜１５が好ましく、３〜８がより好ましい。
また、上記一般式（Ｉ）の置換基位置は、ナフタレン環の１位又は２位のうち、２位であることが好ましい。
【００１５】
本発明における現像液において、界面活性剤（Ａ）と界面活性剤（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合は２０質量％〜６０質量％である。特に２３質量％〜５０質量％であることが好ましく、２５質量％〜４０質量％であることがより好ましい。２０質量％以上とすることで画素近傍の残膜が減少する。また、６０質量％以下とすることで非画像部の現像残渣が減少する。
【００１６】
陰イオン界面活性剤の使用時濃度としては、現像液の仕上がり具合の観点から、（Ａ）と（Ｂ）の質量の合計が現像液の０．５質量％〜３．１質量％であることが好ましく、０．６質量％〜２．４質量％であることがより好ましく、０．８質量％〜２．２質量％であることが最も好ましい。また、保存時濃度としては、０．５質量％〜１５質量％が好ましく、０．６質量％〜１２質量％がより好ましく、０．８質量％〜１１質量％が最も好ましい。
【００１７】
（その他の成分）
本発明の現像液においては、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含有することができる。その他の成分としては、水と混和性の有機溶剤を挙げることができる。
水と混和性のある有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜４０質量％が一般的である。
【００１８】
＜画像形成方法＞
本発明において、基板上に転写された感光性樹脂層を形成する方法としては、仮支持体上に感光性樹脂層を有する感光性転写材料を、基板にラミネート後、仮支持体を除去する事によって行う方法が好ましい。
（感光性転写材料）
本発明における感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層とを有するものであることが好ましい。前記感光性転写材料は、例えば特開２００５−３８６１号公報の段落［００６４］〜［００６６］に記載の工程によって製造することができる。
【００１９】
（仮支持体）
感光性転写材料における仮支持体としては、可撓性を有し、加圧、若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましい。そのような仮支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００２０】
（熱可塑性樹脂層）
感光性転写材料における熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【００２１】
（中間層）
本発明における感光性転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【００２２】
（感光性樹脂層）
本発明における感光性樹脂層がブラックマトリクスなどの遮光部を形成する場合は、特開２００５−３８６１号公報の感光性黒色樹脂層や、特開２００４−２４００３９号公報の着色組成物からなる層と同様にして、感光性樹脂層を形成することができ、ＲＧＢなどの着色画素を形成する場合は、特開２００６−２３６９６号公報の着色感光性樹脂組成物からなる層と同様にして、感光性樹脂層を形成することができる。
【００２３】
（保護フイルム）
感光性転写材料の感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フイルムを設けることが好ましい。保護フイルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フイルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【００２４】
（転写工程）
前記感光性転写材料の基板表面への貼り合わせ（転写）は、一般に、感光性転写材料の感光性黒色樹脂層上の保護フイルムを除去した後、転写材料を基板表面に重ね、加圧、加熱下に行われる。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
【００２５】
（露光工程）
転写工程後、仮支持体を剥し取った後、所定のマスク、熱可塑性樹脂および中間層を介して感光性樹脂層をパターン露光する。前記パターン露光に使用される光源は、感光性樹脂層の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用しても良い。前記パターン露光の露光量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以下、好ましい範囲は１５０ｍＪ／ｃｍ２以下、さらに好ましい範囲は１００〜７０ｍＪ／ｃｍ２である。特に露光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２以下の場合、タクトタイムの短縮という点で好ましい。
【００２６】
（現像工程）
本発明における、感光性樹脂層を現像する工程としては、処理液として本発明の現像液を用いて、処理液槽にディップする方法やシャワー型処理槽を用いる方法を挙げることができる。特に、基板を搬送する搬送機構の上にシャワーノズルを多数有するシャワー型処理槽を用いる方法が好ましい。シャワー型処理槽を用いることで、短時間で、均一に、感光性樹脂層を現像することが可能となる。
シャワー型処理槽におけるノズルとしては、フラットノズル、コーン型ノズル、間接噴射などを挙げることができる。特にコーン型ノズルを用いることで、シャワーの衝突力により、未露光の感光性樹脂が脱膜的に効率よく除去することができ、好ましい。
【００２７】
現像液の温度は、通常室温付近から４０℃の範囲が好ましい。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。また現像は、熱可塑性樹脂層、中間層および感光性樹脂層を一度に行なっても良いが、現像ムラや感光性樹脂層の現像時の現像液による層の劣化を少なくするため、熱可塑性樹脂層および中間層を先に溶解除去した後、感光性樹脂層の現像を行なうことが好ましい。後で感光性樹脂層の現像を行なう場合、熱可塑性樹脂層および中間層の除去に使用する現像液は、感光性樹脂層を劣化させないようなものを選択することが好ましい。この方法は、熱可塑性樹脂層および中間層と、感光性樹脂層との溶解速度の差を考慮して現像液を選ぶことにより、あるいは液温、スプレー圧、擦る際の圧力等の現像処理条件を適宜組み合わせることにより行うことができる。この方法により、現像ムラの発生を抑制できる。
【００２８】
本発明の画像形成方法としては、現像工程の後、必要に応じてポスト露光やベーク（加熱工程）を行ってもよい。転写からベーク工程については特開２００５−３８６１号公報の段落［００６７］〜［００６９］、［００７２］〜［００７４］に記載の工程が、本発明においても好適なものとして用いることができる。
【００２９】
本発明の画像形成方法によって形成される画像としては、ブラックマトリクスなどの遮光部（以下、Ｋ画像ともいう）、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の着色画像並びにフォトスペーサを挙げることができるが、これらに限定されない。
【００３０】
＜カラーフィルタ＞
（基板）
本発明において、カラーフィルタが形成される基板としては、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。
また、上記基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂転写材料との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、７００〜１２００μｍが一般的に好ましく、５００〜１１００μｍが特にこのましい。
【００３１】
（着色画素形成）
本発明のカラーフィルタの製造方法において、ＲＧＢなどの着色画素は、上述の感光性転写材料を用いた転写法により形成してもよいが、塗布時の塗布欠陥発生防止の観点から、感光性転写材料を用いてＫ画像を形成した後に、感光性樹脂層を塗布により形成する工程を経て形成することが好ましい。
【００３２】
−感光性着色樹脂層用塗液の調製−
赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の各感光性着色樹脂層用塗液の調製に関しては、用いる着色剤が異なる点以外は、前記感光性転写材料に含まれる感光性黒色樹脂層を形成する場合と実質的に同じであるが、塗布方式の相違によって各感光性着色樹脂層用塗液の粘度、比重、表面張力等を溶剤の含有量、界面活性剤の添加等によって調整することが望ましい。
【００３３】
以下、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の各感光性着色樹脂層用塗液の調製に用いる着色剤ついて説明する。
着色剤は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）等の着色画素を形成する場合に応じて任意の顔料、染料等が選択される。
前記着色剤としては、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色の公知の顔料および染料を使用することができる。これらの好ましい例としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、およびモナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）を挙げることができる。
【００３４】
さらにカラーフィルターの作成に特に好適な顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３等を挙げることができる。前記顔料および染料は、一般に５μｍ以下の平均粒径を有しており、１μｍ以下が好ましい。カラーフィルターを作成する場合は、０．５μｍ以下の平均粒径のものを使用することが好ましい。
【００３５】
−感光性着色樹脂層用塗液を用いた着色画素の形成−
基板上のＫ画像が形成された面に、前記感光性着色樹脂層用塗液をＫ画像の上から塗布し、現像、露光することにより着色画素を形成する。
【００３６】
（塗布工程、および露光現像工程）
例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の画素を形成するに際し、まず初めに赤色画素を形成する場合、感光性赤色樹脂層の塗液を塗布、乾燥させる。ここで該塗液の塗布は、公知の塗布法により行うことができ、例えば、スピナー法、ロールコーター法、インクジェット法、スリットコーター法、スリット・スピン法などを用いた塗布法が挙げられる。これらの塗布法のなかで、液ロス減の観点から、スリットコーターを用いる塗布法がより好ましい。その方法としては、特開２００６−２３６９６号公報の[００２３]に記載のスリット状ノズルを用いた方法を参照することができる。
塗布法によって形成される感光性赤色樹脂層の層厚は、得られるＫ画像の膜厚に対応するように設定される。
【００３７】
次いで、パターン露光、現像、および加熱処理を行うことによって赤色着色画素が形成される。ちなみに、該パターン露光、現像、および加熱処理の説明に関しては、前記のＫ画像形成の際の露光現像工程の説明と重複するため、ここでは割愛する。
【００３８】
同様にしてそれぞれの着色画素においても塗布・パターン露光・現像、および加熱処理を行い各画素を形成させる。最後に、Ｋ画像および全ての画素を形成した基板をもう一度加熱処理することにより、カラーフィルター基板を得ることができる。
【００３９】
＜表示装置＞
本発明の表示装置としては既述の本発明のカラーフィルタを備えるものであれば、特に限定するものではなく、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などを言う。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
【００４０】
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【００４１】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行  ）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【００４２】
本発明の表示装置は、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）のような様々な表示モードが採用できる。前述したようなカラーフィルタを用いることを特徴とし、これにより、テレビ、モニターに搭載したときに表示ムラが無く、広い色再現域と高コントラスト比を有することができ、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の表示装置等にも好適に用いることができる。
【実施例】
【００４３】
以下に、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、「分子量」とは「質量平均分子量」のことを示す。
【００４４】
（実施例１〜２０、比較例１〜９）
＜感光性樹脂用アルカリ現像液の作製＞
本発明の現像液１は、以下の処方により作製して保存液とした。
・炭酸ナトリウム                                          ６３．６部
・炭酸水素ナトリウム                                      ３３．６部
・イオン交換水                                          ５２９．８部
・ナフタレンスルホン酸誘導体塩（固形分３５％溶液）          ３４３部
（ペレックスＮＢＬ、花王株式会社製）
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩                    ３０部
（ニューコールＢ４ＳＮ、日本乳化剤株式会社製）
【００４５】
次に、以下のように５倍に希釈して使用した。
・上記保存液                                          ２０部
・イオン交換水                                        ８０部
【００４６】
これと同様にして、本発明の現像液２〜２０と、比較例の現像液１〜９を作成した。これらの現像液の５倍希釈後の組成を、表１〜表４に示す。
【００４７】
【表１】
2007316337.tif 000003
【００４８】
【表２】
2007316337.tif 000004
【００４９】
但し、比較例７、８の現像液は５倍希釈用の濃縮液が作製できなかったので、２倍希釈用の濃縮液を調製し、希釈して実施した。
【００５０】
【表３】
2007316337.tif 000005
【００５１】
【表４】
2007316337.tif 000006
【００５２】
＜カラーフィルタの作製＞
−感光性転写材料、塗布液の作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記表５に記載の処方からなる着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．２μｍの感光性樹脂層を設け、保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ１とした。
【００５３】
熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１
・メタノール                                                          １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ６．３６部
・メチルエチルケトン                                                  ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝９万、Ｔｇ≒７０℃）  ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                      １３．６部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを
２当量脱水縮合した化合物（新中村化学工業(株)製、商品名：２，２−
ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン）    ９．１部
・界面活性剤１                                                        ０．５４部
【００５４】
中間層用塗布液：処方Ｐ１
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、(株)クラレ製、
鹸化度＝８８％、重合度５５０）          ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン(株)製、Ｋ−３０）      １４．９部
・蒸留水                                                                ５２４部
・メタノール                                                            ４２９部
【００５５】
−ブラック（Ｋ）画像の形成−
無アルカリガラス基板に、２５℃に調整した洗浄液（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１  富士写真フイルム（株）製を純水で１０倍に希釈したもの）をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱して次のラミネーターに送った
（なお、ここで洗浄液としてＴ−ＳＤ１を用いたが、Ｔ−ＳＤ２、Ｔ−ＳＤ３を同様に用いてもよい）。
【００５６】
前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の保護フイルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ））を用い、前記１００℃に加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）で、基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。  
【００５７】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％と添加剤含有、商品名：Ｔ−PＤ2、富士写真フイルム（株）製を、純水で１２倍（該原液を１質量部と純水を１１質量部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と中間層を除去した。引き続き、この基板上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
【００５８】
引き続き本発明の現像液1を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画像を得た。
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈して用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーで吹きかけ、更にナイロン毛を有する回転ブラシにより形成された画像を擦って残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た（なお、ここで洗浄液としてＴ−ＳＤ１を用いたが、Ｔ−ＳＤ２、Ｔ−ＳＤ３を同様に用いても良い）。
その後、該基板に対して両面から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量でポスト露光後、２２０℃、３０分熱処理した。
【００５９】
−レッド（Ｒ）画素の形成−
このＫの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄した。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（平田機工株式会社製）にて、下記表５に記載の処方からなる塗布液Ｒ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業(株)製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．４μｍの感光性樹脂層Ｒ１０１を得た。
【００６０】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【００６１】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、該感光性樹脂層Ｒ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、更に超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や前記感光性樹脂層溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行い、赤（Ｒ）の画素を得た。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理した。
【００６２】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
前記Ｋの画像とＲの画素を形成した基板に、下記表５に記載の処方からなる塗布液Ｇ１を用い、前記赤（Ｒ）画像の形成と同様の工程で、熱処理済みＧ画素を形成した。
【００６３】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
前記Ｋの画像、Ｒ及びＧの画素を形成した基板に、下記表５に記載の処方からなる塗布液Ｂ１を用い、前記レッド（Ｒ）画素の形成と同様の工程で、熱処理済みＢ画素を形成し、目的のカラーフィルタを得た。
【００６４】
【表５】
2007316337.tif 000007
【００６５】
尚、表５に記載の組成物の内、
＊Ｋ顔料分散物１の組成は、下記であった。
・カーボンブラック（商品名：Nipex３５、デグサ  ジャパン（株）製）     １３．１部
・分散剤１（下記化合物１）                                            ０．６５部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比
のランダム共重合物、分子量３．７万）  ６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ７９．５３部
【００６６】
【化２】
2007316337.tif 000008
【００６７】
＊バインダー１の組成は、下記であった。
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比
のランダム共重合物、分子量３．８万）  ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ７３部
＊ＤＰＨＡ液の組成は、下記であった。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ppm含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                  ７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ２４部
＊界面活性剤１の組成は、下記であった。
・下記構造物１                                                        ３０部
・メチルエチルケトン                                                    ７０部
【００６８】
【化３】
2007316337.tif 000009
【００６９】
＊Ｒ顔料分散物１の組成は、下記であった。
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ  Ｒｅｄ  Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）…８．０部
・上記化合物１（分散剤１）…０．８部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）の
ランダム共重合物、分子量：３万）…８部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…８３部
【００７０】
＊Ｒ顔料分散物２の組成は、下記であった。
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ  Ｒｅｄ  
Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）…１８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）の
ランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕…１２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７０部
【００７１】
＊バインダー２の組成は、下記であった。
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート
（＝３８／２５／３７[モル比]）のランダム共重合物、分子量：４万）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
【００７２】
＊Ｇ顔料分散物１は、下記であった。
商品名：ＧＴ−２（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
＊Ｙ顔料分散物１は、下記であった。
商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３（御国色素（株）製）
＊Ｂ顔料分散物１は、下記であった。
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素（株）製）
＊Ｂ顔料分散物２は、下記であった。
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素（株）製）
＊バインダー３の組成は、下記であった。
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート
（＝３６／２２／４２[モル比]）のランダム共重合物
（重量平均分子量３８，０００）                                          ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３部
【００７３】
（実施例２〜２０、及び比較例１〜９）
本発明の現像液２〜２０、及び、比較例の現像液１〜９を用い、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
【００７４】
＜評価＞
ＳＤ工程の不具合を一定に再現する事は難しいため、ＳＤ工程を経ていない現像直後の画素について、現像残渣を評価した。
現像残渣はＸ線光電子分光法による、Ｆ／Ｓｉ比で評価した。Ｘ線光電子分光法は試料の再表面から３〜７０オングストローム程度の深さの構成元素を定量測定する方法である。Ｘ線の照射により、光電子効果で原子中の各軌道にある電子を真空中に放出させ、その電子の運動エネルギーから元素と軌道を特定することができる。（入門表面分析  内田老鶴圃、吉原一紘著、８１〜１０５ページの「Ｘ線光電子分光法」を参照）。従って、この方法を用いれば、現像残渣に含有されている界面活性剤由来のフッ素含有物質中のフッ素と、ガラス基板に含まれるケイ素との比を取ることでガラス基板上のわずかな残渣（フッ素含有物質）を正確に半定量評価することが可能である。
【００７５】
Ｘ線光電子分光装置は、アルバック・ファイ（株）製ＥＳＣＡ−５３００を用いた。評価試料は適当な大きさに裁断し、予備排気後装置内に導入した。Ｘ線源は加速電圧１５ｋＶ、４００Ｗで発生したＭｇＫα線を用い、真空度１〜１２×１０−６Ｐａ（１〜９×１０−８ｔｏｒｒ)、試料から発生する光電子の取り込み角度４５°、パスエネルギー３５．７５ｅＶでＦ１ｓピークとＳｉ２ｐピークの測定を行った。標準条件での測定面積は、縦２ｍｍ、横１０ｍｍの長方形であった。得られたピークの面積（カウント・ｅＶ／ｓｅｃ）に対し、各元素の相対感度係数としてＦ１ｓは１．０００、Ｓｉ２ｐは０．３６８を考慮して元素の存在モル比を求めた。併せて現像残渣と画素近傍残膜を顕微鏡観察によって評価した。結果を表６〜表８に示す。
【００７６】
また、現像槽で除去されているべき未露光の感光性樹脂層が、どの程度除去できているかの観点で観察した。この段階で低残渣効果が高いものは、実際のカラーフィルタの製造工程において、様々な原因でＳＤブラシの当たりなどが変動した時にも、品質良くカラーフィルタが製造できるのは言うまでも無い。
また、スリットコート時の塗布欠陥を強制的に発生させるため、塗布液Ｒ１に添加する界面活性剤の量を１／８とした塗布液を準備し、ＳＤ工程を行わないブラック（Ｋ）画像付基板にスリット状ノズルにより塗布して、塗布欠陥を評価した。塗布欠陥は、ホール状故障の発生個数を顕微鏡観察でカウントし、１０枚の基板の平均値より求めた。
ここでホール状故障とは、基板に塗布した液の膜に、円形様や、楕円形様に塗布膜の無い、微小部分が生じる故障を言う。結果を表９に示す。
【００７７】
【表６】
2007316337.tif 000010
【００７８】
表６中の記号は以下の評価を意味する。
◎    ：  全く見られない。
○    ：  画素７０００μｍ長あたり１個程度。
△    ：  画素３０００μｍ長あたり１個程度。
△△  ：  画素１０００μｍ長あたり１個程度。
×    ：  画素のいたるところに見られる。
【００７９】
【表７】
2007316337.tif 000011
【００８０】
表７中の記号は以下の評価を表す。
◎    ：  全く見られない。
○    ：  かすかに見られる。
△    ：  僅かに見られる。
△△  ：  少し見られる。
×    ：  画素のいたるところに見られる。
【００８１】
【表８】
2007316337.tif 000012
【００８２】
表８中、最短現像時間とは、未露光部分を除去するのに必要な、最低の現像時間を意味する。１秒刻みで現像時間を変化させてテスト（ＰＤ条件は一定）し、目視にて、感光層が除去できたと考えられる最も短い時間を判断した。この時間が長いものは、現像が遅い材料、短いものは、現像が速い材料である。現像ラインの制約から、該最短現像時間は８秒〜３０秒が適切である。３０秒以下であることによりラインのスループットを高く維持することができる。
【００８３】
【表９】
2007316337.tif 000013
【００８４】
表６から、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）を含み、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である本発明の現像液を用いることで、現像残渣が少なくなることがわかる。
表７から、炭酸塩濃度が０．０５モル／ｋｇ液〜０．５０モル／ｋｇ液である本発明の現像液をもちいた画像形成方法で画素を作製する事で、画素近傍残膜が減少することがわかる。
また、炭酸塩がナトリウム塩及び／又はカリウム塩である本発明の現像液をもちいることでも、画素近傍残膜が減少することがわかる。
表８から、現像液のｐＨを９．４以上とすることで現像時間が、ラインのスループットを維持することができる程度に短くなることがわかる。
表９から、ナフタレンスルホン酸誘導体塩（Ａ）と、ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩（Ｂ）を含み、（Ａ）と（Ｂ）の合計質量に対する（Ｂ）の質量の割合が２０質量％〜６０質量％である本発明の現像液を用いることで、ホール状故障が少なくなることがわかる。
【００８５】
＜液晶表示装置＞
［液晶表示装置の作製及び評価］
実施例１〜２０のカラーフィルタ、及び比較例１〜９のカラーフィルタを用いて液晶表示装置を形成し、比較例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置と比較して、実施例のカラーフィルタを用いた液晶表示装置が、良好な表示特性を示すことを確認した。