(57)【要約】【課題】熱膨張によるベース部材の熱変形を抑制してレーザダイオードと光学部材との位置ずれやビームスポットの配列ずれを防止する光源装置及びそれを備えた光学走査装置を提供する。【解決手段】ベース部材３０の平板部３０ａは、コリメータレンズ、光路変更手段、シリンドリカルレンズ等の光学部材の配置に応じて表面パターンが形成されている。また、平板部３０ａにはベース部材３０を光学走査装置のハウジング底面（設置面）にビス固定するためのビス穴４２ａ、４２ｂ、４２ｃが立設部３０ｂの近傍に２箇所、反対側に１箇所の計３箇所に設けられている。立設部３０ｂの近傍に位置するビス穴４２ａ、４２ｂと立設部３０ｂとの間の平板部３０ａには、立設部３０ｂに沿って貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられている。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを射出するレーザダイオードと、
平板部と、該平板部に対して垂直方向に突出し前記レーザダイオードが装着される立設部とが一体形成されて成るベース部材とを備え、
前記平板部には、
前記ベース部材を所定の設置面にビス固定するための１又は複数のビス穴と、
前記ビス穴のうち前記立設部近傍に形成されたビス穴と前記立設部との間に設けられ、前記平板部を貫通する貫通穴とが設けられていることを特徴とする光源装置。
【請求項２】
前記貫通穴は、前記立設部に沿って設けられていることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記貫通穴は、
前記立設部近傍に形成されたビス穴の個数に応じた個数で、
前記立設部が前記平板部から立ち上がるラインにその一部が接するように平板部に設けられ、さらに、
前記平板部の熱膨張による歪みの前記立設部への伝達を抑制する大きさを有するように設けられていることを特徴とする請求項２に記載の光源装置。
【請求項４】
光ビームを射出するレーザダイオードと、
平板部と、該平板部に対して垂直方向に突出し前記レーザダイオードが装着される立設部とが一体形成されて成るベース部材とを備え、
前記立設部には、
前記ベース部材を所定の設置面にビス固定するための１又は複数のビス穴と、
前記ビス穴のうち前記平板部近傍に形成されたビス穴と前記平板部との間に設けられ、前記立設部を貫通する貫通穴とが設けられていることを特徴とする光源装置。
【請求項５】
前記貫通穴は、前記平板部に沿って設けられていることを特徴とする請求項４に記載の光源装置。
【請求項６】
前記貫通穴は、
前記平板部近傍に形成されたビス穴の個数に応じた個数で、
前記立設部が前記平板部から立ち上がるラインにその一部が接するように立設部に設けられ、さらに、
前記立設部の熱膨張による歪みの前記平板部への伝達を抑制する大きさを有するように設けられていることを特徴とする請求項５に記載の光源装置。
【請求項７】
前記立設部は、前記平板部の一端より垂直方向に突出していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光源装置。
【請求項８】
前記平板部には、前記レーザダイオードから射出される光ビームをカップリングする光学部材が搭載されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光源装置。
【請求項９】
光ビームを発生する請求項１〜８のいずれかに記載の光源装置と、
前記光ビームを所定の被走査面上に結像させると共に走査させる走査光学部材とを具備することを特徴とする光学走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばプリンタやファクシミリ、複写機などの画像形成装置において書き込み用光源として用いられる、レーザダイオードを使用した光源装置及びそれを備えた光学走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ発光部から出力されるレーザ光を感光体に照射して静電潜像を形成する光学走査装置が用いられている。一般に、光学走査装置は、レーザダイオード（以下、ＬＤという）を有するビーム光源装置から射出されたビーム光を、シリンドリカルレンズ、ポリゴンミラー、走査レンズ等から構成される走査光学部材により、ビームスポットとして被走査面上に結像させる。ポリゴンミラーの回転は、前記ビームスポットを被走査面上の主走査方向に等速走査させることを実現する。複数のＬＤを備えたマルチビーム走査装置は、１つのビーム光を用いて走査する場合に比べ、ポリゴンミラーの回転数を上げることなく被走査面の走査及び静電潜像の形成を迅速に行うことができる。このため、複写機、レーザプリンタ、レーザファクシミリ等の画像形成装置に広く利用されている。
【０００３】
このような光学走査装置では、被走査面上に形成されるビームスポットの間隔調整は、光源装置の光軸アライメントの調整精度や、ビームスプリッタ面の精度、さらには反射面の角度精度に依存するところが大きい。ところが、光源装置をマウントするベース部材やビームスポットの調整部材は、その材質や形状、或いはベース部材と光学走査装置のハウジングとの熱膨張係数の差によっては、ＬＤ自身や該ＬＤを変調制御するＡＰＣ（Auto power control）基板等から発生する熱により、環境温度が大きく変化したときに変形する。この変形に伴って、ベース部材の設置角度が所望の角度に対して変動し、ビームスポットの副走査方向の配列がずれてしまうという問題点があった。
【０００４】
この問題点に鑑みて、ビームスポットの副走査方向の配列ずれを防止する各種の方法が提案されている。特許文献１には、画像データに応じてＬＤを変調制御するＬＤ制御板を、光学走査装置の外部に露出させることにより、ＬＤ制御板からの熱によるベース部材の熱変形を防止する方法が開示されている。しかし、この方法では、ＬＤ制御板を装置外部に露出して放熱するため、ＬＤ制御板の露出スペースが必要となって画像形成装置の小型化、高密度化に不利となる。さらに、ラビリンス構造等を採用して装置の密閉化を図る必要があるために、筐体の構造が複雑化し、複数のＬＤを用いたマルチビーム光学走査装置の場合、加工精度や量産性が低下してコストアップに繋がる問題もある。
【０００５】
特許文献２には、光源ユニットの副走査方向の倒れ角度を規制する規制手段を移動可能に設け、温度変化に伴う光源ユニットの傾きの変化を調整可能とする方法が開示されている。この方法では、ベース部材に加えて規制部材が必要となり、部品点数が増加するとともに、構造的にも複雑となって調整工程が多くなる。また、ベース部材と規制部材の間に弾性部材を介在させるため、非線形の要素が加わり不安定な構造となる。
【０００６】
さらに、特許文献３には、光源からの光束をカップリングする第１光学系と、カップリングされた光束を偏向面上に線像として結像させる第２光学系と、結像されたビーム光を被走査面にスポットとして集光する第３光学部材とを有する光走査装置において、第３光学部材近傍の雰囲気温度の変化を第１、第２光学部材近傍に比べて小さくする温度分布発生手段を設ける方法が開示されている。この方法では、空冷ファン等の温度分布発生手段を別途設ける必要があり、光学走査装置の大型化、高コスト化の要因となってしまう。
【特許文献１】特開２００２−１６２５９１号公報
【特許文献２】特開２００３−２９１８０号公報
【特許文献３】特開２００２−３５０７６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、熱膨張によるベース部材の熱変形を抑制してレーザダイオードと光学部材との位置ずれやビームスポットの配列ずれを防止できる光源装置及びそれを備えた光学走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１の局面に係る光源装置は、光ビームを射出するレーザダイオードと、平板部と、該平板部に対して垂直方向に突出し前記レーザダイオードが装着される立設部とが一体形成されて成るベース部材とを備え、前記平板部には、前記ベース部材を所定の設置面にビス固定するための１又は複数のビス穴と、前記ビス穴のうち前記立設部近傍に形成されたビス穴と前記立設部との間に設けられ、前記平板部を貫通する貫通穴とが設けられていることを特徴とする（請求項１）。
【０００９】
この構成によれば、平板部が設置面にビス固定される光源装置において、立設部近傍のビス固定位置と立設部とが貫通穴により分断されるため、平板部が熱により膨張しても、立設部の倒れ角への影響を軽減することができる。従って、立設部に装着されるレーザダイオードと、レーザダイオードから射出される光ビームをカップリングする光学部材との位置関係のずれを抑制することができる。特に複数のレーザダイオードを有するマルチビーム光源装置においては、各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを効果的に抑制することができる。
【００１０】
上記構成において、前記貫通穴は、前記立設部に沿って設けられていることが望ましい（請求項２）。この構成によれば、貫通穴を立設部に沿って設けることにより、平板部の熱膨張の影響をより低減して、レーザダイオードと光学部材の位置関係のずれや、各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを一層効果的に抑制することができる。
【００１１】
この場合、前記貫通穴は、前記立設部近傍に形成されたビス穴の個数に応じた個数で、前記立設部が前記平板部から立ち上がるラインにその一部が接するように平板部に設けられ、さらに、前記平板部の熱膨張による歪みの前記立設部への伝達を抑制する大きさを有するように設けられていることが望ましい（請求項３）。この構成によれば、上記熱膨張の影響を確実に抑制できる。
【００１２】
本発明の他の局面に係る光源装置は、光ビームを射出するレーザダイオードと、平板部と、該平板部に対して垂直方向に突出し前記レーザダイオードが装着される立設部とが一体形成されて成るベース部材とを備え、前記立設部には、前記ベース部材を所定の設置面にビス固定するための１又は複数のビス穴と、前記ビス穴のうち前記平板部近傍に形成されたビス穴と前記平板部との間に設けられ、前記立設部を貫通する貫通穴とが設けられていることを特徴とする（請求項４）。
【００１３】
この構成によれば、立設部が設置面にビス固定される光源装置において、平板部近傍のビス固定位置と平板部とが貫通穴により分断されるため、立設部が熱により膨張しても、平板部の倒れ角への影響を軽減することができる。従って、レーザダイオードと光学部材との位置関係のずれや、マルチビーム光源装置における各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを効果的に抑制することができる。
【００１４】
上記構成において、前記貫通穴は、前記平板部に沿って設けられていることが望ましい（請求項５）。この構成によれば、貫通穴を平板部に沿って設けることにより、立設部の熱膨張の影響をより低減して、レーザダイオードと光学部材の位置関係のずれや、各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを一層効果的に抑制することができる。
【００１５】
この場合、前記貫通穴は、前記平板部近傍に形成されたビス穴の個数に応じた個数で、前記立設部が前記平板部から立ち上がるラインにその一部が接するように立設部に設けられ、さらに、前記立設部の熱膨張による歪みの前記平板部への伝達を抑制する大きさを有するように設けられていることが望ましい（請求項６）。この構成によれば、上記熱膨張の影響を確実に抑制できる。
【００１６】
上記いずれかの構成において、前記立設部は、前記平板部の一端より垂直方向に突出していることが望ましい（請求項７）。この構成によれば、レーザダイオードが装着される立設部が平板部の一端に配置されるので、平板部へ各種の光学部品を配置し易くなる。
【００１７】
また、上記いずれかの構成において、前記平板部には、前記レーザダイオードから射出される光ビームをカップリングする光学部材が搭載されていることが望ましい（請求項８）。この構成によれば、レーザダイオードと光学部材との位置関係の調整を容易に行うことができる。
【００１８】
本発明のさらに他の局面に係る光学走査装置は、光ビームを発生する請求項１〜８のいずれかに記載の光源装置と、前記光ビームを所定の被走査面上に結像させると共に走査させる走査光学部材とを具備することを特徴とする（請求項９）。この光学走査装置によれば、レーザダイオードと光学部材の位置関係のずれ及び各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを抑制して被走査面への画像書き込み精度を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、環境温度の変化や発熱等に起因する、レーザダイオード及び該レーザダイオードから射出される光ビームをカップリングする光学部材との位置関係のずれを、簡易な構成で抑制することができる。特に複数のレーザダイオードを有するマルチビーム光源装置においては、各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを効果的に抑制できる。さらに、本発明を光学走査装置に適用することで、被走査面への画像書き込み精度を向上させることができる。従って、装置の大型化や部品点数の増加を招来することなく、温度変化が発生しても常に安定した画像形成等を行える光源装置及び光学走査装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面に基づいて、本発明の実施形態につき説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る光学走査装置１００の構成を示す概略平面図である。この光学走査装置１００は、ハウジング１０１と、このハウジング１０１内に配置される、２個のＬＤを備えた光源装置１０２、ポリゴンミラー１０３、走査レンズ１０４及び折り返しミラー１０５とを含んでいる。
【００２１】
光源装置１０２から射出された２本のビーム光は、光源装置１０２上に配置された後述の各光学部材及び平面ミラー１０８を介してポリゴンミラー１０３に入射する。ポリゴンミラー１０３の偏向面で偏向されたビーム光は、ｆθ特性を有する走査レンズ１０４、折り返しミラー１０５を経て被走査面（図示せず）上に結像される。ハウジング１０１の底面には、ビーム光を被走査面に向けて導くための窓部１０９が設けられている。また、光学走査装置１００の上部は、図示しない蓋部材により閉塞されている。
【００２２】
図２は、図１における光源装置１０２付近の拡大図である。図２に示すように、光源装置１０２は、ハウジング１０１の底面に設けられた位置決め突起１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃ及び１０６ｄに合わせて載置され、ビス１０７ａ、１０７ｂ、１０７ｃによりハウジング１０１に固定されている。
【００２３】
図３は、光源装置１０２の外観構成を示す斜視図である。光源装置１０２は、ＬＤ及び各光学部材がベース部材３０上に配置されて成る。熱膨張係数の小さいベース部材３０の使用は、ＬＤや光学部材を光学走査装置１００のハウジング１０１に直接配置する方法に比べてハウジング１０１の熱膨張による光学部材の位置関係のずれを抑制し、ひいては被走査面上でのビームスポットの位置ずれも抑制することができる。ベース部材３０は、光学走査装置の筐体に水平に固定される平板部３０ａと、平板部３０ａの一端より上方向に突出する立設部３０ｂとを備える。平板部３０ａと立設部３０ｂとは、側面視で略Ｌ字型に一体形成されている。
【００２４】
立設部３０ｂには２つのＬＤ３１ａ、３１ｂが取り付けられている。平板部３０ａ上には、ＬＤ３１ａ、３１ｂとポリゴンミラー１０３との間の光路に介在される複数の光学部材が配置されている。この光学部材は、立設部３０ｂ側から順に、ＬＤ３１ａ、３１ｂから射出したビーム光を略平行光束にするコリメータレンズ３２と、平板光学素子、レンズ、プリズム等を含む光路変更手段３３と、副走査方向にのみ屈折力を有するシリンドリカルレンズ３４とから成る。これら光学部材は、それぞれ固定金具及びビスにより平板部３０ａ上に固定されている。
【００２５】
シリンドリカルレンズ３４を通過した各ビーム光は、平面ミラー１０８（図１参照）により反射された後、ポリゴンミラー１０３（図１参照）により偏向され、走査レンズ１０４（図１参照）を介して被走査面上にビームスポットを形成する。このビームスポットにより、例えば画像情報の記録が行われる。
【００２６】
平板部３０ａは、その立設部３０ｂ近傍の２箇所、及び反対側の１箇所において、ビス１０７ａ、１０７ｂ（図２参照）、１０７ｃによりハウジング１０１（図１参照）の底面にビス固定される。これにより、ベース部材３０は光学走査装置１００に確実に固定されるため、ベース部材３０上のＬＤ３１ａ、３１ｂや各光学部材３２〜３４は、外力や振動等による位置ずれから防止される。
【００２７】
立設部３０ｂの背面には、画像データに応じてＬＤ３１ａ、３１ｂを変調制御するAuto power control基板（以下、ＡＰＣ基板という）３５が、ビス３６ａ、３６ｂにより固定されている。ＡＰＣ基板３５上には、トランジスタやコンデンサ等の電子部品３７、及び電源回路との接続に用いられるコネクタ３８が配置されている。また、ＡＰＣ基板３５には、ＬＤ３１ａ、３１ｂのリードピンが挿入されるピン穴３９が形成されている。
【００２８】
図４は、光源装置を光学走査装置内に組み込んだ状態を示す断面図（図１のIV−IV線断面図）である。図１〜図３と共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。図４に示すように、立設部３０ｂにはＬＤ３１ａが挿入された保持部材４０ａが装着されている。また、立設部３０ｂに設けられたボス４１には、ＡＰＣ基板３５に設けられたビス穴を貫通してビス３６ａが締結されている。コリメータレンズ３２、光路変更手段３３、及びシリンドリカルレンズ３４は、ＬＤ３１ａから射出されたビーム光ｄが該シリンドリカルレンズ３４を通過した後、平面ミラー１０８に入射するように配置調整されている。なお、ここでは説明しないが、ＬＤ３１ｂ側の構成についても全く同様である。
【００２９】
以上説明した光源装置１０２において、本実施形態では、ベース部材３０について熱膨張による熱変形を抑制してＬＤ３１ａ、３１ｂと光学部材との位置ずれやビームスポットの配列ずれを防止する工夫が施される。以下、このようなベース部材３０の実施形態について説明する。
【００３０】
図５は、本発明の第１実施形態に係るベース部材３０を示す平面図であり、図６は図５に示す円Ｓ内の拡大斜視図である。このベース部材３０は、長方形の平板からなる平板部３０ａと、この平板部３０ａの一方の短辺端縁部から該平板部３０ａに対して垂直方向に突出する立設部３０ｂとが一体的に形成されて成る。平板部３０ａには、先に図３に示したコリメータレンズ３２、光路変更手段３３、シリンドリカルレンズ３４等の光学部材の配置に応じた表面パターンが形成されている。また、平板部３０ａには、ベース部材３０を光学走査装置１００のハウジング１０１（図１参照）の底面（設置面）にビス固定するためのビス穴４２ａ、４２ｂ、４２ｃが設けられている。ビス穴は計３箇所に設けられ、立設部３０ｂの近傍の２箇所にビス穴４２ａ、４２ｂが、その反対側の１箇所にビス穴４２ｃがそれぞれ設けられている。
【００３１】
第１実施形態に係るベース部材３０においては、立設部３０ｂの近傍に位置する２つのビス穴４２ａ、４２ｂと立設部３０ｂとの間の平板部３０ａに、２つの貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられている。これら貫通穴４３ａ、４３ｂは、立設部３０ｂに沿って設けられている。詳しくは、貫通穴４３ａ、４３ｂは、立設部３０ｂが平板部３０ａから立ち上がるライン（立設部３０ｂと平板部３０ａとの境界線）にその一部が接するように平板部３０ａに設けられている。
【００３２】
ベース部材３０は、ビス穴４２ａ〜４２ｃにおいて設置面に固定されるが、立設部３０ｂ近傍のビス穴４２ａ、４２ｂと立設部３０ｂとは、貫通穴４３ａ、４３ｂにより平板部３０ａの長手方向（図のＺ軸方向）に分断されている。従って、平板部３０ａが熱により長手方向に膨張し凸状に湾曲しても、立設部３０ｂの倒れ角への影響を軽減することができる。なお、貫通穴４３ａ、４３ｂは、このような作用を達成するために、平板部３０ａの熱膨張による歪みの立設部３０ｂへの伝達を実質的に抑制する大きさの穴とされる。
【００３３】
次に、倒れ角の計算方法を図７及び図８を用いて説明する。図７はベース部材３０を立設部３０ｂ側から見た斜視図であり、図８はベース部材３０を図７の右側から見た側面図である。例えばＬＤ３１ａ（図３参照）が配置される取付穴４４ａ部分の倒れ角を算出する場合、先ず、取付穴４４ａの上方及び下方に位置する測定点Ｈ１、Ｌ１間の初期状態における距離Ａを測定しておく。
【００３４】
その後、ベース部材３０を所定温度まで昇温し、昇温後の測定点Ｈ１′の位置を算出し、Ｈ１′及びＬ１間のＺ軸方向の距離Ｂ（Ｚ軸方向成分の絶対値）を算出する。このときの立設部３０ｂの倒れ角をθとすると、θはＡ及びＢを用いてθ＝ＡｒｃｔａｎＢ／Ａで表される。この倒れ角θを算出することにより、後述するように平板部３０ａの熱膨張による立設部３０ｂの倒れの抑制効果を判断することができる。
【００３５】
なお、貫通穴４３ａ、４３ｂの配置位置は、ビス穴４２ａ、４２ｂと立設部３０ｂとの間であれば任意の位置とすることができる。しかし、本実施形態のように立設部３０ｂの内面に沿って形成すれば、平板部３０ａの熱膨張によるひずみが立設部３０ｂに伝達されにくくなり、立設部３０ｂの倒れ角への影響をより効果的に軽減可能となるため好ましい。
【００３６】
本実施形態では、矩形状の平板部３０ａの一端に立設部３０ｂが突設された側面視Ｌ字状の形状をもつベース部材３０が用いられている。これに替えて、図９に示すような側面視Ｔ字状の形状をもつベース部材３０や、図１０に示すような左右非対称の形状をもつベース部材３０を用いた場合にも、上記と同様の効果が期待できる。また、ビス穴の位置及び個数についても特に制限はなく、ここでは立設部３０ｂの近傍２箇所、及び反対側１箇所の計３箇所をビス固定位置としているが、２箇所或いは４箇所以上としても良い。あるいは、立設部３０ｂの近傍の１箇所のみにビス穴を設け、反対側にビス穴に替えてフック等の係止部を設ける態様としても良い。
【００３７】
また、ここでは立設部３０ｂの近傍に２個のビス穴４２ａ、４２ｂがあるため、それに合わせて２個の貫通穴４３ａ、４３ｂを設けている。しかし、貫通穴の個数は立設部３０ｂ近傍のビス穴と立設部３０ｂとの間を分断できる個数であれば良く、ベース部材３０の強度を低下させない範囲であればビス穴の個数以上とすることも可能である。貫通穴４３ａ、４３ｂの形状及び大きさについても、本発明の効果を発現可能であり、且つベース部材３０の強度低下が生じない範囲で任意に設計可能である。
【００３８】
次に、本発明の第２実施形態の光源装置について図１１、図１２を用いて説明する。図１１は第２実施形態に係るベース部材３０の一例を示す正面図であり、図１２はベース部材３０の断面図（図１１のXII−XII線断面図）である。第２実施形態においては、ベース部材３０の立設部３０ｂが、ビス４５ａ〜４５ｃによって垂直な設置面Ｆにビス固定されている。その他の構成は第１実施形態と共通するため説明を省略する。
【００３９】
第２実施形態のベース部材３０では、平板部３０ａに代えて立設部３０ｂがビス固定されるため、貫通穴４３ａ、４３ｂは立設部３０ｂに設けられている。すなわち、ビス４５ａ、４５ｂが締結される平板部３０ａ近傍のビス穴（図示せず）と平板部３０ａとの間に、平板部３０ａに沿って形成されている。詳細には、貫通穴４３ａ、４３ｂは、立設部３０ｂが平板部３０ａから立ち上がるラインにその一部が接するように立設部３０ｂに設けられている。かかる構成により、平板部３０ａ近傍のビス穴と平板部３０ａとが、貫通穴４３ａ、４３ｂにより図のＹ軸方向に分断されている。従って、立設部３０ｂが熱膨張により凸状に湾曲しても、第１実施形態と同様の原理により平板部３０ａの倒れ角θ′への影響を軽減することができる。
【００４０】
なお、本実施形態においても図９、図１０に示したような他の形状のベース部材を用いても良く、ビス穴の位置及び個数、或いは貫通穴４３ａ、４３ｂの個数、形状及び大きさについても、第１実施形態と同様に任意に設計可能である。
【００４１】
上述したようなベース部材を用いた本実施形態に係る光源装置１０２を光学走査装置に搭載することにより、熱変形によってベース部材３０の設置角度が所望の角度に対して変動するのを効果的に抑制可能となる。特に、複数のＬＤが搭載されるマルチビーム光源装置に適用した場合、各ビームスポットの副走査方向の配列がずれてしまうという問題点が解消される。このため、マルチビーム光源装置を構成する部材を全て筐体内に内蔵することができ、さらに副走査方向の倒れ角度を規制する規制手段等も必要としないコンパクトで簡易な構造の光学走査装置を提供することができる。
【００４２】
本発明は、上記実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば上記各実施形態では、平板部３０ａ上にコリメータレンズ３２、光路変更手段３３、シリンドリカルレンズ３４等の光学部材を配置しているが、光学部材は必ずしも全てを平板部３０ａ上に搭載する必要はない。例えば、コリメータレン３２のみを平板部３０ａ上に配置し、他は光学走査装置のハウジング１０１に直接配置しても良いし、光学部材を全てハウジング１０１上に配置する構成としても良い。即ち、ベース部材３０上の各光学部材の組み合わせ及び配置等は上記実施形態に限定されるものではなく、光源装置や光学走査装置の仕様に応じて任意に選択することができる。
【実施例】
【００４３】
長さ７５ｍｍ、幅４８ｍｍ、平坦部及びビス穴４２ａ、４２ｂ周辺の厚さがそれぞれ７ｍｍ及び３ｍｍである平板部３０ａの一端に、高さ３２ｍｍ、幅４８ｍｍ、厚さ５ｍｍの立設部３０ｂが、平板部３０ａの底面からの高さが２７ｍｍとなるように一体形成された、図１３に示すようなアルミニウム製のベース部材を用いて、本発明による立設部３０ｂの倒れの抑制効果について調査した。図１４に示すように、開口部が７ｍｍ×１．５ｍｍの貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられた第１実施形態のベース部材（本発明）と、貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられていない以外は同一形状のベース部材（比較例）を用いて立設部３０ｂの倒れ角を算出した。
【００４４】
倒れ角の算出条件は、平板部３０ａに設けられたビス穴４２ａ〜４２ｃをビスにより締め付けてベース部材３０を設置面に固定した後、１０℃（装置仕様上の低温条件）から５０℃まで昇温した時の倒れ角を、ベース部材３０の材料（アルミニウム）の熱膨張係数を考慮して前述した三角関数を用いて算出した。取付穴４４ａ部分の倒れ角の算出結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】
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【００４６】
表１から明らかなように、貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられていない比較例のベース部材３０では倒れ角が０．０１１７５度であったのに対し、貫通穴４３ａ、４３ｂが設けられた本発明のベース部材３０では倒れ角が０．００９３２度であり、倒れ角が約２０％小さくなった。この結果より、本発明のベース部材を用いることで、平板部３０ａの熱膨張を吸収して立設部３０ｂの倒れ角を効果的に低減できることが確認された。
【００４７】
なお、ここでは記載しないが、ＬＤ３１ｂが配置される取付穴４４ｂ部分の倒れ角についても同様の結果が得られた。さらに、立設部３０ｂがビス固定される第２実施形態の光源装置においても、平板部３０ａの倒れが抑制されることが確認されている。
【００４８】
以上説明した本発明の実施形態に係る光源装置１０２は、ＬＤ３１ａ、３１ｂと、平板部３０ａ、及び該平板部３０ａの一端より垂直方向に突出する立設部３０ｂを一体形成して成るベース部材３０を備え、立設部３０ｂに装着されたＬＤ３１ａ、３１ｂから射出される光ビームにより被走査面上を走査する光源装置において、平板部３０ａには、ベース部材３０を設置面にビス固定するための複数のビス穴４２ａ〜４２ｃが形成されており、ビス穴のうち立設部３０ｂの近傍に形成されたビス穴４２ａ，４２ｂと立設部３０ｂとの間に、平板部を貫通する貫通穴４３ａ，４３ｂを設けたものである。
【００４９】
これにより、熱変形による立設部３０ｂの倒れ角を小さくすることができ、副走査方向の倒れ角度を規制する規制手段等を用いることなく、ＬＤ３１ａ、３１ｂと光学部材との位置関係のずれや各ビームスポットの副走査方向の配列ずれを防止する光源装置を提供できる。また、簡単な構造で立設部の倒れ角を低減することができるため、装置の低コスト化にも貢献する。さらに、貫通穴４３ａ，４３ｂが立設部３０ｂに沿って設けられているので、平板部３０ａの熱膨張によるひずみが伝達されにくくなり、ＬＤ３１ａ、３１ｂと光学部材の位置ずれや、ビームスポットの配列ずれがより効果的に抑制される。
【００５０】
また、ベース部材３０が立設部３０ｂにおいて設置面にビス固定される構成の場合、平板部３０ａ近傍のビス固定位置と平板部３０ａとの間に、立設部３０ｂを貫通する貫通穴４３ａ，４３ｂを設けるので、平板部３０ａがビス固定される場合と全く同様の効果を得ることができる。さらに、貫通穴４３ａ，４３ｂを平板部３０ａに沿って設けることで、立設部３０ｂの熱膨張によるひずみが平板部３０ａへ伝達されにくくなり、ＬＤ３１ａ、３１ｂと光学部材の位置ずれや、ビームスポットの配列ずれをより効果的に抑制できる。
【００５１】
また、光学部材が平板部３０ａに搭載されているので、ＬＤ３１ａ、３１ｂと光学部材との位置関係の調整が容易に行い得る。
【００５２】
また、本発明の光源装置１０２を搭載した光学走査装置１００によれば、熱変形によりベース部材３０の設置角度が変動するおそれがない。このため、光源装置１０２の構成部材を全て光学走査装置１００の筐体に内蔵して密閉性を保持するとともに、レーザダイオードと光学部材との位置ずれやビームスポットの副走査方向の配列ずれを抑制することで、書き込み精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態に係る光学走査装置の構成を示す概略平面図である。
【図２】本発明が適用される光源装置の外観構成を示す平面図である。
【図３】本発明が適用される光源装置の外観構成を示す斜視図である。
【図４】図１のIV−IV線の断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る光源装置に用いられるベース部材を示す平面図である。
【図６】図５の貫通穴付近の拡大斜視図である。
【図７】第１実施形態の光源装置に用いられるベース部材を示す斜視図である。
【図８】第１実施形態の光源装置に用いられるベース部材を示す側面図である。
【図９】第１実施形態の光源装置に用いられるベース部材の他の形状を簡略的に示す斜視図である。
【図１０】第１実施形態の光源装置に用いられるベース部材の他の形状を簡略的に示す斜視図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係るマルチビーム光源装置に用いられるベース部材を示す正面図である。
【図１２】図１１のXII−XII線断面図である。
【図１３】第２実施形態のマルチビーム光源装置に用いられるベース部材を示す斜視図である。
【図１４】第２実施形態のマルチビーム光源装置に用いられるベース部材を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１００  光学走査装置
１０２  光源装置
１０７ａ〜１０７ｃ  ビス
３０  ベース部材
３０ａ  平板部
３０ｂ  立設部
３１ａ、３１ｂ  レーザダイオード（ＬＤ）
３２  コリメータレンズ（光学部材）
３３  光路変更手段（光学部材）
３４  シリンドリカルレンズ（光学部材）
４２ａ、４２ｂ、４２ｃ  ビス穴
４３ａ、４３ｂ  貫通穴
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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