(57)【要約】【課題】描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、コストアップを招くことなく解像度を向上させる。【解決手段】画像を表す原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成し、その作成した描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画する。【選択図】図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する際に用いられる前記描画用画像データの作成方法において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して前記描画用画像データを作成することを特徴とする描画用画像データ作成方法。
【請求項２】
前記複雑化処理が、前記原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理であることを特徴とする請求項１記載の描画用画像データ作成方法。
【請求項３】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して前記描画用画像データを作成し、
該作成した描画用画像データから得られた前記描画点データに基づいて前記描画点を前記基板上に形成して画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項４】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理が施された前記描画用画像データから得られた前記描画点データに基づいて前記描画点を前記基板上に形成して画像を描画することを特徴とする描画方法。
【請求項５】
前記複雑化処理が、前記原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理であることを特徴とする請求項３または４項記載の描画方法。
【請求項６】
前記凹凸処理の施された描画用画像データの凹凸の振幅が、前記原画像データのエッジに対応する前記画像のエッジが延びる方向に直交する方向の前記描画点のピッチよりも大きくなるように前記凹凸処理を施すことを特徴とする請求項５記載の描画方法。
【請求項７】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する際に用いられる前記描画用画像データの作成装置において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して前記描画用画像データを作成する複雑化処理手段を備えたことを特徴とする描画用画像データ作成装置。
【請求項８】
前記複雑化処理が、前記原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理であることを特徴とする請求項７記載の描画用画像データ作成装置。
【請求項９】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画装置において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して前記描画用画像データを作成する複雑化処理手段と、
該複雑化処理手段により作成された描画用画像データから得られた前記描画点データに基づいて前記描画点を前記基板上に形成して画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１０】
描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画装置において、
前記画像の原画像データに、該原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理が施された前記描画用画像データから得られた前記描画点データに基づいて前記描画点を前記基板上に形成して画像を描画する描画手段を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１１】
前記複雑化処理が、前記画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理であることを特徴とする請求項９または１０記載の描画装置。
【請求項１２】
前記複雑化処理手段が、前記凹凸処理の施された描画用画像データのエッジの凹凸の振幅が、前記原画像データのエッジに対応する前記画像のエッジが延びる方向に直交する方向の前記描画点のピッチよりも大きくなるように前記凹凸処理を施すものであることを特徴とする請求項１１記載の描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する際に用いられる上記描画用画像データの作成方法および装置並びに描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板や液晶ディスプレイの基板に所定の配線パターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す露光画像データに基づいて変調することによって所望の配線パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
【０００５】
そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じてＤＭＤの多数のマイクロミラーに対応した多数の露光点データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した露光点群を時系列に順次形成することにより所望の露光画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２３３７１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のようなＤＭＤを用いて露光装置においては、ＤＭＤにおけるマイクロミラーのピッチにより基板上におけるマイクロミラーのビームの軌跡の解像度が制限される。
【０００８】
したがって、予め作成された露光画像データに基づいて露光を行った際、露光画像データ上におけるエッジと、実際に露光されるエッジとが一致しない場合がある。たとえば、液晶ディスプレイにけるブラックマトリクスを基板上に露光する場合、このブラックマトリクスのエッジが設計上のエッジと一致せずにＲ，Ｇ，Ｂのフィルタ部分の開口率が設計値と一致せず、かつその開口率のフィルタが上記移動方向に多数並ぶと明るさの変動した視認できるムラとなる場合がある。
【０００９】
また、ビーム軌跡の解像度は、光学系を変更することによって向上させることが可能であるが、そのような光学系は大変高価でありコストアップになる。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑み、コストアップを招くことなく描画の解像度を向上させることができる描画用画像データの作成方法および装置並びにその描画用画像データに基づいて描画する描画方法および装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の描画用画像データ作成方法は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する際に用いられる描画用画像データの作成方法において、上記画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成することを特徴とする。
【００１２】
また、上記本発明の描画用画像データ作成方法においては、複雑化処理を、原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理とすることができる。
【００１３】
本発明の第１の描画方法は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成し、その作成した描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画することを特徴とする。
【００１４】
本発明の第２の描画方法は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画方法において、画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理が施された描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画することを特徴とする。
【００１５】
また、上記本発明の第１および第２の描画方法においては、複雑化処理を、原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理とすることができる。
【００１６】
また、凹凸処理の施された描画用画像データの凹凸の振幅が、原画像データのエッジに対応する画像のエッジが延びる方向に直交する方向の描画点のピッチよりも大きくなるように凹凸処理を施すようにすることができる。
【００１７】
本発明の描画用画像データ作成装置は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する際に用いられる描画用画像データの作成装置において、上記画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成する複雑化処理手段を備えたことを特徴とする。
【００１８】
また、上記本発明の描画用画像データ作成装置においては、複雑化処理を、原画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理とすることができる。
【００１９】
本発明の第１の描画装置は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画装置において、上記画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成する複雑化処理手段と、複雑化処理手段により作成された描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする。
【００２０】
本発明の第２の描画装置は、描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に多数形成して画像を描画する描画装置において、上記画像の原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理が施された描画用画像データから得られた描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画する描画手段を備えたことを特徴とする。
【００２１】
また、上記本発明の第１および第２の描画装置においては、複雑化処理を、画像データのエッジに凹凸を形成する凹凸処理とすることができる。
【００２２】
また、複雑化処理手段を、凹凸処理の施された描画用画像データのエッジの凹凸の振幅が、原画像データのエッジに対応する画像のエッジが延びる方向に直交する方向の描画点のピッチよりも大きくなるように凹凸処理を施すものとすることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の描画用画像データ作成方法および装置並びに描画方法および装置によれば、画像を表す原画像データに、その原画像データのエッジを複雑化する複雑化処理を施して描画用画像データを作成し、その描画用画像データから取得された描画点データに基づいて描画点を基板上に形成して画像を描画するようにしたので、たとえば、描画点の解像度よりも描画点の径の方が十分に大きい場合においては、コストアップを招くことなく実質的な解像度を向上させることができ、高精度にエッジの位置が制御された線を描画することができる。また、高精度な線幅補正も可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の描画用データ作成方法および装置並びに描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の一実施形態を用いた露光装置は、所定の配線パターンを露光する装置であって、その配線パターンを露光するために用いられる露光用画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。
【００２５】
露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によってステージ移動方向に往復移動可能に支持されている。
【００２６】
設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。
【００２７】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する、後述するコントローラに接続されている。
【００２８】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００２９】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下「ＤＭＤ」という。）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０毎の帯状の露光済み領域３４が形成される（図２および図３（Ａ）参照）。
【００３０】
また、各露光ヘッド３０には、図５に示すように、ＤＭＤ３６の光入射側に、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア３２の長辺方向と一致する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源３１、ファイバアレイ光源３１から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系４０、このレンズ系４０を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２がこの順に配置されている。上記レンズ系４０は、入射されたレーザ光を平行光化し、その平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正し、その光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ３６上に集光するものである。
【００３１】
また、ＤＭＤ３６の光反射側には、ＤＭＤ３６で反射されたレーザ光を感光材料１２の露光面上に結像するレンズ系５０が配置されている。
【００３２】
本実施形態では、ＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８から射出されたビームによって基板１２上に結像される露光点の径が約８μｍになるように、上記レンズ系４０およびレンズ系５０が設定されている。
【００３３】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応した露光点群（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列された露光点によって形成される。また、上記のようにＤＭＤ３６を走査方向に対して傾斜することによって、上記走査方向に直交する方向に並ぶ露光点の間隔をより狭くすることができ、高解像度化を図ることができる。本実施形態では、走査方向に直交する方向に並ぶ露光点の間隔が約０．２７μｍになるように、上記傾斜角度θが設定されている。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。
【００３４】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００３５】
次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。
【００３６】
露光装置１０は、図６に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、基板１２に露光すべき露光画像を表わすベクトル形式の露光画像データを取得し、その取得したベクトル形式の露光画像データをラスター形式の露光画像データに変換するラスター変換処理部５０、ラスター変換処理部５０によりラスター変換された露光画像データに対し、後述する凹凸処理を施して露光用画像データを作成する凹凸処理部５２、凹凸処理部５２により作成された露光用画像データに基づいて露光ヘッド３０のＤＭＤ３６を制御する露光ヘッド制御部５４と、本露光装置全体を制御するコントローラ５６とを備えている。そして、コントローラ５６には、移動ステージ１４を移動させる移動機構６０が接続されている。なお、上記凹凸処理については後で詳述する。
【００３７】
次に、露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。
【００３８】
まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき露光画像を表すベクトル形式の露光画像データが作成される。なお、本実施形態においては、図７に示すような、液晶パネルにおけるブラックマトリクスＢＭを基板１２上に露光するものとし、データ作成装置４０においては、ブラックマトリクスＢＭを表すベクトル形式の露光画像データが作成される。
【００３９】
そして、そのブラックマトリクスＢＭを表す露光画像データはラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０においてラスター形式の露光画像データに変換される。そして、そのラスター形式の露光画像データは、凹凸処理部５２に入力され、凹凸処理部５２において凹凸処理が施されて露光用画像データが作成される。凹凸処理とは、露光画像データのエッジが凹凸になるように露光画像データに対して施される処理である。
【００４０】
ここで、上記のようにして凹凸処理を施した場合における作用を説明する前に、まず、露光画像データに凹凸処理を施さなかった場合の作用について説明する。
【００４１】
たとえば、図７の点線で囲まれる範囲の露光画像データに着目すると、その露光画像データは、図８（Ａ）に示すように、たとえば、０．５μｍの画像解像度で作成される。
【００４２】
そして、その露光画像データは露光ヘッド制御部５４に出力され、露光ヘッド制御部５４において、図８（Ｂ）に示すように、各露光ヘッド３０の各マイクロミラー３８のビームの基板１２上における軌跡と露光画像データとが対応付けられ、その各マイクロミラー３８毎の軌跡上の露光画像データを所定のピッチでサンプリングすることによって、各マイクロミラー３８毎の露光点データが取得される。なお、図８（Ｂ）における矢印が各マイクロミラー３８のビーム軌跡であり、マイクロミラー３８をＯＮとすべき部分を実線で示し、マイクロミラー３８をＯＦＦとすべき部分を破線で示している。
【００４３】
しかしながら、上記のようにして取得した露光点データを用いて露光を行った場合、ビーム軌跡の解像度（走査方向に直交する方向の露光点の間隔）には限界があるので、図８（Ｃ）に示すように、実際に描かれる露光画像のエッジと、露光画像データ上のエッジに対応するエッジとが一致しない場合がある。そして、たとえば、本実施形態のようにブラックマトリクスＢＭを露光する場合には、ブラックマトリクスＢＭの幅が広がってＲ，Ｇ，Ｂのフィルタ部分の開口率が設計値と異なり、かつその開口率のフィルタが走査方向に多数並ぶため明るさの変動したムラとして視認できる状態になる。なお、図８（Ｃ）における白丸がマイクロミラー３８による露光点を示している。
【００４４】
そこで、本露光装置においては露光画像データのエッジに凹凸処理を施す。より具体的には、図９（Ａ）に示すように、露光画像データのエッジが凹凸形状となるような処理が露光画像データに対して施されて露光用画像データが作成される。
【００４５】
上記のように露光画像データに凹凸処理を施すことによって、図８（Ｂ）に示す凹凸処理を施していない場合と比べて、マイクロミラー３８をＯＦＦとする露光点データの数を増やすことができる。
【００４６】
そして、上記にようにして凹凸処理の施された露光用画像データは、露光ヘッド制御部５４に出力され、露光ヘッド制御部５４において、上記と同様に、露光用画像データと各マイクロミラー３８のビーム軌跡とが対応付けられ、各マイクロミラー３８毎の露光点データが取得される。
【００４７】
そして、上記のようにして各マイクロミラー３８毎の露光点データが取得された後、移動ステージ１４が、移動機構６０によって上流側に所望の速度で移動させられる。
【００４８】
そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５４から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。なお、露光ヘッド制御部５４から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５４から各露光ヘッド３０に出力される。
【００４９】
そして、露光ヘッド３０による露光によって基板１２上に露光画像が形成されるが、上記のように露光画像データに凹凸処理を施すようにしたので、図９（Ｂ）に示すように、実際のエッジを露光画像データ上のエッジに対応するエッジに実質的に近づけることができる。なお、図８（Ｂ）における白丸はマイクロミラー３８による露光点を示しているが、図８（Ｂ）における矢印の軌跡上の露光点は１つのマイクロミラー３８により露光される露光点ではなく、複数のマイクロミラー３８により露光されるものである。また、図８（Ｂ）はあくまでもイメージ図であり、実際には、露光画像の凹凸の振幅よりも露光点の径の方が十分大きいものである。また、露光点の径は上述したように約８μｍであり、露光点の解像度０．２７μｍよりも十分に大きいものである。
【００５０】
なお、上記説明においては、図７の点線で囲まれる範囲の露光画像データに凹凸処理を施す場合について説明したが、実際には、走査方向および走査方向に直交する方向に延びる露光画像データ上におけるエッジ全体に凹凸処理が施されて露光用画像データが作成される。
【００５１】
また、露光画像データのエッジに凹凸処理を施す場合には、凹凸処理の施された露光用画像データにおける凹凸の波長λ（図９（Ａ）参照）を、露光点の径以上にすることが望ましい。これにより露光画像における凹凸が消え、露光画像のエッジをなめらかにすることができる。なお、露光点の径とは、露光点のビームエネルギーは通常ガウス分布となるため、その半径の２倍のことをいう。
【００５２】
また、走査方向に延びる露光画像データのエッジに凹凸処理を施す場合には、露光用画像データにおける凹凸の振幅が、走査方向に直交する方向に並ぶ露光点の間隔よりも大きくなるようにすることが望ましい。また、露光用画像データにおける凹凸の周期が、走査方向に並ぶ露光点の間隔よりも長くなるようにすることが望ましい。
【００５３】
また、上記のように走査方向に直交する延びる露光画像データ上におけるエッジに凹凸処理を施す場合には、露光用画像データにおける凹凸の振幅が、走査方向に並ぶ露光点の間隔よりも大きくなるようにすることが望ましい。また、露光用画像データにおける凹凸の周期が、走査方向に直交する方向に並ぶ露光点の間隔よりも長くなるようにすることが望ましい。
【００５４】
また、上記実施形態では、ラスター形式の露光画像データに対して凹凸処理を施すようにしたが、ベクトル形式の露光画像データに対して凹凸処理を施して露光用画像データを作成するようにしてもよい。
【００５５】
そして、凹凸処理が施されたベクトル形式の露光用画像データと各マイクロミラー３８のビームの基板１２上における軌跡とを対応付けて、ベクトル形式の露光用画像データから各マイクロミラー３８毎に露光点データを得るようにしてもよい。
【００５６】
また、上記実施形態においては、露光画像データのエッジに凹凸処理を施して露光用画像データを取得するようにしたが、これに限らず、たとえば、図１０に示すように、露光画像データに、そのエッジを複雑化する複雑化処理を施すようにしても、凹凸処理を施した場合と同様の効果を得ることができる。なお、図１０における矢印が各マイクロミラー３８のビーム軌跡であり、マイクロミラー３８をＯＮとすべき部分を実線で示し、マイクロミラー３８をＯＦＦとすべき部分を破線で示している。また、上記複雑化処理は、露光用画像データのエッジを構成する領域に、そのエッジに沿って画像データ部（例えばオンの画素データ）と非画像データ部（例えばオフの画素データ）とが交互に現れるようにする処理であってもよい。この場合、画像データ部と非画像データ部とが、規則的に配置されていてもよいし、不規則的に配置されていてもよい。
【００５７】
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
【００５８】
また、上記実施形態では、液晶パネルのブラックマトリクスの露光パターンを露光する場合について説明したが、露光すべき露光パターンはこれに限らず、その他プリント配線基板の配線パターンなど如何なる配線パターンでもよい。
【００５９】
また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】露光ヘッドにおける光学系を示す図
【図６】本発明の一実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図
【図７】液晶パネルにおけるブラックマトリクスを示す図
【図８】（Ａ）露光画像データの一部を示す図、（Ｂ）露光画像データの一部とその露光画像データに対応付けられたマイクロミラーのビーム軌跡を示す図、（Ｃ）露光画像データ上のエッジに対応するエッジと実際のエッジとを示す図
【図９】（Ａ）凹凸処理の施された露光画像データの一部とその露光画像データに対応付けられたマイクロミラーのビーム軌跡を示す図、（Ｂ）凹凸処理を施さなかった場合のエッジと凹凸処理を施した場合のエッジと示す図
【図１０】複雑化処理の施された露光画像データの一部とその露光画像データに対応付けられたマイクロミラーのビーム軌跡を示す図
【符号の説明】
【００６１】
１０    露光装置
１２    基板
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
５２    凹凸処理部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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