(57)【要約】【課題】輝度ムラのない表示が得られる液晶表示装置に好適な液晶パネル、および該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明の液晶パネルは、液晶セルと；該液晶セルの一方の側に配置された第１の偏光板と；該液晶セルの他方の側に配置された第２の偏光板とを備え、該第１の偏光板は第１の偏光子を含み；該第２の偏光板は第２の偏光子を含み、該第１の偏光板がその側面の少なくとも１部に第１の防水加工部を有し、および／または、該第２の偏光板がその側面の少なくとも１部に第２の防水加工部を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルと；該液晶セルの一方の側に配置された第１の偏光板と；該液晶セルの他方の側に配置された第２の偏光板とを備え、
該第１の偏光板は第１の偏光子を含み；該第２の偏光板は第２の偏光子を含み、
該第１の偏光板がその側面の少なくとも１部に第１の防水加工部を有し、および／または、該第２の偏光板がその側面の少なくとも１部に第２の防水加工部を有する、液晶パネル。
【請求項２】
前記第１の偏光板が略矩形状であり、前記第１の防水加工部が該第１の偏光板の４つの角部を含む、請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記第１の防水加工部が前記第１の偏光板の側面の全部である、請求項１または２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記第２の偏光板が略矩形状であり、前記第２の防水加工部が該第２の偏光板の４つの角部を含む、請求項１から３までのいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記第２の防水加工部が前記第２の偏光板の側面の全部である、請求項１から４までのいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記第１の防水加工部および前記第２の防水加工部は、水の接触角が８０°以上を示す、請求項１から５までのいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項７】
前記液晶セルが、ＶＡモードまたはＯＣＢモードである、請求項１から６までのいずれかに記載の液晶パネル。
【請求項８】
請求項１から７までのいずれかに記載の液晶パネルを含む、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。より詳細には、本発明は、輝度ムラのない表示が得られる液晶表示装置に好適な液晶パネル、および該液晶パネルを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板は、液晶パネルおよび該液晶パネルを用いた液晶表示装置に不可欠の光学素子として広く採用されている。また、光学補償機能を付加した偏光板など、付加価値の高い偏光板も数多く提案されている。
【０００３】
偏光板としては、代表的には、ヨウ素または二色性染料を吸着配向させたポリビニルアルコール系フィルムからなる偏光子の両面に、トリアセチルセルロース等の保護層を配置したものが採用されている。
【０００４】
液晶表示装置においては、表示画面の周辺領域でバックライトの光が洩れ、コントラストが低下するという、いわゆる輝度ムラが発生するという問題がある。そこで、液晶表示装置における輝度ムラを解消する方法がいくつか提案されている（例えば、特許文献１〜２参照）。しかしながら、近年の液晶表示装置の急激な高性能化に伴い、より高レベルの輝度ムラ解消が要望されている。
【特許文献１】特開２００５−７００９４号公報
【特許文献２】特開２００３−１８５８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、輝度ムラのない表示が得られる液晶表示装置に好適な液晶パネル、および該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の液晶パネルは、
液晶セルと；該液晶セルの一方の側に配置された第１の偏光板と；該液晶セルの他方の側に配置された第２の偏光板とを備え、
該第１の偏光板は第１の偏光子を含み；該第２の偏光板は第２の偏光子を含み、
該第１の偏光板がその側面の少なくとも１部に第１の防水加工部を有し、および／または、該第２の偏光板がその側面の少なくとも１部に第２の防水加工部を有する。
【０００７】
好ましい実施形態においては、上記第１の偏光板が略矩形状であり、上記第１の防水加工部が該第１の偏光板の４つの角部を含む。
【０００８】
好ましい実施形態においては、上記第１の防水加工部が上記第１の偏光板の側面の全部である。
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記第２の偏光板が略矩形状であり、上記第２の防水加工部が該第２の偏光板の４つの角部を含む。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記第２の防水加工部が上記第２の偏光板の側面の全部である。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記第１の防水加工部および上記第２の防水加工部は、水の接触角が８０°以上を示す。
【００１２】
好ましい実施形態においては、上記液晶セルが、ＶＡモードまたはＯＣＢモードである。
【００１３】
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。本発明の液晶表示装置は、本発明の液晶パネルを含む。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、輝度ムラのない表示が得られる液晶表示装置に好適な液晶パネル、および該液晶パネルを用いた液晶表示装置を提供することができる。このような効果は、液晶セルの両側に配置した偏光板それぞれの側面の少なくとも１部に防水加工部を設けることで発現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【００１６】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学補償層（光学フィルムと称する場合もある）の全体的な偏光特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Δｎｄ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいう。Δｎｄ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける層（フィルム）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）を層（フィルム）の厚みとしたとき、式：Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。なお、「面内位相差Δｎｄ（３８０）」は、２３℃における波長３８０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいい、「面内位相差Δｎｄ（７８０）」は、２３℃における波長７８０ｎｍの光で測定した層（フィルム）面内の位相差値をいう。
（３）「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける層（フィルム）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）を層（フィルム）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。なお、「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（３８０）」は、２３℃における波長３８０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいい、「厚み方向の位相差Ｒｔｈ（７８０）」は、２３℃における波長７８０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。
【００１７】
Ａ．液晶パネルの全体構成
図１（ａ）は、本発明の１つの実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この液晶パネル１００は、液晶セル１０と；液晶セル１０の一方の側（図示例では視認側）に配置された第１の偏光子２０と；液晶セル１０の他方の側（図示例ではバックライト側）に配置された第２の偏光子２０’と；第１の偏光子２０と第２の偏光子２０’との間に配置された、少なくとも２つの光学補償層とを備える。当該少なくとも２つの光学補償層は、第１の光学補償層３０および第２の光学補償層４０を含む。図示例では、第１の光学補償層３０は、第１の偏光子２０と液晶セル１０との間に配置され、第２の光学補償層４０は、第２の偏光子２０’と液晶セル１０との間に配置されている。このような実施形態によれば、第１の光学補償層３０が第１の偏光子２０の液晶セル側の保護層として機能し得るとともに、第２の光学補償層４０が第２の偏光子２０’の液晶セル側の保護層として機能し得るので、液晶パネル（最終的には、液晶表示装置）の薄型化に貢献し得る。
【００１８】
図１（ｂ）は、本発明の別の実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この実施形態においては、第１の偏光子２０と第１の光学補償層３０との間に保護層５０が設けられる。保護層５０は第１の偏光子２０の液晶セル側に隣接し、第１の光学補償層３０は保護層５０の液晶セル側に隣接する。このような実施形態によれば、保護層５０を設けることにより偏光子の劣化が顕著に防止され、耐久性に優れた液晶パネルが得られ得る。なお、第１の光学補償層３０がバックライト側に配置され、第２の光学補償層４０が視認側に配置されてもよいが、好ましくは第１の光学補償層３０は図示するように視認側に配置される。バックライトの熱による影響を低減させて、本発明の効果をより発揮し得るからである。また、第２の偏光子２０’と第２の光学補償層４０との間に任意の適切な保護層が設けられていても良い。
【００１９】
図２（ａ）は、本発明の別の実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この実施形態においては、第１の光学補償層３０および第２の光学補償層４０は、第１の偏光子２０と液晶セル１０との間に配置されている。このような実施形態によれば、第１の光学補償層３０が第１の偏光子２０の液晶セル側の保護層として機能し得るので、液晶パネル（最終的には、液晶表示装置）の薄型化に貢献し得る。
【００２０】
図２（ｂ）は、本発明の別の実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この実施形態においては、第１の偏光子２０と第１の光学補償層３０との間に保護層５０が設けられる。保護層５０は第１の偏光子２０の液晶セル側に隣接し、第１の光学補償層３０は保護層５０の液晶セル側に隣接する。このような実施形態によれば、保護層５０を設けることにより、偏光子の劣化が顕著に防止され、耐久性に優れた液晶パネルが得られ得る。なお、第１の光学補償層３０と第２の光学補償層４０の配置が入れ替わっていてもよい。
【００２１】
図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、第１の光学補償層３０および前記第２の光学補償層４０が、液晶セル１０を基準にしてそれぞれ別の側に配置されるのが好ましい。第１の光学補償層３０と第２の光学補償層４０との積層方法を考慮することなく製品設計を行うことができ、かつ、生産性に優れるからである。
【００２２】
本発明においては、必要に応じて、第１の偏光子２０または第２の偏光子２０’と第２の光学補償層４０との間に、任意の適切な保護層（保護フィルムと称する場合もある）（図示せず）が設けられ得る。さらに、必要に応じて、第１の偏光子２０および／または第２の偏光子２０’の光学補償層が形成されない側にも、任意の適切な保護層が設けられる。保護層を設けることにより、偏光子の劣化が防止され得る。本発明においては、さらに別の光学補償層（図示せず）を設けてもよい。このような光学補償層の種類、数、配置位置等は、目的に応じて適切に選択され得る。本発明の液晶パネルにおいては、上記各層（フィルム）の積層は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層を介して積層される。
【００２３】
液晶セル１０は、一対の基板１１、１１’と、基板１１、１１’間に挟持された表示媒体としての液晶層１２とを有する。一方の基板（カラーフィルター基板）１１には、カラーフィルターおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）が設けられている。他方の基板（アクティブマトリクス基板）１１’には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）（図示せず）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線（図示せず）およびソース信号を与える信号線（図示せず）と、画素電極および対向電極（いずれも図示せず）とが設けられている。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板１１’側に設けてもよい。上記基板１１、１１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー（図示せず）によって制御されている。上記基板１１、１１’の液晶層１２と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。
【００２４】
液晶セル１０の駆動モードとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な駆動モードが採用され得る。駆動モードの具体例としては、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードおよびＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードが挙げられる。ＶＡモードおよびＯＣＢモードが好ましい。
【００２５】
図３は、ＶＡモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。図３（ａ）に示すように、電圧無印加時には、液晶分子は基板１１、１１’面に垂直に配向する。このような垂直配向は、垂直配向膜（図示せず）を形成した基板間に負の誘電率異方性を有するネマチック液晶を配することにより実現され得る。このような状態で一方の基板１１の面から光を入射させると、第１の偏光子２０を通過して液晶層１２に入射した直線偏光の光は、垂直配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、第１の偏光子２０と直交する偏光軸を有する第２の偏光子２０’で吸収される。これにより電圧無印加時において暗状態の表示が得られる（ノーマリブラックモード）。図３（ｂ）に示すように、電極間に電圧が印加されると、液晶分子の長軸が基板面に平行に配向する。この状態の液晶層１２に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態は液晶分子の傾きに応じて変化する。所定の最大電圧印加時において液晶層を通過する光は、例えばその偏光方位が９０°回転させられた直線偏光となるので、第２の偏光子２０’を透過して明状態の表示が得られる。再び電圧無印加状態にすると配向規制力により暗状態の表示に戻すことができる。また、印加電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して第２の偏光子２０’からの透過光強度を変化させることにより階調表示が可能となる。
【００２６】
図４は、ＯＣＢモードにおける液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。ＯＣＢモードは、液晶層１２をいわゆるベンド配向といわれる配向によって構成する駆動モードである。ベンド配向とは、図４（ｃ）に示すように、ネマチック液晶分子の配向が基板近傍においては、ほぼ平行の角度（配向角）を有し、配向角は液晶層の中心に向かうに従って基板平面に対して垂直な角度を呈し、液晶層の中心から離れるに従って対向する基板表面と配向になるように漸次連続的に変化し、かつ、液晶層全体にわたってねじれ構造を有しない配向状態をいう。このようなベンド配向は、以下のようにして形成される。図４（ａ）に示すように、何ら電界等を付与していない状態（初期状態）では、液晶分子は実質的にホモジニアス配向をとっている。ただし、液晶分子は、プレチルト角を有し、かつ、基板近傍のプレチルト角とそれに対向する基板近傍のプレチルト角とが異なっている。ここに所定のバイアス電圧（代表的には、１．５Ｖ〜１．９Ｖ）を印加すると（低電圧印加時）、図４（ｂ）に示すようなスプレイ配向を経て、図４（ｃ）に示すようなベンド配向への転移が実現され得る。ベンド配向状態からさらに表示電圧（代表的には、５Ｖ〜７Ｖ）を印加すると（高電圧印加時）、液晶分子は図４（ｄ）に示すように基板表面に対してほぼ垂直に立ち上がる。ノーマリーホワイトの表示モードにおいては、第１の偏光子２０を通過して、高電圧印加時に図４（ｄ）の状態にある液晶層に入射した光は、偏光方位を変えずに進み、第２の偏光子２０’で吸収される。したがって、暗状態の表示となる。表示電圧を下げると、ラビング処理の配向規制力により、ベンド配向に戻り、明状態の表示に戻すことができる。また、表示電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して偏光子からの透過光強度を変化させることにより、階調表示が可能となる。なお、ＯＣＢモードの液晶セルを備えた液晶表示装置は、スプレイ配向状態からベンド配向状態への相転移を非常に高速でスイッチングできるため、ＴＮモードやＩＰＳモード等の他駆動モードの液晶表示装置に比べ、動画表示特性に優れるという特徴を有する。
【００２７】
上記のような液晶パネルは、パーソナルコンピューター、液晶テレビ、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）、プロジェクター等の液晶表示装置に好適に用いられる。
【００２８】
Ｂ．偏光板
Ｂ−１．偏光板の構成
本発明において「偏光板」とは、液晶セルの両側に配置される、偏光子を含む光学素子を意味する。偏光板の構成としては、偏光子を含む光学素子であれば、任意の適切な構成が採用され得る。代表的には、「保護層／偏光子／保護層」の構成を有する偏光板、「保護層／偏光子／保護層／光学補償層」の構成を有する偏光板、「保護層／偏光子／保護層／光学補償層／光学補償層」の構成を有する偏光板、「保護層／偏光子／光学補償層」の構成を有する偏光板、「保護層／偏光子／光学補償層／光学補償層」の構成を有する偏光板などが挙げられる。光学補償層としては、代表的には、上記Ａ項で説明した第１の光学補償層、第２の光学補償層、別の光学補償層が挙げられる。
【００２９】
本発明においては、液晶セルの一方の側に第１の偏光板が配置され、液晶セルの他方の側に第２の偏光板が配置される。第１の偏光板の構成と第２の偏光板の構成は、同じであっても異なっていても良い。
【００３０】
Ｂ−２．偏光板の防水加工
本発明においては、第１の偏光板がその側面の少なくとも１部に第１の防水加工部を有し、および／または、該第２の偏光板がその側面の少なくとも１部に第２の防水加工部を有する。ここで偏光板の「側面」とは、偏光板の厚み方向の端面を意味する。
【００３１】
上記第１の偏光板は略矩形状であることが好ましい。この場合、上記第１の防水加工部が該第１の偏光板の４つの角部を含むことが好ましい。上記第１の防水加工部が該第１の偏光板の４つの角部を含むことにより、液晶パネルとしたときにパネル面全体において十分に輝度ムラのない表示を得ることが可能となる。
【００３２】
上記第１の防水加工部は、第１の偏光板の側面の１／１０以上であることが好ましく、１／４以上であることがより好ましく、１／２以上であることがさらに好ましく、３／４以上であることが特に好ましく、全部であることが最も好ましい。第１の偏光板の側面のできるだけ多い部分が防水加工部となっていることにより、液晶パネルとしたときにパネル面全体においてより一層十分に輝度ムラのない表示を得ることが可能となる。
【００３３】
上記第２の偏光板は略矩形状であることが好ましい。この場合、上記第２の防水加工部が該第２の偏光板の４つの角部を含むことが好ましい。上記第２の防水加工部が該第２の偏光板の４つの角部を含むことにより、液晶パネルとしたときにパネル面全体において十分に輝度ムラのない表示を得ることが可能となる。
【００３４】
上記第２の防水加工部は、第２の偏光板の側面の１／１０以上であることが好ましく、１／４以上であることがより好ましく、１／２以上であることがさらに好ましく、３／４以上であることが特に好ましく、全部であることが最も好ましい。第２の偏光板の側面のできるだけ多い部分が防水加工部となっていることにより、液晶パネルとしたときにパネル面全体においてより一層十分に輝度ムラのない表示を得ることが可能となる。
【００３５】
上記第１の防水加工部および第２の防水加工部は、水の接触角が、好ましくは８０°以上を示し、より好ましくは１００°以上を示す。水の接触角が８０°以上であることによって、十分な撥水性を発現することが可能となる。
【００３６】
上記第１の防水加工部および第２の防水加工部は、任意の適切な防水加工方法を採用することによって設けることができる。好ましくは、第１の偏光板および第２の偏光板の側面に、防水剤をスプレー等によって塗布することによって防水加工部を設けることができる。
【００３７】
上記防水剤としては、任意の適切な防水剤を採用し得る。例えば、離型剤を防水剤として用いることが挙げられる。上記離型剤としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、ジメチルシリコーンゴム、シリコーンレジン、有機変性シリコーンレジンなどのシリコーン系離型剤；エチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの脂肪酸エステル系離型剤；ポリオキシアルキレンリン酸エステルなどのリン酸エステル系離型剤；ポリオキシアルキレングリコール、グリコール類、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルなどのアルコール系離型剤；ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等のフッ素樹脂、ビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプロピレン系ゴム等のフッ素ゴム、フッ素系界面活性剤、フッ化カーボン、フッ素ゴムラテックス、含フッ素樹脂などのフッ素系離型剤；等が挙げられる。これらは１種のみを用いても良いし、２種以上を併用しても良い。また、任意の適切な溶剤に溶解して用いても良い。
【００３８】
Ｃ．光学補償層
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲において、任意の適切な光学補償層を採用し得る。例えば、屈折率分布がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚを示す光学補償層、屈折率分布がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを示す光学補償層、屈折率分布がｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚを示す光学補償層、屈折率分布がｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚを示す光学補償層などが挙げられる。
【００３９】
Ｃ−１．第１の光学補償層
第１の光学補償層としては、上記のように、任意の適切な光学補償層を採用し得る。例えば、代表的な具体例として、下記のような特性を有する光学補償層が挙げられる。
【００４０】
第１の光学補償層の光弾性係数の絶対値は、好ましくは４０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下であり、より好ましくは０．２×１０−１２〜３５×１０−１２、さらに好ましくは０．２×１０−１２〜３０×１０−１２である。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、表示ムラを効果的に抑制し得る。
【００４１】
第１の光学補償層は、好ましくはｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率分布を有する。さらに、第１の光学補償層は、好ましくは、いわゆる逆分散の波長依存性を有する。具体的には、その面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＜Δｎｄ（５５０）＜Δｎｄ（７８０）の関係を有することが好ましい。より好ましくは、面内位相差は、Δｎｄ（７８０）／Δｎｄ（５５０）＞１．１０の関係を有する。このような関係を有することにより、可視光の広い範囲にわたって良好な光学補償が実現され得る。
【００４２】
図１（ａ）または図２（ａ）に示すように、第１の光学補償層が第１の偏光子または第２の偏光子の液晶セル側の保護層として機能し得る実施態様では、第１の光学補償層の面内位相差Δｎｄ（５５０）の下限は、好ましくは９０ｎｍ以上、より好ましくは１２０ｎｍ以上、さらに好ましくは１３０ｎｍ以上である。一方、Δｎｄ（５５０）の上限は、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１７０ｎｍ以下、さらに好ましくは１６０ｎｍ以下である。
【００４３】
図１（ｂ）または図２（ｂ）に示すように、第１の偏光子または第２の偏光子と第１の光学補償層との間に保護層が設けられ、第１の光学補償層が保護層の液晶セル側に隣接する実施態様では、第１の光学補償層の面内位相差Δｎｄ（５５０）の下限は、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは７０ｎｍ以上、さらに好ましくは７５ｎｍ以上である。一方、Δｎｄ（５５０）の上限は、好ましくは１５０ｎｍ以下、より好ましくは１１０ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。
【００４４】
第１の光学補償層の厚みは、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、厚みは、２０〜１６０μｍであることが好ましく、より好ましくは４０〜１４０μｍ、さらに好ましくは６０〜１２０μｍである。
【００４５】
第１の光学補償層は、代表的には、ポリマーフィルムを延伸処理することにより形成され得る。例えば、ポリマーの種類、延伸条件、延伸方法等を適切に選択することにより、上記のような光学特性（屈折率分布、面内位相差、光弾性係数）有する第１の光学補償層が得られ得る。
【００４６】
上記ポリマーフィルムに含まれる材料としては、任意の適切な材料が採用され得るが、セルロース系材料を含むことが好ましい。
【００４７】
上記セルロース系材料としては、アセチル基およびプロピオニル基で置換されていることが好ましい。このセルロース系材料の置換度、「ＤＳａｃ（アセチル置換度）＋ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）」（セルロースの繰り返し単位中に存在する３個の水酸基が、アセチル基またはプロピオニル基で平均してどれだけ置換されているかを示す）の下限は、好ましくは２以上、より好ましくは２．３以上、さらに好ましくは２．６以上である。「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」の上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。セルロース系材料の置換度を上記範囲とすることにより、上記のような所望の屈折率分布を有する光学補償層が得られ得る。
【００４８】
上記ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）の下限は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上、さらに好ましくは２．５以上である。ＤＳｐｒの上限は、好ましくは３以下、より好ましくは２．９以下、さらに好ましくは２．８以下である。ＤＳｐｒを上記範囲とすることにより、セルロース系材料の溶剤に対する溶解性が向上し、得られる第１の光学補償層の厚みの制御が容易となる。さらに、「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を上記の範囲とし、かつ、ＤＳｐｒを上記の範囲とすることにより、上記の光学特性を有し、かつ、逆分散の波長依存性を有する光学補償層が得られ得る。
【００４９】
上記ＤＳａｃ（アセチル置換度）およびＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）は、特開２００３−３１５５３８号公報［００１６］〜［００１９］に記載の方法により求めることができる。
【００５０】
上記セルロース系材料は、アセチル基およびプロピオニル基以外のその他の置換基を有し得る。その他の置換基としては、例えば、ブチレート等のエステル基；アルキルエーテル基、アラアルキレンエーテル基等のエーテル基等が挙げられる。
【００５１】
上記セルロース系材料の数平均分子量は、好ましくは５千〜１０万、より好ましくは１万〜７万である。上記範囲とすることにより、生産性に優れ、かつ、良好な機械的強度が得られ得る。
【００５２】
アセチル基およびプロピオニル基への置換方法としては、適宜任意の方法が採用される。例えば、セルロースを強苛性ソーダ溶液で処理してアルカリセルロースとし、これを所定量の無水酢酸とプロピオン酸無水物との混合物によりアシル化する。アシル基を部分的に加水分解することにより、置換度「ＤＳａｃ＋ＤＳｐｒ」を調整する。
【００５３】
上記ポリマーフィルムは、適宜任意の高分子材料を含み得る。このような高分子材料としては、例えば、セルロースブチレート等のセルロースエステル；メチルセルロース、エチルセルロース等のセルロースエーテル等が挙げられる。ポリマーフィルムは、必要に応じて、可塑剤、熱安定剤、紫外線安定剤等の添加剤を含み得る。
【００５４】
Ｃ−２．第２の光学補償層
第２の光学補償層としては、上記のように、任意の適切な光学補償層を採用し得る。例えば、代表的な具体例として、下記のような特性を有する光学補償層が挙げられる。
【００５５】
第２の光学補償層は、好ましくはｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率分布を有する。さらに、第２の光学補償層の厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＞Ｒｔｈ（５５０）＞Ｒｔｈ（７８０）の関係を有することが好ましい。より好ましくは、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（７８０）／Ｒｔｈ（５５０）＜０．９５の関係を有する。
【００５６】
第２の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）の下限は、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上である。一方、Ｒｔｈ（５５０）の上限は、好ましくは１０００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、さらに好ましくは２５０ｎｍ以下である。
【００５７】
第２の光学補償層は、単層であってもよく、２層以上の積層体であってもよい。積層体の場合には、積層体全体として上記のような光学特性を有する限り、各層を構成する材料および各層の厚みは適宜設定され得る。
【００５８】
第２の光学補償層の厚みは、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、厚みは、０．１〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。
【００５９】
第２の光学補償層を構成する材料としては、上記のような光学特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。例えば、このような材料としては、非液晶性材料が挙げられる。特に好ましくは、非液晶性ポリマーである。このような非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成し得る。その結果、配向基板のみならず未配向基板も使用され得る。さらに、未配向基板を用いる場合であっても、その表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができる。
【００６０】
上記非液晶性材料としては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
【００６１】
上記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。
【００６２】
上記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に開示された、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００６３】
【化１】
2007316587.tif 000003
【００６４】
上記式（１）中、Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ独立して、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００６５】
上記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００６６】
【化２】
2007316587.tif 000004
【００６７】
上記式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ７）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、または、ＮＲ８基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ７は、それぞれ独立して、水素またはＣ（Ｒ９）３である。Ｒ８は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。Ｒ９は、それぞれ独立して、水素、フッ素、または塩素である。
【００６８】
上記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、上記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された上記多環式芳香族基が挙げられる。
【００６９】
この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００７０】
【化３】
2007316587.tif 000005
【００７１】
【化４】
2007316587.tif 000006
【００７２】
【化５】
2007316587.tif 000007
【００７３】
上記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、それぞれ独立して、例えば、共有結合、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）２基、および、Ｎ（ＣＨ３）基からなる群から選択される基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。
【００７４】
上記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００７５】
上記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。上記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また上記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇは、０から３までの整数であり、ｈは、１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００７６】
上記式（４）中、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から選択される基である。その中でも、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００７７】
上記式（５）中、Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立して、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、上記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。
【００７８】
上記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等が挙げられる。
【００７９】
【化６】
2007316587.tif 000008
【００８０】
さらに、上記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。
【００８１】
上記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００８２】
上記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリット酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリット酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリット酸二無水物等が挙げられる。上記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
【００８３】
また、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。
【００８４】
これらの中でも、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００８５】
上記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンが挙げられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。
【００８６】
上記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンからなる群から選択されるジアミン等が挙げられる。上記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。上記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等が挙げられる。上記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【００８７】
また、芳香族ジアミンとしては、上記の他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。
【００８８】
上記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。
【００８９】
【化７】
2007316587.tif 000009
【００９０】
上記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００９１】
上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。上記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有するアルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。上記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の上記低級アルキル基のハロゲン化物が挙げられる。上記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。上記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の上記低級アルコキシ基のハロゲン化物が挙げられる。
【００９２】
上記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。上記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００９３】
また、上記式（７）中、Ｒ１は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００９４】
【化８】
2007316587.tif 000010
【００９５】
上記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、上記式（７）におけるＸと同様である。上記式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｑ’は、上記Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００９６】
上記式（８）中、Ｒ２は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等が挙げられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、上記Ｒ２としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００９７】
【化９】
2007316587.tif 000011
【００９８】
上記式（７）中、Ｒ１としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ２およびｐは上記式（８）と同義である。
【００９９】
【化１０】
2007316587.tif 000012
【０１００】
さらに、上記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合であってもよい。
【０１０１】
さらに、上記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは上記式（７）と同様の重合度を表す。
【０１０２】
【化１１】
2007316587.tif 000013
【０１０３】
上記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等が挙げられ、下記各式において、ｎは、上記式（７）と同様の重合度を表す。
【０１０４】
【化１２】
2007316587.tif 000014
【０１０５】
【化１３】
2007316587.tif 000015
【０１０６】
【化１４】
2007316587.tif 000016
【０１０７】
【化１５】
2007316587.tif 000017
【０１０８】
また、これらの他に、上記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルが挙げられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【０１０９】
【化１６】
2007316587.tif 000018
【０１１０】
上記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【０１１１】
また、上記式（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【０１１２】
上記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、上記で定義したとおりである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１−９アルコキシカルボニル基、Ｃ１−９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１−１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１−１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１−１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１−３アルキル基、Ｃ１−３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせが挙げられる。上記ｔは、０から４までの整数であり、上記ｚは、０から３までの整数である。
【０１１３】
上記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【０１１４】
【化１７】
2007316587.tif 000019
【０１１５】
上記式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、上記式（２２）で定義したとおりであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【０１１６】
次に、上記第２の光学補償層の代表的な製造方法について説明する。第２の光学補償層の製造方法としては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な方法が採用され得る。
【０１１７】
第２の光学補償層は、好ましくは、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、およびポリエステルイミドからなる群より選択される少なくとも１種のポリマーの溶液を、透明高分子フィルムに塗布後、乾燥して、透明高分子フィルム上に該ポリマー層を形成し、該透明高分子フィルムと該ポリマー層とを一体で延伸または収縮することにより形成される。
【０１１８】
上記塗工溶液（透明高分子フィルムに塗布するポリマー溶液）の溶媒は、特に制限されず、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１,２-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２-ピロリドン、Ｎ-メチル-２-ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２-メチル-２,４-ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。中でも、メチルイソブチルケトンが好ましい。非液晶材料に対して高い溶解性を示し、かつ、基板を侵食しないからである。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて用いられ得る。
【０１１９】
上記塗工溶液における上記非液晶性ポリマーの濃度は、上記のような光学補償層が得られ、かつ塗工可能であれば、任意の適切な濃度が採用され得る。例えば、当該溶液は、溶媒１００重量部に対して、非液晶性ポリマーを好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４０重量部含む。このような濃度範囲の溶液は、塗工容易な粘度を有する。
【０１２０】
上記塗工溶液は、必要に応じて、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤をさらに含有し得る。
【０１２１】
上記塗工溶液は、必要に応じて、異なる他の樹脂をさらに含有し得る。このような他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂を併用することにより、目的に応じて適切な機械的強度や耐久性を有する光学補償層を形成することが可能となる。
【０１２２】
上記汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。上記エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。
【０１２３】
上記塗工溶液に添加される上記異なる樹脂の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、このような樹脂は、上記非液晶性ポリマーに対して、好ましくは０〜５０質量％、さらに好ましくは０〜３０質量％の割合で添加され得る。
【０１２４】
上記溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用され得る。
【０１２５】
塗工後、例えば、自然乾燥、風乾、加熱乾燥（例えば、６０〜２５０℃）などの乾燥により、上記溶液中の溶媒を蒸発除去させ、フィルム状の光学補償層を形成する。
【０１２６】
上記透明高分子フィルムとしては、後述する保護層と同様のフィルムを用いることができる。
【０１２７】
第２の光学補償層は、上記で得られた積層体（透明高分子フィルム上に第１の光学補償層が形成された積層体）から、第１の光学補償層を剥離して用いても良いし、積層体のまま用いてもよい。積層体のまま用いて偏光子とさらに積層する場合は、積層体中の透明高分子フィルムは、後述する偏光子の保護フィルムとして機能してもよい。
【０１２８】
Ｄ．偏光子
本発明においては、第１の偏光板は第１の偏光子を含み、第２の偏光板は第２の偏光子を含む。上記第１の偏光子および第２の偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。
【０１２９】
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１３０】
Ｅ．保護層
保護層は、透明であり、色付が無いことが好ましい。保護層としては、本発明の効果を損なわない範囲で偏光子を保護できる限り、任意の適切な保護層を採用し得る。代表的には、下記の保護層（１）〜（３）が好ましく挙げられる。
【０１３１】
Ｅ−１．保護層（１）
保護層（１）の面内位相差Δｎｄ（５５０）は、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上８ｎｍ以下である。保護層（１）の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、さらに好ましくは４５ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。
【０１３２】
保護層（１）の厚みは、目的に応じて適宜設定され得る。具体的には、厚みは、２０〜１４０μｍであることが好ましく、より好ましくは４０〜１２０μｍ、さらに好ましくは６０〜１００μｍである。
【０１３３】
保護層（１）を構成する材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。このような材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性などに優れるプラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックフィルムを構成する樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリノルボルネン樹脂、セルロース樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂または紫外線硬化型樹脂も用いられ得る。偏光特性および耐久性の観点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
【０１３４】
Ｅ−２．保護層（２）
保護層（２）の面内位相差Δｎｄ（５５０）は、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上６ｎｍ以下、さらに好ましくは０ｎｍ以上３ｎｍ以下である。保護層（２）の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下、さらに好ましくは０ｎｍ以上６ｎｍ以下、特に好ましくは０ｎｍ以上３ｎｍ以下である。
【０１３５】
保護層（２）の厚みは、目的に応じて適宜設定され得る。具体的には、厚みは、２０〜２００μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜１００μｍ、さらに好ましくは３５〜９５μｍである。
【０１３６】
保護層（２）としては、代表的には、セルロース系フィルムが用いられる。厚み方向位相差（Ｒｔｈ）の大きいセルロース系フィルムについて、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さくするための適当な処理を施すことにより、保護層（２）を好ましく得ることができる。
【０１３７】
厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さくするための上記処理としては、任意の適切な処理方法を採用できる。例えば、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤を塗布したポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ステンレス等の基材を、一般的なセルロース系フィルムに貼り合わせ、加熱乾燥（例えば、８０〜１５０℃程度で３〜１０分程度）した後、基材フィルムを剥離する方法；ノルボルネン系樹脂、アクリル系樹脂等をシクロペンタノン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解した溶液を、一般的なセルロース系フィルムに塗布し、加熱乾燥（例えば、８０〜１５０℃程度で３〜１０分程度）した後、塗布フィルムを剥離する方法；などが挙げられる。
【０１３８】
セルロース系フィルムを構成する材料としては、好ましくは、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等の脂肪酸置換セルロース系ポリマーが挙げられる。一般的に用いられているトリアセチルセルロースでは、酢酸置換度が２．８程度であるが、好ましくは酢酸置換度を１．８〜２．７、より好ましくはプロピオン酸置換度を０．１〜１に制御することによって、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御することができる。
【０１３９】
上記脂肪酸置換セルロース系ポリマーに、ジブチルフタレート、ｐ−トルエンスルホンアニリド、クエン酸アセチルトリエチル等の可塑剤を添加することにより、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御することができる。可塑剤の添加量は、脂肪酸置換セルロース系ポリマー１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは１〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１５重量部である。
【０１４０】
上述したような厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を小さく制御するための技術は、適宜組み合わせて用いてもよい。
【０１４１】
保護層（２）の別の好ましい具体例として、アクリル樹脂フィルムも挙げられる。アクリル樹脂フィルムとして好ましくは、特開２００５−３１４５３４号公報に記載の、下記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位を含有するアクリル樹脂（Ａ）を主成分として含むアクリル樹脂フィルムである。下記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位を含有することにより、耐熱性が向上し得る。下記構造式（２４）中、Ｒ１、Ｒ２は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
【化１８】
2007316587.tif 000020
【０１４２】
上記アクリル樹脂（Ａ）中、上記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位の含有割合は、好ましくは２０〜４０重量％、より好ましくは２５〜３５重量％である。
【０１４３】
上記アクリル樹脂（Ａ）は、上記構造式（２４）で表されるグルタル酸無水物単位の他に、任意の適切なモノマー単位を１種または２種以上含んでいても良い。このようなモノマー単位として、好ましくは、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位が挙げられる。上記アクリル樹脂（Ａ）中、ビニルカルボン酸アルキルエステル単位の含有割合は、好ましくは６０〜８０重量％、より好ましくは６５〜７５重量％である。
【０１４４】
上記ビニルカルボン酸アルキルエステル単位としては、例えば、下記一般式（２５）で表される単位が挙げられる。下記一般式（２５）中、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜５の脂肪族もしくは脂環式炭化水素、Ｒ４は炭素数１〜５の脂肪族炭化水素を表す。
【化１９】
2007316587.tif 000021
【０１４５】
上記アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは８００００〜１５００００である。
【０１４６】
上記アクリル樹脂フィルム中の上記アクリル樹脂（Ａ）の含有割合は、好ましくは６０〜９０重量％である。
【０１４７】
上記アクリル樹脂フィルム中には、上記アクリル樹脂（Ａ）の他に、任意の適切な成分が１種または２種以上含まれていても良い。このような成分としては、本発明の目的を損なわない範囲で任意の適切な成分を採用し得る。例えば、上記アクリル樹脂（Ａ）以外の樹脂、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。
【０１４８】
Ｅ−３．保護層（３）
保護層（３）として、例えば、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ  ０１／３７００７号）に記載されているような樹脂組成物から形成されるポリマーフィルムも使用可能である。より詳細には、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とシアノ基とを有する熱可塑性樹脂との混合物である。具体例としては、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。例えば、このような樹脂組成物の押出成形物が用いられ得る。
【０１４９】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。
【０１５０】
（１）位相差の測定
特に別法の記載がない限り、試料フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを、分光エリプソメーター（日本分光株式会社製、Ｍ−２２０）により計測し、面内位相差Δｎｄおよび厚み方向位相差Ｒｔｈを算出した。測定温度は２３℃、測定波長は３８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび７８０ｎｍであった。
（２）光弾性係数の測定
試料フィルムの光弾性係数を、分光エリプソメーター（日本分光株式会社製、Ｍ−２２０）により測定した。
（３）水の接触角の測定
固液界面解析装置（協和界面科学（株）製、製品名「Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ  ３００」）を用いて、基材に液を滴下した後、５秒間経過した後の接触角を測定した。測定条件は、静的接触角測定である。水は、超純水を用い、液滴は０．５μｌとした。それぞれの基材について、繰り返し回数１０回の平均値を測定値とした。
（４）輝度の測定
輝度測定装置（ＭＩＮＯＬＴＡ製、製品名「ＣＡ−１５００」）を用い、液晶パネルの輝度を測定した。具体的には、下記のように行った。まず、ＳＯＮＹ製の液晶表示装置「ＢＲＡＶＩＡ  ４０インチ  Ｘシリーズ」から液晶パネルを取り出し、該液晶パネルの液晶セルの上下に貼着された偏光板を剥離し、代わりに、実施例または比較例で作製した偏光板を該液晶セルの両側にアクリル系粘着剤で貼り付けて新たな液晶パネルを作製した。作製した液晶パネルを上記液晶表示装置に再装填し、６０℃／９５％ＲＨの条件下で２５０時間放置した。その後、室温で３時間放置し、バックライトをＯＮにして３時間放置後、測定距離１ｍで、液晶パネルの輝度ムラを評価した。輝度ムラの評価は、液晶パネルの白抜け部分および黒表示部分における輝度を測定して行った。白抜け部分および黒表示部分の測定箇所は以下の通りとした。
白抜け部分：コーナーから、長辺の１／３０内側で且つ短辺の１／３０内側の点
黒表示部分：液晶パネルのセンターの点
【実施例１】
【０１５１】
（第１の光学補償層の形成）
厚み７０μｍのセルロースエステルのフィルム〔カネカ製、商品名：ＫＡ、ＤＳａｃ（アセチル置換度）＝０．０４、ＤＳｐｒ（プロピオニル置換度）＝２．７６〕を、１４５℃で１．５倍に自由端延伸して厚み６８μｍの第１の光学補償層を得た。得られた第１の光学補償層の光弾性係数は、２５×１０−１２（ｍ２／Ｎ）であった。得られた第１の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝６５ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝９０ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝１０５ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝６９ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝９５ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１１１ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚであった。
【０１５２】
（第１の光学補償層付偏光板の作製）
上記で得られた第１の光学補償層を、ＴＡＣ保護フィルム（富士写真フィルム製、商品名：ＴＦ８０ＵＬ）／偏光子／ＴＡＣ保護フィルム（商品名：ＴＦ８０ＵＬ）の構成を有する偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第１の光学補償層付偏光板を得た。このとき、第１の光学補償層の遅相軸と偏光子の延伸軸（吸収軸）とが互いに実質的に直交するようにして積層した。
【０１５３】
（第２の光学補償層の形成）
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）とから合成されたポリイミドを、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）に溶解して、１５質量％のポリイミド溶液を調製した。この溶液をトリアセチルセルロース基材（透明高分子フィルム）に３０μｍの厚みで塗布した。その後、１００℃で１０ｍｉｎ乾燥処理することで、厚みが約４μｍの第２の光学補償層を得た。得られた第２の光学補償層の面内位相差は、Δｎｄ（３８０）＝０．４ｎｍ、Δｎｄ（５５０）＝０．３ｎｍ、Δｎｄ（７８０）＝０．３ｎｍであり、厚み方向の位相差は、Ｒｔｈ（３８０）＝１７８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（７８０）＝１１０ｎｍであった。５５０ｎｍの屈折率分布は、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであった。
【０１５４】
（第２の光学補償層付偏光板の作製）
上記で得られた第２の光学補償層を、偏光板〔日東電工株式会社製、商品名：ＳＥＧ１２２４〕に粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けて、第２の光学補償層付偏光板を得た。
【０１５５】
（偏光板の防水加工）
上記で得られた第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板のそれぞれについて、側面の全部に、防水剤（ダイキン工業製、フッ素系離型剤、商品名：ダイフリーＧＡ−６０１０）をスプレーし、防水加工を行った。防水加工部における水の接触角は１１６°であった。
【０１５６】
（輝度測定）
防水加工を行った第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板を用い、輝度の測定を行った。液晶セルへの第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板の貼着は、液晶セルの視認側に第１の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤を介して貼り付けた。その際、第１の光学補償層が液晶セル側になるように貼り付けた。液晶セルのバックライト側に第２の光学補償層付偏光板を、アクリル系粘着剤を介して貼り付けた。その際、第２の光学補償層が液晶セル側になるように貼り付けた。また、第１の光学補償層付偏光板の偏光子の延伸（吸収）軸と第２の光学補償層付偏光板の偏光子の延伸（吸収）軸とが互いに実質的に直交するように積層して、液晶パネルを得た。測定の結果、白抜け部の輝度は０．５３ｃｄ／ｍ２、黒表示部の輝度は０．４７ｃｄ／ｍ２であった。輝度測定時の液晶パネルの状態を図５に示す。
〔比較例１〕
【０１５７】
実施例１において、第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板のそれぞれについて防水加工を行わなかった以外は実施例１と同様に行った。防水加工を行わなかった第１の光学補償層付偏光板および第２の光学補償層付偏光板のそれぞれの側面における水の接触角は３５°であった。輝度測定を行った結果、白抜け部の輝度は０．８０ｃｄ／ｍ２、黒表示部の輝度は０．４５ｃｄ／ｍ２であった。輝度測定時の液晶パネルの状態を図６に示す。
【０１５８】
図５と図６を比較すると、防水加工を行った偏光板を用いた実施例１の液晶パネルにおいては輝度ムラが観察されないのに対し、防水加工を行っていない偏光板を用いた比較例１の液晶パネルにおいては輝度ムラが顕著に観察された。
【実施例２】
【０１５９】
日東電工製偏光板「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＸＰ」および「ＳＥＧ１２２４」の側面の全部に、防水剤（ダイキン工業製、フッ素系離型剤、商品名：ダイフリーＧＡ−６０１０）をスプレーし、防水加工を行った。防水加工部における水の接触角は１１６°であった。
次に、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いて、Ｓｏｎｙ製液晶ＴＶ「ＢＲＡＶＩＡ  ４０インチ  Ｘシリーズ」から取り出した液晶セルのバックライト側に上記「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＸＰ」を貼り合わせ、視認側に上記「ＳＥＧ１２２４」を貼り合わせ、液晶パネルを作製した。このとき、上記「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＸＰ」の偏光子の延伸（吸収）軸と上記「ＳＥＧ１２２４」の偏光子の延伸（吸収）軸とが互いに実質的に直交するように積層した。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図７に示す。
〔比較例２〕
【０１６０】
実施例２において、「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＸＰ」および「ＳＥＧ１２２４」のそれぞれについて防水加工を行わなかった以外は実施例２と同様に行った。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図８に示す。
【０１６１】
図７と図８を比較すると、防水加工を行った偏光板を用いた実施例２の液晶パネルにおいては輝度ムラが観察されないのに対し、防水加工を行っていない偏光板を用いた比較例２の液晶パネルにおいては輝度ムラが顕著に観察された。
【実施例３】
【０１６２】
日東電工製偏光板「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＪＰ」および「ＶＥＧ１７２２」の側面の全部に、防水剤（ダイキン工業製、フッ素系離型剤、商品名：ダイフリーＧＡ−６０１０）をスプレーし、防水加工を行った。防水加工部における水の接触角は１１６°であった。
次に、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いて、Ｓｏｎｙ製液晶ＴＶ「ＢＲＡＶＩＡ  ４０インチ  Ｘシリーズ」から取り出した液晶セルのバックライト側に上記「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＪＰ」を貼り合わせ、視認側に上記「ＶＥＧ１７２２」を貼り合わせ、液晶パネルを作製した。このとき、上記「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＪＰ」の偏光子の延伸（吸収）軸と上記「ＶＥＧ１７２２」の偏光子の延伸（吸収）軸とが互いに実質的に直交するように積層した。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図９に示す。
〔比較例３〕
【０１６３】
実施例３において、「ＮＩＢＣＯＭ−ＮＪＰ」および「ＶＥＧ１７２２」のそれぞれについて防水加工を行わなかった以外は実施例３と同様に行った。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図１０に示す。
【０１６４】
図９と図１０を比較すると、防水加工を行った偏光板を用いた実施例３の液晶パネルにおいては輝度ムラが観察されないのに対し、防水加工を行っていない偏光板を用いた比較例３の液晶パネルにおいては輝度ムラが顕著に観察された。
【実施例４】
【０１６５】
ＪＳＲ製のノルボルネン系フィルム「アートン」を１４５℃で３倍に延伸した。位相差値を王子計測製「ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ」を用いて測定したところ、Δｎｄ＝１１５ｎｍ、Ｒｔｈ＝１３５ｎｍであった。
次に、日東電工製の偏光子の片側に上記ノルボルネン系フィルム、反対側に富士写真フィルム製のトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ）を貼り合わせ、偏光板（Ａ）を作製した。得られた偏光板（Ａ）の側面の全部に、防水剤（ダイキン工業製、フッ素系離型剤、商品名：ダイフリーＧＡ−６０１０）をスプレーし、防水加工を行った。防水加工部における水の接触角は１１６°であった。
他方、富士写真フィルム製のトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ）にプライマー（ポリエステルウレタン）を塗工し、その上に、２，２´−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、および、２，２´−ビス（トリフルオロメチル）−４，４´−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドを、溶媒にシクロヘキサンを用いて１５重量％で調製した溶液を約２０μｍの厚みで塗布した。その後、１００℃で１０分間乾燥処理し、厚みが約３．２μｍのポリイミド薄膜を得た。得られた複合位相差フィルムの位相差値を王子計測製「ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ」を用いて測定したところ、Δｎｄ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝１８３ｎｍであった。次に、日東電工製偏光板「ＳＥＧ１２２４」の片側のトリアセチルセルロースフィルムの代わりに、上記複合位相差フィルムをポリイミド薄膜が外側になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、偏光板（Ｂ）を得た。偏光板（Ｂ）において、ポリイミド薄膜の遅相軸と偏光子の吸収軸とは直交関係であった。得られた偏光板（Ｂ）の側面の全部に、防水剤（ダイキン工業製、フッ素系離型剤、商品名：ダイフリーＧＡ−６０１０）をスプレーし、防水加工を行った。防水加工部における水の接触角は１１６°であった。
次に、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いて、Ｓｏｎｙ製液晶ＴＶ「ＢＲＡＶＩＡ  ４０インチ  Ｘシリーズ」から取り出した液晶セルの視認側に上記偏光板（Ａ）をノルボルネン系フィルムがセル側になるように貼り合わせ、バックライト側に上記偏光板（Ｂ）をポリイミド薄膜がセル側になるように貼り合わせ、液晶パネルを作製した。このとき、上記偏光板（Ａ）の偏光子の延伸（吸収）軸と上記偏光板（Ｂ）の偏光子の延伸（吸収）軸とが互いに実質的に直交するように積層した。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図１１に示す。
〔比較例４〕
【０１６６】
実施例４において、偏光板（Ａ）および偏光板（Ｂ）のそれぞれについて防水加工を行わなかった以外は実施例４と同様に行った。
得られた液晶パネルの輝度を測定した。輝度測定時の液晶パネルの状態を図１２に示す。
【０１６７】
図１１と図１２を比較すると、防水加工を行った偏光板を用いた実施例４の液晶パネルにおいては輝度ムラが観察されないのに対し、防水加工を行っていない偏光板を用いた比較例４の液晶パネルにおいては輝度ムラが顕著に観察された。
【産業上の利用可能性】
【０１６８】
本発明の液晶パネルおよびそれを含む液晶表示装置は、液晶テレビ、携帯電話等に好適に適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。
【図２】本発明の別の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置がＶＡモードの液晶セルを採用する場合に、液晶層の液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置がＯＣＢモードの液晶セルを採用する場合に、液晶層の液晶分子の配向状態を説明する概略断面図である。
【図５】実施例１における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図６】比較例１における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図７】実施例２における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図８】比較例２における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図９】実施例３における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図１０】比較例３における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図１１】実施例４における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【図１２】比較例４における、輝度測定時の液晶パネルの状態を示す写真図である。
【符号の説明】
【０１７０】
１０          液晶セル
２０          第１の偏光子
２０’        第２の偏光子
３０          第１の光学補償層
４０          第２の光学補償層
５０          保護層
１１、１１’  基板
１２          液晶層
１００          液晶パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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