(57)【要約】      （修正有）【課題】大型基板に対して高品質な洗浄を行うとともに、生産効率を向上させることが可能な洗浄装置及び洗浄方法の提供。【解決手段】洗浄装置１は、第一洗浄槽２，第二洗浄槽３，第一投入回収手段４，第二投入回収手段５，連結用搬送部６及び制御部７とからなっており、左から右に向かって、第一投入回収手段４，第一洗浄槽２，連結用搬送部６，第二洗浄槽３及び第二投入回収手段５が直線的に並設された構成とする。【選択図】図１ａ
2007222753.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対して複数の洗浄処理を実施可能であり、前記被処理体を搬送する搬送口が少なくとも二個所に設けられた二以上の洗浄槽と、
前記洗浄槽ごとに設けられ、前記搬送口の第一の搬送口に対して、前記被処理体を搬送する投入回収手段と、
前記洗浄槽どうしの間に設けられ、前記洗浄槽の第二の搬送口に対して、前記被処理体を搬送するための連結用搬送部と、
前記被処理体の洗浄処理に応じて、前記被処理体の搬送経路を制御する制御部と
を具備したことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記搬送経路として、
前記被処理体が、前記投入回収手段から前記第一の搬送口を経由して前記洗浄槽に搬送され、洗浄処理が終了すると、該第一の搬送口を経由して該投入回収手段に搬送される経路と、
前記被処理体が、前記投入回収手段から前記第一の搬送口を経由して前記洗浄槽に搬送され、洗浄処理が終了すると、前記連結用搬送部を経由して他の前記洗浄槽に搬送され、他の前記洗浄槽にて洗浄処理が終了すると、他の前記洗浄槽における前記第一の搬送口を経由して前記投入回収手段に搬送される経路と
を有することを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄槽が、スピン洗浄槽であることを特徴とする請求項１又は２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記連結用搬送部が、前記被処理体を反転させる反転手段を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記被処理体が、長辺が３００ｍｍ以上の矩形基板であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
二以上のスピン洗浄槽が連結された洗浄装置を用いて、被処理体を洗浄する洗浄方法であって、
前記スピン洗浄槽の少なくとも一つを用いて、前記被処理体を薬液洗浄した後、リンスを行う薬液洗浄＋リンス工程と、
リンス専用のスピン洗浄槽を用いて、前記薬液洗浄＋リンス工程を経た前記被処理体に対して、さらにリンスを行う過剰リンス工程と
を有することを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置及び洗浄方法に関し、特に、二以上のスピン洗浄槽と、各スピン洗浄槽に設けられた投入回収手段と、スピン洗浄槽どうしの間に設けられた連結用搬送部と、被処理体の搬送経路を制御する制御部を備え、大型基板に対して高品質な洗浄を行うとともに、生産効率を向上させることが可能な洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ用フォトマスクやＬＣＤ用大型フォトマスク等のフォトマスクは、製造プロセス中にさまざまな汚染にさらされるため、製造プロセス中又は最終製品において洗浄される。この洗浄方法としては、一般的に、ディップ式の洗浄方法が用いられていた。
ディップ式の洗浄方法は、並列に配置された洗浄液槽，リンス槽及び乾燥槽に、垂直方向に支持されたフォトマスク基板を順次浸漬させる方法である。なお、これらの槽において使用する薬液の種類やリンス、乾燥方法は、様々な組合わせが用いられる。
【０００３】
上記ディップ式の洗浄方法は、例えばＬＳＩ用フォトマスク等のマスクサイズが小さい基板に対しては、一度に複数枚の基板を処理することができるため、スループットも高く適しているが、ＬＣＤ用大型フォトマスク等の大型基板に対しては、各槽が大型化し、薬液も大量に必要となるなどの問題があった。ましてや、近年、液晶表示パネル等の表示パネルやそれらを製造するためのフォトマスクの基板サイズは、さらに大型化する傾向にある。すなわち、例えば、液晶パネルの製造においては、多面取りや大画面化の傾向にあることから液晶パネル基板が大型化し、それにともない、液晶パネルを製造するためのフォトマスクも大型化している。このように基板が大型化し、また高精度化する傾向にあるなか、大型の薬液槽において清浄な洗浄液で洗浄しようとすると、多量の薬液が必要となるため、ディップ方式の洗浄を行うのが困難となってきたのが実状である。
【０００４】
上記実情を解決する技術として、枚葉式スピン洗浄法が注目され開発されている。この枚葉式スピン洗浄法は、回転する基板保持部材にフォトマスク基板等を保持し、回転させながら、洗浄、リンス、乾燥を連続的に行う方法である。すなわち、まず処理室内において水平に保持した基板を回転させながら、該基板に対し、処理液として薬液を噴出して洗浄する薬液洗浄、処理液として純水を噴出して洗浄する水洗浄、処理液を噴出しながらブラシ等を用いて洗浄するスクラブ洗浄、供給する処理液に超音波を与える超音波洗浄等の洗浄を行った後、純水等でリンスを行い、次いで、基板を所定時間だけ高速回転させることにより乾燥を行う。この方法によれば、上記のディップ方式に比べ、同じ処理室内で一連の処理が可能となるため装置が小型化できるとともに、洗浄液が少なくてすみ、かつ洗浄時間を短縮できるという利点がある（例えば、特許文献１）。
【０００５】
ところで、スピン洗浄装置は、基本的に一つのスピン洗浄槽内で一連の洗浄工程（薬液洗浄などの洗浄、リンス、乾燥）を実施可能であることから、通常、一つのスピン洗浄槽が設けられている。また、このようなスピン洗浄装置においては、被処理体の汚れ具合や洗浄品質等に応じた洗浄条件が設定されている。
【特許文献１】特開２００４−２９０９３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記スピン洗浄装置は、基本的に一つのスピン洗浄槽内で一連の洗浄工程を実施可能であるものの、洗浄品質を向上させるためには、より優れた洗浄条件を設定する必要があった。すなわち、一つのスピン洗浄槽を用いて、所望される洗浄品質を実現するには、洗浄装置に対して複雑な制御を行わなければならず、洗浄工程が煩雑になるという問題点があった。
また、高品質な洗浄を必要とする場合、薬液洗浄を行ったスピン洗浄槽にてリンスを行っても、残留薬液ミストの影響により高品質な洗浄が困難となる場合があるといった問題があった。
さらに、メーカーにとって、洗浄工程は製造工程の一つであり、洗浄工程の生産効率を向上させることは、常に要望されていた。
【０００７】
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、大型基板に対して高品質な洗浄を行うとともに、生産効率を向上させることが可能な洗浄装置及び洗浄方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の洗浄装置は、被処理体に対して複数の洗浄処理を実施可能であり、前記被処理体を搬送する搬送口が少なくとも二個所に設けられた二以上の洗浄槽と、前記洗浄槽ごとに設けられ、前記搬送口の第一の搬送口に対して、前記被処理体を搬送する投入回収手段と、前記洗浄槽どうしの間に設けられ、前記洗浄槽の第二の搬送口に対して、前記被処理体を搬送するための連結用搬送部と、前記被処理体の洗浄処理に応じて、前記被処理体の搬送経路を制御する制御部とを具備した構成としてある。
このようにすると、被処理体に対して、各洗浄槽が異なる洗浄処理を順にあるいは独立して行うことができるので、洗浄品質を向上させることができる。たとえば、各洗浄槽が異なる処理を行う場合、被処理体を所定の洗浄槽に直接投入し、洗浄後に所定の洗浄槽から直接回収することができるので、被処理体が異なる薬液雰囲気中を通過しなくてもすみ、洗浄品質の低下を抑制することができる。また、各洗浄槽が独立した状態で洗浄することもできるので、生産効率を向上させることができる。
【０００９】
また、本発明の洗浄装置は、前記搬送経路として、前記被処理体が、前記投入回収手段から前記第一の搬送口を経由して前記洗浄槽に搬送され、洗浄処理が終了すると、該第一の搬送口を経由して該投入回収手段に搬送される経路と、前記被処理体が、前記投入回収手段から前記第一の搬送口を経由して前記洗浄槽に搬送され、洗浄処理が終了すると、前記連結用搬送部を経由して他の前記洗浄槽に搬送され、他の前記洗浄槽にて洗浄処理が終了すると、他の前記洗浄槽における前記第一の搬送口を経由して前記投入回収手段に搬送される経路とを有する構成としてある。
このようにすると、各洗浄槽が独立した状態で洗浄したり、各洗浄槽が連結された状態で洗浄することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００１０】
また、本発明の洗浄装置は、前記洗浄槽が、スピン洗浄槽である構成としてある。
このようにすると、被処理体が大型基板であっても、薬液などの使用量を低減することができる。
【００１１】
また、本発明の洗浄装置は、前記連結用搬送部が、前記被処理体を反転させる反転手段を備えた構成としてある。
このようにすると、基板の両面に対して効果的な洗浄を行うことができ、洗浄品質をさらに向上させることができる。
【００１２】
また、本発明の洗浄装置は、前記被処理体が、長辺が３００ｍｍ以上の矩形基板である構成としてある。
このようにすると、基板保持部材に基板を確実に保持することができるので、基板への損傷を防止するとともに、基板保持部材を用いることにより、スピン洗浄槽及び反転手段などの構造を単純化することができる。
【００１３】
また、上記目的を達成するために、本発明の洗浄方法は、二以上のスピン洗浄槽が連結された洗浄装置を用いて、被処理体を洗浄する洗浄方法であって、前記スピン洗浄槽の少なくとも一つを用いて、前記被処理体を薬液洗浄した後、リンスを行う薬液洗浄＋リンス工程と、リンス専用のスピン洗浄槽を用いて、前記薬液洗浄＋リンス工程を経た前記被処理体に対して、さらにリンスを行う過剰リンス工程とを有する方法としてある。
このようにすると、薬液をより確実に除去することができ、洗浄品質を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の洗浄装置及び洗浄方法によれば、大型基板に対して高品質な洗浄を行うとともに、生産効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［洗浄装置］
図１ａは、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の概略平面図を示している。
また、図１ｂは、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の概略正面図を示している。
図１ａ，１ｂにおいて、洗浄装置１は、第一洗浄槽２，第二洗浄槽３，第一投入回収手段４，第二投入回収手段５，連結用搬送部６及び制御部７とからなっており、左から右に向かって、第一投入回収手段４，第一洗浄槽２，連結用搬送部６，第二洗浄槽３及び第二投入回収手段５が直線的に並設された構成としてある。
【００１６】
（第一投入回収手段）
第一投入回収手段４は、直方体状の筐体構造としてあり、洗浄装置１の左端に配置されている。この第一投入回収手段４は、第一洗浄槽２の第一搬送口２１と隣接して設けられており、第一搬送口２１に対して、被処理体であるフォトマスク基板８を搬送（すなわち、搬入及び／又は搬出）する。これにより、フォトマスク基板８を第一洗浄槽２に投入したり、第一洗浄槽２から回収する。
【００１７】
第一投入回収手段４は、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられており、レール２４の上部に、左右方向に移動自在にクレーン（図示せず）が掛けられている。第一投入回収手段４は、クレーンを移動させるための第一移動手段（図示せず）を備えており、この第一移動手段は、制御部７によって制御され、クレーンを第一投入回収手段４の搬入・搬出位置Ａ，第一洗浄槽２の洗浄位置Ｂ，連結用搬送部６の受渡し位置Ｃ及び第二洗浄槽３の洗浄位置Ｄの間で移動する。
また、図示してないが、クレーンは、正面側及び背面側に、対向する一対のチャックが、前後方向に移動自在に設けてある。このチャックは、制御部７によって制御され、チャックどうしが、基板保持部材８１を挟持する。
【００１８】
ここで、好ましくは、フォトマスク基板８を、長辺が３００ｍｍ以上の矩形基板とするとよい。このようにすると、基板保持部材８１にフォトマスク基板８を確実に保持することができるので、フォトマスク基板８への損傷を防止するとともに、基板保持部材８１を用いることにより、第一洗浄槽２，第二洗浄槽３及び基板反転手段６３などの構造を単純化することができる。また、スピン洗浄の効果を発揮させ、経済的な洗浄を行うことができる。
なお、フォトマスク基板とは、フォトマスク用ガラス基板，フォトマスクブランク及びフォトマスクを含むものとする。
【００１９】
（第一洗浄槽）
第一洗浄槽２は、第一搬送口２１，第二搬送口２２及びレール２４を備えた直方体状のスピン洗浄槽としてあり、洗浄装置１の左側に配置してある。第一洗浄槽２をスピン洗浄槽とすることにより、フォトマスク基板８が大型基板であっても、薬液などの処理液の使用量が低減される。また、第一洗浄槽２は、複数の洗浄処理（たとえば、薬液洗浄，純水洗浄，スクラブ洗浄，リンス，乾燥など）を実施する。
【００２０】
第一洗浄槽２は、フォトマスク基板８を搬送する、第一搬送口２１及び第二搬送口２２がそれぞれ左側面上部及び右側面上部に設けられており、また、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられている。このレール２４上を、上記クレーンが左右方向に自在に移動する。
【００２１】
第一洗浄槽２は、図示してないが、通常、処理カップ、シャワーパイプ及びロールブラシなどが設けられており、クレーンにて搬送されるフォトマスク基板８及び基板保持部材８１を処理カップ内に収容した状態で、フォトマスク基板８をスピン洗浄する。シャワーパイプやロールブラシは、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液や純水などによる洗浄，スクラブ洗浄，リンスなど）を行う。また、第一洗浄槽２は、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置からなるコントローラ（図示せず）が備えられており、このコントローラが、第一洗浄槽２の洗浄に関する制御を行う。
【００２２】
（第二投入回収手段）
第二投入回収手段５は、直方体状の筐体構造としてあり、洗浄装置１の左端に配置されている。この第二投入回収手段５は、第二洗浄槽３の第一搬送口３１と隣接して設けられており、第一搬送口３１に対して、被処理体であるフォトマスク基板８を搬送（すなわち、搬入及び／又は搬出）する。これにより、フォトマスク基板８を第二洗浄槽３に投入したり、第二洗浄槽３から回収する。
【００２３】
第二投入回収手段５は、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられており、レール２４の上部に、左右方向に移動自在にクレーン（図示せず）が掛けられている。第二投入回収手段５は、クレーンを移動させるための第二移動手段（図示せず）を備えており、この第二移動手段は、制御部７によって制御され、クレーンを第二投入回収手段５の搬入・搬出位置Ｅ，第二洗浄槽３の洗浄位置Ｄ，連結用搬送部６の受渡し位置Ｃ及び第一洗浄槽２の洗浄位置Ｂとの間で移動する。すなわち、洗浄装置１は、第一投入回収手段４と第二投入回収手段５が、それぞれクレーンを備えている。
また、図示してないが、クレーンは、正面側及び背面側に、対向する一対のチャックが、前後方向に移動自在に設けてある。このチャックは、制御部７によって制御され、チャックどうしが、基板保持部材８１を挟持する。
なお、第二投入回収手段５のその他の構成は、第一投入回収手段４とほぼ同様としてある。
【００２４】
（第二洗浄槽）
第二洗浄槽３は、第一搬送口３１，第二搬送口３２及びレール２４を備えた直方体状のスピン洗浄槽としてあり、洗浄装置１の右側に配置してある。第二洗浄槽３をスピン洗浄槽とすることにより、フォトマスク基板８が大型基板であっても、薬液など処理液の使用量が低減される。第二洗浄槽３は、複数の洗浄処理（たとえば、薬液洗浄，純水洗浄，スクラブ洗浄，リンス，乾燥など）を実施する。
【００２５】
第二洗浄槽３は、フォトマスク基板８を搬送する、第一搬送口３１及び第二搬送口３２がそれぞれ右側面上部及び左側面上部に設けられており、また、上部の正面側及び背面側に、左右方向に沿って対向する一対のレール２４が設けられている。このレール２４上を、上記クレーンが左右方向に自在に移動する。
【００２６】
第二洗浄槽３は、図示してないが、通常、処理カップ、シャワーパイプ及びロールブラシなどが設けられており、クレーンにて搬送されるフォトマスク基板８及び基板保持部材８１を処理カップ内に収容した状態で、フォトマスク基板８をスピン洗浄する。シャワーパイプやロールブラシは、各種薬液や純水が供給され、洗浄条件に応じた洗浄（各種の薬液や純水などによる洗浄，スクラブ洗浄，リンスなど）を行う。また、第二洗浄槽３は、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置からなるコントローラ（図示せず）が備えられており、このコントローラが、第二洗浄槽３の洗浄に関する制御を行う。
【００２７】
（連結用搬送部）
連結用搬送部６は、レール２４と基板反転手段６３を備えた直方体状の筐体構造としてあり、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３の間に配置されている。この連結用搬送部６は、レール２４上を二つのクレーンが移動することにより、第一洗浄槽２の第二搬送口２２及び第二洗浄槽３の第二搬送口３２に対して、フォトマスク基板８が搬送される。
【００２８】
図２は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の基板反転手段における要部の概略平面図を示している。
同図において、基板反転手段６３は、載置板６１と反転部６３０とからなっている。
載置板６１は、連結用搬送部６のほぼ中央部に、昇降自在に設けられた基板保持部材８１の載置される円板である。連結用搬送部６は、載置板６１を昇降させるための昇降手段（図示せず）を備えている。この昇降手段は、制御部７によって制御され、左右方向に移動する反転部６３０の挟持アームがフォトマスク基板８を挟持すると、降下し、続いて、反転部６３０が反転し、フォトマスク基板８を反転させる。反転されたフォトマスク基板８は、上昇する基板保持部材８１に、反転された状態で保持される。
なお、本実施形態では、連結用搬送部６が基板反転手段６３を備えた構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、基板反転手段６３を設けない構成としてもよい。
【００２９】
（制御部）
制御部７は、シーケンサやコンピュータなどの情報処理装置であり、被処理体の洗浄処理に応じて、被処理体の搬送経路を制御する。すなわち、制御部７は、第一投入回収手段４、第二投入回収手段５及び連結用搬送部６を制御する。
【００３０】
また、洗浄装置１は、被処理体の搬送経路として、被処理体が、投入回収手段４（５）から第一の搬送口２１（３１）を経由して洗浄槽２（３）に搬送され、洗浄処理が終了すると、第一の搬送口２１（３１）を経由して投入回収手段４（５）に搬送される経路と、被処理体が、投入回収手段４から第一の搬送口２１を経由して洗浄槽２に搬送され、洗浄処理が終了すると、連結用搬送部６を経由して他の洗浄槽５に搬送され、他の洗浄槽５にて洗浄処理が終了すると、他の洗浄槽５における第一の搬送口３１を経由して投入回収手段５に搬送される経路とを有している。
このようにすると、各洗浄槽２，３が独立した状態で洗浄したり、各洗浄槽２，３が連結された状態で洗浄することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００３１】
次に、上記洗浄装置１の洗浄例及び動作について、図面を参照して説明する。
＜第一洗浄例＞
図３は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第一洗浄例を説明するための基板反転手段の概略平面図を示している。
同図において、洗浄装置１は、フォトマスク基板８を第一投入回収手段４，第一洗浄槽２，連結用搬送部６，第二洗浄槽３，第二投入回収手段５の順に搬送し、フォトマスク基板８の表面に対し、第一洗浄槽２が薬液洗浄＋リンスを行い、第二洗浄槽３が過剰リンスを行う。
【００３２】
まず、洗浄装置１は、第一投入回収手段４に、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が装着され、スタートスイッチ（図示せず）が押下されると、両チャックが中央側に移動し、チャックが、基板保持部材８１を挟持する。このとき、クレーンは、Ａ点に位置している。
次に、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｂ点まで移動し停止する（すなわち、フォトマスク基板８を第一洗浄槽２に投入する）。
【００３３】
次に、洗浄装置１は、基板保持部材８１及びフォトマスク基板８を処理カップ内に収容し、クレーン４３がＡ点に移動する。
続いて、第一洗浄槽２は、フォトマスク基板８を回転させるとともに、シャワーパイプが薬液を放出し、フォトマスク基板８の表面を薬液洗浄する。所定時間経過後、シャワーパイプからの薬液の放出が停止され、フォトマスク基板８の回転を停止する。
【００３４】
次に、第一洗浄槽２は、フォトマスク基板８を回転させるとともに、シャワーパイプが純水を放出し、フォトマスク基板８の表面をリンスする。所定時間経過後、シャワーパイプからの純水の放出が停止され、フォトマスク基板８の回転を停止する。
続いて、Ａ点から移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持し、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｄ点まで移動し停止する。
【００３５】
次に、洗浄装置１は、基板保持部材８１及びフォトマスク基板８を、第二洗浄槽３の処理カップ内に収容し、クレーンがＡ点に移動する。
続いて、第二洗浄槽３は、フォトマスク基板８を回転させるとともに、シャワーパイプが純粋を放出し、フォトマスク基板８の表面を過剰リンスする。所定時間経過後、シャワーパイプからの純水の放出が停止され、フォトマスク基板８の回転を停止する。
【００３６】
次に、Ｅ点からＤ点まで移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持し、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｅ点まで移動し停止する。
次に、第二投入回収手段５は、両チャックが開き、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が取り外され、フォトマスク基板８の洗浄が完了する。
【００３７】
このように、第一洗浄例によれば、フォトマスク基板８に対して、リンスが過剰に行われた高品質な洗浄を行うことができる。なお、本洗浄例では、第一洗浄槽２が薬液洗浄＋リンスを行い、第二洗浄槽３が過剰リンスを行う構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、第一洗浄槽２が薬液（イ）洗浄＋リンスを行い、第二洗浄槽３が薬液（ロ）洗浄＋リンスを行う構成としてもよい。
【００３８】
＜第二洗浄例＞
図４は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第二洗浄例を説明するための基板反転手段の概略平面図を示している。
同図において、洗浄装置１は、フォトマスク基板８を第一投入回収手段４，第一洗浄槽２，連結用搬送部６，第二洗浄槽３，第二投入回収手段５の順に搬送し、フォトマスク基板８の表面に対し、第一洗浄槽２が薬液洗浄＋リンスを行い、連結用搬送部６がフォトマスク基板８を反転させ、フォトマスク基板８の裏面に対し、第二洗浄槽３が薬液洗浄＋リンスを行う。
【００３９】
まず、洗浄装置１は、上述したように、第一投入回収手段４にフォトマスク基板８が装着されると、第一投入回収手段４がフォトマスク基板８を第一洗浄槽２に投入し、第一洗浄槽２がフォトマスク基板８を洗浄する。
次に、第一洗浄槽２が薬液洗浄＋リンスを行った後、Ａ点から移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持する。続いて、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｃ点まで移動し停止する。
【００４０】
次に、洗浄装置１は、連結用搬送部６の基板反転手段６３が、上述したように、フォトマスク基板８を反転させ、基板保持部材８１がフォトマスク基板８を保持する。続いて、Ｅ点から移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持し、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｄ点まで移動し停止する。
【００４１】
次に、洗浄装置１は、基板保持部材８１及びフォトマスク基板８を、第二洗浄槽３の処理カップ内に収容し、クレーンがＥ点に移動する。
次に、第二洗浄槽３は、フォトマスク基板８を回転させるとともに、シャワーパイプから薬液を放出し、フォトマスク基板８の裏面を薬液洗浄する。所定時間経過後、シャワーパイプからの薬液の放出が停止され、続いて、シャワーパイプが純粋を放出し、フォトマスク基板８の表面をリンスする。所定時間経過後、シャワーパイプからの純水の放出が停止され、フォトマスク基板８の回転を停止する。このようにすると、連続的にフォトマスク基板８の両面に、薬液洗浄＋リンスを行うことができる。
【００４２】
次に、Ｅ点からＤ点まで移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持し、クレーンは、レール２４上を右方向に移動し、Ｄ点まで移動し停止する。
次に、第二投入回収手段５は、両チャックが開き、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が取り外され、フォトマスク基板８の両面洗浄が完了する。
このように、第二洗浄例によれば、フォトマスク基板８の両面に対して、効率よく洗浄を行うことができる。
【００４３】
＜第三洗浄例＞
図５は、本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第三洗浄例を説明するための概略平面図を示している。
同図において、洗浄装置１は、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３とを、独立させた状態で作動させる構成としてあり、第一投入回収手段４から投入したフォトマスク基板８は、第一洗浄槽２にて洗浄された後、第一投入回収手段４によって回収され、また、第二投入回収手段５から投入したフォトマスク基板８は、第二洗浄槽３にて洗浄された後、第二投入回収手段によって回収される。
なお、本洗浄例では、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３を作動させる構成としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、第一洗浄槽２のみを作動させたり、あるいは、第二洗浄槽３のみを作動させたりする構成としてもよい。
【００４４】
第一洗浄槽２を用いた洗浄は、上述したように、第一投入回収手段４にフォトマスク基板８が装着されると、第一投入回収手段４が第一洗浄槽２にフォトマスク基板８を投入し、第一洗浄槽２がフォトマスク基板８を洗浄する。この洗浄は、一般的に、薬液洗浄＋リンスの洗浄が行われる。なお、第一洗浄槽２における洗浄は、上記薬液洗浄＋リンスの洗浄に限定されるものではなく、たとえば、リンスのみの洗浄などでもよい。
次に、上記洗浄が終了し、Ａ点から移動してきたクレーンのチャックが閉じ、基板保持部材８１を挟持する。続いて、クレーンは、レール２４上を左方向に移動し、搬入・搬出位置Ａまで移動し停止する（すなわち、フォトマスク基板８を第一洗浄槽２から回収する）。
【００４５】
次に、第一投入回収手段４は、両チャックが開き、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が載置板４１から取り外され、第一洗浄槽２によるフォトマスク基板８の洗浄が完了する。
【００４６】
また、第二洗浄槽３を用いた洗浄は、まず、第二投入回収手段５に、フォトマスク基板８の保持された基板保持部材８１が装着され、スタートスイッチ（図示せず）が押下されると、チャックが、基板保持部材８１を挟持する。続いて、クレーンは、レール２４上を左方向に移動し、Ｄ点まで移動し停止する（すなわち、フォトマスク基板８を第二洗浄槽３に投入する）。
【００４７】
次に、上述したように、第二洗浄槽３が洗浄を行う。この洗浄は、一般的に、リンスのみの洗浄が行われ、フォトマスク基板８が比較的軽度に汚れている場合に用いられる。なお、第二洗浄槽３における洗浄は、上記リンスのみの洗浄に限定されるものではなく、たとえば、薬液洗浄＋リンスの洗浄などでもよい。
次に、第二洗浄槽３による洗浄が終了すると、上述したように、Ｅ点から移動してきたクレーンがフォトマスク基板８を第二投入回収手段５に回収し、第二投入回収手段５からフォトマスク基板８が取り外され、フォトマスク基板８の第二洗浄槽３による洗浄が完了する。
【００４８】
このように、第三洗浄例によれば、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３を独立した状態で作動させるとこができるので、洗浄装置１の稼働率を向上させることができる。また、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３が異なる処理を行う場合、フォトマスク基板８を所定の第一洗浄槽２又は第二洗浄槽３に直接投入し、洗浄後に所定の第一洗浄槽２又は第二洗浄槽３から直接回収することができるので、たとえば、フォトマスク基板８が異なる薬液雰囲気中を通過しなくてもすみ、洗浄品質の低下を抑制することができる。
【００４９】
なお、本洗浄例は、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３は、それぞれフォトマスク基板８の一方の面のみを洗浄する構成としてあるが、この構成に限定されるものではない。たとえば、第一洗浄槽２における洗浄において、第一投入回収手段４にフォトマスク基板８が装着されると、第一投入回収手段４が第一洗浄槽２に投入し、第一洗浄槽２がフォトマスク基板８の表面を洗浄する。次に、Ａ点から移動してきたクレーン４３がフォトマスク基板８をＣ点まで移動させる。次に、基板反転手段６３がフォトマスク基板８を反転した後、クレーンは、フォトマスク基板８をＢ点まで移動させ、第一洗浄槽２が、フォトマスク基板８の裏面を洗浄する。次に、裏面の洗浄が行われた後、Ａ点から移動してきたクレーンがフォトマスク基板８を第一投入回収手段４に回収し、第一投入回収手段４からフォトマスク基板８が取り外され、フォトマスク基板８の両面洗浄が完了する。
【００５０】
上述したように、洗浄装置１によれば、フォトマスク基板８に対して、第一洗浄槽２，第二洗浄槽３が異なる処理を順にあるいは独立して行うことができるので、洗浄品質を向上させることができる。また、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３が独立した状態で洗浄することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００５１】
［洗浄方法］
本発明は、洗浄方法としても有効であり、本発明の一実施形態にかかる洗浄方法は、上記洗浄装置１を用いて、被処理体であるフォトマスク基板８を洗浄する洗浄方法であって、第一洗浄槽２を用いて、フォトマスク基板８を薬液洗浄した後、リンスを行う薬液洗浄＋リンス工程と、リンス専用の第二洗浄槽３を用いて、薬液洗浄＋リンス工程を経たフォトマスク基板８に対して、さらにリンスを行う過剰リンス工程とを有する方法としてある。
このようにすると、薬液雰囲気の存在しない第二洗浄槽３にてリンスを行うことができ、薬液をより確実に除去することができ、洗浄品質を向上させることができる。
【００５２】
以上、本発明の洗浄装置及び洗浄方法について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係る洗浄装置及び洗浄方法は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、洗浄装置１は、第一洗浄槽２と第二洗浄槽３の二つの洗浄槽を備えた構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、三以上の洗浄槽を備えた構成としてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明の洗浄装置及び洗浄方法は、フォトマスク基板を洗浄する構成に限定されるものではなく、セラミック板や、金属板などの洗浄装置及び洗浄方法に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１ａ】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の概略平面図を示している。
【図１ｂ】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の概略正面図を示している。
【図２】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の基板反転手段における要部の概略平面図を示している。
【図３】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第一洗浄例を説明するための基板反転手段の概略平面図を示している。
【図４】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第二洗浄例を説明するための基板反転手段の概略平面図を示している。
【図５】本発明の一実施形態にかかる洗浄装置の第三洗浄例を説明するための概略平面図を示している。
【符号の説明】
【００５５】
１  洗浄装置
２  第一洗浄槽
３  第二洗浄槽
４  第一投入回収手段
５  第二投入回収手段
６  連結用搬送部
７  制御部
８  フォトマスク基板
２１  第一搬送口
２２  第二搬送口
２４  レール
３１  第一搬送口
３２  第二搬送口
６１  載置板
６３  基板反転手段
８１  基板保持部材
６３０  反転部
【図１ａ】
2007222753.tif 000003
【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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