(57)【要約】【課題】良好な光学補償能を有するとともに、光学特性の温湿度依存性が小さい光学補償フィルム、及び偏光板を提供する。【解決手段】少なくとも第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を含み、該第１の光学異方性層の面内のレターデーションが０〜１０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが−４００〜−８０ｎｍであり、該第２の光学異方性層の面内のレターデーションが２０〜１５０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが１００〜３００ｎｍである光学補償フィルムであって、該第２の光学異方性層が、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種を含むポリマー層を含む光学補償フィルム、及び該光学補償フィルムと偏光膜とを有する偏光板である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を含み、該第１の光学異方性層の面内のレターデーションが０〜１０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが−４００〜−８０ｎｍであり、該第２の光学異方性層の面内のレターデーションが２０〜１５０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが１００〜３００ｎｍである光学補償フィルムであって、該第２の光学異方性層が、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種を含むポリマー層を含む光学補償フィルム。
【請求項２】
前記ポリマー層が、液体化した固体ポリマーの展開層を固体化させてなる請求項１に記載の光学補償フィルム。
【請求項３】
前記ポリマー層が、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等のキャスティング法及び押出法から選択される方法により形成される層である請求項１又は２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
前記ポリマー層が、支持体上に形成された後に、さらに伸張処理又は収縮処理の一方または両方を施され、それによって面内で分子が配向し光学異方性を発現した層であり、前記配向処理後に前記支持体を剥離により取り除いてなる請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項５】
前記第２の光学異方性層が、さらに透明フィルムを含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項６】
前記ポリマー層が、前記透明フィルム上に、形成されてなる請求項５に記載の光学補償フィルム。
【請求項７】
前記ポリマー層が、前記透明フィルム上に形成された後に、さらに伸張処理又は収縮処理の一方または両方を施され、それによって面内で分子が配向し光学異方性を発現した層である請求項６に記載の光学補償フィルム。
【請求項８】
前記透明フィルムの面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜６０ｎｍである請求項５〜７のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項９】
前記透明フィルムが、セルロースアシレートあるいは環状ポリオレフィンを含むフィルムである請求項５〜８のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１０】
前記第１の光学異方性層が、棒状液晶化合物を含有する組成物から形成され、前記第１の光学異方性層中、該棒状液晶化合物の分子が層平面に対して実質的に垂直に配向した状態に固定されている請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学補償フィルムと、偏光膜とを有する偏光板。
【請求項１２】
前記光学補償フィルムと前記第１の偏光膜との間には実質的に等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルムのみが含まれる請求項１１に記載の偏光板。
【請求項１３】
前記透明保護フィルムが、セルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムであり、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍである請求項１２に記載の偏光板。
【請求項１４】
前記第１の光学異方性層、前記第２の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、かつ、該第２の光学異方性層の遅相軸の方向と該偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に直交している請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１５】
前記第２の光学異方性層、前記第１の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、かつ、該第２の光学異方性層の遅相軸の方向と該第１の偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に平行である請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１６】
一対の基板と、該一対の基板に挟時された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、及び請求項１４に記載の偏光板を含み、該一対の一方の基板の外側に該基板側から、前記第１の光学異方性層、前記第２の光学異方性層、前記偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に平行になるように前記偏光板が配置され、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を有し、双方の偏光膜の吸収軸が互いに直交している液晶表示装置。
【請求項１７】
一対の基板と、該一対の基板に挟時された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、及び請求項１５に記載の偏光板を含み、該一対の一方の基板の外側に該基板側から、前記第２の光学異方性層、前記第１の光学異方性層、前記偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に直交するように前記偏光板が配置され、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を有し、双方の偏光膜の吸収軸が互いに直交している液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第２の偏光膜と前記基板との間には、実質的に等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルムのみが含まれる請求項１６又は１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記透明保護フィルムが、セルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムであり、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍである請求項１８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の技術分野に関し、特にＩＰＳモードやＦＦＳモードの液晶表示装置等に関する。また、本発明は、ＩＰＳモード等の液晶表示装置の表示特性の改善、特に視野角の拡大に寄与する光学補償フィルム、及びそれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置としては、２枚の直交した偏光板の間に、ネマチック液晶をツイスト配列させた液晶層を挟み、電界を基板に対して垂直な方向にかける方式、いわゆるＴＮモードが広く用いられている。この方式では、黒表示時に液晶が基板に対して立ち上がるために、斜めから見ると液晶性化合物による複屈折が発生し、光漏れが起こる。この問題に対して、液晶性化合物がハイブリッド配向したフィルムを用いることで、液晶セルを光学的に補償し、この光漏れを防止する方式が実用化されている。しかし、液晶性化合物を用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しく、画面下方向での諧調反転が抑えきれないという問題を生じていた。
【０００３】
かかる問題を解決するため、横電界を液晶に対して印加する、いわゆるＩＰＳモードやＦＦＳモードによる液晶表示装置や、誘電率異方性が負の液晶を垂直配向してパネル内に形成した突起やスリット電極によって配向分割した垂直配向（ＶＡ）モードが提案され、実用化されている。近年、これらのパネルはモニター用途に留まらず、テレビ用途として開発が進められており、それに伴って画面の輝度が大きく向上してきている。このため、これらの動作モードで従来問題とされていなっかった、黒表示時の対角位斜め入射方向での僅かな光漏れが表示品質の低下の原因として顕在化してきた。
【０００４】
この色調や黒表示の視野角を改善する手段の一つとして、液晶層と偏光板の間に複屈折特性を有する光学補償材料を配置することがＩＰＳやＦＦＳモードにおいても検討されている。例えば、傾斜時の液晶層のレターデーションの増減を補償する作用を有する光軸を互いに直交した複屈折媒体を基板と偏光板との間に配置することで、白表示又は中間調表示を斜め方向から直視した場合の色付きが改善できることが開示されている（特許文献１参照）。また、負の固有複屈折を有するスチレン系ポリマーやディスコティック液晶性化合物からなる光学補償フィルムを使用した方法（特許文献２、３、４参照）や光学補償フィルムとして複屈折が正で光学軸がフィルムの面内にある膜と複屈折が正で光学軸がフィルムの法線方向にある膜とを組み合わせる方法（特許文献５参照）、レターデーションが二分の一波長の二軸性の光学補償シートを使用する方法（特許文献６参照）、偏光板の保護膜として負のレターデーションを有する膜を使い、この表面に正のレターデーションを有する光学補償層を設ける方式（特許文献７参照）が提案されている。
【０００５】
偏光板は通常、ヨウ素、もしくは二色性染料をポリビニルアルコールに配向吸着させた偏光膜の両側に、保護フィルムとして、セルローストリアセテートを主成分とするフィルムを貼り合わせることで製造されている。セルローストリアセテートは、強靭性、難燃性、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）などの特徴があり、上述の偏光板用保護フィルムとして広く好適に使用されているが、最近の液晶表示装置には表示性能に対する要求が厳しくなってきており、環境耐性の改良、たとえば、周辺の環境（温度、湿度）変化による液晶表示装置の額縁状の光漏れ（透過率の上昇）、すなわち、液晶表示装置の表示品位の低下に対する改良が望まれている。
【０００６】
また、偏光膜の保護フィルムには、液晶表示装置の薄型化ならびに液晶セルへのフィルム類の貼り合わせプロセスの簡略化の観点から、光学補償機能の一部あるいは全部を盛り込み、表示品位を改善することが提案されている（例えば、特許文献８参照）。また、２つの光学補償層を有し、前記光学補償層の一方が二軸性透明フィルムである液晶表示装置が提案されている（特許文献９参照）。特許文献９によれば、前記２つの光学補償層を有する光学補償フィルムを、前記透明フィルムを偏光膜に直接貼り合わせて、光学補償層付き一体型偏光板として組み込んでもよい旨が記載されている。しかし、前記透明フィルムからなる光学補償層の光学異方性が大きいため、環境耐性が不十分であった。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−８０４２４号公報
【特許文献２】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献３】特開平１１−２０２３２３号公報
【特許文献４】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献５】特開平１１−１３３４０８号公報
【特許文献６】特開平１１−３０５２１７号公報
【特許文献７】特開平１０−３０７２９１号公報
【特許文献８】特開平９−２１１４４４号公報
【特許文献９】特開２００５−２６５８８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記諸問題に鑑みてなされたものであり、良好な光学補償能を有するとともに、光学特性の温湿度依存性が小さい光学補償フィルム、及び偏光板を提供することを課題とする。また、本発明は、視野角に依存したコントラスト低下や色味変化が小さく、さらに、表示性能の温湿度依存性が小さい高品位な液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の発明者が鋭意検討を図ったところ、所定の光学特性を有する光学異方性層に、特定のポリマー群から選択される少なくとも一種を含有するポリマー層を含ませることにより、前記課題を解決しうるとの知見を得た。より具体的には、例えば、前記特許文献９に記載の光学補償フィルムの様に、二軸性透明フィルムからなる光学補償層を有する光学補償フィルムについて、前記光学補償層に、特定のポリマー群から選択されるポリマーを少なくとも一種含有するポリマー層を含ませることにより、環境耐性に優れた光学補償フィルムを提供できるとの知見を得た。この知見に基づいてさらに検討を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【００１０】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  少なくとも第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を含み、該第１の光学異方性層の面内のレターデーションが０〜１０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが−４００〜−８０ｎｍであり、該第２の光学異方性層の面内のレターデーションが２０〜１５０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが１００〜３００ｎｍである光学補償フィルムであって、該第２の光学異方性層が、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種を含むポリマー層を含む光学補償フィルム。
［２］  前記ポリマー層が、液体化した固体ポリマーの展開層を固体化させてなる［１］の光学補償フィルム。
［３］  前記ポリマー層が、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等のキャスティング法及び押出法から選択される方法により形成される層である［１］又は［２］のいずれかの光学補償フィルム。
［４］  前記ポリマー層が、支持体上に形成された後に、さらに伸張処理又は収縮処理の一方または両方を施され、それによって面内で分子が配向し光学異方性を発現した層であり、前記配向処理後に前記支持体を剥離により取り除いてなる［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［５］  前記第２の光学異方性層が、さらに透明フィルムを含む［１］〜［３］のいずれかの光学補償フィルム。
［６］  前記ポリマー層が、前記透明フィルム上に、形成されてなる［５］の光学補償フィルム。
［７］  前記ポリマー層が、前記透明フィルム上に形成された後に、さらに伸張処理又は収縮処理の一方または両方を施され、それによって面内で分子が配向し光学異方性を発現した層である［６］の光学補償フィルム。
［８］  前記透明フィルムの面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜６０ｎｍである［５］〜［７］のいずれかの光学補償フィルム。
［９］  前記透明フィルムが、セルロースアシレートあるいは環状ポリオレフィンを含むフィルムである［５］〜［８］のいずれかの光学補償フィルム。
［１０］  前記第１の光学異方性層が、棒状液晶化合物を含有する組成物から形成され、前記第１の光学異方性層中、該棒状液晶化合物の分子が層平面に対して実質的に垂直に配向した状態に固定されている［１］〜［９］のいずれかの光学補償フィルム。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかの光学補償フィルムと、偏光膜とを有する偏光板。
［１２］  前記光学補償フィルムと前記第１の偏光膜との間には実質的に等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルムのみが含まれる［１１］の偏光板。
［１３］  前記透明保護フィルムが、セルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムであり、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍである［１２］の偏光板。
［１４］  前記第１の光学異方性層、前記第２の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、かつ、該第２の光学異方性層の遅相軸の方向と該偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に直交している［１１］〜［１３］のいずれかの偏光板。
［１５］  前記第２の光学異方性層、前記第１の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、かつ、該第２の光学異方性層の遅相軸の方向と該第１の偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に平行である［１１］〜［１３］のいずれかの偏光板。
［１６］  一対の基板と、該一対の基板に挟時された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、及び［１４］の偏光板を含み、該一対の一方の基板の外側に該基板側から、前記第１の光学異方性層、前記第２の光学異方性層、前記偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に平行になるように前記偏光板が配置され、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を有し、双方の偏光膜の吸収軸が互いに直交している液晶表示装置。
［１７］  一対の基板と、該一対の基板に挟時された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル、及び［１５］の偏光板を含み、該一対の一方の基板の外側に該基板側から、前記第２の光学異方性層、前記第１の光学異方性層、前記偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に直交するように前記偏光板が配置され、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を有し、双方の偏光膜の吸収軸が互いに直交している液晶表示装置。
［１８］  前記第２の偏光膜と前記基板との間には、実質的に等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルムのみが含まれる［１６］又は［１７］の液晶表示装置。
［１９］  前記透明保護フィルムが、セルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムであり、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍである［１８］の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、良好な光学補償能を有するとともに、光学特性の温湿度依存性が小さい光学補償フィルム、及び偏光板を提供することができる。また、本発明によれば、従来のＩＰＳ及びＦＦＳモード用の液晶表示装置と比較し、温湿度の影響による表示ムラが改良されたＩＰＳ及びＦＦＳモードの液晶表示装置を提供することが可能となった。
【発明の実施の形態】
【００１２】
以下において、本発明の光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置の実施形態について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがさらに好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５゜未満であることが好ましく、±１０゜未満であることがさらに好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５９０ｎｍでの値である。
【００１４】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１５】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、ある波長λｎｍにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１６】
［光学補償フィルム］
本発明の光学補償フィルムは、少なくとも第１の光学異方性層及び第２の光学異方性層を含み、該第１の光学異方性層の面内のレターデーションが０〜１０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが−４００〜−８０ｎｍであり、該第２の光学異方性層の面内のレターデーションが２０〜１５０ｎｍであり、厚さ方向のレターデーションが１００〜３００ｎｍである光学補償フィルムであって、該第２の光学異方性層が、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種を含むポリマー層を含むことを特徴とする。
まず、第１及び第２の光学異方性層の形成に用いられる種々の材料及び作製方法等について、詳細に説明する。
【００１７】
［第１の光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムに含まれる第１の光学異方性層は面内のレターデーションは、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましく、０〜３ｎｍであることがよりさらに好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレターデーションは、−４００〜−８０ｎｍであることが好ましく、−３６０〜−１００ｎｍであることがさらに好ましく、−３２０〜−１２０ｎｍであることがよりさらに好ましい。
【００１８】
第１の光学異方性層は、液晶化合物を含有する組成物から形成されていることが好ましい。前記液晶化合物は棒状液晶化合物であることが好ましい。棒状液晶化合物を用いた場合は、前記光学異方性層において棒状分子が層平面に対して垂直配向しているのが好ましい。
【００１９】
液晶性化合物の種類については特に制限されない。本発明の光学補償フィルムに含まれる第１の光学異方性層は、例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して作製してもよい。また、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して作製してもよい。なお本発明では、光学異方性層の作製に液晶性化合物が用いられるが、作製の過程で液晶性化合物は重合等によって固定された状態で光学異方性層に含有される場合が多く、最終的には液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。
【００２０】
本発明の光学補償フィルムに含まれる第１の光学異方性層において、液晶化合物の分子は、所定の配向状態、好ましくは垂直配向の状態に固定されていることが好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°がさらに好ましい。
【００２１】
本発明の光学補償フィルムに含まれる第１の光学異方性層は、支持体上に形成してもよい。支持体として後述する第２の光学異方性層を用いて第１の光学異方性層を設けてもよいし、仮の支持体上に第１の光学異方性層に設けた後、偏光膜や第２の光学異方性層に転写してもよいし、光学的に等方性のフィルムを支持体として用いてもよい。偏光膜又は第２の光学異方性層との積層体は、光学補償フィルムとして、液晶表示装置等に組み込むことができる。
【００２２】
以下、第１の光学異方性層として、液晶性化合物を含む組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償フィルムの態様について、作製に用いられる材料、作製方法等を詳細に説明する。
前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、下記の重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む組成物から形成することができる。
【００２３】
［棒状液晶性化合物］
前記第１の光学異方性層の作製に用いられる棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、特開２００１−３２８９７３号公報、特開２００４−２４０１８８号公報、特開２００５−９９２３６号公報、特開２００５−９９２３７号公報、特開２００５−１２１８２７号公報、特開２００２−３００４２号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００２４】
［垂直配向促進剤］
液晶性化合物を均一に垂直配向させるためには、配向膜界面側及び空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、配向膜に、排除体積効果、静電気的効果又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を添加した組成物を採用してもよい。また、空気界面側の配向制御に関しては液晶性化合物の配向時に空気界面に偏在し、その排除体積効果、静電気的効果、又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を配合した液晶性組成物を採用してもよい。このような配向膜界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（配向膜界面側垂直配向剤）としては、ピリジニウム誘導体が好適に用いられる。空気界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（空気界面側垂直配向剤）としては、該化合物が空気界面側に偏在するのを促進する、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物が好適に用いられる。また、これらの化合物を配合することによって、例えば、液晶性組成物を塗布液として調製した場合に、該塗布液の塗布性が改善され、ムラ、ハジキの発生が抑制される。以下に垂直配向剤に関して詳細に説明する。
【００２５】
［配向膜界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な配向膜界面側垂直配向剤としては、下記式（Ｉ）で表されるピリジニウム誘導体（ピリジニウム塩）が好適に用いられる。該ピリジニウム誘導体の少なくとも１種を前記液晶性組成物に添加することによって、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向膜近傍で実質的に垂直に配向させることができる。
【００２６】
【化１】
2007199442.tif 000002
【００２７】
式（Ｉ）において、Ｌ1は２価の連結基を表し、アルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲa−（但し、Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子である）、アルケニレン基、アルキニレン基又はアリーレン基との組み合わせからなる炭素原子数が１〜２０の２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基は、直鎖であっても分岐であってもよい。
【００２８】
式（Ｉ）において、Ｒ1は、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換基で置換された置換アミノ基である。Ｒ1が置換アミノ基である場合、脂肪族基によって置換されていることが好ましい。脂肪族基は、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が挙げられる。また、Ｒ1が２置換アミノ基である場合、２つの脂肪族基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環又は６員環であることが好ましい。Ｒ1は水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が２〜１２の置換アミノ基であることがより好ましく、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が２〜８の置換アミノ基であることがさらに好ましい。Ｒ1がアミノ基である場合、ピリジニウム環の４位に置換されていることが好ましい。
【００２９】
式（Ｉ）において、Ｘはアニオンである。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、ギ酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。Ｘは、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。
【００３０】
式（Ｉ）において、Ｙ1は５員環又は６員環を部分構造として有する炭素数１〜３０の２価の連結基である。Ｙ1に含まれる環状部分構造はシクロヘキシル環、芳香族環又は複素環であることがより好ましい。芳香族環としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、及びピレン環を挙げることができる。ベンゼン環、ビフェニル環、及びナフタレン環がさらに好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環及びトリアジン環などを挙げることができる。複素環は６員環であることが好ましい。Ｙで表される５員環又は６員環を部分構造として有する２価の連結基は置換基を有していてもよい。
【００３１】
式（Ｉ）において、Ｚは、ハロゲン置換フェニル基、ニトロ置換フェニル基、シアノ置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であり、シアノ置換フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基又は炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であるのが好ましい。
Ｚは、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルケニル基、炭素原子数が１〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００３２】
本発明に用いられるピリジニウム化合物としては、下記式（Ｉａ）で表されるピリジニウム化合物が好ましい。
【００３３】
【化２】
2007199442.tif 000003
【００３４】
式（Ｉａ）において、Ｌ3は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又はＯ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−である。ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ3は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又はＯ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、単結合又はＯ−であるのがより好ましい。
【００３５】
式（Ｉａ）において、Ｌ4は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−又はＮ＝Ｎ−である。
【００３６】
式（Ｉａ）において、Ｒ3は、水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜２０のアルキル置換アミノ基である。Ｒ3がジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環又は６員環が好ましい。Ｒ3は水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基がさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基が最も好ましい。Ｒ3が無置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位がアミノ置換されていることが好ましい。
【００３７】
式（Ｉａ）において、Ｙ2及びＹ3は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環からなる２価の基である。６員環の例は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）及び複素環が挙げられる。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環及びシクロヘキサジエン環が挙げられる。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環及びトリアジン環が挙げられる。６員環に、他の６員環又は５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基及び炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基が挙げられる。アルキル基及びアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基又は炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。アシル基及びアシルオキシ基の定義は、後述する。
【００３８】
式（Ｉａ）において、Ｘ1はアニオンである。Ｘ1は、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）及びスルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルン酸イオン、ベンゼンスルン酸イオン）が含まれる。
【００３９】
式（Ｉａ）において、Ｚ1は水素原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基又は炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基であって、アルキル基及びアルコキシ基は、それぞれ、炭素原子数が２〜１２のアシル基又は炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。
【００４０】
式（Ｉａ）において、ｍは１又は２であって、ｍが２の場合、２つのＬ4及び２つのＹ3は、異なっていてもよい。
ｍが２の場合、Ｚ1は、シアノ基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基又は炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ1は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基又は炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。
【００４１】
アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）又は芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基又はアルケニル基であることがさらに好ましい。
【００４２】
式（Ｉａ）において、ｐは、１〜１０の整数である。ＣpＨ2pは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。ＣpＨ2pは、直鎖状アルキレン基であることが好ましい。また、ｐは１又は２であることがより好ましい。
【００４３】
以下に、式（Ｉ）及び／又は（Ｉａ）で表される化合物の具体例を示す。ここで、Ｍｅはメチル基を表す。
【００４４】
【化３】
2007199442.tif 000004
【００４５】
【化４】
2007199442.tif 000005
【００４６】
【化５】
2007199442.tif 000006
【００４７】
【化６】
2007199442.tif 000007
【００４８】
ピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
【００４９】
前記液晶性組成物中における前記ピリジニウム誘導体の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、液晶性組成物（塗布液として調製した場合は溶媒を除いた液晶性組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。
【００５０】
［空気界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な空気界面側垂直配向剤としては、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有するフルオロ脂肪族基含有ポリマー（以下、「フッ素系ポリマー」という）、又は一般式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物が好適に用いられる。
【００５１】
まず、フッ素系ポリマーについて説明する。
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有することを特徴とする。ポリマーの種類としては、「改訂  高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があり、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。前記フッ素系ポリマーは、ポリオレフィン類であることが好ましい。
【００５２】
前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーである。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。フルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）又はオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７〜７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【００５３】
【化７】
2007199442.tif 000008
【００５４】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フッ素系ポリマーの製造に使用される。
【００５５】
【化８】
2007199442.tif 000009
【００５６】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能なモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【００５７】
【化９】
2007199442.tif 000010
【００５８】
【化１０】
2007199442.tif 000011
【００５９】
【化１１】
2007199442.tif 000012
【００６０】
【化１２】
2007199442.tif 000013
【００６１】
【化１３】
2007199442.tif 000014
【００６２】
【化１４】
2007199442.tif 000015
【００６３】
【化１５】
2007199442.tif 000016
【００６４】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの一態様は、フルオロ脂肪族基含有モノマー（以下、「フッ素系モノマー」ということがある）より誘導される繰り返し単位と、下記式（ＩＩ）で表される親水性基を含有する繰り返し単位とを有する共重合体である。
【００６５】
一般式（II）
【化１６】
2007199442.tif 000017
【００６６】
上記式（ＩＩ）において、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又は、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、又はそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲb−（Ｒbは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲf）−（Ｒfはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。
【００６７】
式（ＩＩ）中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子又は下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００６８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００６９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００７０】
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、又は後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【００７１】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、又はそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲb−のＲbは、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子又はアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲf）−のＲfはアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒb及びＲfがアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲb−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基又はアリーレン基を含むことが好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲb−、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、さらに好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ11、Ｒ12、Ｒ13における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示する。
【００７２】
【化１７】
2007199442.tif 000018
【００７３】
【化１８】
2007199442.tif 000019
【００７４】
前記式（ＩＩ）中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基又はスルホ基である。
【００７５】
前記フッ素系ポリマーは、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また、前記フッ素系ポリマーは、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種又は２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記フッ素系ポリマーは、下記モノマー群から選ばれる１種又は２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００７６】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【００７７】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【００７８】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【００７９】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【００８０】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【００８１】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【００８２】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；及び
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【００８３】
前記フッ素系ポリマー中、フルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５質量％以上であるのが好ましく、１０質量％以上であるのがより好ましく、３０質量％以上であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーにおいて、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の量は、該フッ素ポリマーの構成モノマー総量の０．５質量％以上であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましく、１〜１０質量％であるのがさらに好ましい。上記の質量百分率は使用するモノマーの分子量により好ましい範囲の数値が変動し易いため、ポリマーの単位質量当たりの官能基モル数で表す方が、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量を正確に規定できる。該表記を用いた場合、前記フッ素系ポリマー中に含有される親水性基（式（ＩＩ）中のＱ）の好ましい量は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ〜１０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましい量は０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜８ｍｍｏｌ／ｇである。
【００８４】
本発明に用いる前記フッ素系ポリマーの質量平均分子量は１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましく、１００，０００以下がさらに好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
【００８５】
前記フッ素系ポリマーの重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、又は、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００８６】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【００８７】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独又は２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００８８】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００８９】
前記フッ素系ポリマーを好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル類（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、使用するモノマーの全モル数に対して好ましくは０．０１モル％〜５０モル％程度であり、より好ましくは０．０５モル％〜３０モル％、さらに好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００９０】
なお、本発明のフッ素系ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【００９１】
以下に、フッ素系ポリマーとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定されたＰＥＯ換算の質量平均分子量である。
【００９２】
【化１９】
2007199442.tif 000020
【００９３】
【化２０】
2007199442.tif 000021
【００９４】
【化２１】
2007199442.tif 000022
【００９５】
【化２２】
2007199442.tif 000023
【００９６】
【化２３】
2007199442.tif 000024
【００９７】
本発明に用いられるフッ素系ポリマーは、公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフッ素系モノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【００９８】
前記液晶性組成物（塗布液として調製した場合は、溶媒を除いた液晶性組成物）中における前記フッ素系ポリマーの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、液晶性組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーの添加量が０．００５質量％未満では効果が不十分であり、また８質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼす。
【００９９】
次に、同様に空気界面側垂直配向剤として使用可能な、式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物について説明する。
式（ＩＩＩ）
（Ｒ0）mo−Ｌ0−（Ｗ）no
式中、Ｒ0はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍｏは１以上の整数を表す。複数個のＲ0は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ0は（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基を表し、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又はホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表し、ｎｏは１以上の整数を表す。
【０１００】
式（ＩＩＩ）中、Ｒ0は含フッ素化合物の疎水性基として機能する。Ｒ0で表されるアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは４〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは６〜１６のアルキル基である。該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０１０１】
Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましく、７０％以上を置換されていることがさらに好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示する置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【０１０２】
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【０１０３】
式（ＩＩＩ）において、Ｌ0で表される（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、芳香族基、ヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲd−（Ｒdは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−からなる群より選ばれる基を少なくとも２つ組み合わせた連結基であることが好ましい。
【０１０４】
式（ＩＩＩ）において、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又はホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。Ｗの好ましい範囲は、式（ＩＩ）におけるＱと同一である。
【０１０５】
前記式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物の中でも、下記式（ＩＩＩ）−ａ又は式（ＩＩＩ）−ｂで表される化合物が好ましい。
【０１０６】
【化２４】
2007199442.tif 000025
【０１０７】
式（ＩＩＩ）−ａ中、Ｒ4及びＲ5は各々アルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表すが、Ｒ4及びＲ5が同時にアルキル基であることはない。Ｗ1及びＷ2は各々水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表すが、Ｗ1及びＷ2が同時に水素原子であることはない。
【０１０８】
式（ＩＩＩ）−ｂ
（Ｒ6−Ｌ2−）m2（Ａｒ1）−Ｗ3
式（ＩＩＩ）−ｂ中、Ｒ6はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍ２は１以上の整数を表し、複数個のＲ6は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ2は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、複数個のＬ2は同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1は芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｗ3はカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表す。
【０１０９】
まず、前記式（ＩＩＩ）−ａについて説明する。
Ｒ4及びＲ5は前記式（ＩＩＩ）におけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｗ1及びＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩は前記式（ＩＩＩ）におけるＷと同義でありその好ましい範囲も同一である。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは１〜８のアルキル基であり、特に好ましくは１〜３のアルキル基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましくは１〜８のアルコキシ基であり、特に好ましくは１〜４のアルコキシ基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアミノ基であり、より好ましくは１〜８のアルキルアミノ基であり、さらに好ましくは１〜４のアルキルアミノ基である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０１１０】
Ｗ1及びＷ2は、特に好ましくはそれぞれ水素原子又は（ＣＨ2）nＳＯ3Ｍ（ｎは０又は１を表す。）である。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０１１１】
次に、前記式（ＩＩＩ）−ｂについて説明する。
Ｒ6は前記式（ＩＩＩ）−ｂにおけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｌ2は、好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２の芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜４０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜２０の連結基を表す。Ａｒ1は、好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環を表し、より好ましくはベンゼン環又はナフタレン環を表す。Ｗ3で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基は、前記式（ＩＩＩ）−ａにおけるＷ1及びＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基と同義でありその好ましい範囲も同一である。
【０１１２】
Ｗ3は、好ましくはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩又はスルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩を有するアルキルアミノ基であり、特に好ましくはＳＯ3Ｍ又はＣＯ2Ｍである。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０１１３】
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、
【０１１４】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）。
【０１１５】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１１６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１１７】
なお、本発明の含フッ素化合物は、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１１８】
本発明に使用可能な式（ＩＩＩ）にて表される含フッ素化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる含フッ素化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１１９】
【化２５】
2007199442.tif 000026
【０１２０】
【化２６】
2007199442.tif 000027
【０１２１】
【化２７】
2007199442.tif 000028
【０１２２】
【化２８】
2007199442.tif 000029
【０１２３】
【化２９】
2007199442.tif 000030
【０１２４】
前記液晶性組成物中における前記含フッ素化合物の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記液晶性組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。
【０１２５】
［重合性開始剤］
所望の配向状態（例えば、棒状液晶性化合物の場合は垂直配向）に配向させた液晶性化合物の分子を、その配向状態を維持して固定するのが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【０１２６】
［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０１２７】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１２８】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【０１２９】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【０１３０】
前記第1の光学異方性層は、例えば、液晶性化合物、及び所望により添加される重合開始剤、配向制御剤等の添加剤を、溶媒に溶解及び／又は分散させて調製した塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０１３１】
［塗布方法］
前記第１の光学異方性層の形成の際には、公知の塗布方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。中でも、前記第1の光学異方性層を形成する際は、ワイヤーバーコーティング法を利用して塗布するのが好ましく、ワイヤーバーの回転数は下記式を満たすことが好ましい。
０．６＜（Ｗ×（Ｒ＋２ｒ）×π）／Ｖ＜１．４
［Ｗ：ワイヤーバーの回転数（ｒｐｍ）、Ｒ：バーの芯の直径（ｍ）、ｒ：ワイヤーの直径（ｍ）、Ｖ：支持体の搬送速度（ｍ／ｍｉｎ）］
（Ｗ×（Ｒ＋２ｒ）×π）／Ｖの範囲は、０．７〜１．３であることがより好ましく、０．８〜１．２であることがさらに好ましい。
【０１３２】
前記第1の光学異方性層の形成にはダイコーティング法が好ましく用いられ、特に、スライドコーター又はスロットダイコーターを利用した塗布方法が好ましい。例えば、特開２００４−２９０７７５号、特開２００４−２９０７７６号、特開２００４−３５８２９６号、特開２００５−１３９８９号等に記載の塗布方法を用いることができる。
【０１３３】
次に、上記の通り、支持体表面又は配向膜表面に前記組成物を塗布した後、液晶性化合物の分子を配向（棒状液晶性分子については好ましくは垂直配向）させて、分子をその配向状態に固定して光学異方性層を形成する。配向させる温度は、用いる液晶性化合物の転移温度、所望の配向状態等を考慮して、決定することができる。固定化は、液晶性分子や、組成物中に所望により添加される重合性モノマーの重合反応又は架橋反応により実施されるのが好ましい。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
形成される第１の光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることがよりさらに好ましい。
【０１３４】
［配向膜］
前記第１の光学異方性層を形成する際は、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを第２の光学異方性層や偏光膜あるいは偏光板上に転写してもよい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１３５】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１３６】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【０１３７】
前記第１の光学異方性層を形成する際に用いられる配向膜は、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償フィルムの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０１３８】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０１３９】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０１４０】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤及び添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１４１】
配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０１４２】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋することにより得られるが、表面をラビング処理しても構わない。
【０１４３】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１４４】
配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲とするのが好ましい。
【０１４５】
［支持体］
液晶性化合物からなる第１の光学異方性層を形成するための支持体としては、後述する第２の光学異方性層を用いてもよいし、仮の支持体上に第１の光学異方性層に設けた後、偏光膜や第２の光学異方性層に転写してもよいし、光学的に等方性のフィルムを支持体として用いてもよい。仮の支持体を用いる場合は、支持体の光学特性は特に問わないが、第１の光学異方性層が容易に剥離できることが好ましい。光学的に等方的な支持体上に第１の光学異方性層を形成した場合、液晶表示装置での使用時、該支持体は取り除いてもよいし、残してもよい。また、支持体は偏光膜の保護フィルムとしても利用できる。支持体は光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【０１４６】
実質的に等方的な支持体としては、面内のレターデーション（Ｒｅ）は０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましく、０〜３ｎｍであることがよりさらに好ましい。また、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−２０ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、−１５ｎｍ〜１５ｎｍであることがさらに好ましく、−１０ｎｍ〜１０ｎｍであることがよりさらに好ましい。波長分散は、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。
【０１４７】
ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート及び環状ポリオレフィンが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。環状ポリオレフィンとしては、特公平２−９６１９号公報記載のテトラシクロドデセン類の開環重合体又はテトラシクロドデセン類とノルボルネン類の開環共重合体を水素添加反応させて得られた重合体を構成成分とするポリマー、商品名としてはアートン（ＪＳＲ製）や、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン製）のシリーズから使用することができる。
【０１４８】
ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１４９】
［第２の光学異方性層］
第２の光学異方性層の面内のレターデーションは、２０〜１５０ｎｍであることが好ましく、３０〜１３０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜１１０ｎｍであることがよりさらに好ましい。さらに、厚さ方向のレターデーションは、１００〜３００ｎｍであることが好ましく、１２０〜２８０ｎｍであることがさらに好ましく、１４０ｎｍ〜２６０ｎｍであることがよりさらに好ましい。
【０１５０】
前記第２の光学異方性層は、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種、好ましくはポリエーテルケトン（より好ましくはポリアリールエーテルケトン）、ポリアミド及びポリイミドから選択される少なくとも１種を含むポリマー層を含む。前記第２の光学異方性層の一例は、透明フィルムと、固体ポリマーを溶媒に溶解させて調製した溶液を、前記透明フィルム上に展開して乾燥させ固定化したポリマー層とを含む態様である。かかる態様では、前記透明フィルムと前記ポリマー層との積層体全体が、前記第２の光学異方性層に要求される光学特性を満足するように、双方の層の光学特性を調整する。その際、前記透明フィルムの表面に、ポリマー液を展開して、前記ポリマー層を形成し、さらに伸張処理又は収縮処理の一方又は両方を施して、前記ポリマー層の面内で分子を配向させることで面内の光学異方性を発現させ、積層体全体が上記光学特性を満足するようにしてもよい。
【０１５１】
［透明フィルム］
透明フィルムとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマー、例えば（Ａ）側鎖に置換イミド基及び非置換イミド基の少なくともいずれかのイミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換のフェニル基及び非置換のフェニル基の少なくともいずれかの基並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物からなるフィルムを用いることもできる。かかる樹脂組成物の具体例としては、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物があげられる。透明フィルムは、樹脂組成物の混合押出品等からなるフィルムであってもよい。
【０１５２】
第２の光学異方性層において、前記透明フィルムによる位相差の寄与は少ないほどよい。前記透明フィルムの光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅが実質的にゼロかつＲｔｈが実質的にゼロであるフィルムを透明フィルムとして用いて、第２の光学異方性層の構成層として利用すると、環境変化に依存した光学補償能の変化をより軽減でき、光漏れをさらに大幅に改善できる。この理由は、例えば、本発明の光学補償フィルムを偏光膜に貼り合わせて偏光板として液晶表示装置に組み込む場合は、前記光学特性を有する透明フィルムが、偏光膜の寸度変化による応力の緩衝層となり、光学補償層での応力歪が減少したものと推定している。また、かかる光学特性を有する透明フィルム自身も、応力歪による光漏れは生じ難いため、トータルとして光漏れが改善されたと推定している。
また、前記第２の光学異方性層が、透明フィルムを有すると、偏光膜に直接、貼り合わせることができる点でも好ましい。
【０１５３】
上記効果を得るためには、前記透明フィルムのＲｅ及びＲｔｈは実質的に０であることが好ましく、具体的には、Ｒｅが０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましく、０〜３ｎｍであることがよりさらに好ましく、Ｒｔｈが−２０〜８０ｎｍであることが好ましく、−２０ｎｍ〜５０ｎｍであることがさらに好ましく、−２０ｎｍ〜２０ｎｍであることがよりさらに好ましい。波長分散は、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。
【０１５４】
レターデーションが小さいフィルムを作製可能な材料という観点から、前記透明フィルムは、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート及び環状ポリオレフィンが好ましい。中でもセルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースがよりさらに好ましい。また、環状ポリオレフィンも好ましく、特公平２−９６１９号公報記載のテトラシクロドデセン類の開環重合体又はテトラシクロドデセン類とノルボルネン類の開環共重合体を水素添加反応させて得られた重合体を構成成分とするポリマー、商品名としてはアートン（ＪＳＲ製）や、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン製）のシリーズから使用することができる。
【０１５５】
前記透明フィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。その厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明フィルムとその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明フィルムに表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明フィルム上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明フィルムや長尺の透明フィルムには、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を前記フィルムの片側に塗布やフィルムとの共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０１５６】
［ポリマー層の作製］
前記第２の光学異方性層を構成する、前記ポリマー層は、ポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される少なくとも１種の固体ポリマーを溶媒に溶解させて調製した溶液を、前記透明フィルム上に展開して乾燥させ固定化させて形成された層である。展開方法は展開液の粘度によって異なり、展開液の粘度が３．５〜２０Ｐａ・ｓの範囲にある場合には、展開液にせん断力をかけながら展開することが好ましく、例えば、バーコート法、コンマコート法、ロールコート法、グラビアコート法などが使用できる。この場合、透明フィルムにポリマー溶液を展開するだけで光学二軸性の複屈折フィルムを得られる。複屈折フィルムの光学特性は、例えば、固体ポリマーの種類や分子量によって調整でき、また、前記範囲で展開液の粘度を変化させることによって調整できる（特開２００５−３３８４２５）。一方、展開液の粘度が前記範囲よりも小さい場合には、展開液を固体化させただけの状態では、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚでＲｅが小さいことが普通であり、二軸性の発現には延伸や収縮処理が必要である。この場合の展開方法は、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等のキャスティング法及び押出法から選択される方法が好ましく、中でも、厚さムラや配向歪ムラ等の少ないフィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法がさらに好ましい（特開２００３−３１５５４１）。薄型化や目的とする位相差特性の付与性の点より、ポリマー層の厚さは、１５μｍ以下であるのが好ましく、１２μｍ以下であるのがより好ましく、２〜１０μｍであるのがさらに好ましい。
【０１５７】
前記ポリマー層の形成には、前記展開方式でＲｅが０〜２００ｎｍ、かつＲｔｈが０〜４００ｎｍの範囲にある層を形成しうる適宜な固体ポリマーを用いうる。光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れる層を形成しうる耐熱性の良好な固体ポリマーが好ましく、安定した量産性などの点より延伸方向の屈折率が低くなる負の複屈折性を有する固体ポリマーがさらに好ましい。上記展開層形成性等の点より、本発明では、ポリエーテルケトン（好ましくはポリアリールエーテルケトン）、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド及びポリエステルイミドから選択される１種、又は２種以上を混合したものを用いている。
また、前記固体ポリマーは、液晶性化合物の配向状態を重合などの手段により固定化したポリマーであってもよい。
【０１５８】
前記したポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトンの具体例としては、例えば下記の一般式（１）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる（特開２００１−４９１１０号公報）。
【０１５９】
一般式（１）
【化３０】
2007199442.tif 000031
【０１６０】
上記の一般式（１）において、Ｆはフッ素原子を表し、Ｘはハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸの結合数ｑ、すなわちｐ−テトラフルオロベンゾイレン基とオキシアルキレン基が結合しない、残る位置での水素原子の置換数ｑの値は、０〜４の整数である。また、Ｒ21は下記の一般式（２）で表される基であり、ｍは０又は１である。さらにｎは、重合度を表し、２〜５０００であり、中でも５〜５００が好ましい。
【０１６１】
一般式（２）
【化３１】
2007199442.tif 000032
【０１６２】
なお、上記一般式（１）におけるＸとしてのハロゲンとしては、例えばフッ素原子や臭素原子、塩素原子やヨウ素原子などがあげられ、中でもフッ素原子が好ましい。またアルキル基としては、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やイソプロピル基、ブチル基の如き炭素数が１〜６、中でも１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基などが挙げられ、中でもメチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基が好ましい。
【０１６３】
さらにアルコキシ基としては、例えばメトキシ基やエトキシ基、プロポキシ基やイソプロポキシ基、ブトキシ基の如き炭素数が１〜６のアルコキシ基が挙げられ、１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基などが好ましく、中でもメトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基がより好ましい。前記において特に好ましいＸは、フッ素原子である。
【０１６４】
一方、前記一般式（２）で表される基において、Ｘ’はハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸ’の結合数ｑ’の値は、０〜４の整数である。Ｘ’としてのハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基としては、前記したＸと同じものが例示できる。
【０１６５】
好ましいＸ’は、フッ素原子、メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基、メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基であり、中でもフッ素原子が好ましい。
【０１６６】
なお前記の一般式（１）においてＸとＸ’は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また一般式（１）、（２）においてｑ又はｑ’が２以上であることに基づいて分子中に２個以上存在するＸ又はＸ’は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【０１６７】
特に好ましいＲ21は、下記の一般式（３）で表される基である。
【０１６８】
一般式（３）
【化３２】
2007199442.tif 000033
【０１６９】
前記の一般式（２）及び（３）においてＲ22は、２価の芳香族基であり、ｐは０又は１である。その２価の芳香族基としては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレン基、ナフタレン基、ビフェニル基、アントラセン基、（ｏ，ｍ又はｐ−）テルフェニル基、フェナントレン基、ジベンゾフラン基、ビフェニルエーテル基、ビフェニルスルホン基、下記の式で表される２価の芳香族基などがあげられる。なお、当該２価の芳香族基は、その芳香環に直接結合する水素が前記したハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
【０１７０】
前記において好ましい２価の芳香族基（Ｒ22）は、下記の式で表されるものである。
【０１７１】
【化３３】
2007199442.tif 000034
【０１７２】
前記した一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【０１７３】
上記を踏まえて一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンの内の好ましいものは、下記の一般式（４）で表されるものである。
【０１７４】
一般式（４）
【化３４】
2007199442.tif 000035
【０１７５】
また分子末端の基を含めた場合の好ましいポリアリールエーテルケトンは、一般式（１）に対応して下記の一般式（５）で表されるものであり、一般式（４）に対応するものは下記の一般式（６）で表されるものである。これらは分子内のｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側にフッ素原子が結合し、オキシアルキレン基側に水素原子が結合したものである。
【０１７６】
一般式（５）
【化３５】
2007199442.tif 000036
【０１７７】
一般式（６）
【化３６】
2007199442.tif 000037
【０１７８】
一方、上記したポリアミド又はポリエステルの具体例としては、例えば下記の一般式（７）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる。
【０１７９】
一般式（７）
【化３７】
2007199442.tif 000038
【０１８０】
前記の一般式（７）において、Ｂは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。ｚは０〜３の整数である。
【０１８１】
Ｅは、共有結合、炭素数２のアルケニル基若しくはそのハロゲン化物、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｒ)2基、又はＮＲ基である。
前記のＣ(ＣＸ3)2基におけるＸは、水素原子又はハロゲンであり、Ｓｉ(Ｒ)2基及びＮＲ基におけるＲは、炭素数１〜３のアルキル基又はそのハロゲン化物である。なおＥは、カルボニル基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。又ハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（７）において同じ）。
【０１８２】
さらにＹは、Ｏ原子又はＮＨ基である。Ａは、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のチオアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、炭素数１〜９のアルキルエステル基、炭素数１〜１２のアリールエステル基若しくはその置換誘導体、又は炭素数１〜１２のアリールアミド基若しくはその置換誘導体である。
【０１８３】
またｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数、ｒは０〜３の整数である。好ましいポリアミド又はポリエステルは、前記のｒとｑが１であり、そのビフェニル環の少なくとも１個が２位及び２’位で置換されてなる下記の一般式（８）で表される繰返し単位を有するものである。
【０１８４】
一般式（８）
【化３８】
2007199442.tif 000039
【０１８５】
前記の一般式（８）においてｍは０〜３の整数、好ましくは１又は２であり、ｘ及びｙは０又は１で、かつ共に０であることはない。なお、他の記号は前記の一般式（７）の場合と同義であるが、Ｅはカルボニル基又はＹ基に対してパラ配向の共有結合である。
【０１８６】
前記の一般式（７）及び（８）において、Ｂ、Ｅ、Ｙ又はＡが分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍ、ｘ及びｙも同様に、同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｂ、Ｅ、Ｙ、Ａ、ｚ、ｎ、ｍ、ｘ及びｙは、それぞれ独立に判断される。
【０１８７】
前記の一般式（７）で表されるポリアミド又はポリエステルは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【０１８８】
他方、上記したポリイミドの具体例としては、例えば９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記の一般式（９）で表される繰返し単位を１単位以上有するものなどがあげられる。
【０１８９】
一般式（９）
【化３９】
2007199442.tif 000040
【０１９０】
前記一般式（９）において、Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン若しくは１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されたフェニル基、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である。４個のＲは、各々独立に決定でき、０〜４個の範囲で置換することができる。その置換基は、前記のものであることが好ましいが、一部に異なるものを含んでいてもよい。なおハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（９）において同じ）。
【０１９１】
Ｚ10は、６〜２０個の炭素原子を有する三置換芳香族基である。好ましいＺ10は、ピロメリット基、あるいはナフチレン基やフルオレニレン基、ベンゾフルオレニレン基やアントラセニレン基の如き多環式芳香族基若しくはその置換誘導体、又は下記の一般式（１０）で表される基である。なお前記多環式芳香族基の置換誘導体における置換基としては、ハロゲン、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はそのフッ素化物などがあげられる。
【０１９２】
一般式（１０）
【化４０】
2007199442.tif 000041
【０１９３】
前記の一般式（１０）において、Ｄは、共有結合、Ｃ(Ｒ2)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、Ｎ(Ｒ3)2基又はそれらの組合せであり、ｍは１〜１０の整数である。なお、上記の２個のＲ2は、各々独立に、水素原子又はＣ(Ｒ4)3基である。
また、上記の２個のＲ3は、各々独立に、水素原子、１〜約２０個の炭素原子を有するアルキル基、又は約６〜約２０個の炭素原子を有するアリール基である。上記３個のＲ4は、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
【０１９４】
また、前記以外のポリイミドとして下記の一般式（１１）、（１２）で表される単位を有するものなどもあげることができる。中でも、一般式（１３）で表される単位を有するポリイミドが好ましい。
【０１９５】
一般式（１１）
【化４１】
2007199442.tif 000042
【０１９６】
一般式（１２）
【化４２】
2007199442.tif 000043
【０１９７】
一般式（１３）
【化４３】
2007199442.tif 000044
【０１９８】
上記の一般式（１１）、（１２）及び（１３）において、Ｔ及びＬは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。前記のハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（１１）、（１２）及び（１３）において同じ）。ｚは０〜３の整数である。
【０１９９】
またＧ及びＪは、共有結合若しくは結合ボンド、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、又はＮ(ＣＨ3)基である。前記Ｃ(ＣＸ3)2基におけるＸは、水素原子又はハロゲンである（以下、一般式（１１）、（１２）及び（１３）において同じ）。
【０２００】
Ａは、水素原子、ハロゲン、アルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、又はアルキルエステル基若しくはその置換誘導体である。
【０２０１】
Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基若しくはそのハロゲン化物等の置換フェニル基、又はアルキル基若しくはそのハロゲン化物等の置換アルキル基である。ｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数である。
【０２０２】
なお、前記の一般式（１１）、（１２）及び（１３）においてＴ、Ａ、Ｒ又はＬは、それぞれ独立に、分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ及びｍも同様に、同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｔ、Ａ、Ｒ、Ｌ、ｚ、ｎ及びｍは、それぞれ独立に判断される。
【０２０３】
前記した一般式（９）、（１１）、（１２）及び（１３）で表されるポリイミドは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。その異なる繰返し単位は、前記以外の酸二無水物及びジアミンの少なくともいずれかを共重合させて形成したものであってもよい。ジアミンとしては、特に芳香族ジアミンが好ましい。後者の異なる繰返し単位を有する場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【０２０４】
前記した異なる繰返し単位を形成するための酸二無水物としては、例えば、ピロメルト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメルト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメルト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメルト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメルト酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボフェニル）メタン二無水物があげられる。
【０２０５】
またビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（４，４’−オキシジフタル酸無水物）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物（３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物）、４，４’−〔４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）〕ビス（フタル酸無水物）も前記酸二無水物の例としてあげられる。
【０２０６】
さらにＮ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物や１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物の如きナフタレンテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物やピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物の如き複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物なども前記酸二無水物の例としてあげられる。
【０２０７】
好ましく用いうる酸二無水物は、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物や２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−トリハロ置換二無水物の如き２，２’−置換二無水物などであり、特に２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【０２０８】
一方、前記した異なる繰返し単位を形成するためのジアミンとしては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンの如きベンゼンジアミン、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオルプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンがあげられる。
【０２０９】
また４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエ一テル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、１，８−ジアミノナフタレンや１，５−ジアミノナフタレンの如きナフタレンジアミン、２，６−ジアミノピリジンや２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジンの如き複素環式芳香族ジアミンなども前記したジアミンの例としてあげられる。
【０２１０】
好ましく用いうるポリイミドは、例えば２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物や４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物やビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物などの芳香族系酸二無水物を用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドである。
【０２１１】
またジアミンとして、例えば４，４−（９−フルオレニリデン）−ジアニリンや２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタンや２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジンや２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンや１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンや１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンなどの芳香族系ジアミンを用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドも好ましく用いうる。
【０２１２】
他方、上記したポリアミドイミド又はポリエステルイミドとしては、特に限定はなく、適宜なものを１種又は２種以上用いうる。中でも、特開昭６１−１６２５１２号公報に記載されたポリアミドイミドや、特開昭６４−３８４７２号公報に記載されたポリエステルイミドなどが好ましく用いうる。
【０２１３】
一般式（９）に示すように主鎖に対してフルオレン環のような環構造の盤面が垂直に立つユニットを導入することで、展開及びその後の固体化によりポリマー層を形成した後、延伸した場合に延伸方向と直交方向の屈折率が増大し、ロールフィルムにおいて縦一軸延伸によって、幅方向の屈折率が大きなフィルムを得ることが出来る。このようなフィルムを使用することで縦一軸延伸フィルムでも、偏光膜とＲｏｌｌ−ｔｏ―Ｒｏｌｌで貼り合わせて光学補償機能を有する偏光板を作製することができる。
【０２１４】
また、一般式（９）に示すように主鎖に対してフルオレン環のような環構造の盤面が垂直に立つユニットと、主鎖方向に沿って芳香族環が並んだユニットの割合を調整することで、展開及びその後の固体化により形成されるポリマー層の波長分散を調整することができる。
【０２１５】
ポリマー層形成用の固体ポリマーの分子量は、特に限定はないが溶剤に可溶であることが好ましい。中でも、ポリマー層の膜厚精度や表面精度ないし表面平滑性、膜強度、フィルム化した場合の伸縮や歪等によるクラック発生の防止性、溶剤に対する溶解性（ゲル化防止）などの点より質量平均分子量に基づいて１万〜１００万、中でも２万〜５０万、特に５万〜２０万が好ましい。なお質量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【０２１６】
ポリマー層の形成には上記のポリアリールエーテルケトンやポリアミド、ポリエステルやポリイミド等の固体ポリマーを単独で用いてもよいし、同種物を２種以上混合して用いてもよい。また、例えばポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物の如く、異なる官能基を持つ２種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。
【０２１７】
またポリマー層を形成する上記固体ポリマーの配向性が著しく低下しない範囲で、上記以外の適宜なポリマーの１種又は２種以上を併用してもよい。その併用ポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂及びＡＳ樹脂、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリケトン、ポリイミド、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー（光重合性液晶モノマーを含む）などの熱可塑性樹脂があげられる。
【０２１８】
またエポキシ樹脂、フェノール樹脂又はノボラック樹脂の如き熱硬化性樹脂なども前記併用ポリマーの例としてあげられる。併用ポリマーの使用量は、配向性が著しく低下しない範囲であれば特に制限されないが、通常５０質量％以下、中でも４０質量％以下、特に３０質量％以下とされる。
【０２１９】
上記のように複数のポリマーを併用することで、光学異方性、波長分散特性、強度・弾性率等の力学物性、透水性、平面性、他の層（例えば第１の光学異方性層）との密着性、粘着剤との密着性等の種々の物性を好ましい範囲に調整してもよい。
【０２２０】
前記ポリマー層は、液体化した固体ポリマーからなる展開層の展開及びその後の固体化により形成される。固体ポリマーの液状化には、熱可塑性ポリマーを加熱して溶融させる方式や、固体ポリマーを溶媒に溶解させて溶液とする方法などの適宜な方式を採ることができる。従って当該展開層の固体化は、前者の溶融液ではその展開層を冷却させることにより、また後者の溶液ではその展開層より溶媒を除去して乾燥させることにより行うことができる。前記展開液中には、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【０２２１】
ポリマー層の膜厚ムラは光学補償フィルムのＲｅ(λ)及びＲｔｈ(λ)のムラの原因となるため低減することが好ましい。ポリマー層の膜厚ムラは展開方法の調整、乾燥手段の調整によって低減が可能であり、またポリマー層を展開する支持体の平滑性を向上させることによっても低減が可能である。ポリマー層の展開液中にレベリング剤を添加することにより著しく膜厚ムラを低減できる。レベリング剤としては、ポリマー層の展開液の表面張力を低下させる界面活性能のある材料を用いる。
【０２２２】
このようなレベリング剤としては、ノニルフェノールエチレンオキサイド付加物、ステアリン酸エチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型非イオン系界面活性剤；ソルビタンパルチミン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸モノエステル、ソルビタンステアリン酸トリエステル等の多価アルコール型非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルベタイン等のフッ素系界面活性剤；アルキル変成シリコーンオイル、ポリエーテル変成シリコーンオイル等のシリコーンオイル等があげられる。具体的にはシリコーン系界面活性剤としてはディスパロンＬＳ−００９（楠本化成製）、フッ素系界面活性剤としてはディフェンサーＭＣＦ−３２３、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７７、Ｆ−１４２Ｄ、Ｆ−１４４Ｄ、Ｆ−１４０ＮＫ（以上、大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ−４３０、ＦＣ−１７０、ＦＣ−１７０Ｃ（以上、住友スリーエム製）、アクリル系界面活性剤としてはディスパロンＬ−１９８０（楠本化成製）、モダフロー（日本モンサント製）等があげられる。また、特開平９−２３０１４３号公報記載のものも使用できる。
【０２２３】
上記のレベリング剤は界面活性能があるため、ポリマー層の表面に多く分布する。形成されたポリマー層の表面にレベリング剤が多く存在すると、例えば、粘着剤で該ポリマー層と他の層（例えば、偏光膜や他のポリマー層など）とを貼り合わせる場合に、粘着剤とポリマー層（特に、レべリング剤としてフッ素系界面活性剤を含有するポリマー層）との接着性が不十分になる場合があり、その後のリワーク作業において作業性が悪くなる場合がある。したがって、前記ポリマー層を展開により形成した後は、レべリング剤をポリマー層の表面から除去するのが好ましく、例えば、有機溶剤でレベリング剤を洗浄したり、また、鹸化処理を施す場合は、該処理中に除去してもよい。
【０２２４】
ポリマー溶液の乾燥には自然乾燥（風乾）方式や加熱乾燥方式、特に４０〜２００℃の加熱乾燥方式、減圧乾燥方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を採ることができる。乾燥時の乾燥ムラによる厚みムラ低減のためには、展開直後の環境の風を層流とすることが好ましく、また風速を１ｍ／ｍiｎ以下とすることが好ましい。さらに、展開直後に吹かせる乾燥風の動きによるポリマー層のムラ発生を抑えるために乾燥風を吹かせない凝縮乾燥を行うことが好ましい。
【０２２５】
ポリマー層形成用展開液を調製する際に使用する溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタンやトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンやクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンの如きハロゲン化炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノールの如きフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレンやメトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンの如き芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの如きケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチルの如きエステル類；があげられる。
【０２２６】
また、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールの如きアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドの如きアミド類；アセトニトリル、ブチロニトリルの如きニトリル類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランの如きエーテル類；その他、塩化メチレン、二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなども前記溶媒の例としてあげられる。
【０２２７】
溶媒は、単独で、あるいは２種以上を適宜な組合せで混合して用いることができる。展開時の粘度等の点より、溶媒１００質量部に対して固体ポリマーの割合は、２〜１００質量部であるのが好ましく、５〜５０質量部であるのがより好ましく、１０〜４０質量部であるのがさらに好ましい。
【０２２８】
上記の溶媒はポリマー層を形成する材料を溶解する機能を有するものを選択することはもちろんであるが、ポリマー層溶液を展開する支持体を犯さないものを選択することが好ましい。
【０２２９】
上記した通り、前記第２の光学異方性層は、全体として、Ｒｅが２０〜１５０ｎｍであり、Ｒｔｈが１００〜３００ｎｍである。
【０２３０】
固体化したポリマー層にＲｅ等の光学特性を持たせるため、分子を面内で配向させる処理をさらに施してもよい。すなわち前記のように展開液の粘度が３．５〜２０Ｐａ・ｓの範囲内にある場合には前記展開法のみにより所望の光学特性を得られるが、展開液の粘度が前記範囲よりも小さい場合には、所望の光学特性を得るには面内で分子を配向させる処理が必要である。
【０２３１】
前記の配向処理を施すことにより、面内における配向軸の精度を高めることができて、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を付与することができ、特にＲｅを増大させることができる。従ってＲｔｈ、Ｒｅ等の位相差特性を制御することができる。
【０２３２】
配向処理は、伸張処理及び収縮処理の少なくともいずれかの処理として施すことができ、透明フィルムを介し配向処理をおこなえば、ポリマー層を透明フィルムで支持した状態で処理できて製造効率や処理精度などに優れており、連続製造も可能である。伸張処理は、例えば延伸処理などとして施すことができる。延伸処理には逐次方式や同時方式等にる二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を適用することができる。ボーイング現象を抑制する点より一軸延伸方式が好ましい。
【０２３３】
一方、収縮処理は、例えばポリマー層の展開及び固体化を、透明フィルム上で行って、その透明フィルムの温度変化等に伴う寸法変化を利用して収縮力を作用させる方式などにより行うことができる。その場合、熱収縮性フィルムなどの収縮能を付与した透明フィルムを用いることもでき、そのときには延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。
【０２３４】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と、本発明の光学補償フィルムとを有する。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。
【０２３５】
本発明の偏光板の好ましい製造方法は、偏光膜と光学補償フィルムとをそれぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含む。該長尺の偏光板は用いられる液晶表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。
【０２３６】
偏光膜は、一般に双方の表面に保護膜を有する。本発明の光学補償フィルムを、偏光膜の保護膜として機能させることができ、かかる場合は、前記光学補償フィルム側の偏光膜の表面には別途保護膜を貼り合わせる必要はない。本発明の偏光板において、偏光膜と本発明の光学補償フィルムとの間には、等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルムのみが含まれているのが好ましい。実質的に等方的な透明保護フィルム（偏光膜の保護膜）としては、具体的には、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍであるフィルムである。セルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムが好ましい。透明保護フィルムに使用可能なセルロースアシレート又は環状ポリオレフィンとしては、前記透明フィルムに使用可能なそれぞれの例と同様である。また、等方的な接着剤層を形成し得る接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリエステル系ウレタン及びイソシアネート系架橋剤からなる接着剤等が挙げられる。
【０２３７】
本発明の偏光板の第１の態様は、前記第１の光学異方性層、前記第２の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、且つ、前記第２の光学異方性層の遅相軸の方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に直交している偏光板であり、及び本発明の偏光板の第２の態様は、前記第２の光学異方性層、前記第１の光学異方性層、及び前記偏光膜が、この順で積層されており、且つ、前記第２の光学異方性層の遅相軸の方向と前記偏光膜の吸収軸の方向とが、実質的に平行である偏光板である。前記第２の光学異方性層の遅相軸の方向は、前記伸張処理や収縮処理などによって調整することができる。
【０２３８】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を少なくとも含む。本発明の液晶表示装置は、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等のいずれであってもよい。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、及び必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては本発明の偏光板を使用することを必須とする点を除いて特に制限はない。液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物及びこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【０２３９】
前記液晶セルは、前記電極基板及び液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０２４０】
本発明の偏光板は、反射型、半透過型、及び透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。反射型液晶表示装置は、通常、反射板、液晶セル及び偏光板を、この順に積層した構成を有する。位相差板は、反射板と偏光膜との間（反射板と液晶セルとの間又は液晶セルと偏光膜との間）に配置される。反射板は、液晶セルと基板を共有していてもよい。前記偏光板として、本発明の偏光板を用いることができ、かかる場合は、位相差板を別途配置しなくてもよい。
また、半透過反射型液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルより観察者側に配置された偏光板と、前記偏光板と前記液晶セルの間に配置される少なくとも１枚の位相差板と、観察者から見て前記液晶層よりも後方に設置された半透過反射層を少なくとも備え、さらに観察者から見て前記半透過反射層よりも後方に少なくとも１枚の位相差板と偏光板とを有す。このタイプの液晶表示装置では、バックライトを設置することで反射モードと透過モード両方の使用が可能となる。双方の偏光板が本発明の偏光板であってもよいし、一方のみが本発明の偏光板であってもよい。本発明の偏光板を配置する場合は、液晶セルと本発明の偏光板との間には、位相差板を別途配置しなくてもよい。
【０２４１】
液晶セルのモードは特に限定されないが、ＩＰＳモード又はＦＦＳモードであることが好ましい。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償フィルムを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【０２４２】
例えば、前記第１の態様の偏光板を、一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル（例えば、ＩＰＳモードの液晶セル）を有する液晶表示装置に用いる場合は、前記一対の基板の一方の基板の外側に該基板側から、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、及び偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に平行になるように前記偏光板を配置し、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を配置することができる。この場合、双方の偏光膜の吸収軸を互いに直交させて配置する。
【０２４３】
また、前記第２の態様の偏光板を、一対の基板と、該一対の基板に挟持された液晶分子が黒表示時に基板に対して実質的に平行に配向する液晶層とを有する液晶セル（例えば、ＩＰＳモードの液晶セル）を有する液晶表示装置に用いる場合は、前記一対の基板の一方の基板の外側に該基板側から、第２の光学異方性層、第１の光学異方性層、及び偏光膜がこの順となり、且つ該第２の光学異方性層の遅相軸と黒表示時の液晶分子の長軸方向とが実質的に直交するように前記偏光板を配置し、、及び他方の基板の外側にさらに第２の偏光膜を配置することができる。この場合、双方の偏光膜の吸収軸が互いに直交させて配置する。この場合も、双方の偏光膜の吸収軸を互いに直交させて配置する。
【０２４４】
前記いずれの態様においても、前記第２の偏光膜と前記基板との間には実質的に等方的な接着剤層、及び／又は実質的に等方的な透明保護フィルム（偏光膜の保護膜）のみが含まれているのが好ましい。実質的に等方的な透明保護フィルムとは、具体的には、面内のレターデーションが０〜１０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションが−２０〜２０ｎｍであり、例えば、かかる光学特性を有するセルロースアシレート又は環状ポリオレフィンを含むフィルムが好ましい。透明保護フィルムに使用可能なセルロースアシレート又は環状ポリオレフィンとしては、前記透明フィルムに使用可能なそれぞれの例と同様である。また、等方的な接着剤層を形成し得る接着剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリエステル系ウレタン及びイソシアネート系架橋剤からなる接着剤等が挙げられる。
【実施例】
【０２４５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
［実施例１］
＜第２の光学異方性層の作製＞
（透明フィルム（セルロースアセテートフィルム）Ｔ０の作製）
《セルロースアセテート溶液の調製》
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４６】
《マット剤溶液の調製》
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４７】
《添加剤溶液の調製》
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学的異方性低下剤                ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４８】
光学的異方性低下剤
【化４４】
2007199442.tif 000045
【０２４９】
波長分散調整剤
【化４５】
2007199442.tif 000046
【０２５０】
《セルロースアセテートフィルムの作製》
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ０を製造した。得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ（遅相軸はフィルム長手方向と垂直な方向）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−１ｎｍであった。
【０２５１】
（ポリマー層の作製）
上記透明フィルムＴ０のロールフィルム上に、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液（粘度０．２０Ｐａ・ｓ）を、乾燥後の厚みが５μｍとなるようにキャスティング法で、連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中で搬送方向に６％縦延伸した後、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定したところ、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、面内レターデーション（Ｒｅ）は６０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２００ｎｍであった。
この透明フィルムＴ０とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ１とした。
【０２５２】
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ１のポリマー層の表面に、下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から８０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、８０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を６０℃に保持して、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し、第１の光学異方性層Ｂ１を形成した。
【０２５３】
棒状液晶化合物を含む塗布液Ｓ１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物（Ｉ）                        １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー                              ０．４質量部
下記のピリジニム塩                                      １質量部
メチルエチルケトン                                  １７２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５４】
棒状液晶化合物（Ｉ）
【化４６】
2007199442.tif 000047
【０２５５】
フッ素系ポリマー
【化４７】
2007199442.tif 000048
【０２５６】
ピリジニウム塩
【化４８】
2007199442.tif 000049
【０２５７】
続いて、５５℃の１．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液中に作製したフィルムを２分間浸漬した後、水に浸漬し、十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、３５℃の５ｍｍｏｌ／Ｌ硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ１を作製した。
【０２５８】
作製した光学補償フィルムＦ１から棒状液晶性化合物を含む光学異方性層のみを剥離し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて光学特性を測定した。光学異方性層のみのＲｅは０ｎｍであり、Ｒｔｈは−２６０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成されたことが確認できた。
【０２５９】
＜偏光板Ｐ１の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ１の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ０の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ１を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２６０】
＜偏光板Ｐ０の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に鹸化処理した上記のセルロースアセテートフィルムＴ０を、他方の面に鹸化処理した市販のセルロースアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、偏光板Ｐ０を作製した。
【０２６１】
［実施例２］
＜第２の光学異方性層Ｃ２の作製＞
透明フィルムＴ０のロールフィルム上に、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液を乾燥後の厚みが６μｍとなるように、キャスティング法で連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中でテンター延伸機で幅方向に７％延伸した。その後、テンタークリップで把持した部分を含む両端を切り落として幅１３４０ｍｍとして、端から２〜１２ｍｍの範囲にナーリングを付け、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定したところ、遅相軸はフィルム長手方向に対して平行であり、面内レターデーション（Ｒｅ）は７０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２１０ｎｍであった。
この透明フィルムＴ０とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ２とした。
【０２６２】
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ２に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成した。さらに、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ２を作製した。
【０２６３】
＜偏光板Ｐ２の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ２の第１の光学異方性層が形成されている面を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を貼り合せて、長尺の偏光板Ｐ２を作製した。このとき、偏光膜と光学補償フィルムＦ２の間には光学的に等方性のアクリル系粘着剤を用い、偏光膜とセルローストリアセテートフィルムの間はポリビニルアルコール系接着剤を用いた。また、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は０°であった。
【０２６４】
［実施例３］
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
実施例１と同様にして、長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ０を作製した。実施例１と同様にして、このフィルム表面に鹸化処理を施し、さらに配向膜を形成し、その上に塗布液Ｓ１を用いて第１の光学異方性層Ｂ１を形成した。続いて、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、実質的に等方的な支持体上に第１の光学異方性層が形成された光学補償フィルムＦ３を作製した。
【０２６５】
＜偏光板Ｐ３の作製＞
実施例１と同様にして得た長尺の偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ３の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ０の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１をポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた。さらに、光学補償フィルムＦ３の第１の光学異方性層が形成された面と、上記作製したポリマー層を含む第２の光学異方性層Ｃ２を等方性のアクリル系粘着剤を用いて貼り合せた。このようにして、偏光膜、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層がこの順で積層された長尺状の偏光板Ｐ３を作製した。なお、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は０°であった。
【０２６６】
［実施例４］
＜環状ポリオレフィンフィルムＣ４の作製＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した後、平均孔径３４μｍの濾紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターで濾過した。
【０２６７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン溶液  Ｄ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
環状ポリオレフィン：ＴＯＰＡＳ５０１３              １００質量部
パラフィンワックス１３５（日本精蝋（株））            １５質量部
シクロヘキサン                                      ３８０質量部
ジクロロメタン                                        ７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２６８】
次に、上記方法で調製した環状ポリオレフィン溶液をはじめとする下記の組成物を分散機に投入し、微粒子分散液Ｍ４を調製した。
【０２６９】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
微粒子分散液  Ｍ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
１次平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
（ａｅｒｏｓｉｌ  Ｒ９７２  日本アエロジル（株））      ２質量部
シクロヘキサン                                        ７３質量部
ジクロロメタン                                        １０質量部
環状ポリオレフィン溶液  Ｄ４                          １０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２７０】
さらに、上記環状ポリオレフィン溶液Ｄ４を１００質量部、微粒子分散液Ｍ４を１．３５質量を混合し、製膜用ドープを調製した。上述のドープをバンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が約３５質量％でバンドから剥ぎ取ったフィルムをフィルムに皺が入らないように保持しながら１２０℃から１４０℃で乾燥し巻き取った。Ｒｅは０．５ｎｍであり、Ｒｔｈは１ｎｍであった。このようにして環状ポリオレフィンフィルムＣ４を作製した。
【０２７１】
＜偏光板Ｐ４の作製＞
実施例１と同様にして得た長尺の偏光膜の一方の面に、上記作製した環状ポリオレフィンフィルムＣ４を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を貼り合せた。このとき、偏光膜とセルローストリアセテートフィルムはポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、偏光膜と環状ポリオレフィンフィルムＣ４の貼り合わせは下記のように行った。
ポリエステル系ウレタン（三井武田ケミカル社製，タケラックＸＷ−７４−Ｃ１５４）１０部及びイソシアネート系架橋剤（三井武田ケミカル社製、タケネートＷＤ−７２５）１部を、水に溶解し、固形分を２０％に調整した溶液を調製した。これを接着剤として用いて、偏光膜と環状ポリオレフィンフィルムＣ４との貼り合わせ、４０℃のオーブンで７２時間乾燥キュアして、偏光板を作製した。
【０２７２】
上記作製した偏光板の環状ポリオレフィンフィルムＣ４の面と、光学補償フィルムＦ２の第１の光学異方性層が形成された面とを等方性のアクリル系粘着剤を用いて貼り合せた。このようにして、偏光膜、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層がこの順で積層された長尺状の偏光板Ｐ４を作製した。なお、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は０°であった。
【０２７３】
［実施例５］
＜第２の光学異方性層Ｃ５の形成＞
セルロースアセテートフィルムＴ１（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）上に、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの１５質量％シクロヘキサノン溶液を、乾燥後の厚みが４μｍとなるようにキャスティング法で、連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中で搬送方向に８％縦延伸した後、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定したところ、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、Ｒｅは６０ｎｍ、Ｒｔｈは２００ｎｍであった。なお、用いたセルロースアセテートフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は３．５ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は４５ｎｍであった。
この透明フィルムＴ１とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ５とした。
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ５に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成した。さらに、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ５を作製した。
【０２７４】
＜偏光板Ｐ５の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ５の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ１の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ５を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２７５】
［実施例６］
＜第２の光学異方性層Ｃ６の形成＞
透明フィルムＴ０のロールフィルム上に、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの２５質量％シクロヘキサノン溶液（粘度８Ｐａ・ｓ）を、乾燥後の厚みが８μｍとなるようにバーコータを用いて、連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定したところ、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、Ｒｅは５５ｎｍ、Ｒｔｈは１９０ｎｍであった。
この透明フィルムＴ０とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ６とした。
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ６に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成した。さらに、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ６を作製した。
【０２７６】
＜偏光板Ｐ６の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ６の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ０の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ６を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２７７】
［実施例７］
＜第２の光学異方性層Ｃ７の形成＞
環状ポリオレフィンフィルムＣ４のロールフィルム上に、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’一ジアミノビフェニルから合成された質量平均分子量５．９万のポリイミドの２５質量％シクロヘキサノン溶液（粘度８Ｐａ・ｓ）を、乾燥後の厚みが８μｍとなるようにバーコータを用いて、連続的に塗布し、１５０℃で１０分間乾燥し、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定したところ、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、Ｒｅは５５ｎｍ、Ｒｔｈは１９０ｎｍであった。
この環状ポリオレフィンフィルム（透明フィルム）Ｃ４とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ７とした。
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ７に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成し、光学補償フィルムＦ７を作製した。
【０２７８】
＜偏光板Ｐ７の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ７の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、環状ポリオレフィンフィルムＣ４の面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ７を作製した。このとき、偏光膜とセルローストリアセテートフィルムはポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ、偏光膜と環状ポリオレフィンフィルムＣ４の貼り合わせは偏光板Ｐ４作製時と同様に接着剤を用いて行った。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２７９】
［実施例８］
＜第２の光学異方性層C８の作製＞
透明フィルムＴ０のロールフィルム上に、下記式で表されるポリアミド（８）の６質量％ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）溶液を、乾燥後の厚みが７μｍとなるようにダイコート法で、連続的に塗布し、８０℃で１時間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中で搬送方向に７％縦延伸した後、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性は、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、面内レターデーション（Ｒｅ）は６０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は１９０ｎｍであった。
この透明フィルムＴ０とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ８とした。
【０２８０】
ポリアミド（８）
【化４９】
2007199442.tif 000050
【０２８１】
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ８に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成した。さらに、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ８を作製した。
【０２８２】
＜偏光板Ｐ８の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ８の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ０の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ８を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２８３】
［実施例９］
＜第２の光学異方性層C９の作製＞
透明フィルムＴ０のロールフィルム上に、４，４‘−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテルおよび２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンから合成されたポリアリールエーテルケトンの２７質量％メチルイソブチルケトン溶液を、乾燥後の厚みが７μｍとなるようにロールコート法で、連続的に塗布し、１３０℃で１分間乾燥し、そのまま連続して１５０℃の雰囲気中で二軸延伸した後、巻き取った。
得られたフィルムの光学特性は、遅相軸はフィルム長手方向に対して直交しており、面内レターデーション（Ｒｅ）は５５ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２００ｎｍであった。
この透明フィルムＴ０とポリマー層とからなるフィルムを、第２の光学異方性層Ｃ９とした。
＜第１の光学異方性層Ｂ１の形成＞
上記作製した長尺状の第２の光学異方性層Ｃ９に、実施例１と同様にして、棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成した。さらに、実施例１と同様にして、水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して鹸化処理を行った。このようにして、第１及び第２の光学異方性層が積層された光学補償フィルムＦ９を作製した。
【０２８４】
＜偏光板Ｐ９の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦ９の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ち、透明フィルムＴ０の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムＴ１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板Ｐ９を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２８５】
［比較例１］
＜第２の光学異方性層（ＴＨ１）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２８６】
──────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
──────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
──────────────────────────────────
【０２８７】
別のミキシングタンクに、上記のレターデーション上昇剤Ａを１６質量部、下記のレターデーション上昇剤Ｂを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０２８８】
レターデーション上昇剤（Ａ）
【化５０】
2007199442.tif 000051
【０２８９】
レターデーション上昇剤Ｂ
【化５１】
2007199442.tif 000052
【０２９０】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてセルロースアセテートフィルム（ＴＨ１）を作製した。セルロースアセテートフィルムＴＨ１の含水率は１．６％であった。なお、使用したセルロースアシレートのＴｇは１４０℃である。
得られたセルロースアセテートフィルムＴＨ１の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８８μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は６０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は１９０ｎｍであった。
【０２９１】
＜第１の光学異方性層（Ｂ１）の形成＞
上記作製した長尺状のセルロースアセテートフィルム（ＴＨ１）に、実施例３と同様にして、配向膜および棒状液晶性化合物を含む光学異方性層Ｂ１を形成し、続いて、鹸化処理を行った。
このようにして、セルロースアセテートフィルムからなる第２の光学異方性層と第１の光学異方性層とが積層された光学補償フィルムＦＨ１を作製した。
＜偏光板（ＰＨ１）の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した光学補償フィルムＦＨ１の第１の光学異方性層が形成されていない面（即ちＴＨ１の裏面）を、他方の面に、表面を鹸化処理したセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合わせ、長尺の偏光板ＰＨ１を作製した。このとき、偏光膜の吸収軸は長手方向に対して平行であり、かつ、偏光膜の吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とがなす角は９０°であった。
【０２９２】
［実施例１０］
＜液晶表示装置（Ｌ１１）の作製＞
液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００（松下電器産業（株）社製）から、液晶セルを取り出し、視認者側及びバックライト側に貼られてあった偏光板及び光学フィルムを剥した。この液晶セルは、電圧無印加状態及び黒表示時では液晶分子はガラス基板間で実質的に平行配向しており、その遅相軸方向は画面に対して水平方向であった。
【０２９３】
上記の平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（Ｐ１及びＰ０）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰ１を配置し、視認者側にＰ０を配置し、偏光板Ｐ１に含まれる第1の光学異方性層がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板Ｐ０に含まれるセルロースアセテートフィルムＴ０が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板Ｐ１の吸収軸と液晶セルの遅相軸が直交するようにし、偏光板Ｐ１と偏光板Ｐ０の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００に組み込みこんだ。このようにして液晶表示装置Ｌ１１を作製した。
【０２９４】
［実施例１１］
＜液晶表示装置（Ｌ１２）の作製＞
上記実施例１０と同様にして、平行配向セルを用意した。この平行配向セルの上下のガラス基板に、上記作製した偏光板（Ｐ１及びＰ０）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰ０を配置し、視認者側にＰ１を配置し、偏光板Ｐ１に含まれる第1の光学異方性層が視認者側のガラス基板に接するように、また、偏光板Ｐ０に含まれるセルロースアセテートフィルムＴ０がバックライト側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板Ｐ０の吸収軸と液晶セルの遅相軸が平行となるようにし、偏光板Ｐ０と偏光板Ｐ１の吸収軸は直交するように配置した。このようにして偏光板を貼り合せた液晶セルを、再度、液晶テレビＴＨ-３２ＬＸ５００に組み込みこんだ。このようにして液晶表示装置Ｌ１２を作製した。
【０２９５】
［実施例１２］
上記実施例１０の液晶表示装置Ｌ１１の作製において、偏光板Ｐ１の代わりに偏光板Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ９及び比較例の偏光板ＰＨ１を用いて、液晶表示装置を作製し、それぞれＬ２１、Ｌ３１、Ｌ４１、Ｌ５１、Ｌ６１、Ｌ７１、Ｌ８１、Ｌ９１、ＬＨ１１とした。但し、偏光板Ｐ２〜Ｐ９については、それぞれに含まれる第２の光学異方性層がバックライト側のガラス基板側に接するように配置した。
【０２９６】
［実施例１３］
上記実施例１１の液晶表示装置Ｌ１２の作製において、偏光板Ｐ１の代わりに偏光板Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ９及び比較例の偏光板ＰＨ１を用いて、液晶表示装置を作製し、それぞれＬ２２、Ｌ３２、Ｌ４２、Ｌ５２、Ｌ６２、Ｌ７２、Ｌ８２、Ｌ９２、ＬＨ１２とした。但し、偏光板Ｐ２〜Ｐ９については、それぞれに含まれる第２の光学異方性層が視認者側のガラス基板側に接するように配置した。
【０２９７】
作製した液晶表示装置を点灯し、画面全体に黒を表示した。温度３０℃、湿度８０％ＲＨの環境下で、点灯直後及び５００時間点灯後の比較をした。点灯直後は、実施例の偏光板（Ｐ１〜Ｐ９）をそれぞれ用いた液晶表示装置も、比較例の偏光板（ＰＨ１）を用いた液晶表示装置（ＬＨ１１、ＬＨ１２）も実質的に同じように観測されたが、５００時間後では、Ｌ１１、Ｌ１２、Ｌ２１、Ｌ２２、Ｌ３１、Ｌ３２、Ｌ４１、Ｌ４２、Ｌ６１、Ｌ６２、Ｌ７１、Ｌ７２、Ｌ８１、Ｌ８２、Ｌ９１及びＬ９２の画面の四隅の光漏れはほとんど観測されなかったが、Ｌ５１及びＬ５２では光漏れがわずかに観測され、ＬＨ１１及びＬＨ１２では光漏れがはっきりと観測された。