(57)【要約】【課題】現像処理枚数の増加に伴う過現像を抑制し、パターン寸法の変動を抑制する。【解決手段】仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に積層してなる感光性転写材料を用いて支持体に転写を行う転写工程と、該支持体に転写された層を露光する露光工程と、露光後、現像を行う現像工程と、を有する表示装置用部材の製造方法であって、前記現像工程が、前記感光性樹脂層からなるパターンを形成するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とを有し、更に、少なくとも第２工程と第３工程との間に、前工程で用いた処理液を除去するためのリンス工程を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に積層してなる感光性転写材料を用いて支持体に転写を行う転写工程と、該支持体に転写された層を露光する露光工程と、露光後、現像を行う現像工程と、を有する表示装置用部材の製造方法であって、前記現像工程が、前記感光性樹脂層からなるパターンを形成するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とを有し、更に、少なくとも前記第２工程と前記第３工程との間に、前工程で用いた処理液を除去するためのリンス工程を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法。
【請求項２】
更に、少なくとも前記第２工程の前に、前記熱可塑性樹脂層及び前記中間層を除去するための第１工程を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置用部材の製造方法。
【請求項３】
更に、少なくとも前記リンス工程と前記第３工程との間に、液切り工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置用部材の製造方法。
【請求項４】
前記現像が、支持体を搬送方向と直交する方向で水平面に対して傾斜した状態で行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置用部材の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置用部材の製造方法により作製された表示装置用部材。
【請求項６】
カラーフィルタ、隔壁、スペーサ、又は液晶配向制御用突起である請求項５に記載の表示装置用部材。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の表示装置用部材を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用部材及びその製造方法、並びに表示装置に関し、詳しくは、転写法による表示装置用部材の製造方法、表示装置用部材、並びに表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイや液晶カラーテレビなどの表示装置の需要は増加する傾向にあり、これら表示装置に備えられた構成部材である表示装置用部材（例えばカラーフィルタ等）の特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
【０００３】
カラーフィルタの製造方法としては、支持体としてガラス等の透明基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）特開昭６３−２９８３０４号、特開昭６３−３０９９１６号あるいは特開平１−１５２４４９号等の公報に記載の着色した感光性樹脂液の塗布と露光、現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）、４）特開昭６１−９９１０３号、特開昭６１−２３３７０４号あるいは特開昭６１−２７９８０２号公報に記載のように、仮支持体上に形成した画像を順次、最終または仮の支持体上に転写する方法、５）特開昭６１−９９１０２号公報に記載の予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、透明基板上にこの感光性着色層を転写し、露光、現像することを繰り返す方法（転写法）等により多色画像を形成することが知られている。そのほかにも電着法、蒸着法等の方法も知られている。
【０００４】
中でも、転写法は、予め一定の厚さで均一に塗布された着色感光性樹脂層を転写することから、露光、現像特性が安定し、得られる最終着色画像の光学濃度管理も容易である等の点で、優れた方法である。
転写法による画像形成の具体的な例として、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層をこの順に設けてなる感光性転写材料を用いて支持体上に転写し、転写された層をパターン露光し、現像し、引き続き、界面活性剤を主成分として含む現像残膜除去用液中でブラシにより擦ることで画像を形成する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
一方、液晶用の基板処理装置に関し、処理液の置換や液切れを良好に行い、処理装置の大型化を確実に抑制する技術として、基板を傾斜させて搬送する技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平６−２５８５１４号公報
【特許文献２】特開平９−１５５３０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記転写法における現像工程にあっては、該熱可塑性樹脂層及び中間層を除去するための第１工程と、感光性樹脂層からなるパターンを形成するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とが必要であり、各工程において用いられる処理液が次の工程の処理液に混入すると、処理枚数の増加に伴い、初期の処理性能を維持できなくなるという問題がある。特に、第２工程の処理液の第３工程の処理液への混入は、処理枚数の増加に伴い、過現像となりやすいという問題がある。また、各工程において用いられる処理液が次の工程の処理液に混入すると、処理液の管理が難しくなる問題もある。
これらの問題に関しては、上記した従来の技術のみでは解決することは困難である。
【０００７】
本発明は上記に鑑みなされたものであり、処理液の管理を容易に行うことができ、現像処理枚数の増加に伴う過現像を抑制し、パターン寸法の変動を抑制し得る表示装置部材の製造方法を提供すること、並びに、パターン寸法の変動が抑制された表示装置用部材およびこれを用いた表示装置を提供すること目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
＜１＞  仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に積層してなる感光性転写材料を用いて支持体に転写を行う転写工程と、該支持体に転写された層を露光する露光工程と、露光後、現像を行う現像工程と、を有する表示装置用部材の製造方法であって、前記現像工程が、前記感光性樹脂層からなるパターンを形成するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とを有し、更に、少なくとも前記第２工程と前記第３工程との間に、前工程で用いた処理液を除去するためのリンス工程を有することを特徴とする表示装置用部材の製造方法である。
＜２＞  更に、少なくとも前記第２工程の前に、前記熱可塑性樹脂層及び前記中間層を除去するための第１工程を有することを特徴とする＜１＞に記載の表示装置用部材の製造方法である。
【０００９】
＜３＞  更に、少なくとも前記リンス工程と前記第３工程との間に、液切り工程を有することを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の表示装置用部材の製造方法である。
＜４＞  前記現像が、支持体を搬送方向と直交する方向で水平面に対して傾斜した状態で行われることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の表示装置用部材の製造方法である。
【００１０】
＜５＞  ＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の表示装置用部材の製造方法により作製された表示装置用部材である。
＜６＞  カラーフィルタ、離隔、スペーサ、又は液晶配向制御用突起である＜５＞に記載の表示装置用部材である。
＜７＞  ＜５＞又は＜６＞に記載の表示装置用部材を備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、処理液の管理を容易に行うことができ、現像処理枚数の増加に伴う過現像を抑制し、パターン寸法の変動を抑制し得る表示装置部材の製造方法を提供すること、並びに、パターン寸法の変動が抑制された表示装置用部材およびこれを用いた表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
≪表示装置用部材及びその製造方法≫
本発明において表示装置用部材とは、表示装置に備えられる部材であって、支持体上に作製された感光性樹脂層からなるパターンをいう。
表示装置用部材としては、例えば、単色又は複数色の着色パターンからなるカラーフィルタ（さらに、隔壁を備えたものを含む）、隔壁（例えば、ブラックマトリクス等）、スペーサ、及び液晶配向制御用突起が挙げられる。
【００１３】
本発明の表示装置用部材の製造方法は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に積層してなる感光性転写材料を用いて支持体に転写を行う転写工程と、該支持体に転写された層を露光する露光工程と、露光後、現像を行う現像工程と、を有する表示装置用部材の製造方法であって、前記現像工程が、前記感光性樹脂層からなるパターンを形成するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とを有し、更に、少なくとも第２工程と第３工程との間に、前工程で用いた処理液を除去するためのリンス工程を含む。
以下、各工程について詳細に説明する。
【００１４】
＜転写工程＞
前記転写工程は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層とをこの順に積層してなる感光性転写材料を用いて、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光性樹脂層と、を支持体に転写する工程である。
【００１５】
（感光性転写材料）
感光性転写材料は、特開平５−７２７２４号公報に記載されている転写材料、すなわち一体型となったフィルムを用いて形成することが好ましい。該一体型フィルムの構成の例としては、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層／保護フィルムを、この順に積層した構成が挙げられる。
【００１６】
−感光性樹脂層−
前記感光性樹脂層とは、カラーフィルタ、隔壁、スペーサ、液晶配向制御用突起などの表示装置用部材を形成するための成分を含むものであり、その形態は例えば、特開２００６−１８２２２号公報段落番号[００５０]〜[０１０８]に記載の感光層を形成する為の組成物と同様の構成とすることができる。
【００１７】
−仮支持体−
前記仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下又は加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましい。そのような支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
仮支持体の厚さに特に制限はないが、５〜２００μｍの範囲が好ましい。特に１０〜１５０μｍの範囲のものが、取扱い易さ、汎用性などの点から有利であり、より好ましい。また、仮支持体は、透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していても良い。
【００１８】
−熱可塑性樹脂層−
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【００１９】
−中間層−
上記感光性転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層が設けられる。該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【００２０】
−保護フィルム−
感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フィルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
【００２１】
−感光性転写材料の作製方法−
本発明における感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液（熱可塑性樹脂層の構成成分を溶解した塗布液）を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後、該熱可塑性樹脂層上に、熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤を用いた中間層用塗布液（中間層の構成成分を溶解した溶液）を塗布し、乾燥することにより中間層を設け、その後、該中間層上に中間層を溶解しない溶剤を用いた感光性樹脂層用塗布液（感光性樹脂層の構成成分を溶解した溶液）を塗布し、乾燥して感光性樹脂層を設けることにより作製することができる。
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び中間層を設けたシート、及び保護フィルム上に感光性樹脂層を設けたシートを用意し、中間層と感光性樹脂層が接するように相互に貼り合わせることによっても、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フィルム上に感光性樹脂層及び中間層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と中間層が接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
尚、感光性転写材料において、感光性樹脂層の膜厚としては、１．０〜５．０μmが好ましく、１．０〜４．０μmがより好ましく、１．０〜３．０μmが特に好ましい。
また、特に限定されるわけではないが、その他の各層の好ましい膜厚としては、熱可塑性樹脂層は２〜３０μm、中間層は０．５〜３．０μm、保護フィルムは４〜４０μmが、好ましい。
【００２２】
尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、スリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
【００２３】
−−スリット状ノズル−−
上記感光性転写材料は、前記感光性樹脂層を形成するための感光性樹脂組成物（感光性レジスト）を、公知の塗布方法により塗布し乾燥することによって形成することができるが、本発明においては、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルによって塗布することが好ましい。具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコータが好適に用いられる。
【００２４】
（転写方法）
転写方法としては、前記の感光性転写材料を用い、仮支持体上に形成された感光性樹脂層、中間層、及び熱可塑性樹脂層を、後述する支持体上に加熱及び／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着することによって、貼り付ける方法が挙げられる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。尚、感光性樹脂層を前記感光性転写材料により支持体上に形成する場合の、その好ましい膜厚は、前記−感光性転写材料の作製方法−の項において記載した好ましい膜厚と同様である。
【００２５】
（支持体）
本発明において、表示装置用部材が形成される支持体としては、例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。
また、上記基板は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性転写材料との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開２０００−３９０３３号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の厚さとしては、５００〜１２００μｍが一般的に好ましい。
以下、これら支持体を単に「基板」ということがある。
【００２６】
＜露光工程＞
露光工程においては、上記支持体上に転写形成された層（支持体側から、感光性樹脂層／中間層／熱可塑性樹脂層の順に積層された層）の更に上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク、熱可塑性樹脂層、及び中間層を介し、マスク上方から感光性樹脂層の露光を行う。
ここで、前記露光の光源としては、感光性樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【００２７】
＜現像工程＞
上記露光工程後、支持体上の層（支持体側から、感光性樹脂層／中間層／熱可塑性樹脂層の順に積層された層）について、以下の現像工程の処理を行うことにより、本発明の表示装置用部材が得られる。
現像工程は、感光性樹脂層からなるパターンを形成（感光性樹脂層の露光部分又は非露光部分を除去）するための第２工程と、現像残渣を除去するための第３工程とを有し、更に、少なくとも第２工程と第３工程との間に、前工程で用いた処理液を除去するためのリンス工程を有する。また更に、前記第２工程の前に熱可塑性樹脂層及び中間層を除去するための第１工程の処理を行うことが好ましい。
以下、第１〜第３工程、リンス工程、液切り工程について詳細に述べる。
【００２８】
（第１工程）
第１工程は、感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層など、感光性樹脂層以外の層を除去する工程である。
第１工程で用いられる処理液の液温度は２０〜４０℃が好ましい。また、第２工程現像液との区別の観点からは、第１工程で用いられる処理液のｐＨは８〜１１が好ましく、９〜１０．５がより好ましい。
第１工程で用いられる処理液（現像液）としては、公知のものを使用できるが、第２工程現像液との区別の観点からは、有機アミン系現像液、炭酸ナトリウム系現像液、水酸化カリウム系現像液が好ましい。
中でも、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２、富士写真フイルム（株）製；純水で希釈した液を含む）が特に好ましい。
【００２９】
第１工程において、処理枚数の増加に伴う処理性の低下を抑制する観点からは、処理液を補充しながら処理を行う態様も好適である。この場合において、液の補充量としては、転写層面積１平方メートルあたり、０．５ｌ以上が好ましく、１．０ｌ以上がより好ましい。上限は特にないが、省液の観点から３．０ｌ程度以内が好ましい。
【００３０】
次に、前記第１工程において用いる処理液として、トリエタノールアミン系現像液を用いた場合の好ましい濃度に関して説明する。
前記第１工程において用いる処理液中におけるトリエタノールアミンの濃度としては、
処理性と第２工程現像液との区別の観点から、０．０５ｍｏｌ／ｌ〜０．５ｍｏｌ／ｌであることが好ましく、０．１ｍｏｌ／ｌ〜０．３ｍｏｌ／ｌであることがより好ましい。
【００３１】
なお、上記トリエタノールアミンの濃度は、石原薬品（株）製ＣＡＴＳ−７００Ａによって測定した値である。
【００３２】
（第２工程）
第２工程は、感光性樹脂層からなるパターンを形成するために、感光性樹脂層の不要部分を溶解させる工程である。
第２工程で用いられる処理液（現像液）としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、第２工程で用いられる処理液（現像液）は、感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。
【００３３】
水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
【００３４】
また、上記第２工程で用いられる処理液（現像液）には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。上記第２工程で用いられる処理液（現像液）の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。また、感光性樹脂層のパターン形成性の観点からは、上記第２工程で用いられる処理液（現像液）のｐＨは８〜１３が好ましく、９〜１２がより好ましい。
第２工程で用いられる処理液（現像液）としては、公知のものを使用できるが、処理の安定性の観点からは、炭酸Ｎａ系現像液、水酸化Ｋ系現像液、ＴＭＡＨ系現像液が好ましい。
中でも、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５質量％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有；商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製；純水で希釈した液を含む）が特に好ましい。
【００３５】
第２工程において、処理枚数の増加に伴う処理性の低下を抑制する観点からは、処理液を補充しながら処理を行う態様も好適である。この場合において、液の補充量としては、転写層面積１平方メートルあたり、０．５ｌ以上が好ましく、１．０ｌ以上がより好ましい。上限は特にないが、省液の観点から３．０ｌ程度以内が好ましい。
また、上記同様の観点から、第１工程（または、後述の、第１工程と第２工程との間のリンス工程）の後に、後述する液切り工程を設けることが好ましい。
【００３６】
次に、前記第２工程において用いる処理液として、炭酸Ｎａ系現像液を用いた場合の好ましい濃度に関して説明する。
前記第２工程において用いる処理液中における炭酸ナトリウムの濃度と炭酸水素ナトリウムの濃度との和としては、処理の安定性の観点から、０．０５ｍｏｌ／ｌ〜０．５ｍｏｌ／ｌであることが好ましく、０．１ｍｏｌ／ｌ〜０．３ｍｏｌ／ｌであることがより好ましい。
【００３７】
以下、式（１）で表される「５００枚処理後と初期との濃度比（第２工程）」については、処理性を維持する観点から、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００３８】
「５００枚処理後と初期との濃度比（第２工程）」〔％〕＝（（５００枚処理後の処理液中における、炭酸ナトリウムの濃度と炭酸水素ナトリウムの濃度との和）／（初期の処理液中における、炭酸ナトリウムの濃度と炭酸水素ナトリウムの濃度との和））×１００〔％〕                                                      ・・・  式（１）
【００３９】
なお、上記炭酸ナトリウムの濃度及び炭酸水素ナトリウムの濃度は、石原薬品（株）製ＣＡＴＳ７００−Ｔによって測定した値である。
【００４０】
（第３工程）
第３工程は、感光性樹脂層からなるパターンの形成後、支持体上の現像残渣を除去する工程である。具体的には、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することができる。
第３工程で用いられる処理液の液温度は２０〜４０℃が好ましい。また、現像残渣除去性の観点からは、第３工程で用いられる処理液のｐＨは８〜１２が好ましく、９〜１１がより好ましい。
第３工程で用いられる好ましい処理液（洗浄液）としては、洗浄液としては公知のものを使用できるが、残渣除去性の観点からは、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系等のノニオン界面活性剤系洗浄剤、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸系、アルキルナフタレンスルホン酸系等のアニオン界面活性剤系洗浄剤が好ましい。これらはそれぞれ単独で用いてもよいが、適宜混合してもよい。
中でも、ノニオン界面活性剤系洗浄液（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤を含有する洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム（株）製；純水で希釈した液を含む）が特に好ましい。
【００４１】
第３工程において、処理枚数の増加に伴う処理性の低下を抑制する観点からは、処理液を補充しながら処理を行う態様も好適である。この場合において、処理液の補充量としては、転写層面積１平方メートルあたり、０．５ｌ以上が好ましく、１．０ｌ以上がより好ましい。上限は特にないが、省液の観点から３．０ｌ程度以内が好ましい。
また、上記同様の観点から、後述するリンス工程（第２工程と第３工程との間のリンス工程）の後に、後述する液切り工程を設けることが好ましい。
【００４２】
次に、前記第３工程において用いる処理液として、ノニオン界面活性剤系洗浄液を用いた場合の好ましい濃度に関して説明する。
前記第３工程において用いる処理液中におけるノニオン界面活性剤の濃度としては、残渣除去性の観点から、０．００５〜０．０５質量％であることが好ましく、０．０１〜０．０３質量％であることがより好ましい。
【００４３】
以下式（２）で表される「５００枚処理後と初期との濃度比（第３工程）」については、処理性を維持する観点から、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００４４】
「５００枚処理後と初期との濃度比（第３工程）」〔％〕＝（（５００枚処理後の処理液中におけるノニオン界面活性剤の濃度）／（初期の処理液中におけるノニオン界面活性剤の濃度））×１００〔％〕                                        ・・・  式（２）
【００４５】
なお、上記ノニオン界面活性剤の濃度は、ＮＭＲによって測定した値である。
【００４６】
第１〜第３工程における現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等、公知の方法を用いることができる。これらの中で、シャワー現像が好ましい。
ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。
また、現像槽中にはローラーコンベアなどが設置され、基板は水平に移動する。前記ローラーコンベアの傷を防止する意味で、感光性樹脂は基板の上面に形成されるのが好ましい。基板サイズが１メートルを超える場合は、基板を水平に搬送すると、基板中央付近に現像液が滞留し、基板中央と周辺部分での現像の差が問題となる場合がある。これを回避するため、本発明における現像工程では、支持体を搬送方向と直交する方向で水平面に対して傾斜した状態で処理することが好ましい。また、傾斜させることで基板に載って隣の槽に持ち込む液量を減らすこともできる。傾斜角度は、水平面に対して３°から３０°が好ましく、水平面に対して５°から１５°がより好ましい。角度が小さいと傾斜の効果が十分に得らない場合があり、角度が大きすぎると現像むらが発生する場合がある。
【００４７】
また、現像前に純水を噴霧し、感光性樹脂層を湿らせておくと均一な現像結果となり好ましい。また、詳細は後述するが、現像後は、基板にエアを軽く吹きつけ、余分な液を略除去した上で、シャワー水洗を実施すると、より均一な現像結果となる。また、後述するリンス工程の後もエアを吹き付けて軽く水分を除去することも好適である。また水洗の前に、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて３から１５ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行うと、残渣の無い高品質の像が得られる。
【００４８】
（リンス工程）
−第２工程と第３工程との間のリンス工程−
本発明における現像工程にあっては、少なくとも第２工程と第３工程との間に、前工程（ここでは第２工程）で用いた処理液を除去するためのリンス工程を設けることが必要である。これにより、前工程（ここでは第２工程）の処理液の、第３工程の処理液への混入を抑制することができ、ひいては現像処理の枚数が増加した際、過現像となるのを回避することができる。また、上記処理液の混入を抑制できる結果、処理液の管理（処理液の交換時期の見極めなど）が容易となる。さらに、上記処理液の混入を抑制できる結果、処理液の交換頻度を減らすことができ、生産効率も向上する。
【００４９】
第２工程と第３工程との間のリンス工程に用いるリンス液としては、前工程（ここでは第２工程）で用いた処理液を除去できるものであれば、特に限定はないが、
例えば、純粋、イオン交換水、蒸留水が挙げられる。
中でも、純水が特に好ましい。
【００５０】
第２工程と第３工程との間のリンス工程において、前工程（ここでは第２工程）で用いた処理液を除去する態様としては、特に限定はないが、例えば、支持体にリンス液（例えば、純水等）を噴射する態様、支持体をリンス液中に浸漬する態様等が挙げられる。
この場合において、リンス液の噴射の条件は、リンス液の種類等によって適宜調節できるが、洗浄性の観点からは、シャワー圧０．０１〜０．３ＭＰａが好ましく、シャワー圧０．０２〜０．１ＭＰａがより好ましい。
【００５１】
−第１工程と第２工程との間のリンス工程−
更に、リンス工程は、処理液の混入を抑制し、パターン形成性をより良好に保つ観点等から、第１工程と第２工程との間に設けることもできる。
【００５２】
第１工程と第２工程との間のリンス工程に用いるリンス液としては、前工程（ここでは第１工程）で用いた処理液を除去できるものであれば、特に限定はないが、例えば、純水、イオン交換水、蒸留水が挙げられる。
中でも、純水が特に好ましい。
【００５３】
第１工程と第２工程との間のリンス工程において、前工程（ここでは第１工程）で用いた処理液を除去する態様としては、特に限定はないが、例えば、支持体にリンス液（例えば、純水等）を噴射する態様、支持体をリンス液中に浸漬する態様等が挙げられる。
この場合において、リンス液の噴射の条件は、リンス液の種類等によって適宜調節できるが、洗浄性の観点からは、シャワー圧０．０１〜０．３ＭＰａが好ましく、シャワー圧０．０２〜０．１ＭＰａがより好ましい。
【００５４】
−第３工程の後のリンス工程−
また、リンス工程は、表示装置用部材表面の処理液成分の残存を抑制し、表示装置用部材の特性をより良好に保つ観点等から、第３工程の後に設けることもできる。
【００５５】
第３工程の後のリンス工程に用いるリンス液としては、前工程（ここでは第３工程）で用いた処理液を除去できるものであれば、特に限定はないが、例えば、純水、イオン交換水、蒸留水が挙げられる。
中でも、純水が特に好ましい。
【００５６】
第３工程の後のリンス工程において、前工程（ここでは第３工程）で用いた処理液を除去する態様としては、特に限定はないが、例えば、支持体にリンス液（例えば、純水等）を噴射する態様、支持体をリンス液中に浸漬する態様等が挙げられる。
この場合において、リンス液の噴射の条件は、リンス液の種類等によって適宜調節できるが、洗浄性の観点からは、シャワー圧０．０１〜０．３ＭＰａが好ましく、シャワー圧０．０２〜０．１ＭＰａがより好ましい。
【００５７】
上記の中でも、リンス工程は、第１工程と第２工程との間、第２工程と第３工程との間、及び、第３工程の後に設けられた態様が特に好ましい。
【００５８】
（液切り工程）
本発明における現像工程にあっては、少なくとも前記「第２工程と第３工程との間のリンス工程」と前記第３工程との間（好ましくは該リンス工程の直後）に、前工程（ここではリンス工程）で用いた液を除去するための、又は、該液の次の工程への持ち込み量を調節するための、液切り工程を設けることが好ましい。これにより、第３工程の処理液へのリンス液（例えば、純水等）の混入を抑制することができ、第３工程における現像残渣除去性能をより良好に保つことができる。また、上記混入を抑制できる結果、処理液の管理（処理液の交換時期の見極めなど）が容易となる。さらに、上記混入を抑制できる結果、処理液の交換頻度を減らすことができ、生産効率も向上する。
【００５９】
液切り工程は、リンス性向上の観点等から、第２工程と「第２工程と第３工程との間のリンス工程」との間（好ましくは第２工程の直後）に設けることもできる。
また、液切り工程は、表示装置用部材表面の処理液成分の残存を抑制し、表示装置用部材の特性をより良好に保つ観点等から、第３工程の後（好ましくは第３工程の直後）に設けることもできる。
また、液切り工程は、処理液混入を抑制し第２工程の処理性をより良好に保つ観点等から、第１工程と第２工程との間（好ましくは第１工程の直後）に設けることもできる。
さらに、液切り工程は、第１工程と第２工程との間、及び／又は、第３工程の後にリンス工程を設けた場合には、各リンス工程の後（好ましくは各リンス工程の直後）に
設けることができる。これにより、特に第２工程の処理性をより良好に保つことができ、また、表示装置用部材の特性をより良好に保つことができる。
【００６０】
液切り工程においては、液を完全に除去すると現像ムラが発生する場合があるため、僅かに液膜が残る程度に液を除去し、次の工程の処理を行うことが好ましい。
液切り工程において、液を除去する方式としては、特に限定はないが、例えば、支持体表面にエアを吹き付ける方式が挙げられる。この場合におけるエアを吹き付ける条件としては、除去する液の種類等によって適宜調整することができるが、僅かに液膜が残る程度に液を除去するようにする観点からは、エア圧０．０１〜０．２ＭＰａが好ましく、エア圧０．０２〜０．１ＭＰａがより好ましい。
また、液を除去する方式としては、液除去用のブレードにより、支持体上の液をかきとる方式も好適である。この場合における液除去用のブレードと支持体との間隔としては、僅かに液膜が残る程度に液を除去するようにする観点からは、０．３〜２．０ｍｍが好ましく、０．５〜１．０ｍｍがより好ましい。
さらに、上記エアを吹き付ける方式と上記液をかきとる方式とを併用してもよい。
【００６１】
（現像工程の好ましい態様）
本発明における現像工程の特に好ましい態様は、第１工程、液切り工程、リンス工程、液切り工程、第２工程、液切り工程、リンス工程、液切り工程、第３工程、液切り工程、リンス工程、液切り工程の順に処理する態様である。
また、各工程による処理を順次行うことができる現像処理装置を用いることも好適である。この場合の搬送速度としては、生産性と処理の安定性の観点からは、１．０〜５．０ｍ/分が好ましく、３．０〜４．０ｍ/分がより好ましい。
【００６２】
＜ポスト露光＞
前記現像工程の後に、ポスト露光を実施すると、画像の断面形状のコントロール、画像の硬度のコントロール、画像の表面凹凸のコントロール、画像の膜減りのコントロールなどの観点で好ましい。ポスト露光に用いる光源としては、特開２００５−３８６１号公報の段落番号００７４に記載の超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。ポスト露光は、超高圧水銀灯やメタルハライド等の光源からの光を露光マスクなどを介さず直接基板に照射する事が、設備の簡素化と省電力の観点で好ましい。必要に応じて、両面から実施することができる。また、露光量としては、上面：１００から２０００ｍＪ／平方センチメートル、下面：１００から２０００ｍＪ／平方センチメートルの範囲で、上記コントロール目的に応じ、適宜調整することができる。
【００６３】
＜熱処理＞
前記現像工程（または、必要に応じて前記ポスト露光）の後に、熱処理を行い、前記感光性樹脂層に含まれるモノマーや架橋剤を反応させて、形成された感光性樹脂層からなるパターンの硬度をさらに向上させることができる。熱処理の温度は、１５０℃から２５０℃の範囲が好ましい。１５０℃以下では硬度が不十分となる場合があり、２５０℃以上では樹脂が着色する（カラーフィルタの場合、色純度が悪くなる）場合がある。熱処理の時間は、１０分から１５０分が好ましい。１０分未満では、硬度が不足する場合があり、１５０分以上では、樹脂が着色する（カラーフィルタの場合、色純度が悪くなる）場合がある。また熱処理は、感光性樹脂層の種類によって変えてもよい。
また、本発明の表示装置用部材が２色以上のカラーフィルタの場合、全部の色を形成後、更に最終の熱処理を行って硬度を安定化させてもよい。その場合、高めの温度（例えば２４０℃）で実施すると硬度の点で好ましい。
【００６４】
以上で説明した工程により、本発明の表示装置用部材が得られる。
例えば、カラーフィルタの場合、以上の工程を色の数（例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）等）だけ繰り返して作製する。この際、同様の工程により、隔壁（ブラックマトリクス）を形成してもよい。カラーフィルタ上には、更に必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜を形成してもよい。
隔壁の場合、ガラス基板やＲＧＢ等の着色パターンが形成されたカラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えばＴＦＴ基板）の上に作製してもよい。
スペーサの場合、カラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えばＴＦＴ基板）の上に作製してもよい。
液晶配向制御用突起の場合、カラーフィルタ基板の上に、上記の工程によって作製してもよいし、その他の基板（例えばＴＦＴ基板）の上に作製してもよい。
【００６５】
≪表示装置≫
本発明の表示装置としては、上記で説明した表示装置用部材を備えて構成される。表示装置の例としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置が挙げられる。
【００６６】
例えば、本発明の表示装置用部材であるカラーフィルタ、隔壁、スペーサ、液晶配向制御用突起を備えた基板と、これとは別に用意した対向基板とを所定の間隙を設けて対向配置し、該間隙に液晶を封入することによって液晶表示装置が作製される。
【００６７】
液晶の表示方式としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択できる。例えば、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ  Ｈｏｓｔ）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、ＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などの表示方式に適用可能である。
【実施例】
【００６８】
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、以下において「部」および「％」は、「質量部」及び「質量％」を表す。
【００６９】
〔実施例１〕
≪カラーフィルタ基板の作製≫
＜感光性樹脂転写材料の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布し、乾燥させた。更に、下記表１に記載の処方Ｋ１の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布し、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２μｍの感光性樹脂層とを設け、保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層と保護フィルムとがこの順に積層された感光性樹脂転写材料Ｋ１を作製した。
【００７０】
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール                                                ・・・  １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ・・・  ６．３６部
・メチルエチルケトン                                        ・・・  ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                      ・・・  ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                  ・・・  １３．６部
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物（新中村化学(株)製、商品名：２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン）                                      ・・・    ９．１部
・界面活性剤１（大日本インキ化学工業製、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ）
・・・  ０．５４部
【００７１】
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                                        ・・・  ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）
・・・  １４．９部
・蒸留水                                                    ・・・    ５２４部
・メタノール                                                ・・・    ４２９部
【００７２】
次に、前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の作製において用いた前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を、下記表１に記載の組成よりなる下記着色感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１及びＢ１に変更し、それ以外は上記と同様の方法により、感光性樹脂転写材料Ｒ１、Ｇ１及びＢ１を作製した。
【００７３】
【表１】
2007316437.tif 000002
【００７４】
＜ブラック（Ｋ）画像の形成＞
サイズ６８０ｍｍ＊８８０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板に、２５℃に調整した洗浄液（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤を含有した洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈したもの）をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱して次のラミネーターに送った。
【００７５】
（転写工程〜露光工程）
前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の保護フィルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ））を用い、前記１００℃に加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートして、基板／感光性樹脂層／中間層／熱可塑性樹脂層／仮支持体をこの順に積層してなる積層体を得た。
仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機で、マスクと該感光性樹脂層との間の距離を１５０μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ2でパターン露光した。
【００７６】
（現像工程）
次に、上記露光済みの基板（積層体）について、図１に示す構造の現像装置を用いて現像工程の処理を行った。基板は搬送方向に対して直交する方向に水平面に対し６度傾斜させて搬送した。
【００７７】
−現像装置−
ここで、上記現像装置の構成について、図１に照らして説明する。
図１中、現像槽１は、本発明における第１工程の処理を行うための槽である。現像タンク１は、下記Ｔ−ＰＤ２現像液の１２倍希釈液のタンクであり、容量は２００ｌである。
現像槽２は、本発明における第２工程の処理を行うための槽である。現像タンク２は、下記Ｔ−ＣＤ１の５倍希釈液のタンクであり、容量は２００ｌである。
現像槽３は、本発明における第３工程の処理を行うための槽である。現像タンク３は、下記Ｔ−ＳＤ１の１０倍希釈液のタンクであり、容量は２００ｌである。
現像槽１〜３の下流側にはそれぞれ、リンス工程の処理を行うためのリンス槽が設けられている。
また、図示しないが、現像槽１〜３及び各リンス槽の下流側には、液切り工程の処理を行うためのエアナイフが設けられている。
【００７８】
−第１工程−
まず、上記露光済みの基板（積層体）について、以下の第１工程の処理を行った。
すなわち、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％（商品名：Ｔ−ＰＤ２、富士写真フイルム（株）製）を、純水で１２倍に希釈した液（該原液を１質量部と純水を１１質量部の割合で混合した液））を３０℃６０秒、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と中間層を除去した。
ここで、上記第１工程におけるシャワー現像は、前記Ｔ−ＰＤ２現像液の１２倍希釈液を、現像タンク１からポンプにて現像槽１に送り、ノズルから基板（積層体）に噴出させることにより行った。噴出させた前記Ｔ−ＰＤ２現像液の１２倍希釈液は、再び現像タンク１に回収した。この際、図１には図示していない現像液供給装置から基板１枚あたり０．７ｌのＴ−ＰＤ２現像液の１２倍希釈液を補充しながら、５００枚の連続処理を行った。
【００７９】
引き続き、上記第１工程の処理を施した基板の上面（各層が形成されている面）にエアを吹きかけて軽く液切りした（液切り工程）後、１０秒間純水シャワー洗浄し（リンス工程）、エアを吹きかけて軽く水切りした（液切り工程）。
【００８０】
−第２工程−
次に、上記水切り後の基板について、以下の第２工程の処理を行った。
すなわち、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、０．４７モル／リットルの炭酸ナトリウム、５質量％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤を含有する現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用い、２９℃４０秒、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、感光性樹脂層からなるパターンを得た。
上記第２工程のシャワー現像は、前記Ｔ−ＣＤ１現像液の５倍希釈液を、現像タンク２からポンプにて現像槽２に送り、ノズルから基板に噴出させることにより行った。噴出させた前記Ｔ−ＣＤ１現像液の５倍希釈液は、再び現像タンク２に回収した。この際、図１には図示していない現像液供給装置から基板１枚あたり０．７ｌのＴ−ＣＤ１現像液の５倍希釈液を補充しながら、５００枚の連続処理を行った。
【００８１】
引き続き、上記第２工程の処理を施した基板の上面にエアを吹きかけて軽く液切りした（液切り工程）後、１０秒間純水シャワー洗浄し（リンス工程）、エアを吹きかけて軽く水切りした（液切り工程）。
【００８２】
−第３工程−
次に、上記水切り後の基板について、以下の第３工程の処理を行った。
すなわち、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈して用い、３３℃３０秒、フラット型ノズル圧力０．１ＭＰａでシャワーで吹きかけながらアクリル毛を有する回転ブラシにより形成された画像を擦って現像残渣の除去を行った。
上記第３工程のシャワーは、前記Ｔ−ＳＤ１の１０倍希釈液を、現像タンク３からポンプにて現像槽３に送り、ノズルから基板に噴出させることにより行った。噴出させた前記Ｔ−ＳＤ１の１０倍希釈液は、再び現像タンク３に回収した。この際、図１には図示していない現像液供給装置から基板１枚あたり１．０ｌのＴ−ＳＤ１の１０倍希釈液を補充しながら、５００枚の連続処理を行った。
【００８３】
引き続き、上記第３工程の処理を施した基板の上面にエアを吹きかけて軽く液切りした後（液切り工程）、２０秒間純水シャワー洗浄し（リンス工程）、エアを吹きかけて軽く水切りした（液切り工程）。
【００８４】
その後、上記水切り後の基板に対して両面から高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量でポスト露光し、さらに、２２０℃、１５分熱処理することにより、ブラック（Ｋ）の画像を有する基板を得た。
【００８５】
以上により、５００枚のブラック（Ｋ）の画像を有する基板を作製した。ここまで完了したところで、現像タンク１，２，３の液を全て捨て、新しい液を２００Ｌ充填した。
【００８６】
＜レッド（Ｒ）画像、グリーン（Ｇ）画像、ブルー（Ｂ）画像の形成＞
上記で得られたブラック（Ｋ）の画像を有する基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、シランカップリング処理無しで純水シャワー洗浄後水切りし、転写材料Ｒ１を用い、Ｋ画像と同じようにしてＲ画像を形成した。同様にして、転写材料Ｇ１、Ｂ１を用いてＧ画像、Ｂ画像を順次形成し、最後に２４０℃５０分の加熱処理をしてカラーフィルタ（以下、「カラーフィルタ基板」ともいう）を完成させた。現像液の補充や交換も前記＜ブラック（Ｋ）画像の形成＞の場合と同じである。
【００８７】
ただし、Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１の現像工程中、第２工程の処理条件はそれぞれ下記の通りである。
・Ｒ１：３４℃、３５ｓ
・Ｇ１：３２℃、３５ｓ
・Ｂ１：２８℃、３５ｓ
【００８８】
≪評価≫
得られたカラーフィルタのうち、処理５００枚目のカラーフィルタのパターン寸法（面内９ポイントについての平均値）と、処理１枚目のカラーフィルタのパターン寸法（面内９ポイントについての平均値）との差を算出することにより、パターン寸法の変動を評価した。
尚、各基板のパターン寸法は、ミカサ（株）製線幅測定システムＭＩＭ−Ｌにて測定した。評価結果を表２に示す。
【００８９】
〔実施例２〕
実施例１の現像工程において、水平面に対し基板を傾斜させずに搬送し、各槽にエアーナイフによる液切り工程を設けない以外は実施例１と同様の処理を行い、Ｋ画素を形成し、パターン寸法の変動を評価した。
【００９０】
〔比較例１〕
実施例１の現像工程において、水平に基板搬送し、第２工程と第３工程との間にリンス工程を入れず、第２工程後（すなわち第３工程前）にエアーナイフによる液切り工程を設けない以外は実施例１と同じ処理を行いＫ画素を形成し、パターン寸法の変動を評価した。
【００９１】
【表２】
2007316437.tif 000003
【００９２】
実施例１のカラーフィルタは色むらもなく、また、表２に示すように、各基板間のＫ、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素サイズ（パターン寸法）の変動も２．５μｍ以内であり、申し分のないものであった。
また、現像工程において基板を傾斜させず、かつ、現像工程の各工程後に液切り工程を設けなかった実施例２のカラーフィルタのＫパターンについては、処理１枚目から５００枚目まで処理枚数とともに画素の幅が太くなる（３．３μｍ）線幅変動が見られ、３００枚以降は非画像部に薄い残渣が発生していたが、実用上許容範囲内であった。実施例２について、前述の「５００枚処理後と初期との濃度比（第２工程）」について調べたところ、Ｔ−ＣＤ１中の炭酸ナトリウムの濃度と炭酸水素ナトリウムの濃度との和は、初期の８０％となっていた。また、前述の「５００枚処理後と初期との濃度比（第３工程）」について調べたところ、Ｔ−ＳＤ１中のノニオン系界面活性剤の濃度は初期の５０％に変化していた。前記濃度の低下は、リンス水の持込が原因であると考えられるが、Ｔ−ＳＤ１（第３工程）の場合は前後工程からの持込があるため、より薄まっていた。これらの要因がパターン形成性及び現像残渣除去性に影響したものと思われる。
実施例１、２に対し、第２工程と第３工程との間にリンス工程を設けなかった比較例１のカラーフィルタ（Ｋパターン）については、処理１枚目から５００枚目まで処理枚数とともにパターン寸法が細くなる（４．８μｍ）線幅変動傾向が見られ、許容範囲を超えていた。すなわち、Ｔ−ＣＤ１（第２工程の処理液）がＴ−ＳＤ１（第３工程の処理液）に多量に混入することにより、過現像となり、パターン寸法が細くなったものと考えられる。
【００９３】
〔実施例３〕
≪スペーサの形成≫
実施例１、実施例２、比較例１で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【００９４】
上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成された各カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上に、下記表３に記載の組成からなるスペーサ処方Ａを用い、実施例１の＜ブラック（Ｋ）画像の形成＞と同様の工程により、転写材料を作製し、露光、現像（第１工程〜第３工程を含む）し、スペーサパターンを形成した。得られたスペーサパターンは、直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状であった。
次に、スペーサパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃で３０分間加熱処理を行い（熱処理工程）、スペーサを形成した。
形成されたスペーサは、実施例１と同様に、過現像が抑制され、パターン寸法の変動も小さかった。
【００９５】
【表３】
2007316437.tif 000004
【００９６】
なお、前記表３に記載の処方中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊顔料１
・シリカゾルの３０％メチルイソブチルケトン分散物
（商品名：ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業株式会社製）
＊バインダー４
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体
（＝２０／８０［モル比］、分子量３６，０００；高分子物質）
＊着色染料
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ（保土谷化学工業株式会社製）
【００９７】
なお、界面活性剤１は上記説明したものと同様である。また、ＤＰＨＡ液の組成は以下の通りである。
＊ＤＰＨＡ液の組成
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）            ・・・７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ・・・２４部
【００９８】
〔実施例４〕
≪液晶配向制御用突起の作製≫
上記より得たスペーサが形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ膜が設けられた側（カラーフィルタ上）に、下記表４に記載の組成からなる下記液晶配向制御用突起処方Ｂを用い、前記ブラック（Ｋ）画像の形成と同様の工程により、転写材料を作製し、転写し、露光した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ２であった。
その後、実施例１の第２工程で用いた炭酸Ｎａ系現像液の代わりに、０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウムと０．０８５ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウムと１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムとを含む水溶液を用いた以外は、実施例１と同様の方法で現像工程の処理を行った。
【００９９】
これにより、カラーフィルタ（ＲＧＢ画素）上に、所望形状にパターニングされた液晶配向制御用突起用感光性樹脂層からなる液晶配向制御用突起を形成した。
次いで、液晶配向制御用突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃で５０分間ベーク処理することにより、カラーフィルタ（ＲＧＢ画素）上には高さ１．５μｍで縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起が形成された。
形成された液晶配向制御用突起は、実施例１と同様に、過現像が抑制され、パターン寸法の変動も小さかった。
【０１００】
【表４】
2007316437.tif 000005
【０１０１】
〔実施例５〕
≪液晶表示装置の作製≫
上記とは別に、対向基板としてＴＦＴ基板を用意した。このＴＦＴ基板の一方の表面は、スパッタリングによりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜が形成されている。
続いて、ＴＦＴ基板のＩＴＯ膜上及び実施例４の各カラーフィルタ基板のスペーサが設けられた側のＩＴＯ膜上に、ポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられているブラックマトリクスの外枠に相当する位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に、カラーフィルタ基板をＴＦＴ基板と貼り合わせた。
次いで、貼り合わされた２枚の基板を熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚の基板の積層体を得た。この積層体を真空下で脱気した後、大気圧に戻して２枚の基板の間隙に液晶を注入した。注入終了後、注入口部分に接着剤を付与し、紫外線照射して封止することにより液晶セルを得た。
このようにして得た液晶セルの両面に、偏光板（ＨＬＣ２−２５１８、株式会社サンリッツ製）を貼り付けた。次いで、図示しないが、赤色（Ｒ）ＬＥＤとしてＦＲ１１１２Ｈ、緑色（Ｇ）ＬＥＤとしてＤＧ１１１２Ｈ、及び青色（Ｂ）ＬＥＤとしてＤＢ１１１２Ｈ（いずれもスタンレー電気株式会社製のチップ型ＬＥＤ）を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置して、本発明のＭＶＡモード液晶表示装置を作製した。
【０１０２】
実施例１で作製したカラーフィルタを用いた液晶表示装置は、比較例１で作製したカラーフィルタを用いた液晶表示装置に比べると良好な表示特性を示すことを確認した。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】実施例の現像工程に用いた現像装置の構成例を表す模式図である。
【図１】
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