(57)【要約】      （修正有）【課題】視野角特性に優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なマイクロレンズ基板の提供、またこのマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタの提供。【解決手段】本発明のマイクロレンズ基板は、多数個のマイクロレンズを備えた基板本体と、前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた側とは反対の面側に設けられた、多数個の開口部を有する遮光膜とを備えたマイクロレンズ基板であって、前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側に、縦方向のストライプ状で、かつ、配列ピッチが４００ｎｍ以下である層が設けられていることを特徴とする。遮光膜は、主として金属元素を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。前記層は、無機材料で構成されたものであるのが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数個のマイクロレンズを備えた基板本体と、前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた側とは反対の面側に設けられた、多数個の開口部を有する遮光膜とを備えたマイクロレンズ基板であって、
前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側に、縦方向のストライプ状で、かつ、配列ピッチが４００ｎｍ以下である層が設けられていることを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項２】
前記遮光膜は、主として金属元素を含む材料で構成されたものである請求項１に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項３】
前記層は、無機材料で構成されたものである請求項１または２に記載のマイクロレンズ基板
【請求項４】
前記層のストライプ１つの幅は、前記配列ピッチの４０〜５０％である請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【請求項５】
前記層の高さは、１００〜１５０ｎｍである請求項１ないし４のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項７】
請求項６に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ基板やマイクロレンズ基板等のレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板（レンズシート）は、複数のレンズが形成された基板本体と、画像のコントラストを向上させる目的で設けられた遮光膜とを備えている（例えば、特許文献１参照）。
この遮光膜には、開口部が設けられており、レンズを透過した光（レンズにより屈折した光）は、該開口部を通過し、外部に出される。
【０００３】
しかしながら、このような遮光膜を有するレンズ基板において、前述した開口部以外にの部位に入射された光が遮光膜と基板本体との間で反射し、この反射光が基板本体内で迷光となり、コントラストを低下させてしまうという問題があった。また、このようなレンズ基板（レンズシート）において、遮光性層（遮光膜）を設けなかった場合には、例えば、黒表示の場合において、深い黒色を表示することができないため、得られる画像のコントラストは著しく低いものとなってしまう。また、レンチキュラレンズを備えたレンズ基板（レンズシート）では、左右の視野角が大きいが上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３５０９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、視野角特性に優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なマイクロレンズ基板を提供すること、また、このようなマイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ基板は、多数個のマイクロレンズを備えた基板本体と、前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた側とは反対の面側に設けられた、多数個の開口部を有する遮光膜とを備えたマイクロレンズ基板であって、
前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側に、縦方向のストライプ状で、かつ、配列ピッチが４００ｎｍ以下である層が設けられていることを特徴とする。
これにより、視野角特性に優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なマイクロレンズ基板を提供することができる。
【０００７】
本発明のマイクロレンズ基板では、前記遮光膜は、主として金属元素を含む材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、光の利用効率をより効果的に高めることができる。
本発明のマイクロレンズ基板では、前記層は、無機材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、ストライプ状の層を容易に形成できるとともに、ストライプ状の層の耐久性を向上させることができる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ基板では、前記層のストライプ１つの幅は、前記配列ピッチの４０〜５０％であることが好ましい。
これにより、Ｐ偏光をより選択的に透過させ、Ｓ偏光をより確実に反射させることができる。
本発明のマイクロレンズ基板では、前記層の高さは、１００〜１５０ｎｍであることが好ましい。
これにより、Ｐ偏光をより選択的に透過させ、Ｓ偏光をより確実に反射させることができる。
【０００９】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、視野角特性に優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、視野角特性に優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明のマイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のマイクロレンズ基板の用途は、特に限定されないが、本実施形態では、マイクロレンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
【００１１】
まず、本発明のマイクロレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板の部分断面図、図４は、図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図４中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１２】
マイクロレンズ基板１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）２１を備えた基板本体２と、マイクロレンズ２１表面に設けられたストライプ層７と、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収する機能を有するブラックマトリックス（遮光膜）３とを備えている。
【００１３】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２の具体的な構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００１４】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜１．９であるのが好ましく、１．４０〜１．７５であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１５】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
マイクロレンズ２１は、いかなる形状を有するものであってもよいが、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００１６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００１７】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００１８】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００１９】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００２０】
上記のように、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、横方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２１】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式、占有率等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、後述するブラックマトリックス３に設けられた開口部（非遮光部）３３の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３３近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３３の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。また、開口部３３の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、開口部３３の面積を小さくすることができる。すなわち、マイクロレンズ基板１を平面視したときの、ブラックマトリックス３（開口部３３以外の領域）で覆われた面積の割合を大きくすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００２２】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましく、９７〜９９．５％であるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が９０％以上であると、マイクロレンズ２１以外を通過する直進光をより少なくすることができ、光利用効率をさらに向上させることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心（頂部の中心）２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００２３】
また、基板本体２の光の入射側の面側（マイクロレンズ２１の表面）には、ストライプ層７が設けられている。
このストライプ層７は、縦方向のストライプ状の層である。
また、ストライプ層７は、配列ピッチが４００ｎｍ以下となっている。
このように本発明では、基板本体のマイクロレンズが設けられた面側に、縦方向のストライプ状で、かつ、配列ピッチが４００ｎｍ以下である層（ストライプ層）が設けられている点に特徴を有している。
このような構成の層は、光の成分のうち、Ｐ偏光を選択的に透過し、Ｓ偏光を反射する機能を有している。すなわち、このような構成の層は、基板本体に照射された光のうち、Ｐ偏光を基板本体に選択的に入射させる機能を有している。
【００２４】
ところで、従来のブラックマトリックスを備えたマイクロレンズ基板では、遮光膜（ブラックマトリックス）の開口部以外にの部位に入射された光が遮光膜と基板本体との間で反射し、この反射光が基板本体内で迷光となり、コントラストを低下させてしまうという問題があった。
そこで本発明者らは、鋭意検討した結果、マイクロレンズ基板が上記のような構成の層を備えることにより、前述のような迷光を少なくすることができることを見出した。これは、以下の理由によるものと考えられる。
【００２５】
すなわち、基板本体に入射した光の大部分は、遮光膜の開口部を通過して外部に出射されるが、一部の光は、図３に示すように、遮光膜に照射され、反射する。この遮光膜に入射された光は、ほとんどＰ偏光であるが、反射することによって、Ｓ偏光の割合が増加する。この遮光膜で反射した光は、図３に示すように、ストライプ層に照射される。この際、遮光膜で反射した光のうち、Ｐ偏光は、そのままストライプ層を透過するが、Ｓ偏光は、ストライプ層で再度反射され、開口部から外部へ出射される。以上のことから、基板本体内部での迷光が減少し、コントラストが低下するのを防止することができるものと考えられる。
【００２６】
本発明のストライプ層（層）は、配列ピッチが４００ｎｍ以下のものであるが、３００ｎｍ以下であるのが好ましく、１５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、本発明の効果がより顕著なものとなる。配列ピッチが前記上限値を超えると、Ｐ偏光を選択的に透過させ、Ｓ偏光を十分に反射させるのが困難となる。
ストライプ層７を構成する材料としては、特に限定されないが、無機材料を用いるのが好ましい。これにより、ストライプ層７を容易に形成することができるとともに、ストライプ層７の耐久性を向上させることができる。
このような無機材料としては、例えば、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル等が挙げられる。
【００２７】
また、ストライプ層７のストライプ１つの幅は、前述した配列ピッチの４０〜５０％であるのが好ましく、４５〜５０％であるのがより好ましい。これにより、Ｐ偏光をより選択的に透過させ、Ｓ偏光をより確実に反射させることができる。
また、ストライプ層７の高さ（厚さ）は、１００〜２００ｎｍであるのが好ましく、１００〜１５０ｎｍであるのがより好ましい。これにより、これにより、Ｐ偏光をより選択的に透過させ、Ｓ偏光をより確実に反射させることができる。
また、基板本体２の光の出射側の面側には、開口部３３を有するブラックマトリックス３が設けられている。
【００２８】
本実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）３は、金属系材料層３１と、反射防止層３２とで構成されている。
金属系材料層３１は、例えば、後述するように気相成膜法により形成することができ、主として金属原子を含む金属系材料で構成されたものである。これにより、ブラックマトリックス３の基板本体２と接する面の光の反射率が高くなる。このように反射率が高いと、ブラックマトリックス３で反射した反射光中におけるＳ偏光の割合を効果的に増加させることができる。そして、Ｓ偏光は、前述したストライプ層７で反射され、開口部３３から外部へ出射させることができる。その結果、より効果的に光の利用効率を高めることができる。
【００２９】
金属系材料層３１を構成する金属系材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＣｒＯ、ＴｉＯ、ＮｉＯ等の金属酸化物等が挙げられる。
金属系材料層３１は、比較的薄い層状に形成されたものである。
金属系材料層３１の平均厚さは、１．０μｍ以下であるのが好ましく、０．０１〜０．１μｍであるのがより好ましい。金属系材料層３１の平均厚さがこのような範囲のものであると、マイクロレンズ２１により屈折した光の一部が、ブラックマトリックス３の開口部３３において、ブラックマトリックス３の壁面（厚さ方向の内面）に入射することにより吸収されてしまうという、いわゆる、ケラレという現象が生じるのをより効果的に防止することができる。
【００３０】
なお、金属系材料層３１は、複数種の材料で構成されたものであってもよく、例えば、主としてクロムで構成された層と、主として酸化クロムで構成された層とを有する積層体であってもよい。金属系材料層３１がこのような構成を有するものであると、ブラックマトリックス３（金属系材料層３１）の耐久性を特に優れたものとすることができるとともに、ブラックマトリックス３の基板本体２と接する面の光の反射率をより高いものとすることができる。
【００３１】
反射防止層３２は、有色の材料で構成されており、外光の反射を防止する機能を有している。言い換えると、反射防止層３２は、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収する機能を有している。このような反射防止層３２を有することにより、ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに特に優れたものとすることができる。
【００３２】
反射防止層３２を構成する有色の材料としては、例えば、各種顔料、各種染料等が上げられる。また、必要に応じて、樹脂材料を含んでいてもよい。
この反射防止層３２は、図１に示すように、開口部３３に向かってその厚さが漸減するよう構成されている。このように反射防止層３２の厚さが開口部３３に向かって漸減するものであると、開口部３３の周縁部におけるブラックマトリックス３の厚さを比較的薄いものとすることができ、その結果、ケラレの発生をより確実に防止することができる。
【００３３】
また、ブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３３を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３３を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。特に、本発明のマイクロレンズ基板は、後述するような本発明の方法により得られたものであるから、開口部の周縁部におけるブラックマトリックスの厚さが比較的薄いものとなっており、ケラレ等の発生が防止され、視野角特性や光の利用効率に特に優れたものとなる。
【００３４】
ブラックマトリックス３の開口部３３は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜８０μｍであるのが好ましく、１５〜６０μｍであるのがより好ましく、２０〜５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
以上説明したようなマイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６０％以上であるのが好ましく、７０％以上であるのがより好ましく、８０〜９５％であるのがさらに好ましい。
【００３５】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図４に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００３６】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のブラックマトリックス３が設けられた面側とは反対の面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。開口部３３を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００３７】
以下、上述したマイクロレンズ基板の製造方法について説明するが、それに先立ち、上述したマイクロレンズ基板の製造に好適に用いることができる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）、および、その製造方法について説明する。
図５は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図６は、図５に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図、図７〜図１０は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７〜図１０中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００３８】
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
【００３９】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部６１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４０】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００４１】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４２】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４３】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４４】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４５】
また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００４６】
また、凹部６１の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００４７】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００４８】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００４９】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図６を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板６０を用意する。
この基板６０は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板６０は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００５０】
＜Ａ１＞用意した基板６０の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板６０の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図６（ａ）、図６（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図６（ａ）に示すように、用意した基板６０の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板６０の表面にマスク形成用膜８０を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図６（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８０に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜８０および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００５１】
マスク形成用膜８０は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８０（マスク８）は、エッチングレートが、基板６０と略等しいか、または、基板６０に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００５２】
かかる観点からは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８０（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５３】
上記のように、マスク形成用膜８０（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８０は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８０を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板６０をより確実に保護することができる）。また、基板６０がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜８０（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板６０との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５４】
マスク形成用膜８０の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８０（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８０（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００５５】
マスク形成用膜８０（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板６０のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８０（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８０（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００５６】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板６０の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板６０の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８０（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８０の形成と同時に、マスク形成用膜８０と同様に設けることができる。
【００５７】
次に、図６（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８０に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００５８】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００５９】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６０】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
【００６１】
＜Ａ２＞次に、図６（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板６０にエッチングを施し、基板６０上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００６２】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板６０に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｃ）に示すように、基板６０は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板６０上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板６０の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板６０をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００６３】
マスク８（マスク形成用膜８０）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００６４】
＜Ａ３＞次に、図６（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
【００６５】
また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００６６】
以上により、図６（ｄ）および図５に示すように、基板６０上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
基板６０上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板６０上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００６７】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００６８】
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図７（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００６９】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００７０】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００７１】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００７２】
＜Ｂ２＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図７（ｂ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００７３】
＜Ｂ３＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６および平板１１を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図７（ｃ）参照）。本工程で除去された凹部付き部材６および平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００７４】
＜Ｂ４＞次に、得られた基板本体２上に、未硬化の感光性樹脂材料（フォトレジスト）を付与し、フォトレジスト層（感光性樹脂層）４を形成する（感光性樹脂層形成工程）。
本実施形態では、フォトレジストとしては、ネガ型のフォトレジストを用いる。
フォトレジスト層４の平均厚さは、０．５〜１０μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜１．０μｍ程度であるのがより好ましい。
なお、形成されたフォトレジスト層に対して、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００７５】
＜Ｂ５＞次に、図８（ｅ）に示すように、基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する（露光工程）。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトレジスト層４が露光され、それ以外の部分のフォトレジスト層４は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトレジスト層４（フォトレジスト）のみが感光する。これにより、露光された部位が硬化し、硬化部４１が形成される。
【００７６】
＜Ｂ６＞次に、光Ｌｂを照射した後、現像を行い、フォトレジスト層４の未硬化の部位を除去する。ここで、このフォトレジスト層４はネガ型のフォトレジストで構成されたものであるので、集光された光が照射された部位以外の部位（未硬化のフォトレジスト）が現像により溶解、除去され、図８（ｆ）に示すように、硬化部４１のみが残る。なお、現像の方法は、フォトレジストの組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００７７】
＜Ｂ７＞次に、基板本体２の前述した硬化部４１を有する面（基板本体２の出射面）に対し、気相成膜法により、金属元素を含む金属系材料を付与し、金属系材料層３１を形成する（金属系材料層形成工程）。
気相成膜法としては、例えば、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が挙げられる。
【００７８】
＜Ｂ８＞次に、図９（ｈ）に示すように、硬化部４１を除去するとともに、硬化部４１上の金属系材料層３１を除去する（開口部形成工程）。これにより、開口部３３が形成される。
この硬化部４１の除去は、例えば、リフトオフ法による現像によって行うことができる。
【００７９】
このような方法で開口部３３を形成することにより、金属系材料で構成された層の所定の部位のみを選択的に除去することができるとともに、形成されるブラックマトリックス３の厚さ（開口部３３付近の厚さ）を比較的薄いものとすることができる。その結果、ケラレ等の問題を解決することができ、光の利用効率、視野角特性に優れるとともに、コントラストに特に優れた画像が得られるマイクロレンズ基板を効率良く得ることができる。
【００８０】
＜Ｂ９＞次に、開口部３３が形成された金属系材料層３１上に親水性材料を付与する。
親水性材料は、親水性を有するものである。本明細書中において、親水性材料とは、水に対する溶解度が小さい液体（例えば、２５℃における水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ以下の液体）に対する親和性よりも、水に対する親和性の方が高い材料のことを指すが、具体的には、当該材料で構成した表面が平滑な膜（例えば、表面粗さＲａが１０μｍ以下の膜）に対する水の接触角が３０°以下となるものであるのが好ましく、２０°以下となるものであるのがさらに好ましい。
【００８１】
金属系材料層３１を構成する金属系材料は、通常、水に対する親和性が低いため、このような親水性材料を開口部３３が形成された金属系材料層３１上に付与した場合、親水性材料は、金属系材料層３１で被覆されていない基板本体２の表面、すなわち、開口部３３内に侵入し、親水性部９を形成する（図９（ｉ）参照）。
なお、親水性材料は、開口部３３付近に選択的に付与するものであってもよいし、金属系材料層３１表面のほぼ全体に付与するものであってもよい。このような場合であっても、金属系材料層３１と親水性材料との親和性が低いものであるため、親水性材料は、第１の膜２との接触を避けるように（基板本体２に接触するように）、開口部３３内に集まり、親水性部９は、開口部３３内に選択的に形成される。
【００８２】
親水性材料の付与方法（親水性部９の形成方法）としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の気相成膜法、電解めっき、無電解めっき等の湿式めっき法等を適用することができる。
親水性材料としては、例えば、水性インク、ゲルインク、顔料インク等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、第１の膜２の構成材料としては、水性インクが好ましい。このような材料は、金属系材料層３１の構成材料、後述する反射防止層３２の構成材料との親和性が特に低いものであるため、本工程において、容易かつ確実により好適な形状の親水性部９を形成することができるとともに、後述する反射防止層形成工程において、容易かつ確実により好適な形状の反射防止層３２を形成することができる。
親水性部４の厚さ（高さ）は、特に限定されないが、１〜１００μｍであるのが好ましく、２〜５０μｍであるのがより好ましく、３〜１０μｍであるのがさらに好ましい。親水性部９の厚さ（高さ）が前記範囲内の値であると、後の反射防止層形成工程において、好適な形状の反射防止層３２をより確実に形成することができる。
【００８３】
＜Ｂ１０＞次に、金属系材料層３１の表面に、有色で親油性の反射防止層形成材料を付与する。
反射防止層形成材料は、親油性を有するものであるため、親水性を有する材料で構成された親水性部９上ではなく、金属系材料層３１の表面に（開口部３３を除く部分の表面）に、選択的に反射防止層３２が形成される（図９（ｊ）参照）。
【００８４】
このように、親水性部９との親和性の違いを利用して反射防止層３２を形成することにより、反射防止層３２は、図９（ｈ）に示すように、開口部３３に向かって、厚さが漸減するように形成されたものとなる。これにより、開口部３３の周縁部におけるブラックマトリックス３の厚さを比較的薄いものとすることができ、その結果、ケラレの発生をより確実に防止することができる。
【００８５】
反射防止層形成材料としては、有色のものであれば良く、例えば、有色の成分（例えば、各種顔料、各種染料等）と、実質的に無色（透明）の成分（例えば、樹脂材料）とを含むものであってもよい。また、反射防止層形成材料は、溶媒、分散媒等の液状媒体を含むものであってもよい。これにより、反射防止層形成材料の流動性を好適に調節することができ、均一な厚さの反射防止層３２を、容易かつ確実に形成することができる。
【００８６】
反射防止層３２は、反射防止層形成材料を付与することにより形成することができる。なお、第２の材料の付与後、必要に応じて加熱処理、冷却処理、減圧処理等の処理を施してもよい。反射防止層３２の形成方法（反射防止層形成材料の付与方法）としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の気相成膜法、電解めっき、無電解めっき等の湿式めっき法等を適用することができる。
【００８７】
＜Ｂ１１＞次に、図９（ｋ）に示すように、親水性部９を除去する（親水性部除去工程）。これにより、開口部３３を有し、金属系材料層３１と反射防止層３２とで構成されたブラックマトリックス３が形成される。
親水性部９の除去は、例えば、水性の液体（例えば、水、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒等）による洗浄や、加熱処理等により行うことができる。
【００８８】
＜Ｂ１２＞次に、図１０（ｌ）に示すように、マイクロレンズ２１が設けられている側の面に、無機材料で構成されたストライプ層形成用層７０を形成する。
ストライプ層形成用層７０は、例えば、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の気相成膜法により形成することができる。
＜Ｂ１３＞次に、図１０（ｍ）に示すように、ストライプ層形成用層７０上に、レジストを塗布し、レジスト層７１を形成する。
その後、レーザ光の２光束干渉露光法により露光し、エッチングを施す。これにより、図１０（ｎ）に示すように、ストライプ層７が形成される。
以上のようにして、図１０（ｎ）、図１に示したようなマイクロレンズ基板１が得られる。
【００８９】
以下、前述したような透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１１は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【００９０】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、本実施形態では、上記のような構成を有しているので、視野角特性、光利用効率等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【００９１】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、マイクロレンズ基板の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
【００９２】
また、前述した実施形態では、ストライプ層が基板本体の表面に形成されたものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板は、これに限定されず、基板本体とは別の部材上に設けられたものと、基板本体とを組み合わせたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、遮光膜（ブラックマトリックス）が、金属系材料層と反射防止層とで構成されたものとして説明したが、反射防止層はなくてもよく、遮光膜は、金属系材料層のみで構成されたものであってもよい。この場合、例えば、金属系材料層を構成する金属系材料として、有色の材料を用いることにより、金属系材料層自体に反射防止機能を付与してもよい。
【００９３】
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に樹脂材料等の組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、レンズ基板を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板の製造において、凹部付き部材を除去するものとして、凹部付き部材は必ずしも除去しなくてもよい。言い換えると、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
【００９４】
また、前述した実施形態では、開口部の形成を、基板本体から凹部付き部材を取り除いた後に行うものとして説明したが、開口部の形成は、凹部付き部材を取り除く前に行ってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【００９５】
また、本発明のレンズ基板、透過型スクリーンは、基板本体を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部、拡散板を有するものであってもよい。このような構成であると、例えば、透過型スクリーン、リア型プロジェクタの視野角特性を特に優れたものとすることができる。
また、前述した実施形態では、レンズ基板（マイクロレンズ基板）は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【００９６】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【００９７】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスクおよび裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【００９８】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギ強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ５０Åの凹部および変質層も形成した。
【００９９】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５６μｍ、長軸方向の長さは６４μｍ、曲率半径は３６μｍ、深さは３６μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１００】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図２に示すような、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。得られた凹部付き部材を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が９７％であった。
【０１０１】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のスチレン−メチルメタクリレート共重合体で構成された組成物を付与した。この際、スチレン−メチルメタクリレート共重合体の硬化物で構成された略球形状のスペーサー（直径５０μｍ）を、凹部付き部材のほぼ全面に配しておいた。また、スペーサーは、約３個／ｃｍ２の割合で配した。
【０１０２】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板と組成物との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、組成物を押圧する側の面に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（離型処理）が施されたものを用いた。
その後、１２０℃に加熱することにより、組成物を硬化させ、多数個のマイクロレンズを備えた基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の組成物）の屈折率ｎ１は、１．５５７であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは５０μｍであった。また、扁平形状（略楕円形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５６μｍ、長軸方向の長さが６４μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。
【０１０３】
次に、基板本体から、平板、凹部付き部材を取り外した。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、フォトレジスト（感光性樹脂材料）を、ロールコーターにより付与し、感光性樹脂層を形成した（感光性樹脂層形成工程）。なお、フォトレジストとしては、東京応化社製の商品名「ＣＦＰＲシリーズ」を用いた。また、形成した感光性樹脂層の平均厚さは、２μｍであった。
【０１０４】
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている側の面から、基板本体の入射側の面から、８０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した（露光工程）。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ近傍の感光性樹脂材料を選択的に露光し、硬化部を形成した。
次に、現像処理を施し、硬化部（フォトレジスト層の露光された部位）以外の部位を除去した（未硬化樹脂除去工程）。
【０１０５】
次に、基板本体の、硬化部が形成されている側の表面に、クロム（Ｃｒ）／酸化クロム（ＣｒＯ）の積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）で構成される金属系材料層を、スパッタリング法により形成した（金属系材料層形成工程）。この金属系材料層を構成するクロム層の厚さは、０．０１５μｍ、酸化クロム層の厚さは、０．０４５μｍであった。
【０１０６】
次に、リフトオフ法により、硬化部を除去するとともに、硬化部上の金属系材料層（金属系材料）を除去し、開口部を形成した（開口部形成工程）。
次に、開口部が形成された金属系材料層上に、親水性材料を刷毛塗りにより付与した。親水性材料としては、水性インクを用いた。
これにより、親水性材料は、金属系材料層で被覆されていない基板本体の表面、すなわち、金属系材料層の開口部内に侵入した。
【０１０７】
次に、金属系材料層の表面に、有色で親油性の反射防止層形成材料をスピンコートにより付与し、金属系材料層上（開口部を除く部分の表面上）に反射防止層を形成した。反射防止層形成材料としては、凸版インクを用いた。これにより、ブラックマトリックスが形成された。なお、形成された反射防止層は、図１に示すように開口部に向かって、厚さが漸減するものであった。
【０１０８】
次に、水洗により、親水性部を除去した。
次に、蒸着法により、アルミニウムで構成されたを形成し、ストライプ層形成用層を成膜した。
次に、形成したストライプ層形成用層上に、レジストを塗布し、レジスト層を形成し、その後、レーザ光の２光束干渉露光法により露光し、エッチングを施した。これにより、ストライプ層が形成された。
【０１０９】
形成されたストライプ層の配列ピッチは、１５０ｎｍで、ストライプ１つの幅は、７５ｎｍで、高さ（厚さ）は、１５０ｎｍであった。
以上のようにして、図１、図２に示すようなマイクロレンズ基板を得た。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図４に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１１０】
（実施例２〜４）
凹部付き部材を形成する際のレーザ光の照射条件（形成される初期孔の形状、初期凹部の深さ）、エッチング液への浸漬時間を変更することにより、凹部付き部材の凹部の形状、配列パターンを変更し、これにより、マイクロレンズ基板に形成されるマイクロレンズの形状、配列パターン等を表１に示すようにし、金属系材料層形成工程において金属系材料層の構成等を表１に示すようにし、また、ストライプ層の形成材料、ストライプ層形成用層の厚さ、２光束干渉露光法による露光の条件を変更し、ストライプ層の構成を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例５）
反射防止層を形成せずに、開口部を形成した金属系材料層をブラックマトリックスとした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１１１】
（比較例１）
ストライプ層を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（比較例２）
２光束干渉露光法による露光の条件を変更することにより、ストライプ層の配列ピッチを表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、製造されたマイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの形状、配列パターン、ブラックマトリックスの構成、ストライプ層の構成等を表１にまとめて示す。
【０１１２】
【表１】
2007199212.tif 000003
【０１１３】
［光の利用効率の評価］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンについて、光の利用効率の評価を行った。
光の利用効率の評価は、Ａ（＝３００）［ｃｄ／ｍ２］の白色光を入射させた際、透過型スクリーンの光の出射面側で測定される光の輝度Ｂ［ｃｄ／ｍ２］の比率（Ｂ／Ａ）を求めることにより行った。Ｂ／Ａの値が大きいほど、光の利用効率が優れているといえる。
【０１１４】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図９に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
【０１１５】
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１１６】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
【０１１７】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１１８】
【表２】
2007199212.tif 000004
【０１１９】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、光の利用効率に優れるとともに、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、回折光、モアレ、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板の部分断面図である。
【図４】図１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図５】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図５に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１…マイクロレンズ基板  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ  ２３…組成物  ２４…基材フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…金属系材料層  ３２…反射防止層  ３３…開口部  ４…感光性樹脂層（フォトレジスト層）  ４１…硬化部  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６０…基板  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７…ストライプ層  ７０…ストライプ層形成用層  ７１…レジスト層  ８…マスク  ８０…マスク形成用膜  ８１…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ９…親水性部  １１…平板  １０…透過型スクリーン  ２１１…中心  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
2007199212.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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