(57)【要約】  【課題】感光性フィルムロールの端面融着の発生を防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れる感光性フィルムロール状加工物及び該感光性フィルムロールの梱包方法を提供。  【解決手段】  支持体と、該支持体上に、波長３９０〜４２０ｎｍに感光度の極大を有し、青紫色レーザ感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２である感光層を有する感光性フィルムをロール状に巻き取った感光性フィルムロールにおいて、該感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートを有し、該端面融着防止用シートの少なくとも片面が離型性を有し、該端面融着防止用シートにおいて離型性を有する面を前記感光性フィルムロールの端面に接触させることを特徴とする感光性フィルムロール等である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に、波長３９０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有し、青紫色レーザ感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２である感光層とを有する感光性フィルムをロール状に巻き取った感光性フィルムロールにおいて、
該感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートを有し、
該端面融着防止用シートの少なくとも片面が離型性を有し、
該端面融着防止用シートにおいて離型性を有する面を前記感光性フィルムロールの端面に接触させることを特徴とする感光性フィルムロール状加工物。
【請求項２】
端面融着防止用シートと感光層との剥離強度が、１〜３００ｇ／４．５ｃｍである請求項１に記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項３】
端面融着防止用シートの離型性を有する面の表面張力が、１５〜４０ｄｙｎ／ｃｍである請求項１から２のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項４】
端面融着防止用シートが離型剤を含有する離型剤層を有し、該離型剤層の厚みが０．００５〜２μｍである請求項１から３のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項５】
離型剤が、シリコーン系化合物、及びフッ素含有化合物のいずれかである請求項４に記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項６】
フッ素含有化合物が、クロロトリフルオロエチレンとプロピオン酸ビニルと脂肪酸ビニルとマレイン酸モノブチルとからなる共重合体、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−エポキシプロパン、及びＮ−プロピル−Ｎ−（２，３−エポキシプロピル）パーフルオロオクタンスルホンアミドから選択される少なくとも１種の化合物である請求項５に記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項７】
フッ素含有化合物からなる離型剤層が、架橋剤を含有し、該架橋剤の含有量が、離型剤層全固形分に対して、５〜８０質量％である請求項５から６のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項８】
シリコーン系化合物が、ジメチルシロキサン構造を有する硬化型シリコーン樹脂である請求項５に記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項９】
離型剤の含有量が、離型剤層全固形分に対して、２０〜１００質量％である請求項５から８のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１０】
感光性フィルムが、感光層の上に保護層を有し、感光層と支持体との剥離力が、感光層と保護層との剥離力より大きい請求項１から９のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１１】
感光層が、少なくともアルカリ可溶性バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤とを含む請求項１から１０のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１２】
感光層が、エポキシ樹脂に、（メタ）アクリル酸を反応させ、その後、多塩基酸無水物を反応させて得られる生成物を含有する請求項１から１１のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１３】
感光層の室温における粘度が、１０３〜１０５Ｐａ・ｓである請求項１から１２のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１４】
支持体が、離型性表面を有する請求項１から１３のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１５】
支持体が、ロールの外面になるように巻き取られた請求項１から１４のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１６】
端面融着防止用シートが、感光性フィルムロールの端面と同サイズ、及び感光性フィルムロールの端面より大きいサイズのいずれかである請求項１から１５のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物を、水蒸気透過率が３０ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下のシートで包装し、ブッシュで支えることを特徴とする感光性フィルムロール状加工物の梱包方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、端面融着防止用シートを有する感光性フィルムロール状加工物、及び該感光性フィルムロール状加工物の梱包方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、配線パターン、保護膜、絶縁膜、などを形成するに際して、支持体上に感光性樹脂組成物を塗布、乾燥することにより感光層を形成させたパターン形成材料（以下、感光性フィルムと称する。）が用いられている。前記配線パターンの製造方法としては、例えば、前記配線パターンが形成される銅張積層板等の基体上に、前記感光性フィルムを積層させて感光性積層体を形成し、該感光性積層体における前記感光層に対して露光を行い、該露光後、前記感光層を現像してパターンを形成させ、その後エッチング処理等を行うことにより前記配線パターンが形成される。
【０００３】
前記感光性フィルムは、通常、ロール状に巻かれて保存される。このような感光性フィルムロールは、保存中に感光性組成物がロールの端面から染み出し、ロールの端部で層間が接着してしまい、使用時にロールが巻き戻せなかったり、巻き戻しの作業性が悪くなるという問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、感光性フィルムにおける感光層自体の溶融粘度を高めることでコールドフローを抑止する方法が提案されている。しかし、この方法では、感光層の溶融粘度が高いため、粗面基板や凹凸基板へのラミネーション時の埋め込み性が不十分であり、また高感度を有する感光性フィルムでは溶融粘度が高いと高感度を維持することが困難であるため、感度が不十分になるという問題があった。
【０００５】
そこで、感光性フィルムロールの端面を膠着カバーフィルムで覆う方法(特許文献１参照)、乾燥剤を入れた防水容器に感光性フィルムロールを入れる方法(特許文献２参照)、感光性フィルムロールの端面をシート状の乾燥剤で覆う方法(特許文献３参照)、感光性フィルムロールの端面に低透湿シートを配置する方法(特許文献４参照)等が提案されている。
しかしながら、前記感光性フィルムロールの端面を膠着カバーフィルムで覆う方法では、膠着カバーフィルムで覆うときに接着剤を用いるが、該接着剤のむらの影響を受けやすく、端面を十分に覆うことができず、また感光性フィルムロールの端面の中心部に対する融着防止効果が低いという問題があった。また、前記乾燥剤を入れた防水容器に感光性フィルムロールを入れる方法では、該防水容器全体の湿度を所定以下に維持する必要があり、大変手間がかかり、効率が悪く、また該防水容器全体の湿度は容器の材質や構造の影響を受けやすいく湿度を所定以下に維持することが容易ではないという問題があった。また前記感光性フィルムロールの端面をシート状の乾燥剤で覆う方法では、乾燥剤からゴミが発生しやすく、感光性フィルムの品質を損なう等の問題点があった。また、感光性フィルムロールの端面に低透湿シートを配置する方法では、高感度の感光性フィルムロールの端面の融着を十分に防ぐことができなかった。
【０００６】
したがって、感光性フィルムロールの端面融着の発生を防ぐことができ、青紫色レーザに対して高感度を示す感光性フィルムロール及び該感光性フィルムロールの梱包方法は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。
【特許文献１】特開昭６１−９５３４５号公報
【特許文献２】特開昭６２−４４７３６号公報
【特許文献３】特開平２−５４２５５号公報
【特許文献４】特開２００２−３７３７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、感光性フィルムロールの端面融着の発生を防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れる感光性フィルムロール状加工物及び該感光性フィルムロール状加工物の梱包方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体と、該支持体上に、波長３９０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有し、青紫色レーザ感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２である感光層を有する感光性フィルムをロール状に巻き取った感光性フィルムロールにおいて、該感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートを有し、該端面融着防止用シートの少なくとも片面が離型性を有し、該端面融着防止用シートにおいて離型性を有する面を前記感光性フィルムロールの端面に接触させることを特徴とする感光性フィルムロールである。
＜２＞  端面融着防止用シートと感光層との剥離強度が、１〜３００ｇ／４．５ｃｍである前記＜１＞に記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜３＞  端面融着防止用シートの離型性を有する面の表面張力が、１５〜４０ｄｙｎ／ｃｍである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜４＞  端面融着防止用シートが離型剤を含有する離型剤層を有し、該離型剤層の厚みが０．００５〜２μｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜５＞  離型剤が、シリコーン系化合物、及びフッ素含有化合物のいずれかである前記＜４＞に記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜６＞  フッ素含有化合物が、クロロトリフルオロエチレンとプロピオン酸ビニルと脂肪酸ビニルとマレイン酸モノブチルとからなる共重合体、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−エポキシプロパン、及びＮ−プロピル−Ｎ−（２，３−エポキシプロピル）パーフルオロオクタンスルホンアミドから選択される少なくとも１種の化合物である前記＜５＞に記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜７＞  フッ素含有化合物からなる離型剤層が、架橋剤を含有し、該架橋剤の含有量が、離型剤層全固形分に対して、５〜８０質量％である前記＜５＞から＜６＞のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜８＞  シリコーン系化合物が、ジメチルシロキサン構造を有する硬化型シリコーン樹脂である前記＜５＞に記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜９＞  離型剤の含有量が、離型剤層全固形分に対して、２０〜１００質量％である前記＜５＞から＜８＞のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物である。
＜１０＞  感光性フィルムが、感光層の上に保護層を有し、感光層と支持体との剥離力が、感光層と保護層との剥離力より大きい前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１１＞  感光層が、少なくともアルカリ可溶性バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤とを含む前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１２＞  感光層が、エポキシ樹脂に、（メタ）アクリル酸を反応させ、その後、多塩基酸無水物を反応させて得られる生成物を含有する前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１３＞  感光層の室温における粘度が、１０３〜１０５Ｐａ・ｓである前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１４＞  支持体が、離型性表面を有する前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１５＞  支持体が、ロールの外面になるように巻き取られた前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１６＞  端面融着防止用シートが、感光性フィルムロールの端面と同サイズ、及び感光性フィルムロールの端面より大きいサイズのいずれかである前記＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールである。
＜１７＞  前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の感光性フィルムロールを、水蒸気透過率が３０ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下のシートで包装し、ブッシュで支えることを特徴とする感光性フィルムロール状加工物の梱包方法である。
【０００９】
＜１８＞  前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の感光性フィルムロール状加工物における感光層を、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、露光し、現像することを特徴とするパターン形成方法である。
＜１９＞  露光が、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる前記＜１８＞に記載のパターン形成方法である。
該＜１９＞に記載のパターン形成方法においては、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部が指定され、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部が制御される。前記露光ヘッドを、前記感光層に対し走査方向に相対的に移動させて露光が行われることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜２０＞  露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記＜１９＞に記載のパターン形成方法である。
該＜２０＞に記載のパターン形成方法においては、露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部が指定されることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上のヘッド間つなぎ領域に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜２１＞  露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記＜２０＞に記載のパターン形成方法である。
該＜２１＞に記載のパターン形成方法においては、露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部が指定されることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上のヘッド間つなぎ領域以外に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜２２＞  設定傾斜角度θが、Ｎ重露光数のＮ、描素部の列方向の個数ｓ、前記描素部の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッドを傾斜させた状態において該露光ヘッドの走査方向と直交する方向に沿った描素部の列方向のピッチδに対し、次式、ｓｐsinθideal≧Ｎδを満たすθidealに対し、θ≧θidealの関係を満たすように設定される前記＜１９＞から＜２１＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２３＞  Ｎ重露光のＮが、３以上の自然数である前記＜２１＞から＜２２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜２３＞に記載のパターン形成方法においては、Ｎ重露光のＮが、３以上の自然数であることにより、多重描画が行われる。この結果、埋め合わせの効果により、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが、より精密に均される。
【００１０】
＜２４＞  使用描素部指定手段が、
描素部により生成され、被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点位置を、被露光面上において検出する光点位置検出手段と、
前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段と
を備える前記＜２１＞から＜２３＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２５＞  使用描素部指定手段が、Ｎ重露光を実現するために使用する使用描素部を、行単位で指定する前記＜２１＞から＜２３＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
【００１１】
＜２６＞  光点位置検出手段が、検出した少なくとも２つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす実傾斜角度θ´を特定し、描素部選択手段が、前記実傾斜角度θ´と設定傾斜角度θとの誤差を吸収するように使用描素部を選択する前記＜２４＞から＜２５＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２７＞  実傾斜角度θ´が、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度の平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかである前記＜２５＞に記載のパターン形成方法である。
＜２８＞  描素部選択手段が、実傾斜角度θ´に基づき、ｔtanθ´＝Ｎ（ただし、ＮはＮ重露光数のＮを表す）の関係を満たすｔに近い自然数Ｔを導出し、ｍ行（ただし、ｍは２以上の自然数を表す）配列された描素部における１行目から前記Ｔ行目の前記描素部を、使用描素部として選択する前記＜２６＞から＜２７＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２９＞  描素部選択手段が、実傾斜角度θ´に基づき、ｔtanθ´＝Ｎ（ただし、ＮはＮ重露光数のＮを表す）の関係を満たすｔに近い自然数Ｔを導出し、ｍ行（ただし、ｍは２以上の自然数を表す）配列された描素部における、（Ｔ＋１）行目からｍ行目の前記描素部を、不使用描素部として特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する前記＜２６＞から＜２７＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
【００１２】
＜３０＞  描素部選択手段が、複数の描素部列により形成される被露光面上の重複露光領域を少なくとも含む領域において、
（１）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、使用描素部を選択する手段、
（２）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、使用描素部を選択する手段、
（３）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、使用描素部を選択する手段、及び
（４）理想的なＮ重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じないように、使用描素部を選択する手段
のいずれかである前記＜２４＞から＜２９＞に記載のパターン形成方法である。
＜３１＞  描素部選択手段が、複数の露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、
（１）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
（２）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
（３）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、及び、
（４）理想的なＮ重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
のいずれかである前記＜２４＞から＜３０＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜３２＞  不使用描素部が、行単位で特定される前記＜３１＞に記載のパターン形成方法である。
【００１３】
＜３３＞  使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、（Ｎ−１）列毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光を行う前記＜１９＞から＜３２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜３３＞に記載のパターン形成方法においては、使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、（Ｎ−１）列毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光が行われ、略１重描画の単純なパターンが得られる。この結果、前記ヘッド間つなぎ領域における前記描素部が容易に指定される。
＜３４＞  使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、１／Ｎ行毎の描素部行を構成する前記描素部のみを使用して参照露光を行う前記＜１９＞から＜３２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜３４＞に記載のパターン形成方法においては、使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、１／Ｎ行毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光が行われ、略１重描画の単純なパターンが得られる。この結果、前記ヘッド間つなぎ領域における前記描素部が容易に指定される。
【００１４】
＜３５＞  使用描素部指定手段が、光点位置検出手段としてスリット及び光検出器、並びに描素部選択手段として前記光検出器と接続された演算装置を有する前記＜１９＞から＜３４＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜３６＞  Ｎ重露光のＮが、３以上７以下の自然数である前記＜１９＞から＜３５＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
【００１５】
＜３７＞  光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる前記＜１９＞から＜３６＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜３８＞  パターン情報が表すパターンの所定部分の寸法が、指定された使用描素部により実現できる対応部分の寸法と一致するように前記パターン情報を変換する変換手段を有する前記＜１９＞から＜３７＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
【００１６】
＜３９＞  光変調手段が、空間光変調素子である前記＜１９＞から＜３８＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜４０＞  空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜３９＞に記載のパターン形成方法である。
＜４１＞  描素部が、マイクロミラーである前記＜１９＞から＜４０＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
【００１７】
＜４２＞  光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜１９＞から＜４１＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜４２＞に記載のパターン形成方法においては、前記光照射手段が２以上の光を合成して照射可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、極めて高精細なパターンが形成される。
＜４３＞  光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する前記＜１９＞から＜４２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜４３＞に記載のパターン形成方法においては、前記光照射手段により、前記複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームが前記集合光学系により集光され、前記マルチモード光ファイバに結合可能とすることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、極めて高精細なパターンが形成される。
【００１８】
＜４４＞  前記＜１８＞から＜４３＞のいずれかに記載のパターン形成方法により形成されたことを特徴とするパターンである。
【００１９】
本発明の感光性フィルムロール状加工物は、支持体と、該支持体上に、特定の波長に感光度の極大を有し、青紫色レーザ感度が高い感光層とを有する感光性フィルムをロール状に巻き取った感光性フィルムロールにおいて、該感光性フィルムロールの端面に少なくとも片面が離型性を有する端面融着防止用シートを有しするものであり、該端面融着防止用シートにおいて離型性を有する面を前記感光性フィルムロールの端面に接触させるので、前記感光性フィルムロールの端面融着の発生を効果的に防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れ、配線パターン、保護膜、絶縁膜、などの高精細なパターンの形成などに好適に用いることができる。
【００２０】
本発明の感光性フィルムロール状加工物の梱包方法は、本発明の感光性フィルムロール状加工物を特定の水蒸気透過率を有するシートで包装し、該感光性フィルムロール状加工物を包装したものをブッシュで支えるので、前記感光性フィルムロールの端面融着の発生を効果的に防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れる感光性フィルムロール状加工物の保存に優れ、配線パターン、保護膜、絶縁膜、などの高精細なパターンの形成などに好適に用いることができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、従来における前記問題を解決することができ、感光性フィルムロールの端面融着の発生を防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れる感光性フィルムロール状加工物及び該感光性フィルムロール状加工物の梱包方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
（感光性フィルムロール状加工物）
本発明の感光性フィルムロール状加工物は、支持体と、該支持体上に、波長３９０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有し、青紫色レーザ感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２である感光層とを有する感光性フィルムをロール状に巻き取った感光性フィルムロールにおいて、該感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートを有するものである。
該端面融着防止用シートの少なくとも片面が離型性を有し、該端面融着防止用シートにおいて離型性を有する面を前記感光性フィルムロールの端面に接触させてなることを特徴とする。
【００２３】
［端面融着防止用シート］
前記端面融着防止用シートとしては、少なくとも片面が離型性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択できる。
前記端面融着防止用シートと感光層との剥離強度としては、１〜３００ｇ／４．５ｃｍであることが好ましい。前記剥離強度が１ｇ／４．５ｃｍ未満であると、感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートが十分に接着せずに、端面の融着を十分に防止できないことがあり、３００ｇ／４．５ｃｍを超えると、感光性フィルムロールと端面に端面融着防止用シートとの親和性が強くなり、端面融着が生じ易くなることがある。
前記端面融着防止用シートの離型性を有する面の表面張力としては、１５〜４０ｄｙｎ／ｃｍであることが好ましく、１６〜３０ｄｙｎ／ｃｍであることがより好ましい。前記表面張力が１５ｄｙｎ／ｃｍ未満であると、感光性フィルムロールの端面に端面融着防止用シートが十分に接着せず、端面融着を十分に防止できないことがあり、４０ｄｙｎ／ｃｍを超えると、感光性フィルムロールと端面に端面融着防止用シートとの親和性が強くなり、端面融着が生じ易くなることがある。
【００２４】
前記端面融着防止用シートの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円形、多角形などが挙げられる。また、感光性フィルムをロール状に巻くときに巻き芯を用いる場合、前記端面融着防止用シートの形状は該巻き芯に当たる部分に穴が開いてるものが好ましい。
前記端面融着防止用シートの構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、単層、多層、などが挙げられる。
前記端面融着防止用シートの大きさとしては、前記感光性フィルムロールの端面と同じ大きさ、又は前記感光性フィルムロールの端面より大きければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００２５】
前記端面融着防止用シートの材料としては、例えば、離型性材料であるポリエステルフィルム（特開２０００−９４５０７号公報参照）、ポリオレフィンなどの離型性樹脂とポリエステルとの共押出により製造される多層積層フィルム（特開平６−１６１０９６、特開平６−２３６０２６、特開平９−９６９０７の各号公報参照）、離型剤層を塗布したポリエステルフィルム（特開平２−８３５４６、特開平１０−５３６３９、特開２００３−１９１４２３，特開２００４−５３８９７各号公報参照）、などが挙げられる。
【００２６】
前記ポリエステルフィルムの材料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ホモポリエステル、共重合ポリエステルなどを挙げられる。
前記ホモポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが挙げられる。
前記芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられる。
前記脂肪酸グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。
前記ポリエステルフィルムの材料の具体的としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）などを用いることができる。
【００２７】
前記離型剤層を塗布したポリエステルフィルムは、離型剤やポリエステルの種類を選ぶことで容易に表面張力、剥離強度を調節することが可能であり、感光層の性質に最適な端面融着防止シートを選定することができる。
前記離型剤層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００５〜２μｍが好ましく、０．０１〜０．５μｍがより好ましい。前記離型剤層の厚みが、０．００５μｍ未満であると、スティックが発生しやすく、感光性組成物と離型剤層との離型性が十分に得られないことがある、２μｍを超えると、耐ブロッキング性が不十分となることがある。
前記離型剤層としては、離型剤を主に含んでなり、必要に応じてその他の成分を含んでもよい。
前記離型剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の離型剤の中から適宜選択することができ、例えば、シリコーン系化合物、フッ素含有化合物、オレフィン系樹脂、ワックス類、ポリビニルカルバメート類、クロム錯体、などが挙げられる。これらの中でも、感光性組成物と離型剤層との離型性を十分に得るためには、シリコーン系化合物、フッ素含有化合物が好ましい。これらは、１種単独でもよいし、２種以上併用してもよい。
前記離型剤の種類及び含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、離型剤層の表面張力が１５〜４０ｄｙｎ／ｃｍで、且つ前記離型剤層を塗布したポリエステルフィルムと前記感光層との剥離強度が１〜３００ｇ／４．５ｃｍになるように適宜選択することが好ましい。
前記表面張力の測定方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、協和界面科学株式会社製自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３により測定する方法が挙げられる。
前記剥離強度の測定方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、ＪＩＳ  Ｋ−６８５４−２の試験方法に準じた方法が挙げられる。
前記離型剤の含有量としては、離型剤層全固形分に対して、例えば、２０〜１００質量％であることが好ましい。
【００２８】
＜シリコーン系化合物を主成分とする離型剤層＞
前記シリコーン系化合物を主成分とする離型剤層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、シリコーン系化合物、必要に応じて、剥離コントロール剤、バインダー、架橋剤、無機系粒子、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、有機系潤滑剤、有機系高分子粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤発泡剤、染料等が挙げられる。
【００２９】
前記シリコーン系化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のシリコーン系化合物の中から適宜選択することができるが、例えば、ジメチルシロキサン構造を有する硬化型シリコーン樹脂が好ましい。
前記硬化型シリコーン樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の硬化型シリコーン樹脂の中から適宜選択することができ、例えば、硬化型シリコーン樹脂を主成分とするもの、有機樹脂のグラフト重合等による変性シリコーン樹脂を主成分とするものが挙げられる。
前記硬化型シリコーン樹脂を主成分とするものに用いられる硬化型シリコーン樹脂の種類としては、例えば、付加型、縮合型、紫外線硬化型、電子線硬化型、無溶剤型、等が挙げられる。
前記有機樹脂のグラフト重合等による変性シリコーン樹脂に用いられる有機樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の有機樹脂の中から適宜選択することができ、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、等が挙げられる。
【００３０】
前記硬化型シリコーン樹脂としては、市販されたものを用いてもよく、例えば、信越化学工業株式会社製の、ＫＳ−７７４、ＫＳ−７７５、ＫＳ−７７８、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８５６、Ｘ−６２−２４２２、Ｘ−６２−２４６１、ダウ・コーニング・アジア株式会社製の、ＤＫＱ３−２０２、ＤＫＱ３−２０３、ＤＫＱ３−２０４、ＤＫＱ３−２０５、ＤＫＱ３−２１０、東芝シリコーン株式会社製の、ＹＳＲ−３０２２、ＴＰＲ−６７００、ＴＰＲ−６７２０、ＴＰＲ−６７２１、東レ・ダウ・コーニング株式会社製の、ＳＤ７２２０、ＳＤ７２２６、ＳＤ７２２、等が挙げられる。
【００３１】
前記硬化型シリコーン樹脂としては、離型剤層の離型性を調整するために、剥離コントロール剤を併用することが好ましい。
前記剥離コントロール剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、シロキサン構造を有するシリコーン系化合物が挙げられる。
前記シロキサン構造を有するシリコーン系化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される構造が挙げられる。
［ＲｍＳｉＯ（４−ｍ）／２］  一般式（１）
ただし、前記一般式（１）中、Ｒは、珪素原子に直接結合し、ラジカル重合性のない、非置換又は置換の炭化水素基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。
前記ｍの値は、前記一般式（１）で表される四官能性のシロキサン構造単位を有するシリコーン系化合物が、離型剤層がより緻密な塗膜を形成し、オリゴマー析出防止効果が一層向上する点で、０（以下、４官能性（Ｑ単位）と略記する場合がある。）であることが好ましい。前記ｍの値が、１以上（一官能性（Ｍ単位）、二官能性（Ｄ単位）、及び三官能性（Ｔ単位））であると、離型剤層自体からオリゴマーが析出することがあり、高温で保護フィルムを熱処理すると、離型剤層表面からのオリゴマー析出量がさらに増加することがある。
前記シリコーン系化合物としては、反応性を有するレジンタイプのものが挙げられる。
【００３２】
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリアルキレングリコール、ポリアルキレンイミン、メチルセルロース、ヒドロキシセルロース、でんぷん類、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリレート、塩素系ポリマー、ポリオレフィンなどが挙げられる。
前記塩素系ポリマーとしては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体などが挙げられる。
【００３３】
前記架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の架橋剤の中から適宜選択することができ、例えば、メチロール化又はアルキロール化した尿素系化合物、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、アクリルアミド系化合物、ポリアミド系化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、ブロックポリイソシアネート、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコ−アルミネートカップリング剤などが挙げられる。また、前記架橋剤は、予め前記バインダーと結合していてもよい。
【００３４】
前記シリコーン系化合物を主成分とする離型剤層は、塗布層の固着性、滑り性を調整するために、前記無機系粒子を含有することが好ましい。
前記無機系粒子としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、シリカ、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタン、バリウム塩などが挙げられる。
【００３５】
前記離型剤層の具体例としては、硬化型シリコーン樹脂にＱ単位のシロキサン構造を有するシリコーン系化合物を添加したものが挙げられる。
前記Ｑ単位を有するシリコーン系化合物の含有量としては、前記離型剤層の全固形分に対して、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。前記Ｑ単位を有するシリコーン系化合物の含有量が、１０質量％以上であると、オリゴマー析出防止効果が向上し、１０質量％未満であると、得られる離型剤層のオリゴマー析出防止効果が不十分となることがある。
前記具体例以外の剥離層としては、分子中に珪素原子に結合したビニル基を２ヶ以上有するポリオルガノシロキサン、分子中に珪素原子に結合した水素原子を２ヶ以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、白金触媒及びセルロース誘導体からなる組成物、分子末端シラノール基封鎖ジオルガノポリシロキサンとセルロース誘導体からなる組成物、などが挙げられる。
【００３６】
＜フッ素含有化合物を主成分とする離型剤層＞
前記フッ素含有化合物を主成分とする離型剤層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、フッ素を含有する重合体成分、架橋剤、必要に応じて、潤滑剤、塗布面状改良剤、密着促進剤、帯電防止剤、消泡剤、粒子架橋剤、粒子などが挙げられる。
前記フッ素含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、フルオロオレフィン系共重合樹脂、ヒドロキシ基含有のフッ素樹脂共重合体と(メタ)アクリル酸エステル系化合物又は他の単量体とをグラフト重合してなるフッ素系共重合樹脂、パーフルオロアルキル基を有するビニル重合体、などが挙げられる。
これらの中でも、支持体との密着性の点で、フルオロオレフィン系共重合樹脂が好ましい。
より具体的には、クロロトリフルオロエチレンとプロピオン酸ビニルと脂肪酸ビニルとマレイン酸モノブチルとからなる共重合体、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−エポキシプロパン、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２，３−エポキシプロピル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、などがより好ましい。
【００３７】
前記フルオロオレフィン系共重合樹脂に用いられる単量体としては、例えば、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、などが挙げられる。
前記フルオロオレフィン系共重合樹脂に用いられる架橋剤としては、例えば、メラミン系化合物、アミド系化合物、アクリルアミド系化合物、エポキシ化合物、ポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネート、カルボジイミド化合物などが挙げられる。
前記フルオロオレフィン系共重合樹脂の具体例としては、例えば、含フッ素ビニル単量体類が約２０〜６０モル％と、カルボン酸ビニルエステル類が３０〜７０モル％と、マレイン酸モノエステル及びフマル酸モノエステルのいずれかが５〜３５モル％と、からなる共重合体が挙げられる。
前記含フッ素ビニル単量体類としては、例えば、クロロトリフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、などが挙げられる。
前記カルボン酸ビニルエステル類としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、などが挙げられる。
前記フッ素含有化合物を離型剤に用いる場合、フッ素含有化合物を水分散体として用いることが好ましい。
【００３８】
前記フッ素含有化合物を主成分とする離型剤層を形成するために用いられる離型剤層用塗布液としては、例えば、前記フッ素含有化合物を水分散体としたもの、などを用いることができる。
前記フッ素含有化合物は、溶剤へ溶解させるのが困難である点で、水分散体として離型剤層の塗布液に用いることが好ましい。
前記水分散体の製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基の一部を塩基性化合物で以て中和した後、水性媒体中に分散する方法、界面活性剤を乳化剤として水性媒体中で乳化重合する方法、などが挙げられる。
前記水性媒体としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、水、水と水に対して混和性を有する有機溶剤との混合液などが挙げられる。
前記界面活性剤の種類としては、例えば、アニオン型、カチオン型、両性型、非イオン型などが挙げられる。
前記水分散体の濃度は、１〜８０質量％が好ましく、５〜６０質量％がより好ましい。
前記水分散体におけるフッ素含有化合物の含有量としては、前記水分散体の全固形分に対して、５０〜９５質量％が好ましく、７０〜９０質量％がより好ましい。
前記離型剤層用塗布液における前記水分散体の含有量としては、前記離型剤層用塗布液全量に対して、２０〜９５質量％が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましい。前記含有量が２０質量％未満であると、離型剤層と感光性フィルムロールの端面との離型性が低下することがある。
また、前記離型剤層用塗布液に架橋剤を混合することが好ましい。前記架橋剤を混合させることにより、離型剤層とポリエステルフィルムとの接着性を向上させ、離型剤が感光層へ移行するのを防ぐことができ、さらに、離型剤層の滑り性を良化することができる。
前記架橋剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、メラミン系、アミド系、アクリルアミド系等の化合物、エポキシ化合物、ポリイソシアネート、ブロックポリイソシアネート、カルボジイミド化合物、などが挙げられる。これらの中でも、前記離型剤層の感光性フィルムロールの端面からの離型性が向上する点で、メラミン系の化合物が好ましい。
前記架橋剤の含有量は、前記離型剤層全固形分に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましい。前記架橋剤の含有量が８０質量％を超えると、前記離型剤層の感光性フィルムロールの端面からの離型性が低下することがあり、５質量％未満であると、前記離型剤層の塗膜強度が低下することがある。
前記潤滑剤としては、例えば、ワックス類が挙げられる。前記塗布面状改良剤としては、例えば、界面活性剤が挙げられる。
【００３９】
＜ワックス系組成物を主成分とする離型剤層＞
前記ワックス系組成物を主成分とする離型剤層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、ワックス系組成物、必要に応じて、オイル状物質、その他の添加剤が挙げられる。
前記ワックス系組成物としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、石油系ワックス、植物系ワックス、鉱物系ワックス、動物系ワックス、低分子量ポリオレフィン等が挙げられる。これらの中でも、剥離性が優れる点で、石油系ワックス、植物系ワックスが好ましい。
前記石油系ワックスとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、酸化ワックス等が挙げられる。これらの中でも、突起形成性に優れる点で、酸化ワックスが好ましい。
前記植物系ワックスとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、キャンデリラワックス、カルナウバワックス、木ロウ、オリキューリーワックス、さとうきびロウ、ロジン変性ワックス等が挙げられる。
前記石油系ワックスと、前記植物性ワックスとの混合物における質量比（前記石油系ワックス／前記植物性ワックス）としては、１０／９０〜９０／１０が好ましく、２０／８０〜８０／２０がより好ましく、３０／７０〜７０／３０が特に好ましい。前記質量比において、植物性ワックスが１０以上であると、高温時における易滑性、離型性の付与することができ、さらに水に乳化又は懸濁させる場合、均一分散性が良好で均一な塗布膜を得ることができ、石油系ワックスが１０以上であると、塗布膜の突起形成による易滑性が良好であり、さらに高速ラミネート時の操作性に優れる。
前記石油系ワックスと、前記植物性ワックスとの混合物に用いる石油系ワックスとしては、相溶性に優れる点で、酸化ワックスが好ましい。
前記オイル状物質は、常温で液体あるいはペースト状のオイルのことである。前記ワックス系組成物を主成分とする離型剤層に、前記オイル状物質を混合することにより、高温処理などの過酷領域での離型性及び剥離性が優れる離型剤層を提供することができる。
前記オイル状物質としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、植物油、油脂、鉱物油、合成潤滑油などを挙げられる。
前記植物油としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、アマニ油、カヤ油、サフラー油、大豆油、シナギリ油、ゴマ油、トウモロコシ油、ナタネ油、ヌカ油、綿実油、オリーブ油、サザンカ油、つばき油、ヒマシ油、落花生油、バーム油、椰子油等が挙げられる。
前記油脂としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、牛脂、豚油、羊油、カカオ油等が挙げられる。
前記鉱物油としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、マシン油、絶縁油、タービン油、モーター油、ギヤ油、切削油、流動パラフィン等が挙げられる。
前記合成潤滑油としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、化学大辞典（共立出版社）に記載の要件を満たすものを任意に使用することができ、オレフィン重合油、ジエステル油、ポリアルキレングリコール油、シリコーン油等を挙げることができる。
これらの中でも、高パルス幅領域での走行性が良好な点から、鉱物油、合成潤滑油が好ましい。これらは、１種単独でもよいし、２種以上併用してもよい。
前記オイル状物質の含有量としては、前記ワックス系組成物全量に対して、１〜１００質量％であることが好ましく、３〜５０質量％であることがより好ましい。前記オイル状物質の含有量が、１〜１００質量％であると、広範囲の温度・湿度下でスティックが起こらず剥離性が良好となり、１質量％未満であると、高温高湿領域での剥離性が低下することがあり、１００質量％であると、低温低湿領域での剥離性が低下することがある。
前記ワックス系組成物には添加剤を混合することができる。
前記添加剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、帯電防止剤、耐熱剤、耐酸化防止剤、有機、無機の粒子、顔料等が挙げられる。
また、前記離型剤層を形成する塗布層に、塗料中には水への分散性を向上させ、塗布性を向上させる目的で、分散助剤、界面活性剤、防腐剤、消泡剤などを添加することが好ましい。
【００４０】
−端面融着防止用シートに離型剤層を設ける方法−
前記端面融着防止用シートに離型剤層を設ける方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択することができ、例えば、前記離型剤層を形成する離型剤層用塗布液を作製し、前記離型剤層用塗布液を前記ポリエチレンフィルムに塗布し、離型剤層を形成する方法が挙げられる。
前記離型剤層用塗布液としては、前記離型剤層の材料が含まれていれば特に制限はなく、必要に応じて溶剤、その他の成分を含有させてもよい。
前記溶剤としては、離型剤の種類に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノンなどが挙げられる。また、前記溶剤としては、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、ソルベッソ（商品名：大日本インキ化学工業（株）製）が挙げられる。
前記離型剤層用塗布液の濃度としては、特に制限はなく、適宜選択することができるが、１〜２０質量％であることが好ましい。
前記塗布液を塗布する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法を適宜選択することができ、例えば、リバースロールコート方法、グラビアコート方法、バーコート方法、ドクターブレードコート方法、等が挙げられる。
前記離型剤層用塗布液の塗布量としては、塗布性に優れる点から、０．０１〜１ｇ／ｍ2が好ましく、０．０３〜０．５ｇ／ｍ2がより好ましい。前記塗布量が、０．０１ｇ／ｍ2未満であると、布性の面より安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難になることがあり、１ｇ／ｍ2を超えると、厚塗りになり、離型剤層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下することがある。
【００４１】
前記端面融着防止用シートの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０μｍ〜２０ｍｍであることが好ましく、２０μｍ〜１０ｍｍであることがより好ましく、５０μｍ〜５ｍｍであることが特に好ましい。前記厚みが、２０μｍ未満であると、製造容易性及び入手容易性が劣り、使用条件が困難になることがあり、２０ｍｍを超えると、コスト面で劣るとともに、作業性が困難になることがある。
【００４２】
−端面融着防止用シートを感光性フィルムロールの端面に配置させる方法−
前記端面融着防止用シートの離型性を有する表面を前記感光性フィルムロールの端面に配置させる方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、端部融着防止シートを、ロールの巻き芯部分をくりぬいた形状に加工し、感光性フィルムロールの両側から巻き芯に、はめ込む方法が挙げられる。
前記端面融着防止用シートと前記感光性フィルムロールの端面との接触状態としては、間に空気の自由な流通を許す空間がなく、接触状態であることが好ましい。
【００４３】
[感光性フィルムロール]
前記感光性フィルムロールとしては、支持体と、該支持体上に、波長３９０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有し、青紫色レーザ感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２である感光層を有する感光性フィルムをロール状に巻き取ったものである。
前記感光性フィルムロールの巻き取り方法としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、巻き芯を用いて感光性フィルムをロール状に巻き取る方法が挙げられる。
前記感光性フィルムロールの断面の形状としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、同心円状が挙げられる。
前記感光性フィルムロールの断面の大きさとしては、特に制限はなく、適宜選択することができ、２０〜７００ｃｍ2が好ましく、５０〜３００ｃｍ2がより好ましい。
前記感光性フィルムロールの断面における外径としては、特に制限はなく、適宜選択することができ、例えば、４．５〜２０ｃｍであることが好ましく、５．５〜１５ｃｍであることがより好ましい。
前記感光性フィルムロールの幅としては、特に制限なく適宜選択することができ、例えば、３０〜６５０ｃｍであることが好ましく、５〜１００ｃｍであることがより好ましい。なお、前記幅は、両端にある端面と端面の間の長さを意味する。
【００４４】
前記巻き芯を用いて感光性フィルムをロール状に巻き取る方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができる。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。
前記感光性フィルムをロール状に巻き取る張力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．０２〜２Ｋｇ/ｃｍ2が好ましい。
前記巻き芯の形状としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、円筒状が挙げられる。
前記円筒状の巻き芯の外径としては、例えば、８６ｍｍが好ましい。
前記円筒状の巻き芯の内径としては、例えば、７６ｍｍが好ましい。
前記巻き芯の長さとしては、例えば、前記感光性フィルムの幅と同じ長さ、又は前記感光性フィルムの幅より５〜１０ｍｍ長いものが挙げられる。
前記巻き芯の材料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ＡＢＳ樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。
【００４５】
＜感光性フィルム＞
前記感光性フィルムは、支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層、及び目的に応じて適宜選択される、保護フィルム、その他の層を積層したものであり、前記感光性組成物にはエッチング・メッキレジスト用感光性組成物及びソルダーレジスト用感光性組成物のいずれかが含まれる。
前記感光性フィルムの形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体上に、前記感光層、前記保護膜フィルムをこの順に有してなる形態、前記支持体上に、後述の酸素遮断層（ＰＣ層）、前記感光層、前記保護フィルムをこの順に有してなる形態、前記支持体上に、後述のクッション層、後述のＰＣ層、前記感光層、前記保護フィルムをこの順に有してなる形態などが挙げられる。なお、前記感光層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。
前記感光性フィルムの長さとしては、例えば、１０〜１，０００ｍであることが好ましく、３０〜２５０ｍであることがより好ましい。
前記感光性フィルムの幅としては、例えば、５〜１００ｃｍであることが好ましい。
前記感光性フィルムの厚みとしては、例えば、５〜１５０ｍｍであることが好ましく、８〜１２０ｍｍであることがより好ましい。
【００４６】
＜感光層＞
前記感光層としては、波長３９０〜４２０ｎｍの波長域に分光感度の極大値を有すると共に、青紫色レーザにおける感度が１〜１００ｍＪ／ｃｍ２であるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物及びソルダーレジスト用感光性組成物のいずれかにより形成される。
前記感光層の室温における粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０３〜１０５Ｐａ・ｓであることが好ましい。前記室温としては、２５℃±１℃のことを意味する。
前記感光層の粘度の測定方法は、特に制限はなく、例えば、レオメータ、レオバイブロンなどを行うことにより測定できる。
【００４７】
前記分光感度は、例えば、フォトポリマー・テクノロジー（山岡亜夫著、昭和６３年日刊工業新聞社発行、第２６２頁）などに記載の方法により、被処理基体上に感光層等を積層してなる積層体の感光性組成物を、分光感度測定装置を用いて測定する。具体的には、キセノンランプ及びタングステンランプなどの光源から分光した光を、横軸方向には露光波長が直線的に変化するように、縦軸方向には露光強度が対数的に変化するように設定して照射して露光した後、現像処理することにより、各露光波長の感度ごとにパターンを形成する。得られたパターンの高さから、パターン形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットして作成した分光感度曲線における極大ピークを分光感度とする。
【００４８】
前記青紫色レーザにおける感度は、前記青紫色レーザー（４０５ｎｍ）を感光層に対し露光し、現像する場合、感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる最小エネルギーのことである。
前記青紫色レーザにおける感度としては、１〜１００ｍＪ／ｃｍ2であり、１０〜８０ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。
前記最小エネルギーが、１ｍＪ／ｃｍ２未満であると、処理工程にてカブリが発生することがあり、１００ｍＪ／ｃｍ２を超えると、露光に必要な時間が長くなり、処理スピードが遅くなることがある。
ここで、「該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギー」とは、いわゆる現像感度であり、例えば、前記感光層を露光したときの前記露光に用いた光のエネルギー量（露光量）と、前記露光に続く前記現像処理により生成した前記硬化層の厚みとの関係を示すグラフ（感度曲線）から求めることができる。
前記硬化層の厚みは、前記露光量が増えるに従い増加していき、その後、前記露光前の前記感光層の厚みと略同一かつ略一定となる。前記現像感度は、前記硬化層の厚みが略一定となったときの最小露光量を読み取ることにより求められる値である。
ここで、前記硬化層の厚みと前記露光前の前記感光層の厚みとの差が±１μｍ以内であるとき、前記硬化層の厚みが露光及び現像により変化していないとみなす。
前記硬化層及び前記露光前の前記感光層の厚みの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、膜厚測定装置、表面粗さ測定機（例えば、サーフコム１４００Ｄ（東京精密社製））などを用いて測定する方法が挙げられる。
【００４９】
前記エッチング・メッキレジストは、支持体（フィルム）上に感光層が積層され、レジストとして使用された後は除去されるものである。
前記ソルダーレジストとは、支持体（フィルム）又は基板上に感光層が積層され、レジストとして使用された後もパターン保護などの目的で残存するものである。
前記感光層が設けられる箇所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、通常、前記支持体上に積層される。
前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３〜１００μｍが好ましく、５〜７０μｍがより好ましい。
【００５０】
＜＜エッチング・メッキレジスト用感光性組成物＞＞
前記エッチング・メッキレジスト用感光性組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、増感剤及び目的に応じて適宜選択されるその他の成分からなる。
【００５１】
−エッチング・メッキレジスト用バインダー−
前記バインダーとしては、例えば、アルカリ性液に対して膨潤性であることが好ましく、アルカリ性液に対して可溶性であることがより好ましい。
アルカリ性液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。
【００５２】
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基を有するバインダーとしては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。
【００５３】
前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基を有するビニルモノマー及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
【００５４】
前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）と環状無水物（例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物）との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いてもよい。
【００５５】
前記その他の共重合可能なモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２―アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２―アクリロイルオキシエチルエステル）、官能基（例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基）を有するビニルモノマーなどが挙げられ、これらの中でもスチレン類が好ましい。
【００５６】
前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００５７】
前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。
【００５８】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。
【００５９】
前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６０】
前記フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６１】
前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６２】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
【００６３】
前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ−Ｂｏｃ等）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００６４】
前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００６５】
前記官能基を有するビニルモノマーの合成方法としては、例えば、イソシアナート基と水酸基又はアミノ基の付加反応が挙げられ、具体的には、イソシアナート基を有するモノマーと、水酸基を１個含有する化合物又は１級若しくは２級アミノ基を１個有する化合物との付加反応、水酸基を有するモノマー又は１級若しくは２級アミノ基を有するモノマーと、モノイソシアネートとの付加反応が挙げられる。
【００６６】
前記イソシアナート基を有するモノマーとしては、例えば、下記構造式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【００６７】
【化１】
2007240879.tif 000003
【００６８】
【化２】
2007240879.tif 000004
【００６９】
【化３】
2007240879.tif 000005
【００７０】
但し、前記構造式（１）〜（３）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表す。
【００７１】
前記モノイソシアネートとしては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、ｎ−ブチルイソシアネート、トルイルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
【００７２】
前記水酸基を有するモノマーとしては、例えば、下記構造式（４）〜（１２）で表される化合物が挙げられる。
【００７３】
【化４】
2007240879.tif 000006
【００７４】
【化５】
2007240879.tif 000007
【００７５】
【化６】
2007240879.tif 000008
【００７６】
【化７】
2007240879.tif 000009
【００７７】
【化８】
2007240879.tif 000010
【００７８】
【化９】
2007240879.tif 000011
【００７９】
【化１０】
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【００８０】
【化１１】
2007240879.tif 000013
【００８１】
【化１２】
2007240879.tif 000014
【００８２】
但し、前記構造式（４）〜（１２）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。
【００８３】
前記水酸基を１個含有する化合物としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−オクタデカノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール等）、フェノール類（例えば、フェノール、クレゾール、ナフトール等）、更に置換基を含むものとして、フロロエタノール、トリフロロエタノール、メトキシエタノール、フェノキシエタノール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、メトキシフェノール、アセトキシフェノール等が挙げられる。
【００８４】
前記１級又は２級アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、ビニルベンジルアミンなどが挙げられる。
【００８５】
前記１級又は２級アミノ基を１個含有する化合物としては、例えば、アルキルアミン（メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン）、環状アルキルアミン（シクロペンチルアミン、シクロへキシルアミン等）、アラルキルアミン（ベンジルアミン、フェネチルアミン等）、アリールアミン（アニリン、トルイルアミン、キシリルアミン、ナフチルアミン等）、更にこれらの組合せ（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミン等）、更に置換基を含むアミン（トリフロロエチルアミン、ヘキサフロロイソプロピルアミン、メトキシアニリン、メトキシプロピルアミン等）などが挙げられる。
【００８６】
また、上記以外の前記その他の共重合可能なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン、クロルスチレン、ブロモスチレン、ヒドロキシスチレンなどが好適に挙げられる。
【００８７】
前記その他の共重合可能なモノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８８】
前記ビニル共重合体は、それぞれ相当するモノマーを公知の方法により常法に従って共重合させることで調製することができる。例えば、前記モノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用することにより調製することができる。また、水性媒体中に前記モノマーを分散させた状態でいわゆる乳化重合等で重合を利用することにより調製することができる。
【００８９】
前記溶液重合法で用いられる適当な溶媒としては、特に制限はなく、使用するモノマー及び生成する共重合体の溶解性等に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンなどが挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００９０】
前記ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩などが挙げられる。
【００９１】
前記ビニル共重合体におけるカルボキシル基を有する重合性化合物の含有率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜５０モル％が好ましく、１０〜４０モル％がより好ましく、１５〜３５モル％が特に好ましい。
前記含有率が、５モル％未満であると、アルカリ水への現像性が不足することがあり、５０モル％を超えると、硬化部（画像部）の現像液耐性が不足することがある。
【００９２】
前記カルボキシル基を有するバインダーの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、質量平均分子量として、２，０００〜３００，０００が好ましく、４，０００〜１５０，０００がより好ましい。
前記質量平均分子量が、２，０００未満であると、膜の強度が不足しやすく、また安定な製造が困難になることがあり、３００，０００を超えると、現像性が低下することがある。
【００９３】
前記カルボキシル基を有するバインダーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。前記バインダーを２種以上併用する場合としては、例えば、異なる共重合成分からなる２種以上のバインダー、異なる質量平均分子量の２種以上のバインダー、異なる分散度の２種以上のバインダー、などの組合せが挙げられる。
【００９４】
前記カルボキシル基を有するバインダーは、そのカルボキシル基の一部又は全部が塩基性物質で中和されていてもよい。また、前記バインダーは、さらにポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン等の構造の異なる樹脂を併用してもよい。
【００９５】
また、前記バインダーとしては、特許２８７３８８９号等に記載のアルカリ性液に可溶な樹脂などを用いることができる。
【００９６】
前記感光性組成物における前記バインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましい。
前記含有量が１０質量％未満であると、アルカリ現像性やプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）との密着性が低下することがあり、９０質量％を超えると、現像時間に対する安定性や、硬化膜（テント膜）の強度が低下することがある。なお、前記含有量は、前記バインダーと必要に応じて併用される高分子結合剤との合計の含有量であってもよい。
【００９７】
前記バインダーの酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、７０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、９０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１００〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
前記酸価が、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、配線パターン等の永久パターンを高精細に得ることができないことがあり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、パターンの耐現像液性及び密着性の少なくともいずれかが悪化し、配線パターン等の永久パターンを高精細に得ることができないことがある。
【００９８】
−エッチング・メッキレジスト用重合性化合物−
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマー又はオリゴマーが好適に挙げられる。また、これらは重合性基を２種以上有することが好ましい。
【００９９】
前記重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和結合（例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステルやビニルエーテル等のビニル基、アリルエーテルやアリルエステル等のアリル基など）、重合可能な環状エーテル基（例えば、エポキシ基、オキセタン基等）などが挙げられ、これらの中でもエチレン性不飽和結合が好ましい。
【０１００】
−−ウレタン基を有するモノマー−−
前記ウレタン基を有するモノマーとしては、ウレタン基を有する限り、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特公昭４８−４１７０８、特開昭５１−３７１９３、特公平５−５０７３７、特公平７−７２０８、特開２００１−１５４３４６、特開２００１−３５６４７６号公報等に記載されている化合物などが挙げられ、例えば、分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と分子中に水酸基を有するビニルモノマーとの付加物などが挙げられる。
【０１０１】
前記分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’ジメチル−４，４’−ジフェニルジイソシアネート等のジイソシアネート；該ジイソシアネートを更に２官能アルコールとの重付加物（この場合も両末端はイソシアネート基）；該ジイソシアネートのビュレット体やイソシアヌレート等の３量体；該ジイソシアネート若しくはジイソシアネート類と、トリメチロールプロパン、ペンタエリスルトール、グリセリン等の多官能アルコール又はこれらのエチレンオキシド付加物等の得られる他官能アルコールとの付加体などが挙げられる。
【０１０２】
前記分子中に水酸基を有するビニルモノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。また、エチレンオキシドとプロピレンオキシドの共重合体（ランダム、ブロック等）などの異なるアルキレンオキシド部を有するジオール体の片末端（メタ）アクリレート体などが挙げられる。
【０１０３】
また、前記ウレタン基を有するモノマーとしては、トリ（（メタ）アクリロイルオキシ
エチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸のトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレート環を有する化合物が挙げられる。これらの中でも、下記構造式（１３）又は構造式（１４）で表される化合物が好ましく、テント性の観点から、前記構造式（１４）で示される化合物を少なくとも含むことが特に好ましい。また、これらの化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０４】
【化１３】
2007240879.tif 000015
【０１０５】
【化１４】
2007240879.tif 000016
【０１０６】
前記構造式（１３）及び（１４）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ水素原子又はメチル基を表す。Ｘ１〜Ｘ３は、アルキレンオキサイドを表し、１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０７】
前記アルキレンオキサイド基としては、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレンオキサイド基、ヘキシレンオキサイド基、これらを組み合わせた基（ランダム、ブロックのいずれに組み合わされてもよい）などが好適に挙げられ、これらの中でも、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基又はこれらの組み合わせた基が好ましく、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基がより好ましい。
【０１０８】
前記構造式（１３）及び（１４）中、ｍ１〜ｍ３は、１〜６０の整数を表し、２〜３０が好ましく、４〜１５がより好ましい。
【０１０９】
前記構造式（１３）及び（１４）中、Ｙ１及びＹ２は、炭素原子数２〜３０の２価の有機基を表し、例えば、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、カルボニル基（−ＣＯ−）、酸素原子（−Ｏ−）、硫黄原子（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、イミノ基の水素原子が１価の炭化水素基で置換された置換イミノ基、スルホニル基（−ＳＯ２−）又はこれらを組み合わせた基などが好適に挙げられ、これらの中でも、アルキレン基、アリーレン基又はこれらを組み合わせた基が好ましい。
【０１１０】
前記アルキレン基は、分岐構造又は環状構造を有していてもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基、トリメチルヘキシレン基、シクロへキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、２−エチルヘキシレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、オクタデシレン基又は下記に示すいずれかの基などが好適に挙げられる。
【０１１１】
【化１５】
2007240879.tif 000017
【０１１２】
前記アリーレン基としては、炭化水素基で置換されていてもよく、例えば、フェニレン基、トリレン基、ジフェニレン基、ナフチレン基又は下記に示す基などが好適に挙げられる。
【０１１３】
【化１６】
2007240879.tif 000018
【０１１４】
前記これらを組み合わせた基としては、例えば、キシリレン基などが挙げられる。
【０１１５】
前記アルキレン基、アリーレン基又はこれらを組み合わせた基としては、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アリール基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−エトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）などが挙げられる。
【０１１６】
前記構造式（１３）及び（１４）中、ｎは３〜６の整数を表し、重合性モノマーを合成するための原料供給性などの観点から、３、４又は６が好ましい。
【０１１７】
前記構造式（１３）及び（１４）中、Ｚはｎ価（３価〜６価）の連結基を表し、例えば、下記に示すいずれかの基などが挙げられる。
【０１１８】
【化１７】
2007240879.tif 000019
但し、Ｘ４はアルキレンオキサイドを表す。ｍ４は、１〜２０の整数を表す。ｎは、３〜６の整数を表す。Ａは、ｎ価（３価〜６価）の有機基を表す。
【０１１９】
前記Ａとしては、例えば、ｎ価の脂肪族基、ｎ価の芳香族基又はこれらとアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、カルボニル基、酸素原子、硫黄原子、イミノ基、イミノ基の水素原子が１価の炭化水素基で置換された置換イミノ基又はスルホニル基とを組み合わせた基が好ましく、ｎ価の脂肪族基、ｎ価の芳香族基又はこれらとアルキレン基、アリーレン基、酸素原子とを組み合わせた基がより好ましく、ｎ価の脂肪族基、ｎ価の脂肪族基とアルキレン基、酸素原子とを組み合わせた基が特に好ましい。
【０１２０】
前記Ａの炭素原子数としては、例えば、１〜１００の整数が好ましく、１〜５０の整数がより好ましく、３〜３０の整数が特に好ましい。
【０１２１】
前記ｎ価の脂肪族基としては、分岐構造又は環状構造を有していてもよい。
前記脂肪族基の炭素原子数としては、例えば、１〜３０の整数が好ましく、１〜２０の整数がより好ましく、３〜１０の整数が特に好ましい。
前記芳香族基の炭素原子数としては、６〜１００の整数が好ましく、６〜５０の整数がより好ましく、６〜３０の整数が特に好ましい。
【０１２２】
前記ｎ価の脂肪族基又は芳香族基は、更に置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アリール基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−エトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）などが挙げられる。
【０１２３】
前記アルキレン基は、分岐構造又は環状構造を有していてもよい。
前記アルキレン基の炭素原子数としては、例えば、１〜１８の整数が好ましく、１〜１０の整数がより好ましい。
【０１２４】
前記アリーレン基は、炭化水素基で更に置換されていてもよい。
前記アリーレン基の炭素原子数としては、６〜１８の整数が好ましく、６〜１０の整数がより好ましい。
【０１２５】
前記置換イミノ基の１価の炭化水素基の炭素原子数としては、１〜１８の整数が好ましく、１〜１０の整数がより好ましい。
【０１２６】
以下に、前記Ａの好ましい例は以下の通りである。
【０１２７】
【化１８】
2007240879.tif 000020
【０１２８】
前記構造式（１３）及び（１４）で表される化合物としては、例えば下記構造式（１５）〜（３４）で表される化合物などが挙げられる。
【０１２９】
【化１９】
2007240879.tif 000021
【０１３０】
【化２０】
2007240879.tif 000022
【０１３１】
【化２１】
2007240879.tif 000023
【０１３２】
【化２２】
2007240879.tif 000024
【０１３３】
【化２３】
2007240879.tif 000025
【０１３４】
【化２４】
2007240879.tif 000026
【０１３５】
【化２５】
2007240879.tif 000027
【０１３６】
【化２６】
2007240879.tif 000028
【０１３７】
【化２７】
2007240879.tif 000029
【０１３８】
【化２８】
2007240879.tif 000030
【０１３９】
【化２９】
2007240879.tif 000031
【０１４０】
【化３０】
2007240879.tif 000032
【０１４１】
【化３１】
2007240879.tif 000033
【０１４２】
【化３２】
2007240879.tif 000034
【０１４３】
【化３３】
2007240879.tif 000035
【０１４４】
【化３４】
2007240879.tif 000036
【０１４５】
【化３５】
2007240879.tif 000037
【０１４６】
【化３６】
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【０１４７】
【化３７】
2007240879.tif 000039
【０１４８】
【化３９】
2007240879.tif 000040
【０１４９】
但し、前記構造式（１５）〜（３４）中、ｎ、ｎ１、ｎ２及びｍは、１〜６０を意味し、ｌは、１〜２０を意味し、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。
【０１５０】
−−アリール基を有するモノマー−−
前記アリール基を有するモノマーとしては、アリール基を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アリール基を有する多価アルコール化合物、多価アミン化合物及び多価アミノアルコール化合物の少なくともいずれかと不飽和カルボン酸とのエステル又はアミドなどが挙げられる。
【０１５１】
前記アリール基を有する多価アルコール化合物、多価アミン化合物又は多価アミノアルコール化合物としては、例えば、ポリスチレンオキサイド、キシリレンジオール、ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，５−ジヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン、２、２−ジフェニル−１，３−プロパンジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒドロキシエチルレゾルシノール、１−フェニル−１，２−エタンジオール、２，３，５，６−テトラメチル−ｐ−キシレン−α，α’−ジオール、１，１，４，４−テトラフェニル−１，４−ブタンジオール、１，１，４，４−テトラフェニル−２−ブチン−１，４−ジオール、１，１’−ビ−２−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、１，１’−メチレン−ジ−２−ナフトール、１，２，４−ベンゼントリオール、ビフェノール、２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（ヒドロキシフェニル）メタン、カテコール、４−クロルレゾルシノール、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジルアルコール、メチルハイドロキノン、メチレン−２，４，６−トリヒドロキシベンゾエート、フロログリシノール、ピロガロール、レゾルシノール、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、α−（１−アミノエチル）−ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール、３−アミノ−４−ヒドロキシフェニルスルホンなどが挙げられる。また、この他、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、ノボラック型エポキシ樹脂やビスフェノールＡジグリシジルエーテル等のグリシジル化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、フタル酸やトリメリット酸などと分子中に水酸基を含有するビニルモノマーから得られるエステル化物、フタル酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ベンゼンジスルホン酸ジアリル、重合性モノマーとしてカチオン重合性のジビニルエーテル類（例えば、ビスフェノールＡジビニルエーテル）、エポキシ化合物（例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等）、ビニルエステル類（例えば、ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホネート等）、スチレン化合物（例えば、ジビニルベンゼン、ｐ−アリルスチレン、ｐ−イソプロペンスチレン等）が挙げられる。これらの中でも下記構造式（３８）で表される化合物が好ましい。
【０１５２】
【化４２】
2007240879.tif 000041
前記構造式（３８）中、Ｒ４、Ｒ５は、水素原子又はアルキル基を表す。
【０１５３】
前記構造式（３８）中、Ｘ５及びＸ６は、アルキレンオキサイド基を表し、１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。該アルキレンオキサイド基としては、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基、ペンチレンオキサイド基、ヘキシレンオキサイド基、これらを組み合わせた基（ランダム、ブロックのいずれに組み合わされてもよい）、などが好適に挙げられ、これらの中でも、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基又はこれらを組み合わせた基が好ましく、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基がより好ましい。
【０１５４】
前記構造式（３８）中、ｍ５、ｍ６は、１〜６０の整数が好ましく、２〜３０の整数がより好ましく、４〜１５の整数が特に好ましい。
【０１５５】
前記構造式（３８）中、Ｔは、２価の連結基を表し、例えば、メチレン、エチレン、ＭｅＣＭｅ、ＣＦ３ＣＣＦ３、ＣＯ、ＳＯ２などが挙げられる。
【０１５６】
前記構造式（３８）中、Ａｒ１、Ａｒ２は、置換基を有していてもよいアリール基を表し、例えば、フェニレン、ナフチレンなどが挙げられる。前記置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン基、アルコキシ基又はこれらの組合せなどが挙げられる。
【０１５７】
前記アリール基を有するモノマーの具体例としては、２，２−ビス〔４−（３−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシエトキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換しさせたエトキシ基の数が２から２０である２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパン（例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン等）、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換させたエトキシ基の数が２から２０である２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン（例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパン等）又はこれらの化合物のポリエーテル部位として同一分子中にポリエチレンオキシド骨格とポリプロピレンオキシド骨格の両方を含む化合物（例えば、ＷＯ０１／９８８３２号公報に記載の化合物等又は市販品として、新中村化学工業社製、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、ＢＰＥ−１０００）、ビスフェノール骨格とウレタン基とを有する重合性化合物などが挙げられる。なお、これらは、ビスフェノールＡ骨格に由来する部分をビスフェノールＦ又はビスフェノールＳ等に変更した化合物であってもよい。
【０１５８】
前記ビスフェノール骨格とウレタン基とを有する重合性化合物としては、例えば、ビスフェノールとエチレンオキシド又はプロピレンオキシド等の付加物、重付加物として得られる末端に水酸基を有する化合物にイソシアネート基と重合性基とを有する化合物（例えば、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、α、α−ジメチル−ビニルベンジルイソシアネート等）などが挙げられる。
【０１５９】
−−その他の重合性モノマー−−
前記パターンを形成する方法には、前記パターン形成材料としての特性を悪化させない範囲で、前記ウレタン基を含有するモノマー、アリール基を有するモノマー以外の重合性モノマーを併用してもよい。
【０１６０】
前記ウレタン基を含有するモノマー、芳香環を含有するモノマー以外の重合性モノマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。
【０１６１】
前記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルのモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１８であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２から１８であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等）、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，５−ベンタンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート（例えば、ＷＯ０１／９８８３２号公報に記載の化合物等）、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの少なくともいずれかを付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、キシレノールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【０１６２】
前記（メタ）アクリル酸エステル類の中でも、その入手の容易さ等の観点から、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステルなどが好ましい。
【０１６３】
前記イタコン酸と前記脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イタコン酸エステル）としては、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート及びソルビトールテトライタコネートなどが挙げられる。
【０１６４】
前記クロトン酸と前記脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（クロトン酸エステル）としては、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなどが挙げられる。
【０１６５】
前記イソクロトン酸と前記脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イソクロトン酸エステル）としては、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネートなどが挙げられる。
【０１６６】
前記マレイン酸と前記脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（マレイン酸エステル）としては、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレートなどが挙げられる。
【０１６７】
前記多価アミン化合物と前記不飽和カルボン酸類から誘導されるアミドとしては、例えば、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、オクタメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミンビス（メタ）アクリルアミド、などが挙げられる。
【０１６８】
また、上記以外にも、前記重合性モノマーとして、例えば、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレートやポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー類、エポキシ化合物（例えば、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマー、アリルエステル（例えば、フタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、マロン酸ジアリル、ジアリルアミド（例えば、ジアリルアセトアミド等）、カチオン重合性のジビニルエーテル類（例えば、ブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル等）、エポキシ化合物（例えば、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等）、オキセタン類（例えば、１，４−ビス〔（３−エチルー３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン等）、エポキシ化合物、オキセタン類（例えば、ＷＯ０１／２２１６５号公報に記載の化合物）、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレート等の異なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物などが挙げられる。
【０１６９】
前記ビニルエステル類としては、例えば、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペートなどが挙げられる。
【０１７０】
これらの多官能モノマー又はオリゴマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１７１】
前記重合性モノマーは、必要に応じて、分子内に重合性基を１個含有する重合性化合物（単官能モノマー）を併用してもよい。
前記単官能モノマーとしては、例えば、前記バインダーの原料として例示した化合物、特開平６−２３６０３１号公報に記載されている２塩基のモノ（（メタ）アクリロイルオキシアルキルエステル）モノ（ハロヒドロキシアルキルエステル）等の単官能モノマー（例えば、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート等）、特許２７４４６４３号公報、ＷＯ００／５２５２９号パンフレット、特許２５４８０１６号公報等に記載の化合物が挙げられる。
【０１７２】
前記感光性組成物における重合性化合物の含有量としては、例えば、５〜９０質量％が好ましく、１５〜６０質量％がより好ましく、２０〜５０質量％が特に好ましい。
前記含有量が、５質量％となると、テント膜の強度が低下することがあり、９０質量％を超えると、保存時のエッジフュージョン（ロール端部からのしみだし故障）が悪化することがある。
また、重合性化合物中に前記重合性基を２個以上有する多官能モノマーの含有量としては、５〜１００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましく、４０〜１００質量％が特に好ましい。
【０１７３】
−−エッチング・メッキレジスト用光重合開始剤−−
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。
【０１７４】
前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、メタロセン類などが挙げられる。これらの中でも、感光性組成物の感度、保存性及び後述する感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から、トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素、オキシム誘導体、ケトン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。
【０１７５】
前記ヘキサアリールビイミダゾールとしては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−フロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（３−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（４−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（４−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−トリフルオロメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、ＷＯ００／５２５２９号公報に記載の化合物などが挙げられる。
【０１７６】
前記ビイミダゾール類は、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，３３，５６５（１９６０）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，３６（１６）２２６２（１９７１）に開示されている方法により容易に合成することができる。
【０１７７】
トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物等が挙げられる。
【０１７８】
前記若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物としては、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１７９】
前記英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物としては、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８０】
前記特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８１】
前記独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物としては、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８２】
前記Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物としては、例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８３】
前記特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８４】
前記特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８５】
前記特開平５−３４９２０号公報記載化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。
【０１８６】
前記米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール等）などが挙げられる。
【０１８７】
本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、例えば、下記構造式（３９）〜（７２）で表される化合物が挙げられる。
【０１８８】
【化４３】
2007240879.tif 000042
【０１８９】
【化４４】
2007240879.tif 000043
【０１９０】
【化４５】
2007240879.tif 000044
【０１９１】
【化４６】
2007240879.tif 000045
【０１９２】
前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシー２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）などが挙げられる。
【０１９３】
前記メタロセン類としては、例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェート（１−）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報及び米国特許第３６１５４５５号明細書に記載された化合物などが挙げられる。
【０１９４】
また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号公報等に記載のクマリン化合物など）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル、ペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ，ＯＤＢＩＩ等）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレット等）、アシルホスフィンオキシド類（例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキシド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）などが挙げられる。
【０１９５】
更に、米国特許第２３６７６６０号明細書に記載されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載されているのα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、特開２００２−２２９１９４号公報に記載の有機ホウ素化合物、ラジカル発生剤、トリアリールスルホニウム塩（例えば、ヘキサフロロアンチモンやヘキサフロロホスフェートとの塩）、ホスホニウム塩化合物（例えば、（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩等）（カチオン重合開始剤として有効）、ＷＯ０１／７１４２８号公報記載のオニウム塩化合物などが挙げられる。
【０１９６】
前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上の組合せとしては、例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のヘキサアリールビイミダゾールと４−アミノケトン類との組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の組合せ、また、芳香族ケトン化合物（例えば、チオキサントン等）と水素供与体（例えば、ジアルキルアミノ含有化合物、フェノール化合物等）の組合せ、ヘキサアリールビイミダゾールとチタノセンとの組合せ、クマリン類とチタノセンとフェニルグリシン類との組合せなどが挙げられる。
【０１９７】
前記感光性組成物における光重合開始剤の含有量としては、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％が特に好ましい。
【０１９８】
−−エッチング・メッキレジスト用増感剤−−
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。前記増感剤は、例えば、前記Ｓ４１０／Ｓ４００を０．６〜１．４に容易に調整することができる点で上述の成分と併用することが好ましい。
【０１９９】
前記増感剤における極大吸収波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３８０〜４２０ｎｍが好ましく、３９０〜４１５ｎｍがより好ましく、３９５〜４１５ｎｍが特に好ましい。
【０２００】
前記極大吸収波長が３８０〜４２０ｎｍの増感剤としては、特に制限はなく、公知の増感剤の中から適宜選択することができ、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン、２−クロロ−１０−ブチルアクリドン、１０−Ｎ−ブチル−２−クロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン等が挙げられ、他に特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号等の各公報に記載のクマリン化合物など）が挙げられる。
【０２０１】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。
【０２０２】
−エッチング・メッキレジスト用のその他の成分−
前記その他の成分としては、例えば、重合禁止剤、界面活性剤、可塑剤、発色剤、着色剤などが挙げられる。また、更に基体表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、顔料、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、表面張力調整剤、連鎖移動剤等）を併用してもよい。
【０２０３】
−−重合禁止剤−−
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート等が挙げられる。
【０２０４】
前記重合禁止剤は、一般に前記感光性組成物に含有させることにより該感光性組成物の感度を低下させてしまうが、該感度低下を抑制でき、解像度を向上させることができる点で、芳香環、複素環、イミノ基及びフェノール性水酸基の少なくともいずれかを有することが好ましく、これらの中でも下記構造式（７３）で表される化合物がより好ましい。
【０２０５】
【化４７】
2007240879.tif 000046
ただし、前記構造式（７３）中、Ｚは、ハロゲン原子、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、アミノ基、炭素数１から２０のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基等のアリール基、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基又は複素環からなる基を表し、これらの中でもアルキル基が好ましい。ｍは、２以上の整数を表す。ｎは、０以上の整数を表す。該ｍ及びｎは、ｍ＋ｎ＝６となるように選ばれる整数が好ましい。また、ｎが、２以上の整数である場合、前記Ｘは、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。前記ｍが２未満となると、解像度が悪化することがある。
【０２０６】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アスタチン等が挙げられる。
【０２０７】
前記炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。
【０２０８】
前記炭素数３〜１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【０２０９】
前記炭素数１〜２０のアルキル基で置換されたアリール基としては、例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基等が挙げられる。
【０２１０】
前記炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基としては、例えば、メチルメルカプト基、エチルメルカプト基、プロピルメルカプト基等が挙げられる。
【０２１１】
前記アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基としては、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基等が挙げられる。
【０２１２】
前記炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０２１３】
前記複素環からなる基としては、例えば、エチレンオキシド基、フラン基、チオフェン基、ピロール基、チアゾール基、インドール基、キノリン基等が挙げられる。
【０２１４】
前記構造式（７３）で表される化合物としては、例えば、アルキルカテコール（例えば、カテコール、レゾルシノール、１，４−ヒドロキノン、２−メチルカテコール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、２−エチルカテコール、３−エチルカテコール、４−エチルカテコール、２−プロピルカテコール、３−プロピルカテコール、４−プロピルカテコール、２−ｎ−ブチルカテコール、３−ｎ−ブチルカテコール、４−ｎ−ブチルカテコール、２−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール等）、アルキルレゾルシノール（例えば、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、２−エチルレゾルシノール、４−エチルレゾルシノール、２−プロピルレゾルシノール、４−プロピルレゾルシノール、２−ｎ−ブチルレゾルシノール、４−ｎ−ブチルレゾルシノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール等）、アルキルヒドロキノン（例えば、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン等）、ピロガロール、フロログルシンなどが挙げられる。
【０２１５】
前記重合禁止剤の含有量としては、前記感光性組成物の前記重合性化合物に対して０．００５〜０．５質量％が好ましく、０．０１〜０．２質量％がより好ましく、０．０２〜０．１質量％が特に好ましい。
前記含有量が、０．００５質量％未満であると、保存時の安定性が低下することがあり、０．５質量％を超えると、活性エネルギー線に対する感度が低下することがある。
【０２１６】
−−可塑剤−−
前記可塑剤は、後述する感光層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加してもよい。
前記可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジフェニルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；４−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセパケート、ジオクチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類が挙げられる。
【０２１７】
前記可塑剤の含有量としては、前記感光性組成物の全成分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が特に好ましい。
【０２１８】
−−発色剤−−
前記発色剤は、露光後の後述する感光層に可視像を与える（焼きだし機能）ために添加してもよい。
前記発色剤としては、例えば、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリスタルバイオレット）、トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタン、トリス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、ビス（４−ジブチルアミノフェニル）−〔４−（２−シアノエチル）メチルアミノフェニル〕メタン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）−２−キノリルメタン、トリス（４−ジプロピルアミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキサンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９−（２−クロロフェニル）キサンチン等のアミノキサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（２−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジビドロ−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒドロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチアジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジン類；ビス（４−ジメチルアミノフェニル）アニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルアミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−２−トリル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素をもつていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されているような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミントリフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）が挙げられ、これらの中でも、ロイコクリスタルバイオレット等のトリアリールメタン系化合物が好ましい。
【０２１９】
更に、前記発色剤は、前記ロイコ体を発色させるためなどの目的で、ハロゲン化合物と組み合わせることが一般に知られている。
前記ハロゲン化合物としては、例えば、ハロゲン化炭化水素（例えば、四臭化炭素、ヨードホルム、臭化エチレン、臭化メチレン、臭化アミル、臭化イソアミル、ヨウ化アミル、臭化イソブチレン、ヨウ化ブチル、臭化ジフェニルメチル、ヘキサクロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２，２−テトラブロモエタン、１，２−ジブロモ−１，１，２−トリクロロエタン、１，２，３トリブロモプロバン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキサン、１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（４−クロロフェニル）エタンなど）；ハロゲン化アルコール化合物（例えば、２，２，２−トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノール、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノール、トリブロモ−ｔ−ブチルアルコール、２，２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなど）；ハロゲン化カルボニル化合物（例えば１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセトン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシクロヘキサノン等）；ハロゲン化エーテル化合物（例えば２−ブロモエチルメチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチルエーテル等）；ハロゲン化エステル化合物（例えば、酢酸ブロモエチル、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，β−ジグロロアクリル酸エチル等）；ハロゲン化アミド化合物（例えば、クロロアセトアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミドなど）；硫黄やリンを有する化合物（例えば、トリブロモメチルフェニルスルホン、４−ニトロフェニルトリブロモメチルスルホン、４−クロルフェニルトリブロモメチルスルホン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェート等）、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−フェニルトリアゾールなどが挙げられる。有機ハロゲン化合物では、同一炭素原子に結合した２個以上のハロゲン原子を持つハロゲン化合物が好ましく、１個の炭素原子に３個のハロゲン原子を持つハロゲン化合物がより好ましい。前記有機ハロゲン化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、トリブロモメチルフェニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニルトリアゾールが好ましい。
【０２２０】
前記発色剤の含有量としては、前記感光性組成物の全成分に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。また、前記ハロゲン化合物の含有量としては、前記感光性組成物の全成分に対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜１質量％がより好ましい。
【０２２１】
−−着色剤−−
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、例えば、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色、黒色等の公知の顔料又は染料が挙げられ、具体的には、ビクトリア・ピュアブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・イエローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、カーボンブラックが挙げられる。
【０２２２】
また、カラーフィルターの作製に好適な前記着色剤として、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、特開２００２−１６２７５２号公報の（０１３８）〜（０１４１）に記載のもの等が挙げられる。前記着色剤の平均粒径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましい。また、カラーフィルタを作製する場合は、前記平均粒子径として、０．５μｍ以下が好ましい。
【０２２３】
−−染料−−
前記感光性組成物には、取り扱い性の向上のために後述する感光層を着色し又は保存安定性を付与する目的に、染料を用いることができる。
前記染料としては、ブリリアントグリーン（例えば、その硫酸塩）、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業社製）、ローダミンＢ、ロータミン６Ｇ、ビクトリア・ピュアブルーＢＯＨなどを挙げることができ、これらの中でもカチオン染料（例えば、マラカイトグリーンシュウ酸塩、マラカイトグリーン硫酸塩等）が好ましい。該カチオン染料の対アニオンとしては、有機酸又は無機酸の残基であればよく、例えば、臭素酸、ヨウ素酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の残基（アニオン）などが挙げられる。
【０２２４】
前記染料の含有量としては、前記感光性組成物の全成分に対して０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％が特に好ましい。
【０２２５】
−−密着促進剤−−
各層間の密着性又は感光性フィルムと基体との密着性を向上させるために、各層に公知のいわゆる密着促進剤を用いることができる。
【０２２６】
前記密着促進剤としては、例えば、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報及び特開平６−４３６３８号公報等に記載の密着促進剤が好適挙げられる。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオン及び２−メルカプト−５−メチルチオ−チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、アミノ基含有ベンゾトリアゾール、シランカップリング剤などが挙げられる。
【０２２７】
前記密着促進剤の含有量としては、前記感光性組成物の全成分に対して０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が特に好ましい。
【０２２８】
前記感光性組成物は、例えば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾ又はジアゾ化合物、光還元性色素、有機ハロゲン化合物などを含んでいてもよい。
【０２２９】
前記有機硫黄化合物としては、例えば、ジ−ｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、２−メルカプロベンズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エチルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
【０２３０】
前記過酸化物としては、例えば、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドを挙げることができる。
【０２３１】
前記レドックス化合物は、過酸化物と還元剤の組合せからなるものであり、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などを挙げることができる。
【０２３２】
前記アゾ及びジアゾ化合物としては、例えば、α，α’−アゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、４−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム類が挙げられる。
【０２３３】
前記光還元性色素としては、例えば、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリフラビン、リポフラビン、チオニンが挙げられる。
【０２３４】
−−界面活性剤−−
本発明の感光性フィルムを製造する際に発生する面状ムラを改善させるために、公知の界面活性剤を添加することができる。
前記界面活性剤としては、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素含有界面活性剤などから適宜選択できる。
【０２３５】
前記界面活性剤の含有量としては、感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．００１〜１０質量％が好ましい。
前記含有量が、０．００１質量％未満になると、面状改良の効果が得られなくことがあり、１０質量％を超えると、密着性が低下することがある。
【０２３６】
前記界面活性剤としては、上述の界面活性剤の他、フッ素系の界面活性剤として、炭素鎖３〜２０でフッ素原子を４０質量％以上含み、かつ、非結合末端から数えて少なくとも３個の炭素原子に結合した水素原子がフッ素置換されているフルオロ脂肪族基を有するアクリレート又はメタクリレートを共重合成分として有する高分子界面活性剤も好適に挙げられる。
【０２３７】
＜＜ソルダーレジスト用感光性組成物＞＞
前記ソルダーレジスト用感光性組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤及び目的に応じて適宜選択されるその他の組成物からなる。
【０２３８】
−ソルダーレジスト用バインダー−
前記バインダーとしては、例えば、アルカリ性水溶液に対して膨潤性であるのが好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性であるのがより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。
【０２３９】
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開昭５１−１３１７０６号、特開昭５２−９４３８８号、特開昭６４−６２３７５号、特開平２−９７５１３号、特開平３−２８９６５６号、特開平６１−２４３８６９号、特開２００２−２９６７７６号などの各公報に記載の酸性基を有するエポキシアクリレート化合物が挙げられる。具体的には、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、あるいは、クレゾールノボラックエポキシアクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート等であって、例えばエポキシ樹脂や多官能エポキシ化合物に（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーを反応させ、更に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸等の二塩基酸無水物を付加させたものである。
前記エポキシアクリレート化合物の分子量は、１，０００〜２００，０００が好ましく、２，０００〜１００，０００がより好ましい。該分子量が１，０００未満であると、後述する感光層表面のタック性が強くなることがあり、後述する感光層の硬化後において、膜質が脆くなる、あるいは、表面硬度が劣化することがあり、２００，０００を超えると、現像性が劣化することがある。
【０２４０】
また、特開平６−２９５０６０号公報記載の酸性基及び二重結合等の重合可能な基を少なくとも１つ有するアクリル樹脂も用いることができる。具体的には、分子内に少なくとも１つの重合可能な二重結合、例えば、（メタ）アクリレート基又は（メタ）アクリルアミド基等のアクリル基、カルボン酸のビニルエステル、ビニルエーテル、アリルエーテル等の各種重合性二重結合を用いることができる。より具体的には、酸性基としてカルボキシル基を含有するアクリル樹脂に、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、桂皮酸等の不飽和脂肪酸のグリシジルエステルや、同一分子中にシクロヘキセンオキシド等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物等のエポキシ基含有の重合性化合物を付加させて得られる化合物などが挙げられる。また、酸性基及び水酸基を含有するアクリル樹脂に、イソシアナートエチル（メタ）アクリレート等のイソシアネート基含有の重合性化合物を付加させて得られる化合物、無水物基を含有するアクリル樹脂に、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を含有する重合性化合物を付加させて得られる化合物なども挙げられる。これらの市販品としては、例えば、「カネカレジンＡＸＥ；鐘淵化学工業（株）製」、「サイクロマー（ＣＹＣＬＯＭＥＲ）  Ａ−２００；ダイセル化学工業（株）製」、「サイクロマー（ＣＹＣＬＯＭＥＲ）  Ｍ−２００；ダイセル化学工業（株）製」などを用いることができる。
更に、特開昭５０−５９３１５号公報記載のヒドロキシアルキルアクリレート又はヒドロキシアルキルメタクリレートとポリカルボン酸無水物及びエピハロヒドリンのいずれかとの反応物などを用いることができる。
【０２４１】
また、特開平５−７０５２８号公報記載のフルオレン骨格を有するエポキシアクリレートに酸無水物を付加させて得られる化合物、特開平１１−２８８０８７号公報記載のポリアミド（イミド）樹脂、特開平２−０９７５０２号公報や、特開平１１−２８２１５５号公報記載のポリイミド前駆体などを用いることができる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【０２４２】
前記バインダーとしては、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して１級アミン化合物を１種以上反応させて得られる共重合体も利用できる。該共重合体は下記構造式（７４）で表される、マレイン酸ハーフアミド構造を有するマレアミド酸ユニットＢと、前記マレイン酸ハーフアミド構造を有しないユニットＡと、を少なくとも含むマレアミド酸系共重合体であるのが好ましい。
前記ユニットＡは１種であってもよいし、２種以上であってもよい。例えば、前記ユニットＢが１種であるとすると、前記ユニットＡが１種である場合には、前記マレアミド酸系共重合体が２元共重合体を意味することになり、前記ユニットＡが２種である場合には、前記マレアミド酸系共重合体が３元共重合体を意味することになる。
前記ユニットＡとしては、置換基を有していてもよいアリール基と、後述するビニル単量体であって、該ビニル単量体のホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体（ｃ）との組合せが好適に挙げられる。
【０２４３】
【化４８】
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ただし、前記構造式（７４）中、Ｒ３及びＲ４は水素原子及び低級アルキル基のいずれかを表す。ｘ及びｙは繰り返し単位のモル分率を表し、例えば、前記ユニットＡが１種の場合、ｘは８５〜５０モル％であり、ｙは１５〜５０モル％である。
【０２４４】
前記構造式（７４）中、Ｒ１としては、例えば、（−ＣＯＯＲ１０）、（−ＣＯＮＲ１１Ｒ１２）、置換基を有していてもよいアリール基、（−ＯＣＯＲ１３）、（−ＯＲ１４）、（−ＣＯＲ１５）などの置換基が挙げられる。ここで、前記Ｒ１０〜Ｒ１５は、水素原子（−Ｈ）、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基及びアラルキル基のいずれかを表す。該アルキル基、アリール基及びアラルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。
前記Ｒ１０〜Ｒ１５としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、アリル、ｎ−ヘキシル、シクロへキシル、２−エチルヘキシル、ドデシル、メトキシエチル、フェニル、メチルフェニル、メトキシフェニル、ベンジル、フェネチル、ナフチル、クロロフェニルなどが挙げられる。
前記Ｒ１の具体例としては、例えば、フェニル、α−メチルフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル等のベンゼン誘導体；ｎ−プロピルオキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル、メチルオキシカルボニルなどが挙げられる。
【０２４５】
前記Ｒ２としては、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アラルキル基などが挙げられる。これらは、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。前記Ｒ２の具体例としては、例えば、ベンジル、フェネチル、３−フェニル−１−プロピル、４−フェニル−１−ブチル、５−フェニル−１−ペンチル、６−フェニル−１−ヘキシル、α−メチルベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベンジル、４−メチルベンジル、２−（ｐ−トリル）エチル、β―メチルフェネチル、１−メチル−３−フェニルプロピル、２−クロロベンジル、３−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−フロロベンジル、３−フロロベンジル、４−フロロベンジル、４−ブロモフェネチル、２−（２−クロロフェニル）エチル、２−（３−クロロフェニル）エチル、２−（４−クロロフェニル）エチル、２−（２−フロロフェニル）エチル、２−（３−フロロフェニル）エチル、２−（４−フロロフェニル）エチル、４−フロロ−α，α−ジメチルフェネチル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベンジル、２−エトキシベンジル、２−メトキシフェネチル、３−メトキシフェネチル、４−メトキシフェネチル、メチル、エチル、プロピル、１−プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ラウリル、フェニル、１−ナフチル、メトキシメチル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−ブトキシエチル、２−シクロへキシルオキシエチル、３−エトキシプロピル、３−プロポキシプロピル、３−イソプロポキシプロピルアミンなどが挙げられる。
【０２４６】
前記バインダーは、特に、（ａ）無水マレイン酸と、（ｂ）芳香族ビニル単量体と、（ｃ）ビニル単量体であって、該ビニル単量体のホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体と、からなる共重合体の無水物基に対して１級アミン化合物を反応させて得られる共重合体であるのが好ましい。該（ａ）成分と、該（ｂ）成分と、からなる共重合体では、後述する感光層の高い表面硬度を得ることはできるものの、ラミネート性の確保が困難になることがある。また、該（ａ）成分と、該（ｃ）成分と、からなる共重合体では、ラミネート性は確保することができるものの、前記表面硬度の確保が困難になることがある。
【０２４７】
−−（ｂ）芳香族ビニル単量体−−
前記芳香族ビニル単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、本発明の感光性組成物を用いて形成される感光層の表面硬度を高くすることができる点で、ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以上である化合物が好ましく、１００℃以上である化合物がより好ましい。
前記芳香族ビニル単量体の具体例としては、例えば、スチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１００℃）、α−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１６８℃）、２−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１３６℃）、３−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝９７℃）、４−メチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝９３℃）、２，４−ジメチルスチレン（ホモポリマーのＴｇ＝１１２℃）などのスチレン誘導体が好適に挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２４８】
−−（ｃ）ビニル単量体−−
前記ビニル単量体は、該ビニル単量体のホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であることが必要であり、４０℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。
前記ビニル単量体としては、例えば、ｎ−プロピルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−３７℃）、ｎ−ブチルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５４℃）、ペンチルアクリレート、あるいはヘキシルアクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５７℃）、ｎ−ブチルメタクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−２４℃）、ｎ−ヘキシルメタクリレート（ホモポリマーのＴｇ＝−５℃）などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２４９】
−−１級アミン化合物−−
前記１級アミン化合物としては、例えば、ベンジルアミン、フェネチルアミン、３−フェニル−１−プロピルアミン、４−フェニル−１−ブチルアミン、５−フェニル−１−ペンチルアミン、６−フェニル−１−ヘキシルアミン、α−メチルベンジルアミン、２−メチルベンジルアミン、３−メチルベンジルアミン、４−メチルベンジルアミン、２−（ｐ−トリル）エチルアミン、β−メチルフェネチルアミン、１−メチル−３−フェニルプロピルアミン、２−クロロベンジルアミン、３−クロロベンジルアミン、４−クロロベンジルアミン、２−フロロベンジルアミン、３−フロロベンジルアミン、４−フロロベンジルアミン、４−ブロモフェネチルアミン、２−（２−クロロフェニル）エチルアミン、２−（３−クロロフェニル）エチルアミン、２−（４−クロロフェニル）エチルアミン、２−（２−フロロフェニル）エチルアミン、２−（３−フロロフェニル）エチルアミン、２−（４−フロロフェニル）エチルアミン、４−フロロ−α，α−ジメチルフェネチルアミン、２−メトキシベンジルアミン、３−メトキシベンジルアミン、４−メトキシベンジルアミン、２−エトキシベンジルアミン、２−メトキシフェネチルアミン、３−メトキシフェネチルアミン、４−メトキシフェネチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、１−プロピルアミン、ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、アニリン、オクチルアニリン、アニシジン、４−クロルアニリン、１−ナフチルアミン、メトキシメチルアミン、２−メトキシエチルアミン、２−エトキシエチルアミン、３−メトキシプロピルアミン、２−ブトキシエチルアミン、２−シクロヘキシルオキシエチルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロピルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、ベンジルアミン、フェネチルアミンが特に好ましい。
前記１級アミン化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２５０】
前記１級アミン化合物の反応量としては、前記無水物基に対して０．１〜１．２当量であることが必要であり、０．１〜１．０当量が好ましい。該反応量が１．２当量を超えると、前記１級アミン化合物を１種以上反応させた場合に、溶解性が著しく悪化することがある。
【０２５１】
前記（ａ）無水マレイン酸の前記バインダーにおける含有量は、１５〜５０ｍｏｌ％が好ましく、２０〜４５ｍｏｌ％がより好ましく、２０〜４０ｍｏｌ％が特に好ましい。該含有量が１５ｍｏｌ％未満であると、アルカリ現像性の付与ができず、５０ｍｏｌ％を超えると、耐アルカリ性が劣化し、また、前記共重合体の合成が困難になり、正常な永久パターンの形成を行うことができないことがある。また、この場合における、前記（ｂ）芳香族ビニル単量体及び（ｃ）ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃未満であるビニル単量体の前記バインダーにおける含有量は、それぞれ２０〜６０ｍｏｌ％、１５〜４０ｍｏｌ％が好ましい。該含有量が該数値範囲を満たす場合には、表面硬度及びラミネート性の両立を図ることができる。
【０２５２】
前記アクリル樹脂、フルオレン骨格を有するエポキシアクリレート、ポリアミド（イミド）、前記無水マレイン酸共重合体の無水物基に１級アミン化合物を反応させた化合物、あるいは、ポリイミド前駆体などのバインダーの分子量は、３，０００〜５００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がより好ましい。該分子量が３，０００未満であると、後述する感光層表面のタック性が強くなることがあり、後述する感光層の硬化後において、膜質が脆くなる、あるいは、表面硬度が劣化することがあり、５００，０００を超えると、現像性が劣化することがある。
【０２５３】
前記バインダーの前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、５質量％未満であると、感光層の膜強度が弱くなりやすく、該感光層の表面のタック性が悪化することがあり、５０質量％を超えると、露光感度が低下することがある。
【０２５４】
−ソルダーレジスト用重合性化合物−
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。
【０２５５】
前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【０２５６】
前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、５〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。該固形分含有量が５質量％未満であると、現像性の悪化、露光感度の低下などの問題を生ずることがあり、５０質量％を超えると、感光層の粘着性が強くなりすぎることがあり、好ましくない。
【０２５７】
−ソルダーレジスト用光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。
【０２５８】
前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテルなどが挙げられる。
【０２５９】
前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いたものと同じ化合物などが挙げられる。
【０２６０】
本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
【０２６１】
また、上記以外の光重合開始剤として、アシルホスフィンオキサイド類が用いられ、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなどが挙げられる。
【０２６２】
さらに、上記以外の光重合開始剤として、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いたものと同じ化合物などが挙げられる。
【０２６３】
前記ケトン化合物としては、例えば、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いたものと同じ化合物のほか、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシー２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。
【０２６４】
また、後述する感光層への露光における露光感度や感光波長を調整する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能であり、適当な光重合開始剤の選択や増感剤との組合せなどにより、最小露光量などを容易に調整することができる。
例えば、最小露光量Ｓ４００が３００ｍＪ／ｃｍ２以下、最小露光量Ｓ４１０が３００ｍＪ／ｃｍ２以下とし、前記Ｓ４１０／Ｓ４００を０．６〜１．６になるように容易に調製できるので、上述の成分と併用することが好ましい。
【０２６５】
前記増感剤における極大吸収波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３８０〜４２０ｎｍが好ましく、３９０〜４１５ｎｍがより好ましく、３９５〜４１５が特に好ましい。
前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線、や紫外光レーザ、可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
【０２６６】
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。
【０２６７】
前記増感剤としては、前記エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いた増感剤と同じ増感剤を用いることができる。
【０２６８】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。
【０２６９】
前記増感剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全成分に対し、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．２〜１０質量％が特に好ましい。該含有量が、０．０５質量％未満であると、活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性が低下することがあり、３０質量％を超えると、保存時に後述する感光層から前記増感剤が析出することがある。
【０２７０】
前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、後述する露光において、波長が４０５ｎｍのレーザ光に対応可能であり、例えば、前記ホスフィンオキサイド類、前記α−アミノアルキルケトン類、前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物と後述する増感剤としてのアミン化合物とを組合せた複合光開始剤、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物とアクリドン誘導体などの増感剤との組合せ、あるいは、チタノセンなどが挙げられる。
【０２７１】
前記光重合開始剤の前記感光性組成物における含有量としては、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１５質量％が特に好ましい。
【０２７２】
−ソルダーレジスト用熱架橋剤−
前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性組成物を用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等などに悪影響を与えない範囲で、例えば、１分子内に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ樹脂化合物、１分子内に少なくとも２つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物を用いることができる。
前記エポキシ樹脂化合物としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂（「ＹＸ４０００；ジャパンエポキシレジン社製」等）又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂（「ＴＥＰＩＣ；日産化学工業社製」、「アラルダイトＰＴ８１０；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製」等）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、グリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ナフタレン基含有エポキシ樹脂（「ＥＳＮ−１９０，ＥＳＮ−３６０；新日鉄化学社製」、「ＨＰ−４０３２，ＥＸＡ−４７５０，ＥＸＡ−４７００；大日本インキ化学工業社製」等）、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂（「ＨＰ−７２００，ＨＰ−７２００Ｈ；大日本インキ化学工業社製」等）、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂（「ＣＰ−５０Ｓ，ＣＰ−５０Ｍ；日本油脂社製」等）、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０２７３】
前記オキセタン化合物としては、例えば、ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタン基と、ノボラック樹脂、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、シルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂など、とのエーテル化合物が挙げられ、この他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体なども挙げられる。
【０２７４】
前記エポキシ樹脂化合物又はオキセタン化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１〜５０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましい。該固形分含有量が１質量％未満であると、硬化膜の吸湿性が高くなり、絶縁性の劣化を生ずる、あるいは、半田耐熱性や耐無電解メッキ性等などが低下することがあり、５０質量％を超えると、現像性の悪化や露光感度の低下が生ずることがあり、好ましくない。
【０２７５】
また、前記エポキシ樹脂化合物や前記オキセタン化合物の熱硬化を促進するため、例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等のアミン化合物；トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等の４級アンモニウム塩化合物；ジメチルアミン等のブロックイソシアネート化合物；イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩；トリフェニルホスフィン等のリン化合物；メラミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン化合物；２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のＳ−トリアジン誘導体；などを用いることができる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記エポキシ樹脂化合物や前記オキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基の反応を促進することができるものであれば、特に制限はなく、上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもよい。
前記エポキシ樹脂、前記オキセタン化合物及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、通常０．０１〜１５質量％である。
【０２７６】
また、前記熱架橋剤としては、特開平５−９４０７号公報記載のポリイソシアネート化合物を用いることができ、該ポリイソシアネート化合物は、少なくとも２つのイソシアネート基を含む脂肪族、環式脂肪族又は芳香族基置換脂肪族化合物から誘導されていてもよい。
具体的には、１，３−フェニレンジイソシアネートと１，４−フェニレンジイソシアネートとの混合物、２，４−及び２，６−トルエンジイソシアネート、１，３−及び１，４−キシリレンジイソシアネート、ビス（４−イソシアネート−フェニル）メタン、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の２官能イソシアネート；該２官能イソシアネートと、トリメチロールプロパン、ペンタリスルトール、グリセリン等との多官能アルコール；該多官能アルコールのアルキレンオキサイド付加体と、前記２官能イソシアネートとの付加体；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート及びその誘導体等の環式三量体；などが挙げられる。
【０２７７】
更に、本発明の感光性フィルムに用いられる感光層の保存性を向上させることを目的として、前記ポリイソシアネート及びその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物を用いてもよい。
前記イソシアネート基ブロック剤としては、イソプロパノール、ｔｅｒｔ．−ブタノール等のアルコール類；ε−カプロラクタム等のラクタム類；フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ．−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ．−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール等のフェノール類；３−ヒドロキシピリジン、８−ヒドロキシキノリン等の複素環式ヒドロキシル化合物；ジアルキルマロネート、メチルエチルケトキシム、アセチルアセトン、アルキルアセトアセテートオキシム、アセトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の活性メチレン化合物；などが挙げられる。これらの他、特開平６−２９５０６０号公報記載の分子内に少なくとも１つの重合可能な二重結合及び少なくとも１つのブロックイソシアネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。
【０２７８】
また、前記熱架橋剤として、メラミン誘導体を用いることもできる。該メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン（メチロール基を、メチル、エチル、ブチルなどでエーテル化した化合物）などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度あるいは硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。
【０２７９】
前記熱架橋剤の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１〜４０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。該固形分含有量が１質量％未満であると、硬化膜の膜強度の向上が認められず、４０質量％を超えると、現像性の低下や露光感度の低下を生ずることがある。
【０２８０】
−ソルダーレジスト用その他の成分−
前記その他の成分としては、例えば、重合禁止剤、可塑剤、着色剤（着色顔料あるいは染料）、体質顔料、などが挙げられ、更に基体表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする感光性組成物あるいは後述する感光性フィルムの安定性、写真性、膜物性などの性質を調整することができる。
【０２８１】
−−ソルダーレジスト用重合禁止剤−−
前記重合禁止剤は、前記重合性化合物の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加してもよい。
前記重合禁止剤としては、例えば、４−メトキシフェノールなど、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いられるたものと同じ重合禁止剤が挙げられる。
【０２８２】
前記重合禁止剤の含有量としては、前記重合性化合物に対して０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜２質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。該含有量が、０．００１質量％未満であると、保存時の安定性が低下することがあり、５質量％を超えると、活性エネルギー線に対する感度が低下することがある。
【０２８３】
−−着色顔料−−
前記着色顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フタロシアニングリーン、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）など、エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いた着色剤と同じものを適宜選択して使用することができる。
【０２８４】
前記着色顔料の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、永久パターン形成の際の感光層の露光感度、解像性などを考慮して決めることができ、前記着色顔料の種類により異なるが、一般的には０．０５〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
【０２８５】
−−体質顔料−−
前記体質顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機顔料や有機微粒子などが挙げられる。前記ソルダーレジスト用感光性組成物には、必要に応じて、永久パターンの表面硬度の向上、あるいは線膨張係数を低く抑えること、あるいは、硬化膜自体の誘電率や誘電正接を低く抑えることを目的として、前記無機顔料や有機微粒子を添加することができる。
前記無機顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カオリン、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸化ケイ素、気相法シリカ、無定形シリカ、結晶性シリカ、溶融シリカ、球状シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、マイカなどが挙げられる。
前記無機顔料の平均粒径は、１０μｍ未満が好ましく、３μｍ以下がより好ましい。該平均粒径が１０μｍ以上であると、光錯乱により解像度が劣化することがある。
前記有機微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂などが挙げられる。また、平均粒径１〜５μｍ、吸油量１００〜２００ｍ２／ｇ程度のシリカ、架橋樹脂からなる球状多孔質微粒子などを用いることができる。
【０２８６】
前記体質顔料の添加量は、５〜６０質量％が好ましい。該添加量が５質量％未満であると、十分に線膨張係数を低下させることができないことがあり、６０質量％を超えると、感光層表面に硬化膜を形成した場合に、該硬化膜の膜質が脆くなり、永久パターンを用いて配線を形成する場合において、配線の保護膜としての機能が損なわれることがある。
【０２８７】
−−密着促進剤−−
前記ソルダーレジスト用の密着促進剤として、各層間の密着性又は感光層と基体との密着性を向上させるために、前記エッチング・メッキレジスト用感光性組成物に用いた公知のいわゆる密着促進剤と同じ密着促進剤を、同じ含有量で各層に用いることができる。
【０２８８】
＜支持体＞
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光の透過性が良好であるものが好ましく、更に表面の平滑性が良好であることがより好ましい。
【０２８９】
前記支持体としては、合成樹脂製で、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２９０】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２〜１５０μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、８〜５０μｍが特に好ましい。
【０２９１】
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０，０００ｍの長さのものが挙げられる。
【０２９２】
＜保護フィルム＞
前記感光性フィルムは、前記感光層の上に保護フィルムを形成してもよい。
前記保護フィルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
前記保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましく、１０〜３０μｍが特に好ましい。
前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層と前記支持体との剥離力が、前記感光層と前記保護フィルムとの剥離力より大きいことが好ましく、前記保護フィルムと前記感光層との層間接着力は、他の各層の層間接着力の中で、最も小さいことがより好ましい。
前記支持体と保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。また、支持体及び保護フィルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、上述のような接着力の関係を満たすことができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。
また、前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数としては、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【０２９３】
前記保護フィルムは、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フィルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃（特に５０〜１２０℃）で１〜３０分間乾燥させることにより形成させることができる。
【０２９４】
＜＜その他の層＞＞
前記感光層、前記支持体、前記保護フィルムの他に、例えば、クッション層、酸素遮断層（ＰＣ層）、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などの層を有してもよい。これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有していてもよい。
前記クッション層は、常温ではタック性が無く、真空及び加熱のいずれかの条件で積層した場合に溶融し、流動する層である。
前記ＰＣ層は、通常ポリビニルアルコールを主成分として形成された厚みが０．５〜５μｍ程度の被膜である。
【０２９５】
−感光性フィルムの作製−
本発明の感光性フィルムの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができる。
例えば、前記支持体上に前記感光性組成物を塗布した後、乾燥して感光層を作製し、該感光層に保護フィルムを積層してなる。
前記感光性組成物の塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、ナイフコート法等が挙げられる。
前記感光性組成物の乾燥の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、オーブン等を用いる方法等が挙げられる。
前記乾燥の条件としては、前記感光性組成物の成分の種類、及び塗布量により異なるが、乾燥温度６０〜１１０℃、乾燥時間３０秒間〜１５分間が好ましい。
【０２９６】
（感光性フィルムロール状加工物の梱包方法）
本発明の感光性フィルムロール状加工物の梱包方法としては、感光性フィルムロール状加工物を、低透湿シートで包装し、ブッシュで支えて梱包することを特徴とする。
前記低透湿シートの水蒸気透過率としては、３０ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下であることが好ましく、２５ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下であることがより好ましい。
前記低透湿シートの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエチレン、セルローストリアセテート、塩化ビニルと塩化ビニリデン共重合体等のフィルム、これらのフィルムに無機粉末などの吸水能又は吸湿能を有する物質を蒸着したもの、などが挙げられる。
前記無機粉末としては、吸水能及び吸湿能があれば特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができる。
前記低透湿シートの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０〜１５０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましく、５０μｍ〜８０μｍであることが特に好ましい。前記厚みが、２０μｍ未満であると、前記低透湿シートの耐久性が劣り、包装シート製造条件及び使用条件が極めて困難になることがあり、１５０μｍを超えると、経済性が劣り、作業性が困難になることがある。
前記感光性フィルムロールを包装する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができるが、例えば、前記感光性フィルムロールを１〜３個毎に包装することが好ましく、１〜２個毎に包装することがより好ましく、１個毎に包装することが特に好ましい。
前記低透湿シートの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の形状の中から適宜選択することができ、例えば、袋状、シート状等が挙げられる。これらの中でも、作業性の効率が上がる点で、袋状であることが好ましい。
前記袋状の低透湿シートの使用方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の使用方法の中から適宜選択することができるが、前記袋状の低透湿シートに、前記感光性フィルムロール及び乾燥剤を入れ、前記袋状の低透湿シートの開口部を溶着又は接着させて使用する方法が挙げられる。
前記乾燥剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができる。
前記溶着又は接着する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができるが、例えば、熱、接着剤等の化学物質等を用いる方法が挙げられる。
前記シート状の低透湿シートの使用方法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知の方法の中から適宜選択することができるが、例えば、前記シート状の低透湿シートの中央に前記感光性フィルムロールを置き、前記シート状の低透湿シートを折って前記感光性フィルムロールを前記低透湿シートの内部に閉じ込め、前記低透湿シートの継ぎ目を溶着又は接着して包装することが好ましい。
前記梱包方法としては、密封性に優れていることが好ましい。
前記梱包方法により梱包されたものの中に含まれる気体としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、通常の空気、ドライエア、窒素等が挙げられる。
前記梱包方法としては、前記低透湿シートを介して前記感光性フィルムロールに２．５ＭＰａ以下の圧力を加えた場合、前記感光性フィルムロールに押し跡及び傷等が付かないことが好ましい。このようにすることで、長期保存中、輸送中等の衝撃又は外部圧力に対し、品質を維持することができる。
前記ブッシュとは、ロール状の感光性フィルムを支えるものであり、梱包用の箱中で、感光性フィルムに圧力がかからないように浮かせた状態で、感光性フィルムロールを梱包できるのである。
前記ブッシュの材料としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、発泡ポリスチレン、射出成形ポリオレフィンなどが挙げられる。
前記ブッシュの形状としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、前記感光性フィルムロールの外径より数ｍｍ〜数ｃｍ大きな円盤状の板であり、該板の中央部に前記感光性フィルムロールに用いられている巻き芯をはめ込むことができる突起を有するものが挙げられる。
【０２９７】
（パターン形成方法、及びパターン）
本発明の感光性フィルムロール状加工物を用いたパターン形成方法は、本発明の感光性フィルムロール状加工物を巻き戻した状態である感光性フィルムにおける感光層を基材の表面に転写して積層体を形成する積層工程、露光工程、及び現像工程を少なくとも含み、適宜選択したその他の工程を含む。
なお、本発明の感光性フィルムロール状加工物を用いたパターンは、本発明の感光性フィルムロール状加工物を巻き戻した状態である感光性フィルムを用い、前記パターン形成方法により形成される。前記パターンは、前記パターン形成方法の説明を通じて明らかにする。
【０２９８】
[積層工程]
前記積層体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記基体上に前記感光性フィルムを、前記保護フィルムを剥離しながら、加熱及び加圧の少なくともいずれかにより積層することが好ましい。
前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１５〜１８０℃が好ましく、５０〜１５０℃がより好ましく、１３０℃〜１４０℃が特に好ましい。
前記加圧の線圧としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜２５Ｋｇ／ｃｍが好ましく、１０〜１５Ｋｇ／ｃｍがより好ましい。
前記積層を行う速度としては、０．２〜４ｍ／分が好ましく、１〜３ｍ／分がより好ましい。
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネーター（例えば、大成ラミネータ社製、ＶＰ−ＩＩ）、真空ラミネーターなどが好適に挙げられる。
前記積層体の形成方法の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、真空ラミネーター装置の中で、保護フィルムを剥がし、感光層を基板上に接触させつつ真空チャンバー内で脱気する、その後加熱加圧により十分な支持体と感光層の密着が実現される（真空ラミネーターの例としては、特開平８−３３２６４６、特開２００１−２５２９３６、特開２００２−２２５０５９9、特開２００３−２９１１６８、特開２００４−２４９６３９号各公報参照）。）ラミネート後の基板を放冷後支持体が剥離されることが好ましい。
【０２９９】
＜＜基材＞＞
前記基材としては、特に制限はなく、公知の材料の中から表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで、フォトソルダーレジスト、配線パターン形成用フォトレジスト、カラーレジストのそれぞれの目的に応じて適宜選択することができるが、板状の基材（基板）が好ましく、具体的には、公知のプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）、ガラス板（例えば、ソーダガラス板、酸化ケイ素をスパッタしたガラス板、石英ガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。
【０３００】
前記積層体は、基材上に前記感光層が形成されてなり、該感光層に対し、後述する露光工程により露光した領域を硬化させ、後述する現像工程によりパターンを形成することができる。
【０３０１】
[露光工程]
前記露光工程は、前記積層工程において形成された前記積層体の前記感光層に対し、露光を行う工程である。
前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられるが、これらの中でもデジタル露光が好ましい。
【０３０２】
前記デジタル露光としては、例えば、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う方法が好ましい。
【０３０３】
前記「Ｎ重露光」とは、前記感光層の被露光面上の露光領域の略すべての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、前記被露光面上に照射されたＮ本の光点列（画素列）と交わるような設定による露光を指す。ここで、「光点列（画素列）」とは、前記描素部により生成された描素単位としての光点（画素）の並びうち、前記露光ヘッドの走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとする。なお、前記描素部の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。  ここで、露光領域の「略すべての領域」と述べたのは、各描素部の両側縁部では、描素部列を傾斜させたことにより、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が減るため、かかる場合に複数の露光ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、該露光ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用描素部の描素部列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や描素部配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った描素部のピッチが他の部分の描素部のピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。なお、以下の説明では、Ｎが２以上の自然数であるＮ重露光を総称して「多重露光」という。さらに、以下の説明では、本発明の露光装置又は露光方法を、描画装置又は描画方法として実施した形態について、「Ｎ重露光」及び「多重露光」に対応する用語として、「Ｎ重描画」及び「多重描画」という用語を用いるものとする。
前記Ｎ重露光のＮとしては、２以上の自然数であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３以上の自然数が好ましく、３以上７以下の自然数がより好ましい。
【０３０４】
＜パターン形成装置＞
本発明のパターン形成方法に係るパターン形成装置の一例について図面を参照しながら説明する。
前記パターン形成装置としては、いわゆるフラットベッドタイプの露光装置とされており、図１に示すように、前記感光性転写材料における少なくとも前記感光層が積層されてなるシート状の感光材料１２（以下、「感光層１２」ということがある）を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。なお、このパターン形成装置１０には、ステージ１４をガイド２０に沿って駆動するステージ駆動装置（図示せず）が設けられている。
【０３０５】
設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料１２の先端及び後端を検知する複数（たとえば２個）のセンサ２６が設けられている。スキャナ２４及びセンサ２６はゲート２２に各々取り付けられて、ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４及びセンサ２６は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
【０３０６】
ここで、説明のため、ステージ１４の表面と平行な平面内に、図１に示すように、互いに直交するＸ軸及びＹ軸を規定する。
【０３０７】
ステージ１４の走査方向に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、Ｘ軸の方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット２８が、等間隔で１０本形成されている。各スリット２８は、上流側に位置するスリット２８ａと下流側に位置するスリット２８ｂとからなっている。スリット２８ａとスリット２８ｂとは互いに直交するとともに、Ｘ軸に対してスリット２８ａは−４５度、スリット２８ｂは＋４５度の角度を有している。
【０３０８】
スリット２８の位置は、前記露光ヘッド３０の中心と略一致させられている。また、各スリット２８の大きさは、対応する露光ヘッド３０による露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。また、スリット２８の位置としては、隣接する露光済み領域３４間の重複部分の中心位置と略一致させてもよい。この場合、各スリット２８の大きさは、露光済み領域３４間の重複部分の幅を十分覆う大きさとする。
【０３０９】
ステージ１４内部の各スリット２８の下方の位置には、それぞれ、後述する使用描素部指定処理において、描素単位としての光点を検出する光点位置検出手段としての単一セル型の光検出器（図示せず）が組み込まれている。また、各光検出器は、後述する使用描素部指定処理において、前記描素部の選択を行う描素部選択手段としての演算装置（図示せず）に接続されている。
【０３１０】
露光時における前記パターン形成装置の動作形態はとしては、露光ヘッドを常に移動させながら連続的に露光を行う形態であってもよいし、露光ヘッドを段階的に移動させながら、各移動先の位置で露光ヘッドを静止させて露光動作を行う形態であってもよい。
【０３１１】
＜＜露光ヘッド＞＞
各露光ヘッド３０は、後述する内部のデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６の各描素部（マイクロミラー）列方向が、走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように、スキャナ２４に取り付けられている。このため、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、感光層１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。図２及び図３Ｂに示す例では、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッドが、スキャナ２４に備えられている。
なお、以下において、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド３０ｍｎと表記し、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア３２ｍｎと表記する。
【０３１２】
また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア３２１１と露光エリア３２１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア３２２１により露光することができる。
【０３１３】
露光ヘッド３０の各々は、図４及び図５に示すように、入射された光を画像データに応じて描素部ごとに変調する光変調手段（描素部ごとに変調する空間光変調素子）として、ＤＭＤ３６（米国テキサス・インスツルメンツ社製）を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた描素部制御手段としてのコントローラに接続されている。このコントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、露光ヘッド３０ごとに、ＤＭＤ３６上の使用領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、露光ヘッド３０ごとに、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【０３１４】
図４に示すように、ＤＭＤ３６の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア３２の長辺方向と一致する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源３８、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系４０、このレンズ系４０を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２がこの順に配置されている。なお図４では、レンズ系４０を概略的に示してある。
【０３１５】
上記レンズ系４０は、図５に詳しく示すように、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ４４、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ４６、及び光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ３６上に集光する集光レンズ４８で構成されている。
【０３１６】
また、ＤＭＤ３６の光反射側には、ＤＭＤ３６で反射されたレーザ光を感光層１２の被露光面上に結像するレンズ系５０が配置されている。レンズ系５０は、ＤＭＤ３６と感光層１２の被露光面とが共役な関係となるように配置された、２枚のレンズ５２及び５４からなる。
【０３１７】
本実施形態では、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光は、実質的に５倍に拡大された後、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラーからの光線が上記のレンズ系５０によって約５μｍに絞られるように設定されている。
【０３１８】
‐光変調手段‐
前記光変調手段としては、ｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された前記描素部を有し、前記パターン情報に応じて前記描素部を制御可能なものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空間光変調素子が好ましい。
【０３１９】
前記空間光変調素子としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐｅｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）などが挙げられ、これらの中でもＤＭＤが好適に挙げられる。
【０３２０】
また、前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を有することが好ましい。この場合、前記光変調手段は、前記パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて光を変調させる。
前記制御信号としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル信号が好適に挙げられる。
【０３２１】
以下、前記光変調手段の一例について図面を参照しながら説明する。
ＤＭＤ３６は図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）５６上に、各々描素（ピクセル）を構成する描素部として、多数のマイクロミラー５８が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。本実施形態では、１０２４列×７６８行のマイクロミラー５８が配されてなるＤＭＤ３６を使用するが、このうちＤＭＤ３６に接続されたコントローラにより駆動可能すなわち使用可能なマイクロミラー５８は、１０２４列×２５６行のみであるとする。ＤＭＤ３６のデータ処理速度には限界があり、使用するマイクロミラー数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、このように一部のマイクロミラーのみを使用することにより１ライン当りの変調速度が速くなる。各マイクロミラー５８は支柱に支えられており、その表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、本実施形態では、各マイクロミラー５８の反射率は９０％以上であり、その配列ピッチは縦方向、横方向ともに１３．７μｍである。ＳＲＡＭセル５６は、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのものであり、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【０３２２】
ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル（メモリセル）５６に、所望の２次元パターンを構成する各点の濃度を２値で表した画像信号が書き込まれると、支柱に支えられた各マイクロミラー５８が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（たとえば±１０度）のいずれかに傾く。図７Ａは、マイクロミラー５８がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７Ｂは、マイクロミラー５８がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。このように、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー５８の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射したレーザ光Ｂはそれぞれのマイクロミラー５８の傾き方向へ反射される。
【０３２３】
図６には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、各マイクロミラー５８が＋α度又はα度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー５８のオンオフ制御は、ＤＭＤ３６に接続された上記のコントローラによって行われる。また、オフ状態のマイクロミラー５８で反射したレーザ光Ｂが進行する方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【０３２４】
‐光照射手段‐
前記光照射手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写機用などの蛍光管、ＬＥＤ、半導体レーザ、Ａｒレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ等の公知光源、又は２以上の光を合成して照射可能な手段が挙げられ、これらの中でも２以上の光を合成して照射可能な手段が好ましい。
前記光照射手段から照射される光としては、例えば、支持体を介して光照射を行う場合には、該支持体を透過し、かつ用いられる光重合開始剤や増感剤を活性化する電磁波、紫外から可視光線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられ、これらの中でもレーザ光が好ましく、２以上の光を合成したレーザ（以下、「合波レーザ」と称することがある）がより好ましい。また支持体を剥離してから光照射を行う場合でも、同様の光を用いることができる。
また、特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用しても良い。
また、青紫色レーザ露光装置を使用することが好ましい。
【０３２５】
前記紫外から可視光線の波長としては、例えば、３００〜１５００ｎｍが好ましく、３２０〜８００ｎｍがより好ましく、３３０〜６５０ｎｍが特に好ましく、３００〜４４０ｎｍがよりさらに好ましい。
前記レーザ光の波長としては、例えば、２００〜１５００ｎｍが好ましく、３００〜８００ｎｍがより好ましく、３３０〜５００ｎｍが更に好ましく、４００〜４５０ｎｍが特に好ましい。
【０３２６】
前記合波レーザを照射可能な手段としては、例えば、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射したレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する手段が好ましい。
【０３２７】
以下、前記合波レーザを照射可能な手段（ファイバアレイ光源）について図を参照しながら説明する。
ファイバアレイ光源３８は、図８に示すように、複数（たとえば１４個）のレーザモジュール６０を備えており、各レーザモジュール６０には、マルチモード光ファイバ６２の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ６２の他端には、マルチモード光ファイバ６２より小さいクラッド径を有する光ファイバ６４が結合されている。図９に詳しく示すように、光ファイバ６４のマルチモード光ファイバ６２と反対側の端部は走査方向と直交する方向に沿って７個並べられ、それが２列に配列されてレーザ出射部６６が構成されている。
【０３２８】
光ファイバ６４の端部で構成されるレーザ出射部６６は、図９に示すように、表面が平坦な２枚の支持板６８に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバ６４の光出射端面には、その保護のために、ガラス等の透明な保護板が配置されるのが望ましい。光ファイバ６４の光出射端面は、光密度が高いため集塵しやすく劣化しやすいが、上述のような保護板を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止し、また劣化を遅らせることができる。
【０３２９】
このような光ファイバは、例えば、図２５に示すように、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバ６２のレーザ光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバ６４を同軸的に結合することにより得ることができる。２本の光ファイバは、光ファイバ６４の入射端面が、マルチモード光ファイバ６２の出射端面に、両光ファイバの中心軸が一致するように融着されて結合されている。上述した通り、光ファイバ６４のコア６４ａの径は、マルチモード光ファイバ６２のコア６２ａの径と同じ大きさである。
【０３３０】
また、長さが短くクラッド径が大きい光ファイバにクラッド径が小さい光ファイバを融着させた短尺光ファイバを、フェルールや光コネクタ等を介してマルチモード光ファイバ６２の出射端に結合してもよい。コネクタ等を用いて着脱可能に結合することで、クラッド径が小さい光ファイバが破損した場合等に先端部分の交換が容易になり、露光ヘッドのメンテナンスに要するコストを低減できる。なお、以下では、光ファイバ６４を、マルチモード光ファイバ６２の出射端部と称する場合がある。
【０３３１】
マルチモード光ファイバ６２及び光ファイバ６４としては、ステップインデックス型光ファイバ、グレーテッドインデックス型光ファイバ、及び複合型光ファイバの何れでもよい。例えば、三菱電線工業株式会社製のステップインデックス型光ファイバを用いることができる。本実施の形態では、マルチモード光ファイバ６２及び光ファイバ６４は、ステップインデックス型光ファイバであり、マルチモード光ファイバ６２は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２、入射端面コートの透過率＝９９．５％以上であり、光ファイバ６４は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２である。
【０３３２】
一般に、赤外領域のレーザ光では、光ファイバのクラッド径を小さくすると伝搬損失が増加する。このため、レーザ光の波長帯域に応じて好適なクラッド径が決定されている。しかしながら、波長が短いほど伝搬損失は少なくなり、ＧａＮ系半導体レーザから出射された波長４０５ｎｍのレーザ光では、クラッドの厚み｛（クラッド径−コア径）／２｝を８００ｎｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の１／２程度、通信用の１．５μｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の約１／４にしても、伝搬損失は殆ど増加しない。従って、クラッド径を６０μｍと小さくすることができる。
【０３３３】
但し、光ファイバのクラッド径は６０μｍには限定されない。従来のファイバアレイ光源に使用されている光ファイバのクラッド径は１２５μｍであるが、クラッド径が小さくなるほど焦点深度がより深くなるので、光ファイバのクラッド径は８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下が更に好ましい。一方、コア径は少なくとも３〜４μｍ必要であることから、光ファイバ６４のクラッド径は１０μｍ以上が好ましい。
【０３３４】
レーザモジュール６０は、図２６に示す合波レーザ光源（ファイバアレイ光源）によって構成されている。この合波レーザ光源は、ヒートブロック１１０上に配列固定された複数（例えば、７個）のチップ状の横マルチモード又はシングルモードのＧａＮ系半導体レーザＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４、ＬＤ５、ＬＤ６、及びＬＤ７と、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６及びＬ７と、１つの集光レンズ２００と、１本のマルチモード光ファイバ６２と、から構成されている。なお、半導体レーザの個数は７個には限定されない。例えば、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２のマルチモード光ファイバには、２０個もの半導体レーザ光を入射することが可能であり、露光ヘッドの必要光量を実現して、且つ光ファイバ本数をより減らすことができる。
【０３３５】
ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長が総て共通（例えば、４０５ｎｍ）であり、最大出力も総て共通（例えば、マルチモードレーザでは１００ｍＷ、シングルモードレーザでは３０ｍＷ）である。なお、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で、上記の４０５ｎｍ以外の発振波長を備えるレーザを用いてもよい。
【０３３６】
前記合波レーザ光源は、図２７及び図２８に示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ４００内に収納されている。パッケージ４００は、その開口を閉じるように作成されたパッケージ蓋４１０を備えており、脱気処理後に封止ガスを導入し、パッケージ４００の開口をパッケージ蓋４１０で閉じることにより、パッケージ４００とパッケージ蓋４１０とにより形成される閉空間（封止空間）内に上記合波レーザ光源が気密封止されている。
【０３３７】
パッケージ４００の底面にはベース板４２０が固定されており、このベース板４２０の上面には、前記ヒートブロック１１０と、集光レンズ２００を保持する集光レンズホルダー４５０と、マルチモード光ファイバ６２の入射端部を保持するファイバホルダー４６０とが取り付けられている。マルチモード光ファイバ６２の出射端部は、パッケージ４００の壁面に形成された開口からパッケージ外に引き出されている。
【０３３８】
また、ヒートブロック１１０の側面にはコリメータレンズホルダー４４０が取り付けられており、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７が保持されている。パッケージ４００の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線４７０がパッケージ外に引き出されている。
【０３３９】
なお、図２８においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＧａＮ系半導体レーザのうちＧａＮ系半導体レーザＬＤ７にのみ番号を付し、複数のコリメータレンズのうちコリメータレンズＬ７にのみ番号を付している。
【０３４０】
図２９は、前記コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の取り付け部分の正面形状を示すものである。コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメータレンズは、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。コリメータレンズＬ１〜Ｌ７は、長さ方向がＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図２９の左右方向）と直交するように、上記発光点の配列方向に密接配置されている。
【０３４１】
一方、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々例えば１０°、３０°の状態で各々レーザビームＢ１〜Ｂ７を発するレーザが用いられている。これらＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。
【０３４２】
したがって、各発光点から発せられたレーザビームＢ１〜Ｂ７は、上述のように細長形状の各コリメータレンズＬ１〜Ｌ７に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。つまり、各コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の幅が１．１ｍｍ、長さが４．６ｍｍであり、それらに入射するレーザビームＢ１〜Ｂ７の水平方向、垂直方向のビーム径は各々０．９ｍｍ、２．６ｍｍである。また、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の各々は、焦点距離ｆ1＝３ｍｍ、ＮＡ＝０．６、レンズ配置ピッチ＝１．２５ｍｍである。
【０３４３】
集光レンズ２００は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ２００は、焦点距離ｆ２＝２３ｍｍ、ＮＡ＝０．２である。この集光レンズ２００も、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより形成される。
【０３４４】
また、ＤＭＤを照明する光照射手段に、合波レーザ光源の光ファイバの出射端部をアレイ状に配列した高輝度のファイバアレイ光源を用いているので、高出力で且つ深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。更に、各ファイバアレイ光源の出力が大きくなることで、所望の出力を得るために必要なファイバアレイ光源数が少なくなり、パターン形成装置の低コスト化が図られる。
【０３４５】
また、光ファイバの出射端のクラッド径を入射端のクラッド径よりも小さくしているので、発光部径がより小さくなり、ファイバアレイ光源の高輝度化が図られる。これにより、より深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。例えば、ビーム径１μｍ以下、解像度０．１μｍ以下の超高解像度露光の場合にも、深い焦点深度を得ることができ、高速且つ高精細な露光が可能となる。したがって、高解像度が必要とされる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の露光工程に好適である。
【０３４６】
また、前記光照射手段としては、前記合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源に限定されず、例えば、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源を用いることができる。
【０３４７】
また、複数の発光点を備えた光照射手段としては、例えば、図３０に示すように、ヒートブロック１１０上に、複数（例えば、７個）のチップ状の半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７を配列したレーザアレイを用いることができる。また、図３１Ａに示す、複数（例えば、５個）の発光点１１１ａが所定方向に配列されたチップ状のマルチキャビティレーザ１１０が知られている。マルチキャビティレーザ１１１は、チップ状の半導体レーザを配列する場合と比べ、発光点を位置精度良く配列できるので、各発光点から出射されるレーザビームを合波し易い。但し、発光点が多くなるとレーザ製造時にマルチキャビティレーザ１１１に撓みが発生し易くなるため、発光点１１１ａの個数は５個以下とするのが好ましい。
【０３４８】
前記光照射手段としては、このマルチキャビティレーザ１１１や、図３１Ｂに示すように、ヒートブロック１１０上に、複数のマルチキャビティレーザ１１１が各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に配列されたマルチキャビティレーザアレイを、レーザ光源として用いることができる。
【０３４９】
また、合波レーザ光源は、複数のチップ状の半導体レーザから出射されたレーザ光を合波するものには限定されない。例えば、図３２に示すように、複数（例えば、３個）の発光点１１１ａを有するチップ状のマルチキャビティレーザ１１１を備えた合波レーザ光源を用いることができる。この合波レーザ光源は、マルチキャビティレーザ１１１と、１本のマルチモード光ファイバ６２と、集光レンズ２００と、を備えて構成されている。マルチキャビティレーザ１１１は、例えば、発振波長が４０５ｎｍのＧａＮ系レーザダイオードで構成することができる。
【０３５０】
前記構成では、マルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、集光レンズ２００によって集光され、マルチモード光ファイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光ファイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０３５１】
マルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａを、上記マルチモード光ファイバ６２のコア径と略等しい幅内に並設すると共に、集光レンズ２００として、マルチモード光ファイバ６２のコア径と略等しい焦点距離の凸レンズや、マルチキャビティレーザ１１１からの出射ビームをその活性層に垂直な面内のみでコリメートするロッドレンズを用いることにより、レーザビームＢのマルチモード光ファイバ６２への結合効率を上げることができる。
【０３５２】
また、図３３に示すように、複数（例えば、３個）の発光点を備えたマルチキャビティレーザ１１１を用い、ヒートブロック１１０上に複数（例えば、９個）のマルチキャビティレーザ１１１が互いに等間隔で配列されたレーザアレイ１４０を備えた合波レーザ光源を用いることができる。複数のマルチキャビティレーザ１１１は、各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に配列されて固定されている。
【０３５３】
この合波レーザ光源は、レーザアレイ１４０と、各マルチキャビティレーザ１１１に対応させて配置した複数のレンズアレイ１１４と、レーザアレイ１４０と複数のレンズアレイ１１４との間に配置された１本のロッドレンズ１１３と、１本のマルチモード光ファイバ１３０と、集光レンズ１２０と、を備えて構成されている。レンズアレイ１１４は、マルチキャビティレーザ１１０の発光点に対応した複数のマイクロレンズを備えている。
【０３５４】
上記の構成では、複数のマルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、ロッドレンズ１１３により所定方向に集光された後、レンズアレイ１１４の各マイクロレンズにより平行光化される。平行光化されたレーザビームＬは、集光レンズ２００によって集光され、マルチモード光フアイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光フアイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０３５５】
更に他の合波レーザ光源の例を示す。この合波レーザ光源は、図３４Ａ及び図３４Ｂに示すように、略矩形状のヒートブロック１８０上に光軸方向の断面がＬ字状のヒートブロック１８２が搭載され、２つのヒートブロック間に収納空間が形成されている。Ｌ字状のヒートブロック１８２の上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１１が、各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に等間隔で配列されて固定されている。
【０３５６】
略矩形状のヒートブロック１８０には凹部が形成されており、ヒートブロック１８０の空間側上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１０が、その発光点がヒートブロック１８２の上面に配置されたレーザチップの発光点と同じ鉛直面上に位置するように配置されている。
【０３５７】
マルチキャビティレーザ１１１のレーザ光出射側には、各チップの発光点１１１ａに対応してコリメートレンズが配列されたコリメートレンズアレイ１８４が配置されている。コリメートレンズアレイ１８４は、各コリメートレンズの長さ方向とレーザビームの拡がり角が大きい方向（速軸方向）とが一致し、各コリメートレンズの幅方向が拡がり角が小さい方向（遅軸方向）と一致するように配置されている。このように、コリメートレンズをアレイ化して一体化することで、レーザ光の空間利用効率が向上し合波レーザ光源の高出力化が図られると共に、部品点数が減少し低コスト化することができる。
【０３５８】
また、コリメートレンズアレイ１８４のレーザ光出射側には、１本のマルチモード光ファイバ６２と、このマルチモード光ファイバ６２の入射端にレーザビームを集光して結合する集光レンズ２００と、が配置されている。
【０３５９】
前記構成では、レーザブロック１８０、１８２上に配置された複数のマルチキヤビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、コリメートレンズアレイ１８４により平行光化され、集光レンズ２００によって集光されて、マルチモード光フアイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光フアイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０３６０】
前記合波レーザ光源は、上記の通り、マルチキャビティレーザの多段配置とコリメートレンズのアレイ化とにより、特に高出力化を図ることができる。この合波レーザ光源を用いることにより、より高輝度なファイバアレイ光源やバンドルファイバ光源を構成することができるので、本発明のパターン形成装置のレーザ光源を構成するファイバ光源として特に好適である。
【０３６１】
なお、前記各合波レーザ光源をケーシング内に収納し、マルチモード光ファイバ６２の出射端部をそのケーシングから引き出したレーザモジュールを構成することができる。
【０３６２】
また、合波レーザ光源のマルチモード光ファイバの出射端に、コア径がマルチモード光ファイバと同一で且つクラッド径がマルチモード光ファイバより小さい他の光ファイバを結合してファイバアレイ光源の高輝度化を図る例について説明したが、例えば、クラッド径が１２５μｍ、８０μｍ、６０μｍ等のマルチモード光ファイバを、出射端に他の光ファイバを結合せずに使用してもよい。
【０３６３】
＜＜使用描素部指定手段＞＞
前記使用描素部指定手段としては、描素単位としての光点の位置を被露光面上において検出する光点位置検出手段と、前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段とを少なくとも備えることが好ましい。
以下、前記使用描素部指定手段による、Ｎ重露光に使用する描素部の指定方法の例について説明する。
【０３６４】
（１）単一露光ヘッド内における使用描素部の指定方法
本実施形態（１）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、各露光ヘッド３０の取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０３６５】
露光ヘッド３０の走査方向に対する描素部（マイクロミラー５８）の列方向の設定傾斜角度θとしては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部を使用してちょうど２重露光となる角度θidealよりも、若干大きい角度を採用するものとする。
この角度θidealは、Ｎ重露光の数Ｎ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の個数ｓ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッド３０を傾斜させた状態においてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチδに対し、下記式１、
ｓｐsinθideal≧Ｎδ（式１）
により与えられる。本実施形態におけるＤＭＤ３６は、上記のとおり、縦横の配置間隔が等しい多数のマイクロミラー５８が矩形格子状に配されたものであるので、
ｐcosθideal＝δ（式２）
であり、上記式１は、
ｓtanθideal＝Ｎ（式３）
となる。本実施形態（１）では、上記のとおりｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、前記式３より、角度θidealは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度程度の角度を採用するとよい。パターン形成装置１０は、調整可能な範囲内で、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの設定傾斜角度θに近い角度となるように、初期調整されているものとする。
【０３６６】
図１０は、上記のように初期調整されたパターン形成装置１０において、１つの露光ヘッド３０の取付角度誤差、及びパターン歪みの影響により、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。以下の図面及び説明においては、各描素部（マイクロミラー）により生成され、被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点について、第ｍ行目の光点をｒ（ｍ）、第ｎ列目の光点をｃ（ｎ）、第ｍ行第ｎ列の光点をＰ（ｍ，ｎ）とそれぞれ表記するものとする。
【０３６７】
図１０の上段部分は、ステージ１４を静止させた状態で感光材料１２の被露光面上に投影される、使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示し、下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を示したものである。
なお、図１０では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンを分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０３６８】
図１０の例では、設定傾斜角度θを上記の角度θidealよりも若干大きい角度を採用した結果として、また露光ヘッド３０の取付角度の微調整が困難であるために、実際の取付角度と上記の設定傾斜角度θとが誤差を有する結果として、被露光面上のいずれの領域においても濃度むらが生じている。具体的には、奇数列のマイクロミラーによる露光パターン及び偶数列のマイクロミラーによる露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となり、描画が冗長となる領域が生じ、濃度むらが生じている。
【０３６９】
さらに、図１０の例では、被露光面上に現れるパターン歪みの一例であって、被露光面上に投影された各画素列の傾斜角度が均一ではなくなる「角度歪み」が生じている。このような角度歪みが生じる原因としては、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれ、及びＤＭＤ３６自体の歪みやマイクロミラーの配置誤差等が挙げられる。
図１０の例に現れている角度歪みは、走査方向に対する傾斜角度が、図の左方の列ほど小さく、図の右方の列ほど大きくなっている形態の歪みである。この角度歪みの結果として、露光過多となっている領域は、図の左方に示した被露光面上ほど小さく、図の右方に示した被露光面上ほど大きくなっている。
【０３７０】
上記したような、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域における濃度むらを軽減するために、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０ごとに実傾斜角度θ´を特定し、該実傾斜角度θ´に基づき、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された前記演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
実傾斜角度θ´は、光点位置検出手段が検出した少なくとも２つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす角度により特定される。
以下、図１１及び１２を用いて、前記実傾斜角度θ´の特定、及び使用画素選択処理について説明する。
【０３７１】
−実傾斜角度θ´の特定−
図１１は、１つのＤＭＤ３６による露光エリア３２と、対応するスリット２８との位置関係を示した上面図である。スリット２８の大きさは、露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。
本実施形態（１）の例では、露光エリア３２の略中心に位置する第５１２列目の光点列と露光ヘッド３０の走査方向とがなす角度を、上記の実傾斜角度θ´として測定する。具体的には、ＤＭＤ３６上の第１行目第５１２列目のマイクロミラー５８、及び第２５６行目第５１２列目のマイクロミラー５８をオン状態とし、それぞれに対応する被露光面上の光点Ｐ（１，５１２）及びＰ（２５６，５１２）の位置を検出し、それらを結ぶ直線と露光ヘッドの走査方向とがなす角度を実傾斜角度θ´として特定する。
【０３７２】
図１２は、光点Ｐ（２５６，５１２）の位置の検出手法を説明した上面図である。
まず、第２５６行目第５１２列目のマイクロミラー５８を点灯させた状態で、ステージ１４をゆっくり移動させてスリット２８をＹ軸方向に沿って相対移動させ、光点Ｐ（２５６，５１２）が上流側のスリット２８ａと下流側のスリット２８ｂの間に来るような任意の位置に、スリット２８を位置させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ０）とする。この座標（Ｘ０，Ｙ０）の値は、ステージ１４に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ１４の移動距離、及び、既知であるスリット２８のＸ方向位置から決定され、記録される。
【０３７３】
次に、ステージ１４を移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１２における右方に相対移動させる。そして、図１２において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，５１２）の光が左側のスリット２８ｂを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ１）を、光点Ｐ（２５６，５１２）の位置として記録する。
【０３７４】
次いで、ステージ１４を反対方向に移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１２における左方に相対移動させる。そして、図１２において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，５１２）の光が右側のスリット２８ａを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ２）を光点Ｐ（２５６，５１２）の位置として記録する。
【０３７５】
以上の測定結果から、光点Ｐ（２５６，５１２）の被露光面上における位置を示す座標（Ｘ，Ｙ）を、Ｘ＝Ｘ０＋（Ｙ１−Ｙ２）／２、Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２の計算により決定する。同様の測定により、Ｐ（１，５１２）の位置を示す座標も決定し、それぞれの座標を結ぶ直線と、露光ヘッド３０の走査方向とがなす傾斜角度を導出し、これを実傾斜角度θ´として特定する。
【０３７６】
‐使用描素部の選択‐
このようにして特定された実傾斜角度θ´を用い、前記光検出器に接続された前記演算装置は、下記式４
ｔtanθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを導出し、ＤＭＤ３６上の１行目からＴ行目のマイクロミラーを、本露光時に実際に使用するマイクロミラーとして選択する処理を行う。これにより、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域と、露光不足となる領域との面積合計が最小となるようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
【０３７７】
ここで、上記の値ｔに最も近い自然数を導出することに代えて、値ｔ以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
また、値ｔ以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
【０３７８】
図１３は、上記のようにして実際に使用するマイクロミラーとして選択されたマイクロミラーが生成した光点のみを用いて行った露光において、図１０に示した被露光面上のむらがどのように改善されるかを示した説明図である。
この例では、上記の自然数ＴとしてＴ＝２５３が導出され、第１行目から第２５３行目のマイクロミラーが選択されたものとする。選択されなかった第２５４行目から第２５６行目のマイクロミラーに対しては、前記描素部制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しない。図１３に示すとおり、第５１２列目付近の露光領域では、露光過多及び露光不足は、ほぼ完全に解消され、理想的な２重露光に極めて近い均一な露光が実現される。
【０３７９】
一方、図１３の左方の領域（図中のｃ（１）付近）では、前記角度歪みにより、被露光面上における光点列の傾斜角度が中央付近（図中のｃ（５１２）付近）の領域における光線列の傾斜角度よりも小さくなっている。したがって、ｃ（５１２）を基準として測定された実傾斜角度θ´に基づいて選択されたマイクロミラーのみによる露光では、偶数列による露光パターン及び奇数列による露光パターンのそれぞれにおいて、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域がわずかに生じてしまう。
しかしながら、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光量不足となる領域が互いに補完され、前記角度歪みによる露光むらを、２重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。
【０３８０】
また、図１３の右方の領域（図中のｃ（１０２４）付近）では、前記角度歪みにより、被露光面上における光線列の傾斜角度が、中央付近（図中のｃ（５１２）付近）の領域における光線列の傾斜角度よりも大きくなっている。したがって、ｃ（５１２）を基準として測定された実傾斜角度θ´に基づいて選択されたマイクロミラーによる露光では、図に示すように、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域がわずかに生じてしまう。
しかしながら、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光過多となる領域が互いに補完され、前記角度歪による濃度むらを、２重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。
【０３８１】
本実施形態（１）では、上述のとおり、第５１２列目の光線列の実傾斜角度θ´が測定され、該実傾斜角度θ´を用い、前記式（４）により導出されたＴに基づいて使用するマイクロミラー５８を選択したが、前記実傾斜角度θ´の特定方法としては、複数の描素部の列方向（光点列）と、前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度をそれぞれ測定し、それらの平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかを実傾斜角度θ´として特定し、前記式４等によって実際の露光時に実際に使用するマイクロミラーを選択する形態としてもよい。
前記平均値又は前記中央値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光過多となる領域と露光不足となる領域とのバランスがよい露光を実現することができる。例えば、露光過多となる領域と、露光量不足となる領域との合計面積が最小に抑えられ、かつ、露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるような露光を実現することが可能である。
また、前記最大値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光過多となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光不足となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光過多となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。
さらに、前記最小値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光不足となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光過多となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光不足となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。
【０３８２】
一方、前記実傾斜角度θ´の特定は、同一の描素部の列（光点列）中の少なくとも２つの光点の位置に基づく方法に限定されない。例えば、同一描素部列ｃ（ｎ）中の１つ又は複数の光点の位置と、該ｃ（ｎ）近傍の列中の１つ又は複数の光点の位置とから求めた角度を、実傾斜角度θ´として特定してもよい。
具体的には、ｃ（ｎ）中の１つの光点位置と、露光ヘッドの走査方向に沿って直線上かつ近傍の光点列に含まれる１つ又は複数の光点位置とを検出し、これらの位置情報から、実傾斜角度θ´を求めることができる。さらに、ｃ（ｎ）列近傍の光点列中の少なくとも２つの光点（たとえば、ｃ（ｎ）を跨ぐように配置された２つの光点）の位置に基づいて求めた角度を、実傾斜角度θ´として特定してもよい。
【０３８３】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（１）の使用描素部の指定方法によれば、各露光ヘッドの取付角度誤差やパターン歪みの影響による解像度のばらつきや濃度のむらを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０３８４】
（２）複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法＜１＞
本実施形態（２）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、複数の露光ヘッド３０により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の、理想的な状態からのずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０３８５】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度θとしては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部マイクロミラー５８を使用してちょうど２重露光となる角度θidealを採用するものとする。
この角度θidealは、上記の実施形態（１）と同様にして前記式１〜３から求められる。本実施形態（２）において、パターン形成装置１０は、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの角度θidealとなるように、初期調整されているものとする。
【０３８６】
図１４は、上記のように初期調整されたパターン形成装置１０において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の、理想的な状態からのずれの影響により、被露光面上のパターンに生じる濃度むらの例を示した説明図である。各露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれは、露光ヘッド間の相対位置の微調整が困難であるために生じ得るものである。
【０３８７】
図１４の上段部分は、ステージ１４を静止させた状態で感光材料１２の被露光面上に投影される、露光ヘッド３０１２と３０２１が有するＤＭＤ３６の使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示した図である。図１４の下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を、露光エリア３２１２と３２２１について示したものである。
なお、図１４では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の１列おきの露光パターンを、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとに分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０３８８】
図１４の例では、上記したＸ軸方向に関する露光ヘッド３０１２と３０２１との間の相対位置の、理想的な状態からのずれの結果として、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光量過多な部分が生じてしまっている。
【０３８９】
上記したような、複数の前記露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域に現れる濃度むらを軽減するために、本実施形態（２）では、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２と３０２１からの光点群のうち、被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を構成する光点のいくつかについて、その位置（座標）を検出する。該位置（座標）に基づいて、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
【０３９０】
−位置（座標）の検出−
図１５は、図１４と同様の露光エリア３２１２及び３２２１と、対応するスリット２８との位置関係を示した上面図である。スリット２８の大きさは、露光ヘッド３０１２と３０２１による露光済み領域３４間の重複部分の幅を十分覆う大きさ、すなわち、露光ヘッド３０１２と３０２１により被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を十分覆う大きさとされている。
【０３９１】
図１６は、一例として露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２４）の位置を検出する際の検出手法を説明した上面図である。
まず、第２５６行目第１０２４列目のマイクロミラーを点灯させた状態で、ステージ１４をゆっくり移動させてスリット２８をＹ軸方向に沿って相対移動させ、光点Ｐ（２５６，１０２４）が上流側のスリット２８ａと下流側のスリット２８ｂの間に来るような任意の位置に、スリット２８を位置させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ０）とする。この座標（Ｘ０，Ｙ０）の値は、ステージ１４に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ１４の移動距離、及び、既知であるスリット２８のＸ方向位置から決定され、記録される。
【０３９２】
次に、ステージ１４を移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１６における右方に相対移動させる。そして、図１６において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，１０２４）の光が左側のスリット２８ｂを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ１）を、光点Ｐ（２５６，１０２４）の位置として記録する。
【０３９３】
次いで、ステージ１４を反対方向に移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１６における左方に相対移動させる。そして、図１６において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，１０２４）の光が右側のスリット２８ａを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ２）を、光点Ｐ（２５６，１０２４）として記録する。
【０３９４】
以上の測定結果から、光点Ｐ（２５６，１０２４）の被露光面における位置を示す座標（Ｘ，Ｙ）を、Ｘ＝Ｘ０＋（Ｙ１−Ｙ２）／２、Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２の計算により決定する。
【０３９５】
−不使用描素部の特定−
図１４の例では、まず、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）の位置を、上記の光点位置検出手段としてスリット２８と光検出器の組により検出する。続いて、露光エリア３２２１の第２５６行目の光点行ｒ（２５６）上の各光点の位置を、Ｐ（２５６，１０２４）、Ｐ（２５６，１０２３）・・・と順番に検出していき、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）よりも大きいＸ座標を示す露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，ｎ）が検出されたところで、検出動作を終了する。そして、露光エリア３２２１の光点光点列ｃ（ｎ＋１）からｃ（１０２４）を構成する光点に対応するマイクロミラーを、本露光時に使用しないマイクロミラー（不使用描素部）として特定する。
例えば、図１４において、露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２０）が、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）よりも大きいＸ座標を示し、その露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２０）が検出されたところで検出動作が終了したとすると、図１７において斜線で覆われた部分７０に相当する露光エリア３２２１の第１０２１行から第１０２４行を構成する光点に対応するマイクロミラーが、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定される。
【０３９６】
次に、Ｎ重露光の数Ｎに対して、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，Ｎ）の位置が検出される。本実施形態（２）では、Ｎ＝２であるので、光点Ｐ（２５６，２）の位置が検出される。
続いて、露光エリア３２２１の光点列のうち、上記で本露光時に使用しないマイクロミラーに対応する光点列として特定されたものを除き、最も右側の第１０２０列を構成する光点の位置を、Ｐ（１，１０２０）から順番にＰ（１，１０２０）、Ｐ（２，１０２０）・・・と検出していき、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）よりも大きいＸ座標を示す光点Ｐ（ｍ，１０２０）が検出されたところで、検出動作を終了する。
その後、前記光検出器に接続された演算装置において、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標と、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）及びＰ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標とが比較され、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）のＸ座標の方が露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標に近い場合は、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−１，１０２０）に対応するマイクロミラーが本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定される。
また、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標の方が露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標に近い場合は、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−２，１０２０）に対応するマイクロミラーが、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。
さらに、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，Ｎ−１）すなわち光点Ｐ（２５６，１）の位置と、露光エリア３２２１の次列である第１０１９列を構成する各光点の位置についても、同様の検出処理及び使用しないマイクロミラーの特定が行われる。
【０３９７】
その結果、たとえば、図１７において網掛けで覆われた領域７２を構成する光点に対応するマイクロミラーが、実際の露光時に使用しないマイクロミラーとして追加される。これらのマイクロミラーには、常時、そのマイクロミラーの角度をオフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に使用されない。
【０３９８】
このように、実際の露光時に使用しないマイクロミラーを特定し、該使用しないマイクロミラーを除いたものを、実際の露光時に使用するマイクロミラーとして選択することにより、露光エリア３２１２と３２２１の前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができ、図１７の下段に示すように、理想的な２重露光に極めて近い均一な露光を実現することができる。
【０３９９】
なお、上記の例においては、図１７において網掛けで覆われた領域７２を構成する光点の特定に際し、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標と、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）及びＰ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標との比較を行わずに、ただちに、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−２，１０２０）に対応するマイクロミラーを、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
また、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−１，１０２０）に対応するマイクロミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
さらに、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重描画に対して露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるように、実際に使用するマイクロミラーを選択することとしてもよい。
【０４００】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（２）の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０４０１】
（３）複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法＜２＞
本実施形態（３）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、複数の露光ヘッド３０により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の理想的な状態からのずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び２つの露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０４０２】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度としては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部（マイクロミラー５８）を使用してちょうど２重露光となる角度θidealよりも若干大きい角度を採用するものとする。
この角度θidealは、前記式１〜３を用いて上記（１）の実施形態と同様にして求められる値であり、本実施形態では、上記のとおりｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、角度θidealは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度程度の角度を採用するとよい。パターン形成装置１０は、調整可能な範囲内で、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの設定傾斜角度θに近い角度となるように、初期調整されているものとする。
【０４０３】
図１８は、上記のように各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度が初期調整されたパターン形成装置１０において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）の取付角度誤差、並びに各露光ヘッド３０１２と３０２１間の相対取付角度誤差及び相対位置のずれの影響により、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【０４０４】
図１８の例では、図１４の例と同様の、Ｘ軸方向に関する露光ヘッド３０１２と３０２１の相対位置のずれの結果として、一列おきの光点群（画素列群Ａ及びＢ）による露光パターンの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光量過多な領域７４が生じ、これが濃度むらを引き起こしている。
さらに、図１８の例では、各露光ヘッドの設定傾斜角度θを前記式（１）を満たす角度θidealよりも若干大きくしたことによる結果、及び各露光ヘッドの取付角度の微調整が困難であるために、実際の取付角度が上記の設定傾斜角度θからずれてしまったことの結果として、被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域以外の領域でも、一列おきの光点群（画素列群Ａ及びＢ）による露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域である描素部列間つなぎ領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光過多となる領域７６が生じ、これがさらなる濃度むらを引き起こしている。
【０４０５】
本実施形態（３）では、まず、各露光ヘッド３０１２と３０２１の取付角度誤差及び相対取付角度のずれの影響による濃度むらを軽減するための使用画素選択処理を行う。
具体的には、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて、実傾斜角度θ´を特定し、該実傾斜角度θ´に基づき、前記描素部選択手段として光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
【０４０６】
−実傾斜角度θ´の特定−
実傾斜角度θ´の特定は、露光ヘッド３０１２ついては露光エリア３２１２内の光点Ｐ（１，１）とＰ（２５６，１）の位置を、露光ヘッド３０２１については露光エリア３２２１内の光点Ｐ（１，１０２４）とＰ（２５６，１０２４）の位置を、それぞれ上述した実施形態（２）で用いたスリット２８と光検出器の組により検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走査方向とがなす角度を測定することにより行われる。
【０４０７】
−不使用描素部の特定−
そのようにして特定された実傾斜角度θ´を用いて、光検出器に接続された演算装置は、上述した実施形態（１）における演算装置と同様、下記式４
ｔtanθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて導出し、ＤＭＤ３６上の第（Ｔ＋１）行目から第２５６行目のマイクロミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定する処理を行う。
例えば、露光ヘッド３０１２についてはＴ＝２５４、露光ヘッド３０２１についてはＴ＝２５５が導出されたとすると、図１９において斜線で覆われた部分７８及び８０を構成する光点に対応するマイクロミラーが、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。これにより、露光エリア３２１２と３２２１のうちヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができる。
【０４０８】
ここで、上記の値ｔに最も近い自然数を導出することに代えて、値ｔ以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光エリア３２１２と３２２１の、複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光量過多となる面積が最小になり、かつ露光量不足となる面積が生じないようになすことができる。
あるいは、値ｔ以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光エリア３２１２と３２２１の、複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようになすことができる。
複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるように、本露光時に使用しないマイクロミラーを特定することとしてもよい。
【０４０９】
その後、図１９において斜線で覆われた領域７８及び８０を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、図１４から１７を用いて説明した本実施形態（３）と同様の処理がなされ、図１９において斜線で覆われた領域８２及び網掛けで覆われた領域８４を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しないマイクロミラーとして追加される。
これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しない。
【０４１０】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（３）の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０４１１】
以上、パターン形成装置１０による使用描素部指定方法ついて詳細に説明したが、上記実施形態（１）〜（３）は一例に過ぎず、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変更が可能である。
【０４１２】
また、上記の実施形態（１）〜（３）では、被露光面上の光点の位置を検出するための手段として、スリット２８と単一セル型の光検出器の組を用いたが、これに限られずいかなる形態のものを用いてもよく、たとえば２次元検出器等を用いてもよい。
【０４１３】
さらに、上記の実施形態（１）〜（３）では、スリット２８と光検出器の組による被露光面上の光点の位置検出結果から実傾斜角度θ´を求め、その実傾斜角度θ´に基づいて使用するマイクロミラーを選択したが、実傾斜角度θ´の導出を介さずに使用可能なマイクロミラーを選択する形態としてもよい。さらには、たとえばすべての使用可能なマイクロミラーを用いた参照露光を行い、参照露光結果の目視による解像度や濃度のむらの確認等により、操作者が使用するマイクロミラーを手動で指定する形態も、本発明の範囲に含まれるものである。
【０４１４】
なお、被露光面上に生じ得るパターン歪みには、上記の例で説明した角度歪みの他にも、種々の形態が存在する。
一例としては、図２０Ａに示すように、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる倍率で露光面上の露光エリア３２に到達してしまう倍率歪みの形態がある。
また、別の例として、図２０Ｂに示すように、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なるビーム径で被露光面上の露光エリア３２に到達してしまうビーム径歪みの形態もある。これらの倍率歪み及びビーム径歪みは、主として、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれに起因して生じる。
さらに別の例として、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる光量で被露光面上の露光エリア３２に到達してしまう光量歪みの形態もある。この光量歪みは、各種収差やアラインメントずれのほか、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学要素（たとえば１枚レンズである図５のレンズ５２及び５４）の透過率の位置依存性や、ＤＭＤ３６自体による光量むらに起因して生じる。これらの形態のパターン歪みも、被露光面上に形成されるパターンに解像度や濃度のむらを生じさせる。
【０４１５】
上記の実施形態（１）〜（３）によれば、本露光に実際に使用するマイクロミラーを選択した後の、これらの形態のパターン歪みの残留要素も、上記の角度歪みの残留要素と同様、多重露光による埋め合わせの効果で均すことができ、解像度や濃度のむらを、各露光ヘッドの露光領域全体にわたって軽減することができる。
【０４１６】
＜＜参照露光＞＞
上記の実施形態（１）〜（３）の変更例として、使用可能なマイクロミラーのうち、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラー列、又は全光点行のうち１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行い、均一な露光を実現できるように、前記参照露光に使用されたマイクロミラー中、実際の露光時に使用しないマイクロミラーを特定することとしてもよい。
前記参照露光手段による参照露光の結果をサンプル出力し、該出力された参照露光結果に対し、解像度のばらつきや濃度のむらを確認し、実傾斜角度を推定するなどの分析を行う。前記参照露光の結果の分析は、操作者の目視による分析であってもよい。
【０４１７】
図２１Ａ及び図２１Ｂは、単一露光ヘッドを用い、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２１Ａに実線で示した奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２１Ｂに斜線で覆って示す光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、奇数列の光点列を構成するマイクロミラー中、本露光において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列の光点列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０４１８】
図２２は、複数の露光ヘッドを用い、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２２に実線で示した、Ｘ軸方向に関して隣接する２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）の奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記出力された参照露光結果に基づき、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２２に斜線で覆って示す領域８６及び網掛けで示す領域８８内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、奇数列の光点を構成するマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列目の画素列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に実際に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域において、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０４１９】
図２３は、単一露光ヘッドを用い、全光点行数の１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２３Ａに実線で示した１行目から１２８（＝２５６／２）行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２３Ｂに斜線で覆って示す光点群に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、第１行目から第１２８行目のマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定され得る。第１２９行目から第２５６行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、第１行目から第１２８行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、全体のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０４２０】
図２４は、複数の露光ヘッドを用い、Ｘ軸方向に関して隣接する２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）について、それぞれ全光点行数の１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２４に実線で示した第１行目から第１２８（＝２５６／２）行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを最小限に抑えた本露光が実現できるように、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２４に斜線で覆って示す領域９０及び網掛けで示す領域９２内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、第１行目から第１２８行目のマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。第１２９行目から第２５６行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、第１行目から第１２８行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域において理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０４２１】
以上の実施形態（１）〜（３）及び変更例においては、いずれも本露光を２重露光とする場合について説明したが、これに限定されず、２重露光以上のいかなる多重露光としてもよい。特に３重露光から７重露光程度とすることにより、高解像度を確保し、解像度のばらつき及び濃度むらが軽減された露光を実現することができる。
【０４２２】
また、上記の実施形態及び変更例に係る露光装置には、さらに、画像データが表す２次元パターンの所定部分の寸法が、選択された使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、画像データを変換する機構が設けられていることが好ましい。そのように画像データを変換することによって、所望の２次元パターンどおりの高精細なパターンを被露光面上に形成することができる。
【０４２３】
[現像工程]
前記現像としては、前記感光層の未露光部分を除去することにより行われる。
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。
【０４２４】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド）、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン、燐酸三ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。
【０４２５】
前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨとしては、例えば、約８〜１４が好ましく、約８〜１２がより好ましく、約９〜１１が特に好ましい。
前記弱アルカリ性の水溶液の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜３０質量％が好ましく、０．１質量％〜５質量％がより好ましい。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５℃〜４０℃が好ましい。
【０４２６】
前記水系現像剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、水と有機溶媒と混合液、アルカリ水溶液と有機溶媒との混合液等が挙げられる。
前記水と有機溶媒と混合液に用いられる有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げられる。
前記有機溶媒の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１重量％〜３０重量％であることが好ましい。
【０４２７】
前記アルカリ水溶液と有機溶媒との混合液におけるアルカリ水溶液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記アルカリ性水溶液の塩基成分として用いられたもの、などが挙げられる。
【０４２８】
前記現像剤として用いられる有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記水と有機溶媒と混合液に用いられる有機溶媒と同様のもの、などが挙げられる。
【０４２９】
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。
前記界面活性剤の濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０４３０】
前記現像液の使用形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、浴液、噴霧液等が挙げられる。
前記現像の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、スプレイ法等が挙げられる。
前記現像の際に生ずる現像スカムを除去する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができるが、現像液中で回転ブラシを用いて擦る方法、現像液中で湿潤スポンジで擦る方法、現像液を噴霧する際の噴霧圧を利用する方法等が好ましい。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５℃（通常室温付近）〜４０℃の範囲が好ましい。
前記現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【０４３１】
［その他の工程］
前記パターンの形成においては、例えば、硬化処理工程、エッチング工程、メッキ工程などを含んでいてもよい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０４３２】
−硬化処理工程−
前記パターンの形成方法が、保護膜、層間絶縁膜等の永久パターンやカラーフィルタの形成を行うパターン形成方法である場合には、前記現像工程後に、感光層に対して硬化処理を行う硬化処理工程を備えることが好ましい。
前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。
【０４３３】
前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
【０４３４】
前記全面加熱処理の方法としては、前記現像の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。
【０４３５】
−エッチング工程−
前記エッチング工程としては、公知のエッチング処理方法の中から適宜選択した方法により行うことができる。
前記エッチング処理に用いられるエッチング液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記金属層が銅で形成されている場合には、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などが挙げられ、これらの中でも、エッチングファクターの点から塩化第二鉄溶液が好ましい。また、公知のサンドブラスト法を用いることができる。
前記エッチング工程によりエッチング処理した後に前記パターンを除去することにより、前記基体の表面に配線パターンを形成することができる。
【０４３６】
−メッキ工程−
前記メッキ工程としては、公知のメッキ処理の中から適宜選択した適宜選択した方法により行うことができる。
前記メッキ処理としては、例えば、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ等の銅メッキ、ハイスローはんだメッキ等のはんだメッキ、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）メッキ、スルファミン酸ニッケル等のニッケルメッキ、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキなど処理が挙げられる。
前記メッキ工程によりメッキ処理した後に前記パターンを除去することにより、また更に必要に応じて不要部をレジスト剥離処理等で除去することにより、前記基体の表面に金属配線パターンを形成することができる。
【０４３７】
前記パターンの形成方法は、４０５ｎｍのレーザ露光による直接描画において、酸素による感光層の感度低下防止が必要とされる各種パターンの形成などに使用することができ、高密度化と高生産性とを両立したパターンの形成に好適に使用することができる。
【０４３８】
−保護膜及び層間絶縁膜形成方法−
前記パターンの形成方法が、いわゆるソルダーレジストを用いて保護膜及び層間絶縁膜の少なくともいずれかを形成するパターン形成方法である場合には、プリント配線板上に前記パターン形成方法により、永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。
即ち、前記現像により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント配線板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体や部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜あるいは絶縁膜（層間絶縁膜）としての機能を発揮し、外部からの衝撃や隣同士の電極の導通が防止される。
【０４３９】
前記パターン形成方法においては、前記永久パターン形成方法により形成される永久パターンが、前記保護膜又は前記層間絶縁膜であると、配線を外部からの衝撃や曲げから保護することができ、特に、前記層間絶縁膜である場合には、例えば、多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの半導体や部品の高密度実装に有用である。
【０４４０】
−プリント配線パターン形成方法−
前記パターンの形成方法が、プリント配線パターンを形成するパターン形成方法である場合には、高速でパターン形成が可能であるため、各種パターンの形成に広く用いることができ、特に、プリント配線板の製造、特にスルーホール又はビアホールなどのホール部を有するプリント配線板の製造に好適に用いることができる。
【０４４１】
前記パターン形成方法により、前記スルーホール又はビアホールなどのホール部を有するプリント配線板の製造する方法としては、（１）前記基材としてホール部を有するプリント配線板形成用基板上に、穴埋めインキを施して前記ホール部を埋めた後、（２）前記回路形成用フォトレジスト用の感光性組成物溶液（以下、回路形成用液体フォトレジストという）を塗布、乾燥して感光層を形成し、該感光層上に感光層カバーフィルムを積層して積層体を形成し、（３）前記積層体の前記基材とは反対の側から、配線パターン形成領域及びホール部形成領域に減圧下で光照射を行い、前記感光層を硬化させ、（４）前記感光層上から前記感光層カバーフィルムを剥離除去し、（４）前記感光層を現像して、該感光層の未硬化部分を除去することによりパターンを形成することができる。
【０４４２】
その後、プリント配線板を得るには、前記形成したパターンを用いて、前記プリント配線板形成用基板をエッチング処理又はメッキ処理する方法（例えば、公知のサブトラクティブ法又はアディティブ法（例えば、セミアディティブ法、フルアディティブ法））により処理すればよい。前記処理後プリント配線板形成用基板に残存する硬化樹脂は剥離させ、また、前記セミアディティブ法の場合は、剥離後さらに銅薄膜部をエッチングすることにより、所望のプリント配線板を製造することができる。また、多層プリント配線板も、前記プリント配線板の製造法と同様に製造が可能である。
【０４４３】
前記回路形成用液体フォトレジストを用い、スルーホールを有するプリント配線板の製造方法について、さらに説明する。
まず、両面金属張積層板に対し、ドリルを用いて所定のサイズで所定の位置にスルーホール用の穴あけ加工を行い、穴部を形成する。前記穴部にスルーホールメッキ法により導通メッキ層を形成するとともに、表裏の導体パターンと電気的接続をするスルーホールを形成する。次いで、前記スルーホールに穴埋めインキを充填し、硬化させた後、基板表面に残留する余分な穴埋めインキを機械研磨により除去する。こうして得られた基材表面に、前記回路形成用液体フォトレジストを塗布、乾燥して感光層を形成する。
【０４４４】
前記両面金属張積層板としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等からなる絶縁性基板の表裏に、銅箔を被着した銅張り積層板、アルミニウムや鉄等の金属をエポキシ樹脂等で絶縁処理した金属系絶縁基板、及びセラミック基板などが挙げられる。
前記穴埋めインキは、インキの溶剤の蒸発により硬化する熱硬化型、光照射により硬化する光硬化型のいずれでもよい。前記熱硬化型の穴埋めインキとしては、特開平４−５２８８７号公報に記載の天然ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、スチレンアクリル酸共重合体等のアルカリ可溶性樹脂、溶剤、粉末状発泡剤、及び活性固体粉末から形成されるインキ、並びに、特開平６−３３８６７４号公報に記載のフェノール樹脂、ロジン系樹脂、テトラヒドロフタル酸モノエステルアクリレート、及び熱重合触媒からなるインキなどが挙げられる。前記光硬化型の穴埋めインキとしては、特開昭５６−８４１７号公報、特開昭６０−３６２４、特開昭６２−９６５１３号公報に記載のものが挙げられる。
前記穴埋めインキを前記スルーホールに充填する方法としては、例えば、浸漬充填法、スクリーン印刷充填法、ロール充填法などの方法が挙げられる。
【０４４５】
前記基材表面に、前記回路形成用液体フォトレジストを塗布する方法としては、均一な塗布面が得られる方法であれば、特に制限は無く、例えば、オフセット印刷、スクリーン印刷、スプレー塗布、静電スプレー塗布、ロールコーター、フローコーター、バーコーターなどにより塗布する方法が挙げられる。
前記回路形成用液体フォトレジストの粘度は、１０〜２，０００センチポイズ（Ｅ型粘度計、２５℃）であることが好ましく、また、固形分濃度は３０〜８０質量％であることが好ましい。
【０４４６】
次に、前記プリント配線板形成用基板上の感光層の未硬化領域を、適当な現像液にて溶解除去して、配線パターン形成用の硬化層とスルーホールの金属層保護用硬化層のパターンを形成し、前記プリント配線板形成用基板の表面に金属層を露出させる（現像工程）。
【０４４７】
また、現像後に必要に応じて後加熱処理や後露光処理によって、硬化部の硬化反応を更に促進させる処理をおこなってもよい。現像は上記のようなウエット現像法であってもよく、ドライ現像法であってもよい。
【０４４８】
次いで、前記プリント配線板形成用基板の表面に露出した金属層をエッチング液で溶解除去する（エッチング工程）。スルーホールの開口部は、硬化樹脂組成物（テント膜）で覆われているので、エッチング液がスルーホール内に入り込んでスルーホール内の金属メッキを腐食することなく、スルーホールの金属メッキは所定の形状で残ることになる。これより、前記プリント配線板形成用基板に配線パターンが形成される。
【０４４９】
前記エッチング液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記金属層が銅で形成されている場合には、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などが挙げられ、これらの中でも、エッチングファクターの点から塩化第二鉄溶液が好ましい。
【０４５０】
次に、強アルカリ水溶液などにて前記硬化層を剥離片として、前記プリント配線板形成用基板から除去する（硬化物除去工程）。
前記強アルカリ水溶液における塩基成分としては、特に制限はなく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
前記強アルカリ水溶液のｐＨとしては、例えば、約１２〜１４が好ましく、約１３〜１４がより好ましい。
前記強アルカリ水溶液としては、特に制限はなく、例えば、１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液などが挙げられる。
【０４５１】
また、プリント配線板は、多層構成のプリント配線板やフレキシブル基板であってもよい。
なお、前記回路形成用液体フォトレジストは上記のエッチングプロセスのみでなく、メッキプロセスに使用してもよい。前記メッキ法としては、例えば、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ等の銅メッキ、ハイスローはんだメッキ等のはんだメッキ、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）メッキ、スルファミン酸ニッケル等のニッケルメッキ、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキなどが挙げられる。
【０４５２】
−カラーフィルタ形成方法−
前記パターンの形成方法が、前記カラーレジスト層を用いてカラーフィルタを形成するパターン形成方法である場合には、前記基材としてガラス基板等の透明基板上に、前記パターン形成方法により、３原色の画素をモザイク状又はストライプ状に配置することができる。各画素の寸法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４０〜２００μｍとすることが好適に挙げられる。
前記カラーフィルタ形成方法としては、例えば、透明基板上に黒色に着色された感光性組成物を用いて、露光及び現像を行いブラックマトリックスを形成し、次いで、ＲＧＢの３原色のいずれかに着色された感光性組成物を用いて、前記ブラックマトリックスに対して所定の配置で、各色毎に、順次、露光及び現像を繰り返して、前記透明基板上にＲＧＢの３原色がモザイク状又はストライプ状に配置されたカラーフィルタを形成する方法が挙げられる。
前記カラーフィルタ形成方法で形成されたカラーフィルタは、ビデオカメラ、モニター、液晶カラーテレビに好適に使用することができる。
【実施例】
【０４５３】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０４５４】
（実施例１）
＜感光性組成物の調製＞
下記の組成からなる感光性ソルダーレジスト組成物溶液を調製した。
−感光性ソルダーレジスト組成物溶液−
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・・・・・１０．５質量部
（日本化薬社製商品名：ＤＰＨＡ希釈品（７６質量％））                
・  
ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイ
ド（チバスペシャルティ社製商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９）
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６．０質量部
・ビスフェノールＡ型β−メチルエポキシ樹脂
（下記構造式（I）においてＲがメチル基であって、エポキシ当量２１４ｇ
／ｅｑ．、粘度６２Ｐａ・ｓ）・・・・・・・・・・・・・・２３．８質量部
・無機充填剤／着色剤共分散物（６７．４質量％）・・・・・１４３．５質量部
（下記製法に従い調製）
・ジシアンジアミド（熱硬化促進剤）・・・・・・・・・・・・・０．６質量部
・２ＭＡＯＫ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．４５質量部
（熱硬化促進剤、四国化成社製商品名、トリアジンのイソシアヌル酸付加物）
・フッ素系界面活性剤３０質量％（塗布助剤）・・・・・・・・・０．２質量部
・ＭＥＫ／ＭＦＧＡｃ（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【化４９】
2007240879.tif 000048
【０４５５】
−無機充填剤と着色剤共分散液の調製−
ピグメントブルー１５：３を０．８０質量部、とピグメントイエロー１８０を０．７質量部と、エポキシアクリレート樹脂（昭和高分子社製、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート樹脂、商品名：ＰＲ３００）４８質量部と、メトキシプロピレングリコールアセテート溶液１５質量部とを秤量し、ジルコアビーズが充填されたミル型分散機を用いて分散し、緑色顔料分散液（固形分７７質量％）を得た。
引き続き、無機充填剤である硫酸バリウム（堺化学社製、沈降性硫酸バリウム、商品名：Ｂ３０）３２．１質量部を追加溶剤であるメトキシプロピレングリコールアセテート４６．９質量部とともに、前記緑色顔料分散液中に混合攪拌し、緑色顔料との共分散液１４３．５質量部（固形分濃度６７．４質量％）を得た。
【０４５６】
＜感光性フィルム原反の製造＞
得られた感光性ソルダーレジスト組成物溶液を、支持体であるシリコーン系離型剤層を設けたポリエステルフィルム（東洋紡社製品名：Ｅ７００６、膜厚２５μｍ、幅１１５０ｍｍ、長さ４０００ｍ）上に、塗布し、乾燥して、厚み３０μｍの感光層（粘度：２×１０３Ｐａ・ｓ）を形成した。次いで、その感光層の上に、保護フィルムとしてポリプロピレンフィルム（王子製紙社製商品名：Ｅ２００、膜厚２０μｍ、幅１２００ｍｍ、長さ４２００ｍ）をラミネーションにより積層し、ワインダーで巻き取り、感光性フィルム原反ロールを製造した。
【０４５７】
＜感光性フィルムロールの製造＞
前記感光性フィルム原反ロールを同軸スリッターにてスリットして、５００ｍｍ長で内径７６ｍｍのＡＢＳ樹脂製円筒状巻き芯に、５００ｍｍ幅で１５０ｍ巻き取り、感光性フィルムロールを作製した。
こうして得られた感光性フィルムロールに巻き芯の外径とほぼ同サイズの円形穴を開け、外径がロール直径と同サイズの端面融着防止用シート（表２参照）を、その離型性表面がロール端面に接触するように差し込んで感光性フィルムロール状加工物を得た。次いで、前記感光性フィルムロール状加工物を３０μｍ厚の黒色ポリエチレン製の筒状袋（膜厚８０μｍで、水蒸気透過率が２５ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下）に包み、発泡ポリスチレン製ブッシュを、巻き芯の両端に押し込んで感光性フィルムロール状加工物の包装物を得た。前記包装物２本を段ボール製１箱中に詰めて梱包した。
【０４５８】
＜永久パターンの形成＞
−基板積層体の調製−
次に、基材として、回路付き銅張り積層板（スルーホールなし、銅厚み１２μｍ）の表面に化学研磨処理を施して調製した、その銅張積層板上に、感光性フィルムロール状加工物を巻き戻した状態である感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネーター（ニチゴーモートン社製、Ｖ−１３０）を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記支持体とがこの順に積層された積層体を調製した。
圧着条件は、真空引きの時間を４０秒間、圧着圧力を０．２ＭＰａ、加圧時間を１０秒間とした。
【０４５９】
−露光工程−
前記調製した積層体における感光層に対し、支持体側から、下記パターン形成装置を用いて、青紫色レーザー（４０５ｎｍ）を、直径の異なる穴部が形成されるパターンが得られるように照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。
【０４６０】
−パターン形成装置−
前記光照射手段として図８〜９及び図２５〜２９に示した合波レーザ光源と、前記光変調手段として図６に概略図を示した主走査方向にマイクロミラー５８が１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列された内、１０２４個×２５６列のみを駆動するように制御したＤＭＤ３６と、図５に示した光を前記感光性転写材料に結像する光学系とを有する露光ヘッド３０を備えたパターン形成装置１０を用いた。
【０４６１】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度としては、使用可能な１０２４列×２５６行のマイクロミラー５８を使用してちょうど２重露光となる角度θidealよりも若干大きい角度を採用した。この角度θidealは、Ｎ重露光の数Ｎ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の個数ｓ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッド３０を傾斜させた状態においてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチδに対し、下記式１、
ｓｐsinθideal≧Ｎδ（式１）
により与えられる。本実施形態におけるＤＭＤ３６は、上記のとおり、縦横の配置間隔が等しい多数のマイクロミラー５８が矩形格子状に配されたものであるので、
ｐcosθideal＝δ（式２）
であり、上記式１は、
ｓtanθideal＝Ｎ（式３）
であり、ｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、角度θidealは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度を採用した。
【０４６２】
まず、２重露光における解像度のばらつきと露光むらを補正するため、被露光面の露光パターンの状態を調べた。結果を図１８に示した。図１８においては、ステージ１４を静止させた状態で感光性転写材料１２の被露光面上に投影される、露光ヘッド３０１２と３０２１が有するＤＭＤ３６の使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示した。また、下段部分に、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を、露光エリア３２１２と３２２１について示した。なお、図１８では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の１列おきの露光パターンを、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとに分けて示したが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０４６３】
図１８に示したとおり、露光ヘッド３０１２と３０２１の間の相対位置の、理想的な状態からのずれの結果として、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光過多な領域が生じていることが判る。
【０４６４】
前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２ついては露光エリア３２１２内の光点Ｐ（１，１）とＰ（２５６，１）の位置を、露光ヘッド３０２１については露光エリア３２２１内の光点Ｐ（１，１０２４）とＰ（２５６，１０２４）の位置を検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走査方向とがなす角度を測定した。
【０４６５】
実傾斜角度θ´を用いて、下記式４
ｔtanθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて導出した。露光ヘッド３０１２についてはＴ＝２５４、露光ヘッド３０２１についてはＴ＝２５５がそれぞれ導出された。その結果、図１９において斜線で覆われた部分７８及び８０を構成するマイクロミラーが、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定された。
【０４６６】
その後、図１９において斜線で覆われた領域７８及び８０を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、同様にして図１９において斜線で覆われた領域８２及び網掛けで覆われた領域８４を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しないマイクロミラーとして追加された。
これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しないように制御した。
これにより、露光エリア３２１２と３２２１のうち、複数の前記露光ヘッドで形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができる。
【０４６７】
−現像工程−
前記露光の後、室温にて１０分間静置して、前記積層体から支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、アルカリ現像液として、１質量％炭酸ナトリウム水溶液を用い、スプレー圧を０．２ＭＰａにして、３０℃にて６０秒間シャワー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。その後、水洗し、乾燥させ、永久パターンを形成した。
【０４６８】
−硬化処理工程−
前記永久パターンが形成された積層体の全面に対して、１５０℃で６０分間、加熱処理を施し、永久パターンの表面を硬化し、膜強度を高めた。
【０４６９】
＜評価＞
次に、得られた永久パターン及び端面融着防止用シートについて、下記項目の評価を行った。結果を表３、６、及び７に示す。
【０４７０】
（１）表面張力
端面融着防止用シートの離型性表面の表面張力を、ＡＳＴＭ−Ｄ−２５７８（６７Ｔ）に従い、２０℃、６５ＲＨ％雰囲気にて測定した。
【０４７１】
（２）埋め込み性（Ａ）
厚み２５μｍのポリイミドフィルム(鐘淵化学工業(株)製商品名アピカルＮＰＩ)をベースフィルムとし、該ベースフィルムに接着剤を塗布して、圧延銅箔(三井金属(株)製、厚み１２μｍ)を貼り付けた。次いで、上記圧延銅箔上に、エッチング・メッキレジストを用いて、ライン／スペース＝１００μｍ／１００μｍで長さ８cmの直線状ラインを５０本と、この直線状ライン対して並行に、ライン/スペース＝５０μｍ／５０μｍで長さ８ｃｍの他の直線状ラインが５０本とを形成して、厚み１８μｍのパターン回路を形成して、回路付き銅張積層板を得た。
続いて、上記感光性フィルムの保護フィルムを剥離し、感光層面を、上記回路付き銅張り積層板にラミネートして、貼り合わせサンプルを得た。該ラミネートは、温度１００〜１５０℃、７５，０００Ｐａ・ｍの条件下で行った。得られた貼合せサンプルを、光学顕微鏡を用いて５０倍〜２００倍の倍率で観察し、下記基準で評価した。
○：感光層と回路付き銅張り積層板との間に隙間ができていない場合
△：感光層と回路付き銅張り積層板との間にわずかな隙間が生じている場合
×：感光層と回路付き銅張り積層板との間に空気の泡等が生じている場合
【０４７２】
（３）青紫色レーザにおける感度の測定
得られた前記永久パターンにおいて、残った前記感光層の硬化領域の厚みを測定した。次いで、レーザ光の照射量と、硬化層の厚さとの関係をプロットして感度曲線を得る。こうして得た感度曲線から配線上の硬化領域の厚さが、露光前の感光層の厚みと略同一かつ略一定とるために必要な最小光エネルギー量を感度とした。
前記感光層の厚みの測定方法としては、表面粗さ測定機（サーフコム１４００Ｄ（東京精密社製））を用いて測定した。
【０４７３】
（４）解像度
得られた前記永久パターン形成済みのプリント配線基板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化層パターンの穴部に残膜が無い、最小の穴径を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。
【０４７４】
（５）保存安定性
次に、経時的な現像性変化と端面融着性変化の評価のため、前記感光性フィルムロール状加工物の包装物を加速条件下（４０℃、６０％ＲＨ）の恒温恒湿槽中で３日間保存し、現像性の変化を測定し、端面融着の有無を観察した。
【０４７５】
（５）−１  現像性
保存性は、初期の最短現像時間ｔ０と、前記加速条件後の最短現像時間ｔ３ｄとを比較してその比（ｔ０／ｔ３ｄ）の値から、下記基準で評価した。
○：１倍以上２倍未満
△：２倍以上３倍未満（実使用可能なレベル）
×：３倍以上
【０４７６】
（５）−２  端面融着の有無
前記加速条件に放置後、端面を観察し、下記基準で判定した。
○：端面融着が確認されず、感光性フィルムが良好に使用できる状態。
△：端面の一部に光沢があり、若干量の端面融着が起きている状態（使用限界）。
×：端面全面に光沢があり、端面融着が多量に発生している状態。
【０４７７】
（６）硬化後レジスト性能
感光性フィルムロール状加工物を巻き戻した状態である感光性フィルムを、保護フィルムを剥離後、回路パターンの無い銅張り積層板上に真空ラミネートした。これを室温まで冷却した後、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光し、熱風循環式乾燥炉で硬化を１５０℃で６０分間行ない、その後室温まで冷却し、鉛筆硬度、密着性、及び耐酸性試験用評価サンプルを得た。
【０４７８】
（６）−１  鉛筆硬度
ＪＩＳ  Ｋ−５４００の試験方法に従って鉛筆硬度試験機を用い、上記サンプルに荷重１ｋｇをかけた際の皮膜にキズが付かない最も高い硬度を求めた。
【０４７９】
（６）−２  密着性
ＪＩＳ  Ｄ−０２０２の試験方法に従って上記評価サンプルにクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリングテスト後の剥がれの状態を目視判定した。判定基準は以下のとおりである。
○：全く剥がれが認められないもの
△：ほんの僅か剥がれたもの
×：完全に剥がれたもの
【０４８０】
（７）耐酸性試験
上記サンプルを１０容量％硫酸水溶液に２０℃で３０分間浸漬後取り出し、塗膜の状態と密着性とを総合的に判定評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：変化が認められないもの
△：ほんの僅か変化しているもの
×：塗膜にフクレあるいは膨満脱落があるもの
【０４８１】
（８）耐アルカリ性試験
１０容量％硫酸水溶液を１０容量％水酸化ナトリウム水溶液に変えた以外は、前記（７）耐酸性試験と同様に試験評価した。
【０４８２】
（９）無電解金めっき耐性
下記無電解金めっき工程に従って前記試験基板に無電解金めっきを行ない、その試験基板について外観の変化及びセロハン粘着テープを用いたピーリング試験を行ない、レジスト皮膜の剥離状態を以下の基準で評価した。
○:外観変化もなく、レジスト皮膜の剥離も全くない。
△:外観の変化はないが、レジスト皮膜にわずかに剥れがある。
×:レジスト皮膜の浮きが見られ、めっき潜りが認められ、ピーリング試験でレジスト皮膜の剥れが大きい。
【０４８３】
無電解金めっき工程:
１．脱脂：試験基板を、３０℃の酸性脱脂液((株)日本マクダーミッド製、ＭｅｌｔｅｘＬ−５Ｂの２０容量％水溶液)に３分間、浸漬した。
２．水洗:試験基板を、流水中に３分間、浸漬した。
３．ソフトエッチ:試験基板を、１４．３質量％の過硫酸アンモン水溶液に室温で３分間、浸漬した。
４．水洗:試験基板を、流水中に３分間、浸漬した。
５．酸浸漬:試験基板を、１０容量％の硫酸水溶液に室温で１分間、浸漬した。
６．水洗:試験基板を、流水中に３０秒〜１分間、浸漬した。
７．触媒付与:試験基板を、３０℃の触媒液((株)メルテックス製、メタルプレートアクチベ一夕ー３５０の１０容量％水溶液)に７分間、浸漬した。
８．水洗:試験基板を、流水中に３分間、浸漬した。
９．無電解ニッケルめっき:試験基板を、８５℃、ｐＨ＝４．６のニッケルめっき液((株)メルテックス製、メルプレートＮｉ−８６５Ｍ、２０容量％水溶液)に２０分間、浸漬した。
１０．酸浸漬:試験基板を、１０容量％の硫酸水溶液に室温で１分間、浸漬した。
１１．水洗:試験基板を、流水中に３０秒〜１分間、浸漬した。
１２．無電解金めっき:試験基板を、９５℃、ｐＨ＝６の金めっき液((株)メルテックス製、オウロレクトロレスＵＰ１５容量％、シアン化金カリウム３容量％の水溶液)に１０分間、浸漬した。
１３．水洗:試験基板を、流水中に３分間、浸漬した。
１４．湯洗:試験基板を、６０℃の温水に浸漬し、３分間充分に水洗後、水をよくきり、乾燥した。
このような工程を経て無電解金めっきした試験基板を得た。
【０４８４】
（１０）ＰＣＴ耐性
プリント配線板に前記感光性フィルムから保護フィルムを剥離後、真空ラミネーターで積層し、室温まで冷却した後、露光量９０ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光し、熱風循環式乾燥炉で硬化を１５０℃で６０分間行ない、評価サンプルを得た。これを室温まで冷却した後、ＰＣＴ試験装置(ＴＡＢＡＩ  ＥＳＰＥＣ
ＨＡＳＴ ＳＹＳＴＥＭ  ＴＰＣ−４１２ＭＤ)を用いて１２１℃、２気圧の条件で１６８時間処理し、硬化皮膜の状態を評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：剥がれ、変色そして溶出なし。
△：剥がれ、変色そして溶出のいずれかあり。
×：剥がれ、変色そして溶出が多く見られる。
【０４８５】
（１１）感光層の粘度の測定
前記感光層の粘度の測定に用いられるサンプルは、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズの感光性フィルム上に、感光層のみを重ねてラミネートし、該ラミメートを７回繰り返し、感光層のみ７層重ねた、２００μｍ厚程度の板状の感光層の積層体を作製し、得られた積層体を２ｃｍ２に切り出したものを用いた。
前記感光層の粘度の測定は、レオメ−タ（製品名：ＤＡＲ−１００、製造元：レオロジカ社）を用い、前記サンプルをプレ−ト上に置き、プレ−ト２０ｍｍΦ、ギャップ１．５ｍｍ、周波数１Ｈｚ、温度１２０℃の条件で粘度が安定するまで操作した後、３０℃まで冷却した。その後、３０℃での粘度を測定した。
【０４８６】
（１２）分光感度の極大値の測定
前記分光感度は、銅張り基板状に感光性フィルムを貼り付けた後で室温まで冷却し、分光感度測定装置を用いて測定する。具体的には、キセノンランプ及びタングステンランプなどの光源から分光した光を、横軸方向には露光波長が直線的に変化するように、縦軸方向には露光強度が対数的に変化するように設定して照射して露光した後、現像処理することにより、各露光波長の感度ごとにパターンを形成する。得られたパターンの高さから、パターン形成可能な露光エネルギーを算出し、横軸に波長、縦軸にその露光エネルギーの逆数をプロットして作成した分光感度曲線における極大ピークを分光感度とする。
【０４８７】
（１３）感光層と支持体、感光層と保護フィルムの剥離力の測定
前記感光層と支持体との剥離力は、前記感光性フイルムから幅４．５ｃｍ×長さ８ｃｍに切り出したサンプルを、前記支持体が表面側となるようにテンシロン装置の台座上に固定し、該支持体をフォースゲージを用いて、引っ張り速度１６０ｃｍ／ｍｉｎで引き剥がした。その際における、前記感光層と前記支持体との剥離力（測定時の剥離力のピーク強度）を測定し、該測定を５回行い、得られた測定値の平均値を感光層と支持体との剥離力とした。
前記感光層と保護フィルムとの剥離力は、前記感光性フイルムから幅４．５ｃｍ×長さ８ｃｍに切り出したサンプルを、前記保護フィルムが表面側となるようにテンシロン装置の台座上に固定し、前記保護フィルムをフォースゲージを用いて、引っ張り速度１６０ｃｍ／ｍｉｎで引き剥がした。その際における、前記感光層と前記保護フィルムとの剥離力（測定時の剥離力のピーク強度）を測定し、該測定を５回行い、得られた測定値の平均値を感光層と保護フィルムとの剥離力とした。
【０４８８】
（１４）端面融着防止シートと感光層との剥離強度の測定
前記感光層と端部融着防止シートとの剥離力の測定はＪＩＳ  Ｋ−６８５４−２の試験方法に準じ、具体的には、前記端面融着防止シートと感光層を貼り合わせたフイルムから幅４．５ｃｍ×長さ８ｃｍに切り出したサンプルを、前記端面融着防止シートが上となるようにテンシロン装置の台座上に固定し、該端面融着防止シートをフォースゲージを用いて引っ張り速度１６０ｃｍ／分で引き剥がした。その際における、前記端面融着防止シートと感光層との剥離力（測定時の剥離力のピーク強度）を測定し、該測定を５回行い、得られた測定値の平均値を端面融着防止シートと感光層との剥離力とした。
【０４８９】
（実施例２）
実施例２の感光性組成物では、実施例１の無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を３６質量部加え、さらに、バインダーＡを１２質量部添加した以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を製造した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
なお、バインダーＡは、メタクリル酸とメタクリル酸メチルの共重合体に対し、脂環式エポキシを分子内に有する重合性化合物(サイクロマーＡ２００；ダイセル化学工業（株）製)を付加した共重合体（質量平均分子量１９，０００、数平均分子量１１，０００、酸価１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ、不飽和炭素２重結合当量２．２２モル／ｋｇ）である。
【０４９０】
（実施例３）
実施例３の感光性組成物では、実施例１のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量を１６質量部に代え、無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を３６質量部加え、さらに、バインダーＡを４質量部添加した以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９１】
（実施例４）
実施例４の感光性組成物では、実施例１のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量を１６質量部に代え、無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を４０質量部加えた以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９２】
（実施例５〜８）
実施例５〜８の感光性組成物では、実施例１の無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を３６質量部加え、さらに、バインダーＡを４質量部添加した以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートをそれぞれ用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９３】
（実施例９）
実施例９の感光性組成物では、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９４】
（実施例１０）
実施例１０の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９５】
（実施例１１）
実施例１１の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０４９６】
（実施例１２）
実施例１２の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例１により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ１）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例１）
ポリエチレンテレフタレート樹脂を溶融押し出してフィルム状とした。その後、長手方向に一軸延伸することにより一軸延伸フィルムを得た。この結晶配向完了前のフィルム（前記一軸延伸フィルム）に、下記塗布液をコーティングし、次いで、フィルムと共に１００℃にて延伸し、さらに２２０℃で熱固定してフィルムの結晶配向を完了させた。得られたフィルム（Ｆ１)の厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後厚みは０．００２μｍであった。
―塗布液組成−
・  クロロトリフルオロエチレン／プロピオン酸ビニル／脂肪酸ビニルエステル／マレイン酸モノブチル（４０／４７／３／１０モル％）からなるカルボキシル基含有フッ素共重合体・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８０質量％
・アルキロールメラミン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２０質量％
【０４９７】
（実施例１３）
実施例１３の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例２より得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ２）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例２）
前記製造例１において、剥離層の乾燥後の厚みを５μｍにした以外は、製造例１と同様の方法により端面融着防止シート（フィルムＦ２）を製造した。
【０４９８】
（実施例１４）
実施例１４の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例３により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ３）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例３）
前記製造例１において、剥離層の乾燥後の厚みを０．１μｍにした以外は、製造例１と同様の方法により端面融着防止シート（フィルムＦ３）を製造した。
【０４９９】
（実施例１５）
実施例１５の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例４により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ４）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例４）
前記製造例１において、塗布液を下記の塗布液としたこと以外は製造例１と同様の方法により、端面融着防止シート（フィルムＦ４）を製造した。得られた端面融着防止シートの厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後厚みは０．１μｍであった。
―塗布液組成−
ポメタクリル酸メチル４０質量％と、メタクリル酸ドデシル６０質量％と、アクリル酸１質量％と、アニオン性反応性乳化剤（商品名：エレミノールＪＳ−２、三洋化成工業（株）製）２質量％とを重合して得られるアルキルアクリレート共重合体のエマルジョン（固形分３質量％）。
【０５００】
（実施例１６）
実施例１６の感光性組成物は、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例５により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ５）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例５）
前記製造例１において、塗布液を下記組成にした以外は製造例１と同様の方法により端面融着防止用シート（フィルムＦ５）を得た。得られたシートの厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後厚みは０．１μｍであった。
−塗布液組成−
・ジクロロエチレン／酢酸ビニル／脂肪酸ビニルエステル／フマル酸モノエチル（３０／４０／１２／１８モル％）からなる共重合体・・・・・・・８０質量％
・アルキロールメラミン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２０質量％
【０５０１】
（実施例１７）
実施例１７の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例６により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ６）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例６）
前記製造例１におて、塗布液中に架橋剤成分を配合しない以外は製造例１と同じ条件で製膜し端面融着防止用シート（フィルムＦ６）を得た。得られた基材の厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後厚みは０．１μｍであった。
【０５０２】
（実施例１８）
実施例１８の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例７により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ７）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。
（製造例７）
製造例１において、塗布液を下記組成に代えた以外は、製造例１と同じ条件で端面融着防止用シート（フィルムＦ７）を得た。得られた端面融着防止用シートの厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後厚みは０．１μｍであった。
−塗布液組成−
・   クロロトリフルオロエチレン／プロピオン酸ビニル／脂肪酸ビニルエステル
／マレイン酸モノブチル（４０／４７／３／１０モル％）からなるカルボキシル基含有フッ素共重合体・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５質量％
・アルキロールメラミン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・８５質量％
【０５０３】
（実施例１９）
実施例１９の感光性組成物では、実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記製造例８により得られた端面融着防止用シート（フィルムＦ８）を用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
（製造例８）
製造例１において、塗布液を下記組成に代えた以外は、製造例１と同じ条件で端面融着防止シート（フィルムＦ８）を得た。得られた端面融着防止用シートの厚みは１５０μｍ、離型剤層の乾燥後の厚みは０．1μｍであった。
−塗布液組成−
・  ジメチルポリシロキサン構造を有する硬化型シリコーン樹脂
（ＫＳ−８４７Ｈ：信越化学製 固形分濃度３０％）・・・・・・・・６質量部
・  硬化剤（ＰＬ−５０Ｔ：信越化学製 固形分濃度 １％）・・・０．１質量部
・  Ｑ単位のシロキサン構造を有するシリコーン系化合物
（反応性シリコーンレジン：固型分濃度３０％）・・・・・・・・３．９質量部
・  ＭＥＫ／トルエン混合溶媒（混合比率は１：１）・・・・・・１９１質量部
【０５０４】
（実施例２０）
実施例２０の感光性フィルムロール状加工物は、感光性組成物を下記表１に記載されている感光性組成物に変更した以外は実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロールを実施例１と同様に評価を行った。
【０５０５】
（実施例２１）
実施例２１の感光性フィルムロール状加工物は、感光性組成物を、下記表１に記載されている感光性組成物に変更した以外は実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０５０６】
（実施例２２）
実施例２２の感光性フィルムロール状加工物の梱包体は、シートを、ポリエチレンフィルム（水蒸気透過率４０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ）に変更した以外は実施例５と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０５０７】
（実施例２３〜３８）
実施例２３〜３８の感光性フィルムロール状加工物は、感光性組成物を下記表４に記載されている組成に従い各感光性組成物を調製し、支持体として無処理の厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、保護フィルムとして無処理の厚み２０μｍポリプロピレンフィルムを用いた以外は、実施例１と同様の方法で感光性フィルムを作成した。得られた感光性フィルムから、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表５の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行た。ただし、埋め込み性の評価は、埋め込み性（Ａ）の代わりに埋め込み性（Ｂ）を行い、鉛筆強度、密着性、耐酸性、耐アルカリ性、無電界めっき耐性、及びＰＣＴ耐性の評価は行わなかった。
【０５０８】
（１）埋め込み性（Ｂ）
表面を化学研磨した銅張り積層板に加熱加圧式ラミネータを用い８０℃の加熱ロール温度で、２ｍ／分のラミネート速度で保護フィルムを除いた前記感光性フィルムを積層し前記積層体を得た。前記積層体を室温まで冷却後、感光層と基板間の気泡の有無を１００倍の顕微鏡を用いて観察し、下記基準で評価した。
○：感光層と基板間に気泡が認められない場合。
×：感光層と基板間に気泡が認められる場合。
【０５０９】
（実施例３９）
実施例３９の感光性フィルムロール状加工物は、感光性組成物を、下記表４の組成に従い感光性組成物を変更した以外は実施例２３と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表５の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行た。ただし、埋め込み性の評価は、埋め込み性（Ａ）の代わりに埋め込み性（Ｂ）を行い、鉛筆強度、密着性、耐酸性、耐アルカリ性、無電界めっき耐性、及びＰＣＴ耐性の評価は行わなかった。
【０５１０】
（実施例４０）
実施例４０の感光性フィルムロール状加工物は、感光性組成物を、下記表４の組成に従い感光性組成物を変更した以外は実施例２３と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表５の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行た。ただし、埋め込み性の評価は、埋め込み性（Ａ）の代わりに埋め込み性（Ｂ）を行い、鉛筆強度、密着性、耐酸性、耐アルカリ性、無電界めっき耐性、及びＰＣＴ耐性の評価は行わなかった。
【０５１１】
（実施例４１）
実施例４１の感光性フィルムロール状加工物の梱包体は、シートを、ポリエチレンフィルム（水蒸気透過率４０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ）に変更した以外は実施例２３と同様の方法で作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表５の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行た。ただし、埋め込み性の評価は、埋め込み性（Ａ）の代わりに埋め込み性（Ｂ）を行い、鉛筆強度、密着性、耐酸性、耐アルカリ性、無電界めっき耐性、及びＰＣＴ耐性の評価は行わなかった。
【０５１２】
（比較例１）
比較例１の感光性組成物では、実施例１のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量を１６質量部に代え、ビスフェノールＡ型β−メチルエポキシ樹脂の代わりに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業株式会社製、８５０Ｓ）１１．９質量部を添加し、無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を４０質量部加えた以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
【０５１３】
（比較例２）
比較例２の感光性組成物では、実施例１の無機充填材と着色剤共分散液の調整に用いるエポキシ樹脂を１２質量部加え、さらに、バインダーＡを３６質量部添加した以外は、実施例１と同様に感光性組成物を作成した。得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表２の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行った。
以下同様に、下記表１に記載の組成に基づいて、各感光性組成物を調製した。
【０５１４】
（比較例３）
比較例３では、下記表４に記載の組成を有する感光性組成物を得て、得られた感光性組成物から、感光性フィルム原反ロールを作製し、下記表５の記載されている端面融着防止用シートを用い、感光性フィルムロール状加工物を作製した。得られた感光性フィルムロール状加工物を実施例１と同様に評価を行た。ただし、埋め込み性の評価は、埋め込み性（Ａ）の代わりに埋め込み性（Ｂ）を行い、鉛筆強度、密着性、耐酸性、耐アルカリ性、無電界めっき耐性、及びＰＣＴ耐性の評価は行わなかった。
【０５１５】
【表１】
2007240879.tif 000049
ただし、表１中、ＰＲ３００は、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート樹脂を表す。ＤＰＨＡは、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを表す。ビスＡ（β）は、ビスフェノールＡ型β−メチルエポキシ樹脂を表す。ビスＡ（α）は、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を表す。２ＭＡＯＫは、トリアジンのイソシアヌル酸付加物を表す。ＰＢは、ピグメントブルー１５：３を表す。ＰＹは、ピグメントイエロー１８０を表す。
【０５１６】
【表２】
2007240879.tif 000050
【０５１７】
【表３】
2007240879.tif 000051
【０５１８】
【表４】
2007240879.tif 000052
ただし、表４中、バインダーＢは、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／スチレン（質量比＝２９／１９／５２）共重合体（質量平均分子量＝６０，０００）を表す。バインダーＣは、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／ベンジルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート（モル比＝２９／５５／４．３／１１．７）共重合体（質量平均分子量＝８０，０００）を表す。ＢＰＥ５００は、下記式（８０）で表される重合性化合物（製造元：東亞合成化学社）を表す。ＧＸ８７０２Ｃは、ポリオキシエチレンジオールモノアクリレートとジイソシアネートからのウレタンアクリレートを表す。Ｍ２７０は、下記式（８１）で表される重合性化合物（製造元：東亞合成化学社）を表す。４Ｇは、下記式（８２）で表される重合性化合物（製造元：新中村化学社）を表す。ＮＢＣＡは、Ｎ−ブチル−２−クロロアクリジンを表す。Ｂ−ＣＩＭは、ヘキサアリールビイミダゾールを表す。ＬＣＶは、ロイコクリスタルバイオレットを表す。
【化５０】
2007240879.tif 000053
【化５１】
2007240879.tif 000054
【化５２】
2007240879.tif 000055
【０５１９】
【表５】
2007240879.tif 000056
【０５２０】
【表６】
2007240879.tif 000057
【０５２１】
【表７】
2007240879.tif 000058
【産業上の利用可能性】
【０５２２】
本発明の感光性フィルムロール状加工物は、感光性フィルムロールの端面融着の発生を防ぐことができ、長期間の保存安定性に優れ、青紫色レーザに対して高感度を示し、基板への埋め込み性に優れ、高精細なパターンを形成可能であるため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に用いることができる。
本発明の感光性フィルムロール状加工物の梱包方法は、本発明の感光性フィルムロール状加工物を備えているため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０５２３】
【図１】図１は、パターン形成装置の一例の外観を示す斜視図である。
【図２】図２は、パターン形成装置のスキャナの構成の一例を示す斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、感光層の被露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図である。
【図４】図４は、露光ヘッドの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図５Ａ】図５Ａは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す上面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す側面図である。
【図６】図６は、図１のパターン形成装置のＤＭＤの一例を示す部分拡大図である。
【図７Ａ】図７Ａは、ＤＭＤの動作を説明するための斜視図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、ＤＭＤの動作を説明するための斜視図である。
【図８】図８は、ファイバアレイ光源の構成の一例を示す斜視図である。
【図９】図９は、ファイバアレイ光源のレーザ出射部における発光点の配列の一例を示す正面図である。
【図１０】図１０は、露光ヘッドの取付角度誤差及びパターン歪みがある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１１】図１１は、１つのＤＭＤによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。
【図１２】図１２は、被露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。
【図１３】図１３は、選択されたマイクロミラーのみが露光に使用された結果、被露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。
【図１４】図１４は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれがある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１５】図１５は、隣接する２つの露光ヘッドによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。
【図１６】図１６は、被露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。
【図１７】図１７は、図１４の例において選択された使用画素のみが実動され、被露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。
【図１８】図１８は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれ及び取付角度誤差がある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１９】図１９は、図１８の例において選択された使用描素部のみを用いた露光を示す説明図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、倍率歪みの例を示した説明図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、ビーム径歪みの例を示した説明図である。
【図２１Ａ】図２１Ａは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２１Ｂ】図２１Ｂは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２２】図２２は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２３Ａ】図２３Ａは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２３Ｂ】図２３Ｂは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２４】図２４は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２５】図２５は、マルチモード光ファイバの構成を示す図の一例である。
【図２６】図２６は、合波レーザ光源の構成を示す平面図の一例である。
【図２７】図２７は、レーザモジュールの構成を示す平面図の一例である。
【図２８】図２８は、図２７に示すレーザモジュールの構成を示す側面図の一例である。
【図２９】図２９は、図２７に示すレーザモジュールの構成を示す部分側面図である。
【図３０】図３０は、レーザアレイの構成を示す斜視図の一例である。
【図３１Ａ】図３１Ａは、マルチキャビティレーザの構成を示す斜視図の一例である。
【図３１Ｂ】図３１Ｂは、図３１Ａに示すマルチキャビティレーザをアレイ状に配列したマルチキャビティレーザアレイの斜視図の一例である。
【図３２】図３２は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３３】図３３は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３４Ａ】図３４Ａは、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３４Ｂ】図３４Ｂは、図３４Ａの光軸に沿った断面図の一例である。
【符号の説明】
【０５２４】
Ｂ１〜Ｂ７            レーザビーム
Ｌ１〜Ｌ７            コリメータレンズ
ＬＤ１〜ＬＤ７        ＧａＮ系半導体レーザ
１０                  パターン形成装置
１２                  感光層（感光材料）
１４                  移動ステージ
１８                  設置台
２０                  ガイド
２２                  ゲート
２４                  スキャナ
２６                  センサ
２８                  スリット
３０                  露光ヘッド
３２                  露光エリア
３６                  デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）
３８                  ファイバアレイ光源
５８                  マイクロミラー（描素部）
６０                  レーザモジュール
６２                  マルチモード光ファイバ
６４                  光ファイバ
６６                  レーザ出射部
１１０                ヒートブロック
１１１                マルチキャビティレーザ
１１３                ロッドレンズ
１１４                レンズアレイ
１４０                レーザアレイ
２００                集光レンズ
【図２５】
2007240879.tif 000059
【図２６】
2007240879.tif 000060
【図２７】
2007240879.tif 000061
【図２８】
2007240879.tif 000062
【図２９】
2007240879.tif 000063
【図３０】
2007240879.tif 000064
【図３２】
2007240879.tif 000065
【図３３】
2007240879.tif 000066
【図１】
2007240879.tif 000067
【図２】
2007240879.tif 000068
【図３Ａ】
2007240879.tif 000069
【図３Ｂ】
2007240879.tif 000070
【図４】
2007240879.tif 000071
【図５Ａ】
2007240879.tif 000072
【図５Ｂ】
2007240879.tif 000073
【図６】
2007240879.tif 000074
【図７Ａ】
2007240879.tif 000075
【図７Ｂ】
2007240879.tif 000076
【図８】
2007240879.tif 000077
【図９】
2007240879.tif 000078
【図１０】
2007240879.tif 000079
【図１１】
2007240879.tif 000080
【図１２】
2007240879.tif 000081
【図１３】
2007240879.tif 000082
【図１４】
2007240879.tif 000083
【図１５】
2007240879.tif 000084
【図１６】
2007240879.tif 000085
【図１７】
2007240879.tif 000086
【図１８】
2007240879.tif 000087
【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図２３Ａ】
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【図２３Ｂ】
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【図２４】
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【図３１Ａ】
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【図３１Ｂ】
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【図３４Ａ】
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【図３４Ｂ】
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