(57)【要約】【課題】検査用ワーク表面に瑕疵が有ったとしても、瑕疵に重ねて検査描画を行うことを回避でき、描画結果の画像認識を適切に行うことができるようにする。【解決手段】検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法であって、描画結果の画像認識に同期して、複数の検査領域のうち、次回の検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の検査領域の画像認識を行い、未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、未描画の検査領域の表面上に、次回以降の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る未描画の検査領域のＸ軸方向における位置設定を変更するか、あるいは、当該瑕疵の有る未描画の検査領域をスキップする。【選択図】図５
2007144344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法であって、
前記描画結果の画像認識に同期して、前記複数の検査領域のうち、次回の前記検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の前記検査領域の画像認識を行う画像認識工程と、
前記画像認識工程における前記未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、前記未描画の検査領域の表面上に、次回以降の前記検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る前記未描画の検査領域の前記Ｘ軸方向における位置設定を変更する設定変更工程と、
を備えたことを特徴とする機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法。
【請求項２】
検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法であって、
前記描画結果の画像認識に同期して、前記複数の検査領域のうち、次回の前記検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の前記検査領域の画像認識を行う画像認識工程と、
前記画像認識工程における前記未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、前記未描画の検査領域の表面上に、次回以降の前記検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る前記未描画の検査領域をスキップする領域スキップ工程と、
を備えたことを特徴とする機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法。
【請求項３】
検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置であって、
前記複数の検査領域を設定する領域設定手段と、
前記検査用ワークに対して前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させる検査描画用移動手段と、
前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記検査描画用移動手段を制御して、前記各検査領域に対して前記検査描画を行わせる描画制御手段と、
前記描画結果の画像認識に同期して、前記複数の検査領域のうち、次回の前記検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の前記検査領域の画像認識を行う画像認識手段と、
前記画像認識手段による前記未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、前記未描画の検査領域の表面上に、次回以降の前記検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る前記未描画の検査領域の前記Ｘ軸方向における位置設定を変更する設定変更手段と、
を備えたことを特徴とする機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項４】
前記設定変更手段は、予め取得した前記瑕疵の最大サイズに基づいて、前記未描画の検査領域の位置設定を変更することを特徴とする請求項３に記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項５】
検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置であって、
前記複数の検査領域を設定する領域設定手段と、
前記検査用ワークに対して前記機能液滴吐出ヘッドを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させる検査描画用移動手段と、
前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記検査描画用移動手段を制御して、前記各検査領域に対して前記検査描画を行わせる描画制御手段と、
前記描画結果の画像認識に同期して、前記複数の検査領域のうち、次回の前記検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の前記検査領域の画像認識を行う画像認識手段と、
前記画像認識手段による前記未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、前記未描画の検査領域の表面上に、次回以降の前記検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る前記未描画の検査領域をスキップする領域スキップ手段と、
を備えたことを特徴とする機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項６】
前記領域スキップ手段は、予め取得した前記瑕疵の最大サイズに基づいて、前記未描画の検査領域をスキップすることを特徴とする請求項５に記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項７】
前記画像認識手段は、
前記描画結果および前記未描画の検査領域を撮像する撮像カメラと、
前記検査用ワークに対し、前記撮像カメラを前記Ｘ軸方向に相対的に移動させる撮像用移動手段と、
を有することを特徴とする請求項３ないし６のいずれかに記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項８】
前記撮像カメラは、前記描画結果を撮像する描画観測カメラと、前記未描画の検査領域を撮像する領域用カメラとから構成され、
前記領域用カメラは、前記描画観測カメラに比べて、広視野角を有することを特徴とする請求項７に記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項９】
前記検査用ワークは、基材層と、当該基材層の表面に積層され、機能液滴が浸透する受理層と、から成る検査紙により構成されていることを特徴とする請求項３ないし８のいずれかに記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置。
【請求項１０】
請求項３ないし９のいずれかに記載の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置と、
実描画対象となる描画用ワークを搭載すると共に、前記描画用ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる実描画用移動手段と、を備え、
前記吐出検査装置の描画制御手段は、前記実描画用移動手段をさらに制御して、前記描画用ワークに対し、前記機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、当該機能液吐出ヘッドにより機能液滴を吐出して実描画処理を行わせることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の液滴吐出装置を用い、前記描画用ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の液滴吐出装置を用い、前記描画用ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１２に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット方式で機能液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、被検査物（検査用ワーク）に対し、液滴吐出ヘッドから検査用の液滴を吐出してドット列を描画し、その画像認識結果に基づいてドットの位置ズレを検出する機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法が知られている。（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−１４２１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、検査用ワークの表面には、微小なゴミやキズが存在する場合がある。特に、検査用ワークとして、基材層の表面に、機能液が浸透する受理層をコーティングした検査紙が用いられるが、このような検査紙は、製造工程において、微小なゴミが混入したり、混入した微小なゴミにより受理層の表面に微小（０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ程度）なキズがついたりする場合が多いため、表面上に微小なゴミやキズがかなりの割合で存在する。このようなゴミやキズに重ねて検査描画が行われると、描画結果の画像認識を適切に行うことができなくなる。これに対し、微小なゴミの混入を防ぐ設備を導入し、あるいは出荷前（使用前）に検査を行って表面にゴミやキズが有るものを不適品とすることが考えられる。しかしながら、そのようにするとコストアップを招くため、現実的ではない。
【０００４】
本発明は、検査用ワーク表面に瑕疵が有ったとしても、瑕疵に重ねて検査描画を行うことを回避でき、描画結果の画像認識を適切に行うことができる機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法は、検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法であって、描画結果の画像認識に同期して、複数の検査領域のうち、次回の検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の検査領域の画像認識を行う画像認識工程と、画像認識工程における未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、未描画の検査領域の表面上に、次回以降の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る未描画の検査領域のＸ軸方向における位置設定を変更する設定変更工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
また、本発明の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置は、検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置であって、複数の検査領域を設定する領域設定手段と、検査用ワークに対して機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向に相対的に移動させる検査描画用移動手段と、機能液滴吐出ヘッドおよび検査描画用移動手段を制御して、各検査領域に対して検査描画を行わせる描画制御手段と、描画結果の画像認識に同期して、複数の検査領域のうち、次回の検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の検査領域の画像認識を行う画像認識手段と、画像認識手段による未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、未描画の検査領域の表面上に、次回以降の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る未描画の検査領域のＸ軸方向における位置設定を変更する設定変更手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
これらの構成によれば、次回以降の検査描画対象となる未描画の検査領域に瑕疵が有る場合には、その瑕疵を避けるように、瑕疵の有る未描画の検査領域の位置設定を変更することで、次回以降の検査描画において、瑕疵の有る箇所に検査描画を行うことがない。このため、検査用ワーク表面に瑕疵が有ったとしても、瑕疵に重ねて検査描画を行うことがなく、描画結果の画像認識を適切に行うことができる。しかも、検査領域の画像認識を、検査結果の画像認識に同期して行うため、検査領域の画像認識のために余分に処理時間を要することもない。
なお、第１回目の検査描画に先立って、第１回目の検査描画対象となる検査領域を画像認識し、瑕疵の有無を確認することが好ましい。
また、描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵とは、例えば、検査用ワーク上のゴミや、検査用ワーク表面に付いたキズである。
【０００８】
上記の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置において、設定変更手段は、予め取得した瑕疵の最大サイズに基づいて、未描画の検査領域の位置設定を変更することが好ましい。
【０００９】
この構成によれば、検査領域の表面上に瑕疵の有ることは認識できたが、瑕疵全体を認識できず、瑕疵の実際のサイズがわからない場合にも、瑕疵の最大サイズに基づいて、Ｘ軸方向に設定変更させる距離を把握することができ、瑕疵を確実に避けることができる。なお、瑕疵の最大サイズとは、例えば、予め複数の瑕疵（サンプル）のサイズを求めておき、それを統計処理して算出したものである。
【００１０】
本発明の他の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法は、検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査方法であって、描画結果の画像認識に同期して、複数の検査領域のうち、次回の検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の検査領域の画像認識を行う画像認識工程と、画像認識工程における未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、未描画の検査領域の表面上に、次回以降の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る未描画の検査領域をスキップする領域スキップ工程と、を備えたことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の他の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置は、検査用ワーク上に、Ｘ軸方向に並ぶように設定した複数の検査領域に対し順に、機能液滴吐出ヘッドによる検査描画と、当該描画結果の画像認識とを交互に行う機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置であって、複数の検査領域を設定する領域設定手段と、検査用ワークに対して機能液滴吐出ヘッドをＸ軸方向に相対的に移動させる検査描画用移動手段と、機能液滴吐出ヘッドおよび検査描画用移動手段を制御して、各検査領域に対して検査描画を行わせる描画制御手段と、描画結果の画像認識に同期して、複数の検査領域のうち、次回の検査描画の対象となる検査領域を含む未描画の検査領域の画像認識を行う画像認識手段と、画像認識手段による未描画の検査領域の画像認識結果に基づいて、未描画の検査領域の表面上に、次回以降の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえる瑕疵が認識された場合、当該瑕疵を避けるように、当該瑕疵の有る未描画の検査領域をスキップする領域スキップ手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
これらの構成によれば、次回以降の検査描画対象となる未描画の検査領域に瑕疵が有る場合には、瑕疵の有る未描画の検査領域をスキップする。例えば、次回の検査領域に瑕疵の有る場合には、次回の検査領域をスキップして次々回の検査領域を次回の検査領域とする。このため、次回以降の検査描画において、瑕疵の有る箇所に検査描画を行うことがない。したがって、この場合も、検査用ワーク表面に瑕疵が有ったとしても、瑕疵に重ねて検査描画を行うことがなく、描画結果の画像認識を適切に行うことができる。また、同様に、検査領域の画像認識のために余分に処理時間を要することもない。
【００１３】
上記の機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置において、領域スキップ手段は、予め取得した瑕疵の最大サイズに基づいて、未描画の検査領域をスキップすることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、検査領域の表面上に瑕疵の有ることは認識できたが、瑕疵全体を認識できず、瑕疵の実際のサイズがわからない場合にも、瑕疵の最大サイズに基づいて、何検査領域分スキップしたらよいか把握することができ、瑕疵の有る検査領域を確実にスキップすることができる。
【００１５】
これらの場合、画像認識手段は、描画結果および未描画の検査領域を撮像する撮像カメラと、検査用ワークに対し、撮像カメラをＸ軸方向に相対的に移動させる撮像用移動手段と、を有することが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、撮像用移動手段により、各検査領域を撮像カメラに臨ませることができる。このため、高倍率（狭視野角）の撮像カメラを用いることが可能となり、各検査領域を的確に撮像することができる。
【００１７】
この場合、撮像カメラは、描画結果を撮像する描画観測カメラと、未描画の検査領域を撮像する領域用カメラとから構成され、領域用カメラは、描画観測カメラに比べて、広視野角を有することが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、描画観測カメラにより、検査パターンを適切に撮像することができると共に、広視野角を有する領域用カメラにより、瑕疵全体を確実に捉えることができる。このため、瑕疵の実際のサイズを把握することができ、瑕疵を過不足なく確実に避けることができる。
なお、領域用カメラは、予め求めた瑕疵の最大サイズに基づいた視野角を有するものを選択することが好ましい。
【００１９】
これらの場合、検査用ワークは、基材層と、当該基材層の表面に積層され、機能液滴が浸透する受理層と、から成る検査紙により構成されていることが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、高価なガラス基板等を使用する場合に比べ、経済的である。この場合、検査紙の製造工程において、ゴミが発生しやすく、そのゴミが受理層にキズを付けるおそれがあるため、検査紙表面に瑕疵が有る危険性が高いが、本発明によれば、上述したように、瑕疵に重ねて検査描画を行うことを回避できるため、描画結果の画像認識を適切に行うことができる。
【００２１】
本発明の液滴吐出装置は、上記した機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置と、実描画対象となる描画用ワークを搭載すると共に、描画用ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させる実描画用移動手段と、を備え、吐出検査装置の描画制御手段は、実描画用移動手段をさらに制御して、描画用ワークに対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、当該機能液吐出ヘッドにより機能液滴を吐出して実描画処理を行わせることを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、検査用ワーク表面に瑕疵が有ったとしても、瑕疵に重ねて検査描画を行うことを回避できるため、描画結果の画像認識を適切に行うことができる吐出検査装置を備えたことで、実描画処理の合間に、機能液滴吐出ヘッドを搭載したまま、これを適切に且つ効率良く検査することができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、描画用ワーク上に機能液による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、描画用ワーク上に機能液による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２５】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査を適切に且つ効率良く行うことができる液滴吐出装置により製造することで、信頼性の高いワークを効率良く生産することができる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２６】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２７】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明に係る機能液滴吐出ヘッドの吐出検査装置およびこれを備えた液滴吐出装置の一実施形態について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等の基板上に機能液による成膜部を形成するものである。
【００２９】
図１に示すように、液滴吐出装置１は、複数（４個）の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置２と、描画装置２に添設されたメンテナンス装置３と、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出検査を行うための吐出検査ユニット４とを備え、メンテナンス装置３により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置２により基板Ｗ（実描画用ワーク）上に機能液滴を吐出・着弾させる実描画処理を行うようにしている。また、この液滴吐出装置１には、各種データを入力する操作パネル５や、各部を統括制御するコントローラ６（図４参照）等が設置されている。なお、同図では、簡便のため、機能液滴吐出ヘッド１７を単一のものとして示している。
【００３０】
描画装置２は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設され、４個の機能液滴吐出ヘッド１７を装着したヘッドユニット１５（図２参照）と、アライメント処理のために画像認識を行うアライメント装置１６とを備えている。
【００３１】
そして、Ｘ軸テーブル１２による基板Ｗの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル１３によるキャリッジ１４の移動軌跡とが交わる領域が、実描画処理を行う描画エリアとなり、また、Ｙ軸テーブル１３によるヘッドユニット１５の移動軌跡上のＸ軸テーブル１２から外側（図示右側）に外れた領域が、メンテナンスエリアとなっており、このメンテナンスエリアにメンテナンス装置３の一部が設置されている。一方、Ｘ軸テーブル１２の手前側の領域は、液滴吐出装置１に対する基板Ｗの搬出入を行う基板搬出入エリアとなっている。
【００３２】
Ｘ軸テーブル１２は、床上に直接載置されており、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動の描画用Ｘ軸スライダ（図示省略）を有し、これに基板Ｗを吸着セットする吸着テーブル（図示省略）、および基板Ｗのθ位置を微調整する基板θ軸テーブル（図示省略）等から成るセットテーブル２１を移動自在に搭載して、構成されている。
【００３３】
なお、Ｘ軸テーブル１２は、描画用Ｘ軸スライダとは独立して、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動の検査用Ｘ軸スライダを有しており、これに後述する被描画ユニット６１を移動自在に搭載している。すなわち、Ｘ軸テーブル１２は、機能液滴吐出ヘッド１７に対し、セットテーブル２１に搭載した基板ＷをＸ軸方向に移動させると共に、機能液滴吐出ヘッド１７に対し、被描画ユニット６１に搭載した検査用ロール紙ＳをＸ軸方向に移動させ、さらに、後述する検査用カメラ６６に対し、検査用ロール紙ＳをＸ軸方向に移動させるものである。
【００３４】
Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２を跨ぐようにして、床上に立設した左右の支柱（図示省略）に支持されており、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ（図示省略）を有し、Ｙ軸スライダにキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。
【００３５】
キャリッジ１４は、ヘッドユニット１５を保持すると共に、これをθ補正するヘッドθ軸テーブル２６を有している。なお、本実施形態では、単一のキャリッジ１４（ヘッドユニット１５）を備えているが、その個数は任意である。
【００３６】
図２に示すように、ヘッドユニット１５は、４個の機能液滴吐出ヘッド１７と、これを位置決めして装着するヘッドプレート３１と、ヘッドプレート３１に突設した２個の基準ピン３２とから構成されており、ヘッドプレート３１を介してキャリッジ１４に搭載される。２個の基準ピン３２は、後述するヘッド認識カメラ５２により画像認識されるものであり、これにより、ヘッドユニット１５がキャリッジ１４に位置決め状態で搭載される。なお、同図の符号３３は、ヘッドθ軸テーブル２６によるヘッドユニット１５の回転中心である。
【００３７】
４個の機能液滴吐出ヘッド１７は、後述するノズル列４２の列方向が相互に平行になるように装着されており、キャリッジ１４に搭載された状態では、各ノズル列４２がＹ軸方向と平行になるように配設されている。なお、以下では、図示左側から数えてｎ番目の機能液滴吐出ヘッド１７を、「第ｎヘッド」とよぶ。
【００３８】
第１ヘッド１７ａおよび第２ヘッド１７ｂは、複数のノズル４３がＹ軸方向に連続するように、Ｘ軸方向に位置ずれして配設され、第３ヘッド１７ｃおよび第４ヘッド１７ｄは、機能液滴吐出ヘッド１７間の物理的干渉を避けるべく、第１ヘッド１７ａおよび第２ヘッドに対しＹ軸方向に列替えすると共に間隙（数ヘッド分）を存して、第１ヘッド１７ａおよび第２ヘッドと同様に配設されている。すなわち、第１ヘッド１７ａと第３ヘッド１７ｃとがＹ軸方向に並んでおり、同様に、第２ヘッド１７ｂと第４ヘッド１７ｄとがＹ軸方向に並んでいる。もっとも、機能液滴吐出ヘッド１７の個数や配置をこれに限られず、任意である。
【００３９】
図３に示すように、各機能液滴吐出ヘッド１７は、図示しない機能液パック等から機能液が供給され、インクジェット方式（例えば圧電素子駆動）で機能液滴を吐出するものであって、ノズル面４１に相互に平行に形成した２列のノズル列４２（Ａ列４２ＡおよびＢ列４２Ｂ）を有している。
【００４０】
各ノズル列４２は、複数（例えば１８０個）のノズル４３が等ピッチ（例えば１４１・ｍ）で並べられて構成されている。両ノズル列４２は、互いにノズル列４２の列方向に半ピッチ（７０・ｍ）分ずれている。すなわち、２列のノズル列４２によるノズルピッチが、７０・ｍとなっている。また、２列のノズル列４２間距離は、例えば２．２ｍｍである。そして、後述するヘッドドライバ１１１（図４参照）から駆動波形を印加することにより、各ノズル４３から機能液滴が吐出される。
【００４１】
図１に示すように、アライメント装置１６は、基板搬出入エリアの前後両側に臨むように配設され、基板Ｗの２つの基板アライメントマーク（図示省略）をそれぞれ画像認識する２台の基板認識カメラ５１（図４参照）と、Ｘ軸テーブル１２の描画用Ｘ軸スライダに連結され、ヘッドユニット１５の２つの基準ピン３２を画像認識するヘッド認識カメラ５２とを有している。
【００４２】
メンテナンス装置３は、メンテナンスエリアに、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル４３から機能液を吸引する吸引ユニット５６、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４１を払拭するワイピングユニット（図示省略）、機能液滴の飛行状態を観測する飛行観測ユニット（図示省略）等を備えている。
【００４３】
吐出検査ユニット４は、詳細は後述するが、機能液滴吐出ヘッド１７により所定の検査パターンＰ（図７参照）が描画される検査用ロール紙Ｓ（検査紙）をＹ軸方向に張設した被描画ユニット６１と、検査パターンＰを撮像する検査用撮像ユニット６２とを備えている。
【００４４】
次に、図４を参照して、液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、各種データを入力する操作パネル５を有する入力部１０１と、アライメント装置１６や吐出検査ユニット４の各種カメラを有する画像認識部１０２と、機能液滴吐出ヘッド１７、ＸＹ移動機構１１等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１０４と、これら各部を含め液滴吐出装置１を統括制御する制御部１０５（コントローラ６）とを備えている。
【００４５】
駆動部１０４は、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御するヘッドドライバ１１１と、ＸＹ移動機構１１の各モータをそれぞれ駆動制御するモータドライバ１１２とを有している。ヘッドドライバ１１１は、制御部１０５の指示に従って所定の駆動波形を生成・印加して、機能液滴吐出ヘッド１７を吐出駆動制御する。また、モータドライバ１１２は、Ｘ軸モータドライバ１１３、Ｙ軸モータドライバ１１４、基板θ軸モータドライバ１１５およびヘッドθ軸モータドライバ１１６を有し、これらは制御部１０５の指示に従って、Ｘ軸テーブル１２、Ｙ軸テーブル１３、基板θ軸テーブルおよびヘッドθ軸テーブル２６の各駆動モータを駆動制御する。
【００４６】
制御部１０５は、ＣＰＵ１２１と、ＲＯＭ１２２と、ＲＡＭ１２３と、Ｐ−ＣＯＮ１２４とを備え、これらは互いにバス１２５を介して接続されている。ＲＯＭ１２２は、ＣＰＵ１２１で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域と、実描画処理や画像認識を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域とを有している。
【００４７】
ＲＡＭ１２３は、各種レジスタ群のほか、実描画処理を行うための描画データ領域、後述する吐出検査処理を行うための吐出検査データ領域、画像データを一時的に記憶する画像データ領域等を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。
【００４８】
Ｐ−ＣＯＮ１２４には、ＣＰＵ１２１の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ１２４は、画像データや入力部１０１からの各種指令等をそのままあるいは加工してバス１２５に取り込むと共に、ＣＰＵ１２１と連動して、ＣＰＵ１２１等からバス１２５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部１０４に出力する。
【００４９】
そして、ＣＰＵ１２１は、ＲＯＭ１２２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１２３内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１２４を介して駆動部１０４等に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。例えば、ＣＰＵ１２１は、機能液滴吐出ヘッド１７、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３を制御して、所定の液滴吐出条件および所定の移動条件で基板Ｗに描画を行う。
【００５０】
ここで、液滴吐出装置１による基板Ｗへの一連の実描画処理について簡単に説明する。まず、基板搬出入エリアに移動させたセットテーブル２１に基板Ｗをセットすると共に、機能液滴を吐出する前の準備として、２台の基板認識カメラ５１による基板アライメントマークの画像認識結果に基づいて、基板アライメント動作を行う。
【００５１】
続いて、基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら機能液滴を吐出させる。すなわち、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に移動させながら、基板Ｗに対して複数の機能液滴吐出ヘッド１７から機能液滴をそれぞれ吐出・着弾させる主走査と、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５をＹ軸方向に移動させる副走査とを繰り返し行って、基板Ｗの全域に機能液滴の吐出（描画）を行う。
【００５２】
図１と、図５ないし図９とを参照して、吐出検査ユニット４およびこれを用いた機能液滴吐出ヘッド１７の吐出検査処理について詳細に説明する。この吐出検査処理は、上述した実描画処理の前後に行われるものであり、機能液滴吐出ヘッド１７の各ノズル４３の吐出状態を検査するものである。この吐出検査処理により、各ノズル４３に異常が確認されなかった場合には、引き続き次の実描画処理が行われ、異常が確認された場合には、次の実描画処理を行う前に、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行うようになっている。
【００５３】
吐出検査ユニット４は、上述したように、機能液滴吐出ヘッド１７により検査パターンＰが描画される検査用ロール紙ＳをＹ軸方向に張設した被描画ユニット６１と、検査パターンＰを撮像する検査用撮像ユニット６２とを備えており、各機能液滴吐出ヘッド１７から検査パターンＰを吐出し、その描画結果を画像認識して、各ノズル４３から機能液滴が正常に吐出されているか否かを検査するものである。
【００５４】
検査パターンＰは、例えば、機能液滴吐出ヘッド１７の各ノズル列４２の全ノズル４３から同一のタイミングで１ショットの機能液滴をそれぞれ吐出・着弾させたものであり、各ノズル列４２の複数のノズル４３からの複数の機能液滴（ドット）により１の検査ラインＬを構成するものである（図７参照）。
【００５５】
また、上記のＸ軸テーブルにより被描画ユニット６１をＸ軸方向に移動させながら、２列のノズル列４２間で吐出タイミングをずらして、それぞれ検査ラインＬを描画するようにしている。もちろん、被描画ユニット６１を静止させた状態で、検査ラインＬ（検査パターンＰ）を描画してもよいが、このようにすることで、検査ラインＬ間距離を、実際のノズル列４２間距離よりも短く（例えば０．１５ｍｍ）することができる。このため、後述する検査用カメラ６６の視野内に複数の検査ラインＬを一括して捉えることができ、撮像時間を短縮することができる。
【００５６】
さらに、４個の機能液滴吐出ヘッドのうち、第１ヘッド１７ａと第２ヘッド１７ｂとは（第３ヘッド１７ｃと第４ヘッド１７ｄも同様）、Ｘ軸方向に隔てて配設されているが、それぞれの検査ラインＬがＸ軸方向において同位置に描画するタイミングで、吐出している。これにより、検査用ロール紙Ｓの幅方向に無駄なく検査パターンＰを描画でき、検査用ロール紙Ｓを節約することができる。
【００５７】
検査用ロール紙Ｓは、図示しないが、基材層と、当該基材層の表面に積層（コーティング）され、機能液滴が浸透する受理層とから成る検査紙を、ロール状に巻回したものであり、被描画ユニット６１の巻取り機構（後述する）により繰り出された部分に、検査パターンＰが描画されるようになっている。
【００５８】
検査用ロール紙Ｓの幅は、複数回の検査描画に対応したもの（例えば１００ｍｍ）となっている。すなわち、検査用ロール紙Ｓに対して、複数回の検査描画による複数の検査パターンＰが、幅方向（Ｘ軸方向）に順に位置ずれして描画される（詳細は後述する）。そして、検査用ロール紙Ｓの幅いっぱいに複数回分の検査パターンＰが描画されると、その描画済み部分がＹ軸方向に送られ、新しい未描画部分に対して、同様に複数回の検査描画が行われるようになっている。また、検査用ロール紙Ｓの長さは、交換頻度を少なくすべく、ある程度長いほう（例えば５０ｍ）が好ましい。
【００５９】
検査用ロール紙Ｓは、次のようにして作製される。まず、幅広の検査紙を、ロール状に巻回する。続いて、これを所定幅（例えば１００ｍｍ）にスライスする。次に、後述する巻取り機構に装填可能なサイズとすべく、コアに所定の長さ（例えば５０ｍ）を巻き付け、その後端をカットして、１巻の検査用ロール紙Ｓとする。
【００６０】
このように、検査用ロール紙Ｓの製造工程では、検査紙を切断する工程を含むため、検査紙の切り屑等がゴミとなって発生し、そのゴミが検査用ロール紙Ｓに混入するおそれがあるため、製造工程中に、ゴミを吸い取り除去するような装置を備えている。ただ、そのようにしても、比較的大きなゴミは除去できるが、微小なゴミは混入してしまう。したがって、検査用ロール紙Ｓの表面には、微小なゴミや、混入したゴミにより形成されたキズが存在している。
【００６１】
検査用ロール紙Ｓの表面に存在するキズのサイズは、予め複数の瑕疵（サンプル）のサイズを求めておき、それを統計処理して算出されており、例えば、ｍ±３σ（ｍ：平均値、σ：標準偏差）の範囲が、０．２ｍｍ〜１．０ｍｍとなっている。また、ゴミが受理層上を動く（擦る）ことでキズが形成されるのであるから、ゴミのサイズは、これよりも小さくなる。したがって、検査用ロール紙Ｓの表面に存在するゴミやキズの最大サイズは、１．０ｍｍといえる。
【００６２】
なお、検査パターンＰの吐出を受けるものとしては、検査用ロール紙Ｓに限らず、例えば短冊状の検査紙であってもよい。もっとも、ロール状の検査紙を用いることで、交換頻度を少なくすることができる。さらに、洗浄処理が必要となるが、ガラス基板を用いることも可能である。
【００６３】
被描画ユニット６１は、検査用ロール紙ＳをＹ軸方向に張設すると共に、上記したように、検査用ロール紙Ｓに対して複数回の検査描画による複数の検査パターンＰが幅いっぱいに描画された後、その描画済み部分をＹ軸方向に送る（巻き取る）ものである。
【００６４】
被描画ユニット６１は、上記の検査用Ｘ軸スライダに搭載されており、図示省略したが、装填した検査用ロール紙Ｓを繰り出しながら巻き取っていく巻取り機構と、検査用Ｘ軸スライダ上で巻取り機構を支持する検査スタンドとを有している。
【００６５】
被描画ユニット６１は、検査用Ｘ軸スライダをＸ軸方向に移動させることで、描画エリアと、後述する検査用カメラ６６の直下との間で、Ｘ軸方向に移動可能となっている。このため、検査用ロール紙Ｓ上に設定される各検査領域Ｒ（後述する）に機能液滴吐出ヘッド１７を臨ませることができると共に、上述したように、被描画ユニット６１をＸ軸方向へ移動させながら、各機能液滴吐出ヘッド１７から検査パターンＰを描画することができる。
【００６６】
なお、本実施形態では、被描画ユニット６１およびセットテーブル２１を、各別に検査用Ｘ軸スライダおよび描画用Ｘ軸スライダに載置しているが、両者を共通のＸ軸スライダに載置してもよい。また、移動テーブルを個別に設けるようにしてもよい。
【００６７】
巻取り機構は、図示省略したが、検査用ロール紙Ｓが装填され、検査用ロール紙Ｓを繰り出す繰出しリールと、繰出しリールに対してＹ軸方向に位置して、繰り出された検査用ロール紙Ｓを巻き取る巻取りリールと、巻取りリールを回転させるための巻取りモータとを有している。
【００６８】
繰出しリールから繰出された検査用ロール紙Ｓは、Ｙ軸方向に水平に走行し、巻取りリールで巻き取られるようになっており、この水平走行路おいて、検査パターンＰを受けるようになっている。Ｙ軸方向における水平走行路の長さ（繰出しリールと巻取りリールとの離間距離）は、ヘッドユニット１５の全機能液滴吐出ヘッド１７からの検査描画を一括して受けることができるように設定されている。
【００６９】
検査用撮像ユニット６２は、検査用ロール紙Ｓに描画された検査パターンＰ（描画結果）を撮像する検査用カメラ６６（撮像カメラ）と、Ｙ軸テーブル１３と平行に配設され、モータ駆動で検査用カメラ６６をＹ軸方向に移動させるカメラ移動機構６７とを有している。そして、Ｘ軸テーブル１２により、被描画ユニット６１（検査用ロール紙Ｓ）を検査用カメラ６６に臨ませると共に、検査用カメラ６６をＹ軸方向に移動させながら、複数の機能液滴（ドット）単位で、検査パターンＰを撮像するようになっている。なお、詳細は後述するが、検査用カメラ６６は、検査領域に描画された検査パターンＰの撮像に同期して、次回の検査描画対象となる検査領域Ｒの撮像を行うようになっている。
【００７０】
ここで、吐出検査処理の一連の動作について説明する。まず、制御部１０５により、検査用ロール紙Ｓ上に、Ｘ軸方向に並ぶように複数の検査領域Ｒを設定する（図５のＳ１１、図６参照）。
【００７１】
すなわち、上述したように、検査描画毎に、被描画ユニット６１（検査用ロール紙Ｓ）をＸ軸方向にずらすことで、検査用ロール紙Ｓに対して、複数回の検査描画による複数の検査パターンＰが、幅方向（Ｘ軸方向）に順に位置ずれして描画されるように、複数の検査領域Ｒを、Ｘ軸方向に検査描画順に並ぶように且つ相互に隣接させて設定する。なお、図６に示すように、ここでは、第１回目の検査描画対象となる検査領域Ｒａの表面上にゴミやキズは無いが、第２回目以降の検査領域（Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄ，・・・）に、微小なゴミやキズ（ゴミキズＤ）が存在している。
【００７２】
続いて、Ｘ軸テーブル１２により被描画ユニット６１を移動させながら、第１回目の検査領域Ｒａに対して、各機能液滴吐出ヘッド１７のノズル４３から検査パターンＰを吐出して、検査描画を行う（Ｓ１２）。
【００７３】
次に、検査用撮像ユニット６２により、第１回目の検査領域Ｒａに描画された検査パターンＰを画像認識すると共に、検査パターンＰの画像認識に同期して、その検査領域Ｒに隣接した、第２回目の検査描画対象となる未描画の検査領域Ｒｂを画像認識する（Ｓ１３）。すなわち、Ｘ軸テーブル１２により、第１回目の検査領域Ｒａおよび第２回目の検査領域Ｒｂを検査用カメラ６６に臨ませ、検査用カメラ６６をＹ軸方向に移動させながら、描画結果および第２回目の検査領域Ｒを画像認識する。このように、Ｘ軸テーブル１２により、各検査領域Ｒを検査用カメラ６６に臨ませることができるため、高倍率（狭視野角）の検査用カメラ６６を用いることが可能となり、各検査領域Ｒを的確に撮像することができる。
【００７４】
図７に示すように、検査用カメラ６６は、その視野Ｆ内に、第１回目の検査領域Ｒａに描画された検査パターンＰと、第２回目の検査領域Ｒｂとを捉えており、そこにゴミキズＤの一部が映っている。もちろん、第３回目以降の未描画の検査領域（Ｒｃ，Ｒｄ，・・・）をも視野Ｆ内に捉えるようにしてもよい。
【００７５】
そして、制御部１０５により、検査パターンＰの画像認識結果に基づいて、機能液滴の着弾位置ズレ（飛行曲がり）や、不吐出（目詰まり）の有無を判定し、異常が認められた場合には、次の実描画処理を行う前に、メンテナンス処理を行う。
【００７６】
さらに、制御部１０５により、第２回目の検査領域Ｒｂの画像認識結果に基づいてして、第２回目の検査領域Ｒｂの表面上に、第２回目の検査描画による描画結果の画像認識の障害となりえるゴミやキズ（瑕疵）が有るか否かを判別する（Ｓ１４）。なお、例えば、所定の大きさ以上のゴミやキズを、検査パターンＰの画像認識の障害となりえるものとする。
【００７７】
ここで、ゴミやキズが有ると判定された場合には（Ｓ１４；Ｙｅｓ）、制御部１０５により、そのゴミやキズ（ゴミキズＤ）を避けるように、ゴミキズＤの有る第２回目の検査領域ＲｂのＸ軸方向における位置設定を変更すると共に、それに伴って、第３回目以降の検査領域（Ｒｃ，Ｒｄ，Ｒｅ，・・・）のＸ軸方向の位置設定を変更する（Ｓ１５、図８参照）。このとき、検査領域Ｒの位置設定の変更は、上述したゴミやキズの最大サイズ（１．０ｍｍ）に基づいて行われる。すなわち、第２回目の検査領域Ｒｂにその一部が確認されたゴミキズＤが、最大サイズのゴミやキズであっても、第２回目の検査領域Ｒｂがこれを完全に避けるように、Ｘ軸方向における検査領域Ｒｂの位置を、例えば１．５ｍｍずらすようにする。これにより、視野Ｆ内にゴミキズＤ全体が捉えられておらず、ゴミキズＤの実際のサイズがわからない場合にも、ゴミキズＤを確実に避けることができる。
【００７８】
また、Ｘ軸方向への位置設定の変更に代えて、ゴミキズＤの有る検査領域Ｒｂをスキップするようにしてもよい。例えば、第２回目の検査領域Ｒにその一部が確認されたゴミキズＤが、その最大サイズより、第２回目の検査領域Ｒｂから第５回目の検査領域Ｒｅに亘って存在すると把握される場合、第２回目の検査領域Ｒｂから第５回目の検査領域Ｒｅをスキップして、第６回目の検査領域Ｒｆを第２回目の検査描画の対象とする。
【００７９】
このような検査領域Ｒの位置設定変更あるいは領域スキップを行った上で、次の実描画処理終了後等に、第２回目の検査描画を行う。これによれば、第２回目の検査描画において、ゴミキズＤの有る箇所に検査描画を行うことがない。このため、検査用ロール紙Ｓ表面にゴミキズＤが有ったとしても、ゴミキズＤに重ねて検査パターンＰを描画することがなく、描画結果の画像認識を適切に行うことができる。しかも、検査領域Ｒの撮像を、検査パターンＰの撮像に同期して行うため、検査領域Ｒの撮像のために余分に処理時間を要することもない。なお、第１回目の検査領域Ｒａについても、第１回目の検査描画に先立ってこれを画像認識し、ゴミやキズの有無を確認することが好ましい。
【００８０】
他方、仮に第２回目の検査領域Ｒにゴミやキズが無い場合には、検査領域Ｒの画像認識結果に基づいて、ゴミやキズが無いと判定され（Ｓ１４；Ｎｏ）、検査領域Ｒの位置設定変更あるいは領域スキップを行うことなく、次の実描画処理終了後等に、第２回目の検査描画（Ｓ１２）を行う。
【００８１】
以上のような検査描画および画像認識を複数回繰り返し行う。そして、検査用ロール紙Ｓの幅いっぱいに（ゴミキズＤを避けた部分を除く）に複数回分の検査パターンＰが描画され、全検査領域Ｒの描画が終了すると（Ｓ１６；Ｙｅｓ）、一連の吐出検査処理を終了する。その後、さらに吐出検査処理を行う場合には、検査用ロール紙Ｓの描画済み部分をＹ軸方向に送って、新たな未描画部分に対して上記と同様の処理を行う。
【００８２】
なお、上記の実施形態では、検査パターンＰと次回の検査領域Ｒとを、共通の検査用カメラ６６により撮像するようにしたが、検査用撮像ユニット６２に、高倍率・狭視野角の描画観測カメラと、低倍率・広視野角の領域用カメラとを備え、描画観測カメラにより検査パターンＰを撮像し、領域用カメラにより、未描画の検査領域Ｒを撮像するようにしてもよい。
【００８３】
図９に示すように、描画観測カメラは、その視野Ｆｐ内に、第１回目の検査領域Ｒａに描画された検査パターンＰを捉えており、他方、領域用カメラは、その視野Ｆｒ内に、第２回目の検査描画の対象となる検査領域Ｒｂを含む複数の未描画の検査領域Ｒ（Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄ，・・・）を捉えており、ゴミキズＤの全体が映っている。これによれば、高倍率の描画観測カメラにより、検査パターンＰを高精度に撮像することができると共に、広視野角を有する領域用カメラにより、ゴミキズＤ全体を確実に捉え、ゴミキズＤの実際のサイズを把握することができる。
【００８４】
この場合、Ｘ軸方向における検査領域Ｒの位置設定変更あるいは領域スキップを行う際に、上述したように予め求めたゴミやキズの最大サイズに代えて、領域用カメラにより捉えたゴミキズＤの実際のサイズに基づいて、行うようにする。これにより、ゴミキズＤを過不足なく確実に避けることができる。
【００８５】
以上のように、本実施形態の吐出検査処理によれば、検査用ロール紙Ｓ表面にゴミやキズが有ったとしても、ゴミやキズ（ゴミキズＤ）に重ねて検査パターンＰを描画することがなく、検査パターンＰの画像認識を適切に行うことができる。そして、本実施形態の液滴吐出装置１によれば、このような吐出検査処理を行うための吐出検査ユニット４を備えたことで、実描画処理の合間に、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載したまま、これを適切に且つ効率良く検査することができる。
【００８６】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００８７】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１１は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１１（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００８８】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１１（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１１（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００８９】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００９０】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１１（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００９１】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１１（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００９２】
図１２は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１１に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００９３】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００９４】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１２において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００９５】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００９６】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００９７】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００９８】
図１３は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００９９】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【０１００】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１０１】
図１４は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１０２】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【０１０３】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１０４】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１０５】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１０６】
次に、図１５は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１０７】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１０８】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１０９】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１１０】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１１１】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１１２】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１１３】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１１４】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１１５】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１１６】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１１７】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１１８】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１６〜図２４を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１６に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１１９】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１７に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１８に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１２０】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１２１】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１２２】
図１９に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２０に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１２３】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１２４】
そして次に、図２１に示すように、各色のうちのいずれか（図２１の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１２５】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２２に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１２６】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２３に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１２７】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１２８】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２４に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１２９】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１３０】
次に、図２５は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１３１】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１３２】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１３３】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１３４】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１３５】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１３６】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１３７】
次に、図２６は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１３８】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１３９】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１４０】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１４１】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１４２】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２７（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２７（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１４３】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の平面模式図である。
【図２】液滴吐出装置に搭載したヘッドユニットの平面模式図である。
【図３】機能液滴吐出ヘッドをノズル面側から見た模式図である。
【図４】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図５】液滴吐出装置の吐出検査処理を示すフローチャートである。
【図６】検査用ロール紙上に複数の検査領域を設定した状態を示す図である。
【図７】検査用カメラにより検査パターンおよび検査領域を撮像した状態を示す図である。
【図８】検査用ロール紙上において、複数の検査領域の位置設定を変更した状態を示す図である。
【図９】描画観測カメラにより検査パターンを撮像し、領域用カメラにより検査領域を撮像した状態を示す図である。
【図１０】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１１】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１７】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２５】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２６】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２７】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１４５】
１…液滴吐出装置  ４…吐出検査ユニット  ６…コントローラ  １２…Ｘ軸テーブル  １７…機能液滴吐出ヘッド  ６２…検査用撮像ユニット  ６６…検査用カメラ  ６７…カメラ移動機構  Ｒ…検査領域  １０５…制御部  Ｒ…検査領域  Ｓ…検査用ロール紙  Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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