(57)【要約】【課題】  ボイラからの蒸気に脱酸素剤を十分に混合させて溶存酸素量を効率的かつ効果的に低減して、タービンでの応力腐食割れを防止するとともに過熱器等でのスケール剥離による不具合を防止し得るボイラプラントの蒸気処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】  本発明にかかるボイラプラント１の蒸気処理方法においては、復水に酸素を注入して給水されるボイラの出口流体に、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入して蒸気中の溶存酸素を低減する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
復水および／または給水に酸素を注入して給水されるボイラの出口流体に還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入して蒸気中の溶存酸素を低減するボイラプラントの蒸気処理方法。
【請求項２】
復水および／または給水に酸素を注入して給水されるボイラを備えたボイラプラントであって、
還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入する注入ラインを、ボイラの蒸気系統に接続したことを特徴とするボイラプラント。
【請求項３】
ボイラ水を還元水化又は活性水素水化し、この還元水化又は活性水素水化されたボイラ水を、復水および／または給水に酸素を注入して給水されるボイラの出口流体に注入して、蒸気中の溶存酸素を低減するボイラプラントの蒸気処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボイラプラントの蒸気処理方法、ボイラプラントおよびボイラプラントの蒸気処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ボイラプラントにおける給水処理として、復水器からの復水および／または脱気器出口からの給水に酸素を注入して保護皮膜としてヘマタイトスケールを生成する酸素注入処理が適用されている。この酸素注入処理には、酸素のみを注入するＮＷＴ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｗａｔｅｒ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）と、酸素およびアンモニアを注入するＣＷＴ（Ｃｏｍｂｉｎｅｄ  Ｗａｔｅｒ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）とがある。
しかし、これらの酸素注入処理では、ボイラからの蒸気に酸素が含まれるため、この溶存酸素に起因するタービンの応力腐食割れやボイラ過熱器または再熱器からの特殊用途ステンレス鋼（ＳＵＳ）スケールの過剰剥離が発生する恐れがある。
これを解消するものとして、特許文献１に示されるように、ボイラ出口からの流体に脱酸素剤を供給し、タービン及びボイラの蒸気系統へ供給される溶存酸素をできるだけ少なくし、タービンの応力腐食割れ並びにボイラ過熱器及び再熱器からのＳＵＳスケールの過剰剥離を抑制するものが提案されている。
【０００３】
【特許文献１】特公平７−４３０９３号公報（４欄４行〜３２行，及び第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に脱酸素剤として挙げられているヒドラジンは、一般的に発ガン性等を有する有害物質であり、環境汚染対策上好ましくない。
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑み、ボイラからの蒸気にヒドラジン等の脱酸素剤を直接注入せずに、タービンでの応力腐食割れを防止するとともに過熱器および再熱器等でのスケール剥離による不具合を防止し得るボイラプラントの蒸気処理方法、ボイラプラントおよびボイラプラントの蒸気処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。
すなわち、本発明にかかるボイラプラントの蒸気処理方法は、復水に酸素を注入して給水されるボイラの出口流体に還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入して蒸気中の溶存酸素を低減するボイラプラントの蒸気処理方法において、前記還元水化又は活性水素水化したボイラ水を、ボイラの蒸気系統（例えば、過熱器の上流もしくは過熱器又は再熱器の上流もしくは再熱器）に注入することを特徴とする。
【０００７】
本発明のボイラプラントの蒸気処理方法によれば、溶存酸素量が十分に低減された蒸気がボイラの蒸気系統に供給されるので、過熱器、再熱器およびタービン等の蒸気系において酸素による応力腐食割れを防止できるとともに溶存酸素により、ヘマタイト化が進行しスケールが剥離し易くなることを抑制することができる。
また、ヘマタイト化抑制により、スケールの剥離量が低減するので、剥離したスケールが過熱器や再熱器等の細管に溜まり、さらに堆積して管を閉塞することを防止できるため、これら閉塞された細管が過熱されて、ついには噴破事故につながることを防止できる。また、剥離したスケールがタービンに損傷を与えることを防止できる。
さらに本発明のボイラプラントの蒸気処理方法によれば、ボイラプラント系内のボイラ水を還元水化又は活性水素水化してボイラの出口流体に注入することにより蒸気中の溶存酸素を低減しているので、ボイラプラントの外部からヒドラジン等の有害物質を脱酸素剤として導入する必要がなく、このような脱酸素剤に対する環境汚染対策が不要となる。
【０００８】
本発明にかかるボイラプラントは、復水および／または給水に酸素を注入して給水されるボイラを備えたボイラプラントであって、ボイラの蒸気系統（例えば、過熱器の上流もしくは過熱器又は再熱器の上流もしくは再熱器）に、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入する注入ラインを接続したことを特徴とする。
【０００９】
本発明のボイラプラントは、溶存酸素量が十分に低減された蒸気がボイラの蒸気系統に供給されるので、過熱器、再熱器およびタービン等の蒸気系において酸素による応力腐食割れが起こりにくい。また、溶存酸素によりヘマタイト化が進行するので、スケールが剥離しにくい。
また、ヘマタイト化抑制により、スケールの剥離量が低減するので、剥離したスケールが過熱器や再熱器等の細管に溜まり、さらに堆積して管を閉塞することが防止されている。
さらに本発明のボイラプラントは、ボイラプラント系内のボイラ水を還元水化又は活性水素水化してボイラの出口流体に注入することにより蒸気中の溶存酸素を低減しているので、ボイラプラントの外部からヒドラジン等の有害物質を脱酸素剤として導入する必要がなく、このような脱酸素剤に対する環境汚染対策が不要である。
【００１０】
また、本発明にかかるボイラプラントは、過熱器の下流側に、溶存酸素の量を測定する計測器を設け、該計測器で計測された溶存酸素量により前記還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給量を調節することとしてもよい。
【００１１】
このように、過熱器の下流側で、計測器により溶存酸素の量を測定して還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給量を調節するので、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を必要な量だけ供給することができる。このため、例えば還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給が不十分で、ヘマタイトスケールの抑制が不十分となること、あるいは還元水化又は活性水素水化したボイラ水が余分に供給されて余った還元水化又は活性水素水化したボイラ水が悪影響を及ぼすようなことが防止できる。
なお、溶存酸素量の測定は、溶存酸素計あるいは酸化還元電位（ＯＲＰ：Ｏｘｄａｔｉｏｎ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）計で行い、目標としては、水質条件が鉄酸化物としてマグネタイトが安定に存在するＡＶＴ条件である状態（溶存酸素が７ｐｐｂ以下あるいはＯＲＰが例えば２５℃において−０．３Ｖ〜−０．４Ｖ以下）になるように還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入するのが好適である。
また、測定器の設置箇所としては、ヘマタイトスケールの影響が大きい過熱器の出口あるいは過熱器および再熱器の各出口が好適である。場合によっては、計測器は酸素注入前の復水あるいは高圧給水加熱器および低圧給水加熱器のドレンの溶存酸素量を測定するようにしてもよい。
【００１２】
本発明にかかるボイラプラントの蒸気処理装置は、ボイラ水を還元水化又は活性水素水化し、この還元水化又は活性水素水化されたボイラ水を、復水および／または給水に酸素を注入して給水されるボイラの出口流体に注入して、蒸気中の溶存酸素を低減することを特徴とする。
【００１３】
本発明の蒸気処理装置をボイラプラントに用いることにより、溶存酸素量が十分に低減された蒸気をボイラの出口流体に供給することができる。従って、ボイラプラントの過熱器、再熱器およびタービン等の蒸気系において酸素による応力腐食割れを防止できるとともに溶存酸素により、ヘマタイト化が進行しスケールが剥離し易くなることを抑制することができる。
また、ヘマタイト化抑制により、スケールの剥離量が低減するので、剥離したスケールが過熱器や再熱器等の細管に溜まり、さらに堆積して管を閉塞することを防止することができる。また、剥離したスケールがタービンに損傷を与えることを防止できる。
さらに本発明のボイラプラントの蒸気処理装置は、ボイラプラント系内のボイラ水を還元水化又は活性水素水化してボイラの出口流体に注入することにより蒸気中の溶存酸素を低減するものなので、ボイラプラントの外部からヒドラジン等の有害物質を脱酸素剤として導入する必要がなくなり、このような脱酸素剤に対する環境汚染対策が不要となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明にかかるボイラプラントの蒸気処理方法、ボイラプラントおよびボイラプラントの蒸気処理装置によれば、過熱器等の蒸気系において酸素による応力腐食割れを防止できるとともに剥離し易いヘマタイトスケールの生成を低減することができるので、剥離したヘマタイトスケールが過熱器や再熱器等の細管に溜まり、さらに堆積して管を閉塞し、これら閉塞された細管が過熱されて、ついには噴破事故につながることを防止できる。また、本発明にかかるボイラプラントの蒸気処理方法、ボイラプラントおよびボイラプラントの蒸気処理装置によれば、ボイラプラントの外部からヒドラジン等の有害物質を脱酸素剤として導入する必要がなく、このような脱酸素剤に対する環境汚染対策が不要となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明にかかる実施形態について、図面を参照して説明する。
以下、本発明の実施形態にかかる火力発電用のボイラプラント１について、図１および図２を用いて説明する。
図１は、ボイラプラント１の全体概略構成を示すブロック図である。
ボイラプラント１には、蒸気系３と給水系５とが備えられている。
【００１６】
蒸気系３には、火炉水壁管７で生成された飽和蒸気を蒸気と水とに分離する汽水分離器９と、飽和蒸気を過熱して過熱蒸気とする過熱器１１と、過熱蒸気の熱エネルギーを回転動力に変換する高圧タービン１３と、高圧タービン１３の排気を再び過熱する再熱器１５と、再熱器１５からの過熱蒸気の熱エネルギーを回転動力に変換する中圧タービン１７と、中圧タービン１７の排気の熱エネルギーを回転動力に変換する低圧タービン１９とが備えられている。
これら汽水分離器９、過熱器１１、高圧タービン１３、再熱器１５、中圧タービン１７および低圧タービン１９は蒸気配管１０により接続されている。
【００１７】
給水系５には、低圧タービン１９の排気を冷却して復水する復水器２１と、復水器２１の復水を抽出する復水ポンプ２３と、復水中のイオンを除去する復水脱塩装置２５と、グランド蒸気復水器２７と、復水を必要な圧力まで昇圧する復水昇圧ポンプ２９と、低圧タービン１９からの抽気で給水を加熱する低圧給水加熱装置３１と、中圧タービン１７から抽気された蒸気によって給水を直接加熱し、給水中の溶存ガスを物理的に分離除去する脱気器３３と、給水の圧力を上げ下流側に押し込む給水ポンプ３５と、蒸気系３からの抽気により給水を加熱する高圧給水加熱装置３７と、燃焼排気ガスにより給水を加熱する節炭器３９とが備えられている。
これら復水器２１、復水ポンプ２３、復水脱塩装置２５、グランド蒸気復水器２７、復水昇圧ポンプ２９、低圧給水加熱装置３１、脱気器３３、給水ポンプ３５、高圧給水加熱装置３７および節炭器３９は給水配管２０により接続されている。
【００１８】
復水器２１には、メイクアップ水タンク４１からメイクアップ水ポンプ４３により給水されるように構成されている。
低圧給水加熱装置３１は、４個の熱交換器が直列に接続されて構成されている。各熱交換器には、それぞれ低圧タービン１９で抽気された蒸気が供給されており、この蒸気の熱量により給水配管２０で送られる給水を加熱するものである。そして、低圧給水加熱装置３１に供給された蒸気のドレンは、低圧給水加熱装置３１の途中で給水配管２０に供給され、給水の一部を構成する。
【００１９】
脱気器３３は、中圧タービン１７の車室から抽気された蒸気が貯留された水に直接供給されて貯留された水を加温するものである。このように、水を加温することにより、水に含まれる溶存ガスを分離除去するものである。
高圧給水加熱装置３７は、それぞれ３個の熱交換器が直列に接続されたものが、２組並列に配列されて構成されている。直列に接続された熱交換器には、上流側からそれぞれ、中圧タービン１７の車室から抽気された蒸気、再熱器１５から抽気された蒸気および高圧タービン１３の車室から抽気された蒸気が熱源として供給されている。これらの蒸気は、給水配管２０で送られる給水を加熱し、熱量を失いドレンとなる。このドレンは脱気器３３に供給され給水の一部を構成する。
【００２０】
給水配管２０には、グランド蒸気復水器２７の下流側に位置する位置Ａおよび脱気器３３と給水ポンプ３５との間の位置Ｂにおいて、ヘマタイトスケールによる保護膜を形成するために酸素が注入されるように構成されている。
給水配管２０には、節炭器３９出口部に位置する位置Ｄにて分岐されたスプレイライン（給水ライン）４９が設けられている。スプレイライン４９の他端は、過熱器１１の上流側に位置する位置Ｆにて蒸気配管１０に接続されている。このスプレイライン４９の他端には、図示しないスプレイが設けられており、節炭器３９を通過した水を過熱蒸気に霧吹き状態で噴射するように構成されている。スプレイからの給水量を調整することにより、過熱器１１へ供給される過熱蒸気の温度が調整されるものである。
【００２１】
汽水分離器９で分離された水はドレンタンク４５に送られる。ドレンタンク４５において、残留した蒸気は上部から蒸気配管１０側へ供給され、水は下部から循環ポンプ４７により給水配管２０の位置Ｃに供給される。
汽水分離器９への流入部である蒸気配管１０の位置Ｅには、蒸気配管１０に還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入する第一の還元水化又は活性水素水化したボイラ水の注入ライン（以下、「第一注入ライン」と略称する）５１が接続されている。
また、再熱器１５の上流側である蒸気配管１０の位置Ｈには、蒸気配管１０に還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入する第二の還元水化又は活性水素水化したボイラ水の注入ライン（以下、「第二注入ライン」と略称する）５３が接続されている。
【００２２】
過熱器１１の下流側である蒸気配管１０の位置Ｇには、位置Ｇでの過熱蒸気の酸化還元電位を計測する第一酸化還元電位計５５が設けられている。
また、再熱器１５の下流側である蒸気配管１０の位置Ｉには、位置Ｉでの過熱蒸気の酸化還元電位を計測する第二酸化還元電位計５７が設けられている。
なお、本実施例では、過熱蒸気中の溶存酸素量の計測に酸化還元電位計を採用しているが、これは溶存酸素計であってもよい。
【００２３】
第一注入ライン５１について、図２により説明する。なお、図２では還元水化又は活性水素水化したボイラ水を汽水分離器９で注入する例を挙げているが、還元水化又は活性水素水化したボイラ水の注入点は、ボイラの蒸気系統であればどこでも良い。
汽水分離器９は、中空の略円柱形状をしている。上端部に過熱器１１へ接続される蒸気配管１０が接続されている。下端部には、ドレンタンク４５へ接続される配管が設けられている。火炉水壁管７からの蒸気配管１０は二つに分岐され、それぞれ汽水分離器９の上部外周に、その流入部１２が円形横断面の接線方向に沿うように取り付けられている。
【００２４】
第一注入ライン５１には、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を貯蔵するタンク６１と、タンク６１から還元水化又は活性水素水化したボイラ水を供給するポンプ６３と、還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給量を調節する流量調節弁６５と、が設けられている。タンク６１に貯蔵される還元水化又は活性水素水化したボイラ水は、ボイラプラント１の任意の位置から導出されたボイラ水を還元水化又は活性水素水化することにより得られる。ボイラ水の導出位置は、例えば脱水器３９と酸素を注入する位置との間の位置Ｌとすることができる。導出されたボイラ水は、図示しない電気分解装置による電気分解によって還元水化されたり、図示しない水素ガス等添加装置による水素ガス等の添加によって活性水素水化されたりすることにより、酸素分圧が低減される。低減された酸素分圧は、例えば４．８×１０−１１ａｔｍ以下となる。
流量調節弁６５は、第一酸化還元電位計５５の測定結果に基づいて図示しない制御装置により駆動されるように構成されている。
なお、第二注入ライン５３は、第一注入ライン５１と同様な構成となっており、第二酸化還元電位計５７の測定結果に基づいて還元水化又は活性水素水化したボイラ水の注入量が調節されるように構成されている。
また、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を注入する位置は、ボイラの蒸気系統であれば本実施形態の例に限定されない。例えば、スプレイライン４９の蒸気配管１０側（図１の位置Ｊ）や、蒸気配管１０における過熱器１１の上流側位置（図１の位置Ｋ）に、還元水化又は活性水素水化したボイラ水の注入ラインを接続しても良い。
【００２５】
以上、説明した本実施形態にかかるボイラプラント１の動作について説明する。
復水器２１からの復水は、復水脱塩装置２５により陽イオンおよび陰イオンが除去された後、復水昇圧ポンプ２９により昇圧されて給水される。そして、この復水は低圧給水加熱器３１において低圧タービン１９の抽気により加熱されて脱気器３３に供給される。
この時、位置Ａにおいて、適量の酸素が添加されるので、位置Ａの下流側では、この酸素によりヘマタイトスケールが形成され、給水配管２０を腐食から保護することができる。
【００２６】
脱気器３３では、復水は中圧タービン１７の車室からの抽気で加熱され、溶存ガスが除去される。そのため、脱気器３３の出口部である位置Ｂにおいて、水に適量の酸素が添加されるので、給水中には適量の酸素が溶存することになる。
そして、水は給水ポンプ３５により圧力を上げて高圧給水加熱器３７に供給される。給水は、高圧給水加熱装置３７にて蒸気系３で抽気された蒸気により加熱され、次いで節炭器３９でさらに過熱されて火炉水壁管７へ給水される。
位置Ｂにて添加された適当量の酸素により、位置Ｂの下流側ではヘマタイトスケールが形成され、給水配管２０を腐食から保護することができる。
【００２７】
火炉水壁管７で生成された飽和蒸気は、蒸気配管１０により汽水分離器９に搬送される。汽水分離器９では、飽和蒸気が蒸気配管１０の流入部１２から円形横断面の接線方向に向かって流入する。この流入により汽水分離器９内部に旋回流が生じる。この旋回流により水等の比重が大きいものが中心に集まりその重量により下方に落下し、一方比重の軽い蒸気は外周面に集まり上端部に接続された蒸気配管１０を通って過熱器１１に送られる。
【００２８】
汽水分離器９からの蒸気は、過熱器１１で過熱されて過熱蒸気とされる。この過熱蒸気は高圧タービン１３に供給され、その熱エネルギーが回転動力に変換される。高圧タービン１３の排気は、再熱器１５で再び過熱され中圧タービン１７および低圧タービン１９へ供給される。中圧タービン１７および低圧タービン１９では、過熱蒸気の熱エネルギーは回転動力に変換される。
高圧タービン１３、中圧タービン１７および低圧タービン１９において変換された回転動力は、発電機の回転動力や、その他補機関係の動力として利用される。
【００２９】
この時、汽水分離器９の流入部１２へ、還元水化又は活性水素水化したボイラ水が第一供給ライン５１から供給されているので、還元水化又は活性水素水化したボイラ水は蒸気とともに汽水分離器９に流入される。
供給される還元水化又は活性水素水化したボイラ水の量は、第一酸化還元電位計５５の計測値と目標値との偏差に応じて増減される。目標値としては、例えば２５℃において−０．３〜−０．４Ｖ以下である。これは、溶存酸素量としては、７ｐｐｂ以下に相当する大きさである。
【００３０】
蒸気とともに流入した所要量の還元水化又は活性水素水化したボイラ水は、汽水分離器９内部に生じた旋回流に乗り蒸気と相互に衝突を繰り返しながら高速で移動するので、蒸気とよく混合される。
このように、還元水化又は活性水素水化したボイラ水は蒸気とよく混合されるので、蒸気に含まれる溶存酸素と十分に反応することができる。このため、蒸気中の溶存酸素を効率的に、かつ効果的に低減することができる。
【００３１】
このように、過熱器１１以降へ送られる蒸気の溶存酸素量は十分に低減できるので、過熱器１１以降の蒸気系３構成機器における酸素による応力腐食割れ等の局所腐食を防止できる。これは、特に過大な応力がかかる高圧タービン１３、中圧タービン１７および低圧タービン１９で著しい効果が得られる。
また、過熱器１１以降へ送られる蒸気の溶存酸素量は相当少ないので、スケールのヘマタイト化を抑制することができる。
スケールのヘマタイト化が抑制されるので、スケールが剥離する量は低減できる。このため、剥離したスケールが過熱器や再熱器等の細管に溜まり、さらに堆積して管を閉塞することを防止できる。これにより、例えば、これら閉塞された細管が過熱されて、ついには噴破事故につながることを防止できる。また、剥離したスケールがタービンに損傷を与えることを防止できる。
【００３２】
また、第一注入ライン５１から供給する還元水化又は活性水素水化したボイラ水の量は、過熱器１１の出口である位置Ｇで計測された溶存酸素量が目標値になるように制御されているので、過熱器１１での溶存酸素量をすばやく制御できる。このため、過熱器１１の保護が遅れることなく十分に行うことができる。
【００３３】
そして、蒸気配管１０の位置Ｈで、第二注入ライン５３が蒸気配管１０内に還元水化又は活性水素水化したボイラ水を供給しているので、再熱器１５へ流入される過熱蒸気の溶存酸素量はより低減される。
この時、第二注入ライン５３から供給される還元水化又は活性水素水化したボイラ水の量は、第二酸化還元電位計５７の計測値と目標値との偏差に応じて増減される。この目標値は、第一注入ライン５１の目標値と同じでもよいし、より小さくしてもよい。
このように、再熱器１５へ流入される過熱蒸気の溶存酸素量をより低減させると、再熱器１５におけるスケールのヘマタイト化が抑制されることになるので、再熱器１５でのスケール剥離による不具合を防止できる。
【００３４】
また、スケールのヘマタイト化は過熱器管や再熱器管が新品の場合に、稼動中のものに比べて発生し易いが、第二注入ライン５３を設けているので、例えば再熱器１５を交換した場合でも再熱器１５を十分保護することができる。
【００３５】
第一注入ライン５１および第二注入ライン５３における還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給量は、それぞれ近接した下流側に設けられた第一酸化還元電位計５５および第二酸化還元電位計５７で計測された溶存酸素量により調節しているので、還元水化又は活性水素水化したボイラ水を必要な量だけ供給することができる。このため、例えば還元水化又は活性水素水化したボイラ水の供給が不十分で、スケールのヘマタイト化の抑制が不十分となること、あるいは余分に供給されて余った還元水化又は活性水素水化したボイラ水が悪影響を及ぼすようなことが防止できる。
【００３６】
なお、本実施形態では、溶存酸素量の測定箇所としては、過熱器１１および再熱器１５の各出口としているが、これに限定されることはなく、例えば、酸素注入前の復水あるいは高圧給水加熱器および低圧給水加熱器のドレンの溶存酸素量を測定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態にかかるボイラプラントの全体構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態の汽水分離器を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１  ボイラプラント
９  汽水分離器
１０  蒸気配管
１１  過熱器
１５  再熱器
３９  節炭器
４９  スプレイライン
５１  第一注入ライン
５３  第二注入ライン
５５  第一酸化還元電位計
５７  第二酸化還元電位計
【図１】
2007064501.tif 000003
【図２】
2007064501.tif 000004