(57)【要約】【課題】オーバーコート層中における水分を可能な限り低減し、残留ガスや水分の拡散を阻害し、製造歩留りが高く、長期の駆動でも安定に動作し、表示欠陥が生じない信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを提供する。【解決手段】透明な支持基板(13)上に、色変換フィルタ層(11,12)と、オーバーコート層(14)と、無機パッシベーション層(16)と、有機ＥＬ積層体(17,18,19)とを順次配設する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、上記オーバーコート層の形成後に、１５０〜２００℃にて真空下で水分を除去するための加熱工程を設け、該加熱工程と上記無機パッシベーション層の形成工程が大気中に晒されることなく、真空下又は不活性雰囲気下で行われることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。【選択図】図１
2007234310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な支持基板上に、色変換フィルタ層と、オーバーコート層と、無機パッシベーション層と、有機ＥＬ積層体とを順次配設する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、上記オーバーコート層の形成後に、１５０〜２００℃にて真空下で水分を除去するための加熱工程を設け、該加熱工程と上記無機パッシベーション層の形成工程が大気中に晒されることなく、真空下又は不活性雰囲気下で行われることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項２】
上記真空下又は不活性雰囲気下が、１ｐｐｍ以下の水分を含む真空下又は不活性雰囲気下である請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項３】
透明な支持基板と、該支持基板上に、色変換フィルタ層と、オーバーコート層と、無機パッシベーション層と、有機ＥＬ積層体とをこの順序で配設してなる有機ＥＬディスプレイであって、上記オーバーコート層の含水量が１ｐｐｍ以下である有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、色変換フィルタを用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術の色変換フィルタを用いた有機ＥＬディスプレイのオーバーコート層の構成を図４を用いて説明する。有機ＥＬディスプレイは、透明な支持基板１０３上に蛍光体層を有する色変換フィルタ層（１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂ）と、オーバーコート層１０４と、無機パッシベーション層１０６と、有機ＥＬ積層体とを順次配設する。図４は、有機ＥＬ積層体として、透明電極（陽極）１０７と有機発光層１０８と電極（陰極）１０９を示す。
色変換フィルタ（１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂ）を用いた有機ＥＬディスプレイでは、色変換フィルタ層に用いる蛍光色素の濃度を高くすると濃度消光を起こすため、厚さが１０〜１５μｍ必要である。そのため各色の色変換フィルタ層の間を埋めて平坦化するためのオーバーコート層１０４が必要である。
【０００３】
従来のオーバーコート層１０４の材料例として、アクリレート系、メタクリレート系、ポリイミド系の反応性ビニル基を有する光硬化型有機高分子樹脂や熱硬化型有機高分子樹脂が用いる構成が開示されている（特許文献１〜２）。
また、オーバーコート層にストレートシリコーン樹脂や変性シリコーン樹脂を用いオーバーコート層２４自体をハードコート層として機械的信頼性や耐熱性を向上させる改良がなされている（特許文献３〜４）。
一方、パッシベーション層を形成する際に、オーバーコート層からの脱ガスの発生により、パッシベーション層の密着性が低下する問題も明らかになっており、特許文献５には無機物層（パッシベーション層）を真空中で行なうことが開示され、特許文献６には保護膜（平坦化層）形成の工程までを真空中で行なうことが開示されている。
【特許文献１】特開平１−２２９２０３号公報
【特許文献２】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献３】特開２０００−１８２７８０号公報
【特許文献４】特開２０００−９１０７０号公報
【特許文献５】特開２００３−２２９２７１号公報
【特許文献６】特開２０００−３０６６６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
色変換フィルタ層は分散させるマトリクス材料と色素分子の耐熱性が低く、熱により色変換特性が低下するため、ベーク温度を２００℃以下にする必要がある。そのため２００℃を越える高温で、硬化するようなポリイミドをはじめとする高温硬化樹脂の使用は問題がある。また、アクリル系有機高分子樹脂では、もともと有機溶剤を含んだモノマーをフォトプロセスにより薄膜化し、露光、現像してベークする工程と経るため、２００℃以下のベークでは膜の中に有機溶剤ガスや水分が残留する。この残留ガスや水分が有機発光層に拡散するとアモルファス状の構成膜に結晶化が起こり、非発光部分が生じ劣化や表示欠陥の原因になるため、従来はオーバーコート層の上にパッシベーション層を形成し、残留ガスや水分の拡散を遮断している。
【０００５】
パッシベーション層は、シリコン酸化物や酸窒化物をスパッタや低温ＣＶＤ法により薄膜化して形成するため残留ガスや水分に対するバリア性が高い。ところが、オーバーコート層上のパーティクルや形状不良によって、上記パッシベーション層のガスバリア性が低下し、上部に形成する有機発光層中にオーバーコート層の水分の拡散が進行し、表示不良などの不具合発生するという問題がある。また、上述したように、パッシベーション層を形成する際に、オーバーコート層からの脱ガスの発生により、パッシベーション層の密着性が低下する問題も明らかになっており、特許文献５には無機物層（パッシベーション層）を真空中で行ない、特許文献６には保護膜（平坦化層）形成の工程までを真空中で行なうことが開示されている。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、オーバーコート層中における水分を可能な限り低減し、残留ガスや水分の拡散を阻害し、製造歩留りが高く、長期の駆動でも安定に動作し、表示欠陥が生じない信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明よれば、透明な支持基板上に、色変換フィルタ層と、無機パッシベーション層と、有機ＥＬ積層体を順次配設する有機ＥＬディスプレイの製造方法に関し、該オーバーコート層から真空中における加熱乾燥によって水分を低減し、その後、無機パッシベーション層を形成するまで大気中に晒すことなく、好ましくは不活性雰囲気で取り扱われることにより、効果的に残留ガスや水分の拡散を阻害することが可能となる。
具体的には、本発明は、透明な支持基板上に、色変換フィルタ層と、オーバーコート層と、無機パッシベーション層と、有機ＥＬ積層体とを順次配設する有機ＥＬディスプレイの製造方法であって、上記オーバーコート層の形成後に、１５０〜２００℃にて真空下で水分を除去するための加熱工程を設け、該加熱工程と上記無機パッシベーション層の形成工程が大気中に晒されることなく、真空下又は不活性雰囲気下で行われることを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、色変換フィルタ層のオーバーコート層（平坦化層）として有機高分子層を用い、オーバーコート層から無機パッシベーション層を形成するまで大気中に晒されることなく、不活性雰囲気もしくは真空中で取り扱われた基板に、有機ＥＬ素子を形成することにより、表示欠陥がなく、長期安定した駆動ができる信頼性の高い有機ＥＬディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の有機ＥＬディスプレイの構造を図１を参照して説明する。
有機ＥＬディスプレイは、透明な支持基板１３上に蛍光体層を有する色変換フィルタ層（１１Ｒ、１１Ｇ、１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂ）と、オーバーコート層１４と、無機パッシベーション層１６と、有機ＥＬ積層体とを順次配設する。図１は、有機ＥＬ積層体として、透明電極（陽極）１７と有機発光層１８と電極（陰極）１９を示す。以下、各構成要素について説明する。
【００１０】
［構成要素］
（１）色変換フィルタ層（１１Ｒ，１１Ｇ，１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ）と基板１３は、色変換フィルタ層によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、基板１３は、色変換フィルタ層、ブラックマスク、オーバーコート層及び隔壁層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい、基板１３は、波長４００〜８００ｍｍの光に対して５０％以上の透過率を有することが難しい。
基板１３の材料として好ましいものは、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラス又は青板ガラス等が特に好ましいものである。
【００１１】
本明細書において、色変換フィルタ層は、カラーフィルタ層と蛍光変換層の積層体、カラーフィルタ層単独、及び蛍光変換層単独の態様を含む。図１では、カラーフィルタ層と蛍光変換層の積層体（１２Ｒと１１Ｒ、１２Ｇと１１Ｇ）、カラーフィルタ層単独（１２Ｂ）を示す。蛍光変換層は、有機ＥＬ層１８にて発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。フルカラー表示を可能にするためには、少なくとも青色（Ｂ）領域、緑色（Ｇ）領域及び赤色（Ｒ）領域の光を放出する独立した色変換フィルタ層が設けられる、ＲＧＢそれぞれの蛍光変換層は、少なくとも有機蛍光色素とマトリクス樹脂とを含む。
【００１２】
（ａ）有機蛍光色素
本発明において、好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせてもよい。これは、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機ＥＬ層１８を用いる場合、有機ＥＬ層１８からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまうからである。
【００１３】
したがって、有機ＥＬ層１８からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。
発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（Ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００１４】
発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２’−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ、４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００１５】
さらに、青色領域の光に関しては、有機ＥＬ層１８からの発光を単なる青色フィルタ１２Ｂに通して出力させることが可能である。
【００１６】
なお、本発明に用いる有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂及びこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、これらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料（本明細書中で、前記２つを合わせて有機蛍光色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１７】
本発明の蛍光変換層は、該蛍光変換層の重量を基準として０．０１〜５質量％、より好ましくは０．１〜２質量％の有機蛍光色素を含有する。前記含有量範囲の有機蛍光色素を用いることにより、濃度消光などの硬化による色変換効率を伴うことなしに、充分な波長変換を行うことが可能となる。
また、本発明は蛍光変換層を具備しないカラーフィルタ層のみを適用した場合にも適用可能なことは言うまでもない。
【００１８】
（ｂ）マトリクス樹脂
次に、本発明の蛍光変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を光及び／又は熱処理して、ラジカル種又はイオン種を発生させて重合又は架橋させ、不溶不融化させたものである。また、蛍光変換層のパターニングを行うために、該光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒又はアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００１９】
具体的には、マトリクス樹脂は、（１）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマー及びオリゴマーと、光又は熱重合開始剤とからなる組成物膜を光又は熱処理して、光ラジカル又は熱ラジカルを発生させて重合させたもの、（２）ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光又は熱処理により二量化させて架橋したもの、（３）鎖状又は環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光又は熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、及び（４）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光又は熱処理により、酸（カチオン）を発生させて重合させたものなどを含む。特に、（１）のアクリル系多官能モノマー及びオリゴマーと光又は熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、及び重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。
【００２０】
本発明で用いることができる光重合開始剤、増感剤及び酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の蛍光変換層において、光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光又は熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤及び熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
【００２１】
マトリクス樹脂（蛍光変換層）は、光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂、有機蛍光色素及び添加剤を含有する溶液又は分散液を、支持基板上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性又は光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う、該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解又は分散させる有機溶媒又はアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。
【００２２】
（ｃ）構成及び形状
赤色に関しては、蛍光変換層１１Ｒのみから形成されてもよい。しかし、蛍光色素による変換のみでは十分な色純度が得られない場合は、図１に示されるように蛍光変換層１１Ｒとカラーフィルタ層１２Ｒとの積層体としてもよい。カラーフィルタ層１２Ｒを併用する場合、カラーフィルタ層１２Ｒの厚さは１〜１．５μｍであることが好ましい。
また、緑色に関しては、蛍光変換層１１Ｇのみから形成されてもよい。しかし、蛍光色素による変換のみでは十分な色純度が得られない場合は、図１に示されるように蛍光変換層１１Ｇとカラーフィルタ層１２Ｇとの積層体としてもよい。カラーフィルタ層１２Ｇを併用する場合、カラーフィルタ層１２Ｇの厚さは１〜１．５μｍであることが好ましい。あるいはまた、有機ＥＬ層１８の発光が緑色領域の光を充分に含む場合には、カラーフィルタ層１２Ｇのみとしてもよい。カラーフィルタ層１２Ｇのみを用いる場合、その厚さは０．５〜１０μｍであることが好ましい。
一方、青色に関しては、図１に示されるようにカラーフィルタ層１２Ｂのみとすることができる。カラーフィルタ層１２Ｂのみを用いる場合、その厚さは０．５〜１０μｍであることが好ましい。
色変換フィルタ層の形状は、よく知られているように各色ごとに分離したストライプパターンとしてもよいし、各画素のサブピクセルごとに分離させた構造を有してもよい。
【００２３】
（２）オーバーコート層（平坦化層とも呼ばれる）１４
オーバーコート層には以下のような機能が要求される。
（１）蛍光体層のパターン侵食や機能性の失活を起こさないこと、（２）蛍光体層の段差を埋めることができ、視野角特性を良好に保つできるだけ薄い膜厚（数μｍ程度）の製膜が可能なこと、（３）光透過性がよいこと、（４）耐熱性があること、（５）表面が平滑であること、（６）基板やパッシベーション層との密着性が良好であること、（７）耐薬品性に優れていること、（８）防湿性に優れていること、（９）残留モノマーや溶剤などの脱ガスがないこと、（１０）機械的強度を備えていること、等が挙げられる。
【００２４】
オーバーコート層１４としては、可視域における透明性が高く（４００〜７００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、Ｔｇが１００℃以上で、表面硬度が鉛筆硬度で２Ｈ以上あり、色変換フィルタ上にμｍオーダーで塗膜を形成でき、色変換フィルタ２〜４の機能を低下させないものであれば良く、例えば、イミド変性シリコーン樹脂（特開平５−１３４１１２号公報、特開平７−２１８７１７号公報、特開平７−３０６３１１号公報等）、紫外線硬化型樹脂としてエポキシ変性アクリレートル樹脂（特開平７−４８４２４号公報）、アクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂（特開平６−３００９１０号公報、特開平７−１２８５１９号公報、特開平８−２７９３９４号公報、特開平９−３３０７９３号公報等）、フッ素系樹脂（特開平５−３６４７５号公報、特開平９−３３０７９３号公報等）等の光硬化型樹脂及び／又は熱硬化型樹脂が挙げられる。
【００２５】
オーバーコート層の厚さは、特に限定されないが、好ましくは１０〜３０μｍ、より好ましくは２０μｍ程度である。
【００２６】
オーバーコート層１４形成法は、特に制約はなく、例えば、乾式法（スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法等）と湿式法（スピンコート法、ロールコート法、キャスト法等）等の慣用の手法により形成できる。また、該平坦化層１４は単層、あるいは積層させてもよい。
ただし、封止部及び／又は接続部には、前記平坦化層１４を形成せず、また、平坦化層１４端部において、該平坦化層１４と該基板１３の成す角度を鋭角とするためには、感光性の材料を用いた膜を慣用の手法により、基板全面に形成し、その後にフォトリソグラフ法にて必要な形状を形成することが、最も簡便かつ精度の良好な方法であるため、好ましい。
【００２７】
オーバーコート層のフォトリソ工程終了後、図２に示すような本発明に係る製造装置を用いて、不活性雰囲気中に設置した真空乾燥機を用いて、好ましくは１５０〜２００℃においてオーバーコート層中の水分を除去する。この場合の真空度は１０-3〜１０-7ｐａ程度であればよい。このときの真空乾燥機内の水分量は、四重極質量分析装置（Ｑ−Ｍａｓｓ）によって把握することができる。本発明によれば、好ましくは炉内の水分分圧が１０-5〜１０-7ｐａ程度まで水分量を低減することが有効である。この工程を経ることによって、オーバーコート層以下の水分は減少し、さらにパッシベーション層を上部に形成することによって、大気中及びこれ以降のプロセスにおいても、オーバーコート層以前への水分の拡散を防止することが可能となる。オーバーコート層の含水量は、１ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
加熱工程とパッシベーション層形成工程を、好ましくは１ｐｐｍ以下の水分を含む真空下又は不活性雰囲気下で行う。これにより、有機発光層へのパッシベーション層を通した水分の拡散を低減できる。積極的な水分の加熱除去工程を伴わない、従来の真空下でのオーバーコート層とパッシベーション層の作成では、オーバーコート層の含水量は１００ｐｐｍ程度であり、本願発明の効果は得られない。
【００２８】
図２の装置は真空ポンプ２１と真空乾燥機２２を備えたグローブボックス２３を有し、オーバーコート層を形成した基板２４がグローブボックス２３に導入される。真空乾燥機にて加熱、脱水処理された基板が、大気に晒されることなく、グローブボックス内のスパッタ装置ロードロック（Ｌ／Ｌ）室２６を介してスパッタ室２５に導入され、パッシベーション層が形成される。
別の態様として、図３の装置は、パッシベーション層を形成するスパッタ室３５と、加熱ヒータ３７を備えたスパッタ装置ロードロック（Ｌ／Ｌ）室３６とを備える。この装置では、スパッタ装置Ｌ／Ｌ室中で基板３４を真空加熱することによって基板の加熱、脱水処理を行うので、基板の入替え、グローブボックス等の設置の必要がなく、工程が簡素される。
【００２９】
（４）パッシベーション層１６
以上のように形成されるオーバーコート層以下の各層を覆ってパッシベーション層１６が設けられる。真空乾燥が終了した該基板は、パッシベーション層１６を形成するまで、不活性雰囲気中で取り扱われる。この場合、装置的に分離されている場合は、不活性雰囲気を充填した搬送容器を使用することも可能である。パッシベーション層１６は、オーバーコート層１４以下の各層からの水分、ガスの透過を防止し、それらによる有機ＥＬ層１８の機能低下を防止することに有効である。パッシベーション層１６は、有機ＥＬ層１８の発光を色変換フィルタ層へと透過させるために、その発光波長域において透明であることが好ましい。
【００３０】
これらの要請を満たすために、パッシベーション層１６は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、電気絶縁性を有し、水分、酸素及び低分子成分に対するバリア性を有し、好ましくは２Ｈ以上の膜硬度を有する材料で形成される。例えば、ＳｉＯｘ，ＳｉＮｘ，ＳｉＮｘＯｙ，ＡｌＯｘ，ＴｉＯｘ，ＴａＯｘ，ＺｎＯｘ（式中、ｘは、０．８〜４を表し、ｙは０．１〜４を表す。）等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。該パッシベーション層の形成方法としては特に制約はなく、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法、ゾルーゲル法等の慣用の手法により形成できる。
【００３１】
パッシベーション層の厚さは、特に限定されないが、好ましくは２００〜４００ｎｍ、より好ましくは３００ｎｍ程度である。
【００３２】
（５）有機ＥＬ積層体（陽極１７と有機ＥＬ層１８と陰極１９を含む）
陽極１７は、正孔の注入を効率よく行うために、仕事関数が大きい材料が用いられる。特に通常の有機ＥＬ素子では、陽極を通して光が放出されるために陽極が透明であることが要求され、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の導電性金属酸化物が用いられる。
陰極１９には、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、又はこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物が用いられる。前述と同様に、その下に反射率の高いメタル電極（Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗなど）を用いてもよく、その場合には低抵抗化及び反射による有機ＥＬ層１８の発光の有効利用を図ることができる。
【００３３】
本発明の色変換方式の有機ＥＬディスプレイにおいては、有機ＥＬ層１８から発せられる近紫外から可視領域の光、好ましくは青色から青緑色領域の光を色変換フィルタ層に入射させて、所望される色を有する可視光を放出する。
有機ＥＬ層１８は、少なくとも有機ＥＬ発光層を含み、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、及び／又は電子注入層を介在させた構造を有する。具体的には、下記のような層構成からなるものが採用される。
（ａ）有機ＥＬ発光層
（ｂ）正孔注入層／有機ＥＬ発光層
（ｃ）有機ＥＬ発光層／電子注入層
（ｄ）正孔注入層／有機ＥＬ発光層／電子注入層
（ｅ）正孔注入層／正孔輸送層／有機ＥＬ発光層／電子注入層
（上記において、陽極は有機ＥＬ発光層又は正孔注入層に接続され、陰極は有機ＥＬ発光層又は電子注入層に接続される）
【００３４】
上記各層の材料としては、公知のものが使用される。青色から青緑色の発光を得るためには、有機ＥＬ発光層中に、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。
【００３５】
有機積層体の各層の厚さは、特に限定されず、通常のものを用いることができ、例えば１０〜２００ｎｍである。
【実施例】
【００３６】
実施例１
ガラス基板上に、それぞれの厚さが１．５μｍである赤色、緑色及び青色のカラーフィルタ層、及びそれぞれの厚さが１０μｍである赤色及び緑色の蛍光変換層を積層した。さらに、色変換層を平坦化するために平坦化層１４としてオプトマーＮＮ８１０（ＪＳＲ製）をスピンコートで厚さ４μｍ塗布し、フォトリソグラフィで外部封止層内に収まる大きさに形成した。各カラーフィルタ層及び蛍光変換層は、１００×３００μｍの寸法とした。平坦化層形成後、図３に示すような不活性雰囲気内に設置された真空乾燥機中で２００℃、１時間の加熱工程を行なった。その後、加熱工程が終了した基板を、不活性雰囲気をへて、パッシベーション層を形成するためのスパッタ装置のロードロック室に格納した。マグネトロンスパタ法でＳｉＯｘ（ｘは、０．８〜２．０を表す。）を３００ｎｍ形成し、パッシベーション層１６とした。
パッシベーション層１６の上に、陽極（ＩＺＯ）１７を２００ｎｍ形成しフォトリソグラフで１００μｍピッチにパターニングを行い、次いで、前記陽極１７を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０-4Ｐａまで減圧した。正孔注入層は鋼フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を１００ｍｌ積層した。正孔輸送層は４，４’ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ]ビフェニル（α−ＮＰＤ）を２０ｎｍ積層した。有機発光層は４，４’−ビス（２，２’ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を３０ｎｍ積層した。電子注入層はアルミキレート（Ａｌｑ）を２０ｎｍ積層した。
この後、陽極（ＩＴＯ）７のラインと垂直に幅０．３０ｍｍ、空隙０．０３ｍｍギャップのストライプパターンが得られるマスクを用いて、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｑ（１０：１の重量比率）層からなる陰極１９を、真空を破らずに形成した。
こうして得られた有機発光素子をグローブボックス内乾燥窒素雰囲気下において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止した。
【００３７】
比較例１
実施例の構成の中で、平坦化層１４の上にパッシベーション層１６を形成する間で、大気雰囲気下で取り扱い有機ＥＬディスプレイを作製した。
【００３８】
評価
実施例１と比較例１で作製した有機ＥＬディスプレイを、８５℃の雰囲気で５００ｈ、面輝度１００ｃｄ／ｃｍ2で連続駆動したところ、実施例１の有機ＥＬディスプレイには、パッシベーション層のピンホールが原因の全くダークスポットやダークエリアなどの表示欠陥や部分的な剥離現象は現れなかったが、比較例１の有機ＥＬディスプレイでは１ｃｍ2の数個の前記表示欠陥が現れた。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイの構造を示す断面概略図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる製造装置を示す。
【図３】本発明の有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる製造装置を示す。
【図４】従来の有機ＥＬディスプレイの構造を示す断面概略図である。
【符号の説明】
【００４０】
１１Ｒ  色変換フィルタ層（蛍光変換層Ｒ）
１１Ｇ  色変換フィルタ層（蛍光変換層Ｇ）
１２Ｒ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｒ）
１２Ｇ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｒ）
１２Ｂ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｂ）
１３  基板
１４  オーバーコート層
１６  パッシベーション層
１７  陽極
１８  有機ＥＬ層
１９  陰極
２１  真空ポンプ
２２  真空乾燥機
２３  グローブボックス
２４  基板
２５  スパッタ室
２６  スパッタ装置ロードロック室
３４  基板
３５  スパッタ室
３６  スパッタ装置ロードロック室
３７  加熱ヒータ
１０１Ｒ  色変換フィルタ層（蛍光変換層Ｒ）
１０１Ｇ  色変換フィルタ層（蛍光変換層Ｇ）
１０２Ｒ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｒ）
１０２Ｇ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｒ）
１０２Ｂ  色変換フィルタ層（カラーフィルタ層Ｂ）
１０３  基板
１０４  平坦化層（オーバーコート層）
１０６  パッシベーション層
１０７  陽極
１０８  有機ＥＬ層
１０９  陰極
【図１】
2007234310.tif 000003
【図２】
2007234310.tif 000004
【図３】
2007234310.tif 000005
【図４】
2007234310.tif 000006