(57)【要約】【課題】レーザー光の集光作用で遮光層に開口部を形成するにあたり、開口部の大きさを適正化して透過率の向上を図ることができる透過型スクリーンの製造方法を提供する。【解決手段】遮光層１４のレンズ集光領域に開口部１４ＰＳを形成する工程では、レーザー光Ｌのエネルギー密度を調整した後、レンズシート１３に照射されるレーザー光Ｌの光線平行度αを調整する。レンズシートに照射されるレーザー光の光線平行度を調整することで、レンズの光軸に対するレーザー光の入射角を適宜な角度範囲に調整することができる。これにより、遮光層に形成する開口部の大きさを調整できるようになり、スクリーンの透過率の向上を図ることができる。【選択図】図１０
2007047757.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面にレンズが形成されたレンズシートの他方の面に、前記レンズの集光領域が開口している遮光層が設けられた透過型スクリーンの製造方法であって、
前記レンズシートの他方の面に前記遮光層を形成する工程と、
前記レンズシートの一方の面側からレーザー光を照射し、前記遮光層のレンズ集光領域に開口部を形成する工程とを有し、
前記開口部を形成する工程では、前記レーザー光のエネルギー密度を調整した後、前記レンズシートに照射される前記レーザー光の光線平行度を調整する
ことを特徴とする透過型スクリーンの製造方法。
【請求項２】
前記レーザー光のエネルギー密度の調整では、前記レーザー光のビーム形状を整形する
ことを特徴とする請求項１に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項３】
前記レーザー光の光線平行度は、±２．５度以上±１０度以下に調整される
ことを特徴とする請求項１に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項４】
前記レーザー光には、前記レンズに吸収がなく、前記遮光層に吸収がある波長領域のレーザー光を用いる
ことを特徴とする請求項１に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項５】
前記レンズを紫外線硬化型樹脂で形成し、前記レーザー光には可視光から近赤外域の波長を有するレーザーを用いる
ことを特徴とする請求項４に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項６】
前記レーザー光として、パルスレーザーを用いる
ことを特徴とする請求項１に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
一方の面にレンズが形成されたレンズシートの他方の面に、前記レンズの集光領域が開口している遮光層が設けられた透過型スクリーンの製造装置であって、
レーザー光源と、
前記レーザー光源から出射したレーザー光のエネルギー密度を調整する機構と、
前記レンズシートに照射されるレーザー光の光線平行度を調整する平行度調整素子とを備えた
ことを特徴とする透過型スクリーンの製造装置。
【請求項８】
一方の面にレンズが形成されたレンズシートの他方の面に、前記レンズの集光領域が開口している遮光層が設けられた透過型スクリーンであって、
前記遮光層には、前記レンズの集光領域に対応する部位に開口部が形成されており、
前記開口部は、前記レンズに対して光線平行度±２．５度以上±１０度以下で入射したレーザー光によって前記遮光層を開口させてなる
ことを特徴とする透過型スクリーン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一方の面にレンズが形成されたレンズシートの他方の面に、レンズの集光領域が開口している遮光層が設けられた透過型スクリーンの製造方法、その製造装置および透過型スクリーンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶などの光学素子を用いて光源からの透過光を変調した映像や、反射型液晶、「ＧｘＬ（ジーバイエル）」（ソニー（株）の登録商標）などの光学素子を用いて反射・回折光を変調した映像、さらには、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）などの自発光素子により形成された映像を、観察者が視認する画像表示装置が知られている。これらの映像表示装置においては、観察者側に存在する蛍光灯などの外光が画像表示装置の表面で反射し、映像光のコントラストが落ちて画像品位が低下するという問題がある。
【０００３】
映像光のコントラストを向上させるためには、映像光源の強度を上げる手法、もしくは画像表示装置の外光反射を落とす方法があるが、奥行きや質感のある深い色を表現するためには、後者の手法である画像表示装置の外光反射を抑えることが特に重要である。
【０００４】
例えば、近年注目を集めているリアプロジェクションテレビ（背面投射型画像表示装置）においては、光源からの映像光に対して高い透過率を有し、一方では外光の反射率を抑えるために、片側にシリンドリカルレンズあるいはフライアイレンズが形成され他面に外光を吸収する遮光層（ブラックマトリクス）が形成された透過型スクリーンが用いられている（例えば下記特許文献１参照）。
【０００５】
さて、近年における表示画像の高精細化に伴い、透過型スクリーンにおいては、微細ピッチを有するシリンドリカルレンズシートあるいはフライアイレンズシートに遮光層を形成する必要がある。遮光層を位置精度良く形成するために、従来では、例えば図２５に示すように感光性粘着層を用いた光学シートの製造方法が知られている（例えば下記特許文献２参照）。
【０００６】
この方法は、まず、レンズシート１の観察面（平坦面）側に、支持基材２上に形成された感光性粘着層３を貼り合わせる（図２５Ａ）。粘着層３には、感光することで粘着性が消失するポジ型粘着剤が用いられる。次いで、レンズシート１のレンズ面側から紫外線等の感光源で粘着層３を露光する（図２５Ｂ）。これにより、粘着層３の集光部３ａが感光し粘着性が失われる。続いて、支持基材２を剥離した後、支持基材４に支持された黒色層（遮光層）５を貼り合わせる（図２５Ｃ）。そして、支持基材４を剥離して粘着層３の非集光部３ｂの粘着力を利用して黒色層５を付着残留させる（図２５Ｄ）。以上のようにして、レンズシート１の観察面に所定形状の遮光パターン５Ｐが形成される。
【０００７】
しかしながら、上述した光学シートの製造方法においては、露光量が不足すると粘着剤の粘着性が完全に消失せず黒色層５が場所によっては残ってしまい、逆に、露光量を過剰にすると集光部の周辺まで硬化して粘着性が消失してしまい、遮光すべき部位に黒色層５が付着残留しないという問題が発生する。したがって、遮光層に微細な開口部を高精度に形成するためには、露光量の高度な最適化が必要とされるが、それには高価な露光設備が必要となる。
【０００８】
また、感光性粘着層の粘着力や遮光層の塗膜強度のバラツキが遮光パターンの開口サイズに影響を与えるため、大面積にわたり均一な（ムラのない）遮光パターンを安定して形成することは非常に困難である。さらに、感光性粘着剤は比較的高価であり、材料特性が安定せず、取り扱い性も悪いため、生産性の向上と生産コストの低減を図れない。
【０００９】
一方、下記特許文献３には、レンズシートのレンズ面に垂直にレーザー光を照射し、レンズの集光作用で遮光層に開口部を形成する技術が開示されている。この方法によれば、感光性粘着層を必要とすることなく、遮光層に開口部を選択的に形成することが可能となる。
【００１０】
【特許文献１】特開平１０−２９３３６２号公報
【特許文献２】特開平９−１２０１０２公報
【特許文献３】特開２００４−１９１４２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、レーザー光で遮光層に開口部を形成する従来の方法においては、レーザー光の平行度が高いために、レンズによる集光スポットが小さくなり過ぎるという問題がある。このため、作製されたレンズシートを透過型スクリーンとして用いる場合、開口部の大きさが小さくなり過ぎて透過率の損失を招くことになる。
【００１２】
例えば、リアプロジェクションテレビなどにおいては、レンチキュラーレンズ面に対して光線平行度±２．５度以上の角度から入射する映像光も含まれる。これは、透過型スクリーンがフレネルレンズとレンチキュラーレンズから構成されており、モアレ、シンチレーション抑制のためフレネルレンズにも拡散層があるためである。従って、これらの映像光はレーザー光の集光スポットよりも広がって遮光部に入射するため、遮光層を透過できず、透過率の損失となってしまう。
【００１３】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、レーザー光の集光作用で遮光層に開口部を形成するに当たり、開口部の大きさを適正化して透過率の向上を図ることができる透過型スクリーンの製造方法、その製造装置および透過型スクリーンを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
以上の課題を解決するに当たり、本発明の透過型スクリーンの製造方法においては、一方の面にレンズが形成されたレンズシートの他方の面に、レンズの集光領域が開口している遮光層が設けられた透過型スクリーンの製造方法であって、
レンズシートの他方の面に遮光層を形成する工程と、レンズシートの一方の面側からレーザー光を照射し、遮光層のレンズ集光領域に開口部を形成する工程とを有し、
上記開口部を形成する工程では、レーザー光のエネルギー密度を調整した後、レンズシートに照射されるレーザー光の光線平行度を調整する。
【００１５】
また、本発明の透過型スクリーンの製造装置は、レーザー光源と、レーザー光源から出射したレーザー光のエネルギー密度を調整する機構と、レンズシートに照射されるレーザー光の光線平行度を調整する平行度調整素子とを備えている。
【００１６】
本発明では、レンズの集光作用を利用して、レーザー光で遮光層を選択的にアブレーションすることで開口部を形成する。このように自己整合的・物理的手法を用いることで、微細ピッチかつ高遮光率を有する光学シートを安定的に製造することが可能となる。
【００１７】
また、本発明では、レーザー光のエネルギー密度を調整した後、レンズシートに照射されるレーザー光の光線平行度を調整するようにしているので、レンズの光軸に対するレーザー光の入射角を適宜な角度範囲に調整することができる。これにより、遮光層に形成する開口部の大きさを調整できるようになり、スクリーンの透過率の向上を図ることができる。
【００１８】
レーザー光のエネルギー密度を調整する方法としては、レーザー光のビーム形状を整形する方法のほか、励起源のエネルギーを調整してレーザー光の出力を制御する方法、光路内に配置されたアッテネータを用いて透過率を制御する方法などがある。特に、ビーム形状の整形には、レーザー光のビーム幅やビーム径などを拡張し又は縮小する調整が含まれる。
【００１９】
レーザー光の光線平行度を調整する平行度調整素子としては、拡散板や回折光学素子、焦点距離の異なる凸レンズ等で構成することができる。平行度調整素子により調整されるレーザー光の光線平行度は、±２．５度以上±１０度以下が好ましい。±２．５度未満だと開口部の大きさが不足してスクリーンに入射する映像光の透過率向上を図ることができない。また、±１０度を超えると遮光層の占有面積が低下して投射画像のコントラストが悪化してしまう。
【００２０】
レンズシートに対するレーザー光の照射は、平行度調整されたレーザー光をレンズシート上でスキャンさせる方法がある。また、他の方法として、レーザー光源から出射したレーザー光のビーム幅、ビーム径あるいはその双方をビームエキスパンダで拡張して、レンズシートに照射する方法がある。更に、レンズシートを一方向に一定速度で走行させながらレーザー光を照射することで、レンズシートの連続生産が可能となる。
【００２１】
本発明においては、レンズ材料に吸収がなく遮光層に吸収がある波長領域のレーザー光が使用される。好適には、表面反射を除くレンズの透過率が９５％以上であり、遮光層の透過率が５０％以下のレーザー光が用いられる。これにより、レンズを損傷させることなく遮光層のみを加工することが可能となる。
【００２２】
このようなレーザー光としては、ＸｅＦエキシマレーザー、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー、ＹＶＯ4レーザー、銅蒸気レーザー、ルビーレーザー、チタンサファイアレーザー、半導体レーザー等が挙げられるが、レンズが紫外線硬化型樹脂で形成される場合、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー基本波、ＹＶＯ4レーザーの基本波等の近赤外レーザー、またはＮｄ−ＹＡＧレーザーの第２高調波、ＹＶＯ4レーザーの第２高調波、銅蒸気レーザー等の可視光レーザーが好適である。
【発明の効果】
【００２３】
以上述べたように、本発明によれば、遮光層に微細な開口部を高精度かつ均一に安定して形成することができるとともに、透過率の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明は勿論、以下の実施形態に限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００２５】
図１Ａ〜Ｃは本発明の実施形態による光学シートの製造方法を説明する工程断面図である。
【００２６】
まず、図１Ａに示すように、所定のレンズ形状を形成したレンズ型１０にエネルギーを吸収して硬化する材料（本実施形態では紫外線硬化型樹脂）１１Ａを流し入れ、これに透明シート１２を密着させた後、透明シート１２の上から紫外線を照射して材料１１Ａを硬化させる。これにより、透明シート１２の表面にレンズアレイ１１が形成されたレンズシート１３が作製される（図１Ｂ）。レンズアレイ１１は、シリンドリカルレンズやフライアイレンズ等のレンチキュラーレンズである。
【００２７】
シリンドリカルレンズやフライアイレンズ等の集光作用をもつレンズ形状は、切削、電子ビームやエキシマ露光機によるレジストへの形状付与、レーザー加工などにより作製することができる。電子ビーム描画では露光量を制御して中間露光を行うことにより連続階調ブレーズ化が可能である（H.Nishihara and T.Suhara,“Micro Fresnel lens”,Progress in Optics, vol.24, E.Wolf ed.,pp1-37）。エキシマ露光機によるレジストへの形状付与については、複数のフォトマスクを用いたマルチレベル露光ではプロセスチップの増大や合わせ精度の問題があるが、マスクの濃淡を変化させたグレースケールマスク（例えばキャニオンマテリアル製HEBS:High Energy Beam Sensitive ガラスマスク)(c.Wu.,“Method of making high energy beam sensitive glass”, U.S.patent 5,078,771,Jan.1992)を利用することで５００階調以上のレンズ形状形成が可能である。レーザー加工によるレンズ形状形成に関しては、集光加工ではレンズアレイ作製に膨大な時間がかかるが、例えばエキシマレーザーを用いたマスクイメージング法によれば、大面積に高精細なレンズを短時間で作製することができる。
【００２８】
上述のように、フライアイレンズシートを形成するための母型は、例えば、ＫｒＦエキシマレーザーを使用したマスクイメージング法を用いて、被加工物である基板を加工することにより形成することが可能である。この基板の材料としては、プラスチック材料を用いることができる。なお、被加工物は、プラスチック材料などからなる基板に限定されるものではなく、シートまたはフィルムを被加工物として用いるようにしてもよい。また、被加工物の材料は、プラスチックに限定されるものではなく、金属またはガラスなどを用いてもよい。
【００２９】
また、被加工物であるプラスチック基板の材料としては、公知のプラスチックを用いることができる。この場合、プラスチックの耐熱性、ガラス転移点により加工性や加工後の表面形状が変化するため、加工条件に応じて適宜選択することが好ましく、ポリカーボネートを用いることが最も好ましい。また、母型はプレス法や成型用スタンパを用いた方法、切削法により作製することも可能である。この場合、加工基板の材料としては、プラスチックにとどまらず、金属を用いることもできる。
【００３０】
被加工物に形成されたマスク像を移動する方法として、例えば、レーザ光に対して被加工物を載せるステージを移動させる方法と、被加工物に対してレーザ光を移動させる方法がある。図２Ａは、レーザ光Ｌの照射位置を固定とし、被加工物３３を支持するステージ３０を縦方向および横方向に移動させることで、被加工物３３上に形成されたマスク像を移動させる例を示している。図２Ｂは、ステージ３０を固定とし、このステージ３０に支持された被加工物３３に対してレーザ光Ｌを縦方向および横方向に移動させることで、被加工物３３上に形成されたマスク像を移動させる例を示している。
【００３１】
一方、図２Ａ，Ｂに示した平面ステージ以外にも、図３Ａ，Ｂに模式的に示すような一方向に回転する回転ステージを用いてもよい。図示する回転ステージ機構は、駆動ローラ３９の駆動力を受けて回転軸３６のまわりに回転するドラム３７の外周面または内周面に被加工物３３を取り付け、被加工物３３に対してレーザヘッド３８をドラム３６の軸方向に沿って移動させることで、被加工物３３上に形成されたマスク像を移動させる例を示している。
【００３２】
例えば図４は、フライアイレンズの母型作製方法を説明する原理図、図５は当該方法に用いられるマスクの構成の一例を示す模式図である。
【００３３】
図５に示すように、マスク３１Ａには複数の開口部が形成されている。開口部の形状は、図４に示すように開口部を介してレーザ光Ｌを照射してマスク像を被加工物３３上に形成するとともに、マスク像を被加工物３３上の一方向に向かって移動させることにより、球面または非球面状のレンズを形成できるように選ばれる。具体的に、図５に示すマスク３１Ａの開口部の形状としては、目的のレンズ形状の高さ方向を複数の断面に分割し、それらをマスク像の移動方向に並べたものになる。
【００３４】
マスク３１Ａを用いた母型の作製方法を図４を参照して説明すると、まず、被加工物３３の上方にマスク３１Ａを配置し、このマスク３１Ａを介してレーザ光Ｌを被加工物３３上に照射して被加工物３３上にマスク像を形成する（図４Ａ）。すると、それぞれの開口部の形状に対応した部分の被加工物３３が加工される。次に、矢印で示すように被加工物３３をマスク３１の１パターン分、つまりマスク３１Ａの一つの開口部の中心と隣の開口部の中心の距離だけ横方向に移動させレーザ光Ｌを照射する（図４Ｂ）。これにより、被加工物３３の高さ方向で２段階の加工が施される。同様に、マスク３１Ａを１パターン分の距離だけ横方向に移動させ、加工を行うと、図４Ｃに示すように高さ方向で３段階の加工ができる。このように順次１パターンずつ横方向に移動させた後にレーザを照射することにより、マスク３１Ａの移動方向のパターン数だけ被加工物３３が高さ方向に加工されることになる。マスク３１Ａに形成するパターン数を例えば１００以上とすることで、被加工物３３上に高さ方向に滑らかな曲線からなるレンズ形状を作製することができる。
【００３５】
更に、このようにして作製したレンズ形状のマスター（母型）にＡｌ蒸着や無電解Ｎｉ処理することで導電層を形成し、それを種にしてＮｉ電鋳することで、繰り返し使用に耐性のある金型を作製することができる。
【００３６】
なお、上記のようにして作製した金型を用い、樹脂を直接熱プレスする方法や、熱により溶融した樹脂をレンズ型で冷却しながら硬化させる溶融押し出し法等の他の方法によっても所望のレンズ形状を有するレンズシートを製造することができる。なお、上記金型からの成形材離型性を向上させるために、金型表面に予めニッケル蒸着やフッ素系材料、シリコーン系材料コーティングなどの離型処理を施すか、フッ素を含有したＮｉ電鋳型を作製することが望ましい。
【００３７】
レンズを形成する樹脂材料１１Ａは、後述する遮光層へ開口部を形成するのに使用されるレーザー光に対して透過性を有するものであれば特に限定されないが、製造の容易性の点から紫外線、電子線、熱により硬化できる樹脂が好ましく、最も好ましくは紫外線硬化型樹脂である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂には、必要に応じて光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、酸化防止剤等を適宜添加することができる。
【００３８】
また、上記レンズシート１３のレンズアレイ１１としては、ポリアクリル、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、環状オレフィン系樹脂等の透明な熱可塑性樹脂を任意の方法で成形したものでもよい。この場合、透明シート１２に相当する支持基材は別途用意する必要はなく、レンズアレイと一体的に形成することができる。
【００３９】
一方、透明シート１２としては、公知の高分子フィルムを使用することができる。具体的には、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド、アラミド、ポリエチレン、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、トリアセチルセルロース、ポリスルフォン、ジアセチルセルロース、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂など、従来より用いられている樹脂フィルムの中から適宜選択して利用することが可能である。
【００４０】
続いて、図１Ｂに示すように、作製したレンズシート１３の裏面（非レンズ形成面）に遮光層１４を形成する。遮光層１４の形成方法としては、レンズシート１４に直接塗布する方法、熱転写などの手法により遮光層を転写形成する方法、粘着剤に遮光材料を含有させ粘着貼合する方法、粘着剤を介して遮光層を転写形成する方法などがあるが、レンズシート１３の裏面に遮光層を均一形成することが可能であれば、何れの方法でも構わない。また、ＣｒＯｘ／Ｃｒなどの金属や金属酸化物をスパッタリングなどの手法を用いて形成してもよく、外光反射を抑制するという目的を達すればこれに限定されるものではない。
【００４１】
遮光層１４を形成する材料としては、樹脂とカーボンブラックを混合した塗料を用いることができる。上記カーボンブラックとしては、市販のカーボンブラックを使用することができる。例えば、三菱化成社製の＃９８０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＣＦ８８Ｂ、＃４４Ｂ、キャボット社製のＢＰ−８００、ＢＰ−Ｌ、ＲＥＧＡＬ−６６０、ＲＥＧＡＬ−３３０、コロンビアンカーボン社製のＲＡＶＥＮ−１２５５、ＲＡＶＥＮ−１２５０、ＲＡＶＥＮ−１０２０、ＲＡＶＥＮ−７８０、ＲＡＶＥＮ−７６０、デグサ社製のＰｒｉｎｔｅｘ−５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ−７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ−２５、Ｐｒｉｎｔｅｘ−４５、ＳＢ−５５０等がある。これらを単独あるいは混合して使用することができる。
【００４２】
カーボンブラックと配合するバインダー樹脂としては、変成または非変成の塩化ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂等を使用でき、その他、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステルも使用できる。また、特定の使用方式を有する熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線照射硬化型樹脂等を用いてもよい。
【００４３】
塗料におけるカーボンブラックの含有量は２０ｗｔ％以上７５ｗｔ％以下が好ましい。カーボンブラック含有量が２０ｗｔ％に満たないと光透過率が高くなり所望の遮光性能をもたせるために遮光層を厚く形成する必要性が生じる。この場合、後の開口工程において遮光層のアブレーションに必要なエネルギーが高くなるため処理速度が遅くなる。また、カーボンブラック含有量が７５ｗｔ％を超えるとバインダー樹脂に対してカーボンブラックが過剰となり、カーボンブラックの脱落、開口部への付着、工程装置の汚染を招くので好ましくない。非集光部の黒色層不足、集光部への黒色層の残存は、スクリーンのコントラスト低下および投影像の透過率低下の要因となるため望ましくない。
【００４４】
遮光層１４には、カーボンブラックとバインダー樹脂のほか、必要に応じて有機顔料、無機顔料、可視光吸収剤などの添加剤を含有させることができる。遮光層となる塗料の形成は、上記した各成分と必要に応じて溶剤とを常法により撹拌機で混合し、レンズシート裏面または転写用支持基材に塗布し、乾燥あるいは硬化させればよい。
【００４５】
次に、図１Ｃに示すように、レンズシート１３のレンズ形成面側から所定の波長とエネルギーを有するレーザー光Ｌをレンズシート１３に対して照射する。これにより、レーザー光Ｌはレンズアレイ１１の各レンズ単位で集光されて、それらの集光部上に位置する遮光層１４がアブレーション作用により開口された遮光パターン１４Ｐが形成される。
【００４６】
レーザー光Ｌとしては、図６および図７に示すように、レンズアレイ１１や透明シート１２において吸収がなく表面反射を除く透過率が９０％以上であり、遮光層１４が吸収を有する透過率が５０％以下である波長領域のレーザー光が選択される。これにより、レンズシート１３を損傷させることなく遮光層１４のみを加工することができる。
【００４７】
本実施形態では、レンズシート１３（レンズアレイ１１、透明シート１２）は紫外線に吸収を持ち、遮光層１４は可視光を吸収するため、近紫外、可視、近赤外のレーザーを用いることができる。例えば、ＸｅＦエキシマレーザー（３５１ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー（基本波１０６４ｎｍ、第２高調波５３２ｎｍ、第３高調波３５５ｎｍ）、ＹＶＯ4レーザー（基本波１０６４ｎｍ、第２高調波５３２ｎｍ）、銅蒸気レーザー（５１１ｎｍ、５７８ｎｍ）、ルビーレーザー（６９４ｎｍ）、チタンサファイアレーザー（８４０〜９２０ｎｍ）、半導体レーザー（８０５ｎｍ）などが挙げられる。また、レンズシートが紫外線吸収能をもたない材料で形成される場合には、ＸｅＣｌエキシマレーザー（３０８ｎｍ）等の短波長レーザーも使用可能である。
【００４８】
また、遮光層１４をアブレーションするためには、図８に示すように、ある閾値以上のエネルギーをもつレーザーを用いる必要がある。本実施形態では、レーザー光Ｌはレンズ１１により集光照射されるため、光源強度としてはレンズ樹脂や基材（透明シート１２）のアブレーション閾値以下のエネルギーであり、レンズ１１で集光後に遮光層１４のアブレーション閾値以上となるようエネルギーを調整することが望ましい。
【００４９】
本実施形態において、レーザー光Ｌは、パルスレーザーが用いられている。遮光層１４へ開口部１４ＰＳ（図１Ｃ）を形成するのに必要なレーザーのパルス数は、遮光層１４の厚さで設定される。好適には、数パルスで開口部１４ＰＳが形成できる厚さ（例えば１０μｍ以下）に遮光層１４を形成する。数パルス以上のレーザー照射が必要な厚さに遮光層１４が形成される場合には、図９に示すように、パルス間隔を５００ｎｓ（ナノ秒）以上あけることで、遮光層１４に蓄積した熱エネルギーで開口サイズの拡がりや遮光層１４の熱による変質を回避できる。
【００５０】
また、レーザー光Ｌは光線平行度が高いため、レンズシート１３のレンズ形成面に対してレーザー光Ｌを垂直に入射させたとき、レンズアレイ１１による集光スポットが小さくなり過ぎるという問題がある。例えば、リアプロジェクションテレビの透過型スクリーンとしてレンズシート１３を適用した場合、レンズ面に対して光線平行度±２．５度以上の角度から入射する映像光も含まれる。このため、レーザー光Ｌを垂直入射させて遮光層に開口部を形成した場合、映像光の一部が開口部を透過できなくなることになり、結果的に透過率の損失となってしまう。
【００５１】
そこで、本実施形態では、図１０に示すように、レンズシート１３に対してレーザー光Ｌを照射するためのレーザー光学系２０として、レーザー光源２１と、このレーザー光源２１から出射されるレーザー光のビーム幅、ビーム径あるいはその双方を拡張するビームエキスパンダ２２と、ビーム幅が拡張されたレーザー光の強度分布を均一化するホモジナイザ２３と、反射ミラー２４と、レンズシート１３に照射されるレーザー光Ｌの光線平行度を調整する平行度調整素子２５とを備えた構成とされている。
【００５２】
ビームエキスパンダ２２は、レーザー光源２１から出射したレーザー光のビーム幅方向を拡張し、レーザー光のビーム幅方向と直交する方向（短辺方向）を収縮させる。ビームエキスパンダ２２は、レンズシート１３に照射されるレーザー光Ｌの１ショットあたりの照射面積を定めるもので、例えば、レーザー光Ｌをレンズシート１３のシート幅に相当するビーム幅に拡張する。これにより、レンズシート１３に対するレーザー光Ｌの照射効率を高めることができる。なお、ビーム幅やビームサイズ等のビーム形状を整形できるものであれば、ビームエキスパンダを用いる場合に限られない。またビームエキスパンダを用いずに、レンズシート上でレーザー光をスキャン照射するようにしてもよい。
【００５３】
ビームエキスパンダ２２を用い、照射面積を広くすることで、レーザー光のエネルギー密度を下げることが可能であり、照射面積を狭くすることでエネルギー密度を上げることができる。また、上記以外にも、ＬＤ励起レーザーの場合はＬＤに注入する電流量を調整することでエネルギー密度を調整することもできる。
【００５４】
ホモジナイザ２３は、ビームエキスパンダ２２から出射されたレーザー光の強度分布（エネルギー密度）を均一化することで、レンズシート１３上のレーザー照射領域の照射ムラを抑える。ホモジナイザ２３としては、公知の各種方式のビームホモジナイザが適用可能であり、例えば、カライドスコープ方式、フライアイレンズ方式、非球面レンズ方式、導波路方式、ホログラフィック光学素子方式などが適用可能である。
【００５５】
反射ミラー２４は、ホモジナイザ２３で強度分布が均一化されたレーザー光Ｌを平行度調整素子２５に向けて照射するためのものである。なお、反射ミラー２４をガルバノミラー等で構成することによって、レーザー光を一定角度範囲で走査（スキャン）させるようにしてもよい。
【００５６】
平行度調整素子２５は、レーザー光Ｌの光線平行度を調整するためのものである。レーザー光Ｌの光線平行度とは、図１０において角度αで示す角度であり、光源強度の角度分布は均一分布、ガウス(Gauss)分布、釣鐘型分布、任意設計分布など制御可能であるが、光源強度が半分になる角度範囲（ＦＷＨＭ）と定義する。本実施形態では、このレーザー光Ｌの光線平行度を±２．５度以上±１０度以下に設定される。±２．５度未満だとスクリーンに入射する映像光の透過率向上を図ることができなくなり、±１０度を超えると遮光層の占有面積が低下して投射画像のコントラストが悪化してしまうからである。
【００５７】
平行度調整素子２５としては、拡散板や回折光学素子、あるいは焦点距離の異なる凸レンズなど、レーザー光Ｌの平行度を落とすことができる光学系であれば全て適用可能であるが、ガウス分布などの拡散光照射系ではなく、特定の角度分布が強い角度制御光照射系が好ましい。この点について、以下、図１１を参照して説明する。
【００５８】
図１１は、平行光、拡散光（ガウス分布）及び角度制御光の各レーザー光の光源強度角度分布と、これら各レーザー光を用いて遮光層に開口部を形成したときの開口形成部での強度分布と開口サイズを示している。平行度調整素子を用いないレーザー光（平行光）の直接照射の場合、光源平行度が高いため、狭い開口Ｓａしか開口させることができなかった。
【００５９】
一方、拡散板を用いその角度成分をガウス分布型とした拡散光を照射した場合、本来はＳＢの開口サイズを狙っていたものの、斜め照射成分は開口部において閾値以上の加工エネルギーを得ることができないため、結果として開口サイズがＳｂに制限され、Ｓａよりは広いものの所望の開口を得ることができなかった。ただし、この場合、光源であるレーザーの出力を上げることで、斜め成分の光に対しても加工閾値以上のエネルギーを得ることができ、開口サイズを広げることができる。なお、中央部分のエネルギーは必要以上に照射されており、エネルギー利用効率が落ちてタクトが上がらないという問題はある。更に、拡散の強い拡散板を用いた結果、閾値以下のエネルギー光が多いと、そのエネルギーは加工ではなく熱エネルギーとして散逸してしまうため、フィルムが熱影響でゆがんでしまうという問題もある。
【００６０】
また、本光学系において、開口を大きくするために必要以上にレーザー出力を上げると、最集光点でのエネルギー密度が過剰となり、上層のレンズシートの損傷閾値を上回ることで、レンズシート内部で発泡が生じるという問題がある。基材上にマイクロレンズアレイを形成し、上記過剰エネルギーを照射することで発生した内部気泡の電子顕微鏡写真を図１２Ａ，Ｂに示す。本写真は、気泡ダメージ部を観察しやすくするために、裏面遮光層を除去してレンズシートを斜め裏面から観察したものであり、長方配列レンズのピッチに対応した部分にダメージが生じていることがわかる。
【００６１】
それに対し、角度調整素子によって平行度調整した角度制御光を照射した場合、開口形成部での強度分布が均一となり、上層レンズシート部にダメージを与えることがない上、エネルギー効率が高く、広い開口サイズＳｃを得ることができる。角度制御素子の断面形状の一例を図１３Ａ，Ｂに示す。このような角度制御素子は、上述のレンズ型形成に用いたエキシマレーザによるマスクイメージング法を用いて作製することができる。加工したポリカーボネート製マスター（ポリカマスター）をそのまま利用することも可能であるが、その場合はレーザー光をポリカマスター上でスキャンするか、光軸に対してポリカマスターを移動させながら照射する必要がある。レーザー光軸とポリカマスターの相対位置を変化させないで使用した場合には、蓄積した熱エネルギーでポリカマスターが溶けてしまうからである。
【００６２】
以上の構成において、レーザー光源２１で発振し出射されたレーザー光Ｌは、ビームエキスパンダ２２で所定のビーム幅あるいはビーム径に拡張された後、ホモジナイザ２３によってレーザー光の強度分布の均一化が図られる。そして、レーザー光Ｌは、反射ミラー２４で反射されて平行度調整素子２５に入射し、レーザー光Ｌの平行度が調整された後、レンズシート１３に照射される。このとき、レンズピッチとレーザーショット間隔との関係でモアレが生じることがあるため、レーザービームの方向やレーザーショット間隔の最適化を図るのが好ましい。
【００６３】
以上のように、本実施形態によれば、所定の光線平行度条件でレーザー光Ｌをレンズシート１３のレンズ形成面に入射させることにより、図１４に示すように、遮光層１４に形成される開口部１４ＰＳの大きさを拡張することができる。これにより、レンズシート１３を投射型画像表示装置用の透過型スクリーンとして構成した場合に、当該スクリーンの透過率の向上を図ることが可能となる。
【００６４】
また、スクリーン１３を図１０において矢印Ａ方向に一定速度で移動させながらレーザー光Ｌの照射を行うことも可能である。これにより、レンズシート１３を例えばロール・ツー・ロール方式で搬送しながら遮光層１４に開口部１４ＰＳを連続して形成することが可能となり、スクリーンの生産性の向上を図ることが可能となる。
【００６５】
このとき、平行度調整素子２５が複数枚の拡散板を繋ぎ合わせた大面積の拡散板で構成されるような場合には、例えば図１５Ａ，Ｂに模式的に示すように、拡散板２５ａの繋ぎ目２５ｂをレンズシート１３の流れ方向に関して平行に形成すると、レンズシート１３上に繋ぎ目２５ｂに沿ったスジ状の照射ムラが生じることがある。これは、拡散板２５ａの繋ぎ目２５ｂ直下での照射光量が、拡散板２５ａの面内直下での照射光量と異なるからである。そこで、図１６Ａ，Ｂに模式的に示すように、拡散板２５ａの繋ぎ目２５ｂをレンズシート１３の流れ方向に関して非平行に配置することで、繋ぎ目２５ｂに沿ったスジ状の照射ムラの発生を回避することができる。なお、この例は、レーザー露光に限らず、通常のＵＶ露光にも同様に適用可能である。
【００６６】
以上のようにして、図１Ｃに示すようにレンズシート１３裏面に対し、レンズ集光部に対応する部位に開口部１４ＰＳを備えた遮光パターン１４Ｐが形成される。開口部１４ＰＳの形状は、レンズアレイ１１を形成する際のレンズ面の設計に依存し、シリンドリカルレンズ形状の場合はストライプ状となり、フライアイレンズ形状の場合は、四角形、六角形等の多角形状、円形状、Ｘ形状などのドット状となるが、レンズ面の設計により直線形状にも形成することが可能である。
【００６７】
本実施形態において、遮光層１４に形成された開口部１４ＰＳの形状は、レンズシート１３の表面（レンズ形成面）側から光線平行度αでレンズ１１に入射する光の透過形状に対応した形状となる。これにより、レーザー光の垂直入射時に比べて開口部１４ＰＳの開口幅を大きくできる。また、シート全面に対する遮光パターン１４Ｐの高い占有面積率を維持することができる。
【００６８】
従って、このような遮光パターン１４Ｐがレンズシート１３の裏面に形成された光学シートを背面投射型画像表示装置（リアプロジェクションテレビ）用の透過型スクリーンに適用した場合、高い映像光透過率と低い外光透過率および反射率とを実現して、従来よりも画像の高コントラスト化を図ることが可能となる。
【００６９】
また、本実施形態によれば、レンズシート１３上におけるレーザー光の各レンズ単位での集光作用を利用して、遮光層１４上の集光領域のみを選択的に除去することで開口部１４ＰＳを形成するようにしているので、開口部１４ＰＳを自己整合的かつ物理的な手法で形成可能となり、遮光層１４に対して微細サイズの開口パターンを高精度かつ均一に形成することができるようになる。
【００７０】
更に、従来使用されていた感光性粘着層を用いることなく所望の遮光パターン１４Ｐを形成できるので、生産コストの低減を図ることができるとともに、微細な開口部パターンを大面積にわたり高精度、均一かつ安定して形成することが可能となる。特に、レンズシート１３の裏面に遮光層１４を直接形成しているので、レンズピッチ２００μｍ以下のレンズシートに対しても、高精度に遮光パターン１４Ｐを形成することができる。
【００７１】
図１７〜図２０は、例えば上述のようにして構成されたレンズシート１３を背面投射型画像表示装置の透過型スクリーンに適用した例を示している。
【００７２】
図１７に示すように、背面投射型画像表示装置４０は、本体４１の内部に映像投射源４２と、この映像投射源４２から投射された映像光を本体４１正面のスクリーンユニット４３に向けて反射させるリフレクタ４４とが設けられている。スクリーンユニット４３は、図１８に示すように、フレネルレンズスクリーン４５とレンチキュラーレンズスクリーン４６とで構成されている。ここで、レンチキュラーレンズスクリーン４６が本発明に係る透過型スクリーンに相当する。
【００７３】
スクリーンユニット４３において、フレネルレンズスクリーン４５は、リフレクタ４４から反射された映像光（矢印Ｐで符示）を平行光に変換してレンチキュラーレンズスクリーン４６へ出射する。レンチキュラーレンズスクリーン４６は、フレネルレンズスクリーン４５と対向する側の面にレンチキュラーレンズアレイ１１が所定ピッチで形成され、反対側の面にレンズピッチに対応した開口部１４ＰＳを有する遮光パターン１４Ｐが形成されている。なお、フレネルレンズスクリーン４５は図示する屈折型フレネルレンズスクリーンとして適用する場合に限らず、構造面を逆に向けた全反射型フレネルレンズスクリーンとして適用することも可能である。
【００７４】
本例において、レンチキュラーレンズアレイ１１はシリンドリカルレンズで形成されていることから、遮光パターン１４Ｐの開口部１４ＰＳはストライプ状に形成されている。なお、レンチキュラーレンズアレイを図２０に示すようなフライアイレンズスクリーン４８で形成することも勿論可能であり、この場合の遮光パターン開口部は各レンズ要素の集光部に対応して形成されたドット状となる。
【００７５】
レンチキュラーレンズスクリーン４６は、フレネルレンズスクリーン４５を介して入射した映像光を図１９に示すようにレンチキュラーレンズアレイ１１の各レンズ単位で集光し、反対面側の遮光パターン開口部１４ＰＳから拡散出射させる。これにより、スクリーン正面の全域にわたって画像が形成される。
【００７６】
上述したように、本実施形態においては、遮光パターン開口部１４ＰＳの形状は、図１９に示したように、レンズシート１３の表面（レンズ形成面）側からレンズ１１を透過する映像光の透過形状に対応した台形状となり、光の入射側（レンズシート１３側）よりも出射側の方が開口部１４ＰＳの開口サイズを小さくできる。更に、シート全面に対する遮光パターン１４Ｐの占有面積率を高められる。これにより、高い映像光透過率と低い外光透過率および反射率とを実現して、従来よりも画像の高コントラスト化を図ることが可能となる。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。
【００７８】
（実施例１）
波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを用いたマスクイメージング法によりポリカーボネート基材に長軸ピッチ１００μｍ、短軸ピッチ６０μｍの非球面フライアイレンズを加工し、これをマスターとし表面導電化処理として無電解Ｎｉ処理を行い、ニッケル電鋳をとることで金型を作製した。
【００７９】
作製した金型上にウレタンアクリル系紫外線硬化樹脂（東亞合成社製アロニックス）を流し込み、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製Ａ４３００）を重ね、レンズの厚さが均一になるようにゴムローラーで１ｋｇを加えながら余分な樹脂を掻き出した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム上から１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化し、フライアイレンズシートを得た。
【００８０】
上記レンズシートの裏面に、遮光層としてカーボンブラックを含有した樹脂層を塗工した。遮光層材料の作製には、下記の原料を配合し、ボールミルにて任意の時間分散後、５μｍ口径のフィルターを通して塗料を調整した。
（遮光層の原料）
カーボンブラック：コロンビアンカーボン社製  ＲＡＶＥＮ−１２５５  １３０重量部
バインダー樹脂：ポリエステルポリウレタン（東洋紡績社製ＵＲ−８３００）７０重量部
溶剤：メチルエチルケトン  ５００重量部
トルエン  ５００重量部
得られた塗料を乾燥後の塗膜厚が１．０μｍとなるように塗布、乾燥させ、６０℃にて熱処理を行い、遮光層を均一形成した。
【００８１】
作製した遮光層付きレンズシートに対して、レンズ側からＮｄ−ＹＡＧレーザーの基本波（波長１０６４ｎｍ）を周波数５ｋＨｚ、パルス幅３０ｎｓ、パルス間隔０．２ｍｓ、パルスエネルギー密度１４０ｍＪ／ｃｍ2、光線平行度±２．５度にて照射し、遮光層の集光領域に開口部を形成した。レーザー光の平行度調整には、ＰＯＣ（フィジカル・オプティクス・コーポレーション）社製拡散・整形フィルム「ＬＳＤ５（商品名）」を用いた。
【００８２】
（実施例２）
ＰＯＣ社製拡散・整形フィルム「ＬＳＤ１０（商品名）」を使用して、レンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±５度とし、パルスエネルギー密度を２００ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８３】
（実施例３）
波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを用いたマスクイメージング法により、ポリカーボネート基材に図１３Ｂに示した形状で正方ピッチ５０μｍの微細形状を有する角度調整素子を加工した。本角度調整素子は、照射レーザーの素子透過後の角度分布が±７度（実際には回転対称のため、リング状の強度分布）となるように直線部の傾きを形成した。このポリカーボネート製角度調整素子を用い、レンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±７度とし、パルスエネルギー密度を１００ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８４】
（実施例４）
エキシマレーザーにより作製した角度調整素子を用い、レンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±１０度とし、パルスエネルギー密度を１４０ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８５】
（比較例１）
レンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±０．１度とし、パルスエネルギー密度を８０ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８６】
（比較例２）
凸レンズを用いてレンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±１．５度とし、パルスエネルギー密度を１００ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８７】
（比較例３）
エキシマレーザーにより作製した角度調整素子を用い、レンズシートに照射するレーザー光の光線平行度を±１５度とし、パルスエネルギー密度を２００ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は、上述の実施例１と同一の条件で、遮光層の集光領域に開口部を形成した。
【００８８】
実施例１〜４および比較例１〜３の各サンプルの直進光透過率、実光源透過率、遮光層の占有面積率（黒率）の評価を行った。その結果を表１に示す。また、比較例１，２の遮光パターンの顕微鏡写真を図２１Ａ，Ｂに、実施例１〜４の遮光パターンの顕微鏡写真を図２２Ａ，Ｂ及び図２３Ａ，Ｂに、そして比較例３の遮光パターンの顕微鏡写真を図２４にそれぞれ示す。
【００８９】
【表１】
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【００９０】
表１において、「直進光透過率」は、レンズシートに対して垂直に入射する光源光の透過率であり、「実光源透過率」は、当該レンズシートに拡散剤入りフレネルレンズシートを重ねて測定した透過率である。評価装置は村上色彩技術研究所製ヘーズメーターＨＭ−１５０型を用いた。評価条件はＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した。拡散剤フレネルレンズシートの挿入により、表面反射や後方散乱のため約１０．５％の透過率損失が確認された。
【００９１】
また、遮光層の占有面積率（黒率）の測定方法に関しては、各サンプルの遮光層の任意場所を１ｃｍ角で切り出し、遮光層表面を光学顕微鏡で撮影し、画像解析ソフトを使用して、遮光層の面積率を測定した。
【００９２】
表１の結果より、レンズシートに対するレーザー光の光線平行度が大きくなるほど（レーザー光の平行度が落ちるほど）、開口部が大きく形成され、シートの透過率は向上し、黒率が低下することがわかる。実際に、当該レンズシートを投射型画像表示装置用の透過型スクリーンに適用する場合、良好な輝度特性を得るためにはレンズシートの透過率（実光源透過率）は６０％以上であることが好ましい。また、投射画像の良好なコントラスト特性を維持するためには、黒率は７０％以上であることが好ましい。
【００９３】
従って、実光源透過率が６０％以上で、黒率が７０％以上の特性を満足するためには、レンズシートに対するレーザー光の光線平行度は±２．５度以上±１０度以下であることがわかる。実際に、実施例１，２で作製したレンズシートを、母材中に屈折率の異なるビーズが分散された拡散板へ貼り合わせて、リアプロジェクションテレビジョンに適用したところ、黒の沈み込みだけでなく緑や赤などの色も引き締まり、奥行き感のある映像が観察された。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明の実施形態による透過型スクリーンを構成するレンズシートの製造方法を説明する工程図である。
【図２】母型のレンズ成形面の加工工程におけるレーザ加工方法を説明する模式図である。
【図３】母型のレンズ成形面の加工工程におけるレーザ加工方法を説明する模式図である。
【図４】母型のレーザ加工方法を説明する模式図である。
【図５】図４に示すレーザ加工方法に用いられるマスクの一例を示す模式図である。
【図６】レンズシートの構成材料および遮光層構成材料の透過率特性の一例を示す図である。
【図７】遮光層の加工に用いられるレーザー光の適用可能波長領域を説明する図である。
【図８】レーザー光のレーザーエネルギーと加工深さとの関係を示す図である。
【図９】レーザー光の照射パルス間隔を説明する図である。
【図１０】レンズシートの製造装置を構成するレーザー光学系の概略構成図である。
【図１１】平行光、拡散光（ガウス分布）及び角度制御光の各レーザー光の光源強度角度分布と、これら各レーザー光を用いて遮光層に開口部を形成したときの開口形成部での強度分布と開口サイズを示す図である。
【図１２】過剰エネルギーの拡散光を照射して開口部を形成したときのレンズシート内部の様子を示す電子顕微鏡写真である。
【図１３】角度調整素子（平行度調整素子）の断面形状の構成例を示す図である。
【図１４】角度制御光による開口部の形成工程を説明するレンズシートの模式図である。
【図１５】平行度調整素子を構成する拡散板の構成例とレンズシートの流れ方向との関係を説明する図である。
【図１６】平行度調整素子を構成する拡散板の構成例とレンズシートの流れ方向との関係を説明する図である。
【図１７】背面投射型画像表示装置の概略構成図である。
【図１８】上記投射型画像表示装置におけるスクリーンユニットを示す概略斜視図である。
【図１９】レンチキュラーレンズシートの一作用を説明する図である。
【図２０】フライアイレンズシートの一例を示す斜視図である。
【図２１】比較例１，２に係るレンズシートの遮光パターンの顕微鏡写真である。
【図２２】実施例１，２に係るレンズシートの遮光パターンの顕微鏡写真である。
【図２３】実施例３，４に係るレンズシートの遮光パターンを示す図である。
【図２４】比較例３に係るレンズシートの遮光パターンの顕微鏡写真である。
【図２５】従来の光学シートの製造方法を説明する工程図である。
【符号の説明】
【００９５】
１０…レンズ型、１１…レンズアレイ、１２…透明シート、１３…レンズシート、１４…遮光層、１４Ｐ…遮光パターン、１４ＰＳ…開口部、２０…レーザー光学系、２１…レーザー光源、２２…ビームエキスパンダ、２３…ホモジナイザ、２４…反射ミラー、２５…平行度調整素子、４０…背面投射型画像表示装置、４３…スクリーンユニット、４５…フレネルレンズスクリーン、４６…レンチキュラーレンズスクリーン、４８…フライアイレンズスクリーン、Ｌ…レーザー光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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