(57)【要約】【課題】  ディスペンサのノズルと基板の距離を測定するレーザセンサのためのミラーの汚れを機械的に清掃し、作業者の負担を伴なうことなく、ペースト塗布装置の塗布品質を良好に保ち、ペースト塗布装置の稼働率を向上すること。【解決手段】  ディスペンサ２０のノズル２２の近傍に配置され、レーザ光をミラー３１の介在下で基板１との間にて投受光し、ディスペンサ２０のノズル２２と基板１との距離を測定するレーザセンサ３０を有してなるペースト塗布装置１０において、ミラー３１の表面を清掃する清掃装置４０を設けたもの。【選択図】  図４
2007222762.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するステージと、
このステージに対して昇降する昇降ヘッドと、
この昇降ヘッドに着脱されてペーストを収容するとともに、ペーストを吐出するノズルを備えてなるディスペンサと、
前記昇降ヘッドに支持されるミラーと、
前記昇降ヘッドに支持され、レーザ光を前記ミラーの介在下で前記基板との間にて投受光し、前記ディスペンサのノズルと基板との距離を測定するレーザセンサと、
このレーザセンサの検出結果に基づいて前記ディスペンサのノズルの高さを制御する制御部とを有するペースト塗布装置において、
前記ミラーの表面を清掃する清掃装置を設けたことを特徴とするペースト塗布装置。
【請求項２】
前記清掃装置が、清掃具を備えるとともに、該清掃具を待機位置とミラー清掃位置との間で移動する移動装置を備える請求項１に記載のペースト塗布装置。
【請求項３】
前記清掃具が掻き取りワイパからなる請求項２に記載のペースト塗布装置。
【請求項４】
前記清掃具が回転ドラムからなる請求項２に記載のペースト塗布装置。
【請求項５】
前記清掃装置が、清掃具に付着した汚れを排出する真空吸引装置を備える請求項２〜４のいずれかに記載のペースト塗布装置。
【請求項６】
前記清掃装置が、清掃具に付着した汚れを溶剤により洗浄する洗浄装置を備える請求項２〜４のいずれかに記載のペースト塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はペースト塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペースト塗布装置は、例えば特許文献１に記載の如く、基板を保持するステージと、ステージに対して昇降する昇降ヘッドと、昇降ヘッドに着脱されてペーストを収容するとともに、ペーストを吐出するノズルを備えてなるディスペンサとを有する。基板を保持するステージをＸＹ移動させつつ、ディスペンサのノズルから基板にペーストを吐出し、基板にペーストを線引き塗布可能にする。
【０００３】
ところで、基板やステージは反りや凹凸を有するため、ディスペンサのノズルに対してステージをＸＹ移動しただけでは、ディスペンサのノズルと基板の距離が一定にならず、線引き後の塗布巾や塗布高さが増減したり、塗布かすれを生ずる。
【０００４】
そこで、特許文献１のペースト塗布装置では、昇降ヘッドに支持されてディスペンサのノズルの近傍に配置されるミラーと、昇降ヘッドに支持されてディスペンサのノズルの近傍に配置され、レーザ光をミラーの介在下で基板との間にて投受光し、ディスペンサのノズルと基板との距離を測定するレーザセンサと、レーザセンサの検出結果に基づいてディスペンサのノズルの高さを制御する制御部とを有するものとし、ディスペンサのノズルと基板の距離を一定に保ちつつ塗布動作できるようにしている。レーザセンサの検出結果がディスペンサのノズルと基板の距離を正確に示すように、レーザセンサとミラーはディスペンサのノズルに可及的に近接せしめる必要がある。
【特許文献１】特開平11-276962
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のペースト塗布装置には以下の問題点がある。
(1)ミラーの汚れがミラーの正常な反射を損ってレーザセンサの検出精度を悪化させ、ディスペンサのノズルと基板の距離を一定に保つことの信頼性が低下し、ペースト塗布装置の塗布品質不良を招く。即ち、ミラーがディスペンサのノズルに近接配置されるから、ノズルから吐出されたペーストがミラーの側に回り込んでミラーの表面に付着する。また、ディスペンサのペーストを補充交換するに際し、ディスペンサに着脱されるノズルの先端に付着しているペーストが誤ってミラーの表面に付着する。
【０００６】
(2)ペースト塗布装置の稼動率が低下する。即ち、ミラーの汚れが更にひどくなると、レーザセンサの検出エラーを起こしてペースト塗布装置が異常停止し、ペースト塗布装置の稼動率が低下する。
【０００７】
(3)ペースト塗布装置に従事する作業者の負担が増える。作業者が上述(1)、(2)の不都合を回避すべく、ペースト塗布装置を定期的に停止させてミラーを清掃する場合には、作業者の負担が増える。
【０００８】
本発明の課題は、ディスペンサのノズルと基板の距離を測定するレーザセンサのためのミラーの汚れを機械的に清掃し、作業者の負担を伴なうことなく、ペースト塗布装置の塗布品質を良好に保ち、ペースト塗布装置の稼働率を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１の発明は、基板を保持するステージと、このステージに対して昇降する昇降ヘッドと、この昇降ヘッドに着脱されてペーストを収容するとともに、ペーストを吐出するノズルを備えてなるディスペンサと、前記昇降ヘッドに支持されるミラーと、前記昇降ヘッドに支持され、レーザ光を前記ミラーの介在下で前記基板との間にて投受光し、前記ディスペンサのノズルと基板との距離を測定するレーザセンサと、このレーザセンサの検出結果に基づいて前記ディスペンサのノズルの高さを制御する制御部とを有するペースト塗布装置において、前記ミラーの表面を清掃する清掃装置を設けたものである。
【００１０】
請求項２の発明は、請求項１の発明において更に、前記清掃装置が、清掃具を備えるとともに、該清掃具を待機位置とミラー清掃位置との間で移動する移動装置を備えるようにしたものである。
【００１１】
請求項３の発明は、請求項２の発明において更に、前記清掃具が掻き取りワイパからなるようにしたものである。
【００１２】
請求項４の発明は、請求項２の発明において更に、前記清掃具が回転ドラムからなるようにしたものである。
【００１３】
請求項５の発明は、請求項２〜４のいずれかの発明において更に、前記清掃装置が、清掃具に付着した汚れを排出する真空吸引装置を備えるようにしたものである。
【００１４】
請求項６の発明は、請求項２〜４のいずれかの発明において更に、前記清掃装置が、清掃具に付着した汚れを溶剤により洗浄する洗浄装置を備えるようにしたものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は実施例１に係るペースト塗布装置を示す全体図、図２はペースト塗布装置の塗布動作を示す模式図、図３はステージに内蔵した清掃装置を示す模式図、図４は清掃装置を示す正面図、図５は清掃装置を示す斜視図、図６は清掃装置の清掃動作を示す模式図、図７は清掃装置の変形例を示す正面図、図８は実施例２に係るペースト塗布装置のステージに内蔵した清掃装置を示す模式図、図９は清掃装置を示す正面図、図１０は清掃装置を示す斜視図、図１１は清掃装置の要部の断面図である。
【実施例】
【００１６】
（実施例１）（図１〜図７）
図１に示すペースト塗布装置１０は、架台１１の上面にＹ軸送りテーブル１２が固定して設けられ、Ｙ軸送りテーブル１２上には、このＹ軸送りテーブル１２によってＹ軸方向に移動させられるＸ軸送りテーブル１３が配置されている。Ｘ軸送りテーブル１３の上には、このＸ軸送りテーブル１３によってＸ軸方向に移動させられる平板状のステージ１４が設けられており、ステージ１４上には液晶表示パネルである基板１が保持される。従って、ステージ１４に保持された基板１は、Ｙ軸送りテーブル１２、Ｘ軸送りテーブル１３により、ＸＹ平面内にて移動可能とされる。
【００１７】
ペースト塗布装置１０は、架台１１の上にＸ軸方向に延びる門型コラム１５を固定し、コラム１５の水平桁部に固定した横行ガイド１６に２個の横行ヘッド１７がＸ軸方向に所定の間隔をおいて設けられ、かつ２個の横行ヘッド１７は横行ガイド１６に沿ってＸ軸方向に移動自在に設けられる。これにより、２個の横行ヘッド１７のＸ軸方向の間隔を基板１上に形成する複数のペースト塗布パターンのＸ軸方向の配置間隔に合わせることができる。
【００１８】
ペースト塗布装置１０は、２個の横行ヘッド１７のそれぞれに昇降ヘッド１８が上下方向（Ｚ方向）に移動自在に設けられ、各昇降ヘッド１８は横行ヘッド１７に固定したサーボモータ１９により駆動され（図２）、ステージ１４に対して昇降する。各昇降ヘッド１８にはディスペンサ２０が着脱される。ディスペンサ２０は、ペーストを収容するシリンジ２１を有し、シリンジ２１の先端部にペーストを吐出するノズル２２を備える。
【００１９】
ペースト塗布装置１０の制御部は、ステージ１４の上に基板１を保持する状態で、Ｘ軸方向とＹ軸方向の送りテーブル１２、１３を移動制御して基板１をＸＹ平面内で移動させると同時に、ディスペンサ２０のノズル２２からペーストを吐出させることにより、基板１に所定の塗布パターンでペーストを線引き塗布する。
【００２０】
更に、ペースト塗布装置１０は、図２に示す如く、左右の各昇降ヘッド１８に支持されるレーザセンサ３０とミラー３１を、ディスペンサ２０のノズル２２の近傍に配置する。レーザセンサ３０は、レーザ光をミラー３１の介在下で基板１との間にて投受光し、ディスペンサ２０のノズル２２と基板１との距離を測定する。即ち、レーザセンサ３０から投光されたレーザ光がミラー３１で反射されて基板１に投射され、この基板１で反射されたレーザ光が更にミラー３１で反射されてレーザセンサ３０にて受光される。
【００２１】
ペースト塗布装置１０の制御部は、基板１に前述の如くにペーストを塗布するに際し、昇降ヘッド１８を原位置から下降させつつノズル２２を基板１の塗布開始点の真上に向けて移動させ、レーザセンサ３０の検出結果（ノズル２２と基板１との距離）によるサーボモータ１９のフィードバック制御により、ディスペンサ２０の高さを予め測定された高さ（ノズル２２と基板１との距離Ｂ）に保つように制御する。これにより、ディスペンサ２０のノズル２２から吐出されて基板１に塗布されるペーストの塗布巾や塗布高さを一定にする。図２は、原位置にあるディスペンサ２０のノズル２２がステージ１４に対する距離をＡとし、このディスペンサ２０のノズル２２が基板１の塗布開始点に対する距離をＢに設定制御され、塗布終了後に再び原位置に復帰制御されることを示す。
【００２２】
しかるに、ペースト塗布装置１０は、ディスペンサ２０のノズル２２と基板１の距離を測定するレーザセンサ３０のためのミラー３１に付着するペースト等の汚れを機械的に清掃するため、ミラー３１の表面を清掃する清掃装置４０を有する。
【００２３】
清掃装置４０は、清掃具４０Ａを備えるとともに、清掃具４０Ａを待機位置とミラー清掃位置との間で移動する移動装置５０を備える。清掃装置４０は、図３に示す如く、ステージ１４において、基板１を保持する領域の前寄りに設けた格納凹部１４Ａに格納されて内蔵される。清掃装置４０は、図４、図５に示す如く、移動装置５０を構成する空圧シリンダ５１を格納凹部１４Ａ内に固定し、空圧シリンダ５１のピストンロッド５２に昇降台５３を支持し、清掃具４０Ａを構成する掻き取りワイパ４１を昇降台５３に枢支し、昇降台５３に固定したモータ４２により掻き取りワイパ４１を回転駆動する。掻き取りワイパ４１は、モータ４２の回転軸に固定される本体４１Ａにシリコンゴム等からなるワイパブレード４１Ｂを止めねじ４１Ｃによりねじ止めして構成される。
【００２４】
清掃装置４０は、清掃具４０Ａ（掻き取りワイパ４１）に付着した汚れ（ペースト）を排出する真空吸引装置６０を格納凹部１４Ａ内に備える。真空吸引装置６０は、受け皿６１の掻き取りエッジ６１Ａを掻き取りワイパ４１のワイパブレード４１Ｂの回転軌跡上に配置し、掻き取りワイパ４１に掻き取った汚れを受け皿６１の掻き取りエッジ６１Ａにより更に掻き取り、受け皿６１に捕集した汚れを受け皿６１の底部に連通された真空吸引チューブ６２により吸引排出する。
【００２５】
従って、清掃装置４０は以下の如くに清掃動作する。
(1)ディスペンサ２０の新たなシリンジ２１をセットする等により、ディスペンサ２０のペーストを補充交換したタイミング、又は任意のタイミングで、ペースト塗布装置１０の制御部はＸ軸方向とＹ軸方向の送りテーブル１２、１３を移動制御し、ステージ１４の格納凹部１４Ａに格納してある清掃装置４０を左右一方の昇降ヘッド１８に支持されているミラー３１の直下に位置付ける。
【００２６】
(2)移動装置５０の空圧シリンダ５１を作動させ、清掃具４０Ａとしての掻き取りワイパ４１を格納凹部１４Ａ内の待機位置からミラー清掃位置に位置付けるように上昇させ、掻き取りワイパ４１をミラー３１の表面の前面に配置する（図４、図５）。このとき、掻き取りワイパ４１のワイパブレード４１Ｂはミラー３１の表面に触れない待機角度に設定されている。
【００２７】
(3)モータ４２により掻き取りワイパ４１を回転させ、待機角度から回転せしめられたワイパブレード４１Ｂによりミラー３１の表面の汚れＰ（ペースト）を掻き取る（図６（Ａ）〜（Ｃ））。掻き取り後の掻き取りワイパ４１はモータ４２によりワイパブレード４１Ｂを再び待機角度に戻され、空圧シリンダ５１により再び格納凹部１４Ａ内の待機位置に格納される。
【００２８】
(4)上述(1)〜(3)の清掃動作を左右他方の昇降ヘッド１８に支持してあるミラー３１に対しても行なう。
【００２９】
本実施例によれば以下の作用効果を奏する。
(a)清掃装置４０がミラー３１の表面を機械的に清掃することにより、ミラー３１の汚れがミラー３１によるレーザ光のための正常な反射機能を損なうことがなく、レーザセンサ３０の検出精度を維持し、ディスペンサ２０のノズル２２と基板１の距離を一定に保つことの信頼性を向上し、ペースト塗布装置１０の塗布品質を良好に保つ。即ち、レーザセンサ３０の検出結果がディスペンサ２０のノズル２２と基板１の距離を正確に示すように、レーザセンサ３０とミラー３１をディスペンサ２０のノズル２２に可及的に近接せしめるとき、ノズル２２から吐出されたペーストがミラー３１の側に回り込んでミラー３１の表面に付着したとしても、このミラー３１の表面に付着したペースト等の汚れを清掃装置４０により清掃できる。また、ディスペンサ２０のペーストを補充交換するに際し、ディスペンサ２０に着脱されるノズル２２の先端に付着しているペーストが誤ってミラー３１の表面に付着したとしても、このミラー３１の表面に付着したペースト等の汚れを清掃装置４０により清掃できる。
【００３０】
(b)ペースト塗布装置１０の稼働率を向上させることができる。即ち、ミラー３１の表面が清掃されるから、レーザセンサ３０の検出エラーをおこしてペースト塗布装置１０が異常停止する如くがなく、ペースト塗布装置１０の稼働率を向上させることができる。
【００３１】
(c)ペースト塗布装置１０に従事する作業者によりミラー３１を清掃する必要がなくなり、作業者の負担を軽減させることができる。
【００３２】
(d)清掃装置４０が、移動装置５０の作動により、清掃具４０Ａを待機位置とミラー清掃位置との間で移動する。従って、ディスペンサ２０のペーストを補充交換するタイミング、又は任意のタイミングで、清掃具４０Ａをミラー清掃位置に位置付けてミラー３１の表面を清掃できる。
【００３３】
(e)清掃具４０Ａとしての掻き取りワイパ４１によりミラー３１の表面の汚れを掻き取り除去できる。
【００３４】
(f)清掃具４０Ａに付着した汚れを真空吸引装置６０により吸引して除去し、清掃具４０Ａの清掃性能を安定維持できる。
【００３５】
(g)清掃装置４０をペースト塗布装置１０がもともと有するステージ１４に内蔵し、このステージ１４のＸＹ移動で清掃装置４０をミラー３１の直下に位置付けるようにしたので、清掃装置４０をＸＹ方向に移動させる特別の機構が要らず、よってペースト塗布装置１０の構成を複雑化することなく、上記(a)〜(f)の効果を得ることができる。
【００３６】
図７の変形例の清掃装置４０は、清掃具４０Ａ（掻き取りワイパ４１）に付着した汚れ（ペースト）を溶剤により洗浄する洗浄装置７０を格納凹部１４Ａ内に備えたものである。洗浄装置７０は、掻き取りワイパ４１のワイパブレード４１Ｂの回転軌跡上に配置した受け皿７１に溶剤供給管７２が供給する溶剤を貯留し、受け皿７１内の溶剤によって洗浄された掻き取りワイパ４１の汚れを受け皿７１の掻き取りエッジ７１Ａにより掻き取り、受け皿７１に捕集した汚れを受け皿７１の底部に連通させた排出管７３により排出する。
【００３７】
清掃具４０Ａに付着した汚れを洗浄装置７０の溶剤により洗浄し、清掃具４０Ａの清掃性能を安定維持できる。
【００３８】
（実施例２）
実施例２の清掃装置４０が実施例１の清掃装置４０と異なる点は、図８〜図１１に示す如く、清掃具４０Ａとして、回転ドラム８１を用いたことにある。回転ドラム８１は、不織布、スポンジ等の円筒体からなり、移動装置５０を構成する昇降台５３に固定したモータ８２の回転軸に、ボルト８３により固定される。回転ドラム８１は一定時間の使用後に消耗品とされて交換される。
【００３９】
清掃具４０Ａとしての回転ドラム８１によりミラー３１の表面の汚れをふき取り除去できる。
【００４０】
以上、本発明の実施例を図面により詳述したが、本発明の具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。例えば、ペースト塗布装置１０が複数個の昇降ヘッド１８のそれぞれにレーザセンサ３０及びミラー３１を備えるとき、各昇降ヘッド１８のミラー３１毎に個別に対応する複数個の清掃装置４０を設けても良い。
【００４１】
また、本発明の実施例ではミラー３１の表面全面を清掃するようにしているが、ミラー３１表面におけるレーザセンサ３０のレーザ光の反射部分だけを清掃するようにしても良い。
【００４２】
更には、ペースト塗布は線引き塗布に限られるものでは無く、スポット塗布であって良い。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は実施例１に係るペースト塗布装置を示す全体図である。
【図２】図２はペースト塗布装置の塗布動作を示す模式図である。
【図３】図３はステージに内蔵した清掃装置を示す模式図である。
【図４】図４は清掃装置を示す正面図である。
【図５】図５は清掃装置を示す斜視図である。
【図６】図６は清掃装置の清掃動作を示す模式図である。
【図７】図７は清掃装置の変形例を示す正面図である。
【図８】図８は実施例２に係るペースト塗布装置のステージに内蔵した清掃装置を示す模式図である。
【図９】図９は清掃装置を示す正面図である。
【図１０】図１０は清掃装置を示す斜視図である。
【図１１】図１１は清掃装置の要部の断面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  基板
１０  ペースト塗布装置
１４  ステージ
１８  昇降ヘッド
２０  ディスペンサ
２２  ノズル
３０  レーザセンサ
３１  ミラー
４０  清掃装置
４０Ａ  清掃具
４１  掻き取りワイパ
５０  移動装置
６０  真空吸引装置
７０  洗浄装置
８１  回転ドラム
【図１】
2007222762.tif 000003
【図２】
2007222762.tif 000004
【図３】
2007222762.tif 000005
【図４】
2007222762.tif 000006
【図５】
2007222762.tif 000007
【図６】
2007222762.tif 000008
【図７】
2007222762.tif 000009
【図８】
2007222762.tif 000010
【図９】
2007222762.tif 000011
【図１０】
2007222762.tif 000012
【図１１】
2007222762.tif 000013