(57)【要約】【課題】製造工程数が少なく製造コストの安価な電磁アクチュエータを提供する。【解決手段】枠状の支持部１１と、可動部１３と、可動部１３を揺動可能に軸支する一対のトーションバー１２，１２とを半導体基板で一体形成し、可動部に駆動コイル及び反射ミラー１５を備え、可動部１３のトーションバー１２，１２と平行な両対辺部の駆動コイル部分に静磁界を作用させる一対の永久磁石１７，１７を備え、駆動コイルの一対の電極端子１６Ａ，１６Ｂを支持部１１に設ける電磁アクチュエータ１０において、一方の電極端子１６Ａの接続端１６ａと可動部１３上のコイルパターン終端のコンタクト部１４ａとを、反射ミラー形成時に導通させることで、反射ミラー１７が駆動コイルの一部を兼ねる構成とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠状の支持部と、可動部と、前記支持部の枠内に前記可動部を揺動可能に軸支するトーションバーとを半導体基板で一体形成し、前記可動部に駆動コイル及び反射ミラーを備え、前記可動部の前記トーションバーと平行な両対辺部の駆動コイル部分に静磁界を作用させる静磁界発生手段を備え、前記駆動コイルの一対の電極端子を、前記支持部に設ける構成の電磁アクチュエータであって、
前記駆動コイルが、前記反射ミラーと同時に形成されて前記電極端子と前記可動部上のコイルパターン終端とを接続するコイル部を備える構成としたことを特徴とする電磁アクチュエータ。
【請求項２】
前記駆動コイルが、前記一対の電極端子の他方と接続して前記可動部上に設けられる第１のコイルパターンと、該第１のコイルパターン上に絶縁膜を介して積層され前記第１のコイルパターン終端とコンタクト部を介して導通すると共に前記一対の電極端子の一方と接続する第２のコイルパターンとを備え、該第２のコイルパターンを、前記反射ミラーと同時に形成して前記コイル部を形成する構成としたことを特徴とする請求項１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項３】
前記駆動コイルが、前記一対の電極端子の他方と接続して前記可動部上に設けられるコイルパターンを備え、前記反射ミラーを、前記コイルパターンの終端とコンタクト部を介して導通すると共に前記一対の電極端子の一方と接続するよう前記コイルパターン上に絶縁膜を介して積層形成し、前記反射ミラーが前記コイル部を兼ねる構成としたことを特徴とする請求項１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項４】
前記可動部が、前記反射ミラーを備える内側可動部と該内側可動部の外側に設けた枠状の外側可動部とからなり、前記外側可動部を前記支持部に外側トーションバーで回動可能に軸支し、前記内側可動部を前記外側可動部に外側トーションバーの軸方向に直交する内側トーションバーで回動可能に軸支する構成である請求項１〜３のいずれか１つに記載の電磁アクチュエータ。
【請求項５】
内側可動部駆動用の第１の駆動コイルと外側可動部駆動用の第２の駆動コイルとを形成し、前記第１の駆動コイルが前記コイル部を備える構成である請求項４に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項６】
前記反射ミラーを金で形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の電磁アクチュエータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板を利用した電磁アクチュエータに関し、特に、製造工程数を少なくでき製造コストを低減できる電磁アクチュエータに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体基板を利用したプレーナ型の電磁アクチュエータとして、枠状の支持部と、可動部と、支持部の枠内に可動部を揺動可能に軸支するトーションバーとを半導体基板で一体形成し、可動部に駆動コイルと反射ミラーを設け、トーションバーの軸方向と平行な可動部両対辺部の駆動コイル部分に静磁界を作用させる静磁界発生手段として例えば永久磁石を設けて構成したものがある。
【０００３】
かかる電磁アクチュエータは、駆動回路から供給される電流により駆動コイルに発生する磁界と永久磁石による静磁界との相互作用によりトーションバーの軸方向と平行な可動部両対辺部に作用する電磁力で可動部を駆動して反射ミラーに照射した光ビームを走査する構成であり、光スイッチや光走査デバイス等に適用できる。（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
この種の電磁アクチュエータは、例えば特許文献２に記載されているように半導体製造技術を用いて製造されており、従来の製造工程の概略を図７（ａ）〜（ｆ）に示し、簡単に説明する。
即ち、（ａ）工程で、半導体基板（シリコン基板）１上に１層目コイルパターン２Ａと一方の電極端子領域を形成する。次いで、（ｂ）工程で、コンタクト部形成部を除いてコイルパターン２Ａ上に絶縁膜３を形成する。これによりコンタクト部２ａが形成される。（ｃ）工程で、コンタクト部２ａを介して１層目コイルパターン２Ａと導通する２層目コイルパターン２Ｂと他方の電極端子領域を形成する。これにより、上述の駆動コイルが形成される。次いで、工程（ｄ）で、２層目コイルパターン２Ｂ上と各電極端子領域の一部に保護膜４を形成する。これにより、駆動コイルをワイヤボンディングにより外部回路（図示せず）と電気的に接続するための一対の電極端子部５Ａ，５Ｂが形成される。（ｅ）工程で、枠状の支持部形成部、可動部形成部及びトーションバー形成部を除いた半導体基板部分をエッチングにより除去し、枠状の支持部６、可動部７及び一対のトーションバー８，８を形成する。（ｆ）工程で、可動部７上に反射ミラー９を形成してチップ化する。尚、反射ミラー材料として、例えば金（Ａｕ）のような腐食対策が不要な材料を選択した場合は保護膜が不要であるが、アルミニウム（Ａｌ）等の腐食対策が必要な材料を選択した場合には、（ｆ）工程の後に、反射ミラー９上に保護膜を形成する工程が追加される。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１５３５１８号公報
【特許文献２】特開２００６−４２４８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、この電磁アクチュエータにおいて、電磁駆動力を大きくするにはコイルのターン数を多くする必要がある。このため、従来では、コイル形成工程を複数回行い、コイルパターンを積層することにより、コイルのターン数を多くするようにしている。従って、従来の電磁アクチュエータでは、図７に示したように、コイル形成からチップ化するまでに少なくとも６工程を要し、製造工程が多く製造コストがかかるという問題がある。
【０００７】
本発明は上記問題点に着目してなされたもので、製造工程数が少なく製造コストの安価な電磁アクチュエータを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このため、請求項１の発明は、枠状の支持部と、可動部と、前記支持部の枠内に前記可動部を揺動可能に軸支するトーションバーとを半導体基板で一体形成し、前記可動部に駆動コイル及び反射ミラーを備え、前記可動部の前記トーションバーと平行な両対辺部の駆動コイル部分に静磁界を作用させる静磁界発生手段を備え、前記駆動コイルの一対の電極端子を、前記支持部に設ける構成の電磁アクチュエータであって、前記駆動コイルが、前記反射ミラーと同時に形成されて前記電極端子と前記可動部上のコイルパターン終端とを接続するコイル部を備える構成としたことを特徴とする。
【０００９】
かかる構成では、可動部上のコイルパターン終端と支持部上の電極端子とを接続するコイル部を、反射ミラーと同時に形成することにより、駆動コイル形成と反射ミラー形成が同一工程でできるので、電磁アクチュエータの製造工程数を少なくできるようになる。
【００１０】
具体的には、請求項２のように、前記駆動コイルが、前記一対の電極端子の他方と接続して前記可動部上に設けられる第１のコイルパターンと、該第１のコイルパターン上に絶縁膜を介して積層され前記第１のコイルパターン終端とコンタクト部を介して導通すると共に前記一対の電極端子の一方と接続する第２のコイルパターンとを備え、該第２のコイルパターンを、前記反射ミラーと同時に形成して前記コイル部を形成する構成とするとよい。
【００１１】
また、請求項３のように、前記駆動コイルが、前記一対の電極端子の他方と接続して前記可動部上に設けられるコイルパターンを備え、前記反射ミラーを、前記コイルパターンの終端とコンタクト部を介して導通すると共に前記一対の電極端子の一方と接続するよう前記コイルパターン上に絶縁膜を介して積層形成し、前記反射ミラーが前記コイル部を兼ねる構成とするようにしてもよい。
【００１２】
請求項４の発明は、前記可動部が、前記反射ミラーを備える内側可動部と該内側可動部の外側に設けた枠状の外側可動部とからなり、前記外側可動部を前記支持部に外側トーションバーで回動可能に軸支し、前記内側可動部を前記外側可動部に外側トーションバーの軸方向に直交する内側トーションバーで回動可能に軸支する構成とした。
かかる構成では、反射ミラーにより光ビームを２次元走査することができるようになる。
【００１３】
請求項４の構成の場合、請求項５のように、内側可動部駆動用の第１の駆動コイルと外側可動部駆動用の第２の駆動コイルとを形成し、前記第１の駆動コイルが前記コイル部を備える構成とするとよい。
【００１４】
請求項６のように、前記反射ミラーを金で形成するとよい。
かかる構成では、反射ミラー腐食対策としての保護膜が不要となり、保護膜形成工程を省略できるようになる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の電磁アクチュエータによれば、反射ミラー形成時に電極端子と可動部上の駆動コイルのコイルパターン終端とを電気的に接続して反射ミラーが駆動コイルの一部を兼ねる構成としたので、コイル形成工程の一部を反射ミラー形成工程で置き換えることができ、パターニング等の面倒な作業を必要とするコイル形成工程を少なくできる。従って、製造工程数を削減でき、電磁アクチュエータの製造コストを低減できる利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１に、本発明に係る電磁アクチュエータの第１実施形態の平面図を示す。
図１において、本実施形態の電磁アクチュエータ１０は、枠状の支持部１１に、一対のトーションバー１２，１２を介して可動部１３が回動可能に軸支されている。これら支持部１１、トーションバー１２，１２及び可動部１３は、例えばシリコン基板等の半導体基板により一体的に形成される。可動部１３には、周縁部に通電により磁界を発生する駆動コイル１４（図２に示す）が、コイルパターン終端のコンタクト部１４ａ（図中、点線で示す）を除いて絶縁膜２３で覆われて敷設されている。また、可動部１３、トーションバー１２，１２及び支持部１１にかけて、例えば金やアルミニウム等の金属材料で形成された反射ミラー１５が設けられている。
【００１７】
支持部１１には、例えばワイヤボンディングにより外部回路と電気的に接続して駆動コイル１４を外部回路と接続するための一対の電極端子１６Ａ，１６Ｂが設けられている。一方の電極端子１６Ａは、絶縁膜２３で覆われていない接続端１６ａが前記反射ミラー１５を介してコイルパターン終端の前記コンタクト部１４ａと接続し可動部１３上のコイルパターンと接続することにより駆動コイル１４の一端に接続する。他方の電極端子１６Ｂは、可動部１３上のコイルパターンと一体形成されることにより駆動コイル１４の他端に接続する。従って、反射ミラー１５が、一方の電極端子１６Ａと可動部１３上のコイルパターン終端とを接続するコイル部を兼ねている。
【００１８】
支持部１１のトーションバー１２，１２の軸方向と平行な対辺部の外方に、トーションバー１２，１２の軸方向と平行な可動部両対辺部の駆動コイル部分に静磁界を作用する一対の静磁界発生手段として永久磁石１７，１７が、互いに反対磁極が対向するようにして設けられている。尚、静磁界発生手段は電磁石でもよい。
【００１９】
次に、図２を参照して、第１実施形態の電磁アクチュエータ１０の製造工程を説明する。
（ａ）工程では、シリコン基板２１上の所定位置に駆動コイル１４と一対の電極端子領域２２Ａ，２２Ｂを形成する。例えば、シリコン基板２１の表裏面を熱酸化した後、酸化膜上に例えばアルミニウム薄膜をスパッタリング等により形成し、駆動コイル１４のコイルパターン、一対の電極端子領域、コイルパターン終端のコンタクト部１４ａにそれぞれ相当する部分を、ポジ型レジストでマスクし、アルミニウム薄膜をエッチングした後、ポジ型レジストを除去する。これにより、駆動コイル１４、一対の電極端子領域２２Ａ，２２Ｂ及びコンタクト部１４ａが形成される。
【００２０】
（ｂ）工程では、例えば、感光性ポリイミドを塗布し、コンタクト部形成部を除いた駆動コイル部分と電極端子形成部及び接続端形成部を除いた電極端子領域２２Ａ，２２Ｂをマスクした後、ポリイミドを除去することにより、コンタクト部１４ａを除いた駆動コイル１４部分と電極端子形成部及び接続端形成部を除いた電極端子領域２２Ａ，２２Ｂを絶縁膜２３で覆う。これにより、コンタクト部１４ａ、一対の電極端子１６Ａ，１６Ｂ及び接続端１６ａが形成される。
【００２１】
（ｃ）工程では、シリコン基板２１の、支持部形成部、可動部形成部及びトーションバー形成部を除いた部分をエッチングにより除去する。これにより、支持部１１、一対のトーションバー１２，１２及び可動部１３が形成される。
【００２２】
（ｄ）工程では、接続端１６ａ及びコンタクト部１４ａを含んで、可動部１３、トーションバー１２，１２及び支持部１１にかけて、例えば金の薄膜を蒸着やスパッタリング等により形成して反射ミラー１５を形成する。これにより、接続端１６ａとコンタクト部１４ａが反射ミラー１５を介して電気的に接続し、可動部１３上のコイルパターン終端と電極端子１６Ａを電気的に接続するコイル部を反射ミラー１５が兼ねることになる。
尚、反射ミラー材料としてアルミニウム等の腐食対策を必要とする材料を用いた場合は、（ｄ）工程の後に保護膜形成工程を設ければよい。
【００２３】
かかる構成の電磁アクチュエータ１０によれば、反射ミラー１５が駆動コイル１４の一部を兼ねる構成とし、反射ミラー１５の形成と同時に一方の電極端子１６Ａと可動部１３上の駆動コイル１４のコイルパターンとを電気的に接続することで、２層目コイルの形成工程を反射ミラー形成工程で置き換えることができ、面倒なコイル形成工程を１回にできる。従って、製造工程数を削減でき、電磁アクチュエータの製造コストを低減できる利点がある。また、反射ミラー材料として金のような腐食対策が不要な材料を用いれば、保護膜の形成工程も省略できる。
【００２４】
この電磁アクチュエータ１０の動作は、従来と同様で、外部駆動回路から可動部１３上の駆動コイル１４に電流を供給すると磁界が発生し、この磁界と永久磁石１７，１７による静磁界との相互作用によりローレンツ力が発生し、トーションバー１２，１２の軸方向と平行な可動部両対辺部に互いに逆方向の電磁力が発生し、トーションバー１２，１２を軸中心として可動部１３が回動する。この回動動作に伴ってトーションバー１２，１２が捩じられトーションバー１２，１２にばね力が発生し、このトーションバー１２，１２のばね力と発生した電磁力とが釣合う位置まで可動部１３は回動する。
【００２５】
駆動コイル１４に直流電流を流せば電流量に応じた回動位置で可動部１３は停止するので、電流量に応じて可動部１３の回動角度を制御して光ビームを所望の方向に偏向可能な光偏向器を実現できる。駆動コイル１４に正弦波等の交流電流を流せば可動部１３が揺動するので、反射ミラー１５により光ビームを偏向走査することができる。駆動コイル１４に供給する交流電流の周波数を可動部１３の揺動運動の共振周波数に設定すれば、一定周期で連続走査可能な光走査デバイスが実現できる。
【００２６】
次に、本発明の電磁アクチュエータの第２実施形態について説明する。
図３に、第２実施形態の平面図を示す。尚、第１実施形態と同一要素には同一符号を付してある。
図３において、本実施形態の電磁アクチュエータ３０は、駆動コイル１４、一方の電極端子１６Ａ及び反射ミラー１５の形態が第１実施形態と異なり、その他の構成は第１実施形態と同様である。ここでは、駆動コイル１４、一方の電極端子１６Ａ及び反射ミラー１５の形態について説明する。
【００２７】
駆動コイル１４は、図４の製造工程図で示すが、電極端子１６Ｂと一体形成されて電気的に接続する第１のコイルパターン１４Ａと、第１のコイルパターン１４Ａ上に絶縁膜２３を介して積層され第１のコイルパターン１４Ａ終端とコンタクト部１４ａを介して導通する第２のコイルパターン１４Ｂを備える。そして、第２のコイルパターン１４Ｂ、反射ミラー１５及び一方の電極端子１６Ａは、同時に一体形成され同一材料からなる。従って、第２のコイルパターン１４Ｂが、一方の電極端子１６Ａと駆動コイル１４の第１のコイルパターン終端とを接続するコイル部となる。
【００２８】
図４を参照して、第２実施形態の電磁アクチュエータ３０の製造工程を説明する。
（ａ）工程では、図２の（ａ）工程と同様に、シリコン基板３１上の所定位置に駆動コイル１４の第１のコイルパターン１４Ａと電極端子１６Ｂを形成する。
（ｂ）工程では、図２の（ｂ）工程と同様に、コンタクト部形成部と電極端子形成部を除いて第１のコイルパターン１４Ａ上に絶縁膜２３を形成する。
【００２９】
（ｃ）工程では、第１のコイルパターン１４Ａの電極端子１６Ａと接続する引き出し部分と電極端子１６Ｂ部分をマスクし、シリコン基板３１全面に、例えば金の薄膜を蒸着やスパッタリング等により形成し、（ａ）工程と同様に、駆動コイル１４の第２のコイルパターン１４Ｂ、反射ミラー１５及び電極端子１６Ａを形成し、前記引き出し部分と電極端子１６Ｂ部分のマスクを除去する。これにより、第１のコイルパターン１４Ａと第２のコイルパターン１４Ｂがコンタクト部１４ａを介して電気的に接続されて駆動コイル１４が形成され、駆動コイル１４が電極端子１６Ａに電気的に接続する。
【００３０】
（ｄ）工程では、図２の（ｃ）工程と同様に、シリコン基板３１の、支持部形成部、可動部形成部及びトーションバー形成部を除いた部分をエッチングにより除去し、これにより、支持部１１、一対のトーションバー１２，１２及び可動部１３が形成される。
尚、反射ミラー材料としてアルミニウム等の腐食対策を必要とする材料を用いた場合は、（ｃ）或いは（ｄ）工程の後に保護膜形成工程を設ければよい。
【００３１】
かかる構成の電磁アクチュエータ３０の場合も、第１実施形態と同様に、製造工程数を削減でき電磁アクチュエータの製造コストを低減できる利点がある。また、反射ミラー材料として金のような腐食対策が不要な材料を用いれば、保護膜の形成工程も省略できる。
【００３２】
次に、本発明の電磁アクチュエータの第３実施形態について説明する。
図５は、本発明の第３実施形態である２次元タイプの平面図を示す。
図５において、第３実施形態の電磁アクチュエータ４０は、枠状の支持部４１に、一対の外側トーションバー４２Ａ，４２Ａを介して枠状の外側可動部４３Ａが回動可能に軸支されている。外側可動部４３Ａには、外側トーションバー４２Ａ，４２Ａの軸方向に直交する一対の内側トーションバー４２Ｂ，４２Ｂを介して平板状の内側可動部４３Ｂが回動可能に軸支されている。これら支持部４１、外側及び内側のトーションバー４２Ａ，４２Ａ、４２Ｂ，４２Ｂ及び外側及び内側の可動部４３Ａ，４３Ｂは、シリコン基板等の半導体基板で一体的に形成される。外側可動部４３Ａには、通電により磁界を発生する第２の駆動コイルである外側駆動コイル４４Ａ（図６に示す）が敷設され、内側可動部４３Ｂには、通電により磁界を発生する第１の駆動コイルである内側駆動コイル４４Ｂ（図６に示す）が設けられている。外側駆動コイル４４Ａは、絶縁膜５２により全面が覆われ、内側駆動コイル４４Ｂは、コイルパターン両端のコンタクト部４４ａ，４４ｂ（図中、点線で示す）を除いて前記絶縁膜５２で覆われている。
【００３３】
支持部４１には、例えばワイヤボンディングにより外部回路と電気的に接続して外側駆動コイル４４Ａと内側駆動コイル４４Ｂを外部回路と接続するための一対の外側電極端子４５Ａ，４５Ｂと一対の内側電極端子４６Ａ，４６Ｂがそれぞれ設けられている。外側駆動コイル４４Ａは外側電極端子４５Ａ，４５Ｂと直接電気的に接続されている。内側駆動コイル４４Ｂは、内側可動部４３Ｂ、外側可動部４３Ａ、外側トーションバー４２Ａ，４２Ａ及び支持部４１にかけて形成した例えば金やアルミニウム等の金属材料からなる反射ミラー４７を介してそのコンタクト部４４ａ，４４ｂと内側電極端子４６Ａ，４６Ｂが電気的に接続されている。従って、反射ミラー４７が、内側電極端子４６Ａ，４６Ｂと内側可動部４３Ｂ上のコイルパターン終端とを接続するコイル部を兼ねている。
【００３４】
支持部４１の外方には、外側トーションバー４２Ａ，４２Ａの軸方向と平行に一対の永久磁石４８Ａ，４８Ａと、内側トーションバー４２Ｂ，４２Ｂの軸方向と平行に一対の永久磁石４８Ｂ，４８Ｂとが、互いに反対磁極が対向するようにして設けられている。これらは、外側可動部両対辺部の駆動コイル部分と内側可動部両対辺部の駆動コイル部分とにそれぞれ静磁界を作用する。
【００３５】
次に、図６を参照して、第３実施形態の電磁アクチュエータ４０の製造工程を説明する。
（ａ）工程では、第１実施形態と同様にして、シリコン基板５１上の所定位置に外側駆動コイル４４Ａ、内側駆動コイル４４Ｂ、外側電極端子４５Ａ，４５Ｂ、内側電極端子４６Ａ，４６Ｂ及びコンタクト部４４ａ，４４ｂを形成する。ここで、外側駆動コイル４４Ａは、一回のコイル形成工程で複数ターン形成するために、シリコン基板５１の外側トーションバー形成部を介して支持部形成部にコイルパターンを引き回して形成する。また、内側駆動コイル４４Ｂも、一回のコイル形成工程で内側可動部形成部に複数ターン形成する。
【００３６】
（ｂ）工程では、外側電極端子４５Ａ，４５Ｂ、内側電極端子４６Ａ，４６Ｂ及びコンタクト部４４ａ，４４ｂを除いた外側駆動コイル４４Ａ部分及び内側駆動コイル４４Ｂ部分を絶縁膜５２で覆う。
【００３７】
（ｃ）工程では、シリコン基板５１の、支持部形成部、内外の可動部形成部及びトーションバー形成部を除いた部分をエッチングにより除去する。これにより、支持部４１、内外の一対のトーションバー４２Ａ，４２Ａ、４２Ｂ，４２Ｂ及び内外の可動部４３Ａ，４３Ｂが形成される。
【００３８】
（ｄ）工程では、コンタクト部４４ａ，４４ｂと内側電極端子４６Ａ，４６Ｂが反射ミラー４７で電気的に接続するよう、例えば金の薄膜を蒸着やスパッタリング等により形成して反射ミラー４７を形成する。これにより、内側駆動コイル４４Ｂと内側電極端子４６Ａ，４６Ｂが反射ミラー４７を内側駆動コイル４４Ｂの一部として介して電気的に接続する。
尚、反射ミラー材料としてアルミニウム等の腐食対策を必要とする材料を用いた場合は、（ｄ）工程の後に保護膜形成工程を設ければよい。
【００３９】
かかる構成の２次元タイプの電磁アクチュエータ４０の場合も、反射ミラー４７が内側駆動コイル４４Ｂの一部を兼ねる構成とすることで、面倒なコイル形成工程を従来に比べて少なくできる。従って、製造工程数を削減でき、電磁アクチュエータの製造コストを低減できる利点がある。
【００４０】
２次元タイプの電磁アクチュエータ４０の動作原理は、第１及び第２実施形態の１次元タイプと同様で、外側駆動コイル４４Ａへの通電により発生する磁界と永久磁石４８Ａ，４８Ａによる静磁界との相互作用により外側可動部４３Ａが、外側トーションバー４２Ａ，４２Ａを軸中心として回動し、内側駆動コイル４４Ｂへの通電により発生する磁界と永久磁石４８Ｂ，４８Ｂによる静磁界との相互作用により内側可動部４３Ｂが、内側トーションバー４２Ｂ，４２Ｂを軸中心として回動する。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係る電磁アクチュエータの第１実施形態を示す平面図
【図２】第１実施形態の製造工程の説明図
【図３】本発明に係る電磁アクチュエータの第２実施形態を示す平面図
【図４】第２実施形態の製造工程の説明図
【図５】本発明に係る電磁アクチュエータの第３実施形態を示す平面図
【図６】第３実施形態の製造工程の説明図
【図７】従来の電磁アクチュエータの製造工程の説明図
【符号の説明】
【００４２】
１０，３０，４０    電磁アクチュエータ
１１，４１    支持部
１２，４２Ａ，４２Ｂ    トーションバー
１３，４３Ａ，４３Ｂ    可動部
１４，４４Ａ，４４Ｂ    駆動コイル
１４ａ，４４ａ，４４ｂ    コンタクト部
１５，４７    反射ミラー
１６Ａ，１６Ｂ，４５Ａ，４５Ｂ，４６Ａ，４６Ｂ    電極端子
１７，４８Ａ，４８Ｂ    永久磁石（静磁界発生手段）
【図１】
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【図２】
2007252124.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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