(57)【要約】【課題】ソフトウェア・プロセスを実行するための方法、制御装置およびリソグラフィ装置の提供。【解決手段】複数のタスクを有する、リアルタイム・ソフトウェア・プロセスなどのソフトウェア・プロセスを実行する方法が開示されている。この方法は、プロセスの複数のタスクのうちの或るタスクを開始する段階と、開始したタスクの進捗をモニターする段階と、モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階と、モニターした進捗と所望の進捗が一致していない場合、複数のタスクのうちの或るタスクの少なくとも一部を省略する段階と、完了したタスクの結果を利用してプロセスを実行する段階を含む。進捗のモニターは、タスクが完了した時点、または、所定時点で実行できる。【選択図】図２
2007018512.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行する方法において、
前記プロセスにおける前記複数のタスクのうちの或るタスクを開始する段階と、
開始したタスクの進捗をモニターする段階と、
モニターした進捗と所望の進捗とを比較する段階と、
前記モニターした進捗と前記所望の進捗とが一致していない場合、前記複数のタスクのうちの或るタスクの少なくとも一部を省略する段階と、
完了したタスクの結果を利用して前記プロセスの出力を提供する段階とを含むソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項２】
前記開始したタスクの進捗をモニターする段階が所定の時点で実行され、前記所望の進捗が前記所定の時点における所望の進捗からなる請求項１に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項３】
前記開始したタスクの進捗をモニターする段階が、前記タスクが完了した時点で実行され、前記モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階が、前記タスクの完了時間と前記タスクの所望の完了時間を比較する段階を含む請求項１に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項４】
前記開始させる段階、前記モニターする段階、前記比較する段階、前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致していない場合の前記省略する段階および前記提供する段階を含むサイクルが反復される請求項１に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項５】
前記サイクルの各反復が、固定時間間隔で実行される請求項４に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項６】
前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致しない場合に、或るタスクが少なくとも部分的に省略されると、完了したタスクの結果を利用して前記プロセスの出力を提供する際に、その前に実行された同じタスクの結果がそのタスクの結果として使用される請求項４に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項７】
前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致しない場合に、或るタスクが少なくとも部分的に省略されると、完了したタスクの結果を利用して前記プロセスの出力を提供する際に、そのタスクの結果が省略される請求項４に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項８】
前記複数のタスクが、時間に非常に厳格な複数のタスクから成る組および前記複数のタスクの残りの部分を含み、前記複数のタスクの前記残りの部分の反復が、前記複数のタスクの前記残りの部分のその反復の結果を必要とする反復よりも早期の前記サイクルの反復で実行される請求項４に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項９】
前記モニターする段階、前記比較する段階および前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致していない場合の前記省略する段階が、個々のサイクル内で反復される請求項４に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１０】
前記複数のタスクのうちの或るタスクの少なくとも一部を省略する前記段階が、優先順位リストに基づいて実行される請求項１に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１１】
前記ソフトウェア・プロセスがフィードフォワード・フィードバック制御装置を含み、前記制御装置のフィードフォワード・タスクのランクの優先順位が、前記制御装置のフィードバック・タスクのランクの優先順位よりも高い請求項１０に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１２】
前記ソフトウェア・プロセスが、リソグラフィ装置の基板テーブルの長ストローク・短ストローク位置制御装置の組合せを含み、前記制御装置の短ストローク位置制御タスクのランクの優先順位が、前記制御装置の長ストローク位置制御タスクのランクの優先順位よりも高い請求項１０に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１３】
前記位置制御装置が比例積分微分制御装置を含み、前記比例積分微分制御装置の優先順位が前記短ストローク・制御装置の優先順位よりも低い請求項１２に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１４】
前記基板テーブルの走査方向の位置を制御するための前記位置制御装置のタスクの優先順位がその他の方向の優先順位よりも高い請求項１２に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１５】
前記ソフトウェア・プロセスがリアルタイム制御プロセスを含む請求項１に記載されたソフトウェア・プロセスを実行する方法。
【請求項１６】
複数のタスクを含むソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法において、
前記プロセスにおける前記複数のタスクのうちの或るタスクを開始する段階と、
開始したタスクの進捗をモニターする段階と、
モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階と、
前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致していない場合、前記複数のタスクのうちの或るタスクの少なくとも一部を省略する段階と、
完了したタスクの結果を利用して前記プロセスの出力を提供する段階とを含むソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項１７】
前記開始したタスクの進捗をモニターする段階が所定の時点で実行され、前記所望の進捗が前記所定時点における所望の進捗からなる請求項１６に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項１８】
前記開始したタスクの進捗をモニターする段階が、前記タスクが完了した時点で実行され、前記モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階が、前記タスクの完了時間と前記タスクの所望の完了時間を比較する段階を含む請求項１６に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項１９】
前記開始する段階、前記モニターする段階、前記比較する段階、前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致していない場合の前記省略する段階および前記提供する段階を含むサイクルを反復する請求項１６に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２０】
前記サイクルの各反復を、固定時間間隔で実行する請求項１９に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２１】
前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致しない場合に、或るタスクが少なくとも部分的に省略されると、完了したタスクの結果を用いて前記プロセスの出力を提供する際に、先に実行された同じタスクの結果が前記或るタスクの結果として用いられる請求項１９に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２２】
前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致しない場合に、或るタスクが少なくとも部分的に省略されると、完了したタスクの結果を用いて前記プロセスの出力を提供する際に、前記或るタスクの結果が省略される請求項１９に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２３】
前記複数のタスクが、時間に非常に厳格な複数のタスクから成る組および前記複数のタスクのうちの残部を含み、
前記複数のタスクのうちの前記残部の反復は、前記複数のタスクのうちの前記残部の反復の結果を必要とする間の反復よりも早期の前記サイクルの反復で実行される請求項１９に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２４】
前記モニターする段階、前記比較する段階、および、前記モニターした進捗と前記所望の進捗が一致していない場合の前記省略する段階が、個々のサイクル内で反復される請求項１９に記載された方法。
【請求項２５】
前記複数のタスクのうちの或るタスクの少なくとも一部を省略する前記段階が、優先順位リストに基づいて実行される請求項１６に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２６】
前記ソフトウェア・プロセスがフィードフォワード・フィードバック制御装置を含み、前記制御装置のフィードフォワード・タスクのランクの優先順位が、前記制御装置のフィードバック・タスクのランクの優先順位よりも高い請求項２５に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２７】
前記ソフトウェア・プロセスが、リソグラフィ装置の基板テーブルの長ストローク−短ストローク位置制御装置の組合せを含み、前記制御装置の短ストローク位置制御タスクのランクの優先順位が、前記制御装置の長ストローク位置制御タスクのランクの優先順位よりも高い請求項２５に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２８】
前記位置制御装置が比例積分微分制御装置を含み、前記比例積分微分制御装置の優先順位が前記短ストローク・制御装置の優先順位よりも低い請求項２５に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項２９】
前記基板テーブルの走査方向の位置を制御するための前記位置制御装置のタスクの優先順位が、その他の方向の優先順位よりも高い請求項２５に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項３０】
前記ソフトウェア・プロセスがリアルタイム制御プロセスを含む請求項１６に記載されたソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行する方法。
【請求項３１】
複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行するようになされた制御装置において、請求項１に記載された方法を実行するためのプログラム命令を含む制御装置。
【請求項３２】
複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行するようになされた制御装置において、請求項１６に記載された方法を実行するためのプログラム命令を含む制御装置を含むリソグラフィ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ソフトウェア・プロセスを実行するための方法、制御装置および前記方法を実行するためのプログラム命令を含むリソグラフィ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板、一般的には基板の目標部分に所望パターンを適用する機械である。リソグラフィ装置は、たとえば集積回路（ＩＣ）の製造に使用できる。このような場合、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを発生するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターン付与デバイスが用いられる。このパターンは、基板（たとえば、シリコン・ウェハ）上の目標部分（たとえば、部分的に１つまたは複数のダイを含む）に転写される。パターンの転写は、通常、基板上に付与された放射線感応材料（レジスト）の層への画像形成による。通常、単一の基板は、順次パターン付与される、網目状をなして互いに隣接する複数の目標部分を含む。従来のリソグラフィ装置には、パターン全体を１回で目標部分に露光することによって目標部分の各々が照射される所謂ステッパと、パターンを放射ビームで所定方向（走査方向）に走査し、かつ、基板をこの方向に平行または反平行に同期走査することによって目標部分の各々が照射される所謂スキャナがある。また、パターンを基板にインプリントすることによってパターン付与デバイスから基板にパターンを転写することもできる。
【０００３】
リソグラフィ装置およびその他の多くのアプリケーションでは、リアルタイム・ソフトウェアを適用できる。リアルタイム・ソフトウェアという用語は、ここでは、タスク（仕事）を実行し、および／または、別の作業（ａｃｔｉｖｉｔｙ：アクティビティ）に時間との関係で出力を提供するソフトウェアとして理解できる。つまり、リアルタイム・ソフトウェアの動作の適切性は、ソフトウェアの結果の論理的適切性に依存しているだけでなく、ソフトウェアの結果が提供される時間にも依存している。
その他の作業は物理的プロセスであってよく、該物理的プロセスは、あらゆる種類の物理量（リソグラフィ装置またはその他のデバイスの可動部分の位置決め、放射源による照射等）、プロセスから得られるデータを特定の時点で必要とする統合制御システム、あらゆる種類の機械（リソグラフィ装置、エンジン等）の制御、或る種のデータが所定時点で与えられる電気通信装置、または、コンピュータ・ネットワーク装置等に関するものである。ソフトウェアという用語は、あらゆる種類の処理手段、たとえばマイクロプロセッサー、マイクロ制御装置、デジタル信号プロセッサー、またはプログラム可能な集積回路等、その他のあらゆる種類のプログラム可能なデバイスによる実行に適するあらゆる種類のプログラム命令が含まれるものとして理解すべきである。通常、ソフトウェアを実行する処理手段には各種プロセスまたはその他の作業がロードされる。たとえば、場合によっては処理手段が多数タスク環境に置かれ、したがって複数のプロセスの実行を要求される場合もある。したがって、処理手段は、プロセス毎に複数の作業を実行することになる。通常、処理手段の負荷は、種々の理由によって常に変化する可能性があるが、この負荷の変化が場合によっては当該プロセスの出力の提供を時間に非常に厳格なものにしている。また、場合によっては、突発事象、追加タスクなどによってプロセッサーに大きな負荷がかかるため、或いはキャッシュ・メモリのデータ、プロセスまたは同じ処理手段によって実行されるその他のプロセスに与えられるコマンドの紛失等のその他の理由により、処理手段によって特定のプロセスまたはプロセスの一部で費やされる時間が変化することもある。したがって、計算時間が期待時間を超過することがあり、そのために、或る時点における利用可能なプロセス（の一部）の結果が時間的に遅すぎる事態を生じることがある。これは、プロセスと相互作用するあらゆる作業の性能がこのような遅延によって低下することになるため、望ましいことではない。
【０００４】
一実施例として、ソフトウェア・プロセスは、たとえば、リソグラフィ装置の基板テーブルのサーボ制御等のサーボ制御ループを制御するための制御プロセスを含むことができる。この実施例の場合、処理手段上で走るソフトウェア・プロセスによって制御を実行できる。何らかの理由によってプロセスの出力が遅れると、基板テーブルに作用することになる種々の力、たとえば基板テーブルを駆動するモータによる力等の力および／または各種外乱力が基板テーブルに継続的に作用することになるため、まず最初に基板テーブルの位置決めの性能に影響が及び、したがって基板テーブルの位置、速度、加速度等に影響が及ぶ。また、プロセスの遅延の変化は、サーボ・ループの安定性、動的性能およびその他の特性に悪影響を及ぼす。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ソフトウェア・プロセスのタイミングおよび／または性能の改善が望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施例によれば、複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行するための方法が提供される。この方法は、プロセスの複数のタスクのうちの１つのタスクを開始させる段階と、開始したタスクの進捗をモニターする段階と、モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階と、モニターした進捗と所望の進捗が一致していない場合、複数のタスクのうちの１つのタスクの少なくとも一部を省略する段階と、完了したタスクの結果を利用してプロセスの出力を提供する段階とを含む。
【０００７】
本発明のその他の実施例では、複数のタスクを含むソフトウェア制御プロセスをリソグラフィ装置で実行するための方法が提供される。この方法は、プロセスの複数のタスクのうちの１つのタスクを開始させる段階と、開始したタスクの進捗をモニターする段階と、モニターした進捗と所望の進捗を比較する段階と、モニターした進捗と所望の進捗が一致していない場合、複数のタスクのうちの１つのタスクの少なくとも一部を省略する段階と、完了したタスクの結果を利用してプロセスの出力を提供する段階とを含む。
【０００８】
本発明のその他の実施例によれば、複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行するようになされた制御装置が提供される。制御装置は、本発明の一実施例による方法を実行するためのプログラム命令を備えている。
【０００９】
本発明のさらに別の実施例によれば、複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスを実行するようになされた制御装置であって、本発明の一実施例による方法を実行するためのプログラム命令を含む制御装置を含むリソグラフィ装置が提供される。
【００１０】
以下、添付図を見ながら、単なる実施例として本発明について説明する。図において、同じ参照符号は同じ部品を示す。
【実施例】
【００１１】
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を略図で示したものである。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（たとえばＵＶ放射または適切なその他の任意の放射）を条件付けるようになされた照明系（イルミネータ）ＩＬ、パターン付与デバイス（たとえばマスク）ＭＡを支持するように構築された、特定のパラメータに従って該パターン付与デバイスを正確に位置決めするようになされた第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたマスク支持構造（たとえばマスク・テーブル）ＭＴを備えている。また、このリソグラフィ装置は、基板（たとえばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するように構築された、特定のパラメータに従って該基板を正確に位置決めするようになされた第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（たとえばウェハ・テーブル）ＷＴすなわち「基板サポート」を備えている。このリソグラフィ装置は、さらに、パターン付与デバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（たとえば１つまたは複数のダイが含まれている）に投影するようになされた投影系（たとえば屈折投影レンズ系）ＰＳを備えている。
【００１２】
照明系は、放射を導き、整形し、或いは制御するための、屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品、静電光学部品またはその他の種類の光学部品、或いはそれらの任意の組合せなどの各種光学部品を備えることができる。
【００１３】
マスク支持構造は、パターン付与デバイスの配向、リソグラフィ装置の設計およびその他の条件、たとえばパターン付与デバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターン付与デバイスを保持している。マスク支持構造には、パターン付与デバイスを保持するための機械式クランプ技法、真空クランプ技法、静電クランプ技法またはその他のクランプ技法を使用できる。マスク支持構造は、たとえば必要に応じて固定または移動させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。マスク支持構造は、パターン付与デバイスをたとえば投影系に対して所望の位置に確実に配置できる。本明細書における「レチクル」または「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターン付与デバイス」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１４】
本明細書で用いられる「パターン付与デバイス」という用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用できる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンに移相フィーチャーまたは所謂補助フィーチャーが含まれている場合、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応する。
【００１５】
パターン付与デバイスは、透過型であっても或いは反射型であってもよい。パターン付与デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能なミラー・アレイおよびプログラム可能なＬＣＤパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相および減衰移相などのマスク・タイプ、並びに様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。プログラム可能なミラー・アレイの実施例では、入射する放射ビームが異なる方向に反射するように個々に傾斜させることができる、マトリックス配列された微小ミラー群が用いられる。この傾斜ミラーによって、ミラー・マトリックスで反射する放射ビームにパターンが付与される。
【００１６】
本明細書に使用されている「投影系」という用語は、たとえば使用する露光放射に適した、若しくは液浸液の使用または真空の使用などのその他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁光学系および静電光学系またはそれらの任意の組合せを始めとする任意の種類の投影系が包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影系」という用語の同義語と見なすことができる。
【００１７】
図に示すように、このリソグラフィ装置は、透過型（たとえば透過型マスクを使用した）種類の装置である。別法としては、このリソグラフィ装置は、反射型（たとえば上で参照した種類のプログラム可能なミラー・アレイを使用した、または反射型マスクを使用したもの）の装置であってもよい。
【００１８】
リソグラフィ装置は、２つ（二重ステージ）以上の基板テーブルすなわち「基板サポート」（および／または複数のマスク・テーブルすなわち「マスク・サポート」）を有する種類の装置であってもよい。このような「多重ステージ」機械の場合、追加テーブルすなわちサポートを並列に使用することができ、或いは１つまたは複数のその他のテーブルすなわちサポートを露光のために使用している間、１つまたは複数のテーブルすなわちサポートに対して予備ステップを実行できる。
【００１９】
また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影系と基板の間の空間が充填される種類の装置であってもよい。また、リソグラフィ装置内のその他の空間、たとえばマスクと投影系の間の空間に液浸液を適用することも可能である。液浸技法を使用することによって投影系の開口数を大きくできる。本明細書に使用されている「液浸」という用語は、基板などの構造を液体中に浸すことを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影系と基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。
【００２０】
図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取っている。放射源がたとえばエキシマ・レーザである場合、放射源およびリソグラフィ装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとは見なされず、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラーおよび／またはビーム・エキスパンダを含むビーム伝送系ＢＤを用いて放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ引き渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置の一構成要素にすることができる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要に応じてビーム伝送系ＢＤと共に放射系と呼ぶことができる。
【００２１】
イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するようになされたアジャスタＡＤを備えることができる。通常、イルミネータの瞳面における強度分布の少なくとも半径方向外側範囲および／または半径方向内側範囲（一般に、それぞれ、外側σ、内側σと呼ばれる）は調整可能である。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどのその他の種々の部品を含むことができる。イルミネータを用いて放射ビームを条件付け、所望する一様な強度分布をその断面に持たせることができる。
【００２２】
マスク支持構造（たとえばマスク・テーブルＭＴ）の上に保持されているパターン付与デバイス（たとえばマスクＭＡ）に放射ビームＢが入射し、パターン付与デバイスによってパターン化される。マスクＭＡを透過した放射ビームＢは、放射ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させる投影系ＰＳを通過する。基板テーブルＷＴは、第２の位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ（たとえば干渉デバイス、直線エンコーダまたは容量センサ）を用いて正確に移動させることができ、それによりたとえば異なる目標部分Ｃを放射ビームＢの光路内に配置できる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭおよびもう１つの位置センサ（図１には明確に示されていない）を用いて、たとえばマスク・ライブラリから機械的に検索した後、または走査中に、マスクＭＡを放射ビームＢの光路に対して正確に配置できる。通常、マスク・テーブルＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成している長ストローク・モジュール（粗位置決め）および短ストローク・モジュール（精密位置決め）を用いて実現できる。同様に、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」の移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成している長ストローク・モジュールおよび短ストローク・モジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナではなく）、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、或いは固定することも可能である。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク位置合せマークＭ１、Ｍ２および基板位置合せマークＰ１、Ｐ２を用いて整列させることができる。図には専用目標部分を占有している基板位置合せマークが示されているが、基板位置合せマークは、目標部分と目標部分の間の空間に配置することも可能である（このような基板位置合せマークは、スクライブ・レーン・アライメント・マークとして知られている）。同様に、複数のダイがマスクＭＡの上に提供される場合、ダイとダイの間にマスク位置合せマークを配置できる。
【００２３】
図に示す装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも１つのモードで使用できる。
１．ステップ・モード：マスク・テーブルＭＴすなわち「マスク・サポート」および基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Ｃに１回で投影される（すなわち単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」がＸ方向および／またはＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Ｃのサイズが制限される。
２．走査モード：放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブルＭＴすなわち「マスク・サポート」および基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」が同期走査される（すなわち単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴすなわち「マスク・サポート」に対する基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」の速度および方向は、投影系ＰＳの倍率（縮小率）および画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅（非走査方向の幅）が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ（走査方向の高さ）が決まる。
３．その他のモード：プログラム可能なパターン付与デバイスを保持するべくマスク・テーブルＭＴすなわち「マスク・サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」が移動または走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルＷＴすなわち「基板サポート」が移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能なパターン付与デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照した種類のプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン付与デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
【００２４】
上で説明した使用モードの組合せおよび／またはその変形形態、或いは全く異なる使用モードを使用することも可能である。
【００２５】
図２は、本発明の一実施例による方法の流れ図を示したものである。複数のタスクを含むソフトウェア・プロセスが実行される。タスクはサブプロセスからなっていてもよいが、プロセスは、作業、手順、プログラム・モジュール、プログラム・ブロックまたはその他の任意のプロセス部分への任意の種類の分割が可能であり、タスクという用語の範囲内であることを理解されたい。Ａで、プロセスの複数のタスクのうちの少なくとも１つのタスクが開始される。Ｂで、開始した少なくとも１つのタスクの進捗がモニターされる。
【００２６】
進捗は、所定の時点またはタスクが完了した時点でモニターできる。所定の時点は、たとえばタスクの実行と並行して動作する、たとえばカウンター（計算機）またはプロセッサー（たとえば並列プロセッサーまたはその他の処理手段或いはタイミング手段）を含む適切な任意のタイミング手段によって確立できる。したがってカウンターが所定の時点を表す所定の特定の値に達した時点でＢを実行できる。次にＣで、Ｂでモニターした進捗と所望の進捗が比較される。モニターした進捗と所望の進捗を比較することにより、両者が一致しているかどうか、つまり、開始したタスクの進捗が所望の進捗通りであるか、或いは所望の進捗より進んでいるかどうかを比較できる。本明細書においては、所望の進捗に一致している、という用語は、所望の進捗に到達している、或いは所望の進捗より進んでいることを意味するものとして理解されたい。Ａで複数のタスクを開始させた場合、タスク毎に同じ時点でＢおよびＣを実行することができ、或いは異なる時点でＢおよびＣを実行できる。また、たとえば複数のタスクの総合進捗を合わせてモニターすることによってこれらの複数のタスクの進捗を同時にモニターすることも可能である。所定の時点でＢが実行される実施例の場合、進捗を所定の時点で所望の進捗と比較するステップが比較ステップに含まれている。タスクの完了時にＢが実行される実施例では、タスクの完了時間とそのタスクに対する所望の完了時間を比較するステップが比較ステップに含まれている。タスクの進捗とそのタスクの所望の進捗が一致していない場合、Ｄで、たとえば優先順位リストに基づいて、複数のタスクのうちの少なくとも１つのタスクの少なくとも一部が省略される。タスクは、たとえばその優先順位をランク付けし、優先順位リストに載せることができる。優先順位の高いタスクの場合、これらのタスクの実行には意味があると見なされ、一方、リストの下の方の優先順位の低いタスクは、その実行にはそれほど意味がないと見なされる。したがって、プロセス全体の観点からすると、優先順位の高いタスクを実行することが重要である。タスク（たとえば未だ実行されていないタスク）は、そのタスク全体を省略できるが、実行中のタスクを省略することもことも可能であり、したがってそのタスクが完了することはない。また、進捗と所望の進捗の差に応じて複数のタスクを省略することも可能である。優先順位リストには、たとえば最後に実行されるタスクにそのタスクの優先順位が低いことをほのめかせる意味合いを含めることも可能である。進捗と所望の進捗の差が大きい場合、複数のタスクを省略できる。次にＥで、完了したタスクの結果を利用してプロセスの出力が提供される。プロセスの出力は、任意の量または変数を含むことができる。また、プロセスの出力は、メッセージ、プロセスの出力の更新値（たとえば制御装置出力値または制御ソフトウェアの場合であればフィードフォワード値等）、適切なその他の任意の量などを含むことができる。また、この出力は任意の形態を取ることができる（デジタル、シリアル、パラレル、バイナリ、アナログ等）。Ｅでは、完了したタスクの結果を用いてプロセスの出力を決定できるだけではなく、既に部分的に完了しているタスクが結果を提供し、かつ、この結果を用いてプロセスの出力を提供することもできる。したがって、完了したタスクの結果を利用してプロセスの出力を提供するステップには、同じく、少なくとも部分的に完了しているタスクの結果を利用してプロセスの出力を提供するステップが含まれていることを理解されたい。本発明の一実施例によればＡ〜Ｅを反復することが可能であり、したがってＡ〜Ｅを反復して実行できる。このような反復は、たとえばソフトウェアの中で実施されている制御装置の周期出力、特定の反復時点における出力の提供に必要な通信プロセスの周期出力、またはその他の任意のプロセスの周期出力を提供するために有利である。
【００２７】
図２を参照して説明した方法によれば、通常、たとえば何らかの理由によってプロセスの１つまたは複数のタスクが予定より遅れる原因になる何らかの種類の遅延が生じた場合に、適切な時間にプロセスの出力を提供できるよう、複数のタスクのうちの少なくとも１つのタスクの少なくとも一部を省略することによって、プロセスの出力を提供する際の許容不可能な遅延を防止できる利点が提供される。ソフトウェア・プロセスが制御装置を備えている場合、その制御装置をより頑丈で、かつ、より決定論的な制御装置にすることができる。タスクを連続的に実行する場合、タスクが完了した時点で進捗をモニターする実施例が有利であり、その場合、Ｂ、Ｃ、Ｄで説明したステップを連続するタスクとタスクの間に実行できるため、たとえば単純な実施態様が可能になる。その場合、一例として、たとえばＢ〜Ｄを実行するための処理手段と同じ処理手段を１つまたは複数のタスクを実行する処理手段として利用して、連続するタスクとタスクの間にステップＢ〜Ｄを実行できる。所定の時点で進捗をモニターする実施例の場合、より多様で、かつ、より柔軟なタスクの省略またはタスクの一部の省略が提供され、たとえばタスクが長時間を必要とする場合、所定の時点におけるモニターリングを提供し、タスクが所望の進捗より遅れていることをそのタスクが完了する前の早い段階で示すことができる。したがって、たとえばタスクまたはタスクの一部を省略することによってその時点であらかじめ適切なアクションを取ることができるため、そのタスクが完了するまで待機する必要がない。所定の時点で進捗をモニターする実施例は、たとえば、複数の処理手段（マイクロプロセッサー、マイクロ制御装置等）が同時に動作する多重プロセッサー環境の場合に有利であり、その場合、たとえば複数の処理手段のうちの１つをモニター、比較等、１つまたは複数のその他の処理手段を使用するタスクのための上で説明したステップを実行するために適用できる。
【００２８】
図３Ａ〜３Ｃは、複数のタスクを含むプロセスのタイミング図を示したものである。この実施例では、プロセスには、図３Ａに１、２、３、４の番号が振られた４つのタスクが含まれている。タイミングは、図３Ａ〜３Ｃの水平軸に沿って示されている。プロセスが完了しなければならない時間期間を示すクロック信号ＣＬＫが提供されている。本発明の一実施例によればプロセスを反復できるため、クロック信号ＣＬＫが出現する毎にプロセスを開始させることができる。図３Ａに示すように、プロセスＰには、この実施例では連続的に実行されるタスク１、２、３、４が含まれている。当然、これらのタスク１、２、３および／または４のうちの１つまたは複数を並行に実行することができ、或いは互いに部分的に並行に実行できる。したがって、タスク１、２を同時に開始させることができ、或いは第１のタスク１を開始させた後、タスク１が完了する前の特定の時点でタスク２を開始させ、タスク１、２を或る時間の間、並行して実行することも可能である。並行という用語は、文脈上、ソフトウェアを実行するという意味における並行として理解されたい。したがってこの用語には、単一の処理手段が順に複数のタスクのうちの１つのタスクの幾つかの作業を実行し、次に、複数のタスクのうちのその他のタスクの幾つかの作業を実行する状況を含めることができ、たとえば特定の時点でキャッシュ・メモリなどのメモリの中で休止しているタスクを実行できる。また、この並行には、タスクが並行処理手段の上で実行される場合を含めることも可能である。図３Ａに示す実施例では、タスク１が開始されるのはクロックＣＬＫが出現した後である。ＭＯＮ１で示す特定の時点でタスク１の進捗がモニターつまり決定される。この進捗とＭＯＮ１で示す時点における所望の進捗が比較される。この場合、タスク１の進捗と所望の進捗が一致しており、したがってタスクを省略する必要はない。タスク１が完了すると、プロセスのタスク２が開始され、タスク２が完了すると、プロセスＰのタスク３が開始される。ＭＯＮ２で示す第２の時点でタスクの進捗が再度モニターされ、タスク１、２が完了し、タスク３が進行中であることが分かる（このモニターリングによってタスク３が完了した程度に関する指示が提供される場合もある）。また、このモニターリングは、タスク４が未だ開始されていないことを示している。この場合もタスクの進捗が所望の進捗通りであるため、タスクを省略する必要はない。タスク３が完了すると、プロセスのタスク４が開始され、タスク４を実行している間、ＭＯＮ３で再度進捗がモニターされる。この時点におけるモニターは、タスク１、２、３が完了し、タスク４が進行中であることを示しており、たとえばタスク４が完了した程度に関する詳細が提供される。この場合もタスクの進捗と所望の進捗が一致しているため、タスクを省略する必要はない。タスク４が完了すると、プロセスは、ＰＥＲＦで示す時点で出力を提供し、たとえばプロセスＰのタスク１、２、３、４の結果を利用して或るアクションを実行する。次に、本発明の一実施例によればプロセスの１つまたは複数のタスクを再度開始させるトリガであってもよいクロック信号が再度提供される。図３Ｂ、図３Ｃは、図３Ａを参照して説明したプロセスの実施例を示したものであるが、遅延のためにタスクまたはタスクの一部を省略しなければならない場合を示したものである。図３Ｂでは、プロセスＰのタスク１を実行している間に遅延が生じている。タスク１が完了すると、タスク２、タスク３が実行される。ＭＯＮ１でタスクの進捗をモニターすると、タスク１の進捗がモニターされ、予定より遅れていること、つまり所望の進捗より遅れていることが分かる。この実施例の場合、この時点では依然としてプロセスＰのタスク１〜４を完了することが可能であるため、この時点ではタスクの省略は未だ実行されない。ＭＯＮ２におけるモニターリングは、タスク１は完了しているがタスク２が未だ完了していないこと、また、タスク３が未だ始まっていないことを示している。この実施例では、ＭＯＮ２の時点で残されている時間ではタスク３、４を完了するためには短すぎる。したがって、この時点でプロセスの複数のタスクのうちの１つのタスクの省略が決定されることになる。この実施例の場合、優先順位リストが提供されており、タスク１の優先順位が最も高く、タスク２、３、４の順になっている。タスク４の優先順位は最も低くなっている。別法としては、最後に実行される１つまたは複数のタスク（この実施例ではタスク４）を最初に省略することも可能である。プロセスの出力を提供しなければならない、ＰＥＲＦで示す時点までの間に残されている時間は短すぎるため、優先順位が最も低いタスク、つまりこの実施例ではタスク４の省略がここで決定される。タスク２が完了するとタスク３が開始され、完了する。次に、ＰＥＲＦで示す時点で、タスク１、２、３の結果を利用してプロセスの出力が提供される。また、当業者には理解されるように、それまでに実行済みの、アプリケーションおよびプロセスの種類によっては有用であるタスク４の結果を利用することも可能である。
【００２９】
次に、図３Ｃを参照して、図３Ａ、図３Ｂを参照して説明したプロセスを実行するためのその他の実施例について説明する。上で説明したように、ＣＬＫで示す時点の後、プロセスＰが開始される。図３Ｂを参照して説明した状況と同様、プロセスのタスク１の完了が遅れる原因になる遅延が生じている。また、プロセスのタスク２に遅延が生じている。さらに別の遅延のため、タスク３が完了するのは、図の３ａで示すタスク３の一部のみである。ＭＯＮ１で示す時点では、タスク１の進行が予定より遅れていることがモニターされる。タスクの省略は未だ実行されない。ＭＯＮ２で、タスク１が完了し、タスク２が概ね半分のところを実行中であることが分かる。この時点でタスクの進捗と所望の進捗が比較され、タスク１〜４を完了するには時間が足りないことが分かる。この実施例ではタスク４の優先順位が最も低いため、この時点でタスク４の省略が決定される。次に、ＭＯＮ３で示す時点でプロセスＰの進捗が再度モニターされる。この時点で、タスク１、２が完了し、タスク３が進行中であることが分かるが、タスク３の進行は未だ初期の段階である。残されている時間は、タスク３を完了するには不十分であるため、この時点でタスク３の一部、つまり図３Ｃの３ａで示すタスク３の残りの部分の省略が決定される。次にＰＥＲＦで示す時点で、タスク１、２の結果、並びにここではタスク３ａで示されているタスク３の一部の結果を利用してプロセスの出力が提供される。図３Ｂ、図３Ｃによる実施例で示すように、プロセスＰの出力は、プロセスＰの複数のタスクのうちの１つまたは複数のタスクの実行の遅延にもかかわらず、ＰＥＲＦで示す時間に全体または一部が提供される。進捗をモニターすると、プロセスが予定より遅れており、適切な時間でのプロセスの出力を保証するために、優先順位の低いタスクまたはその一部を省略できることが分かる。図３Ａ〜３Ｃに示す実施例では、タスク１、２、３、４の優先順位リストが使用されており、タスク１の優先順位が最も高く、タスク４の優先順位が最も低くなっている。しかしながら、たとえば１、２、４、３などのその他の優先順位リストを適用することも十分に可能である。したがって、このような優先順位リストを適用した場合、図３Ｂを参照して説明した実施例におけるタスク４の省略に代わってタスク３が省略されることになり、したがって図３Ｂを参照して説明した実施例の場合、タスク１、２、４が実行されることになる。一般に、タスクを実行する順序とその優先順位の間には仮定すべき関係は存在しないが、いくつかのアプリケーションでは、優先順位の高い１つまたは複数のタスクを最初に実行し、続いてより優先順位の低い１つまたは複数のタスクを実行することが有利であり、或いは同じく本明細書において説明するように、実行順序からタスクの優先順位を引き出すことが有利である。
【００３０】
次に、図２を参照して説明した方法のその他の実施例について、図４Ａ〜４Ｃを参照して説明する。図４Ａ〜４Ｃに示す実施例では、プロセスＰは、プロセス部分Ｐ１およびプロセス部分Ｐ２の２つの部分に分割されている。クロック信号ＣＬＫが提供された時点でプロセス部分Ｐ１が開始される。望ましい状況の場合、プロセス部分Ｐ１は、ＰＥＲＦで示す時点までに完了する。ＰＥＲＦで示す時点でプロセスの出力が提供される。この出力には、望ましい状況で完了した直後のプロセス部分Ｐ１に属しているタスクの結果が利用されるが、このタスクの結果は、先行するサイクルで実行されたプロセス部分Ｐ２に包含されている１つまたは複数のタスクの結果によって補足されている。この実施例によれば、クロック信号ＣＬＫ毎にＰ１、Ｐ２を含むプロセスが反復される。クロック信号が提供されると、以下で説明するように第１のプロセス部分Ｐ１のすべてまたは一部が実行され、続いてＰＥＲＦの時点で出力が提供される。次に、連続する２つのクロック・パルスＣＬＫ間のサイクルの残りの部分で、プロセス部分Ｐ２の一部またはすべてが実行される。プロセス部分Ｐ２に包含されているタスクの結果は、次のサイクルさらにはもっと後のサイクルに使用できる。プロセスＰ１は、時間に非常に厳格なタスクを包含することができ、一方、プロセスＰ２は、時間に全く厳格ではないタスク或いは時間にそれほど厳格ではないタスクを包含できる。一例として、プロセスＰ１に包含されているタスクは、制御装置内のフィードバックを含むことができる。フィードバック・ループでは、たとえばアクチュエータを駆動するための出力信号を、たとえばセンサによって信号が提供された時点から可能な限り短い時間内に得ることが望ましく、それにより制御ループの遅延が抑制される。一例として、たとえばセンサからの信号などの入力信号をＣＬＫが提供される時点で利用できる場合、ＣＬＫが提供された時点から可能な限り短い時間内にプロセスの結果を提供することが望ましい。これは、プロセスＰをプロセス部分Ｐ１、Ｐ２に分割することによって達成できる。ＣＬＫの時点では、その前の１つまたは複数のサイクルで時間に全く厳格ではないタスクがＰ２の一部として既に実行されており、したがってＣＬＫが提供される前に利用できる。ＣＬＫの時点で、位置センサまたはその他のセンサなどの時間に非常に厳格なソースからの入力或いはその他のタイミング情報が同じく利用可能になり、次にＰ１に包含されているタスクで処理され、ＰＥＲＦの時点で出力が生成される。したがって、時間に非常に厳格なタスクのリード・タイムを短縮できる。時間に非常に厳格なタスクと時間に全く厳格ではないタスクの分割は、アプリケーション毎に実施できる。しかしながら、通常、時間に全く厳格ではないタスクは、時間にそれほど拘束されない任意のタスク、つまりそのタスクの実行に際して、その省略または遅延がプロセスの実行にさほどの影響を及ぼさない（一定の範囲内で）任意のタスクを含むことができる。一方、時間に非常に厳格なタスクは、その遅延が場合によってはプロセスの実行に悪影響を及ぼすことになるタスクを含むことができる。この文脈で、遅延には、あらゆる時間遅延、つまりスケジュール遅延および何らかの理由による予想外遅延などの遅延が含まれている。図４Ａ〜図Ｃに示す実施例では、第１のプロセス部分Ｐ１を実行している間、ＭＯＮ１およびＭＯＮ２の時点で２度にわたって進捗がモニターされる。また、プロセス部分Ｐ２を実行している間も、ＭＯＮ３およびＭＯＮ４の時点で２度にわたって進捗がモニターされる。この実施例では、プロセス部分Ｐ１にはタスク５、６が含まれており、また、プロセス部分Ｐ２にはタスク７、８が含まれている。図４Ａでは、タスクはスケジュール通りである。タスク５、６はＰＥＲＦの前に完了し、タスク７、８はサイクルの残りの部分で完了している。図４Ｂに示す実施例では、タスク５が遅延し、残されている時間は、ＰＥＲＦの時点に到達する前にタスク６を完了する（或いはタスク６に関連する部分を少なくとも実行する）には不十分であるため、タスク６を省略する原因になっている。また、Ｐ２を実行する際にも若干の遅延が生じているが、この遅延はそれほど大きい遅延ではなく、タスク７、８は完了している。図４Ｃに示す実施例では、タスク６が若干遅延しているが、タスク５、６が完了するだけの十分な時間が残されている。しかしながら、タスク７を実行している間に遅延が生じ、タスク８の一部である、８ａで示すタスク８の残りの部分を省略する原因になっている。図４Ａ〜図４Ｃでは、ＭＯＮ１〜ＭＯＮ４の時点で個々のタスクの進捗がモニターされ、かつ、所望の進捗と比較され、次に、たとえば優先順位リストに基づいて、複数のタスクのうちの少なくとも１つのタスク（の一部）を省略するか否かが決定される。この実施例では、タスク８よりタスク７の方が優先順位が高く、また、タスク６よりタスク５の方が優先順位が高くなっている。
【００３１】
図５は、優先順位リストの一実施例を示したものである。この実施例では、リソグラフィ装置の位置制御装置、たとえば基板テーブル位置制御装置のための優先順位リストの例示的実施例が示されている。優先順位リストは、図５では、複数のタスクを示す表として示されている。表の一番上のタスクの優先順位が高く、表の一番下のタスクの優先順位が低くなっている。この実施例では、フィードフォワード信号に高い優先順位が割り当てられ、短ストローク位置決め（つまり短いストロークでの正確な位置決め）がそれに続き、さらに、基板テーブルの位置を制御するようになされたフィードバック機構の一部である比例積分微分制御装置またはその他の種類の制御装置がそれに続いている。この場合も、長ストローク位置決め、つまり長ストロークによる粗位置決めにより低い優先順位を割り当てることができる。また、図に示す優先順位リストの代わりに、或いは図に示す優先順位リストに追加して、異なる次元に関連するタスクに異なる優先順位を割り当てることも可能である。たとえば、走査方向の優先順位をその他の方向の優先順位、たとえば走査方向に直角の方向の優先順位より高くすることが可能である。優先順位リストは任意の形態を有することができ、また、任意の方法で記憶できる。一例として、タスクを実行する順序によって優先順位をほのめかすことができる。最初に実行する（たとえば１つのサイクルの中で）タスクに最も高い優先順位を持たせ、最後に実行するタスクに最も低い優先順位を持たせることができる。また、上記のいずれの実施例においても、優先順位リストを省略することができ、その場合、タスクの省略は、クロック信号ＣＬＫ間のクロック・サイクルの中で最後に実行される１つまたは複数のタスク或いはタスク部分を省略することによって実行できる。
【００３２】
図６は、本発明の一実施例によるプロセスの実行を示すタイミング図のその他の実施例を示したものである。ＣＬＫおよびＰＥＲＦという用語の一般的な意味を理解するために、図３、図４の説明を参照する。ＭＯＮ１、ＭＯＮ２およびＭＯＮ３でモニターリングが実行される。この実施例と、図３、図４に示し、かつ、図３、図４を参照して説明した実施例との相異は、モニターリングが図３、図４を参照して説明した所定の時点で実行される代わりに、タスクが完了した時点で実行されることである。図６Ａ〜６Ｃの場合、プロセスＰには、タスク１１、１２、１３が含まれている。タスク１１、１２、１３は、この実施例では連続的に実行される。図６Ａに示すように、タスク１１を実行した後のＭＯＮ１で進捗がモニターされ、タスク１２を実行した後のＭＯＮ２で進捗がモニターされ、また、タスク１３を実行した後のＭＯＮ３で進捗がモニターされる。次に、タスク１１、１２、１３が完了すると、ＰＥＲＦでプロセスの出力が提供される。図６Ａに示す実施例の場合、タスク１１、１２、１３の実行は、時間に間に合っていると見なされる。
【００３３】
図６Ｂに示す実施例では、図６Ａに示す実施例と比較するとタスク１１が若干遅延し、ＭＯＮ１の時間が若干遅れる原因になっている。この実施例では、進捗のモニターリングは、ＣＬＫが最後に出現した時点からの実際の経過時間と、ＣＬＫが最後に出現した時点からの所望の経過時間とを比較するステップを含むことができる。ＭＯＮ１の時点における遅延が小さいため、省略は未だ実行されず、タスク１２が開始される。タスク１２が完了するとＭＯＮ２で進捗がモニターされ、実質的な遅延が生じて、ＰＥＲＦの前にタスク１３を完了するには、残されている時間が不十分であることが分かる。したがって、１３ａで示すタスク１３の一部のみが開始され、タスク１３の一部が省略される。タスク部分１３ａが完了すると、ＭＯＮ３で再度進捗がモニターされる。残された時間は、タスク１３のその他の部分を実行するには不十分であるため、その他のタスク部分は開始されない。ＰＥＲＦで、タスク１１、１２、タスク部分１３ａの結果を利用してプロセスの出力が提供される。
【００３４】
図６Ｃでは、タスク１１が大きく遅延し、ＭＯＮ１でのモニターリングが遅れる原因になっている。したがって、タスク１２、１３をＰＥＲＦの前に実行するには残されている時間が不十分であるため、ＭＯＮ１の時点で既にタスク１３の省略を決定できる。この実施例では同じく遅延しているタスク１２が完了すると、ＭＯＮ２で進捗がモニターされる。ＰＥＲＦまでに残されている時間がほとんどないため、この実施例ではそれ以上のタスクは実行されない。図６Ａ〜Ｃに示し、かつ、図６Ａ〜Ｃを参照して説明した実施例の利点は、タスクが完了した時点でモニターリングを実行することができ、したがって個別のタイミング・プロセッサー、割込みルーチンまたは所定の時点を指示するためのその他の備えを大幅に省略できるため、その実施が単純なことである。したがって、図６Ａ〜Ｃに示し、かつ、図６Ａ〜Ｃを参照して説明した実施例は、単純な実施態様を提供することができ、かつ、本明細書において説明した複数の利点のうちの１つまたは複数を提供できる。また、図６Ａ、図６Ｂに示す実施例の場合、ＭＯＮ３におけるモニターリングを省略してさらに単純化することも可能である。
【００３５】
本発明の一実施例は、方法の形態で実施できるだけでなく、別法として、制御プロセスを実行するようになされた制御装置として実施することも可能である。制御装置は、本明細書において説明した方法を実行するためのプログラム命令を備えることができる。同様に、本発明の一実施例は、たとえば制御プロセスを実行するようになされた制御装置を含むリソグラフィ装置を備えることができる。リソグラフィ装置または制御装置は、本明細書において説明した方法を実行するためのプログラム命令を備えることができる。
【００３６】
本発明の一実施例は、リソグラフィ装置の性能要求事項が、高度で、かつ、時間に非常に厳格になる可能性があるため、とりわけリソグラフィ装置に適しており、本明細書において説明した１つまたは複数の利点の特定の利益が提供される。しかしながら、本発明の一実施例は、ソフトウェアの実行がたとえば時間に非常に厳格である任意のアプリケーションで実践することができ、たとえば任意のリアルタイム制御環境で実践できる。
【００３７】
本明細書においては、とりわけＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用が参照されているが、本明細書において説明したリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導および検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などのその他のアプリケーションを有していることを理解されたい。このような代替アプリケーションの文脈では、本明細書における「ウェハ」または「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」または「目標部分」という用語の同義語と見なすことができることは当業者には理解されよう。本明細書において参照されている基板は、たとえばトラック（通常、基板にレジストの層を塗布し、かつ、露光済みのレジストを現像するツール）、度量衡学ツールおよび／または検査ツール中で、露光前または露光後に処理できる。適用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツールおよびその他の基板処理ツールに適用できる。また、基板は、たとえば多層ＩＣを生成するために複数回にわたって処理できるため、本明細書において使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。
【００３８】
また、本発明による実施例の使用について、特に光リソグラフィという文脈で、言及されているが、本発明は、その他の用途、たとえばインプリント・リソグラフィに適用でき、文脈上、許容される場合、光リソグラフィに限定されないことを理解できるだろう。パターン付与デバイスのトポグラフィが、インプリント・リソグラフィのパターンを規定する。パターン付与デバイスのトポグラフィが、基板に供給されているレジストの層に押印され、次に、電磁放射、熱、圧力またはそれらの組合せを加えることによって、レジストが硬化される。パターン付与デバイスがレジストから除去され、レジストが硬化した後のパターンがレジストに残される。
【００３９】
本明細書で用いられている「放射」および「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射（たとえば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍの放射或いはその近辺の波長の放射）、および、極紫外（ＥＵＶ）放射（たとえば、波長範囲が５〜２０ｎｍの放射）、および、イオン・ビームまたは電子ビーム等の粒子線を含むあらゆる種類の電磁放射が包含される。
【００４０】
文脈上、許容される場合、「レンズ」という用語は、屈折光学部品、反射光学部品、磁気光学部品、電磁光学部品および静電光学部品を始めとする各種光学部品のうちの任意の１つ、または、組合せを意味する。
【００４１】
以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践できることは理解されよう。たとえば本発明は、上で開示した方法を記述した１つまたは複数の機械可読命令シーケンスを含むコンピュータ・プログラムの形態を取ることができ、或いはこのようなコンピュータ・プログラムを記憶したデータ記憶媒体（たとえば半導体記憶装置、磁気ディスクまたは光ディスク）の形態を取ることができる。
【００４２】
以上の説明は、本発明の例示を意図したものであり、本発明を何ら制限するものではない。したがって、特許請求の範囲における各請求項の範囲を逸脱することなく、上で説明した本発明に改変を加えることができることは当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】本発明の一実施例による方法の流れ図である。
【図３Ａ】図２を参照して説明した方法の一実施例の実行を概略的に示すタイミング図である。
【図３Ｂ】図２を参照して説明した方法の一実施例の実行を概略的に示すその他のタイミング図である。
【図３Ｃ】図２を参照して説明した方法の一実施例の実行を概略的に示すその他のタイミング図である。
【図４Ａ】図２を参照して説明した方法のその他の実施例の実行を概略的に示すタイミング図である。
【図４Ｂ】図２を参照して説明した方法のその他の実施例の実行を概略的に示すその他のタイミング図である。
【図４Ｃ】図２を参照して説明した方法のその他の実施例の実行を概略的に示すその他のタイミング図である。
【図５】図２を参照して説明した方法の一実施例による優先順位リストを示す図である。
【図６Ａ】図２を参照して説明した方法のさらに別の実施例の実行を概略的に示すタイミング図である。
【図６Ｂ】図２を参照して説明した方法のさらに別の実施例の実行を概略的に示す他のタイミング図である。
【図６Ｃ】図２を参照して説明した方法のさらに別の実施例の実行を概略的に示す他のタイミング図である。
【符号の説明】
【００４４】
ＡＤ  放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタ
Ｂ  放射ビーム
ＢＤ  ビーム伝送系
Ｃ  基板の目標部分
ＣＬＫ  クロック信号（クロック・パルス）
ＣＯ  コンデンサ
ＩＦ  位置センサ
ＩＬ  照明系（イルミネータ）
ＩＮ  インテグレータ
ＭＡ  パターン付与デバイス（マスク）
ＭＯＮ１、ＭＯＮ２、ＭＯＮ３、ＭＯＮ４、ＰＥＲＦ  特定の時点
ＭＴ  マスク支持構造（マスク・テーブル）
Ｍ１、Ｍ２  マスク位置合せマーク
Ｐ  プロセス
Ｐ１、Ｐ２  プロセス部分
ＰＭ  第１の位置決めデバイス
ＰＳ  投影系
ＰＷ  第２の位置決めデバイス（ポジショナ）
Ｐ１、Ｐ２  基板位置合せマーク
ＳＯ  放射源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル
１、２、３、４、５、６、７、８、１１、１２、１３  タスク
【図１】
2007018512.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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