(57)【要約】【課題】本発明の目的は、溶融製膜されたセルロースエステルフィルムであって、膜厚ムラやリターデーションムラが低減された偏光板保護フィルムに有用な光学フィルムの製造方法に関する。【解決手段】セルロースエステルを溶融流延法により、少なくとも１回、フィルタとダイとを通過させるセルロースエステルフィルムの製造方法において、セルロースエステル溶融物が溶融温度２３０〜２８０℃のもと、フィルタ通過時の溶融粘度ηｆが剪断速度１０ｓｅｃ-1の時に３００〜１００００Ｐａ・ｓの範囲にあり、かつダイ通過時の溶融粘度ηｄが剪断速度５００ｓｅｃ-1の時に５０〜１０００Ｐａ・ｓの範囲にあることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルを溶融流延法により、少なくとも１回、フィルタとダイとを通過させるセルロースエステルフィルムの製造方法において、セルロースエステル溶融物が溶融温度２３０〜２８０℃のもと、フィルタ通過時の溶融粘度ηｆが剪断速度１０ｓｅｃ-1の時に３００〜１００００Ｐａ・ｓの範囲にあり、かつダイ通過時の溶融粘度ηｄが剪断速度５００ｓｅｃ-1の時に５０〜１０００Ｐａ・ｓの範囲にあることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項２】
下記一般式（１）で表される有機酸と３価以上のアルコールが縮合したエステル化合物からなる可塑剤を含有することを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【化１】
2007144932.tif 000023
（式中、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良く、Ｒ1〜Ｒ5のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。Ｌは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す）
【請求項３】
下記一般式（２）で表される化合物を１〜２５質量％を含有することを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【化２】
2007144932.tif 000024
（式中、Ｒ6〜Ｒ20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｒ6〜Ｒ10のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ11〜Ｒ15のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ16〜Ｒ20のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。Ｒ21はアルキル基を表す）
【請求項４】
前記セルロースエステルフィルム中にヒンダートアミン系、またはヒンダートフェノール系化合物を０．０１〜５質量％含有することを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロースエステルフィルム中のセルロースエステルがセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法を用いて製造されることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【請求項７】
請求項６に記載のセルロースエステルフィルムを用いることを特徴とする光学フィルム。
【請求項８】
請求項７に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項７に記載の光学フィルムまたは請求項８に記載の偏光板の少なくとも一方を用いることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に用いられる偏光板保護フィルム等に用いられるセルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、光学フィルム、偏光板及び表示装置に関する。特に、偏光板保護フィルムとして適したセルロースエステルフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は低電圧、低消費電力でＩＣ回路への直結が可能であり、そして特に薄型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ、テレビ、モニター、携帯情報端末等の表示装置として広く採用されている。このＬＣＤの基本的な構成は、例えば、液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。
【０００３】
ところで偏光板は一定方向の偏波面の光だけを通すものである。従って、ＬＣＤは電界による液晶の配向の変化を可視化させる重要な役割を担っている。即ち、偏光板の性能によってＬＣＤの性能が大きく左右される。
【０００４】
偏光板の偏光子はヨウ素などを高分子フィルムに吸着・延伸したものである。即ち、二色性物質（ヨウ素）を含むＨインキと呼ばれる溶液を、ポリビニルアルコールのフィルムに湿式吸着させた後、このフィルムを１軸延伸することにより、二色性物質を一方向に配向させたものである。偏光板の保護フィルムとしては、セルロース樹脂、特にセルローストリアセテートが用いられている。
【０００５】
セルロースエステルフィルムは、光学的、物理的に偏光板用の保護フィルムとして有用であるため一般に広く用いられている。しかしながら、フィルムの製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい負担となっていた。そのためハロゲン系以外の溶媒が色々と試験されたが、満足する溶解性の得られる代替物はなかった。代替溶媒を求める以外に、冷却法等新規溶解方法も試された（例えば、特許文献１参照。）が、工業的な実現が難しく更なる検討が必要とされている。
【０００６】
近年、銀塩写真用（例えば、特許文献２参照。）あるいは偏光板保護フィルム用（例えば、特許文献３参照。）として、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行なわれているが、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、且つガラス転移温度も高いため、セルロースエステルを溶融してダイから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレべリングし難く、押出し後に短時間で固化するため、得られるフィルムに膜厚ムラやリターデーションムラが発生しやすい。
【０００７】
最近では、液晶ディスプレイはＣＲＴに代わるモニタとして大画面・高画質化の為の開発が進んでおり、それに伴って、液晶用偏光板の保護フィルムに対する要求も厳しくなってきている。特に上記膜厚ムラやリターデーションムラが、液晶の表示ムラとなることが明らかとなってきており、このような表示ムラは、特に１５インチ以上の大型液晶ディスプレイに組み込まれた場合に特に顕著となり、ディスプレイの大型化に際しては大きな課題であり、更なる改良が必要であった。
【特許文献１】特開平１０−９５８６１号公報
【特許文献２】特表平６−５０１０４０号公報
【特許文献３】特開２０００−３５２６２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って本発明の目的は、溶融製膜されたセルロースエステルフィルムであって、膜厚ムラやリターデーションムラが低減された偏光板保護フィルムに有用な光学フィルムの製造方法に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１０】
１．セルロースエステルを溶融流延法により、少なくとも１回、フィルタとダイとを通過させるセルロースエステルフィルムの製造方法において、該セルロースエステル溶融物が溶融温度２３０〜２８０℃のもと、フィルタ通過時の溶融粘度ηｆが剪断速度１０ｓｅｃ-1の時に３００〜１００００Ｐａ・ｓの範囲にあり、かつダイ通過時の溶融粘度ηｄが剪断速度５００ｓｅｃ-1の時に５０〜１０００Ｐａ・ｓの範囲にあることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１１】
２．下記一般式（１）で表される有機酸と３価以上のアルコールが縮合したエステル化合物からなる可塑剤を含有することを特徴とする前記１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１２】
【化１】
2007144932.tif 000002
【００１３】
（式中、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良く、Ｒ1〜Ｒ5のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。Ｌは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す）
３．下記一般式（２）で表される化合物を１〜２５質量％を含有することを特徴とする前記１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１４】
【化２】
2007144932.tif 000003
【００１５】
（式中、Ｒ6〜Ｒ20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｒ6〜Ｒ10のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ11〜Ｒ15のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ16〜Ｒ20のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。Ｒ21はアルキル基を表す）
４．前記セルロースエステルフィルム中にヒンダートアミン系、またはヒンダートフェノール系化合物を０．０１〜５質量％含有することを特徴とする前記１または２に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１６】
５．前記セルロースエステルフィルム中のセルロースエステルがセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１７】
６．前記１〜５のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法を用いて製造されることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００１８】
７．前記６に記載のセルロースエステルフィルムを用いることを特徴とする光学フィルム。
【００１９】
８．前記７に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
【００２０】
９．前記７に記載の光学フィルムまたは前記８に記載の偏光板の少なくとも一方を用いることを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、溶融製膜されたセルロースエステルフィルムであって、膜厚ムラやリターデーションムラが低減された偏光板保護フィルムに有用な光学フィルムの製造方法を提供出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
本発明は、セルロースエステルを溶融流延法により、少なくとも１回、フィルタとダイとを通過させるセルロースエステルフィルムの製造方法において、該セルロースエステル溶融物が溶融温度２３０〜２８０℃のもと、フィルタ通過時の溶融粘度ηｆが剪断速度１０ｓｅｃ-1の時に３００〜１００００Ｐａ・ｓの範囲にあり、かつダイ通過時の溶融粘度ηｄが剪断速度５００ｓｅｃ-1の時に５０〜１０００Ｐａ・ｓの範囲にあることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法である。
【００２４】
ここで記載しているダイとは、溶融樹脂をフィルム上に押し出すためのある規定幅のスリットを示し、Ｔ型ダイ、ハンガーダイ等が知られている。
【００２５】
セルロースエステルフィルムの製造方法の一つである、溶融流延法による製膜は、従来の溶液流延製膜法に比べ、溶媒を使わない環境適性の高い製法である。その製法を用いた光学用途のフィルム製膜は、フィルタによる異物の除去が行われ、次いでダイからの押し出しにより幅手方向に均一なフィルムの製造が可能となる。
【００２６】
一方で、溶融状態のセルロースエステルは高粘度であり、フィルタ部やダイ部において、大きな圧力損失を受ける可能性が高いことが明確である。そこで、溶融樹脂の製膜に関しては、材料の粘度の規定がなされている特許がいくつか見られる。ただし、その特許では、限界粘度であったり、各一点の剪断速度での粘度の記載がほとんどである。
【００２７】
今回、本特許ではセルロースエステルの分解が起こりにくい温度域において、より圧力損失の発生の可能性が高いフィルタ部やダイ部の検討を行い、それぞれの過程で、溶融流体の剪断速度が大きく異なることを見出した。溶融状態のセルロースエステルは、非ニュートン流体であり、剪断速度により粘度の値が異なるため、各剪断速度での粘度の値を規定することで、安定した製膜が可能となり、より膜厚ムラやリターデーションムラの少ない高品質なフィルムを作製出来ることが明らかとなった。
【００２８】
そこで、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、フィルタ部では剪断速度１０ｓｅｃ-1での溶融粘度ηｆ値の規定、ダイ部では剪断速度５００ｓｅｃ-1での溶融粘度ηｄ値を規定することにより、安定した製膜が可能となることを見出したものである。
【００２９】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００３０】
（製膜）
本発明のセルロースエステルフィルム（光学フィルムということもある）は、セルロースエステル及び添加剤の混合物を、熱風乾燥又は真空乾燥した後、２００〜２８０℃の下、好ましくは、２３０〜２６０℃の下にて溶融押出しし、捕集サイズ１５μｍ以下のフィルタを通過させた後、Ｔ型ダイよりフィルム状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。冷却ドラムの温度は９０〜１５０℃に維持されていることが好ましい。
【００３１】
図１は、本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法を実施する装置の概略フローシートである。
【００３２】
同図において、本発明によるセルロースエステルフィルムの製造方法は、セルロースエステル系樹脂などの非晶性熱可塑性樹脂のフィルム材料を混合した後、押出し機１を用いて、流延ダイ４から冷却ロール（または冷却ドラム）上に溶融押し出し、第１冷却ロール５に外接させるとともに、タッチロール６により溶融フィルムを冷却ロール５表面に所定の圧力で押圧し、さらに、第２冷却ロール７、第３冷却ロール８の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化して未延伸フィルムとし、剥離ロール９によって剥離した未延伸フィルム１０を、ついで延伸装置１２によりフィルムの両端部を把持して幅手方向に延伸した後、巻取り装置１６により巻き取るものである。
【００３３】
本発明によるセルロースエステルフィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステルなどの熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行なうことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機などで水分を１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下に乾燥させることが望ましい。
【００３４】
樹脂と安定剤とは、溶融する前に混合機等により混合しておくことが好ましいが、可塑剤や紫外線吸収剤、マット剤に関しても溶融する前に混合機等を用いて混合しておくこともできる。混合機としては、Ｖ型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、一般的な混合機を用いることができる。
【００３５】
例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機１を用いて、押し出し温度２００〜３００℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター２などで濾過し、異物を除去する。
【００３６】
供給ホッパー（図示略）から押出し機１へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。
【００３７】
可塑剤などの添加剤を予め混合しない場合は、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー３などの混合装置を用いることが好ましい。
【００３８】
本発明においては、材料を混合した後に押出し機１を用いて直接製膜する方法以外に、一旦、ペレット化した後、ペレットを押出し機１で溶融して製膜することも可能である。また、融点の異なる複数の材料が混合された系においては、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機１に投入して製膜することも可能である。熱分解しやすい樹脂や添加剤を使用する場合においては、樹脂の溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。
【００３９】
本発明において、フィルム製膜に用いる押出し機１は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも良い。材料からペレットを作成せずに直接製膜する場合では、適当な混練度が必要であるため、２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト型、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られ、製膜が可能となる。１軸押出し機においても、２軸押出し機においても、ベント口を設け、真空ポンプなどを用いて、ベント口からガスを除去することが望ましい。一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を作製する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも良い。
【００４０】
押出し機１内および押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
【００４１】
押出し機１内の樹脂の溶融温度は、樹脂の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、成形材料のガラス転位温度（Ｔｇ）に対して、ガラス転移温度（Ｔｇ）以上、ガラス転移温度（Ｔｇ）＋１００℃以下の範囲であることが好ましい。さらに好ましくは溶融温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）＋１０℃以上、ガラス転移温度（Ｔｇ）＋９０℃以下である。押出し時の溶融粘度は、１０〜１０００００ポイズ、好ましくは１００〜１００００ポイズである。また、押出し機１内での樹脂の滞留時間は短い方が好ましく、５分以内、より好ましくは３分以内、最も好ましくは２分以内である。滞留時間は、押出し機の種類、押出す条件にも左右されるが、材料の供給量や、Ｌ／Ｄ、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。
【００４２】
押出し機１のスクリューの形状や回転数等は、樹脂の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において、押出し機１でのせん断速度は、好ましくは１／秒〜１００００／秒、より好ましくは５／秒〜１０００／秒、もっとも好ましくは１０／秒〜１００／秒である。ギアポンプ噛み込み防止、メインフィルタ負荷低減のため、押出し機１の出側にプレフィルターを設けることが好ましい。
【００４３】
例えば必要に応じて、５０／８０／１００メッシュのスクリーンや金属繊維の焼結フィルターを設けることが好ましい。オンラインチェンジ可能なタイプを使用することが好ましい。
【００４４】
押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行なうことが好ましい。また、プレフィルターの下流にフィルター２を設けることが好ましい。ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。濾過精度を粗、密と連続的に複数回繰り返した多層体としたものが好ましい。また、濾過精度を順次上げていく構成としたり、濾過精度の粗、密を繰り返す方法をとることで、フィルターの濾過寿命が延び、異物やゲルなどの補足精度も向上できるので好ましい。濾過精度は、０．５μｍ以上、５０μｍ以下が好ましい。
【００４５】
溶融流延製膜法において、流延ダイ４に傷や異物が付着すると、スジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインと呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出し機１から流延ダイ４までの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。流延ダイ４の内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。流延ダイ４周辺に樹脂から揮発成分が析出し、ダイラインの原因となる場合があるので、揮発成分を含んだ雰囲気は吸引することが好ましい。また、静電印加等の装置にも析出する場合があるので、交流を印加したり、他の加熱手段で析出を防止することが好ましい。
【００４６】
流延ダイ４はシートやフィルムを製造するために用いられるものであれば、特に限定はされないが、コートハンガーダイが好ましい。リップ部間隙ｔは、０．１ｍｍ以上、２ｍｍ以下が好ましく、ランド部長さＬは、５ｍｍ以上、５０ｍｍ以下が好ましい。Ｌ／ｔが、１０以上となることが好ましい。
【００４７】
また、樹脂の付着を防止するために、配管内壁の表面粗さは小さいことが好ましく、０．３Ｓ以下が好ましい。配管内面に硬質クロムメッキを行ない、バフ研磨することが好ましい。流延ダイ４の内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。流延ダイ４周辺に樹脂から揮発成分が析出しダイラインの原因となる場合があるので、揮発成分を含んだ雰囲気は吸引することが好ましい。また、静電印加等の装置にも析出する場合があるので、交流を印加したり、他の加熱手段で析出を防止することが好ましい。
【００４８】
流延ダイ４はシートやフィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされないがコートハンガーダイが好ましい。リップ部間隙ｔは０．１ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましく、ランド部長さＬは５ｍｍ以上５０ｍｍ以下が好ましい。Ｌ／ｔが１０以上となることが好ましい。
【００４９】
第１冷却ロール５に密着した直後の樹脂の厚みを、ｈとすると、フィルムの厚みが７０μｍ、以上１００μｍ未満の場合には、ｔ／ｈを１０以下とし、５０μｍ以上、７０μｍ以下の場合には、ｔ／ｈを１５以下とし、５０μｍ未満の場合には、ｔ／ｈを２０以下とすることが好ましい。ｔ／ｈを前記の値にすることで、流延時のいわゆる溶融液リボンの伸張を抑え、流れ方向のリタデーションを小さく保つことができる。
【００５０】
本発明は、セルロースエステルフィルムの製造方法において、流延ダイ４のウェブ引き取り側リップおよびウェブ反引き取り側リップのエッジの角部横断面の半径Ｒは、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下とすることにより、エッジへの付着物の発生を抑えることができ、リタデーションを均一化することができて、フィルムの平面性を良好に保つことができる。
【００５１】
フィルムの厚み調整機構としては、幅手方向に分割して温度を調整するヒーター式、機械的にリップ開度を調整する手動ボルト方式、あるいは、ヒーターによりボルトの伸縮を利用してリップ開度を調整するヒートボルト方式などを使用することが好ましい。
【００５２】
流延ダイ４の材質としては、ニッケル、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック（タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム）などを溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、＃１０００番手以降の砥石を用いるラッピング、＃１０００番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削（切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向）、電解研磨、電解複合研磨などの加工を施したものなどがあげられる。
【００５３】
ダイリップ部の好ましい材質は、流延ダイ４と同様である。シャークスキン防止のためには、リップと樹脂の摩擦を減らすことが重要であり、これには、例えばＤｕａｌ  Ｓｐｉｒａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ  Ｉｎｃ．社製のセラミックコーティング（商品名Ｋ０５ＭＦＣ）を使用することが好ましい。また、リップ部の表面粗度は０．５Ｓ以下が好ましく、０．２Ｓ以下がより好ましい。
【００５４】
本発明において、流延ダイ４から押出された材料は、冷却ロールにて冷却、表面矯正される。流延ダイ４から押出された材料が最初に接触する冷却ロールを第１冷却ロール５とすると、材料が流延ダイ４から第１冷却ロール５に接触するまでの時間は短い方が好ましく、１０秒以内、好ましくは５秒以内、最も好ましくは２秒以内である。また、流延ダイ４から第１冷却ロール５までの距離は１０ｍｍ以上、１００ｍｍ以下が好ましい。樹脂の温度を高く保つことで、いわゆる溶融液リボンの伸張により発生する流れ方向のリタデーションを小さくすることができる。また、ロールに接触してから押圧されるまでの時間は短い方が、ダイラインの矯正に効果的であり、ロール接着後、０．５秒以内に押圧されることが好ましい。また、そのためにはロールのなるべく押圧されるポイントに近い位置に材料を最初に接触させる必要があり、押圧されるまでにロールの中心角１０°以内の円周部分で接することが好ましく、押圧されるまでにロールに接している距離は２〜１００ｍｍであることが好ましい。２つのロールの間に材料を落としてしまうと、押圧が安定せず平面性に優れたフィルムの作製が困難である。流延ダイ４出口から樹脂が第１冷却ロール５に密着する直前のエアギャップにおいて樹脂を保温することが好ましい。保温方法としてはマイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。
【００５５】
本発明において、流延ダイ４からポリマーが流出する際、昇華物等による流延ダイ４や冷却ロールの汚染を防ぐため、流延ダイ４付近に吸引装置をつけることが好ましい。吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱するなどの処置を施すことが必要である。また、吸引圧が大きすぎると段ムラなどフィルム品質に影響を及ぼす、小さすぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。
【００５６】
本発明において、フィルムと冷却ロールは密着することが好ましい。フィルムと冷却ロールを密着させる方法としては、静電密着法、エアーナイフ、減圧チャンバーなどが使用できる。
【００５７】
冷却ロールは１本以上であれば良いが、フィルムの両面に対して平滑性を高めるために２本以上とし、両面とも冷却ロールに接触させることが好ましい。また、冷却ロールには、クリーニングロール等の清掃設備を付与することも可能である。冷却ロールの温度ムラは０．５℃以下が好ましい。速度ムラはＯ．５％以下が好ましい。冷却ロール表面はハードクロムメッキを使用することができるが、これに限定されない。表面粗度は０．１ｓ以下が好ましい。タッチロールの材質としては金属、または金属ロールの周りに樹脂、ゴムなどを巻いたものを用いることができる。また、幅手中央部からサイドへいくに従い、径を変化させたクラウンロールを用いることもできる。
【００５８】
冷却ロール（冷却ドラム）の温度調整は、冷却ロール（冷却ドラム）内部に水や油などの熱媒体を流すことにより調整することが好ましい。
【００５９】
本発明において、Ｔダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第１冷却ロール５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸のセルロースエステル系樹脂フィルム１０を得る。第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸のフィルム１０は、ダンサーロール（フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこでフィルム１０を幅手方向に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。
【００６０】
フィルムを幅手方向に延伸する方法は、公知のテンターなどを好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅手方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅手方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなるセルロースエステルフィルムの遅相軸は幅手方向になる。
【００６１】
一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅手方向である。偏光フィルムの透過軸とセルロースエステルフィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。
【００６２】
上記延伸機１２におけるフィルム１０の延伸条件は、所望のリタデーション特性が得られるように温度、倍率を選ぶことができる。通常、延伸倍率は１．１〜２．０倍、好ましくは１．２〜１．５倍であり、延伸温度は、通常、フィルムを構成する樹脂のＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃、好ましくはＴｇ〜Ｔｇ＋４０℃の温度範囲で行なわれる。延伸倍率が小さすぎると所望のリタデーションが得られない場合があり、大きすぎると破断してしまう場合がある。延伸温度が低すぎると破断してしまう場合があり、高すぎると所望のリタデーションが得られない場合がある。
【００６３】
フィルムの幅手方向の延伸は、制御された均一な温度分布下で行なうことが好ましい。好ましくは±２℃以内、さらに好ましくは±１℃以内、特に好ましくは±０．５℃以内である。
【００６４】
上記の方法で作製したセルロースエステル系樹脂フィルムＦのリタデーション調整や寸法変化率を小さくする目的で、フィルムを長さ方向や幅手方向に延伸または収縮させてもよい。長さ方向に収縮するには、例えば、幅手延伸を一時クリップアウトさせて長さ方向に弛緩させる、または横延伸機の隣り合うクリップの間隔を徐々に狭くすることによりフィルムを収縮させるという方法がある。後者の方法は一般の同時二軸延伸機を用いて、縦方向の隣り合うクリップの間隔を、例えばパンタグラフ方式やリニアドライブ方式でクリップ部分を駆動して滑らかに徐々に狭くする方法によって行なうことができる。必要により任意の方向（斜め方向）の延伸と組み合わせてもよい。長手方向、幅手方向とも０．５％から１０％収縮させることでセルロースエステルフィルムの寸法変化率を小さくすることができる。
【００６５】
セルロースエステルフィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、仕上がりのフィルムとして、本発明において使用される膜厚範囲は３０〜２００μｍで、最近の薄手傾向にとっては４０〜１２０μｍの範囲が好ましく、特に４０〜１００μｍの範囲が好ましい。フィルムの平均膜厚は、所望の厚さになるように、押し出し流量、流延ダイ４の流延口の間隙、冷却ドラムの速度等をコントロールすることで調整できる。
【００６６】
フィルム端部をスリッター１３により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング１４及びバックロール１５よりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）をフィルム両端部に施し、巻取り機１６によって巻き取ることにより、セルロースエステルフィルム（元巻き）Ｆ中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。
【００６７】
（剪断速度）
剪断速度とは、流体の流速方向に対して垂直方向の速度勾配の大きさと定義できる。本発明の溶融製膜において、剪断速度を検討したところ、各部位により剪断速度は大きく異なることが明確となった。特にフィルタ部については、剪断速度が１０ｓｅｃ-1であり、Ｔダイ部では、５００ｓｅｃ-1の範囲にあることが分かった。本発明では、それぞれ、膜厚ムラ、リターデーションムラを抑制するための安定した溶融製膜物の流れを達成するためには、各剪断速度に応じた溶融粘度が必要であることを見出した。
【００６８】
Ｔダイ部の剪断速度は、幅１８００ｍｍ、スリットサイズ１ｍｍ、スリット幅３０ｍｍのＴダイより、溶融樹脂を５００ｋｇ／ｈの流速で押出した際の溶融粘度と圧力値より、公式〔（スリット間隙×圧力）／（２×粘度×スリット幅）〕より算出した。
【００６９】
フィルタ部の剪断速度は、捕集サイズ１０μｍ、厚み７００μｍの日本精線社製ファイバフィルタ  ファインポア  を溶融樹脂を５００ｋｇ／ｈの流速で押出した際の溶融粘度と圧力値より、公式〔（スリット間隙×圧力）／（２×粘度×スリット幅）〕より算出した。
【００７０】
（溶融粘度）
樹脂の溶融粘度は、非ニュートン流体となることが一般的であり、剪断速度に依存し、その場合、剪断速度の累乗と粘度の相関があることが知られている。
【００７１】
上記剪断速度の検討結果に鑑みて、各剪断速度における溶融製膜物の溶融粘度を下記範囲に規定することで、膜厚ムラ、リターデーションムラを抑制した製膜が出来ることを見出した。
【００７２】
その領域は、以下の通りである。
【００７３】
フイルター部  １０ｓｅｃ-1：ηｆ＝３００〜１００００Ｐａ・ｓ
ダイ部      ５００ｓｅｃ-1：ηｄ＝５０〜１０００Ｐａ・ｓ
上記範囲以外の部分では、特に低粘度側で不均一な流れが発生しやすく、膜厚ムラが発生しやすい。高粘度側では、Ｔダイからの製膜の際に、高ドラフト比とせざるを得ず、リターデーションムラが発生しやすい。
【００７４】
この溶融粘度は、セルロースエステルによっては、セルロースエステル種の選択だけでは達成できない可能性がある。その場合は、後述する一般式（１）に示される化合物を溶融製膜物に１〜２５質量％添加することは溶融粘度を制御する上で好ましい。
【００７５】
ダイ部の溶融粘度については、幅１８００ｍｍ、スリットサイズ１ｍｍ、スリット幅３０ｍｍのＴダイを別途、ギアポンプに装着し、溶融製膜時と同等の温度、圧力、樹脂材料条件にて押出し、その際の流速より、粘度を算出した。
【００７６】
フィルタ部の溶融粘度については、島津製作所製フローテスターの樹脂吐出部に捕集サイズ１０μｍ、厚み７００μｍの日本精線社製ファイバフィルタ  ファインポア  を配置し、溶融製膜条件と同等の温度、圧力、樹脂材料条件にて測定を行った。
【００７７】
（製膜温度）
２００〜２８０℃の下で溶融すると、樹脂が良く溶融しつつ、熱分解が起こりにくいことが知られており、２３０〜２８０℃の温度範囲では、さらに、溶融度も上がり、熱分解が抑制され好ましい。２００℃以下では、未溶融分が含有することが確認され、２８０℃を超えると、熱分解による樹脂の着色が見られる。
【００７８】
また前述のように、フィルタ部、ダイ部は、圧力損失が大きいことが分かっており、その部位での流れの乱れが懸念されるため、より溶融粘度の低い条件が望ましく、それぞれの部位で、フィルタ部、ダイ部の温度を溶融温度＋５〜＋２０℃上昇することが望ましい。５℃以下では効果が乏しく、２０℃以上では、溶融粘度の激変による流れの乱れが発生し、逆に膜厚ムラの要因となる懸念がある。
【００７９】
ここで記載している溶融温度とは、Ｔダイ部に設置した接触式温度センサーの値を読み取ったものである。
【００８０】
（フィルタ）
フィルタについては、光学用途の場合、異物除去のため、捕集サイズ１５μｍ以下を用いることが一般的であり、さらには、捕集サイズ５〜１０μｍのフィルタが好ましい。フィルタは市販のものを使用することが出来る。
【００８１】
（膜厚ムラ）
溶融製膜法は、溶融混練機から流延ダイ（スリット）を通してキャスティングドラム上にメルト溶融樹脂を押出し、冷却固化して製膜する。流延ダイに発生するダイ筋は、幅方向（ＴＤ）の厚みむらを引き起こし、かつキャスティングドラム上への密着条件により長手方向（ＭＤ）の厚みむら（横ダン）を引き起こす。
【００８２】
本発明の未延伸フィルムの厚みむらは、長手方向（ＭＤ）及び幅方向（ＴＤ）のいずれも０〜１％であることが適当であり、０〜０．５％であることが好ましく、０〜０．２５％であることがさらに好ましい。厚みむらを０〜１％の範囲内に抑えることにより、製膜後のフィルムの表示むらの発生を防ぐことができる。
【００８３】
（リターデーションムラ）
面内の残留位相差（リターデーション）Ｒｏは、下記式で示されるように面内の長手方向（ＭＤ）の屈折率と幅方向（ＴＤ）の屈折率との差に厚みを乗じたものである。Ｒｏは、０〜１００ｎｍであることが好ましく、０〜５０ｎｍであることがより好ましく、０〜２５ｎｍであることがさらに好ましい。また、Ｒｏムラは０〜１０％の範囲であることが適当であり、０〜７％であることが好ましく、０〜５％であることがさらに好ましい。
【００８４】
面内リターデーションＲｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
ここにおいて、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）、屈折率ｎｘはフィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう。ｎｙはフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率をいう。
【００８５】
（セルロースエステル）
本発明に用いられるセルロースエステルは、脂肪酸アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の中から少なくともいずれかの構造を含む、セルロースの前記単独または混合酸エステルである。
【００８６】
芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基の例としてハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基及びアリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）2、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（−Ｏ−Ｒ）2、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）2、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）2−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−ＮＨ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2、−Ｓｉ（−Ｒ）3、−Ｏ−ＳｉＨ2−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ（−Ｒ）2及び−Ｏ−Ｓｉ（−Ｒ）3が含まれる。上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。置換基の数は、１個〜五個であることが好ましく、１個〜４個であることがより好ましく、１個〜３個であることが更に好ましく、１個または二個であることが最も好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基及びウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基及びカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基及びアリールオキシ基が更に好ましく、ハロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が最も好ましい。
【００８７】
上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる。上記アルキル基は、環状構造或いは分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることが更に好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル及び２−エチルヘキシルが含まれる。上記アルコキシ基は、環状構造或いは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることがより好ましく、１〜６であることが更に好ましく、１〜４であることが最も好ましい。アルコキシ基は、更に別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシ及びオクチルオキシが含まれる。
【００８８】
上記アリール基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。アリール基の例には、フェニル及びナフチルが含まれる。上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ及びナフトキシが含まれる。上記アシル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。アシル基の例には、ホルミル、アセチル及びベンゾイルが含まれる。上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミド及びベンズアミドが含まれる。上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド及びｐ−トルエンスルホンアミドが含まれる。上記ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。
【００８９】
上記アラルキル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることが更に好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル、フェネチル及びナフチルメチルが含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることが更に好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０であることが好ましく、７〜１２であることが更に好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニルが含まれる。上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８〜２０であることが好ましく、８〜１２であることが更に好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルが含まれる。上記カルバモイル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイル及びＮ−メチルカルバモイルが含まれる。上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下であることが好ましく、１２以下であることが更に好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイル及びＮ−メチルスルファモイルが含まれる。上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、２〜１２であることが更に好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシ及びベンゾイルオキシが含まれる。
【００９０】
上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることが更に好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル及びイソプロペニルが含まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることが更に好ましい。アルキニル基の例には、チエニルが含まれる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、１〜１２であることが更に好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましく、６〜１２であることが更に好ましい。
【００９１】
本発明に係るセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で、具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
【００９２】
本発明において前記脂肪族アシル基とは、更に置換基を有するものも包含する意味であり、置換基としては上述の芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基として例示したものが挙げられる。
【００９３】
また、上記セルロースエステルのエステル化された置換基が芳香環であるとき、芳香族環に置換する置換基Ｘの数は０または１〜５個であり、好ましくは１〜３個で、特に好ましいのは１または２個である。更に芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えば、ナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。
【００９４】
上記セルロースエステルにおいて置換もしくは無置換の脂肪族アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の少なくともいずれか１種選択された構造を有する構造を有することが本発明に係るセルロースエステルに用いる構造として用いられ、これらは、セルロースの単独または混合酸エステルでもよく、２種以上のセルロースエステルを混合して用いてもよい。
【００９５】
本発明に係るセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００９６】
混合脂肪酸エステルの置換度として、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。
【００９７】
式（Ｉ）    ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）    ０≦Ｘ≦２．５
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも０．１≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦２．７であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているのものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００９８】
更に、本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜８．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜５．０であり、更に好ましくは２．５〜５．０であり、更に好ましくは３．０〜５．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００９９】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
【０１００】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【０１０１】
（添加剤）
本発明のセルロースエステルフィルムは、添加剤としては、各種可塑剤、安定剤、酸化防止剤としてヒンダートアミン系、またはヒンダートフェノール系化合物等を含んでいることが好ましく、更にこの他に過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、マット剤、染料、顔料、更にはヒンダードフェノール系酸化防止剤以外の酸化防止剤等を含むことが好ましい。
【０１０２】
本発明では、フィルム構成材料の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために、また透湿性、易滑性といった機能を付与するために添加剤を用いる。
【０１０３】
一方、フィルム構成材料を加熱溶融すると分解反応が著しくなり、この分解反応によって着色や分子量低下に由来した該構成材料の強度劣化を伴うことがある。またフィルム構成材料の分解反応によって、好ましくない揮発成分の発生も併発することもある。
【０１０４】
フィルム構成材料を加熱溶融するとき、上述の添加剤が存在することは、材料の劣化や分解に基づく強度の劣化を抑制すること、または材料固有の強度を維持できる観点で優れており、本発明の光学フィルムを製造できる観点から上述の添加剤が存在することが必要である。
【０１０５】
また、上述の添加剤の存在は加熱溶融時において可視光領域の着色物の生成を抑制すること、または揮発成分がフィルム中に混入することによって生じる透過率やヘイズ値といった光学フィルムとして好ましくない性能を抑制または消滅できる点で優れている。
【０１０６】
本発明において液晶表示画像の表示画像は、本発明の構成で光学フィルムを用いるとき１％を超えると影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は１％未満、より好ましくは０．５％未満である。
【０１０７】
フィルム製造時、リターデーションを付与する工程において、該フィルム構成材料の強度の劣化を抑制すること、または材料固有の強度を維持できることにある。フィルム構成材料が著しい劣化によって脆くなると、該延伸工程において破断が生じやすくなり、リターデーション値の制御ができなくなることがあるためである。
【０１０８】
上述のフィルム構成材料の保存或いは製膜工程において、空気中の酸素による劣化反応が併発することがある。この場合、上記添加剤の安定化作用とともに、空気中の酸素濃度を低減させる効果を用いることも本発明を具現化する上で併用できる。これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら３者の内少なくとも１つの方法を上記添加剤を存在させる方法と併用することができる。フィルム構成材料が空気中の酸素と接触する確率を低減することにより、該材料の劣化が抑制でき、本発明の目的のためには好ましい。
【０１０９】
本発明の光学フィルムは偏光板保護フィルムとして活用するため、本発明の偏光板及び偏光板を構成する偏光子に対して経時保存性を向上させる観点からも、フィルム構成材料中に上述の添加剤が存在することが好ましい。
【０１１０】
本発明の偏光板を用いた液晶表示装置において、本発明の光学フィルムに上述の添加剤が存在するため、上記の変質や劣化を抑制する観点から光学フィルムの経時保存性が向上できるとともに、液晶表示装置の表示品質向上においても、光学フィルムが付与された光学的な補償設計が長期に亘って機能発現できる点で優れている。
【０１１１】
（可塑剤）
一般的に、可塑剤として知られる化合物を添加することは機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の観点において好ましい。また本発明で行う溶融流延法においては、可塑剤を添加することは、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりもフィルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりもフィルム構成材料の粘度を低下させる目的を含んでいる。ここで、本発明において、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態において材料が加熱された温度を意味する。
【０１１２】
セルロースエステル単独では、ガラス転移温度よりも低いとフィルム化するための流動性は発現されない。しかしながら、セルロースエステルは、ガラス転移温度以上において熱量の吸収により弾性率或いは粘度が低下し、流動性が発現される。フィルム構成材料を溶融させるためには、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつことが好ましい。
【０１１３】
（一般式（１）、一般式（２）で表される化合物）
前記一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良く、Ｒ1〜Ｒ5のうち、少なくともいずれかは１つは水素原子ではない。Ｌは２価の連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。
【０１１４】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルキル基としては、同様に炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、フェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【０１１５】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１１６】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、もしくはｔ−ブトキシ等の各アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）、アルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい））、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。
【０１１７】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数１〜８のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１１８】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。
【０１１９】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１２０】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８の無置換のアシル基が挙げられ（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１２１】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基は更に前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。
【０１２２】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１２３】
また、Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。
【０１２４】
また、これらＲ1〜Ｒ5のうち、少なくともいずれかは１つは水素原子ではない。なおＲ1〜Ｒ5のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していても良い。
【０１２５】
また、Ｌで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、更に前記のＲ1〜Ｒ5で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。
【０１２６】
中でも、Ｌで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。
【０１２７】
またこれら本発明において可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式（１）で表される有機酸としては、少なくともＲ1またはＲ2に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。
【０１２８】
なお本発明においては３価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。
【０１２９】
本発明において、前記一般式（１）で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する３価以上のアルコール化合物としては、好ましくは３〜２０価の脂肪族多価アルコールであり、本発明おいて３価以上のアルコールは下記の一般式（３）で表されるものが好ましい。
【０１３０】
一般式（３）  Ｒ′−（ＯＨ）ｍ
式中、Ｒ′はｍ価の有機基、ｍは３以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、ｍとしては３または４の多価アルコールである。
【０１３１】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、グルコース、セロビオース、イノシトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。
【０１３２】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式（１）で表される有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸を予め酸クロライド或いは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
【０１３３】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、前記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【０１３４】
前記一般式（２）において、Ｒ6〜Ｒ20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していて良い。Ｒ6〜Ｒ10のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ11〜Ｒ15のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではなく、Ｒ16〜Ｒ20のうち、少なくともいずれか１つは水素原子ではない。また、Ｒ21はアルキル基を表す。
【０１３５】
Ｒ6〜Ｒ21のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記Ｒ1〜Ｒ5と同様の基が挙げられる。
【０１３６】
この様にして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１３７】
以下に、本発明に係わる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１３８】
【化３】
2007144932.tif 000004
【０１３９】
【化４】
2007144932.tif 000005
【０１４０】
【化５】
2007144932.tif 000006
【０１４１】
【化６】
2007144932.tif 000007
【０１４２】
【化７】
2007144932.tif 000008
【０１４３】
【化８】
2007144932.tif 000009
【０１４４】
【化９】
2007144932.tif 000010
【０１４５】
【化１０】
2007144932.tif 000011
【０１４６】
【化１１】
2007144932.tif 000012
【０１４７】
【化１２】
2007144932.tif 000013
【０１４８】
【化１３】
2007144932.tif 000014
【０１４９】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも前記本発明に係わる一般式（１）で表される有機酸および３価以上の多価アルコールから製造されるエステル化合物を可塑剤として１〜２５質量％含有するが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。
【０１５０】
本発明に係わる可塑剤前記一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールからなるエステル化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。
【０１５１】
（他の可塑剤）
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物を可塑剤として１〜２５質量％含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。
【０１５２】
本発明に係る前記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。
【０１５３】
なお、他の可塑剤を併用する際には、本発明の可塑剤が、可塑剤全体の少なくとも５０質量％以上含有されることが好ましい。より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上含有されることが好ましい。このような範囲で用いれば、他の可塑剤との併用によっても、ブリードアウト及び透湿性を改良させることができる。
【０１５４】
併用するその他の可塑剤としては、脂肪族カルボン酸−多価アルコール系可塑剤、特開２００３−１２８２３号公報段落３０〜３３に記載されているような、無置換の芳香族カルボン酸またはシクロアルキルカルボン酸−多価アルコールエステル系可塑剤、あるいはジオクチルアジペート、ジシクロヘキシルアジペート、ジフェニルサクシネート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、トリシクロヘキシルトリカルバレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルボキシレート、フタル酸系可塑剤（例えばジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等）、クエン酸系可塑剤（クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等）等の多価カルボン酸エステル系可塑剤、トリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）（旭電化製アデカスタブＰＦＲ）、フェニレンビス（ジキシレニルホスフェート）（旭電化製アデカスタブＦＰ５００）、ビスフェノールＡジフェニルホスフェート（旭電化製アデカスタブＦＰ６００）等のリン酸エステル系可塑剤、例えば特開２００２−２２９５６号公報の段落番号４９〜５６に記載のポリマーポリエステル等、ポリエーテル系可塑剤等が挙げられる。
【０１５５】
本発明では、フタル酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、ポリエーテル系可塑剤、アクリル樹脂可塑剤を使用することが好ましい。
【０１５６】
なお、本発明のセルロースエステルフィルムは、着色すると光学用途として影響を与えるため、好ましくは黄色度（イエローインデックス、ＹＩ）が３．０以下、より好ましくは１．０以下である。黄色度はＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいて測定することができる。
【０１５７】
（酸化防止剤）
本発明に用いられる酸化防止剤について説明する。
【０１５８】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成型時の熱や酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止出来る。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることが出来、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に係るセルロースエステル１００質量部に対して好ましくは０．０１〜５質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。
【０１５９】
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール酸化防止剤化合物が好ましく、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されているものなどの、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物には、以下の一般式（４）のものが含まれる。
【０１６０】
【化１４】
2007144932.tif 000015
【０１６１】
上式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、更に置換されているかまたは置換されていないアルキル置換基を表す。ヒンダードフェノール化合物の具体例には、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル  ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル��プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール系酸化防止剤化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、“Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び“Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。
【０１６２】
その他の酸化防止剤として、好ましいリン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが特に好ましい。
【０１６３】
更に好ましいイオウ系安定剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。
【０１６４】
【化１５】
2007144932.tif 000016
【０１６５】
Ｓｕｍｉｌｅｚｅｒ  ＧＰ：住友化学工業社製
ＰＥＰ−２４Ｇ：旭電化工業（株）製
Ｓｕｍｉｌｅｚｅｒ  ＴＰ−Ｄ：住友化学工業社製
また、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平８−２７５０８記載の３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン系化合物、３，３’−スピロジクロマン系化合物、１，１−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平３−１７４１５０記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていても良く、可塑剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていても良い。
【０１６６】
（酸捕捉剤）
酸捕捉剤としては、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４’−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物  ＥＰＯＮ８１５ｃ（ｍｉｌｌｅｒ−ｓｔｅｐｈｅｎｓｏｎ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｃｏｍｐａｎｙ，ｉｎｃ．製）、及び一般式（５）の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物である。
【０１６７】
【化１６】
2007144932.tif 000017
【０１６８】
上式中、ｎは０〜１２に等しい。用いることが出来る更に可能な酸捕捉剤としては、特開平５−１９４７８８号公報の段落８７〜１０５に記載されているものが含まれる。
【０１６９】
（光安定剤）
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩若しくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。このような化合物には、以下の一般式（６）のものが含まれる。
【０１７０】
【化１７】
2007144932.tif 000018
【０１７１】
上式中、Ｒ1及びＲ2は、Ｈまたは置換基である。ヒンダードアミン光安定剤化合物の具体例には、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（４−ｔ−ブチル−２−ブテニル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−エチル−４−サリチロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル−β（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１−ベンジル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニルマレイネート（ｍａｌｅｉｎａｔｅ）、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アジペート、（ジ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−セバケート、（ジ−１−アリル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−フタレート、１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル−アセテート、トリメリト酸−トリ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）エステル、１−アクリロイル−４−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ジブチル−マロン酸−ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジベンジル−マロン酸−ジ−（１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジエチル−ピペリジン−４−イル）−エステル、ジメチル−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オキシ）−シラン，トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフィット、トリス−（１−プロピル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ホスフェート，Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ヘキサメチレン−１，６−ジアセトアミド、１−アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセトアミド）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン、４−ベンジルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジブチル−アジパミド、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−（２−ヒドロキシプロピレン）、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｐ−キシリレン−ジアミン、４−（ビス−２−ヒドロキシエチル）−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−メタクリルアミド−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、α−シアノ−β−メチル−β−［Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチ��ピペリジン−４−イル）］−アミノ−アクリル酸メチルエステル。好ましいヒンダードアミン光安定剤の例には、以下のＨＡＬＳ−１及びＨＡＬＳ−２が含まれる。
【０１７２】
【化１８】
2007144932.tif 000019
【０１７３】
これらのヒンダードアミン系耐光安定剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることが出来、またこれらヒンダードアミン系耐光安定剤と可塑剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤と併用しても、添加剤の分子構造の一部に導入されていても良い。その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、フィルム中に好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．０１〜５質量％、特に好ましくは０．０５〜１質量％である。
【０１７４】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【０１７５】
有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１７６】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ−スペシャルティ−ケミカルズ社製）、ＬＡ３１（旭電化社製）を用いることもできる。
【０１７７】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１７８】
本発明においては、紫外線吸収剤は０．１〜２０質量％添加することが好ましく、更に０．５〜１０質量％添加することが好ましく、更に１〜５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１７９】
（マット剤）
本発明のセルロースエステルフィルムには、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。
【０１８０】
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒径は０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させる為に好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。
【０１８１】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。
【０１８２】
上記マット剤として用いられるフィルム中の微粒子の存在は、別の目的としてフィルムの強度向上のために用いることもできる。また、フィルム中の上記微粒子の存在は、本発明の光学フィルムを構成するセルロースエステル自身の配向性を向上することも可能である。
【０１８３】
（リターデーション制御剤）
本発明の光学フィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化して光学補償能を付与して、液晶表示品質の向上のためにこのような偏光板加工を行ってもよい。リターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物をリターデーション制御剤として使用することもできる。また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。
【０１８４】
（高分子材料）
本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーを適宜選択して混合してもよい。前述の高分子材料やオリゴマーはセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。セルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーの少なくとも１種以上を混合する目的は、加熱溶融時の粘度制御やフィルム加工後のフィルム物性を向上するために行う意味を含んでいる。この場合は、上述のその他添加剤として含むことができる。
【０１８５】
（機能性層）
本発明の光学フィルム製造に際し、延伸の前及び／または後で帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
【０１８６】
製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
【０１８７】
前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロース樹脂を含む組成物を共押出しして、積層構造のセルロースエステルフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースエステルフィルムを作ることができる。例えば、マット剤はスキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のＴｇが異なっていてもよく、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。
【０１８８】
（寸法安定性）
本発明の光学フィルムは、寸度安定性が２３℃５５％ＲＨに２４時間放置したフィルムの寸法を基準としたとき、８０℃９０％ＲＨにおける寸法の変動値が±１．０％未満であることが好ましく、更に好ましくは０．５％未満であり、特に好ましくは０．１％未満である。
【０１８９】
本発明の光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いた場合、光学フィルム自身が上記の範囲以上の変動を有すると、偏光板としてのリターデーションの絶対値と配向角が当初の設定とずれるために、表示品質の向上能の減少或いは表示品質の劣化を引き起こすことがある。
【０１９０】
（フィルム中の揮発成分）
フィルム構成材料中の添加剤の存在は、該セルロースエステル、可塑剤、酸化防止剤、その他必要に応じて添加する紫外線吸収剤やマット剤、リターデーション制御剤等、フィルムを構成する材料の少なくとも１種以上に対して、変質や分解による揮発成分の発生を抑制または防止する観点で優れている。また添加剤自身もフィルム構成材料の溶融温度領域において、揮発成分を発生しないことが求められる。
【０１９１】
フィルム構成材料が溶融されるときの揮発成分の含有量は１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下、好ましくは０．２質量％以下、更に好ましくは０．１質量％以下のものであることが望ましい。本発明においては、示差熱重量測定装置（セイコー電子工業社製ＴＧ／ＤＴＡ２００）を用いて、３０℃から３５０℃までの加熱減量を求め、その量を揮発成分の含有量とする。
【０１９２】
（延伸操作、屈折率制御）
本発明のセルロースエステルフィルムは、延伸操作により屈折率制御を行うことができる。延伸操作としては、セルロースエステルフィルムの１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで好ましい範囲の屈折率に制御することができる。
【０１９３】
例えば、フィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。
【０１９４】
例えば、溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フィルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制或いは、幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅手で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられることがあるが、幅方向に延伸したことでフィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、該流延方向に延伸することでボーイング現象を抑制でき、幅手の位相差の分布を少なく改善できるのである。
【０１９５】
更に、互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。光学フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
【０１９６】
セルロースエステルフィルム支持体の膜厚ムラを改善するのに、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍の範囲で行うことが好ましい。
【０１９７】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、幅方向に延伸することで、光学フィルムの遅相軸を幅方向に付与することができる。この場合、本発明において、表示品質の向上のためには、光学フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、（幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）を満たすことが好ましい。
【０１９８】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０１９９】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０２００】
本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更に３５μｍ以上が好ましい。また、１５０μｍ以下、更に１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５以上〜８０μｍが好ましい。上記領域よりも光学フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いとリターデーションの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
【０２０１】
本発明の光学フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。
【０２０２】
θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０２０３】
（偏光板）
偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ−Ｎ、以上コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。
【０２０４】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０２０５】
（表示装置）
本発明の光学フィルムが用いられた偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた表示装置を作製することが出来る。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、本発明の光学フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、ＭＶＡ型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０２０６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０７】
（用いる素材）
〈セルロースエステル〉
Ｃ−１．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル置換度１．９、プロピオニル基置換度０．７、分子量Ｍｎ＝７００００、分子量Ｍｗ＝２０００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９
Ｃ−２．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝７００００、分子量Ｍｗ＝１９００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７
Ｃ−３．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル置換度０．１、プロピオニル基置換度２．７、分子量Ｍｎ＝７００００、分子量Ｍｗ＝１８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６
Ｃ−４．セルロースアセテート：アセチル置換度２．０、分子量Ｍｎ＝７００００、分子量Ｍｗ＝１８００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６
〈可塑剤〉
Ｐ−１．一般式（１）化合物  例示化合物７  表１記載量
（例示化合物７の合成）
１０℃に保持した２７質量部のトリメチロールプロパン、１１１質量部のピリジン、３００質量部の酢酸エチルの混合溶液を攪拌しながら、１８０質量部のアセチルサリシロイルクロライドを酢酸エチル２００質量部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下し、その後、８０℃まで加熱して、５時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、１ｍｏｌ／Ｌ  ＨＣｌ水溶液を加えて洗浄し、さらに１質量％Ｎａ2ＣＯ3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、９９質量部（収率８０％）の透明液体を得た。なおこの化合物の分子量は６２１であった。
【０２０８】
Ｐ−２．トリフェニルホスフェート、表１記載量
〈酸化防止剤〉
Ａ−１．ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバスペシャルティケミカルズ社製）
１質量部
〈紫外線吸収剤〉
ＵＶ−１：ＬＡ３１（旭電化社製、重量平均分子量：４８６、３８０ｎｍにおけるモル吸光係数＝６７８０）                                                  ２質量部
実施例１
（光学フィルム１〜５８の作製）
表１に記載の上記セルロース樹脂を１２０℃で１時間乾燥空気中で熱処理し、乾燥空気中で室温まで放冷した。乾燥したセルロース樹脂９０質量部に対して、表１、２の構成で可塑剤を加え、各々に添加剤（酸化防止剤、紫外線吸収剤）を上記質量部添加し、ヘンシェルミキサーで混合後、押出機を用い加熱してペレットを作製し、放冷した。
【０２０９】
このペレットを１２０℃で乾燥後、押出機を使用し、表１、２記載の溶融温度で加熱溶融し、溶融状態にてフィルタを通した後に、ダイを通して液晶画像表示装置（ＬＣＤ）の偏光板用保護フィルムに用いるセルロースエステルフィルムを８０μｍ厚を目標に作製した。
【０２１０】
フィルタとしては、ステンレス鋼製繊維の焼結体よりなるファイバーにより作製した捕集サイズが１５μｍ以下である日本精線社製フィルタ  ファインポアを使用した。
【０２１１】
また、樹脂の溶融温度については、２００・２３０・２５０・２８０・２９０℃に設定した。その時の、フイルター通過時の溶融粘度（Ｐａ・ｓ）／剪断速度１０ｓｅｃ-1、及びダイ通過時の溶融粘度（Ｐａ・ｓ）／剪断速度５００ｓｅｃ-1を測定し表１、２に記載した。
【０２１２】
製膜は、Ｔ型ダイから押出成形し、引き取りロールを介して１５８℃でフィルムの長手方向に１．１倍延伸し、続いて幅方向にテンターを用いて１．１倍延伸後、緩和し、冷却しながら幅手両端部の耳部をスリッティングで除去し、さらに室温（２０℃）まで冷却した後、両端部に高さ１０μｍ、幅１．５ｃｍのナーリングを設け、巻き取ってロール状の膜厚８０μｍの、Ｒｏが５ｎｍ、Ｒｔが７０ｎｍの光学フィルム１〜５８を得た。
【０２１３】
《評価》
（膜厚ムラ）
作製したフィルムについて、膜厚分布を幅手方向で１０点ずつ、東洋精機社製デジマイクロで測定し、標準偏差を算出した。その標準偏差について、０〜０．２５μｍの範囲に入るものは◎、０．２５〜０．５μｍの範囲に入るものは○、０．５〜１μｍの範囲に入るものを△、それよりも分布の広いものについては×とした。
【０２１４】
（リターデーションムラ）
作製したフィルムについて、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、作成した試料を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において３次元屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙを求めた。下記式に従って面内方向のリターデーション値Ｒｏを算出した。
【０２１５】
式  Ｒｏ値＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式中、ｎｘはフィルムの製膜方向に平行な方向におけるフィルムの屈折率、ｎｙは製膜方向に垂直な方向におけるフィルムの屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表す。
【０２１６】
測定は、製膜方向と直交する幅手方向に１０点行い、その平均及び標準偏差から、以下で示すリターデーション変動率を指標とした。評価は、変動率が０〜２％を◎、２〜５％を○、５〜８％を△、８％〜を×とした。
【０２１７】
リターデーション変動率＝標準偏差／リターデーション平均値
（着色）
作製したフィルムについて、分光光度測定器Ｖ−５７０（ＪＡＳＣＯ社製）をもちいて３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の分光光度値を用いて、イエローインデックス（ＹＩ）を算出した。ＹＩの値について、０〜１の範囲に入るものは◎、１〜１．５の範囲に入るものは○、１．５〜２の範囲に入るものは△、それ以上のものは、×とした。
【０２１８】
以上の評価結果を下記表１及び表２に示した。
【０２１９】
【表１】
2007144932.tif 000020
【０２２０】
【表２】
2007144932.tif 000021
【０２２１】
表１、表２より本発明のフイルター及びダイ通過時の粘度特性を有する光学フィルムは、種々なセルロースエステルを用いた場合でも、Ｒｏムラ、膜厚ムラ、ＹＩが各々優れており、総合的に優れた光学フィルムであることが分かった。
【０２２２】
また、一般式（１）で表される化合物を用いると、同じ溶融温度でも粘度を所望の値に制御し易く上記特性がより改善されることが分かった。
【０２２３】
実施例２
実施例１の光学フィルムＮｏ．１８の作製において、可塑剤であるＰ−１．一般式（１）化合物  例示化合物７の代わりに、一般式（１）または一般式（２）の例示化合物４９、５１、５２、５４、５７を用いた以外は同様にして、本発明の光学フィルム１０１〜１０５を作製した。
【０２２４】
更に、実施例１の光学フィルムＮｏ．１７、３１、４８の作製において、酸化防止剤であるＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０の代わりに、Ｓｕｍｉｌｅｚｅｒ  ＧＰ：住友化学工業社製を同モル量用いた以外は同様にして、本発明の光学フィルムＮｏ．２０１〜２０３を作製した。
【０２２５】
得られた光学フィルム１０１〜１０５、２０１〜２０３について、実施例１と同様な評価を実施し、結果を下記表３に示した。
【０２２６】
【表３】
2007144932.tif 000022
【０２２７】
表３より、可塑剤の種類、酸化防止剤の種類を代えても本発明の効果が再現されることが確認された。
【０２２８】
実施例３
《偏光板の作製》
実施例１で作製した本発明の光学フィルム１６、１７、比較の光学フィルム１８、１９を用いて、下記手順により偏光板を作製した。
【０２２９】
（ハードコート層の形成）
上記光学フィルム上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
【０２３０】
（ハードコート層塗布液）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液とした。
【０２３１】
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）                                              ２２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １１０質量部
酢酸エチル                                                      １１０質量部
〈反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製〉
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止層付き光学フィルムを作製した。
【０２３２】
（反射防止層の形成：高屈折率層）
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１００℃で１分熱硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。
【０２３３】
この高屈折率層の屈折率は１．６２であった。
【０２３４】
（高屈折率層塗布組成物）
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液（固形分２０％、ＩＴＯ粒子、粒径５ｎｍ）                                                              ５５質量部
金属化合物：Ｔｉ（ＯＢｕ）4（テトラ−ｎ−ブトキシチタン）       １．３質量部
電離放射線硬化型樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ３．２質量部
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
０．８質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液          １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １２０質量部
イソプロピルアルコール                                          ２４０質量部
メチルエチルケトン                                                ４０質量部
（反射防止層の形成：低屈折率層）
前記高屈折率層上に下記の低屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線ランプにて紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、耐熱性プラスチックコアに巻き長４０００ｍで巻き取り、次いで８０℃３日間の加熱処理を行い反射防止層付き光学フィルム（反射防止フィルム）１６、１７、１８、１９を作製した。
【０２３５】
尚、この低屈折率層の厚さ９５ｎｍ、屈折率は１．３７であった。
【０２３６】
（低屈折率層塗布組成物の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【０２３７】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                                １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２）分散液                            ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製）              ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液              ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ４００質量部
イソプロピルアルコール                                          ４００質量部
〈中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）分散液の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【０２３８】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０２３９】
次いで、厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０２４０】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と前記反射防止フィルム１６、１７、１８、１９及び裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには市販のセルロースエステルフィルムであるコニカミノルタタックＫＣ８ＵＣＲ−４（コニカミノルタオプト（株）製）を用いてそれぞれ偏光板とした。
【０２４１】
工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した前記反射防止フィルムを得た。
【０２４２】
工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０２４３】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理した光学フィルムの上にのせて積層した。
【０２４４】
工程４：工程３で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ2、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０２４５】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板１６、１７、１８、１９を作製した。
【０２４６】
《液晶表示装置の作製》
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０２４７】
富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。
【０２４８】
その際、その偏光板の貼合の向きは、上記反射防止フィルムの面が、液晶の観察面側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１６、１７、１８、１９を各々作製した。
【０２４９】
本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板１６、１７、及び液晶表示装置１６、１７は比較例１８、１９に対し、膜厚ムラやリターデーションムラによる反射色ムラも無く優れた視認性を有していた。
【図面の簡単な説明】
【０２５０】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。
【符号の説明】
【０２５１】
１  押出し機
２  フィルター
３  スタチックミキサー
４  流延ダイ
５  第１冷却ロール
６  タッチロール
７  第２冷却ロール
８  第３冷却ロール
９  剥離ロール
１０  未延伸フィルム
１２  延伸機
１６  巻取り装置
Ｆ  光学フィルム（元巻き）
【図１】
2007144932.tif 000025