(57)【要約】【課題】コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れたレンズ基板を提供すること、前記レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明のレンズ基板は、多数のレンズ部を有する基板本体と、開口部を有する遮光膜とを備えている。遮光膜は、遮光性を有する複数の遮光層と、少なくとも１層の光透過性を有する光透過層とを有するものであり、隣り合う遮光層同士の間に、光透過層が介挿された構成をなすものである。遮光膜は、第１の遮光層と、第１の遮光層の基板本体と対向する面とは反対の面側に設けられた第２の遮光層とを有するものであり、第１の遮光層での開口部の面積をＳＳ［μｍ２］、第２の遮光層での開口部の面積をＳＬ［μｍ２］としたとき、０．５５≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９５の関係を満足する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数のレンズ部を有する基板本体と、開口部を有する遮光膜とを備えたレンズ基板であって、
前記遮光膜は、遮光性を有する複数の遮光層と、少なくとも１層の光透過性を有する光透過層とを有するものであり、隣り合う前記遮光層同士の間に、前記光透過層が介挿された構成をなすものであることを特徴とするレンズ基板。
【請求項２】
前記遮光膜は、前記遮光層として、第１の遮光層と、前記第１の遮光層に設けられた開口部よりも大きい開口部が設けられた第２の遮光層とを有するものであり、
前記第１の遮光層における開口部の面積をＳＳ［μｍ２］、前記第２の遮光層における開口部の面積をＳＬ［μｍ２］としたとき、０．５５≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９５の関係を満足する請求項１に記載のレンズ基板。
【請求項３】
前記光透過層の厚さは、２〜３５μｍである請求項１または２に記載のレンズ基板。
【請求項４】
前記遮光層の厚さは、０．５〜５μｍである請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項５】
基板本体の構成材料の屈折率をｎ１、前記光透過層の構成材料の屈折率をｎ２としたとき、−０．１８≦ｎ１−ｎ２≦０．１８の関係を満足する請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項６】
レンズ基板を平面視したときの開口率が５〜２０％である請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項７】
レンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板である請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項８】
前記基板本体は、前記レンズ部として大きさの異なるレンズ部を備えたものである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項９】
多数のレンズ部を有する基板本体と、開口部を有する遮光膜とを備えたレンズ基板を製造する方法であって、
前記基板本体の前記レンズ部が形成された面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して光透過性を有する光透過層を形成する第１の工程と、
前記基板本体を介して前記光透過層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる第２の工程と、
前記光透過層の前記感光部以外の部位上に、遮光層形成用材料を付与し、開口部を有する遮光層を形成する第３の工程とを有し、
前記第１の工程ないし前記第３の工程を複数回繰り返すことにより、前記光透過層を介して複数の前記遮光層が積層されてなる前記遮光膜を形成することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記第３の工程は、前記光透過層上に、前記遮光層形成用材料で構成された層を有する遮光層転写シートを貼り合わせる工程と、
貼り合わされた前記遮光層転写シートを剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に前記遮光層形成用材料を転写する工程とを有するものである請求項９に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１２】
請求項９または１０に記載の方法を用いて製造されたレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１３】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記レンズ基板とを備えた請求項１１または１２に記載の透過型スクリーン。
【請求項１４】
請求項１１ないし１３のいずれかに記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ基板やマイクロレンズ基板が一般的に用いられている。
このようなレンズ基板では、画像のコントラストを向上させる目的で、遮光層（ブラックマスク）が設けられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、遮光層により外光反射等を十分に抑え、コントラストを十分に向上させることは困難であった。
また、遮光性を向上させ、コントラストを向上させるために、遮光層を厚く形成することも考えられるが、遮光層を厚く形成すると、レンズ基板に垂直な方向から観察した場合のコントラストは向上させることができるが、レンズ基板を斜めから観察した場合、画像形成用の光が該遮光層で遮られてしまう（いわゆる「ケラレ」が発生する）という問題があった。その結果、視野角特性が低下するという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−７４９１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れたレンズ基板を提供すること、前記レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板は、多数のレンズ部を有する基板本体と、開口部を有する遮光膜とを備えたレンズ基板であって、
前記遮光膜は、遮光性を有する複数の遮光層と、少なくとも１層の光透過性を有する光透過層とを有するものであり、隣り合う前記遮光層同士の間に、前記光透過層が介挿された構成をなすものであることを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れたレンズ基板を提供することができる。
【０００７】
本発明のレンズ基板では、前記遮光膜は、前記遮光層として、第１の遮光層と、前記第１の遮光層に設けられた開口部よりも大きい開口部が設けられた第２の遮光層とを有するものであり、
前記第１の遮光層における開口部の面積をＳＳ［μｍ２］、前記第２の遮光層における開口部の面積をＳＬ［μｍ２］としたとき、０．５５≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９５の関係を満足することが好ましい。
これにより、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０００８】
本発明のレンズ基板では、前記光透過層の厚さは、２〜３５μｍであることが好ましい。
これにより、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板では、前記遮光層の厚さは、０．５〜５μｍであることが好ましい。
これにより、画像形成用の光が該遮光層で遮られてしまう（いわゆる「ケラレ」が発生する）という問題が発生するのをより効果的に防止しつつ、遮光膜全体としての遮光性を特に優れたものとすることができる。その結果、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板では、基板本体の構成材料の屈折率をｎ１、前記光透過層の構成材料の屈折率をｎ２としたとき、−０．１８≦ｎ１−ｎ２≦０．１８の関係を満足することが好ましい。
これにより、光の利用効率を十分に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板では、レンズ基板を平面視したときの開口率が５〜２０％であることが好ましい。
これにより、十分に優れた視野角特性を有しつつ、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
本発明のレンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向（例えば、上下方向および左右方向）における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板では、前記基板本体は、前記レンズ部として大きさの異なるレンズ部を備えたものであることが好ましい。
このように、レンズ基板が大きさの異なるレンズ部を備えたものであると、一般に、レンズ基板を平面視したときの各開口部の大きさのばらつきが大きくなり易く、表示される画像における輝度ムラ（各部位での明るさのばらつき）が顕著になるという問題点があった。また、開口部の大きさを均一なものとした場合においては、レンズ基板の正面から観察した際の輝度ムラは抑制されるが、各開口部での、光の透過率（レンズ部により屈折された光の透過率）のばらつきが大きくなり、斜め方向から観察した際の輝度ムラが顕著になるという問題点があった。
これに対し、本発明では、このように、大きさの異なるレンズ部を備えた場合であっても、上記のような輝度ムラの発生を効果的に防止することができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数のレンズ部を有する基板本体と、開口部を有する遮光膜とを備えたレンズ基板を製造する方法であって、
前記基板本体の前記レンズ部が形成された面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して光透過性を有する光透過層を形成する第１の工程と、
前記基板本体を介して前記光透過層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる第２の工程と、
前記光透過層の前記感光部以外の部位上に、遮光層形成用材料を付与し、開口部を有する遮光層を形成する第３の工程とを有し、
前記第１の工程ないし前記第３の工程を複数回繰り返すことにより、前記光透過層を介して複数の前記遮光層が積層されてなる前記遮光膜を形成することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れたレンズ基板を製造することができるレンズ基板の製造方法を提供することができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記第３の工程は、前記光透過層上に、前記遮光層形成用材料で構成された層を有する遮光層転写シートを貼り合わせる工程と、
貼り合わされた前記遮光層転写シートを剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に前記遮光層形成用材料を転写する工程とを有するものであることが好ましい。
これにより、好適な厚さの遮光層、光透過層を備えた遮光膜を効率良く形成することができる。
【００１４】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明の方法を用いて製造されたレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
【００１５】
本発明の透過型スクリーンでは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記レンズ基板とを備えたことが好ましい。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像を表示することができ、かつ、視野角特性に優れたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。また、本発明において、「開口部」とは、遮光性を有する遮光膜（遮光膜を構成する遮光層）を平面視したときに、遮光部としての遮光膜（遮光層）が有する光透過部のことを指すものであり、実質的に着色されていない材料（光透過性を有する材料）等で充填されているような部位等も含む概念である。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
【００１７】
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の平面図、図３は、図１に示すマイクロレンズ基板に入射した外光が減衰する様子を示す模式的な縦断面図、図４は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図４中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１８】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（レンズ部）２１を備えた基板本体２と、ブラックマトリックス（遮光膜）３と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部４とを備えている。
基板本体２は、通常、主として光透過性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性や、後述する第１の光透過層３１１との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００１９】
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２０】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４〜１．５８であるのが好ましく、１．５〜１．５６であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２１】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ（レンズ部）２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ（レンズ部）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２２】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２３】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２４】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２５】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２６】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２７】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２８】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９５〜１１５％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００２９】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３０】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして設けられており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３３の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３３近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３３の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板１を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス（遮光膜）３が設けられている。
【００３１】
ブラックマトリックス３は、光透過性を有する光透過層として、第１の光透過層３１１および第２の光透過層３１２を備えている。遮光性を有する遮光層として、第１の遮光層３２１および第２の遮光層３２２を備えている。そして、ブラックマトリックス３は、基板本体２の出射側の面上に、第１の光透過層３１１、第１の遮光層３２１、第２の光透過層３１２、および、第２の遮光層３２２が、この順に、積層されてなるものである。言い換えると、ブラックマトリックス（遮光膜）は、複数の遮光層と、少なくとも１層の光透過層とを備え、隣り合う遮光層同士の間に、光透過層が介挿された構成をなすものである。このような構成を有することにより、図３に示すように、遮光層の表面で光の反射が起きた場合であっても、ブラックマトリックス３に入射した外光Ｌｃは、２つの遮光層の間（第１の遮光層３２１と第２の遮光層３２２との間）で反射しながら急激に減衰する。これにより、遮光層により多くの外光を吸収させることができる。その結果、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、上記のように、ブラックマトリックス３が光透過層を介して遮光層が積層された構成を有するものであることにより、遮光層の一層当りの厚さを比較的薄いものとすることができる。これにより、画像形成用の光が、遮光層（開口部３３を除く部分）に入射し、当該遮光層に吸収されてしまうことが効果的に防止される。特に、マイクロレンズ（レンズ部）により屈折した光が、遮光膜の開口部から遮光膜（開口部を除く部分）に入射し、レンズ基板からの出射が阻害される、いわゆる、ケラレという現象が起こるのを、効果的に防止することができる。これにより、マイクロレンズ基板１の視野角特性は優れたものとなる。また、上記のように、ブラックマトリックス３が光透過層を介して遮光層３２が積層された構成を有するものであることにより、遮光層全体の総厚（図示の構成では、第１の遮光層３２１の厚さと第２の遮光層３２２の厚さとの和）を比較的小さいものとした場合であっても、ブラックマトリックス（遮光膜）３の遮光性を優れたものとすることができる。これは、外光等がブラックマトリックス３に入射した際、各遮光層内で光が吸収されるとともに、隣接する層の界面における光の反射等が起こるが、反射された光は前述したように急激に減衰するため、一旦、ブラックマトリックス３に入射した光は、非常に高い効率で吸収されることによるものであると考えられる。
【００３２】
上記のような効果は、単に遮光層（遮光膜）を厚く形成しただけでは、得られない。すなわち、遮光層（遮光膜）を厚くした場合には、光の透過率を比較的低いものとすることはできるが、上記のような遮光層（遮光膜）の表面での反射によるコントラストの低下等を十分に防止することができない。また、単に遮光層（遮光膜）を厚く形成した場合には、遮光膜自体の厚さで、ケラレが発生し易くなり、視野角特性が低下する。
なお、本発明において、光透過層は、光を透過し得るものであればよく、また、遮光層は、光透過層に比べて遮光性に優れるもの（光透過性の低いもの）であればよい。したがって、例えば、光透過層は、所定の濃度で着色されたものであってもよい。
【００３３】
また、以下の説明において、第１の光透過層３１１および第２の光透過層３１２をまとめて光透過層３１と称し、第１の遮光層３２１および第２の遮光層３２２をまとめて遮光層３２と称する場合がある。
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３３を有している。すなわち、第１の遮光層３２１は第１の開口部３３１を有しており、第２の遮光層３２２は第２の開口部３３２を有している。これにより、画像形成用の光を十分に透過させつつ、不要な光を遮断することができる。なお、本明細書において、第１の開口部３３１および第２の開口部３３２をまとめて開口部３３と称する場合がある。
【００３４】
また、各遮光層３２に設けられた開口部は、マイクロレンズ（レンズ部）２１による光の収束の度合いに応じて、大きさが異なる。すなわち、図示の構成では、比較的マイクロレンズ２１による集光の度合いの小さい（集光スポットの大きさが大きい）第１の遮光層３２１においては、開口部３３１の大きさが比較的大きいものであるのに対して、比較的マイクロレンズ２１による集光の度合いの大きい（集光スポットの大きさが小さい）第２の遮光層３２２においては、開口部３３２の大きさが比較的小さい。表示される画像をマイクロレンズ基板１の略正面から観察した際のコントラストを特に優れたものにするとともに、いわゆるケラレが効果的に防止され、視野角特性を特に優れたものとすることができる。言い換えると、マイクロレンズ基板１に対して、正面、斜め方向等、様々な方向から表示された画像を観察した場合であっても、コントラストに優れた画像を視認することができる。
【００３５】
第１の遮光層３２１における開口部３３１（より小さい開口部）の面積をＳＳ［μｍ２］、第２の遮光層３２２における開口部（より大きい開口部）の面積をＳＬ［μｍ２］としたとき、０．５５≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９５の関係を満足するのが好ましく、０．７０≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．８０≦ＳＳ／ＳＬ≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３６】
光透過層３１の厚さは、２〜３５μｍが好ましく、５〜２５μｍがより好ましい。光透過層３１の厚さが前記範囲内の値であると、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。なお、各光透過層３１（第１の光透過層３１１、第２の光透過層３１２）で厚さは同じものであってもよいし、異なるものであってもよいが、異なる場合には、いずれもが、前述した範囲に含まれるのが好ましい。
光透過層３１は、光透過性を有する材料で構成されている。
光透過層３１の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、前述した基板本体２との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００３７】
光透過層３１を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂（アクリル系粘着剤を含む）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル系樹脂、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００３８】
光透過層３１の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４０〜１．５８であるのが好ましく、１．５０〜１．５８であるのがより好ましい。光透過層３１の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３９】
また、基板本体２の構成材料の屈折率（絶対屈折率）をｎ１、光透過層３１の構成材料の屈折率（絶対屈折率）をｎ２としたとき、−０．１８≦ｎ１−ｎ２≦０．１８の関係を満足するのが好ましく、−０．１０≦ｎ１−ｎ２≦０．１０の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、光の利用効率を十分に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
また、遮光層３２の厚さは、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．３〜３μｍであるのがより好ましく、０．３〜１．５μｍであるのがさらに好ましい。遮光層３２の厚さが前記範囲内の値であると、画像形成用の光が遮光層３２で遮られてしまう（いわゆる「ケラレ」が発生する）という問題が発生するのをより効果的に防止しつつ、ブラックマトリックス３全体としての遮光性を特に優れたものとすることができる。その結果、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。なお、各遮光層３２（第１の遮光層３２１、第２の遮光層３２２）で厚さは同じものであってもよいし、異なるものであってもよいが、異なる場合には、いずれもが、前述した範囲に含まれるのが好ましい。
【００４１】
遮光層３２は、遮光性を有する材料で構成されている。
遮光層３２を構成する材料は、特に限定されないが、各種顔料、各種染料等の着色剤（例えば、インク等）を用いることができる。
また、遮光層３２は、樹脂材料等を構成成分として含むものであってもよい。これにより、光透過層３１との密着性を特に優れたものとすることができる。
【００４２】
また、平面視したときの開口部３３のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、５〜３０％であるのが好ましく、５〜２５％であるのがより好ましく、５〜２０％であるのがさらに好ましい。このように、本発明においては遮光膜の開口率を比較的小さいものとすることが好ましい。このように、開口率を小さいものとすることにより、表示される画像のコントラストを優れたものとすることができるとともに、遮光膜が上記のような構成を有しているため、視野角特性を十分に優れたものとすることができる。すなわち、本発明では、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、表示される画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。なお、本発明において、「開口率」とはレンズ基板を平面視したときの遮光膜全体としての開口率のことを指す。
【００４３】
遮光層３２の層数は、特に限定されないが、例えば２〜１０層であるのが好ましく、２〜３層であるのがより好ましい。これにより、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、遮光層３２の層数が前記上限値を超えると、ブラックマトリックス３の総厚等によっては、視野角特性が低下する傾向を示すとともに、製造時においては、工程数が多くなるためプロセスが複雑化してしまい、コストアップに繋がる可能性がある。
【００４４】
また、ブラックマトリックス３全体としての厚さ（総厚）は、０．３〜４００μｍであるのが好ましく、０．３〜１００μｍであるのがより好ましく、０．３〜３０μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の総厚が前記範囲内の値であると、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４５】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性をさらに優れたものとすることができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００４６】
また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．５〜２０ｍｍであるのが好ましく、０．７〜１０ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜５ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００４７】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図４に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
【００４８】
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が設けられた面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。これにより、観察者に平面画像として観測される。
【００４９】
次に、前述したマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例について説明する。
図５は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図６は、図５に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図７、図８、図９は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図７〜図９中の下側を「（光の）入射側」、図７〜図９中の上側を「（光の）出射側」と言う。
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００５０】
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部６１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００５１】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００５２】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００５３】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００５４】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５５】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５６】
また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００５７】
また、凹部６１の深さは、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５８】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５９】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００６０】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図６を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００６１】
＜Ａ１＞まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する（図６（ａ）参照）。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
＜Ａ２＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図６（ｂ）、図６（ｃ）参照）。
【００６２】
特に、本実施形態では、まず、図６（ｂ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜９を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図６（ｃ）に示すように、マスク形成用膜９に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜９および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
マスク形成用膜９は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜９（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００６３】
かかる観点からは、マスク形成用膜９（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜９（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６４】
上記のように、マスク形成用膜９（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜９は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の初期孔（開口部）を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜９を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラス材料で構成されたものであり、かつマスク形成用膜９（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜９（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜９（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６５】
マスク形成用膜９の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜９（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜９は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜９（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜９は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６６】
マスク形成用膜９（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜９（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜９の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜９の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜９（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜９（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６７】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜９（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜９の形成と同時に、マスク形成用膜９と同様に設けることができる。
【００６８】
＜Ａ３＞次に、図６（ｃ）に示すように、マスク形成用膜９に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜９に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００６９】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００７０】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００７１】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
【００７２】
＜Ａ４＞次に、図６（ｄ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７３】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図６（ｄ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００７４】
マスク８（マスク形成用膜９）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７５】
＜Ａ５＞次に、図６（ｅ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
【００７６】
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
以上のようにして、図６（ｅ）および図５に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
【００７７】
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜９に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００７８】
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜９に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７９】
なお、凹部付き部材６に対しては、例えば、前述したような離型処理部を形成する目的で、離型処理を施してもよい。離型処理としては、例えば、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００８０】
以下、上記のような凹部付き部材６を用いたマイクロレンズ基板（レンズ基板）１の製造方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図７（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００８１】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００８２】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００８３】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００８４】
＜Ｂ２＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図７（ｂ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００８５】
＜Ｂ３＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６および平板１１を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図７（ｃ）参照）。本工程で除去された凹部付き部材６および平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００８６】
＜Ｂ４＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、ブラックマトリックスの形成を、基板本体にポジ型感光性粘着剤を付与し、光透過性を有する光透過層を形成する第１の工程（感光性粘着剤付与工程）と、基板本体２を介して光透過層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる第２の工程（光照射工程）と、光透過層の感光部以外の部位上に、遮光層形成用材料を付与する第３の工程（遮光層形成工程）とを経て行う。
【００８７】
＜Ｂ４−１＞まず、図７（ｄ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、感光部分は粘着性が低下し、非感光部分は粘着性を維持する特性を示すポジ型の感光性粘着剤を付与して光透過層３１（第１の光透過層３１１）を形成する（感光性粘着剤付与工程）。
感光性粘着剤は、例えば、粘着性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤等で構成されるものを用いることができる。
【００８８】
粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられるが、耐久性、接着性の観点から優れるアクリル系粘着剤が好適である。
アクリル系粘着性樹脂は、例えば、アクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体とを共重合して得られるアクリル系共重合樹脂を主成分とする。
【００８９】
アクリル酸アルキルエステルとしては、そのアルキル基の炭素数が４〜１５のものが好適に用いられ、例えば、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
他の単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９０】
また、官能性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸ヒドロキシルエチル、メタクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリル酸プロピレングリコール、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−tert−ブチルアミノエチル等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９１】
また、側鎖に光反応性基、例えば、不飽和二重結合を有するアクリル系共重合樹脂を用いてもよい。
アクリル系共重合樹脂におけるアクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体の構成比（重量％）は、特に限定されないが、７０〜９９：０〜２０：０．０１〜２０であるのが好ましく、８０〜９５：０〜１０：０．１〜１５であるのがより好ましい。また、アクリル系共重合樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、２０万〜１２０万であるのが好ましく、４０万〜１００万であるのがより好ましい。
また、アクリル系粘着剤は、上記のアクリル系共重合樹脂の他に、例えば、室温架橋型または加熱架橋型架橋剤等の架橋剤、粘着付与剤等を含むものであってもよい。
【００９２】
室温架橋型架橋剤としては、例えば、多価イソシアネートのポリイソシアネート化合物及びこれらポリイソシアネート化合物の３量体、上記ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー、これらのポリイソシアネート化合物、これらポリイソシアネート化合物の３量体が挙げられる。多価イソシアネートの具体例としては、２，４−トリレンジイソシアネート、２，５−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、３−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−２，４′−ジイソシアネート、リジンイソシアネート等が挙げられる。また、架橋剤としては、例えば、アルミニウムやチタン等の金属キレート化合物や多官能エポキシ化合物を用いてもよい。
【００９３】
室温架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．００５〜２０重量部の割合で添加されるのが好ましく、０．０１〜１０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
加熱架橋型架橋剤としては、例えば、ホルムアルデヒドと、メラミン、ベンゾグアミン、尿素等を反応させて得られるメチロール基含有化合物、およびそれらのメチロール基の一部または全部を脂肪族アルコールでエーテル化したもの等が挙げられる。
【００９４】
加熱架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．０１〜２５重量部の割合で添加されるのが好ましく、特に０．１〜２０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、キシレン系樹脂等が挙げられる。
光重合性化合物は、重合形式により、例えば、光ラジカル重合性化合物、光カチオン重合性化合物、光アニオン重合性化合物、光二量化を経由して重合を開始する化合物等が挙げられるが、材料の選択範囲、重合反応性等から光ラジカル重合性化合物が好ましい。
【００９５】
光ラジカル重合性化合物としては、例えば、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ化合物が挙げられ、例えば、不飽和カルボン酸、およびその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド結合物等が挙げられる。より具体な例として、以下に、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーを挙げる。アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、フェノールエトキシレートモノアクリレート、２−（ｐ−クロロフェノキシ）エチルアクリレート、ｐ−クロロフェニルアクリレート、フェニルアクリレート、２−フェニルエチルアクリレート、ビスフェノールＡの（２−アクリルオキシエチル）エーテル、エトキシ化されたビスフェノールＡジアクリレート、２−（１−ナフチルオキシ）エチルアクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレート、９，９−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシトリエトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシジプロポキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ-３-エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アクリロキシエトキシ−３，５−ジメチル）フルオレン等が挙げられる。
【００９６】
また、硫黄含有アクリル化合物を使用することもでき、例えば、４，４'−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４'−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン、４，４'−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）−３，３',５，５'−テトラブロモジフェニルケトン、２，４−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケトン等を用いることができる。
【００９７】
また、メタクリル酸エステルとしては、例えば、上記アクリル酸エステル化合物名のうち、「アクリレート」が「メタクリレート」に、「アクリロキシ」が「メタクリロキシ」に、「アクリロイル」が「メタクリロイル」になる化合物が具体例として挙げられる。
これらの光重合性化合物は１種もしくは２種以上の混合物として使用することもできる。
光重合性化合物は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して０．１〜２００重量部の割合で添加されるのが好ましく、１０〜１５０重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
【００９８】
光重合開始剤としては、上記光重合性化合物の重合方式により適宜選択される。光ラジカル重合性化合物に対して使用できる光重合開始剤としては、例えば、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（t−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラキス（t−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム（商品名イルガキュア７８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が例示される。また、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物等も使用することができ、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−クロロフェニル）ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス（4−メチルフェニル）スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン等の２，４，６−置換−１，３，５−トリアジン化合物等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．５〜２０重量部の割合で配合されるのが好ましく、１〜１５重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
【００９９】
感光性粘着剤を感光させるために使用する露光光源波長への感度を向上させることを目的として、さらに増感色素を使用することもできる。増感色素としては、例えば、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、シアニン系色素、キノリン系色素、クマリン系色素、ケトクマリン系色素、キサントン系色素、チオキサントン系色素、ローダミン系色素、シクロペンタノン系色素、シクロヘキサノン系色素等が挙げられる。
これらの増感色素は、アクリル系共重合樹脂１００重量部に対して、０．０１〜１５重量部の割合で配合されるのが好ましく、０．１〜５重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
その他、例えば、粘着性の制御や後述するコーティング適性改良を目的として、各種可塑剤、界面活性剤等を用いてもよい。
【０１００】
感光性粘着剤としては、ＪＩＳ  Ｚ０２３７に規定される１８０°剥離強度測定より得られる感光部の粘着性が、非感光部の粘着性に対して５０％以上低下するものを使用することが特に好ましい。このような感光性粘着剤を使用することで、所望の部位に開口部を有する遮光層を容易かつ確実に形成することができる。
感光性粘着剤としては、例えば、上述したようなアクリル系共重合樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、また、必要に応じて添加される室温架橋型または加熱架橋型架橋剤、粘着付与剤、増感色素、その他添加剤を、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル、エタノール、イソプロパノール等の溶剤で希釈したもの（溶剤型粘着剤）を用いることができる。感光性粘着剤中における固形分の含有率は、１５〜５０重量％であるのが好ましく、２０〜３５重量％であるのがより好ましい。また、例えば、感光性粘着剤が液状の場合は、溶剤に溶解せず、そのまま用いることができる。
【０１０１】
基板本体２上への感光性粘着剤の付与方法は、特に限定されないが、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法を用いることができる。さらに、室温架橋型にあっては室温条件下でのエージング処理により、また、加熱架橋型にあっては、加熱することにより架橋処理され光透過層３１（第１の光透過層３１１）とされる。
また、基板本体２上への感光性粘着剤の付与は、例えば、支持基材上に感光性粘着剤で構成された粘着剤層（光透過層３１（第１の光透過層３１１））を有するシートを用いて、前記粘着剤層（光透過層３１（第１の光透過層３１１））を基板本体２上に転写することにより行うこともできる。
【０１０２】
＜Ｂ４−２＞次に、マイクロレンズ２１が設けられた面側から基板本体２に光（露光用光）を照射する（光照射工程）。
照射された光はマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の光透過層３１（第１の光透過層３１１）を構成する感光性粘着剤が感光され、それ以外の部分の感光性粘着剤は感光されないか、または感光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の感光性粘着剤のみが感光して感光部（第１の感光部）３１ａを形成する（図７（ｅ）参照）。この感光性粘着剤はポジ型であるので、これにより、感光部３１ａの粘着性が低下し、それ以外の部分（非感光部）では粘着性を維持する。なお、以下の説明においては、感光部（第１の感光部）３１９ａ、および、後述する感光部（第２の感光部）３１９ｂをまとめて感光部３１９と称する場合がある。
基板本体２に照射する光は、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３３の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、表示される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
【０１０３】
＜Ｂ４−３＞次に、図８（ｆ）、図８（ｇ）に示すように、光透過層３１（第１の光透過層３１１）上に、遮光層形成用材料を転写して遮光層３２（第１の遮光層３２１）を形成する（遮光層形成工程（遮光層転写工程））。
遮光層転写シート１３は、転写シート基材１３１上に遮光層形成用材料で構成された遮光層形成用材料層３２’が設けられたものである。転写シート基材１３１の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、セルロース系フィルム、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート等を用いることができる。これらの材料は、機械的強度に優れ、耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、屈曲性等に優れている。
【０１０４】
遮光層形成用材料は、通常、着色剤を含むものであり、必要に応じて、樹脂材料を含んでいてもよい。樹脂材料として、熱可塑性樹脂を用いて場合、転写性が特に優れたものとなる。遮光層形成用材料を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。
着色剤としては、例えば、各種顔料、各種染料等を用いることができるが、カーボンブラックが好ましい。
【０１０５】
本工程は、以下のようにして行うことができる。
すなわち、まず、図８（ｆ）に示すように遮光層転写シート１３を、遮光層形成用材料層３２’と光透過層３１（第１の光透過層３１１）とが接触するように、光透過層３１（第１の光透過層３１１）上に貼りつける。遮光層転写シートは、光透過層３１（第１の光透過層３１１）と十分に密着させることが大事であり、例えば、加熱下で圧縮する方法を用いることができる。
【０１０６】
その後、転写シート基材１３１を剥離する。これにより、光透過層３１（第１の光透過層３１１）のうち、粘着性を維持している部分（非感光部）のみに遮光層形成用材料が転写され、粘着性が低下した感光部３１９（第１の感光部３１９ａ）の遮光層形成用材料は、転写シート基材１３１とともに光透過層３１（第１の光透過層３１１）上から除去される。すなわち、この部分は遮光層３２において開口部３３（第１の開口部３３１）となる。
以上のようにして、第１の開口部３３１を有する第１の遮光層３２１が形成される（図８（ｇ）参照）。
上述したような＜Ｂ４−１＞〜＜Ｂ４−３＞の工程を繰り返して行うことにより、複数の遮光層を、感光性粘着剤層を介して積層することができる。
【０１０７】
＜Ｂ４−４＞図８（ｈ）に示すように、第１の遮光層３２１上に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して第２の光透過層３１２を形成する（感光性粘着剤付与工程）。この工程は、前記＜Ｂ４−１＞の工程と同様にして行うことができる。
＜Ｂ４−５＞次に、マイクロレンズ２１が設けられた面側から基板本体２に光を照射する（光照射工程）。
【０１０８】
照射された光はマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位の第２の光透過層３１２が感光されて感光部３１ｂを形成する。このとき、焦点位置との関係により、第２の光透過層３１２における感光部３１ｂの大きさは、第１の光透過層３１１における感光部３１ａに比べて大きく形成される（図８（ｉ）参照）。
【０１０９】
＜Ｂ４−６＞次に、図９（ｊ）、図９（ｋ）に示すように、第２の光透過層３１２上に、遮光層形成用材料を転写して第２の遮光層３２２を形成する（遮光層転写工程）。この工程は、前記＜Ｂ４−３＞の工程と同様にして行うことができる。
このとき形成される第２の開口部３３２は、第１の開口部３３１よりも大きく形成される。
これにより、第１の光透過層３１１、第１の遮光層３２１、第２の光透過層３１２、第２の遮光層３２２がこの順に積層されてなるブラックマトリックス３が形成される（図９（ｋ）参照）。
なお、上述した説明では、２層の遮光層３２を積層した場合を例に挙げて説明したが、上記と同様にして、感光性粘着剤付与工程（第１の工程）と、光照射工程（第２の工程）と、遮光層転写工程（第３の工程）とを繰り返し行うことにより、３層またはそれ以上の遮光層３２を、光透過層３１を介して積層することができる。
【０１１０】
本実施形態のように、感光性粘着剤にマイクロレンズによって集光させた光を用いてブラックマトリックス（開口部を有する遮光膜）を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。また、マイクロレンズの集光部に対応する部位に確実に開口部を形成することができる。
また、上述した説明では、感光性粘着剤で構成された光透過層において粘着性を維持している部分（非感光部）に遮光層形成用材料を転写させて遮光層を形成する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、感光性粘着剤で構成された光透過層の非感光部に黒色粉体トナーを付着させて遮光層を形成してもよい。
【０１１１】
＜Ｂ５＞次に、図９（ｌ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（拡散部形成工程）。
拡散部４は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
【０１１２】
次に、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンの第２実施形態について説明する。
図１０は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第２実施形態を示す模式的な縦断面図、図１１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）において、大きさの異なるレンズ部を有する場合におけるブラックマトリックスの開口部の様子を示す模式的な図（図１１（ａ）は縦断面図、図１１（ｂ）は平面図）であり、図１２は、従来のレンズ基板において、大きさの異なるレンズ部を有する場合におけるブラックマトリックスの開口部の様子を示す模式的な図、図１３は、図１０に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１０、図１３中の左側、図１１、図１２中の下側を「（光の）入射側」、図１０、図１３中の右側、図１１、図１２中の上側を「（光の）出射側」と言う。
【０１１３】
以下、第２実施形態のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンについて、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
前述した第１実施形態のマイクロレンズ基板１では、マイクロレンズ（レンズ部）２１の焦点が基板本体２の出射側の表面付近に位置していたのに対し、図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板（レンズ基板）１では、マイクロレンズ２１の焦点がブラックマトリックス３の外表面付近（基板本体２と対抗する面とは反対側の面）付近に位置している。すなわち、本実施形態のマイクロレンズ基板１では、ブラックマトリックス３の光の入射側の面から光の出射側方向に向かって、基板本体２を透過した光が集光するようになっている。そして、ブラックマトリックス３においては、第１の遮光層３２１よりも光の出射側に設けられた第２の遮光層３２２の開口部（第２の開口部）３３２は、第１の遮光層３２１の開口部（第１の開口部）３３１よりも小さいものとなっている。
このように、本発明においては、レンズ部の焦点の部位は特に限定されない。また、ブラックマトリックスを構成する各遮光膜の開口部の大きさは、いかなる関係を有するものであってもよく、例えば、レンズ部の焦点位置に対応して、設定することができる。
【０１１４】
本実施形態のように、マイクロレンズ２１の焦点がブラックマトリックス３の外表面付近付近に位置していることにより、特に、マイクロレンズ基板１の設計時、製造時において、マイクロレンズ２１の焦点位置が基板本体２の出射側の表面付近となるように、マイクロレンズ２１のレンズ径や基材フィルム２４の厚さ等を厳密に管理する必要がなく、基材フィルム２４の厚さが変わってもブラックマトリックス３の開口径を比較的均一度の高いものとして形成することができる。
【０１１５】
また、本実施形態のように、第１の遮光層３２１よりも光の出射側に設けられた第２の遮光層３２２の開口部３３２が、第１の遮光層３２１の開口部３３１よりも小さいものであることにより、特に、開口径のばらつきによるムラが目立ち難くなる。
また、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、図１１（ａ）に示すように、大きさの異なるマイクロレンズ（レンズ部）２１を有するものであってもよい。
【０１１６】
このように、大きさの異なるレンズ部を有する場合、従来のレンズ基板においては、図１２（ａ）に示すように、一般に、レンズ基板を平面視したときの各開口部の大きさのばらつきが大きくなり易く、表示される画像における輝度ムラ（各部位での明るさのばらつき）が顕著になるという問題点があった。また、図１２（ｂ）に示すように、開口部の大きさを均一なものとした場合においては、レンズ基板の正面から観察した際の輝度ムラは抑制されるが、各開口部での、光の透過率（レンズ部により屈折された光の透過率）のばらつきが大きくなり、斜め方向から観察した際の輝度ムラが顕著になるという問題点があった。
【０１１７】
これに対し、本発明では、上記のように、レンズ基板（マイクロレンズ基板１）が、大きさの異なるレンズ部（マイクロレンズ２１）を備えた場合であっても、複数の遮光層を、透明樹脂層を介して積層形成することにより、図１１（ｂ）に示すように、平面視したときに、遮光膜（ブラックマトリックス３）全体としての開口部面積のばらつきを抑えつつ、画像形成用の光を効率良く出射することができるため、上記のような輝度ムラの発生を効果的に防止することができ、また、視野角特性も良好なものとすることができる。なお、図１１中、拡散部の図示を省略した。
本実施形態の透過型スクリーン１０は、図１３に示すように、上記のようなマイクロレンズ基板１を備えている以外は、前述した実施形態と同様である。このような構成の透過型スクリーン１０においても、前記と同様な効果が得られる。
【０１１８】
次に、本実施形態のマイクロレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。この方法では、前述した第１実施形態の方法と同様に、凹部付き部材６を用いてマイクロレンズ基板１（基板本体２）を製造する。
図１４、図１５、図１６は、図１０に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１４〜図１６中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【０１１９】
＜Ｂ１’＞前述した第１実施形態での＜Ｂ１＞と同様（図１４（ａ）参照）。
＜Ｂ２’＞前述した第１実施形態での＜Ｂ２＞と同様（図１４（ｂ）参照）。
＜Ｂ３’＞前述した第１実施形態での＜Ｂ３＞と同様（図１４（ｃ）参照）。
＜Ｂ４’＞次に、前述した第１実施形態での＜Ｂ４＞と同様にして、ブラックマトリックス３を形成する（図１４（ｄ）、図１４（ｅ）、図１５（ｆ）、図１５（ｇ）、図１５（ｈ）、図１５（ｉ）、図１６（ｊ）、図１６（ｋ）参照）。
ただし、本実施形態では、マイクロレンズ２１の焦点が、ブラックマトリックス３の外表面付近に位置するものである。そして、ブラックマトリックス３は、第１の遮光層３２１よりも光の出射側に設けられる第２の遮光層３２２の開口部（第２の開口部）３３２が、第１の遮光層３２１の開口部（第１の開口部）３３１よりも小さいものとなる。
＜Ｂ５’＞その後、前述した第１実施形態での＜Ｂ５＞と同様にして、拡散部４を形成することにより、マイクロレンズ基板１が得られる（図１６（ｌ）参照）。
【０１２０】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１７は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ４００は、投写光学ユニット４１０と、導光ミラー４２０と、透過型スクリーン１０とが筐体４４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ４００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れた画像を得ることができるとともに、視野角特性等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ４００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１２１】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
【０１２２】
また、レンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置された基材フィルム）に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
【０１２３】
また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材（凹部付き基板）を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の凹部付き部材を用いて製造してもよい。
また、基板本体の製造には、必ずしも、レンズ基板の凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用いなくてもよい。例えば、基板本体は、基板上に、高粘度材料の液滴を付与し、これを固化させることにより、レンズ部を形成するような方法を用いて製造されたものであってもよい。
【０１２４】
また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際に、凹部付き部材を取り外した状態で光（露光用光）を照射するものとして説明したが、凹部付き部材が基板本体に取り付けられた状態で、ブラックマトリックスを形成してもよい。すなわち、感光性粘着剤層で構成された光透過層に光を照射する際に、凹部付き部材を介して光を照射してもよい。
【０１２５】
また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
また、本発明のレンズ基板は、前述したような方法により製造されたものに限定されず、いかなる方法で製造されたものであってもよい。例えば、前述した実施形態では、感光性粘着剤を用いてブラックマトリックスを形成するものとして説明したが、必ずしも、感光性粘着剤を用いなくてもよい。
また、本発明のレンズ基板は、例えば、レンズ基板を構成するレンズ部の表面付近に着色部（染色部）が設けられていてもよい。これにより、投影される画像のコントラストの更なる向上を図ることができる。
【０１２６】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。
【０１２７】
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【０１２８】
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１２９】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１３０】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１３１】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。
【０１３２】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３８μｍ、深さは３８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９８％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１３３】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
【０１３４】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５７であった。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
【０１３５】
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３８μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９８％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１３６】
次に、基板本体から平板および凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、光透過層を形成した（第１の工程）。
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、ＭＡ６アライナー（ズース・マイクロテック）を用いて、１０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した（第２の工程）。
照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、光透過層（第１の光透過層）において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。
【０１３７】
次に、部分的に露光された光透過層の表面に、転写シート基材と遮光層形成用材料層とで構成された遮光層転写シートを圧着し、ラミネータを用いて３５℃の温度にて５ｋｇ／ｃｍ２の圧力条件でラミネートを行い、その後、転写シート基材を光透過層から剥離した（第３の工程）。これにより、光透過層の非感光部のみに遮光層形成用材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し（転写され）、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部（第１の開口部）を有する遮光層（第１の遮光層）が形成された。開口部（第１の開口部）は、略円形であり、その直径は３０μｍであった。また、形成された第１の遮光層の厚さは１．２μｍであった。また、遮光層転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光層形成用材料層が設けられたものを用いた。
その後、基板本体の第１の光透過層、第１の遮光層が設けられた面側において、上記と同様にして、第１の工程ないし第３の工程を繰り返し行うことにより、光透過層（第２の光透過層）、遮光層（第２の遮光層）を積層した。第２の遮光層が有する開口部（第２の開口部）は、略円形であり、その直径は４０μｍであった。
【０１３８】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、図１に示すようなマイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。また、マイクロレンズ基板を構成する光透過層の屈折率（絶対屈折率ｎ２）は１．５６であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１３９】
（実施例２〜５）
光透過層の形成条件（ポジ型の感光性粘着剤の組成および付与条件）、遮光層の形成条件（遮光層形成用材料層の厚さ）を変更するとともに、第１の工程ないし第３の工程の処理回数を表１に示すようにすることにより、ブラックマトリックスの構成を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４０】
（実施例６）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１４１】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１４２】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔としては、直径が２μｍのものと、０．５μｍのものとを設けた。
【０１４３】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された凹部は、比較的大きい第１の凹部と、第１の凹部よりも小さい第２の凹部とを有するものであった。第１の凹部は、平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）であり、短軸方向の長さ（ピッチ）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、深さが３８μｍであった。また、第２の凹部は、平面視したときの形状が略円形であり、直径が７０．５μｍ、曲率半径が３６．５μｍ、深さが３６．５μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９８％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１４４】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
【０１４５】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５７であった。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
【０１４６】
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、比較的大きい第１のマイクロレンズと、第１のマイクロレンズよりも小さい第２のマイクロレンズとを有するものであった。第１のマイクロレンズは、平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）であり、短軸方向の長さ（ピッチ）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３８μｍであった。また、第２のマイクロレンズは、平面視したときの形状が略円形であり、直径が７０．５μｍ、曲率半径が３６．５μｍ、高さが３６．５μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９８％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１４７】
次に、基板本体から平板および凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、光透過層を形成した（第１の工程）。
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、ＭＡ６アライナー（ズース・マイクロテック）を用いて、１０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した（第２の工程）。
照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、光透過層（第１の光透過層）において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。
【０１４８】
次に、部分的に露光された光透過層の表面に、転写シート基材と遮光層形成用材料層とで構成された遮光層転写シートを圧着し、ラミネータを用いて３５℃の温度にて５ｋｇ／ｃｍ２の圧力条件でラミネートを行い、その後、転写シート基材を光透過層から剥離した（第３の工程）。これにより、光透過層の非感光部のみに遮光層形成用材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し（転写され）、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部（第１の開口部）を有する遮光層（第１の遮光層）が形成された。開口部（第１の開口部）は、略円形であり、直径が４０μｍのもの（第１のマイクロレンズに対応する部位に設けられた開口部）と、直径が３８．８μｍのものと（第２のマイクロレンズに対応する部位に設けられた開口部）が混在していた。また、形成された第１の遮光層の厚さは１．２μｍであった。また、遮光層転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光層形成用材料層が設けられたものを用いた。
【０１４９】
その後、基板本体の第１の光透過層、第１の遮光層が設けられた面側において、上記と同様にして、第１の工程ないし第３の工程を繰り返し行うことにより、光透過層（第２の光透過層）、遮光層（第２の遮光層）を積層した。第２の遮光層が有する開口部（第２の開口部）は、略円形であり、直径が３０μｍのもの（第１のマイクロレンズに対応する部位に設けられた開口部）と、直径が３８．５μｍのもの（第２のマイクロレンズに対応する部位に設けられた開口部）とが混在していた。
【０１５０】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成することにより、図１０、図１１に示すようなマイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。また、マイクロレンズ基板を構成する光透過層の屈折率（絶対屈折率ｎ２）は１．５６であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図１３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５１】
（実施例７〜１０）
光透過層の形成条件（ポジ型の感光性粘着剤の組成および付与条件）、遮光層の形成条件（遮光層形成用材料層の厚さ）を変更するとともに、第１の工程ないし第３の工程の処理回数を表２に示すようにすることにより、ブラックマトリックスの構成を表２に示すように変更した以外は、前記実施例６と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１５２】
（比較例１）
ブラックマトリックスを形成する工程において、第１の遮光層を形成した後に、第２の光透過層、第２の遮光層を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（比較例２）
ブラックマトリックスを形成する工程において、第１の遮光層を形成した後に、第２の光透過層、第２の遮光層を形成しなかった以外は、前記実施例６と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１５３】
（比較例３）
ブラックマトリックスを形成する工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、本比較例のマイクロレンズ基板は、ブラックマトリックス（遮光層）を有していない以外は、前記実施例１のマイクロレンズ基板と同様の構成を有している。
前記各実施例および各比較例について、ブラックマトリックスの構成等を表１、表２にまとめて示す。
【０１５４】
【表１】
2007133271.tif 000002
【０１５５】
【表２】
2007133271.tif 000003
【０１５６】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１７に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［輝度ムラの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、輝度ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：輝度ムラが全く認められない。
○：輝度ムラがほとんど認められない。
△：輝度ムラがわずかに認められる。
×：輝度ムラが顕著に認められる。
【０１５７】
［回折光、モアレの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレが全く認められない。
○：回折光、モアレがほとんど認められない。
△：回折光、モアレがわずかに認められる。
×：回折光、モアレが顕著に認められる。
【０１５８】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、明室において３７３ｌｘ全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約８２ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１５９】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向（上下方向）および水平方向（左右方向）での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表３にまとめて示す。
【０１６０】
【表３】
2007133271.tif 000004
【０１６１】
表３から明らかなように、本発明では、いずれも、輝度ムラの発生が十分に防止され、かつ、高コントラストの画像を表示することができた。また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、明るい画像を表示することができ、回折光、モアレの発生も十分に防止されていた。これに対し、各比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１６２】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板に入射した外光が減衰する様子を示す模式的な縦断面図である。
【図４】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図５】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図５に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）において、大きさの異なるレンズ部を有する場合におけるブラックマトリックスの開口部の様子を示す模式的な図であり、図１１（ａ）は縦断面図、図１１（ｂ）は平面図である。
【図１２】従来のレンズ基板において、大きさの異なるレンズ部を有する場合におけるブラックマトリックスの開口部の様子を示す模式的な図であり、図１２（ａ）は光の集光に対応するように開口部を設けた場合の縦断面図、図１２（ｂ）は各開口部の大きさを均一なものとした場合の縦断面図である。
【図１３】図１０に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１４】図１０に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１５】図１０に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１６】図１０に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１７】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６３】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２１１…中心  ２３…組成物  ２４…基材フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…光透過層  ３１１…第１の光透過層  ３１２…第２の光透過層  ３１９…感光部  ３１９ａ…感光部（第１の感光部）  ３１９ｂ…感光部（第２の感光部）  ３２…遮光層  ３２１…第１の遮光層  ３２２…第２の遮光層  ３２’…遮光層形成用材料層  ３３…開口部  ３３１…第１の開口部（開口部）  ３３２…第２の開口部（開口部）  ４…拡散部  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７…基板  ８…マスク  ８１…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ９…マスク形成用膜  １１…平板  １０…透過型スクリーン  １３…遮光層転写シート  １３１…転写シート基材  ４００…リア型プロジェクタ  ４１０…投写光学ユニット  ４２０…導光ミラー  ４４０…筐体  Ｌａ…平行光  Ｌｃ…外光
【図１】
2007133271.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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