(57)【要約】【課題】膜層数を少なくしつつ、光吸収の問題を解消した反射ミラーを実現する。【解決手段】基板３０上に第１の反射多層膜１０を形成し、その上であって、光の入射側に第２の反射多層膜２０を形成する。第１の反射多層膜１０はＴｉＯ２とＳｉＯ２との交互積層によってなり、第２の反射多層膜２０はＮｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層によってなる誘電体多層膜である。第２の反射多層膜２０では波長４０５ｎｍの光が反射されるが、Ｎｂ２Ｏ５は波長４０５ｎｍにおける光吸収が少ないため、波長４０５ｎｍの光は光吸収されずに第２の反射多層膜２０により反射される。そして、波長６５０ｎｍ及び波長７８０ｎｍの光は、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との２つの反射多層膜の協働作用により反射されるため、全体の膜層数を少なくすることができる。【選択図】  図１
2007133325.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる２つ以上の波長の入射光をほぼ全反射させる反射ミラーであって、
基板上に前記入射光のうち短波長の入射光において光吸収のある第１の高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した第１の反射多層膜が形成され、前記第１の反射多層膜上であって、前記第１の反射多層膜よりも入射側に、前記第１の高屈折率膜よりも屈折率が低く、光吸収の少ない第２の高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した第２の反射多層膜が形成され、
前記短波長の入射光は前記第２の反射多層膜により反射され、前記短波長以外の入射光は前記第１の反射多層膜と前記第２の反射多層膜との２つの反射多層膜との協働作用により反射されることを特徴とする反射ミラー。
【請求項２】
波長７８０ｎｍ近傍及び波長６５０ｎｍ近傍の光は前記第１の反射多層膜と前記第２の反射多層膜との２つの反射多層膜により反射され、波長４０５ｎｍ近傍の光は前記第２の反射多層膜により反射されることを特徴とする請求項１記載の反射ミラー。
【請求項３】
前記低屈折率膜の材料はＳｉＯ２を主成分とし、前記第１の高屈折率膜の材料はＴｉＯ２であり、前記第２の高屈折率膜の材料はＴａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、ランタンチタン混合酸化物又はジルコニウムチタン混合酸化物のうち何れか１種類の材料であることを特徴とする請求項１記載の反射ミラー。
【請求項４】
前記低屈折率膜の材料はＳｉＯ２を主成分とし、前記第１の高屈折率膜の材料はＴｉＯ２であり、前記第２の高屈折率膜の材料はＮｂ２Ｏ５であり、
前記第２の反射多層膜は前記Ｎｂ２Ｏ５と前記ＳｉＯ２との合計８層以上の交互積層による多層膜であり、前記第１の反射多層膜は前記ＴｉＯ２と前記ＳｉＯ２との合計２４層以上の交互積層による多層膜であることを特徴とする請求項１記載の反射ミラー。
【請求項５】
請求項１の反射ミラーにおいて、光源と偏光ビームスプリッタとλ／４波長板と光検出器と前記反射ミラーとを有することを特徴とする光ピックアップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多波長の光を反射する反射ミラー及びこれを適用した光ピックアップに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な光ピックアップは、主に光源と偏光ビームスプリッタとλ／４波長板と対物レンズとＡＰＣ（Auto Power Control）と光検出器（フォトディテクタ）とを有して構成される。光源から射出された光は偏光ビームスプリッタに入射し、Ｐ偏光とＳ偏光とに分離される。分離されたＰ偏光又はＳ偏光のうち、一方の光がディスクに入射し、他方の光が信号検出用のＡＰＣに入射する。ディスクに入射する光は、λ／４波長板において、直線偏光から円偏光に変換されてディスク上で反射し、λ／４波長板でさらに円偏光から直線偏光に変換されて再び偏光ビームスプリッタに入射する。そして、偏光ビームスプリッタに再び入射するときには、偏光方向が９０度変化しているため、入射光は透過又は反射をして、信号検出器に入射する。また、上述した光ピックアップは一般に、光源から射出される光の光路がディスクと平行となる構成を採用しているため、ディスクと平行な光路を辿る光をディスクに導光するための反射ミラー（立ち上げミラー）が設けられる。
【０００３】
光ピックアップに使用される光はレーザ光であり、光源としてはレーザ光源が使用される。一方、反射ミラーとしては、基板上に金属膜を成膜してなる反射ミラーと、高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した誘電体多層膜による反射ミラーとがあるが、特定波長を効率よく反射させるという理由及び金属膜は侵食しやすい、酸化されやすい、傷がつきやすい等の理由により、レーザ光を反射させるミラーとしては誘電体多層膜による反射ミラーが使用される。
【０００４】
誘電体多層膜による反射ミラーの場合、一般に、高屈折率膜としてはＴｉＯ２が用いられ、低屈折率膜としてはＳｉＯ２が用いられる。つまり、高屈折率膜として用いられる材料としては種々のものがあるが、その中で高い屈折率を示す材料としてＴｉＯ２が高屈折率膜として用いられる。従って、高い屈折率を示すＴｉＯ２と低屈折率の材料であるＳｉＯ２との間の屈折率は大きくなるため、少ない膜層数で特定波長のレーザ光を反射する特性を有する反射ミラーを得ることができる。
【０００５】
ところで、近年の光ピックアップで使用される波長領域は、波長７８０ｎｍのＣＤ（Compact Disk）及び波長６５０ｎｍのＤＶＤ（Digital Versatile Disk）だけではなく、大容量光ディスク（波長４０５ｎｍの青色レーザを使用して情報の記録・再生を行う光ディスク）が使用されるようになってきている。上述したように、ＴｉＯ２を高屈折率膜として使用し、ＳｉＯ２を低屈折率膜として使用すれば、屈折率差が大きいため、少ない膜層数で３つの波長域の光を反射する光学特性を得ることができる。しかし、ＴｉＯ２は波長の短い光を光吸収するため、光の利用効率が低下するという問題がある。つまり、ＴｉＯ２とＳｉＯ２とを交互に積層した誘電体多層膜に波長４０５ｎｍの光が入射すると、ＴｉＯ２の層で光吸収の作用により、反射すべき光の一部のエネルギーを吸収してしまう。その結果、反射すべき一部の光が反射せず、光の利用効率が低下する。
【０００６】
そこで、光吸収の問題を回避した誘電体多層膜による反射ミラーが特許文献１に開示されている。
【０００７】
特許文献１では、基板上に第１薄層群を形成し、第１薄層群の上に第２薄層群を形成している。第１薄層群には紫外波長域で光吸収を起こす材料を使用し、第２薄層群には紫外波長域で光吸収を起こさない材料を使用している。反射ミラーに入射する紫外光は、第２薄層群で反射されるため、入射光である紫外光は光吸収されずに反射される。一方、特許文献１にもあるように、第１薄層群としては、紫外波長域において光吸収のある材料が使用されている。紫外波長域に現れる反射体域の巾を広げるためには、紫外波長域で吸収を有する材料を使用することが有効であるためである。
【特許文献１】特開平３−１２６０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した誘電体多層膜による反射ミラーの場合、複数波長の光を反射させる光学特性を得るためには、多くの膜層数を必要とする。しかし、上述した特許文献１では、光吸収の問題を回避するために、第１薄層群と第２薄層群とに分けているが、全体としての膜層数を少なくしているわけではない。
【０００９】
そこで、本発明は、入射光を反射する誘電体多層膜の膜層数を少なくしつつ、光吸収の問題を解消することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の反射ミラーは、基板上に前記入射光のうち短波長の入射光において光吸収のある第１の高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した第１の反射多層膜が形成され、前記第１の反射多層膜上であって、前記第１の反射多層膜よりも入射側に、前記第１の高屈折率膜よりも屈折率が低く、光吸収の少ない第２の高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層した第２の反射多層膜が形成され、前記短波長の入射光は前記第２の反射多層膜により反射され、前記短波長以外の入射光は前記第１の反射多層膜と前記第２の反射多層膜との２つの反射多層膜との協働作用により反射されることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の光ピックアップは、上述の反射ミラーにおいて、光源と偏光ビームスプリッタと光検出器と前記反射ミラーとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の反射ミラーは、誘電体多層膜の膜層数を少なくしつつ、光吸収の問題を解消することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１において、本発明の反射ミラー１は、ガラス基板等の基板３０の上に第１の反射多層膜１０が形成され、第１の反射多層膜１０の上に第２の反射多層膜２０が形成されている。反射ミラー１に入射する入射光は第２の反射多層膜２０から入射する。従って、光の入射側に第２の反射多層膜２０が形成され、基板３０側に第１の反射多層膜１０が形成されている。第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０の２つの反射多層膜は、高屈折率膜と低屈折率膜との交互積層によってなる誘電体多層膜である。そして、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０とは、夫々異なる波長の光を反射させる反射多層膜である。このため、第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０は、高屈折率膜と低屈折率膜との交互積層によってなる誘電体多層膜であるが、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０とでは使用される膜の材料や膜厚が異なる。ここでは、第１の反射多層膜１０に使用される低屈折率膜と第２の反射多層膜２０に使用される低屈折率膜とは同じ膜が使用されるものとする。一方、第１の反射多層膜１０に使用される高屈折率膜と第２の反射多層膜２０に使用される高屈折率膜とは異なる種類の膜が使用されるものとする。勿論、第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０に使用される低屈折率膜を異なる種類のものを用いてもよい。
【００１４】
図１に示されるように、基板３０上には第１の反射多層膜１０が形成され、その上に第２の反射多層膜２０が形成される。上述したように、第１の反射多層膜１０に使用される第１の高屈折率膜１０Ｈと第２の反射多層膜２０に使用される第２の高屈折率膜２０Ｈとは異なる種類の膜であり、第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０で使用される低屈折率膜Ｌは共通のものである。ここで、第１の反射多層膜１０はＤＶＤの波長域（波長６５０ｎｍ）近傍及びＣＤの波長域（波長７８０ｎｍ）近傍の光をほぼ１００％反射する光学特性を有している。一方、第２の反射多層膜２０は大容量光ディスク（波長４０５ｎｍの青色レーザを用いた光ディスク）の波長域近傍の光をほぼ１００％反射する光学特性を有している。
【００１５】
このとき、第２の反射多層膜２０は大容量光ディスクの光を反射する光学特性を有しているが、ＣＤ及びＤＶＤの波長の光をある程度反射する光学特性を有している。そして、図１に示されるように、第２の反射多層膜２０は第１の反射多層膜１０よりも入射光の入射側に形成される。従って、ＣＤ及びＤＶＤの波長の光が反射ミラー１に入射するときは、最初に第２の反射多層膜２０に入射することになるが、第２の反射多層膜２０でもＣＤ及びＤＶＤの波長の光はある程度反射される。このため、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との協働作用によりＣＤ及びＤＶＤの波長の光は反射されるため、第１の反射多層膜１０では１００％の光を反射する必要はない。
【００１６】
次に、第２の反射多層膜２０では、波長４０５ｎｍ近傍の短波長の光が反射されるが、第２の反射多層膜２０で使用される高屈折率膜（第２の高屈折率膜２０Ｈ）及び低屈折率膜（低屈折率膜Ｌ）には、波長の短い光が入射したときに光吸収が少ない材料を用いる。屈折率が高い誘電体膜に波長が短い光を入射すると、光吸収を起こすことは知られている。つまり、波長が短い光ほど高いエネルギーを有し、高いエネルギーを有する短波長の光が屈折率の高い膜に入射すると、そのエネルギーの一部が屈折率の高い膜に吸収され、光吸収を起こす。このため、第２の反射多層膜２０に使用される第２の高屈折率膜２０Ｈには波長の短い光における光吸収の少ない材料を用いる。
【００１７】
従って、大容量光ディスクの波長の光は光吸収を起こすことなく第２の反射多層膜によって反射され、ＣＤ及びＤＶＤの波長の光は第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０とによって反射される。このとき、光吸収の問題を回避するために反射多層膜を全て第２の反射多層膜２０とすることも考えられる。しかし、光吸収を起こさない第２の高屈折率膜２０Ｈの屈折率は、光吸収を起こす第１の高屈折率膜１０Ｈよりも屈折率が低くなるため、全てを第２の反射多層膜２０で構成すると、屈折率差を利用して反射多層膜を実現するためには、全体としての膜層数が多くなる。そこで、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との協働作用により反射させることにより、全体としての膜層数を少なくすることができる。
【００１８】
なお、第２の反射多層膜２０において、大容量光ディスクの波長の光は完全に反射されない場合もある。つまり、第２の反射多層膜２０において、大容量光ディスクの波長の光を厳格に１００％反射させようとすると、必要となる膜層数が多くなる。そこで、１００％ではなくとも、ほぼ１００％に近い反射率を示すような膜構成で第２の反射多層膜２０を形成してもよい。このとき、数％の大容量光ディスクの波長の光は第２の反射多層膜２０を透過することになる。従って、光吸収のある第１の反射多層膜１０に入射することになるが、第１の反射多層膜１０における光吸収の割合も極端に高いものではない。従って、透過した数％の大容量光ディスクの波長の光が全部光吸収されず、その中のごく一部のみが光吸収される。このため、光吸収される大容量光ディスクの波長の光の割合はほぼ無視できるものであるため、第２の反射多層膜２０において大容量光ディスクの波長の光の反射率は完全に１００％ではなくてもよい。また、反射ミラー１で反射する光は、ＣＤ、ＤＶＤ及び大容量光ディスクの３つの波長の光であるものについて説明したが、これに限定されず、光吸収を起こす波長の光を含む異なる２つ以上の波長の光を反射するものについて適用することができる。
【００１９】
次に、本実施形態を適用した実施例について説明する。
【実施例１】
【００２０】
上述した実施形態において、第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０に共通に用いられる低屈折率膜Ｌの材料は、光吸収の少ないものを用いる。ここでは、ＳｉＯ２（屈折率が約１．４７）を主成分とするものを用いる。なお、低屈折率膜ＬとしてはＳｉＯ２のみを材料とするものであってもよいし、ＳｉＯ２を主成分とし、他の材料（例えばＡｌ２Ｏ３等）を微量に（例えば５％程度）含んでいるものであってもよい。但し、他の材料を含んでいる場合でも光吸収が少ないことが条件となる。また、第１の高屈折率膜１０Ｈとしては、光吸収はあるが、高い屈折率を有するＴｉＯ２（屈折率が約２．４５）を用いるものとする。そして、第２の高屈折率膜２０Ｈとしては、光吸収のない材料としてＮｂ２Ｏ５（屈折率が約２．３０）を用いるものとする。本実施例では、第２の高屈折率膜２０ＨとしてＮｂ２Ｏ５を使用しているが、他にも光吸収のない材料を使用することができる。例えば、Ｔａ２Ｏ５（屈折率が約２．１）、ＺｒＯ２（屈折率が約２．０５）ＣｅＯ２（屈折率が約２．３）、ランタンチタン混合酸化物（メルク社製：サブスタンスＨ４）、ジルコニウムチタン混合酸化物（オプトロン社製：ＯＨ−５）等を第２の高屈折率膜２０Ｈとして使用することができる。特に、Ｎｂ２Ｏ５は屈折率が高く光吸収が少ない材料であり、また耐候性も高い材料であるため、第２の高屈折率膜２０Ｈとして適用されることが好ましい。但し、第２の反射多層膜２０は、高屈折率膜と低屈折率膜との間の屈折率差を利用して反射特性を得ているため、第２の高屈折率膜２０Ｈの材料としては、低屈折率膜Ｌの材料であるＳｉＯ２よりも屈折率が高いものを使用する。
【００２１】
図２は、第１の反射多層膜１０としてＴｉＯ２とＳｉＯ２とを交互に積層して合計２４層としたものを用い、第２の反射多層膜２０としてＮｂ２Ｏ５とＳｉＯ２とを交互に積層して合計８層としたものを用いたときのＰ偏光及びＳ偏光の反射特性を示すグラフである。なお、光の入射角は４５度であるものとし、上述した各材料はイオンプレーティング法により蒸着されているものとする。図２に示されるように、ＣＤの波長の光、ＤＶＤの波長の光及び大容量光ディスクの波長の光の３つの波長域（波長４０５ｎｍ近傍、波長６５０ｎｍ近傍、波長７８０ｎｍ近傍）においてＰ偏光及びＳ偏光の反射率はほぼ１００％を得ることができる。
【００２２】
このとき、第２の反射多層膜２０の第２の高屈折率膜２０Ｈの材料としてＮｂ２Ｏ５を使用しているため、光吸収による光の利用効率の低下という問題を回避することができる。同時に、ＣＤ及びＤＶＤの波長の光は、第１の反射多層膜１０だけではなく、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との２つの反射多層膜の協働作用により反射されるため、全体の膜層数を少なくすることができる。
【００２３】
次に、高屈折率膜としてはＮｂ２Ｏ５のみを使用し、低屈折率膜としてはＳｉＯ２のみを使用した場合の比較例について説明する。つまり、ＴｉＯ２を使用せず、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層によって反射多層膜を形成している。また、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２とはイオンプレーティング法により基板上に蒸着され、光の入射角は４５度であるものとする。図３は、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２とを合計４６層の交互積層によって得られたＰ偏光及びＳ偏光の反射特性を示すグラフである。図３も図２と同様に、３つの波長域においてほぼ１００％の反射率を得ることができている。
【００２４】
ところで、上述したように、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率が約２．３０）はＴｉＯ２（屈折率が約２．４５）と比較して屈折率が低い。従って、高屈折率膜としてＮｂ２Ｏ５のみを使用した場合は、光吸収の問題は回避することができるが、高屈折率膜と低屈折率膜との屈折率差を利用して反射特性を得ているため、膜層数が多くなる。このため、図３に示される光学特性を得るために、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層は合計４６層となる。図２と図３とはほぼ同じ反射特性を得ることができるが、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０として反射ミラー１を形成した場合は合計３２層であるのに対し、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層による場合は合計４６層の膜層数が必要となる。このため、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０とを使用した場合は、２つの反射多層膜の協働作用により、比較例に比べて少ない膜層数で高い反射特性得ることができる。
【実施例２】
【００２５】
実施例１ではイオンプレーティング法によりＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５及びＳｉＯ２を蒸着したものについて説明したが、本実施例では真空蒸着法により蒸着したものについて説明する。図４は、第１の反射多層膜１０としてＴｉＯ２とＳｉＯ２とを交互に積層して合計２４層としたものを用い、第２の反射多層膜２０としてＮｂ２Ｏ５とＳｉＯ２とを交互に積層して合計１０層としたものを用いたときのＰ偏光及びＳ偏光の反射特性を示すグラフである。なお、光の入射角は４５度であるものとし、上述した各材料は真空蒸着法により蒸着されているものとする。図４に示されるように、ＣＤの波長の光、ＤＶＤの波長の光及び大容量光ディスクの波長の光の３つの波長域においてＰ偏光及びＳ偏光の反射率はほぼ１００％を得ることができる。
【００２６】
図５は、真空蒸着法を適用した場合における、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との合計６２層の交互積層によりなる反射多層膜を用いたときのＰ偏光及びＳ偏光の反射特性を示すグラフである。図５のような３つの波長域においてＰ偏光及びＳ偏光の反射率がほぼ１００％の反射特性を得るためには、合計６２層の膜層数が必要となる。Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層による反射多層膜は、光吸収の問題を解消できるが、屈折率差が少ないため、必要となる膜層数が多くなることは既に述べたとおりである。ここで、真空蒸着法はイオンプレーティング法よりも膜の密度は低いため、真空蒸着法はイオンプレーティング法と比較して屈折率が低くなる。このため、図５のような反射特性を得るためには、６２層程度の多くの膜層数が必要となる。
【００２７】
一方、第１の反射多層膜１０と第２の反射多層膜２０との協働作用に反射するようにすれば、真空蒸着法であっても、光吸収の問題を解消し、同時に少ない膜層数（合計３４層）で図４に示されるような反射特性を得ることができる。
【００２８】
なお、本実施例及び実施例１では、第１の反射多層膜１０及び第２の反射多層膜２０として最も少ない膜層数と考えられものを示した（イオンプレーティング法では合計３２層、真空蒸着法では合計３４層）。ところで、膜層数が少なくなると、３つの波長域でほぼ１００％の反射率を得ることができても、夫々の反射帯域幅（反射率がほぼ１００％の帯域幅）が狭くなる。このため、入射角に角度依存性があった場合や温度変化があった場合等は、反射率が若干劣化する可能性もある。そこで、反射帯域幅を広げるために、膜層数を多少増加させてもよい。但し、膜層数の問題と反射帯域幅の問題とを加味して、膜層数を制御することが好ましい。なお、本実施例及び実施例１では、真空蒸着法及びイオンプレーティング法による蒸着方法を例示したが、他の方法としてイオンアシストやスパッタ等を適用することができる。
【実施例３】
【００２９】
次に、上述した実施形態の反射ミラー１をＣＤ（波長７８０ｎｍ）、ＤＶＤ（波長６０５ｎｍ）及び大容量光ディスク（波長４０５ｎｍ）に使用される光ピックアップに適用した場合について説明する。図６に示されるように、光ピックアップは、光源１０１と偏光ビームスプリッタ１０２とλ／４波長板１０３と反射ミラー１０４と対物レンズ１０５と光検出器１０６とを有して構成される。
【００３０】
光源１０１は、ＣＤの波長の光、ＤＶＤの波長の光及び大容量光ディスクの波長の光の３つの波長のレーザ光の中から択一的に１つの波長のレーザ光を射出し、光源１０１から射出されたレーザ光は偏光ビームスプリッタ１０２に入射する。偏光ビームスプリッタ１０２は入射光を偏光方向によって透過と反射とを分ける光学素子である。ここでは、光源１０１から射出されるレーザ光はＰ偏光であるものとし、偏光ビームスプリッタ１０２はＰ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する光学特性を有するものとする（Ｐ偏光を反射し、Ｓ偏光を透過する光学特性を有していてもよい）。従って、光源１０１から射出したＰ偏光のレーザ光は偏光ビームスプリッタ１０２を透過し、λ／４波長板１０３に入射する。λ／４波長板１０３では直線偏光が円偏光に変換され、円偏光に変換された光が反射ミラー１０４で反射して対物レンズ１０５によりディスクＤの所定位置に集光する。ディスクＤで反射した光は、対物レンズ１０５、反射ミラー１０４を経て再びλ／４波長板１０３に入射する。λ／４波長板１０３では円偏光から直線偏光に変換されるが、このときλ／４波長板１０３では往復で合計１８０度の位相差が与えられているため、往路ではＰ偏光であった光は復路ではＳ偏光に変換されている。従って、偏光ビームスプリッタ１０２に入射するＳ偏光は反射して、光検出器１０６に入射する。光検出器１０６では入射光を光電変換して電気信号を得る。
【００３１】
このとき、光源１０１は３つの波長の光のうちの１つの波長の光を択一的に射出するため、反射ミラー１０４は３つの波長の全てに対してほぼ１００％の反射特性を有していなければならない。つまり、光源１０１以外の他の部品はそのままに、光源１０１から射出されるレーザ光だけが変化するため、反射ミラー１０４は全ての波長に対して高い反射特性を有している必要がある。そこで、上述した実施形態で説明した反射ミラー１を本実施例の反射ミラー１０４として使用する。実施形態で説明した反射ミラー１は光吸収を発生することがないため、波長４０５ｎｍの光が本実施例の反射ミラー１０４に光吸収されることはない。また、反射ミラー１０４は３つの波長の全てに対してほぼ１００％の反射率を示すため、光源１０１から３つの波長の光が択一的に射出される光ピックアップにも本実施例の反射ミラー１０４を適用することができる。
【実施例４】
【００３２】
実施例３の光ピックアップは１つの光源１０１から３つの波長の光が択一的に射出されるものについて説明したが、本実施例は、図７に示されるように、２つの光源２０１及び２０２から３つの波長の光が射出されるものであってもよい。なお、λ／４波長板１０３、対物レンズ１０５及び光検出器１０６は実施例３と同じものである。図７において、光源２０１はＣＤ及びＤＶＤの波長のレーザ光を択一的に射出する光源であり、光源２０２は大容量光ディスクの波長のレーザ光を射出する光源である。なお、光源２０２が２種類の波長のレーザ光を択一的に射出し、光源２０１が１種類の波長のレーザ光を射出するものであってもよい。また、偏光ビームスプリッタ２０３はＣＤ及びＤＶＤの波長域でＰ偏光を透過する光学特性を有し、大容量光ディスクの波長域でＰ偏光を透過する光学特性を有するものとする。そして、偏光ビームスプリッタ２０４はＣＤ及びＤＶＤの波長域でＰ偏光及びＳ偏光を透過し、大容量光ディスクの波長域でＰ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する光学特性を有するものとする。そして、光源２０１及び２０２から射出されるレーザ光は何れもＳ偏光であるとする。従って、光源２０１から射出されたＣＤ又はＤＶＤの波長のＳ偏光は、偏光ビームスプリッタ２０３でディスクＤに向かって反射する。一方、光源２０２から射出された大容量光ディスクの波長の光は、偏光ビームスプリッタ２０４でディスクＤに向かって反射する。なお、偏光ビームスプリッタ２０３及び２０４では、Ｐ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する光学特性を有するものとしたが、Ｐ偏光を反射し、Ｓ偏光を透過するものであってもよい。
【００３３】
従って、λ／４波長板１０３に入射するときには、ＣＤ、ＤＶＤ及び大容量光ディスクの３種類の光は光路が合成されている。このため、ディスクＤに向かう往路及びディスクＤで反射した復路の何れにおいても、３種類の光が反射ミラー２０６で反射されるため、上述した実施形態で説明した反射ミラー１を本実施例の反射ミラー２０６に用いる。このため、光吸収を発生することなく、ほぼ１００％に近い反射率を実現する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】反射ミラーの膜構成を示す説明図である。
【図２】イオンプレーティング法において、第１の反射多層膜としてＴｉＯ２とＳｉＯ２との交互積層を、第２の反射多層膜としてＮｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層を適用した場合の反射特性を示すグラフである。
【図３】イオンプレーティング法において、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層を適用した場合の反射特性を示すグラフである。
【図４】真空蒸着法において、第１の反射多層膜としてＴｉＯ２とＳｉＯ２との交互積層を、第２の反射多層膜としてＮｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層を適用した場合の反射特性を示すグラフである。
【図５】真空蒸着法において、Ｎｂ２Ｏ５とＳｉＯ２との交互積層を適用した場合の反射特性を示すグラフである。
【図６】光ピックアップの一例を示す説明図である。
【図７】光ピックアップの他の例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１    反射ミラー                １０    第１の反射多層膜
１０Ｈ    高屈折率膜                ２０    第２の反射多層膜
２０Ｈ    高屈折率膜                ３０    基板
Ｌ    低屈折率膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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