(57)【要約】【課題】液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下を抑制する。【解決手段】それぞれがセルとなる複数のセル形成部ａ〜ｉがマトリクス状に配置されたカラーフィルタ基板６に液晶材料１５を滴下する液晶滴下装置２０であって、カラーフィルタ基板６において、不良のセル形成部ｆを検知して、検知された不良のセル形成部ｆを除く他の各セル形成部に対し液晶材料１５を滴下するように液晶材料の滴下を制御する滴下制御部７を備えている【選択図】図１
2007133219.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された一対の基板を作製すると共に、上記一対の基板の一方において、上記各セル形成部毎に液晶材料を封入するための枠形状のシール部を形成する基板作製工程と、
上記作製された各基板において、不良のセル形成部を検知して、上記一対の基板の一方において、上記検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に上記液晶材料を滴下する液晶滴下工程と、
上記液晶材料が滴下された基板と上記一対の基板の他方とを貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、
上記貼り合わされた一対の基板を上記各セル形成部毎に分断する分断工程とを備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記液晶滴下工程では、上記不良のセル形成部を上記シール部に発生した断線により検知することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記貼り合わされた一対の基板を一対の偏光板の間に挟持させた後、上記各セル形成部に光を透過させて、該各セル形成部の良否判定を行う検査工程を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記液晶滴下工程では、上記不良のセル形成部を上記一対の基板の少なくとも一方を構成する母基板の納品データにより検知することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された基板に液晶材料を滴下する液晶滴下装置であって、
上記基板において、不良のセル形成部を検知して、検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に対し上記液晶材料を滴下するように液晶材料の滴下を制御する滴下制御部を備えていることを特徴とする液晶滴下装置。
【請求項６】
請求項５に記載された液晶滴下装置において、
上記液晶材料の滴下量を調整して、該液晶材料を１滴ずつ滴下するための液晶滴下部を備えていることを特徴とする液晶滴下装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、液晶滴下貼り合わせ法によって製造される液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）アレイ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせてセルを作製し、そのセルの内部に液晶材料を封入することにより製造されている。
【０００３】
この液晶材料をセルの内部に封入する方法としては、従来より真空注入法がよく知られている。例えば、特許文献１には、複数のセルの内部に一括して液晶材料を注入する技術が開示されている。
【０００４】
ここで、一般的な真空注入法では、液晶注入口を持つ２枚の基板（上記ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板）に挟まれた空間（セルの内部）を真空状態にし、液晶注入口を液晶材料と接触させた後、雰囲気を大気圧へ戻すことにより、液晶材料がセルの内部に注入される。
【０００５】
具体的には、まず、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板を液晶注入口を有する開パターンの枠形状に形成されたシール部によって貼り合わせた後、各基板の不要部分を分断して、液晶注入口が露出したセルを作製する。次いで、作製されたセルを注入用カセットに液晶注入口が下向きになるように取り付ける。そして、真空チャンバーの内部に、セルが取り付けられたカセットと液晶材料を入れた液晶皿とを収容し、チャンバー内を１．０×１０-3Ｐａ程度に真空脱気すると共に、液晶皿の液晶材料とセルの液晶注入口とを接触させた後、チャンバー内を大気圧に戻すことにより、液晶材料をセルの内部に注入させる。さらに、液晶注入口に封止樹脂を塗布し、その樹脂を硬化させることで液晶材料を封止する。このようにして、液晶材料がセルの内部に注入される。
【０００６】
また、小型のセルに液晶材料を注入する場合には、まず、図７に示すように、複数の構成単位（セル形成部ａ〜ｉ）がそれぞれ配設されたＴＦＴアレイ基板１０５及び対向基板１０６を貼り合わせて基板１０９ａを作製する。次いで、図８に示すように、基板１０９ａを、例えば、セル形成部ａ、ｂ及びｃの３つの構成単位の各液晶注入口が１つの辺に配置するように短冊状に分断して、短冊基板１０９ｂを作製する。さらに、短冊基板１０９ｂの各液晶注入口が配置された側を液晶材料に漬けて、短冊基板１０９ｂの各セルに液晶材料を同時に一括して注入させることにより、注入におけるセルの取り扱いを簡略で確実にしている。そしてその後、図９に示すように、短冊基板１０９ｂを各セル毎に分断して、液晶表示装置（セル）１０９ｃが製造される。
【０００７】
しかし、上記のような真空注入法による液晶材料の注入においては、液晶表示装置が大型化するに伴って、注入時間が長くなってしまうという問題点があった。
【０００８】
そこで、近年では、上記真空注入法に替わって、液晶滴下貼り合わせ法による液晶材料の注入が行われるようになっている。この液晶滴下貼り合わせ法は、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板を貼り合わせる前に、一方の基板の表面に液晶材料を滴下し、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ基板とを閉パターンの枠形状に形成されたシール部を介して貼り合わせることによって、セルギャップ内に液晶材料が行き渡るようにする方法である（例えば、特許文献２、３及び４参照）。この液晶滴下貼り合わせ法によれば、上記真空注入法よりも、注入時間を短縮することができると共に、液晶材料のロスを削減し、また、液晶注入口の封止などの工程を省略することができる。
【特許文献１】特開平１１−１４７６１２号公報
【特許文献２】特許第３０８４９７５号公報
【特許文献３】特開平３−２４６５１４号公報
【特許文献４】特開平５−２８１５６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板を構成するガラス基板は、近年、益々大型化する傾向にある。そして、その大型化したガラス基板（母基板）には各々セルとなる複数の構成単位が形成されるので、貼り合わされた母基板（ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板）を構成単位毎に分断することにより、複数のセルを同時に一括して製造することが多くなっている。
【００１０】
しかしながら、従来の液晶滴下貼り合わせ法では、１つの母基板において、各構成単位に対して液晶材料を滴下することになるので、仮に、ある構成単位のシール部に断線などの不具合があった場合でも、その不具合のある構成単位に対しても他の不具合のない構成単位と同様に液晶材料が滴下されてしまう。そうなると、不良のセルを作製してしまうだけでなく、その不良セルの周辺部分において液晶材料の漏れが発生し、後に構成単位毎に分断する際に、製造装置に液晶材料が付着するなど、生産効率を低下させる虞れもある。
【００１１】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明は、それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された基板において、不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に液晶材料を滴下するようにしたものである。
【００１３】
具体的に本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された一対の基板を作製すると共に、上記一対の基板の一方において、上記各セル形成部毎に液晶材料を封入するための枠形状のシール部を形成する基板作製工程と、上記作製された各基板において、不良のセル形成部を検知して、上記一対の基板の一方において、上記検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に上記液晶材料を滴下する液晶滴下工程と、上記液晶材料が滴下された基板と上記一対の基板の他方とを貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、上記貼り合わされた一対の基板を上記各セル形成部毎に分断する分断工程とを備えることを特徴とする。
【００１４】
上記の方法によれば、液晶滴下工程では、基板作製工程で作製された各基板において、不良のセル形成部を検知して、複数のセル形成部がマトリクス状に配置された一対の基板の一方に対して、検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に液晶材料を滴下するので、不良のセル形成部には、液晶材料が滴下されないことになる。そのため、その後、基板貼り合わせ工程及び分断工程を経て、不良のセルをそのまま作製してしまうことがなくなるので、生産効率の低下が抑制される。したがって、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置（セル）を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下が抑制される。
【００１５】
上記液晶滴下工程では、上記不良のセル形成部を上記シール部に発生した断線により検知してもよい。
【００１６】
上記の方法によれば、シール部に断線が発生して不良となったセル形成部に、液晶材料が滴下されないので、シール部の断線部分から液晶材料が漏れ出すこともない。そのため、シール部の断線に起因して不良となったセル形成部において、周辺部分における液晶材料の漏れが抑制されるので、生産効率の低下が抑制される。
【００１７】
上記貼り合わされた一対の基板を一対の偏光板の間に挟持させた後、上記各セル形成部に光を透過させて、該各セル形成部の良否判定を行う検査工程を備えてもよい。
【００１８】
上記の方法によれば、不良のセル形成部からなるセルでは、液晶材料が封入されないので、液晶材料が封入された正常なセル形成部からなるセルと光の透過挙動が異なることになる。そのため、偏光板を介して各セル形成部に光を透過させることにより、各セル形成部からなるセルの良否が容易に判断される。
【００１９】
上記液晶滴下工程では、上記不良のセル形成部を上記一対の基板の少なくとも一方を構成する母基板の納品データにより検知してもよい。
【００２０】
上記の方法によれば、例えば、ガラス基板やカラーフィルタ基板の納品データに基づいて、各基板において不良のセル形成部が検知される。
【００２１】
また、本発明に係る液晶滴下装置は、それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された基板に液晶材料を滴下する液晶滴下装置であって、上記基板において、不良のセル形成部を検知して、検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に対し上記液晶材料を滴下するように液晶材料の滴下を制御する滴下制御部を備えていることを特徴とする。
【００２２】
上記の構成によれば、滴下制御部は、不良のセル形成部を検知して、複数のセル形成部がマトリクス状に配置された基板に対して、検知された不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に液晶材料を滴下するように液晶材料の滴下を制御するので、不良のセル形成部には、液晶材料が滴下されないことになる。そのため、不良のセルをそのまま作製してしまうことがなくなるので、生産効率の低下が抑制される。したがって、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置（セル）を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下が抑制される。
【００２３】
上記液晶材料の滴下量を調整して、該液晶材料を１滴ずつ滴下するための液晶滴下部を備えていてもよい。
【００２４】
上記の構成によれば、基板の各セル形成部に液晶材料が精度よく滴下される。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、それぞれがセルとなる複数のセル形成部がマトリクス状に配置された基板において、不良のセル形成部を除く他の各セル形成部に液晶材料を滴下するので、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置（セル）を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２７】
《発明の実施形態１》
図１〜図５は、本発明に係る液晶表示装置の製造方法及び液晶滴下装置の実施形態１を示している。
【００２８】
まず、液晶滴下装置について図１及び図２を用いて説明する。ここで、図１は、液晶滴下装置２０の断面模式図であり、図２は、液晶滴下装置２０を構成するシリンジ１０の断面模式図である。
【００２９】
この液晶滴下装置２０は、図１に示すように、表面に被処理基板６が吸着固定されるステージ２と、ステージ２が載置されるベース部１と、ステージ２の上方に設置されたシリンジ１０（液晶滴下部）と、シリンジ１０をベース部１に固定するフレーム３と、ステージ２及びシリンジ１０の動作を制御する滴下制御部７とを備えている。
【００３０】
ステージ２は、その表面に静電チャックなどにより被処理基板６を吸着させた状態でベース部１上を水平方向（ＸＹ方向）にスライド移動可能にするために、リニアガイドなどを備えている。
【００３１】
シリンジ１０は、図２に示すように、底面に吐出口を有し、内部に液晶材料１５が充填される容器部１１と、容器部１１の上面から内部に向けて取り付けられ、下方端にニードル弁１４を有するエアシリンダ１３と、容器部１１の上面に取り付けられた加圧弁１２とを備えている。ここで、ニードル弁１４は、容器部１１の吐出口に嵌合するように構成されている。そして、液晶材料１５を吐出する際には、容器部１１の内部に加圧弁１２によって一定の圧力を加えると共に、エアシリンダ１３でニードル弁１４を上下させることによって、液晶材料１５の１滴の量を調整して、その液晶材料１５を１滴ずつ吐出（滴下）するようになっている。
【００３２】
次に、上記構成の液晶滴下装置２０を用いた製造システム５０について図３を用いて説明する。
【００３３】
この製造システム５０は、納品データ入力部３１と、ＴＦＴアレイ基板製造装置３２と、ＴＦＴアレイ基板検査装置３３と、配向膜形成装置３４と、シール部形成装置３５と、シール部検査装置３６と、液晶滴下装置２０と、貼り合わせ装置３７と、シール部硬化装置（不図示）と、分断装置３８と、偏光板貼り付け装置（不図示）と、点灯検査装置３９と、納品データ入力部３１、及び各装置２０、３２〜３９に接続され、システム全体を管理する生産ラインホストコンピュータ４０とを備えている。
【００３４】
次に、上記構成の製造システム５０を用いて液晶表示装置（セル）を製造する方法について図４のフローチャートを用いて説明する。
【００３５】
まず、Ｓｔ１１では、基板ＩＤ番号や納品されたガラス基板における不良箇所の位置情報などが入った納品データを納品データ入力部３１を介して生産ラインホストコンピュータ４０に取り込む。
【００３６】
続いて行うＳｔ１２では、ＴＦＴアレイ基板製造装置３２によって、納品されたガラス基板上に、公知の方法を用いて、それぞれがセルとなる複数のセル形成部をマトリクス状に配設して、ＴＦＴアレイ基板を作製する。ここで、ＴＦＴアレイ基板の各セル形成部には、例えば、マトリクス状に設けられた複数の画素電極と、各画素電極毎に設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、各画素電極の間を互いに平行に延びる複数のゲート線と、各ゲート線と交差して各画素電極の間を互いに平行に延びる複数のソース線とが設けられている。
【００３７】
続いて行うＳｔ１３では、ＴＦＴアレイ基板検査装置３３によって、作製されたＴＦＴアレイ基板を外観検査や電気光学検査などを行う。ここで、外観検査とは、ＣＣＤカメラなどにより、配線パターンを光学的に検査するものであり、電気光学検査とは、ＴＦＴアレイ基板に対向するようにモジュレータ（電気光学素子）を設置した後、ＴＦＴアレイ基板とモジュレータとの間に電圧を印加させると共に光を入射させて、その光の輝度の変化をＣＣＤカメラなどで捉えることで配線パターンを電気光学的に検査するものである。そして、配線パターンの断線などの不具合による不良箇所の位置情報などが入った検査データを生産ラインホストコンピュータ４０に取り込む。
【００３８】
続いて行うＳｔ１４では、ＴＦＴアレイ基板の表面を洗浄し、配向膜形成装置３４によって、ポリイミド樹脂を印刷し、その後、焼成して、回転布によって一方向にラビング処理を行って、配向膜を形成する。
【００３９】
さらに、セルギャップを規制するために、例えば、ＴＦＴアレイ基板上にプラスチックビーズなどからなるスペーサを散布する。なお、後述するカラーフィルタ（ＣＦ）基板としてフォトスペーサーが形成された基板を用いる場合には、上記スペーサを散布する工程が不必要になる。
【００４０】
また、Ｓｔ２１では、納品されたカラーフィルタ（ＣＦ）基板における基板ＩＤ番号や不良箇所の位置情報などが入った納品データを納品データ入力部３１を介してホストコンピュータ４０に取り込む。ここで、カラーフィルタ基板の各セル形成部には、例えば、Ｒ・Ｇ・Ｂの着色層、共通電極などが順に積層された基板である。
【００４１】
続いて行うＳｔ２２では、カラーフィルタ基板の表面を洗浄し、配向膜形成装置３４によって、ポリイミド樹脂を印刷し、その後、焼成して、回転布によって一方向にラビング処理を行って、配向膜を形成する。
【００４２】
続いて行うＳｔ２３では、シール部形成装置３５によって、配向膜が形成されたカラーフィルタ基板の各セル形成部毎に枠状のシール部を形成する。具体的には、例えば、０．１５ｍｍ以上且つ０．４５ｍｍ以下の微小な穴を有するノズルを備えたシリンジの内部にシール材料を充填し、カラーフィルタ基板とノズル先端との距離を３０μｍ程度に保持して、充填されたシール材料をノズルから吐出しながら、カラーフィルタ基板、或いはノズルを移動させることにより、シール材料を一筆書きで枠形状（矩形）の閉パターンに描画する、いわゆる、ディスペンサ方式により、シール部を形成する。また、シール部は、例えば、ＵＶ硬化と熱硬化との併用型の樹脂により構成されている。
【００４３】
続いて行うＳｔ２４では、シール部検査装置３６によって、カラーフィルタ基板上に形成されたシール部の断線の有無を検査する。このシール部の断線検査では、シール部が形成されたカラーフィルタ基板を照明装置及び検査用カメラの下を通過させ、その際の画像を読み取って処理することにより、断線が検知される。そして、シール部の断線の位置情報などが入った検査データを生産ラインホストコンピュータ４０に登録する。ここで、照明装置としては、ハロゲンランプなどの光源による落射照明装置や２５Ｗ程度のライン照明装置が用いられ、検査用カメラとしては、５０μｍの高さを認識できる焦点距離を有するＣＣＤカメラやラインセンサーが用いられる。また、シール部検査装置３６は、例えば、シール部の一方端と他方端との重ね合わさる部分が無くなったときに、シール部が断線していると判断するように構成されている。
【００４４】
続いて行うＳｔ２５では、図１、図２及び図５に示すように、液晶滴下装置２０によって、シール部４が形成されたカラーフィルタ基板（上記被処理基板）６の各セル形成部ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈ及びｉに液晶材料１５をシリンジ１０から滴下する。具体的には、生産ラインホストコンピュータ４０に取り込まれた不良箇所の位置情報（例えば、シール部の断線の位置情報）に基づいて、滴下制御部７が、カラーフィルタ基板６上の各セル形成部ａ〜ｉを、シール部４が正常に形成されて液晶材料を滴下すべきセル形成部ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈ及びｉと、シール部４に断線がある液晶材料を滴下すべきでないセル形成部ｆとに区分し、ステージ２及びシリンジ１０を適宜動作させて、セル形成部ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈ及びｉのみに液晶材料１５を滴下させる。
【００４５】
続いて行うＳｔ３１では、貼り合わせ装置３７によって、Ｓｔ１４で配向膜が形成されたＴＦＴアレイ基板と、Ｓｔ２５で液晶材料が滴下されたカラーフィルタ基板とを真空下で貼り合わせる。具体的には、貼り合わせ装置３７を構成する処理室の内部に、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板６を収容して、処理室の内部を真空引きをした後、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ基板６とを貼り合わせる。その後、処理室の内部に窒素ガスなどを供給して、処理室の内部を大気圧に復圧させる。このとき、貼り合わされた基板が大気に開放されることにより、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルタ基板の双方の表面が大気圧によってプレスされ、シール部４が所定の厚さにまでつぶされ、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルタ基板との間隔が所定の大きさとなる。
【００４６】
さらに、ＵＶ照射装置及び熱焼成装置などからなるシール部硬化装置によって、貼り合わされた基板のシール部を硬化する。具体的には、シール部４をＵＶ照射装置によるＵＶ光の照射によって仮硬化させ、その後、仮硬化させたシール部４を熱焼成装置による加熱によって本硬化させる。
【００４７】
続いて行うＳｔ３２では、分断装置３８によって、シール部４が硬化された貼り合わされた基板を、セル毎に分断する。
【００４８】
その後、偏光板貼り付け装置によって、分断された各セルの表面及び裏面の双方に、偏光板を貼り付ける。
【００４９】
最後に行うＳｔ３３では、点灯検査装置３９によって、偏光板が貼り付けられたセルに対して、点灯検査を行う。具体的には、例えば、セルを構成するＴＦＴアレイ基板上の各ゲート線にバイアス電圧−５Ｖ、周期１６．７ｍｓｅｃ、パルス幅５０μｓｅｃの＋１０Ｖのパルス電圧のゲート検査信号を入力して全てのＴＦＴをオン状態にする。さらに、同じくＴＦＴアレイ基板上の各ソース線に１６．７ｍｓｅｃ毎に極性が反転する±２Ｖの電位のソース検査信号を入力して、各ＴＦＴを介して画素電極に±２Ｖに対応した電荷を書き込む。同時に、セルを構成するカラーフィルタ基板上の共通電極に直流で−１Ｖの電位の共通電極検査信号を入力する。このとき、画素電極と共通電極との間で構成される液晶容量に電圧が印加され、正常な画素では、点灯状態になる。また、シール部４に断線があるセル（セル形成部ｆ）では、液晶材料１５が封入されていないので、液晶材料１５が封入された正常な各セル形成部ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈ及びｉからなるセルと光の透過挙動が異なり、点灯及び反転しないことになる。そのため、偏光板を介して各セルに光を透過させることにより、各セルの良否を容易に判断することができる。したがって、上記点灯検査において、容易に不良なセル（セル形成部ｆ）を見つけることができる。
【００５０】
以上のようにして、液晶表示装置（セル）９が製造される。この液晶表示装置９は、図６に示すように、互いに対向して配置されたＴＦＴアレイ基板５及びカラーフィルタ基板６と、両基板５及び６の間に枠形状に設けられたシール部４と、両基板５及び６の間でシール部４の内側に設けられた液晶材料１５からなる液晶層とを備え、ＴＦＴアレイ基板５及びカラーフィルタ基板６の各表面に偏光板８が貼り付けられている。
【００５１】
以上説明したように本実施形態の製造方法によれば、液晶滴下工程では、カラーフィルタ基板作製工程（シール描画工程）でシール部４が形成されたカラーフィルタ基板６において、シール部４に断線が発生した不良のセル形成部ｆを検知して、そのカラーフィルタ基板６に対して、検知された不良のセル形成部ｆを除く他の各セル形成部ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｇ、ｈ及びｉに液晶材料１５を滴下するので、不良のセル形成部ｆには、液晶材料１５が滴下されないことになる。そのため、不良のセル（セル形成部ｆ）をそのまま作製してしまうことがないと共に、シール部４の断線部分から液晶材料１４が漏れ出すこともなく周辺部分における液晶材料１５の漏れが抑制されるので、生産効率の低下を抑制することができる。したがって、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置（セル）を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下をすることができる。
【００５２】
なお、図７〜図９に示した短冊状の複数のセルに液晶材料を真空注入法で注入する場合には、短冊基板１０９ｂにおいて不良のある特定のセルｆへ液晶材料を選択的に注入しないようにすることが技術的に困難である。
【００５３】
《その他の実施形態》
上記実施形態１では、セル形成部内の不良として、シール部４に発生した断線を検知して、断線が検知されたセル形成部を除く他の各セル形成部に対し、液晶材料の滴下を行うものを例示したが、本発明は、製造工程での各セル形成部内の成膜不良やパターニング不良などの不良を検知したり、または納品される母基板内の異物混入やレジスト欠陥などの不良を検知したりして、液晶材料の滴下を制御してもよい。
【００５４】
上記各実施形態では、アクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、パッシブマトリクス駆動型の液晶表示装置にも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
以上説明したように、本発明は、液晶滴下貼り合わせ法によって複数の液晶表示装置を一括して製造する際に、不良セルによる生産効率の低下を抑制することができるので、大型の液晶表示装置について有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】実施形態１に係る液晶滴下装置２０の断面模式図である。
【図２】液晶滴下装置２０を構成するシリンジ１０の断面模式図である。
【図３】実施形態１に係る製造システム５０を示すブロック図である。
【図４】実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法における工程フローを示すフローチャートである。
【図５】液晶材料１５を滴下した後のカラーフィルタ基板６の斜視図である。
【図６】実施形態１に係る液晶表示装置９の断面模式図である。
【図７】従来の１０９ａの斜視図である。
【図８】従来の短冊基板１０９ｂの斜視図である。
【図９】従来のセル１０９ｃの斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ      セル形成部
５      ＴＦＴアレイ基板
６      カラーフィルタ基板（被処理基板）
７      滴下制御部
８      偏光板
９      液晶表示装置（セル）
１０    シリンジ（液晶滴下部）
１１    シリンジ本体
１５    液晶材料
２０    液晶滴下装置
【図１】
2007133219.tif 000003
【図２】
2007133219.tif 000004
【図３】
2007133219.tif 000005
【図４】
2007133219.tif 000006
【図５】
2007133219.tif 000007
【図６】
2007133219.tif 000008
【図７】
2007133219.tif 000009
【図８】
2007133219.tif 000010
【図９】
2007133219.tif 000011