(57)【要約】【課題】  残渣がほとんどなく、品質が極めて良好なカラーフィルタ及びその製造方法を提供すること。【解決手段】  カラーフィルタの製造方法は、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００をレーザアブレーション装置４によってパターニングするパターニング工程と、パターニングされた樹脂膜２００を洗浄装置６によって洗浄する洗浄工程とを備える。洗浄工程は、レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了後（レーザ光の照射終了後）６０秒以内に開始される。洗浄工程では、洗浄液を２〜３５ＭＰａの圧力で透明基板１００に噴射させ、洗浄液の液滴の平均直径が５〜２０μｍとなっている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された樹脂膜をレーザアブレーション法によってパターニングするパターニング工程と、
パターニングされた前記樹脂膜に対して洗浄液を噴射して該樹脂膜を洗浄する洗浄工程とを備え、
前記洗浄工程は、前記パターニング工程の終了後６０秒以内に開始され、
前記洗浄工程では、前記洗浄液を２〜３５ＭＰａの圧力で前記基板に噴射させ、前記洗浄液の液滴の平均直径が５〜２０μｍであるカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記洗浄液を５〜２０ＭＰａの圧力で前記基板に噴射させる請求項１に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記洗浄液を５〜１５ＭＰａの圧力で前記基板に噴射させる請求項２に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂膜に着色材料が含有されている請求項１〜３のいずれか一項に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記着色材料が遮光性を有している請求項４に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記洗浄液が純水である請求項１〜５のいずれか一項に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
非スピン式スリットコーターダイを用いて前記樹脂膜を形成する工程を更に備える請求項１〜６のいずれか一項に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記樹脂膜は、無機ガラス基板上に該無機ガラス基板と接して形成されており、
前記パターニング工程では、ＹＡＧレーザ光を用いて前記樹脂膜をパターニングする請求項１〜７のいずれか一項に記載されたカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記樹脂膜は、有機層上に該有機層と接して形成されており、
前記パターニング工程では、エキシマレーザ光を用いて前記樹脂膜をパターニングする請求項１〜７のいずれか一項に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載された方法により製造されたカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、カラーフィルタの製造工程においてブラックマトリクス等のパターンを形成するため、ガラス等の基板上に形成された樹脂膜に対してエキシマレーザ光を照射することにより樹脂層の被照射部分を蒸発させて樹脂層のパターニングを行う、レーザアブレーション法が知られている（例えば、特許文献１〜５参照）。
【特許文献１】特開平９−３２５３６５号公報
【特許文献２】特開平９−８０２２１号公報
【特許文献３】特開平１１−１３３２２６号公報
【特許文献４】特開平８−１４６４０８号公報
【特許文献５】特開平１１−２８１８１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記特許文献１〜５に記載された従来のカラーフィルタの製造方法では、レーザ光の照射によって分解・蒸発した樹脂が再固化し、微粒子として基板上に付着することで、基板上に残渣が残ってしまうという問題があった。
【０００４】
このような残渣を除去するための方法として、例えば特許文献１には、真空吸引装置を用いて微粒子を真空吸引することにより、除去する方法が開示されている。しかしながら、真空吸引装置のフィルタに微粒子が蓄積することでフィルタの目詰まりが発生してしまい、真空吸引装置の吸引力の低下により微粒子を十分除去することができないことがあった。
【０００５】
また、例えば特許文献２及び３には、レーザアブレーション法により樹脂層のパターニングを行った後、基板に対して洗浄液を噴射することにより、微粒子を除去する方法が開示されている。しかしながら、微粒子を確実に除去することのできる洗浄条件については知られておらず、ガラス基板上に残渣が残ってしまうことがあった。
【０００６】
本発明は、残渣がほとんどなく、品質が極めて良好なカラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に形成された樹脂膜をレーザアブレーション法によってパターニングするパターニング工程と、パターニングされた樹脂膜に対して洗浄液を噴射してその樹脂膜を洗浄する洗浄工程とを備え、洗浄工程は、パターニング工程の終了後６０秒以内に開始され、洗浄工程では、洗浄液を２〜３５ＭＰａの圧力で前記基板に噴射させ、洗浄液の液滴の平均直径が５〜２０μｍである。
【０００８】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法では、パターニング工程の終了後６０秒以内に、洗浄液の噴射圧力を２〜３５ＭＰａ、洗浄液の液滴の平均直径を５〜２０μｍとして、レーザアブレーション法によってパターニングされた樹脂膜を洗浄している。レーザアブレーション法によってパターニングが行われると、レーザ光の照射によって分解・蒸発した樹脂が加工部分の近傍に飛散・再固化して、基板上に微粒子として堆積・付着することがあるが、パターニング工程の終了後６０秒以内に洗浄が開始されるため、この微粒子が基板に対して強固に固着する前に洗浄がなされることとなる。また、洗浄液の噴射圧力及び洗浄液の液滴の平均直径も好適な範囲となっている。従って、極めて良好な洗浄効果を得られると共に、パターニングされた樹脂膜が損傷することもない。その結果、残渣がほとんどなく、品質が極めて良好なカラーフィルタを製造することが可能となる。
【０００９】
また、洗浄液を５〜２０ＭＰａの圧力で基板に噴射させることが好ましく、洗浄液を５〜１５ＭＰａの圧力で基板に噴射させることがより好ましい。このようにすると、洗浄効果をより向上させることが可能となる。
【００１０】
また、樹脂膜に着色材料が含有されていることが好ましい。また、着色材料が遮光性を有していることが好ましい。このようにすると、レーザアブレーション法によってパターニングされた赤色、緑色、青色等の各樹脂膜及びブラックマトリクスを形成することが可能となる。
【００１１】
また、洗浄液が純水であることが好ましい。このようにすると、界面活性剤が含まれる水と比較して、配管内において気泡が生じにくい。
【００１２】
また、非スピン式スリットコーターダイを用いて樹脂膜を形成することが好ましい。従来は、基板を回転させて樹脂膜を基板上に形成していたために、基板の回転によって多量の樹脂が廃棄されてコストがかかると共に、大型の基板については回転させることができないという制約があったが、非スピン式スリットコーターダイでは基板を回転させないため、基板の大きさにかかわらず樹脂を基板上に均一に塗布することができる。その結果、カラーフィルタの大型化を図ることが可能となると共に、樹脂の使用量を必要最小限に抑えられるのでコストを低減することが可能となる。
【００１３】
また、樹脂膜は、無機ガラス基板上にその無機ガラス基板と接して形成されており、パターニング工程では、ＹＡＧレーザ光を用いて樹脂膜をパターニングすることが好ましい。このようにすると、特に、ガラス基板等の無機物上における樹脂膜の厚さが、比較的厚い例えば０．５μｍ以上であるときに容易にパターニングすることが可能となるため好適であり、０．５μｍ〜３．０μｍ程度であるとカラーフィルタを製造する場合により好ましい。
【００１４】
また、樹脂膜は、有機層上にその有機層と接して形成されており、パターニング工程では、エキシマレーザ光を用いて樹脂膜をパターニングすることが好ましい。このようにすると、特に、樹脂膜等の有機物上に接して形成された部分における他の樹脂膜の厚さが、比較的薄い例えば０．０１μｍ以上であるときに容易にパターニングすることが可能となるため好適であり、０．０１μｍ〜２．０μｍ程度であるとカラーフィルタを製造する場合により好ましく、０．０１μｍ〜１．５μｍ程度であるとカラーフィルタを製造する場合に更により好ましい。
【００１５】
一方、本発明に係るカラーフィルタは、上記のいずれかの方法により製造されたものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、残渣がほとんどなく、品質が極めて良好なカラーフィルタ及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の好適な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１８】
（カラーフィルタ）
図１を参照して、本発明の実施形態に係るカラーフィルタＣＦの構成について説明する。図１は、本実施形態に係るカラーフィルタを模式的に示す縦断面図である。カラーフィルタＣＦは、透明基板（基板）１００と、透明基板１００上に格子状（マトリクス状）に形成された遮光層１０４と、透明基板１００上に並んで配置された複数の着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂと、スペーサ１１０とを備える。カラーフィルタＣＦは、例えば、ＴＦＴ液晶ディスプレイといった液晶表示装置に好適に用いられる。透明基板１００としては、例えば、無機ガラス類（人工又は天然の石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミケイ酸塩ガラス、表面がシリカコートされたソーダライムガラス等）、透明樹脂フィルム、透明樹脂シート、光学用透明樹脂板等のフレキシブル材を用いることができる。
【００１９】
遮光層１０４は、例えば、カーボンブラック、アニリンブラック、ペリレン化合物、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）に記されたＣ．Ｉ．アシッドブラック５１、Ｃ．Ｉ．アシッドブラック５２、Ｃ．Ｉ．ベイシックブラック２、Ｃ．Ｉ．ソルベントブラック１２３等の化合物といった有機顔料や、チタンブラック、マグネタイトといった無機顔料等の遮光剤を着色材料として含有した樹脂から構成されている。遮光層１０４は、隣り合う各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを分離するように格子状に形成されており、ブラックマトリクスとして機能する。遮光層１０４は、その縦断面形状が、上底が短く下底が長い略台形状（順テーパ形状）となっている（図１参照）。そのため、マトリクス状に配置された遮光層１０４における複数の開口に、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂが確実に埋め込まれるようになっている。よって、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを透過する光が遮光層１０４によって分離され、光漏れの発生が極めて抑制される。
【００２０】
着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂは、光透過性を有しており、光学フィルタとして機能する。着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂは、例えば、顔料等の着色剤を着色材料として含有した樹脂から構成されている。顔料としては、例えば、黄色顔料、赤色顔料、青色顔料、紫色顔料、緑色顔料等が好適に用いられる。本実施形態において、着色樹脂領域１０２Ｒは例えば赤色顔料と樹脂とからなり、着色樹脂領域１０２Ｇは例えば緑色顔料と樹脂とからなり、着色樹脂領域１０２Ｂは例えば青色顔料と樹脂とからなる。このとき、必要に応じて、着色樹脂領域１０２Ｇに黄色顔料を添加してもよい。また、顔料としては、有機および無機顔料を用いることができ、具体的には、カラーインデックス（The Society of Dyers and Colourists出版）でピグメント（Pigment）に分類されている化合物が挙げられる。そのような化合物としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５等のイエロー系ピグメント、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７等のレッド系ピグメント、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６等のブルー系ピグメント、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１９等のバイオレット系ピグメント、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６等のグリーン系ピグメント等が例示される。
【００２１】
スペーサ１１０は、樹脂によって構成されており、後述する透明電極層１０８上に複数設けられている。スペーサ１１０は遮光層１０４の上方に配置されることが好ましい。これにより、スペーサ１１０が遮光性を有する場合であっても、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを透過する光がスペーサ１１０によって遮られない。スペーサ１１０は、カラーフィルタＣＦと対向基板（図示せず）とを貼り合わせる時に対向基板に接触して、透明電極層１０８と対向基板との間に液晶が充填される空間を提供すると共に、カラーフィルタＣＦと対向基板とのギャップを制御する。
【００２２】
（樹脂）
ここで、本実施形態において、上記着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ、遮光層１０４及びスペーサ１１０の形成に用いられる樹脂について説明する。樹脂の材質は、特に限定されず、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の硬化性樹脂や、熱可塑性樹脂等の種々の樹脂を利用できる。
【００２３】
（光硬化性樹脂）
光硬化性樹脂としては、ネガ型感光性樹脂が挙げられる。ネガ型感光性樹脂は、光の照射部分が現像液に対して不溶化し残存するものである。ネガ型感光性樹脂は、Ｘ線、紫外線、可視光又は赤外線を含むエネルギー線により重合するエネルギー線重合性組成物から構成されていることが好ましい。エネルギー線重合性組成物は、エネルギー線を吸収してラジカルを発生するエネルギー線重合開始剤、ラジカルにより重合が誘起される付加重合性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物（エチレン性化合物）、結合剤、溶剤及び分散剤等の添加物を含む。なお、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ及び遮光層１０４の形成の際には、エネルギー線重合性組成物に上述した着色剤や遮光剤が配合される。
【００２４】
（エネルギー線重合開始剤）
エネルギー線重合開始剤としては、例えば、エネルギー線としての紫外線を吸収してラジカルを発生する紫外線感応型の重合開始剤、エネルギー線としての可視光を吸収してラジカルを発生する可視光感応型の重合開始剤等が挙げられる。紫外線感応型の重合開始剤としては、例えば、ジアルキルアセトフェノン系、ベンジルジアルキルケタール系、ベンゾイン系、ベンゾインアルキルエーテル系、チオモサントン誘導体、アルシホスフィンオキサイド系、ヘキサアリールビイミダゾール系、ｓ−トリハロメチルトリアジン系等の重合開始剤が挙げられる。
【００２５】
（エチレン性化合物）
エチレン性化合物は、例えば、単量体、二量体、三量体、オリゴマー、又は、側鎖若しくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体のいずれでもよい。具体的には、例えば、不飽和カルボン酸、エステル等が挙げられる。エステルとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステル等が挙げられる。多価ヒドロキシ化合物としては、例えば、脂肪族ピロヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等が挙げられる。
【００２６】
（結合剤）
結合剤としては、例えば、メチル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、酢酸ビニル等の酸ビニル、アクリルニトリル等の有機物質が挙げられる。結合剤は、透明基板１００との接着性の観点から、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマーと、（メタ）アクリル酸との共重合体を含有することが好ましい。フェニル基を有する共重合モノマーは、結合剤の全量に対して、好ましくは１０〜８０モル％、より好ましくは２０〜７０モル％、特に好ましくは３０〜６０モル％の割合で含有される。（メタ）アクリル酸は、結合剤の全量に対して、好ましくは２〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％の割合で含有される。なお、結合剤は、全共重合モノマーに対して２〜５０モル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ましくは１０〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレートが付加された化合物と、（メタ）アクリル酸との共重合体を含有するとしてもよい。
【００２７】
（溶剤）
エネルギー線重合性組成物を溶解するための溶剤としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。この溶剤にエネルギー線重合性組成物を溶解させると、透明基板１００上に塗布したときに樹脂膜２００となる溶液を得ることができる。
【００２８】
（熱硬化性樹脂）
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂材料、ユリア樹脂材料、メラミン樹脂材料、ベンゾグアナミン樹脂材料、アリル樹脂材料、アルキド樹脂材料、エポキシ樹脂材料、ウレタン樹脂材料、シリコーン樹脂材料を用いることができる。また、熱硬化性樹脂としては、ポジ型感光性樹脂を用いることもできる。ポジ型感光性樹脂は、光の照射部分が現像液に対して可溶化するもので、一般的には樹脂と光反応により親水化する化合物とが複合化されて構成されている。ポジ型感光性樹脂としては、例えば、ノボラック・ナフトキノン系樹脂が挙げられる。なお、熱硬化性樹脂は、光硬化性樹脂で用いたものと同様の溶剤を用いて透明基板１００に塗布することができる。
【００２９】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂としては、例えば、結晶性炭化水素系材料、非結晶性炭化水素系材料、極性ビニル系材料、線状構造材料等を用いることができる。結晶性炭化水素系材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリブテン、結晶性ポリブタジエン等が挙げられる。非結晶性炭化水素系材料としては、例えば、ポリスチレン、ポリブタジエン、スチレンブタジエン樹脂等が挙げられる。極性ビニル系材料としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタアクリレート、ポリテトラフルオロエチレン、エチレンポリテトラフルオロエチレン共重合体等が挙げられる。線状構造材料としては、例えば、ポリアセタール、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリオキシベンゾイル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、アルキルベンゼンスルホン酸系樹脂材料、ポリフッ化ビニリデン樹脂材料、ポリフェニレンサルファイド樹脂材料、ポリテトラフロロエチレン樹脂材料等を用いることもできる。なお、熱可塑性樹脂は、光硬化性樹脂で用いたものと同様の溶剤を用いて透明基板１００に塗布することができる。
【００３０】
再び図１を参照して、透明基板１００上には、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ及び遮光層１０４を覆うように保護層１０６及び透明電極層１０８が順に設けられている。この保護層１０６は、カラーフィルタＣＦの使用中に遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂが溶出することを防ぐと共に、遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂにおける段差（ギャップ）を小さくすることで、液晶の駆動スピードを均一化する目的等で設けられている。保護層１０６は、例えば、酸素遮断性を有する樹脂から構成されている。そのような樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、アクリレート系コポリマー等に、スチリルピリジウム基、スチルバゾール塩等をペンダント化させた樹脂等が挙げられる。
【００３１】
透明電極層１０８は、液晶を駆動するためのものである。透明電極層１０８は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）、又はこれらの合金等から構成されている。
【００３２】
（カラーフィルタの製造システムの構成）
図２を参照して、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法を実施するための製造システム１の構成について説明する。図２は、本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法を実施するための製造システムの概要を示す図である。
【００３３】
製造システム１は、主として、樹脂膜形成装置２、レーザアブレーション装置４及び洗浄装置６により構成されている。
【００３４】
（樹脂膜形成装置）
樹脂膜形成装置２は、透明基板１００上に樹脂膜２００を形成するための装置である。樹脂として光硬化性樹脂を用いる場合には、樹脂膜形成装置２により、光硬化性樹脂を透明基板１００上に塗布し、透明基板１００の全面について露光及び／又は加熱を行うことで、樹脂膜２００を形成している。また、樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合には、樹脂膜形成装置２により、熱硬化性樹脂を透明基板１００上に塗布し、透明基板１００の全面について加熱を行うことで、樹脂膜２００を形成している。さらに、樹脂として熱可塑性樹脂を用いる場合には、樹脂膜形成装置２により、熱可塑性樹脂のフィルムを透明基板１００に貼付し、又は重合開始材を含むモノマーの熱可塑性樹脂前駆体を透明基板１００上に塗布してポリマー化して熱可塑性樹脂とすることで、樹脂膜２００を形成している。なお、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂若しくは熱可塑性樹脂又はこれらが混合された樹脂を用いてもよい。
【００３５】
なお、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂を透明基板１００上に塗布する際には、非スピン式スリットコーターダイを用いると、透明基板１００が大きなものであっても、透明基板１００上に均一に感光性樹脂を塗布することができるため好ましい。また、透明基板１００の大きさによっては、非スピン式スリットコーターダイの他に、スピンコート装置、ロールコート装置、ドライフィルムレジスト積層装置等の公知の樹脂膜形成装置を利用することができる。スピンコート装置を用いる場合には、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を透明基板１００の中央に滴下して、その後透明基板１００を回転させることにより透明基板１００上に樹脂膜２００を均一に形成してもよく、光硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂をスリットコーターダイで透明基板１００上に塗布し、その後透明基板１００を回転させることにより透明基板１００上に樹脂膜２００を均一に形成してもよい。
【００３６】
また、光硬化性樹脂を露光する際の光源としては、特に限定されないが、ｇ線、ｈ線又はｉ線であると好ましく、ｇ線、ｈ線又はｉ線とｉ線以下の波長の光との混合光であるとより好ましい。
【００３７】
（レーザアブレーション装置）
レーザアブレーション装置４は、樹脂膜２００に対してレーザ光を照射することにより、その照射された部分を分解除去して、樹脂膜２００のパターニングを行う装置である。レーザアブレーション装置４を用いて樹脂膜２００のパターニングを行うことで、着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ、遮光層１０４、スペーサ１１０を形成することができる。レーザアブレーション装置４のレーザ光としては、特に限定されないが、エキシマレーザ光、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザ光等の公知のものを用いることができる。ここで、樹脂膜２００が無機ガラス製の透明基板１００上に直接接触して形成されているときには、ＹＡＧレーザ光を用いることが好ましく、樹脂膜２００が他の樹脂膜等の有機層上に直接接触して形成されているときには、エキシマレーザ光を用いることが好ましい。透明基板１００上における樹脂膜２００の厚さが、比較的厚い例えば０．５μｍ以上であると、ＹＡＧレーザ光により容易にその樹脂膜２００をパターニングできるため好適であり、０．５μｍ〜３．０μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合により好ましい。特に遮光剤を含む樹脂膜２００をパターニングする場合には、ＹＡＧレーザ光が遮光剤の吸収波長でもあることから、エネルギーの大きさが等しいエキシマレーザ光を用いた場合よりも加工量を多くすることができるので、経済的にも有利である。一方、他の樹脂膜等の上に接して形成された部分における樹脂膜２００の厚さが、比較的薄い例えば０．０１μｍ以上であると、エキシマレーザ光により容易にその樹脂膜２００をパターニングできるため好適であり、０．０１μｍ〜２．０μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合により好ましく、０．０１μｍ〜１．５μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合に更により好ましい。
【００３８】
（洗浄装置）
洗浄装置６は、パターニングされた樹脂膜２００に対して洗浄液を噴射し、透明基板１００及び樹脂膜２００に残存した残渣を除去するためのものである。図２及び図３を参照して、洗浄装置６の構成について説明する。図３は、洗浄装置の上面図である。
【００３９】
洗浄装置６は、配管６ａと、図示しない搬送部と、複数の噴射ノズル６ｂとを備えている。
【００４０】
配管６ａは、タンク６ｃからポンプ６ｄによって加圧された洗浄液（本実施形態では、純水）を各噴射ノズル６ｂに供給する（図２参照）。搬送部は、この搬送部に載置された透明基板１００を、配管６ａと交差する方向（図３に示される矢印ａ方向）に搬送する。
【００４１】
各噴射ノズル６ｂは、配管６ａに一列に配列されるように接続されており、配管６ａから供給された洗浄液を透明基板１００に対して噴射する。各噴射ノズル６ｂから噴射される洗浄液は、そのスプレーパターン６ｅが透明基板１００上においてそれぞれ略紡錘状となっている。
【００４２】
各噴射ノズル６ｂから噴射される洗浄液の液滴は、その平均直径が５〜２０μｍとなるように設定されている。液滴の平均直径が５μｍ未満の場合には、液滴の平均直径が極めて小さいため、大きな残渣を除去しようとすると洗浄液の噴射圧力を高くする必要があるが、このように洗浄液の噴射圧力を高くすると樹脂膜２００が損傷してしまう。また、液滴の平均直径が２０μｍを超える場合には、液滴の平均直径が大きいため、レーザアブレーションによって樹脂膜２００に形成された開口の底面における隅部に対して液滴が入り込まず、その隅部に堆積・付着した残渣が除去されずに残存することがある。なお、この液滴の平均直径は、８〜１５μｍであるとより好ましい。
【００４３】
各噴射ノズル６ｂから洗浄液を噴射する際の洗浄液の噴射圧力は、２〜３５ＭＰａに設定されている。洗浄液の噴射圧力が２ＭＰａ未満の場合には、圧力が低すぎ、十分な洗浄効果が得られない。また、洗浄液の噴射圧力が３５ＭＰａを超える場合には、圧力が高くなりすぎ、レーザアブレーション装置４によってパターニングされた樹脂膜２００自体が削り取られてしまう。なお、この洗浄液の噴射圧力は、５〜２０ＭＰａであるとより好ましく、５〜１５ＭＰａであると更により好ましい。
【００４４】
なお、各噴射ノズル６ｂから噴射される洗浄液の透明基板１００における各スプレーパターン６ｅの長手方向の長さＡ（図３参照）は、５０ｍｍ≦Ａ≦３００ｍｍの関係を満たすように設定されていることが好ましい。長さＡが５０ｍｍ未満である場合には、隣り合う２つの噴射ノズル６ｂにおける透明基板１００の進行方向から見たときの各スプレーパターン６ｅ同士が重なる幅Ｘ（詳しくは後述する）との関係から、隣り合う噴射ノズル６ｂ同士の設置間隔が小さくなり、噴射ノズル６ｂの設置数が増加して設置コストが増加する傾向があるためである。また、長さＡが３００ｍｍを超える場合には、スプレーパターン６ｅが大きくなりすぎ、透明基板１００上におけるスプレーパターン６ｅの中央部分とスプレーパターン６ｅの長手方向の両端部分とにおいて洗浄液の噴射圧力にばらつきが生じ、均一な洗浄ができないためである。なお、この長さＡは、５０ｍｍ≦Ａ≦２５０ｍｍの関係を満たすように設定されているとより好ましい。
【００４５】
また、隣り合う２つの噴射ノズル６ｂにおける透明基板１００の進行方向から見たときの各スプレーパターン６ｅ同士が重なる幅Ｘ（図３参照）は、それぞれ（１／４）Ａｓｉｎθ≦Ｘ≦（３／５）Ａｓｉｎθの関係を満たすように設定されていると好ましい。ここで、θは、透明基板１００の進行方向（図３に示される矢印ａ方向）と各噴射ノズル６ｂから噴射される透明基板１００上における洗浄液のスプレーパターン６ｅの長手方向とが成す角度である。重なる幅Ｘが（１／４）Ａｓｉｎθ未満である場合には、隣り合う各噴射ノズル６ｂが離れすぎることとなるために、洗浄液が噴射されない部分や洗浄液の噴射圧力が極めて低くなってしまう部分が生じ、パターニングされた樹脂膜２００の幅が不均一となる傾向があるためである。また、重なる幅Ｘが（３／５）Ａｓｉｎθを超える場合には、各噴射ノズル６ｂが密に配置されすぎるために樹脂膜２００に対して洗浄液が強く当たりすぎる部分が生じ、樹脂膜２００自体も削り取られてしまい、パターニングされた樹脂膜２００の幅が不均一となる傾向があるためである。なお、重なる幅Ｘは、それぞれ（１／３）Ａｓｉｎθ≦Ｘ≦（１／２）Ａｓｉｎθの関係を満たすように設定されているとより好ましい。
【００４６】
また、本実施形態では、透明基板１００の進行方向（図３に示される矢印ａ方向）と各噴射ノズル６ｂから噴射される洗浄液のスプレーパターンの長手方向とが成す角度θ（図３参照）は、４５°以上で且つ８５°以下に設定されていることが好ましい。角度θが４５°未満の場合には、洗浄斑が生じてしまう傾向があるためである。また、角度θが８５°を超える場合には、隣り合う２つの噴射ノズル６ｂ同士のスプレーパターン６ｅが重なった部分において洗浄効果が低下し、洗浄が十分に行われない傾向があるためである。
【００４７】
（カラーフィルタの製造方法）
続いて、カラーフィルタＣＦを上述したカラーフィルタの製造システム１により製造する方法について説明する。
【００４８】
まず、透明基板１００上に遮光層１０４を形成する。具体的には、樹脂膜形成装置２により、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂若しくは熱可塑性樹脂又はこれらが混合された樹脂に上述の遮光剤が配合された樹脂膜２００を、透明基板１００上に形成する。そして、レーザアブレーション装置４を用いて、樹脂膜２００のパターニングを行う。このとき、遮光層１０４をパターニングにより形成する際には、樹脂膜２００の膜厚が例えば０．５μｍ〜２．５μｍ程度と比較的厚いために、ＹＡＧレーザ光が好適に用いられる。さらに、洗浄装置６を用いて、パターニングされた樹脂膜２００に対して洗浄液を噴射し、透明基板１００上及び樹脂膜２００上に残存した残渣を除去して、遮光層１０４を形成する。ここで、カラーフィルタＣＦの使用中における変形等を防ぎ、遮光層１０４を図１に示されるような順テーパ形状とするために、パターニングされた樹脂膜２００のポストベークを行ってもよい。なお、洗浄装置６による透明基板１００及び樹脂膜２００の洗浄は、レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了後（レーザ光の照射終了後）６０秒以内に開始される。レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニングから６０秒を超えると、基板に付着した微粒子の固化が進行してしまい、残渣が十分に除去されない傾向があるためである。
【００４９】
続いて、マトリクス状に配置された遮光層１０４の複数の開口に埋め込むように各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂをそれぞれ形成する。これらの各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂについても、樹脂膜形成装置２、レーザアブレーション装置４及び洗浄装置６を用いて、遮光層１０４と同様の手順でそれぞれ形成されることとなる。なお、ここでは、上述の着色剤が配合された樹脂膜２００が用いられる。また、レーザアブレーション装置４によってパターニングする際には、遮光層１０４上に接して形成された部分における各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂの膜厚が例えば０．０２μｍ〜１．５μｍ程度と比較的薄い部分について、エキシマレーザ光が好適に用いられる。
【００５０】
続いて、遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを覆うように、透明基板１００上に保護層１０６を形成する。
【００５１】
続いて、保護層１０６上に透明電極層１０８を必要に応じて形成する。透明電極層１０８は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、コーティング法等の成膜方法を用いて形成される。
【００５２】
続いて、透明電極層１０８上にスペーサ１１０を形成することで、カラーフィルタＣＦが製造される。このスペーサ１１０についても、樹脂膜形成装置２、レーザアブレーション装置４及び洗浄装置６を用いて、遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂと同様の手順で形成することができる。
【００５３】
以上のように、本実施形態では、レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了後（レーザ光の照射終了後）６０秒以内に洗浄装置６による透明基板１００及び樹脂膜２００の洗浄が開始される。そして、洗浄装置６では、洗浄液の液滴の平均直径を５〜２０μｍに設定し、洗浄液を２〜３５ＭＰａの圧力で透明基板１００上に噴射している。レーザアブレーション法によってパターニングが行われると、レーザ光の照射によって分解・蒸発した樹脂が加工部分の近傍に飛散・再固化して、透明基板１００上に微粒子として堆積・付着することがあるが、パターニング終了後（レーザ光の照射終了後）６０秒以内に洗浄が開始されるため、この微粒子が透明基板１００に対して強固に固着する前に洗浄がなされることとなる。また、洗浄液の噴射圧力及び洗浄液の液滴の平均直径も好適な範囲となっている。従って、極めて良好な洗浄効果を得られると共に、パターニングされた遮光層１０４や各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ等が損傷することもない。その結果、残渣がほとんどなく、品質が極めて良好なカラーフィルタＣＦを製造することが可能となる。
【００５４】
また、本実施形態では、洗浄液として純水を用いている。そのため、界面活性剤が含まれる水と比較して、配管内において気泡が生じにくく好適である。
【００５５】
また、本実施形態では、非スピン式スリットコーターダイを用いて光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂若しくは熱可塑性樹脂又はこれらが混合された樹脂を透明基板１００上に塗布して樹脂膜２００を形成している。そのため、従来は透明基板１００を回転させて樹脂膜２００を透明基板１００上に形成していたために透明基板１００の回転によって多量の樹脂が廃棄されてコストがかかると共に、大型の透明基板１００については回転させることができないという制約があったが、非スピン式スリットコーターダイでは透明基板１００を回転させないため、透明基板１００の大きさにかかわらず樹脂を透明基板１００上に均一に塗布することができる。その結果、カラーフィルタの大型化を図ることが可能となると共に、樹脂の使用量を必要最小限に抑えられるのでコストをより低減することが可能となる。
【００５６】
また、本実施形態では、ＹＡＧレーザ光を用いているため、透明基板１００上における樹脂膜２００の厚さが、比較的厚い例えば０．５μｍ以上であるときに容易にパターニングすることが可能となるため好適であり、０．５μｍ〜３．０μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合により好ましい。
【００５７】
また、本実施形態では、エキシマレーザ光を用いているため、他の樹脂膜等の上に接して形成された部分における樹脂膜２００の厚さが、比較的薄い例えば０．０１μｍ以上であるときに容易にパターニングすることが可能となるため好適であり、０．０１μｍ〜２．０μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合により好ましく、０．０１μｍ〜１．５μｍ程度であるとカラーフィルタＣＦを製造する場合に更により好ましい。
【００５８】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、洗浄液として純水を用いたが、ノニオン系界面活性剤及びアニオン系界面活性剤のうち少なくともどちらかを含む洗浄液であってもよい。
【００５９】
また、本実施形態では遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを覆うように保護層１０６を形成したが、保護層１０６を形成せず、遮光層１０４及び各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ上に透明電極層１０８を直接形成してもよい。
【００６０】
また、レーザアブレーション装置６を用いて保護層１０６、透明電極層１０８、スペーサ１１０のパターニングを行った場合にも、上述の洗浄装置６による洗浄方法を適用してもよい。
【実施例１】
【００６１】
以下、実施例１−１〜１−１２及び比較例１−１〜１−６に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、図４は、実施例１−１〜１−１２及び比較例１−１〜１−６の各実施条件及び評価結果を示す表である。
【００６２】
（実施例１−１）
縦横が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ、厚みが０．６３ｍｍの透明基板（コーニング社製の１７３７ガラス基板）１００上に、非スピン式スリットコーターダイ（東京応化工業（株）製ＴＲ６３２４０Ｓ−ＣＰＤ−ＣＬＴ）を用いて、厚みが１．５μｍとなるように遮光剤が配合されたアクリル系のネガ型感光性樹脂（東京応化工業（株）製ＣＦＰＲ−ＢＫ８０００型）を均一に塗布し、樹脂膜２００を形成した。９０℃で１００秒間、その樹脂を予備乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて樹脂全体に光を照射した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とした。続いて、透明基板１００及びその樹脂を２２０℃で４０分間熱処理し、透明基板１００上に厚さが１．２μｍの樹脂膜２００を得た。
【００６３】
続いて、レーザアブレーション装置４であるＹＡＧレーザ装置（エキシテック（株）製Ｍ９０００Ｐ型）を用いて、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００のパターニングを行った。具体的には、樹脂膜２００に対してＹＡＧレーザ光を照射して、縦横が２３９μｍ×６８μｍの大きさの開口部を、その開口部の長手方向の間隔が４０μｍ、その開口部の短手方向の間隔が２５μｍとなるように、所定数形成した。そして、樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から５０秒後に、洗浄装置６により、各噴射ノズル６ｂから液滴の平均直径が１０μｍの純水を１０ＭＰａの圧力で、パターニングされた樹脂膜２００に対して６０秒間噴射した。このとき、スプレーパターンの長手方向の長さＡは１５３．４ｍｍ、透明基板１００の進行方向から見て隣り合うスプレーパターン６ｅ同士が重なる幅Ｘは６８．１７ｍｍ（０．４６Ａｓｉｎθ）、角度θは７５°であった。そして、この樹脂膜２００を乾燥することで、透明基板１００上にブラックマトリクスとして機能する遮光層１０４を形成した。その後、透明基板１００及び遮光層１０４上に各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ、保護層１０６、透明電極１０８及びスペーサ１１０を順次形成して、カラーフィルタＣＦを得た。
【００６４】
（実施例１−２〜１−６）
実施例１−２〜１−６の順に洗浄液の噴射圧力を２ＭＰａ、５ＭＰａ、１５ＭＰａ、２０ＭＰａ、３５ＭＰａとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして実施例１−２〜１−６のカラーフィルタＣＦを得た。
【００６５】
（実施例１−７〜１−９）
実施例１−７〜１−９の順に洗浄液の液滴の平均直径を５μｍ、１５μｍ、１０μｍとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして実施例１−７〜１−９のカラーフィルタＣＦを得た。
【００６６】
（実施例１−１０〜１−１２）
実施例１−１０〜１−１２の順にレーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から洗浄装置６による洗浄液の噴射開始までの時間間隔を１０秒、３０秒、６０秒として樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして実施例１−１０〜１−１２のカラーフィルタＣＦを得た。
【００６７】
（比較例１−１）
レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了から洗浄装置６による洗浄液の噴射開始までの時間間隔を５０秒、洗浄液の液滴の平均直径を１０μｍ、洗浄液の噴射圧力を１．５ＭＰａとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−１のカラーフィルタを得た。
【００６８】
（比較例１−２）
洗浄液の噴射圧力を４０ＭＰａとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−２のカラーフィルタを得た。
【００６９】
（比較例１−３）
洗浄液の液滴の平均直径を３μｍとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−３のカラーフィルタを得た。
【００７０】
（比較例１−４）
洗浄液の液滴の平均直径を２５μｍとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−４のカラーフィルタを得た。
【００７１】
（比較例１−５）
レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から洗浄装置６による洗浄液の噴射開始までの時間間隔を７０秒として樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−５のカラーフィルタを得た。
【００７２】
（比較例１−６）
レーザアブレーション装置４による樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から洗浄装置６による洗浄液の噴射開始までの時間間隔を７０秒、洗浄液の噴射圧力を２０ＭＰａとして樹脂膜２００の洗浄を行ったこと以外は、実施例１−１と同様にして比較例１−６のカラーフィルタを得た。
【００７３】
（評価結果）
実施例１−１〜１−１２のカラーフィルタＣＦの遮光層１０４及び比較例１−１〜１−６のカラーフィルタの遮光層をそれぞれ電子顕微鏡で観察した。その結果、実施例１−１〜１−１２のカラーフィルタＣＦでは、図４に示されるように、全ての実施例において残渣や異物が残っておらず、また実施例１−６において僅かに遮光層１０４に損傷が見られたものの、それ以外の実施例においては損傷がなかった。また、実施例１−１〜１−１２のカラーフィルタＣＦでは、図４に示されるように、パターニングされた遮光層１０４の開口部の透過率も９８〜１００％と高かった。以上より、実施例１−１〜１−１２におけるカラーフィルタＣＦの品質の評価結果としては、「Ａ：極めて良好」又は「Ｂ：ほぼ良好」のいずれかであった。
【００７４】
一方、比較例１−１〜１−６のカラーフィルタをそれぞれ電子顕微鏡で観察した。その結果、比較例１，３〜６のカラーフィルタでは、図４に示されるように、遮光層１０４に損傷はみられないものの、微粒子が付着して煤状の残渣が残っており、開口部の透過率も９０〜９６％と低かった。また、比較例２のカラーフィルタでは、図４に示されるように、残渣や異物が残っておらず、開口部の透過率は１００％と高かったものの、遮光層に損傷が見られた。以上より、比較例１〜６におけるカラーフィルタの品質の評価結果としては、「Ｃ：問題あり」であった。
【実施例２】
【００７５】
続いて、実施例２に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７６】
（実施例２）
実施例１−１と同じ条件で、縦横が３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚みが０．７０ｍｍの透明基板（コーニング社製の１７３７ガラス基板）１００上にブラックマトリクスとして機能する遮光層１０４を形成した。このときの開口部の大きさは、縦横が２５３μｍ×６８μｍであり、その開口部の長手方向の間隔が２６μｍ、その開口部の短手方向の間隔が２５μｍであった。その後、透明基板１００及び遮光層１０４上に、非スピン式スリットコーターダイ（東京応化工業（株）製ＴＲ２８２００Ｓ−ＣＬＴ）を用いて、厚みが２．１μｍとなるように赤色の着色剤が配合されたアクリル系のネガ型感光性樹脂（住友化学（株）製ＹＲ−１４）を均一に塗布し、樹脂膜（以下、赤色樹脂膜という）を形成した。９０℃で１００秒間、赤色樹脂膜２００を予備乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて赤色樹脂全体に光を照射した。露光量は１００ｍＪ／ｃｍ２とした。続いて、透明基板１００及び赤色樹脂膜２００を２２０℃で４０分間熱処理した。このとき、赤色樹脂膜２００が遮光層１０４上に接するように形成された部分における赤色樹脂膜２００の最も厚い部分の膜厚は、１．２μｍであった。
【００７７】
続いて、レーザアブレーション装置４であるエキシマレーザ装置（エキシテック（株）製ＦＤＭ６０００型）を用いて、透明基板１００及び遮光層１０４上に形成された赤色樹脂膜２００のパターニングを行った。具体的には、赤色樹脂膜２００に対してエキシマレーザ光を照射して、パターニングされた遮光層１０４の開口部以外の部分における赤色樹脂膜２００を除去した。そして、赤色樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から４０秒後に、洗浄装置６により、各噴射ノズル６ｂから液滴の平均直径が１０μｍの純水を１０ＭＰａの圧力で、パターニングされた赤色樹脂膜２００に対して６０秒間噴射した。このとき、スプレーパターンの長手方向の長さＡは９２．１ｍｍ、透明基板１００の進行方向から見て隣り合うスプレーパターン６ｅ同士が重なる幅Ｘは３９．０ｍｍ（０．４２Ａｓｉｎθ）、角度θは７５°であった。続いて、赤色樹脂膜２００を乾燥することで、遮光層１０４の全ての開口部内に着色樹脂領域１０２Ｒを形成した。
【００７８】
（評価結果）
実施例２のカラーフィルタＣＦの着色樹脂領域１０２Ｒを電子顕微鏡で観察した。その結果、実施例２のカラーフィルタＣＦでは、残渣や異物が残っておらず、遮光層１０４に損傷がなく均一にパターニングされており、品質が極めて良好な状態であった。
【実施例３】
【００７９】
続いて、実施例３に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００８０】
（実施例３）
縦横が３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚みが０．７０ｍｍの透明基板（コーニング社製の１７３７ガラス基板）１００上に、遮光剤としてカーボンブラックが１０重量部配合されたノボラック・ナフトキノン系のポジ型感光性樹脂を８０ｍｌ滴下し、公知のスピンコート装置を用いて透明基板１００を８００ｒｐｍの回転速度で３０秒間回転させ、均一な厚みとした。９０℃で１００秒間予備乾燥した後、更に２３０℃で４０分間熱処理し、透明基板１００上に厚さが１．２μｍの樹脂膜２００を得た。
【００８１】
続いて、レーザアブレーション装置４であるＹＡＧレーザ装置（エキシテック（株）製Ｍ９０００Ｐ型）を用いて、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００のパターニングを行った。具体的には、樹脂膜２００に対してＹＡＧレーザ光を照射して、縦横が６０μｍ×２００μｍの大きさの開口部を、その開口部の長手方向の間隔が２０μｍ、その開口部の短手方向の間隔が２０μｍとなるように、所定数形成した。そして、樹脂膜２００のパターニング終了（レーザ光の照射終了）から５０秒後に、洗浄装置８により、各噴射ノズル８ｂから液滴の平均直径が１０μｍの純水を１０ＭＰａの圧力で、パターニングされた樹脂膜２００に対して６０秒間噴射した。このとき、スプレーパターンの長手方向の長さＡは１０７．４ｍｍ、透明基板１００の進行方向から見て隣り合うスプレーパターン６ｅ同士が重なる幅Ｘは５３．７ｍｍ（０．５０Ａｓｉｎθ）、角度θは７５°であった。そして、この感光性樹脂膜２００を乾燥することで、透明基板１００上にブラックマトリクスとして機能する遮光層１０４を形成した。その後、透明基板１００及び遮光層１０４上に各着色樹脂領域１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ、保護層１０６、透明電極１０８及びスペーサ１１０を順次形成して、カラーフィルタＣＦを得た。
【００８２】
（評価結果）
実施例３のカラーフィルタＣＦの遮光層１０４を電子顕微鏡で観察した。その結果、実施例３のカラーフィルタＣＦでは、残渣や異物が残っておらず、遮光層１０４に損傷がなく均一にパターニングされており、品質が極めて良好な状態であった。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本実施形態に係るカラーフィルタを模式的に示す縦断面図である。
【図２】本実施形態に係るカラーフィルタの製造方法を実施するための製造システムの概要を示す図である。
【図３】洗浄装置の上面図である。
【図４】実施例１−１〜１−１２及び比較例１−１〜１−６の各実施条件及び評価結果を示す表である。
【符号の説明】
【００８４】
１…カラーフィルタの製造システム、２…樹脂膜形成装置、４…レーザアブレーション装置、６…洗浄装置、６ｂ…噴射ノズル、６ｅ…スプレーパターン、１００…透明基板、１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂ…着色樹脂領域、１０４…遮光層、１０６…保護層、１０８…透明電極層、１１０…スペーサ、２００…樹脂膜、ＣＦ…カラーフィルタ。
【図１】
2007212770.tif 000003
【図２】
2007212770.tif 000004
【図３】
2007212770.tif 000005
【図４】
2007212770.tif 000006