(57)【要約】【課題】基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、特に耐性に優れるオーバーコート層が的確に転写でき、しかも剥離層上に形成される絵柄層などとの所期の密着性がアンカー層を設けることなく確保できるようにした転写シートの提供を目的とする。【解決手段】基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、剥離層が、重合性不飽和ポリオール及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合組成物よりなる薄膜の粘着性硬化層であることを特徴とする。【選択図】図１
2007007986.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、剥離層が、重合性不飽和ポリオール及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合組成物により構成される薄膜の粘着性硬化層であることを特徴とする転写シート。
【請求項２】
粘着性を有する剥離層上に、絵柄層と接着層が順次積層されていることを特徴とする請求項１記載の転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主として建材などの表面保護を目的としてその表面部分に積層するオーバーコート層を転写により形成するための転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、建材などの表面保護を目的としてその表面に形成するオーバーコート層を転写形成する際に用いられている転写シートは、基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられていて、さらにその上に絵柄層や接着層が積層された構成のものが主として用いられている。このような構成の転写シートにおいては、その剥離層は、例えばメタクリル酸メチルなどのモノマーからなる薄膜に電離放射線などのエネルギーを加えて硬化させてなる層であり、そこが完全に硬化している。従って、その上に隣接して絵柄層などが積層されている構成の転写シートにあっては、その間の密着性が乏しくなり、剥離層を含む転写部分を被転写体側へ転写する際に箔落ちなどが生じていた。
【０００３】
そこで従来は、このような剥離層と隣接する絵柄層などとの間には、アンカー層を設けることで層間の密着を向上させることが一般的に行われている。
【０００４】
ところが、前記の手法ではアンカー層を設けるための工程を加えなければならず、生産効率があまり良くないため、アンカーコート層を敢えて設けずに耐性に優れるオーバーコート層の転写形成が的確に行える転写シートの開発が強く望まれていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は前記問題点を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、特に耐性に優れるオーバーコート層が的確に転写でき、しかも剥離層上に形成される絵柄層などとの所期の密着性がアンカー層を設けることなく確保できるようにした転写シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するためになされ、請求項１に記載の発明は、基材シートの一方の面に少なくとも剥離層が設けられている転写シートであって、剥離層が、重合性不飽和ポリオール及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合組成物よりなる薄膜の粘着性硬化層であることを特徴とする転写シートである。
【０００７】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の転写シートにおいて、剥離層上に、絵柄層と接着層が順次積層されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の転写シートは、その一部を構成する剥離層が、重合性不飽和ポリオール及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合組成物により構成される薄膜の粘着性硬化層であるため、建材などの表面に耐候密着性に富むオーバーコート層（剥離層）を的確に転写形成することが可能となる。
【０００９】
また、剥離層は上記のような構成であり、イソシアネート硬化剤が添加されていないことにより、紫外線や電子線が照射されても完全硬化することなく、またその重合性不飽和
ポリオールにより粘着性を有している。従って、剥離層上に積層される絵柄層との密着性が優れており、剥離層上に絵柄層などが密着性良好な状態で形成でき、また被転写体への転写時に絵柄層などの箔落ちがなくなり、所期のオーバーコート層が確実に被転写体上に転写形成できるようになる。
【００１０】
以下、本発明の転写シートを図面に基づき詳細に説明する。
【００１１】
図１には、本発明の転写シートの断面構造が示してある。また、図２には、本発明の他の転写シートの断面構造が示してある。
【００１２】
図１に示す転写シート５は、基材シート１の上に剥離層２が設けられてなるものである。また、図２に示す転写シート１５は、基材シート１１の上に剥離層１２が設けられていて、剥離層１２上には絵柄層１３と接着層１４とがさらに積層されて設けられてなるものである。
【００１３】
基体シート１や基材シート１１としては、２軸延伸ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレンなどからなる樹脂シート、または、これらの樹脂シートと紙を積層した積層シートなどが使用可能である。特に、この中では、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートが転写後の鏡面性、印刷シートとしての印刷のし易さなどの点で好適である。また、厚みとしては１２〜５０μｍ程度が転写性の点で好ましい。
【００１４】
一方、基材シート１や基材シート１１の上に設けられている剥離層２や剥離層１２は、重合性不飽和ポリオール及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合組成物により構成される薄膜の粘着性硬化層である。混合組成物中における重合性不飽和ポリオール樹脂及び光重合開始剤を含有するエチレン性不飽和結合を有するモノマーからなる電離放射線硬化型樹脂との混合比率は重合性不飽和ポリオールの方が高いことが望ましい。
【００１５】
前記重合性不飽和ポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポロブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、プロピレンオキサイドとエチレンオキサイドの共重合体、テトラヒドロフランとエトレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの共重合体などを用いることができる。
【００１６】
また、エチレン性不飽和結合を有するモノマーとしては、アクリル酸エステル系のモノマーからなる化合物などを用いることができる。より具体的には、スチレン、クロロスチレン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニルモノマーに置換基として、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル（Ｃ５Ｈ１１−）２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、シクロヘキサン、ベンジル、メトキシエチル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル（またはプロピル）などの基を有するアクリル酸、アクリル酸メチルなどである。
【００１７】
さらに、光重合開始剤としては、紫外線や可視光により分解したり反応した後、ラジカルを発生する、過酸化物や脂肪族アゾ化合物などを用いることができる。より具体的には、水素引き抜き型のベンゾフェノン、アントラキノン、チオキサントンなどの芳香族ケトンや、トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン系などである。
【００１８】
このような各成分からなる混合組成物を用いて基材シート１や基材シート１１上に剥離層２や剥離層１２を形成するに当たっては、まずグラビアコート法、グラビアリバース法、スプレーコート法などの薄膜形成方法により上記組成の混合組成物の薄膜を成膜する。これらの薄膜形成方法の中では、塗工性の点でグラビアコート法が好適である。また、塗
工膜厚としては１〜６μｍ程度が塗工性の点で好ましい。
【００１９】
薄膜が成膜されたら、そこに電離放射線を照射し、薄膜を硬化させる。電離放射線とは、物質に電離作用を及ぼす紫外線や電子線などである。
【００２０】
薄膜は、電離放射線を照射されることにより、完全硬化することなく、また重合性不飽和ポリオールにより粘着性を有する硬化層（剥離層）となる。
【００２１】
従って、図２に示すように、剥離層１２の上に絵柄層１３が積層されているタイプの転写シート１５においては、剥離層１２が粘着性を有するが故に、その上の絵柄層１３との密着性が優れるようになり、その絵柄層１３を剥離層１２上に形成する時や、基材シート１１上の転写部分を被転写体側へ転写する際、所謂箔落ちが発生しにくくなり、転写が良好に行えるようになる。
【００２２】
以下、本発明の実施例について述べる。
【実施例１】
【００２３】
まず、基体シートして厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを、また、剥離層形成用の素材として、重合性不飽和ポリオール樹脂が８０部、及び光重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹脂が２０部の混合組成物をそれぞれ用意した。
【００２４】
次に、上記基材シートの一方の面に上記混合組成物からなる薄膜（厚さ３μｍ）をグラビアコート法により成膜し、しかる後にこの薄膜に対して紫外線を照射して硬化させ、粘着性を有する剥離層を形成した。次に、この剥離層上にアクリル樹脂インキよりなる絵柄層と、塩化ビニル−塩酢ビニル共重合体樹脂よりなる接着層を順次積層して設け、実施例１に係る本発明の転写シートを作製した。
【００２５】
続いて、この転写シートを硬質塩化ビニル板の上に接着層が当接するように重ね合わせて載置してから、１９０℃に過熱した転写ロールを転写シート側から圧を掛けながら回転して移動させ、しかる後に基材シートを剥離した。硬質塩化ビニル板の表面には、接着層と絵柄層と剥離層との積層構成になるオーバーコート層が転写された。
【実施例２】
【００２６】
基体シートして厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを、また、剥離層形成用の素材として、重合性メタクリル酸メチルを含有する電子線硬化型樹脂をそれぞれ用意した。
【００２７】
次に、上記基材シートの一方の面に上記混合組成物からなる薄膜（厚さ３μｍ）をグラビアコート法により成膜し、しかる後にこの薄膜に対して電子線を照射して硬化させ、剥離層を形成した。次に、この剥離層上にアクリル樹脂インキよりなる絵柄層と、塩化ビニル−塩酢ビニル共重合体樹脂よりなる接着層を順次積層して設け、実施例２に係る比較のための転写シートを作製した。
【００２８】
続いて、この転写シートを硬質塩化ビニル板の上に接着層が当接するように重ね合わせて載置してから、１９０℃に過熱した転写ロールを転写シート側から圧を掛けながら回転して移動させ、しかる後に基材シートを剥離した。硬質塩化ビニル板の表面には、接着層と絵柄層と剥離層との積層構成になるオーバーコート層が転写された。
【実施例３】
【００２９】
基体シートして厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを用い、剥離層２
形成用の素材として、重合性不飽和ポリオール樹脂が７５部、ヘキサメチレンジイソシアネートが５部、及び光重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹脂が２０部の混合組成物を用いた。
【００３０】
次に、上記基材シートの一方の面に上記混合組成物からなる薄膜（厚さ３μｍ）をグラビアコート法により成膜し、しかる後にこの薄膜に対して紫外線を照射して硬化させ、剥離層を形成した。次に、この剥離層上にアクリル樹脂インキよりなる絵柄層と、塩化ビニル−塩酢ビニル共重合体樹脂よりなる接着層を順次積層して設け、実施例３に係る比較のための転写シートを作製した。
【００３１】
続いて、この転写シートを硬質塩化ビニル板の上に接着層が当接するように重ね合わせて載置してから、１９０℃に過熱した転写ロールを転写シート側から圧を掛けながら回転して移動させ、しかる後に基材シートを剥離した。
＜性能比較＞
上記各実施例に係る転写シートを使用した硬質塩化ビニル板上へのオーバーコート層の転写形成に際し、実施例１と実施例２に係る転写シートの場合には良好に転写が行えたが、実施例３に係る転写シートの場合には剥離層と絵柄層との一部が基材シートに密着したままで、被転写体側には完全に転写せず、剥離層の一部が基材シート側に残っていた。
【００３２】
一方、実施例１〜３に係る転写シートを使用してその表面にオーバーコート層が転写形成された各硬質塩化ビニル板に対してをメタルウェザー試験機による耐光性試験を２４時間施し、しかる後、そのサンプルにセロハンテープ密着試験を施したところ、実施例１の転写シートによりオーバーコート層を設けたものには異常がみられなかったが、実施例２と３の転写シートによりオーバーコート層を設けたものは、その剥離層と絵柄層の界面より剥離してしまった。これらの性能比較の結果を表１に示す。
【００３３】
【表１】
2007007986.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の転写シートの一例の断面構造を示す説明図である。
【図２】本発明の転写シートの他の例の断面構造を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１、１１…基体シート
２、１２…剥離層
１３…絵柄層
１４…接着層
５、１５…転写シート
【図１】
2007007986.tif 000004
【図２】
2007007986.tif 000005