(57)【要約】【課題】カラーフィルタの画素をインクジェット法で作製する際に好適に用いられ、上面のみが高い撥油・撥水性を有し、画素を形成する際における隣接画素への着色液体組成物の流出を防止し、且つ、膜厚が均一な画素を形成することができる濃色離画壁、該濃色離画壁を備えたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】基材上に着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素を離画する濃色離画壁であって、上面の水接触角が前記基板表面の水接触角より７０度以上大きく、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることを特徴とする濃色離画壁、該濃色離画壁を備えたカラーフィルタ、並びに表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素を離画する濃色離画壁であって、上面の水接触角が前記基板表面の水接触角より７０度以上大きく、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることを特徴とする濃色離画壁。
【請求項２】
少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種の金属粒子と、含むことを特徴とする請求項１に記載の濃色離画壁。
【請求項３】
前記金属粒子が、銀錫合金部を有する金属粒子であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の濃色離画壁。
【請求項４】
上面の水接触角が１００度以上であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の濃色離画壁。
【請求項５】
前記基板表面の水接触角が２０度以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の濃色離画壁。
【請求項６】
（１）基板上に重合開始能をもつ活性種を有する樹脂組成物からなる樹脂パターンを形成する工程、及び、（２）該樹脂パタ−ンに重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させた後、輻射線を放射することにより、重合を用いて前記樹脂パタ−ン上面に直接結合した撥油・撥水性の化合物を生成する工程、を含む製造方法により得られたことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の濃色離画壁。
【請求項７】
着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素と、該着色画素を離画する濃色離画壁と、を有する基板であって、前記濃色離画壁が請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の濃色離画壁であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項８】
前記液滴付与がインクジェット法により行われることを特徴とする請求項７に記載のカラーフィルタ。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載のカラーフィルタを備えたことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、濃色離画壁及びそれを備えたカラーフィルタ、液晶表示素子、並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の濃色離画壁で区分した構造である。このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１参照。）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）が知られている（例えば、特許文献２参照。）。また、インクジェット法を用いる方法（特許文献３参照。）も知られている。
【０００３】
これらの方法のうち、着色レジスト法は高い位置精度でカラーフィルタを作製できるものの、感光層樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方、インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。
【０００４】
これらを克服すべく、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法も提案されているが、作製されたブラックマトリックスの断面形状を観察すると、上端やそのエッジが丸くなっており、後に打滴された各色インクがブラックマトリックスをのり越えやすいために、隣接画素と混色を起こし表示品位を低下させる。
【０００５】
また、インクジェット法によるカラーフィルタの画素形成では、インク液滴付与後において、画素形成用のインクが残留のブラックマトリックスの上面（隔壁の凸部上面）に残留する場合がある。さらに、形成される画素の厚みが不均一になる場合がある。
【０００６】
インクジェット法を用いた場合の混色を防ぐ為、ブラックマトリックスとインクとの間に、お互いはじきあう性質を持たせたり、ブラックマトリックス間隙部のインクの濡れ性を高めたりする方法が開示されている（特許文献４〜６参照）。
しかしながら、これらの方法では、ブラックマトリックス用着色レジストやインクに特殊な素材が必要であったり、ブラックマトリックス間隙部の表面エネルギーを高める工程（表面改質処理）が必要であり、コスト的な問題がなお残されている。
また、インクジェット法を用いた場合の画素の混色防止や、表面平滑性、膜厚の均一性の向上に関しては、カラーフィルタを構成する隔壁等の撥インク性を制御する技術も開示されているが（例えば、特許文献７、８参照。）、いずれも充分な性能を発揮するものではない。
【特許文献１】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献２】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献３】特開平８−２２７０１２号公報
【特許文献４】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献５】特開平７−３５９１５号公報
【特許文献７】特開平１０−号２０１１４公報
【特許文献８】特開２００３−１７２８１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、カラーフィルタの画素をインクジェット法で作製する際に好適に用いられ、上面のみが高い撥油・撥水性を有し、画素を形成する際における隣接画素への着色液体組成物の流出を防止し、且つ、膜厚が均一な画素を形成することができる濃色離画壁、該濃色離画壁を備えたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討の結果、濃色離画壁上面の水接触角と該濃色離画壁が形成される基板表面の水接触角の差、該濃色離画壁の幅及び高さを所定の範囲に制御することにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
【０００９】
＜１＞  基板上に着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素を離画する濃色離画壁であって、上面の水接触角が前記基板表面の水接触角より７０度以上大きく、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることを特徴とする濃色離画壁である。
【００１０】
＜２＞  少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種の金属粒子と、含むことを特徴とする前記＜１＞に記載の濃色離画壁である。
＜３＞  前記金属粒子が、銀錫合金部を有する金属粒子であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の濃色離画壁である。
【００１１】
＜４＞  上面の水接触角が１００度以上であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の濃色離画壁である。
＜５＞  前記基板表面の水接触角が２０度以下であることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の濃色離画壁である。
【００１２】
＜６＞  （１）基板上に重合開始能をもつ活性種を有する樹脂組成物からなる樹脂パターンを形成する工程、及び、（２）該樹脂パタ−ンに重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させた後、輻射線を放射することにより、重合を用いて前記樹脂パタ−ン上面に直接結合した撥油・撥水性の化合物を生成する工程、を含む製造方法により得られたことを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の濃色離画壁である。
【００１３】
＜７＞  着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素と、該着色画素を離画する濃色離画壁と、を有する基板であって、前記濃色離画壁が前記＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の濃色離画壁であることを特徴とするカラーフィルタ。
＜８＞  前記液滴付与がインクジェット法により行われることを特徴とする前記＜７＞に記載のカラーフィルタ。
【００１４】
＜９＞  前記＜７＞又は＜８＞に記載のカラーフィルタを備えたことを特徴とする表示素子。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、カラーフィルタの画素をインクジェット法で作製する際に好適に用いられ、上面のみが高い撥油・撥水性を有し、画素を形成する際における隣接画素への着色液体組成物の流出を防止し、且つ、膜厚が均一な画素を形成することができる濃色離画壁、及び該濃色離画壁を備えたカラーフィルタ、液晶表示素子、並びに液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の濃色離画壁、該濃色離画壁を備えたカラーフィルタ、及び表示装置について詳細に説明する。
【００１７】
［濃色離画壁］
本発明の濃色離画壁（以下、単に「濃色離画壁」と称する場合がある。）は、基板上に着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素を離画する濃色離画壁であって、上面の水接触角が前記基板表面の水接触角より７０度以上大きく、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることを特徴とする。
【００１８】
本発明の濃色離画壁は、上記構成にしたことにより、上面のみが高い撥油・撥水性を有すると共に、当該濃色離画壁により離画される着色画素が、基板上に着色液体組成物を液滴付与して形成する際に、隣接画素への着色液体組成物の流出を防止し、且つ、膜厚についても均一な画素の形成ができるという優れた効果を発揮することができる。
以下、本発明の濃色離画壁について詳細に説明する。
【００１９】
＜濃色離画壁の水接触角＞
本発明の濃色離画壁（以下、単に「離画壁」と称する場合がある。）は、上面の水接触角が、該濃色離画壁が形成される基板表面の水接触角より７０度以上大きいことが必要であり、離隔壁間のみにインクを均一に付与できるという観点から、８０度以上大きいことが好ましく、９０度以上大きいことがより好ましい。
濃色離画壁上面の水接触角と基板表面の水接触角と差が７０度未満である場合、離隔壁上にインクが残留したり、インクの厚みが不均一になる。
本発明における、濃色離画壁上面の水接触角と、基板表面の水接触角に対する差は、濃色離画壁上面の水接触角が、該濃色離画壁が形成される基板表面の水接触角より７０度以上大きければ特に上限はないが、その上限は通常１２０度程度である。
【００２０】
ここで、濃色離画壁の上面について図面を用いて説明する。
図１は、基板２０上に設けられた離画壁１０の断面斜視図である。離画壁１０の断面において離画壁１０の基板２０からの高さがもっとも高い点Ｈにおける基板２０からの高さをｈとする。基板２０からの距離が０．８ｈであり基板２０に平行な平面Ｓが離画壁１０と交わる曲線をＩとする。離画壁１０の表面のうち、Ｉよりも基板２０に対して上側の領域を本発明における上面と定義する。
【００２１】
本発明の濃色離画壁は、インクジェット用インクをその上面に残留させない観点から、上面の水接触角が１００度以上であることが好ましく、１０５度以上であることがより好ましい。濃色離画壁上面の水接触角の上限値としては、１４０度程度である。
【００２２】
本発明の濃色離画壁の水接触角を本発明に係る範囲にするためには、後に詳述する「撥水処理」を施すことが好ましい。
【００２３】
本発明における基板表面の水接触角は、インクを均一な厚みに残留できる観点から、２０度以下であることが好ましく、１８度以下であることがより好ましく、１５度以下であることがさらに好ましい。基板表面の水接触角の下限値としては、１０度程度である。
【００２４】
濃色離画壁が形成される、基板（永久支持体）としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや透明合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００２５】
本発明においては、上記のごとき基板自体が、本発明に係る水接触角を達成するものであれば、当該基板をそのまま用いればよく、また、基板を表面処理することにより、水接触角を上記範囲に調整することもできる。基板の表面処理としては、例えば、当該基板の表面に対して親水化処理を行う方法、等が挙げられる。
基板の表面に対する親水化処理方法としては、例えば、特開２００３−３４４６４０公報の段落番号［００６６］〜［００７３］等に記載される親水化プラズマ処理、特開２０００−３３６９８公報の[００１７]〜[００３０]等に記載されるシランカップリング処理、等を適用することができる。
【００２６】
なお、本明細書における「水接触角」は、２５℃における蒸留水の接触角である。
濃色離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法について図２を用いて説明する。図２は、離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を説明するための図であり、（ａ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す平面図を示し、（ｂ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す断面図を示す。図２に示すように離画壁上面に液滴の一部がかかるようにして、蒸留水をカラーフィルタ上に滴下する。この液滴について光学顕微鏡写真を撮影して、該写真から離画壁上面部分の２５℃における蒸留水の接触角θを求めることができる。
また、基板表面の水接触角については、上記濃色離画壁の場合と同様の方法で測定できる。即ち、基板上に蒸留水を滴下し、この液滴について光学顕微鏡写真を撮影して、該写真から基板表面の２５℃における蒸留水の接触角θを求めることができる。
【００２７】
本発明の濃色離画壁は、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることが必要である。
濃色離画壁の幅が１５μｍ未満であると、インクが濃色離画壁を超えて、混色が起こりやすくなる。一方、５０μｍ以上であると、開口率が下がり、画面が暗くなり易くなる。
また、濃色離画壁の高さが、１．５μｍ未満であると隣接画素との混色が起こり易くなり、一方、６．０μｍ以上であると、適正な基板間クリアランスが形成できなくなる。
【００２８】
濃色離画壁の幅としては、インクジェット用インクを離隔壁上面に残留させない観点から、１５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
また、濃色離画壁の高さとしては、混色防止、及び離画壁の高さを形成されるインク層の厚みに近くする観点から、１．５μｍ以上４．０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
濃色離画壁の幅及び高さは、形成厚み、マスクパタ−ンサイズ、現像時間等により、所望とする幅及び高さに調整することができる。
【００２９】
ここで、濃色離画壁の「幅」とは、濃色離画壁のガラス基板を垂直方向から見た時の投影幅を指す。
また、濃色離画壁の「高さ」とは、濃色離画壁の最も高さの高い点をＨとし、Ｈから基板におろした垂線の足Ｇとの距離を指す。
【００３０】
本明細書における濃色離画壁の「幅」及び「高さ」は、以下に示す方法により測定することができる。
【００３１】
（幅の測定）
濃色離画壁の幅は、離画壁が形成された基板を、ＯＬＹＭＰＵＳ  金属顕微鏡ＶＡＮＯＸ  ＡＨＭＴ３に、ＯＬＹＭＰＵＳ  Ｉｋｅｇａｍｉ  ＩＴＣ−３７０Ｍを搭載し、ＦＬＯＶＥＬ  ＶＩＤＥＯ  ＭＩＣＲＯ  ＭＥＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−４０を用いて直接観察し、任意の点１００点の濃色離画壁の線幅を測定し、その平均値を算出して求めることができる。
【００３２】
（高さの測定）
濃色離画壁の高さは、接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて、形成された濃色離画壁について測定することができる。
【００３３】
本発明の濃色離画壁は、厚みが均一でかつ充分な機械強度をもたせる観点から、少なくとも１種の樹脂と、少なくとも１種の金属粒子と、を含むことが好ましい。
【００３４】
＜樹脂＞
本発明の濃色離画壁は、少なくとも１種の樹脂を含むことが好ましい。該樹脂としては、後述する感光性樹脂組成物の説明において、「バインダー（樹脂・ポリマー）」として記載する樹脂、及び「モノマー」として記載するものから生成される樹脂が挙げられる。
【００３５】
＜金属粒子＞
本発明の濃色離画壁は、少なくとも１種の金属粒子を含むことが好ましい。該金属粒子としては、特に限定されず、如何なるものを用いてもよい。金属粒子は、２種以上の金属を組み合わせて用いてもよく、金属化合物でもよいし、金属化合物と金属との複合粒子でもよい。本発明における金属粒子としては、色味変化や濃度低下を効果的に抑制する観点からは、以下に詳述する「棒状金属粒子」又は「銀錫合金部を有する金属粒子」であることが好ましく、黒濃度が高く、薄膜でも高度の遮光性能を有する観点からは、「銀錫合金部を有する金属粒子」が特に好ましい。
【００３６】
《棒状金属粒子》
本発明における金属粒子として用いうる、棒状金属粒子について説明する。
本発明において金属微粒子が「棒状」であるとは、下記の方法によって粒子を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸からなる三軸径の直方体と捉えた場合に、細長い棒状形態となることを指す。即ち、三軸径の直方体と捉えた場合に、平板状となる粒子や、正側面体となる粒子（例えば、粒子自体の形状が真球、立方体等の粒子）を除くことを意味する。
具体的には粒子自体の形状が、例えば、針状、円柱状、直方体等の角柱状、ラグビーボール状、繊維状、コイル状等である粒子が、本発明における棒状の金属微粒子として挙げられ、これらの中でも、針状、円柱状、直方体等の角柱状、ラグビーボール状である粒子がより好ましい。
【００３７】
（三軸径）
本発明における金属微粒子は下記の方法によって直方体として捉えられ、各寸法が測定される。すなわち、１個の金属微粒子がちょうど（きっちりと）収まるような三軸径の直方体の箱を考え、この箱の長さの一番長いものを長軸長さＬとし、厚みｔ、幅ｂをもってこの金属微粒子の寸法と定義する。前記寸法にはＬ＞ｂ≧ｔの関係をもたせ、同一の場合以外は、ｂとｔの大きい方を幅ｂと定義する。
具体的には、まず、平面上に、金属微粒子を、最も重心が低くて安定に静止するように置く。次に、平面に対し直角に立てた２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、その平板間隔が最も短くなる位置の平板間隔をたもつ。次に、前記平板間隔を決する２枚の平板に対し直角で前記平面に対しても直角の２枚の平行な平板により金属微粒子を挟み、この２枚の平板間隔を保つ。最後に金属微粒子の最も高い位置に接触するように天板を前記平面に平行に載せる。この方法により平面、２対の平板及び天板によって画される直方体が形成される。
尚、コイル状やループ状のものはその形状を伸ばした状態で前記測定を行った場合の値と定義する。
【００３８】
（長軸長さＬ）
棒状金属微粒子の長軸長さＬは、１０ｎｍ乃至１０００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至８００ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ乃至４００ｎｍである（可視光の波長より短い）ことが最も好ましい。１０ｎｍ以上であることにより、製造上調製が簡便で、且つ、耐熱性や色味も良好という利点があり、また１０００ｎｍ以下であることにより、面状欠陥が少ないという利点がある。
【００３９】
（幅ｂと厚みｔとの比）
本発明において、棒状金属微粒子の「幅ｂと厚みｔとの比」とは、１００個の棒状金属微粒子について測定した値の平均値と定義する。棒状金属微粒子の幅ｂと厚みｔとの比（ｂ／ｔ）は２．０以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましく、１．３以下であることが特に好ましい。ｂ／ｔ比が２．０を超えると平板状に近くなり、耐熱性が低下することがある。
【００４０】
（長軸長さＬと幅ｂ及び厚みｔとの関係）
長軸長さＬは、幅ｂの１．２倍以上１００倍以下であることが好ましく、１．３倍以上５０倍以下であることがより好ましく、１．４倍以上２０倍以下であることが特に好ましい。長軸長さＬが幅ｂの１．２倍未満となると平板の特徴が生じ、耐熱性が悪化することがある。また、長軸長さＬが幅ｂの１００倍を超えると黒色濃度が低くなり薄層高濃度化ができないことがある。
【００４１】
（長さＬと幅ｂ及び厚みｔの測定）
長さＬ、幅ｂ及び厚みｔの測定は、電子顕微鏡による表面観察図（×５０００００）と、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によってすることが出来、１００個の棒状金属微粒子について測定した値の平均値とする。
前記原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にはいくつかの動作モードがあり、用途によって使い分けている。大別すると以下の３つになる。
（１）接触方式
プローブを試料表面に接触させ、カンチレバーの変位から表面形状を測定する方式。
（２）タッピング方式
プローブを試料表面に周期的に接触させ、カンチレバーの振動振幅の変化から表面形状を測定する方式。
（３）非接触方式
プローブを試料表面に接触させずに、カンチレバーの振動周波数の変化から表面形状を測定する方式。
一方、非接触方式は極めて弱い引力を高感度に検出する必要がある。そのため、カンチレバーの変位を直接測定する静的な力の検出では難しく、カンチレバーの機械的共振を応用している。
前記の３つの方法が挙げられるが、試料に合わせ何れかの方法をとることが可能である。
【００４２】
尚、本発明において、前記電子顕微鏡としては、日本電子社製  電子顕微鏡  ＪＥＭ２０１０を用い、加速電圧２００ｋＶで測定を行った。また、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）は、セイコーインスツルメンツ株式会社製  ＳＰＡ−４００を使用した。該、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）での測定では、比較にポリスチレンビーズを入れておくことにより、測定が容易になる。
【００４３】
（棒状金属微粒子の金属）
本発明で用いられる棒状金属微粒子における金属としては、特に限定されず、いかなるものを用いてもよい。金属微粒子は、２種以上の金属を組み合わせて用いてもよく、合金として用いることも可能である。また、金属化合物でもよいし、金属化合物と金属との複合微粒子でもよい。
棒状金属微粒子としては、金属及び／又は金属化合物から形成されるものが好ましく、金属から形成されるものが特に好ましい。
特に本発明においては、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことが好ましい。また、第２〜１４族からなる郡から選ばれる金属を含有することが好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族からなる群から選ばれる金属を主成分として含むことがより好ましい。これらの金属のうち、本発明における金属微粒子としては第４周期、第５周期、又は第６周期の金属であって、第２族、第１０族、第１１族、第１２族、又は第１４族の金属が更に好ましく、カルシウム、金、銀、銅、白金、スズ又はパラジウムが特に好ましい。その中でも金、銀、銅、スズが好ましく、とりわけ銀が好ましく、銀としてはコロイド銀が最も好ましい。
【００４４】
前記金属微粒子として分散金属微粒子の好ましい例は、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。更に好ましい金属は、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム又はこれらの合金、より好ましい金属は、銅、銀、金、白金、錫又はこれらの合金から選ばれる少なくとも１種である。
【００４５】
（金属化合物）
本発明で言う「金属化合物」とは前記のごとき金属と金属以外の元素との化合物である。
金属と他の元素の化合物としては金属の酸化物、硫化物、硫酸塩、炭酸塩などがある。このうち硫化物が色調や微粒子形成のしやすさから特に好ましい。これら金属化合物の例としては酸化銅（II）、硫化鉄、硫化銀、硫化銅（II）、チタンブラックなどがあるが、硫化銀は色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から特に好ましい。
【００４６】
（複合微粒子）
本発明で言う金属化合物と金属との複合微粒子とは金属と金属化合物が結合して１つの粒子になったものを言う。例えば粒子の内部と表面で組成の異なるもの、２種類の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属は、それぞれ１種でも２種以上であってもよい。金属化合物と金属との複合微粒子の具体例としては銀と硫化銀の複合微粒子、銀と酸化銅（II）の複合微粒子などがある。
【００４７】
（コア・シェル）
更に、本発明の棒状金属微粒子は、コア・シェル型の複合粒子であってもよい。コア・シェル型の複合粒子とは、コア材料の表面をシェル材料でコートしたものである。コア・シェル型の複合粒子に用いる本発明のシェル材料としては、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＡｌＳｂ、ＩｎＰ  、Ｇａ、Ａｓ、ＧａＰ  、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、ＴｌＣｌ、ＴｌＢｒ、ＴｌＩや、これらの固溶体又はこれらを９０ｍｏｌ％以上含む固溶体から選ばれる少なくとも１種の半導体、若しくは、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金、から選ばれる少なくとも１種の金属が挙げられる。
好ましいコア材料としては、銅、銀、金、パラジウム、ニッケル、錫、ビスマス、アンモチン、鉛、又はこれらの合金から選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。
前記シェル材料は、反射率を低下させる目的で屈折率の調整剤としても好適に用いられる。
【００４８】
コア・シェル構造を有する複合微粒子の作製方法に特に制限はなく、代表的な方法は以下のものが挙げられる。
【００４９】
（１）公知の方法で作製した金属微粒子の表面に、酸化、硫化などにより、金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属微粒子を水などの分散媒に分散させて、硫化ナトリウムや硫化アンモニウムなどの硫化物を添加する方法がある。この方法により粒子の表面が硫化されてコア・シェル複合粒子が形成される。
この場合、用いる金属微粒子は、気相法、液相法などの公知の方法で作製することができる。金属微粒子の作製方法については、例えば「超微粒子の技術と応用における最新動向ＩＩ（住ベテクノリサーチ（株）２００２年発行）」に記載されている。
【００５０】
（２）金属微粒子を作製する過程で連続的に表面に金属化合物のシェルを形成する方法であり、例えば、金属塩溶液に還元剤を添加して、金属イオンの一部を還元して金属微粒子を作製し、次いで硫化物を添加して、作製した金属微粒子の周囲に金属硫化物を形成する方法がある。
【００５１】
（棒状金属微粒子の作製）
金属微粒子は市販のものを用いることができる他、金属イオンの化学的還元法、無電解メッキ法、金属の蒸発法等により調製することが可能である。
特に棒状の銀微粒子は球形銀微粒子を種粒子としてその後、銀塩を更に添加し、CTAB（セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）等の界面活性剤の存在下でアスコルビン酸など比較的還元力の弱い還元剤を用いることにより銀棒やワイヤーが得られることがＡｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００２，１４，８０−８２に記載されている。また、同様の記載がＭａｔｅｒｉａｌｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ２００４，８４，１９７−２０４、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００４，１４，１８３−１８９になされている。電気分解を用いた方法として、Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００１，４９，９１−９５やマイクロ波を照射することにより銀棒を生成する方法がＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ２００４，１９，４６９−４７３に記載されている。逆ミセルと超音波の併用した例として、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｂ  ２００３，１０７，３６７９−３６８３が挙げられる。
金に関しても、同様にＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｂ  １９９９，１０３、３０７３−３０７７及びＬａｎｇｍｕｉｒ１９９９，１５，７０１−７０９、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ２００２，１２４，１４３１６−１４３１７に記載されている。
棒状の粒子の形成方法は前記記載の方法を改良（添加量調整、ｐＨ制御）しても調製できる。
【００５２】
本発明における金属微粒子は、無彩色に近づけるために、色々な種類の棒状粒子を組み合わせることにより得ることもできる。
粒子を球形や立方体から棒状へ変化させることにより、より高い透過濃度を得ることができ、これにより遮光層の薄膜化を行うことが可能となる。
【００５３】
（粒度分布）
本発明における棒状金属微粒子の粒度分布は、粒子の分布を正規分布近似し、その数平均粒子径の粒度分布幅Ｄ９０／Ｄ１０が、１．２以上２０未満であることが好ましい。ここで、粒子径は長軸長さＬを粒子直径としたものであり、Ｄ９０は平均粒径に近い粒子の９０％が見出される粒子直径であり、Ｄ１０は平均粒径に近い粒子の１０％が見出される粒子直径である。粒度分布幅は色調の観点からさらに好ましくは２以上１５以下である。さらに好ましくは、４以上１０以下である。分布幅が１．２未満だと色調が単色に近くなる場合があり、２０以上となると、粗大粒子による散乱によって濁りが生じる場合がある。
【００５４】
尚、前記粒度分布幅Ｄ９０／Ｄ１０の測定は、具体的には、塗布膜中の金属微粒子を、上述の三軸径を測定する方法にてランダムに１００個測定し、前記長軸長さＬを粒子直径とし、粒径分布を正規分布近似し、平均粒子径に近い粒子の数で９０％の範囲となる粒子直径をＤ９０とし、平均粒子径から数で１０％の範囲となる粒子直径をＤ１０とし、Ｄ９０／Ｄ１０を算出することができる。
【００５５】
（棒状金属微粒子の分散）
棒状金属微粒子は、濃色離画壁の形成に用いられる感光性樹脂組成物として後述する組成物中に分散させて用いることにより、本発明の濃色離画壁中に含有させることができる。
【００５６】
分散時における棒状金属微粒子の存在状態は特に限定されないが、棒状金属微粒子が安定な分散状態で存在していることが好ましく、例えば、コロイド状態であることがより好ましい。コロイド状態の場合には、例えば、棒状金属微粒子が実質的に棒状の微粒子状態で分散されていることが好ましい。
ここで、分散剤として、チオール基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類及び多糖類由来の天然高分子、合成高分子及びこれらに由来するゲルなどを用いることができる。
ここで用いるチオール基含有化合物の種類は特に限定されず、１個又は２個以上のチオール基を有する化合物であればいかなるものでもよい。チオール基含有化合物としては、例えば、アルキルチオール類（例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタンなど）、アリールチオール類（例えば、チオフェノール、チオナフトール、ベンジルメルカプタンなど）、アミノ酸又はその誘導体（例えば、システイン、グルタチオンなど）、ペプチド化合物（例えば、システイン残基を含むジペプチド化合物、トリペプチド化合物、テトラペプチド化合物、５以上のアミノ酸残基を含むオリゴペプチド化合物など）、又は蛋白質（例えば、メタロチオネインやシステイン残基が表面に配置された球状蛋白質など）などを挙げることができるが、これらに限定されることはない。
【００５７】
分散剤に用いられる高分子類としては、保護コロイド性のあるポリマーでゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）及びポリビニルピロリドン共重合体などがある。分散剤として用いることができるポリマーについては例えば「顔料の事典」（伊藤征司郎編、（株）朝倉書院発行、２０００年）に記載されている。
【００５８】
また、分散液には、親水性高分子、界面活性剤、防腐剤、又は安定化剤などを適宜配合してもよい。親水性高分子としては、水に溶解でき、希薄状態において実質的に溶液状態を維持できるものであればいかなるものを用いてもよい。例えば、ゼラチン、コラーゲン、カゼイン、フィブロネクチン、ラミニン、エラスチンなどのタンパク質及びタンパク質由来の物質；セルロース、デンプン、アガロース、カラギーナン、デキストラン、デキストリン、キチン、キトサン、ペクチン、マンナンなどの多糖類及び多糖類由来の物質などの天然高分子；ポバール（ポリビニルアルコール）、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルアミンなどの合成高分子；又はこれらに由来するゲルなどを用いることができる。ゼラチンを用いる場合には、ゼラチンの種類は特に限定されず、例えば、牛骨アルカリ処理ゼラチン、豚皮膚アルカリ処理ゼラチン、牛骨酸処理ゼラチン、牛骨フタル化処理ゼラチン、豚皮膚酸処理ゼラチンなどを用いることができる。
【００５９】
前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、ベタイン系界面活性剤のいずれも使用でき、アニオン系及びノニオン系界面活性剤が特に好ましい。界面活性剤のＨＬＢ値は塗布液の溶媒が水系か有機溶剤系かにより一概に言えないが、溶媒が水系の場合は８〜１８程度のものが好ましく、有機溶剤系の場合は３〜６程度のものが好ましい。
【００６０】
尚、前記ＨＬＢ値については、例えば「界面活性剤ハンドブック」（吉田時行、進藤信一、山中樹好編、工学図書（株）発行昭和６２年）に記載されている。前記界面活性剤の具体例としては、プロピレングリコールモノステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリン酸エステル、ソルビタンモノラウリル酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリル酸エステルなどがある。界面活性剤の例についても前述の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている。
【００６１】
《銀錫合金部を有する金属粒子》
本発明における金属粒子として用いうる、銀錫合金部を有する金属粒子について説明する。
本発明における銀錫合金部を有する金属粒子は、各粒子が、銀錫合金からなるもの、銀錫合金部分とその他の金属部分からなるもの、及び銀錫合金部分と他の合金部分からなるものを含むものである。
【００６２】
銀錫合金部を有する金属粒子において、金属の定義としては、岩波理化学辞典  第４版（１９８７年、岩波書店発行）に記載されている通りであり、本発明における銀錫合金は、銀と錫が原子レベルで混合したもので、固溶体、共晶、化合物、金属間化合物などが含まれる。なお、合金については、例えば、岩波理化学辞典  第４版（１９８７年、岩波書店発行）に記載されている。
【００６３】
銀錫合金部を有する金属粒子において、少なくとも一部が銀錫合金で構成されていることは、例えば、（株）日立製作所製のＨＤ−２３００とノーラン（Ｎｏｒａｎ）社製のＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析装置）とを用いて、加速電圧２００ｋＶによる各々の粒子の中心１５ｎｍ□エリアのスペクトル測定により確認することができる。
【００６４】
銀錫合金部を有する金属粒子は、黒濃度が高く、少量であるいは薄膜で優れた遮光性能を発現し得ると共に、高い熱安定性を有するので、黒濃度を損なうことなく高温（例えば２００度以上）での熱処理が可能であり、安定的に高度の遮光性を確保することができる。このため、高度の遮光性が要求され、一般にベーク処理が施されるカラーフィルタ用の遮光膜（いわゆるブラックマトリクス）などに用いられる、本発明の濃色離画壁に好適に含有することができる。
【００６５】
銀錫合金部を有する金属粒子は、銀（Ａｇ）の割合を３０〜８０モル％としてＡｇと錫（Ｓｎ）とを複合化（例えば合金化）して得られるものである。Ａｇの割合を特に前記範囲とすることで、高温域での熱安定性が高く、光の反射率を抑えた高い黒濃度を得ることができる。
【００６６】
換言すれば、Ａｇの割合が３０モル％未満であると、融点が低くなり熱で変化しやすく熱安定性が低下し、８０モル％を超えると、光の反射率が高くなる。中でも、好ましくは４０〜７５モル％であり、最も好ましくは５０〜７５モル％である。
特に、Ａｇの割合が７５モル％である粒子、すなわちＡｇＳｎ合金粒子は作製が容易であり、得られた粒子も安定で好ましい。
【００６７】
本発明の濃色離画壁には、銀錫合金部を有する金属粒子を一種単独で含有するのみならず、Ａｇの割合が前記範囲内で異なる二種以上の銀錫合金部を有する金属粒子を併用して構成するようにしてもよい。
【００６８】
銀錫合金部を有する金属粒子は、坩堝などの中で加熱、溶融混合して形成する等の一般的方法で合金化する等して形成することが可能であるが、Ａｇの融点は９００℃付近で、Ｓｎの融点は２００℃付近であって両者の融点に大きな差があるうえ、複合化（例えば合金化）後の微粒子化工程が余分に必要になることから、粒子還元法によるのが好ましい。すなわち、Ａｇ化合物とＳｎ化合物とを混合し、これを還元するものであり、金属Ａｇと金属Ｓｎを同時に接近した位置で析出させ、複合化（例えば合金化）と微粒子化とを同時に達成する方法である。Ａｇは還元されやすく、Ｓｎよりも先に析出する傾向にあるため、Ａｇ及び／又はＳｎを錯塩にすることにより析出タイミングをコントロールすることが好適である。
【００６９】
前記Ａｇ化合物としては、硝酸銀（ＡｇＮＯ3）、酢酸銀（Ａｇ（ＣＨ3ＣＯＯ））、過塩素酸銀（ＡｇＣｌＯ4・Ｈ2Ｏ）、等が好適に挙げられる。中でも特に、酢酸銀が好ましい。
【００７０】
前記Ｓｎ化合物としては、塩化第一錫（ＳｎＣｌ2）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ4）、酢酸第一錫（Ａｇ（ＣＨ3ＣＯＯ）2）、等が好適に挙げられる。中でも特に、酢酸第一錫が好ましい。
【００７１】
還元は、還元剤を用いる方法、電解により還元する方法等を好ましい還元方法として挙げることができる。中でも、還元剤を用いた前者による方法が、微細な粒子が得られる点で好ましい。前記還元剤としては、ハイドロキノン、カテコール、パラアミノフェノール、パラフェニレンジアミン、ヒドロキシアセトンなどが挙げられる。中でも、揮発しやすく、表示装置に悪影響を与えにくい点で、ヒドロキシアセトンが特に好ましい。
【００７２】
銀錫合金部を有する金属粒子は、以下に示す物理的性質や、粒子サイズ、粒子形状等を有する粒子であるのが好ましい。
【００７３】
銀錫合金部を有する金属粒子は、示差走査熱量測定法（ＤＳＣ：Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）による測定で、２４０〜４００℃に融点を有する粒子であることが好適である。融点が該範囲であるため、金属Ａｇ（融点：９５０℃）や金属Ｓｎ（融点：２３０℃）に比し、良好な熱安定性を示す。
具体的には、ＡｇＳｎ合金の融解性（融点）は、試料としてＡｇＳｎ合金２０ｍｇをＤＳＣ（ＳＳＣ／５２００、セイコーインスツルメント（株）製）の測定セルにセットし、ＤＳＣによる降温結晶化ピークを、１０℃／分の降温速度で２００℃から室温まで冷却して測定される。
【００７４】
銀錫合金部を有する金属粒子は、数平均粒子サイズで、２０〜７００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜２００ｎｍであり、特に好ましくは４０〜１００ｎｍである。数平均粒子サイズが特に前記範囲であると、金属Ｓｎの粒子とは異なり、いずれの粒子径でも黒い色相を有する。なお、数平均粒子サイズが、７００ｎｍを超えると成膜したときの面状が悪くなることがあり、２０ｎｍ未満であると黒さが減って黄色味を帯びてくることがある。
【００７５】
前記数平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡ＪＥＭ−２０１０（日本電子（株）製）により得た写真を用いて次のようにして測定されるものである。
粒子１００個を選び、それぞれの粒子像と同じ面積の円の直径を粒子径とし、１００個の粒子の粒子径の平均を数平均粒子サイズとする。なお、写真は、倍率１０万倍、加速電圧２００ｋＶで撮影したものを用いる。
【００７６】
銀錫合金部を有する金属粒子の粒子形状としては、特に制限はなく、キュービック状、高アスペクト、中アスペクト、針状等のいずれの形状であってもよい。
【００７７】
上記の物理的性質、粒子サイズ、粒子形状を少なくとも有し、かつ維持される限り、銀錫合金部を有する金属粒子を形成する元素（Ａｇ及びＳｎ）以外に、更に塩や有機物、その他の元素（Ｃａ、Ｐ、Ｎａ等）などを含んでいてもよい。
【００７８】
銀錫合金部を有する金属粒子は、後述する感光性樹脂組成物中に含有させることにより、本発明の濃色離画壁に含有させることができる。なお、銀錫合金部を有する金属粒子の感光性樹脂組成物中における量としては、目的や用途に応じて適宜選択すればよく、高度の遮光性を得る観点からは、組成物の全固形分（体積）に対して、５〜２０体積％が好ましく、７〜１５体積％がより好ましく、８〜１５体積％が最も好ましい。
銀錫合金部を有する金属粒子の量が特に前記範囲であると、光の反射率が抑えられ、黒濃度が高く、薄膜で高い遮光性を得ることができる。特に、カラーフィルタのブラックマトリクスなど、画像表示領域の遮光材料として用いた場合は、高コントラストで鮮やかな表示画像を得ることが可能である。なお、銀錫合金部を有する金属粒子の量が、５体積％未満であるときには反射率が高く表示コントラストを損なうことがあり、２０体積％を超えるときには成膜した際の膜厚が１μｍより厚くなることがある。
【００７９】
本発明における金属粒子は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の濃色離画壁中における金属粒子の含有量としては、目的や用途に応じて適宜選択すればよく、高度の遮光性を得る観点からは、濃色離画壁に含まれる全固形分（体積）に対して、５〜２０体積％が好ましく、７〜１５体積％がより好ましく、８〜１５体積％が最も好ましい。金属粒子の量が５〜２０体積％であると、光の反射率が抑えられ、黒濃度が高く、薄膜で高い遮光性を得ることができ、高コントラストで鮮やかな表示画像を得ることが可能である。なお、前記金属粒子の量が、５体積％未満であるときには反射率が高く表示コントラストを損なうことがあり、２０体積％を超えるときには成膜した際の膜厚が１μｍより厚くなることがある。
【００８０】
−感光性樹脂組成物−
本発明の濃色離画壁は、基板上に、着色剤を含有する感光性樹脂組成物（「濃色感光性樹脂組成物」又は「濃色組成物」ともいう。）から形成される。
ここで、濃色組成物とは、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有する組成物のことであり、その値は２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。また、この濃色組成物は、後述するように好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０であり、好ましくは２．５〜６．０、最も好ましいのは３．０〜５．０である。２．０未満では離画壁形状が望みのものとならない恐れがあり、１０．０を超えると、重合を開始することができず離画壁そのものを作ることが困難となる。以下、該組成物中の成分について説明する。
【００８１】
（金属粒子）
本発明の濃色離画壁の形成に用いられる濃色組成物には、金属粒子を含有することが好ましい。該金属粒子の詳細は、濃色離画壁の説明において既述した内容と同様である。
【００８２】
（着色剤）
本発明に用いる着色剤としては、具体的には、下記染料、顔料に記載のカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを挙げることができる。
濃色組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、感光性樹脂層に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、濃色組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
【００８３】
濃色組成物の固形分中の着色剤の比率は、充分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー６１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー６５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー７１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー７３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー７４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１００、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１１９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１２９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５；
【００８４】
Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ１３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ１４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ１６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ３４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ４０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ４６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ６３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ７１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・オレンジ７３；Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット３２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット３８；
【００８５】
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４９：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４９：２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５０：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５２：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５３：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５８：２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５８：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド６０：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド６３：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド６３：２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド６４：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９０：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０４、
【００８６】
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１０８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７４、Ｃ．Ｉ.ピグメント・レッド１７５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２４３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２４５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２６５；
【００８７】
Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０
【００８８】
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６
Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラウン２５
Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック７等が挙げられる。
【００８９】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００９０】
濃色組成物は、更に、バインダー（樹脂、ポリマー）、開始剤、モノマーを少なくとも含んでなることが好ましい。また、必要に応じて更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに濃色組成物は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００９１】
（バインダー（樹脂・ポリマー））
濃色組成物に用いるバインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【００９２】
（開始剤）
濃色組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では、光開始系を用いることが好ましい。ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）  により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【００９３】
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−  ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００９４】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ  −  トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００９５】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００９６】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビスイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾールなどが挙げられる。
【００９７】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【００９８】
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾールである。
【００９９】
前記開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記開始剤の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が、０．１質量％未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、現像する際に、形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面に荒れが生じやすくなることがある。
【０１００】
前記開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【０１０１】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環或いは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環或いは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【０１０２】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【０１０３】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【０１０４】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【０１０５】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【０１０６】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【０１０７】
（モノマー）
濃色組成物に用いる多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【０１０８】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
【０１０９】
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【０１１０】
モノマーの濃色組成物における含有量としては、濃色組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、８０質量％を越えると、濃色組成物とした時のタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。
【０１１１】
（溶剤）
濃色組成物においては、上記成分の他に、更に有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【０１１２】
（界面活性剤）
本発明の濃色離画壁、又は該濃色離画壁の形成に適用される感光性転写材料においては、後述するスリット状ノズル等を用いることにより、濃色組成物を、基板又は仮支持体に塗布することができる。この場合において、該濃色組成物中に適切な界面活性剤を含有させることにより、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止することができる。
上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。
尚、濃色組成物の全固形分に対する界面活性剤の含有量は、０．００１〜１％が一般的であり、０．０１〜０．５％が好ましく、０．０３〜０．３％が特に好ましい。
【０１１３】
（紫外線吸収剤）
濃色組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物の他、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
尚、濃色組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、０．５〜１５％が一般的であり、１〜１２％が好ましく、１．２〜１０％が特に好ましい。
【０１１４】
（その他）
−熱重合防止剤−
また、濃色組成物には、熱重合防止剤を含むことが好ましい。該熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
尚、濃色組成物の全固形分に対する熱重合防止剤の含有量は、０．０１〜１％が一般的であり、０．０２〜０．７％が好ましく、０．０５〜０．５％が特に好ましい。
また、濃色組成物においては、上記添加剤の他に、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」や、その他の添加剤等を含有させることができる。
【０１１５】
＜濃色離画壁の形成＞
本発明の濃色離画壁の形成方法としては、上記濃色感光性樹脂組成物（濃色組成物）を用いた塗布法又は後述の感光性転写材料を用いた転写法で形成する態様がある。濃色離画壁の形成は貧酸素雰囲気下で行ってもよい。又は酸素遮断層を設けて形成してもよい。
ここで、前記貧酸素雰囲気下とは、本発明における濃色組成物又は濃色組成物層を光硬化させる際の酸素の分圧が０．１５気圧以下、又は、酸素を遮断しうる酸素遮断層下のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。
通常、大気（１気圧）下では酸素の分圧は０．２１気圧であるので、酸素の分圧を０．１５気圧以下に下げるためには、（ａ）露光時の大気を減圧して０．７１気圧以下にするか、（ｂ）空気と酸素以外の気体（例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガス）を空気に対して４０ｖｏｌ％以上混合することにより達成できる。
本発明における貧酸素雰囲気については、特に限定されず前記いずれの方法も用いることができる。
前記酸素分圧は０．１５気圧以下とする方法を用いる場合、０．１０気圧以下が好ましく、０．０８気圧以下がより好ましく、０．０５気圧以下が特に好ましい。酸素分圧が０．１５気圧より高いとｂ／ａの値が０．８未満になり、画素形成時に不都合が発生する場合がある。
酸素分圧の下限には特に制限はない。真空又は雰囲気を空気以外の気体（例えば窒素）で置換することにより酸素分圧を事実上０にすることができるが、これも好ましい方法である。酸素分圧は酸素計を用いて測定することができる。
【０１１６】
前記不活性ガスとは、Ｎ2、Ｈ2、ＣＯ2、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ2が好適に利用される。
【０１１７】
前記減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【０１１８】
以上より、本発明の濃色離画壁は、前記濃色組成物を用いて形成されるが、下記（１）及び（２）の塗布法、並びに下記（３）及び（４）の転写法で製造することが好ましい。
即ち、（１）濃色離画壁は、着色剤を含有する濃色感光性樹脂組成物を、基板に塗布乾燥した後、貧酸素雰囲気下（酸素分圧が０．１５気圧以下）で露光し現像して形成する。
また、（２）濃色離画壁は、着色剤を含有する濃色感光性樹脂組成物を、基板に塗布乾燥した後、貧酸素雰囲気下（前記濃色感光性樹脂組成物層上に酸素遮断層を設けた状態）で露光し現像して形成する。
（３）前記濃色感光性樹脂組成物により仮支持体上に形成された濃色感光性転写層（濃色感光性樹脂組成物層）を有する感光性転写材料を、前記基板上に転写した後、貧酸素雰囲気下（酸素分圧が０．１５気圧以下）で露光し現像して形成する。
（４）前記濃色感光性樹脂組成物により仮支持体上に形成された濃色感光性転写層（濃色感光性樹脂組成物層）を有する感光性転写材料を、前記基板上に転写した後、貧酸素雰囲気下（前記濃色感光性樹脂組成物層上に酸素遮断層を設けた状態）で露光し現像して形成する。
【０１１９】
上記のごとく形成される、本発明の濃色離画壁の幅及び高さは、幅が１５μｍ以上５０μｍ以下であり、且つ、高さが１．５μｍ以上６．０μｍ以下であることが必要であり、その好適な範囲は前述の通りである。
【０１２０】
本発明において、基板上に形成された濃色離画壁の断面形状は、図３に示す如く、基板と濃色離画壁の断面の交点をＡ1及びＡ2、該濃色離画壁の最も高さの高い点をＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ0、ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰ、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ1、Ｌ1が濃色離画壁の断面と交わる点をＢ1及びＢ2とし、Ａ1とＡ2の距離をａ、Ｂ1とＢ2の距離をｂとするとき、ｂ／ａの値が０．８以上１．２以下であることが好ましい。
【０１２１】
基板上において、上記で説明したような高光学濃度感光性濃色組成物を、同じく上記で説明した貧酸素雰囲気下で光重合した場合、組成物自身の吸収により組成物表面から基板方向への露光量は減衰するため、結果として表面の硬化がより進む。さらに、貧酸素雰囲気下であるために組成物表面での重合阻害が抑制され、こちらも結果として表面の硬化がより進む。
【０１２２】
基板上に形成される濃色離画壁の断面形状において、基板と濃色離画壁の断面の交点をＡ1及びＡ2、該濃色離画壁の最も高さの高い点をＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ0、ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰ、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ1、Ｌ1が濃色離画壁の断面と交わる点をＢ1及びＢ2とし、Ａ1とＡ2の距離をａ、Ｂ1とＢ2の距離をｂとするとき、前記貧酸素雰囲気下の二つの寄与により、ｂ／ａの値を０．８以上１．２以下に調整することができる。
【０１２３】
これらの値は、実際には基板上に形成された濃色離画壁を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等で直接観察することで測定する。こうして得られた離画壁形状を固定化する工程を経ることで、例えば、カラーフィルタに用いた場合、一旦その空隙に打滴されたインクは該濃色離画壁を乗り越えにくくなる。その結果、隣接画素との混色などを防いで良好なカラーフィルタを得ることができる。前記ｂ／ａの値は０．８以上１．２以下であることが必要であるが、０．８５以上１．１５以下であることがより好ましく、０．９以上１．１以下であることが特に好ましい。
【０１２４】
本発明の濃色離画壁の５５５ｎｍにおける光学濃度は、２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
前記光学濃度の範囲とすることにより、コントラストの高い表示装置がえられて好ましい。また、表示装置の表示品位の点から濃色離隔壁の色は黒であることが好ましい。
本発明の濃色離画壁は「６００ｎｍにおける吸光度÷５００ｎｍにおける吸光度」の値が０．７〜１．４の範囲であることが好ましく、中でも、表示装置の表示品質の観点から、０．７５〜１．２の範囲が好ましく、０．７７〜１．１５の範囲がより好ましい。
前記吸光度の比が上記好ましい範囲外であると、濃色離画壁が着色して見えるために好ましくない。
前記吸光度の比を好ましい範囲にするには、着色剤種を調整することで達成できる。
【０１２５】
《塗布法による濃色離画壁の形成態様》
以下、塗布法による濃色離画壁の形成態様について説明する。
まず、基板を洗浄した後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。該基板を温調後、濃色組成物を塗布する。引き続き、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、プリベークして感光性樹脂層を得る。また、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）等にて基板周囲の不要な塗布液を除去してから、プリベークして感光性樹脂層を得てもよい。
前記塗布としては、特に限定されず、公知のスリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（例えば、エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）や、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（平田機工株式会社製）等を用いて行うことができる。
前記乾燥は、公知の乾燥装置（例えば、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業社製）等）を用いて行うことができる、
プリベークとしては、特に限定されないが、例えば、１２０℃３分間することにより達成することができる。前記得られた感光性樹脂層の膜厚は、前述の通りである。
【０１２６】
続いて、基板と画像パターンを有するマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し露光する（露光工程）。露光により、感光性樹脂層の光が照射された領域（露光領域）が硬化する。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティ型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ2）選択することができる。
【０１２７】
次に、現像液で現像して未露光部の感光性樹脂層を除去することでパターニング画像を得（現像工程）、引き続き必要に応じて、水洗処理して離画壁を得る。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、該感光性樹脂層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１２８】
感光性樹脂組成物の塗布による方法（及び、後述の感光性転写材料を用いる方法においても同様）における前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１２９】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１３０】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。この現像工程にて、離画壁形状は前述のごとく形成される。
【０１３１】
《感光性転写材料を用いた濃色離画壁の形成態様》
−感光性転写材料−
先ず、本態様に用いられる感光性転写材料について説明する。
本発明の濃色離画壁の形成を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも濃色感光性樹脂組成物からなる層（以下、感光性転写層又は濃色感光性樹脂組成物層ということがある。）と、必要に応じて更に、酸素遮断層とを、有してなる濃色感光性転写材料（以下、「感光性転写材料」ともいう。）を使用するという方法〔前記（３）、（４）〕がある。酸素遮断層を有する材料を用いた場合、濃色感光性樹脂組成物からなる層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がないため、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。
【０１３２】
（仮支持体）
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【０１３３】
（濃色感光性樹脂組成物層）
上記の感光性転写材料における濃色感光性樹脂組成物層は、前記濃色組成物から形成され、その形状等の特性、形成方法等については、前記塗布法により形成された層と同様であり、好ましい態様も同様である。
【０１３４】
（酸素遮断層）
本発明における感光性樹脂転写材料においては、露光時の酸素を遮断する目的から、仮支持体上に形成された感光性樹脂層上に酸素遮断層を設けることが好ましい。
本発明で言う酸素遮断層とは、５００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の酸素透過率を有する層であるが、酸素透過率は１００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましく、５０ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましい。酸素透過率が５００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）より多い場合は効率的に酸素を遮断することができないため、離画壁を前記所望の形状にすることが困難となる。
具体的にはポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコールなどを主成分とする層が好ましいが、このうちポリビニルアルコールを主成分とするものが好ましい。
ポリビニルアルコールとしては鹸化度が８０％以上のものが好ましい。本発明の酸素遮断層における前記ポリビニルアルコールの含有量としては、２５質量％〜９９質量％が好ましく、５０質量％〜９０質量％がより好ましく、５０質量％〜８０質量％が特に好ましい。また、必要に応じてポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどのポリマーを添加してもよいが、このうちポリビニルピロリドンが好ましい。これらのポリマーの添加量は層全体の１〜４０質量％、より好ましくは１０〜３５質量％である。ポリビニルピロリドンの添加量が多すぎると酸素遮断性が不充分になる場合がある。
【０１３５】
（熱可塑性樹脂層）
上記の感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であることが好ましく、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、後述する濃色離画壁形成方法において、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤或いは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【０１３６】
（保護フイルム）
感光性樹脂組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フイルムを設けることが好ましい。保護フイルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂組成物層から容易に分離されねばならない。保護フイルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、保護フイルムの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【０１３７】
（感光性転写材料の作製方法）
感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の添加剤を溶解した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる酸素遮断層材料の溶液を塗布、乾燥し、その後濃色感光性樹脂組成物用塗布液を、酸素遮断層を溶解しない溶剤で塗布、乾燥して設けることにより作製することができる。なお、熱可塑性樹脂層を設けない場合には酸素遮断層の溶剤の制約は特に必要がない。
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層を設けたシート、及び保護フイルム上に感光性樹脂層を設けたシートを用意し、酸素遮断層と濃色感光性樹脂組成物層が接するように相互に貼り合わせることによっても、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フイルム上に濃色感光性樹脂組成物層及び酸素遮断層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と酸素遮断層が接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、スリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
【０１３８】
−感光性転写材料を用いた濃色離画壁の形成−
次に、前述の感光性転写材料を用いた濃色離画壁の形成について詳述する。
まず、感光性転写材料の保護フィルムを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【０１３９】
次いで、仮支持体を除去する。続いて、仮支持体除去後の除去面の上方に所望のフォトマスクを配置し、光源より紫外線を照射し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、濃色離画壁を得る。
現像処理に用いる現像液及び光照射に用いる光源は、前記塗布法を用いた形成における現像液及び光源が同様に用いられる。
【０１４０】
（撥水処理）
本発明の濃色離画壁は、撥水処理を施したものであることが好ましい。撥水処理を施すことにより、濃色離画壁上面の水接触角を本発明に係る範囲に制御することが容易にでき、その後の着色画素形成において、にインクジェットなどの方法で、着色液体組成物の液滴を離画壁間に付与した時に、インクが濃色離画壁を乗り越えて、隣の色と混色するなどの不都合を無くすことができる
撥水処理としては、（１）濃色離画壁に撥水材料を含有させる方法、（２）濃色離画壁に撥水層を新たに設ける方法、（３）プラズマ処理により濃色離画壁に撥水性を付与する方法、（４）濃色離画壁上面に撥水材料を塗布する方法、（５）濃色離画壁上面に直接結合した、撥油・撥水性の化合物を生成させる方法、などが挙げられる。以下の説明においては、これらの各撥水処理を、撥水処理（１）〜撥水処理（５）と称する場合がある。以下、各撥水処理の詳細な説明をする。
【０１４１】
＜撥水処理（１）：濃色離画壁に撥水材料を含有させる方法＞
濃色離画壁の撥水処理としては、含フッ素樹脂を含有する感光性組成物（濃色感光性組成物）より得られるフォトレジストを用いて、本発明の濃色離画壁を作製する方法がある。
【０１４２】
含フッ素樹脂は、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に由来する単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に由来する単量体単位とを含む共重合体であって、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであるものが好ましい。
【０１４３】
エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体としては、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＣＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＨ２ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＳＯ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＲｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＯＱ１Ｒｆ等が挙げられる。ただし、Ｒ１は水素原子又はメチル基を、Ｑ１は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｑ２は炭素数１〜６の２価有機基を、それぞれ示す。Ｑ１、Ｑ２は環状構造を有していてもよい。
【０１４４】
Ｑ１、Ｑ２の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−等が挙げられる。Ｑ１は単結合であってもよい。合成の容易さの観点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−が好ましい。
【０１４５】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体として具体的には、以下のものが挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
【０１４６】
含フッ素樹脂における、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に由来する単量体単位の含有量は、１〜９５％等が好ましく、５〜８０％がより好ましく、２０〜６０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、本発明の感光性組成物の現像性が良好となる。
【０１４７】
エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）を有する単量体としては、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基、水酸基を有する単量体が挙げられる。
【０１４８】
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４９】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５０】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５１】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１５２】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
含フッ素樹脂における、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に由来する単量体単位の含有量は、０．１〜４０％等が好ましく、０．５〜３０％がより好ましく、１〜２０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、感光性組成物の現像性が良好となる。
【０１５４】
含フッ素樹脂が、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に由来する単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを有する共重合体である場合、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない単量体（以下、「その他の単量体」という。）に由来する単量体単位を有していてもよい。
【０１５５】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、フルオロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基等が挙げられる。またポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、これらのその他の単量体に基づく単量体単位は、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、本発明の感光性樹脂組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。
【０１５６】
含フッ素樹脂において、その他の単量体に由来する単量体単位の割合は、８０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物の現像性が良好となる。
【０１５７】
含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に由来する単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に由来する単量体単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物及び／又は酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法によっても得られる。
【０１５８】
反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１５９】
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【０１６０】
Ｒｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物としては、下記式１で表される化合物が挙げられる。
【０１６１】
ＨＯＯＣ−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式１
式１中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１６２】
Ｒｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式２で表される化合物が挙げられる。
【０１６３】
ＨＯＣＨ２−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式２
式２中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１６４】
反応部位を有する重合体に酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１６５】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１６６】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ
３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６７】
酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水３−メチルフタル酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。
【０１６８】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
【０１６９】
水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であれば良く、前記に示した水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に１個の水酸基を有する化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１７０】
含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。
【０１７１】
含フッ素樹脂の酸価は、１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。この範囲であると本発明の感光性組成物の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
【０１７２】
含フッ素樹脂の数平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性組成物の現像性が良好である。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定される。
【０１７３】
含フッ素樹脂の配合量は、感光性組成物中の固形分に対し、０．０１〜５０％が好ましく、０．１〜３０％がより好ましく、０．２〜１０％が特に好ましい。当該範囲であると感光性組成物は良好な撥インク性、インク転落性を奏し、現像性が良好となる。
【０１７４】
＜撥水処理（２）：濃色離画壁に撥水層を設ける方法＞
濃色離画壁の撥水処理としては、濃色離画壁を形成した基板上の該離画壁に合致した位置にインキ反発性を有する撥水層を形成する方法がある。
撥水層としては、シリコーンゴム層を用いることが好ましい。表層に塗設されるシリコーンゴム層は、着色に用いる溶液及びインクに対して反発効果を有することが必須であり、これに限定されるものではないが、下記一般式（１）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものであることが好ましい。
【０１７５】
【化１】
2007212976.tif 000002
【０１７６】
一般式（１）において、ｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基、又はフェニル基を表す。
【０１７７】
この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することによりシリコーゴムが得られる。架橋剤は、いわゆる室温（低温）硬化型のシリコ−ンゴムに使われるアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシランなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコ−ンゴムとなる。また、シリコーゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物などが添加される。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層の接着のために層間に接着層として種々のものを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が好ましい。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層間に接着層を設ける代わりにシリコ−ンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としてもアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が使用できる。
【０１７８】
撥水層を作製するための露光は、離画壁をマスクとし、基板の裏側から行い、さらに照射ＵＶ光を散乱させて入射光を透過部位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させて、光反応して可溶化する樹脂の部分をシリコーンゴム表層側の方が大きくなる様にする。この様に露光した後、ｎ−ヘプタン／エタノ−ル混合液で現像してシリコ−ンゴム表層を有する撥水層を作製できる。
【０１７９】
＜撥水処理（３）：プラズマ処理により濃色離画壁に撥水性を付与する方法＞
濃色離画壁の撥水処理としては、濃色離画壁を形成した基板に、プラズマによる撥水化処理をする方法がある。かかる撥水化処理は、濃色離画壁が形成された基板に対して、フッ素原子を含有するガスの存在下で、プラズマ処理を行うものである。
【０１８０】
本方法において導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ4 、ＣＨＦ3 、Ｃ2 Ｆ6 、ＳＦ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ5 Ｆ8 から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ5 Ｆ8 （オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ 4 ：５万年、Ｃ 4 Ｆ 8 ：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ 2 ＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ 4 ：６５００、Ｃ 4 Ｆ 8 ：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【０１８１】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ 4 、ＣＨＦ 3 、Ｃ2 Ｆ6 、ＳＦ6 、Ｃ3 Ｆ8 、Ｃ5 Ｆ8 から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ2 との混合ガスを用いると、本工程において処理される隔壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ 2 の混合比率が３０％を超えるとＯ2 による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ2 混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ 2 の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【０１８２】
プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。
【０１８３】
＜撥水処理（４）：濃色離画壁上面に撥水材料を塗布する方法＞
濃色離画壁の撥水処理としては、濃色離画壁を形成した基板に、撥水性を有する材料を全面に塗布する方法がある。
【０１８４】
撥水性を有する材料としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥水材料と考えられるもので着色剤に対する接触角が６０°以上のものであれば特に限定されるものではない。
【０１８５】
撥水材料の塗布の方法としては基板、隔壁などに影響を及ぼさない方法であれば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。
【０１８６】
次に、基板裏面側から隔壁を介してＵＶＯ3 処理を行い、隔壁以外の部分の撥水膜を選択的に除去または親水化処理（着色剤に対する接触角が処理前後で３０°以上の開きがある）する。
【０１８７】
撥水材料を除去または親水化処理することが可能ならば、パターニングの方法はレーザーアブレーション、プラズマアッシング、コロナ放電処理等のドライ処理およびアルカリを用いたウェット処理等材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。また、隔壁上に撥水材料をパターン形成することが可能であればリフトオフ法等も有効である。
【０１８８】
＜撥水処理（５）：濃色離画壁上面に直接結合した、撥油・撥水性の化合物を生成させる方法＞
濃色離画壁の撥水処理としては、濃色離画壁上面に直接結合した、撥油・撥水性のグラフト化合物を生成させる方法がある。
具体的には、本発明の濃色離画壁を、（１）基板上に重合開始能をもつ活性種を有する樹脂組成物からなる樹脂パターンを形成する工程（以下、適宜「工程（１）」と称する。）、及び、（２）該樹脂パタ−ンに重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させた後、輻射線を放射することにより、重合を用いて前記樹脂パタ−ン上面に直接結合した撥油・撥水性の化合物を生成する工程（以下、適宜、「工程（２）」と称する。）、を含む製造方法により得る態様である。
以下、上記工程（１）及び工程（２）について説明する。
【０１８９】
＜工程（１）＞
本工程では、基板上に重合開始能をもつ活性種を有する樹脂組成物からなる樹脂パターンを形成する。
【０１９０】
撥水処理として本態様の撥水処理が適用される場合、工程（１）における「重合開始能をもつ活性種を表面に有する樹脂組成物」としては、前記感光性樹脂組成物（濃色組成物）が用いられ、該感光性樹脂組成物中に、輻射線照射により表面近傍に重合開始能を有する活性種を発生しうる化合物として機能しうる化合物を含有するように構成される。
【０１９１】
工程（１）において、樹脂組成物中に含有される輻射線照射により表面近傍に重合開始能を有する活性種を発生しうる化合物としては、特に制限はなく、樹脂組成物に含まれる有機高分子化合物（樹脂材料）自体が輻射線照射などのエネルギー付与により活性種を発生しうる特性を有するものであれば、当該有機高分子化合物（樹脂材料）であってもよく、また、例えば、光重合開始剤など如き、エネルギー付与により活性種を発生しうる化合物であってもよい。
以下、工程（１）に適用しうる成分について説明する。
【０１９２】
樹脂組成物に含まれる有機高分子化合物（樹脂材料）自体が、輻射線照射などのエネルギー付与により活性種を発生しうる特性を有する化合物である場合、輻射線露光によりポリマーの光分解、光転位反応、もしくは水素引き抜き反応などにより、ラジカル、カチオン、アニオンのような活性種が発生する特性を有する樹脂材料であることが必要である。
【０１９３】
また、樹脂組成物が、有機高分子化合物（樹脂材料）に光重合開始剤を含有したものである場合、樹脂材料としてはアクリレート系ポリマー、ポリイミド系ポリマー、ポリエステル系ポリマーなどの汎用性ポリマーが好ましく、そこに含有させる光重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、及びアニオン重合開始剤からなる群より選択されたものを用いることが好ましい。これらのうち、実用的な性能を発揮するという観点からは樹脂材料に光ラジカル重合開始剤を含有してなる樹脂組成物を用いることが好ましい。
【０１９４】
重合開始剤は、ラジカル重合開始剤でもよく、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤でもよい。媒体中に含まれる水分の影響が受けにくく、露光／グラフト条件の環境条件に左右されにくく安定したパターンが得られるという点でラジカル重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二量体とｐ−アミノケトンの組み合わせ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール二量体が好ましい。
また、この他、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「重合開始剤Ｃ」も好適なものとして挙げることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、２種類以上を混合して用いてもよいが、特に２種類以上を用いることが好ましい。少なくとも２種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
【０１９５】
本態様の撥水処理を行う場合、樹脂組成物に含有される光重合開始剤の含有量としては、樹脂組成物中の固形分濃度で０．１〜４０質量％程度であることが好ましく、２．０〜２０質量％程度であることがより好ましい。
【０１９６】
＜工程（２）＞
本工程では、前記工程（１）で形成した樹脂パターン上に、重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させた後、輻射線を放射することにより、グラフト重合を用いて前記樹脂パタ−ン上面に直接結合した撥油・撥水性のグラフト化合物を生成する基板上に重合開始能をもつ活性種を有する樹脂組成物からなる樹脂パターンを形成する。
【０１９７】
〔重合性基を有する撥油・撥水性化合物〕
工程（２）において、樹脂パターンを形成した基板に接触させる撥油・撥水性化合物は、ラジカル重合可能であり、撥油・撥水性の官能基を有する化合物であれば、如何なるものも用いることができるが、それらは、モノマー、マクロマー、オリゴマーなどのいずれの形態を有するものであってよい。以下、このような化合物を、適宜、単に撥油・撥水性化合物と称する。
【０１９８】
撥油・撥水性、即ち、低表面エネルギーのグラフトパターンにおいて高いディスクリミネーションを発現するという観点からは、形成されたグラフトポリマーの空中水滴接触角として８０度以上あることが望ましい。この高い撥油・撥水性の値はＥＳＣＡで測定した表面原子量の割合で予想することができる。シリコン系グラフトの場合は表面の元素組成中に占めるＳｉの比率がＳｉ、Ｃ、およびＯの合計量に対して１０原子％以上あればほぼ達成できる。またフッ素グラフトの場合は表面の元素組成中に占めるＦの比率がＦ、Ｃ、およびＯの合計量に対して３０原子％以上必要である。このことは、この表面原子量を達成するには少なくともシリコン系モノマーの場合にはモノマーの構成原子のうちケイ素量は１０原子％以上必要であり、またフッ素系モノマーの場合はフッ素の量として３０原子％以上必要であることを意味する。従って高い撥油・撥水性を発現するにはこのような要件を満足するモノマーを使用することが必要である。
【０１９９】
なお、前記撥油・撥水性化合物による処理後のパターン（濃色離画壁）の表面の平均粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であること、及び、隔壁表面の純水に対する接触角が８０度以上であり、支持基板表面の純水に対する接触角が２０度以下であること、を好ましい態様として含むものである。
【０２００】
上記の要件を満足するような撥油・撥水性の官能基を有する不飽和化合物としては、具体的には、フッ素含有化合物、ケイ素（シリコーン）含有化合物などが挙げられる。
また、表面原子量を有するグラフトポリマーを生成させるための材料としての、マクロマー、オリゴマー、ポリマーなども、同様に、分子中のケイ素やフッ素の原子の含有割合が上記の範囲であるものを用いることが必要である。
【０２０１】
上記の要件を満足するような撥油・撥水性の官能基を有するモノマーとしては、具体的には、フッ素含有モノマー、ケイ素（シリコーン）含有モノマーなどが挙げられる。
以下、本発明において用いられるフッ素含有モノマー、及びケイ素（シリコーン）含有モノマーについて説明する。
【０２０２】
（フッ素含有モノマー）
前記グラフトポリマー生成工程に用いられるフッ素含有モノマーとしては、下記一般式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）及び（Ｖ）よりなる群から選ばれた少なくとも１種のフッ素含有モノマーが挙げられる。
【０２０３】
ＣＨ2＝ＣＲ1ＣＯＯＲ2Ｒf・・・（Ｉ）
〔式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2は−ＣpＨ2p−、−Ｃ（ＣpＨ2p+1）Ｈ−、−ＣＨ2Ｃ（ＣpＨ2p+1）Ｈ−又は−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、Ｒfは−ＣnＦ2n+1、−（ＣＦ2）nＨ、−ＣnＦ2n+1−ＣＦ3、−（ＣＦ2）pＯＣnＨ2nＣiＦ2i+1、−（ＣＦ2）pＯＣmＨ2mＣiＦ2iＨ、−Ｎ（ＣpＨ2p+1）ＣＯＣnＦ2n+1、−Ｎ（ＣpＨ2p+1）ＳＯ2ＣnＦ2n+1である。但し、ｐは１〜１０、ｎは１〜１６、ｍは０〜１０、ｉは０〜１６の整数である。〕
【０２０４】
ＣＦ2＝ＣＦＯＲg・・・（II）
（式中Ｒgは炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。）
【０２０５】
ＣＨ2＝ＣＨＲg・・・（III）
（式中Ｒgは炭素数１〜２０のフルオロアルキル基を表わす。）
【０２０６】
ＣＨ2＝ＣＲ3ＣＯＯＲ5ＲjＲ6ＯＣＯＣＲ4＝ＣＨ2  ・・・（IV）
〔式中、Ｒ3、Ｒ4は水素原子又はメチル基、Ｒ5、Ｒ6は−ＣqＨ2q−、−Ｃ（ＣqＨ2q+1）Ｈ−、−ＣＨ2Ｃ（ＣqＨ2q+1）Ｈ−又は−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、Ｒjは−ＣtＦ2tである。但し、ｑは１〜１０、ｔは１〜１６の整数である。〕
【０２０７】
ＣＨ2＝ＣＨＲ7ＣＯＯＣＨ2（ＣＨ2Ｒk）ＣＨＯＣＯＣＲ8＝ＣＨ2・・・（Ｖ）
（式中、Ｒ7、Ｒ8は水素原子又はメチル基、Ｒkは−ＣyＦ2y+1である。但し、ｙは１〜１６の整数である。）
【０２０８】
以下、本撥水処理に用いうるフッ素含有モノマーの具体例を挙げるが、これに制限されるものではない。
【０２０９】
一般式（Ｉ）で示されるモノマーとしては、例えば、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｃ7Ｆ15ＣＯＮ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）6（ＣＨ2）3ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＦ2）10（ＣＨ2）3ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＣＨ（ＣＨ3）ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、
【０２１０】
【化２】
2007212976.tif 000003
【０２１１】
、ＣＦ3ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦＯ（ＣＨ2）5ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）4ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＣＯＮ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）2ＣＯＮ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）6Ｃ（Ｃ2Ｈ5）ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）8ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）4ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ（ＣＦ2）ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、
【０２１２】
【化３】
2007212976.tif 000004
【０２１３】
、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）（ＣＨ2）10ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＳＯ2Ｎ（ＣＨ3）（ＣＨ2）4ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ2Ｆ5ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）Ｃ（Ｃ2Ｈ5）ＨＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2等が挙げられる。
【０２１４】
また、一般式（II）及び（III）で表わされるフルオロアルキル化オレフィンとしては、例えばＣ3Ｆ7ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ4Ｆ9ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ10Ｆ21ＣＨ＝ＣＨ2、Ｃ3Ｆ7ＯＣＦ＝ＣＦ2、Ｃ7Ｆ15ＯＣＦ＝ＣＦ2及びＣ8Ｆ17ＯＣＦ＝ＣＦ2などが挙げられる。
【０２１５】
一般式（IV）及び（Ｖ）で表わされるモノマーとしては例えば、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2（ＣＦ2）3ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ2Ｃ8Ｆ17）ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2などが挙げられる。
【０２１６】
フッ素含有グラフトポリマーを形成するモノマーとして、上記フッ素含有モノマーに加えて、本発明の効果を損なわない限りにおいて、フッ素を有しないモノマーを併用することができる。そのようなモノマーとしては、ラジカル重合可能なものであれば特に限定されないが、具体的には（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸類、及びそのアルキル又はグリシジルエステル類、スチレン、アルキル酸のビニルエステル類、ケイ素含有モノマーなどが挙げられる。
併用する場合の配合量はフッ素含有モノマーに対して５０重量％以下が好ましい。
【０２１７】
（シリコーン系モノマー）
シリコーン系モノマーとしては、Ｓｉ−ＣＨ3基もしくは−Ｏ−Ｓｉ−ＣＨ3基を有するシリコン系モノマーを挙げることが出来る。具体的にはシリコンアクリレートまたはシリコンメタクリレートであり、一般式（ＣＨ3Ｏ）nＳｉ（ＣＨ3）4−ｎ−Ｒ3−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ4＝ＣＨ2で表されるものでり、Ｒ3は連結基であり、Ｒ4はメチルもしくは水素である。その他、例えば、特開２００３−３３５９８４公報の段落番号〔００２５〕に記載されるシリコン系モノマーもまた、好適なものとして挙げることができる。
【０２１８】
工程（２）においては、上記フッ素含有モノマー、ケイ素含有モノマーに加え、フッ素系の官能基、ケイ素系の官能基などの撥油・撥水性の官能基と、ラジカル重合性基と、を有するポリマー（以下、「ラジカル重合性基含有撥油・撥水性ポリマー」と称する。）も使用することができる
【０２１９】
フッ素含有モノマー、シリコーン含有モノマーなどの撥油・撥水性化合物を、前記樹脂パターンに接触させてグラフトを形成する方法について説明する。
【０２２０】
前記活性種を基点としてグラフト重合によりグラフトパターンを形成するには、前記樹脂パターンが形成された基板表面に、撥油・撥水性の官能基を有する重合性モノマーを配置し、露光などにより活性エネルギーを付与すればよい。このとき、重合性モノマーを単独で付与するいわゆる無溶媒で実施してもよいが、他の溶剤や添加剤を含有する組成物として適用してもよい。
【０２２１】
無溶媒で実施する場合、パターンを形成した基板に適用される撥油・撥水性化合物を含有する組成物中の本発明に係る撥油・撥水性化合物（モノマー）の濃度は１００％となる。また、ハンドリング性の観点から、このようなモノマーが溶解するような溶媒で希釈してもよい。ここで用いる溶媒には特に制限はないが、メタノール、アセトン、メチルエチルケトン、エタノール、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等が好ましい。また、このとき、該組成物中には、撥油・撥水性モノマーとともに、他の単官能及び多官能モノマーや、界面活性剤、増粘剤等の添加剤を添加してもよい。
【０２２２】
フッ素含有モノマー、シリコーン系モノマーなどを含有する組成物を前記基材表面に適用する際に、光重合開始部位を有する層の表面が溶解し、グラフトポリマーの形成が不均一となることを抑制するため、撥油・撥水性の官能基を有するモノマー、あるいは、それを含有する組成物中に含まれる溶剤その他の化合物には、前記基材表面に存在する化合物を溶解しない物性の材料を選択することが好ましい。
【０２２３】
基材表面に原料となる撥油・撥水性モノマーを適用する方法としては、基材表面にモノマー又はそれを含む組成物を塗布する方法、光重合開始部位を有する基材をモノマー又はそれを含む組成物中に浸漬する方法、基材表面にモノマーを含む被膜を形成する方法などが挙げられる。
また、酸素による重合阻害を防止するため、これら組成物の適用並びにグラフト重合反応を窒素などの不活性ガス雰囲気下で行なったり、モノマーを適用した表面を、グラフト重合反応を生起させるための活性エネルギー線が透過する材質、例えば、ガラス、石英、透明プラスチック製の板やフィルム等で覆って行ってもよい。
【０２２４】
これらの撥油・撥水性の官能基を有するモノマーは、その１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【０２２５】
本撥水処理において、撥油・撥水性パターン形成方法に用いうる露光方法には特に制限はなく、活性種パターンに含まれる活性種の機能を発現させ、グラフト重合を生起させうるエネルギーを付与できる輻射線露光であれば、紫外線、可視光、赤外線、電子線などのいずれであってもよい。
【０２２６】
樹脂パターンの上面のみにおいて、グラフトが効率よく生成されるという観点からは、平行光線を露光面に垂直に照射することが好ましい。そのような観点からは、光源として、平行光源等が好ましく挙げられる。具体的には、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、色素レーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等が挙げられる。
このような露光により、活性種パターンの上面（露光面）のみで、撥油・撥水性化合物がグラフト重合により表面に固定化され、樹脂パターンの表面のみが選択的に撥油・撥水性の特性を有するようになる。
【０２２７】
露光により、撥油・撥水性グラフトポリマーを形成した後、以下に述べる溶剤を用いて洗浄し、残存する撥油・撥水性化合物を除去することが好ましい。
メタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、トルエン、ヘキサンなどの炭化水素系溶媒で洗浄する。洗浄方法としては浸漬洗浄、スプレー洗浄、のほかブラシなどの機械的な補助をもちいて洗浄してもよい。
【０２２８】
以上説明した、撥水処理（１）〜撥水処理（５）の中でも、「基板と濃色離画壁上面の水接触角差を大きくする」という観点からは、撥水処理（５）が好ましく、「工程の簡便さ」という観点からは、撥水処理（３）が特に好ましい。
【０２２９】
［カラーフィルタ］
本発明のカラーフィルタは、着色液体組成物を液滴付与して形成された複数の着色画素と、該着色画素を離画する濃色離画壁と、を有するカラーフィルタであって、前記濃色離画壁が、前述した本発明の濃色離画壁であることを特徴とする。
【０２３０】
＜カラーフィルタの製造方法＞
（各画素の形成）
本発明のカラーフィルタは、本発明の濃色離画壁が形成された基板を用い、該濃色離画壁で離画された領域（離画壁空隙）に着色液体組成物（以下、適宜、「インク」と称する。）を液滴付与して、着色画素を形成することにより製造することができる。
【０２３１】
具体的には、基板上に形成された濃色離画壁間の空隙に対し、２色以上の画素（例えば、ＲＧＢ各画素）を形成する為の着色液体組成物を液滴付与することにより濃色離各壁の空隙に侵入させて２色以上の色を有する複数の画素を形成する。
【０２３２】
この着色液体組成物を離画壁空隙に侵入させる方法としては、インクジェット法やストライプギーサー塗布法など公知のものを使用することができ、インクジェット法がコスト的に好ましい。
【０２３３】
また、各画素を形成する前に、濃色離画壁の形状を固定化してもよく、その手段は特に限定されないが以下のようなものが挙げられる。
すなわち、１）現像後、再露光を行う（ポスト露光と呼ぶことがある）、２）現像後、比較的低い温度で加熱処理を行う等である。ここで言う加熱処理とは濃色離画壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射するということをさす。
【０２３４】
ここで、上記１）を行う場合の露光量は、大気下であれば５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは１０００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2であり、貧酸素雰囲気下である場合にはそれより低い露光量で露光することも可能である。また、同じく２）を行う場合の加熱温度は５０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃程度であり、その加熱時間は、１０〜４０分程度である。温度が５０℃より低い場合には濃色離画壁の硬化が進まない懸念があり、１２０℃より大きい場合には濃色離画壁形状が崩れてしまう懸念がある。
【０２３５】
各画素形成のために用いるインクジェット法に関しては、インクを熱硬化させる方法、光硬化させる方法、あらかじめ基板上に透明な受像層を形成しておいてから打滴する方法など、公知の方法を用いることができる。
【０２３６】
好ましくは、各画素を形成した後、加熱処理（いわゆるベーク処理）する加熱工程を設ける。即ち、光照射により光重合した層を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、濃色感光性樹脂組成物の組成や形成された層の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【０２３７】
このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
【０２３８】
（インクジェット方式）
本発明に用いるインクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開平１０−１９５３５８号公報［０００９］〜［００２６］に記載のインクジェット用組成物を使用することもできる。
本発明におけるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、上記＜濃色組成物＞の項で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０２３９】
また、本発明において用いることができるインクとしては、少なくともバインダー、及び、２官能乃至３官能のエポキシ基含有モノマーを含有するカラーフィルタ用熱硬化性インクも好適なものとして用いることができる。
【０２４０】
本発明におけるカラーフィルタは、既述のごとく、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであることが好ましく、ＲＧＢ３色のインクを吹き付けて３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。
このカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０２４１】
［表示装置］
本発明の表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などを言う。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０２４２】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のブラックマトリックスはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０２４３】
［対象用途］
本発明は、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０２４４】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」及び「％」は質量基準である。
【０２４５】
なお、以下の実施例及び比較例における「水接触角」及び「離隔壁の幅及び高さ」の測定は、前記した「水接触角」及び「離隔壁の幅及び高さ」の測定方法と同様の方法により行った。
【０２４６】
（実施例１）：転写法
＜銀錫合金部を有する金属粒子の分散液（分散液Ａ１）の調製＞
純水１０００ｍｌに、酢酸銀（Ｉ）２３．１ｇ、酢酸スズ（II）６５．１ｇ、グルコン酸５４ｇ、ピロリン酸ナトリウム４５ｇ、ポリエチレングリコール（分子量３，０００）２ｇ、及びＥ７３５（ＩＳＰ社製；ビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー）５ｇを溶解し、溶液１を得た。
別途、純水５００ｍｌにヒドロキシアセトン３６．１ｇを溶解して、溶液２を得た。
【０２４７】
上記より得た溶液１を２５℃に保ちつつ激しく攪拌しながら、これに上記の溶液２を２分間かけて添加し、緩やかに６時間攪拌を継続した。すると、混合液が黒色に変化し、銀錫合金部を有する金属粒子（以下、「銀錫合金部含有粒子」ということがある。）を得た。次いで、この液を遠心分離して銀錫合金部含有粒子を沈殿させた。遠心分離は、１５０ｍｌの液量に小分けして、卓上遠心分離機Ｈ−１０３ｎ（（株）コクサン製）により回転数２，０００ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間行なった。そして、上澄みを捨て全液量を１５０ｍｌ
にし、これに純水１３５０ｍｌを加え、１５分間攪拌して銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。この操作を２回繰り返して水相の可溶性物質を除去した。
【０２４８】
その後、この液に対して更に遠心分離を行ない、銀錫合金部含有粒子を再び沈殿させた。遠心分離は前記同様の条件にて行なった。遠心分離した後、前記同様に上澄みを捨て全液量を１５０ｍｌにし、これに純水８５０ｍｌ及びアセトン５００ｍｌを加え、さらに１５分間攪拌して銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。
【０２４９】
再び前記同様にして遠心分離を行ない、銀錫合金部含有粒子を沈殿させた後、前記同様に上澄みを捨て液量を１５０ｍｌにし、これに純水１５０ｍｌ及びアセトン１２００ｍｌを加えて更に１５分間攪拌し、銀錫合金部含有粒子を再び分散させた。そして再び、遠心分離を行なった。このときの遠心分離の条件は、時間を９０分に延ばした以外は前記同様である。その後、上澄みを捨て全液量を７０ｍｌにし、これにアセトン３０ｍｌを加えた。これをアイガーミル（アイガーミルＭ−５０型（メディア：直径０．６５ｍｍジルコニアビーズ１３０ｇ、アイガージャパン（株）製）を用いて６時間分散し、銀錫合金部含有粒子の分散液（分散液Ａ１）を得た。
この銀錫合金部含有粒子は、ＡｇＳｎ合金（２θ＝３９．５°）とＳｎ金属（２θ＝３０．５°）とからなる複合体であることがＸ線散乱により確認された。ここで、カッコ内の数字はそれぞれの（III）面の散乱角である。この微粒子分散液を透過型電子顕微鏡で観察した結果、分散平均粒径は数平均粒子サイズで約４０ｎｍであった。
【０２５０】
前記数平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡ＪＥＭ−２０１０（日本電子（株）製）により得た写真を用いて以下のようにして行なった。
粒子１００個を選び、それぞれの粒子像と同じ面積の円の直径を粒子径とし、１００個の粒子の粒子径の平均を数平均粒子サイズとした。このとき、写真は、倍率１０万倍、加速電圧２００ｋＶで撮影したものを用いた。
【０２５１】
＜濃色感光性組成物Ａ１の調製＞
下記組成を混合して、濃色感光性組成物Ａ１を調製した。
〔組成〕
・前記銀錫合金部含有粒子の分散液（分散液Ａ１）      …５０．００部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  …２８．６部
・メチルエチルケトン                                …３７．６部
・フッ素系界面活性剤                                …  ０．２部
（Ｆ−７８０−Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                    …  ０．００１部
・スチレン／アクリル酸共重合体                      …  ９．６部
（モル比＝５６／４４、重量平均分子量３０，０００）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート          …  ９．６部
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬社製）
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート
…  ０．５部
【０２５２】
＜感光性転写材料の作製＞
（１）厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）の表面に、スリットノズルを用いて乾燥膜厚が５μｍになるように下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層を形成した。
【０２５３】
（２）この熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液をスリットコーターを用いて乾燥膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、１００℃で３分間乾燥させて、中間層を積層した。
【０２５４】
（３）次に、上記濃色感光性組成物を、スリット状ノズルを用いて上記の中間層上に更に塗布し、１００℃で５分間乾燥させて、感光性層を形成した。
更に、感光層上に厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルムを圧着し、保護フィルムを設けた。以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光層／保護フィルムの積層構造に構成された感光性転写材料を作製した。
【０２５５】
〔熱可塑性樹脂層用塗布液の調製〕
下記処方Ｈの諸成分を混合し、熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。
−熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ−
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝５４／１２／５／２９[モル比]）の共重合体          （重量平均分子量８０，０００）                                                  …  ５８部
・スチレン／アクリル酸（＝７０／３０[モル比]）の共重合体            …１３６部
（重量平均分子量７，０００）
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン…  ９０部
（新中村化学工業（株）製、多官能アクリレート）
・Ｆ−７８０−Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製）                    …    １部
（フッ素系界面活性剤の２−ブタン３０％溶液）
・メチルエチルケトン                                                …５４１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                    …  ６３部
・メチルアルコール                                                  …１１１部
【０２５６】
〔中間層用塗布液の調製〕
下記処方Ｐ１の諸成分を混合し、中間層用塗布液を調製した。
−中間層用塗布液の処方Ｐ１−
・ポリビニルアルコール                              …  ３．０部
（ＰＶＡ−２０５、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン                              …  １．５部
（ＰＶＰ−Ｋ３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水                                            …５０．５部
・メチルアルコール                                  …４５．０部
【０２５７】
＜転写による濃色離画壁（ブラックマトリクス）付き基板の作製＞
（１）無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０２５８】
（２）上記より得た感光性転写材料の保護フィルムを剥離除去した後、露出した感光性層が、被転写体である上記ガラス基板（厚み１．１ｍｍ）の表面と接するように重ね合わせ、ラミネーターＬａｍｉｃII型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、ゴムローラ温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分の条件で貼り合わせた。次いで、ＰＥＴ仮支持体を剥離し、ガラス基板上に感光性層／中間層／熱可塑性樹脂層の順に積層されるように転写した（転写工程）。
【０２５９】
（３）続いて、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング社製）を用い、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したガラス基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性層の中間層に接する側の表面との間の距離を２００μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量３００ｍＪ／ｃｍ 2 で全面露光した（露光工程）。
【０２６０】
（４）露光後、ＫＯＨ系現像液ＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）をフラットノズルから２５℃、ノズル圧力６．１５ＭＰａにて、熱可塑性樹脂層上から５８秒間噴射してシャワー現像を行ない、熱可塑性樹脂層、中間層、及び感光性層の未露光部を現像除去してパターンを得た（現像工程）。その後さらに、ガラス基板のパターンが形成された側に超純水を超高圧洗浄ノズルにより９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣を除去し、ガラス基板上に高さ２．０μｍ、線幅２０μｍの濃色離画壁（ブラックマトリクス）を形成した。
【０２６１】
（５）次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板を、基板予備加熱装置により２２０℃で６０分間加熱した後、２４０℃で５０分間さらに加熱してベーク処理を施し（ベーク工程）、ブラックマトリクス付き基板を作製した。
【０２６２】
（ブラックマトリクス上面の撥水処理）
上記で作製したブラックマトリクス付き基板の表面に、アセトンと水をかけて洗浄し、ＵＶオゾンクリーナー『ＵＶＯ−ＣＬＥＡＮＥＲ  モデルＮｏ．４２』（ＮＩＰＰＯＮ  ＬＡＳＥＲ  ＆  ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ  ＬＡＢ製）で５分間処理した。
フッ素系モノマーとしては２−（パーフルオロオクチル）−エチルメタクリレート（『ＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣ』、ユニマテック製  下記構造）を用いた。ＦＡＭＡＣはメチルプロピレングリコール（ＭＦＧ）に溶かして５％の溶液とした。
【０２６３】
１０ｃｍ×１．５ｃｍにカットした基板上に、約０．５ｍｌのＦＡＭＡＣ／ＭＦＧ溶液を落とし上から石英板をかぶせてできるだけ均一な液膜とした。これをＵＶ露光装置ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＬＰ０１（高圧水銀灯、ＵＳＨＩＯ製）で１分間露光した。露光後に石英版をはずし、得られたフッ素系グラフト膜はアセトンをかけて洗浄した。
【０２６４】
その結果、ブラックマトリックス上（濃色離画壁上面）だけにフッ素系グラフト膜が形成され、選択的に疎水性とすることができた。
なお、ここで用いたＣＨＥＭＩＮＯＸ  ＦＡＭＡＣの構造は以下に示すとおりである。
【０２６５】
【化４】
2007212976.tif 000005
【０２６６】
−画素用着色インキの調製−
下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２６７】
＜赤色画素用着色インキの組成＞
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                        ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００）        １部
・バインダー（グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体）      ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、
油化シェル社製エピコート１５４）                                ２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）５部
・硬化剤（トリメリット酸）                                      ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                        ８０部
【０２６８】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかは赤色画素部着色インク組成物の場合と同様にして緑色（Ｇ）赤色画素用着色インク組成物を調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０２６９】
次に上記のＲ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、上記で得られたブラックマトリクスで区分された領域内（凸部が囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製した。画像着色後のカラーフィルターを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることでブラックマトリクス、各画素ともに完全に硬化させた。
【０２７０】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは、ブラックマトリクス間隙にぴったり収まり、隣接画素との混色などの欠陥となる不良は見つからなかった。
【０２７１】
（液晶表示装置）
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。別途、対向基板としてガラス基板を用意し、カラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施した。
【０２７２】
前記ＩＴＯの透明電極上の離画壁の上部に相当する部分にフォトスペーサを設け、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板を熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０２７３】
（実施例２）
実施例１において、「ブラックマトリクス表面の撥水処理」の前に、下記の「ガラス親水化処理」の工程を設けた以外は、実施例１と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２７４】
〔ガラス親水化処理〕
ブラックマトリクスを形成した前記ガラス基板に、特開２００３−３４４６４０号公報の実施例１に記載の「親水化プラズマ処理」に準じて、以下の条件にてガラス親水化処理を施した。
【０２７５】
使用ガス：Ｏ2ガス流量 ：９００ｓｃｃｍ
圧力：４４Ｐａ
ＲＦパワー：１２００Ｗ
処理時間：９０ｓｅｃ
【０２７６】
（実施例３、及び比較例１）
実施例１において、「ブラックマトリクス表面の撥水処理」における露光時間を、下記表１に記載の時間に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２７７】
（実施例４〜８）
実施例２において、ブラックマトリクスの高さと線幅を下記表１に記載の値に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２７８】
（実施例９）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成方法を以下の塗布法に変更し、「ブラックマトリクス上面の撥水処理」を下記の「プラズマ撥水化処理」に変更した以外は、実施例１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
【０２７９】
＜塗布によるブラックマトリクス付基板の作製＞
（１）無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、下記表に記載の組成よりなる濃色光重合性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして感光層を得た。
【０２８０】
（２）引き続き、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング社製）を用い、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と上記の遮光膜用感光材料とを垂直に立てた状態で、マスク面と遮光膜用感光材料の感光層の中間層に接する側の表面との間の距離を２００μｍとし、窒素雰囲気下で、露光量７０ｍＪ／ｃｍ 2 で全面露光した（露光工程）。次いで、露光後の遮光膜用感光材料を現像処理液Ｔ−ＣＤ１（富士写真フイルム（株）製；アルカリ現像液）を５倍希釈したもの（使用時のｐＨは１０．２）を用いて現像処理（３３℃、２０秒；現像工程）し、ガラス基板上にブラックマトリクスを形成した。
次に、ブラックマトリクスが形成されたガラス基板を、基板予備加熱装置により２２０℃で６０分間加熱した後、２４０℃で５０分間さらに加熱してベーク処理し（ベーク工程）、ブラックマトリクス付き基板を作製した。
【０２８１】
〔プラズマ撥水化処理〕
ブラックマトリクスを形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にてプラズマ撥水化処理を行った。
【０２８２】
使用ガス ：ＣＦ4ガス流量 ：８０ｓｃｃｍ
圧力        ：４０Ｐａ
ＲＦパワー ：５０Ｗ
処理時間 ：３０ｓｅｃ
【０２８３】
（実施例１０）
実施例９において、濃色感光性組成物Ａ１を下記の濃色感光性組成物Ａ２に変更した以外は、実施例９と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２８４】
＜銀微粒子分散液の調製＞
銀微粒子（長軸長さＬ：４００ｎｍ、幅ｂ：３０ｎｍ、厚さｔ：２５ｎｍ、ｂ／ｔ＝１．２）７３．５ｇと、分散剤（商品名：ソルスパース２００００、アビシア（株）製）１．０５ｇと、メチルエチルケトン１６．４ｇと、を混合した。これを、超音波分散機（商品名：Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ｇｅｎｅｒａｔｏｒ  ｍｏｄｅｌ  ＵＳ−６０００  ｃｃｖｐ、ｎｉｓｓｅｉ社製）を用いて分散し、銀微粒子分散液を得た。
【０２８５】
尚、本実施例における各種形状の銀微粒子は、Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ２００４，８４，Ｐ１９７−２０４に記載されている微粒子の調製方法により、銀塩還元時のｐＨ、反応温度を変化させることにより、各種形状の棒状銀微粒子の分散液として調製し、得られた分散液に遠心分離処理（１００００ｒｐｍ、２０分）を行い、上澄み液を捨て、適宜、濃縮を行って銀微粒子を得た。また、金属微粒子の長軸長さＬ及びｂ／ｔ比の調節は、種粒子と金属塩の比を調節することにより行った。
【０２８６】
＜濃色感光性組成物Ａ２の調製＞
下記組成を混合して、濃色感光性組成物Ａ２を調製した。
〔組成〕
・前記銀微粒子分散液                                    ４０．００部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート      ２８．６部
・メチルエチルケトン                                    ３７．６部
・フッ素系界面活性剤                                      ０．２部
（商品名：Ｆ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                      ０．００１部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体
（モル比＝７３／２７、分子量３００００）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本化薬社製）
ここで、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの添加量は、塗布液におけるベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体の量を１としたときの質量比率で０．９となる量とし、且つ、前記銀微粒子の体積分率が０．１３になるような量とした。
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート                    ０．１部
【０２８７】
（比較例２）
実施例２において、「ブラックマトリクス上面の撥水処理」における露光時間を、下記表１に記載の時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２８８】
（実施例１１）
実施例２において、濃色感光性組成物Ａ１を、下記の濃色感光性組成物Ｋ１に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２８９】
＜濃色感光性組成物：Ｋ１＞
・カーボンブラック分散液（下記参照）                                    ２５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                        ８部
・メチルエチルケトン                                                    ５３部
・バインダーＰ−１（下記参照）                                        ９．１部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル                                ０．００２部
・ＤＰＨＡ液（下記参照）                                              ４．２部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン                      
０．１６部
・界面活性剤１（下記参照）                                        ０．０４５部
【０２９０】
−カーボンブラック分散液−
・カーボンブラック（デグッサ社製Ｎｉｐｅｘ３５）                    １３．１％
・分散剤                                                            ０．６５％
【化５】
2007212976.tif 000006
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                                          
６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ７９．５３％
【０２９１】
−バインダーＰ−１−
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                                          
２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ７３％
【０２９２】
−ＤＰＨＡ液−
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ）                                                                ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ２４％
【０２９３】
−界面活性剤１−
・下記構造物１                                                          ３０％
・メチルエチルケトン                                                    ７０％
【化６】
2007212976.tif 000007
【０２９４】
（比較例３、４）
実施例２において、ブラックマトリクスの高さと線幅を下記表１に記載の値に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２９５】
（比較例５）
実施例２において、ブラックマトリクスの高さと線幅を下記表１に記載の値に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、濃色離画壁及び着色画素が形成されたカラーフィルタ、及び、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を作製した。
【０２９６】
＜評価＞
上記の実施例及び比較例において作製したカラーフィルタについて、着弾マージン、混色、画素表面のインク平坦性の各評価を行った。
【０２９７】
１．着弾マージン
着弾マージンは、Ｇヘッドの画素開口部中心からのずれ量ｘ（μｍ）を０から４０μｍまでずらして描画したカラーフィルタのうち、混色あるいは離画壁表面のインク残りが観察されないカラーフィルタの最大の着弾位置ずれ量（μｍ）を、１５０倍の光学顕微鏡により目視で観察することにより評価した。評価基準は以下の通りである。結果を表１に示す。
−評価基準−
○：３０μｍ以上
△：２５μｍ以上３０μｍ未満
×：２５μｍ未満
【０２９８】
２．混色
得られたカラーフィルタを２００倍の光学顕微鏡で目視観察して、画素間の混色の有無を評価した。評価基準は以下の通りである。結果を表１に示す。
−評価基準−
○：混色無し
×：混色有り
【０２９９】
３．画素表面のインク平坦性
開口部（離画壁空隙）１個あたり２５０ｐｌのインクを、Ｇヘッドの画素開口部中心からのずれ量ｘ＝０で付与した場合について、Ｔｅｃｎｏｒ社製触針式表面粗さ計「ＦＰ−２０」を用い、着色画素中央部のガラス基板表面からの高さｄｔと、着色画素端部のブラックマトリクスと接する部分のガラス基板表面からの高さｄｂの差（ｄｔ−ｄｂ）を測定し評価した。評価基準は以下の通りである。結果を表１に示す。
−評価基準−
○：ｄｔ−ｄｂ≦０．３μｍ
△：０．３μｍ＜ｄｔ−ｄｂ≦０．５μｍ
×：ｄｔ−ｄｂ＞０．５μｍ
【０３００】
【表１】
2007212976.tif 000008
【０３０１】
表１に示されるように、実施例１〜１１で作製したカラーフィルタ（本発明の濃色離画壁を備えたカラーフィルタ）は、比較例のカラーフィルタよりも、着弾マージン、混色、及びインク平坦性に優れたカラーフィルタであることが分かる。この結果より、本発明の濃色離画壁は、上面のみが高い撥油・撥水性を有し、着色画素を形成する際における隣接画素への着色液体組成物の流出を防止し、且つ、膜厚が均一な画素を形成することができるが分かる。
また、実施例のカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置（本発明の表示装置）は、混色も無く、鮮やかな表示であったのに対し、比較例のカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置は混色によるムラが見られ、表示特性に劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【０３０２】
【図１】基板上に設けられた離画壁の断面斜視図である。
【図２】濃色離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を説明するための図であり、（ａ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す平面図を示し、（ｂ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す断面図を示す。
【図３】本発明の濃色離画壁の断面形状を示す模式図の一例である。
【符号の説明】
【０３０３】
１０  離画壁
１２  外縁
２０  基板
Ａ1、Ａ2  基板と濃色離画壁の断面の交点
Ｈ  濃色離画壁の最も高さの高い点
Ｇ  Ｈから基板に下ろした垂線の足
Ｌ0  Ｈを通り基板表面に平行な直線
Ｌ1  Ｐを通り基板表面に平行な直線
Ｐ  ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点
Ｂ1及びＢ2  Ｌ1が濃色離画壁の断面と交わる点
ａ  Ａ1とＡ2の距離
ｂ  Ｂ1とＢ2の距離
【図１】
2007212976.tif 000009
【図２】
2007212976.tif 000010
【図３】
2007212976.tif 000011