(57)【要約】      （修正有）【課題】  配向膜を形成し、基板周辺のシール材で２枚の基板を接着する液晶表示装置において、シール材の接着強度を保持する。【解決手段】  配向膜とシール材とを有する液晶表示装置において、２枚の基板の端部を揃えた辺では、シール材外側にも配向膜を形成し、一方の基板から他方の基板が外側に向けて延在する端子接続部では、シール材の内側に配向膜の端部を形成する。さらには、シール材７と配向膜１４，１８が接する領域に配向膜１４，１８を排除する構成物７２を形成して、シール材７が下地と接触する面積を広げる。【選択図】    図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板に設けられた表示領域と、
上記表示領域の周囲に設けられたシール材と、
上記第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、
上記第１の基板の端面と第２の基板の端面とが揃った辺では
上記配向膜はシール材で区画された内側と外側とに形成され、
上記第１の基板の接続端子が形成される辺では、
上記配向膜の端部はシール材で区画された内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
上記シール材が設けられる位置に配向膜を除去する構造が設けられたことを特徴とする特許請求の範囲の請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記第１の基板とシール材とが接着する領域は、上記表示領域と比較して配向膜との親和性が低いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板および第２の基板の周囲に設けられたシール材と、
上記第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、
上記第１の基板の端辺と第２の基板の端辺とが揃った辺では
上記配向膜はシール材に接して形成され、
上記第１の基板の接続端子が形成される辺では、
上記配向膜の端部は有機樹脂膜により形成される段差の内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
上記シール材が設けられる位置に配向膜を除去する突起物が設けられ、上記突起物は接着力が配向膜よりも高いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
上記突起物は、画素領域と比較して配向膜との親和性が低いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、
上記第１の基板と第２の基板とは周囲に設けられたシール材により接着されて液晶パネルを形成し、
上記第１の基板または第２の基板には配向膜が形成され、
上記液晶パネルは４辺を有し、
上記４辺の内の第１の辺は第１の基板が第２の基板の端辺よりも外側に突出して接続部を形成し、
第１の辺以外の辺では上記配向膜はシール材に接して形成され、
上記第１の辺では、配向膜の端部は有機樹脂膜により形成される段差の内側に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
上記第１の基板のシール材が設けられる位置に複数の突起物を有し、
上記突起物は上記シール材との接着力が配向膜よりも高いことを特徴とする特許請求の範囲の請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
上記第１の基板とシール材とが接着する領域には、画素領域よりも配向膜との親和性が低く、配向膜よりもシール材との接着力が強い突起を形成したことを特徴とする特許請求の範囲の請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関係する、特に配向膜を用いる液晶表示装置に適用して有効な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置として液晶表示装置が多用されている。特に液晶表示装置は、薄型、軽量、省電力であることから、大型テレビや携帯用機器の表示部として用いられている。
【０００３】
しかしながら液晶表示装置は、液晶組成物を使用することから、配向膜を必要とする。また、液晶表示装置は２枚の基板の間に液晶組成物を封入した構造を有する。そのため、基板周辺には液晶組成物を封止するシール材が設けられている。また、狭額縁化の要求により配向膜とシール材とは近接して設けられている。
【０００４】
シール材の形成領域にまで配向膜を形成した液晶表示装置について、特許文献１に記載がある。しかしながら、特許文献１では配向膜をシール形成領域で除去する工程が増加しており、工程の簡略化や配向膜とシール材の接着強度について考慮されていない。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２３５７４９号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般的に配向膜はオフセット印刷等によって、基板上の定められた領域に形成されている。すなわちシール材で区画された領域内に、シール材と充分に離れて配向膜が形成されている。そのために、配向膜がシール材におよぼす問題については考慮されていなかった。
【０００７】
しかしながら、表示領域に対して周辺部を小さくする要求が高まっており、所謂狭額縁化が進んでいる。そのため、周辺部であるシール材が形成される領域も面積が減少しており、シール材と配向膜の端部との距離も狭くなっている。
【０００８】
さらなる狭額縁化を検討するにあたって、配向膜の位置ズレを考慮すると、配向膜形成領域とシール材とが重なってしまう可能性が高くなっている。しかしながら、配向膜の上にシール材を形成してしまうと、シール材の接着強度が著しく低下するという問題が見出された。
【０００９】
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、配向膜の形成領域がシール材に近接し、さらにはシール材よりも外側に配向膜が形成されても充分な接着強度を有するシール材を製造工程が増加することなく実現するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板または第２の基板の周辺部に設けられたシール材と、第１の基板または第２の基板に形成された配向膜とを有し、第１の基板の端面と第２の基板の端面とが揃った辺では、配向膜をシール材で区画された内側と外側とに形成する、また、第１の基板の接続端子が形成された辺では、配向膜の端部をシール材で区画された内側に形成する。
【００１１】
また、第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板の周囲に設けられたシール材と、第１の基板に形成された配向膜とを有し、配向膜を第１の基板のシール材で区画された内側と外側とに形成する、また、配向膜のシール材が設けられる位置に配向膜を除去する構造を形成する。
【００１２】
また、第１の基板と、第２の基板とを有する液晶表示装置であって、第１の基板の周囲に設けられたシール材と、第１の基板に形成された配向膜とを有し、シール材が設けられる位置に配向膜に対して親和性の低い表面を有する構造を形成する。
【００１３】
本願発明は、液晶表示装置において、シール材に近接して配向膜を形成した構造において、狭額縁化に寄与する辺部において配向膜をシール材の外側に形成するものである。
【００１４】
また、本願発明は、液晶表示装置において、シール材に近接して配向膜を形成した構造において、製造工程を増加させることなく、シール材の形成部より配向膜を排除するものである。
【発明の効果】
【００１５】
本願発明によれば、シール材の形成領域と配向膜とを近接させて、表示部周辺を狭く形成した液晶表示装置を得ることが可能となる。
【００１６】
本願発明によれば、シール材の形成領域から配向膜を容易に排除することが可能であり、工程数を増加することなく、周辺部に対して表示領域の広い液晶表示装置を得ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
液晶パネルを有する液晶表示装置であって、液晶パネルは、液晶層を挟んで対向する２枚の基板を有し、液晶組成物を封止するように、重ね合せた２枚の基板の周囲にシール材を設け、２枚の基板の液晶層側に配向膜を形成し、２枚の基板のすくなくとも一方の基板のシール材が形成される位置には、配向膜を排除する構造物を形成する。
【００１８】
液晶パネルは４辺を有し、３辺は２枚の基板の端面を揃えて形成し、１辺は一方の辺から他方の辺が外側に向けて延在して、外部接続部を形成し、外部接続部が形成されない３辺では、シール材の外側に配向膜が形成され、外部接続部の形成される１辺では、シール材の内側に配向膜の端部が形成される。
【００１９】
２枚の基板のすくなくとも一方の基板のシール材が形成される位置の近傍には、配向膜に対して親和性の低い構造物を形成する。
【実施例１】
【００２０】
図１は、本発明による液晶表示装置１００を示す平面図である。液晶表示装置１００は液晶パネル１と制御回路８０とで構成される。制御回路８０からは液晶パネル１の表示に必要な信号及び、電源電圧が供給される。制御回路８０はフレキシブル基板7０に搭載されており、配線7１、端子7５を介して信号が液晶パネル１に伝達される。
【００２１】
液晶パネル１の画素部８には画素電極１２が設けられている。なお、液晶パネル１は多数の画素部８をマトリクス状に備えているが、図が煩雑になることを避けて、図１では画素部８を１つだけ図示している。マトリクス状に配置された画素部８は表示領域９を形成し、各画素部８が表示画像の画素の役割をはたし、表示領域９に画像を表示する。
【００２２】
図１においては、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線（走査線とも呼ぶ）２１と、ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線（映像信号線とも呼ぶ）２２とが設けられており、ゲート信号線２１とドレイン信号線２２とで囲まれる領域に画素部８を形成している。
【００２３】
画素部８にはスイッチング素子１０が設けられている。ゲート信号線２１からは制御信号が供給され、スイッチング素子１０のオン・オフが制御される。スイッチング素子１０がオン状態となることで、ドレイン信号線２２を介して伝送された映像信号が画素電極１２に供給される。画素電極１２はＩＴＯ等の透明導電膜により形成される。
【００２４】
ドレイン信号線２２は接続端子５１を介して駆動回路５に接続されている。駆動回路５からはドレイン信号線２２に映像信号が出力する。ゲート信号線２１は駆動回路６に接続されており、駆動回路６からは制御信号が出力する。なお、ゲート信号線２１、ドレイン信号線２２及び、及び駆動回路６とは同じＴＦＴ基板２上に形成されている。駆動回路５はＩＣチップであり、ＴＦＴ基板２に実装されている。
【００２５】
ＴＦＴ基板２は微小な間隙を介して対向基板３と重ねられている。また、表示領域９の外周にはシール材７が設けられており、ＴＦＴ基板２と対向基板３とを接着している。ＴＦＴ基板２と対向基板３とシール材７とは、微小な間隙を有する容器の形状をなし、内部に液晶組成物が保持される。
【００２６】
次に、図２を用いて液晶パネル１の外観につてい説明する。図２は液晶パネル１の斜視図で、前述したようにＴＦＴ基板２に対向基板３が重なっている。ＴＦＴ基板２と対向基板３とは、３つの辺２８で端面が揃った形状をしており、残りの１辺では、ＴＦＴ基板２が対向基板３よりも外側に突出して端子接続部２９を形成している。このＴＦＴ基板２が対向基板３の辺より外側に延在している端子接続部２９には、接続端子５１や接続端子７５が設けられており、駆動回路５や、フレキシブル基板７０が接続される。
【００２７】
端面が揃った３辺２８では、シール材７は端辺近傍に形成されており、シール材７と端辺２８との間隔ｗが狭くなっている。次に図２に切断線Ａ−Ａで示す断面図を図３に示し、図２に切断線Ｂ−Ｂで示す断面図を図４に示す。
【００２８】
図３は端子接続部２９側のシール材７の近傍を示す断面図である。図３に示すように、ＴＦＴ基板２と対向基板３とが重ねられて、シール材７によりＴＦＴ基板２と対向基板３とが接続されている。また、ＴＦＴ基板２と対向基板３とシール材７で囲まれた内部に液晶組成物４が保持されている。ＴＦＴ基板２と対向基板３との間隔はスペーサ２７によって保たれている。
【００２９】
ＴＦＴ基板２には、下地膜４１が形成され、下地膜４１の上にはゲート信号線２１が形成されている。ゲート信号線２１の上にはゲート絶縁膜４３が形成されている。図中右側の表示領域からはドレイン信号線２２がシール材７の近傍まで伸びている。
【００３０】
ドレイン信号線２２はシール材７の内部で、ゲート絶縁膜４３に形成されたスルーホール５２を介してゲート信号線２１に接続され、シール材７の外側でスルーホール５３を介してドレイン信号線２２に接続されている。
【００３１】
ドレイン信号線２２の上には、無機絶縁膜４５と有機絶縁膜４４とが積層されている。シール材７の外側では、無機絶縁膜４５と有機絶縁膜４４とにスルーホール５４が形成されている。ドレイン信号線２２はスルーホール５４を介して透明導電膜３７と接続して接続端子５１を形成している。
【００３２】
シール材７はＴＦＴ基板２側で無機絶縁膜４５に接着している。無機絶縁膜４５を窒化シリコン膜ＳｉＮや酸化シリコン膜ＳｉＯ２で形成すれば、シール材７の接着強度が増加する。
【００３３】
配向膜１４と１８の端部１４ａと１８ａは、シール材７の内部に形成されており、配向膜１４、または配向膜１８と、シール材７とが重なることにより接着強度が低下する問題を避けることが可能である。なお、端部１４ａと１８ａでは配向膜の膜厚が厚くなっており、図３に示すように突起状となっている。
【００３４】
次に図４にＴＦＴ基板２と対向基板３との端面が揃った辺２８近傍の断面図を示す。図４に示すように辺２８ではＴＦＴ基板２と対向基板３とが揃った位置で切断されている。
【００３５】
ゲート信号線２１、ゲート絶縁膜４３、ドレイン信号線２２、無機絶縁膜４５、有機絶縁膜４４はシール材７に達してないが、近接に形成されている。対して配向膜１４と配向膜１８はシール材７に達しており、一部がシール材７と重なっている。
【００３６】
ゲート信号線２１、ゲート絶縁膜４３、ドレイン信号線２２、無機絶縁膜４５、有機絶縁膜４４はフォトリソ工程により、高い精度で形成することが可能であるが、配向膜１４と配向膜１８は印刷で形成されており、フォトリソ工程より精度が低い。そのため、配向膜１４と配向膜１８とをシール材７の近傍に形成すると、製造バラツキ等により配向膜１４と配向膜１８の一部がシール材７と重なってしまう。
【００３７】
配向膜１４、または配向膜１８の印刷による位置精度は±０．４５ｍｍであり、シール材７を形成するディスペンサや印刷の位置制度は±０．１５ｍｍ程度である。そのため最大０．７０ｍｍのバラツキが生じることになる。よって、配向膜１４、または配向膜１８の端部とシール材７との距離が０．７０ｍｍ以下になると配向膜１４、または配向膜１８とシール材７とが重なる可能性が生じることになる。
【００３８】
すなわち、シール材７の幅をＳＷとし配向膜とシール材の位置精度をＭとすると、ＴＦＴ基板２と対向基板３との端辺からＳＷ＋Ｍの距離以内に、配向膜の端部を形成する場合に、印刷で形成する配向膜の精度が劣るために、配向膜１４または１８がシール材７と重なってしまうことになる。
【００３９】
図５に配向膜にシール材が重なった場合の接着強度の実験結果を示す。図５はシール材のピール強度試験の結果である。グラフ上の線６１はシール材と配向膜とが重なってない液晶パネルの接着強度で、線６２はシール材と配向膜とが重なった場合を示す。
【００４０】
線６１に比較して線６２は強度が３分の２程度に低下しており、配向膜にシール材が重なった場合には、製品としてシール材の接着強度が不足することが判明した。
【００４１】
次に、図６を用いてシール材７の接着強度を向上させる構造について説明する。図６はＴＦＴ基板側のシール材７と接触する部分に構造物７２を形成したものである。構造物７２は有機絶縁膜４４をハーフ露光等により傾斜面を有する形状としたものである。
【００４２】
傾斜面を有する構造物７２により、配向膜１４または１８がシール材７の形成領域から排除され、シール材７は接着面の一部が下地膜４１等の無機絶縁膜、またはＴＦＴ基板２と対向基板３と直接に接触している。
【００４３】
図６に示す構成のように、シール材７の接着面に配向膜よりも接着強度の高い材質の構造を設けることで、シール材の接着強度を高めることが可能となる。また、配向膜１４または１８を塗布しても排除する構造物７２を形成することで、配向膜１４または１８以外でシール材７を接着させることで、シール材７の接着強度を高めることができる。
【００４４】
次に図７を用いてシール材７形成部の塗膜性を低下させた構造について説明する。図７に示すように、シール材７形成領域にマスク６４を設けて紫外線６３の照射を妨げている。図７（ａ）はカラーフィルタ８１の形成された対向基板３側で、図７（ｂ）はＴＦＴ基板２側である。
【００４５】
図７に示すように、構造物７２は有機樹脂からなるオーバーコート膜８３や有機絶縁膜４４から離れて形成され、構造物７２とオーバーコート膜８３および有機絶縁膜４４との間には段差６５が生じている。
【００４６】
この段差６５の近傍には、ＩＴＯなどからなる透明導電膜６６が形成されている。段差６５を境にして、オーバーコート膜８３と有機絶縁膜４４側には紫外線６３が照射される。紫外線６３が照射されたオーバーコート膜８３および有機絶縁膜４４は配向膜に含まれる溶媒との親和性が良くなり、塗膜性が向上する。
【００４７】
対して透明導電膜６６と構造物７２には紫外線６３が照射されない。紫外線６３が照射されないため、構造物７２と透明導電膜６６から外側の領域では、塗膜性の向上が生じない。そのため、段差６５近傍に設けた透明導電膜６６から外側のシール材７が形成される領域では、塗布された配向膜が液滴状になり排除され易くなる。特に紫外線６３が照射されない透明導電膜６６は、画素領域の紫外線６３が照射された透明導電膜に対して塗膜性が低下している。
【００４８】
段差６５は、フォトリソ工程により図７（ａ）に示すように、垂直に近い形状にも、図７（ｂ）に示すように、基板２に対して角度を有するように形成することも可能である。また、塗布により形成される端部を段差６５として利用することも可能である。
【００４９】
図８は端子接続部２９側のシール材７の近傍を示す断面図で、透明導電膜６６を段差６５の近傍に設けたものである。また、図９はＴＦＴ基板２と対向基板３との端面が揃った辺２８近傍の断面図で、透明導電膜６６を段差６５の近傍に設け、配向膜１４と１８を塗布、焼成した状態を示す。
【００５０】
透明導電膜６６は配向膜１４および１８との親和性が悪いため、段差６５で途切れている。また、段差６５の下側では配向膜１８は表面張力により液滴状になり、そのため配向膜１８は透明導電膜６６の上に留まって、端部１８ａをシール材７の内部に形成している。
【００５１】
なお、紫外線６３を照射しないとシール材７の接着強度も低下するが、シール材７の接着強度は配向膜に比較して２倍程度高いため、配向膜によるはがれ易さに比較して、紫外線６３を照射しないことによるシール材７におよぼす接着強度低下の影響は小さい。
【００５２】
次に図１０、図１１を用いて構造物７２について説明する。図１０は構造物７２の斜視図である。有機樹脂層４４を用いることで、高さＨを２μｍ程度とすることが可能である。また、半径Ｒは任意に設定可能であるが、シール材７の幅が３００μｍから１０００μｍであることから、５０μｍから１００μｍであることが好ましい。
【００５３】
図１１は構造物７２に配向膜１８をオフセット印刷により塗布した状態を示す。構造物７２は底面に向かって広がる傾斜面を有しているため、底面側で構造物７２の間隔が狭まっている。
【００５４】
構造物７２の間隔が狭い部分では、毛細管現象により配向膜１８は外側に向かう力Ｆにより排除される。また、配向膜１８は塗布時に厚さが約１μｍ程度であり、塗布後に乾燥、焼成されることで、厚さが約０．１μｍに減少する。
【００５５】
乾燥前の配向膜は、溶媒の割合が多いために流動的であり、容易に溶質が構造物７２の間を移動し、溶媒の蒸発量が大きい場所に溶質が溜まる性質を有している。特に構造物７２の表面に対して下地の溶媒に対する親和性を悪くしおくと、構造物７２の表面に溶質が集まり、そのため下地表面の配向膜が排除されることになる。
【００５６】
図１２に、配向膜１８を乾燥、焼成した後の構造物７２の断面を示す。配向膜１８の厚さは塗布時に比較して1／１０程度に減少し、構造物７２側面に付着している。特に液体状の配向膜１８は下地である透明導電膜６６との境界を伝わり流動するため、構造物７２と下地との境界部に残っているが、部分的には下地表面から除去されている。
【００５７】
配向膜に対して親和性が悪い下地を選び、さらに配向膜より接着強度が大きい構造物７２により下地の一部が露出するようにすることで、基板からシール材がはがれる問題に対しての信頼性を向上させることが可能となる。
【００５８】
次に図１３に構造物７２の並べ方を平面図で示す。構造物７２はシール材７の塗布される領域に形成されるが、角部でシール材７の塗布形状がなまるために、角部には冗長な構造物７３を設けている。構造物７２の一部はシール材７の形成領域からはみでている。
【００５９】
図１４は構造物７２を楕円に形成し、長軸方向を配向膜７が排除される方向にそろえ、中心位置を交互にずらしたものを示す。構造物７２の長軸方向を配向膜が排除される方向にそろえることで、より配向膜７の移動が容易になり、さらに中心位置を交互にずらすことで、隙間の間隔を狭くすることが可能である。
【００６０】
図１５は楕円の短軸の長さを配向膜７の端部から中心側に向かい小さくしたものである。中心部で間隔が広く、端部で間隔が狭いために、配向膜がより外側に移動するようにしている。
【００６１】
図１６、図１７に傾斜面を有する構造物７４を示す。図１６は構造物７４と重なるシール材７を示す断面図であり、図１７は構造物７４の斜視図である。構造物７４に傾斜を設けることで、傾斜によりシール材７が構造物７４の上から排除される。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施の形態である液晶表示装置の液晶パネルの概略構成を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態である液晶表示装置の接着強度を示すグラフである。
【図６】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール材形成領域を示す断面図である。
【図８】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。
【図１０】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。
【図１１】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。
【図１２】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。
【図１５】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す平面図である。
【図１６】本発明の実施の形態である液晶表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の実施の形態である液晶表示装置のシール部構造物を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６３】
１…液晶パネル、２…ＴＦＴ基板、５…駆動回路、６…駆動回路、８…画素部、９…表示領域、１０…スイッチング素子、１２…画素電極、２１…ゲート配線（走査信号線）、２２…映像信号線、２８…端部が揃った辺、２９…外側に突出た辺、３７…透明導電膜、４１…下地膜、４３…ゲート絶縁膜、４４…有機絶縁膜、４５…無機絶縁膜、５１…接続端子、５２…スルーホール、５３…スルーホール、５４…スルーホール、７０…ＦＰＣ、７１…配線、７２…配向膜を排除する構造物、７５…端子、８０…制御回路。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007304452.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2007304452.tif 000012
【図１１】
2007304452.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2007304452.tif 000018
【図１７】
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