(57)【要約】      （修正有）【課題】ソフトウェアのアップグレード時のwork-in-progress impactによる歩留まりの低下を防止すること。【解決手段】基板にパターンを転写するリソグラフィ装置において、ソフトウェアアップグレードのアクティベーションの日付および時刻が、基板または基板の「ロット」の第１の層の露光の日付および時刻と比較される。アクティベーションの日付および時刻が第１の露光の日付および時刻よりも後である場合、ソフトウェア機能のタイプは１つのロットまたは基板上に混在することはなく、そのロットまたは基板については古いソフトウェア機能が使用される。一方、ソフトウェア機能アップデートのアクティベーションの日付および時刻が基板またはロットの第１の露光より前である場合、そのロットまたは基板は古いソフトウェア機能の影響を受けず、すべての基板層のパターン転写の制御に、アップデートされた新しいソフトウェア機能を使用することができる。【選択図】図２
2007243168.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
（ａ）パターン付き放射ビームを基板に投影するよう構成されている投影システムと、
（ｂ）第１のソフトウェア機能および第２のソフトウェア機能に従って該装置を制御するよう構成されている制御システムであって、第２のソフトウェア機能が第１のソフトウェア機能よりも後にアクティベーションされる制御システムであって、
（ｉ）第２のソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻を含むように構成されている第１のデータベースと、
（ii）基板の第１の露光の日付／時刻を含むように構成されている第２のデータベースと、
（iii）アクティベーションの日付／時刻と第１の露光の日付／時刻とを比較するコンパレータとを備える制御システムと、を備え、
制御システムは、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に第２のソフトウェア機能を使用するよう構成され、かつ、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に第１のソフトウェア機能を使用するよう構成されている、リソグラフィ装置。
【請求項２】
第１および第２のソフトウェア機能のそれぞれは、当該機能により決定されるパラメータおよびキャリブレーション状態を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
第１のソフトウェア機能、または第１のソフトウェア機能よりも後にインストールされた第２のソフトウェア機能に従って、パターニングデバイスからのパターンを基板に転写することと、
基板の第１の露光の日付／時刻を記録することと、
第２のソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻を設定することと、
第１の露光の日付／時刻とアクティベーションの日付／時刻とを比較することと、を含み、
第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に、転写するステップが第２のソフトウェア機能に従ってパターンを転写することを含み、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に、転写するステップが第１のソフトウェア機能に従ってパターンを転写することを含む、デバイス製造方法。
【請求項４】
第１のソフトウェア機能または第２のソフトウェア機能に従ってパターンを転写することは、当該機能により決定されるパラメータを使用することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
記録することは、所定数のロットの基板を記録することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
複数の基板の第１の露光の日付／時刻を設定することと、複数のソフトウェア機能のアップデートのアクティベーションの日付／時刻を設定することと、複数のソフトウェア機能のアップデートのうちの１つのアクティベーションの日付／時刻が複数の基板のうちの１つの第１の露光の日付／時刻よりも前である場合に限り、該１つの基板とともに該１つのソフトウェア機能のアップデートを使用することをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
ソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻が手動で設定される、請求項３に記載の方法。
【請求項８】
ソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻が自動で設定される、請求項３に記載の方法
【請求項９】
同一ソフトウェアを実行している複数のリソグラフィ装置について、ソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻が同じである、請求項３に記載の方法。
【請求項１０】
基板の第１の露光の日付／時刻が基板の露光システムから自動的に記録される、請求項３に記載の方法。
【請求項１１】
基板の第１の露光の日付／時刻が手動で記録される、請求項３に記載の方法。
【請求項１２】
ソフトウェア機能が、測定に基づいて、リソグラフィ装置の露光時の最適な調節を計算し、該リソグラフィ装置にこれらの調節を行わせるよう構成されている、請求項３に記載の方法。
【請求項１３】
リソグラフィ装置のソフトウェア機能のアップデートをアクティベーションする方法であって、
基板の第１の露光の日付／時刻を記録することと、
ソフトウェア機能のアップデートのアクティベーションの日付／時刻を設定することと、
第１の露光の日付／時刻とアクティベーションの日付／時刻とを比較して、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に、該ソフトウェア機能のアップデートを使用し、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に、リソグラフィ装置に既にインストールされているソフトウェア機能を使用することを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。特に、本発明は、該デバイス製造方法の制御に使用されるソフトウェアのアップグレードに関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイス（patterning device）を用いることができる。このパターンは、基板（たとえばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（たとえば１つのダイの一部、１つまたはいくつかのダイを含む）に転写される。パターンの転写は通常、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上での結像を介してなされる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワーク(network)を含んでいる。既知のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるステッパ、およびある特定の方向（「スキャン」方向）の照射ビームによってパターンをスキャンすると同時にこの方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００３】
[0003]  基板に対するパターンの転写は投影システムによって行われる。投影システムの制御にはソフトウェアが使用されており、これにより、基板および基板に転写済みのパターンとの正確な位置合わせが確実に行われ、かつ、パターンの正確な形状および向きが確保される。特に、このソフトウェアは、リソグラフィ装置が行った測定を使用して、露光時のリソグラフィ装置の最適な調節を計算し、これらの調節を、該調節を行うリソグラフィ装置の部分に伝える。これらの調節は、レンズの設定、あるいは、基板、基板保持体または基板テーブルのＸＹ方向およびＺ方向の位置もしくは傾きであってよい。また、ソフトウェアと関連しているキャリブレーション状態も存在し、これにより、ソフトウェアが投影システムおよびそのソフトウェアと関連している他のリソグラフィ装置とのキャリブレーションの対応が確保される。
【０００４】
[0004]  このソフトウェアのアップグレードまたは変更は頻繁に行われる。ソフトウェアの変更は、基板に異なるパターンを作り出すため、または、古いソフトウェアのバグを修正するために行われうる。ソフトウェアのアップグレードは、たとえば、パターン転写工程をより効率的に行うために行われうる。また、バグの修正には、基板のＸＹ方向の位置合わせ（すなわち、基板面）またはＺ方向の高さもしくは傾きの微細な変更が伴うことが多い（通常、バグ自体が位置合わせレーザ等のリソグラフィ装置の部分による位置ずれであるためである）。当業者であれば、投影システムを制御するソフトウェアがアップグレードまたは変更されうる様々な理由が分かるであろう。
【０００５】
[0005]  ソフトウェアのアップグレードが、同一基板上の異なる層、あるいは、同一「ロット」中の異なる基板の照射の間に行われないようソフトウェアのアップグレードまたは変更のタイミングを決定することが望ましい。実際には、これは非常に難しいものと考えられる。新しいソフトウェア機能は、従前の層に対して使用された古いソフトウェア機能とは異なるパターンの投影が基板層に対して行われることが考えられ、当該基板またはロットは、あるタイプの層が別のタイプの層の上に堆積する結果としてこれらの層にオーバーレイエラーが生じる可能性があり、実質的に破壊されることがあるためである。さらに、新しいソフトウェア機能の実施のタイミングを一連の装置（machine）上の基板のロットの初めに合わせることは難しい。それは、特に、これらの装置が常にロットにおける異なる位置にある場合が多いためである。タイミングを合わせることの困難さは、work-in-progress impact（生産中の未完成品への影響）として既知である。さらに、古いソフトウェア機能および新しいソフトウェア機能は、わずかに異なった態様でキャリブレートされている場合があり、同様のwork-in-progress impactが生じる。
【０００６】
[0006]  このようなソフトウェアアップグレードに伴う基板のロットの質の低下のため、リソグラフィ装置のユーザはソフトウェアのアップグレードに消極的であり、これがユーザの市場における地位に影響を及ぼすことになりかねない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
[0007]  ソフトウェアのアップグレード時のwork-in-progress impactによる歩留まりの低下を防止することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
[0008]  本発明の第１の実施形態によると、リソグラフィ装置であって、パターンの付いた放射ビームを基板に投影するよう構成されている投影システムと、第１のソフトウェア機能および第２のソフトウェア機能に従って該投影システムを制御するよう構成されている制御システムであって、第２のソフトウェア機能が第１のソフトウェア機能よりも後にアクティベーションする制御システムであって、第２のソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻を含むよう構成されている第１のデータベースと、基板の第１の露光の日付／時刻を含むよう構成されている第２のデータベースと、アクティベーションの日付／時刻と第１の露光の日付／時刻とを比較するコンパレータとを備える制御システムと、を備え、制御システムが、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に第２のソフトウェア機能を使用するよう構成され、かつ、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に第１のソフトウェア機能を使用するよう構成されている、リソグラフィ装が提供される。
【０００９】
[0009]  本発明の一実施形態によると、第１のソフトウェア機能または第１のソフトウェア機能よりも後にインストールされた第２のソフトウェア機能のパラメータに従ってパターニングデバイスからのパターンを基板に転写するステップと、基板の第１の露光の日付／時刻を設定するステップと、第２のソフトウェア機能のアクティベーションの日付／時刻を記録するステップと、第１の露光の日付／時刻とアクティベーションの日付／時刻とを比較するステップと、を含み、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に、転写するステップが第２のソフトウェア機能のパラメータに従ってパターンを転写することを含み、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に、転写するステップが第１のソフトウェア機能のパラメータに従ってパターンを転写することを含むデバイス製造方法が提供される。
【００１０】
[0010]  本発明の一実施形態によると、リソグラフィ装置のソフトウェア機能をアップデートする方法であって、基板の第１の露光の日付／時刻を記録するステップと、ソフトウェア機能のアップデートのアクティベーションの日付／時刻を記録するステップと、第１の露光の日付／時刻とアクティベーションの日付／時刻とを比較して、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも後である場合に、リソグラフィ装置に既にインストールされているソフトウェア機能を使用し、第１の露光の日付／時刻がアクティベーションの日付／時刻よりも前である場合に、該アップデータされたソフトウェア機能を使用するステップを含む方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
[0011]  以下、添付の概略図面を参照しながら、単なる例として、本発明の実施形態を説明する。図面において、同じ参照符号は同じ部分を示す。
【００１２】
[0014]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置１を概略的に示している。リソグラフィ装置は、放射ビームＢ（たとえばＵＶ放射またはＤＵＶ放射）を調整することができるように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（たとえばマスク）ＭＡを支持することができるように構成され、また特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けることができるように構成された第１位置決め装置ＰＭに連結された支持構造体（たとえばマスクテーブル）ＭＴと、基板（たとえばレジストコートウェーハ）Ｗを保持することができるように構成され、また特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けることができるように構成された第２位置決め装置ＰＷに連結された基板テーブル（たとえばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（たとえば１つ以上のダイを含む）上に投影することができるように構成された投影システム（たとえば屈折投影レンズシステム）ＰＳとを備えることができる。
【００１３】
[0015]  照明システムとしては、放射を誘導し、形成し、あるいは制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、またはその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００１４】
[0016]  支持構造体は、パターニングデバイスを支持する、即ち、パターニングデバイスの重みを支えるものである。支持構造体は、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計、および、たとえば、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどといった他の条件に応じた態様でパターニングデバイスを保持する。支持構造体は、機械式、真空式、静電式またはその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。支持構造体は、たとえば、必要に応じて固定または可動式にすることができる架台またはテーブルであってもよい。支持構造体は、パターニングデバイスを、たとえば、投影システムに対して任意の位置に確実に置くことができる。本明細書において使われる用語「レチクル」または「マスク」はすべて、より一般的な用語「パターニングデバイス」と同義であると考えるとよい。
【００１５】
[0017]  本明細書において使われる用語「パターニングデバイス」は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように放射ビームの断面にパターンを付けるために使うことができるあらゆるデバイスを指していると広く解釈されるべきである。なお、放射ビームに付けたパターンは、たとえば、そのパターンが位相シフト特性(phase-shifting features)またはいわゆるアシスト特徴(assist features)を含む場合、基板のターゲット部分内の任意のパターンに正確に一致しない場合もある。通常、放射ビームに付けたパターンは、集積回路などの、ターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応することになる。
【００１６】
[0018]  パターニングデバイスは、透過型または反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、Alternating位相シフト、および減衰型位相シフトなどのマスク型、ならびに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームがさまざまな方向に反射するように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。
【００１７】
[0019]  本明細書において使われる用語「投影システム」は、使われている露光放射にとって、あるいは浸液の使用または真空の使用といった他の要因にとって適切な屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、および静電型光電システム、またはそれらのあらゆる組合せを含むあらゆるタイプの投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。本明細書において使われる用語「投影レンズ」はすべて、より一般的な用語「投影システム」と同義であると考えるとよい。
【００１８】
[0020]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、透過型のもの（たとえば透過型マスクを採用しているもの）である。また、リソグラフィ装置は、反射型のもの（たとえば、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイを採用しているか、または反射型マスクを採用しているもの）であってもよい。
【００１９】
[0021]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（および／または２つ以上の支持構造体）を有するタイプのものであってもよい。そのような「マルチステージ」機構においては、追加のテーブルを並行して使うことができ、あるいは、予備工程を１つ以上のテーブル上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルを露光用に使うこともできる。
【００２０】
[0022]  また、リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、比較的高屈折率を有する液体、たとえば、水によって基板の少なくとも一部を覆うことができる型のものであってもよい。さらに、リソグラフィ装置内の、たとえば、マスクと投影システムとの間の別の空間に液浸液を加えてもよい。液浸技術を使えば、投影システムの開口度を増加させることができる。本明細書において使われているような用語「液浸」は、基板のような構造物を液体内に沈めなければならないという意味ではなく、単に、照射中、投影システムと基板との間に液体があるということを意味するものである。
【００２１】
[0023]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源およびリソグラフィ装置は、たとえば、放射源がエキシマレーザである場合、別体の構成要素であってもよい。そのような場合には、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また、放射ビームは、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ、たとえば、適切な誘導ミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを使って送られる。別の場合においては、放射源は、たとえば、放射源が水銀灯である場合、リソグラフィ装置の一体部分とすることもできる。放射源ＳＯおよびイルミネータＩＬは、必要ならビームデリバリシステムＢＤとともに、放射システムと呼んでもよい。
【００２２】
[0024]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節することができるように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側および／または内側半径範囲（通常、それぞれσ-outerおよびσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯといったさまざまな他の構成要素を含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に任意の均一性および強度分布をもたせることができる。
【００２３】
[0025]  放射ビームＢは、支持構造体（たとえばマスクテーブルＭＴ）上に保持されているパターニングデバイス（たとえばマスクＭＡ）上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。マスクＭＡを通り抜けた後、放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点をあわせる。第２位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（たとえば、干渉装置、リニアエンコーダ、または静電容量センサ）を使って、たとえば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置付けるように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示されていない）を使い、たとえば、マスクライブラリからマスクを機械的に取り出した後またはスキャン中に、マスクＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置付けることもできる。通常、マスクテーブルＭＴの移動は、第１位置決め装置ＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を使って達成することができる。同様に、基板テーブルＷＴの移動も第２位置決め装置ＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使って達成することができる。ステッパの場合は（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴは、ショートストロークアクチュエータのみに連結されてよく、あるいは、固定されていてもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２、および基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使って、位置合わせされてもよい。例示では基板アライメントマークがそれ専用のターゲット部分に置かれているが、基板アライメントマークをターゲット部分の間の空間（これらは、けがき線(scribe-lane)アライメントマークとして公知である）内に置くこともできる。同様に、複数のダイがマスクＭＡ上に設けられている場合、マスクアライメントマークは、ダイの間に置かれてもよい。
【００２４】
[0026]  例示の装置は、以下のモードの少なくとも１つで使うことができると考えられる。
【００２５】
[0027]  １．  ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度に（すなわち、単一静止露光）ターゲット部分Ｃ上に投影する。基板テーブルＷＴは、つぎにＸおよび／またはＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃが露光されることが可能になる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズよって、単一静止露光時に投影されるターゲット部分Ｃのサイズが限定される。
【００２６】
[0028]  ２．  スキャンモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率および画像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光領域の最大サイズよって、単一動的露光時のターゲット部分の幅（非スキャン方向）が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ（スキャン方向）が決まる。
【００２７】
[0029]  ３．  別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ、マスクテーブルＭＴを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴを動かし、すなわちスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの移動後ごとに、またはスキャン中、連続する放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００２８】
[0030]  上述の使用モードの組合せおよび／またはバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００２９】
[0031]  ソフトウェアのアップグレード時のwork-in-progress impactに関する問題に取り組むため、本発明の一実施形態によると、古いソフトウェア機能を維持すると同時に新しいソフトウェア機能をインストールすることができ、また、古いソフトウェア機能の制御下において第１の層の露光が既に行われている基板については古いソフトウェア機能の使用を継続することができると同時に、第１の層の露光が行われていない基板については新しいソフトウェア機能の制御下において露光を行うことができる。古いコードが維持されるとともに、古いキャリブレーション状態もまた維持されることにより、この古いキャリブレーション状態が古いコードを使用して第１の層が露光された基板について使用される。実際に、ソフトウェアのアップグレードが行われるとき、新しいソフトウェアが古いソフトウェアに取って代わる（即ち、ソフトウェア配布におけるバイナリおよび／またはライブラリが、新しいソフトウェアによって生成されたバイナリおよび／またライブラリに取って代わる）が、新しいソフトウェアは古いソフトウェア機能が不必要になるまでのその機能を維持する。これは好ましい方法であるが、一実施形態においては、新しいソフトウェアをインストールするときに、古いソフトウェア機能のみならず、古いソフトウェア自体（バイナリおよび／またはライブラリの形態で）を維持することが可能である。
【００３０】
[0032]  このように、ソフトウェアのアップグレード後に「古い」基板上に露光された後続の層はすべて、ソフトウェアのアップグレード前と全く同じ態様で処理することができる。「古い」基板の露光が完了すると、古いソフトウェア機能および古いキャリブレーション状態は使用されなくなり、当該システムから除去することができる。
【００３１】
[0033]  どの基板が古いソフトウェア機能の制御下で露光された第１の層を有するかの記録を維持するのではなく、基板を「ロット」に分け、各ロットがソフトウェア機能のリリース（またはリリース内のソフトウェア機能の「パッチ」）の日付および時刻に対して「新しい」もしくは「古い」とみなされる。新しいソフトウェア機能がアクティベーションされる時刻は、「ソフトウェアアクティベーションの日付／時刻」として確認することができる。この日付／時刻は、その工場のソフトウェア導入担当者が手動で設定することができる。この日付／時刻は、責任者が所望するあらゆる時刻に設定することができる。特に、特定のグループまたはクラスタ（cluster）におけるすべてのリソグラフィ装置が同じソフトウェアアップデート版を有する場合、日付／時刻は自動で設定することもできる。この「ソフトウェアのアクティベーションの日付／時刻」は、同じシステム内かつ同じソフトウェアの制御下で機能するすべてのリソグラフィ装置について有効とすることができる。たとえば、中央データベースを使用して、一連のリソグラフィ装置（図２の４２、４４および４６など）を制御してもよい。
【００３２】
[0034]  この方法の利点は、ソフトウェア機能を導入することでwork-in-progress の困難性が生じないことにある。そのため、ソフトウェアの使用者は、ソフトウェア機能を新たにリリースした後の歩留まりの低下を被ることがなく、全体的なスループットが向上し、費用の節約になる。さらに、最初に歩留まりの低下が生じることなく、これらの利点が直ぐに得られるのであれば、リソグラフィ装置のユーザは、ソフトウェアの修正やアップグレードにより積極的になる。
【００３３】
[0035]  図２を参照すると、データベース１０には、当該リソグラフィ装置（４２、４４、４６）に関するソフトウェアリリースの日付および時刻が含まれている。データベース２０には、各基板のロットの第１の層の露光が行われた日付／時刻が含まれている。あるいは、一実施形態において、このデータベースは、各基板の第１の層の露光が行われた日付および時刻が含まれうるが、非常の多くの基板を扱うので基板をロットに分けることが好ましい。新しいソフトウェア機能のリリースごとに、たとえば、制御システム３０内において、ソフトウェアアクティベーションの日付／時刻が第１の層の露光の日付／時刻と比較される。ソフトウェアアクティベーションの日付／時刻の入力（Ｓ３０）および第１の層の露光の日付／時刻の入力（Ｓ４０）が比較され、第１の露光の日付／時刻がソフトウェアアクティベーションの日付／時刻より後であるか否かを判定する。第１の露光の日付／時刻のほうが後である場合（Ｓ６０）、当該第１の露光の日付／時刻に関連するロットは、当該ソフトウェア機能のリリースに対して新しいロットであり、リソグラフィ装置４４において、このロットについて新しいソフトウェア機能および新しいキャリブレーション状態が使用される。一方、第１の露光の日付／時刻がソフトウェアアクティベーションの日付／時刻より後でない場合（すなわち、前である場合）（Ｓ５０）、当該第１の露光の日付／時刻に関するロットは古いロットであり、リソグラフィ装置４４において、この基板ロットについて古いソフトウェア機能および古いキャリブレーション状態を使用すべきである。リソグラフィ装置４２、４４、４６はそれぞれ、ロットデータベース２０およびソフトウェアアクティベーションデータベース１０のそれぞれに対して「現在のロットＩＤ」（Ｓ８０）、および「ソフトウェアリリースＩＤ」、また、任意で「ソフトウェアパッチＩＤ」（Ｓ７０）を供給する。
【００３４】
[0036]  当該装置のソフトウェア導入担当者は、ソフトウェア機能のリリースおよびロットの第１の露光の両方の日付および時刻を入力することができる（Ｓ１０、Ｓ２０）。各ロットについて第１の露光の日付／時刻を入力する工程は、手動（Ｓ２０）または自動（Ｓ８０）で行うことができる。一般的に、ロットＩＤは手動で入力されるが、ロットの第１の露光の日付／時刻は自動で簡単に入力される。特に、リソグラフィ装置が新しい基板のロットを受け取ったとき、新しいロットデータベースにアクセスする。現在のロットＩＤが該データベースに存在しない場合、現在の露光が第１の層の露光であり、ゆえに、現在の日付／時刻をそのロットの第１の層の露光としてデータベースに入力することができる。
【００３５】
[0037]  ソフトウェアアクティベーションデータベースに日付および時刻を追加する工程を導入するさらなる利点として、リソグラフィ装置のユーザが当該パッチ／リリースのソフトウェア機能が正式にアクティベーションされる日付／時刻を制御できることがある。
【００３６】
[0038]  一実施形態においては、同一のソフトウェアによって稼働されるあるグループのすべてのリソグラフィ装置が実際にそのソフトウェアをインストールし、新しいキャリブレーションに対応可能な状態にあるときに限って、「ソフトウェアアクティベーションの日付／時刻」が「far future（遠い将来）」の日付／時刻から現在の日付／時刻に設定される。
【００３７】
[0039]  どのロットが古く、どのロットが新しいかを監視する必要はなく、基板またはロットの第１の露光の日付および時刻が、ステップＳ２０またはＳ８０において手動または自動で、第１の露光データベース２０に挿入されることだけが要求される。
【００３８】
[0040]  しかるのち、すべての古いロットの露光が完了するので、古いコードは必要なくなる。この時点において、古いコードは削除され、新しいコードがすべての基板およびロットに対して実行されてよい。古いコードを必要以上に維持する必要はないため、このソフトウェアは、これにより「除去」される。
【００３９】
[0041]  第１の露光の日付／時刻を与える工程は、ファブオートメーションシステム（fab-automation-system）により実行してよい。このファブオートメーションシステムは、既知のリソブラフィ装置に既に設置されうるものである。このようなオートメーションシステムが設置されていない場合は、当該日付／時刻を手動で設定してもよい。この日付／時刻とソフトウェアアクティベーションの日付／時刻との比較は個々のリソグラフィ装置によって自動的に行われる。
【００４０】
[0042]  本明細書では、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的に言及しているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドといった他の用途を有することは、明らかである。当業者には当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使われている用語「ウェーハ」または「ダイ」はすべて、それぞれより一般的な用語「基板」または「ターゲット部分」と同義であると考えればよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後に、たとえば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、および／またはインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示物を上記のような基板プロセシングツールおよびその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに、基板は、たとえば、積層ＩＣを作るために、複数回処理されてもよいので、本明細書で使われる基板という用語が、既に多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００４１】
[0043]  光学リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用について既に具体的に説明してきたが、言うまでもなく、本発明は、他の用途、たとえば、インプリントリソグラフィに使われてもよく、さらに状況が許すのであれば、光学リソグラフィに限定されることはない。インプリントリソグラフィにおいては、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に創出されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に与えられたレジスト層の中にプレス加工され、基板上では、電磁放射、熱、圧力、またはそれらの組合せによってレジストを硬化させることができる。パターニングデバイスは、レジストが硬化した後、レジスト内にパターンを残してレジストの外へ移動される。
【００４２】
[0044]  本明細書で使われている用語「放射」および「ビーム」は、紫外線（ＵＶ）放射（たとえば、約３６５、３５５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍの波長を有する）、および極端紫外線（ＥＵＶ）放射（たとえば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）などのあらゆる種類の電磁放射、ならびにイオンビームや電子ビームなどの微粒子ビームを包含している。
【００４３】
[0045]  用語「レンズ」は、状況が許すのであれば、屈折、反射、磁気、電磁気、および静電型光学コンポーネントを含むさまざまな種類の光学コンポーネントのどれか１つまたは組合せを指すことができる。
【００４４】
[0046]  本発明の実施形態の使用について既に具体的に説明してきたが、言うまでもなく、本発明は、記載される以外の態様で実施されうる。たとえば、本発明は、上記に開示されている方法を記載する機械読取可能な指示の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、またはそのようなコンピュータプログラムが記憶されているデータ記憶媒体（たとえば、半導体メモリ、磁気ディスクまたは光ディスク）の形態を取りうる。
【００４５】
[0047]  上記の説明は、限定ではなく例示を目的としたものである。したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】[0012]  本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0013]  本発明の一実施形態によるソフトウェアのアップグレード方法のフローチャートを示す。
【図１】
2007243168.tif 000003
【図２】
2007243168.tif 000004
【外国語明細書】
2007243168000001.pdf