(57)【要約】【課題】泡の混入（光漏れ）及び混色が抑制され、スペーサ材を設けたときの高さ均一性に優れ、表示ムラの発生が抑えられたカラーフィルタを提供する。【解決手段】仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する感光性転写材料を用いた転写法によるブラックマトリックスの形成後、着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターンを形成する工程と、仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する工程とを有している。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する第１の感光性転写材料を用いてブラックマトリックスを形成する工程と、
前記基板の前記ブラックマトリックスが形成された側に着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターンを形成する工程と、
仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する第２の感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する工程と、
を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記スペーサ材は、前記ブラックマトリックス上の前記着色パターンが存在しない領域に形成されたことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記ブラックマトリックスは、基板法線方向における高さが０．５〜４．０μｍであり、長さ方向と直交する断面における幅長が５〜１００μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記ブラックマトリックスは、長さ方向と直交する断面が方形に構成され、
前記断面における、基板面と交差する辺が基板面となす鋭角の角度が４５〜９０°であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記ブラックマトリックス上に重なる前記着色パターンの重なり幅長が１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記着色感光性樹脂組成物の塗布をスリットコート法により行なうことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法により得られたカラーフィルタ。
【請求項８】
請求項７に記載のカラーフィルタを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置に関し、詳しくは、画像表示したときの表示特性を向上させるのに好適なカラーフィルタ及びその製造方法、並びにこれを用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用のカラーフィルタは一般に、ガラス等の基板上に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、ドット状画像の境界部をブラックマトリクス等の濃色離画壁で区分した構造に構成されている。
【０００３】
このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、基材としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像とを繰り返し行なう方法（着色レジスト法；例えば、特許文献１参照）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布して感光性着色層を形成し、形成された着色層を順次、基材上に直接転写して露光及び現像を行なう操作を、色相の数だけ繰り返し行なう方法等により多色画像を形成する方法（転写法）が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
これらの方法のうち、着色レジスト法、転写法では、各色画素が位置精度高く配されたカラーフィルタを作製できるとされている。例えば、着色レジスト法によりブラックマトリックスを形成後、さらに着色レジスト法によりＲＧＢ等の各色画素を形成する方法や、転写法によりブラックマトリックスを形成後、さらに転写法により各色画素を形成する方法が知られているほか、黒色材に金属粒子又はカーボンブラックを用いたブラックマトリックスを転写法により形成後、各色画素を着色レジスト法により形成する方法（例えば、特許文献３〜４参照）なども知られている。
【０００５】
一方、液晶表示装置は、スペーサ材を挟んで所定の間隔に規制された２枚の基板間に液晶材料を設けて構成されている。この間隔を保つために、従来からビーズ等が用いられていたが、間隔の不均一やビーズ等の液晶表示部への混入などにより表示特性が損なわれやすいことから、スペーサ材には樹脂組成物が用いられてきている。
【特許文献１】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献２】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献３】特開２００６−１１１８０号公報
【特許文献４】特開２００５−３８６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、着色レジスト法により形成されたブラックマトリックス（以下、ブラックマトリックスを「ＢＭ」と略記することがある。）上に更に同様の方法でスペーサ材を形成しようとすると高さ均一性を保てず、また、着色レジスト法によるＢＭ形成後の基板表面（特にＲＧＢ等の色画素を形成しようとする領域）に残った残渣で混色を生じやすい課題がある。また、着色レジスト法により形成されたＢＭの表面には凹凸が存在するために、後にＲＧＢ各色を形成した際にＢＭ表面にも残渣ができやすく、ＢＭ上に更に設けられるＩＴＯ膜（透明導電膜）やスペーサの精度が低下しやすい。さらに、着色レジスト法を利用したＢＭ側面にも凹凸が形成されやすいため、空隙が生じやすく光漏れの原因となる。
【０００７】
一方、転写法によりＢＭが形成された基板上に更に、転写法によってＲＧＢ等の色画素を転写形成しようとした場合には、ＢＭと色画素間に泡（空隙）が入りやすく、やはり光漏れの原因となる課題がある。また、一般にＲＧＢ等の色画素はＢＭ上に重なり領域を有して形成されるが、転写法による場合には重なり領域の盛り上がりが大きくなりすぎる傾向にあり、カラーフィルタとしたときの表面平滑性の点で劣る。
【０００８】
他方、ＩＰＳ用途においては、さらに高度な表面の平坦性が要求されている。上記のように、ＢＭ上に重なり領域を有するようにＲＧＢ等の色画素を形成すると盛り上がり（転写法に比して着色レジスト法の方がこの盛り上がりは小さいが０（ゼロ）ではない）に起因する凹凸ができることから、この凹凸を平坦化するためにオーバーコート（ＯＣ）層を設けることが行なわれている。しかしながら、ＯＣ層を設けても凹凸を半分〜１／３にする効果しか得られない。ＲＧＢ画素の盛り上がりに起因した凹凸の程度を小さくすることは重要な技術課題の一つであるが、転写法によるＢＭ形成後に更に転写法によりＲＧＢ等の色画素を転写形成する方法では、凹凸解消の点で不利である
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、泡の混入（光漏れ）及び混色が抑制され、スペーサ材を設けたときの高さ均一性に優れ、表示ムラの発生が抑えられた（好ましくはＩＰＳ用途の）カラーフィルタ及びその製造方法並びに表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、均一厚で表面平滑な（残渣がなく凹凸の少ない）ＢＭの形成及びＢＭ形成時の基板表面の残渣の回避の点で転写法が有利であり、ＢＭとの重なり厚の小さい色画素の形成及び色画素形成時の泡（空隙）混入の防止の点では着色レジスト法が有利であり、さらにＢＭとスペーサ材とをともに転写法により形成すると高さ精度を飛躍的に向上させることが可能であるとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
【００１１】
＜１＞  基板上に、仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する第１の感光性転写材料を用いてブラックマトリックスを形成する工程と、前記基板の前記ブラックマトリックスが形成された側に着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターンを形成する工程と、仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する第２の感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する工程と、を有するカラーフィルタの製造方法である。
【００１２】
＜２＞  前記スペーサ材は、前記ブラックマトリックス上の前記着色パターンが存在しない領域に形成されたことを特徴とする前記＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜３＞  前記ブラックマトリックスは、基板法線方向における高さが０．５〜４．０μｍであり、長さ方向と直交する断面における幅長（図１に示す長さＡ）が５〜１００μｍであることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１３】
＜４＞  前記ブラックマトリックスは、長さ方向と直交する断面が方形に構成され、前記断面における、基板面と交差する辺が基板面となす鋭角の角度（図１に示す角度θ）が４５〜９０°であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜５＞  前記ブラックマトリックス上に重なる前記着色パターンの重なり幅長（図１に示す長さβ）が１〜１０μｍであることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜６＞  前記着色感光性樹脂組成物の塗布をスリットコート法により行なうことを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
＜７＞  前記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの製造方法により得られたカラーフィルタである。
＜８＞  前記＜７＞に記載のカラーフィルタを備えた表示装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、泡の混入（光漏れ）及び混色が抑制され、スペーサ材を設けたときの高さ均一性に優れ、表示ムラの発生が抑えられた（好ましくはＩＰＳ用途の）カラーフィルタ及びその製造方法並びに表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細に説明すると共に、該説明を通じて本発明のカラーフィルタ及びこれを用いた表示装置についても詳述することとする。
【００１７】
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、（1）基板上に、仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する第１の感光性転写材料を用いてブラックマトリックスを形成する工程（以下、「ＢＭ形成工程」ということがある。）と、（2）前記基板のブラックマトリックス（ＢＭ）が形成された側に着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターンを形成する工程（以下、「画素形成工程」ということがある。）と、（3）仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する第２の感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する工程（以下、「スペーサ形成工程」ということがある。）とを備えている。本発明のカラーフィルタの製造方法は、更に必要に応じて、他の工程を有して構成されていてもよい。
【００１８】
本発明のカラーフィルタの製造方法では、ＢＭ形成工程の後に画素形成工程とスペーサ形成工程とを設けて、基板上にブラックマトリクス（ＢＭ）、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），及び青色（Ｂ）を含む色画素、並びにスペーサを形成してカラーフィルタを作製するものであり、ＢＭ形成工程後の画素形成工程とスペーサ形成工程とはいずれを先の工程としてもよい。
【００１９】
（1）ＢＭ形成工程
ＢＭ形成工程では、カラーフィルタを構成する基板上に、仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する第１の感光性転写材料を用いてブラックマトリックス（ＢＭ）を形成する。
【００２０】
本発明では、ＢＭの形成を着色レジスト法によらず転写法により行なうことで、表面平滑な（表面凹凸が少ない）ＢＭが得られるので、後の（3）スペーサ形成工程でＢＭ上にスペーサを立てたときの合計高さのバラツキが飛躍的に抑えられ、画像表示した際の表示ムラを防止することができる。また、着色レジスト法によるＢＭと異なり、ＢＭ側面の凹凸も防止できるので、後の（2）画素形成工程で形成されるＲＧＢ等の色画素との間に空隙が入りにくく、光漏れをも解消することができる。また、ＢＭ形成時の、後の（2）画素形成工程で色画素を形成する領域に残るＢＭ残渣が減じ、これに伴なう色画素形成時の残渣も減るので、混色を抑制することができる。
【００２１】
ブラックマトリックスのサイズとしては、基板法線方向における高さが０．５〜４．０μｍの範囲内であることが好ましい。高さが前記範囲内であると、十分な遮光性が得られ、かつＲＧＢ等の色画素との段差が小さく抑えられ、ＩＴＯ等の透明導電膜や配向膜の亀裂等の欠陥の発生を防止でき、表示ムラの少ない表示特性に優れた画像表示を行なうことができる。
【００２２】
前記高さは、接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて測定される値である。
【００２３】
また、ブラックマトリクスの幅、すなわち長さ方向と直交する断面における基板面での幅長（図１に示す長さＡ）が５〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。幅長が前記範囲内であると、色画素（ＲＧＢ等）となる領域の開口率が高く画像表示した際の明るさを確保でき、幅長が狭すぎてコントラスト低下の原因となることもない。
【００２４】
前記幅長Ａは、ＯＬＹＭＰＵＳ  Ｉｋｅｇａｍｉ  ＩＴＣ−３７０Ｍ（オリンパス（株）製）を搭載した金属顕微鏡ＶＡＮＯＸ  ＡＨＭＴ３（オリンパス（株）製）とＦＬＯＶＥＬ  ＶＩＤＥＯ  ＭＩＣＲＯ  ＭＥＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−４０（オリンパス（株）製）とを用いて直接観察することにより測定されるものである。
【００２５】
ブラックマトリックスの形状は、ＢＭの長さ方向と直交する平面で切ったときの断面形状が方形（四角形）に構成されていることが好ましく、該断面形状の４つの辺のうち、基板面と交差する辺が基板面となす鋭角の角度θ（図１参照）が４５〜９０°であることが好ましい。角度θが前記範囲内であると、画像表示した際の明るさを保ちつつ光漏れを防止できる。すなわち、角度θは、４５°未満であると幅が広すぎて色画素領域の開口率が小さくなって明るさを保てないことがあり、９０°を超えるとＢＭと色画素間に気泡が入りやすく光漏れを生じることがある。
【００２６】
本工程では、仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する第１の感光性転写材料を用いてブラックマトリクス（ＢＭ）を形成する。
この第１の感光性転写材料は、仮支持体上に、少なくともカーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を有して構成されたものであり、必要に応じて、熱可塑性樹脂層、中間層、及び保護層等を設けることができる。
【００２７】
例えば、特開平５−７２７２４号公報に記載の感光性樹脂転写材料、具体的には一体型の転写フィルムを好適に用いることができる。この一体型の転写フィルムの構成例として、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性樹脂層／保護フィルムの積層構造に構成された転写材料が挙げられる。以下、各構成を略説する。
【００２８】
〜仮支持体〜
仮支持体としては、例えば、ポリエステル、ポリスチレン等の公知の基材を用いることができる。中でも、２軸延伸したポリエチレンテレフタレートは、コスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。
仮支持体の厚みとしては、１５〜２００μｍ程度、より好ましくは３０〜１５０μｍ程度が好ましい。仮支持体の厚みが前記範囲内であると、ラミネーション工程時に熱によりトタン板状のしわが発生するのを効果的に抑制することができ、コスト上も有利である。
【００２９】
〜感光性樹脂層〜
感光性樹脂層は、カーボンブラックを含むブラックマトリクス作製用の感光性樹脂組成物を用いてなる層である。感光性樹脂層の層厚は、０．５〜５．０μｍ程度が好ましく、更には１．０〜２．５μｍが好ましい。
【００３０】
感光性樹脂層は、カーボンブラックを少なくとも含有し、目的や必要に応じて、他の着色剤、バインダーとなるポリマー、光重合開始剤、及びエチレン性不飽和二重結合を有する光照射により付加重合可能な重合性モノマー等を用いて構成することができる。
【００３１】
カーボンブラックの例としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ（ピグメント・ブラック）７（カーボンブラック  Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７７２６６）が好ましい。市販品として、三菱カーボンブラック  ＭＡ１００（三菱化学（株）製）、三菱カーボンブラック  ＃５（三菱化学（株）製）などが挙げられる。
【００３２】
感光性樹脂層には、前記カーボンブラックと共に、下記の顔料等その他の微粒子などの他の着色剤を用いることができる。他の着色剤を用いることにより、黒色により近い色相に構成することができる。
【００３３】
前記顔料は、一般に有機顔料と無機顔料とに大別されるが、本発明においてはカーボンブラックと同一分散剤で分散できる顔料が好ましい。好適な顔料の例としては、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、キナクリドン系顔料、イソインドリノン系顔料、ニトロ系顔料を挙げることができる。
有機顔料の色相は、例えば、黄色、オレンジ色、赤色、バイオレット色、青色、緑色、ブラウン色、黒色等が好ましい。
【００３４】
前記黒色の顔料としては、カーボンブラック以外に、チタンブラック、又は黒鉛が色味の観点から好適なものとして挙げられる。
チタンブラックの例としては、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、ＴｉＮやこれらの混合物が好ましい。市販品として、三菱マテリアルズ（株）製の（商品名）１２Ｓや１３Ｍが挙げられる。チタンブラックの平均粒径は４０〜１００ｎｍが好ましい。チタンブラックの平均粒径は、４０ｎｍ未満であると凝集等の問題が起こりやすくなることがあり、１００ｎｍを超えると好ましい色味が得られないことがある。
黒鉛の例としては、粒子径がストークス径で３μｍ以下のものが好ましい。該粒子径が３μｍを超えると、遮光パターンの輪郭形状が不均一になり、シャープネスが悪くなることがある。また、粒子径の大部分は０．１μ以下であることが望ましい。
【００３５】
以下、感光性樹脂層に使用可能な顔料等の微粒子（他の着色剤）の例を列挙する。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
前記微粒子の具体的な例としては、特開２００５−１７７１６号公報の段落番号［００３８］〜［００４０］に記載の色材や、特開２００５−３６１４４７号公報の段落番号［００６８］〜［００７２］に記載の顔料、特開２００５−１７５２１号公報の段落番号［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に挙げることができる。
【００３６】
また、「顔料便覧、日本顔料技術協会編、誠文堂新光社、１９８９年」、「ＣＯＬＯＵＲ  ＩＮＤＥＸ、ＴＨＥ  ＳＯＣＩＥＴＹ  ＯＦ  ＤＹＥＳ  ＆  ＣＯＬＯＵＲＩＳＴ、ＴＨＩＲＤ  ＥＤＩＴＩＯＮ、１９８７」に記載のものを参照して適宜用いることもできる。
【００３７】
顔料の球相当直径は、５ｎｍ以上５μｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ以上１μｍ以下が好ましく、更にカラーフィルタ用としては、２０ｎｍ以上０．５μｍ以下が好ましい。
【００３８】
〜カーボンブラックの分散〜
カーボンブラックは、安定な分散状態で存在していることが好ましい。分散を行なう際の分散剤や、カーボンブラックが分散された分散液に配合してもよい添加剤については、特開２００５−１７３２２号公報の段落番号［００２７］〜［００３１］に記載の分散剤や添加剤が好適なものとして挙げられる。
【００３９】
本発明における感光性樹脂層は、前記カーボンブラックと共に、バインダーとなるポリマー、光重合開始剤、及びエチレン性不飽和二重結合を有する光照射により付加重合可能な重合性モノマー等を含有してなる感光性樹脂組成物を用いて形成された態様が好ましい。
【００４０】
前記感光性樹脂組成物には、アルカリ水溶液で現像可能なタイプと有機溶剤で現像可能なタイプとがある。安全性と現像液のコストとの観点から、アルカリ水溶液で現像可能なものが好ましく、したがって、バインダーとなるポリマーとしてアルカリ可溶性ポリマーを用いて構成された態様が好ましい。
感光性樹脂組成物は、光や電子線などの放射線が照射された領域が硬化するネガ型に構成されてもよいし、放射線未照射の領域が硬化するポジ型に構成されてもよい。
【００４１】
前記感光性樹脂組成物を構成する各成分の詳細については、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２１］や、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色感光性樹脂組成物を構成する成分を好適なものとして挙げることができる。
【００４２】
ブラックマトリクスの光学濃度としては、２．０以上１０．０以下が好ましく、より好ましく３．０以上６．０以下であり、特に好ましく３．５以上５．５以下である。光学濃度が前記範囲内であると、遮光性を付与することができる。
【００４３】
ブラックマトリクスの形成は、上記の感光性樹脂組成物を用いてなる感光性樹脂層を有する第１の感光性樹脂転写材料を用いて所望の基板上に感光性樹脂層を転写し、必要に応じてパターン状に露光し、現像する（パターニングする）方法であれば特に制限はない。
【００４４】
感光性樹脂転写材料を構成する感光性樹脂層以外の層については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２３］〜［００６６］に記載の熱可塑性樹脂層、中間層、保護フィルムが好適なものとして挙げられる。
【００４５】
感光性樹脂転写材料の作製は、仮支持体上に、感光性を有し、カーボンブラックを含むブラックマトリクス作製用の感光性樹脂組成物を、例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００２３］〜［００６６］に記載の通常の塗布装置等を用いて塗布し、感光性樹脂層を形成することにより行なえる。感光性樹脂層の形成は、スリット状ノズルを備えた塗布装置（スリットコータ）を用いたスリットコート法によって行なうことが好ましい。スリットコーターの好ましい具体例等については後述する。
また、熱可塑性樹脂層、中間層を設ける場合も同様にして行なうことができる。
【００４６】
なお、感光性樹脂転写材料において、感光性樹脂層の層厚としては、１．０〜５．０μｍが好ましく、１．０〜４．０μｍがより好ましく、１．０〜３．０μｍが特に好ましい。また、特に限定されるものではないが、その他各層の好ましい層厚については、仮支持体は１５〜１００μｍの範囲が、熱可塑性樹脂層は２〜３０μｍの範囲が、中間層は０．５〜３．０μｍの範囲が、保護フィルムは４〜４０μｍの範囲が一般に好ましい。
【００４７】
〜ブラックマトリクスの形成〜
ＢＭ形成工程は、感光性樹脂層を有する第１の感光性樹脂転写材料を用い、所望の基板上に感光性樹脂層を転写してブラックマトリクスを形成する工程であり、本工程中において感光性樹脂層をパターン状に露光し、現像することにより所望のパターン形状に構成されたブラックマトリクスを形成することができる。更に必要に応じて、ポスト露光や加熱処理等の他の工程を設けて構成することができる。
【００４８】
詳細には、ブラックマトリクスの形成は、第１の感光性樹脂転写材料を用いて光透過性の基板の上に感光性樹脂転写材料を、基板表面と感光性樹脂層とが接触するように配置して積層し、感光性樹脂転写材料と基板との積層体とした後、この積層体から仮支持体を剥離して感光性樹脂層を基板上に（例えば熱可塑性樹脂や中間層と共に）転写し、転写された感光性樹脂層をパターン状に露光し、現像することによって、ブラックマトリクスを形成することができる。この方法は、煩瑣な工程を必要とせず、低コストに行なうことができる。
【００４９】
前記感光性樹脂層の転写は、感光性樹脂転写材料を用い、感光性樹脂層を所望の基板上に加熱及び／又は加圧したローラー又は平板を用いて圧着又は加熱圧着することによって貼り付けることにより行なうことができる。
具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点から、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法が好ましい。
【００５０】
上記のように、転写以外に露光、現像、ポスト露光、加熱処理などの工程を設けることができ、これらの工程の詳細については、特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００６７］〜［００７４］に記載の工程を好適に適用することができる。
【００５１】
（2）画素形成工程
画素形成工程では、前記ＢＭ形成工程でのブラックマトリックス（ＢＭ）の形成後、基板のＢＭが形成された側に着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターン（色画素）を形成する。
画素形成工程は、必要に応じて加熱処理等の他の工程を設けて構成することができる。
【００５２】
本発明では、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），及び青色（Ｂ）を含む色画素の形成を転写法によらず着色レジスト法により行なうことで、ＢＭ間への気泡の混入に伴なう光漏れを防止できると共に、ＢＭ上に重なり領域を有して着色パターン（色画素）を形成した際の重なり厚を薄くすることが可能であるので、ＢＭと色画素との間の段差を小さくでき、ＩＴＯ等の透明導電膜や配向膜の亀裂等の欠陥の発生を防止して表示ムラの少ない画像表示を行なうことができる。
【００５３】
ＢＭ上に重なり領域を有してＲＧＢ等の着色パターンを形成した際にできるＢＭと色画素との間の段差（図１中の長さα）としては、０〜０．１μｍ程度が望ましく、着色レジスト法はＢＭが既設の基板上に着色パターンを形成する際に好適である。
この段差αが前記範囲内であると、表示ムラを解消して表示品質の高い画像表示を行なえる。すなわち、重なり領域を設けたことによる段差αが大きすぎると、ＩＴＯ等の透明導電膜や配向膜の亀裂等の欠陥を生じやすくなり、表示ムラとなることがある。
【００５４】
ＢＭ上に重なり領域を有してＲＧＢ等の着色パターンを形成した際の、ＢＭ上における着色パターンの重なり幅長（図１に示す長さβ）としては、１〜１０μｍであることが好ましい。重なり幅長βが前記範囲内であると、表示ムラを解消して表示品質の高い画像表示を行なえる。すなわち、重なり幅長βは、１μｍ未満であると部分的にＢＭと色画素間に隙間ができやすく光漏れを起こすことがあり、１０μｍを超えると段差が大きくなり、ＩＴＯ等の透明導電膜や配向膜の亀裂等の欠陥を生じやすく、表示ムラとなることがある。重なる幅βは、光学顕微鏡で直接観察して求められるものである。
【００５５】
本工程では、前記ＢＭ形成工程でブラックマトリクスが形成された基板のブラックマトリクス形成面側に着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、この塗布膜をパターン状に露光し、更に現像を行なって赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）を含む着色パターンを形成する。
【００５６】
塗布膜は、着色感光性樹脂組成物をスピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いた公知の塗布法により塗布し、乾燥させることによって好適に形成することができる。  中でも、本発明においては、高さ精度を保って表示ムラのない画像表示を行なう観点から、前記塗布を液を吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルを用いて行なうことが好ましい。具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズルを有するスリットコーターが好適に用いられる。
【００５７】
スリット塗布は、先端に幅数十ミクロンのスリット（間隙）を有し、かつ、矩形基板の塗布幅に対応する長さの塗布ヘッドを、基板とのクリアランス（間隙）を数１０〜数１００ミクロンに保持しながら、基板と塗布ヘッドとに一定の相対速度を持たせて、所定の吐出量でスリットから供給される塗布液を基板に塗布する塗布方式である。
このスリット塗布は、（１）スピン塗布に比して液ロスが少ない、（２）塗布液の飛びちりがないため洗浄処理が軽減される、（３）飛び散った液成分の塗布膜への再混入がない、（４）回転の立ち上げ停止時間がないのでタクトタイムが短縮化できる、（５）大型の基板への塗布が容易である、等の利点を有する。これらの利点から、スリット塗布は大型画面の液晶表示装置用カラーフィルタの作製に好適であり、塗布液量の削減にとっても有利な塗布方式として期待されている。
【００５８】
本発明における着色パターン（色画素）とは、基板上のブラックマトリクスにより離画されている領域に形成された、Ｒ、Ｇ、及びＢの少なくとも一色を含む着色画素で構成されるものである。
【００５９】
前記着色画素の形成に用いる塗布液としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１０］〜［００２１］に記載の着色感光性樹脂組成物などが好適なものとして挙げられる。
【００６０】
（3）スペーサ形成工程
スペーサ形成工程では、前記ＢＭ形成工程でのＢＭ形成後、前記画素形成工程前もしくは後に、仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する第２の感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する。
【００６１】
本発明では、スペーサ材の形成を、ビーズ等や着色レジスト法によらず転写法により行なうことで、高さ精度の均一なスペーサ材を設けることができる。特に、本発明においては、既述のように転写法により厚み精度の高いＢＭを設けると共に、着色レジスト法によりＢＭとの段差の小さい着色パターン（色画素）が設けられ、さらに転写法により高さ精度の均一なスペーサ材が設けられるので、高さ精度に特に優れ、表示装置を構成した際に表示画像を表示ムラを抑えて表示品質の良好な画像表示を行なうことができるカラーフィルタを得ることができる。中でもＢＭ上にスペーサ材を設けた構成では、高さ均一性を飛躍的に向上させることが可能である。
【００６２】
本工程でのスペーサ材の形成は、ＲＧＢ等の着色パターン（色画素）上及びＢＭ上のいずれにおいて行なわれてもよい。ＲＧＢ等の画像表示部の開口率を保って明るさを確保する観点からは、ＢＭ上にスペーサ材を形成することが好ましく、しかもＢＭ上にスペーサ材を形成する構成にすると、既述のＢＭ形成工程ではＢＭは転写法により高さ精度よく形成されるのでよりスペーサの高さバラツキが低減され、表示ムラの発生のない高い表示品質のカラーフィルタを作製することができる。
【００６３】
ＢＭ上にスペーサ材を形成する場合、ＢＭ上の着色パターン（色画素）が存在しない領域に形成することができる。ここで、「存在しない領域」とは、画像表示を行なう、いわゆる画素（ＲＧＢ等）として機能するパターン（前記ＢＭとの重なり領域を含む）が形成されていない領域をさし、現像残渣などが残って着色がある領域は含まれない。
【００６４】
本発明におけるスペーサ材は、液晶材料を挟む二枚の基板の間隙（いわゆるセル厚）を所定の距離に維持するためのスペーサ（以下、フォトスペーサともいう。）であり、少なくともＢＭ形成工程でブラックマトリクスが形成された基板のＢＭ形成面側にスペーサ材形成用の光硬化性樹脂組成物（以下、「フォトスペーサ用組成物」ともいう。）を用いてなる感光性樹脂層を転写形成し、この感光性樹脂層を露光、現像することによりフォトスペーサを形成することができる。
【００６５】
前記感光性樹脂層の形成は、前記フォトスペーサ用組成物を用い、フォトスペーサ用組成物からなる感光性層を有する第２の感光性転写材料を作製し、この第２の感光性転写材料をその感光性層の表面で接するようにＢＭが形成された基板のＢＭ形成面に重ね合わせ、フォトスペーサ用組成物からなる感光性層を基板に転写し、更に露光及び現像することにより行なえる（転写法）。転写法によると、フォトスペーサの形状均一性に優れる。
【００６６】
本工程のように、転写材料を用いて形成されたスペーサ材は、高さ精度に優れており、液晶セルのセル厚を均一に保つのに有効である。そのため、本発明におけるスペーサ材は、液晶セルのセル厚の変動で表示ムラを起こし易い液晶表示装置の用途、特にＩＰＳ用途に好適に用いることができる。
【００６７】
次に、第２の感光性転写材料を構成する感光性樹脂層を形成するためのフォトスペーサ用組成物について説明する。
本発明におけるフォトスペーサ用の光硬化性樹脂組成物は感光性を有する必要があり、感光性を有するアルカリ現像が可能な樹脂組成物を用いることが好ましい。
中でも、（Ａ）高分子物質と（Ｂ）重合性モノマーと（Ｃ）光重合開始剤とを少なくとも含有し、必要に応じて、（Ｄ）その他の成分として着色剤や界面活性剤などを用いて構成することができる。
このフォトスペーサ用の光硬化性樹脂組成物としては、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００２７］〜［００５４］に記載の「感光性樹脂層」を構成する成分や、特開２００６−１８２２２号公報の段落番号［００５０］〜［０１０９］内に記載の「ネガ型感光層」を構成する成分が好適なものとして挙げられる。
【００６８】
本発明におけるフォトスペーサの変形回復率としては、１７μｍφのフォトスペーサを５０μｍφの円錘台圧子で、負荷速度０．１４５ｇｆ／秒、最大荷重７８ｍＮ、保持時間５秒、測定温度２３℃の条件にて、負荷−除荷テストを行なった際の変形回復率で、７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。
変形回復率が前記範囲内にあると、外部からの圧縮強度に耐え、パネル形成時における塑性変形を防止して所望厚の液晶層を得ることができる。
その結果、厚変化により生じ得る表示ムラが解消され、高画質画像の表示が可能となるので好ましい。
【００６９】
本発明における前記フォトスペーサは、前記ブラックマトリクス上に設けることが好ましい。フォトスペーサをブラックマトリクス上に設けることで、フォトスペーサに起因する光もれを防ぎ、表示品位が向上する。また、ブラックマトリクスと着色パターンとが重なり合った重なり領域の上に設けてもよく、この場合は、高さが低いフォトスペーサであっても十分なセルギャップを保つことができ好ましい。
【００７０】
更に、本発明におけるブラックマトリクス及びフォトスペーサは、上記の様に感光性樹脂層を用いた構成であることから、膜厚変動が小さくなるため、ＢＭとフォトスペーサとで規定されるセル厚の厚み変動を小さくすることができ、その結果、これらを用いた液晶表示装置の表示品位が向上する。
特にセル厚が２〜４μｍである薄膜構成の場合に、液晶表示装置が表示する画像中の表示ムラを効果的に防止することができる。
【００７１】
本発明におけるフォトスペーサは、上述のブラックマトリクスの項（ＢＭ形成工程）にて説明した製造方法と同様の製造方法で作製することができる。
前記フォトスペーサを形成するための感光性樹脂層の層厚は、０．５〜１０．０μｍが好ましく、１〜６μｍがより好ましい。層厚が前記範囲であると、感光性転写材料の製造時における塗布形成の際のピンホールの発生が防止され、未露光部の現像除去を長時間要することなく行なうことができるため好ましい。
【００７２】
−基板−
カラーフィルタを構成する基板としては、例えば、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板、あるいはプラスチックフィルム等を用いることができる。
【００７３】
本発明のカラーフィルタは、既述のように、転写法によるブラックマトリックス（ＢＭ）、塗布形成されたＲＧＢ等の着色パターン、及び転写法によるスペーサ材を備えるので、例えば液晶表示装置などを構成した場合に、光漏れや混色による色相低下、並びに表示ムラの発生や表示コントラストの変動を抑えられており、安定してコントラストが高く明るい表示品質の良好な画像を表示することができる。
【００７４】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、既述の本発明のカラーフィルタを設けて構成されたものであり、このカラーフィルタは既述の本発明のカラーフィルタの製造方法により作製されるので、光漏れが抑えられており、色相が良好で表示ムラを防止した優れた表示品位の画像表示が可能である。
【００７５】
表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが含まれる。
【００７６】
表示装置の定義や各表示装置の説明については、例えば「電子ディスプレイデバイス」（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）、「ディスプレイデバイス」（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）などに記載されている。
【００７７】
本発明においては、表示装置のうち液晶表示装置が特に好ましい。液晶表示装置については、例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術」（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）に記載されている。液晶表示装置の形態に特に制限はなく、例えば、前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載の色々な方式の液晶表示装置に構成することができる。
中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に構成されると効果的である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば、「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」（共立出版（株）、１９９６年発行）に記載がある。さらに、本発明の液晶表示素子は、ＩＰＳやＦＦＳ、ＡＦＦＳ等の横電界駆動方式（例えば、特開２０００−１３１７２０号公報参照）、ＭＶＡ等の画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置に構成することも可能である。これらの方式については、例えば、「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−」（東レ・リサーチセンター調査研究部門、２００１年発行）の４３ページに記載されている。
中でも特に、本発明の表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に構成されるのが好ましい。
【００７８】
液晶表示装置は、カラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなど、様々な公知の部材を用いて構成することができる。上記した本発明のカラーフィルタは、これら公知の部材で構成された液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば、「'９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場」（島健太郎、（株）シーエムシー、１９９４年発行）、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）」（表  良吉、（株）富士キメラ総研、２００３年発行）に記載されている。
【実施例】
【００７９】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【００８０】
（実施例１）
−感光性樹脂転写材料Ｋ１の作製−
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（ＰＥＴ仮支持体）の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、この熱可塑性樹脂層上に更に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を積層した。続いて、中間層上に下記の着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布し、乾燥させて、ブラック（Ｋ）の感光性樹脂層を更に積層した。
【００８１】
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体上に乾燥膜厚１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚２．２μｍの感光性樹脂層とを設け、感光性樹脂層の表面に保護フィルム（厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルム）を圧着して、仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層（酸素遮断層）／ブラックの感光樹脂層／保護フィルムの積層構造に構成された感光性樹脂転写材料を作製した。以下、これを感光性樹脂転写材料Ｋ１とする。
【００８２】
〈熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１>
・メタノール                                      …１１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…  ６．３６部
・メチルエチルケトン                              …５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体                              …  ５．８３部
（共重合比[モル比]＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝９万、Ｔｇ≒７０℃）
・スチレン／アクリル酸共重合体                    …１３．６部
（共重合比[モル比]＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）
・ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリレートを２当量脱水縮合した化合物（商品名：２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン、新中村化学工業（株）製）                    …  ９．１部
・界面活性剤１                                    …  ０．５４部
【００８３】
<中間層用塗布液の処方Ｐ１>
・ＰＶＡ−２０５                                  …  ３２．２部
〔（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０；ポリビニルアルコール〕
・ポリビニルピロリドン                            …  １４．９部
（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）
・蒸留水                                          …５２４部
・メタノール                                      …４２９部
【００８４】
<着色感光性樹脂組成物Ｋ１の調製>
まず下記表１に記載の量のＫ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）アミノ−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、及び界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌することにより、着色感光性樹脂組成物Ｋ１を調製した。
【００８５】
【表１】
2007304209.tif 000002
【００８６】
以下、前記表１中の各成分の詳細を示す。
＊Ｋ顔料分散物１
・カーボンブラック（Ｎｉｐｅｘ３５、デグッサ・ジャパン社製）…１３．１部
・分散剤（下記化合物１）…０．６５部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合体、分子量３．７万）…６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７９．５３部
【００８７】
【化１】
2007304209.tif 000003
【００８８】
＊バインダー１
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７８／２２[モル比]）のランダム共重合体、分子量３．８万）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
＊ＤＰＨＡ液
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）…７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…２４部
＊界面活性剤１
・下記構造物１…３０部
・メチルエチルケトン…７０部
【００８９】
【化２】
2007304209.tif 000004
【００９０】
−ブラックマトリクスの形成（転写法）−
無アルカリガラス基板（以下、単位「ガラス基板」という。）に、２５℃に調整したガラス洗浄液（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈したもの）をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。その後、この基板を基板予備加熱装置により１００℃で２分間加熱し、次工程のラミネータに送った。
なお、上記では洗浄液としてＴ−ＳＤ１を用いたが、Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）を同様に用いることができる。
【００９１】
シランカップリング処理後のガラス基板に、上記の感光性樹脂転写材料Ｋ１から保護フィルムを除去して露出した感光性樹脂層の表面を前記ガラス基板の表面と接するようにして重ね合わせ、ラミネータＬａｍｉｃII型（株式会社日立インダストリイズ製）を用いて、ガラス基板にゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分の条件にてラミネートした。続いて、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、ＰＥＴ仮支持体を除去した。ＰＥＴ仮支持体を除去後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、ガラス基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）とを垂直に立てた状態で、マスク表面と感光性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
マスクは、線幅３０μｍのブラックマトリクス形成用であり、横１００μｍ×縦３００μｍのストライプ状の開口部を有するマスクである。
【００９２】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有；商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士写真フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水を１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で５０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａにてシャワー現像し、熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。引き続き、このガラス基板面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけてガラス基板上の液だまりを減らした。
【００９３】
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．３８モル／リットルの炭酸水素ナトリウム；商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士写真フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用い、２９℃で３０秒間、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａにて感光性樹脂層をシャワー現像し、パターン像を得た。
【００９４】
続いて、洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有；商品名：Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム（株）製））を純水で１０倍に希釈したものを用いて３３℃で２０秒間、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａにてシャワーで吹きかけ、更にナイロン毛を有する回転ブラシによりパターン像を擦って残渣除去を行ない、ブラックマトリクスを得た。なお、上記では洗浄液としてＴ−ＳＤ１を用いたが、Ｔ−ＳＤ２（富士写真フイルム（株）製）を同様に用いることができる。
その後、上記の露光時に用いた露光機によりマスクを用いずに、このガラス基板に対して両面から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光量でポスト露光した後、２２０℃で１５分間熱処理を行ない、ブラックマトリクスを形成した。
【００９５】
−レッド（Ｒ）画素の形成−
ブラックマトリクスが形成されたガラス基板を冷却し、２３℃に温調後、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（平田機工（株）製）にて、下記表２に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｒ１を塗布して塗布層を形成した。引き続き、ＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥させて塗布層の流動性をなくした後、１２０℃で３分間プリベークして感光性樹脂層Ｒ１を得た。
次いで、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用い、基板とマスク（画像パターンを有する石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂層Ｒ１との間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。マスクは、横１０３μｍ×縦３０３μｍのストライプ状の開口部を有するマスクである。
【００９６】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂層Ｒ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロマテリアルズ（株）製）にて２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａにてシャワー現像し、パターン像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行ない、更に超純水をシャワーノズルで両面から吹き付けて、付着している現像液や感光性樹脂層の溶解物を除去し、エアーナイフにて液切りを行ない、Ｒ画素を形成した。引き続き、２２０℃で３０分間熱処理を施した。
前記感光性樹脂層Ｒ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７の塗布量はそれぞれ、０．８８ｇ／ｍ２、０．２２ｇ／ｍ２とした。
【００９７】
−グリーン（Ｇ）画素の形成−
ブラックマトリクス及びＲ画素が形成されたガラス基板に、下記表２に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｇ１を用いて、前記レッド（Ｒ）画素の形成と同様の工程を行ない、熱処理済みのＧ画素を形成した。
前記感光性樹脂層Ｇ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６及びＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０の塗布量はそれぞれ、１．１２ｇ／ｍ２、０．４８ｇ／ｍ２とした。
【００９８】
−ブルー（Ｂ）画素の形成−
ブラックマトリクス並びにＲ画素及びＧ画素が形成されたガラス基板に、下記表２に記載の組成よりなる着色感光性樹脂組成物Ｂ１を用いて更に、前記レッド（Ｒ）画素の形成と同様の工程を行ない、熱処理済みのＢ画素を形成した。
前記感光性樹脂層Ｂ１の膜厚は１．６μｍであり、顔料Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３の塗布量はそれぞれ、０．６３ｇ／ｍ２、０．０７ｇ／ｍ２とした。
以上のようにして、ガラス基板上にブラックマトリクス（ＢＭ）及びＲＧＢ画素が形成されたカラーフィルタ（以下、「カラーフィルタ基板」ともいう。）を作製した。
【００９９】
【表２】
2007304209.tif 000005
【０１００】
ここで、前記表２に記載の着色感光性樹脂組成物Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１の調製についてそれぞれ説明する。
〈着色感光性樹脂組成物Ｒ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｒ１は、前記表２に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、次いで前記表２に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られたものである。
【０１０１】
なお、前記表２に記載の組成物中の各組成Ｒ１の詳細は以下の通りである。
＊Ｒ顔料分散物１の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ  Ｒｅｄ  Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）…８．０部
・前記化合物１（分散剤）…０．８部
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物、分子量：３万）…８部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…８３部
＊Ｒ顔料分散物２の組成
・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ  Ｒｅｄ  Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）…１８部
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３７，０００）〕…１２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７０部
＊バインダー２の組成
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３８／２５／３７[モル比]）のランダム共重合物、分子量：４万〕…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
【０１０２】
〈着色感光性樹脂組成物Ｇ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｇ１は、前記表２に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表２に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られたものである。
【０１０３】
なお、前記表２に記載の組成物Ｇ１中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｇ顔料分散物１
商品名：ＧＴ−２（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）
＊Ｙ顔料分散物１
商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３（御国色素（株）製）
【０１０４】
〈着色感光性樹脂組成物Ｂ１の調製〉
着色感光性樹脂組成物Ｂ１は、前記表２に記載の量のＢ顔料分散物１、Ｂ顔料分散物２、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒ.ｐ.ｍ.で１０分間攪拌し、次いで、前記表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー３、ＤＰＨＡ液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒ.ｐ.ｍ.で３０分間攪拌し、更に、前記表２に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒ.ｐ.ｍ.で５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得た。
【０１０５】
なお、前記表２に記載の組成物Ｂ１中の各組成の詳細は以下の通りである。
＊Ｂ顔料分散物１
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７（御国色素（株）製）
＊Ｂ顔料分散物２
商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３（御国色素（株）製）
＊バインダー３の組成
・ポリマー〔ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート（＝３６／２２／４２[モル比]）のランダム共重合物（重量平均分子量３８，０００）…２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…７３部
【０１０６】
上記より作製したカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、オーバーコート層を設けた後にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
【０１０７】
−フォトスペーサの形成−
〈フォトスペーサ形成用感光性転写材料の作製〉
前記感光性樹脂転写材料Ｋ１の作製に用いた着色感光性樹脂組成物Ｋ１を、下記の組成よりなるフォトスペーサ形成用樹脂組成物に変更した以外は、上記の感光性樹脂転写材料Ｋ１と同様の方法によって、フォトスペーサ形成用感光性転写材料を作製した。感光性樹脂層の乾燥層厚は、４．１μｍであった。
【０１０８】
〜フォトスペーサ形成用樹脂組成物の組成〜
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート                        …４５２部
・メチルエチルケトン                                          …３２７部
・メタノール                                                  …    ０．０３５部
・バインダー４                                                …１０１部
（メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（＝２０／８０［モル比］）、重量平均分子量３６０００；高分子物質）
・前記ＤＰＨＡ液                                              …  ９９部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（  Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン      …    ２．５部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル                            …    ０．０３９部
・前記界面活性剤１                                            …    ０．８６部
・消色剤                                                      …  １７部
（商品名：ビクトリアピュアブルーＢＯＨ−Ｍ、保土ヶ谷化学（株）製）
【０１０９】
〈フォトスペーサの形成〉
上記より得たフォトスペーサ形成用感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、露出した感光性樹脂層の表面を、上記で作製したＩＴＯ膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のＩＴＯ膜上に重ね合わせ、ラミネータＬａｍｉｃII型〔（株）日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧１００Ｎ／ｃｍ、１３０℃の加圧・加熱条件下で搬送速度２ｍ／分にて貼り合わせた。その後、ＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、感光性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した。
【０１１０】
次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、マスク（画像パターンを有する石英露光マスク）と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と感光性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を４０μｍとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量６０ｍＪ／ｃｍ２にてプロキシミティー露光した。次いで、ＫＯＨ現像液（商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を、フラットノズルから２３℃、ノズル圧力０．０４ＭＰａにて８０秒間噴射してシャワー現像し、未露光部を現像除去してパターン（スペーサパターン）を得た。得られたスペーサパターンは、ブラックマトリクスの上方に位置するＩＴＯ膜上に形成され、直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの透明な柱状である。
続いて、スペーサパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、２３０℃下で３０分間加熱処理を行ない、フォトスペーサ（スペーサ材）とした。
【０１１１】
−液晶表示装置の作製− 
上記で得られたスペーサ付のカラーフィルタ基板にポリイミドを塗布し、ラビング処理を施し、配向膜を形成した。そして、このカラーフィルタ基板に対して、液晶材料を挟み込むようにして駆動側基板を組合せることによって液晶表示素子を作製した。すなわち、駆動側基板として、ＴＦＴとくし型の画素電極（導電層）とが配列形成されたＩＰＳ用ＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板と上記より得たカラーフィルタ基板とを、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面とカラーフィルタ基板の配向膜が形成された側の表面とが対向するように配置し、スペーサによる間隙を有して固定した。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けて液晶セルとした。このようにして得た液晶セルの両面に（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０１１２】
なお、本実施例ではＩＰＳモード用の液晶表示装置について具体的に説明したが、本発明はこれに限られるものではなく、ＡＦＦＳ等その他の液晶表示モードについても同様の効果を得ることができる。下記の実施例２〜１９についても同様である。
【０１１３】
（実施例２）
実施例１において、感光性樹脂転写材料Ｋ１の感光性樹脂層の乾燥膜厚を２．２μｍから０．６μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１４】
（実施例３）
実施例１において、感光性樹脂転写材料Ｋ１の感光性樹脂層の乾燥膜厚を２．２μｍから０．７μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１５】
（実施例４）
実施例１において、感光性樹脂転写材料Ｋ１の感光性樹脂層の乾燥膜厚を２．２μｍから４．２μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１６】
（実施例５）
実施例１において、感光性樹脂転写材料Ｋ１の感光性樹脂層の乾燥膜厚を２．２μｍから５．２μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１７】
（実施例６）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成に用いたマスク（ストライプ状）の線幅を３０μｍから５μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１８】
（実施例７）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成に用いたマスク（ストライプ状）の線幅を３０μｍから１０μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１１９】
（実施例８）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成に用いたマスク（ストライプ状）の線幅を３０μｍから１００μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２０】
（実施例９）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成に用いたマスク（ストライプ状）の線幅を３０μｍから１２０μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２１】
（実施例１０）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成の際に用いた炭酸Ｎａ系現像液による現像の現像条件を、２９℃で３０秒間から２６℃で３０秒間に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２２】
（実施例１１）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成の際に用いた炭酸Ｎａ系現像液による現像の現像条件を、２９℃で３０秒間から２１℃で３０秒間に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２３】
（実施例１２）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成の際の、炭酸Ｎａ系現像液を用いた現像条件を２９℃で３０秒間から３４℃で３０秒間に変更し、ポスト露光量を５００ｍＪ／ｃｍ2から１０００ｍＪ／ｃｍ2に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２４】
（実施例１３）
実施例１において、ブラックマトリクスの形成の際の、炭酸Ｎａ系現像液を用いた現像の現像条件を２９℃で３０秒間から３４℃で３０秒間に変更し、ポスト露光量を５００ｍＪ／ｃｍ2から２０００ｍＪ／ｃｍ2に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２５】
（実施例１４）
実施例１において、ＲＧＢ画素の形成に用いたマスク（ストライプ状）の開口部を横１０３μｍ×縦３０３μｍから横１００μｍ×縦３００μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２６】
（実施例１５）
実施例１において、ＲＧＢ画素の形成に用いたマスク（ストライプ状）の開口部を横１０３μｍ×縦３０３μｍから横１０１μｍ×縦３０１μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２７】
（実施例１６）
実施例１において、ＲＧＢ画素の形成に用いたマスク（ストライプ状）の開口部を横１０３μｍ×縦３０３μｍから横１１０μｍ×縦３１０μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２８】
（実施例１７）
実施例１において、ＲＧＢ画素の形成に用いたマスク（ストライプ状）の開口部を横１０３μｍ×縦３０３μｍから横１１５μｍ×縦３１５μｍに変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１２９】
（実施例１８）
実施例１において、ブラックマトリクス（ＢＭ）の上方に設けられたスペーサパターンの位置をＲＧＢ画素の上に変更したこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１３０】
（実施例１９）
実施例１において、ＲＧＢ画素の形成を、スリットノズルを用いたスリットコート法からスピンコーター１Ｈ−ＤＸ（ミカサ（株）製）を用いたスピンコート法に変更したこと以外、実施例と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１３１】
（比較例１）
実施例１において、転写法により行なったブラックマトリクスの形成を、ＲＧＢ画素の形成と同様に、着色感光性樹脂組成物Ｋ１をスリットノズルを用いてガラス基板上に塗布する塗布法により行なったこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１３２】
（比較例２）
実施例１において、塗布法により行なったＲＧＢ画素の形成を、ブラックマトリクスの形成と同様に、感光性樹脂転写材料Ｋ１を感光性樹脂転写材料Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１に代えて感光性樹脂層Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１を転写形成する転写法により行なったこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
なお、感光性樹脂転写材料Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１は、それぞれ感光性樹脂転写材料Ｋ１のブラックの感光性樹脂層を実施例１の着色感光性樹脂組成物Ｒ１，Ｇ１，Ｂ１を用いて赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の感光性樹脂層に代えて構成されたものである。
【０１３３】
（比較例３）
実施例１において、フォトスペーサを形成せずに、３．７μｍのビーズスペーサを用いたこと以外、実施例１と同様にして、ＲＧＢ画素及びスペーサを形成し、液晶表示装置を作製した。
【０１３４】
（評価）
実施例及び比較例の各々のブラックマトリクス及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置について、下記の測定、評価を行なった。測定・評価の結果は下記表３〜表４に示す。
【０１３５】
−１．ブラックマトリクスの形状評価−
（1）高さ
ブラックマトリクスのガラス基板面からの高さ（基板法線方向における長さ）を接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて測定した。
（2）幅長
ブラックマトリクスが形成されたガラス基板について、金属顕微鏡ＶＡＮＯＸ  ＡＨＭＴ３（オリンパス（株）製）にＯＬＹＭＰＵＳ  Ｉｋｅｇａｍｉ  ＩＴＣ−３７０Ｍ（オリンパス（株）製）を搭載し、ＦＬＯＶＥＬ  ＶＩＤＥＯ  ＭＩＣＲＯ  ＭＥＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＶＭ−４０（オリンパス（株）製）を用いて直接観察し、任意の１００点を選択して基板の法線方向にと直行する方向におけるブラックマトリクス幅を測定し、その平均値を算出して線幅とした。
（3）断面角度
ブラックマトリクスが形成されたガラス基板の各々を、ガラス基板ごと基板面に垂直に切断し、露出した切断面を光学顕微鏡で直接観察して、図１に示す角度θ（°）を計測した。
【０１３６】
−２．ＲＧＢ画素の重なり−
ブラックマトリクス及びＲＧＢ画素が形成されたガラス基板（カラーフィルタ）の各々を、ガラス基板ごと基板面に垂直に切断し、露出した切断面を光学顕微鏡で直接観察して、図１に示す重なる幅β（μｍ）を計測した。
【０１３７】
−３．スペーサ高さの変動幅−
ガラス基板面からスペーサパターンの上面までの高さを任意の１００点を選択して接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて測定し、高さの変動幅（μｍ）を求めた。
【０１３８】
−４．光漏れ−
各カラーフィルタの一方から光をあてて他方の側に漏れてくる透過光を観察し、３００ｍｍ×３００ｍｍの範囲のピンホール数をカウントし、下記の評価基準にしたがって評価した。
〔評価基準〕
○：ピンホール数は２個以下であった。
△：ピンホール数は３〜５個であった。
×：ピンホール数は６個以上であった。
【０１３９】
−５．混色−
各カラーフィルタを、ガラス基板のブラックマトリクス及び着色パターン（ＲＧＢ画素）の形成面側から光学顕微鏡により観察し、任意の１００画素について混色の有無を下記の評価基準にしたがって評価した。
〔評価基準〕
◎：混色箇所は全く認められなかった。
○：混色箇所は５未満であった。
△：混色箇所は５以上１０未満であった。
×：混色箇所は１０以上であった。
【０１４０】
−６．明るさ−
各液晶表示装置を用いてＲ、Ｇ、Ｂの各単色画像を発色させて、各色について面積１０ｃｍ×１０ｃｍの範囲における画面の明るさの変化を２０人に観察させ、実施例１の液晶表示装置の明るさを基準に、実施例１の液晶表示装置と対比して明るさの変化を感じ取れるか否かによって下記の評価基準にしたがって評価した。
〔評価基準〕
○：明るさの低下を認識した人数：０人
△：明るさの低下を認識した人数：１〜４人
×：明るさの低下を認識した人数：５人以上
【０１４１】
−７．表示ムラ−
各液晶表示装置を用い、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察して表示ムラの発生の有無を確認し、下記の評価基準にしたがって評価した。
〔評価基準〕
○：表示ムラは全く認められなかった。
△：表示ムラが僅かに認められた。
×：表示ムラが顕著に認められた。
【０１４２】
【表３】
2007304209.tif 000006
【０１４３】
【表４】
2007304209.tif 000007
【０１４４】
前記表３〜表４に示すように、実施例では、高さ変動を飛躍的に低減することができ、表示ムラのない表示品質の高い画像表示を行なうことができた。また、光漏れや混色の発生もなく、明るさのある表示画像が得られた。
これに対し、比較例では、高さ変動が大きく、表示ムラを効果的に抑えることができなかった。また、ＢＭを着色レジスト法により形成した比較例１及びＲＧＢ画素を転写法により形成した比較例２では、光漏れが発生し、比較例１ではさらに、残渣に伴なう混色も生じて色相の点でも劣っていた。比較例２では、比較例１より高さ変動は小さいものの、表面の凹凸は解消できなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１４５】
【図１】ＢＭ形状、ＢＭ断面の基板面と交差する辺が基板面となす角度θ、及びＢＭ上に重なり領域を有して形成された画素の重なり幅長、高さを説明するためのカラーフィルタ断面構成の一例を示す概略図である。
【図１】
2007304209.tif 000008