(57)【要約】 【課題】  均一で平坦な乾燥塗布膜を実現することができる乾燥方法、予備乾燥方法および乾燥装置を提供する。【解決手段】  液体状の塗布膜を塗布した基板１２を水平方向に動作させ、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替える。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥方法であって、
基板を保持する基板保持工程と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作工程とを有することを特徴とする乾燥方法。
【請求項２】
前記水平動作工程は、加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を有することを特徴とする請求項１記載の乾燥方法。
【請求項３】
前記等速運動段階における速さは、５０ｍｍ／ｓ以下であることを特徴とする請求項２記載の乾燥方法。
【請求項４】
前記加減速運動段階における加減速時間は、等速運動段階における等速時間の４分の１以下であることを特徴とする請求項２または３に記載の乾燥方法。
【請求項５】
前記加減速運動段階における加速度の大きさは、１２５ｍｍ／ｓ２以下であることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に記載の乾燥方法。
【請求項６】
前記水平動作工程は、往復運動を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の乾燥方法。
【請求項７】
前記塗布膜を加熱する加熱工程を、さらに有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の乾燥方法。
【請求項８】
基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥段階の前段階で、前記液体状の塗布膜を予備乾燥させる予備乾燥方法であって、
基板を保持する保持予備工程と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作予備工程とを有することを特徴とする予備乾燥方法。
【請求項９】
前記水平動作予備工程は、加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を有することを特徴とする請求項８記載の予備乾燥方法。
【請求項１０】
前記等速運動段階における速さは、５０ｍｍ／ｓ以下であることを特徴とする請求項９に記載の予備乾燥方法。
【請求項１１】
前記加減速運動段階における加減速時間は、等速運動段階における等速時間の４分の１以下であることを特徴とする請求項９または１０に記載の予備乾燥方法。
【請求項１２】
前記加減速運動段階における加速度の大きさは、１２５ｍｍ／ｓ２以下であることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載の予備乾燥方法。
【請求項１３】
前記水平動作予備工程は、往復運動を含むことを特徴とする請求項８〜１２のいずれか１項に記載の予備乾燥方法。
【請求項１４】
前記塗布膜を加熱する加熱予備工程を、さらに有することを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１項に記載の予備乾燥方法。
【請求項１５】
基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥装置であって、
基板を保持する基板保持手段と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作機構とを有することを特徴とする乾燥装置。
【請求項１６】
前記水平動作機構による加減速運動または等速運動を可能にするための装置制御機構を、さらに有することを特徴とする請求項１５記載の乾燥装置。
【請求項１７】
前記塗布膜を加熱する加熱手段を、さらに有することを特徴とする請求項１５または１６に記載の乾燥装置。
【請求項１８】
前記加熱手段は、ホットプレート、ロッド形ヒータおよび赤外線ランプのうち少なくともいずれか１つを含んでいることを特徴とする請求項１７記載の乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥方法、予備乾燥方法および乾燥装置に関する。本発明において「水平」は、水平±２°の範囲の傾斜を含むこととし、「水平動作」というときは、この範囲内での動作を含むこととする。この±２°という数値は基板を保持するステージの傾き、装置自体の傾き、装置を設置している床の傾きを考慮した値である。また塗布膜の流動性がなくなるまで液体状の塗布膜全体を乾燥させることを「本乾燥」または単に「乾燥」と称し、本乾燥の前段階で液体状の塗布膜の一部分だけを乾燥させることを「予備乾燥」と称し、塗布膜の表面部の一部分だけが乾燥した塗布膜を「表層乾燥塗布膜」と称することとする。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に塗布された液体状の塗布膜を乾燥させる方法として、加熱炉（ベーク炉）内に基板を配置して加熱乾燥を行う炉内ベーク方式、プレート（ホットプレート）上に基板を搭載して加熱乾燥するホットプレート方式、密閉可能なチャンバー内に基板を配置し、塗布膜を減圧乾燥させる減圧方式、気体を吹き付けることによって塗布膜を乾燥させる送風方式などが知られている。しかし加熱による乾燥では、液体状塗布膜を塗布した基板全体を均一に加熱することが難しく、基板上で温度差が生じ、乾燥速度が均一にならない。したがって乾燥後の塗布膜の膜厚および密度にムラができ、基板上の素子パターン精度にばらつきが生じるという問題があった。減圧方式では、液体状塗布膜中の溶剤が急激に蒸発することから、表面荒れが生じ、塗布膜内の密度も不均一になるという問題があった。送風方式では塗布膜表面の気流を制御することが難しく、基板上の液体状の塗布膜が流動性もつために、気流の乱れによって乾燥後の膜厚にムラが生じるという問題があった。また加熱も送風も行わなければ、液体状塗布膜を塗布した基板を移動させる搬送過程で、塗布膜の流動性によって膜厚にムラが生じ、膜厚が均一でないまま自然乾燥してしまうおそれがあった。
【０００３】
この問題を解決する方法として、インク塗布手段の近傍に予備乾燥手段を設けることによって、本乾燥までの搬送過程における自然乾燥を防ぎ、塗布膜をより平坦にする方法が提案された（特許文献１）。また搬送過程における塗布膜の溶剤の蒸発速度を抑制するために蒸発抑制部材を設ける方法（特許文献２）が提案された。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１６９０１３号公報
【特許文献２】特開２００３−１５９５５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしインク塗布手段の近傍に予備乾燥手段を設ける方法では、基板上において温度差が生じることで、塗布膜乾燥速度にムラができること、その結果膜厚が均一にならないという、加熱乾燥に伴う従来からの問題は依然解決されない。また本乾燥装置とは別に予備乾燥のための装置が必要となり、装置サイズおよび装置コストの増大を招くという問題点がある。一度に多くの基板を作製する際には特に大きな装置が必要となり、その結果基板全体の均一な加熱はさらに難しくなる。
【０００６】
一方蒸発抑制部材を設ける方法でも、本乾燥装置とは別に大きな部材が必要となり、装置サイズおよび装置コストが増大する。また乾燥過程において膜厚ムラが生じることについては、根本的な解決はなされていない。
【０００７】
本発明の目的は、均一で平坦な乾燥塗布膜を実現できる乾燥方法、予備乾燥方法および乾燥装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥方法であって、
基板を保持する基板保持工程と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作工程とを有することを特徴とする乾燥方法である。
【０００９】
また本発明は、前記水平動作工程は、加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を有することを特徴とする。
【００１０】
また本発明は、前記等速運動段階における速さは、５０ｍｍ／ｓ以下であることを特徴とする。
【００１１】
また本発明は、前記加減速運動段階における加減速時間は、等速運動段階における等速時間の４分の１以下であることを特徴とする。
【００１２】
また本発明は、前記加減速運動段階における加速度の大きさは、１２５ｍｍ／ｓ２以下であることを特徴とする。
【００１３】
また本発明は、前記水平動作工程は、往復運動を含むことを特徴とする。
また本発明は、前記塗布膜を加熱する加熱工程を、さらに有することを特徴とする。
【００１４】
また本発明は、基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥段階の前段階で、前記液体状の塗布膜を予備乾燥させる予備乾燥方法であって、
基板を保持する保持予備工程と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作予備工程とを有することを特徴とする予備乾燥方法である。
【００１５】
また本発明は、前記水平動作予備工程は、加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を有することを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、前記等速運動段階における速さは、５０ｍｍ／ｓ以下であることを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、前記加減速運動段階における加減速時間は、等速運動段階における等速時間の４分の１以下であることを特徴とする。
【００１８】
また本発明は、前記加減速運動段階における加速度の大きさは、１２５ｍｍ／ｓ２以下であることを特徴とする。
【００１９】
また本発明は、前記水平動作予備工程は、往復運動を含むことを特徴とする。
また本発明は、前記塗布膜を加熱する加熱予備工程を、さらに有することを特徴とする。
【００２０】
また本発明は、基板に塗布された液体状の塗布膜の乾燥装置であって、
基板を保持する基板保持手段と、
塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させる水平動作機構とを有することを特徴とする乾燥装置である。
【００２１】
また本発明は、前記水平動作機構による加減速運動または等速運動を可能にするための装置制御機構を、さらに有することを特徴とする。
【００２２】
また本発明は、前記塗布膜を加熱する加熱手段を、さらに有することを特徴とする。
また本発明は、前記加熱手段は、ホットプレート、ロッド形ヒータおよび赤外線ランプのうち少なくともいずれか１つを含んでいることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、液体状の塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させ、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることによって、静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができ、従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００２４】
また本発明によれば、塗布膜を塗布した基板の水平動作工程に加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を導入することによって、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることができる。したがって静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができる。このことによって従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００２５】
また本発明によれば、等速運動段階における速さを５０ｍｍ／ｓ以下とすることによって、水平動作工程で、乾燥後の乾燥塗布膜の膜厚にムラができるほど大きな気流が液体状の塗布膜の表面近傍に起こることを防止することができる。したがって膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００２６】
また本発明によれば、加減速時間が等速時間の４分の１以下であるので、加減速によって液体状の塗布膜に力が加わり、液体状の塗布膜に偏りが生じたとしてもその偏りは等速運動段階において緩和され、膜厚が均一で平坦な乾燥塗布膜を実現することができる。
【００２７】
また本発明によれば、加減速運動段階における加速度の大きさが１２５ｍｍ／ｓ２以下とすることによって、加速度による力が加わったことによる液体状の塗布膜の偏りが生じにくく、乾燥後に膜厚が均一で、平坦な乾燥塗布膜を実現することができる。
【００２８】
また本発明によれば、水平動作工程が往復運動を含んでいるため、直線的に一つの向きに移動を続けながら乾燥を行う乾燥方法よりも、液体状の塗布膜の乾燥に必要な領域を小さくすることができ、省スペースな乾燥方法を実現することができる。
【００２９】
また本発明によれば、加熱工程をさらに有することで、液体状の塗布膜の乾燥をさらに速めることができる。したがって、加熱のみによる従来の乾燥方法と比べて、乾燥時間の短縮を図り、サイクルタイムの向上を図ることができる。しかも加熱のみによる乾燥とは異なり、液体状の塗布膜の乾燥を塗布膜の表面部から優先的に行うことができるため、表面荒れを防ぎながら速やかに乾燥させることが可能となる。
【００３０】
また本発明によれば、液体状の塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させ、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることによって、静置したときよりも液体状の塗布膜の予備乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる予備乾燥速度のムラを小さくすることができ、従来行われている加熱のみによる予備乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる予備乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない表層乾燥塗布膜を実現することができる。また複数の種類の液体状の塗布膜を基板に塗布する場合には、一種類の液体状の塗布膜を塗布した後、次の種類の液体状の塗布膜の塗布または本乾燥の工程の前に予備乾燥を短時間だけ行うことによって、１種類の液体状の塗布膜の塗布の度毎に本乾燥を行うよりも、短時間で液体状の塗布膜の塗布と乾燥を終えることができる。つまり、一種類の液体状の塗布および本乾燥を繰り返すよりも、乾燥にかかる時間を短縮し、かつ表面荒れを防ぐことができる。したがってサイクルタイムの向上を図り、従来方法よりも量産化を図ることができる。
【００３１】
また本発明によれば、塗布膜を塗布した基板の水平動作予備工程に加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を導入することによって、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることができる。したがって静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができる。このことによって従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない表層乾燥塗布膜を実現することができる。
【００３２】
また本発明によれば、等速運動段階における速さを５０ｍｍ／ｓ以下とすることによって、水平動作予備工程で、予備乾燥後の表層乾燥塗布膜の膜厚にムラができるほど大きな気流が液体状の塗布膜の表面近傍に起こることを防止することができる。したがって膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない表層乾燥塗布膜を実現することができる。
【００３３】
また本発明によれば、加減速時間が等速時間の４分の１以下であるので、加減速によって液体状の塗布膜に力が加わり、液体状の塗布膜に偏りが生じたとしてもそれが等速運動段階において緩和され、膜厚が均一で平坦な表層乾燥塗布膜を実現することができる。
【００３４】
また本発明によれば、加減速運動段階における加速度の大きさが１２５ｍｍ／ｓ２以下とすることによって、加速度による力が加わったことによる液体状の塗布膜の偏りが生じにくく、予備乾燥後に膜厚が均一で、平坦な表層乾燥塗布膜を実現することができる。
【００３５】
また本発明によれば、水平動作工程が往復運動を含んでいるため、直線的に一つの向きに移動を続けながら予備乾燥を行う予備乾燥方法よりも、液体状の塗布膜の予備乾燥に必要な領域を小さくすることができ、省スペースな予備乾燥方法を実現することができる。したがって設備費用の低減を図り、製造コストの低減を図ることが可能となる。
【００３６】
また本発明によれば、加熱工程をさらに有することで、液体状の塗布膜の予備乾燥をさらに速めることができる。しかも加熱のみによる予備乾燥とは異なり、液体状の塗布膜の予備乾燥を塗布膜の表面部から優先的に行うことができるため、表面荒れを防ぎながら速やかに予備乾燥させることが可能となる。
【００３７】
また本発明によれば、塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させ、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることによって、静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができ、従来の加熱のみによる乾燥装置や、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥装置に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現する乾燥装置を提供することができる。また、主に基板を水平方向に動作させる水平動作機構を設けるだけの簡単な構成で、前述の効果を奏する。したがって、従来の乾燥方法および乾燥装置よりも、乾燥塗布膜を得るための製造コストの低減を図ることができる。
【００３８】
また本発明によれば、塗布膜を塗布した基板の水平動作機構による基板の加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を導入することによって、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることができる。したがって静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができる。このことによって従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００３９】
また本発明によれば、加熱手段をさらに有することで、液体状の塗布膜の乾燥をさらに速めることができる。しかも加熱のみによる乾燥とは異なり、液体状の塗布膜の乾燥を塗布膜の表面部から優先的に行うことができるため、表面荒れを防ぎながら速やかに乾燥させることが可能となる。
【００４０】
また本発明によれば、液体状の塗布膜の表面近傍に加熱により発生した前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることと、基板に対する均一な加熱とを適切に組み合わせ、乾燥後の乾燥塗布膜が均一な膜厚となるような、かつ乾燥が速やかに進行するような、温度および水平動作とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態を、複数の形態について説明する。以下の説明においては、各形態に先行する形態ですでに説明している事項に対応している部分には同一の参照符を付し、重複する説明を略する場合がある。構成の一部のみを説明している場合、構成の他の部分は、先行して説明している形態と同様とする。実施の各形態で具体的に説明している部分の組合せばかりではなく、特に組合せに支障が生じなければ、実施の形態同士を部分的に組合せることも可能である。以下の説明は、液体状の塗布膜の乾燥方法、予備乾燥方法についての説明をも含む。
【００４２】
図１は、本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の斜視図である。塗布膜１１を塗布した基板１２を乾燥させる乾燥装置１０は、基板１２を載置、保持する基板保持手段１３と、基板保持手段１３の水平動作を行う水平動作機構１４と、水平動作機構１４の制御を行う装置制御機構１５と、水平動作機構１４および装置制御機構１５の間をつなぐ信号ケーブル１６と、基板の加熱を行う加熱手段１７とを有している。基板保持手段１３は、ＸＹステージと呼ばれることもあり、本明細書本文中においても「ＸＹステージ」、あるいは単に「ステージ」と称することもある。水平動作機構１４は水平方向への駆動を行う部分であるので、本明細書本文中において「駆動部」と称することもある。
【００４３】
図２は本発明の第１実施形態に係る基板１２の構成を表す平面図であり、図３は本発明の第１実施形態に係る基板１２を図２に示す切断面線Ａ−Ａで切断して見た部分断面図である。基板１２には液体状の塗布膜を配置するための矩形溝インク配置領域１２ａが形成されている。基板１２は１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×０．５ｍｍの直方体、インク配置領域１２ａは０．１５ｍｍ×１００ｍｍ×０．００２ｍｍの矩形溝とした。図２に示したように、基板１２の厚み方向をＺ方向とし、基板１２の辺のうち、Ｚ方向に垂直な一辺の方向をＹ方向とし、Ｚ方向およびＹ方向に垂直な方向をＸ方向として以下、記述する。本実施形態では基板１２を、基板１２のＸ−Ｙ平面が水平になるように載置し、インク配置領域１２ａは、基板１２のＸ−Ｙ平面に平行な一表面部に配設し、Ｘ方向にΔＬ＝０．０５ｍｍの間隔をあけて５００カ所並べて形成した。基板１２の前記一表面部のうち、インク配置領域１２ａ以外の部分はバンク１２ｂである。配置したインクの液量は１カ所のインク配置領域１２ａあたり０．１５ｍｍ３とし、１枚の基板１２あたりでは７５ｍｍ３の液量を塗布した。インクとしては、乾燥して残る固体成分が約２０体積％であるインクを用いたので、乾燥後、インク配置領域１２ａはおよそ固体成分で埋められる計算になる。本明細書本文中では、インクの乾燥前の状態を液体状の塗布膜、乾燥後の顔料の固体層を「乾燥塗布膜」と称することとする。またインクの塗布をインクの「配置」と称することもある。
【００４４】
本実施形態は相対湿度５０±５％の条件下で行った。基板１２およびインク配置領域１２ａの大きさは、上記のようなものとしたけれども、本発明に係る基板の大きさ、インク配置領域の大きさおよび塗布膜の液量は、上記のような大きさ、量に限るものではない。液体状の塗布膜を配置するのに充分な大きさの基板、インク配置領域であり、インク配置領域に配置できる量の乾燥可能な液体状の塗布膜であれば、足りる。たとえばインク配置領域１２ａは基板１２の厚み方向に深さを持っておらず、液体状の塗布膜との接触角が９０°以下で、つまり液体状の塗布膜中の溶媒によって濡れやすい材質とし、バンク１２ｂは、液体状の塗布膜との接触角が９０°を超える、つまり溶媒をはじくような材質とすることで、インク配置領域１２ａのみに液体状の塗布膜を塗布してもよい。また基板１２の厚み方向に垂直な一表面部をすべてインク配置領域１２ａとしても、本発明の効果は得られる。またインク配置領域の形も上記のものに限られるものではなく、基板１２の一表面部上で液体状の塗布膜を塗布できる形であれば、曲線、直線を含むどのような形でもよい。
【００４５】
本実施形態においてインクは顔料および溶媒を含んでいる。顔料は赤色、緑色、青色の３色を用いた。溶媒は水および有機溶媒のうち少なくともいずれか一方を含んでおり、有機溶媒はアルコール類、エーテル類などを用いた。これら溶媒の成分はいずれも沸点が７０℃以上２００℃以下であり、顔料を含んだ状態で、事実上乾燥可能である。本発明に係る顔料、溶媒および実施するときの湿度などの条件も、上記のものに限るものではなく、顔料を含んだ溶液が乾燥し顔料を固体として析出することが可能であるならば、足りる。乾燥に必要な時間、温度は適宜調節すればよい。
【００４６】
図４は、本発明の第１実施形態に係るＸＹステージ１３の平面図である。本実施形態でステージ１３は基板１２を保持するための吸着溝１３ａを備えている。ステージ１３上に図２で示した基板１２を基板１２のＸ−Ｙ平面が水平になるように載置し、ステージ１３で基板１２を保持する。吸着溝１３ａの底面には多くの孔があけてあり、基板１２を保持するときにはこの孔を真空引きし、基板１２を載置した状態で吸着溝１３ａの空間を陰圧にすることで、基板１２を吸着する。これによって基板１２とステージ１３との間に圧力が生じ、基板１２の水平動作を行ったときには基板１２とステージ１３との間の摩擦力が生じて、ステージ１３は基板１２を保持し続けることができる。ただし本実施形態においては、基板１２を載置した状態で吸着溝１３ａの空間を陰圧にすることで基板１２を保持したが、保持の方法は上記の方法に限るものではない。たとえばクランプによる方法でも構わない。
【００４７】
ステージ１３は駆動部１４で水平方向に動作できるようになっている。駆動部１４は信号ケーブル１６で装置制御機構１５と電気的に接続されており、駆動部１４の動作内容、つまり速度および加速度は装置制御機構１５で制御できるようになっている。具体的にはＸ方向およびＹ方向に水平動作が可能であり、加減速を行うことができて、その速度および加速度も水平方向内で設定し、制御することができる。また設定した加速度での加減速運動と設定した速さでの等速運動を組み合わせることも可能である。
【００４８】
本実施形態では、インクとして赤色（Red:略称Ｒ）、緑色（Green:略称Ｇ）、青色（
Blue:略称Ｂ）の３色をそれぞれ１色ずつ用いた。これをインクジェット方式で基板１２に塗布し、液体状の塗布膜を形成した。次にインクを塗布した基板１２をステージ１３に載置し、基板１２を載置した状態で吸着溝１３ａの空間を陰圧にすることによって、ステージ１３で基板１２を保持した。装置制御機構１５からの電気信号によって駆動部１４を制御し、駆動部１４によってステージ１３および基板１２を水平方向に動作させた。ただし本実施形態においては、インクジェット方式でインクを基板１２に塗布したが、液体状の塗布膜を塗布する方法はインクジェット方式に限るものではない。インク配置領域１２ａに液体状の塗布膜を塗布することができる手段であれば、足りる。たとえばインク配置領域１２ａは、液体状の塗布膜との接触角が９０°以下で、つまり溶媒によって濡れやすい材質とし、バンク１２ｂは、液体状の塗布膜との接触角が９０°を超える、つまり溶媒をはじくような材質とすることで、インク配置領域１２ａのみに液体状の塗布膜を配置するような手段であってもよい。
【００４９】
図５は本発明の第１実施形態に係る乾燥方法の工程を表すフローチャートである。本発明に係る乾燥方法は基板１２をステージ１３で保持する基板保持工程ａ１と、駆動部１４で基板１２およびステージ１３を水平方向に動作させる水平動作工程ａ２とを有している。水平動作工程ａ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御してステージ１３および基板１２を加減速させる加減速運動段階と、等速運動させる等速運動段階とを有している。等速運動段階におけるステージ１３および基板１２の水平動作の速さは５０ｍｍ／ｓ以下であり、加速度の大きさは１２５ｍｍ／ｓ２以下である。またステージ１３および基板１２の水平動作は往復運動を含むことが可能であり、水平動作の速度および加速度の大きさは前記の値以下の範囲内で自由に設定し、制御することができる。また設定した加速度での加減速運動と設定した速さでの等速運動を組み合わせることも可能である。
【００５０】
図６は、インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が凹形となったときの断面形状である。図７は、インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が凸形となったときの断面形状である。図８は、インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が平坦になったときの断面形状である。これら図６〜図８は基板１２上のインク配置領域１２ａを、Ｘ−Ｚ平面に平行に仮想的に切断したときの、断面形状である。また断面形状がどの程度平坦であるかの度合いをより明確に記載するため、乾燥後の顔料の固体層の平均膜厚を１００％としたときの、断面における最大膜厚と最小膜厚との差を膜厚差として百分率表記する。膜厚差は、乾燥後の顔料の固体層がどの程度平坦であるかを示すと同時に、表面荒れの程度も、膜厚差の値として反映される。
【００５１】
本実施形態では、基板１２上のインク配置領域１２ａにインクを塗布してからステージ１３に基板１２を配置するまでにかかった時間は約１０秒であった。基板１２を配置した後、ステージ１３をＹ方向に速さ１ｍｍ／ｓ、加速度０．０５６ｍｍ／ｓ２、加減速時間：等速時間＝１：４９、となる条件下で往復水平動作を３０分間行い、その後の乾燥塗布膜の断面形状および膜厚差を観測した。
【００５２】
表１は、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのインクを用いたときの第１実施形態における断面形状と膜厚差とを示したものである。このときいずれの色のインクにおいても断面形状は平坦であり、膜厚差は４．６％以上１５．５％以下の範囲内に留まった。なお、ステージ１３をＸ方向に動作させても、他の条件が同じであれば結果は同じであった。表２は、水平動作を行うことなく基板１２を１４０℃に加熱し１０分経過した後の乾燥塗布膜の断面形状と膜厚差とを示す。インクを塗布した基板１２をステージ１３に設置した後、基板１２およびステージ１３の水平動作を行うことなく、加熱手段１７によって１４０℃に加熱し、１０分経過したとき、断面形状はいずれの色のインクにおいても凹形となり、膜厚差は６４．３％以上１５０．０％という大きな値となった。実際透過光を照射し顕微鏡で観察すると、明らかに色が薄い、あるいは無色の色抜けした部分を観測することができた。以上のように、従来のように加熱だけによって液体状の塗布膜の乾燥を行うと、乾燥塗布膜は大きな膜厚差を生じ、平坦とは言い難くなる。これに対し本発明の水平動作を行うことによる乾燥においては色抜けもなく、加熱のみの場合に比べて膜厚差の小さい、平坦な乾燥塗布膜を実現することができる。
【００５３】
【表１】
2007330892.tif 000003
【００５４】
【表２】
2007330892.tif 000004
【００５５】
本実施形態では、塗布膜を塗布した基板を水平方向に動作させ、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることによって、静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができる。したがって表１に示したように、従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。また、主に基板を水平方向に動作させる水平動作機構を設けるだけの簡単な構成で、前述の効果を奏する。したがって、従来の乾燥方法および乾燥装置よりも、乾燥塗布膜を得るための製造コストの低減を図ることができる。水平動作工程については、第１実施形態では往復運動としたけれども、往復運動を含んでさえいれば、他の運動が含まれていてもよい。たとえば水平動作工程の中で円弧状の運動を含む水平動作が含まれていても構わない。
【００５６】
本発明の第２実施形態では、インクとして緑色Ｇのみを用い、ステージ１３および基板１２の往復水平動作をＹ方向に３０分間行った。表３は、基板１２の水平動作の速度、加速度、加減速時間と等速時間との比Ｗをさまざまに変えて行ったときの、それぞれの条件と、その結果としての断面形状と膜厚差と３０分間の往復回数とを示したものである。加減速時間と等速時間との比Ｗについては、次の式（１）で表される値を、加減速時間と等速時間との比Ｗとした。
Ｗ＝（加減速時間）／（等速時間）                                …（１）
【００５７】
【表３】
2007330892.tif 000005
【００５８】
速度については５０ｍｍ／ｓ以下で、膜厚差の小さい平坦な乾燥塗布膜をえることができる。これは表３の（２Ａ）、（２Ｂ）、（２Ｃ）、（２Ｄ）、（２Ｅ）に相当するが、（２Ｃ）、（２Ｅ）では凹形の断面形状となった。（２Ｅ）で断面形状が凹形となったのは加速度が大きかったためである。したがって加速度は１２５ｍｍ／ｓ２以下とするのが本発明において好ましい形態である。また（２Ｃ）では加減速時間と等速時間との比Ｗが０．２５を超えていたために膜厚差が大きくなったものである。したがって、加減速時間と等速時間との比Ｗは４分の１以下とするのが、本発明における好ましい形態である。つまり、水平動作の速さが速ければ液体状の塗布膜の表面近傍の気流が強くなり、乾燥塗布膜が平坦でなくなる。加速度が大きければ、液体状の塗布膜は加速度による力を受けるために乾燥過程で偏りを生じる。等速時間４分の１に比べて加減速時間が長ければ、液体状の塗布膜に生じた偏りが緩和する時間が与えられず、乾燥塗布膜は平坦でなくなる。したがって本発明の第２実施形態での好ましい形態は、速さが５０ｍｍ／ｓ以下、加速度が１２５ｍｍ／ｓ２以下、加減速時間と等速時間との比Ｗが４分の１以下である。
【００５９】
第２実施形態では、液体状の塗布膜を塗布した基板の水平動作工程ａ２に加減速運動段階および等速運動段階の少なくともいずれか一方を導入することによって、液体状の塗布膜の表面近傍に存在する、前記液体状の塗布膜に由来する蒸気を、前記蒸気の分圧が前記表面近傍よりも低い周囲の気体と入れ替えることができる。したがって静置したときよりも液体状の塗布膜の乾燥を速めることができる。また水平方向に動作させることによって前記表面近傍に発生する気流の乱れを小さくし、基板上に生じる乾燥速度のムラを小さくすることができる。このことによって従来行われている加熱のみによる乾燥および、基板をチャンバー内に設置して減圧することによる乾燥方法に比べて、膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００６０】
また等速運動段階における速さを５０ｍｍ／ｓ以下とすることによって、水平動作工程ａ２で、乾燥後の乾燥塗布膜の膜厚にムラができるほど大きな気流が液体状の塗布膜の表面近傍に起こることを防止することができる。したがって膜厚が均一で、平坦かつ表面荒れの少ない乾燥塗布膜を実現することができる。
【００６１】
また加減速時間を等速時間の４分の１以下とすることで、加減速によって液体状の塗布膜に力が加わり液体状の塗布膜に偏りが生じたとしても、それが等速運動段階において緩和され、膜厚が均一で平坦な乾燥塗布膜を実現することができる。
【００６２】
また加速度運動段階における加速度の大きさが１２５ｍｍ／ｓ２以下とすることによって、加速度による力が加わったことによる液体状の塗布膜の偏りが生じにくく、乾燥後に膜厚が均一で、平坦な乾燥塗布膜を実現することができる。
【００６３】
また本発明によれば、水平動作工程ａ２が往復運動を含んでいるため、直線的に一つの向きに移動を続けながら乾燥を行う乾燥方法よりも、液体状の塗布膜の乾燥に必要な領域を小さくすることができ、省スペースな乾燥方法を実現することができる。したがって設備費用の低減を図り、製造コストの低減を図ることが可能となる。水平動作工程については、第２実施形態では往復運動としたけれども、往復運動を含んでさえいれば、他の運動が含まれていてもよい。たとえば水平動作工程の中で円弧状の運動を含む水平動作が含まれていても構わない。
【００６４】
本発明の第３実施形態では、インクとして緑色のみを用い、数種の温度条件下でステージ１３および基板１２をＹ方向に動作させて乾燥を行った。Ｙ方向への動作は往復水平動作であり、速度５ｍｍ／ｓ、加速度０．１１ｍｍ／ｓ２、加減速時間と等速時間との比Ｗは０．２５、水平動作時間は３０分とした。
【００６５】
図９は本発明の第３実施形態における水平動作工程ａ２を表すフローチャートである。水平動作工程ａ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御して、ステージ１３および基板１２の水平動作の速度および加速度を制御する水平動作制御工程ｂ１と、基板に塗布された液体状の塗布膜を加熱手段１７によって加熱する加熱工程ｂ２とを含んでいる。水平動作工程ａ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御してステージ１３および基板１２を加減速させる加減速運動段階と、等速運動させる等速運動段階とを有している。等速運動段階におけるステージ１３および基板１２の水平動作の速さは５０ｍｍ／ｓ以下であり、加速度の大きさは１２５ｍｍ／ｓ２以下である。またステージ１３および基板１２の水平動作は往復運動を含むことが可能であり、水平動作の速度および加速度の大きさは前記の値以下の範囲内で自由に設定し、制御することができる。また設定した加速度での加減速運動と設定した速さでの等速運動を組み合わせることも可能である。水平動作制御工程ｂ１と加熱工程ｂ２とは同時に並行して行う。
【００６６】
表４は、ホットプレートのＯＮ、ＯＦＦおよびホットプレートの設定温度を変化させたときの、乾燥完了までの時間、乾燥塗布膜の断面形状および膜厚差を示したものである。ただし表４の中で「室温」とは、２５℃を指す。本実施形態においてはステージ１３の中に加熱手段１７として、ホットプレートが組み込まれている。しかし本発明に係る加熱手段１７は必ずしもホットプレートである必要はなく、ホットプレート、ロッド形ヒータおよび赤外線ランプのうちいずれか１つまたは複数であればよく、液体状の塗布膜の乾燥を助ける程度に基板に熱を与えることができる形態で配設されていれば足りる。インクの乾燥が完了したがどうかは、インク配置領域の終端部のインクに針を軽く接触させ、インク配置領域の終端部のインクが流動性を持つかどうかを調べ、流動性を示さないと判断できる時点で乾燥完了とした。
【００６７】
【表４】
2007330892.tif 000006
【００６８】
ホットプレートの温度を高くすればするほど、乾燥完了までにかかる時間を短縮することができる。また乾燥後の顔料の固体層の断面形状については、ホットプレートの温度を８０℃としても、水平動作を行いながら加熱した場合には、断面形状は平坦になり、膜厚差も加熱しない場合とあまり変わらない。表１において緑色のインクを用いたときの膜厚差とは大きく異なる。つまり水平動作機構を動作させながらであれば、加熱を行っても、膜厚差を小さく保ち、断面形状を平坦に保ちながら、乾燥完了までにかかる時間を短縮することができる。
【００６９】
第３実施形態では、加熱手段１７としてホットプレートを用いたけれども、ロッド形ヒーター、赤外線ランプを用いた場合にも同様の結果が得られたことから、加熱手段はロッド形ヒーターまたは赤外線ランプでもよい。また実施形態としてこれら加熱手段のうち複数の加熱手段を組み合わせて使用することも可能であり、本発明の効果を同様に得ることができる。また水平動作工程については、第３実施形態では往復運動としたけれども、往復運動を含んでさえいれば、他の運動が含まれていてもよい。たとえば水平動作工程の中で円弧状の運動を含む水平動作が含まれていても構わない。
【００７０】
ただし第３実施形態では、ホットプレートの温度の変化と乾燥完了までの時間の変化が相関性を持っていることによる本発明の効果を示したけれども、乾燥完了に必要な時間および温度は、基板およびインク配置領域の大きさ、顔料、溶媒および実施するときの湿度などによって変化する可能性はあり、加熱手段１７の種類、数および設定温度は、基板およびインク配置領域の大きさ、顔料、溶媒および実施するときの湿度などの条件に応じて適宜調節すればよい。
【００７１】
第３実施形態では、加熱工程ｂ２をさらに有することで、液体状の塗布膜の乾燥をさらに速めることができる。したがって、加熱のみによる従来の乾燥方法と比べて、乾燥時間の短縮を図り、サイクルタイムの向上を図ることができる。しかも加熱のみによる乾燥とは異なり、液体状の塗布膜の乾燥を塗布膜の表面部から優先的に行うことができるため、表面荒れを防ぎながら速やかに乾燥させることが可能となる。実際透過光を照射し顕微鏡で観察しても明らかに色が薄い部分または色抜けした部分はなく、従来の乾燥方法に比べて膜厚差の小さい、平坦な乾燥塗布膜を実現することができた。
【００７２】
本発明の第４実施形態では、インクとしてはＲ、Ｇ、Ｂの３色を用い、前記乾燥装置を基板に塗布した液体状の塗布膜の予備乾燥に用いた。基板上のインクの配置は、基板の端以外は、それぞれの色のインクが、残る２つの色のインクと隣り合うように配置した。
【００７３】
図１０は、本発明の第４実施形態に係る予備乾燥方法の工程を表すフローチャートである。第４実施形態に係る予備乾燥方法は、基板１２に塗布された液体状の塗布膜を乾燥させる本乾燥の前段階で、前記液体状の塗布膜の一部分を予備乾燥させる予備乾燥方法であって、基板１２をステージ１３で保持する基板保持予備工程ｃ１と、駆動部１４で基板１２およびステージ１３を水平方向に動作させる水平動作予備工程ｃ２とを含んでいる。水平動作予備工程ｃ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御してステージ１３および基板１２を加減速させる加減速運動段階と、等速運動させる等速運動段階とを有している。等速運動段階におけるステージ１３および基板１２の水平動作の速さは５０ｍｍ／ｓ以下であり、加速度の大きさは１２５ｍｍ／ｓ２以下である。またステージ１３および基板１２の水平動作は往復運動を含むことが可能であり、水平動作の速度および加速度の大きさは前記の値以下の範囲内で自由に設定し、制御することができる。また設定した加速度での加減速運動と設定した速さでの等速運動を組み合わせることも可能である。
【００７４】
図１１は本発明の第４実施形態に係るインク配置から３色のインクの本乾燥完了までの工程を表すフローチャートであり、図１２は従来の乾燥方法によるインク配置から３色のインクの本乾燥完了までの工程を表すフローチャートである。第４実施形態では、複数の種類のインクを基板に配置する。一種類のインクを配置した後、ステージ１３および基板１２を水平動作させながら１分間だけ予備乾燥を行い、液体状の塗布膜の一部分、特に表面部だけを乾燥させる。その後、次の種類のインクの配置を行う。次いでまたステージ１３および基板１２を水平動作させながら短時間だけ予備乾燥を行い、液体状の塗布膜の一部分、特に表面部だけを乾燥させる。これを必要な回数だけ繰り返し、本乾燥を行う。
【００７５】
使用した装置は第１〜第３実施形態と同様である。第４実施形態では、図１１に示すように、ステップｄ１においてまず赤色（Ｒ）インクをインクジェット方式によってインク配置領域の３分の１に配置し、これをステップｄ２においてＹ方向に速度５ｍｍ／ｓ、加速度０．１１ｍｍ／ｓ２、加減速時間と等速時間との比Ｗを０．２５として１分間水平動作を行った。次にステップｄ３において緑色（Ｇ）インクをインクジェット方式によってインク配置領域のうちの他の３分の１に配置し、これをステップｄ４においてＹ方向に、赤色（Ｒ）インクの予備乾燥のときと同じ速度、加速度、加減速時間と等速時間との比Ｗで１分間水平動作を行った。その後ステップｄ５において青色（Ｂ）インクをインクジェット方式によってインク配置領域のうち、残る３分の１に配置し、これをステップｄ６においてＹ方向に、赤色（Ｒ）インクの予備乾燥のときと同じ速度、加速度、加減速時間と等速時間との比Ｗで１分間水平動作を行った。その後ステップｄ７において１４０℃の本乾燥用のホットプレート上に移動させ、１０分間加熱し、本乾燥を行った。インクを基板１２に配置してからステージ１３で保持するまでの時間は約１０秒で、予備乾燥後、本乾燥用のホットプレート上に移動させるためにかかった時間は約１０秒であった。これに対し、従来の乾燥方法によるインク配置からインクの本乾燥完了までの工程では、図１２のように、ステップｅ１でインクを配置し、ステップｅ２で本乾燥を行う。この２つのステップと同じステップを以下、ステップｅ３〜ｅ６まで３回繰返す。図１１と図１２とを比較して分かるように、第４実施形態の予備乾燥方法を使用する乾燥方法では、インクの配置の度毎に本乾燥するよりも、短時間ですべての液体状の塗布膜の乾燥を終えることができる。
【００７６】
表５は第４実施形態で乾燥を行った後の、乾燥塗布膜の断面形状と膜厚差とを示したものである。表５から分かるように、本発明に係る予備乾燥を１分間行うだけで、次のインク配置および本乾燥装置への移動を行うことができ、本乾燥完了後でも小さな膜厚差と平坦な断面形状を維持することができる。つまり、インクの配置直後に短時間だけ予備乾燥を行うことによって、表面荒れを防ぐことができる。実際透過光を照射し顕微鏡で観察しても明らかに色が薄い部分または色抜けした部分はなく、従来の乾燥方法に比べて膜厚差の小さい、平坦な乾燥塗布膜を実現することができた。また、上記条件下での従来の乾燥方法ではインク配置から本乾燥完了まで３０分の時間を要するけれども、それぞれのインク配置工程後に予備乾燥を１分ずつ行えばインク配置から本乾燥完了までにかかる時間を１３分とすることができ、乾燥工程の時間短縮を実現することができる。したがってサイクルタイムの向上を図り、従来方法よりも量産化を図ることができる。
【００７７】
【表５】
2007330892.tif 000007
【００７８】
図１３は本発明の第４実施形態における水平動作予備工程ｃ２を表すフローチャートである。水平動作予備工程ｃ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御して、ステージ１３および基板１２の水平動作の速度および加速度を制御する水平動作制御予備工程ｆ１と、基板に塗布された液体状の塗布膜を加熱手段１７によって加熱する加熱予備工程ｆ２とを含んでいる。水平動作予備工程ｃ２は、装置制御機構１５によって駆動部１４を制御してステージ１３および基板１２を加減速させる加減速運動段階と、等速運動させる等速運動段階とを有している。等速運動段階におけるステージ１３および基板１２の水平動作の速さは５０ｍｍ／ｓ以下であり、加速度の大きさは１２５ｍｍ／ｓ２以下である。またステージ１３および基板１２の水平動作は往復運動を含むことが可能であり、水平動作の速度および加速度の大きさは前記の値以下の範囲内で自由に設定し、制御することができる。また設定した加速度での加減速運動と設定した速さでの等速運動を組み合わせることも可能である。水平動作制御予備工程ｆ１と加熱予備工程ｆ２とは同時に並行して行うことが可能である。水平動作工程については、第４実施形態では往復運動としたけれども、往復運動を含んでさえいれば、他の運動が含まれていてもよい。たとえば水平動作工程の中で円弧状の運動を含む水平動作が含まれていても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る基板１２の構成を表す平面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る基板１２を図２に示す切断面線Ａ−Ａで切断して見た部分断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係るＸＹステージ１３の平面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る乾燥方法の工程を表すフローチャートである。
【図６】インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が凹形となったときの断面形状である。
【図７】インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が凸形となったときの断面形状である。
【図８】インク配置領域１２ａの乾燥塗布膜が平坦になったときの断面形状である。
【図９】本発明の第３実施形態における水平動作工程ａ２を表すフローチャートである。
【図１０】本発明の第４実施形態に係る予備乾燥方法の工程を表すフローチャートである。
【図１１】本発明の第４実施形態に係るインク配置から３色のインクの本乾燥完了までの工程を表すフローチャートである。
【図１２】従来の乾燥方法によるインク配置から３色のインクの本乾燥完了までの工程を表すフローチャートである。
【図１３】本発明の第４実施形態に係る水平動作予備工程ｃ２を表すフローチャートである。
【符号の説明】
【００８０】
１０  乾燥装置
１１  塗布膜
１２  基板
１３  基板保持手段
１４  水平方向動作機構
１５  装置制御機構
１６  信号ケーブル
１７  加熱手段
【図１】
2007330892.tif 000008
【図２】
2007330892.tif 000009
【図３】
2007330892.tif 000010
【図４】
2007330892.tif 000011
【図５】
2007330892.tif 000012
【図６】
2007330892.tif 000013
【図７】
2007330892.tif 000014
【図８】
2007330892.tif 000015
【図９】
2007330892.tif 000016
【図１０】
2007330892.tif 000017
【図１１】
2007330892.tif 000018
【図１２】
2007330892.tif 000019
【図１３】
2007330892.tif 000020