(57)【要約】      （修正有）【課題】カラーフィルターの不良基板または配向膜塗布後のガラス基板からカラーレジスト、ブラックマトリクス樹脂、配向膜およびホトレジストを除去するための洗浄剤組成物、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供する。【解決手段】式（１）で示される化合物および多価カルボン酸塩から選ばれる１種以上、親水性有機溶剤、並びにアルカリ成分を含有する洗浄剤組成物。2007254555.tif 000010【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で示される化合物（Ａ）および一般式（２）で示される化合物（Ｂ）からなる群から選ばれる１種以上、親水性有機溶剤（Ｃ）、並びにアルカリ成分（Ｄ）を含有する洗浄剤組成物。
【化１】
2007254555.tif 000007
［（１）式中、Ｒ1は炭素数６〜１８のアルキル基、アルケニル基もしくはヒドロキシアルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルキル基、エステル結合もしくはアミド結合で分断された炭素数６〜２０のアルキル基もしくはアルケニル基、または式−（Ａ1Ｏ）j−Ｊで表される基（なお、Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基、Ｊは水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基、ｊは１〜１０の整数である）であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、ｆは１〜５の整数、Ｘf-は炭素数２以上のｆ価の有機酸のアニオンを表す。］
Ｒ5−（ＣＯＯ-Ｚ+）k                                （２）
［（２）式中、Ｒ5は多価カルボン酸からカルボキシル基を除いた残基；Ｚ+はアルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、１級〜３級アミンカチオン、または４個のアルキル基の炭素数がいずれも１〜４である第４級アンモニウムカチオン；ｋは２〜５００の整数を表す。］
【請求項２】
一般式（１）において、Ｘf-を構成するｆ価の有機酸が、一般式（３）で示される有機酸および一般式（４）で示される有機酸からなる群から選ばれる１種以上である請求項１記載の洗浄剤組成物。
【化２】
2007254555.tif 000008
［（３）および（４）式中、Ｒ6およびＲ7は炭素数４〜１８の脂肪族炭化水素基、Ａ2およびＡ3は炭素数１〜４のアルキレン基、Ｑは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈもしくは−ＯＳＯ3Ｈ、ｐ１およびｐ２は０または１〜１０の整数、ｑは１または２、ｈは１〜５の整数であり、Ｑが−ＳＯ3Ｈの場合はｐ１は０である。］
【請求項３】
化合物（Ｂ）が多価カルボン酸のアルカリ金属塩である請求項１または２記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
親水性有機溶媒（Ｃ）が、一般式（５）で示される化合物を少なくとも１種以上含有する請求項１〜３のいずれか記載の洗浄剤組成物。
Ｒ8Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ9                            （５）
[式中、Ｒ8およびＲ9は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数７〜２４のアルキルフェニル基またはフェニル基、Ｒ9は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基もしくはアシル基、ｍは１〜１０の整数、ｎは２〜４の整数である。]
【請求項５】
アルカリ成分（Ｄ）が、一般式（６）で示される有機アルカリ（Ｄ７）を少なくとも１種以上含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載の洗浄剤組成物。
【化３】
2007254555.tif 000009
〔式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ14Ｏ）p−Ｈで表される基であり、Ｒ14は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。〕
【請求項６】
前記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の合計重量に基づいて、（Ａ）および（Ｂ）の合計を０．０１〜１０重量％、（Ｃ）を１０〜９９．８９重量％、並びに（Ｄ）を０．１〜３０重量％含有する請求項１〜５のいずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
電子部品または電気部品の洗浄用である請求項１〜６のいずれか記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
請求項７記載の洗浄剤組成物を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品または電気部品の洗浄方法。
【請求項９】
電子部品がガラス基板またはシリコンウエハである請求項８記載の洗浄方法。
【請求項１０】
請求項８記載の洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品または電気部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品、金属部品、セラミック部品などに付着している油脂類、樹脂、パーティクルなどを除去するのに使用されるアルカリ洗浄剤、更に詳しくは、液晶パネルのカラーフィルター樹脂膜の剥離液、液晶パネルの垂直配向ポリイミド膜（とくに焼成膜）および硬化後ホトレジスト（ホトスペーサーなど）の剥離液として使用されるアルカリ洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの製造工程において欠陥の発生したカラーフィルターの不良基板は、焼成後のカラーレジストは溶剤等ではほとんど除去できないため、ほとんど廃棄され、環境面および経済性の観点から問題であった。このような観点から、近年、不良カラーフィルター基板を再生する方法として、パーフルオロアルキルカルボン酸塩を含む苛性ソーダ水溶液（特許文献−１）やアルカリ、ジメチルスルホキシドおよび水からなる剥離液（特許文献−２）を用いてカラーレジストを除去する方法、濃硫酸に浸漬後、グリコールエーテルを含有したアルカリ水溶液にてカラーレジストを剥離する方法（特許文献−３）が提案されている。しかしながらこれらの剥離液では、不良カラーフィルター基板上のカラーレジストおよびブラックマトリクス樹脂が完全に除去されないか、除去するためには長時間要したり、８０〜１００℃と高温にて剥離する必要があり、剥離液の揮発が激しい等の問題があった。
また、濃硫酸に浸漬後、過酸化水素およびアンモニアの水溶液にてカラーレジストを剥離する方法（特許文献−４）も提案されているが、過酸化水素水溶液の安定性が悪いため、剥離液の寿命が短いという問題がある。
【特許文献−１】特開平６−３２１５８１号公報
【特許文献−２】特開２００５−３１６８２号公報
【特許文献−３】特開平６−２０２２４号公報
【特許文献−４】特開２００５−１８９６７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、液晶ディスプレイ用などのカラーフィルターの不良基板または配向膜塗布後のガラス基板からカラーレジスト、ブラックマトリクス樹脂、配向膜または硬化後ホトレジストを、短時間で剥離および洗浄するための洗浄剤組成物、洗浄方法および洗浄された電子部品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、一般式（１）で示される化合物（Ａ）および一般式（２）で示される化合物（Ｂ）からなる群から選ばれる１種以上、親水性有機溶剤（Ｃ）、並びにアルカリ成分（Ｄ）を含有する洗浄剤組成物；該洗浄剤組成物を用いて、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬および浸漬揺動から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする電子部品または電気部品の洗浄方法；および、該洗浄方法で洗浄し、リンスした後、乾燥して得られる電子部品または電気部品；である。
【０００５】
【化４】
2007254555.tif 000002
【０００６】
（１）式中、Ｒ1は炭素数６〜１８のアルキル基、アルケニル基もしくはヒドロキシアルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルキル基、エステル結合もしくはアミド結合で分断された炭素数６〜２０のアルキル基もしくはアルケニル基、または式−（Ａ1Ｏ）j−Ｊで表される基（なお、Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基、Ｊは水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基、ｊは１〜１０の整数である）であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、ｆは１〜５の整数、Ｘf-は炭素数２以上のｆ価の有機酸のアニオンを表す。
Ｒ5−（ＣＯＯ-Ｚ+）k                                （２）
（２）式中、Ｒ5は多価カルボン酸からカルボキシル基を除いた残基；Ｚ+はアルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、１級〜３級アミンカチオン、または４個のアルキル基の炭素数がいずれも１〜４である第４級アンモニウムカチオン；ｋは２〜３００の整数を表す。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の洗浄剤組成物は、樹脂の剥離性に優れているため、例えば液晶ディスプレイ用のカラーフィルター基板上のカラーレジスト、ブラックマトリクス樹脂、ポリイミド系配向膜およびホトスペーサーなどの硬化後ホトレジストを短時間に剥離・洗浄できる。また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明において化合物（Ａ）としては、一般式（１）で示される化合物が挙げられ、これら化合物の１種または２種以上の混合物が使用できる。
【０００９】
【化５】
2007254555.tif 000003
【００１０】
（１）式中、Ｒ1は炭素数６〜１８のアルキル基、アルケニル基もしくはヒドロキシアルキル基、炭素数７〜１８のアリールアルキル基、、エステル結合もしくはアミド結合で分断された炭素数６〜２０のアルキル基もしくはアルケニル基、または式−（Ａ1Ｏ）j−Ｊで表される基（なお、Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基、Ｊは水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基、ｊは１〜１０の整数である）であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、ｆは１〜５の整数、Ｘf-は炭素数２以上のｆ価の有機酸のアニオンを表す。
【００１１】
（１）式中、Ｒ1としては以下の基が含まれる。
炭素数が６〜１８のアルキル基；
直鎖もしくは分岐のアルキル基またはシクロアルキル基、例えばｎ−およびｉ−ヘキシル基、ｎ−およびｉ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−およびｉ−ノニル基、ｎ−およびｉ−デシル基、ｎ−およびｉ−ウンデシル基、ｎ−およびｉ−ドデシル基、ラウリル基、ｎ−およびｉ−テトラデシル基、ｎ−およびｉ−ヘキサデシル基、並びにｎ−およびｉ−オクタデシル基等が挙げられ、これらのうちで好ましいのは炭素数８〜１２、さらに好ましいのは９〜１２のアルキル基である。
【００１２】
炭素数６〜１８のアルケニル基；
直鎖もしくは分岐のアルケニル基、例えばオクテニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基およびオレイル基などが挙げられ、これらのうちで好ましいのはデセニル基である。
【００１３】
炭素数６〜１８のヒドロキシアルキル基；
２−ヒドロキシヘキシル基、ω−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシデシル基、ω−ヒドロキシドデシル基およびジヒドロキシステアリル基などが挙げられ、これらの内で好ましいのは２−ヒドロキシデシル基である。
【００１４】
炭素数７〜１８のアリールアルキル基；
ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルブチル基およびフェニルオクチル基などが挙げられ、これらのうちで好ましいのはベンジル基である。
【００１５】
エステル結合もしくはアミド結合で分断された炭素数６〜２０のアルキル基またはアルケニル基；
本発明において、エステル結合で分断されたアルキル基またはアルケニル基におけるエステル結合の個数は通常１個であり、１個のエステル結合で分断されたアルキル基またはアルケニル基としては、炭素数５〜１８の飽和もしくは不飽和脂肪酸と炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基から誘導される基、例えばアシロキシアルキル基［ラウロイロキシエチル基、ラウロイロキシプロピル基、ステアロイロキシエチル基、ステアロイロキシプロピル基等］およびアシロキシアルケニル基［オレオイロキシエチル基、オレオイロキシプロピル基等］、並びに炭素数５〜１８のアルキルもしくはアルケニル基を有するアルコールと炭素数２〜４のカルボキシアルキル基から誘導される基、例えばアルコキシカルボニルアルキル基［ラウロキシカルボニルエチル基、ステアロキシカルボニルエチル基など］が挙げられる。本発明において、アミド結合で分断されたアルキル基もしくはアルケニル基におけるアミド結合の個数は通常１個であり、１個のアミド結合で分断されたアルキル基またはアルケニル基としては、炭素数５〜１８の飽和もしくは不飽和脂肪酸と炭素数２〜４のアミノアルキル基から誘導される基、例えばアシルアミノアルキル基［ラウラミドエチル基、ラウラミドプロピル基、ステアラミドエチル基等］、並びに炭素数５〜１８のアルキル基もしくはアルケニル基を有するアミンと炭素数２〜４のカルボキシアルキル基から誘導される基、例えばアルキルアミノカルボニルアルキル基［ラウリルアミノカルボニルエチル基、ステアリルアミノカルボニルエチル基、オレイルアミノカルボニルエチル基など］が挙げられる。
【００１６】
式−（Ａ1Ｏ）j−Ｊで表される基；
Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基であり、例えば、エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，４−ブチレン基など、Ｊは水素原子または炭素数１〜１８のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−およびｉ−プロピル基、ｎ−、ｉ−およびｓｅｃ−ブチル基、ｎ−およびｉ−ペンチル基、並びに前述のＲ1で挙げたアルキル基が挙げられ、ｊは１〜１０、好ましくは１〜６の整数である。具体的には、アルコキシアルキル基［ラウロキシエチル基、ヘキサデシルオキシメチル基、ステアロキシエチル基など］、アルキル（炭素数４〜１８）（ポリ）オキシアルキレン基（重合度＝２〜１０）［ラウリルポリ（重合度＝６）オキシエチレン基、ミリスチルポリ（重合度＝２）オキシエチレン基など］が挙げられる。
これらのＲ1のうち好ましいのはアルキル基およびアルケニル基であり、さらに好ましいのはアルキル基である。
【００１７】
（１）式中、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、炭素数１〜４のアルキル基もしくは炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基であり、アルキル基としては前述のＪとして例示した基のうちの炭素数１〜４のアルキル基、ヒドロキシアルキル基としては、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基および４−ヒドロキシブチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいのは、アルキル基、特にメチル基およびエチル基である。
【００１８】
（１）式中のｆは１〜５、好ましくは１〜３の整数であり、Ｚf-は炭素数２以上のｆ価の有機酸アニオンである。アニオンＺf-を構成するｆ価の有機酸としては、下記一般式（３）または（４）で表される有機酸の他、芳香環含有有機酸、脂環基含有有機酸、ヘテロ環含有有機酸、エステル基含有有機酸、アミド基含有有機酸、水酸基含有有機酸、および有機酸基含有ビニル単量体のオリゴマー（２〜１０量体）などが挙げられる。
また、これらには、１価または２価〜５価のカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸エステル類、リン酸エステル類およびフェノール類などが含まれる。
【００１９】
一般式（３）または（４）で表される有機酸は以下のものである。
【００２０】
【化６】
2007254555.tif 000004
【００２１】
（３）および（４）式中、Ｒ6およびR7は炭素数４〜１８（好ましくは６〜１２）の脂肪族炭化水素基（アルカジエニル基も含む）、Ａ2およびA3は炭素数１〜４（好ましくは１〜３）のアルキレン基、Ｑは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈもしくは−ＯＳＯ3Ｈ、ｐ１およびｐ２は０または１〜１０（好ましくは０〜５）の整数、ｑは１または２、ｈは１〜５の整数であり、Ｑが−ＳＯ3Ｈの場合はｐ１は０であり、ｐ１またはｐ２が２以上の場合のＡ2は同じでも異なっていてもよい。
Ｒ6の例としては、前記の炭素数４〜１８アルキル基およびアルケニル基と同様の基、並びにアルカジエニル基（例えばリノレイル基など）が挙げられる。
【００２２】
Ａ2およびA3としては、メチレン基および前述のＡ1と同様の基が挙げられる。
【００２３】
式（３）で表される有機酸のうち、好ましいものは、Ｑが−ＣＯＯＨでｐ１が０の化合物（炭素数８〜１８の高級脂肪酸、たとえばオクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ノナン酸、ドデカン酸、テトラデカン酸、ステアリン酸およびオレイン酸等）、Ｑが−ＣＯＯＨでｐ１が１以上でかつＱと結合するＡ2がメチレン基で残りの（ｐ１−１）個のＡ2が炭素数２〜３のアルキレン基の化合物（アルキルもしくはアルケニルエーテルカルボン酸、たとえばポリオキシエチレンオクチルエーテルカルボキシメチルエーテルなど）、Ｑが−ＯＳＯ3Ｈでｐ１が０〜５でＡ2が炭素数２〜３のアルキレン基の化合物（アルキルもしくはアルケニル硫酸エステル、たとえばオクチル硫酸エステル、２−エチルヘキシル硫酸エステル、デシル硫酸エステル、ドデシル硫酸エステル、テトラデシル硫酸エステル、ステアリル硫酸エステルおよびオレイル硫酸エステル等；並びに（ポリ）オキシアルキレンアルキルもしくはアルケニルエーテル硫酸エステル、たとえばポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸エステル等）である。
【００２４】
式（４）で表される有機酸のうち、好ましいものは、Ａ3が炭素数２もしくは３のアルキレン基、ｐ２が０〜５の整数、ｑが１で表されるものである。ｑが１の場合、（A）はモノ４級アンモニウム塩でもジ４級アンモニウム塩でもよい。具体例としては、アルキルもしくはアルケニル燐酸エステル、たとえばオクチル燐酸エステル、２−エチルヘキシル燐酸エステル、デシル燐酸エステル、ドデシル燐酸エステル、ステアリル燐酸エステルおよびオレイル燐酸エステル等；並びに（ポリ）オキシアルキレンアルキルもしくはアルケニルエーテル燐酸エステル、たとえばポリオキシエチレンオクチルエーテル燐酸エステル等が挙げられる。
【００２５】
有機酸のうち、芳香環含有有機酸としては、芳香族カルボン酸（安息香酸、エチル安息香酸、桂皮酸およびｔ−ブチル安息香酸などのｏ，ｐ，ｍ−各異性体を含む芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸およびピロメリット酸などの芳香族多価カルボン酸）、芳香族スルホン酸（ｐ−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸などの炭素数１〜１８のアルキル基を有するアルキルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸およびｐ−フェノールスルホン酸など）およびフェノール類（フェノール、ｐ−クロロフェノール、β−ナフトール、ｏ−およびｐ−ニトロフェノール、ｐ−アミノフェノール、カテコールおよびレゾルシンなど）が挙げられる。
脂環基含有有機酸としては、シクロヘキサンモノおよびジカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸などが挙げられる。
エステル基含有有機酸としては、ジカルボン酸のモノアルキル（アルキル基の炭素数１〜８）エステル（シュウ酸モノメチルエステル、コハク酸モノエチルエステル、マレイン酸モノメチルエステル、アジピン酸モノメチルエステルおよびフタル酸モノメチルエステルなど）、トリカルボン酸のモノもしくはジアルキル（炭素数１〜６）エステル（トリメリット酸モノメチルエステルおよびトリメリット酸モノブチルエステルなど）、およびスルホコハク酸モノもしくはジアルキル（アルキル基の炭素数１〜２４）エステル（スルホコハク酸ジ２−エチルヘキシルエステルなど）が挙げられる。
アミド基含有有機酸としては、ジカルボン酸のモノアルキル（アルキル基の炭素数１〜８）アミド（コハク酸モノエチルアミド、マレイン酸モノメチルアミド、アジピン酸モノメチルアミドおよびフタル酸モノメチルアミドなど）、トリカルボン酸のモノもしくはジアルキル（炭素数１〜６）アミド（トリメリット酸モノメチルアミドおよびトリメリット酸モノブチルアミドなど）、高級脂肪酸とアミノ酸の縮合物（オレイルザルコシンなど）、高級脂肪酸アミドのアルキル化スルホン酸（ラウリン酸メチルタウライドおよびオレイン酸Ｎ−メチルタウライドなど）および高級脂肪酸アミドのアルキロール化硫酸エステル（ラウリルエタノールアミド硫酸エステルなど）が挙げられる。
水酸基含有有機酸としては、ヒドロキシカルボン酸（乳酸、クエン酸、リンゴ酸、グルタル酸およびｐ−ヒドロキシ安息香酸など）が挙げられる。
有機酸基含有ビニル単量体のオリゴマー（２〜１０量体）を構成する単量体としては、（メタ）アクリル酸およびマレイン酸などのカルボキシル基含有ビニル単量体、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸およびアルキル（炭素数１〜１８）アリルスルホコハク酸エステルなどのスルホン酸基含有ビニル単量体などが挙げられる。
これらの有機酸の当量（酸基当たりの分子量）は、好ましくは５８〜６００、特に５８〜３００である。
【００２６】
これらの 有機酸のうち、好ましいものは式（３）または（４）で表されるものであり、さらに好ましいのは炭素数６〜１８のアルキルまたはアルケニル基を有するカルボン酸、スルホン酸、硫酸エステルまたはリン酸である。
【００２７】
なお、ｆ価の有機酸アニオンには、ｆ価の有機酸のｆ価のアニオン、およびｆ価より高い［（ｆ＋α）価の］有機酸のｆ価のアニオン（部分塩）が含まれる。例えば、有機酸が２塩基酸の場合、（Ｂ）にはモノ塩およびジ塩が含まれる。
【００２８】
式（１）で示される化合物（Ａ）の例としては、Ｒ1がｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ラウリル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、オレイル基、オレアミドエチル基もしくはステアラミドエチル基で、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4がいずれもメチル基、ヒドロキシエチル基、ｎ−ブチルもしくはポリオキシエチレン基、またはＲ2、Ｒ3、Ｒ4のうちの２つがメチル基で１つがエチル基、２つがメチル基で１つがプロピル基、２つがエチル基で１つがメチル基、２つがメチル基で１つがヒドロキシエチル基であり、Ｚf- が炭素数６〜１８のアルキルまたはアルケニル基を有するカルボン酸またはリン酸のもの、並びに米国特許第４，３３１，４４７号およびフランス特許第１，４２７，１３３号明細書に記載の第４級アンモニウムとの有機酸塩が挙げられる。
【００２９】
（Ａ）は、通常、３級アミンを４級化剤と反応させて４級アンモニウム塩とし、有機酸とアニオン交換することにより製造することができる。４級化剤としては、ジアルキルカーボネート（アルキル基は炭素数１〜４、たとえばメチル基、エチル基など）、ハロゲン化アルキルもしくはハロゲン化アルケニル等の前記Ｒ2〜Ｒ4で表される基のハロゲン化物（ハロゲンとしては、塩素、臭素、ヨウ素もしくはフッ素）、ジアルキル硫酸（アルキル基は炭素数１〜４、たとえばメチル基、エチル基など）が挙げられる。
【００３０】
Ｒ2〜Ｒ4が低級アルキル基の場合は、以下の合成方法に従い製造することができる。有機溶媒（メタノール、エタノールなど）中、３級アミン（たとえば、ジメチルオクチルアミンなど）とジアルキルカーボネート（ジメチルカーボネートなど；３級アミンに対して通常１．０５〜２当量）をオートクレーブ中にて加圧下、加熱（１１０〜１２０℃）して２〜３時間反応させることにより、４級アンモニウムカーボネートの有機溶媒溶液を得る。これに前記式（３）または（４）で表される有機酸（オクタン酸、オクチル硫酸エステル、モノオクチルリン酸エステルなど；４級アンモニウム塩に対して通常０．９〜１．２当量、好ましくは０．９９〜１．０２当量）を３０〜６０℃で徐々に滴下して加え、その後、加熱下（４０〜１００℃）で二酸化炭素、有機溶媒および未反応のジアルキルカーボネートを留去しながらアニオン交換反応を行い、水で希釈することで、目的物（例えばオクチルトリメチルアンモニウム・オクタン酸塩、オクチルトリメチルアンモニウム・オクチル硫酸エステル塩など）の水性液を得る。
【００３１】
本発明における化合物（Ｂ）は、一般式（２）で示される多価カルボン酸塩である。
（２）式中、Ｚ+はアルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、１級〜３級アミンカチオン、または４個のアルキル基の炭素数がいずれも１〜４である第４級アンモニウムカチオンである。
アルカリ金属カチオンとしては、ナトリウム、カリウムおよびリチウムカチオンが挙げられる。
１級〜３級アミンカチオンとしては、１級アミン（モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミンおよびモノブチルアミンなど）、２級アミン（ジメチルアミン、ジエチルアミンおよびジブチルアミンなど）および３級アミン（トリメチルアミンおよびトリエチルアミンなど）のカチオンが挙げられる。
４個のアルキル基の炭素数がいずれも１〜４である第４級アンモニウムカチオンとしては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウムおよびテトラブチルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。
ｋは（Ｂ）を構成する多価カルボン酸の価数を表し、通常２〜５００、好ましくは２〜６または５０〜５００である。
多価カルボン酸としては、２〜６価（ｋが２〜６）の、炭素数２〜３６の脂肪族多価カルボン酸（例えばシュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、クエン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等）；窒素原子含有多価カルボン酸（例えば、アスパラギン酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、Ｌ−グルタミン酸二酢酸、ｓ−アスパラギン酸二酢酸、エチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸）；炭素数７〜３６の芳香族カルボン酸（例えば安息香酸、エチル安息香酸、桂皮酸およびｔ−ブチル安息香酸などのｏ，ｐ，ｍ−各異性体を含む芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸およびピロメリット酸などの芳香族多価カルボン酸等）；および数平均分子量が１，５００〜５０，０００（ｋが、好ましくは５０〜５００）のカルボキシル基含有ポリマー（Ｂ１）等があげられる。
【００３２】
（Ｂ１）としては、α，β−不飽和カルボン酸類を必須構成単位としたポリマーなどが挙げられる。
α，β−不飽和カルボン酸類としては、モノカルボン酸（例えば、（メタ）アクリル酸等）、ジカルボン酸（例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等）、ジカルボン酸無水物（例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等）およびジカルボン酸半エステル｛ジカルボン酸と炭素数２〜１６のアルカノール、カルビトールまたはセルソルブとの半エステル、例えば、マレイン酸半エステル（マレイン酸モノブチルエステル、マレイン酸モノエチルカルビトールエステル等）、フマル酸半エステル（フマル酸モノブチルエステル、フマル酸モノエチルカルビトールエステル等）｝など、並びにこれらの併用などが挙げられる。これらのうち好ましいものはアクリル酸である。
【００３３】
（Ｂ１）には、他の共重合可能な単量体を構成単位として用いることができる。他の単量体としては、例えば次のものが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
（ａ）芳香族エチレン性不飽和単量体：
スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンおよびヒドロキシスチレン等のスチレン類、ジクロルスチレン等のスチレン類のハロゲン置換体、ビニルナフタレン類等；
（ｂ）炭素数２〜２０の脂肪族エチレン性不飽和単量体：
エチレン、プロピレン、ブテン、イソブチレン、ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセンおよびオクタデセン等のオレフィン、ブタジエンおよびイソプレン等のジエン；
（ｃ）炭素数５〜１５の脂環族エチレン性不飽和単量体：
シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデン、ビシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネン等；
（ｄ）炭素数１〜５０のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート：メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート
、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、エイコシル（メタ）アクリレート等；
（ｅ）ヒドロキシル基または（ポリ）オキシアルキレン基（分子量４４〜２０００）を有するエチレン性不飽和単量体（前記α、β−不飽和カルボン酸）のエステル：
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートおよびヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（炭素数２〜６）（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（分子量３００）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（分子量５００）モノ（メタ）アクリレート、メチルアルコールエチレンオキサイド１０モル付加物（メタ）アクリレートおよびラウリルアルコールエチレンオキサイド３０モル付加物（メタ）アクリレート等の（ポリ）オキシアルキレン基（分子量４４〜２０００、アルキレン基の炭素数２〜４）を有する（メタ）アクリレート並びにこれらに相当する（メタ）アクリレート以外の前記α、β−不飽和カルボン酸エステル；
（ｆ）アミド含有エチレン性不飽和単量体：
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等；
（ｇ）スルホン基または硫酸エステル基含有単量体：
ビニルスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリロキシプロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸、α−メチルスチレンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２−ジメチルエタンスルホン酸および２−（メタ）アクリロイルオキシエタンスルホン酸等のスルホン基含有単量体、ポリオキシアルキレンモノ（メタ）アクリレートの硫酸エステル化物（該オキシアルキレンは炭素数２〜４のオキシアルキレンの１種または２種以上の混合物であり、２種以上の混合物の場合、ランダム、ブロックのいずれでもよく、付加モル数は通常１〜３０である）等。
【００３４】
（Ｂ１）におけるα，β−不飽和カルボン酸類／他の単量体のモル比は、通常１００／０〜５０／５０、好ましくは１００／０〜７０／３０である。
【００３５】
本発明の洗浄剤組成物は、（Ａ）と（Ｂ）のうち、（Ａ）のみを含む場合、（Ｂ）のみを含む場合、並びに（Ａ）と（Ｂ）の両方を含む場合の３つの場合がある。このうち、（Ａ）と（Ｂ）の両方を含む場合の（Ａ）に対する（Ｂ）の重量比（Ｂ）／（Ａ）は、洗浄性の観点から、好ましくは１０以下、さらに好ましくは７以下である。
【００３６】
本発明における親水性有機溶剤（Ｃ）としては、２０℃における水に対する溶解度（ｇ／１００ｇＨ2Ｏ）が３以上、好ましくは１０以上のものであり、下記の（Ｃ１）〜（Ｃ７）の化合物が挙げられる。
【００３７】
（Ｃ１）；グリコール系溶媒
例えば、一般式（５）で示される化合物が挙げられる。
Ｒ8Ｏ（ＣnＨ2nＯ）mＲ9                            （５）
式中、Ｒ8は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数２〜１８のアルケニル基、炭素数７〜２４のアルキルフェニル基またはフェニル基、Ｒ9は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基もしくは総炭素数１〜４のアシル基、ｍは１〜１０、好ましくは１もしくは２の整数、ｎは２〜４の整数、好ましくは２もしくは３である。
【００３８】
（５）式におけるＣnＨ2nＯは、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレンを表し、式中のｍが２以上の場合は、単独、ランダムまたはブロックのいずれでもよい。
【００３９】
Ｒ8のうち、アルキル基またはアルケニル基としては、前述のＲ1で例示した基、アルキルフェニル基としては、オクチルフェニル基およびノニルフェニル基などが挙げられ、好ましいのはメチル基およびエチル基である。Ｒ9としては前述の炭素数１〜４のアルキル基、並びにホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基およびイソブチリル基が挙げられ、好ましいのはメチル基およびエチル基である。
【００４０】
一般式（５）で示されるグリコール系溶媒の具体例としては、モノアルキルエーテル｛エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテルおよびジエチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル（以下、２−ＨＣＥと略記）など｝、ジアルキルエーテル｛エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル（以下、ＤＥＤＥと略記）、ジエチレングリコールジｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（以下、ＤＥＩＭと略記）、ジエチレングリコールｎ−ブチルメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルメチルエーテルおよびジプロピレングリコールｎ−ブチルメチルエーテルなど｝、並びにアルキルフェニルアルキルエーテル｛ジエチレングリコールｎ−オクチルフェニルメチルエーテルおよびジエチレングリコールノニルフェニルメチルエーテルなど｝が挙げられる。
【００４１】
（Ｃ２）；３価以上の多価アルコールのモノ、ジ、トリもしくはテトラアルキルエーテルなど
３価以上の多価アルコールとしては、例えば、脂肪族多価アルコール（例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなど）、糖類｛例えば、グルコース、ショ糖、キシリトール、シュークロース、セルロース系化合物（例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびそれらのケン化物など）、ゼラチン、デンプン、デキストリン、キチン、キトサンなど｝、トリスフェノール類（例えば、トリスフェノールＰＡなど）、ノボラック樹脂（例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなど）、ポリフェノール、その他の水酸基を有するポリマー［例えば、ポリビニルアルコール、アクリルポリオール｛例えば、ポリヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートと他のビニル系モノマーの共重合物など｝など］など、並びにこれらのＡＯ付加物（付加モル数１〜７モル）などが挙げられる。
（Ｃ２）の具体例としては、グリセリンモノメチルエーテル、トリメチロールプロパンモノメチルエーテルおよびペンタエリスリトールジメチルエーテルなどが挙げられる。
【００４２】
（Ｃ３）窒素原子含有親水性溶媒
例えば、ピロリドン系溶媒（例えば、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、２−ピロリドンなど）、ホルムアミド系溶剤（例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなど）、アセトアミド系溶剤（例えば、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなど）、プロピオンアミド系溶剤（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミドなど）、オキサゾリジノン系溶剤（例えば、Ｎ−メチル−２−オキサゾリジノン、３，５−ジメチル−２−オキサゾリジノンなど）、ニトリル系溶剤（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、アクリロニトリル、メタクリルニトリル、ベンゾニトリルなど）およびヘキサメチルホスホリルアミドなどが挙げられる。
（Ｃ４）ラクトン系親水性溶媒
例えば、炭素数３〜１２のラクトン（γ−ブチロラクトン、α−アセチル−γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなど）などが挙げられる。
（Ｃ５）ケトン系親水性溶媒
例えば、アセトン、ジエチルケトン、アセトフェノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。
（Ｃ６）環状エーテル系親水性溶媒
例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどが挙げられる。
（Ｃ７）硫黄原子含有親水性溶媒
ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドおよびスルホランなどが挙げられる。
【００４３】
（Ｃ）のうち、好ましいのは、洗浄性の観点から、（Ｃ１）、（Ｃ３）および（Ｃ７）、特に（Ｃ１）および（Ｃ７）である。
【００４４】
本発明におけるアルカリ成分（Ｄ）としては、（Ｄ１）金属水酸化物［アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化バリウムなど）など］、（Ｄ２）炭酸塩［アルカリ金属塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウムなど）］、（Ｄ３）リン酸塩［アルカリ金属塩（例えば、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、トリポリリン酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム、ピロリン酸バリウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸マグネシウム、トリポリリン酸バリウムなど）］、（Ｄ４）ケイ酸塩［アルカリ金属塩（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムなど）、アルカリ土類金属塩（例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸バリウムなど）］、（Ｄ５）アンモニア、（Ｄ６）ヒドロキシルアミン、（Ｄ７）下記一般式（６）で表される有機アルカリおよびこれらの混合物などが挙げられる。
【００４５】
【化７】
2007254555.tif 000005
【００４６】
式中、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ14Ｏ）p−Ｈで表される基であり、Ｒ14は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。］
【００４７】
一般式（６）において、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、オクタデシル基など）；直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基（例えば、ビニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基など）；脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）など；芳香環含有炭化水素基としては、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基など）；アルキルアリール基（例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基、エチルナフチル基など）などが挙げられる。これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基、アルケニル基である。
【００４８】
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13の炭素数は、通常１〜２４であり、洗浄性（または剥離性、以下同じ）の観点から、好ましくは１〜１４である。
またＲ14としては、例えばエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数２〜４のアルキレン基が挙げられる。ｐは１〜６（好ましくは１〜３）の整数である。
【００４９】
一般式（６）で示される有機アルカリ（Ｄ７）の具体例としては、下記（１）〜（４）のテトラアルキルアンモニウムカチオン、ハイドロカルビル基を有するアンモニウムカチオンおよび下記（５）のオキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオンとハイドロオキサイドアニオンとの塩およびこれら塩の混合物が挙げられる。
（１）炭素数１〜６のアルキル基を４個含むカチオン
［例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ（ｎ−またはｉ−）プロピルアンモニウム、テトラ（ｎ−、ｉ−またはｔ−）ブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウムおよびテトラエチルアンモニウムなど］；
（２）炭素数１〜６のアルキル基を３個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を１個含むカチオン
［例えば、トリメチルへプチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルへキシルアンモニウム、トリエチルオクチルアンモニウム、トリエチルステアリルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリブチルオクチルアンモニウムおよびトリへキシルステアリルアンモニウムなど］；
（３）炭素数１〜６のアルキル基を２個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を２個含むカチオン
［例えば、ジメチルジオクチルアンモニウム、ジエチルジオクチルアンモニウムおよびジメチルジベンジルアンモニウムなど］；
（４）炭素数１〜６のアルキル基を１個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を３個含むカチオン
［例えば、メチルトリオクチルアンモニウム、エチルトリオクチルアンモニウムおよびメチルオクチルジベンジルアンモニウムなど］。
【００５０】
（５）オキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオン
（ｉ）オキシアルキレン基を１個有するカチオン［例えば、ヒドロキシエチルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルジメチルエチルアミンカチオンおよびヒドロキシエチルジメチルオクチルアミンカチオンなど］；
（ｉｉ）オキシアルキレン基を２個有するカチオン［例えば、ジヒドロキシエチルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルオクチルアミンカチオンおよびビス（２−ヒドロキシエトキシエチル）オクチルアミンカチオンなど］；
（ｉｉｉ）オキシアルキレン基を３個有するカチオン［例えば、トリヒドロキシエチルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルエチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルブチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルエチルアミンカチオンおよびトリヒドロキシエチルオクチルアミンカチオンなど］。
【００５１】
アルカリ成分（Ｄ）のうち、洗浄性とリンス性の観点から、好ましいのは（Ｄ１）および（Ｄ７）、特に好ましくは（Ｄ７）である。
（Ｄ１）のうち洗浄性の観点から好ましいのは、アルカリ金属水酸化物、更に好ましいのは水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムである。
（Ｄ７）のうち、洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは、テトラハイドロカルビルアンモニウムカチオンのハイドロオキサイドアニオン塩であり、さらに好ましいのは、上記（１）および（２）、特に好ましいのは（１）、最も好ましいのはテトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオンのハイドロオキサイドアニオン塩およびこれらの併用である。
【００５２】
本発明の洗浄剤組成物は、前記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の合計重量に基づいて、（Ａ）および（Ｂ）の合計を好ましくは０．０１〜１０重量％、さらに好ましくは０．１〜８重量％、（Ｃ）を好ましくは１０〜９９．８９重量％、さらに好ましくは１５〜９０重量％、並びに（Ｄ）を好ましくは０．１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２５重量％含有する。
【００５３】
本発明における洗浄剤は水を含有していてもよい。水としては、水道水、工業用水、地下水、蒸留水、イオン交換水、超純水など特に限定はないが、好ましくはイオン交換水、超純水である。
【００５４】
本発明の洗浄剤組成物には、さらに洗浄力を高めるために、必要により、他の界面活性剤（Ｈ）の１種または２種以上を含有してもよい。
【００５５】
他の界面活性剤（Ｈ）としては以下のものが挙げられる。
【００５６】
（Ｈ１）ノニオン性界面活性剤［脂肪族アルコール（炭素数８〜２４）ＡＯ（炭素数２〜８）付加物、多価（２価〜１０価またはそれ以上）アルコール脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル、脂肪酸（炭素数８〜２４）アルカノールアミド、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８）アルキル（炭素数１〜２２）フェニルエーテル、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８）アルキル（炭素数８〜２４）アミン、並びにアルキル（炭素数８〜２４）ジアルキル（炭素数１〜６）アミンオキシド］、
【００５７】
（Ｈ２）カチオン性界面活性剤［（Ａ）以外の第４級アンモニウム塩型カチオン性界面活性剤およびアミン塩型カチオン性界面活性剤］、（Ｈ３）両性界面活性剤［ベタイン型両性界面活性剤およびアミノ酸型両性界面活性剤］、並びに（Ｈ４）高分子型界面活性剤［ポリビニルアルコール、デンプンおよびその誘導体、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、特開平１１−１９３３０５号公報記載のもの、並びに特開平７−１３３４２３号公報および特開平８−１２００４１号公報に記載のウレタン結合もしくはエステル結合を有する高分子型分散剤など］が挙げられる。
【００５８】
これらの界面活性剤のうちで好ましいものは、ノニオン性界面活性剤および高分子型界面活性剤であり、さらに好ましいものはノニオン性界面活性剤である。
他の界面活性剤（Ｈ）の含有量は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の合計重量に基づいて好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは２重量％以下である。
【００５９】
本発明の洗浄剤組成物において、（Ａ）〜（Ｈ）以外の成分は、水のみ、または水と（Ｃ）以外の親水性有機溶媒の混合溶媒であり、好ましいのは水のみの場合である。
混合溶媒の場合の、（Ｃ）以外の親水性有機溶媒としては、炭素数１〜４の低級アルコ−ル（メタノール、エタノール、ｎ−およびｉｓｏ−プロパノール、ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブタノール）、総炭素数３〜６の脂肪族カルボン酸アルキルエステル（酢酸メチル、酢酸エチルなど）および総炭素数３〜４のケトン類（アセトン、メチルエチルケトンなど）が挙げられ、水と親水性有機溶媒の重量比率は好ましくは３０／７０〜９９．９／０．１である。
【００６０】
本発明の洗浄剤組成物において、洗浄剤組成物の重量に基づく（Ａ）〜（Ｈ）の合計の含有量は、好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上である。
【００６１】
本発明の洗浄剤が適用できる用途は特に限定はなく、各種の電子部品および電気部品などの洗浄に使用される。
具体的には、例えば液晶パネル用ガラス基板（不具合カラーフィルター上のカラーレジストおよびブラックマトリクスの剥離洗浄、配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄）、プリント配線基板、半導体基板、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッドなどの電子部品などが挙げられる。
また、洗浄の対象物（汚れ）は、油分、指紋、樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル（例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など）などの無機物が挙げられる。
【００６２】
本発明の洗浄剤を用いて、例えば液晶パネル用ガラス基板の配向膜を剥離洗浄する方法としては、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。
洗浄時の本発明の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されてもよいが、好ましいのは水の含有量が５〜９５重量％、さらに好ましくは１０〜８０重量％の範囲内である。
【００６３】
洗浄温度は、通常１０〜８０℃、好ましくは１５〜７０℃程度である。洗浄時間は通常０．２〜１２０分、好ましくは０．５〜３０分である。水によるリンス温度は、通常５〜９０℃、好ましくは１０〜７０℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常５０〜１５０℃、好ましくは６０〜１００℃で通常１〜１２０分間、好ましくは３〜６０分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られ、再生使用することができる。
【００６４】
［実施例］
以下に実施例および比較例をあげ本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６５】
製造例１
温度計、加熱冷却装置、撹拌機、滴下ロートおよびストリッピング装置を備えたステンレス製耐圧容器にメタノール１９１部とジメチルカーボネート３５０部を仕込み、窒素置換後密閉し、１２０℃に昇温した。撹拌下、ジメチルオクチルアミン４７０部を滴下し、１２０℃で３時間撹拌し、オクチルトリメチルアンモニウム・メチルカーボネート塩のメタノール溶液（逆エプトン法によるカチオン含量：７０％）を得た。次に４０℃に冷却した後、オクタン酸４３１部を発泡に注意しながら徐々に滴下した。その後、徐々に昇温してメタノールおよびジメチルカーボネートを常圧下１００℃になるまで留去しながらアニオン交換反応して、固体状のオクチルトリメチルアンモニウム・オクタン酸塩（Ａ−１）を得た。
【００６６】
製造例２
製造例１と同様にして得られたオクチルトリメチルアンモニウム・メチルカーボネート塩のメタノール溶液９１９部にモノオクチルリン酸６２８部を４０℃以下で発泡に注意しながら徐々に滴下した。その後、徐々に昇温してメタノールおよびジメチルカーボネートを常圧下１００℃になるまで留去しながらアニオン交換して、固体状のオクチルトリメチルアンモニウム・オクチルリン酸塩（Ａ−２）を得た。
【００６７】
製造例３
撹拌装置、温度制御装置、液相窒素通気兼液中滴下用器具を取り付けた０．３Ｌの４ツ口フラスコに、オクチルアルコール１３０ｇを仕込み、攪拌速度４００ｒｐｍ、窒素通気量１００ｍｌ／ｍ、１０〜２０℃にて、クロロ硫酸１２８ｇを２時間かけて滴下した後、同温度にて更に２時間熟成し、高粘度液状の硫酸エステル化物（Ａ−３ａ）を得た。製造例１と同様にして得られたオクチルトリメチルアンモニウム・メチルカーボネート塩のメタノール溶液３１８部に（Ａ−３ａ）１８９部を４０℃以下で発泡に注意しながら徐々に滴下した。その後、徐々に昇温してメタノールおよびジメチルカーボネートを常圧下１００℃になるまで留去しながらアニオン交換して、固体状のオクチルトリメチルアンモニウム・オクチル硫酸塩（Ａ−３）を得た。
【００６８】
実施例１〜１０、比較例１〜４
表１に記載の部数（純分表示）の各成分を、１Ｌのビーカー中で室温で十分に撹拌・混合して実施例および比較例の洗浄剤を作製した。
表１中の略号は下記の通りである。
Ａ−１：オクチルトリメチルアンモニウム・オクタン酸塩
Ａ−２：オクチルトリメチルアンモニウム・オクチルリン酸塩
Ａ−３：オクチルトリメチルアンモニウム・オクチル硫酸塩
Ｂ−１：エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム
Ｂ−２：クエン酸三カリウム
Ｂ−３：ポリアクリル酸（数平均分子量：約１０，０００）ナトリウム
Ｃ−１：ジエチレングリコールジエチルエーテル
Ｃ−２：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
Ｃ−３：ジメチルスルホキシド
Ｄ−１：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ｄ−２：テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ｄ−３：水酸化カリウム
【００６９】
実施例および比較例で得られた洗浄剤の評価試験方法を以下に示し、評価結果を表１に示す。
【００７０】
１．カラーレジストの剥離性
ガラス基板上にカラーレジストおよびブラックマトリクス（ＢＭ）が形成された液晶ディスプレイ用カラーフィルター（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）を洗浄剤（６０℃）に所定時間（５分、１０分または６０分）浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の５段階で評価した。
＜評価基準＞
５：ガラス基板面にカラーレジストおよびＢＭが全くなし。
４：ガラス基板面にカラーレジストまたはＢＭが痕跡程度残っている。
３：ガラス基板面の一部にカラーレジストまたはＢＭが少し残っている。
２：ガラス基板面の大部分にカラーレジストまたはＢＭが残っている。
１：ガラス基板全面にカラーレジストまたはＢＭが残っている。
【００７１】
２．配向膜剥離性
予めＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜）が成膜されたガラス基板（２５×２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）の上にポリイミド樹脂を塗布し、８０℃で焼き付ける作業を３回繰り返し、半焼性の垂直配向ポリイミド膜（膜厚５μｍ）が密着したガラス基板試験片を作成した。試験片を洗浄剤（５０℃）に所定時間（１分、２分または３０分）浸漬後、試験片をステンレス網かごの上に置きイオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、顕微鏡で観察して配向膜剥離性を次の５段階で評価した。
＜評価基準＞
５：ガラス基板面に配向膜が全くなし。
４：ガラス基板面に配向膜が痕跡程度残っている。
３：ガラス基板面の一部に配向膜が少し残っている。
２：ガラス基板面の大部分に配向膜が残っている。
１：ガラス基板全面に配向膜が残っている。
【００７２】
３．ホトスペーサーの剥離性
予めＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜）が成膜されたガラス基板上にネガ型フォトレジスト（アクリル系樹脂）にて厚み２μｍ、口径５μｍのホトスペーサー形成し、２３０℃にて１時間焼き付け、試験片を作成した。試験片を洗浄剤中に６０℃にて所定時間（１０分、３０分または６０分）浸漬した後、イオン交換水で１分間シャワーリンスした。次に、試験片を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥後、顕微鏡で観察してホトスペーサーの剥離性を次の５段階で評価した。
＜評価基準＞
５：ホトスペーサーの残存なし。
４：ホトスペーサーが痕跡程度残っている。
３：ホトスペーサーが少し残っている。
２：ホトスペーサーが大部分残っている。
１：ホトスペーサーが全く除去されていない。
【００７３】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の洗浄剤組成物は、樹脂の剥離性に優れているため、例えば液晶ディスプレイ用のカラーフィルター基板上のカラーレジスト、ブラックマトリクス樹脂、ポリイミド系配向膜およびホトスペーサーなどの硬化後ホトレジストを短時間に剥離・洗浄できる。また、本発明の洗浄剤は、油分、指紋、樹脂およびパーティクルを除去する能力にも優れており、液晶パネル用ガラス基板や半導体基板をはじめとする電子部品および電気部品洗浄用途に適用が可能であり極めて有用性が高い。