(57)【要約】      （修正有）【課題】レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示し、かつ、工業的生産性に優れた位相差フィルムを提供する。【解決手段】波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有し、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フイルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板と、
前記透明基板上に形成され、前記樹脂材料および波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有し、
面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムであって、
波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺが、Ｚ＜１であることを特徴とする、位相差フィルム。
【請求項２】
前記光学異方性材料が、棒状化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の位相差フィルム。
【請求項３】
前記Ｚが０．６〜１．０の範囲内であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の位相差フィルム。
【請求項４】
波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）が、０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることを特徴とする、請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルム。
【請求項５】
前記樹脂材料が、セルロース誘導体であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の位相差フィルム。
【請求項６】
樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板を用い、
波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料、および、前記樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、前記透明基板上に塗工することにより、前記透明基板上に光学異方性層が形成された光学積層体を作製する光学異方性層形成工程と、
前記光学積層体を、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸する延伸工程と、を有し、
波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺがＺ＜１である位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、
前記光学異方性層形成工程が、前記光学積層体の波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷが、Ｗ＜１となるように前記光学異方性層を形成するものであることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の視野角補償フィルム等に用いられる位相差フィルムおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣ
ＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図４に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０４とを有するものを挙げることができる。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光（図中、矢印で模式的に図示）のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０４は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。
【０００３】
ここで、このような液晶表示装置１００において、液晶セル１０４が、負の誘電異方性
を有するネマチック液晶が封止されたＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（図中、液晶のダイレクターを点線で模式的に図示）を採用している場合を例に挙げると、入射側の偏光板１０２Ａを透過した直線偏光は、液晶セル１０４のうち非駆動状態のセルの部分を透過する際に、位相シフトされずに透過し、出射側の偏光板１０２Ｂで遮断される。これに対し、液晶セル１０４のうち駆動状態のセルの部分を透過する際には、直線偏光が位相シフトされ、この位相シフト量に応じた量の光が出射側の偏光板１０２Ｂを透過して出射される。これにより、液晶セル１０４の駆動電圧をセル毎に適宜制御することにより、出射側の偏光板１０２Ｂ側に所望の画像を表示することができる。なお、液晶表示装置１００としては、上述したような光の透過および遮断の態様をとるものに限らず、液晶セル１０４のうち非駆動状態のセルの部分から出射された光が出射側の偏光板１０２Ｂを透過して出射される一方で、駆動状態のセルの部分から出射された光が出射側の偏光板１０２Ｂで遮断されるように構成された液晶表示装置も考案されている。
【０００４】
一方、液晶表示装置は上述したような利点を有するが、その特有の問題点として視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで、視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重要性が顕在化しつつある。
【０００５】
このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。この位相差フィルムを用いる方法は、図４に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム３０を、液晶セル１０４と偏光板１０２Ｂとの間に配置することにより、視野角性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム３０を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得る方法として広く用いられるに至っている。
【０００６】
上記位相差フイルムとしては、図５に示すように任意の透明基材４１上に配向膜４２を設け、さらに当該配向膜４２上に液晶分子を有する光学異方性層４３を形成し、上記配向膜４３の配向規制力により上記液晶分子を配向させて所望の屈折率異方性を発現させる構成を有するものが一般的である。このような位相差フイルムとしては、例えば特許文献１または特許文献２に開示されているように、コレステリック規則性の分子構造を有する光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）を配向膜を有する基材上に形成した位相差フイルムが開示されている。また、特許文献３には、円盤状化合物からなる光学異方性層（複屈折性を示す光学異方性層）を配向膜を有する基材上に形成した位相差フイルムが開示されている。
このような液晶分子を用いる位相差フィルムは、液晶分子の配列形態を変更させることにより、屈折率異方性を任意に調整することができるという利点や、一般的に液晶分子は固有複屈折率が大きいため上記屈折率異方性を発現しやすいという利点を有することから工業的な実用性に優れたものである。
【０００７】
ところで、上記位相差フイルムは屈折率異方性を示すことにより、上記液晶セルで生じる位相差を相殺し、液晶表示装置の視角依存性の問題改善するものである。このため従来の位相差フィルムにおいては、上記位相差を適切に相殺できるようにレターデーション値が特定の範囲内となることが厳密に求められてきた。
しかしながら、近年では、単に特定の波長におけるレターデーション値が所定の範囲内であることのみではなく、レターデーション値の波長依存性が特定の挙動を示すことが求められるようになっている。
特に、二本の光軸を備える二軸性フィルムや、面内方向に一本の光軸を備える一軸性フィルムにおいてはレターデーション値が長波長側よりも短波長側の方が小さい、いわゆる逆分散型の波長依存性を有すること理想とされている。
【０００８】
しかしながら、従来用いられてきた上記液晶分子は一般的にレターデーション値が長波長側よりも短波長側の方が大きい、いわゆる正分散型の波長依存性を示すことから、このような液晶分子を用いて逆分散性の位相差フィルムを得ることが困難であった。
また、研究室レベルでは逆分散性を示す液晶分子も開発されつつあるが、量産性にかけており、工業的に実用可能なレベルには程遠い。
【０００９】
このようなことから、液晶分子を用いた位相差フィルムであってレターデーション値が正分散型の波長依存性を有し、かつ、工業的生産性に優れた位相差フィルムを得ることは困難であった。
【００１０】
【特許文献１】特開平３−６７２１９号公報
【特許文献２】特開平４−３２２２２３号公報
【特許文献３】特開平１０−３１２１６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示し、かつ、工業的生産性に優れた位相差フィルムを提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために本発明は、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有し、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムであって、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺが、Ｚ＜１であることを特徴とする位相差フィルムを提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記ＸがＸ≧１である上記光学異方性材料を含有する上記光学異方性層と、上記ＹがＹ＜１である透明基板とが、上記ＺがＺ＜１となるように積層された構成を有することにより、全体としてレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す位相差フィルムを得ることができる。
また、本発明においては上記光学異方性材料として、工業的に広く用いられている上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムを工業的生産性に優れたものにできる。
このようなことから本発明によれば、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示し、かつ、工業的生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００１４】
本発明においては、上記光学異方性材料が棒状化合物であることが好ましい。棒状化合物は規則的に配列させることにより優れた位相差性を発現できるため、このような棒状化合物を用いることにより、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
【００１５】
また本発明においては、上記Ｚが０．６〜１．０の範囲内であることが好ましい。上記Ｚがこのような範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるからである。
【００１６】
また本発明においては、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）が、０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。レターデーション値（Ｒｅ５５０）がこのような範囲内であることによっても、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。
【００１７】
さらに、本発明においては上記樹脂材料が、セルロース誘導体であることが好ましい。セルロース誘導体は光学的等方性に優れるため、このようなセルロース誘導体が用いられていることにより、本発明の位相差フィルムの光学特性の設計が容易になるからである。
【００１８】
また上記課題を解決するために本発明は、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板を用い、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料、および、上記樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、上記透明基板上に塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学積層体を作製する光学異方性層形成工程と、上記光学積層体を、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸する延伸工程と、を有し、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺが、Ｚ＜１である位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、上記光学異方性層形成工程が、上記光学積層体の波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷが、Ｗ＜１となるように上記光学異方性層を形成するものであることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法を提供する。
【００１９】
本発明によれば、上記光学異方性層形成工程が、上記光学積層体の上記Ｗが、Ｗ＜１となるように上記光学異方性層を形成するものであることにより、上記ＹがＹ＜１である透明基板を用い、かつ、上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料を用いる場合であっても、全体としてレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す位相差フィルムを得ることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す、位相差フィルムを提供できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明は、位相差フィルムと、位相差フィルムの製造方法に関するものである。
以下、本発明の位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法について順に説明する。
【００２２】
なお、本発明においては、レターデーション値の波長依存性を「波長分散」と称する場合がある。また、このときレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが大きい波長分散（即ち、レタデーション値が波長の減少函数である）の類型を「正分散」と称し、逆にレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい波長分散（即ち、レタデーション値が波長の増加函数である）の類型を「逆分散」と称する場合がある。
また、本発明において波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）が１よりも大きいことは、波長４５０ｎｍ〜５５０ｎｍにおける波長分散が正分散であることを意味し、逆に上記比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）が１よりも小さいことは、波長４５０ｎｍ〜５５０ｎｍにおける波長分散が逆分散であることを意味する。
尚、Ｒｅは、各材料層の面内方向に於ける遅相軸方向の屈折率をｎx、面内方向に於ける進相軸方向の屈折率をｎy、厚み方向の屈折率をｎzとしたときに、Ｒｅ＝（ｎx−ｎy）×ｄで表される量である。又Ｒｅ５５０とは波長５５０ｎｍに於けるＲe値を意味する。
【００２３】
Ａ．位相差フィルム
まず、本発明の位相差フィルムについて説明する。本発明の位相差フィルムは、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料を含有する光学異方性層と、を有し、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムであって、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺが、Ｚ＜１であることを特徴とするものである。
【００２４】
このような本発明の位相差フィルムについて図を参照しながら説明する。図１は本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。図１に例示するように、本発明の位相差フィルム１０は、樹脂材料からなり、上記ＹがＹ＜１である透明基板１と、上記透明基板１上に形成され、上記透明基板１を構成する樹脂材料および上記Ｘが、Ｘ≧１である光学異方性材料を含有する光学異方性層２とを有するものである。
このような例において、本発明の位相差フィルム１０は、上記光学異方性層２と上記透明基板１とが、位相差フィルム１０の上記ＺがＺ＜１となるように積層されていることを特徴とするものである。
【００２５】
本発明によれば、上記ＸがＸ≧１である上記光学異方性材料を含有する上記光学異方性層と、上記ＹがＹ＜１である透明基板とが、上記ＺがＺ＜１となるように積層された構成を有することにより、全体としてレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す位相差フィルムを得ることができる。
また、本発明においては上記光学異方性材料として、工業的に広く用いられている上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムを工業的生産性に優れたものにできる。
このようなことから本発明によれば、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示し、かつ、工業的生産性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
【００２６】
従来、液晶表示用の視野角補償フィルム等に用いられる位相差フィルムであって、液晶分子の配列性を利用して位相差性を発現させる構成を有するものは、通常、上記液晶分子の波長分散が正分散であることから、波長分散が逆分散である位相差フィルムを得ることが困難であった。
この点、本発明においては、上記光学異方性層に上記ＸがＸ≧１である上記光学異方性材料が用いられている場合であっても、上記透明基板として上記ＹがＹ＜１であるものを用い、かつ、上記ＺがＺ＜１となるように上記光学異方性層と上記透明基板上に積層することにより、レターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す位相差フィルムを得ることができるのである。
【００２７】
本発明の位相差フィルムは、少なくとも上記基板と、上記光学異方性層とを有するものであり、必要に応じて他の構成を有しても良いものである。
以下、本発明の位相差フィルムに用いられる各構成について順に説明する。
【００２８】
１．光学異方性層
まず、本発明に用いられる光学異方性層について説明する。本発明に用いられる光学異方性層は、後述する透明基板を構成する樹脂材料と、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料とを含有するものであり、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与する機能を有するものである。
【００２９】
（１）光学異方性材料
本発明に用いられる光学異方性層に含有される光学異方性材料について説明する。本発明に用いられる光学異方性材料としては、上記ＸがＸ≧１であるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものを適宜選択して用いることができる。なかでも本発明に用いられる光学異方性材料は、上記Ｘが１〜２の範囲内であることが好ましい。特に、基材の逆分散特性を生かすためには、Ｘがなるべく１に近いものが好ましい。
【００３０】
ここで、上記Ｘは、ポリイミドなどの配向膜を形成し配向処理を施したガラス基板などの等方性基材上に成膜し、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）とを測定することにより算出することができる。
なお、上記レターデーション（Ｒｅ）とは、上記面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚みｄとにより、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表されるものである。また、上記遅相軸方向は、面内方向における屈折率が最も大きい方向を意味し、上記進相軸方向とは、面内方向における上記遅相軸方向と垂直な方向を意味する。
上記レターデーションは、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法により測定することができる。
【００３１】
本発明に用いられる上記光学異方性材料としては、上記Ｘが上記範囲内であるもののなかでも棒状化合物を用いることが好ましい。棒状化合物は規則的に配列させることにより優れた位相差性を発現できるため、このような棒状化合物を用いることにより、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
ここで、本発明における「棒状化合物」とは、分子構造の主骨格が棒状となっているものを指す。
【００３２】
本発明に用いられる上記棒状化合物としては、分子量が比較的小さい化合物を用いることが好ましい。より具体的には、分子量が２００〜１２００の範囲内である化合物が好ましく、特に４００〜８００の範囲内である化合物が好適に用いられる。その理由は次の通りである。すなわち、本発明に用いられる光学異方性層は、上記光学異方性材料と、後述する透明基板を構成する樹脂材料とを含有するものであるが、上記棒状化合物として分子量が比較的小さい化合物を用いることにより、上記光学異方性層において上記棒状化合物が上記樹脂材料と混合しやすくなるからである。
なお、上記棒状化合物として重合性官能基を有する材料を用いる場合、上記棒状化合物の分子量は、重合前のモノマーの分子量を示すものとする。
【００３３】
また、本発明に用いられる棒状化合物としては、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は規則的に配列する特性を備えるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。
【００３４】
本発明に用いられる上記液晶性材料としては、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。このような液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、コレステリック相、および、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。
本発明においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。
【００３５】
また、本発明においては、上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。
【００３６】
さらに、本発明に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい光学異方性層を得ることができるからである。
また、本発明においては上記重合性官能基を有する棒状化合物と、上記重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いても良い。
なお、上記「３次元架橋」とは、液晶性分子を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。
【００３７】
上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００３８】
さらにまた、本発明における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような液晶材料を用いることにより、例えば、互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた光学異方性層を形成することができるからである。
なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
【００３９】
本発明に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。
【００４０】
【化１】
2007304444.tif 000003
【００４１】
ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５０（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。
【００４２】
また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化
学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。
【００４３】
【化２】
2007304444.tif 000004
【００４４】
なお、本発明において上記棒状化合物は、１種類のみを用いてもよく、または、２種以上を混合して用いても良い。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。
【００４５】
（２）樹脂材料
次に、本発明における光学異方性層に含有される樹脂材料について説明する。本発明に用いられる樹脂材料は、後述する透明基板を構成する樹脂材料と同一のものである。
本発明においては、上記光学異方性層にこのような樹脂材料を含有することにより、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムを容易に得ることができる。
【００４６】
本発明においては、上記光学異方性層にこのような樹脂材料を含有することにより、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムを容易に得ることができる理由は次の通りである。
すなわち、一般的にｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムを得るには、光学異方性を備える光学異方性材料を、配向膜等を用いて規則的に配列させることが必要であるが、本発明の位相差フィルムは、通常、後述する透明基板上に光学異方性層が直接形成された構成を有するものであるため、上記配向膜が用いられることは少ない。
しかしながら、上記光学異方性層に上記樹脂材料が含有されることにより、上記光学異方性層に延伸等の配向処理を行うことが可能となるため、上記配向膜を用いない場合であっても上記光学異方性材料を配列させることが可能になる結果、屈折率が上記関係を有する位相差フィルムを得ることが容易になるのである。
【００４７】
ここで、本発明に用いられる樹脂材料については、後述する「２．透明基板」の項において詳述するため、ここでの説明は省略する。
【００４８】
（３）その他の化合物
本発明に用いられる光学異方性層には、上記光学異方性材料および上記樹脂材料以外に他の化合物が含有されていて良い。このような他の化合物としては、本発明の位相差フィルムの上記Ｚを、Ｚ＜１に維持できるものであれば特に限定されるものではなく、上記光学異方性層に付与する機能等に応じて、任意の機能を有する化合物を用いることができる。
【００４９】
本発明に用いられる上記他の化合物としては、例えば、ポリジメチルシロキサン、メチルフェニルシロキサン、有機変性シロキサン等のシリコン形レベリング剤；ポリアルキルアクリレート、ポリアルキルビニルエーテル等の直鎖状重合物；フッ素系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の界面活性剤；テトラフルオロエチレン等のフッ素系レベリング剤；光重合開始剤等を挙げることができる。
なかでも本発明においては、上記光学異方性材料として、光照射により重合する重合性官能基を有する棒状化合物を用いる場合に、上記他の化合物として光重合開始剤を含むことが好ましい。
【００５０】
本発明に用いられる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５１】
上記光重合開始剤の含有量としては、上記棒状化合物を所望の時間で重合できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、上記棒状化合物１００重量部に対して、１重量部〜１０重量部の範囲内が好ましく、特に３重量部〜６重量部の範囲内が好ましい。
【００５２】
上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００５３】
さらに本発明における上記光学異方性には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。このような化合物を含有することにより本発明に用いられる上記光学異方性層の機械強度が向上し、安定性が改善される場合がある。
【００５４】
（４）光学異方性層
本発明に用いられる光学異方性層の厚みとしては、上記光学異方性材料や、後述する透明基板の種類に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することができ、かつ、本発明の位相差フィルムの上記Ｚを、Ｚ＜１にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明における上記光学異方性層の厚みは、通常、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。厚みが上記範囲よりも大きいと、上記光学異方性材料の種類によっては、本発明の位相差フィルムの上記Ｚを、Ｚ＜１にできない恐れがあるからである。また、上記範囲よりも薄いと、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる場合があるからである。
【００５５】
２．透明基板
次に、本発明に用いられる透明基板について説明する。本発明に用いられる透明基板は、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１であるものである。
また、本発明の透明基板は、上記ＹがＹ＜１であることにより、本発明の位相差フィルムの上記ＺをＺ＜１とする機能を有するものである。
【００５６】
本発明に用いられる透明基板は、上記ＹがＹ＜１であるものであれば特に限定させるものではない。なかでも本発明においては、上記Ｙが０．３〜１の範囲内であることが好ましく、特に０．５〜０．９の範囲内であることが好ましい。上記Ｙが上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺがＺ＜１であるものにすることが容易になるからである。
【００５７】
また、本発明に用いられる透明基板のレターデーション値は、上記ＹをＹ＜１にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、５５０ｎｍにおけるレターデーション値が０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Ｙは、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍのレターデーション値を測定することにより算出することができる。
【００５８】
また、本発明に用いられる透明基板は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が、０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、面内における遅相軸方向の屈折率Ｎｘと、面内の進相軸方向の屈折率Ｎｙと、厚み方向の屈折率Ｎｚと、透明基板の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。本発明における厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）の値は、例えば、王子計測機器(株)製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定することができる。
【００５９】
本発明に用いられる透明基板の透明度は、本発明の位相差フイルムに求める透明性等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
ここで、上記透明基板の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００６０】
また、本発明に用いられる透明基板の厚みは、本発明の位相差フイルムの用途等に応じて、必要な自己支持性が得られる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては１０μｍ〜１８８μｍの範囲内であることが好ましく、特に２０μｍ〜１２５μｍの範囲内であることが好ましく、さらには３０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。
透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の位相差フイルムに必要な自己支持性を付与できない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本発明の位相差フイルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。
【００６１】
このような透明基板を構成する樹脂材料としては、例えば、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類等を挙げることができる。
なかでも本発明においては、上記樹脂材料としてセルロース誘導体を用いることが好ましい。セルロース誘導体は光学的等方性に優れるため、このようなセルロース誘導体を用いることにより、本発明の位相差フィルムの光学特性の設計が容易になるからである。
【００６２】
上記セルロース誘導体としては、セルロースエステル類を用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。
【００６３】
上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであっても良い。
【００６４】
また本発明においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。トリアセチルセルロースは、比較的嵩高い側鎖を有する分子構造を有することから、このようなトリアセチルセルロースからなる透明基板を用いることにより、透明基板と上上記光学異方性層との密着性をより向上することできるからである。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。なお、トリアセチルセルロースフイルムを構成するトリアセチルセルロースの酢化度は、フイルム中に含まれる可塑剤等の不純物を除去した後、上記の方法により求めることができる。
【００６５】
本発明における透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有しても良い。
また、複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されても良く、また、異なった組成を有する複数の層が積層されても良い。
【００６６】
また、本発明に用いられる透明基板は、延伸処理が施されていても良い。延伸処理が施されて透明基板を用いることにより、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立する位相差フィルムを得ることが容易になるからである。
ここで、上記延伸処理としては、１軸延伸処理であっても良く、または、２軸延伸処理であっても良い。
【００６７】
３．その他の構成
本発明の位相差フィルムは、上記光学異方性層および上記透明基板以外に他の構成を有するものであっても良い。このような他の構成としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。
このような他の構成としては、例えば、ハードコート層、オーバーコート層、ＡＧ層、ＡＲ層等を挙げることができる。
【００６８】
４．位相差フィルム
本発明の位相差フィルムは、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立し、かつ、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺがＺ＜１であるものである。
【００６９】
本発明の位相差フィルムにおける上記Ｚは、Ｚ＜１の範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、上記Ｚが０．６〜１．０の範囲内であることが好ましく、特に０．７〜０．９５の範囲内であることが好ましい。上記Ｚがこのような範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるからである。
【００７０】
本発明の位相差フィルムは、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの関係がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚである一軸性の位相差フィルムと、上記屈折率の関係がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚである二軸性の位相差フィルムとに分けることができる。
【００７１】
本発明の位相差フィルムが上記一軸性の位相差フィルムである場合においては、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。
【００７２】
一方、本発明の位相差フィルムが上記二軸性の位相差フィルムである場合においては、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適なものにできるからである。
【００７３】
また、本発明の位相差フィルムは、上記透明基板上に上記光学異方性層が形成された構成を有するものであるが、本発明において上記透明基板と、上記光学異方性層とが積層された態様としては、上記透明基板と上記光学異方性層とが独立した層として積層された態様であっても良く、または、上記透明基板と光学異方性層との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であっても良い。
【００７４】
このような上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様について図を参照しながら説明する。図２は本発明の位相差フィルムにおいて、上記透明基板と上記光学異方性層とが積層された態様の一例を示す概略図である。図２に例示するように、本発明のおい操作フィルム１０は、上記透明基板１と上記光学異方性層２とが独立した層として積層された態様であっても良く（図２（ａ））、または、上記透明基板１と光学異方性層２’との間に明確な界面がなく、両者の間において上記光学異方性材料の含有量が連続的に変化するように積層された態様であっても良い（図２（ｂ））。
【００７５】
本発明の位相差フィルムの形態としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて所望の形態とすることができる。したがって、例えば、長尺に形成され、ロール状に巻き取られた形態であっても良く、所定のサイズに切断加工されたシート状の形態であっても良い。
【００７６】
５．位相差フィルムの用途
本発明の位相差フィルムは、液晶表示装置に用いられる光学補償板、楕円偏光板、輝度向上板等として用いることができる。
【００７７】
本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の光学補償板として用いる場合においては、本発明の位相差フィルムを単体で用いることも可能であり、また、本発明の位相差フィルムは、他の光学機能フィルムと積層して用いることも可能である。
【００７８】
本発明の位相差フィルムと、他の光学機能フィルムとを積層して用いる例としては、例えば、本発明の位相差フィルムがネガティブＣプレートと積層された構成を有するＶＡ方式用光学補償フィルム、および、発明の位相差フィルムがポジティブＣプレートと積層された構成を有するＩＰＳ方式用光学補償フィルム等を挙げることができる。
【００７９】
また、本発明の位相差フィルムは、本発明の位相差フィルム上に、ポジティブＣプレートと、コレステリック配列した液晶分子を含有する液晶層とをこの順で積層することにより、液晶表示装置用の輝度向上フィルムとして用いることも可能である。
【００８０】
さらに本発明の位相差フイルムは、偏光子と貼り合わせることにより、偏光板としての用途にも用いることができる。すなわち、偏光板は、通常、偏光子とその両表面に形成された偏光板保護フイルムとからなるものであるが、本発明においては、例えば、その一方の偏光板保護フイルムとして本発明の位相差フイルムを用いることにより、液晶表示装置の視野角補償機能を備える偏光板を得ることができる。
【００８１】
上記偏光子としては、特に限定されないが、例えばヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子などを用いることができる。ヨウ素系偏光子や染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコールを用いて製造される。
【００８２】
６．位相差フィルムの製造方法
本発明の位相差フィルムの製造方法としては、上記構成を有する位相差フィルムを製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような製造方法としては、例えば、後述する「Ｂ．位相差フィルムの製造方法」の項において説明する方法を用いることができる。
【００８３】
Ｂ．位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の位相差フィルムについて説明する。本発明の位相差フィルムの製造方法は、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１である透明基板を用い、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１である光学異方性材料、および、上記樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、上記透明基板上に塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学積層体を作製する光学異方性層形成工程と、上記光学積層体を、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸する延伸工程とを有し、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺがＺ＜１である位相差フィルムを製造するものであって、上記光学異方性層形成工程が、上記光学積層体の波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷが、Ｗ＜１となるように上記光学異方性層を形成するものであることを特徴とするものである。
【００８４】
このような本発明の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図３は本発明の位相差フィルの製造方法の一例を示す概略図である。図３に例示するように、本発明の位相差フィルムの製造方法は、樹脂材料からなり、上記ＹがＹ＜１である透明基板を用い(図３（ａ））、上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料、および、上記透明基板１を構成する樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、上記透明基板１上に塗工することにより、上記透明基板上１に光学異方性層２’’が形成された光学積層体２０を形成する光学異方性層形成工程と（図３（ｂ））、上記光学積層体２０を、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸する延伸工程（図３（ｃ））とにより、透明基板１上に光学異方性層２が積層された構成を有する位相差フィルム１０を製造するものである(図３（ｄ））。
このような例において、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記光学異方性層形成工程（図３（ｂ））が、上記光学積層体２０を上記Ｗが、Ｗ＜１となるように上記透明基板１上に上記光学異方性層２を形成するものであり、製造される位相差フィルムの上記ＺがＺ＜１であることを特徴とするものである。
【００８５】
本発明によれば、上記光学異方性層形成工程が、上記光学積層体の波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷが、Ｗ＜１となるように上記光学異方性層を形成するものであることにより、上記ＹがＹ＜１である透明基板を用い、かつ、上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料を用いる場合であっても、全体としてレターデーション値が長波長側よりも短波長側のほうが小さい逆分散型の波長依存性を示す位相差フィルムを得ることができる。
【００８６】
本発明の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記光学異方性層形成工程と、上記延伸工程とを有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法を構成する各工程について順に説明する。
【００８７】
１．光学異方性層形成工程
まず、本発明に用いられる光学異方性層形成工程について説明する。本工程は、樹脂材料からなり、上記ＹがＹ＜１である透明基板を用い、上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料および上記樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有する光学異方性層形成用塗工液を、上記透明基板上に塗工することにより、上記透明基板上に光学異方性層が形成された光学積層体を作製する工程であって、上記光学積層体の上記Ｗが、Ｗ＜１となるように上記光学異方性層を形成するものである。
以下、このような光学異方性層形成工程について説明する。
【００８８】
（１）光学異方性層形成用塗工液
まず、本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液は、上記ＸがＸ≧１である光学異方性材料と、上記光学異方性材料および上記樹脂材料を溶解可能な溶媒を含有するものである。
【００８９】
ａ．溶媒
本工程に用いられる上記溶媒としては、後述する基板を構成する樹脂材料を溶解できるものであり、かつ、上記光学異方性材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒：クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒；酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を挙げることができる。
なかでも本工程においては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンを用いることが好ましい。
【００９０】
また本工程において、セルロース誘導体からなる透明基板を用いる場合は、上記溶媒としてシクロヘキサノン、または、メチルシクロヘキサノンを用いることが好ましい。
【００９１】
なお、本工程に溶媒としては、単一溶媒からなるものであってもよく、複数の溶媒の混合溶媒であっても良い。
【００９２】
ｂ．光学異方性材料
次に、本工程に用いられる光学異方性材料について説明する。本発明に用いられる光学異方性材料としては、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＸがＸ≧１であるものであれば特に限定されるものではなく、本発明により製造する位相差フィルムの用途等に応じて適宜選択して用いることができる。このような光学異方性材料としては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００９３】
ｃ．その他の化合物
本工程に用いられる光学異方性層形成用塗工液には、本発明の目的を損なわない範囲であれば、上記溶媒および上記光学異方性材料以外の他の化合物が含有されるものであっても良い。このような他の化合物としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて所望の機能を有する化合物を用いることができる。このような他の化合物としては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において、光学異方性層に用いられる「他の化合物」として説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００９４】
（２）光学異方性層形成用塗工液
本工程に用いられる上記光学異方性層形成用塗工液に含有される上記光学異方性材料の含有量としては、本工程において光学異方性層形成用塗工液を、後述する基板上に塗工する際の塗工量等に応じ、本工程において上記ＷがＷ＜１となる光学積層体を作製できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、上記光学異方性層形成用塗工液に含有される上記光学異方性材料の含有量が５質量％〜８０質量％の範囲内であることが好ましく、なかでも１０質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。
【００９５】
（３）透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本発明に用いられる透明基板は、樹脂材料からなり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＹがＹ＜１であるものである。
【００９６】
ここで、本工程に用いられる透明基板については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００９７】
（４）光学異方性層の形成方法
次に、本工程において上記透明基板上に上記光学異方性層形成用塗工液を塗工することによって上記透明基板上に光学異方性層を形成し、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷがＷ＜１である光学積層体を作製する方法について説明する。
【００９８】
本工程において、上記透明基板上に光学異方性層形成用塗工液を塗工する方法としては、上記透明基板上に、所定量の光学異方性層形成用塗工液を塗工できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法など挙げることができる。
【００９９】
なお、本工程においては、通常、上記光学異方性層形成用塗工液の上記透明基板への塗工量を調整することにより、上記光学積層体の波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷがＷ＜１となるように光学異方性層が形成される。このため、上記透明基板への上記光学異方性層形成用塗工液の塗工量は、上記光学異方性層形成用塗工液に用いられる光学異方性材料の種類やその含有量、および、上記透明基板の上記Ｙの値等に応じて、上記ＷがＷ＜１となるように適宜調整すれば良い。
【０１００】
上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば塗膜中に残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
【０１０１】
また、上記光学異方性材料として重合性材料を用いる場合、上記重合性材料は、本工程において上記光学異方性層形成用塗工液の塗膜が乾燥された後に、重合される。このとき、上記重合性材料を重合する方法は、上記重合性材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。
【０１０２】
上記活性放射線としては、上記重合性材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましく、中でも、波長が１５０〜５００ｎｍ、好ましくは２５０〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは３００〜４００ｎｍの照射光を用いることが好ましい。
【０１０３】
この照射光の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。また、照射強度は、光重合開始剤の含有量等によって適宜調整して照射することができる。
【０１０４】
なお、本工程においては上記光学異方性層形成用塗工液に上記透明基板を構成する樹脂材料を溶解可能な溶媒が用いられていることから、上記光学異方性層形成用塗工液を上記透明基板上に塗工した際に、上記透明基板の一部が溶解することになる。このため、本工程により形成される光学異方性層は、通常、上記光学異方性材料と、上記樹脂材料とを含有するものとなる。
【０１０５】
（５）光学積層体
次に、本工程において作製される光学積層体について説明する。本工程において作製される光学積層体は、上記透明基板上に、上記光学異方性層が積層された構成を有するものであり、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＷがＷ＜１であるものである。
【０１０６】
本工程において作製される光学積層体の上記Ｗは、Ｗ＜１の範囲内であれば特に限定されるものではなく、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて適宜調整すれば良い。なかでも本工程においては、上記Ｗが０．５〜０．９９の範囲内であることが好ましく、特に０．６〜０．９の範囲内であることが好ましい。
上記Ｗがこのような範囲内であることにより、本発明で製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとしての用途に適したものとすることができるからである。
ここで、本工程においては、上述したように上記光学異方性層形成用塗工液を上記透明基板上に塗工する際の塗工量を調整することにより、上記Ｗを所定の値に制御することができる。
なお、上記Ｗは、例えば、王子計測機器株式会社製  ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍのレターデーション値を測定することにより算出することができる。
【０１０７】
２．延伸工程
次に、本発明に用いられる延伸工程について説明する。本工程は、上記光学異方性層形成工程において作製された光学積層体を、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸する工程である。
【０１０８】
本工程において、上記光学積層体を延伸する態様としては、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係が成立するように延伸できる態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、上記光学積層体を一軸延伸することにより、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚの間にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係が成立するように延伸する態様（第１態様）と、上記光学積層体を二軸延伸することにより、上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚの間にｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係が成立するように延伸する態様（第２態様）と、を挙げることができる。
【０１０９】
上記第１態様および上記第２態様において上記光学積層体を延伸する方法としては、上記光学積層体を所望の延伸倍率に延伸できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、例えば、ロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法等を挙げることができる。
【０１１０】
なお、本工程においては、通常、上記光学積層体が加熱された状態で延伸されるが、このときの加熱温度としては、上記光学積層体を所望の倍率で延伸できる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、通常、ガラス転移温度以上、かつ、融点温度以下とされる。
【０１１１】
上記第１態様により延伸された光学積層体の位相差性としては、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ)が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適な一軸性フィルムとすることができるからである。
【０１１２】
一方、上記第２態様により延伸された光学積層体の位相差性としては、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値が０ｎｍ＜Ｒｅ５５０＜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記レターデーション（Ｒｅ）および上記厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が上記範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適な二軸性フイルムとすることができるからである。
【０１１３】
３．位相差フイルムの製造方法
本発明の位相差フイルムの製造方法は、上記光学異方性層および上記延伸工程以外に他の工程を有するものであっても良い。このような他の工程としては、本発明により製造される位相差フイルムの用途等に応じて、本発明により所望の機能を有する位相差フイルムを製造できるものを適宜選択して用いることができる。
【０１１４】
また、本発明の位相差フイルムが実施される態様としては、上記光学異方性層形成工程および上記延伸工程が実施される態様であれば特に限定されるものではない。このような態様としては、例えば、上記透明基板として長尺に形成されたものを用い、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌプロセスにより連続的に上記光学異方性層および上記延伸工程が実施される態様であっても良く、または、所定のサイズにシート加工された透明基板を用い、当該透明基板を順次移動させながら、上記光学異方性層形成工程および上記延伸工程を実施する態様であっても良い。
【０１１５】
４．位相差フイルム
本発明により製造される位相差フイルムは、透明基板と、上記透明基板上に形成され、上記樹脂材料および上記光学異方性材料を含有する光学異方性層とを有し、波長４５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ５５０）との比（Ｒｅ４５０／Ｒｅ５５０）で表されるＺがＺ＜１であるものとなる。なかでも本発明により製造される位相差フィルムは、上記Ｚが０．６〜１．０の範囲内であることが好ましく、特に０．７〜０．９５の範囲内であることが好ましい。上記Ｚがこのような範囲内であることにより、本発明により製造される位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられるものにできるからである。
【０１１６】
ここで、本発明により製造される位相差フイルムについては、上記「Ａ．位相差フイルム」の甲において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１１７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１８】
以下に実施例を示し、本発明についてさらに具体的に説明する。
【０１１９】
１．実施例１
（１）光学異方性層形成工程
屈折率異方性材料として下記式（１）で表される光重合性液晶化合物（Ｘ＝１．２）を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、ＴＡＣフィルム（富士写真フイルム社製、商品名：ＴＦ８０ＵＬ：Ｙ＝０．６８）基材表面にバーコーティングにより、乾燥後の塗工量が１．０ｇ／ｍ２となるように塗工した。
次いで、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して光学積層体を作製した。このとき、上記光学積層体のＷは、Ｗ＝０．７５であった。
【０１２０】
【化３】
2007304444.tif 000005
【０１２１】
（２）延伸工程
上記光学積層体を、ホットプレート上で１２０℃で５分間加熱し、延伸倍率が１．２０倍となるように一軸延することにより、位相差フィルムを作製した。このとき、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚの関係はｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。
【０１２２】
（３）評価
作製した位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、それぞれ２１．４ｎｍ、７７ｎｍであり、Ｚは、Ｚ＝０．７６であった。
【０１２３】
２．実施例２
（１）光学異方性層形成工程
屈折率異方性材料として上記式（１）で表される光重合性液晶化合物（Ｘ＝１．２）を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、ＴＡＣフィルム（コニカミノルタ社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ：Ｙ＝０．８６）基材表面にバーコーティングにより、乾燥後の塗工量が１．０ｇ／ｍ２となるように塗工した。
次いで９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して光学積層体を作製した。このとき、上記光学積層体のＷは、Ｗ＝０．９０であった。
【０１２４】
（２）延伸工程
上記光学積層体を、ホットプレート上で１２０℃で３分間加熱し、延伸倍率が１．２０倍となるように一軸延することにより、位相差フィルムを作製した。このとき、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚの関係はｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。
【０１２５】
（３）評価
作製した位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、それぞれ２２．３ｎｍ、５１ｎｍであり、Ｚは、Ｚ＝０．９２であった。
【０１２６】
３．比較例
（１）光学異方性層形成工程
屈折率異方性材料として上記式（１）で表される光重合性液晶化合物（Ｘ＝１．２）を用い、これをシクロヘキサノンに２０質量％になるように溶解させ、ＴＡＣフィルム（コニカミノルタ社製、商品名：ＫＣ４ＵＹＷ：Ｙ＝０．８６）基材表面にバーコーティングにより、乾燥後の塗工量が４．０ｇ/ｍ２となるように塗工した。
次いで、９０℃で４分間加熱して溶剤を乾燥除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、上記光重合性液晶化合物を固定化して光学積層体を作製した。このとき、上記光学積層体のＷは、Ｗ＝１．１であった。
【０１２７】
（２）延伸工程
上記光学積層体を、ホットプレート上で１２０℃で３分間加熱し、延伸倍率が１．２０倍となるように一軸延することにより、位相差フィルムを作製した。このとき、面内方向における遅相軸方向の屈折率ｎｘと、面内方向における進相軸方向の屈折率ｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚの関係はｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚであった。
【０１２８】
（３）評価
作製した位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、それぞれ２０．５ｎｍ、１８０ｎｍであり、Ｚは、Ｚ＝１．２であった。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】本発明の位相差フイルムの一例を示す概略図である。
【図２】本発明の位相差フイルムの他の例を示す概略図である。
【図３】本発明の位相差フイルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図４】従来の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図５】従来の位相差フイルムの一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１３０】
１  …  基材
２、２’、２’’  …  光学異方性層
１０、１０’…  位相差フイルム
２０  …  光学積層体
３０  …  位相差フイルム
４１  …  基材
４２  …  配向膜
４３  …  光学異方性層
１００  …  液晶表示装置
１０２Ａ、１０２Ｂ  …  偏光板
１０４  …  液晶セル
【図１】
2007304444.tif 000006
【図２】
2007304444.tif 000007
【図３】
2007304444.tif 000008
【図４】
2007304444.tif 000009
【図５】
2007304444.tif 000010