(57)【要約】      （修正有）【課題】パルス型紫外線レーザー生成装置を提供すること。【解決手段】パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーと、レーザー・ビームの一部は透過し、その他は反射するレーザー・ウィンドーと、レーザー・ビームの第１波長を第３波長に変造するためのビーム・エキスパンダー、第一の非線形ハーモニック結晶、レンズと、および第二の非線形ハーモニック結晶と、第二の非線形ハーモニック結晶から出力された波長のうち、第３波長を反射して第１、第２波長は透過させる組合波分離機により透過された第１、第２波長を反射する第二の反射鏡と、第二の反射鏡が反射した第１波長は透過して第２波長はビーム・エキスパンダーに反射させる第三の反射鏡と、第三の反射鏡を透過する第１波長をレーザー・ウィンドーに反射させる第四の反射鏡と、レーザー・ウィンドーで透過する一部のレーザー・ビームを反射する第五の反射鏡とを含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パルス型のレーザー・ビームを放出するパルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーと；
前記パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーで放出されるレーザー・ビームの一部は透過し、その他は反射するレーザー・ウィンドーと；
前記レーザー・ウィンドーを通過する第１波長の直径を縮小してパワーの密度を上昇させるビーム・エキスパンダーと；
前記ビーム・エキスパンダーを通過するレーザー・ビームの第１波長を第２波長に変造する第一の非線形ハーモニック結晶と；
前記非線形ハーモニック結晶により変造され出力された第２波長を集束するレンズと；
前記集束された第２波長を第３波長に変造する第二の非線形ハーモニック結晶と；
前記第二の非線形ハーモニック結晶により変造され出力された波長のうち、紫外線領域である第３波長を反射して第１、第２波長は透過させる組合波分離機と；
前記組合波分離機で反射する第３波長を反射させる第一の反射鏡と；
前記組合波分離機で透過する第１、第２波長を反射してファイバ・ケーブルに入射させる第二の反射鏡と；
前記第二の反射鏡により反射される第１、第２波長を移動させるファイバ・ケーブル・セットと；
前記ファイバ・ケーブル・セットにより移動された第１波長は透過して第２波長はビーム・エキスパンダーに反射させる第三の反射鏡と；
前記第三の反射鏡を透過する第１波長をレーザー・ウィンドーに反射させる第四の反射鏡と；
前記レーザー・ウィンドーで透過する一部のレーザー・ビームを反射してファイバ・ケーブル・セットに入射させる第五の反射鏡と；
を含むことを特徴とする、パルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項２】
前記パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーはレーザー・ビームを発生するソース部と前記レーザー・ビームを集束して放出するヘッド部とが光繊維に連結されたことを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項３】
前記レーザー・ウィンドーは、一側面をＡＲコーティングして９５％のレーザー・ビームは透過して、その他５％のレーザー・ビームは反射させることを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項４】
前記レーザー・ウィンドーの間隙は、０．２８ｍｍであることを特徴とする、請求項１または３に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項５】
前記ビーム・エキスパンダーは、レーザー・ビームの直径を４０：１の比率で縮小することを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項６】
前記レンズはＭ５Ｘレンズであることを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項７】
前記パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーには、パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザーにカップリングされレーザー・ビームを固定するカプラーが設けられたことを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項８】
前記第１波長は１０６４ｎｍ、第２波長は５３２ｎｍ、第３波長は３５５ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【請求項９】
前記第一または第二の非線形ハーモニック結晶でＣＬＢＯ(Ｆｏｕｒｔｈ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ)結晶を用いて２６６ｎｍ波長または２１３ｎｍ波長を生成することを特徴とする、請求項１に記載のパルス型紫外線レーザー生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパルス型紫外線レーザー生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザー(Ｌａｓｅｒ)は「Ｌｉｇｈｔ Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｂｙ Ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ」の略字で、該レーザーは誘導放出により増幅する光で、直進性が強く、一色の純粋な光で、きめが細かい力強い光である。
【０００３】
前記レーザー・ビームは多様に応用されているところ、レーザーの力強い光を用いて産業現場では鋼鉄板、硬い宝石類、プラスチック類などのマーキング、ドリリング、カッティング、溶接などに用いられ、医学分野では広く知られたレーシック(Ｌａｓｉｋ)手術、歯科手術、ディスク手術、婦人科手術などで卓越の効果を立証している。
【０００４】
そして軍需産業ではレーザーを用いる地雷除去、敵侵入の監視などに広く用いられ、また通信分野で多い情報をもっと早く転送することができる手段として広く応用されている。
前記レーザー・ビームのうち、紫外線(Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ：ＵＶ)レーザーは発進波長が１５〜４００ｎｍにあるレーザー波長である。
【０００５】
その中でも２００ｎｍ以下の波長領域は空気を何ｃｍのみ通過しても略吸収されてしまうので、真空でのみ使用できて真空紫外線の領域と言われる。
【０００６】
前記のレーザーはビームの波長に応じて異なる作業をすることができる。例えば、３５５ｎｍ波長ではＬＣＤ，ＰＤＰなどのグラス(Ｇｌａｓｓ)マーキング、ビアホール(Ｖｉａ Ｈｏｌｅ)ドリリング、プロトタイピング、光マスク及びコンパクトディスクの製造に用いられ、２６６ｎｍや２１３ｎｍのレーザー・ビームは半導体のリソグラフィ、極紫外線の干渉機、共焦点顕微鏡、エキシマ・レーザーの対処用途などに用いられる。
【０００７】
さらに、紫外線レーザーは大気汚染を測定することができる。例えば、人工衛星から紫外線レーザーを地上観測所に射ると、最初に人工衛星から射たレーザーと、地上観測所で受けた紫外線レーザーの出力を比較して大気汚染を測定する。これは大気汚染の因子が紫外線レーザーの波長を吸収するからである。
【０００８】
代表的な大気汚染の因子は４５０ｎｍ波長でＮＯ2(二酸化窒素)、３００ｎｍ波長でＳＯ2(亜硫酸ガス)、２９０ｎｍ波長でＯ2(オゾン)などがある。
【０００９】
前記紫外線レーザーを生成する従来の代表的な２つの方式で、エキシマ・レーザーを用いる方式と、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーで放出する光を非線形ハーモニック結晶に通過させて波長の変換を起こす方式がある。
【００１０】
前記エキシマ・レーザー方式は、エキシマ・レーザーの媒質を変えてＸｅＦレーザー(発進波長３５１ｎｍ)、ＸｅＣ１レーザー(発進波長３０８ｎｍ)、ＫｒＦレーザー(発進波長２４８ｎｍ)、ＫｒＣ１レーザー(発進波長２２２ｎｍ)、ＡｒＦレーザー(発進波長１９３ｎｍ)など多様な波長を作る方法である。
【００１１】
前記Ｎｄ：ＹＡＧレーザー方式はＮｄ：ＹＡＧレーザーで発進するレーザー波長である１０６４ｎｍ波長を非線形ハーモニック結晶を通過させて望みの波長を得る方法である。
【００１２】
しかし、前記エキシマ・レーザー方式は、加工物に応じて媒質を異にしなければならない煩雑性と、有毒ガスである媒質の交替と共に、定期的にレーザー鏡(Ｍｉｒｒｏｒ)を掃除してアライン(Ａｌｉｇｎ)すべき不便さ及び、多い保持費用に関する問題点である。
【００１３】
前記Ｎｄ：ＹＡＧレーザー方式は、一定の１０６４ｎｍの波長のみを発散するから製品加工に限界があって、波長変化のために適当の非線形ハーモニック結晶を用いなければならない。
【００１４】
なお、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー方式は、少しだけ角のずれが生じても望みの波長を得ないので、定期的にアラインの再設定及びレーザー鏡を掃除する不便さがある。また、該従来の紫外線レーザーは、多数の不便さと共に保持費用が多く消耗されるとの短所と、省エネルギーも２〜３％ほどであり、ビームの品質もよくない。
【００１５】
なお、実際に用いられる紫外線レーザーは、中間過程や、最終に変換し放出される際の損失量が多い。なぜなら、紫外線レーザー波長のみを放出すべきであるが、他の領域の波長が同時に放出されるからである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、紫外線の損失量を抑制することが可能な、新規かつ改良されたパルス型紫外線レーザー生成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、パルス型のレーザー・ビームを放出するパルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)と、吸収パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)で放出されるレーザー・ビームの一部は透過し、その他は反射するレーザー・ウィンドー(３０)と、吸収レーザー・ウィンドー(３０)を通過する第１波長の直径を縮小してパワーの密度を上昇させるビーム・エキスパンダー(４０)と、吸収ビーム・エキスパンダー(４０)を通過するレーザー・ビームの第１波長を第２波長に変造する第一の非線形ハーモニック結晶(ＬＢＯ、ＳＨＧ)(５２)と、吸収第一の非線形ハーモニック結晶(５２)を通過して出る第２波長を再集束するレンズ(６０)と、吸収集束される第２波長を第３波長に変造する第二の非線形ハーモニック結晶(ＬＢＯ、ＴＨＧ)(５４)と、吸収第二の非線形ハーモニック結晶(５４)を通過して出る波長のうち、紫外線領域である第３波長を反射して第１、第２波長は透過させる組合波分離機(７０)と、吸収組合波分離機(７０)で反射する第３波長を反射させる第一の反射鏡(９０)と、吸収組合波分離機(７０)で透過する第１、第２波長を反射してファイバ・ケーブルに入射させる第二の反射鏡(８１、８２)と、吸収第二の反射鏡により反射される第１、第２波長を移動させるファイバ・ケーブル・セット(１０２、１０４)と、吸収ファイバ・ケーブル・セット(１０２、１０４)で出る第１波長は透過して第２波長はビーム・エキスパンダー(４０)に反射させる第三の反射鏡(１１２、１１４)と、吸収第三の反射鏡(１１２)を透過する第１波長をレーザー・ウィンドー(３０)に反射させる第四の反射鏡(８４)と、吸収レーザー・ウィンドー(３０)で透過する一部のレーザー・ビームを反射してファイバ・ケーブル・セット(１０４)に入射させる第五の反射鏡(８５、８６、８３)と、を含むことを特徴とする、パルス型紫外線レーザー生成装置が提供される。
【００１８】
吸収パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)はレーザー・ビームを発生するソース部と吸収レーザー・ビームを集束して放出するヘッド部とが光繊維に連結されるようにしてもよい。
【００１９】
吸収レーザー・ウィンドー(３０)は、一側面をＡＲコーティングして９５％のレーザー・ビームは透過して、その他５％のレーザー・ビームは反射させるようにしてもよい。
【００２０】
吸収レーザー・ウィンドー(３０)の間隙は、０．２８ｍｍであってもよい。
【００２１】
吸収ビーム・エキスパンダー(４０)は、レーザー・ビームの直径を４０：１の比率で縮小するようにしてもよい。
【００２２】
吸収レンズ(６０)はＭ５Ｘレンズであってもよい。
【００２３】
吸収パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)には、パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)にカップリングされレーザー・ビームを固定するカプラー(２０)が設けられるようにしてもよい。
【００２４】
吸収第１波長は１０６４ｎｍ、第２波長は５３２ｎｍ、第３波長は３５５ｎｍであってもよい。
【００２５】
吸収第一または第二の非線形ハーモニック結晶(５２、５４)でＣＬＢＯ(Ｆｏｕｒｔｈ
Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ)結晶を用いて２６６ｎｍ波長または２１３ｎｍ波長を生成するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように本発明によれば、無損失レーザー光を実現することにより、省エネルギーが高く、高品質を確保することができ、保持保守及び保持費用が少なく消耗される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２８】
図１は本発明の実施例に沿う、パルス型紫外線レーザー生成装置の一例としての無損失パルス型紫外線レーザー生成装置に関する構成図であって、図２は図１によるレーザーの構成形態を説明するための図面である。
【００２９】
図示のとおり、パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)と、カプラー(２０)と、レーザー・ウィンドー(３０)と、ビーム・エキスパンダー(４０)と、非線形ハーモニック結晶(５２、５４)と、レンズ(６０)と、組合波分離機(７０)と、反射鏡(８１〜８６)と、反射鏡(９０)とファイバ・ケーブル・セット(１０２、１０４)及び反射鏡(１１２、１１４)からなる。
【００３０】
レーザー・ソースとしてＱ−スイチング(Ｑ−Ｓｗｉｔｃｈｅｄ)されるパルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)を用い、光利得媒質及び波長変換の媒質としては２つのＬｉＢSＯS(ＬＢＯ、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｔｒｉｂｏｒａｔｅ)(５２、５４)を用いる。
パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(例えば、ＹＬＰ−１/１００/２０(Ａ)；パルス変造を用いるＱ−Ｓｗｉｔｃｈｅｄ  Ｙｔｔｅｒｂｉｕｍ Ｆｉｂｅｒ Ｌａｓｅｒ ２０Ｗａｔｔ(ＩＰＧ社)モデル)(１０)は、パルス型のレーザー・ビームを発生し、レーザー・ビームを発生させるソース部と、レーザー・ビームを５ｍｍの直径で集束して放出するヘッド部が光繊維(Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂｅｒ)に連結される。
【００３１】
上記カプラー(Ｃｏｕｐｌｅｒ)(２０)は、上記パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)にカップリングされてレーザー・ビームを固定する。
【００３２】
上記レーザー・ウィンドー(Ｌａｓｅｒ Ｗｉｎｄｏｗ)(３０)は一側面がＡＲコーティングされたものとして、全ての波長のレーザー・ビームのうちで９５％は通過し、その他５％は反射させる作用をする。
【００３３】
レーザー・ウィンドー(３０)の間隙は約０．２８ｍｍ程として、該間隙が必要な理由は最初のパルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)で発生する１０６４ｎｍ波長を反射及び透過させるべきであり、一回り回る１０６４ｎｍ波長を再度反射及び透過させるべきであるからである。
【００３４】
上記ビーム・エキスパンダー(４０)は、逆エキスパンダー(ｒｅｖｅｒｓｅ ｅｘｐａｎｄｅｒ)として、上記パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)で放出されるレーザー・ビームの直径を縮小してパワーの密度(Ｐｏｗｅｒ Ｄｅｎｓｉｔｙ)を上昇させる役目をする。
【００３５】
元々のビーム・エキスパンダーは小さい光拡散の役目をするが、該ビーム・エキスパンダーの前後方法を逆に設けることによって、光をさらに小さく集束させることができる。上記パワーの密度を上昇させる理由は、非線形ハーモニック結晶(５２、５４)を通過するために両結晶であるＬＢＯ(ＳＨＧ)(５２)と、ＬＢＯ(ＴＨＧ)(５４)の最低通過可能なパワーの密度(Ｐｏｗｅｒ Ｄｅｎｓｉｔｙ)が５０ＭＷ/ｃｍ2以上であるから、ビーム・エキスパンダー(４０)を通過する前のパワーの密度である約０．５ＭＷ/ｃｍ2には両結晶(５２、５４)を通過しがたく、上記ビーム・エキスパンダー(４０)でレーザー・ビームの直径を１/４０で縮小してレーザー・ビームを集束させた。
【００３６】
上記非線形ハーモニック結晶（光学媒質）(５２、５４)は、上記ビーム・エキスパンダー(４０)を通過しながら集束されるレーザー・ビームの波長を、第一の非線形ハーモニック結晶としての第１ＬＢＯ(５２)は１０６４ｎｍ波長を５３２ｎｍ波長に変換し、第二の非線形ハーモニック結晶としての第２ＬＢＯ(５４)は５３２ｎｍ波長を３５５ｎｍ波長に変換させた。
【００３７】
上記非線形ハーモニック結晶(５２、５４)のうち、第１ＬＢＯ(ＬｉＢSＯS、Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｔｒｉｂｏｒａｔｅ)は非対称的構造からなり、レーザー・ビームのように強いビームが通過すると、非線形光学現状を示して波長を変造することができる。
【００３８】
上記第１ＬＢＯ(ＳＨＧ、Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ)(５２)はθ＝９０°、π＝１１．４°、大きさ＝３×３×８ｍｍ、ＡＲ＝１０６４/５３２ｎｍのタイプＩのＳＨＧ作用のためのＬＢＯ結晶である。
【００３９】
非線形ハーモニック結晶(ＬＢＯ)(５２)を通過して５３２ｎｍ波長に変換されるビームの直径は約５ｍｍであるが、１０６４ｎｍの波長も同じく出るから、横に約０．２５ｍｍ程広がってラグビーボール状で約５．２５ｍｍの大きさで出るようになる。上記約５．２５ｍｍのビームをレンズ(６０)を用いて半分程の約２．６２５ｍｍ程大きさに集光させる。
【００４０】
本実施形態で上記レンズ(６０)はＭ５Ｘレンズとして、凸レンズ、一側のみ凸レンズ、凹レンズからなり、３つのレンズ共にＡＲコーティングされている。従って、ビームが入射すると、一箇所に集束して第２ＬＢＯ(５４)結晶に入射するようになる。
【００４１】
上記第２ＬＢＯ(ＴＨＧ、Ｔｈｉｒｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ)(５４)はθ＝４２．５°、π＝９０°、大きさ＝３×３×８ｍｍ、ＡＲ＝１０６４/５３２/３５５ｎｍのタイプＩＩのＴＨＧ作用のためのＬＢＯ結晶である。
【００４２】
以上では非線形ハーモニック結晶(３２、３４)としてＬＢＯ結晶を用いるＳＨＧ、ＴＨＧで３５５ｎｍ波長の紫外線レーザーを生成することを例であげるが、非線形ハーモニック結晶(３２、３４)でＣｓＬｉＢ６Ｏ１０(ＣＬＢＯ、ＣｅｓｉｕｍＬｉｔｈｉｕｍ Ｔｒｉｂｏｒａｔｅ)結晶を用いるＦｏｕｒｔｈ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎで２６６ｎｍ波長とか、２１３ｎｍ波長の紫外線レーザーを発生することもできる。
【００４３】
上記組合波分離機(７０)は３５５ｎｍ波長を反射させるレンズと、１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ波長を通過させるレンズ２つからなる。上記分離される波長のうち、紫外線波長領域である３５５ｎｍ波長は第一の反射鏡としての反射鏡(９０)に反射されて目標物の加工をするようになる。上記反射されるその他の１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ波長は第二の反射鏡としての反射鏡(８１、８２)により反射される。
【００４４】
上記反射される１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ波長はファイバ・ケーブル・セット(１０２、１０４)に入射し、入射される１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ波長はケーブルを通じて移動する。
【００４５】
上記移動される１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ波長のうち、１０６４ｎｍ波長は反射鏡(１１２、１１４)により透過し、５３２ｎｍ波長は第三の反射鏡としての反射鏡(１１２、１１４)により反射し再度ビーム・エキスパンダー(４０)に入射される。上記透過される１０６４ｎｍ波長は第四の反射鏡としての反射鏡(８４)によって反射された後、レーザー・ウィンドー(３０)に移動し９５％は透過して５％は反射される。
【００４６】
上記反射される５％の１０６４ｎｍ波長は、再度ビーム・エキスパンダー(４０)に入射し、最初入射されてレーザー・ウィンドー(３０)を通じて透過される９５％の１０６４ｎｍ波長と合って再度ビーム・エキスパンダー(４０)を通じて集束される。
【００４７】
上記透過する９５％の１０６４ｎｍ波長は最初入射してレーザー・ウィンドー(３０)により反射される５％の１０６４ｎｍ波長と合って第五の反射鏡としての反射鏡(８５、８６、８３)を通じて反射してからケーブル・セット(１０４)に入射し再度反射鏡(１１２、１１４)により反射され、１０６４ｎｍ波長は５％がビーム・エキスパンダー(４０)に入射する。
【００４８】
このように、本実施形態にかかる無損失パルス型紫外線レーザー生成装置によれば、損失無しに無損失紫外線レーザー光を形成する。
【００４９】
以上でのように、パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー(１０)を用いて生成されるレーザー・ビームをレーザー・ウィンドー(３０)を経てビーム・エキスパンダー(４０)により集束して非線形ハーモニック結晶(５２)を透過させた後、レンズ(６０)を経て再度非線形ハーモニック結晶(５４)を通過させて望みの波長を作る後、３５５ｎｍ波長は目標物を加工し、３５５ｎｍに変換しない１０６４ｎｍ、５３２ｎｍ波長は反射鏡(８１、８２)を通じて反射され、ファイバ・ケーブル・セット(１０２、１０４)に移動し５３２ｎｍ波長は反射されてビーム・エキスパンダー(１１２、１１４)に入射し、１０６４ｎｍ波長は再度レーザー・ウィンドー(３０)に行くようになる。
【００５０】
そしてレーザー・ウィンドー(３０)で５％はビーム・エキスパンダー(４０)で反射し、９５％は透過して再度一回り回るようになる。
【００５１】
上述した本発明の実施例に沿う無損失パルス型紫外線レーザー生成装置(Ｌｏｓｓｌｅｓｓ Ｐｕｌｓｅ Ｔｙｐｅ ＵＶ Ｌａｓｅｒ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ Ｄｅｖｉｃｅ)はほぼ損失がないので、省エネルギーが既存の紫外線レーザーより大きく向上し、ビーム品質も大きく向上させることができる(普通、エキシマ・レーザーの効率が１〜２％、ＣＯ2レーザーの効率は１０〜３０％、ＹＡＧと半導体レーザーの効率は２０％程度である)。
【００５２】
また、使用量に沿って１年に１〜３回ほど非線形ハーモニック結晶(ＬＢＯ)(５２、５４)のみを交替して保持保守が便利であり、特別に要する保持費用がないので、既存の紫外線レーザーより保持費用を少なく要する。
【００５３】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施例に沿う無損失パルス型紫外線レーザー生成装置に関する構成図である。
【図２】図１によるレーザー生成原理を説明するための図面である。
【符号の説明】
【００５５】
１０    パルス型イッテルビウム・ファイバ・レーザー
２０    カプラー
３０    レーザー・ウィンドー  
４０    ビーム・エキスパンダー
５２、５４    非線形ハーモニック結晶
６０    レンズ
７０    組合波分離機
８１〜８６    反射鏡
９０    反射鏡
１０２、１０４    ファイバ・ケーブル・セット
１１２、１１４    反射鏡
【図１】
2007133402.tif 000003
【図２】
2007133402.tif 000004