(57)【要約】      （修正有）【課題】Ｒ、Ｇ、Ｂの３色を有す表示装置と同一工程数で製造可能な、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を有す表示装置を提供する。【解決手段】シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３つの着色層を有すカラーフィルタ基板において、１つの画素を４つのサブ画素で構成し、１つのサブ画素はＭとＹの着色層の積層で赤色（Ｒ）を構成し、他の１つのサブ画素はＣとＹの着色層の積層で緑色（Ｇ）を構成し、他の１つのサブ画素はＣとＭの着色層の積層で青色（Ｂ）を構成し、他の１つのサブ画素はＣの着色層の単層でシアン（Ｃ）の色を構成しているので、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色層を有す表示装置と同一の工程数で、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層を有す表示装置を構成できる。【選択図】図４
2007133059.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３色の色相の着色領域に対応する複数の着色層を有し、４つのサブ画素により構成される単位画素を備え、
前記単位画素は、前記サブ画素単位毎に、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色の表示部を備えていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記３色の色相の前記着色領域に対応する複数の着色層は、シアン、マゼンタ及びイエローの各着色層であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有し、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層による単層構造を有することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層とが重ならない部分を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層とが重ならない部分を有し、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層とが重ならない部分を有することを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記マゼンタの前記着色層及び前記イエローの前記着色層を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記イエローの前記着色層及び前記シアンの前記着色層を有し、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層による単層構造を有することを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分とを含み、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分とを含み、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分とを含むことを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分と、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分と、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部において、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定されていることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部の大きさは、前記赤系の色相の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域、及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の各々の前記表示部の大きさより小さいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられ、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の各々の前記表示部において、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられ、
前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記赤系の色相の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域、及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域の各々の表示部には透明性を有する所定厚さの平坦化膜が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層上には透明性を有する平坦化膜が設けられ、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部における前記シアンの前記着色層と前記平坦化膜とを積層してなる厚さは、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部における前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部における前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部における前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
前記赤系の色相の前記着色領域は橙から赤の色相の着色領域を有し、
前記青系の色相の前記着色領域は青紫から青緑の色相の着色領域を有し、
前記青から黄までの色相の中で選択された前記２つの色相の前記着色領域のうち、一方の前記着色領域は緑から橙の色相の着色領域を有すると共に、他方の前記着色領域は青から緑の色相の着色領域を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
ＣＩＥ色度図上において、
前記赤系の色相の前記着色領域は、0.643≦ｘ、ｙ≦0.333の関係を満たす着色領域であり、
前記青系の色相の前記着色領域は、ｘ≦0.151、ｙ≦0.056の関係を満たす着色領域であり、
前記青から黄までの色相の中で選択された前記２つの色相の前記着色領域のうち、一方の前記着色領域は、ｘ≦0.164、0.453≦ｙの関係を満たす着色領域であると共に、他方の前記着色領域は、0.257≦ｘ、0.606≦ｙの関係を満たす着色領域であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記４色の前記表示部の各々の色相に対応する前記着色領域は、透過する波長のピークが４１５〜５００ｎｍにある第１着色領域と、波長のピークが６００ｎｍ以上にある第２着色領域と、波長のピークが４８５〜５３５ｎｍにある第３着色領域と、波長のピークが５００〜５９０ｎｍにある第４着色領域とを有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
前記第１着色領域は前記青系の色相の着色領域に対応し、
前記第２着色領域は前記赤系の色相の着色領域に対応し、
前記第３着色領域は前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の前記着色領域に対応し、
前記第４着色領域は前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の前記着色領域に対応していることを特徴とする請求項１４に記載の電気光学装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１７】
第１の着色層、第２の着色層及び第３の着色層を含む３色の着色層を任意の順序で形成する着色層形成工程を備え、
前記着色層形成工程は、単位画素内において、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各サブ画素に対応する位置に、前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第３の着色層のうちいずれか２つの前記着色層による積層膜を形成すると共に、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域のサブ画素に対応する位置に前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第３の着色層のうちいずれか１つの前記着色層による単層膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１８】
前記着色層形成工程は、前記赤系の色相の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記マゼンタ及び前記イエローの前記着色層を任意の順序で積層して前記赤系の色相の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記イエローの前記着色層、前記シアンの前記着色層の順序で積層して前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、
前記青系の色相の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記マゼンタの前記着色層、前記シアンの前記着色層の順序で積層して前記青系の色相の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域による前記単層膜を形成する工程と、を備え、
前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記各サブ画素に対応する位置に設ける前記シアンの前記着色層を、前記マゼンタ及び前記イエローの前記着色層より後に形成することを特徴とする請求項１７に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ装置、及びフィールドエミッション表示装置などの各種の電気光学装置が知られている。
【０００３】
そのような電気光学装置の一例としてのカラー表示型の液晶装置では、一般的に、原色系の赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各着色層が画素電極毎に対応して配置されている。そして、かかる液晶装置では、その各色に対応する画素電極毎に階調に応じた電圧を印加して、各画素電極の透過率を調整することにより複雑な中間色を表示することが可能となっている。
【０００４】
また、近年では、そのような原色系のＲ、Ｇ、Ｂの３色のサブ画素に加え、さらに補色系のシアン（Ｃ）の色のサブ画素を備えることで広範な色を表示することが可能な画像表示装置が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３０６０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を有する画像表示装置では、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色のサブ画素に加え、Ｃの１色のサブ画素を設けている。したがって、かかる画像表示装置は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色のサブ画素を用いて構成されるものと比較して、そのＣの色のサブ画素を設ける分だけ製造工程が１工程増加してしまうという問題がある。
【０００７】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色層を有する電気光学装置と同一の工程数により製造可能な、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層を有する電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの観点では、電気光学装置は、３色の色相の着色領域に対応する複数の着色層を有し、４つのサブ画素により構成される単位画素を備え、前記単位画素は、前記サブ画素単位毎に、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色の表示部を備えている。
【０００９】
上記の電気光学装置は、３色の色相の着色領域に対応する複数の着色層を有し、４つのサブ画素により構成される単位画素を備え、単位画素は、サブ画素単位毎に、波長に応じて色相が変化する可視光領域のうち、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色の表示部を備えている。好適な例では、前記３色の色相の前記着色領域に対応する複数の着色層は、シアン、マゼンタ及びイエローの各着色層であるのが好ましい。
【００１０】
ここで、赤色、緑色及び青色の３色の着色層を有する電気光学装置を比較例１とし、また、赤色、緑色、青色及び補色の４色の着色層を有する電気光学装置を比較例２とした場合、比較例１では、赤色の着色層、緑色の着色層及び青色の着色層を形成するのには３工程必要であるのに対して、比較例２では、赤色の着色層、緑色の着色層、青色の着色層及び補色の着色層を形成するのには４工程必要である。なお、「１工程」とは、１つの着色層を例えばフォトリソグラフィー技術を用いて形成するのに必要な工程数をいう。
【００１１】
この点、この電気光学装置は３色の色相の着色領域に対応する複数の着色層を有するので、３工程にて、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色を構成することができる。よって、上記の比較例２と比べて１工程分を削減でき、製品コストを低減できる。別の表現をすれば、この電気光学装置は、上記の比較例１と同一の工程数により、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色の電気光学装置を構成することができる。
【００１２】
上記の電気光学装置の一つの態様では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有し、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有し、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有し、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層による単層構造を有するのが好ましい。
【００１３】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層とが重ならない部分を有し、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層とが重ならない部分を有し、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層とが重ならない部分を有する。
【００１４】
この態様では、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部において、シアン、マゼンタ、イエローのうち２つの着色層が重ならない部分を有し、当該部分は単層構造をなす。よって、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部において、色調整がなされており所望の色を忠実に再現することができる。
【００１５】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記マゼンタの前記着色層及び前記イエローの前記着色層を有し、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記イエローの前記着色層及び前記シアンの前記着色層を有し、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、相互に重ならない位置に配置された前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層を有し、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する。
【００１６】
この態様では、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部において、相互に重ならない位置に２つの着色層を有する。よって、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部において、それぞれ２つの着色層を積層して構成されるものと比較して、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部に設けられた着色層の厚さは薄くなる。したがって、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部において輝度（cd/cm2）が低下するのを防止できる。
【００１７】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分とを含み、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部は、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分とを含み、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部は、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分とを含む。
【００１８】
この態様では、その製造過程において、赤系の色相の着色領域の表示部において、単層構造をなすマゼンタの着色層と、同じく単層構造をなすイエローの着色層との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の赤系の色相を表現することが可能となり、また、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の表示部において、単層構造をなすイエローの着色層と、同じく単層構造をなすシアンの着色層との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の緑系の色相を表現することが可能となり、また、青系の色相の着色領域の表示部において、単層構造をなすシアンの着色層と、同じく単層構造をなすマゼンタの着色層との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の青系の色相を表現することが可能となる。
【００１９】
好適な例では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分と、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分と、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部の前記積層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部において、前記イエローの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定され、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層による単層構造を有する部分と、前記マゼンタの前記着色層による単層構造を有する部分とは相対的に同一の面積に設定されているのが好ましい。
【００２０】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部の大きさは、前記赤系の色相の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域、及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の各々の前記表示部の大きさより小さい。
【００２１】
ここで、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の前記着色領域の各表示部は、シアン、マゼンタ、イエローの各着色層のうち２つの着色層の積層構造を有する一方、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部は、シアンの着色層による単層構造を有する。このため、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部は、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部と比べて輝度が高くなってしまう虞がある。しかしながら、この態様では、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部の大きさは、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部の大きさ（面積）より小さくなっている。よって、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部が、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部より輝度が高くなるのを防止できる。
【００２２】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられ、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の各々の前記表示部において、前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられ、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層の積層構造を有する部分には前記着色層の存在しない領域が設けられている。
【００２３】
この態様では、赤系の色相の着色領域の表示部において、マゼンタの着色層とイエローの着色層の積層構造を有する部分には着色層の存在しない領域（非着色領域）が設けられている。また、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の着色領域の表示部において、イエローの着色層とシアンの着色層の積層構造を有する部分には着色層の存在しない領域（非着色領域）が設けられている。また、青系の色相の着色領域の表示部において、シアンの着色層とマゼンタの着色層の積層構造を有する部分には着色層の存在しない領域（非着色領域）が設けられている。よって、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の着色領域の表示部が、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の各表示部より輝度が高くなるのを防止できる。
【００２４】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記赤系の色相の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域、及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域の各々の表示部には透明性を有する所定厚さの平坦化膜が設けられている。
【００２５】
この態様では、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各表示部には透明性を有する所定厚さの平坦化膜（例えば、アクリル樹脂膜など）が設けられているので、電気光学層と接する側の、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各表示部に対応する内面を平坦化することができる。
【００２６】
上記の電気光学装置の他の態様では、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部において、前記シアンの前記着色層上には透明性を有する平坦化膜が設けられ、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記表示部における前記シアンの前記着色層と前記平坦化膜とを積層してなる厚さは、前記赤系の色相の前記着色領域の前記表示部における前記マゼンタの前記着色層と前記イエローの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記表示部における前記イエローの前記着色層と前記シアンの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、前記青系の色相の前記着色領域の前記表示部における前記シアンの前記着色層と前記マゼンタの前記着色層とを積層してなる厚さと同一に設定されている。
【００２７】
この態様では、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部において、シアンの着色層上には透明性を有する平坦化膜（例えば、アクリル樹脂膜など）が設けられている。そして、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域の表示部におけるシアンの着色層と平坦化膜とを積層してなる厚さは、赤系の色相の着色領域の表示部におけるマゼンタの着色層とイエローの着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の表示部におけるイエローの着色層とシアンの着色層とを積層してなる厚さと同一に設定され、且つ、青系の色相の着色領域の表示部におけるシアンの着色層とマゼンタの着色層とを積層してなる厚さと同一に設定されている。よって、電気光学層と接する側の、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各表示部に対応する内面を平坦化することができる。
【００２８】
上記の電気光学装置の他の態様の好適な例では、前記赤系の色相の前記着色領域は橙から赤の色相の着色領域を有するのが好ましく、また、前記青系の色相の前記着色領域は青紫から青緑の色相の着色領域を有するのが好ましく、また、前記青から黄までの色相の中で選択された前記２つの色相の前記着色領域のうち、一方の前記着色領域は緑から橙の色相の着色領域を有するのが好ましいと共に、他方の前記着色領域は青から緑の色相の着色領域を有するのが好ましい。または、ＣＩＥ色度図上において、前記赤系の色相の前記着色領域は、0.643≦ｘ、ｙ≦0.333の関係を満たす着色領域であるのが好ましく、また、前記青系の色相の前記着色領域は、ｘ≦0.151、ｙ≦0.056の関係を満たす着色領域であるのが好ましく、また、前記青から黄までの色相の中で選択された前記２つの色相の前記着色領域のうち、一方の前記着色領域は、ｘ≦0.164、0.453≦ｙの関係を満たす着色領域であるのが好ましいと共に、他方の前記着色領域は、0.257≦ｘ、0.606≦ｙの関係を満たす着色領域であるのが好ましい。または、前記４色の前記表示部の各々の色相に対応する前記着色領域は、透過する波長のピークが４１５〜５００ｎｍにある第１着色領域と、波長のピークが６００ｎｍ以上にある第２着色領域と、波長のピークが４８５〜５３５ｎｍにある第３着色領域と、波長のピークが５００〜５９０ｎｍにある第４着色領域とを有するのが好ましい。ここで、前記第１着色領域は前記青系の色相の着色領域に対応しているのが好ましく、また、前記第２着色領域は前記赤系の色相の着色領域に対応しているのが好ましく、また、前記第３着色領域は前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の前記着色領域に対応しているのが好ましく、また、前記第４着色領域は前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の前記着色領域に対応しているのが好ましい。
【００２９】
本発明の他の観点では、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。
【００３０】
本発明の更に他の観点では、電気光学装置の製造方法は、第１の着色層、第２の着色層及び第３の着色層を含む３色の着色層を任意の順序で形成する着色層形成工程を備え、前記着色層形成工程は、単位画素内において、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各サブ画素に対応する位置に、前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第３の着色層のうちいずれか２つの前記着色層による積層膜を形成すると共に、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域のサブ画素に対応する位置に前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第３の着色層のうちいずれか１つの前記着色層による単層膜を形成する。好適な例では、前記第１の着色層、前記第２の着色層及び前記第３の着色層の各々は、シアン、マゼンタ、イエローの各着色層であるのが好ましい。
【００３１】
上記の電気光学装置の製造方法は、第１の着色層、第２の着色層及び第３の着色層を含む３色の着色層を任意の順序で形成する着色層形成工程を備える。そして、着色層形成工程は、例えば周知のフォトリソグラフィー技術を用いて、単位画素内において、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の各サブ画素に対応する位置に、第１の着色層、第２の着色層及び第３の着色層のうちいずれか２つの着色層による積層膜を形成すると共に、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域のサブ画素に対応する位置に第１の着色層、第２の着色層及び第３の着色層のうちいずれか１つの着色層による単層膜を形成する。
【００３２】
これにより、上記の比較例２と比べて１工程分を削減でき、製品コストを低減できる。別の表現をすれば、この電気光学装置の製造方法では、上記の比較例１と同一の工程数により、単位画素内に、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色を有する電気光学装置を製造することができる。
【００３３】
上記の電気光学装置の製造方法の一つの態様では、前記着色層形成工程は、前記赤系の色相の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記マゼンタ及び前記イエローの前記着色層を任意の順序で積層して前記赤系の色相の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記イエローの前記着色層、前記シアンの前記着色層の順序で積層して前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、前記青系の色相の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記マゼンタの前記着色層、前記シアンの前記着色層の順序で積層して前記青系の色相の前記着色領域の前記積層膜を形成する工程と、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記サブ画素に対応する位置に、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域による前記単層膜を形成する工程と、を備え、前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち一方の前記着色領域、前記青系の色相の前記着色領域及び前記青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の前記着色領域のうち他方の前記着色領域の前記各サブ画素に対応する位置に設ける前記シアンの前記着色層を、前記マゼンタ及び前記イエローの前記着色層より後に形成する。
【００３４】
この態様では、着色層形成工程は、赤系の色相の着色領域のサブ画素に対応する位置に、マゼンタ及びイエローの着色層を任意の順序で積層して赤系の色相の着色領域の積層膜を形成する工程と、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域のサブ画素に対応する位置に、イエローの着色層、シアンの着色層の順序で積層して青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域の積層膜を形成する工程と、青系の色相の着色領域のサブ画素に対応する位置に、マゼンタの着色層、シアンの着色層の順序で積層して青系の色相の着色領域の積層膜を形成する工程と、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域のサブ画素に対応する位置に、シアンの着色層による単層膜を形成する工程と、を備える。これにより、単位画素内に、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色を有する電気光学装置を製造することができる。そして、着色層形成工程は、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち一方の着色領域、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域及び青系の色相の着色領域の各サブ画素に対応する位置に設けるシアンの着色層を、マゼンタ及びイエローの着色層より後に形成するので、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域のうち他方の着色領域のサブ画素におけるシアンの着色層の内面上がレベリングされ、電気光学層と接する側の、赤系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域、及び青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域の４色の各サブ画素に対応する内面を略平坦化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下の各種実施形態は、本発明を液晶装置に適用したものである。
【００３６】
［第１実施形態］
第１実施形態は、本発明を、４色の色相の着色領域にて１画素が構成される透過型の液晶装置に適用する。ここで、４色の色相の着色領域は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、シアン（Ｃ）の各色相の着色領域に対応する着色層を有する。
【００３７】
（液晶装置の構成）
まず、図１及び図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の構成等について説明する。
【００３８】
図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の概略構成を模式的に示す平面図である。図１では、紙面手前側（観察側）にカラーフィルタ基板９２が、また、紙面奥側に素子基板９１が夫々配置されている。なお、図１では、紙面縦方向（列方向）をＹ方向と、また、紙面横方向（行方向）をＸ方向と規定する。また、図１において、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの各色に対応する着色領域は１つのサブ画素領域ＳＧを示していると共に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの各色のサブ画素領域ＳＧにより構成される１行４列の画素配列は、１つの画素領域ＡＧを示している。なお、以下では、１つのサブ画素領域ＳＧ内に存在する１つの表示領域を「サブ画素」と称し、また、１つの画素領域ＡＧ内に対応する表示領域を「１画素」と称する。
【００３９】
液晶装置１００は、素子基板９１と、その素子基板９１に対向して配置されるカラーフィルタ基板９２とが枠状のシール材５を介して貼り合わされ、そのシール材５の内側に、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）型の液晶が封入されて液晶層４が形成されてなる。
【００４０】
ここに、液晶装置１００は、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３種類の補色を用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を構成するカラー表示用の液晶装置であると共に、スイッチング素子としてａ−Ｓｉ型のＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置である。また、液晶装置１００は、透過型の液晶装置である。
【００４１】
まず、素子基板９１の平面構成について説明する。素子基板９１の内面上には、主として、複数のソース線３２、複数のゲート線３３、複数のα−Ｓｉ型のＴＦＴ素子２１、複数の画素電極１０、ドライバＩＣ４０、外部接続用配線３５及びＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）４１などが形成若しくは実装されている。
【００４２】
図１に示すように、素子基板９１は、カラーフィルタ基板９２の一辺側から外側へ張り出してなる張り出し領域３６を有しており、その張り出し領域３６上には、ドライバＩＣ４０が実装されている。ドライバＩＣ４０の入力側の端子（図示略）は、複数の外部接続用配線３５の一端側と電気的に接続されていると共に、複数の外部接続用配線３５の他端側はＦＰＣ４１と電気的に接続されている。各ソース線３２は、Ｙ方向に延在するように且つＸ方向に適宜の間隔をおいて形成されており、各ソース線３２の一端側は、ドライバＩＣ４０の出力側の端子（図示略）に電気的に接続されている。
【００４３】
各ゲート線３３は、Ｙ方向に延在するように形成された第１配線３３ａと、その第１配線３３ａの終端部からＸ方向に且つ後述する有効表示領域Ｖ内に延在するように形成された第２配線３３ｂとを備えている。各ゲート線３３の第２配線３３ｂは、各ソース線３２と交差する方向、即ちＸ方向に延在するように且つＹ方向に適宜の間隔をおいて形成されており、各ゲート線３３の第１配線３３ａの一端側は、ドライバＩＣ４０の出力側の端子（図示略）に電気的に接続されている。各ソース線３２と各ゲート線３３の第２配線３３ｂの交差位置付近にはα−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１が対応して設けられており、α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１は各ソース線３２、各ゲート線３３及び各画素電極１０等に電気的に接続されている。各画素電極１０は、例えばＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透明導電材料により形成され、各サブ画素領域ＳＧ内に設けられている。
【００４４】
１つの画素領域ＡＧがＸ方向及びＹ方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が有効表示領域Ｖ（２点鎖線により囲まれる領域）である。この有効表示領域Ｖに、文字、数字、図形等の画像が表示される。なお、有効表示領域Ｖの外側の領域は表示に寄与しない額縁領域３８となっている。また、各ソース線３２、各ゲート線３３、各α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１、及び各画素電極１０等の内面上には、配向膜１７（図２を参照）が形成されている。
【００４５】
次に、カラーフィルタ基板９２の平面構成について説明する。カラーフィルタ基板９２は、遮光層（一般に「ブラックマトリクス」と呼ばれ、以下では、単に「ＢＭ」と略記する）、上記したようにシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３種類の補色を用いて構成される、赤（Ｒ）の着色層６Ｒ、緑（Ｇ）の着色層６Ｇ、青（Ｂ）の着色層６Ｂ、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃ、及び共通電極８などを有する。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層６」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層６Ｒ」などと記す。ＢＭは、各サブ画素領域ＳＧを区画する位置に形成されている。共通電極８は、画素電極と同様にＩＴＯなどの透明導電材料からなり、カラーフィルタ基板９２の略一面に亘って形成されている。共通電極８は、シール材５の隅の領域Ｅ１において配線１５の一端側と電気的に接続されていると共に、当該配線１５の他端側は、ドライバＩＣ４０のＣＯＭに対応する出力端子（接地用端子）と電気的に接続されている。
【００４６】
以上の構成を有する液晶装置１００では、電子機器等と接続されたＦＰＣ４１側からの信号及び電力等に基づき、ドライバＩＣ４０によって、Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍ−１、Ｇｍ（ｍ：自然数）の順にゲート線３３が順次排他的に１本ずつ選択されるとともに、選択されたゲート線３３には、選択電圧のゲート信号が供給される一方、他の非選択のゲート線３３には、非選択電圧のゲート信号が供給される。そして、ドライバＩＣ４０は、選択されたゲート線３３に対応する位置に存在する画素電極１０に対し、表示内容に応じたソース信号を、それぞれ対応するＳ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎ−１、Ｓｎ（ｎ：自然数）のソース線３２及び各α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１を介して供給する。その結果、液晶層４の表示状態が、非表示状態または中間表示状態に切り替えられ、液晶層４内の液晶分子の配向状態が制御されることとなる。これにより、有効表示領域Ｖ内において所望の画像を表示することができる。
【００４７】
次に、図２を参照して、液晶装置１００の断面構成について説明する。図２は、図１における切断線Ａ−Ａ’に沿った断面図であり、特に、Ｃ、Ｍ、Ｙの３種類の補色を用いて構成される、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色に対応する各着色層６を通る位置で切断した断面図である。
【００４８】
下側基板１は、ガラスや石英等の絶縁性を有する材料にて形成されている。下側基板１の内面上には、サブ画素領域ＳＧ毎に画素電極１０が形成されている。下側基板１の内面上であって、各画素電極１０の左端の近傍位置には、ソース線３２が形成されている。各画素電極１０は、各α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１（図１等を参照）を介して、対応する各ソース線３２に電気的に接続されている。下側基板１、画素電極１０、α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１、及びソース線３２の各内面上には、ポリイミド膜等よりなる配向膜１７が形成されており、その配向膜１７の表面上には所定の方向にラビング処理が施されている。また、下側基板１の外面上には偏光板１１が配置されていると共に、偏光板１１の外面上には、照明装置としてのバックライト１５が配置されている。
【００４９】
一方、上側基板２の内面上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色のいずれか１色を構成する着色層６がＲＧＢＣＲＧＢＣ・・・の配列順序でストライプ状に設けられている。
【００５０】
ここで、赤（Ｒ）のサブ画素領域ＳＧ（以下、「サブ画素領域ＳＧｒ」とも称する）に着目した場合、当該サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２の内面上にはマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍが形成されていると共に、当該着色層６Ｍの内面上にはイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。これにより、サブ画素領域ＳＧｒでは、着色層６Ｍと着色層６Ｙの２層構造により赤（Ｒ）の積層膜６Ｒ（以下、「着色層６Ｒ」と呼ぶ）が構成され、そのサブ画素領域ＳＧｒでは、赤色を表現することが可能となっている。また、緑（Ｇ）のサブ画素領域ＳＧ（以下、「サブ画素領域ＳＧｇ」とも称する）に着目した場合、当該サブ画素領域ＳＧｇに対応する上側基板２の内面上にはシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃの内面上にはイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。これにより、サブ画素領域ＳＧｇでは、着色層６Ｃと着色層６Ｙの２層構造により緑（Ｇ）の積層膜６Ｇ（以下、「着色層６Ｇ」と呼ぶ）が構成され、そのサブ画素領域ＳＧｇでは、緑（Ｇ）の色を表現することが可能となっている。また、青（Ｂ）のサブ画素領域（以下、「サブ画素領域ＳＧｂ」とも称する）に着目した場合、当該サブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２の内面上にはシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃの内面上にはマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍが形成されている。これにより、サブ画素領域ＳＧｂでは、着色層６Ｃと着色層６Ｍの２層構造により青（Ｂ）の積層膜６Ｂ（以下、「着色層６Ｂ」と呼ぶ）が形成されている。このため、サブ画素領域ＳＧｂでは、青（Ｂ）の色を表現することが可能となっている。また、シアン（Ｃ）のサブ画素領域ＳＧ（以下、「サブ画素領域ＳＧｃ」とも称する）に着目した場合、当該サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２の内面上には、単層構造を有するシアン（Ｃ）の単層膜６Ｃ（以下、「着色層６Ｃ」と呼ぶ）が構成され、そのサブ画素領域ＳＧｃでは、シアン（Ｃ）の色を表現することが可能となっている。以上のように、この液晶装置１００では、Ｃ、Ｍ、Ｙの３種類の補色によってＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を表現することが可能となっている。また、各着色層６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ及び６Ｃは、対応する各画素電極１０と対向している。
【００５１】
上側基板２の内面上であって、各着色層６を区画する位置には、隣接するサブ画素領域ＳＧを隔て、一方のサブ画素領域ＳＧから他方のサブ画素領域ＳＧへの光の混入を防止するためＢＭが形成されている。着色層６及びＢＭ等の内面上には、ＩＴＯ等からなる共通電極８が形成されている。共通電極８の内面上には、ポリイミド膜等よりなる配向膜２０が形成されており、その配向膜２０の表面上には所定の方向にラビング処理が施されている。また、上側基板２の外面上には、偏光板１２が配置されている。また、下側基板１と上側基板２とはシール材５を介して対向しており、その両基板の間には液晶が封入され液晶層４が形成されている。
【００５２】
以上の構成を有する液晶装置１００において透過型表示がなされる場合、バックライト１５から出射した照明光は、図２に示す経路Ｔに沿って進行し、画素電極１０及びＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃの各着色層６等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、サブ画素領域ＳＧｒ内の着色層６Ｍと着色層６Ｙにより構成される着色層６Ｒ、及び、サブ画素領域ＳＧｇ内の着色層６Ｃと着色層６Ｙにより構成される着色層６Ｇ、及び、サブ画素領域ＳＧｂ内の着色層６Ｃと着色層６Ｍにより構成される着色層６Ｂ、及び、サブ画素領域ＳＧｃ内の着色層６Ｃをそれぞれ通過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。
【００５３】
特に、この液晶装置１００では、Ｃ、Ｍ、Ｙの３種類の補色を用いてＲ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色を表現可能にしているので、人間の視感度が高いＧの色の光の輝度の低下が抑制され、また、いわゆる国際照明委員会（ＣＩＥ）のｘｙ色度図において、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置と比較して、色再現範囲（色度域）が大きくなっており、高演色表示を実現することが可能となっている。
【００５４】
（カラーフィルタ基板の構成）
次に、図３等を参照して、本発明の第１実施形態に係るカラーフィルタ基板９２の構成について説明する。
【００５５】
図３は、第１実施形態における２画素分に対応するカラーフィルタ基板９２の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図３では、カラーフィルタ基板９２の要素と素子基板９１の要素との相対的な位置関係を理解し易くするため、当該素子基板９１の主要な要素も示す。
【００５６】
上側基板２上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの配列順序でストライプ状に設けられている。着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの断面構成は上述した通りである。即ち、着色層６Ｒは、サブ画素領域ＳＧｒ内において着色層６Ｍと着色層６Ｙによる２層構造をなす。また、着色層６Ｇは、サブ画素領域ＳＧｇ内において着色層６Ｃと着色層６Ｙによる２層構造をなす。また、着色層６Ｂは、サブ画素領域ＳＧｂ内において着色層６Ｃと着色層６Ｍによる２層構造をなす。また、着色層６Ｃは、サブ画素領域ＳＧｃ内において着色層６Ｃによる単層構造をなす。このように、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂは、それぞれＣ、Ｍ、Ｙの３種類の補色のうち２つの色の積層構造により構成されている一方、着色層６Ｃは、Ｃの１つの色の単層構造により構成されている。
【００５７】
また、上側基板２上であって、各着色層６を区画する位置にはＢＭが設けられている。各着色層６及びＢＭ上等には共通電極８（図２を参照）が形成されていると共に、共通電極８上には配向膜２０（図２を参照）が形成されている。なお、素子基板９１側において、Ｙ方向に隣接する着色層６の間にはゲート線３３の第２配線３３ｂがＸ方向に延在するように形成されていると共に、Ｘ方向に隣接する着色層６の間にはソース線３２がＹ方向に延在するように形成されている。また、素子基板９１側であって、各ソース線３２と各ゲート線３３の第２配線３３ｂとの交差位置に且つ各着色層６の隅の位置には、各α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１が設けられている。
【００５８】
次に、図４等を参照して、比較例と比較した、本発明の第１実施形態の特有の作用効果について説明する。
【００５９】
図４（ａ）は、比較例に係る１画素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）における切断線Ｂ−Ｂ’に沿った部分断面図を示す。なお、以下では、上記した要素と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【００６０】
まず、図４を参照して比較例の構成について簡単に説明する。
【００６１】
上側基板２上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの配列順序でストライプ状に設けられている。ここで、比較例では、着色層６Ｒは、原色系の１つの赤色の着色層による単層構造をなす。また、着色層６Ｇは、原色系の１つの緑色の着色層による単層構造をなす。また、着色層６Ｂは、原色系の１つの青色の着色層による単層構造をなす。また、着色層６Ｃは、補色系の１つのシアンの色の着色層による単層構造をなす。各着色層６は、素子基板側に設けられた画素電極１０（図示略）と対向している。このため、比較例では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの４色のサブ画素にて１画素が構成されている。よって、比較例では、第１実施形態と同様に、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の表現が可能となっている。
【００６２】
このような構成を有する比較例に係るカラーフィルタ基板の製造過程では、例えば周知のフォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧ毎に着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃが夫々形成される。ここで、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃのうち任意の１つの着色層６を、フォトリソグラフィー技術を用いて形成するのに必要な工程数を１（この場合、「１工程」と称する）としたときに、比較例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色分の着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃを有するので、それら全ての着色層６を形成するには４工程必要である。
【００６３】
この点、本発明の第１実施形態では、１画素は、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの４色のサブ画素にて構成されている点で上記の比較例と共通する。しかし、第１実施形態では、上述したように、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂは、それぞれＣ、Ｍ、Ｙの３種類の補色のうち２つの色の２層構造により構成されている一方、着色層６Ｃは、シアン（Ｃ）の１つの色の単層構造により構成されている。よって、第１実施形態のカラーフィルタ基板９２の製造過程では、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色分の着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃを３工程により形成することができる。よって、上記の比較例と比べて１工程分を削減でき、製品コストを低減できる。別の表現をすれば、本発明では、上記の比較例においてシアン（Ｃ）の着色層６Ｃがない構成を有する液晶装置（即ち、一般的なＲ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置）と同一の工程数により、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層６を有する、第１実施形態の液晶装置を構成することができる。
【００６４】
次に、本発明の第１実施形態を若干変形した構成を有する各種変形例について説明する。
【００６５】
図５（ａ）は、図２のカラーフィルタ基板９２の断面図に対応する変形例１に係るカラーフィルタ基板の断面図である。一方、図５（ｂ）は、図２のカラーフィルタ基板９２の断面図に対応する変形例２に係るカラーフィルタ基板の断面図である。
【００６６】
図２に示すように、第１実施形態では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂは、Ｃ、Ｍ、Ｙの３種類の補色のうち２色による２層構造をなすのに対して、着色層６Ｃは、Ｃの１色による単層構造をなす。このため、第１実施形態では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ又は着色層６Ｂの各厚さと、着色層６Ｃの厚さとが異なっている。このため、サブ画素領域ＳＧｃにおける着色層６Ｃ以外に対応する液晶層４の厚さはｄ１に設定されているのに対して、サブ画素領域ＳＧｃにおける着色層６Ｃに対応する液晶層４の厚さはｄ２（＞ｄ１）に設定されている。つまり、第１実施形態では、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂに対応する液晶層４の厚さと、サブ画素領域ＳＧｃに対応する液晶層の厚さとが異なっている。
【００６７】
そこで、変形例１では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各厚さと、サブ画素領域ＳＧｃにおける着色層６Ｃとの厚さを一定にするため、図５（ａ）の破線領域Ｅ２に示すように、サブ画素領域ＳＧｃにおける着色層６Ｃの内面上にのみ、アクリル樹脂等の透明樹脂材料よりなる、所定厚さの平坦化膜１８を形成する。一方、変形例２では、上記の変形例１と同様の目的を実現するため、図５（ｂ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｃにおける着色層６Ｃの内面上のみならず、ＢＭの内面上を含む着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの全ての内面上に所定厚さの平坦化膜１８を形成する。これにより、カラーフィルタ基板９２の内面上を平坦化することができる。よって、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの各サブ画素の全てに対応する液晶層４の厚さを一定にすることができ、それらの各サブ画素において光学特性を揃えることができる。
【００６８】
［第２実施形態］
次に、図６を参照して、本発明の第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成について説明する。なお、以下では、上記した要素と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【００６９】
図６（ａ）は、本発明の第２実施形態に係る１画素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）の切断線Ｘ１−Ｘ２に沿った部分断面図を示す。図６（ｃ）は、図６（ａ）の切断線Ｘ３−Ｘ４に沿った部分断面図を示す。図６（ｄ）は、図６（ａ）の切断線Ｘ５−Ｘ６に沿った部分断面図を示す。図６（ｅ）は、図６（ａ）の切断線Ｘ７−Ｘ８に沿った部分断面図を示す。
【００７０】
上側基板上には、サブ画素領域ＳＧ毎に、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃがストライプ状に設けられている。具体的には、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２の内面上には、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍ、及びイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。ここで、着色層６Ｍと着色層６Ｙとは、同一の層に位置し、且つＹ方向に相隣接する位置に且つ相互に重ならない位置に設けられ、これにより赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成されている。また、サブ画素領域ＳＧｇに対応する上側基板２の内面上には、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃ、及びイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。ここで、着色層６Ｃと着色層６Ｙとは、同一の層に位置し、且つＹ方向に相隣接する位置且つ相互に重ならない位置に設けられ、これにより緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成されている。また、サブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２の内面上には、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃ、及びマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍが形成されている。ここで、着色層６Ｃと着色層６Ｍとは、同一の層に位置し、且つＹ方向に相隣接する位置且つ相互に重ならない位置に設けられ、これにより青（Ｂ）の着色層６Ｂが構成されている。また、サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２の内面上には、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃのみが形成され、これによりシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが構成されている。
【００７１】
このような構成を有する第２実施形態では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂは、それぞれＣ、Ｍ、Ｙの３種類の補色のうち２つの色の２層構造により構成されている一方、着色層６Ｃは、シアン（Ｃ）の１つの色の単層構造により構成されており、上記した第１実施形態と同様の作用効果を奏する。加えて、第２実施形態では、着色層６Ｒを構成するのに着色層６Ｍと着色層６Ｙを同一の層に形成し、また、着色層６Ｇを構成するのに着色層６Ｃと着色層６Ｙを同一の層に形成し、また、着色層６Ｂを構成するのに着色層６Ｃと着色層６Ｍを同一の層に形成している。よって、着色層６Ｃ、着色層６Ｍ及び着色層６Ｙの任意の２色に対応する着色層６の積層構造によって着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｃを構成する場合と比較して、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｃの厚さが薄くなるので、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂにおいて、それらの各サブ画素の輝度（cd/cm2）が低下するのを防止できる。
【００７２】
なお、本発明では、上記同様の目的を達成するため、図７に示すように、サブ画素領域ＳＧｒにおいて着色層６Ｍと着色層６Ｙとを同一の層に且つＸ方向に相隣接する位置に設けて着色層６Ｒを構成し、また、サブ画素領域ＳＧｇにおいて着色層６Ｃと着色層６Ｙとを同一の層に且つＸ方向に相隣接する位置に設けて着色層６Ｒを構成し、また、サブ画素領域ＳＧｂにおいて着色層６Ｃと着色層６Ｍとを同一の層に且つＸ方向に相隣接する位置に設けて着色層６Ｒを構成するようにしても構わない。
【００７３】
［第３実施形態］
次に、図８を参照して、本発明の第３実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成について説明する。なお、以下では、上記した要素と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【００７４】
図８（ａ）は、本発明の第３実施形態に係る１画素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）の切断線Ｘ９−Ｘ１０に沿った部分断面図を示す。図８（ｃ）は、図８（ａ）の切断線Ｘ１１−Ｘ１２に沿った部分断面図を示す。図８（ｄ）は、図８（ａ）の切断線Ｘ１３−Ｘ１４に沿った部分断面図を示す。図８（ｅ）は、図８（ａ）の切断線Ｘ１５−Ｘ１６に沿った部分断面図を示す。
【００７５】
第３実施形態は、上記の第１実施形態の製造過程において、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各々に対応するサブ画素おいて所望の色を忠実に再現したい場合に、それらの各着色層６においてその一部を単層構造とすることにより（即ち、色調整することにより）、かかる目的を実現する。
【００７６】
具体的には、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２の内面上には、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍが形成されていると共に、当該着色層６Ｍの内面上には、当該着色層６Ｍより小さな平面形状（面積）を有する、イエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。このため、着色層６Ｒは、破線領域Ｅ３に示すように着色層６Ｍが露出した部分において当該着色層６Ｍによる単層構造をなしている。ここで、着色層６Ｍの内面上に形成する着色層６Ｙの大きさ（面積）は、所望の赤色を再現できる大きさ（面積）に形成するのが好ましい。また、サブ画素領域ＳＧｇに対応する上側基板２の内面上には、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃの内面上には、当該着色層６Ｃより小さな平面形状（面積）を有する、イエロー（Ｙ）の着色層６Ｙが形成されている。このため、着色層６Ｇは、破線領域Ｅ４に示すように着色層６Ｃが露出した部分において当該着色層６Ｃによる単層構造をなしている。ここで、着色層６Ｃの内面上に形成する着色層６Ｙの大きさ（面積）は、所望の緑色を再現できる大きさ（面積）に形成するのが好ましい。また、サブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２の内面上には、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃの内面上には、当該着色層６Ｃより小さな平面形状（面積）を有する、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍが形成されている。このため、着色層６Ｂは、破線領域Ｅ５に示すように着色層６Ｃが露出した部分において当該着色層６Ｃによる単層構造をなしている。ここで、着色層６Ｃの内面上に形成する着色層６Ｍの大きさ（面積）は、所望の青色を再現できる大きさ（面積）に形成するのが好ましい。
【００７７】
以上の構成を有する第３実施形態では、上記の第１実施形態と同様の作用効果を奏する。また、第３実施形態では、第１実施形態の構成において所望の色を忠実に再現したい場合に、上記のように着色層６Ｒの一部、着色層６Ｇの一部及び着色層６Ｂの一部を夫々単層構造とすることにより、かかる目的を実現できるという利点がある。
【００７８】
［第４実施形態］
次に、図９を参照して、本発明の第４実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成について説明する。なお、以下では、上記した要素と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。
【００７９】
図９（ａ）は、本発明の第４実施形態に係る１画素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。図９では、カラーフィルタ基板の要素と素子基板の要素との相対的な位置関係を理解し易くするため、当該素子基板の主要な要素も示す。
【００８０】
上記の第１乃至第３実施形態では、スイッチング素子としてａ−Ｓｉ型のＴＦＴ素子２１を用いた液晶装置に本発明を適用したのに対して、第４実施形態では、スイッチング素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode）素子２２を用いた液晶装置に本発明を適用する。また、第４実施形態では、上記の第１乃至第３実施形態と画素構成が若干相違している。
【００８１】
具体的には、サブ画素領域ＳＧｒに着目した場合、そのサブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２の内面上には、破線領域Ｅ３０と破線領域Ｅ３１とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｍが形成されていると共に、当該着色層６Ｍ及び上側基板２の一部内面上には、破線領域Ｅ３０と破線領域Ｅ３２とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｙが形成されている。このため、サブ画素領域ＳＧｒでは、破線領域Ｅ３０において着色層６Ｍと着色層６Ｙによる２層構造をなし、また、破線領域Ｅ３１において着色層６Ｍによる単層構造をなし、また、破線領域Ｅ３２において着色層６Ｙによる単層構造をなしており、着色層６Ｒが構成されている。
【００８２】
また、サブ画素領域ＳＧｇに着目した場合、そのサブ画素領域ＳＧｇに対応する上側基板２の内面上には、破線領域Ｅ３３と破線領域Ｅ３４とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃ及び上側基板２の一部内面上には、破線領域Ｅ３３と破線領域Ｅ３５とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｙが形成されている。このため、サブ画素領域ＳＧｇでは、破線領域Ｅ３３において着色層６Ｃと着色層６Ｙによる２層構造をなし、また、破線領域Ｅ３４において着色層６Ｃによる単層構造をなし、また、破線領域Ｅ３５において着色層６Ｙによる単層構造をなしており、着色層６Ｇが構成されている。
【００８３】
また、サブ画素領域ＳＧｂに着目した場合、そのサブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２の内面上には、破線領域Ｅ３６と破線領域Ｅ３７とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｃが形成されていると共に、当該着色層６Ｃ及び上側基板２の一部内面上には、破線領域Ｅ３６と破線領域Ｅ３８とを結合したＬ字状の平面形状を有する着色層６Ｍが形成されている。このため、サブ画素領域ＳＧｂでは、破線領域Ｅ３６において着色層６Ｃと着色層６Ｍによる２層構造をなし、また、破線領域Ｅ３７において着色層６Ｃによる単層構造をなし、また、破線領域Ｅ３８において着色層６Ｍによる単層構造をなしており、着色層６Ｂが構成されている。
【００８４】
また、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂに着目した場合、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３０）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３３）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３６）の大きさ（面積）とはそれぞれ異なっている。また、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３１）の大きさ（面積）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３２）の大きさ（面積）はそれぞれ異なっていると共に、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３３）の大きさ（面積）と着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３４）の大きさ（面積）はそれぞれ異なっている。なお、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３７）の大きさ（面積）と着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３８）の大きさ（面積）は同一になっている。
【００８５】
また、サブ画素領域ＳＧｃに着目した場合、そのサブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２の内面上には、着色層６Ｃのみが形成されている。
【００８６】
また、上側基板２の内面上であって、各着色層６を区画する位置にはＢＭが形成されている。各着色層６の内面上には、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、Ｘ方向に延在するストライプ状の走査線８１が形成されている。１つの走査線８１は、１つのＸ方向に列をなす複数の着色層６と平面的に重なる位置に形成されている。各走査線８１等の内面上には、配向膜２０が形成されている。
【００８７】
また、上記したカラーフィルタ基板の要素と、図示しない素子基板の主要な要素との位置関係は次の通りである。素子基板側において、Ｘ方向に相隣接する着色層６の間に且つＢＭと平面的に重なる位置には、Ｙ方向に延在するデータ線８２が設けられている。各走査線８１と各着色層６との交差位置に且つ各着色層６の隅の位置には、対応するデータ線８２と電気的に接続されたＴＦＤ素子２２が設けられている。各着色層６に対応する位置には、対応するＴＦＤ素子２２と電気的に接続された画素電極（図示略）が設けられている。
【００８８】
以上の構成を有する第４実施形態では、上記した第１実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、次のような特有の作用効果をも奏する。
【００８９】
即ち、第４実施形態の製造過程において、着色層６Ｒにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３１）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３２）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の赤色を表現することが可能となり、また、着色層６Ｇにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３４）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３５）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の緑色を表現することが可能となり、また、着色層６Ｂにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３７）と着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３８）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の青色を表現することが可能となる。
【００９０】
ここで、図９（ｂ）を参照して、上記の第４実施形態の特有の目的を踏まえ、当該第４実施形態を若干変形した構成例（以下、「第４実施形態の変形例」とも呼ぶ）について簡単に述べる。
【００９１】
図９（ｂ）は、図９（ａ）に対応する、第４実施形態の変形例に係る１画素分に対応するカラーフィルタ基板の平面的なレイアウトを示す部分平面図である。
【００９２】
図９（ｂ）に示すように、かかる変形例は、上記の第４実施形態と略同様の構成を有する。但し、かかる変形例は、第４実施形態と比べ、次の構成が異なっている。
【００９３】
即ち、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂに着目した場合、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３０）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３３）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３６）の大きさ（面積）とは同一になっている。また、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３１）の大きさ（面積）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３２）の大きさ（面積）は同一になっている。また、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３５）の大きさ（面積）と着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３４）の大きさ（面積）は同一になっている。また、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３７）の大きさ（面積）と着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３８）の大きさ（面積）は同一になっている。
【００９４】
かかる構成を有する第４実施形態の変形例は、上記の第４実施形態と若干構成は異なるものの、当該第４実施形態と略同様の作用効果を奏する。
【００９５】
［変形例］
上記の第１実施形態等では、着色層６Ｍと着色層６Ｙの２層構造により着色層６Ｒが構成され、また、着色層６Ｃと着色層６Ｙの２層構造により着色層６Ｇが構成され、また、着色層６Ｃと着色層６Ｍの２層構造により着色層６Ｂが構成されていると共に、サブ画素領域ＳＧｃ内における着色層６Ｃの単層構造により当該着色層６Ｃが構成されている。このような構成により、サブ画素領域ＳＧｃに対応する、着色層６Ｃのサブ画素では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各サブ画素と比べて輝度が高くなってしまう虞がある。
【００９６】
そこで、本発明では、そのような問題を解消するため、図１０（ａ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｃ内における着色層６Ｃのサブ画素の大きさ（面積）を、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各サブ画素の大きさ（面積）と比べて小さくする、或いは、図１０（ｂ）に示すように、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各々に上側基板２の内面上まで貫通する開口（非着色領域）６ｘを設けることにより、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各サブ画素における輝度と、サブ画素領域ＳＧｃ内における着色層６Ｃのサブ画素における輝度とを揃えるようにしても構わない。
【００９７】
また、本発明では、１画素を構成する着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの配列順序は上記の各実施形態に限定されず、例えば、図１１（ａ）に示すように、Ｘ方向に向かって着色層６Ｂ、着色層６Ｇ、着色層６Ｒ及び着色層６Ｃの配列順序となるように構成してもよい。また、本発明では、図１１（ｂ）に示すように、着色層６Ｂ、着色層６Ｇ、着色層６Ｒ及び着色層６Ｃの各サブ画素を田の字状に配列することにより１画素を構成するようにしてもよい。
【００９８】
また、本発明では、上記した第４実施形態に係る画素構成を有する液晶装置に対して、α−Ｓｉ型ＴＦＴ素子２１を適用可能な構成にしても構わず、また、その逆に、上記した第１乃至第３実施形態及び変形例に係る液晶装置に対して、ＴＦＤ素子２２を適用可能な構成にしても構わない。
【００９９】
また、本発明では、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃを構成する、着色層６Ｃ、着色層６Ｍ及び着色層６Ｙの積層順序に限定はない。また、本発明では、Ｃ、Ｍ、Ｙ以外の任意の補色系の各色に近い着色層を夫々用いて、原色系のＲ、Ｇ、Ｂの３色と、当該任意の補色のうち１色とにより４色の表示を実現するようにしても構わない。
【０１００】
また、上記の各実施形態及び変形例では、透過型の液晶装置に本発明を適用したが、これに限らず、反射型又は半透過反射型の液晶装置に本発明を適用しても構わない。
【０１０１】
その他にも、本発明では、その趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変形をすることが可能である。
【０１０２】
［液晶装置の製造方法］
次に、上記した各種実施形態及び変形例に係る液晶装置の製造方法について説明する。
【０１０３】
（第１実施形態に係る液晶装置の製造方法）
次に、図１２乃至図１４を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。
【０１０４】
図１２（ａ）は、本発明の液晶装置の製造方法のフローチャートを示す。図１２（ｂ）は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法のフローチャートを示す。図１３及び図１４は、図１２（ｂ）の各製造工程に対応するカラーフィルタ基板の断面図を示す。
【０１０５】
まず、周知の方法によって、図２に示す素子基板９１を作製する（工程Ｓ１）。
【０１０６】
次に、本発明の第１実施形態に係るカラーフィルタ基板９２を作製する（工程Ｓ２）。
【０１０７】
具体的には、まず、図１３（ａ）に示すように、ガラスや石英等の絶縁性を有する上側基板２上の一面に亘って遮光性を有する黒色樹脂等を成膜し、その黒色樹脂を所定の形状にパターニングする。これにより、着色層６Ｒが形成されるべきサブ画素領域ＳＧｒ、及び、着色層６Ｇが形成されるべきサブ画素領域ＳＧｇ、及び、着色層６Ｂが形成されるべきサブ画素領域ＳＧｂ、及び、着色層６Ｃが形成されるべきサブ画素領域ＳＧｃの各領域を区画する位置にＢＭが形成される（工程Ｐ１）。
【０１０８】
次に、図１３（ｂ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各々に対応する上側基板２上に、周知のフォトリソグラフィー技術を用いて、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃを夫々形成する（工程Ｐ２）。これにより、サブ画素領域ＳＧｃにおいて、単層構造を有する、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成される。次に、図１３（ｃ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｃ上に、フォトリソグラフィー技術を用いて、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍを夫々形成する（工程Ｐ３）。これにより、サブ画素領域ＳＧｂにおいて、着色層６Ｃと着色層６Ｍの２層構造を有する、青（Ｂ）の着色層６Ｂが構成される。次に、図１３（ｄ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｍ上、及び、サブ画素領域ＳＧｇに設けられた着色層６Ｃ上に、フォトリソグラフィー技術を用いて、イエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを夫々形成する（工程Ｐ４）。これにより、サブ画素領域ＳＧｒにおいて、着色層６Ｍと着色層６Ｙの２層構造を有する赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成されると共に、サブ画素領域ＳＧｇにおいて、着色層６Ｃと着色層６Ｙの２層構造を有する緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成される。
【０１０９】
次工程として、平坦化膜の形成工程（工程Ｐ５）があるが、第１実施形態では平坦化膜を形成しない。そのため、工程Ｐ５を実行せずに、更に次の工程である共通電極の形成工程（工程Ｐ６）へ移行する。
【０１１０】
具体的には、図１４（ａ）に示すように、少なくとも、ＢＭ上、及び、サブ画素領域ＳＧｒ及びＳＧｇの各々に設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｍ上、及び、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃ上に、その一面に亘ってＩＴＯ等の透明導電材料よりなる共通電極８を形成する（工程Ｐ６）。次に、共通電極８上に配向膜２０を形成する（工程Ｐ７）。なお、このとき、配向膜２０の表面上は所定の方向にラビング処理が施される。次に、上側基板２の外面上に、偏光板１２を取り付ける（工程Ｐ７）。こうして、第１実施形態に係るカラーフィルタ基板９２が製造される。
【０１１１】
図１２（ａ）に戻り、図示しない素子基板９１とカラーフィルタ基板９２を貼り合わせ、その両基板間に液晶を封入し、その他の要素の取り付け等を行う（工程Ｓ３）。これにより、第１実施形態に係る液晶装置１００が製造される。
【０１１２】
以上のように第１実施形態では、カラーフィルタ基板９２の製造過程において、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色分の着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃを夫々形成するのに、フォトリソグラフィー工程を３回実行するだけでよい。よって、上記の比較例と比べて１工程分を削減でき、製品コストを低減できる。別の表現をすれば、本発明では、上記の比較例においてシアン（Ｃ）の着色層６Ｃがない構成を有する液晶装置（即ち、一般的なＲ、Ｇ、Ｂの３色にて構成される液晶装置）と同一の工程数により、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の着色層６を有する、第１実施形態の液晶装置を構成することができる。
【０１１３】
（第１実施形態の変形例１に係る液晶装置の製造方法）
次に、図１２及び図１５を参照して、本発明の第１実施形態の変形例１に係る液晶装置の製造方法について説明する。なお、変形例１に係る液晶装置の製造方法では、カラーフィルタ基板の製造方法を除き、上記した第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様であるため、当該カラーフィルタ基板の製造方法のみ説明する。
【０１１４】
図１５は、図１４に対応する断面図であり、変形例１に係るカラーフィルタ基板の製造工程図を示す。
【０１１５】
変形例１の製造方法において、工程Ｓ１及び工程Ｐ１〜工程Ｐ４までは、上記した第１実施形態の製造方法と共通している。しかし、変形例１の製造方法では、カラーフィルタ基板の製造過程において、平坦化膜の形成工程（工程Ｐ５）を実行する点で第１実施形態の製造方法と相違している。
【０１１６】
即ち、工程Ｐ４の実行後に、図１５（ａ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃ上にのみ、アクリル樹脂等の透明樹脂材料よりなる平坦化膜１８を形成する（工程Ｐ５）。このとき、平坦化膜１８は、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｂの各厚さと、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃの厚さと当該平坦化膜１８の厚さとを合わせた厚さとが同一となるように形成される。
【０１１７】
次に、図１５（ｂ）に示すように、平坦化膜１８上に共通電極８を形成し（工程Ｐ６）、次に、図１５（ｃ）に示すように、共通電極８上に配向膜２０を形成すると共に、上側基板２の外面上に偏光板１２を取り付ける（工程Ｐ７）。こうして、第１実施形態の変形例１に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１１８】
以上の変形例１に係る液晶装置の製造方法では、上記の第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏する。また、変形例１に係る液晶装置の製造方法では、平坦化膜の形成工程Ｐ５を実行することにより、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃ上にのみ、上記所定の厚さを有する平坦化膜１８が形成される。よって、カラーフィルタ基板の内面上を平坦化することができる。その結果、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの各サブ画素の全てに対応する液晶層４の厚さを一定にすることができ、それらの各サブ画素において光学特性を揃えることができる。
【０１１９】
（第１実施形態の変形例２に係る液晶装置の製造方法）
次に、図１２及び図１６を参照して、本発明の第１実施形態の変形例２に係る液晶装置の製造方法について説明する。なお、変形例２に係る液晶装置の製造方法では、カラーフィルタ基板の製造方法を除き、上記した第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様であるため、当該カラーフィルタ基板の製造方法のみ説明する。
【０１２０】
図１６は、図１５に対応する断面図であり、変形例２に係るカラーフィルタ基板の製造工程図を示す。
【０１２１】
変形例２の製造方法と上記した変形例１の製造方法とを比較した場合、その両者は、平坦化膜１８の形成する部分が異なっている。
【０１２２】
即ち、変形例２の製造方法では、工程Ｐ４の実行後に、図１６（ａ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｇに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｍ上、及び、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃ上、及び、ＢＭ上に、その一面に亘って平坦化膜１８を形成する（工程Ｐ５）。このとき、平坦化膜１８は、その表面が平坦性を有するように形成される。次に、図１６（ｂ）〜図１６（ｄ）に示すように、共通電極を形成する工程Ｐ６、及び配向膜の形成及び偏光板１２の取り付けをする工程Ｐ７を経て、変形例２に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１２３】
以上の変形例２に係る液晶装置の製造方法では、上記の第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏する。また、変形例２に係る液晶装置の製造方法では、平坦化膜の形成工程Ｐ５を実行することにより、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｇに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｍ上、及び、サブ画素領域ＳＧｃに設けられた着色層６Ｃ上、及び、ＢＭ上に、その一面に亘って平坦化膜１８が形成される。よって、カラーフィルタ基板の内面上を平坦化することができる。その結果、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ、着色層６Ｂ及び着色層６Ｃの各サブ画素の全てに対応する液晶層４の厚さを一定にすることができ、それらの各サブ画素において光学特性を揃えることができる。
【０１２４】
（第２実施形態に係る液晶装置の製造方法）
次に、図６、図１２、図１７〜図１９を参照して、本発明の第２実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。なお、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法では、カラーフィルタ基板の製造方法を除き、上記した第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様であるため、当該カラーフィルタ基板の製造方法のみ説明する。
【０１２５】
図１７〜図１９等は、図６に対応する平面図及び各断面図であり、図１２（ｂ）の各製造工程に対応するカラーフィルタ基板の平面図及び各断面図を示す。
【０１２６】
まず、素子基板９１を製造した後に（工程Ｓ１）、本発明の第２実施形態に係るカラーフィルタ基板９２を作製する（工程Ｓ２）。
【０１２７】
具体的には、まず、図１７に示すように、上側基板２上において、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各領域を区画する位置にＢＭを形成する（工程Ｐ１）。
【０１２８】
次に、図１８に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｇ及びＳＧｂの各々に対応する上側基板２上の所定位置に、それらの各領域の約半分程度の大きさ（面積）を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃを夫々形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２上に、当該サブ画素領域ＳＧｃと同一の大きさ（面積）を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃを形成する（工程Ｐ２）。これにより、サブ画素領域ＳＧｃにおいて、単層構造を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成される。
【０１２９】
次に、図１９に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２上の所定位置に、その領域の約半分程度の大きさ（面積）を有するマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍを形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２上であって、且つ当該サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６ＣとＹ方向に隣接する位置に、当該着色層６Ｃと略同一の大きさ（面積）を有するマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍを形成する（工程Ｐ３）。これにより、サブ画素領域ＳＧｂにおいて、単層構造を有する着色層６Ｃと、同じく単層構造を有する着色層６Ｍとが並列してなる青（Ｂ）の着色層６Ｂが構成される。  次に、図６に戻り、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２上であって、且つ当該サブ画素領域ＳＧｒ内に設けられた着色層６ＭとＹ方向に隣接する位置に、当該着色層６Ｍと略同一の大きさ（面積）を有するイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｇに対応する上側基板２上であって、且つ当該サブ画素領域ＳＧｇ内に設けられた着色層６ＣとＹ方向に隣接する位置に、当該着色層６Ｃと略同一の大きさ（面積）を有するイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを形成する（工程Ｐ４）。これにより、サブ画素領域ＳＧｒにおいて、単層構造を有する着色層６Ｍと、同じく単層構造を有する着色層６Ｙとが並列してなる赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成されると共に、サブ画素領域ＳＧｇにおいて、単層構造を有する着色層６Ｃと、同じく単層構造を有する着色層６Ｙとが並列してなる緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成される。
【０１３０】
次に、図１２（ｂ）に戻り、選択的に、上記変形例１又は変形例２の製造方法のように、サブ画素領域ＳＧｃ内の着色層６Ｃの上、又は各着色層６及びＢＭの上に、平坦化膜１８を形成する（工程Ｐ５）。次に、上記の第１実施形態と同様の方法にて、共通電極８及び配向膜２０を形成し、さらに偏光板１２を取り付ける（工程Ｐ６及びＰ７）。こうして、第２実施形態に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１３１】
以上の第２実施形態に係る液晶装置の製造方法では、上記の第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏する。また、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、着色層６Ｒの構成要素である、着色層６Ｍと着色層６Ｙとは同一の層に形成され、また、着色層６Ｇの構成要素である、着色層６Ｃと着色層６Ｙとは同一の層に形成され、また、着色層６Ｂの構成要素である、着色層６Ｃと着色層６Ｍとは同一の層に形成される。よって、着色層６Ｃ、着色層６Ｍ及び着色層６Ｙの任意の２色に対応する着色層６の積層構造によって着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｃを構成する場合と比較して、着色層６Ｒ、着色層６Ｇ及び着色層６Ｃの厚さが薄くなるので、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂにおいて、それらの各サブ画素の輝度（cd/cm2）が低下するのを防止できる。
【０１３２】
（第３実施形態に係る液晶装置の製造方法）
次に、図８、図１２、図２０〜図２２を参照して、本発明の第３実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。なお、第３実施形態に係る液晶装置の製造方法では、カラーフィルタ基板の製造方法を除き、上記した第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様であるため、当該カラーフィルタ基板の製造方法のみ説明する。
【０１３３】
図２０〜図２２等は、図８に対応する平面図及び各断面図であり、図１２（ｂ）の各製造工程に対応するカラーフィルタ基板の平面図及び各断面図を示す。
【０１３４】
まず、素子基板９１を製造した後に（工程Ｓ１）、本発明の第３実施形態に係るカラーフィルタ基板９２を作製する（工程Ｓ２）。
【０１３５】
具体的には、まず、図２０に示すように、上側基板２上において、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各領域を区画する位置にＢＭを形成する（工程Ｐ１）。
【０１３６】
次に、図２１に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各々に対応する上側基板２上に、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃを夫々形成する（工程Ｐ３）。これにより、サブ画素領域ＳＧｃにおいて、単層構造を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成される。次に、図２２に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２上に、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍを形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｃ上に、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍを形成する（工程Ｐ３）。これにより、サブ画素領域ＳＧｂにおいて、着色層６Ｃと着色層６Ｍの２層構造を有する青（Ｂ）の着色層６Ｂが構成される。
【０１３７】
このとき、サブ画素領域ＳＧｂにおいて所望の青色を得るために、図２２（ａ）及び（ｄ）に示すように、着色層６Ｍの一部を除去して着色層６Ｃの一部を露出（破線領域Ｅ５の部分）、換言すれば、単層構造とすることにより色の調整を行う。
【０１３８】
次に、図８に戻り、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｍ上に、イエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｇに設けられた着色層６Ｃ上に、イエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを形成する（工程Ｐ４）。これにより、サブ画素領域ＳＧｒにおいて、着色層６Ｍと着色層６Ｙの２層構造を有する赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成されると共に、サブ画素領域ＳＧｇにおいて、着色層６Ｃと着色層６Ｙの２層構造を有する緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成される。このとき、サブ画素領域ＳＧｒおいて所望の赤色を得るために、図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、着色層６Ｙの一部を除去して着色層６Ｍの一部を露出（破線領域Ｅ３の部分）、換言すれば、単層構造とすることにより色の調整を行う。また、同様に、サブ画素領域ＳＧｇにおいて所望の緑色を得るために、図８（ａ）及び（ｃ）に示すように、着色層６Ｙの一部を除去して着色層６Ｃの一部を露出（破線領域Ｅ４の部分）、換言すれば、単層構造とすることにより色の調整を行う。
【０１３９】
次に、図１２（ｂ）に戻り、選択的に、上記変形例１又は変形例２の製造方法のように、サブ画素領域ＳＧｃ内の着色層６Ｃの上、又は各着色層６及びＢＭの上に、平坦化膜１８を形成する（工程Ｐ５）。次に、上記の第１実施形態と同様の方法にて、共通電極８及び配向膜２０を形成し、さらに偏光板１２を取り付ける（工程Ｐ６及びＰ７）。こうして、第３実施形態に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１４０】
以上の第３実施形態に係る液晶装置の製造方法では、上記の第１実施形態の液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏する。また、第３実施形態に係る液晶装置の製造方法では、第１実施形態の液晶装置の製造方法において所望の色を忠実に再現したい場合に、上記のように着色層６Ｒの一部、着色層６Ｇの一部及び着色層６Ｂの一部を夫々単層構造とすることにより、かかる目的を実現できるという利点がある。
【０１４１】
（第４実施形態に係る液晶装置の製造方法）
次に、図９、図１２及び図２３を参照して、本発明の第４実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。なお、以下では、上記の各実施形態と共通する製造工程の説明は省略する。
【０１４２】
図２３は、図１２（ｂ）の各製造工程に対応する工程図であり、第４実施形態のカラーフィルタ基板における１画素ＡＧ分に対応する平面図を示す。
【０１４３】
まず、図１２（ａ）に示すように、周知の方法にて、上記したＴＦＤ素子２２を有する素子基板を作製し（工程Ｓ１）、次に、第４実施形態に係るカラーフィルタ基板を作製する（工程Ｓ２）。
【０１４４】
具体的には、まず、図２３（ａ）に示すように、上側基板２上において、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各領域を区画する位置にＢＭを形成し、続いて、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｇ及びＳＧｂに対応する上側基板２上に、シアン（Ｃ）の着色層６ＣをＬ字状の平面形状を有するように形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２上に、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃを矩形状の形状を有するように形成する（工程Ｐ２）。これにより、サブ画素領域ＳＧｃにおいて、単層構造を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃが形成される。
【０１４５】
次に、図２３（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに対応する上側基板２上に、マゼンタ（Ｍ）の着色層６ＭをＬ字状の平面形状を有するように形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｂ内の破線領域Ｅ３８に対応する上側基板２上、及び、サブ画素領域ＳＧｂ内の破線領域Ｅ３６に対応する着色層６Ｃ上に、マゼンタ（Ｍ）の着色層６ＭをＬ字状の平面形状を有するように形成する（工程Ｐ３）。これにより、サブ画素領域ＳＧｂ内の破線領域Ｅ３６において、着色層６Ｃと着色層６Ｍの２層構造を有する青（Ｂ）の着色層６Ｂが、また、サブ画素領域ＳＧｂ内の破線領域Ｅ３７と破線領域Ｅ３８において、単層構造を有する着色層６Ｃと単層構造を有する着色層６Ｍとが並列してなる青（Ｂ）の着色層６Ｂが夫々構成される。
【０１４６】
図９に戻り、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒ内の破線領域Ｅ３２に対応する上側基板２上、及び、サブ画素領域ＳＧｒ内の破線領域Ｅ３０に対応する着色層６Ｍ上に、イエロー（Ｙ）の着色層６ＹをＬ字状の平面形状を有するように形成すると共に、サブ画素領域ＳＧｇ内の破線領域Ｅ３５に対応する上側基板２上、及び、サブ画素領域ＳＧｇ内の破線領域Ｅ３３に対応する着色層６Ｃ上に、イエロー（Ｙ）の着色層６ＹをＬ字状の平面形状を有するように形成する（工程Ｐ４）。これにより、サブ画素領域ＳＧｒ内の破線領域Ｅ３０において、着色層６Ｍと着色層６Ｙの２層構造を有する赤（Ｒ）の着色層６Ｒが、また、サブ画素領域ＳＧｒ内の破線領域Ｅ３１と破線領域Ｅ３２において、単層構造を有する着色層６Ｍと単層構造を有する着色層６Ｙとが並列してなる赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成される。また、サブ画素領域ＳＧｇ内の破線領域Ｅ３３において、着色層６Ｃと着色層６Ｙの２層構造を有する緑（Ｇ）の着色層６Ｇが、また、サブ画素領域ＳＧｇ内の破線領域Ｅ３５と破線領域Ｅ３４において、単層構造を有する着色層６Ｙと単層構造を有する着色層６Ｃとが並列してなる緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成される。
【０１４７】
次に、図１２（ｂ）に戻り、選択的に、上記変形例１又は変形例２の製造方法のように、サブ画素領域ＳＧｃ内の着色層６Ｃの上、又は各着色層６及びＢＭの上に、平坦化膜１８を形成する（工程Ｐ５）。次に、図９（ａ）を参照して理解されるように、Ｘ方向に列をなす複数の着色層６と平面的に重なるように、ＩＴＯ等の透明導電材料によりストライプ状の走査線８１を形成する（工程Ｐ６）。次に、走査線８１上に配向膜２０を形成し、さらに偏光板を取り付ける（工程Ｐ７）。こうして、第４実施形態に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１４８】
以上の構成を有する第４実施形態に係る液晶装置の製造方法では、上記した第１実施形態等に係る液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏すると共に、次のような特有の作用効果をも奏する。
【０１４９】
即ち、第４実施形態に係る液晶装置の製造方法では、着色層６Ｒにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３１）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３２）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の赤色を表現することが可能となり、また、着色層６Ｇにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３４）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３５）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の緑色を表現することが可能となり、また、着色層６Ｂにおいて、同一層に位置する、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３７）と着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３８）との相対的な大きさ（面積）を変えることにより所望の青色を表現することが可能となる。
【０１５０】
なお、図９（ｂ）に示される第４実施形態の変形例に係る液晶装置も、上記の第４実施形態の製造方法と略同様の方法により製造することができる。
【０１５１】
但し、かかる製造方法では、図９（ｂ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ及びＳＧｂに着目した場合、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３０）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３３）の大きさ（面積）と、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの２層構造をなす部分（破線領域Ｅ３６）の大きさ（面積）とが同一になるように形成される。また、かかる製造方法では、サブ画素領域ＳＧｒにおける着色層６Ｒの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３１）の大きさ（面積）と着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３２）の大きさ（面積）とが同一になるように形成され、また、サブ画素領域ＳＧｇにおける着色層６Ｇの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｙ（破線領域Ｅ３３）の大きさ（面積）と着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３４）の大きさ（面積）とが同一になるように形成され、また、サブ画素領域ＳＧｂにおける着色層６Ｂの単層構造をなす部分、即ち、着色層６Ｃ（破線領域Ｅ３７）の大きさ（面積）と着色層６Ｍ（破線領域Ｅ３８）の大きさ（面積）とがそれぞれ同一になるように形成される。
【０１５２】
以上の構成を有する第４実施形態の変形例に係る液晶装置の製造方法では、上記した第４実施形態等に係る液晶装置の製造方法と同様の作用効果を奏する。
【０１５３】
［カラーフィルタ基板の製造方法（変形例）］
次に、図２４及び図２５を参照して、本発明のカラーフィルタ基板の変形例に係る製造方法について説明する。なお、以下では、カラーフィルタ基板の製造方法以外についての製造方法は、上記した各実施形態の製造方法と同様であるため、その説明は省略する。
【０１５４】
図２４は、本発明のカラーフィルタ基板の変形例に係る製造方法のフローチャートを示す。図２５は、図２４の各製造工程に対応するカラーフィルタ基板の断面図を示す。
【０１５５】
本製造方法では、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃの形成工程を、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍ及びイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙの各形成工程より後に実行する点に特徴を有する。
【０１５６】
まず、図２５（ａ）に示すように、上側基板２上であって、サブ画素領域ＳＧｒ、ＳＧｇ、ＳＧｂ及びＳＧｃの各領域を区画する位置にＢＭを形成する（工程Ｒ１）。次に、図２５（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒ及びＳＧｇの各々に対応する上側基板２上に、所定厚さｄ１１を有するイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙを形成する（工程Ｒ２）。
【０１５７】
次に、図２５（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィー技術を用いて、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに対応する上側基板２上に、所定厚さｄ１１を有するマゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍをそれぞれ形成する（工程Ｒ３）。このとき、フォトリソグラフィー工程において成膜されるレジストの特性上、サブ画素領域ＳＧｒに設けられた着色層６Ｙ上に形成された着色層６Ｍの厚さは薄くなり、その厚さはｄ１２（＜ｄ１１）となる。こうして、サブ画素領域ＳＧｒにおいて、着色層６Ｙと着色層６Ｍの２層構造を有する赤（Ｒ）の着色層６Ｒが構成される。なお、本製造方法では、上記した工程Ｒ２と工程Ｒ３の実行順序は逆でも構わない。
【０１５８】
次に、図２５（ｄ）に示すように、サブ画素領域ＳＧｇに設けられた着色層６Ｙ上、及び、サブ画素領域ＳＧｂに設けられた着色層６Ｍ上、及び、サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２上に、所定厚さｄ１１を有するシアン（Ｃ）の着色層６Ｃをそれぞれ形成する（工程Ｒ４）。このとき、レジストの特性上、サブ画素領域ＳＧｇ及びＳＧｂの各々に設けられた着色層６Ｙ上に形成された各着色層６Ｃの厚さは薄くなり、それらの各厚さはｄ１２（＜ｄ１１）となる。なお、サブ画素領域ＳＧｃに対応する上側基板２上に形成された着色層６Ｃの厚さはｄ１１を維持している。これにより、サブ画素領域ＳＧｇにおいて、着色層６Ｙと着色層６Ｃの２層構造を有する緑（Ｇ）の着色層６Ｇが構成されると共に、サブ画素領域ＳＧｂにおいて、着色層６Ｍと着色層６Ｃの２層構造を有する青（Ｂ）の着色層６Ｂが構成される。
【０１５９】
次に、図１２（ｂ）に戻り、選択的に、上記変形例１又は変形例２の製造方法のように、サブ画素領域ＳＧｃ内の着色層６Ｃの上、又は各着色層６及びＢＭの上に、平坦化膜１８を形成する（工程Ｒ５）。次に、図２５（ｅ）に示すように、共通電極８を形成し（工程Ｒ６）、続いて、図２５（ｆ）に示すように、配向膜２０を形成すると共に、上側基板２の外面上に偏光板１２を取り付ける（工程Ｒ７）。こうして、本発明の変形例に係るカラーフィルタ基板が製造される。
【０１６０】
以上のカラーフィルタ基板の製造方法（変形例）では、シアン（Ｃ）の着色層６Ｃの形成工程を、マゼンタ（Ｍ）の着色層６Ｍ及びイエロー（Ｙ）の着色層６Ｙの各形成工程より後に実行するので、サブ画素領域ＳＧｃの内面上がレベリングされ、当該サブ画素領域ＳＧｃの内面上からカラーフィルタ基板の内面上までの高さ（段差）ｄ１３を小さくすることができる。よって、カラーフィルタ基板の内面上を略平坦化することができる。
【０１６１】
［他の実施形態］
上記の説明では、４色の色相の着色領域として、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃの４色の色相の着色領域の一例を挙げて説明したが、本発明の適用はこれには限定されず、他の４色の色相の着色領域により１画素を構成することもできる。
【０１６２】
この場合、４色の色相の着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）のうち、青系の色相の着色領域（「第１着色領域」とも呼ぶ。）、赤系の色相の着色領域（「第２着色領域」とも呼ぶ。）と、青から黄までの色相の中で選択された２つの色相の着色領域（「第３着色領域」、「第４着色領域」とも呼ぶ。）からなる。ここで「系」との語を用いているが、例えば青系であれば純粋の青の色相に限定されるものでなく、青紫や青緑等を含むものである。赤系の色相であれば、赤に限定されるものでなく橙を含む。また、これら着色領域は単一の着色層で構成されても良いし、複数の異なる色相の着色層を重ねて構成されても良い。また、これら着色領域は色相で述べているが、当該色相は、彩度、明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。
【０１６３】
具体的な色相の範囲は、
・青系の色相の着色領域は、青紫から青緑であり、より好ましくは藍から青である。
・赤系の色相の着色領域は、橙から赤である。
・青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、緑から橙であり、より好ましくは緑から黄である。もしくは緑から黄緑である。
・青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、青から緑であり、より好ましくは青緑から緑である。
【０１６４】
ここで、各着色領域は、同じ色相を用いることはない。例えば、青から黄までの色相で選択される２つの着色領域で緑系の色相を用いる場合は、他方は一方の緑に対して青系もしくは黄緑系の色相を用いる。
【０１６５】
これにより、従来のＲＧＢの着色領域よりも広範囲の色再現性を実現することができる。
【０１６６】
また、上記では４色の色相の着色領域による広範囲の色再現性を色相で述べたが、以下に、着色領域を透過する波長で表現すると以下のようになる。
・青系の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４１５〜５００ｎｍにある着色領域、好ましくは、４３５〜４８５ｎｍにある着色領域である。
・赤系の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが６００ｎｍ以上にある着色領域で、好ましくは、６０５ｎｍ以上にある着色領域である。
・青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが５００〜５９０ｎｍにある着色領域、好ましくは５１０〜５８５ｎｍにある着色領域、もしくは５３０〜５６５ｎｍにある着色領域である。
・青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４８５〜５３５ｎｍにある着色領域で、好ましくは、４９５〜５２０ｎｍにある着色領域である。
【０１６７】
さらに、４色の色相の着色領域をｘ−ｙ色度図で表現すると以下のようになる。
・青系の着色領域は、ｘ≦0.151、ｙ≦0.056にある着色領域であり、好ましくは、0.134≦ｘ≦0.151、0.034≦ｙ≦0.056にある着色領域である。
・赤系の着色領域は、0.643≦ｘ、ｙ≦0.333にある着色領域であり、好ましくは、0.643≦ｘ≦0.690、0.299≦ｙ≦0.333にある着色領域である。
・青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、ｘ≦0.164、0.453≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、0.098≦ｘ≦0.164、0.453≦ｙ≦0.759にある着色領域である。
・青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、0.257≦ｘ、0.606≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、0.257≦ｘ≦0.357、0.606≦ｙ≦0.670にある着色領域である。
【０１６８】
なお、本例における４色の色相の着色領域を用いた場合、バックライト１５にはＲＧＢの光源としてＬＥＤ（Light Emitting Diode）、蛍光管、有機ＥＬ（organic electroluminescence）などを用いても良い。または白色光源を用いても良い。なお、白色光源は青の発光体とYAG蛍光体により生成される白色光源でもよい。
【０１６９】
但し、ＲＧＢ光源としては、以下のものが好ましい。
・Ｂは発光する光の波長のピークが４３５ｎｍ〜４８５ｎｍにあるもの
・Ｇは発光する光の波長のピークが５２０ｎｍ〜５４５ｎｍにあるもの
・Ｒは発光する光の波長のピークが６１０ｎｍ〜６５０ｎｍにあるもの
そして、ＲＧＢ光源の波長によって、上記CFを適切に選定すればより広範囲の色再現性を得ることができる。また、波長が例えば、４５０ｎｍと５６５ｎｍにピークがくるような、複数のピークを持つ光源を用いても良い。
【０１７０】
上記の４色の色相の着色領域の構成の例としては、具体的には以下のものが挙げられる。
・色相が、赤、青、緑、シアン（青緑）の着色領域。これは、上記の各実施形態等の構成例である。
・色相が、赤、青、緑、黄の着色領域
・色相が、赤、青、深緑、黄の着色領域
・色相が、赤、青、エメラルド、黄の着色領域
・色相が、赤、青、深緑、黄緑の着色領域
・色相が、赤、青緑、深緑、黄緑の着色領域
[電子機器]
次に、上述した各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器の具体例について図２６を参照して説明する。
【０１７１】
まず、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図２６（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、本発明に係る液晶装置１００等を適用した表示部７１３とを備えている。
【０１７２】
続いて、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図２６（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２２、送話口７２３とともに、本発明に係る液晶装置１００等を適用した表示部７２４を備える。
【０１７３】
なお、各実施形態及び変形例に係る液晶装置１００等を適用可能な電子機器としては、図２６（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図２６（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【０１７４】
また、本発明は、液晶装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１７５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の構成を模式的に示す平面図。
【図２】図１における切断線Ａ−Ａ’に沿った断面図。
【図３】第１実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図４】比較例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図５】第１実施形態の各種変形例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す断面図。
【図６】第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図７】第２実施形態の他の例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図８】第３実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図及び各断面図。
【図９】第４実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図及び各断面図。
【図１０】各種の変形例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図１１】各種の変形例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す平面図。
【図１２】本発明の液晶装置等の製造方法に係るフローチャート。
【図１３】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１４】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１５】第１実施形態の変形例１に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１６】第１実施形態の変形例２に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１７】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１８】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図１９】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図２０】第３実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図２１】第３実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図２２】第３実施形態に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図２３】第４実施形態等に係る液晶装置の製造方法に係る各工程図。
【図２４】本発明のカラーフィルタ基板の変形例の製造方法に係るフローチャート。
【図２５】本発明のカラーフィルタ基板の変形例の製造方法に係る各工程図。
【図２６】本発明の液晶装置を適用した電子機器の例。
【符号の説明】
【０１７６】
６  着色層、  ８  共通電極、  １０  画素電極、  １８  平坦化膜、  ２０  配向膜、３２  ソース線、  ３３  ゲート線、  ９１  素子基板、  ９２  カラーフィルタ基板、  １００  液晶装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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