(57)【要約】【課題】マップを効率よく編集することができる検査用マップ生成装置および外観検査装置を提供する。【解決手段】制御部６は、所定のパターンが形成された検査対象物上の複数の領域の位置関係を示すマップを、予め設定された条件に従って生成する。表示部８はマップを表示する。画像処理部２は、検査対象物の撮像により生成された画像データを処理し、マップ上の領域と対応する検査対象物上の領域が存在するか否かを判断する。制御部６は、画像処理部２の判断結果に基づいてマップを編集する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンが形成された検査対象物上の複数の領域の位置関係を示すマップを、予め設定された条件に従って生成するマップ生成手段と、
前記マップを表示する表示手段と、
前記検査対象物の撮像により生成された画像データを処理し、前記マップ上の領域と対応する前記検査対象物上の領域が存在するか否かを判断する画像処理手段と、
前記画像処理手段の判断結果に基づいて前記マップを編集するマップ編集手段と、
を備えたことを特徴とする検査用マップ生成装置。
【請求項２】
前記検査対象物の撮像により生成された画像データは、前記所定のパターンが形成された前記検査対象物上の全ての領域の撮像により生成された画像データであることを特徴とする請求項１に記載の検査用マップ生成装置。
【請求項３】
前記検査対象物の撮像により生成された画像データは、前記所定のパターンが形成された前記検査対象物上の周縁部の領域のみの撮像により生成された画像データであることを特徴とする請求項１に記載の検査用マップ生成装置。
【請求項４】
前記画像処理手段は、前記検査対象物の撮像により生成された画像データの輝度に基づいて、前記所定のパターンが形成された領域が前記検査対象物上に存在するか否かを判断することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の検査用マップ生成装置。
【請求項５】
前記画像処理手段は、前記検査対象物の撮像により生成された画像データと、予め用意された参照画像データとを比較して、前記所定のパターンが形成された領域が前記検査対象物上に存在するか否かを判断することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の検査用マップ生成装置。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれかに記載の検査用マップ生成装置を備え、該検査用マップ生成装置によって生成された前記マップに基づいて前記検査対象物上の検査対象領域を観察するための外観検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定のパターンが形成された検査対象物上の複数の領域の位置関係を示すマップを生成する検査用マップ生成装置に関する。また、本発明は、本検査用マップ生成装置を備え、検査対象物の外観を検査するための外観検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程においては、半導体ウェハや大型ガラス基板等の基板に塗布されたレジスト等の膜ムラや、異物、汚れ、傷等の欠陥の検査が行われている。この検査に用いられる検査装置はＧＵＩ（Graphical User Interface）機能を備えており、ユーザが、画面に表示されるマップ画像（基板上のパターン領域の配列を表すマップの画像）を確認しながら検査領域を設定することが可能である。設定された検査領域を顕微鏡等で観察することによって、検査が行われる。
【０００３】
検査領域の設定の前に、基板の条件に基づいてマップが描画されるが、表示されたマップ上のパターン領域のうちの一部が基板上に存在しないことがある。そのため、ユーザがマップと実際の基板を見比べて、マップ上のパターン領域のうち、基板上に存在しないものを１つ１つ選択し、マップから削除することによって、マップを編集することを行わなければならない場合がある。
【０００４】
特許文献１には、検査領域を設定するための画面上にＳＥＭ画像を表示し、ユーザがＳＥＭ画像を確認しながら検査領域を設定することが記載されている。
【特許文献１】特開２０００−１６１９４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の検査装置においては、ユーザが、マップ上のパターン領域のうち、基板上に存在しないものを複数のパターン領域の中から１つ１つ選択する必要があるため、マップを編集する際の効率が悪いという問題があった。特許文献１においても、画面機能が十分に生かされておらず、マップを編集する際の効率の悪さは改善されていない。
【０００６】
本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであって、マップを効率よく編集することができる検査用マップ生成装置および外観検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、所定のパターンが形成された検査対象物上の複数の領域の位置関係を示すマップを、予め設定された条件に従って生成するマップ生成手段と、前記マップを表示する表示手段と、前記検査対象物の撮像により生成された画像データを処理し、前記マップ上の領域と対応する前記検査対象物上の領域が存在するか否かを判断する画像処理手段と、前記画像処理手段の判断結果に基づいて前記マップを編集するマップ編集手段とを備えたことを特徴とする検査用マップ生成装置である。
【０００８】
また、本発明の検査用マップ生成装置において、前記検査対象物の撮像により生成された画像データは、前記所定のパターンが形成された前記検査対象物上の全ての領域の撮像により生成された画像データであることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の検査用マップ生成装置において、前記検査対象物の撮像により生成された画像データは、前記所定のパターンが形成された前記検査対象物上の周縁部の領域のみの撮像により生成された画像データであることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の検査用マップ生成装置において、前記画像処理手段は、前記検査対象物の撮像により生成された画像データの輝度に基づいて、前記所定のパターンが形成された領域が前記検査対象物上に存在するか否かを判断することを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の検査用マップ生成装置において、前記画像処理手段は、前記検査対象物の撮像により生成された画像データと、予め用意された参照画像データとを比較して、前記所定のパターンが形成された領域が前記検査対象物上に存在するか否かを判断することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、上記の検査用マップ生成装置を備え、該検査用マップ生成装置によって生成された前記マップに基づいて前記検査対象物上の検査対象領域を観察するための外観検査装置である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ウェハを撮像して得た画像データが処理され、マップ上の領域と対応するウェハ上の領域が存在するか否かが判断され、この判断結果に基づいてマップが編集されるので、マップを効率よく編集することができるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照し、本発明の実施形態を説明する。図１は、本発明の一実施形態による外観検査装置の構成を示している。画像取得部１はカメラを備えており、顕微鏡部３が備える顕微鏡を介して検査対象のウェハの表面の拡大像を撮像し、画像データを生成する。画像処理部２は、画像取得部１によって生成された画像データや、予め用意されている画像データを処理する。特に、本実施形態による画像処理部２は、画像取得部１によって生成されたウェハ（検査対象物）の画像データを処理し、ウェハマップ上の領域と対応する実際のウェハ上の領域が存在するか否か（ウェハマップ上の領域が有効領域であるか否か）を判断する。ここで、有効領域とは、回路パターンが形成され、かつチップ毎に切り出したときに欠陥がなければ製品として使用する予定の領域であるものとする。
【００１５】
ステージ部４は、ウェハを支持しＸＹ平面内でのウェハの移動およびウェハの回転が可能なステージや、そのステージの移動・回転に係る機構を駆動するためのモータ等を備えている。機構制御部５は、顕微鏡部３が備える顕微鏡の倍率や、ステージ部４が備えるステージの動作を制御する。機構制御部５が制御を行うための情報は制御部６から出力される。制御部６は装置内の各構成の制御や演算、情報の生成等を行う。
【００１６】
操作部７は、ユーザ（検査者）が検査に必要な情報を入力するためのマウス、キーボード、操作パネル、あるいはタッチパネル等の操作手段を備えている。この操作手段が操作されると、操作部７は、操作結果に基づいた信号を制御部６へ出力する。制御部６は、この信号から操作結果を検出し、操作結果に基づいた各種の処理を行う。表示部８は、画像取得部１によって生成された画像データに基づいた画像や、所定のパターンが形成された検査対象物上の複数の領域の位置関係（ウェハ内のチップの配列の様子）を示すウェハマップ等を表示する。記憶部９は、制御部６が使用するプログラムや画像データの他、各種情報を記憶する。
【００１７】
次に、表示部８に表示される画面（パネル）を説明する。表示部８には、主にレシピパネル、ウェハ条件パネル、ウェハ編集パネル、マクロ移動パネル、ミクロ移動パネル、画像パネル、および検査条件パネルが表示される。
【００１８】
レシピパネルは、ウェハの品種の識別情報（品種名等）と工程の識別情報（工程名等）を検査内容（ウェハの表面検査、裏面周辺の検査、裏面中央の検査、ミクロ検査）や、ウェハが収納されたカセットの情報と関連付けるための画面である。ウェハ条件パネルは、検査対象のウェハの各種条件を設定するための画面である。ウェハの各種条件には、ウェハの大きさや、検査領域の単位であるチップの縦・横の長さ、チップ同士の間隔等が含まれる。ウェハ編集パネルは、検査領域および非検査領域を設定するための画面である。
【００１９】
マクロ移動パネルは、ウェハを回転揺動させながら目視により表面を検査するマクロ検査（検査に係る構成は図示せず）の際のウェハの角度等を設定するための画面である。ミクロ移動パネルは、顕微鏡によりウェハ表面を走査して得たウェハ表面の拡大像を用いて検査するミクロ検査の際のステージの移動位置等を設定するための画面である。画像パネルは、検査時に参照するリファレンス画像（ウェハ上の欠陥の画像や正常時のウェハの画像）を登録するための画面である。検査条件パネルは、その他の検査条件を設定するための画面である。
【００２０】
検査には、検査時の条件を定義するレシピが用いられる。上記の各パネルで設定を行うことにより、レシピが作成され、記憶部９に保存される。レシピには検査領域の情報も含まれる。検査領域を設定する場合、ウェハ条件パネルを用いてウェハサイズやマップレイアウト等のウェハ条件が設定され、ウェハ条件に従ったウェハマップが描画される。ウェハマップは、検査領域の設定対象となる、所定のパターンが形成されたウェハ上の複数のチップの位置関係（ウェハ上の各チップの配列の様子）を表すものである。ウェハマップが描画されたら、ウェハ編集パネルでユーザがウェハマップを編集することにより、検査領域が設定される。
【００２１】
次に、検査領域の設定方法を説明する。図２は、表示部８の画面に表示されるウェハ編集パネルの例を示している。ウェハマップ２０１は図２では簡略化したものとなっているが、実際には数千チップがウェハ上に存在することもある。ウェハマップ２０１上の有効チップの中から、検査領域となるチップまたは領域（複数チップ）を指定することにより、検査領域を設定することができる。あるいは、ウェハマップ２０１上の有効チップの中から、非検査領域となるチップまたは領域（複数チップ）を指定することにより、非検査領域を設定することができる。
【００２２】
保存ボタン２０２は、作成したレシピを保存するためのボタンである。上書保存ボタン２０３は、既に作成したレシピを上書きして最新の状態に更新するためのボタンである。終了ボタン２０４は、ウェハ編集パネル等を閉じてレシピの作成を終了するためのボタンである。
【００２３】
ウェハスキャンボタン２０５は、ウェハの画像の取り込みを開始するためのボタンである。ユーザが操作部７を操作し、ウェハスキャンボタン２０５をクリック等することによって、画像取得部１によるウェハの撮像が開始される。そして、撮像で得られた画像データが画像処理部２によって処理され、ウェハマップ２０１上のチップとウェハ上のチップが一致しているか否か（ウェハマップ２０１上のチップが有効チップであるか否か）が判断される。画像処理部２による処理の結果はウェハマップ２０１に反映される。例えば図２では、ウェハマップ２０１上のチップ２０６ａ，２０６ｂ，２０６ｃ，２０６ｄは、ウェハ上の対応する位置にチップが存在せず、非検査領域の選択対象（検査領域からの削除対象）となっている。
【００２４】
また、メニュー２０７により、ウェハを撮像する際の各種条件を設定することが可能である。例えば、所定のパターンが形成されたウェハ表面の全チップ（あるいはウェハ表面の全体でもよい）を移動および撮像するのか、それともウェハ表面の周縁部（周辺部）のチップのみを移動および撮像するのかを指定することが可能である。また、ウェハのエッジ部分を回転させつつ撮像する場合に、ウェハの外周からどれくらい内側の範囲でウェハを撮像するのかを示す撮像範囲を設定することも可能である。また、ウェハ表面を対称な４つの領域（各領域を第１象限、第２象限、第３象限、第４象限とする）に分割し、第１象限のみを移動および撮像し、その結果を第２象限、第３象限、第４象限にも対称機能により展開する等の設定を行うことも可能である。
【００２５】
ここで、画像取得部１が有するカメラは２次元の撮像素子で構成されており、ウェハを移動させながら、チップ毎に撮像できる位置でステージを停止させて撮像してもよいし、ウェハを移動させながら、予め設定された位置毎に画像を取り込むようにしてもよい。また、２次元の撮像素子の１ラインのみを使用してウェハ上を走査しながら２次元画像を構築するようにしてもよい。この撮像素子の１ラインのみを使用する方法は、ラインの長手方向を径方向とすれば、ウェハを回転させつつエッジ部分を撮像する場合においても有効である。
【００２６】
検査領域または非検査領域を設定するため、編集モードの選択が行われる。縦ボタン２０８は、ウェハマップ２０１上において、ユーザによって指定されたチップを含み、縦（垂直方向）に一列に並んだ複数のチップを検査領域または非検査領域の選択対象として指定するためのボタンである。横ボタン２０９は、ウェハマップ２０１上において、ユーザによって指定されたチップを含み、横（水平方向）に一列に並んだ複数のチップを検査領域または非検査領域の選択対象として指定するためのボタンである。
【００２７】
チップボタン２１０は、検査領域または非検査領域の選択対象として指定するチップを個別に選択するためのボタンである。ユーザが操作部７を操作し、チップボタン２１０をクリック等することによって、ウェハマップ２０１上でクリック等により指定したチップのみを検査領域または非検査領域に設定することができる。
【００２８】
範囲ボタン２１１は、エディットボックス２１２で指定された範囲に含まれるチップを検査領域または非検査領域の選択対象として指定するためのボタンである。ユーザが操作部７を操作し、検査領域または非検査領域に設定する範囲を示す数値として、エディットボックス２１２にａ，ｂ（ａ＜ｂ）を入力すると、ウェハマップ２０１の中心と一致する中心を有する半径ａとｂの円に挟まれた領域に一部または全体が含まれる複数のチップが検査領域または非検査領域の選択対象として指定される。
【００２９】
対称ボタン２１３は、ウェハマップ２０１上の所定位置を基準にして、ユーザによって指定されたチップと対称な位置にあるチップを検査領域または非検査領域の選択対象として指定するためのボタンである。対称性の条件は、チェックボックス２１４で指定される。チェックボックス２１４の「左右」がチェックされると、ウェハマップ２０１の中心を通る垂直線を基準にして、指定されたチップと線対称（左右対称）な位置にあるチップも検査領域または非検査領域の選択対象として指定される。
【００３０】
また、チェックボックス２１４の「上下」がチェックされると、ウェハマップ２０１の中心を通る水平線を基準にして、指定されたチップと線対称（上下対称）な位置にあるチップも検査領域または非検査領域の選択対象として指定される。また、チェックボックス２１４の「中心」がチェックされると、ウェハマップ２０１の中心を基準にして、指定されたチップと点対称（中心対称）な位置にあるチップも検査領域または非検査領域の選択対象として指定される。
【００３１】
検査領域または非検査領域の選択対象となるチップが決定されると、編集操作の選択が行われる。テグボタン２１５は、選択対象となったチップをテスト用のテグダイとして設定するためのボタンである。削除ボタン２１６は、選択対象となっているチップを検査領域から削除（除外）する（非検査領域に設定する）ためのボタンである。追加ボタン２１７は、選択対象となっているチップを検査領域に追加する（検査領域に設定する）ためのボタンである。戻すボタン２１８は、直前の操作を取り消して、その１つ前の操作の直後の状態に画面を戻すためのボタンである。
【００３２】
チェックボックス２１９は、連続操作を行うか否かを設定するためのものである。「連続」がチェックされている場合には、選択された編集モードの条件を満たすチップを連続して検査領域または非検査領域に設定することが可能となる。例えば、チェックボックス２１９の「連続」がチェックされ、縦ボタン２０８がクリック等された場合、ウェハマップ２０１上の複数のチップがクリック等されると、各チップを含み、縦一列に並んだチップからなる各領域が検査領域または非検査領域の選択対象として指定される。また、チェックボックス２１９の「通常」がチェックされている場合には、チップを指定する毎に編集モードの選択を行うことになる。
【００３３】
次に、図３〜図５を参照し、検査領域の設定時の外観検査装置の動作を説明する。まず、制御部６は、前述したウェハ条件パネルの表示に必要な情報を生成し、表示部８へ出力する。表示部８は、その情報に基づいてウェハ条件パネルを表示する。ユーザが、操作部７を操作することによってウェハ条件を入力（設定）すると、制御部６は、操作部７から出力される信号に基づいて、入力（設定）されたウェハ条件を検出する。上記のようにして、ウェハ条件の入力（設定）が行われる（ステップＳ１０１）。
【００３４】
続いて、制御部６は、入力（設定）されたウェハ条件に従ってウェハマップを生成し、ウェハマップの表示に必要な情報を表示部８へ出力する。表示部８は、その情報に基づいてウェハマップを表示する（ステップＳ１０２）。このときに表示されたウェハマップ上のチップがデフォルトの検査領域である。続いて、上記と同様にしてウェハ編集パネルが表示される。ユーザが操作部７を操作し、ウェハスキャンボタン２０５をクリック等することによって、ウェハスキャンが開始され、画像取得部１によるウェハの撮像と、画像処理部２による画像処理とが行われる（ステップＳ１０３）。この詳細は後述する。
【００３５】
制御部６は、画像処理部２から画像処理結果（有効チップに関する判定結果）の情報を受け取り、ウェハマップ上のチップの中に、有効チップでないチップ（実際のウェハ上に存在しないチップ、または回路パターンが形成されているものの、一部が欠けているため、製品として使用できないチップ）があるか否か判断する。有効チップでないチップがあった場合には、制御部６はウェハマップを編集（修正）する。例えば、制御部６は、有効チップでないチップを色付けするようにウェハマップを編集（修正）し、編集（修正）後のウェハマップを表示するための情報を表示部８へ出力する。表示部８は、その情報に基づいてウェハマップを表示する。ウェハマップ上では、有効チップでないと判定されたチップが削除対象のチップとして表示される（ステップＳ１０４）。
【００３６】
図４は、図３のステップＳ１０３の詳細を示している。図示せぬカセットからウェハが取り出され、ステージ部４が備えるステージにウェハが搬送される（ステップＳ２０１）。続いて、顕微鏡部３が備える顕微鏡の倍率や図示せぬ照明の設定が行われる（ステップＳ２０２）。以後の動作は、ウェハの所定のパターンが形成されたウェハ表面の全チップの撮像（全チップ撮像）と、ウェハ表面の周縁部（周辺部）のみの撮像（ウェハ周辺撮像）とで異なる。
【００３７】
予め設定された情報に基づいて、全チップ撮像であるのかウェハ周辺撮像であるのかが判断され（ステップＳ２０３）、全チップ撮像の場合、機構制御部５の指示によりステージ部４がステージを駆動し、ステージが移動する（ステップＳ２０４）。続いて、制御部６は、ステージの移動座標に基づいたウェハ上の観察位置（撮像位置）の座標（絶対座標）とウェハマップ上の座標（チップ座標）との関連付けを行う（ステップＳ２０５）。
【００３８】
続いて、画像取得部１は、顕微鏡を通して入射するウェハ表面の光像を撮像し、画像データを生成して制御部６へ出力する。制御部６はその画像データを画像処理部２へ出力する（ステップＳ２０６）。続いて、画像処理部２による画像処理と有効チップの判定が行われる（ステップＳ２０７）。
【００３９】
図５および図６はこの詳細を示している。図５では画像処理部２は、輝度に関する所定の閾値（例えば、回路パターンが形成された部分と形成されていない部分とを判別できるよう、事前に実験的に求められた閾値）を基準にして画像データを二値化する処理を行う（ステップＳ３０１）。この処理の後の画像データ（輝度データ）は、明るい部分のデータと、暗い部分のデータとから構成されることになる。例えば、明視野照明を行うことにより、パターンが形成されていない部分が明るくなり、パターンが形成されている部分が暗くなる。また、暗視野照明とすれば、パターンが形成されている部分が明るくなり、パターンが形成されていない部分が暗くなる。
【００４０】
画像処理部２は、ウェハマップ上のチップの配列の情報（配列情報）や、ウェハ上の観察位置の座標とウェハマップ上の座標の対応関係の情報（座標情報）を制御部６から受け取り、ウェハマップ上のチップと対応するチップがウェハ上に存在するか否か判定する（ステップＳ３０２）。例えば、二値化された画像データからウェハ上の位置毎にチップの有無に関する第１の情報を生成し、また上記の座標情報に基づいて、画像データの取得位置に対応したウェハマップ上の領域のチップの配列に関する第２の情報を配列情報から抽出し、第１の情報と第２の情報に基づいてチップの有無の判定を行う。
【００４１】
図６は、ステップＳ２０７の処理について、図５と異なる方法を示している。記憶部９には、所定のパターンが形成されたチップの画像データ（例えば、回路パターンを形成するステッパの露光領域が描かれた、ＣＡＤによる設計画像データ等）が参照画像データとして予め格納されており、図６の処理の前に制御部６によって参照画像データが記憶部９から読み出されて画像処理部２へ出力されているものとする。画像処理部２は、図４のステップＳ２０５で生成された画像データと参照画像データとを比較し、ウェハ上の位置毎にチップの有無に関する第１の情報を生成し、また前述した座標情報に基づいて、画像データの取得位置に対応したウェハマップ上の領域のチップの配列に関する第２の情報を配列情報から抽出する（ステップＳ４０１）。続いて、制御部６は、第１の情報と第２の情報に基づいて、ウェハマップ上のチップと対応するチップがウェハ上に存在するか否か判定する（ステップＳ４０２）。
【００４２】
参照画像データは、チップ全体のデータではなく、長方形のチップの四隅のみのデータであってもよい。四隅のデータに含まれるパターンと画像データ中のパターンが一致した場合には、ウェハにチップが存在することになる。ウェハにレジストを塗布した後、ウェハの周縁部のレジストを除去することがあり、そのため、露光を行った後ではチップのパターンの一部が欠けてしまうことがある。このような場合、参照画像データとしてチップ全体のデータを用いなくても、参照画像データとしてチップの四隅のデータだけを用いることによって、一部が欠けているチップを無効チップであると判定することができるようになる。
【００４３】
上述したステップＳ２０４〜Ｓ２０７を繰り返すことによってウェハ上の全てのチップが撮像され、チップの有無の判定が行われる。
【００４４】
図４において、ウェハ周辺撮像を行う場合、機構制御部５の指示によりステージ部４がステージを駆動し、ステージが所定量だけ回転する（ステップＳ２０８）。このときには、画像取得部１によるウェハ周辺の画像の取り込みが可能となるようにステージが予め移動しており、ウェハの位置が固定されている。続いて、制御部６は、ステージの移動座標に基づいたウェハ上の観察位置（撮像位置）の座標（絶対座標）とウェハマップ上の座標（チップ座標）との関連付けを行う（ステップＳ２０９）。
【００４５】
続いて、画像取得部１は、顕微鏡を通して入射するウェハ表面の光像を撮像し、画像データを生成して制御部６へ出力する。制御部６はその画像データを画像処理部２へ出力する（ステップＳ２１０）。また、制御部６は機構制御部５からウェハの回転角度の情報を受け取り、その情報を画像処理部２へ出力する。画像処理部２は、ウェハの回転角度分の補正を画像データに対して行う（ステップＳ２１１）。これによって、ウェハが回転していない状態の画像データが生成される。
【００４６】
続いて、画像処理部２による画像処理と有効チップの判定が行われる（ステップＳ２１２）。この処理はステップＳ２０７の処理と同様である。上記のステップＳ２０８〜Ｓ２１１を繰り返すことによって、周縁部（周辺部）を走査しながらウェハが１回転し、チップの有無の判定が行われる。ウェハ周辺撮像を行う場合にウェハを回転させず、顕微鏡がウェハの周縁部（周辺部）を走査するようにステージをＸＹ平面内で移動させてもよい。この場合には、ウェハの回転による画像データの補正を行う必要はない。
【００４７】
上述した処理によって削除対象となったチップはウェハマップから削除される。すなわち、制御部６は、削除ボタン２１６がクリック等された場合に、削除対象となっているチップをウェハマップから削除する。ウェハマップの編集が終了すると、ウェハマップ上のチップが検査領域に設定される。検査の開始後、ステージが移動し、検査領域として設定されたウェハ上の領域が顕微鏡により観察されて、検査が行われる。
【００４８】
上述したように、本実施形態によれば、ウェハを撮像して得た画像データが処理され、ウェハマップ上の領域（チップ）と対応するウェハ上の領域（チップ）が存在するか否かが判断され、この判断結果に基づいてウェハマップが編集される。これによって、ウェハマップを効率よく編集することができる。
【００４９】
また、本実施形態によれば、ウェハマップの作成および編集に要する時間の短縮により、レシピの作成時間を短縮することができる。外観検査装置でレシピの作成が行われる場合、レシピを作成しながら別のレシピで検査を行うことはできないため、レシピの作成時間は検査時間に影響を与えることになる。上記のようにレシピの作成時間を短縮することができるため、検査時間を短縮することができる。
【００５０】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、外観検査装置がマクロ検査部とミクロ検査部からなる場合は、マクロ検査部に画像取得部を設けてもよい。また、上記の外観検査装置と異なる他の装置（例えば自動マクロ検査装置等）における検査対象物の撮像により生成された画像データを用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態による外観検査装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の一実施形態におけるウェハ編集パネルの表示例を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態による外観検査装置の検査領域設定時の動作の手順を示すフローチャートである。
【図４】本発明の一実施形態による外観検査装置の検査領域設定時の動作の手順を示すフローチャートである。
【図５】本発明の一実施形態による外観検査装置の検査領域設定時の動作の手順を示すフローチャートである。
【図６】本発明の一実施形態による外観検査装置の検査領域設定時の動作の手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００５２】
１・・・画像取得部、２・・・画像処理部（画像処理手段）、３・・・顕微鏡部、４・・・ステージ部、５・・・機構制御部、６・・・制御部（マップ生成手段、マップ編集手段）、７・・・操作部、８・・・表示部（表示手段）、９・・・記憶部
【図１】
2007304036.tif 000003
【図２】
2007304036.tif 000004
【図３】
2007304036.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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