(57)【要約】      （修正有）【課題】コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】形成すべき凸レンズ２１に対応する凹部７１を有する凹部付き部材７の凹部７１が設けられた側の面において、隣接する凹部７１と凹部７１との間に、所定の大きさ以上の平坦部７９が存在するか否かを検査し、平坦部７９が存在する場合には該平坦部７９に遮光性材料４を付与する工程と、凹部付き部材７上に流動性を有する組成物２３を付与する工程と、組成物２３を固化させ基板本体２を得る工程と、基板本体２のレンズ面とは反対の面側に、遮光膜３を形成するための遮光膜形成用材料３２を付与する工程と、基板本体２を介して遮光膜形成用材料３２に光を照射する処理を施し、開口部３１を有する遮光部３を形成する工程とを有する。【選択図】図６
2007133110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に存在する凸部のうち、所定以上の高さを有する凸部の頂部に、遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記遮光性材料が付与される前記凸部の頂部は、レンズ部として機能しない平坦部である請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に、所定の大きさ以上の平坦部が存在するか否かを検査し、前記平坦部が存在する場合には該平坦部に遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記遮光性材料付与工程において、ローラー塗布により前記遮光性材料を付与する請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記遮光性材料付与工程において、前記遮光性材料を０．８〜１．２μｍの厚みで付与する請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記固化工程よりも後に、前記基板本体から前記凹部付き部材を除去する凹部付き部材除去工程を有する請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記凹部付き部材除去工程を、前記開口部形成工程の後に有する請求項６に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
形成すべき前記凸レンズが球面を有するものであり、前記レンズ基板の隣接する前記凸レンズ同士の頂部間の距離は、形成すべき前記凸レンズの曲率半径に２を乗じた値より小さいものである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記レンズ基板は、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板である請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に、離型処理が施されている請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項１２】
多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板であって、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面において、隣接する凸レンズと凸レンズとの間に、所定の大きさ以上の平坦部を有し、
前記平坦部上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部が選択的に設けられていることを特徴とするレンズ基板。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１４】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項１１または１２に記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ（レンズ部）を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板（レンズシート）でにおいて、画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ部が設けられた側とは反対側に遮光性層が設けられている。
【０００３】
このようなレンズ基板（レンズシート）の製造においては、一般的に、レンズ部での集光を利用して、開口部（光透過性部分）を有する遮光性層が形成されている（例えば、特許文献１参照）。このような方法で、遮光性層を形成することにより、レンズ部の焦点に対応する部位に開口部（光透過性部分）を形成することができるため、コントラストの向上を図る上で有利である。
【０００４】
ところで、このようなレンズ基板を製造する際、一般に、レンズ部に対応する凹部を有する成形型が用いられるが、成形型の不良等により、形成されるレンズ基板に、形成されるべきレンズが形成されていない領域が存在したり、他のレンズと比べて小さいレンズが形成される場合等がある。このようなレンズ部の不良が存在すると、上記のような遮光性層の形成方法を適用した場合に、遮光性層の、レンズ部が設けられていない部位（平坦部）に対応する部位に、開口部が形成されてしまう。このような開口部が形成されると、透過型スクリーン等において、レンズ部により屈折しない光が、直進光として観察者側に出射してしまう。このような直進光は、スクリーン上において、輝点（白点）として認識され、表示される画像に著しい悪影響を与える。
成形型として、レンズ部に対応する凹部を欠陥のないものを用いることにより、上記のような問題は、防止、抑制することができるが、このうような欠陥のない成形型を製造することは、困難である。
【０００５】
一方、近年のディスプレイ、スクリーンの大型化等に伴い、大型のレンズ基板が求められているが、このような大型のレンズ基板の製造に用いる成形型において、上記のような不良の発生を防止するのは、極めて困難であった。また、大型のレンズ基板製造用の成形型において、上記のような欠陥のないものを製造しようとした場合、その歩留りは、非常に悪く、レンズ基板の生産性、製造コストに大きな影響を与えてしまう。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３６１８７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に存在する凸部のうち、所定以上の高さを有する凸部の頂部に、遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料が付与される前記凸部の頂部は、レンズ部として機能しない平坦部であることが好ましい。
これにより、表示される画像における輝点の発生をより効果的に防止することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面において、隣接する凹部と凹部との間に、所定の大きさ以上の平坦部が存在するか否かを検査し、前記平坦部が存在する場合には該平坦部に遮光性材料を付与する遮光性材料付与工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料付与工程において、ローラー塗布により前記遮光性材料を付与することが好ましい。
これにより、容易かつ確実に、所望の部位に選択的に遮光性材料を付与することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記遮光性材料付与工程において、前記遮光性材料を０．８〜１．２μｍの厚みで付与することが好ましい。
これにより、遮光性材料付与工程において遮光性材料が付与された部位における遮光性を特に優れたものとしつつ、基板本体と、遮光性材料で構成された遮光部（レンズ面側遮光部）との密着性を十分に優れたものとすることができ、例えば、凹部付き部材を基板本体から取り外す際に、不本意に遮光部が剥離すること等を、効果的に防止することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記固化工程よりも後に、前記基板本体から前記凹部付き部材を除去する凹部付き部材除去工程を有することが好ましい。
これにより、凹部付き部材をレンズ基板の製造に繰り返し利用することができ、レンズ基板の生産性が向上する。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材除去工程を、前記開口部形成工程の後に有することが好ましい。
これにより、比較的大きな開口部をより確実に形成することができ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法では、形成すべき前記凸レンズが球面を有するものであり、前記レンズ基板の隣接する前記凸レンズ同士の頂部間の距離は、形成すべき前記凸レンズの曲率半径に２を乗じた値より小さいものであることが好ましい。
これにより、遮光性材料付与工程において、凹部付き部材の遮光性材料を付与すべき部位に対して、より選択的に、遮光性材料を付与することができる。また、レンズ基板の光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズ基板は、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向（例えば、縦方向および横方向）での視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板の製造においては、レンズ部の不良を生じ易く、これにより、表示される画像において直進光による輝点等が特に発生し易かったが、本発明によれば、マイクロレンズ基板においても、輝点の発生を十分に防止することができる。したがって、マイクロレンズ基板の製造に本発明を適用することにより、その効果はより顕著に発揮される。
【００１４】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に、離型処理が施されていることが好ましい。
これにより、凹部付き部材に付与された遮光性材料（レンズ面側遮光部）を凹部付き部材から基板本体側へと、より確実に転写することができる。
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供することができる。
【００１５】
本発明のレンズ基板は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板であって、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面において、隣接する凸レンズと凸レンズとの間に、所定の大きさ以上の平坦部を有し、
前記平坦部上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部が選択的に設けられていることを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供することができる。
【００１６】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
【００１８】
まず、本発明のレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のレンズ基板（凸レンズ基板）および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１９】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）２１を備えた基板本体２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光膜）３と、基板本体２のマイクロレンズ（凸レンズ）２１が設けられた面側に設けられたレンズ面側遮光部４と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部５とを備えている。
【００２０】
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性、レンズ面側遮光部４との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００２１】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４〜１．５８であるのが好ましく、１．５〜１．５６であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２２】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２３】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２４】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２５】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２６】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２７】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は球面を有するものであり、隣接するマイクロレンズ２１同士の頂部間の距離（ピッチ）は、マイクロレンズ２１の曲率半径に２を乗じた値より小さいものであるのが好ましい。これにより、後述するようなマイクロレンズ基板（レンズ基板）１の製造方法において、レンズ面側遮光部４を目的とする部位により選択的に形成することができ、表示される画像をより好適なものとすることができる。また、マイクロレンズ基板１の光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【００２８】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２９】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向（マイクロレンズ２１の短軸方向）に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３０】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
【００３１】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９５〜１１５％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３２】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３３】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、ブラックマトリックス（遮光膜）３に設けられた開口部（非遮光部）３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部６からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３４】
そして、マイクロレンズ基板１では、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面（レンズ面）側において、隣接するマイクロレンズ２１とマイクロレンズ２１との間に、所定の大きさ以上の平坦部２８が存在する場合、この平坦部２８上に、遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部４が選択的に設けられている。
このようなレンズ面側遮光部４が設けられていることにより、基板本体２の平坦部２８に対応する部位に入射した光が、直進光として、マイクロレンズ基板１の出射側から出射するのを防止することができる。その結果、表示される画像に輝点（白点）が現れるのを効果的に防止することができる。また、このようなレンズ面側遮光部４を有することにより、ブラックマトリックス３を後述するようなマイクロレンズ２１による集光を利用して形成する場合において、マイクロレンズ２１の集光部以外に開口部３１が形成されてしまうのを防止することができる。
【００３５】
なお、本発明において、「平坦部」とは、レンズ部として機能する凹凸が設けられていない部位（後述する凹部付き部材においては、これに対応する部位）のことを指し、例えば、微小な凹凸（例えば、表面粗さＲａが５μｍ程度以下の凹凸）が存在するような部位も平坦部に含まれる。また、本発明において、「所定の大きさ以上の平坦部」とは、レンズ面側遮光部４が設けられていない場合に、輝点の発生等、表示される画像に、視認される程度の悪影響を及ぼす大きさ以上の平坦部のことを指し、例えば、幅（長さ）が５μｍ以上の平坦部のことを言う。また、一般に、上記のような問題の発生は、平坦部の幅（長さ）が８μｍ以上の場合に特に顕著となる。
【００３６】
レンズ面側遮光部４の厚さは、特に限定されないが、０．５〜５μｍであるのが好ましく、０．８〜１．５μｍであるのがより好ましい。レンズ面側遮光部４の厚さが前記範囲内の値であると、レンズ面側遮光部４による遮光性を十分に優れたものとすることができる。これにより、直進光による輝点の発生等をより確実に防止することができる。また、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、レンズ面側遮光部４の厚さが前記下限値未満であると、十分な遮光性が得られない可能性がある。一方、レンズ面側遮光部４の厚さが前記上限値を超えると、基板本体２とレンズ面側遮光部４との密着性が低下し、マイクロレンズ基板１の耐久性、信頼性が低下する可能性がある。
【００３７】
レンズ面側遮光部４は、遮光性を有するものであればよいが、その色は、黒色であるのが好ましい。これにより、レンズ面側遮光部４による遮光性は特に優れたものとなり、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したようなレンズ面側遮光部４を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３８】
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部３１は、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。なお、本発明において、「開口部」とは、遮光性を有する遮光膜において、光が透過することができる部位を指し、実質的に着色されていない材料（光透過性を有する材料）で充填されているような部位等も含む概念である。
【００３９】
ブラックマトリックス３は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、レンズに対応しない部位に開口部が形成されるのが防止されている。これにより、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜８０μｍであるのが好ましく、１５〜６０μｍであるのがより好ましく、２０〜５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００４０】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．６〜５μｍであるのがより好ましく、０．８〜１．５μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４１】
また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、６０〜９７％であるのが好ましく、７０〜９５％であるのがより好ましく、７５〜９０％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【００４２】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部５が設けられている。拡散部５は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部５を有することにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散部５を有することにより、光を乱反射させることができるため、表示される画像における輝点の発生をさらに効果的に防止することができる。また、拡散部５は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部５に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、光の利用効率が低下するのを効果的に防止しつつ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部５は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００４３】
また、拡散部５の厚さは、特に限定されないが、０．５〜１０ｍｍであるのが好ましく、０．７〜５ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部５の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部５の厚さが前記下限値未満であると、拡散部５を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部５の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００４４】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部６と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部６は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部６を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部６は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ６１を有している。このフレネルレンズ部６は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４５】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部６によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が形成された面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４６】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図、図６および図７は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図、図８は、マイクロレンズ基板の製造において用いる検査装置を示す模式図、図９は、マイクロレンズによる光の屈折と、基板本体から出射する光の光度分布とを説明するための図、図１０は、凹部付き部材の製造において用いる検査修繕装置を示す模式図である。なお、以下の説明では、図５、図６、図７および図９中の下側を「（光の）入射側」、図５、図６、図７および図９中の上側を「（光の）出射側」と言う。
【００４７】
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
【００４８】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）７は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材７の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材７の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材７が有する凹部７１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部７１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。また、上記のようなガラス材料は、高い透明性を有するとともに、好適な屈折率を有するため、後に詳述するように、基板本体２に凹部付き部材７を取り付けた状態で、好適に開口部形成工程を行うことができる。これにより、好適な大きさの開口部３１を容易かつ確実に形成することができる。
【００４９】
凹部付き部材７は、各種気体（例えば、空気、各種不活性ガス等）よりも大きな屈折率（絶対屈折率）を有し、かつ、基材本体２の構成材料（固化した状態の構成材料）よりも小さい屈折率（絶対屈折率）を有する材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、後に詳述するような方法において、最適な光度分布の光をフォトポリマー３２に照射することができ、これにより、最適な大きさの開口部３１を、より効率良く形成することができる。
【００５０】
凹部付き部材７の構成材料の絶対屈折率は、特に限定されないが、１．２〜１．８であるのが好ましく、１．３５〜１．６５であるのがより好ましい。凹部付き部材７の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、前述したような効果がさらに顕著なものとして発揮される。
また、基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）の絶対屈折率をｎ１、凹部付き部材７の構成材料の絶対屈折率をｎ２としたとき、０．０１＜ｎ１−ｎ２＜０．８の関係を満足するのが好ましく、０．０２＜ｎ１−ｎ２＜０．４の関係を満足するのが好ましく、０．０３＜ｎ１−ｎ２＜０．２５の関係を満足するのが好ましい。このような関係を満足することにより、後に詳述するように、最適な光度分布の光をフォトポリマー３２に照射することができ、これにより、最適な大きさの開口部３１を、より効率良く形成することができる。
【００５１】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）７は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）７１を備えている。そして、これらの凹部７１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００５２】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）７１は、凹部付き部材７を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部７１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００５３】
また、平面視したときの凹部７１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００５４】
また、平面視したときの凹部７１の短軸方向の長さは、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部７１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部７１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材７）の生産性をさらに高めることができる。
【００５５】
また、平面視したときの凹部７１の長軸方向の長さは、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部７１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部７１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材７）の生産性をさらに高めることができる。
【００５６】
また、凹部７１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。凹部７１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部７１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００５７】
また、凹部７１の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、３０〜１８０μｍであるのがより好ましく、７０〜１２０μｍであるのがさらに好ましい。凹部７１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部７１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部７１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５８】
また、上記のように、凹部７１は、凹部付き部材７を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部７１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向（凹部７１の短軸方向）に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５９】
また、凹部付き部材７は、凹部７１が設けられた面側に、離型処理により形成された離型処理部が設けられていてもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２を凹部付き部材７から取り外す際に、凹部付き部材７に付与されたレンズ面側遮光部４を凹部付き部材７から基板本体２側へとより確実に転写することができる。また、離型処理部が設けられていると、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、レンズ面側遮光部４が設けられた基板本体２から、凹部付き部材７を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。
【００６０】
なお、上記の説明では、凹部７１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部７１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００６１】
＜Ａ１＞まず、凹部付き部材７を製造するに際し、基板７０を用意する（図５（ａ）参照）。
この基板７０は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７０は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
また、基板７０は、例えば、凹部７１が形成される側の表面付近に、着色が施されたものであってもよい。これにより、製造される凹部付き部材７において、平坦部７９（エッチングされていない部位）を容易に識別することができる。その結果、後に詳述する凹部付き部材７を用いたマイクロレンズ基板１の製造方法において、平坦部７９に対して、効率良くかつ選択的に遮光性材料を付与することができ、マイクロレンズ基板１の生産性が向上する。
【００６２】
＜Ａ２＞用意した基板７０の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７０の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ｂ）、図５（ｃ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ｂ）に示すように、用意した基板７０の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７０の表面にマスク形成用膜８０を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｃ）に示すように、マスク形成用膜８０に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜８０および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００６３】
マスク形成用膜８０は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８０（マスク８）は、エッチングレートが、基板７０と略等しいか、または、基板７０に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００６４】
かかる観点からは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８０（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００６５】
上記のように、マスク形成用膜８０（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８０は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８０を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７０をより確実に保護することができる）。また、基板７０がガラス材料で構成されたものであり、かつマスク形成用膜８０（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７０との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部７１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６６】
マスク形成用膜８０の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８０（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８０（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６７】
マスク形成用膜８０（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７０のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８０（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８０（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６８】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７０の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７０の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８０（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８０の形成と同時に、マスク形成用膜８０と同様に設けることができる。
【００６９】
＜Ａ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、マスク形成用膜８０に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部７１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００７０】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００７１】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部７１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部７１を確実に形成することができる。
【００７２】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部７１をより確実に形成することができる。
【００７３】
＜Ａ４＞次に、図５（ｄ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７０にエッチングを施し、基板７０上に多数の凹部７１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７４】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７０に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｄ）に示すように、基板７０は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板７０上に多数の凹部７１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部７１は、基板７０の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部７１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７０をより選択的に食刻することができ、凹部７１を好適に形成することができる。
【００７５】
マスク８（マスク形成用膜８０）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材７を提供することができる。
【００７６】
＜Ａ５＞次に、図５（ｅ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
【００７７】
以上のようにして、図４に示すように、基板７０上に多数の凹部７１が千鳥状に形成された凹部付き部材７が得られる。
基板７０上に千鳥状に配された複数個の凹部７１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７０上に凹部７１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００７８】
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材７を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
【００７９】
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
なお、凹部付き部材７に対しては、例えば、前述したような離型処理部を形成する目的で、離型処理を施してもよい。離型処理としては、例えば、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００８０】
ところで、上記のようにして得られる凹部付き部材７は、多数個の凹部７１を有するものであるため、凹部７１を形成すべき部位に、目的とする凹部が形成されていない場合がある。すなわち、凹部７１が設けられるべき部位に凹部７１が設けられていなかったり、形成すべき凹部７１よりも小さい凹部７１’が形成されている場合がある。このような場合、上記のような部位またはその周囲に、所定の大きさ以上の平坦部７９が存在する。そして、このような平坦部７９が存在すると、凹部付き部材７を用いて製造される基板本体２は、対応する部位に平坦部２８を有するものとなる。マイクロレンズ基板（レンズ基板）１が、上記のような平坦部２８を有する基板本体２を備えたものである場合、光の入射側（基板本体２のマイクロレンズ（凸レンズ）２１が設けられた面側）から、光（入射光）が平坦部２８に入射した場合、平坦部２８においては、レンズ部のような集光機能がないため、入射光は直進光として出射し、観察者面側（透過型スクリーン１０上）において、輝点として認識され、表示される画像に著しい悪影響を及ぼす。上記のような不良は、例えば、凹部付き部材の製造時において、マスク形成用膜の初期孔を形成すべき部位に初期孔を確実に形成することができなかったり、エッチングの際等に、マスクの初期孔近傍に汚れが付着した場合等に発生する。マスクの形成条件、エッチング条件を最適化することにより、上記のような不良の発生の抑制を試みることはできるが、大型のレンズ基板（例えば、対角線長が１００ｃｍ以上のレンズ基板）の製造に用いる凹部付き部材においては、上記のような不良の発生を完全に防止することは極めて困難である。
【００８１】
そこで、本発明では、凹部付き部材に上記のような不良が存在する場合に、該当する部位に遮光性材料を付与することにより、最終的なレンズ基板において、基板本体のレンズ面側の対応する部位に遮光性材料で構成されたレンズ面側遮光部を設け、上記のような問題を解決することできることを見出した点に特徴を有する。
また、「所定の大きさ以上の平坦部」が形成される原因としては、上述したような製造時の不良に基づくもののほか、レンズ基板の光学特性の向上等を目的として、積極的に平坦な部位を設ける場合や、より小さなレンズを形成するような場合等が挙げられる。
以下、上記のような凹部付き部材７を用いたマイクロレンズ基板（レンズ基板）１の製造方法について説明する。
【００８２】
＜Ｂ１＞まず、凹部付き部材７の用意し（凹部付き部材準備工程。図６（ａ）参照）、凹部付き部材７の凹部７１が形成された側の面において、所定の大きさ以上の平坦部７９が存在するか否かを検査し、検出された平坦部７９に対しては、遮光性材料を付与し、レンズ面側遮光部４を形成する（遮光性材料付与工程。図６（ｂ）参照）。
平坦部７９の存在を検査する方法（平坦部７９を検出する方法）としては、種々の方法を用いることができ、特に限定されるものではないが、例えば、以下に示すような方法を適用することができる。
【００８３】
すなわち、凹部付き部材７の表面のパターニング（凹凸形状）をカメラ等で直接観察することにより、平坦部７９の有無を検査することができる。
また、平坦部７９の部分とそれ以外の部分とでは、凹部の深さが異なったり、高さが異なるため、段差測定をすることによって平坦部７９を検出することができる。
また、前述したように、凹部付き部材７が、表面付近に着色が施された部位（着色部）を有するものである場合、平坦部７９を、容易かつ確実に識別することができる。
【００８４】
また、平坦部７９の部分とそれ以外の部分とでは、透過する光量も異なるため、凹部付き部材７の裏面から光を投射して、その透過光を検出し、光量の違い（例えば、輝点（白点）の有無（投射光の散乱の有無に同じ）を検出することによって平坦部７９の有無を検査することができる。
上記のような方法を採用する場合、例えば、図８に示すような検査装置を好適に用いることができる。
【００８５】
図８に示す検査装置１２０は、凹部付き部材７の主面に対して平行に設置された移動ステージ１２２と、移動ステージ１２２に移動自在に載置または懸架されたＣＣＤカメラ１２１とを備えている。また、凹部付き部材７を透過する光量を測定することにより平坦部７９を検出する場合、検査装置１２０は、ＣＣＤカメラ１２１が設置された側とは反対の面側から、凹部付き部材７に平行光を照射する光照射手段（図示せず）を有している。
【００８６】
この検査装置１２０においては、ＣＣＤカメラ１２１でもって凹部付き部材７の全面（凹部が形成されている有効領域）を走査する。そして、走査により得られた検査信号を画像処理装置１２３に入力し、画像処理して平坦部７９を検出する。そして、検出された場合には、その位置情報を、図示しない記憶手段で記憶する。
そして平坦部７９が検出されたら、該箇所に遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部４を形成する。遮光性材料の付与は、ＣＣＤカメラ１２１による走査で得られた位置情報に基づいて行うことができる。
【００８７】
遮光性材料の付与（凹部付き部材７へのレンズ面側遮光部４の形成）は、特に限定されず、ローラー塗布、インクジェット法等が挙げられる。ローラー塗布で遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部４を効率良く形成することができる。また、一般に、平坦部７９の部分とそれ以外の部分とでは深さ（高さ）が異なり、平坦部７９の部分はそれ以外の部分と比べて突出していることが多いので、ローラー塗布によれば突出した部分の頂部の平坦部７９（所定以上の高さを有する凸部の頂部としての平坦部７９）に選択的に、容易かつ確実に遮光性材料を付与することができる。したがって、検査装置１２０により得られる平坦部７９の位置情報の精度が比較的低いものであっても、平坦部７９に対して選択的に遮光性材料を付与することができる。また、平坦部７９を検出する処理を簡略化または省略しても、上記のように平坦部７９に対して選択的に遮光性材料を付与することができる。また、インクジェット法を採用した場合、平坦部７９が比較的小さいものであっても、好適に目的とする部位に選択的に遮光性材料を付与することができる。また、インクジェット法を採用した場合、用いる遮光性材料の体積に対する表面積の割合が高くなるため、付与する遮光性材料中に占める溶媒（ただし、分散媒等を含む）の含有率が比較的高い場合であっても、遮光性材料の液滴の吐出から着弾後間もなくの間に、溶媒の大部分が除去される。したがって、溶媒の含有率が比較的高い遮光性材料を用いた場合であっても、レンズ面側遮光部４を効率良く形成することができる。また、上記のように溶媒の大部分が比較的短時間で除去されるため、比較的短時間に、同じ部位に遮光性材料を繰り返し付与した場合であっても、形成されるレンズ面側遮光部４に変形が生じ難い。このため、形成すべきレンズ面側遮光部４が比較的厚いものであっても、容易かつ確実に、比較的短時間で、レンズ面側遮光部４を形成することができる。
【００８８】
平坦部７９に付与される遮光性材料の厚みは、０．０１〜５μｍであるのが好ましく、０．０１〜２μｍであるのがより好ましい。遮光性材料の厚みを前記範囲内の値とすることにより、最終的なマイクロレンズ基板１において、レンズ面側遮光部４は、基板本体２との密着性を十分に高いものとしつつ、特に優れた遮光性を発揮することができる。
遮光性材料は、最終的なマイクロレンズ基板１においてレンズ面側遮光部４を構成する際に、遮光性を発揮し得るものであれば、いかなるものであってもよいが、通常、各種染料、各種顔料等の着色剤を含むものである。
【００８９】
また、遮光性材料は、溶剤（ただし、溶媒、分散媒等を含む）や、バインダー樹脂等を含むものであってもよい。これにより、遮光性材料の取扱い性（取扱い易さ）が向上し、遮光性材料付与工程を効率良く行うことができる。
溶剤としては、例えば、水あるいは種々の有機溶剤を適用することが可能である。有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、メトキシメチルプロピオネート、エトキシエチルプロピオネート、エチルラクテート、エチルピルビネート、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、キシレン、トルエン、ブチルアセテート等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９０】
また、バインダー樹脂としては、例えば、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、クロロポリスチレン、スチレン−クロロスチレン共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−塩化ビニル共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−ビニルメチルエーテル共重合体等のスチレン系樹脂でスチレンまたはスチレン置換体を含む単重合体または共重合体、ポリエステル系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、フェニール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ケトン樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合体、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、テルペン樹脂、フェノール樹脂、脂肪族または脂環族炭化水素樹脂等が挙げられ、これらのうち１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９１】
また、遮光性材料は、例えば、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマー、水溶性樹脂、フッ素系界面活性剤、防腐剤、防黴剤、防錆剤、溶解助剤、酸化防止剤等を含むものであってもよい。
防腐剤、防黴剤としては、例えば、安息香酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウム、２−ピリジンチオール−１−オキサイドナトリウム、ソルビン酸ナトリウム、デヒドロ酢酸ナトリウム、１，２−ジベンジソチアゾリン−３−オン（ＡＶＥＣＩＡ製 プロキセルＣＲＬ、プロキセルＢＤＮ、プロキセルＧＸＬ、プロキセルＸＬ−２、プロキセルＴＮ（商品名））等が挙げられる。
【００９２】
溶解助剤、酸化防止剤としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなどの金属水酸化物、水酸化アンモニウム、四級アンモニウム水酸化物（テトラメチルアンモニウム等）等のアンモニウム塩、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩類その他燐酸塩類など、あるいは尿素、チオ尿素、テトラメチル尿素などの尿素類、アロハネート、メチルアロハネート等のアロハネート類、ビウレット、ジメチルビウレット、テトラメチルビウレットなどのビウレット類等が挙げられる。
【００９３】
レンズ面側遮光部４は、遮光性を有するものであればよいが、その色は、黒色であるのが好ましい。これにより、レンズ面側遮光部４による遮光性は特に優れたものとなり、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
遮光性材料中における着色剤（染料、顔料）の含有率は、０．５〜２０重量％であるのが好ましく、１．０〜１５重量％であるのがさらに好ましい。遮光性材料中における着色剤の含有率が前記範囲内の値であると、十分な遮光性を有するレンズ面側遮光部４を形成することができるとともに、遮光性材料の粘度、表面張力等を容易に好適なものとすることができ、遮光性材料の取扱い性が向上し、遮光性材料付与工程を効率良く行うことができる。
【００９４】
なお、遮光性材料の付与は、必要に応じて（例えば、遮光性材料を付与すべき面積が比較的大きい場合や、形成すべきレンズ面側遮光部４の厚さが比較的厚い場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、遮光性材料の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、例えば、レンズ面側遮光部４の形状の安定性が向上し、後述する工程（転写工程）において、より確実に、レンズ面側遮光部４を基板本体２に転写することができるとともに、最終的なマイクロレンズ基板１におけるレンズ面側遮光部４の形状をより好適なものとすることができる。
【００９５】
＜Ｂ２＞次に、図６（ｃ）に示すように、凹部付き部材７の凹部７１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し（組成物付与工程）、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００９６】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００９７】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材７と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材７と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材７の凹部７１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材７上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００９８】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００９９】
＜Ｂ３＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、凹部７１に対応するマイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｄ）参照）。本実施形態では、基板本体２は、組成物２３の固化物と基材フィルム２４との接合体として得られる。また、得られる基板本体２は、平坦部２８の表面においてレンズ面側遮光部４と接触している。
【０１００】
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【０１０１】
＜Ｂ４＞次に、形成された基板本体２から、平板１１を取り除く（押圧部材除去工程。図６（ｅ）参照）。このとき、凹部付き部材７は除去せず、基板本体２と密着させておく。取り外された平板１１は、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高める上で有利である。
【０１０２】
＜Ｂ５＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、遮光膜の形成を、基板本体に遮光膜形成用材料を付与する工程（遮光膜形成用材料付与工程）と、当該遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、開口部を形成する工程（開口部形成工程）とを経て行う。遮光膜形成用材料としては、開口部を形成しうるものであればいかなるものであってもよいが、感光性を有する成分を含むものであるのが好ましい。これにより、容易かつ確実に好適な形状の開口部を形成することができる。以下の説明では、主に、遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマー３２を用いるものとして説明する。
【０１０３】
まず、図７（ｆ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー（遮光膜形成用材料）３２を付与する（遮光膜形成用材料付与工程）。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【０１０４】
＜Ｂ６＞次に、凹部付き部材７を介して、基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２のみが感光する。
【０１０５】
基板本体２に照射する光（露光用光）Ｌｂは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３１の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
【０１０６】
ここで、平坦部（隣接する凹部７１と凹部７１との間の平坦部７９、隣接するマイクロレンズ２１とマイクロレンズ２１との間の平坦部２８）上には、レンズ面側遮光部４が設けられている。このため、平坦部（平坦部７９、平坦部２８）に対応する部位に入射した光は、レンズ面側遮光部４によって遮られ、平坦部（平坦部７９、平坦部２８）に対応する部位の遮光膜形成用材料（フォトポリマー）３２が露光してしまうのを効果的に防止することができる。したがって、マイクロレンズ２１の集光部を選択的に露光し、それ以外の部位が露光してしまうのを効果的に防止することができる。その結果、マイクロレンズ２１の集光部を選択的に開口部３１を形成し、それ以外の部位に開口部３１が形成されてしまうのを効果的に防止することができる。
【０１０７】
そして、本実施形態では、基板本体２への光の照射を、凹部付き部材７を介して行う。そして、本実施形態においては、凹部付き部材７が、各種気体（例えば、空気、各種不活性ガス等）よりも大きな屈折率（絶対屈折率）を有し、かつ、基材本体２の構成材料（固化した状態の構成材料）よりも小さな屈折率（絶対屈折率）を有する材料で構成されたものである。これにより、図９に示すように、凹部付き部材７を取り除いた状態で光を照射した場合に比べて、より広い領域に十分な光度（光束）の光（露光に必要な光度Ｚ０よりも光度の大きな光）を照射することができる。また、凹部付き部材７を基板本体２に取り付けた状態で、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）３２を露光する処理を行うことにより、凹部付き部材７を取り外した状態で露光処理を行った場合に比べて、屈折した光が照射される領域における、光度（光束）のばらつき（最高値と最低値との差）を小さくすることができる。このため、光のエネルギーを遮光膜形成用材料（フォトポリマー）３２の露光に効率良く利用することができ、エネルギーの有効利用ができる。このようなことから、最適な大きさ（十分な大きさ）の開口部３１を有するブラックマトリックス３、最適な開口率を有するブラックマトリックス３を、より効率良く形成することができる。また、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）の開口部（非遮光部）となるべき部位に、光度（光束）のばらつき（最高値と最低値との差）の小さい光を照射することができるため、部分的に必要以上に光度（光束）の大きい光を照射することを効果的に防止することができる。これにより、基板本体２の構成材料の劣化等の問題の発生を効果的に防止することができる。また、本実施形態では、後の工程で凹部付き部材を取り外すため、最終的なマイクロレンズ基板１において、光の屈折率を大きくすることができ、その結果、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、上記のように、凹部付き部材７を取り付けた状態で、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）３２を露光する処理を行うことにより、例えば、基板本体２の厚さは比較的薄い場合等においても、ブラックマトリックス３形成時における基板本体２の形状の安定性を優れたものとすることができる。これにより、所望の部位に所望の大きさの開口部３１を有するブラックマトリックス３をより確実に形成することができ、結果として、最終的に得られるマイクロレンズ基板１の光学特性を特に優れたものとすることができる。
【０１０８】
上記のような方法等により光Ｌｂを照射した後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、露光された部位（集光された光が照射された部位）のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図７（ｇ）に示すように、開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される（開口部形成工程）。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【０１０９】
上記のように、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた光（露光用光）を照射しブラックマトリックス（開口部を有する遮光膜）を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
【０１１０】
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
また、上記の説明では、（＜Ｂ５＞、＜Ｂ６＞において、）遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマーを用いて遮光膜（ブラックマトリックス３）を形成するものとして説明したが、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料（反転現像材料）を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部（遮光領域）とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光（エネルギー線）を照射することにより、レンズ部により集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有する遮光膜としてもよい。すなわち、上記の説明では、開口部形成工程において、露光処理と現像処理とを行うものとして説明したが、開口部形成工程は、このような複数の処理を行うものでなくてもよい。
【０１１１】
また、上記のような遮光膜形成用材料の付与、光の照射（露光）等の一連の処理を、繰り返し行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
また、上記の説明では、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、直接、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）を付与するものとして説明したが、遮光膜形成用材料は、基板本体２の表面に直接付与されるものでなくてもよい。例えば、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、露光後に、十分な遮光性を発揮しない感光性材料の付与、現像等の一連の処理を行った後に、上記のような遮光膜形成用材料を用いた処理を行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができる。
【０１１２】
＜Ｂ７＞次に、図７（ｈ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部５を形成する（拡散部形成工程）。
拡散部５は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
【０１１３】
＜Ｂ８＞次に、図７（ｉ）に示すように、凹部付き部材７を、ブラックマトリックス３が形成された基板本体２から取り外す（凹部付き部材除去工程（転写工程））。
凹部付き部材７を取り外すことにより、凹部付き部材７上に設けられたレンズ面側遮光部４は、基板本体２側に転写される（転写工程）。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
【０１１４】
また、凹部付き部材７を取り外すことにより、最終的なマイクロレンズ基板１において、入射光Ｌａを効率良く屈折させることができ、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、取り外された凹部付き部材７を、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高める上でも有利である。
【０１１５】
また、転写工程の後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、雰囲気の加圧、減圧、光の照射等の処理を施してもよい。これにより、例えば、基板本体２へのレンズ面側遮光部４の定着（安定化）を促進することができる。また、基板本体２に設けられたレンズ面側遮光部４の形を整えることができる。
上記の説明では、エッチングにより凹部が形成された基板を、凹部付き部材として用いるものとして説明したが、前述したように、凹部付き部材の不良は、通常、エッチング時において発生し易い。したがって、エッチング後に、凹部が設けられた部材（凹部付き部材）に、修繕を施してもよい。このような修繕の具体的な方法としては、例えば、以下のような方法が挙げられる。
【０１１６】
図１０（ａ）および（ｂ）は、凹部付き部材７の検査および修繕を行うのに用いる装置（以下、検査修繕装置と称する）の一例を示す図である。凹部付き部材７の検査修繕装置１１０は、ＣＣＤカメラ１１４と、修繕用レーザヘッド１１１と、凹部付き部材７を載置する載置台１１５と、移動ステージ１１２と、画像処理部を内蔵した制御装置１１３とを有している。
【０１１７】
移動ステージ１１２は、ＣＣＤカメラ１１４および修繕用レーザヘッド１１１をそれぞれ載置台に対して平面的（Ｘ−Ｙ方向、Ｒ−θ方向等）に移動するものであり、制御装置１１３は、ＣＣＤカメラ１１４の検査信号が入力されると、これを画像処理して、平坦部７９が検出された場合には、該検出位置に修繕用レーザヘッド１１１を移動させるものである。
【０１１８】
すなわち、この検査修繕装置１１０は、凹部付き部材７の検査と修繕工程とを同一の装置で実行するものであり、まず、ＣＣＤカメラ１１４でもって凹部付き部材７の全範囲（凹部が形成された有効領域）に走査する。そして、検査信号を画像処理部に入力し、画像処理して平坦部７９を検出する。そして、平坦部７９が検出された場合には、その位置を記憶する（図１０（ａ）参照）。
【０１１９】
そして凹部付き部材７に平坦部７９が検出され、該位置が特定された場合、画像処理部からの位置信号に基づいて、制御装置１１３は修繕用レーザヘッド１１１を平坦部７９の真上に移動させ、修繕用レーザヘッド１１１によって、平坦部７９を修繕する。平坦部７９の修繕は、レーザにより凹部（修繕凹部）７１’’を形成することにより行う（図１０（ｂ）参照）。
【０１２０】
このとき、レーザの照射条件によって凹部（修繕凹部）７１’’の形状（深さや断面形状等）は変動するが、凹部付き部材７を用いて得られるマイクロレンズ基板１において、投射光の散乱効果が得られる程度に平坦部７９の平坦な面を消失または減少させる。すなわち、擬似的なレンズが形成される程度の形状でよい。
なお、図１０では１箇所の平坦部７９およびその修繕を模式的に示すものであるが、実際は、平坦部７９の個数は１箇所に限定されるものではない。また、照射するレーザとしては、例えば、紫外線レーザ、フェムト秒パルスレーザ等を用いることができる。
【０１２１】
なお、図１０中、ＣＣＤカメラ１１４と修繕用レーザヘッド１１１とが共通の移動ステージ１１２に設置されているが、複数の移動ステージを設けて、それぞれを別個の移動ステージに設置してもよい。
また、修繕は、ＣＣＤカメラが平坦部を検出する都度実行してもよいし、ＣＣＤカメラが凹部付き部材の全面または所定範囲を走査した時点で、当該走査範囲内で検出された平坦部をまとめて順次修繕してもよい。
【０１２２】
なお、検査方法は上記の例に限定されるものではなく、凹部付き部材の裏面から光を投射して、輝点（白点）の有無（投射光の散乱の有無に同じ）によって検査したり、凹部付き部材の表面の凹凸形状を、カメラ等を用いて直接検査したりしてもよい。
このように、平坦部を有する凹部付き部材を修繕することで、修繕された凹部付き部材を用いて形成されたマイクロレンズ基板においては、前記加工抜け箇所に相当する位置に凸部（修繕レンズ）が形成されるため、該凸部において投射光は散乱される。これにより、マイクロレンズを有するスクリーンに輝点（白点）が現れることがより効果的に防止され、画像の品質が向上する。
また、上記のような修繕を行った後に、修繕が施された面側に前述したような離型処理を施してもよい。
【０１２３】
次に、マイクロレンズ基板１の製造方法の他の一例（第２実施形態）について説明する。
以下に示す製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
図１１および図１２は、図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図、図１３は、マイクロレンズ基板の製造方法において用いる検査装置の一例を示す模式図、図１４は、マイクロレンズ基板の製造方法において用いる塗布装置（液滴吐出装置）の一例を示す模式図、図１５、図１６、図１７は、基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。なお、以下の説明では、図１１および図１２中の下側、図１５〜図１７中の上側を「（光の）入射側」、図１１および図１２中の上側、図１５〜図１７中の下側を「（光の）出射側」と言う。
【０１２４】
上述した実施形態では、凹部付き部材７の平坦部７９に遮光性材料を付与することにより、レンズ面側遮光部４を形成したが、本実施形態では、凹部付き部材７の平坦部７９に遮光性材料を付与する工程（第１の遮光性材料付与工程）を有し、さらに、凹部付き部材７を取り外した基板本体２の平坦部２８に対応する部位に遮光性材料４’を付与する工程（第２の遮光性材料付与工程）を有する。これにより、より確実に、基板本体２の平坦部２８に、好適なレンズ面側遮光部４を形成することができる。例えば、本実施形態のような方法によれば、形成すべきレンズ面側遮光部４が比較的厚いものであっても好適に形成することができる。また、基板本体２から凹部付き部材７を除去する際（レンズ面側遮光部４を転写させる際）、レンズ面側遮光部４の転写が不十分になった場合（例えば、形成されたレンズ面側遮光部４が層内破壊した場合）であっても、本実施形態のような方法によれば、基板本体２の平坦部２８にレンズ面側遮光部４を形成することができる。
以下、本実施形態の製造方法について、より詳細に説明する。
【０１２５】
＜Ｂ１’＞前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ１＞と同様（凹部付き部材準備工程および第２の遮光性材料付与工程。図１１（ａ）、（ｂ）参照）。
＜Ｂ２’＞前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ２＞と同様（図１１（ｃ）参照）。
＜Ｂ３’＞前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ３＞と同様（図１１（ｄ）参照）。
【０１２６】
＜Ｂ４’＞次に、形成された基板本体２から、平板１１および凹部付き部材７を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程（転写工程）。図１１（ｅ）参照）。
凹部付き部材７を取り外すことにより、凹部付き部材７上に設けられたレンズ面側遮光部４は、基板本体２側に転写される（転写工程）。
また、凹部付き部材７を取り外すことにより、最終的なマイクロレンズ基板１において、入射光Ｌａを効率良く屈折させることができ、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、また、取り外された平板１１、凹部付き部材７は、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高める上で有利である。
【０１２７】
＜Ｂ５’＞次に、図１２（ｆ）に示すように、基板本体２の平坦部２８に対応する部位に、遮光性材料４’を付与し（第２の遮光性材料付与工程）、最適なレンズ面側遮光部４を形成する（図１２（ｇ）参照）。遮光性材料４’としては、前述した実施形態で説明した遮光性材料と同様のものを用いることができるが、本工程で用いる遮光性材料４’は、前述した＜Ｂ１’＞の工程で用いた遮光性材料と同一の組成を有するものでなくてもよい。
【０１２８】
例えば、前述した＜Ｂ１’＞の工程で得られた位置情報を用いることにより、遮光性材料４’を、基板本体２の平坦部２８に対応する部位に選択的に付与することができる。また、前記＜Ｂ４’＞の工程で平板１１、凹部付き部材７が取り外された基板本体２に対して、改めて、直進光を透過し得る平坦部２８の検出を行ってもよい。これにより、前記＜Ｂ４’＞までの工程で、十分な遮光性を有するレンズ面側遮光部４が形成された部位には、遮光性材料を付与することなく、遮光性が不足している部位（平坦部２８に対応する部位）に、選択的に遮光性材料を付与することができる。このため、省資源の観点等からも有利である。
【０１２９】
このような平坦部２８（直進光を透過し得る平坦部２８。以下単に、「平坦部２８」とも言う）の存在を検査する方法（平坦部２８を検出する方法）としては、種々の方法を用いることができ、特に限定されるものではないが、例えば、以下に示すような方法を適用することができる。
すなわち、基板本体２の表面のパターニング（凹凸形状）をカメラ等で直接観察することにより、平坦部２８の有無を検査することができる。
【０１３０】
また、平坦部２８（直進光を透過し得る平坦部２８）の部分とそれ以外の部分とでは、透過する光量も異なるため、基板本体の裏面（マイクロレンズ２１が設けられた側の面）から光を投射して、その透過光を検出し、光量の違い（例えば、輝点（白点）の有無（投射光の散乱の有無に同じ）を検出することによって平坦部２８の有無を検査することができる。
【０１３１】
上記のような方法を採用する場合、例えば、図１３に示すような検査装置を好適に用いることができる。
図１３に示す検査装置１３０は、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側に、基板本体２の主面の法線方向（垂線方向）から検査用の平行光を照射する光照射手段１３１と、基板本体２の主面に対して平行に設置された移動ステージ１３２と、光照射手段１３１に対向するように、移動ステージ１３２に移動自在に設置されたＣＣＤカメラ１３３とを備えている。
【０１３２】
この検査装置１３０においては、ＣＣＤカメラ１３３でもって基板本体２の全面（マイクロレンズ２１が形成されている有効領域）を走査する。そして、走査により得られた検査信号を画像処理装置１３４に入力し、画像処理して平坦部２８（直進光を透過し得る平坦部２８）を検出する。そして、検出された場合には、その位置情報を、図示しない記憶手段で記憶する。
【０１３３】
そして基板本体２に平坦部２８（直進光を透過し得る平坦部２８）が検出されたら、該箇所に遮光性材料４’を付与する。遮光性材料４’の付与は、ＣＣＤカメラ１２１による走査で得られた位置情報に基づいて行うことができる。
遮光性材料４’の付与方法としては、特に限定されないが、インクジェット法を適用するのが好ましい。インクジェット法によれば、直進光を透過し得る平坦部２８に、遮光性材料４’を選択的に、かつ確実に付与することができる。また、インクジェット法によれば、遮光性材料４’の付与を高速化できるとともに、有効に遮光性材料４’を利用することができ、省資源の観点からも好ましい。
【０１３４】
インクジェットによる遮光性材料４’の付与は、図１４に示すような液滴吐出装置（塗布装置）を用いて好適に行うことができる。
図１４に示す液滴吐出装置（塗布装置）１４０は、基板本体２の主面に対して平行に設置された移動ステージ１４２と、移動ステージ１４２に移動自在に載置または懸架された液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１４１と、前記検査で特定された位置情報が入力されており、液滴吐出ヘッド１４１の駆動等を制御する制御装置１４３とを備えている。
【０１３５】
この液滴吐出装置１４０においては、前記検査での位置情報が入力された制御装置１４３の制御信号により液滴吐出ヘッド１４１を所定の部位に移動させつつ、当該部位に対応する光量のデータ等に基づき、液滴としての遮光性材料４’を、所定量、所定の条件で吐出する。これにより、各平坦部２８に対して、それぞれに最適なレンズ面側遮光部４を形成することができる。
【０１３６】
＜Ｂ６’＞前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ５＞と同様（図１２（ｈ）参照）。
＜Ｂ７’＞次に、前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ６＞と同様にして、開口部３１を有するブラックマトリックス３を形成する（図１２（ｉ）参照）。
ただし、本実施形態においては、光（露光用光）Ｌｂの照射を、凹部付き部材７を介さずに行う。このため、光（露光用光）Ｌｂの照射を、基板本体２の主面の法線方向（垂線方向）から行った場合、第１実施形態のように凹部付き部材７を介して光を照射する場合に比べて、形成される開口部３１は、小さいものとなる。
【０１３７】
そこで、本実施形態では、図１５に示すように、基板本体の主面の法線方向（垂線方向）に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、光を基板本体に入射させる。このようにして、光を入射させることにより、基板本体２の入射側表面に垂直な方向（基板本体２の主面の法線方向）に光を照射した場合には、開口部を形成することができなかった部位にも、十分に高い光度（エネルギー）の光を照射することができ、当該部位をブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１とすることができる。その結果、比較的大きな（必要十分な大きさの）開口部３１を有するブラックマトリックス３を容易かつ確実に形成することができる。
【０１３８】
光（露光用光）Ｌｂを照射するに際し、基板本体２の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から光（露光用光）Ｌｂを基板本体２に入射させるためには、例えば、露光用光Ｌｂの光源を斜めに設置してもよいし、基板本体２側を傾けてもよい。また、光源と基板本体２との間に偏光フィルターやスリット等を介して照射する場合、当該偏光フィルターやスリット等を斜めに傾けてもよい。
【０１３９】
基板本体２を斜めに傾ける方法としても、特に限定されるものではなく、例えば、支持部材等を用いて基板本体２の一端部を持ち上げて支持することにより傾けてもよいし、また、くさび形等の傾斜形状を有する傾斜部材を基板本体２の下側に配することで基板本体２を斜めに傾けてもよい。この場合、上記傾斜部材の材質としては、露光用光Ｌｂを反射しないものが好ましい。
【０１４０】
光の入射方向と基板本体２の主面の法線方向とでなす角度θは、特に限定されないが、２〜１５°であるのが好ましく、３〜１０°であるのがより好ましく、３〜８°であるのがさらに好ましい。角度θが前記範囲内の値であると、前述したようなブラックマトリックス３（所定の大きさの開口部３１を有するブラックマトリックス３、所定の開口率を有するブラックマトリックス３）をより確実に形成することができ、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。これに対し、角度θが前記下限値未満であると、十分な大きさの開口部３１を形成したり、ブラックマトリックス３の開口率を十分に高いものとすることが困難となり、マイクロレンズ基板１の視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。一方、角度θが前記上限値を超えると、形成されるブラックマトリックス３の外光反射防止の特性が低下してしまい、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、角度θが前記上限値を超えると、マイクロレンズ２１形状等によっては、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することが困難となる可能性がある。
【０１４１】
基板本体２に照射する光（露光用光）Ｌｂは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３１の大きさ、ブラックマトリックス３の開口率等をより確実に制御することができ、より確実に、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。
また、開口部形成用の光（露光用光）Ｌｂは一方向からだけではなく、基板本体２に対し複数の方向から入射させるのが好ましい。これにより、より広い領域に効率良く十分な光度（光束）の光を照射することができ、必要十分な大きさの開口部３１をより効率良く形成することができる。
【０１４２】
複数の方向から光を入射させる方法としては、例えば、複数の光源を用意し、これらを異なる部位に設置し、これら複数の光源から同時または順番に光を照射する方法や、光源から照射された光を分岐させ、これらの分岐した光を異なる方向から基板本体２に入射させる方法も挙げられるが、例えば、基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させつつ、光源から光（露光用光）Ｌｂを照射する方法が挙げられる。基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させる方法としては、例えば、基板本体２を固定した状態で光源を移動（変位）させる方法、光源を固定した状態で基板本体２を移動（変位）させる方法、光源および基板本体２をともに移動（変位）させる方法が挙げられる。
【０１４３】
以下、基板本体２を移動（変位）させる方法について、より具体的に説明する。
基板本体２側を動かす具体的な方法としては、例えば、図１６に模式的に示すように、少なくとも、互いに直交する４方向に、それぞれ角度θずつ基板本体２を傾ける方法が挙げられる。
このように、基板本体２を動かすことにより、例えば、得られるマイクロレンズ基板１を各方向（左右方向および上下方向）での視野角特性が特に優れたものとすることができる。
【０１４４】
また、光（露光用光）Ｌｂの照射は、基板本体２が所定の角度に傾いた状態においてのみ行うものであってもよいが、基板本体２を動かしている間、連続的または断続的に行うものであってもよい。すなわち、角度θの値は、経時的に変化するものであってもよい。これにより、例えば、角度θの値（角度θの最大値）が比較的大きい場合であっても、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することができる。このように、角度θの値が経時的に変化する場合、その最大値が前述した範囲に含まれるものであるのが好ましい。また、例えば、光（露光用光）Ｌｂの照射時に、角度θがゼロとなる時点が存在してもよい。
【０１４５】
また、光（露光用光）Ｌｂを複数の方向から照射する際に、各方向についての光（露光用光）Ｌｂの入射角度θの最大値が異なるものとなるようにしてもよい。これにより、例えば、形状が非対称な（例えば、点対称ではない）開口部３１等のように、複雑な形状の開口部３１も容易かつ確実に形成することができる。これにより、例えば、透過型スクリーン１０や後述するようなリア型プロジェクタ３００の仕様、使用環境（設置場所等）に応じて、容易に、各方向における視野角特性を最適なものとすることができる。
【０１４６】
また、光の入射方向を変化させる方法の他の一例（基板本体２側を動かす他の一例）を、図１７に模式的に示す。
図１７に示す例では、基板本体２の主面の法線と軸９０の長手方向とのなす角が、所定の角度θを維持するように、基板本体２を、軸９０上でこまのように回転させる構成になっている。言い換えると、図１７に示す例では、軸９０の延長線が基板本体２の表面（入射面）に接触する部位における基板本体２の主面の法線が、軸９０を中心とした円錐の周面を形成するように、基板本体２が回転する。このような構成であることにより、例えば、光（露光用光）Ｌｂの入射方向に対して、基板本体２の主面の法線が角度θだけ傾斜した状態を維持しつつ、光Ｌｂの入射方向を経時的に変化させることができる。これにより、表示される画像のコントラスト、視野角特性のいずれもが、特に優れたマイクロレンズ基板１を生産性良く製造することができる。
【０１４７】
＜Ｂ８’＞その後、前述した実施形態（第１実施形態）での＜Ｂ７＞と同様にして、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部５を形成する（拡散部形成工程）。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１８は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
【０１４８】
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる。また、視野角特性、光利用効率等も特に優れたにも優れている。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１４９】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。例えば、レンズ基板は、その表面付近に、所定の濃度で着色された着色部を有するものであってもよい。これにより、表示される画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。
【０１５０】
また、レンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置された基材フィルム）に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
【０１５１】
また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の凹部付き部材を用いて製造してもよい。
また、前記第１実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際に、遮光膜形成用材料が付与された基板本体に対して、その主面の法線方向から光（露光用光）を照射するものとして説明したが、前記第２実施形態のように、基板本体の主面の法泉に対し、所定角度θだけ傾斜した方向から、光（露光用光）を照射してもよい。
【０１５２】
また、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際における、光（露光用光）の照射は、例えば、凹部付き部材を取り外し、かつ、基板本体の主面の法線方向から行うものであってもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
【０１５３】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。このような場合、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【０１５４】
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ部とを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズ部を備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【０１５５】
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１５６】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１５７】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１５８】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。
【０１５９】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された凹部は、球面をなすものであり、その短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３８μｍ、深さは３８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９８％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１６０】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
【０１６１】
次に、図８に示した検査装置を用いて、凹部付き部材について検査を行い、所定の大きさ（幅５μｍ）以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さＲａは５μｍ以下であった。
そして、記憶された位置情報に基づき、前記平坦部に、遮光性材料をローラー塗布により付与した。平坦部に付与された遮光性材料の厚さは１．５μｍであった。
これにより、凹部付き部材の平坦部上に選択的にレンズ面側遮光部を形成した。
【０１６２】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０μｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５７であった。
【０１６３】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、その短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３８μｍ、深さは３８μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９８％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１６４】
次に、基板本体から平板を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、カーボンブラック（遮光性の材料）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー（遮光膜形成用材料）中におけるカーボンブラックの含有量は、２０ｗｔ％であった。
【０１６５】
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
次に、凹部付き部材を介して、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、１０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
【０１６６】
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は３０μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは１．２μｍであった。また、ブラックマトリックスの開口率は、１８％であった。
【０１６７】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成した。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２.０ｍｍであった。
その後、凹部付き部材を取り除いた。これにより、凹部付き部材から基板本体の平坦部（表面粗さＲａが５μｍ以下）にレンズ面側遮光部が転写されたマイクロレンズ基板を得た。マイクロレンズ基板が有するレンズ面側遮光部の厚さは１．５μｍであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１６８】
（実施例２）
前記実施例１で用いた凹部付き部材と同様にして製造したものに対し、図１０に示した検査修繕装置を用いて、凹部が形成されていない平坦部に修繕凹部を形成し、その後さらに、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を施したものを、凹部付き部材として用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。本実施例で用いた凹部付き部材では、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率が９８％であった。
【０１６９】
（実施例３）
まず、前記実施例１と同様にして、凹部付き部材を製造した。
次に、図８に示した検査装置を用いて、凹部付き部材について検査を行い、所定の大きさ（幅５μｍ）以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さＲａは５μｍ以下であった。
【０１７０】
そして、記憶された位置情報に基づき、前記平坦部に、遮光性材料をローラー塗布により付与した。平坦部に付与された遮光性材料の厚さは、１．５μｍであった。
これにより、凹部付き部材の平坦部上に選択的にレンズ面側遮光部を形成した。
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５７であった。
【０１７１】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３８μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９８％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１７２】
次に、基板本体から平板および凹部付き部材を取り除いた。これにより、凹部付き部材から基板本体の平坦部（表面粗さＲａが５μｍ以下）にレンズ面側遮光部が転写された。
次に、図１３に示した検査装置を用いて、基板本体について検査を行い、所定の大きさ（幅５μｍ）以上の平坦部を検出し、その位置情報を記憶手段で記憶させた。平坦部の表面粗さＲａは５μｍ以下であった。
そして、記憶された位置情報に基づき、図１４に示した液滴吐出装置を用いて、前記平坦部に、遮光性材料をインクジェット法により付与した。
その後、付与した遮光性材料から溶媒を除去し、厚さ１．７μｍのレンズ面側遮光部を形成した。
【０１７３】
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、カーボンブラック（遮光性の材料）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー（遮光膜形成用材料）中におけるカーボンブラックの含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
【０１７４】
次に、図１７に示すように、基板本体のマイクロレンズが設けられた面側を上側とし、基板本体の上側から軸の長手方向に６０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射するとともに、基板本体の主面の法線と軸の長手方向とのなす角が、所定の角度（θ＝７°）を維持するように、基板本体を、軸上でこまのように回転させた。言い換えると、本実施例では、軸の長手方向に１０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射するとともに、軸の延長線が基板本体の表面（入射面）に接触する部位における基板本体の主面の法線が、軸を中心とした円錐の周面を形成するように基板本体を回転させた。
【０１７５】
その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は３０μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは１．２μｍであった。
その後、前記実施例１と同様にして、拡散部を形成することによりマイクロレンズ基板を得た。
また、その後、得られたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
【０１７６】
（実施例４）
前記実施例１で用いた凹部付き部材と同様にして製造したものに対し、図１０に示した検査修繕装置を用いて、凹部が形成されていない平坦部に修繕凹部を形成し、その後さらに、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を施したものを、凹部付き部材として用いた以外は、前記実施例３と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。本実施例で用いた凹部付き部材では、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率が９８％であった。
【０１７７】
（実施例５）
次に、基板本体から平板を取り除く工程において、平板とともに凹部付き部材も取り除き、後の露光の工程を、凹部付き基板を外した状態で行った以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例６）
凹部付き部材について平坦部を検出するための検査を行うことなく、凹部付き部材の凹部が形成された面側に、ローラー塗布により遮光性材料を付与した以外は、前記実施例５と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１７８】
（比較例１）
凹部付き部材を用いて基板本体を作製する際に、凹部付き部材の平坦部に、遮光性材料を付与しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、本比較例において、マイクロレンズ基板は、レンズ面側遮光部を備えていない。
【０１７９】
（比較例２）
基板本体を作製した後に、ブラックマトリックスを形成しなかった以外は、前記比較例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、本比較例において、マイクロレンズ基板は、ブラックマトリックスおよびレンズ面側遮光部を備えていない。
各実施例および各比較例について、製造に用いた凹部付き部材の構成や、マイクロレンズ基板の構成を表１にまとめて示す。
【０１８０】
【表１】
2007133110.tif 000003
【０１８１】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１８に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［輝点の発生］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させ、表示された画像において、輝点の発生状態を以下の５段階の基準に従い評価した。
【０１８２】
Ａ：輝点が存在しない、または目視で確認できない。
Ｂ：スクリーンの一部に、輝点が少数存在し、わずかに確認することができる。
Ｃ：スクリーンの一部に、輝点が存在し、目視ではっきりと確認できる。
Ｄ：スクリーン全体に、輝点が少数存在し、目視ではっきりと確認できる。
Ｅ：スクリーン全体に、輝点が多数存在し、目視ではっきりと確認できる。
【０１８３】
［明るさ（輝度）の評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させ、表示された画像の明るさ（輝度）を以下の６段階の基準に従い評価した。明るさ（輝度）の評価は、明室および暗室で行った。明室での評価は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での評価は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１８４】
Ａ：非常に明るい画像を表示することができた。
Ｂ：十分に明るい画像を表示することができた。
Ｃ：比較的明るい画像を表示することができた。
Ｄ：表示された画像はやや暗いものであった。
Ｅ：表示された画像は暗いものであった。
Ｆ：表示された画像は非常に暗いものであった。
【０１８５】
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、明室において３７３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約８２ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１８６】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向（上下方向）および水平方向（左右方向）での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１８７】
【表２】
2007133110.tif 000004
【０１８８】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、輝点の発生が十分に防止され、かつ、高コントラストの画像を表示することができた。また、視野角特性にも優れていた。これに対し、各比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１８９】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図８】マイクロレンズ基板の製造方法において用いる検査装置の一例を示す模式図である。
【図９】マイクロレンズによる光の屈折と、基板本体から出射する光の光度分布とを説明するための図である。
【図１０】凹部付き部材の製造方法において用いる検査修繕装置の一例を示す模式図である。
【図１１】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１３】マイクロレンズ基板の製造方法において用いる検査装置の一例を示す模式図である。
【図１４】マイクロレンズ基板の製造方法において用いる塗布装置（液滴吐出装置）の一例を示す模式図である。
【図１５】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図１６】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図１７】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図１８】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１９０】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（凸レンズ）  ２３…組成物  ２４…基材フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ２８…平坦部  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…開口部  ３２…フォトポリマー（遮光膜形成用材料）  ４…レンズ面側遮光部  ４’…遮光性材料  ５…拡散部  ６…フレネルレンズ部  ６１…フレネルレンズ  ７…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ７１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ７１’…凹部  ７１’’…凹部（修繕凹部）  ７９…平坦部  ７０…基板  ８…マスク  ８１…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ８０…マスク形成用膜  ９０…軸  １１…平板  １０…透過型スクリーン  １１０…検査修繕装置  １１１…修繕用レーザヘッド  １１２…移動ステージ  １１３…制御装置  １１４…ＣＣＤカメラ  １１５…載置台  １２０…検査装置  １２１…ＣＣＤカメラ  １２２…移動ステージ  １２３…画像処理装置  １３０…検査装置  １３１…光照射手段  １３２…移動ステージ  １３３…ＣＣＤカメラ  １３４…画像処理装置  １４０…液滴吐出装置（塗布装置）  １４１…液滴吐出ヘッド  １４２…移動ステージ  １４３…制御装置  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
2007133110.tif 000005
【図２】
2007133110.tif 000006
【図３】
2007133110.tif 000007
【図４】
2007133110.tif 000008
【図５】
2007133110.tif 000009
【図６】
2007133110.tif 000010
【図７】
2007133110.tif 000011
【図８】
2007133110.tif 000012
【図９】
2007133110.tif 000013
【図１０】
2007133110.tif 000014
【図１１】
2007133110.tif 000015
【図１２】
2007133110.tif 000016
【図１３】
2007133110.tif 000017
【図１４】
2007133110.tif 000018
【図１５】
2007133110.tif 000019
【図１６】
2007133110.tif 000020
【図１７】
2007133110.tif 000021
【図１８】
2007133110.tif 000022