(57)【要約】【課題】高い電磁波シールド性を有し、光散乱が小さく高い光透過率を有する、電磁波シールド膜の製造方法であって、安価で大量に製造できる透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。【解決手段】透明プラスチック基材上に接着剤層を有し、その上にメッシュ状の金属箔層を有し、接着剤層上部が金属箔層及び空気と接しており、メッシュ部分のヘイズが１０％以下であることを特徴とする、電磁波シールド性と光透過性を有するディスプレーパネル用フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチック基材上に接着剤層と該接着剤層上に設けられたメッシュ状の金属箔層とを有し、該接着剤層上部は金属箔層及び空気と接しており、該金属箔層のメッシュ部分のヘイズは１０％以下であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする、ディスプレーパネル用フィルム。
【請求項２】
透明プラスチック基材上に接着剤層と該接着剤層上に設けられたライン幅が２０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが２０μｍ以下であるメッシュ状の金属箔層とを有し、該接着剤層上部は該金属箔層及び空気と接しており、該金属箔層のメッシュ部分のヘイズが１０％以下であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする、請求項１に記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項３】
表面抵抗率が０．１Ω/□未満であることを特徴とする請求項１又は２に記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項４】
メッシュ状の金属箔のライン厚みが６μｍ以上１２μｍ以下でであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項５】
上記金属箔が少なくとも表面が黒化処理された銅箔であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム
【請求項６】
透明プラスチック基材の金属メッシュと反対側の面に接着剤層を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項７】
透明プラスチック基材のメッシュ状の金属箔層の上に更に接着剤層を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項８】
剥離可能な保護フィルムを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項９】
赤外線遮蔽性、ハードコート性、反射防止性、妨眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、ガスバリア性、表示パネル破損防止性のいずれか１つ以上から選ばれる機能を有している機能性透明層を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルムを有することを特徴とするディスプレーパネル用光学フィルター。
【請求項１１】
メッシュ状の金属箔層を最外層に有することを特徴とする請求項１０に記載のディスプレーパネル用光学フィルター。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載のディスプレーパネル用光学フィルターを有することを特徴とするプラズマディスプレーパネル。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルムを有することを特徴とするプラズマディスプレーパネル。
【請求項１４】
透明プラスチック基材に接着層を介して金属箔を積層する工程と、該金属箔にケミカルエッチングプロセスによってライン幅が２０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが２０μｍ以下である金属メッシュを形成する工程とを含んでおり、接着剤層上部が金属箔層及び空気と接していて、該金属メッシュ部分のヘイズが１０％以下である電磁波シールド性と光透過性を有するディスプレーパネル用フィルムを製造することを特徴とするディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
【請求項１５】
金属メッシュのライン厚みが６μｍ以上１２μｍ以下でであることを特徴とする、請求項１４に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
【請求項１６】
有機溶剤で溶解又は膨潤する接着剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で溶解又は膨潤する接着剤、及び加熱により流動化する接着剤から選ばれる接着剤を介して、透明プラスチック基材に金属箔を積層することを特徴とする請求項１４又は１５に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
【請求項１７】
有機溶剤で溶解又は膨潤する接着剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で溶解又は膨潤する接着剤、及び加熱により流動化する接着剤から選ばれる接着剤を介して、透明プラスチック基材に金属箔を積層し、ケミカルエッチングを行った後、該金属箔・プラスチック基材積層体に有機溶剤、酸性水溶液、またはアルカリ性水溶液の少なくともいずれか１種類による洗浄、及びまたは、加熱処理を施すことを特徴とする、請求項１６に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ（陰極線管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）、液晶、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレー）などのディスプレー前面、電子レンジ、電子機器、プリント配線板などから発生する電磁波を遮蔽し、かつ、光透過性を有する透光性電磁波シールド膜及びその製造方法、並びにプラズマディスプレーパネル用透光性電磁波シールド膜およびこれを有するプラズマディスプレー用光学フィルター、及びプラズマディスプレーパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種の電気設備や電子応用設備の利用の増加に伴い、電磁波障害（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）が急増している。上記ＥＭＩは、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、これらの装置のオペレーターにも健康障害を与えることが指摘されている。このため、電子電気機器では、電磁波放出の強さを規格または規制内に抑えることが要求されている。
【０００３】
上記ＥＭＩの対策のためには電磁波をシールドする必要があるが、それには金属の電磁波を貫通させない性質を利用すればよいことは自明である。例えば、筐体を金属体または高導電体にする方法や、回路基板と回路基板との間に金属板を挿入する方法、ケーブルを金属箔で覆う方法などが採用されている。しかし、ＣＲＴ、ＰＤＰなどではオペレーターが画面に表示される文字等を認識する必要があるため、ディスプレーにおける透明性が要求される。このため、前記の方法では、いずれもディスプレー前面が不透明になることが多く、電磁波のシールド法としては不適切なものであった。
【０００４】
特に、ＰＤＰは、ＣＲＴ等と比較すると多量の電磁波を発生するため、より強い電磁波シールド能が求められている。電磁波シールド能は、簡便には表面抵抗値で表すことができる。例えば、ＣＲＴ用の透光性電磁波シールド材料では、表面抵抗値は凡そ３００Ω／ｓｑ以下であることが要求されるのに対し、ＰＤＰ用の透光性電磁波シールド材料では、２．５Ω／ｓｑ以下が要求され、ＰＤＰを用いた民生用プラズマテレビにおいては、１．５Ω／ｓｑ以下とする必要性が高く、より望ましくは０．１Ω／ｓｑ以下という極めて高い導電性が要求されている。
また、透明性に関する要求レベルは、ＣＲＴ用として凡そ７０％以上、ＰＤＰ用として８０％以上が要求されており、さらにより高い透明性が望まれている。
【０００５】
上記の問題を解決するために、以下に示されるように、開口部を有する金属メッシュを利用して電磁波シールド性と光透過性とを両立させる種々の材料・方法がこれまで提案されており、その代表的なものとして、フォトリソグラフィー法を利用したエッチング加工メッシュがある。
【０００６】
＜フォトリソグラフィー法を利用したエッチング加工メッシュ＞  係る方法としては、フォトリソグラフィー法を利用して銅箔をエッチング加工し、透明基体上に銅メッシュを形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
この方法をより詳しく述べると、まず、透明プラスチック基材に接着剤層を積層し、この上に金属箔を貼りあわせる。この際、金属箔と接着剤層との密着性を確保するために、金属箔はある程度粗く平滑でない、粗面化されたものを用いている。次に、フォトレジストを利用したケミカルエッチングプロセスによって、金属箔を所望のパターンにエッチング加工する。このようにして、透明プラスチックフィルム上に、細線でできた開口部面積の大きな金属のメッシュを形成することのができる。但しこの際、金属箔を除去した部分には、接着剤層が剥き出しになっている。この接着剤層は粗面化された金属箔面の粗面形状が転写されている為、この状態のフィルムは、光を散乱させる性質を有している。特許文献１及び２では、更に、接着層と屈折率の近い樹脂によって金属メッシュと接着層とを被覆する方法を開示しており、これにより上記光散乱を低減できる。
【０００７】
従来のフォトリソグラフィー法を利用したエッチング加工メッシュは、微細加工が可能であるため、高開口率（高透過率）のメッシュを作成することができ、強力な電磁波放出も遮蔽できるという利点を有する。その一方で、次のような問題を抱えていた。
金属箔と透明プラスチック基材間を接着していた接着層がエッチング後も粗面形状をしており、光散乱を引き起こしていた。このままでディスプレーに装着すると、ディスプレーの画像がすりガラスを介した画像のようにぼやけたものとなってしまうため、電磁波シールド性を有するディスプレーパネル用フィルムとしては利用できない問題があった。前記特許文献１及び２では、この問題を樹脂で被覆して粗面形状を平滑にすることによって解決しているものの、その工程は接着剤の作成と接着剤の金属メッシュ上への塗布、溶媒乾燥、加熱硬化を含んでおり、煩雑な工程を必要とする問題点を有していた。更には、樹脂で被覆する際に、金属メッシュ面の一部に気泡が生成する問題があった。この問題は、接着剤を塗布法ではなく、シート状の接着シートを金属メッシュ面に貼り合せる際も、問題になっており、この気泡を除くために、透明基板に加圧圧着させる工程が必要となる問題があった。この光散乱性解消のための工程が、上記のような塗布及び長時間の加圧である必要があり、生産性の低下、大幅なコストアップ要因となり、改善が望まれていた。
また、特許文献３においては、金属パターン層の表面の表面粗さRaを0.10〜1.00μｍとすることにより、凸凹形成によるヘイズなどによる画面の視認性を低下させることのない金属メッシュが提案されている。しかしながら、該特許文献においても該金属メッシュを用いた光学フィルターは、金属メッシュ層が接着剤層で被覆されており、ヘイズの要因となる凸凹形状が接着剤層で埋められている。そして、金属メッシュが最外層となっており、接着剤層で被覆されていない光学フィルターの構成は開示されていない。従って、これまで、十分に低ヘイズであり、樹脂で被覆して金属メッシュを樹脂中に埋めることなく、画像をボケさせることのないエッチング加工メッシュやそれを用いた光学フィルターはこれまで知られておらず、改善が望まれていた。
また特許文献４では、低金属メッシュを有する低ヘイズの電磁波シールドフィルムを得る方法として、接着剤層を用いることなく透明基板上に金属膜を形成した後、エッチングによりメッシュパターンを形成する方法が提案されている。しかしながら、この方法では金属層が気相成長法で形成されているために、電磁波シールドに必要な金属層厚みを得る為には多大な時間と経費を要するという製造上の問題を有していた。
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−１５２３８５号公報
【特許文献２】特許第３５７０４２０号
【特許文献３】特開２０００-２８６５９４号
【特許文献４】特開２００５-２６８６８８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、かかる事情に鑑みなされたものであり、その目的は、高い電磁波シールド性を有し、光散乱が小さく高い光透過率を有する、電磁波シールド膜の製造方法であって、しかも安価で大量に製造できる透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供することにある。また、本発明の目的は、上記製造方法により得られる透光性電磁波シールド膜を提供することにある。さらに本発明の別の目的は、上記透光性電磁波シールド膜を含んでなるプラズマディスプレーパネル用透光性電磁波シールド膜、プラズマディスプレーパネル用光学フィルターおよびプラズマディスプレーパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、光散乱が小さく、かつ、高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に得る観点から、鋭意検討した結果、上記目的は、以下の透光性でかつ電磁波シールド性のディスプレーパネル用フィルム及びその製造方法により効果的に達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の目的は、以下の製造方法により達成される。
【００１１】
（１）透明プラスチック基材上に接着剤層と該接着剤層上に設けられたメッシュ状の金属箔層とを有し、該接着剤層上部は金属箔層及び空気と接しており、該金属箔層のメッシュ部分のヘイズは１０％以下であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする、ディスプレーパネル用フィルム。
尚、ここで、メッシュ部分のヘイズとは、透明プラスチック基材と接着剤層とその上に形成された金属箔からなるメッシュとを一体にしたフィルムを測定した場合のヘイズを指す。より好ましくは、メッシュ部分のヘイズは５％以下である。
（２）透明プラスチック基材上に接着剤層と該接着剤層上に設けられたライン幅が２０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが２０μｍ以下であるメッシュ状の金属箔層とを有し、該接着剤層上部は該金属箔層及び空気と接しており、該金属箔層のメッシュ部分のヘイズが１０％以下であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする上記（１）に記載のディスプレーパネル用フィルム。より好ましくは、上記接着剤層上部は、上記金属箔層の粗化面（マット面）及び空気と接している。
なお、「ライン厚み」とはメッシュを構成する金属細線部分の厚みを指す。
（３）表面抵抗率が０．１Ω/□未満であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のディスプレーパネル用フィルム。
（４）メッシュ状の金属箔のライン厚みが６μｍ以上１２μｍ以下でであることを特徴とする、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
（５）上記金属箔が少なくとも表面が黒化処理された銅箔であり、かつ電磁波シールド性と光透過性を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム
（６）透明プラスチック基材の金属メッシュと反対側の面に接着剤層を有することを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
（７）透明プラスチック基材のメッシュ状の金属箔層の上に更に接着剤層を有することを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
（８）剥離可能な保護フィルムを有することを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
（９）赤外線遮蔽性、ハードコート性、反射防止性、妨眩性、静電気防止性、防汚性、紫外線カット性、ガスバリア性、表示パネル破損防止性から選ばれるいずれか１つ以上の機能を有している機能性透明層を有することを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルム。
【００１２】
（１０）上記（１）〜（９）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルムを有することを特徴とするディスプレーパネル用光学フィルター。
（１１）メッシュ状の金属箔層を最外層に有することを特徴とする上記（１０）に記載のディスプレーパネル用光学フィルター。
（１２）上記（１０）又は（１１）に記載のディスプレーパネル用光学フィルターを有することを特徴とするプラズマディスプレーパネル。
（１３）上記（１）〜（９）のいずれかに記載のディスプレーパネル用フィルムを有することを特徴とするプラズマディスプレーパネル。
（１４）透明プラスチック基材に接着層を介して金属箔を積層する工程と、該金属箔にケミカルエッチングプロセスによってライン幅が２０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが２０μｍ以下である金属メッシュを形成する工程とを含んでおり、接着剤層上部が金属箔層及び空気と接していて、該金属メッシュ表面のヘイズが１０％以下であ電磁波シールド性と光透過性を有するディスプレーパネル用フィルムを製造することを特徴とするディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
（１５）金属メッシュのライン厚みが６μｍ以上１２μｍ以下でであることを特徴とする、上記（１４）に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
（１６）有機溶剤で溶解又は膨潤する接着剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で溶解又は膨潤する接着剤、及び加熱により流動化する接着剤から選ばれる接着剤を介して、透明プラスチック基材に金属箔を積層することを特徴とする上記（１４）又は（１５）に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
（１７）有機溶剤で溶解又は膨潤する接着剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で溶解又は膨潤する接着剤、及び加熱により流動化する接着剤から選ばれる接着剤を介して、透明プラスチック基材に金属箔を積層し、ケミカルエッチングを行った後、該金属箔・プラスチック基材積層体に有機溶剤、酸性水溶液、またはアルカリ性水溶液の少なくともいずれか１種類による洗浄、及びまたは、加熱処理を施すことを特徴とする、上記（１６）に記載のディスプレーパネル用フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
プラスチック基板上に接着剤層を介して金属メッシュ層を積層し、ヘイズが１０％以下の本発明のディスプレーパネル用フィルムは、高透光性と高導電性を併せ有し、かつ安価に大量製造することができる。そのフィルムを用いた光学フィルム、透光性電磁波シールド膜、ディスプレーパネルも同様の効果が発揮される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、本発明の電磁波シールド性と光透過性を有するディスプレーパネル用フィルムの製造法およびディスプレーパネル用フィルムについて詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味として使用される。
【００１５】
［透明プラスチック基材］
本発明の製造方法に用いられる透明プラスチック基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
本発明においては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさおよび価格の点から、上記プラスチックフィルムはポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
この透明プラスチック基材の厚みは、薄いと取扱性が悪く、厚いと可視光の透過率が低下するため５〜２００μｍが好ましい。さらに好ましくは、１０〜１３０μｍが、より好ましくは、４０〜８０μｍである。
【００１６】
ディスプレー用の電磁波シールド材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルムまたはプラスチック板の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、前記プラスチックフィルムおよびプラスチック板として本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
本発明におけるプラスチックフィルムは、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして用いることも可能である。
【００１７】
本発明フィルムを透明基板に貼り付け、光学フィルターとして使用する際、ガラス板を用いることができ、その種類は特に限定されないが、ディスプレー用電磁波シールド膜の用途として用いる場合、表面に強化層を設けた強化ガラスを用いることが好ましい。強化ガラスは、強化処理していないガラスに比べて破損を防止できる可能性が高い。さらに、風冷法により得られる強化ガラスは、万一破損してもその破砕破片が小さく、かつ端面も鋭利になることはないため、安全上好ましい。
【００１８】
［導電性金属部］
次に、本発明における金属箔部分、特に金属箔部分を構成する金属細線部分について説明する。
金属箔材料としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、コバルト、スズ、ステンレス、タングステン、クロム、チタン、パラジウム、白金、マンガン、亜鉛、ロジウムなどの金属、またはこれらを組み合わせた合金を挙げることができる。導電性、価格等の観点から金属は、銅、アルミニウムまたはニッケルであることが好ましい。また、磁場シールド性を付与する場合、導電性金属粒子として常磁性金属粒子を用いることが好ましい。
金属箔部分の作製方法は、格別限定されないが、例えばフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）によって作製することができる。
【００１９】
上記金属部において、コントラストを高くし、かつ導電性金属部が経時的に酸化され退色されるのを防止する観点からは、金属部は銅であることが好ましく、少なくともその表面が黒化処理されたものであることがさらに好ましい。黒化処理は、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、リン酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中で、９５℃で２分間処理することにより黒化処理を行うことができる。また、電気めっきにて黒色やグレーの金属層を設けることで黒化させることも好ましい。例えば、ニッケル、錫、亜鉛、コバルト及び、それらの合金を電気めっきすることで黒化させることができる。
【００２０】
本発明の透光性電磁波シールド膜（導電性金属部）の表面抵抗値は、１０Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、２．５Ω／ｓｑ以下であることがより好ましく、１．５Ω／ｓｑ以下であることがさらに好ましく、０．１Ω／ｓｑ以下であることが最も好ましい。
【００２１】
本発明における金属部は、透光性電磁波シールド材料としての用途である場合、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形などを組み合わせた幾何学図形であることが好ましく、これらの幾何学図形からなるメッシュ状であることがさらに好ましい。本発明においては正方形からなる格子状のメッシュ形態であることが最も好ましい。
【００２２】
透光性電磁波シールド材料の用途において、上記導電性金属部の線幅は２０μｍ以下であることが好ましく、線間隔は１００μｍ以上であることが好ましい。また、導電性金属部は、アース接続などの目的においては、その線幅が２０μｍより広い部分を有していてもよい。また画像を目立たせなくする観点からは、導電性金属部の線幅は１５μｍ未満であることがさらに好ましい。
【００２３】
金属部の厚さすなわちライン厚みは、ディスプレーの電磁波シールド材の用途としては、薄いほどディスプレーの視野角が広がるため好ましい。１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上１３μｍ以下であることがより好ましく、２〜１０μｍであることがさらに好ましく、３〜７μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。
【００２４】
本発明における導電性金属部は、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。また、「開口率」とは、メッシュをなす細線のない部分が全体に占める割合であり、例えば、線幅１０μｍ、ピッチ２００μｍの正方形の格子状メッシュの開口率は、９０％である。尚、本発明における金属銀部の開口率について特に上限の限定はないが、表面抵抗値および線幅値との関係から、上記開口率としては、９８％以下であることが好ましい。
【００２５】
［接着剤］
本発明で用いられる、透明プラスチック基材と金属箔を貼りあわせる接着剤について説明する。また、以下の説明はメッシュ状の金属箔層の上に使用される接着剤や該メッシュ状の金属箔層とは反対側の面に使用される接着剤にも適用される。これらの接着剤は同じでも異なっていても良い。該接着剤は、有機溶剤で溶解ないし膨潤する接着剤、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で溶解ないし膨潤する接着剤、加熱により流動する接着剤である。
【００２６】
有機溶剤で溶解ないし膨潤する接着剤、及び、加熱により流動化する接着剤の主成分となるポリマーとしては、以下に示す熱可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン、ポリ−１，３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うことも可能である。
【００２７】
さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使うこともできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。本発明で使用する樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。
【００２８】
酸性水溶液あるいはアルカリ性水溶液で溶解または膨潤する接着剤の主成分となるポリマーとして代表的なものに、アクリルポリマーがある。それを構成するモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２-エチルヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステルの他に、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチルアクリレート、（メタ）アクリルアミド、ジアセトアクリルアミド、Ｎ-メチロール（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ-ビニルピドリドンなどの親水性官能基含有モノマーが挙げられる。これらのモノマーを共重合して得られるアクリル酸エステルポリマーの重量平均分子量は、開始剤の濃度やメルカプト化合物などの連鎖移動剤の濃度の調整により可能で、５００以上のものが選択される。これらのポリマーを硬化剤を使って硬化させる場合、分子の末端または側鎖に活性水素を有する官能基を導入することにより達成される。１分子中に少なくとも２個以上のイソシアン酸エステル基を有するイソシアネート化合物が効果的で、トリレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリス-（トリレンジイソシアネート）などの芳香族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソシアネートを使用することができる。本発明で使用する樹脂には必要に応じて粘着性付与剤、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や膨潤剤などの添加剤を配合してもよい。
【００２９】
本発明で接着剤層を溶解または膨潤させる目的で用いる有機溶剤としては以下のものがあげれる。メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、1−ヘキサノール、２−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、1−オクタノール、２−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、3，5，5−トリメチル−1−ヘキサノール、1−デカノールなどのアルコール類やヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、エチルベンゼン、ブチルベンゼン、ｏ−，ｍ−、ｐ−キシレン、スチレン、トルエン、シクロヘキサンなどの炭化水素、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ブチルフェニルエーテル、メトキシトルエン、ベンジルエチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、プロピレンオキシド、ジオキサン、2−メチルフラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1、2−ジメトキシエタン、1，2−ジエトキシシラン、1、2−ジブトキシシラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、グリセリンエーテル、クラウンエーテル、アセタールなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニトリルアセトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、アセトフェノンなどのケトン類、フェノール、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾールなどのフェノール類である。
【００３０】
また、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液としては、塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素、ポリリン酸のような酸性水溶液、あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどのアルカリ性水溶液が挙げられる。これらの中で最も取扱い性に優れているのは有機溶剤で、その中でもアルコール類は、接着特性と剥離特性のバランスのとりやすさなどの点から最も適している。
【００３１】
加熱により流動化する接着剤の主成分となるポリマーは、上述のものであるが、本発明において加熱により流動化するとは、ポリマーの軟化温度（Tg）が、２００℃以下のものであり、
１５０℃以下がより好ましい。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用される環境が通常６０℃以下であるので接着剤の軟化温度は、６０〜１２０℃がさらに好ましい。一方、ポリマーの重量平均分子量は、５００以上１００万以下のものを使用するのが好ましい。分子量が３００未満では接着剤組成物の凝集力が低すぎるため被着体への密着性が低下し、１００万を超えると有機溶剤等での剥離や膨潤が困難となる。本発明で使用する接着剤層の屈折率は、１．４５〜１．７０の範囲のものを使用するのが好ましい。この屈折率の選択は本発明で使用するプラスチックフィルムと接着剤層の屈折率が異なると、可視光透過率が低下するためであり、さらに、屈折率が好ましくは１．４５〜１．６０であると可視光透過率の低下が少なく良好であるためである。上述したポリマーの屈折率はこの範囲内にある。接着剤層の塗布厚みに特に制約はないが、０．０５μｍ〜５０μｍが好ましく、０．１μｍ〜３０μｍがより好ましく、０．５μｍ〜１０μｍが更により好ましい。
また、本発明でもちいる接着剤は、上述したポリマーを水分散物の形態としたものであってよい。これは、主成分が水である分散媒に合成樹脂が分散された、分散物である。分散媒中に含まれる水の含量は、３０％〜１００％が好ましく、５０％〜１００％がより好ましい。水以外の溶媒としては、メタノールやエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、アセトンやメチルエチルケトンなどのケトン類、など、水に溶解性のある溶媒が選ばれる。
【００３２】
［電磁波シールド膜以外の機能性膜］
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層として、電磁波シールド機能以外の機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレー用電磁波シールド材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層；ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）；近赤外線を吸収する化合物や金属からなる近赤外線吸収層；特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層；指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層；傷のつき難いハードコート層；衝撃吸収機能を有する層；ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。これらの機能層は、本発明の電磁波シールド膜を構成する乳剤層と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、さらに同一面側に設けてもよい。
これらの複合機能性膜はＰＤＰに直接貼合してもよく、プラズマディスプレーパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの複数の機能を有する機能性膜を光学フィルター（または単にフィルター）と呼ぶ。
【００３３】
反射防止機能を付与した反射防止層を形成する方法としては、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、またはイオンビームアシスト法等で単層或いは多層に機能性層上に積層させる方法やアクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層或いは多層に積層させる方法等がある。
【００３４】
また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。さらに、必要であればノングレアー層またはアンチグレアー層を設けることもできる。ノングレアー層やアンチグレアー層を形成する方法としては、シリカ、メラミン、アクリル樹脂等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法等を用いることができる。この際、インキの硬化は熱硬化或いは光硬化等を用いることができる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。さらに必要で有ればハードコート層を設けることもできる。
【００３５】
近赤外線吸収層は、具体的には、金属錯体化合物等の近赤外線吸収色素を含有する層、または、銀スパッタ層等である。ここで銀スパッタ層は、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで、近赤外線、遠赤外線から電磁波まで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層は誘電体として酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物等を含む。上記金属層に含まれる金属としては銀或いは銀−パラジウム合金が一般的である。上記銀スパッタ層は、通常、誘電体層よりはじまり３層、５層、７層或いは１１層程度積層した構成を有する。
【００３６】
ＰＤＰにおいては、青色を発光する蛍光体は青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有している為、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題がある。上記特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、この対策として発色光の補正を行う層であり、５９５ｎｍ付近の光を吸収する色素を含有する。
【００３７】
（保護フィルム）
剥離可能な保護フィルムは、必ずしも、電磁波遮蔽用シート（透光性電磁波シールド膜）の両面に有していなくてもよく、特開２００３−１８８５７６号公報の図２（ａ）に示すように、積層体の上に設けたメッシュ状の金属箔上に保護フィルムを有するのみで、透明基材フィルム（すなわち本明細書の「透明支持体」に相当）側に有していなくてもよい。また、上記公報の図２（ｂ）に示すように、積層体の透明基材フィルム側に保護フィルムを有するのみで、金属箔上に保護フィルムを有していなくてもよい。
電磁波シールドフィルムは更に反射防止性の付与、防汚性の付与、近赤外線吸収等の効果を有するシートを積層して使うものであるので、積層の際には上記の保護フィルムを剥離する必要があり、このため、保護フィルムの金属箔側への積層は、いわゆる剥離可能に行なうことが望ましい。
【００３８】
保護フィルムは金属箔上に積層した際の剥離強度は５ｍＮ／２５ｍｍ幅〜５Ｎ／２５ｍｍ幅であることが好ましく、より好ましくは１０ｍＮ／２５ｍｍ幅〜１００ｍＮ／２５ｍｍ幅である。下限未満では、剥離が容易過ぎ、取扱い中や不用意な接触により保護フィルムが剥離する恐れがあり、好ましくなく、また上限を超えると、剥離のために大きな力を要する上、剥離の際に、メッシュ状の金属箔が透明基材フィルム（もしくは接着剤層から）剥離する恐れがあり、やはり好ましくない。
【００３９】
上記の各点を満足させるために、保護フィルムを構成するフィルムとしては、ポリオレフィン系樹脂であるポリエチレン樹脂やポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、もしくはアクリル樹脂等の樹脂フィルムを用いることが好ましく、また、上記した観点により、少なくとも、保護フィルムの、積層体に適用した際に最表面となる側の面にコロナ放電処理を施しておくか、易接着層を積層しておくことが好ましい。
【００４０】
また、保護フィルムを構成する粘着剤としては、アクリル酸エステル系、ゴム系、もしくはシリコーン系のものを使用することができる。
【００４１】
上記した保護フィルム用のフィルムの素材、および粘着剤の素材は、金属箔側に適用する保護フィルムについても、そのまま適用できるので、両保護フィルムとしては、異なるものを使用してもよいが、同じ物を、両保護フィルムとすることができる。  
【００４２】
（静電気防止性）
静電気帯電によるホコリの付着や、人体との接触による静電気放電を防止するため、透過性電磁波シールド膜には、帯電防止性（静電気防止性）が付与されることが好ましい。
帯電防止性を有する機能性フィルムとしては、導電性の高いフィルムを用いることができ、例えば導電性が面抵抗で１０１１Ω／□程度以下であれば良い。
導電性の高いフィルムは、透明基材上に帯電防止層を設けることにより形成することができる。帯電防止層に用いる帯電防止剤としては、具体的には、商品名ペレスタット（三洋化成社製）、商品名エレクトロスリッパー（花王社製）等が挙げられる。他に、ＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜やＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜で帯電防止層を形成しても良い。上述のハードコート層、反射防止層、防眩層等に、導電性微粒子を含有させる等して帯電防止性を付与してもよい。
【００４３】
（紫外線カット性）
透光性電磁波シールド膜には、後述する色素や透明基材の劣化等を防ぐ目的で紫外線カット性を付与することが好ましい。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、透明基材自体に紫外線吸収剤を含有させる方法や透明基材上に紫外線吸収層を設けることにより形成することができる。
色素を保護するのに必要な紫外線カット能としては、波長３８０ｎｍより短い紫外線領域の透過率が、２０％以下、好ましくは１０％以下、更に好ましくは５％以下である。紫外線カット性を有する機能性フィルムは、紫外線吸収剤や紫外線を反射または吸収する無機化合物を含有する層を透明基材上に形成することにより得られる。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系やベンゾフェノン系等、従来公知のものを使用でき、その種類・濃度は、分散または溶解させる媒体への分散性・溶解性、吸収波長・吸収係数、媒体の厚さ等から決まり、特に限定されるものではない。
【００４４】
なお、紫外線カット性を有する機能性フィルムは、可視光線領域の吸収が少なく、著しく可視光線透過率が低下したり、黄色等の色を呈することがないことが好ましい。
また、機能性フィルムに後述する色素を含有する層が形成されている場合は、その層よりも外側に紫外線カット性を有する層が存在することが望ましい。
【００４５】
（ガスバリア性）
透光性電磁波シールド膜を常温常湿よりも高い温度・湿度環境化で使用すると、水分により後述する色素が劣化したり、貼り合せに用いる接着剤中や貼合界面に水分が凝集して曇ったり、水分による影響で接着剤が相分離して析出して曇ったりすることがあるので、透光性電磁波シールド膜はガスバリア性を有していることが好ましい。
このような色素劣化や曇りを防ぐためには、色素を含有する層や接着剤層への水分の侵入を防ぐことが肝要であり、機能性フィルムの水蒸気透過度が１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好適である。
【００４６】
本発明の製造方法で得られる透光性電磁波シールド膜は、良好な電磁波シールド性および透光性を有するため、透光性電磁波シールド材料として用いることができる。特に本発明の透光性電磁波シールド膜は、ＣＲＴ（陰極線管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）、液晶、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）などのディスプレー前面、電子レンジ、電子機器、プリント配線板など、特にプラズマディスプレーパネルで用いられる透光性電磁波シールド膜として好適に用いることができる。
【００４７】
上述の通り、本発明の透光性電磁波シールドは、プラズマディスプレーパネル用透光性電磁波シールド膜として好適に用いることができる。このため、本発明の透光性電磁波シールド膜を含んでなるプラズマディスプレーパネル用透光性電磁波シールド膜を用いて形成されたプラズマディスプレーパネルは、高電磁波シールド能、高コントラストおよび高明度であり、且つ低コストで作製することができる。
【実施例】
【００４８】
以下に本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００４９】
［実施例１］
透明プラスチック基材として厚さ５０μｍの透明ＰＥＴフィルムを用い、その上に下記の接着剤１を介して導電性材料である厚さ１８μｍの電解銅箔の粗化面が接着側になるようにして、ラミネートして貼り合せた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔３００μｍの銅の格子状メッシュを得た。
次いで、上記銅メッシュ付きＰＥＴフィルムを１２０℃に加熱し、本発明の試料を得た（処理時間３０分）。PETと銅箔を貼り合わせた接着剤１がこの処理によって軟化する
ので、ヘイズを低下させることができ、本発明の試料を得た。
（接着剤１）
バイロンUR-1400(商品名、東洋紡績（株）製)、飽和ポリエステル樹脂、Mn=4万）      
１００重量部
MEK                                       ２８６重量部
シクロヘキサノン                              ５重量部
上記の接着剤１の組成物の溶媒を乾燥させた後の屈折率は、１．５５、軟化点は８３℃であった。  
【００５０】
（比較例１）
透明プラスチック基材として厚さ５０μｍの透明ＰＥＴフィルムを用い、その上に下記の接着剤３を介して導電性材料である厚さ１８μｍの銅箔の粗化面が接着側になるようにして、加熱ラミネートして接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔３００μｍの銅の格子状メッシュを得た。この銅メッシュが形成されたフィルムを比較例１としてた。
（比較例２）
比較例１の銅メッシュ付きＰＥＴフィリムを実施例１と同様に１２０℃に加熱して比較例２の試料を得た（処理時間３０分）。
【００５１】
（比較例３）
上記比較例１の試料を、特許第３５７０４２０号記載の実施例１の方法に従って、樹脂を塗布しアクリル板に加熱圧着（０．５ＭＰａ、６０℃、120分、オートクレーブ処理）を行い、比較例２の試料を得た。塗布した樹脂の組成は、該特許実施例の接着剤３の組成のものを用いた。
【００５２】
（接着剤３）
ポリアクリル酸エステル（ＭＡＡ／ＢＡ／ＨＥＡ＝８５／１０／５，Ｍｗ＝55万）      
１００重量部
コロネートL（3官能イソシアネート、商品名、日本ポリウレタン工業（株）製）        
３．５重量部
トルエン                                    ４５０重量部
酢酸エチル                                    １０重量部
組成物の溶媒を乾燥させた後の軟化点は20０℃以上であった。
【００５３】
［実施例２］
実施例１と同様に、接着剤１の代わりに接着剤２を用いて試料を作成した。
（接着剤２）
ポリブタジエンエラストマー（Poly bd R−４５ＨＴ：出光石油化学（株）製、商品名）
１００重量部
トルエン                                     ４５０重量部
酢酸エチル                                     １０重量部
接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５０、軟化点は６１℃であった。
【００５４】
＜評価法＞
（開口率）メッシュの線幅を測定し、（ピッチー線幅）×（ピッチー線幅）/（ピッチ×ピッチ）から、開口率を求めた。
（表面抵抗）三菱化学製低抵抗率計ロレスタにて、表面抵抗率を測定した。
（ヘイズ）日本電色製ヘイズメーター（NDH2000）にて、JIS  K  7105に対応した測定方法を用いて、ＰＥＴ基板上に設けた銅メッシュ試料のヘイズを測定した。
【００５５】
[実施例３]
実施例１と同様に、接着剤１の代わりに接着剤４を用いて試料を作成した。
（接着剤４）
次のようにして接着剤組成物を調整した。
ジュリマーET-410  (商品名、日本純薬製：Tg４４℃)  １００重量部
水                                                 １０重量部
【００５６】
透明プラスチック基材として厚さ９７μｍの透明ＰＥＴフィルムを用い、その上に上記の接着剤４を介して導電性材料である厚さ１２μｍの電解銅箔の粗化面が接着側になるようにして、加熱ラミネートして貼り合せた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅１５μｍ、ライン間隔３００μｍの銅の格子状メッシュを得た。
次いで、上記銅メッシュ付きＰＥＴフィルムを水浴に浸漬した後、１４０℃に加熱し、本発明の試料を得た。
【００５７】
【表１】
2007013130.tif 000002
【００５８】
上表から判るように、本発明の試料は、樹脂の塗布及び溶剤の乾燥作業や、接着シートと貼り合せて加熱圧着作業をすることなく、簡便に得ることのできるヘイズの小さい銅メッシュフィルムであることが判る。
このように低ヘイズの銅メッシュを得るには、比較例に示される従来の方法では、樹脂で金属メッシュを埋めて凸凹を平滑化する工程が必須であった。
また、本発明の試料は、従来、透明基材上に設けられた金属メッシュ上に更にヘイズを十分に低減するために必須であった樹脂層を設ける必要がない為、樹脂層を設ける工程で発生していた気泡が混入する欠陥を皆無にすることが初めて可能となった。
【００５９】
[実施例４]
上記実施例３で得た透光性電磁波シールドフィルムのメッシュ状金属層とは逆側の面に、厚さ２５μｍのアクリル系透光性粘着材を介して、ガラス板を貼り合わせた。該アクリル系透光性粘着材層中には光学フィルターの透過特性を調整する調色色素（三井化学製ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇ、ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣ）を含有させた。さらに、該ガラス板の反対の主面には、粘着材層と近赤外線カット能とを有する反射防止フィルム（日本油脂(株)製 商品名リアルックN785UV-013）を貼り合わせ、光学フィルターを作製した。
【００６０】
従来のプラズマディスプレー用光学フィルターがメッシュ状金属層が樹脂層で覆われているのに対し、この光学フィルターはメッシュ状金属層が樹脂層で覆われておらず、簡便に気泡の欠陥なく製造できる。更にヘイズは４％と小さく、プラズマディスプレーの前面に設置して表示画像を観察した際に、ヘイズによる画像の劣化が問題とならない。
尚、得られた光学フィルターは、実用上問題ない電磁波遮蔽能及び近赤外線カット能を有し（850〜1100ｎｍの透過率が１５％以下）、反射防止層により視認性に優れていた。また、色素を含有させることによって、調色機能を付与できており、プラズマディスプレー等の光学フィルターとして好適に使用できる。