(57)【要約】【課題】印刷版材料の生産時に所定のサイズに断裁する際の粉落ちによる工程汚染、印刷版材料に印刷機に取り付ける際の印刷機汚染、作業者の印刷版材料取り扱い時の汚れを著しく軽減する印刷版材料の製造方法、及び印刷時の位置精度を大幅に高めるための印刷方法を提供する。【解決手段】基材上に磁性体を含有する少なくとも親水性層を有する平版印刷版材料に、磁力を与えながら所定の寸法に切断することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。  前記平版印刷版材料が感熱画像形成層を有すること、前記磁性体が光熱変換能を有すること、前記基材が非磁性素材から成ること、は何れも好ましい態様である。【選択図】図２
2007230120.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に磁性体を含有する親水性層を有する平版印刷版材料の断裁方法であって、磁力を与えながら所定の寸法に切断することを特徴とする平版印刷版材料の断裁方法。
【請求項２】
前記平版印刷版材料が感熱画像形成層を有することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版材料の断裁方法。
【請求項３】
前記磁性体が光熱変換能を有することを特徴とする請求項１記載の平版印刷版材料の断裁方法。
【請求項４】
前記基材が非磁性素材から成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の平版印刷版材料の断裁方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載の平版印刷版材料の断裁方法により製造されることを特徴とする平版印刷版材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平版印刷版材料（以下、印刷版材料とも記す）及び平版印刷版材料の断裁方法に関し、特にコンピューター・トゥー・プレート（ＣＴＰ）方式により画像形成が可能な感熱画像形成層（以下、画像形成層とも記す）を有する平版印刷版材料及び平版印刷版材料の断裁方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、印刷の分野においては、印刷画像データのデジタル化に伴い、ＣＴＰ方式による印刷が行われるようになって来ているが、この印刷においては、安価で取扱いが容易で従来の所謂ＰＳ版と同等の印刷適性を有したＣＴＰ方式用印刷版材料が求められている。
【０００３】
特に近年、特別な薬剤（例えばアルカリ、酸、溶媒など）を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、全く現像処理を必要としない相変化タイプの印刷版材料、水もしくは水を主体とした実質的に中性の処理液で処理をする印刷版材料、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理を行い特に現像工程を必要としない印刷版材料などの、ケミカルフリータイプ印刷版材料やプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。
【０００４】
プロセスレスＣＴＰとしては、印刷機上で湿し水やインクを用いて画像形成層の非画像部を除去する、機上現像タイプが多く知られており、この例として、例えば特許２９３８３９７号や特許２９３８３９８号に開示されているような、親水性層もしくはアルミ砂目上に熱可塑性微粒子、水溶性の結合剤、光熱変換素材を含有する画像形成層を設けた印刷版材料が挙げられる。
【０００５】
この構成においては、赤外線レーザー露光により画像形成層中の光熱変換素材が発熱し、熱可塑性微粒子を熱融着させることで耐水性を有する画像部とするが、アルミ砂目は熱伝導性が比較的良好であるため、画像形成層の露光部で生成した熱は、急速にアルミ砂目へと伝導する。このため、特に画像部画像形成層とアルミ砂目との界面近傍の温度を上昇させることが困難となり、画像形成層素材のアルミ砂目への融着が進行し難くなって、画像形成に要するエネルギーが高く（低感度）、又、画像部の接着性も不十分（低耐刷）となり易い。
【０００６】
上記の問題を解決する印刷版材料構成の一つとして、光熱変換素材として光熱変換剤を含有する親水性層を有する赤外線レーザー記録用の印刷版材料が種々検討されている。例えば、このような光熱変換剤を含有し、光熱変換剤を含有する親水性層上に、上述の熱可塑性微粒子と水溶性素材とを含有するような画像形成層を設けた構成の印刷版材料や、光熱変換剤を含有する親水性層上に疎水性の薄層を設けた構成の印刷版材料が知られている（例えば特許文献１、２参照）。
【０００７】
これらの印刷版材料は、親水性層用の塗布液を塗布・乾燥して、その上に画像形成層を設層している。
【０００８】
しかしながら、これらの印刷版材料においては、断裁時に親水性層の無機粒子成分が脱落し易く、印刷時、特に刷出し時において、非画像部に汚れが出る、あるいは色濁りが発生するなど、印刷適性において充分なものではなかった。その為、従来の断裁工程では、吸引しながら脱落屑を除去していたが、吸引時の風による基材のばたつきで断裁面が不安定となり、製品としての性能や生産性の劣化が免れなかった。
【０００９】
磁性研削剤と低融点硝子の切削剤の混合物から磁力を利用して磁性研削剤を除去する方法が開示されている（例えば特許文献３参照）が、この技術の平版印刷版材料への適用には未だ至っていない。
【特許文献１】特開２００３−３１２１５７号公報
【特許文献２】特開２００４−６６７７２号公報
【特許文献３】特開２００３−２４５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、平版印刷版材料の生産時に、所定のサイズに断裁する際の粉落ちによる工程汚染、印刷版材料に印刷機に取り付ける際の印刷機汚染、作業者の印刷版材料取り扱い時の汚れを著しく軽減する印刷版材料の断裁方法、及び該断裁方法により得られる平版印刷版材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、平版印刷版材料の基材が非磁性であり、塗膜が磁性体粉末を含有することに着目し、鋭意検討の結果、本発明を為すに至った。
【００１２】
即ち、本発明の目的は下記手段により達成される。
１．
基材上に磁性体を含有する親水性層を有する平版印刷版材料の断裁方法であって、磁力を与えながら所定の寸法に切断することを特徴とする平版印刷版材料の断裁方法。
２．
前記平版印刷版材料が感熱画像形成層を有することを特徴とする前記１項に記載の平版印刷版材料の断裁方法。
３．
前記磁性体が光熱変換能を有することを特徴とする前記１項に記載の平版印刷版材料の断裁方法。
４．
前記基材が非磁性素材から成ることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の平版印刷版材料の断裁方法。
５．
前記１〜４のいずれか１項に記載の平版印刷版材料の断裁方法により製造されることを特徴とする平版印刷版材料。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の実施により、印刷版材料の裁断時の粉落ち、印刷機の汚染、画像形成層の塗布性も良好で、印刷に際して画像ベタ部の白抜けも少ない印刷版材料を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、支持体表面に少なくとも親水性層と画像形成層を有する印刷版材料の裁断に際し、磁力を与えながら所定の寸法に切断することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る親水性層は、画像露光による画像様加熱により画像を形成するために光熱変換剤を含有するが、このようなタイプの印刷版材料においては、親水性層中の光熱変換剤の含有比率が感度に影響し、高感度化のためには、光熱変換剤の含有比率を増加させる必要がある。
【００１６】
しかしながら、単に光熱変換剤の含有比率を増加させると、親水性層の塗膜としての結合強度が低下する場合があるなどの問題があった。これは、親水性層中の光熱変換剤の含有比率が増加すると、光熱変換剤を層中に保持固定する親水性バインダの比率が減少することになり、光熱変換剤の保持能力が低下するためと推定された。
【００１７】
光熱変換剤の脱落を抑制する方法としては、親水性バインダの架橋を制御して強度を向上させたり、光熱変換剤を表面処理してバインダとの結合力を向上させたりするなどして親水性層自体の塗膜強度を向上させることで光熱変換剤の保持能力を向上させることが考えられるが、この方法は親水性層の親水性の低下が大きい。
【００１８】
本発明者が鋭意検討した結果、親水性層成分の脱落を、後述する断裁方法によって予め除去してしまうことで、製造、取扱い、印刷工程での親水性層成分の粉落ちによる、あらゆる汚染を低減する印刷版材料を製造できることを見い出し、本発明に到った。
【００１９】
〈磁力の付与方法〉
本発明の印刷版材料断裁時における磁力の付与方法は、印刷版材料の切断面近傍に磁力を発生する部材を設置して、磁力を与えながら切断を行う。磁力を発生する部材は永久磁石、電磁石など通常用いられる磁石を用いることが出来る。切断面と磁性体との距離は、通常、０〜１００ｍｍであり、より好ましくは１〜２０ｍｍである。これ以上の距離がある場合には、粉落ちを効率よく除去することが困難である。又、発生する部材が接触することで印刷版材料に傷などが発生する恐れのある場合には、非接触状態を採ることが好ましい。
【００２０】
磁性体を有する粉を吸引する磁力を発生する部材は、基材の親水性層を有する側に設置されることが好ましい。付与される磁力は、通常、残留磁束密度１００〜１００，０００Ｇ、Ｈｃ１００〜１００，０００エルステッドである。
【００２１】
〈親水性層〉
上記磁力付与に関わる、本発明の印刷版材料の親水性層及び親水性層を構成する素材について説明する。
【００２２】
（磁性体）
本発明に係る磁性体は、主に無機粒子からなる親水性層を有する印刷版材料を断裁する際、層が硬く脆いため、断裁時に発生する親水層の粉体に磁性を付与するものである。
【００２３】
磁性体としては、強磁性酸化鉄粉末、強磁性金属粉末、立方晶板状粉末等が挙げられ、中でも、強磁性金属粉末を好適に用いることができる。
【００２４】
強磁性酸化鉄としては、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、又はこれらの中間酸化鉄でＦｅＯx（１．３３＜ｘ＜１．５０）で表されるものを挙げることができる。例えばＣｏ含有γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ含有Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｏ被着Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｏ含有磁性ＦｅＯx（４／３＜ｘ＜３／２）粉末等のコバルト含有酸化鉄系磁性粉末も用いることができる。
【００２５】
強磁性金属粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏを初め、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタル磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられる。
【００２６】
耐蝕性及び分散性の点から見ると、Ｆｅ系金属粉末の中で、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系等のＦｅ−Ａｌ系強磁性粉末が好ましく、更にこの中では、強磁性粉末に含有されるＦｅ原子とＡｌ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝１００：１〜１００：２０であり、かつ強磁性粉末のＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光分析法）による分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子とＡｌ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝３０：７０〜７０：３０である構造を有するもの、あるいはＦｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子、更にＣｏ原子とＣａ原子の少なくとも一つが強磁性粉末に含有され、Ｆｅ原子の含有量が９０原子％以上、Ｎｉ原子の含有量が１〜１０原子％、Ａｌ原子の含有量が０．１〜５原子％、Ｓｉ原子の含有量が０．１〜５原子％、Ｃｏ原子又はＣａ原子の含有量（両者を含有する場合は合計量）が０．１〜１３原子％であり、かつ強磁性粉末のＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光分析法）による分析深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子と、Ｃｏ原子及び／又はＣａ原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｓｉ：（Ｃｏ及び／又はＣａ）＝１００：（４以下）：（１０〜６０）：（１０〜７０）：（２０〜８０）である構造を有するものが好ましい。
【００２７】
六方晶板状粉末としては、バリウムフェライトやストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライトを挙げることができ、鉄元素の一部が他の原子（Ｔｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈｂ等）で置換されていてもよく、この様なフェライト磁性体はＩＥＥＥ  ｔｒａｎｓ  ｏｎ  ＭＡＧ，１８頁，１６（１９８２）に記載されたものを挙げることができる。この中で、バリウムフェライト磁性粉末の例としては、Ｆｅの一部が少なくともＣｏ及びＺｎで置換された平均粒径（六方晶系フェライトの板面の対角線の高さ）が４００〜９００Åであり、板状比（六方晶系フェライトの板面の対角線の長さを板厚で除した値）が２．０〜１０．０である。又、バリウムフェライト磁性粉末は、更にＦｅの一部をＴｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属で置換されていてもよい。
【００２８】
立方晶系の磁性粉末を製造する方法は、例えば目的とするバリウムフェライトを形成するのに必要な各原子の酸化物、炭酸化物を、硼酸の様なガラス形成物質と共に溶融し、得られた融液を急冷してガラスを形成し、次いでこのガラスを所定温度で熱処理して目的とするバリウムフェライトの結晶粉末を析出させ、最後にガラス成分を熱処理によって除去するという方法のガラス結晶化法の他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等がある。
【００２９】
親水性層に含有される磁性体の含有量は、画像形成層形成成分の５０〜９９質量％程度、好ましくは７０〜９９質量％又は２０〜８０体積％である。含有される磁性体の平均粒子径は０．０３〜０．５μｍが好ましく、磁性体が後述する光熱変換剤を兼ねることも好ましい態様である。
【００３０】
（光熱変換剤）
本発明に用いる光熱変換剤は、画像露光により発熱して感熱画像形成層に画像を形成し得る機能を有するものであり、金属酸化物粒子もしくは金属酸化物で表面を被覆された粒子であることが好ましい。
【００３１】
光熱変換剤の粒子径としては、平均１次粒子径が１μｍ以下であることが好ましく、平均１次粒子径が０．０１〜０．５μｍの範囲にあることがより好ましい。平均１次粒子径を１μｍ以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、０．０１〜０．５μｍの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能が更に良好となる。
【００３２】
金属酸化物剤粒子としては、可視光域で黒色を呈している素材、又は素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材からなる粒子を使用することができる。
【００３３】
前者としては、例えば黒色酸化鉄（Ｆｅ3Ｏ4）や、２種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。後者としては、例えばＳｂをドープしたＳｎＯ2（ＡＴＯ）、Ｓｎを添加したＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）、ＴｉＯ2、ＴｉＯ2を還元したＴｉＯ等が挙げられる。
【００３４】
又、これらの金属酸化物で芯材（ＢａＳＯ4、ＴｉＯ2、９Ａｌ2Ｏ3・２Ｂ2Ｏ、Ｋ2Ｏ・ｎＴｉＯ2等）を被覆したものも使用することができる。
【００３５】
これらの光熱変換剤の内、黒色酸化鉄及び２種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物がより好ましい素材として挙げられる。
【００３６】
黒色酸化鉄粒子としては、針状比（長軸径／短軸径）が１〜１．５の範囲の粒子であることが好ましく、実質的に球状（針状比１）であるか又は八面体形状（針状比約１．４）を有していることが好ましい。このような黒色酸化鉄粒子としては、例えばチタン工業社製のＴＡＲＯＸシリーズが挙げられる。
【００３７】
球状粒子としては、ＢＬ−１００（粒子径０．２〜０．６μｍ）、ＢＬ−５００（粒子径０．３〜１．０μｍ）等を好ましく用いることができる。又、八面体形状粒子としては、ＡＢＬ−２０３（粒子径０．４〜０．５μｍ）、ＡＢＬ−２０４（粒子径０．３〜０．４μｍ）、ＡＢＬ−２０５（粒子径０．２〜０．３μｍ）、ＡＢＬ−２０７（粒子径０．２μｍ）等を好ましく用いることができる。
【００３８】
更に、これらの粒子表面をＳｉＯ2等の無機物でコーティングした粒子も好ましく用いることができ、そのような粒子としては、ＳｉＯ2でコーティングされた球状粒子：ＢＬ−２００（粒子径０．２〜０．３μｍ）、八面体形状粒子：ＡＢＬ−２０７Ａ（粒子径０．２μｍ）が挙げられる。
【００３９】
２種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物粒子としては、具体的には、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｂａから選ばれる２種以上の金属から成る複合金属酸化物粒子が挙げられる。
【００４０】
これらは、特開平８−２７３９３号、同９−２５１２６号、同９−２３７５７０号、同９−２４１５２９号、同１０−２３１４４１号等に開示される方法により製造することができる。
【００４１】
本発明に用いることができる複合金属酸化物としては、特にＣｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系又はＣｕ−Ｆｅ−Ｍｎ系の複合金属酸化物が好ましい。Ｃｕ−Ｃｒ−Ｍｎ系の場合には、６価クロムの溶出を低減させるために、特開平８−２７３９３号に開示される処理を施すことが好ましい。
【００４２】
金属酸化物で表面を被覆された粒子としては、例えば後述する金属粒子やカーボンブラック粒子、グラファイト粒子などが挙げられる。金属粒子の表面は薄い酸化物皮膜が形成されているため、金属酸化物で被覆された粒子であると言える。
【００４３】
金属としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては、球状、片状、針状等何れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子（Ａｇ、Ａｕ等）が好ましい。
【００４４】
又、特開２０００−３５５１７８号に記載されている、磁性を有する鉄合金粒子も用いることができる。
【００４５】
カーボンブラック粒子としては、特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度（ｄ５０）は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００４６】
グラファイト粒子としては粒径が０．５μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下、更に好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を使用することができる。
【００４７】
これらのカーボンブラック粒子やグラファイト粒子は、例えば特開２０００−３５５１７８号に記載されるような方法を用いて表面を金属酸化物で被覆することで、本発明に用いることができる。
【００４８】
又、金属酸化物粒子や金属粒子を更にＳｉＯ2等の金属酸化物で被覆したものも好ましく用いることができる。
【００４９】
これらの光熱変換剤の添加量としては、親水性層に対して０．１〜９０質量％であることが好ましいが、１５質量％以上であることが好ましく、は高感度化と耐刷性との両立の為には、１５〜７０質量％であることがより好ましく、１５〜５０質量％であることが更に好ましい。
【００５０】
光熱変換剤としては、下記の親水性素材としての機能を併せ持つものも好ましく使用できる。
【００５１】
〈親水性層に含有可能なその他の素材〉
本発明の親水性層は親水性素材を含有する。親水性素材としては、金属酸化物が好ましく用いられる。金属酸化物としては、金属酸化物微粒子の状態で用いるのが好ましい。例えばコロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。
【００５２】
この金属酸化物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他の何れの形態でもよい。平均粒径としては、３〜１００ｎｍであることが好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併用することもできる。又、粒子表面に表面処理が為されてもよい。
【００５３】
上記金属酸化物微粒子は、その造膜性を利用して結合剤としての使用が可能である。有機結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、親水性層への使用に適している。
【００５４】
上記の中でも特にコロイダルシリカが好ましく使用できる。コロイダルシリカは比較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高いという利点があり、炭素原子を含まない素材が９１質量％以上というような層においても良好な強度を得ることができる。又、コロイダルシリカは粒子径が小さいほど結合力が強くなることが知られており、本発明には平均粒径が２０ｎｍ以下であるコロイダルシリカを用いることが好ましく、３〜１５ｎｍであることが更に好ましい。又、前述のように、コロイダルシリカの中ではアルカリ性のものが地汚れ発生を抑制する効果が高いため、アルカリ性のコロイダルシリカを使用することが特に好ましい。
【００５５】
平均粒径がこの範囲にあるアルカリ性のコロイダルシリカとしては、日産化学社製の「スノーテックス−２０（粒子径１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−３０（同１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−４０（同１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−Ｎ（同１０〜２０ｎｍ）」、「スノーテックス−Ｓ（同８〜１１ｎｍ）」、「スノーテックス−ＸＳ（同４〜６ｎｍ）」が挙げられる。
【００５６】
本発明に係る親水性層は親水性素材としての金属酸化物として多孔質金属酸化物粒子を含むことが好ましい。多孔質金属酸化物粒子としては、後述する多孔質シリカ又は多孔質アルミノシリケート粒子もしくはゼオライト粒子を好ましく用いることができる。
【００５７】
多孔質シリカ又は多孔質アルミノシリケート粒子など、多孔質シリカ粒子は、一般に湿式法又は乾式法により製造される。湿式法では珪酸塩水溶液を中和して得られるゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を粉砕することで得られる。
【００５８】
粒子の多孔性としては、分散前の状態で細孔容積で１．０ｍｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．２ｍｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．８〜２．５ｍｌ／ｇ以下であることが更に好ましい。
【００５９】
親水性層中には親水性有機樹脂を含有させてもよい。親水性有機樹脂としては、例えばポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等の樹脂、糖類が挙げられる。
【００６０】
又、カチオン性樹脂を含有してもよく、カチオン性樹脂としては、ポリエチレンアミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアルキレンポリアミン類又はその誘導体、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状の形態で添加してもよい。これは、例えば特開平６−１６１１０１号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられる。
【００６１】
上記の糖類としては、オリゴ糖を用いることもできるが、特に多糖類を用いることが好ましい。
【００６２】
多糖類としては、澱粉類、セルロース類、ポリウロン酸、プルラン等が使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。
【００６３】
これは、親水性層に多糖類を含有させることにより、親水性層の表面形状を好ましい状態形成する効果が得られるためである。
【００６４】
親水性層の表面は、ＰＳ版のアルミ砂目のように０．１〜５０μｍピッチの凹凸構造を有することが好ましく、この凹凸により保水性や画像部の保持性が向上する。このような凹凸構造は、親水性層に適切な粒径のフィラーを適切な量含有させて形成することも可能であるが、親水性層の塗布液に前述のアルカリ性コロイダルシリカと前述の水溶性多糖類とを含有させ、親水性層を塗布・乾燥させる際に相分離を生じさせて形成することが、より良好な印刷性能を有する構造を得ることが出来、好ましい。
【００６５】
親水性層の膜厚としては０．０１〜５０μｍであり、好ましくは０．２〜１０μｍであり、更に好ましくは０．５〜３μｍである。
【００６６】
本発明に係る親水性層用塗布液は、上記の親水性層に用いられ素材と塗布溶媒から成る。
【００６７】
塗布溶媒としては水が好ましく用いられるが、アルコール類等の水と相溶する溶媒を含有することもできる。
【００６８】
又、親水性層用塗布液には、塗布性改善等の目的で水溶性の界面活性剤を含有させることができる。Ｓｉ系やＦ系やアセチレングリコール系等の界面活性剤を使用することができるが、特にＳｉ元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。
【００６９】
該界面活性剤の含有量は、親水性層全体（塗布液としては固形分）の０．０１〜３質量％が好ましく、０．０３〜１質量％が更に好ましい。
【００７０】
又、親水性層は燐酸塩を含むことができる。本発明では親水性層の塗布液がアルカリ性であることが好ましいため、燐酸塩としては燐酸三ナトリウムや燐酸水素二ナトリウムとして添加することが好ましい。燐酸塩を添加することで、印刷時の網の目開きを改善する効果が得られる。燐酸塩の添加量としては、水和物を除いた有効量として０．１〜５質量％が好ましく、０．５〜２質量％が更に好ましい。
【００７１】
〈基材〉
印刷版材料の基材としては、一般に印刷版の基板として使用される公知の材料を使用することができる。例えば金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。基材の厚さとしては、印刷機に取付け可能であれば特に制限されるものではないが、５０〜５００μｍのものが一般的に取り扱い易い。
【００７２】
金属板としては、銅、ステンレス、アルミニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特にアルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常、その表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除去するために、アルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用される。脱脂処理としては、特にアルカリ水溶液による脱脂が好ましい。又、塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが好ましい。例えば、珪酸塩やシランカップリング剤等のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することができる。又、陽極酸化処理と上記浸漬もしくは塗布処理を組み合わせて使用することもできる。又、公知の方法で粗面化されたアルミニウム基材を使用することもできる。
【００７３】
プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類等を挙げることができるが、本発明に用いる基材としては、特にＰＥＴ、ＰＥＮが好ましい。
【００７４】
これらプラスチックフィルムは、塗布層との接着性を向上させるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。又、下塗り層としては、ゼラチンやラテックスを含む層等が挙げられる。下塗り層に、有機又は無機の公知の導電性素材を含有させることもできる。
【００７５】
又、裏面の滑り性を制御するために、粗面を有する裏面コート層を設けた基材や公知の導電性素材を含有する裏面コート層を設けた基材も好ましく使用することができる。
【００７６】
本発明に用いる基材は、磁性を有さないものを用いることが好ましい。磁性を有する基材の場合は、本発明の磁力を与えて断裁する工程で基材も引き付けられることになり、搬送性の安定性を低下させたり、断裁時に生じる磁性体粉の収集効率を低下させたりする場合があるためである。
【００７７】
〈塗布・乾燥方法〉
親水性層用塗布液を基材上に塗布する塗布方法としては、公知の塗布方法、例えばバー塗布、ロール塗布、押出し塗布等、どのような塗布方法であっても用いることができる。
【００７８】
乾燥温度は７０℃以上であることが好ましい。基材が樹脂である場合には、８０〜１５０℃の範囲であることがより好ましい。又、基材が金属である場合には、８０℃〜３００℃の範囲であることがより好ましい。乾燥時間は１秒間〜５分間の範囲が好ましく、５〜２分間の範囲がより好ましい。又、乾燥温度と乾燥時間との組合せによっては、基材に熱ダメージを与える可能性があるため、基材が熱ダメージを受けない条件とすることが好ましい。
【００７９】
〈画像形成層〉
親水性層塗布工程を経た後、画像形成層を形成することで、印刷版材料とすることができる。印刷版材料は、露光部の画像形成層が熱によって親水性表面を有する基材上から除去され易くなる方向へと変化する、所謂ポジ版であってもよいし、あるいは露光部の画像形成層が熱によって除去され難くなる方向へと変化する、所謂ネガ版であってもよい。
【００８０】
本発明の印刷版材料の好ましい態様としては、露光部の画像形成層が熱によって親水性表面を有する基材上から除去され難くなる方向へと変化する、後者のネガ版タイプ印刷版材料である。
【００８１】
このような、露光部が熱によって親水性層上から除去され難くなる方向へと変化する画像形成層としては、例えば親水性層を熱により親水性層から疎水性への変化させ得る疎水化前駆体と水溶性又は水分散性素材とを含有する画像形成層を挙げることができる。
【００８２】
上記疎水化前駆体としては、例えば熱によって親水性（水溶性又は水膨潤性）から疎水性へと変化するポリマー、具体的には、例えば特開２０００−５６４４９に開示されるアリールジアゾスルホネート単位を含有するポリマーを挙げることができる。
【００８３】
本発明に係る画像形成層には、疎水化前駆体として熱溶融性微粒子及び熱融着性微粒子等の熱可塑性疎水性粒子などを好ましく用いることができる。
【００８４】
熱溶融性微粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された微粒子である。物性としては、軟化点４０〜１２０℃、融点６０〜１５０℃であることが好ましく、軟化点４０〜１００℃、融点６０〜１２０℃であることが更に好ましい。融点が６０℃未満では保存性が問題であり、融点が３００℃よりも高い場合はインク着肉感度が低下する。
【００８５】
使用可能な素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックス等が挙げられる。これらは分子量８００〜ら１０，０００程度のものである。又、乳化し易くするために、これらのワックスを酸化し、ヒドロキシル基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には、軟化点を下げたり、作業性を向上させるために、これらのワックスにステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミド等を添加することも可能である。又、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体なども使用できる。
【００８６】
これらの中でもポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸の何れかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。又、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦傷等による印刷汚れ耐性が向上する。
【００８７】
又、熱溶融性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は０．０１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。平均粒子径が０．０１μｍよりも小さい場合、熱溶融性微粒子を含有する層の塗布液を後述する多孔質な親水性層上に塗布した際に、熱溶融性微粒子が親水性層の細孔中に入り込んだり、親水性層表面の微細な凹凸の隙間に入り込んだりし易くなり、機上現像が不十分になって地汚れの懸念が生じる。又、平均粒子径が１０μｍよりも大きい場合、解像度が低下する。
【００８８】
熱溶融性微粒子は、内部と表層との組成が連続的に変化したり、又は異なる素材で被覆されてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。画像形成層中の熱溶融性微粒子の含有量としては、層全体の１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％が更に好ましい。
【００８９】
熱融着性微粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体微粒子が挙げられ、高分子重合体微粒子の軟化温度に特定の上限はないが、高分子重合体微粒子の分解温度より低いことが好ましい。高分子重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましい。
【００９０】
高分子重合体微粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えばポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン（共）重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−（２−エチルヘキシルアクリレート）共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−（Ｎ−メチロールアクリルアミド）共重合体、ポリアクリロニトリル等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸（共）重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル（共）重合体；酢酸ビニル−（２−エチルヘキシルアクリレート）共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらの内、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸（共）重合体、ビニルエステル（共）重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。
【００９１】
又、熱融着性微粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒子径は機上現像性、感度などの面から０．０１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。
【００９２】
又、熱融着性微粒子は内部と表層との組成が連続的に変化したり、もしくは異なる素材で被覆されてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。
【００９３】
画像形成層中の熱可塑性微粒子の含有量としては、層全体の１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％が更に好ましい。
【００９４】
マイクロカプセルとしては、例えば特開２００２−２１３５号、同２００２−１９３１７号に記載される疎水性素材を内包するマイクロカプセルを挙げることができる。マイクロカプセルは平均径で０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．３〜５μｍであることがより好ましく、０．５〜３μｍであることが更に好ましい。
【００９５】
画像形成層は水溶性素材を含んでもよく、水溶性素材としては下記のような素材を挙げることができる。
【００９６】
（水溶性高分子化合物）
画像形成層に含有される水溶性素材としては、ｐＨ４〜１０の水溶液に溶解する公知の水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、多糖類、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、ポリプロピレンオキサイド、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリビニルエーテル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）等の樹脂が挙げられる。
【００９７】
これらの中では、多糖類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドンが好ましい。
【００９８】
多糖類としては、澱粉類、セルロース類、ポリウロン酸、プルラン、キトサン、またはこれらの誘導体などが使用可能であるが、特にメチルセルロース塩、カルボキシメチルセルロース塩、ヒドロキシエチルセルロース塩等のセルロース誘導体が好ましく、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩やアンモニウム塩がより好ましい。
【００９９】
ポリアクリル酸、ポリアクリル酸塩、ポリアクリルアミドとしては、分子量３０００〜１００万であることが好ましく、５０００〜５０万であることがより好ましい。
【０１００】
これらの中では、ポリアクリル酸ナトリウムといったポリアクリル酸塩が最も好ましい。ポリアクリル酸塩は親水性層の親水化処理剤としての効果が高く、画像形成層が機上現像されて現れる親水性層の表面の親水性を向上させることができる。
【０１０１】
（オリゴ糖）
水溶性素材としては、上述の水溶性高分子化合物以外にオリゴ糖を含有させることができる。オリゴ糖としては、ラフィノース、トレハロース、マルトース、ガラクトース、スクロース、ラクトースといったものが挙げられるが、特にトレハロースが好ましい。
【０１０２】
〈画像形成層に含有可能なその他の素材〉
画像形成層には光熱変換素材として、赤外線吸収色素を含有させることができる。これには、一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。具体的には、特開昭６３−１３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−４２２８１号、同３−９７５８９号、同３−１０３４７６号等に記載の化合物が挙げられる。これらは１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。又、特開平１１−２４０２７０号、同１１−２６５０６２号、特開２０００−３０９１７４号、同２００１−１６２９６５号、同２００１−２１９６６７号、同２００２−４９１４７号、同２００２−１４４７５０号等に記載の化合物も好ましく用いることができる。
【０１０３】
上記赤外線吸収色素の含有量としては、色素の可視光での着色の程度によって、機上現像時の印刷機汚染との兼合いを考慮する必要があるが、一般的に、印刷版材料の単位面積当たりとして０．００１ｇ／ｍ2以上、０．２ｇ／ｍ2未満であることが好ましく、０．０５ｇ／ｍ2未満であることがより好ましい。又、可視光での着色が少ない色素を用いることが好ましいことは言うまでもない。
【０１０４】
画像形成層には、界面活性剤を含有させることができる。Ｓｉ系、又はＦ系等の界面活性剤を使用することができるが、特にＳｉ元素を含む界面活性剤を使用することが印刷汚れを生じる懸念がなく、好ましい。界面活性剤の含有量は、画像形成層全体（塗布液としては固形分）の０．０１〜３質量％が好ましく、０．０３〜１質量％が更に好ましい。
【０１０５】
更に、ｐＨ調整のための酸（燐酸、酢酸等）又はアルカリ（水酸化ナトリウム、珪酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等）を含有してもよい。
【実施例】
【０１０６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を表す。
【０１０７】
実施例１
〈基材の下引き処理〉
厚さ１７５μｍのロール状２軸延伸ポリエステルフィルムの両面に、８Ｗ／ｍ2・分のコロナ放電処理を施し、次いで、一方の面に下記組成の下引き塗布液ａを乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設後、コロナ放電処理（８Ｗ／ｍ2・分）を行いながら下引き塗布液ｂを乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布した。乾燥条件は各々１８０℃、４分間である（下引き面Ａ）。塗布後の２５℃・２５％ＲＨ（相対湿度）での表面電気抵抗は１０8Ωであった。
【０１０８】
又、反対側の面にも全く同組成の下引き塗布を行い（下引き面Ｂ）、両面に下引層を有する基材１を得た。
（下引き塗布液ａ）
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート（６０／３９／１）の３元系共重合ラテックス（Ｔｇ＝７５℃）                      （固形分基準）６．３部
スチレン／グリシジルメタクリレート／ブチルアクリレート（２０／４０／４０）の３元系共重合ラテックス                                    （固形分基準）１．６部
アニオン系界面活性剤  Ｓ−１                                        ０．１部
水                                                                ９２．０部
（下引き塗布液ｂ）
ゼラチン                                                                １部
アニオン系界面活性剤  Ｓ−１                                      ０．０５部
硬膜剤  Ｈ−１                                                    ０．０２部
マット剤（シリカ，平均粒子径３．５μｍ）                          ０．０２部
防黴剤  Ｆ−１                                                    ０．０１部
水                                                                ９８．９部
【０１０９】
【化１】
2007230120.tif 000003
【０１１０】
〈印刷版材料の作製〉
以下の手順で印刷版材料を作製した。
【０１１１】
〈下層用塗布液の調製〉
下記表１に示す組成の素材の内、界面活性剤を除いた素材を、ホモジナイザを用いて回転数１０，０００回転で１０分間混合・分散した後、界面活性剤を添加して、回転数２００回転で１分間混合した。次いで、これを濾過して固形分１５％の下層用塗布液を得た。
【０１１２】
下層用塗布液組成（表中の単位指定のない数字は質量部を表す）。
【０１１３】
【表１】
2007230120.tif 000004
【０１１４】
〈親水性層用塗布液の調製〉
下記表２に示す組成の素材を、ホモジナイザを用いて回転数１０，０００回転で１０分間混合・分散した。次いで、これを濾過して固形分２０％の親水性層用塗布液を得た。
【０１１５】
親水性層塗布液組成（表中の単位記載のない数値は質量部を示す）。
【０１１６】
【表２】
2007230120.tif 000005
【０１１７】
〈親水性層の塗布〉
コーター／乾燥部を２基有する塗布ラインで、ラインスピード３０ｍ／ｍｉｎの搬送速度で上述の基材１の下引きＡ面上に親水性層を塗布形成し、親水性層を内側としてロール状に巻き取った。
【０１１８】
親水性層に関しては、第１コーターで下層を塗布形成した後、第２コーターで下層上に親水性層を塗布形成した。下層は、乾燥付量で２ｇ／ｍ2となるように、公知の方法でワイヤーバーを用いて塗布した。親水性層は、乾燥付量で１．５ｇ／ｍ2となるように、公知の方法でワイヤーバーを用いて塗布した。乾燥条件は、下層、親水性層ともに１２５℃、４５秒である。
【０１１９】
親水性層を塗布形成し、巻き取った試料のロールを６０℃の恒温炉に入れ、４８時間のエイジング処理を行った。
【０１２０】
〈画像形成層塗布液の調製〉
下記表３に示す組成の素材を十分に混合・攪拌し、濾過して固形分１０％の画像形成層塗布液を調製した。
【０１２１】
画像形成層塗布液組成（表中の単位記載のない数値は質量部を示す）。
【０１２２】
【表３】
2007230120.tif 000006
【０１２３】
〈画像形成層の塗布〉
親水性層を塗布形成したラインを用い、親水性層まで形成した試料のウエブを３０ｍ／ｍｉｎで搬送して、親水性層上に画像形成層塗布液を第２コーターで塗布・乾燥して０．５ｇ／ｍ2の画像形成層を形成し、画像形成層を外側にして巻き取った。乾燥条件は、７０℃、３０秒である。
【０１２４】
画像形成層を設けた印刷版材料のロールを５０℃の恒温炉に入れ、１２時間のエイジング処理を行った。
【０１２５】
〈印刷版材料の断裁〉
エイジング処理後の印刷版材料のロールを、親水性層側を上にして２０ｍ／ｍｉｎの速度で搬送を行い、断裁刃により幅６７０ｍｍのサイズとなるように断裁を行った。断裁刃の搬送下流側２０ｃｍの位置に、直径１００ｍｍの異方性フェライト磁石から成る磁気ローラー（残留磁束密度：４１００Ｇ，Ｈｃ：３４００エルステッド）に、印刷版材料からの距離が３．０ｍｍとなる様に設置した。磁気ローラーは、相対速度が０になるようにローラーを回転させながら断裁部で発生した断裁粉を除去した。磁気ローラーに付着した断裁粉は、掻取りブレードで連続的に除去した。
【０１２６】
実施例２
実施例１における２軸延伸ポリエステルフィルムを、厚み０．２３ｍｍのＪＩＳ規格（Ｇ３１４１）規定の一般冷延鋼板  ４種  ＳＰＣＥＮの脱脂処理を行った鉄鋼板に変えた以外は同様に、下引き処理、下層、親水性層、画像形成層を積層した印刷版材料ロールを作製、同様にして断裁を行った。
【０１２７】
実施例３、４
実施例１及び２において、断裁部５の前に画像形成層塗布部３及び乾燥部４を設け、断裁を図１に示す様に１回の搬送工程で同時に行った以外は同様に断裁を行った。
【０１２８】
比較例１
実施例１における印刷版材料の断裁工程において、磁気による断裁粉除去を行わなかった以外は同様に断裁を行った。
【０１２９】
比較例２
実施例１における印刷版材料の断裁工程において、吸引しながら断裁粉除去を行った以外は同様に断裁を行った。
【０１３０】
〈赤外線レーザーによる露光〉
上記断裁後の各印刷版材料を、長さ５６０ｍｍのサイズで切り出し、露光ドラムに巻付け固定した。露光には、大日本スクリーン製造社製：サーマルプレートレコーダーＰｌａｔｅ  Ｒｉｔｅ４３００を用い、１７５線で画像を形成した。露光した画像はベタ画像と１〜９９％の網点画像と２，４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数）のライン・アンド・スペース細線画像、及び印刷版の４隅に位置確認用のトンボとを含むものである。
【０１３１】
〈印刷〉
Ｋ（黒）、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の各印刷版に画像露光を行い、次いで小森コーポレーション社製：リスロン４２６印刷機にて、ＯＫトップコート（王子製紙社製）に、湿し水：アストロマーク３（日研化学研究所製）２％、インク（東洋インク社製ＴＫハイユニティネオ墨、藍、紅、黄）を用いて９，０００枚／時の速度で印刷を行った。印刷の順序はＫ→Ｃ→Ｍ→Ｙの刷り順で行った。
【０１３２】
露光後の印刷版材料を、そのまま印刷機の版胴に取り付け、ＰＳ版と同様の印刷条件及び刷出しシークエンスを用いて１，０００枚まで印刷を行った。
【０１３３】
〈性能評価〉
以下の性能評価を行った。
【０１３４】
《断裁時の粉落ち》
断裁工程における断裁刃の直下に、搬送上流０．５ｍから下流１．５ｍの位置に幅４０ｃｍの白色のコート紙を敷いて置き、長さ１００ｍを断裁後のコート紙上における断裁粉の脱落の有無を確認した。コート紙を１０ｃｍ×１０ｃｍ四方の８０個のブロックに区切り、各ブロックの断裁粉の数をルーペで観察した。
【０１３５】
○：各ブロック当たりの付着物数が、全ブロックにおいて０〜３個
×：各ブロック当たりの付着物数が３個以上のブロックが少なくとも１つ以上
《印刷機汚染》
刷出しから１，０００枚印刷後の各色ブランケットの両端部、インキローラー表面を観察し、３段階評価した。
【０１３６】
○：インキ以外のブランケット汚れ見られず
△：ブランケットの両端に印刷インキと黒色粉が混ざった色の筋状の汚れが付着
×：ブランケット、インキローラーに黒色粉が付着
《塗布性》
画像形成層の塗布ムラを観察し３段階評価した。
【０１３７】
○：均一な塗布面である
△：塗布方向と垂直方向に濃度差のある段ムラが発生したが、印刷物への影響は見られず
×：印刷物のベタ部に０．１以上の濃度差が発生
《ベタ画像部の白抜け》
刷出しから５０枚目の印刷物のベタ画像部を観察し、断裁粉起因の白抜けが生じているか目視で確認した。
【０１３８】
○：白抜け発生せず
△：ベタ部領域１００ｃｍ2当たり１個以下発生
×：ベタ部領域１００ｃｍ2当たり２個以上発生
結果を纏めて表４に示す。
【０１３９】
【表４】
2007230120.tif 000007
【０１４０】
本発明の実施は何れの評価にも優れていることが判る。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】本発明の平版印刷版材料の塗布、乾燥、断裁を１回の搬送工程で行う一例を示す模式図である。
【図２】図１の断裁部を拡大した断面図で、（ａ）は断裁直後を、（ｂ）は断裁粉吸引後の断面図である。
【符号の説明】
【０１４２】
１  ロール状平版印刷版材料
２  搬送ロール
３  画像形成層塗布部
４  乾燥部
５  断裁部
６  断裁された平版印刷版材料
１１  平版印刷版材料基材
１２  親水性層
１３  画像形成層
１４  磁性分
１５  磁性粉の吸引装置
【図１】
2007230120.tif 000008
【図２】
2007230120.tif 000009