(57)【要約】【課題】パターンが形成された基板上に、次のパターンを露光する際に、事前に行う手動によるフォトマスクの位置合わせマークの登録作業を容易に行うフォトマスクを提供する。【解決手段】１）フォトマスク上の位置合わせマーク部（Ａ）に対して、２）Ｘ軸方向及びＹ軸方向に隣接した、認識用カメラを正確に誘導する詳細パターンの詳細パターン部（Ｂ）と、３）Ｘ軸方向及びＹ軸方向で挟まれた１象限内で詳細パターン部（Ｂ）に隣接した、位置合わせマーク部（Ａ）の方向を指示し認識用カメラを詳細パターン部（Ｂ）に誘導する通常パターンの通常パターン部（Ｃ）で構成する追加パターン部（Ｄ）を設けたこと。【選択図】図１０
2007304321.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成された基板上に、該基板上の位置合わせマークに対し位置合わせをして次のパターンを形成するフォトマスクにおいて、
１）前記フォトマスク上の、位置合わせマークを中央に有する位置合わせマーク部（Ａ）に対して、
２）前記位置合わせマーク部（Ａ）と略同一の幅で、位置合わせマークの中心を原点としたＸ軸方向及びＹ軸方向に隣接した、位置合わせマークの中心へと位置合わせマーク認識用カメラを正確に誘導するための詳細パターンを有する詳細パターン部（Ｂ）と、
３）前記位置合わせマークの中心を原点とした、少なくとも詳細パターン部（Ｂ）を除く、前記Ｘ軸方向及びＹ軸方向で挟まれた少なくとも１象限内で詳細パターン部（Ｂ）に隣接した、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示し位置合わせマーク認識用カメラを詳細パターン部（Ｂ）に誘導するための通常パターンを有する通常パターン部（Ｃ）とで構成する追加パターン部（Ｄ）を設けたことを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記通常パターン部（Ｃ）の通常パターンは、
１）通常パターン部（Ｃ）の領域内のＸ軸方向及びＹ軸方向に通常単位パターン（ＴＰ１）が一定のピッチをもって多数個形成された通常単位パターン（ＴＰ１）の集合体であり、
２）通常単位パターン（ＴＰ１）は、正方形パターン１と、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示する長方形パターン１、長方形パターン２、及び正方形パターン２の配列で構成され、
前記詳細パターン部（Ｂ）の詳細パターンは、
１）詳細パターン部（Ｂ）の領域内のＸ軸方向及びＹ軸方向に、前記通常単位パターン（ＴＰ１）のピッチと同一ピッチで多数個形成された詳細単位パターン（ＴＰ２）の集合体であり、
２）ａ）詳細単位パターン（ＴＰ２）の幅は、前記通常単位パターン（ＴＰ１）の幅と同一で、詳細単位パターン（ＴＰ２）の長さは、詳細パターン部（Ｂ）の幅と略同一であり、
ｂ）詳細単位パターン（ＴＰ２）を構成する複数の矩形パターンは同一の幅を有し、長さは詳細単位パターン（ＴＰ２）の両端から長さ方向の中央（Ｘ軸方向又はＹ軸方向）に向かって順次に短い長さを有し、
ｃ）各矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）は、詳細単位パターン（ＴＰ２）の両端から長さ方向の中央（Ｘ軸方向又はＹ軸方向）に向かって、順次に狭くなり、Ｘ軸又はＹ軸を挟む長さ方向の中央の間隔にて矩形パターン間の間隔は最小となることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載のフォトマスクを用いたことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にパターンを形成するフォトマスク関するものであり、特に、パターンが形成された基板上に、位置合わせをして次のパターンを形成する際に、事前に行う位置合わせマークの位置の登録を容易に行うことのできるフォトマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置やＰＤＰなどの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され使用される。表示装置用カラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。
【０００３】
図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図１、及び図２はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００５】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００６】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトエッチングすることによって形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色フォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられて
いる。また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００８】
図１、及び図２に示すカラーフィルタは、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
【０００９】
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して、例えば、１）保護層（オーバーコート層）、２）半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおける透明部、３）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相をそろえるための光路差調整層、４）カラーフィルタの反射表示の領域への光散乱層、５）スペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）、６）液晶の配向制御を行う配向制御突起、などの種々な機能が付加されるようになった。
上記種々な機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様に基づき１機能、或いは複数の機能が付加される。
【００１０】
上記、基本的な機能を備えたカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００１１】
図３は、基本的な機能を備えたカラーフィルタ上に配向制御突起（Ｍｖ）、及びフォトスペーサー（Ｐｓ）が設けられた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示す断面図である。図３に示すように、この液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、透明電極層（４３）、配向制御突起（Ｍｖ）、及びフォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されたものである。
このカラーフィルタを製造する際には、図１に示すカラーフィルタを作製した後に、配向制御突起（Ｍｖ）を形成し、続いてフォトスペーサー（Ｐｓ）を形成する。
【００１２】
また、図１、及び図２に示すカラーフィルタは、一基の液晶表示装置に対応した１枚のカラーフィルタを表しており、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。
例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
【００１３】
この際の露光方法としては、ガラス基板（４０）のサイズと略同程度のサイズのフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。面付けされたカラーフィルタの画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
この露光法では、フォトレジストの塗布膜が設けられたガラス基板の上方に、近接露光のギャップを介してフォトマスクが配置され、マスクパターンが形成されたフォトマスクは、その遮光膜面を下方、すなわち、ガラス基板の塗布膜に対向させての近接露光が広く採用されている。
【００１４】
図４は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造における近接露光の一例を説明する断面図である。図４に示すように、ガラス基板（４０）上にフォトレジストの塗布膜（４７）が形成され、その上方には近接露光のギャップ（Ｇ）を設けてフォトマスク（ＰＭ）が配置されている。
フォトマスク（ＰＭ）には、カラーフィルタのパターンに対応したマスクパターンが形成
されている。フォトマスクの遮光膜（５１）はフォトレジストの塗布膜（４７）に対向している。近接露光のギャップ（Ｇ）は、通常５０μｍ〜１００μｍ程度のものである。
【００１５】
図５は、前記図３に示す液晶表示装置用カラーフィルタを一括露光法で製造する際に用いるフォトマスクの一例の平面図である。このフォトマスク（ＰＭ１〜ＰＭ６）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、３色の着色画素（４２）、配向制御突起（Ｍｖ）、フォトスペーサー（Ｐｓ）を形成するフォトマスクを表している。
符号（ｅ）は、マスクパターンが形成されたフォトマスクの石英基板上の領域、符号（Ｍ）は位置合わせマーク、符号（５３）は抜き窓を表している。
【００１６】
図５に示すように、位置合わせマーク（Ｍ）及び抜き窓（５３）は、対となって、マスクパターンが形成された領域（ｅ）外の図５中、上部及び下部の左右の位置に各一対、合計四対が設けられている。
この６枚のフォトマスクにおいて、石英基板のサイズ、石英基板上の位置合わせマーク（Ｍ）及び抜き窓（５３）の位置は左右対称で同一になっている。すなわち、６枚のフォトマスクにおける石英基板上の位置合わせマーク（Ｍ）の位置、位置合わせマーク（Ｍ）間の距離（ａ、ｂ）は同一のものである。
【００１７】
尚、抜き窓（５３）は、前記図４に示す近接露光を行う際に、フォトマスクの遮光膜（５１）とガラス基板上にフォトレジストの塗布膜（４７）の距離（近接露光のギャップ（Ｇ））を設定するためにセンサーが距離を検知する窓である。
この窓の部分には遮光膜は形成されていない。
【００１８】
図６は、位置合わせマーク（Ｍ）の一例の平面形状を拡大して示す説明図である。位置合わせマーク（Ｍ）の大きさ（ｈ×ｉ）は、２３０μｍ×２３０μｍ程度のものである。
【００１９】
図７は、露光装置が位置合わせを行う際に作動する、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）と位置合わせマーク（Ｍ）との位置関係を示す図６Ｘ−Ｘ線での側断面図である。位置合わせマーク認識用カメラ（６０）は、露光装置に設けられており、フォトマスク（ＰＭ）の上方に位置し、位置合わせマーク（Ｍ）をフォトマスク（ＰＭ）の上方から検出する。
図６に示す範囲（ｆ×ｇ）は、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）の撮像範囲であり５００μｍ×５００μｍ程度のものである。
【００２０】
図８は、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（４０）（図８（ａ））と、次の工程で形成するカラーフィルタのパターンである、例えば、赤色の着色画素を形成するフォトマスク（ＰＭ２）（図８（ｂ））の位置合わせを説明する平面図である。フォトマスク（ＰＭ２）とガラス基板（４０）の位置合わせ時の位置関係は、図４に側断面で示すように、上下の位置に配置されているのであるが、説明上、図８では左右に配している。
【００２１】
図８（ａ）にて、符号（ｅ１１）は、ガラス基板（４０）上のブラックマトリックス（図示せず）が形成された領域、符号（Ｍ１１）はガラス基板（４０）上に形成された位置合わせマークである。
ガラス基板（４０）上のブラックマトリックスが形成された領域（ｅ１１）内のブラックマトリックス、及び位置合わせマーク（Ｍ１１）は、ブラックマトリックスを形成する際に用いたフォトマスク（ＰＭ１）上に描画されていたマスクパターン及び位置合わせマーク（Ｍ１）が転写されたものである。この際のガラス基板（４０）とフォトマスク（ＰＭ１）の位置合わせは、ガラス基板（４０）の端部を基準として行われる。
【００２２】
図８（ｂ）は、赤色の着色画素を形成するフォトマスク（ＰＭ２）であり、符号（ｅ２
）は、赤色の着色画素のマスクパターンが形成された領域、符号（Ｍ２）は位置合わせマークである。
【００２３】
露光装置におけるガラス基板（４０）の位置合わせマーク（Ｍ１１）と、フォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）の位置合わせは、次のようにして行われる。
１）赤色の着色画素を形成するフォトマスク（ＰＭ２）は既に露光装置にセットされた状態で、赤色の着色フォトレジストの塗布膜が形成されたガラス基板（４０）がフォトマスク（ＰＭ２）の下方の定位置に搬入されると、
２）フォトマスク（ＰＭ２）の上方に設けられている前記位置合わせマーク認識用カメラ（６０）は、フォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）の位置に自動で移動して位置合わせマーク（Ｍ２）を検出し、
３）フォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）とガラス基板（４０）の位置合わせマーク（Ｍ１１）を視野に入れ、露光装置はフォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）とガラス基板（４０）の位置合わせマーク（Ｍ１１）の位置を合わせる。
【００２４】
フォトマスク（ＰＭ２）を介した露光が着色フォトレジストの塗布膜に与えられた後に、ガラス基板（４０）は露光装置から搬出され、次のガラス基板がフォトマスク（ＰＭ２）の下方の定位置に搬入される。
【００２５】
上記のように、搬入されたガラス基板（４０）の位置合わせマーク（Ｍ１１）とフォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）の位置合わせを自動で行わせるためには、事前の作業として、露光装置にフォトマスク（ＰＭ２）をセットした時の、フォトマスク（ＰＭ２）の位置合わせマーク（Ｍ２）の露光装置上でのＸＹ位置を露光装置に登録しておく作業が必要となる。
【００２６】
この位置合わせマーク（Ｍ２）のＸＹ位置を露光装置に登録しておく作業は、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を用いての手動の操作によるものである。例えば、フォトマスク（ＰＭ２）を露光装置にセットし、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を手動で移動させて位置合わせマーク（Ｍ２）を見出し、その位置を登録する。前記２３０μｍ×２３０μｍ程度の位置合わせマーク（Ｍ２）の大きさに対し、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）の視野は５００μｍ×５００μｍ程度であり視野は狭い。
【００２７】
この位置合わせマーク（Ｍ２）の大きさに対する、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）の視野の大きさもさることながら、前記図８（ｂ）に示す、石英基板端からの位置合わせマーク（Ｍ２）の位置（ｃ、ｄ）は、石英基板上の一定の位置に設けるように定められているものではなく、カラーフィルタの品目毎に、その仕様、面取りに基づき変動するために、手動での位置合わせマーク（Ｍ２）の見出しには時間を費やすこととなる。
【００２８】
例えば、前記図５に示すような、１品目に６枚のフォトマスク（ＰＭ１〜ＰＭ６）を使用する際には、フォトマスク１枚において４ヵ所の位置合わせマークの登録となるので、４ヵ所×５枚といった多数の位置合わせマーク（Ｍ２〜Ｍ６）の位置の登録が必要となる。
このため、露光装置及びフォトマスクに関する豊富な知識を有する熟練者が行っても位置の登録には長時間を費やすことになる。
【００２９】
上記問題を解決する策として、例えば、露光装置の位置合わせマーク認識用カメラ（６０）の倍率を低くして視野を広く、或いは複数の倍率を持たせることなどが考えられるが、既存の露光装置を改造することは容易なことではない。
【００３０】
尚、上記位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を用いた位置合わせマーク（Ｍ２）を
登録する作業は、新品目（新版）のフォトマスクを作製した場合に行うものであり、一度、登録をすれば、カラーフィルタを再製造（重版）する際には再登録をする必要はなく登録した内容は再利用される。
【特許文献１】特開平８−２２１３１号公報
【特許文献２】特開２００４−３４１２７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、例えば、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを一括露光法で製造する露光装置を用い、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上にカラーフィルタを構成するパターンを露光する際に、事前に行う手動によるフォトマスクの位置合わせマークの位置の登録作業を極めて容易に行うことのできるフォトマスクを提供することを課題とするものである。
これにより、フォトマスクの位置合わせマークの位置の登録作業に費やす時間は大幅に短縮されたものとなる。
【課題を解決するための手段】
【００３２】
本発明は、パターンが形成された基板上に、該基板上の位置合わせマークに対し位置合わせをして次のパターンを形成するフォトマスクにおいて、
１）前記フォトマスク上の、位置合わせマークを中央に有する位置合わせマーク部（Ａ）に対して、
２）前記位置合わせマーク部（Ａ）と略同一の幅で、位置合わせマークの中心を原点としたＸ軸方向及びＹ軸方向に隣接した、位置合わせマークの中心へと位置合わせマーク認識用カメラを正確に誘導するための詳細パターンを有する詳細パターン部（Ｂ）と、
３）前記位置合わせマークの中心を原点とした、少なくとも詳細パターン部（Ｂ）を除く、前記Ｘ軸方向及びＹ軸方向で挟まれた少なくとも１象限内で詳細パターン部（Ｂ）に隣接した、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示し位置合わせマーク認識用カメラを詳細パターン部（Ｂ）に誘導するための通常パターンを有する通常パターン部（Ｃ）とで構成する追加パターン部（Ｄ）を設けたことを特徴とするフォトマスクである。
【００３３】
また、本発明は、上記発明によるフォトマスクにおいて、前記通常パターン部（Ｃ）の通常パターンは、
１）通常パターン部（Ｃ）の領域内のＸ軸方向及びＹ軸方向に通常単位パターン（ＴＰ１）が一定のピッチをもって多数個形成された通常単位パターン（ＴＰ１）の集合体であり、
２）通常単位パターン（ＴＰ１）は、正方形パターン１と、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示する長方形パターン１、長方形パターン２、及び正方形パターン２の配列で構成され、
前記詳細パターン部（Ｂ）の詳細パターンは、
１）詳細パターン部（Ｂ）の領域内のＸ軸方向及びＹ軸方向に、前記通常単位パターン（ＴＰ１）のピッチと同一ピッチで多数個形成された詳細単位パターン（ＴＰ２）の集合体であり、
２）ａ）詳細単位パターン（ＴＰ２）の幅は、前記通常単位パターン（ＴＰ１）の幅と同一で、詳細単位パターン（ＴＰ２）の長さは、詳細パターン部（Ｂ）の幅と略同一であり、
ｂ）詳細単位パターン（ＴＰ２）を構成する複数の矩形パターンは同一の幅を有し、長さは詳細単位パターン（ＴＰ２）の両端から長さ方向の中央（Ｘ軸方向又はＹ軸方向）に向かって順次に短い長さを有し、
ｃ）各矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）は、詳細単位パターン（ＴＰ２）の両端から長さ方向の中央（Ｘ軸方向又はＹ軸方向）に向かって、順次に狭くなり、Ｘ軸又はＹ軸を挟む長さ方向の中央の間隔にて矩形パターン間の間隔は最小となることを特徴とするフォトマスクである。
【００３４】
また、本発明は、請求項１又は請求項２記載のフォトマスクを用いたことを特徴とする露光方法である。
【発明の効果】
【００３５】
本発明は、１）フォトマスク上の、位置合わせマークを中央に有する位置合わせマーク部（Ａ）に対して、２）前記位置合わせマーク部（Ａ）と略同一の幅で、位置合わせマークの中心を原点としたＸ軸方向及びＹ軸方向に隣接した、位置合わせマークの中心へと位置合わせマーク認識用カメラを正確に誘導するための詳細パターンを有する詳細パターン部（Ｂ）と、３）前記位置合わせマークの中心を原点とした、少なくとも詳細パターン部（Ｂ）を除く、前記Ｘ軸方向及びＹ軸方向で挟まれた少なくとも１象限内で詳細パターン部（Ｂ）に隣接した、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示し位置合わせマーク認識用カメラを詳細パターン部（Ｂ）に誘導するための通常パターンを有する通常パターン部（Ｃ）とで構成する追加パターン部（Ｄ）を設けたフォトマスクであるので、例えば、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを一括露光法で製造する露光装置を用い、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上にカラーフィルタを構成するパターンを露光する際に、事前に行う手動によるフォトマスクの位置合わせマークの位置の登録作業を極めて容易に行うことのできるフォトマスクとなる。
【００３６】
また、本発明は、上記フォトマスクを用いた露光方法であるので、例えば、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを一括露光法で製造する露光装置を用い、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上にカラーフィルタを構成するパターンを露光する際に、事前に行う手動によるフォトマスクの位置合わせマークの位置の登録作業を極めて容易に行うことのできる露光方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図９は、前記図３に示す液晶表示装置用カラーフィルタを一括露光法で製造する際に用いる、本発明によるフォトマスクの一例の平面図である。このフォトマスク（ＰＭ１１〜ＰＭ１６）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、３色の着色画素（４２）、配向制御突起（Ｍｖ）、フォトスペーサー（Ｐｓ）を形成するフォトマスクを表している。
符号ｅはマスクパターンが形成されたフォトマスクの石英基板上の領域、符号Ｄは本発明における追加パターン部、符号Ａは位置合わせマーク部、符号５３は抜き窓を表している。
【００３８】
図９に示すように、位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）は組となって、マスクパターンが形成された領域（ｅ）外の図９中、上部及び下部の左右の位置に各一組、合計四組が設けられている。
この６枚のフォトマスクにおいて、石英基板のサイズは同一、また、位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）の位置は左右対称で同一になっている。すなわち、６枚のフォトマスクにおける石英基板上の位置合わせマーク（Ｍ）の位置、位置合わせマーク（Ｍ）間の距離（ａ、ｂ）は同一のものである。
【００３９】
図１０は、図９における上部右の位置に設けられている位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）を拡大した平面図である。
図１０に示すように、位置合わせマーク（Ｍ）を中央に有する位置合わせマーク部（Ａ）に対して、詳細パターン部（Ｂ）が位置合わせマーク部（Ａ）と略同一の幅で、位置合わせマーク（Ｍ）の中心を原点（Ｏ）としたＸ軸方向及びＹ軸方向に隣接して設けられている。
詳細パターン部（Ｂ）には、位置合わせマーク（Ｍ）の中心へと位置合わせマーク認識用カメラを正確に誘導するための詳細パターン（図示せず）が形成されている。
【００４０】
また、位置合わせマーク（Ｍ）の中心を原点（Ｏ）とした、詳細パターン部（Ｂ）を除くＸ軸方向及びＹ軸方向で挟まれた第１象限内には、詳細パターン部（Ｂ）に隣接して通常パターン部（Ｃ）が設けられている。
通常パターン部（Ｃ）には、位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示し、位置合わせマーク認識用カメラを詳細パターン部（Ｂ）に誘導するための通常パターン（図示せず）が形成されている。
本発明における追加パターン部（Ｄ）は、詳細パターン部（Ｂ）と通常パターン部（Ｃ）で構成されている。
【００４１】
図１１は、図１０に示す通常パターン部（Ｃ）に形成されている通常パターンの一例の部分を拡大した平面図である。図１１に示すように、通常パターンは通常単位パターン（ＴＰ１）の集合体である。この集合体は、通常パターン部（Ｃ）の領域内のＸ軸方向及びＹ軸方向に通常単位パターン（ＴＰ１）が一定のピッチをもって多数個形成されたものである。
Ｘ軸方向のピッチとＹ軸方向のピッチは同一のピッチ（Ｐ１０）である。
【００４２】
図１２は、図１１に示す通常単位パターン（ＴＰ１）を拡大し、通常単位パターン（ＴＰ１）の構成を説明する平面図である。図１２に示すように、通常単位パターン（ＴＰ１）は、正方形パターン１（１１）と、図１２中、正方形パターン１（１１）上方に位置する長方形パターン１（１２）及び右方に位置する長方形パターン２（１３）と、正方形パターン１（１１）の右上偶の対角線延長上に位置する正方形パターン２（１４）で構成されている。
【００４３】
通常単位パターン（ＴＰ１）の正方形パターン１（１１）に対する、長方形パターン１（１２）、長方形パターン２（１３）、及び正方形パターン２（１４）の配列の状態が、図１０においての位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を表している。
図１１に白太矢印で示すように、図１１中、左方斜下方の方向に位置合わせマーク部（Ａ）が設けられていることを表している。
尚、通常単位パターン（ＴＰ１）は、フォトマスクの遮光膜をパターニングして形成したものであり、遮光部となっている。
【００４４】
正方形パターン１（１１）の一辺（ｌ）は、１００μｍ程度であるので、位置合わせマーク認識用カメラの視野（５００μｍ×５００μｍ）では数個の通常単位パターン（ＴＰ１）を観視することができる。
尚、通常単位パターン（ＴＰ１）を構成する各パターンのサイズは、正方形パターン１（１１）はｌ×ｌ＝１００μｍ×１００μｍ、長方形パターン１（１２）はｌ×ｋ＝１００μｍ×１０μｍ、長方形パターン２（１３）はｋ×ｌ＝１０μｍ×１００μｍ、正方形パターン２（１４）はｋ×ｋ＝１０μｍ×１０μｍ程度のものである。
【００４５】
図１３は、図１０に示す位置合わせマーク部（Ａ）の近傍、すなわち、位置合わせマーク部（Ａ）と、詳細パターン部（Ｂ）の一例の一部分を拡大した平面図である。図１３に示すように、位置合わせマーク部（Ａ）の中央には位置合わせマーク（Ｍ）が形成されている。また、詳細パターン部（Ｂ）に形成されている詳細パターンは詳細単位パターン（
ＴＰ２）の集合体である。
【００４６】
図１３においては詳細単位パターン（ＴＰ２）の描画個数を省略し、Ｘ軸方向に３個が表されているが、詳細単位パターン（ＴＰ２）は詳細パターン部（Ｂ）の領域内のＸ軸方向に、前記通常単位パターン（ＴＰ１）のピッチと同一ピッチ（Ｐ１０）で多数個形成されている。
Ｘ軸方向の詳細単位パターン（ＴＰ２）の配列と、Ｙ軸方向の詳細単位パターン（ＴＰ２）の配列との関係は、位置合わせマーク部（Ａ）の位置合わせマーク（Ｍ）の中心を原点（Ｏ）として、Ｘ軸方向の詳細単位パターン（ＴＰ２）の配列又はＹ軸方向の詳細単位パターン（ＴＰ２）の配列を９０°回転をさせた関係になっている。
【００４７】
詳細パターン部（Ｂ）の幅は、位置合わせマーク部（Ａ）の幅と略同一の幅（ｍ）となっている。また、詳細単位パターン（ＴＰ２）の幅（ｌ）は、前記通常単位パターン（ＴＰ１）の幅（ｌ）と同一で１００μｍ程度のものである。詳細単位パターン（ＴＰ２）の長さは、詳細パターン部（Ｂ）の幅（ｍ）と略同一で１０００μｍ程度のものである。
【００４８】
詳細単位パターン（ＴＰ２）を構成する矩形パターン（２１）、矩形パターン（２２）、矩形パターン（２３）は、同一の幅（ｌ）を有し、長さは詳細単位パターン（ＴＰ２）の長さ方向の中央に（Ｘ軸方向に）向かって順次に短い長さを有する矩形パターンである。
図１３中、詳細単位パターン（ＴＰ２）の上端から長さ方向の中央に（Ｘ軸方向に）向かって矩形パターン（２１）、矩形パターン（２２）、矩形パターン（２３）の順序に形成され、Ｘ軸の下方では順序が逆になり、矩形パターン（２３）、矩形パターン（２２）、矩形パターン（２１）の順序に形成されている。
【００４９】
各矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）は、図１３中、詳細単位パターン（ＴＰ２）の上端から長さ方向の中央に（Ｘ軸方向に）向かって、間隔３（Ｗ３）、間隔２（Ｗ２）、間隔１（Ｗ１）と順序に狭くなっている。Ｘ軸の下方では順序が逆になり、Ｘ軸を挟む間隔１（Ｗ１）にて矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）は最小になっている。
【００５０】
矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）は、詳細単位パターン（ＴＰ２）の上端からＸ軸方向に向かって、次第に狭くなっているので、白太矢印で示すように、詳細単位パターン（ＴＰ２）は、矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）が狭くなる方向にＸ軸があることを表すことになる。
また、矩形パターン間の間隔が最小の間隔１（Ｗ１）内にＸ軸が位置するので、間隔１（Ｗ１）内の図１３中、左方に位置合わせマーク（Ｍ）の中心があることを表すことになる。
【００５１】
作業者が、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を手動で移動させて位置合わせマーク（Ｍ）を見出す際には、
１）先ず、通常パターン部（Ｃ）の領域内に形成されている通常パターンの図１１に示す通常単位パターン（ＴＰ１）を位置合わせマーク認識用カメラ（６０）の視野に入れ、
２）通常単位パターン（ＴＰ１）による位置合わせマーク部（Ａ）の凡その方向を指示に従い、通常単位パターン（ＴＰ１）に誘導されながら位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を詳細パターン部（Ｂ）に移動する。位置合わせマーク認識用カメラ（６０）はＸ軸方向の詳細パターン部（Ｂ）又はＹ軸方向の詳細パターン部（Ｂ）に誘導される。
３）次に、詳細単位パターン（ＴＰ２）によるＸ軸方向への指示又はＹ軸方向への指示に従い、詳細単位パターン（ＴＰ２）に誘導されながら位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を最小の間隔（Ｗ１）に移動する。
４）続いて、位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を間隔（Ｗ１）内のＸ軸左方向又はＹ軸下方向へ移動し、位置合わせマーク（Ｍ）の中心を視野に入れる。
【００５２】
すなわち、通常パターン部（Ｃ）の通常単位パターン（ＴＰ１）の誘導と、詳細パターン部（Ｂ）の詳細単位パターン（ＴＰ２）による誘導によって位置合わせマーク認識用カメラ（６０）を極めて容易に位置合わせマーク（Ｍ）の中心へ移動させることができる。
【００５３】
図１４（１）は、図１０を縮小し、通常パターン部（Ｃ）の通常パターンを構成する通常単位パターン（ＴＰ１）の１個を拡大して示したものである。図１４（１）は、前記図９における上部右の位置に設けた位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）を表しており、通常パターン部（Ｃ）内に形成された通常単位パターン（ＴＰ１）の方向の指示（正方形パターン１に対する、長方形パターン１、長方形パターン２、及び正方形パターン２の配列）は、白太矢印の方向を表すものとなっている。
【００５４】
また、図１４（２）は図９における下部右の位置に、図１４（３）は下部左の位置に、（４）は上部左の位置に、各々形成された通常パターン部（Ｃ）であり、各通常パターン部（Ｃ）内での通常単位パターン（ＴＰ１）の方向の指示を表したパターンの上記配列は異なったものとなっている。
【００５５】
また、図１０に示す例は、位置合わせマーク（Ｍ）の中心を原点としたＸ軸の＋方向、及びＹ軸の＋方向に詳細パターン部（Ｂ）が設けられ、第一象限に通常パターン部（Ｃ）が設けられた例であるが、図９における上部右の位置に設けられる位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）の組としては、図１０に示す例に限定されるものではない。
【００５６】
例えば、詳細パターン部（Ｂ）の位置は、Ｘ軸の＋方向又は／及び−方向、Ｙ軸の＋方向又は／及び−方向であり、必要に応じ適宜に設定することができる。
また、詳細パターン部（Ｂ）の位置に伴って、通常パターン部（Ｃ）の位置は、第一象限〜第四象限の１象限或いは複数象限を必要に応じ適宜に設定することができる。
【００５７】
尚、図１５は、露光装置の遮蔽ユニット（７０）を示す平面図である。図１５に示すように、露光装置にはフォトマスクを介してのガラス基板への露光の際に、位置合わせマーク部（Ａ）、追加パターン部（Ｄ）、及び抜き窓（５３）を照射光から遮蔽する機構である遮蔽ユニット（７０）が設けられているので、本発明による追加パターン部（Ｄ）がカラーフィルタの製造に悪影響を及ぼすことはない。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図３】配向制御突起、及びフォトスペーサーが設けられた液晶表示装置用カラーフィルタの一例を模式的に示す断面図である。
【図４】液晶表示装置用カラーフィルタの製造における近接露光の一例を説明する断面図である。
【図５】図３に示す液晶表示装置用カラーフィルタを一括露光法で製造する際に用いるフォトマスクの一例の平面図である。
【図６】位置合わせマークの一例の平面形状を拡大して示す説明図である。
【図７】位置合わせマーク認識用カメラと位置合わせマークとの位置関係を示すＸ−Ｘ線での側断面図である。
【図８】（ａ）はブラックマトリックスが形成されたガラス基板平面図である。（ｂ）は赤色の着色画素を形成するフォトマスクの位置合わせを説明する平面図である。
【図９】図３に示す液晶表示装置用カラーフィルタに用いる、本発明によるフォトマスクの一例の平面図である。
【図１０】図９における上部右の位置に設けられている位置合わせマーク部、追加パターン部、及び抜き窓を拡大した平面図である。
【図１１】図１０に示す通常パターン部に形成されている通常パターンの一例の部分を拡大した平面図である。
【図１２】図１１に示す通常単位パターンの構成を説明する平面図である。
【図１３】位置合わせマーク部と詳細パターン部の一例の一部分を拡大した平面図である。
【図１４】（１）は図１０を縮小し、通常単位パターンを１個の拡大した図である。（２）は図９の下部右の位置の通常単位パターンである。（３）は図９の下部左の位置の通常単位パターンである。（４）は図９の上部左の位置の通常単位パターンである。
【図１５】露光装置の遮蔽ユニットを示す平面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１１・・・正方形パターン１
１２・・・長方形パターン１
１３・・・長方形パターン２
１４・・・正方形パターン２
２１、２２、２３・・・矩形パターン
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
４７・・・フォトレジストの塗布膜
５１・・・遮光膜
５３・・・抜き窓
６０・・・位置合わせマーク認識用カメラ
７０・・・露光装置の遮蔽ユニット
Ａ・・・位置合わせマーク部
Ｂ・・・詳細パターン部
Ｃ・・・通常パターン部
Ｄ・・・追加パターン部
Ｇ・・・近接露光のギャップ
Ｍ・・・位置合わせマーク
Ｍ１・・・ブラックマトリックスを形成する際に用いたフォトマスク上の位置合わせマーク
Ｍ２・・・赤色の着色画素を形成するフォトマスクの位置合わせマーク
Ｍ１１・・・ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上の位置合わせマーク
Ｍｖ・・・配向制御突起
Ｏ・・・位置合わせマークの中心の原点
Ｐ１０・・・通常単位パターンのピッチ
Ｐｓ・・・フォトスペーサー
ＰＭ・・・フォトマスク
ＰＭ１・・・ブラックマトリックスを形成する際に用いたフォトマスク
ＰＭ２・・・赤色の着色画素を形成するフォトマスク
ＰＭ１１〜ＰＭ１６・・・本発明によるフォトマスク
ＴＰ１・・・通常単位パターン
ＴＰ２・・・詳細単位パターン
Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３・・・矩形パターン間の間隔（遮光膜が形成されていない部分）
ｅ２・・・赤色の着色画素のマスクパターンが形成された領域
ｅ１１・・・ブラックマトリックスが形成された領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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