(57)【要約】【課題】  例えばＣバンド、Ｘバンド等の小型の加速管でも、管構造の外周全体に均一な電鋳層を形成できる加速管の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】  円筒状のスペーサ１１と有孔円板状のディスク１３とを交互に複数個重ね合せ略円筒形状をした管構造３とした後、管構造３の外周に電鋳層１５を形成し一体化する加速管１の製造方法において、管構造３は、その外周面よりも外側に配置された複数の押え棒４５によって軸線方向に押圧保持され、隣り合う押え棒４５間の間隔Ｌ１よりも短い幅Ｌ２を有し、軸線方向に延在する電極８３を、各隣り合う押え棒４５間の外側に配置し、電鋳液９９中で管構造３と電極８３との間に電流を流して電鋳を行うことを特徴とする。【選択図】      図６
2007048513.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状のスペーサと有孔円板状のディスクとを交互に複数個重ね合せ略円筒形状をした管構造とした後、該管構造の外周に電鋳層を形成し一体化する加速管の製造方法において、
前記管構造は、その外周面よりも外側に配置された複数の固定棒によって軸線方向に押圧保持され、
隣り合う前記固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、前記軸線方向に延在する電極を、各隣り合う前記固定棒間の外側に配置し、
電鋳液中で前記管構造と前記電極との間に電流を流して電鋳を行うことを特徴とする加速管の製造方法。
【請求項２】
前記電極の前記軸線方向に交差する交差方向には、該交差方向に延長して設けられ、絶縁部材で構成された延長部が備えられていることを特徴とする請求項１に記載の加速管の製造方法。
【請求項３】
電鋳中、前記管構造の周囲に上昇流を形成することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の加速管の製造方法。
【請求項４】
円筒状のスペーサと有孔円板状のディスクを交互に複数個重ね合せ略円筒形状をした管構造とした後、該管構造の外周に電鋳層を形成し一体化する加速管の製造装置において、
前記管構造の外周面よりも外側に配置され、前記管構造を軸線方向に押圧保持する複数の固定棒と、
各隣り合う前記固定棒間の外側に配置され、隣り合う前記固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、前記軸線方向に延在する電極と、
を備えることを特徴とする加速管の製造装置。
【請求項５】
前記電極の前記軸線方向に交差する交差方向には、交差方向に延長され、絶縁部材で構成された延長部を備えていることを特徴とする請求項４に記載の加速管の製造装置。
【請求項６】
前記管構造の周囲でかつ下方位置に、上方に向かい気体を噴出する気体噴出手段が備えられていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の加速管の製造装置。
【請求項７】
前記管構造と前記電極とを結ぶ面内で、前記管構造の上下端部に対応する位置に、絶縁部材で形成された遮蔽板を備えていることを特徴とする請求項４から請求項６のいずれかに記載の加速管の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加速管の製造方法および製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
加速管の加速部を構成する管構造は、円筒状のスペーサと有孔円板状のディスクを交互に複数個積み重ねて軸方向に荷重をかけた状態で銅電鋳され、形成される電析物の層すなわち電鋳層によって一体化されている。
この電鋳方法は、例えば非特許文献１に示されている。非特許文献１に示される電鋳方法は、図７に示すように、円筒状のスペーサ１０１と有孔円板状のディスク１０３とを交互に複数個積み重ねて管構造１０５を形成する。そして、管構造１０５の中心軸線部に押え棒１０７を挿通し、両端に配置した押え蓋１０９を介して押え棒１０５の両端をボルトで締め付けることによって軸方向に荷重をかけて電鋳槽１１１の電鋳液１１３に浸漬させる。管構造１０５の周囲に複数のチタン製バスケットに銅製アノードボールを入れた電極１１５を配置し、管構造１０５と電極１１５との間に電流をかけて電鋳を行い、管構造１０５の外周に電鋳層を形成するものである。
【０００３】
従来製造されていた例えばＳバンドの加速管のような外径が８２ｍｍのものでは、ディスク１０３の孔径も大きいので、管構造１０５の中心軸線部に押え棒１０７を挿通することができる。
しかしながら、サイズがより小さいＣバンドあるいはＸバンドの加速管の場合には、ディスク１０３の孔径が小さくなるので、孔の周囲を傷つけずに押え棒１０７を挿通することは困難である。このため、図７に示されるものでは製造ができない。
これを解消するために、図８に示されるように、押え棒１０７は管構造１０５の外側に複数本設けられ、管構造１０５をその外側で固定することが提案されている。
【０００４】
【非特許文献１】ＪＡＭＥＳ  Ａ．  ＰＯＰＥ，「ＥＬＥＣＴＲＯＦＯＲＭＩＮＧ  ＯＦ  ＬＩＮＥＡＲ  ＡＣＣＥＬＥＲＡＴＯＲ  ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ」，”ＰＬＡＴＩＮＧ”，（ＵＳ），ＡＭＥＲＩＣＡＮ  ＥＬＥＣＴＲＯＰＬＡＴＥＲＳ  ＡＮＤ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＦＩＮＩＳＨＥＲＳ  ＳＯＣＩＥＴＹ，１９５７  ＤＥＣＥＭＢＥＲ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、図８に示されるものでは、押え棒１０７は管構造１０５の外径部近傍にあるため、電極１１５から管構造１０５に向かって流れる電解電流１１７は押え棒１０７によって阻害され、陰になる部分では電鋳層の形成が良好に行われない。このため、管構造１０５の外周に均一な電鋳槽が形成できないという問題がある。
これを回避しようとして、例えば押え棒１０７の位置を管構造１０５から遠ざけるのは、管構造１０５を構成するディスク１０３とスペーサ１０１とを精度良く固定することができなくなるので、管構造１０５のシール性や電気的接触に問題がある。また、例えば押え棒１０７の影になる部分を分散させるべく押え棒１０７を管構造１０５に対して相対回転させるのは、機構が複雑になり現実的でない。
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑み、例えばＣバンド、Ｘバンド等の小型の加速管でも、管構造の外周全体に均一な電鋳層を形成できる加速管の製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。
すなわち、本発明にかかる加速管の製造方法は、円筒状のスペーサと有孔円板状のディスクとを交互に複数個重ね合せ略円筒形状をした管構造とした後、該管構造の外周に電鋳層を形成し一体化する加速管の製造方法において、前記管構造は、その外周面よりも外側に配置された複数の固定棒によって軸線方向に押圧保持され、隣り合う前記固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、前記軸線方向に延在する電極を、各隣り合う前記固定棒間の外側に配置し、電鋳液中で前記管構造と前記電極との間に電流を流して電鋳を行うことを特徴とする。
【０００８】
このように、管構造は、その外周面よりも外側に配置された固定部材によって軸線方向に押圧保持されているので、ディスクの孔径が小さく軸線中心に固定部材を配置できない例えばＣバンド、Ｘバンド等の小型のものでも、ディスクとスペーサとを押圧固定できる。
また、隣り合う固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、軸線方向に延在する電極を、各隣り合う固定棒間の外側に配置し、電鋳液中で管構造と電極との間に電流を流して電鋳を行うので、電極からの電解電流（電機力線）は隣り合う固定棒の間を通って管構造に向かうことになる。電解電流は固定棒の間を通ると、電解電流の流れは阻害され乱れることがないので、管構造の外周には均一な電鋳層を形成することができる。
さらに、管構造は、電極とは関係なく組立てることができるので、十分なシール性および電気的接触を保った管構造の組立てを容易に行うことができる。また、管構造と電極とは別個に設置できるので、電鋳の途中で管構造を引き上げて電鋳の状況を確認することができる。
なお、電極の管構造に対向する面は、電解電流の流れを効率化する点から隣り合う固定棒を結ぶ面と略平行になるようにするのが好適である。
【０００９】
また、上記発明にかかる加速管の製造方法では、電極の軸線方向に交差する交差方向には、交差方向に延長して設けられ、絶縁部材で構成された延長部が備えられていることを特徴とする。
【００１０】
このように、電極の軸線方向に交差する交差方向には、交差方向に延長して設けられ、絶縁部材で構成された延長部が備えられているので、隣り合う電極の延長部が相互に近接するように設けると、電極によって上下方向を除く略閉鎖空間を形成することができる。
このため、電鋳液が側外方に流出することがなくなるので、安定した電鋳を行なうことができる。
【００１１】
また、上記発明にかかる加速管の製造方法では、電鋳中、前記管構造の周囲に上昇流を形成することを特徴とする。
【００１２】
このように、電鋳中、管構造の周囲に上昇流を形成するので、電鋳液は管構造の周りを上昇し、電極の上を越して外側を下降し、電極の下方から再度管構造の周りに入る循環流を発生させることができる。
この循環流によって、管構造の周りの電鋳液は、上下方向に強く攪拌されるので、管構造の全面にわたり均一な組成とされる。このため、管構造の全面にわたり均一な電鋳層を形成することができる。
【００１３】
本発明にかかる加速管の製造装置は、円筒状のスペーサと有孔円板状のディスクを交互に複数個重ね合せ略円筒形状をした管構造とした後、該管構造の外周に電鋳層を形成し一体化する加速管の製造装置において、前記管構造の外周面よりも外側に配置され、前記管構造を軸線方向に押圧保持する複数の固定棒と、各隣り合う前記固定棒間の外側に配置され、隣り合う前記固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、前記軸線方向に延在する電極と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、外周面よりも外側に配置された固定棒によって軸線方向に押圧保持された管構造と、隣り合う前記固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、前記軸線方向に延在する電極と、を電鋳液に浸漬し、これらの間に電流を流して管構造の外周に電鋳層を形成する。
このように、管構造はその外周面よりも外側に配置された固定部材によって軸線方向に押圧保持されるので、ディスクの孔径が小さく軸線中心に固定部材を配置できない例えばＣバンド、Ｘバンド等の小型のものでも、ディスクとスペーサとを押圧固定できる。
また、隣り合う固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、軸線方向に延在する電極を、各隣り合う固定棒間の外側に配置し、電鋳液中で管構造と電極との間に電流を流して電鋳を行うので、電極からの電解電流（電機力線）は隣り合う固定棒の間を通って管構造に向かうことになる。電解電流は固定棒の間を通ると、電解電流の流れは阻害され乱れることがないので、管構造の外周には均一な電鋳層を形成することができる。
さらに、管構造は、電極とは関係なく組立てることができるので、十分なシール性および電気的接触を保った管構造の組立てを容易に行うことができる。また、管構造と電極とは別個に設置できるので、電鋳の途中で管構造を引き上げて電鋳の状況を確認することができる。
【００１５】
また、上記発明にかかる加速管の製造装置は、前記電極の前記軸線方向に交差する交差方向には、交差方向に延長され、絶縁部材で構成された延長部を備えていることを特徴とする。
【００１６】
このように、電極の前記軸線方向に交差する交差方向には、交差方向に延長され、絶縁部材で構成された延長部を備えているので、隣り合う電極の延長部が相互に近接するように設けると、電極によって上下方向を除く略閉鎖空間を形成することができる。
このため、電鋳液が側外方に流出することがなくなるので、安定した電鋳を行なうことができる。
【００１７】
また、上記発明にかかる加速管の製造装置では、前記管構造の周囲でかつ下方位置に、上方に向かい気体を噴出する気体噴出手段が備えられていることを特徴とする。
【００１８】
このように、管構造の周囲でかつ下方位置に、上方に向かい気体を噴出する気体噴出手段が備えられているので、電鋳中、気体噴出手段から気体を噴出することによって管構造の周囲に上昇流を形成することができる。形成された上昇流によって電鋳液は管構造の周りを上昇し、電極の上を越して外側を下降し、電極の下方から再度管構造の周りに入る循環流が発生される。
この循環流によって、管構造の周りの電鋳液は、上下方向に強く攪拌されるので、管構造の全面にわたり均一な組成とされる。このため、管構造の全面にわたり均一な電鋳層を形成することができる。
【００１９】
また、上記発明にかかる加速管の製造装置は、前記管構造と前記電極とを結ぶ面内で、前記管構造の上下端部に対応する位置に、絶縁部材で形成された遮蔽板を備えていることを特徴とする。
【００２０】
このように、管構造と電極とを結ぶ面内で、管構造の上下端部に対応する位置に、絶縁部材で形成された遮蔽板が備えられているので、電解電流が集中する管構造の上下端部において電解電流を制限することができる。
このため、管構造の上下端部において電解電流の集中によって電鋳層が厚くなることを防止できるので、管構造の全面において均一な電鋳層を形成することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明にかかる加速管の製造方法および製造装置によれば、管構造は、その外周面よりも外側に配置された固定棒によって軸線方向に押圧保持されているので、ディスクの孔径が小さく軸線中心に固定部材を配置できない小型のものでも、ディスクとスペーサとを押圧固定できる。
また、隣り合う固定棒間の間隔よりも短い幅を有し、軸線方向に延在する電極を、各隣り合う固定棒間の外側に配置しているので、全体に均一な電鋳層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態について、図を用いて説明する。
図１は、本発明の加速管の製造方法が対象とする加速管１の主要部分の概略構成を示し、上部が断面を示す部分断面図である。
加速管１には、多数の共振空洞を形成する管構造３と、管構造３に加速用の高周波を導入する入口カプラ５と、高周波を排出する出口カプラ７と、管構造３の外周を覆う外管９とが備えられている。
【００２３】
図２は、電鋳前の管構造３の構成を示す縦断面図、図３は電鋳後の管構造３の構成を示す縦断面図である。
管構造３は、純銅製の中空円筒であるスペーサ１１と、純銅製の有孔円板であるリング１３とが交互に複数積み重ねられ、それらが外側に設けられた電鋳層１５によって一体化されるように構成されている。ディスク１３とスペーサ１１との合せ面は鏡面仕上げが施されている。
スペーサ１１とその前後のディスク１３により共振空洞１７が構成されている。
【００２４】
入口カプラ５は、図示しない例えばエレクトロンのような高周波源と接続され、この高周波源からの高周波を共振空洞１７へ導入するように構成されている。
出口カプラ７は、多数の共振空洞１７を通ってきた高周波を導出するものであり、その導出側に高周波を吸収し熱に変換するダミーロード１９が設けられている。
外管９と管構造３との間に形成された空間は、冷却水通路２１を構成している。冷却水通路２１を通る冷却水によって管構造３を一定温度に維持するようにしている。これにより、共振空洞の容積を一定に保ち、共振周波数が変動しないようにしている。
【００２５】
このように構成された加速管１では、高周波源からの高周波が入口カプラ５から導入され、各共振空洞１７に加速電場が形成される。この加速電場によって電子入口２３から投入される電子等のビームは順次加速されて電子出口２５から放出される。
【００２６】
次に、本実施形態にかかる加速管の製造装置３０について、図４〜図６により説明する。本実施形態にかかる製造装置３０は、高周波の周波数がＣバンド（４〜８ＧＨｚ）に入るＣバンド加速管を製造するものである。
なお、この加速管１の管構造３は、スペーサ１１とディスク１３とが５０組積層されたものである。管構造３は直径が約５０ｍｍで、高さが約１ｍの円筒形状をしている。
【００２７】
図４は、製造装置３０の全体構成を示す平面図である。図５は、図４のＸ−Ｘ断面図である。図６は、図４のＹ−Ｙ断面図である。
製造装置３０には、管構造保持部３１と、電極部３３と、電鋳槽３２と、が備えられている。
電鋳槽３２は、直方体の空間を備えており、仕切壁３４によって仕切られ、縦５００ｍｍ、横５００ｍｍ、深さ１５００ｍｍの空間とされている。
電鋳槽３２には、電鋳液９９が貯留される。
【００２８】
管構造保持部３１について、図４および図５に基づいて説明する。
管構造保持部３１には、全体を支持する管構造支持部３５と、管構造３の上部を保持する上ブロック３７と、管構造３の下部を保持する下ブロック３９と、上ブロック３７の上部に設けられた上押え蓋４１と、下ブロック３９の下部に設けられた下押え蓋４３と、上押え蓋４１と下押え蓋４３とを連結する押え棒（固定棒）４５と、が備えられている。
上ブロック３７は、管構造３と大略同一径を有する中空の略円筒形状をしている。上ブロック３７の管構造３に対し反対側には、突起部４７が設けられている。
下ブロック３９は、管構造３と大略同一径を有する略円筒形状をしている。
【００２９】
上押え蓋４１および下押え蓋４３は、それぞれ略円筒形状をしている。その大きさは、例えば、直径が２００ｍｍで、高さが２５ｍｍである。なお、上押え蓋４１および下押え蓋４３は、管構造３の外周面より外側に延設されていればよく、その形状は円筒形状でなくても、例えば任意の多角柱形状、楕円柱形状等種々の形状とできる。
上押え蓋４１の上ブロック３７側には、上ブロック３７の突起部４７と係合する凹部４９が設けられている。
上押え蓋４１には、陰極端子が接続されるように構成されている。
【００３０】
押え棒４５は、上押え蓋４１および下押え蓋４３をその軸線方向に貫通して設けられている。押え棒４５と上押え蓋４１および下押え蓋４３との間には、電気絶縁材で形成されたブッシュ５１が介装され、両者間は通電されないように構成されている。
押え棒４５の上端部分および下端部分には、それぞれねじが施されており、ねじにナット５３，５５が螺合されている。
押え棒４５の上部にはバネ受５７が挿着されている。バネ受５７は上押え蓋４１に対して一定位置（高さ方向）を維持するように公正されている。バネ受５７とナット５３との間には、圧縮バネ５９が介装されている。
なお、ナット５３の上方には位置決めナット６１が設けられている。
【００３１】
このように構成された押え棒４５は、その中心軸線が上押え蓋４１および下押え蓋４３の中心軸線から半径８０ｍｍの円周上に位置するように、均等間隔空けて４本設けられている。
管構造３の端部に位置する部分には、４本の押え棒４５を囲繞するように電気絶縁材料である塩化ビニル製の遮蔽板７９が設けられている。
また、押え棒４５の表面には、電解電流によるバイポーラ現象を防止するため、絶縁性フィルムで覆われている。
なお、押え棒４５は、管構造３に面圧を与えるものなので、少なくとも３本以上は必要である。
【００３２】
下押え蓋４３には、上部に複数の孔が設けられた空気孔盤（気体噴出手段）６３が下ブロック３９の下部周囲を覆うように設けられている。空気孔盤６３の内部空間は、空気供給管６５と接続されている。
空気供給管６５の上部は、上押え蓋４１によって支持されている。
空気供給管６５は、図示しない空気源に接続されている。
上押え蓋４１の上部には、上ブロック３７の中空部と連通して、管構造３の内部に図示しない気体源からの気体を供給する気体供給管６７が設けられている。
気体供給管６７には、内部の圧力を測定するブルドン管６９が接続されている。
【００３３】
管構造支持部３５には、支持梁７１と、支持軸７３と、リングボルト７５とが備えられている。
支持梁７１は、矩形断面の鋼製長尺材である。
支持軸７３は、支持梁７１と上押え蓋４１とを連結するものであり、その両端部が支持梁７１と上押え蓋４１とにナット７７によって固定されている。
支持軸７３は、管構造３の軸線中心を挟んだ２箇所に、軸線中心が１６０ｍｍの間隔を空けて設けられている。
リングボルト７５は、支持梁７１の上部における管構造３の軸線中心一に相当する位置に取り付けられている。
【００３４】
電極部３３について、図４および図６に基づいて説明する。
電極部３３には、４組の電極組立８１が備えられている。
電極組立８１には、電極８３と、パイプ（延長部）８５と、電極８３およびパイプ８５を収納するケース８７と、ケース８７を支持するケース支持部８９とが備えられている。
ケース８７は、横断面が長円形状をし、長さは管構造３よりも長く形成された中空長尺体である。ケース８７は、チタン製で、メッシュ構造とされている。
ケース８７の横断面における長手方向の中央部には、略矩形断面をした電極８３が備えられている。電極８３の長さは管構造３の長さと略同等であり、内部に含リン銅製のアノードボール８９が多数保持されている。
ケース８７および電極８３の管構造３側の面は、隣り合う押え棒４５の軸線中心を結ぶ面と略平行に設置されるように構成されている。
４組の電極組立８１は、管構造保持部３１の周囲を四方から囲み、略正方柱の空間を形成する。
隣り合う押え棒４５の軸線中心を結ぶ方向における電極８３の長さＬ２は、該方向における隣り合う押え棒４５間の間隔Ｌ１よりも小さく構成されている。
パイプ８５は、電気絶縁材量である塩化ビニル製の中空円筒体である。パイプ８５は電極８３の両側、すなわち、ケース８７の横断面における長手方向に電極８３を挟んで一対設けられている。
ケース支持部８９には、電極支持梁９１と、連結部材９３と、が備えられている。
電極支持梁９１は、矩形断面の銅製長尺材である。
連結部材９３は、銅製で、電極支持梁９１とケース８７とを連結するものである。連結部材は、各電極支持梁９１に２個設けられており、それぞれケース８７の端部を支持している。
各電極支持梁９１には、それぞれ陽極端子が接続されている。
各電極支持梁９１の両端部は、電鋳槽３２の外側に設けられた支持台９５に支持されている。
また、管構造保持部３１の支持梁７１は、その両端部が電鋳槽３２の外側に設けられた支持台９７に支持されている。
支持台９５，９７は、管構造保持部３１と電極部３３との位置関係が所定の関係になる位置に設置されている。
【００３５】
以上、説明した加速管の製造装置３０を用いた加速管の製造について説明する。
まず、複数のスペーサ１１とディスク１３とを図２に示されるように、交互に積み重ねて管構造３を形成する。
この管構造３を押え棒４５の間を通過させ、上ブロック３７と下ブロック３９との間に配置させる。
この状態で、各押え棒４５のナット５３を締付力が不均衡にならないように調整しつつ締め付ける。ナット５３を締め付けると圧縮バネ５９が縮み、ナット５３、すなわち、押え棒４５は圧縮バネ５３の反発力によってバネ受５７に対して上方へ移動させる力を受ける。
これにより、スペーサ１１とディスク１３との合せ面は鏡面仕上げしているので、電鋳時の液密性が確保され、管構造保持部３１の準備が完了する。
【００３６】
このように、管構造３はその外周面よりも外側に配置された押え棒４５によって軸線方向に押圧保持されるので、ディスク１３の孔径が小さく軸線中心に押え棒４５を配置できない例えばＣバンド、Ｘバンド等の小型のものでも、ディスク１３とスペーサ１１とを押圧固定でき、電鋳作業を実施することができる。
また、管構造３は、電極部３３とは関係なく組立てることができるので、十分なシール性および電気的接触を保った管構造３の組立てを容易に行うことができる。
【００３７】
次いで、電鋳槽３２に電鋳液を投入し、電極部３３の各電極組立８１を所定の位置に設置する。
具体的には、各電極組立８１の電極支持梁９１を下側のものから順に支持台９５に設置する。
次いで、管構造３を取り付けた管構造保持部３１が、リングボルト７５を用いて電鋳槽３２の上方に吊下げられる。
この管構造保持部３１を降下させつつ各電極組立８１が形成した空間内に挿入し、支持梁７１を支持台９７に設置する。
なお、管構造保持部３１の準備ができた後、電鋳液９９および電極部３３の準備を行なったが、これは、逆に、電鋳液９９および電極部３３の準備を行なった後、管構造保持部３１の準備を行なうようにしてもよい。
【００３８】
気体供給管６７によって気体を管構造３の内部に封入し、内部が正圧に保持されるようにする。
電鋳作業中、管構造３の内部が正圧に保持されているか、ブルドン管６９によってモニタし、負圧になった場合には、気体供給管６７を経由して図示しない気体源から気体を供給するようにする。
【００３９】
そして、各電極支持梁９１に陽極端子を接続し、上押え蓋４１に陰極端子を接続する。
その後、電鋳層の電析を必要とする部分以外には、電析しないように必要なマスキングを施す。
この状態で、各端子に電気を供給し、空気供給管によって空気孔盤６３に空気を供給して電鋳作業に入る。
陽極端子および陰極端子に電気を供給すると、電極８３から管構造３に向かい電解電流が流れ、電極８３のアノードボールが溶解し、銅イオンが生成される。この銅イオンが管構造３に流れ、管構造の表面で析出され電鋳層１５が形成される。
【００４０】
この時、隣り合う押え棒４５の軸線中心を結ぶ方向における電極８３の長さＬ２は、該方向における隣り合う押え棒４５間の間隔Ｌ１よりも小さく構成されているので、電極８３からの電解電流（電機力線）は隣り合う押え棒４５の間を通って管構造３に向かうことになる。電解電流が押え棒４５の間を通ると、電解電流の流れは阻害され乱されることがないので、管構造３の外周には均一な電鋳層１５を形成することができる。
また、管構造３の上下端部に対応する位置に、遮蔽板７９が備えられているので、電解電流が集中する管構造の上下端部において電解電流を制限することができる。
このため、管構造３の上下端部において電解電流の集中によって電鋳層１５が厚くなることを防止できるので、管構造の全面において一層均一な電鋳層を形成することができる。
【００４１】
電鋳作業中、空気供給管６５から供給された空気が、空気孔盤６３に設けられた孔から電鋳液中に噴出される。この噴出される空気によって、電鋳液９９に上昇流Ｕが発生する。電鋳液９９が上昇すると、その部分の圧力が低くなるので、下側から電鋳液９９が吸込まれる吸込流Ｒが発生する。
一方、上昇した電鋳液９９は電極組立８１をオーバーフローＯＢし、電極組立８１と電鋳槽３２の壁面の間に供給される。供給された部分の電鋳液９９は密度が大きくなるので、その重量によって下降流Ｄが発生する。
これによって、電鋳液９９は上下方向の循環流が発生する。電鋳液９９はこの循環流によって攪拌されるので、管構造３の全面にわたり均一な組成とされる。このため、管構造３の全面にわたり均一な電鋳層を形成することができる。
【００４２】
また、電極組立によって上下方向を除く略閉鎖空間が形成されているので、電鋳液が側外方に流出することがなくなるので、安定した電鋳を行なうことができる。
また、管構造保持部３１と電極部３３とは別個に設置されているので、電鋳作業の途中で管構造保持部３１を引き上げて電鋳の状況を確認することができる。
【００４３】
電鋳液としては、例えば硫酸６１．３ｇ／ｌ、硫酸銅２０６ｇ／ｌから成る酸性硫酸銅無添加浴を用い、浴温度２５℃のもと、正転２０秒−反転４秒の周期的極性反転通電（ＰＲ通電）を行った。
また、電鋳開始時の電流密度は約７．５Ａ／ｄｍ２である。
この条件で、６日間電鋳を行ったところ、約５ｍｍの厚さの略均一な電鋳層１５が得られた。
その後、外表面を機械加工仕上げして、余分な電鋳層１５を取り除き、表面を整形して管構造３を完成させる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の一実施形態で製造した加速管の部分縦断面図である。
【図２】電鋳前の管構造を示す縦断面図である。
【図３】電鋳後の管構造をを示す縦断面図である。
【図４】本発明の一実施形態の製造装置の概略構成を示す平面図である。
【図５】図４のＸ−Ｘ断面図である。
【図６】図４のＹ−Ｙ断面図である。
【図７】従来の電鋳装置を示す正面図である。
【図８】従来の他の電鋳装置を示す正面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１  加速管
３  管構造
１１  スペーサ
１３  ディスク
１５  電鋳層
３０  製造装置
４５  押え棒
６３  空気孔盤
７９  遮蔽板
８３  電極
８５  パイプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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