(57)【要約】      （修正有）【課題】外部接続端子が接続する導体パターンと周囲の絶縁層との間に段差をなくして、外部接続端子の高さのばらつきを解消し、信頼性の高い半導体パッケージの外部接続構造を提供する。【解決手段】基材１上に形成された導体パターン２上に外部接続端子接続用の導体ポスト３が形成され、該導体ポスト３が形成された導体パターン２上に絶縁樹脂シートが基板表面に露出した前記導体ポスト３の端面と面一になるように積層されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体パッケージの最外層に外部接続端子を形成するための導体パターンが形成される半導体パッケージの外部接続構造において、
基材上に形成された導体パターン上に外部接続端子接続用の導体ポストが形成され、該導体ポストが形成された導体パターン上に、絶縁樹脂が基板表面に露出した前記導体ポストの端面と面一になるように積層されていることを特徴とする半導体パッケージの外部接続構造。
【請求項２】
基材上に無電解めっきを行なってめっきシード層を形成する工程と、
めっきシード層に導体パターンを形成するためのめっきレジストパターン層を形成する工程と、
電解めっきを施して前記めっきシード層の露出部分にめっき金属を厚付けして導体パターンを形成する工程と、
導体パターンとめっきレジストパターンが面一になるように基板表面を研磨する工程と、
基板表面の導体パターンに外部接続端子接続用の導体ポストを形成するためのめっきレジスト層を形成する工程と、
電解めっきを施して導体パターンの露出部分にめっき金属を厚付けして導体ポストを形成する工程と、
めっきレジスト層を除去して導体ポストが形成された導体パターンを露出させ、当該導体パターンを除いた領域に露出するめっきシード層を除去する工程と、
導体ポストが形成された導体パターンに絶縁樹脂を積層し、前記導体ポストの端面を露出させて絶縁樹脂層と面一になるように基板表面を平坦化する工程と、
基板表面に露出するポスト端面に外部接続端子を形成する工程を含むことを特徴とする半導体パッケージの外部接続構造の製造方法。
【請求項３】
導体ポストが形成された導体パターンに絶縁樹脂シートをラミネートし若しくは絶縁樹脂を印刷して積層する工程を含むことを特徴とする請求項２記載の半導体パッケージの外部接続構造の製造方法。
【請求項４】
導体パターン及び導体ポストに積層された絶縁樹脂層を少なくとも機械研磨若しくはドライエッチングを行なって過剰な樹脂を除去してポスト端面を露出させて基板表面を平坦化する工程を含むことを特徴とする請求項２記載の半導体パッケージの外部接続構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体パッケージの最外層に外部接続端子としてはんだバンプを形成するための導体パターンが形成される半導体パッケージの外部接続構造及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図３（ａ）（ｂ）は、半導体パッケージの最外層に形成された導体パターン５４に外部接続端子としてはんだバンプ５２を形成した状態を示す。図３（ａ）において、半導体パッケージ５１の最外層にはんだバンプ５２を形成する場合には、基材５３に導体パターン５４を形成した後、該導体パターン５４上にスキージにてソルダーレジスト５５を塗布し、はんだバンプ５２を形成する位置に合わせて開口部を形成する。そして、ソルダーレジスト５５の開口部より露出する導体パターン５４上にニッケルめっき及び金めっき（Ｎｉ／Ａｕ）を施し、めっき面５６にはんだペーストを印刷し、半導体パッケージを加熱炉でキュアしてはんだバンプ５２が形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述した半導体パッケージの製造工程において、ソルダーレジスト５５の開口部にはんだペーストをスクリーン印刷により塗布する際に、基板表面を被覆するソルダーレジスト５５の状態によってははんだペーストの印刷むらが生じ、開口部に塗布されるはんだペーストの塗布量がばらつき、はんだバンプ５２の高さにばらつきが生じるおそれがあった。
即ち、ソルダーレジスト５５には液状レジストが用いられるため、導体パターンの粗密によって図３（ａ）においてソルダーレジスト５４の厚さのばらつき、とりわけ開口部の周囲の厚さがばらつき易いという課題がある。
このようにはんだバンプを形成する位置でのはんだペーストの供給量が個々にばらつくと、結果的にはんだバンプ５２を形成する際に高さがばらつく。また、ソルダーレジスト層は厚さがばらつくという課題の他に剥離し易いことから、電気的絶縁層としての信頼性に課題があった。
【０００４】
本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものであり、その目的とするところは、外部接続端子が接続する導体パターンと周囲の絶縁層との間に段差をなくして、外部接続端子の高さのばらつきを解消し、信頼性の高い半導体パッケージの外部接続構造及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は上記目的を達成するため、次の構成を備える。
半導体パッケージの最外層に外部接続端子を形成するための導体パターンが形成される半導体パッケージの外部接続構造において、基材上に形成された導体パターン上に外部接続端子接続用の導体ポストが形成され、該導体ポストが形成された導体パターン上に、絶縁樹脂が基板表面に露出した前記導体ポストの端面と面一になるように積層されていることを特徴とする。
【０００６】
また、半導体パッケージの外部接続構造の製造方法においては、
基材上に無電解めっきを行なってめっきシード層を形成する工程と、めっきシード層に導体パターンを形成するためのめっきレジストパターン層を形成する工程と、電解めっきを施して前記めっきシード層の露出部分にめっき金属を厚付けして導体パターンを形成する工程と、導体パターンとめっきレジストパターンが面一になるように基板表面を研磨する工程と、基板表面の導体パターンに外部接続端子接続用の導体ポストを形成するためのめっきレジスト層を形成する工程と、電解めっきを施して導体パターンの露出部分にめっき金属を厚付けして導体ポストを形成する工程と、めっきレジスト層を除去して導体ポストが形成された導体パターンを露出させ、当該導体パターンを除いた領域で露出するめっきシード層を除去する工程と、導体ポストが形成された導体パターンに絶縁樹脂を積層し、前記導体ポストの端面を露出させて絶縁樹脂層と面一になるように基板表面を平坦化する工程と、基板表面に露出するポスト端面に外部接続端子を形成する工程を含むことを特徴とする。
また、導体ポストが形成された導体パターンに絶縁樹脂シートをラミネートし若しくは絶縁樹脂を印刷して積層する工程を含むことを特徴とする。
また、導体パターン及び導体ポストに積層された絶縁樹脂層を少なくとも機械研磨若しくはドライエッチングを行なって過剰な樹脂を除去してポスト端面を露出させて基板表面を平坦化する工程を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
上述した半導体パッケージの外部接続構造及びその製造方法を用いれば、基材上に形成された導体パターン上で外部接続端子接続用の導体ポストが形成され、該導体ポストが形成された導体パターン上に、絶縁樹脂が基板表面に露出した導体ポストの端面と面一になるように積層されているので、導体パターンの粗密によって絶縁樹脂層の厚さにばらつきは発生し難く、絶縁樹脂から露出する導体ポストの端面が均一に揃うため、導体ポストの端面に形成される外部接続端子の高さを均一に揃えることができる。また、液体レジストを塗布して形成されるソルダーレジスト層に比べて絶縁樹脂層は剥離し難いため、電気的絶縁層としての信頼性を向上させることができる。
特に、導体パターン及び導体ポストに積層された絶縁樹脂を少なくとも機械研磨若しくはドライエッチングを行なって導体ポストの端面が露出するまで基板表面を平坦化することにより、外部接続端子を形成するために印刷するはんだペーストの印刷精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係る半導体パッケージの外部接続端子構造及びその製造方法の最良の実施形態について添付図面とともに詳細に説明する。本実施形態の半導体パッケージの外部接続端子形成構造は、半導体パッケージの最外層に外部接続端子を形成するための導体パターンが形成される外部接続端子形成構造について説明する。
【０００９】
図１において、半導体パッケージの外部接続端子形成構造について説明する。
基材１は樹脂基板であり、半導体パッケージの最外層に外部接続端子を形成するための導体パターン２が形成される。この導体パターン２が形成される基材１は、単層配線基板であっても、多層配線基板であってもいずれでも良い。
導体パターン２上には外部接続端子接続用の導体ポスト３が形成されている。導体ポスト３が形成された導体パターン２上には、絶縁樹脂４がポスト端面を露出させて絶縁樹脂層が面一になるように積層されている。ポスト端面にはニッケルめっき及び金めっき（Ｎｉ／Ａｕ）が連続して施され、該めっき面５にはんだペーストが印刷され、加熱されて接合され、はんだバンプ６が形成されている。
【００１０】
次に、半導体パッケージの外部接続構造の製造方法について図２を参照して説明する。
図２（ａ）において、基材１上に無電解銅めっきを行なってめっきシード層７を形成する。このめっきシード層７に導体パターン２を形成するためのめっきレジストパターン８を形成する。即ち、めっきシード層７の表面を感光性レジストフィルム（ドライフィルムレジスト）により被覆し、フォトリソグラフィー工程により感光性レジストフィルムをパターニングし、めっきレジストパターン８を形成する。
【００１１】
次に、図２（ｂ）において、めっきシード層７を給電層として電解銅めっきを施し、めっきシード層７の露出部分に電解銅めっき層を厚付けして導体パターン２を形成する。次いで、図２（ｃ）において、導体パターン２とめっきレジストパターン８が面一になるように基板表面を研磨する。この研磨加工は機械的な研磨加工により行なう。
【００１２】
次に、図２（ｄ）において、導体パターン２に外部接続端子接続用の導体ポスト３を形成するためのめっきレジストパターン９を形成する。即ち、導体パターン２とめっきレジストパターン８が研磨されて面一となった基板表面を感光性レジストフィルム（ドライフィルムレジスト）により被覆し、フォトリソグラフィー工程により感光性レジストフィルムをパターニングし、導体ポスト３を形成する部位が凹部に形成され、内底面に導体パターン２が露出するめっきレジストパターン９を形成する。次いで、図２（ｅ）において、電解銅めっきを施して導体パターン２の露出部分に電解銅めっき層を厚付けして導体ポスト３を形成する。
【００１３】
次に、図２（ｆ）において、めっきレジストパターン９を除去して導体ポスト３が形成された導体パターン２を露出させ、当該導体パターン２を除いた領域で露出するめっきシード層７をエッチングにより除去する。
【００１４】
次に、図２（ｇ）において、導体ポスト３が形成された導体パターン２に例えばエポキシ系の絶縁樹脂シート１０を積層して加熱加圧しながら真空ラミネートする。この絶縁樹脂シート１０によって、基板表面の導体ポスト３の端面が完全に被覆される。尚、絶縁樹脂シート１０のラミネートに替えてエポキシ系の絶縁樹脂を印刷により基板表面に積層するようにしてもよい。
【００１５】
次いで、図２（ｈ）において、導体ポスト３のポスト端面を露出させて絶縁樹脂シート１０と面一に平坦化する。具体的には、導体パターンや導体ポストに積層された絶縁樹脂シート１０を少なくとも基板表面の機械研磨（バフ研磨）若しくはドライエッチングを行なって導体ポスト３の端面が露出するまで基板表面を平坦化する。導体ポスト３の端面が露出するまで基板表面の平坦化を確実に行なうためには、機械研磨及びドライエッチングの双方を行なってもよい。
【００１６】
次に、図２（ｉ）において、基板表面に絶縁樹脂層から露出する導体ポスト３のポスト端面に、ニッケルめっき及び金めっき（Ｎｉ／Ａｕ）をこの順に行いめっき面１１を形成する。最後に、めっき面１１にはんだペーストを印刷して加熱炉でキュアすることではんだバンプ６が接合される。
【００１７】
以上の外部接続端子接続構造の製造方法によれば、絶縁樹脂シート１０から露出する導体ポスト３の端面が均一に揃うため、はんだペーストを印刷したときに絶縁樹脂層の厚さばらつきによる印刷むらがなくなる。よって、導体ポスト３の端面に形成されるはんだバンプ６の高さを均一に揃えることができる。また、導体パターン２や導体ポスト３に積層された絶縁樹脂シートを少なくとも機械研磨若しくはドライエッチングを行なって導体ポスト３の端面が露出するまで基板表面を平坦化することにより、外部接続端子を形成するために印刷するはんだペーストの印刷精度を向上させることができる。更には、絶縁樹脂シート１０はソルダーレジストに比べて、基板表面に強固に積層されているので基板表面から剥離し難く半導体パッケージの信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】半導体パッケージの最外層の断面説明図である。
【図２】半導体パッケージの外部接続端子接続構造の製造工程を示す説明図である。
【図３】従来の半導体パッケージの不具合を示す断面説明図である。
【符号の説明】
【００１９】
１  基材
２  導体パターン
３  導体ポスト
４  絶縁樹脂
５  めっき面
６  はんだバンプ
７  めっきシード層
８、９  レジストパターン
１０  絶縁樹脂
１１  めっき面
【図１】
2007158069.tif 000003
【図２】
2007158069.tif 000004
【図３】
2007158069.tif 000005