(57)【要約】      （修正有）【課題】複合フィルタの接地の際に、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地を可能にする、複合フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】透明基材１１の一方に、メッシュ状領域１０１と当該メッシュ状領域１０１の周囲の少なくとも一部に接地用領域を有する導電体層１２が少なくとも積層される工程、一方の面に接着剤層２２が積層され、当該接地用領域の少なくとも一部を露出できる枚葉化接着性光学フィルタを準備する工程、上記枚葉化接着性光学フィルタの接着剤層側を、導電体層側に向け、且つ上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイに対峙する部分に対峙する様に上記電磁波遮蔽シートに上記枚葉化接着性光学フィルタを接着、積層し、上記電磁波遮蔽シート縁部の接地用領域の少なくとも一部を露出させる工程を有するディスプレイ用複合フィルタの製造方法。【選択図】      図７
2007036107.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
（Ａ）透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
（Ｂ）一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する、枚葉化接着性光学フィルタを準備する工程と、
（Ｃ）上記枚葉化接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、且つ上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙する様に位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記枚葉化接着性光学フィルタを接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出させる工程と、
を有することを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記電磁波遮蔽シートとして、前記メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つメッシュ状領域の開口部に平坦化層の被覆の無い電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記枚葉化接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する枚葉化接着性光学フィルタを用いることを特徴とする、請求項１に記載の電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成る複合フィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽（シールド）する電磁波遮蔽機能、及び光学フィルタ機能を有する複合フィルタの製造方法に関し、さらに詳しくは、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シートからの光学フィルタ層の剥離及び／又は除去工程が不要である複合フィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；ＥＭＩ）が増え、陰極線管（ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰという）などのディスプレイでも電磁波が発生する。プラズマディスプレイパネルは、データ電極と蛍光層を有するガラスと透明電極を有するガラスとの組合体であり、作動すると電磁波、近赤外線、及び熱が大量に発生する。通常、電磁波を遮蔽するためにプラズマディスプレイパネルの前面に、電磁波遮蔽シートを含む前面板を設ける。ディスプレイ前面から発生する電磁波の遮蔽性は、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおいて３０ｄＢ以上の機能が必要である。また、ディスプレイ前面より発生する波長８００〜１，１００ｎｍの近赤外線も、他のＶＴＲなどの機器を誤作動させるので、遮蔽する必要がある。
【０００３】
この様な用途に用いる電磁波遮蔽シートでは電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。従って、電磁波遮蔽シートとしては、透明基材の全面に透明導電性のＩＴＯ（酸化スズインジウム）膜を設けたもの（特許文献１等）や、樹脂フィルムからなる透明基材に接着剤で貼り合わせた銅箔等の金属箔をエッチングしてメッシュ状としたもの等が知られている（特許文献２等）。
【０００４】
また、ディスプレイの前面に配置する前面板には、電磁波遮蔽機能以外に、ディスプレイから放射する不要な光（例えばＰＤＰではネオン発光による波長５９０ｎｍ付近の光）を遮断し画像の色相調整を行い色再現性を向上させる機能、外光の不要な反射を抑える機能、ディスプレイからの不要な赤外線放射を抑え赤外線利用機器の誤動作を防ぐ機能等が求められることがある。そこで実際の前面板としては、電磁波遮蔽シートに、他のフィルタ機能を有する光学フィルタ、例えば、色補正フィルタ、反射防止フィルタ、近赤外線吸収フィルタ等と積層一体化して複合フィルタとしたものが使用されることが多い（例えば、特許文献３）。
【０００５】
当該光学フィルタ層を金属メッシュ面に積層する際には、予め平坦化樹脂と呼称される透明樹脂でメッシュの開口部を充填して、金属メッシュ状領域の表面を平坦化した後、該平坦化層上に接着剤層を介して該光学フィルタ層等を積層することが一般的である。これは、金属メッシュ層は開口部が凹んで凹凸面をなす為、直接接着剤によって光学フィルタ層を積層すると、金属メッシュの開口部内に気泡が残留してしまい、該気泡の光散乱により、複合フィルタの曇値（ヘイズ）が上昇するという不都合を生じるからである。
また、上記のような複合フィルタにおいては、電磁波遮蔽シートの金属メッシュを接地する必要が有る。そのために通常は、金属メッシュの周縁部に囲むように設けられた額縁状の、開口部を形成し無い金属層を有し、この額縁状の金属層から接地することが一般的である（特許文献３）。
【０００６】
【特許文献１】特開平１−２７８８００号公報
【特許文献２】特開昭６１−１３４１８９号公報
【特許文献３】特開２００３−８６９９１号公報
【特許文献４】特開２００３−６６８５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような従来の複合フィルタは、各々ディスプレイ１台分の寸法形状に切断された電磁波遮蔽シートと光学フィルタとが、接地部分も含め全面に亘り全層積層されて成る。
且つ、上記のような接地工程は、必然的に、各々完成した複合フィルタとディスプレイ本体とを組合わせる、最終工程に近い段階に行うことになる。
このため、接地する際には、先ず、一旦全層積層した複合フィルタについて、接地する部分の額縁部の上から、積層してある光学フィルタ層を剥がして、額縁部の金属を露出させる必要が有る。
【０００８】
例えば、特許文献４に記載の発明では、複合フィルタをディスプレイ１台分の寸法形状に切断する際に、切断箇所とは別に予め剥がしたい光学フィルタ層全層の厚みに達する切れ目を例えば複合フィルタの端部から１０ｍｍ離れた箇所に入れ、しかる後、該切れ目のところで縁部の上の光学フィルタ層を剥離除去する方法を取っている。
その他、予め積層すべき光学フィルタ層において、剥離除去する予定の箇所（例えば、電磁波遮蔽シートの額縁部とメッシュ状領域との境界線付近）に全層厚みの大部分に達する切れ目（ハーフカット）を入れた上で、金属メッシュ上に積層して複合フィルタ化し、しかる後に該切れ目のところで切断して、額縁部直上の光学フィルタ層、接着剤層、或いは更に平坦化層を剥離除去する方法も試みられている。
これらの作業は、ディスプレイ１台毎に１回ずつ実施する必要が有るため、まとめて量産加工不能であって生産効率が悪く、煩雑であり、且つ加工には技量も要求され、失敗すると複合フィルタ全体が無駄になってしまう。
また、上述したようなメッシュ状領域の平坦化工程も余分な材料が必要な上、工程も増加するため、且つ複合フィルタの接地の際に、除去すべき物及び作業負荷が増えるため、省略が望まれる。
【０００９】
本発明は以上のような問題点を考慮してなされたものであり、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地を可能にする、複合フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
（Ａ）透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
（Ｂ）一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する、枚葉化接着性光学フィルタを準備する工程と、
（Ｃ）上記枚葉化接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、且つ上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙する様に位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記枚葉化接着性光学フィルタを接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出させる工程と、
を有することを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法を提供することにより上記課題を解決するようにした。
【００１１】
本発明によれば、電磁波遮蔽シートに積層する光学フィルタとして、予め上記所定の形状及び寸法を有し、しかも予め接着剤も同じく所定の形状寸法に形成されてなる枚葉化接着性光学フィルタを準備し、電磁波遮蔽シートに枚葉化接着性光学フィルタを接着及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シートの縁部を露出させる工程を有することから、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を廃止しても、電磁波遮蔽シートの露出及び接地を可能にする。その上、接着剤層をメッシュ状領域側に塗工した場合に起こりがちな、接着剤層の接地用領域への流出、逸脱、或いは光学フィルタと接着剤層との位置ズレも無い。
【００１２】
本発明に係るディスプレイ用複合フィルタの製造方法においては、前記電磁波遮蔽シートとして、前記メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、メッシュ状領域の開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つメッシュ状領域の開口部に平坦化層の被覆の無い電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記枚葉化接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する枚葉化接着性光学フィルタを用いることが、好ましい。このような場合には、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュの開口部内に気泡が残留することを防止できるため、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇値（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１の本発明に係る複合フィルタの製造方法は、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地を可能にする。且つ、接着剤層の接地用領域への流出、逸脱、或いは光学フィルタと接着剤層との位置ズレも無いといった効果を奏するものである。
請求項２の本発明に係る複合フィルタの製造方法は、更に、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができるといった効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、電磁波遮蔽シートと光学フィルタとの積層体から成るディスプレイ用複合フィルタの製造方法であって、
（Ａ）透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する工程と、
（Ｂ）一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する、枚葉化接着性光学フィルタを準備する工程と、
（Ｃ）上記枚葉化接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、且つ上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙する様に位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記枚葉化接着性光学フィルタを接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出させる工程と、
を有することを特徴とする、ディスプレイ用複合フィルタの製造方法である。
以下、各工程について詳述する。
【００１５】
＜（Ａ）電磁波遮蔽シートを準備する工程＞
本発明における（Ａ）の工程では、透明基材の一方の面に、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域と当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートを準備する。
【００１６】
本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例を図１に示す。図１（Ａ）は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の平面図であり、図１（Ｂ）は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の断面図である。図１（Ａ）に示すように、本発明の電磁波遮蔽用シート１は、平面方向においては、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能なメッシュ状領域１０１と、当該メッシュ状領域の周囲の少なくとも一部に接地用領域１０２を有する導電体層１２が形成されている。当該メッシュ状領域１０１は、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な寸法及び形状を有し、適用されるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０が必ず含まれる。当該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０の外の領域となる外縁部は、メッシュ状領域１０１が含まれても良いし、接地用領域１０２のみからなっても良い。接地用領域１０２は、通常、メッシュ状領域１０１と同じ層構成を有しながら開口部を形成しないものであり、ディスプレイへ設置した場合にアースをとり易いために設けられる。なお、接地用領域１０２は、開口部が形成されたメッシュ状であっても良い。接地用領域１０２は、通常四角形のディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０の外の領域となる外縁部である画像表示に影響しない部分に、四辺周囲の額縁状に設けられることが多いが、メッシュ状領域１０１の全周囲でなくても、周囲の一部に設ける形態でもよく、三辺、二辺、或いは一辺のみに設ける形態でも良い。
【００１７】
また、図１（Ｂ）に示すように、本発明の電磁波遮蔽用シート１は、厚み方向においては、透明基材１１の一方の面に、メッシュ状領域１０１と接地用領域１０２を有する導電体層１２が少なくとも積層されて形成されている。本発明の電磁波遮蔽用シートは、導電体層の表裏面上に、導電性を有しない層が更に積層されて形成されていても良い。当該導電性を有しない層としては、例えば、導電性を有しない防錆層や黒化層等が挙げられる。防錆層や黒化層等であっても、導電性を有する限り、本発明において導電体層に含まれる。導電体層の表裏面上に更に積層された導電性を有しない層は、導電体層と一体となって、メッシュ状領域や接地用領域を形成する。
また、以後図示している電磁波遮蔽シートは、いずれも枚葉化されたものであるが、本発明において電磁波遮蔽シートは、連続帯状のシートの状態で準備して、連続帯状のまま後述する（Ｃ）工程に用いても良い。
以下、本発明に用いられる電磁波シールドフィルタについて、透明基材１１から順に説明する。
【００１８】
［透明基材］
透明基材１１は、機械的強度が弱いメッシュ層を補強するための層である。従って、機械的強度と共に光透過性を有すれば、その他、耐熱性、絶縁性等も適宜勘案した上で、用途に応じたものを選択使用すれば良い。透明基材の具体例としては、例えば、樹脂板、樹脂シート（乃至はフィルム、以下同様）、ガラス板等である。
【００１９】
樹脂板、樹脂シート等として用いる透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
【００２０】
なお、これら樹脂は、樹脂材料的には、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、また層的には、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂シートの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸シートが機械的強度の点でより好ましい。
また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００２１】
また、ガラス板のガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラスなどがあり、より好ましくは熱膨脹率が小さく寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラス等が挙げられ、ディスプレイの前面基板等とする電極基板と兼用することもできる。
【００２２】
なお、透明基材の厚さは、用途に応じたものとすれば良く特に制限は無く、透明樹脂から成る場合は、通常１２〜１０００μｍ程度であるが、好ましくは５０〜５００μｍである。一方、透明基材がガラス板である場合には、通常１〜５ｍｍ程度が好適である。いずれの材料に於いても、上記未満の厚さとなると機械的強度が不足して反りや弛み、破断などが起こり、上記を超える厚さとなると過剰性能でコスト高となる上、薄型化が難しくなる。
【００２３】
なお、透明基材としては、これらの無機材料、有機材料等からなる、シート（乃至はフィルム）、板などが適用でき、また、透明基材は、前面基板及び背面基板等からなるディスプレイ本体の一構成要素である前面基板と兼用しても良いが、前面基板の前に配置する前面フィルタとして電磁波シールドフィルタを用いる形態では、薄さ、軽さの点で、板よりもシートが優れており、また割れない等の点でも、ガラス板よりも樹脂シートが優れている。
【００２４】
また、電磁波シールドフィルタを連続的に製造し生産性を向上できる点では、透明基材は、メッシュ層形成等の少なくとも製造初期の段階に於いては、連続帯状のシートの形態で取り扱うのが好ましい。
この様な点で、透明基材としては樹脂シートが好ましい材料であるが、樹脂シートのなかでも、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂シートが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートシートが最適である。なお、透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上となる光透過性が良い。
【００２５】
なお、樹脂シート等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。
【００２６】
［導電体層］
導電体層１２は、導電性を有する層であって、電磁波遮蔽機能を担う層であり、またそれ自体は不透明性であっても、メッシュ状の形状で開口部が存在することにより、電磁波シールド性能と光透過性を両立させている。メッシュ状領域１０１を形成している導電体層１２の一例を図２に示す。メッシュ状領域１０１を形成している導電体層１２は、開口部１０３が密に配列したメッシュ状であり、該メッシュ状領域は開口部１０３と枠をなしているライン部１０４から構成されている。
【００２７】
本発明において、メッシュ状領域や上記接地用領域を形成している導電体層の材料及び形成方法は特に限定されるものでは無く、従来公知の光透過性の電磁波遮蔽シートにおける各種導電体層を適宜採用できるものである。導電体層は、通常金属層を主とし、これに加えて、後述するような導電処理層や、場合により、導電性を有する黒化層や防錆層を含むものである。
【００２８】
メッシュの形状は、任意で特に限定されないが、開口部の形状としては正方形が代表的である。開口部の形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形、等の多角形、或いは、円形、楕円形などが挙げられる。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となり、通常は、開口部及び開口部間は全面で同一形状同一サイズである。具体的サイズを例示すれば、開口率及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部１０４の幅は、図２に示すようにライン幅Ｗと称し、２５μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下であることが好ましい。但し、電磁波遮蔽効果の発現、破断防止のためには、少なくとも５μｍ以上確保することが好ましい。また、開口部の間口幅は（ラインピッチＰ）−（ライン幅Ｗ）で表され、本発明においては１５０μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上とするのが、光透過性、及び後述する光学フィルタとの積層時に開口部内に気泡が残留し難い点から好ましい。但し、ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯の電磁波遮蔽性発現のためには、最大３０００μｍ以下とする。また、本発明においては、最終的に得られるメッシュ状領域の厚み、すなわち、開口部間のライン部１０４の高さＨを３μｍ以下とすることが好ましい。このような場合には、光学フィルタとの積層前に予めメッシュ面への平坦化工程を省略した場合であっても、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時に金属メッシュの開口部内に接着剤層が均一に入り易く、開口部内に気泡が残留し難いからである。この場合には、該気泡の光散乱による複合フィルタの曇値（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い複合フィルタを生産効率良く得ることができる。金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすくならないように、電磁波遮蔽機能の点を考慮すると、メッシュ状領域のライン部の高さは、１〜３μｍとなるようにすることが更に好ましい。なお、メッシュ状領域のライン部の高さは、ライン部１０４を形成する層の厚みを全て含む総厚みをいう。例えば、ライン部１０４が導電体層のみから成る場合は、ライン部の高さは導電体層の厚さに等しいが、例えば、ライン部が導電体層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層とから成る場合は、ライン部の高さは導電体層、非導電性黒化層、及び非導電性防錆層の厚みの合計値となる。また、メッシュ状領域のバイアス角度（メッシュのライン部と電磁波遮蔽シートの外周辺とのなす角度）は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレが出難い角度に適宜設定すれば良い。
【００２９】
このような、メッシュ状領域を有する導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽用シートを準備する方法としては、特に制限されず、例えば、次の４つの方法が挙げられる。
（１）透明基材へ導電インキをパターン状に印刷し、該導電インキ層の上へ金属メッキする方法（例えば、特開２０００−１３０８８号公報）。
（２）透明基材へ、導電インキ又は化学メッキ触媒含有感光性塗布液を全面に塗布し、該塗布層をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とした後に、該メッシュの上へ金属メッキする方法（例えば、住友大阪セメント株式会社新材料事業部新規材料研究所新材料研究グループ、“光解像性化学メッキ触媒”、［ｏｎｌｉｎｅ］、掲載年月日記載なし、住友大阪セメント株式会社、［平成１５年１月７日検索］、インターネット〈ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｓｏｃｎｂ．ｃｏｍ／ｐｒｏｄｕｃｔ／ｈｐｒｏｄｕｃｔ／ｄｉｓｐｌａｙ．ｈｔｍｌ〉）。
（３）透明基材と金属箔とを接着剤で積層した後に、金属箔をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とする（例えば、特開平１１−１４５６７８号公報）。
（４）透明基材の一方の面へ、金属薄膜をスパッタ等により形成して導電処理層を形成し、その上に電解メッキにより金属メッキ層として金属層を形成した透明基材を準備し、該金属メッキした透明基材の金属メッキ層及び導電処理層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする(例えば、特許第３５０２９７９号公報、特開２００４−２４１７６１号公報)。
【００３０】
中でも、本発明においては特に、透明性及びメッシュ精度に優れるのでディスプレイ画像を良好に視認性でき、さらに、製造工程において、反りや気泡の混入などが少なく、短い工程で歩留りがよく安価に製造できる点から、上記（４）の方法を用いることが特に好ましい。そこで、上記（４）の方法によりメッシュ状領域を形成している導電体層を有する電磁波遮蔽用シートを準備する方法を、詳細に説明する。
【００３１】
上記（４）の方法により形成された、透明基材の一方の面に、メッシュ状領域を形成している導電体層が少なくとも積層されてなる電磁波遮蔽シートについて、その一例を図３に示す。図３は、図２のＡＡ断面図、及びＢＢ断面図である。図３（Ａ）は開口部を横断する断面を示し、開口部１０３とライン１０４が交互に構成され、図３（Ｂ）はライン１０４を縦断する断面を示し、導電体層１２からなるライン１０４が連続して形成されている。図３において、導電体層１２は導電処理層１３と金属メッキ層１４（以下両者を総称して単に金属層とも称する）とを含むものである。
【００３２】
（導電処理層の形成）
上記のような透明基材１１に、上記（４）の方法においては、後述する金属電解メッキに先立ち導電処理を行い、導電処理層を形成する。該導電処理の方法としては、公知の導電性を持つ材料の薄膜を形成すればよい。該導電性を持つ材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、或いはこれらの金属の合金（例えば、ニッケル−クロッム合金）から成る。また、酸化スズ、ＩＴＯ、ＡＴＯなどの透明な金属酸化物でもよい。該導電処理は単層あるいは多層（例えば、ニッケル−クロッム合金と銅層との積層）であってもよく、これらの材料を公知の真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッキ法などの方法で形成し導電処理層１３とする。該導電処理層１３の厚さは、メッキ時に必要な導電性が得られればよいので、０．００１〜１μｍ程度の極薄い層であることが好ましい。
【００３３】
（金属メッキ層）
該導電処理層１３の面へ電解メッキ法により金属メッキ層１４を形成して、金属メッキ透明基材とする。該金属メッキ層１４の材料としては、例えば金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロムなど充分に電磁波をシールドできる程度の導電性を持つ金属、或いはこれら金属を含む合金が適用できる。金属メッキ層１４は単体でなくても、多層であってもよく、電解メッキのしやすさと導電性から銅又は銅合金が好ましい。本発明においては、上述のようにメッシュ状領域のライン部の高さを１〜３μｍとすることが好ましいため、該金属メッキ層１４の厚さは最大２μｍ程度であることが好ましい。上記メッシュ状領域のライン部の高さがこれ以下の厚さでは、金属の電気抵抗値が増え電磁波遮蔽効果が損なわれやすく、これ以上の厚さでは、メッシュに加工した際にライン部と開口部の段差が大きくなり、接着剤層を積層する際に気泡が残留し易くなる。また、所望する高精細なメッシュの形状が得られず、その結果、実質的な開口率が低くなり、光線透過率が低下し、さらに視角も低下して、画像の視認性が低下する。
【００３４】
（黒化層）
電磁波遮蔽用シート１への外光を吸収させて、ディスプレイの画像の視認性を向上するために、メッシュ状領域を形成している導電体層１２の観察側に黒化処理を行って、コントラスト感を出すことが好ましい。このために、図４に示されるように、金属メッキ層１４の少なくとも片面に、必要に応じて、黒化層１５Ａ及び／又は１５Ｂを設ける。該黒化層は金属メッキ層１４面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与する（黒化）か、或いは両者を併用するかの何れかにより行なう。また、透明基材１１面に黒化層を設ける場合には、該透明基材へ導電処理を行い、黒色メッキ層を設けた後に、金属メッキ層１４を設ければよい。
【００３５】
黒化層１５Ａ、１５Ｂとしては、金属酸化物、金属硫化物の形成や種々の手法が適用できる。鉄の場合には、通常スチーム中、４５０〜４７０℃程度の温度で、１０〜２０分間さらして、１〜２μｍ程度の酸化膜（黒化膜）を形成するが、濃硝酸などの薬品処理による酸化膜（黒化膜）でもよい。また、銅の場合には、銅を硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中で、陰極電解処理を行って、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好ましい。該カチオン性粒子を設けることでより粗化し、同時に黒色が得られる。記カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、好ましくは銅‐コバルト合金の粒子である。該カチオン性粒子の粒径は、黒濃度の点から、平均粒径０．１〜１μｍ程度が好ましい。
【００３６】
該黒化層の好ましい黒濃度は０．６以上である。なお、黒濃度の測定方法は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（キモト社製、商品名）を用いて、観察視野角１０度、観察光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩＴに設定し、白色キャリブレイション後に、試験片を測定する。また、該黒化層の光線反射率としては５％以下が好ましい。光線反射率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーターＨＭ１５０（村上色彩社製、商品名）を用いて測定する。また、反射率の測定に換えて、色差計により反射のＹ値で表わしてもよく、この際にはＹ値として１０以下が好ましい。
【００３７】
（防錆層）
さらに、金属メッキ層１４の少なくとも片面を覆うように、また、黒化層を設けた場合には、黒化層１５Ａ及び／又は１５Ｂの少なくとも片面を覆うように、防錆層１６Ａ及び／又は１６Ｂを設けることが好ましい。
該防錆層１６Ａ、１６Ｂは、防錆機能と黒化層の脱落や変形を防止するために、少なくとも、黒化層上に設けることが好ましい。該防錆層１６Ｂとしては、ニッケル、亜鉛、及び／又は銅の酸化物、又はクロメート処理層が適用できる。ニッケル、亜鉛、及び／又は銅の酸化物の形成は、公知のメッキ法でよく、厚さとしては、０．００１〜１μｍ程度、好ましくは０．００１〜０．１μｍである。
【００３８】
防錆層１６Ａを、透明基材１１面の黒化層１５Ａ面に設ける場合には、透明基材へ導電処理を行い、上記の１６Ｂと同様の材料及び方法で防錆層１６Ａを設ければよい。この場合には、該防錆層１６Ａ面へ、黒色メッキ層（黒化層１５Ａに相当する）、金属メッキ層１４、さらに必要に応じて、黒化層１５Ｂ、防錆層１６Ｂを順次設ける。
黒化層１５Ａ、１５Ｂ、及び防錆層１６Ａ、１６Ｂは、少なくとも観察側に設ければよく、コントラストが向上してディスプレイの画像の視認性が良くなる。また、他方の面、即ちディスプレイ面側に設けてもよく、ディスプレイから発生する迷光を抑えられるので、さらに、画像の視認性が向上する。
【００３９】
次に、上述のように設けられた透明基材上の導電体層を、フォトリソグラフィー法でメッシュ状とする工程について説明する。
まず、上記のように準備した透明基材上の導電体層、例えば透明基材上の金属層（金属メッキ層）１４面へ、レジスト層を設け、メッシュパターン化し、レジスト層で覆われていない部分の金属層１４をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去する所謂フォトリソグラフィー法で、メッシュ状の金属層とする。さらに、既存の設備を使用でき、これらの製造工程の多くを連続的に行うことで、品質がよく、かつ、生産効率が高く歩留りがよく、安価に生産できる。
【００４０】
（フォトリソグラフィー法）
該積層体の導電体層面へ、レジスト層をメッシュパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分の導電体層をエッチングにより除去した後に、レジスト層を除去するフォトリソグラフィー法で、メッシュ状とする。
【００４１】
（マスキング）
まず、透明基材１１と導電体層１２の積層体の導電体層側の面をフォトリソグラフィー法でメッシュ状とし、メッシュ状領域１０１を形成する。この工程も、帯状で連続して巻き取られたロール状の積層体を加工して行く（巻取り加工、ロールツーロール加工という）ことが好ましい。該積層体を連続的又は間歇的に搬送しながら、緩みなく伸張した状態で、マスキング、エッチング、レジスト剥離する。透明基材１１としてガラスを用いる場合には、１枚毎に加工する（枚葉加工、枚葉工程という）。
【００４２】
まず、マスキングは、例えば、メッシュ状領域を形成する導電体層１２上へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターン版（フォトマスク）にて密着露光し、水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングする。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可である。感光性レジストがネガ型の場合は、パターン版のメッシュパターンはライン部が透明なポジ（陽画）とする。又感光性レジストがポジ型の場合は、パターン版のメッシュパターンは開口部が透明なネガ（陰画）とする。又、露光パターンとしては、電磁波遮蔽用シートとして所望のパターンであり、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。更に必要に応じて、図１の如く、メッシュ状領域の外周に接地用領域のパターンを追加する。
【００４３】
レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体（透明基材１１と、導電体層１２との積層体）を連続又は間歇で搬送させながら、メッシュ状領域を形成する導電体層１２面へ、カゼイン、ＰＶＡ、ゼラチンなどのレジストをディッピング（浸漬）、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。ベーキングはカゼインレジストの場合、２００〜３００℃で行うが、積層体の反りを防止するために、できるだけ低温度が好ましい。
【００４４】
（エッチング）
マスキング後にエッチングを行う。該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、塩化第二銅の溶液が好ましい。また、該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ２０〜８０μｍの薄板をエッチングするカラーＴＶのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備と、基本的に同様の工程である。即ち、該シャドウマスクの既存の製造設備を流用でき、マスキングからエッチングまでが一貫して連続生産できて、極めて効率が良い。透明基材１１としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。このようにして形成された、メッシュ開口部の表面は透明基材が露出しているので、メッシュ開口部の透明性がよい。
【００４５】
（平坦化）
本発明においては、前記電磁波遮蔽シートとして、前記導電体層のメッシュの厚みが３μｍ以下、メッシュの開口部の間口幅が１５０μｍ以上である電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記枚葉化接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する枚葉化接着性光学フィルタを用いることにより、メッシュの開口部に平坦化層の被覆を設けなくてもディスプレイの透明性を優れたものにすることができるが、上記特定の接着剤層を有する接着性光学フィルタを用いない場合には、予め、平坦化層をメッシュ状領域に被覆しても良い。
【００４６】
平坦化層は透明性が高く、メッシュの導電体層との接着性が良く、次工程の接着剤との接着性がよいものであればよい。但し、平坦化層の表面に、突起、凹み、ムラがあると、ディスプレイ前面へ設置した際に、モワレ、干渉ムラ、ニュートンリングが発生したりするので好ましくない。この様な問題を防ぐために好ましい方法としては、液状の樹脂を塗布した後に、平面性に優れ剥離性のある基材で積層し、塗布樹脂を加熱又は紫外線照射等で硬化させて、剥離性基材を剥離し除去する方法が挙げられる。平坦化層の表面は、平面性基材の表面が転写されて、平滑な面が形成される。該平坦化層に用いる樹脂としては、特に限定されず各種の天然又は合成樹脂が適用できるが、樹脂の耐久性、塗布性、平坦化しやすさ、平面性などから、アクリル系の紫外線硬化樹脂が好適である。
【００４７】
＜（Ｂ）枚葉化接着性光学フィルタを準備する工程＞
本発明に係る（Ｂ）の工程では、一方の面に接着剤層が積層されてなり、上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分を全て覆うと共に、当該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する、枚葉化接着性光学フィルタを準備する。
【００４８】
本発明に用いられる光学フィルタの一例の断面図を図５に示す。図５に示されるように、本発明に用いられる枚葉化接着性光学フィルタ２０は、光学フィルタ２１の一方の面に接着剤層２２が積層されてなるものであり、当該光学フィルタ２１は、透明基材２３と機能発現層２４とが積層されてなるものである。機能発現層としては、特に限定されないが例えば、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、紫外線吸収層、反射防止層等の光学フィルタ機能層を必須とし、更に必要に応じハードコート層、防汚層、防眩層等が挙げられる。図６では大きく分けて機能発現層２４と透明基材２３と接着剤層２２との３層構成からなる場合を例示したものであるが、これら機能発現層、透明基体、接着剤層の各々は単層の場合もあるし多層の場合もあるし、機能発現層と透明基体とが相互に積層された構成もあり得る。また、機能発現層が透明基体の機能を兼ねて、機能発現層と接着剤層から構成されるものであっても良い。或いは、各機能発現層間又は機能発現層と透明基体の間に、それぞれ接着剤層が設けられていても良い。本発明に用いられる光学フィルタは少なくとも一方の表面に接着剤層を有し、接着性を有するものとする。従って、透明基体側に限られず、機能発現層側に接着剤層が設けられた構成もあり得る。
【００４９】
［光学フィルタの層構成］
（透明基材）
光学フィルタに用いられる透明基材としては、電磁波遮蔽シートに記載したのと同様な透明機材を用いることができる。
【００５０】
（機能発現層）
機能発現層のうち、近赤外線吸収層としては、近赤外線吸収剤を有する市販フィルム（例えば、東洋紡績社製、商品名Ｎｏ２８３２）を接着剤で積層したり、近赤外線吸収色素をバインダへ含有させて塗布してもよい。近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合、プラズマディスプレイパネル７はキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が２０％以下、更に１５％以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を１種、又は２種以上を併用することができる。また、バインダ樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂や、熱又は紫外線などで硬化するエポキシ、アクリレート、メタアクリレート、イソシアネート基などの反応を利用した硬化タイプなどが適用できる。
【００５１】
機能発現層のうち、ネオン光吸収層は、光学フィルタがプラズマディスプレイ用として用いられる際には、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン光を吸収するべく設置される。ネオン光の吸収領域は波長５５０〜６４０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける光線の透過率が５０％以下になるように設計することが好ましい。ネオン光吸収層は、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素として従来から利用されてきた色素を近赤外線吸収層のところに挙げたようなバインダ樹脂に分散させて形成することができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。
【００５２】
また、機能発現層のうち、紫外線吸収層としては、例えば、紫外線吸収剤をバインダ樹脂に分散させて形成することができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン等の有機系化合物、微粒子状の酸化亜鉛、酸化セリウム等からなる無機系化合物からなるものが挙げられる。当該バインダ樹脂としては、上記近赤外線吸収層のところに挙げたような樹脂を用いることができる。
【００５３】
また、機能発現層のうち、反射防止層（ＡＲ層）としては、例えば、低屈性率層と高屈折率層とを交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式法で、或いは塗工等の湿式法も利用して形成することができる。なお、低屈折率層はケイ素酸化物、フッ化マグネシウム、フッ素含有樹脂等が用いられ、高屈折率層には、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等が用いられる。
【００５４】
また、機能発現層のうち、ハードコート層（ＨＣ層）としては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、或いは、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレートモノマーを単独で或いはこれらのモノマー或いはプレポリマーの中から２種以上選択して組み合わせて配合した電離放射線硬化性樹脂を用いた塗膜として形成するとことができる。なおここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する複合的表記である。
【００５５】
また、機能発現層のうち、防眩層（ＡＧ層）としては、樹脂バインダ中にシリカなどの無機フィラーを添加した塗膜形成や、或いは賦形シートや賦形版等を用いた賦形加工により、層表面に外光を乱反射する微細凹凸を設けた層として形成することができる。樹脂バインダの樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる関係上、硬化性アクリル樹脂や、上記ハードコート層同様に電離放射線硬化性樹脂等が好適には使用される。
【００５６】
また、機能発現層のうち、防汚層は、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できる。撥水性塗料として用いられるフッ素系或いはシリコーン系樹脂を好適に用いることができる。例えば、反射防止層の低屈折率層をＳｉＯ2により形成した場合には、フルオロシリケート系撥水性塗料が好ましく用いられる。
【００５７】
（接着剤層）
次に、本発明に用いられる光学フィルタにおいて、必須の層である、一方の面に積層される接着剤層について説明する。
当該接着剤層は、当該光学フィルタと前記電磁波遮蔽シートとを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、各種の天然又は合成樹脂、熱又は電離放射線硬化樹脂などが適用できる。
【００５８】
また本発明においては、中でも、前記電磁波遮蔽シートとの接着及び積層時に流動性を有する接着剤層であることが好ましい。尚、ここで云う流動性とは、外力に対して復元力を持た無いか、或いは持っても僅かで、事実上無制限に変形、変位する性質を云う。例えば水の様なＮｅｗｔｏｎ粘性、ダイラタンシー又はチキソトロピック（非Ｎｅｗｔｏｎ）粘性、或いはクリープ変形性を包括していう。このような場合には、電磁波遮蔽シートのメッシュ面が平坦化されていないものであっても、電磁波遮蔽シートと光学フィルタの積層及び接着時にメッシュの開口部内の隅々にまで接着剤層が行き渡るため、開口部内に気泡が残留することを防止できる。従って、メッシュ面への平坦化工程を省略しながら、気泡の光散乱による複合フィルタの曇値（ヘイズ）が上昇するという不都合を回避でき、透明性の高い光学フィルタを生産効率良く得ることができる。従って本発明における接着剤層が有する流動性は、接着剤層が変形してメッシュ状領域開口部内の空気と置換し、該開口部を充填し得る程度の流動性とする。本発明における接着剤層が有する流動性は、目安として、該接着剤がメッシュ面に圧着される時に、５００００ｃｐｓ以下、好ましくは１００００ｃｐｓ程度（Ｃ型回転粘度計での測定値。接着時の温度に於ける値。）の粘度を有することが好適な高流動性ものとして挙げられる。又粘度が５００００ｃｐｓ超過の低流動性の接着剤を用いた場合でも、接着時に接着剤層を加熱し、更に電磁波遮蔽シート側から真空吸引すれば、上記気泡残留を解消することが可能である。但し、電磁波遮蔽シートのメッシュ開口部を充填し、枚葉化接着性光学フィルタと積層した以降は、必要に応じて、該粘着剤の流動性を低下させても良い。即ち、電磁波遮蔽シートとの接着時においては、メッシュ開口部を確実に充填する都合上、粘着剤の流動性は低い程好ましい。しかしながら、接着及び積層後は粘着剤の流動性は不要であり、寧ろ粘着剤の流動性は、電磁波遮蔽シートと枚葉化接着性光学フィルタとの積層界面から粘着剤が流出したり、粘着剤層中に色素（着色剤）を添加した場合に、該色素の変褪色を促進する場合が有り、好ましくないからである。
【００５９】
流動性を有する接着剤層としては、接着及び積層時に流動性を有すれば良く、例えば、粘着剤、溶剤で溶解又は分散して流動化（液状化）した樹脂からなる接着剤層、溶剤で溶解又は分散することなくそれ自体室温で流動性を有する天然ゴムや合成樹脂、或いは反応モノマー中にその重合体が溶解しているようなシロップ型の粘着剤からなる接着剤層ものであってもよい。また、適宜温度をかけることにより溶融して流動性を有するホットメルト型の接着剤層であっても良い。更に、室温で液状の重合反応性モノマーを含有する接着剤層であって、積層後に光及び／又は熱により硬化させる形態をとる接着剤層であっても良い。中でも、接着剤層の流動性を低下させる方法としては、例えば、予め接着剤層中に架橋剤を添加し、電磁波遮蔽シートと接着して以後、加熱、紫外線照射等により、粘着剤を架橋乃至は重合せしめる方法等が好適な方法として挙げられる。
【００６０】
これらの中でも、本発明に用いられる流動性を有する接着剤層としては、粘着剤が好ましい。
ここで粘着剤とは、接着剤の１種をいい、接着剤のうち、接着の際には単に適度な、通常、軽く手で押圧する程度の加圧のみにより、表面の粘着性のみで接着可能なものをいう。粘着剤の接着力発現には、通常特に、加熱、加湿、放射線（紫外線や電子線等）照射といった物理的なエネルギー乃至作用が不要で、且つ重合反応等の化学反応も不要である。又、粘着剤は、接着後も再剥離可能な程度の接着力を経時的に維持し得るものである。このような粘着剤としては、特に制限は無く、公知の粘着剤として慣用されているものの中から、適度な粘着性（接着力）、透明性、塗工適性を有し、本発明において使用する光学フィルタの透過スペクトルを実質的に変化させることの無いものを適宜選択する。
【００６１】
好適に用いられる粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及び／又はメタクリル酸をいう。
【００６２】
ここで使用される（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸n-プロピル、（メタ）アクリル酸sec-プロピル、（メタ）アクリル酸n-ブチル、（メタ）アクリル酸sec-ブチル、（メタ）アクリル酸tert-ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸n-ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸n-オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸2-エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル及び（メタ）アクリル酸ラウリル等を挙げることができる。
また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、通常はアクリル系粘着剤中に３０〜９９.５重量部の量で共重合されている。
【００６３】
また、アクリル系粘着剤を形成するカルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、マレイン酸モノブチル及びβ-カルボキシエチルアクリレート等のカルボキシル基を含有するモノマーを挙げることができる。
【００６４】
更に、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記の他に、アクリル系粘着剤の特性を損なわない範囲内で他の官能基を有するモノマーが共重合されていても良い。他の官能基を有するモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸2-ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸2-ヒドロキシプロピル及びアリルアルコール等の水酸基を含有するモノマー；（メタ）アクリルアミド、N-メチル（メタ）アクリルアミド及びN-エチル（メタ）アクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー；N-メチロール（メタ）アクリルアミド及びジメチロール（メタ）アクリルアミド等のアミド基とメチロール基とを含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びビニルピリジン等のアミノ基を含有するモノマーのような官能基を有するモノマー；アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸グリシジルエーテルなどのエポキシ基含有モノマーなどが挙げられる。この他にもフッ素置換（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリロニトリルなどのほか、スチレン及びメチルスチレンなどのビニル基含有芳香族化合物、酢酸ビニル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。 
【００６５】
さらに、本発明で用いられるアクリル系粘着剤には、上記のような他の官能基を有するモノマーの他に、他のエチレン性二重結合を有するモノマーを使用することができる。ここでエチレン性二重結合を有するモノマーの例としては、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル及びフマル酸ジブチル等のα,β-不飽和二塩基酸のジエステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル；ビニルエーテル；スチレン、α-メチルスチレン及びビニルトルエン等のビニル芳香族化合物；（メタ）アクリロニトリル等を挙げることができる。
また、上記のようなエチレン性二重結合を有するモノマーの他に、エチレン性二重結合を２個以上有する化合物を併用することもできる。このような化合物の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルマレート、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ-ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、メチレンビス（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
【００６６】
さらに、上記のようなモノマーの他に、アルコキシアルキル鎖を有するモノマー等を使用することができる。（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステルの例としては、（メタ）アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸2-メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸3-メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸2-メトキシブチル、（メタ）アクリル酸4-メトキシブチル、（メタ）アクリル酸2-エトキシエチル、（メタ）アクリル酸3-エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸4-エトキシブチルなどを挙げることができる。
【００６７】
また、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体であっても良い。
例えば、（メタ）アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸オクチル等が挙げられる。
アクリル酸エステル単位２種以上を含む共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル共重合体等が挙げられる。
【００６８】
（メタ）アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−エチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
例えば、（メタ）アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸オクチル等が挙げられる。
【００６９】
アクリル酸エステル単位２種以上を含む共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシ３フェニルオキシプロピル共重合体等が挙げられる。
【００７０】
（メタ）アクリル酸エステルと他の官能性単量体との共重合体としては、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−エチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸２ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。
アクリル系粘着剤の市販品としては、例えば、巴川製紙所製の、商品名ＴＵ−４１Ａ、ＴＤ−０６、日東電工製の、Ｎｏ．５９１、Ｎｏ．５９１５、Ｎｏ．５９１９Ｍ、Ｎｏ．５９５Ｂ、ＣＳ９６２１、ＬＡ−５０、ＬＡ−１００、ＨＪ−９２１０、ＨＪ−９１５０Ｗ等が好適に用いられる。
【００７１】
又、ゴム系粘着剤としては、主成分として、例えば天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体などの中から選ばれた少なくとも１種を含有するものが用いられる。
【００７２】
また、接着剤層には、酸化防止剤を配合することが好ましい。得られる複合フィルタの接着剤層と導電体層との界面で、接着剤に含まれる酸成分によって導電体層が酸化され、色変化が起きるのを防ぐことができる。
更に、接着剤層には、所望に応じて、イソシアネート化合物等の架橋剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、充填剤等を配合することができる。
【００７３】
なお、当該接着剤層中に、上述のような近赤外線吸収色素、紫外線吸収剤、及び／又は、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。このようにすることにより、複数の機能層の機能を１層で兼務し、且つこれを接着剤層とも統合することができるため、複合フィルタとしての総厚み、工程数、原価を低減することが可能となり、好ましい。その場合、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域における光線透過率が２０％以下、中でも１５％以下、５６０〜６３０ｎｍの波長域における光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下となるようにすることが好ましい。
【００７４】
［光学フィルタの形状及び寸法］
次に、光学フィルタの形状及び寸法について説明する。
本発明に用いられる光学フィルタは、第一に、適用されるディスプレイの画像表示領域の全領域を均一に当該光学フィルタの機能を発揮させるために、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うことが可能な形状及び寸法を有する必要がある。従って、本発明に用いられる光学フィルタは、第一に、上記電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０を全て覆うことが可能な形状及び寸法を有する。
【００７５】
ここで上記画像表示領域とは、ディスプレイの表示側から見た場合に外枠体による枠の内側全体の領域をいい、当該枠の内側であって実質的に画像を表示している領域の外側に実質的に画像を表示していない黒い領域が存在する場合には、ここは本来画像表示領域外である。但し、実用上好ましくは当該黒い領域の部分も目に触れる以上は外観が画像表示領域と異なることは違和感がある。よって便宜上、当該黒い領域も画像表示領域に含めて扱うことが好ましい。また、電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分とは、電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域１０１のうち、適用されるディスプレイの画像表示領域を全て覆うように画像表示領域に対面させる領域をいい、画像表示領域と概略同じ形状及び寸法を有する領域である。通常は、ディスプレイの画像表示領域との位置合わせを容易にするために、ディスプレイの画像表示領域と比べて若干（数ｍｍ程度）大きめにする場合が多い。
【００７６】
本発明に用いられる光学フィルタの形状及び寸法は、上記電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０を全て覆うことが可能であれば良く、ディスプレイの画像表示領域と全く同じの形状及び寸法であっても良いが、通常は、ディスプレイの画像表示領域や電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分との位置合わせを容易にするために、ディスプレイの画像表示領域と比べて若干大きめにする。従って、光学フィルタの形状としては、例えば、適用されるディスプレイの画像表示領域や電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分と概略相似の形状とすることができる。また、光学フィルタの寸法は、適用されるディスプレイの画像表示領域と比べて、各辺を例えば１ｍｍ〜２０ｍｍ、更に好ましくは１ｍｍ〜１０ｍｍ、特に好ましくは２ｍｍ〜５ｍｍ程度ずつ大きくすることができる。
【００７７】
一方、本発明においては枚葉化接着性光学フィルタを前記電磁波遮蔽シートと積層すると同時に電磁波遮蔽シート上に接地部を確保するために、本発明に用いられる光学フィルタは、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有する。この接地用領域は、本来メッシュ形成が不要であるが、メッシュが形成されていても良い。また露出される部分は、ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の外縁部に存在するメッシュ状領域の一部を含んでいても良い。
【００７８】
上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能な形状及び寸法を有するためには、電磁波遮蔽シートが実際にディスプレイ用複合フィルタとして用いられる際の一枚分の電磁波遮蔽シートの全領域と全く同じの形状及び寸法とすることはできず、電磁波遮蔽シートの一枚分の全領域によって覆われるような、すなわち、電磁波遮蔽シートの一枚分の全領域よりも小さい寸法を有する必要がある。しかしながら、該接地用領域の少なくとも一部を露出することが可能であれば良いので、上述のように必ずしも上記画像表示領域や電磁波遮蔽シートのディスプレイの画像表示領域に対峙する部分の概略相似の形状でなくても良く、例えば図６（Ａ）のように電磁波遮蔽シートの一枚分の領域の縁部に重なる線が存在しながら一部のみが露出部４０となるような形状であっても良いし、また図６（Ｂ）のように例えば電磁波遮蔽シートの一枚分の領域の縁部が重なりながら露出部４０が中抜きとなるような形状であっても良い。また、光学フィルタの寸法は、電磁波遮蔽シートの一枚分の領域と比べて、各辺を例えば１ｍｍ〜２０ｍｍ、更に好ましくは１ｍｍ〜１０ｍｍ、特に好ましくは２ｍｍ〜５ｍｍ程度ずつ小さくすることができる。
【００７９】
枚葉化は、予め所定の寸法及び形状を有する枚葉化されたガラス基材等の基材を用いてその上に光学フィルタの機能層を積層することにより行なっても良いが、ロール状に作製された光学フィルタを適宜切断することにより得る方が生産性効率の点から好ましい。
【００８０】
＜（Ｃ）上記電磁波遮蔽シートの縁部を露出させる工程＞
本発明に係る（Ｃ）の工程では、上記枚葉化接着性光学フィルタの接着剤層側を、上記電磁波遮蔽シートの導電体層側に向け、且つ上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙する様に位置合わせした状態で、上記電磁波遮蔽シートに上記枚葉化接着性光学フィルタを接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シートの接地用領域の少なくとも一部を露出させる。
【００８１】
このような本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法について、図面を用いて具体的に説明する。図７は、本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法の（Ｃ）工程の一例を示す工程図である。図７（Ａ１）は上記枚葉化接着性光学フィルタが上記電磁波遮蔽シートにおけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分直上に対峙する様に位置合わせした状態を示す断面図であり、図７（Ａ２）は当該位置あわせをした状態を示す平面図である。図７においては、電磁波遮蔽シートは枚葉化されたものが図示されているが、電磁波遮蔽シートは連続帯状のまま、枚葉化接着性光学フィルタを積層しても良い。
【００８２】
本工程においては、まず、図７（Ａ１）に示すように、上記枚葉化接着性光学フィルタ２０の接着剤層２２側を、上記電磁波遮蔽シート１の導電体層側１２に向け、且つ図７（Ａ２）に示すように、上記枚葉化接着性光学フィルタ２０が上記電磁波遮蔽シート１、或いは連続帯状の電磁波遮蔽シートを用いる場合には電磁波遮蔽シートの一枚分の全領域５０中におけるディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０直上に、当該画像表示領域に対峙する部分３０を全て覆うように対峙させて位置合わせをする。この位置合わせをする際には、電磁波遮蔽シート上に見当マークを付したり、光センサーを利用する等して、位置精度を上げることが好ましい。
【００８３】
上記のように位置合わせをした状態で、次に、図７（Ｂ１）に示すように、電磁波遮蔽シート１に枚葉化接着性光学フィルタ２０の接着剤層２２を接着、及び積層すると共に、上記電磁波遮蔽シート１の接地用領域の少なくとも一部を露出させる。露出部４０としては、接地が可能となるように適宜設計されれば特に制限されないが、通常四角形の電磁波遮蔽シートの４辺周囲の画像表示に影響しない部分を額縁状に設けられることが多い。電磁波遮蔽シートの縁部の全周囲を露出させなくても、一辺のみを露出させても良いし、一部分を一又は数箇所露出させても良い。
【００８４】
以上のような工程を含む製造方法により製造された本発明のディスプレイ用複合フィルタは、複合フィルタの接地のために行う、電磁波遮蔽シート上からの他の光学フィルタ層の剥離除去工程を有さず、電磁波遮蔽シートの露出及び接地が可能である。ディスプレイ１台毎に１回ずつ実施する必要が有る剥離除去工程を有しないため、まとめて量産加工可能であって生産効率が良い。
【００８５】
また、特に、前記電磁波遮蔽シートとして、前記メッシュ状領域のライン部の高さが３μｍ以下、メッシュの開口部の間口幅が１５０μｍ以上であり、且つメッシュの開口部に平坦化層の被覆の無い電磁波遮蔽シートを用いると共に、前記枚葉化接着性光学フィルタとして、接着及び積層時に流動性の接着剤層を有する枚葉化接着性光学フィルタを用いる場合には、上述したようなメッシュ状領域の平坦化工程が不要であり、余分な材料及び工程を削減することが可能な上、優れた透明性を有する複合フィルタを生産効率良く得ることができる。
【００８６】
本発明に係る製造方法によって得られるディスプレイ用複合フィルタは、透明性が高いものが得られることが好ましく、ヘイズが３以下であることが好ましい。ここでヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠した方法により測定された値を意味する。
【００８７】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。
＜実施例１＞  
（１）電磁波遮蔽シートの製造
図１（Ａ）の平面図に示す電磁波遮蔽フィルタ１を次の様にして作製した。
透明基材１１として厚さ１００μｍで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
この透明基材のプライマー層上に、スパッタ法で、順次、厚さが０．１μｍのニッケル−クロム合金層及び厚さが０．２μｍの銅層（導電体層の一部）を設けて導電処理層１３とした。
該導電処理層面に、硫酸銅浴を用いた電解メッキ法で厚さが２．０μｍの銅の金属メッキ層１４（導電体層の残りの部分）を設け、これら導電処理層１３及び金属メッキ層１４の両層を導電体層１２として形成して、透明基材上に導電体層が接着剤層を間に介さずに、直接形成された銅貼り積層シートを作製した。
【００８９】
次いで、該導電体層上に黒化層１５Ｂを形成した。具体的には、アノードにニッケル板を使用し、硫酸ニッケルアンモニウム水溶液と硫酸亜鉛水溶液とチオシアン酸ナトリウム水溶液との混合水溶液からなる黒化処理メッキ浴に、上記メッシュ状の導電体層が透明基材上に形成された積層シートを、浸漬して電解メッキを行って黒化処理して、ニッケル−亜鉛合金からなる黒化層１５Ｂを、露出している導電体層全面に被覆形成して、導電体層１２（導電処理層１３、金属メッキ層１４、及び黒化層１５Ａ）が積層されたシートを得た。
【００９０】
次いで、上記積層シートに対して、その導電体層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部１０３及びライン部１０４とから成るメッシュ状領域１０１、及びメッシュ状領域１０１の４周を囲繞する外縁部に額縁状の接地用領域１０２を形成した。
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対してマスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートの導電体層面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、導電体層及び黒化層を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
【００９１】
メッシュ状領域のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状部分のライン幅は１０μｍ、そのライン間隔（ピッチ）は３００μｍ、ライン部の高さは２．３μｍ、図１（Ａ）のように長方形の枚葉シートに切断した場合に、該長方形の長辺に対する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。また、メッシュ状領域１０１は、完成された複合フィルタを画像表示装置（ディスプレイ）前面に装着した際に、該ディスプレイの画像表示領域に対峙する部分３０が存在し、又該メッシュ状領域１０１の周縁部には、複合フィルタを四角形の枚葉シートに切断した時に、その四辺外周に接地用領域１０２として開口部が無い幅１５ｍｍの額縁部を残す様なパターンに設計した。  このようにして、平坦化層の無い、実施例１の電磁波遮蔽用シート１を得た。
【００９２】
（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造
次いで、上記電磁波遮蔽用シート１上に積層すべき枚葉化接着性光学フィルタ２０を用意した。光学フィルタの層構成としては、反射防止層／紫外線吸収層／接着剤層２２（接着剤層２２は近赤外線吸収層、ネオン光吸収層を兼用）の構成のものを準備した。尚、「／」はその左右の層が積層一体化されている事を示す。
【００９３】
該紫外線吸収層としては、紫外線吸収剤を練込んで成る透明な、厚さ５０μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムであるテトロンフィルム（帝人（株）製、商品名「ＨＢタイプ」）を用いた。又該紫外線吸収層は、反射防止層を塗工形成する為の基材としても利用する。
該反射防止層は、該紫外線吸収層の上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した物から構成した。
ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物（ＪＳＲ（株）製、商品名「ＫＺ７９７３」）の厚さ３μｍ、屈折率１．６９の硬化物層から成る。
又、低屈折率樹脂層は、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂（ＪＳＲ（株）製、商品名「ＴＭ０８６」）の厚さ１００ｎｍ、屈折率１．４１の硬化物から成る。
【００９４】
又該紫外線吸収剤層の反射防止層とは反対側に接着剤層２２を形成し、且つ該接着剤層２２中に、近赤外線吸収剤、及びネオン光吸収剤を添加することにより、該接着剤層を近赤外線吸収層、及びネオン光吸収層と兼用した。
ネオン光吸収剤としてシアニン系色素（旭電化工業株式会社製、商品名「ＴＹ−１６７」）を、又近赤外線吸収剤として、ジイモニウム系色素（日本カーリット社製、商品名「ＣＩＲ１０８５」）、フタロシアニン系色素（日本触媒社製、商品名「ＩＲ１２」）、及びフタロシアニン系色素（日本触媒社製、商品名「ＩＲ１４」）を添加した。
【００９５】
接着剤としては、低流動性のアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；日東電工（株）製、商品名；ＣＳ９６２１）を用いた。
上記のような構成の光学フィルタ２０を、電磁波遮蔽シートのメッシュ上領域の画像表示領域と対峙する部分３０（長方形）と同形状で、且つ寸法は縦横共に４ｍｍずつ大きく裁断し、１枚の枚葉化接着性光学フィルタとした。
【００９６】
（３）複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用シート１と該枚葉化接着性光学フィルタ２０とを、図７の如く、該接着剤層２２が導電体層１２の該メッシュ状領域１０１と対向する向きで、且つ該枚葉化接着性光学フィルタが、該メッシュ状領域１０１の画像表示領域と対峙する部分３０を全部被覆し、しかも該接地用領域１０２の内周側２ｍｍは該枚葉化接着性光学フィルタで被覆され、一方、該接地用領域１０２の外周側１３ｍｍは何も被覆されずに導電体層が露出する様に位置合わせした上で、互いに接着積層した。この際の積層条件としては、真空ポンプを使って、電磁波遮蔽シート側から吸引し、且つ枚葉化接着性光学フィルタ側から８０℃の温風吹付けにより、加熱加圧状態で積層（所謂オートクレーブ加工）した。
【００９７】
＜実施例２＞
実施例１の（３）複合フィルタの製造における、積層条件として、室温（２０℃）にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの加圧にて積層した以外は、実施例１と同様に、複合フィルタを製造した。
【００９８】
＜実施例３＞
実施例１の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例１と同様に、複合フィルタを製造した。
【００９９】
＜実施例４＞
実施例２の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」を用いた以外は、実施例２と同様にして、複合フィルタを製造した。
【０１００】
＜実施例５＞
（１）電磁波遮蔽シートの製造
図１に示す電磁波シールドフィルタ１を次の様にして作製した。先ず、導電体層１２とする金属箔として、一方の面に銅−コバルト合金粒子から成る黒化層１５Ａが形成された厚さ１０μｍの連続帯状の電解銅箔を用意した。
また、透明基材１１として厚さ１００μｍで片面にポリエステル樹脂系プライマー層を形成した、連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
そして、前記銅箔の両面に対して、亜鉛めっき後、ディッピング法にて公知のクロメート処理を行い、表裏両面に防錆層１６Ａ、１６Ｂを形成した。
【０１０１】
次いで、この銅箔をその黒化層面側で上記透明基材プライマー層上に、主剤が平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部から、又硬化剤がキシレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部とから成る透明な２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤でドライラミネートした後、５０℃３日間養生して、銅箔（防錆層）と透明基材間に厚さ７μｍの透明接着剤層を有する連続帯状の銅貼積層シートを得た。
【０１０２】
次いで、上記銅貼積層シートに対して、その導電体層及び黒化層をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、開口部１０３及びライン部１０４とから成るメッシュ状領域１０１、及びメッシュ状領域１０１の４周を囲繞する外縁部に額縁状の接地用領域１０２を形成した。
エッチング工程は実施例１と同様である。メッシュ状領域のライン部の高さは１０μｍであるが、その他のメッシュ状領域の形状、寸法は、実施例１と同様である。
このようにして、平坦化層の無い、実施例５の電磁波遮蔽用シート１を得た。
【０１０３】
（枚葉化接着性光学フィルタの製造）
実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを得た。
（複合フィルタの製造）
そして、得られた該電磁波遮蔽用シート１の該メッシュ上領域１０１上に、実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを、接着、積層した。
このようにして、実施例５の複合フィルタを得た。
【０１０４】
＜実施例６＞
実施例５の（３）複合フィルタの製造における、積層条件として、室温（２０℃）にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの加圧にて積層した以外は、実施例５と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１０５】
＜実施例７＞
実施例５の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例５と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１０６】
＜実施例８＞
実施例６の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例６と同様にして、複合フィルタを製造した。
【０１０７】
＜実施例９＞
（１）電磁波遮蔽シートの製造
実施例１と同様にして、平坦化層の無い電磁波遮蔽シートを得た。
次いで、一旦ロールに巻き取られた上記電磁波遮蔽シートを、巻出してそのメッシュ面上に対して、平坦化層を形成した。
先ず、透明な電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗液を、間歇ダイコート法による間歇塗工によって、幅方向に両側部に走る額縁部及び流れ方向前後の額縁部の全内周に向かって２．５ｍｍ進入した位置まで塗工されその外側は塗工され無い様に、電磁波遮蔽シートのメッシュ状領域上に乾燥時塗工量で２５ｇ／ｍ2塗布し、メッシュの開口部を完全に充填し、塗工面表面を平坦化した。  
【０１０８】
尚、上記塗液は、ウレタンアクリレートオリゴマーとフェノキシエチルアクリレート単量体を１：１質量比で混合したものに対して光重合開始剤〔イルガキュア（登録商標）１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製〕を３質量％添加し、これを更に有機溶媒（メチルエチルケトン：トルエン＝１：１質量比の混合溶剤）で希釈した電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗液である。
【０１０９】
そして、上記塗布後、乾燥し溶剤を飛ばした後の塗膜に対して、平坦面を賦形する賦形シートとして、厚さ５０μｍの連続帯状の市販２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをその易接着処理未処理面（表面粗さがＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４年度版）規定の中心線平均粗さが０．０１μｍ）で塗膜にラミネートした。この後、該賦形シート側から紫外線照射（フュージョンＵＶシステムズ社製Ｄバルブ使用）して、塗膜を硬化した後、賦形シートのみを剥離して、表面が平坦面の平坦化層を形成した。
以上により、平坦化層有りの電磁波遮蔽用シート１を得た。
【０１１０】
（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造
実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを得た。
（３）複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用シート１の平坦化層上に、実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを、接着、積層した。
このようにして、実施例９の複合フィルタを得た。
【０１１１】
＜実施例１０＞
実施例９の（３）複合フィルタの製造における、積層条件として、室温（２０℃）にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの加圧にて積層した以外は、実施例９と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１１２】
＜実施例１１＞
実施例９の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例９と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１１３】
＜実施例１２＞
実施例１０の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」〕）を用いた以外は、実施例１０と同様にして積層して、複合フィルタを製造した。
【０１１４】
＜実施例１３＞
（１）電磁波遮蔽シートの製造
実施例５と同様にして、平坦化層の無い電磁波遮蔽シートを得た。
次いで、上記電磁波遮蔽シートのメッシュ面上に対して、実施例９と同様にして平坦化層を形成した。
以上により、平坦化層有りの電磁波遮蔽用シート１を得た。
【０１１５】
（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造
実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを得た。
（３）複合フィルタの製造
そして、得られた該電磁波遮蔽用シート１の該平坦化層上に、実施例１と同様にして、枚葉化接着性光学フィルタを、接着、積層した。
このようにして、実施例１３の複合フィルタを得た。
【０１１６】
＜実施例１４＞
実施例１３の（３）複合フィルタの製造における、積層条件として、室温（２０℃）にて、ゴムローラで最大１０ｋｇ／ｃｍの加圧にて積層した以外は、実施例１３と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１１７】
＜実施例１５＞
実施例１３の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例１３と同様に、複合フィルタを製造した。
【０１１８】
＜実施例１６＞
実施例１４の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造における、接着剤として、高流動性を有するアクリル樹脂系の粘着剤（製造元；巴川製紙所製、商品名；「ＴＵ−４１Ａ」）を用いた以外は、実施例１４と同様にして積層して、複合フィルタを製造した。
【０１１９】
＜比較例１＞
実施例１の（２）枚葉化接着性光学フィルタの製造において、枚葉化接着性光学フィルタ２０を枚葉に裁断する際に、その形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート１と同じとした。
又、枚葉化接着性光学フィルタ２０を電磁波遮蔽用シート１と積層する際に、両者の外縁部輪郭を揃え、枚葉化接着性光学フィルタ２０が電磁波遮蔽用シート１のメッシュ上領域１０１及び接地用領域１０２の両方を全域に亘って被覆する様にした。
その他は、実施例１と同様に加工して、比較例１の複合フィルタを得た。
【０１２０】
＜比較例２＞
比較例１と同様に、枚葉化接着性光学フィルタ２０の形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート１と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタ２０が電磁波遮蔽用シート１のメッシュ上領域１０１及び接地用領域１０２の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例２と同様に加工して、比較例２の複合フィルタを得た。
【０１２１】
＜比較例３＞
比較例１と同様に、枚葉化接着性光学フィルタ２０の形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート１と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタ２０が電磁波遮蔽用シート１のメッシュ上領域１０１及び接地用領域１０２の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例３と同様に加工して、比較例３の複合フィルタを得た。
【０１２２】
＜比較例４＞
比較例１と同様に、枚葉化接着性光学フィルタ２０の形状及び寸法を、枚葉化した電磁波遮蔽シート１と同じとし、枚葉化接着性光学フィルタ２０が電磁波遮蔽用シート１のメッシュ上領域１０１及び接地用領域１０２の両方を全域に亘って被覆する様に積層した以外は、実施例４と同様に加工して、比較例４の複合フィルタを得た。
【０１２３】
〔性能評価方法〕
上記、各実施例、及び比較例に対して、以下の点を評価した。評価結果を表１に示す。
（１）接地時の作業性
接地作業を１０枚の試料につき実施した。接地用領域の露出作業の要不要、露出作業の煩雑さ、不良発生度合いを比較した。
［判定基準］
露出作業が不要；○
露出作業が必要。但し、毎回確実に剥離可能、毎回導電体層の破断損傷、無し；△
露出作業が必要。但し、１回以上剥離不能、或いは導電体層の破断損傷有り；×
【０１２４】
（２）メッシュ状領域の透明性
複合フィルタを目視にて透視して比較した。
白濁（曇り）、或いは気泡の存在を認め無いもの；○
白濁（曇り）、或いは気泡の存在を認めるもの；△
白濁（曇り）、或いは気泡の存在を認めるものであって、特に目立つもの；×
【０１２５】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】図１（Ａ）は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の平面図であり、図１（Ｂ)は、本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例の断面図である。
【図２】本発明の導電体層のメッシュ状領域１０１の一例を示す斜視図である。
【図３】本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの一例を示す図である。
【図４】本発明に用いられる電磁波遮蔽シートの他の一例を示す図である。
【図５】本発明に用いられる光学フィルタの一例を示す図である。
【図６】本発明における電磁波遮蔽シートの露出部の一例を示す図である。
【図７】本発明のディスプレイ用複合フィルタの製造方法の（Ｃ）工程の一例を示す工程図である
【符号の説明】
【０１２７】
１  電磁波遮蔽シート
１１  透明基材
１２  導電体層
１３  導電処理層
１４  金属メッキ層（金属層）
１５  黒化層
１６  防錆層
２０  接着性光学フィルタ
２１  光学フィルタ
２２  接着剤層
２３  透明基材
２４  機能発現層
１０１  メッシュ状領域
１０２  接地用領域
１０３  開口部
１０４  ライン部
【図１】
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【図２】
2007036107.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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