(57)【要約】【課題】発光領域を挟んで上下に形成されるｎ層側とｐ層側の電極形状を最適化する。【解決手段】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００は、両面に導電性多層膜を形成したｎ型シリコン基板２００を支持基板とし、ｐ側にＩＴＯから成る透光性電極１２１−ｔ、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃ、アルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒとを形成され、多層金属膜を介して金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５０でｎ型シリコン基板２００と電気的に接続されている。III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００は、窓枠状に形成されたｎ電極である多層金属膜１３０の形成されていない領域が光取り出し領域である。ｐ電極側のニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃの形状とｎ電極である多層金属膜１３０の形状は、それぞれの発光領域Ｌ平面への正射影が重ならず、且ついずれの位置においても２０μｍ以上の間隔を有して離れている。【選択図】図１．Ｋ
2007158128.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
III族窒化物系化合物半導体光素子であって、
各々III族窒化物系化合物半導体のｐ層及びｎ層に接合する正及び負の電極が、平面状の発光領域又は受光領域を挟んで上側及び下側に位置し、
前記正電極は、III族窒化物系化合物半導体に接合する透光性電極と、当該透光性電極に電気的に接続された接続部とから構成され、
当該接続部と、負電極とは、前記発光領域又は受光領域の平面への正射影が互いに重ならない形状に形成されていることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体光素子。
【請求項２】
III族窒化物系化合物半導体光素子であって、
各々III族窒化物系化合物半導体のｐ層及びｎ層に接合する正及び負の電極が、平面状の発光領域又は受光領域を挟んで上側及び下側に位置し、
前記正及び負の電極のいずれもが、III族窒化物系化合物半導体に接合する透光性電極と、当該透光性電極に電気的に接続された接続部とから構成され、
前記正及び負の電極の各々の前記接続部は、前記発光領域又は受光領域の平面への正射影が互いに重ならない形状に形成されていることを特徴とするIII族窒化物系化合物半導体光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はIII族窒化物系化合物半導体光素子に関する。尚、本明細書で半導体光素子とは、発光素子、受光素子、その他光エネルギーと電気エネルギーとの一方から他方への変換素子その他任意の光機能を有する半導体素子を言うものとする。
【背景技術】
【０００２】
緑色、青色乃至紫外光を発する発光素子として、III族窒化物系化合物半導体発光素子が登場してから久しいが、依然サファイア基板等の、異種且つ絶縁性基板上に発光素子をエピタキシャル成長するものが主流である。異種の導電性基板を用いる場合であっても、エピタキシャル成長中のいわゆる転位が十分に低減できないことや、エピタキシャル成長後常温に戻すまでに、熱膨張係数の差によるIII族窒化物系化合物半導体層におけるクラックの発生を十分には抑制できないことが依然として問題である。
【０００３】
ところで、エピタキシャル成長を行う基板と、素子として用いる際の支持基板とを異なるものとする、即ちエピタキシャル成長後に他の基板にIII族窒化物系化合物半導体層やIII族窒化物系化合物半導体素子を移し替る技術がある（特許文献１乃至４、非特許文献１）。
【特許文献１】特許３４１８１５０
【特許文献２】特表２００１−５０１７７８
【特許文献３】特表２００５−５２２８７３
【特許文献４】ＵＳＰ６０７１７９５
【非特許文献１】Ｋｅｌｌｙら、「Ｏｐｔｉｃａｌ  ｐｒｏｃｅｓｓ  ｆｏｒ  ｌｉｆｔｏｆｆ  ｏｆ  ｇｒｏｕｐ  ＩＩＩ−ｎｉｔｒｉｄｅ  ｆｉｌｍｓ」、Ｐｈｙｓｉｃａ  Ｓｔａｔｕｓ  Ｓｏｌｉｄｉ（ａ）  ｖｏｌ．１５９、１９９７年、Ｒ３〜Ｒ４頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、上記技術をIII族窒化物系化合物半導体光素子に適用する際の手法として、支持基板を導電性基板とし、支持基板に接するｐ層側の電極構成に高反射性金属を用い、且つ反対側、即ちあらわになったｎ層側の電極を窓枠状に形成することを検討中である。これにより、例えばIII族窒化物系化合物半導体発光素子として、ｎ層側の窓枠状の電極が形成されていない領域（窓）から光取り出しを効率よく行うことができると考えられる。
【０００５】
この場合、窓枠状のｎ層側の電極形状と、ｐ層側の電極形状について次のような構成をとることで、発光領域又は受光領域の全体を有効に活用できることを見出した。即ち、本発明の目的は、III族窒化物系化合物半導体光素子の発光領域又は受光領域の全体を有効活用させるための、当該発光領域又は受光領域を挟んで上下に形成されるｐ層側の電極形状と、ｎ層側の電極形状を最適化することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明は、III族窒化物系化合物半導体光素子であって、各々III族窒化物系化合物半導体のｐ層及びｎ層に接合する正及び負の電極が、平面状の発光領域又は受光領域を挟んで上側及び下側に位置し、正電極は、III族窒化物系化合物半導体に接合する透光性電極と、当該透光性電極に電気的に接続された接続部とから構成され、当該接続部と、負電極とは、発光領域又は受光領域の平面への正射影が互いに重ならない形状に形成されていることを特徴とする。尚、ここで「平面状の発光領域又は受光領域」とは、例えば発光領域については、ｐｎ接合界面、単一又は多重量子井戸構造その他の発光層を全て含むもので、受光領域についても同様である。「平面状」とは、界面でない、単層又は多重層の発光層であっても、素子全体から見れば十分に薄いことから「平面状」と呼ぶものであり、当該「平面状の発光領域又は受光領域」に電極の正射影を投影する場合に、「発光領域付近に」平面を想定できることから「発光領域又は受光領域の平面への正射影」と表現したものである。
【０００７】
請求項２に係る発明は、III族窒化物系化合物半導体光素子であって、各々III族窒化物系化合物半導体のｐ層及びｎ層に接合する正及び負の電極が、平面状の発光領域又は受光領域を挟んで上側及び下側に位置し、正及び負の電極のいずれもが、III族窒化物系化合物半導体に接合する透光性電極と、当該透光性電極に電気的に接続された接続部とから構成され、正及び負の電極の各々の接続部は、発光領域又は受光領域の平面への正射影が互いに重ならない形状に形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
III族窒化物系化合物半導体は、ｎ型層は十分に抵抗の低い層が容易に得られるが、ｐ型層は抵抗の低い層を容易に得ることはできない。この点において、例えばＧａＡｓ系等の、ｎ型層、ｐ型層共に十分に抵抗の低い層が容易に得られる材料とは、素子構成の設計において大きく異なる。例えば、ＧａＡｓ系半導体層を積層した発光素子において、ｐ層及びｎ層に接合する正及び負の電極が、発光領域を挟んで上側及び下側に位置し、且つ正及び負の電極の、発光領域の平面への正射影が互いに重ならない位置に形成すると、ｐ層全体から発光領域及びｎ層全体に向かって電流が生じる。これは、ｐ層、ｎ層共に抵抗、特に横方向のシート抵抗が小さいため、電極が接続された位置から、ｐ／ｎコンタクト層全体に横方向へ電流が生じた後、電流が発光領域全体を通って対極に向かうからである。しかし、上述の通り、III族窒化物系化合物半導体はｎ型層とｐ型層で抵抗が大きく異なるので、このような構成をIII族窒化物系化合物半導体素子に適用しても、電流が発光領域全体を通ることにはならない。即ち、III族窒化物系化合物半導体のｐ型層は横方向のシート抵抗が大きく、電流はｐ電極が形成された領域の幅程度の発光領域を通って対極に向かうからである。
【０００９】
そこでIII族窒化物系化合物半導体の少なくともｐ型層全面に薄膜電極を形成することで、ｐ電極が形成された領域からｐ型層全体に電流を生じさせることが可能となる。但し、薄膜電極の厚さが薄いと、その薄膜電極に電流を注入する接続部と、ｎ電極との正射影が重なる場合は、やはりそれらを直接結ぶ領域内に電流が集中し、発光領域等の全体を電流が通ることにはならない。そこで、請求項１、２のように、III族窒化物系化合物半導体に接合する透光性電極と、当該透光性電極に電気的に接続された接続部とから構成される電極を用いる場合で、接続部と他方の電極、又は正及び負の電極の各々の接続部とが、発光領域又は受光領域の平面への正射影が互いに重ならない形状に形成されている電極の場合は、発光領域又は受光領域全体を有効に活用できることとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、任意のIII族窒化物系化合物半導体光素子に適用でき、特に光取り出し領域を有する発光素子、光取込み領域を有する受光素子に適用できる。支持基板を有した素子は、当該基板と接していない側のIII族窒化物系化合物半導体層に窓枠状等の電極を、直接又は透光性電極を介して形成すると良い。本発明は正負の電極が発光領域の上下にそれぞれ位置するので、支持基板としては導電性基板を用いることが望ましく、絶縁性基板を用いる場合は他の導電性基板等に光素子構造を移し替ることが望ましい。
【００１１】
レーザ照射により例えばＧａＮの薄膜部を溶融、分解してエピタキシャル成長基板と分離させる場合は、３６５ｎｍより短波長のレーザが適しており、波長３６５ｎｍ、２６６ｎｍのＹＡＧレーザ、波長３０８ｎｍのＸｅＣｌレーザ、波長１５５ｎｍのＡｒＦレーザ、波長２４８ｎｍのＫｒＦが好適に用いられる。レーザ照射を、任意個数のチップサイズとすること、例えば５００μｍ毎にウエハに配置されたチップならば４個×４個の２ｍｍ角のレーザ照射、或いは６個×６個の３ｍｍ角のレーザ照射とすると、各チップを「レーザ照射済み」「未照射」の境界が横切ることが無く、好適である。
【００１２】
III族窒化物系化合物半導体積層構造は、エピタキシャル成長により形成することが望ましい。但しエピタキシャル成長に先立って形成されるバッファ層は、エピタキシャル成長によらず、例えばスパッタリングその他の方法により形成されるものでも構わない。エピタキシャル成長方法、エピタキシャル成長基板、各層の構成、発光層等の機能層の構造その他の構成方法及び素子分割後の取扱い方法等は、以下の実施例では細部を全く述べないこともあるが、これは本願出願時における、任意の公知の構成を用いること、或いは複数の技術構成を任意に組み合わせて所望の光素子を形成することが、本発明に包含されうることを意味するものである。
【００１３】
III族窒化物系化合物は、狭義にはＡｌＧａＩｎＮ系の任意組成の２元系及び３元系を包含する４元系の半導体自体と、それらに導電性を付与するためのドナー又はアクセプタ不純物を添加したものを意味するが、一般的に、他のIII族及びV族を追加的或いは一部置換して用いる半導体、或いは他の機能を付与するために任意の元素を添加された半導体を排除するものではない。
【００１４】
III族窒化物系化合物層に直接接合させる電極や、当該電極に接続される単層又は多層の電極は、任意の導電性材料を用いることができる。高反射性金属としてはIII族窒化物系化合物層に直接接合させる場合はイリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）が好適である。透光性電極を形成することも可能であり、酸化インジウムスズ、酸化インジウムチタンその他の酸化物電極を用いることができる。エピタキシャル成長ウエハと支持基板とを接合させるのにははんだを好適に用いることができ、はんだの成分によって、支持基板やエピタキシャル成長ウエハの接合側面に必要に応じて多層金属膜を形成すると良い。また、２つの層例えば酸化物層と金属層とを直接接触させないために誘電体層をそれらの間に形成する場合、任意の誘電体材料を用い、当該誘電体層に孔部を設けて電気的接続部材を充填するなどの手法が有る。
【００１５】
本発明は電極構成に特徴を有するものであり、繰り返し述べるように、他の構成は任意の公知構成、公知技術の組み合わせを用いることができる。
【実施例１】
【００１６】
図１．Ａ乃至図１．Ｋは、本発明の具体的な一実施例に係るIII族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法を示す工程図（断面図）である。尚、図１．Ｋ及び図２では、実質的に１チップのIII族窒化物系化合物半導体発光素子１０００に対応する図を示しており、図１．Ａ乃至図１．Ｊにおいても１チップ分の断面図に対応する図面を示している。しかし、図１．Ａ乃至図１．Ｊは１枚のウエハ等の「一部」を拡大して表現したものであり、図１．Ｋも、ダイシング等によりチップ化する前の状態である１枚のウエハ等の「一部」を拡大した断面図をも意味するものである。
【００１７】
まず、サファイア基板１００を用意し、通常のエピタキシャル成長によりIII族窒化物系化合物半導体層を形成する（図１．Ａ）。図１．Ａでは単純化して、ｎ型層１１とｐ型層１２と発光領域Ｌとして積層されたIII族窒化物系化合物半導体層を示した。図１．Ａ乃至図１．Ｋにおいて、ｎ型層１１とｐ型層１２とは、破線で示した発光領域Ｌで接する２つの層の如く記載しているが、これらは細部の積層構造の記載を省略したものである。実際、サファイア基板１００に例えばバッファ層、シリコンをドープしたＧａＮから成る高濃度ｎ+層、ＧａＮから成る低濃度ｎ層、ｎ−ＡｌＧａＮクラッド層を構成するものであっても、図１．Ａ乃至図１．Ｋにおいてはｎ型層１１として代表させている。同様に、マグネシウムをドープしたｐ−ＡｌＧａＮクラッド層、ＧａＮから成る低濃度ｐ層、ＧａＮから成る高濃度ｐ+層を構成するものであっても、図１．Ａ乃至図１．Ｋにおいてはｐ型層１２として代表させている。また、発光領域Ｌは、ｐｎ接合の場合の接合面と、例えば多重量子井戸構造の発光層（通常、井戸層はアンドープ層）の両方を代表して破線で示したものであり、単に「ｎ型層１１とｐ型層１２との界面」を意味するものではない。但し、「発光領域の平面」は発光領域Ｌで示した破線付近に存在する、平面である。尚、ｐ型層１２は、下記の「窒素（Ｎ2）雰囲気下の熱処理」前においては、「ｐ型不純物を含む層ではあるが、低抵抗化していない」ものであり、当該「窒素（Ｎ2）雰囲気下の熱処理」後においては、通常の意味の低抵抗のｐ型層である。
【００１８】
次に、電子ビーム蒸着により、ｐ型層１２の全面に厚さ３００ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）から成る透光性電極１２１−ｔを形成する。この後、Ｎ2雰囲気下、７００℃で、５分間加熱処理してｐ型層１２を低抵抗化すると共に、ｐ型層１２とＩＴＯ電極１２１−ｔとの間のコンタクト抵抗を低抵抗化する。次に、ＩＴＯ電極１２１−ｔの全面に、厚さ１００ｎｍの窒化ケイ素（ＳｉＮx）から成る誘電体層１５０を形成する（図１．Ｂ）。
【００１９】
次に、図示しないレジスト膜を用いたフォトリソグラフにより、ドライエッチングでＳｉＮxから成る誘電体層１５０に孔部Ｈを形成する。後述するように、孔部Ｈの形状と位置、即ちニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃの形状と位置は、のちに形成する多層金属膜から成るｎ電極１３０の形状と位置との関係において、「発光領域Ｌの平面」に投影した両者の正射影が重ならないようにする。本実施例においては、孔部Ｈは、一辺４００乃至５００μｍの正方形状のIII族窒化物系化合物半導体発光素子１０００に対して幅約２０μｍ、孔部Ｈの間隔８０乃至１００μｍのストライプ状とした。この後レジスト膜を除去する（図１．Ｃ）。
【００２０】
次に、孔部Ｈにニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃを形成するため、図示しないレジスト膜を形成する。このレジスト膜には、ＳｉＮxから成る誘電体層１５０の孔部Ｈ上部に、当該孔部よりも大きい孔部を形成する。こうして、ＳｉＮxから成る誘電体層１５０の孔部Ｈと、その上に形成されたレジスト膜の孔部とにニッケル（Ｎｉ）を抵抗加熱蒸着により形成する。この際、ニッケル（Ｎｉ）はＳｉＮxから成る誘電体層１５０の孔部Ｈを充填し、且つ誘電体層１５０上部に２０ｎｍ厚の庇状部が形成されるまで蒸着した。こうして、レジスト膜を除去し、ＳｉＮxから成る誘電体層１５０の孔部Ｈを充填する、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃを形成した（図１．Ｄ）。
【００２１】
次に、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃを孔部Ｈに有するＳｉＮxから成る誘電体層１５０の上に、厚さ３００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒを蒸着により形成する（図１．Ｅ）。こうして、ＩＴＯから成る透光性電極１２１−ｔ、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃ、アルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒとにより、III族窒化物系化合物半導体層との密着性が高く、光を吸収せず高反射する、多重ｐ電極が形成される。尚、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃを孔部Ｈに有するＳｉＮxから成る誘電体層１５０の役割は、アルミニウム（Ａｌ）とＩＴＯを直接接触させないことで、アルミニウム（Ａｌ）の酸化による電極特性の劣化を防止することである。
【００２２】
次に、多層金属膜を次の順に蒸着により形成する。厚さ５０ｎｍのチタン（Ｔｉ）層１２２、厚さ５００ｎｍのニッケル（Ｎｉ）層１２３、厚さ５０ｎｍの金（Ａｕ）層１２４。こうして図１．Ｆの層構成となる。チタン（Ｔｉ）層１２２、ニッケル（Ｎｉ）層１２３、金（Ａｕ）層１２４の機能は、次の通りである。スズ２０％の金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５１を設けるにあたって、当該金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５１と合金化する層として金（Ａｕ）層１２４を、スズ（Ｓｎ）のアルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒへの拡散を防ぐ層としてニッケル（Ｎｉ）層１２３を、ニッケル（Ｎｉ）層１２３とアルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒとの密着性を向上させるためにチタン（Ｔｉ）層１２２を各々設けるものである。
【００２３】
次に金（Ａｕ）層１２４の上に、スズ２０％の金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５１を厚さ１５００ｎｍ形成する（１．Ｇ）。
【００２４】
次にｎ型シリコン基板２００を用意し、両面に導電性多層膜を次の順に蒸着等により形成する。表面側の層を符号２２１乃至２２４で、裏面側の層を符号２３１乃至２４４で示す。厚さ５０ｎｍの窒化チタン（ＴｉＮ）層２２１及び２３１、厚さ１００ｎｍのチタン（Ｔｉ）層２２２及び２３２、厚さ５００ｎｍのニッケル（Ｎｉ）層２２３及び２３３、厚さ５０ｎｍの金（Ａｕ）層２２４及び２３４。窒化チタン（ＴｉＮ）層２２１及び２３１は、ｎ型シリコン基板２００とのコンタクト抵抗が低い点から選択された層であり、チタン（Ｔｉ）層２２２及び２３２、ニッケル（Ｎｉ）層２２３及び２３３、金（Ａｕ）層２２４及び２３４の機能は、上述のチタン（Ｔｉ）層１２２、ニッケル（Ｎｉ）層１２３、金（Ａｕ）層１２４の機能と全く同様である。このｎ型シリコン基板２００に形成した表面側の導電性多層膜の最上層である金（Ａｕ）層２２４の上にスズ２０％の金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５２を厚さ１５００ｎｍ形成し、上述の図１．Ｇのスズ２０％の金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５１を厚さ１５００ｎｍ形成したIII族窒化物系化合物半導体発光素子ウエハと、金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）を形成した面同士を貼り合わせる（図１．Ｈ）。こうして、３００℃、３０ｋｇ重／ｃｍ2（２．９４ＭＰａ）で熱プレスして、２つのウエハを合体させる。以下、金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）は一体化した層５０として示す（図１．Ｉ）。
【００２５】
このような一体化されたウエハの、サファイア基板１００側から、２４８ｎｍのＫｒＦ高出力パルスレーザを照射する。照射条件は、０．７Ｊ／ｃｍ2以上、パルス幅２５ｎｓ（ナノ秒）、照射領域２ｍｍ角又は３ｍｍ角で、各照射ごとに、レーザ照射領域外周が、「１チップ」を横切らないようにすると良い。このレーザ照射により、サファイア基板１００に最も近いｎ型層１１（ＧａＮ層）の界面１１ｆが薄膜状に溶融し、ガリウム（Ｇａ）液滴と窒素（Ｎ2）とに分解する。こののち、サファイア基板１００を一体化ウエハからリフトオフにより除去する（図１．Ｊ）。この後、露出したｎ型層１１表面を希塩酸により洗浄し、表面に付着しているガリウム（Ｇａ）液滴を除去する。
【００２６】
次に、図示しないレジスト膜を形成し、レジスト膜の孔部に多層金属膜から成るｎ電極１３０を次の順に蒸着により形成する。レジスト膜の孔部は、後述する通り、ニッケル（Ｎｉ）からなる接続部１２１−ｃの形状と正射影が互いに重ならないように「窓枠状」に形成した。次にｎ型層１１の上（レジスト膜の孔部）に順に、厚さ１５ｎｍのバナジウム（Ｖ）層、厚さ１５０ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）層、厚さ３０ｎｍのチタン（Ｔｉ）層、厚さ５００ｎｍのニッケル（Ｎｉ）層、厚さ５００ｎｍの金（Ａｕ）層。この後にレジストをリフトオフして除去することで、レジスト膜の孔部の多層金属膜から成るｎ電極１３０が残り、他の領域の金属膜はレジストと共に除去される。こうして、両面に導電性多層膜を形成したｎ型シリコン基板２００を支持基板とし、ｐ側にＩＴＯから成る透光性電極１２１−ｔ、ニッケル（Ｎｉ）から成る接続部１２１−ｃ、アルミニウム（Ａｌ）から成る高反射性金属層１２１−ｒとを形成され、多層金属膜を介して金スズはんだ（Ａｕ−２０Ｓｎ）５０でｎ型シリコン基板２００と電気的に接続された、III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００が形成された（図１．Ｋ）。III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００は、「窓枠状」に形成された多層金属膜から成るｎ電極１３０の形成されていない領域が光取り出し領域である発光素子である。
【００２７】
この後、任意の方法で分割して個々の素子とする。例えばダイシングブレードによりハーフカットを行い、ブレーキングして分割する。ハーフカットは、シリコン基板２００の裏面２００Ｂからはシリコン基板２００をある程度切削するようにする。一方、エピタキシャル層であるｎ型層１１及びｐ型層１２側は、少なくとも当該エピタキシャル層であるｎ型層１１及びｐ型層１２側が分割線付近で完全に切削されて分離されれば良く、必ずしもシリコン基板２００の表面２００Ｆにまで切削が達する必要は無い。
【００２８】
〔ｎ電極１３０と、接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの平面形状について〕
ｎ電極１３０と、接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの平面形状、即ち発光領域Ｌの平面への正射影は、重ならないことが望ましく、またそれらの正射影はいずれの位置においても一定の距離以下とならないことが好ましい。この場合の「一定の距離」とは、例えばｎ型層１１とｐ型層１２の総膜厚程度の距離、或いはその数倍を設定すると良い。例えばｎ型層１１とｐ型層１２の総膜厚が５μｍであるならば、２つの正射影はいずれの位置においても５μｍ以上離れていることが望ましく、１０μｍ以上離れていることがより望ましく、２０μｍ以上離れていることが更に望ましい。
【００２９】
図２．Ａは、例えば一辺が５００μｍのチップにおいて、ｎ電極１３０を４つの窓の窓枠状に形成する例である。４つの窓ｗの幅を１００μｍ、その窓枠であるストライプ状部分ｆの幅を２０μｍとする（右下がりのハッチング）。尚、図２．Ａでは、ｎ電極１３０のボンディング領域ｂとして、１４０μｍ角の正方形の領域を２箇所設ける例である。また、接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの平面形状は、ｎ電極１３０の形成されていない４つの窓ｗの中心線に沿って、幅２０μｍのストライプ状に設ける（右上がりのハッチング）。こうして、ｎ電極１３０と、接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの平面形状、即ち発光領域Ｌの平面への正射影は、重ならず、且ついずれの位置においても互いに２０μｍ以上の間隔を有して離れている。このようにして、光取り出し領域（図２．Ａで窓ｗ）を確保しつつ、発光領域Ｌの全体を電流が通るようにできる。
【００３０】
図２．Ａにおいて、接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの平面形状は、ｎ電極１３０の形成されていない４つの窓ｗの中心線に沿って、幅２０μｍのストライプ状に設けたが、図２．Ｂのように、４つの窓ｗの中心線に沿って中心を有する、直径２０μｍの複数個の円状としても良い。或いは、ｎ電極１３０（右下がりのハッチング）と接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈ（右上がりのハッチング）の平面形状は、図２．Ｃ、図２．Ｄ、図２．Ｅのように様々に変形例を考案することができる。
【００３１】
上記実施例において、ｎ電極１３０を直接ｎ型層１１に形成するのでなく、例えば透光性電極を形成したのちに更に窓枠状のｎ電極を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１．Ａ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｂ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｃ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｄ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｅ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｆ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｇ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｈ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｉ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｊ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図１．Ｋ】III族窒化物系化合物半導体発光素子１０００の製造方法の１工程を示す段面図。
【図２】ｎ電極１３０と接続部１２１−ｃの充填された誘電体層１５０の孔部Ｈの形状を、発光領域Ｌの平面に投影した５例の正射影として示す平面図。
【符号の説明】
【００３３】
１０００：III族窒化物系化合物半導体発光素子
１００：サファイア基板（エピタキシャル成長基板）
１１：ｎ型III族窒化物系化合物半導体層
１２：ｐ型III族窒化物系化合物半導体層
Ｌ：発光領域
１２１−ｔ：ＩＴＯから成る透光性電極
１２１−ｃ：Ｎｉから成る接続部
１２１−ｒ：Ａｌから成る高反射性金属層
２００：シリコン基板（支持基板）
２２１、２３１：ＴｉＮ層
１２２、２２２、２３２：Ｔｉ層
１２３、２２３、２３３：Ｎｉ層
１２４、２２４、２３４：Ａｕ層
１３０：多層金属膜から成るｎ電極
５０、５１、５２：Ａｕ−２０Ｓｎはんだ層
１５０：ＳｉＮxから成る誘電体層
Ｈ：誘電体層の孔部
【図１．Ａ】
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【図１．Ｂ】
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【図１．Ｃ】
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【図１．Ｄ】
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【図１．Ｅ】
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【図１．Ｆ】
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【図１．Ｇ】
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【図１．Ｈ】
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【図１．Ｉ】
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【図１．Ｊ】
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【図１．Ｋ】
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【図２】
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