(57)【要約】【課題】  加工時間の短縮、コスト低減が可能な圧電振動片の製造方法と、この製造方法により、高精度な外形形状を有し、良好な周波数特性を備える圧電振動片を提供する。【解決手段】  圧電振動片の製造方法は、水晶基板１からエッチング加工によって水晶振動片１０の外形形状を形成する水晶振動片１０の製造方法であって、水晶基板１の主面にＣｒ層３０を形成する工程と、Ｃｒ層３０の表面にプラズマ処理によってＣｒのプラズマ変質層４０を形成する工程と、Ｃｒのプラズマ変質層４０の表面にＡｕ層５０を形成する工程と、Ｃｒ層３０、Ｃｒのプラズマ変質層４０、Ａｕ層５０の３層からなるプロテクト膜７０を形成する工程と、プロテクト膜７０を用いて、エッチング加工によって、水晶振動片１０の外形形状を形成する工程と、を含む。また、この製造方法によって製造される水晶振動片１０は、垂直断面と高精度な外形形状を有し、良好な周波数特性を備える。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電基板からエッチング加工によって圧電振動片の外形形状を形成する圧電振動片の製造方法であって、
前記圧電基板の主面にＣｒ層を形成する工程と、
前記Ｃｒ層の表面にプラズマ処理によってＣｒのプラズマ変質層を形成する工程と、
前記Ｃｒのプラズマ変質層の表面にＡｕ層を形成する工程と、
前記Ｃｒ層、前記Ｃｒのプラズマ変質層、前記Ａｕ層の３層からなるプロテクト膜を形成する工程と、
前記プロテクト膜を用いて、エッチング加工によって、前記圧電振動片の外形形状を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の圧電振動片の製造方法において、
前記プラズマ処理の手段が酸素プラズマ処理であり、前記Ｃｒのプラズマ変質層が酸化クロムであることを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の圧電振動片の製造方法において、
前記プラズマ処理の手段が窒素プラズマ処理であり、前記Ｃｒのプラズマ変質層が窒化クロムであることを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の圧電振動片の製造方法において、
前記圧電基板の表面にＣｒ層を形成する工程と、
前記Ｃｒ層の表面に前記酸素プラズマ処理または前記窒素プラズマ処理によってＣｒのプラズマ変質層を形成する工程と、
前記Ｃｒのプラズマ変質層の表面にＡｕ層を形成する工程と、
前記Ａｕ層の表面に前記圧電振動片の外形形状を成すレジスト膜を形成する工程と、
このレジスト膜を用いて、前記Ｃｒ層と前記Ｃｒのプラズマ変質層と前記Ａｕ層の３層からなる前記圧電振動片の外形形状を成すプロテクト膜を形成する工程と、
前記プロテクト膜を用いて、エッチング加工により前記圧電基板から前記圧電振動片の外形形状を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電振動片の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の圧電振動片の製造方法によって製造され、
基部と、該基部から延在される少なくとも振動腕と、を備えて形成されていることを特徴とする圧電振動片。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電振動片の製造方法とこの製造方法によって製造される圧電振動片に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、水晶基板の表面に、一層目をＣｒ（クロム），２層面をＡｇ（銀）、３層目をＡｕ（金）として、スパッタリングによってそれぞれの金属膜を形成し、この３層の金属膜をプロテクト膜として用いて、エッチング加工により水晶振動片の外形成形、または水晶振動片の外形成形後において、このプロテクト膜を用いて電極形成を行う水晶振動片の製造方法というものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、エッチング加工によって外形形成する水晶振動片の製造方法において、エッチング加工時に使用するプロテクト膜が、水晶基板上にＣｒ層、このＣｒ層の上にＡｕ層を形成し、さらにＣｒ層の上にＡｕ層を形成し、それを１組として複数組重ねて構成されたプロテクト膜を用いて、エッチング加工により水晶振動片を形成する製造方法も知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−１７９７５号公報（第２頁、図１）
【特許文献２】特開平９−１５３７６３号公報（第３頁、図１、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
旧来、水晶基板をエッチング加工によって外形成形する水晶振動片のエッチング加工時に使用するプロテクト膜の構造は、図５に示すようなＣｒ層の表面にＡｕ層を形成することが一般的である。
図５に旧来のプロテクト膜の形成について示す。図５において、水晶基板１の水晶振動片として残すべき部分にＣｒ（クロム）層３０を蒸着し、その表面にＡｕ（金）層５０を蒸着し、エッチング液に浸して、フォトリソグラフィ加工によりプロテクト膜を付けてない部分をエッチング加工により除去する方法が採用されてきた。
【０００６】
しかしながら、このようなプロテクト膜の構成では、Ａｕ層５０の蒸着工程やレジスト膜の除去のために用いられるプラズマ処理工程の際に１００〜２００℃程度に加熱されるため、ＣｒとＡｕが相互拡散し、Ａｕ層の表面まで拡散が進行すると、Ａｕ層５０のエッチングの際に、拡散層（Ｃｒ層を含む）がエッチング液によって侵され、プロテクト膜に孔が明き、その孔の部分の水晶基板１が侵されることがあった。また、Ａｕ層とＣｒ層の界面のＡｕ／Ｃｒ相互拡散層が、エッチング液によりエッチングされ、正確な形状のプロテクト膜ができないことから、水晶振動片の外形形状にばらつきが発生し、高精度な周波数特性が得られなくなるという課題を有していた。
【０００７】
そこで、これらの課題を解決する手段として、前述した特許文献１または特許文献２によるプロテクト膜を形成して高精度な外形形状を有する水晶振動片を形成する製造方法というものが提案されている。
【０００８】
前述した特許文献１によれば、水晶基板の表面に、一層目をＣｒ，２層面をＡｇ（銀）、３層目をＡｕとするプロテクト膜をスパッタリングによって形成しているために、Ａｇ層を形成するためのスパッタリング工程を行うことによる加工工程増及び製造時間が長くなることから製造効率を低下することになる。また、スパッタリング工程においてＡｇターゲットを要し、コスト高の原因となる。
【０００９】
また、前述した特許文献２では、プロテクト膜が、水晶基板上にＣｒ層、このＣｒ層の上にＡｕ層を蒸着によって形成し、さらにＣｒ層の上にＡｕ層を形成し、それを１組として複数組重ねて構成しているために、これらの金属層形成のために少なくとも数回以上の蒸着工程を必要とし、工程が長くなりコスト低減は困難である。
【００１０】
本発明の目的は、ＡｕとＣｒの相互拡散を防止し、加工時間の短縮、コスト低減が可能な圧電振動片の製造方法と、この製造方法により、断面が垂直で高精度な外形形状を有し、良好な周波数特性を備える圧電振動片を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の圧電振動片の製造方法は、圧電基板からエッチング加工によって圧電振動片の外形形状を形成する圧電振動片の製造方法であって、前記圧電基板の主面にＣｒ層を形成する工程と、前記Ｃｒ層の表面にプラズマ処理によってＣｒのプラズマ変質層を形成する工程と、前記Ｃｒのプラズマ変質層の表面にＡｕ層を形成する工程と、前記Ｃｒ層、前記Ｃｒのプラズマ変質層、前記Ａｕ層の３層からなるプロテクト膜を形成する工程と、前記プロテクト膜を用いて、エッチング加工によって、前記圧電振動片の外形形状を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
ここで、圧電基板としては、例えば水晶を採用し、従って圧電振動片は水晶振動片である。
本発明によれば、Ｃｒ層の表面にプラズマ処理によりＣｒのプラズマ変質層を形成し、その表面にＡｕ層を形成しているので、圧電基板に対するＡｕ層の密着性を保持しながら、Ｃｒ層とＡｕ層の界面における拡散層形成がないので、エッチング加工の際に、この拡散層がエッチング液によって侵され、プロテクト膜に孔が明き、この孔の部分の圧電基板が侵されることを防止することができる。
【００１３】
また、Ｃｒのプラズマ変質層を設けることから、前述した旧来技術によるＡｕ層とＣｒ層の界面のＡｕ／Ｃｒ相互拡散層が、エッチング液によりエッチングされることがないため、圧電振動片の外形形成の際のエッチング加工において、形状精度が高いプロテクト膜を形成することができる。このことによって、断面形状が主面に対して垂直で、高精度な外形形状の圧電振動片を形成することができ、良好な周波数特性を実現できる。
【００１４】
また、Ｃｒ層の表面にプラズマ処理を追加するだけで所望のプロテクト膜を形成することが可能となり、さらに、プラズマ処理によって形成されるＣｒのプラズマ変質層の厚みは、ナノメートルオーダーであるため、Ｃｒ層の除去の際にＣｒのプラズマ変質層も一緒に除去することができ、加工時間が長くなることがない。従って、プラズマ処理を行っても、前述した従来技術に比べ、加工時間を短縮することができ、製造効率がよくコスト低減が可能な製造方法を提供することができる。
【００１５】
また、本発明では、前記プラズマ処理の手段が酸素プラズマ処理であり、前記Ｃｒのプラズマ変質層が酸化クロムであることが好ましい。
このようにすることで、Ｃｒの最表層にはプラズマ変質層として酸化クロム（ＣｒＯ3）層が形成される。酸化クロム層はＡｕとの密着性がよく、ＣｒとＡｕとの拡散を防止することが可能であるため、前述した効果を有する。
【００１６】
また、前記プラズマ処理の手段が窒素プラズマ処理であり、前記Ｃｒのプラズマ変質層が窒化クロムであることが好ましい。
プラズマ処理としては窒素プラズマ処理を選択することができ、Ｃｒの最表層にはプラズマ変質層として窒化クロム（ＣｒＮ）層が形成され、上述の酸化クロム層に近い性質を有しているので、同様な効果を得ることができる。
【００１７】
また、本発明の圧電振動片の製造方法は、前記圧電基板の表面にＣｒ層を形成する工程と、前記Ｃｒ層の表面に前記酸素プラズマ処理または前記窒素プラズマ処理によってＣｒのプラズマ変質層を形成する工程と、前記Ｃｒのプラズマ変質層の表面にＡｕ層を形成する工程と、前記Ａｕ層の表面に前記圧電振動片の外形形状を成すレジスト膜を形成する工程と、このレジスト膜を用いて、前記Ｃｒ層と前記Ｃｒのプラズマ変質層と前記Ａｕ層の３層からなる前記圧電振動片の外形形状を成すプロテクト膜を形成する工程と、前記プロテクト膜を用いて、エッチング加工により前記圧電基板から前記圧電振動片の外形形状を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１８】
従って、圧電基板の主面にＣｒ層、酸化クロム層または窒化クロム層、Ａｕ層からなるプロテクト膜を形成し、このプロテクト膜は圧電振動片形成のためのマスクであり、このプロテクト膜を用いてエッチング加工によって圧電振動片の外形を形成するが、圧電基板にプラズマ処理によるＣｒのプラズマ変質層を形成する以外の工程は、一般的に用いられる加工手段であるため、特別な装置を必要とせず、また、加工時間を短縮できる他、高精度な外形形状を有する圧電振動片を提供することができる。
【００１９】
また、本発明の圧電振動片は、前述した製造方法で製造されるとともに基部と、該基部から延在される少なくとも振動腕と、を備えて形成されていることを特徴とする。
【００２０】
詳しくは、後述する実施の形態で説明するが、本発明の圧電振動片は、基部から複数の振動腕あるいは検出腕を備えて構成されており、これらの振動腕、検出腕は、基部の重心を通るＸ軸、Ｙ軸に平行な直線に対して、それぞれ対称形に形成されている。従って、前述した製造方法によれば、振動腕、検出腕それぞれの断面が圧電基板の主面に垂直、且つ、設計値に対して正確な形状が得られる他、形状の対称性が保たれ、高精度な周波数特性と検出特性を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１〜図４は本発明の実施形態の圧電振動片及びこの圧電振動片の製造方法を示している。
（実施形態）
【００２２】
図１は、本実施形態の圧電振動片を示し、図２〜図４は、この圧電振動片の製造方法を示している。
図１は、本実施形態に係る圧電振動片の１例を示す平面図である。本実施形態では、圧電基板として水晶基板を用いており、圧電振動片は水晶振動片である。図１において、水晶振動片１０は、所定面としてのＸＹ平面内に形成される（図２、参照）。本実施形態では、水晶振動片１０は、電気軸と呼ばれるＸ軸、機械軸と呼ばれるＹ軸及び光学軸と呼ばれるＺ軸の、Ｘ軸とＹ軸の平面方向に切り出されたＺカットの水晶基板からなる。
【００２３】
水晶振動片１０は、所定の厚みの水晶基板１で形成されている。水晶振動片１０の平面形状は、水晶の結晶軸に合わせてＸＹ平面に展開され、中心点に対して１８０°点対称の形状をしている。また中心点は水晶振動片１０の重心位置Ｇであり、重心位置Ｇを通りＸ軸、Ｙ軸に平行な直線に対して対称形でもある。また、図１では図示していないが、水晶振動片１０の表面には所定の電極が形成されている。
【００２４】
水晶振動片１０には、Ｘ軸方向とＹ軸方向にそれぞれ平行な端面をもつ矩形状の基部１２が形成され、基部１２のＹ軸に平行な２端面の中央からＸ軸に平行な方向に延在される二つの連結腕１３，１４と、基部１２のＸ軸に平行な２端面の中央からＹ軸に平行な方向に延在される検出腕１６Ａ，１６Ｂが形成されている。連結腕１３，１４それぞれの先端には１対の振動腕１５Ａ，１５Ｂと、１５Ｃ，１５Ｄと、が形成されている。
【００２５】
振動腕１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、所定の周波数の駆動振動が発生するように幅や長さなどの寸法が設定されている。また、検出腕１６Ａ，１６Ｂ、及び連結腕１３，１４は、所定の検出振動が発生するように幅や長さなどの寸法が設定されている。
【００２６】
このような構成の水晶振動片１０は、振動型ジャイロスコープに用いられ、振動腕１５Ａ〜１５Ｄは、Ｘ軸方向に屈曲振動を繰り返す。検出腕１６Ａ，１６Ｂは、振動腕１５Ａ〜１５Ｄが屈曲振動をしている状態で、水晶振動片１０にＺ軸周りの回転角速度ωが加わった時、コリオリ力が発生し、検出振動をする。
このような水晶振動子は、一般に、ダブルＴ型振動子と呼称されている。
【００２７】
続いて、本実施形態による水晶振動片１０の製造方法について図面を参照して説明する。
図２は、水晶基板１における形成すべき水晶振動片１０の配置について示している。図２において、水晶振動片１０は、水晶基板１上に、前述した振動腕１５Ａ〜１５Ｄ、検出腕１６Ａ，１６Ｂの長手方向をＹ軸に平行となるように、Ｘ軸及びＹ軸に平行に複数個が配列される。このように配列された水晶振動片１０をエッチング加工によって、一つ一つに外形形状を形成し分離する。
【００２８】
図３、図４は、本実施形態に係る水晶振動片１０の製造工程を示す断面図である。
図３（ａ）は、Ｃｒのスパッタリング工程を示す。まず、水晶基板１の主面の表裏両面にＣｒをスパッタリングによりＣｒ層３０を形成する。なお、以降、水晶基板１の表裏工程は一括して行うため、表面のみを例示して説明する。Ｃｒは、拡散性がよく、水晶表面に拡散することで、後述するＡｕ層５０と水晶基板１との密着性を強化するために設けられている。このＣｒ層３０の表面にＣｒのプラズマ変質層を形成する。
【００２９】
図３（ｂ）は、Ｃｒ層３０の表面にＣｒのプラズマ変質層４０を形成する工程を示す。Ｃｒのプラズマ変質層４０は、プラズマ処理の手段としては、プラズマ装置を用いて、プラズマガスとして酸素を使用して形成される。従って、ここでＣｒのプラズマ変質層４０としては酸化クロム（ＣｒＯ3）が形成される。このＣｒのプラズマ変質層４０はＣｒ層３０の最表層に数ナノメートル程度の厚さで形成される。
なお、この工程は、プラズマガスとして窒素を採用することができ、窒化クロム（ＣｒＮ）層を形成する。窒化クロム層は、酸素を用いる場合と同様な装置を使用でき、ほぼ同じ厚さで形成される。
このＣｒのプラズマ変質層４０の表面にＡｕ層５０を形成する。
【００３０】
図３（ｃ）は、Ａｕ層５０の形成工程を示している。Ａｕ層５０は、Ｃｒのプラズマ変質層４０の表面にスパッタリングによって均一の厚さで形成する。Ａｕと酸化クロムの界面は、相互拡散は発生しないが密着性はよく、従って、水晶基板１とＡｕ層５０との密着性もよい。このようにして、水晶基板１上には、Ｃｒ層３０、プラズマ変質層４０、Ａｕ層５０の３層の金属層が形成される。
この３層構成の金属層の表面（つまりＡｕ層の表面）に、エッチング加工のためのレジスト膜を形成する。
【００３１】
図３（ｄ）は、レジスト膜６０を成膜する工程を示している。レジスト膜６０は、前述した３層の金属層を後工程のプロテクト膜を形成するために設けられるものであり、Ａｕ層５０の表面の全面に均一に成膜する。
このレジスト膜６０をエッチング加工により水晶振動片１０の外形形状が残るように形成する。
【００３２】
図３（ｅ）は、レジスト膜６０を露光する工程を示している。Ａｕ層５０の全面に成膜されたレジスト膜６０を水晶振動片１０の外形形状（図１、参照）が残るように露光してレジスト膜６１を形成する。ここで、図３（ｅ）以降の図示は、図１のＡ−Ａ断面を表している。つまり、振動腕１５Ａと検出腕１６Ａを他の部位を代表して示している。従って、図３（ｅ）では、Ａｕ層５０の表面に、振動腕１５Ａと検出腕１６Ａに対応した形状のレジスト膜６１が示されている。
このレジスト膜６１を用いてエッチング加工によりプロテクト膜を形成する。
【００３３】
まず、Ａｕ層５０の除去すべき領域を除去する。
図３（ｆ）は、Ａｕ層５０を除去する工程を示している。レジスト膜６１を用いてエッチング加工をし、水晶振動片１０の外形形状以外の領域を除去する。従って、レジスト膜６１の下層にあるＡｕ層５１が残る。
次に、Ｃｒ層３０を除去する。
【００３４】
図３（ｇ）は、Ｃｒ層３０を除去する工程を示している。ここで、Ｃｒ層３０とその表面に形成された酸化クロムからなるＣｒのプラズマ変質層４０は、一括して除去することが可能である。従って、レジスト膜６１の下層にあるＣｒ層３１（Ｃｒの変質層４１を含む）が残る。このようにして、３層の金属層は、水晶振動片の外形形状に形成され、プロテクト膜７０を形成する。
次に、レジスト膜６１を除去してプロテクト膜７０を形成する。
【００３５】
図３（ｈ）には、前述までの工程により形成されたプロテクト膜７０が示されている。Ｃｒ層３０、Ｃｒのプラズマ変質層４０、Ａｕ層５０からなる３層の金属層は、水晶振動片１０と同じ外形形状を備えるプロテクト膜７０である。このプロテクト膜７０は、水晶振動片１０をエッチング加工で形成、分離する際のマスクである。
このプロテクト膜７０を用いて、エッチング加工により水晶振動片１０の外形形状の成形を行う。
【００３６】
図４は、水晶振動片１０を形成するための残りの工程を表している。
図４（ｉ）は、水晶振動片１０の外形形状の形成工程を示す。この図４（ｉ）に示すように、フッ酸混液等を用いたエッチング加工により、プロテクト膜７０が残る部分（水晶振動片１０の外形形状範囲）の形状の範囲以外の水晶基板１を除去し、水晶振動片１０の外形形状を形成する。
そして、プロテクト膜７０を除去し、水晶振動片１０の外形形状が完成する。
【００３７】
図４（ｊ）には、水晶振動片１０の断面形状を示している。図示されているのは、図１のＡ−Ａ断面であるため、図４（ｊ）では、振動腕１５Ａ及び検出腕１６Ａであるが、図１に示すような水晶振動片１０が形成されている。
なお、Ｃｒのプラズマ変質層４０の形成手段として窒素プラズマ処理を採用する場合においても、プラズマ処理以降の加工工程は、酸素プラズマ処理を採用する場合と同じであるため、説明を省略する。
【００３８】
従って、前述した実施形態によれば、Ｃｒ層３０の表面にプラズマ処理により酸化クロムまたは窒化クロムからなるＣｒのプラズマ変質層４０を形成し、その表面にＡｕ層５０を形成しているので、水晶基板１に対するＡｕ層５０の密着性を保持しながら、Ｃｒ層３０とＡｕ層５０との界面における拡散層が形成されないので、水晶基板１のエッチング加工の際に、この拡散層がエッチング液（フッ酸混液）によって侵され、プロテクト膜７０に孔が明き、その孔の部分の水晶基板１が侵されることを防止することができる。
【００３９】
また、Ｃｒのプラズマ変質層４０を設けることから、旧来技術のようなＡｕ層５０とＣｒ層３０との界面にできるＡｕ／Ｃｒ相互拡散層が、エッチング液によりエッチングされることがないため、水晶振動片１０の外形形成において形状精度の高いプロテクト膜７０を形成することができる。このことによって、断面形状が主面に対して垂直で、高精度な外形形状の水晶振動片１０を形成することができ、良好な周波数特性を実現できる。
【００４０】
また、Ｃｒ層３０の表面にプラズマ処理を追加するだけで所望のプロテクト膜７０を形成することが可能となり、さらに、プラズマ処理によって形成されるＣｒのプラズマ変質層４０の厚みは、数ナノメートル程度でよいため、Ｃｒ層３０の除去の際に一緒に除去することができ、加工時間が長くなることがない。従って、プラズマ処理を行っても、前述した従来技術に比べ、加工時間を短縮することができ、製造効率がよくコスト低減が可能な製造方法を提供することができる。
【００４１】
また、Ｃｒ層３０の最表層にはプラズマ変質層として酸化クロム層または窒化クロム層が形成される。酸化クロム及び窒化クロムはともにＡｕとの密着性がよく、ＣｒとＡｕとの拡散を防止することが可能であり、前述した効果を有する。
【００４２】
さらに、水晶基板１にプラズマ処理によるＣｒのプラズマ変質層４０を形成する工程以外は、一般的に用いられる加工手段であるため、特別な装置を必要とせず、また、加工時間を短縮できる他、高精度な外形形状を有する水晶振動片１０を提供することができる。
【００４３】
また、前述した製造方法で製造された水晶振動片１０は、振動腕１５Ａ〜１５Ｄ、検出腕１６Ａ，１６Ｂそれぞれの断面が水晶基板１の主面に垂直、且つ、設計値に対して正確な形状が得られる他、振動腕及び検出腕それぞれの形状の対称性が保たれ、高精度な周波数特性と検出特性を得ることができる。
【００４４】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示され、且つ、説明しているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲に逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、材質、組み合わせ、その他の詳細な構成、及び製造工程間の加工方法において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。
【００４５】
従って、上記に開示した形状、材質、製造工程などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものでないから、それらの形状、材質、組み合わせなどの限定の一部もしくは全部の限定をはずした部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
【００４６】
例えば、前述した実施形態では、圧電基板として水晶を例示しているが、水晶以外の圧電材料からなる圧電基板にも応用することができる。
【００４７】
また、本実施形態では、振動型ジャイロスコープに使用されるダブルＴ型の水晶振動片を例示して説明したが、この形状に限らず、一般に音叉型、Ｈ型、単純バー型と称せられる水晶振動片にも応用することが可能である。
【００４８】
さらに、本実施形態では、水晶振動片の外形形状の形成について説明、図示しているが、水晶振動片の表面に形成される駆動電極や検出電極の形成にも応用できる。例えば、一般に水晶振動片の表面には、導電性が高いＡｕ電極が形成されるが、この電極形成の際に、Ａｕ電極と水晶基板との密着性を高める目的で、それらの間にＣｒ層が形成されることが多い。このような電極構成の際に、Ｃｒ層の表面に、本発明によるプラズマ処理によって酸化クロムや窒化クロム等のＣｒのプラズマ変質層を設けることにより、駆動電極や検出電極を正確に形成することができる。
【００４９】
従って、前述の実施形態によれば、ＡｕとＣｒの相互拡散を防止し、加工時間の短縮、コスト低減が可能な圧電振動片の製造方法と、この製造方法により、断面が垂直で高精度な外形形状を有し、良好な周波数特性を備える圧電振動片を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施形態に係る圧電振動片の１例を示す平面図。
【図２】本発明の水晶基板における形成すべき水晶振動片の配置を模式的に示す斜視図。
【図３】（ａ）〜（ｈ）は、本発明の実施形態に係る水晶振動片の製造工程を模式的に示す断面図。
【図４】（ｉ）〜（ｊ）は、本発明の実施形態に係る水晶振動片の製造工程を模式的に示す断面図。
【図５】旧来の水晶振動片の一部を示す断面図。
【符号の説明】
【００５１】
１…圧電基板としての水晶基板、１０…圧電振動片としての水晶振動片、１５Ａ〜１５Ｄ…振動腕、１６Ａ，１６Ｂ…検出腕、３０…Ｃｒ層、４０…プラズマ変質層、５０…Ａｕ層、７０…プロテクト膜。
【図１】
2007013384.tif 000003
【図２】
2007013384.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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