(57)【要約】【課題】  蒸着された針状セシウムハロゲン化物燐光体層の接着性を改良する。【解決手段】  支持体、下層及び針状刺激性燐光体結晶を含む刺激性燐光体層を連続して含む放射線像貯蔵パネルにおいて、前記下層が、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム及び臭化セシウムからなる群から選択された無機アルカリハロゲン化物塩をハロゲン化物化合物として少なくとも含む、結合剤のない非蒸着層であることを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、下層及び針状刺激性燐光体結晶を含む刺激性燐光体層を連続層の層配置として含む放射線像貯蔵パネルにおいて、前記下層が、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム及び臭化セシウムからなる群から選択された無機アルカリハロゲン化物塩をハロゲン化物化合物として少なくとも含む、結合剤のない非蒸着層であることを特徴とするパネル。
【請求項２】
前記刺激性燐光体層がマトリックス化合物としてアルカリ金属ハロゲン化物を有しかつ活性化剤化合物としてランタニドを有する針状燐光体結晶を含む請求項１に記載のパネル。
【請求項３】
前記マトリックス化合物及び前記ハロゲン化物化合物が同じ組成を有する請求項２に記載のパネル。
【請求項４】
前記針状刺激性燐光体がＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体である請求項１〜３のいずれかに記載のパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持体上への改良された接着性を有する、燐光体層を与えられた結合剤のない放射線像貯蔵パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線像がスクリーンを像に従って変調された透過放射線に露光することによって光刺激性燐光体スクリーン上に記録される放射線像記録システムは今日、広く使用されている。
【０００３】
記録された像は露光された光刺激性燐光体スクリーンを刺激放射線によって刺激することによって、及び刺激で燐光体スクリーンによって放出された光を検出し、検出された光を放射線像の電気信号表示に変換することによって再現される。
【０００４】
幾つかの用途、例えばマンモグラフィでは、像のシャープネスは極めて重要なパラメータである。光刺激性燐光体スクリーンから読み出された像のシャープネスはスクリーン自体のシャープネス及び解像度だけでなく、使用された読み出しシステムによって得られた解像度にも依存する。
【０００５】
今日使用される従来の読み出しシステムではフライングスポットタイプの走査ユニットが一般に使用される。かかる走査ユニットは刺激放射線の源（例えばレーザ光源）、光刺激性燐光体スクリーン上に走査線を形成するようにレーザによって放出された光を偏向するための手段、及びレーザビームをスクリーン上に合焦するための光学手段を含む。
【０００６】
かかるシステムの例は商品名ＡＤＣ７０及びＡｇｆａ  Ｃｏｍｐａｃｔによって示されるＡｇｆａ診断システムである。これらのシステムではＢａＦＢｒ：Ｅｕ燐光体を含む光刺激性燐光体スクリーンが一般に使用される。
【０００７】
読み出し装置の解像度は主に、レーザビームのスポット径によって決定される。このスポット径は光学合焦装置の特性に依存する。走査システムの解像度を最適化することは合焦光学素子の光収集効率の損失を生じうることが認識される。結果としてレーザ光の重要な部分は像スクリーン上に合焦されない。５０％より低い合焦光学素子の光収集効率を有するシステムの使用に対して幾つかの偏見が存在する。なぜならばこれらのシステムは許容可能な走査時間内で十分な程度にこのスクリーンを読み出すためにスクリーンに対して適切な量の出力を送出しないように期待されているからである。そのための解決策はＥＰ−Ａ  １０６５５２３及び対応ＵＳ−Ａ  ６５０１０８８に開示されているように求められ見出される。そこでは光刺激性燐光体スクリーンに貯蔵された放射線像を読み出すための方法が使用され、その方法はレーザ源によって放出された刺激放射線によって前記スクリーンを走査し、刺激で前記スクリーンによって放出された光を検出し、検出された光を前記放射線像の電気信号表示に変換する工程を含み、前記光刺激性燐光体スクリーンは二価ユウロピウム活性化セシウムハロゲン化物燐光体を含み、前記ハロゲン化物は塩化物及び臭化物の少なくとも一つであり、前記レーザビームは前記レーザビームのガウス分布の１／ｅ２点間で測定された、前記レーザによって放出されたレーザスポットのスポット径が１００μｍより小さいように合焦される。光刺激性燐光体スクリーンに貯蔵された放射線像を読み出すための方法及びシステムを提供するその発明の目的は針状貯蔵燐光体層を有する光刺激性燐光体スクリーンに貯蔵された放射線像を読み出すための方法及びシステムに加えて、高いシャープネスを生じる方法及びシステムを生じる。
【０００８】
ＵＳ−Ａ  ２００４／０１４９９２９では、支持体、支持体の表面を９５％以上の被覆百分率でカバーする燐光体マトリックス化合物層、及び燐光体マトリックス化合物層上に形成された刺激性燐光体層（それは燐光体マトリックス化合物層上に直立する多数の斜方晶系の刺激性燐光体結晶から構成される）から構成される放射線像貯蔵パネルが開示され、それによって支持体と刺激性燐光体層の間に高い剥離抵抗、高い感度、及び高品質の再現された放射線像を提供する。
【０００９】
しかしながら、放射線像変換パネルでは、所望の放射線吸収力を達成するために針状のユウロピウムドープされたセシウムハロゲン化物貯蔵燐光体を約２００〜８００μｍの厚さを有する層に形成しなければならない。ＣｓＢｒの如きアルカリハロゲン化物化合物からなる光刺激性燐光体の親化合物は約５０×１０−６／°Ｋの大きな熱膨張係数を有するので、かかる比較的厚い層にクラックが出現し、従って支持体上への貯蔵燐光体層の接着が問題になり、剥離に導く。クラック及び剥離に対してマイナスの影響を持つ要因は蒸着工程時の支持体の温度及びその変化に加えて、真空室内の不活性ガスの圧力、及び前記蒸着工程時に蒸着された燐光体層の結晶性に対して有意な影響を持つ不純物の存在と関連する。その問題を解決するために、ＪＰ−Ａ  ２００５−１５６４１１において解決策が提案されている。その出願では、第一蒸着層は支持体上に形成され、前記層は光刺激性燐光体の親化合物より小さい分子量を有するアルカリハロゲン化物化合物を含有していた。蒸着された刺激性のユウロピウムドープされたセシウムハロゲン化物燐光体を有する層はさらにその上に蒸着された。それにもかかわらず、支持体と貯蔵燐光体層の間の第一層は再び、蒸着された層であるので、クラック及び剥離に関する同じ問題が遭遇され、クラック及び剥離に関する期待された改良がまだ十分に達成されなかった。
【００１０】
ＵＳ−Ａ  ６８７０１６７ではマトリックス成分及び活性化剤成分を含む燐光体を含む燐光体層を有する放射線像貯蔵パネルの製造方法が開示され、その方法は蒸着によってマトリックス成分を含む下部斜方晶系結晶層を支持体上に形成し、上部層の結晶性に好ましい配置として蒸着によってマトリックス成分及び活性化剤成分を含む上部斜方晶系結晶層を下部斜方晶系結晶層上に形成する工程を含む。しかしながら、接着のためにはＵＳ出願２００５／５１７３６では下部層において球状燐光体を使用することが提案されている。
【００１１】
専用の支持体上に燐光体層を作るために蒸着技術を実施するとき、シンチレータ又は燐光体材料が蒸着されるべきである極めて望ましい支持体材料はガラス、セラミック材料、ポリマー材料又は金属から作られる。金属ベース材料として一般にアルミニウム、鋼、黄銅、チタン及び銅の可撓性金属シートから作られる。本発明の方法における可撓性支持体として特に好ましいものは支持体全体にわたって完全に均一な温度を可能にする極めて良好な熱伝導性材料としてのアルミニウムである。特に有用なアルミニウムは限定されないが、増白された陽極酸化アルミニウム、アルミニウム鏡及び酸化物パッケージを有する陽極酸化アルミニウム及びＡＬＡＮＯＤ、ドイツから入手可能な銀鏡及び酸化物パッケージを有する陽極酸化アルミニウムが推奨される。好ましい可撓性支持体として陽極酸化アルミニウム支持体層が推奨される。かかる陽極酸化アルミニウム支持体層は５０〜５００μｍ、より好ましくは２００〜３００μｍの範囲の厚さを有してもよい。かかる陽極酸化アルミニウム支持体は蒸着された燐光体又はシンチレータに対する接着特性に関して特に好ましいことが示され、５００μｍ〜１０００μｍの厚さを有するシンチレータ層で被覆されたその可撓性アルミニウム支持体を曲げてもシンチレータ又は燐光体「薄片」の剥離又は「クラック」を生じない。最適化された条件で蒸着装置で作られるときに燐光体層において望ましくないクラックの発生に関して全く問題に遭遇しなかった。
【００１２】
しかしながら、二つの層の蒸着を実施するためには、少なくとも各層において異なる原材料を蒸着するという見地から蒸着装置において二つの異なる工程が要求されることに注意しなければならない。さらに、上部層における増大したドーパント量はかくして形成された貯蔵燐光体スクリーンの所望の高い感度に導くことが知られているので、高いドーパント量は被覆層の低下した接着及び増大したクラックに導くことが予想されうる。別の方法では貯蔵燐光体の刺激で放出された光の反射に有利な良好な反射特性、その結果として増大した感度を持つために、より鏡状でより滑らかな支持体表面がその上に蒸着された燐光体層の良好な接着に有利でないことが予想されうる。
【発明の開示】
【００１３】
それゆえ本発明の目的は蒸着された針状セシウムハロゲン化物燐光体層の接着性をさらに改良することである。特に本発明の目的はクラックを避けるための適切な手段をとって、高感度を考慮した層中への多量のドーパントの導入時であっても、支持体上への層接着性を改良することである。あるいは、本発明の目的は感度を増強する反射を与える滑らかな支持体を使用するときであっても、支持体と燐光体の間の接着性を改良することである。
【００１４】
上述の有利な効果は請求項１に述べた特別な特徴を有する貯蔵燐光体パネルを提供することによって実現される。本発明の好ましい実施態様に対する特別な特徴は従属請求項に述べられている。
【００１５】
本発明のさらなる利点及び実施態様は以下の記述から明らかになるだろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明によれば、放射線像貯蔵パネルは連続層の層配置として、支持体、下層及び針状刺激性燐光体結晶を含む刺激性燐光体層を含み、前記下層はハロゲン化物化合物を少なくとも含む結合剤のない非蒸着層である。前記結合剤のない非蒸着下層が、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム及び臭化セシウムからなる群から選択される無機アルカリハロゲン化物塩をハロゲン化物化合物として含むとき、刺激性燐光体層の改良された接着性を明らかに示すことが予期せぬことに見出された。
【００１７】
本発明による好ましい実施態様では、前記下層はシリコン化合物をさらに含む。前記シリコン化合物は無機又は有機化合物である。
【００１８】
本発明による一つの実施態様では、前記シリコン化合物は無機コロイドシリカである。好適なコロイドシリカゾル化合物は商業的に入手可能であり、例えば「Ｓｙｔｏｎ」シリカゾル（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｄｉｖ．の商品）、「Ｌｕｄｏｘ」シリカゾル（ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ＆  Ｃｏ．，Ｉｎｃ．の商品）、「Ｎａｌｃｏ」及び「Ｎａｌｃｏａｇ」シリカゾル（Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏの商品）、「Ｓｎｏｗｔｅｘ」シリカゾル（Ｎｉｓｓａｎ  Ｋａｇａｋｕ  ＫＫ．）及び「Ｋｉｅｓｅｌｓｏｌ，Ｔｙｐｅｓ  １００，２００，３００，５００及び６００」（Ｂａｙｅｒ  ＡＧの商品）が挙げられる。１００〜６００ｍ２／ｇの比表面積を有する特別なコロイドシリカが好ましい。
【００１９】
別の実施態様では、有機シリコン化合物が使用され、例えばオリゴマー又はポリマー構造としてシロキサン、シラザン及びシロキサザンが挙げられる。
【００２０】
シリコン化合物を別として、色素を下層に存在させてもよい。水性又は非水性溶液に溶解可能な色素を使用してもよい。但し、それらの色素は刺激放射線での貯蔵燐光体の刺激で放出される光を吸収するために５５０ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲及び／又は３５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の刺激放射線の吸収に有利に寄与することが条件である。しかしながら、下層に一つ以上の色素を導入するときの主要な条件は前記色素の存在が再び接着性に悪影響しないことである。
【００２１】
本発明によれば、前記ハロゲン化物化合物は無機アルカリハロゲン化物塩である。特に、本発明によれば、前記下層における前記ハロゲン化物化合物はフッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、フッ化ルビジウム、塩化ルビジウム、臭化ルビジウム、フッ化セシウム、塩化セシウム及び臭化セシウムからなる群から選択されたハロゲン化物化合物である。フッ化物化合物は他のハロゲン化物化合物よりずっと良好な耐腐食性を示すが、特に前記他のハロゲン化物化合物はテープ接着試験においてテープがパネルの貯蔵燐光体層上に接着されるときに前記貯蔵燐光体層と前記下層の間又は前記下層と前記パネル支持体の間に破壊が全く観察されないという改良された接着強度を与える。
【００２２】
本発明によれば、前記刺激性燐光体層はマトリックス又はベース化合物としてアルカリ金属ハロゲン化物を有しかつ活性化剤又はドーパント化合物としてランタニドを有する針状燐光体結晶を含む。
【００２３】
本発明による特別な実施態様では、前記針状刺激性燐光体はＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体である。特に高感度及び高シャープネスの見地から選択されたＣｓＢｒ：ＥｕはＣｓＢｒの０．０００１〜０．０１ｍｏｌ／ｍｏｌ、より好ましくは０．０００３〜０．００５ｍｏｌ／ｍｏｌの範囲の、活性化剤又はドーパントとしてのＥｕの量を与えられることが有利である。刺激性ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の場合には、蒸発源のユウロピウム化合物は二価ユウロピウムＥｕ２＋化合物及び三価ユウロピウムＥｕ３＋化合物から出発することができ、前記ユウロピウム化合物は２．０≦ｘ≦２．３の条件を満足するＥｕＢｒｘであることができ、二価ユウロピウム化合物をできるだけ多く、例えば少なくとも７０％含有するユウロピウム化合物が望ましい。
【００２４】
燐光体層の厚さは光刺激性燐光体の感度クラスとともに変化するが、１００μｍ〜１０００μｍ、より好ましくは２００μｍ〜８００μｍ、さらにより好ましくは３００μｍ〜７００μｍの厚さを有する燐光体層を付着することが望ましい。燐光体層が薄すぎると、少なすぎる放射線の吸収量、増大した透明性、及び得られた放射線像の劣化した像品質を生じ、一方燐光体層が厚すぎると、シャープネスの低下による像品質の低下を生じるだろう。
【００２５】
本発明によるさらに特別な実施態様では、前記マトリックス化合物及び前記ハロゲン化物化合物は同じ組成を有する。ＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体について、ハロゲン化物塩として臭化物塩を有する下層がその場合において好ましいだろう。特に、下層から望まれるのは低い放射線吸収力であり、放射線露光が支持体の後側から、即ち放射線像変換パネルの燐光体層側とは反対の側からであるときも、臭化物塩としてＫＢｒを使用するときは放射線の減衰が低くなるだろう。
【００２６】
本発明によれば、放射線像貯蔵パネルの製造方法がさらに提供され、そこでは前記結合剤のない非蒸着下層はディップコーティング、バーコーティング、ローラコーティング及びナイフコーティングからなる群から選択された被覆技術によって溶液から被覆された後、乾燥される。被覆は水性又は非水性溶液から又は水性及び非水性溶液の混合物から作られる。純粋な水性溶液の場合には、温度に依存する、水性溶液における前記ハロゲン化物塩の溶解性に依存して、少なくとも０．１Ｍのハロゲン化物塩濃度が好ましい。均一な厚さの層を得るような方法で乾燥を実施することが推奨される。下層の平均厚さは例えば０．０５μｍ〜１０μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜５μｍの範囲である。これらの範囲外では、薄い下層に対して考えられるような改良された接着性を達成せず、一方厚い下層に対して望ましくない放射線吸収効果が再び接着性の損失に対する危険の増大とともに生じうる。下層の厚さの変化は最大１０％、より好ましくは最大５％の範囲であるべきである。さらに、表面の微小構造が表面に極めて高度な粗さを生じないような方法で乾燥工程又は乾燥条件を制御することが推奨される。前記表面の少なくとも１０点でパーソメータで測定した後に計算された平均粗さは例えば５μｍの値、特に３μｍの値を越えないべきであり、さらには１μｍの値を越えないべきである。
【００２７】
本発明による放射線像貯蔵パネルを製造する方法において、前記燐光体層は物理蒸着、化学蒸着及び噴霧化技術からなる群から選択された技術によって下層上に被覆される。噴霧化技術として、例えばＵＳ−Ａ  ６７４０８９７及び６８７５９９０及びＵＳ出願２００２／０５０５７０，２００４／０７５６０２及び２００４／１４９９３１に記載されているように電子線蒸着を使用することができる。電子線蒸着技術では、電子銃によって生成した電子線は蒸発源上に適用され、電子線の加速電圧は好ましくは１．５ｋＶ〜５．０ｋＶの範囲である。電子線を適用することによって、マトリックス成分及び活性化剤成分の蒸発源は加熱され、蒸発され、支持体上に付着される。本発明の燐光体層における結合剤のない針状結晶の蒸着に使用するために好適な物理蒸着技術は例えば抵抗加熱、スパッタリング及びＲＦ誘導技術である。抵抗加熱蒸着は有利にはＵＳ−Ａ  ６７２００２６，６７３０２４３及び６８０２９９１及びＵＳ出願２００１／００７３５２に記載されたように適用されてもよい。この技術は本発明によるパネルのために針状の結合剤のない貯蔵燐光体を蒸着するための方法として推奨される。抵抗加熱蒸発では、蒸発源は電気エネルギーを抵抗加熱手段：蒸着装置において好ましくは耐火材料から構成されるるつぼ又はボート構成に供給することによって加熱され、例えばＵＳ出願２００５／０００４１１，２００５／０００４４７及び２００５／２１７５６７に開示されたように蒸着燐光体材料の均一な付着を実際に実現する。
【００２８】
蒸着装置における蒸着は予め決められた真空度の調整を必要とする。本発明によるパネルにおける結合剤のない針状貯蔵燐光体層に対して、前記燐光体を高真空下で形成することが望ましい：１×１０−５〜５Ｐａ、特に１×１０−２〜２Ｐａの真空度が望ましく、Ａｒ又はＮｅの貴ガスあるいは窒素ガスの如き不活性ガスを真空蒸着装置中に導入してもよい。１×１０−５〜１×１０−２Ｐａのずっと低い内部圧力を与えるための排気が電子線蒸着に対して好ましい。酸素又は水素ガスの導入が有利に実施され、特に反応性を高めるため及び／又は例えばアニール工程において実施されうる。さらに、不活性ガスの導入は支持体上への蒸着前の蒸気流及び／又は燐光体蒸着原材料を蒸着させるべき支持体を冷却するために実施されることができる。蒸着速度は一般に０．１〜１０００μｍ／分の範囲、好ましくは１〜１００μｍ／分の範囲である。本発明のように下層で被覆された支持体への予備処理を実施することは除外されない：強化された乾燥工程のため、燐光体蒸着前の層配置は規定された時間、高温で保持される。燐光体層の滑らかなベースを得るために、下層の表面が水和を開始するまで相対湿度のパーセンテージを増加することは除外されない。しかしながら、支持体上への貯蔵燐光体層の有効な蒸着はＵＳ出願２００４／０８１７５０に開示されているように５０℃〜２５０℃の範囲の支持体の温度を要求する。蒸着工程中の支持体の加熱又は冷却は必要により操縦及び制御されることができる。
【００２９】
マトリックス及び活性化剤化合物を含む燐光体原材料は粉末又は錠剤の形のプリカーサとして存在することが有利である。本発明において有用な燐光体プリカーサ材料の例はＵＳ出願２００５／１８４２５０，２００５／１８４２７１及び２００５／１８６３２９に記載されている。蒸発は一つ以上のるつぼから実施されてもよい。一つより多いるつぼが存在する場合には、活性化剤又はドーパントの均一性、均質性及び／又は専用の混入のために独立した蒸発制御を実施してもよい。これは特にマトリックスと活性化剤化合物の間の蒸気圧の差が有意であるときに好ましい。
【００３０】
形成された燐光体層は支持体に対してほとんど垂直に整列されている斜方晶系の針状刺激性燐光体結晶を含む。かくして形成された燐光体層は結合剤が存在せずに刺激性燐光体を含むだけであり、燐光体層に深さ方向に延びるクラックが生成される。像品質、特にシャープネスのため、針状燐光体層は例えばＵＳ−Ａ  ６９７７３８５に記載されたように刺激された発光を吸収しないが刺激線を吸収する着色剤で着色されることが有利である。
【００３１】
本発明に開示された層配置はさらに、針状の結合剤のない燐光体層の側を保護層で保護されてもよい。刺激性燐光体層の表面上の透明保護フィルムは輸送工程における放射線像貯蔵パネルの良好な取り扱いを確保するため及び劣化及び損傷を避けるために適用されることが有利である。化学的に安定で、物理的に強く、高耐湿性の被覆は、有機ポリマー（例えばセルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、有機溶媒に可溶なフルオロ樹脂）が保護フィルム（例えばポリエチレンテレフタレートの如き有機ポリマーのフィルム、透明ガラスプレート）のための前もって作られたシートを、接着剤を有する燐光体フィルム上に置くことによって、又は燐光体フィルム上の無機化合物の蒸着によって溶媒に溶解される溶液で刺激性燐光体フィルムを被覆することによって与えられてもよい。保護層は酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリテトラフルオロエチレン及びテトラフルオロエチレン−６フルオライドプロピレンコポリマー、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、及び塩化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマーの如き材料から構成されてもよい。透明ガラス支持体を保護層として使用してもよい。さらに、例えばスパッタリング技術を使用する蒸着によって、ＳｉＣ，ＳｉＯ２，ＳｉＮ、及びＡｌ２Ｏ３グレードの保護層を形成してもよい。種々の添加剤を保護フィルムに分散してもよい。添加剤の例は光散乱微粒子（例えば酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン及びアルミナの粒子）、スリップ剤（例えばパーフルオロオレフィン樹脂及びシリコン樹脂の粉末）及び架橋剤（例えばポリイソシアネート）を含む。保護層の好ましい厚さはポリマー被覆に対して１μｍ〜２０μｍの範囲であり、珪酸ガラスのような無機材料の場合には２０００μｍまでさえある。汚れに対する抵抗性を強めるため、フッ素樹脂層が保護フィルム上に与えられることが好ましい。フッ素樹脂層は、フッ素樹脂が有機溶媒に溶解又は分散される溶液で保護フィルムの表面を被覆し、被覆された溶液を乾燥することによって形成することができる。フッ素樹脂は単独で使用されてもよいが、フッ素樹脂とフィルム形成樹脂の混合物を使用することができる。混合物には、ポリシロキサン構造又はパーフルオロアルキル基を有するオリゴマーをさらに添加することができる。フッ素樹脂層には、干渉によって生じるしみを減らすため及び生じた像の品質を改良するために微粒子充填剤を混入してもよい。フッ素樹脂層の厚さは一般に０．５〜２０μｍの範囲である。フッ素樹脂層を形成するため、架橋剤、フィルム硬化剤及び青味剤の如き添加剤を使用することができる。特に、架橋剤はフッ素樹脂層の耐久性を改良するために有利に使用される。
【実施例】
【００３２】
本発明をその好ましい実施態様と関連して以下に記載するが、本発明をそれらの実施態様に限定することを意図しないことは理解されるだろう。
【００３３】
支持体材料として、Ｌｉｔｈｏｓｔａｒ（登録商標）又はＡｚｕｒａ（登録商標）（Ａｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーの商品）のような平版印刷版を作るために通常使用される「平版印刷品質」を有するＡＧＦＡからのアルミニウムＰ５１を使用した。
【００３４】
マトリックス化合物層は異なる量のＣｓＢｒ塩を有するマトリックス化合層を後で生じる異なる濃度（ＣｓＢｒのｇ／リットル）の水性ＣｓＢｒ溶液から被覆され、被覆助剤として、Ａｇｆａ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーからの界面活性剤のＦ３−（ＣＦ２）６−ＣＯ−ＮＨ−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ）１７−２０−Ｈを３〜３０重量％の範囲で変化する濃度（即ちプレート４１０に対して３．８％；プレート４１１に対して９．５％；プレート４０４及び４０９に対して１３．３％；プレート４０６及び４０７に対して２８．８％）で水性ＣｓＢｒ又はＣｓＦ溶液に加え、一緒に以下の表１に示す量でＨＣ  ＳＴＡＲＣＫ、ドイツからのＬＥＶＡＳＩＬ５００の微粒子シリカ（平均粒径：６ｎｍ）を加えた。
【００３５】
水性層は２５μｍの層厚さでナイフコーティングすることによって被覆され、５０℃で１時間オーブンで乾燥された。比較例ではマトリックス化合物下層は全く被覆されなかった。
【００３６】
原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して、熱蒸着工程によって真空室において乾燥された下層（比較例の版は除く）を被覆した可撓性陽極酸化アルミニウム版上にＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンを作った。前記可撓性陽極酸化アルミニウム支持体上への前記蒸着は前記支持体が蒸気流上で回転するような方法で実施された。電気加熱オーブン及び耐火トレー又はボートを使用し、そこでは１６０〜２００ｇのＣｓＢｒとＥｕＯＢｒの混合物（ＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒ重量％比＝９９．５％／０．５％）を蒸着のための原材料として存在させた。るつぼとして１００ｍｍの長さを有する細長いボートを使用し、それは０．５ｍｍの厚さを有する「タンタル」から構成された３５ｍｍの幅及び４５ｍｍの側壁高さを有し、三つの集積部品：るつぼ容器、スリット及び小さな開口付きの「第二」プレート及びスリット出口を有するカバーから構成された。長手方向部分は漏れを克服するために一つの連続タンタルベースプレートから折り曲げられ、頭部分が溶接された。前記第二プレートは４５ｍｍの前記側壁高さの２／３より小さい最外カバープレートからの距離でるつぼの内部に装着された。真空室へのアルゴンガスの連続注入によって維持された真空圧力（２×１０−３ｍｂａｒに等価な２×１０−１Ｐａの圧力）下で、かつ蒸気源（７６０℃）及び煙突の十分に高い温度で、得られた蒸気は移動するシート支持体の方に向けられ、前記支持体が蒸気流の上で回転しながら連続的にその上に付着された。蒸気源の前記温度は、外側に存在しかつ前記るつぼの底の下で圧縮された熱電対によって及びるつぼ及び煙突に存在するタンタル保護された熱電対によって測定された。
【００３７】
２８０μｍの厚さ、１０ｃｍの幅及び１０ｃｍの長さを有する（下層を被覆された）陽極酸化アルミニウム支持体は支持体とるつぼ蒸気出口スリットの間を２２ｃｍの距離にして燐光体が蒸着される側に位置させた。
【００３８】
プレートは等しい厚さの燐光体層を有する燐光体プレートに導く同じ蒸着時間を実施した後に蒸着装置から取り出された。
【００３９】
マトリックス化合物層の各々に対して、マトリックス化合物層におけるＣｓＢｒ塩の量に加えて、同じ層におけるシリカの量が与えられた。蒸着によってその上に被覆されたＥｕドープ燐光体層に対して、燐光体の被覆重量並びに相対スピード値（ＳＡＬ％）をまとめた。
【００４０】
下層上への燐光体層の接着強度が試験されるべきであるので保護シートはさらに被覆されなかった。上述のデータは表１に述べられた。そこでは、相対スピード（ＳＡＬ％）はＡｇｆａ−Ｇｅｖａｅｒｔ，Ｍｏｒｔｓｅｌ、ベルギーによって製造されたＭＤ１０（登録商標）参照光刺激性燐光体スクリーンの参照スピードと比較したスクリーンの各々のスピードとして規定される。層の接着性は「テープ接着試験」によって試験され、そこでは相対値はテープが燐光体層に接着され剥離されて燐光体層と支持体の間の接着の効果を調査する前記試験の実施後に与えられた：「３」は参照プレートの「不安定な」接着（完全に満足しない−一度より多い接着問題を起こす）と関連し、「２」は「より良好な」接着（許容可能、時にはまれに接着問題を起こす）を示し、「１」は「十分な」接着（テープの剥離時に支持体と燐光体層の間で剥離が全く観察されない）を示す。
【００４１】
2007212445.tif 000002
【００４２】
表１に与えられたデータから、マトリックス化合物塩としてＣｓＢｒの水溶液から被覆されたマトリックス化合物下層の存在が増大したスピードを与える（高いＳＡＬ％値を参照）ことが明らかである。さらに、比較被覆（ＣＢ−プレート７３４０５）を別として、本発明被覆はアルミニウム支持体上へのより良好な、少なくとも許容可能な接着を与える。ＣｓＢｒマトリックス化合物塩の乾燥された水性下層被覆上に蒸着燐光体層を与えられた本発明燐光体プレート内では、乾燥された下層にシリカ粒子を有するものはアルミニウム支持体上に被覆された層のさらに改良された接着を与える。
【００４３】
本発明の好ましい実施態様を詳細に記載したが、添付請求項に規定された本発明の範囲から逸脱せずに多数の変更をそこでなしうることが当業者に明らかであろう。