(57)【要約】【課題】  微小流路を用いた化学操作によりラニムスチンの合成を可能にする。【解決手段】  α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源１と、メチルグルコシド溶液を取り込みα−メチルグルコシドをトシル化しトシル体溶液を送出する部位２と、トシル体溶液を取り込みα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しアミノ体溶液を送出する部位３と、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源４と、ニトロフェノール溶液を取り込みｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化しニトロソカルバメート体溶液を送出する部位５と、アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成する部位６とでプラントを構成する。【選択図】        図２７
2007063150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラニムスチンを合成するラニムスチン合成用マイクロプラントであって、
α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源と、
上記メチルグルコシド溶液を取り込み、上記メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル化部と、
上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ化部と、
ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源と、
上記ニトロフェノール溶液を取り込み、上記ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化部と、
上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成するラニムスチン合成部とを備える
ことを特徴とする、ラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２】
該トシル化部が、
上記メチルグルコシド溶液を取り込み、α−メチルグルコシドをトシル化しうるトシル化試薬を上記メチルグルコシド溶液に接触させてα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル化反応部と、
上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル体／ジトシル体精製部と、
上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル体クロマト分離部と、
上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体溶液を送出するトシル体精製部とを備える
ことを特徴とする、請求項１記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項３】
該トシル化反応部が、
トシル化反応用基板と、該トシル化反応用基板に形成されたトシル化反応用流路とを備え、該トシル化反応用流路が、該トシル化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのトシル化反応用導入流路部と、該トシル化反応用導入流路部が合流するトシル化反応用導入流路合流部と、該トシル化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するトシル化反応用分岐流路部を階層的に接続したトシル化反応用階層分岐流路部と、該トシル化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該トシル化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのトシル化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたトシル化反応用プール部と、該トシル化反応用プール部の下流に形成され、該トシル化反応用プール部内の流体を送出するためのトシル化反応用送出口とを有するトシル化部反応用チップを備え、
該トシル化反応用流路に上記メチルグルコシド溶液を取り込み、該トシル化反応用流路内においてα−メチルグルコシドをトシル化を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項４】
該トシル体／ジトシル体精製部が、
トシル体／ジトシル体精製用基板と、該トシル体／ジトシル体精製用基板に設けられたトシル体／ジトシル体精製用流路とを備え、該トシル体／ジトシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体をろ過分離するための第１トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体／ジトシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体／ジトシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体／ジトシル体精製用ダム部を備える第１トシル化部ろ過用チップを備え、
該トシル体／ジトシル体精製用流路に上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、該トシル体／ジトシル体精製用流路内において上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２又は請求項３に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項５】
該トシル体クロマト分離部が、
トシル体分離用基板と、該トシル体分離用基板に設けられたトシル体分離用流路とを備え、該トシル体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、トシル体分離用吸着剤を充填するためのトシル体分離用プール部と、該トシル体分離用プール部に流体を導入するトシル体分離用導入流路部と、該トシル体分離用プール部から流体を送出するトシル体分離用送出流路部と、該トシル体分離用プール部内の該トシル体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該トシル体分離用吸着剤が該トシル体分離用プール部から流出することを防止するトシル体分離用流出防止部とを備えるトシル化部クロマトグラフィー用チップを備え、
該トシル体分離用流路に上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、該トシル体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去するよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２〜４のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項６】
該トシル体精製部が、
トシル体精製用基板と、該トシル体精製用基板に設けられたトシル体精製用流路とを備え、該トシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体をろ過分離するための第２トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体精製用ダム部を備える第２トシル化部ろ過用チップを備え、
該トシル体精製用流路に上記トシル体溶液を取り込み、該トシル体精製用流路内において上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２〜５のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項７】
該トシル化反応部から送出されたトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、中和して、該トシル体／ジトシル体精製部へと送出するトシル体／ジトシル体中和部を備える
ことを特徴とする、請求項２〜６のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項８】
該トシル体クロマト分離部から送出されたトシル体溶液を取り込み、濃縮して、該トシル体精製部へと送出するトシル体濃縮部を備える
ことを特徴とする、請求項２〜７のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項９】
該アミノ化部が、
上記トシル体溶液を取り込み、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しうるアミノ化試薬を上記トシル体溶液に接触させて、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を送出するアミノ化反応部と、
上記のアミノ体／トシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ体クロマト分離部と、
上記のアミノ体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行ない、精製後のアミノ体溶液を送出するアミノ体精製部とを備える
ことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１０】
該アミノ化反応部が、
アミノ化反応用基板と、該アミノ化反応用基板に形成された主流路と、該アミノ化反応用基板に形成され、その下流端部を該主流路の上流端部に接続された少なくとも２つのアミノ化反応用導入流路とを備えたアミノ化反応部反応用チップであって、該アミノ化反応用導入流路の下流端部における流れ方向と該主流路の上流端部における流れ方向との角度差の絶対値がそれぞれ２０°以下であるアミノ化部反応用チップを備え、
該アミノ化反応用流路に上記トシル体溶液を取り込み、該アミノ化反応用流路内において上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項９記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１１】
該アミノ体クロマト分離部が、
アミノ体分離用基板と、該アミノ体分離用基板に設けられたアミノ体分離用流路とを備え、該アミノ体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、アミノ体分離用吸着剤を充填するためのアミノ体分離用プール部と、該アミノ体分離用プール部に流体を導入するアミノ体分離用導入流路部と、該アミノ体分離用プール部から流体を送出するアミノ体分離用送出流路部と、該アミノ体分離用プール部内の該アミノ体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該アミノ体分離用吸着剤が該アミノ体分離用プール部から流出することを防止するアミノ体分離用流出防止部とを備えるアミノ化部クロマトグラフィー用チップを備え、
該アミノ体分離用流路に上記アミノ体／トシル体溶液を取り込み、該アミノ体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去するよう構成されている
ことを特徴とする、請求項９又は請求項１０に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１２】
該アミノ体精製部が、
アミノ体精製用基板と、該アミノ体精製用基板に設けられたアミノ体精製用流路とを備え、該アミノ体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのアミノ体をろ過分離するためのアミノ化部ろ過用チップであって、該アミノ体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該アミノ体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのアミノ体の粒径よりも小さい隙間を形成するアミノ体精製用ダム部を備えるアミノ化部ろ過用チップを備え、
該アミノ体精製用流路に上記アミノ体溶液を取り込み、該アミノ体精製用流路内において上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項９〜１１のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１３】
該アミノ化反応部から送出されたアミノ体／トシル体溶液を取り込み、濃縮して、該アミノ体クロマト分離部へと送出するアミノ体／トシル体濃縮部を備える
ことを特徴とする、請求項９〜１２のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１４】
該アミノ体クロマト分離部から送出されたアミノ体溶液を取り込み、濃縮して、該アミノ体精製部へと送出するアミノ体濃縮部を備える
ことを特徴とする、請求項９〜１３のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１５】
該ニトロソカルバメート化部が、
上記ニトロフェノール溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールをカルバメート化しうるカルバメート化試薬を上記ニトロフェノール溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を送出するカルバメート化反応部と、
上記カルバメート体溶液を取り込み、上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行ない、精製後のカルバメート体溶液を送出するカルバメート体精製部と、
上記精製後のカルバメート体溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化しうるニトロソ化試薬を上記カルバメート体溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化反応部と、
上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行ない、精製後のニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート体精製部とを備える
ことを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１６】
該カルバメート化反応部が、
カルバメート化反応用基板と、該カルバメート化反応用基板に形成されたカルバメート化反応用流路とを備え、該カルバメート化反応用流路が、該カルバメート化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのカルバメート化反応用導入流路部と、該カルバメート化反応用導入流路部が合流するカルバメート化反応用導入流路合流部と、該カルバメート化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するカルバメート化反応用分岐流路部を階層的に接続したカルバメート化反応用階層分岐流路部と、該カルバメート化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該カルバメート化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのカルバメート化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたカルバメート化反応用プール部と、該カルバメート化反応用プール部の下流に形成され、該カルバメート化反応用プール部内の流体を送出するためのカルバメート化反応用送出口とを有する第１ニトロソカルバメート化部反応用チップを備え、
該カルバメート化反応用流路に上記ニトロフェノール溶液を取り込み、該カルバメート化反応用流路内においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート化を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項１５記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１７】
該カルバメート体精製部が、
カルバメート体精製用基板と、該カルバメート体精製用基板に設けられたカルバメート体精製用流路とを備え、該カルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をろ過分離するための第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該カルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該カルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するカルバメート体精製用ダム部を備える第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップを備え、
該カルバメート体精製用流路に上記カルバメート体溶液を取り込み、該カルバメート体精製用流路内において上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項１５又は請求項１６に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１８】
該ニトロソカルバメート化反応部が、
ニトロソ化反応用基板と、該ニトロソ化反応用基板に形成されたニトロソ化反応用流路とを備え、該ニトロソ化反応用流路が、該ニトロソ化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのニトロソ化反応用導入流路部と、該ニトロソ化反応用導入流路部が合流するニトロソ化反応用導入流路合流部と、該ニトロソ化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するニトロソ化反応用分岐流路部を階層的に接続したニトロソ化反応用階層分岐流路部と、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのニトロソ化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたニトロソ化反応用プール部と、該ニトロソ化反応用プール部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用プール部内の流体を送出するためのニトロソ化反応用送出口とを有する第２ニトロソカルバメート化部反応用チップを備え、
該ニトロソ化反応用流路に上記カルバメート体溶液を取り込み、該ニトロソ化反応用流路内においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体のニトロソ化を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項１９】
該ニトロソカルバメート体精製部が、
ニトロソカルバメート体精製用基板と、該ニトロソカルバメート体精製用基板に設けられたニトロソカルバメート体精製用流路とを備え、該ニトロソカルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体をろ過分離するための第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該ニトロソカルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ニトロソカルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するニトロソカルバメート体精製用ダム部を備える第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップを備え、
該ニトロソカルバメート体精製用流路に上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、該ニトロソカルバメート体精製用流路内において上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項１５〜１８のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２０】
該ラニムスチン合成部が、
上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体と上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、該ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を送出するラニムスチン合成反応部と、
上記ラニムスチン溶液を取り込み、上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行ない、精製後のラニムスチン溶液を送出するラニムスチン精製部とを備える
ことを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２１】
該ラニムスチン合成反応部が、
ラニムスチン合成用基板と、該ラニムスチン合成用基板に形成されたラニムスチン合成用流路とを備え、該ラニムスチン合成用流路が、該ラニムスチン合成用流路に流体を導入するための少なくとも２つのラニムスチン合成用導入流路部と、該ラニムスチン合成用導入流路部が合流するラニムスチン合成用導入流路合流部と、該ラニムスチン合成用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するラニムスチン合成用分岐流路部を階層的に接続したラニムスチン合成用階層分岐流路部と、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部から流体を流入させるためのラニムスチン合成用流体流入口を幅方向に均一に形成されたラニムスチン合成用プール部と、該ラニムスチン合成用プール部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用プール部内の流体を送出するためのラニムスチン合成用送出口とを有するラニムスチン合成部反応用チップを備え、
該ラニムスチン合成用流路に上記アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液を取り込み、該ラニムスチン合成用流路内においてラニムスチンの合成を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２０記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２２】
該ラニムスチン精製部が、
ラニムスチン精製用基板と、該ラニムスチン精製用基板に設けられたラニムスチン精製用流路とを備え、該ラニムスチン精製用流路に流体を流通させて流体中のラニムスチンをろ過分離するためのラニムスチン合成部ろ過用チップであって、該ラニムスチン精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ラニムスチン精製用流路の内面との間で上記ラニムスチンの粒径よりも小さい隙間を形成するラニムスチン精製用ダム部を備えるラニムスチン合成部ろ過用チップを備え、
該ラニムスチン精製用流路に上記ラニムスチン溶液を取り込み、該ラニムスチン精製用流路内において上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行なうよう構成されている
ことを特徴とする、請求項２０又は請求項２１に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２３】
該ラニムスチン合成反応部から送出されたラニムスチン溶液を取り込み、濃縮して、該ラニムスチン精製部へと送出する第１ラニムスチン濃縮部を備える
ことを特徴とする、請求項２０〜２２のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２４】
該ラニムスチン精製部から送出されたラニムスチン溶液を取り込み、濃縮する第２ラニムスチン濃縮部を備える
ことを特徴とする、請求項２０〜２３のいずれか１項に記載のラニムスチン合成用マイクロプラント。
【請求項２５】
α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液を取り込み、α−メチルグルコシドをトシル化しうるトシル化試薬を上記メチルグルコシド溶液に接触させてα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル化反応部と、
上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル体／ジトシル体精製部と、
上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル体クロマト分離部と、
上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体溶液を送出するトシル体精製部とを備える
ことを特徴とする、α−メチルグルコシドのトシル体合成用マイクロプラント。
【請求項２６】
α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を取り込み、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しうるアミノ化試薬を上記トシル体溶液に接触させて、α−メチルグルコシドをアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を送出するアミノ化反応部と、
上記のアミノ体／トシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ体クロマト分離部と、
上記のアミノ体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行ない、精製後のアミノ体溶液を送出するアミノ体精製部とを備える
ことを特徴とする、α−メチルグルコシドのアミノ体合成用マイクロプラント。
【請求項２７】
ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールをカルバメート化しうるカルバメート化試薬を上記ニトロフェノール溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を送出するカルバメート化反応部と、
上記カルバメート体溶液を取り込み、上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行ない、精製後のカルバメート体溶液を送出するカルバメート体精製部と、
上記カルバメート体溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化しうるニトロソ化試薬を上記カルバメート体溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化反応部と、
上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行ない、精製後のニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート体精製部とを備える
ことを特徴とする、α−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体合成用マイクロプラント。
【請求項２８】
α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液、及び、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体と上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、該ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を送出するラニムスチン合成反応部と、
上記ラニムスチン溶液を取り込み、上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行ない、精製後のラニムスチン溶液を送出するラニムスチン精製部とを備える
ことを特徴とする、ラニムスチン合成用マイクロプラント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラニムスチン、α−メチルグルコシドのトシル体、α−メチルグルコシドのアミノ体、及び、α−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を合成するためのマイクロプラントに関する。
【背景技術】
【０００２】
抗癌剤の一種として、ラニムスチン、即ち、メチル６−［３−（２−クロロエチル）−３−ニトロソウレイド］−６−デオキシ−アルフア−Ｄ−グルコピラノシドが知られている。このラニムスチンは、現在の癌治療において、非常に有効な制癌剤として広く用いられている。
【０００３】
一方、医薬製造等の有機化学反応において、従来は試験管やビーカー等の大容量の容器に所定の試料を収容し容器内で特定の条件下に試料を混合して有機化学反応を行なわせることが多かったが、近年では、例えば特許文献１〜５に示すように、試料の少量化などを目的として、微小な反応流路を用いたマイクロ化学デバイスにより、化学反応や精製等の化学操作を行なわせる技術が提案されている（特許文献１〜５）。なお、この場合使用される試料は、通常、気体や液体などの流体である。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２７３２０６号公報
【特許文献２】特開２００２−１１０２号公報
【特許文献３】特開２００２−２９２２７１号公報
【特許文献４】特開２００２−３１１００８号公報
【特許文献５】特開２００３−１９０７６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のように、マイクロ化学デバイスによる化学操作には数多くの利点があるため、ラニムスチンの合成においても、上記のようにマイクロリアクタの技術を用いた製造技術が求められている。
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、微小流路を用いた化学操作によりラニムスチンの合成ができるようにした、ラニムスチン合成用マイクロプラント、並びに、α−メチルグルコシドのトシル体合成用マイクロプラント、α−メチルグルコシドのアミノ体合成用マイクロプラント、及び、α−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体合成用マイクロプラントを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の発明者は、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源と、上記メチルグルコシド溶液を取り込み、上記メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル化部と、上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ化部と、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源と、上記ニトロフェノール溶液を取り込み、上記ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化部と、上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成するラニムスチン合成部とを備えように、マイクロ化学デバイスを組み合わせてマイクロプランとを構成することにより、ラニムスチンを良好に合成することができるラニムスチン合成用マイクロプラントを実現することができることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
即ち、本発明の要旨は、ラニムスチンを合成するラニムスチン合成用マイクロプラントであって、α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源と、上記メチルグルコシド溶液を取り込み、上記メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル化部と、上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ化部と、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源と、上記ニトロフェノール溶液を取り込み、上記ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化部と、上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成するラニムスチン合成部とを備えることを特徴とする、ラニムスチン合成用マイクロプラントに存する（請求項１）。
【０００８】
このとき、該トシル化部は、上記メチルグルコシド溶液を取り込み、α−メチルグルコシドをトシル化しうるトシル化試薬を上記メチルグルコシド溶液に接触させてα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル化反応部と、上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル体／ジトシル体精製部と、上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル体クロマト分離部と、上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体溶液を送出するトシル体精製部とを備えることが好ましい（請求項２）。
【０００９】
また、該トシル化反応部は、トシル化反応用基板と、該トシル化反応用基板に形成されたトシル化反応用流路とを備え、該トシル化反応用流路が、該トシル化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのトシル化反応用導入流路部と、該トシル化反応用導入流路部が合流するトシル化反応用導入流路合流部と、該トシル化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するトシル化反応用分岐流路部を階層的に接続したトシル化反応用階層分岐流路部と、該トシル化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該トシル化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのトシル化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたトシル化反応用プール部と、該トシル化反応用プール部の下流に形成され、該トシル化反応用プール部内の流体を送出するためのトシル化反応用送出口とを有するトシル化部反応用チップを備え、該トシル化反応用流路に上記メチルグルコシド溶液を取り込み、該トシル化反応用流路内においてα−メチルグルコシドをトシル化を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項３）。
【００１０】
さらに、該トシル体／ジトシル体精製部は、トシル体／ジトシル体精製用基板と、該トシル体／ジトシル体精製用基板に設けられたトシル体／ジトシル体精製用流路とを備え、該トシル体／ジトシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体をろ過分離するための第１トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体／ジトシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体／ジトシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体／ジトシル体精製用ダム部を備える第１トシル化部ろ過用チップを備え、該トシル体／ジトシル体精製用流路に上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、該トシル体／ジトシル体精製用流路内において上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項４）。
【００１１】
また、該トシル体クロマト分離部は、トシル体分離用基板と、該トシル体分離用基板に設けられたトシル体分離用流路とを備え、該トシル体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、トシル体分離用吸着剤を充填するためのトシル体分離用プール部と、該トシル体分離用プール部に流体を導入するトシル体分離用導入流路部と、該トシル体分離用プール部から流体を送出するトシル体分離用送出流路部と、該トシル体分離用プール部内の該トシル体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該トシル体分離用吸着剤が該トシル体分離用プール部から流出することを防止するトシル体分離用流出防止部とを備えるトシル化部クロマトグラフィー用チップを備え、該トシル体分離用流路に上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、該トシル体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去するよう構成されていることが好ましい（請求項５）。
【００１２】
さらに、該トシル体精製部は、トシル体精製用基板と、該トシル体精製用基板に設けられたトシル体精製用流路とを備え、該トシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体をろ過分離するための第２トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体精製用ダム部を備える第２トシル化部ろ過用チップを備え、該トシル体精製用流路に上記トシル体溶液を取り込み、該トシル体精製用流路内において上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項６）。
【００１３】
また、該トシル化部は、該トシル化反応部から送出されたトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、中和して、該トシル体／ジトシル体精製部へと送出するトシル体／ジトシル体中和部を備えることが好ましい（請求項７）。
【００１４】
さらに、該トシル化部は、該トシル体クロマト分離部から送出されたトシル体溶液を取り込み、濃縮して、該トシル体精製部へと送出するトシル体濃縮部を備えることが好ましい（請求項８）。
【００１５】
また、該アミノ化部は、上記トシル体溶液を取り込み、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しうるアミノ化試薬を上記トシル体溶液に接触させて、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を送出するアミノ化反応部と、上記のアミノ体／トシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ体クロマト分離部と、上記のアミノ体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行ない、精製後のアミノ体溶液を送出するアミノ体精製部とを備えることが好ましい（請求項９）。
【００１６】
さらに、該アミノ化反応部は、アミノ化反応用基板と、該アミノ化反応用基板に形成された主流路と、該アミノ化反応用基板に形成され、その下流端部を該主流路の上流端部に接続された少なくとも２つのアミノ化反応用導入流路とを備えたアミノ化反応部反応用チップであって、該アミノ化反応用導入流路の下流端部における流れ方向と該主流路の上流端部における流れ方向との角度差の絶対値がそれぞれ２０°以下であるアミノ化部反応用チップを備え、該アミノ化反応用流路に上記トシル体溶液を取り込み、該アミノ化反応用流路内において上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１０）。
【００１７】
また、該アミノ体クロマト分離部は、アミノ体分離用基板と、該アミノ体分離用基板に設けられたアミノ体分離用流路とを備え、該アミノ体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、アミノ体分離用吸着剤を充填するためのアミノ体分離用プール部と、該アミノ体分離用プール部に流体を導入するアミノ体分離用導入流路部と、該アミノ体分離用プール部から流体を送出するアミノ体分離用送出流路部と、該アミノ体分離用プール部内の該アミノ体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該アミノ体分離用吸着剤が該アミノ体分離用プール部から流出することを防止するアミノ体分離用流出防止部とを備えるアミノ化部クロマトグラフィー用チップを備え、該アミノ体分離用流路に上記アミノ体／トシル体溶液を取り込み、該アミノ体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去するよう構成されていることが好ましい（請求項１１）。
【００１８】
さらに、該アミノ体精製部は、アミノ体精製用基板と、該アミノ体精製用基板に設けられたアミノ体精製用流路とを備え、該アミノ体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのアミノ体をろ過分離するためのアミノ化部ろ過用チップであって、該アミノ体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該アミノ体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのアミノ体の粒径よりも小さい隙間を形成するアミノ体精製用ダム部を備えるアミノ化部ろ過用チップを備え、該アミノ体精製用流路に上記アミノ体溶液を取り込み、該アミノ体精製用流路内において上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１２）。
【００１９】
また、該アミノ化部は、該アミノ化反応部から送出されたアミノ体／トシル体溶液を取り込み、濃縮して、該アミノ体クロマト分離部へと送出するアミノ体／トシル体濃縮部を備えることが好ましい（請求項１３）。
【００２０】
さらに、該アミノ化部は、該アミノ体クロマト分離部から送出されたアミノ体溶液を取り込み、濃縮して、該アミノ体精製部へと送出するアミノ体濃縮部を備えることが好ましい（請求項１４）。
【００２１】
また、該ニトロソカルバメート化部は、上記ニトロフェノール溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールをカルバメート化しうるカルバメート化試薬を上記ニトロフェノール溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を送出するカルバメート化反応部と、上記カルバメート体溶液を取り込み、上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行ない、精製後のカルバメート体溶液を送出するカルバメート体精製部と、上記の精製後のカルバメート体溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化しうるニトロソ化試薬を上記カルバメート体溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化反応部と、上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行ない、精製後のニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート体精製部とを備えることが好ましい（請求項１５）。
【００２２】
さらに、該カルバメート化反応部は、カルバメート化反応用基板と、該カルバメート化反応用基板に形成されたカルバメート化反応用流路とを備え、該カルバメート化反応用流路が、該カルバメート化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのカルバメート化反応用導入流路部と、該カルバメート化反応用導入流路部が合流するカルバメート化反応用導入流路合流部と、該カルバメート化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するカルバメート化反応用分岐流路部を階層的に接続したカルバメート化反応用階層分岐流路部と、該カルバメート化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該カルバメート化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのカルバメート化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたカルバメート化反応用プール部と、該カルバメート化反応用プール部の下流に形成され、該カルバメート化反応用プール部内の流体を送出するためのカルバメート化反応用送出口とを有する第１ニトロソカルバメート化部反応用チップを備え、該カルバメート化反応用流路に上記ニトロフェノール溶液を取り込み、該カルバメート化反応用流路内においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート化を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１６）。
【００２３】
また、該カルバメート体精製部は、カルバメート体精製用基板と、該カルバメート体精製用基板に設けられたカルバメート体精製用流路とを備え、該カルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をろ過分離するための第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該カルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該カルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するカルバメート体精製用ダム部を備える第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップを備え、該カルバメート体精製用流路に上記カルバメート体溶液を取り込み、該カルバメート体精製用流路内において上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１７）。
【００２４】
さらに、該ニトロソカルバメート化反応部は、ニトロソ化反応用基板と、該ニトロソ化反応用基板に形成されたニトロソ化反応用流路とを備え、該ニトロソ化反応用流路が、該ニトロソ化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのニトロソ化反応用導入流路部と、該ニトロソ化反応用導入流路部が合流するニトロソ化反応用導入流路合流部と、該ニトロソ化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するニトロソ化反応用分岐流路部を階層的に接続したニトロソ化反応用階層分岐流路部と、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのニトロソ化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたニトロソ化反応用プール部と、該ニトロソ化反応用プール部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用プール部内の流体を送出するためのニトロソ化反応用送出口とを有する第２ニトロソカルバメート化部反応用チップを備え、該ニトロソ化反応用流路に上記カルバメート体溶液を取り込み、該ニトロソ化反応用流路内においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体のニトロソ化を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１８）。
【００２５】
また、該ニトロソカルバメート体精製部は、ニトロソカルバメート体精製用基板と、該ニトロソカルバメート体精製用基板に設けられたニトロソカルバメート体精製用流路とを備え、該ニトロソカルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体をろ過分離するための第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該ニトロソカルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ニトロソカルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するニトロソカルバメート体精製用ダム部を備える第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップを備え、該ニトロソカルバメート体精製用流路に上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、該ニトロソカルバメート体精製用流路内において上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項１９）。
【００２６】
さらに、該ラニムスチン合成部は、上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体と上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、該ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を送出するラニムスチン合成反応部と、上記ラニムスチン溶液を取り込み、上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行ない、精製後のラニムスチン溶液を送出するラニムスチン精製部とを備えることが好ましい（請求項２０）。
【００２７】
また、該ラニムスチン合成反応部が、ラニムスチン合成用基板と、該ラニムスチン合成用基板に形成されたラニムスチン合成用流路とを備え、該ラニムスチン合成用流路が、該ラニムスチン合成用流路に流体を導入するための少なくとも２つのラニムスチン合成用導入流路部と、該ラニムスチン合成用導入流路部が合流するラニムスチン合成用導入流路合流部と、該ラニムスチン合成用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するラニムスチン合成用分岐流路部を階層的に接続したラニムスチン合成用階層分岐流路部と、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部から流体を流入させるためのラニムスチン合成用流体流入口を幅方向に均一に形成されたラニムスチン合成用プール部と、該ラニムスチン合成用プール部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用プール部内の流体を送出するためのラニムスチン合成用送出口とを有するラニムスチン合成部反応用チップを備え、該ラニムスチン合成用流路に上記アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液を取り込み、該ラニムスチン合成用流路内においてラニムスチンの合成を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項２１）。
【００２８】
さらに、該ラニムスチン精製部は、ラニムスチン精製用基板と、該ラニムスチン精製用基板に設けられたラニムスチン精製用流路とを備え、該ラニムスチン精製用流路に流体を流通させて流体中のラニムスチンをろ過分離するためのラニムスチン合成部ろ過用チップであって、該ラニムスチン精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ラニムスチン精製用流路の内面との間で上記ラニムスチンの粒径よりも小さい隙間を形成するラニムスチン精製用ダム部を備えるラニムスチン合成部ろ過用チップを備え、該ラニムスチン精製用流路に上記ラニムスチン溶液を取り込み、該ラニムスチン精製用流路内において上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行なうよう構成されていることが好ましい（請求項２２）。
【００２９】
また、該ラニムスチン合成部は、該ラニムスチン合成反応部から送出されたラニムスチン溶液を取り込み、濃縮して、該ラニムスチン精製部へと送出する第１ラニムスチン濃縮部を備えることが好ましい（請求項２３）。
【００３０】
さらに、該ラニムスチン合成部は、該ラニムスチン精製部から送出されたラニムスチン溶液を取り込み、濃縮する第２ラニムスチン濃縮部を備えることが好ましい（請求項２４）。
【００３１】
本発明の別の要旨は、α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液を取り込み、α−メチルグルコシドをトシル化しうるトシル化試薬を上記メチルグルコシド溶液に接触させてα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル化反応部と、上記トシル体／ジトシル体溶液を取り込み、上記トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を送出するトシル体／ジトシル体精製部と、上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル体クロマト分離部と、上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体溶液を送出するトシル体精製部とを備えることを特徴とする、α−メチルグルコシドのトシル体合成用マイクロプラントに存する（請求項２５）。
【００３２】
本発明の更に別の要旨は、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を取り込み、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しうるアミノ化試薬を上記トシル体溶液に接触させて、α−メチルグルコシドをアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を送出するアミノ化反応部と、上記のアミノ体／トシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ体クロマト分離部と、上記のアミノ体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行ない、精製後のアミノ体溶液を送出するアミノ体精製部とを備えることを特徴とする、α−メチルグルコシドのアミノ体合成用マイクロプラントに存する（請求項２６）。
【００３３】
本発明の更に別の要旨は、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールをカルバメート化しうるカルバメート化試薬を上記ニトロフェノール溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を送出するカルバメート化反応部と、上記カルバメート体溶液を取り込み、上記カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行ない、精製後のカルバメート体溶液を送出するカルバメート体精製部と、上記カルバメート体溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化しうるニトロソ化試薬を上記カルバメート体溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化反応部と、上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行ない、精製後のニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート体精製部とを備えることを特徴とする、α−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体合成用マイクロプラントに存する（請求項２７）。
【００３４】
本発明の更に別の要旨は、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液、及び、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を取り込み、上記アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体と上記ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、該ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を送出するラニムスチン合成反応部と、上記ラニムスチン溶液を取り込み、上記ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行ない、精製後のラニムスチン溶液を送出するラニムスチン精製部とを備えることを特徴とする、ラニムスチン合成用マイクロプラントに存する（請求項２８）。
【発明の効果】
【００３５】
本発明のラニムスチン合成用マイクロプラントによれば、微小流路を用いてラムニスチンの合成を良好に行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明の一実施形態を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
【００３７】
本発明のラムニスチン合成用マイクロプラント（以下適宜、単に「合成用マイクロプラント」という）は、α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源（以下適宜、「メチルグルコシド溶液源」という）と、上記メチルグルコシド溶液を取り込み、上記メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するトシル化部と、上記トシル体溶液を取り込み、上記トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するアミノ化部と、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源（以下適宜、「ニトロフェノール溶液源」という）と、上記ニトロフェノール溶液を取り込み、上記ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するニトロソカルバメート化部と、上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成するラニムスチン合成部とを備える。
【００３８】
そして、このマイクロプラントでは、微小な流路を有するマイクロ化学デバイスを用いて、トシル化部、アミノ化部、ニトロソカルバメート化部、ラニムスチン合成部等の各構成部位を構成するようになっている。通常、このマイクロ化学デバイスは、基板上に微小な流路を形成した化学操作用チップにより構成されている。本発明のマイクロプラントで用いるマイクロ化学デバイスに制限は無く任意であるが、通常は、上記のような化学操作用チップを用いる。
以下、まず、これらの化学操作用チップについて説明する。
【００３９】
［Ｉ．化学操作用チップ］
［Ｉ−１．第１反応用マイクロチップ］
第１反応用マイクロチップ（以下適宜、「第１反応用チップ」という）は、２種以上の流体を流路に流通させ、その流路を流通する間に流体同士を接触させて反応を進行させる化学操作用チップである。
【００４０】
図１〜図８は、本実施形態のマイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの一実施形態について示すもので、図１は第１反応用チップの模式的な上面図であり、図２は第１反応用チップの模式的な斜視図、図３は導入流路と主流路とが接続された部分の近傍を拡大して模式的に示す要部拡大図、図４は主流路を流れ方向に垂直な面で切った断面を模式的に示す断面図、図５（ａ）〜（ｃ）は導入流路が主流路に接続された合流部近傍を拡大して模式的に示す上面図、図６は導入流路の流れ方向に直交する断面を模式的に示す断面図、図７は第１反応用チップを用いた反応に用いる反応装置の要部構成を模式的に示す図、図８はチップホルダについて模式的に示す分解斜視図である。なお、図２において流路の厚みを描画していないが、これらは厚みが非常に小さいために描画しなかったものであり、実際には厚み（或いは深さ）を有する３次元的な構造を有している。
【００４１】
図１、図２に示すように、この第１反応用チップ１０１は、基板１０２に流路１０３が形成されたものである。また、流路１０３は、反応を行なうための主流路１０４と、主流路１０４に流体を導入するための少なくとも２つの導入流路１０５，１０６とから形成されている。
【００４２】
［Ｉ−１−１．基板］
基板１０２は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の素材で形成することができる。例えば、ガラス等の無機材料や、合成樹脂等の有機材料で形成することができる。
また、基板１０２の形状も本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常は、平板形状に形成される。
【００４３】
さらに、基板１０２の寸法についても制限は無く、目的に応じて任意に設定することができる。ただし、基板１０２内の流路１０３を流れる流体の温度を精密に制御する観点、及び、流路１０３内で生じうる反応熱、混合熱、溶解熱等の発熱を除熱する観点からは、基板１０２は上記温度制御及び除熱を適切に行なえる程度に薄い寸法で形成されることが好ましい。具体例を挙げると、基板１０２を平板形状に形成する場合には、その寸法は、縦７０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚み１．４ｍｍの寸法に形成することができる。
本実施形態では、基板１０２として、上記寸法で平板形状に形成された透明なガラス製の基板を用いているものとして説明を行なう。
【００４４】
また、基板１０２に流路１０３を形成する手法に制限は無く、公知の任意の方法により形成することができる。例えば一体に形成した基板１０２内に流路１０３を形成することも可能であるが、本実施形態では、流路１０３を凹部として形成した下板１２１に、流路１０３に蓋をするための上板１２２を接着することにより基板１０２内に流路１０３を形成しているものとして説明を行なう。即ち、基板１０２は下板１２１と上板１２２とにより形成され、下板１２１と上板１２２との接着面に沿って流路１０３が形成されているのである。なお、流路１０３を形成する際の具体的な流路形成方法も任意であるが、例えば、フォトレジスト、ウェットエッチング、ドライエッチング、射出成形、レーザー加工、ビーム加工などを任意に用いて形成することができる。
【００４５】
［Ｉ−１−２．流路］
流路１０３は、基板１０２の内部に形成されたもので、上記の通り、主流路１０４と導入流路１０５，１０６とを備えている。
［Ｉ−１−２−１．主流路］
主流路１０４は、目的とする反応を行なわせる場所である。この主流路１０４には、導入流路１０５，１０６から流体が導入され、主流路１０４内を流体が流通し、その流通している間に目的とする反応が生じるようになっている。
【００４６】
また、主流路１０４の下流端部には、主流路１０４から反応後の流体を外部に送出する送出口１４１が形成されている。送出口１４１の構成も任意であるが、ここでは、主流路１０４の下流端と基板１０２の外部とを連通する送出口１４１が上板１２２に形成され、これにより、送出口１４１は基板１０２の上面に開口するようになっている。この構成により、反応後の流体は送出口１４１から第１反応用チップ１０１の外部に送出されるようになっているものとする。
【００４７】
さらに、主流路１０４の流路形状は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、この第１反応用チップ１０１においては、主流路１０４内で流通する流体にそれぞれ並行流を形成させることができる点を利点の一つとしている。したがって、主流路１０４の並行流を形成させる部分（最も上流の直線状部１４２参照）は、主流路１０４内の流体の流れを妨げない流路形状にすることが好ましい。具体的には、直線状や、上記並行流を保つことができる程度に緩やかに曲がる曲線状に形成されていることが好ましい。
【００４８】
ここで並行流とは、図３に示すように、導入流路１０５，１０６から流入した流体がそれぞれ主流路１０４の流れ方向に沿って並列に流れる流れのことを指す。この並行流を形成させること、更には、この並行流をより長く形成させることにより、第１反応用チップ１０１は、主流路１０４内において反応を効率的に行なわせることが可能となっている。したがって、反応をより効率的に行なわせる観点からは、主流路１０４の並行流を形成させる部分をできるだけ長く形成することが好ましい。
【００４９】
具体的には、通常、並行流を形成させる部分は主流路１０４の上流部分、即ち、導入流路１０５，１０６から流体が流入してくる合流部１０７の直後に形成されるため、この上流部分の形状を上記のような直線状や緩やかな曲線状に形成することが好ましい。なお、図３において、導入流路１０５から流入する流体と導入流路１０６から流入する流体とは異なる間隔で斜線を付して示す。また、合流部１０７は導入流路１０５，１０６と主流路１０４とが接続された部分である。さらに、導入流路１０５，１０６の下流端部１０７Ａ、及び、主流路１０４の上流端部１０７Ｂは、それぞれ合流部１０７と同様の部位を指す。
【００５０】
本実施形態では、主流路１０４では、図１に示すように、直線状に形成された直線状部１４２と、Ｕ字型に形成され、反対方向に流れ方向を変化させるＵ字型部１４３とが交互に基板１０２の上面と平行に繰り返し形成されているものとする。さらに、主流路１０４は直線状部１４２とＵ字型部１４３とを組み合わせて基板１０２を長手方向に複数回往復するようになっていて、これにより、基板１０２の面を有効に活用できるようになっているものとする。また、導入流路１０５，１０６から流体が流入してくる部分の直後は直線状部１４２として形成されていて、これにより、並行流は、導入流路１０５，１０６の直後の直線状部１４２（即ち、最も上流の直線状部１４２）に形成されるようになっているものとして説明を行なう。
【００５１】
さらに、主流路１０４の長さ（全長）も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、主流路１０４の全長は、目的とする反応を十分に行なうことができる程度に長く形成することが好ましい。即ち、主流路１０４を流体が流れ始めてから流れ終わるまでの時間で目的とする反応を十分に行なうことができるよう程度に主流路１０４の全長を設定することが好ましい。主流路１０４の具体的な長さは目的とする反応の種類によるが、通常は、０．２ｍ以上２ｍ以下に形成する。
【００５２】
図４に、主流路１０４の流れ方向に直交する断面を模式的に示す。主流路１０４の流れ方向に直交する断面の形状も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
ただし、この第１反応用チップ１０１においては、主流路１０４の底面には、幅方向中央部に流れ方向に沿ってガイド条１４４が形成されているものとする。このガイド条１４４は、主流路１０４の底面が流れ方向に沿って連続して凸に形成されたもので、これにより、並行流をより確実に形成させることができるようになっている。つまり、このガイド条１４４を境にして導入流路１０５から流入した流体と導入流路１０６から流入した流体とが並行流を形成しやすくなるようになっているのである。なお、ガイド条１４４の寸法は任意であるが、通常は、１０μｍ以上４０μｍ以下の高さに形成する。
【００５３】
さらに、主流路１０４の流れ方向に直交する断面の寸法も、本発明の効果を損なわない限り任意である。
具体的な範囲を挙げると、主流路１０４の幅は、通常４０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体圧力が高くなりすぎる虞があり、上限を上回ると流体の拡散方向の距離が大きくなるために混合が速やかに行なわれなくなる虞がある。なお、ここで主流路１０４の幅とは、主流路１０４の流れ方向に直交する断面の幅が最大となる部分の幅のことを指す。
【００５４】
さらに、主流路１０４の深さは、通常２０μｍ以上、好ましくは４０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上、また、通常３００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると接触界面の面積を十分に大きくすることができなくなる虞があり、上限を上回ると安定な並行流を形成できなくなる虞がある。なお、ここで主流路１０４の深さとは、主流路１０４の流れ方向に直交する断面の深さが最大となる部分の深さのことを指す。
【００５５】
［Ｉ−１−２−２．導入流路］
導入流路１０５，１０６は流体を主流路１０４に導入するための流路部分である。導入流路１０５，１０６は、それぞれ、上流端部に送出口１４１と同様に基板１０２の上面に開口した導入口１５１，１６１を備えていて、これらの導入口１５１，１６１から導入流路１０５，１０６内に対応する流体を導入できるようになっている。
【００５６】
さらに、導入流路１０５，１０６と主流路１０４とは合流部１０７で接続されている。即ち、導入流路１０５，１０６は、それぞれ、その下流端部１０７Ａを主流路１０４の上流端部１０７Ｂに接続されている。これにより、導入流路１０５，１０６に導入された流体は、主流路１０４に流入し、主流路１０４内で反応を行なえるようになっているのである。
【００５７】
さて、この第１反応用チップ１０１では、導入流路１０５，１０６の下流端部１０７Ａにおける流れ方向と、主流部１０４の上流端部１０７Ｂにおける流れ方向との角度差の絶対値が、それぞれ通常２０°以下、好ましくは１５°以下、より好ましくは１０°以下、更に好ましくは５°以下、最も好ましくは０°であることが望ましい。これにより、主流路１０４に対して導入流路１０５，１０６から流体が円滑に流入することができるようになるため、主流路１０４内に並行流を形成することが可能となるのである。したがって、このように導入流路１０５，１０６の下流端部１０７Ａにおける流れ方向と主流路１０４の上流端部１０７Ｂにおける流れ方向との角度差が上記範囲内になるように形成されている場合、上記合流部１０７はいわば並行流形成部として機能するようになっている。
【００５８】
ここで、主流路１０４及び導入流路１０５，１０６を含め、流路１０３の流路形状が直線状である部分については、流路１０３の当該部分における流れ方向はその直線形状が延在する向きと同じになる。また、流路１０３の流路形状が曲線形状である部分については、流路１０３の当該部分における流れ方向は、当該曲線形状の接線の方向となる。さらに、ここでいう流路１０３の接線方向とは、流路１０３の幅方向中央部を結ぶ線が形成する曲線の接線方向をいうが、流路１０３の幅が十分に狭い場合、例えば、流路幅が５００μｍ以下の場合には、当該流路１０３自体を曲線とみなしても良い。
【００５９】
図５（ａ）〜（ｃ）は合流部１０７近傍を拡大して模式的に示す上面図である。図５（ａ）に示すように、本実施形態では、導入流路１０５，１０６の下流端部１０７Ａにおける流れ方向と、主流部１０４の上流端部１０７Ｂにおける流れ方向との角度差の絶対値は、０°になるようになっているものとする。
即ち、図５（ｂ）に一点鎖線で示すように、導入流路１０５の下流端部１０７Ａにおける流れ方向は、導入流路１０５の下流端部１０７Ａにおける接線１０５Ａの方向（接線方向）と同様となる。また、図５（ｃ）に一点鎖線で示すように、導入流路１０６の下流端部１０７Ａにおける流れ方向は、導入流路１０５の下流端部１０７Ａにおける接線１０６Ａの方向（接線方向）と同様になる。さらに、主流路１０４の最も上流部分は直線形状に形成された直線状部１４２として形成されているため、主流路１０４の上流端部１０７Ｂにおける流れ方向は当該主流路１０４の直線形状が延在する方向と同じになる。ここにおいて、上記の接線１０５Ａの方向、及び、接線１０６Ａの方向と、主流路１０４の直線形状が延在する方向との角度差の絶対値がそれぞれ０°になっているのである。なお、図５（ｂ）においては導入流路１０６及び主流路１０４は破線で示し、また、図５（ｃ）においては導入流路１０５及び主流路１０４は破線で示してある。
【００６０】
さらに、導入流路１０５，１０６の流路形状は、主流路１０４の少なくとも一部（通常は上流部）において流体に並行流を形成させることができれば任意である。例えば、直線状、弧状などが挙げられるが、通常は弧状とすることが好ましく、中でも、円弧状とすることがより好ましい。これにより、導入流路１０５，１０６から主流路１０４に流体をより円滑に流入させることができるようになるため、並行流をより確実に形成させることができるようになる。なお、本実施形態では、導入流路１０５，１０６はそれぞれ円弧状の流路部として形成されているものとする。
【００６１】
また、導入流路１０５，１０６は、面対称に形成することが好ましい。この際、当該対称面上に上記合流部１０７が位置するようにする。これにより、対になった導入流路１０５，１０６それぞれから流入する流体を、流れの速度や向きなどの条件をより近づけた状態で主流路１０４に流入させることができるようになるため、並行流をさらに確実に形成させることができるようになる。なお、導入流路１０５，１０６が奇数本形成されている場合には、当該対称面上に位置するように導入流路１０５，１０６のうちの１本を形成するようにすれば良い。
本実施形態では、導入流路１０５，１０６は面対称に形成されていて、その対称面上に合流部１０７並びに主流路１０４の最も上流の直線状部１４２が位置するようになっているものとする。
【００６２】
さらに、導入流路１０５，１０６の数は２以上であれば任意であり、偶数本であっても奇数本であっても良い。ただし、通常は２本形成するようにする。
また、導入流路１０５，１０６の長さ（全長）も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、主流路１０４の長さを十分に確保する観点からは、導入流路１０５，１０６の長さはより短く形成することが好ましい。
【００６３】
図６に、導入流路１０５，１０６の流れ方向に直交する断面を模式的に示す。導入流路１０５，１０６の流れ方向に直交する断面の形状及び寸法も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、本実施形態では、導入流路１０５，１０６の上記断面の形状は、底部を弧状に形成された半月形状であるとする。
【００６４】
また、導入流路１０５，１０６の幅は、通常４０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体圧力が高くなりすぎる虞があり、上限を上回ると安定な並行流が形成できない虞がある。なお、ここで導入流路１０５，１０６の幅とは、導入流路１０５，１０６の流れ方向に直交する断面の幅が最大となる部分の幅のことを指す。
【００６５】
さらに、導入流路１０５，１０６の深さは、通常２０μｍ以上、好ましくは４０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上、また、通常３００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体圧力が高くなりすぎる虞があり、上限を上回ると安定な並行流が形成できない虞がある。なお、ここで導入流路１０５，１０６の深さとは、導入流路１０５，１０６の流れ方向に直交する断面の深さが最大となる部分の深さのことを指す。
【００６６】
［Ｉ−１−３．使用方法］
第１反応用チップ１０１を用いて反応を行なう場合には、導入流路１０５，１０６からそれぞれ流体を主流路１０４に導入し、主流路１０４の少なくとも一部、具体的には最も上流の直線状部１４２で流体に並行流を形成させて、導入流路１０５から取り込んだ流体と、導入流路１０６から取り込んだ流体との反応を行なわせるようにする。
【００６７】
図７は、この反応を行なわせる際に用いる反応装置の一例について、その要部構成を模式的に示す図である。ただし、第１反応用チップ１０１を用いて反応を行なうための反応装置としては、図７に示す反応装置に限定されず、マイクロチップを用いた公知の各構成の反応装置を用いることができる。
【００６８】
この反応装置は、チップホルダ１８１と、流体の供給源である流体供給器１８２，１８３と、反応後の流体を溜めておくサンプル瓶１８４と、温度コントローラ１８５とを備えている。
チップホルダ１８１は、上記第１反応用チップ１０１を装着するためのものであり、下部ホルダ１８６と上部ホルダ１８７とから構成されている。そして、図８に示すように、第１反応用チップ１０１を下部ホルダ１８６と上部ホルダ１８７との間に介装することで、チップホルダ１８１に第１反応用チップ１０１を保持できるようになっている。なお、図８は、チップホルダ１８１について模式的に示す分解斜視図である。なお、図８において温度コントローラ１８５に接続された配線の図示は省略している。
【００６９】
さらに、下部ホルダ１８６及び上部ホルダ１８７にはそれぞれ温度コントローラ１８５の制御にしたがって温度の調整が可能な温度制御素子（図示省略）が形成されていて、この温度制御素子の温度を制御することで、第１反応用チップ１０１の流路１０３内の温度を調整することができるようになっている。
【００７０】
また、上部ホルダ１８７には、流体供給器１８２，１８３からの流体をそれぞれ第１反応用チップ１０１の導入口１５１，１６１に案内するための案内流路（図示省略）が形成されている。さらに、上部ホルダ１８７には、第１反応用チップ１０１の送出口１４１からの反応後の流体をサンプル瓶１８４に案内するための案内流路（図示省略）も形成されている。これらの案内流路はチューブやコネクタ等を介してそれぞれ流体供給器１８２，１８３やサンプル瓶１８４に接続され、これにより、流体供給器１８２，１８３からの導入流路１０５，１０６への流体の供給、並びに、主流路１０４からサンプル瓶１８４への反応後の反応後の流体の送出を行なうことができるようになっている。
【００７１】
さらに、流体供給器１８２，１８３は、それぞれ導入流路１０５，１０６に対応する流体を供給するためのものである。図７では、流体供給器１８２，１８３として、シリンジポンプとマイクロシリンジとを組み合わせたものを示しているが、これ以外の公知の機器を任意に用いるようにしても良い。例えば、流体として気体を用いる場合、図９に示すように、ガスボンベ及びフローコントローラを組み合わせて流体供給器１８２′を構成することもできる。
また、サンプル瓶１８４は、第１反応用チップ１０１の流路１０３内で反応した反応後の流体を溜めておくための容器である。
【００７２】
さらに、温度コントローラ１８５は、第１反応用チップ１０１内の流路１０３の温度を調整して、主流路１０４内で生じる流体間の反応の反応温度を制御したり、上記反応等により生じる発熱を除熱したりするためのものである。具体的には、チップホルダ１８１内の上記の温度制御素子（図示省略）の温度を制御して、流路１０３内の温度を調整できるようになっている。
【００７３】
このような反応装置を用いて流体同士を接触させて反応を行なわせる際には、まず、チップホルダ１８１に第１反応用チップ１０１を装着する。そして、温度コントローラ１８５で流路１０３内の温度を反応に適した温度に制御しながら、流体供給器１８２，１８３から導入流路１０５，１０６に流体を供給する。
【００７４】
この際、各導入流路１０５，１０６に導入する流体の供給速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、主流路１０４を流れ終わるまでの間に目的とする反応を十分に進行させることができる程度に設定することが好ましい。
【００７５】
例えば流体として液体のものを供給する場合、その具体的な供給速度は反応や流体の種類、反応条件などに応じて適切に設定すれば良いが、通常０．１μＬ／分以上、好ましくは１．０μＬ／分以上、また、通常２００μＬ／分以下、好ましくは１００μＬ／分以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると市販のシリンジポンプで流速精度を確保できなくなる虞があり、上限を上回ると流体圧力が高くなりすぎる虞がある。
【００７６】
さらに、例えば流体として気体のものを供給する場合、その具体的な供給速度は反応や流体の種類、反応条件などに応じて適切に設定すれば良いが、導入口１５１，１６１における圧力を、通常０．０１ＭＰａ以上、好ましくは０．０５ＭＰａ以上、また、通常３．０ＭＰａ以下、好ましくは１．０ＭＰａ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると逆流する虞があり、上限を上回るとガラスチップの耐圧を超える虞がある。
【００７７】
また、各導入流路１０５，１０６に導入する流体の供給速度は、主流路１０４内において並行流を形成することができる程度に等しく設定することが好ましい。
例えば、流体として液体のみを用いる場合、各導入流路１０５，１０６を流れる流体の体積を基準とした流入速度の差が、通常５０％以下、好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下とすることが望ましい。さらに、最も好ましくは、各流体の上記流入速度は等しくなることが望ましい。
【００７８】
さらに、例えば流体として気体と液体とを用いる場合、両者の流速を等線速とすることが望ましい。
【００７９】
さて、流体供給器１８２，１８３から供給された流体は、それぞれ導入口１５１，１６１から導入流路１０５，１０６に流入し、その後、主流路１０４に流入することになる。この際、第１反応用チップ１０１では主流路１０４に流入した流体は並列流を形成するようになっているため、主流路１０４内の最初の直線状部１４２において並列流が形成される。
【００８０】
並行流が形成されると、当該並行流を形成する流体の層の間には接触界面が形成される。
反応に用いる流体が互いに混合しあうものである場合、流体は上記の接触界面を介して流路の幅方向に拡散し、これにより流体の混合が行なわれることになる。したがって、上記の接触界面の面積を従来よりも大きくすることにより、流体は拡散しやすくなり、この結果、流体の速やかな混合が実現する。また、第１反応用チップ１０１では主流路１０４の流路幅が小さいため、幅方向の拡散に要する時間が短くてすむことも、流体の速やかな混合が実現できる要因の一つである。
【００８１】
このように流体の混合が速やかに行なわれために、並行流を形成させて反応を行なわせる場合には、流体間の反応が効率的に行なわれるようになる。第１反応用チップ１０１においては、通常は、流体は最初の直線状部１４２を流通し終える前に十分に混合し、これに伴い最初のＵ字型部１４３までに並列流は消え、十分混合した状態の流体が主流路１０４の残りの部分を流通し、その間に目的とする反応が十分に進行する。
【００８２】
一方、反応に用いる流体が互いに混合せず相分離する場合には、流体同士は上記の接触界面において反応を生じることになる。したがって、上記の接触界面の面積を大きくすることにより、流体間の反応が効率的に行なわれるようになる。また、流体が最初のＵ字型部１４３にまで流れてくると、通常は、そのＵ字型部１４３で並行流が壊れる。しかし、上流の直線状部１４２で流体の反応が進行して流体のうちの相分離する成分の量が減るため、主流路１０４の残りの部分に流れる流体中には従来よりも小さい気泡や液胞が分散した状態で流れることになる。したがって、従来のように並行流を形成せずに主流路１０４内に流体を流した場合よりも流体間に形成される接触界面の面積は大きくなり、したがって、反応の効率も上昇することになる。その結果、主流路１０４の残りの部分を流通する間に、目的とする反応を十分に進行させることが可能となる。
【００８３】
主流路１０４内で反応した流体は、送出口１４１からサンプル瓶１８４に送出され、サンプル瓶１８４内に溜められる。
以上のようにして、第１反応用チップ１０１の主流路１０４内で目的とする反応を効率よく行なわせ、サンプル瓶１８４内に目的とする反応後の流体を得ることができる。
【００８４】
また、第１反応用チップ１０１は薄いマイクロチップとして形成されているので、温度コントローラ１８５による精密な温度の制御が容易となる。さらに、第１反応用チップ１０１の厚さが薄いことにより、反応熱、混合熱、溶解熱などの発熱により温度上昇が生じる反応においても除熱が容易であり、精密に温度制御を行なうことが可能となる。
【００８５】
また、有毒なガスが発生するような反応を行なう際には、従来のように大容量の容器を用いてバッチ操作で反応を行なっていた場合には連続的に流体等の試薬を反応容器に供給することができなかった。しかし、上記のような有毒ガスの発生を伴う反応の際においては、第１反応用チップ１０１によれば、非常に微細な流路を用いて反応を行なうので有毒なガスが急激に発生することを抑制することができ、また、連続的な流れの中で反応を行なうので連続的に試薬の供給を行なうことも可能となる。
【００８６】
さらに、反応を行なわせる際に従来のように攪拌等をする必要が無く、したがって、反応装置の小型化を図ることができ、また、第１反応用チップ１０１内の流路１０３に流体を流通させるだけで目的とする反応を行なわせることが可能であるため、操作を簡単に行なうことができるようになる。
なお、装置の小型化に伴い生産速度は通常は従来の大容量容器を用いた方法よりも低下することが多いが、第１反応用チップ１０１を用いれば高効率で連続して反応を行なうことが可能であるために、目的生成物の生産性を高く維持することが可能である。
【００８７】
［Ｉ−２．第２反応用マイクロチップ］
第２反応用マイクロチップ（以下適宜、「第２反応用チップ」という）も、基板に形成された流路に２種以上の流体を流通させ、その流路を流通する間に流体同士を混合して反応を進行させる化学操作用チップである。
【００８８】
図１０〜図１４は、本実施形態のマイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの一実施形態について示すもので、図１０は第２反応用チップの模式的な上面図であり、図１１は第２反応用チップの模式的な斜視図であり、図１２は分岐流路部近傍の模式的な拡大図であり、図１３はプール部内を流通する流体の流通する向きを説明するために示す、第２反応用チップの模式的な上面図であり、図１４は本実施形態のプール部をその流れ方向に垂直な面で切った模式的な断面図である。なお、図１１において流路の厚みを描画していないが、これらは厚みが非常に小さいために描画しなかったものであり、実際には厚み（或いは深さ）を有する３次元的な構造を有している。
【００８９】
図１０、図１１に示すように、第２反応用チップ２０１は、基板２０２に流路２０３が形成されたものである。また、流路２０３は、少なくとも２つの導入流路部２０４，２０５と、階層分岐流路部２０６と、プール部２０７とを備えている。
【００９０】
［Ｉ−２−１．基板］
基板２０２は、第１反応用マイクロチップの基板１０２として説明したものと同様である。本実施形態では、縦７０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚み１．４ｍｍの寸法で平板形状に形成された透明なガラス製の基板を用いているものとする。また、この基板２０２は、流路２０３を凹部として形成した下板２２１に、流路２０３に蓋をするための上板２２２を接着することにより基板２０２内に流路２０３を形成しているものとする。即ち、基板２０２は下板２２１と上板２２２とにより形成され、下板２２１と上板２２２との接着面に沿って流路２０３が２次元的に形成されているのである。
【００９１】
［Ｉ−２−２．流路］
流路２０３は、基板２０２の内部に形成されたもので、上記の通り、少なくとも２つの導入流路部２０４，２０５と、階層分岐流路部２０６と、プール部２０７とを備えている。
［Ｉ−２−２−１．導入流路部］
導入流路部２０４，２０５は、それぞれ対応する流体を流路２０３内に導入するための流路部である。その具体的な構成に制限は無いが、通常は、導入流路部２０４，２０５はそれぞれ上流端部に導入口２４１，２５１を有していて、この導入口２４１，２５１を介して外部から対応する流体を導入されるようになっている。
【００９２】
また、本実施形態の第２反応用チップ２０１は少なくとも２種の流体を混合して反応させることを目的とするものであるので、導入流路部２０４，２０５も、用いる流体の種類の数に応じて少なくとも２つ形成するようにする。
さらに、導入流路２０４，２０５の下流には導入流路２０４，２０５が接続された導入流路合流部２０８が形成され、この導入流路合流部２０８で各導入流路２０４，２０５を介して導入された流体が合流するようになっている。
【００９３】
また、本実施形態では、導入流路部２０４，２０５は同じ長さに形成された２本の流路部によって構成されていて、さらに、導入流路部２０４，２０５は、基板２０１の幅方向に平行な同一直線上に位置するようになっている。したがって、導入流路２０４，２０５は導入口２４１，２５１間を結ぶ線分状の流路形状を有する流路部として形成され、導入口２４１，２５１から等距離にある導入流路合流部２０８において各流体を合流させることができるようになっているものとする。ここで、本実施形態の第２反応用チップ２０１では、上記のように、導入流路合流部２０８において２本の導入流路２０４，２０５が同一直線上に位置するため、導入流路部２０４，２０５それぞれを流通して導入流路合流部２０８まで進行した流体は、互いに反対方向から対向して合流するようになっている。したがって、導入流路合流部２０８では複雑な衝突流が生じ、各導入流路部２０４，２０５から流路２０３内に導入された流体同士が速やかに混合するようになっている。
【００９４】
また、導入流路合流部２０８の下流には階層分岐流路部２０６が接続されていて、導入流路合流部２０８で合流した流体は、階層分岐流路部２０６を流通するようになっている。
さらに、本実施形態では、導入口２４１，２５１は、それぞれ導入流路部２０４，２０５の上流端と基板２０２の外部とを連通する孔として上板２２２に形成されているものとする。
【００９５】
また、導入流路部２０４，２０５の寸法に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
ただし、導入流路部２０４，２０５の幅は、通常４０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体圧力が高くなりすぎる虞があり、上限を上回ると拡散混合が速やかに行なわれなくなる虞がある。
【００９６】
さらに、導入流路部２０４，２０５の深さは、通常２０μｍ以上、好ましくは４０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上、また、通常３００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体圧力が高くなりすぎる虞があり、上限を上回ると拡散混合が速やかに行なわれなくなる虞がある。
【００９７】
［Ｉ−２−２−２．階層分岐流路部］
階層分岐流路部２０６は、導入流路合流部２０８の下流に形成され、分岐流路部２６１，２６２を階層的に接続した流路部である。以下、図１２（ａ）に分岐流路部２６１近傍の模式的な拡大図を示し、また、図１２（ｂ）に分岐流路部２６２の模式的な拡大図を示し、説明する。なお、図１２（ａ），（ｂ）において、図１０及び図１１と同様の符号を付して説明した部位は、図１０及び図１１と同様のものを表わす。
【００９８】
分岐流路部２６１，２６２は、それぞれ少なくとも２本に分岐するように形成された流路部であれば他に制限はなく、本発明の効果を著しく損なわない限り任意の流路形状に形成することができる。ここでは、上流側の流路部２６３，２６４が、その下流に設けられた分岐部位２６５，２６６において、分岐後の分岐流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂに分岐するように形成されたものとして説明を行なう。
【００９９】
各分岐流路部２６１，２６２は、上流側の流路部２６３，２６４が分岐部位２６５，２６６において偶数本に分岐するように形成することが望ましい。これは、分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂそれぞれに対してより均等に流体を流通させるようにするためである。即ち、仮に奇数本の分岐を設けた場合には、分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂそれぞれの分岐部位２６５，２６６からの距離や分岐の角度等を均等にすることが困難になり、したがって、分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの中で流体が流れやすいものと流れ難いものとができ、分岐後の各流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂを流れる流体の流量を均等にすることが困難になるためである。
さらに、分岐流路部２６１，２６２は、それぞれ、２本に分岐させるようにすることがより望ましい。分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂに流れる流体の流量をより確実に均等にするためである。
【０１００】
また、分岐流路部２６１，２６２は、その流路形状を面対称に形成することが好ましい。この際、当該対称面上に分岐流路部２６１，２６２の分岐部位２６５，２６６が位置するようにすることが好ましい。さらに、当該対称面は、当該分岐流路部２６１よりも下流に形成された流体流入口２７１（後述）が一列に並んで形成された場合には、その流体流入口２７１が並んだ列に平行な直線に対して垂直になっていることが好ましい。これにより、分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂに流れる流体の量をさらに均等にすることができる。
【０１０１】
さらに、分岐流路部２６１，２６２においては、分岐直前の流路部２６３，２６４の流れ方向と分岐直後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの流れ方向との角度差が大きいことが望ましい。これにより、分岐部位２６５，２６６の上流部と下流部とで流体が流れる方向が急激に変化することになるため、乱流が生じやすく、したがって、導入流路部２０４，２０５から導入された流体同士を更に確実に混合して均一化させることができる。
【０１０２】
具体的には、分岐直前の流路部２６３，２６４の流れ方向と分岐直後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの流れ方向との角度差Ｒが、通常０°以上、好ましくは１０°以上、より好ましくは２０°以上、また、通常９０°以下、好ましくは８０°以下、より好ましくは７０°以下とすることが望ましい。この範囲の下限を下回ると均等量の分岐ができなくなる虞があり、上限を上回ると逆混合を生じやすくなる虞があるためである。
【０１０３】
なお、分岐直前の流路部２６３，２６４の流れ方向、及び、分岐直後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの流れ方向は、それらの流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの流路形状が直線形状である部分については、その直線形状が延在する向きと同じになる。一方、それらの流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの流路形状が曲線状である部分については、当該曲線形状の接線の方向となる。さらに、ここでいう流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの接線方向とは、流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの幅方向中央部を結ぶ線が形成する曲線の接線方向をいうが、流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂの幅が十分に狭い場合、例えば、流路幅が５００μｍ以下の場合には、当該流路部２６３，２６４，２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂ自体を曲線とみなしても良い。
【０１０４】
また、各分岐流路部２６１，２６２の形状は同一でも異なっていても良いが、同じ階層の分岐流路部２６１，２６２、即ち、上流側から数えて同じ回数だけ分岐した分岐流路部２６１，２６２は、同様の形状に形成することが望ましい。階層化された分岐流路部２６１，２６２で構成された階層分岐流路部２０６のなかで、どの経路を流体が流通した場合でも流体が同じ長さを流れるようにし、プール部２０７に流入する際にどの経路を流通してきた流体も同様の状態となるようにするためである。
【０１０５】
さらに、分岐流路部２６１，２６２をはじめ、階層分岐流路部２０６内の流路部の寸法に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
ただし、階層分岐流路部２０６内の流路部の流路幅及び深さの望ましい具体的範囲は、上記導入流路部２０４，２０５と同様である。
【０１０６】
さて、本実施形態の反応用チップ２０１では、階層分岐流路部２０６には、最も上流に分岐流路部２６１が形成され、さらに、分岐流路部２６１の下流に、分岐流路部２６１の分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂそれぞれに接続されて、分岐流路部２６２が６階層に亘り形成されるものとする。
【０１０７】
分岐流路部２６１は、図１２（ａ）に示すように、導入流路合流部２０８に接続された１本の流路部２６３が分岐部位２６５において分岐し、分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂは略Ｕ字型に折り返すように形成されている。なお、分岐流路部２６１において、分岐直前の流路部２６３の流れ方向と分岐直後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂの流れ方向との角度差は２０°に設定されている。これにより、分岐流路部２６１を流通する際に流体をより確実に混合して均一化させることができる。
また、分岐流路部２６１の分岐後の流路部２６７Ａ，２６７Ｂはそれぞれ分岐流路部２６２の分岐前の流路部２６４に接続されている。
【０１０８】
一方、分岐流路部２６２は、図１２（ｂ）に示すように、流路部２６４が分岐部位２６６において分岐し、分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂは円弧形状の流路形状となるように形成されている。ただし、図１２（ｂ）は分岐流路部２６１の直ぐ下流の分岐流路部２６２（即ち、一層目の分岐流路部２６２）を示すもので、それより下流の分岐流路部２６２においては、その分岐部位２６６より上流の流路部２６４は前の層の分岐流路部２６２の下流側の流路部２６８Ａ，２６８Ｂが接続されているために２本に分かれているものとする。
なお、分岐流路部２６２において、分岐直前の流路部２６４の流れ方向と分岐直後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂの流れ方向との角度差は９０°に設定されている。これによっても、分岐流路部２６２を流通する際に流体をより確実に混合して均一化させることができる。
【０１０９】
また、上流側から５層目までの分岐流路部２６２はその下流にそれぞれ２つの分岐流路部２６２を形成されている。即ち、上流側から５層目までの分岐流路部２６２の分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂにはそれぞれ次の層を構成する分岐流路部２６２の分岐前の流路部２６４が接続されているのである。このように階層的に分岐流路部２６２を形成することで、さらに確実に流体を混合し、均一化することが可能となる。
【０１１０】
さらに、同じ分岐流路部２６２の下流に接続された分岐流路部２６２は、分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂのうち、内側の流路部２６８Ａ，２６８Ｂ同士が次の分岐流路部２６２の分岐部位２６６直前で合流するようになっているものとする。
【０１１１】
また、６層目の分岐流路部２６２の分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂの下流端部はプール部２０７の上流端部に開口し、この開口が流体流入口２７１を形成するようになっている。さらに、６層目の分岐流路部２６２のうち、基板２０２の幅方向中央部に位置する２つの分岐流路部２６２は、流体流入口２７１に接続された分岐後の流路部２６８Ａ，２６８Ｂのうち、基板２０２の幅方向内側の流路部２６８Ａ、２６８Ｂ同士が流体流入口２７１の直前で合流するようになっている。即ち、各流体流入口２７１は、幅方向両端のものを除き、隣り合う分岐流路部２６２にそれぞれ共有されるようになっている。したがって、第２反応用チップ２０１においては、流体流入口２７１は合計１３個形成されている。なお、これらの流体流入口２７１はすべて、基板２０２の幅方向に平行な直線形状に位置するよう、一列に並んで形成されているものとする。
【０１１２】
また、本実施形態においては、分岐流路部２６１，２６２は、それぞれ、合流部位２６５，２６６を通り、流体流入口２７１が位置する直線に垂直な面に対して面対称に形成されていて、さらに、分岐流路部２６１，２６２を階層的に接続して構成される階層分岐流路部２０６全体も、導入流路合流部２０８を通り、流体流入口２７１が位置する直線に対して垂直な面に対して面対称に形成されているものとする。したがって、どの経路を通っても、階層分岐流路部２０６を流通する流体は同じ距離を流通してからプール部２０７に流入するようになっている。
【０１１３】
［Ｉ−２−２−３．プール部］
プール部２０７は、階層分岐流路部２０６の下流に形成された、流体の反応を行なうための流路部である。また、プール部２０７は、滞留時間を大きくするため、その流れ方向に垂直な面でプール部２０７を切った断面積（以下適宜、「プール部断面積」という）を、導入流路部２０４，２０５や階層分岐流路部２０６よりも広く形成される。通常、プール部２０７は、その流路幅を導入流路部２０４，２０５や階層分岐流路部２０６よりも大きく形成することにより、プール部断面積が大きくなるように形成される。
【０１１４】
また、プール部２０７には、階層分岐流路部２０６からプール部２０７に流体を導入するための流体流入口２７１が形成されていて、この流体流入口２７１を介して、階層分岐流路部２０６からプール部２０７に流体が流入するようになっている。
ただし、流体流入口２７１は、プール部２０７の幅方向に均一に形成される。これは、プール部２０７に流入する流体の流入速度に分布が生じないようにするためのものである。即ち、幅方向に対して均一に流体流入口２７１を設けるようにすることで、各流体流入口２７１から同様の流入速度で流体をプール部２０７内に流入させるようにすれば、プール部２０７の幅方向において均一な流入速度で流体をプール部２０７に流入させることが可能となるのである。
【０１１５】
さらに、流体流入口２７１は、流体がプール部２０７内を流通するのに要する時間が目的とする反応の選択性を著しく損なわない範囲で一定となる程度に、一列に並んで形成されていることが望ましい。また、流体流入口２７１が並んで形成されている場合には、その並んだ列は、プール部２０７の流れ方向に対して、通常は交差する向きに、好ましくは直交する向きになるようにすることが望ましい。これにより、どの流体流入口２７１からプール部２０７に流入した流体も同程度の線速でプール部２０７内を流通し、同程度の滞留時間をかけてプール部２０７を流通するようになるため、流体の滞留時間の分布が小さく、若しくは無くなり、目的とする反応の選択性を確保することが可能となる。
【０１１６】
また、プール部２０７の形状は本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
ただし、その流路幅は、流体がプール部２０７内を流通するのに要する時間が目的とする反応の選択性を著しく損なわない程度に、流れ方向に一定であることが好ましい。流路幅が変化すると、その流路幅が変化した部位を流通する流体は他の流体よりも長い距離を流通する可能性がある。このことは、プール部２０７内を流通する流体のプール部２０７内の滞留時間に分布が生じる要因の一つとなりえるため、したがって、上記のようにプール部２０７の流路幅は一定とすることが好ましいのである。
【０１１７】
また、プール部２０７の下流端部には、プール部２０７の端部の形状が送出口２７４に向けて傾斜して形成された気泡案内部２７２が形成することが好ましい。具体的には、プール部２０７の下流端面２７５を、プール部２０７の流れ方向に交差する向きに傾斜して形成することが好ましい。
【０１１８】
流体として液体を反応用チップ２０１に供給する場合、通常、流体の供給開始時に、反応用チップ２０１の使用時には流体送出のためのコネクタやチューブ等の中に存在していた気体（通常は空気）が流路２０３内に浸入し、プール部２０７内にも入り込むことになる。この際、上記の気体を下流に流し出すことができなければ、上記気体はプール部２０７内に気泡として残留する。また、反応によってプール部２０７内で析出した析出固体なども、プール部２０７内で残留することがある。プール部２０７内に気泡や析出固体が残留すると、その気泡や析出固体の体積分だけ反応場の体積が小さくなり、反応の生産性を低下させる要因になり得る。また、気泡や析出固体は目的とする反応の生成物や流体の滞留時間などに影響を与えたり、さらに、その気泡や析出固体自体が不純物となることもありえるため、プール部２０７から除去することが望ましい。
気泡案内部２７２は、このような気泡や析出の除去のために形成するものである。即ち、気泡はプール部２０７の下流端部に残留しやすいため、このプール部２０７の下流端部に気泡案内部２７２を設けることにより、気泡を下流に案内し、流路２０３の外部に排出することができる。
【０１１９】
また、気泡案内部２７２は、例えば流路幅が次第に小さくなるように形成することにより、プール部断面積がプール部２０７の下流に行くにしたがって次第に狭くなるように形成することが好ましい。これにより、気泡案内部２７２で流体の下流へ向けた流れを強くするようにして、気泡をプール部２０７の外へより確実に流し出すことが可能となる。
【０１２０】
また、通常は、流路２０３内の温度を制御することにより、プール部２０７内の気泡案内部２７２よりも上流の部位の温度条件を反応温度に設定するようにして、その部位において目的とする反応を行なうようにする。これにより、気泡案内部２７２では目的とする反応は進行しない又は進行しがたくなり、気泡案内部２７２が形成されたことによる選択性の低下の虞を抑制することが可能である。
【０１２１】
さらに、プール部２０７の寸法も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
ただし、プール部２０７の幅は、通常３６００μｍ以上、また、通常３０ｍｍ以下とすることが望ましい。
【０１２２】
また、プール部２０７の長さ（流れ方向の距離）は、目的とする反応に応じて設定すべきである。導入流路合流部２０８で合流した流体は、通常、階層分岐流路部２０６を流通する間に物理的に混合して分散し、その後、プール部２０７内を流通する間に化学的に反応をする。
さらに、プール部２０７の深さも任意である。通常３００μｍ以下とすることが望ましい。
【０１２３】
さらに、プール部２０７にはガイド条２７３を設けることが望ましい。ガイド条２７３は、プール部２０７内の流体の流れ方向に沿うように延在して、その底面及び天井面の一方又は両方が、連続的又は断続的に凸に形成されているものである。
このガイド条２７３を形成することにより、プール部２０７内において、流体はより確実にプール部２０７の流路方向（本実施形態では、基板２０２の長手方向に平行な方向）に流れるようになっている。即ち、図１３に示すように、流体流入口２７１から流入した流体の大部分はプール部２０７の流れ方向（図１３のブロック矢印Ａ１）に沿って流通するが、その一部は、何らかの理由によってプール部２０７の流れ方向に交差する方向（図１３のブロック矢印Ａ２）に沿って流通する可能性がある。プール部２０７の流れ方向に交差する方向に沿って流通した流体は、流れ方向に沿った流れとは線速が異なる虞がある他、プール部２０７の流れ方向に沿って流通した流体よりも長い時間をかけてプール部２０７を流通することになるため、滞留時間の分布の発生の原因となり得る。これに対し、ガイド条２７３を設けることで流体はガイド条２７３に沿ってプール部２０７内を流通するようになる。これにより、流体がプール部２０７の流れ方向に交差する方向に沿って流通することを抑制すること可能となる。したがって、各流体流入口２７１からプール部２０７内に流入してきた流体は、一定の距離、具体的には、プール部２０７の長手方向の距離を流通するようになり、滞留時間に分布が生じることを抑制することができる。
なお、図１３において、図１０〜図１２と同様の符号の部位は、図１０〜図１２と同様のものを表わす。また、図１０及び図１３においては、ガイド条２７３を破線で示す。
【０１２４】
ガイド条２７３の具体的な形状は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であり、その断面形状も同様に任意である。通常は、プール部２０７内の内容積を大きくする観点からは、断面を略三角形状に形成することが望ましい。
【０１２５】
また、ガイド条２７３の寸法も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、ガイド条２７３の高さは、プール部２０７の深さに対し、通常５０％以上、好ましくは６０％以上、より好ましくは６５％以上、また、通常９０％以下、好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下であることが望ましい。この範囲の下限を下回ると流れ方向に対して交差する方向への流れが生じる虞があり、上限を上回るとガイド条と天井面とが接触する虞がある。
なお、これに関連し、ガイド条２７３はプール部２０７の底面と天井面との両方に接してプール部２０７を幅方向に区切ることが無いように形成することが望ましい。プール部７内において幅方向に圧力分布が生じることを防止するためである。
【０１２６】
さらに、ガイド条２７３の本数も任意であるが、通常は、各流体流入口２７１の間の数と同数だけ形成することが望ましい。流体流入口２７１と、その流体流入口２７１の隣の流体流入口２７１との間それぞれにガイド２７３を形成するようにすれば、各流体流入口２７１からプール部２０７に流入した流体をプール部２０７の流れ方向により確実に流すことが可能となるためである。
【０１２７】
さらに、プール部２０７の下流端部には送出口２７４が形成されていて、この送出口２７４を介して、プール部２０７内で反応した流体は第２反応用チップ２０１の外部に送出されるようになっている。
ただし、送出口２７４は、少なくとも２つ設けるようにすることが好ましい。これにより、送出口２７４全体の開口面積を大きくし、送出口２７４における流体の圧力を低下させることができる。このため、流路２０３内の圧力損失を低下させることが可能となり、第２反応用チップ２０１の破損や、送出口２７４よりも上流においてチューブやコネクタ（図示省略）から流体が漏れることなどを防止することができる。
【０１２８】
さて、本実施形態のプール部２０７においては、上流端面２７６は流れ方向に対して垂直な面として形成されている。また、このプール部２０７の上流端面２７６に階層分岐流路部２０６の下流端が開口することにより、プール部２０７の流れ方向に直交する向きに一列に並んで、プール部２０７の幅方向に均一に、流体流入口２７１が形成されている。さらに、プール部２０７は、その流れ方向は基板２０２の長手方向に平行に形成され、その幅方向は基板２０２の幅方向に平行になっている。
【０１２９】
一方、プール部２０７の下流端面２７５は、下流側に進むにしたがって次第に傾斜し、プール部２０７の流路幅が連続的に小さくなるように形成された曲面となっている。そして、この下流端面２７５が形成された部位が、プール部２０７の気泡案内部２７２を構成している。
さらに、本実施形態のプール部２０７の内側面２７７は、プール部２０７の幅が上記範囲内において一定になるように、基板２０２の長手方向に平行な面として形成されている。
したがって、プール部２０７は、上流端面２７６から下流端面２７５の最も上流の部位２７５Ｘまでにかけて、その流路幅が一定に形成されていて、部位２７５Ｘよりも下流において、下流端面２７５の傾斜によって、その流路幅が次第に狭くなるように形成されているのである。
【０１３０】
図１４に、本実施形態のプール部２０７をその流れ方向に垂直な面で切った模式的な断面図を示す。なお、図１４において、図１０〜図１３と同様の符号を用いて示す部位は、図１０〜図１３と同様のものを表わす。
この図１４に示すように、本実施形態のプール部２０７の天井面２７８は、プール部２０７の流れ方向及び幅方向に平行な平面部として形成されている。
【０１３１】
一方、プール部２０７の底面２７９は、天井面２７８と平行に形成された平面部にガイド条２７３が形成された形状となっている。また、ガイド条２７３は、プール部２０７の流れ方向に沿って連続して凸に断面略三角形に形成されている。これにより、プール部２０７の深さは上記範囲内で一定になっていて、ガイド条２７３が形成されている部位においてはそのガイド条２７３がプール部７を幅方向に遮る壁部として機能するようになっているものとする。
【０１３２】
さらに、本実施形態においては、各ガイド条２７３は、プール部２０７の上流端面２７６近傍からプール部２０７の下流端面２７５の最も上流の部位２７５Ｘにかけて、プール部２０７の上流端面２７６及び下流端面２７５に接しない一定の長さに形成されているものとする。
【０１３３】
さらに、本実施形態のプール部２０７は、下流端に送出口２７４を４個有しているものとする。また、上記の気泡案内部２７２では、各送出口２７４に向かって流路幅が狭くなるように形成されているものとする。
なお、送出口２７４は、それぞれプール部２０７の下流端と基板２０２の外部とを連通する孔として上板２２２形成されているものとする。
【０１３４】
［Ｉ−２−３．使用方法］
本実施形態の第２反応用チップ２０１を用いて反応を行なう場合には、導入口２４１，２５１それぞれから導入流路部２０４，２０５を介して原料となる流体を流路２０３内に導入し、流路２０３内で目的とする反応を行なわせ、反応後の生成物を含む流体を送出口２７４から送出させるようにする。この際、第２反応用チップ２０１を用いる場合に使用する装置の構成は任意であるが、例えば、図７に示したような反応装置を用いて反応を行なうことができる。ただし、本実施形態の第２反応チップ２０１を用いて反応を行なうための反応装置としては、図７に示す反応装置に限定されず、マイクロチップを用いた公知の各構成の反応装置を用いることができる。
【０１３５】
第２反応用チップ２０１の使用時においても、反応装置は、第１反応用チップ１０１に用いた場合と同様である。即ち、この反応装置は、チップホルダ１８１と、原料としての流体の供給源である流体供給器１８２，１８３と、反応後の流体を溜めておくサンプル瓶１８４と、温度コントローラ１８５とを備えている。
【０１３６】
チップホルダ１８１は、上記第２反応用チップ２０１を装着するためのものであり、下部ホルダ１８６と上部ホルダ１８７とから構成されている。そして、図８に示すように、第２反応用チップ２０１を下部ホルダ１８６と上部ホルダ１８７との間に介装することで、チップホルダ１８１に第２反応用チップ２０１を保持できるようになっている。
【０１３７】
さらに、下部ホルダ１８６及び上部ホルダ１８７にはそれぞれ温度コントローラ１８５の制御にしたがって温度の調整が可能な温度制御素子（図示省略）が形成されていて、この温度制御素子の温度を制御することで、第２反応用チップ２０１の流路２０３内の温度を調整することができるようになっている。
また、上部ホルダ１８７には、流体供給器１８２，１８３からの流体をそれぞれ第２反応用チップ２０１の導入口２４１，２５１に案内するための案内流路（図示省略）が形成されている。さらに、上部ホルダ１８７には、第２反応用チップ２０１の送出口２７４からの流体をサンプル瓶１８４に案内するための案内流路（図示省略）も形成されている。これらの案内流路はチューブやコネクタ等を介してそれぞれ流体供給器１８２，１８３やサンプル瓶１８４に接続され、これにより、流体供給器１８２，１８３からの導入流路部２０４，２０５への流体の供給、並びに、流路２０３からサンプル瓶１８４への反応後の流体の送出を行なうことができるようになっている。
【０１３８】
さらに、流体供給器１８２，１８３、サンプル瓶１８４、及び、温度コントローラ１８５は、第１反応用チップ１の使用方法の説明で上述したものと、同様である。
【０１３９】
このような反応装置を用いて流体同士を混合して反応を行なわせる際には、まず、チップホルダ１８１に第２反応用チップ２０１を装着する。そして、温度コントローラ１８５で流路２０３内の温度を反応に適した温度に制御しながら、流体供給器１８２，１８３から導入口２４１，２５１を介して導入流路部２０４，２０５に流体を供給する。
【０１４０】
この際、各導入流路部２０４，２０５に導入する流体の供給速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。
例えば流体として液体のものを供給する場合、その具体的な供給速度は反応や流体の種類、反応条件などに応じて適切に設定すれば良いが、通常０．１μＬ／分以上、好ましくは１．０μＬ／分以上、また、通常１０００μＬ／分以下、好ましくは８００μＬ／分以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流量精度がでなくなる虞があり、上限を上回ると流体圧力が高くなりすぎる虞がある。
【０１４１】
さて、流体供給器１８２，１８３から供給された流体は、それぞれ導入口２４１，２５１から導入流路部２０４，２０５に流入し、その後、導入流路合流部２０８で合流する。導入流路合流部２０８で合流すると、流体は均一に混合され、その組成は均一化される。その後、流体は階層分岐流路部２０６を流通する。
【０１４２】
階層分岐流路部２０６では、各分岐流路部２６１，２６２で分岐が行なわれる度に流体はさらに均一に混合されて組成が均一化すると共に、等しい量に分岐を繰り返す。そして、各流体流入口２７１を介してプール部２０７に流入する。
プール部２０７内に流入した流体は、プール部２０７内が温度制御素子により反応温度になるよう温度調整されているため、プール部２０７において反応を進行させる。そして、プール部２０７内で反応した流体は、送出口２７４からサンプル瓶１８４に送出され、サンプル瓶１８４内に溜められる。こうして、サンプル瓶１８４に目的とする反応生成物を得ることができる。
【０１４３】
第２反応用チップ２０１は上記のように構成され、上記のようにして使用することができるので、反応の選択率を向上させることができる。
即ち、第２反応用チップ２０１においては、流体流入口２７１がプール部２０７の幅方向に均一に形成されると共に、その上流にある階層分岐流路部２０６において等しい量に分岐を繰り返しているため、階層分岐流路部２０６を流通した流体は、各流体流入口２７１に供給される際には、その流量及び組成を均一化されている。
【０１４４】
したがって、プール部２０７を流れる流体の組成及び線速は、プール部２０７の幅方向で均一とすることができる。さらに、本実施形態では、プール部２０７の大部分において流路幅が一定となる形状に形成されているため、プール部２０７内における流体の滞留時間は均一化し、滞留時間の幅方向の分布は発生し難くなる。
また、前述の通り、各流体流入口２７１からプール部２０７に流入する流体の組成も均一化されているので、したがって、プール部２０７内における流体の反応は目的とする時間だけ行なわれることになる。これにより、生成物の選択率を向上させることができるようになる。
【０１４５】
また、本実施形態においては、プール部２０７には流れ方向に沿って設けられたガイド条２７３が形成されているため、流体はさらに確実にプール部２０７内を流れ方向に流れることになる。したがって、ガイド条２７３によってもプール部２０７内における滞留時間の分布の発生を抑制することが可能となり、反応の選択率をさらに高めることが可能となる。
【０１４６】
ところで、通常、流体が流入する前の流路２０３内には空気が存在しているが、この空気は、流路２０３に流体２７１が供給されると下流に押し流され、送出口２７４から流路２０３の外部に排出される。しかし、その空気の一部はプール部２０７内、特にプール部２０７の下流端部に気泡として残留する。この際、従来では流路２０２内に残留した気泡を除去することは難しかったが、本実施形態の第２反応用チップ２０１では、気泡案内部２７２を設けたことにより、気泡を下流側に案内すると共に、流体の下流へ向けた流れを強くして気泡を下流に流し去りやすくすることができるのである。また、同様にして、反応により生成する析出固体も、気泡と同様に送出口２７４から流路２０３の外に排出することが可能となる。
なお、上記のガイド条２７３も、気泡の案内を行なう機能を発揮することができるため、ガイド条２７３によっても気泡の除去を促進することができる。
【０１４７】
また、本実施形態では送出口２７４が複数設けられているため、送出口２７４が１つのみ形成した場合に比べると、送出口２７４全体の開口面積が大きくなり、送出口２７４における流体の圧力を低下させることができる。したがって、流路２０３内の圧力損失を低下させ、第２反応用チップ２０１の破損や、送出口２７４よりも上流においてチューブやコネクタ（図示省略）から流体が漏れることなどを防止することができる。
【０１４８】
また、本実施形態の第２反応用チップ２０１は薄いマイクロチップとして形成されているので、温度コントローラ１８５による精密な温度の制御が容易となる。さらに、第２反応用チップ２０１の厚さが薄いことにより、反応熱、混合熱、溶解熱などの発熱により温度上昇が生じる反応においても除熱が容易であり、精密に温度制御を行なうことが可能となる。
【０１４９】
また、有毒なガスが発生するような反応を行なう際には、従来のように大容量の容器を用いてバッチ操作で反応を行なっていた場合には連続的に流体等の試薬を反応容器に供給することができなかった。しかし、上記のような有毒ガスの発生を伴う反応の際においては、第２反応用チップ２０１によれば、微細な流路を用いて反応を行なうので有毒なガスが急激に発生することを抑制することができ、また、連続的な流れの中で反応を行なうので連続的に試薬の供給を行なうことも可能となる。
【０１５０】
さらに、反応を行なわせる際に従来のように攪拌等をする必要が無く、したがって、反応装置の小型化を図ることができ、また、第２反応用チップ２０１内の流路２０３に流体を流通させるだけで目的とする反応を行なわせることが可能であるため、操作を簡単に行なうことができるようになる。
なお、装置の小型化に伴い生産速度は通常は従来の大容量容器を用いた方法よりも低下することが多いが、第２反応用チップ２０１を用いれば高効率で連続して反応を行なうことが可能であるために、目的生成物の生産性を高く維持することが可能である。
【０１５１】
［Ｉ−３．クロマトグラフィー用チップ］
クロマトグラフィー用チップ（以下適宜、「クロマト用チップ」という）は、２種以上の物質を含有する流体を流路に流通させ、その流路を流通する間に、流体中に含まれる目的物質をクロマトグラフィーにより分離させる化学操作用チップである。
【０１５２】
図１５〜図１７は、本実施形態のマイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるクロマトグラフィー用チップの一実施形態について示すもので、図１５はクロマトグラフィー用チップの模式的な上面図であり、図１６はクロマトグラフィー用チップの模式的な斜視図であり、図１７は流出防止部近傍の模式的な拡大図である。なお、図１６において流路及び流出防止部の厚みを描画していないが、これらは厚みが非常に小さいために描画しなかったものであり、実際には厚み（或いは深さ）を有する３次元的な構造を有している。
【０１５３】
図１５、図１６に示すように、本実施形態のクロマト用チップ３０１は、基板３０２に流路３０３が形成されたものである。また、流路３０３は、導入流路部３０４，３０５と、プール部３０６と、送出流路部３０７，３０８とを備えている。
【０１５４】
［Ｉ−３−１．基板］
基板３０２は、第１反応用マイクロチップの基板１０２や第２反応用マイクロチップの基板２０２として説明したものと同様である。本実施形態では、縦７０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚み１．４ｍｍの寸法で平板形状に形成された透明なガラス製の基板を用いているものとする。また、この基板３０２は、流路３０３を凹部として形成した下板３０２ａに、流路３０３に蓋をするための上板３０２ｂを接着することにより基板３０２内に流路３０３を形成しているものとする。即ち、基板３０２は下板３０２ａと上板３０２ｂとにより形成され、下板３０２ａと上板３０２ｂとの接着面に沿って流路３０３が２次元的に形成されているのである。
【０１５５】
［Ｉ−３−２．流路］
流路３０３は、基板３０２の内部に形成されたもので、上記の通り、導入流路部３０４，３０５と、プール部３０６と、送出流路部３０７，３０８とを備えている。
【０１５６】
［Ｉ−３−２−１．導入流路部］
導入流路部３０４，３０５は、クロマトグラフィーを用いて分離を行なう対象である試料液、目的物質の溶出に用いる溶出液、流路３０３内の洗浄に用いる洗浄液、吸着液の再生に用いる際精液などの流体が流路３０３に入るための導入用の流路部であり、この導入流路部３０４，３０５を介して、プール部３０６に上記の流体が導入されるようになっている。
導入流路部３０４，３０５の具体的な構成に制限は無いが、通常は、導入流路部３０４，３０５はそれぞれ上流端部に導入口３０４ａ，３０５ａを有していて、この導入口３０４ａ，３０５ａを介して外部から対応する流体を導入されるようになっている。
【０１５７】
また、導入流路部３０４，３０５は少なくとも１本だけ形成されていれば良いが、流路３０３に導入する液体の種類、組成、目的などに応じて、２本以上形成するようにしても良い。本実施形態においては、導入流路部３０４，３０５は２本形成されているものとする。
さらに、本実施形態では、導入流路部３０４，３０５は、プール部３０６よりも上流において合流しているものとする。これは、クロマトグラフィーによる分離の場となるプール部３０６よりも上流において、プール部３０６に流入する液体の種類や組成などを選択するためである。
【０１５８】
また、導入流路部３０４，３０５のうちの少なくとも１本を、上記の試料液、溶出液、洗浄液、再生液などの流体を導入する他、プール部３０６に吸着剤を導入するための吸着剤導入路として用いることができるように形成しても良い。この場合、導入流路部３０４，３０５は、吸着剤の粒子が流通することができるような寸法に形成することが望ましい。具体的には、吸着剤の粒径（好ましくは最大粒径）よりも幅及び高さを大きく形成することが望ましい。
【０１５９】
さらに、導入流路部３０４，３０５から吸着剤を導入するようにする場合には、吸着剤の導入に用いる導入流路部３０４，３０５は、導入流路部３０４，３０５を吸着剤が途中で留まることなく流通することができるよう、導入口３０４ａ，３０５ａからプール部３０６にかけて滑らかに形成することが好ましい。具体的には、導入流路部３０４，３０５の流路形状を、直線状、曲線状、或いは、直線と曲線とが滑らかに連続した形状などに形成することが好ましい。
【０１６０】
また、プール部３０６内に吸着剤をより均一に充填する観点からは、導入流路部３０４，３０５の向きは、プール部３０６に直前において、プール部３０６の流れ方向と平行になっていることが望ましい。仮に、導入流路部３０４，３０５の向きがプール部３０６の直前においてプール部３０６の流れ方向と交差する向きとなっている場合には、導入流路部３０４，３０５からプール部３０６に流入する吸着剤がプール部３０６の横方向の片方に主として流入し、これによりプール部３０６内の吸着剤の分布が偏る虞があるためである。なお、クロマト用チップ３０１の説明において、流路３０３内において「前」とは、上流側のことを指すものとする。
【０１６１】
本実施形態では、導入流路部３０４，３０５は同じ長さに形成された２本の流路部によって構成されていて、さらに、導入流路部３０４，３０５は、それぞれ円弧状の流路形状となるように形成されているものとする。また、導入流路部３０４，３０５は、その下流にはプール部３０６が接続されていて、導入流路部３０４と導入流路部３０５とはプール部３０６の直前で合流しているものとする。
さらに、本実施形態では、導入口３０４ａ，３０５ａは、それぞれ導入流路部３０４，３０５の上流端と基板３０２の外部とを連通する孔として上板３０２ｂに形成されているものとする。
【０１６２】
また、導入流路部３０４，３０５の寸法に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、上記の通り、導入流路部３０４，３０５を介してプール部３０６に吸着剤を導入する場合には、吸着剤の粒子が導入流路部３０４，３０５を流通することができるよう、吸着剤の粒径よりも大きい径を有するよう、その寸法を設定することが望ましい。
【０１６３】
具体的な寸法は、吸着剤の寸法に応じて適切に設定すれば良いが、例えば、導入流路部３０４，３０５の幅は、通常５０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは２００μｍ以上、また、通常２０００μｍ以下、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは８００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると吸着剤の充填が困難になる虞があり、上限を上回ると吸着剤が抜け出しやすくなる虞がある。
【０１６４】
さらに、導入流路部３０４，３０５の深さは、通常５０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは１５０μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると吸着剤の充填が困難となる虞があり、上限を上回ると吸着剤が抜け出しやすくなる虞がある。
【０１６５】
［Ｉ−３−２−２．プール部］
プール部３０６は、導入流路部３０４，３０５の下流に形成された、吸着剤を充填するための流路部であり、このプール部３０６において、クロマトグラフィーを用いた分離が行なわれるようになっている。
【０１６６】
また、プール部３０６は、その流路断面積、具体的には、流れ方向に垂直な面でプール部３０６を切った断面積（以下適宜、「プール部断面積」という）を、流路３０３内の他の流路部よりも相対的に大きく形成されている。本実施形態では、プール部３０６は、流路３０３の中で最も大きい断面積を有している。これは、従来よりも短い流路長さで従来と同等以上程度の容積を確保し、これにより、吸着剤の均一な充填を可能としつつ従来と同等以上程度の量の吸着剤を充填できるようにするためである。即ち、６ｍｍ程度の径を有するチューブや流路に吸着剤を充填した従来の微小流路においては、流路長が長くなるにつれて流路内に吸着剤を均一に充填することが困難になる傾向があり、また、流路長を短くすると流路に充填できる吸着剤の量が不足して分離精製時に目的物質の損失が生じる虞があったが、本実施形態の構成により、上記の課題を解決し、目的物質の損失を抑制しながら、所定量以下の微小な試料についても、クロマトグラフィーにより高純度且つ高回収率で分離精製を行なうことができるようになるのである。
【０１６７】
プール部３０６の具体的な寸法は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定することができるが、例えば、その幅は、通常０．１ｍｍ以上、好ましくは２ｍｍ以上、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上とすることが望ましい。これにより、プール部３０６の流路断面積を相対的に大きくし、分離精製時に目的物質の損失を抑制することが可能となる。また、上限は特に制限は無いが、通常３０ｍｍ以下とすることが望ましい。この上限を上回ると基板にたわみを生ずる可能性がある。
【０１６８】
さらに、プール部３０６の深さは、通常１００μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上とすることが望ましい。これによっても、プール部３０６の流路断面積を相対的に大きくし、分離精製時に目的物質の損失を抑制することが可能となる。また、上限は特に制限は無いが、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。
【０１６９】
さらに、プール部３０６の長さ（流れ方向の距離）は、通常６０ｍｍ以下とすることが望ましい。これにより、プール部３０６内に吸着剤を均一に平面上に充填することが可能となる。また、下限は特に制限は無いが、通常２ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上が望ましい。この下限を上回ると吸着量が少なくなりすぎる虞がある。
【０１７０】
さらに、プール部３０６は、その流れ方向の距離（本実施形態では、プール部３０６の長さ）に対する、その流れ方向に垂直な面で当該プール部３０６を切った断面形状のうち長い方の辺の距離（本実施形態では、プール部３０６の幅）の比が、通常１以上、好ましくは２以上であることが望ましい。この範囲の下限を下回ると壁側でも流速が遅くなる虞がある。なお、上限は特に限定されない。
【０１７１】
また、プール部３０６の流路形状は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、プール部３０６の上流側部分においては、プール部３０６と導入流路部３０４，３０５との接続地点から下流へ向けて、プール部３０６の流路形状が滑らかに形成されることが望ましい。例えば、プール部３０６と導入流路部３０４，３０５との接続地点から下流に行くにしたがってプール部３０６が滑らかに幅広になるように形成すれば、プール部３０６に流入した試料液や溶出液などの流体、及び、吸着剤などの粒子がプール部３０６の各部位に均一に流れ込むことができるようになり、分離精製の効率向上や、吸着剤の充填を均一にすることができるようになるなどの利点を得ることができるようになる。
【０１７２】
一方、プール部３０６の下流側部分においても、プール部３０６と送出流路部３０７，３０８との接続地点へ向けて、プール部３０６の流路形状が滑らかに形成されることが望ましい。例えば、プール部３０６と送出流路部３０７，３０８との接続地点へ滑らかに傾斜するような流路形状にプール部３０６を形成すれば、プール部３０６の試料液や溶出液などの流体を効率よくプール部３０６から送出することができるようになる。また、流路３０３に液体を流通させた場合に、プール部３０６内に存在する気体が気泡としてプール部３０６に残留することを防止することも可能となる。
【０１７３】
また、本実施形態のクロマト用チップ３０１においては、プール部３０６内の送出流路部３０７，３０８よりも上流側に、吸着剤がプール部３０６から流出することを防止する流出防止部３０９を設けるようにする。プール部３０６の下流には流路３０３から試料液や溶出液などの流体を外部に送出するための送出流路部３０７，３０８が形成されているため、なんら対処を講じていなければ、吸着剤はプール部３０６の外部、具体的には、送出流路部３０７，３０８及び流路３０３の外部に流出する虞がある。流出防止部３０９は、これを防止するべく設けられるものである。
【０１７４】
流出防止部３０９の具体的な構成に制限は無く、吸着剤がプール部３０６から流出することを防止できれば任意の構成とすることができるが、通常は、基板３０２との間で吸着剤の粒径よりも小さい隙間（図１７の隙間３１１を参照）を形成するようプール部３０６の内面が凸に形成されたダム部３０９として構成することが望ましい。上記の隙間の具体的な大きさは吸着剤の寸法に応じて設定すればよいが、通常５μｍ以下、好ましくは３μｍ以下である。なお、本実施形態においては流出防止部３０９とダム部３０９とは同様のものを示すため、特に断らない限り、両者は同様の符号で示すものとする。
【０１７５】
本実施形態においても、図１５及び図１６に示すように、プール部３０６の下流端部には流出防止部としてダム部３０９が形成されている。このように流出防止部をプール部３０６の下流端部に設けることで、プール部３０６内により多くの吸着剤を充填できるようになっている。
また、本実施形態のダム部３０９は、プール部３０６の横方向一方の内側面３０６ｂから他方の内側面３０６ｃにかけて延在する直方体形状の壁部として形成されたものである。
【０１７６】
さらに、ダム部３０９は、図１７に示すように、プール部３０６の底面３０６ａが凸に形成されたものである。また、ダム部３０９は、その高さがプール部３０６の深さよりも特定長さだけ小さくなるように形成されている。この特定長さが上記の隙間の大きさとなり、プール部３０６に吸着剤３１０を充填した際に、その充填された吸着剤３１０の粒径よりも小さい長さとなるようになっている。これにより、ダム部３０９の上端部３０９ａと基板３０２の内面（具体的には、プール部３０６の天井面）３０６ｄとの間で吸着剤３１０の粒径よりも小さい隙間３１１を形成するようになっている。したがって、プール部３０６内に充填された吸着材３１０は、その粒子が隙間３１１を通り抜けることができなくなるため、プール部３０６から流出しないようになっている。
なお、図１７では、説明のため、プール部３０６に吸着剤３１０を充填した様子を示してある。
【０１７７】
［Ｉ−３−２−３．送出流路部］
送出流路部３０７，３０８は、プール部３０６の下流に設けられた流路部であり、プール部３０６から上記の試料液、溶出液、洗浄液、再生液などの流体を流路３０３の外部に送出するためのものである。
【０１７８】
送出流路部３０７，３０８は少なくとも１本形成するようにすればよいが、２本以上形成するようにすると、流路３０３内の圧力損失を低下させることが可能となり、クロマト用チップ３０１の破損や、送出流路部３０７，３０８よりも上流においてチューブやコネクタ（図示省略）から液体が漏れることなどを防止することができるため、好ましい。
【０１７９】
本実施形態においては、送出流路部３０７，３０８はプール部３０６の下流に２本形成されているものとする。また、この送出流路部３０７，３０８の下流端部には、それぞれ送出流路部３０７，３０８と基板３０２の外部とを連通する孔として、上板３０２ｂに送出口３０７ａ，３０８ａが形成されて、この送出口３０７ａ，３０８ａを介して流路３０３から外部へと液体が送出されるようになっているものとする。
【０１８０】
［Ｉ−３−３．分離方法］
上記のクロマト用チップ３０１を用いれば、クロマトグラフィーにより、試料液中の目的物質を分離し、精製することができる。この場合、流路３０３に試料液を流通させて吸着剤に目的物質を吸着させ（吸着工程）、流路３０３に目的物質を溶出させる溶出液を流通させて吸着剤に吸着している目的物質を溶出させ、その溶出液の分画をとるようにすればよい。
【０１８１】
以下、上記のクロマト用チップ３０１を用いた分離方法の一実施形態として、α−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とを含む試料液から目的物質としてα−メチルグルコシドのトシル体を分離・精製する場合を例に挙げて、分離方法について説明する。
【０１８２】
［Ｉ−３−３−１．吸着剤］
分離を行なう場合、クロマト用チップ３０１には、吸着剤（固定相）を充填しておく。
吸着剤の種類に制限はなく、目的物質の種類や試料液の組成などに応じて任意に設定することができるが、通常は、例えばポリマーやシリカ等からなる修飾剤基体に対し、官能基により修飾を行なったものを用いる。この修飾は、吸着剤をプール部３０６に充填する前にあらかじめ行なっておいてもよいが、プール部３０６に吸着剤を充填した後、流路３０３に修飾用の液を流通させ、充填後に修飾を行なうようにしてもよい。
【０１８３】
吸着剤基体や修飾に用いる官能基の種類に制限はなく任意であるが、例えば、本実施形態のようなα−メチルグルコシドのトシル体をジトシル体と分離・精製する場合には、吸着剤としてオルガノ社製合成吸着剤「ＸＡＤ８」等を用いることができる。なお、本実施形態においても、吸着剤としてオルガノ社製合成吸着剤「ＸＡＤ８」を用いているものとする。
【０１８４】
さらに、吸着剤の粒径にも制限はなく、本発明の効果を著しく損なわない範囲において任意に設定することができるが、平均粒径が、通常３μｍ以上、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、また、通常１００μｍ以下、好ましくは９０μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下である。この範囲の下限を下回ると吸着剤が送出口より流出する虞があり、上限を上回ると吸着剤の充填が困難となる虞がある。なお、吸着剤の粒径は、上記のように、ダム部３０９と基板３０２との間で形成される隙間３１１より大きくなるようになっている。
【０１８５】
また、吸着剤の充填方法も上記のように任意である。本実施形態においては、プール部３０６の下流端部でダム部３０９と基板３０２の上面３０６ｄとの間に形成された隙間３１１を通過できない程度の粒径の吸着剤を、導入流路部３０４，３０５からプール部３０６内に導入して、吸着剤の充填を行なったものとする。
【０１８６】
［Ｉ−３−３−２．試料液］
本実施形態のクロマト用チップ３０１を用いて分離・精製を行なう試料液に制限はなく、任意の液体を用いることができる。したがって、適切な吸着剤や溶出液などを選択して用いることにより、多様な試料液に対して分離・精製を行なうことが可能となり、その試料液に目的物質が含まれていた場合には、当該目的物質を高い純度及び回収率で得ることができるのである。
【０１８７】
本実施形態では、５０％メタノール水溶液中に、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体と、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体とが共存した試料液を用いるものとして説明を行なう。なお、本明細書においては、単に「％」と言う場合、「重量％」のことを示すものとする。
【０１８８】
［Ｉ−３−３−３．溶出液］
溶出液は、目的物質や吸着剤などの種類に応じて任意のものを用いることができる。通常、吸着剤に吸着した目的物質を脱着させるものを用いる。
本実施形態では、メタノール水溶液を溶出液として用い、そのメタノール濃度に応じて溶出する目的物質（即ち、α−メチルグルコシドのトシル体）を得るようになっているものとする。上記の吸着剤を用いた場合、α−メチルグルコシドは、そのトシル体は比較的メタノール濃度が低いメタノール水溶液により吸着剤から溶出され、一方、そのジトシル体は比較的メタノール濃度が高いメタノール水溶液により吸着剤から溶出される傾向がある。これを利用し、メタノール濃度を変化させて溶出液としてメタノール水溶液をクロマト用チップ３０１の流路３０３に流通させることにより、α−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とを分離することができるのである。
【０１８９】
［Ｉ−３−３−４．分離装置］
上記のクロマト用チップ３０１を用いて分離・精製を行なう場合に用いる分離装置に制限はなく、目的物質の分離が可能である限り任意の構成の装置を用いることができる。ここでは、図１８に示す分離装置を用いたものとして説明を行なう。なお、図１８は本実施形態の分離装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
この分離装置は、クロマト用チップ３０１と、試料液供給部３３０と、溶出液供給部３４０と、分画回収部３５０と、再分離用還流部３６０と、制御部３７０とを備えている。
【０１９０】
［Ｉ−３−３−４−１．クロマト用チップ］
本実施形態の分離装置は、クロマト用チップ３０１を備える。この際、クロマト用チップ３０１は着脱可能に構成することが好ましい。本実施形態においては、クロマト用チップ３０１は、チップホルダ３２０に保持されているものとする。
【０１９１】
チップホルダ３２０の様子を、図８に模式的に示す。この図８に示すように、チップホルダ３２０は、上記クロマト用チップ３０１を保持するためのものであり、下部ホルダ３２１と上部ホルダ３２２とから構成されていてクロマト用チップ３０１を下部ホルダ３２１と上部ホルダ３２２との間に介装することで、チップホルダ３２０にクロマト用チップ３０１を保持できるようになっている。
【０１９２】
さらに、下部ホルダ３２１及び上部ホルダ３２２にはそれぞれ制御部３７０の制御にしたがって温度の調整が可能な温度制御素子（図示省略）が形成されていて、この温度制御素子の温度を制御することで、クロマト用チップ３０１の流路３０３内の温度を調整することができるようになっている。
【０１９３】
また、上部ホルダ３２２には、試料液供給部３３０からの試料液及び溶出液供給部３４０からの溶出液をそれぞれクロマト用チップ３０１の導入口３０４ａ，３０５ａに案内するための案内流路（図示省略）が形成されている。さらに、上部ホルダ３２２には、クロマト用チップ３０１の送出口３０７ａ，３０８ａから流出する液体を分画回収部３５０に案内するための案内流路（図示省略）も形成されている。これらの案内流路はチューブやコネクタ等の配管を介してそれぞれ試料液供給部３３０、溶出液供給部３４０及び分画回収部３５０に接続され、これにより、試料液供給部３３０及び溶出液供給部３４０から導入流路部３０４，３０５への試料液や溶出液等の流体の供給、並びに、送出流路部３０７，３０８から分画回収部３５０への流路３０３流通後の上記液体の送出を行なうことができるようになっている。
【０１９４】
［Ｉ−３−３−４−２．試料液供給部］
試料液供給部３３０は、クロマト用チップ３０１に向けて試料液を供給する部分である。本実施形態では、図１８に示すように、試料液供給部３３０は、貯水サンプルビン３３１、貯水サンプルビン３３１用の送液ポンプ３３２、サンプルビン３３３、サンプルビン３３３用の送液ポンプ３３４、制御弁３３５、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０１９５】
貯水サンプルビン３３１には水が貯蔵されていて、この貯水サンプルビン３３１内の水は、サンプルビン３３３から送出される試料液と混合されて、試料液のメタノール濃度を５０％とするためのものである。
また、送液ポンプ３３２は、貯水サンプルビン３３１に貯蔵されている水をクロマト用チップ３０１に向けて送出するためのものであり、貯水サンプルビン３３１の下流に接続されている。この送液ポンプ３３２は、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがって貯水サンプルビン３３１から送出される水の送出量を調整できるようになっている。なお、図１８において、制御部３７０からの制御を破線の矢印で示す。
【０１９６】
サンプルビン３３３には分離する対象となる試料液が貯蔵されている。上記のとおり、本実施形態においてはクロマト用チップ３０１に対して試料液のメタノール濃度を５０％とすることになるが、貯水サンプルビン３３１内の水を用いて濃度調整を行なうことができるため、サンプルビン３３３内にある時点では試料液は必ずしもメタノール濃度が５０％でなくてもよい。ただし、本実施形態の場合には、分離装置の構成上、サンプルビン３３に貯蔵する試料液のメタノール濃度は５０％以上とすることになる。
【０１９７】
また、送液ポンプ３３４は、サンプルビン３３３に貯蔵されている試料液をクロマト用チップ３０１に向けて送出するためのものであり、サンプルビン３３３下流に接続されている。この送液ポンプ３３４も、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがってサンプルビン３３３から送出される試料液の送出量を調整できるようになっている。
【０１９８】
さらに、制御弁３３５は、送液ポンプ３３２，３３４の下流に接続されている。本実施形態の分離装置では、図１８に示すように、送液ポンプ３３２及び送液ポンプ３３４の下流で配管は合流するようになっていて、この合流部で試料液と水とが混合することにより、試料液供給部３３０は、試料液のメタノール濃度をクロマト用チップ３０１に供給するのに適した５０％に調整し、その試料液をクロマト用チップ３０１に供給できるようになっている。ここで、制御弁３３５は、制御部３７０によって制御され、メタノール濃度が５０％に調整された上記の試料液の流量を制御するようになっている。具体的には、制御部３７０の制御にしたがってその開度を調整することなどにより、試料液を流すか否か、また、試料液をどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
そして、制御弁３３５は配管を介してクロマト用チップ３０１の導入口３０４ａに接続され、試料液をクロマト用チップ３０１内の流路３０３に導入できるようになっている。
【０１９９】
［Ｉ−３−３−４−３．溶出液供給部］
溶出液供給部３４０は、クロマト用チップ３０１に向けて溶出液を供給する部分である。本実施形態では、溶出液供給部３４０は、貯水サンプルビン３４１、貯水サンプルビン３４１用の送液ポンプ３４２、メタノールサンプルビン３４３、メタノールサンプルビン３４３用の送液ポンプ３４４、制御弁３４５、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０２００】
貯水サンプルビン３４１には水が貯蔵されていて、この貯水サンプルビン３４１内の水は、メタノールサンプルビン３４３から送出されるメタノールと混合して、所望の濃度のメタノール水溶液を溶出液として調整するためのものである。
また、送液ポンプ３４２は、貯水サンプルビン３４１に貯蔵されている水をクロマト用チップ３０１に向けて送出するためのものであり、貯水サンプルビン３４１の下流に接続されている。この送液ポンプ３４２も、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがって貯水サンプルビン３４１から送出される水の送出量を調整できるようになっている。
【０２０１】
さらに、メタノールサンプルビン３４３にはメタノールが貯蔵されている。本実施形態においては、溶出液として、メタノール濃度が５０％、６０％、７０％、８０％、９０％のメタノール溶液及び濃度１００％のメタノールを溶出液として用いることになる。したがって、溶出液供給部３４０は、メタノールサンプルビン３４３から送出されるメタノールを貯水サンプルビン３４１から送出される水と混合することにより所望のメタノール濃度の溶出液を調製し、クロマト用チップ３０１に向けてその溶出液を供給できるようになっているのである。
【０２０２】
また、送液ポンプ３４４は、メタノールサンプルビン３４３に貯蔵されているメタノールをクロマト用チップ３０１に向けて送出するためのものであり、メタノールサンプルビン３４３の下流に接続されている。この送液ポンプ３４４も、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがってメタノールサンプルビン３４３から送出されるメタノールの送出量を調整できるようになっている。
【０２０３】
さらに、制御弁３４５は、送液ポンプ３４２，３４４の下流に接続されている。本実施形態の分離装置では、溶出液供給部３４０でも試料液供給部３３０と同様に、送液ポンプ３４２及び送液ポンプ３４４の下流で配管は合流するようになっていて、この合流部でメタノールと水とが混合することにより、溶出液供給部３４０は、溶出液のメタノール濃度をクロマト用チップ３０１に供給するのに適した所望の濃度に調整し、その溶出液をクロマト用チップ３０１に供給できるようになっている。ここで、制御弁３４５は、制御部３７０によって制御され、メタノール濃度が所望の濃度に調整された上記の溶出液の流量を制御するようになっている。具体的には、制御部３７０の制御にしたがってその開度を調整することなどにより、溶出液を流すか否か、また、溶出液をどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
そして、制御弁３４５は配管を介してクロマト用チップ３０１の導入口３０５ａに接続され、溶出液をクロマト用チップ３０１内の流路３０３に導入できるようになっている。
【０２０４】
［Ｉ−３−３−４−４．分画回収部］
分画回収部３５０は、クロマト用チップ３０１内の流路３０３から流出する試料液や溶出液などの流体を回収するものである。本実施形態では、分画回収部３５０は、第１回収サンプルビン３５１、第２回収サンプルビン３５２、第３回収サンプルビン３５３、切替弁３５４、送液ポンプ３５５、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０２０５】
第１回収サンプルビン３５１、第２回収サンプルビン３５２及び第３回収サンプルビン３５３は、それぞれ、クロマト用チップ３０１から送出された液体を回収するためのタンクである。本実施形態では、メタノール濃度５０％〜７０％の溶出液を第１回収サンプルビン３５１に回収し、メタノール濃度８０％又は９０％の溶出液を第２回収サンプルビン３５２に回収し、メタノール濃度１００％の溶出液及び試料液を第３回収サンプルビン３５３に回収するようになっている。
【０２０６】
本実施形態の分離装置では、吸着剤に吸着した目的物質を溶出液によって溶出させる場合、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体は、クロマト用チップ３０１の流路３０３を流通した溶出液の分画のうち、メタノール濃度が５０％〜９０％の溶出液に含有されることになる。一方、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体は、メタノール濃度が８０％〜１００％の溶出液に含有されることになる。したがって、メタノール濃度５０％〜７０％の溶出液には目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体が含有され、メタノール濃度８０％又は９０％の溶出液にはα−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とがともに含有され、メタノール濃度１００％の溶出液にはα−メチルグルコシドのジトシル体が含有されることなる。このため、メタノール濃度５０％〜７０％の溶出液を回収することにより、α−メチルグルコシドのトシル体を高純度で回収することができるようになる。また、後述するように、再分離用還流部３６０により、α−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とをともに含有するメタノール濃度８０％又は９０％の溶出液を再度分離精製するようにすることによって、目的物質の損失量を抑制することが可能となる。なお、第３回収サンプルビン３５３に回収されたメタノール濃度１００％の溶出液は、クロマト用チップ３０１流通後の試料液とともに廃液として処理されるようになっている。
【０２０７】
また、切替弁３５４は、配管によって、クロマト用チップ３０１の送出口３０７ａ，３０８ａ、第１回収サンプルビン３５１、第２回収サンプルビン３５２及び第３回収サンプルビン３５３にそれぞれ接続されていて、クロマト用チップ３０１の送出口３０７ａ，３０８ａから送出された液体を、第１回収サンプルビン３５１、第２回収サンプルビン３５２及び第３回収サンプルビン３５３のうちのいずれかに送出することができるよう、配管同士の接続を切り替えることができるようになっている。
さらに、切替弁３５４の切り替えは制御部３７０の制御によって行なうことができるようになっている。
【０２０８】
送液ポンプ３５５は、第２回収サンプルビン３５２に貯蔵されている溶出液を再分離用還流部３６０へ向けて送出するためのものであり、第２回収サンプルビン３５２の下流に接続されている。この送液ポンプ３５５も、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがって第２回収サンプルビン３５２から送出される溶出液の送出量を調整できるようになっている。なお、送液ポンプ３５５によって送出された溶出液は、再分離用還流部３６０へと送られるようになっている。
【０２０９】
［Ｉ−３−３−４−５．再分離用還流部］
再分離用還流部３６０は、分画回収部３５０が回収した溶出液のうち、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体と不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体とを共に含有する分画（即ち、第２回収サンプルビン３５２で回収した溶出液）を、試料液として、再度、クロマト用チップ３０１を用いて分離精製するためのものである。本実施形態においては、再分離用還流部３６０は、貯蔵サンプルビン３６１、送液ポンプ３６２、制御弁３６３並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えている。
【０２１０】
貯蔵サンプルビン３６１は、送液ポンプ３５５を介して第２回収サンプルビン３５２から送られてきたメタノール濃度８０％又は９０％の溶出液を貯蔵するためのものである。また、貯蔵サンプルビン３６１内には、貯蔵サンプルビン３６１内の溶出液のメタノール濃度を検出するためのセンサ（例えば、Ｈ2Ｏセンサ）３６４が設置されていて、このセンサ３６４での検出結果は、制御部３７０に送られるようになっている。
【０２１１】
また、送液ポンプ３６２は、貯蔵サンプルビン３６１に貯蔵されている溶出液を試料液供給部３３０に向けて送出するためのものであり、貯蔵サンプルビン３６１の下流に接続されている。この送液ポンプ３６２も、制御部３７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部３７０の制御にしたがって貯蔵サンプルビン３６２から送出される溶出液の送出量を調整できるようになっている。
【０２１２】
さらに、制御弁３６３は、送液ポンプ３６２の下流に接続されている。また、制御弁３６３は制御部３７０によって制御され、制御部３７０の制御にしたがって、その開度を調整することなどにより、溶出液を流すか否か、また、溶出液をどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
【０２１３】
［Ｉ−３−３−４−６．制御部］
制御部３７０は、上述したように、チップホルダ３２０に設けられた温度制御素子（図示省略）、送液ポンプ３３２，３３４，３４２，３４４，３５５，３６２、制御弁３３５，３４５，３６３及び切替弁３５４をそれぞれ制御するようになっている。したがって、制御部３７０は、チップホルダ３２０に設けられた温度制御素子を制御して流路３０３内の温度を調整する温度制御手段、試料液供給部３３０からクロマト用チップ３０１の流路３０３に供給される試料液の流量や組成を制御する試料液制御手段、溶出液供給部３４０からクロマト用チップ３０１の流路３０３に供給される溶出液の流量や組成を制御する溶出液制御手段、分画回収部３５０がクロマト用チップ３０１から送出された液体を回収する際の操作を制御する分画回収制御手段、溶出液のうちの少なくとも一部を再度分離精製する操作を制御する再分離制御手段などとして機能するものである。
【０２１４】
また、本実施形態において、制御部３７０は、ハードウェア的にはＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）や、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）等のメモリ、更にはＡＤ変換部等のインターフェース部などから構成されていて、これらが上記の各手段としての機能を発揮するようになっている。
【０２１５】
［Ｉ−３−３−５．分離精製要領］
以下、上記のような分離装置を用いて試料液の分離を行なう場合の要領について説明する。なお、最初の状態では、送液ポンプ３３２，３３４，３４２，３４４，３５５，３６２は停止しており、また、制御弁３３５，３４５，３６３は閉状態となっているものとする。また、切替弁３５４は、クロマト用チップ３０１の送出口３０７ａ，３０８ａと第３回収サンプルビン３５３とが連通するように切り替わっているものとする。さらに、貯水サンプルビン３３１，３４１及びメタノールサンプルビン３４３には、それぞれ十分な量の水及びメタノールが貯蔵されているものとする。
【０２１６】
［Ｉ−３−３−５−１．準備］
本実施形態の分離装置を用いて試料液中の目的物質を分離精製する場合、プール部３０６に吸着剤を充填したクロマト用チップ３０１をチップホルダ３２０に設置し、また、サンプルビン３３３に試料液を入れる。その後、制御部３７０に分離精製開始の指示を与えると、制御部３７０の制御にしたがって、本分離装置は自動的に以下のようにして分離精製操作を行なう。
即ち、分離精製開始の指示を受けると、制御部３７０は、チップホルダ３２０の温度制御素子を制御して、流路３０３内の温度を目的物質の分離精製に適した温度に調整する。本実施形態では、０℃に調整したものとして説明を行なう。
【０２１７】
［Ｉ−３−３−５−２．吸着工程］
次に、制御部３７０は試料液供給部３３０を制御して、クロマト用チップ３０１の流路３０３に試料液を流通させる吸着工程を行なわせる。
詳しくは、制御部３７０は、送液ポンプ３３４を稼動させてサンプルビン３３３から試料液を送出すると共に、送液ポンプ３３２を稼動させて貯水サンプルビン３３１から水を送出する。この際、制御部３７０は、試料液と水とが混合することによってクロマト用チップ３０１に供給される試料液のメタノール濃度が５０％となるよう、送液ポンプ３３２，３３４を制御して、試料液及び水の送出速度を調整する。
【０２１８】
そして、制御部３７０は、適切な流速でクロマト用チップ３０１に試料液を供給できる開度だけ制御弁３３５を開き、クロマト用チップ３０１の流路３０３への試料液の供給を行なう。この際、流通させる試料液の量は任意であるが、本実施形態では、試料液はプール部３０６に充填された吸着剤の体積量だけ流通させるようになっているものとする。これにより、試料液の損失を防止できるという利点を得ることができる。
【０２１９】
試料液供給部３３０から送出された試料液は、クロマト用チップ３０１の導入口３０４ａ、導入流路部３０４を介してプール部３０６に進入する。プール部３０６内では、試料液中のα−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とが吸着剤に吸着し、その他の成分（主に、移動相である水とメタノール）は送出流路部３０７，３０８及び送出口３０７ａ，３０８ａを介して分画回収部３５０に送出される。
【０２２０】
分画回収部３５０では、切替弁３５４が送出口３０７ａ，３０８ａと第３回収サンプルビン３５３とを連通させるように切り替わっているため、送出口３０７ａ，３０８ａから送出された試料液は第３回収サンプルビン３５３に貯められる。
こうして、吸着工程により、プール部３０６内の吸着剤に目的物質が吸着する。
なお、吸着工程が完了したら、制御部３７０は制御弁３３５を制御して閉状態にさせるとともに、送液ポンプ３３２，３３４を停止する。
【０２２１】
［Ｉ−３−３−５−３．溶出工程］
吸着工程の後、制御部３７０は、クロマト用チップ３０１の流路３０３に溶出液を流通させる溶出工程を行なうよう制御をする。また、本実施形態では、溶出工程として、溶出液のメタノール濃度に応じて、５０％分画溶出工程、６０％分画溶出工程、７０％分画溶出工程、８０％分画溶出工程、９０％分画溶出工程及び１００％分画溶出工程を行なう。以下、それぞれの溶出工程について説明する。
【０２２２】
［Ｉ−３−３−５−３−１．５０％分画溶出工程］
５０％分画溶出工程では、制御部３７０は、送液ポンプ３４２を稼動させて貯水タンク３３１から水を送出すると共に、送液ポンプ３４４を稼動させてメタノールサンプルビン３４３からメタノールを送出する。この際、制御部３７０は、試料液と水とが混合することによってクロマト用チップ３０１に供給される試料液のメタノール濃度が５０％となるよう、送液ポンプ３４２，３４４を制御して、水及びメタノールの送出速度を調整する。
【０２２３】
そして、制御部３７０は、切替弁３５４を制御して送出口３０７ａ，３０８ａと第１回収サンプルビン３５１とを連通させるように切替弁３５４を切り替えると共に、適切な流速でクロマト用チップ３０１に溶出液を供給できる開度だけ制御弁３４５を開き、クロマト用チップ３０１の流路３０３への溶出液の供給を行なう。この際、流通させる溶出液の量は任意であるが、本実施形態では、試料液はプール部３０６に充填された吸着剤の体積量だけ流通させるようになっているものとする。これにより、溶出液の損失を防止できるという利点を得ることができる。
【０２２４】
溶出液供給部３４０から送出されたメタノール濃度５０％の溶出液は、クロマト用チップ３０１の導入口３０５ａ、導入流路部３０５を介してプール部３０６に進入する。プール部３０６内では、吸着剤に吸着したα−メチルグルコシドのトシル体（目的物質）が吸着剤から脱着し、溶出液とともに送出流路部３０７，３０８及び送出口３０７ａ，３０８ａを介して分画回収部３５０に送出される。
【０２２５】
分画回収部３５０では、切替弁３５４が送出口３０７ａ，３０８ａと第１回収サンプルビン３５１とを連通させるように切り替わっているため、送出口３０７ａ，３０８ａから送出された試料液は第１回収サンプルビン３５１に貯められる。
メタノール濃度５０％の溶出液を流通させた場合には、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体は吸着剤から脱着するが、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体は吸着剤から脱着しないため、第１回収サンプルビン３５１に貯められた溶出液は、目的物質を含むが不純物は含まない。
したがって、５０％分画溶出工程により、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第１回収サンプルビン３５１に回収することができる。
【０２２６】
［Ｉ−３−３−５−３−２．６０％分画溶出工程］
６０％分画溶出工程では、制御部３７０は、溶出液のメタノール濃度を６０％とする点、及び、切替弁３５４が５０％分画溶出工程で既に送出口３０７ａ，３０８ａと第１回収サンプルビン３５１とを連通させるように切り替わっているため切替弁３５４を切り替える必要がない点の他は、５０％分画溶出工程と同様の制御を行ない、メタノール濃度６０％の溶出液を第１回収サンプルビン３５１に回収する。
【０２２７】
メタノール濃度６０％の溶出液を流通させた場合にも、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体は吸着剤から脱着するが、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体は吸着剤から脱着しないため、第１回収サンプルビン３５１に貯められた溶出液は、目的物質を含むが不純物は含まない。
したがって、６０％分画溶出工程により、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第１回収サンプルビン３５１に回収することができる。
【０２２８】
［Ｉ−３−３−５−３−３．７０％分画溶出工程］
７０％分画溶出工程では、制御部３７０は、溶出液のメタノール濃度を７０％とする点、及び、切替弁３５４が５０％分画溶出工程で既に送出口３０７ａ，３０８ａと第１回収サンプルビン３５１とを連通させるように切り替わっているため切替弁３５４を切り替える必要がない点の他は、５０％分画溶出工程と同様の制御を行ない、メタノール濃度７０％の溶出液を第１回収サンプルビン３５１に回収する。
【０２２９】
メタノール濃度７０％の溶出液を流通させた場合にも、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体は吸着剤から脱着するが、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体は吸着剤から脱着しないため、第１回収サンプルビン３５１に貯められた溶出液は、目的物質を含むが不純物は含まない。
したがって、７０％分画溶出工程により、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第１回収サンプルビン３５１に回収することができる。
【０２３０】
［Ｉ−３−３−５−３−４．８０％分画溶出工程］
８０％分画溶出工程では、制御部３７０は、溶出液のメタノール濃度を８０％とする点、及び、切替弁３５４を送出口３０７ａ，３０８ａと第２回収サンプルビン３５２とを連通させるように切り替える点の他は、５０％分画溶出工程と同様の制御を行ない、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第２回収サンプルビン３５２に回収する。
【０２３１】
メタノール濃度８０％の溶出液を流通させた場合には、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体も、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体も、ともに吸着剤から脱着するため、第２回収サンプルビン３５２に貯められた溶出液は、目的物質も不純物も共に含むこととなる。
【０２３２】
［Ｉ−３−３−５−３−５．９０％分画溶出工程］
９０％分画溶出工程では、制御部３７０は、溶出液のメタノール濃度を９０％とする点、及び、切替弁３５４が８０％分画溶出工程で既に送出口３０７ａ，３０８ａと第２回収サンプルビン３５２とを連通させるように切り替わっているため切替弁３５４を切り替える必要がない点の他は、５０％分画溶出工程と同様の制御を行ない、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第２回収サンプルビン３５２に回収する。
【０２３３】
メタノール濃度９０％の溶出液を流通させた場合にも、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体も、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体も、ともに吸着剤から脱着するため、第２回収サンプルビン３５２に貯められた溶出液は、目的物質も不純物も共に含むこととなる。
【０２３４】
［Ｉ−３−３−５−３−６．１００％分画溶出工程］
１００％分画溶出工程では、制御部３７０は、溶出液のメタノール濃度を１００％とする点（即ち、送液ポンプ４２を停止して水を供給しないようにする点）、及び、切替弁３５４を送出口３０７ａ，３０８ａと第３回収サンプルビン３５３とを連通させるように切り替える点の他は、５０％分画溶出工程と同様の制御を行ない、プール部３０６内の吸着剤に吸着していた目的物質を第３回収サンプルビン３５３に回収する。
【０２３５】
メタノール濃度１００％の溶出液を流通させた場合には、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体は前出までの操作により全量脱着してしまい、不純物であるα−メチルグルコシドのジトシル体のみが吸着剤から脱着するため、第３回収サンプルビン３５３に貯められた溶出液は、不純物を含むが目的物質は含まない。
したがって、第３回収サンプルビン３５３に貯められた溶出液は、廃液として廃棄されることになる。
【０２３６】
なお、溶出工程が完了したら、制御部３７０は送液ポンプ３４２，３４４を停止し、制御弁３４５を閉状態にする。
【０２３７】
［Ｉ−３−３−５−４．その他の工程］
上記のようにして、第１回収サンプルビン３５１に目的物質を含むが不純物を含まない溶出液を得ることができ、これにより、目的物質と不純物とを分離して目的物質の分離精製を行なうことができる。また、本実施形態によれば、目的物質を高純度で、かつ、高回収率で分離精製することができる。
【０２３８】
また、本実施形態では、上記の工程に加え、適宜、その他の工程を行うようにしてもよい。
例えば、再分離工程を行なうようにしてもよい。再分離工程では、目的物質と不純物とを共に含む第２回収サンプルビン３５２内の溶出液に対して、再度上記の吸着工程及び溶出工程を行なうことで、目的物質の損失量をより抑制しながら目的物質の分離精製を行なうものである。
【０２３９】
本実施形態では、再分離工程を行なう場合、制御部３７０が送液ポンプ３５５を制御して第２回収サンプルビン３５２内の溶出液を再分離用還流部３６０の貯蔵サンプルビン３６１に送る。貯蔵サンプルビン３６１に送られた溶出液は、一度、貯蔵サンプルビン３６１内に貯蔵される。
貯蔵サンプルビン３６１では、センサ３６４が貯蔵サンプルビン３６１に貯められた溶出液中のメタノール濃度を検出しており、その濃度は、制御部３７０に送られる。
【０２４０】
第２回収サンプルビン３５２内の溶出液を貯蔵サンプルビン３６１内に送り終わると、制御部３７０は、送液ポンプ３６２を稼動させると共に制御弁３６３を開き、貯蔵サンプルビン３６１内の溶出液をサンプルビン３３３に送る。サンプルビン３３３に送られた溶出液は、上記のように目的物質を含むメタノール水溶液であるため、試料液として用いることができる。したがって、貯蔵サンプルビン３６１から送られた溶出液を試料液に用いて、再度、上述した吸着工程及び溶出工程を行なうことにより、目的物質の損失量をより抑制しながら目的物質の分離精製を行なうことができる。ただし、最初に用いた試料液とは異なり、貯蔵サンプルビン３６１から送られた溶出液を試料液に用いた場合にはその試料液のメタノール濃度をあらかじめ設定したり測定したりしておくことは難しい。そこで、制御部３７０は、センサ３６４が検出したメタノール濃度を用い、送液ポンプ３３２，３３４の制御を行なって、吸着工程においてクロマト用チップ３０１に供給する試料液のメタノール濃度を５０％にするようにする。
【０２４１】
また、例えば、吸着工程の前、溶出工程の後などに、適宜、クロマト用チップ３０１に再生液を流通させて吸着剤を再生する再生工程や、クロマト用チップ３０１に洗浄液を流通させて吸着剤及びクロマト用チップ３０１内の流路３０３を洗浄する洗浄工程を行うようにしてもよい。
【０２４２】
［Ｉ−４．ろ過用マイクロチップ］
ろ過用マイクロチップ（以下適宜、「ろ過用チップ」という）は、固体を含有する流体を流路に流通させ、その流路を流通する間に、流体中に含まれる固体をろ過する化学操作用チップである。
【０２４３】
図１９〜図２１は、本実施形態のマイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるろ過用マイクロチップの一実施形態について示すもので、図１９はろ過用マイクロチップの模式的な上面図であり、図２０はろ過用マイクロチップの模式的な斜視図であり、図２１はろ過用マイクロチップのダム部近傍を拡大して示す模式的な断面図である。なお、図２０において流路、ダム部及び支柱部の厚みを描画していないが、これらは厚みが非常に小さいために描画しなかったものであり、実際には厚み（或いは深さ）を有する３次元的な構造を有している。
【０２４４】
図１９、図２０に示すように、ろ過用チップ４０１は、基板４０２に流路４０３が形成されたものである。また、流路４０３は、導入流路部４０４，４０５と、プール部４０６と、送出流路部４０７，４０８とを備えている。さらに、本実施形態のろ過用チップ４０１のプール部４０６には、ダム部４０９と支柱部４１０とが形成されている。
【０２４５】
［Ｉ−４−１．基板］
基板４０２は、第１反応用マイクロチップの基板１０２、第２反応用マイクロチップの基板２０２、クロマトグラフィー用マイクロチップの基板３０２などとして説明したものと同様である。本実施形態では、縦７０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚み１．４ｍｍの寸法で平板形状に形成された透明なガラス製の基板を用いているものとする。また、この基板４０２は、流路４０３を凹部として形成した下板４０２ａに、流路４０３に蓋をするための上板４０２ｂを接着することにより基板４０２内に流路４０３を形成しているものとする。即ち、基板４０２は下板４０２ａと上板４０２ｂとにより形成され、下板４０２ａと上板４０２ｂとの接着面に沿って流路４０３が２次元的に形成されているのである。
【０２４６】
［Ｉ−４−２．流路］
流路４０３は、基板４０２の内部に形成されたもので、上記の通り、導入流路部４０４，４０５と、プール部４０６と、送出流路部４０７，４０８とを備えている。
【０２４７】
［Ｉ−４−２−１．導入流路部］
導入流路部４０４，４０５は、ろ過により固体成分とその他の成分（通常は、液体成分や気体成分などの流体成分）とに分離する対象である試料液、固体成分の乾燥に用いるガス、固体成分の回収に用いる交換溶媒などの流体が流路４０３に入るための導入用の流路部であり、この導入流路部４０４，４０５を介して、プール部４０６に上記の試料液などの流体が導入されるようになっている。
【０２４８】
導入流路部４０４，４０５の具体的な構成に制限は無いが、通常は、導入流路部４０４，４０５はそれぞれ上流端部に導入口４０４ａ，４０５ａを有していて、この導入口４０４ａ，４０５ａを介して外部から対応する試料液等の流体を導入されるようになっている。
また、導入流路部４０４，４０５は少なくとも１本だけ形成されていれば良いが、流路４０３に導入するものの種類、組成、目的などに応じて、２本以上形成するようにしても良い。
【０２４９】
本実施形態では、導入流路部４０４，４０５は同じ長さに形成された２本の流路部によって構成されていて、さらに、導入流路部４０４，４０５は、それぞれ円弧状の流路形状となるように形成されているものとする。また、導入流路部４０４，４０５は、その下流にはプール部４０６が接続されていて、導入流路部４０４と導入流路部４０５とはプール部４０６の直前で合流しているものとする。
さらに、本実施形態では、導入口４０４ａ，４０５ａは、それぞれ導入流路部４０４，４０５の上流端と基板４０２の外部とを連通する孔として上板４０２ｂに形成されているものとする。
【０２５０】
また、導入流路部４０４，４０５の寸法に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。具体的な寸法としては、例えば、導入流路部４０４，４０５の幅は、通常５０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは３００μｍ以上とすることが望ましい。上記範囲の下限を下回ると流体の圧力が上昇しすぎる虞があるためである。また、上限については特に制限は無いが、通常２０００μｍ以下、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下である。
【０２５１】
さらに、導入流路部４０４，４０５の深さは、通常２０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは１００μｍ以上、また、通常１０００μｍ以下、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。
【０２５２】
［Ｉ−４−２−２．プール部］
プール部４０６は、導入流路部４０４，４０５の下流に形成された流路部であり、このプール部４０６において、ろ過による分離が行なわれるようになっている。
プール部４０６の寸法に制限は無いが、その幅方向の距離を大きく形成することが望ましい。通常、ダム部４０９はプール部４０６の幅方向に延在して形成されるため、プール部４０６の幅方向を大きくすることにより、ろ過を行なう開口（後述する隙間４１１参照）の開口面積を大きくして、効率的なろ過を行なうことが可能となるためである。したがって、プール部４０６は、流路４０３内の他の流路部４０４，４０５，４０７，４０８よりも幅広に形成することが好ましく、また、ダム部４０９は、流路４０３内の最も幅広の位置に形成することが好ましい。
【０２５３】
プール部４０６の幅の寸法は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定することができるが、例えば、通常５０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは３００μｍ以上、また、通常３０ｍｍ以下とすることが望ましい。この範囲の下限を下回ると槽を形成しがたくなる虞があり、上限を上回ると流体が偏流する虞がある。
【０２５４】
また、プール部４０６の深さの寸法も、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定することができるが、例えば、通常５０μｍ以上、好ましくは１００μｍ以上、より好ましくは３００μｍ以上、また、通常２０００μｍ以下、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下とすることが望ましい。この範囲の下限を下回ると槽を形成しがたくなる虞があり、上限を上回ると取り抜き量が大きくなりすぎる虞がある。
【０２５５】
さらに、プール部４０６の長さ（流れ方向の距離）の寸法も、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定することができるが、例えば、通常０．２ｍｍ以上、好ましくは２ｍｍ以上、より好ましくは２０ｍｍ以上、また、通常１０００ｍｍ以下、好ましくは７００ｍｍ以下、より好ましくは７０ｍｍ以下とすることが望ましい。この範囲の下限を下回ると槽を形成し難くなる虞があり、上限を上回ると取り抜き量が大きくなりすぎる虞がある。
【０２５６】
また、プール部４０６の流路形状も、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、プール部４０６の上流側部分においては、プール部４０６と導入流路部４０４，４０５との接続地点から下流へ向けて、プール部４０６の流路形状が滑らかに形成されることが望ましい。例えば、プール部４０６と導入流路部４０４，４０５との接続地点から下流に行くにしたがってプール部４０６が滑らかに幅広になるように形成すれば、プール部４０６に流入した試料液や溶出液などの流体（樹脂などの粒子を含有するものも含む）がプール部４０６の各部位に均一に流れ込むことができるようになり、分離精製の効率向上が可能となる。
【０２５７】
一方、プール部４０６の下流側部分においても、プール部４０６と送出流路部４０７，４０８との接続地点へ向けて、プール部４０６の流路形状が滑らかに形成されることが望ましい。例えば、プール部４０６と送出流路部４０７，４０８との接続地点へ滑らかに傾斜するような流路形状にプール部４０６を形成すれば、プール部４０６の試料液などの流体を効率よくプール部４０６から送出することができるようになる。また、流路４０３に液体を流通させた場合に、プール部４０６内に存在する気体が気泡としてプール部４０６に残留することを防止することも可能となる。
【０２５８】
また、プール部４０６には、ダム部４０９が形成されている。このダム部４０９は、図２１に示すように、プール部４０６内の幅方向に交差する向きの一端から他端まで延在するように形成されたものであり、その全体において、固体成分が通過できない大きさの隙間４１１を形成できるようになっている。また、ダム部４０９は、通常、プール部４０６の底面４０６ａ、側面４０６ｂ，４０６ｃ、天井面４０６ｄなどの流路４０２の内面が凸に形成されることで構成されている。ただし、通常は、固体成分はプール部４０６の底部に貯まるため、ろ過を円滑に行なう観点からは、ダム部４０９はプール部４０６の底面４０６ａを凸に形成することによって構成することが望ましい。
また、隙間４１１は、通常、この凸状のダム部４０９と、ダム部４０６と対向する流路４０３の内面（天井面４０６ｄ参照）との間に形成されるようになっていて、その大きさは、上記の固体成分の粒径よりも小さくなるようになっている。
【０２５９】
上記の隙間４１１が固体成分の粒径よりも小さく形成されることにより、固体成分はダム部４０９を通過してダム部４０９よりも下流には進行することはできず、これによって、ろ過用チップ４０１を用いたろ過が可能となっている。したがって、上記の隙間４１１の大きさはろ過しようとする固体成分の粒径を基に設定することが望ましい。具体的な隙間４１１の大きさに制限は無いが、通常５μｍ以下、好ましくは３μｍ以下が望ましい。この範囲の上限を上回ると、固体成分が流出する虞がある。一方、下限にも特に制限は無いが、通常０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上が望ましい。この範囲の下限を下回ると、上部基板と下部基板とが接着する虞がある。
【０２６０】
また、分離しようとする固体成分の粒径があらかじめ判明している場合、上記の隙間４１１の大きさは、固体成分の平均粒径に対して、通常５０％以下、好ましくは３０％以下、より好ましくは１０％以下に設定することが望ましい。これにより、固体成分が隙間４１１を通過してダム部４０９よりも下流に進行することを確実に防止することができる。
【０２６１】
また、上記のダム部４０９が延在する方向は、流路４０３の流れ方向（ここでは、プール部４０６内を流れる液体の流れ方向）に交差する方向であれば他に制限は無い。この方向に形成されることにより、ダム部４０９は、上記の交差する方向の一端から他端までの全体において、流路４０３内を流れる液体の流れを遮ることができ、これにより、ダム部４０９より下流に固体成分が進行することを確実に防止できると共に、効率的なろ過が可能となる。
【０２６２】
ただし、通常は、ダム部４０９が延在する方向は、流路４０３の流れ方向に直交する方向とすることが好ましい。流路４０３の流れ方向に直交する方向以外の方向に延在するようにダム部４０９を形成すると、プール部４０６内において、せき止められた固体成分が貯まる位置に偏りが生じ、効率的なろ過を行なうことが難しくなる場合があるためである。
【０２６３】
また、ダム部４０９の形状は本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。例えば、その断面形状は、流路４０３の内面がなだらかに連続的に突出した形状でもよく、不連続に突出した形状であってもよい。
また、ダム部４０９が延在する形状は直線状でもよく、曲線状でもよく、両者を組み合わせた形状でもよい。
【０２６４】
本実施形態においては、ダム部４０９は、プール部４０６の底面４０６ａが、プール部４０６の幅が最大となる位置において、突出して形成されている。また、ダム部４０９は、プール部４０６の一側面４０６ｂから他側面４０６ｃにかけて、プール部４０６の流れ方向に直交する方向に延在する直方体状の壁部として形成されている。さらに、ダム部４０９は、その上端部４０９ａとプール部４０６の天井面４０６ｄとの間で隙間４１１を形成するようになっていて、この隙間４１１の大きさは、分離対象である固体成分の粒径より小さくなっているものとする。
【０２６５】
さらに、ダム部４０９は、ダム部４０９が延在する方向のいずれの位置においても、その高さがプール部４０６の深さよりも特定長さだけ小さくなるように形成されている。この特定長さが上記の隙間４１１の大きさとなり、プール部４０６に固体成分が存在している際に、その固体成分の粒径よりも小さい長さとなるようになっている。したがって、プール部４０６内の固体成分は、その粒子が隙間４１１を通り抜けることができなくなるため、プール部４０６内のダム部４０９より上流に貯まるようになっている。
【０２６６】
また、流路４０２の中でもプール部４０６には、基板４０２のたわみを防止するたわみ防止部として支柱部４１０を形成することが好ましい。
通常、ろ過用チップ４０１は非常に薄い板状部材として形成されるため、外部から何らかの力が加わった場合、温度が変化した場合、流路４０３内を流れる液体の圧力が変化した場合などにたわむことがある。また、基板４０２を下板４０２ａと上板４０２ｂとを熱融着させて形成する場合には、熱融着時に基板４０２にたわみが生じる場合もある。ここで、上記のダム部４０９に形成された隙間４１１の大きさが非常に小さいことから、上記のたわみが生じた場合には隙間４１１の大きさが変化する虞がある。隙間４１１の大きさが変化した場合、例えば隙間４１１が大きくなると固体成分がダム部４０９を通過してろ過ができなくなる虞があり、また、例えば隙間４１１が小さくなると隙間４１１の開口が小さくなって効率的なろ過ができなくなったり隙間４１１が閉塞してろ過が不可能となる虞がある。支柱部４１０は、これを防止するために形成されるもので、支柱部４１０によってたわみを防止すれば、上記のようなろ過ができなくなったりろ過の効率が低下したりすることを防止できるようになる。
【０２６７】
支柱部４１０は、たわみを防止できる限りその構成は任意であるが、通常は、流路４０３内の内面のうち、対向する面を支持するべく両面間に延在して形成された柱状部として形成される。具体的には、例えば、流路４０３の底面と天井面とを連結して支持する柱部や、流路４０３の一側面と他側面とを連結して支持する梁部として形成することができる。
【０２６８】
また、支柱部４１０を設ける位置は、流路４０３内において基板４０２のたわみを抑制することができる限り任意であるが、上記の隙間４１１の大きさの変化を抑制し、安定して効率的なろ過を行なう観点からは、支柱部４１０はダム部４０９の近傍に形成することが好ましい。また、支柱部４１０を、ダム部４０９に隣接して形成したり、ダム部４０９上に形成して、ダム部４０９と一体に形成するようにしてもかまわない。
【０２６９】
さらに、支柱部４１０の数も任意であるが、１個を単独でも受けてもよく、２個以上を設けるようにしてもよい。
また、支柱部４１０の寸法も、基板４０２のたわみを抑制できる限り任意であるが、その太さ（径）は、通常２０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは１００μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下とすることが望ましい。この範囲の下限を下回ると支柱部４１０の強度が弱くなる虞があり、上限を上回ると固体成分粒子の層形成の妨げとなる虞がある。
【０２７０】
本実施形態では、プール部４０６のダム部４０９よりも下流側に３個の支柱部４１０を形成してあるものとする。また、支柱部４１０はプール部４０６の幅方向に一定間隔で均等に設けられ、また、ダム部４０９に形成された隙間４１１の大きさが変化しないようにできる程度に基板４０２のたわみを防止できるよう、ダム部４０９の近傍に形成されているものとする。
なお、本実施形態のダム部４０９は、支柱部４１０の一種である梁部としても機能し、基板４０２が幅方向にたわむことを防止している。
【０２７１】
［Ｉ−４−２−３．送出流路部］
送出流路部４０７，４０８は、プール部４０６の下流に設けられた流路部であり、プール部４０６から上記の試料液、固体成分の乾燥に用いるガス、固体成分の回収に用いる交換溶媒などの流体を流路４０３の外部に送出するためのものである。
【０２７２】
送出流路部４０７，４０８は少なくとも１本形成するようにすればよいが、２本以上形成するようにすると、流路４０３内の圧力損失を低下させることが可能となり、ろ過用チップ４０１の破損や、送出流路部４０７，４０８よりも上流においてチューブやコネクタ（図示省略）から液体や気体が漏れることなどを防止することができるため、好ましい。
また、送出流路部４０７，４０８の寸法は任意であるが、例えば、導入流路部４０４，４０５と同様に設定することができる。
【０２７３】
本実施形態においては、送出流路部４０７，４０８はプール部４０６の下流に２本形成されているものとする。また、この送出流路部４０７，４０８の下流端部には、それぞれ送出流路部４０７，４０８と基板４０２の外部とを連通する孔として、上板４０２ｂに送出口４０７ａ，４０８ａが形成されて、この送出口４０７ａ，４０８ａを介して流路４０３から外部へと液体が送出されるようになっているものとする。
【０２７４】
［Ｉ−４−３．分離方法］
上記のろ過用チップ４０１を用いれば、ろ過により、試料液等の流体に含まれる固体成分とその他の成分とを分離することができ、これにより、例えば、試料液中の目的物質を析出させて固体化し、それをろ過して分離・精製を行なうことができる。
【０２７５】
この場合、例えば、流路４０３に試料液を流通させて流路４０３内に固体成分を貯め（ろ過工程）、その後、流路４０３に交換溶媒を流通させて固体成分を交換溶媒に溶解させて回収する（溶媒交換工程）ようにすればよい。また、この際、流路４０３内で試料液を冷却して試料液中に固体成分を析出させたり、流路４０３内に固体成分を貯めたときに流路４０３内に残留した液体成分を乾燥除去したり、流路４０３に洗浄液を流通して固体成分の洗浄を行なったりしてもよい。
【０２７６】
以下、上記のろ過用チップ４０１を用いた分離方法の一実施形態として、α−メチルグルコシドのトシル体を水に溶解させた試料液から、固体成分としてα−メチルグルコシドのトシル体を分離・精製する場合を例に挙げて、分離方法について説明する。
【０２７７】
［Ｉ−４−３−１．試料液］
本実施形態のろ過用チップ４０１を用いて分離を行なう試料液に制限はなく、ろ過用チップ４０１を用いてろ過を行なうことができる限り任意の液を用いることができる。また、固体成分は、少なくとも流路４０３内のダム部４０９の直前（本実施形態では、プール部４０６のダム部４０９より上流側）において固体状態となっていればよく、必ずしも分離前に常に固体状態になっていなくてもよい。
【０２７８】
例えば、試料液は、分散媒中に何らかの固体成分が分散した分散液であってもよく、また、溶媒中に何らかの固体成分が溶解した溶液であってもよい。試料液が分散液状態である場合、導入流路部４０４，４０５の大きさ（流路の径、深さ、幅など）を分散液中の固体成分が流通できる程度の大きさに形成すれば、ろ過用チップ４０１を用いてろ過を行なうことができる。一方、試料液が溶液状態である場合には、当該溶媒を流路４０３内で冷却することなどにより固体成分を流路４０３内のダム部４０９より上流で析出させるようにすれば、ろ過用チップ４０１を用いて適切にろ過を行なうことができる。
【０２７９】
さらに、本実施形態のろ過用チップ４０１の場合、導入流路部４０４，４０５それぞれから別の液体を導入し、それらの液体が混合することによって固体成分が生じるようにしてもよい。この場合、混合後の液体が試料液となる。例えば、プール部４０６のダム部４０９よりも上流の部位において、互いに反応する化学種を含む液体を混合して反応を生じさせて固体成分を生成させてもよい。
本実施形態では、水に、固体成分であるα−メチルグルコシドのトシル体が溶解した試料液を用いるものとして説明を行なう。
【０２８０】
［Ｉ−４−３−２．分離装置］
上記のろ過用チップ４０１を用いてろ過を行なう場合に用いる分離装置に制限はなく、固体成分の分離が可能である限り任意の構成の装置を用いることができる。ここでは、図２２に示す分離装置を用いたものとして説明を行なう。なお、図２２は本実施形態の分離装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
この分離装置は、ろ過用チップ４０１と、試料液供給部４３０と、乾燥用ガス供給部４４０と、交換溶媒供給部４５０と、回収部４６０と、制御部４７０とを備えている。
【０２８１】
［Ｉ−４−３−２−１．ろ過用チップ］
本実施形態の分離装置は、ろ過用チップ４０１を備える。この際、ろ過用チップ４０１は着脱可能に構成することが好ましい。本実施形態においては、ろ過用チップ４０１は、チップホルダ４２０に保持されているものとする。
【０２８２】
チップホルダ４２０の様子を、図８に模式的に示す。この図８に示すように、チップホルダ４２０は、上記ろ過用チップ４０１を保持するためのものであり、下部ホルダ４２１と上部ホルダ４２２とから構成されていてろ過用チップ４０１を下部ホルダ４２１と上部ホルダ４２２との間に介装することで、チップホルダ４２０にろ過用チップ４０１を保持できるようになっている。なお、図２２においては、チップホルダ４２０に装着したろ過用チップ４０１を１点鎖線で示してある。
【０２８３】
さらに、下部ホルダ４２１及び上部ホルダ４２２にはそれぞれ制御部４７０の制御にしたがって温度の調整が可能な温度制御素子（図示省略）が形成されていて、この温度制御素子の温度を制御することで、ろ過用チップ４０１の流路４０３内の温度を調整することができるようになっている。
【０２８４】
また、上部ホルダ４２２には、試料液供給部４３０からの試料液及び溶出液供給部４４０からの溶出液をそれぞれろ過用チップ４０１の導入口４０４ａ，４０５ａに案内するための案内流路（図示省略）が形成されている。さらに、上部ホルダ４２２には、ろ過用チップ４０１の送出口４０７ａ，４０８ａから流出する液体を回収部４６０に案内するための案内流路（図示省略）も形成されている。これらの案内流路はチューブやコネクタ等の配管を介してそれぞれ試料液供給部４３０、乾燥用ガス供給部４４０、交換溶媒供給部４５０及び回収部４６０に接続され、これにより、試料液供給部４３０、乾燥用ガス供給部４４０及び交換溶媒供給部４５０から導入流路部４０４，４０５への試料液、乾燥用ガス及び交換溶媒等の供給、並びに、送出流路部４０７，４０８から回収部４６０への流路４０３流通後の液体の送出を行なうことができるようになっている。
【０２８５】
［Ｉ−４−３−２−２．試料液供給部］
試料液供給部４３０は、ろ過用チップ４０１に向けて試料液を供給する部分である。本実施形態では、試料液供給部４３０は、サンプルタンク４３１、送液ポンプ４３２、制御弁４３３、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０２８６】
サンプルタンク４３１には試料液が貯蔵されていている。なお、サンプルタンク４３１内においては、試料液中の固体成分は固体状態となっていてもよく、試料液中で溶媒に溶解していても良い。ただし、固体成分が固体状態となっている場合には、固体成分の粒径は、配管や導入流路部４０４，４０５よりも小さくなっていて、固体成分がろ過用チップ４０１内のプール部４０６にまで流入できるようになっていることが望ましい。
【０２８７】
また、送液ポンプ４３２は、サンプルタンク４３１に貯蔵されている試料液をろ過用チップ４０１に向けて送出するためのものであり、サンプルタンク４３１の下流に接続されている。この送液ポンプ４３２は、制御部４７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部４７０の制御にしたがってサンプルタンク４３１から送出される試料液の送出量を調整できるようになっている。なお、図２２において、制御部４７０からの制御を破線の矢印で示す。
【０２８８】
さらに、制御弁４３３は、送液ポンプ４３２の下流に接続されている。また、この制御弁４３３は、制御部４７０によって制御され、上記の試料液の流量を制御するようになっている。具体的には、制御部４７０の制御にしたがってその開度を調整することなどにより、試料液を流すか否か、また、試料液をどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
そして、制御弁４３３は配管を介してろ過用チップ４０１の導入口４０４ａ，４０５ａに接続され、試料液をろ過用チップ４０１内の流路４０３に導入できるようになっている。
【０２８９】
［Ｉ−４−３−２−３．乾燥用ガス供給部］
乾燥用ガス供給部４４０は、ろ過用チップ４０１に向けて乾燥用ガスを供給する部分である。本実施形態では、乾燥用ガス供給部４４０は、ガスボンベ４４１、制御弁４４２、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０２９０】
ガスボンベ４４１には、乾燥用ガスが貯蔵されている。ここで、乾燥用ガスとは、流路４０３内の液体を乾燥除去する際に流路４０３内を流通させるガスである。通常、ろ過後に流路４０３内には固体成分のみでなく試料液中に含まれていた液体が残留する。また、その他の場合でも、流路４０３内に液体が残留する場合がある。このような場合、固体成分はいわば湿った状態であり、固体成分を湿らせる液体が不純物として共存している状態となっている。したがって、固体成分を高純度で分離するためには、上記の液体を除去することが望ましい。そこで、乾燥用ガスを流路４０３内に流通させることにより、流路４０３内に残留した液体を乾燥除去するのである。
【０２９１】
乾燥用ガスの種類に制限は無いが、乾燥用ガスと、流路４０３内の個体成分や液体等とが反応すると固体成分の純度が低下する虞があるため、通常は、例えば窒素ガスや希ガスなどの不活性ガスを用いることが好ましい。また、乾燥用ガスは１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
本実施形態では、乾燥用ガスとして、窒素ガスを用いているものとする。
【０２９２】
また、制御弁４４２は、ガスボンベ４４１の下流に接続されている。また、この制御弁４４２は、制御部４７０によって制御され、上記の乾燥用ガスの流量を制御するようになっている。具体的には、制御部４７０の制御にしたがってその開度を調整することなどにより、乾燥用ガスを流すか否か、また、乾燥用ガスをどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
そして、制御弁４４２は配管を介してろ過用チップ４０１の導入口４０４ａ，４０５ａに接続され、乾燥用ガスをろ過用チップ４０１内の流路４０３に導入できるようになっている。
【０２９３】
［Ｉ−４−３−２−３．交換溶媒供給部］
交換溶媒供給部４５０は、ろ過用チップ４０１に向けて交換溶媒を供給する部分である。本実施形態では、交換溶媒供給部４５０は、交換溶媒タンク４５１、送液ポンプ４５２、制御弁４５３、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものとする。
【０２９４】
交換溶媒タンク４５１には交換溶媒が貯蔵されている。ここで、交換溶媒とは、流路４０３内の固体成分を溶解させる溶媒であり、本実施形態の分離装置では、ろ過分離されて流路４０３内に貯められた固体成分を、この交換溶媒に溶解させて流路４０３から回収部４６０に送出させ、固体成分の回収を行なうようになっている。なお、以下適宜、固体成分を交換溶媒に溶解させた溶液を「交換後溶液」という。
【０２９５】
交換溶媒の種類に制限は無く、固体成分を溶解させることができれば任意の溶媒を用いることができる。具体的な交換溶媒の種類は、通常、固体成分の種類に応じて選択されるが、例えば、メタノール、エタノールなどがしばしば用いられる。また、交換溶媒は１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
本実施形態では、交換溶媒として、メタノールを用いているものとする。
【０２９６】
また、送液ポンプ４５２は、交換溶媒タンク４５１に貯蔵されている交換溶媒をろ過用チップ４０１に向けて送出するためのものであり、交換溶媒タンク４５１の下流に接続されている。この送液ポンプ４５２も、制御部４７０により稼動を制御されるようになっていて、制御部４７０の制御にしたがって交換溶媒タンク４５１から送出される交換溶媒の送出量を調整できるようになっている。
【０２９７】
さらに、制御弁４５３は、送液ポンプ４５２の下流に接続されている。また、制御弁４５３は、制御部４７０によって制御され、上記の交換溶媒の流量を制御するようになっている。具体的には、制御部４７０の制御にしたがってその開度を調整することなどにより、交換溶媒を流すか否か、また、交換溶媒をどれだけの速さで流すのかを制御できるようになっている。
そして、制御弁４５３は配管を介してろ過用チップ４０１の導入口４０４ａ，４０５ａに接続され、交換溶媒をろ過用チップ４０１内の流路４０３に導入できるようになっている。
【０２９８】
［Ｉ−４−３−２−４．回収部］
回収部４６０は、ろ過用チップ４０１内の流路４０３から送出されるものを回収する部分であり、本実施形態では、目的物質回収タンク４６１、流路減圧部４６２、廃液回収タンク４６３、切替弁４６４、並びに、これらを接続するコネクタやチューブ等で構成された配管を備えて構成されているものである。
【０２９９】
目的物質回収タンク４６１は、流路４０３から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収するためのタンクである。通常は、固体成分を交換溶媒に溶解させた交換後溶液を回収するようになっている。この場合、この目的物質回収タンク４６１に交換後溶液を回収し、この交換後溶液から交換溶媒を除去することにより、高純度の固体成分を得ることができる。
【０３００】
また、流路減圧部４６２は、ろ過用チップ４０１内の流路４０３の内部を減圧させるためのものである。この減圧は、流路４０３内に残留した液体を乾燥除去する際、当該乾燥をより速やかに行なうために行なわれる。
流路減圧部４６２の構成に制限は無いが、本実施形態では、流路減圧部４６２は、真空トラップ４６５と真空ポンプ４６６とを備えているものとする。また、真空トラップ４６５は配管等を介して流路４０３の送出口４０７ａ，４０８ａに接続されていて、真空ポンプ４６６によって真空トラップ４６５内の空気を引くことにより、流路４０３内を減圧できるようになっている。
【０３０１】
さらに、廃液回収タンク４６３は、流路４０３から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収するためのタンクである。通常は、固体成分をろ過した後の試料液を回収するようになっている。廃液回収タンク４６３に回収された廃液は、別途、廃棄や再生を行なうようになっている。
【０３０２】
また、切替弁４６４は、配管によって、ろ過用チップ４０１の送出口４０７ａ，４０８ａ、目的物質回収タンク４６１、流路減圧部４６２及び廃液回収タンク４６３にそれぞれ接続されていて、ろ過用チップ４０１の送出口４０７ａ，４０８ａと、目的物質回収タンク４６１、流路減圧部４６２及び廃液回収タンク４６３のうちのいずれかとを連通させるように、配管同士の接続を切り替えることができるようになっている。
さらに、切替弁４６４の切り替えは制御部４７０の制御によって行なうことができるようになっている。
【０３０３】
［Ｉ−４−３−２−５．制御部］
制御部４７０は、上述したように、チップホルダ４２０に設けられた温度制御素子（図示省略）、送液ポンプ４３２，４５２、制御弁４３３，４４２，４５３及び切替弁４５４をそれぞれ制御するようになっている。したがって、制御部４７０は、チップホルダ４２０に設けられた温度制御素子を制御して流路４０３内の温度を調整する温度制御手段、試料液供給部４３０からろ過用チップ４０１の流路４０３に供給される試料液の流量を制御する試料液制御手段、乾燥用ガス供給部からろ過用チップ４０１の流路４０３に供給される乾燥用ガスの流量を制御する乾燥用ガス制御手段、交換溶媒供給部４５０からろ過用チップ４０１の流路４０３に供給される交換溶媒の流量を制御する交換溶媒制御手段、回収部４６０においてろ過用チップ４０１から送出された物質のうちのいずれを回収するか選択する回収物質選択手段、流路減圧部４６２を用いて流路４０３内を減圧するか否かの制御を行なう流路減圧制御手段などとして機能するものである。
【０３０４】
また、本実施形態において、制御部４７０は、ハードウェア的にはＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）や、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）等のメモリ、更にはＡＤ変換部等のインターフェース部などから構成されていて、これらが上記の各手段としての機能を発揮するようになっている。
【０３０５】
［Ｉ−４−３−３．分離要領］
以下、上記のような分離装置を用いて試料液中の固体成分の分離を行なう場合について説明する。なお、最初の状態では、送液ポンプ４３２，４５２及び真空ポンプ４６６は停止しており、また、制御弁４３３，４４２，４５３は閉状態となっているものとする。また、切替弁４６４は、ろ過用チップ４０１の送出口４０７ａ，４０８ａと廃液回収タンク４６３とが連通するように切り替わっているものとする。さらに、ガスボンベ４４１及び交換溶媒タンク４５１には、それぞれ十分な量の乾燥用ガス及び交換溶媒が貯蔵されているものとする。
【０３０６】
［Ｉ−４−３−３−１．準備］
本実施形態の分離装置を用いて試料液中の固体成分を分離する場合、ろ過用チップ４０１をチップホルダ４２０に設置し、また、サンプルタンク４３１に試料液を収納する。この際、試料液中において、固体成分であるα−メチルグルコシドのトシル体は、溶媒である水に溶解しているものとする。
【０３０７】
その後、制御部４７０に分離開始の指示を与えると、制御部４７０の制御にしたがって、本分離装置は自動的に以下のようにして分離操作を行なう。
即ち、分離開始の指示を受けると、制御部４７０は、チップホルダ４２０の温度制御素子を制御して、流路４０３内の温度を固体成分の分離精製に適した温度に調整する。本実施形態では、１０℃に調整したものとして説明を行なう。
【０３０８】
［Ｉ−４−３−３−２．ろ過工程］
次に、制御部４７０は試料液供給部４３０を制御して、ろ過用チップ４０１の流路４０３に試料液を流通させるろ過工程を行なわせる。
詳しくは、制御部４７０は、送液ポンプ４３２を稼動させてサンプルタンク４３１から試料液を送出する。そして、制御部４７０は、適切な供給速度でろ過用チップ４０１に試料液を供給できる開度だけ制御弁４３３を開き、ろ過用チップ４０１の流路４０３への試料液の供給を行なう。この際、流通させる試料液の量は任意であるが、本実施形態では、試料液はろ過槽であるプール部４０６のダム部４０９より上流側の部分の体積量だけ流通させるようになっているものとする。これにより、固体成分の流出による損失を抑制できるという利点を得ることができる。
【０３０９】
試料液供給部４３０から送出された試料液は、ろ過用チップ４０１の導入口４０４ａ，４０５ａ、導入流路部４０４，４０５を介してプール部４０６に進入する。このとき、温度制御素子により流路４０３内が１０℃に冷却されているため、試料液中で溶解していた固体成分は析出し、固体状態の粒子となる。
【０３１０】
そして、析出した固体成分はダム部４０９に形成された隙間４１１を通過することができず、ダム部４０９よりも上流側に貯められる。また、試料液に含まれる固体成分以外の物質（ここでは、試料液の溶媒である水）は送出流路部４０７，４０８及び送出口４０７ａ，４０８ａを介して回収部４６０に送出される。
【０３１１】
この際、試料液を流路４０３内に供給することによって流路４０３の内圧は上昇するが、ろ過用チップ４０１には支柱部４１０が形成されているため、ろ過用チップ４０１の基板４０２がたわんでろ過が適切に行なえなくなる虞は無い。
【０３１２】
回収部４６０では、切替弁４６４が送出口４０７ａ，４０８ａと廃液回収タンク４６３とを連通させるように切り替わっているため、送出口４０７ａ，４０８ａから送出された水等の物質は、廃液回収タンク４５３に貯められる。
こうして、ろ過工程により、プール部４０６内のダム部４０９よりも上流側の部分に、固体成分が貯蔵される。
また、ろ過工程が完了したら、制御部４７０は制御弁４３３を制御して閉状態にさせるとともに、送液ポンプ４３２を停止する。
【０３１３】
［Ｉ−４−３−３−３．乾燥工程］
ろ過工程の後、制御部４７０は、流路４０３内に残留した液体を乾燥除去する乾燥工程を行なうよう制御をする。
乾燥工程では、制御部４７０は、切替弁４６４を制御して送出口４０７ａ，４０８ａと流路減圧部４６２とを連通させるように切替弁４６４を切り替えるとともに、真空ポンプ４６６を稼動させる。これにより、流路減圧部４６２によって流路４０３内が減圧される。
【０３１４】
また、一方で、制御部４７０は制御弁４４２を制御して、適切な流速でろ過用チップ４０１に乾燥用ガスを供給できる開度だけ制御弁４４２を開き、ろ過用チップ４０１の流路４０３への乾燥用ガスの供給を行なう。この際、乾燥用ガスの供給速度は本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意であるが、本実施形態では、流路４０３内が常に大気圧より低い圧力となる程度の供給速度で乾燥用ガスを供給するようになっているものとする。
【０３１５】
減圧下で乾燥用ガスを流路４０３内に流通させることにより、流路４０３内に残留していた液体は乾燥し、流路４０３内には固体成分が残留することになる。この際、上記の乾燥を速やかに行なうことができることは、本実施形態のろ過用チップ４０１を用いた分離方法の利点のひとつである。即ち、従来、グラムスケールからキログラムスケールでの大規模なろ過を行なった場合、固体成分内部に保持された物質（液体等）が拡散するには長時間を要していた。また、特許文献５のような微小流路を用いたろ過装置においても、固体成分の乾燥には長時間を要していた。しかしながら、本実施形態のろ過用チップ４０１では、ろ過槽として機能するプール部４０６自体の容積が小さいために固体成分が従来よりも少量であり、さらに、固形成分がダムにせき止められるようにしてプール部４０６内に貯まるために固相（即ち、固形成分）と気相（即ち、プール部４０６内の固形成分が存在しない部分。本実施形態では、乾燥用ガスが存在している）との界面が広くなるため、乾燥が従来よりも速やかに行なわれることになるのである。
【０３１６】
また、この際、流路４０３内を減圧しても、ろ過用チップ４０１には支柱部４１０が形成されているため、ろ過用チップ４０１の基板４０２がたわむ虞はなく、したがって、ダム部４０９の隙間４１１が閉塞して乾燥を適切に行なえなくなることは無い。
なお、温度制御素子により流路４０３内の温度を上げて乾燥を行なうようにしても良いが、固体成分が他の物質と反応したりしてその化学構造が変化する虞がある場合には、上記のように減圧乾燥をすることが好ましい。
乾燥工程が完了したら、制御部４７０は真空ポンプ４６６を停止すると共に制御弁４４２を閉状態とする。
【０３１７】
［Ｉ−４−３−３−４．溶媒交換工程］
乾燥工程の後、制御部４７０は、ろ過用チップ４０１の流路４０３に交換溶媒を流通させて固体成分を回収する溶媒交換工程を行なうよう制御をする。
溶媒交換工程では、制御部４７０は、送液ポンプ４５２を稼動させて交換溶媒タンク４５１から交換溶媒を送出できるようにする。また、制御部４７０は、切替弁４６４を制御して送出口４０７ａ，４０８ａと目的物質タンク４６１とを連通させるように切替弁４６４を切り替えると共に、適切な流速でろ過用チップ４０１に交換溶媒を供給できる開度だけ制御弁４５３を開き、ろ過用チップ４０１の流路４０３への交換溶媒の供給を行なう。
【０３１８】
流路４０３に交換溶媒を流通させることにより、プール部４０６に貯められていた固体成分は交換溶媒に溶解し、交換溶媒に固体成分が溶解した溶解後溶液として、送出流路部４０７，４０８及び送出口４０７ａ，４０８ａを介して回収部４６０に送出される。
回収部４６０では、切替弁４６４が送出口４０７ａ，４０８ａと目的物質回収タンク４６１とを連通させるように切り替わっているため、送出口４０７ａ，４０８ａから送出された溶解後溶液は目的物質回収タンク４６１に収納され、これにより、固体成分は目的物質回収タンク４６１内に回収される。
なお、溶媒交換工程が完了したら、制御部４７０は送液ポンプ４５２を停止し、制御弁４５３を閉状態にする。
【０３１９】
［Ｉ−４−３−３−５．回収率］
上記のようにして、目的物質回収タンク４６１に固体成分を回収することができ、これにより、試料液から固体成分を分離してろ過精製を行なうことができる。また、本実施形態によれば、固体成分の損失を抑制しながら分離を行なうことができる。この理由は定かではないが、微細加工されたマイクロチャネルを用いるので、流出などの損失が少ないためと推察される。
【０３２０】
具体的な回収率、即ち、ろ過用チップ４０１による分離前の試料液中の固体成分に対する回収された固体成分の割合は、試料液や溶離液の種類、ろ過分離時の条件などにより任意であるが、通常４０％以上、好ましくは６０％以上、より好ましくは９０％以上である。
【０３２１】
［Ｉ−４−３−３−６．その他の工程］
本実施形態では、上記の工程に加え、適宜、その他の工程を行なうようにしてもよい。
例えば、目的物質回収タンク４６１に回収した交換後溶液から、固体成分を取り出す工程を行なうようにしても良い。具体的な操作は任意であるが、例えば、交換後溶媒から交換溶媒を乾燥除去するようにすれば良い。
また、上記の各工程間や、上記ろ過工程の前などに、流路４０３内に洗浄液を流通させて流路４０３内を洗浄したり、固体成分の洗浄を行なったりしても良い。
【０３２２】
［Ｉ−５．濃縮用マイクロチップ］
濃縮用マイクロチップ（以下適宜、「濃縮用チップ」という）は、流路に溶液や分散液等の液体と、上記液体を濃縮するための気体とを、それぞれ並行流を形成させるようにしながら流通させ、その流路を流通する間に液体を濃縮する化学操作用チップである。
【０３２３】
図２３〜図２５は、本実施形態のマイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである濃縮用マイクロチップの一実施形態について示すもので、図２３は濃縮用マイクロチップの模式的な上面図であり、図２４は濃縮用マイクロチップの模式的な斜視図であり、図２５は濃縮用マイクロチップの合流チャンネル部を、その流れ方向に垂直な面で切った模式的な断面図である。
【０３２４】
図２３、図２４に示すように、この濃縮用チップ５０１は、基板５０２に流路５０３が形成されたものである。また、流路５０３は、液体導入流路部５０４と、気体導入流路５０５と、合流チャンネル部５０６と、液体送出流路部５０７と、気体送出流路部５０８とから形成されている。なお、図２４において流路の厚みを描画していないが、これらは厚みが非常に小さいために描画しなかったものであり、実際には厚み（或いは深さ）を有する３次元的な構造を有している。
【０３２５】
［Ｉ−５−１．基板］
基板５０２は、第１反応用マイクロチップの基板１０２、第２反応用マイクロチップの基板２０２、クロマトグラフィー用マイクロチップの基板３０２、ろ過用マイクロチップの基板４０２などとして説明したものと同様である。本実施形態では、縦７０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚み１．４ｍｍの寸法で平板形状に形成された透明なガラス製の基板を用いているものとする。また、この基板５０２は、流路５０３を凹部として形成した下板５０２ａに、流路５０３に蓋をするための上板５０２ｂを接着することにより基板５０２内に流路５０３を形成しているものとする。即ち、基板５０２は下板５０２ａと上板５０２ｂとにより形成され、下板５０２ａと上板５０２ｂとの接着面に沿って流路５０３が２次元的に形成されているのである。
【０３２６】
［Ｉ−５−２．流路］
流路５０３は、基板５０２の内部に形成されたもので、上記の通り、液体導入流路部５０４と、気体導入流路５０５と、合流チャンネル部５０６と、液体送出流路部５０７と、気体送出流路部５０８とを備えている。
【０３２７】
［Ｉ−５−２−１．導入流路部］
液体導入流路部５０４は、濃縮する対象である溶液や分散液などの液体を流路５０３内に導入するための流路部である。その具体的な構成に制限は無いが、通常は、液体導入流路部５０４は上流端部に導入口５４１を有していて、この導入口５４１を介して外部から対応する液体を導入されるようになっている。
【０３２８】
また、気体導入流路部５０５は、液体導入流路部５０４から導入された液体を濃縮するための気体を流路５０３内に導入するための流路部である。その具体的な構成に制限は無いが、通常は、気体導入流路部５０５は導入口５５１を有していて、この導入口５５１を介して外部から対応する気体を導入されるようになっている。
【０３２９】
さらに、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５は、それぞれ少なくとも１本だけ形成されていれば良いが、適宜、それぞれ２本以上形成するようにしても良い。
【０３３０】
また、液体導入流路部５０４と気体導入流路部５０５とは、その下流端部において合流して合流チャンネル部５０６に接続されている。ただし、液体導入流路部５０４から導入された液体と、気体導入流路部５０５から導入された気体とは、合流チャンネル部５０６において、混合せずに並行流を形成させるようにすることになる。したがって、液体導入流路部５０４と気体導入流路部５０５とは、上記のように合流チャンネル部５０６において液体と気体とが混合しないような構成とすることが望ましい。例えば、液体導入流路部５０４と気体導入流路部５０５とが合流する地点において形成される、液体導入流路部５０４と気体導入流路部５０５との間の角度は、より小さいことが好ましい。
【０３３１】
本実施形態では、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５は、それぞれ１本形成されているものとする。また、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５は、その下流には合流チャンネル部５０６が接続されていて、この合流チャンネル部５０６において、液体導入流路部５０４から導入された液体と、気体導入流路部５０５から導入された気体とが合流するようになっている。さらに、本実施形態では、導入口５４１，５５１は、それぞれ導入流路部５０４，５０５の上流端と基板５０２の外部とを連通する孔として上板５０２ｂに形成されているものとする。
【０３３２】
また、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の寸法に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り、それぞれ任意である。
具体的な寸法としては、例えば、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の幅は、それぞれ、通常１０μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、また、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下とすることが望ましい。
【０３３３】
さらに、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の深さは、それぞれ、通常３０μｍ以上、好ましくは６０μｍ以上、より好ましくは９０μｍ以上、また、通常１０００μｍ以下、好ましくは８００μｍ以下、より好ましくは６００μｍ以下とすることが望ましい。
【０３３４】
ただし、効率的な濃縮を行なう観点からは、合流チャンネル部５０６において流通する体積流量に関しては、液体よりも気体の流量を多くすることが望ましい。したがって、液体導入流路部５０４よりも気体導入流路部５０５の方を大きく（即ち、流れ方向に垂直な断面積が大きく）形成することが望ましい。本実施形態においても、液体導入流路部５０４よりも気体導入流路部５０５の方を大きく形成してあるものとする。
【０３３５】
［Ｉ−５−２−２．合流チャンネル部］
合流チャンネル部５０６は、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の下流に形成され、液体導入流路部５０４から導入された液体と、気体導入流路部５０５から導入された気体とが並行流を形成するようにしながら合流して流通する流路部である。
【０３３６】
合流チャンネル部５０６には、液体と気体とに確実に並行流を形成させるため、図２５に示すように、その流れ方向に沿ってガイド条５６１が形成されている。
このガイド条５６１は、合流チャンネル部５０６内の、液体が流通する部分５０６Ａと気体が流通する部分５０６Ｂとを流れ方向に沿って区画するもので、具体的には、合流チャンネル部５０６の底面が流れ方向に沿って連続して凸に形成されたものである。これにより、液体導入流路部５０４から導入された液体が、このガイド条５６１を越えることなく合流チャンネル部５０６内の流通することになるため、ガイド条５６１を境にして液体導入流路５０４から流入した液体と気体導入流路５０５から流入した気体とが並行流を確実に形成するようになっている。なお、液体導入流路部５０４や気体導入流路部５０５を２以上形成する場合には、それに応じて、ガイド条５６１の数も増やすようにする。
【０３３７】
また、ガイド条５６１は、合流チャンネル部５０６の全長に亘って形成するようにすることが望ましい。これにより、液体導入流路部５０４から導入された液体を、合流チャンネル部５０６内を流通後、確実に液体送出部から送出させるようにできるため、濃縮した液体を確実に回収することが可能となる。
さらに、合流チャンネル部５０６の流路形状にも制限は無いが、並行流を安定して形成させるためには、合流チャンネル部５０６は線分状に形成することが好ましい。
【０３３８】
また、合流チャンネル部５０６の寸法は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意である。ただし、合流チャンネル部５０６の流れ方向の長さは、所望の程度に液体の濃縮ができるよう、所定の長さ以上の長さに形成することが望ましい。
また、ガイド条５６１の寸法も、液体と気体とが並行流を形成できる限り、任意である。
【０３３９】
さらに、効率的な濃縮を行なう観点からは、上述したとおり、合流チャンネル部５０６において流通する体積流量に関して、液体よりも気体の流量を多くすることが望ましい。したがって、合流チャンネル部５０６内の、液体が流通する部分５０６Ａの大きさは、気体が流通する部分５０６Ｂの大きさよりも、大きく形成することが望ましい。
【０３４０】
本実施形態においては、合流チャンネル部５０６は、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の下流に直線状に形成されているものとする。また、合流チャンネル部５０６の底部には、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５の間を隔てる壁部から連続して、ガイド条５６１が合流チャンネル部５０６の全長に亘って形成されている。したがって、液体導入流路部５０４から導入された液体は、合流チャンネル部５０６内のガイド条５６１よりも図２３中下側の部分（即ち、図２５の部分５０６Ａ）を流通し、一方、気体導入流路部５０５から導入された気体は、合流チャンネル部５０６内のガイド条５６１よりも図２３中上側の部分（即ち、図２５の部分５０６Ｂ）を流通するようになっている。さらに、合流チャンネル部５０６内の、液体が流通する部分５０６Ａは、気体が流通する部分５０６Ｂよりも、その流れ方向の断面積を大きく形成されていて、これにより、合流チャンネル部５０６内ではガイド条５６１を境として液体と気体とが並行流を形成し、液体の乾燥が効率よく進行することによって、液体の濃縮を行なうことができるようになっているものとする。
【０３４１】
［Ｉ−５−２−３．送出流路部］
液体送出流路部５０７は、合流チャンネル部５０６の下流に設けられた流路部である。液体送出流路部５０７は、合流チャンネル部５０６内の液体が流通する部分５０６Ａから連続して形成されていて、これにより、合流チャンネル部５０６を流通した液体を流路５０３の外部に送出するようになっている。
【０３４２】
一方、気体送出流路部５０８は、合流チャンネル部５０６の下流に設けられた流路部である。気体送出流路部５０８は、合流チャンネル部５０６内の気体が流通する部分５０６Ｂから連続して形成されていて、これにより、合流チャンネル部５０６を流通した気体を流路５０３の外部に送出するものである。
【０３４３】
なお、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８は、それぞれ少なくとも１本形成するようにすればよいが、２本以上形成するようにしてもよい。
本実施形態においては、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８が合流チャンネル部５０６の下流にそれぞれ１本ずつ形成されているものとする。また、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８の下流端部には、それぞれ液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８と基板５０２の外部とを連通する孔として、上板５０２ｂに、送出口５７１，５８１が形成されている。したがって、合流チャンネル部５０６を流通した液体は、液体送出流路部５０７を介して送出口５７１から外部へと送出され、また、合流チャンネル部５０６を流通した気体は、気体送出流路部５０８を介して送出口５８１から外部へと送出されるようになっているものとする。
【０３４４】
［Ｉ−５−３．使用方法］
本実施形態の濃縮用チップ５０１を用いて溶液や分散液等の液体の濃縮を行なう場合には、導入口５４１から濃縮の対象となる液体を流路５０３内に導入すると共に、上記の液体の乾燥に用いる気体を導入口５５１から流路５０３内に導入する。この際、濃縮用チップ５０１を用いる場合に使用する装置の構成は任意であるが、例えば、図２６に示すような濃縮装置を用いて濃縮を行なうことができる。
【０３４５】
この濃縮装置は、チップホルダ５９１と、濃縮対象である液体の供給源である液体供給器５９２と、濃縮に用いる気体の供給源である気体供給器５９３と、濃縮後の液体を溜めておくサンプル瓶５９４と、乾燥に用いた気体を回収する回収瓶５９５と、温度コントローラ５９６とを備えている。
【０３４６】
チップホルダ５９１は、濃縮用チップ５０１を装着するためのものであり、下部ホルダ５９７と上部ホルダ５９８とから構成されている。そして、図８に示すように、濃縮用チップ５０１を下部ホルダ５９７と上部ホルダ５９８との間に介装することで、チップホルダ５９１に濃縮用チップ５０１を保持できるようになっている。
【０３４７】
さらに、下部ホルダ５９７及び上部ホルダ５９８にはそれぞれ温度コントローラ５９６の制御にしたがって温度の調整が可能な温度制御素子（図示省略）が形成されていて、この温度制御素子の温度を制御することで、濃縮用チップ５０１の流路５０３内の温度を調整することができるようになっている。
【０３４８】
また、上部ホルダ５９８には、液体供給器５９２からの液体、及び、気体供給器５９３からの気体を、それぞれ濃縮用チップ５０１の導入口５４１，５５１に案内するための案内流路（図示省略）が形成されている。さらに、上部ホルダ５９８には、濃縮用チップ５０１の送出口５７１からの液体をサンプル瓶５９４に案内するための案内流路（図示省略）、及び、濃縮用チップ５０１の送出口５８１からの気体を回収瓶５９５に案内するための案内流路（図示省略）も形成されている。これらの案内流路はチューブやコネクタ等を介して、それぞれ、液体供給器５９２、気体供給器５９３、サンプル瓶５９４及び回収瓶５９５にそれぞれ接続され、これにより、液体供給器５９２からの液体導入流路部５０４への液体の供給、及び、気体供給器５９３からの気体導入流路部５０５への気体の供給、並びに、液体送出流路部５０７からサンプル瓶５９４への液体の送出、及び、気体送出流路部５０８から回収瓶５９５への気体の送出を行なうことができるようになっている。
【０３４９】
さらに、液体供給器５９２は、液体導入流路５０４に対応する液体を供給するためのものである。図２６では、液体供給器５９２として、シリンジポンプとマイクロシリンジとを組み合わせたものを用いているものとする。ただし、これ以外の公知の機器も任意に使用できる。
また、気体供給器５９３は、気体導入流路５０５に対応する気体を供給するためのものである。図２６では、気体供給器５９３として、ガスボンベ及びフローコントローラを組み合わせたものを用いているものとする。ただし、これ以外の公知の機器も任意に使用できる。
【０３５０】
さらに、サンプル瓶５９４は、濃縮用チップ５０１の流路５０３内で濃縮した濃縮後の液体を貯めておくための容器であり、また、回収瓶５９５は、濃縮用チップ５０１の流路５０３内での濃縮に用いた後の気体を回収するための容器である。
さらに、温度コントローラ５９６は、濃縮用チップ５０１内の流路５０３の温度を調整して、濃縮を効率よく行なわせるためのものである。具体的には、チップホルダ５９１内の上記の温度制御素子（図示省略）の温度を制御して、流路５０３内の温度を調整できるようになっている。
【０３５１】
このような濃縮装置を用いて液体の濃縮を行なう場合には、まず、チップホルダ５９１に濃縮用チップ５０１を装着する。そして、温度コントローラ５９６で流路５０３内の温度を濃縮に適した温度に制御しながら、液体供給器５９２及び気体供給器５９３から液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５に液体及び気体を供給する。
【０３５２】
この際、液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５に導入する液体及び気体の供給速度は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、安定して並行流を形成するためには、気体と液体との流速を等線速とすることが望ましい。
【０３５３】
液体供給器５９２及び気体供給器５９３から供給された液体及び気体は、それぞれ導入口５４１，５５１から液体導入流路部５０４及び気体導入流路部５０５に流入し、その後、合流チャンネル部５０６で合流することになる。この際、濃縮用チップ５０１では合流チャンネル部５０６にはガイド条５６１が形成されているため、液体と気体とは並列流を形成しながら混合することなく合流チャンネル部５０６内を流通する。
【０３５４】
合流チャンネル部５０６を流通する際、上記の並行流を形成する液体と気体との間には、接触界面が形成される。したがって、この接触界面を介して液体は蒸発・乾燥して気体の流れに拡散していき、合流チャンネル部５０６を流通する液体は濃縮される。また、この際、合流チャンネル部５０６を流通する液体と気体との間に接触界面が形成されたことにより、液相と気相との界面の面積が大きくなるため、効率的に濃縮を行なうことができる。
【０３５５】
合流チャンネル部５０６を流通した液体は、液体送出流路部５０７を介して、送出口５７１からサンプル瓶５９４に送出され、このサンプル瓶５９４に溜められる。一方、合流チャンネル部５０６を流通した気体は、気体送出流路部５０８を介して、送出口５８１から回収瓶５９５に送出され、この回収瓶５９５に溜められる。
以上のようにして、濃縮用チップ５０１を用いて、溶液や分散液等の液体の濃縮を行なうことができる。
【０３５６】
［II．ラニムスチン合成反応］
次に、本実施形態の合成用マイクロプラントを用いて行なうラニムスチン合成反応について説明する。
このラニムスチン合成反応は、以下の反応式のようにして行なわれる。
【０３５７】
【化１】
2007063150.tif 000003
【０３５８】
即ち、上記のラニムスチンの合成反応では、α−メチルグルコシド｛以下適宜、「化合物（０）」という｝をトシル化試薬と反応させることによりトシル化してα−メチルグルコシドのトシル体｛以下適宜、「化合物（１）」という。また、「Ｔｓ」はトシル基を表わす｝を合成し、この化合物（１）をアミノ化試薬と反応させることでアミノ化してα−メチルグルコシドの１位アミノ体｛以下適宜、「化合物（２）」という｝を生成させる。一方、ｏ−ニトロフェノール｛以下適宜、「化合物（３）」という｝にカルバメート化試薬を反応させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体｛以下適宜、「化合物（４）」という｝を合成し、この化合物（４）にニトロソ化試薬を反応させることでニトロソ化してｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体｛以下適宜、「化合物（５）」という｝を生成させる。最後に、化合物（２）と化合物（５）とを反応させ、目的化合物（６）、即ち、ラニムスチンを合成する。
以下、反応工程毎に説明する。
【０３５９】
［II−１．化合物（０）からの化合物（１）の合成］
化合物（０）から化合物（１）を合成する反応工程においては、原料として化合物（０）を用い、これをトシル化試薬と反応させる。トシル化試薬は、化合物（０）をトシル化しうる限り任意のものを用いることができ、例えば、ＴｓＣｌ等を用いることができる。
また、この反応は、通常、原料やトシル化試薬を溶媒に溶解させた状態で、反応用の微小流路内において反応させることにより、反応させる。
【０３６０】
化合物（０）を溶解させる溶媒に制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができるが、例えば、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３６１】
また、溶液中における化合物（０）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常１００ｇ／Ｌ以上、好ましくは２００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以上、また、通常１０００ｇ／Ｌ以下、好ましくは７００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは５００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（０）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３６２】
一方、トシル化試薬を溶解させる溶媒にも制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができる。具体例としては、化合物（０）の溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３６３】
また、溶液中におけるトシル化試薬の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意である。例えば、トシル化試薬としてＴｓＣｌを用いる場合、その濃度は、通常１００ｇ／Ｌ以上、好ましくは２００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以上、また、通常２０００ｇ／Ｌ以下、好ましくは１５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１０００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回るとＴｓＣｌの溶解が不十分となる虞がある。
【０３６４】
さらに、この反応を行なう場合の条件も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、例えばトシル化試薬としてＴｓＣｌを用いる場合、温度条件については、通常−２０℃以上、好ましくは−１０℃以上、より好ましくは−５℃以上、また、通常２０℃以下、好ましくは１５℃以下、より好ましくは５℃以下が望ましい。上記範囲の下限を下回ると溶液が凍結する虞があり、上限を上回るとＴｓＣｌが分解する虞がある。
【０３６５】
また、化合物（０）から化合物（１）を合成する反応において、化合物（１）の収率は、通常３０％以上、好ましくは４０％以上、より好ましくは５０％以上、また、通常６０％以下である。
【０３６６】
［II−２．化合物（１）からの化合物（２）の合成］
化合物（１）から化合物（２）を合成する反応工程においては、原料として化合物（１）を用い、これをアミノ化試薬と反応させる。アミノ化試薬は、化合物（１）をアミノ化しうる限り任意のものを用いることができ、例えば、アンモニアを用いることができる。
また、この反応においては、通常、化合物（１）は溶媒に溶解させた溶液とする。さらに、アミノ化試薬も溶液としてもよいが、アミノ化試薬としてアンモニアを用いる場合には、アンモニアは気体状態とする。そして、化合物（１）とアミノ化試薬とを反応用の微小流路内において反応させるようにする。
【０３６７】
化合物（１）を溶解させる溶媒に制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができるが、例えば、メタノールなどを用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３６８】
また、溶液中における化合物（１）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常３００ｇ／Ｌ以上、好ましくは４００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは５００ｇ／Ｌ以上、また、通常１８００ｇ／Ｌ以下、好ましくは１５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは９００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（１）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３６９】
さらに、アミノ化試薬としてアンモニアを用いる場合、アンモニアに他の気体を併用し、他の気体との混合気体を原料とするようにしてもよい。
併用する気体に特に制限は無く、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、例えば窒素（Ｎ2）を用いることができる。なお、併用する気体は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３７０】
また、他の気体を併用する場合、アミノ化試薬としての気体全体に占めるアンモニアの濃度も本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常３０体積％以上、好ましくは４０体積％以上、より好ましくは５０体積％以上が望ましい。上記範囲の下限を下回るとアミノ化反応が不十分となる虞がある。また、アンモニアの濃度は濃いほうが好ましく、上限は１００体積％である。
【０３７１】
さらに、この反応を行なう場合の条件も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、例えばアミノ化試薬としてアンモニアを用いる場合、温度条件については、通常６０℃以上、好ましくは７０℃以上、より好ましくは８０℃以上、また、通常１６０℃以下、好ましくは１４０℃以下、より好ましくは１２０℃以下が望ましい。上記範囲の下限を下回るとアミノ化反応が不十分となる虞があり、上限を上回ると化合物（１）が分解する虞がある。
【０３７２】
ただし、化合物（１）からの化合物（２）の合成においては、原料である化合物（１）が分解発熱物質であるので、通常は、精密な温度制御が要求される。
【０３７３】
また、化合物（１）から化合物（２）を合成する反応工程においては、化合物（２）の収率は、通常３０％以上、好ましくは４０％以上、より好ましくは５０％以上、また、通常８０％以下である。
【０３７４】
［II−３．化合物（３）からの化合物（４）の合成］
化合物（３）から化合物（４）を合成する反応工程においては、原料として化合物（３）を用い、これをカルバメート化試薬と反応させる。カルバメート化試薬は化合物（３）をカルバメート化しうる限り任意のものを用いることができ、例えば、２−エチルクロロイソシアネートなどを用いることができる。
また、この反応は、通常、原料やカルバメート化試薬を溶媒に溶解させた状態で、反応用の微小流路内において反応させることにより、反応させる。
【０３７５】
化合物（３）を溶解させる溶媒に制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができるが、例えば、トルエン、キシレンなどを用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３７６】
また、溶液中における化合物（３）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常５０ｇ／Ｌ以上、好ましくは１００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは２００ｇ／Ｌ以上、また、通常６００ｇ／Ｌ以下、好ましくは５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（３）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３７７】
一方、カルバメート化試薬を溶解させる溶媒にも制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができる。具体例としては、化合物（３）の溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３７８】
また、溶液中におけるカルバメート化試薬の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意である。例えば、カルバメート化試薬として２−エチルクロロイソシアネートを用いる場合、その濃度は、通常５０ｇ／Ｌ以上、好ましくは１００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは２００ｇ／Ｌ以上である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞がある。
【０３７９】
さらに、この反応を行なう場合の条件も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、例えば、カルバメート化試薬として２−エチルクロロイソシアネートを用いる場合、温度条件については、通常−２０℃以上、好ましくは−１０℃以上、より好ましくは−５℃以上、また、通常２０℃以下、好ましくは１０℃以下、より好ましくは５℃以下が望ましい。上記範囲の下限を下回ると溶液が凍結する虞があり、上限を上回ると２−エチルクロロイソシアネートが分解する虞がある。
【０３８０】
また、化合物（３）から化合物（４）を合成する反応工程においては、化合物（４）の収率は、通常６０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、また、通常１００％以下である。
【０３８１】
［II−４．化合物（４）からの化合物（５）の合成］
化合物（４）から化合物（５）を合成する反応工程においては、原料として化合物（４）を用い、これをニトロソ化試薬と反応させる。ニトロソ化試薬は化合物（４）をニトロソ化しうる限り任意のものを用いることができ、例えば、亜硝酸ナトリウム等を用いることができる。
また、この反応は、通常、原料やニトロソ化試薬を溶媒に溶解させた状態で、反応用の微小流路内において反応させることにより、反応させる。
【０３８２】
化合物（４）を溶解させる溶媒に制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができるが、例えば、濃硝酸、希硝酸などを用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３８３】
また、溶液中における化合物（４）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常２０ｇ／Ｌ以上、好ましくは４０ｇ／Ｌ以上、より好ましくは８０ｇ／Ｌ以上、また、通常２００ｇ／Ｌ以下、好ましくは１５０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の不純物（例えば、濃硝酸中の不純物）の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（４）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３８４】
一方、ニトロソ化試薬を溶解させる溶媒にも制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができる。具体例としては、化合物（４）の溶媒として例示したものと同様のものが挙げられる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３８５】
また、溶液中におけるニトロソ化試薬の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意である。例えば、ニトロソ化試薬として亜硝酸ナトリウムを用いる場合、通常３００ｇ／Ｌ以上、好ましくは４００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは５００ｇ／Ｌ以上、また、通常１４００ｇ／Ｌ以下、好ましくは１０００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは７００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の不純物（例えば、濃硝酸中の不純物）の影響を受ける虞があり、上限を上回ると亜硝酸ナトリウムの溶解が不十分となる虞がある。
【０３８６】
さらに、この反応を行なう場合の条件も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、例えばニトロソ化試薬として亜硝酸ナトリウムを用いる場合、温度条件については、通常２０℃以上、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上、また、通常１００℃以下、好ましくは８０℃以下、より好ましくは６０℃以下が望ましい。上記範囲の下限を下回ると反応速度の低下を招く虞があり、上限を上回ると生成物の分解を生じる虞がある。
【０３８７】
また、化合物（４）から化合物（５）を合成する反応工程においては、化合物（５）の収率は、通常６０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、また、通常１００％以下である。
【０３８８】
［II−５．化合物（２）及び化合物（５）からの化合物（６）の合成］
化合物（２）及び化合物（５）から化合物（６）を合成する反応工程においては、通常、原料として、化合物（２）と化合物（５）とを用いる。また、この反応は、通常、原料を溶媒に溶解させた状態で、反応用の微小流路内において反応させることにより、反応させる。
【０３８９】
化合物（２）を溶解させる溶媒に制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができるが、例えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどを用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３９０】
また、溶液中における化合物（２）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常１００ｇ／Ｌ以上、好ましくは２００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以上、また、通常８００ｇ／Ｌ以下、好ましくは６００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは４００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（２）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３９１】
一方、化合物（５）を溶解させる溶媒にも制限は無く、上記反応を進行させることができる限り任意の溶媒を用いることができる。具体例としては、メタノール、エタノール等を用いることができる。なお、溶媒は１種を単独で用いても良く、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３９２】
また、溶液中における化合物（５）の濃度も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、通常５０ｇ／Ｌ以上、好ましくは１００ｇ／Ｌ以上、より好ましくは２００ｇ／Ｌ以上、また、通常６００ｇ／Ｌ以下、好ましくは５００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以下である。上記範囲の下限を下回ると溶媒中の水分の影響を受ける虞があり、上限を上回ると化合物（５）の溶解が不十分となる虞がある。
【０３９３】
さらに、この反応を行なう場合の条件も上記反応を進行させることができる限り任意であるが、例えば温度条件については、通常−２０℃以上、好ましくは−１０℃以上、より好ましくは−５℃以上、また、通常２０℃以下、好ましくは１０℃以下、より好ましくは５℃以下が望ましい。上記範囲の下限を下回ると溶液が凍結する虞があり、上限を上回ると生成物である化合物（６）が分解する虞がある。
【０３９４】
また、化合物（２）及び化合物（５）から化合物（６）を合成する反応工程においては、化合物（６）の収率は、通常６０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、また、通常１００％以下である。
【０３９５】
［III．マイクロプラント］
図２７〜図３２は、本発明の一実施形態について表わすもので、図２７はラニムスチン合成用マイクロプラントの概要を示す模式的なブロック図、図２８はラニムスチン合成用マイクロプラントを用いて行なう化学操作を説明するフロー図、図２９はメチルグルコシド溶液の供給源及びトシル化部の概要を模式的に表わす図、図３０はアミノ化部の概要を模式的に表わす図、図３１はニトロフェノール溶液の供給源及びニトロソカルバメート化部の概要を模式的に表わす図、図３２はラニムスチン合成部の概要を模式的に表わす図である。
【０３９６】
本実施形態の合成用マイクロプラントは、微小流路を利用したマイクロ化学デバイスを用いてラニムスチンを合成するラニムスチン合成用のマイクロプラントである。
上述したように、本実施形態の合成用マイクロプラントは、このマクロ化学デバイスを用いて、図２７に示すように、メチルグルコシド溶液源１、トシル化部２、アミノ化部３、ニトロフェノール溶液源４、ニトロソカルバメート化部５、及び、ラニムスチン合成部６を備えて構成される。また、本実施形態においては、この合成用マイクロプラントは制御部７を備えていて、制御部７の制御によって、ラニムスチン合成にかかる各工程が制御されているものとする。なお、図２７において、流体の流れは実線矢印で示し、制御部７の制御の様子は破線矢印で示してある。
【０３９７】
さらに、この合成用マイクロプラントでは、図２８に示すような化学操作を行なうようになっている。
詳しくは、トシル化部２においては、メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化して、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を得るステップＳ１１と、トシル体／ジトシル体溶液を中和するステップＳ１２と、トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行なうステップＳ１３と、トシル体／ジトシル体溶液を取り込みクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を得るステップＳ１４と、トシル体溶液の濃縮を行なうステップＳ１５と、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行なうステップＳ１６とを行なうようになっている。
【０３９８】
また、アミノ化部３においては、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化して、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を得るステップＳ２１と、アミノ体／トシル体溶液の濃縮を行なうステップＳ２２と、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ体／トシル体溶液から除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を得るステップＳ２３と、アミノ体溶液を濃縮するステップＳ２４と、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行なうステップＳ２５とを行なうようになっている。
【０３９９】
さらに、ニトロソカルバメート化部５においては、ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を得るステップＳ３１と、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行なうステップＳ３２と、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を得るステップＳ３３と、ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行なうステップＳ３４とを行なうようになっている。
【０４００】
また、ラニムスチン合成部６においては、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体とニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を得るステップＳ４１と、ラニムスチン溶液の濃縮を行なうステップＳ４２と、ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行なうステップＳ４３と、ラニムスチン溶液の濃縮を行なうステップＳ４４とを行なうようになっている。
【０４０１】
以下、各部について説明する。なお、以下の各部の説明に登場するチップは、それぞれ図示しない温度制御素子を設けたチップホルダに装着され、これにより、制御部７の制御に従って、それぞれ内部の流路の温度調整ができるようになっているものとする。
【０４０２】
［III−１．メチルグルコシド溶液源］
メチルグルコシド溶液源は、α−メチルグルコシドを含むメチルグルコシド溶液の供給源であれば他に制限は無く、任意の構成とすることができる。
本実施形態においては、図２９に示すように、メチルグルコシド溶液源１は、メチルグルコシド溶液としてα−メチルグルコシド溶液の脱水ピリジン溶液を貯蔵した試薬瓶６０１Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６０１Ｂとで構成され、試薬瓶６０１Ａ内のメチルグルコシド溶液は、送液ポンプ６０１Ｂにより、制御部７の制御にしたがってトシル化部２のトシル化反応部６１０に送り出されるようになっている。
【０４０３】
［III−２．トシル化部］
トシル化部２は、メチルグルコシド溶液源１から送り出されるメチルグルコシド溶液を取り込み、メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するように構成されていればその具体的構成は任意である。
本実施形態では、図２９に示すように、トシル化部２は、トシル化反応部６１０と、トシル体／ジトシル体中和部６２０と、トシル体／ジトシル体精製部６３０と、トシル体クロマト分離部６４０と、トシル体濃縮部６５０と、トシル体精製部６６０とを備えて構成されているものとする。
【０４０４】
［III−２−１．トシル化反応部］
トシル化反応部６１０は、メチルグルコシド溶液を取り込み、α−メチルグルコシドをトシル化しうるトシル化試薬をメチルグルコシド溶液に接触させてα−メチルグルコシドをトシル化し、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体を含むトシル体／ジトシル体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ１１の工程を行なうものである。
【０４０５】
本実施形態では、トシル化反応部６１０は、トシル化部反応用チップ６１１と、トシル化試薬源６１２とを備えていて、得られたトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６２２Ａに送られるようになっている。
【０４０６】
トシル化部反応用チップ６１１は、上述した第２反応用チップ２０１と同様に形成されている。即ち、トシル化部反応用チップ６１１は、第２反応用チップ２０１の基板２０２と同様に形成されたトシル化反応用基板と、第２反応用チップ２０１の流路２０３と同様に形成されたトシル化反応用流路とを備えていて、さらに、トシル化反応用流路には、導入流路部２０４，２０５、導入流路合流部２０８、分岐流路部２６１，２６２、階層分岐流路部２０６、流体流入口２７１、プール部２０７及び送出口２７４とそれぞれ同様に形成された、トシル化反応用導入流路部、トシル化反応用導入流路合流部、トシル化反応用分岐流路部、トシル化反応用階層分岐流路部、トシル化反応用流体流入口、トシル化反応用プール部及びトシル化反応用送出口が設けられている。したがって、トシル化部反応用チップ６１１は、トシル化反応用基板と、該トシル化反応用基板に形成されたトシル化反応用流路とを備え、該トシル化反応用流路が、該トシル化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのトシル化反応用導入流路部と、該トシル化反応用導入流路部が合流するトシル化反応用導入流路合流部と、該トシル化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するトシル化反応用分岐流路部を階層的に接続したトシル化反応用階層分岐流路部と、該トシル化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該トシル化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのトシル化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたトシル化反応用プール部と、該トシル化反応用プール部の下流に形成され、該トシル化反応用プール部内の流体を送出するためのトシル化反応用送出口とを有しているのである。
【０４０７】
トシル化反応用導入流路部のうちの一方は、上記の流体供給器１８２と同様に機能するメチルグルコシド源１の送液ポンプ６０１Ｂに接続され、上記の通り、試薬瓶６０１Ａ内のメチルグルコシド溶液は、送液ポンプ６０１Ｂにより、制御部７の制御にしたがってトシル化部２のトシル化反応部６１０に送り出されるようになっている。
【０４０８】
また、トシル化試薬源６１２は、トシル化試薬としてｐ−トルエンスルホニルクロライドの脱水ピリジン溶液を貯蔵した試薬瓶６１２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６１２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、トシル化部反応用チップ６１１のトシル化反応用導入流路部のうちの他方に接続されている。したがって、試薬瓶６１２Ａ内のトシル化試薬は、送液ポンプ６１２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、トシル化部反応用チップ６１１のトシル化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０４０９】
さらに、トシル化部反応用チップ６１１のトシル化反応用送出口は、試薬瓶６２２Ａに接続されている。
したがって、トシル化反応部６１０においては、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、トシル化反応用導入流路部を介して、メチルグルコシド溶液及びトシル化試薬をそれぞれメチルグルコシド源１及びトシル化試薬源６１２からトシル化反応用流路に取り込み、混合して、トシル化反応用流路内において、メチルグルコシド溶液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル化を行なうようになっている。
【０４１０】
また、メチルグルコシド溶液は、含有するα−メチルグルコシドがトシル化されることによって、α−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とを含有するトシル体／ジトシル体溶液となり、試薬瓶６２２Ａに送られるようになっている。
【０４１１】
［III−２−２．トシル体／ジトシル体中和部］
トシル体／ジトシル体中和部６２０は、上記トシル化反応部６１０から送出されるトシル体／ジトシル体溶液を中和したい場合に適宜設けるものである。このトシル体／ジトシル体中和部は、トシル化反応部６１０から送出されたトシル体／ジトシル体溶液を、取り込み、中和して、トシル体／ジトシル体精製部６３０へと送出するものであり、図２８に示すステップＳ１２の工程を行なうものである。
【０４１２】
本実施形態では、トシル体／ジトシル体中和部６２０は、トシル化部中和用チップ６２１と、トシル体／ジトシル体溶液源６２２と、中和液源６２３とを備えていて、得られたトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６３２Ａに送られるようになっている。
ここで、中和を行なう理由は、溶媒としてピリジン等を用いた場合にはトシル体／ジトシル体溶液は塩基性となるため、ピリジン廃液の処理のために、これを中和しておくことが好ましいからである。
【０４１３】
トシル化部中和用チップ６２１は、上述した第２反応用チップ２０１と同様に形成されている。即ち、トシル化部中和用チップ６２１は、第２反応用チップ２０１の基板２０２と同様に形成された中和用基板と、第２反応用チップ２０１の流路２０３と同様に形成された中和用流路とを備えていて、さらに、中和用流路には、導入流路部２０４，２０５、導入流路合流部２０８、分岐流路部２６１，２６２、階層分岐流路部２０６、流体流入口２７１、プール部２０７及び送出口２７４とそれぞれ同様に形成された、中和用導入流路部、中和用導入流路合流部、中和用分岐流路部、中和用階層分岐流路部、中和用流体流入口、中和用プール部及び中和用送出口が設けられている。したがって、トシル化部中和用チップ６２１は、中和用基板と、該中和用基板に形成された中和用流路とを備え、該中和用流路が、該中和用流路に流体を導入するための少なくとも２つの中和用導入流路部と、該中和用導入流路部が合流する中和用導入流路合流部と、該中和用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐する中和用分岐流路部を階層的に接続した中和用階層分岐流路部と、該中和用階層分岐流路部の下流に形成され、該中和用階層分岐流路部から流体を流入させるための中和用流体流入口を幅方向に均一に形成された中和用プール部と、該中和用プール部の下流に形成され、該中和用プール部内の流体を送出するための中和用送出口とを有しているのである。
【０４１４】
トシル体／ジトシル体溶液源６２２は、トシル化反応部６１０から送られてきたトシル体／ジトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶６２２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６２２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８２と同様に機能するもので、トシル化部中和用チップ６２１の中和用導入流路部のうちの一つに接続されている。したがって、試薬瓶６２２Ａ内のトシル体／ジトシル体溶液は、送液ポンプ６２２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、トシル化部中和用チップ６２１の中和用流路に送り出されるようになっている。
【０４１５】
また、中和液源６２３は、中和液を貯蔵した試薬瓶６２３Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６２３Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、トシル化部中和用チップ６２１の中和用導入流路部のうちの一つに接続されている。したがって、試薬瓶６２３Ａ内の中和液は、送液ポンプ６２３Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、トシル化部中和用チップ６２１の中和用流路に送り出されるようになっている。
なお、中和液は、中和する対象であるトシル体／ジトシル体溶液に応じて適切なものを任意に用いることができるが、ここでは、硫酸水溶液を用いているものとする。
【０４１６】
さらに、トシル化部中和用チップ６２１の中和用送出口は、試薬瓶６３２Ａに接続されている。
したがって、トシル体／ジトシル体中和部６２０においては、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、中和用導入流路部を介して、トシル体／ジトシル体溶液及び中和液をそれぞれトシル体／ジトシル体溶液源６２２及び中和液源６２３から中和用流路に取り込み、混合して、中和用流路内において、トシル体／ジトシル体溶液の中和を行なうようになっている。
そして、中和されたトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６３２Ａに送られるようになっている。
【０４１７】
［III−２−３．トシル体／ジトシル体精製部］
トシル体／ジトシル体精製部６３０は、トシル体中和部６２０から送出されるトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ１３を行なうものである。
【０４１８】
本実施形態では、トシル体／ジトシル体精製部６３０は、第１トシル化部ろ過用チップ６３１と、トシル体／ジトシル体溶液源６３２と、乾燥用ガス源６３３と、交換溶媒源６３４と、流路減圧部６３５と、廃液溜６３６と、切替弁６３７とを備えていて、精製後のトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６４２Ａに送られるようになっている。
【０４１９】
第１トシル化部ろ過用チップ６３１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、第１トシル化部ろ過用チップ６３１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたトシル体／ジトシル体精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたトシル体／ジトシル体精製用流路とを備えていて、さらに、トシル体／ジトシル体精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、トシル体／ジトシル体精製用導入流路部、トシル体／ジトシル体精製用プール部、トシル体／ジトシル体精製用送出流路部、トシル体／ジトシル体精製用ダム部及びトシル体／ジトシル体精製用支柱部が設けられている。したがって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１は、トシル体／ジトシル体精製用基板と、該トシル体／ジトシル体精製用基板に設けられたトシル体／ジトシル体精製用流路とを備え、該トシル体／ジトシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体をろ過分離するための第１トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体／ジトシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体／ジトシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体／ジトシル体精製用ダム部を備えているのである。なお、トシル体／ジトシル体精製用流路の内面とトシル体／ジトシル体精製用ダム部との間の隙間は、α−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の粒径よりも小さく形成されているものとする。
【０４２０】
また、トシル体／ジトシル体溶液源６３２は、トシル体／ジトシル体中和部６２０から送られてきたトシル体／ジトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶６３２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６３２Ｂと、制御部７により制御される制御弁６３２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６３２Ａ内のトシル体／ジトシル体溶液は、送液ポンプ６３２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４２１】
さらに、乾燥用ガス源６３３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ６３３Ａと、制御部７により制御される制御弁６３３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ６３３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４２２】
また、交換溶媒源６３４は、交換溶媒としてメタノールを貯蔵した試薬瓶６３４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６３４Ｂと、制御部７により制御される制御弁６３４Ｃとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６３４Ａ内の交換溶媒は、送液ポンプ６３４Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４２３】
さらに、流路減圧部６３５は、真空トラップ６３５Ａと、真空ポンプ６３５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁６３７を介して第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部６３５は、制御部７の制御にしたがって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０４２４】
また、廃液溜６３６は、上記の廃液回収タンク４６３と同様に機能するもので、切替弁６３７を介して第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜６３６には、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０４２５】
さらに、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用送出流路部は、切替弁６３７を介して、試薬瓶６４２Ａにも接続されている。この試薬瓶６４２Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０４２６】
また、切替弁６３７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用送出流路部と、流路減圧部６３５、廃液溜６３６及び試薬瓶６４２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０４２７】
したがって、トシル体／ジトシル体精製部６３０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、トシル体／ジトシル体精製用流路にトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、トシル体／ジトシル体精製用流路内においてトシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行なうようになっている。
そして、精製されたトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６４２Ａに送られるようになっている。
【０４２８】
［III−２−４．トシル体クロマト分離部］
トシル体クロマト分離部６４０は、トシル体／ジトシル体精製部６３０で精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を含むトシル体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ１４を行なうものである。
【０４２９】
本実施形態では、トシル体クロマト分離部６４０は、トシル化部クロマトグラフィー用チップ（以下適宜、「トシル化部クロマト用チップ」という）６４１と、トシル体／ジトシル体溶液源６４２と、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３と、トシル体クロマト再分離用回収部６４４と、廃液溜６４５と、切替弁６４６と、トシル体クロマト再分離用還流部６４７とを備えていて、分離後のトシル体溶液は、試薬瓶６５２Ａに送られるようになっている。
【０４３０】
トシル化部クロマト用チップ６４１は、上述したクロマト用チップ３０１と同様に形成されている。即ち、トシル化部クロマト用チップ６４１は、クロマト用チップ３０１の基板３０２と同様に形成されたトシル体分離用基板と、クロマト用チップ３０１の流路３０３と同様に形成されたトシル体分離用流路とを備えていて、さらに、トシル体分離用流路には、導入流路部３０４，３０５、プール部３０６、送出流路部３０７，３０８及び流出防止部３０９とそれぞれ同様に形成された、トシル体分離用導入流路部、トシル体分離用プール部、トシル体分離用送出流路部及びトシル体分離用流出防止部が設けられている。したがって、トシル化部クロマト用チップ６４１は、トシル体分離用基板と、該トシル体分離用基板に設けられたトシル体分離用流路とを備え、該トシル体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、トシル体分離用吸着剤を充填するためのトシル体分離用プール部と、該トシル体分離用プール部に流体を導入するトシル体分離用導入流路部と、該トシル体分離用プール部から流体を送出するトシル体分離用送出流路部と、該トシル体分離用プール部内の該トシル体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該トシル体分離用吸着剤が該トシル体分離用プール部から流出することを防止するトシル体分離用流出防止部とを備えているのである。なお、トシル体分離用プール部にはα−メチルグルコシドのトシル体をジトシル体と分離・精製するための吸着剤（例えば、オルガノ製合成樹脂吸着剤ＸＡＤ８）が充填され、トシル体分離用流路の内面とトシル体分離用流出防止部を形成するトシル体分離用ダム部との間の隙間は、この吸着剤よりも小さく形成されている。
【０４３１】
また、トシル体／ジトシル体溶液源６４２は、トシル体／ジトシル体精製部６３０から送られてきたトシル体／ジトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶６４２Ａと、制御部７により制御されて試薬瓶６４２Ａ内のトシル体／ジトシル体溶液を送出する送液ポンプ６４２Ｂと、トシル体／ジトシル体溶液の溶媒組成を調整するための溶媒（ここでは、水）を貯蔵した貯水瓶６４２Ｃと、制御部７により制御されて貯水瓶６４２Ｃ内の水を送出する送液ポンプ６４２Ｄと、制御部７により制御される制御弁６４２Ｅとで構成され、上記の試料液供給部３３０と同様に機能するもので、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６４２Ａ内のトシル体／ジトシル体溶液は、貯水瓶６４２Ｃ内の水によって溶媒組成を調整されて、制御部７の制御にしたがって、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用流路に送り出されるようになっている。
【０４３２】
さらに、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３は、溶出液として１００％メタノールを貯蔵した試薬瓶６４３Ａと、制御部７により制御されて試薬瓶６４３Ａ内の溶出液を送出する送液ポンプ６４３Ｂと、溶出液の溶媒組成を調整するための溶媒（ここでは、水）を貯蔵した貯水瓶６４３Ｃと、制御部７により制御されて貯水瓶６４３Ｃ内の水を送出する送液ポンプ６４３Ｄと、制御部７により制御される制御弁６４３Ｅとで構成され、上記溶出液供給部３４０と同様に機能するもので、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６４３Ａ内の溶出液は、貯水瓶６４３Ｃ内の水によって溶媒組成を調整されて、制御部７の制御にしたがって、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用流路に送り出されるようになっている。
【０４３３】
また、トシル体クロマト再分離用回収部６４４は、回収瓶６４４Ａと送液ポンプ６４４Ｂとを備えている。回収瓶６４４Ａは、上記の第２回収サンプルビン３５２と同様に機能するもので、切替弁６４６を介してトシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部に接続されている。また、送液ポンプ６４４Ｂは、制御部７により制御され、上記の送液ポンプ３５５と同様に機能するもので、回収瓶６４４Ａの下流に接続されている。したがって、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部から送出された液体のうち、再度クロマトグラフィーによる分離を行なうものは、回収瓶６４４Ａに回収され、送液ポンプ６４４によりトシル体クロマト再分離用還流部６４７に送り出されるようになっている。
【０４３４】
さらに、廃液溜６４５は、上記の第３回収サンプルビン３５３と同様に機能するもので、切替弁６４６を介してトシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜６４５には、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部から送出された液体のうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０４３５】
また、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部は、切替弁６４６を介して、試薬瓶６５２Ａにも接続されている。この試薬瓶６５２Ａは、上記の第１回収サンプルビン３５１と同様に機能するようになっていて、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部から送出された液体のうち、回収すべきものを回収できるようになっている。
【０４３６】
さらに、切替弁６４６は、上記の切替弁３５４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用送出流路部と、トシル体クロマト再分離用回収部６４４、廃液溜６４５及び試薬瓶６５２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０４３７】
また、トシル体クロマト再分離用還流部６４７は、トシル体クロマト再分離用回収部６４４から送出された溶出液を貯蔵する試薬瓶６４７Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６４７Ｂと、制御部７により制御される制御弁６４７Ｃとを備え、上記の再分離用還流部３６０と同様に機能するもので、トシル体クロマト再分離用回収部６４４及びトシル体／ジトシル体溶液源６４２に接続されている。したがって、トシル体クロマト再分離用還流部６４７は、制御部７の制御にしたがって、トシル体クロマト再分離用回収部６４４から送出された溶出液を、トシル体／ジトシル体溶液源６４２の試薬瓶６４２Ａに送出できるようになっている。また、試薬瓶６４７Ａ内にはセンサ（図示省略）が設けられ、試薬瓶６４７Ａ内の溶出液のメタノール濃度を測定し、制御部７に送るようになっている。
【０４３８】
したがって、トシル体クロマト分離部６４０においては、クロマト用チップ３０１について説明したのと同様にして、トシル体分離用流路に上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、トシル体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去するようになっている。
そして、α−メチルグルコシドのジトシル体を除去されたトシル体溶液は、試薬瓶６５２Ａに送られるようになっている。
【０４３９】
［III−２−５．トシル体濃縮部］
トシル体濃縮部６５０は、トシル体溶液を濃縮したい場合に適宜設けるものである。このトシル体濃縮部６５０は、トシル体クロマト分離部６４０から送出されたトシル体溶液を取り込み、濃縮して、トシル体精製部６６０へと送出するものであり、図２８に示すステップＳ１５を行なうものである。
【０４４０】
本実施形態では、トシル体濃縮部６５０は、トシル化部濃縮用チップ６５１と、トシル体溶液源６５２と、乾燥用気体源６５３と、回収器６５４を備えていて、濃縮後のトシル体溶液は、試薬瓶６６２Ａに送られるようになっている。
ここで、濃縮を行なう理由は、トシル体溶液からメタノールを除去するためである。
【０４４１】
トシル化部濃縮用チップ６５１は、上述した濃縮用チップ５０１と同様に形成されている。即ち、トシル化部濃縮用チップ６５１は、上記の濃縮用チップ５０１の基板５０２と同様に形成されたトシル体濃縮用基板と、濃縮用チップ５０１の流路５０３と同様に形成されたトシル体濃縮用流路とを備えていて、さらに、トシル体濃縮用流路には、液体導入流路部５０４、気体導入流路５０５、合流チャンネル部５０６、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８とそれぞれ同様に形成された、トシル体濃縮用液体導入流路部、トシル体濃縮用気体導入流路、トシル体濃縮用合流チャンネル部、トシル体濃縮用液体送出流路部及びトシル体濃縮用気体送出流路部が設けられている。
【０４４２】
また、トシル体溶液源６５２は、トシル体クロマト分離部６４０から送られてきたトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶６５２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６５２Ｂとで構成され、上記の液体供給器５９２と同様に機能するもので、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用液体導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６５２Ａ内のトシル体溶液は、送液ポンプ６５２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４４３】
さらに、乾燥用気体源６５３は、乾燥用の気体として窒素ガスを貯蔵したガスボンベ６５３Ａと、制御部７により制御される制御弁６５３Ｂとで構成され、上記の気体供給器５９３と同様に機能するもので、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用気体導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ６５３Ａ内の乾燥用の気体は、制御部７の制御にしたがって、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４４４】
また、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用液体送出流路部は試薬瓶６６２Ａに接続され、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用気体送出流路部は回収器６５４に接続されている。
したがって、トシル体濃縮部６５０においては、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、トシル体溶液と乾燥用の気体とをトシル体濃縮用流路部に流通させ、トシル体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでトシル体溶液を濃縮できるようになっている。
なお、濃縮されたトシル体溶液は試薬瓶６６２Ａに送られ、乾燥用の気体は回収器６５４に回収されるようになっている。
【０４４５】
さらに、本実施形態においては、トシル体濃縮部６５０には、水を貯蔵した貯水瓶６５５Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６５５Ｂとを備えた給水部６５５が設けられている。そして、この給水部６５５から、制御部７の制御にしたがって、試薬瓶６６２Ａ内のトシル体溶液を希釈するために、試薬瓶６６２に水が供給されるようになっている。
なお、ここで水を供給してトシル体溶液を希釈するのは、ジトシル体の溶解度を下げるためである。
【０４４６】
［III−２−６．トシル体精製部］
トシル体精製部６６０は、トシル体濃縮部６５０から送出されたトシル体溶液を取り込み、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行ない、精製後のトシル体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ１６を行なうものである。
【０４４７】
本実施形態では、トシル体精製部６６０は、第２トシル化部ろ過用チップ６６１と、トシル体溶液源６６２と、乾燥用ガス源６６３と、交換溶媒源６６４と、流路減圧部６６５と、廃液溜６６６と、切替弁６６７とを備えていて、精製後のトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶７１２Ａに送られるようになっている。
【０４４８】
第２トシル化部ろ過用チップ６６１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、第２トシル化部ろ過用チップ６６１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたトシル体精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたトシル体精製用流路とを備えていて、さらに、トシル体精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、トシル体精製用導入流路部、トシル体精製用プール部、トシル体精製用送出流路部、トシル体精製用ダム部及びトシル体精製用支柱部が設けられている。なお、トシル体精製用流路の内面とトシル体精製用ダム部との間の隙間は、α−メチルグルコシドのトシル体の粒径よりも小さく形成されているものとする。したがって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１は、トシル体精製用基板と、該トシル体精製用基板に設けられたトシル体精製用流路とを備え、該トシル体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのトシル体をろ過分離するための第２トシル化部ろ過用チップであって、該トシル体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該トシル体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのトシル体の粒径よりも小さい隙間を形成するトシル体精製用ダム部を備えているのである。
【０４４９】
また、トシル体溶液源６６２は、トシル体濃縮部６５０から送られてきたトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶６６２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６６２Ｂと、制御部７により制御される制御弁６６２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６６２Ａ内のトシル体溶液は、送液ポンプ６６２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４５０】
さらに、乾燥用ガス源６６３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ６６３Ａと、制御部７により制御される制御弁６６３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ６６３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４５１】
また、交換溶媒源６６４は、交換溶媒として脱水メタノールを貯蔵した試薬瓶６６４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ６６４Ｂと、制御部７により制御される制御弁６６４Ｃとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶６６４Ａ内の交換溶媒は、送液ポンプ６６４Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４５２】
さらに、流路減圧部６６５は、真空トラップ６６５Ａと、真空ポンプ６６５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁６６７を介して第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部６６５は、制御部７の制御にしたがって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０４５３】
また、廃液溜６６６は、上記の廃液回収タンク４６３と同様に機能するもので、切替弁６６７を介して第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜６６６には、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０４５４】
さらに、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用送出流路部は、切替弁６６７を介して、試薬瓶７１２Ａにも接続されている。この試薬瓶７１２Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０４５５】
また、切替弁６６７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用送出流路部と、流路減圧部６６５、廃液溜６６６及び試薬瓶７１２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０４５６】
したがって、トシル体精製部６６０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、トシル体精製用流路にトシル体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、トシル体精製用流路内においてトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行なうようになっている。
そして、精製されたトシル体溶液は、試薬瓶７１２Ａに送られるようになっている。
【０４５７】
［III−３．アミノ化部］
アミノ化部３は、トシル化部２から送り出されるトシル体溶液を取り込み、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するように構成されていればその具体的構成は任意である。
本実施形態では、図３０に示すように、アミノ化反応部７１０と、アミノ体／トシル体濃縮部７２０と、アミノ体クロマト分離部７３０と、アミノ体濃縮部７４０と、アミノ体精製部７５０とを備えて構成されているものとする。
【０４５８】
［III−３−１．アミノ化反応部］
アミノ化反応部７１０は、トシル化部２から送出されたトシル体溶液を取り込み、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化しうるアミノ化試薬をトシル体溶液に接触させて、α−メチルグルコシドのトシル体をアミノ化し、α−メチルグルコシドのアミノ体及びα−メチルグルコシドのトシル体を含むアミノ体／トシル体溶液を送出するものであり、図２８のステップＳ２１を行なうものである。
【０４５９】
本実施形態では、アミノ化反応部７１０は、アミノ化部反応用チップ７１１と、トシル体溶液源７１２と、アミノ化試薬源７１３とを備えていて、得られたアミノ体／トシル体溶液は、試薬瓶７２２Ａに送られるようになっている。
【０４６０】
アミノ化部反応用チップ７１１は、上述した第１反応用チップ１０１と同様に形成されている。即ち、アミノ化部反応用チップ７１１は、第１反応用チップ１０１の基板１０２と同様に形成されたアミノ化反応用基板と、第１反応用チップ１０１の流路１０３と同様に形成されたアミノ化反応用流路とを備えていて、さらに、アミノ化反応用流路には、主流路１０４及び導入流路１０５，１０６とそれぞれ同様に形成された、アミノ化反応用主流路及びアミノ化反応用導入流路が設けられている。したがって、アミノ化部反応用チップ７１１は、アミノ化反応用基板と、該アミノ化反応用基板に形成された主流路と、該アミノ化反応用基板に形成され、その下流端部を該主流路の上流端部に接続された少なくとも２つのアミノ化反応用導入流路とを備えたアミノ化反応部反応用チップであって、該アミノ化反応用導入流路の下流端部における流れ方向と該主流路の上流端部における流れ方向との角度差の絶対値がそれぞれ２０°以下となっているのである。
【０４６１】
また、トシル体溶液源７１２は、トシル化部２から送られてきたトシル体溶液を貯蔵した試薬瓶７１２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７１２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用導入流路部のうちの一方に接続されている。したがって、トシル体溶液は、送液ポンプ７１２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０４６２】
さらに、アミノ化試薬源７１３は、アミノ化試薬としてアンモニアガスを貯蔵したガスボンベ７１３Ａと、制御部７により制御される制御弁７１３Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８２’と同様に機能するもので、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用導入流路部のうちの他方に接続されている。したがって、ガスボンベ７１３Ａ内のアミノ化試薬は、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０４６３】
さらに、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用流路の下流側には試薬瓶７２２Ａに接続されている。
したがって、アミノ体反応部７１０においては、第１反応用チップ１０１について説明したのと同様にして、アミノ化反応用導入流路部を介して、アミノ化反応用流路にトシル体溶液及びアミノ化試薬をそれぞれトシル体溶液源７１２及びアミノ化試薬源７１３から取り込み、アミノ化反応用流路内においてトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化を行なうようになっている。
【０４６４】
また、トシル体溶液は、含有するα−メチルグルコシドのトシル体がアミノ化されることによって、α−メチルグルコシドのトシル体とアミノ体とを含有するアミノ体／トシル体溶液となり、試薬瓶７２２Ａに送られるようになっている。
【０４６５】
さらに、本実施形態においては、アミノ化反応部７１０には、水を貯蔵した貯水瓶７１４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７１４Ｂとを備えた給水部７１４が設けられている。そして、この給水部７１４から、制御部７の制御にしたがって、試薬瓶７２２Ａ内のアミノ体／トシル体溶液中のメタノール濃度が所定濃度（例えば、４０重量％）となるように、試薬瓶７２２Ａに水が供給されるようになっている。
なお、ここで水を供給してメタノール濃度を調整するのは、アンモニア濃度を下げ、次の濃縮操作で過濃縮となることを防ぐためである。
【０４６６】
［III−３−２．アミノ体／トシル体濃縮部］
アミノ体／トシル体濃縮部７２０は、アミノ体／トシル体溶液を濃縮したい場合に適宜設けるものである。このアミノ体／トシル体濃縮部７２０は、アミノ化反応部７１０から送りだされるアミノ体／トシル体溶液を取り込み、濃縮して、アミノ体クロマト分離部７３０へと送出するものであり、図２８に示すステップＳ２２を行なうものである。
【０４６７】
本実施形態では、アミノ体／トシル体濃縮部７２０は、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１と、アミノ体／トシル体溶液源７２２と、乾燥用気体源７２３と、回収器７２４を備えていて、濃縮後のアミノ体／トシル体溶液は、試薬瓶７３２Ａに送られるようになっている。
ここで、濃縮を行なう理由は、アミノ体／トシル体溶液中のメタノールを除去するためである。
【０４６８】
第１アミノ化部濃縮用チップ７２１は、上述した濃縮用チップ５０１と同様に形成されている。即ち、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１は、上記の濃縮用チップ５０１の基板５０２と同様に形成されたアミノ体／トシル体濃縮用基板と、濃縮用チップ５０１の流路５０３と同様に形成されたアミノ体／トシル体濃縮用流路とを備えていて、さらに、アミノ体／トシル体濃縮用流路には、液体導入流路部５０４、気体導入流路５０５、合流チャンネル部５０６、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８とそれぞれ同様に形成された、アミノ体／トシル体濃縮用液体導入流路部、アミノ体／トシル体濃縮用気体導入流路、アミノ体／トシル体濃縮用合流チャンネル部、アミノ体／トシル体濃縮用液体送出流路部及びアミノ体／トシル体濃縮用気体送出流路部が設けられている。
【０４６９】
また、アミノ体／トシル体溶液源７２２は、アミノ化反応部７１０から送られてきたアミノ体／トシル体溶液を貯蔵した試薬瓶７２２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７２２Ｂとで構成され、上記の液体供給器５９２と同様に機能するもので、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用液体導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７２２Ａ内のアミノ体／トシル体溶液は、送液ポンプ７２２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４７０】
さらに、乾燥用気体源７２３は、乾燥用の気体として窒素ガスを貯蔵したガスボンベ７２３Ａと、制御部７により制御される制御弁７２３Ｂとで構成され、上記の気体供給器５９３と同様に機能するもので、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用気体導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ７２３Ａ内の乾燥用の気体は、制御部７の制御にしたがって、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４７１】
また、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用液体送出流路部は試薬瓶７３２Ａに接続され、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用気体送出流路部は回収器７２４に接続されている。
したがって、アミノ体／トシル体濃縮部７２０においては、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、アミノ体／トシル体溶液と乾燥用の気体とをアミノ体／トシル体濃縮用流路部に流通させ、アミノ体／トシル体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでアミノ体／トシル体溶液を濃縮できるようになっている。
なお、濃縮されたアミノ体／トシル体溶液を試薬瓶７３２Ａに送られ、乾燥用の気体は回収器７２４に回収されるようになっている。
【０４７２】
［III−３−３．アミノ体クロマト分離部］
アミノ体クロマト分離部７３０は、アミノ体／トシル体濃縮部７２０から送り出されるアミノ体／トシル体溶液を取り込み、クロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を含むアミノ体溶液を送出するものであり、図２８のステップＳ２３を行なうものである。
【０４７３】
本実施形態では、アミノ体クロマト分離部７３０は、アミノ化部クロマトグラフィー用チップ（以下適宜、「アミノ化部クロマト用チップ」という）７３１と、アミノ体／トシル体溶液源７３２と、アミノ体クロマト分離用溶出液供給源７３３と、廃液溜７３４と、切替弁７３５とを備えていて、分離後のアミノ体溶液は、試薬瓶７４２Ａに送られるようになっている。
【０４７４】
アミノ化部クロマト用チップ７３１は、上述したクロマト用チップ３０１と同様に形成されている。即ち、アミノ化部クロマト用チップ７３１は、クロマト用チップ３０１の基板３０２と同様に形成されたアミノ体分離用基板と、クロマト用チップ３０１の流路３０３と同様に形成されたアミノ体分離用流路とを備えていて、さらに、アミノ体分離用流路には、導入流路部３０４，３０５、プール部３０６、送出流路部３０７，３０８及び流出防止部３０９とそれぞれ同様に形成された、アミノ体分離用導入流路部、アミノ体分離用プール部、アミノ体分離用送出流路部及びアミノ体分離用流出防止部が設けられている。したがって、アミノ化部クロマト用チップ７３１は、アミノ体分離用基板と、該アミノ体分離用基板に設けられたアミノ体分離用流路とを備え、該アミノ体分離用流路が、流路断面積を相対的に大きく形成された、アミノ体分離用吸着剤を充填するためのアミノ体分離用プール部と、該アミノ体分離用プール部に流体を導入するアミノ体分離用導入流路部と、該アミノ体分離用プール部から流体を送出するアミノ体分離用送出流路部と、該アミノ体分離用プール部内の該アミノ体分離用送出流路部よりも上流側に形成され、該アミノ体分離用吸着剤が該アミノ体分離用プール部から流出することを防止するアミノ体分離用流出防止部とを備えているのである。なお、アミノ体分離用プール部にはα−メチルグルコシドのアミノ体をトシル体と分離・精製するための吸着剤（例えば、オルガノ製強酸性イオン交換樹脂ＩＲＣ５０（ＮＨ4型））が充填され、アミノ体分離用流路の内面とアミノ体分離用流出防止部を形成するアミノ体分離用ダム部との間の隙間は、この吸着剤よりも小さく形成されている。
【０４７５】
また、アミノ体／トシル体溶液源７３２は、アミノ体／トシル体濃縮部７２０から送られてきたアミノ体／トシル体溶液を貯蔵した試薬瓶７３２Ａと、制御部７により制御されて試薬瓶７３２Ａ内のアミノ体／トシル体溶液を送出する送液ポンプ７３２Ｂと、制御部７により制御される制御弁７３２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部３３０と同様に機能するもので、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７３２Ａ内のアミノ体／トシル体溶液は、制御部７の制御にしたがって、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用流路に送り出されるようになっている。
【０４７６】
さらに、アミノ体クロマト分離用溶出液供給源７３３は、溶出液として２Ｎアンモニア水を貯蔵した試薬瓶７３３Ａと、制御部７により制御されて試薬瓶７３３Ａ内の溶出液を送出する送液ポンプ７３３Ｂと、制御部７により制御される制御弁７３３Ｃとで構成され、上記溶出液供給部３４０と同様に機能するもので、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７３３Ａ内の溶出液は、制御部７の制御にしたがって、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用流路に送り出されるようになっている。
【０４７７】
また、廃液溜７３４は、上記の第３回収サンプルビン３５３と同様に機能するもので、切替弁７３５を介してトシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜７３４には、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用送出流路部から送出された液体のうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０４７８】
また、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用送出流路部は、切替弁７３５を介して、試薬瓶７４２Ａにも接続されている。この試薬瓶７４２Ａは、上記の第１回収サンプルビン３５１と同様に機能するようになっていて、トシル化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用送出流路部から送出された液体のうち、回収すべきものを回収できるようになっている。
【０４７９】
さらに、切替弁７３５は、上記の切替弁３５４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、アミノ化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用送出流路部と、廃液溜７３５及び試薬瓶６５２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０４８０】
したがって、アミノ体クロマト分離部７３０においては、アミノ体分離用流路から流出した溶出液を再度クロマトグラフィーにより分離するリサイクル操作をしないようにし、また、分離操作時の試料液であるアミノ体／トシル体溶液及び溶出液の溶媒組成の調整を行なわないようにした他は、クロマト用チップ３０１について説明したのと同様にして、アミノ体分離用流路に上記の精製したアミノ体／トシル体溶液を取り込み、アミノ体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去するようになっている。
そして、α−メチルグルコシドのトシル体を除去されたアミノ体溶液は、試薬瓶７４２Ａに送られるようになっている。
【０４８１】
［III−３−４．アミノ体濃縮部］
アミノ体濃縮部７４０は、アミノ体溶液を濃縮したい場合に適宜設けるものである。このアミノ体濃縮部７４０は、アミノ化クロマト分離部７３０から送りだされるアミノ体溶液を取り込み、濃縮して、アミノ体精製部７５０へと送出するものであり、図２８に示すステップＳ２４を行なうものである。
【０４８２】
本実施形態では、アミノ体濃縮部７４０は、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１と、アミノ体溶液源７４２と、乾燥用気体源７４３と、回収器７４４を備えていて、濃縮後のアミノ体溶液は、試薬瓶７５２Ａに送られるようになっている。
ここで、濃縮を行なう理由は、アミノ体溶液からアンモニアを除去するためである。
【０４８３】
第２アミノ化部濃縮用チップ７４１は、上述した濃縮用チップ５０１と同様に形成されている。即ち、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１は、上記の濃縮用チップ５０１の基板５０２と同様に形成されたアミノ体濃縮用基板と、濃縮用チップ５０１の流路５０３と同様に形成されたアミノ体濃縮用流路とを備えていて、さらに、アミノ体濃縮用流路には、液体導入流路部５０４、気体導入流路５０５、合流チャンネル部５０６、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８とそれぞれ同様に形成された、アミノ体濃縮用液体導入流路部、アミノ体濃縮用気体導入流路、アミノ体濃縮用合流チャンネル部、アミノ体濃縮用液体送出流路部及びアミノ体濃縮用気体送出流路部が設けられている。
【０４８４】
また、アミノ体溶液源７４２は、アミノ体クロマト分離部７３０から送られてきたアミノ体溶液を貯蔵した試薬瓶７４２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７４２Ｂとで構成され、上記の液体供給器５９２と同様に機能するもので、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用液体導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７４２Ａ内のアミノ体溶液は、送液ポンプ７４２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４８５】
さらに、乾燥用気体源７４３は、乾燥用の気体として窒素ガスを貯蔵したガスボンベ７４３Ａと、制御部７により制御される制御弁７４３Ｂとで構成され、上記の気体供給器５９３と同様に機能するもので、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用気体導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ７４３Ａ内の乾燥用の気体は、制御部７の制御にしたがって、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０４８６】
また、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用液体送出流路部は試薬瓶７５２Ａに接続され、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用気体送出流路部は回収器７４４に接続されている。
したがって、アミノ体濃縮部７４０においては、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、アミノ体溶液と乾燥用の気体とをアミノ体濃縮用流路部に流通させ、アミノ体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでアミノ体溶液を濃縮できるようになっている。
なお、濃縮されたアミノ体溶液を試薬瓶７５２Ａに送られ、乾燥用の気体は回収器７４４に回収されるようになっている。
【０４８７】
［III−３−５．アミノ体精製部］
アミノ製精製部７５０は、アミノ体濃縮部７４０から送り出されるアミノ体溶液を取り込み、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行ない、精製後のアミノ体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ２５を行なうものである。
【０４８８】
本実施形態では、アミノ体精製部７５０は、アミノ化部ろ過用チップ７５１と、アミノ体溶液源７５２と、乾燥用ガス源７５３と、交換溶媒源７５４と、流路減圧部７５５と、廃液溜７５６と、切替弁７５７とを備えていて、精製後のアミノ体溶液は、試薬瓶９１２Ａに送られるようになっている。
【０４８９】
アミノ化部ろ過用チップ７５１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、アミノ化部ろ過用チップ７５１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたアミノ体精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたアミノ体精製用流路とを備えていて、さらに、アミノ体精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、アミノ体精製用導入流路部、アミノ体精製用プール部、アミノ体精製用送出流路部、アミノ体精製用ダム部及びアミノ体精製用支柱部が設けられている。したがって、アミノ化部ろ過用チップ７５１は、アミノ体精製用基板と、該アミノ体精製用基板に設けられたアミノ体精製用流路とを備え、該アミノ体精製用流路に流体を流通させて流体中のα−メチルグルコシドのアミノ体をろ過分離するためのアミノ化部ろ過用チップであって、該アミノ体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該アミノ体精製用流路の内面との間で上記α−メチルグルコシドのアミノ体の粒径よりも小さい隙間を形成するアミノ体精製用ダム部を備えているのである。なお、アミノ体精製用流路の内面とアミノ体精製用ダム部との間の隙間は、α−メチルグルコシドのアミノ体の粒径よりも小さく形成されているものとする。
【０４９０】
また、アミノ体溶液源７５２は、アミノ体濃縮部７４０から送られてきたアミノ体溶液を貯蔵した試薬瓶７５２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７５２Ｂと、制御部７により制御される制御弁７５２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７５２Ａ内のアミノ体溶液は、送液ポンプ７５２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４９１】
さらに、乾燥用ガス源７５３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ７５３Ａと、制御部７により制御される制御弁７５３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ７５３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４９２】
また、交換溶媒源７５４は、交換溶媒として脱水メタノールを貯蔵した試薬瓶７５４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ７５４Ｂと、制御部７により制御される制御弁７５４Ｃとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶７５４Ａ内の交換溶媒は、送液ポンプ７５４Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０４９３】
さらに、流路減圧部７５５は、真空トラップ７５５Ａと、真空ポンプ７５５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁７５７を介してアミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部７５５は、制御部７の制御にしたがって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０４９４】
また、廃液溜７５６は、上記の廃液回収タンク４６３と同様に機能するもので、切替弁７５７を介してアミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜７５６には、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０４９５】
さらに、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用送出流路部は、切替弁７５７を介して、試薬瓶９１２Ａにも接続されている。この試薬瓶９１２Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０４９６】
また、切替弁７５７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用送出流路部と、流路減圧部７５５、廃液溜７５６及び試薬瓶９１２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０４９７】
したがって、アミノ体精製部７５０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、アミノ体精製用流路にアミノ体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、アミノ体精製用流路内においてアミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行なうようになっている。
そして、精製されたアミノ体溶液は、試薬瓶９１２Ａに送られるようになっている。
【０４９８】
［III−４．ニトロフェノール溶液源］
ニトロフェノール溶液源４は、ｏ−ニトロフェノールを含むニトロフェノール溶液の供給源であれば他に制限は無く、任意の構成とすることができる。
本実施形態においては、図３１に示すように、ニトロフェノール溶液源４は、ニトロフェノール溶液としてｏ−ニトロフェノールとトリエチルアミンとを含むトルエン溶液を貯蔵した試薬瓶８０１Ａと、送液ポンプ８０１Ｂとで構成され、試薬瓶６０１Ａ内のメチルグルコシド溶液は制御部７の制御にしたがって、ニトロソカルバメート部５のカルバメート化反応部８１０に送り出されるようになっている。
【０４９９】
［III−５．ニトロソカルバメート化部］
ニトロソカルバメート化部５は、ニトロフェノール溶液源４から送り出されるニトロフェノール溶液を取り込み、ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールをニトロソカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するように構成されていれば、その具体的構成は任意である。
本実施形態では、カルバメート化反応部８１０と、カルバメート体精製部８２０と、ニトロソカルバメート化反応部８３０と、ニトロソカルバメート体精製部８４０とを備えて構成されているものとする。
【０５００】
［III−５−１．カルバメート化反応部］
カルバメート化反応部８１０は、ニトロフェノール溶液源４から送り出されるニトロフェノール溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールをカルバメート化しうるカルバメート化試薬をニトロフェノール溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールをカルバメート化し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含むカルバメート体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ３１を行なうものである。
【０５０１】
本実施形態では、図３１に示すように、カルバメート化反応部８１０は、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１と、カルバメート化試薬源８１２とを備えていて、得られたカルバメート体溶液は、試薬瓶８２２Ａに送られるようになっている。
【０５０２】
第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１は、上述した第２反応用チップ２０１と同様に形成されている。即ち、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１は、第２反応用チップ２０１の基板２０２と同様に形成されたカルバメート化反応用基板と、第２反応用チップ２０１の流路２０３と同様に形成されたカルバメート化反応用流路とを備えていて、さらに、カルバメート化反応用流路には、導入流路部２０４，２０５、導入流路合流部２０８、分岐流路部２６１，２６２、階層分岐流路部２０６、流体流入口２７１、プール部２０７及び送出口２７４とそれぞれ同様に形成された、カルバメート化反応用導入流路部、カルバメート化反応用導入流路合流部、カルバメート化反応用分岐流路部、カルバメート化反応用階層分岐流路部、カルバメート化反応用流体流入口、カルバメート化反応用プール部及びカルバメート化反応用送出口が設けられている。したがって、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１は、カルバメート化反応用基板と、該カルバメート化反応用基板に形成されたカルバメート化反応用流路とを備え、該カルバメート化反応用流路が、該カルバメート化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのカルバメート化反応用導入流路部と、該カルバメート化反応用導入流路部が合流するカルバメート化反応用導入流路合流部と、該カルバメート化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するカルバメート化反応用分岐流路部を階層的に接続したカルバメート化反応用階層分岐流路部と、該カルバメート化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該カルバメート化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのカルバメート化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたカルバメート化反応用プール部と、該カルバメート化反応用プール部の下流に形成され、該カルバメート化反応用プール部内の流体を送出するためのカルバメート化反応用送出口とを有しているのである。
【０５０３】
カルバメート化反応用導入流路部のうちの一方は、上記の流体供給器１８２と同様に機能するニトロフェノール溶液源４の送液ポンプ８０１Ｂに接続され、上記の通り、試薬瓶８０１Ａ内のニトロフェノール溶液は、送液ポンプ８０１Ｂにより、制御部７の制御にしたがってニトロソカルバメート化部５のカルバメート化反応部８１０に送り出されるようになっている。
【０５０４】
また、カルバメート化試薬源８１２は、カルバメート化試薬として２−クロロエチルイソシアネートのトルエン溶液を貯蔵した試薬瓶８１２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８１２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１のカルバメート化反応用導入流路部のうちの他方に接続されている。したがって、試薬瓶８１２Ａ内のカルバメート化試薬は、送液ポンプ８１２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１のカルバメート化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０５０５】
さらに、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１のカルバメート化反応用送出口は、試薬瓶８２２Ａに接続されている。
したがって、カルバメート体反応部８１０においては、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、カルバメート化反応用導入流路部を介して、ニトロフェノール溶液及びカルバメート化試薬をそれぞれニトロフェノール溶液源４及びカルバメート化試薬源８１２からカルバメート化反応用流路に取り込み、混合して、カルバメート化反応用流路内において、ニトロフェノール溶液に含まれるｏ−ニトロフェノールのカルバメート化を行なうようになっている。
【０５０６】
また、ニトロフェノール溶液は、含有するｏ−ニトロフェノールがカルバメート化されることによって、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含有するカルバメート体溶液となり、試薬瓶８２２Ａに送られるようになっている。
【０５０７】
［III−５−２．カルバメート体精製部］
カルバメート体精製部８２０は、カルバメート化反応部８１０から送り出されるカルバメート体溶液を取り込み、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行ない、精製後のカルバメート体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ３２を行なうものである。
【０５０８】
本実施形態では、カルバメート体精製部８２０は、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１と、カルバメート体溶液源８２２と、乾燥用ガス源８２３と、交換溶媒源８２４と、流路減圧部８２５と、廃液溜８２６と、切替弁８２７とを備えていて、精製後のカルバメート体溶液は、試薬瓶８３２Ａに送られるようになっている。
【０５０９】
第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたカルバメート体精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたカルバメート体精製用流路とを備えていて、さらに、カルバメート体精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、カルバメート体精製用導入流路部、カルバメート体精製用プール部、カルバメート体精製用送出流路部、カルバメート体精製用ダム部及びカルバメート体精製用支柱部が設けられている。したがって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１は、カルバメート体精製用基板と、該カルバメート体精製用基板に設けられたカルバメート体精製用流路とを備え、該カルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をろ過分離するための第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該カルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該カルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するカルバメート体精製用ダム部を備えているのである。なお、カルバメート体精製用流路の内面とカルバメート体精製用ダム部との間の隙間は、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の粒径よりも小さく形成されているものとする。
【０５１０】
また、カルバメート体溶液源８２２は、カルバメート化反応部８１０から送られてきたカルバメート体溶液を貯蔵した試薬瓶８２２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８２２Ｂと、制御部７により制御される制御弁８２２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶８２２Ａ内のカルバメート体溶液は、送液ポンプ８２２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５１１】
さらに、乾燥用ガス源８２３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ８２３Ａと、制御部７により制御される制御弁８２３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ８２３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５１２】
また、交換溶媒源８２４は、交換溶媒として濃硝酸を貯蔵した試薬瓶８２４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８２４Ｂと、制御部７により制御される制御弁８２４Ｃとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶８２４Ａ内の交換溶媒は、送液ポンプ８２４Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５１３】
さらに、流路減圧部８２５は、真空トラップ８２５Ａと、真空ポンプ８２５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁８２７を介して第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部８２５は、制御部７の制御にしたがって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０５１４】
また、廃液溜８２６は、上記の廃液回収タンク４８２と同様に機能するもので、切替弁８２７を介して第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜８２６には、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０５１５】
さらに、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用送出流路部は、切替弁８２７を介して、試薬瓶８３２Ａにも接続されている。この試薬瓶８３２Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０５１６】
また、切替弁８２７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用送出流路部と、流路減圧部８２５、廃液溜８２６及び試薬瓶８３２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０５１７】
したがって、カルバメート体精製部８２０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、カルバメート体精製用流路にカルバメート体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、カルバメート体精製用流路内においてカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行なうようになっている。
そして、精製されたカルバメート体溶液は、試薬瓶８３２Ａに送られるようになっている。
【０５１８】
［III−５−３．ニトロソカルバメート化反応部］
ニトロソカルバメート化反応部８３０は、カルバメート体精製部８２０から送り出されるカルバメート体溶液を取り込み、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化しうるニトロソ化試薬をカルバメート体溶液に接触させてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をニトロソ化し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含むニトロソカルバメート体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ３３を行なうものである。
【０５１９】
本実施形態では、ニトロソカルバメート化反応部８３０は、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１と、カルバメート体溶液源８３２と、ニトロソ化試薬源８３３とを備えていて、得られたニトロソカルバメート体溶液は、試薬瓶８４２Ａに送られるようになっている。
【０５２０】
第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１は、上述した第２反応用チップ２０１と同様に形成されている。即ち、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１は、第２反応用チップ２０１の基板２０２と同様に形成されたニトロソ化反応用基板と、第２反応用チップ２０１の流路２０３と同様に形成されたニトロソ化反応用流路とを備えていて、さらに、ニトロソ化反応用流路には、導入流路部２０４，２０５、導入流路合流部２０８、分岐流路部２６１，２６２、階層分岐流路部２０６、流体流入口２７１、プール部２０７及び送出口２７４とそれぞれ同様に形成された、ニトロソ化反応用導入流路部、ニトロソ化反応用導入流路合流部、ニトロソ化反応用分岐流路部、ニトロソ化反応用階層分岐流路部、ニトロソ化反応用流体流入口、ニトロソ化反応用プール部及びニトロソ化反応用送出口が設けられている。したがって、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１は、ニトロソ化反応用基板と、該ニトロソ化反応用基板に形成されたニトロソ化反応用流路とを備え、該ニトロソ化反応用流路が、該ニトロソ化反応用流路に流体を導入するための少なくとも２つのニトロソ化反応用導入流路部と、該ニトロソ化反応用導入流路部が合流するニトロソ化反応用導入流路合流部と、該ニトロソ化反応用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するニトロソ化反応用分岐流路部を階層的に接続したニトロソ化反応用階層分岐流路部と、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用階層分岐流路部から流体を流入させるためのニトロソ化反応用流体流入口を幅方向に均一に形成されたニトロソ化反応用プール部と、該ニトロソ化反応用プール部の下流に形成され、該ニトロソ化反応用プール部内の流体を送出するためのニトロソ化反応用送出口とを有しているのである。
【０５２１】
また、カルバメート体溶液源８３２は、カルバメート体精製部８２０から送られてくるカルバメート体溶液を貯蔵した試薬瓶８３２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８３２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８２と同様に機能するもので、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用導入流路部のうちの一方に接続されている。したがって、試薬瓶８３２Ａ内のカルバメート体溶液は、送液ポンプ８３２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０５２２】
さらに、ニトロソ化試薬源８３３は、ニトロソ化試薬として亜硝酸ナトリウムの濃硝酸溶液を貯蔵した試薬瓶８３３Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８３３Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用導入流路部のうちの他方に接続されている。したがって、試薬瓶８３３Ａ内のニトロソ化試薬は、送液ポンプ８３３Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用流路に送り出されるようになっている。
【０５２３】
さらに、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用送出口は、試薬瓶８４２Ａに接続されている。
したがって、ニトロソカルバメート化反応部８３０においては、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、ニトロソ化反応用導入流路部を介して、カルバメート体溶液及びニトロソ化試薬をそれぞれカルバメート体溶液源８３２及びニトロソ化試薬源８３３からニトロソ化反応用流路に取り込み、混合して、ニトロソ化反応用流路内において、カルバメート体溶液に含まれるｏ−ニトロフェノールのカルバメート体のニトロソ化を行なうようになっている。
【０５２４】
また、カルバメート体溶液は、含有するｏ−ニトロフェノールのカルバメート体がニトロソ化されることによって、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含有するニトロソカルバメート体溶液となり、試薬瓶８４２Ａに送られるようになっている。
【０５２５】
［III−５−４．ニトロソカルバメート体精製部］
ニトロソカルバメート体精製部８４０は、ニトロソカルバメート化反応部８３０から送り出されるニトロソカルバメート体溶液を取り込み、ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行ない、精製後のニトロソカルバメート体溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ３４を行なうものである。
【０５２６】
本実施形態では、ニトロソカルバメート体精製部８４０は、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１と、ニトロソカルバメート体溶液源８４２と、乾燥用ガス源８４３と、交換溶媒源８４４と、流路減圧部８４５と、廃液溜８４６と、切替弁８４７とを備えていて、精製後のニトロソカルバメート体溶液は、試薬瓶９１３Ａに送られるようになっている。
【０５２７】
第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたニトロソカルバメート体精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたニトロソカルバメート体精製用流路とを備えていて、さらに、ニトロソカルバメート体精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、ニトロソカルバメート体精製用導入流路部、ニトロソカルバメート体精製用プール部、ニトロソカルバメート体精製用送出流路部、ニトロソカルバメート体精製用ダム部及びニトロソカルバメート体精製用支柱部が設けられている。したがって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１は、ニトロソカルバメート体精製用基板と、該ニトロソカルバメート体精製用基板に設けられたニトロソカルバメート体精製用流路とを備え、該ニトロソカルバメート体精製用流路に流体を流通させて流体中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体をろ過分離するための第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップであって、該ニトロソカルバメート体精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ニトロソカルバメート体精製用流路の内面との間で上記ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の粒径よりも小さい隙間を形成するニトロソカルバメート体精製用ダム部を備えている。なお、ニトロソカルバメート体精製用流路の内面とニトロソカルバメート体精製用ダム部との間の隙間は、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の粒径よりも小さく形成されているものとする。
【０５２８】
また、ニトロソカルバメート体溶液源８４２は、ニトロソカルバメート化反応部８３０から送られてきたニトロソカルバメート体溶液を貯蔵した試薬瓶８４２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８４２Ｂと、制御部７により制御される制御弁８４２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶８４２Ａ内のニトロソカルバメート体溶液は、送液ポンプ８４２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５２９】
さらに、乾燥用ガス源８４３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ８４３Ａと、制御部７により制御される制御弁８４３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ８４３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５３０】
また、交換溶媒源８４４は、交換溶媒として脱水テトラヒドロフランを貯蔵した試薬瓶８４４Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ８４４Ｂと、制御部７により制御される制御弁８４４Ｃとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶８４４Ａ内の交換溶媒は、送液ポンプ８４４Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５３１】
さらに、流路減圧部８４５は、真空トラップ８４５Ａと、真空ポンプ８４５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁８４７を介して第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部８４５は、制御部７の制御にしたがって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０５３２】
また、廃液溜８４６は、上記の廃液回収タンク４８４と同様に機能するもので、切替弁８４７を介して第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜８４６には、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０５３３】
さらに、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用送出流路部は、切替弁８４７を介して、試薬瓶９１３Ａにも接続されている。この試薬瓶９１３Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０５３４】
また、切替弁８４７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、第２ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用送出流路部と、流路減圧部８４５、廃液溜８４６及び試薬瓶９１３Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０５３５】
したがって、ニトロソカルバメート体精製部８４０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、ニトロソカルバメート体精製用流路にニトロソカルバメート体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、ニトロソカルバメート体精製用流路内においてニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行なうようになっている。
そして、精製されたニトロソカルバメート体溶液は、試薬瓶９１３Ａに送られるようになっている。
【０５３６】
［III−６．ラニムスチン合成部］
ラニムスチン合成部６は、上記アミノ体溶液及び上記ニトロソカルバメート体溶液を取り込んでラニムスチンを合成するように構成されていれば、その具体的構成は任意である。
本実施形態においては、図３２に示すように、ラニムスチン合成反応部９１０と、第１ラニムスチン濃縮部９２０と、ラニムスチン精製部９３０と、第２ラニムスチン精製部９４０とを備えて構成されているものとする。
【０５３７】
［III−６−１．ラニムスチン合成反応部］
ラニムスチン合成反応部９１０は、アミノ化部３から送り出されるアミノ体溶液、及び、ニトロソカルバメート化部５から送り出されるニトロソカルバメート体溶液を取り込み、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体とニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成し、ラニムスチンを含むラニムスチン溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ４１を行なうものである。
【０５３８】
本実施形態では、ラニムスチン合成反応部９１０は、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１と、アミノ体溶液源９１２と、ニトロソカルバメート体溶液源９１３とを備えている。
【０５３９】
ラニムスチン合成部反応用チップ９１１は、上述した第２反応用チップ２０１と同様に形成されている。即ち、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１は、第２反応用チップ２０１の基板２０２と同様に形成されたラニムスチン合成用基板と、第２反応用チップ２０１の流路２０３と同様に形成されたラニムスチン合成用流路とを備えていて、さらに、ラニムスチン合成用流路には、導入流路部２０４，２０５、導入流路合流部２０８、分岐流路部２６１，２６２、階層分岐流路部２０６、流体流入口２７１、プール部２０７及び送出口２７４とそれぞれ同様に形成された、ラニムスチン合成用導入流路部、ラニムスチン合成用導入流路合流部、ラニムスチン合成用分岐流路部、ラニムスチン合成用階層分岐流路部、ラニムスチン合成用流体流入口、ラニムスチン合成用プール部及びラニムスチン合成用送出口が設けられている。したがって、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１は、ラニムスチン合成用基板と、該ラニムスチン合成用基板に形成されたラニムスチン合成用流路とを備え、該ラニムスチン合成用流路が、該ラニムスチン合成用流路に流体を導入するための少なくとも２つのラニムスチン合成用導入流路部と、該ラニムスチン合成用導入流路部が合流するラニムスチン合成用導入流路合流部と、該ラニムスチン合成用導入流路合流部の下流に形成され、それぞれ少なくとも２本に分岐するラニムスチン合成用分岐流路部を階層的に接続したラニムスチン合成用階層分岐流路部と、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用階層分岐流路部から流体を流入させるためのラニムスチン合成用流体流入口を幅方向に均一に形成されたラニムスチン合成用プール部と、該ラニムスチン合成用プール部の下流に形成され、該ラニムスチン合成用プール部内の流体を送出するためのラニムスチン合成用送出口とを有している。
【０５４０】
また、アミノ体溶液源９１２は、アミノ化部３から送られてくるアミノ体溶液を貯蔵した試薬瓶９１２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ９１２Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８２と同様に機能するもので、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用導入流路部のうちの一方に接続されている。したがって、試薬瓶９１２Ａ内のアミノ体溶液は、送液ポンプ９１２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用流路に送り出されるようになっている。
【０５４１】
さらに、ニトロソカルバメート体溶液源９１３は、ニトロソカルバメート化部５から送られてくるニトロソカルバメート体溶液を貯蔵した試薬瓶９１３Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ９１３Ｂとで構成され、上記の流体供給器１８３と同様に機能するもので、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用導入流路部のうちの他方に接続されている。したがって、試薬瓶９１３Ａ内のニトロソカルバメート体溶液は、送液ポンプ９１３Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用流路に送り出されるようになっている。
【０５４２】
さらに、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用送出口は、試薬瓶９２２Ａに接続されている。
したがって、ラニムスチン合成反応部９１０においては、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン合成用導入流路部を介して、アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液をそれぞれアミノ体溶液源９１２及びニトロソカルバメート体溶液源９１３からラニムスチン合成用流路に取り込み、混合して、ラニムスチン合成用流路内において、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体とカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させて、ラニムスチンの合成を行なうようになっている。
また、合成されたラニムスチンを含むラニムスチン溶液は、試薬瓶９２２Ａに送られるようになっている。
【０５４３】
［III−６−２．第１ラニムスチン濃縮部］
第１ラニムスチン濃縮部９２０は、ラニムスチン溶液を濃縮したい場合に適宜設けるものである。この第１ラニムスチン濃縮部９２０は、ラニムスチン合成反応部９１０から送出されたラニムスチン溶液を取り込み、濃縮して、ラニムスチン精製部９３０へと送出するものであり、図２８に示すステップＳ４２を行なうものである。
【０５４４】
本実施形態では、第１ラニムスチン濃縮部９２０は、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１と、ラニムスチン溶液源９２２と、乾燥用気体源９２３と、回収器９２４を備えていて、濃縮後のラニムスチン溶液は、試薬瓶９３２Ａに送られるようになっている。
ここで、濃縮を行なう理由は、ラニムスチン溶液からテトラヒドロフランを除去するためである。
【０５４５】
第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１は、上述した濃縮用チップ５０１と同様に形成されている。即ち、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１は、上記の濃縮用チップ５０１の基板５０２と同様に形成された第１ラニムスチン濃縮用基板と、濃縮用チップ５０１の流路５０３と同様に形成された第１ラニムスチン濃縮用流路とを備えていて、さらに、第１ラニムスチン濃縮用流路には、液体導入流路部５０４、気体導入流路５０５、合流チャンネル部５０６、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８とそれぞれ同様に形成された、第１ラニムスチン濃縮用液体導入流路部、第１ラニムスチン濃縮用気体導入流路、第１ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部、第１ラニムスチン濃縮用液体送出流路部及び第１ラニムスチン濃縮用気体送出流路部が設けられている。
【０５４６】
また、ラニムスチン溶液源９２２は、ラニムスチン合成反応部９１０から送られてきたラニムスチン溶液を貯蔵した試薬瓶９２２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ９２２Ｂとで構成され、上記の液体供給器５９２と同様に機能するもので、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用液体導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶９２２Ａ内のラニムスチン溶液は、送液ポンプ９２２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０５４７】
さらに、乾燥用気体源９２３は、乾燥用の気体として窒素ガスを貯蔵したガスボンベ９２３Ａと、制御部７により制御される制御弁９２３Ｂとで構成され、上記の気体供給器５９３と同様に機能するもので、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用気体導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ９２３Ａ内の乾燥用の気体は、制御部７の制御にしたがって、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０５４８】
また、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用液体送出流路部は試薬瓶９３２Ａに接続され、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用気体送出流路部は回収器９２４に接続されている。
したがって、第１ラニムスチン濃縮部９２０においては、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン溶液と乾燥用の気体とを第１ラニムスチン濃縮用流路部に流通させ、第１ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでラニムスチン溶液を濃縮できるようになっている。
なお、濃縮されたラニムスチン溶液を試薬瓶９３２Ａに送られ、乾燥用の気体は回収器９２４に回収されるようになっている。
【０５４９】
［III−６−３．ラニムスチン精製部］
ラニムスチン精製部９３０は、第１ラニムスチン濃縮部９２０から送り出されるラニムスチン溶液を取り込み、ラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行ない、精製後のラニムスチン溶液を送出するものであり、図２８に示すステップＳ４３を行なうものである。
【０５５０】
本実施形態では、ラニムスチン精製部９３０は、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１と、ラニムスチン溶液源９３２と、乾燥用ガス源９３３と、洗浄／交換溶媒源９３４と、流路減圧部９３５と、廃液溜９３６と、切替弁９３７とを備えていて、精製後のラニムスチン溶液は、試薬瓶９４２Ａに送られるようになっている。
【０５５１】
ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１は、上述したろ過用チップ４０１と同様に形成されている。即ち、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１は、ろ過用チップ４０１の基板４０２と同様に形成されたラニムスチン精製用基板と、ろ過用チップ４０１の流路４０３と同様に形成されたラニムスチン精製用流路とを備えていて、さらに、ラニムスチン精製用流路には、導入流路部４０４，４０５、プール部４０６、送出流路部４０７，４０８、ダム部４０９及び支柱部４１０とそれぞれ同様に形成された、ラニムスチン精製用導入流路部、ラニムスチン精製用プール部、ラニムスチン精製用送出流路部、ラニムスチン精製用ダム部及びラニムスチン精製用支柱部が設けられている。したがって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１は、ラニムスチン精製用基板と、該ラニムスチン精製用基板に設けられたラニムスチン精製用流路とを備え、該ラニムスチン精製用流路に流体を流通させて流体中のラニムスチンをろ過分離するためのラニムスチン合成部ろ過用チップであって、該ラニムスチン精製用流路の流れ方向に交差する向きの一端から他端まで延在して形成され、該ラニムスチン精製用流路の内面との間で上記ラニムスチンの粒径よりも小さい隙間を形成するラニムスチン精製用ダム部を備えている。なお、ラニムスチン精製用流路の内面とラニムスチン精製用ダム部との間の隙間は、ラニムスチンの粒径よりも小さく形成されているものとする。
【０５５２】
また、ラニムスチン溶液源９３２は、第１ラニムスチン濃縮部９２０から送られてきたラニムスチン溶液を貯蔵した試薬瓶９３２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ９３２Ｂと、制御部７により制御される制御弁９３２Ｃとで構成され、上記の試料液供給部４３０と同様に機能するもので、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶９３２Ａ内のラニムスチン溶液は、送液ポンプ９３２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５５３】
さらに、乾燥用ガス源９３３は、乾燥用ガスとして窒素ガスを貯蔵したガスボンベ９３３Ａと、制御部７により制御される制御弁９３３Ｂとを備え、上記の乾燥用ガス供給部４４０と同様に機能するもので、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ９３３Ａ内の乾燥用ガスは、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５５４】
また、洗浄／交換溶媒源９３４は、洗浄液としてヘキサンを貯蔵した試薬瓶９３４Ａ、制御部７により制御される送液ポンプ９３４Ｂ、及び、制御部７により制御される制御弁９３４Ｃと、洗浄液としてトルエンを貯蔵した試薬瓶９３４Ｄ、制御部７により制御される送液ポンプ９３４Ｅ、及び、制御部７により制御される制御弁９３４Ｆと、洗浄液及び交換溶媒として脱水エタノールを貯蔵した試薬瓶９３４Ｇ、制御部７により制御される送液ポンプ９３４Ｈ、及び、制御部７により制御される制御弁９３４Ｉと、洗浄液として脱水メタノールを貯蔵した試薬瓶９３４Ｊ、制御部７により制御される送液ポンプ９３４Ｋ、及び、制御部７により制御される制御弁９３４Ｌとで構成され、上記の交換溶媒供給部４５０と同様に機能するもので、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用導入流路部に接続されている。
【０５５５】
なお、洗浄／交換溶媒源９３４において、試薬瓶９３４Ａ、送液ポンプ９３４Ｂ及び制御弁９３４Ｃはラニムスチン精製用流路にヘキサンを供給するヘキサン供給手段として機能し、試薬瓶９３４Ｄ、送液ポンプ９３４Ｅ及び制御弁９３４Ｆはラニムスチン精製用流路にトルエンを供給するトルエン供給手段として機能し、試薬瓶９３４Ｇ、送液ポンプ９３４Ｈ及び制御弁９３４Ｉはラニムスチン精製用流路に脱水エタノールを供給する脱水エタノール供給手段として機能し、試薬瓶９３４Ｊ、送液ポンプ９３４Ｋ及び制御弁９３４Ｌはラニムスチン精製用流路に脱水メタノールを供給する脱水メタノール供給手段として機能するようになっている。したがって、試薬瓶９３４Ａ，９３４Ｄ，９３４Ｇ，９３４Ｊ内の洗浄液及び交換溶媒は、送液ポンプ９３４Ｂ，９３４Ｅ，９３４Ｈ，９３４Ｋにより、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路に送り出されるようになっている。
【０５５６】
さらに、流路減圧部９３５は、真空トラップ９３５Ａと、真空ポンプ９３５Ｂとで構成され、上記の流路減圧部４６２と同様に機能するもので、切替弁９３７を介してラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用送出流路部に接続されている。したがって、流路減圧部９３５は、制御部７の制御にしたがって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路内を減圧できるようになっている。
【０５５７】
また、廃液溜９３６は、上記の廃液回収タンク４６３と同様に機能するもので、切替弁９３７を介してラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用送出流路部に接続されている。したがって、廃液溜９３６には、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路から送出されるもののうち、不要なものを廃液として回収できるようになっている。
【０５５８】
さらに、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用送出流路部は、切替弁９３７を介して、試薬瓶９１２Ａにも接続されている。この試薬瓶９１２Ａは、上記目的物質回収タンク４６１と同様に機能するようになっていて、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路から送出されるもののうち、回収すべき目的物質を回収できるようになっている。
【０５５９】
また、切替弁９３７は、上記制御弁４６４と同様に機能するもので、制御部７の制御によって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用送出流路部と、流路減圧部９３５、廃液溜９３６及び試薬瓶９１２Ａのいずれかとを接続させるように流路の切り替えを行なうようになっている。
【０５６０】
したがって、ラニムスチン精製部９３０においては、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン精製用流路にラニムスチン溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、ラニムスチン精製用流路内においてラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行なうようになっている。具体的には、本実施形態では、ラニムスチン精製用流路にラニムスチン溶液を取り込んだ後、ヘキサン、トルエン、ヘキサン、脱水エタノール及び脱水メタノールで順にラニムスチンを洗浄し、その後、脱水エタノールに溶解させてラニムスチン溶液とし、ラニムスチン精製用流路から送出するようになっているものとする。
そして、精製されたラニムスチン溶液は、試薬瓶９４２Ａに送られるようになっている。
【０５６１】
［III−６−４．第２ラニムスチン濃縮部］
第２ラニムスチン濃縮部９４０は、ラニムスチン溶液を濃縮したい場合に適宜設けるものである。この第２ラニムスチン濃縮部９４０は、ラニムスチン精製部９３０から送り出されるラニムスチン溶液を取り込み、濃縮するものであり、図２８のステップＳ４４を行なうものである。
【０５６２】
本実施形態では、第２ラニムスチン濃縮部９４０は、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１と、ラニムスチン溶液源９４２と、乾燥用気体源９４３と、回収器９４４を備えていて、濃縮後のラニムスチン溶液は、試薬瓶９４５に送られるようになっている。
【０５６３】
第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１は、上述した濃縮用チップ５０１と同様に形成されている。即ち、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１は、上記の濃縮用チップ５０１の基板５０２と同様に形成された第２ラニムスチン濃縮用基板と、濃縮用チップ５０１の流路５０３と同様に形成された第２ラニムスチン濃縮用流路とを備えていて、さらに、第２ラニムスチン濃縮用流路には、液体導入流路部５０４、気体導入流路５０５、合流チャンネル部５０６、液体送出流路部５０７及び気体送出流路部５０８とそれぞれ同様に形成された、第２ラニムスチン濃縮用液体導入流路部、第２ラニムスチン濃縮用気体導入流路、第２ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部、第２ラニムスチン濃縮用液体送出流路部及び第２ラニムスチン濃縮用気体送出流路部が設けられている。
【０５６４】
また、ラニムスチン溶液源９４２は、ラニムスチン精製部９３０から送られてきたラニムスチン溶液を貯蔵した試薬瓶９４２Ａと、制御部７により制御される送液ポンプ９４２Ｂとで構成され、上記の液体供給器５９２と同様に機能するもので、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用液体導入流路部に接続されている。したがって、試薬瓶９４２Ａ内のラニムスチン溶液は、送液ポンプ９４２Ｂにより、制御部７の制御にしたがって、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０５６５】
さらに、乾燥用気体源９４３は、乾燥用の気体として窒素ガスを貯蔵したガスボンベ９４３Ａと、制御部７により制御される制御弁９４３Ｂとで構成され、上記の気体供給器５９３と同様に機能するもので、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用気体導入流路部に接続されている。したがって、ガスボンベ９４３内の乾燥用の気体は、制御部７の制御にしたがって、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用流路に送り出されるようになっている。
【０５６６】
また、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用液体送出流路部は試薬瓶９４５に接続され、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用気体送出流路部は回収器９４４に接続されている。
したがって、第２ラニムスチン濃縮部９４０においては、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン溶液と乾燥用の気体とを第２ラニムスチン濃縮用流路部に流通させ、第２ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでラニムスチン溶液を濃縮できるようになっている。
なお、濃縮されたラニムスチン溶液を試薬瓶９４５に送られ、乾燥用の気体は回収器９４４に回収されるようになっている。
【０５６７】
［III−７．制御部］
制御部７は、図２７に示すように、上記のメチルグルコシド溶液源１、トシル化部２、アミノ化部３、ニトロフェノール溶液源４、ニトロソカルバメート化部５及びラニムスチン合成部６に設けられている送液ポンプ、切替弁、制御弁等の動作を制御すると共に、各チップが装着されているチップホルダの温度制御素子を制御して、各チップの流路内の温度を制御するものである。なお、本実施形態においては、制御部７は、コンピュータに、当該コンピュータを制御部７として機能させるためのプログラムを読み込ませて構成されてあるものとする。
【０５６８】
［IV．マイクロプラントを用いたラニムスチン合成の要領］
本実施形態の合成用マイクロプラントを用いてラニムスチンの合成を行なう場合には、図２８に示した要領で合成を行なう。以下、具体的に説明する。
【０５６９】
［IV−１．第１反応工程（トシル化）］
第１反応工程では、図２９に示すメチルグルコシド溶液源１及びトシル化部２により、α−メチルグルコシドのトシル化反応、中和、ろ過、クロマト分離、濃縮及びろ過の６つの化学操作を行なう。
【０５７０】
［IV−１−１．トシル化反応］
まず、ステップＳ１１では、トシル化反応部６１０においてα−メチルグルコシドのトシル化を行なう。
この際、メチルグルコシド溶液中のα−メチルグルコシドの濃度は任意であるが、例えば、１３．２重量％であるとする。また、トシル化試薬中のｐ−トルエンスルホニルクロライドの濃度も任意であるが、例えば、１２．６重量％であるとする。
【０５７１】
具体的な操作としては、制御部７がトシル化部反応用チップ６１１のトシル化反応用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、０℃）に保持した状態で、制御部７がメチルグルコシド溶液源１の送液ポンプ６０１Ｂ及びトシル化試薬源６１２の送液ポンプ６１２Ｂを駆動させて、トシル化反応用流路にメチルグルコシド溶液及びトシル化試薬を流通させる。この際、制御部７は、メチルグルコシド溶液及びトシル化試薬のトシル化反応用流路内での滞留時間が反応に適した時間（例えば、２０分）となるように流量を制御する。
【０５７２】
これにより、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、トシル化反応用導入流路部を介して、メチルグルコシド溶液及びトシル化試薬をそれぞれメチルグルコシド源１及びトシル化試薬源６１２からトシル化反応用流路に取り込み、混合して、トシル化部反応用チップ６１１のトシル化反応用流路内において、メチルグルコシド溶液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル化を行なわれる。そして、トシル化反応により生成したα−メチルグルコシドのトシル体とジトシル体とを含有するトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６２２Ａに送られ、試薬瓶６２２Ａに捕集される。
【０５７３】
［IV−１−２．中和］
次に、ステップＳ１２では、トシル体／ジトシル体中和部６２０においてトシル体／ジトシル体溶液の中和を行なう。
この際、中和のために用いる中和液の濃度は任意であるが、例えば、１５．２重量％であるとする。
【０５７４】
具体的な操作としては、制御部７がトシル化部中和用チップ６２１の中和用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、０℃）に保持した状態で、制御部７がトシル体／ジトシル体溶液源６２２の送液ポンプ６２２Ｂ及び中和液源６２３の送液ポンプ６２３Ｂを駆動させて、中和用流路にトシル体／ジトシル体溶液及び中和液を流通させる。この際、制御部７は、トシル体／ジトシル体溶液及び中和液の中和用流路内での滞留時間が中和に適した時間（例えば、１分）となるように流量を制御する。
【０５７５】
これにより、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、中和用導入流路部を介して、トシル体／ジトシル体溶液及び中和液をそれぞれトシル体／ジトシル体溶液源６２２及び中和液源６２３から中和用流路に取り込み、混合して、トシル化部中和用チップ６２１の中和用流路内において、トシル体／ジトシル体溶液の中和が行われる。そして、中和されたトシル体／ジトシル体溶液は、試薬瓶６３２Ａに送られ、試薬瓶６３２Ａに捕集される。
【０５７６】
［IV−１−３．ろ過］
次に、ステップＳ１３では、トシル体／ジトシル体精製部６３０においてα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体をろ過により精製する。
【０５７７】
具体的な操作としては、制御部７が第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路の温度を、トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体が析出する温度（例えば、０℃）に保持した状態で、制御部７がトシル体／ジトシル体溶液源６３２の送液ポンプ６３２Ｂを駆動させると共に制御弁６３２Ｃの開度を調整して、トシル体／ジトシル体精製用流路にトシル体／ジトシル体溶液を供給する。供給に際してのトシル体／ジトシル体溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０５７８】
供給したトシル体／ジトシル体溶液の量がチップ体積量（即ち、トシル体／ジトシル体精製用流路の容積）に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、トシル体／ジトシル体溶液がトシル体／ジトシル体精製用流路内で冷やされ、α−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体が析出する。
【０５７９】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源６３３の制御弁６３３Ｂを開いて、トシル体／ジトシル体精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部６３５の真空ポンプ６３５Ｂを駆動させてトシル体／ジトシル体精製用流路を真空吸引する。これにより、トシル体／ジトシル体精製用流路内のα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体を乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、６０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０５８０】
次いで、制御部７は、制御部７が第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路の温度を、α−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体が交換溶媒（ここでは、メタノール）に溶解しうる温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、交換溶媒源６３４の送液ポンプ６３４Ｂを駆動させると共に制御弁６３４Ｃの開度を調整して、トシル体／ジトシル体精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０５８１】
供給したメタノールの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、α−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体はメタノールに溶解し、α−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体がメタノールに溶解した精製後のトシル体／ジトシル体溶液を得られる。
【０５８２】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源６３３の制御弁６３３Ｂを開いてトシル体／ジトシル体精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてトシル体／ジトシル体精製用流路内の精製後のトシル体／ジトシル体溶液を試薬瓶６４２Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０５８３】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、トシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体を精製する。
このように、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、トシル体／ジトシル体精製用流路にトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、第１トシル化部ろ過用チップ６３１のトシル体／ジトシル体精製用流路内においてトシル体／ジトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体及びα−メチルグルコシドのジトシル体の精製を行なう。そして、精製後のトシル体／ジトシル体溶液を試薬瓶６４２Ａに捕集する。
【０５８４】
［IV−１−４．クロマト分離］
次に、ステップＳ１４では、トシル体クロマト分離部６４０においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのトシル体を高純度で回収する。
【０５８５】
具体的な操作としては、制御部７は、トシル化部クロマト用チップ６４１のトシル体分離用流路の温度を適切な温度（例えば、０℃）に保持した状態で、以下の操作を行なう。
まず、制御部７は、トシル体／ジトシル体溶液源６４２の送液ポンプ６４２Ｂ，６４２Ｄを駆動させると共に制御弁６４２Ｅを開いて、トシル体／ジトシル体溶液のメタノール濃度が５０％となるようにしながら、所定の速度（例えば、１００μＬ／分）でトシル体／ジトシル体溶液をトシル体分離用流路に供給し、チップ体積量（即ち、トシル体分離用流路の容積）に達したら供給を停止する。
【０５８６】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを駆動させると共に制御弁６４３Ｅを開いて、５０％のメタノール水溶液を、チップ体積量だけトシル体分離用流路に供給する。この際、制御部７は切替弁６４６を切り替えて、トシル体分離用流路から流出する流出液を試薬瓶６５２Ａに捕集する。
【０５８７】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを制御し、６０％のメタノール水溶液を、チップ体積量だけトシル体分離用流路に供給する。この際も、トシル体分離用流路から流出する流出液は試薬瓶６５２Ａに捕集される。
【０５８８】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを制御し、７０％のメタノール水溶液を、チップ体積量だけトシル体分離用流路に供給する。この際も、トシル体分離用流路から流出する流出液は試薬瓶６５２Ａに捕集される。
【０５８９】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを制御し、８０％のメタノール水溶液を、チップ体積量だけトシル体分離用流路に供給する。この際、制御部７は切替弁６４６を切り替えて、トシル体分離用流路から流出する流出液をトシル体クロマト再分離用回収部６４４の試薬瓶６４４Ａに捕集する。
【０５９０】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを制御し、９０％のメタノール水溶液を、チップ体積量だけトシル体分離用流路に供給する。この際も、トシル体分離用流路から流出する流出液はトシル体クロマト再分離用回収部６４４の試薬瓶６４４Ａに捕集される。
【０５９１】
次いで、制御部７は、トシル体クロマト分離用溶出液供給源６４３の送液ポンプ６４３Ｂ，６４３Ｄを制御し、１００％のメタノール水溶液を、チップ体積量に対して過剰量（例えば、５倍）だけトシル体分離用流路に供給する。この際、制御部７は切替弁６４６を切り替えて、トシル体分離用流路から流出する流出液を廃液溜６４５に捕集する。
【０５９２】
メタノール濃度が５０％から７０％のメタノール水溶液による溶出液には高純度のα−メチルグルコシドのトシル体が含まれ、これがトシル体溶液となる。したがって、上記の操作を繰り返して、試薬瓶６５２Ａにトシル体溶液を捕集する。
また、トシル体クロマト再分離用回収部６４４の試薬瓶６４４に捕集された溶出液は、トシル体クロマト再分離用還流部６４７を介してトシル体／ジトシル体溶液源６４２の試薬瓶６４２に戻され、再度、クロマトグラフィーによる分離を行われる。
【０５９３】
このように、クロマト用チップ３０１について説明したのと同様にして、トシル体分離用流路に上記の精製したトシル体／ジトシル体溶液を取り込み、トシル体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのジトシル体を除去する。そして、α−メチルグルコシドのジトシル体を除去され、高純度のα−メチルグルコシドのトシル体を含有するトシル体溶液を試薬瓶６５２Ａに捕集する。
【０５９４】
［IV−１−５．濃縮］
次に、ステップＳ１５では、トシル体濃縮部６５０においてトシル体溶液を濃縮し、トシル体溶液中のメタノールの除去を行なう。
【０５９５】
具体的な操作としては、制御部７がトシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用流路内の温度をメタノールの乾燥に適した温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、制御部７がトシル体溶液源６５２の送液ポンプ６５２Ｂを駆動させると共に、乾燥用気体源６５３の制御弁６５３Ｂを開き、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用流路にトシル体溶液及び乾燥用の気体を流通させる。この際、制御部７は、トシル体溶液のトシル体濃縮用流路内での滞留時間が適切な時間（例えば、１分）となるように流量を制御すると共に、乾燥用のガスの流速がトシル体溶液の所定倍（例えば、約２０００倍）となるように制御を行なう。
【０５９６】
これにより、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、トシル体溶液と乾燥用の気体とをトシル体濃縮用流路部に流通させ、トシル化部濃縮用チップ６５１のトシル体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでトシル体溶液を濃縮する。そして、メタノールを除去した濃縮後のトシル体溶液を試薬瓶６６２Ａに捕集する。
また、制御部７は、送液ポンプ６５５Ｂを制御して給水部６６５から試薬瓶６６２Ａに水を供給し、濃縮後のトシル体を所定倍（例えば、２倍）に希釈する。
【０５９７】
［IV−１−６．ろ過］
次に、ステップＳ１６では、トシル体精製部６６０においてα−メチルグルコシドのトシル体をろ過により精製する。
【０５９８】
具体的な操作としては、制御部７が第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路の温度を、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体が析出する温度（例えば、０℃）に保持した状態で、制御部７がトシル体／ジトシル体溶液源６６２の送液ポンプ６６２Ｂを駆動させると共に制御弁６６２Ｃの開度を調整して、トシル体精製用流路にトシル体溶液を供給する。供給に際してのトシル体溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０５９９】
供給したトシル体溶液の量がチップ体積量（即ち、トシル体精製用流路の容積）に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、トシル体溶液がトシル体精製用流路内で冷やされ、α−メチルグルコシドのトシル体が析出する。
【０６００】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源６６３の制御弁６６３Ｂを開いて、トシル体精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部６６５の真空ポンプ６６５Ｂを駆動させてトシル体精製用流路を真空吸引する。これにより、トシル体精製用流路内のα−メチルグルコシドのトシル体を乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、６０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６０１】
次いで、制御部７は、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路の温度を、α−メチルグルコシドのトシル体が交換溶媒（ここでは、脱水メタノール）に溶解しうる温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、交換溶媒源６６４の送液ポンプ６６４Ｂを駆動させると共に制御弁６６４Ｃの開度を調整して、トシル体精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０６０２】
供給した脱水メタノールの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、α−メチルグルコシドのトシル体は脱水メタノールに溶解し、α−メチルグルコシドのトシル体がメタノールに溶解した精製後のトシル体溶液を得られる。
【０６０３】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源６６３の制御弁６６３Ｂを開いてトシル体精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてトシル体精製用流路内の精製後のトシル体溶液を試薬瓶７１２Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０６０４】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体を精製する。
これにより、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、トシル体精製用流路にトシル体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、第２トシル化部ろ過用チップ６６１のトシル体精製用流路内においてトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の精製を行なう。そして、精製後のトシル体溶液を試薬瓶７１２Ａに捕集する。
【０６０５】
［IV−２．第２反応工程（アミノ化）］
第２反応工程では、図３０に示すアミノ化部３により、α−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化、濃縮、クロマト分離、濃縮、ろ過の５つの化学操作を行なう。
【０６０６】
［IV−２−１．アミノ化反応］
まず、ステップＳ２１では、アミノ化反応部７１０においてα−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化を行なう。
なお、本実施形態のトシル化反応において説明した条件でトシル化を行った場合、トシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体の濃度は、通常、１５．０重量％となっている。
【０６０７】
具体的な操作としては、制御部７がアミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、１２０℃）に保持した状態で、制御部７がトシル体溶液源７１２の送液ポンプ７１２Ｂ及びアミノ化試薬源７１３の制御弁７１３Ｂを駆動させて、アミノ化反応用流路にトシル体溶液及びアミノ化試薬をアミノ化反応用流路に流通させる。この際、制御部７は、トシル体溶液のアミノ化反応用流路内での滞留時間が反応に適した時間（例えば、２時間）となるように流量を制御する。また、制御部７は、アミノ化試薬の供給速度についても、反応に適した所定速度（例えば、１ｍＬ／分）に制御する。
【０６０８】
これにより、第１反応用チップ１０１について説明したのと同様にして、アミノ化反応用導入流路部を介して、アミノ化反応用流路にトシル体溶液及びアミノ化試薬をそれぞれトシル体溶液源７１２及びアミノ化試薬源７１３から取り込み、アミノ化部反応用チップ７１１のアミノ化反応用流路内においてトシル体溶液中のα−メチルグルコシドのトシル体のアミノ化を行なう。そして、アミノ化反応により生成したα−メチルグルコシドのアミノ体と、反応せずに残留したトシル体とを含有するアミノ体／トシル体溶液は、試薬瓶７２２Ａに送られ、試薬瓶７２２Aに捕集される。
また、制御部７は、給水部７１４の送液ポンプ７１４Ｂを制御して給水部７１４から試薬瓶７２２Ａに水を供給し、アミノ体／トシル体溶液のメタノール濃度が所定濃度（例えば、４０％）となるように希釈する。
【０６０９】
［IV−２−２．濃縮］
次に、ステップＳ２２では、アミノ体／トシル体濃縮部７２０においてアミノ体／トシル体溶液を濃縮し、アミノ体／トシル体溶液中のメタノールの除去を行なう。
【０６１０】
具体的な操作としては、制御部７が第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用流路内の温度をメタノールの乾燥に適した温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、制御部７がアミノ体／トシル体溶液源７２２の送液ポンプ７２２Ｂを駆動させると共に、乾燥用気体源７２３の制御弁７２３Ｂを開き、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用流路にアミノ体／トシル体溶液及び乾燥用の気体を流通させる。この際、制御部７は、アミノ体／トシル体溶液のアミノ体／トシル体濃縮用流路内での滞留時間が適切な時間（例えば、１分）となるように流量を制御すると共に、乾燥用のガスの流速がトシル体溶液の所定倍（例えば、約２０００倍）となるように制御を行なう。
【０６１１】
これにより、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、アミノ体／トシル体溶液と乾燥用の気体とをアミノ体／トシル体濃縮用流路部に流通させ、第１アミノ化部濃縮用チップ７２１のアミノ体／トシル体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでアミノ体／トシル体溶液を濃縮する。そして、アンモニア及びメタノールを除去された濃縮後のアミノ体／トシル体溶液は試薬瓶７３２Ａに捕集される。なお、捕集されたアミノ体／トシル体溶液のｐＨは、本実施形態の条件による合成の場合、通常は約８となるように濃縮前の水添加や濃縮時の温度を調整する。
【０６１２】
［IV−２−３．クロマト分離］
次に、ステップＳ２３では、アミノ体クロマト分離部７３０においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去し、α−メチルグルコシドのアミノ体を高純度で回収する。
【０６１３】
具体的な操作としては、制御部７は、アミノ化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用流路の温度を適切な温度（例えば、０℃）に保持した状態で、以下の操作を行なう。
まず、制御部７は、アミノ体／トシル体溶液源７３２の送液ポンプ７３２Ｂを駆動させると共に制御弁７３２Ｃの開度を調整して、所定の速度（例えば、１００μＬ／分）でアミノ体／トシル体溶液をアミノ体分離用流路に供給し、チップ体積量（即ち、アミノ体分離用流路の容積）に達したら供給を停止する。
【０６１４】
次いで、制御部７は、アミノ体クロマト分離用溶出液供給源７３３の送液ポンプ７３３Ｂを駆動させると共に制御弁７３３Ｃの開度を調整して、２Ｎのアンモニア水を、チップ体積量だけアミノ体分離用流路に供給する。この際、制御部７は切替弁７３５を切り替えて、アミノ体分離用流路から流出する溶出液を試薬瓶７４２Ａに捕集する。さらに、同様操作を所定回数（例えば、３回）繰り返す。こうして捕集された溶出液には、高純度のα−メチルグルコシドのアミノ体が含まれ、これがアミノ体溶液となる。
【０６１５】
次いで、制御部７は、切替弁７３５を切り替えて、アミノ体分離用流路から流出する溶出液を廃液溜７３４に回収するようにするとともに、引き続きアミノ体クロマト分離用溶出液供給源７３３からアンモニア水をアミノ体分離用流路にチップ体積量だけ供給する。さらに、同様の操作を３回繰り返す。これにより、吸着剤に吸着していたα−メチルグルコシドのトシル体は廃液溜７３４へと回収される。
【０６１６】
このように、アミノ体分離用流路から流出した溶出液の一部を再度クロマトグラフィーにより分離するリサイクル操作をしないようにし、また、分離操作時の試料液であるアミノ体／トシル体溶液及び溶出液の溶媒組成の調整を行なわないようにした他は、クロマト用チップ３０１について説明したのと同様にして、アミノ体分離用流路に上記の精製したアミノ体／トシル体溶液を取り込み、アミノ化部クロマト用チップ７３１のアミノ体分離用流路内においてクロマトグラフィーによってα−メチルグルコシドのトシル体を除去する。そして、α−メチルグルコシドのトシル体を除去した高純度のアミノ体を含むアミノ体溶液は、試薬瓶７４２Ａに捕集される。
【０６１７】
［IV−２−４．濃縮］
次に、ステップＳ２４では、アミノ体濃縮部７４０においてアミノ体溶液を濃縮し、アミノ体溶液中のアンモニアの除去を行なう。
【０６１８】
具体的な操作としては、制御部７が第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用流路内の温度をアンモニアの除去に適した温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、制御部７がアミノ体溶液源７４２の送液ポンプ７４２Ｂを駆動させると共に、乾燥用気体源７４３の制御弁７４３Ｂを開き、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用流路にアミノ体溶液及び乾燥用の気体を流通させる。この際、制御部７は、アミノ体溶液のアミノ体濃縮用流路内での滞留時間が適切な時間（例えば、１分）となるように流量を制御すると共に、乾燥用のガスの流速がアミノ体溶液の所定倍（例えば、約２０００倍）となるように制御を行なう。
【０６１９】
これにより、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、アミノ体溶液と乾燥用の気体とをアミノ体濃縮用流路部に流通させ、第２アミノ化部濃縮用チップ７４１のアミノ体濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでアミノ体溶液を濃縮し、これとともに、アンモニアの除去ができる。そして、アンモニアを除去した濃縮後のアミノ体溶液を試薬瓶７５２Ａに捕集する。
【０６２０】
［IV−２−５．ろ過］
次に、ステップＳ２５では、アミノ体精製部７５０においてα−メチルグルコシドのアミノ体をろ過により精製する。
【０６２１】
具体的な操作としては、制御部７がアミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路の温度を、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体が析出する温度（例えば、０℃）に保持した状態で、制御部７がアミノ体溶液源７５２の送液ポンプ７５２Ｂを駆動させると共に制御弁７５２Ｃの開度を調整して、アミノ体精製用流路にアミノ体溶液を供給する。供給に際してのアミノ体溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０６２２】
供給したアミノ体溶液の量がチップ体積量（即ち、アミノ体精製用流路の容積）に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、アミノ体溶液がアミノ体精製用流路内で冷やされ、α−メチルグルコシドのアミノ体が析出する。
【０６２３】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源７５３の制御弁７５３Ｂを開いて、アミノ体精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部７５５の真空ポンプ７５５Ｂを駆動させてアミノ体精製用流路を真空吸引する。これにより、アミノ体精製用流路内のα−メチルグルコシドのアミノ体を乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、２０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６２４】
次いで、制御部７は、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路の温度を、α−メチルグルコシドのアミノ体が交換溶媒（ここでは、脱水メタノール）に溶解しうる温度（例えば、０℃）に保持した状態で、交換溶媒源７５４の送液ポンプ７５４Ｂを駆動させると共に制御弁７５４Ｃの開度を調整して、アミノ体精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０６２５】
供給した脱水メタノールの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、α−メチルグルコシドのアミノ体は脱水メタノールに溶解し、α−メチルグルコシドのアミノ体がメタノールに溶解した精製後のアミノ体溶液を得られる。
【０６２６】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源７５３の制御弁７５３Ｂを開いてアミノ体精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてアミノ体精製用流路内の精製後のアミノ体溶液を試薬瓶９１２Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０６２７】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体を精製する。
これにより、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、アミノ体精製用流路にアミノ体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、アミノ化部ろ過用チップ７５１のアミノ体精製用流路内においてアミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の精製を行なう。そして、精製後のアミノ体溶液を試薬瓶９１２Ａに捕集する。
【０６２８】
［IV−３．第３反応工程（ニトロソカルバメート化）］
第３反応工程では、図３１に示すニトロフェノール溶液源４及びニトロソカルバメート化部５により、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート化反応、ろ過、ニトロソカルバメート化反応、ろ過の４つの化学操作を行なう。
【０６２９】
［IV−３−１．カルバメート化反応］
まず、ステップＳ３１では、カルバメート化反応部８１０においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート化を行なう。
この際、ニトロフェノール溶液中のｏ−ニトロフェノールの濃度は任意であるが、例えば、９．６重量％であるとする。また、ニトロフェノール溶液中のトリエチルアミンの濃度も任意であるが、例えば、０．２８重量％であるとする。さらに、カルバメート化試薬中の２−クロロエチルイソシアネートの濃度も任意であるが、例えば、１９．０重量％であるとする。
【０６３０】
具体的な操作としては、制御部７が第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１のカルバメート化反応用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、５℃）に保持した状態で、制御部７がニトロフェノール溶液源４の送液ポンプ８０１Ｂ及びカルバメート化試薬源８１２の送液ポンプ８１２Ｂを駆動させて、カルバメート化反応用流路にニトロフェノール溶液及びカルバメート化試薬を流通させる。この際、制御部７は、ニトロフェノール溶液及びカルバメート化試薬のカルバメート化反応用流路内での滞留時間が反応に適した時間（例えば、３分）となるように流量を制御する。
【０６３１】
これにより、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、カルバメート化反応用導入流路部を介して、ニトロフェノール溶液及びカルバメート化試薬をそれぞれニトロフェノール溶液源４及びカルバメート化試薬源８１２からカルバメート化反応用流路に取り込み、混合して、第１ニトロソカルバメート化部反応用チップ８１１のカルバメート化反応用流路内において、ニトロフェノール溶液に含まれるｏ−ニトロフェノールのカルバメート化が行なわれる。そして、カルバメート化反応により生成したｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を含有するカルバメート体溶液は、試薬瓶８２２Ａに送られ、試薬瓶８２２Aに捕集される。
［IV−３−２．ろ過］
次に、ステップＳ３２では、カルバメート体精製部８２０においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体をろ過により精製する。
【０６３２】
具体的な操作としては、制御部７が第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路の温度を、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体が析出する温度（例えば、５℃）に保持した状態で、制御部７がカルバメート体溶液源８２２の送液ポンプ８２２Ｂを駆動させると共に制御弁８２２Ｃの開度を調整して、カルバメート体精製用流路にカルバメート体溶液を供給する。供給に際してのカルバメート体溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０６３３】
供給したカルバメート体溶液の量がチップ体積量（即ち、カルバメート体精製用流路の容積）に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、カルバメート体溶液がカルバメート体精製用流路内で冷やされ、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体が析出する。
【０６３４】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源８２３の制御弁８２３Ｂを開いて、カルバメート体精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部８２５の真空ポンプ８２５Ｂを駆動させてカルバメート体精製用流路を真空吸引する。これにより、カルバメート体精製用流路内のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、４０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６３５】
次いで、制御部７は、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路の温度を、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体が交換溶媒（ここでは、濃硝酸）に溶解しうる温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、交換溶媒源８２４の送液ポンプ８２４Ｂを駆動させると共に制御弁８２４Ｃの開度を調整して、カルバメート体精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０６３６】
供給した濃硝酸の量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体は濃硝酸に溶解し、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体が濃硝酸に溶解した精製後のカルバメート体溶液を得られる。
【０６３７】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源８２３の制御弁８２３Ｂを開いてカルバメート体精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてカルバメート体精製用流路内の精製後のカルバメート体溶液を試薬瓶８３２Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０６３８】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を精製する。
このように、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、カルバメート体精製用流路にカルバメート体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、第１ニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８２１のカルバメート体精製用流路内においてカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の精製を行なう。そして、精製後のカルバメート体溶液を試薬瓶８３２Ａに捕集する。
【０６３９】
［IV−３−３．ニトロソカルバメート化反応］
次に、ステップＳ３３では、ニトロソカルバメート化反応部８３０においてｏ−ニトロフェノールのカルバメート体のニトロソ化を行なう。
この際、カルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の濃度は、本実施形態の条件で合成を行う場合には、通常は４．３重量％となる。また、ニトロソ化試薬中の亜硝酸ナトリウムの濃度も任意であるが、例えば、１．６重量％であるとする。
【０６４０】
具体的な操作としては、制御部７が第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、制御部７がカルバメート体溶液源８３２の送液ポンプ８３２Ｂ及びニトロソ化試薬源８３３の送液ポンプ８３３Ｂを駆動させて、ニトロソ化反応用流路にカルバメート体溶液及びニトロソ化試薬を流通させる。この際、制御部７は、カルバメート体溶液及びニトロソ化試薬のニトロソ化反応用流路内での滞留時間が反応に適した時間（例えば、１０分）となるように流量を制御する。
【０６４１】
これにより、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、ニトロソ化反応用導入流路部を介して、カルバメート体溶液及びニトロソ化試薬をそれぞれカルバメート体溶液源８３２及びニトロソ化試薬源８３３からニトロソ化反応用流路に取り込み、混合して、第２ニトロソカルバメート化部反応用チップ８３１のニトロソ化反応用流路内において、カルバメート体溶液に含まれるｏ−ニトロフェノールのカルバメート体のニトロソ化を行なう。そして、そして、ニトロソ化反応により生成したｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を含有するニトロソカルバメート体溶液は、試薬瓶８４２Ａに送られ、試薬瓶８４２Aに捕集される。
【０６４２】
［IV−３−４．ろ過］
次に、ステップＳ３４では、ニトロソカルバメート体精製部８４０においてｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体をろ過により精製する。
【０６４３】
具体的な操作としては、制御部７が第２ニトロソニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路の温度を、ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体が析出する温度（例えば、５℃）に保持した状態で、制御部７がニトロソカルバメート体溶液源８４２の送液ポンプ８４２Ｂを駆動させると共に制御弁８４２Ｃの開度を調整して、ニトロソカルバメート体精製用流路にニトロソカルバメート体溶液を供給する。供給に際してのニトロソカルバメート体溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０６４４】
供給したニトロソカルバメート体溶液の量がチップ体積量（即ち、ニトロソカルバメート体精製用流路の容積）に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ニトロソカルバメート体溶液がニトロソカルバメート体精製用流路内で冷やされ、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体が析出する。
【０６４５】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源８４３の制御弁８４３Ｂを開いて、ニトロソカルバメート体精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部８４５の真空ポンプ８４５Ｂを駆動させてニトロソカルバメート体精製用流路を真空吸引する。これにより、ニトロソカルバメート体精製用流路内のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、６０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６４６】
次いで、制御部７は、第２ニトロソニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路の温度を、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体が交換溶媒（ここでは、脱水テトラヒドロフラン）に溶解しうる温度（例えば、３０℃）に保持した状態で、交換溶媒源８４４の送液ポンプ８４４Ｂを駆動させると共に制御弁８４４Ｃの開度を調整して、ニトロソカルバメート体精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０６４７】
供給した濃硝酸の量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体は濃硝酸に溶解し、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体が濃硝酸に溶解した精製後のニトロソカルバメート体溶液を得られる。
【０６４８】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源８４３の制御弁８４３Ｂを開いてニトロソカルバメート体精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてニトロソカルバメート体精製用流路内の精製後のニトロソカルバメート体溶液を試薬瓶９１３Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０６４９】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を精製する。
このように、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、ニトロソカルバメート体精製用流路にニトロソカルバメート体溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、第２ニトロソニトロソカルバメート化部ろ過用チップ８４１のニトロソカルバメート体精製用流路内においてニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の精製を行なう。そして、精製後のニトロソカルバメート体溶液を試薬瓶９１３Ａに捕集する。
【０６５０】
［IV−４．第４反応工程（ラニムスチン合成）］
第４反応工程では、図３２に示すラニムスチン合成部６により、ラニムスチン合成反応、濃縮、ろ過、濃縮の４つの化学操作からなる。
【０６５１】
［IV−５−１．ラニムスチン合成反応］
まず、ステップＳ４１では、ラニムスチン合成反応部９１０においてアミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体とニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させてラニムスチンを合成する。
この際、本実施形態の条件でラニムスチン合成を行っている場合には、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体の濃度は通常９．６重量％となり、ニトロソカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の濃度は通常１４．８重量％となる。
【０６５２】
具体的な操作としては、制御部７がラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用流路内の温度を反応に適した温度（例えば、５℃）に保持した状態で、制御部７がアミノ体溶液源９１２の送液ポンプ９１２Ｂ及びニトロソカルバメート体溶液源９１３の送液ポンプ９１３Ｂを駆動させて、ラニムスチン合成用流路にアミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液を流通させる。この際、制御部７は、アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液のラニムスチン合成用流路内での滞留時間が反応に適した時間（例えば、４分）となるように流量を制御する。
【０６５３】
これにより、第２反応用チップ２０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン合成用導入流路部を介して、アミノ体溶液及びニトロソカルバメート体溶液をそれぞれアミノ体溶液源９１２及びニトロソカルバメート体溶液源９１３からラニムスチン合成用流路に取り込み、混合して、ラニムスチン合成部反応用チップ９１１のラニムスチン合成用流路内において、アミノ体溶液中のα−メチルグルコシドのアミノ体とカルバメート体溶液中のｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体とを反応させて、ラニムスチンの合成を行なう。そして、ラニムスチン合成反応により生成したラニムスチンを含有するラニムスチン溶液は、試薬瓶９２２Ａに送られ、試薬瓶９２２Ａに捕集される。
【０６５４】
［IV−５−２．濃縮］
次に、ステップＳ４２では、第１ラニムスチン濃縮部９２０においてラニムスチン溶液を濃縮し、ラニムスチン溶液中のテトラヒドロフランの除去を行なう。
【０６５５】
具体的な操作としては、制御部７が第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１のラニムスチン濃縮用流路内の温度をテトラヒドロフランの乾燥に適した温度（例えば、５０℃）に保持した状態で、制御部７がラニムスチン溶液源９２２の送液ポンプ９２２Ｂを駆動させると共に、乾燥用気体源９２３の制御弁９２３Ｂを開き、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１のラニムスチン濃縮用流路にラニムスチン溶液及び乾燥用の気体を流通させる。この際、制御部７は、ラニムスチン溶液のラニムスチン濃縮用流路内での滞留時間が適切な時間（例えば、１分）となるように流量を制御すると共に、乾燥用のガスの流速がラニムスチン溶液の所定倍（例えば、約２０００倍）となるように制御を行なう。
【０６５６】
これにより、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン溶液と乾燥用の気体とを第１ラニムスチン濃縮用流路部に流通させ、第１ラニムスチン合成部濃縮用チップ９２１の第１ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでラニムスチン溶液を濃縮する。そして、テトラヒドロフランを除去した濃縮後のラニムスチン溶液を試薬瓶９３２Ａに捕集する。
【０６５７】
［IV−５−３．ろ過］
次に、ステップＳ４３では、ラニムスチン精製部９３０においてラニムスチンをろ過により洗浄・精製する。
【０６５８】
具体的な操作としては、制御部７がラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路の温度を、ラニムスチン溶液中のラニムスチンが析出する温度（例えば、５℃）に保持した状態で、制御部７がラニムスチン溶液源９３２の送液ポンプ９３２Ｂを駆動させると共に制御弁９３２Ｃの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路にラニムスチン溶液を供給する。供給に際してのラニムスチン溶液の供給速度は任意であるが、例えば、１００μＬ／分とする。
【０６５９】
供給したラニムスチン溶液の量がチップ体積量（即ち、ラニムスチン精製用流路の容積）の半分量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチン溶液がラニムスチン精製用流路内で冷やされ、ラニムスチンが析出する。
【０６６０】
次いで、制御部７は、温度を保ったまま、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｂを駆動させると共に制御弁９３４Ｃの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路にヘキサンを供給する。この際、供給速度は任意であるが、例えば１００μＬ／分とする。
供給したヘキサンの量がチップ体積量の半分量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンはヘキサンにより洗浄される。なお、ここでヘキサンの量をチップ体積量の半分量としたのは、入れすぎるとチップからオーバーフロースルーする虞があり、これを防止するためである。
【０６６１】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源９３３の制御弁９３３Ｂを開いて、ラニムスチン精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部９３５の真空ポンプ９３５Ｂを駆動させてラニムスチン精製用流路を真空吸引する。これにより、ラニムスチン精製用流路内のラニムスチンを乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、１分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６６２】
次いで、制御部７は、温度を保ったまま、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｅを駆動させると共に制御弁９３４Ｆの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路にトルエンを供給する。この際、供給速度は任意であるが、例えば１００μＬ／分とする。
供給したトルエンの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンはトルエンにより洗浄される。
【０６６３】
次いで、制御部７は、温度を保ったまま、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｂを駆動させると共に制御弁９３４Ｃの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路にヘキサンを供給する。この際、供給速度は任意であるが、例えば１００μＬ／分とする。
供給したヘキサンの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンはヘキサンにより再度洗浄される。
【０６６４】
次いで、制御部７は、温度を保ったまま、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｈを駆動させると共に制御弁９３４Ｉの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路に脱水エタノールを供給する。この際、供給速度は任意であるが、例えば１００μＬ／分とする。
供給した脱水エタノールの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンは脱水エタノールにより洗浄される。
【０６６５】
次いで、制御部７は、温度を保ったまま、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｋを駆動させると共に制御弁９３４Ｌの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路に脱水メタノールを供給する。この際、供給速度は任意であるが、例えば１００μＬ／分とする。
供給した脱水エタノールの量がチップ体積量の半分量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンは脱水メタノールにより洗浄される。
【０６６６】
次いで、制御部７は、乾燥用ガス源９３３の制御弁９３３Ｂを再度開いて、ラニムスチン精製用流路に乾燥用ガスとして窒素ガスを流すと共に、流路減圧部９３５の真空ポンプ９３５Ｂを駆動させてラニムスチン精製用流路を真空吸引する。これにより、ラニムスチン精製用流路内のラニムスチンを乾燥させる。なお、この際の乾燥用ガスの流速は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。また、乾燥を行なう時間も任意であるが、例えば、２０分間行なうものとする。
乾燥後、制御部７は乾燥用ガスの供給を停止すると共に真空吸引も停止する。
【０６６７】
次いで、制御部７は、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路の温度を、ラニムスチンが交換溶媒（ここでは、脱水エタノール）に溶解しうる温度（例えば、３０℃）に保持した状態で、洗浄／交換溶媒源９３４の送液ポンプ９３４Ｈを駆動させると共に制御弁９３４Ｉの開度を調整して、ラニムスチン精製用流路に交換溶媒を供給する。
【０６６８】
供給した脱水メタノールの量がチップ体積量に達したら、制御部７は供給を停止させる。これにより、ラニムスチンは脱水エタノールに溶解し、ラニムスチンが脱水エタノールに溶解した精製後のラニムスチン溶液を得られる。
【０６６９】
そして、制御部７は、乾燥用ガス源９３３の制御弁９３３Ｂを開いてラニムスチン精製用流路に乾燥用ガスを流し、乾燥用ガスで押し出すようにしてラニムスチン精製用流路内の精製後のラニムスチン溶液を試薬瓶９１２Ａに送る。なお、この際の乾燥用ガスの供給速度は任意であるが、例えば１ｍＬ／分とする。
【０６７０】
以上のように、液供給−窒素流通乾燥−洗浄−溶解−溶液捕集の一連の操作を繰り返し、ラニムスチン溶液中のラニムスチンを精製する。
これにより、ろ過用チップ４０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン精製用流路にラニムスチン溶液を取り込み、分離、精製、溶媒交換をすることによって、ラニムスチン合成部ろ過用チップ９３１のラニムスチン精製用流路内においてラニムスチン溶液中のラニムスチンの精製を行なう。そして、精製されたラニムスチンを含むラニムスチン溶液は、試薬瓶９４２Ａに送られ、試薬瓶９４２Aに捕集される。
【０６７１】
［IV−５−４．濃縮］
次に、ステップＳ４４では、第２ラニムスチン濃縮部９４０においてラニムスチン溶液を濃縮する。
【０６７２】
具体的な操作としては、制御部７がラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用流路内の温度を所定の温度（例えば、６０℃）に保持した状態で、制御部７がラニムスチン溶液源９４２の送液ポンプ９４２Ｂを駆動させると共に、乾燥用気体源９４３の制御弁９４３Ｂを開き、第２ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用流路にラニムスチン溶液及び乾燥用の気体を流通させる。この際、制御部７は、ラニムスチン溶液の第２ラニムスチン濃縮用流路内での滞留時間が適切な時間（例えば、１分）となるように流量を制御すると共に、乾燥用のガスの流速がラニムスチン溶液の所定倍（例えば、３倍）となるように制御を行なう。
【０６７３】
これにより、濃縮用チップ５０１について説明したのと同様にして、ラニムスチン溶液と乾燥用の気体とを第２ラニムスチン濃縮用流路部に流通させ、ラニムスチン合成部濃縮用チップ９４１の第２ラニムスチン濃縮用合流チャンネル部において両者が並行流を形成するように合流させることでラニムスチン溶液を濃縮することができる。そして、濃縮後のラニムスチン溶液を試薬瓶９４５に捕集する。
以上のようにして、試薬瓶９４５に、ラニムスチンを得ることができる。
【０６７４】
［Ｖ．その他］
以上、本発明について一実施形態を示して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
【０６７５】
例えば、上記の合成用マイクロプラントに用いた各マイクロチップの流路は、上記実施形態のものに限定されず、変形して形成することもできる。具体例としては、上記実施形態のように基板の上面に沿った２次元的な流路形状とせず、基板の厚み方向にも流路を設け３次元的な流路形状となるようにしてもよい。また、各マイクロチップの基板に２本以上の流路を設けるようにしてもよい。
【０６７６】
さらに、例えば、第１反応用チップ１０１においては、主流路１０４内の並行流を形成させる部分の流路形状を上記実施形態のように直線状とせず、例えば非常に緩く曲がる曲線状に形成しても良い。主流路１０４の上流部分を曲線状に形成した場合の合流部１０６近傍を拡大して図３３（ａ）〜（ｃ）に模式的に示す。図３３（ａ）に示すように主流路１０４′の合流部１０７直後の部分が曲線状に形成されている場合でも、図３３（ｂ）に示すように導入流路１０５の下流端部１０７Ａにおける接線１０５Ａの方向と、主流路１０４′の上流端部における接線１０４Ａ′の方向との角度差の絶対値が２０°以下であり、且つ、図３３（ｃ）に示すように導入流路１０６の下流端部１０７Ａにおける接線１０６Ａの方向と、主流路１０４′の上流端部１０７Ｂにおける接線１０４Ａ′の方向との角度差の絶対値が２０°以下である場合には、導入流路１０５，１０６の下流端部１０７Ａの流れ方向と、主流部１０４′の上流端部１０７Ｂの流れ方向との角度差の絶対値がそれぞれ通常２０°以下となるため、主流路１０４′において並行流を形成することができ、並行流に基づく本発明の効果を得ることができる。なお、図３３（ａ）〜（ｃ）において、図５と同様の符号で示すものは図５と同様のものを表わし、主流路１０４′の接線は二点鎖線で表わす。
【０６７７】
さらに、例えば、第２反応用チップ２０１には、本発明の効果を著しく損なわない限り、気泡案内部２７２やガイド条２７３を形成するか否かは適宜選択することができ、また、ガイド条２７３の本数や形状も適宜変更することができ、さらに、送出口７４は１個のみを設けるようにしてもよい。
【０６７８】
さらに、例えば、合成用マイクロプラントを全て直列に接続するのではなく、各構成部毎に分けて構成してもよい。例えば、トシル化部２、アミノ化部３、ニトロソカルバメート化部５、ラニムスチン合成部６は、適宜、それぞれ合成用マイクロプラントから分割して構成してもよい。
また、合成用マイクロプラントは、上記メチルグルコース溶液源１、トシル化部２、アミノ化部３、ニトロフェノール溶液源４、ニトロソカルバメート化部５、ラニムスチン合成部６等の各部以外の構成部を備えるようにしてもよい。
【０６７９】
さらに、例えば、合成用マイクロプラントを構成する上記メチルグルコース溶液源１、トシル化部２、アミノ化部３、ニトロフェノール溶液源４、ニトロソカルバメート化部５、ラニムスチン合成部６等の各部は、上述したマイクロチップ以外のマイクロ化学デバイスを用いていてもよい。
【実施例】
【０６８０】
以下、実施例を示して本発明について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
【０６８１】
［実施例１：第１反応用チップにかかる実施例］
上述した第１反応用チップを用いて、以下に説明するような操作を行なった。
【０６８２】
［実施例１−１］
実施例１−１は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したｏ−ニトロフェノール｛即ち、化合物（３）｝からのカルバメート体｛即ち、化合物（４）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
ｏ−ニトロフェノール０．１７ｇをトルエン１．６４ｍＬに溶解させ、トリエチルアミン０．００５ｇを加えたものを本実施例におけるＡ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。また、２−エチルクロロイソシアネート０．３４ｇをトルエン１．６４ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＢ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。
【０６８３】
この２つのマイクロシリンジを用いて図７に示したような反応装置を組み立て、第１反応用チップに反応温度６０℃にてＡ液及びＢ液を共に２μＬ／分で送液して反応を行なわせた。第１反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、ｏ−ニトロフェノールの転化率は９３％、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の収率は９３％であった。なお、反応を通して第１反応用チップの温度は６０±１℃に保持されていた。この結果から、第１反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、効率のよい反応を行なうことができることが確認された。
【０６８４】
［実施例１−２］
実施例１−２は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したｏ−ニトロフェノールのカルバメート体｛即ち、化合物（４）｝からのニトロソカルバメート体｛即ち、化合物（５）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体０．０９ｇを濃硝酸２ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＡ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。また、亜硝酸ナトリウム０．２２ｇを濃硝酸２．０４ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＢ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。
【０６８５】
この２つのマイクロシリンジを用いて図７に示したような反応装置を組み立て、第１反応用チップに反応温度５℃にてＡ液及びＢ液を共に１μＬ／分で送液して反応を行なわせた。第１反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体の転化率は８０％、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体の収率は８０％であった。なお、反応を通して第１反応用チップの温度は５±１℃に保持され、亜硝酸ガスの発生による突沸は観測されなかった。この結果から、第１反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、効率のよい反応を行なうことができることが確認された。
【０６８６】
［実施例１−３］
実施例１−３は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したα−メチルグルコシド｛即ち、化合物（０）｝からのトシル体｛即ち、化合物（１）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
α−メチルグルコシド０．３０ｇを脱水ピリジン２ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＡ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。また、ｐ−トルエンスルホニルクロリド０．２９ｇを脱水ピリジン２ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＢ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。
【０６８７】
この２つのマイクロシリンジを用いて図７に示したような反応装置を組み立て、第１反応用チップに反応温度０℃にてＡ液及びＢ液を共に０．２μＬ／分で送液して反応を行なわせた。第１反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、α−メチルグルコシドの転化率は１００％、α−メチルグルコシドのトシル体の選択率は６０％、α−メチルグルコシドのジトシル体の選択率は４０％であった。なお、反応を通して第１反応用チップの温度は０±１℃に保持されていた。この結果から、第１反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、効率のよい反応を行なうことができることが確認された。
【０６８８】
［実施例１−４］
実施例１−４は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したα−メチルグルコシドのアミノ体｛即ち、化合物（２）｝及びｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体｛即ち、化合物（５）｝からのラニムスチン｛即ち、化合物（６）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体０．３４ｇを脱水テトラヒドロフラン２．０ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＡ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。また、α−メチルグルコシドの１位アミノ体０．２２ｇを脱水メタノール２．１２ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＢ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。
【０６８９】
この２つのマイクロシリンジを用いて図７に示したような反応装置を組み立て、第１反応用チップに反応温度１５℃にてＡ液及びＢ液を共に１μＬ／分で送液して反応を行なわせた。第１反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、目的生成物であるラニムスチンの収率は８２％であった。なお、反応を通して第１反応用チップの温度は１５±１℃に保持されていた。この結果から、第１反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、効率のよい反応を行なうことができることが確認された。
【０６９０】
［実施例１−５］
実施例１−５は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したα−メチルグルコシドのトシル体｛即ち、化合物（１）｝からのアミノ体｛化合物（２）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
α−メチルグルコシドのトシル体溶液を本実施例におけるＡ液（原料流体）とし、１ｍＬマイクロシリンジに充填した。また、アンモニア気体（原料流体）１０００ｇをガスボンベに用意した。
【０６９１】
このマイクロシリンジとガスボンベとを用いて図９に示したような反応装置を組み立て、第１反応用チップに反応温度１２０℃にて、Ａ液を０．０９２μＬ／分で送液し、また、アンモニア気体を気圧０．３ＭＰａに保ちながら供給して、反応を行なわせた。第１反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、α−メチルグルコシドの１位アミノ体の収率は７６％であった。なお、反応を通して第１反応用チップの温度は１２０±１℃に保持されていた。この結果から、第１反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、効率のよい反応を行なうことができることが確認された。
【０６９２】
［実施例２：第２反応用チップにかかる実施例］
上述した第２反応用チップを用いて、以下に説明するような操作を行なった。
【０６９３】
実施例２は、上記「［II．ラニムスチン合成反応］」において説明したα−メチルグルコシド｛即ち、化合物（０）｝からのトシル体｛即ち、化合物（１）｝の合成に当たる反応を行なった例である。
α−メチルグルコシド０．３ｇを脱水ピリジン２ｍＬに溶解させたものを本実施例におけるＡ液（試料流体）とし、ｐ−トルエンスルホニルクロリド０．２９ｇを脱水ピリジンに溶解したものをＢ液（試料流体）とし、それぞれの液を２．５ｍLマイクロシリンジに充填した。
【０６９４】
この２つのマイクロシリンジを用いて、上記実施形態で説明したのと同様に第２反応用マイクロチップを形成し、図７に示したような反応装置を組み立て、第２反応用チップに反応温度０℃にてＡ液及びＢ液を共に２０μＬ／分で送液して反応を行なわせた。第２反応用チップから送出された液をサンプル瓶に捕集し、高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、転化率は１００％、α−メチルグルコシドのトシル体の選択率は６２％、α−メチルグルコシドのジトシル体の選択率は３８％であった。なお、反応を通して第２反応用チップの温度は０±１℃に保持されていた。この結果から、第２反応用チップを用いれば、精密な温度制御を行ないながら、選択率のよい反応を行なうことができることが確認された。
また、送出口での圧力の上昇は観測されず、円滑な流れが可能であった。この結果から、第２反応用チップに２以上の送出口を形成したことにより、圧力損失を低下させることができることが確認された。
【０６９５】
［実施例３：クロマト用チップにかかる実施例］
上記実施形態と同様のクロマト用チップを用意し、そのプール部に、オルガノ社製合成樹脂吸着剤ＸＡＤ８を３５０μＬ充填した。なお、用いたクロマト用チップにおいて、導入流路部の幅は１０００μｍ、深さは１００μｍとし、プール部の深さは１００μｍ、幅は２４μｍ、長さは５２μｍとした。また、ダム部と基板との間に形成された隙間の大きさは３μｍであり、用いた吸着剤の平均粒径は１００μｍであった。
【０６９６】
上記のクロマト用チップを用いて、図３４に示すような分離装置を構成した。なお、図３４は、本実施例で用いた分離装置の要部構成を模式的に示す概要図であり、図１８と実質的に同様の部分は、図１８で用いた符号と同様の符号を付して示す。
この分離装置は、上記実施形態で説明したのと同様の、チップホルダ〔３２０〕、試料液供給部〔３３０〕、及び、溶出液供給部〔３４０〕を備えていて、これらは上記実施形態と同様に、制御部〔３７０′〕により制御されるようになっている。また、チップホルダ〔３２０〕には上記クロマト用チップ〔３０１〕が装着され、その下流には、回収サンプルビン〔３５０′〕が取り付けられている。ただし、上記実施形態とは異なり、本実施例の分離装置では、各分画を同一の回収サンプルビン〔３５０′〕で回収されるようになっている。
【０６９７】
上記の分離装置を用い、以下の手順で分離精製を行なった。
まず、制御部〔３７０′〕によりチップホルダ〔３２０〕の温度制御素子を制御して、クロマト用チップ〔３０１〕内の流路の温度（吸着温度）を０℃に調整した。
そして、制御部〔３７０′〕の制御により、溶出液供給部〔３３０〕から、α−メチルグルコシドのトシル体（目的物質）を２０ｍｇ／Ｌ、及び、α−メルグルコシドのジトシル体を１１ｍｇ／Ｌ含む試料液を３５０μＬ供給して、クロマト用チップ〔３０１〕内の流路に上記試料液を流通させ、α−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体を吸着剤に吸着させた（吸着工程）。
【０６９８】
次いで、溶出液供給部〔３４０〕から、溶出液として５０％メタノール水溶液を３５０μＬ供給して、クロマト用チップ〔３０１〕内の流路に溶出液を流通させ、この溶出液を回収サンプルビン〔３５０′〕に回収し、メタノール濃度５０％溶出分画成分を捕集した（５０％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
【０６９９】
次いで、溶出液のメタノール濃度を６０％とした他は、５０％メタノール水溶液を用いた上記溶出工程と同様にして、上記各メタノール濃度の溶出液を回収サンプルビンに回収し、メタノール濃度６０％分画成分を捕集した（６０％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％及び６０％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
【０７００】
次いで、溶出液のメタノール濃度を７０％とした他は、５０％メタノール水溶液を用いた上記溶出工程と同様にして、上記各メタノール濃度の溶出液を回収サンプルビンに回収し、メタノール濃度７０％分画成分を捕集した（７０％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％〜７０％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
【０７０１】
次いで、溶出液のメタノール濃度を８０％とした他は、５０％メタノール水溶液を用いた上記溶出工程と同様にして、上記各メタノール濃度の溶出液を回収サンプルビンに回収し、メタノール濃度８０％分画成分を捕集した（８０％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％〜８０％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
【０７０２】
次いで、溶出液のメタノール濃度を９０％とした他は、５０％メタノール水溶液を用いた上記溶出工程と同様にして、上記各メタノール濃度の溶出液を回収サンプルビンに回収し、メタノール濃度９０％分画成分を捕集した（９０％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％〜９０％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
【０７０３】
さらに、溶出液のメタノール濃度を１００％とした他は、５０％メタノール水溶液を用いた上記溶出工程と同様にして、１００％メタノール濃度の溶出液を別の回収サンプルビンに回収する操作を５回行ない、メタノール濃度１００％の溶出分画成分を捕集した（１００％分画溶出工程）。これにより、回収サンプルビン〔３５０′〕内には、メタノール濃度５０％〜１００％の溶出液で溶出された分画成分が捕集された。
なお、上記の一連の操作における試料液及び溶出液の供給速度はＳＶ＝１．０／ｈｒであった。ここで、「ＳＶ」は「液供給量（Ｌ／ｈｒ）／吸着材量（Ｌ）」で表される値である。
【０７０４】
各溶出工程で得られた溶出液について、それぞれ、高速液体クロマトグラフィーで分析を行ない、各溶出液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体の回収率と、各溶出液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル体の純度とを測定した。結果を、図３５及び表１に示す。
【０７０５】
【表１】
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【０７０６】
図３５や表１から分かるように、メタノール濃度が５０％〜７０％の溶出液により、目的物質であるα−メチルグルコシドのトシル体を、高い純度で分離精製することができる。
また、メタノール濃度が５０％〜９０％の溶出液により、α−メチルグルコシドのトシル体をすべて回収することが可能であるため、メタノール濃度が８０％〜９０％の溶出液を用いて再度上記の分離精製を行なうことにより、α−メチルグルコシドのトシル体の回収率をさらに高め、その損失量を抑制することができることがわかる。
【０７０７】
［実施例４：ろ過用チップにかかる実施例］
［実施例４−１］
上記実施形態と同様のろ過用チップを用意した。なお、このろ過用チップの各部の寸法は、導入流路部の幅は３００μｍ、深さは１００μｍであり、プール部の幅は２４ｍｍ、深さは１００μｍであり、ダム部の幅（流れ方向の長さ）は５００μｍであり、ダム部と流路内面との間の隙間の大きさは３μｍとした。
【０７０８】
上記のろ過用チップを用いて、「［Ｉ−４．ろ過用マイクロチップ］」で説明したのと同様の分離装置を構成した。
この分離装置を用いて、まず、ｏ−ニトロフェノールのカルバメート体（固体成分）２６．７重量％トルエン溶液３５３μＬを試料液として、流路内の温度５℃にて、流路に流通させた（ろ過工程）。これにより、流路内においてダム部よりも上流部分に固体成分が貯められた。
【０７０９】
次いで、流路に窒素ガスを流し、また、流路内を真空で脱気しながら、４０分、乾燥をさせた（乾燥工程）。
その後、流路内の温度を６０℃に調整し、濃硫酸（交換溶媒）１．６ｍＬを流路に流通させて固体成分を濃硫酸に溶解させ、この濃硫酸内に溶解した状態でｏ−ニトロフェノールのカルバメート体を回収した（溶媒交換工程）。
回収率＝（ろ過後の固体成分の重量）／（ろ過前の固体成分の重量）との式により回収率を算出したところ、回収率は８２％であった。
【０７１０】
［実施例４−２］
試料液として、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体（固体成分）３．４重量％濃硝酸溶液を用い、試料液流通時の流路内の温度を５℃とした他は、実施例４−１と同様にして、流路に流通させた（ろ過工程）。これにより、流路内においてダム部よりも上流部分に固体成分が貯められた。
【０７１１】
次いで、窒素ガスを流す時間を６０分とした他は実施例４−１と同様にして流路内を乾燥させた（乾燥工程）。
その後、流路内温度を３０℃とし、交換溶媒として濃硫酸の代わりに脱水テトラヒドロフラン０．３ｍＬを用いた他は実施例４−１と同様にして、ｏ−ニトロフェノールのニトロソカルバメート体を回収した（溶媒交換工程）。
実施例４−１と同様にして回収率を測定したところ、回収率は８７％であった。
【０７１２】
［実施例４−３］
試料液として、α-メチルグルコシドのトシル体６．３重量％水溶液を用い、試料液流通時の流路内の温度を１０℃とした他は、実施例４−１と同様にして、流路に流通させた（ろ過工程）。これにより、流路内においてダム部よりも上流部分に固体成分が貯められた。
【０７１３】
次いで、窒素ガスを流す時間を６０分とした他は実施例４−１と同様にして流路内を乾燥させた（乾燥工程）。
その後、流路内温度を６０℃とし、交換溶媒として濃硫酸の代わりにメタノール０．１ｍＬを用いた他は実施例４−１と同様にして、α-メチルグルコシドのトシル体を回収した（溶媒交換工程）。
実施例４−１と同様にして回収率を測定したところ、回収率は８３％であった。
【０７１４】
［実施例４−４］
試料液として、α-メチルグルコシドのアミノ体２５重量％水溶液を用い、試料液流通時の流路内の温度を０℃とした他は、実施例４−１と同様にして、流路に流通させた（ろ過工程）。これにより、流路内においてダム部よりも上流部分に固体成分が貯められた。
【０７１５】
次いで、窒素ガスを流す時間を２０分とした他は実施例４−１と同様にして流路内を乾燥させた（乾燥工程）。
その後、流路内温度を３０℃とし、交換溶媒として濃硫酸の代わりに脱水メタノール０．２ｍＬを用いた他は実施例４−１と同様にして、α-メチルグルコシドのアミノ体を回収した（溶媒交換工程）。
実施例４−１と同様にして回収率を測定したところ、回収率は１００％であった。
【０７１６】
［実施例４のまとめ］
実施例４−１〜４−４から分かるように、ろ過用マイクロチップを用いてろ過により分離を行なった場合には、回収しようとする固体成分の損失を抑制しながら分離を行なうことができ、これにより、高い回収率で固体成分の回収を行なうことが可能となる。したがって、高い回収率を確保しながら、固体成分の精製や洗浄を行なうことが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【０７１７】
本発明は、制癌剤の一種であるラニムスチンの製造に用いて好適である。
【図面の簡単な説明】
【０７１８】
【図１】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの模式的な上面図である。
【図２】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの模式的な斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの、導入流路と主流路とが接続された部分の近傍を拡大して模式的に示す要部拡大図である。
【図４】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの、主流路を流れ方向に垂直な面で切った断面を模式的に示す断面図である。
【図５】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの一実施形態を示すもので、（ａ）〜（ｃ）はいずれも導入流路が主流路に接続された合流部近傍を拡大して模式的に示す上面図である。
【図６】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの、導入流路の流れ方向に直交する断面を模式的に示す断面図である。
【図７】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの一実施形態を示すもので、マイクロ反応用チップを用いた反応に用いる反応装置の要部構成を模式的に示す図である。
【図８】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの一実施形態を示すもので、チップホルダについて模式的に示す分解斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの一実施形態を示すもので、マイクロ反応用チップを用いた反応に用いる反応装置の要部構成を模式的に示す図である。
【図１０】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの模式的な上面図である。
【図１１】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの模式的な斜視図である。
【図１２】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの一実施形態について示すもので、（ａ），（ｂ）はいずれも分岐流路部近傍の模式的な拡大図である。
【図１３】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの一実施形態について示すもので、プール部内を流通する試料流体の流通する向きを説明するために示す、第２反応用チップの模式的な上面図である。
【図１４】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである第２反応用チップの一実施形態について示すもので、プール部をその流れ方向に垂直な面で切った模式的な断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるクロマトグラフィー用チップの模式的な上面図である。
【図１６】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるクロマトグラフィー用チップの模式的な斜視図である。
【図１７】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるクロマトグラフィー用チップの一実施形態について示すもので、流出防止部近傍の模式的な拡大図である。
【図１８】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるクロマトグラフィー用チップの一実施形態について示すもので、分離装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
【図１９】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるろ過用マイクロチップの模式的な上面図である。
【図２０】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるろ過用マイクロチップの模式的な斜視図である。
【図２１】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるろ過用マイクロチップの一実施形態について示すもので、ろ過用マイクロチップのダム部近傍を拡大して示す模式的な断面図である。
【図２２】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つであるろ過用マイクロチップの一実施形態について示すもので、分離装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
【図２３】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである濃縮用チップの模式的な上面図である。
【図２４】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである濃縮用チップの模式的な斜視図である。
【図２５】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである濃縮用チップの一実施形態について示すもので、濃縮用マイクロチップの合流チャンネル部を、その流れ方向に垂直な面で切った模式的な断面図である。
【図２６】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントにおいて用いる化学操作用チップの一つである濃縮用チップの一実施形態について示すもので、濃縮装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
【図２７】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントの概要を示す模式的なブロック図である。
【図２８】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントを用いて行なう化学操作を説明するフロー図である。
【図２９】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントについて示すもので、メチルグルコシド溶液の供給源及びトシル化部の概要を模式的に表わす図である。
【図３０】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントについて示すもので、アミノ化部の概要を模式的に表わす図である。
【図３１】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントについて示すもので、ニトロフェノール溶液の供給源及びニトロソカルバメート化部の概要を模式的に表わす図である。
【図３２】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントについて示すもので、ラニムスチン合成部の概要を模式的に表わす図である。
【図３３】本発明の一実施形態としてのラニムスチン合成用マイクロプラントに用いる化学操作用チップの一つである第１反応用チップの変形例について示すもので、（ａ）〜（ｃ）はいずれも導入流路が主流路に接続された合流部近傍を拡大して模式的に示す上面図である。
【図３４】本発明の実施例３で用いた分離装置の要部構成を模式的に示す概要図である。
【図３５】本発明の実施例３の結果として、各溶出工程で得られた各溶出液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル体及びジトシル体の回収率と、各溶出液に含まれるα−メチルグルコシドのトシル体の純度とを表わすグラフである。
【符号の説明】
【０７１９】
１  メチルグルコシド溶液源
２  トシル化部
３  アミノ化部
４  ニトロフェノール溶液源
５  ニトロソカルバメート化部
６  ラニムスチン合成部
７  制御部
１０１  第１反応用チップ
１０２，２０２，３０２，４０２，５０２  基板
１０３，２０３，３０３，４０３，５０３  流路
１０４  主流路
１０５，１０６  導入流路
１０７  合流部
１２１，３０２ａ，４０２ａ，５０２ａ  下板
１２２，３０２ｂ，４０２ｂ，５０２ｂ  上板
１４１，２７４，３０７ａ，３０８ａ，４０７ａ，４０８ａ，５７１，５８１  送出口
１４２  直線状部
１４３  Ｕ字型部
１４４，２７３，５６１  ガイド条
１５１，１６１，２４１，２５１，３０４ａ，３０５ａ，４０４ａ，４０５ａ，５４１，５５１  導入口
１８１，３２０，４２０，５９１  チップホルダ
１８２，１８３  流体供給器
１８４，５９４  サンプル瓶
１８５，５９６  温度コントローラ
１８６，３２１，４２１，５９７  下部ホルダ
１８７，３２２，４２２，５９８  上部ホルダ
２０１  第２反応用チップ
２０４，２０５，３０４，３０５，４０４，４０５  導入流路部
２０６  階層分岐流路部
２０７，３０６，４０６  プール部
２０８  導入流路合流部
２６１，２６２  分岐流路部
２６３，２６４  （分岐部位より上流側の）流路部
２６５，２６６  分岐部位
２６７Ａ，２６７Ｂ，２６８Ａ，２６８Ｂ  （分岐部位で分岐後の）流路部
２７１  流体流入口
２７２  気泡案内部
２７５  （プール部の）下流端面
２７６  （プール部の）上流端面
２７７  （プール部の）内側面
２７８，３０６ｄ，４０６ｄ  （プール部の）天井面
２７９，３０６，４０６ａ  （プール部の）底面
３０１  クロマトグラフィー用チップ
３０６ｂ，３０６ｃ，４０６ｂ，４０６ｃ  プール部の側面
３０７，３０８，４０７，４０８  送出流路部
３０９，４０９  ダム部（流出防止部）
３１０  吸着剤
３１１，４１１  隙間
３３０，４３０  試料液供給部
３３１，３４１  貯水サンプルビン
３３２，３３４，３４２，３４４，３５５，３６２，４３２，４５２  送液ポンプ
３３３  サンプルビン
３３５，３４５，３５５，３６３，４３３，４４２，４５３  制御弁
３４０  溶出液供給部
３４３  メタノールサンプルビン
３５０  分画回収部
３５０′  回収サンプルビン
３５１  第１回収サンプルビン
３５２  第２回収サンプルビン
３５３  第３回収サンプルビン
３５４，４６４  切替弁
３６０  再分離用還流部
３６１  貯蔵サンプルビン
３６４  センサ
３７０，４７０  制御部
４０１  ろ過用マイクロチップ
４０９ａ  ダム部の上端部
４１０  支柱部
４３１  サンプルタンク
４４０  乾燥用ガス供給部
４４１  ガスボンベ
４５０  交換溶媒供給部
４５１  交換溶媒タンク
４６０  回収部
４６１  目的物質回収タンク
４６２  流路減圧部
４６３  廃液回収タンク
４６５  真空トラップ
４６６  真空ポンプ
５０１  濃縮用チップ
５０４  液体導入流路部
５０５  気体導入流路
５０６  合流チャンネル部
５０７  液体送出流路部
５０８  気体送出流路部
５９２  液体供給器
５９３  気体供給器
５９５  回収瓶
６１０  トシル化反応部
６２０  トシル体／ジトシル体中和部
６３０  トシル体／ジトシル体精製部
６４０  トシル体クロマト分離部
６５０  トシル体濃縮部
６６０  トシル体精製部
７１０  アミノ化反応部
７２０  アミノ体／トシル体濃縮部
７３０  アミノ体クロマト分離部
７４０  アミノ体濃縮部
７５０  アミノ体精製部
８１０  カルバメート化反応部
８２０  カルバメート体精製部
８３０  ニトロソカルバメート化反応部
８４０  ニトロソカルバメート体精製部
９１０  ラニムスチン合成反応部
９２０  第１ラニムスチン濃縮部
９３０  ラニムスチン精製部
９４０  第２ラニムスチン精製部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2007063150.tif 000014
【図１１】
2007063150.tif 000015
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2007063150.tif 000021
【図１８】
2007063150.tif 000022
【図１９】
2007063150.tif 000023
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
2007063150.tif 000029
【図２６】
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【図２７】
2007063150.tif 000031
【図２８】
2007063150.tif 000032
【図２９】
2007063150.tif 000033
【図３０】
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【図３１】
2007063150.tif 000035
【図３２】
2007063150.tif 000036
【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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