(57)【要約】【課題】表示品位の問題が改善されたカラーフィルタを製造する為に有用な離画壁及びその製造方法、表示品位の改善されたカラーフィルタ及び低コストかつ高効率なカラーフィルタの製造方法、並びに該カラーフィルタを有する表示装置の提供。【解決手段】画壁１０は、その断面において、離画壁１０の基板２０からの高さが最も高い点Ｈにおける基板２０からの高さをｈと、基板２０から０．８ｈの位置における基板２０と平行な線をｌ１と、ｌ１と離画壁１０の外縁１２とが接する点における接線をｌ２と、ｈの位置における基板２０と平行な線をｌ３と、ｌ２とｌ３との交点から１０離画壁の外縁１２までの距離をｒとし、離画壁１０の上面の２５℃における蒸留水の接触角をθとしたときに、θとｒとｈとがθ／（ｒ／ｈ）≧２０００°を満たす。【選択図】図１
2007133171.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成される離画壁であって、
前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記基板からの高さが最も高い点Ｈにおける前記基板からの高さをｈと、前記基板から０．８ｈの位置における前記基板と平行な線をｌ１と、ｌ１と前記離画壁の外縁とが接する点における接線をｌ２と、ｈの位置における前記基板と平行な線をｌ３と、ｌ２とｌ３との交点から前記離画壁の外縁までの距離をｒとし、前記離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角をθとしたときに、θとｒとｈとがθ／（ｒ／ｈ）≧２０００°を満たす離画壁。
【請求項２】
ｌ１と前記離画壁の外縁との交点ａ及びｂの間の距離をｘとし、前記基板から０．２ｈの位置における前記基板と平行な線ｌ４と前記離画壁の外縁との交点ｃ及びｄの間の距離をｙとしたときのｘ／ｙの値が０．８以上１．２以下である請求項１記載に記載の離画壁。
【請求項３】
前記離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角が８５°以上である請求項１又は２に記載の離画壁。
【請求項４】
基板上に離画壁用の感光性樹脂組成物層を下記（Ａ）又は（Ｂ）の方法で形成し、前記感光性樹脂組成物層を露光、現像して離画壁を形成する離画壁の製造方法。
（Ａ）感光性樹脂組成物を基板に塗布乾燥して形成する。
（Ｂ）感光性転写層が仮支持体上に形成された感光性転写材料を用いて、前記感光性転写層を基板に転写し形成する。
【請求項５】
基板上に、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の離画壁と、２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群と、を有するカラーフィルタであって、前記複数の画素が、前記離画壁を形成した後、着色液体組成物の液滴を付与することにより形成されたものであるカラーフィルタ。
【請求項６】
前記液滴を付与する方法がインクジェット法である請求項５に記載のカラーフィルタ。
【請求項７】
請求項４に記載の離画壁を形成後に、２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群を形成するカラーフィルタの製造方法であって、前記複数の画素を着色液体組成物の液滴を付与することにより形成するカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記液滴を付与する方法がインクジェット法である請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項５又は６に記載のカラーフィルタを有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用に特に適したカラーフィルタに用いられる離画壁及びその製造方法、それを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びにカラーフィルタを有する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の離画壁で区分した構造である。このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１参照。）  、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法  、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより感光性着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）が知られている（例えば、特許文献２参照。）。またインクジェット法を用いる方法（特許文献３参照。）も知られている。
【０００３】
これらの方法のうち、着色レジスト法は位置精度高くカラーフィルタを作製できるものの、感光性樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。
これらを克服すべく、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法も提案されているが、作成されたブラックマトリックスの断面形状を観察すると、上端やそのエッジが丸くなっており、後に打滴された各色インクがブラックマトリックスをのり越えやすいために、隣接画素と混色を起こし表示品位を低下させる。これを防ぐ為、ブラックマトリックスとインクとの間に、お互いはじきあう性質を持たせたり、ブラックマトリックス間隙部のインクの濡れ性を高めたりする方法が開示されている（特許文献４〜６参照）が、これらの方法では、ブラックマトリックス用着色レジストやインクに特殊な素材が必要であったり、ブラックマトリックス間隙部の表面エネルギーを高める工程（表面改質処理）が必要であり、コスト的な問題がなお残されている。
【０００４】
また、インクジェット法によりインクを打滴してカラーフィルタの画素を形成する際、インクが離画壁に乗り上げるため形成したカラーフィルタの表面が平滑でなくなることがある。打滴されるインク量は一定なのでインクが離画壁に乗り上げると画素部の厚みが小さくなり表示品位が低下する。さらに乗り上げた部分の厚みが大きくなるため、カラーフィルタを例えば液晶表示装置等に使用する際、カラーフィルタの上に設けるＩＴＯ電極が平坦でなくなるため液晶層厚みが不均一になりムラが発生する。これを防止するためにカラーフィルタの表面を研磨したり、カラーフィルタ上にオーバーコート層を形成したりする方法が知られている。しかしこれらの方法は非常に手間がかかるため簡便に平滑なカラーフィルタを形成する方法が望まれていた。
【特許文献１】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献２】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献３】特開平８−２２７０１２号公報
【特許文献４】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献５】特開平７−３５９１５号公報
【特許文献６】特開平１０−１４２４１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、表示品位の問題が改善されたカラーフィルタを製造する為に有用な離画壁及びその製造方法、表示品位の改善されたカラーフィルタ及び低コストかつ高効率なカラーフィルタの製造方法、並びに該カラーフィルタを有する表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記実情に鑑み本発明者らは、鋭意研究を行ったところ、上記課題を解決しうることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
【０００７】
＜１＞  基板上に形成される離画壁であって、前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記基板からの高さが最も高い点Ｈにおける前記基板からの高さをｈと、前記基板から０．８ｈの位置における前記基板と平行な線をｌ１と、ｌ１と前記離画壁の外縁とが接する点における接線をｌ２と、ｈの位置における前記基板と平行な線をｌ３と、ｌ２とｌ３との交点から前記離画壁の外縁までの距離をｒとし、前記離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角をθとしたときに、θとｒとｈとがθ／（ｒ／ｈ）≧２０００°を満たす離画壁である。
【０００８】
＜２＞  ｌ１と前記離画壁の外縁との交点ａ及びｂの間の距離をｘとし、前記基板から０．２ｈの位置における前記基板と平行な線ｌ４と前記離画壁の外縁との交点ｃ及びｄの間の距離をｙとしたときのｘ／ｙの値が０．８以上１．２以下である＜１＞に記載の離画壁である。
【０００９】
＜３＞  前記離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角が８５°以上である＜１＞又は＜２＞に記載の離画壁である。
【００１０】
＜４＞  基板上に離画壁用の感光性樹脂組成物層を下記（Ａ）又は（Ｂ）の方法で形成し、前記感光性樹脂組成物層を露光、現像して離画壁を形成する離画壁の製造方法である。
（Ａ）感光性樹脂組成物を基板に塗布乾燥して形成する。
（Ｂ）感光性転写層が仮支持体上に形成された転写材料を用いて、前記感光性転写層を基板に転写し形成する。
【００１１】
＜５＞  基板上に、＜１＞乃至＜３＞のいずれか１つに記載の離画壁と、２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群と、を有するカラーフィルタであって、前記複数の画素が、前記離画壁を形成した後、着色液体組成物の液滴を付与することにより形成されたものであるカラーフィルタである。
【００１２】
＜６＞  前記液滴を付与する方法がインクジェット法である＜５＞に記載のカラーフィルタである。
【００１３】
＜７＞  ＜４＞に記載の離画壁を形成後に、２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群を形成するカラーフィルタの製造方法であって、前記複数の画素を着色液体組成物の液滴を付与することにより形成するカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
＜８＞  前記液滴を付与する方法がインクジェット法である＜７＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１５】
＜９＞  ＜５＞又は＜６＞に記載のカラーフィルタを有する表示装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、表示品位の問題が改善されたカラーフィルタを製造する為に有用な離画壁及びその製造方法を提供することができる。さらに本発明によれば、表示品位の改善されたカラーフィルタ及び低コストかつ高効率なカラーフィルタの製造方法、並びに該カラーフィルタを有する表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜離画壁及びその製造方法＞
本発明の離画壁を図面を用いて説明する。図１は、本発明の離画壁を説明するための模式断面図である。本発明の離画壁１０は、基板２０上に形成される。離画壁１０は、その断面において、離画壁１０の基板２０からの高さが最も高い点Ｈにおける基板２０からの高さをｈと、基板２０から０．８ｈの位置における基板２０と平行な線をｌ１と、ｌ１と離画壁１０の外縁１２とが接する点（図１において点ａ又は点ｂ）における接線をｌ２と、ｈの位置における基板２０と平行な線をｌ３と、ｌ２とｌ３との交点から離画壁１０の外縁１２までの距離をｒとし、離画壁１０の上面の２５℃における蒸留水の接触角をθとしたときに、θとｒとｈとがθ／（ｒ／ｈ）≧２０００°を満たす。
【００１８】
θとｒとｈとがθ／（ｒ／ｈ）＜２０００°の場合、インクジェットで打滴したときにインクが離画壁上で広がって、いわゆる「混色」が起こる場合がある。
本発明においては、θ／（ｒ／ｈ）の値は２２００°以上が好ましく２４００°以上がさらに好ましい。
【００１９】
ここで、本発明における離画壁の上面について図面を用いて説明する。
図２は、基板２０上に設けられた離画壁１０の断面斜視図である。離画壁１０の断面において離画壁１０の基板２０からの高さがもっとも高い点Ｈにおける基板２０からの高さをｈとする。基板２０からの距離が０．８ｈであり基板２０に平行な平面Ｓが離画壁１０と交わる曲線をＩとする。離画壁１０の表面のうち、Ｉよりも基板２０に対して上側の領域を本発明における上面と定義する。
【００２０】
また、本発明において２５℃における蒸留水の接触角は、例えば下記の方法により測定することができる。
離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を図３を用いて説明する。図３は、離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を説明するための図であり、（ａ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す平面図を示し、（ｂ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す断面図を示す。図３に示すように離画壁上面に液滴の一部がかかるようにして、蒸留水をカラーフィルタ上に滴下する。この液滴について光学顕微鏡写真を撮影して、該写真から離画壁上面部分の２５℃における蒸留水の接触角θを求めることができる。
【００２１】
本発明の離画壁は、図１におけるｌ１と離画壁１０の外縁１２との交点ａ及びｂの間の距離をｘとし、基板２０から０．２ｈの位置における基板２０と平行な線ｌ４と離画壁１０の外縁１２との交点ｃ及びｄの間の距離をｙとしたときのｘ／ｙの値が０．８以上１．２以下であることが好ましい。離画壁がこの条件を満たすと、前述の「混色」を防止できる。
【００２２】
本発明においては、離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角が８５°以上であることがさらに好ましい。離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角が８５°以上であると、前述の「混色」が更に起こりにくくなる。
本発明において、離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角は９０°以上がさらに好ましく、９５°以上が特に好ましい。
【００２３】
本発明において、前記離画壁の高さｈは、１．０μｍ以上であることが好ましいが、より好ましくは１．５μｍ以上１０μｍ以下であり、更に好ましくは１．８μｍ以上７．０μｍ以下、特に好ましくは２．０μｍ以上５．０μｍ以下である。中でも、１．５μｍ以上１０μｍ以下とすることにより、より効果的に混色を防止できる。高さが１．５μｍ未満であると混色が起こりやすく、１０μｍを超えると濃色離画壁の形成が難しくなる。
【００２４】
ｒ、ｈ、ｘ及びｙの値は、実際には基板上に形成された離画壁を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等で該断面を直接観察することで測定する。
【００２５】
本発明の離画壁を用いて良好な画質のカラーフィルタを得るためには、前記の各画素間の混色を防ぐこと以外に離画壁の色調が重要である。離画壁の側面は通常、垂直でないので、画素の周囲部分では赤青緑などの画素の色と離画壁の色が加わった色が表示されることになる。即ち、赤青緑などの画素の色が如何に純色であっても離画壁の色が無彩色でないと画面全体で見ると良好な色調にならない。
離画壁の色調としては漆黒であることが望ましい。従って、離画壁の着色剤としては、例えばカーボンブラック、チタンブラック、黒鉛、金属化合物（例えば、酸化鉄、酸化チタン）などの黒色の着色剤を用いることが好ましい。しかしながら、一般に黒色着色剤（黒色顔料や黒色染料）と呼ばれているものでも厳密には完全な黒色（可視光の吸光度が、全波長域にわたり等しい）というわけではない。例えば代表的な黒色顔料であるカーボンブラックの場合でも色調は作成方法、粒径、ストラクチャー等により変化するが、特に粒径がこの色調に大きく寄与する。粒径については、１０〜７５ｎｍが好ましく、より好ましくは１２〜５０ｎｍ、更に１５〜４０ｎｍの範囲が好ましい。粒径が１０ｎｍ未満であったり、７５ｎｍを超えたりすると、分散安定性が低下したり離画壁の表面の平滑性が損なわれるという問題が生じる場合がある。
尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
【００２６】
本発明の離画壁の製造方法は、基板上に離画壁用の感光性樹脂組成物層を形成し、前記感光性樹脂組成物層を露光、現像して離画壁を形成するものである。感光性樹脂組成物層の露光は貧酸素雰囲気下で行うことが好ましい。感光性樹脂組成物層の形成は、（Ａ）感光性樹脂組成物を基板に塗布乾燥して形成する方法、又は（Ｂ）感光性転写層が仮支持体上に形成された感光性転写材料を用いて、前記感光性転写層を基板に転写し形成する方法を用いることができる。
以下、感光性樹脂組成物及び感光性転写材料について説明する。
【００２７】
［感光性樹脂組成物］
基板上の離画壁は、着色剤を含有する感光性樹脂組成物から形成される。ここで、感光性樹脂組成物とは、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有する組成物のことであり、その値は２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。また、この感光性樹脂組成物は、後述するように好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０であり、好ましくは２．５〜６．０、最も好ましいのは３．０〜５．０である。２．０未満では離画壁形状が望みのものとならない恐れがあり、１０．０を超えると、重合を開始することができず離画壁そのものを作ることが困難となる。
以下、該組成物中の成分について説明する。
【００２８】
（着色剤）
本発明に用いる着色剤としては、具体的には、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、感光性樹脂組成物層に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
前記感光性樹脂組成物の固形分中の着色剤の比率は、十分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００２９】
本発明における感光性樹脂組成物は前記着色剤以外に、バインダー（樹脂、ポリマー）、開始剤、モノマーを少なくとも含んでなることが好ましい。また、必要に応じて更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに感光性樹脂組成物は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００３０】
（バインダー（樹脂・ポリマー））
感光性樹脂組成物に用いるバインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
【００３１】
（開始剤）
感光性樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では、光開始系を用いることが好ましい。ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ  線等の放射線の照射（露光ともいう）により、多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
【００３２】
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−  ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００３３】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８  ５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７  ６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００３４】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００３５】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビスイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾールなどが挙げられる。
【００３６】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビスイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
【００３７】
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾールである。
【００３８】
前記開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記開始剤の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が、０．１質量％未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、現像する際に、形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面に荒れが生じやすくなることがある。
【００３９】
前記開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００４０】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環或いは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環或いは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００４１】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００４２】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００４３】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００４４】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００４５】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【００４６】
（モノマー）
感光性樹脂組成物に用いる多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとを組み合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【００４７】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
【００４８】
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【００４９】
モノマーの感光性樹脂組成物における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、８０質量％を越えると、感光性樹脂組成物とした時のタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。
【００５０】
（溶剤）
本発明の感光性樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００５１】
（界面活性剤）
本発明においては、後述するスリット状ノズル等を用いることにより、感光性樹脂組成物を基板又は仮支持体に塗布することができるが、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることにより、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止することができる。
上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。
尚、感光性樹脂組成物の全固形分に対する界面活性剤の含有量は、０．００１〜１％が一般的であり、０．０１〜０．５％が好ましく、０．０３〜０．３％が特に好ましい。
【００５２】
（紫外線吸収剤）
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物の他、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
尚、感光性樹脂組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、０．５〜１５％が一般的であり、１〜１２％が好ましく、１．２〜１０％が特に好ましい。
【００５３】
（その他）
−熱重合防止剤−
また、本発明の感光性樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。該熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
尚、感光性樹脂組成物の全固形分に対する熱重合防止剤の含有量は、０．０１〜１％が一般的であり、０．０２〜０．７％が好ましく、０．０５〜０．５％が特に好ましい。
また、本発明の感光性樹脂組成物においては、上記添加剤の他に、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」や、その他の添加剤等を含有させることができる。
【００５４】
本発明における感光性樹脂組成物層の厚みとしては、感光性樹脂組成物の固形分含有量及び形成される離画壁の厚さに依存し、特に限定されるものではないが、一般的に、１〜１２μｍが好ましく、１．５〜１２μｍがより好ましく、１．８〜８μｍが更に好ましく、２．０〜６．０μｍが特に好ましい。
【００５５】
［感光性転写材料］
本発明における離画壁の形状を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも感光性樹脂組成物からなる層（感光性転写層もしくは感光性樹脂組成物層ということあり）と、必要に応じて更に、酸素遮断層とを有してなる感光性転写材料を使用するという後述の手法（３），（４）がある。酸素遮断層を有する材料を用いた場合、感光性樹脂組成物からなる層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がないため、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。
【００５６】
（仮支持体）
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００５７】
（感光性樹脂組成物層）
上記の感光性転写材料における感光性樹脂組成物層は、前記感光性樹脂組成物から形成され、その形状等の特性、形成方法等については、前記塗布法により形成された層と同様であり、好ましい態様も同様である。
【００５８】
（酸素遮断層）
本発明における感光性転写材料においては、露光時の酸素を遮断する目的から、仮支持体上に形成された感光性樹脂組成物層上に酸素遮断層を設けることが好ましい。該酸素遮断層は後述の離画壁の項に記載した酸素遮断層と、物性、特性等が全て同様であり好ましい態様も同様である。
【００５９】
（熱可塑性樹脂層）
上記の感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であることが好ましく、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、後述する離画壁形成方法において、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤或いは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００６０】
（保護フイルム）
感光性樹脂組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フイルムを設けることが好ましい。保護フイルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂組成物層から容易に分離されねばならない。保護フイルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、保護フイルムの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【００６１】
（感光性転写材料の作製方法）
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の添加剤を溶解した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる酸素遮断層材料の溶液を塗布、乾燥し、その後感光性樹脂組成物層用塗布液を、酸素遮断層を溶解しない溶剤で塗布、乾燥して設けることにより作製することができる。なお、熱可塑性樹脂層を設けない場合には酸素遮断層の溶剤の制約は特に必要がない。
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層を設けたシート、及び保護フイルム上に感光性樹脂組成物層を設けたシートを用意し、酸素遮断層と感光性樹脂組成物層とが接するように相互に貼り合わせることによっても、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フイルム上に感光性樹脂組成物層及び酸素遮断層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と酸素遮断層とが接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、スリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
【００６２】
［基板］
前記基板（永久支持体）としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや透明合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００６３】
［離画壁］
離画壁は、上記感光性樹脂組成物を用いた塗布法又は感光性転写材料を用いた転写法で形成する態様がある。形成は貧酸素雰囲気下で行ってもよい。又は酸素遮断層を設けて形成してもよい。
ここで、前記貧酸素雰囲気下とは、本発明における感光性樹脂組成物又は感光性樹脂組成物層を光硬化させる際の酸素の分圧が０．１５気圧以下、又は、酸素を遮断しうる酸素遮断層下のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。
通常、大気（１気圧）下では酸素の分圧は０．２１気圧であるので、酸素の分圧を０．１５気圧以下に下げるためには、（ａ）露光時の大気を減圧して０．７１気圧以下にするか、（ｂ）空気と酸素以外の気体（例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガス）を空気に対して４０ｖｏｌ％以上混合することにより達成できる。
本発明における貧酸素雰囲気については、特に限定されず前記いずれの方法も用いることが出来る。
前記酸素分圧を０．１５気圧以下とする方法を用いる場合、０．１０気圧以下が好ましく、０．０８気圧以下がより好ましく、０．０５気圧以下が特に好ましい。酸素分圧が０．１５気圧より高いと本発明の効果が不十分になる場合がある。
酸素分圧の下限には特に制限はない。真空又は雰囲気を空気以外の気体（例えば窒素）で置換することにより酸素分圧を事実上０にすることができるが、これも好ましい方法である。酸素分圧は酸素計を用いて測定することができる。
【００６４】
前記不活性ガスとは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ２が好適に利用される。
【００６５】
前記減圧下とは、５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【００６６】
以上より、本発明の離画壁は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成されるが、下記（１）及び（２）の塗布法、並びに下記（３）及び（４）の転写法で製造することが好ましい。
即ち、（１）離画壁は、着色剤を含有する感光性樹脂組成物を、基板に塗布乾燥した後、貧酸素雰囲気下（酸素分圧が０．１５気圧以下）で露光し現像して形成する。
また、（２）離画壁は、着色剤を含有する感光性樹脂組成物を、基板に塗布乾燥した後、貧酸素雰囲気下（感光性樹脂組成物層上に酸素遮断層を設けた状態）で露光し現像して形成する。
（３）感光性樹脂組成物により仮支持体上に形成された感光性転写層（感光性樹脂組成物層）を有する感光性転写材料を、前記基板上に転写した後、貧酸素雰囲気下（酸素分圧が０．１５気圧以下）で露光し現像して形成する。
（４）感光性樹脂組成物により仮支持体上に形成された感光性転写層（感光性樹脂組成物層）を有する感光性転写材料を、前記基板上に転写した後、貧酸素雰囲気下（感光性樹脂組成物層上に酸素遮断層を設けた状態）で露光し現像して形成する。
【００６７】
（酸素遮断層）
本発明で言う酸素遮断層とは、５００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の酸素透過率を有する層であるが、酸素透過率は１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましく、５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましい。酸素透過率が５００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）より多い場合は効率的に酸素を遮断することができないため、離画壁を前記所望の形状にすることが困難となる。
具体的にはポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコールなどを主成分とする層が好ましいが、このうちポリビニルアルコールを主成分とするものが好ましい。
ポリビニルアルコールとしては鹸化度が８０％以上のものが好ましい。本発明の酸素遮断層における前記ポリビニルアルコールの含有量としては、２５質量％〜９９質量％が好ましく、５０質量％〜９０質量％がより好ましく、５０質量％〜８０質量％が特に好ましい。また、必要に応じてポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどのポリマーを添加してもよいが、このうちポリビニルピロリドンが好ましい。これらのポリマーの添加量は層全体の１〜４０質量％、より好ましくは１０〜３５質量％である。ポリビニルピロリドンの添加量が多すぎると酸素遮断性が不充分になる場合がある。
【００６８】
（離画壁の形成）
−感光性樹脂組成物を用いる離画壁の形成−
まず、基板を洗浄した後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。該基板を温調後、前記感光性樹脂組成物を塗布する。引き続き、溶媒の１部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）等にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、プリベークして感光性樹脂組成物層を得る。
前記塗布としては、特に限定されず、公知のスリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（例えば、エフ・エー・エス・ジャパン社製、商品名：ＭＨ−１６００）等を用いて行うことができる。
前記乾燥は、公知の乾燥装置（例えば、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業社製）等）を用いて行うことができる、
プリベークとしては、特に限定されないが、例えば、１２０℃３分間することにより達成することができる。
【００６９】
続いて、基板と画像パターンを有するマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、窒素パージして前記酸素分圧を制御して窒素雰囲気下露光する。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２）選択することができる。また、このときの酸素分圧は酸素計（Ｇ−１０２型、飯島電子工業製等）を用いて測定することができる。
【００７０】
次に、現像液で現像してパターニング画像を得、引き続き必要に応じて、水洗処理して離画壁を得る。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、感光性樹脂組成物層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００７１】
前記感光性樹脂組成物の塗布による方法及び感光性転写材料を用いる方法における前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００７２】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００７３】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂組成物層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。この現像工程にて、離画壁形状は前述のごとく形成される。
【００７４】
−感光性転写材料を用いた離画壁の形成−
まず、前述の感光性転写材料の保護フィルムを剥離除去した後、露出した感光性樹脂組成物層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【００７５】
次いで、仮支持体を除去する。続いて、仮支持体除去後の除去面の上方に所望のフォトマスクを配置し、貧酸素雰囲気下にて、光源より紫外線を照射し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
現像処理に用いる現像液及び光照射に用いる光源は、前記塗布法を用いた形成における現像液及び光源が同様に用いられる。
【００７６】
本発明の離画壁の上面の２５℃における蒸留水の接触角θは、該表面の撥水処理の有無により調節することができる。接触角θを調節することにより、本発明の離画壁がθ／（ｒ／ｈ）≧２０００°を満たすようにすることができる。
離画壁上面の撥水処理の方法は特に限定されるものではないが、例えば、（１）感光性樹脂組成物層に撥水性物質を練り込む方法、（２）離画壁の上面に撥水層を設ける方法、（３）、離画壁上面をプラズマ処理して撥水性を付与する方法、（４）離画壁上面に撥水材料を塗布する方法等が挙げられる。
【００７７】
（１）感光性樹脂組成物に撥水性物質を練り込む方法
上述した感光性樹脂組成物に撥水性物質をさらに添加することにより、離画壁上面を撥水処理することができる。撥水性物質としては、例えば、含フッ素樹脂が挙げられる。
【００７８】
本発明の含フッ素樹脂は、下記式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。
−（Ｘ−Ｏ）ｎ−Ｙ ・・・式１
式１中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。
ただし、式１におけるフッ素原子の総数は２以上である。
【００７９】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキレン基又は炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキル基又は炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【００８０】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、より好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【００８１】
Ｘ、Ｙの態様が上記のものであることにより、含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏する。
【００８２】
式１においてｎは２〜５０の整数を示す。ｎは２〜３０が好ましく、２〜１５がより好ましい。ｎが２以上であると、インク転落性が良好である。ｎが５０以下であると、含フッ素樹脂をＲｆ基（ａ）を有する単量体と、酸性基（ｂ）を有する単量体やその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【００８３】
また、式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）における炭素原子の総数は２〜５０が好ましく、２〜３０がより好ましい。当該範囲では、含フッ素樹脂は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また含フッ素樹脂をＲｆ基（ａ）を有する単量体、酸性基（ｂ）を有する単量体及びその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【００８４】
Ｘの具体例としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−が挙げられる。
【００８５】
Ｙの具体例としては、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、及び（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３が挙げられる。
【００８６】
式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）の好ましい態様としては、式２で表されるＲｆ基（ａ）が挙げられる。
【００８７】
−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式２
式２中、ｐは２又は３の整数を示し、ｎで括られた単位毎に同一の基であり、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【００８８】
式２で表されるＲｆ基（ａ）として、具体的には、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３ （ｎは２〜９）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）
が合成の容易さの点から好ましく挙げられる。
【００８９】
含フッ素樹脂内のＲｆ基（ａ）は、全て同一でもよいし、異なっていてもよい。
【００９０】
含フッ素樹脂におけるフッ素原子の含有量は１〜６０％が好ましく、５〜４０％がより好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【００９１】
含フッ素樹脂は、酸性基（ｂ）を有する。
酸性基（ｂ）としては、カルボキシル基、フェノール性水酸基、及びスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも１つの酸性基又はその塩が好ましい。
【００９２】
含フッ素樹脂の酸価は、１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。この範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
【００９３】
含フッ素樹脂の数平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好である。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定される。
【００９４】
含フッ素樹脂は、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体であって、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであるのが好ましい。
【００９５】
エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
【００９６】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体としては、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＣＯＱ１Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＱ１Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＨ２ＯＱ１Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＳＯ２Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＲｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＯＱ１Ｒｆ
等が挙げられる。ただし、Ｒ１は水素原子又はメチル基を、Ｑ１は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｑ２は炭素数１〜６の２価有機基を、それぞれ示す。Ｑ１、Ｑ２は環状構造を有していてもよい。
【００９７】
Ｑ１、Ｑ２の具体例としては、
−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−Ｃ（ＣＨ３）２−、
−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、
−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−
等が挙げられる。Ｑ１は単結合であってもよい。
合成の容易さの観点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−が好ましい。
【００９８】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体として具体的には以下のものが挙げられる。
【００９９】
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
【０１００】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）。
【０１０１】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
【０１０２】
含フッ素樹脂におけるエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、１〜９５％等が好ましく、５〜８０％がより好ましく、２０〜６０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１０３】
酸性基（ｂ）を有する単量体として、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体が挙げられる。
【０１０４】
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０５】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０６】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０７】
含フッ素樹脂におけるエチレン性二重結合と酸性基（ｂ）を有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、０．１〜４０％等が好ましく、０．５〜３０％がより好ましく、１〜２０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１０８】
含フッ素樹脂がエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを有する共重合体である場合、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない単量体（以下、「その他の単量体」という。）に基づく単量体単位を有していてもよい。
【０１０９】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、フルオロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基等が挙げられる。またポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、これらのその他の単量体に基づく単量体単位は、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、本発明の感光性樹脂組成物から形成される塗膜の耐熱性を向上させるので好ましい。
【０１１０】
含フッ素樹脂において、その他の単量体に基づく単量体単位の割合は８０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１１１】
本発明における含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物及び／又は酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法によっても得られる。
【０１１２】
反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１１３】
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【０１１４】
Ｒｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物としては、下記式３で表される化合物が挙げられる。
【０１１５】
ＨＯＯＣ−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式３
式３中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１１６】
Ｒｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式４で表される化合物が挙げられる。
【０１１７】
ＨＯＣＨ２−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式４
式４中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１１８】
反応部位を有する重合体に酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１１９】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１２０】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２１】
酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水３−メチルフタル酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。
【０１２２】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
【０１２３】
水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であれば良く、前記に示した水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に１個の水酸基を有する化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２４】
含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。
【０１２５】
含フッ素樹脂の配合量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対し、０．０１〜５０％が好ましく、０．１〜３０％がより好ましく、０．２〜１０％が特に好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物は良好な撥インク性、インク転落性を奏し、現像性が良好となる。
【０１２６】
（２）離画壁の上面に撥水層を設ける方法
離画壁の上面に撥水層を設けることにより、離画壁上面を撥水処理することができる。該撥水層は、例えば、以下のようにして形成可能である。
離画壁の形成された基板の、該離画壁が形成された側に露光部が現像工程で除去される感光性樹脂層およびシリコ−ンゴム層をこの順に積層し、該離画壁をマスクとして基板の離画壁が形成された側とは反対側から照射ＵＶ光を散乱させる露光および現像を行うことにより離画壁が形成された部位に合致したシリコ−ンゴムからなる撥水層を形成することができる。
離画壁をマスクとし、さらに照射ＵＶ光を散乱させて入射光を透過部位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させて、光反応して可溶化する樹脂の部分をシリコーンゴム表層側の方が大きくなる様にする。この様に露光した後、n-ヘプタン／エタノ−ル混合液で現像してシリコ−ンゴム層を有する離画壁を作製できる。
【０１２７】
シリコ−ンゴム層は、後述する着色液体組成物に対して反発効果を有することが必須であり、これに限定されるものではないが、次の様な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１２８】
【化１】
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【０１２９】
ここでn は２以上の整数、Ｒは炭素数 1〜10のアルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することによりシリコ−ンゴムが得られる。架橋剤は、いわゆる室温（低温）硬化型のシリコ−ンゴムに使われるアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシランなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコ−ンゴムとなる。また、シリコ−ンゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物などが添加される。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層の接着のために感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層との間に接着層として種々のものを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が好ましい。感光性樹脂層とシリコ−ンゴム層間に接着層を設ける代わりにシリコ−ンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としてもアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が使用できる。
【０１３０】
感光性樹脂層の組成物は、露光部が変化して可溶化するタイプである。露光部が変化して可溶化する性質を有する感光性樹脂層の組成物としては、LSI の製造に用いられるポジ型レジストがある。ポジ型レジストとしては例えばクレゾ−ルノボラック樹脂にナフトキノンジアジド化合物を配合したものであり市販のレジストをそのまま利用することもできる。
【０１３１】
（３）、離画壁上面をプラズマ処理して撥水性を付与する方法
離画壁の上面をプラズマ処理することにより、離画壁上面に撥水性を付与することができる。本発明においては、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行うプラズマ処理が好ましく用いられる。
【０１３２】
該プラズマ処理において導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ 4 、ＣＨＦ 3 、Ｃ 2 Ｆ 6 、ＳＦ 6 、Ｃ 3 Ｆ 8 、Ｃ 5 Ｆ 8 から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ 5 Ｆ 8 （オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ 4 ：５万年、Ｃ 4 Ｆ 8 ：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ 2 ＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ 4 ：６５００、Ｃ 4 Ｆ 8 ：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【０１３３】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ 4 、ＣＨＦ 3 、Ｃ 2 Ｆ 6 、ＳＦ 6 、Ｃ 3 Ｆ 8 、Ｃ 5 Ｆ 8 から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ 2 との混合ガスを用いると、本工程において処理される離画壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ 2 の混合比率が３０％を超えるとＯ 2 による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ 2 混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ 2 の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【０１３４】
また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。
【０１３５】
尚、該プラズマ処理に先立って、ドライエッチング処理を施すことが望ましい。即ち、酸素、アルゴン、ヘリウムのうちから選択される少なくとも一種を含むガスを導入し、減圧雰囲気下或いは大気圧雰囲気下で離画壁にプラズマ照射を行う減圧プラズマ処理や大気圧プラズマ処理を行うことで、離画壁の形成工程において基板表面に付着した汚染物を除去し、離画壁の開口部内で後述する着色液体組成物を良好に拡散させることができるようになる。
【０１３６】
（４）離画壁上面に撥水材料を塗布する方法
離画壁の上面に撥水材料を塗布することにより、離画壁上面に撥水性を付与することができる。
撥水材料としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥水材料と考えられるもので後述の着色液体組成物に対する接触角が６０°以上のものであれば特に限定されるものではない。
【０１３７】
撥水材料の塗布の方法としては基板、離画壁に影響を及ぼさない方法であれば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。
【０１３８】
次に、離画壁の形成された基板の、該離画壁が形成された側とは反対側から離画壁を介してＵＶＯ3 処理を行い、離画壁以外の部分の撥水材料からなる撥水膜を選択的に除去または親水化処理（後述の着色液体組成物に対する接触角が処理前後で３０°以上の開きがある）する。
【０１３９】
撥水材料を除去または親水化処理することが可能ならば、パターニングの方法はレーザーアブレーション、プラズマアッシング、コロナ放電処理等のドライ処理およびアルカリを用いたウェット処理等材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。また、感光性樹脂層上に撥水材料をパターン形成することが可能であればリフトオフ法等も有効である。
【０１４０】
（１）〜（４）の撥水処理方法の中でも、「薄膜」という観点から（３）プラズマによる撥水処理方法が好ましく、離画壁の上面をより撥水化できる「異方性」という観点から（４）塗布による撥水処理方法が好ましい。
【０１４１】
［カラーフィルタの製造方法］
（各画素の形成）
本発明のカラーフィルタは、基板上に本発明の離画壁と２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群とを有するカラーフィルタであって、前記複数の画素が、前記離画壁を形成した後、着色液体組成物（以下、インクと称することがある。）の液滴を付与することにより形成されたものである。本発明のカラーフィルタは、基板上に本発明の離画壁を形成後に、２色以上の色を有する複数の画素からなる画素群を形成するカラーフィルタの製造方法であって、前記複数の画素を着色液体組成物の液滴を付与することにより形成する本発明のカラーフィルタの製造方法により製造できる。
即ち、前記現像工程にて基板上に形成された離画壁間の空隙に対し、２色以上の画素（例えば、ＲＧＢ各画素）を形成する為の着色液体組成物を液滴付与することにより離画壁の空隙に着色液体組成物を侵入させて２色以上の色を有する複数の画素を形成する。
この着色液体組成物を離画壁空隙に侵入させる方法としては、インクジェット法やストライプギーサー塗布法など公知のものを使用することができ、インクジェット法がコスト的に好ましい。
また、このように各画素を形成する前に、離画壁の形状を固定化してもよく、その手段は特に限定されないが以下のようなものが挙げられる。
すなわち、１）現像後、再露光を行う（ポスト露光と呼ぶことがある）、２）現像後、比較的低い温度で加熱処理を行う等である。ここで言う加熱処理とは離画壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射するということをさす。
【０１４２】
ここで、上記１）を行う場合の露光量は、大気下であれば５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１０００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であり、貧酸素雰囲気下である場合にはそれより低い露光量で露光することも可能である。また、同じく２）を行う場合の加熱温度は５０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃程度であり、その加熱時間は、１０〜４０分程度である。温度が５０℃より低い場合には離画壁の硬化が進まない懸念があり、１２０℃より大きい場合には離画壁形状が崩れてしまう懸念がある。
【０１４３】
各画素形成のために用いるインクジェット法に関しては、インクを熱硬化させる方法、光硬化させる方法、あらかじめ基板上に透明な受像層を形成しておいてから打滴する方法など、公知の方法を用いることができる。
【０１４４】
好ましくは、各画素を形成した後、加熱処理（いわゆるベーク処理）する加熱工程を設ける。即ち、光照射により光重合した層を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、感光性樹脂組成物の組成や形成された層の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【０１４５】
このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
【０１４６】
（インクジェット方式）
本発明に用いるインクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開平１０−１９５３５８号公報［０００９］〜［００２６］に記載のインクジェット用組成物を使用することもできる。
本発明におけるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、上述の感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１４７】
また、本発明において用いることができるインクとしては、少なくともバインダー、及び、２官能乃至３官能のエポキシ基含有モノマーを含有するカラーフィルタ用熱硬化性インクも好適なものとして用いることができる。
【０１４８】
本発明におけるカラーフィルタは、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであることが好ましく、ＲＧＢ３色のインクを吹き付けて３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。
このカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０１４９】
＜表示装置＞
本発明の表示装置は、本発明のカラーフィルタを有する物であれば特に限定されるものではない。
本発明の表示装置としては、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１５０】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明の離画壁はこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０１５１】
［対象用途］
本発明は、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
【実施例】
【０１５２】
以下に、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、「分子量」とは「重量平均分子量」のことを示す。
【０１５３】
［感光性樹脂組成物の製法］
感光性樹脂組成物は、まず下記感光性樹脂組成物処方に記載の量のカーボンブラック分散液、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、メチルエチルケトン、バインダーＰ−１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。
【０１５４】
＜感光性樹脂組成物処方＞
・カーボンブラック分散液（カーボンブラックの粒径２０ｎｍ）        ２３部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ８．０部
・メチルエチルケトン                                              ５３部
・バインダーＰ−１                                              ９．１部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル                          ０．００２部
・ＤＰＨＡ液                                                    ４．５部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン              ０．１６部
・界面活性剤１                                              ０．０５５部
【０１５５】
＜カーボンブラック分散液＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）            １３．１％
・分散剤（下記参照）                                          ０．８０％
【０１５６】
【化２】
2007133171.tif 000004
【０１５７】
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                        ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ７９．３８％
【０１５８】
＜バインダーＰ−１＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                            ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ７３％
【０１５９】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                                                      ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                ２４％
【０１６０】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                    ３０％
・メチルエチルケトン                                              ７０％
【０１６１】
【化３】
2007133171.tif 000005
【０１６２】
［実施例１］
（離画壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、感光性樹脂組成物を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の１部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．２μｍの感光性樹脂組成物層を得た。
【０１６３】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。なお露光は、窒素パージして窒素雰囲気下で行った。このときの酸素分圧（飯島電子工業製酸素計  Ｇ−１０２型を用いて測定）は０．０１気圧であった。
【０１６４】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン性界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍希釈したもの（使用時のｐＨは１１〜１２）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、引き続き２２０℃で３０分間熱処理して離画壁を得た。
【０１６５】
〔撥水化処理〕
離画壁を形成した上記ガラス基板（離画壁付き基板）に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にてプラズマ照射を行い、ドライエッチング処理を施した。
【０１６６】
使用ガス ：Ｏ 2 ガス流量 ：８０ｓｃｃｍ
圧力 ：８Ｐａ
ＲＦパワー ：１５０Ｗ
処理時間 ：３０ｓｅｃ
【０１６７】
上記ドライエッチング処理終了後、同じ装置内で、離画壁付き基板に対して、以下の条件にてさらにプラズマ処理を施した。
【０１６８】
使用ガス ：ＣＦ 4 ガス流量 ：８０ｓｃｃｍ
圧力 ：４０Ｐａ
ＲＦパワー ：５０Ｗ
処理時間 ：３０ｓｅｃ
【０１６９】
（画素形成）
次いで、インクジェット装置を用いＲ、Ｇ、Ｂそれぞれのインクをブラックマトリックスパターン様離画壁の間隙に付与して着色した。
このインクは、下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得、その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、Ｒ（赤色）インクを調製した。
〈Ｒインクの組成〉
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                            ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００）            １部
・バインダー（グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体）          ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、油化シェル社製エピコート１５４）
２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）    ５部
・硬化剤（トリメリット酸）                                          ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                            ８０部
【０１７０】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかはＲインクの場合と同様にしてＧ（緑色）インクを調製した。さらに、下記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかはＲインクの場合と同様にしてＢ（青色）インクを調製した。
画素着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで、離画壁（ブラックマトリックス）、各画素共に完全に硬化させて、カラーフィルタを得た。
【０１７１】
＜離画壁上面の接触角の測定＞
上述のようにして得られたカラーフィルタの離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を図３を用いて説明する。図３は、離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を説明するための図であり、（ａ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す平面図を示し、（ｂ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す断面図を示す。図３に示すように離画壁上面に液滴の一部がかかるようにして、蒸留水をカラーフィルタ上に滴下する。この液滴について光学顕微鏡写真を撮影して、該写真から離画壁上面部分の２５℃における蒸留水の接触角θを求めた。
【０１７２】
＜離画壁断面のｈ、ｒ、ｘ及びｙの測定＞
得られたカラーフィルタを基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、走査型電子顕微鏡で撮影（倍率２００００倍）した。この電子顕微鏡写真から離画壁断面のｈ、ｒ、ｘ及びｙを測定した。測定はランダムに選んだ離画壁断面１０点について行い、それらの値を平均した。
測定されたθ、ｈ、ｒ、ｘ及びｙを用いて算出したθ／（ｒ／ｈ）値及びｘ／ｙ値を表１に示す。
【０１７３】
（画素間の混色評価）
得られたカラーフィルタを２００倍の光学顕微鏡で目視観察して画素間の混色の有無を調べた。１０００画素観察して下記のランクに分けた。結果を表１に示す。許容されるのはＡランクとＢランクのものである。
Ａランク：混色が全くないもの
Ｂランク：混色が１〜２箇所のもの
Ｃランク：混色が３〜１０箇所のもの
Ｄランク：混色が１１箇所以上のもの
【０１７４】
［実施例２］
実施例１において、ガラス基板上に形成された感光性樹脂組成物層の上に下記の酸素遮断層を設けることと、感光性樹脂組成物層の露光の際に窒素パージを行わないこと以外は、実施例１と同様にして実施してカラーフィルタを得、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１７５】
（酸素遮断層の形成）
感光性樹脂組成物層の上に、下記酸素遮断層を乾燥膜厚が１．６μｍになるよう塗布して１００℃で３分間乾燥した。なお塗布方法は感光性樹脂組成物層と同じである。
＜酸素遮断層用処方＞
・ポリビニルアルコール                                        ３２．２部
（ＰＶＡ２０５（鹸化率＝８８％）；（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン                                        １４．９部
（ＰＶＰ、Ｋ−３０；アイエスピー・ジャパン社製）
・メタノール                                                    ４２９部
・蒸留水                                                        ５２４部
【０１７６】
［実施例３］
（感光性転写材料−１の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて感光性樹脂組成物を塗布して、１００℃で３分間乾燥して乾燥膜厚が２．２μｍの感光性樹脂組成物層を設け、この上に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着して、感光性転写材料−１を得た。
【０１７７】
（離画壁の形成）
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０１７８】
感光性転写材料−１の保護フイルムを剥離後、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。なお露光は窒素パージして窒素雰囲気下で行った。このときの酸素分圧は０．０２気圧であった。
【０１７９】
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム株式会社製）を５倍希釈したもの（使用時のｐＨは１０．２）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂組成物層を現像しパターニング画素を得た。
その後更に、該基板に対して感光性樹脂組成物層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ２の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理し、離画壁を得た。
この後、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作成し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１８０】
［実施例４］
（感光性転写材料−２の作製）
実施例３において、仮支持体と感光性樹脂組成物層との間に仮支持体から近い順に下記熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断層）を設ける以外は、実施例３と同様にして行い感光性転写材料−２を得た。
【０１８１】
（熱可塑性樹脂層の形成）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて下記熱可塑性樹脂層塗布液を乾燥膜厚が３μｍになるよう塗布して１００℃で３分間乾燥した。
＜熱可塑性樹脂層用塗布液処方＞
・メタノール                                                  １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ６．４部
・メチルエチルケトン                                          ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                                ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                            １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                                                  ９．１部
・前記界面活性剤１                                            ０．５４部
・メチルエチルケトン                                              ７０部
【０１８２】
（酸素遮断層の形成）
前述の熱可塑性樹脂層の上にスリット状ノズルを用いて下記酸素遮断層用塗布液を乾燥膜厚が１．６μｍになるよう塗布して１００℃で３分間乾燥した。
＜酸素遮断層用塗布液処方＞
・ポリビニルアルコール                                        ３２．２部
（ＰＶＡ２０５（鹸化率＝８８％）；（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン                                        １４．９部
（ＰＶＰ、Ｋ−３０；アイエスピー・ジャパン社製）
・メタノール                                                    ４２９部
・蒸留水                                                        ５２４部
【０１８３】
（離画壁の形成）
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０１８４】
感光性転写材料−２の保護フイルムを剥離後、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン性界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム製）を１０倍希釈したもの（使用時のｐＨは１１）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断層を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン性界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム製）を５倍希釈したもの（使用時のｐＨは１０．２）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂組成物層を現像しパターニング画素を得た。
【０１８５】
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム製）」を用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、離画壁パターンを得た。
その後更に、該基板に対して感光性樹脂組成物層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ２の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理し、離画壁を得た。
この後、実施例１と同様にカラーフィルタを作成し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１８６】
［実施例５］
実施例１において、露光時に空気と窒素の混合気体によりパージして酸素分圧０．０８気圧にすることと、現像条件を下記のように変更すること以外は、実施例１と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン性界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）を５倍希釈したもの（使用時のｐＨは１０．２）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．１０ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行った。
【０１８７】
［実施例６］
実施例３において、露光時に空気と窒素の混合気体によりパージして酸素分圧０．０８気圧にすることと、現像条件を下記のように変更すること以外は、実施例３と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン性界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム製）を５倍希釈したもの（使用時のｐＨは１０．２）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．２２ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂組成物層を現像しパターニングした。
【０１８８】
［実施例７］
離画壁の高さを２．７μｍとした以外は、実施例４と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１８９】
［実施例８］
離画壁の高さを３．３μｍとした以外は、実施例４と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１９０】
［実施例９］
離画壁の高さを４．５μｍとし、プラズマ照射による撥水化処理の代わりに下記撥水化処理を行った以外は、実施例４と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１９１】
〔撥水化処理〕
離画壁の形成されたガラス基板（コーニング社製、７０５９）上に、あらかじめフッ素系界面活性剤（住友３Ｍ社製、フロラードＦＣ−４３０）が０．５％（感光性樹脂の固形分に対して）内添してあるアルカリ可溶の感光性樹脂（ヘキストシャパン社製、ポジ型フォトレジストＡＺＰ４２１０）を膜厚２μｍとなるようにスピンコートし、温風循環乾燥機中で９０℃、３０分間のプレベークを行った。
【０１９２】
次いで、１１０ｍＪ／ｃｍ 2 （３８ｍＷ／ｃｍ 2 ×２．９秒）の露光量で離画壁の形成されたガラス基板の該離画壁が形成された側とは反対側から該離画壁を介して露光し、無機アルカリ現像液（ヘキストジャパン社製、ＡＺ４００Ｋデベロッパー、１：４）中に８０秒間浸漬揺動した後、純水中で３０〜６０秒間リンス処理を行い、離画壁上に撥水性樹脂層を形成することにより撥水化処理を行った。撥水性樹脂層形成後の画素内外の表面エネルギーは、画素外（離画壁上面）が１０〜１５ｄｙｎｅ／ｃｍ、画素内（ガラス基板上）は５５ｄｙｎｅ／ｃｍ前後であった。
【０１９３】
［比較例１］
実施例１において、撥水処理及び窒素パージを行わずに露光する以外は実施例１と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１９４】
【表１】
2007133171.tif 000006
【０１９５】
表１から明らかな通り、θ／（ｒ／ｈ）が２０００未満である比較例１は、画素面状が不良となり、混色も認められたが、実施例１〜９のいずれにおいても、画素面状及び混色共に良好であった。
【０１９６】
［実施例１０］
実施例１〜９、比較例１で得られたカラーフィルタを用い、下記のようにして液晶表示装置を作成した。
【０１９７】
（ＩＴＯの形成）
前記カラーフィルタ上に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）をスパッタリングにより形成して、ＩＴＯ透明電極基板を得た。
【０１９８】
（スペーサの形成）
特開２００４−２４０３３５号公報の［実施例１］に記載のスペーサ形成方法と同様の方法で、上記で作製したＩＴＯ透明電極上にスペーサを形成した。
【０１９９】
（液晶配向制御用突起の形成）
下記のポジ型感光性樹脂層用塗布液を用いて、前記スペーサを形成したＩＴＯ透明電極上に液晶配向制御用突起を形成した。
但し、露光、現像、及び、ベーク工程は、以下の方法を用いた。
所定のフォトマスクが感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティ露光機（日立電子エンジニアリング株式会社製）を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティ露光した。
続いて、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像した。こうして、感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去することにより、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる液晶配向制御用突起が形成された液晶表示装置用基板を得た。
次いで、該液晶配向制御用突起が形成された液晶表示装置用基板を２３０℃下で３０分ベークすることにより、液晶表示装置用基板上に硬化された液晶配向制御用突起を形成した。
【０２００】
＜ポジ型感光性樹脂層用塗布液処方＞
・ポジ型レジスト液（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＦＨ−２４１３Ｆ）                                                        ５３．３部
・メチルエチルケトン                                          ４６．７部
・メガファックＦ−７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製）    ０．０４部
【０２０１】
（液晶表示装置の作成）
上記で得られた液晶表示装置用基板を用いて、特開平１１−２４２２４３号公報の第一実施例［００７９］〜［００８２］に記載の方法を用いて、液晶表示装置１〜１０を作製した。
【０２０２】
（評価）
得られた液晶表示装置１〜１０を白表示した場合、及び、黒表示した場合の表示品位を目視で観察した。結果を表２に示した。
【０２０３】
【表２】
2007133171.tif 000007
【０２０４】
表２から明らかとおり、実施例１〜９で作成したカラーフィルタを備えた液晶表示装置の画面は、いずれも混色が無く良好な画面であった。比較例１で作製したカラーフィルタを備えた液晶表示装置１０は、白表示、黒表示状態共に、やや赤味かかった表示であり、表示品位が劣るものであった。
【図面の簡単な説明】
【０２０５】
【図１】本発明の離画壁を説明するための模式断面図である。
【図２】基板上に設けられた離画壁の断面斜視図である。
【図３】実施例において離画壁上面の２５℃における蒸留水の接触角の測定方法を説明するための図であり、（ａ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す平面図を示し、（ｂ）はカラーフィルタ上に蒸留水を滴下した状態を表す断面図を示す。
【符号の説明】
【０２０６】
１０  離画壁
１２  外縁
２０  基板
【図１】
2007133171.tif 000008
【図２】
2007133171.tif 000009
【図３】
2007133171.tif 000010