(57)【要約】      （修正有）【課題】パターン形成領域を広くした状態で基板を精度良く搬送することのできる基板搬送装置を提供すること。【解決手段】  基板３２を支持可能なように基板支持機構２５−１と基板支持機構２５−２とを対向させて配置させ、基板支持機構２５−１の第２の回転軸２７−１に基板３２の端面３２Ｃと接触する位置規制用ローラ３０−１と、基板支持機構２５−２の第２の回転軸２７−２に基板３２の端面３２Ｄと接触する位置規制用ローラ３０−２とを設けた。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回転軸に設けられた第１のローラと、第２の回転軸に設けられ、前記第１のローラの鉛直方向に配置された第２のローラとを有し、前記第１のローラと第２のローラとの間で基板を搬送可能に支持する基板支持機構を備え、
前記基板支持機構を前記基板の搬送方向に直交する方向に対向させて配置すると共に、前記対向する基板支持機構を前記基板の搬送方向に対して複数備えた基板搬送装置であって、
前記第１及び第２の回転軸のいずれか一方に、前記基板の搬送方向と平行な側の前記基板の端面と接触する基板位置規制手段を設けたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記基板位置規制手段は、前記第１及び第２のローラの前記基板の中心側とは反対側に設けることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記第１のローラは、前記基板の中心側に位置する第１のローラの面と前記第１の回転軸の端面とが略面一となるように設け、
前記第２のローラは、前記基板の中心側に位置する前記第２のローラの面と前記第２の回転軸の端面とが略面一となるように設けたことを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板位置規制手段は、前記第１及び第２のローラよりも直径の大きいローラであることを特徴とする請求項１〜３のうち、いずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板の端面と接触する前記ローラの角部は、面取りされていることを特徴とする請求項４記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記第１及び第２のローラの回転方向は、前記基板の搬送方向に対して外側へ向けられていることを特徴とする請求項１〜５のうち、いずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記基板の中心付近に前記基板の裏面を支持する支持ローラをさらに設けたことを特徴とする請求項１〜６のうち、いずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記対向する基板支持機構は、前記基板を傾斜させた状態で前記基板を搬送可能に支持することを特徴とする請求項１〜７のうち、いずれか一項記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置に係り、特に半導体ウエハ、ガラス基板、プリント基板等の各種基板の両面を支持しながら基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ、ガラス基板、プリント基板等の基板の表面又は両面にパターンを形成して製品を製造する場合には、上記基板を搬送する基板搬送装置が用いられる。基板搬送装置は、例えば、めっき工程や、エッチング工程や、洗浄工程等で使用される。
【０００３】
また、基板搬送装置には、基板の両面を支持しながら基板を搬送するものがあり、このような基板搬送装置は、スプレーノズルから噴射された処理液を基板に吹き付ける洗浄装置やエッチング装置等に適用される（図１及び図２参照）。
【０００４】
図１は、従来の基板搬送装置の平面図であり、図２は、図１に示した基板搬送装置をＡ視した図である。図１において、Ｂは基板１０２の搬送方向（以下、「搬送方向Ｂ」とする）を示している。また、図２において、Ｄ１，Ｄ２は基板１０２を搬送するために必要なクランプ領域（以下、「クランプ領域Ｄ１，Ｄ２」とする）、Ｅはパターンを形成することが可能な基板１０２の領域（以下、「パターン形成領域Ｅ」とする）をそれぞれ示している。なお、クランプ領域Ｄ１，Ｄ２とは、基板搬送装置１００が基板１０２を支持するための領域であり、この領域にはパターンを形成することができない。
【０００５】
図１及び図２を参照するに、基板搬送装置１００は、第１の基板支持搬送手段１０５−１と、第２の基板支持搬送手段１０５−２とを有する。第１の基板支持搬送手段１０５−１は、基板１０２の搬送方向Ｂに沿って設けられた複数の基板支持機構１０１Ａを有する。第２の基板支持搬送手段１０５−２は、基板１０２の搬送方向Ｂに沿って設けられた複数の基板支持機構１０１Ｂを有する。第１及び第２の基板支持搬送手段１０５−１，１０５−２は、基板支持機構１０１Ａと基板支持機構１０１Ｂとが対向するように配置されている。
【０００６】
基板支持機構１０１Ａは、回転軸１０３，１０６と、上部ローラ１０４と、下部ローラ１０７と、回転軸１０３，１０６を回転させる駆動手段（図示せず）とを有する。
【０００７】
回転軸１０３は、基板１０２の搬送方向Ｂと直交する方向と回転軸１０３の軸線方向とが所定の角度αを形成するように配置されている。上部ローラ１０４は、基板１０２の表面１０２Ａと接触するローラであり、回転軸１０３に設けられている。上部ローラ１０４は、上部ローラ１０４の回転方向が基板１０２の搬送方向Ｂに対して外側へ向くように配置されている。上部ローラ１０４の回転方向は、基板１０２の搬送方向Ｂと所定の角度αを形成している。
【０００８】
回転軸１０６は、回転軸１０３の下方に設けられており、基板１０２の搬送方向Ｂと直交する方向と回転軸１０６の軸線方向とが所定の角度αを形成している。
【０００９】
下部ローラ１０７は、上部ローラ１０４と対向するように回転軸１０６に設けられている。下部ローラ１０７の回転方向は、基板１０２の搬送方向Ｂに対して外側へ向けられている。下部ローラ１０７の回転方向は、基板１０２の搬送方向Ｂと所定の角度αを形成している。下部ローラ１０７は、基板１０２の裏面１０２Ｂと接触するローラであり、上部ローラ１０４と共に基板１０２を搬送する。また、基板支持機構１０１Ｂは、基板支持機構１０１Ａと同様な構成とされている。
【００１０】
このような構成とされた基板搬送装置１００では、上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７が基板１０２のパターン形成領域Ｅと接触しないため、上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７により基板１０２に形成された微細なパターンが損傷することを防止できる。
【００１１】
また、上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７の回転方向を基板１０２の搬送方向Ｂに対して外側へ向けることにより、基板１０２の中心から基板１０２の外側へ向かう方向に引張り力を発生させて、基板１０２の撓みを防止することができる（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特表２００５−５０８８１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、従来の基板搬送装置１００では、基板支持機構１０１Ａ，１０１Ｂに設けられた上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７の引張り力の差により、基板１０２が蛇行して搬送されてしまう（この現象は、所定の角度αが大きくなればなるほど顕著となる）ため、基板１０２の落下を防ぐために、クランプ領域Ｄ１，Ｄ２の幅を大きくする必要があった。
【００１３】
これにより、製品が製造されるパターン形成領域Ｅの面積が小さくなってしまうという問題があった。なお、基板搬送装置１００では、基板１０２を落下させないで搬送するために、クランプ領域Ｄ１，Ｄ２の幅がそれぞれ１５ｍｍ以上必要であった。
【００１４】
このクランプ領域Ｄ１，Ｄ２を少なくしようとして所定の角度αを小さくすると、引張り力が小さくなり、基板１０２の落下につながる。そこで、基板１０２をしっかり支持するために上部ローラ１０４と下部ローラ１０７の材質をセラミックや金属にすることが考えられる。しかし、上部ローラ１０４と下部ローラ１０７の材質をセラミックや金属にした場合、上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７と接触した基板１０２の表面に傷が発生してしまうという問題があった。
【００１５】
また、基板搬送装置１００の長さが長くなるほど、基板１０２の蛇行が大きくなるため、所定の角度αの調節が難しくなる。さらに、所定の角度αを大きくすると基板１０２の蛇行が大きくなるため、上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７から基板１０２が脱輪して落下してしまう。また、所定の角度αを小さくすると引張り力が小さくなるため、基板１０２の中央部が撓み基板１０２が上部ローラ１０４及び下部ローラ１０７から脱輪して落下してしまう。
【００１６】
そこで本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、パターン形成領域を広くした状態で基板を精度良く搬送することのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の一観点によれば、第１の回転軸に設けられた第１のローラと、第２の回転軸に設けられ、前記第１のローラの鉛直方向に配置された第２のローラとを有し、前記第１のローラと第２のローラとの間で基板を搬送可能に支持する基板支持機構を備え、前記基板支持機構を前記基板の搬送方向に直交する方向に対向させて配置すると共に、前記対向する基板支持機構を前記基板の搬送方向に対して複数備えた基板搬送装置であって、前記第１及び第２の回転軸のいずれか一方に、前記基板の搬送方向と平行な側の前記基板の端面と接触する基板位置規制手段を設けたことを特徴とする基板搬送装置が提供される。
【００１８】
本発明によれば、第１及び第２の回転軸のいずれか一方に、搬送方向と平行な側の基板の端面と接触する基板位置規制手段を設けたことにより、基板の位置が規制されるので、従来よりも第１及び第２のローラを基板の端面側に設けることが可能となる。これにより、製品が製造されるパターン形成領域を広くした状態で基板を精度良く搬送することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、パターン形成領域を広くした状態で基板を精度良く搬送することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。
【００２１】
図３は、本発明の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図であり、図４は、図３に示した基板搬送装置の断面図である。図３において、Ｇは基板３２の搬送方向（以下、「搬送方向Ｇ」とする）、Ｋ−１は第２の回転軸２７−１の軸線方向（以下、「軸線方向Ｋ−１」とする）、Ｋ−２は第２の回転軸２７−２の軸線方向（以下、「軸線方向Ｋ−２」とする）をそれぞれ示している。また、図３において、
Ｎは基板３２の中心（以下、「中心Ｎ」とする）、Ｍ１は第２のローラ２９−１の回転方向（以下、「回転方向Ｍ１」とする）、Ｍ２は第２のローラ２９−２の回転方向（以下、「回転方向Ｍ２」とする）をそれぞれ示している。
【００２２】
図３及び図４を参照するに、基板搬送装置１０は、第１の基板支持搬送手段１１−１と、第２の基板支持搬送手段１１−２とを有する。第１及び第２の基板支持搬送手段１１−１，１１−２は、第１の基板支持搬送手段１１−１に設けられた基板支持機構２５−１と、第２の基板支持搬送手段１１−２に設けられた基板支持機構２５−２とが対向するように配置されている。
【００２３】
第１及び第２の基板支持搬送手段１１−１，１１−２は、略同一構成とされている。よって、図３及び図４において、図中左側に配置された第１の基板支持搬送手段１１−１の構成要素には符号−１を付し、右側に配置された第２の基板支持搬送手段１１−２の構成要素には符号−２を付して、主に第１の基板支持搬送手段１１−１について説明する。
【００２４】
第１の基板支持搬送手段１１−１は、筐体１２−１と、駆動装置１３−１と、駆動軸１５−１と、傘歯車１６−１，１７−１と、軸受けトラバース１８−１，１９−１と、下部歯車２１−１と、上部歯車２２−１と、複数の基板支持機構２５−１とを有する。
【００２５】
筐体１２−１は、駆動装置１３−１、駆動軸１５−１、傘歯車１６−１，１７−１、下部歯車２１−１、上部歯車２２−１、軸受けトラバース１８−１，１９−１、及び後述する第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１を収容している。
【００２６】
駆動装置１３−１は、筐体１２−１の底部１２Ａ−１上に設けられており、駆動軸１５−１と接続されている。駆動装置１３−１は、駆動軸１５−１を回転させるためのものである。駆動軸１５−１は、基板３２の搬送方向Ｇに延在するよう筐体１２−１内に設けられており、駆動装置１３−１と接続されている。
【００２７】
傘歯車１６−１は、駆動軸１５−１に所定の配設ピッチで複数設けられている。傘歯車１６−１は、第１の回転軸２６−１に設けられた傘歯車１７−１と接続されている。傘歯車１６−１は、駆動軸１５−１が回転した際、駆動軸１５−１と共に回転することにより、駆動軸１５−１の回転運動を傘歯車１７−１に伝達するためのものである。
【００２８】
傘歯車１７−１は、駆動軸１５−１側に位置する第１の回転軸２６−１の端部に設けられており、傘歯車１６−１と接続されている。傘歯車１７−１は、傘歯車１６−１から伝達された回転運動により、第１の回転軸２６−１を回転させる。
【００２９】
軸受けトラバース１８−１は、傘歯車１７−１と下部歯車２１−１の間に位置する筐体１２−１の底部１２Ａ−１上に設けられている。軸受けトラバース１９−１は、下部歯車２１−１の右側（図４参照）に位置する筐体１２−１の底部１２Ａ−１上に設けられている。
【００３０】
軸受けトラバース１８−１，１９−１は、第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１を通過させるためのスリット（図示せず）を有する。軸受けトラバース１８−１，１９−１は、第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１のそれぞれの軸線方向と基板３２の搬送方向Ｇと直交する方向が形成する角度が所定の角度θとなるように第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１の位置を調整するためのものである。この調整は、基板３２の搬送方向Ｇに対して軸受けトラバース１８−１，１９−１を互いにずらすことで行なう。
【００３１】
下部歯車２１−１は、軸受けトラバース１８−１，１９−１間に位置する第１の回転軸２６−１に設けられている。下部歯車２１−１は、上部歯車２２−１と接続されている。下部歯車２１−１は、第１の回転軸２６−１が回転させられた際、第１の回転軸２６−１と共に回転して、上部歯車２２−１を回転させる。
【００３２】
上部歯車２２−１は、下部歯車２１−１と対向するように第２の回転軸２７−１に設けられている。上部歯車２２−１は、下部歯車２１−１と接続されており、下部歯車２１−１から伝達された回転運動により第２の回転軸２７−１を回転させる。
【００３３】
図５は、図３に示した基板搬送装置をＦ視した図である。図５において、Ｈはパターンを形成することが可能（製品を形成することが可能）な基板３２の領域（以下、「パターン形成領域Ｈ」とする）、Ｊは基板３２を搬送可能に支持するために必要な領域（以下、「クランプ領域Ｊ」とする）をそれぞれ示している。
【００３４】
次に、図３〜図５を参照して、基板支持機構２５−１について説明する。基板支持機構２５−１は、筐体１２−１から突出した第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１部分に設けられている。支持機構２５−１は、基板３２の搬送方向Ｇに対して複数設けられており、第２の基板支持搬送手段１１−２に設けられた支持機構２５−２と対向するように配置されている。
【００３５】
基板支持機構２５−１は、第１の回転軸２６−１と、第２の回転軸２７−１と、第１のローラ２８−１と、第２のローラ２９−１と、基板位置規制手段である位置規制用ローラ３０−１とを有する。
【００３６】
第１の回転軸２６−１は、筐体１２−１から突出した状態で軸受けトラバース１８−１，１９−１のスリット（図示せず）を通過しており、駆動軸１５−１側に位置する第１の回転軸２６−１の端部は傘歯車１７−１と接続されている。第１の回転軸２６−１は、第１の回転軸２６−１の軸線方向と基板３２の搬送方向Ｇに直交する方向とが所定の角度θを形成するように配置されている（図３参照）。所定の角度θは、基板３２の搬送方向Ｇ側に形成されている。所定の角度θは、０．５°〜５°の範囲で適宜選択することができ、例えば、所定の角度θを２°よりも大きくして、引張り力を大きくした場合でも基板３２は位置規制ローラ３０−１，３０−２により規制されるので基板３２が蛇行することがない。これにより、所定の角度θの調整範囲を大きくすることが可能になると共に、所定の角度θの調整を容易に行なうことができる。
【００３７】
第１の回転軸２６−１は、傘歯車１７−１が回転した際、傘歯車１７−１と共に回転して、第１のローラ２８−１を回転させる。
【００３８】
第２の回転軸２７−１は、筐体１２−１から突出した状態で軸受けトラバース１８−１，１９−１のスリット（図示せず）を通過するように第１の回転軸２６−１の上方に設けられている。第２の回転軸２７−１は、第２の回転軸２７−１の軸線方向Ｋ−１と基板３２の搬送方向Ｇに直交する方向とが所定の角度θを形成するように配置されている。この所定の角度θは、基板３２の搬送方向Ｇ側に形成されており、第１の回転軸２６−１で説明した所定の角度θと略等しい。
【００３９】
第１のローラ２８−１は、第１のローラ２８−１の回転方向が基板３２の搬送方向Ｇに対して外側へ向けられた状態で、第１の回転軸２６−１に設けられている。第１のローラ２８−１の回転方向と基板３２の搬送方向Ｇとの間には、所定の角度θが形成されている。この所定の角度θは、第１の回転軸２６−１で説明した所定の角度θと略等しい。
【００４０】
このように、第１のローラ２８−１の回転方向を基板３２の搬送方向Ｇに対して外側に向けることにより、第１のローラ２８−１が回転した際、基板３２の搬送方向Ｇの外側に引張り力を発生させて、基板３２を撓ませることなく搬送することができる。
【００４１】
図６は、本実施の形態の基板搬送装置を備えた洗浄装置の断面図である。図６において、図５に示した基板搬送装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００４２】
また、基板３２の中心Ｎ側に位置する第１のローラ２８−１の面２８Ｂ−１は、第１の回転軸２６−１の端面２６Ａ−１と略面一とされている（図５参照）。
【００４３】
このように、基板３２の中心Ｎ側に位置する第１のローラ２８−１の面２８Ｂ−１と第１の回転軸２６−１の端面２６Ａ−１とを略面一とすることにより、例えば、図６に示すように、スプレーノズル３６，３７を備えた洗浄装置３５に基板搬送装置１０を適用した場合、パターン形成領域Ｈに対応する基板３２の裏面３２Ｂにむらなく洗浄液３８を供給して洗浄を行なうことが可能となるため、基板３２に製造される製品の歩留まりを向上させることができる。
【００４４】
第１のローラ２８−１は、基板３２の裏面３２Ｂと接触する接触面２８Ａ−１を有する。第１のローラ２８−１は、第１の回転軸２６−１と一体的に回転することで、第２のローラ２９−１と共に、基板３２を搬送方向Ｇに搬送する。
【００４５】
クランプ領域Ｊの幅を従来の１５ｍｍよりも狭い７ｍｍとした場合、第１のローラ２８−１の幅Ｗ１は、例えば、５ｍｍとすることができる。また、第１のローラ２８−１の材料としては、例えば、耐摩耗性の高いゴムを用いることができる。第１のローラ２８−１の材料としてゴムを用いることで、第１のローラ２８−１により基板３２が傷付くことを防止できる。
【００４６】
第２のローラ２９−１は、第２のローラ２９−１の回転方向Ｍ１が基板３２の搬送方向Ｇに対して外側へ向けられた状態で、第２の回転軸２７−１に設けられている。第２のローラ２９−１の回転方向Ｍ１と基板３２の搬送方向Ｇとの間には、所定の角度θが形成されている。この所定の角度θは、第１の回転軸２６−１で説明した所定の角度θと略等しい。
【００４７】
このように、第２のローラ２９−１の回転方向を基板３２の搬送方向Ｇに対して外側に向けることにより、第２のローラ２９−１が回転した際、基板３２の搬送方向Ｇの外側に引張り力を発生させて、基板３２を撓ませることなく搬送することができる。
【００４８】
また、基板３２の中心Ｎ側に位置する第２のローラ２９−１の面２９Ｂ−１は、第２の回転軸２７−１の端面２７Ａ−１と略面一とされている。
【００４９】
このように、基板３２の中心Ｎ側に位置する第２のローラ２９−１の面２９Ｂ−１と第２の回転軸２７−１の端面２７Ａ−１とを略面一とすることにより、例えば、スプレーノズル３６，３７を備えた洗浄装置３５に基板搬送装置１０を適用した場合（図６参照）、パターン形成領域Ｈに対応する基板３２の表面３２Ａにむらなく洗浄液３８を供給して洗浄を行なうことが可能となるため、基板３２に製造される製品の歩留まりを向上させることができる。
【００５０】
第２のローラ２９−１は、基板３２の表面３２Ａと接触する接触面２９Ａ−１を有する。第２のローラ２９−１は、第２の回転軸２７−１と一体的に回転することで、第１のローラ２８−１と共に、基板３２を搬送方向Ｇに搬送する。
【００５１】
クランプ領域Ｊの幅を７ｍｍとした場合、第２のローラ２９−１の幅Ｗ２は、例えば、５ｍｍとすることができる。第２のローラ２９−１の材料としては、例えば、耐摩耗性の高いゴムを用いることができる。第２のローラ２９−１の材料としてゴムを用いることで、第２のローラ２９−１により基板３２が傷付くことを防止できる。
【００５２】
位置規制用ローラ３０−１は、第２のローラ２９−１の基板３２の中心Ｎ側とは反対側に位置する第２の回転軸２７−１に設けられている。位置規制用ローラ３０−１は、基板３２の搬送方向Ｇと平行な側の基板３２の端面３２Ｃと接触して、基板３２の位置を規制するためのものである。位置規制用ローラ３０−１の直径は、第２のローラ２９−１の直径よりも大きくなるように構成されている。
【００５３】
このように、位置規制用ローラ３０−１の直径を第２のローラ２９−１の直径よりも大きくすることにより、基板３２と対向する位置規制用ローラ３０−１の面３０Ａ−１と基板３２の端面３２Ｃを接触させて、搬送方向Ｇと直交する方向における基板３２の位置を規制して、基板３２を精度良く搬送することができる。
【００５４】
また、位置規制用ローラ３０−１で基板３２の位置を規制することにより、従来よりも基板３２の端面３２Ｃ側に第１及び第２のローラ２８−１，２９−１を配置させて、クランプ領域Ｊの幅を小さくして、基板３２上のパターン形成領域Ｈの面積を増加させることができる。これにより、基板１枚当たりの製品の取り数が増加するため、製品の製造コストを低減することができる。クランプ領域Ｊの幅は、例えば、従来の１５ｍｍよりも狭い７ｍｍとすることができる。
【００５５】
また、位置規制用ローラ３０−１は、第２の回転軸２７−１と一体的に回転する構成とされている。このように、位置規制用ローラ３０−１が回転することで、位置規制用ローラ３０−１と接触する基板３２の端面３２Ｃへの負荷を小さくして、基板３２の破損を防止することができる。
【００５６】
さらに、第２のローラ２９−１と対向する位置規制用ローラ３０−１の角部３０Ｂ−１は、面取りがされている。このように、基板３２の端面３２Ｃが接触する側の位置規制用ローラ３０−１の角部３０Ｂ−１を面取りすることで、基板３２が損傷することを防止できる。
【００５７】
クランプ領域Ｊの幅を７ｍｍとした場合、第２のローラ２９−１と位置規制用ローラ３０−１との間隔Ｌは、例えば、２ｍｍとすることができる。また、位置規制用ローラ３０−１の材料としては、ステンレス、セラミック等を用いることができる。位置規制用ローラ３０−１の幅Ｗ３は、例えば、１０ｍｍとすることができる。
【００５８】
第２の基板支持搬送手段１１−２は、上記説明した第１の基板支持搬送手段１１−１と同様な構成とされている。第２の基板支持搬送手段１１−２は、基板支持機構２５−１と対向するように配置された基板支持機構２５−２を複数有する。基板支持機構２５−２に設けられた位置規制用ローラ３０−２は、搬送方向Ｇと平行な側の基板３２の端面３２Ｄ（端面３２Ｃの反対側の端面）と接触しており、基板３２の端面３２Ｄの位置を規制する。
【００５９】
このように、位置規制用ローラ３０−２で基板３２の位置を規制することにより、従来よりも基板３２の端面３２Ｄ側に第１及び第２のローラ２８−２，２９−２を配置させて、クランプ領域Ｊの幅を小さくして、基板３２上のパターン形成領域Ｈの面積を増加させることができる。
【００６０】
位置規制用ローラ３０−２は、位置規制用ローラ３０−１と同様な構成とされており、基板３２の端面３２Ｄと接触する側の位置規制用ローラ３０−２の角部３０Ｂ−２は、面取りされている。
【００６１】
本実施の形態の基板搬送装置によれば、第１及び第２の回転軸２６−１，２６−２，２７−１，２７−２のいずれか一方に、搬送方向Ｇと平行な側の基板３２の端面３２Ｃ，３２Ｄと接触する位置規制用ローラ３０−１，３０−２を設けることにより、搬送方向Ｇと直交する方向に対する基板３２の位置が規制される。これにより、従来よりも基板３２の端面３２Ｃ側に第１及び第２のローラ２８−１，２９−１を配置すると共に、従来よりも基板３２の端面３２Ｄ側に第１及び第２のローラ２８−２，２９−２を配置することが可能となるため、製品が製造されるパターン形成領域Ｈを広くした状態で基板３２を精度良く搬送させることができる。
【００６２】
また、基板３２の端面３２Ｃ、３２Ｄと接触する位置規制用ローラ３０−１，３０−２の角部３０Ｂ−１，３０Ｂ−２を面取りすることにより、基板３２が損傷することを防止できる。
【００６３】
さらに、第１及び第２のローラ２８−１，２８−２，２９−１，２９−２の回転方向を基板３２の搬送方向Ｇに対して外側に向けることにより、第１及び第２のローラ２８−１，２８−２，２９−１，２９−２が回転した際、基板３２の搬送方向Ｇの外側に引張り力を発生させて、基板３２を撓ませることなく搬送することができる。
【００６４】
なお、本実施の形態は、第１及び第２の回転軸２６−１，２６−２，２７−１，２７−２の軸線方向が基板３２の搬送方向Ｇに直交し、第１及び第２のローラ２８−１，２８−２，２９−１，２９−２の回転方向が第１及び第２の回転軸２６−１，２６−２，２７−１，２７−２の軸線方向と直交するように構成された基板搬送装置にも適用可能である。また、第１及び第２のローラ２８−１，２８−２，２９−１，２９−２と位置規制用ローラ３０−１，３０−２とを一体化してもよい。
【００６５】
先に説明した洗浄装置３５（図６参照）を用いて、本実施の形態の基板搬送装置１０の搬送性能について評価を行なった。具体的には、スプレーノズル３６，３７から噴射する洗浄液３８の圧力を０．２０ＭＰａまたは０．２７ＭＰａ、所定の角度θを２°としたときに、基板３２が撓むことなく安定して搬送できるかについて確認を行なった。また、基板３２としては、厚さの異なる基板を複数用意し、その厚さは０．４ｍｍ、０．８〜１．０ｍｍ、及び２．０ｍｍとした。
【００６６】
この評価結果から、基板３２の厚さや洗浄液３８の圧力に依存することなく、基板３２を精度良く搬送できることが確認できた。
【００６７】
図７は、本実施の形態の第１変形例に係る基板搬送装置を示す図である。図７において、本実施の形態の基板搬送装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００６８】
図７を参照するに、基板搬送装置４０は、基板搬送装置１０に設けられた基板支持機構２５−１，２５−２の代わりに基板支持機構４１−１，４１−２を設けた以外は基板搬送装置１０と同様に構成されている。
【００６９】
基板支持機構４１−１は、第１の回転軸２６−１に位置規制用ローラ３０−１を設けた以外は基板支持機構２５−１と同様に構成されている。また、基板支持機構４１−２は、第１の回転軸２６−２に位置規制用ローラ３０−２を設けた以外は基板支持機構２５−２と同様に構成されている。
【００７０】
このように、第１の回転軸２６−１，２６−２に位置規制用ローラ３０−１，３０−２を設けた基板搬送装置４０においても、本実施の形態の基板搬送装置１０と同様な効果を得ることができる。
【００７１】
図８は、本実施の形態の第２変形例に係る基板搬送装置を示す図である。図８において、本実施の形態の基板搬送装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００７２】
図８を参照するに、基板搬送装置４５は、基板搬送装置１０に設けられた基板支持機構２５−２の代わりに基板支持機構４１−２を設けた以外は基板搬送装置１０と同様に構成されている。
【００７３】
このように、第２の回転軸２７−１に位置規制用ローラ３０−１を設け、第１の回転軸２６−２に位置規制用ローラ３０−２を設けた構成とされた基板搬送装置４５においても、本実施の形態の基板搬送装置１０と同様な効果を得ることができる。
【００７４】
また、位置規制用ローラ３０−１，３０−２は、基板３２の端面３２Ｃと接触する領域の面３０Ａ−１と、基板３２の端面３２Ｄと接触する領域の面３０Ａ−２とが対向するように配置されていればよい。この条件を満たすのであれば、位置規制用ローラ３０−１は、第１及び第２の回転軸２６−１，２７−１のどちらに設けてもよく、位置規制用ローラ３０−２についても第１及び第２のローラ２６−２，２７−２のどちらに設けてもよい。
【００７５】
図９は、本実施の形態の第３変形例に係る基板搬送装置を示す図である。図９において、本実施の形態の基板搬送装置１０と同一構成部分には同一符号を付す。
【００７６】
図９を参照するに、基板搬送装置５０は、基板搬送装置１０の構成にさらに回転軸５１と、支持ローラ５２とを設けた構成とされている。回転軸５１は、筐体１２−１と筐体１２−２とを接続するように設けられている。回転軸５１は、基板３２の裏面３２Ｂ側に配置されている。回転軸５１は、図示していない駆動装置により回転させられる。
【００７７】
支持ローラ５２は、基板３２の中心Ｎ付近に位置する回転軸５１に設けられている。支持ローラ５２は、回転軸５１と一体的に回転する構成とされている。支持ローラ５２は、基板３２の裏面３２Ｂを支持するローラである。
【００７８】
このように、基板３２の裏面３２Ｂを支持する支持ローラ５２を設けることにより、基板３２の撓みを抑制することができる。
【００７９】
このような支持ローラ５２を備えた基板搬送装置５０においても、本実施の形態の基板搬送装置１０と同様な効果を得ることができる。また、基板搬送装置５０は、基板３２のサイズが大きく、基板３２の裏面３２Ｂ側に微細な形状のパターン（例えば、孤立した配線パターン等）がない場合に用いるとよい。
【００８０】
なお、支持ローラ５２は、１つの回転軸５１に対して複数設けてもよい。
【００８１】
図１０は、本実施の形態の第４変形例に係る基板搬送装置を示す図である。
【００８２】
図１０を参照するに、基板搬送装置５５は、基板搬送装置１０に設けられた基板支持機構２５−１，２５−２が基板３２を傾斜させた状態で支持するように構成した以外は基板搬送装置１０と同様に構成されている。
【００８３】
このように、基板３２を傾斜させた状態で支持することにより、例えば、先の図６で示した洗浄装置３５に基板搬送装置５５を適用することで、スプレーノズル３６，３７から噴射された洗浄液３８が基板３２の端面３２Ｃ側から端面３２Ｄ側に流れるため、基板３２の表裏面３２Ａ，３２Ｂに洗浄液３８が溜まることを防止できる。
【００８４】
なお、基板搬送装置５５においても、本実施の形態の基板搬送装置１０と同様な効果を得ることができる。
【００８５】
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明は、パターン形成領域を広くした状態で基板を精度良く搬送することのできる基板搬送装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】従来の基板搬送装置の平面図である。
【図２】図１に示した基板搬送装置をＡ視した図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る基板搬送装置の平面図である。
【図４】図３に示した基板搬送装置の断面図である。
【図５】図３に示した基板搬送装置をＦ視した図である。
【図６】本実施の形態の基板搬送装置を備えた洗浄装置の断面図である。
【図７】本実施の形態の第１変形例に係る基板搬送装置を示す図である。
【図８】本実施の形態の第２変形例に係る基板搬送装置を示す図である。
【図９】本実施の形態の第３変形例に係る基板搬送装置を示す図である。
【図１０】本実施の形態の第４変形例に係る基板搬送装置を示す図である。
【符号の説明】
【００８８】
１０，４０，４５，５０，５５  基板搬送装置
１１−１  第１の基板支持搬送手段
１１−２  第２の基板支持搬送手段
１２−１，１２−２  筐体
１２−１Ａ，１２−２Ａ  底部
１３−１，１３−２  駆動装置
１５−１，１５−２  駆動軸
１６−１，１６−２，１７−１，１７−２  傘歯車
１８−１，１８−２，１９−１，１９−２  軸受けトラバース
２１−１，２１−２  下部歯車
２２−１，２２−２  上部歯車
２５−１，２５−２，４１−１，４１−２，４６−１，４６−２  基板支持機構
２６−１，２６−２  第１の回転軸
２６Ａ−１，２７Ａ−１，２６Ａ−２，２７Ａ−２，３２Ｃ，３２Ｄ  端面
２７−１，２７−２  第２の回転軸
２８−１，２８−２  第１のローラ
２８Ａ−１，２９Ａ−１，２８Ａ−２，２９Ａ−２  接触面
２８Ｂ−１，２８Ｂ−２，２９Ｂ−１，２９Ｂ−２，３０Ａ−１，３０Ａ−２  面
２９−１，２９−２  第２のローラ
３０−１，３０−２  位置規制用ローラ
３０Ｂ−１，３０Ｂ−２  角部
３２  基板
３２Ａ  表面
３２Ｂ  裏面
３５  洗浄装置
３６，３７  スプレーノズル
３８  洗浄液
５１  回転軸
５２  支持ローラ
Ｇ  搬送方向
Ｈ  パターン形成領域
Ｊ  クランプ領域
Ｋ−１，Ｋ−２  軸線方向
Ｌ  間隔
Ｍ１，Ｍ２  回転方向
Ｎ  中心
Ｗ１〜Ｗ３  幅
θ  角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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