(57)【要約】      （修正有）【課題】プラズマ還元等の高価な処理装置を使用せず、３００℃以下の熱処理温度で処理するのみで保護剤を分解、除去することができるインク、とくに金属配線用インクの提供。【解決手段】保護剤で安定化された金属ナノコロイドと、ニトロ化合物および／または硝酸塩を含有することを特徴とする金属ナノコロイド系組成物、それを含むインクおよびそれを用いた金属模様の形成方法。金属微粒子の占める割合が金属微粒子と保護剤の合計重量に対して５０重量％以上であり、ニトロ化合物および／または硝酸塩の使用量が保護剤に対して０．０１〜１００重量％であることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
保護剤で安定化された金属ナノコロイドと、ニトロ化合物および／または硝酸塩を含有することを特徴とする金属ナノコロイド系組成物。
【請求項２】
保護剤で安定化された金属ナノコロイドにおいて、金属微粒子の占める割合が金属微粒子と保護剤の合計重量に対して５０重量％以上であり、ニトロ化合物および／または硝酸塩の使用量が保護剤に対して０．０１〜１００重量％である請求項１記載の金属ナノコロイド系組成物。
【請求項３】
請求項１または２記載の金属ナノコロイド系組成物を含有することを特徴とするインク。
【請求項４】
請求項１または２記載の金属ナノコロイド系組成物を含有することを特徴とする金属配線用インク。
【請求項５】
請求項３または４のインクを用いて描画後、１００〜３００℃に加熱することにより、金属模様を形成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護剤で安定化された金属ナノコロイドと、ニトロ化合物および／または硝酸塩の少なくとも１種を含有する組成物、その組成物を含有するインク、とくに金属配線用インク、およびそのインクで配線を描画し、模様（配線を含む）を形成させる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より金属（貴金属・卑金属）は、展性、延性といった加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の優位性を活かして産業用および家庭用電気製品などの分野に多用されてきた。しかし、近年、金属（貴金属・卑金属）をナノサイズまで小さくすると、今までには見られなかった特性が発現することがわかり、新たな分野への応用が期待されている。
特許文献１には、ポリエンポリカルボン酸、そのカルボキシル基における誘導体及びそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有する金属コロイド溶液とその製造法およびそれを用いた導電性被膜の形成方法が開示されている。しかし、膜形成についての記載はあるが、細線化について考慮されていない。
【０００３】
特許文献２には、（チオ）フェノール誘導体の多量体を含む金属コロイド溶液とその製造法およびそれを用いた導電性被膜の形成方法が開示されている。
また特許文献３には、高濃度金属コロイド粒子溶液とその製造方法及び金属性被膜の形成方法について開示されている。しかし、これらの方法では、得られる膜の電気抵抗が大きいことが問題である。また、膜形成についての記載はあるが、細線化について考慮されていない。
【０００４】
特許文献４には、酸化銅ナノ粒子の分散液を利用して超ファインなパターン描画後、比較的低い温度下において、パターン中の酸化銅ナノ粒子に還元処理を施し、生成する銅ナノ粒子を焼成して、極めて微細な焼結体銅系配線パターンを形成する方法が開示されている。しかし、この方法は、酸化銅ナノ粒子を減圧下でプラズマ還元して配線とするものであるが、プラズマ還元するためにはプラズマ処理装置が必要であり、また、利用する還元性気体により得られる配線の抵抗が影響されるなどの問題点がある。
【０００５】
特許文献５には、有機バインダーと溶剤からなり、前記有機バインダーの成分がニトロセルロース、またはニトロセルロースとメタクリル樹脂および／またはアクリル樹脂を含有する導体ペースト組成物を用いた多層配線基板の製造方法が開示されている。しかし、この方法は、ペースト中に含有される有機成分を４００℃〜８００℃で分解除去した後、８００℃〜１０００℃で焼成し、多層配線基板を作成するものであり、処理温度が高いことや耐熱性の低いプラスチック基板は使用できないという問題点がある。さらに特許文献６には、転写シート表面に剥離膜を形成し、この表面にスクリーン印刷またはインクジェット印刷により金属ナノ粒子分散液で微細な配線パターンを描画し、加熱焼成して、金属ナノ粒子の焼結体からなる微細な配線パターンを作成した上で、一方、被転写基板上に接着層を塗布形成し、この被転写基板に転写シートを貼り合わせ、圧着・加熱して、被転写基板上に微細な配線パターンを転写することで微細な配線パターンを有するプリント配線基板とする方法が開示されている。しかし、この方法は、酸化銅ナノ粒子を減圧下でプラズマ還元して配線とするものであるが、プラズマ還元するためには、プラズマ処理装置が必要であり、また、利用する還元性気体により得られる配線の抵抗が影響するなどの問題点がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２９４３０７号公報
【特許文献２】特開２００２−３３８８５０号公報
【特許文献３】特開２００３−１０３１５８号公報
【特許文献４】特開２００４−１１９６８６号公報
【特許文献５】特開２００４−１６５６０１号公報
【特許文献６】特開２００４−２４７５７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、保護剤で安定化された金属ナノコロイドの溶液またはペーストにニトロ化合物および／または硝酸塩の少なくとも１種を添加することにより、３００℃以下の熱処理温度で保護剤を分解、除去することができるインク、とくに金属配線用インクおよびこのインクを用いた金属模様の形成方法を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、これらの問題点を解決するために、保護剤で安定化された金属ナノコロイドの溶液またはペーストから保護剤を取り除く（分解、除去する）方法について、鋭意研究し、保護剤で安定化された金属ナノコロイド溶液またはペーストに、ニトロ化合物および／または硝酸塩を添加することにより、１００〜３００℃という低い温度で処理するとニトロ化合物および／または硝酸塩の分解がおこり、これにより保護剤の分解が促進され、保護剤の分解温度以下でも保護剤を分解、除去出来ることを見出したものである。
【０００９】
本発明の第１は、保護剤で安定化された金属ナノコロイドと、ニトロ化合物および／または硝酸塩を含有することを特徴とする金属ナノコロイド系組成物に関する。
本発明の第２は、保護剤で安定化された金属ナノコロイドにおいて、金属微粒子の占める割合が金属微粒子と保護剤の合計重量に対して５０重量％以上であり、ニトロ化合物および／または硝酸塩の使用量が保護剤に対して０．０１〜１００重量％である請求項１記載の金属ナノコロイド系組成物に関する。
本発明の第３は、請求項１または２記載の金属ナノコロイド系組成物を含有することを特徴とするインクに関する。
本発明の第４は、請求項１または２記載の金属ナノコロイド系組成物を含有することを特徴とする金属配線用インクに関する。
本発明の第５は、請求項３または４のインクを用いて描画後、１００〜３００℃に加熱することにより、金属模様を形成する方法に関する。
【００１０】
本発明に使用される保護剤としては、ポリビニルピロリドン、グリコール類、ポリオキシアルキレン類、アクリル酸及びそのエステル類及びそれらの金属塩、メタクリル酸及びそのエステル類及びそれらの金属塩、界面活性剤等が挙げられる。
【００１１】
前記グリコール類として、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、オクチレングリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコール（例えば商品名：ポリエチレングリコール２００、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、ポリエチレングリコール６００、ポリエチレングリコール１０００、ポリエチレングリコール１５００、ポリエチレングリコール４０００、ポリエチレングリコール６０００、ポリエチレングリコール２００００など）、へキシレングリコール、アルギン酸プロピレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレングリコール、ジオレイン酸プロピレングリコール、モノステアリン酸エチレングリコール、モノステアリン酸プロピレングリコール、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、モノラウリル酸ポリエチレングリコール（例えば商品名：ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール２００、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール３００、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール４００、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール６００、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール１０００）などが挙げられる。
【００１２】
前記ポリオキシアルキレン類として、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオレイルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンソルビットミツロウ、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラノリン、モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビット、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビットなどが挙げられ、また商品名としては、ポリオキシエチレンアルキル（１２，１３）エーテル（１０Ｅ．Ｏ．）、ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレングリコール（２）、ポリオキシエチレン（４）、ポリオキシプロピレングリコール（２）、ポリオキシエチレン（６）ポリオキシプロピレングリコール（２）、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレングリコール（２）、ポリオキシエチレン（３）ポリオキシプロピレングリコール（１７）、ポリオキシエチレン（８）ポリオキシプロピレングリコール（１７）、ポリオキシエチレン（１６）ポリオキシプロピレングリコール（１７）、ポリオキシエチレン（２３）ポリオキシプロピレングリコール（１７）、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレングリコール（２０）、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレングリコール（３０）、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレングリコール（３０）、ポリオキシエチレン（２５）ポリオキシプロピレングリコール（３０）、ポリオキシエチレン（１６０）ポリオキシプロピレングリコール（３０）、ポリオキシエチレン（３０）ポリオキシプロピレングリコール（３３）、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレングリコール（３５）、ポリオキシエチレン（１２）ポリオキシプロピレングリコール（３５）、ポリオキシエチレン（３０）ポリオキシプロピレングリコール（３５）、ポリオキシエチレン（１５０）ポリオキシプロピレングリコール（３５）、ポリオキシエチレン（３５）ポリオキシプロピレングリコール（４０）、ポリオキシエチレン（５０）ポリオキシプロピレングリコール（４０）、ポリオキシエチレン（２００）ポリオキシプロピレングリコール（４０）、ポリオキシエチレン（７）ポリオキシプロピレングリコール（５０）、ポリオキシエチレン（８）ポリオキシプロピレングリコール（５５）、ポリオキシエチレン（３０）ポリオキシプロピレングリコール（５５）、ポリオキシエチレン（３００）ポリオキシプロピレングリコール（５５）、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレングリコール（６５）、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレングリコール（６５）、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレングリコール（７０）、ポリオキシエチレン（２００）ポリオキシプロピレングリコール（７０）、ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（１）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレン（１）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレン（１）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレン（１）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（２）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレン（２）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレン（２）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレン（２）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレン（４）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１）ポリオキシプロピレン（８）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレン（８）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレン（８）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレン（８）セチルエーテル、ポリオキシエチレン（２）ポリオキシプロピレン（２）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（４）ポリオキシプロピレン（４）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（５）ポリオキシプロピレン（５）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０）ポリオキシプロピレン（７）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（９）ポリオキシプロピレン（１０）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（１２）ポリオキシプロピレン（１２）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（２０）ポリオキシプロピレン（１５）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（１７）ポリオキシプロピレン（１７）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（３５）ポリオキシプロピレン（２８）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（３０）ポリオキシプロピレン（３０）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（４５）ポリオキシプロピレン（３３）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（３６）ポリオキシプロピレン（３６）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（３７）ポリオキシプロピレン（３８）ブチルエーテル、ポリオキシエチレン（２）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン（５）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン（１０）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン（２０）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン（５）ラノリンアルコール、ポリオキシエチレン（１０）ラノリンアルコール、ポリオキシエチレン（１５）ラノリンアルコール、ポリオキシエチレン（２０）ラノリンアルコール、ポリオキシエチレン（２５）ラノリンアルコール、ポリオキシエチレン（４０）ラノリンアルコール、ポリオキシプロピレン（２）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（４）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（１２）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（１５）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（１７）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（２０）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（２４）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（２６）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（３０）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（３３）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（４０）ブチルエーテル、ポリオキシプロピレン（５２）ブチルエーテル、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン（６Ｅ．Ｏ．）、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（６Ｅ．Ｏ．）、モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）、モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）、トリオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）、トリステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）、ヘキサステアリン酸ポリオキシエチレンソルビットなどが挙げられる。
【００１３】
前記界面活性剤として、例えば、脂肪族アミンタイプとして、脂肪族４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩などが挙げられ、エーテルタイプとして、炭素数１２〜２２のポリオキシエチレンアルキルエーテル、炭素数１０〜１６の単一鎖長ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン２級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンステロールエーテル、ポリオキシエチレンラノリン誘導体、アルキルフェノールホルマリン縮合物の酸化エチレン誘導体、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルなどが挙げられ、エーテルエステルタイプとしてポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンひまし油および硬化ひまし油、ポリオキシエチレンソルビタン酸脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルカノールアミド硫酸塩などが挙げられ、エステルタイプとして、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、エチレングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどが挙げられ、含窒素タイプとして、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミンなどが挙げられ、またそれらを併用しても良い。
また、該界面活性剤は、例えば花王製、商品名：エマールシリーズ、ネオペレックスシリーズ、ペレックスシリーズなどの陰イオン性界面活性剤、デモールシリーズ、ポイズシリーズ、ホモゲノールシリーズといった特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、エマルゲンシリーズ、レオドールシリーズ、エマゾールシリーズ、エキセルシリーズ、エマノンシリーズといった非イオン性界面活性剤、アセタミンシリーズ、コータミンシリーズ、サニゾールシリーズ、アンヒトールシリーズといった陽イオン性界面活性剤、両性界面活性剤などが、ライオン製、商品名：サンノールシリーズ、リパールシリーズ、エナジコールシリーズなどのアニオン界面活性剤、リポノックスシリーズ、レオコールシリーズ、レオックスシリーズなどのノニオン界面活性剤、アーカードシリーズ、アマックシリーズなどのカチオン界面活性剤、エナジコールＣ−４０Ｈなどの両性界面活性剤、レオガードシリーズなどの高分子界面活性剤などが、第一工業製薬製、商品名：ニューフロンティアＡ−２２９Ｅ、Ｎ−１７７Ｅ、ネオハイテノールＬ−３０、ＬＭ−７０、Ｓ−７０、エパン４１０、４２０、４５０、４８５、６１０、６８０、７１０、７２０、７４０、７５０、７８５、Ｕ−１０３、Ｕ−１０５、Ｕ−１０８、ネオコールＰ、ＳＷ、ＳＷ−Ｃ、ＹＳＫ、ネオゲンＳＣ、Ｒ、Ｓ−２０、ＡＳ−２０、ＤＫＳディスコートＮ−１４、プライサーフＡ２１２Ｅ、Ａ２１７Ｅ、Ａ２１０Ｇ、Ａ２０７Ｈ、ＡＬ、Ａ２１２Ｃ、Ａ２１５Ｃ、Ａ２０８Ｂ、Ａ２１９Ｂ、Ａ２０８Ｓ、Ａ２０８Ｆ、Ｍ２０８Ｂ、Ｍ２０８Ｆ、ＤＢ−０１、ハイテノールシリーズ、アミラジン、ソルゲンシリーズ、カチオーゲンＬ、Ｈ、ＥＳシリーズ、モノゲンシリーズ、ダイヤノール３００、アンチフロスＦシリーズなどとして市販されているから、これをそのまま使用しても良し、ここに挙げていない市販の界面活性剤も使用しても良い。
【００１４】
保護剤で安定化された金属ナノコロイドにおける保護剤と金属微粒子の割合についてみると、保護剤と金属微粒子の重量の合計を１００％とした時に金属微粒子の占める重量の割合は５０％以上であり、好ましくは８５％以上である。
【００１５】
本発明で使用できるニトロ化合物や硝酸塩としては、消防法の第５類の危険物に相当する化合物を挙げることができる。ニトロ化合物の例としては、例えば、ニトロセルロース、ニトログリセリン、ニトログリコール、トリニトロベンゼン、トリニトロトルエン、ピクリン酸などがあり、硝酸塩としては、例えば、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸アンモニウムなどが挙げられ、これらの添加量としては、保護剤の重量に対して０．０１〜１００重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量％である。また、ニトロ化合物および硝酸塩を複数添加してもよい。
【００１６】
本発明の金属ナノコロイドは、金属塩および／またはその錯体を、溶媒および保護剤の存在下に還元剤で還元することにより得ることができる。二種以上の金属を含む多元複合系コロイドを製造する場合は、一液中に存在する複数の金属を同時に還元することにより製造することができる〔Ｎ，Ｔｏｓｈｉｍａ＆Ｔ．Ｙｏｎｅｚａｗａ，Ｎｅｗ  Ｊ．ｃｈｅｍ．２２，Ｐ１１７９（１９９８）〕し、特開２００２−６０８０５号公報記載の方法によっても製造することができる。
反応終了のチェックは、分光光度計で金属イオンの吸収が消失することにより行った。
【００１７】
前記製造方法に用いる還元剤としては、対象金属を還元できる還元剤であれば、とくに制限はなく、化学還元剤のほかに光還元、超音波還元、電気還元、Ｘ線還元。γ線還元なども使用することができる。また、化学還元剤としては、水素、一級または二級アルコール類、グリコール類、酸素原子に隣接する炭素原子に水素原子が結合しているエーテル類、エタノールアミン類、さらには水素化ナトリウム、水素化ホウ素類（水素化ホウ酸ナトリウム）、ヒドラジンなどを挙げることができる。
【００１８】
金属塩および／その錯体としては、とくに制限はないが、金属のハロゲン化物、酢酸金属塩、過ハロゲン酸金属塩、硫酸金属塩、硝酸金属塩、炭酸金属塩、蓚酸金属塩などの各種酸の金属塩などを挙げることができる。
【００１９】
前記金属としては、とくに制限はないが、例えば金、銀、銅、白金、コバルト、ニッケル、パラジウム、ルテニウム、ルビジウム、イリジウムなどを挙げることができる。
【００２０】
前記金属塩やその錯体の例としては、下記のものを例示することができる。
臭化金、塩化金、シアン化金、水酸化金、ヨウ化金、酸化金、硫化金、塩化金酸、テトラブロモ金酸カリウム、テトラブロモ金酸カリウム水和物、テトラクロロ金酸カリウムｎ水和物、テトラシアノ金酸カリウム、テトラクロロ金酸四水和物、テトラクロロ金酸三水和物などが、白金アセチルアセトナト、シアン化白金バリュウム四水和物、臭化白金、塩化白金（II）、塩化白金（IV）、シアン化白金、１，１，１，５，５，５，−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオナト白金（II）、ヨウ化白金（II）、ヨウ化白金（IV）、酸化白金（IV）、酸化白金（IV）、一水和物、塩化白金（II）カリウム、硫化白金、白金（０）−２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、テトラブロモ白金（II）酸カリウム、テトラクロロ白金（II）酸カリウム、テトラニトロ白金（II）酸カリウム、トリクロロ（エチレン）白金（II）酸カリウム一水和物、ヘキサクロロ白金（II）酸六水和物、ヘキサヒドロキソ白金（IV）酸などが、酢酸銀、安息香酸銀、臭化銀、炭酸銀、塩素酸銀、塩化銀、シアン化銀、２−エチルヘキサン酸銀、フッ化銀（II）、ヘプタフルオロ酪酸銀、ヘキサフルオロリン酸銀、ヨウ素酸銀、ヨウ化銀、乳酸銀０．５水和物、メタンスルホン酸銀、酸化銀、硝酸銀、亜硝酸銀、過塩素酸銀、シアン化銀カリウム、硫酸銀、硫化銀、亜硫化銀、テトラフルオロほう酸銀、チオシアン酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀などが、臭化パラジウム、塩化パラジウム、シアン化パラジウム、水酸化パラジウム、ヨウ化パラジウム、硝酸パラジウム、硝酸パラジウム水和物、しゅう酸パラジウム、酸化パラジウム、硫酸パラジウム、硫化パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、テトラブロモパラジウム酸カリウム、テトラクロロパラジウム酸カリウム、テトラニトロパラジウム酸カリウムなどが、酢酸コバルト酢酸コバルト四水和物、コバルト（II）アセチルアセトナート二水和物、アセチルアセトナトコバルト（II）、安息香酸コバルト、ほう化コバルト、臭化コバルト、臭化コバルト（II）六水和物、塩基性炭酸コバルト、塩化コバルト、塩化コバルト六水和物、クエン酸コバルト二水和物、二フッ化コバルト、２−エチルヘキサン酸コバルト、フッ化コバルト、水酸化コバルト、ヨウ化コバルト二水和物、硝酸コバルト、しゅう酸コバルト二水和物、酸化コバルト、過塩素酸コバルト、リン酸コバルト、リン酸コバルト八水和物、リン化コバルト、フタロシアニンコバルト、ステアリン酸コバルト、スルファミン酸コバルト、硫酸コバルト七水和物、硫化コバルト、テトラフルオロほう酸コバルト六水和物、ｍｅｓｏ−テトラメトキシフェニルポルフィンコバルト、チオシアン酸コバルト水和物、トリカルボニルニトロシルコバルトなどが、酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅（II）、酢酸銅（II）一水和物、塩化アンモニウム銅（II）二水和物、ベンゼンスルフィン酸水和物、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（II）、臭化銅（Ｉ）ジメチルスルフィド複合体、ｎ−ブチルメルカプチド銅（Ｉ）、塩基性炭酸銅（II）、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（II）、塩化銅（II）二水和物、クエン酸銅（II）２．５水和物、シアン化銅（Ｉ）、塩化アンモニウム銅（II）二水和物、ジメチルジチオカルバミン酸銅（II）、銅（II）エ��キシド、エチルアセト酢酸銅（II）、フッ化銅（II）、フッ化銅（II）水和物、ギ酸銅（II）四水和物、グルコン酸銅（II）、ヘキサフルオロアセトナト銅（II）、ヘキサフルオロ−２，４−ペンタジオナト銅（Ｉ）シクロオクタジエン複合体、水酸化銅（II）、ヨウ素酸銅（II）、ヨウ化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（II）、イソ酪酸銅（II）、銅（II）イソプロポキシド、メタクリル酸銅（II）、銅（II）メトキサイド、ネオデカン酸銅、硝酸銅（II）三水和物、窒化銅、オレイン酸銅（II）、しゅう酸銅（II）０．５水和物、酸化銅（Ｉ）、酸化銅（II）、オキシ塩化銅、過塩素酸銅（II）、銅（Ｉ）フェニルアセチリド、リン酸銅（II）、フタル酸銅（II）、フタロシアニン銅（II）、フタロシアニン銅（II）四スルホン酸四ナトリウム、塩化カリウム銅（II）二水和物、硫酸銅（II）、塩基性硫酸銅（II）、硫酸銅（II）五水和物、硫化銅（Ｉ）硫化銅（II）、酒石酸銅（II）水和物、テトラフルオロほう酸銅（II）六水和物、トリフルオロアセチルアセトナト銅（II）、トリフルオロメタンスルホン酸銅（II）、テトラクロロ銅（II）酸カリウム二水和物などが、酢酸ニッケル四水和物、アセチルアセトナトニッケル（II）二水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、アミド硫酸ニッケルｎ水和物、ビス（ジブチルジチオカルバミン酸）ニッケル、ほう酸ニッケル、ほう化ニッケル、臭化ニッケル、臭化ニッケル三水和物、炭酸ニッケル、塩基性炭酸ニッケル、塩化ニッケル、塩化ニッケル六水和物、塩化ニッケルｎ水和物、塩化ニッケルジメトキシエタン付加物、ニッケルジメチルグリオキシム、２−エチルヘキサン酸ニッケル、フッ化ニッケル四水和物、ギ酸ニッケル二水和物、ヘキサフルオロアセチルアセトナトニッケル（II）、ヘキサフルオロアセチルアセトナトニッケル（II）水和物、水酸化ニッケル、ヒドロキシ酢酸ニッケル、ヨウ化ニッケル、乳酸ニッケル、硝酸ニッケル、ニッケロセン、しゅう酸ニッケル二水和物、酸化ニッケル、リン化ニッケル、シアン化ニッケルカリウム一水和物、ステアリン酸ニッケル、硫酸ニッケル六水和物、硫化ニッケル、テトラフルオロほう酸ニッケル六水和物、ｍｅｓｏ−テトラフェニルポルフィンニッケル、チオシアン酸ニッケル、トリフルオロアセチルアセトナトニッケル二水和物、テトラシアノニッケル酸カリウム一水和物などが、挙げられる。
【００２１】
前記金属ナノコロイドを製造する方法に用いる溶媒としては、コロイド形成を妨げることが無ければ、特に限定されることはない。
例えば、水、アルコール類、エーテル類、エステル類、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アミド化合物類等が挙げられる。
アルコール類としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロピルアルコール、ｉｓｏ−プロパノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、エチレングリコール、グリセリンなどが挙げられ、エーテル類としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられ、エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチルなどが挙げられ、脂肪族炭化水素類として、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどが挙げられ、芳香族炭化水素としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられ、アミド化合物として、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、２−メチルピロリドンなどが挙げられる。
【００２２】
反応により水溶性の無機塩が生成する場合は、反応終了後、限外ろ過を行ない、水で十分無機塩を洗い流した後、前記金属ナノコロイドの溶液もしくはペーストを得、これを金属配線用インクに使用すればよい。
【００２３】
本発明の金属ナノコロイド系組成物を金属配線用インクとして使用する場合は、金属ナノコロイドの平均粒径が０．８〜１００ｎｍ、とくに０．８〜１０ｎｍであることが好ましい。なお、この平均粒径は、ドップラーシフトされた粒子径情報を検出して粒度分布を測定し、この測定した粒度分布から求めた平均粒径である。
従来、粒度分布の測定は、ＴＥＭ測定によって得られる写真あるいは画像を、目視による計測あるいは画像処理によって得ていたが、この方法では、まずコロイド溶液をグリッドにのせた後、溶媒を減圧乾燥させて測定サンプルを作成し、これをＴＥＭ測定している。しかし、この方法では、実際のコロイド溶液の状態を測定したものではなく、グリッドにのった一部のサンプルを測定していることやＴＥＭ測定時には、強力なレーザー光をグリッドに当てて測定するために凝集が破壊され、実態とは異なる一次粒子を測定していることがあった。
近年、コロイド溶液にレーザー光を照射し、ドップラーシフトされた粒子径情報を検出する方法で実際のコロイドが存在する状態が測定できるようになったため、粒度分布の測定は、この方法で測定できる日機装製ナノトラック１５０で行い、平均粒径を求めた。
【００２４】
本発明の金属配線用インクは、前記の方法で合成した金属ナノコロイドの溶液および／またはペーストそのままでも良いし、溶媒で希釈したり、濃縮したりあるいは増粘剤などを添加し粘度を調節することで得られる。特にスクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサ印刷法により配線を描画するためにはインクの粘度調節が不可欠となるので、それぞれに適した粘度に調節して使用することが好ましい。粘度調整されたインクに含まれる金属濃度は、インク全体を１００重量％としたときに、１重量％以上が好ましく、より好ましくは５重量％、さらに好ましくは２０重量％以上である。
インクジェット印刷用に使用するインクは、５〜１５ｃＰ程度の粘度であるため、インク中の金属濃度が上記濃度の低い方になる場合があるが、その時は、インクジェット印刷機で重ね印刷して、描画配線中の金属濃度を高めて使用することがある。
ディスペンサ印刷用およびスクリーン印刷用に使用するインクは、３００ｃＰ以上の粘度を用い、インクジェット印刷のように重ね印刷が難しいため、インク中の金属濃度が高いものが用いられる。
【００２５】
本発明の金属配線用インクに使用できる増粘剤は、金属配線に悪影響を及ぼさないものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、グリコール類やグリセリン類といった増粘作用を持つものを使用することが出来る。
【００２６】
本発明の金属配線用インクで基板などにスクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサ印刷法などにより配線を描画する方法は、特に制限されるものではなく、従来の方法で描画することが出来る。
【００２７】
本発明の金属配線用インクでガラスあるいはプラスチックなどの基板にスクリーン印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサ印刷法により描画したものを金属配線とする方法としては、配線を描画した基板などを１００〜３００℃に加熱処理すればよい。より好ましい温度は２００〜３００℃である。空気中で加熱処理を行っても良いが、好ましくは窒素あるいはアルゴンといった不活性ガス中で行う方が良い。
【００２８】
本発明の組成物やインクは、例えば、慣用の添加物をさらに含有しても良く、例えば、酸化防止剤、光安定剤を含有しても良く、また必要に応じて各種充填剤、導電性粉末などを含有しても良い。
【００２９】
本発明において添加しても良い酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデカ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデカ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物：２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノールおよびそれらの混合物：２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペートおよびそれらの混合物：２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等および２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）���２，２′−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、エチレングリコールビス［３，３′−ビス（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］等ならびに、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール等を挙げることが出来る。
【００３０】
本発明において添加しても良い光安定剤としては、たとえば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３′、５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′、５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２′−オクチルオキシカルボニルエチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等：４−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、４−メトキシ−ベンゾフェノン、４−オクトキシ−ベンゾフェノン、４−デシルオキシ−ベンゾフェノン、４−ドデシルオキシ−ベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−ベンゾフェノン、４，２′，４′−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン、２′−ヒドロキシ−４，４′−ジ−メトキシ−ベンゾフェノンまたは４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンなど：４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル  サリシレート、フェニル  サリシレート、オクチルフェニル  サリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイルレゾルシノール）、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルレゾルシノール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等：エチル  α−シアノ−β，β−ジオフェニルアクリレート、イソオクチル  α−シアノ−β，β−ジオフェニルアクリレート、メチル  α−カルボメトキシシンナメート、メチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート等：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アジペート等：４，４′−ジオクチルオキシオキザニリド、２，２′−ジエトキシオキシオキザニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキザニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキザニリド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−エトキシオキザニリド等：２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチル���ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【発明の効果】
【００３１】
保護剤で安定化された金属ナノコロイドを用いて膜状物を形成し、保護剤を分解させて金属配線を得たい場合、従来は、保護剤の分解温度以上に加熱して分解させ、金属配線を得ることになるが、この方法では、保護剤の分解温度が高温であるため、プラスチック基板には使用することができない。しかし、本発明のものは、保護剤の分解温度以下の１００〜３００℃と低い温度で保護剤を分解できるため、ガラス基板だけではなく、熱に弱いプラスチック基板に金属配線することができる。これにより基板の制限がなくなり、かつ金属配線形成のための熱エネルギーの大幅な節減となる。
【実施例】
【００３２】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【００３３】
実施例１
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、イソプロピルアルコール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸銀１０４．７ｍｇ（０．６２７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム７．４ｍｇ（０．０３３ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンおよびパラジウムイオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的の銀・パラジウムの二元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、４７．７ｎｍであった。
【００３４】
実施例２
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、エタノール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸銀８８．１７ｍｇ（０．５２８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム２９．６ｍｇ（０．１３２ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンおよびパラジウムイオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的の銀・パラジウムの二元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、５４．７ｎｍであった。
【００３５】
実施例３
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、イオン交換水１０ｍＬ、エタノール９０ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸銀１０４．７ｍｇ（０．６２７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム７．４ｍｇ（０．０３３ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンおよびパラジウムイオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的の銀・パラジウムの二元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、３．６ｎｍであった。
【００３６】
実施例４
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、イソプロピルアルコール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸銀７３．３ｍｇ（０．４３９ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム２９．６ｍｇ（０．１３２ｍｍｏｌ）、塩化白金酸・六水和物３４．２ｍｇ（０．０６６ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンおよびパラジウムイオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的の銀・パラジウム・白金の三元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、６８．２ｎｍであった。
【００３７】
実施例５
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、イソプロピルアルコール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸銀１０４．７ｍｇ（０．６２７ｍｍｏｌ）、塩化ニッケル（II）六水和物７．８ｍｇ（０．０３３ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下２０〜２５℃で水素化ホウ素ナトリウム１５．７ｍｇ（０．４１６ｍｍｏｌ）を投入した後、反応を１時間行い、分光光度計で銀イオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、限外ろ過を行ない、十分水洗し、イソプロピルアルコールで洗浄した後、イソプロピルアルコール１００ｍＬに分散させ、目的の銀・ニッケルコロイド溶液を収率９５％で得た。平均粒径は、５７．７ｎｍであった。
【００３８】
実施例６
撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、アセトン１００ｍＬ、ポリプロピレングリコール４８．９ｍｇ、酢酸銀１０４．７ｍｇ（０．６２７ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム７．４ｍｇ（０．０３３ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンおよびパラジウムイオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的のＡｇ・Ｐｄの二元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、４２．５ｎｍであった。
【００３９】
実施例７
（１）撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、エタノール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、硝酸銀１１２．１ｍｇ（０．６６ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的の銀コロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、２．６ｎｍであった。
（２）撹拌機、温度計、還流冷却管を備えた１００ｍＬのフラスコ中に窒素雰囲気下、エタノール１００ｍＬ、ポリビニルピロリドン７３．４ｍｇ、酢酸パラジウム１４８．２ｍｇ（０．６６ｍｍｏｌ）を仕込み、撹拌下６０℃に加熱し反応を２時間行い、分光光度計で銀イオンの吸収の消失を確認し、反応終了とした。反応後、２０〜２５℃まで冷却し、目的のパラジウムコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、３．２ｎｍであった。
（３）上記で得られた銀コロイド溶液とパラジウムコロイド溶液を重量比で７：３で混合し、２０〜３０℃で２時間反応させ、目的のＡｇ・Ｐｄの二元系のコロイド溶液を収率９９％で得た。平均粒径は、１０．６ｎｍであった。
【００４０】
実施例８
前記実施例のコロイド溶液を減圧下で濃縮した後、エチレングリコールで粘度を５〜１５ｃＰに調整し、そこに表１に示すとおり、ニトロ化合物または硝酸塩として、ニトロセルロース、硝酸アンモニウムを添加し、十分分散させた後、配線用インクとした。このインクをインクジェット印刷機に充填して、ガラス基板上に配線を描画した。この基板を２００℃で４時間熱処理し、金属配線を得た。この金属配線の電気抵抗をロレスターＧＰ（ダイヤインスツルメンツ製）を用いて四探針法で測定した結果を表１に示す。
【表１】
2007327109.tif 000002
【００４１】
実施例９
前記実施例のコロイド溶液を減圧下で濃縮した後、ブチレングリコールで粘度を３００〜３２０ｃＰに調整し、そこに表２に示すとおりニトロ化合物または硝酸塩として、ニトロセルロース、硝酸アンモニウムを添加し、十分分散させた後、配線用インクとした。このインクをディスペンサ印刷機に充填して、ガラス基板上に配線を描画した。この基板を２５０℃で４時間熱処理し、金属配線を得た。この金属配線の電気抵抗をロレスターＧＰ（ダイヤインスツルメンツ製）を用いて四探針法で測定した結果を表２に示す。
【表２】
2007327109.tif 000003