(57)【要約】【課題】投影露光装置は露光位置精度や解像度の面で優れているが、初期コストが高いという欠点がある。これに対して近接露光方式は、初期コストは安く済むが、特に解像度が低いという欠点がある。ここに記す技術は、近接露光方法を用いて高解像度を得る露光方法であり、これにより大幅なイニシャルコストダウンを実現する。【解決手段】開口、または遮光マスクパターンの０〜１８０°の角度をもつコーナー部に、Ｒを持たせる、または斜めスリット型の補正パターンを外側、または内側に付随させる、もしくは双方の方法を採用することを特徴とし、これによって、近接露光において生じるコーナー部の丸みを回避し、所望のパターンを得ることができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーにＲ値が１〜８μｍの丸みが形成されていることを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項２】
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーが２以上の角に多角分割されていることを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項３】
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーの角を２等分する補助線上のコーナーの遮光部側にスリット状の補助開口部を設け、
このスリット状の補助開口部の長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設け、
このスリット状の補助開口部の短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けたことを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項４】
前記スリット状の補助開口部の幅が１μｍ〜４μｍであり、長さ１μｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項５】
開口部及び遮光部を含み、この遮光部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーの角を２等分する補助線上のコーナーの開口部側にスリット状の補助遮光部を設け、
このスリット状の補助遮光部の長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設け、
このスリット状の補助遮光部の短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けたことを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項６】
前記スリット状の補助遮光部の幅が１μｍ〜４μｍであり、長さ１μｍ以上であることを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルター用フォトマスク。
【請求項７】
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、前記フォトマスクと基板の距離を５０μｍ〜３００μｍとすることを特徴とするカラーフィルター製造方法。
【請求項８】
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、露光の際の照射光強度を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ２とすることを特徴とするカラーフィルター製造方法。
【請求項９】
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、照射光のコリメーション半角が１．０°〜２．０°の範囲とすることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれかに記載の製造方法を用いてブラックマトリックスをパターニングすることを特徴とするカラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソエレクトロニクス分野に関わる露光技術に関する。特にカラーフィルターのブラックマトリクス、有機エレクトロルミネッセンス素子の仕切りパターンなどを製造する際に有用なフォトマスク及びこれを用いた露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に液晶ディスプレイ等に用いられるカラーフィルターは、微細な赤、緑、青等の感光性樹脂のパターンから構成されている。その製造は、ガラス等の透明基板に感光性樹脂を塗布、露光、現像する工程からなり、各色について同様の工程が繰り返される。以下カラーフィルターにおける露光工程を例に従来の技術及び課題について説明する。
【０００３】
露光工程は、基板上に感光性樹脂を塗布し光線を照射し、現像した後、所望のパターンを硬化させる工程で、後の現像工程と並んで、フォトリソグラフィ工程の中でもパターンの形状を左右する重要な工程である。如何にして所望のパターンを精度よく転写するかが問題となる。
【０００４】
露光方法には、大きく分けて、近接露光方式と投影露光方式とがある。近接露光方式は、別名プロキシミティー露光方式とも呼ばれ、両者ともフォトリソ工程では広く普及している技術である。
【０００５】
近接露光方式とは、フォトマスクと被露光基板とを一定のギャップを設けて重ねた状態で平行光を照射することによって、マスクパターンを基板に転写する方式である。とりわけカラーフィルター製造工程においては著しく普及した技術で、原理も簡潔である。近接露光方式を用いたカラーフィルターの形成方法として特許文献１を挙げる。
【０００６】
しかし、近接露光方式の欠点として、基板とマスクの距離（以下、単にギャップという。）を拡大したときに、平行光のマスク透過時における光の回折、干渉が発生することが挙げられる。光の回折、干渉は、被露光基板上に形成されるパターン（以下露光パターンとする。）が、マスクと同一のパターンを解像させることを困難にする。これは、マスクの開口部と遮光部の境界で光の回折、干渉作用により露光パターンの境界がぼやけるためである。
【０００７】
前項の欠点は、マスクと基板のギャップを狭めることによってある程度回避することができる。しかし、生産ラインにおいてギャップを狭めることは不良の発生につながる。これは、もし基板に異物が存在した場合に、それがマスクに付着し、共通欠陥を発生させる可能性があるためである。
【０００８】
具体的には、例えば正方形パターンの４つのコーナーをそれぞれ９０°の角（直角）で構成したマスク（図２）を用いて露光をした場合には、図３で示されるような露光パターンが形成される。すなわちこの露光パターンはマスクの形状を忠実に再現しない。露光パターンのうちマスクのパターンの角に対応する４つのコーナーは、９０°の角（直角）にはならず、コーナーから緩やかに突出した凸部を形成する（図３）。以上に述べた通り、近接露光方式においては光の干渉、回折により露光パターンのぼやけが生じる。とりわけ複雑形状等の焼き付けを実施する際には、コーナー部の丸みなどの影響により、所望のパターンを解像させることは非常に困難である。例えば、０°〜１８０°の角を有する露光パターンを精度よく形成することは困難であった。
【０００９】
また、露光工程においては、基板の大型化にともない、マスクの大型化という問題がある。また、マスクを移動して分割露光するステップ露光の必要性も生じるため、露光パターンの露光位置精度が悪化する。特に、カラーフィルターの基本マトリックスとなるブラックマトリックスのパターン位置精度は重要である。
【００１０】
また、マスクの大型化によりマスク自体の撓みが発生する。したがって、プロキシミティー露光のような被露光基板とマスクを近接させて露光する場合、マスクの中央部がたわむため、基板とマスクが一部接触してしまい、不良発生の原因となる。しかし、基板とマスクの接触をさけるためにギャップを拡大すると、前記パターンの境界がぼやける問題が生じるため、ギャップを一定以上とすることができなかった。
【００１１】
露光パターン位置精度やマスク歪みによる接触不良又はパターン不良は、マスクパターンの精度と装置のアライメント精度を上げて、最低限の精度を保ったままギャップを一定以上とする以外に手段は無いが、解像度向上による高精細化については、光学系や材料、マスクパターンの観点から限界があった。
【００１２】
この問題を解決するため、マスクの調整を行なう方法が知られている。マスクの調整とは、つまり、原版となるマスクパターンに補助的なパターンを付随させるなどして、強制的に所望の露光パターンを得る方法である。この方法を用いたカラーフィルターの製造方法として特許文献２が挙げられる。しかし、特許文献２では円状の露光パターンを形成することには成功しているが、現実的にブラックマトリックスパターンに多用されている０°〜１８０°（特に６０°〜１２０°前後）の角のパターンを有効に形成することについては依然開示されていない。
【特許文献１】特開平０９−１２７７０２号公報
【特許文献２】特開２００５−２０２３４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記従来技術の問題を解決するためになされたもので、その課題とするところは、近接露光方式で露光パターンを形成するに際して、０°から１８０°（特に６０°〜１２０°）の角を有するパターンを精度よく形成するカラーフィルター用フォトマスクを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記課題は以下の構成により解決される。
【００１５】
（請求項１）
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーにＲ値が１〜８μｍの丸みが形成されていることを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【００１６】
（請求項２）
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーが２以上の角に多角分割されていることを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【００１７】
（請求項３）
開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーの角を２等分する補助線を引き、その補助線と垂直となる位置にスリット状の開口部を、コーナーの遮光部側に、このスリット状の開口部の短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けたことを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【００１８】
（請求項４）
前記スリット状の開口部の幅が１μｍ〜４μｍであり、長さ１μｍ以上であることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルター用フォトマスク。
【００１９】
（請求項５）
開口部及び遮光部を含み、この遮光部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、
このコーナーの角を２等分する補助線上のコーナーの遮光部側にスリット状の補助遮光部を設け、このスリット状の補助遮光部の長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設け、
このスリット状の補助遮光部の短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けたことを特徴とするカラーフィルター用フォトマスク。
【００２０】
（請求項６）
前記スリット状の補助遮光部の幅が１μｍ〜４μｍであり、長さ１μｍ以上であることを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルター用フォトマスク。
【００２１】
（請求項７）
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、前記フォトマスクと基板の距離を５０μｍ〜３００μｍとすることを特徴とするカラーフィルター製造方法。
【００２２】
（請求項８）
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、露光の際の照射光強度を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ２とすることを特徴とするカラーフィルター製造方法。
【００２３】
（請求項９）
基板にフォトマスクを近接させてパターンを露光する工程を含むカラーフィルターの製造方法において、
フォトマスクとして請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター用フォトマスクを用い、照射光のコリメーション半角が１．０°〜２．０°の範囲とすることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【００２４】
（請求項１０）
請求項７〜９のいずれかに記載の製造方法を用いてブラックマトリックスを設けたことを特徴とするカラーフィルター。
【発明の効果】
【００２５】
本発明により、マスクと基板の接触不良等を発生することなく、近接露光方式で露光パターンを形成するに際して、０°から１８０°（特に６０°〜１２０°）の角を有するパターンを精度よく形成することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に、本発明の詳細な実施の形態を、図面等を用いて説明する。
【００２７】
図１は、本発明の露光方法にて使用する近接露光装置の光線の行路概略図である。１の光源については特に限定するものではないが、極間が小さく、なるべく点光源となるものが望ましい。出力を上げるなどの影響により極間が広くなった場合は、正規分布する強度がブロードになり、５のインテグレーターレンズにおけるエネルギー損失が大きくなるためである。
【００２８】
本発明にて課題とする解像性の向上は、光学系に依存する部分も大きい。したがって、光源ランプの輝線の分布やそのミラー系の材質、さらにインテグレーターレンズの形状や大きさに起因するコリメーション半角等も適正な条件で実施することが望ましく詳しくは後述する。
【００２９】
８はフォトマスクであり１０は感光剤９を塗工した被露光基板である。請求項３に定めたように、フォトマスクと感光剤を塗工した基板とのギャップは５０μｍ〜３００μｍとすることが望ましい。ギャップを狭めれば解像性は向上するが、異物の混入によるマスク欠損の発生等の不良を招くおそれがあるためである。本発明においては、ギャップ５０μｍ以上、望ましくは２００μｍ程度にて露光することが好ましい。上記のような近接露光装置を用いる場合を例として、まず従来のフォトマスクを用いた露光工程について説明した後、本発明のカラーフィルター用フォトマスクについて述べる。
【００３０】
＜従来のカラーフィルター用フォトマスク＞
図２には、１２ａ〜ｄに示す４つのコーナー部に、それぞれ９０°の角を有するフォトマスクを示す。正方形の内部が開口部であり、正方形の外部が遮光部である。これは、矩形状の露光パターンを形成する場合に用いられる代表的なフォトマスクである。図２（１１）はこのフォトマスクに描画した３０μｍ程度を想定した正方形の開口パターンである。
【００３１】
図３には、上記図２のフォトマスクを使用してネガ感光材を露光した場合に得られた露光パターンである。フォトマスクパターンとは異なり、４箇所のコーナーが丸みをおびてゆるやかに突き出し、逆に辺の部分が窪んで歪んだ形状となる。
【００３２】
このような現象は、フォトマスクのコーナー部を通過する光が干渉作用をおこし、露光パターンのコーナーに対応する部分の強度が倍加されるために発生する。即ち、図２（１１）のようにコーナーに角を有するマスクをそのまま用いると、光強度の高い部分がコーナーの箇所の個数発生し、その裾野も解像され、結果として図３（１３）のような歪んだ露光パターンが生じることになる。
この現象は１１の正方形に限らず、鋭角から鈍角に至るまで、すべてのコーナー部で発生する現象で、とりわけ三角形の頂点等の鋭角のコーナーを持つ形状ほどその傾向は顕著に現れる。
【００３３】
＜本発明のカラーフィルター用フォトマスク＞
（第１の例）
図４に本発明のカラーフィルター用フォトマスクの一例を挙げる。図４には略正方形のマスクパターンが示されている。図４において正方形の内部領域が開口部であり、正方形の外部領域が遮光部である。図４（１４）は、開口部の４つコーナー（１５ａ〜ｄ）に丸み形状を設けている。コーナーに丸みがあることにより、フォトマスクのコーナー直近における極小エリアの光の通過をカットする効果が得られ、コーナーに丸みを設けないマスクと比して、コーナーを通過する光の干渉を抑制することができる。そして、露光パターンの像の歪みを抑えるものである。図４（１４）のマスクパターンから解像されたネガレジストにおけるパターンを、図７（２０）に示す。この露光パターンは完全な矩形とはならないが図３（１３）に示した従来の露光パターンと比して、より矩形に近い良好な形状となる。このカラーフィルター用フォトマスクのコーナー部は、Ｒ値を１〜８μｍとなるように丸みを付けることがより好ましい。また、丸みを付与する代わりに、コーナーを２以上の角に多角分割する方法においても同様の効果を得ることができる。
この方法は、フォトマスクの開口部に０°〜１８０°となる角度のコーナーがあれば用いる事が出来、６０°〜１２０°となる角度のコーナーに対しより好適に適用することができる。  露光パターンは、マスクパターンにつけたＲ値よりは大きなＲ値を持つパターンが解像される場合もあるが、従来のカラーフィルター用フォトマスクを用いて露光・解像されてなる露光パターン（図３（１３））に比べれば、歪みを小さくし、より矩形に近い形状とすることができる。
また、遮光部と開口部を逆にしてコーナーを有する遮光部のコーナーに丸みを付与する方法を採用することも可能である。
【００３４】
（第２の例）
図５に本発明のカラーフィルター用フォトマスクの別の一例を挙げる。図５には正方形のマスクパターン（１６）に補助開口部（１７ａ〜ｄ）が追加されている。図５においては、正方形の内部領域及び補助内部領域が開口部であり、それ以外の領域は遮光部である。このスリット状の開口部を「補助開口部」として、補助開口部の位置及び大きさについて以下に述べる。
まず、マスクパターン（１６）のコーナーの角（０°〜１８０°）を２等分する補助線を引いたと想定する。そして、その補助線上の遮光部の位置にスリット状の補助開口部を設ける。スリット状の補助開口部は、その長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設けられ、その短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けられている。
図５（１６）は、開口部の４つのコーナーの外側に補助開口部が設けられている。１７ａ〜ｄに示す斜めスリット状の補助開口部をコーナー部に設けることによって、このスリットを光が通過し、実際には解像されない弱レベルの強度をもつ光がコーナー部に露光される。これによって斜めスリットと直角部頂点が引っ張り合うような形で、最終的な露光パターンが形成される。即ち、この方法により図７（２０）に示すように丸みや歪みを小さく抑えた露光パターン形状を得ることができたのである。
補助開口部の形状は幅１μｍ〜４μｍ、長さ１μｍ以上であることが望ましい。補助開口部の幅の大きさがこれより小さくては効果が低く、逆にこれ以上大きな幅のものは実際に露光パターンとして補助パターンが解像されてしまうため好ましくない。補助開口部の長さは、補助開口部を設ける部分のコーナーの角を構成する２辺の長さにより異なるが、２辺のうち長い方の辺の０．０１〜０．８倍程度であることが好ましい。補助開口部の長さがこれよりも短いと効果が低く、これよりも長いと露光パターンの形状に悪影響を及ぼすおそれがある。なお本例はネガ型感光性樹脂を前提に記載したが、ポジ型感光性樹脂に適用することも可能であり、その場合形成される露光パターンがマスクパターンとほぼ同一となる。
【００３５】
（第３の例）
さらに本発明のカラーフィルター用フォトマスクのさらに別の一例を挙げる。図９には正方形のマスクパターン（１６）に補助遮光部（１７ａ〜ｄ）が追加されている。図９においては、正方形の内部領域及び補助内部領域が遮光部であり、それ以外の領域は開口部である。第２の図５とは遮光部と開口部が逆転している。このスリット状の遮光部を「補助遮光部」として、補助遮光部の位置及び大きさについて以下に述べる。
まず、マスクパターン（１６）のコーナーの角（０°〜１８０°）を２等分する補助線を引いたと想定する。そして、その補助線上の開口部の位置にスリット状の補助遮光部を設ける。スリット状の補助遮光部は、その長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設けられ、その短手方向と前記補助線が略平行となるよう設けられている。
図９では、遮光部の４つのコーナーの外側に補助遮光部が設けられている。斜めスリット状の補助遮光部をコーナー部に設けることによって、このスリットにより光が遮光され、実際には解像されない程度に遮光部のパターンがコーナー部に反映される。これによって斜めスリットと直角部頂点が引っ張り合うような形で、最終的な露光パターンが形成される。即ち、この方法により図１０（２０）に示すように丸みや歪みを小さく抑えた露光パターン形状を得ることができたのである。
補助遮光部の形状は幅１μｍ〜４μｍ、長さ１μｍ以上であることが望ましい。補助遮光部の幅の大きさがこれより小さくては効果が低く、逆にこれ以上大きな幅のものは実際に露光パターンとして補助パターンが解像されてしまうため好ましくない。補助遮光部の長さは、補助遮光部を設ける部分のコーナーの角を構成する２辺の長さにより異なるが、２辺のうち長い方の辺の０．０１〜０．８倍程度であることが好ましい。補助遮光部の長さがこれよりも短いと効果が低く、これよりも長いと露光パターンの形状に悪影響を及ぼすおそれがある。なお本例はネガ型感光性樹脂を前提に記載したが、ポジ型感光性樹脂に適用することも可能であり、その場合形成される露光パターンがマスクパターンとほぼ同一となる。
【００３６】
（第４の例）
上記第２の例と第３の例を組み合わせ、複雑な形状の露光パターンを精度よく形成することも可能である。以下、そのような方法を採用したカラーフィルター用フォトマスクについて説明する。図８には９０°の開口部のコーナーと９０°の遮光部のコーナーと、これらのコーナーに付随する補助開口部及び補助遮光部が組み合わされた形状のマスクパターンが示されている。図８の右上領域、２２ｂのスリット状の補助遮光部は遮光部である。図８の左下領域、２２ａ、２２ｃの補助開口部は開口部である。図８の２２ａ、２２ｃには９０°の角度を有する開口部のコーナーとこれに付随する補助開口部が示されている。また、２２ｂには９０°の角度を有する遮光部のコーナーとこれに付随する補助遮光部が示されている。２２ａ、２２ｃの開口部のコーナー部分は、スリット状の補助開口部が設けられているため、精度よくほぼ直角に解像される。また、２２ｂの遮光部のコーナー部分も、スリット状の補助遮光部が設けられているため、精度よくほぼ直角に解像される。
このような方法は、カラーフィルターに於いてブラックマトリックスを形成する際に特に有用である。近年、形状が複雑化しているブラックマトリクスパターンの形成においては、精度よく微細な露光パターンを、丸みを帯びることなく解像することを求められるためである。ブラックマトリクスは黒色顔料等を分散させた感光性樹脂を用いて形成することができる。上記第２〜４の例は、ポジ型感光性樹脂、ネガ型及び、露光パターンの凸と凹に応じて使い分けることができる。
【００３７】
（第５の例）
さらに上記第１の例と第２〜４の例の方法を組み合わせたマスクパターンを用いることも可能である。すなわち、例えば、カラーフィルター用フォトマスクに於いて、開口部及び遮光部を含み、この開口部のパターンが０〜１８０°となる角度のコーナーを有するカラーフィルター用フォトマスクにおいて、このコーナーにＲ値が１〜８μｍの丸みを付与し、このコーナーの角を２等分する補助線上のコーナーの遮光部側にスリット状の補助開口部を設け、このスリット状の補助開口部の長手方向と前記補助線が略垂直となるよう設け、このスリット状の補助開口部の短手方向と前記補助線が略平行となるよう設ける方法が挙げられる。この方法によると第１の例と第２〜４の例の方法の相乗効果により、さらに精度の高い頂点を有するコーナーを形成することが可能となる。
【００３８】
本発明のカラーフィルター用フォトマスクは、近接露光（プロキシミティー露光）法を用いたフォトリソグラフィー工程に好適に適用できる。露光の際、カラーフィルター基板とマスクの距離は５０μｍ以上、３００μｍ以下とすることが好ましい。５０μｍより小さいとマスクとカラーフィルター基板が接触するおそれが生じ、３００μｍ以上とすると回折、干渉の作用が大きくなるため、露光パターンの像がぼやけ、本発明の効果が十分得られない。
また、本発明の例２〜５の方法を用いる場合は、露光の際の照射光強度を０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましい。０．１ｍＪ／ｃｍ２よりも小さいと強度が低すぎて露光パターンが形成されず、１００ｍＪ／ｃｍ２よりも大きいとスリットの影響が小さくなり、本発明の効果が十分発揮できないためである。また、照射光のコリメーション半角は１．０°〜２．０°の範囲とすることが好ましい。１．０°より小さいと遮光部側に２次回折波が発生し、２．０°より大きいと強度がブロードとなり像全体が丸みを帯びてしまうためである。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の実施形態について具体的に説明する。露光光学系は図１に示したごく一般的なもので、ランプは２ｋＷのものを使用した。また、コリメーション半角は２°固定で行った。
【００４０】
（第１の例の実施例）
図４にカラーフィルター用フォトマスクの実施例を示した。このコーナー部の１５ａ〜ｄのＲ値は３μｍ、また１４の形状は縦横幅３０μｍの開口部としたフォトマスクを用いてネガ露光を実施した。なお、正方形の内部が開口部である。結果、Ｒ値は８μｍ程度であった。形状歪みもほとんど生じていなかった。一方、丸みを付与しない（つまりＲ＝０μｍ）として同様のパターンを形成した結果、解像させた形状のＲ値が１１μｍ程度あり、形状も正方形とは程遠く大きく歪んでいた。
【００４１】
（第２の例の実施例）
図５にカラーフィルター用フォトマスクの実施例を示した。このコーナー部にはスリット状の補助開口部（１７ａ〜ｄ）が設けられている。このスリット状の補助開口部のスリットは幅２μｍ、長さ５μｍとした。また、内側の四角形は縦横３０μｍの正方形で双方開口にてネガ露光を行った。結果、Ｒ値は６μｍまで下がり、形状歪みも小さく抑えることができた。一方、補助開口部を設けず同様のパターンを形成した結果、解像させた形状のＲ値が１１μｍ程度あり、形状も正方形とは程遠く大きく歪んでいた。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】近接露光装置概略図
【図２】補正無しマスクパターン
【図３】補正無しマスクパターンにて露光した際に解像されたパターン形状
【図４】コーナー部にＲを持たせる補正を施したマスクパターン
【図５】コーナー部に斜めスリットの補助パターンを付随したマスクパターン
【図６】Ｒ付加と補助パターンの双方補正を加えたマスクパターン
【図７】本発明の補正を加えたマスクパターンにて解像して得られたパターン
【図８】複雑な形状に斜めスリットの補助パターンを付随させた例
【図９】本発明のマスクパターンの例
【図１０】本発明のマスクパターンの例
【符号の説明】
【００４３】
１…露光光源ランプ
２…楕円ミラー
３…コールドミラー
４…フィルター
５…インテグレーターレンズ
６…コリメーションミラー
７…反射ミラー
８…マスク
９…感光剤
１０…ガラス基板
１１…補正無し開口マスクパターン
１２ａ〜ｄ…開口マスクパターンコーナー部
１３…補正無し開口マスクパターンにてネガ露光して解像されたパターン
１４…コーナー部にＲを持たせた開口マスクパターン
１５ａ〜ｄ…Ｒを持たせた開口マスクパターンのコーナー部
１６…コーナー部に開口斜めスリットの補正パターンを付随した開口マスクパターン
１７ａ〜ｄ…開口斜めスリットの補正パターンを付随したマスクパターンのコーナー部
１８…Ｒ付加と開口斜めスリット補正を施した開口マスクパターン
１９…Ｒ付加と開口斜めスリット補正を施した開口マスクパターンのコーナー部
２０…補正したマスクパターンを使用して露光した際に解像されるパターン形状
２１…複雑形状の開口パターン
２２ａ、２２ｃ…開口複雑形状の凸部に補助パターンとして付随させた開口斜めスリット
２２ｂ…開口複雑形状の凹部に補助パターンとして付随させた遮光斜めスリット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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