(57)【要約】【課題】  描画装置の傾き補正と空間変調素子の配列を考慮したフレームデータを作成し、空間変調素子に正確にデータを割り当てる。【解決手段】画像をＮ重描画によって描画する描画装置であって、前記画像を必要に応じて回転処理等するアライメント処理手段と、アライメント処理された画像を元にフレームデータを作成する手段と、前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当てるデータ配置手段と、前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画する描画実施手段とを備え、前記フレームデータ作成手段は、描画装置の空間変調素子の配列及び解像度に従ってフレームデータの解像度及びＹせん断周期を決定して、Ｙせん断処理を実施するものであり、前記データ配置手段は、空間変調素子の１スワスごとにαライン分あけて、データを割り当てる。【選択図】          図２
2007013035.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１次元または２次元に配列された複数の空間変調素子からなる描画手段を走査して二次元パターンの画像をＮ重描画によって描画する描画装置であって、
前記二次元パターンの画像をＹせん断処理してフレームデータを作成するフレームデータ作成手段と、
前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当てるデータ配置手段と、
前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画する描画実施手段と、
を備え、
前記フレームデータ作成手段は、前記画像のＸ方向の幅を前記空間変調素子の配列の幅に応じて切り出し、フレームデータのＹ方向の解像度が、αを１以上の整数、Ｐを前記空間変調素子のピッチ、θを前記描画手段の走査方向に対する傾斜角度としたとき、
【数１】
2007013035.tif 000011
を満たすものとなるように前記画像のＹ方向の解像度を変換し、前記空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせたＹせん断処理を実施するものであり、
前記データ配置手段は、前記フレームデータの各画素データを前記空間変調素子に割り当てる際に、Ｎ≧２の場合はＩ重目に描画すべき画素データとＩ＋１重目に描画すべき画素データの間にαライン分の間隔をＹ方向にあけて、前記空間変調素子に割り当てることを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記二次元パターンの画像に対して、指定されたアライメント処理を実施するアライメント処理手段を備え、
前記フレームデータ作成手段は、前記アライメント処理手段によって処理された画像をＹせん断処理すること
を特徴とする請求項１記載の描画装置。
【請求項３】
１次元または２次元に配列された複数の空間変調素子からなる描画手段を走査して二次元パターンの画像をＮ重描画によって描画する描画方法であって、
前記二次元パターンの画像をＹせん断処理してフレームデータを作成し、
前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当て、
前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画するものであって、
前記フレームデータを作成する際に、前記画像のＸ方向の幅を前記空間変調素子の配列の幅に応じて切り出し、フレームデータのＹ方向の解像度が、αを１以上の整数、Ｐを前記空間変調素子のピッチ、θを前記描画手段の走査方向に対する傾斜角度としたとき、
【数２】
2007013035.tif 000012
を満たすものとなるように前記画像のＹ方向の解像度を変換し、前記空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせたＹせん断処理を実施するものであり、
前記データ配置手段は、前記フレームデータの各画素データを前記空間変調素子に割り当てる際に、Ｎ≧２の場合はＩ重目に描画すべき画素データとＩ＋１重目に描画すべき画素データの間にαライン分の間隔をＹ方向にあけて、前記空間変調素子に割り当てることを特徴とする描画方法。
【請求項４】
前記二次元パターンの画像に対して、指定されたアライメント処理を実施し、
前記フレームデータを作成する際は、前記アライメント処理された画像をＹせん断処理すること
を特徴とする請求項３記載の描画方法。
【請求項５】
コンピュータに、１次元または２次元に配列された複数の空間変調素子からなる描画手段を走査して二次元パターンの画像をＮ重描画によって描画を実施させる描画プログラムであって、
前記二次元パターンの画像をＹせん断処理してフレームデータを作成させ、
前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当てさせ、
前記フレームデータの割当てに従い、当該フレームデータの各画素を読み込んで描画させるものであって、
前記フレームデータを作成させる際に、前記画像のＸ方向の幅を前記空間変調素子の配列の幅に応じて切り出し、前記フレームデータのＹ方向の解像度が、αを１以上の整数、Ｐを前記空間変調素子のピッチ、θを前記描画手段の走査方向に対する傾斜角度としたとき、
【数３】
2007013035.tif 000013
を満たすものとなるように前記画像のＹ方向の解像度を変換し、前記前記空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせたＹせん断処理を実施させるものであり、
前記データを配置する際には、前記フレームデータの各画素データを前記空間変調素子に割り当てる際に、Ｎ≧２の場合はＩ重目に描画すべき画素データとＩ＋１重目に描画すべき画素データの間にαライン分の間隔をＹ方向にあけて、前記空間変調素子に割り当てさせることを特徴とするプログラム。
【請求項６】
前記二次元パターンの画像に対して、指定されたアライメント処理を実施させ、
前記フレームデータを作成する際には、前記アライメント処理された画像をＹせん断処理させること
を特徴とする請求項５記載のプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像データが表す２次元パターンを描画面上に形成する描画方法及び描画装置、及びプログラムに関し、特に、当該描画装置特有の傾き誤差並びに空間変調素子の配列を考慮したフレームデータを高速に作成し、且つ、フレームデータの各画素データを正確に空間変調素子に割り当てることが可能な描画方法及び描画装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、描画ヘッドにより、画像データが表す所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置が種々知られている。その代表的な例としては、半導体基板や印刷版の作成のために、露光ヘッドにより所望の２次元パターンを感光材料等の露光面上に形成する露光装置が挙げられる。かかる露光装置の露光ヘッドは、一般的に光源アレイや空間光変調素子といったような、多数の画素を有し所望の２次元パターンを構成する光点群を発生させる画素アレイを備えている。この露光ヘッドを、露光面に対して相対移動させながら動作させることにより、所望の２次元パターンを露光面上に形成することができる。なかでも近年、解像性の向上等のため画素が２次元状に配された画素アレイを備えた露光ヘッドを、各画素からの光線の走査線が別の画素からの光線の走査線と一致するようにして用い、露光面上の各点を実質的に複数回重ねて露光する形式（多重露光）の露光装置がいくつか提案されている。
【０００３】
特に、高解像度で且つムラのない画像を得ることが可能な露光装置として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）を用いるものがある。一般にＤＭＤは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーが２次元状に配列された露光ヘッドを有するミラーデバイスであり、露光ヘッドを露光面に沿った一定の方向に走査することで、実際の露光が行われる。このときマイクロミラーの２次元配列は、操作方向に対して一定の角度で傾斜するように設置されており、この傾斜角度によってより解像度の高い画像の描画が可能となっている（特許文献１参照）。
【０００４】
ここで、露光装置を用いて露光を行う際には、上述したようにＤＭＤの走査方向への相対的な移動に応じてフレームデータをＤＭＤに順次入力する必要がある。フレームデータとは、各マイクロミラーに対応する画素データを特定した上で再度配列しなおすなどして、元の画像（描画すべき画像）における画素データをＤＭＤの傾きを考慮した位置になるよう変形したものである。元の画像上においては、ＤＭＤのマイクロミラーに対応する画素データは離散的に存在していたものの、フレームデータにおいては連続するアドレス上に配置されているため、露光処理において、マイクロミラーに対応する画素データの取得がスムーズに行われることとなる。
【特許文献１】特開２００４−９５９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このフレームデータを作成する際に用いられる画像の変形処理として「Ｙせん断処理」の開発が進められている。Ｙせん断処理とは、画像の画素データの配列をＹ方向（画像の列方向）へ移動させて平行四辺形に変形させる処理をいい、変形後の画像が、Ｙせん断されたような形状になるものである。例えば、図１（Ａ）に示すようなＭ行Ｎ列の画像（元画像）を列方向（Ｙ方向）に、角度θでせん断変形する場合について説明する。ここで、角度θは、走査方向に対するＤＭＤの傾斜角度であり、Ｙせん断処理によって得られるフレームデータは、元の画像に対してＹ方向に角度θ分傾いたものとなる（図１（Ｂ））。言い換えれば、角度θで列方向にせん断すると、画像の一行の画像データは、
【数１】
2007013035.tif 000003
【０００６】
で表されるＳ行にわたって斜めに配列されることとなる。これによって、描画すべき元画像の画素データの位置が、各マイクロミラーに対応したものとなる。
【０００７】
Ｙせん断処理を実施する方法は種々あり、その一例を説明する。
【０００８】
元画像１（図１（Ａ））における元画像の画素データの位置を（Ｘ０，Ｙ０）とし、Ｙせん断処理後の画像の画素データのＹ方向位置Ｙ１とすると、その位置は、傾き角度θに対して以下のように定義する。以下のように定義される。
【数２】
2007013035.tif 000004
【０００９】
これを、画像の画素データ１列ごとに算出して、Ｙ方向に各々をシフトさせる。Ｙ方向の１列だけ読出すということは、すなわち、Ｘ０の値は一定であるから、読出された各画素データの位置は、Ｙ方向の一定のシフトを施されることになる。新たな位置データ（Ｘ０，Ｙ１）は、各画素データのＹせん断処理以前の位置データ（Ｘ０，Ｙ０）に上書きされていく。これを、画像のすべてのラインについて実施すると、各画素データの位置は図１（Ｂ）のようにＸ方向の位置を示す値が大きいほど各ラインのシフト量は大きくなり、最終的に各画素データは、元の画像をＹ方向にせん断したような位置に配置される。
【００１０】
あるいは別の手法として、同一行内の画素データを数列ごとのブロックにまとめてシフトさせてもよい。その場合は、まず、Ｙ０からＹ１へのシフト量の最大値を求める。各画素データのＹ０からＹ１へのシフト量は
【数３】
2007013035.tif 000005
【００１１】
であり、その最大値をＹ方向最大変形量Ｓとする。Ｙ方向最大変形量が自然数ではない場合は、小数点以下を四捨五入、切捨て、切り上げ等して、自然数にする。
【００１２】
続いて、ブロック幅を決定する。このとき、元画像のＸ方向の幅をＮとすると、各ブロックの幅、すなわちブロックのＸ方向の幅Ｂを、
【数４】
2007013035.tif 000006
【００１３】
と定義する。分割されたブロックごとにＹ方向への変形量を増やしながらシフトさせ、最後のブロックがＹ方向最大変形量であるＳだけシフトするように配置すればよい。このブロックの幅が、「Ｙせん断周期」であり、そのＹせん断周期に従って、Ｘ方向に画素データの不連続な箇所が画像の全ての行にわたって同じ列で生じ、この不連続な箇所を「Ｙせん断ライン」と呼ぶ（図１（Ｃ））。
【００１４】
他にもリングバッファに順次、各行の画素データを格納した後、Ｙ方向最大シフト量と画像幅に応じた角度でリングバッファのデータを画像の幅に相当する数だけ斜めに読み出し、読み出したデータをフレームデータの１行分として順次格納することによって、Ｙせん断処理を行う方法もある。いずれの手法によっても、Ｙせん断処理による画像の変形処理は画像の画素データの位置を列方向（すなわちＹ方向）への所定のシフトを画像のライン（行）ごとに実施するため、複雑な演算処理を要せず、高速に処理をすることができるという利点がある。
【００１５】
上述した従来のＹせん断処理によってフレームデータを作成すると、ＤＭＤの走査方向に対する傾き角度を補正することが可能となる。しかし、その一方で、フレームデータの各行には一定の画素数ごとにデータの不連続な個所が発生することや、ＤＭＤのマイクロミラーのミラーピッチとフレームデータの解像度とのズレ、また、露光装置のステージ送り量（露光解像度）とミラーピッチのズレなど考慮すべき誤差要因があり、より質の高い描画画像を得るためには、前述した誤差を補正することが可能な描画方法、装置の開発が求められていた。
【００１６】
本発明は上記事情に鑑み、１次元または２次元空間変調素子を走査して描画するシステムにおいて、空間変調素子の傾きにより発生する誤差のみならず、空間変調素子の配列によって決定される露光解像度とフレームデータの解像度とのズレに起因する誤差を補正可能なＹせん断処理によってフレームデータを作成するとともに、得られたフレームデータの画素データを各空間変調素子に正確に割り当てて、より質の高い描画画像を得る描画方法及び描画装置に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
すなわち本発明の描画装置は、１次元または２次元に配列された複数の空間変調素子からなる描画手段を走査して二次元パターンの画像をＮ重描画によって描画する描画装置であって、
前記二次元パターンの画像をＹせん断処理してフレームデータを作成するフレームデータ作成手段と、
前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当てるデータ配置手段と、
前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画する描画実施手段と、
を備え、
前記フレームデータ作成手段は、前記画像のＸ方向の幅を前記空間変調素子の配列の幅に応じて切り出し、フレームデータのＹ方向の解像度が、αを１以上の整数、Ｐを前記空間変調素子のピッチ、θを前記描画手段の走査方向に対する傾斜角度としたとき、
【数５】
2007013035.tif 000007
【００１８】
を満たすものとなるように前記画像のＹ方向の解像度を変換し、前記空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせたＹせん断処理を実施するものであり、
前記データ配置手段は、前記フレームデータの各画素データを前記空間変調素子に割り当てる際に、Ｎ≧２の場合Ｉ重目に描画すべき画素データとＩ＋１重目に描画すべき画素データの間にαライン分の間隔をＹ方向にあけて、前記空間変調素子に割り当てることを特徴とする描画装置である。
【００１９】
また、前記二次元パターンの画像に対して指定されたアライメント処理を実施するアライメント処理手段をさらに備え、前記フレームデータ作成手段は、前記アライメント処理手段によって処理された画像をＹせん断処理する描画装置であってもよい。
【００２０】
ここで、「指定されたアライメント処理」とは、例えば回転処理などの画像処理を示すものであり、特に画像処理の指定がなければ、アライメント処理手段は、元の二次元パターンの画像を出力するものとする。また、「空間変調素子のピッチ」とは、隣り合う空間変調素子の距離を示すものである。また、「空間変調素子のスワス」とは、１重の露光（描画）に用いる１列分の空間変調素子を示すものである。
【００２１】
尚、アライメント処理手段およびフレームデータ作成手段は、描画装置の内部に備えられた状態であってもよく、描画装置の外部にアクセス可能な状態で備えられた状態であってもよい。
【００２２】
また、本発明の描画方法は、１次元または２次元に配列された複数の空間変調素子からなる描画手段を走査して二次元パターンの画像をＮ重描画によって描画する描画方法であって、
前記二次元パターンの画像をＹせん断処理してフレームデータを作成し、
前記フレームデータを前記２次元空間変調素子へ割当て、
前記データ配置手段の割当てに従い、フレームデータの各画素を読み込んで描画するものであって、
前記フレームデータを作成する際に、前記画像のＸ方向の幅を前記空間変調素子の配列の幅に応じて切り出し、フレームデータのＹ方向の解像度が、αを１以上の整数、Ｐを前記空間変調素子のピッチ、θを前記描画手段の走査方向に対する傾斜角度としたとき、
【数６】
2007013035.tif 000008
【００２３】
を満たすものとなるように前記画像のＹ方向の解像度を変換し、前記空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせたＹせん断処理を実施するものであり、
前記データ配置手段は、前記フレームデータの各画素データを前記空間変調素子に割り当てる際に、Ｎ≧２の場合にＩ重目に描画すべき画素データとＩ＋１重目に描画すべき画素データの間にαライン分の間隔をＹ方向にあけて、前記空間変調素子に割り当てることを特徴とする描画方法である。
【００２４】
また、前記二次元パターンの画像に対して指定されたアライメント処理を実施した上で、前記フレームデータを作成する際は、前記アライメント処理された画像をＹせん断処理する描画方法であってもよい。
【００２５】
尚、本発明は上記の描画方法をコンピュータに実施させる描画プログラムであってもよい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の描画装置及び描画方法によれば、Ｙせん断処理によって得たフレームデータの画素データを、空間変調素子へ正確にデータマッピングすることができ、より質の高い描画画像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の実施例として、例えば、図２に示すような描画システム１がある。描画システム１は、描画すべき画像を取り込み、必要に応じて回転処理等のアライメント画像処理を実施する手段１０、予め設定されている描画素子の傾きに応じて変形処理を行いフレームデータを作成する手段２０、さらに、描画装置の描画素子に画像処理をしたフレームデータの各画素の位置を対応づける処理を行うマッピング処理手段３０、実際の描画処理を行う描画素子(例えばＤＭＤ等)を備え多重描画（多重露光）が可能な描画を実施する手段４０から成る。アライメント画像処理を実施する手段１０、フレームデータを作成する手段２０、フレームデータの各画素の位置を対応づける処理等を行うマッピング処理手段３０は、いずれも、描画を実施する手段４０の外部装置であってもよいし、装置として一体に備えられたものであってもよい。
【００２８】
描画を実施する手段４０の一例として、図３にＤＭＤによる露光装置３１０の構成を示す。露光装置３１０は、図３に示すように、シート状の感光材料３１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド３２０が設置されている。ステージ３１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド３２０によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置３１０には、移動手段としてのステージ３１４をガイド３２０に沿って駆動するステージ駆動装置（図示せず）が設けられている。
【００２９】
設置台３１８の中央部には、ステージ３１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート３２２が設けられている。コの字状のゲート３２２の端部の各々は、設置台３１８の両側面に固定されている。このゲート３２２を挟んで一方の側にはスキャナ３２４が設けられ、他方の側には感光材料３１２の先端および後端を検知する複数（たとえば２個）のセンサ３２６が設けられている。スキャナ３２４およびセンサ３２６はゲート３２２に各々取り付けられて、ステージ３１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ３２４およびセンサ３２６は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。ここで、説明のため、ステージ３１４の表面と平行な平面内に、図３に示すように、互いに直交するＸ軸およびＹ軸を規定する。ステージ３１４の走査方向に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、Ｘ軸の方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット３２８が、等間隔で１０本形成されている。各スリット３２８は、上流側に位置するスリット３２８ａと下流側に位置するスリット３２８ｂとからなっている。スリット３２８ａとスリット３２８ｂとは互いに直交するとともに、Ｘ軸に対してスリット３２８ａは−４５度、スリット３２８ｂは＋４５度の角度を有している。ステージ３１４内部の各スリット３２８の下方の位置には、それぞれ単一セル型の光検出器（図示せず）が組み込まれている。各光検出器は、後述する使用画素選択処理を行う演算装置（図示せず）に接続されている。
【００３０】
スキャナ３２４には、図４に示すような２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３３０を備えており、各露光ヘッド３３０は、その内部に図５に示すようなデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３３６を備えている。また露光ヘッド３３０は、ＤＭＤの画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように、スキャナ３２４に取り付けられていて、図６に示すように描画すべき画像１の画素データの位置とＤＭＤの配列は一意ではない。
【００３１】
アライメント画像処理を実施する手段１０は、描画すべき画像（元画像）に対して、回転処理などを必要に応じて実施する手段である。
【００３２】
また、フレームデータを作成する手段２０は、上述のように、描画装置の描画素子（例えばＤＭＤ）の走査方向への傾き角度θＤＭＤという予め描画装置の特性として設定されている値と、ＤＭＤのミラー配置とを考慮して、画像をＹせん断処理によって変形し、フレームデータを作成するものである。フレームデータ作成手段へ入力されるのは、元の画像か、あるいは必要に応じてそれに回転処理などを施された画像である。フレームデータを作成する手段２０は、アライメント画像処理を実施された画像に対して、Ｘ方向にＤＭＤのミラー配列の幅方向に対応する幅だけ画像を切り出す。具体的には、Ｘ方向のミラー間隔（Ｘ方向のミラーピッチ）×Ｘ方向のミラー数に相当する幅の画像を切り出す。これによって、ＤＭＤのミラー配列とフレームデータのＸ方向の解像度が揃う。続いて、Ｙせん断処理を実施する際に、フレームデータのＹ方向の解像度をミラー配置と揃うように、フレームデータのＹせん断ラインの周期を空間変調素子のスワスの周期に合わせ、フレームデータのＹ方向の解像度を
【数７】
2007013035.tif 000009
【００３３】
（ここで、αは１以上の正の整数、ＰＭはミラーピッチ、θＤＭＤはＤＭＤの走査方向に対する傾斜角度）
を満たすように変更する。ここで、ミラーの配置とＤＭＤの傾き角度、ステージ進行方向（ＤＭＤの走査方向の逆方向に相当）との関係は、図７に示すとおりである。
【００３４】
Ｘ方向の解像度、Ｙ方向の解像度ともに、ＤＭＤのミラー配置との整合性がとれたら、Ｙせん断処理を実施する。このとき、空間変調素子のスワスの周期とスワスの位置に合わせてＹせん断処理を実施する。すなわち、１重露光に用いる空間変調素子の１列分と同じ画素数を、画像の同一行から一度に読み出すＹせん断周期とするものである。
【００３５】
以上の動作によって、ＤＭＤの走査方向に対する傾斜角度のみならず、その空間変調素子のミラーピッチを反映したフレームデータを得ることができる。
【００３６】
続いて、マッピング処理手段３０によって、前記フレームデータを各ミラーに割り当てる。このとき、多重露光をする場合には、Ｉ重目の露光データ位置とＩ＋１重目の露光データ位置との間に１ラインデータ分Ｙ方向にあけて、フレームデータの画素データを空間変調素子（各マイクロミラー）へ割り当てるようにする。
【００３７】
これによって、図８に示すような描画結果と露光面のＤＭＤのミラー配置（ミラーの配列）との関係は、図９に示すように、フレームデータ上のＤＭＤミラー配置に変換されて、各空間変調素子に画素データが正確に割り当てられる。
【００３８】
描画装置４０は、割り当てられた画素データを、順次読み込み描画を実施する。
【００３９】
次に、本発明の描画方法について、図１０のフローチャートを参照しながら具体的な手順を説明する。
【００４０】
まず、描画すべき二次元パターンの画像を読み込み、必要に応じて回転処理等のアライメント処理を施す（Ｓｔ．１００）。このとき、アライメント処理の必要がなければ、読み込んだ元の画像をそのまま出力するようにすればよい。
【００４１】
続いて、フレームデータを作成する（Ｓｔ．２００）。ここでは、まず、ステップ１００から得た画像のＸ方向の幅を、ＤＭＤの幅に応じて決定する（Ｓｔ．２０１）。具体的には、Ｘ方向のミラー間隔（Ｘ方向のミラーピッチ）×Ｘ方向のミラー数に相当する幅の画像を切り出す。このとき、ＤＭＤのミラー配列とフレームデータのＸ方向の解像度を揃える。続いて、Ｙ方向の解像度を決定する（Ｓｔ．２０２）。具体的には、フレームデータのＹ方向の解像度をミラー配置と揃うように、フレームデータのＹ方向の解像度が、
【数８】
2007013035.tif 000010
【００４２】
（ここで、αは１以上の正の整数、ＰＭはミラーピッチ、θＤＭＤはＤＭＤの走査方向に対する傾斜角度）
を満たすように変更する。次に、Ｙせん断処理を実施する際のＹせん断位置及びＹせん断周期を決定する（Ｓｔ．２０３）。このＹせん断周期とは、Ｙせん断処理前の画像の同一行から一度に読み出す画素数を指すもので、本発明においては、このＹせん断周期をＤＭＤのスワスの周期と同じものに決定する。この、「スワスの周期」とは、ＤＭＤの１重露光に用いる１列分のマイクロミラーの数である。また、Ｙせん断位置とは、Ｙせん断処理前の画像において異なる行に配置されていた画素どうしが、Ｙせん断処理後の同一行で隣り合って配置される箇所をさす。すなわち、Ｙせん断処理後の同一行においてデータの不連続が生じる位置をさす。このＹせん断位置についても、本発明においては、ＤＭＤのスワスの位置に合わせて決定する。ここで、「スワスの位置」とは、ＤＭＤの１重露光に用いる１列分のマイクロミラーの配置位置である。
【００４３】
以上決定した、Ｘ方向の幅、Ｙ方向の解像度、Ｙせん断位置とＹせん断周期によって、Ｙせん断処理を実施して（Ｓｔ．２０４）、フレームデータが作成される。
【００４４】
続いて、作成されたフレームデータの各画素データをＤＭＤの各マイクロミラーに割り当てていく（Ｓｔ．３００）。このとき、多重露光をする場合には、Ｉ重目の露光データ位置とＩ＋１重目の露光データ位置との間にαラインデータ分Ｙ方向にあけて、フレームデータの画素データを空間変調素子（各マイクロミラー）へ割り当てるようにする。
【００４５】
上記の割り当てに従って、フレームデータの画素データが順次読み出されて、指定されたマイクロミラーによって露光面上に露光される（Ｓｔ．４００）。
【００４６】
以上、本発明の描画方法、描画装置について詳細に説明したが実施形態の一例に過ぎず、例えば、詳述した各手順をコンピューターに実行させるプログラムの形態であってもよい。
【００４７】
尚、本発明の描画方法及び描画装置は、ＤＭＤによる露光装置および露光方法に限らず、画像データが表す２次元パターンを描画面上に形成する描画装置および描画方法であれば、いかなる装置および方法にも適用可能である。一例としては、たとえばインクジェットプリンタやインクジェット方式のプリント方法が挙げられる。すなわち、一般にインクジェットプリンタのインクジェット記録ヘッドには、記録媒体(たとえば記録用紙やＯＨＰシートなど)に対向するノズル面に、インク滴を吐出するノズルが形成されているが、インクジェットプリンタのなかには、このノズルを格子状に複数配置し、ヘッド自体を走査方向に対して傾斜させて描画することにより画像を記録可能なものがある。このような２次元配列が採用されたインクジェットプリンタにおいて、ヘッドの傾斜角度を補正するために、本発明の位相ずらしＹせん断を用いてフレームデータを作成するようにしてもよい。
【００４８】
また、本発明の描画装置は、詳述したフレームデータ作成手段やアライメント処理手段をその内部に備える、ＤＭＤによる露光装置や、インクジェットプリンタ等でもよいし、外部に接続可能な状態で適用するものであってもよい。
【００４９】
また、本発明の他の実施形態としては、詳述した本発明の描画方法をコンピュータに実行させるプログラムであってもよい。
【００５０】
また、上記において詳細に説明した本発明の各実施形態は例示的なものに過ぎず、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲のみによって定められるべきものであることは言うまでもない。
【００５１】
以上、本発明の描画方法および装置によれば、描画装置特有の描画手段の傾きに起因する誤差の補正のみならず、描画手段が備える空間変調素子の配列を考慮した解像度のフレームデータを作成し、且つ、作成したフレームデータを正確に空間変調素子に割り当てることによって、より質の高い描画画像を得ることができる。また、フレームデータを作成する際に、上記誤差の補正が可能なＹせん断処理を実施することにより、高速にフレームデータを作成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】従来のＹせん断処理による画像の変形を説明する図であって、（Ａ）は元画像、（Ｂ）はＹせん断後の画像、（Ｃ）はＹせん断によるせん断ラインを示す図。
【図２】本発明を実施する描画システムの例を示す図。
【図３】本発明を適用可能な描画装置（露光装置）の例を示す図。
【図４】図３の描画装置（露光装置）のスキャナの構成を示す図。
【図５】図４のスキャナが備えるＤＭＤを示す図。
【図６】描画すべき画像の画素データとＤＭＤの走査方向に対する傾き角度について説明する図。
【図７】ＤＭＤのミラーピッチについて説明する図。
【図８】露光面のＤＭＤミラー配置を示す図。
【図９】本発明におけるフレームデータ上のＤＭＤミラー配置を示す図。
【図１０】本発明の描画方法の手順を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００５３】
１    描画システム
１０   フレームデータ作成手段
２０   アライメント画像処理手段
３０   マッピング処理手段
４０   描画装置
３１０  露光装置
３１２  感光材料
３１４  移動ステージ
３１８  設置台
３２０  ガイド
３２２  ゲート
３２４  スキャナ
３２６  センサ
３２８  スリット
３３０  露光ヘッド
３３６  ＤＭＤ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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