(57)【要約】【課題】磁気転写を行う際のサブパルスを除去でき、高密度記録に対応した磁気転写用マスター記録媒体、この磁気転写用マスター記録媒体を使用した磁気転写方法、及びこの磁気転写方法により磁気情報を記録した磁気記録媒体を提供する。【解決手段】表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている円盤状の磁気記録媒体である。最内周側の磁性層パターンの厚さｔｌを最外周側の磁性層パターンの厚さｔ２より小とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている円盤状の磁気記録媒体であって、
最内周側の前記磁性層パターンの厚さｔｌが最外周側の前記磁性層パターンの厚さｔ２より小であることを特徴とする磁気転写用マスター記録媒体。
【請求項２】
前記磁性層パターンの厚さｔが、最内周側の厚さｔｌより最外周側の厚さｔ２まで増大するように形成されている請求項１に記載の磁気転写用マスター記録媒体。
【請求項３】
前記磁性層にＦｅ、Ｃｏ及びＮｉのうちの１以上が含まれ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉの含有率の合計が該磁性層の８０質量％以上である請求項１又は２に記載の磁気転写用マスター記録媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気転写用マスター記録媒体と被転写用媒体とを密着させる密着工程と、
磁界生成手段を設け、前記被転写用媒体と前記マスター記録媒体の円周方向に磁界を加え、前記マスター記録媒体の磁気パターンを前記被転写用媒体に転写させる磁気転写工程と、
を備えることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項５】
請求項４に記載の磁気転写方法によって磁気情報を記録したことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気転写用マスター記録媒体、磁気転写方法、及び磁気記録媒体に係り、特に、ハードディスク装置等に用いられる磁気ディスクに、マスターディスクからフォーマット情報等の磁気情報パターンを転写するのに好適な磁気転写用マスター記録媒体、この磁気転写用マスター記録媒体を使用した磁気転写方法、及びこの磁気転写方法により磁気情報を記録した磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に普及しているハードディスクドライブに使用される磁気ディスク（ハードディスク）は、磁気ディスクメーカーよりドライブメーカーに納入された後、ドライブに組み込まれる前に、フォーマット情報やアドレス情報が書き込まれるのが一般的である。この書き込みは、磁気ヘッドにより行うこともできるが、これらのフォーマット情報やアドレス情報が書き込まれているマスターディスクより一括転写する方法が効率的であり、好ましい。
【０００３】
この磁気転写技術は、マスターディスクと被転写ディスク（スレーブディスク）とを密着させた状態で、片側又は両側に電磁石装置、永久磁石装置等の磁界生成手段を配設して転写用磁界を印加し、マスターディスクの有する情報（たとえばサーボ信号）に対応する磁化パターンの転写を行うものである。
【０００４】
この磁気転写では、マスターディスクとスレーブディスクとの相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【０００５】
特に、近年の電子線描画技術に代表される超微細加工技術の進歩により、最短ビット長が１００ｎｍ以下である信号のパターニングも可能となり、現在のハードディスクの面密度相当の信号の一括書き込みを磁気転写により行うことも可能となってきた。
【０００６】
従来より、この種の磁気転写技術として各種の提案がなされている（たとえば、特許文献１、２等。）。この特許文献１の提案は、基板の表面に情報信号に対応する磁性材料からなる凹凸形状が形成されたマスターディスクより一括転写するものである。特許文献２の提案は、磁気転写の際にマスターディスクとスレーブディスクとの密着性を向上させるものである。そして、これらの提案により、高密度の磁気転写ができるとされている。
【特許文献１】特開平１０−４０５４４号公報
【特許文献２】特開平１０−２６９５６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、磁気転写方法における技術的な問題点の一つとして、マスター媒体（マスターディスク）からスレーブ媒体（スレーブディスク）への信号の転写において、スレーブ媒体上に不明瞭な磁気記録部（反転磁化）が発生するという問題がある。これを図９によって説明する。なお、この問題点は、従来の磁気ヘッドによる書き込みでは生じていなかった磁気転写に固有の問題点である。
【０００８】
図９は、転写信号のパルス波形を示す図である。正常な磁気転写が行われた場合には、（ａ）に示されるように、正のパルス波形ＰP、ＰP…と負のパルス波形ＰN、ＰN…とが交互に生じる。ところが、正常な磁気転写が行われずに、（ｂ）に示されるように、正のパルス波形ＰPと負のパルス波形ＰNとの間に偽のパルスであるサブパルスＰS、ＰS…を生じることがある。
【０００９】
このサブパルスＰSは、その振幅高さが本来のパルス（正のパルスＰP及び負のパルスＰN）の振幅高さに対してどの程度であるかが重要となる。すなわち、サブパルスＰSの振幅高さが本来のパルスの振幅高さに対して無視できないレベルであった場合、本来のパルスとの区別がつきにくくなり、サブパルスを再生信号として認識しエラーを発生することとなる。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、磁気転写を行う際のサブパルスを低減でき、高密度記録に対応した磁気転写用マスター記録媒体、この磁気転写用マスター記録媒体を使用した磁気転写方法、及びこの磁気転写方法により磁気情報を記録した磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するために、本発明は、表面に多数の微細な凹凸状の磁性層パターンが形成されている円盤状の磁気記録媒体であって、最内周側の前記磁性層パターンの厚さｔｌが最外周側の前記磁性層パターンの厚さｔ２より小であることを特徴とする磁気転写用マスター記録媒体を提供する。
【００１２】
本発明者らは、上記課題解決のため各種の検討を行った結果、サブパルスはスレーブ媒体の内周部近傍に比べ、外周部近傍に多発することに注目した。そして、これを解決するために、磁性層パターンの厚さと円周方向（トラック方向）の長さとのアスペクト比を適正範囲に管理することによりサブパルスを低減できることを見出した。
【００１３】
すなわち、磁性層パターンの厚さをディスクの面内で一定とした場合、磁性層パターンのアスペクト比（パターン厚さ／トラック方向長さ）は、内周部に比べ外周部で小となる。そして、このアスペクト比が小さくなるにしたがって、サブパルスの発生頻度が増大することが後述するシミュレーション等により明らかになった。
【００１４】
したがって、外周部におけるアスペクト比が内周部におけるアスペクト比に近付くように磁性層パターンの厚さを管理することによりサブパルスの発生が低減できる。そして、これにより、高密度記録に対応した磁気転写用マスター記録媒体が得られる。
【００１５】
本発明において、前記磁性層パターンの厚さｔが、最内周側の厚さｔｌより最外周側の厚さｔ２まで増大するように形成されていることが好ましい。このように、磁性層パターンの厚さｔが、最内周側の厚さｔｌより最外周側の厚さｔ２まで、径の増大にしたがって、連続的に又は断続的に増大するように形成されていれば、サブパルスの低減の方策として有効である。
【００１６】
また、本発明において、前記磁性層にＦｅ、Ｃｏ及びＮｉのうちの１以上が含まれ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉの含有率の合計が該磁性層の８０質量％以上であることが好ましい。このような組成の磁性層は、磁気特性が良好であり、磁気転写用マスター記録媒体に好適である。
【００１７】
また、本発明は、前記の磁気転写用マスター記録媒体と被転写用媒体とを密着させる密着工程と、磁界生成手段を設け、前記被転写用媒体と前記マスター記録媒体の円周方向に磁界を加え、前記マスター記録媒体の磁気パターンを前記被転写用媒体に転写させる磁気転写工程と、を備えることを特徴とする磁気転写方法を提供する。
【００１８】
本発明によれば、サブパルスが発生しにくい磁気転写用マスター記録媒体を使用して被転写用媒体に磁気転写を行うので、被転写用媒体（スレーブディスク）への転写もエラーなく行える。
【００１９】
また、本発明は、前記の磁気転写方法によって磁気情報を記録したことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。本発明によれば、磁気転写を行う際のサブパルスの影響を除去でき、高密度記録に対応した磁気記録媒体（スレーブディスク）が得られる。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明によれば、磁気転写を行う際のサブパルスの影響を除去でき、高密度記録に対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面に従って、本発明に係る磁気転写用マスター記録媒体、磁気転写方法、及び磁気記録媒体の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２２】
図１は、磁気記録媒体である磁気転写用マスターディスク４６の磁性層パターンを示した図である。このマスターディスク４６の表面には、複雑な磁性層パターンにより構成されるサーボウェッジ１０Ａ、１０Ａ…（ハッチング部分）と、サーボウェッジ１０Ａ、１０Ａ…の間に形成されるギャップ１０Ｂ、１０Ｂ…と呼ばれる磁性層のほとんどない部分（白地部分）が交互に形成されている。
【００２３】
図２は、磁気転写用マスターディスク４６、又はマスターディスク４６により磁気転写された磁気ディスク（スレーブディスク）を回転させ、磁気ヘッドがサーボウェッジ１０Ａ、１０Ａ…を通過するときに再生される信号の波形を示したものである。図２において、期間Ｔ１０Ａの範囲がサーボウェッジ１０Ａの１ピッチ分の信号であり、期間Ｔ１０Ｂはギャップ１０Ｂの１ピッチ分の信号（信号なし）である。
【００２４】
サーボウェッジ１０Ａの１ピッチ分の信号は、先頭（図の左）より、最初のプリアンブル５０、サーボタイミングマーク５２、セクターアドレス５４、シリンダーアドレス５６、定周期のバースト信号５８（５８Ａ、５８Ｂ、５８Ｃ、及び５８Ｄの４種よりなる）、及び最後のプリアンブル６０よりなる。
【００２５】
図３は、マスターディスク４６の表面の微細な突起状パターンを示す部分拡大斜視図である。マスターディスク４６は円盤状に形成され、基板４７の片面に磁性層（軟磁性層）４８による微細な突起状パターンが形成された転写情報担持面が形成されており、基板４７の反対側の面が不図示の密着手段に保持されている。この微細な突起状パターンの形成は、後述するフォトファブリケーション法等によりなされる。このマスターディスク４６の片面（転写情報担持面）は、スレーブディスク４０と密着される。
【００２６】
微細な突起状パターンは、平面視で長方形であり、厚さｔの磁性層４８が形成された状態で、トラック方向（図中の太矢印方向）の長さｂと、半径方向の長さｌとよりなる。この長さｂとｌの最適値は、記録密度や記録信号波形等により異なるが、たとえば、長さｂを８０ｎｍに、長さｌを２００ｎｍにできる。
【００２７】
この微細な突起状パターンはサーボ信号の場合は、半径方向に長く形成される。この場合、たとえば、半径方向の長さｌが０．０５〜２０μｍ、トラック方向（円周方向）の長さが０．０５〜５μｍであることが好ましい。この範囲で半径方向の方が長いパターンを選ぶことが、サーボ信号の情報を担持するパターンとしては好ましい。
【００２８】
基板４７表面の微細な突起状パターンの深さ（突起の高さ）は、８０〜８００ｎｍの範囲が好ましく、１００〜６００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００２９】
以上のように、基板４７表面の微細な突起状パターンの磁性層４８が、磁性層パターンに該当し、微細な突起状パターン同士の間の凹部が非磁性層パターンに該当する。
【００３０】
マスターディスク４６において、基板４７がＮｉ等を主体とした強磁性体の場合には、この基板４７のみで磁気転写が可能であり、磁性層４８は被覆しなくてもよいが、転写特性のよい磁性層４８を設けることにより、より良好な磁気転写が行える。基板４７が非磁性体の場合には、磁性層４８を設けることが必要である。マスターディスク４６の磁性層４８は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性層であることが好ましい。
【００３１】
マスターディスク４６の基板４７としては、ニッケル、シリコン、石英ガラス等各種組成のガラス、アルミニウム、合金、各種組成のセラミックス、合成樹脂等が使用できる。この基板４７表面の凹凸パターンの形成は、フォトファブリケーション法や、フォトファブリケーション法等で形成した原盤によるスタンパー法、等によって行える。
【００３２】
スタンパー法における原盤の形成は、たとえば、以下のように行える。表面が平滑なガラス板（又は石英ガラス板）の上にスピンコート法等によりフォトレジストの層を形成し、プレベーク後に、このガラス板を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザー光（又は電子ビーム）を照射し、フォトレジスト層の略全面に所定のパターン、たとえば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。
【００３３】
その後、フォトレジストの層を現像処理し、露光部分が除去されたフォトレジストの層により形成された凹凸形状を有するガラス原盤を得る。次いで、ガラス原盤の表面の凹凸パターンを基に、この表面にメッキ（電鋳）を施し所定厚さまで形成することにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ基板を作成する。そして、この基板をガラス原盤から剥離する。
【００３４】
この基板をそのままプレス原盤とするか、凹凸パターン上に必要に応じて軟磁性層、保護膜等を被覆してプレス原盤とする。
【００３５】
また、ガラス原盤にメッキを施して、電鋳により第２の原盤を作成し、この第２の原盤に更にメッキを施して、電鋳によりネガ状凹凸パターンを有する反転原盤を作成してもよい。更に、第２の原盤にメッキを施して電鋳を行うか、低粘度の樹脂を押し付けて硬化させるかした、第３の原盤を作成し、第３の原盤にメッキを施して電鋳を行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作成してもよい。
【００３６】
基板の材料としては、金属ではＮｉ又はＮｉ合金を使用することができる。この基板を作成するメッキ法としては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法等が適用できる。
【００３７】
磁性層４８（軟磁性層）の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などにより成膜する。磁性層４８の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができる。特に、ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉが好ましく用いることができる。
【００３８】
そして、磁性層４８にＦｅ、Ｃｏ及びＮｉのうちの１以上が含まれ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉの含有率の合計が磁性層４８の８０質量％以上であることが好ましい。このような組成の磁性層４８は、磁気特性が良好であり、磁気転写用マスターディスク４６に好適である。
【００３９】
磁性層４８の厚さｔ（マスターディスク４６の全面における平均厚さｔ）は、５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲が好ましく、１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲が更に好ましい。そして、最内周側の磁性層４８の厚さｔｌが最外周側の磁性層４８の厚さｔ２より小であることが求められる。更に、磁性層４８の厚さｔが、最内周側の厚さｔｌより最外周側の厚さｔ２まで連続的に増大するように形成されていることが好ましい。
【００４０】
たとえば、半径方向中央部（最外周部と最内周部との中間）における微細な突起状パターンのトラック方向（図３中の太矢印方向）の長さｂＭが８０ｎｍであった場合、最内周部におけるトラック方向長さｂＩは、８０ｎｍより小さく、最外周部におけるトラック方向長さｂＯは、８０ｎｍより大きくなる。
【００４１】
この場合であっても、磁性層４８パターンのアスペクト比（パターン厚さｔ／トラック方向長さｂ）が面内で一定になるように磁性層４８の厚さｔを制御すれば、アスペクト比を一定に維持できる。これにより、高サブパルスの発生が抑制でき、高密度記録に対応した磁気転写用マスターディスク４６が得られる。
【００４２】
図３の構成のマスターディスク４６で、磁性層４８の厚さｔを最内周側の厚さｔｌより最外周側の厚さｔ２まで連続的に増大するように形成するには、たとえば、スパッタリング法において、ターゲットと基板との間に遮蔽板を設け、遮蔽板を内周側から外周側に向って開口率が連続的に変化するように形成すればよい。
【００４３】
後述する他の実施形態における図８（ａ）の構成においても、上記のような遮蔽板を使用したスパッタリング法により対処可能である。
【００４４】
一方、後述する他の実施形態における図８（ｂ）の構成においては、マスターディスク４６の基板４７の形成をＲＩＥ（Reactive Ion Eching）により行う。この場合、パターン情報に対応した凹凸をＥＢ描画、現像により作製した後、ＲＩＥ工程においてステージ外周側にガス流れを調整するフォーカスリングを設置し、内外周でエッチング特性（特にエッチングレート）を変化させる。すなわち、内外周で磁性層４８が埋め込まれる深さが異なるように加工する。
【００４５】
エッチング条件としては、たとえば、ＣＨＦ３／ＳＦ６＝４８／２ｓｃｃｍ、０．６Ｐａ、ＩＣＰ／Ｂｉａｓ＝１００／３０Ｗとする。なお、エッチング条件は、装置構造やプロセス条件により大きく異なる。
【００４６】
図３に戻って、磁性層４８の上にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護膜を設けることが好ましく、保護膜の上に更に潤滑剤層を設けてもよい。この場合、保護膜として厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜と潤滑剤層とする構成が好ましい。また、磁性層４８と保護膜との間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤は、スレーブディスク４０との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などの耐久性の劣化を改善する効果を有する。
【００４７】
マスターディスク４６として、前記のプレス原盤を用いて樹脂基板を作製し、その表面に磁性層を設けて形成してもよい。樹脂基板の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが使用できる。
【００４８】
このうち、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートが好ましい。成形品にばりがある場合は、これをバーニシュ又は研磨加工により除去する。また、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用して、プレス原盤にスピンコート、バーコート等の塗布によりマスターディスク４６を形成してもよい。樹脂基板のパターン突起の高さは、５０〜１０００ｎｍの範囲が好ましく、１００〜５００ｎｍの範囲が更に好ましい。
【００４９】
この樹脂基板の表面の微細パターンの上に磁性層４８を被覆しマスターディスク４６を得る。磁性層４８の形成は、磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法などによる成膜方法で行える。
【００５０】
一方、マスターディスク４６の形成方法の１種であるフォトファブリケーション法は、以下の手順で行う。先ず、たとえば、平板状の基板の平滑な表面にフォトレジストを塗布し、サーボ信号のパターンに応じたフォトマスクを用いた露光、現像処理により、情報に応じたパターンを形成させる。
【００５１】
次いで、エッチング工程により、パターンに応じて基板のエッチングを行い、磁性層４８の厚さに相当する深さの穴を形成する。次いで、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜方法、メッキ法等により、形成した穴に対応した厚さで基板の表面まで磁性材料を成膜する。
【００５２】
次いで、フォトレジストをリフトオフ法で除去し、表面を研磨して、ばりがある場合には、これを取り除くとともに、表面を平滑化する。
【００５３】
次に、スレーブディスク４０（図４〜図７参照）について説明する。スレーブディスク４０は、両面又は片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体であり、マスターディスク４６に密着させる以前に、グライドヘッド、研磨体などにより表面の微小突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシィング等）が必要に応じて施される。また、スレーブディスク４０には予め初期磁化が施される。この詳細は後述する。
【００５４】
スレーブディスク４０としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体が使用できる。スレーブディスク４０の磁気記録層には、塗布型磁気記録層、メッキ型磁気記録層、又は金属薄膜型磁気記録層が採用できる。
【００５５】
金属薄膜型磁気記録層の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。これらは、磁束密度が大きいこと、磁界印加方向と同じ方向（面内記録なら面内方向）の磁気異方性を有していることより、明瞭な転写が行えるため好ましい。
【００５６】
そして磁性材料の下（支持体側）に必要な磁気異方性を付与するために、非磁性の下地層を設けることが好ましい。この下地層には、結晶構造と格子定数を磁性層４８に合わすことが必要である。そのためには、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を用いることが好ましい。
【００５７】
次に、磁気転写の概要について説明する。図４は磁気転写用マスターディスク４６を使用して磁気転写を行うための磁気転写装置１０の要部斜視図である。
【００５８】
磁気転写時には図５（ａ）に示される後述する初期直流磁化を行った後のスレーブディスク４０のスレーブ面（磁気記録面）を、マスターディスク４６の情報担持面（磁性層４８）に接触させ、所定の押圧力で密着させる。そして、このスレーブディスク４０とマスターディスク４６との密着状態で、磁界生成手段３０により転写用磁界を印加して、マスターディスク４６の凹凸パターンをスレーブディスク４０に転写する。
【００５９】
マスターディスク４６による磁気転写は、スレーブディスク４０の片面にマスターディスク４６を密着させて片面に転写を行う場合と、図示しないが、スレーブディスク４０の両面に一対のマスターディスク４６を密着させて両面で同時転写を行う場合とがある。
【００６０】
転写用磁界を印加する磁界生成手段３０は、密着保持されたスレーブディスク４０とマスターディスク４６の半径方向に延びるギャップ３１を有するコア３２にコイル３３が巻き付けられた電磁石装置３４、３４が上下両側に配設されており、上下で同じ方向にトラック方向と平行な磁力線を有する転写用磁界を印加する。
【００６１】
磁界印加時には、スレーブディスク４０とマスターディスク４６とを一体的に回転させつつ磁界生成手段３０によって転写用磁界を印加させ、マスターディスク４６の凹凸パターンをスレーブディスク４０のスレーブ面に磁気的に転写する。なお、この構成以外に磁界生成手段の方を回転移動させるようにしてもよい。
【００６２】
図５は、面内記録による磁気転写方法の基本工程を説明する説明図である。図６は、同じく斜視図である。先ず、図５（ａ）に示されるように、予めスレーブディスク４０に初期磁界Ｈｂ をトラック方向の一方向に印加して初期磁化（直流消磁）を施しておく。
【００６３】
次に、図５（ｂ）及び図６に示されるように、このスレーブディスク４０の記録面（磁気記録部）とマスターディスク４６の凹凸パターンＰが形成された情報担持面とを密着させ、スレーブディスク４０のトラック方向に初期磁界Ｈｂ とは逆方向に転写用磁界Ｈａ を印加して磁気転写を行う。転写用磁界Ｈａ が凹凸パターンの凸部の磁性層４８に吸い込まれてこの部分の磁化は反転せず、その他の部分の磁界が反転する結果、図５（ｃ）及び図６に示されるように、スレーブディスク４０の磁気記録面にはマスターディスク４６の凹凸パターンが磁気的に転写記録される。
【００６４】
次に、サブパルスの発生現象について説明する。図７は、スレーブディスク４０に外部磁場を印加した際に、磁性層に発生する磁場分布を示すシミュレーション結果を示すグラフである。このうち、（ａ）は、外周部分の結果であり、（ｂ）は、内周部分の結果である。
【００６５】
スレーブディスク４０は、外径６５ｍｍ（公称２．５インチ）で、磁性層の保磁力Ｈｃが３０１０Ｏｅ（２．３８×１０５Ａ／ｍ）のものである。マスターディスク４６の凹凸パターン（図３参照）のトラック方向長さｂは、（ａ）の外周部分では３００ｎｍであり、（ｂ）の内周部分では１００ｎｍである。非磁性層パターン（凹部）のトラック方向長さは、いずれも３００ｎｍである。また、マスターディスク４６の磁性層４８の厚さは、面内の各部において１００ｎｍである（均一厚さ）。
【００６６】
印加する外部磁場の強度は、３０００Ｏｅ（２．３７×１０５Ａ／ｍ）、４０００Ｏｅ（３．１６×１０５Ａ／ｍ）、５０００Ｏｅ（３．９５×１０５Ａ／ｍ）、及び、６０００Ｏｅ（４．７４×１０５Ａ／ｍ）の４種である。
【００６７】
図７の（ａ）及び（ｂ）のグラフにおいて、横軸は、スレーブディスク４０の円周方向の位置であり、縦軸は、磁場強度である。
【００６８】
以上のグラフにおいて、磁極からの外部への磁場の影響は距離のおよそ２乗で減少していくが、磁性体内部への磁場の影響も距離のおよそ２乗で減少していくことが分かった。外部への磁場の影響と同様に、磁性体の内部磁場分布は、両磁極からの磁場強度の重ね合わせで成り立つといえる。
【００６９】
マスターディスク４６の非磁性層パターン部と同様、磁性層の上部の形状比が磁場印加方向に大きくなっていくと、上部の磁性体直上に磁場のツノ形状を発生させ、サブパルスの原因となる。この傾向は、特に外周側（ａ）において顕著である。
【００７０】
以上から、外周側転写領域においてサブパルスが発生しやすいのは、外周側軟磁性層形状のアスペクト比（パターン厚さ／トラック方向長さ）が小さいためである。したがって、サブパルス低減の指針として、マスターディスク４６の内周に比べ、外周側の軟磁性層を厚く設計し、この部分のアスペクト比を大きくすることが有効である。
【００７１】
以上説明した本発明の実施形態によれば、磁気転写を行う際のサブパルスの影響を除去でき、高密度記録に対応できる。
【００７２】
なお、スレーブディスク４０は、磁気記録装置（ハードディスクドライブ）に組み込んで好適に使用できる。これに使用されるハードディスクドライブとしては、各ドライブメーカーより販売されている公知の各種装置を使用すればよい。
【００７３】
以上、本発明に係る磁気転写用マスター記録媒体、磁気転写方法、及び磁気記録媒体の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００７４】
たとえば、上記実施形態においては、図３に示されるように、マスターディスク４６の基板４７の表面の微細な突起状パターンの磁性層４８（磁性層パターンに該当）と、微細な突起状パターン同士の間の凹部（非磁性層パターンに該当）とで転写情報担持面となっているが、これ以外の態様をも採り得る。
【００７５】
図８は、この例を示すマスターディスク４６の部分拡大断面図である。このうち（ａ）は、非磁性の平坦な基板４７の表面に微細な突起状パターンの磁性層４８が形成され、磁性層４８同士の間が非磁性層パターンとなっている態様であり、（ｂ）は、非磁性の基板４７の表面に微細なパターンの磁性層４８が埋め込まれて形成され、磁性層４８同士の間が非磁性層パターンとなっており、基板４７の表面が平坦となっている態様である。このような態様のマスターディスク４６であっても、本発明は好適に適用できる。
【００７６】
たとえば、図８（ａ）の場合、基板４７の非磁性層パターンとなる部分にレジストパターンを形成し、次いで、基板４７に軟磁性層を形成し、その後、レジストを剥離する、いわゆるリフトオフ法を採用できる。この場合、軟磁性層の厚さを内周側から外周側に厚く
なるように形成すればよい。
【００７７】
図８（ｂ）の場合、既述したように、ＲＩＥ法を採用し、内外周でエッチング特性を変化させ、内外周で磁性層４８が埋め込まれる深さが異なるように加工すればよい。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】磁気転写用マスターディスクの磁性層パターンを示した図
【図２】磁気ヘッドがサーボウェッジを通過するときに再生される信号の波形を示した図
【図３】マスターディスクの表面の微細な突起状パターンを示す部分拡大斜視図
【図４】磁気転写装置の要部斜視図
【図５】磁気転写方法の基本工程を説明する説明図
【図６】磁気転写方法の基本工程を示す斜視図
【図７】サブパルスの発生機構を説明するグラフ
【図８】他の例を示すマスターディスクの部分拡大断面図
【図９】転写信号のパルス波形を示す図
【符号の説明】
【００７９】
１０…磁気転写装置、３０…磁界生成手段、３１…ギャップ、３２…コア、３３…コイル、３４…電磁石装置、４０…スレーブディスク（被転写用ディスク）、４６…マスターディスク、ＰS…サブパルス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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