(57)【要約】【課題】塗布液の凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる塗布方法を提供する。【解決手段】連続走行する帯状可撓性の支持体Ｗに塗布手段１２によって過剰の塗布液Ｆを塗布し、次いで計量手段１４によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法である。計量手段の支持体の走行方向上流側における掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収して再使用する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法において、
前記計量手段の支持体の走行方向上流側における前記掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収して再使用することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記計量手段の支持体の走行方向上流側に該計量手段の長手方向に沿った回収溝を設ける請求項１に記載の塗布方法。
【請求項３】
前記計量手段を液受けパンの上面に設け、該液受けパン上面の略全面をカバー部材で覆う請求項１に記載の塗布方法。
【請求項４】
前記塗布手段としてダイコータを用いる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項５】
前記計量手段としてバーコータを用いる請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布方法。
【請求項６】
帯状可撓性の支持体を連続走行させる走行手段と、
前記支持体に過剰の塗布液を塗布する塗布手段と、
前記過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する計量手段と、
前記掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収する回収手段と、
を備えてなることを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布方法及び装置に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に、下地層、磁気記録層等となる薄膜を塗布するのに好適に使用される塗布方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
写真感光材料や磁気記録媒体は、連続走行する帯状の支持体（以下、「ウェブ」という）上に磁性液等の所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程を経て製造される。特に、磁気記録テープ等の磁気記録媒体は、近年、放送用やコンピュータ用として急速に容量、記録密度が向上しており、膜厚が極薄く、膜厚分布が均一であり、かつ表面が平滑な磁性層を得ることのできる塗布技術が求められている。
【０００３】
その他、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の光学フィルム等の製造にもこのような塗布技術が求められている。
【０００４】
このような市場の要求に対応すべく、本出願人により、塗布膜の品質が優れ、高速な塗布を可能とする塗布方法の提案がなされている（特許文献１参照）。
【０００５】
この技術は、ウェブにエクストルージョン方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を塗布した後、ロッド方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を掻き落とし、所望の膜厚の塗布膜を形成するものである。
【特許文献１】特開２０００−１２６６７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のような従来の技術においても、解決しきれていない問題点があった。以下、図１１によって説明する。図１１は、特許文献１に記載のように、塗布手段２によって過剰の塗布液を連続走行するウェブＷに塗布し、次いで計量手段３によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布装置１を示す。
【０００７】
この塗布手段２はエクストルージョン方式のコータであり、前後に配されるガイドローラ４、５に巻き掛けられたウェブＷに過剰の塗布液を塗布する。また計量手段３はバー方式のコータであり、前後に配されるガイドローラ６、７に巻き掛けられたウェブＷの過剰の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量する。
【０００８】
この塗布装置１において、定常的な塗布についてはほぼ完成された技術であるが、長時間の塗布を行なう際に発生する乾き異物の除去は、安定生産を行なうために解決すべき問題として残っている。以下、この問題について説明する。
【０００９】
塗布装置１のような構成を使用した方法で塗布するにあたり、一般的に、塗布液に同伴した空気を排除するために、塗布された余剰の塗布液は計量手段３のロッド部で撞き落され、液受けパン８（液皿）により回収されて給液タンク（図示略）に戻り、フィルターにより濾過されて、再度塗布液として使用される。
【００１０】
この際、掻き落された塗布液が液受けパン８の上で乾くために、塗布液中に凝固物を発生させてしまうことがあった。とりわけ、液受けパン８のコーナー部分は塗布液の流れが悪いため、凝固物が発生し易い傾向がある。そして、凝固物が発生した場合、この凝固物がフィルターに目詰りを起こさせ、フィルターのライフを短縮させてしまうため、フィルター交換による稼動停止で生産性が低下したり、フィルターの使用数量アップによるコスト高になったりし、各種の不具合となってしまう。また、フィルターでも除去できない凝固物がウェブＷに再付着することにより塗布面の突起物が多くなり、品質上の問題となる場合もある。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、塗布液の凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる塗布方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、前記目的を達成するために、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法において、前記計量手段の支持体の走行方向上流側における前記掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収して再使用することを特徴とする塗布方法を提供する。
【００１３】
また、本発明は、帯状可撓性の支持体を連続走行させる走行手段と、前記支持体に過剰の塗布液を塗布する塗布手段と、前記過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する計量手段と、前記掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収する回収手段と、備えてなることを特徴とする塗布装置を提供する。
【００１４】
本発明によれば、計量手段の上流側において掻き落された過剰分の塗布液を略気密状態で回収するので、凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる。すなわち、掻き落された塗布液が略気密状態に維持されるので（大気への露出を抑えるので）、塗布層中の溶媒が揮散することもなく、また、塗布液にダスト等のコンタミネーションが混入することもなく、乾き凝固物の発生が抑制される。
【００１５】
更に、凝固物が発生しにくいので、凝固物がフィルターに目詰りを起こさせ、フィルターのライフを短縮させてしまうという問題も発生せず、また、フィルター交換による稼動停止で生産性が低下したり、フィルターの使用数量アップによるコスト高になったりする不具合も生じない。
【００１６】
本発明において、前記計量手段の支持体の走行方向上流側に該計量手段の長手方向に沿った回収溝を設けることが好ましい。このような回収溝を設けることにより、塗布液の回収が容易になるとともに、塗布液の気密状態が確保でき、本発明の効果が一層得られる。
【００１７】
また、本発明において、前記計量手段を液受けパンの上面に設け、該液受けパン上面の略全面をカバー部材で覆うことが好ましい。このように、液受けパン上面の略全面をカバー部材で覆うことにより、塗布液の回収が容易になるとともに、塗布液の気密状態が確保でき、本発明の効果が一層得られる。
【００１８】
すなわち、乾き凝固物は、表面積の広い液受けパン（液皿）に塗布液を流すことにより大気への露出面積が大きくなり発生する。これに対し、本発明のように、計量ヘッドで掻き落された塗布液をカバー部材（チェンバ等）を設置して気密状態にすることにより、大気への露出が減り、乾き凝固物の発生を防ぐことができる。
【００１９】
また、本発明において、前記塗布手段としてダイコータを用いることが好ましい。このように、ダイコータは、特に薄膜の塗布に優れており、また、前計量系の塗布手段として使用できるので、本発明に好適である。なお、ダイコータとしては、エクストルージョンコータが代表的であるが、ダイより塗布液を供給するこれ以外の各種のコータをも含むものである。
【００２０】
また、本発明において、前記計量手段としてバーコータを用いることが好ましい。バーコータは、特に薄膜の塗布に優れており、後計量系の塗布手段であるので、本発明に好適である。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように、本発明によれば、凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様について説明する。図１は、本発明に係る塗布方法及び装置が適用される塗布ライン１０（第１の実施形態）の構成を説明する正面図であり、図２は、塗布ライン１０の要部の構成を説明する斜視図である。
【００２３】
この塗布ライン１０において、ウェブＷが巻回されたロール等よりなる送り出し機（図示略）より送り出されるウェブＷは、複数のガイドローラＧ１、Ｇ２…によってガイドされて、塗布手段であるエクストルージョン方式の塗布装置の塗布ヘッド１２によって過剰の塗布液が塗布され、次いで計量手段（metering system ）であるバー塗布装置の塗布ヘッド１４によって過剰分の塗布液が掻き落され、所望の厚さの塗布層が形成され、その後、乾燥手段等の後工程を経て、巻き取りロール等よりなる巻取り機（図示略）により、塗布層が形成されたウェブＷが巻き取られるようになっている。
【００２４】
液タンク７０に貯留された塗布液Ｆは、給液配管７２により塗布装置の塗布ヘッド１２に圧送されるようになっている。具体的には、液タンク７０に接続された給液配管７２には、上流側より液ポンプ７４、圧力計７６、フィルタ７８、圧力計８０が設けられており、フィルタ７８により濾過されて塗布ヘッド１２に供給されるようになっている。
【００２５】
なお、フィルタ７８の前後の圧力計７６、８０により、フィルタ７８の目詰まりが検出可能となっている。また、バー塗布装置の塗布ヘッド１４にも、塗布液Ｆが供給できるようになっているが、配管系の図示は省略されている。
【００２６】
塗布ヘッド１２及び１４は、いずれもヘッドテーブル８２の上に設置されている。このうち、バー塗布装置の塗布ヘッド１４の右側（ウェブＷの走行方向上流側）には、ウェブＷの幅と略同一長さの回収溝８４が設けられている。この回収溝８４は、塗布ヘッド１４の右側壁と、これと所定間隔をもって平行に設けられる断面が直角三角形状のブロック８６により形成される。
【００２７】
また、この回収溝８４の底面には液回収孔８４Ａが形成されており、この液回収孔８４Ａに戻り配管８８の一端が接続されている。この戻り配管８８の他端は、液タンク７０の上側に固定されている。また、この戻り配管８８の中間部には液ポンプ９０が設けられており、送液ができるようになっている。
【００２８】
以上の構成により、塗布ヘッド１４によって掻き落された過剰分の塗布液Ｆは、回収溝８４により略気密状態で回収され、液回収孔８４Ａ、戻り配管８８を経て液タンク７０に回収されるようになっている。
【００２９】
次に、塗布手段（塗布ヘッド１２）であるダイコータについて説明する。図３は、塗布ヘッド１２の一部を切断して示す斜視図であり、図４は、塗布ヘッド１２の先端部分とウェブＷとの位置関係を示す概略断面図である。
【００３０】
図３及び図４に示されるように、塗布ヘッド１２には、塗布液Ｆを供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、塗布ヘッド１２の本体１６には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１８と、液溜め部１８と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液Ｆを塗出するスリット２０と、液溜め部１８へ塗布液Ｆを供給する液供給口２２と、液溜め部１８から塗布液Ｆを引き抜く液排出口２４と、を備えている。
【００３１】
液溜め部１８は、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図３に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１８の貫通した両端開口部は、図３に示されるように、本体１６の両端部に取付けられる閉鎖板２６、２８により閉止されている。なお、既述の液供給口２２は閉鎖板２６に、液排出口２４は閉鎖板２８にそれぞれ設けられている。
【００３２】
スリット２０は、液溜め部１８からウェブＷに向け、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１２の本体１６内部を貫通し、かつ液溜め部１８と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。なお、スリット２０におけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液Ｆの液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液ＦがウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット２０から供給できればよい。
【００３３】
次に、塗布ヘッド１２の先端部分について、図４を参照しながら説明する。スリット２０は、塗布ヘッド１２の本体１６（図３参照）のフロントエッジ３０とバックエッジ３２とにより形成される。塗布ヘッド１２の本体１６の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａがそれぞれ形成されている。
【００３４】
図４に示されるように、フロントエッジ面３０ａは断面が略直線状に、バックエッジ面３２ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面３０ａの後端エッジ部３０ｂとバックエッジ面３２ａの先端エッジ部３２ｂとには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆの所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００３５】
なお、図３に示されるフロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。
【００３６】
スリット２０の、液溜め部１８との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スリット２０のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液Ｆの液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件により異なるが、スリット２０のウェブＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００３７】
次に、計量手段であるバー塗布装置について説明する。図５に示されるように、バー塗布装置の塗布ヘッド１４は、一対のガイドローラＧ３、Ｇ４でガイドされて走行するウェブＷに対して、塗工用バー３６を備えた塗布ヘッド１４で塗布液Ｆを塗布する装置である。一対のガイドローラＧ３、Ｇ４は、ウェブＷが塗工用バー３６に近接走行するように配置されている。
【００３８】
塗布ヘッド１４は主として、塗工用バー３６、バックアップ部材３８、コーターブロック４０、４２で構成され、塗工用バー３６は、バックアップ部材３８に回動自在に支持されている。バックアップ部材３８と各コーターブロック４０、４２との間には、マニホールド４４、４６及びスリット４８、５０が形成され、各マニホールド４４、４６に塗布液Ｆが供給される。
【００３９】
各マニホールド４４、４６に供給された塗布液Ｆは、狭隘なスリット４８、５０を介してウェブ幅方向で均一に押し出される。これにより、塗工用バー３６に対してウェブＷの送り方向の上流側（以下、「１次側」という）に１次側塗布ビード５２が形成され、下流側（以下「２次側」という）に２次側塗布ビード５４が形成される。これらの塗布ビード５２、５４を介して、走行するウェブＷに塗布液Ｆが塗布される。
【００４０】
ただし、本塗布装置においては、ウェブＷに余剰の塗布液Ｆが塗布された状態で塗布ヘッド１４に到達することとなる。したがって、塗工用バー３６とウェブＷとの間隔が適正に制御されることにより、過剰分の塗布液Ｆが掻き落され、ウェブＷに所望の厚さの塗布層が形成されることとなる。
【００４１】
そして、マニホールド４４、４６から過剰に供給された塗布液Ｆは各コーターブロック４０、４２とウェブＷとの間からオーバーフローし、図示しない側溝を介して回収される。同様に、塗布ヘッド１２（図３、図４参照）によって過剰に塗布された塗布液Ｆも、この部分で回収される。なお、マニホールド４４、４６への塗布液Ｆの供給はマニホールド４４、４６の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。
【００４２】
塗工用バー３６は、図６に示されるように、丸棒状のロッド６０にワイヤ６２を螺旋状に密着巻回して形成されたワイヤ列６４を備えており、このワイヤ列６４に塗布液Ｆを保持させることにより、走行するウェブＷに塗布液Ｆを転移塗布できるようになっている。
【００４３】
なお、塗布ヘッド１４は、単独で使用する場合には、走行するウェブＷに塗布液Ｆを転移塗布するために用いられるが、本実施形態においては、塗布ヘッド１２（図３、図４参照）によって過剰に塗布された塗布液Ｆを塗工用バー３６によって計量して所定膜厚の塗布層を形成するために用いられ、また、マニホールド４４、４６より供給される塗布液Ｆは、塗工用バー３６の乾燥を防止する目的にも使用される。すなわち、塗工用バー３６が乾燥すると、塗布スジ等の欠点を生じ易く、これを防止する必要がある。
【００４４】
塗工用バー３６を構成するロッド６０及びワイヤ６２の材質としては、ステンレスをはじめとする各種金属が使用可能であり、塗布液Ｆを汚染させず、強度的に満足するものであればよい。また、ロッド６０は、２〜１５ｍｍの径のものが好適に使用される。
【００４５】
一方、ワイヤ６２は、真円度が２μｍ以下のものが使用される。具体的には、ワイヤ６２の単位断面積（仮想真円）に対し、欠損や突起等の不整部分の面積の割合が小さいもの（たとえば０．５％以下のもの）を使用することが好ましい。上記のように構成された塗工用バー３６は、図５に示されるように、ウェブＷの搬送方向に対して順転又は逆転される。
【００４６】
なお、塗工用バー３６として、図６に示されるようなワイヤ列６４を備えていない、単に丸棒状のロッド６０のみのもの（いわゆる、フラットロッド）、円柱の外周面に溝を刻設した溝付きロッド等も使用できる。
【００４７】
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。
【００４８】
ウェブＷの幅としては、０. １〜３ｍが、ウェブＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、ウェブＷの厚さとしては、０. ５〜１００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００４９】
これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００５０】
また、ウェブＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。
【００５１】
塗布液Ｆの液組成としては、目的に応じて公知の各種の組成が選択できる。
【００５２】
磁性体を含む塗布液Ｆを使用し、磁性層を形成する場合には、磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。
【００５３】
磁性体を含まない塗布液Ｆを使用し、非磁性層を形成する場合には、塗布液Ｆに含まれる非磁性の構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。
【００５４】
次に、図１に示される塗布ライン１０を使用した塗布方法について説明する。先ず、塗布ヘッド１２によって過剰の塗布液Ｆを塗布する。そして、計量手段の塗布ヘッド１４で塗布液Ｆを掻き落すことにより、所望の厚さに計量した塗布層が形成できる。
【００５５】
塗布ヘッド１４によって掻き落された過剰分の塗布液Ｆは、回収溝８４により略気密状態で回収され、液回収孔８４Ａ、戻り配管８８を経て液タンク７０に回収される。この構成によれば、塗布ヘッド１４の上流側において掻き落された過剰分の塗布液Ｆを略気密状態で回収するので、凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる。すなわち、掻き落された塗布液Ｆが略気密状態に維持されるので（大気への露出を抑えるので）、塗布層中の溶媒が揮散することもなく、また、塗布液Ｆにダスト等のコンタミネーションが混入することもなく、乾き凝固物の発生が抑制される。
【００５６】
更に、凝固物が発生しにくいので、凝固物がフィルターに目詰りを起こさせ、フィルターのライフを短縮させてしまうという問題も発生せず、また、フィルター交換による稼動停止で生産性が低下したり、フィルターの使用数量アップによるコスト高になったりする不具合も生じない。
【００５７】
次に、本発明の他の実施態様について説明する。図７は、本発明に係る塗布方法及び装置が適用される塗布ライン１０‘（第２の実施形態）の構成を説明する要部の正面図である。なお、既述の図１〜図６に示される部材と同一、類似の部材については、同様の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００５８】
本実施形態において既述の第１の実施形態と相違するのは、塗布ヘッド１４‘の構成、及び、塗布ヘッド１４‘の上流側において掻き落された過剰分の塗布液Ｆを略気密状態で回収する構成である。
【００５９】
図８は、バー塗布装置の塗布ヘッド１４‘とウェブＷとの位置関係を示す概略断面図である。この塗布ヘッド１４‘が既述の塗布ヘッド１４と相違するのは、塗布液Ｆがヘッド内部に供給されない点、及び、塗布ヘッド１４‘の右側壁に回収溝が設けられていない点である。
【００６０】
ただし、前者の相違点によっても、塗工用バー３６とウェブＷとの間隔が適正に制御されることにより、過剰分の塗布液Ｆが掻き落され、ウェブＷに所望の厚さの塗布層が形成される効果に大きな相違は生じない。
【００６１】
また、後者の相違点に対処すべく、第１の実施形態のヘッドテーブル８２に対応する液受けパン８２‘の略全面を覆うカバー部材９２が設けられている。このカバー部材９２は、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４‘を除く液受けパン８２‘の略全面を覆っており、また、塗布ヘッド１４‘の右側壁より流下する掻き落された過剰分の塗布液Ｆを回収する開口９２Ａが設けられている。この開口９２Ａに対応する液受けパン８２‘には、液回収孔８２Ａが設けられており、この液回収孔８２Ａに戻り配管８８の一端が接続されている。この戻り配管８８により液タンク７０（図１参照）に送液ができるようになっている。
【００６２】
次に、図７に示される塗布ライン１０‘を使用した塗布方法について説明する。先ず、塗布ヘッド１２によって過剰の塗布液Ｆを塗布する。そして、計量手段の塗布ヘッド１４’で塗布液Ｆを掻き落すことにより、所望の厚さに計量した塗布層が形成できる。
【００６３】
塗布ヘッド１４によって掻き落された過剰分の塗布液Ｆは、開口９２Ａにより略気密状態で回収され、液回収孔８２Ａ、戻り配管８８を経て液タンク７０に回収される。この構成によれば、塗布ヘッド１４の上流側において掻き落された過剰分の塗布液Ｆを略気密状態で回収するので、凝固物が発生せず、良質な塗布層を形成できる。すなわち、掻き落された塗布液Ｆが略気密状態に維持されるので（大気への露出を抑えるので）、塗布層中の溶媒が揮散することもなく、また、塗布液Ｆにダスト等のコンタミネーションが混入することもなく、乾き凝固物の発生が抑制される。
【００６４】
以上、本発明に係る塗布方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６５】
たとえば、本実施形態の例では、図３及び図４に示されるエクストルージョン塗布方法を採用したが、このような塗布方法に限らず、各種の態様、たとえば、グラビアコート方法、ロールコート方法、ディップコート方法、スライドコート方法、バーコート方法、カーテンコート方法等も採用できる。
【実施例】
【００６６】
図１の塗布ライン１０等を使用して、磁性層用の塗布液を乾燥後の厚さが１．９μｍになるように塗布した後に、この塗布膜を乾燥させたウェブＷのロールを準備した。ウェブＷのベースとして、幅５５０ｍｍ、厚さ６２μｍのＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を１５０ｍ／分とした。ウェブＷの塗布膜（磁性層）上に塗布ヘッド（塗布手段）１２及び塗布ヘッド（計量手段）１４により、下記のバックコート液を乾燥後の厚さが０．４μｍ（０．５μｍの旨の記述もあります。要、統一）になるように塗布した。
【００６７】
バックコート液の処方を以下に示す。なお、「部」の表示は「重量部」 を意味する。
（バックコート液の原液）
・カーボンブラック                                                １００部
平均粒径１７μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  ２２０ｍ２ ／ｇ
・ニトロセルロース  ＲＳｌ／２                                    １００部
・ポリエステルポリウレタン                                          ３０部
・  分散剤
オイレイ酸銅                                                     １０部
銅フタロシアニン                                                 １０部
・メチルエチルケトン                                              ５００部
・トルエン                                                        ５００部
上記のバックコート液の原液を混練／分散させた後、以下の処方でバックコート液を作成した。
・バックコート液の原液                                            １００部
・カーボンブラック                                                １００部
平均粒径２５０μｍ
ＢＥＴ法による比表面積１２ｍ２ ／ｇ
・α−Ａｌ２ Ｏ３                                                   ０．１部
平均粒径０．２μｍ
本実施例においては、公知例である図１１の塗布装置１を使用し、掻き落された塗布液を大気への露出状態で回収した条件１と、図１の塗布ライン１０を使用し、掻き落された塗布液を回収溝８４により密閉状態で回収した条件２と、図７の塗布ライン１０‘を使用し、掻き落された塗布液をカバー部材９２により密閉状態で回収した条件３とにより行い比較した。
【００６８】
評価方法としては、４分毎にフィルタ７８の前後の圧力計７６、８０（以上、図１参照）の差圧を測定し、フィルタ７８の目詰まり度合いの評価とした。なお、フィルタ７８は、ポア径が公称１μｍのものである。
【００６９】
測定結果を図９の表に纏めた。また、この値を図１０のグラフにプロットした。評価結果によれば、本発明の第１実施形態（図１の塗布ライン１０）及び第２実施形態（図７の塗布ライン１０‘）では、公知例である図１１の塗布装置１に比べて、経時に伴う差圧上昇が小さくなっており、塗布液の乾き凝固物の発生を防止することができることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の実施態様の構成を説明する装置全体図
【図２】本発明の実施態様の構成を説明する斜視図
【図３】エクストルージョン塗布装置の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図４】図３の塗布ヘッドの先端部分とウェブとの位置関係を示す概略断面図
【図５】バー塗布装置の塗布ヘッドとウェブとの位置関係を示す概略断面図
【図６】塗工用バーの構成を示す概略断面図
【図７】本発明の実施態様の他の構成を説明する斜視図
【図８】バー塗布装置の塗布ヘッドとウェブとの位置関係を示す概略断面図
【図９】実施例の結果を示す表
【図１０】実施例の結果を示すグラフ
【図１１】従来例の塗布方法を説明する概略断面図
【符号の説明】
【００７１】
１０…塗布ライン、１２…塗布ヘッド（塗布手段）、１４…塗布ヘッド（計量手段）、８４…回収溝、８２Ａ、８４Ａ…液回収孔、８６…ブロック、９２…カバー部材、Ｆ…塗布液、Ｇ…ガイドローラ、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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