(57)【要約】 【課題】表示パネルの構造物をフォトリソグラフィ法によって形成する製造方法における従来の問題点を解決する。【解決手段】フォトリソグラフィ法によって基板上に所要の形状の構造物を成形する表示パネルの製造方法において、露光マスクＭ１が感光性誘電体フィルム層Ｌに対向する所定の位置に位置された後に一回目の露光が行われ、この一回目の露光の終了後、露光マスクＭ１が一回目の露光位置から感光性材料層Ｌと平行にＸおよびＹ方向にシフトされた位置で、かつ、露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａが一回目の露光時の露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置と予め設定された領域Ｅにおいて重なる位置に位置されて、この後に二回目の露光が行われる。【選択図】図１１
2007133128.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有する露光マスクを介して感光性材料層を露光し、この後に現像を行って基板上に所要の形状の構造物を成形する表示パネルの製造方法において、
前記露光マスクが感光性材料層に対向する所定の位置に位置された後に一回目の露光が行われ、
この一回目の露光が終了した後に、露光マスクが、一回目の露光時の位置から感光性材料層と平行に一方向およびこの一方向に対して直交する方向に移動した位置で、かつ、露光マスクの開口部が一回目の露光時の露光マスクの開口部の位置と予め設定された領域において重なる位置に位置され、
この後に二回目の露光が行われる、
ことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記露光マスクの開口部の一回目の露光時の位置と二回の露光時の位置が重なる領域が、基板上に形成される構造物の外形形状と略同一になるように設定されている請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記露光マスクが、一回目の露光が終了した後に、一回目の露光時の位置から二回目の露光時の位置に向かって相対的に移動されることによって、感光性材料層に対して二回目の露光時の位置に位置される請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記一回目の露光が終了した後に、一回目の露光に使用された露光マスクと異なるパターンの開口部を有する他の露光マスクが感光性材料層に対して二回目の露光時の位置に位置されて、二回目の露光が行われる請求項１に記載の表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やフィールド・エミッション・ディスプレイパネル（ＦＥＤ）等の平面型表示パネルの製造工程においては、パネルの基板上に所要の形状の各種構造物を形成する際に、フォトリソグラフィ法が用いられる。
【０００３】
このフォトリソグラフィ法は、パネルの基板上に感光性材料層が形成された後、露光工程において、形成する構造物の形状に対応したパターンの開口部を有する露光マスクを介して感光性材料層が露光され、次の現像工程において、感光性材料層の露光によって架橋している部分以外の未架橋部分が除去されて、基板上に所要の形状の構造物が成形される。
【０００４】
このようなフォトリソグラフィ法においては、露光マスクにダスト等が付着していたり、露光マスクにパターン欠陥が形成されているような場合に、感光性材料層の露光されるべき部分がダストやパターン欠陥によって遮蔽されて、露光による架橋が行われず、これによって、成形される構造物に欠損が発生してしまうといった問題が生じる。
【０００５】
従来、このようなフォトリソグラフィ法の成形される構造物に欠損が発生するという問題を解決するために、露光工程において、一回目の露光を行った後、露光マスクを露光パターンのずれの許容範囲内で一次元的に移動させて二回目の露光を行い、露光マスクに付着したダストや露光マスクに形成されたパターン欠陥を一回目の露光時と二回目の露光時とでずらすことによって、感光性材料層の露光されるべき部分がダストやパターン欠陥等によって未露光となるのを防止する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
しかしながら、この従来の表示パネルの製造方法によっても、上述したようなフォトリソグラフィ法において生じる問題の十分な解決は為されていない。
【０００７】
すなわち、例えば図１および２に示されるように、露光マスクＭに付着したダスト（または、パターン欠陥部分）Ｆが露光パターンのずれの許容範囲ｗよりも大きい場合には、露光マスクＭを露光パターンのずれの許容範囲ｗ内で図１のようにＸ方向に最大限に移動させたり、図２のようにＹ方向に最大限に移動させた場合でも、ダスト（または、パターン欠陥部分）Ｆを一回目の露光位置から完全に移動させることが出来ない。
【０００８】
このため、従来の表示パネルの製造方法では、ダスト（または、パターン欠陥）Ｆの一回目の露光位置（実線で示される位置）と二回目の露光位置（破線で示される位置）とが重なって、このダスト（または、パターン欠陥）Ｆの露光位置が重なる部分ｆに対向する部分の感光性材料層がなお未露光部分として残るために、成形される構造物に欠損が発生するのを防止することが出来ない。
【０００９】
さらに、上記従来の表示パネルの製造方法では、以下のようなフォトリソグラフィ法における問題点を解消することが出来ない。
【００１０】
すなわち、一般に、フォトリソグラフィ法が実施される場合、基板上に形成された感光性材料層の表面側部分と基板側部分とでは、感光性材料の透過率によって露光量に差が生じるため、図３に示されるように、現像の際に、基板上に成形される構造物Ｐの周縁部において、露光量が多い表面部分ｐ１が残り、露光量が少ない底部部分ｐ２が削られて、所謂アンダ・カット状態の断面形状が成形されてしまう。
【００１１】
そして、構造物Ｐの断面形状がアンダ・カット状態になった場合には、現像工程の次の焼成工程において、構造物Ｐのアンダ・カット状態が生じている部分において、構造物Ｐが断線してしまう虞が生じる。
【００１２】
前述した従来の表示パネルの製造方法が用いられる場合でも、図４に示されるように、露光マスクＭをＸ方向に移動させて露光を二回行った場合、および、図５に示されるように、露光マスクＭをＹ方向に移動させて露光を二回行った場合の何れの場合にも、成形される構造物Ｐは、その中央部の二重露光部分Ｐａにおいても、その側縁部Ｐａ１が未露光部分との境界面を形成しているために、現像工程においてこの二重露光部分Ｐａの側縁部Ｐａ１にアンダ・カット状態が発生するのを防止することが出来ない。
【００１３】
また、この図４および５において、構造物Ｐの縁部の硬さを増すことによってアンダ・カット状態の発生を防止するために、露光工程における露光ランプの光量を大きくする場合には、構造物Ｐの周縁部にバリが発生して、構造物Ｐを所定の形状に成形出来なくなるという問題が発生する。
【００１４】
【特許文献１】特開２００４−２６５６３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
この発明は、上記のような従来の表示パネルの製造方法における問題点を解決することをその技術的課題の一つとしている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
この発明による表示パネルの製造方法は、上記目的を達成するために、開口部を有する露光マスクを介して感光性材料層を露光し、この後に現像を行って基板上に所要の形状の構造物を成形する表示パネルの製造方法において、前記露光マスクが感光性材料層に対向する所定の位置に位置された後に一回目の露光が行われ、この一回目の露光が終了した後に、露光マスクが、一回目の露光時の位置から感光性材料層と平行に一方向およびこの一方向に対して直交する方向に移動した位置で、かつ、露光マスクの開口部が一回目の露光時の露光マスクの開口部の位置と予め設定された領域において重なる位置に位置され、この後に二回目の露光が行われることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
この発明は、所要のパターンの開口部が形成された露光マスクが、基板上に感光性材料によって形成された感光性材料層に対して平行に対向されて、一回目の露光位置に位置決めされた後、一回目の露光が行われ、この一回目の露光の終了後に、露光マスクが、一回目の露光時の位置から感光性材料層と平行に一方向およびこの一方向に対して直交する方向（二次元シフト方向）に移動した位置に位置決めされ、この二次元シフトされた位置において露光マスクの開口部が一回目の露光時の露光マスクの開口部の位置と予め設定された領域において重なっている状態で、二回目の露光が行われる表示パネルの製造方法を、その最良の実施形態としている。
【００１８】
この実施形態による表示パネルの製造方法によれば、露光マスクの開口部の一回目の露光時の位置と二回目の露光時の位置が重なる領域に対向している部分の感光性材料層が二重露光され、そして、露光マスクの開口部の二回目の露光時の位置が一回目の露光時の位置に対して二次元シフトされた位置に位置されることによって、感光性材料層の二重露光された部分の全周部分に一重露光された部分が形成される。
【００１９】
これによって、二回の露光工程後の現像工程において一重露光部分によって二重露光部分が保護されて、成形された構造物にアンダ・カット状態が発生するのが防止されるようになるので、この二重露光部分によって表示パネルの任意の構造部が所望の形状に成形されるようになる。
【００２０】
さらに、実施形態による表示パネルの製造方法によれば、二回目の露光を、露光マスクを一回目の露光位置から二次元シフトした位置に位置させて行うので、一回目と二回目の露光工程間において露光マスクのシフト幅が大きくなって、露光マスクにダストが付着したりパターン欠陥が生じているような場合でも、このダストやパターン欠陥によって感光性材料層に未露光部分が発生するのを防止することが出来るようなる。
【００２１】
上記実施形態の表示パネルの製造方法において、露光マスクの開口部の一回目の露光時の位置と二回の露光時の位置が重なる領域を、基板上に形成される構造物の外形形状と略同一になるように設定することによって、アンダ・カット状態が発生していない所要の構造物を成形することが出来るようになるとともに、露光マスクの開口部の一回目の露光時の位置と二回の露光時の位置が重なる領域の面積および形状を任意に設定することによって、所望の大きさおよび形状の構造物を成形することが出来るようになる。
【００２２】
また、上記実施形態の表示パネルの製造方法において、露光マスクが、一回目の露光が終了した後にこの一回目の露光時の位置から二回目の露光時の位置に向かって相対的に移動されることによって、感光性材料層に対して二回目の露光位置に位置される場合には、同一の露光マスクを使用して二回の露光工程を実施することが出来るようになる。
【００２３】
また、上記実施形態の表示パネルの製造方法において、一回目の露光が終了した後に、一回目の露光に使用された露光マスクと異なるパターンの開口部を有する他の露光マスクが感光性材料層に対して二回目の露光位置に位置されて、二回目の露光が行われる場合には、二重露光部分の形状を任意に設定することが出来るようになる。
【実施例】
【００２４】
以下、この発明による表示パネルの製造方法の実施形態における一実施例について、図面を参照しながら説明を行う。
【００２５】
なお、この発明は、フォトリソグラフィ法によって構造物が形成される種々の平面型表示パネルの製造方法に適用することが可能であるが、以下においては、表示パネルとしてプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）を例に挙げて説明を行う。
【００２６】
図６ないし８は、この発明による表示パネルの製造方法が適用されるＰＤＰの構成の一例を示しており、図６はこのＰＤＰの正面図であり、図７は図６のＶ−Ｖ線における断面図、図８は図６のＷ−Ｗ線における断面図である。
【００２７】
この図６ないし８に示されるＰＤＰは、表示面である前面ガラス基板１の背面に、複数の行電極対（Ｘ，Ｙ）が、前面ガラス基板１の行方向（図６の左右方向）に延びるように平行に並設されている。
【００２８】
そして、各行電極Ｘ，Ｙは、それぞれ、列方向に互いに所要の間隔を開けて行方向に平行に延びるバス電極Ｘａ，Ｙａと、このバス電極Ｘａ，Ｙａに沿って等間隔に配列されるとともに互いに放電ギャップｇを介して対向される複数の透明電極Ｘｂ，Ｙｂとによって構成されている。
【００２９】
前面ガラス基板１の背面には、さらに、行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層２が形成されており、この誘電体層２の背面には、互いに隣接する行電極対（Ｘ，Ｙ）の背中合わせに位置するバス電極Ｘａ，Ｙａとこの間の領域に対向する位置に、誘電体層２の背面から突出する嵩上げ誘電体層３が行方向に延びるように形成されている。
【００３０】
そして、この誘電体層２と嵩上げ誘電体層３の背面側には、ＭｇＯからなる保護層４が形成されている。
【００３１】
一方、前面ガラス基板１と平行に対向される背面ガラス基板５の表示側の面上には、列電極Ｄが、各行電極対（Ｘ，Ｙ）の互いに対になった透明電極ＸｂとＹｂに対向する位置において行電極対（Ｘ，Ｙ）と直交する方向（列方向）に延びるとともに行方向に所定の間隔を開けて並設されている。
【００３２】
背面ガラス基板５の前面ガラス基板１に対向する表示側の面上には、さらに、列電極Ｄを被覆する列電極保護層６が形成され、この列電極保護層６上に、隔壁７が形成されている。
【００３３】
この隔壁７は、嵩上げ誘電体層３に対向する位置において行方向に延びる横壁７Ａと各列電極Ｄの間に対向する位置において列方向に延びる縦壁７Ｂとによって略梯子形状に成形されており、この隔壁７によって、前面ガラス基板１と背面ガラス基板５の間の放電空間Ｓが、各行電極対（Ｘ，Ｙ）において対になっている透明電極ＸｂとＹｂに対向する部分毎に区画されて、それぞれ方形の放電セルＣが形成されている。
【００３４】
各放電セルＣ内には、放電セルＣ毎に色分けされた赤，緑，青の蛍光体層８がそれぞれ形成されている。
【００３５】
このような構成のＰＤＰの製造工程において、例えば、列方向に隣接する放電セルＣ間における放電の干渉を防止する嵩上げ誘電体層３が、フォトリソグラフィ法によって形成される。
【００３６】
図９は、このＰＤＰの嵩上げ誘電体層３をフォトリソグラフィ法によって形成する製造装置の構成を示す概略構成図である。
【００３７】
この図９において、製造装置１０は、露光部１０Ａと現像部１０Ｂ，洗浄部１０Ｃによって構成され、この露光部１０Ａ，現像部１０Ｂ，洗浄部１０ＣがベルトコンベアＶに沿って上流側（図９の左側）から順に配置されている。
【００３８】
露光部１０Ａ内には露光ランプ１０Ａａが備えられており、背面側に行電極対（Ｘ，Ｙ）とこの行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆する誘電体層２（図６ないし８参照）が予め形成されるとともに、この誘電体層２の背面上に嵩上げ誘電体層３を形成するための感光性誘電体フィルム層がラミネートされた前面ガラス基板１が、ベルトコンベアＶによって製造装置１０内に搬入されてくると、前面ガラス基板１が露光ランプ１０Ａａに対向する位置において一旦停止される。
【００３９】
そして、この製造装置１０内において、嵩上げ誘電体層３（図６ないし８参照）の形成パターンに対応した開口部を有する露光マスクＭ１が、前面ガラス基板１の感光性誘電体フィルム層がラミネートされている面に対向されて、露光ランプ１０Ａａからの紫外光による露光工程が実施される。
【００４０】
この製造装置１０内における露光工程については、後で詳述する。
【００４１】
この露光工程が終了した後、前面ガラス基板１は、ベルトコンベアＶによって露光部１０Ａ内から現像液噴射器１０Ｂａが備えられた現像部１０Ｂ内に搬入され、この現像部１０Ｂ内において、現像液噴射器１０Ｂａから、前面ガラス基板１の露光工程を経た感光性誘電体フィルム層に向かって現像液が噴射されることによって、感光性誘電体フィルム層の架橋していない未露光部分を除去する現像工程が実施される。
【００４２】
この現像工程を終了した前面ガラス基板１は、さらに、ベルトコンベアＶによって現像部１０Ｂ内から洗浄器１０Ｃａが備えられた洗浄部１０Ｃ内に搬入され、この洗浄部１０Ｃ内において、洗浄器１０Ｃａから洗浄液が噴射されることによって、前面ガラス基板１の洗浄工程が実施される。
【００４３】
そして、この洗浄工程の終了後、図示しない焼成炉内において、前面ガラス基板１に対して焼成工程が実施されて、嵩上げ誘電体層３（図６ないし８参照）が成形される。
【００４４】
次に、製造装置１０の露光部１０Ａ内において行われる露光工程について、詳述する。
【００４５】
図１０は、この露光工程において使用される露光マスクＭ１の一例を示す平面図であり、マスク面に、形成する嵩上げ誘電体層３の位置および形状に対応したパターンを有する複数の開口部Ｍ１ａが形成されている。
【００４６】
この露光マスクＭ１は、前述したように、露光部１０Ａ内に搬入されてきた前面ガラス基板１の感光性誘電体フィルム層がラミネートされている側の面の所定位置に対向されて、位置決めされる。
【００４７】
図１１は、このときの状態を模式的に示す図であって、実線が、これから説明を行う二次元シフトによる露光工程の一回目の露光工程時における露光マスクＭ１の位置（一回目の露光工程位置）を示しており、鎖線が、二回目の露光工程時における露光マスクＭ１の位置（二回目の露光工程位置）を示している。
【００４８】
この図１１において、実線で示される一回目の露光工程位置に露光マスクＭ１が位置決めされた後、露光部１０Ａの露光ランプ１０Ａａから、紫外光が露光マスクＭ１に向かって照射されて、一回目の露光工程が行われる。
【００４９】
これによって、前面ガラス基板１にラミネートされている感光性誘電体フィルム層Ｌのうち、露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａに対向している帯状の部分Ｐ１Ａ（図１１において実線で囲まれた部分）が露光されて、この露光された部分Ｐ１Ａの感光性誘電体フィルム層Ｌが架橋する。
【００５０】
感光性誘電体フィルム層Ｌの開口部Ｍ１ａに対向する部分以外の部分は、紫外光が露光マスクＭ１によって遮蔽されるため、未露光となって架橋しない。
【００５１】
この一回目の露光工程の終了後、前面ガラス基板１が露光部１０Ａ内の同じ位置に停止されたまま、露光マスクＭ１が、実線で示される一回目の露光工程位置から鎖線で示される二回目の露光工程位置に向かって、前面ガラス基板１（図９参照）と平行状態を保ちながら、Ｘ方向およびＹ方向にシフト（二次元シフト）されて、この二回目の露光工程位置に位置決めされる。
【００５２】
このとき、この二次元シフトのシフト量は、一回目の露光工程位置における図１１において実線で示された露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置と、二回目の露光工程位置における鎖線で示された露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置とが、後述する所要の面積の領域Ｅにおいて重なり合うように、予め設定されている。
【００５３】
このようにして露光マスクＭ１の二回目の露光工程位置への位置決めが完了した後、再び露光ランプ１０Ａａから紫外光が照射されて、感光性誘電体フィルム層Ｌのうちの露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａに対向している部分の露光が行われ、この露光部分Ｐ１Ｂが架橋する。
【００５４】
このとき、この二回目の露光工程において、一回目の露光工程位置における露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置と、二回目の露光工程位置にける露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａの位置が重なる領域Ｅに対向している部分の感光性誘電体フィルム層Ｌは、二重露光される（以下、この感光性誘電体フィルム層Ｌの二重露光される部分を二重露光部分Ｐ２という）。
【００５５】
以上のように、感光性誘電体フィルム層Ｌは、二回の露光工程を経ることによって、一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂのうちのそれぞれの二重露光部分Ｐ２以外の部分が、一回の露光による架橋部分（低架橋部分）となり、二重露光部分Ｐ２が二回の露光による架橋部分（高架橋部分）となり、一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂを囲む周囲の部分が露光マスクＭ１によって紫外光を遮蔽されることにいって、未架橋部分となる。
【００５６】
そして、感光性誘電体フィルム層の二重露光部分Ｐ２は、一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂのうちのそれぞれの一回の露光による低架橋部分によって、その全周が囲まれた状態になる。
【００５７】
図１２は、上記のような二回の露光工程が終了し、現像工程が行われることによって成形された嵩上げ誘電体層３の断面図である。
【００５８】
この図１２に示されるように、嵩上げ誘電体層３は、その中心部分を形成する二重露光部分Ｐ２の側面が、一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂのうちの一回の露光によって形成された低露光部分によって被覆された状態になっている。
【００５９】
したがって、現像工程の際に、二重露光部分Ｐ２の外周側面の全面が、一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂのうちの一回の露光によって形成された低露光部分によって保護されることによって、前述した図３で示されるようなアンダ・カット状態の発生が防止される。
【００６０】
上記のような露光マスクＭ１の二次元シフトによる露光工程を有する表示パネルの製造方法においては、現像工程の際に、二重露光部分Ｐ２の周囲に存在する一回目の露光部分Ｐ１Ａおよび二回目の露光部分Ｐ１Ｂのうちの一回の露光によって形成された低露光部分が除去される場合でも、二重露光部分Ｐ２のみによって断面が矩形の嵩上げ誘電体層３が形成されるように、二重露光部分Ｐ２の露光面積、すなわち、一回目と二回目の露光工程において露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａが重なる領域Ｅ（図１１参照）の面積が、嵩上げ誘電体層３の外形寸法に合わせて設定される。
【００６１】
上記表示パネルの製造方法によれば、二重露光部分Ｐ２の面積は、露光マスクＭ１の二次元シフト幅を調整することによって任意に設定することができ、これによって、嵩上げ誘電体層３の外形寸法を任意に設定して形成することが出来るようになる。
【００６２】
さらに、上記表示パネルの製造方法によれば、露光マスクＭ１の二次元シフト幅は、嵩上げ誘電体層３の所望の外形寸法に合わせて任意に調整することが出来るので、例えば、異なる前面ガラス基板１に外形寸法の異なる嵩上げ誘電体層３を形成する場合にも、露光マスクＭ１を交換することなく二次元シフト幅の調整を行うだけで対応することが出来る。
【００６３】
さらに、上記表示パネルの製造方法によれば、嵩上げ誘電体層３が感光性誘電体フィルム層Ｌの二重露光部分Ｐ２によって成形され、露光工程において、この二重露光部分Ｐ２の全周囲に一回の露光によって形成される低露光部分が形成されて二重露光部分Ｐ２が保護されるようになっているので、現像工程においてアンダ・カット状態が発生するのを防止するために露光ランプの光量を大きくする必要がない。
【００６４】
そして、この表示パネルの製造方法は、露光マスクＭ１を二次元シフトさせて二回目の露光工程を行うので、一回目と二回目の露光工程間において露光マスクＭ１のシフト幅を大きくすることが出来、これによって、露光マスクＭ１にダストが付着したりパターン欠陥が生じているような場合でも、このダストやパターン欠陥によって感光性誘電体フィルム層に未露光部分が発生するのを防止することが出来るようになる。
【００６５】
また、この表示パネルの製造方法によれば、上述した実施例の場合のように、ＰＤＰの嵩上げ誘電体層の成形を行う場合には、露光マスクＭ１の開口部Ｍ１ａが、直線形状のパターンが並列して複数形成された形態になっているために、１回目の露光と２回目の露光で同一露光マスクを使用して所要の嵩上げ誘電体層３の成形を行うことができる。
【００６６】
また、一回目と二回目の露光工程において異なるパターンの開口部を有する露光マスクを使用することによって、二重露光部分の形状を任意に設定することも可能である。
【００６７】
なお、上記の実施例においては、一回目と二回目の露光工程間において露光マスクが二次元シフトされる例が示されているが、露光マスクの位置が固定された状態で前面ガラス基板が二次元シフトされるようにしてもよく、または、露光マスクと前面ガラス基板の双方を相対的に二次元シフトさせるようにしてもよい。
【００６８】
さらに、図９には一箇所に設けられた露光部によって二回の露光が行われる例が示されているが、露光部を搬送方向に沿って二箇所に設けて、一番目の露光部による露光位置に対して二番目の露光部による露光位置が二次元シフトされている様にしても良い。
【００６９】
また、上記の実施例においては、ＰＤＰの行電極対を被覆する誘電体層の背面に形成される嵩上げ誘電体層を成形する場合を例に挙げて説明を行ったが、ＰＤＰの行電極や列電極，隔壁等のフォトリソグラフィ法で形成される他の構造物も同様の手順で成形することができ、この電極や隔壁を成形する場合には、嵩上げ誘電体層を成形する場合と同様に、直線パターンの開口部が複数並列されて形成された同一の露光マスクを使用することが出来る。
【００７０】
上記実施例におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、所要のパターンの開口部が形成された露光マスクが、基板上に感光性材料によって形成された感光性材料層に対して平行に対向されて、一回目の露光位置に位置決めされた後、一回目の露光が行われ、この一回目の露光の終了後に、露光マスクが、一回目の露光時の位置から感光性材料層と平行に一方向およびこの一方向に対して直交する方向（二次元シフト方向）に移動した位置に位置決めされ、この二次元シフト位置において露光マスクの開口部が一回目の露光時の露光マスクの開口部の位置と予め設定された領域において重なっている状態で、二回目の露光が行われる表示パネルの製造方法を、その上位概念の実施形態としている。
【００７１】
この上位概念を構成する実施形態による表示パネルの製造方法によれば、露光マスクの開口部の一回目の露光時の位置と二回目の露光時の位置が重なる領域に対向する部分の感光性材料層が、二重露光され、そして、露光マスクの開口部の二回目の露光時の位置が一回目の露光時の位置に対して二次元シフト位置に位置されることによって、感光性材料層の二重露光された部分の全周囲に一重露光された部分が形成される。
【００７２】
これによって、二回の露光工程後の現像工程において、一重露光部分によって二重露光部分が保護されて、成形された構造物にアンダ・カット状態が発生するのが防止されるようになるので、この二重露光部分によって表示パネルの任意の構造部が所望の形状に成形されるようになり、さらに、二回目の露光を、露光マスクを一回目の露光位置から二次元シフトした位置に位置させて行うので、一回目と二回目の露光工程間において露光マスクのシフト幅を大きくすることができ、これによって、露光マスクにダストが付着したりパターン欠陥が生じているような場合でも、このダストやパターン欠陥によって感光性材料層に未露光部分が発生するのを防止することが出来るようなる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】従来例の問題点を示す説明図である。
【図２】従来例の問題点を示す説明図である。
【図３】従来例の問題点を示す説明図である。
【図４】従来例の問題点を示す説明図である。
【図５】従来例の問題点を示す説明図である。
【図６】この発明が適用される表示パネルの一例を示す正面図である。
【図７】図６のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図８】図６のＷ−Ｗ線における断面図である。
【図９】この発明が適用される表示パネルの製造装置の一例を示す概略構成図である。
【図１０】この発明の実施例において使用される露光マスクの一例を示す平面図である。
【図１１】この発明の実施例における表示パネルの製造方法の説明図である。
【図１２】同実施例において成形された構造物の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７４】
１        …前面ガラス基板（基板）
３        …嵩上げ誘電体層（構造物）
１０      …製造装置
１０Ａ    …露光部
１０Ａａ  …露光ランプ
１０Ｂ    …現像部
１０Ｂａ  …現像液噴射器
Ｌ        …感光性誘電体フィルム層（感光性材料層）
Ｅ        …領域
Ｍ１      …露光マスク
Ｍ１ａ    …開口部
Ｐ１Ａ    …一回目の露光部分
Ｐ１Ｂ    …二回目の露光部分
Ｐ２      …二重露光部分
【図１】
2007133128.tif 000003
【図２】
2007133128.tif 000004
【図３】
2007133128.tif 000005
【図４】
2007133128.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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