(57)【要約】【課題】高い拡散反射率を有する被覆基材およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の被覆基材は，基材表面の少なくとも一部に被覆層を有し，その被覆層が少なくとも２層以上の複数層からなり，その内，最表層は，膜厚が２０μｍ以下であり，拡散反射率が９５％以上であり，且つ，光沢が４０％以下とすることで高い拡散反射率を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面の少なくとも一部に被覆層を有し，
前記被覆層は，少なくとも２層の複数層からなり，
前記複数層の内，最表層は，膜厚が２０μｍ以下であり，拡散反射率が９５％以上であり，且つ，光沢が４０％以下であることを特徴とする，被覆基材。
【請求項２】
前記最表層は，つや消し剤を含有することを特徴とする，請求項１記載の被覆基材。
【請求項３】
前記最表層を除く前記被覆層の総膜厚の内８０％以上が，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する層であることを特徴とする，請求項１記載の被覆基材。
【請求項４】
前記ルチル型酸化チタンは，前記フッ素樹脂中に体積比で２０〜３５％混和されていることを特徴とする，請求項３記載の被覆基材。
【請求項５】
基材表面の少なくとも一部に被覆層を有し，
前記被覆層は，少なくとも２層の複数層からなり，
前記複数層の内，最表層は，つや消し剤を含有し，且つ，膜厚が２０μｍ以下であり，
前記最表層を除く前記被覆層の総膜厚の内７０％以上が，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを体積比で２０〜３５％含有する層であることを特徴とする，被覆基材。
【請求項６】
前記最表層の主樹脂は，フッ素樹脂であることを特徴とする，請求項１，２又は５に記載の被覆基材。
【請求項７】
前記最表層は，ルチル型酸化チタンを体積比で０〜３５％含有することを特徴とする，請求項１，２又は５に記載の被覆基材。
【請求項８】
前記被覆層の総膜厚が５０〜１００μｍであることを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載の被覆基材。
【請求項９】
前記基材は，金属板であることを特徴とする，請求項１記載の被覆基材。
【請求項１０】
基材表面の少なくとも一部に，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する下層を塗装により形成し，前記下層の上につや消し剤を含有する最表層を塗装により形成することを特徴とする，被覆基材の製造方法。
【請求項１１】
前記最表層と前記下層とを同時に焼き付けることを特徴とする，請求項１０記載の被覆基材の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれかに記載の被覆基材を使用した電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，高い拡散反射率を有する被覆基材とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
照明器具，ＡＶ機器，電子機器，モバイル機器，液晶テレビ，プラズマディスプレイ等は，可視光線を発することで，周囲を明るくする，光信号を伝える，もしくは光画像を映し出す等の機能を有している。これらの機器では，反射板を設けて，この反射板に光を反射させることで，光の輝度を向上させる，光の方向を変える等を行っているものもある。そのため，反射板に光が反射したときに光量低下を避けるために，反射板表面には高い可視光線反射率が要求される。従来，反射板表面の反射率を高める手段として，金属を研磨して鏡面にする，反射率の高い白色系の塗料を塗装する等が行われていた。また，新日本製鐵（株）カタログ「ビューコート（登録商標）」には，予め白色塗料を塗布した照明器具反射板用プレコート鋼板等も公開されている。
【０００３】
また，例えば特許文献１では，基材フィルムの片表面に金属薄膜層，無機微粒子を含有する樹脂層を順次積層し，当該金属薄皮膜層がアルミニウムからなり，無機微粒子を含有する樹脂層を構成する無機微粒子の屈折率ｎｆと同層を構成する樹脂の屈折率ｎｂとがｎｆ−ｎｂ≧０．４とすることで，液晶表示装置の反射板として優れた光反射フィルムの技術が開示されている。さらに，例えば特許文献２では，液晶ディスプレイのバックパネル用として，アルミニウム板上に樹脂１００質量部に対してルチル型酸化チタン１５０〜３００質量部を含有する膜厚５０〜１００μｍの下塗り層と，該下塗り層状に，樹脂１００質量部に対してルチル型酸化チタンを１００〜２５０質量部含有し，光沢が１５以下で，且つ膜厚１０〜３０μｍの上塗り層を形成させた液晶ディスプレイのバックパネル用の高拡散反射塗装金属板の技術が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−７３０号公報
【特許文献２】特開２００２−１７２７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし，近年では，照明器具反射板や液晶ディスプレイ等の電気製品に用いる反射板は，電気製品の構造やデザインが複雑化し，これに伴い，反射板も様々な形状に成形加工して使用するニーズが高まってきており，それと同時により強く均一に光を反射することが要求されている。ところが，上記特許文献１に記載された技術のように基材にフィルムを用いた場合は，予め金属薄皮膜層や無機微粒子を含有する樹脂層を積層させたフィルムを目的の形状に成形することは困難であり，予めフィルムを目的の形状に成形した後に金属薄皮膜層や無機微粒子を含有する樹脂層を積層させる必要がある。ただし，反射板の成形形状が複雑な場合，加工部分で皮膜を均一な膜厚に積層させることが困難である。一方，上記特許文献２に記載された技術では，下塗り層と上塗り層をアルミニウム板上に予め塗布させた後に成形加工することはできるが，一般的なプレコート塗装ラインでの塗装では，１回で当該膜厚の下塗り層（５０〜１００μｍ）を塗装することは非常に困難であり，２回以上の重ね塗りが必要となるため，生産性が低い等の欠点がある。
【０００６】
したがって，電気製品の構造上やデザイン上の理由で，反射板を成形加工して使用しなければならないこと，反射板の生産性を考えると，特許文献１や特許文献２等に記載された反射板を使用することは困難であった。
【０００７】
本発明は，上記現状に鑑み，基材上に成型加工が可能で，且つ，高い拡散反射率を示し，さらに低光沢である被覆層を形成することで，均一に強く光を反射できる被覆基材及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは，上記課題を解決するために鋭意検討した結果，基材に高拡散反射率であると同時に低光沢の被覆層を形成することで，均一で強く光を反射できる反射板を作成できることを見出し，かかる知見を基に本発明を完成させたものであって，本発明がその要旨とするのは，以下のとおりである。
（１）  基材表面の少なくとも一部に被覆層を有し，前記被覆層は，少なくとも２層の複数層からなり，前記複数層の内，最表層は，膜厚が２０μｍ以下であり，拡散反射率が９５％以上であり，且つ，光沢が４０％以下であることを特徴とする，被覆基材。
（２）  前記最表層は，つや消し剤を含有することを特徴とする，（１）記載の被覆基材。
（３）  前記最表層を除く前記被覆層の総膜厚の内８０％以上が，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する層であることを特徴とする，（１）記載の被覆基材。
（４）  前記ルチル型酸化チタンは，前記フッ素樹脂中に体積比で２０〜３５％混和されていることを特徴とする，（３）記載の被覆基材。
（５）  基材表面の少なくとも一部に被覆層を有し，前記被覆層は，少なくとも２層の複数層からなり，前記複数層の内，最表層は，つや消し剤を含有し，且つ，膜厚が２０μｍ以下であり，前記最表層を除く前記被覆層の総膜厚の内７０％以上が，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを体積比で２０〜３５％含有する層であることを特徴とする，被覆基材。
（６）  前記最表層の主樹脂は，フッ素樹脂であることを特徴とする，（１），（２）又は（５）に記載の被覆基材。
（７）  前記最表層は，ルチル型酸化チタンを体積比で０〜３５％含有することを特徴とする，（１），（２）又は（５）に記載の被覆基材。
（８）  前記被覆層の総膜厚が５０〜１００μｍであることを特徴とする，（１）〜（７）のいずれかに記載の被覆基材。
（９）  前記基材は，金属板であることを特徴とする，（１）記載の被覆基材。
（１０）  基材表面の少なくとも一部に，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを含有する下層を塗装により形成し，前記下層の上につや消し剤を含有する最表層を塗装により形成することを特徴とする，被覆基材の製造方法。
（１１）  前記最表層と前記下層とを同時に焼き付けることを特徴とする，（１０）記載の被覆基材の製造方法。
（１２）  （１）〜（９）のいずれかに記載の被覆基材を使用した電子機器。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば，光をより強く均一に反射できる被覆基材を提供できるようになった。これにより，光源の数を減らしたり，照射強度を弱くしたりしても，従来と同等の照度で均一性も保持することができる照明器具を作成できるようになった。したがって，本発明は極めて産業上の価値の高い発明であると言える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下，本発明について詳細に説明する。本発明では，基材表面に高拡散反射率かつ低光沢な被覆層を形成することで，強く，均一に光を反射することに成功した。
【００１１】
本発明では少なくとも２層の被覆層を有し，それぞれの被覆層に役割を分担させることで，高拡散反射率と低光沢を両立している。具体的に最表層により低光沢化を実現し，その内部の層（下層）により高拡散反射率を実現している。拡散反射率が高いものを反射板として用いると，光の効率が良くなり，拡散反射率を９５％以上にすると光のロスを少なくすることができる。また，光沢が低いと，光源との距離，角度に関わらず一定の光を反射し易いので，照明の数が少なかったり，間隔が広かったりする場合でも，均一な光を反射することができ，光沢が４０％以下であると，実用上十分な均一性を得ることができる。そのため，拡散反射率９５％以上と光沢４０％以下と言う条件を両立できると，均一に強い光を反射できるため，照明の数を減らしたり，出力を下げたりしても，照明の数を減らしたり，出力を下げたりしていないものと同等の明るさを得ることができる。
【００１２】
高い拡散反射率を得るためには，光拡散性の高い被覆層をなるべく厚く形成する有利であるが，低光沢にするための最表層は特に厚い必要は無く，低光沢になる膜厚が確保されていれば良い。そのため，最表層の膜厚としては２０μｍ以下であると好ましく，最表層の役割を低光沢化に特化させて，その他の部分で高拡散反射率化を図るのであれば１０μｍ以下であった方が好ましい。
【００１３】
最表層の低光沢化の手法としては，いずれも特に限定されるものではなく，製膜後に機械的に凹凸を形成する等の手法をとっても構わないが，最表層につや消し剤を混和することで低光沢化すると，製膜と同時に低光沢化ができ，好ましい。
【００１４】
また，本発明で，つや消し剤とは，特に限定されるものではないが，一般につや消し剤として使用されているものを使用して良く，シリカ，ガラス，樹脂等のビーズやこれらを分散した薬剤を用いても良い。例えば，シリカとしては，十条化学ケミカル社製の「ＪＡ  ＴＭ」シリーズ，富士シリシア化学社製の「サイシリアＴＭ」シリーズ，旭硝子エスアイテック社製の「サンスフェア（登録商標）」シリーズ，デグサ社製の「アエロジル（登録商標）」シリーズ，トクヤマ社製の「トクシール（登録商標）」「ファインシール（登録商標）」シリーズ，樹脂ビーズとしては，十条化学ケミカル社製の「ＵＢ  ＴＭ」シリーズ，積水化成品工業社製の「テクポリマー（登録商標）」，大日精化工業社製の「ラブコロール（登録商標）」「ダイミックビーズ（登録商標）」等を用いることができる。
【００１５】
最表層と基材との間の被覆層については，高拡散反射率が達成できる被覆層であれば，特に限定されるものでは無いが，フッ素樹脂のように屈折率の低い樹脂にルチル型酸化チタンのように高屈折率の顔料を混和したものを形成すると良い。これは被覆層のバインダーと顔料の屈折率差が大きいと，バインダーと顔料との界面における反射率が高くなるためである。
【００１６】
フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを混和した被覆層は，厚くした方が高拡散反射率を得易いため，最表層を除く総膜厚の内７０％以上がフッ素樹脂にルチル型酸化チタンを混和した被覆層であると良く，最表層を除く総膜厚の８０％以上がフッ素樹脂にルチル型酸化チタンを混和した被覆層であるとさらに好ましい。
【００１７】
フッ素樹脂としては，何れも特に限定されるものではないが，ポリフルオロエチレン系のポリテトラフルオロエチレン，ポリトリフルオロエチレン，ポリジフルオロエチレンや，ポリヘキサフルオロプロピレン，ポリバーフロロアルキルビニルエーテル構造を分子鎖中に持つものであれば良く，これらの構造やビニルエーテル，ビニルエステル等との共重合体であったり，アクリル樹脂をブレンドしたものであっても良い。具体的には，旭硝子社製「ルミフロン（登録商標）」，日本ペイント社製「デュフロン（登録商標）」，３Ｍ社製「ダイオニン」，大日本インキ化学工業社製「フルオネート（登録商標）」，ダイキン社製「ゼッフル（登録商標）」，東亞合成社製「ザフロン（登録商標）」等を用いることができる。
【００１８】
フッ化ビニリデン単独重合体の場合は，アクリル樹脂と混合して用いるのが一般的である。また，これらの樹脂は，必要に応じて一般に公知の架橋剤，例えば，イソシアネートやメラミン樹脂で架橋させても良い。イソシアネートも，一般に市販されているもの，例えば，住化バイエル社製「スミジュール（登録商標）」，「デスモジュール（登録商標）」シリーズ，三井武田ケミカル社製「タケネート（登録商標）」シリーズ等を使用することができる。メラミン樹脂も，一般に市販されているもの，例えば，三井サイテック社製「サイメル（登録商標）」，「マイコート（登録商標）」シリーズ，大日本インキ化学工業社製「ベッカミン（登録商標）」，「スーパーベッカミン（登録商標）」シリーズ等を使用することができる。
【００１９】
また，本発明で主樹脂とは，被覆層のバインダーとなる成分のうち質量比で５０％以上のものを言う。これらの樹脂が主成分であるかどうかは，赤外分光，核磁気共鳴スペクトル，質量分析等を組み合わせることで確認することができる。
【００２０】
本発明の高い拡散反射率を有する被覆基材は，主に可視光を反射することを目的としているため，人の目の感度が高いとされている波長域の拡散反射率が高いことが重要である。人の目は，個人差はあるものの３８０〜７８０ｎｍの波長の光を感受することができ，その感度のピークは５５５ｎｍ付近にある。そのため，５５５ｎｍを中心とした波長の光を強く反射する必要がある。顔料として用いるルチル型酸化チタンの平均粒径は，小さい方が同一体積では表面積が広くなり，反射界面が広くなることになるため，拡散反射率も高くなるが，顔料の粒径が小さくなり過ぎると，長い波長の光の透過してしまう。そのため，なるべく反射界面を広くし，可視光を強く反射するには，ルチル型酸化チタンの平均粒径を２００〜４００ｎｍとすると好ましく，さらに好ましくは２５０〜３５０ｎｍのものが良い。
【００２１】
ここでのルチル型酸化チタンの平均粒径は，確認したい部分を電子顕微鏡により１０，０００倍で観察し，視野中に映し出されるルチル型酸化チタンの内，数で粒径の小さい方から２０％と大きい方から５％を除いた残りのルチル型酸化チタンの粒径の相加平均値である。また，ルチル型酸化チタンにシリカ，アルミナ，ジルコニア，酸化亜鉛，酸化アンチモン，有機物等でコーティングを施したものを使用しても良い。具体的には，石原産業社製「タイペーク（登録商標）」シリーズ，富士チタン社製「ＴＡ」シリーズ，テイカ社製「ＴＩＴＡＮＩＸ（登録商標）」シリーズ等を用いることができる。本発明におけるルチル型酸化チタンは，何れも同様ものを用いれば良い。
【００２２】
また，ルチル型酸化チタンの濃度は，特に限定されるものではないが，体積比で２０％以上にすると高い光の拡散性が得られるが，３５％を超えると加工性が低下する傾向にあるため，２０〜３５ｖｏｌ％であると良い。特に高いレベルの拡散反射率を狙うのであれば，ルチル型酸化チタン濃度を２５ｖｏｌ％以上にすると良く，特に高い加工性を狙うのであればルチル型酸化チタン濃度を３０ｖｏｌ％以下にすると良い。
【００２３】
ここでのルチル型酸化チタンの体積濃度は，次のようにして測定することができる。一つは，まず，測定目的の層のみを削り取る。削り取った面積Ａ１及び深さＤ１から，塗膜の体積Ｖ１をＶ１＝Ａ１×Ｄ１として求める。次に，削り取った塗膜を５００℃で１時間加熱し，バインダー成分を分解させる。残った部分をルチル型酸化チタンと考えることができる。そのルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ１を液体に浸漬する等の方法で測定しても良いが，その質量Ｍｔ１を測定し，一般的なルチル型酸化チタン顔料の密度は３８００〜４２００ｋｇ・ｍ−３程度なので，ルチル型酸化チタン顔料の密度を４０００ｋｇ・ｍ−３として，体積Ｖｔ１をＶｔ１＝Ｍｔ１÷４０００ｋｇ・ｍ−３として求めても良い。このように求めた塗膜の体積Ｖ１，ルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ１から，ルチル型酸化チタンの体積濃度Ｃｔ１は，Ｃｔ１＝Ｖｔ１÷Ｖ１×１００（ｖｏｌ％）として求めることができる。
【００２４】
もう一つは，被覆面に対して垂直な面で被覆基材をカットし，その断面を光学顕微鏡，電子顕微鏡で確認するか，まず，被覆基材の厚さをマイクロメータで測定し，その後，被覆層を剥離して，再度，同じ場所の厚さをマイクロメータで測定し，その差から被覆層の膜厚Ｔ２を求める等の方法で確認する。任意の面積Ａ２だけ被覆層を剥離する。剥離した被覆層をるつぼで５００℃，１時間加熱する。残った灰分に含まれる酸化チタンの質量Ｍｔ２を求める。ルチル型酸化チタン顔料の一般的な密度は４０００ｋｇ・ｍ−３程度なので，被覆層の体積Ｖ２（＝Ａ２×Ｔ２）中のルチル型酸化チタンの体積Ｖｔ２は，Ｖｔ２＝Ｍｔ２÷４０００と計算することができる。このように求めた被覆層の体積，ルチル型酸化チタンの体積から，被覆層全体の平均ルチル型酸化チタンの濃度Ｃｔ２は，Ｃｔ２＝Ｖｔ２÷Ｖ２×１００（ｖｏｌ％）と求めることができる。次に，被覆層の膜厚方向の元素分布をＧＤＳ（グロー放電発光分光分析装置）や被覆層断面のＥＭＰＡ（電子線マイクロアナライザ）等で確認する。その元素分布と先に求めた平均ルチル型酸化チタン濃度から，各深さ，各層におけるルチル型酸化チタン濃度を求めることができる。また，有機分の加熱分解による有機分と無機分の質量比の確認はＴＧ（熱重量分析）によって行っても良い。
【００２５】
最表層のバインダーとしては，特に限定されるものではないが，光の反射を目的として使用されるため，耐候性の高いものを用いると好ましい。そのため，最表層のバインダーとしても，フッ素樹脂を用いることが好ましい。フッ素樹脂としては，先に述べたものと同様のものを用いることができる。
【００２６】
最表層にもなるべく高い光の拡散性を付与したい場合は，最表層にもルチル型酸化チタンを混和しても良い。ルチル型酸化チタンの濃度は，あまり高くすると金属が接触した際にルチル型酸化チタンにより金属が磨耗し，黒く着色してしまうことがあるため，３５％以下にすることが好ましく，特に高面圧で金属と摩擦するような場合は，３０％以下にすることが好ましい。
【００２７】
被覆層の総膜厚としては，特に限定されるものではないが，高拡散反射率にするためには膜厚が厚い方が良いため５０μｍ以上であると好ましいが，あまり厚くしても膜厚による効果が飽和し，膜厚を厚くするためにかかるコストに比べて効果が得難くなること，膜厚を厚くすると加工部や切断した場合の切断端部で高い密着性の確保が難しくなること，また，通常の連続塗装ライン被覆層を形成する場合，一回の塗装で５０μｍ以上の被覆層を形成するのは容易ではなく，２コート２ベークのラインで，１００μｍを超える膜厚を形成するの困難であること等から，５０〜１００μｍにすることが好ましい。
【００２８】
本発明の被覆基材の基材としては，特に限定されるものではないが，金属板を用いると，基材へ被覆層を形成した後に加工成型が容易であり，好適である。金属板としてもいずれも特に限定されるものではないが，鋼板，ステンレス板，アルミニウム板，亜鉛板，銅板，また，これらの合金板等が挙げられ，さらに，これらの金属板上にめっき処理した金属が挙げられる。この内，鋼板上にめっき処理した例として，溶融亜鉛めっき鋼板，電気亜鉛めっき鋼板，合金化溶融亜鉛めっき鋼板，アルミニウムめっき鋼板，アルミニウム−亜鉛合金めっき鋼板，亜鉛−アルミニウム−マグネシウム合金めっき鋼板，亜鉛−アルミニウム−マグネシウム−シリコン合金めっき鋼板，亜鉛−マグネシウム合金めっき鋼板，錫めっき鋼板，鉛めっき鋼板，クロムめっき鋼板等の各種めっき鋼板等が挙げられる。また，これら金属板に，化成処理を施したものに処理を施すこともできる。化成処理としては，一般に公知の化成処理，例えば，塗布クロメート処理，電解クロメート処理，りん酸亜鉛処理や近年開発されている６価クロムを含まないクロメートフリー処理等を使用することができる。
【００２９】
本発明の高い拡散反射率を有する被覆基材の製造方法としては，特に限定されるものではないが，塗装により容易に製造することができる。例えば，フッ素樹脂にルチル型酸化チタンを混和し，塗装できるように溶剤で希釈したような塗料を塗装することで拡散反射性の高い被覆層を形成し，その上に，最表層としてシリカ等のつや消し剤が混和された低光沢塗料を塗装しても良い。拡散反射性の高い層は複数回に分けて塗装しても良いし，拡散反射性の高い被覆層の下に，プライマー層を塗装により形成しても良い。このように被覆層を塗装により形成すれば，被覆層をフィルムとして別に作成した場合，フィルム作成と基材への貼り付けと言った複数の工程が必要であるのに対し，基材上に直接被覆層を形成でき，工程を少なくすることができると言ったメリットがある。塗装方法は，特に限定されるものではなく，ロール塗工，ローラーカーテン塗工，カーテンフロー塗工，エアスプレー塗工，刷毛塗り塗工，ダイコーター塗工，浸漬塗工，インクジェット塗工等の通常の方法が挙げられる。
【００３０】
各層は，それぞれの塗料を順次塗布，焼き付けて，積層しても良いが，硬化前の状態で積層されたものを同時に焼き付けても，両方の方法を組み合わせてもよい。例えば，拡散反射性の高い層と最表層とを同時に焼き付けると，拡散反射性の高い層の下にプライマー層を形成した場合や光拡散層を厚塗りするため，二度に分けて塗装した場合でも焼き付け工程が２回で良いため，通常３層を別々に焼き付けるなら，連続塗装ラインで比較的ライン上の長いスペースを取る焼き付け工程の設備を３つ設置しなくてはならないか，２つしか焼き付け工程を持たないラインでは２回ラインを通さないといけないのに対して，同時に焼き付けをすると，焼き付け装置が２つ設置されていれば１回ラインを通すだけで良いため生産性を高めることができ好ましい。塗料状態で積層する方法は，特には限定されるものではないが，大きく二つある。一つは各層を別々に塗布する方法で，一つは複数の層を同時に塗布する方法である。各層を別々に塗布する場合，下層の塗装は上述のような通常の塗装方法で構わないが，上層の塗装は，未硬化の下層に大きな衝撃を加えない方法で塗布することが好適である。下層に大きな衝撃を加えてしまう方法で塗装をすると，上層と下層が混ざってしまう。上層の塗装方法としては，下層を激しく乱さない方法であれば，特に限定されるものではないが，ローラーカーテン塗工，カーテンフロー塗工，エアスプレー塗工，ダイコーター塗工，浸漬塗工，インクジェット塗工等が挙げられる。複数の層を同時に塗布する場合，各層が塗布時に混ざらない必要がある。塗装方法としては，特に限定されるものではないが，多層スライドカーテン塗工等の方法が挙げられる。このような方法で多層を同時に焼き付けると，同時に焼き付けた層間の密着性が高くなり好ましい。
【００３１】
本発明による被覆基材を使用した電気電子機器では，この被覆基材が可視光域で高い拡散反射率を持つため，同一光源の場合はこれまでよりも明るく，これまでより光源の数を少なくしたり，投入電力を少なくしたりしても，これまでと同等の明るさを確保することができる。このような特性を生かすことができる電気電子機器は何れも特に限定されるものではなく，照明器具，電飾，ＡＶ機器，モバイル機器，各種ディスプレイ等が挙げられるが，液晶ディスプレイのバックライト反射板，照明反射板，内飾看板内の反射板等に用いると好ましい。
【実施例】
【００３２】
実施例に基づき，本発明をさらに説明する。
【００３３】
まず，評価方法について説明する。
１）  拡散反射率測定
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に，積分球反射付属装置を取り付けたものを用い，基準板としては硫酸バリウム粉末を押し固めたものを用いた。評価は，人の目の感度が最も高い波長である５５５ｎｍにおけるの拡散反射率については，９５％を基準とし，９５％以上のものは達成，９５％未満のものは未達とした。
２）  光沢の測定
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に規格された鏡面光沢度の測定で，入射角と受光角を共に６０°として測定し，測定値が基準とした４０％以下の場合：○，４０％より高い場合：×として評価した。
３）  照明器具の輝度測定
図１に実験装置の概要を示す。被覆基材を図１に示すような長手方向の両端部が上面側に折り曲げられた形状に成形し，反射板１とした。その中に市販の蛍光灯照明器具２を２本並べて取り付け，その上に，すりガラスで形成されたカバー３を取り付けた。そのカバー３の中央部分（以下，「輝度測定部」という。）４と中央部分４から１．５ｃｍ外側にずらした部分（以下，「輝度の均一性比較測定部」という。）５の輝度を，測定点から垂直に５０ｃｍ離れたところに輝度計６を設置して，測定した。
【００３４】
輝度の評価は，カバー３の輝度測定部４を測定することで評価した。測定の際は，蛍光灯照明器具２以外の光は全て遮断し，新日本製鐵（株）カタログ「ビューコート（登録商標）」に紹介されている白色塗料を塗布した照明器具反射板用プレコート鋼板で作成した反射板（以下，既存の反射板と称す）の輝度を測定し，それに対して作製した被覆基材を用いて作成した反射板１を取り付けたときの照度を測定した。そして，既存の反射板で測定した時の照度と作製した被覆基材の反射板１で測定したときの照度から，輝度変化率＝（［作製した被覆基材による反射板１での輝度］−［既存の反射板での輝度］）×１００／［既存の反射板での輝度］と定義し，輝度変化率が１５％以上の場合：○，輝度変化率が５％以上１５％未満の場合：△，輝度変化率が５％未満の場合：×として評価した。なお，本実験では，蛍光灯照明器具２としては，１６形ランプ出力１６Ｗの蛍光灯を用いた。
【００３５】
また，輝度の均一性の評価は，カバーの輝度測定部４と輝度測定部４から１．５ｃｍずらした輝度の均一性比較測定部５の二箇所の輝度を測定し，輝度の均一度＝１００−（［輝度の均一性比較測定部５の輝度］−［輝度測定部４の輝度］）／［輝度測定部４の輝度］×１００と定義し，輝度の均一度が８５％以上の場合：○，輝度の均一度が７０％以上８５％未満の場合：△，７０％未満の場合：×として評価した。
【００３６】
被覆基材の基材としては，電気亜鉛めっき鋼板にクロメート処理を施したものを用いた。被覆層は各層を塗料化したものを塗布焼き付け硬化することで形成した。
【００３７】
被覆層のバインダーとしては，フッ素樹脂，ポリエステル樹脂を用いた。フッ素樹脂としては，市販の３フッ化エチレン系樹脂である旭硝子社製「ルミフロン（登録商標）ＬＦ５５２」を用いた。架橋剤には市販のＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）をベースとしたブロック化イソシアネートである住化バイエルウレタン社製「スミジュール（登録商標）ＢＬ３１７５」をＯＨ／ＮＣＯ＝１：１等量で混合し，さらに，三井武田ケミカル社製反応触媒「ＴＫ−１」を樹脂固形質量分に対して０．０５質量％添加することで，フッ素系クリア塗料を得た。ポリエステル樹脂としては，市販の有機溶剤可溶型／非晶性ポリエステル樹脂である東洋紡績社製「バイロン（登録商標）ＧＫ１４０」を有機溶剤（ソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したもの）に溶解したものを用いた。架橋剤には市販のヘキサ−メトキシ−メチル化メラミンである三井サイテック社製の「サイメル（登録商標）３０３」をポリエステル樹脂の固形分１００質量部に対して１５質量部添加し，更に，市販の酸性触媒である三井サイテック社製の「キャタリスト（登録商標）６００３Ｂ」を０．５質量部添加することで，ポリエステル系クリア塗料を得た。
【００３８】
ルチル型酸化チタンとしては，平均粒径２８０ｎｍである石原産業社製「タイペーク（登録商標）ＣＲ９５」を用いた。
【００３９】
つや消し剤としては，富士シリシア化学社製のつや消し用シリカ「サイシリアＴＭ」を用いた。
【００４０】
（実施例１）
実施例１では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に最表層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４１】
（実施例２）
実施例２では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４２】
（実施例３）
実施例３では，下層の被覆層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４３】
（実施例４）
実施例４では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上にフッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４４】
（実施例５）
実施例５では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４５】
（実施例６）
実施例６では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４６】
（実施例７）
実施例７では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１９μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４７】
（実施例８）
実施例８では，下層の被覆層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が４５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４８】
（実施例９）
実施例９では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００４９】
（実施例１０）
実施例１０では，下層の被覆層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５０】
（実施例１１）
実施例１１では，下層の被覆層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにブレードコーターで基材に塗装し，２層同時に最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５１】
（実施例１２）
実施例１２では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の８０体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２０体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５２】
（実施例１３）
実施例１３では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の６５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを３５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５３】
（実施例１４）
実施例１４では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の６５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを３５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５４】
（比較例１）
比較例１では，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５５】
（比較例２）
比較例２では，下層の被覆層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が２５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和し，混和したものの固形分９５質量部に対して，つや消し剤を５質量部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が３０μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５６】
（比較例３）
比較例３では，下層の被覆層として，ポリエステル樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が１５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。その上に，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が４５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２１０℃で焼き付けた。さらにその上に，最表層として，フッ素樹脂クリア塗料固形分の７５体積部に対して，ルチル型酸化チタンを２５体積部混和して塗料を調合し，塗装できる粘度になるまでソルベッソ１５０とシクロヘキサノンとを質量比で１：１に混合したものを加えた塗料を，焼き付け硬化後の膜厚が５μｍになるようにバーコートで基材に塗装し，最高到達板温２３０℃で焼き付けた。
【００５７】
【表１】
2007290293.tif 000002
【００５８】
実施例１〜１４は，拡散反射率，光沢，輝度，輝度の均一度の何れの評価とも良好な結果であった。比較例１，２は，拡散反射率が低く，それに対応して輝度も低かった。比較例３は，拡散反射率は高く，輝度も高かったが，光沢が高かったため，それに対応して，輝度の均一度が低かった。
【００５９】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】輝度測定装置の一例を示す断面模式図である。
【図２】図１の輝度測定装置を上部から見た模式図である。
【符号の説明】
【００６１】
１      反射板
２      蛍光灯照明器具
３      カバー
４      輝度測定部
５      輝度の均一性比較測定部
６      輝度計
【図１】
2007290293.tif 000003
【図２】
2007290293.tif 000004