(57)【要約】【課題】本発明は、不可逆変位量が少なく、表示装置に用いられた際、安定してセルギャップを保持することが可能であり、かつ寸法安定性に優れたスペーサ付表示装置用基板を提供することを主目的としている。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、有機材料および無機材料を含有する複合基材と、前記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、前記パターンスペーサの硬度が、前記複合基材に含有される前記無機材料の硬度より低いことを特徴とするスペーサ付表示装置用基板を提供する。【選択図】図１
2007148007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料および無機材料を含有する複合基材と、前記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、前記パターンスペーサの硬度が、前記複合基材に含有される前記無機材料の硬度より低いことを特徴とするスペーサ付表示装置用基板。
【請求項２】
前記複合基材が長尺であることを特徴とする請求項１に記載のスペーサ付表示装置用基板。
【請求項３】
前記有機材料が架橋性樹脂であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のスペーサ付表示装置用基板。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のスペーサ付表示装置用基板の前記複合基材上に着色層が形成されていることを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置や、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬともいう。）素子、電子ペーパー等、種々の表示装置の形成に用いられるスペーサ付表示装置用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置や有機ＥＬ素子、電子ペーパーなどのフラットパネルディスプレイは、薄型省スペースの表示装置として広く用いられている。これらの表示装置のうち、カラー表示を行うものの多くは、ガラス基材上に形成されたＲＧＢ３原色の着色層等を有するカラーフィルタによってカラー化が行われており、例えばこのカラーフィルタとＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の液晶を駆動するための駆動回路が形成された対向基板とを、所定のセルギャップを設けて対向させ、これらの間に液晶を挟むことにより液晶表示装置とすることができる。
【０００３】
また液晶表示装置以外の表示装置においても、所定のセルギャップをあけて２枚の基板を対向させて配置することが必要とされている。そこで、このような一定間隔のセルギャップを維持する方法として、例えば２枚の基板間にスペーサビーズを散布する方法や、パターンスペーサを基板上の所定位置に形成する方法が一般的に用いられている。なお、上記セルギャップは、表示装置に外部から強い力が加えられた場合であっても、その後力が除去された際に、力が加えられる前のセルギャップとほぼ同等となることが要求されている。
【０００４】
ここで近年、特に携帯電話等の携帯機器用等の表示装置において、更なる薄型・軽量化のためにガラスに換えてプラスチックフィルムを基材に用いることが提案されており（特許文献１）、例えば基材として用いられるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンレテフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の熱可塑性プラスチックフィルムや、エポキシ樹脂等の架橋性樹脂プラスチックフィルムが提案されている。
【０００５】
しかしながら、プラスチックフィルムからなる基材を用いて表示装置を製造した場合、スペーサの方がプラスチックフィルムより硬いときには、液晶表示装置に外部から圧力がかけられた際、スペーサによって基材が変形してしまう。そのため、外部からの圧力を除去した際、その部分のセルギャップが元に戻らず（以下、この現象を不可逆変位ともいう。）、セルギャップが不安定になる、という問題があった。
【０００６】
またさらに、プラスチックフィルムからなる基材を用いた場合、例えば着色層等、他の部材を基材上に形成する際に、基材が熱膨張等してしまい、対向基板と貼りあわせる場合に位置ずれが生じる等の問題もあった。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２８４３０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、不可逆変位量が少なく、表示装置に用いられた際、安定してセルギャップを保持することが可能であり、かつ寸法安定性に優れたスペーサ付表示装置用基板の提供が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、有機材料および無機材料を含有する複合基材と、上記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、上記パターンスペーサの硬度が、上記複合基材に含有される上記無機材料の硬度より低いことを特徴とするスペーサ付表示装置用基板を提供する。
【００１０】
本発明においては、上記有機材料および無機材料を含有し、かつ無機材料の硬度が、上記パターンスペーサの硬度より高いものとされていることから、スペーサ付表示装置用基板が表示装置に用いられ、外圧がかけられた場合であっても、スペーサによって複合基材が変形してしまうことの少ないものとすることができ、不可逆変位量の少ないものとすることができる。また、上記複合基材中に上記無機材料が含有されていることから、基材の熱膨張や熱収縮等の少ないものとすることができる。したがって、本発明によれば、安定してセルギャップを保持することが可能であり、かつ寸法安定性に優れたスペーサ付表示装置用基板とすることができる。
【００１１】
上記発明においては、上記複合基材が長尺であることが好ましい。これにより、上記スペーサ付表示装置用基板が、ロール・ツー・ロール方式により効率よく製造されたものとすることが可能となるからである。
【００１２】
また上記発明においては、上記有機材料が架橋性樹脂であることが好ましい。これにより、上記特性を有する複合基材が、より寸法安定性に優れたものとすることができるからである。
【００１３】
また本発明は、上述したスペーサ付表示装置用基板の上記複合基材上に着色層が形成されていることを特徴とするカラーフィルタを提供する。本発明によれば、上述した複合基材が用いられていることから、上記カラーフィルタと対向基板とを対向させて貼りあわせ、表示装置とした際に、セルギャップを安定して維持することが可能となり、また位置ずれ等がないものとすることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、安定してセルギャップを保持することが可能であり、かつ寸法安定性に優れたスペーサ付表示装置用基板とすることができるという効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明は、液晶表示装置や、有機ＥＬ素子、電子ペーパー等、種々の表示装置の形成に用いられるスペーサ付表示装置用基板、およびそのスペーサ付表示装置用基板を用いたカラーフィルタに関するものである。以下、それぞれについて説明する。
【００１６】
Ａ．スペーサ付表示装置用基板
まず、本発明に用いられるスペーサ付表示装置用基板について説明する。本発明に用いられるスペーサ付表示装置用基板は、有機材料および無機材料を含有する複合基材と、上記複合基材上にパターン状に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示用基板であって、上記パターンスペーサの硬度が、上記複合基材に含有される上記無機材料の硬度より低いことを特徴とするものである。
【００１７】
本発明のスペーサ付表示装置用基板は、例えば図１に示すように、有機材料および無機材料を含有する複合基材１と、その複合基材１上に、パターン状にパターンスペーサ２が形成されているものである。なお、本発明でいうパターンスペーサとは、例えば柱状や壁状等、所定の位置に、所定の形状に形成されたスペーサをいうこととする。
【００１８】
本発明によれば、上記複合基材に含有されている無機材料の硬度が、上記パターンスペーサの硬度より高いものとされていることから、スペーサ付表示装置用基板が表示装置に用いられた際、表示装置に外部からの圧力が加わった場合であっても、パターンスペーサによって複合基材が変形してしまうことの少ないものとすることができる。したがって、外部から圧力がかけられた場合であっても、圧力が除去された際には、圧力が加えられる前のセルギャップに近い状態に戻ることが可能となり、セルギャップを安定に保持することが可能となるのである。
【００１９】
また、上記複合基材中に上記無機材料が含有されていることから、例えばスペーサ付表示装置用基板上に着色層等を形成する際にかけられる熱によって、複合基材が膨張したり収縮してしまうこと等の少ないものとすることができる。したがって、スペーサ付表示装置用基板と対向基板とを貼りあわせる際に、位置ずれ等が生じることの少ないものとすることができるという利点も有している。
以下、本発明のスペーサ付表示装置用基板について、各構成ごとに詳しく説明する。
【００２０】
１．複合基材
まず、本発明に用いられる複合基材について説明する。本発明に用いられる複合基材は、有機材料および無機材料を含有するものであり、かつ後述するパターンスペーサを形成可能なものであればその種類等は特に限定されるものではない。例えば有機材料中に粒状あるいは板状の無機材料が分散されているものであってもよく、また有機材料中に、繊維状の無機材料が分散されているもの等であってもよい。また有機材料が薄い無機材料からなるシートによって覆われているものであってもよく、またさらに繊維状の無機材料が織り込まれたクロス状シートが有機材料によって覆われているもの等であってもよい。
【００２１】
上記複合基材に用いられる有機材料としては、所定の強度を有し、かつ層状に成型可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば熱可塑性樹脂や架橋性樹脂等を用いることができる。本発明においては、特に架橋性樹脂を用いることが好ましい。これにより、複合基材の寸法安定性をより良好なものとすることができるからである。
【００２２】
上記架橋性樹脂としては、光架橋性樹脂および熱架橋性樹脂が挙げられる。本発明においては、上記光架橋性樹脂の中でも、多官能アクリレート樹脂やアクリル樹脂等が用いられることが好ましい。また、上記熱架橋性樹脂としてはエポキシ樹脂が用いられることが好ましい。これらの樹脂は、加工性や樹脂特性の面で優れているからである。
【００２３】
また上記複合基材に用いられる無機材料としては、例えばシリカやガラス等の二酸化珪素を主成分とするものや、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物などが挙げられる。本発明においては、特に二酸化珪素を主成分とするものが用いられることが好ましい。これにより、有機材料と無機材料との屈折率差を小さいものとすることができ、良好な透明性を有する複合基材とすることが可能となるからである。なお、上記無機材料の表面は、アクリルシラン等によって処理されていてもよい。
【００２４】
本発明において、上記複合基材中には、無機材料が５質量％〜９５質量％程度、中でも２０質量％〜７０質量％程度、特に３０質量％〜６０質量％程度含有されていることが好ましい。これにより、表示装置に外部から圧力が加えられた際、パターンスペーサによって複合基材が押され、変形してしまうことの少ないものとすることや、複合基材が寸法安定性に優れたものとすることができるからである。
【００２５】
ここで本発明においては、上記無機材料の硬度は、後述するパターンスペーサの硬度より高いものとされるが、無機材料の具体的な硬度としては１０００Ｎ／ｍｍ２〜１００００Ｎ／ｍｍ２の範囲内、中でも３０００Ｎ／ｍｍ２〜６０００Ｎ／ｍｍ２の範囲内とされていることが好ましい。上記硬度は、複合基材中の無機材料そのもの、あるいはそれと同じ材料組成の無機材料を測定し易い形状に加工して、ビッカース硬度試験機（（株）フィッシャーインストルメンツ製  フィッシャースコープＨ−１００  超微少硬度計）により測定することにより得られる値である。
【００２６】
また上記複合基材の形状や大きさは特に限定されるものではないが、本発明においては特に、上記複合基材が長尺であることが好ましい。これにより、スペーサ付表示装置用基板がロール・ツー・ロール方式により形成されたものとすることが可能となり、製造効率等の面で好ましいものとすることができるからである。
【００２７】
また本発明に用いられる複合基材は、３０℃から１５０℃における線膨張係数が０ｐｐｍ／℃〜４０ｐｐｍ／℃の範囲内であることが好ましい。これにより、スペーサ付表示装置用基板のパターニングプロセス時の温度バラツキによる寸法ズレを小さく抑えることができるからである。なお、上記線膨張係数は、ＴＭＡ（Thermal Mechanical Analyzer）を用いて３０〜１５０℃の範囲を測定することにより得られる値である。
【００２８】
また、上記複合基材の透明性は、スペーサ付表示装置用基板の種類等に応じて適宜選択されるものであるが、本発明においては上記複合基材が可視光に対して透明性を有することが好ましく、具体的には全光線透過率が８０％以上であることが特に好ましい。これにより、上記スペーサ付表示装置用基板を、種々の表示装置に用いることが可能となるからである。上記複合基材を可視光に対して透明性を有するものとする方法としては、複合基材に含有される上記無機材料の粒径を１００ｎｍ以下とする方法や、上記無機材料と有機材料との屈折率の差を±０．００５以内とする方法等が挙げられる。なお、上記全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００２９】
また、上記複合基材は、ガラス転移温度が２００℃以上であることが好ましい。これにより、本発明のスペーサ付表示装置用基板上に例えば着色層等を形成する際、熱によって複合基材が変形してしまうこと等のないものとすることができるからである。
【００３０】
なお、本発明においては、上記複合基材表面にアンダーコート層等が形成されていてもよい。これにより、上記複合基材とパターンスペーサとの密着性を良好なものとすることができるからである。このようなアンダーコート層としては、例えばアクリル系架橋性樹脂やエポキシ系架橋性樹脂等を含有する層が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００３１】
２．パターンスペーサ
次に、本発明に用いられるパターンスペーサについて説明する。本発明に用いられるパターンスペーサは、上記複合基材上にパターン状に形成されるものであり、かつ硬度が上記複合基材中に含有される無機材料の硬度より低いものである。
【００３２】
本発明においては、上記パターンスペーサの硬度が、上記無機材料の硬度を１としたときに０．０００３〜０．９０９の範囲内、中でも０．００１〜０．５００の範囲内、特に０．００６〜０．１５１５の範囲内とされていることが好ましい。これにより、スペーサ付表示装置用基板が表示装置に用いられ、外部から圧力がかけられた場合であっても、スペーサによって上記複合基材が変形してしまうことの少ないものとすることができるからである。上記パターンスペーサの硬度は、上述した無機材料の硬度の測定方法と同様とすることができる。
【００３３】
また、上記パターンスペーサの形成されているパターンとしては、特に限定されるものではなく、スペーサ付表示装置用基板の種類や用途に合わせて適宜選択される。また、上記パターンスペーサの形状としても、スペーサ付表示装置用基板が表示装置に用いられた際、対向基板とスペーサ付表示装置用基板とのセルギャップを一定に保つことが可能な形状であれば特に限定されるものではなく、例えば円柱状や角柱状のもの、頂部が切断された円錐状や角錐状のもの、あるいは土手形状、各画素の表示部周辺を連続的なスペーサが覆っている格子形状、円柱状あるいは角柱状の中心がくり貫かれている様なカルデラ形状、土手形状の中心がくり貫かれている様な２重土手形状、あるいは円柱状や角柱状、円錐状、角錐状、土手形状等が複数集合して形成される複合形状等とすることができる。
【００３４】
上記パターンスペーサの形成方法としては、一般的な表示装置のパターンスペーサの形成方法と同様とすることができる。例えばアクリル樹脂等のネガ型の感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングすることにより、形成することができる。この感光性樹脂層の形成は、公知のネガ型の感光性樹脂組成物を、粘度の最適化を行った上で、スピンコータ、ロールコータ、ダイコーター、インキジェット等の公知の手段により上記複合基材を覆うように塗布、乾燥して形成することができる。この際、感光性樹脂層の厚みは、パターンスペーサに要求される高さに応じて適宜設定することができる。また、感光性樹脂層のパターニングは、パターンスペーサ形成用のフォトマスクを介して露光することにより行うことができる。使用されるフォトマスクとしては、パターンスペーサ形成のため、所定の位置に開口部を備えているもの等とすることができる。その後、現像液により感光性樹脂層の現像を行うことによって、パターンスペーサを形成する領域の感光性樹脂層は溶解されずにパターンスペーサが形成されることとなる。また本発明においては、例えばノボラック樹脂等のポジ型感光性樹脂を用いて同様にパターンスペーサの形成を行ってもよい。
【００３５】
また本発明においては、例えばＰＥＴ等のプラスチックフィルム上に上記ネガ型の感光性樹脂層やポジ型の感光性樹脂層を全面に形成し、プリベーク処理した後、上記感光性樹脂層と上記複合基材とを対向させた状態で積層して加圧加熱し、目的とする部分のみ露光することにより、パターンスペーサを転写する方法等としてもよい。
【００３６】
上述したようなパターンスペーサの高さとしては、スペーサ付表示装置用基板の用途や種類等によって適宜選択されるものであるが、通常、０．５μｍ〜１００μｍ程度、中でも１μｍ〜１０μｍ程度とされる。
【００３７】
３．スペーサ付表示装置用基板
次に、本発明のスペーサ付表示装置用基板について説明する。本発明のスペーサ付表示装置用基板は、上記複合基材およびパターンスペーサを有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて、例えば上記複合基材とパターンスペーサとの間にガスバリア層やオーバーコート層等が形成されているものであってもよい。また、例えば上記複合基材上にブラックマトリックス等が形成されているものであってもよい。なお、このようなガスバリア層やオーバーコート層、ブラックマトリックス等については、一般的な表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００３８】
また、本発明のスペーサ付表示装置用基板は、上記複合基材上に、例えば着色層や有機ＥＬ層等、各種の機能層が形成されて、例えば液晶表示装置や、有機ＥＬ素子、電子ペーパー等の表示装置に用いられることとなる。
【００３９】
また、本発明のスペーサ付表示装置用基板を用いて表示装置とする際、上記スペーサ付表示装置用基板と対向して配置される対向基板としては、例えば基板上に対向電極が形成されたもの等とすることができる。なお、上記対向基板に用いられる基板としては、上記スペーサ付表示装置用基板と所定のセルギャップで対向可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂製基板であってもよいが、ガラス基板や、金属基板、セラミックス基板等も用いることが可能である。
【００４０】
Ｂ．カラーフィルタ
次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、上述したスペーサ付表示装置用基板の複合基材上に着色層が形成されているものである。本発明のカラーフィルタは、例えば図２に示すように、複合基材１と、その複合基材１上に形成された着色層３と、上記複合基材１上に形成されたパターンスペーサ２とを有するものである。なお、上記複合基材１とパターンスペーサ２との間にブラックマトリックス４等が形成されていてもよい。また、例えば上記着色層を覆うように透明電極層が形成されており、上記パターンスペーサが上記透明電極層上に形成されているもの等であってもよい。
【００４１】
本発明によれば、上述した複合基材が用いられていることから、本発明のカラーフィルタを用いて表示装置とした際に、外部から圧力が加えられた場合であっても、スペーサによって複合基材が変形してしまうことの少ないものとすることができ、良好にセルギャップを保持することが可能となる。またさらに、上記複合基材中に無機材料が含有されていることから、複合基材の寸法安定性を優れたものとすることができ、着色層形成時にかけられる熱によって複合基材が膨張してしまうこと等の少ないものとすることができる。したがって、本発明によれば、カラーフィルタと対向基板とを貼りあわせる際に、位置ずれ等が生じることが少なく、安定して表示装置を形成することが可能となる。
【００４２】
なお、上記着色層は例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三色の着色層が、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列に形成されたもの等とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。ここで上記着色層の形成に用いられる材料や、上記着色層の形成方法としては、一般的なカラーフィルタの形成に用いられるものと同様とすることができる。例えば上記着色層は感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィー法や印刷法等により形成されたもの等であってもよく、また例えば予め着色層形成用組成物を、プラスチックフィルム上に形成しておき、このプラスチックフィルムと上記複合基材とを積層させた状態で、加圧加熱後、露光し、目的部分のみを転写することにより形成されたもの等であってもよい。
【００４３】
なお、本発明のカラーフィルタに用いることが可能なブラックマトリックスや透明電極層等についても、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００４４】
また、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００４５】
＜実施例１＞
［複合基材の形成］
多官能アクリレート樹脂をガラス繊維に含浸した後に紫外線硬化装置により連続的に硬化し、樹脂６０重量％、ガラス繊維４０重量％、幅３０ｃｍ、長さ１００ｍ、厚さ１００μｍの複合基材（１)を得た。この複合基材(１)の３０℃から１５０℃における線膨張係数は、１８ｐｐｍであった。この複合基材(１)のガラス転移温度をｔａｎδｍａｘで評価したところ３００℃以上であった。またこの複合基材(１)の全光線透過率は９０％であった。線膨張係数の測定はＴＭＡ（Thermal Mechanical Analyzer）を用いて３０〜１５０℃の範囲で実施した。ガラス転移温度の測定はＤＭＡ（Dynamic Mechanical Analyzer）を用いて測定した。全光線透過率はＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）に従って測定した。
【００４６】
［第一のバリア層の形成］
この複合基材(１)を、スパッタロールコート装置に装填し、ＤＣマグネトロンスパッタにより、酸素を反応性ガスに用いた反応性スパッタでＳｉをターゲットとして用いて、複合基材(１)上に膜厚６０ｎｍのＳｉＯｘ(ｘ＝１．８，ＸＰＳによる)の成膜を行って、これを第一のバリア層とした。
【００４７】
［オーバーコート層の形成］
上記で形成した第一のバリア層に、ロール巻き出し装置、マイクログラビアコーター、乾燥炉、ＵＶ照射装置、ロール巻取り装置を備える連続塗工機にて、エポキシアクリレートプレポリマー１００重量部、ジエチレングリコール２００重量部、酢酸エチル１００重量部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、およびシランカップリング剤１重量部の均一混合溶液を、連続塗工機のマイクログラビアコーターで塗布し、１２０℃の乾燥ゾーンを通過させた後、紫外線を照射して、５μｍの厚さのオーバーコート層を形成した。
【００４８】
［第二のバリア層の形成］
オーバーコート層を形成した複合基材(１)を、リワインダーで巻き返し、つづいて、このオーバーコート層と反対面に第二のバリア層を成膜するために、スパッタロールコート装置に装填し、ＤＣマグネトロンスパッタにより、酸素を反応性ガスに用いた反応性スパッタでＳｉをターゲットとして用いて、第一のバリア層の対面に膜厚６０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．８，ＸＰＳによる）の成膜を行って、これを第二のバリア層とした。
上記のように第二のバリア層まで形成した複合基材(１)をＪＩＳ  Ｋ  ７１２９Ｂに規定される測定法に基づき４０℃９０％ＲＨ時の水蒸気透過率を測定したところ、０．０１ｇ／(ｍ２・２４ｈｒ)以下であった。
【００４９】
［ブラックマトリックスの形成］
上記の第一および第二のバリア層を成膜した複合基材の第二のバリア層上に、下記の組成のブラックマトリックス形成用組成物を、ウェット状態で厚み；１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みのブラックマトリックス層を形成した。
【００５０】
（ブラックマトリックス形成用塗料組成物）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７）    １５０部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                                ８０部
・カーボンブラック分散液                                                １５０部
・光重合開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１）                                                        ２．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                      ６００部
※部数はいずれも質量基準
【００５１】
その後、上流側に巻き出し装置、下流側に巻き取り装置を備えた露光装置に、上記で得られたブラックマトリックス層付き複合基材を通し、露光装置の入口側および出口側に設置されたニップローラ対を駆動して、連続状の複合基材を搬送した。この搬送状態において、複合基材にかかるテンションは、２ｋｇ／３００ｍｍ幅であった。
露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
【００５２】
上記複合基材を露光台上に吸着固定した後、複合基材の塗膜表面とパターン（フォトマスク）との間隔（ギャップ）が１００μｍになるよう自動調整した。また複合基材の露光位置は、複合基材の端面からの距離を自動検出して、複合基材からフォトマスクパターン位置が一定距離になるよう自動調整後に露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍｗ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。
【００５３】
現像処理は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後の複合基材を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送し、第二のバリア層を成膜した複合基材上に所定のパターンのブラックマトリックスが積層されたブラックマトリックス付き複合基材を得た。
【００５４】
ブラックマトリックスで形成されたアライメントマークを寸法測定機（ニコン製ＮＥＸＩＶ  ＶＭＲ−６５５５）で温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％の条件で搬送方向（ＭＤ）、搬送方向に垂直な方向（ＴＤ）での寸法変化を測定した結果、フォトマスクの寸法値ＭＤ：１００．０００ｍｍ、ＴＤ：１００．０００ｍｍに対して、実際に複合基材上に形成されたパターンの寸法は、ＭＤ：９９．９９８ｍｍ、ＴＤ：１００．００１ｍｍ  であった。
その後、ベーク炉にて２００℃、３０分のポストベークを行いブラックマトリックスを熱キュアした。得られたブラックマトリックスを、前記同条件（温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％）で測定したところ、複合基材上に形成されたパターンの寸法は、ＭＤ：９９．９９８ｍｍ、ＴＤ：１００．００１ｍｍであった。
【００５５】
［ＲＧＢ着色層の形成］
前記ブラックマトリックスが形成された複合基材の上に、下記の組成の着色パターン形成用組成物を、ウェット状態で厚み；１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みの着色パターン形成用組成物付き複合基材を得た。
【００５６】
以下に、赤色の着色パターン形成用組成物の組成を示すが、赤色顔料を任意の緑色顔料にするとＧＲＥＥＮの着色パターン形成用組成物が得られ、青色顔料にするとＢＬＵＥの着色パターン形成用組成物が得られる。
【００５７】
（着色パターン形成用組成物）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７）      ５０部
・トリメチロールプロパントリアクリレート                                  ４０部
・赤色顔料（C.I.Pigment  Red  177）                                       ９０部
・光重合開始剤（２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパノン−１）                                                        １．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ６００部
※部数はいずれも質量基準
【００５８】
上流側に巻き出し装置、下流側に巻き取り装置を備えた露光装置に、上記で得られた着色パターン形成用組成物付き複合基材を通し、露光装置の入口側および出口側に設置されたニップローラ対を駆動して、連続状の着色パターン形成用組成物付き複合基材を搬送した。この搬送状態において、着色パターン形成用組成物付き複合基材にかかるテンションは、２ｋｇ／３００ｍｍ幅であった。
露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
着色パターン形成用組成物付き複合基材を露光台上に吸着固定した後、着色パターン形成用組成物付き複合基材の塗膜表面とパターン（フォトマスク）との間隔（ギャップ）が１００μｍになるよう自動調整した。また着色パターン形成用組成物付き複合基材の露光位置は、着色パターン形成用組成物付き複合基材の端面からの距離を自動検出して、着色パターン形成用組成物付き複合基材からフォトマスクパターン位置が一定距離になるよう自動調整後、前記ブラックマトリックス形成時に同時形成したアライメントマークを用いてＲＥＤ用フォトマスクとアライメントを行った後、露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍｗ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。
【００５９】
現像は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後の複合基材を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送し、複合基材上のブラックマトリックスの開口部の所定位置にＲＥＤ着色層が積層された複合基材を得た。その後、ベーク炉にて２００℃、３０分のポストベークを行いＲＥＤ着色層を熱キュアした。
【００６０】
上記ＲＥＤと同様の方法で繰り返しＧＲＥＥＮ、ＢＬＵＥの着色層形成を行い、第二のバリア層を成膜した複合基材上にブラックマトリックスおよびＲＧＢの着色層が形成されたカラーフィルタが得られた。
【００６１】
なお、ＢＬＵＥ着色層のポストベーク処理後に、ブラックマトリックスを、前記と同じ条件（温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％）で測定したところ、プラスチックフィルム上に形成されたパターンの寸法は、ＭＤ：９９．９９９ｍｍ、ＴＤ：１００．００２ｍｍであった。
【００６２】
ブラックマトリックスの寸法変化は１層目（ブラックマトリックス）の現像後から４層目（ＢＬＵＥ層）のポストベーク後までの製造工程において１０ｐｐｍであり、これにより複合基材上に４インチサイズで解像度が２００ｐｐｉ（ＢＭ線幅７μｍ、ピッチ４２μｍ）にて、画素ズレを生じさせずにカラーフィルタを形成することができた。
【００６３】
［ＩＴＯ電極層の形成］
続いて、このカラーフィルタをスパッタロールコート装置に装填し、ＤＣスパッタにより酸素を反応ガスに用いた反応性スパッタでＩＴＯ(indium tin oxide)をターゲットとして用い、ブラックマトリックスおよびＲＧＢの着色層上に膜厚１５０ｎｍのＩＴＯの成膜を行い、これをＩＴＯ電極層とした。
【００６４】
［パターンスペーサの形成］
（ドライフィルムの準備）
パターンスペーサ形成用のドライフィルムとして、厚み；２５μｍのＰＥＴベースフィルム上に、ネガ型感光性樹脂からなるパターンスペーサ形成用組成物を、ウェット状態で厚み；２０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして５μｍの厚みとした。その後、その上に、厚み２５μｍのＰＥＴカバーフィルムをラミネートし、パターンスペーサ形成用ドライフィルムとした。
【００６５】
（積層原反の作成）
上記で得られたブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、およびＩＴＯ電極層が形成された複合基材の上に、カバーフィルムを予め剥離したパターンスペーサ形成用ドライフィルムをパターンスペーサ形成用組成物がＩＴＯ電極層と向かい合うように積層して、パターンスペーサ形成用組成物層を、ローラ圧；５ｋｇ／ｃｍ２、ローラ表面温度；１２０℃、および速度；８００ｍｍ／ｍｉｎの条件にて、連続的に転写した。この際、ベースフィルムは剥離せず、パターンスペーサ形成用組成物上に付いた状態で次の露光工程へと進めた。
【００６６】
（露光処理工程）
上流側に巻き出し装置、下流側に巻き取り装置を備えた露光装置に、上記で得られた積層原反を通し、露光装置の入口側および出口側に設置されたニップローラ対を駆動して、連続状の積層原反を搬送した。この搬送状態において、積層原反にかかるテンションは、２ｋｇ／３００ｍｍ幅であった。
露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
積層原反を露光台上に吸着固定した後、積層原反のベースフィルムとパターン（フォトマスク）との間隔（ギャップ）を３０μｍになるよう自動調整した。また積層原反のパターンの露光位置は、積層原反の端面からの距離を自動検出して、この検出結果にしたがって積層原反からフォトマスクパターン位置が一定距離になるよう自動調整後、前記ブラックマトリックス形成時に同時形成したアライメントマークを用いてパターンスペーサ用フォトマスクとアライメントを行った後、露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍＷ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。
【００６７】
（現像処理・ポストベーク処理工程）
現像処理は、露光機の下流側に現像装置を設置し、この現像装置内で露光後の積層原反のベースフィルムを剥離しながら、４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送しながら行って、前記ブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、およびＩＴＯ電極層が形成された複合基材のブラックマトリックスの格子パターン部の所定位置にパターンスペーサが形成されたカラーフィルタを得た。その後、ベーク炉にて２００℃、３０分のポストベーク処理を行って、パターンスペーサを熱キュアした。
【００６８】
このようにして、複合基材（１）上にブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、ＩＴＯ電極層、およびパターンスペーサが形成されたカラーフィルタが得られた。
【００６９】
［評価］
微小硬度計を用いて前記カラーフィルタ上に形成されたパターンスペーサを測定した結果、パターンスペーサ面積１４４μｍ２（１２μｍ×１２μｍ）、高さ５．５μｍ、押し込み圧２０ｍＮ/１０sec、保持時間（クリープ時間）５秒において、変位量は１．８μｍであり、不可逆変位量は、０．３μｍ、可逆変位量は１．５μｍであった。
なお上記パターンスペーサを同条件によりガラス基板上（ＮＨテクノグラス社製  ＮＡ３５  ０．７ｍｍ厚）に作製し、可逆変位量および不可逆変位量を求めた場合には、変位量は１．３μｍであり、不可逆変位量は０．７μｍ、可逆変位量は０．６μμｍであった。
【００７０】
また上記複合基材（１）の１００μ厚の硬度は有機材料のビッカース硬度が１４７Ｎ／ｍｍ２であり、無機材料のビッカース硬度が３７７３Ｎ／ｍｍ２であった。またパターンスペーサのビッカース硬度は２５４Ｎ／ｍｍ２であった。
本発明の複合基材の熱膨張係数は、有機材料および無機複合材料の特性により熱膨張係数（ＣＴＥ）が１２ｐｐｍと非常に小さく、パターンスペーサの位置精度も良好であった。また、対向基板との貼り合せも、位置ズレを発生することなく表示装置を形成することができた。
＜比較例１＞
ＰＥＴフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にカラーフィルタを形成した。この場合、微小硬度計を用いてカラーフィルタ上に形成されたパターンスペーサを測定した結果、パターンスペーサ面積１４４μｍ2（１２μｍ×１２μｍ）、高さ５．５μｍ、押し込み圧２０ｍＮ/１０sec、保持時間（クリープ時間）５秒において、変位量が３．０μｍであり、不可逆変位量が０．５μｍ、可逆変位量が２．５μｍであった。
また、ＰＥＴ基材１００μｍ厚の硬度はビッカース硬度が５３Ｎ／ｍｍ２であり、パターンスペーサのビッカース硬度が２５４Ｎ／ｍｍ２であった。
この場合、基材に無機材料が含有されておらず、基材の硬度が、パターンスペーサの硬度と比較して低いため、不可逆変位量が大きくなり、表示装置とした際にギャップムラが生じた。
また、ＰＥＴ基材の熱膨張係数は、６０ｐｐｍであり、上記複合基材を用いた場合（実施例）と比較して、パターンスペーサの位置精度は劣り、対向基板とカラーフィルタとを貼りあわせる際、位置ズレが発生し、表示装置の表示不良が生じた。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明のスペーサ付表示装置用基板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１  …複合基材
２  …パターンスペーサ
３  …着色層
【図１】
2007148007.tif 000003
【図２】
2007148007.tif 000004