(57)【要約】      （修正有）【課題】耐熱性と相溶性に優れ、さらに耐候性が大幅に向上した高分子材料組成物を提供する。【解決手段】高分子材料と、下記一般式（Ｉ）、2007269904.tif 000015で表されるトリアジン系化合物とを含有する高分子材料組成物である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料と、下記一般式（Ｉ）、
2007269904.tif 000014
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に、炭素原子数１〜１８の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。）で表されるトリアジン系化合物とを含有することを特徴とする高分子材料組成物。
【請求項２】
前記高分子材料がポリカーボネート樹脂である請求項１記載の高分子材料組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の構造を有するトリアジン系化合物を含有する高分子材料組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエステル等の高分子材料や有機顔料または染料は、光の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こして長期の使用に耐えられない場合がある。
【０００３】
これに対し、これら有機材料の劣化を防止したり、透過光の波長をコントロールするために、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられており、これら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、２，４，６−トリアリールトリアジン系およびシアノアクリレート系の紫外線吸収剤が用いられている。
【０００４】
これら紫外線吸収剤は、その構造の違いに由来して各々異なる紫外線吸収スペクトルを示し、有機材料との相溶性や揮散性も異なるため、用途に応じて使い分けられている。特に保護層に用いられる薄膜状物においては、高度の紫外線遮蔽効果が要求されるため、紫外線吸収剤の添加量を多くする必要があり、基材層との相溶性に優れ、揮散性が小さく、吸光係数の大きな紫外線吸収剤が求められる。
【０００５】
２，４，６−トリアリールトリアジン系紫外線吸収剤は、従来から高分子材料に添加、使用されてきたが、２，４，６−トリアリールトリアジン系紫外線吸収剤化合物のなかでも、特に、アリール基のオルト位にヒドロキシ基を有した、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシアリール）トリアジン系化合物は、高い吸光係数と有機材料を着色しない吸収波長を有すること、さらには耐熱性に優れること、写真材料や高分子材料への使用が報告されている（特許文献１、２）。
【０００６】
しかし、この２，４，６−トリス（２−ヒドロキシアリール）トリアジン系紫外線吸収剤においても、ポリカーボネートやポリオレフィン等の高分子材料に対する相溶性が充分ではなく、耐熱性や耐候性も、満足できるものではなかった。
【０００７】
また、特許文献３，４には、本発明に係るトリアジン系化合物が開示されているが、これは光学記録材料と光学フィルム用途に関するものとして例を挙げたものであり、本発明のトリアジン系化合物の構造を限定したものではない。さらには、本発明で使用されるトリアジン系化合物が、耐熱性や高分子材料との相溶性に優れ、高分子材料に優れた耐候性を付与するという効果を有すること何ら記載されていない。
【特許文献１】特開平５−２３２６３０号公報
【特許文献２】特開平１１−７１３５６号公報
【特許文献３】特開２００４−１６０８８３号公報
【特許文献４】ＷＯ２００５／１０９０５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述のように、高分子材料の耐候性や耐熱性を改良する技術については、未だ十分なものはなかった。そこで本発明の目的は、耐熱性と相溶性に優れ、さらに耐候性が大幅に向上した高分子材料組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の構造を有する２，４，６−トリス（２−ヒドロキシアリール）トリアジン系化合物に着目し、これを用いた高分子材料組成物により上記目的を達成しうることを見出して、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち本発明は、高分子材料と、下記一般式（Ｉ）、
2007269904.tif 000002
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に、炭素原子数１〜１８の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。）で表されるトリアジン系化合物とを含有することを特徴とする高分子材料組成物である。
【００１１】
本発明の高分子材料組成物において、高分子材料は、好適にはポリカーボネート樹脂である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、上記構成としたことにより、加工時の着色が小さく、耐熱性に優れ、さらには耐候性にも優れた高分子材料組成物を実現することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。
本発明で用いられるトリアジン系化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。
2007269904.tif 000003
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々独立に、炭素原子数１〜１８の直鎖または分岐のアルキル基、炭素原子数３〜８のシクロアルキル基、炭素原子数３〜８のアルケニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。但し、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されていてもよく、これらの置換及び中断は組み合わされていてもよい。）
【００１４】
本発明に係る上記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物において、Ｒ1〜Ｒ3で表される炭素数１８以下の直鎖または分岐のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、へプタデシル、オクタデシル等が挙げられ、置換や中断を有するものとしては、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２−ブトキシエチル、２−メトキシプロピル、３−メトキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル、２，３−ジメトキシプロピル、２−（２−メトキシエトキシ）エチル等が挙げられる。
【００１５】
Ｒ1〜Ｒ3で表される炭素原子数３〜８のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどが挙げられる。
【００１６】
Ｒ1〜Ｒ3で表される炭素原子数３〜８のアルケニル基としては、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。
【００１７】
Ｒ1〜Ｒ3で表される炭素原子数６〜１８のアリール基またはアルキルアリール基としては、フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチルフェニル、２，４−ジ第三ペンチルフェニル、２，５−ジ第三アミルフェニル、２，５−ジ第三オクチルフェニル、ビフェニル、２，４，５−トリメチルフェニル等が挙げられる。Ｒ1〜Ｒ3で表される炭素数６〜１８のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル等が挙げられる。
【００１８】
本発明で用いられる上記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物の具体例としては、以下に示す化合物Ｎｏ．１〜１４が挙げられる。なお、下記化学式において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプロピル基、ｉＰｒはイソプロピル基、Ｂｕはブチル基、Ａｍはアミル基、ｉＡｍはイソアミル基、ｃｙＨｘはシクロヘキシル基を表す。
2007269904.tif 000004
2007269904.tif 000005
【００１９】
前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物の合成方法は、特に制限を受けることはなく、トリアジン構造を有する化合物の合成に通常用いられる合成方法を適用することができる。例えば、塩化シアヌルにフェノール誘導体またはレゾルシノール誘導体を、三塩化アルミニウムを用いて付加反応させる方法が挙げられる。Ｒ1〜Ｒ3で表される置換基は、トリアジン構造を形成した後に導入してもよく、トリアジン構造を形成する前に、フェノール誘導体又はレゾルシノール誘導体に導入してもよい。
【００２０】
次に、本発明で使用される高分子材料について説明する。
【００２１】
高分子材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマーなどが例示できる。熱可塑性樹脂としては、高密度、低密度または直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、アクリロニトリルスチレン共重合体（ＡＳ）樹脂、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体（ＡＢＳ）樹脂、メチルメタクリレートブタジエンスチレン共重合体（ＭＢＳ）樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物が例示できる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリカステル樹脂等の熱硬化性樹脂が例示できる。更にエラストマーとしては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム等が例示できる。
【００２２】
さらに、ポリ乳酸等の植物由来の樹脂または生分解性樹脂も挙げられる。
【００２３】
上記高分子材料の中でも、ヘテロ原子を有する高分子材料は、前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物との相溶性に優れるので好ましい。ヘテロ原子を有する高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリカプロラクトンおよびポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（メタ）アクリル酸メチルおよびポリ（メタ）アクリル酸ブチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。これらの中で、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキサイド等の主鎖上にヘテロ原子または芳香環を有する高分子材料が特に好ましく、ポリカーボネート樹脂が最も好ましい。
【００２４】
これら高分子材料は、単独の他、２種以上を組み合わせて用いることができる。組み合わせとしては、ポリカーボネート／ＡＢＳ、ポリカーボネート／ポリエステルなどの複合化や、ポリカーボネートのフィルムに本発明で使用する上記一般式（Ｉ）で表される特定のトリアジン系化合物を添加したポリカーボネートまたはポリ（メタ）アクリル酸エステルをラミネートして、積層フィルム等として用いることができる。
【００２５】
本発明の高分子材料組成物は、高分子材料１００質量部に対し、上記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物を０．００１〜１０質量部、特には０．００５〜１０質量部添加したものであることが好ましい。この範囲で、十分に耐候性が改善され、かつ着色性が改善されるからである。
【００２６】
本発明で使用する前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物の高分子材料への適用方法は特に限定されるものではなく、添加する際の形態は粉末でもエマルジョンやサスペンジョンなどの水分散体でもよく、有機溶剤により溶液としてもよい。ただし、重合時の添加や、加工時の温度などにより（メタ）アクリロイル基が反応する条件での添加は、得られる高分子材料組成物の加工時の着色が大きくなるので実用的でない。
【００２７】
本発明の高分子材料組成物においては、前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物以外に、必要に応じて他の汎用の酸化防止剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系の光安定剤（ＨＡＬＳ）が挙げられ、特に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に代表されるヒンダードアミン系の光安定剤（ＨＡＬＳ）は、本発明に係るトリアジン系化合物と相乗効果を奏するので好ましい。
【００２８】
上記ＨＡＬＳとしては、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物、塩化シアヌル縮合型ＨＡＬＳ、高分子量型ＨＡＬＳ等が挙げられる。
2007269904.tif 000006
（式（ＩＩ）中、ｍは、１〜６の整数を表し、Ａは、水素原子、炭素数１〜１８のｍ価の炭化水素基、ｍ価のアシル基またはｍ価のカルバモイル基を表し、Ｂは、酸素原子、−ＮＨ−又は炭素数１〜８のアルキル基Ｒｅを有する−ＮＲｅ−を表し、Ｙは、水素原子、オキシラジカル（・Ｏ）、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基またはヒドロキシル基を表し、Ｚは、メチン、または炭素数１〜８のアルキル基Ｒｆを有する下記一般式（ＩＩＩ）、
2007269904.tif 000007
で表される基を表す。）
【００２９】
上記一般式（ＩＩ）において、Ａで表されるｍ価の炭素数１〜１８の炭化水素基としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、第二ブタン、第三ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、第三ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、第三ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、第三オクタン、２−エチルヘキサン、ノナン、イソノナン、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン等の炭化水素化合物から誘導される基（アルキル基、アルカンジないしヘキサイル基）が挙げられる。
【００３０】
上記一般式（ＩＩ）において、Ａで表されるｍ価のアシル基は、カルボン酸から誘導される基、ｍ価カルボン酸から誘導される基、又は、ｎ価カルボン酸から誘導され且つカルボキシル基がｍ個残存している（ｎ−ｍ）個のエステル基を含有するアルキルエステルから誘導される基である（カルボン酸、ｍ価カルボン酸及び上記アルキルエステルを、アシル誘導体化合物という）。
【００３１】
かかるアシル誘導体化合物としては、酢酸、安息香酸、４−トリフルオロメチル安息香酸、サリチル酸、アクリル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２−メチルコハク酸、２−メチルアジピン酸、３−メチルアジピン酸、３−メチルペンタン二酸、２−メチルオクタン二酸、３，８−ジメチルデカン二酸、３，７−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリト酸、ピロメリット酸、トリメシン酸、プロパン−１，２，３−トリカルボン酸、プロパン−１，２，３−トリカルボン酸モノ又はジアルキルエステル、ペンタン−１，３，５−トリカルボン酸、ペンタン−１，３，５−トリカルボン酸モノ又はジアルキルエステル、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸モノないしトリアルキルエステル、ペンタン−１，２，３，４，５−ペンタカルボン酸、ペンタン−１，２，３，４，５−ペンタカルボン酸モノないしテトラアルキルエステル、ヘキサン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸、ヘキサン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸モノないしペンタアルキルエステル等が挙げられる。
【００３２】
上記一般式（ＩＩ）において、Ａで表されるｍ価のカルバモイル基は、イソシアネート化合物から誘導されるモノアルキルカルバモイル基又はジアルキルカルバモイル基である。
【００３３】
モノアルキルカルバモイル基を誘導するイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルジフェニル−４，４’−ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、トランス−１，４−シクロヘキシルジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４（２，２，４）−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リシンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、１−メチルベンゾール−２，４，６−トリイソシアネート、ジメチルトリフェニルメタンテトライソシアネート等が挙げられる。
【００３４】
ジアルキルカルバモイル基としては、ジエチルカルバモイル基、ジブチルカルバモイル基、ジヘキシルカルバモイル基、ジオクチルカルバモイル基等が挙げられる。
【００３５】
上記の炭素数１〜１８のｍ価の炭化水素基、上記のｍ価のアシル基及び上記のｍ価のカルバモイル基は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基等で置換されていてもよい。
【００３６】
上記一般式（ＩＩ）において、Ｂで表される基が有する、Ｒｅで表される炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、１−エチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【００３７】
上記一般式（ＩＩ）において、Ｙで表される炭素数１〜１８のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ペプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ等が挙げられる。Ｙで表される炭素数１〜８のアルキル基としては、上記Ｒｅと同様の基が挙げられる。
【００３８】
上記一般式（ＩＩ）におけるＺを表す上記一般式（ＩＩＩ）中のＲｆで表される炭素数１〜８のアルキル基としては、上記Ｒｅと同様の基が挙げられる。
【００３９】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジルメタクリレート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−［トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ］エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−［トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ］エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン等が挙げられる。
【００４０】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記塩化シアヌル縮合型ＨＡＬＳとしては、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル］−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ］ウンデカン、１，６，１１−トリス［２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ］ウンデカン等が挙げられる。
【００４１】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記高分子量型ＨＡＬＳとしては、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物等が挙げられる。
【００４２】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，５−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ジフェニルアシッドホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルオクチルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，５−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２−１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルホスファイト、ビス［２，２’−メチレンビス（４，６−ジアミルフェニル）］・イソプロピリデンジフェニルホスファイト、テトラトリデシル・４，４’−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン・トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２−〔（２，４，７，９−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。
【００４３】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−ｓ−トリアジン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス［３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス［２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル］テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、３，９−ビス［２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルヒドロシンナモイルオキシ）−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、トリエチレングリコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。
【００４４】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、チオジプロピオン酸の、ジラウリルエステル、ジミリスチルエステル、ミリスチルステアリルエステル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオジプロピオネート類、ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００４５】
また、本発明の高分子材料組成物には、さらに必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物以外の従来公知の紫外線吸収剤を用いることもできる。
【００４６】
本発明の高分子材料組成物において用いることができる紫外線吸収剤としては、例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６−ベンゾトリアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステル、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−アクリロイルオキシエチル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三オクチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三アミル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（３−メタクリロイルオキシプロピル）フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシメチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール等の２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ１２〜１３混合アルコキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−３−アリルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等の２−（２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジン類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクチル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、ドデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、テトラデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、ヘキサデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、オクタデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、ベヘニル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類；ニッケル、クロム等の各種金属の金属塩又は金属キレート等が挙げられる。
【００４７】
その他必要に応じて、本発明の高分子材料組成物には、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤；ハロゲン系化合物、リン酸エステル系化合物、リン酸アミド系化合物、メラミン系化合物、ポリリン酸のメラミン塩化合物、フッ素樹脂又は金属酸化物等の難燃剤；炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系、金属石けん系等の滑剤；重金属不活性剤；ハイドロタルサイト；有機カルボン酸；染料顔料等の着色剤；ポリオレフィンパウダー等の加工助剤；フュームドシリカ、微粒子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオリン、シリカゲル、珪酸カルシウム、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マイカ、ミネソタイト、パイロフィライト等の珪酸系添加剤；炭酸カルシウム等の充填剤；造核剤；有機錫化合物；ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛等の脂肪族有機酸金属塩；可塑剤；エポキシ化合物；発泡剤等の添加剤を配合することができる。
【００４８】
本発明の高分子材料組成物の用途としては、特に制限されるものではないが、その形態としては、成形品、薄膜状物などが挙げられ、特に、薄膜状物が有効であり、薄膜状のものであれば、合成樹脂フィルム、シート、塗料の他、不織布や織物などに用いられる繊維であってもよい。
【００４９】
また、具体的な用途としては、バンパー、ダッシュボード、インスツルメントパネル等の自動車用樹脂部品；冷蔵庫、洗濯機、掃除機等の家電製品用樹脂部品；食器、バケツ、入浴用品等の家庭用品；コネクター等の接続用樹脂部品；玩具等の雑貨品；医療用パック、注射器、カテーテル、医療用チューブ等の医療用成形品；壁材、床材、窓枠、壁紙等の建材；電線被覆材；ハウス、トンネル等の農業用資材；ラップ、トレイ等の食品包装材等の、フィルム及びシートを含む成形品；繊維；塗料；コーティング材等が挙げられる。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例及び比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかし、本発明は以下の実施例によって何ら制限を受けるものではない。
【００５１】
（合成例１）化合物Ｎｏ．７の合成
（１）中間体Ａの合成
下記式で表される中間体Ａを合成した。すなわち、反応フラスコに塩化シアヌル６５．０ｍｍｏｌ、レゾルシノール２７８ｍｍｏｌ、及びクロロベンゼン８０ｍｌを仕込み、三塩化アルミニウム８４．５ｍｍｏｌを徐々に加え、８０℃で２時間反応させた。反応系を２５℃に冷却し、６ｍｏｌ／リットルの塩酸水溶液を１４ｍｌ滴下し、１時間撹拌した。得られた結晶を濾取し、水洗した後、ジメチルホルムアミド溶媒を用いて再結晶を行い、中間体Ａの結晶を収率６８．０％で得た。
2007269904.tif 000008
【００５２】
（２）化合物Ｎｏ．７の合成
2007269904.tif 000009
メカニカルスターラー、ジムロート、温度計および窒素送入手段を備えた３００ｍＬの四つ口丸底フラスコに先で得られた中間体Ａである２，４，６−トリ（２，４−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン１０．０ｇ（２４．７×１０-3ｍｏｌ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）１７．５ｇ（１７２．７×１０-3ｍｏｌ）、及びキシレン７０ｇを仕込んだ。その後、２−エチルヘキサン酸クロライド１４．１ｇ（８６．４×１０-3ｍｏｌ）を室温で３０分かけて滴下した。反応率をＨＰＬＣ（カラム；昭和電工株式会社製Ｓｈｏｄｅｘ  ＫＦ−８０２、展開溶媒；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ））により確認し、１０時間５０℃で反応させた。原料の消失を確認した後、反応混合物を冷却し、酢酸エチルを加えて、１Ｎ  ＨＣｌで中和を行った。有機相を水で２回洗浄し、溶媒を減圧下で除去した。それをキシレンに分散させてろ過を行い、得られたろ液を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：トルエン：ヘキサン＝１：１）により目的化合物（化合物Ｎｏ．７）が８．７ｇ、収率４５％で得られた。
【００５３】
得られた化合物について、各種分析を行った。分析結果を以下に示す。
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３４３３，２９３１，２８７３，１７６２，１６０１，１５０４，１４５８，１２４６，１１４６，１１０７
1Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：１２．９６（ｓ，−ＯＨ），８．２０（ｄ，Ｐｈ），６．８８（ｓ，Ｐｈ），６．８１（ｄ，Ｐｈ），２．５５（ｑｕｉｎ），１．８５−０．９５（ｍ）
2007269904.tif 000010
【００５４】
（実施例１および比較例１，２）
（試料（キャストフィルム）作製）
１２０℃で６時間乾燥させたポリカーボネート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製：ユーピロンＳ−３０００Ｆ）を１．２５ｇ、上記化合物Ｎｏ．７を６．２５ｍｇ（０．５ｐｈｒ）、それぞれ２５ｍｌメスフラスコに入れ、ジクロロメタンを標線まで加えた。１時間ほど室温で放置し溶解した後、この溶液を４ｍｌホールピペットでシャーレ（直径：６０ｍｍ）に入れ、３０分間室温で乾燥させた。乾燥後、シャーレからフィルムをはがし取ることで、実施例１の５０μｍ厚のＰＣフィルムを得た。
【００５５】
また、上記化合物Ｎｏ．７に代えて、下記比較化合物１を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例１のＰＣフィルムを得た。さらに、上記化合物Ｎｏ．７を用いない以外は実施例１と同様にして、比較例２のＰＣフィルムを得た。
2007269904.tif 000011
【００５６】
（耐候性試験方法）
上記実施例および比較例のＰＣフィルムについて、スガ試験機株式会社製  サンシャインウェザーメーター（８３℃）水スプレーあり（連続照射、水スプレー時間  １２０分中１８分）で、１２０時間毎の黄色度をスガ試験機株式会社製  多光源分光測色計により測定した。黄色度は、フィルムの透過により測定を行い、色差（ΔＥ）を表１に、黄色度の差（ΔＹ．Ｉ．）を表２に示した。
【００５７】
【表１】
2007269904.tif 000012
【００５８】
【表２】
2007269904.tif 000013