(57)【要約】【課題】表面硬度が高く、傷付きが起き難く、耐久性に富み、更には反射率が低く、外光の映り込みが防止され、その結果、視野角も拡がり、そして光透過率も高く、又、透明基材に対する密着性が高い材料を提供することである。【解決手段】透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、  前記反射防止層は複数の層で構成されており、  前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、  前記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有するものである。【選択図】  図２
2007108765.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有するものである
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項２】
透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有するものである
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項３】
透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）である
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項４】
架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有するものであることを特徴とする請求項３の反射防止材。
【請求項５】
架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有するものであることを特徴とする請求項３の反射防止材。
【請求項６】
金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）であることを特徴とする請求項１又は請求項２の反射防止材。
【請求項７】
透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物と溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物との割合は、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物＝３〜５０（質量比）である
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項８】
カチオン性重合化合物は、オキシラン環状化合物、オキセタン環状化合物、チイタン環状化合物、及びチエタン環状化合物の群の中から選ばれるものであることを特徴とする請求項７の反射防止材。
【請求項９】
金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を更に含有することを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの反射防止材。
【請求項１０】
金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物および重合開始剤を更に含有することを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの反射防止材。
【請求項１１】
金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物、重合開始剤、及び水を更に含有することを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの反射防止材。
【請求項１２】
請求項１〜請求項１１いずれかの反射防止材の構成要件を具備し、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の上側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなる
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１１いずれかの反射防止材の構成要件を具備し、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の上側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成され、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の下側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率が低く、前記低屈折率層の屈折率より屈折率が高い中屈折率層が構成されてなる
ことを特徴とする反射防止材。
【請求項１４】
金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層は、塗布された組成物の層に活性エネルギー線を照射することで構成されたものであることを特徴とする請求項９〜請求項１１いずれかの反射防止材。
【請求項１５】
透明基材がセルロースの低級脂肪酸エステル及び一軸延伸ポリエチレンテレフタレートの群の中から選ばれる材料を用いて構成されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項１４いずれかの反射防止材。
【請求項１６】
透明基材がセルローストリアセテートを用いて構成されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項１４いずれかの反射防止材。
【請求項１７】
請求項１〜請求項１６いずれかの反射防止材の製造方法であって、
請求項１〜請求項１６いずれかの金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物を塗布した後、これに活性エネルギー線を照射することを特徴とする反射防止材の製造方法。
【請求項１８】
請求項１〜請求項１６いずれかの反射防止材で構成されてなることを特徴とする偏光板保護フィルム。
【請求項１９】
請求項１〜請求項１６いずれかの反射防止材で構成されてなるフィルムが偏光子に貼り合わされてなることを特徴とする偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶表示装置の偏光板に貼り合わされるフィルムとして好適な反射防止材、反射防止材の製造方法、偏光板保護フィルム、及び偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は、低電圧、低消費電力で、ＩＣ回路への直結が可能であり、そして、特に、薄型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ等の表示装置として広く採用されている。このＬＣＤは、基本的な構成は、例えば液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。
【０００３】
ところで、偏光板は、一定方向の偏波面の光だけを通すものである。従って、ＬＣＤにおいては、電界による液晶の配向の変化を可視化させる重要な役割を担っている。すなわち、偏光板の性能によってＬＣＤの性能が大きく左右される。偏光板の一般的な構成を、図１に示す。図１中、１は偏光子であり、この偏光子１の両側に偏光板保護フィルム２が積層されている。このような構成の偏光板を液晶セルに対して積層することで、ＬＣＤが構成される。
【０００４】
前記偏光子１は、ヨウ素などを高分子フィルムに吸着・延伸したものである。すなわち、二色性物質（ヨウ素）を含むＨインキと呼ばれる溶液を、ポリビニルアルコールのフィルムに湿式吸着させた後、このフィルムを一軸延伸することにより、二色性物質を一方向に配向させたものである。前記偏光板保護フィルム２は、耐久性を向上させる目的から設けられる。
【０００５】
従って、耐久性に富むこと、例えば表面硬度が高く、傷付きが起き難いことが望まれる。更には、外光の映り込みを防止する為、反射率が低いことが望まれる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明が解決しようとする課題は、表面硬度が高く、傷付きが起き難く、耐久性に富み、更には反射率が低く、外光の映り込みが防止され、その結果、視野角も拡がり、そして光透過率も高く、又、透明基材に対する密着性が高い材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の課題は、
透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有するものである
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【０００８】
又、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有するものである
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【０００９】
又、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーと溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）である
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１０】
又、上記の反射防止材であって、架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有するものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１１】
又、上記の反射防止材であって、架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有するものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１２】
又、上記の反射防止材であって、金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）であることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１３】
又、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、
前記反射防止層は複数の層で構成されており、
前記複数の層のうちの少なくとも一層は、金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物と溶剤とを含有する組成物で構成されてなり、
前記金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物との割合は、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物＝３〜５０（質量比）である
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１４】
又、上記の反射防止材であって、カチオン性重合化合物は、オキシラン環状化合物、オキセタン環状化合物、チイタン環状化合物、及びチエタン環状化合物の群の中から選ばれるものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１５】
又、上記の反射防止材であって、金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を更に含有することを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１６】
又、上記の反射防止材であって、金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物および重合開始剤を更に含有することを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１７】
又、上記の反射防止材であって、金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物は、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物、重合開始剤、及び水を更に含有することを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１８】
又、上記の反射防止材の構成要件を具備し、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の上側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなる
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００１９】
又、上記の反射防止材の構成要件を具備し、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の上側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成され、
該反射防止材の層における金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の下側に、該金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層の屈折率より屈折率が低く、前記低屈折率層の屈折率より屈折率が高い中屈折率層が構成されてなる
ことを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００２０】
又、上記の反射防止材であって、金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物で構成されてなる層は、塗布された組成物の層に活性エネルギー線を照射することで構成されたものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００２１】
又、上記の反射防止材であって、透明基材がセルロースの低級脂肪酸エステル及び一軸延伸ポリエチレンテレフタレートの群の中から選ばれる材料を用いて構成されたものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００２２】
又、上記の反射防止材であって、透明基材がセルローストリアセテートを用いて構成されたものであることを特徴とする反射防止材によって解決される。
【００２３】
又、上記の反射防止材の製造方法であって、
上記の金属アルコキシドの縮合物を含有する組成物を塗布した後、これに活性エネルギー線を照射することを特徴とする反射防止材の製造方法によって解決される。
【００２４】
又、上記の反射防止材で構成されてなることを特徴とする偏光板保護フィルムによって解決される。
【００２５】
又、上記の反射防止材で構成されてなるフィルムが偏光子に貼り合わされてなることを特徴とする偏光板によって解決される。
【発明の効果】
【００２６】
透過率や偏光度に優れ、かつ、耐久性に富む偏光板が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の高屈折率用組成物（反射防止材）は、金属アルコキシドの縮合物と、架橋性ポリマーと、溶剤とを含有する。又、金属アルコキシドの縮合物と、カチオン性重合化合物と、溶剤とを含有する。又、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、溶剤とを含有する。又、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、重合開始剤と、溶剤とを含有する。又、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、重合開始剤と、溶剤と、水とを含有する。特に、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなる。更には、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の上側に、該高屈折率層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなる。又、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の上側に、該高屈折率層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の下側に、該高屈折率層の屈折率より屈折率が低く、該低屈折率層の屈折率より屈折率が高い中屈折率層が構成されてなることを特徴とする。
【００２８】
本発明の反射防止材の製造方法は、上記の反射防止材の製造方法である。そして、上記の高屈折率用組成物を塗布した後、これに活性エネルギー線を照射することを特徴とする。
【００２９】
本発明の偏光板保護フィルムは、上記の反射防止材で構成されてなることを特徴とする。
【００３０】
本発明の偏光板は、上記の反射防止材で構成されてなるフィルムが偏光子に貼り合わされてなることを特徴とする。
【００３１】
すなわち、透明基材上に上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層を有する反射防止材は、該高屈折率層が金属アルコキシドの縮合物（又は金属アルコキシド）と特定のポリマーとを含むことから、該高屈折率層と隣接層（透明基材が隣接層の場合には、この透明基材）との密着性が高く、かつ、表面硬度が高く、傷付きは起き難く、耐久性に富む。
【００３２】
そして、上記高屈折率層の上側に該高屈折率層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなる反射防止材は、該高屈折率層が金属アルコキシドの縮合物（又は金属アルコキシド）と特定のポリマーとを含むことから、該高屈折率層の密着性が高く、かつ、表面硬度が高く、傷付きは起き難く、耐久性に富み、更には反射率が低く、外光の映り込みが防止される。
【００３３】
そして、このような特長を奏する反射防止材が偏光子に貼り合わされてなる偏光板は、視野角が拡がり、優れたＬＣＤが提供される。
【００３４】
本発明の高屈折率用組成物における金属アルコキシドとしては、次のようなものが用いられる。すなわち、金属アルコキシドの金属として、チタン、ジルコニウム、インジウム、スズ、タリウム等が用いられる。勿論、これ以外のものが用いられることもある。アルコキシドとしては、炭素数が５以下のアルコキシドが好ましい。
【００３５】
例えば、チタンｎ−ブトキサイド、チタンメトキサイド、チタンエトキサイド、チタンｎ−プロポキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンｔ−ブトキサイド、チタンｎ−ノニルオキサイド、チタンｉ−ブトキサイド、チタンメトキシプロポキサイド、チタンクロロトリイソプロポキサイド、チタンジクロライドジエトキシド、チタンヨードイソプロポキシド、チタンジｎ−ブトキサイド（ビス−２，４−ペンタジオネート）、チタンジｉ−プロポキサイド（ビス−２，４−ペンタジオネート）、チタンジイソプロポキサイドビス（テトラメチルヘプタンジオネート）、チタンジイソプロポキサイドビス（エチルアセトアセテート）、チタン２−エチルヘキシオキシド、チタンオキシドビス（ペンタジオネート）、チタンオキシビス（テトラメチルヘプタンジオネート）、テトラキス（トリメチルシロキシ）チタン、チタンアリルアセトアセテートトリイソプロポキシド、チタンビス（トリエタノールアミン）ジイソプロポキシド、チタンメタクリレートトリイソプロポキシド、（２−メタクリルオキシエトキシ）トリイソプロポキシチタネート、チタンメタクリルオキシエチルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノキサイド、バナジウムトリイソプロポキサイドオキサイド、バナジウムトリイソブトキサイドオキサイド、バナジウム（ＩＩＩ）２，４−ペンタンジオネート、バナジウム（ＩＶ）オキシドビス（２，４−ペンタンジオネート）、バナジウム（ＩＶ）オキシビス（ベンゾイルアセトネート）、亜鉛Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキサイド、亜鉛メトキシエトキサイド、亜鉛２，４−ペンタンジオネート、亜鉛−２，２，６，６−テトラメチル３，５−ヘプタンジオネート、ストロンチウムイソプロポキサイド、ストロンチウムメトキシプロポキサイド、ストロンチウムヘキサフルオロペンタンジオネート、ストロンチウム２，４−ペンタンジオネート、ストロンチウム２，２，６，６−テトラメチル３，５−ヘプタンジオネート、インジウムメトキシエトキサイド、インジウムイソプロポキサイド、インジウムｎ−プロポキサイド、インジウムｎ−ブトキサイド、インジウムｔ−ブトキサイド、インジウムヘキサフルオロペンタンジオネート、インジウム２，４−ペンタンジオネート、インジウムメチル（トリメチル）アセチルアセトネート、インジウムトリフルオロペンタンジオネート、スズ（ＩＩ）メトキサイド、スズ（ＩＩ）エトキサイド、テトライソプロポキシスズ、テトラ−ｔ−ブトキシスズ、テトラ−ｎ−ブトキシスズ、ビス（２，４−ペンタンジオネート）ジクロロスズ、スズ（ＩＩ）２，４−ペンタンジオネート、ナトリウムスズエトキサイド、タンタル（ＩＶ）メトキサイド、タンタル（ＩＶ）エトキサイド、タンタル（ＩＶ）イソプロポキサイド、タンタル（ＩＶ）ｎ−プロポキサイド、タンタル（ＩＶ）ｎ−ブトキサイド、タンタル（ＩＶ）ｔ−ブトキサイド、タンタルナトリウムメトキサイド、タンタル（Ｖ）トリフルオロエトキサイド、タンタル（Ｖ）テトラエトキサイドペンタンジオネート等が用いられる。
【００３６】
本発明の高屈折率用組成物における金属アルコキシドの縮合物としては、金属アルコキシドを加水分解したものが用いられる。すなわち、例えば上記のような金属アルコキシドの溶液に水を添加して加水分解して調整したり、アルコキシドを含有する塗布液に水を添加して加水分解を行い調整する。加水分解に用いる水は、金属アルコキシド１００モルに対して１〜１０モル、特に１〜５モルが好ましい。尚、この加水分解には、塩酸、硝酸、金属キレート化合物などのゾル−ゲル法に用いられる触媒が用いられることは好ましい。
【００３７】
本発明の高屈折率用組成物における金属アルコキシドの縮合物としては、特に、一般式〔Ｉ〕で表されるものが好ましい。
一般式〔Ｉ〕
2007108765.tif 000003
〔但し、Ｍは、Ｔｉ，Ｓｉ，Ｚｒ，Ｓｎ及びＴａの群の中から選ばれた金属。Ｒa
，Ｒb ，Ｒc ，Ｒd は脂肪族炭化水素基。ｍは２以上の整数。〕
中でも、一般式〔Ｉ〕において、ＭがＴｉ，Ｓｉ，Ｚｒが特に好ましい。又、Ｒa ，Ｒb ，Ｒc ，Ｒd は炭素数１〜５の脂肪族炭化水素基であるものが特に好ましい。又、ｍは２〜３０の整数であるものが特に好ましい。
【００３８】
本発明の高屈折率用組成物における架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有する架橋性ポリマー、又はその主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有する架橋性ポリマーが好ましい。中でも、ケイ皮酸樹脂が好ましい架橋性ポリマーである。すなわち、これらの架橋性ポリマーは、上記金属アルコキシドの縮合物と結合し得ることから、上記課題が一層効果的に解決される。
【００３９】
本発明の高屈折率用組成物におけるカチオン性重合化合物は、オキシラン環状化合物、オキセタン環状化合物、チイタン環状化合物、及びチエタン環状化合物の群の中から選ばれるものが好ましい。オキシラン環状化合物は、一般式〔ＩＩ〕で表されるオキシラン環を含有する化合物である。尚、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマーいずれのものであっても良い。
一般式〔ＩＩ〕
2007108765.tif 000004
〔但し、Ｘは、Ｏ又はＳ。〕
【００４０】
オキセタン環状化合物は、一般式〔ＩＩＩ〕で表されるオキセタン環を含有する化合物である。尚、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマーいずれのものであっても良い。
一般式〔ＩＩＩ〕
2007108765.tif 000005
〔但し、Ｘは、Ｏ又はＳ。〕
【００４１】
チイタン環状化合物は、チイタン環を含有する化合物である。尚、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマーいずれのものであっても良い。チエタン環状化合物は、チエタン環を含有する化合物である。尚、モノマー、ダイマー、オリゴマー、ポリマーいずれのものであっても良い。
【００４２】
このようなカチオン性重合化合物の中でも、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＡＤ型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型、脂肪族型、ナフタレン骨格型、ビフェニル型のエポキシ樹脂が好ましい。本発明の高屈折率用組成物におけるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物は、芳香族エポキシ化合物（多価フェノールのポリグリシジルエーテル）、例えば水素添加ビスフェノールＡ又はビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、脂肪族エポキシ化合物、例えば脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマー、これらの代表例としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ノナンプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールのポリグリシジルエーテル、脂環式エポキシ化合物、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３’，４’−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）ジシクロペンタンジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ジシクロペンタンジエンジエポキシサイド、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、ポリグリシジルアクリレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートと他のモノマーとの共重合物、ポリ−２−グリシジルオキシエチルアクリレート、ポリ−２−グリシジルオキシエチルメタクリレート、２−グリシジルオキシエチルアクリレート、２−グリシジルオキシエチルアクリレート又は２−グリシジルオキシエチルメタクリレートと他のモノマーとの共重合物、ビス−２，２−ヒドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等が用いられる。勿論、これらに限られない。又、一つだけでなく、二つ以上を用いても良い。
【００４３】
本発明のエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物は、エポキシ基を分子内に二つ以上有するものの以外に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使用できる。活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラディカル重合によるものでは無く、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラディカル重合と異なり、反応系中の酸素に影響を受けない為、好ましい。
【００４４】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と共に用いられる重合開始剤は、次の一般式で表されるものが好ましい。
【００４５】
〔（Ｒ1 ）a （Ｒ2 ）b （Ｒ3 ）c （Ｒ4 ）d Ｚ〕+w〔ＭｅＸv+w 〕-w
ここで、一般式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，ハロゲン（例えば、Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ）又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 は同一でも異なっていても良い有機の基である。ａ，ｂ，ｃ，ｄは各々０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｓｃ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【００４６】
上記一般式中の陰イオン〔ＭｅＸv+w 〕-wの具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4 - ）、ヘキサフルオロホスフェート（ＰＦ4 - ）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ4 - ）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ4 -）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ4 - ）等が挙げられる。更に、一般式ＭＸn （ＯＨ）- の陰イオンを用いることも出来る。その他、過塩素酸イオン（ＣｌＯ4
- ）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3 ＳＯ3- ）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3 - ）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等も挙げられる。
【００４７】
このようなオニウム塩の中でも、特に、芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号公報、特開昭５０−１５８６８０号公報などに記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号公報、特開昭５２−３０８９９号公報、特開昭５９−５５４２０号公報、特開昭５５−１２５１０５号公報などに記載のＶＩａ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号公報、特開昭５６−１４９４０２号公報、特開昭５７−１９２４２９号公報などに記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号公報などに記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４１３９６５５号明細書などに記載のチオピリリュム塩などが好ましい。又、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤なども挙げられる。又、上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することも出来る。
【００４８】
本発明の高屈折率用組成物における金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）であるのが好ましい。すなわち、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマーが３未満の場合には、膜の屈折率が低くなり、目的とする高屈折率の膜が得られない傾向がある。逆に、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマーが５０を越えた場合には、膜が脆弱になり、ひび割れが発生したり、隣接層との密着性が低くなり、強い膜が得られない傾向がある。従って、３〜５０（質量比）が好ましいものとした。更に好ましくは５以上である。又、更に好ましくは３０以下、特に２０以下である。
【００４９】
又、本発明の高屈折率用組成物における金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物との割合は、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物＝３〜５０（質量比）であるのが好ましい。すなわち、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物が３未満の場合には、膜の屈折率が低くなり、目的とする高屈折率の膜が得られない傾向がある。逆に、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物が５０を越えた場合には、膜が脆弱性になり、ひび割れが発生したり、隣接層との密着性が低くなり、強い膜が得られない傾向がある。従って、３〜５０（質量比）が好ましいものとした。更に好ましくは５以上である。又、更に好ましくは３０以下、特に２０以下である。
【００５０】
金属アルコキシド及び／又はその縮合物とエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物との割合は、金属アルコキシド及び／又はその縮合物／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物＝３〜５０（質量比）であるのが好ましい。すなわち、金属アルコキシド及び／又はその縮合物／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物が３未満の場合には、膜の屈折率が低くなり、目的とする高屈折率の膜が得られない傾向がある。逆に、金属アルコキシド及び／又はその縮合物／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物が５０を越えた場合には、膜が脆弱性になり、ひび割れが発生したり、隣接層との密着性が低くなり、強い膜が得られない傾向がある。従って、３〜５０（質量比）が好ましいものとした。更に好ましくは５以上である。又、更に好ましくは３０以下、特に２０以下である。
【００５１】
重合開始剤とエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物との割合は、重合開始剤／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物＝０．１〜１５（質量比）であるのが好ましい。更に好ましくは１以上である。又、更に好ましくは１０以下である。高屈折率用組成物には、硬化促進や硬度向上を目的として、触媒や硬化剤が含有される。例えば、金属キレート化合物、有機カルボン酸塩などの有機金属化合物や、アミノ基を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤などがある。
【００５２】
高屈折率用組成物は、塗料の保存安定化の為に、β−ジケトンと反応させてキレート化合物とすることにより、安定な組成物とすることができる。β−ジケトンとしては、例えばアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ｎ−プロピル、アセト酢酸ｉ−プロピル、アセチルアセトン等が挙げられる。中でもアセト酢酸エチルは好ましいものである。
【００５３】
本発明の反射防止材における高屈折率用組成物を用いて構成されてなる層は、塗布された高屈折率用組成物の層に活性エネルギー線、特に紫外線を照射することで構成される。尚、本発明の反射防止材における透明基材には、各種の材料を利用できる。但し、ＬＣＤに用いようとした場合、特に偏光板の材料に用いようとした場合には、透明基材は、セルロースの低級脂肪酸エステル及び一軸延伸ポリエチレンテレフタレートの群の中から選ばれる材料を用いて構成されたものが好ましい。尚、セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましい例として挙げられる。その他にも、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテートである。特に、酢化度が５９〜６２％のセルローストリアセテートである。
【００５４】
本発明の高屈折率用組成物は、金属アルコキシドの縮合物と、架橋性ポリマーと、溶剤とを含有する。或いは、金属アルコキシドの縮合物と、カチオン性重合化合物と、溶剤とを含有する。若しくは、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、溶剤とを含有する。或いは、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、重合開始剤と、溶剤とを含有する。又は、金属アルコキシド及び／又はその縮合物と、エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物と、重合開始剤と、溶剤と、水とを含有する。
【００５５】
金属アルコキシドや、金属アルコキシドの縮合物としては各種のものが用いられる。但し、金属アルコキシドの縮合物は、特に、上記一般式〔Ｉ〕で表されるものである。一般式〔Ｉ〕中、特に、ＭはＴｉ，Ｚｒである。Ｒa ，Ｒb ，Ｒc ，Ｒd は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基である。中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基である。ｍは２〜３０の整数である。中でも、２〜１０の整数である。
【００５６】
より具体的には、ＭがＴｉの場合、Ｒa ，Ｒb ，Ｒc ，Ｒd はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、ｍは２，３，５，７，１０である。ＭがＺｒの場合、Ｒa ，Ｒb ，Ｒc ，Ｒd はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基、ｍは２，７である。
【００５７】
上記架橋性ポリマーは、その主鎖及び／又は側鎖に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−基を有する架橋性ポリマー、又はその主鎖及び／又は側鎖にアジド基を有する架橋性ポリマーである。特に、ケイ皮酸樹脂である。上記カチオン性重合化合物は、オキシラン環状化合物、オキセタン環状化合物、チイタン環状化合物、及びチエタン環状化合物の群の中から選ばれるものである。
【００５８】
オキシラン環状化合物は、オキシラン環、特に上記一般式〔ＩＩ〕で表されるオキシラン環を含有する化合物である。中でも、下記一般式〔ＩＩａ〕で表されるオキシラン環を含有する化合物である。
一般式〔ＩＩａ〕
2007108765.tif 000006
〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニル基、水素原子の群の中から選ばれるいずれかである。Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 は同一でも異なるものでも良い。〕
具体的には、例えばフェニルグリシジルエーテル、４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、二酸化リモネン、１，２−シクロヘキセンオキシド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレンオキシド、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００５９】
オキセタン環状化合物は、オキセタン環、特に上記一般式〔ＩＩＩ〕で表されるオキセタン環を含有する化合物である。中でも、下記一般式〔ＩＩＩａ〕で表されるオキセタン環を含有する化合物である。
一般式〔ＩＩＩａ〕
2007108765.tif 000007
〔式中、Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10は、水素原子、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシ基、アリルオキシ基、アセトキシ基の群の中から選ばれるいずれかである。Ｒ5 ，Ｒ6，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10は、同一でも異なるものでも良い。〕
具体的には、例えば３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３−クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。
【００６０】
チイタン環状化合物は、チイタン環を含有する化合物である。例えば、２，３−エピチオプロピルアクリレート又はメタクリレートのホモポリマー、或いは一成分として２，３−エピチオプロピルアクリレート又はメタクリレートを含有するビニルコポリマー等が挙げられる。チエタン環状化合物は、チエタン環を含有する化合物である。例えば、一般式〔ＩＶ〕で表されるモノマーのホモポリマー、或いは一成分として下記一般式〔ＩＶ〕で表されるモノマーを含有するビニルコポリマー等が挙げられる。
一般式〔ＩＶ〕
2007108765.tif 000008
〔但し、Ｒ11は水素原子またはメチル基。ｎは１〜１０の整数。〕
【００６１】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物としては、上記したものが用いられる。重合開始剤としては、上記したものが用いられる。上記金属アルコキシドの縮合物と架橋性ポリマーとの割合は、金属アルコキシドの縮合物／架橋性ポリマー＝３〜５０（質量比）である。特に、５以上である。又、特に３０以下、更には２０以下である。
【００６２】
上記金属アルコキシドの縮合物とカチオン性重合化合物との割合は、金属アルコキシドの縮合物／カチオン性重合化合物＝３〜５０（質量比）である。特に、５以上である。又、特に３０以下、更には２０以下である。金属アルコキシド及び／又はその縮合物とエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物との割合は、金属アルコキシド及び／又はその縮合物／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物＝３〜５０（質量比）である。特に、５以上である。又、特に３０以下、更には２０以下である。
【００６３】
重合開始剤とエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物との割合は、重合開始剤／エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物＝０．１〜１５（質量比）である。特に、１以上である。又、特に、１０以下である。
【００６４】
高屈折率用組成物の溶剤としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒、或いは水が用いられる。これらは、単独、若しくは２種以上を混合して用いることが出来る。中でも、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のカルボニル基を有する溶媒と、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ブタノール等の炭素数が４以下のアルコール類とを併用すると、硬化に際してのＵＶ照射量を低減でき、生産性が向上するので好ましい。そして、有機溶剤と水とを用いるのは好ましい。
【００６５】
高屈折率用組成物には、必要に応じて、例えば硬化促進や硬度向上を目的として、触媒や硬化剤が含有される。例えば、金属キレート化合物、有機カルボン酸塩などの有機金属化合物や、アミノ基を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤などがある。又、高屈折率用組成物塗料の保存安定化の為に、β−ジケトンと反応させてキレート化合物とすることにより、安定な組成物とすることができる。β−ジケトンとしては、例えばアセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ｎ−プロピル、アセト酢酸ｉ−プロピル、アセチルアセトン等が挙げられる。中でもアセト酢酸エチルは好ましい。
【００６６】
本発明の反射防止材は、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなる。或いは、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の上側（透明基材から遠い側）に、該高屈折率層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなる。又は、透明基材に反射防止層が設けられた反射防止材であって、前記反射防止層は複数の層で構成されており、前記複数の層のうちの少なくとも一層が、上記の高屈折率用組成物を用いて構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の上側（透明基材から遠い側）に、該高屈折率層の屈折率より屈折率の低い低屈折率層が構成されてなり、前記高屈折率用組成物を用いて構成されてなる高屈折率層の下側（透明基材に近い側）に、該高屈折率層の屈折率より屈折率が低く、該低屈折率層の屈折率より屈折率が高い中屈折率層が構成されてなる。
【００６７】
透明基材は、各種の材料を利用できる。ＬＣＤに用いようとした場合、特に偏光板の材料に用いようとした場合には、透明基材は、セルロースの低級脂肪酸エステル及び一軸延伸ポリエチレンテレフタレートの群の中から選ばれる材料を用いて構成されたものである。特に、セルローストリアセテート、中でも酢化度が５９〜６２％のセルローストリアセテートを用いて構成された透明基材である。
【００６８】
上記高屈折率層は、反射率の観点から、屈折率が１．７５〜２．２０の範囲にあることが好ましい。又、その厚さは、反射率の観点から、０．０１〜０．２０μｍ（特に、０．０３μｍ以上。０．１５μｍ以下）であるのが好ましい。又、中屈折率層は、反射率の観点から、屈折率が１．５５〜１．９５（高屈折率層の屈折率より小さな値）の範囲にあることが好ましい。又、その厚さは、反射率の観点から、０．０１〜０．２０μｍ（特に、０．０３μｍ以上。０．１５μｍ以下）であるのが好ましい。
【００６９】
上記低屈折率層は、反射率の観点から、屈折率が１．５０以下、望ましくは１．４５以下、更に望ましくは１．４０以下（高屈折率層や中屈折率層の屈折率より小さな値）であるのが好ましい。又、その厚さは、反射率の観点から、０．０１〜０．２０μｍ（特に、０．０３μｍ以上。０．１５μｍ以下）であるのが好ましい。
【００７０】
高屈折率層は、上記の高屈折率用組成物を用いて構成される。これに対して、低屈折率層は、例えば下記の一般式〔Ｖ〕，〔ＶＩ〕，〔ＶＩＩ〕，〔ＶＩＩＩ〕，〔ＩＸ〕で表される含フッ素モノマーを二種類以上含み、このうちの少なくとも二種類の含フッ素モノマーは一般式〔Ｖ〕，〔ＶＩ〕，〔ＶＩＩ〕，〔ＶＩＩＩ〕，〔ＩＸ〕の異なる群の中から選ばれたものを含む組成物を用いて構成される。
一般式〔Ｖ〕
ＣＨ2 ＝ＣＸ1 −ＣＯＯＲf
〔Ｘ1 は、水素原子、又はメチル基。Ｒf は、フッ素原子を３個以上有する炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、又はフッ素原子を４個以上有する炭素数４〜１２のシクロアルキル基。〕
一般式〔ＶＩ〕
ＹＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＸ1 −ＣＯＯＺ
〔Ｘ1 は、水素原子、又はメチル基。Ｙ及びＺは、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、フッ素原子を有する炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、又はフッ素原子を有する炭素数４〜１２のシクロアルキル基。Ｙ及びＺは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｙ及びＺの少なくとも一方の基はフッ素原子を含む。〕
一般式〔ＶＩＩ〕
2007108765.tif 000009
〔Ｙ及びＺは、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、フッ素原子を有する炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、又はフッ素原子を有する炭素数４〜１２のシクロアルキル基。Ｙ及びＺは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｙ及びＺの少なくとも一方の基はフッ素原子を含む。〕
一般式〔ＶＩＩＩ〕
2007108765.tif 000010
〔Ｙ及びＺは、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、フッ素原子を有する炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、又はフッ素原子を有する炭素数４〜１２のシクロアルキル基。Ｙ及びＺは、同一であっても異なっていてもよい。但し、Ｙ及びＺの少なくとも一方の基はフッ素原子を含む。〕
一般式〔ＩＸ〕
2007108765.tif 000011
〔Ｘ1 及びＸ2 は、水素原子、又はメチル基。Ｘ1 及びＸ2 は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒf は、フッ素原子を３個以上有する炭素数２〜１２の直鎖又は分岐型のアルキル基、又はフッ素原子を４個以上有する炭素数４〜１２のシクロアルキル基。〕
特に、上記一般式〔Ｖ〕，〔ＶＩ〕，〔ＶＩＩ〕，〔ＶＩＩＩ〕の群の中から選ばれた少なくとも一つの含フッ素モノマーと、上記一般式〔ＩＸ〕の群の中から選ばれた少なくとも一つの含フッ素モノマーとを含む組成物を用いて構成される。
【００７１】
この低屈折率層用組成物における含フッ素モノマーは、該含フッ素モノマー中に含まれるフッ素原子が質量比で３０〜９０％（特に、４０％以上。８０％以下。）のものが好ましい。又、この低屈折率層用組成物には、上記した含フッ素モノマーの他に、光重合モノマーも含まれる。
【００７２】
上記一般式〔Ｖ〕で表される含フッ素モノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，−ヘキサフルオロシクロブチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロシクロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロシクロオクチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルシクロブチル、（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチルシクロブチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルシクロペンチル、（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチルシクロペンチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルシクロヘプチル、（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチルシクロヘプチル、（メタ）アクリル酸−４−トリフルオロメチルシクロヘプチル等が挙げられる。これらのモノマーは単独であっても、混合物であっても良い。尚、これらのモノマーは（メタ）アクリル酸と含フッ素アルコールとのエステル化反応により得られる。
【００７３】
上記一般式〔ＶＩ〕で表される含フッ素モノマーとしては、例えばフマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，２−トリフルオロエチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオロエチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロシクロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロシクロヘプチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロシクロオクチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロブチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロペンチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロペンチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロヘキシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロヘキシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロヘプチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロヘプチル、フマル酸−ｉｓｏ−プロピル−４−トリフルオロメチルシクロヘプチル、フマル酸−ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル）、フマル酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）、フマル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル）、フマル酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル）、或いはマレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，２−トリフルオロエチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオロエチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、マレイン酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロシクロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロシクロヘプチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロシクロオクチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロブチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロペンチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロペンチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロヘキシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロヘキシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−４−トリフルオロメチルシクロヘキシル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−２−トリフルオロメチルシクロヘプチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−３−トリフルオロメチルシクロヘプチル、マレイン酸−ｉｓｏ−プロピル−４−トリフルオロメチルシクロヘプチル、マレイン酸−ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル）、マレイン酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）、マレイン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル）、マレイン酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル）等が挙げられる。これらのモノマーは単独であっても、混合物であっても良い。尚、これらのモノマーはフマル酸またはマレイン酸と含フッ素アルコールとのエステル化反応、又は含フッ素カルボン酸とイソブテンとの反応によるｔｅｒｔ−ブチルエステルの導入反応とシス−トランス異性化反応とを組み合わせた方法により得られる。
【００７４】
上記一般式〔ＶＩＩ〕で表される含フッ素モノマーとしては、例えばイタコン酸−ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル）、イタコン酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオクチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル）、イタコン酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル）、イタコン酸−ビス（１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、イタコン酸−ビス（１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，−ヘキサフルオロシクロブチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロシクロヘプチル）、イタコン酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロシクロオクチル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロブチル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロブチル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロブチル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロブチル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロペンチル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロペンチル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、イタコン酸−ビス（４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、イタコン酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロヘプチル）、イタコン酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロヘプチル）、イタコン酸−ビス（４−トリフルオロメチルシクロヘプチル）等が挙げられる。これらのモノマーは単独であっても、混合物であっても良い。尚、これらのモノマーはイタコン酸と含フッ素アルコールとのエステル化反応により得られる。
【００７５】
上記一般式〔ＶＩＩＩ〕で表される含フッ素モノマーとしては、例えばテトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，２−トリフルオロエチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオクチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，−ヘキサフルオロシクロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−デカフルオロシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロシクロヘプチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８−テトラデカフルオロシクロオクチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロブチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロペンチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロペンチル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（４−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（２−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（３−トリフルオロメチルシクロヘキシル）、テトラヒドロフタル酸−ビス（４−トリフルオロメチルシクロヘプチル）等が挙げられる。これらのモノマーは単独であっても、混合物であっても良い。尚、これらのモノマーはテトラヒドロフタル酸と含フッ素アルコールとのエステル化反応により得られる。
【００７６】
上記一般式〔ＩＸ〕で表される含フッ素モノマーとしては、例えばジ（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール等が挙げられる。これらのモノマーは単独であっても、混合物であっても良い。尚、このようなジ（メタ）アクリル酸エステルは、例えば相当する含フッ素エポキシと（メタ）アクリル酸との通常の開環反応により得ることが出来るヒドロキシ（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸とのエステル化反応により得られる。
【００７７】
低屈折率層を構成する為、上記〔Ｖ〕〜〔ＩＸ〕のような含フッ素モノマーと共に用いる光重合モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アクリル変性ジペンタエリスリトールペンタエリスリトールが挙げられる。これらのモノマーは、硬化性が大きく、収縮が小さく、低臭気性で低毒性であり、安全性も比較的高い。
【００７８】
低屈折率層を構成する為、上記〔Ｖ〕〜〔ＩＸ〕のような含フッ素モノマー等と共に用いる光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物、ベンジル、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケトン等のカルボニル化合物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、α−ジケトンと三級アミンとの混合物などが挙げられる。
【００７９】
上記モノマー等が溶解された溶液を高屈折率層上に塗布し、光照射により重合を行わせることによって、低屈折率層が形成される。用いる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセロソルブ、ジエチルカルビトール等のグリコールエーテル類、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、トリフルオロメチルベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の有機溶剤、その他水等が挙げられる。これらは単独でも、混合しても良い。
【００８０】
低屈折率層は、その他にも、例えばゾル−ゲル法を用いたテトラエトキシシランの加水分解物から調整されるシリカ皮膜、シリカゾルをバインダ中に分散させた皮膜、或いは蒸着やスパッタ法により形成したＭｇＦやＳｉＯ2 等の皮膜を用いて構成できる。中屈折率層は、本発明の高屈折率層用組成物における架橋性ポリマーやカチオン性重合化合物の割合を調整して屈折率を低下させたものとか、ＴｉＯ2 ，Ｓｂ2 Ｏ5 ，ＺｎＯ，ＳｎＯ2 等の屈折率が高い無機微粒子をバインダに分散させたもので構成できる。上記高屈折率層と中屈折率層とを、同系統の組成物を用いて構成した場合、両層の密着性が高まるので好ましい。尚、同じ組成物を用いても、照射する紫外線量を制御することによって、屈折率の制御が出来る。例えば、照射紫外線量を多くした場合、高い屈折率の層となる。
【００８１】
更に、透明基材と高屈折率層（特に、中屈折率層）との間にはハードコート層が設けられる。このハードコート層は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層である。活性エネルギー線照射により硬化する樹脂としては、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型樹脂が代表的なものである。勿論、これに限られるものでは無い。
【００８２】
紫外線硬化型樹脂としては、特に、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂が好ましい。例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の光重合性モノマーやオリゴマーを用いたものが挙げられる。これらのポリオールアクリレート系樹脂は、高架橋性で、硬化性が大きく、かつ、収縮性が小さく、更には低臭気性、低毒性で、安全性が高いことから好ましい。
【００８３】
これらの樹脂は、光増感剤と共に用いられる。光反応開始剤も光増感剤として使用できる。光増感剤の具体例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサントン、及びこれらの誘導体がある。又、エポキシアクリレート系の光反応開始剤を使用の際には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。
【００８４】
近紫外線領域から可視光線領域にかけては、その領域に吸収極大のある増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化型樹脂組成物に含まれる光反応開始剤又は光増感剤は、該組成物１００重量部に対して０．５〜１５重量部である。特に、１〜１０重量部である。本発明で用いるハードコート層は、低反射性を得る為には、屈折率が１．４５〜１．６５のものが好ましい。又、その厚さは、耐久性、耐衝撃性、屈曲性などの観点から、１〜１５μｍ（特に、２μｍ以上。１０μｍ以下。特に、８μｍ以下。）が好ましい。
【００８５】
本発明の反射防止材の製造方法は、上記の反射防止材の製造において、上記の高屈折率用組成物を塗布した後、これに活性エネルギー線、特に紫外線を照射するものである。紫外線の照射量は、塗布厚などによっても相違するが、約１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 （特に、２００ｍＪ／ｃｍ2 以上。５００ｍＪ／ｃｍ2 以下。）である。
【００８６】
本発明の偏光板保護フィルムは、上記の反射防止材、特に厚さが３０〜１００μｍの反射防止材で構成される。本発明の偏光板は、上記の反射防止材で構成されてなるフィルム（偏光板保護フィルム）が偏光子に貼り合わされたものである。偏光板保護フィルムが積層される偏光子は、例えばポリビニルアルコール製のフィルムを沃素の如きの二色性染料で処理して延伸することにより得られる。
【００８７】
偏光子の厚さは５０〜１５０μｍである。そして、本発明の偏光板保護フィルムが用いられた偏光板を採用したＬＣＤは、偏光板保護フィルムが傷付き難く、耐久性に富んでおり、かつ、偏光板保護フィルム表面の反射防止層の均質性に優れ、かつ、反射防止効果に優れており、外光の映り込みが防止され、視野角も広く、そして光透過率は高いことから、視認性に優れたものである。
【００８８】
以下、具体的実施例を挙げて説明する。
［実施例１］
透明基材として、セルローストリアセテートフィルム（コニカ（株）製のコニカタック８０ＵＶＳＦ、厚さ８０μｍ）を用いた。このセルローストリアセテートフィルムの一面に下記の紫外線硬化型樹脂組成物Ａを塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射して硬化させ、ハードコート層を設けた。尚、ハードコート層の厚さは５．０μｍで、屈折率は１．５０であった。
【００８９】
〔紫外線硬化型樹脂組成物Ａ〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体            ６００ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体            ２００ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分  ２００ｇ
ジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤                          ２０ｇ
シリコーン系界面活性剤                                      １０ｇ
アエロジルＲ−９７２（日本アエロジル（株）製）              １０ｇ
メチルエチルケトン                                        ５００ｇ 
酢酸エチル                                                ５００ｇ 
イソプロピルアルコール                                    ５００ｇ
【００９０】
上記組成物を攪拌しながら、超音波分散した。
次に、ハードコート層上に下記の高屈折率層用組成物Ｃをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、高屈折率層を設けた。尚、高屈折率層の厚さは７９ｎｍで、屈折率は１．８４であった。膜厚や屈折率は、分光光度計（日立製作所製Ｕ−４０００型）による分光反射率の測定値より計算して求めたものである。すなわち、高屈折率層が設けられていない側のセルローストリアセテートフィルムの裏面を粗面化した後、黒色のスプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止し、反射率の測定を５度の正反射の条件にて行ったものである。
〔高屈折率層用組成物Ｃ〕
チタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）                      １２５ｇ
ケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）                    ５ｇ
５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）                                    ０．１ｇ
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン                  ５ｇ
ブタノール                                              １２００ｇ
イソプロピルアルコール                                  １２００ｇ
【００９１】
［実施例２］
実施例１において、高屈折率層用組成物Ｃにおけるシンコー技研製のＣ−１０１（ケイ皮酸樹脂）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０２（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行った。尚、この高屈折率層の厚さは７８ｎｍで、屈折率は１．８５であった。
【００９２】
［実施例３］
実施例１において、高屈折率層用組成物Ｃにおけるシンコー技研製のＣ−１０１（ケイ皮酸樹脂）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０３（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行った。尚、この高屈折率層の厚さは８０ｎｍで、屈折率は１．８４であった。
【００９３】
［比較例１］
実施例１において、高屈折率層用組成物Ｃにおけるシンコー技研製のＣ−１０１（ケイ皮酸樹脂）５ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を３ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を１ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を１ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用いた以外は同様に行った。尚、この高屈折率層の厚さは７９ｎｍで、屈折率は１．８５であった。
【００９４】
［特性］
上記実施例１〜３、及び比較例１のフィルムについて、高屈折率層の密着性、硬度、表面の耐磨耗性、及び耐久性を調べたので、その結果を下記の表−１に示す。
【００９５】
密着性はＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠した碁盤目試験による。具体的には、高屈折率層面上に１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個つくり、この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残っている碁盤目の数で表示した。
硬度はＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠した１ｋｇ荷重での鉛筆硬度で評価した。
表面の耐磨耗性は＃００００のスチールウールに１ｃｍ2 当たり０．１ｋｇの質量（０．９８Ｎ／ｃｍ2 ）を掛けて表面を３０往復した後のスチールウール往復方向１ｃｍ幅当たりの傷の発生本数で評価した。
耐久性は、高温高湿（８０℃，９０％ＲＨ）環境下で５００時間の耐久性試験を行い、外観の変化で評価した。
【００９６】
表−１
密着性      硬度  表面の耐磨耗性        耐久性
実施例１    １００／１００  ２Ｈ      １０              変化なし
実施例２    １００／１００  ２Ｈ      １２              変化なし
実施例３    １００／１００  ２Ｈ      １１              変化なし
比較例１    １００／１００    Ｈ      ２２        部分的にクラック
【００９７】
［実施例４］
透明基材としてセルローストリアセテートフィルム（コニカ（株）製のコニカタック８０ＵＶＳＦ、厚さ８０μｍ）を用いた。このセルローストリアセテートフィルムの一面に下記の紫外線硬化型樹脂組成物Ａを塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、８０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を１２ｃｍの距離から４秒間照射して硬化させ、ハードコート層を設けた。尚、ハードコート層の厚さは５．０μｍで、屈折率は１．５０であった。
【００９８】
〔紫外線硬化型樹脂組成物Ａ〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体            ６００ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体            ２００ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分  ２００ｇ
ジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤                          ２０ｇ 
シリコーン系界面活性剤                                      １０ｇ
アエロジルＲ−９７２（日本アエロジル（株）製）              １０ｇ
メチルエチルケトン                                        ５００ｇ
酢酸エチル                                                ５００ｇ
イソプロピルアルコール                                    ５００ｇ
【００９９】
上記組成物を攪拌しながら、超音波分散した。
次に、ハードコート層上に下記の中屈折率層用組成物Ｂをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2 だけ照射して硬化させ、中屈折率層を設けた。尚、中屈折率層の厚さは８２ｎｍで、屈折率は１．６３であった。
【０１００】
〔中屈折率層用組成物Ｂ〕
チタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）                      １２５ｇ
ケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）                  ２０ｇ
５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）                                    ０．１ｇ
γ−メタクリロキシプロピルプロピルトリメトキシシラン        ２５ｇ
ブタノール                                              １２００ｇ
イソプロピルアルコール                                  １２００ｇ
【０１０１】
この中屈折率層の上に、実施例１の高屈折率層用組成物Ｃを用いて同様な高屈折率層を設けた。
この後、高屈折率層上に下記の低屈折率層用組成物Ｄをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、低屈折率層を設けた。尚、低屈折率層の厚さは９０ｎｍで、屈折率は１．３７であった。
【０１０２】
〔低屈折率層用組成物Ｄ〕
メタクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロヘキシル                                                          ４５ｇ
ジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール  ４５ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（光重合性モノマー）１０ｇ
ジエトキシベンゾフェノン（重合開始剤）                    ０．２ｇ
界面活性剤（大日本インキ社製のＦ−１７７）                    １ｇ
シクロヘキサノン                                        ３５００ｇ
イソプロピルアルコール                                  ７７００ｇ
【０１０３】
上記のようにしてトリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０４】
［実施例５］
実施例４において、中屈折率層用組成物Ｂにおけるケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０２（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層（厚さは８３ｎｍで、屈折率は１．６４）−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０５】
［実施例６］
実施例４において、中屈折率層用組成物Ｂにおけるケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０３（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層（厚さは８２ｎｍで、屈折率は１．６４）−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０６】
［実施例７］
実施例５において、高屈折率層用組成物Ｃにおけるケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０２（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層（厚さは７８ｎｍで、屈折率は１．８５）−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０７】
［実施例８］
実施例６において、高屈折率層用組成物Ｃにおけるケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）の代わりにシンコー技研製のＣ−１０３（ケイ皮酸樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層（厚さは８０ｎｍで、屈折率は１．８４）−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０８】
［比較例２］
実施例４において、中屈折率層用組成物Ｂにおけるケイ皮酸樹脂（シンコー技研製のＣ−１０１）２０ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を１０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を５ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を５ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用い、又、高屈折率層用組成物Ｃにおけるシンコー技研製のＣ−１０１（ケイ皮酸樹脂）５ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を３ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を１ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を１ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１０９】
［特性］
上記実施例４〜８及び比較例２の偏光板保護フィルムについて、その最低反射率、及び密着性並びに耐久性（試験方法は前記と同じ）を調べたので、その結果を下記の表−２に示す。
【０１１０】
表−２
最低反射率        密着性            耐久性
実施例４          ０．２％    １００／１００        変化なし
実施例５          ０．２％    １００／１００        変化なし
実施例６          ０．２％    １００／１００        変化なし
実施例７          ０．２％    １００／１００        変化なし
実施例８          ０．２％    １００／１００        変化なし
比較例２          ０．２％      ８０／１００      部分的にクラック
【０１１１】
［実施例９］
綿花リンターと木材パルプであるセルローストリアセテートを８５／１５の重量割合で混合し、可塑剤としてトリフェニルホスフェート２重量％、エチルフタリルグリコレート３重量％、紫外線吸収剤としてチヌビン３２６、チヌビン３２８（チバスペッシャルティケミカルズ社製）を各々０．５重量％含有する厚さ５０μｍのセルローストリアセテートフィルムを、透明基材として用いた。
【０１１２】
このセルローストリアセテートフィルムの一面に、下記の導電性塗料組成物を１５ｍｌ／ｍ2 となるように塗布し、そして８０℃で５分間乾燥して導電性層を設けた。次に、この導電性層上に、下記の紫外線硬化型樹脂組成物を１５ｍｌ／ｍ2 となるように塗布し、そして８０℃で５分間乾燥させ、次いで高圧水銀灯を９０ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、ハードコート層を設けた。尚、導電性層の厚さは０．２μｍで、ハードコート層の厚さは５μｍであった。
【０１１３】
〔導電性塗料組成物〕
ポリメチルメタクリレート                                  ０．５ｇ
下記の式で表される化合物                                  ０．５ｇ
2007108765.tif 000012
プロピレングリコールメチルエーテル                        ６５ｍｌ
メチルエチルケトン                                        ２０ｍｌ
メタノール                                                １０ｍｌ
乳酸エチル                                                  ５ｍｌ
【０１１４】
〔紫外線硬化型樹脂組成物〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体              ２０ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体            ７．５ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分  ７．５ｇ
ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ開始剤）                    ０．５ｇ
アエロジルＲ−９７２（日本アエロジル（株）製）            ０．５ｇ
メチルエチルケトン                                        ３８ｍｌ 
プロピレングリコールメチルエーテル                        ３８ｍｌ
【０１１５】
次に、ハードコート層上に下記の高屈折率層用組成物Ｅをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、高屈折率層を設けた。尚、高屈折率層の厚さは８２ｎｍで、屈折率は１．８１であった。
【０１１６】
〔高屈折率層用組成物Ｅ〕
チタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）                      １２５ｇ
ビスフェノール型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８）                                                        ５ｇ
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフォニル〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート    ０．３ｇ
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン                    ５ｇ
ブタノール                                              １２００ｇ
イソプロピルアルコール                                  １２００ｇ
【０１１７】
［実施例１０］
実施例９において、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりにアラルダイトＣＹ１７９（日本チバガイギー社製の脂環型エポキシ樹脂）を用いた以外は同様に行った。尚、高屈折率層の厚さは８１ｎｍで、屈折率は１．８２であった。
【０１１８】
［実施例１１］
実施例９において、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりにＥＨＰＥ−３１５８（ダイセル化学工業社製の脂環型エポキシ樹脂）を用いた以外は同様に行った。尚、高屈折率層の厚さは８２ｎｍで、屈折率は１．８２であった。
【０１１９】
［実施例１２］
実施例９において、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりに旭電化工業（株）のＫＲ５００を用いた以外は同様に行った。尚、高屈折率層の厚さは８１ｎｍで、屈折率は１．８３であった。
【０１２０】
［実施例１３］
実施例１２において、高屈折率層用組成物Ｅにおけるチタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）の代わりにテトラブトキシチタンを用いた以外は同様に行った。尚、高屈折率層の厚さは８１ｎｍで、屈折率は１．８４であった。
【０１２１】
［実施例１４］
実施例１３において、高屈折率層用組成物Ｅのテトラブトキシチタン１モルに対して２モルの水を添加した以外は同様に行った。尚、高屈折率層の厚さは８０ｎｍで、屈折率は１．８５であった。
【０１２２】
［比較例３］
実施例９において、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）５ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を３ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を１ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を１ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用いた以外は同様に行った。尚、この高屈折率層の厚さは８１ｎｍで、屈折率は１．８３であった。
【０１２３】
［特性］
上記実施例９〜１４及び比較例３のフィルムについて、高屈折率層の密着性、硬度、表面の耐磨耗性、耐久性（試験方法は前記と同じ）、及び耐久密着性を調べたので、その結果を下記の表−３に示す。
耐久密着性は、高温高湿（８０℃，９０％ＲＨ）環境下で５００時間保存し、密着性と同じ方法で評価した。
【０１２４】
表−３
密着性    硬度    表面の耐磨耗性  耐久性    耐久密着性
実施例９    100/100   ２Ｈ          １２      変化なし      92/100
実施例１０  100/100   ２Ｈ          １１      変化なし      93/100
実施例１１  100/100   ２Ｈ          １０      変化なし      91/100
実施例１２  100/100   ２Ｈ            ８      変化なし      99/100
実施例１３  100/100   ２Ｈ            ８      変化なし      95/100
実施例１４  100/100   ２Ｈ            ８      変化なし      94/100
比較例３    100/100     Ｈ          ２２  部部的にクラック  85/100
【０１２５】
［実施例１５］
実施例９で用いた透明基材（セルローストリアセテートフィルム）を用いた。そして、このセルローストリアセテートフィルムの一面に、実施例９で用いた紫外線硬化型樹脂組成物を同様に塗布し、同様なハードコート層を設けた。このハードコート層上に下記の中屈折率層用組成物Ｆをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、中屈折率層を設けた。尚、中屈折率層の厚さは８４ｎｍで、屈折率は１．６５であった。
【０１２６】
〔中屈折率層用組成物Ｆ〕
チタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）                      １２５ｇ
ビスフェノール型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８）                                                      ２０ｇ
４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフォニル〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート    ０．３ｇ
γ−グリシドキシプロピルプロピルトリメトキシシラン          ２０ｇ
ブタノール                                              １２００ｇ
イソプロピルアルコール                                  １２００ｇ
【０１２７】
この中屈折率層の上に、実施例９の高屈折率層用組成物Ｅをバーコーターで塗布し、同様な高屈折率層を設けた。
この後、高屈折率層上に下記の低屈折率層用組成物Ｄをバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。次いで、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2 照射して硬化させ、低屈折率層を設けた。尚、低屈折率層９の厚さは９０ｎｍで、屈折率は１．３７であった。
【０１２８】
〔低屈折率層用組成物Ｄ〕
メタクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロヘキシル                                                          ４５ｇ
ジアクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール  ４５ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（光重合性モノマー）１０ｇ
ジエトキシベンゾフェノン（重合開始剤）                    ０．２ｇ
界面活性剤（大日本インキ社製のＦ−１７７）                    １ｇ
シクロヘキサノン                                        ３５００ｇ
イソプロピルアルコール                                  ７７００ｇ
上記のようにしてトリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１２９】
［実施例１６］
実施例１５において、中屈折率層用組成物Ｆにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりにアラルダイトＣＹ１７９（日本チバガイギー社製の脂環型エポキシ樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層（厚さは８３ｎｍで、屈折率は１．６５）−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３０】
［実施例１７］
実施例１５において、中屈折率層用組成物Ｆにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりにＥＨＰＥ−３１５８（ダイセル化学工業社製の脂環型エポキシ樹脂）を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層（厚さは８４ｎｍで、屈折率は１．６４）−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３１】
［実施例１８］
実施例１６において、高屈折率層として実施例１０の高屈折率層用組成物を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３２】
［実施例１９］
実施例１７において、高屈折率層として実施例１１の高屈折率層用組成物を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３３】
［実施例２０］
実施例１５において、中屈折率層用組成物Ｆ及び高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）の代わりに旭電化工業（株）のＫＲ５００を用いた以外は同様に行い、中屈折率層（厚さは８５ｎｍで、屈折率は１．６６）及び高屈折率層（厚さは８１ｎｍで、屈折率は１．８３）を形成し、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３４】
［実施例２１］
実施例２０において、中屈折率層用組成物Ｆにおけるチタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）の代わりにチタンブトキシドを用い、かつ、水を１５ｇ更に加えた以外は同様に行うと共に、高屈折率層用組成物Ｅにおけるチタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）の代わりにチタンブトキシドを用い、かつ、水を１０ｇ更に加えた以外は同様に行い、中屈折率層（厚さは８０ｎｍで、屈折率は１．６７）及び高屈折率層（厚さは７９ｎｍで、屈折率は１．８６）を形成し、トリアセチルセルロースフィルム−導電性層−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３５】
［比較例４］
実施例１５において、中屈折率層用組成物Ｂにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）２０ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を１０ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を５ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を５ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用い、又、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）５ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を３ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を１ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を１ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３６】
［比較例５］
実施例１５において、中屈折率層用組成物Ｂにおけるチタンポリマー（日本曹達製のＢ−４）の代わりにテトラブトキシチタンを用い、又、高屈折率層用組成物Ｅにおける油化シェルエポキシ社製のエピコート８２８（ビスフェノール型エポキシ樹脂）５ｇの代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体を３ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体を１ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分を１ｇ用い、又、５−ニトロアセナフテンとＮ−アセチル−ニトロ−１−アミノ−ナフタレンとの混合物（１：１）の代わりにジエトキシベンゾフェノンＵＶ開始剤を用いた以外は同様に行い、トリアセチルセルロースフィルム−ハードコート層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層からなる偏光板保護フィルムを得た。
【０１３７】
［特性］
上記実施例１５〜２１及び比較例４，５の偏光板保護フィルムについて、その最低反射率、密着性、耐久性、及び耐久密着性（試験方法は前記と同じ）を調べたので、その結果を下記の表−４に示す。
【０１３８】
表−４
最低反射率    密着性      耐久性          耐久密着性
実施例１５      ０．２％   100/100      変化なし          91/100
実施例１６      ０．２％   100/100      変化なし          92/100
実施例１７      ０．２％   100/100      変化なし          91/100
実施例１８      ０．２％   100/100      変化なし          93/100
実施例１９      ０．２％   100/100      変化なし          92/100
実施例２０      ０．２％   100/100      変化なし          98/100
実施例２１      ０．２％   100/100      変化なし          97/100
比較例４        ０．２％    80/100    部分的にクラック    72/100
比較例５        ０．２％    70/100      クラック多い      63/100
【０１３９】
これから判る通り、本発明になる偏光板保護フィルムは光学特性に優れたものであり、優れた偏光板が得られる。又、偏光子との接着性に優れており、耐久性にも富む。
【図面の簡単な説明】
【０１４０】
【図１】偏光板の概略図
【図２】偏光板保護フィルムの概略図
【符号の説明】
【０１４１】
５          トリアセチルセルロースフィルム（透明基材）
６          ハードコート層
７          中屈折率層
８          高屈折率層
９          低屈折率層
代  理  人      宇  高    克  己
【図１】
2007108765.tif 000013
【図２】
2007108765.tif 000014