(57)【要約】【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をブラシで洗浄するための装置であって、少なくとも、基板を保持するための基板保持手段と、前記基板を洗浄するためのブラシと、前記ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段と、前記基板保持手段により保持された基板又は前記ブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段と、前記ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段とを備え、前記ブラシ洗浄手段が、前記ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽と、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段と、前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段とを有するものであることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記ブラシ洗浄板が、前記超音波印加手段により印加される超音波を透過するものであることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記超音波印加手段が、前記ブラシ洗浄槽の下面に設けられているものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記ブラシ洗浄液供給手段が、前記ブラシ洗浄槽の底部に設けられており、前記ブラシ洗浄板が、前記ブラシ用洗浄液を通過させるための孔を有するものであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記ブラシ洗浄液供給手段が、前記ブラシ洗浄槽の外側に設けられており、また、前記ブラシ洗浄板と前記ブラシ洗浄槽に囲まれる空間に液体を供給するための液体供給手段が設けられているものであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記ブラシ洗浄槽が、内側槽と外側槽とを有し、前記ブラシ洗浄板が前記内側槽の内部に設けられており、前記ブラシ洗浄液供給手段から供給した前記ブラシ用洗浄液を前記内側槽から外側槽にオーバーフローさせるものであることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記内側槽の上縁にＶ字状の溝が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記ブラシ洗浄板が、石英基板からなるものであることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記ブラシが、円筒状又は円柱状のものであることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記ブラシが、ＰＶＡスポンジからなるものであることを特徴とする請求項１ないし請求項９のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記ブラシ洗浄手段は、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシを収容していない時に前記ブラシ洗浄液供給手段により前記ブラシ用洗浄液を供給するとともに、前記超音波印加手段により前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄するように制御されているものであることを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
基板をブラシで洗浄する方法であって、請求項１ないし請求項１１のいずれか一項に記載の基板洗浄装置を用い、少なくとも、前記基板保持手段により基板を保持し、前記洗浄液供給手段により前記基板又は前記ブラシに対して洗浄液を供給するとともに、前記ブラシ駆動手段により前記ブラシを駆動させて前記基板を洗浄する工程と、前記ブラシを前記ブラシ洗浄槽に収容して該ブラシを回転させながら又は回転させずに前記ブラシ洗浄板への押し当てを繰り返して該ブラシを洗浄する工程と、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシを収容せずに前記ブラシ洗浄液供給手段により前記ブラシ用洗浄液を供給するとともに、前記超音波印加手段により前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄する工程を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項１３】
前記ブラシ用洗浄液として、水を供給することを特徴とする請求項１２に記載の基板洗浄方法。
【請求項１４】
前記基板として、マスク基板又は半導体基板を洗浄することを特徴とする請求項１２又は請求項１３に記載の基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク基板、半導体基板等の平坦なあるいは凹凸を有する基板の表面を、ブラシを用いて物理化学洗浄する装置に関し、特に清浄なブラシで基板を洗浄することができる基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、液晶表示装置等の製造工程では、シリコンウエーハ等の半導体基板（半導体ウエーハ）やガラス基板に微細なパターン形成を行うため、所望のパターンが形成されたマスク基板を用いてフォトリソグラフィーが行われる。フォトリソグラフィー工程では、半導体ウエーハやガラス基板のみならず、マスク基板にパーティクル等が付着しているとパターン形成不良を引き起こしてしまうため、清浄な状態に保つ必要がある。
【０００３】
これらの基板を洗浄する方法として、基板に洗浄液を供給しながらブラシで洗浄する方法がある。例えば、マスク基板やガラス基板を洗浄する場合には、洗浄液を供給するとともに基板にロールブラシを回転させながら当てて洗浄する方法や、基板の裏面を保持して回転させるとともに、表面に洗浄液を供給しながら回転するブラシを当てて洗浄する方法がある（特許文献１参照）。
このようにブラシで基板を洗浄する場合、基板に付着していた異物やパーティクルの一部がブラシに付着する。そして、同じブラシで基板の洗浄を続けると、ブラシに付着したパーティクル等が後の基板に再付着して十分清浄な状態に洗浄することができなくなる。
【０００４】
ブラシに付着したパーティクル等が基板に再付着することを防止する洗浄装置として、基板をロールブラシで洗浄すると同時に、そのブラシに他のロールブラシを当ててブラシ自体も洗浄する装置が提案されている（特許文献２参照）。しかし、この洗浄装置では、ブラシを洗浄するための他のロールブラシも徐々に汚れてしまい、結果的に基板を十分洗浄することができなくなるという問題がある。
【０００５】
また、水流によってブラシを洗浄することもできるが、水流だけでは十分洗浄することはできない。さらに、ブラシを洗浄液中に入れて超音波を照射して洗浄を行う方法もあるが、超音波によってブラシが劣化し、ブラシ自体からパーティクルが発生してしまうという問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開平２００２−２０３８３０号公報
【特許文献２】特開平５−３４７２８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記問題点に鑑み、本発明は、マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明によれば、基板をブラシで洗浄するための装置であって、少なくとも、基板を保持するための基板保持手段と、前記基板を洗浄するためのブラシと、前記ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段と、前記基板保持手段により保持された基板又は前記ブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段と、前記ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段とを備え、前記ブラシ洗浄手段が、前記ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽と、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段と、前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段とを有するものであることを特徴とする基板洗浄装置が提供される（請求項１）。
【０００９】
このようなブラシ洗浄手段を備えた洗浄装置であれば、ブラシ洗浄槽のブラシ洗浄板によりブラシを洗浄することができる上、ブラシをブラシ洗浄槽に収容していないときに、超音波印加手段によりブラシ洗浄槽に対して超音波を印加することでブラシ洗浄板を洗浄することができる。すなわち、本発明に係る洗浄装置は、ブラシを劣化させることなく自己洗浄することができ、さらにブラシ洗浄手段も自己洗浄することができるため、結果的に常に清浄なブラシで基板を洗浄することができる。
【００１０】
前記ブラシ洗浄板が、前記超音波印加手段により印加される超音波を透過するものであることが好ましい（請求項２）。
ブラシ洗浄板が、超音波印加手段により印加される超音波を透過することでブラシ洗浄板の両面を確実に超音波洗浄することができる装置となる。
【００１１】
前記超音波印加手段が、前記ブラシ洗浄槽の下面に設けられているものとすることができる（請求項３）。
超音波印加手段がブラシ洗浄槽の下面に設けられていれば、ブラシ洗浄板を含めてブラシ洗浄槽全体を確実に洗浄することができる装置となる。
【００１２】
より具体的には、前記ブラシ洗浄液供給手段が、前記ブラシ洗浄槽の底部に設けられており、前記ブラシ洗浄板が、前記ブラシ用洗浄液を通過させるための孔を有するものとすることができる（請求項４）。
この場合、ブラシ洗浄液供給手段から供給したブラシ洗浄液は、ブラシ洗浄槽の底部からブラシ洗浄板の孔を経てブラシ洗浄槽の上部まで確実に供給されるため、ブラシを確実に洗浄することができ、また、ブラシ洗浄槽の洗浄も確実に行うことができる装置となる。
【００１３】
また、前記ブラシ洗浄液供給手段が、前記ブラシ洗浄槽の外側に設けられており、また、前記ブラシ洗浄板と前記ブラシ洗浄槽に囲まれる空間に液体を供給するための液体供給手段が設けられているものとすることもできる（請求項５）。
この場合、ブラシ洗浄液供給手段からのブラシ洗浄液によりブラシを確実に洗浄することができる。一方、ブラシ洗浄板の洗浄では、液体供給手段によりブラシ洗浄板とブラシ洗浄槽との間の空間を液体で満たすことで、ブラシ洗浄板を確実に超音波洗浄することができる装置となる。
【００１４】
前記ブラシ洗浄槽が、内側槽と外側槽とを有し、前記ブラシ洗浄板が前記内側槽の内部に設けられており、前記ブラシ洗浄液供給手段から供給した前記ブラシ用洗浄液を前記内側槽から外側槽にオーバーフローさせるものとすることが好ましい（請求項６）。
このようにブラシ用洗浄液を内側槽から外側槽にオーバーフローさせる構造のブラシ洗浄槽とすれば、ブラシあるいはブラシ洗浄板を洗浄する際、常に新鮮なブラシ洗浄液によって洗浄を行うことができ、ブラシ及びブラシ洗浄板を一層清浄な状態に洗浄することができる装置となる。
【００１５】
この場合、前記内側槽の上縁にＶ字状の溝が形成されていることが好ましい（請求項７）。
内側槽からＶ字状の溝を通じて外側槽に安定してオーバーフローさせることができ、ブラシ及びブラシ洗浄板を一層清浄な状態に洗浄することができる装置となる。
【００１６】
前記ブラシ洗浄板が、石英基板からなるものとすることができる（請求項８）。
石英からなるブラシ洗浄板であれば、ブラシを当てて洗浄する際に十分な強度を有し、ブラシを汚染することもない。また、超音波を透過し易く、劣化するようなこともない。
【００１７】
前記ブラシが、円筒状又は円柱状のものが好適である（請求項９）。
円筒状又は円柱状の洗浄ブラシを備えた洗浄装置であれば、基板のスピン洗浄に好適であり、ブラシもブラシ洗浄板への押し当てにより洗浄し易いため、特に有効となる。
【００１８】
前記ブラシが、ＰＶＡスポンジからなるものとすることができる（請求項１０）。
ＰＶＡスポンジからなるブラシであれば、特にマスク基板や半導体ウエーハなどの微細な加工が施される基板の表面にキズを付けずに洗浄することができる。また、ＰＶＡスポンジは超音波洗浄を行うと劣化し易いが、本発明に係る洗浄装置は超音波を印加せずにブラシを洗浄することができるため、ＰＶＡスポンジブラシの劣化を防ぐことができる。
【００１９】
前記ブラシ洗浄手段は、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシを収容していない時に前記ブラシ洗浄液供給手段により前記ブラシ用洗浄液を供給するとともに、前記超音波印加手段により前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄するように制御されているものとすることができる（請求項１１）。
このようにブラシの洗浄とブラシ洗浄板の洗浄を分けて行うように制御されたブラシ洗浄手段とすれば、ブラシとブラシ洗浄板をそれぞれ自動的に洗浄することができ、基板をより効率的にかつ清浄に洗浄することができる装置となる。
【００２０】
さらに本発明では、基板をブラシで洗浄する方法であって、前記の基板洗浄装置を用い、少なくとも、前記基板保持手段により基板を保持し、前記洗浄液供給手段により前記基板又は前記ブラシに対して洗浄液を供給するとともに、前記ブラシ駆動手段により前記ブラシを駆動させて前記基板を洗浄する工程と、前記ブラシを前記ブラシ洗浄槽に収容して該ブラシを回転させながら又は回転させずに前記ブラシ洗浄板への押し当てを繰り返して該ブラシを洗浄する工程と、前記ブラシ洗浄槽に前記ブラシを収容せずに前記ブラシ洗浄液供給手段により前記ブラシ用洗浄液を供給するとともに、前記超音波印加手段により前記ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加して前記ブラシ洗浄板を洗浄する工程を含むことを特徴とする基板洗浄方法が提供される（請求項１２）。
【００２１】
本発明に係る洗浄装置を用い、基板、ブラシ、及びブラシ洗浄板を上記のような工程によりそれぞれ洗浄すれば、超音波によって劣化させることなく清浄に洗浄されたブラシで基板を洗浄することができ、清浄度が極めて高い基板に仕上げることができる。
【００２２】
前記ブラシ用洗浄液として、水を供給することができる（請求項１３）。
水であれば、ブラシを劣化させることもなく、基板からブラシに付着したパーティクル等をほぼ除去することができる。また、ブラシに水が付着したまま基板の洗浄を行っても基板を汚染するおそれもない。
【００２３】
前記基板として、マスク基板又は半導体基板を洗浄することができる（請求項１４）。
マスク基板や半導体基板は特に高い清浄度が要求されるが、本発明により洗浄することで清浄度が極めて高いマスク基板又は半導体基板に仕上げることができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係る基板洗浄装置は、ブラシ洗浄手段により、ブラシ洗浄槽のブラシ洗浄板にブラシを当てて十分洗浄することができ、さらに、ブラシをブラシ洗浄槽に収容していないときにブラシ洗浄板を超音波洗浄することができる。従って、本発明に係る基板洗浄装置を用いれば、ブラシ洗浄手段によりブラシを劣化させることなく自己洗浄することができ、さらにブラシ洗浄手段も自己洗浄することができるため、結果的に常に清浄なブラシで基板を洗浄することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付の図面を参照しつつ、好適な態様として、本発明に係る基板洗浄装置及びこの装置を用いてマスク基板を洗浄する方法について説明する。
図１は、本発明に係る基板洗浄装置の一例を示し、図２はブラシ機構を示している。この基板洗浄装置１は、チャンバー２内に、基板保持手段３、ブラシ４、ブラシ駆動手段５、洗浄液供給手段６ａ，６ｂ、ブラシ洗浄手段９等を備えている。また、基板８の洗浄の際、洗浄液の飛散を防止するためのカバー２０等も設けられている。
【００２６】
基板保持手段３は、基板８を真空吸着によって保持し、回転軸７により回転させることができる。
ブラシ４はＰＶＡスポンジからなり、基板８にキズを付けずに洗浄することができる。なお、本発明で使用するブラシ４の材質はＰＶＡスポンジに限定されず、基板８にキズを付けずにパーティクルや異物を除去することができるものであれば好適に使用することができる。また、ブラシ４の形状も特に限定されず、円柱状又は円筒状のほか、多角形状のものでもよい。
ブラシ駆動手段５は、回転軸２１によりブラシ４を水平方向に移動させることができ、さらに、ブラシ４を回転させたり、上下に揺動させることもできる。
洗浄液供給手段６ａ，６ｂは基板８を清浄する際、各ノズルから洗浄液を吐出することで、基板保持手段３により保持された基板８又はブラシ４に対して洗浄液を供給することができる。
【００２７】
図３はブラシ洗浄手段９を拡大して示している。ブラシ洗浄手段９は、ブラシ洗浄槽１０、ブラシ洗浄液供給手段１３、超音波印加手段１６等から構成されている。
ブラシ洗浄槽１０は、内側槽１０ａと外側槽１０ｂからなる二槽構造となっている。このようなブラシ洗浄槽１０は、例えばポリプロピレン等の合成樹脂を用いて成形することができる。
【００２８】
内側槽１０ａは、ブラシ４を収容することができ、上縁にはＶ字状の溝１８が等間隔で複数形成されている。内側槽１０ａの底部にはブラシ洗浄液供給手段１３が設けられており、ブラシ洗浄槽１０（内側槽１０ａ）にブラシ４を洗浄するための洗浄液を供給することができる。また、内側槽１０ａの下面には超音波印加手段１６が設けられており、ブラシ洗浄槽１０に対して超音波を印加することができる。
【００２９】
内側槽１０ａの内部にはブラシ４を押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板１４が設けられている。図４はブラシ洗浄板１４を示している。図４（Ａ）に見られるように、ブラシ洗浄板１４にはシャワーヘッドのように多数の孔１５が形成されており、ブラシ洗浄液供給手段１３からブラシ用洗浄液を供給すれば、洗浄液はブラシ洗浄板１４の孔１５を通過し、内側槽１０ａから外側槽１０ｂにオーバーフローすることになる。
【００３０】
ブラシ洗浄板１４は、ブラシ４を汚染せず、ブラシ４の押し当てを繰り返しても破損しないものを用い、超音波印加手段１６により印加される超音波を透過するとともに、劣化しないものが好ましい。ブラシ洗浄板１４の材質や厚さによって超音波の透過具合が異なるため、印加される超音波に応じてブラシ洗浄板１４を選べばよいが、例えば石英基板を好適に用いることができ、その他、フッ素樹脂等の合成樹脂製のブラシ洗浄板も用いることができる。ブラシ洗浄板１４の厚さは材質にもよるが、０．１〜５ｍｍ程度とすることができる。例えば、周波数１．５ＭＨｚ程度の超音波を印加する場合には、２ｍｍ程度の厚さの石英基板とすれば、超音波をほぼ完全に透過させることができる。
【００３１】
外側槽１０ｂは、内側槽１０ａと間隙を設けて外側を囲むように形成されている。外側槽１０ｂの底部には、排液手段１７が設けられており、内側槽１０ａから外側槽１０ｂにオーバーフローしたブラシ用の洗浄液を速やかに排出することができる。
【００３２】
次に、このような基板洗浄装置１を用いてマスク基板を洗浄する方法について具体的に説明する。
＜基板の洗浄＞
まず、基板保持手段３によりマスク基板８を保持して回転させる。そして、洗浄液供給手段６ａ，６ｂにより基板８に対して洗浄液を供給するとともに、ブラシ駆動手段５によりブラシ４を回転させながら基板８上を移動させる。これにより基板８の表面をスピン洗浄することができる。
なお、基板８の洗浄は、ブラシ４を基板８に接触させず、基板８に近接させて洗浄することでもできる。すなわち、ブラシ４に洗浄液を供給するとともにブラシ４を高速回転させて基板８に近接させることで過流が生じ、洗浄効果を発揮させることができる。この場合、ブラシ４自体は基板８に接触していないため、ブラシ４によって基板８に不測のキズを付けることなく洗浄することができる。
【００３３】
＜ブラシの洗浄＞
マスク基板８を洗浄した後、ブラシ駆動手段５によりブラシ４をブラシ洗浄槽１０まで移動させる。
図５は、ブラシ４をブラシ洗浄手段９によって洗浄する状態を示している。ブラシ洗浄槽１０では、ブラシ洗浄液供給手段１３からブラシ４を洗浄するための洗浄液として純水を供給する。内側槽１０ａの底部から供給された純水はブラシ洗浄板１４の孔１５を通過し、内側槽１０ａから外側槽１０ｂへとオーバーフローする。内側槽１０ａの上縁にはＶ字状の溝１８が等間隔で形成されているため、これらのＶ字溝１８を経て外側槽１０ｂへの排水がほぼ均一に行われる。従って、パーティクルや洗浄液（純水）は滞留せずに外側槽１０ｂに排出される。
【００３４】
上記のようにブラシ洗浄槽１０（内側槽１０ａ）の下面から純水を供給するとともに、ブラシ４をブラシ洗浄槽１０（内側槽１０ａ）に収容してブラシ洗浄板１４への押し当てを繰り返す。すなわち、ブラシ駆動手段５によりブラシ４を上下に揺動させ、ブラシ洗浄板１４に対してブラシ４の押付け（図５（Ａ））と引離し（図５（Ｂ））を繰り返す。このとき、ブラシ４が常に内側槽１０ａの液内に浸される状態で上下に揺動させれば、ブラシ４の乾きが防止され、ブラシ４に付着しているパーティクル、異物、基板用の洗浄液等を効果的に洗い流すことができる。また、このようにブラシ洗浄板１４への押し当てを繰り返してブラシ４を洗浄すれば、単に水流で洗浄するよりも高い洗浄効果が得られる。洗浄効果を高めるためにブラシ４を回転させてもよいが、ブラシ４を回転させずに洗浄してもよい。
そして、次のマスク基板が投入されると、ブラシ４の洗浄（上下揺動）を終了し、ブラシ４をマスク基板８の方に移動させる。
【００３５】
＜ブラシ洗浄板の洗浄＞
ブラシ４を洗浄した後、ブラシ洗浄板１４には、洗浄液残渣、パーティクル等が付着している。そこで、ブラシ洗浄槽１０（内側槽１０ａ）にブラシ４を収容していないときに、ブラシ洗浄板１４を超音波洗浄する。具体的には、ブラシ洗浄槽１０にブラシ４を収容していな状態でブラシ洗浄液供給手段１３により純水を供給するとともに、超音波印加手段１６により例えば周波数１．５ＭＨｚの超音波を印加する。印加された超音波はブラシ洗浄板１４と内側槽１０ａとの間の水を介して伝播し、ブラシ洗浄板１４の下面から上面に透過する。これによりブラシ洗浄板１４が超音波洗浄される。なお、ブラシ洗浄板１４が印加された超音波をほぼ完全に透過すれば、ブラシ洗浄板１４全体及び内側槽１０ａ全体がより効果的に超音波洗浄される。
【００３６】
上記のように内側槽１０ａにブラシ４を収容していないときにブラシ洗浄板１４を洗浄すれば、ブラシ４自体は超音波を受けないため、超音波による劣化を防止することができ、ブラシ４を構成する素材の剥がれによるパーティクルの発生を防止することもできる。
また、上記のようにブラシ洗浄手段９は自己洗浄を行うことができるため、例えばブラシ４で基板８を洗浄している間にブラシ洗浄板１４を超音波洗浄しておけば、ブラシ４を再度洗浄する際、ブラシ４にパーティクル等が再付着することを防止することができ、ブラシ４を極めて清浄な状態で洗浄することができる。
【００３７】
以上のように、基板８の洗浄、ブラシ４の洗浄、ブラシ洗浄板１４の洗浄を繰り返し行うことで、基板８を常に清浄なブラシ４で洗浄することができる。特に、内側槽１０ａにブラシ４を収容していない時にブラシ洗浄液供給手段１３によりブラシ用洗浄液を供給するとともに、超音波印加手段１６によりブラシ洗浄槽１０（内側槽１０ａ）に対して超音波を印加してブラシ洗浄板１４を洗浄するように制御すれば、ブラシ４とブラシ洗浄板１４をそれぞれ自動的に洗浄することができ、基板８をより効率的に洗浄することができる。
【００３８】
図６は本発明に係るブラシ洗浄手段の他の例を示し、図７はこれに用いるブラシ洗浄板３４を示している。
このブラシ洗浄手段３１のブラシ洗浄槽３０は、図３のブラシ洗浄手段９と同様に内側槽３０ａと外側槽３０ｂの二槽構造であるが、ブラシ洗浄板３４は、図７（Ａ）に見られるように洗浄液を通過させるための孔はない。
【００３９】
内側槽３０ａの底部にはブラシ洗浄板３４と内側槽３０ａに囲まれる空間に水等の液体を供給するための液体供給手段３３が設けられている。
また、図６に示したブラシ洗浄手段３１では、ブラシ洗浄液供給手段３２はブラシ洗浄槽３０の外側の斜め上方に設けられている。従って、このブラシ洗浄手段３１でも、ブラシ洗浄板３４の上下面は純水等の液体で満たされるようになっている。
【００４０】
このようなブラシ洗浄手段３１を備えた洗浄装置において、基板を洗浄する方法は図１の装置を用いて洗浄する場合と同様である。
そして、ブラシによって基板を洗浄した後、ブラシ洗浄手段３１においてブラシを洗浄する場合、液体供給手段３３から純水を供給してブラシ洗浄板３４と内側槽３０ａに囲まれる空間を純水で満たす。一方、ブラシ洗浄液供給手段３２からブラシ洗浄板３４上に斜め上から純水等のブラシ用洗浄液を供給するとともに、ブラシをブラシ洗浄槽３０（内側槽３０ａ）に収容してブラシ洗浄板３４への押し当てを繰り返す。ブラシ洗浄液供給手段３２から供給された純水は内側槽３０ａから外側槽３０ｂにオーバーフローし、ブラシに付着していたパーティクル等を洗い流すことができる。なお、ブラシの押し当てを繰り返すとブラシ洗浄板３４に衝撃が加わるが、洗浄板３４の下側は純水で満たされているため、洗浄板３４の破損を防止することができる。
【００４１】
ブラシを洗浄した後、ブラシを内側槽３０ａから出して、基板保持手段３に保持された次の基板８の方に移動させる。
そしてブラシ洗浄板３４の洗浄は、ブラシを洗浄する場合と同様に、ブラシ洗浄液供給手段３２と液体供給手段３３からそれぞれ純水等を供給するとともに、超音波印加手段１６によりブラシ洗浄槽３０に対し、例えば周波数１．５ＭＨｚの超音波を印加する。このとき、超音波はブラシ洗浄板３４と内側槽３０ａとの間の純水を介して伝播し、ブラシ洗浄板３４の表面側及びブラシ洗浄槽３０全体が超音波洗浄される。
【００４２】
このように図６に示したブラシ洗浄手段３１を備えた洗浄装置でも、基板の洗浄、ブラシの洗浄、ブラシ洗浄板３４の洗浄を行うことができ、結果的に、基板を常に清浄なブラシで洗浄することができる。
【００４３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。前述の実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００４４】
例えば、上記実施形態では、マスク基板をスピン洗浄する場合について説明したが、本発明で洗浄する基板は特に限定されず、半導体ウエーハなどの高い清浄度が要求される基板を洗浄する場合に本発明を好適に適用することができる。また、洗浄方法もスピン洗浄に限定されず、例えば基板を静止したまま基板の端面に沿ってブラシを移動させて洗浄する場合にも本発明を適用することができる。
【００４５】
また、洗浄は、例えばブラシ４の洗浄は基板一枚ごとではなく、基板数枚単位ごとに行っても良い。また、ブラシ洗浄板１４の洗浄もブラシ４の洗浄後、必ずしも毎回行わなければならないものではなく、所定の間隔で行ってもよい。
さらに、ブラシ洗浄槽が内側槽と外側槽の二槽からなる装置について説明したが、ブラシ洗浄槽は一槽とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る基板洗浄装置の構成の一例を示す概略図である。
【図２】ブラシ機構を示す概略図である。
【図３】ブラシ洗浄手段の一例の概略を示す部分断面図である。
【図４】ブラシ洗浄板の一例を示す概略図である。（Ａ）平面図  （Ｂ）側面図
【図５】ブラシを洗浄する状態を示す概略図である。（Ａ）ブラシ押付け時  （Ｂ）ブラシ引離し時
【図６】ブラシ洗浄手段の他の例を示す概略断面図である。
【図７】ブラシ洗浄板の他の例を示す概略図である。（Ａ）平面図  （Ｂ）側面図
【符号の説明】
【００４７】
１…基板洗浄装置、  ２…チャンバー、  ３…基板保持手段、  ４…ブラシ、  ５…ブラシ駆動手段、  ６ａ，６ｂ…洗浄液供給手段、  ７…回転軸、  ８…基板、  ９…ブラシ洗浄手段、  １０…ブラシ洗浄槽、  １０ａ…内側槽、  １０ｂ…外側槽、  １３…ブラシ洗浄液供給手段、  １４…ブラシ洗浄板、  １５…孔、  １６…超音波印加手段、  １７…排液手段、  １８…Ｖ字溝、  ３０…ブラシ洗浄槽、  ３０ａ…内側槽、  ３０ｂ…外側槽、  ３１…ブラシ洗浄手段、  ３２…ブラシ洗浄液供給手段、  ３３…液体供給手段、  ３４…ブラシ洗浄板。
【図１】
2007141922.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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