(57)【要約】      （修正有）【課題】  環境安全性の面で有利にするため溶媒として水を含む組成を採り、さらに、他の組成との干渉がなく、分散状態の安定性が高く、研磨能力を良好に得ることができる磁気研磨液を提供する。【解決手段】  磁気研磨液は、少なくとも磁性粒子４１と、研磨粒子４２と、樹脂粒子４３と、溶媒４４との４成分を含み、溶媒４４は水とし、樹脂粒子４３は溶媒に溶解しない樹脂材料から形成し、乾燥抑制および分散状態の安定性を向上させる添加物としてグリセリン等の多価アルコールを加える組成にする。永久磁石２０の磁場が作用すると磁性粒子４１が互いに吸着し合い、磁気クラスタが生成する。磁性粒子４１の間に樹脂粒子４３が存在しているので、研磨時の流動動作では樹脂粒子４１が弾性を示して変形する弾性部材となり、また磁気クラスタのかさを増すスペーサ部材としても機能する。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体研磨を行うために、研磨対象と非接触に対面する研磨バイトの周辺に存在させ、磁場の作用により連動させる磁気研磨液であって、
少なくとも磁性粒子と、研磨粒子と、樹脂粒子と、溶媒との４成分を含み、前記溶媒は水とし、前記樹脂粒子は前記溶媒に溶解しない樹脂材料から形成したことを特徴とする磁気研磨液。
【請求項２】
乾燥抑制および分散状態の安定性を向上させる添加物としてグリセリン等の多価アルコールを加えたことを特徴とする請求項１に記載の磁気研磨液。
【請求項３】
前記磁気研磨液に、研磨対象や研磨装置などへの錆を抑制する防錆剤を混合することを特徴とする請求項１または２に記載の磁気研磨液。
【請求項４】
前記磁性粒子は水に対して酸化耐性を有する磁性材料から形成することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気研磨液。
【請求項５】
前記磁性粒子は体積磁化において７ｋＧ以上の飽和磁化を有する磁性材料から形成することを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の磁気研磨液。
【請求項６】
前記磁性粒子はコバルトから形成することを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の磁気研磨液。
【請求項７】
前記磁性粒子は非球形の粒子形状とすることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の磁気研磨液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁場の作用により連動させることで非接触の流体研磨を行うための磁気研磨液に関するもので、より具体的には、少なくとも磁性粒子と、研磨粒子と、樹脂粒子と、溶媒との４成分を含む組成についての改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
研磨対象の表面を精密研磨するための研磨技術として、例えばラッピング，ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ），フロートポリッシングなどの加工方法がよく知られている。
【０００３】
また、磁気を利用した仕上げ研磨として、磁性流体（ＭＦ：Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｆｌｕｉｄ）や磁気粘性流体（ＭＲＦ：Ｍａｇｎｅｔｏ  Ｒｈｅｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｆｌｕｉｄ）を使用する研磨技術が知られており、ＭＦやＭＲＦを砥粒と混合させ、磁界により混合液を運動させることで研磨を行っている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、そうした従来の磁気研磨の技術では以下に示すような問題がある。ＭＦによる磁気研磨では、磁界を作用させた際に磁性粒子の固定が弱く、研磨効率が低いため長時間の磁気研磨が必要になる。また、ＭＦは粒子径１０ｎｍ程度の磁性粒子を均一に分散させたものであるため、研磨加工後の洗浄が困難であり、微小な隙間に磁性粒子がつまってしまい、除去できなくなる問題が起きる。
【０００５】
ＭＲＦによる研磨は、強磁性の磁性粒子が磁界により針状に強く固定し、いわゆる磁気クラスタをなし、この磁気クラスタにより砥粒が研磨面に押し付けられることで研磨を行うが、磁気クラスタの制御が難しく、研磨対象の表面に深いスクラッチ痕ができ易く、精細な仕上げ加工への適用に改善の余地がある。
【０００６】
ところで、磁気研磨液には組成として溶媒を含み、溶媒は各組成の混合性の向上のため、および潤滑作用を付加するために添加している。したがって、溶媒は他の組成と混合し得るものであればよく、一般にはケロシン，シリコーンオイル，植物油，アルコールなどを使用することが多い。しかし、有機溶媒とした場合、可燃性で引火を防ぐため防爆構造や局所排気が必要になる問題があり、このため設備コストがかかり、環境安全性の面から制限が多くなる。
【０００７】
この発明は上記した課題を解決するもので、その目的は、環境安全性の面で有利にするため溶媒として水を含む組成を採り、さらに他の組成との干渉がなく、分散状態の安定性が高く、研磨能力を良好に得ることができる磁気研磨液を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した目的を達成するために、本発明に係る磁気研磨液は、流体研磨を行うために、研磨対象と非接触に対面する研磨バイトの周辺に存在させ、磁場の作用により連動させる磁気研磨液であって、少なくとも磁性粒子と、研磨粒子と、樹脂粒子と、溶媒との４成分を含み、溶媒は水とし、樹脂粒子は溶媒に溶解しない樹脂材料から形成した組成にする。
【０００９】
そして、乾燥抑制および分散状態の安定性を向上させる添加物としてグリセリン等の多価アルコールを加えるとよい。また、磁気研磨液には、研磨対象や研磨装置などへの錆を抑制する防錆剤を混合することがよい。さらに、磁性粒子は水に対して酸化耐性を有する磁性材料から形成することがよく、体積磁化において７ｋＧ以上の飽和磁化を有する磁性材料から形成し、具体的には磁性粒子はコバルトから形成することが好ましい。さらにまた、磁性粒子は、非球形の粒子形状とするのがよい。
【００１０】
本発明では、溶媒として水を使用したため、可燃性がなく防爆構造や局所排気の設備をとる必要が無く、設備コストが低減化されると共に、環境安全性の面からも好ましい。そして、本発明では、磁場を作用させた際は磁性粒子が互いに吸着し合い、このとき、磁性粒子の間に水に不溶性の樹脂粒子が存在している。そして、研磨バイトの運動に連動する際は、樹脂粒子が弾性を示して変形する動きとなるため、流体研磨における加工の圧力が低減し、樹脂粒子は弾性部材の機能を発現する。その結果、スクラッチが起こりにくくなる。
【００１１】
この樹脂粒子は分散して各組成の間に挟まった状態に存在し、磁性粒子の集合体（磁気クラスタ）は全体的に膨らみを持つことになる。つまり、樹脂粒子は磁気クラスタ全体のかさを増すスペーサ部材の機能を発現する。したがって、磁気クラスタは磁場発生源側からの張り出しが大きくなり、研磨対象に対して研磨バイトの間隔を広く設定することができ、磁気研磨の利便性が増す。この場合、樹脂粒子は溶媒に溶解しない樹脂材料から形成するので、その溶媒である水との干渉がなく、研磨能力を良好に得ることができ、高度に精密な表面研磨が行える。なお、従来一般に用いられたαセルロースは水に溶解するため、使用できない。
【００１２】
添加剤としてグリセリン等の多価アルコールを加えた場合、蒸発を抑制することができ、分散状態の安定性を向上できる。また、防錆剤を添加するので研磨対象や研磨装置の錆を防止できる。
【００１３】
磁性粒子は水に対して酸化耐性を有する磁性材料から形成し、磁性材料は体積磁化において７ｋＧ以上の飽和磁化を有する磁性材料とした場合、磁気研磨液の研磨特性の劣化を防ぐことができ、研磨能力が高く得られる。
【００１４】
磁性粒子を非球形状の粒子形状とした場合、磁場を作用させた際は空間を持った凝集体を形成し、水を吸収し易い状態となる。したがって、吸水性が上がり水分を保持しやすくなり重力による沈殿を起こしにくくなるため、分散状態の安定性の高い磁気研磨液を得ることができる。このとき、有機性の分散剤は使用しないので、環境安全性を損なうことがない。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る磁気研磨液では、研磨バイトの運動に連動する際は、樹脂粒子が弾性を示して変形する動きとなり弾性部材の機能を発現し、その結果、スクラッチが起こりにくくなる。また、樹脂粒子は分散して各組成の間に挟まった状態に存在し、磁性粒子の集合体（磁気クラスタ）のかさを増すスペーサ部材の機能を発現し、磁場発生源側からの張り出しが大きくなり、研磨対象に対して研磨バイトの間隔を広く設定することができ、磁気研磨の利便性が増す。
【００１６】
樹脂粒子は溶媒に溶解しない樹脂材料から形成するので、その溶媒である水との干渉がなく、分散状態の安定性が高く、研磨能力を良好に得ることができ、高度に精密な表面研磨が行える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は本発明の好適な一実施の形態を示している。本形態において、磁気研磨を行う構成には磁場発生源（２０）を有する研磨バイト２を備え、研磨対象１はｙ軸ステージ３に固定し、その研磨対象１に対して研磨バイト２が非接触に対面する配置とし、研磨対象１との間に磁気研磨液４を存在させて当該磁気研磨液４には研磨粒子を混合しておき、研磨バイト２にはこれと連係させた駆動手段５を起動することにより所定の運動動作を行わせ、そしてｙ軸ステージ３を起動することにより研磨対象１にはｙ軸について所定の運動動作を行わせ、磁気研磨液４に生成した磁気クラスタにより流体研磨を行うようになっている。
【００１８】
研磨バイト２は、先端に永久磁石２０を設けて磁場の発生源としている。磁場発生源としては永久磁石２０に限らず、例えば電磁石なども好ましく適用でき、磁気研磨液４に対して磁界を作用し得るものであればよい。磁場の発生は時間的に定常的である必要はなく、時間的に変動的な磁場を発生させることもよい。
【００１９】
駆動手段５は、少なくともｘ軸，ｚ軸について多軸制御の機能を有するものとし、当該駆動手段５を起動することにより研磨バイト２には回転動作およびｘ軸，ｚ軸について所定に移動する運動動作を行わせる。駆動手段５としては例えばＮＣ工作機を用いればよく、ボール盤，旋盤，ＮＣ旋盤，フライス盤などの回転軸（チャック部）に研磨バイト２の軸部を取り付けし、着脱を行うようにする。
【００２０】
図２は本発明に係る磁気研磨液を模式的に示す説明図であり、磁場が作用した状況を示し、いわゆる磁気クラスタを示している。
【００２１】
磁気研磨液４は、少なくとも磁性粒子４１と、研磨粒子４２と、樹脂粒子４３と、溶媒４４との４成分を含む。溶媒４４は、水とした。樹脂粒子４３は、溶媒に溶解しない樹脂材料から形成した。そして、乾燥抑制および分散状態の安定性を向上させる添加物としてグリセリン等の多価アルコールを加えてもよい。この磁気研磨液４には、研磨対象１や研磨装置などへの錆を抑制する防錆剤を混合するとよい。防錆剤には例えばアニオン系界面活性剤などを用い、研磨能力に悪影響がない適宜な量を添加する。この磁気研磨液４は研磨対象１と研磨バイト２との狭間へ供給手段により供給するようになっている。
【００２２】
本発明では溶媒４４は水とするため、磁性粒子４１は水に対して酸化耐性を有する磁性材料から形成するのがよく、体積磁化（４πＭ）において７ｋＧ以上の飽和磁化を有する磁性材料から形成している。具体的には磁性粒子はコバルトから形成することが好ましく、さらに磁性粒子４１は非球形状の粒子形状とすることがよい。
【００２３】
この磁性粒子４１は、平均粒子径を０．０１μｍから１００μｍとし、より好ましくは０．５μｍから１０μｍに設定することがよい。これは平均粒子径が過剰に小さいときは磁場による応答が極端に弱くなり研磨できなくなる問題を生じ、逆に粒子径が過大では分散状態の安定性が悪くなり研磨について制御が難しくなるためである。
【００２４】
なお、磁性粒子４１として、鉄や鉄系の合金など、水に対する酸化耐性の面で不利になる磁性材料を利用することもできる。すなわち、係る磁性材料では、例えば表面を被覆して水と反応しないようにすればよく、耐水，耐酸化について適切な対策を施すことにより不都合なく使用することができる。
【００２５】
研磨粒子４２は、例えばアルミナ，ダイヤ，酸化セリウム，炭化ケイ素などから形成し、平均粒子径を０．０１μｍから３００μｍとする。なお、研磨粒子４２の粒子径や種類は、研磨対象１の材質や面粗さにより適宜に変更，設定すればよく、原材料には一般に市販されているものを使用することができる。
【００２６】
樹脂粒子４３は、溶媒４４に溶解しない樹脂材料から形成し、平均粒子径を数μｍから数百μｍとする。樹脂粒子４３の形状は例えば球形状とすればよく、あるいは繊維状等の非球形状に形成することもよい。水に溶解しない樹脂材料では、例えばポリエチレン（ＰＥ），ポリスチレン（ＰＳ），ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ），ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）などが利用できる。
【００２７】
研磨バイト２の運動動作は、例えば研磨対象１の表面に関してくまなく走査する動作としたり、あるいはｙ軸ステージ３および駆動手段５の動作設定により、研磨対象１にはｘ−ｙ平面について所定の運動動作を行わせることもよい。このとき、研磨バイト２の周辺には磁気研磨液４を供給し、研磨バイト２には当該軸方向において正逆反転する回転動作を行わせる。あるいは所定に振動させる振動動作を行わせることもよい。
【００２８】
研磨バイト２と研磨対象１との間には磁気研磨液４が存在し、当該磁気研磨液４は研磨粒子４２を含み、永久磁石２０により磁気研磨液４に時間的に定常的あるいは変動的な磁場が加わると磁気クラスタが生成する。つまり、磁気研磨液中の磁性粒子４１が、磁気吸引力により多数凝集して磁気クラス夕となる。磁気クラス夕は、磁束に沿うので研磨対象１に対立して針状に多数が立ち並び、これにより磁気研磨液中に存在する研磨粒子４２が研磨対象１の表面に抑えつけられる。このとき、研磨バイト２と研磨対象１とは相対運動することから、研磨粒子４２は研磨対象１の表面上を接触しつつ運動して切削（研削）を行う。
【００２９】
磁気研磨液４に磁場を作用させた際は、図２に示すように、磁性粒子４１が互いに吸着し合い、このとき磁性粒子４１の間に樹脂粒子４３が存在している。そして、研磨バイト２の運動に連動する際は、樹脂粒子４１が弾性を示して変形する動きとなるため、流体研磨における加工の圧力が低減し、樹脂粒子４３は弾性部材の機能を発現する。その結果、スクラッチが起こりにくくなる。
【００３０】
この樹脂粒子４３は分散して各組成の間に挟まった状態に存在し、磁性粒子４１の集合体（磁気クラスタ）は全体的に膨らみを持つことになる。つまり、樹脂粒子４３は磁気クラスタ全体のかさを増すスペーサ部材の機能を発現する。したがって、磁気クラスタは磁場発生源側からの張り出しが大きくなり、研磨対象１に対して研磨バイト２の間隔を広く設定することができ、磁気研磨の利便性が増す。
【００３１】
この場合、樹脂粒子４３は溶媒４４に溶解しない樹脂材料から形成するので、その溶媒４４である水との干渉がなく、研磨能力を良好に得ることができ、高度に精密な表面研磨が行える。
【００３２】
溶媒４４は水とし、有機溶媒は使用しないので防爆構造や局所排気が必要なく、環境安全性の面で有利になる。添加剤としてグリセリン等の多価アルコールを加えているので、蒸発を抑制することができ、分散状態の安定性を向上できる。また、防錆剤を添加するので研磨対象１や研磨装置の錆を防止できる。
【００３３】
また、磁性粒子４１は水に対して酸化耐性を有する磁性材料から形成し、磁性材料は体積磁化（４πＭ）において７ｋＧ以上の飽和磁化を有する磁性材料とするので、磁気研磨液の研磨特性の劣化を防ぐことができ、研磨能力が高く得られる。
【００３４】
ここで、磁性粒子４１は非球形状の粒子形状とするので、磁場を作用させた際は空間を持った凝集体を形成し、水を吸収し易い状態となる。したがって、吸水性が上がり水分を保持しやすくなり重力による沈殿を起こしにくくなるため、分散状態の安定性の高い磁気研磨液を得ることができる。このとき、有機性の分散剤は使用しないので、環境安全性を損なうことがない。
【実施例１】
【００３５】
図１に示す磁気研磨のための構成により試料の研磨を行った。つまり、研磨能力に関する本発明の効果を実証するため、磁気研磨液は組成を変更した複数を用意し、それぞれの磁気研磨液により試料の研磨を行い、研磨後の表面粗さＲａ（算術平均粗さ），Ｒｙ（最大粗さ）を評価した。
【００３６】
磁気研磨液は、組成として、粒子径約１μｍのカルボニル鉄と、粒子径約３μｍのアルミナ砥粒と、粒子径２０μｍのＰＭＭＡ粒子と、水とを表１に示すｗｔ％とし、さらにグリセリンを水に対して５％混合の割合で添加し、これらを均一に混合することによりＮｏ１からＮｏ６までの６種類を調製した。
【００３７】
試料（研磨対象１）は、ステンレス（ＳＵＳ３０４）から形成した外径３０ｍｍ，厚さ１ｍｍの円形状の板片とし、その表面の研磨を行った。この研磨対象１にはｘ−ｙ平面について円運動を行わせ、これはｙ軸ステージ３および駆動手段５の動作設定により半径２０ｍｍで６０ｒｐｍの運動動作としている。磁場発生源の永久磁石２０にはネオジウム磁石を用い、研磨バイト２の回転は回転数を５００ｒｐｍとし、研磨時間は３０分とした。表面粗さは表面粗さ段差計により測定し、これにはテンコール社製Ｐ−１０を使用した。
【００３８】
試料の研磨を行ったところ、表１に示すような結果を得た。
【表１】
2007326183.tif 000003
【００３９】
表１から明らかなように、樹脂粒子の成分が少ない場合（Ｎｏ２）では、試料と研磨バイトとの間隔を広くしたときは研磨能力が低下しているが、樹脂粒子の成分を増した場合（Ｎｏ６）では、試料と研磨バイトとの間隔を広くしても研磨能力の低下がほとんど見られない。すなわち、樹脂粒子の成分が増すほど、試料と研磨バイトとの間隔を広くした場合であっても磁気研磨を良好に行うことができ、樹脂粒子がスペーサ部材の機能を発現していることがわかる。そして、樹脂粒子が弾性部材の機能を発現するので表面粗さもよくなる傾向にあることを確認した。
【実施例２】
【００４０】
次に、磁化度と研磨能力および分散状態の安定性に関する本発明の効果を実証するため、磁性粒子の種類について組成を変更した磁気研磨液を複数用意して試料の研磨を行い、表面粗さＲａ（算術平均粗さ），Ｒｙ（最大粗さ）を評価した。
【００４１】
磁気研磨液の組成は、磁性粒子は５０ｗｔ％とし、研磨粒子は２０ｗｔ％とし、樹脂粒子は６ｗｔ％とし、溶媒は２４ｗｔ％とした。磁性粒子は粒子径約１μｍとし、表２に示すように、鉄，コバルト，パーマロイ，センダスト，ＭｎＺｎフェライト，ニッケル，ステンレスをそれぞれ使用した。研磨粒子には粒子径約３μｍのアルミナ砥粒を使用し、樹脂粒子には粒子径２０μｍのＰＭＭＡ粒子を使用し、溶媒は水とし、さらにグリセリンを水に対して５％混合の割合で添加し、これらを均一に混合することにより７種類を調製した。
【００４２】
試料（研磨対象１）は、ステンレス（ＳＵＳ３０４）から形成した外径３０ｍｍ，厚さ１ｍｍの円形状の板片とし、その表面の研磨を行った。この研磨対象１にはｘ−ｙ平面について円運動を行わせ、これはｙ軸ステージ３および駆動手段５の動作設定により半径２０ｍｍで６０ｒｐｍの運動動作としている。磁場発生源の永久磁石２０にはネオジウム磁石を用い、研磨バイト２の回転は回転数を５００ｒｐｍとし、研磨時間は３０分とした。表面粗さは表面粗さ段差計により測定し、これにはテンコール社製Ｐ−１０を使用した。また、磁化度は粉体そのままで振動試料磁力計（ＶＳＭ：Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ  Ｓａｍｐｌｅ  Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ）により測定を行った。
【００４３】
試料の研磨を行ったところ、表２および表３に示すような結果を得た。
【表２】
2007326183.tif 000004
【表３】
2007326183.tif 000005
【００４４】
表２から明らかなように、磁性粒子の持つ磁化度の値によって研磨能力に差がでるのは明白であり、鉄，コバルト，パーマロイ，センダストでは、表面粗さが１０ｎｍ程度のオーダであって研磨能力が良好に得られることを確認した。
【００４５】
表３から明らかなように、鉄は調製完了後の日数が経つ程、水との反応が進んで劣化するため研磨ができなくなり、磁気研磨液としては好ましくないことがわかる。そして表３からは明らかに、コバルトは研磨能力に劣化が見られなく、安定性が高いことを確認した。
【００４６】
なお前述したように、鉄は利用できないわけではなく、耐水，耐酸化について適切な対策を施すことにより不都合なく使用することができる。
【実施例３】
【００４７】
次に、分散状態の安定性に関する本発明の効果を実証するため、磁性粒子についてその粒子形状を変更した磁気研磨液を複数用意して試料の研磨を行い、表面粗さＲａ（算術平均粗さ），Ｒｙ（最大粗さ）を評価した。
【００４８】
磁気研磨液の組成は、磁性粒子は５０ｗｔ％とし、研磨粒子は２０ｗｔ％とし、樹脂粒子は４ｗｔ％とし、溶媒は２６ｗｔ％とした。磁性粒子はコバルトを使用し、表４および図３に示すように、粒子径が大きい球形粒子１と、粒子径が小さい球形粒子２と、ひょうたん形状の非球形粒子１と、円柱形状の非球形粒子２とをそれぞれ使用した。研磨粒子には粒子径約３μｍのアルミナ砥粒を使用し、樹脂粒子には粒子径２０μｍのＰＭＭＡ粒子を使用し、溶媒は水とし、さらにグリセリンを水に対して５％混合の割合で添加し、これらを均一に混合することにより４種類を調製した。なお、図３は電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による磁性粒子の画像を示している。
【００４９】
試料（研磨対象１）は、ステンレス（ＳＵＳ３０４）から形成した外径３０ｍｍ，厚さ１ｍｍの円形状の板片とし、その表面の研磨を行った。この研磨対象１にはｘ−ｙ平面について円運動を行わせ、これはｙ軸ステージ３および駆動手段５の動作設定により半径２０ｍｍで６０ｒｐｍの運動動作としている。磁場発生源の永久磁石２０にはネオジウム磁石を用い、研磨バイト２の回転は回転数を５００ｒｐｍとし、研磨バイト２と試料（研磨対象１）との間隔は０．５ｍｍとし、研磨時間は３０分とした。表面粗さは表面粗さ段差計により測定し、これにはテンコール社製Ｐ−１０を使用した。また、分散状態の安定性は、磁気研磨液の沈殿状況により評価を行った。
【００５０】
試料の研磨を行ったところ、表４に示すような結果を得た。
【表４】
2007326183.tif 000006
【００５１】
表４から明らかなように、磁性粒子の形状を非球形状とすることでは分散状態の安定性を高めることができ、研磨能力を劣化なく高く保つことができることを確認した。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明では分散状態の安定性が高く、研磨能力を良好に得ることができることから、セラミック材料，光学材料，金属材料，樹脂材料などの表面の精密研磨を行うことに有効であり、半導体プロセス等の各種ウェハープロセスでの研磨加工に好ましく適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の好適な一実施の形態を示す側面図である。
【図２】本発明に係る磁気研磨液を模式的に示す説明図である。
【図３】磁性粒子のＳＥＭ画像を示し、（ａ）は球形状のコバルト粒子その１、（ｂ）は球形状のコバルト粒子その２、（ｃ）はひょうたん形状のコバルト粒子、（ｄ）は円柱形状のコバルト粒子である。
【符号の説明】
【００５４】
１  研磨対象
２  研磨バイト
２０  永久磁石
３  ｙ軸ステージ
４  磁気研磨液
４１  磁性粒子
４２  研磨粒子
４３  樹脂粒子
４４  溶媒
５  駆動手段
【図１】
2007326183.tif 000007
【図２】
2007326183.tif 000008
【図３】
2007326183.tif 000009