(57)【要約】【課題】絶縁膜によって変質されることない発光膜を備えた発光装置、その発光装置の発光膜の膜形成方法及び電子機器を提供する。【解決手段】各正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃをインクジェット法によって形成した有機ＥＬディスプレイ１０において、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成するとともに、その絶縁膜１２の上部領域１２ａにチオール基とフルオロ基を備えた自己組織化膜１４で形成した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、開口部を備えた絶縁膜と、前記開口部に対向した位置に、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置され少なくとも有機発光性材料で構成された発光膜を含む有機機能膜を有した発光素子と
を備えた発光装置において、
前記絶縁膜の上部領域に撥液性有機膜を設けたことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発光装置において、
前記絶縁膜上には、金属膜が形成されており、
前記撥液性有機膜は、前記金属膜上に形成された自己組織化膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の発光装置において、
前記自己組織化膜は、チオール基とフルオロ基を備えていることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一つに記載の発光装置において、
前記絶縁膜は、無機材料で構成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発光装置において、
前記無機材料は、酸化珪素或いは窒化珪素で構成されていることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一つに記載の発光装置において、
前記金属膜は、金或いは銀を含んでいることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
基板上に、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置され少なくとも有機発光性材料で構成された発光膜を含む有機機能膜の膜形成方法において、
前記第１の電極に対向した位置に開口部を備えた絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上部領域に撥液性有機膜を形成する工程と、
前記開口部を介して前記第１電極上に有機発光性材料を有機溶媒に溶解または分散してなる有機液状体を塗布する工程と、
前記有機液状体から前記有機溶媒を除去して前記第１電極上に前記有機機能膜を形成する工程と、
前記有機機能膜上に前記第２電極を形成する工程と
を備えたことを特徴とする膜形成方法。
【請求項８】
請求項７に記載の膜形成方法において、
前記撥液性有機膜は、前記撥液性有機膜を構成する撥液性有機材料を含んだ液状体中に浸し、乾燥させることによって形成するようにしたことを特徴とする膜形成方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載の膜形成方法において、
前記撥液性有機膜は、チオール基とフルオロ基を備えた自己組織化膜であり、
前記絶縁膜上に金属膜を形成し後に、前記金属膜上に前記自己組織化膜を形成するようにしたことを特徴とする膜形成方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか一つに記載の膜形成方法において、
前記絶縁膜は、無機材料で構成されていることを特徴とする膜形成方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の膜形成方法において、
前記無機材料は、酸化珪素或いは窒化珪素で構成されていることを特徴とする膜形成方法。
【請求項１２】
請求項７〜１１のいずれか一つに記載の膜形成方法において、
前記金属膜は、金或いは銀を含んでいることを特徴とする膜形成方法。
【請求項１３】
請求項１〜６のいずれか一つに記載の発光装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光装置、膜形成方法及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、軽量化、薄型化、高速応答性等の観点から、表示ディスプレイや光プリンタの書き込みヘッドといった発光装置に使用される発光素子として、自発光素子である有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）を使用したものが知られている。そして、上記有機ＥＬ素子の製造方法の一つにインクジェット法が提案されている。
【０００３】
このインクジェット法は、有機発光材料を、アセトンやキシレンといった有機溶媒に分散または溶解させてなるインクを吐出して上記いずれか一方の電極上に塗布した後に、乾燥させることによって前記溶媒を除去し電極上に前記有機発光材料からなる有機発光膜を形成する方法である。従って、真空チャンバーといった大型の装置を必要とせずに有機発光膜を形成することができることから、省スペースで、かつ低消費エネルギーな膜形成方法を実現することができる。
【０００４】
ところで、上記インクジェット法では、吐出されたインクの吐出位置の精度を確保するために、電極の外周を囲むようにして該電極に対向する位置に開口部を備えた絶縁膜を形成し、その開口部にインク滴を吐出するようにしている。そして、フルカラー表示可能な表示ディスプレイのように、電極毎に異なった種類の有機発光材料のインクを配置する場合においては、絶縁膜の上層領域に撥液化処理を施すことで、所定の電極上に配置されたインクが濡れ広がって周囲の他の電極上に配置されたインクに混じり合わないようにしている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００４−１２７９２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記した撥液化処理は、従来、絶縁膜をアクリル樹脂などの有機材料で構成し、フッ化プラズマ処理を施すことで実現している。しかしながら、前述したように、インク滴は有機溶媒であることから、前記絶縁膜に付着したインク滴の有機溶媒によって絶縁膜を構成する膜材料がインク滴中に溶出してしまう虞があった。この結果、形成される有機発光膜が変質し、所望の発光特性が得られないという問題を生じてしまう。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたもので、絶縁膜によって変質されることない発光膜を備えた発光装置、その発光装置の発光膜の膜形成方法及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の発光装置は、基板上に、開口部を備えた絶縁膜と、前記開口部に対向した位置に、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置され少なくとも有機発光性材料で構成された発光膜を含む有機機能膜を有した発光素子とを備えた発光装置において、前記絶縁膜の上部領域に撥液性有機膜を設けている。
【０００８】
これによれば、絶縁膜の上部領域には撥液性有機膜が設けられているので、従来のように、プラズマ処理する必要なく絶縁膜の上部領域が撥液化される。この結果、絶縁膜を有機無機材料で構成することが可能となることから、例えば、インクジェット法で有機機能
膜を形成する場合において、その有機機能膜材料を溶解または分散させる有機溶媒によって絶縁膜が溶解することはない。従って、有機機能膜の膜質が変質することないので、所望の発光特性を備えた発光素子を実現することができる。
【０００９】
また、有機溶媒によって絶縁膜が溶解することはないことから、使用する有機溶媒の選択を広げることができる。さらに、使用可能な有機溶媒の選択を広がることから、有機発光性材料の材料選択が広がる。
【００１０】
この発光装置において、前記絶縁膜上には、金属膜が形成されており、前記撥液性有機膜は、前記金属膜上に形成された自己組織化膜であってもよい。
これによれば、撥液性有機膜を、たとえば、チオール基を含んだ自己組織化で構成することで、絶縁膜上に形成された金属膜上に選択的に撥液性有機膜を形成することができる。また、発光膜にて発せられた光を第２電極を透過させて基板と反対側へ出射させる、所謂トップエミッションタイプの発光装置に対しては、金属膜は第２電極と接触しているので、第２電極が高抵抗材料である場合、その第２電極の補助電極として機能させることができる。
【００１１】
この発光装置において、前記自己組織化膜は、チオール基とフルオロ基を備えていてもよい。
これによれば、チオール基は金属膜に密着するので、撥液性を有するフルオロ基を、絶縁膜の上層領域に形成された金属膜上表面にのみ選択的に形成することができる。
【００１２】
この発光装置において、前記絶縁膜は、無機材料で構成されていてもよい。
これによれば、無機材料は、一般に、有機溶媒に対して耐性を有したものであることから、無機材料を絶縁膜に使用することで、有機機能膜を液体プロセス（例えば、インクジェット法）によって形成する場合において、インクを構成する有機溶媒によって前記絶縁膜がインク中に溶出することはない。この結果、溶出した膜材料によって有機機能膜が変質するのを抑制し所望の特性を有した発光素子を形成することができる。
【００１３】
また、有機溶媒によって絶縁膜がインク中に溶出することはないことから、使用する有機溶媒の選択を広げることができる。さらに、使用可能な有機溶媒の選択を広がることから、有機機能材料の材料選択が広がる。
【００１４】
この発光装置において、前記無機材料は、酸化珪素或いは窒化珪素で構成されていてもよい。
これによれば、酸化珪素（ＳｉＯｘ）や窒化珪素（ＳｉＮｘ）は、従来から発光装置を構成するのに使用される材料であることから、特別な材料を用意することなく、使用される有機溶媒によって絶縁膜を構成する膜材料が溶出してしまうことはない。この結果、溶出した膜材料によって有機機能膜が変質するのを抑制し所望の特性を有した発光素子を形成することができる。また、酸化珪素は親液性を示すことから、有機機能膜を液体プロセス（例えば、インクジェット法）によって形成する場合においては、インクが絶縁膜に濡れ広がって付着する。この結果、有機機能膜を、絶縁膜によって囲まれた第１電極上に均一に形成することができる。
【００１５】
この発光装置において、前記金属膜は、金或いは銀を含んでいてもよい。
これによれば、金属膜は抵抗率が低いので、トップエミッションタイプの発光装置においては金属膜を第２電極の補助電極として機能させることができる。
【００１６】
本発明の膜形成方法は、基板上に、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置され少なくとも有機発光性材料で構成された発光膜を含む有機
機能膜の膜形成方法において、前記第１の電極に対向した位置に開口部を備えた絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の上部領域に撥液性有機膜を形成する工程と、前記開口部を介して前記第１電極上に有機発光性材料を有機溶媒に溶解または分散してなる有機液状体を塗布する工程と、前記有機液状体から前記有機溶媒を除去して前記第１電極上に前記有機機能膜を形成する工程と、前記有機機能膜上に前記第２電極を形成する工程とを備えている。
【００１７】
これによれば、絶縁膜の上部領域に撥液性有機膜を設けたので、従来のように、プラズマ処理する必要なく絶縁膜の上部領域が撥液化される。この結果、絶縁膜を有機無機材料で構成することが可能となることから、例えば、インクジェット法で有機機能膜を形成する場合において、その有機機能膜材料を溶解または分散させる有機溶媒によって絶縁膜が溶解することはない。従って、有機機能膜の膜質が変質することないので、所望の発光特性を備えた発光素子を形成することができる。
【００１８】
また、有機溶媒によって絶縁膜が溶解することはないことから、使用する有機溶媒の選択を広げることができる。さらに、使用可能な有機溶媒の選択を広がることから、有機発光性材料の材料選択を広げることができる。
【００１９】
この膜形成方法において、前記撥液性有機膜は、前記撥液性有機膜を構成する撥液性有機材料を含んだ液状体中に浸し、乾燥させることによって形成するようにしてもよい。
これによれば、真空チャンバーを使用することなく簡単に撥液性有機膜を形成することができる。
【００２０】
この膜形成方法において、前記撥液性有機膜は、チオール基とフルオロ基を備えた自己組織化膜であり、前記絶縁膜上に金属膜を形成した後に、前記金属膜上に前記自己組織化膜を形成するようにしてもよい。
【００２１】
これによれば、チオール基は金属膜に密着するので、撥液性を有するフルオロ基を、絶縁膜の上層領域に形成された金属膜上表面にのみ選択的に形成することができる。
この膜形成方法において、前記絶縁膜は、無機材料で構成されていてもよい。
【００２２】
これによれば、無機材料を絶縁膜に使用することで、有機機能膜を形成する場合において、有機液状体を構成する有機溶媒によって前記絶縁膜が有機液状体中に溶出することはない。この結果、溶出した膜材料によって有機機能膜が変質するのを抑制し所望の特性を有した発光素子を形成することができる。
【００２３】
また、有機溶媒によって絶縁膜が有機液状体中に溶出することはないことから、使用する有機溶媒の選択を広げることができる。さらに、使用可能な有機溶媒の選択を広がることから、有機機能材料の材料選択が広がる。
【００２４】
この膜形成方法において、前記無機材料は、酸化珪素或いは窒化珪素で構成されていてもよい。
これによれば、酸化珪素（ＳｉＯｘ）や窒化珪素（ＳｉＮｘ）は、従来から発光装置に使用される材料であることから、特別な材料を用意することなく、有機液状体に絶縁膜を構成する膜材料が溶出してしまうことはない。この結果、溶出した膜材料によって有機機能膜が変質するのを抑制し所望の特性を有した発光素子を形成することができる。また、酸化珪素は親液性を示すことから、有機機能膜を液体プロセス（例えば、インクジェット法）によって形成する場合においては、インクが絶縁膜に濡れ広がって付着する。この結果、有機機能膜を、絶縁膜によって囲まれた第１電極上に均一に形成することができる。
【００２５】
この膜形成方法において、前記金属膜は、金或いは銀を含んでいてもよい。
これによれば、金属膜は抵抗率が低いので、トップエミッションタイプの発光装置においては金属膜を第２電極の補助電極として機能させることができる。
【００２６】
本発明の電子機器は、上記記載の発光装置を備えている。
これによれば、例えば、インクジェット法で形成された有機機能膜を備えた発光装置を搭載した電子機器において、その有機機能膜材料を溶解または分散させる有機溶媒によって絶縁膜が溶解することはない。従って、有機機能膜の膜質が変質することないので、所望の発光特性を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
（第１実施形態）
以下、本発明の第１実施形態に係る発光装置としての有機ＥＬディスプレイについて図１〜図５に従って説明する。
【００２８】
図１は、本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの一部概略断面図である。有機ＥＬディスプレイ１０は、無アルカリガラスといった光透過性を有した基板Ｓの素子形成面Ｓａ上に、複数の第１電極としての画素電極１１がマトリクス状に配置形成されている。尚、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１０は、アクティブマトリクス駆動方式であって、基板Ｓ上には、各有機ＥＬ素子に供給する電流（キャリア）の量を制御するための図示しない駆動トランジスタ（薄膜トランジスタ）等といった各種回路素子が形成されている。
【００２９】
画素電極１１は、光透過性を有し、且つ、仕事関数の高い導電性材で構成されている。本実施形態においては、画素電極１１は、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）で構成されている。各画素電極１１は、基板Ｓ上に形成された前記駆動トランジスタのドレイン電極に電気的に接続され、各駆動トランジスタによって制御された電流（キャリア）が供給されるようになっている。
【００３０】
また、基板Ｓの素子形成面Ｓａ上には、絶縁膜１２が形成されている。絶縁膜１２は、無機材料である酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成されている。絶縁膜１２は、各画素電極１１の外周をそれぞれ囲むように形成され、それぞれ画素電極１１に対応した位置に開口部Ｑｏが形成されるようになっている。
【００３１】
絶縁膜１２の上部領域１２ａには、金属膜１３が形成されている。金属膜１３は、本実施形態では、金（Ａｕ）で構成されている。
また、金属膜１３上には撥液性有機膜としての自己組織化膜１４が形成されている。本実施形態の自己組織化膜１４は、チオール基とフルオロ基を備えた単分子膜である。自己組織化膜１４は、そのチオール基を金属膜１３側に、フルオロ基を金属膜１３と対向する側に配向して配列される。この結果、フルオロ基は撥液性を示すことから、絶縁膜１２の上部領域１２ａ表面は撥液性を示すこととなる。
【００３２】
また、絶縁膜１２の開口部Ｑｏ内に配置された各画素電極１１上には、有機機能膜１５が形成されている。有機機能膜１５は、拡大部３０に示すように、正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃから構成されており、画素電極１１側から正孔輸送層１５ａ→発光層１５ｂ→電子輸送層１５ｃの順に積層されている。各正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃは、公知の有機材料で構成されている。例えば、正孔輸送層１５ａは、トリフェニルアミン類、ビス類、ピラゾリン誘導体、スチルベン化合物、オキサジアゾール誘導体、フタロシアニン誘導体といった有機材料で構成されている。
【００３３】
また、発光層１５ｂは、公知の赤色、緑色、青色の光を発光する有機発光性材料で構成
されている。たとえば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体等を主体とした材料に、赤、緑、青色の色素となる材料を含有したものである。つまり、発光層１５ｂは、３種類あり、それぞれ、赤色の光を発光する赤色発光性有機材料で構成されたものと、緑色の光を発光する緑色発光性有機材料で構成されたものと、青色の光を発光する青色発光性有機材料で構成されたものとである。
【００３４】
電子輸送層１５ｃは、オキサジオール類、アルミニウムキノリノール錯体等で構成されている。
そして、有機機能膜１５上には、絶縁膜１２の全面を覆うように、第２の電極としての対向電極１６が形成されている。対向電極１６は、光反射性を有し、かつ仕事関数の低い導電性材料で構成されている。本実施形態では、マグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）で構成されている。そして、各画素電極１１と、対向電極１６と、前記画素電極１１と前記対向電極１６との間に配置された有機機能膜１５とで一つの発光素子としての有機ＥＬ素子１８が構成されている。尚、発光層１５ｂが赤色発光性有機材料で構成された有機機能膜１５を備えた有機ＥＬ素子１８は、赤色の光を出射する赤用有機ＥＬ素子１８Ｒである。また同様に、発光層１５ｂが緑色発光性有機材料で構成された有機機能膜１５を備えた有機ＥＬ素子１８は、緑色の光を出射する緑用有機ＥＬ素子１８Ｇであり、発光層１５ｂが青色発光性有機材料で構成された有機機能膜１５を備えた有機ＥＬ素子１８は、青色の光を出射する青用有機ＥＬ素子１８Ｂである。そして、図１に示すように、各有機ＥＬ素子１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂは、図１中左右方向に沿って、赤用有機ＥＬ素子１８Ｒ→緑用有機ＥＬ素子１８Ｇ→青用有機ＥＬ素子１８Ｂ→赤用有機ＥＬ素子１８Ｒ→…の順に配置されている。
【００３５】
対向電極１６の上方には、封止部材１９が設けられている。この封止部材１９は、基板Ｓの周縁部に接続することで各有機ＥＬ素子１８を外界の雰囲気と遮断するものである。また、封止部材１９は、その有機ＥＬ素子１８側の一側壁にシリカゲルといった吸湿剤１９ａが設けられ、基板Ｓに内在した水分を吸湿し水分による有機機能膜１５の劣化を抑制している。
【００３６】
そして、画素電極１１から正孔輸送層１５ａを介してキャリア（正孔）が発光層１５ｂに注入されるとともに、対向電極１６から電子輸送層１５ｃを介してキャリア（電子）が発光層１５ｂに注入されると、発光層１５ｂにて再結合が生じて光Ｌが生成される。そして、その光Ｌは、画素電極１１及び基板Ｓを透過して素子形成面Ｓａと対向する面Ｓｂに向かって出射する。つまり、この有機ＥＬディスプレイ１０は、素子形成面Ｓａと対向する面Ｓｂを光出射面とした、所謂ボトムエミッションタイプである。
【００３７】
このように構成された有機ＥＬディスプレイ１０は、有機機能膜１５を構成する正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃには、それぞれ、絶縁膜１２の膜材料といった不純物が含まれておらず、純度の高い膜となっている。また、拡大部３０に示すように、有機機能膜１５を構成する正孔輸送層１５ａが画素電極１１上に均一の膜厚で配置形成されている。さらに、正孔輸送層１５ａ上には発光層１５ｂが、また、発光層１５ｂ上には電子輸送層１５ｃが、それぞれ均一の膜厚で密着して配置形成されている。この結果、輝度ムラや暗点（発光しない有機ＥＬ素子１８）の無い有機ＥＬディスプレイ１０が実現される。
【００３８】
次に、前述した有機ＥＬディスプレイ１０の製造方法について図２〜図４に従って説明する。
まず、基板Ｓを洗浄した後、公知の方法によって所定の領域に図示しない薄膜トランジ
スタといった回路素子や各種配線等を形成する。その後、前記基板Ｓ上にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）を蒸着形成し、フォトリソグラフィー法等を使用することによってマトリクス状に画素電極１１を形成する。
【００３９】
その後、基板Ｓ上の全面に無機材料である酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成された膜（例えば、膜厚：１０００ｎｍ）を蒸着形成し、その後、フォトリソグラフィー法等を使用することによって各画素電極１１が配置形成された領域に開口部Ｑｏを形成して、画素電極１１を露出させる（図２（ａ）参照）。これにより、絶縁膜１２を形成する（膜厚：１０００ｎｍ）。
【００４０】
次に、絶縁膜１２上に、図示しないマスクを貼設し、該マスクを介して金（Ａｕ）を蒸着することで、絶縁膜１２の上部領域１２ａ上に金属膜１３を形成する（図２（ｂ）参照）。本実施形態の金属膜１３は、膜厚が２０ｎｍである。このとき、一般に、金（Ａｕ）と酸化珪素（ＳｉＯｘ）はポリイミドといった有機材料に比べて強固に結合されることから、金属膜１３と絶縁膜１２とは従来の有機材料で構成された絶縁膜に比べて強固に結合される。
【００４１】
次に、前述のようにして絶縁膜１２の上部領域１２ａ上に金属膜１３を備えた基板Ｓを、自己組織化膜１４を構成する材料が溶解または分散された図示しない液状体中に浸し、乾燥させる。本実施形態では、チオール基とフルオロ基を備えた有機材料（撥液性有機材料）を、ＣＨ２Ｃ１２に溶解してなる液状体を別途作成し、その作成した液状体中に前記金属膜１３を備えた基板Ｓ全体を浸す。すると、図２（ｃ）に示すように、金属膜１３を構成する金（Ａｕ）がチオール基に結合（共有結合）する。従って、フルオロ基が金属膜１３と対向する側に配向するように自己配列する。そして、大気雰囲気中に放置することで、液状体中のＣＨ２Ｃ１２が除去され、金属膜１３上に自己組織化膜１４が形成される。この結果、絶縁膜１２の上部領域１２ａに撥液性を示すこととなる。
【００４２】
尚、このとき、前記チオール基は、金属膜１３と強固に結合することから、自己組織化膜１４は金属膜１３を介して絶縁膜１２の上部領域１２ａに強固に結合される。
次に、液体プロセス法を用いて画素電極１１上に有機機能膜１５を形成する。本実施形態では、液体プロセス法としてインクジェット法を使用する。即ち、正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ、電子輸送層１５ｃを構成する各種有機材料を、有機溶媒に溶解または分散してなる有機溶液を、各々作成し、それらを公知の液滴吐出ヘッドを使用して画素電極１１上に順次吐出・乾燥させることで正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ、電子輸送層１５ｃを順次形成する。
【００４３】
具体的には、まず、正孔輸送層１５ａを構成する正孔輸送層材料をキシレンに溶解または分散して有機液状体Ｌ１を作成する。そして、図３（ａ）に示すように、有機液状体Ｌ１を公知の液滴吐出ヘッド２１のノズル２１ａから吐出して各画素電極１１上に塗布する（図３（ｂ），（ｃ）参照）。このとき、絶縁膜１２の上部領域１２ａ表面は撥液性を示すため、所定の画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１は、他の隣接する画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１に接して混じり合うことはない。また、絶縁膜１２は酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成されているので、前記有機液状体Ｌ１によって溶け出すことはない。この結果、図３（ｂ），（ｃ）に示す画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１は、絶縁膜１２を構成する酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含まない。また、絶縁膜１２を構成する酸化珪素（ＳｉＯｘ）は親液性であり、各画素電極１１は絶縁膜１２に囲まれているので、画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１は、画素電極１１上全面に濡れ広がって配置する。
【００４４】
続いて、画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１を乾燥する。本実施形態では、公
知のホットプレート（図示略）上に前記基板Ｓを載置し該ホットプレートを例えば約１５０℃に加熱することで有機液状体Ｌ１を乾燥させる。この結果、図４（ａ）に示すように、有機液状体Ｌ１中のキシレンが蒸発し、画素電極１１上に正孔輸送層１５ａが形成される。
【００４５】
このとき、画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ１中には、絶縁膜１２の膜材料である酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含んでいないため、正孔輸送層１５ａは、不純物の含有が少なく所望の特性を有したものとなる。また、有機液状体Ｌ１は、画素電極１１上全面に濡れ広がって配置されるために正孔輸送層１５ａは均一な膜厚となる。
【００４６】
次に、前述した赤色発光性有機材料を所定の有機溶媒に溶解または分散してなる有機液状体ＬＲ、緑色発光性有機材料を所定の有機溶媒に溶解または分散してなる有機液状体ＬＧ、青色発光性有機材料を所定の有機溶媒に溶解または分散してなる有機液状体ＬＢをそれぞれ作成する。本実施形態では、前記有機溶媒としてキシレンを使用する。
【００４７】
そして、公知の図示しない液滴吐出ヘッドを使用して、２つの正孔輸送層１５ａおきに各正孔輸送層１５ａ上に同種の有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを塗布する。つまり、図４（ｂ）中左右方向に沿って、赤用有機液状体ＬＲ→緑用有機液状体ＬＧ→青用有機液状体ＬＢ→赤用有機液状体ＬＲ→…の順に配置されている。
【００４８】
このとき、フルオロ基は撥液性を示すことから、絶縁膜１２の上部領域１２ａ表面は撥液性を示すため、所定の画素電極１１上に塗布された各色用有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢは、隣接する画素電極１１上に塗布された各色用有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに接して混じり合うことはない。また、絶縁膜１２は酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成されているので、前記各有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢによって溶け出すことはない。このことから、図４（ｂ）に示す正孔輸送層１５ａ上に塗布された各種有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢは、絶縁膜１２を構成する酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含まない。また、酸化珪素（ＳｉＯｘ）は親液性であることから、画素電極１１上に塗布された有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢは、正孔輸送層１５ａ上全面に濡れ広がって配置する。
【００４９】
続いて、正孔輸送層１５ａ上に塗布された有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを乾燥する。本実施形態では、公知のホットプレート（図示略）上に前記基板Ｓを載置し該ホットプレートを例えば約１５０℃に加熱することで有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを乾燥させる。この結果、図４（ｃ）に示すように、各有機液状体ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ中のキシレンが蒸発し、正孔輸送層１５ａ上に発光層１５ｂが形成される。
【００５０】
その後、電子輸送層１５ｃを構成する電子輸送層材料をキシレンに溶解または分散して有機溶液を作成し、上記と同様にして、公知の液滴吐出ヘッドを使用することで、各発光層１５ｂ上に塗布する。このとき、絶縁膜１２の上部領域１２ａ表面は撥液性を示すため、所定の画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ２は、他の隣接する画素電極１１上に塗布された有機液状体Ｌ２に接して混じり合うことはない。また、絶縁膜１２は酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成されているので、前記有機溶液は、絶縁膜１２を構成する酸化珪素（ＳｉＯｘ）を含まない。また、酸化珪素（ＳｉＯｘ）は親液性であることから、発光層１５ｂ上に塗布された有機溶液は、発光層１５ｂ上全面に濡れ広がって配置する。
【００５１】
続いて、発光層１５ｂ上に塗布された前記有機溶液を乾燥することで、発光層１５ｂ上に電子輸送層１５ｃが形成される。このとき、発光層１５ｂ上に塗布された有機溶液中には、絶縁膜１２の膜材料が溶け込んでいないため、電子輸送層１５ｃは、不純物の含有がなく所望の特性を有したものとなる。また、前記有機溶液は、発光層１５ｂ上全面に濡れ広がって配置されるために電子輸送層１５ｃは均一な膜厚となる。このようにして、図５
（ａ）に示すように、正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃから構成される有機機能膜１５を形成する。
【００５２】
次に、図５（ｂ）に示すように、電子輸送層１５ｃ及び各自己組織化膜１４上にマグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）を蒸着して対向電極１６を形成して有機ＥＬ素子１８を作成する。その後、各有機ＥＬ素子１８を覆うように封止部材１９を基板Ｓ上に接続することで、有機ＥＬディスプレイ１０を完成する。
【００５３】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成するとともに、その絶縁膜１２の上部領域１２ａにフルオロ基を備えた自己組織化膜１４を形成した。フルオロ基は撥液性を有するので、絶縁膜１２の上部領域１２ａは撥液性を示すこととなる。従って、従来のように、プラズマ処理する必要なく絶縁膜１２の上部領域１２ａを撥液化することができる。
【００５４】
（２）本実施形態によれば、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成したので、有機機能膜１５を構成する各正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃをインクジェット法によって形成する場合、その各層の材料を溶解した有機液状体Ｌ１，ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ，Ｌ２によって絶縁膜１２が溶解することはない。この結果、有機機能膜１５を構成する各層１５ａ〜１５ｃの膜質が変質することないので、所望の発光特性を備えた有機ＥＬ素子１８を実現することができる。
【００５５】
（３）本実施形態によれば、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成することによって有機液状体Ｌ１，ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ，Ｌ２に絶縁膜１２が溶出することはないことから、使用する有機溶媒の選択を広げることができる。また、使用可能な有機溶媒の選択が広がることから、各正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃを構成する材料選択を広げることができる。
【００５６】
（４）本実施形態によれば、絶縁膜１２の上部領域１２ａ上に金属膜１３を形成するとともに、自己組織化膜１４をチオール基とフルオロ基を備えた有機材料（撥液性有機材料）で構成した。従って、自己組織化膜１４を有機溶媒に溶解または分散させてなる液状体中に浸すことで、金属膜１３とチオール基とが結合するので、撥液性を示すフルオロ基を絶縁膜１２の上部領域１２ａ上表面に選択的に形成することができる。
【００５７】
（５）本実施形態によれば、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成した。従って、特別な材料を用意することなく、有機溶媒に対して耐性を有した絶縁膜を構成することができる。また、絶縁膜１２は親液性を有することから、各正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃをインクジェット法によって形成する場合、その各層の材料を溶解した有機液状体Ｌ１，ＬＲ，ＬＧ，ＬＢ，Ｌ２を絶縁膜１２によって囲まれた画素電極１１上に濡れ広がって配置させることができる。この結果、均一な正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃを形成することができる。
【００５８】
（６）本実施形態によれば、自己組織化膜１４を構成するチオール基とフルオロ基を備えた有機材料をＣＨ２Ｃ１２に溶解させてなる液状体中に浸し、その後、乾燥させることによってＣＨ２Ｃ１２を除去して自己組織化膜１４を形成した。従って、大型の真空チャンバーを使用することなく簡単に自己組織化膜１４を形成することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイについて図６に従って説明する。本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０は、素子形成面Ｓａを光出射面とした、所謂トップエミッションタイプの有機ＥＬディスプレイである。
【００５９】
詳しくは、図６に示すように、各画素電極１１の図中下方には、光反射層５２を備えている。光反射層５２は、本実施形態においては、アルミニウム（Ａｌ）で構成されている。本実施形態の対向電極１６は、光透過性を有した導電性材料で構成されている。本実施形態では、対向電極１６をマグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）を１０ｎｍ程度の極薄膜にすることで実現している。また、本実施形態の対向電極１６は、金属膜１３の一部と接触するようにして形成されている。
【００６０】
そして、有機機能膜１５（発光層１５ｂ）から発せられた光は、対向電極１６と光反射層５２との間で繰り返して反射されることで、対向電極１６と光反射層５２との間の距離に応じた波長の光Ｌが強めあう、所謂マイクロキャビティ構造を形成している。
【００６１】
また、対向電極１６上には、光透過性を有したパッシベーション膜５３が形成されている。従って、有機機能膜１５（発光層１５ｂ）から発せられた光のうち、対向電極１６と光反射層５２との間の距離に応じた波長の光Ｌは、パッシベーション膜５３を透過して外部に出射される。
【００６２】
上記のように構成された有機ＥＬディスプレイ５０は、上記第１実施形態と同様に、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成し、その絶縁膜１２の上部領域１２ａに金（Ａｕ）で構成された金属膜１３が形成されている。また、金属膜１３上には、チオール基とフルオロ基を備えた有機材料（撥液性有機材料）で構成された自己組織化膜１４が形成されている。
【００６３】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、画素電極１１の下方に光反射層５２を設けるとともに対向電極１６上に光透過性のパッシベーション膜５３を設けた。従って、有機機能膜１５の発光層１５ｂにて発せられた光は、基板Ｓの素子形成面Ｓａ側から外部に出射される。このような有機ＥＬディスプレイ５０は、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成し、その絶縁膜１２の上部領域１２ａにフルオロ基を備えた自己組織化膜１４を形成した。従って、上記第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６４】
（２）本実施形態によれば、金属膜１３を金（Ａｕ）で構成した。また、対向電極１６を金属膜１３の一部と接触するようにして形成した。金属膜１３は抵抗率が低いので、対向電極１６の補助電極として機能する。従って、対向電極１６が高抵抗材料である場合でも、各有機ＥＬ素子１８に対向電極１６の電位を均一にすることができることから、輝度ムラのない画像を表示させることができる。
（第３実施形態）
次に、第１及び第２実施形態で説明した発光装置としての有機ＥＬディスプレイ１０，５０の電子機器の適用について図７に従って説明する。
【００６５】
図７は、電子機器の一例たる携帯電話の表示画面に適用した携帯電話６０の斜視構成図である。図７において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１０，５０を用いた表示ユニット６１と、複数の操作ボタン６２とを備えている。この場合でも、有機ＥＬディスプレイ１０，５０を用いた表示ユニット６１は、図１及び図６に示した有機機能膜１５を構成する各層１５ａ〜１５ｃの膜質が変質することないので、所望の発光特性を備えた有機ＥＬ素子１８を備えている。従って、高画質の画像を表示する携帯電話６０を実現できる。
【００６６】
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記各実施形態では、自己組織化膜１４としてチオール基とフルオロ基とを有した撥
液性有機材料で構成したが、本発明はこれに限定されず、他の撥液性有機材料で構成してもよい。要は、金属膜１３と結合し、その他端に撥液性を示す有機材料であればよい。
【００６７】
・上記各実施形態では、金属膜１３を金（Ａｕ）で構成したが、金（Ａｕ）以外の他の金属で構成してもよい。例えば、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）またはパラジウム（Ｐｄ）であってもよい。
【００６８】
・上記各実施形態では、有機機能膜１５を、正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃで構成したが、本発明はこれに限定されず、上記各層１５ａ〜１５ｃ以外の有機層を含んでいてもよい。例えば、正孔注入層及び電子注入層等を含んでいてもよい。
【００６９】
・上記各実施形態では、有機ＥＬ素子１８の有機機能膜１５を構成する正孔輸送層１５ａ、発光層１５ｂ及び電子輸送層１５ｃを、それぞれインクジェット法によって形成したが、本発明はこれに限定されず、公知のスピンコート法を使用して形成してもよい。
【００７０】
・上記各実施形態では、絶縁膜１２を酸化珪素（ＳｉＯｘ）で構成したが、本発明はこれに限定されない。要は、有機液状体に対して耐性を有した無機材料であればよい。例えば、窒化珪素（ＳｉＮ）であってもよい。
【００７１】
・上記各実施形態では、発光素子として有機ＥＬ素子１８に具体化したが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の形態を成した発光素子に具体化してもよい。たとえば、発光ダイオードであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための図。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図３】同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図４】同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図５】同じく、（ａ），（ｂ）は、それぞれ、第１実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。
【図６】第２実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構成を説明するための図。
【図７】第３実施形態に係る電子機器としての携帯電話の構成を説明するための図。
【符号の説明】
【００７３】
Ｑｏ…開口部、Ｓ…基板、１０，５０…発光装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、１１…第１の電極としての画素電極、１２…絶縁膜、１２ａ…上部領域、１３…金属膜、１４…撥液性有機膜としての自己組織化膜、１５…有機機能膜、１５ｃ…発光膜、１６…第２の電極としての対向電極、１８…発光素子としての有機ＥＬ素子、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
2007250241.tif 000003
【図２】
2007250241.tif 000004
【図３】
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【図４】
2007250241.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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