(57)【要約】【課題】接着層の層厚を高精度に制御でき、光学特性の向上を図る。【解決手段】プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓに間隙調整用のスペーサ１６を形成し、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙内に接着剤を充填し硬化させることで、接着層１３の層厚を高精度に規制する。接着層１３の層厚は、スペーサ１６の形成高さ（形成厚）によって任意に調整することができる。これにより、接着層１３の層厚バラツキや硬化収縮に起因する接合面１２Ｓの平行度のズレを抑えて、要求される波面収差精度等の光学特性を安定して得ることができるようになる。【選択図】図１
2007101866.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接合面を有する一対の透明支持体と、前記接合面の少なくとも一方に形成された光学薄膜と、前記一対の透明支持体を接合する接着層とを備えた光学部品において、
前記接合面の非光透過領域に、前記一対の透明支持体間の間隙を規制するスペーサを備えた
ことを特徴とする光学部品。
【請求項２】
前記スペーサは、前記接合面の非光透過領域に接着されたマイクロビーズである
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】
前記スペーサは、前記接合面の非光透過領域に形成された被膜である
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項４】
前記被膜は、レジスト硬化膜である
ことを特徴とする請求項３に記載の光学部品。
【請求項５】
前記被膜は、金属膜である
ことを特徴とする請求項３に記載の光学部品。
【請求項６】
前記スペーサは、前記接合面の非光透過領域に設けられた金属箔体である
ことを特徴とする請求項３に記載の光学部品。
【請求項７】
前記スペーサは、前記接合面の非光透過領域に一体形成された突面部である
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項８】
前記光学薄膜は、誘電体多層膜である
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項９】
前記透明支持体は、三角プリズムである
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１０】
前記接着層は、紫外線硬化型接着剤の硬化層からなる
ことを特徴とする請求項１に記載の光学部品。
【請求項１１】
光学薄膜を挟んで複数の透明支持体が接着剤を介して貼り合わされる工程を有する光学部品の製造方法において、
前記透明支持体の接合面の非光透過領域に間隙調整用のスペーサを設ける工程と、
前記複数の透明支持体を前記スペーサを介して重ね合わせる工程と、
前記複数の透明支持体間の間隙内に接着剤を充填し硬化させる工程とを有する
ことを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１２】
前記接着剤で貼り合わされた複数の透明支持体の積層体を切り出して複数の部品に個片化する工程を更に有する
ことを特徴とする請求項１１に記載の光学部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ用の偏光分離素子として用いて好適な光学部品および光学部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光ディスクに対して情報の記録および／または再生を行うために光ピックアップが用いられている。図１２は、光ピックアップの一構成例を説明する概略図である。
【０００３】
図１２において、光ピックアップ１は、光記録層あるいは光磁気記録層といった信号記録面を有する光ディスクＤに記録用または再生用の光ビームを出射するレーザー光源２を備えている。レーザー光源２の光ビーム出射側には、回折格子３およびカップリングレンズ４が配置されている。カップリングレンズ４の光ビーム出射側にはビームスプリッタ５が配置されており、このビームスプリッタ５の光ビーム出射側には、当該ビームスプリッタ５から出射される光ビームを平行光束にするコリメーターレンズ６と、１／４波長板７がそれぞれ配置されている。この１／４波長板７と光ディスクＤとの間には、対物レンズ８とこの対物レンズ８を駆動する２軸アクチュエータ９とがそれぞれ配置されている。
【０００４】
ビームスプリッタ５は、レーザー光源２から出射される光ビームのうち一方の偏光成分（例えばＰ偏光波）を透過し他方の偏光成分（例えばＳ偏光波）を反射する光学薄膜５ａを有している。ビームスプリッタ５を透過した直線偏光（Ｐ偏光）の光ビームは、１／４波長板７を透過することで円偏光とされ、対物レンズ８の集光作用で光ディスクＤの信号記録面に照射される。一方、ビームスプリッタ５で反射した直線偏光（Ｓ偏光）は、レーザー光源２から出射される光ビームの光量をモニタリングする受光素子１０へ入射する。
【０００５】
光ディスクＤで反射した光ビームの戻り光は、１／４波長板７を透過することで直線偏光（Ｓ偏光）とされ、ビームスプリッタ５へ再入射し、その光学薄膜５ａにおいて反射される。このビームスプリッタ５で反射された光ビームは、フォトディテクタ１１により検出され、ＲＦ信号、トラッキングおよびフォーカシングの各サーボ信号が抽出される。
【０００６】
さて、以上のように構成される光ピックアップ１において、ビームスプリッタ５は、図１３に示すように、一対の透明なプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の斜面部が、光学薄膜５ａおよび接着層１３を介して互いに貼り合わされた構造となっている（例えば下記特許文献１参照）。光学薄膜５ａは、偏光分離作用を有する誘電体多層膜等で構成され、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の接合面１２Ｓの何れか一方あるいは両方に形成されている。
【０００７】
接着層１３は、例えば紫外線硬化型接着剤の硬化層からなる。一対のプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂは、各々の接合面１２Ｓが互いに平行となるように接着層１３を介して接合されている。
【０００８】
この種のビームスプリッタに代表される光学部品の製造方法としては、一方の接合面に接着剤を適量塗布した後、各プリズムブロックを貼り合わせる方法のほか、例えば下記特許文献２に記載されているように、プリズムブロックを構成する一方の透明基板の表面に接着剤をスピンコート法で塗布した後、他方の透明基板を貼り合わせ、接着剤硬化後に部品単位で切り出し、個片化する態様もある。
【０００９】
【特許文献１】特開平９−２３６７０５号公報
【特許文献２】特開２００５−９２０３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、上述したような構成の光ピックアップ用光学部品が搭載される光ディスクドライブにおいて、情報記録容量の更なる増大を図るために、光源として波長が４０５ｎｍ近傍の青紫レーザーを用いるシステムが提案されている。そして、光源の短波長化に伴い、光ピックアップに搭載される各々の光学部品の透過波面収差精度が厳しくなっている。
【００１１】
しかしながら、従来の光学部品の製造方法においては、図１３に示したように、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の接合面１２Ｓ間には接着層１３のみが介在しており、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ相互間の離接方向（矢印ａ）、紙面に垂直な軸のまわりの回転方向（矢印ｂ）および紙面に平行な軸のまわりの回転方向（矢印ｃ）にそれぞれバラツキが生じてしまう。また、接着剤の硬化収縮に起因する接合面１２Ｓの平行度のバラツキも発生し得る。
【００１２】
従って、接着層の層厚を高精度に制御することができず、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓを互いに平行に保持することが困難であるため、要求される透過波面収差精度を安定に確保して部品を作製することができないという問題がある。
【００１３】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、接着層の層厚を高精度に制御でき、光学特性の向上を図ることができる光学部品および光学部品の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
以上の課題を解決するに当たり、本発明の光学部品は、接合面を有する一対の透明支持体と、接合面の少なくとも一方に形成された光学薄膜と、一対の透明支持体を接合する接着層とを備えた光学部品において、接合面の非光透過領域に、一対の透明支持体間の間隙を規制するスペーサを備えている。
【００１５】
また、本発明の光学部品の製造方法は、光学薄膜を挟んで複数の透明支持体が接着剤を介して貼り合わされる工程を有する光学部品の製造方法において、透明支持体の接合面の非光透過領域に間隙調整用のスペーサを設ける工程と、複数の透明支持体を上記スペーサを介して重ね合わせる工程と、複数の透明支持体間の間隙内に接着剤を充填し硬化させる工程とを有する。
【００１６】
本発明では、接合面に間隙調整用のスペーサを形成し、このスペーサを挟んで対向する一対の透明支持体間の間隙内に接着剤を充填し硬化させることで、接着層の層厚を高精度に規制することを可能とする。接着層の層厚は、スペーサの形成高さによって任意に調整することができる。これにより、接着層の層厚バラツキや硬化収縮に起因する接合面の平行度のズレを抑えて、要求される波面収差精度等の光学特性を安定して得ることができるようになる。
【００１７】
透明支持体間の間隙を規制するスペーサは、接合面の面内であって、光が透過しない非光透過領域に設けられる。この本発明に係るスペーサは、マイクロビーズ、あるいはレジスト硬化膜や金属膜等の被膜、金属箔体、更には、接合面の非光透過領域に一体形成された突面部等で構成することができる。
【００１８】
本発明の光学部品は、個々の部品それぞれについて上述した間隙調整用のスペーサを設ける場合に限られない。すなわち、透明支持体として製品サイズより大きな面積を有する透明基板を用意し、この透明基板の任意の非光透過領域（例えば後に切出し除去されて製品とならない領域）に上記スペーサを形成しておく。そして、対向する透明基板にスペーサを介して重ね合わせ、形成された間隙内に接着剤を充填し硬化させて透明基板同士を貼り合わせる。最後に、製品サイズに個々に切り出すことで複数の光学部品を作製する。このような場合にも、透明基板の接合面全域にわたって接着層の層厚を高度に制御可能となるので、個片化された製品すべてについても接合面相互の平行度を確保でき、高品質の光学部品を効率良く作製することができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上述べたように、本発明によれば、透明支持体の接合面相互間の平行度を容易かつ高精度に確保することができるので、光源の短波長化に伴って要求が厳しくなる透過波面収差を十分に満足することができるとともに、このような光学部品を生産性高く製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下の説明では、本発明に係る光学部品として、図１２を参照して説明した光ピックアップ用のビームスプリッタを例に挙げて説明する。
【００２１】
図１は本発明の実施の形態によるビームスプリッタ１５の断面模式図である。本実施の形態のビームスプリッタ１５は、一対の透明なプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の斜面部が、光学薄膜１５ａおよび接着層１３を介して互いに貼り合わされた構造を有している。
【００２２】
プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂは本発明の「透明支持体」に対応し、断面直角三角形の透明な柱状体で形成されている。プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂはガラス材料で構成されているが、これ以外にも、ポリカーボネートやアクリル系等の透明プラスチック材料で構成されていてもよい。
【００２３】
各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の斜面部は、接着層１３を介して貼り合わされる接合面１２Ｓとされている。本実施の形態では、一方側のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに光学薄膜１５ａが形成されているが、他方側のプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓにも同様な光学薄膜１５ａが形成されていてもよい。
【００２４】
光学薄膜１５ａは、偏光分離作用を有する誘電体多層膜で構成されている。誘電体多層膜の構成例は、分離する光の波長等に適宜選定され、例えば酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）膜と酸化ケイ素（ＳｉＯ2）膜とが交互に複数積層された構造を有している。
【００２５】
そして、本実施の形態のビームスプリッタ１５は、一対のプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙を規制するスペーサ１６を複数箇所に備えている。スペーサ１６は、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓ間に配置されている。接着層１３は、スペーサ１６で規制されるプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙内に充填された接着剤を硬化させて形成される。接着層１３を構成する接着剤は、紫外線硬化型接着剤が用いられる。
【００２６】
なお、スペーサ１６の形成厚（形成高さ）は特に限定されず、適用される光学部品の仕様に応じて適宜設定される。本実施の形態において、スペーサ１６の形成厚は例えば１０μｍとされることで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の接合面１２Ｓの間隙が約１０μｍとなるように設定されている。
【００２７】
スペーサ１６は、このビームスプリッタ１５を透過する光ビームあるいは光学薄膜１５ａで反射する光ビームに影響を与えない位置に設けられている。ビームスプリッタ１５を図１２に示した光ピックアップ１に用いたときの光路を図２に示す。理解容易のため、光源からの平行光束２０のみを描き、ビームスプリッタ１５の外面に投影される部位（外面光学作用部）２１を斜線で示した。また、このときに光学薄膜１５ａには、図３において斜線で示す楕円形状の接合面光学作用部２３に光ビームが入射する。スペーサ１６は、これら外面光学作用部２１および接合面光学作用部２３以外の領域（非光透過領域）に設けられることで、スペーサ１６が光学的に機能しないように構成されている。
【００２８】
図４Ａ〜Ｃは、ビームスプリッタ１５の非光透過領域２５，２６，２７の一例を示している。非光透過領域２５は、図４Ａにおいて、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓの四隅領域に対応する。非光透過領域２６は、図４Ｂにおいて、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓの横方向端部領域に対応する。そして、非光透過領域２７は、図４Ｃにおいて、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓの上下方向端部領域に対応する。これら非光透過領域２５〜２７の何れか、またはこれら以外の非光透過領域に、図１に示したスペーサ１６が設けられる。
【００２９】
スペーサ１６は、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの何れかの接合面１２Ｓに設けられていればよい。本実施の形態では、プリズムブロック１２Ｂの接合面にスペーサ１６が形成されているが、勿論、プリズムブロック１２Ａ側に設けてもよい。また、スペーサ１６の材質、構造等は特に限定されない。図５Ａ〜Ｃは、スペーサ１６（１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ）の構成例を示している。
【００３０】
図５Ａに示すスペーサ１６Ａは、一定粒径（例えば１０μｍ）の複数のマイクロビーズ３１が分散された接着剤３０をプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓの非光透過領域に塗布することで形成されている。マイクロビーズ３１の粒子径は、このスペーサ１６Ａを介して接合されるプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙の大きさ、あるいは接着層１３の層厚を決定する。なお、マイクロビーズ３１の粒子径のバラツキにより上記間隙のバラツキの発生が考えられるが、スペーサ無しでプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを接合する場合に比べれば上記間隙のバラツキは小さくなる。
【００３１】
マイクロビーズ１６は、ガラスや透明プラスチック材料で構成されたものを用いることができる。透明か非透明かは問われない。接着剤３０は、例えば紫外線硬化型接着剤が用いられ、接合面１２Ｓへ塗布後、紫外線の照射により硬化される。これにより、マイクロビーズ３１は接合面１２Ｓ上に保持される。
【００３２】
図５Ｂに示すスペーサ１６Ｂは、一定膜厚（例えば１０μｍ）の被膜をプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓの非透過領域に形成することで構成されている。被膜１６Ｂは、フォトレジスト硬化膜、金属めっき膜、あるいは真空蒸着やスパッタリング等の薄膜形成プロセスで形成された金属膜等のパターニング膜が適用可能である。さらに、被膜に代えて、一定の厚みを有する金属箔体（薄帯）等であってもよい。
【００３３】
そして、図５Ｃに示すスペーサ１６Ｃは、プリズムブロック１２Ｂの接合面にエッチング加工等によって非光透過領域に一体形成した突面部で構成されている。この突面部１６Ｃの形成高さを調整することによって、プリズムブロック１２Ａとの間の間隙を規制することができる。
【００３４】
次に、以上のように構成される本実施の形態のビームスプリッタ１５の製造方法について図６および図７を参照して説明する。
【００３５】
まず、光透過性基板であるガラス母材１２Ｍから、各頂角をプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの仕様に対応して切断する（図６Ａ，図６Ｂ）。ここで形成されるプリズムブロックは、最終形態の部品サイズより大きくても構わない。
【００３６】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの光学作用面（２１，２３）となる３面をダイヤモンド砥石や酸化セリウム等の研磨砥粒を用いて研磨する。その後、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを洗浄後、真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて、プリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに光学薄膜１５ａを成膜する（図６Ｃ）。
【００３７】
続いて、プリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓの非光透過領域にスペーサ１６を形成する（図６Ｄ）。スペーサ１６は、接合面１２Ｓ上の非光透過領域であって、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの各々の接合面１２Ｓ相互間の平行度が保てる複数領域にそれぞれ同一高さで形成される。
【００３８】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを各々の接合面１２Ｓどうし重ね合わせ、その状態を押圧保持する（図６Ｅ）。このとき、各接合面１２Ｓの間隙は、スペーサ１６の形成厚で決まる大きさに維持される。この状態を保持したまま、これらプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間に紫外線硬化型接着剤を充填する。
【００３９】
図７は、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間へ紫外線硬化型接着剤を充填する工程を示している。プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂは、その接合面１２Ｓ間の間隙形成面を任意の深さだけ紫外線硬化型接着剤３３の貯留槽に浸される。紫外線硬化型接着剤３３は、図７において矢印で示すように、毛細管現象によって接合面１２Ｓ間の間隙内を上昇する。これにより、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓ間の間隙が、紫外線硬化型接着剤３３で充填される。
【００４０】
なお、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓ間の間隙内を減圧しながら紫外線硬化型接着剤３３の充填を行うことで、充填効率と気泡の排除効率とを高めることができる。
【００４１】
紫外線硬化型接着剤３３の充填後、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを引き上げ、余剰の接着剤を払拭した後、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを介して接合面１２Ｓへ紫外線を照射する。これにより、紫外線硬化型接着剤３３が硬化し、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓ間に接着層１３が形成される。
【００４２】
なお、その後必要に応じて、真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置等の真空薄膜形成手段を用いてプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの外面に光学膜（反射防止膜等）を成膜したり、光学面の位置を明確にさせるマーカーを砥石研削などで形成される。
【００４３】
以上のようにして、本実施の形態のビームスプリッタ１５が作製される。本実施の形態においては、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓ間にスペーサ１６を介在させて、両接合面１２Ｓ間の間隙を一定に保持した状態で接着剤３３の充填を行うようにしているので、接着層１３の形成後においてもプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙を一定に保持でき、これにより接合面１２Ｓの平行度を確保することができる。
【００４４】
従って、本実施の形態によれば、接着層１３の層厚バラツキや硬化収縮に起因する接合面１２Ｓの平行度のズレを効果的に抑えることができるようになり、これによりビームスプリッタに要求される厳しい波面収差精度にも十分に対応することが可能となる。
【００４５】
以上の説明では、ビームスプリッタ１５を個々に製造する例について説明したが、勿論これに限られない。即ち、上述の例と同様にして作製されたひとつの完成体から複数の部品を作製することも可能である。図８および図９にその一例を示す。
【００４６】
まず、製品サイズよりも長尺のプリズムブロック１２ＰＡ，１２ＰＢを用意し、一方のプリズムブロック１２ＰＡの接合面１２Ｓには光学薄膜１５ａを形成し、他方のプリズムブロック１２ＰＢの接合面１２Ｓの所定の非光透過領域にはスペーサ１６を形成する（図８Ａ）。
【００４７】
次に、これらプリズムブロック１２ＰＡ，１２ＰＢの接合面１２Ｓどうしスペーサ１６を介して重ね合わせた後、これら接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤を充填し硬化させる（図８Ｂ）。最後に、この長尺のプリズムブロック１２ＰＡ，１２ＰＢを図８Ｃにおいて切断線３４で示すように長手方向に切り出して製品サイズに個片化することで、図９に示したように、複数のビームスプリッタ１５を同時に作製することができる。
【００４８】
この例において、スペーサ１６は、プリズムブロック１２ＰＢの接合面１２Ｓの非光透過領域に形成される。特にブロック両端部など、後に切出し除去されて製品とならない領域にスペーサ１６が形成されているので、製品となる個々の部品（ビームスプリッタ１５）には各々の接合面間の間隙内にスペーサは存在しない。この場合でも、出発部品である長尺のプリズムブロック１２ＰＡ，１２ＰＢがスペーサ１６を介して接合されているので、個片化された個々の部品それぞれについても同様にプリズムブロック間の間隙が高精度に制御された状態を保持することができる。従って、作製されるすべての部品についても接合面が所定の平行度を有することとなり、高品質の光学部品を生産性高く製造することが可能となる。
【００４９】
図１０および図１１は、他のビームスプリッタ１５の製造方法を説明する図である。本実施の形態では、出発部品として製品サイズよりも大きな面積を有する複数枚（図の例では３枚）の透明ガラス基板１２Ｇ１，１２Ｇ２，１２Ｇ３を用意し、任意の接合面１２Ｓに光学薄膜（図示略）およびスペーサ１６Ａ（図５Ａ）をそれぞれ形成する。そして、各透明ガラス基板１２Ｇ１〜１２Ｇ３の接合面１２Ｓどうしを重ね合わせ、各層の接合面１２Ｓ間の間隙内に紫外線硬化型接着剤３３を充填し硬化させる（図１０Ａ，Ｂ）。これにより各透明ガラス基板間の間隙はスペーサ１６Ａの形成高さに対応する大きさに一定に保たれた状態で接着剤３３によって接合される。そして、図１１に示すように、作製された透明ガラス基板１２Ｇ１〜１２Ｇ３の積層体を切断線３５に沿って切断することで、複数の部品を同時に完成させることができる。
【００５０】
以下、本発明に係る光学部品（ビームスプリッタ１５）の製造方法について、スペーサ１６の構成例に対応した幾つかの具体例を説明するが、勿論これらの例に限られない。
【００５１】
（マイクロビーズを用いたスペーサの例）
図６を参照して、光透過性基板１２Ｍを切断、研磨してプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ（あるいは図８に示したプリズムブロック１２ＰＡ，１２ＰＢ。以下同じ）を作製し、一方のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて光学薄膜１５ａを形成する。次に図５Ａに示したように、マイクロビーズ３１が分散された接着剤３０を他方のプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓ上の所定の非光透過領域に塗布する。
【００５２】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓを互いに突き合わせるようにして対向させ、両接合面１２Ｓが互いに近接する方向に押圧することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙をマイクロビーズ３１の粒子径に一致させる。この押圧状態を保持したまま接着剤３０に紫外線を照射することで硬化させる。
【００５３】
また、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂに対する押圧動作を保持したまま、今度は接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤３３を図７に示したような方法で充填し硬化させる。その後、押圧動作を解除することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙が一定に制御されたビームスプリッタ１５が作製される。
【００５４】
（フォトレジスト硬化膜を用いたスペーサの例）
光透過性基板１２Ｍを切断、研磨してプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを作製し、一方のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて光学薄膜１５ａを形成する。次に、図５Ｂに示したように他方のプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓにスペーサ１６Ｂを形成するべく、フォトレジストパターンを所定の非光透過領域に形成する。フォトレジストパターンの形成後、ベーキングあるいは電子線照射等の方法で所定厚のフォトレジスト硬化膜１６Ｂを作製する。
【００５５】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓを互いに突き合わせるようにして対向させ、両接合面１２Ｓが互いに近接する方向に押圧することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙をフォトレジスト硬化膜１６Ｂの形成厚に一致させる。この押圧状態を保持したまま、接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤３３を図７に示したような方法で充填し硬化させる。その後、押圧動作を解除することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙が一定に制御されたビームスプリッタ１５が作製される。
【００５６】
（金属膜を用いたスペーサの例）
光透過性基板１２Ｍを切断、研磨してプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを作製し、一方のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて光学薄膜１５ａを形成する。次に、図５Ｂに示したように他方のプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓにスペーサ１６Ｂを形成するべく、フォトレジストを全面塗布し、所定の非光透過領域のみ開口するようにレジストパターンを形成する。
【００５７】
次に、このプリズムブロック１２Ｂを真空蒸着装置、スパッタリング装置等の真空薄膜形成装置内に装填し、フォトレジストをマスクとして接合面１２Ｓ上の所定の非光透過領域にのみ金属膜を成膜する。その後、フォトレジスト膜を除去することにより、接合面１２Ｓの非光透過領域に金属膜でなる所定厚のスペーサ１６Ｂが作製される。
【００５８】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓを互いに突き合わせるようにして対向させ、両接合面１２Ｓが互いに近接する方向に押圧することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙を金属膜１６Ｂの形成厚に一致させる。この押圧状態を保持したまま、接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤３３を図７に示したような方法で充填し硬化させる。その後、押圧動作を解除することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙が一定に制御されたビームスプリッタ１５が作製される。
【００５９】
なお、上記金属膜は、真空薄膜形成プロセス以外の方法、例えばめっき法で形成することも可能である。また、接合面１２Ｓ上に先に金属膜を成膜後、スペーサ形成位置のみを残して金属膜をエッチング除去する方法も適用可能である。
【００６０】
（金属薄帯を用いたスペーサの例）
光透過性基板１２Ｍを切断、研磨してプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを作製し、一方のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて光学薄膜１５ａを形成する。次に、接合面１２Ｓの非光透過領域に金属箔体を挟んでプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを押圧保持する。この押圧状態を保持したまま、接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤３３を図７に示したような方法で充填し硬化させる。その後、押圧動作を解除し、金属箔体を取り除くことで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙が一定に制御されたビームスプリッタ１５が作製される。なお、この例においては、完成した光学部品から金属箔体を除去したが、部品の仕様によっては金属箔体を除去しなくてもよい。
【００６１】
（接合面を加工したスペーサの例）
光透過性基板１２Ｍを切断、研磨してプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂを作製し、一方のプリズムブロック１２Ａの接合面１２Ｓに真空蒸着装置あるいはスパッタリング装置などを用いて光学薄膜１５ａを形成する。次に、図５Ｃに示したように他方のプリズムブロック１２Ｂの接合面１２Ｓにスペーサ１６Ｃを形成する。
【００６２】
このスペーサ１６Ｃの形成は、まずフォトレジストを接合面１２Ｓ上に全面塗布し、所定の非光透過領域にのみフォトレジスト膜が残存するようにレジストパターンを形成する。その後、レジストパターンをマスクとして、接合面１２Ｓを所定深さまでエッチング除去して、所定の非光透過領域にのみ突面部１６Ｃを形成し、これをスペーサとする。エッチング方法としては、アルゴンイオンエッチング等の物理的エッチング方法、酸、アルカリあるいは緩衝液等を用いた化学的エッチング方法が適用可能である。
【００６３】
次に、各プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓを互いに突き合わせるようにして対向させ、両接合面１２Ｓが互いに近接する方向に押圧することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙を突面部１６Ｃの形成高さに一致させる。この押圧状態を保持したまま、接合面１２Ｓ間の間隙に紫外線硬化型接着剤３３を図７に示したような方法で充填し硬化させる。その後、押圧動作を解除することで、プリズムブロック１２Ａ，１２Ｂ間の間隙が一定に制御されたビームスプリッタ１５が作製される。
【００６４】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００６５】
例えば以上の実施の形態では、光学部品として、偏光分離膜１５ａを備えたビームスプリッタを適用したが、これに限らず、例えば波長選択性を有する反射膜や透過膜等の光学膜を一対の透明支持体で挟持した構成の光学部品が適用可能である。
【００６６】
また以上の実施の形態では、一対の透明支持体としてプリズム形状のブロック１２Ａ，１２Ｂを適用したが、これに代えて、平板状の透明支持体でビームスプリッタを構成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施の形態によるビームスプリッタ（光学部品）１５の構成を示す概略断面図である。
【図２】ビームスプリッタ１５の光ビーム透過領域を説明する斜視図である。
【図３】ビームスプリッタ１５の接合面における光ビーム透過領域を説明する斜視図である。
【図４】ビームスプリッタ１５を構成するプリズムブロック１２Ａ，１２Ｂの接合面１２Ｓに対してスペーサ１６の形成領域（非光透過領域）の例示するための説明図である。
【図５】スペーサ１６の構成例を説明する要部断面図である。
【図６】ビームスプリッタ１５の製造方法を説明する工程図である。
【図７】ビームスプリッタ１５の製造方法を説明する図であり、プリズムブロックを接合する接着剤の充填工程を示している。
【図８】ビームスプリッタ１５の他の製造方法を説明する工程図である。
【図９】図８に示す方法で作製されたビームスプリッタ１５の説明図である。
【図１０】ビームスプリッタ１５の更に他の製造方法を説明する工程図である。
【図１１】図１０に示した方法で作製された光学部品を製品サイズに個片化する際の切断例を説明する斜視図である。
【図１２】本発明の従来技術において説明する光ピックアップ１の一構成例を示す図である。
【図１３】従来のビームスプリッタの構成およびその問題点を説明する概略断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…光ピックアップ、１２Ａ，１２Ｂ，１２ＰＡ，１２ＰＢ…プリズムブロック、１２Ｇ１〜１２Ｇ３…透明ガラス基板、１２Ｓ…接合面、１３…接着層、１５…ビームスプリッタ（光学部品）、１５ａ…光学薄膜、１６，１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ…スペーサ、２５〜２７…非光透過領域、３１…マイクロビーズ、３３…紫外線硬化型接着剤、３４，３５…切断線、Ｄ…光ディスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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