(57)【要約】【課題】レーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光ディスクであっても、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行えるようにする。【解決手段】記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とプリグルーブ１６がこの順番で形成された基板を有する光ディスクにおいて、プリグルーブ１６は複数の蛇行部４０を有する。蛇行部４０は、当該ランド３６の一方に隣接する第１グルーブ４２ａに向けて湾曲する第１湾曲部分４４と、当該ランド３６の他方に隣接する第２グルーブ４２ｂから当該ランド３６に向けて湾曲する第２湾曲部分４６とを有し、第１湾曲部分４４の第１グルーブ４２ａに対する突出量をＴ１としたとき、１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍを満足するようにする。【選択図】図４
2007141340.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体において、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体において、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光情報記録媒体において、
前記ランドの幅をＷｇ、前記蛇行部の長さをＬｗ、前記蛇行部の第１湾曲部分の頂点から前記第２湾曲部分の頂点までの距離をＷｐとしたとき、
３５０ｎｍ≦Ｗｇ≦４６０ｎｍ
７００ｎｍ≦Ｌｗ≦１０００ｎｍ
７００ｎｍ≦Ｗｐ≦１０００ｎｍ
を満足することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、
前記基板に中間層を介して別の基板が積層され、
前記別の基板は、前記レーザ光が照射される方向から見てグルーブと記録層がこの順番で形成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項５】
請求項４記載の光情報記録媒体において、
前記レーザ光が照射される方向から見て前記別の基板と前記中間層と前記基板がこの順番で積層されていることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項６】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板において、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする基板。
【請求項７】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板において、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする基板。
【請求項８】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパにおいて、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とするスタンパ。
【請求項９】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパにおいて、
前記グルーブは複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とするスタンパ。
【請求項１０】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第１基板と中間層と第２基板がこの順番で積層された光情報記録媒体の製造方法において、
第１スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第１基板を作製する工程と、
前記第１基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、
第２スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第２基板を作製する工程と、
前記第２基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、
前記第２スタンパにて前記第２基板を作製した際に前記第２基板に形成された前記グルーブは、複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第１基板と中間層と第２基板がこの順番で積層された光情報記録媒体の製造方法において、
第１スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第１基板を作製する工程と、
前記第１基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、
第２スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第２基板を作製する工程と、
前記第２基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、
前記第２スタンパにて前記第２基板を作製した際に前記第２基板に形成された前記グルーブは、複数の蛇行部を有し、
前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、
前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパの製造方法において、
前記スタンパの原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有するスタンパを作製する工程を有し、
前記凹凸は、前記スタンパにて前記基板を作製した際に、
（１）前記グルーブが複数の蛇行部を有すること、
（２）前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有すること、
（３）前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足する前記グルーブが前記基板に転写される形状であることを特徴とするスタンパの製造方法。
【請求項１３】
記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパの製造方法において、
前記スタンパの原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有するスタンパを作製する工程を有し、
前記凹凸は、前記スタンパにて前記基板を作製した際に、
（１）前記グルーブが複数の蛇行部を有すること、
（２）前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有すること、
（３）前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足する前記グルーブが前記基板に転写される形状であることを特徴とするスタンパの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高エネルギー密度のレーザ光を用いて情報の書き込み（記録）や読取り（再生）が可能なヒートモード型の光情報記録媒体、光情報記録媒体用の基板、スタンパ、光情報記録媒体の製造方法及びスタンパの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、１層の情報記録層を有するものや、２層の情報記録層を有するもの等がある。
【０００３】
１層の情報記録層を有する第１光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。
【０００４】
２層の情報記録層を有する第２光ディスクは、表面に第１プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された半透明反射層と、該半透明反射層上に形成された第１情報記録層と、該第１情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第２情報記録層と、該第２情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する（例えば特許文献１〜３参照）。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第２情報記録層の第２プリグルーブとして機能することになる。
【０００５】
上述した第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。
【０００６】
また、第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブをウォブリングさせる例もある（例えば特許文献４参照）。ウォブリングさせることで、セクタアドレス等のセクタ管理情報を持たせたり、記録時の回転制御情報を、ウォブリングされたプリグルーブを再生することで得ることができるため、専用のアドレスピットやサーボ用プリピットを設けることが不要になり、これらアドレスピットやサーボ用プリピットの分だけデータの書き込み効率を向上させることができる。しかも、ＣＬＶ回転制御等の連続データ書き込み時に有効な方式を採用することができるという利点もある。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４８０８号公報
【特許文献２】特開平１０−２８３６８２号公報
【特許文献３】特開平８−２０３１２５号公報
【特許文献４】特開平９−２１９０２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、第１光ディスクの情報記録層に対して情報を記録する場合は、基板の端面から情報記録層に向かう方向にレーザ光を照射し、レーザ光を情報記録層に結像させて情報を記録する。
【０００９】
また、第２光ディスクの第１情報記録層に対して情報を記録する場合は、基板の端面から第１情報記録層に向かう方向にレーザ光を照射し、レーザ光を第１情報記録層に結像させて情報を記録する。同様に、第２情報記録層に対して情報を記録する場合は、基板の端面から第２情報記録層に向かう方向にレーザ光を照射し、レーザ光を第２情報記録層に結像させて情報を記録する。
【００１０】
第１光ディスクの情報記録層や第２光ディスクの第１情報記録層に対する情報の記録においては、レーザ光が照射される方向から見てプリグルーブと情報記録層（第１情報記録）がこの順番で形成された形となっているため、プリグルーブや第１プリグルーブがウォブリングされている場合は、そのウォブリング形状を再生用レーザ光にて確実に検出することができる。同様に、プリグルーブや第１プリグルーブにアドレスプリピットやサーボ用プリピットが形成されている場合においても、これらプリピットを再生用レーザ光にて確実に検出することができる。
【００１１】
しかし、第２光ディスクの第２情報記録層に対する情報の記録においては、レーザ光が照射される方向から見て第２情報記録層と第２プリグルーブがこの順番で形成された形となっているため、第２プリグルーブがウォブリングされている場合は、第２情報記録層に記録されたピットによってウォブリング形状が一部隠れてしまい、再生用レーザ光にて確実に検出することができないという不都合が生じる。同様に、プリグルーブや第１プリグルーブにアドレスプリピットやサーボ用プリピットが形成されている場合においても、これらプリピットが第２情報記録層に記録されたピットによって隠れてしまうため、再生用レーザ光にて確実に検出することができないという問題が生じる。
【００１２】
本発明は上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であっても、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を提供することにある。
【００１３】
また、本発明の他の目的は、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に実現することができる光情報記録媒体用の基板を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の他の目的は、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができるスタンパを提供することにある。
【００１５】
また、本発明の他の目的は、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができる光情報記録媒体の製造方法及びスタンパの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
第１の本発明に係る光情報記録媒体は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする。
【００１７】
また、第２の本発明に係る光情報記録媒体は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする。
【００１８】
これら第１及び第２の本発明に係る光情報記録媒体においては、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であっても、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる。
【００１９】
そして、これら第１及び第２の本発明において、前記グルーブの幅をＷｇ、前記蛇行部の長さをＬｗ、前記蛇行部の第１湾曲部分の頂点から前記第２湾曲部分の頂点までの距離をＷｐとしたとき、
３５０ｎｍ≦Ｗｇ≦４６０ｎｍ
７００ｎｍ≦Ｌｗ≦１０００ｎｍ
７００ｎｍ≦Ｗｐ≦１０００ｎｍ
を満足することが好ましい。
【００２０】
また、第１及び第２の本発明において、前記基板に中間層を介して別の基板が積層され、前記別の基板は、前記レーザ光が照射される方向から見てグルーブと記録層がこの順番で形成されていてもよい。
【００２１】
この場合、前記レーザ光が照射される方向から見て前記別の基板と前記中間層と前記基板がこの順番で積層されていてもよい。
【００２２】
なお、光情報記録媒体は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１、前記第２湾曲部分の当該ランドに対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ１／Ｔ２＜２．０
を満足するようにしてもよい。
【００２３】
次に、第３の本発明に係る光情報記録媒体用の基板は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする。
【００２４】
また、第４の本発明に係る光情報記録媒体用の基板は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする。
【００２５】
これにより、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に実現することができる。
【００２６】
なお、光情報記録媒体用の基板は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板において、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１、前記第２湾曲部分の当該ランドに対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ２＜２．０
を満足するようにしてもよい。
【００２７】
次に、第５の本発明に係るスタンパは、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパにおいて、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする。
【００２８】
また、第６の本発明に係るスタンパは、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパにおいて、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする。
【００２９】
これにより、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができる。
【００３０】
なお、スタンパは、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパにおいて、前記グルーブは複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１、前記第２湾曲部分の当該ランドに対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ１／Ｔ２＜２．０
を満足するようにしてもよい。
【００３１】
次に、第７の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第１基板と中間層と第２基板がこの順番で積層された光情報記録媒体の製造方法において、第１スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第１基板を作製する工程と、前記第１基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、第２スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第２基板を作製する工程と、前記第２基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、前記第２スタンパにて前記第２基板を作製した際に前記第２基板に形成された前記グルーブは、複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足することを特徴とする。
【００３２】
また、第８の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第１基板と中間層と第２基板がこの順番で積層された光情報記録媒体の製造方法において、第１スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第１基板を作製する工程と、前記第１基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、第２スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第２基板を作製する工程と、前記第２基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、前記第２スタンパにて前記第２基板を作製した際に前記第２基板に形成された前記グルーブは、複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足することを特徴とする。
【００３３】
これにより、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができる。
【００３４】
なお、光情報記録媒体の製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第１基板と中間層と第２基板がこの順番で積層された光情報記録媒体の製造方法において、第１スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第１基板を作製する工程と、前記第１基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、第２スタンパを使用してグルーブとランドが形成された前記第２基板を作製する工程と、前記第２基板のうち、前記グルーブと前記ランドが形成された面に記録層を形成する工程と、前記第２スタンパにて前記第２基板を作製した際に前記第２基板に形成された前記グルーブは、複数の蛇行部を有し、前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有し、前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１、前記第２湾曲部分の当該ランドに対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ１／Ｔ２＜２．０
を満足するようにしてもよい。
【００３５】
次に、第９の本発明に係るスタンパの製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパの製造方法において、前記スタンパの原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有するスタンパを作製する工程を有し、前記凹凸は、前記スタンパにて前記基板を作製した際に、
（１）前記グルーブが複数の蛇行部を有すること、
（２）前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有すること、
（３）前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ
を満足する前記グルーブが前記基板に転写される形状であることを特徴とする。
【００３６】
また、第１０の本発明に係るスタンパの製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパの製造方法において、前記スタンパの原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有するスタンパを作製する工程を有し、前記凹凸は、前記スタンパにて前記基板を作製した際に、
（１）前記グルーブが複数の蛇行部を有すること、
（２）前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有すること、
（３）前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出面積をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2
を満足する前記グルーブが前記基板に転写される形状であることを特徴とする。
【００３７】
これにより、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができる。
【００３８】
なお、スタンパの製造方法は、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された光情報記録媒体用の基板を作製するためのスタンパの製造方法において、前記スタンパの原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有するスタンパを作製する工程を有し、前記凹凸は、前記スタンパにて前記基板を作製した際に、
（１）前記グルーブが複数の蛇行部を有すること、
（２）前記蛇行部は、当該ランドの一方に隣接する第１グルーブに向けて湾曲する第１湾曲部分と、当該ランドの他方に隣接する第２グルーブから当該ランドに向けて湾曲する第２湾曲部分とを有すること、
（３）前記第１湾曲部分の前記第１グルーブに対する突出量をＴ１、前記第２湾曲部分の当該ランドに対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ１／Ｔ２＜２．０
を満足する前記グルーブが前記基板に転写される形状であってもよい。
【発明の効果】
【００３９】
以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体によれば、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であっても、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる。
【００４０】
また、本発明に係る光情報記録媒体用の基板によれば、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、且つ、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に実現することができる。
【００４１】
また、本発明に係るスタンパによれば、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、且つ、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる。
【００４２】
また、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法及びスタンパの製造方法によれば、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て記録層とグルーブがこの順番で形成された基板を有する光情報記録媒体であって、且つ、グルーブの蛇行部を確実に検出することができ、記録層への情報記録を安定に行うことができる光情報記録媒体を容易に作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、本発明に係る光情報記録媒体、光情報記録媒体用の基板、スタンパ、光情報記録媒体の製造方法及びスタンパの製造方法を、２層の情報記録層を有する光ディスクに適用した実施の形態例について図１〜図８を参照しながら説明する。
【００４４】
まず、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａは、図１に示すように、表面に第１プリグルーブ１２が形成された第１基板１４と、表面に第２プリグルーブ１６が形成された第２基板１８が中間層２０を介して貼り合わされた構成を有する。
【００４５】
すなわち、図２に示すように、第１基板１４の表面には、第１プリグルーブ１２の凹凸に沿って第１情報記録層２２が形成され、該第１情報記録層２２上に半透明反射層２４が形成されている。
【００４６】
図３に示すように、第２基板１８の表面には、第２プリグルーブ１６の凹凸に沿って反射層２６が形成され、該反射層２６上に第２情報記録層２８が形成され、該第２情報記録層２８上にバリア層３０が形成されている。
【００４７】
そして、第１基板１４と第２基板１８を貼り合わせる際に、図１に示すように、第１基板１４上に形成された第１情報記録層２２と第２基板１８上に形成された第２情報記録層２８とを対向させ、さらに、これら第１基板１４と第２基板１８との間に中間層２０を介在させて貼り合わせることで、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが構成される。
【００４８】
第１情報記録層２２に対して情報を記録する場合は、第１基板１４の端面１４ａから第１情報記録層２２に向かう方向に記録用のレーザ光３２を照射し、レーザ光３２を第１情報記録層２２に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第１情報記録層２２のうち、第１プリグルーブ１２のグルーブ３４に対応した部分に情報が記録される。記録用のレーザ光３２としては、６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。
【００４９】
第２情報記録層２８に対して情報を記録する場合は、第１基板１４の端面１４ａから第２情報記録層２８に向かう方向に記録用のレーザ光３２を照射し、レーザ光３２を第２情報記録層２８に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第２情報記録層２８のうち、第２プリグルーブ１６のランド３６に対応した部分に情報が記録される。
【００５０】
従って、第１情報記録層２２と第２情報記録層２８との間に中間層２０を介在させることによって、第１情報記録層２２に記録された情報と第２情報記録層２８に記録された情報の干渉を防ぎ、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８で良好な記録再生信号を得ることができる。
【００５１】
ところで、第１情報記録層２２に対する情報の記録においては、レーザ光３２が照射される方向から見て第１プリグルーブ１２と第１情報記録層２２がこの順番で形成された形となっているため、第１プリグルーブ１２がウォブリングされている場合は、そのウォブリング形状を再生用のレーザ光にて確実に検出することができる。
【００５２】
一方、第２情報記録層２８に対する情報の記録においては、レーザ光３２が照射される方向から見て第２情報記録層２８と第２プリグルーブ１６がこの順番で形成された形となっているため、第２プリグルーブ１６がウォブリングされている場合は、第２情報記録層２８に記録されたピットによってウォブリング形状が一部隠れてしまい、再生用のレーザ光にて確実に検出することができないという不都合が生じる場合がある。
【００５３】
そこで、この第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａは、第２基板１８の表面に形成された第２プリグルーブ１６の形状を以下のように構成するようにして、第２プリグルーブ１６のウォブリングを確実に検出できるようにしている。もちろん、第１基板１４の表面に形成された第１プリグルーブ１２の形状も以下のように構成してもよい。
【００５４】
すなわち、図４に示すように、第２プリグルーブ１６の一部を拡大して示すように、第２プリグルーブ１６は複数の蛇行部４０を有する。図４では、代表的に１つの蛇行部４０を示す。また、この図４では、１つのランド３６と、該ランド３６の両側に配された第１グルーブ４２ａ及び第２グルーブ４２ｂを示す。
【００５５】
蛇行部４０は、ランド３６の一方に隣接する第１グルーブ４２ａに向けて湾曲する第１湾曲部分４４と、当該ランド３６の他方に隣接する第２グルーブ４２ｂから当該ランド３６に向けて湾曲する第２湾曲部分４６とを有する。
【００５６】
そして、第１湾曲部分４４の第１グルーブ４２ａに対する突出量をＴ１としたとき、
１００ｎｍ＜Ｔ１＜２００ｎｍ                    ……（１）
を満足するように形成されている。
【００５７】
あるいは、第１湾曲部分４４の第１グルーブ４２ａに対する突出面積（斜線で示す領域）をＡ１としたとき、
２．８×１０4ｎｍ2＜Ａ１＜１．６×１０5ｎｍ2    ……（２）
を満足するように形成されている。
【００５８】
もちろん、（１）式と（２）式を満足するようにしてもよい。
【００５９】
また、第１湾曲部分４４の第１グルーブ４２ａに対する突出量をＴ１、第２湾曲部分４６の当該ランド３６に対する突出量をＴ２としたとき、
０．８＜Ｔ１／Ｔ２＜２．０                      ……（３）
を満足するように形成してもよい。
【００６０】
この場合、（２）式と（３）式を満足するように、あるいは（１）式と（３）式を満足するように、あるいは、（１）式、（２）式及び（３）式を満足するように形成するようにしてもよい。
【００６１】
ここで、当該ランド３６の幅をＷｇ、蛇行部４０の長さをＬｗ、蛇行部４０の第１湾曲部分４４の頂点から第２湾曲部分４６の頂点までの距離をＷｐとしたとき、
３５０ｎｍ≦Ｗｇ≦４６０ｎｍ                      ……（４）
７００ｎｍ≦Ｌｗ≦１０００ｎｍ                    ……（５）
７００ｎｍ≦Ｗｐ≦１０００ｎｍ                    ……（６）
を満足することが好ましい。
【００６２】
これにより、記録用のレーザ光３２及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第２情報記録層２８と第２プリグルーブ１６がこの順番で形成された光ディスク１０Ａであっても、第２プリグルーブ１６の蛇行部４０を確実に検出することができ、第２情報記録層２８への情報記録を安定に行うことができる。
【００６３】
ここで、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法について図１〜図３、図５を参照しながら説明する。
【００６４】
まず、図５のステップＳ１において、第１基板１４を作製するための第１スタンパを作製する。この場合、第１スタンパとなる第１原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第１スタンパを作製する。例えば第１原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第１スタンパを作製する。
【００６５】
このとき、出来上がる第１スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第１基板１４を形成した際に、該第１基板１４の表面に第１プリグルーブ１２が形成されるように、第１原板にマスタリングを行って第１スタンパを作製する。
【００６６】
また、図５のステップＳ２において、第２基板１８を作製するための第２スタンパを作製する。この場合、第２スタンパとなる第２原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第２スタンパを作製する。例えば第２原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第２スタンパを作製する。
【００６７】
このとき、出来上がる第２スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第２基板１８を形成した際に、該第２基板１８の表面に、上述した少なくとも（１）式、（２）式のいずれかを満足し、さらに好ましくは（４）式〜（６）式を満足する蛇行部４０を有する第２プリグルーブ１６が形成されるように、第２原板にマスタリングを行って第２スタンパを作製する。
【００６８】
その後、図５のステップＳ３において、第１スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することによって、第１基板１４を作製する。このとき、第１基板１４の表面に第１スタンパの凹凸が転写されて、第１プリグルーブ１２が形成される。
【００６９】
また、図５のステップＳ４において、第２スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって、第２基板１８を作製する。このとき、第２基板１８の表面に第２スタンパの凹凸が転写されて、上述した少なくとも（１）式、（２）式のいずれかを満足し、さらに好ましくは（４）式〜（６）式を満足する蛇行部４０を有する第２プリグルーブ１６が形成される。
【００７０】
なお、上述の例では、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形して第１基板１４及び第２基板１８を作製するようにしたが、以下のように平坦面とされた第１基板１４と第２基板１８の表面にそれぞれプリグルーブ層を形成して、第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６を形成するようにしてもよい。
【００７１】
プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プリグルーブ層の形成は、例えば第１基板１４についてみると、第１スタンパ上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に第１基板１４を載せたのち、第１基板１４又は第１スタンパを介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて第１基板１４と塗布層とを固着させる。次いで、第１基板１４を第１スタンパから剥離することにより、表面に第１プリグルーブ１２が形成されたプリグルーブ層が固着された第１基板１４を得ることができる。これは、第２基板１８についても同様であり、第２スタンパを使用することによって、表面に第２プリグルーブ１６が形成されたプリグルーブ層が固着された第２基板１８を得ることができる。
【００７２】
その後、図５のステップＳ５において、第１基板１４の表面に第１情報記録層２２を形成し、次いで、第１情報記録層２２上に半透明反射層２４を形成する。
【００７３】
また、図５のステップＳ６において、第２基板１８の表面に反射層２６を形成し、次いで、反射層２６上に第２情報記録層２８を形成し、さらに、第２情報記録層２８上にバリア層３０を形成する。
【００７４】
その後、図５のステップＳ７において、第１基板１４と第２基板１８を貼り合わせる。このとき、第１基板１４上に形成された第１情報記録層２２と第２基板１８上に形成された第２情報記録層２８とを対向させ、さらに、これら第１基板１４と第２基板１８との間に中間層２０を介在させて貼り合わせる。この貼り合わせによって、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが完成する。
【００７５】
このように、第２スタンパ及び第２基板１８を用いて光ディスク１０Ａを製造することによって、記録用のレーザ光３２及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第２情報記録層２８と第２プリグルーブ１６がこの順番で形成された光ディスクであって、第２プリグルーブ１６の蛇行部４０を確実に検出することができ、第２情報記録層２８への情報記録を安定に行うことができる第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａを容易に製造することができる。
【００７６】
上記光ディスクは、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒとして好適である。この場合、ＤＶＤ−Ｒでは、グルーブは１００〜２００ＫＨｚでウォブリングされており、ＤＶＤ＋Ｒでは、グルーブは８００〜９００ＫＨｚでウォブリングされている。
【００７７】
次に、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂについて図６を参照しながら説明する。
【００７８】
この第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂは、上述した第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａとほぼ同様の構成を有するが、第２基板１８の表面は平坦面で、代わりに中間層２０とバリア層３０との界面に凹凸が形成され、この凹凸が反射層２６の表面に反映されて第２情報記録層２８の第２プリグルーブ１６として機能している点と、反射層２６と第２基板１８との間に接着層４８が介在されている点で異なる。
【００７９】
この第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂにおいても、記録用のレーザ光３２及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第２情報記録層２８と第２プリグルーブ１６がこの順番で形成された光ディスクであっても、第２プリグルーブ１６の蛇行部４０を確実に検出することができ、第２情報記録層２８への情報記録を安定に行うことができる。なお、性能的には、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの方が好ましい。
【００８０】
ここで、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂの製造方法について図６及び図７を参照しながら説明する。
【００８１】
まず、図７のステップＳ１０１において、第１基板１４を作製するための第１スタンパを作製する。このステップＳ１０１は、上述したステップＳ１と同様の処理を行うため、その重複説明を省略する。
【００８２】
また、図７のステップＳ１０２において、第２基板１８を作製するための第２スタンパを作製する。このとき、出来上がる第２スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形することによって第２基板１８を形成した際に、該第２基板１８の表面が平坦面となるように、第２スタンパを作製する。
【００８３】
また、図７のステップＳ１０３において、中間層２０の表面に凹凸を形成するための第３スタンパを作製する。この場合、第３スタンパとなる第３原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第３スタンパを作製する。例えば第３原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第３スタンパを作製する。
【００８４】
このとき、出来上がる第３スタンパにて中間層２０の表面に凹凸を形成し、さらに中間層２０上にバリア層３０、第２情報記録層２８及び反射層２６を形成した際に、該反射層２６の表面に、上述した少なくとも（１）式、（２）式のいずれかを満足し、さらに好ましくは（４）式〜（６）式を満足する蛇行部４０を有する第２プリグルーブ１６が形成されるように、第３原板にマスタリングを行って第３スタンパを作製する。
【００８５】
その後、図７のステップＳ１０４において、第１スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第１基板１４を作製する。このとき、第１基板１４の表面に第１スタンパの凹凸が転写されて、第１プリグルーブ１２が形成される。
【００８６】
また、図７のステップＳ１０５において、第２スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第２基板１８を作製する。このとき、表面が平坦面とされた第２基板１８（図６参照）が作製される。
【００８７】
その後、図７のステップＳ１０６において、第１基板１４の表面に第１情報記録層２２を形成し、次いで、第１情報記録層２２上に半透明反射層２４を形成し、さらに、半透明反射層２４上に中間層２０を形成する。
【００８８】
その後、図７のステップＳ１０７において、第１基板１４上に形成された中間層２０に対して、第３スタンパを押圧する。このとき、中間層２０の表面に第３スタンパの凹凸が転写される。
【００８９】
その後、図７のステップＳ１０８において、中間層２０上にバリア層３０を形成し、次いで、バリア層３０上に第２情報記録層２８を形成し、さらに、第２情報記録層２８上に反射層２６を形成する。このとき、反射層２６は、中間層２０の凹凸が反映されて形成され、上述した少なくとも（１）式、（２）式のいずれかを満足し、さらに好ましくは（４）式〜（６）式を満足する蛇行部４０を有する第２プリグルーブ１６が形成される。
【００９０】
その後、図７のステップＳ１０９において、反射層２６上に接着層４８を形成し、次いで、接着層４８上に第２基板１８を接着することにより、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂが完成する。
【００９１】
このように、第３スタンパを用いて光ディスク１０Ｂを製造することによって、記録用のレーザ光３２及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て第２情報記録層２８と第２プリグルーブ１６がこの順番で形成された光ディスクであって、第２プリグルーブ１６の蛇行部４０を確実に検出することができ、第２情報記録層２８への情報記録を安定に行うことができる第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂを容易に製造することができる。
【００９２】
次に、第１及び第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ａ及び１０Ｂを構成する各層の材質等について説明する。
【００９３】
まず、第１基板１４及び第２基板１８としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
【００９４】
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【００９５】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００９６】
これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１４及び第２基板１８を作製することができる。
【００９７】
また、第１基板１４及び第２基板１８の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であり、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００９８】
また、第１基板１４に形成される第１プリグルーブ１２並びに第２基板１８に形成される第２プリグルーブ１６のトラックピッチは、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２６０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【００９９】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の幅（半値幅）は、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２３ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、８０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１００ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１００】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の（溝）深さは、上限値が１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２８ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１０１】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。
【０１０２】
なお、第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６に関する上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
【０１０３】
これら第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。
【０１０４】
そして、例えば第１プリグルーブ１２の角度とは、第１プリグルーブ１２の溝深さをＤとした時、溝形成前の第１基板１４の表面を基準とし、その表面からＤ／１０の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と、第１基板１４の面（溝部の底面）とのなす角度である。これは、第２プリグルーブ１６の角度も同様である。
【０１０５】
また、第１及び第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ａ及び１０Ｂが、再生専用の光ディスクである場合、上記の第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６を形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。
【０１０６】
なお、第１基板１４及び第２基板１８の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
【０１０７】
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
【０１０８】
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１０９】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましい。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。
【０１１０】
中でも、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８であることが好ましい。色素型の第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、中でも、オキソノール色素が好ましい。オキソノール色素を含有させることで長期間にわたり安定した記録再生特性の維持を実現することができる。
【０１１１】
ここで、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８にて使用されるオキソノール色素について説明する。
【０１１２】
オキソノール色素の具体例としては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ、１９６４年刊に記載のもの等が挙げられる。
【０１１３】
オキソノール色素は、該当する活性メチレン化合物とメチン源（メチン染料にメチン基を導入するために用いられる化合物）との縮合反応によって合成することができる。
【０１１４】
この種の化合物についての詳細は、特公昭３９−２２０６９号公報、同４３−３５０４号公報、同５２−３８０５６号公報、同５４−３８１２９号公報、同５５−１００５９号公報、同５８−３５５４４号公報、特開昭４９−９９６２０号公報、同５２−９２７１６号公報、同５９−１６８３４号公報、同６３−３１６８５３号公報、同６４−４０８２７号公報、並びに英国特許第１１３３９８６号明細書、米国特許第３２４７１２７号明細書、同４０４２３９７号明細書、同４１８１２２５号明細書、同５２１３９５６号明細書、同５２６０１７９号明細書を参照することができる。また、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−３０９８７１号公報、特開２００２−２４９６７４号公報にも記載されている。
【０１１５】
オキソノール色素は、単独で用いてもよく、あるいは２種以上を併用してもよい。また、既述のオキソノール色素とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。併用する色素は、アゾ色素（金属イオンとの錯体化したものを含む）、ピロメテン色素、シアニン色素等が例として挙げられる。
【０１１６】
色素は、熱分解温度が１００℃〜３５０℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、１５０℃〜３００℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、２００℃から３００℃の範囲にあるものが好ましい。
【０１１７】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８に用いる色素（「既述のオキソノール色素」又は「既述のオキソノール色素及びこれと併用する色素」）のアモルファス膜の光学特性上、複素屈折率の係数ｎ（実部：屈性率）、ｋ（虚部：消衰係数）は、好ましくは、２．０≦ｎ≦３．０、０．００５≦ｋ≦０．３０である。さらに好ましくは、２．１≦ｎ≦２．７、０．０１≦ｋ≦０．１５である。最も好ましくは、２．１５≦ｎ≦２．５０、０．０３≦ｋ≦０．１０である。
【０１１８】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８には、さらに耐光性を向上させるための種々の褪色防止剤を含有することができる。褪色防止剤の代表例としては、特開平３−２２４７９３号公報に記載の一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）もしくは（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平２−３００２８７号公報や特開平２−３００２８８号公報に示されているニトロソ化合物、特開平１０−１５１８６１号公報に示されているＴＣＮＱ誘導体等を挙げることができる。
【０１１９】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の形成は、既述のオキソノール色素、さらに所望によりクエンチャ、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第１基板１４の表面及び第２基板１８の表面に塗布して塗膜を形成したのち、乾燥することにより行うことができる。前記塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
【０１２０】
上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１２１】
結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。
【０１２２】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、既述のオキソノール色素を始めとした色素の量に対して一般に０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の色素濃度は一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１２３】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８はそれぞれ単層でも重層でもよい。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
【０１２４】
次に、半透明反射層２４及び反射層２６について説明すると、反射層２６の材料である光反射性物質は、レーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。
【０１２５】
これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼であり、特に好ましいものはＡｇである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組み合わせで、又は合金として用いてもよい。反射層２６は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより第１情報記録層２２上、第２情報記録層２８上及び第２基板１８上に形成することができる。
【０１２６】
そして、半透明反射層２４の層厚は、２〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。また、反射層２６の層厚は、一般には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
【０１２７】
次に、バリア層３０は、第２情報記録層２８等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる。このバリア層３０は、第１基板１４や第２基板１８のうち、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８が設けられていない部分にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
【０１２８】
バリア層３０に用いられる材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質；を挙げることができる。
【０１２９】
バリア層３０は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けることができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を使用する場合には、これらを適当な溶剤に溶解した塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。バリア層３０の層厚は、一般には１ｎｍ〜１０μｍの範囲にある。
【０１３０】
次に、中間層２０は、上述したように、少なくとも第１情報記録層２２と第２情報記録層２８との間に設けられる。
【０１３１】
中間層２０及び接着層４８の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、感圧式両面テープ等や、ＳｉＯ2等の無機材料等が挙げられる。また、これらの材料を単独又は混合してもよいし、一層だけではなく多層膜にして用いてもよい。このような中間層２０は、スピンコート法やキャスト法、スパッタ法により形成することができる。中間層２０の厚みは、５〜１００μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０〜７０μｍである。
【実施例１】
【０１３２】
ここで、実施例１〜５と比較例１〜３について、ＡＲ（アパーチャレシオ：％）とＰＩＥ（ＰＩエラー：個）についての評価を行った実験例について説明する。
【０１３３】
まず、実施例１〜５、比較例１〜３の内容は以下のとおりである。
【０１３４】
（実施例１）
第１スタンパを使用してポリカーボネート樹脂を射出成形することにより、スパイラル状の第１プリグルーブ１２（深さ１２０ｎｍ、溝幅３６５ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．５７５ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形し、これを第１情報記録層２２を形成するための第１基板１４とした。
【０１３５】
その後、以下の化学式（化１）で示されるオキソノール色素と、以下の化学式（化２）で示されるオキソノール色素を９０：１０の比率で混合し、この混合色素１．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第１基板１４の第１プリグルーブ１２が形成されている面上に塗布して第１情報記録層２２を形成した。
【０１３６】
【化１】
2007141340.tif 000003
【０１３７】
【化２】
2007141340.tif 000004
【０１３８】
次に、第１情報記録層２２上に、ＡｇＢｉＮｄ合金（ターゲット組成：Ａｇ＝９９．４５ａｔ％、Ｎｄ＝０．３５ａｔ％、Ｃｕ＝０．２０ａｔ％）をスパッタして層厚１３ｎｍの半透明反射層２４を形成した。これにより、第１情報記録層２２を有する第１基板１４を得た。
【０１３９】
一方、第２スタンパを使用してポリカーボネート樹脂を射出成形することにより、スパイラル状の第２プリグルーブ１６（深さ３０ｎｍ、ランドの幅４４０ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．６００ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形し、これを第２情報記録層２８を形成するための第２基板１８とした。
【０１４０】
この実施例１では、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状は、上述した（１）式におけるＴ１が１２０ｎｍ、（３）式におけるＴ２が１１０ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗが８００ｎｍであり（Ｔ１／Ｔ２＝約１．０９１）、第２スタンパに形成された凹凸の形状は、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値が１３８ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値が１２７ｎｍであった（Ｔ１／Ｔ２＝約１．０８７）。
【０１４１】
すなわち、この実施例１は、少なくとも上述した（１）式、（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１４２】
次に、第２基板１８の第２プリグルーブ１６が形成されている面上に、ＡｇＢｉＮｄ合金（ターゲット組成：Ａｇ＝９９．４５ａｔ％、Ｎｄ＝０．３５ａｔ％、Ｃｕ＝０．２０ａｔ％）をスパッタして層厚１２０ｎｍの反射層２６を形成した。
【０１４３】
さらに、上述した化学式（化１）で示されるオキソノール色素２．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第２基板１８の反射層２６が形成されている面上にレーザ光の最長波長λｍａｘにおける吸光度＝１．１０として塗布して第２情報記録層２８を形成した。
【０１４４】
次いで、第２情報記録層２８上に色素保護として、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3（ターゲット組成：ＺｎＯ＝３０ｗｔ％、Ｇａ2Ｏ3＝７０ｗｔ％）をＲＦスパッタして層厚５ｎｍのバリア層３０を形成した。これにより、第２情報記録層２８を有する第２基板１８を得た。
【０１４５】
その後、紫外線硬化樹脂（ダイキュアクリアＳＤ６４０  大日本インキ化学工業製）を接着剤として用いて、第１基板１４と第２基板１８を貼り合わせて光ディスクを得た。この接着剤の層、すなわち、中間層２０の厚さは５０μｍであった。
【０１４６】
（実施例２）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を１５０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を１００ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを８００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．５）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を１７３ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を１１５ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．５０４）。
【０１４７】
すなわち、この実施例２は、少なくとも上述した（１）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１４８】
（実施例３）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を１９０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を１６０ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを８００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．１８６）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を２１９ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を１８４ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．１９０）。
【０１４９】
すなわち、この実施例３は、少なくとも上述した（１）式、（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１５０】
（実施例４）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を１５０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を１３０ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを９００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．１５４）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を１７３ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を１５０ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．１５３）。
【０１５１】
すなわち、この実施例３は、少なくとも上述した（１）式、（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１５２】
（実施例５）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を１５０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を１１０ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを１０００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．３６４）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を１７３ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を１２７ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．３６２）。
【０１５３】
すなわち、この実施例５は、少なくとも上述した（１）式、（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１５４】
（比較例１）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を８０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を７０ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを９００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．１４３）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を９２ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を８０．５ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．１４３）。
【０１５５】
すなわち、この比較例１は、少なくとも上述した（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１５６】
（比較例２）
実施例１において、第２基板１８に形成された第２プリグルーブ１６の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１を２２０ｎｍ、（３）式におけるＴ２を２００ｎｍ、蛇行部４０の長さＬｗを９００ｎｍとし（Ｔ１／Ｔ２＝１．１）、第２スタンパに形成された凹凸の形状のうち、上述した（１）式におけるＴ１に対応する値を２５３ｎｍ、（３）式におけるＴ２に対応する値を２３０ｎｍとした（Ｔ１／Ｔ２＝約１．１）。
【０１５７】
すなわち、この比較例２は、少なくとも上述した（３）式、（４）式及び（５）式を満足する。
【０１５８】
（評価）
そして、ＤＤＵ−１０００及びマルチシグナルジェネレータ（パルステック社製：レーザ波長＝６５９．８ｎｍ、対物レンズの開口数＝０．６０）を用いて、線速度を７．６８〜３０．７２ｍ／ｓｅｃとして、８−１６変調信号を記録し、プッシュプル信号の評価、すなわち、アパーチャレシオ（ＡＲ）の評価を行った。使用した記録レーザ発光パターンは（記録ストラテジ）は、各光ディスクに対して最適化した。
【０１５９】
その後、ＤＤＵ−１０００（パルステック社製：レーザ波長＝６５１．０ｎｍ、対物レンズの開口数＝０．６０）を用いて、線速度を３．８４ｍ／ｓｅｃとして、再生を行い、ＰＩエラーを評価した。
【０１６０】
図８に実施例１〜５、比較例１〜３のアパーチャレシオ（ＡＲ）とＰＩエラーの評価結果を示す。
【０１６１】
比較例１は、ＰＩエラーについては規格値の２８０個未満となっているが、（１）式を満足していないことから、ＡＲが０％であり、極端に低くなっている。
【０１６２】
比較例２は、ＡＲについては規格値の１０％以上となっているが、（１）式を満足していないことから、ＰＩエラーが８５３個であり、極端に多くなっている。
【０１６３】
これに対して、少なくとも（１）式、（４）式及び（５）式を満足する実施例１〜５については、アパーチャレシオ（ＡＲ）が規格値の１０％以上であり、しかも、ＰＩエラーも規格値の２８０個未満となっている。このことから、実施例１〜５については、互いにトレードオフの関係にあるＡＲ及びＰＩエラーが共に良好な値であり、良好なバランス関係となっている。これは、第２情報記録層２８への情報記録を安定に行うことができることを示している。なお、これら実施例１〜５においては、２倍速記録（線速度７．６８ｍ／ｓｅｃ）における変調度は０．５０以上、０．６３以下であった。
【０１６４】
なお、本発明に係る光情報記録媒体、光情報記録媒体用の基板、スタンパ、光情報記録媒体の製造方法及びスタンパの製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】第１の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図２】第１基板を示す断面図である。
【図３】第２基板を示す断面図である。
【図４】第２プリグルーブに形成される蛇行部の形状を示す説明図である。
【図５】第１の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図６】第２の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図７】第２の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図８】実施例１〜５、比較例１〜３のアパーチャレシオ（ＡＲ）とＰＩエラー（ＰＩＥ）の評価結果を示す表図である。
【符号の説明】
【０１６６】
１０Ａ、１０Ｂ…光ディスク              １２…第１プリグルーブ
１４…第１基板                          １６…第２プリグルーブ
１８…第２基板                          ２０…中間層
２２…第１情報記録層                    ２８…第２情報記録層
３６…ランド                            ４０…蛇行部
４２ａ…第１グルーブ                    ４２ｂ…第２グルーブ
４４…第１湾曲部分                      ４６…第２湾曲部分
【図１】
2007141340.tif 000005
【図２】
2007141340.tif 000006
【図３】
2007141340.tif 000007
【図４】
2007141340.tif 000008
【図５】
2007141340.tif 000009
【図６】
2007141340.tif 000010
【図７】
2007141340.tif 000011
【図８】
2007141340.tif 000012