(57)【要約】【課題】容易、迅速、かつ確実に、ローラの外周面を洗浄することができる塗布装置を提供すること。【解決手段】塗布装置１は、液状材料をワークに塗布するローラを含む少なくとも１つのローラを有し、液状材料を前記ローラの外周面に供給し、該ローラの外周面の液状材料をワークに接触させて塗布する塗布装置であって、前記ローラの外周面を洗浄する洗浄手段を有し、前記洗浄手段は、所定のガスを供給するガス供給手段と、放電を生じさせる放電手段とを有し、前記所定のガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、該プラズマにより前記ローラの外周面を洗浄するよう構成されている。【選択図】図１
2007160207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液状材料をワークに塗布するローラを含む少なくとも１つのローラを有し、液状材料を前記ローラの外周面に供給し、該ローラの外周面の液状材料をワークに接触させて塗布する塗布装置であって、
前記ローラの外周面を洗浄する洗浄手段を有し、
前記洗浄手段は、所定のガスを供給するガス供給手段と、放電を生じさせる放電手段とを有し、前記所定のガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、該プラズマにより前記ローラの外周面を洗浄するよう構成されていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ガス供給手段は、前記ローラの外周面付近にガスを供給し、前記放電手段は、前記ローラの外周面付近に放電を生じさせるものであり、
前記洗浄手段は、前記ガス供給手段および前記放電手段により、前記ローラの外周面付近にプラズマを発生させるよう構成されている請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記放電手段は、互いに対向する１対の電極と、該１対の電極間に電圧を印加する電源部とを有し、
前記１対の電極のうちの一方の電極は、前記ローラの外周面または外周面の近傍の部位で構成されている請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記１対の電極のうちの他方の電極の前記ローラに対向する面は、前記ローラの外周面に対向した湾曲形状をなしている請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記洗浄手段は、生成されたプラズマを放出する放出部を有し、該放出部は、前記ローラの外周面に対向した位置に配置されている請求項１に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記放電手段は、互いに対向する１対の電極と、該１対の電極間に電圧を印加する電源部とを有する請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記各電極の互いに対向する面に、絶縁層が設けられている請求項３、４、６のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項８】
前記ローラの外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段を有する請求項１ないし７のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項９】
前記回収手段は、前記ローラの外周面のうちの前記プラズマにより洗浄される部位を覆い、前記洗浄に用いられたガスを収集する収集部を有する請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記ローラの少なくとも外周面を加熱する加熱手段を有し、
前記ローラの外周面を洗浄する際は、前記加熱手段により、該ローラの外周面を加熱するよう構成されている請求項１ないし９のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記洗浄手段は、前記ローラの外周面を洗浄する機能の他に、前記ローラの外周面の改質を行う機能を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記ローラの外周面の改質においては、前記供給するガスの選択により、前記ローラの外周面に対して親液処理または撥液処理が施されるよう構成されている請求項１１に記載の塗布装置。
【請求項１３】
前記ローラとして、液状材料をワークに塗布する塗布ローラと、該塗布ローラの外周面に、液状材料を貯留する貯留部からその液状材料を供給する液状材料供給用ローラとを有し、
前記塗布ローラと、前記液状材料供給用ローラとの少なくとも一方に、その外周面を洗浄する前記洗浄手段が設けられている請求項１ないし１２のいずれかに記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板（ワーク）上に液状材料（例えば、レジスト材料、絶縁材料等）を塗布する塗布装置として、液状材料をローラの外周面に供給し、そのローラにより基板に液状材料を塗布するロールコーター（ロールコート式の塗布装置）が知られている（例えば、特許文献１参照）。
このようなロールコーターのローラの外周面の洗浄は、薬液を用いたウェット（ＷＥＴ）方式が主流である。
【０００３】
しかしながら、従来のロールコーターにおいて、ウェット方式でローラの外周面の洗浄を行う場合は、手作業が多く、例えば、下記（１）〜（６）の欠点がある。
（１）薬液の使用量が多く、洗浄後の廃液処理が必要である。
（２）洗浄不良が生じ易い。例えば、残渣が生じたり、また、洗浄の際に使用する洗浄用布やベンコットン等よりゴミ（例えば、ケバ等）が発生し、そのゴミがローラの外周面に付着することがある。ゴミがローラの外周面に付着した状態で液状材料を塗布すると、不要品が生じたり、また、製品に悪影響を及ぼす。
（３）ローラが装置に取り付けられた状態では洗浄を行うことができない。すなわち、洗浄の際は、まず、ローラを装置から取り外す必要があり、洗浄後、ローラを装置に取り付ける必要があり、手間と時間がかかる。
（４）洗浄後に、ローラを乾燥させる工程（乾燥工程）が必要であり、手間と時間がかかる。
（５）洗浄の際は、装置を完全に停止させる必要がある。
（６）装置には、液状材料を基板に塗布する塗布ローラの他に、塗布ローラに付着した液状材料を掻き落とす掻き落としローラ等が設けられている場合があるが、その掻き落としローラの外周面は、撥液性を有しているのが好ましく、例えば樹脂やゴム等で構成されており、このため、液状材料により、腐食、劣化、化学的反応等が生じ、その撥液性が低下してくる。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３４０３３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、容易、迅速、かつ確実に、ローラの外周面を洗浄することができる塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の塗布装置は、液状材料をワークに塗布するローラを含む少なくとも１つのローラを有し、液状材料を前記ローラの外周面に供給し、該ローラの外周面の液状材料をワークに接触させて塗布する塗布装置であって、
前記ローラの外周面を洗浄する洗浄手段を有し、
前記洗浄手段は、所定のガスを供給するガス供給手段と、放電を生じさせる放電手段とを有し、前記所定のガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、該プラズマにより前記ローラの外周面を洗浄するよう構成されていることを特徴とする。
これにより、容易、迅速、かつ確実に、ローラの外周面を洗浄（アッシング）することができる。
【０００７】
すなわち、洗浄手段は、プラズマを利用したドライ（ＤＲＡ）方式であるので、ウェット方式のような薬液が不要であり、廃液処理やノズルの乾燥工程が不要である。
また、洗浄の際、ウェット方式のように洗浄用布やベンコットン等より発生するゴミ（例えば、ケバ等）がローラの外周面に付着することがなく、ローラの外周面を確実に洗浄することができる。
【０００８】
また、塗布装置自体が洗浄手段を有しているので、ローラを取り外すことなく（ローラを取り付けた状態で）、ローラの外周面を洗浄することができ、また、別途、洗浄のための設備を設ける必要がない。
また、塗布装置を停止させずに（例えば、液状材料をワークに塗布している最中でも）、ローラの外周面を洗浄することもできる。
【０００９】
本発明の塗布装置では、前記ガス供給手段は、前記ローラの外周面付近にガスを供給し、前記放電手段は、前記ローラの外周面付近に放電を生じさせるものであり、
前記洗浄手段は、前記ガス供給手段および前記放電手段により、前記ローラの外周面付近にプラズマを発生させるよう構成されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面付近においてプラズマが発生するので、洗浄処理レートが高く、洗浄時間（処理時間）を短くすることができる。
【００１０】
本発明の塗布装置では、前記放電手段は、互いに対向する１対の電極と、該１対の電極間に電圧を印加する電源部とを有し、
前記１対の電極のうちの一方の電極は、前記ローラの外周面または外周面の近傍の部位で構成されていることが好ましい。
これにより、より確実にローラの外周面を洗浄することができ、また、部品点数を削減することができる。
【００１１】
本発明の塗布装置では、前記１対の電極のうちの他方の電極の前記ローラに対向する面は、前記ローラの外周面に対向した湾曲形状をなしていることが好ましい。
これにより、電極間に均一に放電を生じさせることができ、良好なプラズマを発生させることができる。
本発明の塗布装置では、前記洗浄手段は、生成されたプラズマを放出する放出部を有し、該放出部は、前記ローラの外周面に対向した位置に配置されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面付近以外の部位でプラズマが発生するので、ローラの外周面の損傷（ダメージ）を防止することができ、また、ローラ（ローラの外周面）の材質等の選択の幅が広がる。
【００１２】
本発明の塗布装置では、前記放電手段は、互いに対向する１対の電極と、該１対の電極間に電圧を印加する電源部とを有することが好ましい。
これにより、良好なプラズマを発生させることができる。
本発明の塗布装置では、前記各電極の互いに対向する面に、絶縁層が設けられていることが好ましい。
これにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好（均一）なグロー放電（バリア放電）を生じさせることができるので、良好なプラズマを発生させることができる。
【００１３】
本発明の塗布装置では、前記ローラの外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段を有することが好ましい。
これにより、洗浄に用いられたガスを確実に回収することができ、そのガスに含まれる有機物が再びローラの外周面に付着してしまうのを防止することができる。また、回収されたガスを所定の場所へ排出することもできる。
【００１４】
本発明の塗布装置では、前記回収手段は、前記ローラの外周面のうちの前記プラズマにより洗浄される部位を覆い、前記洗浄に用いられたガスを収集する収集部を有することが好ましい。
これにより、洗浄に用いられたガスをより確実に回収することができる。
本発明の塗布装置では、前記ローラの少なくとも外周面を加熱する加熱手段を有し、
前記ローラの外周面を洗浄する際は、前記加熱手段により、該ローラの外周面を加熱するよう構成されていることが好ましい。
これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間（処理時間）を短くすることができる。
【００１５】
本発明の塗布装置では、前記洗浄手段は、前記ローラの外周面を洗浄する機能の他に、前記ローラの外周面の改質を行う機能を有することが好ましい。
これにより、容易かつ迅速に、ローラの外周面の改質を行うことができ、これによって、ローラの性能を向上させることができる。
本発明の塗布装置では、前記ローラの外周面の改質においては、前記供給するガスの選択により、前記ローラの外周面に対して親液処理または撥液処理が施されるよう構成されていることが好ましい。
これにより、ローラの外周面のぬれ性を高くしたり、または、低くすることができる。
【００１６】
例えば、ローラの外周面に対して親液処理を施すことにより、ローラの外周面のぬれ性が高まり、これにより、ワークに、均一かつ安定的に液状材料を塗布することができる。
また、例えば、掻き落としローラ等、その外周面が撥液性を有しているのが好ましいローラの外周面に対して、容易に撥液処理を施すことができ、そのローラの外周面のぬれ性を低下させることができる。
【００１７】
本発明の塗布装置では、前記ローラとして、液状材料をワークに塗布する塗布ローラと、該塗布ローラの外周面に、液状材料を貯留する貯留部からその液状材料を供給する液状材料供給用ローラとを有し、
前記塗布ローラと、前記液状材料供給用ローラとの少なくとも一方に、その外周面を洗浄する前記洗浄手段が設けられていることが好ましい。
これにより、塗布ローラや液状材料供給用ローラの外周面を、容易、迅速、かつ確実に洗浄することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の塗布装置を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の塗布装置の第１実施形態を模式的に示す断面図（一部ブロック図を含む）である。なお、以下の説明では、図１中の上側を「上」、下側を「下」、左側を「左」、右側を「右」と言い、図１中の上下方向を「鉛直方向」、左右方向を「水平方向」と言う。
【００１９】
図１に示すように、塗布装置１は、例えばシリコンウエハのような半導体基板等の基板（ワーク）５に液状材料を塗布する塗布ローラ（ローラ）３と、塗布ローラ３の外周面（表面）に液状材料を供給する液状材料供給用ローラ（ローラ）４とを備えており、液状材料供給用ローラ４により液状材料を貯留する貯留部２からその液状材料を塗布ローラ３の外周面に供給し、塗布ローラ３の外周面の液状材料を基板５に接触させて、その基板５上（基板５の表面）に塗布する塗布装置である。
【００２０】
塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４は、それぞれ、正逆両方向に回転可能に設けられている。また、塗布ローラ３と、液状材料供給用ローラ４とは、互いの外周面同士が所定距離離間するように、水平方向に沿って並設されている。この塗布ローラ３の外周面と、液状材料供給用ローラ４の外周面との間の間隙により、液状材料供給用ローラ４から塗布ローラ３の外周面に供給される液状材料の厚みが規制され、これによって、塗布ローラ３により基板５に塗布される液状材料（塗膜）の厚み（膜厚）が規制される。なお、塗布ローラ３の外周面と、液状材料供給用ローラ４の外周面との間の間隙の長さ（距離）は、図示しない調整機構により調整し得るようになっている。
【００２１】
本実施形態では、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の位置がそれぞれ固定され、基板５がこれら塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４に対して移動する形態（方式）を採用しており、塗布装置１は、基板５を水平方向に移動させる図示しない搬送装置と、塗布ローラ３を回転させる図示しない駆動装置と、液状材料供給用ローラ４を回転させる図示しない駆動装置とを備えている。
【００２２】
塗布ローラ３は、略円柱状をなしており、その外周面（表面）は、互いに対向する１対の電極のうちの一方の電極（対向電極）を構成している。この場合、例えば、塗布ローラ３の外周部のみが、前記一方の電極を構成するようになっていてもよく、また、塗布ローラ３の略全体が、前記一方の電極を構成するようになっていてもよい。
塗布ローラ３の上方には、前記１対の電極のうちの他方の電極（印加電極）６１と、電極６１を支持する支持部６３とが設置されている。
電極６１は、塗布ローラ３の一端部（図１の紙面に対して垂直な方向の一方の端部）から他端部（図１の紙面に対して垂直な方向の他方の端部）まで延在している。
【００２３】
また、電極６１の塗布ローラ３に対向する面（内面）は、塗布ローラ３の外周面に対向した湾曲形状（湾曲面）をなしている。これにより、電極６１と塗布ローラ３の外周面との間の距離（１対の電極間の距離）は、その略全体に渡って略均一（一定）となる。なお、前記電極６１と、前記塗布ローラ３の外周面の電極６１に対向（対応）する部位とは、一対の平行平板型電極を構成している。
【００２４】
前記電極６１および塗布ローラ３側の電極の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
電極６１の塗布ローラ３に対向する面（下面）には、絶縁層６２が設けられている。
また、塗布ローラ３の外周部（外周面）には、絶縁層（図示せず）が設けられているのが好ましい。この場合は、その絶縁層の表面が塗布ローラ３の外周面となるので、前記一方の電極は、塗布ローラ３の外周面より内周側の部位（塗布ローラ３の外周面の近傍の部位）で構成される。
【００２５】
電極６１と塗布ローラ３の外周面との間に所定のガスが供給され、電極６１と塗布ローラ３の外周面との間（１対の電極間）に、所定の電圧、例えば、高周波電圧（電圧）が印加されると、電極６１と塗布ローラ３の外周面の電極６１に対向する部位との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電（バリア放電）が生じ、放電によってガスが活性化（電離、イオン化、励起等）され、プラズマが発生し、このプラズマにより、塗布ローラ３の外周面が洗浄（アッシング）される。
【００２６】
ここで、前記電極６１に絶縁層６２、塗布ローラ３に絶縁層を設けることにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好（均一）なグロー放電を生じさせることができ、これによって良好なプラズマを発生させることができる。
絶縁層６２および塗布ローラ３側の絶縁層の厚みは、それぞれ、厚すぎると、プラズマ（所望の放電）を発生させるために高電圧を要することがあり、また、薄すぎると、電圧印加時に絶縁破壊が起こり、アーク放電が発生することがあるため、０．０１〜４ｍｍであるのが好ましく、１〜２ｍｍであるのがより好ましい。
【００２７】
また、絶縁層６２および塗布ローラ３側の絶縁層の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、石英ガラス等のガラス、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＢａＴｉＯ３（チタン酸バリウム）等の複酸化物等の絶縁体（誘電体）が挙げられる。
ここで、２５℃における比誘電率が１０以上のものである誘電体を用いれば、低電圧で高密度のプラズマを発生させることができ、処理効率が向上する。
【００２８】
また、使用可能な誘電体の比誘電率の上限は特に限定されるものではないが、比誘電率が１０〜１００のものが好ましい。比誘電率が１０以上である誘電体には、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＢａＴｉＯ３等の複酸化物が該当する。
支持部６３は、電極６１に電圧を印加する際、その中継部として機能する。このため、支持部６３の構成材料としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料を用いるのが好ましい。
【００２９】
電極６１は、導線（ケーブル）１１１および支持部６３を介して、塗布ローラ３側の電極は、導線１１１を介して、それぞれ、高周波電源（電源部）１２に接続されており、これにより、回路１１が構成されている。この回路１１は、その一部、すなわち、塗布ローラ３の電極側の導線１１１がアース（接地）されている。なお、塗布ローラ３側の電極と導線１１１とは、例えば、ブラシ等を用いて接続することができる。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極６１と塗布ローラ３側の電極との間に放電を生じさせるときは、高周波電源１２が作動して、電極６１と塗布ローラ３側の電極との間に高周波電圧（電圧）が印加される。
【００３０】
また、高周波電源１２の周波数は、特に限定されないが、１０〜５０ＭＨｚであるのが好ましく、１０〜４０ＭＨｚであるのがより好ましい。
支持部６３、電極６１および絶縁層６２には、その鉛直方向に沿って貫通孔６４が形成されている。
また、塗布装置１は、支持部６３の貫通孔６４の基端（上端）に一端側が接続された供給管１３と、供給管１３の他端側に接続され、所定のガスを供給するガスボンベ（ガス供給源）１４およびガスボンベ１４から供給するガスの流量を調整するレギュレータ（流量調整手段）１５とを有している。レギュレータ１５は、ガスボンベ１４より支持部６３側に設けられている。また、供給管１３のレギュレータ１５より支持部６３側には、供給管１３内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）１６が設けられている。
【００３１】
また、塗布装置１は、塗布ローラ３の外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段７を有している。
回収手段７は、塗布ローラ３の外周面のうちのプラズマ（活性化されたガス）により洗浄される部位を覆い、その洗浄に用いられたガスを収集する収集部７０を有している。
収集部７０は、本実施形態では、支持部６３に中央部が固定され、略四角形をなす上壁７１と、上壁７１の４つの縁部から下方に向って立設された４つの側壁７２とで構成されており、その内側に、電極６１および塗布ローラ３の外周面の電極６１に対向する部位が位置している。収集部７０の上壁７１には、開口が形成されており、上壁７１の外面（上面）には、その開口に連通する貫通孔７４を有する取付部７３が設けられている。
収集部７０の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、Ａｌ２Ｏ３、石英ガラス等の絶縁体が挙げられる。収集部７０を絶縁体で構成することにより、電極６１および塗布ローラ３側の電極への電圧印加時に、その収集部７０が通電（導通）経路となるのを防止することができる。
【００３２】
本実施形態では、回収手段７は、塗布ローラ３の外周面の洗浄に用いられたガスを回収し、その回収されたガスを所定の場所へ排出する排気機構を構成している。回収手段７は、さらに、取付部７３の貫通孔７４の基端（上端）に一端側が接続された送気管１７と、塗布ローラ３の外周面の洗浄に用いられたガスを送気する送気手段として、送気管１７の他端側に接続され、ガスを吸引するポンプ（送気手段）１８とを有している。また、送気管１７のポンプ１８より収集部側には、送気管１７内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）１９が設けられている。ポンプ１８としては、例えば、真空ポンプ等を用いることができる。なお、送気手段は、ポンプ１８に限定されないことは言うまでもない。
【００３３】
また、塗布ローラ３には、その外周面を加熱するヒータ（加熱手段）３１が設けられている。この場合、例えば、塗布ローラ３の外周部のみが、ヒータ３１により加熱されるようになっていてもよく、また、塗布ローラ３の略全体が、ヒータ３１により加熱されるようになっていてもよい。なお、ヒータ３１への電力の供給は、例えば、ブラシ等を介して行うことができる。
塗布ローラ３の外周面を洗浄する際は、ヒータ３１により、塗布ローラ３の外周面を加熱する。これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間（処理時間）を短くすることができる。
【００３４】
なお、前記ガスボンベ１４、レギュレータ１５、バルブ１６、供給管１３および貫通孔６４により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、前記高周波電源１２、導線１１１、電極６１、絶縁層６２、塗布ローラ３側の電極および塗布ローラ３側の絶縁層により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより塗布ローラ３の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
【００３５】
液状材料供給用ローラ４は、前記塗布ローラ３の右側に配置されている。そして、液状材料供給用ローラ４は、前記塗布ローラ３と同様に、略円柱状をなしており、その外周面（表面）は、互いに対向する１対の電極のうちの一方の電極（対向電極）を構成している。この場合、例えば、液状材料供給用ローラ４の外周部のみが、前記一方の電極を構成するようになっていてもよく、また、液状材料供給用ローラ４の略全体が、前記一方の電極を構成するようになっていてもよい。
【００３６】
液状材料供給用ローラ４の上方には、前記１対の電極のうちの他方の電極（印加電極）８１と、電極８１を支持する支持部８３とが設置されている。
電極８１は、液状材料供給用ローラ４の一端部（図１の紙面に対して垂直な方向の一方の端部）から他端部（図１の紙面に対して垂直な方向の他方の端部）まで延在している。
また、電極８１の液状材料供給用ローラ４に対向する面（内面）は、液状材料供給用ローラ４の外周面に対向した湾曲形状（湾曲面）をなしている。これにより、電極８１と液状材料供給用ローラ４の外周面との間の距離（１対の電極間の距離）は、その略全体に渡って略均一（一定）となる。なお、前記電極８１と、前記液状材料供給用ローラ４の外周面の電極８１に対向（対応）する部位とは、一対の平行平板型電極を構成している。
【００３７】
前記電極８１および液状材料供給用ローラ４側の電極の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
電極８１の液状材料供給用ローラ４に対向する面（下面）には、絶縁層８２が設けられている。
また、液状材料供給用ローラ４の外周部（外周面）には、絶縁層（図示せず）が設けられているのが好ましい。この場合は、その絶縁層の表面が液状材料供給用ローラ４の外周面となるので、前記一方の電極は、液状材料供給用ローラ４の外周面より内周側の部位（液状材料供給用ローラ４の外周面の近傍の部位）で構成される。
【００３８】
電極８１と液状材料供給用ローラ４の外周面との間に所定のガスが供給され、電極８１と液状材料供給用ローラ４の外周面との間（１対の電極間）に、所定の電圧、例えば、高周波電圧（電圧）が印加されると、電極８１と液状材料供給用ローラ４の外周面の電極８１に対向する部位との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電（バリア放電）が生じ、放電によってガスが活性化（電離、イオン化、励起等）され、プラズマが発生し、このプラズマにより、液状材料供給用ローラ４の外周面が洗浄される。
ここで、前記電極８１に絶縁層８２、液状材料供給用ローラ４に絶縁層を設けることにより、アーク放電の発生を防止することができ、良好（均一）なグロー放電を生じさせることができ、これによって良好なプラズマを発生させることができる。
【００３９】
絶縁層８２および液状材料供給用ローラ４側の絶縁層の厚みは、それぞれ、厚すぎると、プラズマ（所望の放電）を発生させるために高電圧を要することがあり、また、薄すぎると、電圧印加時に絶縁破壊が起こり、アーク放電が発生することがあるため、０．０１〜４ｍｍであるのが好ましく、１〜２ｍｍであるのがより好ましい。
また、絶縁層８２および液状材料供給用ローラ４側の絶縁層の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、石英ガラス等のガラス、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＢａＴｉＯ３（チタン酸バリウム）等の複酸化物等の絶縁体（誘電体）が挙げられる。
ここで、２５℃における比誘電率が１０以上のものである誘電体を用いれば、低電圧で高密度のプラズマを発生させることができ、処理効率が向上する。
【００４０】
また、使用可能な誘電体の比誘電率の上限は特に限定されるものではないが、比誘電率が１０〜１００のものが好ましい。比誘電率が１０以上である誘電体には、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物、ＢａＴｉＯ３等の複酸化物が該当する。
支持部８３は、電極８１に電圧を印加する際、その中継部として機能する。このため、支持部８３の構成材料としては、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料を用いるのが好ましい。
【００４１】
電極８１は、導線（ケーブル）２１１および支持部８３を介して、液状材料供給用ローラ４側の電極は、導線２１１を介して、それぞれ、高周波電源（電源部）２２に接続されており、これにより、回路２１が構成されている。この回路２１は、その一部、すなわち、液状材料供給用ローラ４の電極側の導線２１１がアース（接地）されている。なお、液状材料供給用ローラ４側の電極と導線２１１とは、例えば、ブラシ等を用いて接続することができる。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極８１と液状材料供給用ローラ４側の電極との間に放電を生じさせるときは、高周波電源２２が作動して、電極８１と液状材料供給用ローラ４側の電極との間に高周波電圧（電圧）が印加される。
【００４２】
また、高周波電源２２の周波数は、特に限定されないが、１０〜５０ＭＨｚであるのが好ましく、１０〜４０ＭＨｚであるのがより好ましい。
支持部８３、電極８１および絶縁層８２には、その鉛直方向に沿って貫通孔８４が形成されている。
また、塗布装置１は、支持部８３の貫通孔８４の基端（上端）に一端側が接続された供給管２３と、供給管２３の他端側に接続され、所定のガスを供給するガスボンベ（ガス供給源）２４およびガスボンベ２４から供給するガスの流量を調整するレギュレータ（流量調整手段）２５とを有している。レギュレータ２５は、ガスボンベ２４より支持部８３側に設けられている。また、供給管２３のレギュレータ２５より支持部８３側には、供給管２３内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）２６が設けられている。
【００４３】
また、塗布装置１は、液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄に用いられたガスを回収する回収手段９を有している。
回収手段９は、液状材料供給用ローラ４の外周面のうちのプラズマ（活性化されたガス）により洗浄される部位を覆い、その洗浄に用いられたガスを収集する収集部９０を有している。
【００４４】
収集部９０は、本実施形態では、支持部８３に中央部が固定され、略四角形をなす上壁９１と、上壁９１の４つの縁部から下方に向って立設された４つの側壁９２とで構成されており、その内側に、電極８１および液状材料供給用ローラ４の外周面の電極８１に対向する部位が位置している。収集部９０の上壁９１には、開口が形成されており、上壁９１の外面（上面）には、その開口に連通する貫通孔９４を有する取付部９３が設けられている。
収集部９０の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、Ａｌ２Ｏ３、石英ガラス等の絶縁体が挙げられる。収集部９０を絶縁体で構成することにより、電極８１および液状材料供給用ローラ４側の電極への電圧印加時に、その収集部９０が通電（導通）経路となるのを防止することができる。
【００４５】
本実施形態では、回収手段９は、液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄に用いられたガスを回収し、その回収されたガスを所定の場所へ排出する排気機構を構成している。回収手段９は、さらに、取付部９３の貫通孔９４の基端（上端）に一端側が接続された送気管２７と、液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄に用いられたガスを送気する送気手段として、送気管２７の他端側に接続され、ガスを吸引するポンプ（送気手段）２８とを有している。また、送気管２７のポンプ２８より収集部側には、送気管２７内の流路を開閉するバルブ（流路開閉手段）２９が設けられている。ポンプ２８としては、例えば、真空ポンプ等を用いることができる。なお、送気手段は、ポンプ２８に限定されないことは言うまでもない。
【００４６】
また、液状材料供給用ローラ４には、その外周面を加熱するヒータ（加熱手段）３２が設けられている。この場合、例えば、液状材料供給用ローラ４の外周部のみが、ヒータ３２により加熱されるようになっていてもよく、また、液状材料供給用ローラ４の略全体が、ヒータ３２により加熱されるようになっていてもよい。なお、ヒータ３２への電力の供給は、例えば、ブラシ等を介して行うことができる。
【００４７】
液状材料供給用ローラ４の外周面を洗浄する際は、ヒータ３２により、液状材料供給用ローラ４の外周面を加熱する。これにより、洗浄処理レートが高くなり、洗浄時間（処理時間）を短くすることができる。
なお、前記ガスボンベ２４、レギュレータ２５、バルブ２６、供給管２３および貫通孔８４により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、前記高周波電源２２、導線２１１、電極８１、絶縁層８２、液状材料供給用ローラ４側の電極および液状材料供給用ローラ４側の絶縁層により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより液状材料供給用ローラ４の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
【００４８】
ここで、前記塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面（以下、単に「外周面」とも言う）の洗浄（例えば、液状材料やその乾燥物等の有機物の除去）に用いるガスとしては、それぞれ、放電によってプラズマが発生し、このプラズマによりそ外周面を洗浄し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、下記（１）および（２）が挙げられる。
（１）Ｏ２ガス等の酸素系ガス、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ等の希ガス、Ｎ２ガス等
（２）処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガス
処理ガスとしては、例えば、Ｏ２ガス等の酸素系ガス等が用いられる。また、キャリアガスとしては、例えば、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ等の希ガス、Ｎ２ガス等が用いられる。前記「キャリアガス」とは、放電開始と放電維持のために導入するガスのことを言う。
【００４９】
なお、混合ガスにおける処理ガスの占める割合は、特に限定されないが、処理ガスの割合が大きすぎると、放電が生じ難くなったり、洗浄処理レートが低下したりすることがあるため、例えば、その割合が１〜１０％であるのが好ましい。
また、塗布装置１の洗浄手段は、外周面を洗浄する機能の他に、外周面の改質を行う機能を有している。これにより、容易かつ迅速に、外周面の改質を行うことができ、これによって、塗布ローラ３や液状材料供給用ローラ４の性能を向上させることができる。なお、外周面の洗浄（洗浄処理）と、外周面の改質（改質処理）とは、別々に行うこともでき、また、同時に行うこともできる。
【００５０】
外周面の改質においては、例えば、用いる（供給する）ガスの選択により、外周面に対し、その外周面を親水化（親液化）する親水処理（親液処理）または撥水化（撥液化）する撥水処理（撥液処理）を施すことができる。なお、通常は、前記外周面の洗浄と、その外周面の親水処理とは、同時に行われる。
外周面に対して撥水処理を施すことにより、外周面のぬれ性が低下する。
【００５１】
この撥水処理では、処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガスを用いるのが好ましい。処理ガスとしては、例えば、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ６、ＣＣ１Ｆ３、ＳＦ６等のフッ素原子含有化合物ガス等が用いられる。また、キャリアガスとしては、例えば、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ等の希ガス、Ｎ２ガス等が用いられる。
また、外周面に対して親水処理を施すことにより、外周面のぬれ性が高まり、これにより、基板５に、均一かつ安定的に液状材料を塗布することができる。
【００５２】
この親水処理では、処理ガスとキャリアガスとからなる混合ガスを用いるのが好ましい。処理ガスとしては、例えば、Ｏ２、Ｏ３、Ｈ２Ｏ、空気等の酸素原子含有化合物、Ｎ２、ＮＨ３等の窒素原子含有化合物、ＳＯ２、ＳＯ３等の硫黄原子含有化合物等が用いられる。これにより、外周面にカルボニル基、水酸基、アミノ基等の親水性官能基を形成させて表面エネルギーを高くし、親水性表面（親液成表面）を得ることができる。また、アクリル酸、メタクリル酸等の親水基を有する重合性モノマーを用いて親水性重合膜を堆積（形成）することもできる。また、キャリアガスとしては、例えば、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ等の希ガス、Ｎ２ガス等が用いられる。
【００５３】
次に、図１に基づいて、塗布装置１の作用（動作）を説明する。この場合、１例として、基板５の表面に、液状材料を塗布して塗膜（被膜）を形成し、その後、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面をそれぞれ洗浄する場合について説明する。
基板５の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成する際は、バルブ１６、１９、２６および２９を閉じた状態で、図示しない搬送装置の作動により、基板５を左側に移動しつつ、図示しない駆動装置により、塗布ローラ３を図１中時計回りに回転させ、図示しない駆動装置により、液状材料供給用ローラ４を図１中時計回りに回転させる。
【００５４】
これにより、液状材料供給用ローラ４の表面に、貯留部２に貯留されている液状材料が付着し、液状材料供給用ローラ４の外周面から塗布ローラ３の外周面に、液状材料が供給される。この際、塗布ローラ３の外周面と、液状材料供給用ローラ４の外周面との間の間隙により、塗布ローラ３の外周面に供給される液状材料の厚み（塗布ローラ３により基板５に塗布される液状材料の厚み）が規制される。
そして、塗布ローラ３の回転に伴って、その外周面の液状材料が基板５の表面に塗布される。これにより、基板５の表面に、液状材料の塗膜が形成される。また、基板５は、次の工程（処理）のために、別の装置へ搬送される。
【００５５】
次に、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄をそれぞれ行う。
塗布ローラ３の外周面の洗浄を行う際は、ヒータ３１より、塗布ローラ３の外周面を加熱するとともに、図示しない駆動装置により、塗布ローラ３を回転させる。そして、バルブ１６を開き、レギュレータ１５によりガスの流量を調整し、ガスボンベ１４からガスを送出するとともに、高周波電源１２を作動させ、さらに、バルブ１９を開き、ポンプ１８を作動させてガスを吸引する。
【００５６】
なお、塗布ローラ３の外周面の温度は、特に限定されないが、５０℃以上であるのが好ましい。
また、供給するガスの流量は、特に限定されないが、３０ＳＣＣＭ〜３ＳＬＭであるのが好ましい。
これにより、ガスボンベ１４から送出されたガスは、供給管１３内を流れ、支持部６３の貫通孔６４内に導入され、その貫通孔６４を流れ、電極６１と塗布ローラ３側の電極との間（塗布ローラ３の外周面およびその近傍）に導入（供給）される。
【００５７】
そして、高周波電源１２の作動により、電極６１と塗布ローラ３側の電極との間に、高周波電圧が印加され、その電極６１と塗布ローラ３側の電極との間に、電界が発生して放電が生じ、その放電によってガスが活性化され、プラズマが発生し、このプラズマ（活性化されたガス）により塗布ローラ３の外周面が洗浄される。
この場合、塗布ローラ３の外周面に付着している液状材料やその乾燥物等の有機物は、前記活性化されたガスと反応して、除去される。また、前記有機物は、ガス化し、洗浄に用いられたガスとともに、収集部７０によって収集される。
【００５８】
収集部７０内のガスは、ポンプ１８により吸引され、貫通孔７４から流出し、送気管１７内を流れ、所定の場所へ排出される。これにより、ガスを容易かつ確実に、回収し、排出することができ、そのガスに含まれる有機物が再び塗布ローラ３の外周面に付着してしまうのを防止することができる。
また、液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄を行う際は、貯留部２内の液状材料を排出した後、ヒータ３２より、液状材料供給用ローラ４の外周面を加熱するとともに、図示しない駆動装置により、液状材料供給用ローラ４を回転させる。そして、バルブ２６を開き、レギュレータ２５によりガスの流量を調整し、ガスボンベ２４からガスを送出するとともに、高周波電源２２を作動させ、さらに、バルブ２９を開き、ポンプ２８を作動させてガスを吸引する。
【００５９】
なお、液状材料供給用ローラ４の外周面の温度は、特に限定されないが、５０℃以上であるのが好ましい。
また、供給するガスの流量は、特に限定されないが、３０ＳＣＣＭ〜１０ＳＬＭであるのが好ましい。
これにより、ガスボンベ２４から送出されたガスは、供給管２３内を流れ、支持部８３の貫通孔８４内に導入され、その貫通孔８４を流れ、電極８１と液状材料供給用ローラ４側の電極との間（液状材料供給用ローラ４の外周面およびその近傍）に導入（供給）される。
【００６０】
そして、高周波電源２２の作動により、電極８１と液状材料供給用ローラ４側の電極との間に、高周波電圧が印加され、その電極８１と液状材料供給用ローラ４側の電極との間に、電界が発生して放電が生じ、その放電によってガスが活性化され、プラズマが発生し、このプラズマ（活性化されたガス）により液状材料供給用ローラ４の外周面が洗浄される。
【００６１】
この場合、液状材料供給用ローラ４の外周面に付着している液状材料やその乾燥物等の有機物は、前記活性化されたガスと反応して、除去される。また、前記有機物は、ガス化し、洗浄に用いられたガスとともに、収集部９０によって収集される。
収集部９０内のガスは、ポンプ２８により吸引され、貫通孔９４から流出し、送気管２７内を流れ、所定の場所へ排出される。これにより、ガスを容易かつ確実に、回収し、排出することができ、そのガスに含まれる有機物が再び液状材料供給用ローラ４の外周面に付着してしまうのを防止することができる。
【００６２】
以上説明したように、この塗布装置１によれば、容易、迅速、かつ確実に、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面を洗浄することができる。
すなわち、塗布装置１の洗浄手段は、プラズマを利用したドライ（ＤＲＡ）方式であるので、ウェット方式のような薬液が不要であり、廃液処理や塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の乾燥工程が不要である。
【００６３】
また、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄の際、ウェット方式のように洗浄用布やベンコットン等より発生するゴミ（例えば、ケバ等）がその外周面に付着することがなく、外周面を確実に洗浄することができる。
また、塗布装置１自体が洗浄手段を有しているので、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４を取り外すことなく（塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４を取り付けた状態で）、その外周面を洗浄することができ、また、別途、洗浄のための設備を設ける必要がない。
また、塗布ローラ３の外周面およびその近傍、液状材料供給用ローラ４の外周面およびその近傍においてプラズマが発生するので、洗浄処理レートが高く、洗浄時間（処理時間）を短くすることができる。
【００６４】
また、この塗布装置１では、基板５の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成している最中でも、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の洗浄をそれぞれ行うことができる。この場合は、塗布ローラ３の外周面から基板５の表面に液状材料が塗布された後、塗布ローラ３の外周面の液状材料が付着していた部位は、塗布ローラ３が回転することにより、電極６１の下方（対向部）に移動し、発生したプラズマによって洗浄される。同様に、液状材料供給用ローラ４の外周面から塗布ローラ３の外周面に液状材料が供給された後、液状材料供給用ローラ４の外周面の液状材料が付着していた部位は、液状材料供給用ローラ４が回転することにより、電極８１の下方（対向部）に移動し、発生したプラズマによって洗浄される。
また、この塗布装置１では、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の改質をそれぞれ行うことができ、また、基板５の表面に液状材料を塗布して塗膜を形成している最中でも、その外周面の洗浄とともに、外周面の改質（例えば、親水処理）を行うことができる。
【００６５】
＜第２実施形態＞
図２は、本発明の塗布装置の第２実施形態を模式的に示す断面図（一部ブロック図を含む）、図３は、図２中のプラズマ発生部のＡ−Ａ線での断面図、図４は、図２中のプラズマ発生部のＢ−Ｂ線での断面図である。なお、以下の説明では、図２中の上側を「上」、下側を「下」、左側を「左」、右側を「右」と言い、図２中の上下方向を「鉛直方向」、左右方向を「水平方向」と言う。また、図３および図４中の左側を「左」、右側を「右」と言い、図３および図４中の、左右方向を「水平方向」と言う。
【００６６】
以下、第２実施形態の塗布装置について、前述した第１実施形態との違いを中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
これらの図に示すように、第２実施形態の塗布装置１では、塗布ローラ３の上方に、プラズマを発生するプラズマ発生部４０が設けられており、同様に、液状材料供給用ローラ４の上方に、プラズマを発生するプラズマ発生部５０が設けられている。
【００６７】
プラズマ発生部４０は、互いに対向する１対の電極（印加電極）４１および電極（対向電極）４２と、電極４１および４２の互いに対向する面（内面）に設けられた絶縁層４３および４４と、電極４１および４２の両側部に固着され、互いに対向する１対の側壁４５および４６とで構成されている。
電極４１および４２は、それぞれ、四角形の板状をなし、塗布ローラ３の一端部（図２の紙面に対して垂直な方向の一方の端部）またはその近傍から他端部（図２の紙面に対して垂直な方向の他方の端部）またはその近傍まで延在している。そして、電極４１および４２は、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面（内面）同士が略平行になるように配置されている。なお、前記電極４１および４２は、一対の平行平板型電極を構成している。
【００６８】
また、側壁４５および４６は、それぞれ、四角形の板状をなしており、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面（内面）同士が略平行になるように配置されている。また、側壁４５および４６は、それぞれ、絶縁性を有し（絶縁体で構成され）、側壁４５、４６を介して電極４１と電極４２とが導通しない（絶縁される）ようになっている。
電極４１および４２の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
なお、絶縁層４３および４４については、前述した第１実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
このプラズマ発生部４０は、その貫通孔４８の先端（下端）の放出口（放出部）４７が、塗布ローラ３の外周面に対向した位置に位置するように配置されている。
【００６９】
また、電極４１および４２は、それぞれ、導線（ケーブル）１１１を介して、高周波電源（電源部）１２に接続されており、これにより、回路１１が構成されている。この回路１１は、その一部、すなわち、電極４２側の導線１１１がアース（接地）されている。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極４１と電極４２との間に放電を生じさせるときは、高周波電源１２が作動して、電極４１と電極４２との間に高周波電圧（電圧）が印加される。
【００７０】
プラズマ発生部４０の貫通孔４８内に所定のガスが供給され、電極４１と電極４２との間に、所定の電圧、例えば、高周波電圧（電圧）が印加されると、電極４１と電極４２との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電（バリア放電）が生じ、放電によってガスが活性化（電離、イオン化、励起等）され、プラズマが発生する。発生したプラズマは、プラズマ発生部４０の放出口４７から放出され、このプラズマにより塗布ローラ３の外周面が洗浄される。
【００７１】
また、回収手段７の収集部７０は、その上壁７１の中央部において、プラズマ発生部４０の先端部（下部）に固定されており、プラズマ発生部４０の放出口４７は、収集部７０の内側に位置している。
また、供給管１３の一端側は、プラズマ発生部４０の貫通孔４８の基端（上端）に接続されている。
【００７２】
なお、ガスボンベ１４、レギュレータ１５、バルブ１６および供給管１３により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、高周波電源１２、導線１１１およびプラズマ発生部４０（電極４１、４２、絶縁層４３および４４）により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより塗布ローラ３の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
【００７３】
プラズマ発生部５０は、前記プラズマ発生部と同様に、互いに対向する１対の電極（印加電極）５１および電極（対向電極）５２と、電極５１および５２の互いに対向する面（内面）に設けられた絶縁層５３および５４と、電極５１および５２の両側部に固着され、互いに対向する１対の側壁５５および５６とで構成されている。
電極５１および５２は、それぞれ、四角形の板状をなし、液状材料供給用ローラ４の一端部（図２の紙面に対して垂直な方向の一方の端部）またはその近傍から他端部（図２の紙面に対して垂直な方向の他方の端部）またはその近傍まで延在している。そして、電極５１および５２は、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面（内面）同士が略平行になるように配置されている。なお、前記電極５１および５２は、一対の平行平板型電極を構成している。
【００７４】
また、側壁５５および５６は、それぞれ、四角形の板状をなしており、互いに略平行になるように、すなわち、対向する面（内面）同士が略平行になるように配置されている。また、側壁５５および５６は、それぞれ、絶縁性を有し（絶縁体で構成され）、側壁５５、５６を介して電極５１と電極５２とが導通しない（絶縁される）ようになっている。
電極５１および５２の構成材料としては、それぞれ、特に限定されないが、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀等の金属単体、ステンレス鋼、真鍮等の合金、金属間化合物等の導電性が良好な材料が挙げられる。
なお、絶縁層５３および５４については、前述した第１実施形態と同様であるので、その説明を省略する。
このプラズマ発生部５０は、その貫通孔５８の先端（下端）の放出口（放出部）５７が、液状材料供給用ローラ４の外周面に対向した位置に位置するように配置されている。
【００７５】
また、電極５１および５２は、それぞれ、導線（ケーブル）２１１を介して、高周波電源（電源部）２２に接続されており、これにより、回路２１が構成されている。この回路２１は、その一部、すなわち、電極５２側の導線２１１がアース（接地）されている。プラズマを発生させるとき、すなわち、電極５１と電極５２との間に放電を生じさせるときは、高周波電源２２が作動して、電極５１と電極５２との間に高周波電圧（電圧）が印加される。
【００７６】
プラズマ発生部５０の貫通孔５８内に所定のガスが供給され、電極５１と電極５２との間に、所定の電圧、例えば、高周波電圧（電圧）が印加されると、電極５１と電極５２との間に、電界が発生して、放電、すなわち、グロー放電（バリア放電）が生じ、放電によってガスが活性化（電離、イオン化、励起等）され、プラズマが発生する。発生したプラズマは、プラズマ発生部５０の放出口５７から放出され、このプラズマにより液状材料供給用ローラ４の外周面が洗浄される。
【００７７】
また、回収手段９の収集部９０は、その上壁９１の中央部において、プラズマ発生部５０の先端部（下部）に固定されており、プラズマ発生部５０の放出口５７は、収集部９０の内側に位置している。
また、供給管２３の一端側は、プラズマ発生部５０の貫通孔５８の基端（上端）に接続されている。
【００７８】
なお、ガスボンベ２４、レギュレータ２５、バルブ２６および供給管２３により、ガスを供給するガス供給手段が構成され、また、高周波電源２２、導線２１１およびプラズマ発生部５０（電極５１、５２、絶縁層５３および５４）により、放電を生じさせる放電手段が構成される。そして、これらガス供給手段および放電手段により、ガスを供給しつつ放電を生じさせてプラズマを発生させ、そのプラズマにより液状材料供給用ローラ４の外周面を洗浄する洗浄手段が構成される。
この塗布装置１によれば、前述した第１実施形態の塗布装置１と同様の効果が得られる。
【００７９】
そして、この塗布装置１では、塗布ローラ３の外周面付近以外の部位および液状材料供給用ローラ４の外周面付近以外の部位でプラズマが発生するので、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の損傷（ダメージ）を防止することができ、また、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の材質（特に、塗布ローラ３および液状材料供給用ローラ４の外周面の材質）等の選択の幅が広がる。
【００８０】
ここで、本発明では、塗布装置が、塗布ローラ３等の所定のローラの外周面に付着した液状材料を掻き落とす掻き落としローラを備えている場合、その掻き落としローラの外周面をプラズマにより洗浄する洗浄手段を設けてもよい。掻き落としローラの外周面は、例えば、樹脂やゴム等の有機物で構成されている場合が多いので、洗浄手段としては、前記第２実施形態と同様の構成のものを用いるのが好ましく、これにより、洗浄の際、掻き落としローラの外周面へ与えるダメージを低減することができる。なお、その洗浄手段により、掻き落としローラの外周面の改質も行うことができる。この場合、掻き落としローラの外周面に対して撥水処理を施し、掻き落としローラの外周面のぬれ性を低下させるのが好ましい。
【００８１】
また、本発明では、塗布装置が、スキージを備えている場合、そのスキージの表面をプラズマにより洗浄する洗浄手段を設けてもよい。スキージの主な用途は、塗布ローラ３等の所定のローラの外周面に付着した液状材料を掻き落とすことである。このスキージは、例えば、樹脂やゴム等の有機物で構成されている場合が多いので、洗浄手段としては、前記第２実施形態と同様の構成のものを用いるのが好ましく、これにより、洗浄の際、スキージの表面へ与えるダメージを低減することができる。なお、その洗浄手段により、スキージの表面の改質も行うことができる。この場合、スキージの表面に対して撥水処理を施し、スキージの表面のぬれ性を低下させるのが好ましい。
【００８２】
以上、本発明の塗布装置を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。
また、本発明は、前記各実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。
【００８３】
また、前記実施形態では、大気圧下において、プラズマを発生させることを想定しているが、本発明では、減圧または真空状態においてプラズマを発生させるように構成してもよい。
また、前記実施形態では、ローラの位置が固定され、基板（ワーク）が移動するようになっているが、本発明では、これに限らず、例えば、基板の位置が固定され、ローラが移動する（転がる）ようになっていてもよく、また、基板およびローラがそれぞれ移動するようになっていてもよい。
【００８４】
また、基板（ワーク）としては、シリコンウエハ等の半導体基板に限られず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等のプラスチック、ガラス、セラミック、金属液晶ディスプレイ用ガラス等からなる基板が挙げられる。また、基板の形状としては、板状に限定されず、例えば、フィルム状等のものが挙げられる。
【００８５】
また、電極に印加される電圧は、高周波によるものに限られず、例えば、パルス波やマイクロ波によるものであってもよく、また、直流であってもよい。
また、本発明は、液状材料をワークに塗布する塗布ローラ（ローラ）を備える塗布装置であれば、各種の形態（方式）の塗布装置に適用することができる。前記実施形態の他、本発明を適用し得る装置としては、例えば、フレキソ印刷、グラビア印刷等を行う装置が挙げられる。
また、塗布装置が備えるローラの数は、１つ（単数）でもよく、また、２以上（複数）でもよい。
また、塗布装置が複数のローラを備える場合は、その複数のローラのうちの少なくとも１つに、その外周面をプラズマにより洗浄する洗浄手段が設けられていればよい。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】本発明の塗布装置の第１実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の塗布装置の第２実施形態を模式的に示す断面図である。
【図３】図２中のプラズマ発生部のＡ−Ａ線での断面図である。
【図４】図２中のプラズマ発生部のＢ−Ｂ線での断面図である。
【符号の説明】
【００８７】
１……塗布装置  ２……貯留部  ３……塗布ローラ  ４……液状材料供給用ローラ  ５……基板  ６１……電極  ６２……絶縁層  ６３……支持部  ６４……貫通孔  ７……回収手段  ７０……収集部  ７１……上壁  ７２……側壁  ７３……取付部  ７４……貫通孔  ８１……電極  ８２……絶縁層  ８３……支持部  ８４……貫通孔  ９……回収手段  ９０……収集部  ９１……上壁  ９２……側壁  ９３……取付部  ９４……貫通孔  １１……回路  １１１……導線  １２……高周波電源  １３……供給管  １４……ガスボンベ  １５……レギュレータ  １６……バルブ  １７……送気管  １８……ポンプ  １９……バルブ  ２１……回路  ２１１……導線  ２２……高周波電源  ２３……供給管  ２４……ガスボンベ  ２５……レギュレータ  ２６……バルブ  ２７……送気管  ２８……ポンプ  ２９……バルブ  ３１、３２……ヒータ  ４０……プラズマ発生部  ４１、４２……電極  ４３、４４……絶縁層  ４５、４６……側壁  ４７……放出口  ４８……貫通孔  ５０……プラズマ発生部  ５１、５２……電極  ５３、５４……絶縁層  ５５、５６……側壁  ５７……放出口  ５８……貫通孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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