(57)【要約】      （修正有）【課題】基板露光時において、ワークチャックに作用するシリンダの操作力をなくすことにより、ワークチャックの変形を防止することができ、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、作動流体供給源８１とシリンダ７０とを接続して、作動流体供給源８１からシリンダ７０に作動流体を供給する配管回路８０に切換弁８５が設けられ、切換弁８５が、少なくとも基板Ｗに露光用の光を照射して露光する際に、シリンダ７０への作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダ７０の内圧を開放する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持するワークチャックと、前記ワークチャックを基板ステージに対して上下移動させる上下移動機構と、前記基板ステージ上に配置され、前記ワークチャックを支持するシリンダと、前記シリンダに作動流体を供給する作動流体供給源と、を備える露光装置であって、
前記作動流体供給源と前記シリンダとを接続して、前記作動流体供給源から前記シリンダに前記作動流体を供給する配管回路に切換弁が設けられ、
前記切換弁が、少なくとも前記基板に露光用の光を照射して露光する際に、前記シリンダへの前記作動流体の供給を遮断すると共に、前記シリンダの内圧を開放することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記配管回路は、前記シリンダへ供給される前記作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁を備え、
前記切換弁は、前記圧力調整弁と前記シリンダとの間に配設されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次近接露光（プロキシミティ露光）する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタを製造する露光装置においては、マスクを保持するマスクステージに対して、基板を保持する基板ステージを高精度で位置決めしながらステップ移動させ、パターン露光用の光を照射して基板にマスクパターンを露光転写する。露光転写する際のマスクと基板間のギャップは、マスクパターンを高精度で露光転写するために特に重要な管理項目の一つであり、基板を保持するワークチャックは、粗Ｚ移動機構及び微Ｚ移動機構により精密にＺ方向位置、即ち、マスクと基板間のギャップが調整される。
【０００３】
そして、大型の露光装置の場合、ワークチャックは数百キログラムに達するものがあるので、従来のワークチャックは、その重量をバランスシリンダなどで支持した状態で上下移動機構により上下方向に移動される。これにより、上下移動機構に掛かる負荷が軽減され、上下移動機構を簡素化することが可能となる。図６に示すように、ワークチャック２を支持するバランスシリンダ３に圧縮空気を供給する従来の空圧回路１は、エアコンプレッサ等のエアポンプ４、手動切換弁５、リリーフバルブ６、及び圧力調整弁７などを備え、それぞれがパイプ８により接続されている。そして、エアポンプ４から供給される圧縮空気の圧力が、圧力調整弁７で調整されてバランスシリンダ３に供給される。圧力調整弁７は、バランスシリンダ３の操作力がワークチャック２の重量と同じ力となるように圧力を調整し、ワークチャック２の重量とバランスシリンダ３の操作力とをバランスさせる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記した従来の露光装置では、図７に示すように、バランスシリンダ３には常に圧縮空気が供給されているので、バランスシリンダ３からの上向きの力が常にワークチャック２に働いている。従って、上下移動機構９によるワークチャック２の上昇時には、バランスシリンダ３の力がワークチャック２の重量とバランスして上下移動機構９に掛かる負荷が軽減され、容易に上昇させることができるものの、ワークチャック２が上昇位置に達して保持する基板を露光するときにもバランスシリンダ３の操作力（上向きの力）がワークチャック２に作用する。その結果、ワークチャック２、惹いてはワークチャック２に保持される基板が、図７の実線で示すように、上方に反るように変形して、露光精度に影響を与える可能性があった。
【０００５】
本発明は、このような不都合を解消するためになされたものであり、その目的は、基板露光時において、ワークチャックに作用するシリンダの操作力をなくすことにより、ワークチャックの変形を防止することができ、露光精度を向上することができる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の上記目的は、以下の構成によって達成される。
（１）  被露光材としての基板を保持するワークチャックと、ワークチャックを基板ステージに対して上下移動させる上下移動機構と、基板ステージ上に配置され、ワークチャックを支持するシリンダと、シリンダに作動流体を供給する作動流体供給源と、を備える露光装置であって、作動流体供給源とシリンダとを接続して、作動流体供給源からシリンダに作動流体を供給する配管回路に切換弁が設けられ、切換弁が、少なくとも基板に露光用の光を照射して露光する際に、シリンダへの作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダの内圧を開放することを特徴とする露光装置。
（２）  配管回路は、シリンダへ供給される作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁を備え、切換弁は、圧力調整弁とシリンダとの間に配設されることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の露光装置によれば、作動流体供給源とシリンダとを接続して、作動流体供給源からシリンダに作動流体を供給する配管回路に切換弁が設けられ、切換弁が、少なくとも基板に露光用の光を照射して露光する際に、シリンダへの作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダの内圧を開放するため、基板露光時にワークチャックに作用するシリンダの操作力をなくすことができる。これにより、ワークチャックの変形を防止することができるので、露光装置の露光精度を向上することができる。
【０００８】
また、本発明の露光装置によれば、配管回路は、シリンダへ供給される作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁を備え、切換弁は、圧力調整弁とシリンダとの間に配設されるため、圧力調整弁により、作動流体の圧力をワークチャックの重量とバランスする圧力に正確に調整してシリンダに供給することができる。そのため、ワークチャックをシリンダにより最適な操作力で支持することができるので、ワークチャックの上下移動時に上下移動機構に掛かる負荷を軽減して、ワークチャックを容易に上下移動させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明に係る露光装置の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係る露光装置の一実施形態を説明するための正面図、図２は図１に示す露光装置の側面図、図３は図１に示す基板ステージの平面図であり、右半分はワークチャック下降時の平面図、左半分はワークチャック上昇時の平面図、図４は図３に示す基板ステージの正面図、図５は図１に示す露光装置の配管回路を説明するための概略図である。
【００１０】
本実施形態の露光装置ＰＥは、図１及び図２に示すように、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、ガラス基板（被露光材）Ｗを保持する基板ステージ２０と、パターン露光用の照射手段としての照明装置１３と、基板ステージ２０をＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸方向に移動し、且つ基板ステージ２０のチルト調整を行う基板ステージ移動機構４０と、マスクステージ１０及び基板ステージ移動機構４０を支持するステージベース５０と、を備える。
【００１１】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「基板Ｗ」と称する。）は、マスクＭに対向配置されており、このマスクＭに描かれたマスクパターンを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面側）に感光剤が塗布されている。
【００１２】
マスクステージ１０は、中央部に矩形形状の開口１１ａが形成されるマスクステージベース１１と、マスクステージベース１１の開口１１ａにＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動可能に装着されるマスク保持枠１２と、を備える。
【００１３】
マスクステージベース１１は、ステージベース５０上に立設される支柱５１、及び支柱５１の上端部に設けられるＺ軸移動装置５２によりＺ軸方向に移動可能に支持され、基板ステージ２０の上方に配置される。Ｚ軸移動装置５２は、例えば、モータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリンダ等を備え、単純な上下動作を行うことにより、マスクステージ１０を所定の位置まで昇降させる。
【００１４】
また、マスク保持枠１２の下面には、マスクＭを保持するチャック部１４が取り付けられている。このチャック部１４には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数の吸引ノズル（不図示）が開設されており、マスクＭは、吸引ノズルを介して真空式吸着装置によりチャック部１４に着脱自在に保持される。なお、マスク保持枠１２は、マスクステージベース１１上に設けられる不図示のマスク位置調整機構によりＸ軸，Ｙ軸，θ方向に移動される。
【００１５】
照明装置１３は、マスクステージベース１１の開口１１ａの上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。そして、高圧水銀ランプから照射された光が、マスクステージ１０に保持されるマスクＭを介して、基板ステージ２０に保持される基板Ｗの表面にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクＭのマスクパターンが基板Ｗに露光転写される。
【００１６】
基板ステージ２０は、基板ステージ移動機構４０上に設置されており、この基板ステージ移動機構４０は、Ｙ軸テーブル４１、Ｙ軸送り機構４２、Ｘ軸テーブル４３、Ｘ軸送り機構４４、及びＺ−チルト調整機構４５を備え、ステージベース５０に対して基板ステージ２０をＸ方向及びＹ方向に送り駆動すると共に、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、基板ステージ２０をＺ軸方向に微動且つチルトさせる。
【００１７】
Ｙ軸送り機構４２は、ステージベース５０とＹ軸テーブル４１との間に、リニアガイド４６とＹ軸送り駆動機構４７とを備える。リニアガイド４６は、ステージベース５０上にＹ軸方向に沿って平行に配置される２本の案内レール４６ａと、Ｙ軸テーブル４１の裏面に取り付けられ、案内レール４６ａに不図示の転動体を介して跨架されるスライダ４６ｂと、を備える。
【００１８】
Ｙ軸送り駆動機構４７は、ステージベース５０上に設置されるモータ４７ａと、モータ４７ａによって回転駆動されるボールねじ軸４７ｂと、Ｙ軸テーブル４１の裏面に取り付けられ、ボールねじ軸４７ｂに螺合されるボールねじナット４７ｃと、を備える。そして、Ｙ軸テーブル４１は、モータ４７ａによりボールねじ軸４７ｂを回転駆動させることによって、２本の案内レール４６ａに沿ってＹ軸方向に沿って移動される。
【００１９】
また、Ｘ軸送り機構４４も、Ｙ軸テーブル４１とＸ軸テーブル４３との間に、リニアガイド４８とＸ軸送り駆動機構４９とを備える。リニアガイド４８は、Ｙ軸テーブル４１上にＸ軸方向に沿って平行に配置される２本の案内レール４８ａと、Ｘ軸テーブル４３の裏面に取り付けられ、案内レール４８ａに不図示の転動体を介して跨架されるスライダ４８ｂと、を備える。
【００２０】
Ｘ軸送り駆動機構４９は、Ｙ軸テーブル４１上に設置されるモータ４９ａと、モータ４９ａによって回転駆動されるボールねじ軸４９ｂと、Ｘ軸テーブル４３の裏面に取り付けられ、ボールねじ軸４９ｂに螺合されるボールねじナット４９ｃと、を備える。そして、Ｘ軸テーブル４３は、モータ４９ａによりボールねじ軸４９ｂを回転駆動させることによって、２本の案内レール４８ａに沿ってＸ軸方向に沿って移動される。
【００２１】
Ｚ−チルト調整機構４５は、Ｘ軸テーブル４３上に設置されるモータ４５ａと、モータ４５ａによって回転駆動されるボールねじ軸４５ｂと、くさび状に形成され、ボールねじ軸４５ｂに螺合されるくさび状ナット４５ｃと、基板ステージ２０の下面にくさび状に突設され、くさび状ナット４５ｃの傾斜面に係合するくさび部４５ｄと、を備える。また、本実施形態では、Ｚ−チルト調整機構４５は、Ｘ軸テーブル４３のＸ軸方向の一端側（図２の右側）に２台、他端側（図２の左側）に１台の計３台設置され、それぞれが独立して駆動制御される。なお、Ｚ−チルト調整機構４５の設置数は任意である。
【００２２】
そして、Ｚ−チルト調整機構４５では、モータ４５ａによりボールねじ軸４５ｂを回転駆動させることによって、くさび状ナット４５ｃがＸ軸方向に水平移動し、この水平移動運動がくさび状ナット４５ｃ及びくさび部４５ｄの斜面作用により高精度の上下微動運動に変換されて、くさび部４５ｄがＺ方向に微動する。従って、３台のＺ−チルト調整機構４５を同じ量だけ駆動させることにより、基板ステージ２０をＺ軸方向に微動することができ、また、３台のＺ−チルト調整機構４５を独立して個別に駆動させることにより、基板ステージ２０のチルト調整を行うことができる。これにより、基板ステージ２０のＺ軸，チルト方向の位置を微調整して、マスクＭと基板Ｗとを所定の間隔を存して平行に対向させることができる。
【００２３】
そして、本実施形態では、図３及び図４に示すように、基板ステージ２０には、基板ステージ２０上面に配置される上下移動装置６０及び４本のバランスシリンダ（シリンダ）７０を介して、基板Ｗを保持するためのワークチャック３０が設けられる。
【００２４】
上下移動機構６０は、基板ステージ２０上に設置されるベースフレーム６１と、ベースフレーム６１上にＹ軸方向に沿って配置されるリニアガイド６２と、リニアガイド６２によりＹ軸方向に移動可能に支持される２台の移動テーブル６３Ａ，６３Ｂと、移動テーブル６３Ａ，６３ＢをＹ軸方向に移動させる駆動装置６４と、移動テーブル６３Ａ，６３Ｂの移動に伴いワークチャック３０をＺ軸方向に移動させるリンク機構６５と、ワークチャック３０のＺ軸方向の移動を案内するＺ軸ガイド６６と、を備える。
【００２５】
リニアガイド６２は、ベースフレーム６１上にＹ軸方向に沿って平行に配置される２本の案内レール６２ａと、移動テーブル６３Ａ，６３Ｂの裏面にそれぞれ取り付けられ、案内レール６２ａに不図示の転動体を介して跨架されるスライダ６２ｂと、を備える。
【００２６】
駆動装置６４は、ベースフレーム６１のＹ軸方向端部（図３の左端部）に取り付けられるモータ６４ａと、モータ６４ａにより回転駆動されるボールねじ軸６４ｂと、移動テーブル６３Ａ、６３Ｂの中央部にそれぞれ取り付けられ、ボールねじ軸６４ｂに螺合されるボールねじナット６４ｃと、を備える。また、ボールねじ軸６４ｂには、その軸方向中心部を境にして螺刻方向が異なる左右ねじが形成される。そのため、モータ６４ａでボールねじ軸６４ｂを回転駆動させることにより、移動テーブル６３Ａ、６３Ｂが２本の案内レール６２ａに沿って互いに反対方向に移動、即ち、左右対称に移動する。
【００２７】
リンク機構６５は、ワークチャック３０の下面に固定される４個の支点ブロック６５ａと、支点ブロック６５ａのＸ軸方向外側面にそれぞれ突設される支持ピン６５ｂと、移動テーブル６３Ａ、６３ＢのＸ軸方向両側面にそれぞれ突設される支持ピン６５ｃと、支点ブロック６５ａの支持ピン６５ｂと移動テーブル６３Ａ、６３Ｂの支持ピン６５ｃとをそれぞれ連結する４本のリンク６５ｄと、を備える。また、支持ピン６５ｂ，６５ｃとリンク６５ｄは回動自在に連結される。
【００２８】
Ｚ軸ガイド６６は、ワークチャック３０の下面に固定される４本のレール保持部６６ａと、レール保持部６６ａの内部にＺ軸方向に沿って配置される案内レール６６ｂと、ベースフレーム６１上に４本のレール保持部６６ａと対向するように取り付けられ、レール保持部６６ａの案内レール６６ｂに不図示の転動体を介して跨架されるスライダ６６ｃと、を備える。
【００２９】
バランスシリンダ７０は、空気圧シリンダであり、ベースフレーム６１上に取り付けられるシリンダ本体７０ａと、ワークチャック３０の下面に取り付けられるピストンロッド７０ｂと、を備える。また、バランスシリンダ７０には、図５に示すように、配管回路８０から作動流体である圧縮空気がそれぞれ供給されており、この配管回路８０から供給される圧縮空気の圧力を調整することにより、バランスシリンダ７０は、ワークチャック３０を支持して、リンク機構６５（上下移動機構６０）に掛かるワークチャック３０の重量を相殺するようになっている。
【００３０】
配管回路８０は、図５に示すように、エアポンプ（作動流体供給源）８１、手動切換弁８２、リリーフバルブ８３、圧力調整弁８４、切換弁８５、及びバランスシリンダ７０を備え、この順序で耐圧ホース８６によってそれぞれ接続される。また、切換弁８５は、圧力調整弁８４とバランスシリンダ７０との間に接続される。なお、図５の符号８７は、露光装置ＰＥ全体を格納して、露光装置ＰＥと外気とを遮断するチャンバである。
【００３１】
エアポンプ８１は、チャンバ８７の外側に配置されており、内部で圧縮空気を発生して、切換弁８５や耐圧ホース８６等を介してバランスシリンダ７０に圧縮空気を供給する。
【００３２】
手動切換弁８２は、チャンバ８７の外側に配置されており、通常時は、リリーフバルブ８３に供給される圧縮空気を連通させる。また、メンテナンス時や緊急時などに手動操作されて、配管回路８０内の圧縮空気をチャンバ８７外に排気したり、リリーフバルブ８３に供給される圧縮空気を遮断したりする。
【００３３】
リリーフバルブ８３は、チャンバ８７の内側に配置されており、通常時は、圧力調整弁８４に供給される圧縮空気を連通させる。また、エアポンプ８１から所定の圧力を超えた圧縮空気が供給された場合に自動的に切り換わり、圧力調整弁８４に供給される圧縮空気を遮断すると共に、圧縮空気をチャンバ８７外に排気する。
【００３４】
圧力調整弁８４は、チャンバ８７の内側に配置されており、４本のバランスシリンダ７０の発生する操作力が所定値（本実施形態ではワークチャック３０の重量と同じ力）となるように、バランスシリンダ７０に供給される圧縮空気の圧力を調整するものであり、圧縮空気を任意の圧力に調整可能である。
【００３５】
切換弁８５は、空圧電磁弁で、チャンバ８７の内側に配置されており、基板Ｗの露光前後のワークチャック３０の上昇又は下降時には、バランスシリンダ７０に供給される圧縮空気を連通させる。これにより、ワークチャック３０にバランスシリンダ７０の操作力が作用し、ワークチャック３０の重量が相殺される。また、基板Ｗの露光時、即ち、リンク機構６５のリンク６５ｄが垂直に起立し、ワークチャック３０が露光位置に上昇すると自動的に切り換わり、バランスシリンダ７０に供給される圧縮空気を遮断すると共に、バランスシリンダ７０内の圧縮空気（内圧）をチャンバ８７外に排気（開放）する。これにより、ワークチャック３０の重量を支持していたバランスシリンダ７０の操作力が開放され、ワークチャック３０の変形が防止される。また、ワークチャック３０のＺ軸方向の位置は、不図示のセンサーにより測定される移動テーブル６３Ａ，６３ＢのＹ軸方向の位置に基づいて計算され、切換弁８５は、このワークチャック３０のＺ軸方向の位置データに基づいて自動的に切り換えられる。
【００３６】
このように構成された露光装置ＰＥでは、ワークチャック３０を上昇させる場合には、切換弁８５により圧力調整弁８４とバランスシリンダ７０とを連通させ、エアポンプ８１から供給され、圧力調整弁８４により圧力調整された圧縮空気をバランスシリンダ７０に供給する。これにより、バランスシリンダ７０の操作力がワークチャック３０の重量とバランスするので、リンク機構６５（上下移動機構６０）に掛かる負荷がゼロとなる。これと同時に、駆動装置６４のモータ６４ａを駆動してボールねじ軸６４ｂを回転させることにより、移動テーブル６３Ａ，６３Ｂをリニアガイド６２に沿って互いに離間する方向に移動させる。これにより、リンク機構６５のリンク６５ｄが起き上がるように回動され、ワークチャック３０がＺ軸ガイド６６に沿って上昇する（図３，４の左半分参照）。
【００３７】
そして、ワークチャック３０が露光位置に上昇されると、切換弁８５が自動的に切り換わり、圧力調整弁８４とバランスシリンダ７０との連通を遮断させると共に、バランスシリンダ７０内の圧縮空気をチャンバ８７外に開放させることにより、ワークチャック３０に作用していたバランスシリンダ７０の操作力をゼロにする。これにより、ワークチャック３０の変形が防止され、基板Ｗがワークチャック３０に精度良く保持される。なお、この際、ワークチャック３０の重量はリンク機構６５のみで支持されるが、リンク６５ｄが垂直に起立しているので、上下移動機構６０に過大な荷重が掛かることはない。
【００３８】
また、ワークチャック３０を下降させる場合には、切換弁８５が切り換わり、圧力調整弁８４とバランスシリンダ７０とを連通させることにより、バランスシリンダ７０に圧縮空気が供給され、ワークチャック３０がバランスシリンダ７０で支持される。そして、駆動装置６４のモータ６４ａを駆動してボールねじ軸６４ｂを逆回転させて、移動テーブル６３Ａ，６３Ｂを互いに接近するする方向に移動させる。これにより、リンク機構６５のリンク６５ｄが横臥するように回動され、ワークチャック３０がＺ軸ガイド６６に沿って下降する（図３，４の右半分参照）。
【００３９】
以上説明したように、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、作動流体供給源８１とシリンダ７０とを接続して、作動流体供給源８１からシリンダ７０に作動流体を供給する配管回路８０に切換弁８５が設けられ、切換弁８５が、少なくとも基板Ｗに露光用の光を照射して露光する際に、シリンダ７０への作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダ７０の内圧を開放するため、基板露光時にワークチャック３０に作用するシリンダ７０の操作力をなくすことができる。これにより、ワークチャック３０の変形を防止することができるので、露光装置ＰＥの露光精度を向上することができる。
【００４０】
また、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、配管回路８０は、シリンダ７０へ供給される作動流体の圧力を所定の圧力に調整する圧力調整弁８４を備え、切換弁８５は、圧力調整弁８４とシリンダ７０との間に配設されるため、圧力調整弁８４により、作動流体の圧力をワークチャック３０の重量とバランスする圧力に正確に調整してシリンダ７０に供給することができる。そのため、ワークチャック３０をシリンダ７０により最適な操作力で支持することができるので、ワークチャック３０の上下移動時に上下移動機構６０に掛かる負荷を軽減して、ワークチャック３０を容易に上下移動させることができる。
【００４１】
さらに、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、作動流体供給源８１及び手動切換弁８２がチャンバ７８の外部に配置され、リリーフバルブ８３、切換弁８５、及びシリンダ７０の排気がチャンバ７８の外部に排出されるため、排気による露光への悪影響を排除することができるので、露光装置ＰＥの露光精度を向上することができる。
【００４２】
なお、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が可能である。
例えば、本実施形態では、フラットパネルディスプレイの露光装置に本発明を適用した場合を例示したが、これに代えて、半導体の露光装置に本発明を適用してもよい。
また、本実施形態では、ワークチャックの重量を支持するバランスシリンダに空気圧シリンダを使用したが、油圧シリンダを使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係る露光装置の一実施形態を説明するための正面図である。
【図２】図１に示す露光装置の側面図である。
【図３】図１に示す基板ステージの平面図であり、右半分はワークチャック下降時の平面図、左半分はワークチャック上昇時の平面図である。
【図４】図３に示す基板ステージの正面図である。
【図５】図１に示す露光装置の配管回路を説明するための概略図である。
【図６】従来の露光装置の配管路を説明するための概略図である。
【図７】従来の露光装置のシリンダによりワークチャックが変形した状態を示す要部拡大図である。
【符号の説明】
【００４４】
ＰＥ      露光装置
Ｍ      マスク
Ｗ      ガラス基板（被露光材）
１０      マスクステージ
１１      マスクステージベース
１１ａ    開口
１２      マスク保持枠
１３      照明装置
１４      チャック部
２０      基板ステージ
３０      ワークチャック
４０      基板ステージ移動機構
４１      Ｙ軸テーブル
４２      Ｙ軸送り機構
４３      Ｘ軸テーブル
４４      Ｘ軸送り機構
４５      Ｚ−チルト調整機構
５０      ステージベース
５１      支柱
５２      Ｚ軸移動装置
６０      上下移動機構
６１      ベースフレーム
６２      リニアガイド
６３Ａ，６３Ｂ    移動テーブル
６４      駆動装置
６５      リンク機構
６６      Ｚ軸ガイド
７０      バランスシリンダ（シリンダ）
８０      配管回路
８１      エアポンプ（作動流体供給源）
８２      手動切換弁
８３      リリーフバルブ
８４      圧力調整弁
８５      切換弁
８６      耐圧ホース
８７      チャンバ
【図１】
2007322896.tif 000003
【図２】
2007322896.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2007322896.tif 000007
【図６】
2007322896.tif 000008
【図７】
2007322896.tif 000009