(57)【要約】【課題】有機ＥＬディスプレイパネルの駆動電圧の低電圧化を図る。【解決手段】少なくとも３色以上の発光層からなる複数の有機ＥＬ素子が基板上に形成され、尚且つすべての発光色が燐光性発光材料からなり、そのうちの１色以上の発光層が単一の燐光性発光材料のみからなる有機ＥＬディスプレイパネル。【選択図】図１
2007273704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３色以上の発光層からなる複数の有機ＥＬ素子が基板上に形成され、尚且つすべての発光色が燐光性発光材料からなり、そのうちの１色以上の発光層が単一の燐光性発光材料のみからなることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
すべての発光色の画素における正孔輸送層の膜厚が共通であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
すべての発光色の画素における電子輸送層の膜厚が共通であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
すべての発光色の画素における正孔輸送層の材料が共通であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
すべての発光色の画素における電子輸送層の材料が共通であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
すべての画素における発光層の発光色の波長λnがλ1＜λ2＜λ3＜…＜λnと大きくなるに従い、発光層の膜厚ｄnをｄ1＜ｄ2＜ｄ3＜・・・＜ｄnと厚くすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項７】
単一の燐光性発光材料のみからなる発光層のが青色であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬ素子および有機ＥＬディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年有機ＥＬ素子を用いたディスプレイパネルの研究が盛んである。有機ＥＬ素子は高輝度、高視野角、低消費電力といった利点を持っており、液晶に代わるモバイル用のディスプレイとして注目されている。
【０００３】
フルカラー画像の出力方式としては、白色発光する有機ＥＬ素子上に光の三原色である赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）のカラーフィルタを介して発色する方式がある。また、赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）の発光をする有機ＥＬ素子をドットマトリクス状に互い違いに並べてゆくＲＧＢ塗り分け方式が知られている。
【０００４】
ディスプレイ表示させるためには、有機ＥＬ素子を複数用いてそれぞれの素子を個別に駆動させる必要がある。一般に、有機ＥＬ素子が発光する場合、有機ＥＬ素子が配置される表示領域の外に配置された電源から電流が供給される。その電流が接地電位まで流れるが、電源電位と接地電位との間に配線された有機ＥＬ素子の両電極間を電流が流れることで発光が得られる。有機ＥＬ素子の駆動方法は、互いに交差するストライプ上の電極の交点部分を順次発光させるパッシブマトリクス方式と、素子毎に配置された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって駆動を制御して発光させるアクティブマトリクス（ＡＭ）方式がある（特許文献１）。特許文献１に開示される有機ＥＬ素子は、ＴＦＴを構成するドレイン電極とコンタクトホールを介して接続される電子注入電極と、それに対向して配置される正孔注入電極とがそれぞれ配置されている。正孔注入電極は、透明導電材料であるＩＴＯの層であり、この電極側から光を取り出す構成になっている。そして、対向する電極間に配置される有機ＥＬ素子層にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）によって制御された電流が供給されることによって、有機ＥＬ素子層が発光する。
【０００５】
また、有機ＥＬ素子に用いる発光材料は大きく分けて２種類ある。発光分子の三重項励起状態から基底状態への遷移の際の発光（蛍光）を利用する蛍光材料と、発光分子の三重項励起状態から基底状態への遷移の際の発光（燐光）を利用する燐光材料である（非特許文献１）。
【０００６】
現在、有機ＥＬディスプレイパネルとして市販されている、または試作されているものの多くは、蛍光材料を用いたものである。しかし、蛍光材料を用いた場合には、一重項のみからの発光のため、原理的に励起子の２５％しか発光しないため、発光効率が低い。一方、燐光材料を用いると三重項からの発光であるため励起子の１００％を発光させることができる。そのため、蛍光材料よりも３乃至４倍の発光効率を実現できる可能性があり、次世代の高効率有機ＥＬディスプレイ材料として期待されている。一方、現在の燐光材料の課題としては、青色画素の駆動電圧の上昇がある（非特許文献２、３）。
【０００７】
【特許文献１】特開平８−５４８３６号公報
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ  ７５，４（１９９９）
【非特許文献２】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ  ８７，２４３５０７（２００５）
【非特許文献３】Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ  ８３，３８１８（２００５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
発明は上記従来の問題を解決するものである。その目的とするところは、有機ＥＬディスプレイパネルの駆動電圧の低電圧化である。
【０００９】
従来の有機ＥＬディスプレイパネルでは、発光材料として蛍光材料を用いたものが一部商品化されている。また、近年では赤、緑、青３色のうち赤のみを燐光材料としたものなどが開発されており、今後有機ＥＬディスプレイ材料としては、燐光性の発光材料を用いることが主流となると予測される。これは、蛍光材料に対し、燐光材料が原理的に３乃至４倍の効率を持つためである。これにより有機ＥＬディスプレイパネルのさらなる低消費電力化が期待されている。しかしながら、発光材料に燐光性のものを用いた場合、青色燐光素子の駆動電圧の上昇が避けられないことが現在課題となっている。これは、青色の燐光発光材料が２．７ｅＶ以上３．２ｅＶ以下の大きな三重項励起エネルギーを持つことに起因している。
【００１０】
また、一般的に燐光発光を利用する有機ＥＬ素子において、高効率に光を取り出すには、ホスト材料の三重項励起エネルギーを発光材料の三重項励起エネルギーより大きくし、発光材料に移動した励起子を閉じ込めることが必要である。
【００１１】
この点から、ホストの一重項励起エネルギーは、三重項励起エネルギーよりも高いため、青色燐光用ホストの一重項励起エネルギーはさらに高くなる。そのため、ホスト材料のＨＯＭＯ（最高被占分子軌道），ＬＵＭＯ（最低空分子軌道）と、陽極・陰極に用いる電極の仕事関数とのエネルギーレベル差、ひいては正孔輸送層とのＨＯＭＯ，電子輸送層とのＬＵＭＯエネルギーレベルに大きな差が生じる。そして、注入障壁が高くなる。その結果、有機ＥＬ素子の導電性が著しく低くなり、駆動電圧が高くなることが知られている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために、本発明では低コスト・低電圧の有機ＥＬディスプレイパネルを製造するために、すべての発光色の発光ドーパントが燐光性の発光材料からなり、なおかつそのうちの１つ以上が単一の燐光性発光材料からなる発光層を持つ。また、単一の燐光性発光材料からなる発光層とすることで、すべての発光色の画素において導電率が上昇し、低電圧駆動可能な有機ＥＬ素子ができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、従来の有機ＥＬディスプレイパネルよりも、低電圧駆動が可能な有機ＥＬディスプレイを作製することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】
一般に材料中の電流密度は以下の式で表される（有機超薄膜エレクトロニクス  ｐ７４  培風館）。
【００１６】
【数１】
2007273704.tif 000003
【００１７】
ここで、ｊは電流密度ｅは電気素量、ｎはキャリア密度、μはキャリア移動度、Ｅは電界強度である。
【００１８】
式１からわかるとおり、材料中の電流密度を高くするためには、
（１）キャリア移動度を上げること
（２）キャリア密度を上げること
（３）電界強度を高くすること
が必要である。
これらの指針は有機ＥＬ素子の発光層においては、
（１）キャリア移動度を低下させるような不純物を除去すること、つまり単一物質で層を形成すること
（２）アノードと正孔輸送層、さらには正孔輸送層と発光層とのＨＯＭＯ−ＨＯＭＯエネルギーギャップ、カソードと電子輸送層、さらには電子輸送層と発光層とのＬＵＭＯ−ＬＵＭＯエネルギーギャップを小さくすること
（３）正孔輸送層、発光層、電子輸送層のうち、最も高抵抗となる層の膜厚を薄くすること
を意味している。
【００１９】
以上のことから電流−電圧特性（以下Ｉ−Ｖ特性）に注目して素子を設計する場合には、
（１）最も高抵抗と考えられる発光層を単一の発光材料により形成することにより、キャリア移動度を高く保ち、
（２）ＨＯＭＯ、ＬＵＭＯエネルギーギャップを最小とすることで電子輸送層、正孔輸送層とのエネルギー障壁を小さくし、
（３）発光層の膜厚を薄くすることで一定の駆動電圧をかけた際に膜にかかる電界強度を上げる
ことが最も効果的である。
【００２０】
分子中でのキャリア移動度は以下の式で表される（光機能化学の分子  ｐ７７  講談社）。
【００２１】
【数２】
2007273704.tif 000004
【００２２】
ここで、μはキャリア移動度、ρは薄膜中における平均的な分子間距離（＝ホッピングサイト間距離）を表している。式２からわかるとおり、薄膜中のキャリア移動度は、単一の発光材料からなる発光層としたほうが、ホッピングサイト間距離が縮まり、移動度が高くなる。一方、ホスト−ゲスト系においては、ゲストまたはホストによりホッピングサイト間距離が広がるため、移動度が低くなる。また、ホスト−ゲスト系の場合には、さらにホストまたはゲストがキャリアトラップとして機能することにより移動度が著しく低下することも考えられ、キャリア移動度の観点からも単一の発光材料からなる発光層のほうが導電性は高くなることが示唆される。
【００２３】
一般的に、ホスト−ゲスト系において、燐光性の発光材料を有機ＥＬ素子とするときには、ホストの三重項励起エネルギーは発光材料の三重項励起エネルギーよりも大きいことが必要である。発光材料よりも高い三重項励起エネルギーをもつホスト材料は、さらに高い一重項励起エネルギーをもつため、エネルギーギャップが広がり、正孔輸送層、電子輸送層とのエネルギー障壁が高くなり、キャリアの注入性が悪くなる。
【００２４】
赤、緑、青それぞれの発光色を示す一般的な材料の性質と、構成の違いによる導電性の違いについてまとめると以下のようなことが言える。
【００２５】
赤色画素のホスト−ゲスト構成においては、赤色燐光発光材料の三重項励起エネルギーの値が２．３ｅＶ以上１．８ｅＶ以下と小さいため、ホストの三重項励起エネルギーはそれより大きければよく、一重項励起エネルギーも小さい。このため、赤色画素の場合はホスト−ゲスト構成においても、正孔輸送層・電子輸送層とのエネルギーレベルが揃い易く、キャリア注入障壁は低い。また、用いるホスト材料にも大きなπ共役面をもたせることができ、１分子中のホッピングサイトとして機能する部位が大きくなるため、移動度は高い。
【００２６】
また、赤色画素の単一の燐光性発光材料からなる発光層の場合には、さらにキャリア注入障壁が低くなり、導電率は高くなる。
【００２７】
一方、青色画素のホスト−ゲスト構成の場合、青色発光材料の三重項励起エネルギーの値は少なくとも２．７ｅＶ以上３．２ｅＶ以下であるため、青色画素に用いるホストの三重項励起エネルギーはそれより高い必要がある。そのため、正孔輸送層・電子輸送層とのエネルギーレベルを揃えにくく、キャリア注入障壁は高くなる。また、高い三重項励起エネルギーを持つホスト材料を設計する場合、分子中におけるπ電子の共役面が小さくなり、キャリアのホッピングサイトとして機能しない部位（非芳香族、非π共役部位）が増え、ホッピングサイト間距離が伸びる。そのため、キャリア移動度も遅くなる。青色画素のホスト−ゲスト構成は、キャリア注入、キャリア移動度両方の観点から導電性が低いことがわかる。
【００２８】
一方、青色画素の単一の燐光性発光材料からなる発光層の場合、キャリアは燐光性発光材料のＨＯＭＯ，ＬＵＭＯエネルギーレベルを移動する。そのため、一重項励起エネルギーはホスト−ゲスト系よりも低くできるため、キャリア注入性、移動度が高くすることができる。
【００２９】
また、赤色の発光材料は先に述べたとおり、その広いπ共役面により、発光における濃度消光の度合いが強くでる傾向にある（有機エレクトロニクス  ｐ１４９  工業調査会）。これを抑えるために、置換基としてフッ素原子やｔ−ｂｕｔｙｌ基などを導入し、濃度消光を抑制する方法がとられている。
【００３０】
しかしながら、現在主流の蒸着による有機ＥＬ素子作製プロセスを想定すると、一般に高真空と呼ばれる真空下（１０-4Ｐａ以上１０-6Ｐａ以下）において蒸着可能な分子の最大分子量は１０００程度である。従って、もともと大きな共役面を持ち、基本骨格が高分子量である赤色材料にこれら置換基を導入するのは困難である。
【００３１】
一方、青色材料の場合には、発光に必要な共役面は赤色と比較して小さくてすみ、その分、分子量も小さい。そのため、分子内に先に述べたような嵩高い置換基を導入し、濃度消光を抑制できるような分子骨格の材料も、十分に蒸着可能となる。
【００３２】
以上、導電率、濃度消光２つの点から、青色画素においては、単一の燐光性発光材料からなる発光層とすることで、移動度を上げ、赤色画素においては、ホスト−ゲスト系とすることで濃度消光を抑えることで、低電圧駆動のできる有機ＥＬ素子が実現できる。
【００３３】
真空蒸着法を含め、スピンコート法やインクジェット法、印刷法等の一般的な製膜法を用いる際、単一の燐光性発光材料からなる発光層を用いることも有効であるが、真空蒸着法を用いた際に、赤色画素においては、ホスト−ゲスト系とすることは特に有効である。
【００３４】
図１は本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの赤・緑・青３色の画素配置を示す模式図である。パネルの発光領域には、赤、緑、青の微小な画素が２次元方向に規則正しく並べられている。
【００３５】
図１では赤、緑、青を順番に並べているが、画素の配列はあらゆる構成をとることができる。例えば、同色の画素を複数並べたＲＲＧＧＢＢの構成でも良く、白色（Ｗ）の画素を入れて、赤、緑、青、白で並べても良く、或いは特定の色だけを増やした赤、緑、青青のような構成でも良い。また、すべての画素が白色発光からなり、カラーフィルターにより色変換した画素でもよい。ただし、本発明はこの構成に限定されるわけではない。
【００３６】
図２は、本発明における実施形態の有機ＥＬディスプレイパネルの１つの画素を示す断面図である。このフルカラー有機ＥＬパネルは、基板２００上に陽極２１０，２１２と陰極２１５とを有し、これら陽極２１０，２１２と陰極２１５との間に有機材料からなる機能層２１４を備えたものである。本発明における機能層は、少なくとも正孔注入／輸送層と画素単位の発光層および電子注入／輸送層とが積層されて構成される。発光層は少なくとも赤・緑・青の色を画素単位で１色ずつ有している。
【００３７】
複数の画素を発光させるにはそれぞれの画素にスイッチング素子を配置することが好ましく、その場合それぞれの画素ごとに発光、非発光をコントロールすることができる。スイッチング素子は薄膜トランジスタであることが好ましい。このような薄膜トランジスタを有する画素を２次元状に配置させることで２次元画像表示が可能となる。図２では薄膜トランジスタが配置されている側の反射層２１０および透明電極２１２が陽極であり、陰極が透明電極２１５のトップエミッション方式を示している。薄膜トランジスタが配置されている側の基板から光をとりだすボトムエミッション構成でもよいが、トランジスタが光を透過しないため、画素の開口率の関係から前者の方がより好ましい。
【００３８】
以下、図２を参照して本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの一実施形態について説明するが、本発明はこの形態に限定されるものではない。
【００３９】
表示画素は、ガラスや合成樹脂などから成る絶縁性基板、又は表面にＳｉＯ2膜やＳｉＮｘ膜などの絶縁膜を形成した導電性基板あるいは半導体基板等の基板２００上に、ＴＦＴ及び有機ＥＬ素子を積層形成して成り立っている。トップエミッション方式の場合、基板２００は透明であっても不透明であってもかまわない。基板２００上に有機ＥＬを駆動するためのＴＦＴ２０１を形成する。このとき、ポリシリコンからなる能動層であるｐｏｌｙ−Ｓｉ層２０２は、ポリシリコンに限定されるものではなく非晶質シリコン、微結晶シリコンなどを用いても良い。ＴＦＴはコンタクトホールの形成された層間絶縁膜に覆われる。その上に反射層が形成され、反射層２１０とＴＦＴのドレイン電極２０７が電気的に接続される。反射層２１０には透明電極２１２（第一電極）を形成しても良く、反射層と共に画素ごとにパターニングされる。
【００４０】
反射層２１０は、反射率の高い金属が用いられることが好ましく、銀膜もしくは添加物を含む銀膜や銀合金膜が好ましいが、アルミ膜もしくは添加物を含むアルミ膜やアルミ合金膜、クロム膜等が用いられる。
【００４１】
透明電極（第一電極）２１２は、酸化錫と酸化インジウムとの化合物もしくは酸化亜鉛と酸化インジウムの化合物などの酸化物透明導電膜等が用いられる。
【００４２】
このとき、透明電極２１２と反射層２１０もしくは透明電極２１２とドレイン電極２０７は非発光部である画素分離膜の下で接続されていることが、さらに好ましい。
【００４３】
画素分離膜２１３は隣接する画素間に設けられた絶縁膜であり透明電極（第一電極）２１２の端部を覆うように配置されている。画素分離膜２１３は、窒化シリコンやポリイミド系樹脂・ノボラック系樹脂等を等が用いられる。
【００４４】
陽極となる透明電極（第一電極）２１２の上に発光層を含む有機機能層２１４として、正孔輸送層、発光層、電荷ブロック層、電子注入層が形成され、陰極となる透明電極（第二電極）２１５が形成されている。
【００４５】
発光位置から透明電極（第一電極）２１２間に配される有機膜、透明電極（第一電極）２１２、の屈折率をそれぞれｎorg、ｎitoとし、膜厚をそれぞれｄorg、ｄitoとする。発光位置から反射層側へ放射された光が反射層で外面反射して発光位置に戻る光の光路長２（ｎorgｄorg＋ｎitoｄito）は、λ／２、３λ／２、５λ／２・・・と等しくなるときに、反射層で反射して発光位置に戻る光と発光された光の干渉が最大となる。
【００４６】
上記の光路長の関係は以下の式で示される。
【００４７】
２（ｎorgｄorg＋ｎitoｄito）＝［（２ｊ＋１）／２］λ
∴（ｎorgｄorg＋ｎitoｄito）＝（２ｊ＋１）λ／４
（式中、ｊ＝０，１，２，３・・・の整数）
【００４８】
つまり発光位置から反射層までの光学距離（ｎorgｄorg＋ｎitoｄito）が発光波長のλ／４の奇数倍に等しいとき、干渉により発光効率が向上する。
【００４９】
次に図３を参照して、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを形成する有機ＥＬ素子部分の詳細を説明する。
【００５０】
図３は、基板４０７上に、陽極４０６、正孔輸送層４０５、発光層４０３，電子輸送層４０２及び陰極４０１を順次設けた構成のものである。また、適宜電子阻止層４０４を設けてもよい。これは、電荷輸送と発光の機能を分離したものであり、正孔輸送性、電子輸送性、発光性の各特性を有した化合物と適宜組み合わせて用いられる。よって、極めて材料選択の自由度が増すとともに、発光波長を異にする種々の化合物が使用できるため、発光色相の多様化が可能になる。さらに、中央の発光層４０３に各電荷（キャリア）あるいは励起子（エキシトン）を有効に閉じこめて、発光効率の向上を図ることも可能になる。
【００５１】
正孔輸送層、電子輸送層は赤、緑、青各色の発光層のバンドダイアグラムに応じて異なる正孔輸送層、電子輸送層を用いても良い。しかし、正孔輸送層、電子輸送層を赤、緑、青の色毎に変えると、正孔輸送層、電子輸送層もマスク蒸着しなくてはならず工程が煩雑なる。また蒸着源が増加するため、これらのコスト面を考慮すると、全ての色に共通の正孔輸送材料および電子輸送材料を用いることが望ましい。各色正孔輸送層・電子輸送層の膜厚をそれぞれ共通とし、発光層の膜厚により光路長をあわせることで、さらに工程が簡略化され望ましい。
【００５２】
本発明のフルカラー有機ＥＬパネルの有機化合物からなる層は、一般には真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマにより形成する。また、適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等）により形成してもよい。特に塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。
【００５３】
本発明で用いる基板としては、特に限定するものではないが、金属製基板、セラミックス製基板等の不透明性基板、ガラス、石英、プラスチックシート等の透明性基板が用いられる。また、基板に誘電体反射膜などを用いて発色光をコントロールする事も可能である。また、素子の光取り出し方向に関しては、ボトムエミッション構成（基板側から光を取り出す構成）および、トップエミッション（基板の反対側から光を取り出す構成）のいずれも可能である。
【００５４】
なお、作成した素子に対して、酸素や水分等との接触を防止する目的で保護層あるいは封止層を設けることもできる。
【００５５】
また、どのような発光色においても、発光層を単一の燐光性発光材料で構成することにより、低電圧化が可能であるが、図４に示すように、青色画素を単一の燐光性発光材料で構成することがさらに好ましい。さらには、３色以上の発光層を積層した構成（図５）においても、発光層のうち少なくとも一層が、単一の燐光性発光材料からなる発光層とすることで、素子の導電率を高く保つことができる。
【実施例】
【００５６】
次に本発明の実施例について示す。但し、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５７】
以下に、作製したＲＧＢ塗り分け方式アクティブマトリックス型有機ＥＬディスプレイにおける有機層の材料を示す。
【００５８】
【化１】
2007273704.tif 000005
【００５９】
【化２】
2007273704.tif 000006
【００６０】
【化３】
2007273704.tif 000007
【００６１】
＜実施例１＞
赤、緑、青すべての画素において、正孔輸送層は共通材料ＨＴ１、電子輸送層は共通材料ＥＴ１を使用した。
【００６２】
また、すべての画素において、正孔輸送層の膜厚は４０ｎｍ、電子輸送層の膜厚は２５ｎｍとした。
【００６３】
続いてそれぞれの発光層について示す。
【００６４】
青色画素は、青色発光材料ＢＤ−１を１０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００６５】
緑色画素は、緑色発光材料ＧＤ−２と、緑色ホスト材料ＧＨ−１を、発光材料：ホスト材料＝５：９５の重量比で２５ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００６６】
赤色画素は、赤色発光材料ＲＤ−１と、赤色ホスト材料ＲＨ−１を、発光材料：ホスト材料＝１０：９０の重量比で３０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００６７】
これら発光層の膜厚により、光学干渉により光の取り出し効率が最大となるよう調節した。
【００６８】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。
【００６９】
作製した有機ＥＬディスプレイパネルの特性を以下の表にまとめる。
【００７０】
表中Ｖ＠０．１ｍＡ／ｃｍ2は、各画素中の電流密度を０．１ｍＡ／ｃｍ2とするときに必要な電圧であり、Ｊ＠４Ｖは、各画素に４Ｖの電圧を引加したときの画素中の電流密度を示している。
【００７１】
また、Ｖ＠ｃｄ／ｍ2は、Ｒは６００ｃｄ／ｍ2、Ｇは１２００ｃｄ／ｍ2、Ｂは２００ｃｄ／ｍ2光らせるのに必要な駆動電圧である。
【００７２】
【表１】
2007273704.tif 000008
【００７３】
＜実施例２＞
実施例１と同様に正孔輸送層を堆積した後、さらに、青色画素においては、正孔輸送層と発光層との間に、励起子ブロッキング層として、青色用ホスト材料ＢＨ−１を３ｎｍ積層したのちそれぞれの発光層を実施例１と同様にして堆積した。
【００７４】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。特性を以下の表にまとめる。
【００７５】
【表２】
2007273704.tif 000009
【００７６】
＜実施例３＞
実施例１と同様に正孔輸送層ＨＴ１を堆積させた後それぞれの発光層を堆積させた。
【００７７】
続いてそれぞれの発光層について示す。
【００７８】
青色画素は、青色発光材料ＢＤ−１を１０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００７９】
緑色画素は、緑色発光材料ＧＤ−１を５ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００８０】
赤色画素は、赤色発光材料ＲＤ−１と、赤色ホスト材料ＲＨ−１を、発光材料：ホスト材料＝１０：９０の重量比で３０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００８１】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。特性を以下の表にまとめる。
【００８２】
【表３】
2007273704.tif 000010
【００８３】
＜実施例４＞
実施例３と同様に正孔輸送層・発光層を堆積した後、さらに、青色画素においては、正孔輸送層と発光層との間に、励起子ブロッキング層として青色用ホスト材料ＢＨ−１を３ｎｍ積層した後それぞれの発光層を実施例３と同様にして堆積した。
【００８４】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。特性を以下の表にまとめる。
【００８５】
【表４】
2007273704.tif 000011
【００８６】
＜比較例１＞
赤、緑、青すべての画素において、正孔輸送層、電子輸送層は共通の材料を使用した。
【００８７】
また、すべての画素において、正孔輸送層の膜厚は４０ｎｍ、電子輸送層の膜厚は２５ｎｍとした。
【００８８】
続いてそれぞれの発光層について示す。
【００８９】
青色画素は、青色発光材料と、青色ホスト材料を、発光材料：ホスト材料＝１０：９０の重量比で１０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００９０】
緑色画素は、緑色発光材料と、緑色ホスト材料を、発光材料：ホスト材料＝５：９５の重量比で２５ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００９１】
赤色画素は、赤色発光材料と、赤色ホスト材料を、発光材料：ホスト材料＝１０：９０の重量比で３０ｎｍ堆積し、発光層とした。
【００９２】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。特性を以下の表にまとめる。
【００９３】
【表５】
2007273704.tif 000012
【００９４】
＜比較例２＞
比較例１と同様に正孔輸送層を堆積した後、さらに、青色画素においては、正孔輸送層と発光層との間に、励起子ブロッキング層として、青色用ホスト材料（ＢＨ−１）を２ｎｍ積層したのちそれぞれの発光層を比較例１と同様にして堆積した。
【００９５】
それぞれの画素を塗り分けた後、電子輸送材料ＥＴ１を２５ｎｍ堆積させた。特性を以下の表にまとめる。
【００９６】
【表６】
2007273704.tif 000013
【００９７】
すべての実施例と比較例の結果から、ホスト−ゲスト系と単一の発光材料を発光層とした際の駆動電圧の違いを比較すると次のようになる。
【００９８】
【表７】
2007273704.tif 000014
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】赤・緑・青３色の画素配置模式図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの１つの画素を示す断面図である。
【図３】有機ＥＬディスプレイパネルにおける有機ＥＬ素子部模式図である。
【図４】青色画素におけるホスト−ゲスト構成と単一の発光材料構成のＬ−Ｖ特性を示す図である。
【図５】積層型有機ＥＬディスプレイ有機ＥＬ素子部模式図である。
【符号の説明】
【０１００】
２００  基板
２０１  ＴＦＴ部
２０２  ｐｏｌｙ−Ｓｉ層
２０３  ソース領域
２０４  ドレイン領域
２０５  ゲート電極
２０６  ゲート絶縁膜
２０７  ドレイン電極
２０８  層間絶縁膜
２０９  ソース電極
２１０  反射層
２１２  透明電極
２１３  画素分離膜
２１４  有機機能層
２１５  透明電極
４０１  陰極
４０２  電子輸送層
４０３  発光層
４０４  電子阻止層
４０５  正孔輸送層
４０６  陽極
４０７  基板
５０１  陰極
５０２  電子輸送層
５０３  発光層（１）
５０３  発光層（２）
５０３  発光層（３）
５０５  正孔輸送層
５０６  陽極
５０７  基板
【図１】
2007273704.tif 000015
【図２】
2007273704.tif 000016
【図３】
2007273704.tif 000017
【図４】
2007273704.tif 000018
【図５】
2007273704.tif 000019