(57)【要約】【課題】カラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を提供する。【解決手段】透明基板の一の面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、ブラックマトリックスを加熱しながら透明基板の他の面側に紫外線を照射してブラックマトリックスの側面を親水化させる段階とを含む。【選択図】図４Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一の面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、
前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、
前記ブラックマトリックスを加熱しつつ、前記透明基板の他の面側に紫外線を照射し、前記ブラックマトリックスの側面を親水化させる段階と、を含むことを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項２】
前記ブラックマトリックスは、１００℃〜５００℃の温度で加熱されることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項３】
前記ブラックマトリックスを形成する段階の後に、
前記ブラックマトリックスの上面に、前記透明基板を透過する紫外線を反射させる反射板を付着させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項４】
前記反射板を加熱することにより、前記ブラックマトリックスを加熱することを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項５】
前記反射板は、光反射率が３０％以上である物質からなることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項６】
前記反射板は、金、銀、アルミニウム、白金、クロム、銅、鉄、ニッケル、及びモリブデンからなる群から選択された少なくとも１つの金属からなることを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項７】
紫外線が反射される前記反射板の表面は、紫外線が前記ブラックマトリックスの側面に散乱されるように粗く加工されていることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項８】
前記反射板は、前記ブラックマトリックスの上面が空気と接触しないように、前記ブラックマトリックスの上面に密着されることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項９】
前記反射板は、真空を用いて前記ブラックマトリックスの上面に密着されることを特徴とする請求項８に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１０】
透明基板の表面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、
前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、
前記ブラックマトリックスの上面に紫外線を透過させる物質からなる複数の遮断層を付着させる段階と、
前記遮断層の上部に紫外線を照射し、前記ブラックマトリックスの側面を親水化させる段階と、を含むことを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１１】
前記複数の遮断層を透過する紫外線が前記ブラックマトリックスの側面に照射されるように、前記複数の遮断層は、相異なる屈折率を有することを特徴とする請求項１０に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１２】
前記複数の遮断層のうち最下部の遮断層は、前記ブラックマトリックスの上面が空気と接触しないように、前記ブラックマトリックスの上面に密着されることを特徴とする請求項１１に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１３】
透明基板の表面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、
前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、
前記ブラックマトリックスの上面に遮断層を付着させる段階と、
前記ブラックマトリックスの側面をプラズマに露出させて親水化させる段階と、を含むことを特徴とするカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１４】
前記遮断層を付着させる段階の後に、
前記遮断層に圧力を加えて前記遮断層が前記ブラックマトリックスの上面に密着するように、前記遮断層の上面に少なくとも１層の圧力層を設ける段階をさらに含むことを特徴とする請求項１３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１５】
前記圧力層の内部は、流体で充填されることを特徴とする請求項１４に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１６】
前記プラズマは、酸素プラズマであることを特徴とする請求項１３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【請求項１７】
前記遮断層は、前記ブラックマトリックスに対応する形状を有することを特徴とする請求項１３に記載のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法に係り、より詳しくは、輝度の均一性を向上させることができるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来には、ＴＶ及びコンピュータなどの情報をディスプレイするためにＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）モニターが主に使用されてきたが、最近は画面のサイズが大きくなることによって液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ；ＬＥＤ）、及び電界放出ディスプレイ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などのような平板ディスプレイ装置が使用されている。このような平板ディスプレイ装置のうち、消費電力が少なくてコンピュータモニタ及びノートパソコンなどに主に使用されるＬＣＤが脚光を浴びている。
【０００３】
一般に、ＬＣＤには、液晶層によって変調された白色光を通過させて所望の色相の画像を形成するカラーフィルタが備えられている。ここで、カラーフィルタは、透明基板上に、複数の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）のピクセルが所定形態に配列された構造を有しており、このようなピクセルは、ブラックマトリックスによって区画されている。
【０００４】
図１Ａ及び図１Ｂには、従来のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法が開示されている。図１Ａを参照すれば、透明基板１０の表面に疎水性有機物からなる遮光層１２を所定厚さに塗布した後、これをベーキングする。続いて、図１Ｂを参照すれば、遮光層１２を所定形態にパターニングすることにより、ブラックマトリックス１５を形成する。図２には、図１Ａ及び図１Ｂに示されている方法によって製造されたブラックマトリックス１５の間の領域に所定色相のインク１７を塗布してピクセルを形成することにより、製作されたカラーフィルタが示されている。
【０００５】
しかしながら、上記のような方法によって製造されたブラックマトリックスの側面は、インクに対して接触角が大きい疎水性を帯びるため、図２に示すようにインクが基板上に均一な厚さに塗布されない問題点がある。これにより、ブラックマトリックスの側面近傍では、光が漏れる現象が発生し、その結果、カラーフィルタの各ピクセルから出る光の輝度が不均一になる。
【０００６】
上記のような問題点を解決するために、ブラックマトリックスの側面を親水性に変化させることができるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法が図３Ａ〜図３Ｃに示されている。図３Ａ〜図３Ｃは、特許文献１に開示されたカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を示したものである。図３Ａを参照すれば、透明基板２０の表面に疎水性有機物からなる遮光層２２を所定の厚さに塗布した後、これをベーキングする。続いて、図３Ｂを参照すれば、遮光層２２を所定形態にパターニングすることにより、ブラックマトリックス２５を形成する。次に、図３Ｃを参照すれば、基板２０の裏面側を紫外線に露光させれば、紫外線が照射されるブラックマトリックス２５の側面は、空気中の水分を吸着することにより、親水性に変化し、紫外線が照射されないブラックマトリックス２５の上面は、そのまま疎水性として残っているようになる。
【０００７】
しかしながら、上記のようなカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を実際に適用してみても、ブラックマトリックスの側面が親水性に好ましく変化しないという短所がある。
【特許文献１】特開２０００−１６２４２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の技術的課題は、輝度の均一性を向上させることができるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記技術的課題を達成するために本発明の具現例によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法は、透明基板の一の面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、前記ブラックマトリックスを加熱しつつ、前記透明基板の他の面側に紫外線を照射し、前記ブラックマトリックスの側面を親水化させる段階と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
前記ブラックマトリックスは、１００℃〜５００℃の温度で加熱されうる。
【００１１】
前記ブラックマトリックスを形成する段階の後に、前記ブラックマトリックスの上面に、前記透明基板を透過する紫外線を反射させる反射板を付着させる段階がさらに含まれうる。この場合、前記反射板を加熱することにより、前記ブラックマトリックスが加熱されうる。
【００１２】
前記反射板は、光反射率が３０％以上である物質からなることが好ましい。具体的には、前記反射板は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びモリブデン（Ｍｏ）からなる群から選択された少なくとも１つの金属からなりうる。
【００１３】
紫外線が反射される前記反射板の表面は、紫外線が前記ブラックマトリックスの側面に散乱されるように粗く加工できる。
【００１４】
前記反射板は、前記ブラックマトリックスの上面が空気と接触しないように、前記ブラックマトリックスの上面に密着されることが好ましい。ここで、前記反射板は、真空を用いて前記ブラックマトリックスの上面に密着されうる。
【００１５】
本発明の他の具現例によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法は、透明基板の表面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、前記ブラックマトリックスの上面に紫外線を透過させる物質からなる複数の遮断層を付着させる段階と、前記遮断層の上部に紫外線を照射し、前記ブラックマトリックスの側面を親水化させる段階と、を含む。
【００１６】
前記複数の遮断層を透過する紫外線が前記ブラックマトリックスの側面に照射されうるように、前記複数の遮断層は、相異なる屈折率を有することが好ましい。
【００１７】
本発明のさらに他の具現例によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法は、透明基板の表面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、前記遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、前記ブラックマトリックスの上面に遮断層を付着させる段階と、前記ブラックマトリックスの側面をプラズマに露出させて親水化させる段階と、を含む。
【００１８】
前記遮断層を付着させる段階の後に、前記遮断層に圧力を加えて前記遮断層が前記ブラックマトリックスの上面に密着するように、前記遮断層の上面に少なくとも１層の圧力層を設ける段階がさらに含まれうる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法によれば、ブラックマトリックスの表面中の上面は、疎水性を維持し、側面のみを選択的に親水化させることができる。これにより、ブラックマトリックスによって区画される領域内部には、所定色相のインクが均一な厚さで充填され、その結果、従来のブラックマトリックスの側面近傍で発生される光が漏れる現象を防止できて、ディスプレイ装置の輝度均一性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付した図面に基づき本発明による好ましい実施形態を詳細に説明する。図面で同一な参照符号は、同一な構成要素を示すものとする。
【００２１】
図４Ａ〜図４Ｃは、本発明の一実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【００２２】
図４Ａを参照すれば、透明基板１００の表面に、疎水性有機物を所定厚さに塗布した後、これをソフトベーキングすることにより、遮光層１０２を形成する。ここで、透明基板１００としては、一般にガラス基板が使用されるが、プラスチック基板が使用されることもある。疎水性有機物は、スピンコーティング、ダイコーティング、又はディップコーティング方法によって透明基板１００の表面に塗布される。
【００２３】
図４Ｂを参照すれば、遮光層１０２を所定形態にパターニングすることにより、ブラックマトリックス１０５を形成する。ここで、遮光層１０２が感光性物質からなる場合には、所定パターンが形成されたフォトマスク（図示せず）を用いて遮光層１０２を露光現像するようになる。一方、遮光層１０２が非感光性物質からなる場合には、遮光層１０２の表面にフォトレジスト（図示せず）を塗布し、これをフォトリソグラフィ工程によってパターニングした後、このようにパターニングされたフォトレジストをエッチングマスクとして用いて遮光層１０２をエッチングする。
【００２４】
図４Ｃを参照すれば、ブラックマトリックス１０５を加熱しつつ、透明基板１００の背面側に紫外線を照射する。ブラックマトリックス表面の接触角を変化させるために紫外線のみを使用することよりは、本実施形態でのようにブラックマトリックス１０５を加熱しながら紫外線を照射すれば、ブラックマトリックス１０５表面の接触角を所望するほど容易に変化させることができる。ここで、親水化を十分に進行させる及び温度による影響を他の構成物質へ与えないなどの見地から、ブラックマトリックス１０５の加熱温度は、ほぼ１００℃〜５００℃程度になる。また、ブラックマトリックス１０５を加熱する処理自体は一般的な加熱処理であるため、詳細な説明は省略する。
【００２５】
これにより、ブラックマトリックス１０５の表面のうち、紫外線が照射される部分の接触角と、照射されない部分の接触角とが相異なる。具体的には、透明基板１００を透過する紫外線が照射されるブラックマトリックス１０５の側面は、空気中の水分を吸着して親水化されることによって親水性を帯びる。そして、ブラックマトリックス１０５の上面は、透明基板１００を透過した紫外線が達しないため、そのまま疎水性を帯びる。本実施形態で、ブラックマトリックス１０５側面のインクに対する接触角は、例えば、ほぼ１５°以下になり、ブラックマトリックス１０５上面のインクに対する接触角は、例えばほぼ３５°以上になる。
【００２６】
また、紫外線が照射されるブラックマトリックス１０５の側面をさらに容易に親水化させるためには、図４Ｃに示すように、ブラックマトリックス１０５の上面に紫外線を反射させる反射板１３０を付着させることが好ましい。この時、反射板１３０を加熱することにより、ブラックマトリックス１０５を所定温度で加熱することが好ましい。反射板１３０は、透明基板１００を透過する紫外線を反射させてブラックマトリックス１０５の側面に照射させると同時に紫外線がブラックマトリックス１０５の上面に達しないようにする役割を果たす。ここで、顕著な親水化を得るという効果の見地から、反射板１３０は、光反射率がほぼ３０％以上である物質からなることが好ましい。具体的には、反射板１３０は、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びモリブデン（Ｍｏ）からなる群から選択された少なくとも１つの金属からなりうる。
【００２７】
紫外線が反射される反射板１３０の表面は、所定粗さを有するように加工できる。これは、透明基板１００を透過する紫外線が反射板１３０で反射されながらブラックマトリックス１０５の側面側に散乱されるようにするためである。そして、反射板１３０は、ブラックマトリックス１０５の上面が空気と接触しないように、ブラックマトリックス１０５の上面に密着されることが好ましい。ここで、反射板１３０は、例えば、真空を用いた接着方法によってブラックマトリックス１０５の上面に密着される。一方、反射板１３０は、真空を用いる方法以外にも多様な方法によってブラックマトリックス１０５の上面に密着される。
【００２８】
以上のように、ブラックマトリックス１０５を加熱しながら紫外線を照射すれば、紫外線が照射されるブラックマトリックス１０５の側面が容易に親水化される。
【００２９】
図５Ａは、側面を親水性処理しないブラックマトリックス内にカラーインクを充填して製作したカラーフィルタの様子を撮った写真であり、図５Ｂは図５Ａに示されているカラーフィルタに光を透過させながら撮った写真である。図５Ａを参照すれば、ブラックマトリックスの側面が疎水性を帯びており、ブラックマトリックスの側面近傍にインクが所望するほど充填されていないということが分かり、これにより、図５Ｂに示すようにブラックマトリックスの側面近傍で光が漏れる現象を確認することができる。
【００３０】
図６Ａは、本発明の実施形態によって加熱及び紫外線照射によって側面を親水性処理したブラックマトリックス内にカラーインクを充填して製作したカラーフィルタの様子を撮った写真であり、図６Ｂは、図６Ａに示されているカラーフィルタに光を透過させながら撮った写真である。図６Ａを参照すれば、ブラックマトリックスの側面がほとんど親水性を帯びており、ブラックマトリックスの側面近傍にインクが所望するほど充填されていないということが分かり、これにより、図６Ｂに示すようにブラックマトリックスの側面近傍では、光が漏れる現象が非常に減っているということが分かる。
【００３１】
図７Ａ及び図７Ｂは、本発明の他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックス製造方法を説明するための図面である。
【００３２】
図７Ａを参照すれば、透明基板２００上にブラックマトリックス２０５を形成する。ブラックマトリックス２０５は、前述したように、透明基板２００の表面に疎水性有機物からなる遮光層（図示せず）を形成し、これをパターニングすることにより形成される。
【００３３】
図７Ｂを参照すれば、ブラックマトリックス２０５の上面に紫外線を透過させる物質からなる第１及び第２の遮断層２４０ａ，２４０ｂを付着させる。続いて、第２の遮断層２４０ｂの上部に紫外線を照射すれば、この紫外線は、第１及び第２の遮断層２４０ａ，２４０ｂを透過する。そして、このように透過された紫外線は、ブラックマトリックス２０５の側面に触れるようになり、これによりブラックマトリックス２０５の側面は、空気中の水分を吸着することにより、親水化される。一方、紫外線を照射する過程で、ブラックマトリックス２０５は、前述したように所定温度で加熱されてもよい。
【００３４】
遮断層２４０ａ，２４０ｂのうち下部に設けられる遮断層、すなわち第１の遮断層２４０ａは、ブラックマトリックス２０５の上面が空気と接触しないように、ブラックマトリックス２０５の上面に密着される。これにより、ブラックマトリックス２０５の上面は、紫外線によって親水化されず、疎水性を維持するようになる。そして、第１及び第２の遮断層２４０ａ，２４０ｂは、相異なる屈折率を有することが好ましい。これにより、紫外線が第１及び第２の遮断層２４０ａ，２４０ｂを透過しながら屈折されて、ブラックマトリックス２０５の側面に照射されることによって、ブラックマトリックス２０５の側面がさらに容易に親水化される。以上では、ブラックマトリックス２０５の上面に２層の遮断層２４０ａ，２４０ｂが設けられる場合が説明されたが、本実施形態ではこれに限定されず３層以上の遮断層がブラックマトリックスの上面に設けられてもよい。
【００３５】
図８Ａ〜図８Ｃは、本発明のさらに他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックス製造方法を説明するための図面である。
【００３６】
図８Ａを参照すれば、透明基板３００上にブラックマトリックス３０５を形成する。ブラックマトリックス３０５は、前述したように、透明基板３００の表面に疎水性有機物からなる遮光層（図示せず）を形成し、これをパターニングすることにより形成される。
【００３７】
図８Ｂを参照すれば、ブラックマトリックス３０５の上面に遮断層３４０を付着する。ここで、遮断層３４０は、ブラックマトリックス３０５の上面に密着されて、ブラックマトリックス３０５の上面が後述するプラズマに露出されないようにするためのものである。このような遮断層３４０によって、ブラックマトリックス３０５の上面は、プラズマに露出されないことによって、親水化されず、疎水性を維持する。以上では、プレート形状の遮断層３４０が使用された場合が説明されたが、本実施形態ではこれに限定されず、多様な形状の遮断層が使用できる。図９及び図１０は、本実施形態に使用できる遮断層の変形例を示した断面図及び斜視図である。図９及び図１０を参照すれば、遮断層３４０’は、ブラックマトリックス３０５に対応するマトリックス形状を有し、ブラックマトリックス３０５の上面に付着される。
【００３８】
図８Ｃを参照すれば、遮断層３４０の上面には、圧力層３５０がさらに設けられることがある。圧力層３５０は、遮断層３４０にブラックマトリックス３０５側に圧力を加えることによって、遮断層３４０がブラックマトリックス３０５の上面にさらに密着されるようにする。これにより、ブラックマトリックス３０５の上面がプラズマによって親水化されることをさらに効果的に防止できる。ここで、遮断層３４０に加えられる圧力を均一にするため、圧力層３５０の内部は、気体及び液体などの流体で充填されうる。以上では、１層の圧力層３５０が使用される場合が説明されたが、本実施形態ではこれに限定されず２層以上の圧力層が使用されてもよい。
【００３９】
次に、ブラックマトリックス３０５をプラズマに露出させれば、ブラックマトリックス３０５の側面は、プラズマと反応して親水化される。ここで、ブラックマトリックス３０５の上面は、遮断層３４０及び圧力層３５０によってプラズマに露出されないため、親水化されずに疎水性をそのまま維持する。一方、本実施形態で、ブラックマトリックス３０５の側面を親水化させるために使用されるプラズマは、酸素（Ｏ２）プラズマであることが可能である。
【００４０】
一方、以上の実施形態で説明されたカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法は、主にＬＣＤ分野に適用されるが、これに限定されずに他のディスプレイ分野、例えば有機ＥＬ（ＯＬＥＤ）でバンクを製造する方法にもいくらでも適用可能である。
【００４１】
以上、本発明による好適な実施形態が説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者であればこれらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求範囲によって決められるものである。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、ディスプレイ分野に使用されるカラーフィルタ用ブラックマトリックスに適用されうる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１Ａ】従来のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図１Ｂ】従来のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図２】図１Ａ及び図１Ｂに示されている方法によって製造されたブラックマトリックスを用いて製作したカラーフィルタを示した図面である。
【図３Ａ】従来の他のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図３Ｂ】従来の他のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図３Ｃ】従来の他のカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図４Ａ】本発明の一実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図４Ｂ】本発明の一実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図４Ｃ】本発明の一実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図５Ａ】側面を親水性処理していないブラックマトリックス内にカラーインクを充填して製作したカラーフィルタの様子を撮った写真である。
【図５Ｂ】図５Ａに示されているカラーフィルタに光を透過させながら撮った写真である。
【図６Ａ】本発明の一実施形態によって側面を親水性処理したブラックマトリックス内にカラーインクを充填して製作したカラーフィルタの様子を撮った写真である。
【図６Ｂ】図６Ａに示されているカラーフィルタに光を透過させながら撮った写真である。
【図７Ａ】本発明の他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図７Ｂ】本発明の他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図８Ａ】本発明のさらに他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図８Ｂ】本発明のさらに他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図８Ｃ】本発明のさらに他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法を説明するための図面である。
【図９】本発明のさらに他の実施形態によるカラーフィルタ用ブラックマトリックスの製造方法に使用できる遮断層の変形例を示した断面図である。
【図１０】図９に示されている遮断層の斜視図である。
【符号の説明】
【００４４】
１００    透明基板、
１０２    遮光層、
１０５    ブラックマトリックス、
１３０    反射板。
【図１Ａ】
2007148370.tif 000003
【図１Ｂ】
2007148370.tif 000004
【図２】
2007148370.tif 000005
【図３Ａ】
2007148370.tif 000006
【図３Ｂ】
2007148370.tif 000007
【図３Ｃ】
2007148370.tif 000008
【図４Ａ】
2007148370.tif 000009
【図４Ｂ】
2007148370.tif 000010
【図４Ｃ】
2007148370.tif 000011
【図７Ａ】
2007148370.tif 000012
【図７Ｂ】
2007148370.tif 000013
【図８Ａ】
2007148370.tif 000014
【図８Ｂ】
2007148370.tif 000015
【図８Ｃ】
2007148370.tif 000016
【図９】
2007148370.tif 000017
【図１０】
2007148370.tif 000018
【図５Ａ】
2007148370.tif 000019
【図５Ｂ】
2007148370.tif 000020
【図６Ａ】
2007148370.tif 000021
【図６Ｂ】
2007148370.tif 000022