(57)【要約】【課題】同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の複屈折率（平均複屈折率）および面内位相差（平均面内位相差）の変動幅を共に低減でき、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、光学フィルム、画像表示装置を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、基材表面の配向処理工程と；該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する工程と；該液晶組成物中の液晶材料の配向工程とを含み、該液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、該配向工程が、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う工程を含み、前記基材が長尺フィルムであり、長辺方向に連続的に流れる製造ラインによって製造を行い、該ＵＶ照射を行うＵＶ照射源から特定の位置における温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように該液晶組成物中の液晶材料に該ＵＶ照射を行う。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面の配向処理工程と；
該基材の該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する塗工工程と；
該液晶組成物中の液晶材料の配向工程とを含み、
該液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、
該配向工程が、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う工程を含み、
前記基材が長尺フィルムであり、長辺方向に連続的に流れる製造ラインによって製造を行い、
該ＵＶ照射を行うＵＶ照射源を通る垂線から該フィルムの長辺方向でラインの流れ方向と逆方向に１５０ｍｍの位置にあって且つフィルムの短辺の中央部から垂直上方向に５０ｍｍにある位置Ｐにおける温度をＴとしたとき、該温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように該液晶組成物中の液晶材料に該ＵＶ照射を行う、光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記配向工程を経て得られた光学補償層中、下記に定義する方法によって算出した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）が０〜０．００１である、請求項１に記載の製造方法：
平均複屈折率Δｎａｖの算出は、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点を測定点として複屈折率Δｎを測定し、得られた２５個の測定値の平均値を平均複屈折率Δｎａｖとする。
【請求項３】
前記配向工程を経て得られた光学補償層中、下記に定義する方法によって算出した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）が０〜３ｎｍである、請求項１または２に記載の製造方法：
平均面内位相差Δｎｄａｖの算出は、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点を測定点として複屈折率Δｎと厚みｄを測定して面内位相差Δｎｄを算出し、さらに得られた２５個のΔｎｄの平均値を平均面内位相差Δｎｄａｖとする。
【請求項４】
前記ＵＶ照射がされたフィルム面の長辺方向の長さが１００〜６０００ｍである、請求項１から３までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記配向処理が、ラビング処理、斜方蒸着法、延伸処理、光配向処理、磁場配向処理および電場配向処理からなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１から４までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれかに記載の製造方法により製造された、光学フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の光学フィルムを含む、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、および画像表示装置に関する。より詳細には、本発明は、フィルムが連続的に流れるラインによって光学補償層を有する光学フィルムを製造するにあたり、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層中の複屈折率および面内位相差の変動幅を共に低減でき、したがって、同一ロット内での光学特性のバラツキ（例えば、面内位相差の部分的な低下など）が少ない、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、およびそのような方法で得られた光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の光学補償を目的として、光学補償層を有する光学フィルム（位相差フィルムと称することもある）が用いられている。最適な光学補償（例えば、視野角特性の改善、カラーシフトの改善、コントラストの改善）を得るために、光学フィルムの光学特性の最適化や、液晶パネルにおける光学フィルムの配置について、種々の試みがなされている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
光学補償層を有する光学フィルムを製造する方法として、配向処理を施した長尺の基材を長辺方向に連続的に流す製造ラインにおいて、その基材上に液晶組成物を塗工し、この液晶組成物中の液晶材料をＵＶ照射を用いて配向および硬化させて、基材上に光学補償層を形成する方法が知られている。しかし、このような方法で得られる光学フィルムにおいては、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の長辺方向の任意の複数の測定点において、無視できない複屈折率Δｎのばらつきや面内位相差Δｎｄのばらつきが生じてしまうという問題がある。このようなばらつきが生じると、同一ロット内で、複屈折率Δｎや面内位相差Δｎｄの部分的な低下が避けられず、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを製造することができない。
【特許文献１】特開平１１−９５２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の複屈折率（平均複屈折率）および面内位相差（平均面内位相差）の変動幅を共に低減でき、したがって、同一ロット内での光学特性のバラツキ（例えば、面内位相差（平均面内位相差）の部分的な低下など）が少ない、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、およびそのような方法で得られた光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記複屈折率Δｎおよび面内位相差Δｎｄのばらつきの原因について検討を行い、ＵＶ照射による液晶材料の重合処理および／または架橋処理の条件に着目した。そして、検討の結果、ＵＶ照射時の温度制御が上記複屈折率Δｎおよび面内位相差Δｎｄのばらつきの低減に大きく寄与することを見出し、本発明の完成に至った。従来、光学補償層を有する光学フィルムの製造において用いられるＵＶ照射装置では、装置（チャンバー）内の温度制御は行われていない。
【０００６】
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の表面の配向処理工程と；該基材の該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する塗工工程と；該液晶組成物中の液晶材料の配向工程とを含み、該液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、該配向工程が、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う工程を含み、前記基材が長尺フィルムであり、長辺方向に連続的に流れる製造ラインによって製造を行い、該ＵＶ照射を行うＵＶ照射源を通る垂線から該フィルムの長辺方向でラインの流れ方向と逆方向に１５０ｍｍの位置にあって且つフィルムの短辺の中央部から垂直上方向に５０ｍｍにある位置Ｐにおける温度をＴとしたとき、該温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように該液晶組成物中の液晶材料に該ＵＶ照射を行う。
【０００７】
好ましい実施形態においては、上記配向工程を経て得られた光学補償層中、下記に定義する方法によって算出した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）が０〜０．００１である：平均複屈折率Δｎａｖの算出は、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点を測定点として複屈折率Δｎを測定し、得られた２５個の測定値の平均値を平均複屈折率Δｎａｖとする。
【０００８】
好ましい実施形態においては、上記配向工程を経て得られた光学補償層中、下記に定義する方法によって算出した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）が０〜３ｎｍである：平均面内位相差Δｎｄａｖの算出は、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点を測定点として複屈折率Δｎと厚みｄを測定して面内位相差Δｎｄを算出し、さらに得られた２５個のΔｎｄの平均値を平均面内位相差Δｎｄａｖとする。
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記ＵＶ照射がされたフィルム面の長尺方向の長さが１００〜６０００ｍである。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記配向処理が、ラビング処理、斜方蒸着法、延伸処理、光配向処理、磁場配向処理および電場配向処理からなる群から選択される少なくとも１つである。
【００１１】
本発明の別の局面によれば、光学フィルムが提供される。この光学フィルムは、上記製造方法により製造される。
【００１２】
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記光学フィルムを含む。
【発明の効果】
【００１３】
以上のように、本発明によれば、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の複屈折率（平均複屈折率）および面内位相差（平均面内位相差）の変動幅を共に低減でき、したがって、同一ロット内での光学特性のバラツキ（例えば、面内位相差（平均面内位相差）の部分的な低下など）が少ない、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る方法、およびそのような方法で得られた光学フィルム、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置を提供することができる。
【００１４】
上記効果は、液晶材料の重合処理および／または架橋処理の際にＵＶ照射を行うにあたって用いるＵＶ照射源から特定距離の位置Ｐにおける温度をＴとしたとき、その温度Ｔの変動量ΔＴを特定温度範囲内に制御された状態において液晶組成物中の液晶材料にＵＶ照射を行うことで発現し得る。
【００１５】
従来、光学補償層を有する光学フィルムの製造において、液晶材料の重合処理および／または架橋処理に用いられるＵＶ照射装置では、装置（チャンバー）内の温度制御は行われていない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学フィルムの全体的な光学特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「平均複屈折率Δｎａｖ」は、図５に示すように、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点（図５のｘ）を測定点として複屈折率Δｎを測定し、得られた２５個の測定値の平均値を平均複屈折率Δｎａｖとする。
（３）「面内位相差Δｎｄ」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Δｎｄは、波長５５０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Δｎｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（４）「平均面内位相差Δｎｄａｖ」は、図５に示すように、光学補償層の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点（図５のｘ）を測定点として複屈折率Δｎと厚みｄを測定して面内位相差Δｎｄを算出し、さらに得られた２５個のΔｎｄの平均値を平均面内位相差Δｎｄａｖとする。
（５）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（６）「λ／２板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏光に（または、左円偏光を右円偏光に）変換したりする機能を有するものをいう。λ／２板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／２である。
（７）「λ／４板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／４である。
（８）位置Ｐにおける「温度Ｔ」は、熱電対を用い、２０秒間隔で５回連続して温度測定を行い、その５回の測定値の平均値を「温度Ｔ」とした。
Ａ．光学フィルム
Ａ−１．光学フィルムの全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの概略断面図である。この光学フィルム１０は、
基材１１と光学補償層１２とを有する。
【００１７】
本発明の光学フィルムは、図１に示す実施形態に限らず、例えば、他の光学補償層、偏光子、偏光子保護フィルム、接着剤層、粘着剤層など、任意の適切な光学層を有していても良い。具体的には、例えば、基材１１が偏光子保護フィルムとして機能する場合には、本発明の光学フィルムは、「偏光子保護フィルム／偏光子／偏光子保護フィルム／光学補償層」なる積層構造を有していても良い。
【００１８】
図２は、本発明の好ましい実施形態による光学フィルムを構成する各層の光軸を説明する分解斜視図である。上記光学補償層１２は、その遅相軸Ｂが基材１１の長辺方向Ａに対して所定の角度αを規定するようにして積層されている。なお、遅相軸とは、面内の屈折率が最大になる方向をいう。
【００１９】
上記角度αは、好ましくは０°〜＋９０°または０°〜−９０°であり、より好ましくは＋５°〜＋４５°または−５°〜−４５°であり、さらに好ましくは＋１０°〜＋３５°または−１０°〜−３５°であり、さらに好ましくは＋１８°〜＋２８°または−１８°〜−２８°であり、さらに好ましくは＋１９°〜＋２５°または−１９°〜−２５°であり、特に好ましくは＋２１°〜＋２４°または−２１°〜−２４°であり、最も好ましくは＋２２°〜＋２３°または−２２°〜−２３°である。なお、本明細書において、「実質的に平行」とは、０°±３．０°である場合を包含し、好ましくは０°±１．０°であり、さらに好ましくは０°±０．５°である。「実質的に直交」とは、９０°±３．０°である場合を包含し、好ましくは９０°±１．０°であり、さらに好ましくは９０°±０．５°である。
【００２０】
本発明の光学フィルムの厚みは、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．５〜７μｍ、さらに好ましくは１〜５μｍである。本発明の製造方法（後述）によれば、接着剤を用いることなく基材上に光学補償層を形成することが可能であるので、従来の光学フィルムに比べて、厚みが最小で４分の１程度にまで薄くすることができる。結果として、本発明の光学フィルムは、液晶表示装置の薄型化に大きく貢献し得る。以下、本発明の光学フィルムを構成する各層の詳細について説明する。
【００２１】
Ａ−２．光学補償層 
光学補償層は、例えば、いわゆるλ／２板として機能し得る。光学補償層の平均面内位相差（Δｎｄａｖ）は、好ましくは１８０〜３００ｎｍであり、より好ましくは２１０〜２８０ｎｍであり、さらに好ましくは２３０〜２６０ｎｍである。
【００２２】
光学補償層の厚みは、所望の面内位相差（平均面内位相差）が得られるように設定され得る。例えば、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは０．５〜５μｍであり、より好ましくは１〜４μｍであり、さらに好ましくは１．５〜３μｍである。
【００２３】
光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は、好ましくは０〜０．００１、より好ましくは０〜０．０００８、さらに好ましくは０〜０．０００５である。Δ（Δｎａｖ）が０．００１より大きいと、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖの変動幅が大きく、したがって、同一ロット内での複屈折率（平均複屈折率）の部分的な低下が起こりやすく、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを得ることが困難になる。なお、本発明の好ましい実施形態として、光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖが最大になる部分は、代表的には、温度Ｔが最大になる時のＵＶ照射部分であり、平均複屈折率Δｎａｖが最小になる部分は、代表的には、温度Ｔが最小になる時のＵＶ照射部分である。
【００２４】
光学補償層の平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は、好ましくは０〜３ｎｍ、より好ましくは０〜２ｎｍ、さらに好ましくは０〜１ｎｍである。Δ（Δｎｄａｖ）が３ｎｍより大きいと、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅が大きく、したがって、同一ロット内での面内位相差（平均面内位相差）の部分的な低下が起こりやすく、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを得ることが困難になる。なお、本発明の好ましい実施形態として、光学補償層の平均面内位相差Δｎｄａｖが最大になる部分は、代表的には、温度Ｔが最大になる時のＵＶ照射部分であり、平均面内位相差Δｎｄａｖが最小になる部分は、代表的には、温度Ｔが最小になる時のＵＶ照射部分である。
【００２５】
光学補償層を形成する材料としては、上記のような特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。液晶材料が好ましく、液晶相がネマチック相である液晶材料（ネマチック液晶）がさらに好ましい。液晶材料を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジニアス配向であることが好ましい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
本発明においては、液晶材料が液晶モノマーを必須に含むことが好ましい。液晶モノマーとしては、重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを必須に含むことが好ましい。
【００２７】
本発明において、液晶材料中の液晶モノマーが重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含む場合は、後述するように、液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行うことによって、液晶モノマーの配向状態を固定できるためである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、形成された光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となる。
【００２８】
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。
【００２９】
上記液晶モノマーとしては、例えば、ネマチック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記式（１）で表されるモノマーが挙げられる。これらの液晶モノマーは、単独で、または２つ以上を組み合わせて用いられ得る。
【００３０】
【化１】
2007148098.tif 000002
【００３１】
上記式（１）において、Ａ1およびＡ2は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ1およびＡ2はいずれか一方が水素であってもよい。Ｘは、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、Ｒは、ＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキルを表し、Ｍはメソゲン基を表す。
【００３２】
上記式（１）において、Ｘは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００３３】
上記式（１）のモノマーの中でも、Ａ2は、それぞれ、Ａ1に対してオルト位に配置されていることが好ましい。
【００３４】
さらに、上記Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立して、下記式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）n                  ・・・（２）
で表されることが好ましく、Ａ1およびＡ2は同じ基であることが好ましい。
【００３５】
上記式（２）において、Ｚは架橋性基を表し、Ｘは上記式（１）で定義した通りであり、Ｓｐは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の置換または非置換のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１を表す。上記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ1〜Ｃ4のアルキルイミノ基等により割り込まれていてもよい。
【００３６】
上記式（２）において、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等の基が挙げられる。
【００３７】
【化２】
2007148098.tif 000003
【００３８】
また、上記式（２）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。
【００３９】
【化３】
2007148098.tif 000004
【００４０】
上記式（１）において、Ｍは、下記式（３）で表されることが好ましい。下記式（３）において、Ｘは、上記式（１）において定義したのと同様である。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖アルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表す。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1〜Ｃ12アルキレン等であり得る。
【００４１】
【化４】
2007148098.tif 000005
【００４２】
上記Ｑが芳香族炭化水素原子団である場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。
【００４３】
【化５】
2007148098.tif 000006
【００４４】
上記式で表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。上記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記置換基としては、例えば、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ等が挙げられる。
【００４５】
上記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（４）〜（１９）で表されるモノマーが挙げられる。
【００４６】
【化６】
2007148098.tif 000007
【００４７】
上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。
【００４８】
Ａ−３．基材
本発明において用い得る基材としては、本発明において適切な光学補償層が得られる限りにおいて、任意の適切な基材が採用され得る。基材は単層でも良いし、複数の層から構成される積層体でも良い。積層体の場合は、具体的には、例えば、「偏光子保護フィルム／偏光子／偏光子保護フィルム」から構成される積層体などが挙げられる。
【００４９】
本発明において用い得る基材が、最終的に偏光板の保護フィルム（偏光子保護フィルム）として使用される場合などは、そのようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましい。このようなフィルムは、透明で、色付きが無いことが好ましい。すなわち、透明保護フィルムであることが好ましい。具体的には、厚み方向の位相差値Ｒｔｈが、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋８０ｎｍであり、最も好ましくは−７０ｎｍ〜＋７０ｎｍである。
【００５０】
本発明において用い得る基材が、その上に形成された光学補償層を転写して最終的に剥離されるような場合などは、そのような基材の主成分となる材料の具体例としては、ガラス基板、金属箔、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムが挙げられる。なお、基材上には配向膜が設けられていてもよいが、設けられなくてもよい。上記プラスチックフィルムとしては、任意の適切なフィルムが採用され得る。具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。さらに、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやそれらのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。
【００５１】
基材の厚みは、好ましくは１０〜５００μｍであり、より好ましくは１５〜２００μｍであり、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。このような範囲の厚みを有することにより、非常に薄い光学補償層の形成工程において良好に支持する強度が付与され、かつ、すべり性やロール走行性のような操作性も適切に維持される。
【００５２】
Ｂ．光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材の表面の配向処理工程と；該基材の該配向処理が施された表面に液晶組成物を塗工する塗工工程と；該液晶組成物中の液晶材料の配向工程とを含み、該液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、該配向工程が、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う工程を含み、前記基材が長尺フィルムであり、長辺方向に連続的に流れる製造ラインによって製造を行い、該ＵＶ照射を行うＵＶ照射源を通る垂線から該フィルムの長辺方向でラインの流れ方向と逆方向に１５０ｍｍの位置にあって且つフィルムの短辺の中央部から垂直上方向に５０ｍｍにある位置Ｐにおける温度をＴとしたとき、該温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように該液晶組成物中の液晶材料に該ＵＶ照射を行う。このような製造方法によれば、例えば、図１に示すような光学フィルムが得られる。
【００５３】
上記の各工程の順序および／または配向処理が施されるフィルムは、目的とする光学フィルムの積層構造に応じて適宜変更され得る。以下、各工程の詳細について説明する。
【００５４】
本発明の光学フィルムの製造方法においては、フィルムが長辺方向に連続的に流れる製造ラインによって製造を行う。このような連続的な製造ラインを採用することにより、低コストで効率的な製造が可能となる。
【００５５】
Ｂ−１．基材の配向処理工程
基材の表面に配向処理を施し、当該表面に所定の液晶材料を含む塗工液（液晶組成物）を塗工することにより、図２に示すように、基材１１の長尺方向に対して角度αをなすような遅相軸を有する光学補償層１２を形成することができる（光学補償層の形成工程は後述する）。
【００５６】
上記基材への配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。好ましくはラビング処理である。なお、各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【００５７】
上記配向処理の配向方向は、形成される光学補償層１２の遅相軸の方向と実質的に同一である。したがって、上記所定の角度は、基材の長辺方向に対して、好ましくは０°〜＋９０°または０°〜−９０°であり、より好ましくは＋５°〜＋４５°または−５°〜−４５°であり、さらに好ましくは＋１０°〜＋３５°または−１０°〜−３５°であり、さらに好ましくは＋１８°〜＋２８°または−１８°〜−２８°であり、さらに好ましくは＋１９°〜＋２５°または−１９°〜−２５°であり、特に好ましくは＋２１°〜＋２４°または−２１°〜−２４°であり、最も好ましくは＋２２°〜＋２３°または−２２°〜−２３°である。
【００５８】
長尺の基材に対して上記のような所定の角度を規定し得る配向処理としては、長尺の基材の長辺方向に処理を行うこと、ならびに、長尺の基材の長辺方向またはその垂直方向（幅方向や短辺方向とも言う）に対して斜め方向（具体的には、上記のような所定の角度を規定する方向）に処理を行うことが挙げられる。斜め方向に配向処理を行うことが好ましい。基材の長辺方向または短辺方向に処理を行う場合には、基材を斜め方向に切り抜いてから積層する必要がある。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じるおそれがあり、結果として製品間に品質のばらつきが生じ得、コストや時間がかかり、廃棄物が増加し、大型フィルムの製造が困難となる。
【００５９】
配向処理は、基材表面に直接施してもよく、任意の適切な配向膜（代表的には、シランカップリング剤層、ポリビニルアルコール層またはポリイミド層）を形成し、当該配向膜に施してもよい。例えば、ラビング処理は、基材表面に直接施されるのが好ましい。配向膜にラビング処理を行う場合には、配向膜形成時に以下の不利益があるからである：配向膜がポリイミド層である場合には、（１）基材を侵食しない溶媒を選択する必要があるので、配向膜形成組成物の溶媒の選択が困難である；（２）高温（例えば、１５０〜３００℃）でのキュアリングが必要となるので、得られる楕円偏光板に外観不良が生じる場合がある。また、配向膜がポリビニルアルコール層である場合には、配向膜の耐熱性および耐湿性が不十分であるので、高温多湿下では、基材と配向膜とが剥離する場合があり、その結果、白ボケが発生する場合がある。さらに、配向膜がシランカップリング剤層である場合には、形成される液晶層（光学補償層）が傾斜しやすく、所望の正の一軸性を実現することが困難となる場合がある。
【００６０】
Ｂ−２．光学補償層を形成する液晶材料の塗工工程
次に、上記配向処理を施した基材表面に上記Ａ−２項で説明したような液晶材料を含有する塗工液（液晶組成物）を塗工し、次いで当該塗工液中の液晶材料を配向させて光学補償層を形成する。具体的には、液晶材料を適切な溶媒に溶解または分散した塗工液を調製し、この塗工液を、上記配向処理を施した基材表面に塗工すればよい。液晶材料の配向工程は後述のＢ−３項で説明する。
【００６１】
上記溶媒としては、上記液晶材料を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶材料の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００６２】
上記液晶組成物（塗工液）における液晶材料の含有量は、液晶材料の種類や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶材料の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％であり、さらに好ましくは１０〜３０重量％である。
【００６３】
上記液晶組成物（塗工液）は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶材料として液晶モノマーを用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合開始剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例えば、光学フィルムの表面を平滑にするために用いられ、具体例としては、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が挙げられる。
【００６４】
上記塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が２０重量％である場合、塗工量は、透明保護フィルムの面積（１００ｃｍ2）あたり好ましくは０．０３〜０．１７ｍｌであり、さらに好ましくは０．０５〜０．１５ｍｌであり、最も好ましくは０．０８〜０．１２ｍｌである。
【００６５】
塗工方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。
【００６６】
Ｂ−３．光学補償層を形成する液晶材料の配向工程
次いで、上記基材表面の配向方向に応じて、液晶材料を配向させ、光学補償層を形成する。液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶相を示す温度で処理することにより行われることが好ましい。このような温度処理を行うことにより、液晶材料が液晶状態をとり、上記基材表面の配向方向に応じて液晶材料が配向するからである。さらに、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う工程を含む。これによって、配向した液晶材料の配向状態を固定できる。このようにして、液晶組成物の塗工により形成された層に複屈折が生じ、光学補償層が形成される。
【００６７】
上記の配向のための処理温度は、液晶材料の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、処理温度は、好ましくは２０〜２００℃、より好ましくは３０〜１８０℃、さらに好ましくは４０〜１５０℃である。また、処理時間はトータルで、好ましくは１０秒以上、より好ましくは３０秒以上、さらに好ましくは１分以上、特に好ましくは２分以上である。処理時間が１０秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、処理時間は、好ましくは２０分以下、より好ましくは１０分以下、特に好ましくは５分以下である。処理時間が２０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。なお、ある温度である時間処理することを複数回行っても良い。この場合の複数回の温度と時間は互いに異なっていても良い。
【００６８】
さらに、配向した液晶材料の配向状態を固定するために、ＵＶ照射によって該液晶材料の重合処理および／または架橋処理を行う。重合処理を行うことにより、上記液晶モノマーが重合し、液晶モノマーがポリマー分子の繰り返し単位として固定される。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶モノマーが３次元の網目構造を形成し、液晶モノマーが架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向状態が固定される。なお、液晶モノマーが重合または架橋して形成されるポリマーまたは３次元網目構造は「非液晶性」であり、したがって、形成された光学補償層は、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。
【００６９】
上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の種類によって適宜選択され得る。
【００７０】
本発明においては、本発明の効果を発現するために、上記ＵＶ照射を特定の条件下で行うことが重要である。
【００７１】
本発明においては、ＵＶ照射を行うＵＶ照射源を通る垂線からフィルム（基材１１上に液晶組成物１３が塗布されたもの）の長辺方向でラインの流れ方向と逆方向に１５０ｍｍの位置にあって且つフィルムの短辺の中央部から垂直上方向に５０ｍｍにある位置Ｐ（フィルムの長辺方向断面から見た図３（ａ）およびフィルム短辺方向の断面から見た図３（ｂ））における温度をＴとしたとき、該温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように該液晶組成物中の液晶材料に該ＵＶ照射を行う。このように位置Ｐにおける温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるようにＵＶ照射を行うようにすれば、形成される光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）、形成される光学補償層の平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）を共に低減でき、したがって、同一ロット内での光学特性のバラツキ（例えば、面内位相差（平均面内位相差）の部分的な低下など）が少ない、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造し得る。
【００７２】
本発明の製造方法において、上記ＵＶ照射源が複数存在する場合には、上記位置Ｐを決定する基準とするＵＶ照射源は、ラインの流れ方向において最も下流側に配置されるＵＶ照射源とする。
【００７３】
上記温度Ｔの変動幅ΔＴは、小さければ小さいほど本発明の効果が発現し易く、好ましくは０〜３℃、より好ましくは０〜２℃、さらに好ましくは０〜１℃である。
【００７４】
上記温度Ｔは、好ましくは５０〜７０℃の範囲内、より好ましくは５２〜６８℃の範囲内、さらに好ましくは５５〜６５℃の範囲内である。上記範囲を外れると、本発明の効果が十分に発現できないおそれがある。
【００７５】
上記した以外のＵＶ照射条件、例えば、ＵＶ照射強度、合計のＵＶ照射量等は、液晶材料の種類、基材の種類および配向処理の種類、光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。
【００７６】
上記のような配向処理を行うことにより、上記基材の配向方向に応じて液晶材料が配向するので、形成された光学補償層の遅相軸は、上記基材の配向方向と実質的に同一となる。したがって、光学補償層の遅相軸の方向は、基材の長辺方向に対して、好ましくは０°〜＋９０°または０°〜−９０°であり、より好ましくは＋５°〜＋４５°または−５°〜−４５°であり、さらに好ましくは＋１０°〜＋３５°または−１０°〜−３５°であり、さらに好ましくは＋１８°〜＋２８°または−１８°〜−２８°であり、さらに好ましくは＋１９°〜＋２５°または−１９°〜−２５°であり、特に好ましくは＋２１°〜＋２４°または−２１°〜−２４°であり、最も好ましくは＋２２°〜＋２３°または−２２°〜−２３°である。
【００７７】
前記ＵＶ照射がされたフィルム面の長辺方向の長さは、好ましくは１００〜６０００ｍ、より好ましくは５００〜６０００ｍ、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍ、特に好ましくは２０００〜６０００ｍ、最も好ましくは３０００〜６０００ｍである。１００ｍ未満であれば、製造効率が低下してしまう。６０００ｍを超えると、安定した生産が困難になるおそれがある。
【００７８】
Ｂ−４．光学フィルムのその他の構成要素
本発明の光学フィルムは、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光学層としては、目的や画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用され得る。具体例としては、他の光学補償層（位相差フィルム）、偏光子、偏光子保護フィルム、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム等が挙げられる。本発明の光学フィルムは、さらに、接着剤層や粘着剤層を有していても良い。
【００７９】
Ｃ．光学フィルムの用途
本発明の光学フィルムは、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。適用可能な画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置、ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）が挙げられる。本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いる場合には、例えば、視野角補償に有用である。本発明の光学フィルムは、例えば、円偏光モードの液晶表示装置に用いられ、ホモジニアス配向型ＴＮ液晶表示装置、水平電極型（ＩＰＳ）型液晶表示装置、垂直配向（ＶＡ）型液晶表示装置等に特に有用である。また、本発明の光学フィルムをＥＬディスプレイに用いる場合には、例えば、電極反射防止に有用である。
【００８０】
Ｄ．画像表示装置
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムを含む。本発明の画像表示装置の一例として、液晶表示装置について説明する。ここでは、液晶表示装置に用いられる液晶パネルについて説明する。液晶表示装置のその他の構成については、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。図４は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。液晶パネル１００は、液晶セル２０と、液晶セル２０の両側に配置された位相差板３０、３０’と、それぞれの位相差板の外側に配置された偏光板１０、１０’とを備える。位相差板３０、３０’としては、目的および液晶セルの配向モードに応じて任意の適切な位相差板が採用され得る。目的および液晶セルの配向モードによっては、位相差板３０、３０’の一方または両方が省略され得る。偏光板１０、１０’は、代表的には、その偏光子の吸収軸が直交するようにして配置されている。液晶セル２０は、一対のガラス基板２１、２１’と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層２２とを有する。一方の基板（アクティブマトリクス基板）２１’には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）と、このアクティブ素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている（いずれも図示せず）。他方のガラス基板（カラーフィルター基板）２１には、カラーフィルター（図示せず）が設けられる。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板２１’に設けてもよい。基板２１、２１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー（図示せず）によって制御されている。基板２１、２１’の液晶層２２と接する側には、例えばポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。本発明の光学フィルムは、例えば、位相差板（３０および／または３０’）の一部と、それに接する偏光板（１０および／または１０’）の偏光子保護フィルムとの積層体として採用され得る。
【実施例】
【００８１】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。
【００８２】
（１）平均複屈折率Δｎａｖの測定
図５に示すように、試料フィルム（光学補償層）の短辺方向を均等に６分割するための５本の直線と光学補償層の長辺方向を均等に１００ｍｍ間隔に分割する５本の直線との交点である２５点を測定点として、試料フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを、大塚電子製ＲＥＴＳにより計測し、２５点それぞれについて複屈折率Δｎを測定し、得られた２５個の測定値の平均値を平均複屈折率Δｎａｖとした。測定温度は２５℃、測定波長は５５０ｎｍであった。
【００８３】
（２）厚みの測定
光学補償層の厚みｄは大塚電子製ＭＣＰＤ２０００を用いて、干渉膜厚測定法によって測定した。その他の各種フィルムの厚みは、ダイヤルゲージを用いて測定した。
【００８４】
〔実施例１〕
【００８５】
ａ．基材の配向処理（配向基材の作製）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ株式会社製、ルミラーＲ４１，厚み５０μｍ）の一方の面をラビングロールを用いてラビング設定角２３．０°でラビングした。
【００８６】
ｂ．光学補償層の作製
まず、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２、液晶転移温度＝６０℃）１５ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）０．７５ｇとを、シクロペンタノン８５ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。そして、上記のように作製した配向基材上に、当該塗工液をバーコーターにより塗工した。続いて、３０℃×３７．５秒、１００℃×７５秒、９０℃×７５秒、７０℃×３７．５秒、５０℃×３７．５秒の順に加熱乾燥することによって液晶を配向させた。次に、紫外線照射装置について、図３（ａ）、（ｂ）で示す位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃になるように調整した。このように調整した紫外線照射装置に上記液晶が配向したフィルムを８ｍ／分の速度で６００ｍ送り入れ、紫外線を照射し、液晶層を硬化させることによって、光学補償層（１）を形成した。位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴは０．７℃であり、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は０．７ｎｍ、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は０．０００３であった。光学補償層（１）の厚みは２．２５０μｍでほぼ一定であった。結果を表１に示す。
〔実施例２〕
【００８７】
実施例１と同様に配向基材を作製し、同様の塗工液を塗工し、続いて、３０℃×３７．５秒、１００℃×７５秒、９０℃×７５秒、７０℃×３７．５秒、５０℃×３７．５秒の順に加熱乾燥することによって液晶を配向させた。次に、紫外線照射装置について、実施例１と同様に温度調整を行い、このように調整した紫外線照射装置に上記液晶が配向したフィルムを８ｍ／分の速度で５００ｍ送り入れ、紫外線を照射し、液晶層を硬化させることによって、光学補償層（２）を形成した。位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴは０．４℃であり、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は０．１ｎｍ、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は０．００００であった。光学補償層（２）の厚みは２．２５０μｍでほぼ一定であった。結果を表１に示す。
〔実施例３〕
【００８８】
実施例１と同様に配向基材を作製し、同様の塗工液を塗工し、続いて、３０℃×３７．５秒、１００℃×７５秒、９０℃×７５秒、７０℃×３７．５秒、５０℃×３７．５秒の順に加熱乾燥することによって液晶を配向させた。次に、紫外線照射装置について、実施例１と同様に温度調整を行い、このように調整した紫外線照射装置に上記液晶が配向したフィルムを８ｍ／分の速度で４００ｍ送り入れ、紫外線を照射し、液晶層を硬化させることによって、光学補償層（３）を形成した。位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴは０．３℃であり、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は０．７ｎｍ、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は０．０００３であった。光学補償層（３）の厚みは２．２５０μｍでほぼ一定であった。結果を表１に示す。
〔比較例１〕
【００８９】
実施例１と同様に配向基材を作製し、同様の塗工液を塗工し、続いて、３０℃×３７．５秒、１００℃×７５秒、９０℃×７５秒、７０℃×３７．５秒、５０℃×３７．５秒の順に加熱乾燥することによって液晶を配向させた。次に、紫外線照射装置について、図３（ａ）、（ｂ）で示す位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴが４℃を超えるように調整した。このように調整した紫外線照射装置に上記液晶が配向したフィルムを８ｍ／分の速度で５００ｍ送り入れ、紫外線を照射し、液晶層を硬化させることによって、光学補償層（Ｃ１）を形成した。位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴは６．７℃であり、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は４．３ｎｍ、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は０．００１９であった。光学補償層（Ｃ１）の厚みは２．２５０μｍでほぼ一定であった。結果を表１に示す。
〔比較例２〕
【００９０】
実施例１と同様に配向基材を作製し、同様の塗工液を塗工し、続いて、３０℃×３７．５秒、１００℃×７５秒、９０℃×７５秒、７０℃×３７．５秒、５０℃×３７．５秒の順に加熱乾燥することによって液晶を配向させた。次に、紫外線照射装置について、図３（ａ）、（ｂ）で示す位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴが４℃を超えるように調整した。このように調整した紫外線照射装置に上記液晶が配向したフィルムを８ｍ／分の速度で４００ｍ送り入れ、紫外線を照射し、液晶層を硬化させることによって、光学補償層（Ｃ２）を形成した。位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴは５．０℃であり、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）は３．２ｎｍ、温度Ｔの変動幅ΔＴに対応した平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）は０．００１４であった。光学補償層（Ｃ２）の厚みは２．２５０μｍでほぼ一定であった。結果を表１に示す。
【００９１】
【表１】
2007148098.tif 000008
【００９２】
表１に示すように、位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴが０〜４℃である実施例１〜３（実施例１：０．７℃、実施例２：０．４℃、実施例３：０．３℃）においては、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）および平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）が共に低減されており、したがって、同一ロット内での光学特性のバラツキ（例えば、複屈折率（平均複屈折率）の部分的な低下や面内位相差（平均面内位相差）の部分的な低下など）が少ない、均質で優れた光学特性を有する光学フィルムを非常に高い製造効率で製造できており、本発明の効果が十分に発現されている。これに比べて、位置Ｐの温度Ｔの変動幅ΔＴが４℃を超えている比較例１〜２（比較例１：６．７℃、比較例２：５．０℃）においては、同一ロットの光学フィルムにおける光学補償層の平均複屈折率Δｎａｖの変動幅Δ（Δｎａｖ）および平均面内位相差Δｎｄａｖの変動幅Δ（Δｎｄａｖ）が共に大きくなってしまっている。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明の光学フィルムは、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの概略断面図である。
【図２】本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの分解斜視図である。
【図３】本発明の光学フィルムの製造方法の一例における一つの工程の概略を示す模式図である。
【図４】本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置に用いられる液晶パネルの概略断面図である。
【図５】平均複屈折率Δｎａｖおよび平均面内位相差Δｎｄａｖを算出するための、光学補償層上における２５点の測定点（ｘ）を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９５】
１０          光学フィルム
１１          基材
１２          光学補償層
１３          液晶組成物
２０          液晶セル
１００          液晶パネル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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