(57)【要約】【課題】電極間の短絡が効果的に抑制されたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。【解決手段】エレクトロルミネッセンス表示装置１は所定配列で配列された複数のエレクトロルミネッセンス素子２を有する。複数のエレクトロルミネッセンス素子２の各々は、画素電極１１と、画素電極１１の上に設けられた、発光層を含む有機積層体１３と、有機積層体１３の上に設けられた上部共通電極１５とを有する。エレクトロルミネッセンス表示装置１では、複数のエレクトロルミネッセンス素子２のうちの不良のエレクトロルミネッセンス素子２ｂにおいて、有機積層体１３と上部共通電極１５との間に被覆有機層１４が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、該第１の電極の上に設けられた、発光層を含む有機積層体と、該有機積層体の上に設けられた第２の電極とを有する複数のエレクトロルミネッセンス素子が所定配列で配列されたエレクトロルミネッセンス表示装置であって、
上記複数のエレクトロルミネッセンス素子のうちの不良のエレクトロルミネッセンス素子には、上記有機積層体と上記第２の電極との間に被覆有機層が設けられているエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置において、
上記被覆有機層は有機半導体を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置において、
上記被覆有機層は上記有機積層体に含まれる有機材料と同一の有機材料を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置において、
上記被覆有機層は絶縁性を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置において、
上記被覆絶縁層は熱硬化性樹脂を含むことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
各々、第１の電極と、該第１の電極の上に設けられた、発光層を含む有機積層体と、該有機積層体の上に設けられた第２の電極とを有する所定配列で配列された複数のエレクトロルミネッセンス素子を備え、上記複数のエレクトロルミネッセンス素子のうちの不良のエレクトロルミネッセンス素子には、上記有機積層体と上記第２の電極との間に被覆有機層が設けられているエレクトロルミネッセンス表示装置を製造する方法であって、
上記有機積層体を形成する第１の工程と、
上記第１の工程の後に、上記不良のエレクトロルミネッセンス素子を検出する第２の工程と、
上記第２工程において検出された上記不良のエレクトロルミネッセンス素子に上記被覆有機層を形成する第３の工程と、
を有するエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
上記第２の工程は、上記被覆有機層をウエット法により形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載されたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
上記第１の工程は、上記有機積層体を形成するための有機材料を含むインクを塗布する第１塗布工程と、該第１塗布工程で塗布されたインクを乾燥させることにより上記有機積層体を形成する工程とを含み、且つ、上記第３の工程は、該有機積層体の上に、上記被覆有機層を形成するための有機材料を含むインクを塗布する第２塗布工程と、上記有機積層体及び該第２塗布工程で塗布されたインクを加熱することにより、上記有機積層体を焼成すると共に、上記第２塗布工程で塗布されたインクを乾燥且つ焼成することにより上記被覆有機層を形成する工程とを含むエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はエレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は自己発光型の表示装置であり、視野角特性に優れ、視認性が高く、且つ低消費電力である。このため、近年、次世代フラットパネル表示装置として有機エレクトロルミネッセンス表示装置が注目されている。
【０００３】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、所定配列で配列された複数の有機エレクトロルミネッセンス素子を有する。複数の有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれは対をなす下部電極及び上部電極と、その間に設けられた、発光層を含む有機積層体とを有する。
【０００４】
ところで、この有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造する際、下部電極の製造工程において、一部の有機エレクトロルミネッセンス素子で下部電極に異物が付着したり、傷が発生したりするなど、不良が発生おそれがある。このような不良が発生した場合、下部電極の一部が上部に形成された有機積層体から露出し、下部電極と上部電極とが短絡（ショート）してしまうおそれがある。
【０００５】
このような問題に対処するため、例えば特許文献１、２には異物が付着した下部電極や傷が発生した下部電極上に、絶縁膜を形成することにより、下部電極と上部電極との短絡を抑制する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２００４−２５３２１４号公報
【特許文献２】特開平１１−５４２８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１、２に記載された技術では、下部電極と上部電極との短絡を十分に抑制することが困難であるという問題がある。
【０００７】
本発明は、係る点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、電極間の短絡が効果的に抑制されたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置は所定配列で配列された複数のエレクトロルミネッセンス素子を有する。複数のエレクトロルミネッセンス素子の各々は、第１の電極と、第１の電極の上に設けられた、発光層を含む有機積層体と、有機積層体の上に設けられた第２の電極とを有する。本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置では、複数のエレクトロルミネッセンス素子のうちの不良のエレクトロルミネッセンス素子において、有機積層体と第２の電極との間に被覆有機層が設けられている。
【０００９】
ここで、「不良のエレクトロルミネッセンス素子」とは、第１の電極と第２の電極との間に異物が付着する等の原因に起因して第１の電極の全表面が有機積層体により十分に被覆されていないエレクトロルミネッセンス素子のことをいう。換言すれば、被覆有機層を形成しなければ第１の電極と第２の電極との間が短絡してしまう（電流リークが生じる）エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。具体的には、第１の電極の表面の一部が有機積層体から露出しているエレクトロルミネッセンス素子、第１の電極の表面に傷や亀裂が入っているエレクトロルミネッセンス素子、第１の電極の上に異物が存在するエレクトロルミネッセンス素子、第１の電極の表面の一部分が十分に厚く、十分な絶縁性を有する有機積層体で被覆されていないエレクトロルミネッセンス素子（例えば、有機積層体を構成する発光層の膜厚が部分的に３０ｎｍ以上４０ｎｍ以下となるエレクトロルミネッセンス素子）等のことをいう。
【００１０】
このような不良のエレクトロルミネッセンス素子における、有機積層体と第２の電極との間に被覆有機層を設けることによって、第１の電極と第２の電極との間の短絡（ショート）を効果的に抑制することができる。これによれば、例えば、第１の電極に異物が付着した場合、第１の電極に傷が発生した場合等第１の電極に不良原因がある場合のみならず、有機積層体に不良原因がある場合（被覆不良等）にも電極間の短絡を効果的に抑制することができる。具体的には、有機積層体を形成する工程において異物等が付着したり、有機層積層体の被覆不良（例えば、第１の電極の表面全体を有機積層体が被覆しておらず、第１の電極の表面の一部が有機層積層体から露出している、一部の有機積層体の層厚が他の部分と比較して非常に薄い等）が発生した場合においても、第１の電極と第２の電極との間の短絡を効果的に抑制することができる。
【００１１】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置では、被覆有機層が有機半導体を含んでいてもよい。
【００１２】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置では、被覆有機層が有機積層体に含まれる有機材料と同一の有機材料を含んでいてもよい。
【００１３】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置では、被覆有機層が絶縁性を有していてもよい。その場合、被覆絶縁層は熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。
【００１４】
本発明に係る製造方法は本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置を製造するための方法である。具体的に、本発明に係る製造方法は、各々、第１の電極と、第１の電極の上に設けられた、発光層を含む有機積層体と、有機積層体の上に設けられた第２の電極とを有する所定配列で配列された複数のエレクトロルミネッセンス素子を備え、複数のエレクトロルミネッセンス素子のうちの不良のエレクトロルミネッセンス素子には、有機積層体と第２の電極との間に被覆有機層が設けられているエレクトロルミネッセンス表示装置を製造するための方法である。
【００１５】
本発明に係る製造方法は、有機積層体を形成する第１の工程と、第１の工程の後に行われる、不良のエレクトロルミネッセンス素子を検出する第２の工程と、第２工程において検出された不良のエレクトロルミネッセンス素子に被覆有機層を形成する第３の工程とを有する。
【００１６】
有機積層体を形成後に被覆有機層を設けることにより、第１の電極に異物が付着した場合、第１の電極に傷が発生した場合等、第１の電極に不良原因がある場合のみならず、有機積層体に不良原因がある場合（被覆不良等）にも電極間の短絡を効果的に抑制することができる。
【００１７】
本発明に係る製造方法では、第１の工程は、有機積層体を形成するための有機材料を含むインクを塗布する第１塗布工程と、第１塗布工程で塗布されたインクを乾燥させることにより有機積層体を形成する工程とを含み、且つ、第３の工程は、有機積層体の上に、被覆有機層を形成するための有機材料を含むインクを塗布する第２塗布工程と、有機積層体及び第２塗布工程で塗布されたインクを加熱することにより、有機積層体を焼成すると共に、第２塗布工程で塗布されたインクを乾燥且つ焼成することにより被覆有機層を形成する工程とを含んでいてもよい。
【００１８】
一般的に有機積層体や被覆有機層は塗布されたインクを乾燥させる工程と、さらに焼成させる工程とを経て形成される。この構成によれば、有機積層体の焼成工程と被覆有機層の形成工程とを同時に同一工程で行うことができる。このため、エレクトロルミネッセンス表示装置を容易に製造することができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明によれば、第１の電極に不良原因がある場合のみならず、有機積層体に不良原因がある場合（被覆不良等）にも電極間の短絡を効果的に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２１】
図１は本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の部分断面図である。
【００２２】
図２は有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の平面図である。尚、説明の便宜上、図２では上部共通電極１５は描画していない。
【００２３】
図２に示すように、有機エレクトロルミネッセンス表示装置１は所定配列で配列された（例えば、マトリクス状又はデルタ状に配列された）複数の有機エレクトロルミネッセンス素子２を有する。尚、図２には３つの有機エレクトロルミネッセンス素子２が描画されており、説明の便宜上、それらのうちの２つの有機エレクトロルミネッセンス素子２を不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂとしている。しかし、本発明では、有機エレクトロルミネッセンス素子２に対する不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂの占める割合は限定されるものではない。
【００２４】
複数の有機エレクトロルミネッセンス素子２のそれぞれは、図１に示すように、基板１０と、バンク１２と、有機積層体１３と、第２の電極としての上部共通電極１５とを有する。基板１０は複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子が所定配列で（例えばマトリクス状、又はデルタ状に）形成されたアクティブマトリクス基板である。基板１０の表面には、各々ＴＦＴ素子に電気的に接続されている、所定配列で（例えば、マトリクス状、又はデルタ状に）配列された複数の第１の電極としての画素電極１１が形成されている。
【００２５】
バンク（隔壁）１４は、基板１０の上に、有機エレクトロルミネッセンス素子２をそれぞれに区画するように設けられている。有機積層体１３はバンク１２により区画された有機エレクトロルミネッセンス素子２のそれぞれに設けられており、上部共通電極１５は基板１０の上の全面に設けられている。上部共通電極１５と画素電極１１とのうちいずれか一方は光を透過させる透明電極に構成されており、他方は光を反射させる反射電極に構成されている。
【００２６】
有機積層体１３は発光層を含む。有機積層体１３は発光層のみにより形成されていても良い。また、有機積層体１３は、発光層と、１種又は２種以上のバッファ層とにより形成されていても良い。バッファ層としては、正孔（ホール）輸送層、正孔（ホール）注入層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。尚、有機積層体１３の層厚は１５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００２７】
画素電極１１及び上部共通電極１５のうちいずれか一方が陰極を構成し、他方が陽極を構成しており、画素電極１１と上部共通電極１５とにより有機積層体１３に正孔（ホール）及び電子がそれぞれ注入される。注入された正孔と電子とは有機積層体１３に含まれる発光層において再結合し、励起子が形成される。その励起子が基底状態に失活する際に発光し、その発光が透明電極側から取り出される仕組みとなっている。
【００２８】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置１に設けられた複数の有機エレクトロルミネッセンス素子２のうち不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂには有機積層体１３と上部共通電極１５との間に被覆有機層１４が設けられている。一方、良好な有機エレクトロルミネッセンス素子２ａには被覆有機層１４は設けられておらず、有機積層体１３の直上に上部共通電極１５が設けられている。尚、「不良の有機エレクトロルミネッセンス素子」とは画素電極１１の全表面が有機積層体１３により十分に被覆されていないエレクトロルミネッセンス素子のことをいう。換言すれば、被覆有機層１３を形成しなければ画素電極１１と上部共通電極１５との間が短絡してしまう（電流リークが生じる）エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。具体的には、図１に示すような、例えば異物が付着した有機エレクトロルミネッセンス素子２、画素電極１１に傷が発生した有機エレクトロルミネッセンス素子２等である。
【００２９】
もし不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂに被覆有機層１４が設けられていなければ、画素電極１１と上部共通電極１５との間で電流リークが発生し、画素電極１１と上部共通電極１５との間が短絡（ショート）してしまうおそれがある。有機積層体１３と上部共通電極１５との間に被覆有機層１４を設けることによって、画素電極１１と上部共通電極１５とを十分に絶縁し、画素電極１１と上部共通電極１５との間が短絡することを効果的に抑制することができる。
【００３０】
画素電極１１と上部共通電極１５との間の短絡をより効果的に抑制する観点から、被覆有機層１４は絶縁性を有することが好ましい。言い換えれば、被覆有機層１４は絶縁性の材料により形成されていることが好ましい。絶縁性の熱硬化性樹脂（熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂等）により形成されていることが更に好ましい。
【００３１】
また、被覆有機層１４は有機積層体１３に含まれる有機材料と同一の有機材料を含んでいてもよい。具体的に、有機積層体１３に含まれる有機材料とは、例えば、発光層に含まれる発光材料、正孔輸送層に含まれる正孔輸送材料、正孔注入層に含まれる正孔注入材料、電子輸送層に含まれる電子輸送材料、電子注入層に含まれる電子注入材料等が挙げられる。これら有機積層体１３に含まれる有機材料を被覆有機層１４に含ませることにより、画素電極１１と上部共通電極１５との間の短絡を効果的に抑制することができるのみならず、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２を発光させることができる。このため、黒点不良（発光していない有機エレクトロルミネッセンス素子２）が少ない（あまり視認されない）有機エレクトロルミネッセンス表示装置１を実現することができる。
【００３２】
正孔輸送材料、正孔注入材料の具体例としては、例えば、次の有機半導体材料が挙げられる。すなわち、銅フタロシアニン《ＣｕＰｃ》、４，４´４´−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン《ｍ−ＭＴＤＡＴＡ》、Ｎ，Ｎ´−（３−メチルフェニル）−１，１´−ビフェニル−４，４´−ジアミン《ＴＰＤ》、ポリアニリン《ＰＡＮＩ》、ポリパラフェニレンビニレン《ＰＰＶ》等が挙げられる。
【００３３】
電子輸送材料、電子注入材料の具体例としては、例えば、次の有機半導体材料が挙げられる。すなわち、アゾール誘導体〔３−（４−ビフェニル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）１，２，４−トリアゾール〕、オキサジアゾール誘導体〔１，３−ビス｛［４−（４−ジフェニルアミノ）］フェニル−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル｝ベンゼン〕等が挙げられる。
【００３４】
発光材料の具体例としては、例えば、次の有機半導体材料が挙げられる。すなわち、芳香族ジメチリデェン化合物、オキサジアゾール化合物、アゾメチン亜鉛錯体、（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体《Ａｌｑ3》、ポリ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）《ＤＯ−ＰＰＰ》、ポリ［２，５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニル−アルト−１，４−フェニレン］ジブロマイド《ＰＰＰ−ＮＥｔ3+》、ポリ［２−（２´−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］《ＭＥＨ−ＰＰＶ》等が挙げられる。
【００３５】
また、有機積層体１３に含まれない有機半導体材料（発光材料等）を含んでいても良い。この場合も、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２をも発光させることができる。
【００３６】
以下、有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造工程について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３７】
図３は有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造工程を表すフローチャートである。
【００３８】
まず基板１０の上に画素電極１１を形成する。例えば、スパッタ法によりインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）膜等を形成し、フォトリソグラフィー法等を用いて所望の形状にパターニングすることにより画素電極１１を形成する（ステップ１）。次に、バンク１２を形成する（ステップ２）。例えば、感光性ポリイミド樹脂等を成膜し、フォトリソグラフィー法等により所定の形状（例えば格子状）にパターニングすることによりバンク１２を形成する。バンク１２の高さは２μｍ程度とすることができる。
【００３９】
バンク１２によりそれぞれに区画された領域に有機積層体１３を形成する（ステップ３）。例えば、有機積層体１３を形成するための材料が溶解又は分散されたインクを用いてウエット法（例えばインクジェット法、ノズルコート法、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等）により有機積層体１３を形成することができる。
【００４０】
図４は有機積層体１３の形成工程（ステップ３）を詳細に説明するためのフローチャートである。
【００４１】
図４に示すように、それぞれの領域にインクを塗布する（ステップ３−１）。そして、塗布されたインクを乾燥させることにより有機積層体１３を形成する（ステップ３−２）。尚、有機積層体１３が発光層を含む複数の層により形成されている場合は、上記塗布工程（ステップ３−１）、乾燥工程（ステップ３−２）を各層について行う。
【００４２】
有機積層体１３を形成した後、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂを検出するための検査工程を行う（ステップ４）。この検査は、例えば光学顕微鏡観察により行うことができる。
【００４３】
次に、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂに被覆有機層１４を形成する（ステップ５）。被覆有機層１４の形成は検査工程（ステップ４）の結果に基づいて、ＣＣＤ（電荷結合素子）搭載光学顕微鏡等により不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂの位置を確認しながら行うことができる。
【００４４】
被覆有機層１４は、例えばウエット法（例えばインクジェット法、ノズルコート法、スピンコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法等）により形成することができる。
【００４５】
図５は被覆有機層１４の形成工程（ステップ５）を詳細に説明するためのフローチャートである。
【００４６】
図５に示すように、まず被覆有機層１４を形成するためのインクを不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂに塗布する（ステップ５−１）。塗布後、インクを乾燥させる（ステップ５−２）。最後に、加熱することにより被覆有機層１４と有機積層体１３とを同時に焼成硬化する（ステップ５−３）。このように、被覆有機層１４と有機積層体１３とを同時に焼成することにより、製造工程を減少させることができる。従って、容易且つ安価に有機エレクトロルミネッセンス表示装置１を製造することができる。
【００４７】
尚、塗布するインクの量は、光学顕微鏡等により不良の程度を観察し、観察された不良の程度に基づいて決定することができる。例えば、不良の度合いが低い場合はインクの量を少なくすることができる。
【００４８】
最後に、蒸着法等を用いて上部共通電極１５を形成することにより有機エレクトロルミネッセンス表示装置１を完成させる（ステップ６）。尚、上部共通電極１５の層厚は１００ｎｍ程度にすることができる。
【００４９】
例えば、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子の検出工程及び被覆有機層の形成工程を有機積層体の形成工程に先立って行う場合であれば、画素電極１１の不良には対応することができるものの、被覆有機層１４の不良には対応することが困難である。すなわち、被覆有機層１４の不良が発生した場合は、画素電極１１と上部共通電極１５との間の短絡を抑制することは困難となる。
【００５０】
しかし、本実施形態のように、有機積層体１３の形成工程（ステップ３）の後に、不良の有機エレクトロルミネッセンス素子２ｂの検出工程（ステップ４）及び被覆有機層１４の形成工程（ステップ５）を行うことによって、画素電極１１の不良（異物付着、傷等）のみならず、被覆有機層１４の不良（異物混入、被覆不良等）にも対応することができる。すなわち、被覆有機層１４の不良が発生した場合であっても画素電極１１と上部共通電極１５との間の短絡を効果的に抑制することができる。
【００５１】
（その他の実施形態）上記実施形態ではアクティブマトリクス方式の有機エレクトロルミネッセンス表示装置１を例に挙げて説明した。しかし、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、パッシブマトリクス方式、セグメント方式に有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも適用される。
【００５２】
上記実施形態では、被覆有機層１４は有機エレクトロルミネッセンス素子２の全面を被覆するように設けられている。しかし、本発明はこの構成に限定されるものではない。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子２の一部分のみを被覆していても良い。具体的には、有機エレクトロルミネッセンス素子２の不良箇所（被覆有機層１４の被覆が不良である箇所）のみを被覆していても良い。
【００５３】
上記実施形態では、有機積層体１３の焼成を被覆有機層１４の焼成と同時に行う例について説明した。しかし、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、有機積層体１３の形成工程（ステップ３）（詳細には乾燥工程（ステップ３−２））に続いて有機積層体１３の焼成工程を個別に行っても良い。
【００５４】
上記実施形態において、有機積層体１３、被覆有機層１４の形成方法としてウエット法を例示したが、有機積層体１３及び被覆有機層１４のそれぞれは乾式法（蒸着法等）により形成しても良い。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
以上説明したように、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、電極間の短絡が効果的に抑制することができるため、携帯電話、ＰＤＡ、テレビ、電子ブック、モニター、電子ポスター、時計、電子棚札、非常案内等として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の部分断面図である。
【図２】有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の平面図である。
【図３】有機エレクトロルミネッセンス表示装置１の製造工程を表すフローチャートである。
【図４】有機積層体１３の形成工程（ステップ３）を詳細に説明するためのフローチャートである。
【図５】被覆有機層１４の形成工程（ステップ５）を詳細に説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【００５７】
１      有機エレクトロルミネッセンス表示装置
２      有機エレクトロルミネッセンス素子
１０      基板
１１      画素電極
１２      バンク
１３      有機積層体
１４      被覆有機層
１５      上部共通電極
【図１】
2007035348.tif 000003
【図２】
2007035348.tif 000004
【図３】
2007035348.tif 000005
【図４】
2007035348.tif 000006
【図５】
2007035348.tif 000007