(57)【要約】【課題】  スピンコート法による樹脂層を形成する際に光記録媒体の外周部に発生するスキージャンプ発生を抑制する。【解決手段】  凹凸を有する基板の少なくとも外周部に設けられた光触媒効果層上に、カバー層が直接積層されている光記録媒体。【選択図】  図２
2007141291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
該基板上に積層された、情報が記録される記録層と、
該記録層を保護するためのカバー層とからなる光記録媒体において、
前記基板の少なくとも外周部に設けられた光触媒効果層を有し、
前記カバー層は前記光触媒効果層上に直接積層されていることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記光触媒効果層は、酸化チタンが用いられることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記光触媒効果層は、前記基板の内周部から外周部に渡って形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記光触媒効果層は、前記基板の外周部のみに形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項５】
基板上に記録層を積層した後、スピンコート法によりカバー層を形成する光記録媒体の製造方法において、
前記カバー層の形成前に、前記基板の少なくとも外周部に光触媒効果層を形成する工程を有することを、ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザ光を用いて情報を記録、再生する光記録媒体、およびその製造方法に関する。特に情報記録層を複数有する多層光記録媒体、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光記録媒体を製造するにあたり、記録層などを保護するためのカバー層などの樹脂層を形成する際に、低コストで且つ膜厚を管理しやすいという観点からスピンコート法が多く用いられてきた。
【０００３】
多層のブルーレイディスクにおいても、やはりスピンコート法を用いられていることが、膜厚精度の面で以下のような問題がある。
【０００４】
膜厚精度の問題としては、基板の最外周部で樹脂が盛り上がる現象（以下、スキージャンプ）が大きい。図１０にスピンコート法によって作製した光記録媒体の外周部の概略図を示す。外周部の樹脂の盛り上がり高さΔ１０１をスキージャンプと呼んでいる。カバー層をスピンコート法で形成した場合には、スキージャンプによって特に外周部において膜厚精度が悪くなり好ましくない。カバー層においては、膜厚精度によって光学的な収差が変動することだけでなく、盛り上がった部分が光記録媒体の記録再生ドライブと機械的に干渉してしまう問題も発生する。
【０００５】
また、最近、記録層間に透明な樹脂材料からなる中間層を設け、記録層を多層化した媒体も登場している。
【０００６】
しかしながら、この中間層は膜厚が均一であることが必要とされる。そして、この中間層においても上述のカバー層と同様にスキージャンプの発生が問題となる。そして、中間層はスキージャンプによって膜厚精度が悪化すると、情報記録層の分離が困難になるという問題が発生する。
【０００７】
このスキージャンプを回避する方法として、様々な方法が提案されている。
【０００８】
例えば、特開２００４−２８８２７０号公報では、基板サイズと同等の凹みを持った治具に嵌め合わせ、実効的に基板の外周部をフラットとする方法が提案されている。しかし、基板を治具に嵌め合わせた状態で硬化を行うことになり、スキージャンプは回避できるが、基板と治具との隙間に入り込んだ樹脂がバリになったり、基板を治具から取り外す際に樹脂に欠けが生じたりするなど、新たな問題を引き起こしてしまう。
【０００９】
またそのような問題を回避するために未硬化の状態で治具から基板を取り外すと、そこで表面張力によってスキージャンプが発生してしまい、本来のスキージャンプ回避という目的が達成できなくなる。
【００１０】
この提案の他にも、特開平０５−２６６４７２号公報のように、外周部に窒素を吹き付けることでスキージャンプ自体を吹き飛ばしてしまう方法では、同時に紫外線照射をしたりするため、通常のスピンコータでは対応できず、それ専用の複雑な設備が必要になる。
【００１１】
このように、従来のスキージャンプを回避する方法では、新たな問題や、複雑な設備装置が必要となっていた。
【００１２】
すなわち、スキージャンプ発生の根本的な原因である被塗布面の濡れ性と表面張力について解決した方法はなかったのである。
【００１３】
ここで、スキージャンプの発生する原因を以下に説明する。
【００１４】
被塗布面の濡れ性が小さい場合、塗布された樹脂は表面張力によって球体になろうとする。基板の平坦部では塗布された樹脂全体が平均的に球体に戻ろうとするため、全体としては基板に倣った平面となるが、基板の端部ではそこよりも外周に樹脂が存在しなくなるため、最外周部の樹脂の表面張力がその他の部分と比べて相対的に大きくなる。そのため、最外周付近の樹脂が盛り上がり、スキージャンプとなるのである。
【特許文献１】特開２００４−２８８２７０号公報
【特許文献２】特開平０５−２６６４７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
このように、従来は、スピンコート法による樹脂層を形成する際に、被塗布面の濡れ性と表面張力に着目してスキージャンプ発生を解決した方法はなかった。
【００１６】
そこで本発明は、より簡易な構成で膜厚精度に優れた光記録媒体を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために、以下を提供する。
【００１８】
基板と、該基板上に積層された、情報が記録される記録層と、該記録層を保護するためのカバー層とからなる光記録媒体において、前記基板の少なくとも外周部に設けられた光触媒効果層を有し、前記カバー層は前記光触媒効果層上に直接積層されている光記録媒体。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように、本発明により、光触媒効果層による濡れ性の向上によってカバー層のスキージャンプを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を図面に示す実施の形態に基づいて詳細に説明する。
【００２１】
図１は、本発明に係る光記録媒体の概略図である。本発明に係る光記録媒体の記録層あるいは反射層（以下、情報記録層）１２よりも外周側には、光触媒効果層１１が設けられている。
【００２２】
図２は、本発明に係る情報記録層が単層の光記録媒体の、外周部の概略図である。図２（ａ）は基板２１に形成された図示しない凹凸パターン上に光触媒効果層１１が形成され、更に情報記録層１２、カバー層２２の順に形成されて単層光記録媒体が構成される。本発明に係る光記録媒体においては、少なくともカバー層と接する面内で、少なくとも情報記録層よりも外周側に、情報記録層の最上部に設けられた膜よりも高い濡れ性を有する光触媒効果層が設けられていればよい。従って図２（ａ）に示したような、基板と、情報記録層に挟まれた形で光触媒効果層が形成されている構成の他にも、図２（ｂ）および（ｃ）に示したような構成でもよく、特に限定されるものではない。
【００２３】
図２（ｂ）では、光触媒効果層が、情報記録層よりも外周側にのみ設けられている。また図２（ｃ）では光触媒効果層が、情報記録層の、基板とは反対側に設けられている。この場合、光触媒効果層が、情報記録層の読み書きに影響を与えないような光学的特性を有している必要がある。ここで、光触媒効果層の光学的特性を説明する。
【００２４】
ここで、光触媒効果層の特性について説明する。酸化チタンに代表される光触媒とは、紫外線などの光が照射されると、表面に付着している疎水性分子が分解されることにより、水酸基が露出し空気中の水分を吸着する。これにより、超親水性、防汚などの効果を発揮するものである。
【００２５】
親水性（水分に対する濡れ性）を向上させるとして知られている光触媒効果であるが、本発明者らの検討の結果、樹脂に対して使用しても濡れ性を向上させる効果を有することが分かった。中間層やカバー層においてスキージャンプが発生しやすい最外周部に、中間層やカバー層と接するように光触媒効果層を設ける。すると、該箇所の樹脂に対する濡れ性を高めることができ、先に説明した理由で発生するスキージャンプを効果的に抑制することができるのである。
【００２６】
図３は、本発明に係る情報記録層を２層有する光記録媒体の外周部の概略図である。基板の片側に２層を積層した構造の片面２層構成を示している。基板に近い側の情報記録層をＬ０、基板から遠い側の情報記録層をＬ１と呼ぶ。
【００２７】
基板２１上に形成された図示しないＬ０用凹凸パターン上に、Ｌ０用光触媒効果層３１が形成され、更にＬ０用情報記録層３２、Ｌ０−Ｌ１中間層３３が形成される。その後Ｌ０−Ｌ１中間層上に、図示しないＬ１用凹凸パターンが形成され、Ｌ１用光触媒効果層３４、Ｌ１用情報記録層３５が順に形成され、最後にカバー層２２が形成されて、図３に示した２層光記録媒体が完成する。図３では図２（ａ）に示した単層構成を、各層の光学特性を調整しながら２回繰り返した構成となっているが、図２（ｂ）を繰り返しても、図２（ｃ）を繰り返しても、またこれらを組み合わせたものでもよく、特に限定されるものではない。図２の繰り返しであるため、Ｌ０およびＬ１の両方に光触媒効果層を設けた構成となっているが、本発明では少なくともカバー層と接する面内において光触媒効果層が設けられていればよい。これは、スピンコート法で形成する層の中でカバー層が最も厚く、結果としてスキージャンプの大きさも最も大きくなりやすいためである。したがって、Ｌ１にのみ光触媒効果層を設ける構成とすることもでき、特に限定されるものではない。
【００２８】
図４は、本発明に係る情報記録層を４層有する光記録媒体の、外周部の概略図である。基板の片側に４層を積層した構造の片面４層構成を示している。基板に近い側の情報記録層から順に、Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３と呼ぶ。
【００２９】
基板２１上に形成された図示しないＬ０用凹凸パターン上にＬ０用光触媒効果層３１が形成され、更にＬ０用情報記録層３２、Ｌ０−Ｌ１中間層３３が形成される。その後Ｌ０−Ｌ１中間層上に図示しないＬ１用凹凸パターンが形成される。そして、Ｌ１用光触媒効果層３４、Ｌ１用情報記録層３５、Ｌ１−Ｌ２中間層４１、図示しないＬ２用凹凸パターンが形成される。さらに、Ｌ２用光触媒効果層４２、Ｌ２用情報記録層４３、Ｌ２−Ｌ３中間層４４、図示しないＬ３用凹凸パターン、Ｌ３用光触媒効果層４５、Ｌ３用情報記録層４６が順に形成される。最後にカバー層２２が形成されて、図４に示す４層光記録媒体が完成する。図４に示す光記録媒体も、図３の２層光記録媒体と同様に、図２（ａ）に示した単層構成を４回繰り返した構成となっているが、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）のどの構成を用いても、またそれらの組み合わせた構成でもよく、特に限定されるものではない。光触媒効果層も図３の２層光記録媒体と同様にして、全層に設けられていても、Ｌ３層にだけ設けられていてもよく、特に限定されるものではない。
【００３０】
図５は、図２で説明した本発明に係る単層光記録媒体の概略的な構成の詳細を示す。図５（ａ）は読取専用の光記録媒体の、図５（ｂ）は書換型記録媒体の層構成の右側半分をそれぞれ示している。中心より左側は右側と対称であるので図から省略した。基板に近い方を基板側、レーザ光の入射に近い方を入射側と表現する。
【００３１】
基板２１としてはポリカーボネイト樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂などを用いることができるが、凹凸形状を転写し、且つその形状を保持するために必要な強度を有していればよく、特に限定されるものではない。なお、図２、図３および図４に示したように基板の片側に記録層を設け、且つ記録層側からレーザ光を入射させる場合、基板の光学特性は全く問題にならないため、例えば紙をベースとする材料なども用いることができ、特に限定されるものではない。
【００３２】
光触媒効果層１１としては、高屈折率層として用いられているだけでなく、良好な光触媒効果を有しているため、ＴｉＯ２を用いることが望ましい。
【００３３】
反射層５１としては、Ａｇ−ａｌｌｏｙやＡｌ−ａｌｌｏｙなどを用いることができ、また半透過の反射層としてはＳｉやＳｉＮなどを用いることもできる。
【００３４】
光吸収補正層５２としては、ＳｉＮやＧｅＣｒなどを用いることができる。
【００３５】
基板側誘電体層５３、および入射側誘電体層５７としてはＺｎＳやＺｎＳ−ＳｉＯ２などを用いることができる。
【００３６】
基板側界面層５４、および入射側界面層５６としては、ＧｅＣｒＮやＳｉＮなどの腐食に強い材料を用いることができる。
【００３７】
記録層５５としては、ＧｅＳｂＴｅやＧｅＳｎＳｂＴｅなどの相変化材料を用いることができる。
【００３８】
カバー層２２としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができるが、記録、再生用のレーザ光の波長帯において吸収が少ないものが望ましい。
【００３９】
上記各層について材料の一例を挙げたが、層構成から求められる所望の光学特性や、記録再生方法に従って適宜選択することができ、特に限定されるものではない。
【００４０】
また、図３に示した２層光記録媒体、および図４に示した４層光記録媒体も、図５に挙げた材料を、光学特性を調整しながら用いて、各層を繰り返し形成することによって作製することができる。
【００４１】
図６は、本発明に係る２層光記録媒体の製造工程を示している。以下に図６に従って各工程を詳細に説明する。なお、図６においては光触媒効果層をカバー層と接する面にのみ設けた光記録媒体を例に挙げて説明している。また図５と同様に、光記録媒体断面の右側のみを示している。
【００４２】
工程（１）において、基板２１に設けられた図示しない凹凸パターン上に、Ｌ０用積層膜６１を形成する。このＬ０用積層膜６１には、Ｌ０用反射層、Ｌ０用光吸収補正層、Ｌ０用基板側誘電体層、Ｌ０用基板側界面層、Ｌ０用記録層、Ｌ０用入射側界面層、およびＬ０用入射側誘電体層を積層する。
【００４３】
工程（２）において、Ｌ０用積層膜上に樹脂をスピンコート法によって塗布し、図示しないスタンパーによってＬ１用凹凸パターンを転写する。そして、図示しないエネルギー線照射装置などで硬化させ、Ｌ０−Ｌ１中間層３３を形成する。エネルギー線として紫外線等を用いる場合には、スタンパーはそのエネルギー線を透過する必要があるが、用いるエネルギー線に応じて適宜スタンパーの材料を選択すればよく、特に限定されるものではない。中間層の材料となる樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができるが、記録、再生用のレーザ光の波長帯において吸収が少ないものが望ましい。スピンコート法において、基板の中心孔を避けて塗布してスピンした場合、円環状に塗布された樹脂が外周へと引延ばされていくため、内周側では円環状に塗布された際の形状を引きずる形となる。円環状に塗布された状態では内周側および外周側で薄い形状であるために、スピンコート後にも内周側が薄くなる傾向がある。それを回避するために中心孔を塞いて樹脂を滴下し、その際の回転数を多段制御するなどの方法が数多く提案されているが、使用する樹脂に応じてその方法を適宜選択して使用すればよく、特に限定されるものではない。
【００４４】
工程（３）において、Ｌ１用光触媒効果層３４を形成する。Ｌ１用光触媒効果層の材料としては、光触媒効果を有するものであれば特に限定されるものではない。しかし、Ｌ１用高屈折率層としての役割を兼ねさせることで製造コストを抑えることができる。そのため、Ｌ１層用高屈折率層として用いられ、優れた光触媒効果を持つＴｉＯ２が望ましい。また光触媒効果層を高屈折率層とは別に設けてもよく、特に限定されるものではないが、光学的に悪影響を及ぼさない層を設けることが望ましい。
【００４５】
工程（４）において、Ｌ１用光触媒効果層に光触媒効果を持たせるために、紫外線照射装置６２によって紫外線を照射する。
【００４６】
工程（５）において、工程（１）と同様に、Ｌ１を構成する各層を積層したＬ１用積層膜６３を形成する。工程（１）、および工程（４）における、各層の成膜工程については後に図７、および図８を用いて詳細に説明する。
【００４７】
工程（６）において、工程（２）と同様のスピンコート法でカバー層２２を形成し、図示しないエネルギー線照射装置などによってカバー層を硬化させ、２層光記録媒体を完成する。カバー層上に更に傷や汚れから媒体を保護するためのハードコート層を形成することもできる。
【００４８】
図６においては、２層光記録媒体について、その工程を説明している。Ｌ０用信号パターン上に光触媒効果層を設けた後、工程（１）、（４）、および工程（６）を行うことで、単層の光記録媒体を作製することができる。また図６に示したＬ０層とＬ１層の間に、各層の光学特性を制御しながら工程（２）、および（５）を繰り返すことで、更なる多層化を実現することができる。
【００４９】
図７は、本発明に係る光記録媒体を製造するための成膜機の概要を示している。成膜装置７１２は、１０個のチャンバーから構成され、成膜方式としてはスパッタ法を用いている。成膜工程の流れを説明する。
【００５０】
図示しないハンドリング機構等によって、図示しない基板がアーム７１１に設置され、ロード／ロックチャンバー７０１から成膜装置内に導入される。その後一定の真空度まで真空排気され、アームの回転によって光触媒効果層用チャンバー７０２に基板が搬送される。光触媒効果層を形成された基板は、紫外線照射用チャンバー７０３に搬送され紫外線を照射される。その後、順を追って、反射層用チャンバー７０４で反射層、光吸収補正層用チャンバー７０５で光吸収補正層を形成する。そして、基板側誘電体層用チャンバー７０６で基板側誘電体層、基板側界面層用チャンバー７０７で基板側界面層、記録層用チャンバー７０８で記録層を形成する。さらに、入射側界面層用チャンバー７０９で入射側界面層、入射側誘電体層用チャンバー７１０で入射側誘電体層を形成する。最後にロード／ロックチャンバー７０１から図示しないハンドリング機構等によって取り出され、後に続く中間層あるいはカバー層形成工程へと進む。各チャンバーおよびアームの構造については後に詳細に説明する。
【００５１】
Ｌ０およびＬ１において膜構成を同じ元素からなる膜で構成することで、どちらの層の形成にも対応可能な装置となる。
【００５２】
また図７では、図２（ａ）に示したように、光触媒効果層をその他の層よりも基板側に形成する構成を前提としているが、作製したい構成に応じてチャンバーの配置を選択すればよく、特にこの順序に限定されるものではない。
【００５３】
図８は、各チャンバーおよびアームの構造を詳細に説明したものである。基板２１は内周マスクの機能を兼ねた内周保持工具８０１と、基板外周側側面のマスクの機能を兼ねた外周保持工具８０２とに挟まれる形で設置される。各層用の成膜装置側固定チャンバー８０８にアーム８０６の回転によって搬送されたアーム側可動チャンバー８０７が嵌合し、同時に成膜装置側固定チャンバーに設置された外周マスク８０３が基板の信号パターン側に位置する。光触媒効果層は、図２に示したような形態で形成されればよい。図２（ａ）および（ｃ）がより簡便であり、光触媒効果層用チャンバーにおいてのみ外周マスクをなくしておくことで実現できる。また図２（ｂ）に示したように、情報記録層よりも外周側のみに光触媒効果層を形成するためには、少なくともその領域だけがマスクされないように、内径の大きな外周マスクと、外径の大きな内周保持工具を用いることもできる。この場合、光触媒効果層の成膜装置だけを別に設けることで実現可能である。特に限定されるものではないが、より簡便に外周マスクをなくしておくことができる。またＵＶ照射用チャンバーにおいては外周マスクをなくしておくことが必要である。
【００５４】
嵌合されたチャンバー内は排気口８０９から真空排気される。一定の真空度まで排気された後、ガスライン８１０からプラズマ発生用のアルゴンガスが導入される。成膜する材料の組成を一定のものとして成膜ターゲット８０５を合金ターゲットとすることができる。酸素や窒素などを図示しない別のガスラインから同時に導入し反応性スパッタを行うこともできる。作製する光記録媒体の内容に合わせて選択することができ、特に限定されるものではない。ガスが導入された後、図示しない電極に電圧が印加され、放電が起こり、基板への成膜が開始される。成膜中は自転用モータ８０４の回転によって外周保持工具および基板が回転することで、成膜の偏りを防ぐことができ、均一な成膜が可能となる。
【００５５】
図９に本発明に係る光記録媒体を、光触媒効果層のみ別の装置で形成する方法で製造するための成膜装置の一例を示す。図９（ａ）に示した情報記録層成膜装置９１は、図７に示した成膜装置７１２から、光触媒効果層用チャンバーと紫外線照射用チャンバーを除いたもので、その他の特徴は成膜装置７１２と同じものである。成膜工程の流れも、先に説明した、図７での工程から光触媒効果層の成膜と、紫外線照射とを除いたものである。図９（ｂ）に示した光触媒効果層成膜装置９２は、図７に示した成膜装置７１２の光触媒効果層用チャンバーを独立させたものである。本発明に係る多層光記録媒体において、カバー層に接する面にのみ光触媒効果層を設ける構成の媒体を製造しようとした場合、光触媒効果層よりも基板側に位置するその他の情報記録層においては光触媒効果層の成膜は不要となる。この構成を図７に示した成膜装置７１２で製造しようとした場合、光触媒効果層が不要となる情報記録層の形成においては、光触媒効果層用チャンバーでは放電させず、紫外線照射用チャンバーでは照射を行わないという無駄が発生してしまう。したがって、光記録媒体の量産における生産性を考えた場合には、図９（ａ）に示した情報記録層用成膜装置９１で光触媒効果層を設けない情報記録層の成膜を行う。そして、光触媒効果層を設ける情報記録層の成膜だけを図９（ｂ）に示した光触媒効果層用成膜装置９２で行い、図示しない紫外線照射装置で紫外線照射を行うことが望ましい。このような構成にすることで、成膜や紫外線照射を敢えて行わない無駄を省くことができる。また情報記録層と光触媒効果層の数に合わせて同じ仕様の成膜装置を用意するだけでよく、汎用の紫外線照射装置を用いることができるために、より低コストでの光記録媒体の製造が可能となる。
【実施例】
【００５６】
次に実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。
【００５７】
（実施例１）
本発明の実施の形態に基づいて、Ｌ０のみを有する単層書換型光記録媒体を作製した。
【００５８】
基板を射出成形によって作製した。基板の材料となる樹脂にはポリカーボネイト樹脂であるＮ−３４０（三菱エンジニアリングプラスチックス社製）を使用した。射出成形機の金型内に設置したスタンパーの材料としてはＮｉを用いた。
【００５９】
作製した基板を図８に示す外周保持工具および内周保持工具によって図７に示す成膜装置内に固定し、チャンバー内を１．０Ｅ−５Ｐａまで真空排気した。その後、Ｌ０用光触媒効果層を形成した後、紫外線照射を行い、Ｌ０用反射層、Ｌ０用光吸収補正層、Ｌ０用基板側誘電体層、Ｌ０用基板側界面層、Ｌ０用記録層、Ｌ０用入射側界面層、Ｌ０用入射側誘電体層の順に形成した。
【００６０】
光触媒効果層としては、ＴｉＯ２をＴｉＯ２ターゲットとアルゴンガスと酸素ガスを用いた反応性スパッタによって２０ｎｍ成膜した。このときのガスの流量はアルゴンが４９ｓｃｃｍ、酸素が１ｓｃｃｍであった。
【００６１】
Ｌ０用反射層としては、Ａｇ−ａｌｌｏｙをＡｇ−ａｌｌｏｙターゲットとアルゴンガスを用いて８０ｎｍ成膜した。このときのアルゴンガスの流量は５０ｓｃｃｍであった。
【００６２】
Ｌ０用光吸収補正層としては、ＳｉＮをＳｉターゲットとアルゴンガスと窒素ガスを用いた反応性スパッタによって５ｎｍ成膜した。このときのガスの流量はアルゴンが４３ｓｃｃｍ、窒素が２４ｓｃｃｍであった。
【００６３】
Ｌ０用基板側誘電体層としては、ＺｎＳをＺｎＳターゲットとアルゴンガスを用いて１０ｎｍ成膜した。このときのアルゴンガスの流量は１００ｓｃｃｍであった。
【００６４】
Ｌ０用基板側界面層としては、ＳｉＮをＳｉターゲットとアルゴンガスと窒素ガスを用いた反応性スパッタによって５ｎｍ成膜した。このときのガスの流量はアルゴンが４３ｓｃｃｍ、窒素が２４ｓｃｃｍであった。
【００６５】
Ｌ０用記録層としては、ＧｅＳｂＴｅをＧｅＳｂＴｅの合金ターゲットとアルゴンガスを用いて１０ｎｍ成膜した。このときの合金ターゲットの組成は、Ｇｅ：Ｓｂ：Ｔｅ＝８：２：１１であった。アルゴンガスの流量は５０ｓｃｃｍであった。
【００６６】
Ｌ０用入射側界面層としては、ＳｉＮをＳｉターゲットとアルゴンガスと窒素ガスを用いた反応性スパッタによって５ｎｍ成膜した。このときのガスの流量は、アルゴンが４３ｓｃｃｍ、窒素が２４ｓｃｃｍであった。
【００６７】
Ｌ０用入射側誘電体層としては、ＺｎＳをＺｎＳターゲットとアルゴンガスを用いて４５ｎｍ成膜した。このときのアルゴンガスの流量は１００ｓｃｃｍであった。
【００６８】
続いて成膜装置から取り出したＬ０成膜済みの基板に、スピンコート法を用いてカバー層を形成した。膜厚は１００ｕｍを目標とした。カバー層の材料としては紫外線硬化樹脂ＫＡＲＡＹＡＤ  ＩＮＣ−１１８（日本化薬株式会社製）を使用し、中心孔をキャップによって塞いで樹脂を滴下した。樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を８５０ｒｐｍ、高速回転時間を２０秒とした。塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてカバー層を形成し、単層光記録媒体を完成した。
【００６９】
完成した単層光記録媒体のカバー層上のスキージャンプを測定した結果を表１に示す。なお測定にはアルファステップ−５００（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いた。
【００７０】
【表１】
2007141291.tif 000003
【００７１】
表１に示した結果から、本実施例で作製した単層光記録媒体において、スキージャンプの大きさが十分に小さくなっており、光触媒効果層によってスキージャンプ抑制効果が得られていることが分かる。また完成した単層光記録媒体においては、支障なく記録再生動作を行うことができた。
【００７２】
（実施例２）
本発明の実施の形態に基づいて、Ｌ０およびＬ１を有する２層書換型光記録媒体を作製した。光触媒効果層はカバー層と接する面、すなわちＬ１中にのみ形成した。
【００７３】
基板の作製は実施例１と同様に行った。Ｌ０用信号パターン上には、光触媒効果層を設けず、Ｌ０用反射層からＬ０用入射側誘電体層までの形成は実施例１と同様の工程を行った。Ｌ０用入射側誘電体層上に、スピンコート法を用いて中間層を塗布した。膜厚は２５ｕｍを目標とした。中間層の材料は実施例１のカバー層と同じものを使用し、中心孔をキャップによって塞いで樹脂を滴下した。樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を２７５０ｒｐｍ、高速回転時間を２７秒とした。樹脂の塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線に対して透明なポリカーボネイト製スタンパーを用いてＬ１用信号パターンを転写し、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させて中間層を完成した。
【００７４】
中間層を形成した基板を、再度図７に示す成膜装置に設置し、Ｌ０形成時と同等の真空度まで真空排気してから、光触媒効果層を形成した。光触媒効果層としては、ＴｉＯ２を１０ｎｍ成膜した。光触媒効果層の成膜後、紫外線照射を行い、Ｌ１用反射層からＬ１用入射側誘電体層までを形成した。Ｌ１用各層の構成および組成はＬ０用各層から変更することなく、反射率が１０％、透過率が６５％となるように各層の膜厚のみを調整した。
【００７５】
続いて成膜装置から取り出したＬ０およびＬ１成膜済みの基板に、スピンコート法を用いてカバー層を形成した。膜厚は７５ｕｍを目標とした。カバー層の材料としては中間層を形成したものと同じものを使用し、中心孔をキャップによって塞いで樹脂を滴下した。樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を１８５０ｒｐｍ、高速回転時間を２５秒とした。塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてカバー層を形成し、２層光記録媒体を完成した。
【００７６】
完成した２層光記録媒体のカバー層上のスキージャンプを測定した結果を表２に示す。
【００７７】
【表２】
2007141291.tif 000004
【００７８】
表２に示した結果から、本実施例で作製した２層光記録媒体において、スキージャンプの大きさが十分に小さくなっており、光触媒効果層によってスキージャンプ抑制効果が得られていることが分かる。また完成した２層光記録媒体においては、支障なく記録再生動作を行うことができた。
【００７９】
（実施例３）
本発明の実施の形態に基づいて、Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、およびＬ３を有する４層書換型光記録媒体を作製した。
光触媒効果層は、カバー層と接する面、すなわちＬ３中にのみ形成した。
【００８０】
基板の作製は実施例１と同様に行った。Ｌ０用信号パターン上には光触媒効果層を設けず、Ｌ０用反射層からＬ０用入射側誘電体層までの形成は、図９（ａ）に示す成膜装置に設置して行った。成膜時の工程およびパラメータは実施例１および２と同様である。Ｌ０用入射側誘電体層上に、スピンコート法を用いてＬ０−Ｌ１中間層を塗布した。膜厚は１０ｕｍを目標とした。Ｌ０−Ｌ１中間層の材料としては、目標とする膜厚が薄くなることから、実施例１および２で用いたものよりも粘度の低い、ＫＡＲＡＹＡＤ  ＭＤ−５００（日本化薬株式会社製）を用いた。中心孔をキャップによって塞いで樹脂を滴下した。樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を１７５０ｒｐｍ、高速回転時間を３０秒とした。樹脂の塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線に対して透明なポリカーボネイト製スタンパーを用いてＬ１用信号パターンを転写し、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてＬ０−Ｌ１中間層を完成した。
【００８１】
Ｌ０−Ｌ１中間層を形成した基板を、再度図９（ａ）に示す成膜装置に設置しＬ１用反射層からＬ１用入射側誘電体層までを形成した。成膜時の工程およびパラメータは実施例２と同様である。Ｌ１用入射側誘電体層上に、Ｌ０−Ｌ１中間層と同様にＬ１−Ｌ２中間層を塗布した。膜厚は２０ｕｍを目標とした。回転数以外はＬ０−Ｌ１中間層と同様に行い、樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を１２００ｒｐｍ、高速回転時間を３０秒とした。樹脂の塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線に対して透明なポリカーボネイト製スタンパーを用いてＬ２用信号パターンを転写し、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてＬ１−Ｌ２中間層を完成した。
【００８２】
Ｌ１−Ｌ２中間層を形成した基板を、再度図９に示す成膜装置に設置し、Ｌ２用反射層からＬ２用入射側誘電体層までを形成した。Ｌ２用各層の構成および組成はＬ１層用各層から変更することなく、反射率が６％、透過率が７５％となるように各層の膜厚のみを調整した。Ｌ２用入射側誘電体層上に、これまでの二つの中間層と同様にＬ２−Ｌ３中間層を塗布した。膜厚は１５ｕｍを目標とした。各中間層の膜厚を変化させることで、層間の多重反射を防ぐことができる。回転数以外はこれまでの二つの中間層と同様に行い、樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を１４２５ｒｐｍ、高速回転時間を２４秒とした。樹脂の塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線に対して透明なポリカーボネイト製スタンパーを用いてＬ３用信号パターンを転写し、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてＬ２−Ｌ３中間層を完成した。
【００８３】
Ｌ２−Ｌ３中間層を形成した基板を、図９（ｂ）に示す光触媒効果層用成膜装置に設置し、光触媒効果層を形成した。光触媒効果層としてはＴｉＯ２を７ｎｍ成膜した。光触媒効果層を成膜後、図示しない紫外線照射装置によって紫外線照射を行い、その後、再度図９（ａ）に示す成膜装置に設置して、Ｌ３用反射層からＬ３用入射側誘電体層までを形成した。Ｌ３用各層の構成および組成はＬ１およびＬ２用各層から変更することなく、反射率が４％、透過率が８０％となるように各層の膜厚のみを調整した。
【００８４】
続いて成膜装置から取り出したＬ３まで成膜済みの基板に、スピンコート法を用いてカバー層を形成した。膜厚は５５ｕｍを目標とした。カバー層の材料としては実施例１および２で使用したものを使用し、中心孔をキャップによって塞いで樹脂を滴下した。樹脂滴下時の低速回転数を１００ｒｐｍ、樹脂塗布時の高速回転数を２６００ｒｐｍ、高速回転時間を３０秒とした。塗布後、中心孔を塞いでいたキャップを取り外してから、紫外線照射装置によって樹脂を硬化させてカバー層を形成し、４層光記録媒体を完成した。
【００８５】
完成した４層光記録媒体のカバー層上のスキージャンプを測定した結果を表３に示す。
【００８６】
【表３】
2007141291.tif 000005
【００８７】
表３に示した結果から、本実施例で作製した４層光記録媒体においても、スキージャンプの大きさが十分に小さくなっており、光触媒効果層によるスキージャンプ抑制効果が分かる。また完成した４層光記録媒体においては、支障なく記録再生動作を行うことができた。
【００８８】
また本実施例の構成に加えて、Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の全層に光触媒効果層を設けた場合、更にスキージャンプの抑制効果があることが分かった。これは、各情報記録層において、小さいながらも発生していたスキージャンプが積算されて最終的なスキージャンプとなっていたものが、光触媒効果層によって全層で効果的にスキージャンプを抑制できたためである。その結果、最終的なスキージャンプも小さく抑制することができたのである。
【００８９】
（比較例）
本発明の実施例によって作製した光記録媒体の効果を、従来の方法に従って作製した光記録媒体によって検証する。
【００９０】
（比較例１）
記録膜あるいは反射膜の外径よりも半径方向に外側の領域に光触媒効果層を設けない構成の単層光記録媒体を作製した。実施例１で行った工程から、光触媒効果層の形成およびそれに対する紫外線照射工程を省いた形で作製した。その他スピンコート等の工程は、実施例１と同様に行った。表４に本比較例１で作成した単層光記録媒体の外周部におけるスキージャンプを測定した結果を示す。
【００９１】
【表４】
2007141291.tif 000006
【００９２】
表４の結果から、光触媒効果層を設けずにスピンコート法によってカバー層を形成した場合、総じてスキージャンプの大きさが大きくなってしまい、結果として記録再生特性が悪いことが分かった。またスキージャンプによって外周部の膜厚分布が悪くなり、ピックアップとの衝突等によって記録再生に支障を来たすことがあった。
【００９３】
（比較例２）
記録層あるいは反射層の外径よりも半径方向に外側の領域に光触媒効果膜を設けない構成の２層光記録媒体を作製した。実施例２で行った工程からＬ０用光触媒効果層を形成する工程と、それに対する紫外線照射工程とを省いた。またＬ１用光触媒効果層の形成においては外周マスクを使用し、ＴｉＯ２を高屈折率層として層構成に残し、それに対する紫外線照射工程を省いて作製した。その他スピンコート等の工程は、実施例２と同様に行った。表５に本比較例２で作製した単層光記録媒体の外周部におけるスキージャンプを測定した結果を示す。
【００９４】
【表５】
2007141291.tif 000007
【００９５】
表５に示した結果から、カバー層の膜厚が小さくなることで比較例１と比べれば、スキージャンプ自体の大きさは小さくなっているが、実施例２と比較すると、かなり大きなスキージャンプが発生していることが分かる。また、その結果として、記録再生特性も悪いことが分かった。更に比較例１と同様に、記録再生に支障を来たすことがあった。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明に係る光記録媒体の概略図
【図２】本発明に係る単層光記録媒体の外周部の概略図
【図３】本発明に係る２層光記録媒体の外周部の概略図
【図４】本発明に係る４層光記録媒体の外周部の概略図
【図５】本発明に係る単層光記録媒体の層構成の詳細図
【図６】本発明に係る２層光記録媒体の製造工程図
【図７】本発明に係る成膜装置の概略図
【図８】本発明に係る成膜装置のチャンバー部の概略図
【図９】本発明に係る大量生産に適した成膜装置の一例の概略図
【図１０】スキージャンプの説明図
【符号の説明】
【００９７】
１１  光触媒効果層
１２  情報記録層
２１  基板
２２  カバー層
３１  Ｌ０用光触媒効果層
３２  Ｌ０用情報記録層
３３  Ｌ０−Ｌ１中間層
３４  Ｌ１用光触媒効果層
３５  Ｌ１用情報記録層
５１  反射層
５５  記録層
９１  情報記録層成膜装置
９２  光触媒効果層成膜装置
１０１  スキージャンプ
【図１】
2007141291.tif 000008
【図２】
2007141291.tif 000009
【図３】
2007141291.tif 000010
【図４】
2007141291.tif 000011
【図５】
2007141291.tif 000012
【図６】
2007141291.tif 000013
【図７】
2007141291.tif 000014
【図８】
2007141291.tif 000015
【図９】
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【図１０】
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