(57)【要約】【課題】処理ガスに含まれる揮発性有機化合物（ＶＯＣ）に代表される有害物質を、液体溶媒に吸収させて効率的に除去するガス浄化装置を提供する。【解決手段】ＶＯＣに代表される有害物質を含有する処理ガス２より該有害物質を除去する装置であって、第一段から最終段まで直列的に配設され、それぞれに前記有害物質を吸収する界面活性剤などの吸収液１４１乃至１４５を蓄える複数の吸収槽１０１乃至１０５と、前記第一段の吸収槽１０１の吸収液１４１の内部に処理ガス２を導入する導入管１１１と、前段の吸収槽の吸収液外部と次段の吸収槽の吸収液内部とを連通する連通管１１２乃至１１５と、前記最終段の吸収槽１０５の吸収液１４５の外部から処理ガス２を排出する排出管１１６と、前記導入管１１１および連通管１１２乃至１１５の先端に設けられ、吸収液内部に処理ガス２を気泡化して放出するバブリングノズルと、導入管１１１から排出管１１６まで処理ガス２を送るジェット型の水流式ブロワ２０とを備えるガス浄化装置。【選択図】図２
2007014890.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有害物質を含有する処理ガスより該有害物質を除去する装置であって、
第一段から最終段まで直列的に配設され、それぞれに前記有害物質を吸収する吸収液を蓄える複数の吸収槽と、
前記第一段の吸収槽の吸収液内部に処理ガスを導入する導入管と、
処理ガスを前段の吸収槽から次段の吸収槽に導入する連通管と、
前記最終段の吸収槽の吸収液外部から処理ガスを排出する排出管と、
前記導入管および連通管の先端に設けられ、吸収液内部に処理ガスを気泡化して放出するノズルと、
前記導入管から排出管まで処理ガスを送るブロワと
を備えるガス浄化装置。
【請求項２】
処理ガスを冷却し、有害物質を凝集させる冷却手段を備え、かつ、ブロワが水流式ブロワであることを特徴とする請求項１記載のガス浄化装置。
【請求項３】
有害物質が揮発性有機化合物である請求項１または２に記載のガス浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス等に含まれる有害物質を除去するガス浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球環境や生活環境の維持改善の観点から、工場より排出される排ガスには厳しい排出基準が設けられ、これに含有する揮発性有機化合物（以下、「ＶＯＣ」という。）、窒素酸化物、硫黄酸化物、または塵芥などの有害物質の除去が徹底されている。また家庭においても、新築住宅や改装住宅ではＶＯＣやダニアレルゲンを原因とする、いわゆるシックハウス症候群による健康障害が問題となっている。
【０００３】
これらの有害物質のうち、特にトルエンや酢酸エチルに代表されるＶＯＣは排出量が多く、かつ水溶性の低いものが多いため除去が困難である。これらのＶＯＣについては、主として以下の５つの方式によって排出ガスからの除去が行われている。
【０００４】
第一の方法は燃焼方式である。本方式はＶＯＣの除去率は高いものの、生成物として二酸化炭素や、場合によってはダイオキシンを生じることが問題となる。また防爆環境下で使用できないほか、発生する熱の排出を考慮する必要がある。さらに装置の設置コストおよびランニングコストが高く、また安全の面でも課題が多く、家庭を含め小規模な使用には適さないという問題点がある。
第二の方法は冷却による凝集方式である。本方式には、有害な反応生成物を生じない利点はあるが、低濃度のＶＯＣをさらに高いレベルで取り除くことが困難であるなど、除去率の点で問題がある。
第三の方法は光触媒方式である。本方式では、常温でＶＯＣを分解可能であるが、処理速度が遅く、またガスごとに適する触媒が異なるために汎用性に欠けるという問題点がある。
第四の方法は粉体への吸着方式であり、具体的には活性炭やゼオライトなどの多孔質体にガスを接触させ、ＶＯＣをこれに吸着させる方式である。本方式には、低濃度のＶＯＣであっても高いレベルで除去できるという利点はあるが、吸着体の再活性化が困難であってランニングコストが高いため、大量のＶＯＣを処理するには適さないという問題がある。
第五の方法は液体溶媒への吸収方式であり、高濃度アルコールや灯油などの溶媒にＶＯＣを溶解させる方式である。本方式は、溶媒の選択によっては防爆環境下でも使用が可能であり、また二酸化炭素を含めて一切の反応生成物を生じないという利点がある。
【０００５】
かかる利点を生かすべく、液体溶媒への吸収方式を用いた排ガスの処理装置に関する発明がこれまでにいくつか提案されている。例えば特許文献１には、充填剤層を通過する排ガスに対して吸収液をミスト状に噴霧し、排ガス中の硫黄酸化物を吸収する排ガス浄化装置の発明が記載されている。また特許文献２には、排ガス流路を塞ぐように水を滝状に落下させる複数のカスケード手段を用いた排ガス処理装置の発明が記載されている。
【特許文献１】特開２００５−７４４１１号公報
【特許文献２】特開２００２−１５３７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１に記載の発明の場合、吸収液のミストをいかに大量に噴霧しても、なお吸収塔内では気相体積が支配的であり、ミストと十分に接触しないまま吸収塔を通過してしまう排ガス分子が多数存在するため、目的物質のミストへの吸収効率は高くない。また特許文献２に記載の発明の場合、排ガスは流路内を大きなガスの塊の状態で流通しつつ、途中数回にわたって膜状の水と接触する方式であるため、気液相の接触効率は低い。
【０００７】
一方、ＶＯＣは一般に溶媒に溶解するのに所定の時間を要するため、その除去率を高くするためには処理ガスと溶媒との接触時間を長くし、かつ気液相の接触表面積を大きくする必要がある。したがって、上記各特許文献に記載の排ガス処理装置による場合、いずれも目的成分の液体溶媒への吸収効率が低いという問題点があった。
【０００８】
本発明は、処理ガスに含まれるＶＯＣに代表される有害物質を液体溶媒に効率的に吸収させてこれを除去できるガス浄化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、
（１）有害物質を含有する処理ガスより該有害物質を除去する装置であって、
第一段から最終段まで直列的に配設され、それぞれに前記有害物質を吸収する吸収液を蓄える複数の吸収槽と、
前記第一段の吸収槽の吸収液内部に処理ガスを導入する導入管と、
処理ガスを前段の吸収槽から次段の吸収槽に導入する連通管と、
前記最終段の吸収槽の吸収液外部から処理ガスを排出する排出管と、
前記導入管および連通管の先端に設けられ、吸収液内部に処理ガスを気泡化して放出するノズルと、
前記導入管から排出管まで処理ガスを送るブロワと
を備えるガス浄化装置、
（２）処理ガスを冷却し、有害物質を凝集させる冷却手段を備え、かつ、ブロワが水流式ブロワであることを特徴とする上記（１）記載のガス浄化装置、
（３）有害物質が揮発性有機化合物である上記（１）または（２）に記載のガス浄化装置、
を要旨とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のガス浄化装置によれば、吸収液に有害物質を吸収させることで、処理ガスから該有害物質を除去することができる。また、処理ガスを吸収液に十分に接触させ、有害物質の除去効率を高めるため、本発明のガス浄化装置では吸収槽を直列的に複数段にわたって配設し、各段においてそれぞれ処理ガスを吸収液の液中に気泡化して通過させる（以下、「バブリング」という。）方式を採っている。これにより、処理ガスは吸収液の液相中を複数回にわたって、かつ大きな接触表面積をもって通過する機会が与えられるため、従来の排ガス処理装置では目的物質の吸収液への吸収率が十分得られなかったという問題を解決している。
【００１１】
よって、液体溶媒への吸収によるガスの浄化方式の利点である、防爆環境下でも使用可能であって、二酸化炭素を含めて反応生成物を生じないというメリットを享受しつつ、有害物質の効率的な吸収および除去が可能となる。
【００１２】
また本発明のガス浄化装置では吸収槽を直列的に複数段に配設したことにより、吸収液のリフレッシュ作業も各段ごとに個別に行うことができる。すなわち、ある吸収槽の吸収液を交換する、または吸収液から有害物質を回収して吸収液の吸収力を回復させる場合も、かかる吸収槽のみリフレッシュ作業を行い、それ以外の吸収槽ではバブリングによる有害物質の除去作業を継続して実施することができる。よって処理ガスが間断なく供給される状況下においても本発明のガス浄化装置は連続運転が可能であり好適に用いられる。
【００１３】
このように、吸収槽ごとに吸収液がリフレッシュできることから、吸収した有害物質が所定の濃度を超えた場合のみ吸収液を交換するなどの運用も可能となるため、無駄なリフレッシュ作業を省き、ガス浄化装置のランニングコストを抑えることができる。逆に有害物質の吸収能力が低下した古い吸収液をいつまでも使い続ける必要もなくなるため、処理ガスの安定した浄化能力を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて具体的に説明する。図１は本発明の実施の形態にかかるガス浄化装置のシステム系統図である。
【００１５】
１はガス浄化装置、２は有害物質を含有する処理ガス、１０は吸収液を蓄えた吸収槽を直列に複数段配設してなる吸収装置、２０は処理ガスを上流から下流まで流動させるブロワ、３０は処理ガスを冷却する冷却手段、４０は排出前の処理ガスに追加処理を施す追加処理手段、５０は吸収液より有害物質を取り出す回収手段である。
【００１６】
処理ガス２としては、工場からの排出ガス、燃焼器からの排出ガス、または家庭内または実験室内の空気などが例示されるが、特にこれに限るものではない。
【００１７】
排ガスに含まれる有害物質にとしては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、フタル酸ジオクチルもしくはイソプロピルアルコールなどのＶＯＣ、ホルムアルデヒド、アンモニア、一酸化炭素もしくは塩化水素などの気体、粉塵、バクテリアもしくは花粉などの粉体、または、紫煙や油煙などのエアロゾルが例示される。これらのうち、排出基準の厳しさと現実の排出量の多さから、特にＶＯＣを有害物質として除去する場合に本発明の効果は顕著である。
【００１８】
吸収装置１０は、内部に吸収液を蓄える複数の吸収槽より構成され、処理ガス２より有害物質を吸収および除去するための装置である。
【００１９】
図２は、本発明の第一の実施の形態にかかる吸収装置１０の具体例を示す斜視図である。同図に示す吸収装置１０では、第一段から第五段までの５台の吸収槽１０１〜１０５が直列に配設されている。それぞれを第一吸収槽１０１乃至第五吸収槽１０５とする。なお、第一および第二吸収槽１０１，１０２については内部を目視可能とするため、同図では上面と手前側側面を省略した状態を図示している。第三および第五吸収槽１０３，１０５は第一吸収槽１０１と、第四吸収槽１０４は第二吸収槽１０２と同じ内部構造となっている。
【００２０】
図２において、吸収槽１０１，１０２には、それぞれ吸収液１４１，１４２が蓄えられている。尚、図示しないが、吸収槽１０３〜１０５にも、同様に吸収液が蓄えられている。それぞれの吸収液の成分、液量または濃度は、同一であっても異なってもよい。処理ガスより除去すべき有害物質が１種類の場合は、該有害物質の除去に最適な吸収液を選択し、これを複数台の吸収槽にて共通して用いることが吸収率の観点から好適である。逆に、複数種類の有害物質を同時に除去すべき場合、それぞれの除去に適する複数種類の吸収液を混合して各吸収槽にて共通して用いても、各吸収液をそれぞれ１台または複数台の吸収槽に個別に与えてもよい。またこれ以外にも、例えば第一吸収槽１０１には有害物質と化学反応してこれに官能基を与える溶媒を用い、第二吸収槽１０２以降において他の成分からなる吸収液にて該有害物質の吸収除去を行うこともできるなど、各吸収槽に用いる吸収液の選択は任意である。
【００２１】
吸収液には、有害物質の溶解性や捕捉性の高い液体を１種類、または複数種類を混合して使用することが好ましい。除去すべき有害物質がＶＯＣの場合は、ポリアルキレングリコール、界面活性剤、エーテル類などが好適に用いられる。このうち、吸収したＶＯＣを吸収液から再び取り出して回収することを容易にする観点から界面活性剤が好ましく、炭素数８〜１６の界面活性剤が特に好ましい。さらに、ＶＯＣの吸収性の観点から、エーテル系界面活性剤が最も好ましい。また、水溶性の気体や、液体に捕捉されやすい粉体については水を吸収液として容易に除去することができる。
【００２２】
吸収槽の段数は特に限定されないが、用いる吸収液１種類につき２段以上とすることが有害物質の効率的な除去の観点から好ましく、さらに吸収液の交換作業時にも有害物質の効率的な継続除去が可能であるという観点からは、吸収液１種類につき３段以上とすることが好ましい。図２では５台の吸収槽１０１乃至１０５をすべて直列に配設した５段構成としているが、いずれか１以上の段において、吸収槽を並列に分岐させた２台以上より構成してもよい。すなわち、本発明のガス浄化装置においては、複数段にわたって吸収槽が直列に配設されている限り、各段における吸収槽の台数や配置は特に限定されない。なお、本発明のガス浄化装置において、「Ｎ段の吸収槽が直列に配設されている」とは、該装置に導入された処理ガスが少なくともＮ台の吸収槽を通過してから排出される経路を備えていることを意味し、吸収槽同士が一直線上に配設されているか、または曲がり部や分岐部を有しているかなどの外形形状とは無関係である。以降の実施の形態では、各段が１台の吸収槽より構成され、かつすべての吸収槽に同一の吸収液が蓄えられた吸収装置１０を例に説明する。
【００２３】
なお、本発明のガス浄化装置では、処理ガス２の流入側を上流側または前段、流出側を下流側または後段と呼称する。さらに、前段の下流側に直列的に連続する段を次段と呼称する。
【００２４】
前段とその次段を構成する２台の吸収槽は、処理ガスを前段の吸収槽から次段の吸収槽に導入する連通管１１２乃至１１５によって連通されている。連通管の両端と吸収液の液面高さとの関係については、好適にバブリングを行う観点から、一般に、連通管の一端が前段の吸収槽の吸収液の上部に位置し、他端が次段の吸収槽の吸収液の内部に位置することが好ましい。また、第一吸収槽１０１のさらに上流側には、処理ガス２を吸収液１４１の内部に導入する導入管１１１が設けられ、該導入管１１１の上流側先端には導入口１１０が設けられている。また第五吸収槽１０５のさらに下流側には、吸収液１４５の外部から処理ガス２を排出する排出管１１６が設けられ、該排出管１１６の下流側先端には排出口１１７が設けられている。導入管１１１、連通管１１２乃至１１５および排出管１１６と吸収槽１０１乃至１０５との間はシーリングを施し、導入口１１０および排出口１１７を除いて処理ガス２や周辺空気の出入りを防止することが、吸収装置１０における処理ガス２の圧力損失を低減し、また有害物質の漏出を防ぐ観点から好適である。
【００２５】
これらの導入管１１１および連通管１１２乃至１１５において、吸収液に浸漬される下流側の端部にはバブリングノズルが設けられている。このように構成することにより、処理ガス２を細かい気泡状にして吸収液内部に放出し、気液両相の接触面積を大きくすることができる。図２において、１２１，１２２はそれぞれ、連通管１１１，１１２に設けられたバブリングノズルを示す。尚、図示しないが、連通管１１３〜１１５にも同様にバブリングノズルが設けられている。上記各バブリングノズル（以降、「ノズル」と略記することがある。）は表面に円孔を多数有するが、該円孔はノズル先端ほど径が拡大している。これにより、処理ガス２の内圧の高い根元側から、内圧の低くなる先端側まで、ノズルの長手方向について比較的均等に、処理ガス２が吸収液中にバブリングされるという利点がある。また、バブリングノズルの内部もしくは表面、または吸収槽の内部には、バブリングされた処理ガス２の気泡を微細化し、また吸収液を攪拌することを目的として、例えば超音波加振器などの攪拌器を設けてもよい。
【００２６】
また、ノズルの表面から吸収液の液面までの高さについては、これを極力小さくすることが、各吸収槽における処理ガス２の圧力損失を低減し、吸収装置１０に導入可能な処理ガス２の流量を多くできる観点から好適である。ただし、吸収液に対する有害物質の吸収効率を高くするためには気液接触時間を長くすることが好適である。したがって、吸収槽の段数を多くすることで処理ガス２中の有害物質が吸収液と接触する時間を長く確保しつつ、各段の吸収槽においては吸収液の液面を低くして圧力損失を抑制することが好適である。すなわち、バブリングされた処理ガス２は、吸収液中に放出された直後は気泡が細かいため吸収液との接触面積が大きく、かつ上昇速度も遅いため気液相の接触時間が長く確保され、有害物質を吸収されやすい。これに対し、気泡が吸収液中を上昇するにつれて気泡同士は凝集して吸収液との接触面積が低下し、また上昇速度も増すため、吸収液が単位深さ当たりに吸収できる有害物質の量は格段に減少する。よって吸収装置１０全体で発生する処理ガス２の圧力損失が一定の場合、浅い吸収液の中を多くの回数にわたってバブリングすることで有害物質を効率よく吸収することができる。
【００２７】
処理装置１０に導入された処理ガス２は、まず導入口１１０より導入管１１１を通じて第一吸収槽１０１の吸収液１４１に浸漬されたノズル１２１よりバブリングされる。気泡となって吸収液１４１中を上昇する処理ガス２は、含有する有害物質を所定の割合で吸収液１４１に吸収され、吸収液１４１の液面に到達する。該液面から出た処理ガス２は、該液面の上部に設けられた唯一の開口である連通管１１２を通じて第二吸収槽１０２に送られる。連通管１１２の下流側端部にもノズル１２２が形成されているため、処理ガス２は二度目のバブリングを施され、残存する有害物質をさらに所定の割合で吸収液１４２に吸収されつつ、第三吸収槽１０３へと送られる。以降、第三吸収槽１０３、第四吸収槽１０４および第五吸収槽１０５でも同様にバブリングが行われ、処理ガス２よりその都度有害物質が除去されていく。最後に第五吸収槽１０５の液面から、排出管１１６および排出口１１７を通じて処理ガスは吸収装置１０から排出される。
【００２８】
図１のシステム系統図に示すブロワ２０は、処理ガス２を、処理装置１０の導入口１１０から、導入管１１１、吸収槽１０１乃至１０５、吸収液１４１乃至１４５、連通管１１２乃至１１５および排出管１１６を通じて排出口１１７に至るまで送り出すための動力を与える装置である。処理ガス２に与える圧力が十分であって、工場などから供給される処理ガス２を遺漏なく吸収装置１０に取り込むことができるかぎり、ブロワ２０の種別は特に限定されない。駆動原理による分類でいえば、羽根車の回転によるターボ型、空間を伸縮させる容積型、駆動流体を高速高圧で噴射して吸引力を得るジェット型など、いずれも好適に用いることができる。
【００２９】
本発明においては、吸収液を駆動流体とするジェット型の水流式ブロワ２０を吸収装置１０の下流側に配設することで、処理ガス２を吸収装置１０の導入口１１０から排出口１１７まで好適に吸引するとともに、吸収装置１０で吸収しきれなかった有害物質を、ブロワ２０の駆動流体においてもさらに吸収除去することができ特に好適である。なお、一般に「ブロワ」とは、狭義には出口側圧力が１０〜１００ｋＰａの送風機を意味し、これ以下の圧力のものを「ファン」、これ以上の圧力のものを「圧縮機」と区別する場合があるが、本発明においてはこれらを総称してブロワと呼称しており、出口側圧力は特に限定されない。
【００３０】
また、図１ではブロワ２０を吸収装置１０の後段に配設しているが、本発明のガス浄化装置を実現するためにはこれに限定されない。すなわちブロワ２０を吸収装置１０の上流側に配設する方式や、吸収装置１０を構成する複数段の吸収槽の間に配設する方式でもよく、または複数台のブロワによりこれらを組み合わせる方式であってもよい。
【００３１】
冷却手段３０は、処理ガス２を冷却する冷却装置からなる。処理ガス２に含まれる有害物質が例えばＶＯＣのように、飽和蒸気圧の温度依存性が高い物質の場合、吸収装置１０に導入する前の高濃度状態において処理ガス２を冷却することで有害物質を凝集し、効率的に除去することができる。これにより吸収装置１０における吸収除去の処理負荷を低減できる。冷却装置の種別は特に限定されないが、水冷式、空冷式のほか、特にペルチェ素子を用いることで高い冷却効率を得ることができる。また、吸収槽に蓄えられる吸収液も極力冷却して用いることで、有害物質が気体の場合、一般に吸収液に対する溶解度が高まり、さらにバブリングの際に有害物質が冷却されて凝集する効果が得られるために好適である。なお、冷却手段３０は、図１に示すように吸収装置１０の上流側に設けるほか、吸収装置１０の内部に設けてもよく、またブロワ２０の駆動流体による有害物質の吸収効率を向上することを目的として吸収装置１０の下流側に設けてもよい。
【００３２】
追加処理手段４０は、吸収装置１０またはブロワ２０より排出された処理ガス２を大気またはタンク等に排出する前に、残留する有害物質に対して様々な処理を施すための装置から構成される。具体的には、例えばオゾンなどによって有害物質を分解して無害化する除害反応塔、活性炭やゼオライトなどの粉体による有害物質の吸着を行う吸着塔、有害物質が排出安全基準値以下となるまで処理ガス２の希釈を行う希釈塔などとすることが好適である。ただし、有害物質が吸収装置１０や水流式ブロワ２０により所定のレベル以下まで除去される場合、かかる追加処理手段４０において特別な処理は不要であるため、該手段４０は本発明に必須の構成要件ではない。
【００３３】
本発明のガス浄化装置では、回収手段５０により、吸収液に吸収された有害物質を取り出して回収してもよい。例えば有害物質がトルエンなどのＶＯＣの場合、吸収液よりこれを取り出して回収することは、該吸収液における有害物質の溶解度や吸収力を回復させる（以下、「リフレッシュする」という。）効果が得られるほか、回収されたＶＯＣを溶剤や薬品として再利用できるという観点からも極めて効果的である。吸収液に取り込まれた有害物質がＶＯＣの場合、回収手段５０としては、例えば空気やヘリウムなどのガスを吹き込んでＶＯＣを脱気するエアレーション装置、雰囲気圧を減圧してＶＯＣをガス化する減圧装置、超音波印加により溶解したＶＯＣガスを凝集し気泡化して取り出す超音波装置、加熱してＶＯＣを分留する分留装置、溶解したＶＯＣを特殊な吸着フィルタにて吸着して取り出すフィルタ装置、またはこれらの組み合わせなどが具体例として挙げられる。また有害物質が吸収液に不溶性の粉体の場合は、物理的なフィルタを通すだけでこれを除去することができる。尚、ブロワ２０に水流式のジェット型ブロワを用いる場合、その駆動流体に取り込まれた有害物質を回収し、該駆動流体をリフレッシュするため、ブロワ２０と回収手段５０とを連通してもよい。
【００３４】
回収手段５０により各吸収槽の吸収液をリフレッシュする手法としては、例えば以下の方式が例示される；
（Ａ）ガス浄化装置の運転を一旦停止して吸収液を各吸収槽からすべて抜き出し、一括して回収手段５０に送るバッチ方式、
（Ｂ）ある一部の吸収槽についてのみ、吸収液を抜き出して回収手段５０に送り、他の吸収槽による有害物質の吸収除去作業は継続して行う順次交換方式、
（Ｃ）一部または全部の吸収槽について、回収手段５０との間で吸収液を循環させてリフレッシュさせながら、ガス浄化装置の運転を継続して行う循環方式。
【００３５】
これらの方式は、処理ガス２の供給量や供給パターンに応じて適宜選択することができる。例えば処理ガス２の供給が日中のみである場合、（Ａ）のバッチ方式を選択して夜間に吸収液のリフレッシュを行うことで、装置および運転の管理が最も簡略化できる。これに対し、処理ガス２の供給が長時間にわたり連続する場合、（Ｂ）または（Ｃ）の方式を選択することが好適となる。（Ｂ）の順次交換方式による場合は、吸収液の所要量および回収手段５０の処理負荷を少なくすることができ、また（Ｃ）の循環方式による場合は、有害物質の吸収効率を低下させる瞬間がなく常に安定的にガス浄化装置を稼動することができるという利点がある。
【００３６】
図３は、本発明の第二の実施の形態として、上記（Ｂ）の順次交換方式に基づく吸収液のリフレッシュを行う際の吸収装置１０を示す斜視図である。ただし各吸収槽の内部を目視できるよう上面は省略している。吸収槽１０１乃至１０５の底面には、吸収液１４１乃至１４５を排出するための排液管１３１乃至１３５を備える。排液管はそれぞれ図示しない回収手段５０と連通している。同図では、吸収液１４３を排液管１３３から排出し、吸収槽１０３は空になっている。この状態においては、第二吸収槽１０２から連通管１１３を通じて第三吸収槽１０３に導入された処理ガス２は、ノズル１２３から連通管１１４にむけて第三吸収槽１０３の内部をそのまま通過する。なお、有害物質を含有する処理ガス２は排液管から回収手段５０にむけて漏出しないことが好ましいため、各排液管には吸収液の液面と連動して上下する蓋を設けるか、吸収液の一部を吸収槽または排液管の内部に残すなどして処理ガス２を通過させないことが好ましい。
【００３７】
図３の場合、処理ガス２に含まれる有害物質の吸収除去は吸収槽１０３においては行われず、その他の４段の吸収槽においてのみ行われる。そのため、本発明にかかるガス浄化装置では、ある段の吸収液をリフレッシュしている間であっても複数段の吸収槽で有害物質の吸収が行われるよう、３段以上の吸収槽を直列に配設することが好適といえる。また、第一吸収槽１０１の吸収液１４１は、最も有害物質濃度の高い処理ガス２がバブリングされることから、吸収液のリフレッシュ作業も最も頻繁に行う必要があるところ、本実施の形態の順次交換方式を採ることにより、適切な吸収液のみを適切なタイミングでリフレッシュすることが可能となるため、回収手段５０による有害物質の回収処理の負荷を下げ、無用なリフレッシュ作業を省略することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明にかかるガス浄化装置は、吸収液の幅広い選択により様々な有害物質を好適に除去し、さらに該物質を回収することが可能であるため、上記に例示したケースのみならず、例えば印刷・乾燥装置、食品製造装置、電子部品製造装置などと一体に組み合わせて、目的の有害物質を好適に除去することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施の形態にかかるガス浄化装置のシステム系統図である。
【図２】本発明の第一の実施の形態にかかる吸収装置の一部切欠斜視図である。
【図３】本発明の第二の実施の形態にかかる吸収装置の一部切欠斜視図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  ガス浄化装置
２  処理ガス
１０  吸収装置
１０１，１０２，１０３，１０４，１０５  吸収槽
１１０  導入口
１１１  導入管
１１２，１１３，１１４，１１５  連通管
１１６  排出管
１１７  排出口
１２１，１２２，１２３，１２４，１２５  バブリングノズル
１３１，１３２，１３３，１３４，１３５  排液管
１４１，１４２，１４３，１４４，１４５  吸収液
２０  ブロワ
３０  冷却手段
４０  追加処理手段
５０  回収手段
【図１】
2007014890.tif 000003
【図２】
2007014890.tif 000004
【図３】
2007014890.tif 000005