(57)【要約】【課題】スリット＆スピンコータにて被膜の膜厚分布を更に向上させたカラーフィルタを製造できる被膜の形成方法を提供する。【解決手段】スリットコータでの塗布膜の膜厚分布を、基板片端部で膜厚を薄く、基板中央部に向かって膜厚を徐々に厚く、基板他端部に向かって膜厚を徐々に薄くすること。スリットコータでの塗布膜の膜厚分布が、予め求められた、スピンコータによる回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布の塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた膜厚分布であること。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に塗布液をスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜が形成された基板をスピンコータで回転させて該塗布膜を延展させる被膜の形成方法において、前記スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布を、塗布を開始する基板片端部で膜厚を薄く、該基板片端部から基板中央部に向かって膜厚を徐々に厚く、該基板中央部から基板他端部に向かって膜厚を徐々に薄くすることを特徴とする被膜の形成方法。
【請求項２】
前記スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布が、予め求められた、スピンコータによる回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布の塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた膜厚分布であることを特徴とする請求項１記載の被膜の形成方法。
【請求項３】
前記膜厚の調節を塗布液の吐出圧力又は／及びスリットの移動速度により行うことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の被膜の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にフォトレジストなどの被膜を形成する方法に関するものであり、特に、スリット＆スピンコータによる被膜の形成にて塗布膜の膜厚分布を向上させた被膜の形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【０００３】
図９は、液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図１０は、図９に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図９、及び図１０に示すように、液晶表示装置に用いるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図９、及び図１０はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００４】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００５】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００６】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００７】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
すなわち、一例として示す液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいては、透明導電膜を除きフォトリソグラフィ法によって画素として形成されている。
【０００８】
図９、及び図１０に示すカラーフィルタは、液晶表示装置に用いるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
【０００９】
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して、例えば、１）保護層（オーバーコート層）、２）半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおける透明部、３）透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相をそろえるための光路差調整層、４）カラーフィルタの反射表示の領域への光散乱層、５）スペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）、６）液晶の配向制御を行う配向制御突起、などの種々な機能が付加されるようになった。
【００１０】
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によって画素に形成される。
【００１１】
一方、液晶表示装置に用いるカラーフィルタの製造においては、カラーフィルタを効率よく生産するために、一基の液晶表示装置に対応した大きさのカラーフィルタを一枚のガラス基板に多面付けして製造する方法がとられてきたが、一基の液晶表示装置の対角インチのサイズの大型化に伴い、液晶表示装置に用いるカラーフィルタを製造する際のガラス基板の大きさは次第に大型化してきた。
【００１２】
カラーフィルタを製造するガラス基板の大型化に伴い、例えば、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度の大きさのガラス基板においては、フォトリソグラフィ法によるカラーフィルタの製造におけるフォトレジストの塗布方法として、スリットコータとスピンコータを併用したコータ（スリット＆スピンコータと呼ばれる）を用いる方法、すなわち、ガラス基板上にフォトレジストをスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータで回転し塗布膜を延展させる被膜の形成方法が採用され始めた。
【００１３】
それまでの被膜の形成方法としては、スピンコータを用いた方法が広く採用されてきたが、ガラス基板の大型化に伴い顕著に現れてくるスピンコータの弱点、すなわち、ガラス基板の中央部の塗布膜の膜厚と端部の塗布膜の膜厚の膜厚差を縮小させ、またフォトレジストの吐出量を減少させることを狙いとしたものである。
【００１４】
このスリット＆スピンコータを用いる方法は、先ずスリットコータにより予めガラス基板上の全面に、吐出圧力１０〜６０ｋＰａ程度、スリットの移動速度４０〜１００ｍｍ／秒程度で、やや過剰なフォトレジストを塗布し、次にスピンコータにより２００〜１５００ｒｐｍ程度での回転を行い、フォトレジストを延展し、塗布膜の膜厚を定め乾燥するものである。
【００１５】
このようなスリット＆スピンコータを用いる方法においては、スピンコータのみによる塗布方法に比較し、ガラス基板の中央部への十分に過剰なフォトレジストの吐出は必要なくなり、また、形成した塗布膜の膜厚の均一性は向上したものとなる。
しかしながら、このようなスリット＆スピンコータを用いる方法においても、膜厚の不均一性が充分に解消されたとはいえない。
【００１６】
図１、図２、及び図３は、スリット＆スピンコータを用いてフォトレジストの塗布膜を形成した際の、膜厚分布の状態の一例を示す説明図である。図１は、ガラス基板上にスリットコータにより塗布したフォトレジストの塗布膜の膜厚分布示したものである。図２は、上記塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータにより回転し延展した塗布膜の膜厚分布を示したものである。また、図３は、ガラス基板上に形成された塗布膜上の測定ポイントの位置を示したものである。また、白太矢印は、スリットコータによる塗布の方向を示したものである。
【００１７】
ガラス基板のサイズ（Ｌ１×Ｗ１）は、８８０ｍｍ×６８０ｍｍである。フォトレジストとしては、カラーフィルタの着色画素の形成に使用する緑色（Ｇ）の着色フォトレジストを用いた例である。
図１及び図２において、横軸は測定ポイントである。縦軸（Ｇｙ）は、ＣＩＥ表示系における色度座標（ｘ、ｙ）のｙであり、フォトレジストとして緑色（Ｇ）の着色フォトレジストを用いているので緑色（Ｇ）のｙを表している。
【００１８】
塗布膜の乾燥後の膜厚は、例えば、触針式の膜厚計にて測定できるが、触針式の膜厚計による測定値と、色度座標（ｘ、ｙ）のｙ値とは正の相関にあることからして、本発明においては、容易に測定することのできるｙを塗布膜の膜厚の代用特性とし、膜厚値の代りにｙ値をもて説明を行うこととする。
【００１９】
図１に示すように、スリットコータによりフォトレジストがやや過剰に、均一になるように塗布された塗布膜の全体（測定ポイントａ〜ｅ）の膜厚（ｙ値、Ｇｙ）は、測定ポイントａ〜ｅにて、塗布膜の膜厚分布幅がｙ値にて０．０１５内に収まっている。
この塗布膜の膜厚分布は、図２に示すように、スピンコータによる回転で、塗布膜の全体では狙いの膜厚にまで薄くなっている。
【００２０】
また、図２に示すように、スピンコータによる回転後の膜厚分布幅は、測定ポイントａ〜ｅにて、ｙ値にて０．００６内となっている。延展によって平坦化がなされている。
すなわち、スリットコータによる塗布膜は、スピンコータの回転による延展によって膜厚は薄く、且つ平坦化がなされている。しかし、ガラス基板の中央部は厚く、ガラス基板の端部に向かって薄くなっている。これは、回転による遠心力はガラス基板の中央部から端部に向かうにつれ大きくなるためである。
【００２１】
図１における塗布膜の膜厚と、図２における回転後の膜厚の差（ΔＧｙ）について、別な表現をすると、測定ポイントｃにおける、その差（ΔＧｙ−ｃ）は、測定ポイントａにおける、その差（ΔＧｙ−ａ）より少ない。すなわち、測定ポイントｃである中央部における膜厚の減少分は少ない。
【００２２】
上記のように、スリット＆スピンコータを用いは塗布膜の膜厚分布は、回転による延展によって平坦化がなされるものであるが、表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する際に用いる着色フォトレジストなどの塗布膜は、画素として形成した後の画素そのものが表示装置用カラーフィルタの性能であるために、回転による延展後の塗布膜の膜厚分布を更に均一性の優れたものにするようにといった強い要望がある。
【特許文献１】特開２０００−１６７４７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
本発明は、上記のように、ガラス基板上に着色フォトレジストなどの塗布液をスリットコータで塗布してやや過剰な膜厚の塗布膜を形成し、この塗布膜が形成されたガラス基板
をスピンコータで回転し、塗布膜を延展・乾燥させてガラス基板上へ所望する膜厚の被膜を形成する際に、ガラス基板上の被膜の面内の膜厚分布を更に向上させ優れた均一性を有する表示装置用カラーフィルタを製造することのできる被膜の形成方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明は、基板上に塗布液をスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜が形成された基板をスピンコータで回転させて該塗布膜を延展させる被膜の形成方法において、前記スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布を、塗布を開始する基板片端部で膜厚を薄く、該基板片端部から基板中央部に向かって膜厚を徐々に厚く、該基板中央部から基板他端部に向かって膜厚を徐々に薄くすることを特徴とする被膜の形成方法である。
【００２５】
また、本発明は、上記発明による被膜の形成方法において、前記スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布が、予め求められた、スピンコータによる回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布の塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた膜厚分布であることを特徴とする被膜の形成方法である。
【００２６】
また、本発明は、上記発明による被膜の形成方法において、前記膜厚の調節を塗布液の吐出圧力又は／及びスリットの移動速度により行うことを特徴とする被膜の形成方法である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布を、塗布を開始する基板片端部で膜厚を薄く、該基板片端部から基板中央部に向かって膜厚を徐々に厚く、該基板中央部から基板他端部に向かって膜厚を徐々に薄くし、次に基板をスピンコータで回転させて該塗布膜を延展させる被膜の形成方法であるので、ガラス基板上の被膜の面内の膜厚分布を更に向上させ優れた均一性を有する表示装置用カラーフィルタを製造することのできる被膜の形成方法となる。
【００２８】
また、本発明は、上記スリットコータで塗布する塗布膜の膜厚分布が、予め求められた、スピンコータによる回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布の塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた膜厚分布であるので、面内の膜厚分布がより優れた均一性を有する被膜の形成方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明を一実施の形態に基づいて以下に説明する。
図４（イ）、（ロ）は、本発明による被膜の形成方法を説明するための、スリット＆スピンコータの一例であり、その主要部分を示す側断面図である。
図４（イ）、（ロ）に示すように、このスリット＆スピンコータの主要部分は、定盤兼スピナーヘッド（１６）、塗布ヘッド（１２）などで構成されるスリットコータ部と、定盤兼スピナーヘッド（１６）、回転軸（１７）、ハウジング（１８）などで構成されるスピンコータ部とが一体となったものである。
【００３０】
図４（イ）、（ロ）において、スリットコータ部の塗布ヘッド（１２）は、待機位置（Ａ）から矢印方向へ移動しつつ、定盤兼スピナーヘッド（１６）上に固定して設置された水平状態のガラス基板（１１）上に、塗布ヘッド（１２）からの塗布液（２３）を図４中、ガラス基板（１１）の左端から塗布を開始し、塗布位置（Ｂ）を経て、ガラス基板（１１）の右端まで塗布し続け、右端にて塗布を終え、待機位置（Ｃ）に至るようになっている。塗布膜はガラス基板（１１）の全面に形成されるが、この塗布位置（Ｂ）は、ガラス基板（１１）の左右全面に及ぶ塗布位置を代表して示している。
【００３１】
続いて、塗布液が塗布されたガラス基板（２１）は、定盤兼スピナーヘッド（１６）上に固定されたままの状態で、図４（ロ）に示すように、回転される。スピンコータ部は、ガラス基板（２１）を水平状態にて回転軸（１７）を曲線矢印方向へ回転させ、ガラス基板（２１）上の塗布膜を延展・乾燥させ、膜厚を狙いの膜厚にし被膜を形成する。
そして、スピンコータ部によるガラス基板（２１）上の塗布膜の延展・乾燥、被膜の形成後に、再び待機位置（Ａ）に戻り、次のガラス基板への塗布を行うようになっている。
【００３２】
図５（イ）、（ロ）は、スリット＆スピンコータの他の例であり、その主要部分を示す側断面図である。図５（イ）はスリットコータ部の主要部分であり、図５（ロ）はスピンコータ部の主要部分である。そして、各々が分離したものとなっている。
スリットコータ部は、定盤（１９）、塗布ヘッド（１２）などで構成され、スピンコータ部は、スピナーヘッド（２６）、回転軸（１７）、ハウジング（１８）などで構成されている。
【００３３】
図５（イ）において、スリットコータ部の塗布ヘッド（１２）は、待機位置（Ａ）から矢印方向へ移動しつつ、定盤（１９）上に固定して設置された水平状態のガラス基板（１１）上に、塗布ヘッド（１２）からの塗布液（２３）を図５中、ガラス基板（１１）の左端から塗布し始め、塗布位置（Ｂ）を経て、ガラス基板（１１）の右端まで塗布し続け、右端にて塗布を終え、待機位置（Ｃ）に至るようになっている。塗布膜はガラス基板（１１）の全面に形成されるが、この塗布位置（Ｂ）は、ガラス基板（１１）の左右全面に及ぶ塗布位置を代表して示している。
【００３４】
続いて、塗布液が塗布されたガラス基板（２１）は、搬送装置（図示せず）によりスリットコータ部の定盤（１９）からスピンコータ部のスピナーヘッド（２６）に移され、スピナーヘッド（２６）上に固定される。
図５（ロ）において、スピンコータ部は、ガラス基板（１１）を水平状態にて回転軸（１７）を曲線矢印方向へ回転させ、ガラス基板（１１）上の塗布膜を延展させ、膜厚を狙いの膜厚にし被膜を形成する。
本発明による被膜の形成方法は、上記いずれのスリット＆スピンコータにおいても適用される。
【００３５】
本発明者は、被膜の面内の膜厚分布を更に向上させるために、スリット＆スピンコータを用いた際に、ガラス基板上へスリットコータにより塗布した塗布膜の膜厚分布と、この塗布膜が形成されたガラス基板を回転し、延展させた塗布膜の膜厚分布の関係を精査した結果、スリットコータによる塗布の際に、ガラス基板の端部の塗布膜の膜厚をガラス基板の中央部の塗布膜の膜厚より薄く塗布すると、回転による延展後の塗布膜の膜厚減少の度合いは、端部において中央部での膜厚減少より少ないこと、すなわち、ガラス基板上の塗布膜の全体としては、端部と中央部での膜厚差が少なくなり全体として膜厚分布が均一なものに近づくといった性向があることを見出し、この点に着目して本発明をするに至った。
【００３６】
つまり、塗布膜の膜厚分布を、塗布を開始する基板片端部で膜厚を薄く、基板片端部から基板中央部に向かって膜厚を徐々に厚く、基板中央部から基板他端部に向かって膜厚を徐々に薄くすることによって、回転後の膜厚の均一性を向上させるることができる。
【００３７】
塗布膜の膜厚を薄く、或いは厚く調節する手段としては、スリットコータの吐出圧力を制御することによって、或いはスリットの移動速度を制御することによって行うことができる。
吐出圧力の制御は概ね１０〜６０ｋＰａ程度、スリットの移動速度の制御は概ね４０〜１
００ｍｍ／秒程度の範囲である。
【００３８】
上記性向を示すメカニズムについては、以下のように推量される。
すなわち、スリットコータによって塗布された塗布膜は、その表面から溶剤が揮発し粘度が上昇する。この粘度の上昇に伴って塗布膜の流動性は低下するが、膜厚の薄い部分では、その流動性の低下が大きく、膜厚の厚い部分では、その流動性の低下が小さい。従って、回転による塗布膜の延展は、膜厚の厚いガラス基板の中央部では比較的大きく、膜厚減少の度合いは高くなる。一方、膜厚の薄いガラス基板の端部では比較的小さく、膜厚減少の度合いは低くなる。
【００３９】
つまり、塗布膜の中央部と端部での流動性の変化の相違が、前記回転の遠心力による塗布膜の中央部と端部の膜厚差の発生を相殺し、全体として膜厚の均一性は向上する。
【００４０】
また、スリットコータによる塗布膜の膜厚分布と、回転後の塗布膜の膜厚分布の関係は、１）塗布液の物性、２）基板サイズ、３）回転条件、４）回転後の塗布膜の膜厚、５）温度などによって略定まったものとなる。
例えば、仮に２）基板サイズ以外の上記１）、３）〜５）が一定である際には、２）基板サイズに絞られてくる。
従って、この際のスリットコータによる塗布膜の膜厚分布と、回転後の塗布膜の膜厚分布の関係は、基板サイズによって定まる。
【００４１】
この基板サイズによって定まる、膜厚分布を有する塗布膜をスリットコータによって形成することによって、上記関係にある回転後の塗布膜の膜厚分布が得られる。
すなわち、予め、諸条件下での、回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布膜の膜厚分布の関係を求めておき、この関係に基づいた塗布膜の膜厚分布をスリットコータにより形成することにより、回転後の塗布膜の膜厚分布を最良のものとすることができる。
【実施例１】
【００４２】
図６、図７、及び図８は、スリット＆スピンコータを用いフォトレジストの塗布膜を形成した際の実施例１における膜厚分布の状態示す説明図である。
図６は、ガラス基板上にスリットコータにより塗布したフォトレジストの塗布膜の膜厚分布を示したものである。図７は、上記塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータにより回転し延展した塗布膜の膜厚分布を示したものである。また、図８は、ガラス基板上に形成された塗布膜上の測定ポイントの位置を示したものである。また、白太矢印は、スリットコータによる塗布の方向を示したものである。
【００４３】
ガラス基板のサイズ（Ｌ２×Ｗ２）は、８８０ｍｍ×６８０ｍｍである。フォトレジストとしては、カラーフィルタの着色画素の形成に使用する緑色（Ｇ）の着色フォトレジストを用いた例である。
図６及び図７において、横軸は測定ポイント（１〜３０）である。縦軸（Ｇｙ）は、ＣＩＥ表示系における色度座標（ｘ、ｙ）のｙであり、フォトレジストとして緑色（Ｇ）の着色フォトレジストを用いているので緑色（Ｇ）のｙを表している。
【００４４】
図６に示すフォトレジストの塗布膜の膜厚分布は、予め求められた、回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた塗布膜の膜厚分布をスリットコータにより形成したものである。
先ず、図６に示すように、ガラス基板の中央部の膜厚（ｙ値、Ｇｙ）は、略０．６８０、端部の膜厚（ｙ値、Ｇｙ）は、略０．６４０程度に形成した。測定ポイント１〜３０にて、塗布膜の膜厚分布幅がｙ値にて０．０４程度のものとなっている。
【００４５】
フォトレジストとしては、緑色（Ｇ）の着色画素の形成に使用する緑色（Ｇ）の着色フォトレジストを用い、膜厚の調節はスリットコータの吐出圧力を制御することにより行った。温度は２３℃であった。
【００４６】
次に、図６に示す膜厚分布を有する塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータにより回転し、塗布膜を延展させた。回転後の塗布膜の膜厚は、Ｇｙにて０．６１５を狙い、回転は５００ｒｐｍにて１０秒間行った。温度は２３℃であった。
【００４７】
図７に示すように、回転による塗布膜の延展後の膜厚分布幅は、測定ポイント１〜３０にて、ｙ値にて０．００４内のものとなっている。前記図２におけるようなガラス基板の中央部は厚く、端部に向かって薄くなっている傾向はなく、測定ポイント１〜３０にて突出した厚薄はない。
つまり、本実施例においては、予め求められた、回転後の塗布膜の膜厚分布と、スリットコータによる塗布膜の膜厚分布の関係に基づいた塗布膜の膜厚分布をスリットコータにより形成したために、塗布膜の中央部と端部での流動性の変化の相違が、回転の遠心力による塗布膜の中央部と端部の膜厚差の発生を相殺し、全体として膜厚の均一性は向上したものとなった。
【００４８】
上記のようにして得られた、回転後の塗布膜の膜厚分布を、下式で表されるユニフォミティで算出したところ、ユニフォミティ０．１０％が得られた。
これは、前記図２における膜厚分布がユニフォミティ０．３４％であることに比較して、膜厚分布が大幅に向上したことを示している。
ユニフォミティ＝｛（Ｍａｘ−Ｍｉｎ）／２Ｘ（平均）｝×１００％
尚、図６の測定ポイント１及び３０にて高いＧｙ値がみられるが、これはガラス基板の両端部のエッジでのフォトレジストの盛り上がりである。この盛り上がりは、図７に示すように、回転後の塗布膜においては延展によって解消している。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】ガラス基板上にスリットコータにより塗布したフォトレジストの塗布膜の膜厚分布示したものである。
【図２】塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータにより回転し延展した塗布膜の膜厚分布を示したものである。
【図３】ガラス基板上に形成された塗布膜上の測定ポイントの位置を示したものである。
【図４】（イ）、（ロ）は、スリット＆スピンコータの一例の主要部分を示す側断面図である。
【図５】（イ）、（ロ）は、スリット＆スピンコータの他の例の主要部分を示す側断面図である。
【図６】ガラス基板上にスリットコータにより塗布したフォトレジストの塗布膜の膜厚分布を示したものである。
【図７】塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータにより回転し延展した塗布膜の膜厚分布を示したものである。
【図８】ガラス基板上に形成された塗布膜上の測定ポイントの位置を示したものである。
【図９】液晶表示装置に用いるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図１０】図９に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１１、４０・・・ガラス基板
１２・・・塗布ヘッド
１３・・・フォトレジスト
１６・・・定盤兼スピナーヘッド
１７・・・回転軸
１８・・・ハウジング
１９・・・定盤
２１・・・塗布液が塗布されたガラス基板
２３・・・塗布液
２６・・・スピナーヘッド
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
Ｇｙ・・・緑色の色度座標のｙ
Ａ、Ｃ・・・待機位置
Ｂ・・・塗布位置
Ｇ・・・塗布ヘッドの吐出部とガラス基板との間隙
Ｓ・・・スリット幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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