(57)【要約】【課題】コストを削減してＲＧＢの着色層を形成でき、表示性能がよい液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置１０のアレイ基板１２上にカラーフィルターが設けられ、カラーフィルターを構成する青色の着色層２６Ｂの間に赤色の着色層２６Ｒと緑色の着色層２６Ｇがそれぞれ青色の着色層２６Ｂを隔てて形成され、青色の着色層２６Ｂをフォトリソグラフィ法で形成し、赤色の着色層２６Ｒと緑色の着色層２６Ｇをインクジェット法で形成する。【選択図】      図１
2007108610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに色が異なる第１の色画素と、第２の色画素と、第３の色画素と、で一組の絵素を構成し、前記絵素を縦横方向に複数有してなるカラーフィルターであって、
前記一組の絵素のそれぞれは前記第１の色画素を少なくとも２ピクセル以上有することにより、少なくとも計４ピクセルの色画素を有する
ことを特徴とするカラーフィルター。
【請求項２】
前記一組の絵素のそれぞれは、
少なくとも２ピクセルの前記第１の色画素と、
前記少なくとも２ピクセルの第１の色画素の間に挟持されるように配された少なくとも１ピクセルの前記第２の色画素と、
前記第１の色画素によって前記第２の色画素と隔てられた少なくとも１ピクセルの前記第３の色画素と、
を有する
ことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルター。
【請求項３】
前記第１の色画素は縦横それぞれの方向に並んでおり、
縦方向に並んだ複数の第２の色画素のそれぞれが前記第１の色画素によって隔てられ、また、縦方向に並んだ複数の第３の色画素のそれぞれが前記第１の色画素によって隔てられている
ことを特徴とする請求項１または２のいずれか一項に記載のカラーフィルター。
【請求項４】
前記３色の色画素がそれぞれ赤、青、緑であり、かつ、前記第１の色画素が青の色画素である
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のカラーフィルター。
【請求項５】
２枚で一対の基板と、前記基板間に設けた間隙部に液晶材料と、を有する液晶表示装置であって、
前記基板の一方は、
一主面上の横方向に配線された複数の走査線と、
前記走査線と略直交するように縦方向に配線された複数の信号線と、
前記走査線と前記信号線との各交点近傍にそれぞれ配された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上にあるカラーフィルターと、
前記カラーフィルターの上にあり、かつ、コンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタと導通する画素電極と、
を有する液晶表示装置において、
前記カラーフィルターは、前記薄膜トランジスタのそれぞれに対応して、互いに色が異なる第１の色画素、第２の色画素、第３の色画素を有し、
横方向に並んだ前記第１の色画素と前記第２の色画素と前記第３の色画素とで一組となる絵素が構成され、
前記一組の絵素のそれぞれは前記第１の色画素を２ピクセル以上有することにより、少なくとも計４ピクセルの色画素を有する
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記一組の絵素のそれぞれは、
横方向に並んで配された少なくとも２ピクセルの前記第１の色画素と、
前記少なくとも２ピクセルの第１の色画素の間に挟持されるように配された少なくとも１ピクセルの前記第２の色画素と、
前記第１の色画素によって前記第２の色画素と隔てられた少なくとも１ピクセルの前記第３の色画素と、
を有する
ことを特徴とする請求項５記載の液晶表示装置。
【請求項７】
縦方向に並んだ複数の第２の色画素のそれぞれが前記第１の色画素によって隔てられ、また、縦方向に並んだ複数の第３の色画素のそれぞれが前記第１の色画素によって隔てられている
ことを特徴とする請求項５または６のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記コンタクトホールが前記第１の色画素に形成されている
ことを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記一対の基板間の間隙部が、前記基板間に設けた間隙保持部によって保持されており、かつ、前記間隙保持部が前記第１の色画素に形成されている
ことを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１の色画素が、青の色画素である
ことを特徴とする請求項５から９のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記基板は、非表示領域となる箇所に黒色の額縁部を有し、
前記額縁部の外周部に、前記第１の色画素を構成する材料よりなる外周壁部を有する
ことを特徴とする請求項５から１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記基板は、非表示領域となる箇所に黒色の額縁部を有し、
前記額縁部の内周側に前記第１の色画素を構成する材料よりなる内周壁部を有する
ことを特徴とする請求項５から１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１の色画素の横方向の幅が、前記第２の色画素及び前記第３の色画素の横方向の幅と略同じである
ことを特徴とする請求項５から１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１の色画素の横の幅が、前記第２の色画素及び前記第３の色画素の横方向の幅の略半分である
ことを特徴とする請求項５から１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
２枚で一対の基板と、前記基板間に設けた間隙部に液晶材料と、を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記基板の一方における一主面上の横方向に配線された複数の走査線と、前記走査線と略直交するように縦方向に配線された複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に配された薄膜トランジスタと、を形成する工程と、
前記走査線と前記信号線と前記薄膜トランジスタとを形成した前記基板上に、複数の色画素用凹部が縦横に形成されるようにしつつ、第１の色画素を構成する材料で第１色画素層をフォトリソグラフィ法を用いて形成する工程と、
少なくとも１ピクセルの第２の色画素を、インクジェット法を用いて前記色画素用凹部に形成する工程と、
少なくとも１ピクセルの第３の色画素を、前記第１の色画素によって前記第２の色画素と隔てられるように前記インクジェット法を用いて前記色画素用凹部に形成する工程と、
前記各色画素上に、コンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタと導通する画素電極を形成する工程と、
を有する
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記基板間の間隙部を保持する間隙保持部を形成する工程をさらに有し、
前記間隙保持部を形成する工程が前記第１の色画素を形成する工程と同時である
ことを特徴とする請求項１５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１の色画素が青の色画素である
ことを特徴とする請求項１５または１６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルター、及びそれを用いた液晶表示装置とその製造方法に関し、特に、アレイ基板上に着色層が設けられた液晶表示装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、電極を有する２枚のガラス基板の間に液晶層を挟持し、２枚のガラス基板の周囲が液晶封入口を除いて接着剤で固定されていて、液晶封入口が封止材で封止された構成を成している。この２枚のガラス基板の間の距離を一定に保つためのスペーサが基板上に設置されている。
【０００３】
この中で、カラー表示用の液晶表示装置は、２枚のガラス基板の内１枚にＲＧＢの着色層の付いたカラーフィルターが形成されている。例えば、カラー型アクティブマトリックス駆動方法を用いた液晶表示装置においては、ポリシリコンやアモルファスシリコンなどの半導体からなる薄膜トランジスタ（以下、単にＴＦＴという）よりなる半導体層と、この半導体層に接続された画素電極とソース電極、ゲート電極が形成されたアレイ基板と、それに対向設置された対向電極を有し、ＲＧＢの着色層をアレイ基板上に形成したものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−１７１７８４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のようなＲＧＢの着色層をアレイ基板上に形成するカラーフィルターオンアレイ型（以下、ＣＯＡ型という）の液晶表示装置は、この着色層から構成されるカラーフィルター、周辺のブラックマトリックス、スペーサは通常、感光性樹脂、紫外光、フォトマスク、現像液などを用いたフォトリソグラフィ法で形成されている。ところが、このフォトリソグラフィ法は加工精度には優れているが、非常にコストが高い手法である。一方、ＲＧＢの着色層を形成するには３回のフォトリソグラフィ工程が必要であり、コスト高の原因となっている。
【０００５】
一方、安価に着色層を形成する方法としては、インクジェット法によるパターニングが提案されている。しかし、上記のようなＣＯＡ型の場合は、インクジェット法のみで精度良く塗り分けることは困難であり、各色の混色を防ぐために、「リブ」と呼ばれる隔壁を設けることが必要となる。しかし、リブは高い加工精度を要求されるためフォトリソグラフィ法で形成することが必須となり、せっかくＲＧＢの着色層のフォトグラフィ加工を３回削減しても、リブを形成する１回余計な加工が増えるため、コスト削減効果が小さくなっている。
【０００６】
そこで、本発明は上記問題点に鑑み、コストを削減してＲＧＢの着色層を形成でき、表示性能がよいカラーフィルター、液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、互いに色が異なる第１の色画素と、第２の色画素と、第３の色画素と、で一組の絵素を構成し、前記絵素を縦横方向に複数有してなるカラーフィルターであって、前記一組の絵素のそれぞれは前記第１の色画素を少なくとも２ピクセル以上有することにより、少なくとも計４ピクセルの色画素を有することを特徴とするカラーフィルターである。
【０００８】
また本発明は、２枚で一対の基板と、前記基板間に設けた間隙部に液晶材料と、を有す
る液晶表示装置であって、前記基板の一方は、一主面上の横方向に配線された複数の走査線と、前記走査線と略直交するように縦方向に配線された複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍にそれぞれ配された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上にあるカラーフィルターと、前記カラーフィルターの上にあり、かつ、コンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタと導通する画素電極と、を有する液晶表示装置において、前記カラーフィルターは、前記薄膜トランジスタのそれぞれに対応して、互いに色が異なる第１の色画素、第２の色画素、第３の色画素を有し、横方向に並んだ前記第１の色画素と前記第２の色画素と前記第３の色画素とで一組となる絵素が構成され、前記一組の絵素のそれぞれは前記第１の色画素を２ピクセル以上有することにより、少なくとも計４ピクセルの色画素を有することを特徴とする液晶表示装置である。
【０００９】
また本発明は、２枚で一対の基板と、前記基板間に設けた間隙部に液晶材料と、を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記基板の一方における一主面上の横方向に配線された複数の走査線と、前記走査線と略直交するように縦方向に配線された複数の信号線と、前記走査線と前記信号線との各交点近傍に配された薄膜トランジスタと、を形成する工程と、前記走査線と前記信号線と前記薄膜トランジスタとを形成した前記基板上に、複数の色画素用凹部が縦横に形成されるようにしつつ、第１の色画素を構成する材料で第１色画素層をフォトリソグラフィ法を用いて形成する工程と、少なくとも１ピクセルの第２の色画素を、インクジェット法を用いて前記色画素用凹部に形成する工程と、少なくとも１ピクセルの第３の色画素を、前記第１の色画素によって前記第２の色画素と隔てられるように前記インクジェット法を用いて前記色画素用凹部に形成する工程と、前記各色画素上に、コンタクトホールを介して前記薄膜トランジスタと導通する画素電極を形成する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、１組の絵素のそれぞれは第１の色画素を横方向に２ピクセル以上有することにより、少なくとも計４ピクセルの色画素を有し、この２ピクセル以上の第１の色画素の間に第２の色画素が設けられ、その第１の色画素に隔てられて第３の色画素が設けられている。したがって、この第１の色画素が隔壁となり、第２の色画素及び第３の色画素が混色することがない。特に、第１の色画素をフォトリソグラフィ法により形成し、第２の色画素及び第３の色画素をインクジェット法により形成することにより、コストを削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態の液晶表示装置１０について、図１、図２に基づいて説明する。
【００１２】
（１）液晶表示装置１０の構造
図１は本発明の液晶表示装置を備えた液晶表示装置の一実施形態の構成を示す。
【００１３】
本実施形態の液晶表示装置１０は、縦６４０ピクセル、横４８０ｘ３（Ｒ，Ｇ，Ｂ）ピクセルの色画素を有したアレイ基板１２を有している。なお、本明細書における色画素とは、色表示成分の一つ一つをいい、Ｒの色画素、Ｂの色画素、Ｇの色画素、Ｂの色画素の４ピクセルを一組にして一絵素という。そして、ピクセルとは色画素を数える単位とする。
【００１４】
アレイ基板１２は、ガラス基板１４の長手方向に６４０本のゲート線１６が配線され、また、このゲート線１６と直交するようにマトリックス状に４８０ｘ３本の信号線１８がガラス基板１４の短手方向に配線されている。また、ゲート線１６と平行に６４０本の補助容量線２０も配線されている。本明細書においては、ゲート線１６が配線された方向を横方向、信号線１８が配線された方向を縦方向という。
【００１５】
ゲート線１６と信号線１８の交差部近傍には、ポリシリコン半導体よりなる薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）２２が形成されている。ＴＦＴ２２のゲート電極にはゲート線１６が接続され、ソース電極には信号線１８が接続され、ドレイン電極には画素電極２４が接続されている。
【００１６】
各色画素にはカラーフィルタ（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を形成する着色層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂが形成されている。
【００１７】
アレイ基板１２と対向して対向基板１３が配置される。この対向基板１３とアレイ基板１２との間には液晶層１５が挟持され、このセルギャップを保持するためにスペーサ２８が前記した着色層２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂの上に突起状に形成されている。
【００１８】
以下、この液晶表示装置１０の製造方法について順番に説明する。
【００１９】
（２）液晶表示装置１０の製造方法
以下の工程では、大型ガラス基板上に４枚のアレイ基板１２を加工してから、液晶表示装置１０を製造するものである。
【００２０】
（２−１）第１工程
第１工程においては、ＴＦＴ２２を形成する半導体層と絶縁層を形成し、さらに、横方向に６４０本のゲート線１６と６４０本の補助容量線２０を形成する。
【００２１】
（２−２）第２工程
第２工程においては、ゲート線１６及び補助容量線２０を形成した上の層に、層間絶縁膜３２を形成する。
【００２２】
（２−３）第３工程
第３工程においては、４８０ｘ３本の信号線１８を縦方向に形成する。
【００２３】
（２−４）第４工程
第４工程においては、青の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピナーにて全面塗布し、青色の着色層を残したい部分に光が照射されるようなフォトマスクを介し、３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の光を照射し、界面活性剤を含んだＫＯＨ（水酸化カリウム）の０．０５％水溶液で２０秒間現像し、第１の着色層として３．０μｍ厚さの青色の着色層２６Ｂを形成する。
【００２４】
この青色の着色層２６Ｂは、図２に示すように、縦方向及び横方向に格子状に形成され、平面形状が長方形の色画素用凹部が、青色の着色層２６Ｂを隔ててマトリックス状に形成されている。このマトリックス状に形成された色画素用凹部の縦と横の比は４：１である。さらに、詳しく説明すると、内周壁部２６Ｂ−１に囲まれた表示領域内部に、赤色画素用凹部２６Ｂ−２Ｒ、青色画素対応部２６Ｂ−３、緑色画素用凹部２６Ｂ−４Ｇが順番が横方向に順番に形成されている。そして、縦方向に複数並んだ赤色画素用凹部２６Ｂ−２Ｒは、横隔壁部２６Ｂ−５を隔てて設けられている。同様に、縦方向に複数並んだ緑色画素用凹部２６Ｂ−４Ｇも横隔壁部２６Ｂ−５を隔てて形成されている。
【００２５】
また、表示領域の外側の額縁に当たる部分に青色着色層２６Ｂにより外周壁２６Ｂ−６が形成されている。
【００２６】
（２−５）第５工程
第５工程においては、青色の着色層２６Ｂにおける隔壁２６Ｂ−５に、所定間隔毎にコンタクトホール２７を設ける。このコンタクトホール２７は、青色の着色層２６Ｂの下層にあるＴＦＴ２２上に開口している。
【００２７】
（２−６）第６工程
第６工程においては、赤の顔料を分散させたインクをインクジェット法により、赤色画素の表示領域である赤色画素用凹部２６Ｂ−２Ｒに吐出し、赤色の着色層２６Ｒを形成する。即ち、青色の着色層２６Ｂによって形成された赤色画素用凹部２６Ｂ−２Ｒに赤色のインクを吐出し、赤色着色層２６Ｒを形成する。
【００２８】
（２−７）第７工程
第７工程においては、緑色の顔料を分散させたインクをインクジェット法により、緑色画素２６Ｇの表示領域である緑色画素用凹部２６Ｂ−４Ｇに吐出し、緑色着色層２６Ｇを形成する。即ち、青色着色層２６Ｂによって形成された緑色画素用凹部２６Ｂ−４Ｇに緑色のインクを吐出し、緑色の着色層２６Ｇを形成する。
【００２９】
（２−８）第８工程
第８工程においては、黒の顔料を分散させたインクをインクジェット法により、表示部外側の額縁に当たる部分に吐出し、額縁部２９を形成する。額縁部２９の外側には、前記したように青色着色層２６Ｂにより外周壁２６Ｂ−６が設けられ、額縁部２９に吐出するインクが外側に広がらないようになっている。
【００３０】
また、額縁部２９の内側にある内周壁部２６Ｂ−１は、赤色着色層２６Ｒ、緑色着色層２６Ｇと額縁部２９の黒色インク混色しないようにするためにあり、また、この内周壁部２６Ｂ−１の下地に当たる部分には、ゲート線１６または補助容量線２０よりなる金属配線を設け、この部分からの光抜けを防止している。
【００３１】
（２−９）第９工程
第９工程においては、上記のようにしてインクジェット法で塗布したインクの溶剤成分を１０Ｐａまで減圧乾燥することにより揮発させ、さらに２００℃、６０分の焼成により樹脂を硬化する。
【００３２】
（２−１０）第１０工程
第１０工程においては、透明な画素電極２４としてＩＴＯ膜をスパッタ法にて１５０ｎｍ成膜しフォトリソグラフィ法によりパターニングする。
【００３３】
（２−１１）第１１工程
第１１工程においては、感光性の透明樹脂材料をスピナーを用いて５．５μｍの厚みに塗布し、９０℃、１０分の乾燥の後、フォトマスクを用いて３６５ｎｍの波長で、５００ｍＪ／ｃｍ２露光量で露光した後、ＫＯＨ（水酸化カリウム）の０．０５％水溶液で２０秒間現像し、２００℃、６０分の焼成によりスペーサ２８を形成する。このスペーサ２８を形成する位置は、青色着色層２６Ｂにおける横隔壁部２６Ｂ−５の位置に形成する。
【００３４】
（２−１２）第１２工程
第１２工程においては、配向膜材料としてＡＬ−１０５１（ＪＳＲ株式会社製）を全面に５０ｎｍ印刷し、ラビング処理を行い、配向膜２９を形成する。
【００３５】
（２−１３）第１３工程
第１３工程においては、対向基板１３に透明電極としてＩＴＯ膜３３をスパッタ法にて１５０ｎｍ成膜し、その後に配向膜３５として上記と同様のもの塗布しラビング処理を行い配向膜を形成する。この対向基板１３におけるラビング方向も信号線方向と一致させる。
【００３６】
（２−１４）第１４工程
第１４工程においては、アレイ基板１２の配向膜２９の周辺に沿ってシール材３１を液晶注入口以外に印刷し、対向基板１３の対向電極に電圧を印加するための電極転位材を接着剤の周辺の電極転位電極上に形成する。
【００３７】
（２−１５）第１５工程
第１５工程においては、配向膜２９、３５が対向し、またそれぞれのラビング方向が９０°となるように対向基板１３を配置し、加熱してシール材３１を硬化させアレイ基板１２と対向基板１３を貼り合わせる。このときに、アレイ基板１２と対向基板１３とのセルギャップは、スペーサ２８によって決まる。
【００３８】
（２−１６）第１６工程
第１６工程においては、液晶注入口より液晶組成物を注入し、その後に液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。
【００３９】
（２−１７）第１７工程
第１７工程においては、大型ガラス基板を分断して、４枚の液晶セルを形成する。
【００４０】
（３）着色層２６の効果
上記のように本実施形態の液晶表示装置１０においては、フォトリソグラフィ法で形成する青色の着色層２６Ｂで、インクジェット法で形成する赤色、緑色の着色層２６Ｒ、２６Ｇを挟み込んでいる。そのため、従来は３つのピクセルで１つの絵素を形成していたが、本実施形態では４つのピクセルで１つの絵素を形成している。そして、インクジェット法で形成する赤色の着色層２６Ｒと緑色の着色層２６Ｇは、両側を十分幅の広いフォトグラフィ法で作成された青色の着色層２６Ｂで隔てられているため、互いの混色を防ぐことができる。また、コンタクトホールはインクジェット法で精度良く作成することは非常に困難であるが、フォトリソグラフィ法で形成された青色の着色層２６Ｂに形成されているため、精度良く且つ容易に形成することができる。
【００４１】
スペーサ２８はセルギャップを均一にするため高い高さを精度良く要求される。ところが、インクジェット法で形成される赤色の着色層２６Ｒと緑色の着色層２６Ｇは１ピクセル内で高さを平坦化することは困難であるが、フォトリソグラフィ法で形成された青色の着色層２６Ｂで形成することにより、その高さを精度良く決めることができる。
【００４２】
表示領域外に設けられたブラックマトリックス２７もインクジェット法で作成している。このため、安価に作成することができる。その上、このブラックマトリックス２７と赤色の着色層２６Ｒ及び緑色の着色層２６Ｇは、青色の着色層２６Ｂの内周壁部２６Ｂ−１によって隔てられているため、混色することがない。また、この内周壁部２６Ｂ−１の下層には光抜けを防止するための金属配線が設けられているため、光抜けが起こらない。
【００４３】
（第２の実施形態）
第３の実施形態について、図３に基づいて説明する。
【００４４】
第１の実施形態では、額縁部３１を形成した後に、インクジェット法によるインクを処理したが、これに代えて、額縁部３１を形成する前に、減圧乾燥することによりインクジェット法で塗布されたインクの溶剤成分を揮発させ、さらに２００℃、６０分の焼成により樹脂を硬化させる。
【００４５】
その後、画素電極２４としてＩＴＯ膜をスパッタ法によって成膜し、フォトリソグラフィ法によってパターニングする。
【００４６】
その後、感光性の黒色顔料を含む樹脂材料をスピナーを用いて５．５μｍの厚みに塗布し、９０℃、１０分の乾燥後フォトマスクを用いて３６５ｎｍの波長で、５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光した後、界面活性剤を含んだＫＯＨ（水酸化カリウム）の０．０５％水溶液で４０秒間現像し、２００℃、６０分の焼成にてスペーサ２８と額縁部３１とを同時に形成してもよい。
【００４７】
このようにすることで、外周部２６Ｂ−６が不要となる。
【００４８】
（第３の実施形態）
第３の実施形態について、図４に基づいて説明する。
【００４９】
上記実施形態では、赤色、緑色、青色の各色画素は、縦横の比率が同じく４：１であったが、これに代えて、図４に示すように赤色と緑色の色画素の縦と横の比率を３：１とし、青色の色画素の縦と横の比率を６：１としてもよい。これにより、各色の面積比率が略同じになる。
【００５０】
（第４の実施形態）
第３の実施形態においても、第２の実施形態と同様にスペーサ２８と額縁部３１とを同時に形成してもよい。
【００５１】
（変更例）
上記実施形態では、フォトリソグラフィ法で形成する第１の着色層を青色とし、インクジェット法で形成する第２、第３の着色層を赤色、緑色としたが、これに代えて、第１の着色層を赤色、第２及び第３の着色層を、緑色、青色としてもよい。
【００５２】
また、第１の着色層を緑色、第２及び第３の着色層を赤色と青色としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の第１の実施形態を示す液晶表示装置の一部欠裁斜視図である。
【図２】同じく液晶表示装置のアレイ基板の平面図である。
【図３】第２の実施形態のアレイ基板の平面図である。
【図４】第３の実施形態のアレイ基板の平面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０  液晶表示装置
１２  アレイ基板
１３  対向基板
１４  ガラス基板
１６  ゲート線
１８  信号線
２０  補助容量線
２２  ＴＦＴ
２４  画素電極
２６  着色層
２６Ｂ−１  内周壁部
２６Ｂ−２Ｒ  赤色画素用凹部
２６Ｂ−３  青色画素部
２６Ｂ−４Ｇ  緑色画素用凹部
２６Ｂ−５  隔壁部
２６Ｒ  赤色画素
２６Ｇ  緑色画素
２７  コンタクトホール
２８  スペーサ
２９  額縁部
３１  シール材
【図１】
2007108610.tif 000003
【図２】
2007108610.tif 000004
【図３】
2007108610.tif 000005
【図４】
2007108610.tif 000006