(57)【要約】【課題】  副作用がある程度以下に抑制された状態において良好な治療効果が得られる光線治療器の提供。【解決手段】  光線治療器は、患部にＵＶ−Ｂ光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射するものであって、治療用光のスペクトルは、少なくとも３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする。この光線治療器においては、３００〜３１５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも２９５ｎｍまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とが備えられ、光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が２９７〜３０３ｎｍの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることが好ましい。【選択図】  図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
患部にＵＶ−Ｂ光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射する光線治療器であって、
治療用光のスペクトルは、少なくとも３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする光線治療器。
【請求項２】
当該光線治療器は、３００〜３１５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも２９５ｎｍまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とを備えてなり、
前記光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が２９７〜３０３ｎｍの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることを特徴とする請求項１に記載の光線治療器。
【請求項３】
治療用光のスペクトルの下限値が３００ｎｍ以下の波長範囲にあることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光線治療器。
【請求項４】
前記光源がキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ放電ランプよりなることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光線治療器。
【請求項５】
前記光源がメタルハライドランプおよび蛍光ランプから選ばれたものよりなることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光線治療器。
【請求項６】
前記光源光のスペクトルの下限値を規制する放射光規制手段が備えられていることを特徴とする請求項２〜請求項５のいずれかに記載の光線治療器。
【請求項７】
前記放射光規制手段が光学フィルタであることを特徴とする請求項６に記載の光線治療器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光線治療器に関し、特に、ＵＶ−Ｂ光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射することにより、皮膚疾患などを治療する光線治療器に関する。
【背景技術】
【０００２】
アレルギー性の皮膚疾患には、例えば乾癬やアトピー性皮膚炎、白斑など種々のものがある。例えば乾癬については、その発症メカニズムは未だに解明されておらず、その治療方法はいくつか提案され、また実施もされているが、すべての患者の患部を完治させる方法は見出されておらず、発症を抑える治療、すなわち外用療法、内服療法、光線療法などが行われているにすぎない。
【０００３】
外用療法においては、一般的にステロイド外用薬やビタミンＤ3 外用薬などが用いられているが、ステロイド外用薬は長期間の使用により皮膚の萎縮などが生じてしまう。また、ビタミンＤ3外用薬は一日の使用回数を制限しなければならないなどの問題がある。
また、内服療法においては、レチノイドやシクロスポリンなどの内服薬が用いられているが、これらは免疫反応を低下させ、皮膚の異常増殖を抑制するものであるので、患部において有効に作用するだけでなく、患部以外の部分にも不可避的に作用してしまうという欠点を有する。そのため、特に重症の患部をもつ患者の治療への適用は困難である。
【０００４】
一方、光線療法は、過剰に反応してアレルギー症状を発生させる白血球細胞やリンパ腫などのＴ細胞を光線を照射して死滅させることによりアレルギー症状を軽減させる療法であって、いわゆるＵＶ−Ａ光線と呼ばれる長波長紫外線域（３２０〜４００ｎｍ）の光線を用いる方法と、いわゆるＵＶ−Ｂ光線と呼ばれる中波長紫外線域（２８０〜３２０ｎｍ）の光線を用いる方法がある。ＵＶ−Ａ光線を用いる治療方法は一般的にプーバ（ＰＵＶＡ）療法と呼ばれ、ソラレンと呼ばれる光増感性の薬と併用して、例えばソラレンを内服・外用またはソラレンを含む液体に入浴したあとにＵＶ−Ａ線を照射することにより、行われる。このため、プーバ療法では、その治療後に日光に当たることができないなど、日常生活に不便を生じる。
【０００５】
一方、ＵＶ−Ｂ光線を用いる治療方法は、ソラレンを用いずに治療できる簡便な方法である。
このＵＶ−Ｂ療法における光源としては、放電空間内に封入される蛍光体がガドリニウム付活のものである蛍光ランプが用いられ、その結果、３１１〜３１３ｎｍの波長領域にシャープなスペクトルを有する光線の放射が得られる（例えば、特許文献１参照）。
そして、大きなエネルギーを有する短波長成分を多く含む光線によると白血球細胞の死滅の効果を高く得られると考えられるため、前記の波長領域よりもさらに短波長側にスペクトルを有する光線を放射する蛍光ランプが求められているが、このようなスペクトルを有する光線を強く発する蛍光体が存在しないため、現実には、前記の波長領域にスペクトルを有する蛍光ランプを用いたＵＶ−Ｂ療法が行われているのが実情であった。
【０００６】
以上のような事情を基づいて、ＵＶ−Ｂ療法に用いられる光源として、新たにキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ光線を放射するキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ放電ランプが提案されている。ＸｅＣｌエキシマ光線は、例えば図５に示すように、波長３０８ｎｍに単一の発光ピークを有し、また原子発光と異なり分子発光であるために幅広のブロードなスペクトルを有し、従来用いられている蛍光ランプでは得られない、波長３００ｎｍ以下の短波長領域の光も放射するという特徴を有する（例えば、特許文献２および３参照。）。
このような波長３００ｎｍ以下の短波長の領域を含む波長領域にスペクトルを有する光線は高いＴ細胞の死滅の効果、すなわちアレルギー症状抑制効果が得られて治療に有効であると考えられている。
【０００７】
またＸｅＣｌエキシマ放電ランプは、以下のような特長も併せ有する。すなわち、蛍光ランプは点灯中に放電により加熱気化された水銀からの紫外線が蛍光体により特定の発光が得られるため、水銀の蒸発加減により発光強度がランプ点灯開始後の数分間で数十％も変化してしまうところ、ＵＶ−Ｂ療法においては、一回の照射時間は数分間〜１０分間程度であり、患部への照射時間による照射量の制御が困難であるが、ＸｅＣｌエキシマ放電ランプは点灯前から発光物質がガス状であるためにランプ点灯開始後からの発光強度の変化は小さく、患部への照射量を容易に制御することができる。
【０００８】
さらにＸｅＣｌエキシマ放電ランプは、蛍光ランプに比べ、より高い電力密度で点灯して患部に高い照度で治療用光を照射することができる。すなわち、一定の照射量を短時間に照射することができるために、治療時間の短時間化が図られ、患者の負担を軽減させることができるという利点もある。
【０００９】
しかしながら、ＵＶ−Ｂ光線における短波長成分は、高いアレルギー症状抑制効果を得られる反面、ＤＮＡの損傷という副作用を誘発しやすく、損傷したＤＮＡが十分に修復されれば問題ないが、もし修復が完全に実施されなければ最悪の場合は、癌へと進展してしまうところ、その副作用とアレルギー症状抑制効果との相関性について数値的な裏づけはいまだなされておらず、このようなＸｅＣｌエキシマ放電ランプの使用について安全性の確認が要請されている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−３５０９４６号公報
【特許文献２】ＷＯ／０３／０２４５２６号公報（ＵＳ２００４／０２４９３６９Ａ１公報）
【特許文献３】ＵＳ５９５５８４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、副作用がある程度以下に抑制された状態において良好な治療効果が得られる光線治療器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の光線治療器は、患部にＵＶ−Ｂ光線の波長範囲にスペクトルを有する治療用光を照射する光線治療器であって、
治療用光のスペクトルは、少なくとも３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあるものであることを特徴とする。
【００１３】
本発明の光線治療器においては、３００〜３１５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも２９５ｎｍまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光を放射する光源と、この光源からの光源光が入射されて治療用光を放射する光放出窓とが備えられ、
前記光放出窓から放射される治療用光が、その下限値が２９７〜３０３ｎｍの波長範囲にあるスペクトルを有するものであることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の光線治療器においては、治療用光のスペクトルの下限値が３００ｎｍ以下の波長範囲にあることが好ましい。
【００１５】
本発明の光線治療器においては、前記光源がキセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ放電ランプよりなることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の光線治療器においては、前記光源がメタルハライドランプおよび蛍光ランプから選ばれたものよりなる構成とすることもできる。
【００１７】
本発明の光線治療器においては、前記光源光のスペクトルの下限値を規制する放射光規制手段を備えていることが好ましく、このような放射光規制手段は、光学フィルタであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光線治療器によれば、治療用光が下限値の規定された特定のスペクトルを有することにより、予期されない副作用が生じることが抑止され、アレル原に対して過剰に反応する真皮中のＴ細胞を、副作用がある程度以下に抑制された状態において減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の光線治療器について説明する。
【００２０】
図１は、本発明の光線治療器の一例における構成の概略を示す説明用図、図２は、図１の光線治療器の光照射ユニットの一例における構成の概略を示す説明用図である。
この光線治療器１は、患部にＵＶ−Ｂ光線の波長範囲に特定のスペクトルを有する治療用光を照射するものであって、キセノンクロライド（ＸｅＣｌ）エキシマ放電ランプ３０よりなる光源を内蔵し、治療用光を一方向に放射する光放出窓８を備えた光照射ユニット１０を有しており、この光照射ユニット１０は、直立スタンド１１に沿って上下方向に移動可能に、光放出窓８の治療用光の放射方向を選択することのできるアーム１７を介して、設けられている。図１において、１３は操作パネル部、１４は平面上を移動可能とするキャスター、１５は台座、１２は、給電コード１６により光照射ユニット１０へ電力を供給する電源部である。
【００２１】
光線治療器１における光照射ユニット１０の光放出窓８は、ＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０からの光源光を入射させて特定のスペクトルを有する治療用光を放射する光学フィルタ２２により構成されている。この光学フィルタ２２は、枠２８に固定して設けられたスロット２９に収納されることにより支持されており、また取っ手２５を引くことにより回転機構２７によって枠２８を開状態とし、スロット２９に沿って交換可能に設けられている。なお、図２において、２１はマグネットである。
【００２２】
図３は、本発明の光線治療器に使用されるＸｅＣｌエキシマ放電ランプの一例に係る構成を、管軸に沿った断面で示す説明用断面図、図４は、図３に示されるＸｅＣｌエキシマ放電ランプの点灯用電源装置の構成の概略を示す説明図である。
【００２３】
本発明の光線治療器に用いられるＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０は、キセノンガスおよび塩素ガスによるエキシマ分子発光を利用したものであって、具体的には、例えば石英ガラスなどの誘電体よりなる円筒状の外側管３２と、この外側管３２内にその管軸に沿って配置された、当該外側管３２の内径より小さい外径を有する、例えば石英ガラスなどの誘電体よりなる円筒状の内側管３３と、この外側管３２および内側管３３により形成された円筒状の空間の両端部を気密に閉塞する端壁３５、３６とよりなる二重管構造を有する密閉型の放電容器３４を有する構成とされ、この放電容器３４により円筒状の放電空間Ｓが形成されており、この放電空間Ｓにはアルゴン（Ａｒ）ガス、キセノン（Ｘｅ）ガス、および塩素（Ｃｌ2 ）ガスよりなる放電ガスが封入されたものである。
【００２４】
この放電容器３４を形成する外側管３２には、その外周面に密接した状態で、例えば金網などの導電性材料よりなるメッシュ状の一方の電極３７が設けられていると共に、内側管３３には、その内周面に密接した状態で、例えばアルミニウム曲板よりなる他方の電極３８が設けられた構成とされている。そして、この一方の電極３７および他方の電極３８は、ＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０に高周波電力を供給する点灯用電源装置４０に接続されている。
【００２５】
点灯用電源装置４０は、交流の商用電源４１、ＡＣ／ＤＣコンバーター４２、例えばＦＥＴやトランジスタなどの半導体スイッチング素子よりなるインバーター４３およびトランス４４を備え、商用電源４１から供給されるＡＣ１００Ｖを、ＡＣ／ＤＣコンバーター４２によって直流に整流し、インバーター４３によって高周波に変換し、トランス４４によってＸｅＣｌエキシマ放電ランプの駆動に必要な数ｋＶ以上の高圧にして、ＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０に供給する。
【００２６】
ＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０の寸法例を挙げると、放電容器３４を形成する外側管３２における全長が１５０ｍｍ、外径が２６．５ｍｍ、肉厚が１．０ｍｍであり、内側管３３における全長が１５０ｍｍ、内径が１０．５ｍｍ、肉厚が１．０ｍｍであって、当該放電容器３４の内部に、放電ガスが２０ｋＰａの圧力で封入されている。また、電極３７，３８の大きさは、各々、管軸方向に１００ｍｍである。
このＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０より放射される光源光のスペクトルを、図５に示す。
【００２７】
そして、患部に照射されるべき治療用光は、ＵＶ−Ｂ光線の波長範囲（２８０〜３２０ｎｍ）に特定のスペクトルを有するものであって、当該特定のスペクトルは、少なくとも３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあるものである。
ここに、「スペクトルが連続的である」とは、ＵＶ−Ｂ光線の波長範囲における発光ピークのピーク強度に対し、１％以上、好ましくは５％以上の強度の発光が、波長に対し途切れることなく連続していることを意味する。
【００２８】
治療用光は、具体的には、光源であるＸｅＣｌエキシマ放電ランプからの３００〜３１５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有すると共に、当該発光ピークから少なくとも短波長側に２９５ｎｍまでの波長領域において連続的であるスペクトルを有する光源光が、光学フィルタ２２を透過することによって、その下限値が２９７〜３０３ｎｍ、好ましくは３００ｎｍ以下の波長範囲に規制されることにより、得られる。
【００２９】
治療用光のスペクトルが、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあることにより、当該治療用光が照射された患部において生じるＤＮＡの損傷がある程度以下に抑制される。
なお、ＤＮＡの損傷は、このＤＮＡの損傷により生成される（６−４）光生成物やピリミジンニ量体を検査薬により検出することにより確認することができる。
【００３０】
この光線治療器に用いられる光学フィルタ２２は、上記のように光源光の短波長側の光の透過を規制して特定のスペクトルを有する治療用光とする放射光規制手段であって、このような光学フィルタ２２としては、主成分が酸化シリコン、硼酸、酸化ナトリウムである硼珪酸ガラスよりなるものを挙げることができ、その厚みは例えば１〜３ｍｍである。
また例えば、無水・無酸素フッ化アルミニウムガラスも使用することができる。無水・無酸素フッ素化アルミニウムガラスは、具体的には、ＢａＦ2 、ＣａＦ2 、ＡｌＦ3 の含有量がそれぞれ１４．００〜２４．００モル％の範囲、２８．２５〜３８．２５モル％の範囲、３７．２５〜４７．２５モル％の範囲であり、かつ、ＹＦ3、ＳｒＦ2 、ＬａＦ3 から選ばれる１つを含み、その含有量は、含有物がＹＦ3 である場合２．５〜２０モル％、含有物がＳｒＦ2である場合２．５〜７．５モル％、含有物がＬａＦ3 である場合２．５〜７．５モル％であり、かつ、Ｃｅを含有し、無水・無酸素である組成を有する。ここに、Ｃｅの含有量は、１〜１０ａｔ．％であることが好ましい。
【００３１】
このような光線治療器は、以下のように動作される。
まず、キャスター１４の位置、直立スタンド１１における光照射ユニット１０の高さおよびアーム１７の向きを調整することによって、光照射ユニット１０の光放出窓８を患者の患部に対向させ、次いで、電源部１２がＯＮ状態とされて給電コード１６を介してＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０に電力が供給されると、このＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０においては、電極３７，３８間に所定の高周波電圧が印加されて、電極３７，３８が配設された放電容器３４の内面に電荷が誘導され、放電空間Ｓのうちこの誘導電荷による電界を強く受ける空間、すなわち両電極３７，３８を見込む空間に放電が強く生じる。そして、この放電により、ＵＶ−Ｂ光線の波長範囲にスペクトルを有するＸｅＣｌエキシマ光線よりなる光源光が放射される。そして、このＸｅＣｌエキシマ放電ランプ３０から放射された光源光が、光放出窓８を構成する光学フィルタ２２を透過することによって、短波長側の光の透過が規制されて特定のスペクトルを有する治療用光に変換され、患者の患部に照射される。
【００３２】
以上の光線治療器においては、治療用光が下限値の規定された特定のスペクトルを有することにより、予期されない副作用が生じることが抑止され、アレル原に対して過剰に反応する真皮中のＴ細胞を、副作用がある程度以下に抑制された状態において減少させることができる。
【００３３】
本発明の光線治療器は、上記の実施の形態に限定されず、下記（１）〜（３）に示されるような種々の変更を加えることができる。
【００３４】
（１）光源としてはＸｅＣｌエキシマ放電ランプに限定されず、例えばメタルハライドランプや蛍光ランプなどを用いることもできる。
【００３５】
（１−ａ）
以下に、光源として用いることのできるメタルハライドランプについて説明する。
メタルハライドランプは、可視線域および紫外線域の幅広い波長領域のスペクトルを有する光源光を放射するものであって（図６参照）、例えば当該メタルハライドランプを構成する放電容器内に、バッファガスとしての希ガス（アルゴン（Ａｒ）ガス）と、水銀（Ｈｇ）、鉄（Ｆｅ）およびタリウム（Ｔｌ）のハロゲン化物が封入されたものである。
メタルハライドランプは、点灯直後は希ガスが放電し、この希ガスからの光がほぼメタルハライドランプ全体の光となっており、しばらく放電することによって生成した熱によりハロゲン化金属が溶融し、さらに気化し、これにより、金属からの光も見られるようになる。図６に示すスペクトルは、点灯後３０分間経過し、発光が安定した状態のものである。
そして、このようなメタルハライドランプからの光源光は、上述したような光学フィルタを透過することによって、図７に示すような、特定のスペクトルを有する治療用光とすることができる。
【００３６】
（１−ｂ）
光源として用いることのできる蛍光ランプとしては、３００ｎｍ付近の波長領域のスペクトルを有する蛍光体を用いたものが挙げられ、このような蛍光ランプとしては、例えば特開２００１−２５０５０７号公報に開示された、蛍光体として、ＥｕおよびＭｇおよびＴｉで付活された酸硫化イットリウム（Ｙ2 Ｏ3 Ｓ：Ｅｕ・Ｍｇ・Ｔｉ）蛍光体を用いた蛍光ランプや、紫外蛍光体として、ＬａＰＯ4：Ｃｅ蛍光体を用いた蛍光ランプ、また、特開２００４−２２０９８４号公報に開示された、蛍光体として、三酸化アンチモン（Ｓｂ2 Ｏ3）を混合した、鉛付活珪酸バリウム・ストロンチウム・マグネシウム（（Ｂａ，Ｓｒ，Ｍｇ）3 Ｓｉ2 Ｏ7:Ｐｂ）蛍光体を用いた蛍光ランプなどを挙げることができる。
【００３７】
以上説明したようなメタルハライドランプや蛍光ランプは、電極を放電空間に挿入させるので、ランプを点灯維持するためには数百Ｖ程度の電圧で十分である。そのため大型のトランスは不要となり、電源部の軽量化・小型化を図ることができる。しかしＵＶ−Ｂ光線の強度は低く、治療効果が十分に得られないこともある。
【００３８】
（２）放射光規制手段は、光源と患部との間に配置される光学フィルタに限定されず、種々のものを種々の配置方法で配置して構成することができる。
【００３９】
（３）光源と、光線治療器のスペクトルの下限を制御する放射光規制手段とはそれぞれ別個のものとして構成することに限定されず、例えば光源としてのＸｅＣｌエキシマ放電ランプを用い、当該ＸｅＣｌエキシマ放電ランプを構成する外側管の表面に、例えば誘電体多層膜などからなるフィルタ膜を形成するなど、光源と放射光規制手段とを一体に構成してもよい。
【００４０】
以下に、本発明の実験例について説明するが、本発明はこの実験例に限定されるものではない。
【００４１】
＜実験例１〜５＞
シャーレに一定量の白血球細胞を含んだリン酸緩衝液（ＰＢＳ溶液）を取り分け、下記に詳細を示すＵＶ−Ｂ光線ａ〜ｅを、エネルギー密度が約２ｍＷ／ｃｍ2 、全照射エネルギー量が１００ｍＪとなる条件で、５０秒間、照射して光線治療サンプルａ〜ｅを得た。この光線治療サンプルａ〜ｅを２４時間培養し、その後、通常のフロリナート法により、白血球細胞の死滅度を測定した。結果を図１１に示す。
また、同様にして得た光線治療サンプルａ〜ｅについて、ＤＮＡの損傷箇所と反応する酵素を反応させ、さらにその酵素に色素を反応させて損傷箇所をマーキングした。これを通常のＥＬＩＺＡ法により、ＤＮＡの損傷度を測定した。結果を図１２に示す。
ただし、ＵＶ−Ｂ光線ａに係るものを実験例１、ＵＶ−Ｂ光線ｂ、ＵＶ−Ｂ光線ｃ、ＵＶ−Ｂ光線ｄおよびＵＶ−Ｂ光線ｅに係るものをそれぞれ実験例２、実験例３、実験例４および実験例５とした。
【００４２】
実験例２〜４に係るＵＶ−Ｂ光線ｂ〜ｄは、図１に示される構成のＸｅＣｌエキシマ放電ランプからの光源光を、それぞれ１．０ｍｍ、１．５ｍｍ、３．０ｍｍの厚さの棚珪酸ガラスよりなる、短波長成分の透過を抑制する光学フィルタを透過させることにより、得られる治療用光であり、図８および図９にそのスペクトルが示されているものである。
また、実験例１に係るＵＶ−Ｂ光線ａは、光学フィルタを使用せず、図１に示される構成のＸｅＣｌエキシマ放電ランプからの光源光そのものよりなる光であり、図８および図９にそのスペクトルが示されているものである。
さらに、実験例５に係るＵＶ−Ｂ光線ｅは、従来のＵＶ−Ｂ療法に用いられている、放電空間内に封入される蛍光体がガドリニウム付活のものである蛍光ランプからの光源光そのものよりなる光であり、図１０にそのスペクトルが示されているものである。
【００４３】
図１１から明らかなように、ＵＶ−Ｂ光線が短波長成分を多く含むほど白血球細胞の死滅度が高く、アレルギー症状抑制効果を十分に得られることが確認された。しかしながら、図１２から明らかなように、短波長成分を多く含むＵＶ−Ｂ光線ほど、副作用であるＤＮＡの損傷度が高いことが確認された。
【００４４】
そこで、白血球細胞の死滅度／ＤＮＡの損傷度を算出して副作用に対する治療効果の大きさを治療有益度として数値化した。この治療有益度は、これが大きいほど副作用の割には大きな治療効果を得ることができることを示し、小さいほど副作用の割には治療効果が低いことを示している。結果を図１３に示す。
【００４５】
図１１〜図１３に示されるように、スペクトルが３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的である実験例１〜４に係るＵＶ−Ｂ光線ａ〜ｄについて、短波長成分を多く含むほど、すなわち短波長側の下限値が低くなるほど白血球細胞の死滅度が高くなり、また副作用であるＤＮＡの損傷度も高くなるが、治療有益度は、短波長側の下限値が波長２９０ｎｍであるＵＶ−Ｂ光線ａと短波長側の下限値が波長２９７ｎｍであるＵＶ−Ｂ光線ｂを比較すると明確だが、このＵＶ−Ｂ光線ａと、これよりも短波長成分の少ないＵＶ−Ｂ光線ｂについての治療有益度は同程度でしかなく、このＵＶ−Ｂ光線ａは副作用の大きさの割りには治療効果が小さいことが示された。このように治療有益度が同程度である場合、ＤＮＡの損傷度について個人差などを考慮すれば、少しでも副作用の危険性が少ない、すなわちＤＮＡの損傷度の低いＵＶ−Ｂ光線を用いることが好ましい。一方、スペクトルの下限値が３０４ｎｍであり、スペクトルが３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であるとはいえない実験例５に係るＵＶ−Ｂ光線ｅは、白血球細胞の死滅度、ＤＮＡの損傷度、および治療有益度が低いことが確認された。
以上のことから、治療用光としては、スペクトルが３０３ｎｍ以下の波長領域において連続的であり、かつ、その下限値が２９７ｎｍ以上の波長範囲にあるものであることが必要であると考えられる。
また、その下限値が３０３ｎｍ以下の波長範囲において、その下限値が低いほど、治療有益度は高くなることが示されており、具体的には、実験例４に係る治療用光（下限値；３０１ｎｍ）よりも実験例３に係る治療用光（下限値；３００ｎｍ）が好ましく、さらに実験例３，４に係る治療用光よりも実験例２に係る治療用光（下限値；２９７ｎｍ）が好ましいことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の光線治療器の一例における構成の概略を示す説明用図である。
【図２】図１の光線治療器の光照射ユニットの一例における構成の概略を示す説明用図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）はＡ−Ａ線断面図、（ｃ）は枠が開状態とされた状態を示す断面図である。
【図３】本発明の光線治療器に用いられるＸｅＣｌエキシマ放電ランプの一例に係る構成を、管軸に沿った断面で示す説明用断面図である。
【図４】図３に示されるＸｅＣｌエキシマ放電ランプの点灯用電源装置の構成の概略を示す説明図である。
【図５】本発明の光線治療器に用いられるＸｅＣｌエキシマ放電ランプから放射される光源光のスペクトルである。
【図６】光源がメタルハライドランプよりなる光線治療器における、光源光のスペクトルである。
【図７】図６の光源光を放射する光源を有する光線治療器における、光学フィルタを介して放射される治療用光のスペクトルである。
【図８】実験例１〜４に係るＵＶ−Ｂ光線のスペクトルである。
【図９】図８のスペクトルについて、２９０〜３０５ｎｍの波長領域を拡大して示す図である。
【図１０】実験例５に係るＵＶ−Ｂ光線のスペクトルである。
【図１１】白血球細胞の死滅度を示すグラフである。
【図１２】ＤＮＡの損傷度を示すグラフである。
【図１３】治療有益度を相対的に示すグラフである。
【符号の説明】
【００４７】
１    光線治療器
８    光放出窓
１０  光照射ユニット
１１  直立スタンド
１２  電源部
１３  操作パネル部
１４  キャスター
１５  台座
１６  給電コード
１７  アーム
２１  マグネット
２２  光学フィルタ
２５  取っ手
２７  回転機構
２８  枠
２９  スロット
３０  ＸｅＣｌエキシマ放電ランプ
３２  外側管
３３  内側管
３４  放電容器
３５  端壁
３６  端壁
３７  一方の電極
３８  他方の電極
Ｓ    放電空間
４０  点灯用電源装置
４１  商用電源
４２  ＡＣ／ＤＣコンバーター
４３  インバーター
４４  トランス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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