(57)【要約】【課題】有機ＥＬ表示装置の色域を広げ、同時に、消費電力を低下させる。【解決手段】表示部を構成する複数の画素を有しており、前記各画素は、一対の電極と前記一対の電極間に形成されている有機化合物層とを有する有機ＥＬ素子からなる４色以上の副画素から構成され、前記４色以上の副画素は、ＣＩＥ色度座標において内部に白色を含む凸多角形を構成しており、前記白色を挟んで互いに補色となる２色の前記副画素を含む有機ＥＬ表示装置において、前記２色の副画素の前記有機化合物層はいずれも燐光発光の有機化合物を含む【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部を構成する複数の画素を有しており、
前記各画素は、一対の電極と前記一対の電極間に形成されている有機化合物層とを有する有機ＥＬ素子からなる４色以上の副画素から構成され、
前記４色以上の副画素は、ＣＩＥ色度座標において内部に白色を含む凸多角形を構成しており、前記白色を挟んで互いに補色となる２色の前記副画素を含む有機ＥＬ表示装置において、
前記２色の副画素の前記有機化合物層はいずれも燐光発光の有機化合物を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
白色を表示する際、前記４色以上の副画素の輝度の和に対する２色の副画素の輝度の和の割合が８０％以上１００％以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記白色の色度座標は、ＣＩＥ色度座標において色温度が２８５６Ｋの点から色温度が無限大の点までの黒体軌跡に含まれるいずれか１点の座標であることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記２色の副画素の少なくともいずれか一方が３０％より大きい光取り出し効率を有することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記２色の副画素の少なくともいずれか一方が回折格子、フォトニック結晶もしくは周期構造のいずれか、もしくは複数の組み合わせを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記画素が、積層された前記副画素から構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記画素が、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の前記副画素を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記画素が、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（黄）いずれか、もしくはこれらの組み合わせの前記副画素を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記２色が、Ｒ（赤）とＣ（シアン）であることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置の画像表示方法であって、
前記２色の副画素を点灯して白色を表示することを特徴とする画像表示方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機化合物を用いた発光素子を利用した表示装置に関するものであり、さらに詳しくは、有機化合物からなる薄膜に電界を印加することにより光を放出する有機ＥＬ素子を用いた表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイに限らず、カラーディスプレイにおいては、画像を忠実に表示する上で、色再現範囲が広いこと重要な要素となる。通常、カラーディスプレイでは、光の三原色であるＲＧＢの３つの副画素（サブピクセル）を組み合わせて１画素（ピクセル）として、色再現を行っており、ＲＧＢの各色度がカラーディスプレイの色再現範囲を決定している。
【０００３】
色再現範囲を示す色域（Ｃｏｌｏｒ  Ｇａｍｕｔ）の標準規格としては、例えば、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）方式がある。ＮＴＳＣ方式では、ＲＧＢ三原色のＣＩＥ色度として、ＲNTSC（０．６７、０．３３）、ＧNTSC（０．２１、０．７１）、ＢNTSC（０．１４、０．０８）を採用し、白色のＣＩＥ色度として、ＷNTSC（０．３１、０．３１６）を採用している。図７に示すように、ＣＩＥ色度座標上で、これら３点により囲まれる三角形の面積を色域１００％と定義している。
【０００４】
ディスプレイの色域を広くする従来技術として、特許文献１では、ＲＧＢ３色の副画素に加え、ＲＧＢ副画素により規定される色域外部の色を持つ複数の副画素を導入することが提案されている。
【０００５】
【特許文献１】米国特許６，５７０，５８４号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
確かに、特許文献１の技術で、色域を広げることができる。しかし、ディスプレイにおいては消費電力を低減することが重要であり、特に、携帯型の電子機器に搭載されるディスプレイや携帯型テレビでは、バッテリーによる駆動時間を長く維持するために、低消費電力が求められる。これに対し、特許文献１の技術では、消費電力を低下させることが考慮されていないという課題がある。
【０００７】
本発明では、上記課題に鑑み、有機ＥＬ表示装置の色域を広げ、同時に、消費電力を低下させることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
すなわち、本発明の有機ＥＬ表示装置は、表示部を構成する複数の画素を有しており、前記各画素は、一対の電極と前記一対の電極間に形成されている有機化合物層とを有する有機ＥＬ素子からなる４色以上の副画素から構成され、前記４色以上の副画素は、ＣＩＥ色度座標において内部に白色を含む凸多角形を構成しており、前記白色を挟んで互いに補色となる２色の前記副画素を含む有機ＥＬ表示装置において、前記２色の副画素の前記有機化合物層はいずれも燐光発光の有機化合物を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、有機ＥＬ表示装置の色域を広げ、同時に、消費電力を低下させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を図１及び図２に基づいて説明する。
【００１１】
図１及び図２は、本発明の有機ＥＬ表示装置における表示部を構成する画素構造の一例を示す模式図であり、図１は概略断面図、図２は概略上面図である。
【００１２】
図２に示すように、１つの画素２００は、Ｒ（赤）副画素２１０、Ｇ（緑）副画素２２０，Ｂ（青）副画素２３０、Ｃ（シアン）副画素２４０の４つの副画素から構成される。そして、図１に示すように、各副画素を構成する有機ＥＬ素子は、有機化合物層（以下、「有機層」と言う。）１０１を、一対の電極間、即ち陽極である反射電極１０２と陰極である透明電極１０３との間に挟んだ構造を有する。有機層１０１は、通常、ホール輸送層１０６、発光層１０５、電子輸送層１０７を順次積層した構成を成す。また、必要に応じて陽極とホール輸送層の間にホール注入層１０８を、陰極と電子輸送層の間に電子注入層１０９を狭持しても良い。発光層１０５のうち、Ｒ副画素、Ｃ副画素に関しては、燐光性有機化合物を含むＲ発光層１１５とＣ発光層１６５より形成され、一方、Ｇ副画素、Ｂ副画素に関しては、蛍光性有機化合物を含むＧ発光層１２５とＢ発光層１３５により形成される。
【００１３】
本例においては、Ｒ副画素とＣ副画素が、内部量子効率２５％より大きい高発光効率の燐光有機ＥＬ素子から構成されている。一方、Ｇ副画素とＢ副画素は内部量子効率が２５％以下の蛍光有機ＥＬ素子から構成されている。本例における、各ＲＧＢＣ副画素の色度および発光効率を表１に示し、図３に色域を示す。
【００１４】
【表１】
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【００１５】
図３より、ＲＧＢ副画素から構成される三角形ＲＧＢの色域に対して、Ｃ副画素を追加することで四角形ＲＧＣＢの色域となり、三角形ＧＣＢの増加分だけ色域を拡張できることがわかる。
【００１６】
また、上記構成は有機ＥＬ表示装置全体の消費電力を低減するのに効果的である。すなわち、図３に示すように、ＲＧＢＣ副画素により、凸多角形の一種である四角形ＲＧＣＢが構成される。四角形ＲＧＣＢの内部に位置する中央付近の実線は、黒体軌跡の概白色領域を示す。黒体軌跡は、黒体輻射の温度変化に伴うＣＩＥ座標系での色度変化を表している。図３では、赤みを帯びた白色である色温度２８５６Ｋの黒体輻射（ＣＩＥ標準光Ａ）から青みを帯びた白色である色温度無限大の黒体輻射までの黒体軌跡を示しており、概ね白色となる領域である。白色ＷNTSC（０．３１、０．３１６）は、黒体軌跡の概白色領域において、ほぼ中央部に位置している。図３のＲとＣを結ぶ破線ＲＣは、黒体軌跡の概白色領域の実線と交差している。そして、燐光発光素子により構成され発光効率の高いＲ副画素とＣ副画素が、白色（黒体軌跡の概白色領域と破線ＲＣとの交点）を挟んで相互に補色の関係にある副画素対となっていることがわかる。これを補色副画素対と定義する。破線ＲＣが白色ＷNTSCの近傍に位置することから、白色ＷNTSCを表示する際に、補色副画素対ＲＣを構成する発光効率の高いＲ副画素とＣ副画素の輝度比を高くすることができるため、有機ＥＬ表示装置全体の消費電力を大幅に低減することが可能である。輝度比が高くなるとは、具体的には全ての副画素の輝度の和に対する、互いに補色となる２色の副画素の輝度の和の割合が８０％以上１００％以下であることとする。後述するように、従来のＲＧＢ３副画素により構成される有機ＥＬ表示装置の消費電力評価値に比べ約５０％程度、消費電力を低減することが可能である。なお、白色を表示する際には、白色の色度を微調整するために、互いに補色となる２色以外の別の色を発光（点灯）させても良い。このとき別の色は補助的に発光させるものであるため、別の色の副画素が発光効率が相対的に低い副画素であったとしても消費電力を低減させることができる。
【００１７】
尚、上記の例では、１つの画素がＲＧＢＣの４副画素からなり、Ｒ副画素とＣ副画素が燐光発光である構成で説明してきたが、このような副画素の組み合わせに限定されるものではない。図４に、１画素がＲＧＢＣＭ（マゼンタ）の５副画素から構成される場合のＣＩＥ座標系での色域を示す。副画素対ＲＣおよび副画素対ＧＭが黒体軌跡の概白色領域を挟んで互いに補色の位置関係にあり、補色副画素対となっている。よって、補色副画素対ＲＣまたは補色副画素対ＧＭ、もしくは両方の副画素対を高発光効率素子により構成することで、色域拡大と同時に消費電力の低減が可能である。１画素が、ＲＧＢＣＭＹ（黄）６画素から構成される場合も同様である。
【００１８】
１つの画素が、ＣＩＥ色度座標系にて内部に白色を含む凸多角形を構成する４色以上の副画素からなる有機ＥＬ素子に対して、本発明は有効である。そして、前記白色を挟んで互いに補色の関係にある副画素対（補色副画素対）を、高発光効率の有機ＥＬ素子とすることにより、本発明の効果を奏する。
【００１９】
有機ＥＬ素子の発光効率は、外部量子効率の増加に伴い向上する。外部量子効率は、内部量子効率と光取り出し効率から下記式により定義される。
【００２０】
外部量子効率＝光取り出し効率×内部量子効率
【００２１】
よって、高い発光効率を得るためには、内部量子効率もしくは光取り出し効率のいずれかもしくは両方を大きくすればよい。蛍光発光の内部量子効率は２５％以下であり、有機ＥＬ素子の光取り出し効率は、通常１８％以上３０％以下程度であるから、通常の蛍光有機ＥＬ素子の外部量子効率は、高々７．５％程度である。よって、外部量子効率が７．５％より大きい有機ＥＬ素子を上述の高発光効率の有機ＥＬ素子として用いることが可能である。
【００２２】
光取り出し効率を向上させる一つの方法としては、共振器構造が挙げられる。共振器構造とは、発光層が２つの反射界面（例えば、反射電極と金属半透明電極）で挟まれ、発光層からの光が多重干渉により強め合うように２つの反射界面間の光路長が調整された構造である。また、別の方法として、全反射による素子内部への光の閉じ込めを抑制するために、発光波長程度の周期を有するフォトニック結晶を発光素子に配置し、回折光により光取り出し効率を向上させることが挙げられる。フォトニック結晶とは、誘電率の異なる物質を周期的に配置したものである。図５に、ＲＧＢＣ４副画素のうち、Ｒ副画素は燐光発光素子とし、Ｃ副画素の光取り出し側透明電極に２次元フォトニック結晶構造を形成し、ＲＣ補色副画素対を高発光効率素子とする有機ＥＬ表示装置の概略断面図を示す。２次元フォトニック結晶の周期は、発光色の波長をλとして、概ねλ／４からλ程度のものが望ましい。
【００２３】
ホール輸送層１０６、発光層１０５、電子輸送層１０７、ホール注入層１０８、電子注入層１０９に用いられる有機化合物は、低分子材料、高分子材料もしくはその両方により構成され、特に限定されるものではない。さらに、必要に応じて無機化合物を用いても良い。
【００２４】
以下にこれらの化合物例を挙げる。
【００２５】
ホール輸送性材料としては、陽極からのホールの注入を容易にし、また注入されたホールを発光層に輸送するに優れたモビリティを有することが好ましい。ホール注入輸送性能を有する低分子および高分子系材料としては、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、オキサゾール誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、およびポリ（ビニルカルバゾール）、ポリ（シリレン）、ポリ（チオフェン）、その他導電性高分子が挙げられるが、もちろんこれらに限定されるものではない。以下に、具体例の一部を示す。
【００２６】
【化１】
2007300075.tif 000004
【００２７】
【化２】
2007300075.tif 000005
【００２８】
発光材料としては、発光効率の高い蛍光材料や燐光材料が用いられる。以下に具体例の一部を示す。
【００２９】
【化３】
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【００３０】
電子輸送性材料としては、注入された電子を発光層に輸送する機能を有するものから任意に選ぶことができ、ホール輸送材料のキャリア移動度とのバランス等を考慮し選択される。電子注入輸送性能を有する材料としては、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ピラジン誘導体、トリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、ペリレン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、フルオレノン誘導体、アントロン誘導体、フェナントロリン誘導体、有機金属錯体等が挙げられるが、もちろんこれらに限定されるものではない。以下に、具体例の一部を示す。
【００３１】
【化４】
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【００３２】
ホール注入材料としては、ＭｏＯ3，ＷＯ3，Ｖ2Ｏ5等の遷移金属酸化物や、銅フタロシアニン（Ｃｕｐｃ）等が挙げられる。
【００３３】
また、電子注入材料としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属、もしくはその化合物等が挙げられ、前述した電子輸送性材料に、０．１％以上数十％以下含有させることにより、電子注入性を付与することが出来る。電子注入層１０９は、必要不可欠な層ではないが、この後に、透明陰極１０２を形成する際の成膜時に受けるダメージを考慮すると、良好な電子注入性を確保するために１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下程度挿入した方が好ましい。
【００３４】
有機層１０１は、一般に真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマにより形成する。また、適当な溶媒に溶解させて、公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、ＬＢ法、インクジェット法等）により形成することもできる。特に塗布法で成膜する場合は、適当な結着樹脂と組み合わせて膜を形成することもできる。上記結着樹脂としては、広範囲な結着性樹脂より選択でき、例えば、ポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらは単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上混合してもよい。さらに必要に応じて、公知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤を併用してもよい。
【００３５】
透明電極１０２としては、ＩＴＯやＩＺＯ等の酸化物導電膜を使用することが出来る。電子輸送層１０７、及び、電子注入層１０９との組み合わせにより、電子注入性が良好な組み合わせを適宜選択することが望ましい。また、透明電極は、スパッタリングにより形成することが出来る。
【００３６】
場合によっては、酸素や水分等との接触を防止する目的で保護層が設けられる。保護層としては、窒化シリコン、窒化酸化シリコン等の金属窒化物膜や、酸化タンタル等の金属酸化物膜、ダイヤモンド薄膜、また、フッ素樹脂、ポリパラキシレン、ポリエチレン、シリコン樹脂、ポリスチレン樹脂等の高分子膜、さらには、光硬化性樹脂等が挙げられる。また、ガラス、気体不透過性フィルム、金属などをカバーし、適当な封止樹脂により素子自体をパッケージングすることもできる。また、防湿性を高める為に、保護層内に吸湿材を含有させても良い。
【００３７】
なお、これまでは、基板側が陽極となる構成で説明してきたが、基板側が陰極となる積層構成においても本発明を実施することは可能であり、特に限定されるものではない。
【００３８】
さらに、透明基板上に透明電極を形成し、その上に有機層、反射性電極を積層したボトムエミッション構成においても本発明を実施可能である。
【００３９】
また、複数の有機ＥＬ素子が積層されたマルチフォトン構成や多段階積層構成に対しても本発明は実施可能である。
【００４０】
図６は、積層型ＲＧＢＣ４副画素構成の模式図（概断面略図）である。図６において、画素を構成するＲＧＢＣの副画素が、基板垂直方向に積層されていること以外は、図１と同様である。図６に示す装置は、反射電極１０２の成膜後、Ｒ有機層１１１、透明電極１０３、Ｇ有機層１２１、透明電極１０３、Ｂ有機層１３１、透明電極１０３、Ｃ有機層１６１および透明電極１０３を、順次積層し、保護層を成膜することにより得ることができる。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は本実施例によって何ら限定されるものではない。
【００４２】
＜実施例１＞
図１に示す構成の画素（ただし、本例ではホール注入層は形成しない）を有するフルカラー有機ＥＬ表示装置を以下に示す方法で作成する。
【００４３】
まず、支持体としてのガラス基板上に、低温ポリシリコンからなるＴＦＴ駆動回路を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化膜を形成して基板１００とする。この上に反射性金属としてのＡｇ合金（ＡｇＰｄＣｕ）を約１００ｎｍスパッタリング法にて形成してパターニングし、透明導電膜としてのＩＺＯをスパッタリング法にて２０ｎｍ形成してパターニングして、反射電極１０２を形成する。さらに、アクリル樹脂により素子分離膜を形成し陽極付き基板を作成する。これをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で超音波洗浄し、次いで、煮沸洗浄後乾燥する。その後、ＵＶ／オゾン洗浄してから有機化合物を真空蒸着により成膜する。
【００４４】
この上に、ホール輸送層１０６として、下記構造式で示される化合物［Ｉ］を成膜する。シャドーマスクを用い、Ｒのホール輸送層として５０ｎｍ、Ｇのホール輸送層として３０ｎｍ、Ｂのホール輸送層として２０ｎｍ、Ｃのホール輸送層として２５ｎｍを各副画素に成膜する。この際の真空度は１×１０-4Ｐａ、蒸着レートは、０．２ｎｍ／ｓｅｃである。
【００４５】
【化５】
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【００４６】
次に、発光層として、シャドーマスクを用いて、ＲＧＢＣそれぞれの発光層を成膜する。Ｒ発光層１１５としては、ホストとしてＣＢＰと、燐光発光性化合物ＢｔｐＩｒ（ａｃａｃ）を共蒸着して６０ｎｍの発光層を設ける。Ｇ発光層１２５としては、ホストとしてＡｌｑ３と、発光性化合物クマリン６を共蒸着して４０ｎｍの発光層を設ける。Ｂ発光層１３５としては、ホストとして下記に示す［ＩＩ］と発光性化合物［ＩＩＩ］を共蒸着して２０ｎｍの発光層を設ける。Ｃ発光層１６５としては、ホストとしてＣＢＰと燐光発光性化合物Ｆｉｒｐｉｃを共蒸着して２５ｎｍの発光層を設ける。
【００４７】
蒸着時の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜する。
【００４８】
【化６】
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【００４９】
更に、共通の電子輸送層１０７としてバソフェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）を真空蒸着法にて１０ｎｍの膜厚に形成する。蒸着時の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件である。次に、共通の電子注入層１０９として、ＢｐｈｅｎとＣｓ2ＣＯ3を共蒸着（重量比９０：１０）し、２０ｎｍの膜厚に形成する。蒸着時の真空度は３×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件である。
【００５０】
この電子注入層１０９まで成膜した基板を、真空を破ること無しにスパッタ装置に移動し、透明陰極１０３としてＩＴＯを６０ｎｍ成膜する。さらに保護膜として、窒化酸化シリコンを７００ｎｍ成膜し、有機ＥＬ表示装置を得る。
【００５１】
この有機ＥＬ表示装置で、白色ＷNTSC（０．３１、０．３１６）を１００ｃｄ／ｍ2で表示する際の消費電力を求めた（開口比：５０％、駆動電圧：１０Ｖ）。結果を表２に示す。なお、このときの燐光発光素子からなるＲ副画素とＣ副画素の輝度比の和は８３．２％である。
【００５２】
【表２】
2007300075.tif 000010
【００５３】
また、比較のため、Ｃ画素を形成しない以外は同様にして作成した有機ＥＬ表示装置の消費電力を表３に示す。
【００５４】
【表３】
2007300075.tif 000011
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置における画素構造の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬ表示装置における画素構造の一例を示す概略上面図である。
【図３】ＲＧＢＣのＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図４】ＲＧＢＣＭのＣＩＥ色度座標を示す図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示装置における周期構造を有する画素構造の一例を示す概略断面図である。
【図６】本発明の有機ＥＬ表示装置における副画素が積層された画素構造の一例を示す概略断面図である。
【図７】ＣＩＥ色度座標においてＮＴＳＣ方式の色域１００％を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１００  基板
１０１  有機層
１０２  反射電極
１０３  透明電極
１０５  発光層
１０６  ホール輸送層
１０７  電子輸送層
１０８  ホール注入層
１０９  電子注入層
１１０  周期構造
１１１  Ｒ有機層
１１５  Ｒ発光層
１２１  Ｇ有機層
１２５  Ｇ発光層
１３１  Ｂ有機層
１３５  Ｂ発光層
１６１  Ｃ有機層
１６５  Ｃ発光層
２００  画素
２１０  Ｒ副画素
２２０  Ｇ副画素
２３０  Ｂ副画素
２６０  Ｃ副画素
【図１】
2007300075.tif 000012
【図２】
2007300075.tif 000013
【図３】
2007300075.tif 000014
【図４】
2007300075.tif 000015
【図５】
2007300075.tif 000016
【図６】
2007300075.tif 000017
【図７】
2007300075.tif 000018