(57)【要約】      （修正有）【課題】プラスチックフィルムの如く可撓性基材、特に生産効率に優れる長尺状の可撓性基材に適用可能で、かつ高精細パターンの再現性に優れた印刷物の製造方法を提供することにある。また、ロール・ツー・ロール方式により連続して印刷することが可能な印刷物の製造方法を提供する。【解決手段】シリンダ１上にインキ液膜３０を形成する工程と、凸部のパターンが非画像パターンである回転可能な凸版２３を該シリンダ１上のインキ液膜３０に押し当て回転させることにより、非画像パターン３３に相当するインキ液膜３０を該凸版２３の凸部に転写除去する工程と、シリンダ１上に残ったインキ液膜３０を可撓性基材３へ転写し印刷する工程とを含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷した印刷物の製造方法であって、
シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、
凸部のパターンが非画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダ上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、非画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写除去する工程と、
シリンダ上に残ったインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程とを含むことを特徴とする印刷物の製造方法。
【請求項２】
前記不要なインキ液膜を該凸版の凸部に転写し除去する工程の後に、凸版の凸部にあるインキ液膜を除去する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の印刷物の製造方法。
【請求項３】
可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷した印刷物の製造方法であって、
シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、
凸部のパターンが画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダー上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写する工程と、
該凸版の凸部にあるインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程とを含むことを特徴とする印刷物の製造方法。
【請求項４】
前記シリンダ上のインキ液膜が凸版の凸部に転写する工程の後に、前記シリンダ上に残った不要なインキ液膜を除去する工程を有することを特徴とする請求項３に記載の印刷物の製造方法
【請求項５】
前記可撓性基材が巻き取り可能であり、ロール・ツー・ロール方式により、連続して可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の印刷物の製造方法。
【請求項６】
前記シリンダが、該シリンダ表面にシリコーン樹脂層を積層したものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の印刷物の製造方法。
【請求項７】
前記シリンダが、該シリンダ表面にシランカップリング剤によりアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくともいずれか一つを化学結合させたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の印刷物の製造方法。
【請求項８】
前記可撓性基材の印刷面にインキ受理層が積層されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の印刷物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルム、特に生産効率のよい長尺状のプラスチックフィルム等の可撓性基材上へ高精細パターンを形成した印刷物の製造方法に関する。印刷物としては、液晶表示装置用カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、回路基材、薄膜トランジスタ、マイクロレンズ、バイオチップ等が例示される。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイは、省エネルギ、省スペース、可搬性等の点から据え置き型、壁掛け型、携帯型の様々な用途の画像表示装置として利用されている。特に携帯型においては、携帯時に落下させても破損しないような耐衝撃性や、軽量化、薄型等の点からプラスチック化への要求がある。また、壁掛け型においても円柱状の柱へのディスプレイの設置という点から可撓性のディスプレイへの要求がある。
【０００３】
しかしながら、従来のフラットパネルディスプレイは、いずれもガラス基板上に製造する方法であり、プラスチック基板上に製造することは難しかった。すなわち、従来のフラットパネルディスプレイの部材の作製にはフォトリソ工程と高温での加熱工程とが含まれている。例えば液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造にあたっては、感光性樹脂のパターニングにあたって、現像、洗浄、ベーキング等の工程があり、プラスチック基板の損傷や伸縮が生じてしまう。また、ディスプレイの駆動電極である薄膜トランジスタの製造工程では、シリコン半導体や絶縁膜の形成に３００℃以上の高温工程を含み、プラスチック基板の耐熱性を上回っていた。更に、フォトリソ工程は、製膜、露光、現像、剥離を材料ごとに行うプロセスであり、製造設備も大掛かりとなり、製造のコストの点からも大きな課題を抱えている。
【０００４】
このような課題から、プラスチック上で精密なパターニングが可能な印刷方法が求められていた。そこで印刷法の一つとしてスクリーン印刷法が挙げられる。スクリーン印刷法は、電子部品における配線や抵抗体、誘電体の印刷等で実用化されている。しかしながら、孔版印刷であることからインキはペースト状の高粘度のものに限られ、また、スクリーンメッシュの精細度から数十μｍ程度の厚膜の印刷法としては採用できても、やはり１０μｍ前後のパターニング法としては、採用できない。
【０００５】
また、他の方法としてインクジェット法が検討されている。インクジェット法は、所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできることから材料の利用効率が高く、版も使用しないことから、もっとも簡便なパターニング方法として期待されている。しかしながら、現状のインクジェットのインク液滴の直径は数十μｍ程度であり、また着弾精度も数μｍ程度である。特に直線のパターニングの場合は、ノズルから複数個のインク液滴を直線状に吐出する方式のため、微視的に見ると円形のインク液滴の連続となり直線性に劣る。このような特徴から、精密なパターニングのためには、あらかじめ基板上にフォトリソ工程による隔壁等の形成が必要である。そのため、カラーフィルタのブラックマトリクスや印刷方式の薄膜トランジスタの配線等の１０μｍ程度のパターニング方法としては、採用することができない。
【０００６】
一方、被印刷体にガラス基板を用いたものとして、近年新しい印刷方式が開発されてきている。すなわち、転写用平板部材上面に所定の厚さの印刷材料を塗布し、該転写用平板部材に対し印刷版を押圧して該印刷材料を印刷版側に転写し、該印刷版を被印刷体であるガラス基板に押圧して該印刷版上に転写されている前記印刷材料を該ガラス基板側に転写し、以て該ガラス基板上に印刷膜を形成する印刷方法において、前記転写用平板部材を表面に所定の深さのエッチングパターンが設けられているガラス基板より構成されている印刷装置がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
しかしながら、上記印刷方式では、被印刷体としてプラスチックフィルム、とりわけ生産効率のよい長尺状のプラスチックフィルムには適用が困難で、かつまた、転写用平板部材である表面がエッチングされたガラス基板では、このガラス基板のインキの濡れ性が良く、よって印刷版へのインキの転写性（膜厚）が不安定になるので、高精細パターンの再現性が不安定になるという問題点があった。またガラス基板を使用する場合には、ロール・ツー・ロール印刷装置への適用も不可能である。
【０００８】
更に、反転印刷方式という新しい印刷方式も開発されてきている。すなわち、シリンダ上に設けられたブランケットにインキ液膜を形成し、予備乾燥の後に、非画像パターンが形成されたガラス版にてブランケット上にインキの画像パターンを残し、次いでブランケット上のインキを基板上に転写する印刷方法である（例えば、特許文献２参照）。この方法では、あらかじめインキ液膜を作製することによりインキ膜厚を調整することが容易であり、また、インキ剥離性のブランケット上に画像パターンを形成することから、基板へのインキ転写性が良好である等の特徴を持つ。また、予備乾燥を行うために薄膜での微細パターン形成が可能となる。
【０００９】
しかしながら、この印刷方式はシリコーンゴムまたはシリコーン樹脂からなるブランケット上でインキの予備乾燥を行うため、ブランケット表面のインキ濡れ性や転写性が不安定になるという問題点を有していた。
【００１０】
以下に、上記先行技術文献を示す。
【特許文献１】特開平５−１３８８６０号公報
【特許文献２】特開２００１−５６４０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、プラスチックフィルムの如く可撓性基材、特に生産効率に優れる長尺状の可撓性基材に適用可能で、かつ高精細パターンの再現性に優れた印刷物の製造方法を提供することにある。また、ロール・ツー・ロール方式により連続して印刷することが可能な印刷物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１の発明は、可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷した印刷物の製造方法であって、シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、凸部のパターンが非画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダ上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、非画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写除去する工程と、シリンダ上に残ったインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程とを含むことを特徴とする印刷物の製造方法としたものである。
【００１３】
また、請求項２の発明は、前記不要なインキ液膜を該凸版の凸部に転写し除去する工程の後に、凸版の凸部にあるインキ液膜を除去する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の印刷物の製造方法としたものである。
【００１４】
また、請求項３の発明は、可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷した印刷物の製造方法であって、シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、凸部のパターンが画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダー上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写する工程と、該凸版の凸部にあるインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程とを含むことを特徴とする印刷物の製造方法としたものである。
【００１５】
また、請求項４の発明は、前記シリンダ上のインキ液膜が凸版の凸部に転写する工程の後に、前記シリンダ上に残った不要なインキ液膜を除去する工程を有することを特徴とする請求項３に記載の印刷物の製造方法としたものである。
【００１６】
また、請求項５の発明は、前記可撓性基材が巻き取り可能であり、ロール・ツー・ロール方式により、連続して可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の印刷物の製造方法としたものである。
【００１７】
また、請求項６の発明は、前記シリンダが、該シリンダ表面にシリコーン樹脂層を積層したものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の印刷物の製造方法としたものである。
【００１８】
また、請求項７の発明は、前記シリンダが、該シリンダ表面にシランカップリング剤によりアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくともいずれか一つを化学結合させたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の印刷物の製造方法としたものである。
【００１９】
また、請求項８の発明は、前記可撓性基材の印刷面にインキ受理層が積層されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の印刷物の製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。
【００２１】
上記請求項１に係る発明によれば、シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、凸部のパターンが非画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダ上のインキ液膜に押し当て回転させることによって、非画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写除去する工程と、シリンダ上に残ったインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程とを含むことにより、可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの印刷を可能にする印刷物の製造方法とすることができた。
【００２２】
上記請求項２に係る発明によれば、前記不要なインキ液膜を該凸版の凸部に転写し除去する工程の後に、凸版の凸部にあるインキ液膜を除去する工程を有することによって、次々と連続して印刷するに際し、新しいインキ液膜のみから成る（前回の転写除去工程で残った古いインキ液膜のないもの）非画像部となるパターンを前記凸版の凸部上に形成するようになるので、高精細パターンの再現性により優れた印刷物を得ることができた。前回までの古いインキ液膜が残っていると、それが前記凸版の凸部上に徐々に堆積し、印刷の再現性を不安定にするからである。
【００２３】
上記請求項３に係る発明によれば、シリンダ上にインキ液膜を形成する工程と、凸部のパターンが画像パターンである回転可能な凸版を該シリンダ上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、画像パターンに相当するインキ液膜を該凸版の凸部に転写する工程と、該凸版の凸部にあるインキ液膜を可撓性基材へ転写し印刷する工程を含むことによって、可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの印刷を可能にする印刷物の製造方法とすることができた。
【００２４】
また、上記請求項４に係る発明によれば、前記シリンダ上のインキ液膜が凸版の凸部に転写する工程の後に、前記シリンダ上に残った不要なインキ液膜を除去する工程を有することによって、次々と連続して印刷するに際し、新しいインキ液膜のみ（前回の印刷で残った予備乾燥された古いインキ液膜のないもの）をシリンダ上に形成するようになるので、高精細パターンの再現性により優れた印刷物を得ることができた。前回までの古いインキ液膜が残っていると、それがシリンダ上に徐々に堆積し、印刷の再現性を不安定にするからである。
【００２５】
また、上記請求項５に係る発明によれば、前記可撓性基材が巻き取り可能であり、ロール・ツー・ロール方式により、連続して可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷することによって、可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの印刷を高速で行うことを可能にし、更にその高精細パターンの再現性が安定して優れたものとすることができた。したがって、非常に生産性に優れた印刷物を製造することができた。
【００２６】
また、上記請求項６に係る発明によれば、前記シリンダが、該シリンダ表面にシリコーン樹脂層を積層したものであることによって、インキ剥離性のシリンダ表面のインキの濡れ性が悪くなり、よって凸版の凸部へのインキ液膜の転写性が良くなり、転写されたインキ液膜の厚みが安定するので、高精細パターンの再現性が安定した印刷物を得ることができた。
【００２７】
また、上記請求項７に係る発明によれば、前記シリンダが、該シリンダ表面にシランカップリング剤によりアルキル基、シロキサン基、フッ素原子の少なくともいずれか一つを化学結合させたものであることによって、インキ剥離性のシリンダ表面のインキの濡れ性が悪くなり、よって凸版の凸部へのインキ液膜の転写性が良くなり、転写されたインキ液膜の厚みが安定するので、高精細パターンの再現性が安定した印刷物を得ることができた。
【００２８】
また、上記請求項８に係る発明によれば、前記可撓性基材の印刷面にインキ受理層が積層されていることによって、インキ液膜の可撓性基材への転写がインキ受理性に優れるインキ受理層で良くなり、得られる可撓性基材上の高精細パターンが優れた再現性を有するものとなる印刷物を得ることができた。
【００２９】
従って本発明は、プラスチックフィルム等可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの薄膜印刷を安定して行うことができた。カラーフィルタのカラーパターン、ブラックマトリクス、ホワイトマトリクス、スペーサ等を本発明の製造方法にて作製することができる。また、印刷トランジスタのゲート電極、ソース／ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導体材料等の溶液型半導体パターンをこの製造方法にて作製することができる。更にまた、高分子型有機ＥＬの発光層のパターニングを本発明の製造方法により効率良く作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明の印刷法は、シリンダ上へインキ液膜を作製し、該インキ液膜を予備乾燥し、回転可能な凸版の凸部に該シリンダ上のインキ液膜を転写する工程までは同一であるが、その後の転写工程は異なる二つの印刷方法である。非画像パターンを有する凸版の凸部を該予備乾燥されたインキ液膜に押し当て回転させることにより、前記予備乾燥されたインキ液膜を該凸版の凸部に転写除去し、前記転写除去工程を経てシリンダ上に残ったインキ液膜の画像パターンを可撓性基材へ転写する印刷方法（反転印刷方式）と、該予備乾燥されたインキ液膜に、画像パターンを有する凸版の凸部を押し当て、前記予備乾燥されたインキ液膜を該凸版の凸部に転写し、凸版の凸部に転写されたインキ液膜を可撓性基材へ転写する印刷方法（フレキソ印刷方式）である。以下にこれらを実施するための最良の形態について具体的に説明する。
【００３１】
（第一の実施の形態）
本実施形態に係る印刷方法はシリンダ上へインキ液膜を作製し、非画像パターンを有する凸版の凸部を、該インキ液膜に押し当て、該インキ液膜を該凸版の凸部に転写除去し、前記転写除去工程を経てシリンダ上に残ったインキ液膜の画像パターンを可撓性基材へ転写することを特徴とする。本実施形態の印刷方法の例を、図１を基に説明する。
【００３２】
シリンダの材質は金属製のものを用いることができるが、金属材料の種類は特に限定されない。好ましくは、アルミニウム、鉄、亜鉛、錫、チタン、銅、マグネシウム及びこれらの合金、鉄鋼、ステンレス鋼が挙げられる。また、シリコンやガラス等の金属以外の他の材質でもよい。また、金属製のシリンダの表面に対し、スパッタ法や蒸着法に代表される真空成膜法やほうろうといった公知の手段でガラス膜をコーティングしても良い。
【００３３】
本発明に用いられるシリンダは、インキの剥離性の向上を目的として、シリンダ表面にインキ剥離性表面２を有していても良い。シリンダ表面の表面性は材質により異なるが、一般に表面エネルギが大きい場合には各種のインキが濡れ易いが、逆に後の工程でのインキ離れが不良となる。そこで、印刷に用いるインキに応じてシリンダ１上にインキ剥離性表面２を形成する。シリンダ１上にインキ剥離性表面２を形成する方法について説明する。（図１（ａ））
【００３４】
インキ剥離性表面２の材料としては、通常のオフセット印刷等で使用するブランケット材料であるシリコーン樹脂を用いることができる。シリコーン樹脂層の厚みは、５００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下とする。シリコーン樹脂層の厚さが５００μｍを超えると、基板となるガラスの平坦性が損なわれて印圧のムラが生じ易く、また、インキ成分の溶媒や樹脂分がシリコーン樹脂層に過度に浸透する。シリコーン樹脂層に浸透したインキ成分の溶媒や樹脂分が、印刷条件を変化させる。より安定な印刷を行うためには、シリコーン樹脂層に浸透したインキ成分の溶媒や樹脂分の影響を少なくする必要が有り、シリコーン樹脂層の厚さは５００μｍ以下にすることが好適である。
【００３５】
また、インキ剥離性表面２の材料としては、シランカップリング剤を用いることもできる。シランカップリング剤の例としては、一般的なガラスや金属と反応できるトリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類等が挙げられる。シランカップリング剤の一部位としては、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基等の有機化合物との反応性基を選ぶことができる。あるいは、アルキル基や、その一部にフッ素原子が置換された基や、シロキサンが結合して、表面エネルギの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを選ぶことができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤でシリンダの表面を処理した後、所定の表面自由エネルギになるように他のモノマー成分を塗工し結合させても良い。
【００３６】
反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を用いることができ、モノマーとしては、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を用いることができる。
【００３７】
また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン等を用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。これにより分子レベルの膜厚のインキ剥離性表面２を作製することができ、インキ成分の浸透が実質的にない、あるいは、瞬時に飽和状態に達することができ、安定した印刷を行うことができる。
【００３８】
シランカップリング剤をシリンダ１に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の金属、ガラス表面処理方法を用いればよい。シランカップリング剤は、水と接すると加水分解してシラノール基を生成する。シラノール基は自己縮合によって高分子化すると同時に、金属表面のＯＨ基と酸塩基反応で化学結合する。この原理を活用すれば良い。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水、水−アルコール混合液、或いは、アルコール溶液に希釈させた溶液を、スピンコート法、ロールコート法、アプリケータ法等を用いてガラス・金属表面に塗工、乾燥する方法を用いることができる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。また予めシリンダ表面に蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタ法、ゾルゲル法等によりＳｉＯ２膜を製膜してシランカップリング剤による処理をし易くしておいてもよい。
【００３９】
インキ剥離性表面２の濡れ性は、インキ剥離性表面２上へインキを滴下した際の接触角が、１０°以上９０°以下にするのが好ましく、より好ましくは２０°以上７０°以下である。接触角２０゜よりもが小さいと、インキ剥離性表面２からのインキ液膜３０の剥離性が低下してパターンの欠陥（再現性不良等）が発生し易くなり、接触角が７０゜よりも大きいとインキ液膜を形成する際にハジキが生じて、均一なインキ液膜を形成することが困難になる。
【００４０】
次に、インキ剥離性表面２上にインキ液膜３０を形成する。（図１（ｂ））
【００４１】
インキ液膜３０の材料としては、一般の有機系等のインキ材料は勿論、その他に金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等の金属微粒子分散液に、必要に応じ各種添加物を加えたものを用いることができる。その分散媒としては、水またはアルコールを用いることができる。
【００４２】
インキ剥離性表面２上へインキ液膜３０を作製する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって選択される公知の塗工方法を用いることができる。塗工方法としては、広範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができるダイコート法、キャップコート法、ロールコート法等が好適な方法である。図１の塗工部２１は例としてダイコート方式を示しており、以降ダイコート方式として説明するが、これに限定されるものではない。
【００４３】
また、インキ剥離性表面にインキ液膜を形成した後に、インキ液膜に対して予備乾燥を行っても良い。予備乾燥する方法としては、自然乾燥法、冷風・温風乾燥法、マイクロ波乾燥法、および、紫外線や電子線等の放射線乾燥法等を用いることができる。
【００４４】
この予備乾燥では、前記インキ液膜３０の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とするもので、インキ液膜の完全乾燥はさせない。乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版の凸部を押し当て剥離する際に、インキ液膜が断裂し不良が発生し、逆に乾燥が行過ぎた場合は、前記凸版２３上にインキ液膜３０が転写していかない。そのため使用するインキの組成によって乾燥状態を調整する。
【００４５】
次に、凸部のパターンが非画像パターンである回転可能な凸版２３をインキ液膜３０に押し当て回転させることにより、非画像パターン３３に相当する不要なインキ液膜を該凸版の凸部に転写除去し、画像パターン３１をインキ剥離性表面２上へ形成する。（図１（ｃ））
【００４６】
凸版２３としては、ナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体といった樹脂材料、および、エチレンプロピレン系、ブチル系、ウレタン系のゴム等のゴム材料から成る凸版印刷やフレキソ印刷用の樹脂製の凸版を用いることができる。
【００４７】
凸版２３の製造方法としては、型に樹脂を流し込む方法、彫刻する方法等を用いることができる。また、形成材料として感光性樹脂を用いフォトリソグラフィー法により凸部を形成することにより、高精度な凸版が作製できる。凸版２３は円筒状の版胴２２に装着され、使用される。
【００４８】
次に、前記転写除去工程を経て該インキ剥離性のシリンダ上に残ったインキ液膜の画像パターン３１をバックロール２６で押圧することにより、可撓性基材５へ転写して印刷パターン３２を印刷する。（図１（ｄ））
【００４９】
可撓性基材３の材料としては、ガラスやプラスチック板等のように可撓性を有さないもの以外であれば適用できるが、印刷に適用するインキの乾燥温度に合わせて選定すればよく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロース等のフィルムやシートを用いることができる。中でも、耐熱性のポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド等が好適である。
【００５０】
また、可撓性基材が十分な可撓性を有し巻き取り可能である場合、ロール・ツー・ロール方式により、連続して可撓性基材上にインキからなる画像パターンを印刷することが可能となる。
【００５１】
また、無機フィラーを上記樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料から成る基材でも良い。フィルムおよびシートは、延伸でも未延伸でも良い。また、可撓性基材３には必要に応じてガスバリア層、平滑化層、すべり層が印刷面または他の面に積層されていても良い。
【００５２】
また可撓性基材３上にはインキ受理層を形成してもよい。
インキ受理層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、アセタール系樹脂等の樹脂成分に、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、珪酸塩、珪酸カルシウム、ポリスチレン等のフィラー成分を添加した材料、或いは、ウレタン系樹脂を主体としたエマルジョン、ゼラチン、硬膜剤等で構成される材料を用いることができる。
【００５３】
可撓性基材３上へインキ受理層を形成する方法としては、スピンコート法、ダイコート法、キャップコート法、ロールコート法、アプリケータ法、スプレーコート法、ディスペンサ等を用いた後、乾燥する方法を用いることができる。
【００５４】
本実施形態において、凸版２３から非画像パターン３３（残留インキ）を粘着性基材によって除去する例を、図１（ｄ）（ｅ）を基に説明する。なお、残留インキを溶剤で洗浄する方法等を用いてもよい。
【００５５】
まず、凸版２３上の非画像パターン３３を粘着性基材２５と接触させる。（図１（ｄ））
【００５６】
粘着性基材２５の材料としては、アクリル系、オレフィン系、ポリウレタン系、シリコーン系、合成ゴム系等からなる粘着性シートを用いることができる。
【００５７】
非画像パターン３３を粘着性基材２５と接触させる方法としては、粘着性基材２５に非画像パターン３３を残留インキ除去用ロール２４で押圧する方法を用いることができる。
【００５８】
最後に、凸版２３から粘着性基材２５を離すことにより、凸版２３から非画像パターン３３（残留インキ）を除去する。（図２（ｅ））
【００５９】
凸版２３から粘着性基材２５を離す方法としては、残留インキ除去用ロール２４を回転させ凸版２３から離す方法を用いることができる。
【００６０】
次に、本実施形態の印刷装置の例を、図１を基に説明する。
【００６１】
印刷装置には、塗工部２１、凸版２３、凸版２３を固定するための版胴２２、残留インキ除去用ロール２４、バックロール２６、インキ剥離性表面２を有するシリンダ１が配設される。なお、この他にシリンダ１の表面にインキ剥離性表面２を作製するための塗工装置を設けてもよい。この塗工装置を設けた場合は、インキ剥離性表面の作製の際にシリンダ１を取り外すことなく作製できるため簡便である。
【００６２】
塗工部２１とインキ剥離性表面２との距離は印刷開始前に設定する。塗工部からインキの吐出を開始して、インキ剥離性表面２上にインキ液膜３０を形成する。
【００６３】
インキ剥離性表面２は、版胴２２の方向に回転されるが、途中にオーブン、温風送風機、減圧乾燥機、紫外線照射機等の乾燥機を設けてもよい。
【００６４】
版胴２２には凸版２３を固定する。版胴２２は回転の機構以外に上下動させる機構を設けても良い。
【００６５】
版胴２２を回転させ、版胴２２に固定された樹脂製凸版２３の凸部と接したインキ液膜３０の非画像パターン３３が、凸版２３の凸部に転写する。
【００６６】
可撓性基材３は、バックロール２６によって、画像パターン３１に接触することができる。このバックロール２６の回転により、インキ剥離性表面２上に形成された画像パターン３１が可撓性基材３上に転写されて、印刷パターン３２を得ることができる。
【００６７】
次に、樹脂製凸版２３に付着した非画像パターン３３を除去する装置の一例を、図１を基に説明する。
【００６８】
残留インキ除去用ロール２４は、粘着性基材２５を介して樹脂製凸版２３と接しており、残留インキ除去用ロール２４の回転により、凸版２３上の非画像パターン３３が粘着テープ等からなる粘着性基材２５に転写して、凸版２３から非画像パターン３３を除去することができる。
【００６９】
（第二の実施の形態）
本実施形態に係る印刷方法は画像パターンを有する凸版の凸部をシリンダ上のインキ液膜に押し当て回転させることにより、前記インキ液膜を該樹脂製の凸版の凸部に転写し、該凸版の凸部に転写されたインキ液膜を可撓性基材へ転写することを特徴とする。それ以外は第一の実施の形態と同じである。
【００７０】
本実施形態の印刷方法の例を、図２を基に説明する。図１と同じ部材には同じ符号を付して説明を省略する。
【００７１】
先ず、図１（ａ）の工程と同様にインキ剥離性のシリンダとして、シリンダ１上にインキ剥離性表面２を形成する。（図２（ａ））
【００７２】
次に、インキ剥離性表面２上にインキ液膜３０を形成する。（図２（ｂ））
【００７３】
次に、必要に応じて予備乾燥したインキ液膜３０に凸部パターンが画像パターンである凸版２３を接触させて転写し、画像パターン３１に相当するインキ液膜をを凸版２３の凸部上へ転写する。（図２（ｃ））
【００７４】
最終的に、凸版２３の凸部上へ形成された画像パターン３１をバックロール２６で押圧することにより、可撓性基材３へ転写して印刷パターン３２を印刷する。（図２（ｄ））
【００７５】
本実施形態において、インキ剥離性表面２から非画像パターン３３（残留インキ）を除去する例を、図２（ｄ）（ｅ）を基に説明する。
【００７６】
まず、インキ剥離性表面２上の非画像パターン３３を粘着性基材２５と接触させる。（図２（ｄ））
【００７７】
非画像パターン３３を粘着性基材２５と接触させる方法としては、粘着性基材２５に非画像パターン３３を残留インキ除去用ロール２４で押圧する方法を用いることができる。
【００７８】
最後に、インキ剥離性表面２から粘着性基材２５を離すことにより、インキ剥離性表面２から非画像パターン３３（残留インキ）を除去する。（図２（ｅ））
【００７９】
次に、本実施形態の印刷装置の例を、図２を基に説明する。
印刷装置には、塗工部２１、凸版２３、凸版２３を固定するための版胴２２、残留インキ除去用ロール２４、バックロール２６、インキ剥離性表面２を有するシリンダ１が配設される。
【００８０】
塗工部２１とインキ剥離性表面２との距離を印刷開始前に設定した後、塗工部２１からインキの吐出を開始して、インキ剥離性表面２上にインキ液膜３０を形成する。
【００８１】
版胴２２を回転させ、版胴２２に固定された凸版２３の凸部と接したインキ液膜３０の画像パターン３１が、樹脂製凸版２３の凸部に転写する。
【００８２】
可撓性基材３は、版胴２２に固定された凸版２３とそれに接するバックロール２６との間に挟持されており、バックロール２６の押圧によって画像パターン３１に接触することができる。このバックロール２６の回転により、凸版２３の凸部上に形成されたインキ液膜３１が可撓性被印刷基材３上に転写されて、印刷パターン３２を得ることができる。
【００８３】
次に、インキ剥離性表面２に付着した非画像パターン３３を除去する装置の一例を、図２を基に説明する。
【００８４】
残留インキ除去用バックロール２４は、粘着テープ等からなる粘着性基材２５をインキ剥離性表面２上の非画像パターン３３へ押圧することができる。この残留インキ除去用ロール２４の回転により、インキ剥離性表面２上の非画像パターン３３が粘着性基材２５上に転写されて、インキ剥離性表面２から非画像パターン３３を除去することができる。
【００８５】
以下に、本発明の具体的実施例について説明する。
【実施例１】
【００８６】
図１に示す印刷工程図の要領でカラーフィルタ用赤色インキを使用してポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基材（帝人デュポン社製）への印刷を行った。
【００８７】
上記カラーフィルタ用赤色インキは次の要領で調製した。まず、下記の組成の混合物を均一に攪拌混合した後、直径１ｍｍのガラスビーズを用いて、サンドミルで５時間分散した後、５μｍメッシュフィルタで濾過して赤色顔料の分散体を作製した。
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４  （チバ  スペシャルティ  ケミカルズ社製  
イルガフォーレッド  Ｂ−ＣＦＪ）                                    １８重量部
・Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  １７７  （チバ  スペシャルティ  ケミカルズ社製  クロモフタールレッド  Ａ２ＢＪ）                                        ２重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）                                  １０８重量部
【００８８】
次に、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍメッシュフィルタで濾過してカラーフィルタ用赤色インキを得た。
・上記赤色顔料の分散体                                            １００重量部
・メチル化メチロールメラミン：ＭＷ−３０（三洋化成社製）            ２０重量部
・レベリング剤：メガファックＦ−４８３ＳＦ（大日本インキ化学工業社製）１重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル                            ８５重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ４５重量部
【００８９】
インキ剥離性のシリンダは次の要領で表面を処理した。ステンレス鋼のシリンダ表面にＳｉＯ２を蒸着した後、ｎ−ヘキシルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに溶解させた溶液中に浸漬させ、１２０℃で乾燥し、インキ剥離性表面を形成した。
【００９０】
次に、インキ剥離性のシリンダ上に、ダイコート方式によりカラーフィルタ用赤色インキを塗布した後、２５℃で予備乾燥してカラーフィルタ用赤色インキ液膜を形成した。
【００９１】
次に、非画像パターンを有するフレキソ版（東洋紡績社製）の凸部をインキ液膜に接触させた後に離すことにより、インキ剥離性のシリンダ上に画像パターンを形成した。
【００９２】
最後に、インキ剥離性のシリンダ上の画像パターンにＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）（帝人デュポン社製）を接触させ、ＰＥＮ基材上に画像パターンを形成した。
【実施例２】
【００９３】
図２に示す印刷工程図の要領で導電性インキを使用して、インキ受理層を積層したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材への印刷を行った。
【００９４】
インキ剥離性のシリンダは次の要領で表面を処理した。ステンレス鋼のシリンダ表面にＳｉＯ２を蒸着した後、ドデシルトリメトキシシランをイソプロピルアルコールに溶解させた溶液中に浸漬させ、１２０℃で乾燥し、インキ剥離性表面を形成した。
【００９５】
次に、インキ剥離性のシリンダ上に、ダイコート方式により銀粒子水分散液（平均粒径２０ｎｍ）からなる導電性インキを塗布した後、６０℃で予備乾燥してインキ液膜を形成した。  
【００９６】
次に、画像パターンを有するフレキソ版（東洋紡績社製）の凸部をインキ液膜に接触させた後に離すことにより、フレキソ版の凸部上に画像パターンを形成した。
【００９７】
次に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）上へアクリル系水系エマルジョン材料をバーコーターで塗布後、６０℃で乾燥してインキ受理層を積層した。
【００９８】
最後に、フレキソ版の凸部上の画像パターンにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（東レ社製）を接触させ、インキ受理層を積層したＰＥＴ基材上に画像パターンを形成した。
【００９９】
上記実施例１および実施例２では、優れた再現性を有する高精細パターンが安定して印刷できた。
【産業上の利用可能性】
【０１００】
本発明の印刷物の製造方法は、プラスチックフィルム等可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの薄膜印刷を安定して行うことができるので、カラーパターン、ブラックマトリクス、ホワイトマトリクス、スペーサ等のカラーフィルタ部材、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導体材料等のトランジスタ部材、有機発光層等の有機ＥＬ素子の製造に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の第一の実施形態の印刷方法および印刷装置の一例を説明するための断面図である。
【図２】本発明の第二の実施形態の印刷方法および印刷装置の一例を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１・・・・シリンダ
２・・・・インキ剥離性表面
３・・・・可撓性基材
２１・・・塗工部
２２・・・版胴
２３・・・凸版
２４・・・残留インキ除去用ロール
２５・・・粘着性基材
２６・・・バックロール
３０・・・インキ液膜
３１・・・画像パターン
３２・・・印刷パターン（可撓性基材上）
３３・・・非画像パターン
【図１】
2007237413.tif 000003
【図２】
2007237413.tif 000004