(57)【要約】【課題】光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明のマイクロレンズ基板１は、板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた基板本体（板状部材）２で構成されたものであって、マイクロレンズ（レンズ部）２１が設けられた側とは反対の面側に、外光の反射を防止する機能を有する遮光部２２を有し、遮光部２２は、マイクロレンズ２１の集光部に対応する部位以外の部位に、染色により基板本体２の内部に設けられたものであることを特徴とする。遮光部２２の厚さは、０．１〜５０μｍであるのが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材で構成されたレンズ基板であって、
前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、外光の反射を防止する機能を有する遮光部を有し、
前記遮光部は、少なくとも前記レンズ部の集光部に対応する部位以外の部位に、染色により前記板状部材の内部に設けられたものであることを特徴とするレンズ基板。
【請求項２】
前記遮光部の厚さは、０．１〜５０μｍである請求項１に記載のレンズ基板。
【請求項３】
前記板状部材の前記遮光部が設けられた面側に光を拡散する機能を有する拡散部を備えている請求項１または２に記載のレンズ基板。
【請求項４】
前記遮光部は、分散染料を含む材料で構成されたものである請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項５】
前記遮光部は、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を用いて形成されたものである請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項６】
前記着色液は、前記着色剤、前記ベンジルアルコールの他に、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである請求項５に記載のレンズ基板。
【請求項７】
レンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板である請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項８】
レンズ基板は、前記レンズ部の表面付近に、染色により形成された着色部を有するものである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板。
【請求項９】
前記着色部の着色濃度は、前記遮光部の着色濃度よりも低いものである請求項８に記載のレンズ基板。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板を製造する方法であって、
板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材の前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、ポジ型の感光性材料で構成された感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、
前記板状部材を介して、前記感光性膜に光を照射することにより、前記感光性膜の一部を感光させ、感光した感光部を形成する感光工程と、
前記感光部を除去する現像工程と、
前記現像工程後に、前記板状部材の前記感光性膜が設けられた面側に、染色を防止する染色防止剤を付与する染色防止剤付与工程と、
前記板状部材上に残存する前記感光性膜を除去する感光性膜除去工程と、
前記板状部材の前記染色防止剤が付与された面側に、着色液を付与する着色液付与工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板を製造する方法であって、
板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材の前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、ネガ型の感光性材料で構成された感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、
前記板状部材を介して、前記感光性膜に光を照射することにより、前記感光性膜の一部を感光させ、感光した感光部を形成する感光工程と、
前記感光部を除去する現像工程と、
前記板状部材の前記感光性膜が形成された面側に、着色液を付与する着色液付与工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
前記着色液付与工程の後に、前記板状部材上に残存する前記感光性膜を除去する感光性膜除去工程を有する請求項１１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１３】
請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１４】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項１ないし９のいずれかに記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタ（背面投射型プロジェクションテレビ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
このようなリア型プロジェクタでは、画像のコントラストを高めるために、映像光の強度の低下を抑えつつ、外光反射を抑えることが求められる。
このような目的を達成するために、一方の面にレンチキュラレンズを備えた透明性シートの他方の面に、遮光性着色剤と樹脂とを含有する遮光性樹脂組成物からなる遮光性層が積層されたレンチキュラレンズシート（レンズ基板）が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
このようなレンズ基板では、遮光性層は、レンチキュラレンズの集光部付近に開口部を有しているが、遮光性層が所定の厚さを有しているため、透明性シートを透過した光の一部（レンチキュラレンズにより比較的大きく屈折した光）が、遮光性層の側面（厚さ方向の面）に入射し、遮光性層に吸収されてしまい、これにより、光の透過率が低下し、視野角特性が著しく低下するという問題点があった（図２１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３５０９８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板は、板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材で構成されたレンズ基板であって、
前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、外光の反射を防止する機能を有する遮光部を有し、
前記遮光部は、少なくとも前記レンズ部の集光部に対応する部位以外の部位に、染色により前記板状部材の内部に設けられたものであることを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００７】
本発明のレンズ基板では、前記遮光部の厚さは、０．１〜５０μｍであることが好ましい。
これにより、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
本発明のレンズ基板では、前記板状部材の前記遮光部が設けられた面側に光を拡散する機能を有する拡散部を備えていることが好ましい。
これにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【０００８】
本発明のレンズ基板では、前記遮光部は、分散染料を含む材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、レンズ部が設けられた側とは反対の面側から入射してきた光の反射を十分に防止しつつ、レンズ部が設けられた面側から入射してきた光の透過率が低下するのをより効果的に防止することができる。その結果、光の利用効率、視野角特性、表示される画像のコントラストを、特に優れたものとすることができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板では、前記遮光部は、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を用いて形成されたものであることが好ましい。
これにより、遮光部の着色濃度のばらつきを特に小さいものとすることができ、表示される画像における色ムラ等の発生をより確実に防止することができる。また、所望の厚さ、着色濃度の遮光部を容易かつ確実に形成することができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板では、前記着色液は、前記着色剤、前記ベンジルアルコールの他に、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであることが好ましい。
これにより、遮光部の着色濃度のばらつきを特に小さいものとすることができ、表示される画像における色ムラ等の発生をさらに確実に防止することができる。また、所望の厚さ、着色濃度の遮光部をさらに容易かつ確実に形成することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板では、レンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向（例えば、上下方向および左右方向）における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板では、レンズ基板は、前記レンズ部の表面付近に、染色により形成された着色部を有するものであることが好ましい。
これにより、表示される画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板では、前記着色部の着色濃度は、前記遮光部の着色濃度よりも低いものであることが好ましい。
これにより、光の利用効率が低下するのをより効果的に防止しつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法は、本発明のレンズ基板を製造する方法であって、
板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材の前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、ポジ型の感光性材料で構成された感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、
前記板状部材を介して、前記感光性膜に光を照射することにより、前記感光性膜の一部を感光させ、感光した感光部を形成する感光工程と、
前記感光部を除去する現像工程と、
前記現像工程後に、前記板状部材の前記感光性膜が設けられた面側に、染色を防止する染色防止剤を付与する染色防止剤付与工程と、
前記板状部材上に残存する前記感光性膜を除去する感光性膜除去工程と、
前記板状部材の前記染色防止剤が付与された面側に、着色液を付与する着色液付与工程とを有することを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なレンズ基板を製造することができる製造方法を提供することができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法は、本発明のレンズ基板を製造する方法であって、
板状をなし、一方の面側に多数のレンズ部が設けられた板状部材の前記レンズ部が設けられた側とは反対の面側に、ネガ型の感光性材料で構成された感光性膜を形成する感光性膜形成工程と、
前記板状部材を介して、前記感光性膜に光を照射することにより、前記感光性膜の一部を感光させ、感光した感光部を形成する感光工程と、
前記感光部を除去する現像工程と、
前記板状部材の前記感光性膜が形成された面側に、着色液を付与する着色液付与工程とを有することを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なレンズ基板を製造することができる製造方法を提供することができる。
【００１４】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液付与工程の後に、前記板状部材上に残存する前記感光性膜を除去する感光性膜除去工程を有することが好ましい。
これにより、レンズ基板の光学特性を特に優れたものとすることができるとともに、レンズ基板の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
【００１５】
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れ、コントラストに優れた画像を表示することが可能なリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明のレンズ基板、レンズ基板の製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」、「板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００１７】
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板の模式的な平面図、図３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１８】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、複数個のマイクロレンズ（レンズ部）２１を備えた基板本体（板状部材）２に対し、マイクロレンズ基板１の光の出射側（すなわち、マイクロレンズ２１が設けられている面側とは反対の面側）には、外光の反射を防止する機能を有する（外光吸収部として）機能する遮光部（着色部）２２が設けられている。また、本実施形態では、マイクロレンズ基板１は、基板本体２と拡散部（拡散板）３とを備えている。
【００１９】
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、均一な屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましいが、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、レンズ基板（基板本体）の構成材料として好適である。また、アクリル系樹脂は、上記のような優れた特性を有しているものの、一般的な方法では、着色が困難であるという問題点があったが、後に詳述する本実施形態の方法によれば、容易かつ確実に、好適な着色部（遮光部２２）を形成することができる。したがって、主としてアクリル系樹脂で構成された基板本体を用いることにより、各種特性が特に優れ、かつ、信頼性にも優れたレンズ基板（マイクロレンズ基板）を提供することができる。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００２０】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２１】
基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点（Ｔｇ）は、特に限定されないが、３０〜１３０℃であるのが好ましく、４５〜１２０℃であるのがより好ましく、７０〜１１０℃であるのがさらに好ましい。基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の耐久性を十分に優れたものとしつつ、マイクロレンズ基板１の製造時においては、後に詳述するような着色部としての遮光部２２を容易かつ確実に形成することができる。なお、基板本体２が複数種の樹脂成分で構成されるものである場合、樹脂材料のガラス転移点は、これらの樹脂成分の混合物についてのガラス転移点となるが、混合物としてのガラス転移点の測定が困難である場合には、各樹脂成分のガラス転移点の加重平均値を、樹脂材料のガラス転移点として採用することができる。
また、必要に応じて基板本体２の中には、光源からの入射光を拡散させるために、拡散材として、例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマー等が含まれていてもよい。なお、拡散材は樹脂の全体（基板本体２全体）に含まれるものであってもよいし、一部にのみに含まれるものであってもよい。
【００２２】
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅（図中Ｘで示す長さ））が横幅（水平方向の幅（図中Ｙで示す長さ））よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。また、投影される画像の輝度をより高いものとすることができる。
【００２３】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＸ［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＹ［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｘ／Ｙ≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｘ／Ｙ≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｘ／Ｙ≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２４】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１〜５００μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の幅）が前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００２５】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、５〜７５０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００２６】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、２．５〜３７５μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２７】
また、マイクロレンズ２１の高さ（凸部としてのマイクロレンズ２１の高さ）は、１〜３７５μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２８】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２９】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００３０】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述する着色部（遮光部）を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３１】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面近傍で焦点ｆを結ぶ。
【００３２】
また、前述したように、基板本体２の光の出射側（すなわち、マイクロレンズ２１が設けられた面側（レンズ面側）とは反対側）の表面付近の内部には、遮光部２２が設けられている。遮光部２２は、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が反射するのを防止する機能を有する。このような遮光部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３３】
ところで、従来のレンズ基板においては、コントラストの向上を目的とする場合、基板本体（透明性シート）の表面上に、所定の厚さの膜状の遮光性層を形成していた。しかしながら、このような構成では、遮光性層が所定の厚さを有しているため、透明性シートを透過した光の一部（レンズにより比較的大きく屈折した光）が、遮光性層の側面（厚さ方向の面）に入射し、遮光性層に吸収されてしまい、これにより、光の透過率が低下し、視野角特性が著しく低下するという問題点があった（図２１参照）。
【００３４】
これに対し、本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）１では、遮光部２２が基板本体２の内部に設けられているため、遮光部２２による外光の反射を防止する機能を十分に発揮させつつ、光の入射側から基板本体（板状部材）２に入射し、マイクロレンズ（レンズ部）２１で屈折した光が、遮光部２２によって遮光されるのを十分に防止することができる。また、上述したような従来のレンズ基板では、遮光性層が基板本体（透明性シート）の外部（表面上）に設けられていたため、透明性シートと遮光性層との界面での剥離（特に、急激な温度変化や長期間の使用による遮光性層の剥離）が生じ易く、レンズ基板の耐久性、信頼性においても問題があったが、本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）１では、遮光部２２が基板本体（板状部材）２の内部に設けられているため、耐久性、信頼性にも優れている。
【００３５】
遮光部２２は、染色により設けられたものである。これにより、例えば、万が一、光の入射側から入射した光（マイクロレンズ２１により屈折された光）の一部が、遮光部２２に入射した場合であっても、当該光を所定の透過率で透過することができ、光の透過率が著しく低下することが防止される。これに対し、従来のレンズ基板では、遮光部は、入射した光を完全に遮光する程度の遮光性を有するものであったため、入射側から入射した光の透過も遮断してしまい、その結果、の利用効率、視野角特性、表示される画像のコントラスト等を著しく低下させる要因になっていた。
【００３６】
遮光部２２は、染色により形成されたものであればよいが、染料により染色されたものであるのが好ましい。これにより、遮光部２２に入射した場合であっても、当該光を所定の透過率で透過することができ、光の透過率が著しく低下することが防止される。その結果、光の利用効率、視野角特性、表示される画像のコントラストを、特に優れたものとすることができる。
【００３７】
また、遮光部２２は、少なくともマイクロレンズ２１の集光部に対応する部位以外の部位に設けられるものであればよく、例えば、光の出射側のほぼ全体に設けられるものであってもよいがいが、図示の構成では、マイクロレンズ２１の集光部に対応する部位以外の部位のみに設けられており、集光部に対応する部位には遮光部２２は設けられていない。すなわち、図示の構成では、光の出射側の表面付近において、集光部に対応する部位が実質的に染色されていない。これにより、光の利用効率、視野角特性、表示される画像のコントラストを、特に優れたものとすることができる。
【００３８】
なお、上記のように、遮光部２２は、光の取捨側の表面付近のほぼ全体に設けられるものであってもよいが、このような場合、この表面付近において、マイクロレンズ（レンズ部）２１の集光部に対応する部位は、それ以外の部位に比べて着色濃度が低いものであるのが好ましい。これにより、光の利用効率、視野角特性、表示される画像のコントラストが低下するのをより効果的に防止することができる。
【００３９】
また、上記のように、遮光部２２は、基板本体２を染色することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体２の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのを防止することができる。また、遮光部（着色部）２２の形成方法として、染色法を採用することにより、厚さを比較的薄いものとしつつ、遮光性を十分に有する遮光部（着色部）２２を好適に形成することができる。
【００４０】
また、遮光部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、基板本体２を染色することにより設けらたものであるため、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、遮光部２２と、それ以外の部位（非着色部）との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００４１】
遮光部２２の厚さは、特に限定されないが、０．１〜５０μｍであるのが好ましく、１〜４０μｍであるのがより好ましく、２〜３０μｍであるのがさらに好ましい。遮光部２２の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
【００４２】
遮光部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４３】
マイクロレンズ基板１は、基板本体２よりも光の出射側に、基板本体２を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部３を有している。拡散部３は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより，光を拡散させる。このような拡散部３を有することにより、視野角特性をさらに優れたものとすることができる。本実施形態では、拡散部３は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂（ポリスチレン樹脂、有機架橋ポリマー等）等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００４４】
また、拡散部３の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．７〜４ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部３の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部３の厚さが前記下限値未満であると、拡散部３を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部３の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、拡散部３内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００４５】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４６】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、基板本体２のマイクロレンズ２１が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、その反対の面側（遮光部２２が設けられた面側）から出射する。そして、その後、拡散部３内に入射し、入射した側とは反対の面側（出射側）から出射する。
このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。マイクロレンズ基板１から出射した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４７】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例（第１の方法）について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６、図７、図８は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。図６〜図８に示すマイクロレンズ基板の製造方法は、ネガ型の感光性材料を用いて、遮光部を有するマイクロレンズ基板（基板本体）を製造する方法である。なお、以下の説明では、図６〜図８中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００４８】
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４９】
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００５０】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００５１】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００５２】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＸ［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＹ［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｘ／Ｙ≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｘ／Ｙ≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｘ／Ｙ≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００５３】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さ（凹部６１の幅）は、１〜５００μｍであるのが好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５４】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、５〜７５０μｍであるのが好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５５】
また、凹部６１の曲率半径は、２．５〜３７５μｍであるのが好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００５６】
また、凹部６１の深さは、１〜３７５μｍであるのが好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５７】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５８】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５９】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００６０】
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜４を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜４および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００６１】
マスク形成用膜４は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜４（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
【００６２】
また、マスク形成用膜４（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
上記のように、マスク形成用膜４（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜４は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜４を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜４（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００６３】
マスク形成用膜４の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜４（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜４（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００６４】
マスク形成用膜４（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜４（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜４（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６５】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜４（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜４の形成と同時に、マスク形成用膜４と同様に設けることができる。
【００６６】
次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００６７】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６８】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６９】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、マスク形成用膜４に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク形成用膜４を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク形成用膜４を形成することでマスク形成用膜４に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００７０】
＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００７１】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
【００７２】
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
マスク８（マスク形成用膜４）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７３】
＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００７４】
また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００７５】
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７６】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７７】
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００７８】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００７９】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００８０】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１〜３００μｍであるのが好ましく、３〜２００μｍであるのがより好ましく、５〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００８１】
＜Ｂ２＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｂ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００８２】
＜Ｂ３＞次に、形成された基板本体２から、平板１１を取り除く（押圧部材除去工程。図６（ｃ）参照）。このとき、凹部付き部材６は除去せず、基板本体２と密着させておく。本工程で除去された平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００８３】
＜Ｂ４＞次に、基板本体２の出射側の面上にネガ型の感光性材料（例えば、フォトポリマー）で構成された感光性膜（ネガ型感光性膜）９１を形成する（感光性膜形成工程。図６（ｄ）参照）。基板本体２表面への感光性材料の付与方法（感光性膜９１の成膜方法）としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。また、成膜後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。また、ネガ型の感光性材料としては、例えば、感光性ポリイミド等が挙げられる。
【００８４】
＜Ｂ５＞次に、凹部付き部材６を、基板本体２から取り外す（凹部付き部材除去工程。図７（ｅ）参照）。なお、取り外された凹部付き部材６を、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高める上でも有利である。
＜Ｂ６＞次に、感光性膜９１で被覆された基板本体２に、凹部付き部材６を取り除いた面側から、露光用（感光用）の光を照射する（感光工程。図７（ｆ）参照）。これにより、照射した光は、マイクロレンズ２１により集光する。そして、集光部に対応する部位に設けられた感光性膜９１が硬化し、それ以外の部位に設けられた感光性膜９１は硬化しない。
【００８５】
＜Ｂ７＞次に、感光性膜９１のうち、未硬化の部位を除去する（現像工程。図７（ｇ）参照）。これにより、基板本体２の出射側の面に、マイクロレンズ２１の集光部に対応する部位を被覆するマスク９２が得られる。
＜Ｂ８＞次に、マスク９２で被覆された基板本体２のマスク９２で被覆された面側に着色液（染色液）を付与する（着色液付与工程。図７（ｈ）参照）。これにより、基板本体２は、出射面側の、マスク９２で被覆されていない部位の表面付近のみが選択的に染色され、遮光部２２が形成される。この際、マイクロレンズ面は保護フィルム等で保護しておくのが良いが、保護せずに第２の実施形態で詳述するレンズ面を同時に染色することもできる。
【００８６】
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の染色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に染色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００８７】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が染色される。
【００８８】
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さで着色濃度も均一な遮光部２２を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）遮光部２２を形成することができる。
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に遮光部２２（特に、均一な厚さで着色濃度が均一な遮光部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００８９】
着色液を付与する工程（着色液付与工程）を、以下のような温度条件で行うのが好ましい。すなわち、着色液付与工程に供される基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、着色液付与工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下であるのが好ましく、（Ｔｇ−７０）〜（Ｔｇ＋３０）℃であるのがより好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ＋２０）℃であるのがさらに好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ）℃であるのがもっとも好ましい。このような条件で着色液を付与することにより、均一な厚さで、かつ、着色濃度のムラが抑制された遮光部を形成することができる。これに対し、着色液付与工程における処理温度が前記上限値を超えると、樹脂の軟化が急激に始まり、軟化し始めた部分は、基板本体の分子結合を著しく緩められることで、着色液が早く含浸するため、基板面内における着色液の含浸の程度に大きな差を生じる。このために形成される遮光部の濃度のばらつきが急激に大きくなるために着色濃度のムラが発生する。なお、Ｔｇを超えたあたりから、基板本体の分子結合を基板全体で樹脂の軟化現象自体は始まり、基板本体の分子結合が緩まり、着色液が含浸し易くはなるが、軟化の程度の差がまだ大きくないために、着色濃度のばらつきを視認できるほど顕著ではない。しかしながら、前記上限値を超えると、軟化のレベルの差が面内で生じ始めるため、着色濃度のばらつきが視認できるようになる。また、着色液付与工程における処理温度が高すぎると、基板本体の変形が生じ、レンズ基板において所望の光学特性が得られない可能性や、著しい染色ムラが発生する可能性がある。また、着色液付与工程における処理温度が低すぎると、遮光部の形成の効率が低下する傾向を示す。
【００９０】
また、着色液付与工程における処理温度は、４０〜１００℃であるのが好ましい。処理温度が前記下限値未満では、著しく染色速度が低下する傾向を示す。また、処理温度が前記上限値を超えると、基板の樹脂が変形したり、成形したレンズ形状が変形し、光学特性に影響を与えたり、画質の低下を招く可能性がある。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体２内部への侵入を促進することができ、結果として、遮光部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００９１】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき遮光部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、遮光部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００９２】
以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、遮光部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な遮光部２２を形成することができる。
【００９３】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、遮光部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く遮光部２２を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より染色しやすいためであると考えられる。
【００９４】
また、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【００９５】
また、例えば、着色液中には、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていてもよい。これにより、上述したような効果がより顕著なものとして発揮される。より具体的には、例えば、基板本体２の染色をさらに容易かつ確実に行うことができ、特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体２に対しても、容易かつ確実に染色を施すことができる。また、本工程での処理温度をより低いものとした場合であっても、短時間で効率良く好適な遮光部２２を形成することができる。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとが相補的に作用し合い、その結果として、これらを併用することによる顕著な効果（相乗的な効果）が発揮されるものであると考えられる。より具体的には、以下のような理由（メカニズム）によるものであると考えられる。
【００９６】
すなわち、まず第一に、着色液中のベンジルアルコールが基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する。第二にベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が、着色剤に優先して、この空間に侵入し深く拡散する。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物が、ベンジルアルコールと同様に、基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する働きがあり、このためベンジルアルコールにより確保された空間を利用して、さらに深く、広く、その空間を広げる作用があることによる。なお着色剤にはこの働きがない。第三に、第二の作用と併行して着色剤が前記空間に入りこみ、保持される。あるいは一部、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物と置換する。このように、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールと併用することにより、着色剤が基板本体中に、効率良く、さらに深く、比較的短時間で拡散でき、均一に染色することが可能となる。
【００９７】
ベンゾフェノン系化合物としては、下記式（Ｉ）またはこれに対応する他の限界構造式で示されるようなベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（Ｉ）で示されるベンゾフェノン骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００９８】
【化１】
2007148174.tif 000003
【００９９】
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、上記式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（II）、式（III）として示す。
【０１００】
【化２】
2007148174.tif 000004
【０１０１】
【化３】
2007148174.tif 000005
【０１０２】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記式（IV）またはこれに対応する他の限界構造式で表されるようなベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（IV）で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【０１０３】
【化４】
2007148174.tif 000006
【０１０４】
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、上記式（IV）で表されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（Ｖ）、式（VI）として示す。
【０１０５】
【化５】
2007148174.tif 000007
【０１０６】
【化６】
2007148174.tif 000008
【０１０７】
着色液中には、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていればよいが、２種以上の化合物（特に、１種以上のベンゾフェノン系化合物と、１種以上のベンゾトリアゾール系化合物）が含まれていてもよい。これにより、これらの化合物同士が相補的に作用し合うとともに、これらの化合物がベンジルアルコールと相補的に作用し合うことにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
また、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とベンジルアルコールを含む前処理液に浸漬した後、前記着色液に浸漬しても同様の効果が得られる。
【０１０８】
着色液または前処理液がベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである場合、着色液または前処理液中におけるベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、遮光部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な遮光部２２を形成することができる。
【０１０９】
また、着色液または前処理液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、遮光部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に、また高速に好適な遮光部２２を形成することができる。
【０１１０】
＜Ｂ９＞次に、マスク９２を取り除く（マスク除去工程。図８（ｉ）参照）。これにより、マイクロレンズ基板１（基板本体２）の光学特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１（基板本体２）の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
＜Ｂ１０＞次に、基板本体２の遮光部２２が設けられた面側に、拡散部３を形成する（拡散部形成工程。図８（ｊ）参照）。拡散部３は、前述したような材料（拡散部３の構成材料）で構成されたシート材を、基板本体２の遮光部２２が設けられた面側に貼合することにより、好適に形成することができる。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
【０１１１】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の他の一例（第２の方法）について説明する。この方法（第２の方法）では、前述した方法（第１の方法）と同様に、凹部付き部材６を用いてマイクロレンズ基板１（基板本体２）を製造する。
図９、図１０、図１１は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。図９〜図１１に示すマイクロレンズ基板の製造方法は、ポジ型の感光性材料を用いて、遮光部を有するマイクロレンズ基板（基板本体）を製造する方法である。なお、以下の説明では、図９〜図１１中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【０１１２】
以下、第２の方法について、前述した方法（第１の方法）との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
＜Ｂ１’＞前述した第１の方法での＜Ｂ１＞と同様（図９（ａ）参照）。
＜Ｂ２’＞前述した第１の方法での＜Ｂ２＞と同様（図９（ｂ）参照）。
＜Ｂ３’＞前述した第１の方法での＜Ｂ３＞と同様（図９（ｃ）参照）。
【０１１３】
＜Ｂ４’＞次に、基板本体２の出射側の面上にポジ型の感光性材料（例えば、フォトポリマー）で構成された感光性膜（ポジ型感光性膜）９５を形成する（感光性膜形成工程。図９（ｄ）参照）。基板本体２表面への感光性材料の付与方法（感光性膜９５の成膜方法）としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。また、成膜後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。また、ポジ型の感光性材料としては、例えば、感光性ポリイミド等が挙げられる。
【０１１４】
＜Ｂ５’＞次に、凹部付き部材６を、基板本体２から取り外す（凹部付き部材除去工程。図１０（ｅ）参照）。なお、取り外された凹部付き部材６を、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高める上でも有利である。
＜Ｂ６’＞次に、感光性膜９５で被覆された基板本体２に、凹部付き部材６を取り除いた面側から、露光用（感光用）の光を照射する（感光工程。図１０（ｆ）参照）。これにより、照射した光は、マイクロレンズ２１により集光する。そして、集光部に対応する部位以外の部位に設けられた感光性膜９５が硬化し、集光部に対応する部位以外に設けられた感光性膜９５は硬化しない。
【０１１５】
＜Ｂ７’＞次に、感光性膜９５のうち、未硬化の部位を除去する（現像工程。図１０（ｇ）参照）。これにより、基板本体２の出射側の面に、マイクロレンズ２１の集光部に対応する部位以外の部位を被覆するマスク９６が得られる。
＜Ｂ８’＞次に、基板本体２のマスク９６で被覆された面側に、着色液による基板本体２の染色を防止する染色防止剤９９を付与する（染色防止剤付与工程。図１０（ｈ）参照）。染色防止剤９９としては、例えば、各種のりや、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂等の撥水性材料、染色犠牲層として形成される樹脂を（基板表面が染色される代わりの層を犠牲層として形成しておく）等が挙げられる。
【０１１６】
＜Ｂ９’＞次に、マスク９６を除去する（マスク除去工程。図１１（ｉ）参照）。これにより、基板本体２のうち、マスク９６で被覆されていた部位が露出し、その以外の部位が染色防止剤９９で被覆された状態になる。
＜Ｂ１０’＞次に、染色防止剤９９で部分的に被覆された基板本体２に着色液を付与する（着色液付与工程。図１１（ｊ）参照）。これにより、基板本体２は、出射面側の、染色防止剤９９で被覆されていない部位の表面付近のみが選択的に染色され、遮光部２２が形成される。この際、マイクロレンズ面は保護フィルム等で保護しておくのが良いが、保護せずに第２の実施形態で詳述するレンズ面を同時に染色することもできる。
本工程は、前述した方法（第１の方法）での＜Ｂ８＞と同様にして行うことができる。
【０１１７】
＜Ｂ１１’＞次に、染色防止剤９９を取り除く（染色防止剤除去工程。図１１（ｋ）参照）。これにより、マイクロレンズ基板１（基板本体２）の光学特性を特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１（基板本体２）の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
＜Ｂ１２’＞次に、前述した方法（第１の方法）での＜Ｂ９＞と同様にして、基板本体２の遮光部２２が設けられた面側に、拡散部３を形成する（拡散部形成工程。図１１（ｌ）参照）。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
【０１１８】
次に、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの第２実施形態について説明する。
図１２は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第２実施形態を示す模式的な縦断面図、図１３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１２、図１３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。
【０１１９】
以下、第２実施形態のレンズ基板および透過型スクリーンについて、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
図１に示すように、本実施形態のマイクロレンズ基板１では、基板本体２は、光の入射側の表面付近に前述したような遮光部（第１の着色部）２２を有するともに、マイクロレンズ（レンズ部）２１の表面付近（光の入射側の表面付近）に着色部（第２の着色部）２７が設けられている。着色部２７は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部２７を有することにより、よりコントラストに優れた画像を得ることができる。特に、遮光部（第１の着色部）２２と着色部（第２の着色部）２７とを有することにより、これらが相乗的に作用し合い、光の利用効率、視野角特性を特に優れたものとし、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。また、着色部２７を有することにより、遮光部２２の着色濃度が比較的低いものであっても、外光の吸収を十分に効率良く行うことができる。言い換えると、本実施形態のような構成であると、遮光部２２の着色濃度が比較的低いものとすることができ、その結果、光の利用効率、視野角特性を特に優れたものとし、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。このような着色部２７は、後に詳述するように、遮光部２２と同様な方法で形成することができる。
【０１２０】
着色部２７の着色濃度は、特に限定されないが、遮光部２２の着色濃度よりも低いものであるのが好ましい。これにより、光の利用効率が低下するのをより効果的に防止しつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
本実施形態において、着色部２７の濃度は、特に限定されないが、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で４０〜８５％であるのが好ましく、４５〜７５％であるのがより好ましく、５０〜７０％であるのがさらに好ましい。着色部２７の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１（基板本体２）を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２１】
着色部２７の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１２２】
次に、本実施形態のマイクロレンズ基板１の製造方法の一例（第１の方法）について説明する。この方法では、前述した第１実施形態の方法と同様に、凹部付き部材６を用いてマイクロレンズ基板１（基板本体２）を製造する。
図１４、図１５、図１６は、図１２に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。図１４〜図１６に示すマイクロレンズ基板の製造方法は、ネガ型の感光性材料を用いて、遮光部を有するマイクロレンズ基板（基板本体）を製造する方法である。なお、以下の説明では、図１４〜図１６中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【０１２３】
以下、本実施形態の方法（第１の方法）について、前述した実施形態の方法（第１の方法）との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
＜Ｂ１’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ１＞と同様（図１４（ａ）参照）。
＜Ｂ２’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ２＞と同様（図１４（ｂ）参照）。
【０１２４】
＜Ｂ３’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ３＞と同様（図１４（ｃ）参照）。
＜Ｂ４’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ４＞と同様（図１４（ｄ）参照）。
＜Ｂ５’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ５＞と同様（図１５（ｅ）参照）。
【０１２５】
＜Ｂ６’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ６＞と同様（図１５（ｆ）参照）。
＜Ｂ７’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ７＞と同様（図１５（ｇ）参照）。
＜Ｂ８’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ８＞と同様（第１の着色液付与工程。図１５（ｈ）参照）。
【０１２６】
＜Ｂ９’’＞次に、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側に着色液を付与する（第２の着色液付与工程。図１６（ｉ）参照）。これにより、基板本体２は、マイクロレンズ２１の表面付近に着色部（第２の着色部）２７が形成される。本工程は、例えば、前述した＜Ｂ７’’＞と同様な方法、条件により行うことができる。また、本工程で用いる着色液の組成、着色液の付与条件（例えば、処理温度、処理時間等）を、前述した＜Ｂ７’’＞とは異なるものとすることにより、容易かつ確実に、遮光部（第１の着色部）２２と、着色部（第２の着色部）２７とで、着色濃度、厚さ等を異なるものとすることができる。なお、この際遮光部２２を形成した面も同時に染色しても良いし、保護しておいても良い。
【０１２７】
＜Ｂ１０’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ９＞と同様（図１６（ｊ）参照）。
＜Ｂ１１’’＞前記第１実施形態の方法（第１の方法）での＜Ｂ１０＞と同様（図１６（ｋ）参照）。
以上のような方法により、本実施形態のマイクロレンズ基板１が得られる。
【０１２８】
次に、本実施形態のマイクロレンズ基板１の製造方法の他の一例（第２の方法）について説明する。
図１７、図１８、図１９は、図１２に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。図１７〜図１９に示すマイクロレンズ基板の製造方法は、ポジ型の感光性材料を用いて、遮光部を有するマイクロレンズ基板（基板本体）を製造する方法である。なお、以下の説明では、図１７〜図１９中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【０１２９】
以下、本実施形態の第２の方法について、前述した実施形態の方法（第２の方法）との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
＜Ｂ１’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ１’＞と同様（図１７（ａ）参照）。
＜Ｂ２’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ２’＞と同様（図１７（ｂ）参照）。
【０１３０】
＜Ｂ３’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ３’＞と同様（図１７（ｃ）参照）。
＜Ｂ４’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ４’＞と同様（図１７（ｄ）参照）。
＜Ｂ５’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ５’＞と同様（図１８（ｅ）参照）。
【０１３１】
＜Ｂ６’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ６’＞と同様（図１８（ｆ）参照）。
＜Ｂ７’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ７’＞と同様（図１８（ｇ）参照）。
＜Ｂ８’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ８’＞と同様（図１８（ｈ）参照）。
【０１３２】
＜Ｂ９’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ９’＞と同様（図１９（ｉ）参照）。
＜Ｂ１０’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ１０’＞と同様（第１の着色液付与工程。図１９（ｊ）参照）。
＜Ｂ１１’’’＞次に、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側に着色液を付与する（第２の着色液付与工程。図１９（ｋ）参照）。これにより、基板本体２は、マイクロレンズ２１の表面付近に着色部（第２の着色部）２７が形成される。本工程は、例えば、前述した＜Ｂ１０’’’＞と同様な方法、条件により行うことができる。また、本工程で用いる着色液の組成、着色液の付与条件（例えば、処理温度、処理時間等）を、前述した＜Ｂ１０’’’＞とは異なるものとすることにより、容易かつ確実に、遮光部（第１の着色部）２２と、着色部（第２の着色部）２７とで、着色濃度、厚さ等を異なるものとすることができる。なお、この際遮光部２２を形成した面も同時に染色しても良いし、保護しておいても良い。
【０１３３】
＜Ｂ１２’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ１１’＞と同様（図１９（ｌ）参照）。
＜Ｂ１３’’’＞前記第１実施形態の方法（第２の方法）での＜Ｂ１２’＞と同様（図１９（ｍ）参照）。
以上のような方法により、本実施形態のマイクロレンズ基板１が得られる。
【０１３４】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図２０は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、高輝度でコントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、上記のようなマイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）を備えているので、視野角特性等も特に優れたものとなる。
【０１３５】
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１３６】
例えば、レンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材として板状（またはフィルム状）の部材（凹部付き部材）を用いるものとして説明したが、凹部付き部材は、このような形態のものに限定されず、例えば、ロール形状をなし、その周面に凹部を有するものであってもよい。
【０１３７】
また、前述した実施形態では、着色液として、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を用いるものとして説明したが、本発明で用いる着色液は、このようなものに限定されない。例えば、着色液として、ベンジルアルコールを含まないものを用いてもよい。
また、着色液付与工程に先立ち、例えば、基板本体の染色のされ易さを向上させる等の目的で、基板本体に対して、前処理を行ってもよい。このような前処理としては、例えば、ベンジルアルコール、ベンゾフェノンおよびベンゾトリアゾールよりなる群から選択される少なくとも１種を含む液体を、基板本体に付与する処理等が挙げられる。
【０１３８】
また、レンズ基板の製造方法の各工程は、前述したような順に行うものに限定されず、各工程の順序を変更してもよい。
また、前述した第２実施形態では、着色部（第２の着色部）がレンズ基板の光の入射側の全面に設けられているものとして説明したが、着色部（第２の着色部）は、光の入射面側の一部のみに設けられるものであってもよい。例えば、着色部（第２の着色部）は、レンズ部の頂部付近にのみ選択に設けられたものであってもよい。これにより、光の利用効率、視野角特性を特に優れたものとしつつ、より優れたコントラストの画像を表示することができる。
【０１３９】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ、および、凹部付き部材における凹部は、平面視したときの形状が楕円形であるものとして説明したが、マイクロレンズ、凹部の形状は、いかなるものであってもよく、例えば、円形、略四角形、略六角形等であってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ、および、凹部付き部材における凹部は、千鳥状に配列したものとして説明したが、マイクロレンズ、凹部の配列はいかなるものであってもよく、例えば、正方格子状、ハニカム状に配列したものであってもよい。また、マイクロレンズ、凹部は、ランダムに形成されたものであってもよい。
【０１４０】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（レンズ基板）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、視野角上の観点から、より望ましい形状のレンズ部として、マイクロレンズを備えた構成について説明したが、レンズ基板を構成するレンズ部（レンズ）は、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズであってもよい。レンチキュラレンズを使用することにより、レンズ部の製造工程を簡略化することができ、また、透過型スクリーンの生産性を向上させることができる。
【０１４１】
また、前述した実施形態では、レンズ基板（マイクロレンズ基板）は、板状部材（基板本体）の光の出射側に、シート状（層状）の拡散部（拡散層）を有するものとして説明したが、拡散部は、例えば、レンズ部（マイクロレンズ）の集光部に対応する部位付近にのみ選択的に設けられたものであってもよい。これにより、視野角特性を十分に優れたものとしつつ、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【０１４２】
また、前述した実施形態では、レンズ基板（マイクロレンズ基板）は、拡散部を有するものとして説明したが、本発明のレンズ基板は必ずしも拡散部を有していなくてもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。例えば、本発明のレンズ付き基板は、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１４３】
［レンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
＜ａ１＞まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
【０１４４】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１４５】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
【０１４６】
＜ａ２＞次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは８２μｍ、曲率半径は４１μｍ、深さは４１μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１４７】
＜ａ３＞次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。得られた凹部付き部材を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１４８】
＜ｂ１＞次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（メタクリレート系のモノマーを主原料とする紫外線硬化型の樹脂）で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０μｍ）を載せた。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した（押圧工程）。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
【０１４９】
＜ｂ２＞その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た（固化工程）。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５５７であった。また、基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点Ｔｇは、９０℃であった。
【０１５０】
＜ｂ３＞次に、平板を取り除いた（押圧部材除去工程）。
＜ｂ４＞次に、基板本体の出射側の面上にネガ型の感光性材料（感光性ポリイミド（旭化成社製、パイメル））をロールコーターにより付与し、感光性膜（ネガ型感光性膜）を形成した（感光性膜形成工程）。
＜ｂ５＞次に、基板本体から、凹部付き部材を取り外した（凹部付き部材除去工程）。
【０１５１】
＜ｂ６＞次に、感光性膜で被覆された基板本体に、凹部付き部材を取り除いた側から、露光用（感光用）の光を照射した（感光工程）。これにより、照射した光は、マイクロレンズにより集光した。そして、集光部に対応する部位に設けられた感光性膜が硬化し、それ以外の部位に設けられた感光性膜は硬化しなかった。
＜ｂ７＞次に、現像液を用いて、感光性膜のうち、未硬化の部位を除去した。これにより、基板本体の出射側の面に、マイクロレンズの集光部に対応する部位を被覆するマスクが得られた（現像工程）。
【０１５２】
＜ｂ８＞その後、マスクで被覆された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、マスクで被覆された面側全体が着色液に接触し、マイクロレンズが設けられた面側（凹部付き部材のある側）には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７５℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：５０重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
【０１５３】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを３０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、基板本体の出射面側のマスクで被覆されていない部位の表面付近に、選択的に遮光部（着色部）が形成された基板本体を得た。形成された遮光部の厚さは、３２μｍであった。
【０１５４】
＜ｂ９＞次に、遮光部が形成された基板本体から、マスクを取り除いた（マスク除去工程）。
＜ｂ１０＞次に、基板本体の遮光部が設けられた面側に、拡散部を形成することにより、図１、図２に示すようなマイクロレンズ基板を得た（拡散部形成工程）。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に平均粒径７μｍのシリカが分散したシート材を、基板本体の遮光部が設けられた面側に貼合することにより行った。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、フレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１５５】
（実施例２、３）
凹部付き部材の製造条件を変更することにより凹部付き部材が有する凹部の大きさ、形状、占有率等を変更するとともに、遮光部を形成する着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１５６】
（実施例４）
まず、前記実施例１で製造した凹部付き部材を用意した。
＜ｂ１’＞前記実施例１の＜ｂ１＞と同様の処理を行った。
＜ｂ２’＞前記実施例１の＜ｂ２＞と同様の処理を行った。
＜ｂ３’＞前記実施例１の＜ｂ３＞と同様の処理を行った。
【０１５７】
＜ｂ４’＞次に、基板本体の出射側の面上にポジ型の感光性材料（感光性ポリイミド（日立化成デュポン社製、ＨＤ−８０００））をロールコーターにより付与し、感光性膜（ポジ型感光性膜）を形成した（感光性膜形成工程）。
＜ｂ５’＞次に、基板本体から、凹部付き部材を取り外した（凹部付き部材除去工程）。
【０１５８】
＜ｂ６’＞次に、感光性膜で被覆された基板本体に、凹部付き部材を取り除いた側から、露光用（感光用）の光を照射した（感光工程）。これにより、照射した光は、マイクロレンズにより集光した。そして、集光部に対応する部位以外の部位に設けられた感光性膜が硬化し、集光部に対応する部位に設けられた感光性膜は硬化しなかった。
＜ｂ７’＞次に、現像液を用いて、感光性膜のうち、未硬化の部位を除去した。これにより、基板本体の出射側の面に、マイクロレンズの集光部に対応する部位以外の部位を被覆するマスクが得られた（現像工程）。
【０１５９】
＜ｂ８’＞次に、基板本体のマスクで被覆された面側に、染色防止剤（防染糊）を付与した（染色防止剤付与工程）。
＜ｂ９’＞次に、マスクを除去した（マスク除去工程）。これにより、基板本体のうち、マスクで被覆されていた部位が露出し、その以外の部位が染色防止剤で被覆された状態になった。
【０１６０】
＜ｂ１０’＞その後、染色防止剤で被覆された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、染色防止剤で被覆された面側全体が着色液に接触し、マイクロレンズが設けられた面側（凹部付き部材のある側）には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７５℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：５０重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
上記のような条件で、基板本体と着色液とを３０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、基板本体の出射面側の染色防止剤で被覆されていない部位の表面付近に、選択的に遮光部（着色部）が形成された基板本体を得た。形成された遮光部の厚さは、３２μｍであった。
【０１６１】
＜ｂ１１’＞次に、染色防止剤を除去した（染色防止剤除去工程）。染色防止剤の除去は微量の界面活性剤を含む温湯水洗により行った。
＜ｂ１２’＞次に、基板本体の遮光部が設けられた面側に、拡散部を形成することにより、図１、図２に示すようなマイクロレンズ基板を得た（拡散部形成工程）。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に平均粒径７μｍのシリカが分散したシート材を、基板本体の遮光部が設けられた面側に貼合することにより行った。
その後、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１６２】
（実施例５、６）
凹部付き部材の製造条件を変更することにより凹部付き部材が有する凹部の大きさ、形状、占有率等を変更するとともに、遮光部を形成する着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率を表１に示すように変更した以外は、前記実施例４と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１６３】
（実施例７）
まず、前記実施例１で製造した凹部付き部材を用意した。
＜ｂ１’’＞前記実施例１の＜ｂ１＞と同様の処理を行った。
＜ｂ２’’＞前記実施例１の＜ｂ２＞と同様の処理を行った。
＜ｂ３’’＞前記実施例１の＜ｂ３＞と同様の処理を行った。
＜ｂ４’’＞前記実施例１の＜ｂ４＞と同様の処理を行った。
【０１６４】
＜ｂ５’’＞前記実施例１の＜ｂ５＞と同様の処理を行った。
＜ｂ６’’＞前記実施例１の＜ｂ６＞と同様の処理を行った。
＜ｂ７’’＞前記実施例１の＜ｂ７＞と同様の処理を行った。
＜ｂ８’’＞遮光部を形成する着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有量を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１の＜ｂ７＞と同様の処理を行った。
【０１６５】
＜ｂ９’’＞その後、マスクで被覆された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、マイクロレンズが設けられた面側全体が着色液に接触し、その反対の面側（マスクが設けられた面側）には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：１０重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
【０１６６】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを１８分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、基板本体のマイクロレンズが設けられた面側の表面付近の全体に、着色部（第２の着色部）が形成された基板本体を得た。また、形成された着色部（第２の着色部）の着色濃度は、また、遮光部（第１の着色部）の着色濃度より低いものであった。また、形成された着色部（第２の着色部）の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で７２％であった。
【０１６７】
＜ｂ１０’’＞次に、遮光部（第１の着色部）、着色部（第２の着色部）が形成された基板本体から、マスクを取り除いた（マスク除去工程）。
＜ｂ１１’’＞次に、基板本体の遮光部が設けられた面側に、拡散部を形成することにより、図１、図２に示すようなマイクロレンズ基板を得た（拡散部形成工程）。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に平均粒径７μｍのシリカが分散したシート材を、基板本体の遮光部が設けられた面側に接合することにより行った。
その後、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１６８】
（実施例８、９）
凹部付き部材の製造条件を変更することにより凹部付き部材が有する凹部の大きさ、形状、占有率等を変更するとともに、遮光部を形成する着色液付与工程（第１の着色液付与工程）における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率を表１に示すように変更した以外は、前記実施例７と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１６９】
（実施例１０）
まず、前記実施例１で製造した凹部付き部材を用意した。
＜ｂ１’’’＞前記実施例４の＜ｂ１’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ２’’’＞前記実施例４の＜ｂ２’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ３’’’＞前記実施例４の＜ｂ３’＞と同様の処理を行った。
【０１７０】
＜ｂ４’’’＞前記実施例４の＜ｂ４’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ５’’’＞前記実施例４の＜ｂ５’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ６’’’＞前記実施例４の＜ｂ６’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ７’’’＞前記実施例４の＜ｂ７’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ８’’’＞前記実施例４の＜ｂ８’＞と同様の処理を行った。
【０１７１】
＜ｂ９’’’＞前記実施例４の＜ｂ９’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ１０’’’＞遮光部を形成する着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有量を表１に示すように変更した以外は、前記実施例４の＜ｂ１０’＞と同様の処理を行った。
＜ｂ１１’’’＞その後、染色防止剤で被覆された基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、マイクロレンズが設けられた面側全体が着色液に接触し、その反対の面側（染色防止剤が付与された面側）には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：２０重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
【０１７２】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを１２分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、基板本体のマイクロレンズが設けられた面側の表面付近の全体に、着色部（第２の着色部）が形成された基板本体を得た。形成された着色部（第２の着色部）の着色濃度は、また、遮光部（第１の着色部）の着色濃度より低いものであった。また、形成された着色部（第２の着色部）の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で７６％であった。
【０１７３】
＜ｂ１２’’’＞次に、染色防止剤を除去した（染色防止剤除去工程）。染色防止剤の除去は微量の界面活性剤を含む温湯水洗により行った。
＜ｂ１３’’’＞次に、基板本体の遮光部が設けられた面側に、拡散部を形成することにより、図１、図２に示すようなマイクロレンズ基板を得た（拡散部形成工程）。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に平均粒径７μｍのシリカが分散したシート材を、基板本体の遮光部が設けられた面側に接合することにより行った。
その後、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１７４】
（実施例１１、１２）
凹部付き部材の製造条件を変更することにより凹部付き部材が有する凹部の大きさ、形状、占有率等を変更するとともに、遮光部を形成する着色液付与工程（第１の着色液付与工程）における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１０と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコールの含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１７５】
（比較例１）
基板本体に対して、遮光部を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。すなわち、＜ｂ４＞、＜ｂ６＞、＜ｂ７＞、＜ｂ８＞、＜ｂ９＞の工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１７６】
（比較例２）
以下に述べるように、基板本体の外部に遮光部を形成した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
まず、前記実施例１と同様にして、基板本体を製造した。
その後、製造された基板本体から、平板および凹部付き部材を取り除いた。
【０１７７】
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー（遮光膜形成用材料）中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。その後露光した。
【０１７８】
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、ＩＲによりポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さは５．０μｍであった。
【０１７９】
（比較例３）
特開２００２−３５０９８１号公報に示されているような方法により、遮光部（遮光性層）を有するレンズ基板（レンチキュラレンズシート）を製造した。以下、この方法について、説明する。
図２２に示すような装置を用い、厚みが７５μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを基材Ｈ６として用い、紫外線硬化性樹脂組成物Ｈ７ａをディスペンサＨ３３より供給して、基材Ｈ６の片面に、ピッチが１３０μｍ、高さが約４５μｍのレンチキュラレンズが密に配列したレンチキュラレンズ層Ｈ７が積層されたレンチキュラレンズシートＨ２を製造した。
【０１８０】
上記のレンチキュラレンズシートＨ２のレンチキュラレンズ層Ｈ７が積層されていない側に、厚みが５μｍのポジ型レジスト用ドライフィルム（東京応化工業（株）製、Ｐ−ＲＺ３０）をローラで圧着して積層した後、紫外線照射装置Ｈ３４により、レンチキュラレンズ層Ｈ７側から紫外線で露光した。露光後、炭酸ナトリウムの１％水溶液に１分間浸漬することにより、露光部を溶解除去し、その後、水洗して乾燥させ、レンチキュラレンズ層Ｈ７の各々のレンチキュラレンズの集光部のドライフィルムが除去され、非集光部のドライフィルムが凸部となった中間体を得た。
【０１８１】
熱転写シートとして、厚み４．５μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムの背面にシリコーン処理層、前面に、厚みが０．３μｍのワックス層（剥離層）、厚みが０．５μｍのカーボンブラック５０％を含むインキ層、および厚みが０．５μｍのポリエステル樹脂層（感熱接着剤層）を順次積層したものを用い、上記の中間体のドライフィルムの凸部に、転写温度；９０℃で転写し、遮光性層を形成し、遮光性層（遮光部）を有するレンチキュラレンズシートを得た。
【０１８２】
前記各実施例について、基板本体の構成、遮光部の形成に用いた着色液の条件、遮光部を形成する着色液付与工程（第１の着色液付与工程）の処理条件等を表１にまとめて示す。なお、表１中基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］で示し、遮光部を形成する着色液付与工程（第１の着色液付与工程）における処理温度をＴ［℃］、遮光部を形成する着色液付与工程（第１の着色液付与工程）における着色液付与処理（接触）時間をｔ［ｍｉｎ］で示した。
【０１８３】
【表１】
2007148174.tif 000009
【０１８４】
［透過率の評価］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンについて、透過率の評価を行った。
透過率の評価は、分光光度計（大塚電子株式会社製、瞬間マルチ測光システム「ＭＣＰＤ−１０００（２８Ｃ）」）を用い、分光光度計（分光スペクトル測定領域３８０ｎｍ〜８００ｎｍ）の光源より、基板本体の法線方向と平行に、マイクロレンズ基板（基板本体）の光の入射側から照射した光を、反対面に設置した積分球で受光した、全光線透過率のＹ値（Ｄ６５／２°視野）を透過率とした。
【０１８５】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図２０に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ製造した。
［コントラストの評価］
前記各実施例で作製された透過型スクリーンについて、コントラストの評価を行った。コントラストは、暗室において４１０ｌｘの全白光が入射したときの白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ（ｃｄ／ｍ２）と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ（ｃｄ／ｍ２）との比、ＬＷ／ＬＢを求めた。明室は、外光照度１８５ｌｘ（明室）の部屋で測定した。輝度の測定にはトプコン製輝度計ＢＭ−７を用いた。
【０１８６】
その結果を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ＬＷ／ＬＢが２５０以上。
○：ＬＷ／ＬＢが２００以上２５０未満。
△：ＬＷ／ＬＢが１００以上２００未満。
×：ＬＷ／ＬＢが１００未満。
【０１８７】
［輝度（明るさ）の評価］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンについて、表示される画像の輝度（明るさ）の評価を行った。評価の値としてＬＷ（ｃｄ／ｍ２）を入射光の照度４１０で割り、π（３．１４）を乗じた、単位面積当たりの明るさで比較した。
その結果を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：単位面積当たりの明るさが２．５以上。
○：単位面積当たりの明るさが２．０以上２．５未満。
△：単位面積当たりの明るさが１．０以上２．０未満。
×：単位面積当たりの明るさが１．０未満。
【０１８８】
［黒レベルの評価］
明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度増加量（黒輝度増加量）ＬＢ（ｃｄ／ｍ２）と暗室において光源を全消灯した時の黒表示の輝度の差を黒さのレベルとして評価した。数字が小さいほど、外光の影響なく黒レベルを維持できることを示す。
その結果を以下の３段階の基準に従い評価した。
◎：１未満。
○：１以上１．５未満。
×：１．５以上。
【０１８９】
［視野角レベルの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、画面に正対した状態から観察者が画面に近づいていき、鉛直方向（上下方向）から目視で観察し、極端な明るさの低下（非連続的な明るさの低下）が認められる角度がどこかを、以下の基準に従い比較した。
その結果を以下の４段階の基準に従い評価した。角度は、画面中央から法線方向と観察者の視線方向の成す角度を指す。
◎：８０°以上まで非連続的な明るさの低下がない
○：８０°付近に非連続的な明るさの低下がある
△：７０°付近に非連続的な明るさの低下がある
×：６０°付近に非連続的な明るさの低下がある
【０１９０】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラが全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラがほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラのうち少なくとも一つが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１９１】
【表２】
2007148174.tif 000010
【０１９２】
表２から明らかなように、本発明では、光の利用効率に優れるとともに、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、高コントラストの画像を好適に表示することができた。また、本発明では、回折光、モアレ、色ムラ等の発生が効果的に防止されていた。
【図面の簡単な説明】
【０１９３】
【図１】本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すレンズ基板の模式的な平面図である。
【図３】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図９】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１３】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第２実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１４】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１５】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１６】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例（第１の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１７】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１８】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図１９】図１２に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の他の一例（第２の方法）を示す模式的な縦断面図である。
【図２０】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【図２１】従来のレンズ基板を説明するための模式的な縦断面図である。
【図２２】比較例３で用いるレンズ基板の製造装置、製造方法を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１９４】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体（板状部材）  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２１１…中心  ２２…遮光部（第１の着色部）  ２３…組成物  ２４…透明フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ２７…着色部（第２の着色部）  ３…拡散部（拡散板）  ４…マスク形成用膜  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６１…凹部  ７…基板  ８…マスク  ８１…初期孔  ８９…裏面保護膜  ９１…感光性膜（ネガ型感光性膜）  ９２…マスク  ９５…感光性膜（ポジ感光性膜）９６…マスク  ９９…染色防止剤  １０…透過型スクリーン  １１…平板（押圧部材）  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体  Ｈ２…レンチキュラレンズシート  Ｈ６…基材  Ｈ７…レンチキュラレンズ層  Ｈ７ａ…紫外線硬化性樹脂組成物  Ｈ３３…ディスペンサ  Ｈ３４…紫外線照射装置
【図１】
2007148174.tif 000011
【図２】
2007148174.tif 000012
【図３】
2007148174.tif 000013
【図４】
2007148174.tif 000014
【図５】
2007148174.tif 000015
【図６】
2007148174.tif 000016
【図７】
2007148174.tif 000017
【図８】
2007148174.tif 000018
【図９】
2007148174.tif 000019
【図１０】
2007148174.tif 000020
【図１１】
2007148174.tif 000021
【図１２】
2007148174.tif 000022
【図１３】
2007148174.tif 000023
【図１４】
2007148174.tif 000024
【図１５】
2007148174.tif 000025
【図１６】
2007148174.tif 000026
【図１７】
2007148174.tif 000027
【図１８】
2007148174.tif 000028
【図１９】
2007148174.tif 000029
【図２０】
2007148174.tif 000030
【図２１】
2007148174.tif 000031
【図２２】
2007148174.tif 000032