(57)【要約】【課題】吐出性能の経時低下を好適に抑えることができる液状体配置方法、当該液状体配置方法を用いた電気光学装置の製造方法、並びに当該液状体配置方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供すること。【解決手段】吐出ヘッド１０３（実線位置）は、液状体の吐出を行いつつ、仮想線位置Ａ、仮想線位置Ｂ、仮想線位置Ｃ、仮想線位置Ｄの順に基板１０１上を相対移動する。実線位置および仮想線位置Ａ，Ｃにおいては、吐出ヘッド１０３の走査位置に同期したタイミングで、描画パターンデータに基づいた吐出が行われる。このうち、仮想線位置Ａにおいて溝状領域２２に対してなされる吐出は、ノズルメンテナンスとしての役割を果たすものであり、吐出ヘッド１０３の全てのノズルについて行われる。【選択図】図５
2007160248.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルから基板に対して液状体を吐出して行う液状体配置方法であって、
前記ノズルのメンテナンスのための吐出を、少なくとも前記基板内の所定領域に対して行う工程を有することを特徴とする液状体配置方法。
【請求項２】
前記ノズルのメンテナンスのための吐出を、前記基板外の領域に行う工程をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の液状体配置方法。
【請求項３】
複数の個体に対応した前記液状体の配置を一の前記基板に対して行う請求項１または２に記載の液状体配置方法であって、
前記所定領域は、前記複数の個体の対応領域間に設定されていることを特徴とする液状体配置方法。
【請求項４】
前記基板が、前記所定領域に対して吐出された前記液状体の当該所定領域外への流出を規制するための流出規制手段を備えていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の液状体配置方法。
【請求項５】
前記流出規制手段は、前記所定領域を区画するバンクであることを特徴とする請求項４に記載の液状体配置方法。
【請求項６】
機能性膜を構成要素として備える電気光学装置の製造方法であって、
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の液状体配置方法を用いて前記基板上に前記液状体を配置する工程と、
当該配置された液状体を固化して前記機能性膜を形成する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
ノズルから吐出された液状体が基板上に配置され、当該配置された液状体の固化により形成された機能性膜を構成要素として備える電気光学装置であって、
前記液状体の配置において、前記ノズルのメンテナンスのための吐出が前記基板内の所定領域に対して行われていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項７に記載の電気光学装置を備える電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ノズルから基板に対して液状体を吐出して行う液状体配置方法および電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気光学装置等の製造において、その構成要素となる機能性膜を液滴吐出法を用いて形成するという手法が注目されている。これは、基板上を走査する吐出ヘッドの微細ノズルから機能性材料を含む液状体を吐出させて、当該基板上に液状体をパターン化して配置（描画）し、さらに基板上の液状体を乾燥等により固化させて成膜を行うものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
吐出ヘッドは多くの微細ノズルを有しているが、その全てから常に連続した液状体の吐出が行われるわけではなく、ノズル毎の吐出の頻度は描画のパターンなどによって影響を受け、ほとんど吐出がされないノズルも存在する。このような吐出頻度の低いノズル内のインクは、次第に乾燥が進行して粘度が上昇し、次の吐出を行う際に正常な吐出ができなくなったり吐出量が低下してしまったりする場合がある。そこで特許文献１では、上述のような吐出性能の経時低下を抑えるために、ノズルメンテナンスとして基板外領域への定期的な吐出（予備吐出）を行うようにしている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２８２２４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、近年基板サイズの大型化や液状体の種類の多様化が進み、上述した予備吐出の態様ではノズルメンテナンスとしての役割を十分に果たすことができなくなってきている。予備吐出のためには吐出ヘッドを基板外領域に移動させる必要があり、その移動の間もなく液状体の乾燥が進行するような場合に対応できないからである。
【０００６】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、吐出性能の経時低下を好適に抑えることができる液状体配置方法、当該液状体配置方法を用いた電気光学装置の製造方法、並びに当該液状体配置方法を用いて製造された電気光学装置、電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、ノズルから基板に対して液状体を吐出して行う液状体配置方法であって、前記ノズルのメンテナンスのための吐出を、少なくとも前記基板内の所定領域に対して行う工程を有することを特徴とする。
【０００８】
この発明の液状体配置方法によれば、基板内の所定領域に対してノズルのメンテナンスのための吐出（予備吐出）を行うようになっているので、吐出対象位置を基板外領域に移動させなくても、必要なタイミングで予備吐出を行うことができる。これにより、吐出性能の経時低下を好適に抑えることができる。
【０００９】
また好ましくは、前記液状体配置方法において、前記ノズルのメンテナンスのための吐出を、前記基板外の領域に行う工程をさらに有することを特徴とする。
この発明の液状体配置方法によれば、基板外に対して十分な予備吐出を行うことができるので、液状体配置の目的パターンや基板の種類などに大きく拘束されることなく、上述の効果を得ることができる。
【００１０】
また好ましくは、複数の個体に対応した前記液状体の配置を一の前記基板に対して行う前記液状体配置方法において、前記所定領域は、前記複数の個体の対応領域間に設定されていることを特徴とする。
この発明の液状体配置方法によれば、個体の対応領域間に予備吐出が行われるので、予備吐出に係る実質的な基板上の痕跡を残さないようにすることができる。
【００１１】
また好ましくは、前記液状体配置方法において、前記基板が、前記所定領域に対して吐出された前記液状体の当該所定領域外への流出を規制するための流出規制手段を備えていることを特徴とする。
さらに好ましくは、前記流出規制手段は、前記所定領域を区画するバンクであることを特徴とする。
この発明の液状体配置方法によれば、上記所定領域に対して予備吐出された液状体の流出が流出規制手段により規制されるので、不測の品質問題の発生を好適に回避することができる。またこの場合、所定領域を区画するバンクを流出規制手段とすることで、上記の効果を好適に得ることができる。
【００１２】
本発明は、機能性膜を構成要素として備える電気光学装置の製造方法であって、前記液状体配置方法を用いて前記基板上に前記液状体を配置する工程と、当該配置された液状体を固化して前記機能性膜を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
この発明の電気光学装置の製造方法によれば、上記液状体配置方法を用いて機能性膜を形成するので、安定した吐出性能の下、基板内における特性ムラの少ない電気光学装置を製造することができる。
【００１４】
本発明は、ノズルから吐出された液状体が基板上に配置され、当該配置された液状体の固化により形成された機能性膜を構成要素として備える電気光学装置であって、前記液状体の配置において、前記ノズルのメンテナンスのための吐出が前記基板内の所定領域に対して行われていることを特徴とする。
【００１５】
この発明の電気光学装置は、基板上に配置された液状体を固化して得られる機能性膜を有しており、その液状体の配置の際において、ノズルのメンテナンスのための吐出が基板内の所定領域に対して行われている。このため、安定した吐出性能の下で液状体の配置がなされており、斯かる工程を経て形成された機能性膜を備えたこの電気光学装置は、高品質である。
【００１６】
本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えることを特徴とする。
この発明の電子機器は、上記電気光学装置を備えているので高品質である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。また、以下の説明で参照する図では、図示の便宜上、各層や各部材の縮尺を実際のものとは異なるように表している。
【００１８】
（液滴吐出装置）
まずは、図１、図２を参照して、本発明に係る液滴吐出装置の構成について説明する。
図１は、液滴吐出装置の全体構成を示す概略図である。図２は、液滴吐出装置の電気的構成を示すブロック図である。
【００１９】
図１に示す液滴吐出装置１００は、基板１０１を載置するための載置台１０２と、吐出面１０３ａから液状体を液滴化して吐出する吐出ヘッド１０３と、吐出ヘッド１０３に液状体を供給する液状体供給手段１０６と、を備えており、一辺が２ｍ以上のサイズの基板１０１に対応することが可能である。吐出ヘッド１０３は、吐出面１０３ａを載置台１０２に対向させた状態でＸ軸方向に往復動（主走査）可能なように、主走査手段１０４を介して本体部（図示せず）に取り付けられている。また、載置台１０２は、Ｙ軸方向に往復動（副走査）可能なように、副走査手段１０５を介して本体部（図示せず）に取り付けられている。
【００２０】
吐出ヘッド１０３の吐出面１０３ａには、主走査方向に直交して（Ｙ軸方向に沿って）ライン状の配列をなす複数のノズル１０が形成されている。ノズル１０は、圧電素子１２の駆動によって容積可変とされた圧力室１１と連通されており、圧電素子１２の駆動制御（吐出制御）により、各ノズル１０から任意のタイミングで液滴１３が吐出可能となっている。尚、液状体の吐出技術としては、この例のような電気機械変換方式の他に、加熱素子の駆動によって生じた熱を圧力に変換するいわゆるサーマル方式などを採用することもできる。
【００２１】
かくして、吐出ヘッド１０３を基板１０１に対して相対移動（走査）させつつ、ノズル１０毎の吐出制御を行うことにより、液滴１３（液状体）を基板１０１上に任意のパターンで配置すること（描画動作）が可能となっている。
【００２２】
載置台１０２における基板１０１の配置領域の両脇には、予備吐出受容部１０７ａ，１０７ｂが設けられている。予備吐出受容部１０７ａ，１０７ｂは、ノズル１０のメンテナンスのための吐出（予備吐出）を行うための液状体の受容領域であり、スポンジ等で形成された吸液材１０８を備えている。
【００２３】
予備吐出は、描画動作中において定期的に行われる。吐出頻度の低いノズル１０は、内部の液状体の乾燥によって次第に吐出性能が低下するため、安定した吐出特性の維持のために、最低限必要な液状体の排出を確保する必要があるからである。とりわけ、後述する描画動作の例では、予備吐出を好適なタイミングで行えるよう、予備吐出受容部１０７ａ，１０７ｂに対してだけでなく、基板１０１内の所定領域に対しても予備吐出を実行するようになっている。
【００２４】
図２において、液滴吐出装置１００は、描画動作制御を行う制御部１２０を備えている。制御部１２０は、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）１２１を介してホストコンピュータ１１９と接続され、また内部Ｉ／Ｆ１２２を介して、吐出ヘッド１０３に設けられた吐出駆動回路１３１や、主走査手段１０４、副走査手段１０５と接続されている。
【００２５】
制御部１２０は、ＣＰＵ１２３と、ＣＰＵ１２３のワークメモリや吐出制御に係るデータのバッファメモリとして機能するＲＡＭ１２４と、各種制御情報を記憶するＲＯＭ１２５と、クロック信号（ＣＫ）を生成する発信回路１２６と、駆動信号（ＣＯＭ）を生成する駆動信号生成回路１２７と、を備えている。
【００２６】
吐出駆動回路１３１は、シフトレジスタ１３２からなるシフトレジスタ回路と、ラッチ回路１３３と、レベルシフタ１３４と、スイッチ１３５とを備え、圧電素子１２の個々に選択的に駆動信号（ＣＯＭ）を印加できるように構成されている。尚、駆動信号は、あらかじめ適切に傾きを設計された充電ないし放電のパルスで構成されている。
【００２７】
ホストコンピュータ１１９は、描画対象面（基板面）における液滴の配置を表した、いわゆるビットマップ形式の描画パターンデータを制御部１２０に伝送する。そして制御部１２０は、描画パターンデータをデコードしてノズル毎のＯＮ／ＯＦＦ情報であるノズルデータを生成する。
【００２８】
ノズルデータをシリアル信号化したノズルデータ信号（ＳＩ）は、クロック信号（ＣＫ）に同期してシフトレジスタ回路に伝送され、各ノズル毎のＯＮ／ＯＦＦ情報がそれぞれシフトレジスタ１３２に記憶される。そして、ＣＰＵ１２３で生成されたラッチ信号（ＬＡＴ）が各ラッチ回路１３３に入力されることで、ノズルデータがラッチされる。ラッチされたノズルデータはレベルシフタ１３４によって増幅され、ノズルデータが「ＯＮ」の場合には所定の電圧がスイッチ１３５に供給される。また、ノズルデータが「ＯＦＦ」の場合には、スイッチ１３５への電圧供給は行われない。
【００２９】
かくして、レベルシフタ１３４で昇圧された電圧がスイッチ１３５に供給されている間は、圧電素子１２に駆動信号（ＣＯＭ）が印加され、液滴１３がノズル１０から吐出される（図１参照）。このような描画パターンデータに基づく吐出制御は、吐出ヘッド１０３の走査位置に同期したタイミングで行われる。
【００３０】
描画動作中において断続的に実行される予備吐出のための吐出制御は、割り込み処理により予備吐出に対応するノズルデータ信号（ＳＩ）や駆動信号（ＣＯＭ）を発生させて行うことができる。また、このような割り込み処理の制御によらず、予備吐出に対応するビットマップ情報を付加した描画パターンデータをホストコンピュータ１１９に入力することで行うこともできる。
【００３１】
（液晶表示装置）
次に、図３を参照して、本発明に係る電気光学装置の一例としての液晶表示装置について説明する。
図３は、液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図である。
【００３２】
図３に示すように、電気光学装置としての液晶表示装置２５０は、パッシブマトリクス型液晶表示装置であって、複数の着色膜２６４を有するカラーフィルタ基板（ＣＦ基板）２６１と、複数の電極２６８を有する対向基板２７１と、ＣＦ基板２６１と対向基板２７１との間に狭持された液晶２７０とを備えた液晶表示パネル２６０を有している。このような液晶表示装置２５０は、受光型の表示装置であるため、例えば対向基板２７１の背面側にＬＥＤ素子、ＥＬ、冷陰極管などの光源を有する照明装置（図示を省略）を備えている。尚、本実施形態の液晶表示装置２５０は、これに限定されず、例えば対向基板２７１にＴＦＴやＴＦＤなどのスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置であってもよい。
【００３３】
対向基板２７１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、ＣＦ基板２６１との対向面側にＩＴＯからなる透明な複数の電極２６８を有している。電極２６８は、対向するＣＦ基板２６１に設けられたＩＴＯからなる透明な電極２６６と直交してＹ方向に延在している。すなわち、液晶表示パネル２６０は、互いに対向すると共に直交して格子状に配置された電極２６６と電極２６８とを有している。そして電極２６６と電極２６８とが直交して重なった部分が表示用の画素領域となっている。
【００３４】
ＣＦ基板２６１は、例えば透明な樹脂またはガラス基板を用いており、所定のパターンで形成された遮光膜２６２と、遮光膜２６２の上に形成されたバンク２６３とを備えている。また、遮光膜２６２およびバンク２６３によって区画された区画領域にＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）に対応する着色膜２６４と、着色膜２６４とバンク２６３を覆う平坦化層としてのＯＣ（オーバーコート）膜２６５とを備えている。電極２６６はＯＣ膜２６５上に形成されている。尚、電極２６６との密着性を確保するために、ＯＣ膜２６５の上にさらにＳｉＯ2などの薄膜を形成するようにしてもよい。
【００３５】
液晶表示パネル２６０は、このようなＣＦ基板２６１と対向基板２７１とをギャップ材２７２を介して所定の間隔で対向配置させ、両基板２６１，２７１の間に図示しないシール材により液晶２７０を封止したものである。基板２６１，２７１における液晶２７０の封入面側には、液晶２７０の分子を所定の方向に配向させる配向膜２６７，２６９が設けられている。
【００３６】
尚、液晶表示パネル２６０の前面側と背面側の表面には、通常、入射あるいは出射する光を偏向させる偏光板や、視角等を改善するための光学機能性フィルムとしての位相差フィルム等が配設されるが、これらは省略している。
【００３７】
遮光膜２６２は、ＣＦ基板２６１上に、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ等の不透明な金属、あるいはこれらの金属の酸化物等の化合物を材料として、気相法とフォトリソグラフィー法を用いて製造することができる。
【００３８】
バンク２６３は、遮光膜２６２が形成されたＣＦ基板２６１上に、ロールコート法やスピンコート法により厚みがおよそ２μｍの感光性樹脂層を形成した後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを施して得ることができる。
【００３９】
機能性膜としての着色膜２６４Ｂ，２６４Ｇ，２６４Ｒは、それぞれＢ，Ｇ，Ｒに対応する三色の色材（有機顔料）を含む液状体を用い、上述した液滴吐出装置１００を用いて形成することができる。より具体的には、液状体をバンク２６３により区画された区画領域内に配置（充填）し、配置された液状体を乾燥等により膜化させることで形成することができる。
【００４０】
機能性膜としてのＯＣ膜２６５は、透明なアクリル系樹脂を含む液状体を用いて、スピンコート法、オフセット印刷により形成することができるほか、上述した液滴吐出装置１００を用いても形成することができる。
【００４１】
機能性膜としての電極２６６，２６８は、気相法およびフォトリソグラフィー法を用いて形成することができるほか、上述した液滴吐出装置１００を用いて、Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ等の金属微粒子の分散液をパターン配置して形成することもできる。
【００４２】
機能性膜としての配向膜２６７，２６９は、上述した液滴吐出装置１００を用いてポリイミド樹脂等を含む液状体をパターン配置して樹脂膜を形成した後、ラビング処理により配向性を付与して形成することができる。
【００４３】
（電子機器）
次に、図４を参照して、本発明に係る電子機器の一例としての携帯型情報処理装置について説明する。
図４は、携帯型情報処理装置を示す概略斜視図である。
【００４４】
図４に示すように、電子機器としての携帯型情報処理装置３００は、入力用のキーボード３０１を有する情報処理装置本体３０３と、表示部３０２とを備えている。表示部３０２には、液晶表示装置２５０が用いられている。
【００４５】
（描画動作）
次に、図５を参照して、描画動作の具体例を、ＣＦ基板の着色膜の形成に係る描画動作を例に説明する。
図５は、描画動作における基板と吐出ヘッドとの位置関係を示す平面図である。
【００４６】
図５において、載置台１０２上に載置されている基板１０１は、仮想線で示す４つの個体単位領域２０ａ，２０ｂ，２０ｃ，２０ｄを有している。これらの個体単位領域２０ａ〜２０ｄは、基板１０１が仮想線に沿ってカットされた状態において、図３に示すＣＦ基板２６１の一つ一つに対応するものであり、それぞれに対して着色膜２６４Ｒ，２６４Ｇ，２６４Ｂの配置パターンに対応する液状体の配置が行われる。
【００４７】
基板１０１上には、既に別の工程によって、遮光膜２６２（図３参照）やバンク２６３ａ，２６３ｂが形成されている。バンク２６３ａによって形成される区画領域２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ（ハッチングで図示）は、それぞれ着色膜２６４Ｒ，２６４Ｇ，２６４Ｂ（図３参照）の配置領域に対応し、液晶表示装置２５０（図３参照）となった状態においていわゆるストライプ型の画素配列を構成する。
【００４８】
基板１０１上における個体単位領域２０ａ，２０ｂ間、および個体単位領域２０ｃ，２０ｄ間の領域には、Ｙ軸方向に沿って延在する溝状領域２２（ハッチングで図示）が、バンク２６３ｂによって形成されている。この溝状領域２２は、基板１０１内における予備吐出のために設けられた液状体の受容領域（所定領域）であり、バンク２６３ｂは、受けた液状体の他の領域への流出を規制する流出規制手段としての役割を果たしている。尚、バンク２６３ａとバンク２６３ｂとは、同一プロセスで形成されるものである。
【００４９】
描画動作は、基板１０１上を横断する吐出ヘッド１０３の移動（主走査）と載置台１０２（基板１０１）の所定量の移動（副走査）とを交互に繰り返して行われる。図示の例では、吐出ヘッド１０３（実線位置）は、液状体の吐出を行いつつ、仮想線位置Ａ、仮想線位置Ｂ、仮想線位置Ｃ、仮想線位置Ｄの順に基板１０１上を相対移動する。
【００５０】
吐出ヘッド１０３の各位置における液滴（液状体）の吐出条件は、表１に示すようになっている。すなわち、実線位置および仮想線位置Ａ，Ｃにおいては、吐出ヘッド１０３の走査位置に同期したタイミング（１７．３ｋＨｚ平均）で、描画パターンデータに基づいた吐出が行われる。このうち、仮想線位置Ａにおいて溝状領域２２に対してなされる吐出（予備吐出）は、ノズルメンテナンスとしての役割を果たすものであり、吐出ヘッド１０３の全てのノズルについて行われる。斯かるノズルの選択制御は、対応するビットマップ情報を含む描画パターンデータの生成により行われる。
【００５１】
【表１】
2007160248.tif 000003
【００５２】
一方、仮想線位置Ｂ，Ｄにおいては、吐出ヘッド１０３の移動（主走査）の開始に先立って、予備吐出受容部１０７ｂ，１０７ａに対しての吐出（予備吐出）がそれぞれ行われる。この予備吐出は、吐出ヘッド１０３を静止させた状態で、定周波数（２５ｋＨｚ）および所定回数（５００回）の条件の下で行われる。また、溝状領域２２に対してなされる吐出と同様、ノズルメンテナンスとしての役割を果たすものであることから、吐出ヘッド１０３の全てのノズルについて行われる。
【００５３】
このように、本実施形態の描画動作では、予備吐出受容部１０７ａ，１０７ｂだけでなく、基板１０１内の溝状領域２２に対しても予備吐出が行われることで、描画動作中におけるノズルメンテナンスの機会が十分に確保されている。これにより、安定した吐出性能が好適に維持され、特に、吐出ヘッドの主走査方向における描画ムラが好適に抑えられる。また、このような描画動作を経て製造された液晶表示装置２５０は、ムラの少ない高品質な画像を表示することができる。斯かる描画ムラの抑制の効果は、基板１０１の主走査方向のサイズが大きく、一回の主走査に長い時間がかかる場合により顕著なものとなる。
【００５４】
溝状領域２２はバンク２６３ｂによって区画されているため、予備吐出された液状体は、他の領域に流出することなく保持され、不測の品質問題の発生を好適に回避することができる。また、溝状領域２２は、個体単位領域２０ａ〜２０ｄ間に配置されているため、基板１０１が各個体単位領域２０ａ〜２０ｄ毎に分割された後においては、予備吐出に係る痕跡が各個体のＣＦ基板２６１（図３参照）に残ることはない。このため、後工程や製品の品質に何らかの影響を及ぼすことがない。
【００５５】
本発明は上述の実施形態に限定されない。
例えば、基板１０１内の予備吐出は、液晶表示装置２５０の仕上がり品質に影響のない範囲において、個体単位領域２０ａ〜２０ｄ内に行うようにすることもできる。例えば、液晶表示装置２５０における非表示部（遮光部）の対応領域にこのような予備吐出を行うことが可能である。
また、バンク２６３ｂを用いずに流出規制手段を構成することも可能である。例えば、溝状領域２２の内側領域が親液性、その外周領域が撥液性となるように、基板１０１の露出面の濡れ性を制御する（プラズマ処理や官能基を有する鎖状分子の表面吸着などが有効）ことで、同様の効果を得ることができる。
また、描画動作において、載置台１０２の移動によって主走査（吐出を伴う走査）を、吐出ヘッド１０３の移動によって副走査を行うようにすることも可能である。
また、上述した液状体配置方法（描画方法）を用いて形成される機能性膜の別の例として、例えば、有機ＥＬ表示装置における発光膜、プラズマディスプレイ装置における蛍光膜、電気回路全般における導電膜（導電配線）や高抵抗膜（抵抗素子）などを挙げることができる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】液滴吐出装置の全体構成を示す概略図。
【図２】液滴吐出装置の電気的構成を示すブロック図。
【図３】液晶表示装置の要部構造を示す概略断面図。
【図４】携帯型情報処理装置を示す概略斜視図。
【図５】描画動作における基板と吐出ヘッドとの位置関係を示す平面図。
【符号の説明】
【００５７】
１０…ノズル、１１…圧力室、１２…圧電素子、１３…液滴、２０ａ〜２０ｄ…個体単位領域、２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ…区画領域、２２…基板内における所定領域としての溝状領域、１００…液滴吐出装置、１０１…基板、１０２…載置台、１０３…吐出ヘッド、１０３ａ…吐出面、１０４…主走査手段、１０５…副走査手段、１０６…液状体供給手段、１０７ａ，１０７ｂ…予備吐出受容部、１０８…吸液材、１２０…制御部、１３１…吐出駆動回路、２５０…電気光学装置としての液晶表示装置、２６０…液晶表示パネル、２６１…ＣＦ基板、２６２…遮光膜、２６３ａ…バンク、２６３ｂ…流出規制手段としてのバンク、２６４Ｒ，２６４Ｇ，２６４Ｂ…機能性膜としての着色膜、２６５…機能性膜としてのＯＣ膜、２６６，２６８…機能性膜としての電極、２６７，２６９…機能性膜としての配向膜、２７０…液晶、２７１…対向基板、２７２…ギャップ材、３００…電子機器としての携帯型情報処理装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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