(57)【要約】【課題】基本色となるカラーレジスト以外に新たにカラーレジストを作成することなくサブ画素領域内の色相の調整を図ることができ、コストの上昇や製造効率の低下を抑えつつ、微妙な色味の再現が可能となる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置であって、カラーフィルタは、色相が異なる複数の着色層を含み、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層を配置したことを特徴とする。【選択図】図３
2007322459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置において、
前記カラーフィルタは、色相が異なる前記複数の着色層を含み、
少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように前記複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層を配置したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記サブ画素領域は反射領域及び透過領域を有し、前記反射領域内に前記二色以上の着色層を配置したことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記二色以上の着色層をサブ画素領域内にそれぞれ均一に分散させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記二色以上の着色層を含むサブ画素領域と、単色の着色層からなるサブ画素領域と、により一画素が構成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記サブ画素領域は反射領域及び透過領域を有し、前記反射領域の着色層の合計の厚さが前記透過領域の着色層の合計の厚さよりも薄いことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記サブ画素領域内に非着色領域を設けることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置の製造方法において、
少なくとも一部のサブ画素領域内で、前記複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層が平面的に重ならないで配置されるように、色相の異なる前記複数の着色層を順次形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載された電気光学装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器に関する。特に、少なくとも加法混色系の着色層を含むカラーフィルタを備えた電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像を表示する電気光学装置の一態様として、電極の対向領域から構成されるサブ画素領域を複数形成し、それぞれのサブ画素領域に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって当該サブ画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、表示領域全体として絵や文字等の像を表示させる液晶装置が多用されている。
かかる液晶装置においてカラー表示を行うためには、液晶材料を通過する光を着色するためのカラーフィルタが備えられる。このカラーフィルタとしては、主として、加法混色系のレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の三色を基本色としたカラーフィルタが用いられており、それぞれのサブ画素領域に印加する電圧の強弱や、それぞれの基本色の表示バランスを制御することにより、様々な色の表示を再現している。
【０００３】
このように、カラーフィルタは色相が異なる三色の着色層を配置して構成されるものであるが、機種ごとのスペックや用途の違いによって望まれる色合いが異なるために、着色層を形成するカラーレジストがそれぞれの目的に応じて作成され用いられている。
また、液晶装置が反射表示及び透過表示が可能な半透過反射型の液晶装置の場合には、反射領域と透過領域との着色層を通過する光の光路長の違いに起因する明度の差を解消するために、同じ色のサブ画素領域であっても、それぞれの領域に対応させて異なるカラーレジストが用いられる場合がある。
【０００４】
そのため、用意するカラーフィルタをできる限り少なくして、開発コスト等のコスト削減を図ることを目的としたカラー液晶装置が提案されている。より具体的には、図２２に示すように、一つの画素内に、反射層を有する反射部と反射層が存在しない透過部とを有し、当該画素が複数の原色毎に設けられているカラー液晶装置において、少なくとも原色の内一つの原色に対応する画素においては、反射部の一部と透過部の一部の双方を覆う色味の濃いカラーフィルタ部Ａと、反射部の残りの大部分と透過部の残りの大部分の双方を覆う色味の淡いカラーフィルタ部Ｂとを備えた液晶装置である（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−２５００２号公報  （全文、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のカラー液晶装置は、少なくとも一つの原色に対して、色味の濃いカラーフィルタ及び色味の淡いカラーフィルタを利用するものであり、少なくとも４種類以上のカラーレジストを準備する必要がある。特に、三色の原色すべてに対して色味の濃いカラーフィルタ及び色味の淡いカラーフィルタを利用する場合においては、６種類のカラーレジストを準備しなければならないものである。したがって、原色の数よりも多く準備しなければならない点において、未だ、コスト面で不利であるという問題がある。また、カラーレジストの種類の数に応じて、着色層の形成プロセスが増えるために、製造効率が低下するおそれもある。
さらに、特許文献１のカラー液晶装置は、反射領域と透過領域とで色濃度の濃淡を変えることができるものの、サブ画素領域内の色相自体を変えるものではなく、反射領域と透過領域とにおいて、それぞれ適した色相に調整することができないものである。
【０００６】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、少なくとも加法混色系の着色層を含むカラーフィルタを備えた電気光学装置において、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように少なくとも二色以上の着色層を配置することにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、基本色となるカラーレジスト以外に新たにカラーレジストを作成することなくサブ画素領域内の色相の調整を図ることができ、コストの上昇や製造効率の低下を抑えつつ、微妙な色味の再現が可能となる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような電気光学装置の製造方法、さらに、そのような電気光学装置を備えた電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置であって、カラーフィルタは、色相が異なる複数の着色層を含み、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層を配置した電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、サブ画素領域内において色相が異なる複数の着色層を平面的に重ならないように配置することにより、新たにカラーレジストを作成することなく、サブ画素領域が持つ色相を調整することができる。したがって、生産コストの上昇や、製造工程の増加を伴わず、新たな色相のサブ画素領域を形成したり、反射領域と透過領域とで色相を異ならせたりすることができる。
よって、所望の色合いを再現でき、表示される画像の色再現性の向上を図った電気光学装置を効率的に提供することができる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、サブ画素領域は反射領域及び透過領域を有し、反射領域内に二色以上の着色層を配置することが好ましい。
このように構成することにより、用いるカラーレジストの数を増やすことなくサブ画素領域内の反射領域における色相を調整して、それぞれの表示方法に適した色相のカラーフィルタを形成することができる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、二色以上の着色層をサブ画素領域内にそれぞれ均一に分散させることが好ましい。
このように構成することにより、一つのサブ画素領域内での色ムラを視認されにくくすることができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、二色以上の着色層を含むサブ画素領域と、単色の着色層からなるサブ画素領域と、により一画素が構成されることが好ましい。
このように構成することにより、用いるカラーレジストの数を増やすことなく、例えば、ＲＧＢのレジストを用いて、ＲＧＢ領域と併せて、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の色相を有する複数又は単数のサブ画素領域を含む画素を構成することができ、表示される画像における色の再現性を向上させることができる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、サブ画素領域は反射領域及び透過領域を有し、反射領域の着色層の合計の厚さが透過領域の着色層の合計の厚さよりも薄いことが好ましい。
このように構成することにより、サブ画素領域内全体の色相を均一に変化させた場合であっても、反射領域と透過領域との色濃度を合わせることができる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、サブ画素領域内に非着色領域を設けることが好ましい。
このように構成することにより、例えば、反射領域と透過領域との間の色濃度や、ＲＧＢそれぞれの色相間での色濃度を容易に調整することができる。
【００１３】
また、本発明の別の態様は、表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置の製造方法であって、少なくとも一部のサブ画素領域内で、複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層が平面的に重ならないで配置されるように、色相の異なる複数の着色層を順次形成する電気光学装置の製造方法である。
すなわち、基本色となるカラーレジスト以外に新たなカラーレジストを準備することなく、サブ画素領域内での異なる色相の着色層の配置具合を調整することによって、カラーレジストがもつ色相以外の色相を有するサブ画素領域を形成することができる。したがって、生産コストの上昇や製造工程の増加を伴わず、サブ画素領域の色相を調整することができ、表示される画像の色の再現性の調整が図られた液晶装置を効率的に製造することができる。
【００１４】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電子機器である。
すなわち、生産コストの上昇や製造工程の増加を防ぎつつ、サブ画素領域内での色相の調整が図られた電気光学装置を備えるために、表示される画像の色の再現性が向上した電子機器を効率的に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を備えた電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明が省略されている。
【００１６】
［第１実施形態］
第１実施形態は、表示領域を構成する複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタと、を備えた電気光学装置としての液晶装置である。
本実施形態の液晶装置において、カラーフィルタは、色相が異なる複数の着色層を含み、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層を配置したことを特徴とする。
以下、図１〜図１０を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の液晶装置について、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）を備えた素子基板と、ＣＭＹカラーフィルタを備えた対向基板とを含む液晶装置を例に採って説明する。ただし、本発明の液晶装置は、ＴＦＴ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置に制限されることはなく、ＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えた液晶装置やパッシブマトリクス型の液晶装置をはじめとして、カラーフィルタを備えた電気光学装置であれば好適に適用することができる。
【００１７】
１．基本的構成
まず、図１（ａ）〜（ｂ）を参照して、本実施形態に係る液晶装置の基本的構成について説明する。ここで、図１（ａ）は、本実施形態の液晶装置１０の斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＸＸ断面を矢印方向に見た断面図を示している。
この図１に示すように、本実施形態の液晶装置１０は、素子基板６０と対向基板３０とをシール材（図示せず）によって貼り合わせるとともに、セル領域内に液晶材料（図示せず）が封入された液晶パネル２０を備えている。また、液晶パネル２０における素子基板６０は、対向基板３０の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部６０Ｔを有しており、この基板張出部６０Ｔにおける液晶材料を保持する面側には、外部接続用端子（図示せず）が形成されているとともに、当該外部接続用端子に対して半導体素子９１及びフレキシブル回路基板１７が接続されている。
また、フレキシブル回路基板１７には光源１３が実装され、この光源１３と、当該光源１３から出射された光を液晶パネル２０に導く導光板１５とからなる照明装置１１が、液晶パネル２０の背面側に備えられている。
【００１８】
次に、本実施形態の液晶装置を構成する液晶パネルの部分拡大断面図を図２に示す。
この図２に示すように、液晶パネル２０は、スイッチング素子としてのＴＦＴ素子を備えた素子基板６０と、当該素子基板６０に対向し、カラーフィルタ３７を備えた対向基板３０とを備えている。また、対向基板３０の外側（図２の上側）表面には、位相差板４７が配置され、さらにその上に偏光板４９が配置されている。同様に、素子基板６０の外側（図２の下側）表面には、位相差板８７が配置され、さらにその下に偏光板８９が配置されている。そして、素子基板６０の下方に、上述した照明装置（図示せず）が配置される。
【００１９】
この液晶パネル２０において、対向基板３０は、ガラスやプラスチック等の基板３１を基体として、少なくとも加法混色系の着色層を含む、色相が異なる複数の着色層３７ａ、３７ｂ、３７ｃからなるカラーフィルタ３７と、そのカラーフィルタ３７の上に形成された対向電極３３と、その対向電極３３の上に形成された配向膜４５とを備えている。また、カラーフィルタ３７と対向電極３３との間には、反射領域及び透過領域それぞれのリタデーションを最適化するための層厚調整層４１を備えている。
ここで、対向電極３３は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等によって対向基板３０上の全域に形成された面状電極である。また、本実施形態におけるカラーフィルタ３７は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）それぞれの色相を有する加法混色系の複数の着色層からなり、対向する素子基板６０側の画素電極６３に対応するサブ画素領域がそれぞれ所定の色相の光を呈するように設けられている。そして、それぞれのサブ画素領域の間隙に相当する領域に対応して遮光膜３９が設けられている。
そして、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５には、配向処理としてのラビング処理が施されている。
【００２０】
また、対向基板３０に対向する素子基板６０は、ガラスやプラスチック等の基板６１を基体として、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのＴＦＴ素子６９と、透明な絶縁膜８１を挟んでＴＦＴ素子６９の上層に形成された画素電極６３と、その画素電極６３の上に形成された配向膜８５とを備えている。
ここで、図２に示す画素電極６３は、反射領域Ｒにおいては反射表示を行うための光反射膜７９（６３ａ）を兼ねて形成されるとともに、透過領域Ｔにおいては、ＩＴＯなどにより透明電極６３ｂとして形成されている。この画素電極６３ａとしての光反射膜７９は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性材料によって形成される。ただし、画素電極や光反射膜の構成は図２に示すような構成に限られるものではなく、画素電極全体をＩＴＯ等を用いて形成するとともに、別の部材として、アルミニウム等を用いた反射膜を設けた構成とすることもできる。
そして、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜８５には、配向処理としてのラビング処理が施されている。
【００２１】
また、ＴＦＴ素子６９は、素子基板６０上に形成されたゲート電極７１と、このゲート電極７１の上で素子基板６０の全域に形成されたゲート絶縁膜７２と、このゲート絶縁膜７２を挟んでゲート電極７１の上方位置に形成された半導体層７０と、その半導体層７０の一方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたソース電極７３と、さらに半導体層７０の他方の側にコンタクト電極７７を介して形成されたドレイン電極６６とを有する。
また、ゲート電極７１はゲートバス配線（図示せず）から延びており、ソース電極７３はソースバス配線（図示せず）から延びている。また、ゲートバス配線は素子基板６０の横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されるとともに、ソースバス配線はゲート絶縁膜７２を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びていて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
かかるゲートバス配線は液晶駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて、例えば走査線として作用し、他方、ソースバス配線は他の駆動用ＩＣ（図示せず）に接続されて、例えば信号線として作用する。
また、画素電極６３は、互いに交差するゲートバス配線とソースバス配線とによって区画される方形領域のうちＴＦＴ素子６９に対応する部分を除いた領域に形成されており、この画素電極６３単位でサブ画素領域が構成されている。
【００２２】
ここで、ゲートバス配線及びゲート電極は、例えばクロム、タンタル等によって形成することができる。また、ゲート絶縁膜は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮX）、酸化シリコン（ＳｉＯX）等によって形成される。また、半導体層は、例えばドープトａ−Ｓｉ、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって形成することができる。さらに、コンタクト電極は、例えばａ−Ｓｉ等によって形成することができ、ソース電極及びそれと一体をなすソースバス配線並びにドレイン電極は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等によって形成することができる。
【００２３】
また、有機絶縁膜８１は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びＴＦＴ素子を覆って素子基板６０上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜８１のドレイン電極６６に対応する部分にはコンタクトホール８３が形成され、このコンタクトホール８３の所で画素電極６３とＴＦＴ素子６９のドレイン電極６６との導通がなされている。
また、かかる有機絶縁膜８１には、反射領域Ｒに対応する領域に、散乱形状として、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する樹脂膜が形成されている。この結果、有機絶縁膜８１の上に積層される光反射膜７９（６３ａ）も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる。但し、この凹凸パターンは、透過領域Ｔには形成されていない。
【００２４】
また、照明装置は、図１（ｂ）に示すように、液晶パネル２０に対して電気的に接続されたフレキシブル回路基板１７に実装された光源１３と、液晶パネル２０の背面側に配置され、光源１３から出射された光を液晶パネル２０に導く導光板１５とを備えている。
ここで、照明装置１１に使用される光源１３としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）が一般的であるが、それ以外にも蛍光管を用いることもできる。また、導光板１５は、透光性のアクリル樹脂等からなる平板状の部材であり、液晶パネルと面する面の背面側には、光反射板又は光反射膜（図示せず）を備えている。これらの光源１３や導光板１５については、公知のものを用いることができる。
【００２５】
以上のような構造を有する液晶装置１０において、反射表示の際には、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板３０側から液晶パネル２０に入射するとともに、カラーフィルタ３７や液晶材料２１などを通過して光反射膜７９に至り、そこで反射されて再度液晶材料２１やカラーフィルタ３７などを通過して、液晶パネル２０から外部へ出ることにより、反射表示が行われる。
一方、透過表示の際には照明装置１１が点灯され、照明装置１１から出射された光が液晶パネル２０に入射するとともに、透光性の透明電極６３ｂ部分を通過し、カラーフィルタ３７、液晶材料２１などを通過して液晶パネル２０の外部へ出ることにより、透過表示が行われる。
そして、それぞれのサブ画素領域から出射される光が混色されて視認されるに至り、様々な色の表示が表示領域全体としてカラー画像として認識される。
【００２６】
２．カラーフィルタ
（１）基本構成
次に、本発明の特徴部分であるカラーフィルタについて詳細に説明する。
本発明で用いられるカラーフィルタは、少なくとも加法混色系の着色層を含む、色相の異なる複数の着色層から構成されている。この着色層のもととなるカラーレジストは、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させることにより濃度調整をして、所定の色調を呈するものとされている。
カラーフィルタを構成する加法混色系の着色層の色相の一例としては、原色系フィルタとしてのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色の組合せからなるものが挙げられる。このカラーフィルタは、サブ画素領域ごとに所定の色相の光が出射されるように、ＲＧＢの各着色層がパターニングされて配置されている。
また、それぞれ配置された着色層の違いによって出射される光の色相が異なる複数のサブ画素領域の集合が、画素の一単位として構成され、当該一画素内に存在する複数のサブ画素領域それぞれのオンオフや光の強弱が調整されつつ混色されて、一画素単位で所定の色表示が可能になっている。
【００２７】
（２）二色配置ドット
ここで、本発明において、カラーフィルタは、図３に示すように、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように少なくとも二色以上の着色層が配置されていることを特徴とする。すなわち、カラーレジストの色自体を変えることなく、既存のカラーレジストを用いて、色相を調整したサブ画素領域を含む一画素を構成することにより、表示可能な色合いを調整して、色再現性の向上を図ることができる。
【００２８】
例えば、図３（ａ）に示すように、Ｒ・Ｇ・Ｂそれぞれの色相を有するカラーレジストを用いて、それぞれ単色の着色層３７Ｒ、３７Ｇのみが配置されたサブ画素領域Ｒ、サブ画素領域Ｇを形成するとともに、着色層３７Ｂの一部に着色層３７Ｒが平面的に重ならないように配置され、マゼンタ系の色味がかった色相に調整されたサブ画素領域Ｂを形成して、三色の色相のサブ画素領域の集合として一画素を構成することができる。
このように、サブ画素領域Ｂを形成する際に、青の色相の着色層と赤の色相の着色層とを平面的に重ならないように配置することによって、サブ画素領域Ｂの色相をマゼンタ系の色味に近づけた画素を形成することができる。したがって、搭載される電子機器の種類にかかわらず用いるカラーレジストを共通して使用することができ、生産コストの上昇を伴わず、一画素単位として再現できる色の範囲を調整できる。そのため、表示される画像の色の再現性を向上させることができる。また、このようなカラーフィルタは、それぞれの色相のカラーレジストのパターニングによって得られるため、製造工程を増加させることもない。
【００２９】
ＲＧＢのカラーレジストを用いてサブ画素領域の色相を調整する例としては、上述の着色層ＢとＲとの組み合わせ以外に、図３（ｂ）に示すようなシアン系の色味がかったサブ画素領域Ｂを形成するための着色層３７Ｂと３７Ｇとの組み合わせ、図３（ｃ）に示すようなマゼンタ系の色味がかったサブ画素領域Ｒを形成するための着色層３７Ｒと３７Ｂとの組み合わせ、図３（ｄ）に示すようなイエロー系の色味がかったサブ画素領域Ｒを形成するための着色層３７Ｒと３７Ｇとの組み合わせ、図３（ｅ）に示すようなイエロー系の色味がかったサブ画素領域Ｇを形成するための着色層３７Ｇと３７Ｒとの組み合わせ、図３（ｆ）に示すようなシアン系の色味がかったサブ画素領域Ｇを形成するための着色層３７Ｇと３７Ｂとの組み合わせが挙げられる。
さらに、一画素を構成する複数のサブ画素領域のうちの一つのサブ画素領域において異なる色相の着色層を配置するだけでなく、二つ以上のサブ画素領域において異なる色相の着色層を配置することもできる。
【００３０】
サブ画素領域内に二色の着色層を平面的に重ならないように配置するにあたり、図４（ａ）に示すように、当該サブ画素領域の全体に均一に分散させて異なる色相の着色層を配置することもできる一方、図４（ｂ）〜（ｃ）に示すように、当該サブ画素領域の一部のみにおいて異なる色相の着色層を配置することもできる。異なる色相の着色層を配置する領域の面積やサブ画素領域内に占める割合、各着色層の平面形状については、基本色としてのカラーレジストの色相と、形成しようとする新たな色相に応じて自由に選択されうるものである。
ただし、サブ画素領域全体での色ムラを少なくしたい場合には、図４（ａ）に示すように、各色相の着色層をサブ画素領域全体で均一に分散させて配置することが好ましい。このように構成することにより、一つのサブ画素領域の大きさにかかわらず、視認される光の色ムラをなくすことができる。また、サブ画素領域内に反射領域及び透過領域を備える場合であっても、反射表示及び透過表示の駆動方法を切り替えることなく、それぞれの表示で同じような色表示を再現することができる。
【００３１】
一方、サブ画素領域内に反射領域及び透過領域を備える場合には、図５（ａ）〜（ｂ）に示すように、反射領域に相当する領域において、異なる色相の着色層を配置することが好ましい。
このように構成することにより、光が着色層を二回通過する反射領域において、明るいＣＭＹ表示駆動を行うことができる。すなわち、光が着色層を一回だけ通過する透過領域では明るさが保たれる一方、反射領域は、着色層を二回光が通過するため明るさが低下するおそれがあり、比較的色が明るいＣＭＹ表示駆動が望ましい。そのため、新たにＣＭＹのレジストを用いることなく、同時に２色以上の光が重なり合う並置加法混色により、もとの色の明るさよりも明るいＣＭＹ駆動で反射表示を行うことができる。
【００３２】
（３）三色配置ドット
また、一つのサブ画素領域内に配置する、異なる色相の着色層の種類の数は、上述したように二色に限られるものではなく、図６（ａ）〜（ｂ）に示すように、三色の着色層を一つのサブ画素領域内に配置することもできる。
このように、一つのサブ画素領域内において、使用するカラーレジストすべてを用いて、平面的に重ならないように配置することにより、サブ画素領域のもつ色相をさらに別の色相に調整したり、サブ画素領域内において領域ごとに色相を異ならせて調整したりすることができる。
【００３３】
例えば、図６（ａ）に示すように、一つのサブ画素領域内における一部又は全部の領域において、三色の着色層を平面的に重ならないように分散させて配置した場合には、当該サブ画素領域を通過する光を白表示により近付けることができる。
また、図６（ｂ）に示すように、一つのサブ画素領域を複数の領域に分け、ある領域では、例えば、着色層ＲとＧを配置し、それ以外の領域ではＲとＢを配置したサブ画素領域Ｒを形成することもできる。これによって、例えば、反射領域ではＣＭＹ系の色表示を可能にするとともに、透過領域では色味を調整したＲＧＢ系の色表示を可能にすることができる。したがって、上述したように、色が明るいＣＭＹ表示駆動が望ましい反射領域において、新たなカラーレジストを作成することなく、同時に２色以上の光が重なり合う並置加法混色により、もとの色の明るさよりも、明るいＣＭＹで反射表示を行うことができるとともに、透過領域においてもカラーレジストのもつ色相以外の色相に調整したドット領域を利用して、所望の色再現性を実現することができる。
【００３４】
（４）着色層の合計厚さ
また、一つのサブ画素領域内において異なる色相の着色層を平面的に重ならないように配置する場合においても、図７（ａ）〜（ｂ）に示すように、表示領域全体にわたって、反射領域の着色層の合計の厚さＴ１が、透過領域の着色層の合計の厚さＴ２よりも薄いことが好ましい。
この理由は、透過領域を通過する光は、着色層を一回だけ通過するのに対し、反射領域を通過する光は、着色層を二回通過するために、着色層の層厚の変化によって光路長に影響を受けやすく、光の透過率が低下しやすいためである。したがって、例えば、透過領域を通過する光の色濃度を基準に濃度を調整した着色材料を用いて着色層を形成しつつ、反射領域に形成する着色層の厚さを変えることにより、画素領域全体としての色濃度の調整を図ることができる。
【００３５】
（５）非着色領域
また、反射領域及び透過領域とで視認される光の色濃度を調整するには、図８（ａ）〜（ｂ）に示すように、着色層の合計の厚さを調整することと併せて、あるいは、着色層の合計の厚さは特に制御することなく、反射領域に非着色領域１８を設けることも好ましい。また、同様に、図８（ｃ）に示すように、反射領域及び透過領域にかかわらずサブ画素領域がもつ色相の濃度を調整するために、着色層に非着色領域１８を設けることが好ましい。
この理由は、かかる非着色領域を設けることにより、サブ画素領域を通過する光の透過率を向上させるとともに、着色される光の成分を減少させることができるためである。したがって、機種ごとにカラーレジストを作成することなく、形成する非着色領域の面積を制御することにより所望の色濃度に調整することができる。
【００３６】
このような非着色領域を設ける場合には、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、互いに色相が異なる着色層の境界を非着色領域１８とすることが好ましい。このように構成することにより、着色層同士が互いに重なり合うおそれがなくなるために、色が暗くなってしまうことを防ぐことができる。
なお、非着色領域のように着色層が存在しない領域を設ける方法以外にも、着色層の厚さを一部薄くした領域を設けることによっても、サブ画素領域を通過する光の色濃度を調整することができる。この場合には、形成する領域の面積だけでなく、厚さを制御することによって、所望の色濃度に調整することができる。
また、それぞれのサブ画素領域における非着色領域の平面形状は特に制限されるものではなく適宜選択することができる。
【００３７】
（６）配向突起
また、異なる色相の着色層を平面的に重ならないように配置するにあたり、新たに得ようとするサブ画素領域の色相とのバランスと、配置する着色層の割合とが適合するようであれば、着色層の表面の一部を突起状に形成し、液晶材料の配向方向を制御する配向突起として構成することもできる。
かかる配向突起は、電圧非印加状態における液晶材料を所定角度傾斜させて、例えば、垂直配向性（ＶＡ）の液晶材料である場合には、表示される画像の視野角を広くしたり、コントラスト等を向上させたりすることができる。
また、電圧非印加状態における液晶材料を所定角度傾斜させることにより、電圧印加時に、液晶材料の反応を早くすることができるとともに、電圧印加状態における液晶材料の配向方向を規定することもできるために、ＶＡ型の液晶材料に限らず、表示される画像の視野角を広くしたり、コントラストを向上させたりすることができる。
【００３８】
また、かかる突起部の形状としては、例えば、円錐、三角錐、四角錘等の錘形状の突起部とすることができる。このような錘形状の突起部とすることにより、特に、３６０°問わず、様々な方向からの視覚特性を向上させることができる。
また、別の突起部の形状の例としては、断面形状が山型状、矩形状、台形状、半円状のうちのいずれか一つの形状からなるライン状の突起部とすることができる。このような形状の突起部とすることにより、所定方向から視認する際の視覚特性を向上させることができるとともに、明るい画像表示を視認させることができるようになる。
さらに、突起部をライン状の突起部とする場合においても、複数のライン状の突起部を、くの字状にジグザグさせて配列させたり、直交する方向に配列させたりすることにより、３６０°問わず、様々な方向からの視覚特性を向上させることができる。
【００３９】
（７）サブ画素領域の配列パターン
また、同一の色相を有するサブ画素領域の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することもできる。
例えば、図１０（ａ）は、同一の色相を有するサブ画素領域をストライプ状に配列した状態を表している。また、図１０（ｂ）は、同一の色相を有するサブ画素領域をモザイク状に配列した状態を表し、図１０（ｃ）は、同一の色相を有するサブ画素領域をデルタ状に配列した状態を表している。
中でも、図１０（ａ）に示すような配列パターンであれば、着色層を形成する際に用いるマスクパターンが複雑にならず、一色の着色層を連続して形成することができる。
【００４０】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、複数のサブ画素領域と、少なくとも加法混色系の着色層を含む複数の着色層からなるカラーフィルタとを備えた電気光学装置の製造方法としての、第１実施形態の液晶装置の製造方法である。
かかる液晶装置の製造方法は、少なくとも一部のサブ画素領域内で、複数の着色層のうち少なくとも二色以上の着色層が平面的に重ならないで配置されるように、色相の異なる複数の着色層を順次形成することを特徴とする。
以下、第２実施形態に係る液晶装置の製造方法の一例を、図１１〜図１３を適宜参照しながら説明する。
【００４１】
１．素子基板の製造
素子基板６０は、公知の方法によって製造することができる。例えば、基体としてのガラス基板上に、ＴＦＴ素子や走査線、データ線、外部接続端子、画素電極等の各種の部材を形成した後、画素電極が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜を形成する。このようにして、種々の電気配線や導電膜等が形成された素子基板を製造することができる。
【００４２】
２．対向基板（カラーフィルタ基板）の製造
また、対向基板としてのカラーフィルタ基板は、例えば、基体としての大判のガラス基板におけるそれぞれのセル領域に対応させて、着色層や遮光膜、面状電極等の各種部材を形成した後、面状電極が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜を形成することにより製造することができる。
【００４３】
ここで、本発明では、着色層を形成する際に、少なくとも一部のサブ画素領域内で、少なくとも二色以上の着色層が平面的に重ならないで配置されるように、色相の異なる複数の着色層を順次形成することを特徴とする。
具体的には、図１１（ａ）に示すように、感光性樹脂材料中に顔料を混合したカラーレジストを、スピンコーター等の塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、着色材料を含有する樹脂層を形成する。その後、図１１（ｂ）〜（ｃ）に示すように、光の透過領域が所定形状にパターン化されたパターンマスクを介して露光した後現像剤を用いて現像することにより、所定形状にパターン化された着色層３７が形成される。
このレジスト塗布、露光、現像の各工程を、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の各顔料をそれぞれ混合したカラーレジストごとに繰り返すことにより、それぞれパターニングされた着色層を形成することができる。
【００４４】
このとき、図１１（ｄ）〜（ｅ）に示すように、一部のサブ画素領域内で、着色層Ｃ、Ｍ、Ｙのうちの少なくとも二つ以上の着色層が平面的に重ならないで配置されるように、それぞれの着色層をパターニングして形成する。
例えば、新たにマゼンタ系の色味がかった赤色（Ｒ）サブ画素領域を形成したい場合には、当該サブ画素領域内で着色層Ｒと着色層Ｂが平面的に重ならないで配置されるようにパターニングして形成し、新たにシアン系の色味がかった青色（Ｂ）サブ画素領域を形成したい場合には、当該サブ画素領域内で着色層Ｂと着色層Ｇとが平面的に重ならないで配置されるようにパターニングして形成し、新たにイエロー系の色味がかった緑色（Ｇ）サブ画素領域を形成したい場合には、当該サブ画素領域内で着色層Ｇと着色層Ｒとが平面的に重ならないで配置されるようにパターニングして形成する。さらに、一つのサブ画素領域内を複数の領域に分けて、一部の領域では着色層Ｒ、着色層Ｂが、他の領域では着色層Ｒ、着色層Ｇがそれぞれ平面的に重ならないで配置されるようにパターンニングして形成することにより、透過表示及び反射表示それぞれの表示方法に適した色相のカラーフィルタを形成することができる。
【００４５】
このように、ＲＧＢ三色のカラーレジストを用いて、様々な色相のサブ画素領域を構成することができるため、カラーレジスト自体を新たに作成することなく、表示される色の再現性を調整することができる。
そのため、生産コストの上昇や製造工程の増加を伴わずに、再現できる色の範囲を調整して、表示される画像の表示品位に優れた液晶装置を効率的に製造することができる。
【００４６】
また、それぞれの着色層を形成する際に、図１２（ａ）〜（ｃ）に示すように、パターンの異なる複数のパターンマスクを用いたり、図１３（ａ）〜（ｂ）に示すように、部分的に光の透過率が異なるハーフトーンマスクを用いたりして露光することにより、着色層の非形成領域や、膜厚が相対的に薄い領域を形成することができる。より具体的には、例えば、ポジ型の樹脂材料を用いた着色材料である場合に、上述の露光工程において、露光量の合計が多ければ多いほど、現像後の着色層の膜厚は薄くなる。そのために、膜厚を厚くしたい箇所においては露光量を少なくし、膜圧を薄くしたい場合や非形成領域を形成したい箇所においては露光量を多くすることによって、所望の膜厚の着色層を形成することができる。
このように形成することにより、サブ画素領域の色相の調整ができるだけでなく、それぞれのサブ画素領域の色濃度を変化させることができ、搭載される機種が異なる場合であっても、同じカラーレジストを用いてサブ画素領域の色相や明るさを調整しながら、所望のカラーフィルタを形成することができる。
【００４７】
これらのカラーレジストを構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オキセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、感光性樹脂材料には、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあり、上述した感光性樹脂材料はポジ型の感光性材料であるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、カラーフィルタは対向基板側でなく、素子基板側に形成することもできる。
【００４８】
また、カラーフィルタを形成する際に、それぞれのサブ画素領域の間隙に相当する部分においてＲ・Ｇ・Ｂの３色の着色層を重ね合わせることにより、遮光膜を同時に形成することもできる。
【００４９】
３．液晶セルの形成
次いで、図示しないものの、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方において、表示領域を囲むようにしてシール材を積層した後、他方の基板を重ね合わせて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板及び素子基板を貼り合わせて、セル構造を形成する。その後、真空注入法によってシール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封止材等により封止することにより液晶セルを形成することができる。
あるいは、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれか一方において表示領域を囲むようにしてシール材を描画するとともに、当該シール材の内側領域に対応させて液晶材料を配置してから貼り合わせることによっても、液晶セルを形成することができる。
【００５０】
４．組立
次いで、カラーフィルタ基板及び素子基板それぞれの外面に、位相差板（１／４λ板）及び偏光板を配置したり、ドライバを実装したりするとともに、バックライト等とともに筐体に組み込むことにより、図１（ａ）〜（ｂ）に示すような本実施形態の液晶装置を製造することができる。
【００５１】
［第３実施形態］
本発明の第３実施形態は、第１実施形態と同様の液晶装置において、カラーフィルタが二色以上の着色層を含むサブ画素領域と、単色の着色層からなるサブ画素領域と、により一画素が構成された液晶装置であって、カラーフィルタを構成するカラーレジストの数以上の数のサブ画素領域から一画素が構成された液晶装置である。
以下、第１実施形態の液晶装置と異なる点であるカラーフィルタについて詳細に説明する。
【００５２】
本実施形態で用いられるカラーフィルタは、第１実施形態の液晶装置と同様、ＲＧＢ等、少なくとも加法混色系の着色層を含む、色相の異なる複数の着色層から構成されている。
また、図１４〜図１７に示すように、少なくとも一部のサブ画素領域内に、平面的に重ならないように少なくとも二色以上の着色層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが配置されており、複数の着色層を含むサブ画素領域と、単色の着色層からなるサブ画素領域とから一画素が構成されていることを特徴とする。すなわち、カラーレジストの色自体を変えることなく、既存のカラーレジストを用いつつ、カラーレジストそのものの色相を有するサブ画素領域と併せて、さらに別の色相を有するサブ画素領域を含んで一画素を構成することにより、加法混色系ＲＧＢの三色だけでなく、より多数の原色（多原色）を用いてカラー表示を行うことで、再現できる色の範囲（色域）が広い多原色ディスプレイができる。
【００５３】
例えば、図１４に示すように、Ｒ・Ｇ・Ｂそれぞれの色相を有するカラーレジストを用いて、一色の着色層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂのみが配置されたサブ画素領域Ｒ、サブ画素領域Ｇ、サブ画素領域Ｂを形成するとともに、着色層３７Ｒ及び３７Ｂが平面的に重ならないように配置されたサブ画素領域Ｍ（マゼンタ）、着色層３７Ｂ及び３７Ｇが平面的に重ならないように配置されたサブ画素領域Ｃ（シアン）、着色層３７Ｇ及び３７Ｒが平面的に重ならないように配置されたサブ画素領域Ｙ（イエロー）を形成して、六色の色相のサブ画素領域の集合として一画素を構成することができる。
ＲＧＢの着色層であれば、二色ずつを組み合わせて平面的に重ならないように配置することによって、当該サブ画素領域を通過する光をＣＭＹ色にすることができ、新たなカラーレジストを作成することなく、一画素を構成するサブ画素領域を、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｃ・Ｍ・Ｙの六色のサブ画素領域とすることができる。したがって、各サブ画素領域の駆動を制御することによって、生産コストの上昇を伴わず、一画素単位として再現できる色の範囲が広がるために、表示される画像の色の再現性を向上させることができる。また、このようなカラーフィルタは、それぞれの色相のカラーレジストのパターニングによって得られるため、製造工程を増加させることもない。
【００５４】
ＲＧＢのカラーレジストを用いてＣＭＹドットを形成する例としては、上述の六色のカラーフィルタだけでなく、図１５（ａ）〜（ｃ）に示すように、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｃの四色や、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｍの四色、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｙの四色のサブ画素領域を一画素として表示する四色カラーフィルタを構成することができる。さらに、図１６（ａ）〜（ｃ）に示すように、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｃ・Ｍの五色や、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｍ・Ｙの五色、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｙ・Ｃの五色のサブ画素領域を一画素としての表示する五色カラーフィルタ等を構成することもできる。
さらに、図示しないものの、三色、四色、五色等それぞれのカラーフィルタを構成する際に、類似する色相のサブ画素領域を複数設けるとともに、それらのサブ画素領域のもつ色相を微妙に調整するために、異なる色相の着色層をサブ画素領域内に配置することもできる。
【００５５】
一例として上記の四色カラーフィルタを具体的に説明すると、四色の着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光領域（３８０−７８０ｎｍ）のうち、青系の色相の着色領域、赤系の色相の着色領域と、青から黄までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域からなる。ここで「系」との語を用いているが、例えば青系であれば純粋の青の色相に限定されるものでなく、青紫や青緑等を含むものである。赤系の色相であれば、赤に限定されるものでなく橙を含む。また、これら着色領域は色相で述べているが、当該色相は、彩度、明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。
【００５６】
具体的な色相の範囲に関し、青系の色相の着色領域は、青紫から青緑であり、より好ましくは藍から青である。また、赤系の色相の着色領域は、橙から赤である。また、青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、青から緑であり、より好ましくは青緑から緑である。また、青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、緑から橙であり、より好ましくは緑から黄である。もしくは緑から黄緑である。
【００５７】
ここで、各着色領域は、同じ色相が用いられることはない。例えば、青から黄までの色相で選択される２つの着色領域で緑系の色相を用いる場合は、他方は一方の緑に対して青系もしくは黄緑系の色相を用いる。
これにより、従来のＲＧＢの着色領域よりも広範囲の色再現性を実現することができる。
【００５８】
また、上記では四色の着色領域による広範囲の色再現性を色相で述べたが、他の具体的な例として、着色領域を透過した光の波長で表現すると以下のようになる。
青系の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４１５−５００ｎｍにある着色領域、好ましくは、４３５−４８５ｎｍにある着色領域である。また、赤系の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが６００ｎｍ以上にある着色領域で、好ましくは、６０５ｎｍ以上にある着色領域である。また、青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４８５−５３５ｎｍにある着色領域で、好ましくは、４９５−５２０ｎｍにある着色領域である。また、青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが５００−５９０ｎｍにある着色領域、好ましくは５１０−５８５ｎｍにある着色領域、もしくは５３０−５６５ｎｍにある着色領域である。
これらの波長は、透過表示の場合は、照明装置からの照明光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合は、外光を反射して得られた数値である。
【００５９】
他の具体的な例として、四色の着色領域をｘ、ｙ色度図で表現すると以下のようになる。
青系の着色領域は、ｘ≦０．１５１、ｙ≦０．２００にある着色領域であり、好ましくは、０．１３４≦ｘ≦０．１５１、０．０３４≦ｙ≦０．２００にある着色領域である。また、赤系の着色領域は、０．５２０≦ｘ、ｙ≦０．３６０にある着色領域であり、好ましくは、０．５５０≦ｘ≦０．６９０、０．２１０≦ｙ≦０．３６０にある着色領域である。また、青から黄までの色相で選択される一方の着色領域は、ｘ≦０．２００、０．２１０≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、０．０８０≦ｘ≦０．２００、０．２１０≦ｙ≦０．７５９にある着色領域である。また、青から黄までの色相で選択される他方の着色領域は、０．２５７≦ｘ、０．４５０≦ｙにある着色領域であり、好ましくは、０．２５７≦ｘ≦０．５２０、０．４５０≦ｙ≦０．７２０にある着色領域である。
これらのｘ、ｙ色度図は、透過表示の場合は、照明装置からの照明光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合は、外光を反射して得られた数値である。
【００６０】
これら四色の着色領域は、サブ画素に透過領域と反射領域を備えた場合、透過領域及び反射領域も上述した範囲で適用することができるものである。
上記の四色の着色領域の構成の例としては、具体的には以下のものがあげられる。すなわち、色相が、赤、青、緑、青緑の着色領域、色相が、赤、青、緑、黄の着色領域、色相が、赤、青、深緑、黄の着色領域、色相が、赤、青、エメラルド、黄の着色領域、色相が、赤、青、深緑、黄緑の着色領域、色相が、赤、青緑、深緑、黄緑の着色領域が例示される。
【００６１】
また、図１７に示すように、ＲＧＢそれぞれの色相を有するカラーレジストを用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂそれぞれのサブ画素領域を形成するとともに、ＲＧＢそれぞれの着色層がすべて平面的に重ならないように配置されたサブ画素領域Ｗ（白）を形成して、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｗの四色の色相のサブ画素領域の集合として一画素を構成することができる。
ＲＧＢの着色層をすべて同じサブ画素領域内に配置することにより白サブ画素領域を形成することができるため、新たなレジストを用いることなく一画素中に白サブ画素領域を設けることにより、表示される画像の白表示の輝度を上げることが出来、コントラスト性を向上させることができる。
【００６２】
なお、言うまでもなく、上述のサブ画素領域Ｒ・Ｇ・Ｂと併せてサブ画素領域Ｃ・Ｍ・Ｙを追加した上で、さらに、白サブ画素領域を設けることもできる。
ただし、一画素を構成するサブ画素領域が増えれば増えるほど、一画素が大きくなって画像表示が粗く視認されるおそれがあることから、望まれる電気光学装置のスペックにしたがい、一画素を構成するサブ画素領域の数や新たに作成するサブ画素領域の色相を決定することが好ましい。
また、表示される画像がなめらかな直線を再現できるように、複数のサブ画素領域によって形成される一画素は、実質的に正方形状とされることが好ましい。
【００６３】
また、サブ画素領域内で色相の異なる着色層を重ねないで配置するにあたり、当該サブ画素領域の全体で重ねることもできる一方、当該サブ画素領域の一部のみで重ねることもできる点や、一部のサブ画素領域内において着色層を重ねてある場合においても、全体として、反射領域の着色層の合計の厚さが、透過領域の着色層の合計の厚さよりも薄いことが好ましい点は、上述の第１実施形態と同様である。
また、着色層に非着色領域や、着色層の厚さを一部薄くした領域を設けたり、場合によっては、重なり部分を突起状に形成し、液晶材料の配向方向を制御する配向突起として構成することもできる。
【００６４】
また、同一の色相を有するサブ画素領域の配列パターンについても、例えば、図１８（ａ）〜（ｂ）に示すようなストライプ状配列や、図１９（ａ）に示すようなモザイク状配列、図１９（ｂ）に示すようなデルタ状配列を採用したり、図２０に示すように、一画素を上段のサブ画素領域ＲＧＢと下段のサブ画素領域ＣＭＹとから構成し、それらのサブ画素領域を交互に配置したりすることができる。
【００６５】
［第４実施形態］
本発明に係る第４実施形態として、第１実施形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
図２１は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル２０と、これを制御するための制御手段２００とを有している。また、図２１中では、液晶パネル２０を、パネル構造体２０ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２０ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段２００は、表示情報出力源２０１と、表示処理回路２０２と、電源回路２０３と、タイミングジェネレータ２０４とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源２０１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２０４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路２０２に供給するように構成されていることが好ましい。
【００６６】
また、表示処理回路２０２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２０ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２０ｂは、第１の電極駆動回路、第２の電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路２０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、種類にかかわらず共通のカラーレジストを用いつつ、所望の色相の光が出射されるように、一部のサブ画素領域で異なる色相の着色層を平面的に重ならないように配置した液晶装置を備えるために、生産コストの上昇を伴わず、所望の色の再現性が得られる電子機器とすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明によれば、一画素を構成するサブ画素領域のうちの少なくとも一部のサブ画素領域において、色相が異なる複数の着色層を平面的に重ならないように配置することにより、機種ごとにカラーレジストを準備することなく、所望の色再現性が得られる電気光学装置を得ることができる。したがって、液晶装置をはじめとする種々の表示装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を使用した装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、プラズマディスプレイ装置、有機エレクトロルミネッセンス装置及び無機エレクトロルミネッセンス装置などに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】第１実施形態にかかる液晶装置の概略斜視図及び断面図である。
【図２】第１実施形態の液晶装置のサブ画素領域の構成を示す概略断面図である。
【図３】異なる色相の着色層が配置されたサブ画素領域を含む三色で一画素を構成したカラーフィルタを示す図である。
【図４】着色層の配置について説明するために供する図である。
【図５】反射領域において異なる色相の着色層を配置した状態を示す図である。
【図６】サブ画素領域内に三色の着色層を配置した状態を示す図である。
【図７】反射領域と透過領域とで着色層の厚さを変えた状態を示す図である。
【図８】サブ画素領域に非着色領域を設けた状態を示す図である。
【図９】着色層の境界を非着色領域とした状態を示す図である。
【図１０】同じ色相のサブ画素領域の配列パターンについて説明するために供する図である。
【図１１】着色層の形成工程について説明するために供する図である。
【図１２】多段階露光によって着色層を形成する工程を説明するために供する図である。
【図１３】ハーフトーンマスクを用いて着色層を形成する工程を説明するために供する図である。
【図１４】一画素を六色で構成したカラーフィルタを示す図である。
【図１５】一画素を四色で構成したカラーフィルタを示す図である。
【図１６】一画素を五色で構成したカラーフィルタを示す図である。
【図１７】白ドットを含む四色で一画素を構成したカラーフィルタを示す図である。
【図１８】同じ色相のサブ画素領域の配列パターンについて説明するために供する図である（その１）。
【図１９】同じ色相のサブ画素領域の配列パターンについて説明するために供する図である（その２）。
【図２０】同じ色相のサブ画素領域の配列パターンについて説明するために供する図である（その３）。
【図２１】第３実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。
【図２２】従来のカラーフィルタの構成を説明する図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０：液晶装置、１８：非着色領域、２２：パターンマスク、２３：シール材、３０：カラーフィルタ基板、３１：ガラス基板、３３：走査電極、３５：光反射膜、３５ａ：開口部、３７：着色層、３７Ｃ：着色層（シアン）、３７Ｍ：着色層（マゼンタ）、３７Ｙ：着色層（イエロー）、３７Ｒ：着色層（赤）、３７Ｇ：着色層（緑）、３７Ｂ：着色層（青）、３７´：樹脂層、４１：オーバーコート層、４５：配向膜、６０：素子基板、６１：ガラス基板、６３：画素電極、６５：データ線、６９：ＴＦＴ素子、７５：配向膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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