(57)【要約】【課題】コントラストに優れた画像の表示に用いることができるレンズ基板を生産性良く製造することができ、製造時におけるレンズ基板、成形型の欠陥、破損等を十分に防止することができるレンズ基板の製造方法を提供すること、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れたレンズ基板を提供すること、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明の製造方法は、多数のレンズ部を有する基板本体を備えたレンズ基板を製造する方法であって、レンズ部の基板本体のレンズ部が設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、着色液を付与して着色液膜を形成する工程と、着色液が付与された成形型上に、流動性を有する組成物を付与する工程と、組成物を固化させて基板本体を得る工程と、着色液による着色部が形成された基板本体から成形型を除去する工程とを有することを特徴とする。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数のレンズ部を有する基板本体を備えたレンズ基板を製造する方法であって、
前記基板本体の前記レンズ部が設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、着色液を付与して着色液膜を形成する着色液膜形成工程と、
前記着色液が付与された前記成形型上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させて前記基板本体を得る固化工程と、
前記着色液による着色部が形成された前記基板本体から前記成形型を除去する成形型除去工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記着色液は、アルコール系液性媒体および／またはエステル系液性媒体を含むものである請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記着色液は、ポリオキシエチレンジグリセリルエーテル、ポリオキシプロピレンジグリセリルエーテル、および、シリコーンオイルよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものである請求項１または２に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
ＪＩＳ  Ｋ  ７１７７で規定される粘度試験方法に順じて測定される前記着色液の粘度が、２５℃において３５０〜６５０ｍＰａ・ｓである請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
ＪＩＳ  Ｋ  ２２４１で規定される表面張力試験法に順じて測定される前記着色液の表面張力が、２５℃において３０〜１００ｍＮ／ｍである請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記着色液膜形成工程において、３〜８μｍの厚さの前記着色液膜を形成する請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記組成物は、アクリル系樹脂を含むものである請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記レンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板である請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項１０】
請求項９に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１１】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記レンズ基板とを備えた請求項１０に記載の透過型スクリーン。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタを構成する透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ、マイクロレンズのような微小なレンズ部を有するレンズ基板が用いられている。このようなレンズ基板は、レンズ基板用の成形型（モールド）に樹脂材料を流し込み、これを硬化させた後に、成形型から取り外すことにより製造していた（例えば、特許文献１の第３頁右欄第３３〜３８行目参照）。
【０００３】
しかしながら、このような方法では、成形型からレンズ基板を取り外すのが困難であり、レンズ基板の生産性が低下するという問題点があった。また、成形型からレンズ基板を取り外す際に、レンズ基板や成形型に破損等を生じ易かった。また、成形型として弾性材料で構成されたものを用いることにより上記のような問題の発生を抑制することも考えられるが、このような場合でも、十分な効果は得られず、さらに、得られるレンズ基板の寸法精度が低下する傾向を示す。また、成形型として弾性材料で構成されたものを用いた場合、一般に、成形型の耐久性が低下する傾向を示し、結果として、レンズ基板の生産性、レンズ基板の信頼性の観点からも不利である。
【０００４】
また、従来のレンズ基板においては、一般に、表示される画像のコントラストを向上させる目的で、遮光性を有する材料で構成され、光を透過させるための開口部を有する遮光膜（ブラックマスク）を形成している。遮光膜の開口部は、所定の位置に形成することができないと、画像形成用の光が遮光膜により遮られてしまい、十分に明るい画像を得ることができない。このため、従来においては、レンズ部の集光機能を利用し、光の集光部に開口部を形成する、いわゆる、セルフアライメント法が用いられてきた。しかしながら、このようなセルフアライメント法では、十分な大きさの開口部を形成するのが困難であった。すなわち、基板本体に入射した光は、レンズ部で集光される（収束する）が、収束した光は均一な強度分布を有するものではなく、光のスポットの周縁部付近では、光のスポットの中心部付近よりも強度が弱くなっており、開口部を形成するのに十分な強度を有していない。このため、セルフアライメント法により形成される開口部の大きさは、収束した光のスポットに比べて小さいものとなる。その結果、レンズ基板は、直進光は十分な透過率で透過することができるが、レンズ基板の法線（垂線）方向に対して所定角度傾斜した方向に出射する光は、遮光膜によって遮られることとなり、レンズ基板の視野角特性は低いものとなる。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−７４９１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、コントラストに優れた画像の表示に用いることができるレンズ基板を生産性良く製造することができ、製造時におけるレンズ基板、成形型の欠陥、破損等を十分に防止することができるレンズ基板の製造方法を提供すること、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れたレンズ基板を提供すること、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数のレンズ部を有する基板本体を備えたレンズ基板を製造する方法であって、
前記基板本体の前記レンズ部が設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、着色液を付与して着色液膜を形成する着色液膜形成工程と、
前記着色液が付与された前記成形型上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させて前記基板本体を得る固化工程と、
前記着色液による着色部が形成された前記基板本体から前記成形型を除去する成形型除去工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像の表示に用いることができるレンズ基板を生産性良く製造することができ、製造時におけるレンズ基板、成形型の欠陥、破損等を十分に防止することができるレンズ基板の製造方法を提供することができる。
【０００８】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、アルコール系液性媒体および／またはエステル系液性媒体を含むものであることが好ましい。
これにより、成形型除去工程において、成形型を基板本体から十分に容易に除去することができるとともに、着色部を、濃度のばらつき、厚さのばらつきが特に小さいものとして形成することができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、ポリオキシエチレンジグリセリルエーテル、ポリオキシプロピレンジグリセリルエーテル、および、シリコーンオイルよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであることが好ましい。
これにより、成形型除去工程において、成形型を基板本体からより容易に除去することができ、レンズ基板、成形型の欠陥の発生をより確実に防止することができ、レンズ基板の生産性を特に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板の製造方法では、ＪＩＳ  Ｋ  ７１７７で規定される粘度試験方法に順じて測定される前記着色液の粘度が、２５℃において３５０〜６５０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
これにより、成形型の全面に亘ってより均一な着色液膜を良好に形成することができ、その結果、均一な厚さの着色部を形成することができる。また、基板本体から成形型を取り外す際に、取り外しをより容易に行うことができるとともに、濃度のばらつきの小さい好適な着色部を形成することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板の製造方法では、ＪＩＳ  Ｋ  ２２４１で規定される表面張力試験法に順じて測定される前記着色液の表面張力が、２５℃において３０〜１００ｍＮ／ｍであることが好ましい。
これにより、成形型の全面に亘ってより均一な着色液膜を良好に形成することができ、その結果、より均一な厚さの着色部を形成することができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液膜形成工程において、３〜８μｍの厚さの前記着色液膜を形成することが好ましい。
これにより、成形型除去工程において、成形型を基板本体からより容易に除去することができるとともに、着色部を、濃度のばらつき、厚さのばらつきが特に小さいものとして形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記組成物は、アクリル系樹脂を含むものであることが好ましい。
これにより、着色部を、厚さ、濃度のばらつきが特に小さいものとして形成することができるとともに、着色部の密着性を特に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズ基板は、前記レンズ部としてマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板であることが好ましい。
製造すべき基板本体がマイクロレンズ基板である場合、従来の製造方法においては、特に、成形型からレンズ基板を取り外すのが困難であり、レンズ基板の生産性が低下するという問題が顕著に現れ、また、成形型からレンズ基板を取り外す際に、レンズ基板や成形型に破損等を生じ易かった。これに対し、本発明では、製造すべきレンズ基板がマイクロレンズ基板の場合であっても、上記のような問題の発生を確実に防止することができる。すなわち、レンズ基板がマイクロレンズ基板である場合、本発明の効果はより顕著なものとして発揮される。また、レンズ基板がマイクロレンズ基板であると、各方向での視野角を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のレンズ基板は、本発明の方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れたレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明の透過型スクリーンでは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記レンズ基板とを備えたことが好ましい。
これにより、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れた画像の表示に用いることができ、信頼性に優れたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００１６】
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１７】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（レンズ部）２１を備えた基板本体２と、ブラックマトリックス（遮光膜）３と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部４とを備えている。また、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（着色層：外光反射防止部）２２が設けられている。
【００１８】
基板本体２は、通常、主として光透過性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性や、後述する着色部２２との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。中でも、基板本体２は、アクリル系樹脂を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、基板本体２の光学特性、耐熱性、形状の安定性等を特に優れたものとすることができるとともに、後述するような製造方法において、着色部２２を、厚さ、濃度のばらつきが特に小さいものとして形成することができる。また、基板本体２に対する着色部２２の密着性を特に優れたものとすることができる。
【００１９】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．３５〜１．９であるのが好ましく、１．４０〜１．７５であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２０】
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ（レンズ部）２１を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ（レンズ部）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２１】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２２】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２３】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２４】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００２５】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２６】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
【００２７】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００２８】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００２９】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして設けられており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、基板本体２の出射側の表面付近、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板１を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３０】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（着色層）２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部により、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
特に、着色部２２は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、基板本体２を作製する際に、成形型（凹部付き部材６、ロール型１３０）上に設けられた着色液膜９により形成されたものである。
【００３１】
着色部２２の色は、特に限定されないが、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３２】
着色部２２の厚さは、特に限定されるものではないが、１〜２０μｍであるのが好ましく、３〜１０μｍであるのがより好ましく、５〜８μｍであるのがさらに好ましい。着色部２２の厚さが前記範囲内の値であると、外光が効率良く吸収され、かつ光源光の透過率も高いスクリーンが形成される。これに対し、着色部２２の厚さが前記下限値未満であると、外光の吸収特性が悪く、コントラストも低くなる。一方、着色部２２の厚さが前記上限値を超えると、光源光の透過特性が悪くなる。
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス（遮光膜）３が設けられている。
【００３３】
ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色層２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
特に、上述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、これらの機能が相乗的に作用し合い、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３４】
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部３１は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
【００３５】
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜１００μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、２０〜７０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００３６】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．８〜７μｍであるのがより好ましく、１．４〜６μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３７】
また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、２５〜５０％であるのが好ましく、３０〜４７％であるのがより好ましく、３５〜４５％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【００３８】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００３９】
また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．０５〜５ｍｍであるのが好ましく、０．７〜４ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００４０】
本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）は、後に詳述するような方法で製造されたものであるため、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板１の光の利用効率（マイクロレンズ基板１の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合）は、６５％以上であるのが好ましく、７５％以上であるのがより好ましく、８５％以上であるのがさらに好ましい。
【００４１】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４２】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色層が形成された面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４３】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例（第１実施形態）について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（成形型）を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材（成形型）の製造方法を示す模式的な縦断面図、図６、図７は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図、図８、図９、図１０は、基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。なお、以下の説明では、図５〜図７中の下側、図８〜図１０中の上側を「（光の）入射側」、図５〜図７中の上側、図８〜図１０中の下側を「（光の）出射側」と言う。
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズに対応する形状の凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４４】
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（成形型）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルトや、これらのうち１種または２種以上を含む合金（例えば、ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等）等の各種金属材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材６が有する凹部６１の形状の安定性（信頼性）や、当該凹部６１を用いて形成されるマイクロレンズ２１の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、レンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、製造された基板本体２の取り扱い性が向上する。また、ガラス材料は、一般に、後述するような着色液により染色され難い材料であり、凹部付き部材６の表面に付与された着色液を確実に基板本体２の着色部２２の形成に利用することができ、形成される着色部の厚さ、着色濃度をより確実に制御することができる。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４５】
凹部付き部材６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４６】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜７５０μｍであるのが好ましく、４５〜４５０μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、凹部６１の深さは、７．５〜３７５μｍであるのが好ましく、２２．５〜２２５μｍであるのがより好ましく、３５〜７５μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００５０】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５１】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５２】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５３】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００５４】
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８２を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜８１を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８１に初期孔８２を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜８１および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００５５】
マスク形成用膜８１は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８２を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８１（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００５６】
かかる観点からは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８１（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５７】
上記のように、マスク形成用膜８１（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８１は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８１を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜８１（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８１（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５８】
マスク形成用膜８１の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８１（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８１（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８１は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００５９】
マスク形成用膜８１（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８１（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８２の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８１の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８２を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８１（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８１（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６０】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８１（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８１の形成と同時に、マスク形成用膜８１と同様に設けることができる。
【００６１】
次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜８１に、複数個の初期孔（開口部）８２を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８２は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８２の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８２を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８２をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８２）を形成することができる。
【００６２】
また、レーザ光の照射により初期孔８２を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６３】
本工程で形成する初期孔８２は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８２が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８２が扁平形状のものである場合、初期孔８２の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６４】
また、本工程で形成する初期孔８２が扁平形状のものである場合、初期孔８２の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８２の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
【００６５】
＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８２が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００６６】
初期孔８２が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８２に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８２が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００６７】
マスク８（マスク形成用膜８１）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００６８】
＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
【００６９】
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜８１に初期孔８２を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８２）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７０】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８２の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８２の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７１】
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面（基板本体２のマイクロレンズ（レンズ部）２１が設けられた側の面の表面形状に対応する凹凸形状を有する面）に、着色液を付与し、着色液膜９を形成する（着色液膜形成工程）。
【００７２】
着色液膜９を形成することにより、後に詳述するように、基板本体２を、マイクロレンズ２１が設けられた面側の表面付近に着色部２２を有するものとして得ることができる。
また、凹部付き部材６上に着色液膜９を形成することにより、基板本体２から凹部付き部材６を取り外す工程（成形型除去工程）において、凹部付き部材６を容易に除去することが可能となり、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１の製造時における基板本体２や凹部付き部材６の欠損（カケ等）等をより確実に防止することができ、マイクロレンズ基板１の生産性を向上させることができ、また、凹部付き部材６の寿命を長くすることができる。これは、凹部付き部材６上に着色液膜９を形成することにより、成形型除去工程において凹部付き部材（成形型）６と基板本体２との間に、液状の膜が存在することとなり、凹部付き部材６と基板本体との間の摩擦力が低減するためであると考えられる。
【００７３】
着色液は、液状をなすもので、かつ、基板本体２を着色することができるものであれば、いかなるものであってもよいが、着色剤と、後述するような固化工程の後においても凹部付き部材６の表面に液体状態で残存するような液性媒体（例えば、溶媒、分散媒等）とを含むものであるのが好ましい。これにより、均一な厚さ、均一な着色濃度の着色部２２をより確実に形成しつつ、成形型除去工程においては基板本体２から凹部付き部材６をより容易に除去することができる。
着色液を構成する着色剤としては、例えば、ソルベントブラック３，５，４６等等の各種染料、カーボンブラック等の各種顔料等を用いることができる。着色剤として顔料を用いた場合、耐光性等を特に優れたものとすることができる。また、２種以上の着色剤を組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
着色剤の色は、特に限定されないが、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。なお、２種以上の着色剤を組み合わせて用いる場合には、これらの混合物の色が、上記のようなものであるのが好ましい。
【００７５】
着色液を構成する液性媒体（例えば、溶媒、分散媒等）としては、例えば、水、二硫化炭素、四塩化炭素等の無機系液性媒体や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルテトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系液性媒体、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系液性媒体、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）等のエーテル系液性媒体、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系液性媒体、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系液性媒体、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系液性媒体、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン等の芳香族複素環化合物系液性媒体、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系液性媒体、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系液性媒体、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のカルボン酸エステル等のエステル系液性媒体、ジメチルポリシロキサン等のシリコーンオイル等の有機系液性媒体等から選択される１種または２種以上を混合したものを用いることができる。
中でも、着色液が、液性媒体として、アルコール系液性媒体および／またはエステル系液性媒体を含むものであると、後述する成形型除去工程において、凹部付き部材６を基板本体２から十分に容易に除去することができるとともに、着色部２２を、濃度のばらつき、厚さのばらつきが特に小さいものとして形成することができる。
【００７６】
また、着色液が、液性媒体として、ポリオキシエチレンジグリセリルエーテル、ポリオキシプロピレンジグリセリルエーテル、および、シリコーンオイルよりなる群から選択される１種または２種以上を含むものであると、成形型除去工程において、凹部付き部材６を基板本体２からより容易に除去することができ、マイクロレンズ基板１、凹部付き部材６の欠陥の発生をより確実に防止することができ、マイクロレンズ基板１の生産性を特に優れたものとすることができる。
【００７７】
着色液中における液性媒体の含有量は、特に限定されないが、２０〜９５ｗｔ％であるのが好ましい。これにより、形成される着色部２２において、厚さのばらつき、着色濃度のばらつきが発生するのを十分に防止しつつ、特に優れた生産性でマイクロレンズ基板１を製造することができる。
また、着色液は、着色剤、液性媒体以外の成分を含むものであってもよい。例えば、着色液は、フェノール樹脂、アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、ロジン樹脂、ブチラール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリル系樹脂等の樹脂材料（バインダー）を含むものであってもよい。着色液が樹脂材料を含むものであると、形成される着色部２２の基板本体２に対する密着性を特に優れたものとすることができる。着色液が樹脂材料を含むものである場合、着色液中において、樹脂材料は、溶解しているものであっても、溶解していないもの（例えば、分散しているもの）であってもよいが、溶解しているものであるのが好ましい。これにより、着色部２２の基板本体２に対する密着性を特に優れたものとすることができる。
【００７８】
着色液が樹脂材料を含むものである場合、着色液中における樹脂材料の含有量は、特に限定されないが、１〜３０ｗｔ％であるのが好ましい。樹脂材料の含有量が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の生産性を十分に優れたものとしつつ、形成される着色部２２の基板本体２に対する密着性を特に優れたものとすることができる。これに対し、樹脂材料の含有量が前記下限値未満であると、後述する組成物２３の組成等によっては、着色部２２の基板本体２に対する密着性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。一方、樹脂材料の含有量が前記上限値を超えると、着色液中における液性媒体の含有率や、後述する組成物２３の組成等によっては、後述する成形型除去工程における凹部付き部材６と基板本体２との密着性が高くなり過ぎ、凹部付き部材６の除去を容易に行うことができなくなる可能性がある。
また、着色液中には、着色剤の堅牢性を向上させる作用のある添加剤、酸化防止剤、一重項酸素クエンチャー、紫外線吸収剤、界面活性剤等が含まれていてもよい。
【００７９】
ＪＩＳ  Ｋ  ７１７７で規定される粘度試験方法に順じて測定される着色液の粘度は、２５℃において、１００〜８００ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、３５０〜６５０ｍＰａ・ｓであるのがより好ましい。着色液の粘度が前記範囲内の値であると、凹部付き部材６の全面に亘ってより均一な着色液膜９を良好に形成することができ、その結果、均一な厚さの着色部２２を形成することができる。また、基板本体２から凹部付き部材６を取り外す際に、取り外しをより容易に行うことができるとともに、濃度のばらつきの小さい好適な着色部２２を形成することができる。
【００８０】
また、ＪＩＳ  Ｋ  ２２４１で規定される表面張力測定法に順じて測定される着色液の表面張力は、２５℃において、３０〜１００ｍＮ／ｍであるのが好ましく、４０〜８０ｍＮ／ｍであるのがより好ましい。着色液の表面張力が前記範囲内の値であると、凹部付き部材６の全面に亘ってより均一な着色液膜９を良好に形成することができ、その結果、より均一な厚さの着色部２２を形成することができる。
【００８１】
着色液の付与方法（着色液膜９の形成方法）としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーターインクジェット等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、スプレー塗装もしくはミスト噴霧が好ましい。これにより、凹部付き部材６の凹部が設けられた面側の全体に亘って均一な着色液膜９を容易かつ確実に形成することができる。
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
【００８２】
本工程において形成する着色液膜９の厚さは、特に限定されないが、１〜２０μｍであるのが好ましく、３〜１０μｍであるのがより好ましく、５〜８μｍであるのがさらに好ましい。着色液膜９の厚さが前記範囲内の値であると、成形型除去工程において、凹部付き部材６を基板本体２からより容易に除去することができるとともに、着色部２２を、濃度のばらつき、厚さのばらつきが特に小さいものとして形成することができる。
【００８３】
＜Ｂ２＞次に、図６（ｂ）に示すように、凹部付き部材６の表面に設けられた着色液膜９上に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し（組成物付与工程）、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
このように、流動性を有する状態の組成物２３を、凹部付き部材６の表面に設けられた着色液膜９上に付与することにより、後述する工程において、均一な厚さを有し、かつ、基板本体２との密着性に優れた着色部を形成することができる。
【００８４】
組成物２３は、一般に、製造すべき基板本体２（特に、マイクロレンズ２１を含む部位）の構成材料に対応する材料で構成されたものであるが、アクリル系樹脂を含む材料であるのが好ましい。これにより、着色部２２を、厚さ、濃度のばらつきが特に小さいものとして形成することができるとともに、基板本体２に対する着色部２２の密着性を特に優れたものとすることができる。また、基板本体２の光学特性、耐熱性、形状の安定性等を特に優れたものとすることができる。
【００８５】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００８６】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００８７】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００８８】
＜Ｂ３＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｃ）参照）。
この際、凹部付き部材（成形型）６上に設けられた着色液膜９を構成する着色剤が基板本体２の表面付近に取り込まれる。これにより、形成される基板本体２は、マイクロレンズ２１が設けられた面側に、着色部２２を有するものとなる。このようにして、組成物２３の固化に伴って形成された着色部２２は、基板本体２との密着性に優れたものとなる。また、基板本体２が固体状態では染色が困難な材料（例えば、アクリル系樹脂等）で構成されたものであっても、好適に着色部２２を形成することができる。
【００８９】
組成物２３の固化はいかなる方法で行うものであってもよいが、組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
また、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００９０】
＜Ｂ４＞次に、形成された基板本体２から、凹部付き部材６および平板１１を取り外す（成形型除去工程。図６（ｄ）参照）。
ところで、上記のように、凹部付き部材６の表面には、組成物２３の付与に先立ち、着色液が付与され、着色液膜９が設けられている。このため、組成物２３固化後においても、着色液を構成する液状成分により、基板本体２と凹部付き部材６との摩擦力は小さい状態が保持されている。これにより、基板本体２から凹部付き部材（成形型）６を容易に除去することができ、凹部付き部材（成形型）６を除去する際に、基板本体２や凹部付き部材（成形型）にカケ等の欠損が生じるのを確実に防止することができる。その結果、得られる基板本体２は、レンズ形状にムラがなく、信頼性（光学的な信頼性等）に優れたものとなる。また、上記のように、基板本体２は、着色部２２が設けられたものであるため、コントラストに優れた画像を得ることができるマイクロレンズ基板１を得ることができる。
【００９１】
また、本工程では、前記工程で凹部付き部材６の表面に付与された着色液を構成する着色剤が基板本体２側へと移行する。言い換えると、着色液を構成する着色剤が、凹部付き部材６側から基板本体２側へと転写される。このようにして着色部２２を形成することにより、後に別工程で着色層（外光吸収部）を形成する必要がなくなり、プロセスの簡素化を図ることが可能となる。また、（固化状態の）基板本体の表面に着色部を外付けで形成する場合に比べて、着色部の密着性を優れたものとすることができ、その結果、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１としての信頼性、耐久性を優れたものとすることができる。
【００９２】
また、凹部付き部材６を取り外した後、必要に応じて、基板本体２に対して、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、例えば、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
本工程で除去された凹部付き部材６および平板１１は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００９３】
＜Ｂ５＞次に、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、遮光膜の形成を、基板本体に遮光膜形成用材料を付与する工程（遮光膜形成用材料付与工程）と、当該遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、開口部を形成する工程（開口部形成工程）とを経て行う。遮光膜形成用材料としては、開口部を形成しうるものであればいかなるものであってもよいが、感光性を有する成分を含むものであるのが好ましい。これにより、容易かつ確実に好適な形状の開口部を形成することができる。以下の説明では、主に、遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマー３２を用いるものとして説明する。
【００９４】
まず、図７（ｅ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー（遮光膜形成用材料）３２を付与する（遮光膜形成用材料付与工程）。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００９５】
＜Ｂ６＞次に、基板本体２に光（露光用光）Ｌｂを照射する。
照射された光（露光用光）Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００９６】
ここで、本実施形態では、図８に示すように、基板本体２の主面の法線方向（垂線方向）に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、光を基板本体２に入射させる。このようにして、光を入射させることにより、基板本体２の入射側表面に垂直な方向（基板本体２の主面の法線方向）に光を照射した場合には、開口部を形成することができなかった部位にも、十分に高い光度（エネルギー）の光を照射することができ、当該部位をブラックマトリックス（遮光膜）３の開口部３１とすることができる。その結果、ブラックマトリックス３により画像形成用の光の一部が吸収されてしまうのをより確実に防止することができ、高コントラストで視野角特性に優れた画像を表示することができる。なお、上述したように、基板本体２は着色部２２を有しているため、開口部３１の大きさが画像形成用の光のスポットに対して十分に大きいものであっても、表示される画像のコントラストを優れたものとすることができる。
【００９７】
光（露光用光）Ｌｂを照射するに際し、基板本体２の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から光（露光用光）Ｌｂを基板本体２に入射させるためには、例えば、露光用光Ｌｂの光源を斜めに設置してもよいし、基板本体２側を傾けてもよい。また、光源と基板本体２との間に偏光フィルターやスリット等を介して照射する場合、当該偏光フィルターやスリット等を斜めに傾けてもよい。
【００９８】
基板本体２を斜めに傾ける方法としても、特に限定されるものではなく、例えば、支持部材等を用いて基板本体２の一端部を持ち上げて支持することにより傾けてもよいし、また、くさび形等の傾斜形状を有する傾斜部材を基板本体２の下側に配することで基板本体２を斜めに傾けてもよい。この場合、上記傾斜部材の材質としては、露光用光Ｌｂを反射しないものが好ましい。
【００９９】
光の入射方向と基板本体２の主面の法線方向とでなす角度θは、特に限定されないが、２〜１５°であるのが好ましく、３〜１０°であるのがより好ましく、３〜８°であるのがさらに好ましい。角度θが前記範囲内の値であると、前述したようなブラックマトリックス３（所定の大きさの開口部３１を有するブラックマトリックス３、所定の開口率を有するブラックマトリックス３）をより確実に形成することができ、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。これに対し、角度θが前記下限値未満であると、十分な大きさの開口部３１を形成したり、ブラックマトリックス３の開口率を十分に高いものとすることが困難となり、マイクロレンズ基板１の視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。一方、角度θが前記上限値を超えると、形成されるブラックマトリックス３の外光反射防止の特性が低下してしまい、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、角度θが前記上限値を超えると、マイクロレンズ２１形状等によっては、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することが困難となる可能性がある。
【０１００】
基板本体に照射する光（露光用光）Ｌｂは、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部３１の大きさ、ブラックマトリックス３の開口率等をより確実に制御することができ、より確実に、表示される画像のコントラスト、視野角特性を、いずれも、特に優れたものとすることができる。
また、開口部形成用の光（露光用光）Ｌｂは一方向からだけではなく、基板本体２に対し複数の方向から入射させるのが好ましい。これにより、より広い領域に効率良く十分な光度（光束）の光を照射することができ、必要十分な大きさの開口部３１をより効率良く形成することができる。
【０１０１】
複数の方向から光を入射させる方法としては、例えば、複数の光源を用意し、これらを異なる部位に設置し、これら複数の光源から同時または順番に光を照射する方法や、光源から照射された光を分岐させ、これらの分岐した光を異なる方向から基板本体２に入射させる方法も挙げられるが、例えば、基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させつつ、光源から光（露光用光）Ｌｂを照射する方法が挙げられる。基板本体２と光源とを相対的に移動（変位）させる方法としては、例えば、基板本体２を固定した状態で光源を移動（変位）させる方法、光源を固定した状態で基板本体２を移動（変位）させる方法、光源および基板本体２をともに移動（変位）させる方法が挙げられる。
【０１０２】
以下、基板本体２を移動（変位）させる方法について、より具体的に説明する。
基板本体側を動かす具体的な方法としては、例えば、図９に模式的に示すように、少なくとも、互いに直交する４方向に、それぞれ角度θずつ基板本体２を傾ける方法が挙げられる。
このように、基板本体２を動かすことにより、例えば、得られるマイクロレンズ基板１を各方向（左右方向および上下方向）での視野角特性が特に優れたものとすることができる。
【０１０３】
また、光（露光用光）Ｌｂの照射は、基板本体２が所定の角度に傾いた状態においてのみ行うものであってもよいが、基板本体２を動かしている間、連続的または断続的に行うものであってもよい。すなわち、角度θの値は、経時的に変化するものであってもよい。これにより、例えば、角度θの値（角度θの最大値）が比較的大きい場合であっても、マイクロレンズ２１の頂部に対応する部位に開口部３１を確実に形成することができる。このように、角度θの値が経時的に変化する場合、その最大値が前述した範囲に含まれるものであるのが好ましい。また、例えば、光（露光用光）Ｌｂの照射時に、角度θがゼロとなる時点が存在してもよい。
【０１０４】
また、光（露光用光）Ｌｂを複数の方向から照射する際に、各方向についての光（露光用光）Ｌｂの入射角度θの最大値が異なるものとなるようにしてもよい。これにより、例えば、形状が非対称な（例えば、点対称ではない）開口部３１等のように、複雑な形状の開口部３１も容易かつ確実に形成することができる。これにより、例えば、透過型スクリーン１０や後述するようなリア型プロジェクタ３００の仕様、使用環境（設置場所等）に応じて、容易に、各方向における視野角特性を最適なものとすることができる。
【０１０５】
また、光の入射方向を変化させる方法の他の一例（基板本体側を動かす他の一例）を、図１０に模式的に示す。
図１０に示す例では、基板本体２の主面の法線と軸９０の長手方向とのなす角が、所定の角度θを維持するように、基板本体２を、軸９０上でこまのように回転させる構成になっている。言い換えると、図１０に示す例では、軸９０の延長線が基板本体２の表面（入射面）に接触する部位における基板本体の主面の法線が、軸９０を中心とした円錐の周面を形成するように、基板本体が回転する。このような構成であることにより、例えば、光（露光用光）Ｌｂの入射方向に対して、基板本体２の主面の法線が角度θだけ傾斜した状態を維持しつつ、光Ｌｂの入射方向を経時的に変化させることができる。これにより、表示される画像のコントラスト、視野角特性のいずれもが、特に優れたマイクロレンズ基板１を生産性良く製造することができる。
【０１０６】
上記のような方法等により光Ｌｂを照射した後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、集光された光が照射された部位のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図７（ｆ）に示すように、開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【０１０７】
本実施形態のように、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた光（露光用光）を照射しブラックマトリックス（開口部を有する遮光膜）を形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【０１０８】
また、上記の説明では、（＜Ｂ４＞、＜Ｂ５＞において、）遮光膜形成用材料として、ポジ型のフォトポリマーを用いて遮光膜（ブラックマトリックス３）を形成するものとして説明したが、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料（反転現像材料）を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部（遮光領域）とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光（エネルギー線）を照射することにより、レンズ部により集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有する遮光膜としてもよい。
【０１０９】
また、遮光膜の形成は、上述した例に限定されず、例えば、ポジ型の感光性粘着剤を基板本体上に付与した後、光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させ、感光部以外の部位上に、遮光性材料を付与することにより、開口部を有する遮光膜としてもよい。
また、上記のような遮光膜形成用材料の付与、光の照射（露光）等の一連の処理を、繰り返し行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
【０１１０】
また、上記の説明では、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、直接、遮光膜形成用材料（フォトポリマー）を付与するものとして説明したが、遮光膜形成用材料は、基板本体２の表面に直接付与されるものでなくてもよい。例えば、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、露光後に、十分な遮光性を発揮しない感光性材料の付与、現像等の一連の処理を行った後に、上記のような遮光膜形成用材料を用いた処理を行ってもよい。これにより、遮光膜（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができる。
【０１１１】
＜Ｂ７＞次に、図７（ｇ）に示すように、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成する（拡散部形成工程）。これにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
拡散部４は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
【０１１２】
次に、本発明のレンズ基板の製造方法の他の例（第２実施形態）について説明する。
図１１〜図１３は、本発明のレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１１〜図１３中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
以下、第２実施形態のレンズ基板の製造方法について、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
【０１１３】
まず、本実施形態のレンズ基板の製造方法を説明するに先立ち、レンズ基板の製造に用いるレンズ基板製造装置の一例について説明する。
レンズ基板製造装置１００（以下、単に製造装置１００ともいう）は、図１１に示すように、基材搬送手段１１０と、組成物供給手段１２０と、ロール型（成形型）１３０と、着色液付与手段１４０と、組成物硬化手段１５０とを有している。
【０１１４】
基材搬送手段１１０は、基材フィルム２４を支持し搬送する。図示の構成では、基材搬送手段１１０は、基材フィルム２４を製造装置１００の右から左へ搬送するよう構成されている。また、基材搬送手段１１０は、基材フィルム２４と組成物２３とを圧着する際に、基材フィルム２４が撓みのない状態、すなわち、適度に張った状態を保つよう構成されている。また、基材搬送手段１１０は、少なくとも組成物に光等を照射する部分において、光透過性を有する材料から構成されていることが好ましい。
組成物供給手段１２０は、基材搬送手段１１０によって搬送される基材フィルム２４上に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を供給する。
【０１１５】
ロール型１３０は、ロール形状をなしており、軸１３２を中心に回転可能となっている。また、ロール型１３０は、図１１に示すように、その表面に多数の凹部１３１を有している。凹部１３１は、レンズ（マイクロレンズ）を形成するためのものであり、形成すべきレンズ（マイクロレンズ）に対応した形状を有している。言い換えると、ロール型１３０は、製造すべき基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側の表面形状に対応する表面形状を有している。
ロール型１３０は、組成物供給手段１２０によって基材フィルム２４上に供給された組成物２３を押圧して、ロール型１３０の表面形状を組成物２３に転写する機能を有するとともに、基材フィルム２４と組成物２３とを圧着させる機能を有している。
【０１１６】
このようなロール型１３０を構成する材料としては、特に限定されず、例えば、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、銀、金、鉛、マグネシウム、チタン、ジルコニア、タングステン、モリブデン、コバルトや、これらのうち１種または２種以上を含む合金（例えば、ステンレス、４２ニッケル−鉄合金、真鍮、ジュラルミン等）等の各種金属材料や、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等のガラス材料等が挙げられる。
【０１１７】
このようなロール型１３０は、例えば、前述したような材料で構成された円柱形状の基材に、マスクを用いて、エッチングを施すことにより形成されるものであってもよいし、前記基材の表面に、プレス、研削、研磨等により凹部を形成したものであってもよいし、また、例えば、平板状の基材に凸部を形成し、これを母型として所望の厚さの金属層（例えば、Ｎｉ等）をめっきにて形成し、これを母型から剥離し、円柱状の基材の表面に巻き付けたものであってもよい。
【０１１８】
着色液付与手段１４０は、ロール型１３０の上部において、ロール型１３０の凹部１３１が形成された面上に、着色液を付与する。
着色液の付与方法は、特に限定されないが、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーターインクジェット等の各種塗布法等が挙げられる。
組成物硬化手段１５０は、組成物２３に対して、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等をすることにより、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させる。
【０１１９】
次に、本実施形態のレンズ基板の製造方法について説明する。
＜Ｂ１’＞まず、図１１に示すように、基材搬送手段１１０上に載置され搬送されてくる基材フィルム２４上に、組成物供給手段１２０により、流動性を有する状態の組成物２３を供給する。
＜Ｂ２’＞一方、ロール型１３０の上部において、ロール型１３０の凹部１３１が形成された面上に、着色液付与手段１４０により着色液を付与し、ロール型１３０の面上に着色液膜９を形成する（（着色液膜形成工程）。図１１参照）。
【０１２０】
＜Ｂ３’＞次に、図１２に示すように、ロール型１３０の回転および基材フィルム２４の搬送にともない、着色液膜９が設けられたロール型１３０で組成物２３を押圧する（組成物付与工程）。
ロール型１３０で組成物２３を押圧することで、組成物２３にロール型１３０の周面の形状が転写され、ロール型１３０の凹部１３１に対応した形状のレンズ形状（マイクロレンズ形状）が形成されるとともに、組成物２３は、基材フィルム２４と圧着される。
なお、組成物２３を基材フィルム２４に圧着させる際に、基材フィルム２４は撓みのない状態で圧着させるのが好ましい。これにより、得られるマイクロレンズ基板１のソリやヒケ等を効果的に防止することができる。
【０１２１】
＜Ｂ４’＞次に、組成物硬化手段１５０により、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図１２参照）。組成物２３の固化は、例えば、搬送手段１１０の下側から、組成物硬化手段１５０により、組成物２３に紫外線を照射することにより行うことができる。
この際、ロール型（成形型）１３０上に設けられた着色液膜９を構成する着色剤が基板本体２の表面付近に取り込まれる。これにより、形成される基板本体２は、マイクロレンズ２１が設けられた面側に、着色部２２を有するものとなる。このようにして、組成物２３の固化に伴って形成された着色部２２は、基板本体２との密着性に優れたものとなる。また、基板本体２が固体状態では染色が困難な材料（例えば、アクリル系樹脂等）で構成されたものであっても、好適に着色部２２を形成することができる。
【０１２２】
＜Ｂ５’＞次に、図１３に示すように、ロール型１３０の回転および基材フィルム２４の搬送にともない、レンズ形状が形成された基板本体２から、ロール型１３０が取り除かれる（成形型除去工程）。
また、本工程では、前記工程でロール型１３０の表面に付与された着色液を構成する着色剤が基板本体２側へと移行する。言い換えると、着色液を構成する着色剤が、ロール型１３０側から基板本体２側へと転写される。このようにして着色部２２を形成することにより、後に別工程で着色層（外光吸収部）を形成する必要がなくなり、プロセスの簡素化を図ることが可能となる。また、（固化状態の）基板本体の表面に着色部を外付けで形成する場合に比べて、着色部の密着性を優れたものとすることができ、その結果、マイクロレンズ基板（レンズ基板）１としての信頼性、耐久性を優れたものとすることができる。
なお、引き続き、基材フィルム２４の搬送とともにロール型１３０が回転し、順次、組成物２３と基材フィルム２４とが圧着される。それに伴い、組成物２３にロール型１３０の周面の形状が、順次転写され、ロール型１３０の凹部１３１に対応した形状の、複数のレンズ部（マイクロレンズ）２１が形成されていく。そして、ロール型１３０の回転にともない、形成された基板本体２から、ロール型１３０が取り除かれる
その後、必要に応じて、基板本体２を所定の長さに切断する。
また、ロール型１３０から取り外された基板本体２に対しては、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、例えば、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
以上のようにして、複数のマイクロレンズ２１を有する基板本体２が得られる。
なお、基材フィルム搬送手段に、連続して複数の基材フィルム２４を搬送させることにより、連続してマイクロレンズ基板１を製造することができる。
【０１２３】
＜Ｂ６’＞次に、前述した第１実施形態での＜Ｂ５＞、＜Ｂ６＞と同様にして、ブラックマトリックスを形成する。
＜Ｂ７’＞前述した第１実施形態での＜Ｂ７＞と同様にして、拡散部を形成することにより、マイクロレンズ基板１が得られる。
【０１２４】
次に、上述した透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１４は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、外光反射が抑えられ、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【０１２５】
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１２６】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
また、レンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
【０１２７】
また、前述した第１実施形態では、凹部付き部材（成形型）の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置された基材フィルム）に組成物を付与し、これを着色液膜が設けられた凹部付き部材で押圧することにより基板本体を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、基板本体は、組成物を基材フィルムと接合することにより得るものとして説明したが、例えば、基材フィルムを用いることなく、流動性を有する組成物を固化させることにより得られたものであってもよい。
【０１２８】
また、前述した第１実施形態では、ブラックマトリックス（遮光膜）を形成する際に、凹部付き部材を取り外した状態で光（露光用光）を照射するものとして説明したが、凹部付き部材が基板本体に取り付けられた状態で、ブラックマトリックスを形成してもよい。すなわち、遮光膜形成用材料に光を照射する際に、凹部付き部材を介して光を照射してもよい。
【０１２９】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【０１３０】
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板（レンズ基板）が、基板本体と、ブラックマトリックス（遮光膜）と、拡散部とを有するものとして説明したが、本発明のレンズ基板は、遮光膜や拡散部を備えていなくてもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、実質的に基板本体のみで構成されるものであってもよい。
【０１３１】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１３２】
［レンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１３３】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１３４】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１３５】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
【０１３６】
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。凹部付き部材が有する多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は４０μｍ、深さは４０μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
【０１３７】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、着色液をスプレー法（スプレー塗装）により付与し、厚さが８μｍの着色液膜を形成した。着色液としては、カーボンブラック：１．６重量部と、ポリビニルアルコール：１．４０重量部と、エタノール：０．７９４重量部と、酢酸エチル：０．９０１重量部と、ポリオキシエチレンジグリセリルエーテル：０．９０重量部との混合物を用いた。ＪＩＳ  Ｋ  ７１７７で規定される粘度試験方法に順じて測定される着色液の粘度は、２５℃で、６５０ｍＰａ・ｓ、ＪＩＳ  Ｋ  ２２４１で規定される表面張力測定法に順じて測定される着色液の表面張力は、２５℃で、３０ｍＮ／ｍであった。
【０１３８】
次に、凹部付き部材の表面に設けられた着色液膜上に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与した。ＪＩＳ  Ｋ  ７１７７で規定される粘度試験方法に順じて測定される組成物の粘度は、２５℃で、５０ｍＰａ・ｓであった。
組成物の上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：０．１ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５５０であった。
【０１３９】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５５７であった。また、得られた基板本体は、マイクロレンズが形成された面側の表面付近に層状の着色部を有するものであった。着色部の厚さは、８μｍであった。
【０１４０】
次に、平板および凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー（遮光膜形成用材料）中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
【０１４１】
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、６０ｍＪ／ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。このとき、図９に示すように、基板本体の４つの辺に対応する４方向について、基板本体の主面の法線方向が、基板本体への光の入射方向が所定角度（θ＝７°）だけ傾斜するように、基板本体を動かしつつ、紫外線の照射を行った。
その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
【０１４２】
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部の直径は２０μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは５．０μｍであった。
【０１４３】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成した。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２．０ｍｍであった。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、マイクロレンズ基板を得た。形成された着色部の濃度は、７０％であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１４４】
（実施例２、３）
着色液を構成する構成成分の含有率を調節することにより、着色液の粘度、表面張力を表１に示すようした以外は、前記実施例１と同様にして着色液を作製した。
以上のようにして得られた着色液を用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４５】
（実施例４〜９）
着色液を構成する構成成分の含有率を調節することにより、着色液の粘度、表面張力を表１に示すように変更するとともに、基板本体への着色液の付与量を調節することにより、着色液膜の厚さを表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４６】
（実施例１０）
ブラックマトリックスを形成する工程を省略した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例１１）
図１１に示したようなロール型を備えた製造装置を用いて、基板本体を作製した（図１１〜図１３参照）以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４７】
（比較例１）
凹部付き部材を用いて基板本体を作製する際に、凹部付き部材上に着色液を付与しなかった以外は、前記実施例１と同様にして基板本体を作製した。なお、組成物を固化することにより得られた基板本体は、凹部付き部材と非常に高い密着性で密着しており、得られた基板本体から凹部付き部材を除去するのが困難であり、基板本体の生産性は、前記各実施例に比べて劣っていた。
その後、得られた基板本体を用いて、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４８】
（比較例２）
基板本体を作製する際に、ロール型上に着色液を付与しなかった以外は、実施例１０と同様にして基板本体を作製した。
その後、得られた基板本体を用いて、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１４９】
（比較例３）
凹部付き部材を用いて基板本体を作製する際に、着色液の代わりに、ポリオキシエチレンジグリセリルエーテルを付与した以外は、前記実施例１と同様にして基板本体を作製した。
その後、得られた基板本体を用いて、前記実施例１と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１５０】
（比較例４）
ブラックマトリックスを形成する際に、露光用の光を基板本体の主面の法線方向（垂線方向）から照射した以外は、前記比較例３と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および各比較例について、着色液の粘度、表面張力、着色液膜の厚さ、着色部の厚さを、基板本体の生産性の評価とともに表１にまとめて示す。基板本体の生産性については、以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：基板本体（基板本体からの成形型の剥離のし易さ）の生産性が非常に優れている。
○：基板本体（基板本体からの成形型の剥離のし易さ）の生産性が優れている。
△：基板本体（基板本体からの成形型の剥離のし易さ）の生産性がやや劣っている。
×：基板本体（基板本体からの成形型の剥離のし易さ）の生産性が劣っている。
【０１５１】
【表１】
2007160575.tif 000003
【０１５２】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および各比較例の透過型スクリーンを用いて、図１４に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［コントラストの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、暗室において４１３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約１８５ｌｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１５３】
［視野角の測定］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
【０１５４】
［回折光、モアレ、色ムラの評価］
前記各実施例および各比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光、モアレ、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：回折光、モアレ、色ムラ（輝点を含む）が全く認められない。
○：回折光、モアレ、色ムラ（輝点を含む）がほとんど認められない。
△：回折光、モアレ、色ムラ（輝点を含む）のうち少なくとも一つがわずかに認められる。
×：回折光、モアレ、色ムラ（輝点を含む）のうち少なくとも一つが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１５５】
【表２】
2007160575.tif 000004
【０１５６】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、優れたコントラストが得られ、また、視野角特性にも優れていた。また、本発明では、回折光、モアレ、色ムラのない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。特に、比較例１、２では、色ムラの発生が認められた。これは、基板本体を成形型（凹部付き部材、ロール方）から取り外す際に、基板本体や成形型に欠損を生じたためであると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１５７】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（成形型）を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材（成形型）の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例（第１実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図８】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図９】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図１０】基板本体に光を照射する際の光の入射方向（フォトポリマーを露光する際の光の照射方法）を説明するための図である。
【図１１】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１３】図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例（第２実施形態）を示す模式的な縦断面図である。
【図１４】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１５８】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２１１…中心  ２２…着色部（着色層、外光反射防止部）  ２３…組成物  ２４…基材フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…開口部  ３２…フォトポリマー  ４…拡散部  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（成形型）  ６１…凹部  ７…基板  ８…マスク  ８１…マスク形成用膜  ８２…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ９…着色液膜  １１…平板  ９０…軸  １００…レンズ基板製造装置  １１０…基材搬送手段  １２０…組成物供給手段  １３０…ロール型（成形型）  １３１…凹部  １３２…軸  １４０…着色液付与手段  １５０…組成物硬化手段  １０…透過型スクリーン  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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