(57)【要約】【課題】入射角が変化し、選択反射波長にずれが生じたとしても、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該フィルタを用いた高密度記録可能な光記録媒体などの提供。【解決手段】コレステリック液晶層の複屈折率をΔｎとし、前記コレステリック液晶層の平均螺旋ピッチ長をｐ（ｎｍ）としたとき、下記数式（１）〜（４）  Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ                                数式（１）  Δｎ≧ｎｅ（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ））  数式（２）  ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ                              数式（３）  ｐ＝λ／（（ＢΔｎ）＋ｎｏ）                    数式（４）を満たす、前記コレステリック液晶層を含む光記録媒体用フィルタ。【選択図】図９
2007101883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コレステリック液晶層の複屈折率をΔｎとし、前記コレステリック液晶の平均螺旋ピッチ長をｐ（ｎｍ）としたとき、下記数式（１）〜（４）
Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ                                数式（１）
Δｎ≧ｎｅ（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ））  数式（２）
ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ                              数式（３）
ｐ＝λ／（（ＢΔｎ）＋ｎｏ）                    数式（４）
（ただし、ｎｅは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面内で該入射光の進行方向に直角に振動する異常光に偏光されたときの、該異常光に対する屈折率、ｎｏは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面と直角な面内で該入射光の進行方向と直角に振動する正常光に偏光されたときの、該正常光に対する屈折率、ＮＡは、前記コレステリック液晶層と対向して配置される対物レンズの開口数、ｎは、前記対物レンズとの間の媒質の屈折率、θは、前記対物レンズの中心を透過する光の光軸と該対物レンズの最も外側を透過する光の光軸とがなす角、λは、使用する光源の中心波長（ｎｍ）、Ｂは、０から１の数を表す。）
を満たす、前記コレステリック液晶層を有することを特徴とする光記録媒体用フィルタ。
【請求項２】
数式（４）におけるＢ値が、０〜０．１の範囲である請求項１に記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項３】
コレステリック液晶層の層面に対する法線と、前記コレステリック液晶層に入射する入射光の光軸とがなす角０〜θ°における、該入射光の最大反射率をＲｍａｘとし、該角０〜θ°における反射率Ｒの前記最大反射率Ｒｍａｘに対する変動量をΔＲとしたとき、次式、ΔＲ≦０．１Ｒｍａｘを満たす前記コレステリック液晶層を有する請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項４】
反射率Ｒが、０．８以上である請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項５】
コレステリック液晶層中の螺旋ピッチ数が４ピッチ以上である請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項６】
媒質が、空気である請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項７】
波長λが、３５０〜９００ｎｍである請求項１から６のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項８】
コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する請求項１から７のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項９】
コレステリック液晶層における螺旋ピッチの回転方向が互いに同じである請求項１から８のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１０】
コレステリック液晶層における垂直方向の各螺旋ピッチが互いに異なる請求項１から９のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１１】
コレステリック液晶層における垂直方向の各螺旋ピッチが連続的である請求項１から１０のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１２】
第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する請求項１から１１のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１３】
第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである請求項１２に記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１４】
コレステリック液晶層の厚みが、１．５〜１０μｍである請求項１から１３のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１５】
ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる請求項１から１４のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１６】
光記録媒体が、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、該光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する請求項１５に記載の光記録媒体用フィルタ。
【請求項１７】
第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有してなり、前記フィルタ層が、請求項１から１４に記載の螺旋ピッチ数が４以上のコレステリック液晶層であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項１８】
請求項１７に記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、螺旋ピッチ数が４以上であるコレステリック液晶層からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１９】
請求項１７に記載の光記録媒体に対し、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になるように照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。
【０００３】
前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。デジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００４】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有するものが提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
しかし、図１に示す構成の光記録媒体２０では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある。
このため、特許文献３では、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層と反射膜との間に、フィルタ層としてのコレステリック液晶層又はダイクロイックミラーを設け、記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている。この手法により記録密度は倍増する。また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産することができ、垂直入射０°におけるフィルタ効果は良好となる。しかし、この提案では、入射角が変化すると選択反射波長にずれが生じ、入射光が１０°以上傾くと情報光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる。例えば、図４に示すように、入射角０°におけるフィルタ層の反射率特性は図４の右側の実線で表され、入射角３０°におけるフィルタ層の反射率特性は左側の点線で表されている。前記入射角が０°から３０°へと大きくなるに従い、前記実線のカーブが点線のカーブへというように、図４の左側方向へシフトする。前記入射角と選択反射される光の波長λとの関係は、フィルタ層に含まれるコレステリック液晶層の平均螺旋ピッチ長をｐとし、前記入射角をθとすると、ｎｐｃｏｓθ＝λのブラッグの反射条件を満たす波長の光が選択的に反射されるので、θが増加すると、λは逆に減少することとなり選択反射波長は小さくなり、反射率特性のカーブは図４の左側にシフトすることになる。このことは、前記フィルタ層が、入射角依存性が大きいため、レンズで絞った±１０°以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学系の入射光に使用することは困難であることを意味する。
一方、前記ダイクロイックミラーを用いて前記通常のレンズ光学系に対応できる膜を設計すると５０層以上の多層蒸着が必要となり、極めて高コストな光記録媒体となってしまう。
【０００６】
したがって、入射角が変化し、選択反射波長にずれが生じたとしても、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２６５４７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、入射角が変化し、選択反射波長にずれが生じたとしても、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにない高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  コレステリック液晶層の複屈折率をΔｎとし、前記コレステリック液晶層の平均螺旋ピッチ長をｐ（ｎｍ）としたとき、下記数式（１）〜（４）
Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ                                数式（１）
Δｎ≧ｎｅ（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ））  数式（２）
ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ                              数式（３）
ｐ＝λ／（（ＢΔｎ）＋ｎｏ）                    数式（４）
（ただし、ｎｅは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面内で該入射光の進行方向に直角に振動する異常光に偏光されたときの、該異常光に対する屈折率、ｎｏは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面と直角な面内で該入射光の進行方向と直角に振動する正常光に偏光されたときの、該正常光に対する屈折率、ＮＡは、前記コレステリック液晶層と対向して配置される対物レンズの開口数、ｎは、前記対物レンズとの間の媒質の屈折率、θは、前記対物レンズの中心を透過する光の光軸と該対物レンズの最も外側を透過する光の光軸とがなす角、λは、使用する光源の中心波長（ｎｍ）、Ｂは、０から１の数を表す。）
を満たす、前記コレステリック液晶層を有することを特徴とする光記録媒体用フィルタである。
該＜１＞に記載の光記録媒体用フィルタにおいては、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体に用いる好適な情報光の中心波長λの値（ｎｍ）が決定されると、数式（４）から、前記ｐの値が、λ／（（ＢΔｎ）＋ｎｏ）となるように、即ち、前記ｐが、λ／ｎｏ〜λ／ｎｅの範囲内に入るように、前記平均螺旋ピッチ長ｐ、前記ｎｏ及び前記ｎｅが選択されることになる。該ｎｅ及びｎｏは、前記コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶の材料に依存するため、前記ネマチック液晶の材料が選択されることにより決定される。前記ｎｏ及び前記ｎｅが決定されると、前記複屈折Δｎが決定され、数式（１）〜数式（３）を満たすように、前記対物レンズの開口数ＮＡが選択され、前記θが決定され、前記平均螺旋ピッチ長ｐが決定される。前記ｐが決定されると、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチを調整するためのカイラル剤の種類、使用量及び用い方などが決定される。なお、数式（３）において対物レンズの開口数ＮＡをｎ×ｓｉｎθとして定義しているが、実際にコレステリック液晶層に入射する光線の入射角は、前記媒質の屈折率ｎとコレステリック液晶層の平均屈折率ｎ’との屈折率差により、スネルの法則に従い変化する。コレステリック液晶層に入射する実効的な光入射角で設計を行う場合は、数式（３）におけるｎを（ｎ／ｎ１）として定義することもできる。
以上のように、使用する情報光の波長λを選択し、数式（１）〜（４）を満たすように、対物レンズ及びコレステリック液晶層の材料を選択すれば、所望のシステムにおいて良好な反射特性を有する光記録媒体用フィルタが得られる。
＜２＞  数式（４）におけるＢ値が、０〜０．１の範囲である前記＜１＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
該＜２＞に記載の光記録媒体用フィルタにおいては、数式（４）におけるＢ値は０〜１の範囲で定義される。このＢ値の値は、使用する光源の中心波長λとしたとき、コレステリック液晶層への光入射角０°のときの選択反射領域に対するλの相対的な位置を規定している。即ち、図３（ａ）に示すように、Ｂ＝０であるならば、該数式（４）で定義される螺旋ピッチｐは、ｐ＝λ／ｎｏとなり、入射角０°におけるλの位置は選択反射領域の左端となり、Ｂ＝１（図３（ｂ））ならば同様にｐ＝λ／ｎｅとなり、λは選択反射領域の右端の位置となる。通常、λに対して短波長側、長波長側に等しくマージンをとる場合はＢ＝０．５とすれば、λに対してほぼ対象に選択反射領域を設定することができる。（図３（ｃ））
しかしながら、入射角の変化による選択反射領域の短波長側への移動（ブルーシフト）を考慮すれば、入射角０°におけるλの位置は選択反射領域の左端側に位置することが望ましい。このためＢの値を０〜０．１とすれば、反射特性の角度依存性に対し、より反射率変化の少ない光記録媒体用フィルタが得られる。
＜３＞  コレステリック液晶層の層面に対する法線と、前記コレステリック液晶層に入射する入射光の光軸とがなす角０〜θ°における、該入射光の最大反射率をＲｍａｘとし、該角０〜θ°における反射率Ｒの前記最大反射率Ｒｍａｘに対する変動量をΔＲとしたとき、次式、ΔＲ≦０．１Ｒｍａｘを満たす前記コレステリック液晶層による前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
該＜３＞に記載の光記録媒体用フィルタにおいては、コレステリック液晶層の層面に対する法線と、前記コレステリック液晶層に入射する入射光の光軸とがなす角０〜θ°における、該入射光の最大反射率をＲｍａｘとし、該角０〜θ°における反射率Ｒの前記最大反射率Ｒｍａｘに対する変動量をΔＲとしたとき、次式、ΔＲ≦０．１Ｒｍａｘを満たすように、前記コレステリック液晶層が積層されると、該角０〜θ°において、反射率の前記最大反射率Ｒｍａｘに対する変動の少ないフラットな反射率特性が得られる。
＜４＞  反射率Ｒが、０．８以上である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
該＜４＞に記載の光記録媒体用フィルタにおいては、反射率Ｒが、０．８以上であると、選択反射波長が充分に前記コレステリック液晶層において反射され、情報光による高精細な記録が得られる。
＜５＞  コレステリック液晶層における螺旋ピッチ数を４以上とした前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
該＜５＞に記載の光記録媒体用フィルタにおいては、コレステリック液晶層におけるピッチ数が４層ピッチ以上含まれていると、前記コレステリック液晶層の高い反射率特性が得られ、選択反射波長が充分に前記コレステリック液晶層において反射され、情報光による高精細な記録が得られる。
＜６＞  媒質が、空気である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜７＞  波長λが、３５０〜９００ｎｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜８＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜９＞  コレステリック液晶層における螺旋ピッチの回転方向が互いに同じである前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１０＞  コレステリック液晶層における螺旋ピッチの選択反射中心波長が互いに異なる前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１１＞  コレステリック液晶層における螺旋ピッチの選択反射波長帯域が連続的である前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
該＜８＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタにおいては、各コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有し、螺旋ピッチの回転方向が互いに同じであり、選択反射中心波長が互いに異なり、選択反射波長帯域が連続的であることにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消でき、波長選択反射膜として好適に用いられる。
＜１２＞  第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１３＞  第一の光の波長が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍである前記＜１２＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１４＞  コレステリック液晶層の厚みが、１．５〜１０μｍである前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１５＞  ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１６＞  光記録媒体が、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸となるように、該光記録媒体に前記情報光及び前記参照光を照射し、該情報光と該参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する前記＜１５＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
【００１０】
＜１７＞  第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有してなり、前記フィルタ層が、前記＜１＞から＜１４＞に記載の螺旋ピッチ数が４以上のコレステリック液晶層であることを特徴とする光記録媒体である。
＜１８＞  基板が、サーボピットパターンを有する前記＜１７＞に記載の光記録媒体である。
＜１９＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜１８＞に記載の光記録媒体である。
＜２０＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜１９＞に記載の光記録媒体である。
＜２１＞  フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第１ギャップ層を有する前記＜１７＞から＜２０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜２１＞に記載の光記録媒体においては、フィルタ層と反射膜との間に第１ギャップ層を設けることにより、反射膜を保護すると共に、記録層に生成されるホログラムの大きさを調整することができる。
＜２２＞  記録層とフィルタ層との間に、第２ギャップ層を有する前記＜１７＞から＜２１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜２２＞に記載の光記録媒体においては、前記第２ギャップ層を設けて、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントを存在させることができる。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第２ギャップ層を設けることが有効となる。
【００１１】
＜２３＞  前記＜１７＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に４以上の螺旋ピッチ数のコレステリック液晶層からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
該＜２３＞に記載の光記録媒体の製造方法においては、前記フィルタ層形成工程により、第二の基板上にコレステリック液晶層を４層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成する。その結果、塗布等の簡便な方法により、効率よく光記録媒体を低コストで大量生産することができる。
【００１２】
＜２４＞  前記＜１７＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体に対し、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になるように照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法である。
該＜２４＞に記載の光記録方法においては、本発明の前記光記録媒体を用いて、情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になるように照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することができる。
【００１３】
＜２５＞  前記＜２４＞に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
該＜２５＞に記載の光再生方法においては、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンを効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（光記録媒体用フィルタ）
本発明の光記録媒体用フィルタは、前記コレステリック液晶層、基材及び必要に応じてその他の部材を有するフィルタである。
【００１６】
＜コレステリック液晶層＞
−コレステリック液晶層の光学特性−
前記コレステリック液晶層は、広帯域にわたって高い反射率が得られる波長選択反射特性を有する。このような波長選択反射特性は、下記数式（１）〜（４）を満たすように、該コレステリック液晶層の螺旋ピッチを調整することにより得られる。即ち、前記コレステリック液晶層の複屈折率をΔｎとし、前記コレステリック液晶層の平均螺旋ピッチ長をｐ（ｎｍ）としたとき、下記数式（１）〜（４）
Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ                                数式（１）
Δｎ≧ｎｅ（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ））  数式（２）
ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθ                              数式（３）
ｐ＝λ／（（ＢΔｎ）＋ｎｏ）                    数式（４）
（ただし、ｎｅは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面内で該入射光の進行方向に直角に振動する異常光に偏光されたときの、該異常光に対する屈折率、ｎｏは、前記コレステリック液晶層に含まれるネマチック液晶分子に対する入射光が、該ネマチック液晶分子の光軸を含む面と直角な面内で該入射光の進行方向と直角に振動する正常光に偏光されたときの、該正常光に対する屈折率、ＮＡは、前記コレステリック液晶層と対向して配置される対物レンズの開口数、ｎは、前記対物レンズとの間の媒質の屈折率、θは、前記対物レンズの中心を透過する光の光軸と該対物レンズの最も外側を透過する光の光軸とがなす角、λは、使用する光源の中心波長（ｎｍ）、Ｂは、０から１の数を表す。）を満たす、前記コレステリック液晶層であるため前記波長選択反射特性が得られる。
【００１７】
前記コレステリック液晶層は、更に、波長λの入射光のコレステリック液晶層への入射角０〜θにおける、該入射光の最大反射率をＲｍａｘとし、該入射光の前記入射角０〜θにおける反射率Ｒの前記最大反射率Ｒｍａｘに対する変動量をΔＲとしたとき、次式、ΔＲ≦０．１Ｒｍａｘを満たすことが好ましい。前記変動量ΔＲが、０．１Ｒｍａｘを超えてしまうと、前記コレステリック液晶層の入射角依存性が大きくなり再生像に歪みや劣化が起きることがある。
【００１８】
前記コレステリック液晶層の波長選択反射特性は、前記コレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅をΔλとすると、下記数式（５）で表される帯域において機能する。
Δλ＝ｐ×Δｎ×ｃｏｓθ          数式（５）
ただし、前記数式（５）中、ｐ、Δｎ、θは、数式（１）〜（４）で用いた記号と同じ意味を表す。
【００１９】
前記数式（５）で示される前記選択反射波長帯域幅Δλは、ネマチック液晶そのものの分子構造に依存する。前記数式（５）から、Δｎを大きくすれば、前記選択反射波長帯域幅Δλを拡げられるが、Δｎは通常０．３以下であり、０．３より大きくなると、液晶としてのその他の機能、例えば、配向特性、液晶温度等が不十分となり、実用化が困難となる。したがって、現実にはコレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅Δλは、最大でも１５０ｎｍ程度であり、通常３０〜１００ｎｍ程度が好ましい。
【００２０】
−コレステリック液晶層の光学特性の具体例−
前記光学特性の具体例について、具体例（１）〜（４）に分けて説明する。
【００２１】
−具体例（１）−
使用光源の中心波長λを、５３０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡを０．５（入射光の入射角は０〜３０°）、前記コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅを１．６８２、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏを１．５４５とした場合、複屈折率Δｎは、ｎｅ及びｎｏを数式（１）に代入して、Δｎ＝１．６８２−１．５４５＝０．１３７となる。更に数式（２）に、ｎｅ及びＮＡを代入して、１．６８２（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ０．５））＝１．６８２（１−ｃｏｓ３０）＝１．６８２（１−０．８６６）＝１．６８２×０．１３４＝０．２２５となる。
【００２２】
前記複屈折率Δｎは、０．１３７であり、数式（２）の右辺が０．２２５であることから、該数式（２）を満たしていない。反射率入射角依存性の無い光記録媒体用フィルタ特性を得るには、該数式（２）を満たすため、対物レンズの開口数を小さくする必要があることがわかる。この場合、対物レンズの開口数は０．３９５以下とすればよい。このように請求項１記載の数式（１）〜（４）を全て満たす条件とすることで最適な対物レンズの選択、ネマチック液晶に必要な複屈折率、コレステリック液晶層における平均螺旋ピッチを明確に定義することが可能となる。なお、平均螺旋ピッチ長ｐは、数式（４）にλ、Δｎ、ｎｏ及び定数Ｂに０と１を代入すると、Ｂが０のときは、ｐ＝λ／ｎｏとなり、正常光に対する屈折率によりピッチｐが決められ、ｐ＝５３０／１．５４５＝３４３、Ｂが１のときは、ｐ＝λ／ｎｅとなり、異常光に対する屈折率によりピッチｐが決められ、ｐ＝５３０／１．６８２＝３１５となり、前記ｐの範囲は、３１５ｎｍ≦ｐ≦３４３ｎｍとなる。
【００２３】
前記具体例（１）では、前記平均螺旋ピッチ長ｐを３４３ｎｍとして１０回の螺旋ピッチ数からなる、コレステリック液晶層を作製し、選択反射特性を図４の線図に示した。ｐを３４３ｎｍとした場合の、選択反射波長λの範囲は、数式（４）に基づいて、５２５ｎｍ≦λ≦５７６ｎｍとなる。図４に示すように、図４に向かって右側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約５３０ｎｍから約５７５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。
【００２４】
図４に向かって左側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が３０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約４６５ｎｍから約５１５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。
【００２５】
本具体例（１）の入射光の前記入射角が０°の場合は、使用光源の中心波長は、５３０ｎｍであり、前記右側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれているが、前記入射角が３０°の場合は、前記左側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれておらず、反射率は１０％以下となり、選択反射機能は損なわれている。即ち、前記数式（２）を満たしていないため、このようないわゆるブルーシフトの弊害が生じている。
【００２６】
−具体例（２）−
使用光源の中心波長λを、５３０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡを０．５（入射光の入射角は０〜３０°）、前記コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅを１．７８４、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏを１．５４５とした場合、複屈折率Δｎは、ｎｅ及びｎｏを数式（１）に代入して、Δｎ＝１．６８２−１．５４５＝０．２３９となる。更に数式（２）に、ｎｅ及びＮＡを代入して、１．７８４（１−ｃｏｓ（ａｒｃｓｉｎ０．５））＝１．７８４（１−ｃｏｓ３０）＝１．７８４（１−０．８６６）＝１．７８４×０．１３４＝０．２３９となる。
【００２７】
前記複屈折率Δｎは、０．２３９であり、数式（２）の右辺が０．２３９であることから、該数式（２）を満たしている。なお、平均螺旋ピッチ長ｐは、数式（４）にλ、Δｎ、ｎｏ及び定数Ｂに０と１を代入すると、Ｂが０のときは、ｐ＝５３０／１．５４５＝３４３、Ｂが１のときは、ｐ＝５３０／１．７８４＝２９７となり、前記ｐの範囲は、２９７ｎｍ≦ｐ≦３４３ｎｍとなる。ここで数式（４）におけるＢ値をＢ＝０．０５とすれば、ｐ＝３４０ｎｍが得られる。前記具体例（２）では、前記平均螺旋ピッチ長ｐを３４０ｎｍとして１０回の螺旋ピッチ数からなる、コレステリック液晶層を作製し、選択反射特性を図５の線図に示した。ｐを３４０ｎｍとした場合の、選択反射波長λの範囲は、数式（４）に基づいて、５２５ｎｍ≦λ≦６０７ｎｍとなる。図５に示すように、図５に向かって右側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約５２５ｎｍから約６０７ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。
【００２８】
図５に向かって左側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が３０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約４６２ｎｍから約５４５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。本具体例（１）入射光の前記入射角が０°の場合は、選択反射の中心波長は、５３０ｎｍであり、前記右側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれており、前記入射角が３０°の場合も、前記左側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれており、反射率は０．８以上となり、選択反射機能は損なわれていない。即ち、前記数式（１）〜（４）を満たしており、いわゆる具体例（１）で生じたような、ブルーシフトの弊害は生じることはなく、入射光の入射角が０〜３０°で変化しても該範囲における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内であることが確保されている。
【００２９】
−具体例（３）−
前記具体例（３）は、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数と、入射光の該コレステリック液晶層に対する反射率との関係について図６を用いて説明する。
図６は、具体例（１）と同様のコレステリック液晶層、即ち、選択反射の中心波長λを、５３０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡを０．５（入射光の入射角は０〜３０°）、前記コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅを１．６８２、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏを１．５４５とした複屈折率Δｎの低いコレステリック液晶層を用い、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が、０°の場合であって、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数のみ変化させて、反射率特性を線図に表したものである。図６に示すように、螺旋ピッチの数３（３Ｌ）、螺旋ピッチの数５（５Ｌ）、螺旋ピッチの数７（７Ｌ）、螺旋ピッチの数１０（１０Ｌ）、螺旋ピッチの数１５（１５Ｌ）の５段階の反射率特性を測定し線図を作成した。
【００３０】
最上位の螺旋ピッチの数１５の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５３０ｎｍ≦λ≦５７５ｎｍであり、４５ｎｍの帯域となっている。
【００３１】
次の螺旋ピッチの数１０の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５３０ｎｍ≦λ≦５７５ｎｍであり、４５ｎｍの帯域は同じであるが、最大反射率Ｒｍａｘが前記螺旋ピッチの数１５に対してやや減少している。
【００３２】
次の螺旋ピッチの数７の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５３５ｎｍ≦λ≦５７２ｎｍであり、３７ｎｍの帯域に減少し、最大反射率Ｒｍａｘもその９０％に減少している。
【００３３】
次の螺旋ピッチの数５及び３は最大反射率Ｒｍａｘが７５％以下に減少し、選択反射機能を得ることは困難となっている。結果として、螺旋ピッチの数は７以上が必要であるが、前記螺旋ピッチの数が確保されたとしても、前記具体例（１）のように、前記ブルーシフトの弊害は改善することは困難であることがわかる。
【００３４】
−具体例（４）−
前記具体例（４）は、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数と、入射光の該コレステリック液晶層に対する反射率との関係について図７を用いて説明する。
図８は、具体例（２）と同様のコレステリック液晶層、即ち、選択反射の中心波長λを、５３０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡを０．５（入射光の入射角は０〜３０°）、前記コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅを１．７８４、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏを１．５４５とした複屈折率Δｎの高いコレステリック液晶層を用い、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が０°場合であって、前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数のみ変化させて、反射率特性を線図に表したものである。図８に示すように、螺旋ピッチの数３（３Ｌ）、螺旋ピッチの数４（４Ｌ）、螺旋ピッチの数５（５Ｌ）、螺旋ピッチの数７（７Ｌ）、螺旋ピッチの数１０（１０Ｌ）の５段階の反射率特性を測定し線図を作成した。
【００３５】
最上位の螺旋ピッチの数１０の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５２５ｎｍ≦λ≦６０５ｎｍであり、８０ｎｍの帯域幅があり良好である。
【００３６】
次の螺旋ピッチの数７の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５２５ｎｍ≦λ≦６０５ｎｍであり、７５ｎｍの帯域が同じであるが、最大反射率Ｒｍａｘが前記螺旋ピッチの数１０に対してやや減少している。
【００３７】
次の螺旋ピッチの数５の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５２５ｎｍ≦λ≦６００ｎｍであり、７５ｎｍの帯域があり、最大反射率Ｒｍａｘはやや減少しているが良好である。
【００３８】
次の螺旋ピッチの数４の線図の場合、最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内の選択反射波長帯域は約５２５ｎｍ≦λ≦５９５ｎｍであり、７０ｎｍの帯域があり、最大反射率Ｒｍａｘが９０％に減少しているものの、前記ブルーシフトの弊害は、起きず良好であることがわかる。
【００３９】
次の螺旋ピッチの数３は、最大反射率Ｒｍａｘが４０％以下に減少し、選択反射機能を得ることは困難となっている。結果として、螺旋ピッチの数は４以上が必要であり、該螺旋ピッチの数が４以上であれば、本発明の目的は達成できることがわかる。
【００４０】
前記数式（４）で示すように、前記選択反射の中心波長λは、前記コレステリック液晶層の平均螺旋ピッチｐが一定であれば、前記コレステリック液晶層の複屈折率Δｎと平均螺旋ピッチ長ｐに依存する。
【００４１】
前記コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数としては、４ピッチ以上であることが好ましく、４〜２０ピッチがより好ましい。４ピッチ未満であると、光の入射角が大きくなるほど、選択反射の波長が低い方向へシフトし、必要な波長の選択反射が行われないことがあり、２０ピッチを超えると、前記コレステリック液晶層の厚みが増し、層中の液晶分子の配向制御が困難になることがある。
【００４２】
＜コレステリック液晶層の組成＞
前記コレステリック液晶層の組成は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００４３】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いるなどにより配向させ、そのまま冷却などを行い、固定化させることにより固相として使用することができる。
【００４４】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【００４５】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００４６】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６などが挙げられる。
【００４７】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００４８】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００４９】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【００５０】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【００５１】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００５２】
前記増感剤は、必要に応じて、コレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加することができる。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００５３】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【００５４】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００５５】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００５６】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム及びテトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００５８】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【００５９】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【００６０】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００６１】
＜コレステリック液晶層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００６２】
＜基材＞
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００６３】
前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６４】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【００６５】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。
【００６６】
前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００６７】
前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【００６８】
−記録層−
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
【００６９】
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。
【００７０】
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００７１】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００７２】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００７３】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【００７４】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化１】
2007101883.tif 000003
【００７５】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【化２】
2007101883.tif 000004
【００７６】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第二の基板Ａで蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。
【００７７】
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００７８】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８０】
前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。
【００８１】
前記（３）のフォトクロミック材料としては、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物が特に好ましい。
【００８２】
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【００８３】
前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
【００８４】
前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。
【００８５】
前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００８６】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００８７】
−反射膜−
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００８８】
前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚さは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００８９】
−第１ギャップ層−
前記第１ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第１ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第１ギャップ層としても働くことになる。
前記第１ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００９０】
−第２ギャップ層−
前記第２ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第２ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第２ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【００９１】
ここで、本発明の光記録媒体について、図面を参照して更に詳しく説明する。
＜第一の実施形態＞
図８は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第一の実施形態に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図８では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。
【００９２】
第１ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第１ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第１ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。
【００９３】
図８において、フィルタ層６は、４ピッチ以上の螺旋ピッチからなり、かつ数式（１）〜（４）を満たしているコレステリック液晶層である。フィルタ層６は、第１ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。コレステリック液晶層中の螺旋ピッチ数を４ピッチ以上とし、該数式（１）〜（４）を満たすことによって、入射角０〜３０°で変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【００９４】
本実施形態における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第１ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚さであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【００９５】
次に、図１０を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザーから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、フィルタ層６、及び第１ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第１ギャップ層８、フィルタ層６、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
【００９６】
また、記録用／再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は４ピッチ以上の螺旋ピッチからなるコレステリック液晶層であり、赤色光のみを透過する性質を有するからである。或いは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【００９７】
＜第二の実施形態＞
図９は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第二の実施形態に係る光記録媒体２２では、ポリカーボネート樹脂又はガラス基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）である点については、第一の実施形態と同様である。
【００９８】
第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記録媒体２２では、フィルタ層６と記録層４との間に第２ギャップ層７が設けられていることである。
【００９９】
コレステリック液晶層の４積層体であるフィルタ層６は、第１ギャップ層８を形成した後、該第１ギャップ層８上に形成され、前記第一実施形態と同様のものを用いることができる。
【０１００】
第２ギャップ層７は、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在する。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第２ギャップ層を設けることが有効となる。
【０１０１】
また、光記録媒体２２では、第二の基板１は１．０ｍｍ、第１ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は３〜５μｍ、第２ギャップ層７は７０μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．４ｍｍの厚さであって、合計厚みは約２．２ｍｍとなっている。
【０１０２】
情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体２２に対して、赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。サーボ用光は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第２ギャップ層７、フィルタ層６、及び第１ギャップ層８を通過して反射膜２で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第１ギャップ層８、フィルタ層６、第２ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッキングサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。緑色の情報光等は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第２ギャップ層７を通過して、フィルタ層６で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第２ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。また、再生時についても再生用参照光はもちろん、再生用参照光を記録層４に照射することによって発生する再生光も反射膜２に到達せずに入出射面Ａから出射する。なお、光記録媒体２２周辺（図１０における対物レンズ１２、フィルタ層６、検出器たるＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４）での光学的動作は、第一の実施形態（図８）と同様なので説明を省略する。
【０１０３】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、本発明の前記光記録媒体を製造する方法であって、フィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１０４】
−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、第二の基板上に４ピッチ以上の螺旋ピッチからなるコレステリック液晶層からなるフィルタ層を形成する工程である。
【０１０５】
前記フィルタ層形成工程としては、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成することが生産性の点から好ましい。
前記光記録媒体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、レーザーカッターによる焼き切り加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
【０１０６】
（光記録方法及び光再生方法）
本発明の光記録方法は、本発明の前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録する。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生する。
【０１０７】
本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
【０１０８】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図１１を参照して説明する。
図１１は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１０９】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２１の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１１０】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したり、アドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【０１１１】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用いているので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することができ、今までにない高密度記録を実現することができる。
【実施例】
【０１１２】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１１３】
（実施例１）
−光記録媒体用フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）厚み１００μｍ上に、ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、商品名ＭＰ２０３）を厚み１μｍとなるように塗布したベースフィルムを用意した。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
【０１１４】
次に、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅが１．７８４、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏが１．５４５であるコレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
即ち、複屈折率Δｎ=０．２３９であり、対物レンズの開口数ＮＡ０．５（入射光の入射角は０〜３０°）のとき、該数式（２）を満たしている。
【０１１５】
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、螺旋ピッチ１０、厚み３．４μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
【０１１６】
以上により、円偏光分離特性を有し、螺旋ピッチが１０ピッチ構造の実施例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０１１７】
−光記録媒体用フィルタの選択反射特性−
得られた各光記録媒体用フィルタについて、前記選択反射特性を分光反射測定器を用いて測定した。コレステリック液晶層の反射特性の角度依存性を測定するため、前記分光反射測定器からの入射光の入射角をそれぞれ０°並びに３０°に設定して測定を行った。
【０１１８】
図５及び図７に選択反射特性を示す。図５に向かって右側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が０°場合を表している。本実施例１では、入射光の波長が約５２５ｎｍから約６０７ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内にあることが判る。
図５に向かって左側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が３０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約４６２ｎｍから約５４５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内にあることが判る。
【０１１９】
本実施例１の入射光の前記入射角が０°の場合は、選択反射の中心波長は、５３０ｎｍであり、前記右側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれており、前記入射角が３０°の場合も、前記左側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれており、反射率は０．８以上となり、選択反射機能は損なわれていない。即ち、前記数式（１）〜（４）を満たしており、いわゆる、ブルーシフトの弊害は生じることはなく、入射光の入射角が０〜３０°で変化しても該範囲における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内であることが確保されていることが判る。
【０１２０】
−光記録媒体の作製−
第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。前記反射膜の上に第１ギャップ層として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着した。
【０１２１】
次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜き、ベースフィルム面をサーボピットパターン側にして貼り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。以上によりフィルタ層を形成した。
【０１２２】
次に、記録層材料としては、下記組成物を窒素気流下で混合し、フォトポリマー塗布液を調製した。
−フォトポリマー塗布液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート                  ３１．５質量％
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（分子量１，０００）    ６１．２質量％
・テトラメチレングリコール                                    ２．５質量％
・２，４，６−トリブロモフェニルアクリレート                  ３．１質量％
・光重合開始剤
［チバ・スペシャルケミカル社製、イルガキュア７８４］        ０．６９質量％
・ジブチルジラウレートスズ                                  １．０１質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１２３】
得られたフォトポリマー塗布液を前記フィルタ層上にディスペンサーを用いて盛りつけ、このフォトポリマー上に、直径１２ｃｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製第一の基板を押し付けながらディスク端部と該第一の基板を接着剤で貼り合せた。なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み５００μｍとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚さは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、光記録媒体を作製した。なお、図８は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
【０１２４】
−光記録媒体への記録及び評価−
次に、得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ）を測定した。ＳＮＲは、４．２で良好な再生像が得られ、また、このときの符号誤り率は１０−４以下であった。結果を表２に示す。
【０１２５】
（比較例１）
−光記録媒体用フィルタの作製−
実施例１で用いたものと同じベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
【０１２６】
次に、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率ｎｅが１．６８２、該ネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率ｎｏが１．５４５であるコレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
即ち、複屈折率Δｎ=０．１３７であり、対物レンズの開口数ＮＡ０．５（入射光の入射角は０〜３０°）のとき、該数式（２）を満たしていない。
【０１２７】
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み３．４μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
【０１２８】
以上により、円偏光分離特性を有し、螺旋ピッチが１０ピッチ構造の比較例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０１２９】
−光記録媒体の作製−
第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。前記反射膜の上に第１ギャップ層として、厚さ１００μｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着した。
【０１３０】
次に、実施例１と同様に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜き、ベースフィルム面をサーボピットパターン側にして貼り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。以上によりフィルタ層を形成した。
【０１３１】
−光記録媒体用フィルタの選択反射特性−
得られた各光記録媒体用フィルタについて、実施例１と同様に前記選択反射特性を分光反射測定器を用いて入射角０°並びに３０°において反射特性を測定した。
【０１３２】
前記比較例１では、前記平均螺旋ピッチ長ｐを３４３ｎｍとして１０ピッチとなるよう作製し、選択反射特性を図４の線図に示した。ｐを３４３ｎｍとした場合の、選択反射波長λの範囲は、数式（４）に基づいて、５２５ｎｍ≦λ≦５７６ｎｍとなる。
図６及び図４に示すように、図４に向かって右側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約５３０ｎｍから約５７５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。
【０１３３】
図４に向かって左側の曲線は、入射光の前記対物レンズから前記コレステリック液晶層面への入射角、即ち、該対物レンズの中心を透過する光の光軸と入射光の光軸とがなす鋭角が３０°場合を表している。この曲線では、入射光の波長が約４６５ｎｍから約５１５ｎｍの帯域では、反射率Ｒが該帯域における最大反射率Ｒｍａｘの０．８以上であり、変動量Ｒが０．１Ｒｍａｘ以内である。本具体例（１）入射光の前記入射角が０°の場合は、選択反射の中心波長は、５３０ｎｍであり、前記右側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれているが、前記入射角が３０°の場合は、前記左側の曲線で表される選択反射波長帯域に含まれておらず、反射率は１０％以下となり、選択反射機能は損なわれている。即ち、前記数式（２）を満たしていないため、このようないわゆるブルーシフトの弊害が生じている。
このように、比較例１の光記録媒体用フィルタは、入射角が０°から増加し３０°に近づくにつれて５３０ｎｍ光をほとんど反射できなくなった。
【０１３４】
−光記録媒体への記録及び評価−
次に、得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ  ｔｏ  Ｎｏｉｓｅ  Ｒａｔｉｏ）を測定した。ＳＮＲは、２．０以下と低く良好な再生像が得られなかった。結果を表２に示す。
【０１３５】
【表１】
2007101883.tif 000005
表２の結果から、複屈折率Δｎが、数式（２）を満たしているか否かにより、再生画像のＳＮＲが良好か否かに大きく影響することがわかった。実施例１では、Δｎが０．２３９であり数式（２）の右辺も同様に０．２３９と等しく、該数式（２）を満たして情報光及び再生光の強度を調整することで、多少のふれ幅は生じるがコレステリック液晶層を４ピッチ以上とすることにより、ホログラム型の光記録媒体の最終目的である多重高密度記録が可能となることが認められる。比較例１では、Δｎが０．１３７であり、数式（２）の右辺０．２２５より小さく、数式（２）を満たしていない。この場合、記録媒体への入射角が大きい、即ち、光スポットの外周部における記録並びに反射特性が劣化するため、結果再生像の劣化をもたらす。このためＳＮＲが２．０以下と低く、良好な再生像が得られないことが判かった。
【産業上の利用可能性】
【０１３６】
本発明の光記録媒体用フィルタは、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる。
本発明の光記録媒体は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の各種光記録媒体として幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１３７】
【図１】図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、本発明の平均螺旋ピッチｐのコレステリック液晶層と開口数ＮＡの対物レンズの配置を示す概略断面図である。
【図３】図３は、コレステリック液晶層の光の波長に対する選択反射領域のＢ値に対する特性を示すグラフである。
【図４】図４は、コレステリック液晶層の反射率特性を示すグラフである。
【図５】図５は、コレステリック液晶層の反射率特性を示すグラフである。
【図６】図６は、コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数と反射率特性を示すグラフである。
【図７】図７は、コレステリック液晶層の螺旋ピッチの数と反射率特性を示すグラフである。
【図８】図８は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図９】図９は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図１０】図１０は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１１】図１１は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１３８】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボピットパターン
４      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
７      第２ギャップ層
８      第１ギャップ層
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０      光記録媒体
２１      光記録媒体
２２      光記録媒体
３１      ピックアップ
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
2007101883.tif 000006
【図２】
2007101883.tif 000007
【図３】
2007101883.tif 000008
【図４】
2007101883.tif 000009
【図５】
2007101883.tif 000010
【図６】
2007101883.tif 000011
【図７】
2007101883.tif 000012
【図８】
2007101883.tif 000013
【図９】
2007101883.tif 000014
【図１０】
2007101883.tif 000015
【図１１】
2007101883.tif 000016