(57)【要約】【課題】プラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】所定の間隔で離隔されて互いに対面する前面基板２０１及び背面基板２０２と、前面基板及び背面基板間に形成された空間を複数の放電空間２２０に区画する隔壁２０５と、放電空間を取り囲むように隔壁に配置された前方放電電極２０７と、放電空間を取り囲むように隔壁に配置され、前方放電電極から離隔された後方放電電極２０６と、放電空間内に配置された蛍光体層２１０と、放電空間内にある放電ガスとを具備し、前面基板の放電空間に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界２４０が形成されている構造を有する。【選択図】図３
2007227352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔で離隔されて互いに対面する前面基板及び背面基板と、
前記前面基板及び背面基板間に形成された空間を複数の放電空間に区画する隔壁と、
前記放電空間を取り囲むように前記隔壁に配置された前方放電電極と、
前記放電空間を取り囲むように前記隔壁に配置され、前記前方放電電極から離隔された後方放電電極と、
前記放電空間内に配置された蛍光体層と、
前記放電空間内にある放電ガスと、を具備し、
前記前面基板の放電空間に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記散乱界は、所定の曲率で形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記散乱界は、所定の曲率で形成された凹部であることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記散乱界は、ラフな表面により形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記散乱界は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工されていることを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記前方放電電極は、一方向に延長され、前記後方放電電極は、前記前方放電電極と交差するように延びていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記前方放電電極及び後方放電電極は、一方向に延長されたはしご状に形成され、
前記前方放電電極及び後方放電電極と交差するように延びたアドレス電極を追加で具備することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記散乱界に蛍光体層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
所定の間隔で離隔されて互いに対面する前面基板及び背面基板と、
前記前面基板及び背面基板間に形成された空間を複数の放電空間に区画する誘電体からなる側壁と、
前記放電空間を取り囲むように側壁内に配置された前方放電電極と、
前記放電空間を取り囲むように側壁内に配置され、前記前方放電電極から離隔された後方放電電極と、
前記放電空間内に配置された蛍光体層と、
前記放電空間内にある放電ガスと、を具備し、
前記前面基板の放電空間に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記散乱界は、所定の曲率で形成されていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記散乱界は、所定の曲率で形成された凹部であることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記散乱界は、ラフな表面により形成されていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記散乱界は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工されていることを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記散乱界には、蛍光体層が形成されていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記前方放電電極は、一方向に延長され、前記後方放電電極は、前記前方放電電極と交差するように延びていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
前記前方放電電極及び後方放電電極は、一方向に延長されたはしご状に形成され、
前記前方放電電極及び後方放電電極と交差するように延びたアドレス電極を追加で具備することを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１７】
前記アドレス電極は、背面基板と蛍光体層との間に配置され、前記蛍光体層とアドレス電極との間には、後方誘電体層が配置されていることを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１８】
前記側壁と共に放電空間を限定する隔壁を追加で具備し、
前記蛍光体層は、隔壁と同じレベルで配置されていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルを具備した平板表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス放電を利用して文字やイメージを表現するプラズマディスプレイパネルに係り、さらに詳細には、放電の発生する面が拡大され、視野角の拡張されたプラズマディスプレイパネル及びこれを具備した平板表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、平板ディスプレイ装置として、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を採用した装置は、大画面を有しつつも、高画質、超薄型、軽量化及び広視野角が優秀であるという特性を有しており、他の平板ディスプレイ装置に比べ、製造方法が簡単であって大型化が容易であり、次世代大型平板ディスプレイ装置として脚光を浴びている。
【０００３】
かかるＰＤＰは、印加される放電電圧により、直流（ＤＣ）型、交流（ＡＣ）型及び混合型（Ｈｙｂｒｉｄ）型に分類され、電極配列により、対向放電型及び面放電型に分類される。
【０００４】
直流型ＰＤＰは、あらゆる電極が放電空間に露出される構造であり、対応する電極間に電荷の移動が直接的になされる。交流型ＰＤＰは、少なくとも１つの電極が誘電体層に包まれており、対応する電極間に直接的な電荷の移動がなされない代わりに、壁電荷の電界によって放電が行われる。
【０００５】
直流型ＰＤＰでは、対応する電極間に電荷の移動が直接的になされるので、電極の損傷がはなはだしくなるという問題点があったために、最近まで、交流型、特に三電極面放電構造を有する交流型ＰＤＰが一般的に採用されてきた。
【０００６】
しかし、かかる交流型三電極面放電ＰＤＰを備えた従来の面放電ＰＤＰ１００は、図１に図示されているように、背面基板１０２上には、アドレス電極１０３が形成され、アドレス電極１０３は、第１誘電体層１０４により埋め込まれており、前記第１誘電体層１０４上には、隔壁１０５が形成されて放電空間を区画しており、それぞれの放電空間には、蛍光体層１１０が形成されている。一方、放電空間の蛍光体１１０で発光された可視光線が通過する前面基板１０１に、放電を起こす電極であるＸ，Ｙ電極１０７，１０８とバス電極１０８はもとより、その上に順次に形成された第２誘電体層１０９及び保護層１１１が存在しているので、かかる要素により、可視光線の透過率が６０％ほどになるという重大な問題点を有していた。また、従来の面放電ＰＤＰ１００では、放電を起こす電極が放電空間の上面、すなわち可視光線が通過する前面基板１０１の内側面に形成されて放電がその内側面で発生して拡散するので、従来の面放電ＰＤＰ１００では、発光効率が低くなるという本質的な問題点を有していた。さらに、従来の面放電ＰＤＰ１００では、長時間使用する場合、放電ガスの荷電粒子が、電界により蛍光体にイオンスパッタリングを起こすことにより、永久残像を引き起こすという問題点があった。それだけではなく、従来の面放電ＰＤＰの場合、視野角が大きくなく制限的であるという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、前記の問題点を含め、従来のＰＤＰのさまざまな問題点を解決したものであり、従来のＰＤＰとは完全に異なる構造のＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置であり、視野角が拡張されており、柔軟な色表現の可能なＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
これ以外に本発明は、以下の目的を含むさまざまな目的を有する。
【０００９】
本発明の目的は、従来のＰＤＰではとうてい達成できなかった開口率及び透過率を画期的に向上させることができるＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供し、放電面を大幅に拡大することにより、放電領域を画期的に拡大させることができるＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することである。
【００１０】
本発明の他の目的は、発光効率を画期的に改善したＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することである。
【００１１】
本発明のさらに他の目的は、永久残像現象を画期的に減らすことができるＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することである。
【００１２】
本発明のさらに他の目的は、低電圧駆動の可能なＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することである。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、放電応答速度が速く、かつ高速駆動の可能なＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記の目的を達成しつつ、それ以外のさまざまな利点を有する本発明のＰＤＰは、所定の間隔で離隔されて互いに対面する前面基板及び背面基板と、前記前面基板及び背面基板間に形成された空間を複数の放電空間に区画する隔壁と、前記放電空間を取り囲むように前記隔壁に配置された前方放電電極と、前記放電空間を取り囲むように前記隔壁に配置され、前記前方放電電極から離隔された後方放電電極と、前記放電空間内に配置された蛍光体層と、前記放電空間内にある放電ガスとを具備し、前記前面基板の放電空間に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界が形成されている。
【００１５】
ここで、前記散乱界は、所定の曲率で形成される。
【００１６】
さらに具体的に、前記散乱界は、所定の曲率で形成された凹部である。
【００１７】
また、前記散乱界は、ラフな表面により形成される。
【００１８】
このとき、前記散乱界は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工されることが望ましい。
【００１９】
選択的に、前記前方放電電極は、一方向に延長され、前記後方放電電極は、前記前方放電電極と交差するように延びる。
【００２０】
選択的に、前記前方放電電極及び後方放電電極は、一方向に延長されたはしご状に形成され、前記前方放電電極及び後方放電電極と交差するように延びたアドレス電極を追加で具備できる。
【００２１】
本発明の他側面のＰＤＰは、所定の間隔で離隔されて互いに対面する前面基板及び背面基板と、前記前面基板及び背面基板間に形成された空間を複数の放電空間に区画し、誘電体からなる側壁と、前記放電空間を取り囲むように側壁内に配置された前方放電電極と、前記放電空間を取り囲むように側壁内に配置され、前記前方放電電極から離隔された後方放電電極と、前記放電空間内に配置された蛍光体層と、前記放電空間内にある放電ガスとを具備し、前記前面基板の放電空間に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界が形成されている。
【００２２】
ここで、前記散乱界は、所定の曲率で形成されるが、さらに詳細には、前記散乱界は、所定の曲率で形成された凹部である。
【００２３】
また、前記散乱界は、ラフな表面により形成されるが、前記散乱界は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工されることが望ましい。
【００２４】
一方、前記散乱界には、蛍光体層が形成される。
【００２５】
選択的に、前記前方放電電極は、一方向に延長され、前記後方放電電極は、前記前方放電電極と交差するように延び、選択的に、前記前方放電電極及び後方放電電極は、一方向に延長されたはしご状を有し、前記前方放電電極及び後方放電電極と交差するように延びたアドレス電極を追加で具備することもできる。ここで、前記アドレス電極は、背面基板と蛍光体層との間に配置され、前記蛍光体層とアドレス電極との間には、後方誘電体層が配置されることがある。
【００２６】
一方、前記側壁と共に放電空間を限定する隔壁を追加で具備し、前記蛍光体層は、隔壁と同じレベルに配置されうる。
【００２７】
本発明のさらに他の側面は、前述のようなＰＤＰを具備した平板表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明のＰＤＰ、及びこれを具備した平板表示装置は、次のような効果を始めとして多様な効果を有する。
【００２９】
第一に、前面基板に散乱界が形成されており、可視光がかかる散乱界を介してその進路が拡大されるので、視野角が画期的に拡張される。
【００３０】
第二に、前面基板を介して投射される可視光が散乱界を介して進路が拡大されるので、放電空間と放電空間との間の可視光の差がかなり緩和され、柔軟な色表現が可能になる。
【００３１】
第三に、前面基板の開口率及び可視光線の透過率が画期的に向上し、放電が発生する面と放電領域とを大幅拡大させられ、プラズマを放電空間の中央部に集中させることができ、発光効率が大幅向上しうる。また、高濃度Ｘｅガスを放電ガスとして使用しても、低電圧駆動が可能になり、発光効率を向上させることができる。
【００３２】
第四に、放電応答速度が速く、低電圧駆動が可能になる。
【００３３】
第五に、永久残像を基本的に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明による望ましい実施形態につき、添付された図面を参照しつつ詳細に説明する。かかる実施形態及び図面は、本発明の理解を助けるためのものであり、本発明の範囲は、以下の実施形態または添付された図面に限定されず、特許請求の範囲によって決まるということは、いうまでもない。
【００３５】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態によるＰＤＰ２００は、図２ないし図５Ｄに示されている。以下、本発明の第１実施形態を説明するさまざまな事項は、必ずしも第１実施形態だけを説明するものではなく、本発明の範囲に含まれる他の実施形態に適用できる事項であるならば、かような事項は、本発明の属する技術分野で当業者により認識可能なあらゆる他の実施形態を説明する事項にも該当するということに留意せねばならない。
【００３６】
参考までに、本発明で、「前方」とは、画像の表示される方向を意味し、「後方」とは、その反対方向を意味する。
【００３７】
本発明の第１実施形態によるＰＤＰ２００は、図２及び図３に図示されているように、所定の間隔で離隔され、互いに対面する一対の基板、例えば前面基板２０１と背面基板２０２とを具備する。
【００３８】
前記前面基板２０１と背面基板２０２との間には、複数の放電空間２２０を形成する側壁、例えば隔壁２０５が所定のパターンに配置されて設置される。前記隔壁２０５は、複数の放電空間２２０を形成できる限り、多様なパターンの隔壁２０５、例えばストライプのような開放型隔壁２０５はもとより、ワッフル、マトリックス、デルタのような閉鎖型隔壁２０５にもなりうる。また、閉鎖型隔壁２０５は、放電空間２２０の横断面が、本実施形態に示したように四角形以外にも、三角形、五角形のような多角形、または円形、楕円形などでも形成されうる。かかる隔壁２０５は、放電空間２２０を形成する要素でもあるが、後述する放電電極２０６，２０７の設置される根拠になる要素でもある。従って、隔壁２０５は、放電の開始、拡散がなされうるように、放電電極２０６，２０７の設置されうる形態ならば、いかなる形態でも形成されうる。
【００３９】
前記背面基板２０２上には、放電が開始される放電空間２２０を選択する電圧を印加できるように、それぞれの放電空間２２０に対応するように、アドレス電極２０３が所定のパターン、例えばストライプ状に形成される。アドレス電極２０３のパターンは、必ずしもストライプ状に限定されず、放電空間２２０の形態によって多様な形態になりうる。
【００４０】
前記アドレス電極２０３は、本実施形態に示したように、背面基板２０２に配置されうるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、適切な他のところ、例えば前面基板２０１、隔壁２０５などに配置することもできる。
【００４１】
また、本発明において、前記アドレス電極２０３は、不要でありうる。なぜならば、放電が開始される放電空間２２０を選択する電圧は、アドレス電極２２０がないとしても、放電電極２０６，２０７の適切な配置により、例えば二放電電極２０６，２０７が互いに交差するように配置することにより、前方放電電極２０７及び後方放電電極２０６間に放電空間２２０を選択できる電圧を印加できるためである。
【００４２】
前記背面基板２０２上には、前記アドレス電極２２０を覆うように、後方誘電体層２０４が形成される。本実施形態では、後方誘電体層２０４が構成要素として開示されているが、本発明の場合、後方誘電体層２０４は、必ずしも必要な構成要素ではない。また、本実施形態では、前記後方誘電体層２０４上に隔壁２０５が設置されるように構成されているが、本発明の場合、必ずしもこれに限定されるものではなく、背面基板２０２上にいったん隔壁２０５が設置され、各隔壁２０５間で前記背面基板２０２上に前記アドレス電極２２０及び後方誘電体層２０４が順次に配置されることもある。
【００４３】
前記隔壁２０５には、図３に示されているように、放電空間２２０で放電を起こす電極、例えばＸ電極である前方放電電極２０７と、Ｙ電極である後方放電電極２０６とが形成されている。前記前方放電電極２０７と後方放電電極２０６は、二電極間に印加された交流電圧による放電が互いに連結された面で維持されうるように、所定の間隔で前面基板と背面基板との間で離隔されて配置される。
【００４４】
本実施形態では、隔壁２０５にＸ電極である前方放電電極２０７及びＹ電極である後方放電電極２０６が形成されているが、本発明の場合、前記前方放電電極２０７と後方放電電極２０６は、放電空間２２０を形成する側面で面放電を発生させることができる限り、多様な形態及び位置に配置されうる。例えば、図３に示されているように、前方放電電極２０７と後方放電電極２０６は、それぞれ隔壁２０５の側面でリング状に隔壁２０５の周りに沿って互いに並んで形成されうる。
【００４５】
前方放電電極２０７と後方放電電極２０６との間の離隔された距離は、交流電圧の印加により放電が維持されるのに適切な程度ならばよいが、可能な限り二電極間の離隔された距離を短くすることが低電圧駆動を可能とする上で望ましい。
【００４６】
前方放電電極２０７及び後方放電電極２０６の形状は、本実施形態では四角のボックス状になっているが、本発明の場合、必ずしもこれに限定されず、リング状のような多様な形状になりうる。前方放電電極２０７及び後方放電電極２０６は、多様に配置されうるが、低い電圧でも放電が容易に開始され、かつ容易に拡散されうるように配置されることが望ましい。図４は、図３による本実施形態の変形例を図示する断面図であるが、図４では、放電が起こる面が可能な限り広くなるように、Ｘ電極である前方放電電極３０７及びＹ電極である後方放電電極３０６ａ，３０６ｂを配置するために、リング状の前方放電電極３０７を挟んでその上下にリング状の後方放電電極３０６ａ，３０６ｂが配置され、その反対に配置することもできる。Ｘ電極である前方放電電極３０７とＹ電極である後方放電電極３０６ａ，３０６ｂとをこのように配置すれば、図４に矢印で表示されているように、放電が起こる面が放電空間３２０の高さ方向側に拡大されるという効果を得ることができる。この場合、アドレス電極３０３とＹ電極３０６ｂとの間に印加されるアドレス電圧を低くするために、Ｙ電極である後方放電電極３０６ｂは、アドレス電極３０３の近く位置するように、すなわち、Ｙ電極である後方放電電極３０６ｂを背面基板３０２側の近く配置することが望ましい。
【００４７】
Ｘ電極である前方放電電極２０７及びＹ電極である後方放電電極２０６（図３）は、互いに絶縁状態を維持できるように、例えば二電極間に側面誘電体層２０８が位置するように、これを配置することが望ましい。また、かかる側面誘電体層２０８は、前方放電電極及び後方放電電極２０７，２０６を覆うように、隔壁２０５上に形成されることが望ましい。
【００４８】
一方、前面基板２０１で放電空間２２０に向かう面上には、可視光の散乱のための散乱界２４０（ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ  ｆｉｅｌｄ）が放電空間２２０に整列されて形成される。ここで、散乱界２４０は、所定の曲率で形成された凹部状に形成される。併せて、前記散乱界２４０は、ラフな表面を有するように形成される。従って、かかる散乱界２４０は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工される。
【００４９】
また、前記側面誘電体層２０８上には、側面誘電体層２０８を保護する層として、例えばＭｇＯからなる膜２０９を形成することが望ましい。
【００５０】
前記側面誘電体層２０８及び後方誘電体層２０４、そして前面基板２０１によって形成される放電空間２２０には、放電ガスから発生した紫外線により励起され、可視光線を放出する蛍光体層２１０が形成される。かかる蛍光体層２１０は、放電空間２２０のいずれの部位にも形成されうるが、可視光線の透過率などを考慮するとき、図３に図示されているように、背面基板２０２側である放電空間２２０の下部で放電空間２２０の底面２２０ａを覆い、側面２２０ｂの下部を覆うように配置することが望ましい。追加的に、前記前面基板２０１に形成された散乱界２４０の表面にも、蛍光体層２４２が形成されることが望ましい。
【００５１】
一方、前記放電空間２２０には、Ｎｅ、Ｘｅなど及びそれらの混合気体のような放電ガスが封入される。
【００５２】
前記放電空間２２０の上側開放部は、前面基板２０１によって密閉される。前記前面基板２０１には、従来のＰＤＰの前面基板に存在したＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜からなる放電電極やバス電極、それらを覆うように前面基板に形成される誘電体層が存在しない。従って、本実施形態を含んだ本発明の場合、前面基板２０１の開口率を大幅向上させることができることはもとより、可視光線の透過率を９０％まで画期的に向上させて低電圧駆動を具現することにより、発光効率を極大化できる。前記前面基板２０１の材質は、透明なものであるならば、いかなるものでもよく、例えばガラスを材質とすることができる。
【００５３】
ここで、前面基板２０１の前面と背面とのうち、放電空間に向かう背面上には、所定の曲率で形成された散乱界２４０が放電空間２２０に整列されて形成されている。図３に図示されているように、前記散乱界は、所定の曲率で形成された凹部状であるが、曲率は、放電空間で発生する可視光の散乱角を考慮して決まる。
【００５４】
また、前記散乱界２４０は、ラフな表面になるように加工されることが望ましいが、かかる散乱界は、サンドブラスト、化学エッチング、レーザ加工のうちいずれか１つの方法で加工される。
【００５５】
加工された散乱界２４０には、放電空間の下側に形成された蛍光体層２１０とは別途に、蛍光体層２４２が形成されることが望ましい。
【００５６】
図４に図示された変形例の場合にも同様に、前面基板３０１の両側面のうち放電空間３２０に向かう下側に、所定の曲率の凹部で形成された散乱界３４０が形成され、かかる散乱界３４０上には、蛍光体層３４２が形成される。
【００５７】
図４に図示された図面で、図３の構成要素に対して表示された２００番台の図面番号に対応し、３００番台の図面番号が使われた。従って、図４について図３の場合と重複する構成についての説明は省略する。
【００５８】
本実施形態による図３のＰＤＰにおいて、１つの例示的な放電過程につき、図５Ａないし図５Ｄを参照しつつ説明する。
【００５９】
まず、外部の電源から前記アドレス電極２０３と、Ｙ電極である後方放電電極２０６との間に所定のアドレス電圧が印加されれば、発光される放電空間２２０が選択され、選択された放電空間２２０のＹ電極である後方放電電極２０６上に壁電荷が蓄積される。次に、図５Ａに示されているように、Ｘ電極である前方放電電極２０７に＋電圧が印加され、Ｙ電極である後方放電電極２０６にこれより相対的に低い電圧が印加されれば、かかるＸ電極である前方放電電極２０７とＹ電極である後方放電電極２０６との間に印加された電圧差により壁電荷が移動する。このように壁電荷が移動しつつ、放電空間２２０内の放電ガス原子と衝突しつつ放電を起こしてプラズマを生成し、かかる放電は、相対的に強い電界が形成される前方放電電極２０７と後方放電電極２０６との互いに近い部分から発生する可能性が高い。本実施形態の場合、Ｘ電極である前方放電電極２０７とＹ電極である後方放電電極２０６との互いに近い部分が放電空間２２０の側面に沿って形成されているので、放電電極の互いに近い部分が放電空間の上面にだけ形成されている従来技術に比べ、放電が発生する可能性が大幅に向上する。
【００６０】
経時的に二電極間の電圧差を変えることなく十分大きく維持すれば、図５Ｂに示されているように、二電極の面間に形成された電界が順次強く集中することにより、放電が放電空間２２０全体に拡散する。本実施形態での放電は、放電空間２２０の４つの側面でリング状に発生して中央部に拡散する一方、従来の技術での放電は、放電空間２２０の１つ上面で発生して中央部に拡散するので、本実施形態での放電は、従来技術での放電に比べ、その拡散範囲が大幅に拡大する。また、本実施形態で、放電により発生するプラズマは、放電空間２２０の側面に沿ってリング状に形成されていて中央部に拡散するので、その体積が大幅に増大し、放電により発生する可視光線の量が大幅に増加し、プラズマが放電空間２２０の中央部に集中することによって空間電荷を活用でき、低電圧駆動が可能になって発光効率が向上するという効果を得ることができる。
【００６１】
また、プラズマが放電空間２２０の中央部に集中し、前方放電電極及び後方放電電極２０７，２０６による電界がプラズマの両側面に形成されるので、電荷が放電空間２２０の中央部に集中し、蛍光体２１０へのイオンスパッタリングを基本的に防止できる。このように、中央部に拡散された放電は、図５Ｃに図示されているように紫外線を発生させ、紫外線は、蛍光体層に衝突しつつ可視光を発生させる。
【００６２】
かかる過程で発生した可視光は、図５Ｄに図示されているように、前面基板２０１を介して投射されるが、放電空間２２０内で蛍光体層２１０の後方側に配置された、すなわち、後方誘電体層２０４の上に形成された蛍光体層で発生した可視光は、ホール状の放電空間２２０の深さを通過して放出される。この過程で、主放電の起こる放電空間の深さがほぼ２００μｍ以上であり、背面基板２０２で蛍光体層２１０が形成されている高さがほぼ３０μｍ以上であるために、放電が起こる場合、紫外線が蛍光体層を励起させて可視光として放出されるとき、放電空間の深さと蛍光体層が形成された高さとにより、可視光が円滑に放出されえないことを防止するために、前面基板２０１の下面、すなわち放電空間２２０に向かう表面に、所定の曲率の散乱界２４０が形成される。従って、図５Ｄで、放電空間２２０内部に矢印で図示された可視光は、所定の曲率の散乱界２４０で散乱されて前面基板を抜け出す。
【００６３】
このとき、散乱界２４０は、所定の曲率が凹部状なので、可視光は、曲率によって形成された視野角θに展開されて進む。従って、散乱界２４０のない場合に比べ、視野角がはるかに広くなる。
【００６４】
いったん、かかる放電が形成された後に、Ｘ電極である前方放電電極２０７とＹ電極である後方放電電極２０６との電圧差が放電電圧より低くなれば、放電は、それ以上発生せず、空間電荷及び壁電荷が放電空間２２０に形成される。このとき、前方放電電極２０７と後方放電電極２０６とに印加された電圧の極性をそれぞれ互いに変えれば、図５Ｄに図示されているように、壁電荷の助けを受けて放電が再び発生する。その後には、図５Ａないし図５Ｃに図示されたところと似たように、放電が放電空間２２０全体に拡散されていて消滅する。
【００６５】
そして、前方放電電極２０７と後方放電電極２０６との極性をさらに変えれば、最初の放電過程が反復される。このような過程を反復しつつ放電が安定的に発生する。
【００６６】
このように放電が維持される全過程で見るとき、前方放電電極２０７と後方放電電極２０６との間には、交流電圧が印加される。
【００６７】
しかし、本発明で、放電は、必ずしもこれに限定されるものではなく、本発明の属する技術分野で当業者が理解することができる範囲内で多様な放電が可能である。
【００６８】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態によるＰＤＰ４００の放電空間４２０は、図６に図示されている。図６を参照すれば、第２実施形態によるＰＤＰ４００の１つの放電空間４２０は、放電電極であるＸ電極の役割を行う前方放電電極４０７と、Ｙ電極の役割を行う後方放電電極４０８とが隔壁４０５自体に位置しているのではなく、隔壁４０５の高さ方向に延長された位置で、隔壁４０５と前面基板４０１との間に配置されている。すなわち、第２実施形態での放電空間４２０は、第１実施形態での放電空間２２０と異なり、隔壁４０５だけで形成されるものではなく、隔壁４０５と、それに対応して接し、誘電体からなる側壁４１５とによって形成される。前記隔壁４０５の側面には、蛍光体層４１０が塗布されており、前記側壁４１５の内部には、Ｘ電極である前方放電電極４０７及びＹ電極である後方放電電極４０６が上下に埋め込まれた誘電体層４０８からなっており、前記側壁４１５の外側面には、保護膜４０９が形成されている。前記側壁４１５は、隔壁４０５から延びるが、前面基板４０１に延長されて隔壁４０５と結合されることが望ましい。
【００６９】
ここで、前記側壁４１５内に、所定間隔で離隔されて配置された前方放電電極４０７と後方放電電極４０６とが一方向に延びたはしご状を有するように形成され、前記前方放電電極４０７と後方放電電極４０６とに交差するように延びたアドレス電極４０３が前記背面基板４０２の上面に配置される。
【００７０】
前記アドレス電極４０３は、後方誘電体層４０４により埋め込まれており、前記後方誘電体層４０４の上面には、蛍光体層４１０が隔壁４０５の高さと同レベルに配置される。
【００７１】
一方、前面基板４０１の両側表面のうち、放電空間４２０に向かう表面には、所定の曲率の散乱界４４０が凹状に形成され、前記散乱界４４０の表面にも、追加的に蛍光体層４４２が形成されることが望ましい。
【００７２】
従って、かかる構造により、放電空間４２０で放電が発生し、可視光が前面基板４０１を介して出て行く場合、散乱界４２０で可視光が散乱され、所定の各θほどの広い視野角を確保できる。
【００７３】
図７は、図６のアドレス電極４０３が省略された構造の変形例を図示する。図７によれば、図６と類似し、ＰＤＰ  ５００の１つの放電空間５２０は、放電電極であるＸ電極の役割を行う前方放電電極５０７と、Ｙ電極の役割を行う後方放電電極５０６とが隔壁５０５自体に位置しているのではなく、隔壁５０５の高さ方向に延長された位置で、隔壁５０５と前面基板５０１との間に配置されている。すなわち、放電空間５２０は、隔壁５０５だけにより形成されるものではなく、隔壁５０５と、それに対応して接する側壁５１５とによって形成される。前記隔壁５０５の側面には、蛍光体層５１０が塗布されており、前記側壁５１５の内部は、Ｘ電極である前方放電電極５０７及びＹ電極である後方放電電極５０６が上下に埋め込まれた誘電体層５０８からなっており、前記側壁５１５の外側面には、保護膜５０９が形成されている。前記側壁５１５は、隔壁５０５から延びることができるが、前面基板５０１に延長し、隔壁５０５と結合されることが望ましい。
【００７４】
ここで、前記側壁５１５内に所定間隔で離隔されて配置された前方放電電極５０７は、一方向に延びており、後方放電電極５０６は、前記前方放電電極５０７と交差するように延びており、アドレス電極なしでも放電空間の選択が可能になる。
【００７５】
ここで、背面基板５０２の上面には、蛍光体層５１０が隔壁５０５の高さと同レベルに配置される。
【００７６】
一方、前面基板５０１の両側表面のうち、放電空間５２０に向かう表面には、所定の曲率の散乱界５４０が凹状に形成され、前記散乱界５４０の表面にも、追加的に蛍光体層５４２が形成されることが望ましい。
【００７７】
従って、かかる構造により、放電空間５２０で放電が発生し、可視光が前面基板５０１を介して出て行く場合、散乱界５２０で可視光が散乱され、所定の角θほどの広い視野角を確保する。
【００７８】
以上の外にも異なる部分は、前述の第１実施形態のＰＤＰ及び図６のＰＤＰの構成と類似した構成を有する。
【００７９】
以上で説明された実施形態のＰＤＰ及び本発明の一側面のＰＤＰは、駆動回路などと共に、本発明の一側面による平板表示装置、例えばプラズマ表示装置に採用可能である。
【００８０】
本発明は、図面に示された実施形態を参考として説明されたが、それらは、例示的なものにすぎず、本発明の属する技術分野で当業者ならば、かかる実施形態から多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。従って、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によってのみ決まるものである。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明のＰＤＰ及びこれを具備した平板表示装置は、ディスプレイ関連の技術分野、特に、ガス放電を利用して文字やイメージを表現するＰＤＰに関する分野に効果的に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】従来のＰＤＰの一部を図示した分離斜視図である。
【図２】本発明の一実施例によるＰＤＰの一部を図示した分離斜視図である。
【図３】図２の３ａ−３ａの断面図である。
【図４】図３の放電電極の他の実施例を表した断面図である。
【図５Ａ】図２の放電空間で放電の起こる過程を図示した断面図である。
【図５Ｂ】図２の放電空間で放電の起こる過程を図示した断面図である。
【図５Ｃ】図２の放電空間で放電の起こる過程を図示した断面図である。
【図５Ｄ】図２の放電空間で放電の起こる過程を図示した断面図である。
【図６】本発明の他の実施例によるＰＤＰで、１つの放電空間を表した断面図である。
【図７】図６の変形された実施例についての断面図である。
【符号の説明】
【００８３】
１００，２００，３００，４００，５００    ＰＤＰ
１０１，２０１，３０１，４０１，５０１    前面基板
１０２，２０２，３０２，４０２，５０２    背面基板
１０３，２０３，３０３，４０３    アドレス電極
１０４    第１誘電体層
１０５，２０５，３０５，４０５，５０５    隔壁
１０６    Ｙ電極
１０７    Ｘ電極
１０８    バス電極
１０９    第２誘電体層
１１０，  ２１０，  ２４２，  ３１０，  ３４２，  ４１０，  ４４２，  ５１０，  ５４２    蛍光体層
１１１    保護層
２０４，３０４，４０４，５０４    後方誘電体層
２０６，３０６ａ，３０６ｂ，４０６，５０６    後方放電電極
２０７，３０７，４０７，５０７    前方放電電極
２０８，３０８，４０８，５０８    側面誘電体層
２０９，３０９，４０９，５０９    保護膜
２２０ａ，３２０ａ    放電空間の底面
２２０ｂ，３２０ｂ    放電空間の側面
２２０，３２０，４２０，５２０    放電空間
２４０，３４０，４４０，５４０    散乱界
【図１】
2007227352.tif 000003
【図２】
2007227352.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６】
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【図７】
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