(57)【要約】【課題】インク吸収性に優れたインクジェット記録材料の製造方法において、インク受容層に塗布故障がない生産効率の良いインクジェット記録材料の同時重層塗布製造方法を提供する。【解決手段】支持体上に少なくとも２層以上のインク受容層を有するインクジェット記録材料を同時重層塗布するインクジェット記録材料の製造方法において、前記２層以上のインク受容層の少なくとも１層が平均二次粒子径５００ｎｍ以下の無機微粒子を主体とするインク受容層であって、前記２層以上のインク受容層の少なくとも１層がポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも２層以上のインク受容層を有するインクジェット記録材料を同時重層塗布するインクジェット記録材料の製造方法において、前記２層以上のインク受容層（Ａ）の少なくとも１層が平均二次粒子径５００ｎｍ以下の無機微粒子を主体とするインク受容層であって、前記２層以上のインク受容層の少なくとも１層がポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【請求項２】
前記２層以上のインク受容層（Ａ）のうち支持体より離れた位置に設けられるインク受容層（Ａ２）が、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有することを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録材料の製造方法。
【請求項３】
支持体上のインク受容層（Ａ）のうち、支持体に近い位置に設けられるインク受容層（Ａ１）のバインダー量は、無機微粒子に対して３０〜６０質量％であり、支持体により離れた位置に設けられるインク受容層（Ａ２）のバインダー量は、無機微粒子に対して１０〜２５質量％であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のインクジェット記録材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット記録材料の製造方法に関し、更に詳しくは、インク受容層に塗布故障の生じない２層以上のインク受容層からなるインクジェット記録材料の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方式に使用される記録材料としては、通常の紙やフィルムからなる支持体上に、親水性ポリマーを主体とする溶解性又は膨潤性のインク受容層や、非晶質シリカ等の顔料を主体とする多孔質性のインク受容層を設けてなる記録材料が知られている。
【０００３】
親水性ポリマーを主体とする溶解性又は膨潤性のインク受容層を設ける場合には、特開昭５５−１４６７８６号公報に支持体上に設けた色剤吸収層に吸水性ポリマーの使用、特開昭５６−８０４８９号公報に溶解性又は膨潤性物質の使用が提案され、また多数のポリマー系（ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ））の使用が提案されている。しかしながら、これらの吸収材料はポリマーの親水性基あるいは解離性基による水性インクの浸透効果を利用したものであり、このため膜を厚くしても十分なインク吸収速度を得られなかった。
【０００４】
多孔質性のインク受容層を設ける場合には、近年、顔料として極微細な無機粒子、例えば、粉砕・分散した気相法シリカや湿式法シリカ等の無機超微粒子をインク受容層の顔料成分として用いることが提案されている。例えば、特公平３−５６５５２号、特開平１０−１１９４２３号、特開２０００−２１１２３５号、特開２０００−３０９１５７号公報に気相法シリカの使用例が、特開平９−２８６１６５号、特開平１０−１８１１９０号公報に粉砕沈降法シリカの使用例が、特開２００１−２７７７１２号公報に粉砕ゲル法シリカの使用例が開示されている。また、特開昭６２−１７４１８３号、特開平２−２７６６７０号、特開平５−３２０３７号、特開平６−１９９０３４号公報等にアルミナやアルミナ水和物を用いた記録材料が開示されている。多孔質性のインク受容層は、インク吸収速度が比較的高いことで知られている。
【０００５】
上述した記録材料の支持体としては、従来、紙が一般的に用いられており、紙自体にインク吸収層としての役割を持たせていた。近年フォトライクの記録材料が要望される中、紙支持体を用いた記録材料は、光沢、質感、耐水性、印字後のコックリング（皺あるいは波打ち）等の問題があり、耐水性の支持体、特に写真用途には、紙の両面にポリエチレン樹脂等をラミネートした樹脂ラミネート紙等が用いられるようになってきた。またＯＨＰ（オーバーヘッドプロジェクター）用や、印刷版版下フィルム用などの用途にはポリエステルフィルム等の樹脂フィルムなどの透明性支持体が用いられる。しかし耐水性支持体は、紙支持体と違ってインクを吸収することが出来ないため、支持体上に設けられたインク受容層のインク吸収性が重要であった。
【０００６】
前述の写真用途においては、例えば高い吸収性と光沢性を得るため特開２００１−１６３０号公報に気相法シリカとアルミナのインク受容層と水溶性ポリマー層の重層塗布が提案されている（特許文献１）。また、優れた耐傷性を得るため特開２００３−１５９８６２号公報に、無機微粒子を含有するインク受容層とコロイダルシリカを含有する層の重層塗布が提案されている（特許文献２）。また、高い印字濃度を得るため特開２００４−２３７７０４号公報に、最上層のインク受容層に湿式シリカを含有する重層塗布が提案されている（特許文献３）。また、インク受容層のひび割れや折り割れを改善するため特開２００５−３３５１２０号公報に、無機粒子とケト基を有する樹脂バインダーを含有する重層構成のインクジェット記録材料が提案されている（特許文献４）。ＯＨＰ用途においては、接着強度を改善するために、特開２００４−２５８３６号公報で、支持体とインク受容層との間に結合剤とカチオン的に改質されたシリカを含んでなる追加の付着促進層を設けた重層構成インクジェット記録材料が提案されている（特許文献５）。
【０００７】
しかしながら、上記のような重層構成のインクジェット記録材料は同時重層塗布において、ひび割れ、はじきの発生により効率の良い生産は出来なかった。また、塗布時に耳部の塗液が内側へ寄っていくために、塗布幅が狭くなるという欠点もあった。
【０００８】
塗布故障の改善には界面活性剤を利用した例が開示されており、一例を挙げると、特開２００１−２４６８３８号公報（特許文献６）、特開２００４−９８３８２号公報（特許文献７）、特開２００５−２８７４６号公報（特許文献８）などがある。しかしながら、同時重層塗布の場合には上記の技術では解決することが出来なかった。
【特許文献１】特開２００１−１６３０号公報
【特許文献２】特開２００３−１５９８６２号公報
【特許文献３】特開２００４−２３７７０４号公報
【特許文献４】特開２００５−３３５１２０号公報
【特許文献５】特開２００４−２５８３６号公報
【特許文献６】特開２００１−２４６８３８号公報
【特許文献７】特開２００４−９８３８２号公報
【特許文献８】特開２００５−２８７４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、インク吸収性に優れたインクジェット記録材料の製造方法において、インク受容層に塗布故障がない生産効率の良いインクジェット記録材料の同時重層塗布製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
【００１１】
（１）支持体上に少なくとも２層以上のインク受容層を有するインクジェット記録材料を同時重層塗布するインクジェット記録材料の製造方法において、前記２層以上のインク受容層（Ａ）の少なくとも１層が平均二次粒子径５００ｎｍ以下の無機微粒子を主体とするインク受容層であって、前記２層以上のインク受容層の少なくとも１層がポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
（２）前記２層以上のインク受容層（Ａ）のうち支持体より離れた位置に設けられるインク受容層（Ａ２）が、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有することを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録材料の製造方法。
（３）支持体上のインク受容層（Ａ）のうち、支持体に近い位置に設けられるインク受容層（Ａ１）のバインダー量は、無機微粒子に対して３０〜６０質量％であり、支持体より離れた位置に設けられるインク受容層（Ａ２）のバインダー量は、無機微粒子に対して１０〜２５質量％であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のインクジェット記録材料の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、同時重層塗布時にインク受容層に塗布故障のないインクジェット記録材料を効率良く安定的に生産することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いるポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルは、例えば、日本油脂株式会社製のノニオンＮＳ−２１５、ノニオンＨＳ−２１０等を入手し本発明に利用することができる。
【００１４】
本発明の製造方法により製造されるインクジェット材料は、２層以上のインク受容層の少なくとも一方が平均二次粒子径５００ｎｍ以下の無機微粒子を主体とするインク受容層（Ａ）から成り、少なくとも一方がポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを含有する。好ましくは支持体より離れた位置するインク受容層（Ａ２）に含有する。含有量は、無機微粒子に対して０．０１〜５質量％の範囲で用いられ、好ましくは０．０５〜１質量％である。
【００１５】
本発明の製造方法は、ポリエチレングリコールノニルフェニルエーテルもしくは、ポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル以外の界面活性剤も含有することが出来る。例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、フッ素系、シリコン系界面活性剤を挙げることが出来る。
【００１６】
本発明におけるインク受容層に用いられる平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機微粒子としては、非晶質合成シリカ、アルミナ、アルミナ水和物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、二酸化チタン等の公知の各種微粒子が挙げられるが、インク吸収性と生産性の点で非晶質合成シリカ、アルミナまたはアルミナ水和物が好ましい。
【００１７】
非晶質合成シリカは、製造方法によって湿式法シリカ、気相法シリカ、及びその他大別することができる。湿式法シリカは、さらに製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカに分類される。沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の行程を経て製品化される。沈降法シリカとしては、例えば東ソー・シリカ（株）からニップシールとして、（株）トクヤマからトクシールとして市販されている。ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子どうしを結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、東ソー・シリカ（株）からニップゲルとして、グレースジャパン（株）からサイロイドとして、サイロジェットとして市販されている。ゾル法シリカは、コロイダルシリカとも呼ばれ、珪酸ソーダの酸などによる複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られ、例えば日産化学工業（株）からスノーテックとして市販されている。
【００１８】
気相法シリカは、湿式法に対して乾式法とも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやトリクロロシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル（株）からアエロジル、（株）トクヤマからＱＳタイプとして市販されている。
【００１９】
本発明に用いられる気相法シリカの平均一次粒子径は３０ｎｍ以下が好ましく、より高い光沢を得るためには、１５ｎｍ以下が好ましい。さらに好ましくは平均一次粒子径が３〜１５ｎｍ（特に３〜１０ｎｍ）でかつＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ2／ｇ以上（好ましくは２５０〜５００ｍ2／ｇ）のものを用いることである。なお、本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する１００個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子径として平均粒子径を求めたものであり、本発明でいうＢＥＴ法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から１ｇの試料の持つ総表面積、即ち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ吸着量を被吸着気体の圧、または容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Brunauer、Emmett、Tellerの式であってＢＥＴ式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。ＢＥＴ式に基づいて吸着量を求め、吸着分子１個が表面で占める面積を掛けて表面積が得られる。
【００２０】
気相法シリカは、カチオン性化合物の存在下で分散するのが好ましい。分散された気相法シリカの平均二次粒子径は５００ｎｍ以下、好ましくは１０〜３００ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。分散方法としては、通常のプロペラ攪拌、タービン型攪拌、ホモミキサー型攪拌等で気相法シリカと分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。なお、本発明でいう平均二次粒子径とは、得られた記録材料のインク受容層を電子顕微鏡で観察することにより、観察される分散された凝集粒子の粒子径の平均値を求めたものである。
【００２１】
本発明では、平均二次粒子径５００ｎｍ以下に粉砕した湿式法シリカも好ましく使用できる。本発明に用いられる湿式法シリカ粒子としては、平均一次粒子径５０ｎｍ以下が好ましく、さらに３〜４０ｎｍが好ましい。これをカチオン性化合物の存在下で平均二次粒子径５００ｎｍ以下、好ましくは２０〜２００ｎｍ程度まで微粉砕した湿式法シリカ微粒子を使用することが好ましい。
【００２２】
通常の方法で製造された湿式法シリカは、１μｍ以上の平均凝集粒子径を有するため、これを微粉砕して使用する。粉砕方法としては、水性媒体中に分散したシリカを機械的に粉砕する湿式分散法が好ましく使用できる。この際、分散液の初期粘度上昇が抑制され、高濃度分散が可能となり、粉砕・分散効率が上昇してより微粒子に粉砕することができることから、吸油量が２１０ｍｌ／１００ｇ以下、平均凝集粒子径５μｍ以上の沈降法シリカを使用することが好ましい。高濃度分散液を使用することによって、記録用紙の生産性も向上する。吸油量は、ＪＩＳ  Ｋ−５１０１の記載に基づき測定される。
【００２３】
本発明における平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の湿式法シリカ微粒子を得る具体的な方法について説明する。まず、水を主体とする分散媒中にシリカ粒子とカチオン性化合物を混合し、のこぎり歯状ブレード型分散機、プロペラ羽根型分散機、またはローターステーター型分散機等の分散装置の少なくとも１つを用いて予備分散液を得る。必要であれば水分散媒中に適度の低沸点溶剤等を添加してもよい。シリカ予備分散液の固形分濃度は高い方が好ましいが、あまり高濃度になると分散不可能となるため、好ましい範囲としては１５〜４０質量％、より好ましくは２０〜３５質量％である。次に、シリカ予備分散液をより強い剪断力を持つ機械的手段にかけてシリカ粒子を粉砕し、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の湿式法シリカ微粒子分散液が得られる。機械的手段としては公知の方法が採用でき、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機及び薄膜旋回型分散機等を使用することができる。
【００２４】
上記気相法シリカ及び湿式法シリカの分散に使用するカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマーを好ましく使用できる。カチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、特開昭５９−２０６９６号、同昭５９−３３１７６号、同昭５９−３３１７７号、同昭５９−１５５０８８号、同昭６０−１１３８９号、同昭６０−４９９９０号、同昭６０−８３８８２号、同昭６０−１０９８９４号、同昭６２−１９８４９３号、同昭６３−４９４７８号、同昭６３−１１５７８０号、同昭６３−２８０６８１号、同平１−４０３７１号、同平６−２３４２６８号、同平７−１２５４１１号、同平１０−１９３７７６号公報等に記載された１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられる。特に、カチオン性ポリマーとしてジアリルアミン誘導体が好ましく用いられる。分散性および分散液粘度の面で、これらのカチオンポリマーの分子量は２，０００〜１０万程度が好ましく、特に２，０００〜３万程度が好ましい。
【００２５】
本発明に使用するアルミナとしては、酸化アルミニウムのγ型結晶であるγ−アルミナが好ましく、中でもδグループ結晶が好ましい。γ−アルミナは一次粒子を１０ｎｍ程度まで小さくすることが可能であるが、通常は数千から数万ｎｍの二次粒子結晶を超音波や高圧ホモジナイザー、対向衝突型ジェット粉砕機等で平均二次粒子径を５００ｎｍ以下、好ましくは２０〜３００ｎｍ程度まで粉砕したものが使用できる。
【００２６】
本発明のアルミナ水和物はＡｌ2Ｏ3・ｎＨ2Ｏ（ｎ＝１〜３）の構成式で表される。ｎが１の場合がベーマイト構造のアルミナ水和物を表し、ｎが１より大きく３未満の場合が擬ベーマイト構造のアルミナ水和物を表す。アルミニウムイソプロポキシド等のアルミニウムアルコキシドの加水分解、アルミニウム塩のアルカリによる中和、アルミン酸塩の加水分解等の公知の製造方法により得られる。本発明に使用されるアルミナ水和物の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下、好ましくは２０〜３００ｎｍである。
【００２７】
本発明に用いられる上記のアルミナ、及びアルミナ水和物は、酢酸、乳酸、ぎ酸、硝酸等の公知の分散剤によって、超音波分散機、サンドミル、スタティックミキサー、及び高圧分散機等の分散装置などを使用して分散された分散液も使用できる。
【００２８】
本発明において、インク受容層（Ａ）の少なくとも１層が平均二次粒子径５００ｎｍ以下の無機微粒子を主体とするインク受容層であるとは、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の無機微粒子の含有量が、インク受容層の全固形分に対して５０質量％以上であることを意味し、６０質量％以上が好ましく、特に６５〜９０質量％の範囲がより好ましい。
【００２９】
本発明において、インク受容層には皮膜としての特性を維持するために有機バインダーを含有するのが好ましい。有機バインダーとしては、各種水溶性ポリマーあるいはポリマーラテックスが好ましく用いられる。水溶性ポリマーとしては、例えばポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、澱粉、デキストリン、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸エステル系等やそれらの誘導体、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラチン、ゼラチン誘導体、例えば、フタル酸、マレイン酸、フマール酸等の二塩基酸の無水物と反応したゼラチン等の各種ゼラチンが使用されるが、特に好ましい有機バインダーは完全または部分ケン化のポリビニルアルコールまたはカチオン変性ポリビニルアルコールである。
【００３０】
ポリビニルアルコールの中でも特に好ましいのは、ケン化度が８０％以上の部分または完全ケン化したものである。平均重合度５００〜５０００のポリビニルアルコールが好ましい。また、カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば特開昭６１−１０４８３号に記載されているような、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基をポリビニルアルコールの主鎖あるいは側鎖中に有するポリビニルアルコールである。
【００３１】
また有機バインダーとして用いられるポリマーラテックスとしては、例えば、アクリル系ラテックスとしては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基等のアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル類、アクリルニトリル、アクリルアミド、アクリル酸及びメタクリル酸等の単独重合体または共重合体、あるいは上記モノマーと、スチレンスルホン酸やビニルスルホン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエーテル、酢酸ビニル、スチレン、ジビニルベンゼン等との共重合体が挙げられる。オレフィン系ラテックスとしては、ビニルモノマーとジオレフィン類のコポリマーからなるポリマーが好ましく、ビニルモノマーとしてはスチレン、アクリルニトリル、メタクリルニトリル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニル等が好ましく用いられ、ジオレフィン類としてはブタジエン、イソプレン、クロロプレン等が挙げられる。
【００３２】
本発明において、インク受容層には、有機バインダーとともに硬膜剤を含有するのが好ましい。硬膜剤の具体的な例としては、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物、ジアセチル、クロルペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５トリアジン、米国特許第３，２８８，７７５号記載の如き反応性のハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、米国特許第３，６３５，７１８号記載の如き反応性のオレフィンを持つ化合物、米国特許第２，７３２，３１６号記載の如きＮ−メチロール化合物、米国特許第３，１０３，４３７号記載の如きイソシアナート類、米国特許第３，０１７，２８０号、同２，９８３，６１１号記載の如きアジリジン化合物類、米国特許第３，１００，７０４号記載の如きカルボジイミド系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号記載の如きエポキシ化合物、ムコクロル酸の如きハロゲンカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサンの如きジオキサン誘導体、クロム明ばん、硫酸ジルコニウム、ほう酸及びほう酸塩の如き無機硬膜剤等があり、これらを１種または２種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特にほう酸あるいはほう酸塩が好ましい。
【００３３】
本発明は、無機微粒子のバインダーとしてケト基を有する樹脂を用いたインクジェット記録材料の製造方法にも用いることができる。ケト基を有する樹脂バインダーは、ケト基を有するモノマーと他のモノマーを共重合する方法等によって合成することができる。ケト基を有するモノマーの具体例としては、アクロレイン、ダイアセトンアクリルアミド、ダイアセトンメタクリレート、アセトアセトキシエチルメタクレート、４−ビニルアセトアセトアニリド、アセトアセチルアリルアミド等が挙げられる。また、ポリマー反応でケト基を導入してもよく、例えばヒドロキシ基やアミノ基とジケテンとの反応等によってアセトアセチル基を導入することができる。ケト基を有する樹脂バインダーの具体例としては、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル変性セルロース誘導体、アセトアセチル変性澱粉、ジアセトンアクリルアミド変性ポリビニルアルコール、特開平１０−１５７２８３号公報に記載の樹脂バインダー等が挙げられる。
【００３４】
本発明ではケト基を有する樹脂バインダーに加えて、更に他の公知の樹脂バインダーを併用してもよい。例えば、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース誘導体、澱粉や各種変性澱粉、ゼラチンや各種変性ゼラチン、キトサン、カラギーナン、カゼイン、大豆蛋白、ポリビニルアルコールや各種変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド等を必要に応じて併用することができる。更に、バインダー樹脂として各種ラテックスを併用してもよい。
【００３５】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば特開昭６１−１０４８３号に記載されているような、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基をポリビニルアルコールの主鎖あるいは側鎖中に有するポリビニルアルコールである。
【００３６】
本発明において、ケト基を有する樹脂バインダーの架橋剤としては、以下の化合物が挙げられる。
【００３７】
（１）ポリアミン類
脂肪族ポリアミン類；
・アルキレンジアミン（例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなど）。
・ポリアルキレンポリアミン（例えば、ジエチレントリアミン、イミノビス（プロピルアミン）、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンなど）。
・これらのアルキルまたはヒドロキシアルキル置換体（例えば、アミノエチルエタノールアミン、メチルイミノビス（プロピルアミン）など）。
・脂環または複素環含有脂肪族ポリアミン（例えば、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなど）。
・芳香環含有脂肪族アミン類（例えば、キシリレンジアミン、テトラクロル−ｐ−キシリレンジアミンなど）。
【００３８】
Ｃ４〜Ｃ１５の脂環式ポリアミン；
例えば、１，３−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、メンタンジアミン、４，４´−メチレンジシクロヘキサンジアミン（水添メチレンジアニリン）等。
【００３９】
Ｃ４〜Ｃ１５の複素環式ポリアミン；
例えば、ピペラジン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、１，４−ジアミノピペラジン等。
【００４０】
Ｃ６〜Ｃ２０の芳香族ポリアミン類；
・非置換芳香族ポリアミン（たとえば１，２−，１，３−および１，４−フェニレンジアミン、２，４´−および４，４´−ジフェニルメタンジアミン、ポリフェニルポリメチレンポリアミン、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジジン，チオジアニリン，ビス（３，４−ジアミノフェニル）スルホン、２，６−ジアミノピリジン、ｍ−アミノベンジルアミン、トリフェニルメタン−４，４´，４”−トリアミン、ナフチレンジアミンなど）。
・核置換アルキル基（たとえばＣ１〜Ｃ４のアルキル基）を有する芳香族ポリアミン（例えば、２，４−および２，６−トリレンジアミン、クルードトリレンジアミン、ジエチルトリレンジアミン，４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジフェニルメタン、４，４´−ビス（ｏ−トルイジン）、ジアニシジン、ジアミノジトリルスルホン、１，３−ジメチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３−ジエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３−ジメチル−２，６−ジアミノベンゼン、１，４−ジエチル−２，５−ジアミノベンゼン、１，４−ジイソプロピル−２，５−ジアミノベンゼン、１，４−ジブチル−２，５−ジアミノベンゼン、２，４−ジアミノメシチレン、１，３，５−トリエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１，３，５−トリイソプロピル−２，４−ジアミノベンゼン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，４−ジアミノベンゼン、１−メチル−３，５−ジエチル−２，６−ジアミノベンゼン、２，３−ジメチル−１，４−ジアミノナフタレン、２，６−ジメチル−１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジイソプロピル−１，５−ジアミノナフタレン、２，６−ジブチル−１，５−ジアミノナフタレン、３，３´，５，５´−テトラメチルベンジジン、３，３´，５，５´−テトライソプロピルベンジジン、３，３´，５，５´−テトラメチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラブチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，５−ジエチル−３´−メチル−２´，４−ジアミノジフェニルメタン、３，５−ジイソプロピル−３´−メチル−２´，４−ジアミノジフェニルメタン、３，３´−ジエチル−２，２´−ジアミノジフェニルメタン、４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジフェニルメタン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、３，３´，５，５´−テトラエチル−４，４´−ジアミノジフェニルエーテル、３，３´，５，５´−テトライソプロピル−４，４´−ジアミノジフェニルスルホンなど）。
【００４１】
ポリアミドポリアミン；
例えば、ジカルボン酸（ダイマー酸など）と過剰の（酸１モル当り２モル以上の）ポリアミン類：（上記アルキレンジアミン，ポリアルキレンポリアミンなど）との縮合により得られる低分子量（例えば分子量２００〜５０００）ポリアミドポリアミンなど）。
【００４２】
ポリエーテルポリアミン；
例えば、分子量１００〜５０００のポリエーテルポリオール（ポリアルキレングリコールなど）のシアノエチル化物の水素化物など）。
【００４３】
（２）ジシアンジアミド誘導体；
ジシアンジアミド、ジシアンジアミド・ホルマリン重縮合物、ジシアンジアミド・ジエチレントリアミン重縮合物など。
【００４４】
（３）ヒドラジン化合物；
ヒドラジン、モノアルキルヒドラジン、ヒドラジンの無機塩類（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、チオシアン酸、炭酸などの無機塩類）、ヒドラジンの有機塩類（例えば、ギ酸、シュウ酸などの有機塩類）。
【００４５】
（４）ポリヒドラジド化合物（ジヒドラジド、トリヒドラジド）；
カルボヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、クエン酸トリヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド等。
【００４６】
（５）アルデヒド類；
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、クロトンアルデヒド、ベンズアルデヒド等のモノアルデヒド、グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、１，８−オクタンジアール、フタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、両末端アルデヒド化ＰＶＡ等のジアルデヒド類、アリリデン酢酸ビニルジアセテート共重合体をケン化して得られる側鎖アルデヒド含有共重合体、ジアルデヒド澱粉、ポリアクロレイン等。
【００４７】
（６）メチロール化合物；
メチロールホスフィン、ジメチロール尿素、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、尿素樹脂初期重合物、メラミン樹脂初期重合物等。
【００４８】
（７）活性化ビニル化合物；
ジビニルスルホン系化合物、β−ヒドロキシエチルスルホン系化合物等。
【００４９】
（８）エポキシ化合物；
エピクロルヒドリン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジ又はトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン、ポリエポキシ化合物等。
【００５０】
（９）イソシアネート系化合物；
トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、トリメチロールプロパン−トリレンジイソシアネートアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス−４−フェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、及びこれらのケトオキシムブロック物又はフェノールブロック物、ポリイソシアネート等が挙げられる。
【００５１】
（１０）フェノール系化合物；
フェノール系樹脂初期縮合物、レゾルシノール系樹脂等。
【００５２】
（１１）多価金属塩；
・ジルコニウム塩（硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、フッ化ジルコニウム化合物等）。
・チタン塩（４塩化チタン、乳酸チタン、テトライソプロピルチタネート等）。
・アルミニウム塩（塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、乳酸アルミニウム等）。
・カルシウム塩（塩化カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム等）。
・マグネシウム塩（塩化マグネシウム、硫酸マグネシウム等）。
・亜鉛塩（塩化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛等）。
【００５３】
本発明の製造方法が利用できるインクジェット材料の構成としては、例えば、以下の公報に記載される構成を挙げることができるが、特にこれらに限定されない。
【００５４】
特開２００１−１６３０号公報に記載される、上層は気相法シリカと気相法アルミナを含有するインク受容層とし、下層を水溶性ポリマー層とした構成。
【００５５】
特開２００３−１５９８６２号公報に記載される、上層はコロイダルシリカ層とし、下層を気相法シリカを含有するインク受容層とした構成。
【００５６】
特開２００４−２３７７０４号公報に記載される、上層は平均粒子径１７０ｎｍの湿式シリカ層とし、下層を平均粒子径２００ｎｍの湿式シリカ層とした構成
【００５７】
特開２００４−３３５１２０号公報に記載される、上層は硬膜剤を含有する上塗り層とし、下層を気相法シリカとケト基を含有するバインダーを含んだインク受容層とした構成。
【００５８】
特に本発明の製造方法は、特開２００４−２５８３６号公報に記載される、支持体とインク受容層との間にバインダーとシリカを含有する付着促進層を設けた構成が好適である。以下これについて説明する。
【００５９】
上記インクジェット記録材料のインク受容層（Ａ）は有機バインダーを無機微粒子に対し、インク受容層（Ａ１）においては３０〜６０質量％の範囲で用いるのが好ましく、特に好ましいのは４０〜５０質量％の範囲である。上記範囲にすることによって、インク受容層と支持体との接着強度を得ることができる。インク受容層（Ａ２）においては１０〜２５質量％の範囲で用いるのが好ましい。上記範囲にすることによって、高いインク吸収性を得ることができる。
【００６０】
インク受容層（Ａ２）に無機微粒子と併せてカチオン性化合物を含有するのが好ましい。インク受容層にカチオン性化合物を含有することによって、インク受容層のひび割れの防止及び耐水性の向上が図られる。更に、このカチオン性化合物を含有するインク受容層の上にコロイダルシリカとカチオン性化合物を含有する層を設けることによって、耐傷性、耐水性、インク吸収性が更に向上し、加えて２つの層の界面における凝集が防止され、その結果塗布ムラや光沢ムラを改善することができる。インク受容層の無機微粒子としてアルミナあるいはアルミナ水和物を含有する場合は、カチオン性化合物を必ずしも併用しなくても、充分なひび割れ及び耐水性が得られる。
【００６１】
本発明に用いられるカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマーあるいは水溶性の多価金属化合物が好ましく用いられる。これらのカチオン性化合物及び水溶性の多価金属化合物は、単独あるいは併用することができる。
【００６２】
上記カチオン性ポリマーとしては、４級アンモニウム基、ホスホニウム基、あるいは１〜３級アミンの酸付加物を有する水溶性カチオン性ポリマーが挙げられる。例えば、ポリエチレンイミン、ポリジアルキルジアリルアミン、ポリアリルアミン、アリキルアミンエピクロルヒドリン重縮合物、特開昭５９−２０６９６号、同５９−３３１７６号、同５９−３３１７７号、同５９−１５５０８８号、同６０−１１３８９号、同６０−４９９９０号、同６０−８３８８２号、同６０−１０９８９４号、同６２−１９８４９３号、同６３−４９４７８号、同６３−１１５７８０号、同６３−２８０６８１号、特開平１−４０３７１号、同６−２３４２６８号、同７−１２５４１１号、同１０−１９３７７６号公報等に記載されたカチオン性ポリマーが挙げられる。本発明に用いられるカチオン性ポリマーの重量平均分子量は１０万以下が好ましく、より好ましくは５万以下であり、下限は２千程度である。
【００６３】
これらのカチオン性ポリマーの使用量は無機微粒子に対して１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００６４】
上記水溶性の多価金属化合物における多価金属としては、カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、チタン、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンが挙げられ、これらの金属の水溶性塩として用いることができる。具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（II）ニ水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、酢酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム八水和物、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、塩化チタン、硫酸チタン、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストりん酸ｎ水和物、１２タングストけい酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドりん酸n水和物等が挙げられる。これらの中でも特に、アルミニウムあるいは周期表ＩＶａ族元素（ジルコニウム、チタン）の水溶性塩が好ましい。本発明において、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを意味する。
【００６５】
上記以外の水溶性アルミニウム化合物として、塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が好ましく用いられる。この化合物は、主成分が下記の一般式１、２又は３で示され、例えば［Ａｌ6（ＯＨ）15］3+、［Ａｌ8（ＯＨ）20］4+、［Ａｌ13（ＯＨ）34］5+、［Ａｌ21（ＯＨ）60］3+、等のような塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいる水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
【００６６】
［Ａｌ2（ＯＨ）nＣｌ6-n］m                      ・・一般式１
［Ａｌ（ＯＨ）3］nＡｌＣｌ3                    ・・一般式２
Ａｌn（ＯＨ）mＣｌ(3n-m)    ０＜ｍ＜３ｎ        ・・一般式３
【００６７】
これらのものは多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名で水処理剤として、浅田化学（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名で、また、（株）理研グリーンよりピュラケムＷＴの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って市販されており、各種グレードの物が容易に入手できる。本発明ではこれらの市販品をそのままでも使用できる。これらの塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物は、特公平３−２４９０７、同平３−４２５９１号公報にも記載されている。
【００６８】
本発明において、上記した水溶性の多価金属化合物のインク受容層中（Ａ２）の含有量は、０．１〜１０ｇ／ｍ2、好ましくは０．２〜５ｇ／ｍ2である。
【００６９】
インク受容層（Ａ２）に皮膜の脆弱性を改良するために各種油滴を含有することができる。そのような油滴としては室温における水に対する溶解性が０．０１質量％以下の疎水性高沸点有機溶媒（例えば、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等）や重合体粒子（例えば、スチレン、ブチルアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート等の重合性モノマーを一種以上重合させた粒子）を含有させることができる。そのような油滴は好ましくは親水性バインダーに対して１０〜５０質量％の範囲で用いることができる。
【００７０】
インク受容層（Ａ２）には、更に着色染料、着色顔料、インク染料の定着剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、顔料の分散剤、消泡剤、レベリング剤、防腐剤、蛍光増白剤、粘度安定剤、ｐＨ調節剤などの公知の各種添加剤を添加することもできる。
【００７１】
インク受容層（Ａ１）の塗布量は、固形分で０．６〜８ｇ／ｍ2であり、好ましくは１〜５ｇ／ｍ2であり、より好ましくは１．５〜３．５ｇ／ｍ2の範囲である。インク受容層（Ａ２）の塗布量は、固形分で５〜４０ｇ／ｍ2であり、好ましくは１０〜３５ｇ／ｍ2であり、より好ましくは１５〜３０ｇ／ｍ2の範囲である。
【００７２】
インク受容層（Ａ）は、最下層に本発明の支持体より最も近い受容層（Ａ１）と、最上層に本発明の支持体より最も遠い受容層（Ａ２）を設けてあれば、さらに他のインク吸収層、インク定着層、中間層等を設けてもよい。但し、接着強度、インク吸収性等の他の特性に悪影響を及ぼさないことが重要である。
【００７３】
本発明において、インク受容層（Ａ）を設けた面とは反対側の面に裏塗り層を設けてもよい。裏塗り層には、さらに、帯電防止、搬送性向上のために、顔料、結合剤、帯電防止剤、硬膜剤、界面活性剤等を含有させてもよい。
【００７４】
次に本発明の製造方法を利用するインクジェット記録材料の支持体について説明する。支持体としては耐水性支持体が好ましい。耐水性支持体としては、透明な支持体も不透明な支持体も用いることができる。透明な支持体としては、従来公知のものがいずれも使用でき、例えばポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、セロハン、セルロイド等のフィルムもしくは板及びガラス板等が挙げられ、これらの中でもポリエチレンテレフタレートからなるフィルムが最も好ましく用いられる。このような透明な耐水性支持体はその厚さが約１０〜２００μｍ程度のものであることが好ましい。
【００７５】
不透明な耐水性支持体としては、合成紙、樹脂被覆紙、顔料入り不透明フィルム、発泡フィルム等の従来公知のものがいずれも使用できる。光沢、平滑性の点から樹脂被覆紙、各種フィルムがより好ましいが、手触り感、高級感から写真用支持体に類似の樹脂被覆紙と白色度と強度が高い含量入りのポリエチレンテレフタレートからなるフィルムがさらに好ましく用いられる。
【００７６】
防水性支持体としての樹脂被覆紙を構成する原紙は、特に制限はなく、一般に用いられている紙が使用できるが、例えば写真用支持体に用いられているような平滑な原紙がより好ましい。原紙を構成するパルプとしては天然パルプ、再生パルプ、合成パルプ等を１種もしくは２種以上混合して用いられる。この原紙には一般に製紙で用いられているサイズ剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、蛍光増白剤、染料等の添加剤が配合される。
【００７７】
さらに、表面サイズ剤、表面紙力剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、染料、アンカー剤等が表面塗布されていてもよい。
【００７８】
また、原紙の厚みに関しては特に制限はないが、紙を抄造中または抄造後カレンダー等にて圧力を印加して圧縮するなどした表面平滑性の良いものが好ましく、その坪量は３０〜２５０ｇ／／ｍ2が好ましい。
【００７９】
樹脂被覆紙の樹脂としては、ポリオレフィン樹脂や電子線で硬化する樹脂を用いることができる。ポリオレフィン樹脂としては、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテンなどのオレフィンのホモポリマーまたはエチレン−プロピレン共重合体などのオレフィンの２つ以上からなる共重合体及びこれらの混合物であり、各種の密度、溶融粘度指数（メルトインデックス）のものを単独にあるいはそれらを混合して使用できる。
【００８０】
また、樹脂被覆紙の樹脂中には、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク、炭酸カルシウムなどの白色顔料、ステアリン酸アミド、アラキジン酸アミドなどの脂肪酸アミド、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸マグネシウムなどの脂肪酸金属塩、イルガノックス１０１０、イルガノックス１０７６などの酸化防止剤、コバルトブルー、群青、セシリアンブルー、フタロシアニンブルーなどのブルーの顔料や染料、コバルトバイオレット、ファストバイオレット、マンガン紫などのマゼンタの顔料や染料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤などの各種の添加剤を適宜組み合わせて加えるのが好ましい。
【００８１】
支持体である樹脂被覆紙は、走行する原紙上にポリオレフィン樹脂の場合は、加熱溶融した樹脂を流延する、いわゆる押出コーティング法により製造され、その両面が樹脂により被覆される。また、電子線により硬化する樹脂の場合は、グラビアコーター、ブレードコーターなど一般に用いられるコーターにより樹脂を塗布した後、電子線を照射し、樹脂を硬化させて被覆する。また、樹脂を原紙に被覆する前に、原紙にコロナ放電処理、火炎処理などの活性化処理を施すことが好ましい。支持体のインク受容層が塗布される面（表面）は、その用途に応じて光沢面、マット面などを有し、特に光沢面が優位に用いられる。裏面に樹脂を被覆する必要はないが、カール防止の点から樹脂被覆したほうが好ましい。裏面は通常無光沢面であり、表面あるいは必要に応じて表裏両面にもコロナ放電処理、火炎処理などの活性処理を施すことができる。また、樹脂被覆層の厚みとしては特に制限はないが、一般に５〜５０μｍの厚味に表面または表裏両面にコーティングされる。
【００８２】
前記支持体には帯電防止性、搬送性、カール防止性などのために、各種のバックコート層を塗設することができる。バックコート層には無機帯電防止剤、有機帯電防止剤、親水性バインダー、ラテックス、硬化剤、顔料、界面活性剤などを適宜組み合わせて含有せしめることができる。
【００８３】
前記耐水性支持体上には天然樹脂や合成樹脂を主体とする下塗り層を設ける。下塗り層の塗布量は２ｇ／ｍ2以下であり、１．５ｇ／ｍ2以下であることが好ましい。
【００８４】
本発明において、２層以上を同時重層塗布する場合は、スライドビードコーター、カーテンコーター等の塗布装置が使用できる。
【００８５】
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明の内容は実施例に限られるものではない。なお、以下の実施例に記載されている「部」及び「％」は全て質量換算値である。
【実施例１】
【００８６】
《記録シート１の作成》
＜耐水性支持体＞
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ヘイズ値１％）の片面に下記組成の下塗り層を、塗布量１．５ｇ／ｍ2になるように設け、高周波コロナ放電処理を施した。
【００８７】
＜下塗り層の組成＞
塩化ビニリデン：メチルアクリレート：アクリル酸（９０：９：１、質量％）のラテックス（重量平均分子量４２０００）。
【００８８】
＜インク受容層（ａ）の塗布＞
支持体の下塗り層を設けた面に、下記のインク受容層（ａ１）塗布液を下層として固形分塗布量が３ｇ／ｍ2になるように、また、下記のインク受容層（ａ２）塗布液を上層として固形分塗布量が２０ｇ／ｍ2になるように、スライドビードコーターにて同時重層塗布、乾燥し、記録シート１を得た。
【００８９】
＜インク受容層（ａ１）塗布液＞
平均一次粒子径７ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積３００ｍ2／ｇの特性を有する気相法シリカ１００部と、ジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（第一工業製薬（株）社製シャロールＤＣ９０２Ｐ）４部を濃度が２０質量％になるように水に分散し、高圧ホモジナイザー（ＡＰＶゴウリン社製、１５ＭＲ−８ＴＡ型）を用いて微粒化処理を行い、平均二次粒子径が１５０ｎｍの気相法シリカ分散液を作製した。この分散液に、気相法シリカ１００部に対し、ほう酸６部、ポリビニルアルコール（ケン化度８８％、平均重合度３５００）４５部、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を順次添加し、最後に１０質量％の濃度になるように水を加え、インク受容層（ａ１）塗布液とした。
【００９０】
＜インク受容層（ａ２）塗布液＞
上記インク受容層（ａ１）塗布液で用いた気相法シリカ１００部に対し、ほう酸３部、ポリビニルアルコール（ケン化度８８％、平均重合度３５００）２２部を順次添加し、最後に１２質量％の濃度になるように水を加え、インク受容層（ａ２）塗布液とした。
【００９１】
《記録シート２の作成》
記録シート１のインク受容層（ａ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２を得た。
【００９２】
《記録シート３の作成》
記録シート１のインク受容層（ａ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート３を得た。
【００９３】
《記録シート４の作成》
記録シート４のインク受容層（ａ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート４を得た。
【００９４】
《記録シート５の作成》
記録シート４から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート５得た。
【００９５】
《記録シート６の作成》
＜インク受容層（ｂ）の塗布＞
支持体上に、下記の水溶性ポリマー層（ｂ１）塗布液を下層として、インク受容層（ｂ２）塗布液を上層としてスライドビードコーターにて同時重層塗布し、記録シート７を得た。インク受容層（ｂ２）の気相法シリカの塗布量は固形分で７ｇ／ｍ2とした。水溶性ポリマー層（ｂ１）の塗布量は固形分で１０ｇ／ｍ2とした。
【００９６】
＜水溶性ポリマー層（ｂ１）塗布液＞
ポリビニルアルコール（ケン化度８３％、平均重合度１８００、カチオン変性）  ７ｇ／ｍ2、ポリビニルピロリドン  ３ｇ／ｍ2、界面活性剤（商品名：ＡＭ−２１５０、日本サーファクタント製）１０ｍｇ／ｍ2、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を順次添加し、水溶性ポリマー層（ｂ１）塗布液とした
【００９７】
＜インク受容層（ｂ２）塗布液＞
気相法シリカ（平均一次粒子径７ｍｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ）１００部、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ：ケン化度８８％、平均重合度３５００）２０部、カチオン性ポリマー（商品名：ポリフィックスＰ６０１、昭和高分子（株）製、変性ポリアミン）  １０部、界面活性剤（商品名：ＡＭ−２１５０、日本サーファクタント製）１部、硬膜剤（グリオキザール）対ＰＶＡ５重量、気相法アルミナ微粒子（商品名：酸化アルミニウムＣ、デグザ・ヒュルス社製、平均一次粒子径１３ｎｍ）１０部を順次添加しインク受容層（ｂ２）塗布液とした。
【００９８】
《記録シート７の作成》
記録シート６の水溶性ポリマー層（b１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ｂ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート７を得た。
【００９９】
《記録シート８の作成》
記録シート６の水溶性ポリマー層（ｂ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート８を得た。
【０１００】
《記録シート９の作成》
記録シート８の水溶性ポリマー層（ｂ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ｂ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート９を得た。
【０１０１】
《記録シート１０の作成》
記録シート８から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート１０を得た。
【０１０２】
《記録シート１１の作成》
＜インク受容層（ｃ）の塗布＞
支持体上に、下記のインク受容層（ｃ１）塗布液を下層として、コロイダルシリカ層（ｃ２）塗布液を上層として、スライドビートコーターにて同時重層塗布し、記録シート１３を得た。インク受容層（ｃ１）における気相法シリカの固形分塗布量が１８ｇ／ｍ2となるように調製した。コロイダルシリカ層（ｃ２）塗布液における固形分塗布量が１ｇ／ｍ2となるように調製した。
【０１０３】
＜インク受容層（ｃ１）塗布液＞
気相法シリカ（平均一次粒径７ｎｍ、ＢＥＴ法による比表面積３００ｍ2／ｇ）１００部、ほう酸  ３部、ポリビニルアルコール（ケン化度８８％、平均重合度３５００）２２部、塩基性ポリ水酸化アルミニウム（商品名：ピュラケムＷＴ、（株）理研グリーン製）３部、界面活性剤（ベタイン系；日本サーファクタント社製、スワノールＡＭ）  ０．３部、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を順次添加し、インク受容層（ｃ１）塗布液とした。
【０１０４】
＜コロイダルシリカ層（ｃ２）塗布液＞
コロイダルシリカ（アニオン性の球状コロイダルシリカ；日産化学工業（株）社製のスノーテックスＳＴ−ＯＬ４０平均一次粒径４０〜５０ｎｍ）１００部、（アニオン性の球状コロイタ゛ルシリカ；日産化学工業（株）社製のスノーテックスＳＴ−ＯＬ４０、カチオン性ポリマー；ポリフィックス６０１（昭和高分子社性、特殊変性ポリアミン）１部、ポリビニルアルコール（ケン化度８８％、平均重合度３５００）４部、界面活性剤（ベタイン系；日本サーファクタント社製、スワノールＡＭ）０．３部を順次添加、塗布液のｐＨを３．５に調整し、コロイダルシリカ層（ｃ２）塗布液とした。
【０１０５】
《記録シート１２の作成》
記録シート１１インク受容層（ｃ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、コロイダルシリカ層（ｃ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１２を得た。
【０１０６】
《記録シート１３の作成》
記録シート１１のインク受容層（ｃ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１３を得た。
【０１０７】
《記録シート１４の作成》
記録シート１３のインク受容層（ｃ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、コロイダルシリカ層（ｃ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１４を得た。
【０１０８】
《記録シート１５の作成》
記録シート１３から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート１５を得た。
【０１０９】
《記録シート１６の作成》
＜インク受容層（ｄ）の塗布＞
支持体に、インク受容層（ｄ１）塗布液を下層とし、上塗り層（ｄ２）塗布液を上層として同時重層塗布により記録シート１６を得た。インク受容層（ｄ１）の塗布量は固形分濃度が２５質量％となるように設定し、上塗り層（ｄ２）の塗布量は、アジピン酸ジヒドラジド換算で０．２ｇ／ｍ2とした。
【０１１０】
＜インク受容層（ｄ１）塗布液＞
気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ2／ｇ）  １００部、アセトアセチル変性ポリビニルアルコール（アセトアセチル化度３％、ケン化度９８％、平均重合度２３５０）２０部、ノニオン性界面活性剤  （ポリオキシエチレンアルキルエーテル） ０．３部、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を順次添加し、固形分濃度が９質量％になるように水で調整し、インク受容層（ｄ１）塗布液とした。
【０１１１】
＜上塗り層（ｄ２）塗布液＞
アジピン酸ジヒドラジド  ２部、ノニオン性界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルエーテル）  ０．１部、水  ９８部を順次添加し、上塗り層（ｄ２）塗布液をとした。
【０１１２】
《記録シート１７の作成》
記録シート１６のインク受容層（ｄ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、上塗り層（ｄ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１７を得た。
【０１１３】
《記録シート１８の作成》
記録シート１６のインク受容層（ｄ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１８を得た。
【０１１４】
《記録シート１９の作成》
記録シート１８のインク受容層（ｄ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、上塗り層（ｄ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート１９を得た。
【０１１５】
《記録シート２０の作成》
記録シート１８から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート２０を得た。
【０１１６】
《記録シート２１の作成》
＜インク受容層（ｅ）の塗布＞
支持体に、下記の湿式シリカ層（ｅ１）塗布液を下層として、湿式シリカ層（ｅ２）塗布液を上層として、塗布量が各層とも湿式シリカ固形分量が８ｇ／ｍ2となるように、２層同時重層を行い、記録シート２１を得た。
【０１１７】
＜湿式シリカ層（ｅ１）塗布液＞
湿式法シリカ（（株）トクヤマ社製、Ｔ−３２、分散後の平均粒子径２００ｎｍ）の質量％がポリビニルアルコール溶液（１０質量％、クラレ社製：ＰＶＡ２３５）の固形分質量％の６倍になるように混合し、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、湿式シリカ層（ｅ１）塗布液とした。
【０１１８】
＜湿式シリカ層（ｅ２）塗布液＞
湿式法シリカ（（株）トクヤマ社製、Ｔ−３２、分散後の平均粒子径１７０ｎｍ）の質量％がポリビニルアルコール溶液（１０質量％、クラレ社製：ＰＶＡ２３５）の固形分質量％の６倍になるように混合し、湿式シリカ層（ｅ２）塗布液とした。
【０１１９】
《記録シート２２の作成》
記録シート２１湿式シリカ層（ｅ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、湿式シリカ層（ｅ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２２を得た。
【０１２０】
《記録シート２３の作成》
記録シート２１の湿式シリカ層（ｅ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２３を得た。
【０１２１】
《記録シート２４の作成》
記録シート２３の湿式シリカ層（ｅ１）に更に、湿式シリカ層（ｅ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２４を得た。
【０１２２】
《記録シート２５の作成》
記録シート２３から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート２５を得た。
【０１２３】
《記録シート２６の作成》
＜インク受容層（ｆ）の塗布＞
支持体上に、支持体に近い第一層（ｆ１）塗布液を５０μｍになるように、その上の第二層（ｆ２）塗布液を１００μｍになるように、最上層の第三層（ｆ３）塗布液を５０μｍになるように同時重層塗布し、記録シート２６を得た。
【０１２４】
（シリカ分散液１の調製）１次粒子の平均粒径が約０．００７μｍの気相法シリカ（日本アエロジル工業株式会社製：Ａ３００）１２５ｋｇを、三田村理研工業株式会社製のジェットストリーム・インダクターミキサーＴＤＳを用いて、硝酸でｐＨ＝２．５に調整した６２０Ｌの純水中に室温で吸引分散した後、全量を６９．４Ｌに純水で仕上げた。
【０１２５】
（シリカ分散液２の調製）カチオンポリマー  １．２９ｋｇ、エタノール  ４．２Ｌ、ｎ−プロパノール１  １．５Ｌを含有する水溶液に、シリカ分散液１の６９．４Ｌを攪拌しながら添加し、ついで、ホウ酸２６０ｇとほう砂２３０ｇを含有する水溶液７．０Ｌを添加した。この混合液を分散し、純水で全量を９７Ｌに仕上げた。
【０１２６】
（蛍光増白剤分散液の調製）チバガイギー株式会社製の油溶性蛍光増白剤ＵＶＩＴＥＸ−ＯＢ  ４００ｇをジイソデシルフタレート９０００ｇおよび酢酸エチル１２Ｌに加熱溶解し、これを酸処理ゼラチン３５００ｇ、カチオンポリマー、サポニン５０％水溶液６，０００ｍｌを含有する水溶液６５Ｌに添加混合して三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで乳化分散し、減圧で酢酸エチルを除去した後全量を１００Ｌに仕上げた。
【０１２７】
（酸化チタン分散液の調製）平均粒径が約０．２５μｍの酸化チタン２０ｋｇ（石原産業製：Ｗ−１０）をｐＨ＝７．５のトリポリリン酸ナトリウムを１５０ｇ、ポリビニルアルコール（クラレ株式会社製：ＰＶＡ２３５）５００ｇ、カチオンポリマー１５０ｇおよびサンノブコ株式会社消泡剤・ＳＮ３８１を１０ｇ含有する水溶液９０Ｌに添加し高圧ホモジナイザー（三和工業株式会社製）で分散したあと全量を１００Ｌに仕上げて均一な酸化チタン分散液を得た。
【０１２８】
（マット剤分散液の調製）総研科学株式会社製のメタクリル酸エステル系マット剤ＭＸ−１５００Ｈの１５６ｇを前記ＰＶＡ２３５を３ｇ含有する純水７Ｌ中に添加し、高速ホモジナイザーで分散し全量を７．８Ｌに仕上げた。
【０１２９】
＜第一層（ｆ１）塗布液＞
シリカ分散液２  ６００ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２０３）の１０％水溶液  ０．６ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２３５）の５％水溶液  ２６０ｍｌ、蛍光増白剤分散液  ２５ｍｌ、酸化チタン分散液  ３３ｍｌ、第一工業株式会社製：ラテックスイマルジョン・ＡＥ−８０３  １８ｍｌ、本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、純水で１０００ｍｌに仕上げた。
【０１３０】
＜第二層（ｆ２）塗布液＞
シリカ分散液２  ６４０ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２０３）の１０％水溶液  ０．６ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２３５）の５％水溶液  ２６０ｍｌ、蛍光増白剤分散液  ３５ｍｌを添加し、純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【０１３１】
＜第三層（ｆ３）塗布液＞
シリカ分散液  ６５０ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２０３）の１０％水溶液  ０．６ｍｌ、ポリビニルアルコール（クラレ工業株式会社製：ＰＶＡ２３５）の５％水溶液  ２７０ｍｌ、サポニン５０％水溶液  ４ｍｌ、マット剤分散液  １０ｍｌを添加し、純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【０１３２】
《記録シート２７の作成》
記録シート２６第一層（ｆ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、第二層（ｆ２）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２７を得た。
【０１３３】
《記録シート２８の作成》
記録シート２６第一層（ｆ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、第三層（ｆ３）に本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２８を得た。
【０１３４】
《記録シート２９の作成》
記録シート２６の第一層（ｆ１）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、第二層（ｆ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート２９を得た。
【０１３５】
《記録シート３０の作成》
記録シート２９の第一層（ｆ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、第二層（ｆ２）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート３１を得た。
【０１３６】
《記録シート３１の作成》
記録シート２９の第一層（ｆ１）から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、第三層（ｆ３）に本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル  ０．２部を添加し、記録シート３１を得た。
【０１３７】
《記録シート３２の作成》
記録シート２９から本発明のポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルを抜いた以外は同様に行い、記録シート３２を得た。
上記のようにして作製したインクジェット記録材料について下記の評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１３８】
＜塗布面の故障＞
インクジェット記録材料の塗布面の亀裂、はじきを目視で評価した。
◎：塗布故障の発生無し。
○：塗布故障の発生がわずかにあるが、事実上問題無し。
△：塗布故障は発生するが、実用上問題なし。
×：塗布故障が発生し、使用不可能。
【０１３９】
＜インク吸収性＞
インクジェット記録材料のインク受容層に２３℃、５０％ＲＨの条件でセイコーエプソン社製インクジェットプリンター、ＰＭ−８８０Ｃでカラー（Ｃ、Ｍ、Ｙ）文字を印刷し、インク滲み性を評価した。
○：文字が滲むことなく認識するのも問題なし。
△：若干の文字滲みはあるが一応認識できる。しかし事実上問題あり。
×：文字が大きく滲んで文字の認識ができない。
【０１４０】
表中の添加した本発明品（Ｎ）はポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル、（Ｏ）はポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテルである。
【０１４１】
【表１】
2007237549.tif 000002
【実施例２】
【０１４２】
《記録シート３３の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、大日本インキ化学工業株式会社製のアニオン型フッ素系界面活性剤メガファックＦ−１２０  ０．２部を添加し、記録シート３３を得た。
【０１４３】
《記録シート３４の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、大日本インキ化学工業株式会社製のノニオン型フッ素系界面活性剤メガファックＦ−１４４Ｄ  ０．２部を添加し、記録シート３４を得た。
【０１４４】
《記録シート３５の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、大日本インキ化学工業株式会社製のカチオン型フッ素系界面活性剤メガファックＦ−１５０  ０．２部を添加し、記録シート３５を得た。
【０１４５】
《記録シート３６の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、株式会社ネオス製の両性フッ素系界面活性剤フタージェント４００Ｓ  ０．２部を添加し、記録シート３６を得た。
【０１４６】
《記録シート３７の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、花王株式会社製の非イオン系界面活性剤エマルゲン１０９  ０．２部を添加し、記録シート３７を得た。
【０１４７】
《記録シート３８の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、サポニン  ０．２部を添加し、記録シート３８を得た。
【０１４８】
《記録シート３９の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、三洋化成株式会社製のアルキルベタイン型界面活性剤ＬＤ−３５  ０．２部を添加し、記録シート３９を得た。
【０１４９】
《記録シート４０の作成》
記録シート２のインク受容層（ａ２）から本発明のポリエチレングリコールノニルフェニルエーテル  ０．２部を抜き、インク受容層（ａ２）に、日本油脂株式会社スタホームＤ  ０．２部を添加し、記録シート４０を得た。
【０１５０】
【表２】
2007237549.tif 000003
【０１５１】
上記結果から、本発明により、インク吸収性に優れたインクジェット記録材料の製造方法において、インク受容層に塗布故障のないインクジェット記録材料を効率よく安定的に生産することができた。