(57)【要約】【課題】薄板ガラス基板と支持ガラス基板を気泡の混入や異物による凸状欠陥の発生を抑制し、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との分離が容易であり、かつ耐熱性に優れた薄板ガラス積層体、および該薄板ガラス積層体を用いた表示装置を製造する方法、ならびに、該薄板ガラス積層体用の支持ガラス基板の提供。【解決手段】薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されており、かつ前記シリコーン樹脂層と、前記支持ガラス基板と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラス積層体。【選択図】図１
2007326358.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されており、かつ前記シリコーン樹脂層と、前記支持ガラス基板と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラス積層体。
【請求項２】
前記支持ガラス基板の孔の直径が０．１ｍｍ〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項３】
前記シリコーン樹脂層は、さらに低シリコーン移行性を有することを特徴とする請求項１または２に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項４】
前記シリコーン樹脂層が、剥離紙用シリコーンの硬化物からなる層であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項５】
前記剥離紙用シリコーンの硬化物は、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの架橋反応物であることを特徴とする請求項４に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項６】
前記薄板ガラス基板の厚さが０．３ｍｍ未満であり、前記支持ガラス基板と前記シリコーン樹脂層との厚さの合計が０．５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項７】
前記支持ガラス基板の線膨張係数と、前記薄板ガラス基板の線膨張係数と、の差が１５×１０-7／℃以下であることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体。
【請求項８】
薄板ガラス基板を用いた表示装置の製造方法であって、
少なくとも１つの孔を備える支持ガラス基板上に、易剥離性および非粘着性を有し、かつ前記支持ガラス基板が備える孔と連通する少なくとも１つの孔を有するシリコーン樹脂層を形成する工程と、前記支持ガラスの前記シリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層する工程と、
前記薄板ガラス基板上に表示装置を製造するための処理を実施する工程と、
前記支持ガラス基板が備える孔から前記シリコーン樹脂層と前記薄板ガラス基板との界面に圧縮気体を注入して、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する工程と、を有することを特徴とする薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記シリコーン樹脂層は、剥離紙用シリコーンの硬化物からなる層であることを特徴とする請求項８に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記剥離紙用シリコーンの硬化物は、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの架橋反応物であることを特徴とする請求項９に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記支持ガラス基板上にシリコーン樹脂層を形成する工程は、前記支持ガラス基板上に剥離紙用シリコーンを塗工し、その後前記剥離紙用シリコーンを硬化することにより行うことを特徴とする請求項８に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記剥離紙用シリコーンは、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、および白金系触媒を含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記剥離紙用シリコーンは、非反応性シリコーンを含まないことを特徴とする請求項１１または１２に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記剥離紙用シリコーンの塗工は、スクリーン印刷法を用いることを特徴とする請求項１１ないし１３のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記剥離紙用シリコーンを塗工後、５０〜２５０℃の温度で加熱硬化させることを特徴とする請求項１１ないし１４のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記支持ガラス基板の前記シリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層する工程は、真空プレスまたは真空ラミネートを用いることを特徴とする請求項１１ないし１５のいずれか１項に記載の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法。
【請求項１７】
薄板ガラス基板との積層に用いられる支持ガラス基板であって、前記支持ガラス基板の一方の面に易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層が形成されており、前記支持ガラス基板と、前記シリコーン樹脂層と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする支持ガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示体、有機ＥＬ表示体等の表示装置に用いられるガラス基板、より具体的には、薄板ガラス基板を用いて表示装置を製造する工程で使用される薄板ガラス基板と支持ガラス基板との積層体、およびそれを用いた表示装置の製造方法、ならびに薄板ガラス積層体用の支持ガラス基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特にモバイルや携帯電話等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
【０００３】
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くする検討が行われてきたが、ガラス基板の板厚を薄くすると、強度の低下が問題となり、撓み量も大きいためそのままでは現行の製造ラインに適用できない。
【０００４】
そこで、板厚の薄いガラス基板（以下、「薄板ガラス基板」とする。）の強度を補強し、併せて現行製造ラインに適用しうる板厚を確保するために、薄板ガラス基板を他の支持ガラス基板と貼り合わせて積層体（薄板ガラス積層体）とした状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、前記処理の終了後に薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離することで表示装置を製造する方法が提案されている（特許文献１〜６参照）。
【０００５】
これら表示装置を製造する方法において、薄板ガラス基板と支持ガラス基板と、を積層させて固定する方法としては、ガラス基板間に生じる静電吸着力や真空吸着力を用いて両者を固定する方法（例えば、特許文献１参照）、ガラス基板の両端をガラスフリットを用いて固定する方法（例えば、特許文献２参照）、周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法（例えば特許文献３参照）、またはガラス基板間に再剥離性の粘着剤または粘着シートを全面にわたって配置し、その粘着力で両者を固定する方法（例えば、特許文献４〜６参照）等が提案されている。
【０００６】
これらの方法は、製造される表示装置に悪影響するおそれのある潜在的な問題点を有していた。
【０００７】
すなわち、ガラス基板同士を静電吸着力や真空吸着力を固定して利用する方法、ガラス基板の両端をガラスフリットを用いて固定する方法、または周縁部の端面近傍にレーザ光を照射して２枚のガラス基板を融合させる方法では、ガラス基板同士を何らの中間層を介さず積層密着させる過程において気泡の混入や、塵介等の異物を介在とした凸状欠陥を避けることが困難であり、表面が平滑なガラス基板積層体を得ることは難しい。
【０００８】
ガラス基板間に再剥離性の粘着剤または粘着シートを全面にわたって配置する方法の場合は、ガラス同士を直接積層する場合と比べて気泡の混入を避けることは容易であり、また異物による凸状欠陥の発生も少ないと考えられる。しかしながら、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離することが困難になり、分離する際に薄板ガラス基板が破損するおそれがある。例えば、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間に剃刀の刃を差し込むことにより、分離のきっかけとすることができるが、この際、剃刀の刃によってガラス基板を傷付けるおそれがある。また、両ガラス基板を分離する際に板厚の薄い薄板ガラス基板が割れるおそれがある。また、分離後の薄板ガラス基板への粘着剤の残存も問題となる。さらに、表示装置の製造工程には、絶縁膜や配向膜の焼成行程のように、高温での処理が必要となる工程を含んでいるため、粘着剤および粘着シートには表示装置用としての耐熱性が要求されるが、耐熱性と再剥離性を両立する方法は提案されていない。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−２４１８０４号公報
【特許文献２】特開昭５８−５４３１６号公報
【特許文献３】特開２００３−２１６０６８号公報
【特許文献４】特開平８−８６９９３号公報
【特許文献５】特開平９−１０５８９６号公報
【特許文献６】特開２０００−２５２３４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記した従来技術の問題点を解決するため、上記した従来技術の問題点を解決するため、本発明は、薄板ガラス基板と支持ガラス基板を気泡の混入や異物による凸状欠陥の発生を抑制し、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との分離が容易であり、かつ耐熱性に優れた薄板ガラス積層体、および該薄板ガラス積層体を用いた表示装置を製造する方法、ならびに、該薄板ガラス積層体用の支持ガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明は、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体（以下、本発明の薄板ガラス積層体という。）であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されており、かつ前記シリコーン樹脂層と、前記支持ガラス基板と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする薄板ガラス積層体を提供する。
【００１２】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記支持ガラス基板の孔の直径が０．１ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましい。
【００１３】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記シリコーン樹脂層は、さらに低シリコーン移行性を有することが好ましい。
【００１４】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記シリコーン樹脂層が、剥離紙用シリコーンの硬化物からなる層であることが好ましい。
【００１５】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記剥離紙用シリコーンの硬化物は、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの架橋反応物であることが好ましい。
【００１６】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記薄板ガラス基板の厚さが０．３ｍｍ未満であり、前記支持ガラス基板と前記シリコーン樹脂層との厚さの合計が０．５ｍｍ以上であることが好ましい。
【００１７】
本発明の薄板ガラス積層体において、前記支持ガラス基板の線膨張係数と、前記薄板ガラス基板の線膨張係数と、の差が１５×１０-7／℃以下であることが好ましい。
【００１８】
また、本発明は、薄板ガラス基板を用いた表示装置の製造方法であって、
少なくとも１つの孔を備える支持ガラス基板上に、易剥離性および非粘着性を有し、かつ前記支持ガラス基板が備える孔と連通する少なくとも１つの孔を有するシリコーン樹脂層を形成する工程と、前記支持ガラスの前記シリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層する工程と、
前記薄板ガラス基板上に表示装置を製造するための処理を実施する工程と、
前記支持ガラス基板が備える孔から前記シリコーン樹脂層と前記薄板ガラス基板との界面に圧縮気体を注入して、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを分離する工程と、を有することを特徴とする薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法を提供する。
【００１９】
本発明の表示装置の製造方法において、前記シリコーン樹脂層は、剥離紙用シリコーンの硬化物からなる層であることが好ましい。
【００２０】
本発明の表示装置の製造方法において、前記剥離紙用シリコーンの硬化物は、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの架橋反応物であることが好ましい。
【００２１】
本発明の表示装置の製造方法において、支持ガラス基板上に前記シリコーン樹脂層を形成する工程は、前記支持ガラス基板上に剥離紙用シリコーンを塗工し、その後前記剥離紙用シリコーンを硬化することにより行うことが好ましい。
【００２２】
本発明の表示装置の製造方法において、前記剥離紙用シリコーンは、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、および白金系触媒を含むことが好ましい。
【００２３】
本発明の表示装置の製造方法において、前記剥離紙用シリコーンは、非反応性シリコーンを含まないことが好ましい。
【００２４】
本発明の表示装置の製造方法において、前記剥離紙用シリコーンの塗工は、スクリーン印刷法を用いることが好ましい。
【００２５】
本発明の表示装置の製造方法において、前記剥離紙用シリコーンを塗工後、５０〜２５０℃の温度で加熱硬化させることが好ましい。
【００２６】
本発明の表示装置の製造方法において、前記支持ガラス基板の前記シリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層する工程は、真空プレスまたは真空ラミネートを用いることが好ましい。
【００２７】
また、本発明は、薄板ガラス基板との積層に用いられる支持ガラス基板であって、前記支持ガラス基板の一方の面に易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層が形成されており、前記支持ガラス基板と、前記シリコーン樹脂層と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられていることを特徴とする支持ガラス基板を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の薄板ガラス積層体は、柔軟性を有するシリコーン樹脂層を介して薄板ガラス基板と支持ガラス基板とが積層されているため、積層時に気泡が混入しにくく、また気泡が混入した場合でも、ロールまたはプレス等を用いて圧着することにより、容易に該気泡を除去しうるという利点がある。特に、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との積層を真空ラミネート法または真空プレス法を用いて実施した場合、気泡の混入が抑制され、密着性も良好である。また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との積層を真空ラミネート法または真空プレス法を用いて実施した場合、微少な気泡が残存した場合でも、加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板の凸状欠陥につながりにくいという利点もある。
また、塵介等の異物が積層界面に混入した場合でも柔軟性を有するシリコーン樹脂層が変形することにより薄板ガラス積層体の凸状欠陥につながりにくいという利点も有する。
また、薄板ガラス基板と支持ガラス基板との間に介在させる層が耐熱性に優れたシリコーン樹脂層であるため、耐熱性も良好である。
【００２９】
本発明の薄板ガラス積層体は、易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して薄板ガラス基板と支持ガラス基板とが積層されているため、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とに容易に分離することが可能であり、ガラス基板同士を分離する際に、薄板ガラス基板が破損するおそれがない。なお、この特性は薄板ガラス積層体を大気中３００℃の温度で１時間加熱した後でも同様に発揮される。したがって、加熱処理を伴う表示装置の製造工程における使用に好適である。
本発明の薄板ガラス積層体は、支持ガラス基板に設けられた孔から薄板ガラス基板とシリコーン樹脂層の界面に圧縮気体を注入することにより、薄板ガラスにガラスの破損につながるような応力を加えることなく、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離することが可能である。
【００３０】
また、シリコーン樹脂層が低シリコーン移行性を有していれば、ガラス基板同士を分離した際に、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい。したがって、分離後、シリコーン樹脂層が形成された支持ガラス基板は、他の薄板ガラス基板との積層に繰り返し使用することができる。また、分離後の薄板ガラス基板の表面にシリコーン樹脂層中の成分が移行しにくいため、薄板ガラス基板の表面に偏光板等を貼り付ける際に貼り付け不良等が生じるおそれがない。
【００３１】
本発明の表示装置の製造方法は、本発明の薄板ガラス積層体を用いることにより、薄板ガラス基板のたわみの発生や、製造時における薄板ガラス基板の破損が防止され、しかも、薄板ガラス基板と支持ガラス基板の分離時における薄板ガラス基板の破損が防止されるので、製造される表示装置の歩留まりを向上することができる。
本発明の表示装置の製造方法において、支持ガラス基板のシリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層する工程を真空プレスまたは真空ラミネートを用いて実施した場合、該シリコーン樹脂層への気泡の混入を抑制することができる。この結果、真空下でＩＴＯ等の透明電極を形成する工程において、シリコーン樹脂層に混入した気泡を起点とした欠陥の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、図面を参照して本発明の薄板ガラス積層体を説明する。図１は、本発明の薄板ガラス積層体の一例を示した断面模式図であり、図２は図１に示す薄板ガラス積層体を下側から見た平面図である。
図１に示すように、本発明の薄板ガラス積層体１では、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とが易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層（以下、本明細書において、「シリコーン樹脂層」という場合もある。）１３を介して積層されている。支持ガラス基板１２と、シリコーン樹脂層１３と、には互いに連通する孔１４が設けられている。以下、本明細書において、特に記載がない場合、互いに連通する関係にある支持ガラス基板１２に設けられた孔、およびシリコーン樹脂層１３に形成された孔をまとめて孔１４と記す。図２に示すように、孔１４は支持ガラス基板１２の中心部に形成されている。
詳しくは後述するが、本発明の薄板ガラス積層体１では、孔１４を通じて圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入することにより、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを容易に分離することができる。
【００３３】
以下、本発明の薄板ガラス積層体１の個々の構成要素について説明する。
薄板ガラス基板１１は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤといった表示装置用のガラス基板であり、０．３ｍｍ未満の厚さを有する。薄板ガラス基板１１の厚さは好ましくは０．２ｍｍ以下であり、より好ましくは０．１ｍｍ以下である。また、薄板ガラス基板１１の厚さは０．０５ｍｍ以上であることが好ましい。
【００３４】
なお、本発明が対象とする表示装置は、主として携帯電話やＰＤＡのようなモバイル端末に使用される小型の表示装置である。表示装置は、主としてＬＣＤまたはＯＬＥＤであり、ＬＣＤとしては、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型を含む。
【００３５】
熱収縮率、表面形状、耐薬品性等、薄板ガラス基板１１に要求される特性は、表示装置の種類により異なる。したがって、薄板ガラス基板は、アルカリガラス製であってもよい。但し、熱収縮率が少ないことから、無アルカリガラスが好ましい。
【００３６】
本発明において、薄板ガラス基板１１は熱収縮率が少ないものが好ましい。ガラスの場合、熱膨張および熱収縮の指標として、ＪＩＳ  Ｒ３１０２（１９９５年）規定の線膨張係数が用いられる。薄板ガラス基板１１は、線膨張係数が５０×１０-7／℃以下であることが好ましく、より好ましくは４５×１０-7／℃以下であり、４０×１０-7／℃以下であることがより好ましく、３０×１０-7／℃以下であることがより好ましく、２０×１０-7／℃以下であることがさらに好ましい。
【００３７】
支持ガラス基板１２は、薄板ガラス基板１１の強度を補強する目的で薄板ガラス基板１１と積層させるものであるため、薄板ガラス基板１１よりも厚いことが必要である。支持ガラス基板１２の厚さは、薄板ガラス基板１１との積層体が現行の製造ラインで流動させることができるような厚さであることが好ましい。例えば、現行の製造ラインが厚さ０．５ｍｍの基板を流動させるように設計されたものであって、薄板ガラス基板１１の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板１２の厚さは、シリコーン樹脂層１３の厚みと併せて０．４ｍｍであることが好ましい。
【００３８】
なお、上記したように、薄板ガラス基板１１の厚さは０．２ｍｍ以下であることが好ましい。現行の製造ラインは、厚さが０．７ｍｍのガラス基板を流動させるように設計されているものが最も一般的である。このため、支持ガラス基板１２とシリコーン樹脂層１３との合計厚みは、０．５ｍｍ以上であることが好ましい。但し、製造ラインは、厚さ０．５ｍｍまたは０．７ｍｍのガラス基板を流動させるように設計されているものに限定されず、これら以外の厚さのガラス基板を流動させるように設計されている場合もある。例えば、厚さ０．５ｍｍ未満のガラス基板を流動させるように設計されている場合もあるし、厚さ０．７ｍｍ超のガラス基板を流動させるように設計されている場合もある。
【００３９】
後述するシリコーン樹脂層１３の厚みを考慮すると、支持ガラス基板１２の厚さは０．３〜０．８ｍｍであることが好ましい。また、支持ガラス基板１２とシリコーン樹脂層１３との厚さの合計は０．５ｍｍ以上であることが好ましく、１．０ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４０】
また、支持ガラス基板１２は、薄板ガラス基板１１の強度を補強するものなので、その材質は特に限定されず、アルカリガラス、無アルカリガラスのいずれであってもよい。但し、支持ガラス基板１２は、その線膨張係数が薄板ガラス基板１１の線膨張係数と大幅に異ならないことが好ましい。支持ガラス基板１２の線膨張係数が薄板ガラス基板１１の線膨張係数よりも大きい場合には、表示装置の製造工程における加熱工程で、支持ガラス基板１２の膨張が薄板ガラス積層体１によって抑えられるため、薄板ガラス積層体１に反りが発生してしまい、逆に支持ガラス基板１２の線膨張係数が薄板ガラス基板１１の線膨張係数よりも小さい場合には、薄板ガラス基板１１の膨張により、薄板ガラス基板１１がシリコーン樹脂層１３から剥離してしまうという不都合が生じるからである。
【００４１】
上記したように、支持ガラス基板１２と、薄板ガラス基板１１と、は、線膨張係数が大幅に異ならなければよいため、両者の線膨張係数は完全に一致することは要求されず、多少の差があってもよい。薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２との線膨張係数の差は３５×１０-7／℃以下であることが好ましく、より好ましくは２５×１０-7／℃以下であり、さらに好ましくは１５×１０-7／℃以下である。
【００４２】
なお、支持ガラス基板１２は、薄板ガラス基板１１を補強するとともに、薄板ガラス積層体１が製造ラインを移動する際には、薄板ガラス基板１１を保持する基台となるため、その大きさは薄板ガラス基板１１の大きさと等しいか、またはそれ以上であることが好ましい。
【００４３】
支持ガラス基板１２およびシリコーン樹脂層１３には、互いに連通する少なくとも１つの孔１４が設けられている。すなわち、支持ガラス基板１２およびシリコーン樹脂層１３には、薄板ガラス積層体１の状態（支持ガラス基板１２とシリコーン樹脂層１３とを積層させた状態）で互いに一致する位置に、それぞれ少なくとも１つの孔１４が設けられている。
薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離する際、孔１４を通じて圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との界面に注入すると、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離し、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを容易に分離することができる。
【００４４】
図２では、支持ガラス基板１２の中心部に１つの孔１４が設けられているが、支持ガラス基板１２に設ける孔１４の数やその配置はこれに限定されず、支持ガラス基板１２には複数の孔１４を形成してもよい。図３は、本発明に用いる支持ガラス基板のバリエーションを示した平面図である。図３に示す支持ガラス基板１２には、互いに等間隔になるように６つの孔１４が設けられている。図３に示す支持ガラス基板１２を用いる場合、該支持ガラス基板１２と積層させるシリコーン樹脂層には、支持ガラス基板１２に設けられた孔１４と位置が一致するように６つの孔を設ける。また、支持ガラス基板１２に１つの孔１４を設ける場合も、孔１４を設ける位置は、支持ガラス基板１２の中心部に限定されず、支持ガラス基板１２の周縁部付近であってもよい。
支持ガラス基板１２に設ける孔１４の数、およびその配置は、孔１４を通じて圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との界面に注入した際に、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との剥離面積が最大になるようにすることが好ましい。
【００４５】
支持ガラス基板１２に設ける孔１４の大きさは特に限定されず、支持ガラス基板１２に設ける孔１４の数やその配置、孔１４を通じて注入する圧縮気体の圧力やシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との間の剥離力等に応じて適宜選択することができる。後述する実施例に示すように、孔１４が大きいほど、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離するのに必要な圧縮気体の圧力を小さくすることができる。しかしながら、孔１４が大きすぎると、表示装置の製造工程で実施する洗浄の際に、該孔１４を通してエッチング液や洗浄液がシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との界面に侵入して、本来は剥離してはならないタイミングでシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離したり、シリコーン樹脂層１３に含まれる添加物が孔１４から漏れ出すおそれがある。以上の点を考慮すると、支持ガラス基板１２に設ける孔１４の直径は、０．１ｍｍから１０ｍｍが好ましく、特に０．５ｍｍから２ｍｍが好ましい。
【００４６】
本発明の薄板ガラス積層体を製造する場合、少なくとも１つの孔を備える支持ガラス基板上に、易剥離性および非粘着性を有し、かつ該支持ガラス基板が備える孔と連通する少なくとも１つの孔を有するシリコーン樹脂層を形成し、その後、支持ガラス基板のシリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層させる。
【００４７】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層とは、適度な柔軟性を有するシリコーン樹脂層であって、粘着剤のように粘着力によって薄板ガラス基板を固定するのではなく、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって薄板ガラス基板を固定するものを指す。易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層の具体的な態様については後述する。
【００４８】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、密着力により薄板ガラス基板を固定しているため、積層界面に平行に薄板ガラス基板と支持ガラス基板とをずらす力に耐える力、すなわち、許容せん断力は高い値を示す。このため、表示装置の製造工程中に薄板ガラス基板が支持ガラス基板からずれることがない。したがって、ずれによって基板同士が離れてしまうおそれがない。
【００４９】
一方、シリコーン樹脂層の有する易剥離性および非粘着性により、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から垂直方向に引き離す力、すなわち、剥離力に対する粘着力は著しく低い。このため、薄板ガラス基板上に表示装置を製造するための所定の処理を実施した後に、支持ガラス基板を薄板ガラス基板から容易に分離することが可能である。
【００５０】
シリコーン樹脂層は、耐熱性に優れているため、加熱処理後、例えば大気中３００℃の温度で１時間加熱した後でも、許容せん断力は高いが、剥離力に対する粘着力は著しく低いという上記した特性を発揮することができる。以下、本明細書において、加熱処理後、例えば大気中３００℃の温度で１時間加熱した後のシリコーン樹脂層が、上記特性を有すること、すなわち、せん断力は高いが、剥離力に対する粘着力は著しく低いことを「加熱処理後の剥離性に優れる」という。
【００５１】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、適度な柔軟性を有するため、積層時に気泡が混入しにくく、また気泡が混入した場合でも、ロールやプレス等を用いて圧着することにより、容易に該気泡を除去することができる。また、塵介等の異物が積層界面に混入した場合でも柔軟性を有するシリコーン樹脂層が変形することにより薄板ガラス積層体の凸状欠陥につながりにくい。
【００５２】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、剥離紙用シリコーンの硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは、シリコーンの中でも、特に離型性にすぐれる直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とする。剥離紙用シリコーンは、上記した主剤と、架橋剤と、を含み、触媒、光重合開始剤等を用いて硬化させることによって基材表面に固定する。剥離紙用シリコーンの硬化塗膜は、優れた離型性と適度な柔軟性を有している。このような特性を有する剥離紙用シリコーンをシリコーン樹脂層として使用すれば、適度な柔軟性を有し、かつ易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層が得られる。
【００５３】
剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーン、電子線硬化型シリコーンに分類される。本発明では、これらのいずれも使用することができる。但し、これらの中でも硬化反応のしやすさ、硬化皮膜を形成した際に易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を形成しやすく、硬化物の耐熱性の観点から付加反応型シリコーンが最も好ましい。
【００５４】
付加反応型シリコーンは、両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンからなる主剤とメチルハイドロジェンポリシロキサンからなる架橋剤とを含み、白金系触媒の存在下で加熱硬化反応させるものである。
【００５５】
両末端、または両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンは、下記式で表される化合物であり、式中のｍ，ｎは整数を表し、０であってもよい。ｍが０の場合、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとなる。ｍが１以上の整数の場合、両末端および側鎖中にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとなる。
【化１】
2007326358.tif 000003
【００５６】
メチルハイドロジェンポリシロキサンは、下記式で表される化合物であり、式中のａは整数を表し、ｂは１以上の整数を表す。
【化２】
2007326358.tif 000004
【００５７】
加熱硬化反応に用いる触媒としては白金系触媒が好ましく用いられ、白金系触媒としては、公知のものを用いることができる。具体的には、塩化第一白金酸、塩化第二白金酸などの塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール化合物、アルデヒド化合物あるいは塩化白金酸と各種オレフィンとの鎖塩などがあげられる。なお、白金系触媒は、剥離紙シリコーン１００質量部に対して、０．１〜２０質量部使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部である。
【００５８】
剥離紙用シリコーンは、形態的に、溶剤型、エマルジョン型、無溶剤型がありいずれの型も使用可能である。但し、生産性、安全性、環境特性の面で無溶剤型が好ましい。無溶剤型を使用した場合、硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の際に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留しにくい。
【００５９】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、１種類の剥離紙用シリコーンのみで形成されていてもよいが、２種以上の剥離紙用シリコーンを用いて形成されていてもよい。２種以上の剥離紙用シリコーンを用いて形成されている場合、２種以上の剥離紙用シリコーンが互いに積層された多層構造のシリコーン樹脂層となっていてもよいし、１層中に２種以上の剥離紙用シリコーンを含んだ混合シリコーン樹脂層となっていてもよい。
【００６０】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、ガラス基板同士を分離した際に、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくいこと、すなわち、低シリコーン移行性を有することが好ましい。シリコーン樹脂層中の成分の移行しやすさは、該シリコーン樹脂層の残留接着率を指標として判断することができる。シリコーン樹脂層の残留接着率は、以下の方法で測定することができる。
【００６１】
［残留接着率の測定方法］
シリコーン樹脂層の表面に１５ｍｍ幅の標準粘着テープ（セロテープ（登録商標）ＣＴ４０５Ａ−１５（ニチバン株式会社製））を人の手の力で圧着し、７０℃で２０時間大気中で加熱する。２０時間経過後、標準粘着テープをシリコーン樹脂層から剥がす。剥がした標準粘着テープを清浄なガラス基板（例えば、ＡＮ１００（旭硝子株式会社製））表面に貼り合わせた後、１８０°剥離強度（３００ｍｍ／ｍｉｎ）を測定する（剥離強度（Ａ））。
上記と同じ標準粘着テープを清浄なガラス基板（例えば、ＡＮ１００（旭硝子株式会社製））表面に人の手の力で圧着した後、常温大気中で２０時間放置した。２０時間経過後、標準粘着テープをガラス基板表面から剥がす。剥がした標準粘着テープをガラス基板（例えば、ＡＮ１００（旭硝子株式会社製）表面に貼り合わせた後、１８０°剥離強度（３００ｍｍ／ｍｉｎ）を測定する（剥離強度（Ｂ））。残留接着率は下記式により求める。
残留接着率（％）＝剥離強度（Ａ）／剥離強度（Ｂ）×１００。
【００６２】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層は、上記の測定方法により求めた残留接着率が９５％以上であることが好ましく、９８％以上であることがより好ましい。残留接着率が９５％以上であれば、シリコーン樹脂層から薄板ガラス基板表面への樹脂層中の成分の移行が極めて低いと考えられる。そのため、ガラス基板同士を分離した後、シリコーン樹脂層が形成された支持ガラス基板は、他の薄板ガラス基板との積層に繰り返し使用することができる。また、分離後の薄板ガラス基板の表面にシリコーン樹脂層中の成分が移行しにくいため、薄板ガラス基板の表面に偏光板等を貼り付ける際に貼り付け不良等が生じるおそれがない。
【００６３】
低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層を得るためには、移行性の高い成分を含まない剥離紙用シリコーンを用いればよい。一般的な方法として、剥離紙用シリコーンを易剥離化するために、非反応性のシリコーンをブレンドする場合がある。この場合、非反応性シリコーンとして、直鎖ジメチルポリシロキサンで非常に高分子量のものか、フェニル基や高級アルキル基を導入し、硬化皮膜への相溶性を低くした比較的低分子量のものが用いられる。このような非反応性シリコーンは、移行性が高い成分であるため、本発明に使用する剥離紙用シリコーンは、非反応性のシリコーンの含有量が５質量％以下であることが好ましく、非反応性のシリコーンを実質的に含まないことがより好ましい。
【００６４】
本発明において、好適な剥離紙用シリコーンとしては、具体的には、ＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン製）等が挙げられる。
【００６５】
易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層の厚みは、１〜１００μｍであることが好ましい。シリコーン樹脂層の厚みが１μｍよりも薄い場合には、薄板ガラス基板とシリコーン樹脂層の密着が不十分になるおそれがある。又、異物が介在した場合にも薄板ガラス基板の凸状欠陥に繋がりやすい。一方１００μｍを越える場合には、易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層としての特性への寄与はもはや少なく、シリコーン樹脂の硬化に時間を要するため、経済的ではない。シリコーン樹脂層の厚みが５〜２０μｍであることがより好ましい。シリコーン樹脂層の厚みが５〜２０μｍであれば、幅広い厚みの薄板ガラス基板に対して、良好な密着性を発揮することができる。
【００６６】
支持ガラス基板上に、易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を形成する方法は特に限定されず、公知の方法から適宜選択することができる。シリコーン樹脂層に剥離紙用シリコーンを使用する場合、支持ガラス基板表面に剥離紙用シリコーンを塗工した後、薄板ガラスを積層する前に剥離紙用シリコーンを硬化させる。
ここで、支持ガラス基板が備える孔と連通する少なくとも１つの孔を有するシリコーン樹脂層を形成するには、予め孔を設けた支持ガラス基板に剥離紙用シリコーンを塗工する際に、支持ガラス基板に設けられた孔に剥離紙用シリコーンが侵入しないような塗工方法を採用すればよい。具体的には、支持ガラス基板に設けられた孔に封止剤を封入する、またはテープ等を貼付することにより孔を封止した状態で剥離紙用シリコーンを塗工し、剥離紙用シリコーンを硬化させてシリコーン樹脂層を形成した後、封止剤やテープ等を取り除く方法を採用すればよい。
【００６７】
剥離紙用シリコーンを塗工する方法としては、公知の方法を使用することができ、具体的には、例えば、スプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法等が挙げられる。これらの塗工方法は、剥離紙用シリコーンの種類に応じて適宜選択することができる。例えば、剥離紙用シリコーンが無溶剤型の場合、ダイコート法、スピンコート法、およびスクリーン印刷法が好適である。これらの中でも、スクリーン印刷法を採用した場合、上記のような塗工前の孔の封止を実施することなしに、支持ガラス基板が備える孔と連通する少なくとも１つの孔を有するシリコーン樹脂層を形成することができるので特に好ましい。
【００６８】
剥離紙用シリコーンが無溶剤型の場合、その塗工量は１ｇ／ｍ2〜１００ｇ／ｍ2であることが好ましく、より好ましくは、５ｇ／ｍ2〜２０ｇ／ｍ2である。
【００６９】
なお、予め孔を設けていない支持ガラス基板の全面に剥離紙用シリコーンを塗工し、剥離紙用シリコーンを硬化させてシリコーン樹脂層を形成した後で、シリコーン樹脂層と支持ガラス基板とを連通する孔を物理的に形成することにより、支持ガラス基板と、シリコーン樹脂層と、を連通する孔を形成してもよい。
【００７０】
付加反応型シリコーンの場合には、上記したいずれかの方法により、主剤および架橋剤を含有する剥離紙用シリコーンと、触媒と、の混合物を支持ガラス基板上に塗工した後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、剥離紙用シリコーン１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で１〜１０分間、好ましくは１〜５分間加熱硬化させる。
【００７１】
低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように、硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記した条件で加熱硬化させれば、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができる。上記した条件に比べて、加熱時間が長すぎたり、加熱温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり、低分子量のシリコーン成分が生成するため、シリコーン移行性が高くなってしまう。このように、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように、硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。
【００７２】
剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラス基板と化学的に結合する、また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラス基板と結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に固定されている。
【００７３】
一方、薄板ガラス基板は、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によってシリコーン樹脂層に固定されるので、支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に積層させた薄板ガラス基板を分離した際に、分離後の薄板ガラス基板の表面にシリコーン樹脂層が残存することが防止される。
【００７４】
つまり、剥離紙用シリコーンを用いることで、支持ガラス基板と、薄板ガラス基板と、を積層させた状態に保持することができるとともに、薄板ガラス基板を分離した際に、分離後の薄板ガラス基板の表面にシリコーン樹脂層が残存することも防止することができ、結果的に本発明の目的を達成することが可能となる。
【００７５】
支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる手順は公知の方法を用いて実施することができ、例えば、常圧環境下で、シリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させた後、ロールやプレスを用いて積層体を圧着させてもよい。ロールやプレスで圧着することにより、シリコーン樹脂層と薄板ガラス基板とが、より密着する。
また、ロールまたはプレスによる圧着により、シリコーン樹脂層中に混入している気泡が容易に除去される。
【００７６】
特に、気泡の混入の抑制や良好な密着の確保の観点から真空ラミネート法、真空プレス法の採用が好ましい。真空下で積層することにより、微少な気泡が残存した場合でも加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板の凸状欠陥につながりにくいという利点もある。
【００７７】
支持ガラス基板のシリコーン樹脂層形成面に薄板ガラス基板を積層させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが必要である。
極微少な異物であれば、柔軟性を有するシリコーン樹脂層が変形することによりシリコーン樹脂層に吸収され積層後の薄板ガラス基板表面の平坦性に影響を与えることはないが、その量や大きさによっては積層後の薄板ガラス基板表面の凸状欠陥につながる可能性があるからである。
【００７８】
本発明の薄板ガラス積層体は、図４に示すように、支持ガラス基板１２に設けられた孔１４を通じて圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入することにより、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離する。これにより薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを容易に分離することができる。この際、圧縮気体が周囲に漏れないように、圧縮気体注入用のチューブ３０と孔１４との接合部分の周囲をシール剤４０で封止することにより、効果的に分離が可能となる。
ここで、孔１４の数、配置、および孔１４を通じて注入する圧縮気体の圧力等を選択することにより、孔１４を通じてシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に圧縮気体を注入することのみで、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離して、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とが分離するものであってもよいが、手による剥離や他の冶具による剥離方法を併用することによって、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離して、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とが分離するものであってもよい。後者の場合、圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入することによって、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とが剥離するきっかけが与えられるので、手による剥離や他の冶具による剥離によって、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とを剥離させることにより、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを容易に分離することができる。
【００７９】
孔１４を通じて注入する圧縮気体の種類は、薄板ガラス基板１１、支持ガラス基板１２およびシリコーン樹脂層１３に悪影響を及ぼさない限り特に限定されない。安価であることから、圧縮空気、圧縮窒素等が好ましく使用できる。また、孔１４を通じて注入する圧縮気体の圧力も特に限定されず、板ガラス基板１１および支持ガラス基板１２を破損するおそれがない範囲で適宜選択すればよい。
【００８０】
剥離した支持ガラス基板には易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層が形成されたままの状態であるので、再度、別の薄板ガラス基板との積層に使用することも可能である。
【００８１】
次に本発明の表示装置の製造方法について説明する。本発明の表示装置の製造方法では、上記手順で本発明の薄板ガラス積層体を形成した後、積層体の薄板ガラス基板上に表示装置を製造するための所定の処理を実施する。本明細書において、表示装置を製造するための所定の処理と言った場合、ＬＣＤまたはＯＬＥＤといった表示装置を製造する際に、製造工程で実施される各種処理を広く含む。ここで実施される処理の具体例としては、ＬＣＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板上にアレイを形成する工程、該薄板ガラス基板とは異なる薄板ガラス基板上にカラーフィルタを形成する工程、アレイが形成された薄板ガラス基板と、カラーフィルタが形成された薄板ガラス基板と、を貼合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程）等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去等が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および該処理の実施後に行われる注入口の封止工程があり、これらの工程で実施される処理も含む。但し、これらの処理を全て積層体の状態で実施する必要はない。例えば、強度および取り扱い性の点からは、アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程までを積層体の状態で実施した後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離してから液晶注入処理を実施することが好ましい。
【００８２】
なお、本発明の表示装置の製造方法において、アレイを形成するガラス基板およびカラーフィルタを形成するガラス基板の両方が薄板ガラス基板ではなくてもよい。例えば、アレイが形成された薄板ガラス基板と、カラーフィルタが形成された通常の厚みのガラス基板と、を貼合わせてもよく、またはアレイが形成された通常の厚みのガラス基板と、カラーフィルタが形成された薄板ガラス基板と、を貼合わせてもよい。これらの場合、セル化した後の表示素子としての総厚は厚くなるが、機械的強度を向上しうるという利点がある。ここでいう通常の厚みのガラス基板とは０．３ｍｍ以上の厚みのガラス基板を意味する。
【００８３】
また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。
【００８４】
上記所定の処理を実施した後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する。図５（ａ），（ｂ）は、アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程実施後の表示装置において、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する手順を示した図である。
図５（ａ）では、２つの薄板ガラス積層体１が封着材２１により貼合わされて表示装置２０を形成している。表示装置２０において、２枚の薄板ガラス基板１１と、封着材２１と、で定義される閉じ込め空間内には、アレイ、カラーフィルタ等の構造物２２が形成されている。
図５（ｂ）に示すように、表示装置２０を構成する２つの薄板ガラス積層体１のうち一方を真空吸着等で固定台５０に固定した状態で、他方の薄板ガラス積層体１の支持ガラス基板１２に設けられた孔１４を通じて、圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入することにより、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とを剥離させて、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離する。その後、表示装置２０を反転させて、支持ガラス基板１２から分離された薄板ガラス基板１１を固定台５０に固定した状態で、図５（ｂ）で固定台５０に固定されていた薄板ガラス積層体１の支持ガラス基板１２に設けられた孔１４を通じて、圧縮気体をシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入することにより、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１とを剥離させて薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離することができる。
【００８５】
薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を分離した後、必要とされる所望の工程を経て、薄板ガラス基板を有する表示装置が得られる。ここで実施される工程としては、ＬＣＤの場合には、例えば所望の大きさのセルに分断する工程、液晶を注入しその後注入口を封止する工程、偏光板を貼付する工程、モジュール形成工程が挙げられる。ＯＬＥＤの場合には、これらの工程に加えて、有機ＥＬ構造体が形成された薄板ガラス基板と、対向基板と、を組み立てる工程が含まれる。なお、所望の大きさのセルに分断する工程は、切断処理によって薄板ガラス基板の強度が低下せず、またカレットも出ないことから、レーザカッタによる切断が好ましい。
【００８６】
また、本発明は、薄板ガラス基板との積層に用いられる支持ガラス基板であって、支持ガラス基板の一方の面に易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層が形成されており、支持ガラス基板と、シリコーン樹脂層と、には互いに連通する少なくとも１つの孔が設けられた支持ガラス基板も提供する。
【実施例】
【００８７】
（実施例１）
本実施例では、図１，２に示す薄板ガラス積層体を作製した。
縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ、線膨張係数３８×１０-7／℃の支持ガラス基板１２（旭硝子製ＡＮ１００）の中心部に、図２に示すようにダイヤモンドドリルで孔径１．５ｍｍの孔１４を開けた。該基板１２を純水洗浄、ＵＶ洗浄等で清浄化した後、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン（信越シリコーン製  ＫＮＳ−３２０Ａ）１００質量部と白金系触媒（信越シリコーン製  ＣＡＴ−ＰＬ−５６）２質量部の混合物をスクリーン印刷機にて塗工し（塗工量１５ｇ／ｍ2）、１００℃にて３分間大気中で加熱硬化して膜厚１５μｍのシリコーン樹脂層１３を形成した。支持ガラス基板１２上の孔１４の部分にはシリコーン樹脂層１３は形成されておらず、支持ガラス基板１１とシリコーン樹脂層１３とを連通する孔１４を形成することができた。
縦９５ｍｍ、横９５ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数３８×１０-7／℃の薄板ガラス基板（旭硝子製ＡＮ１００）のシリコーン樹脂層と接触させる側の面を純水洗浄、ＵＶ洗浄等で清浄化した後、支持ガラスのシリコーン樹脂層形成面と、薄板ガラス基板とを、室温下真空プレスにて貼り合わせ、薄板ガラス積層体１を得た。
薄板ガラス積層体１において、薄板ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
［剥離試験］
図６に示すように、薄板ガラス積層体１を薄板ガラス基板１１が下側になるように固定台５０に設置し、真空吸着により固定した。この状態で支持ガラス基板１２上に設けられた孔１４に圧縮空気注入用のチューブ３０を空気が漏れないように周囲をシール剤４０で封止して繋いだ。その後、１．４１ｋｇｆ／ｃｍ2（１３．８  ×１０4Ｐａ）の圧縮空気を孔１４を通じてシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入したところ、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との剥離が進行し、薄板ガラス基板１１から支持ガラス基板１２を容易に手で分離することができた。
３００℃１時間加熱後の薄板積層体１についても同様の手順を実施した。１．７５ｋｇｆ／ｃｍ2（１７．２×１０4Ｐａ）の圧縮空気を孔１４を通じてシリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１の界面に注入したところ、シリコーン樹脂層１３と薄板ガラス基板１１との剥離が進行し、薄板ガラス基板１１から支持ガラス基板１２を容易に手で分離することができた。
（実施例２，３）
孔１４の孔径を１ｍｍ（実施例２）、２ｍｍ（実施例３）に変えた点以外は実施例１と同様に実施した。
実施例１〜３の剥離試験の結果を図７に示す。図７から明らかなように、孔１４の孔径を大きくすると、薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離するのに必要な圧縮空気の圧力を下げることができることが確認できた。また、３００時間１時間加熱後の薄板ガラス積層体は、加熱前の薄板ガラス積層体に比べて、圧縮空気の圧力を高くする必要があるが、薄板ガラス基板１１から支持ガラス基板１２を容易に手で分離することができた。
【００８８】
（実施例４）
縦４００ｍｍ、横３００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ、線膨張係数３８×１０-7／℃の支持ガラス基板（旭硝子製ＡＮ１００）の図８に示す所定の位置にダイヤモンドドリルで孔径１．５ｍｍの孔を７つ開けた。該基板を純水洗浄、ＵＶ洗浄等で清浄化した後、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン（信越シリコーン製  ＫＮＳ−３２０Ａ）１００質量部と白金系触媒（信越シリコーン製  ＣＡＴ−ＰＬ−５６）２質量部の混合物をスクリーン印刷機にて塗工し（塗工量１５ｇ／ｍ2）、１００℃にて３分間大気中で加熱硬化して膜厚１５μｍのシリコーン樹脂層を形成した。支持ガラス基板上の孔の部分にはシリコーン樹脂層は形成されておらず、支持ガラス基板とシリコーン樹脂層とを連通する孔を形成することができた。
縦４００ｍｍ、横３００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数３８×１０-7／℃の薄板ガラス基板（旭硝子製ＡＮ１００）のシリコーン樹脂層と接触させる側の面を純水洗浄、ＵＶ洗浄等で清浄化した後、支持ガラスのシリコーン樹脂層形成面と、薄板ガラス基板とを、室温下真空プレスにて貼り合わせ、本発明の薄板ガラス積層体（薄板ガラス積層体２）を得た。
薄板ガラス積層体２において、薄板ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。
［剥離試験］
薄板ガラス積層体２を薄板ガラス基板が下側になるように、多数の微細な吸着孔を有する平滑な固定台に設置し、真空吸着により固定した。この状態で支持ガラス基板上に形成されたそれぞれの孔に圧縮空気注入用のチューブを空気が漏れないように周囲をシール剤で封止して繋いだ。その後、３．５×１０4Ｐａの圧縮空気を支持ガラス基板に設けられた孔を通じてシリコーン樹脂層と薄板ガラス基板の界面に注入したところ、シリコーン樹脂層と薄板ガラス基板との剥離が進行し、薄板ガラス基板から支持ガラス基板を容易に手で分離することができた。
【００８９】
（実施例５）
本実施例では、実施例４で得られる薄板ガラス積層体２を用いてＬＣＤを製造する。２枚の薄板ガラス積層体２を準備して、１枚にはアレイ形成工程を実施して薄板ガラス基板の表面にアレイを形成する。残りの１枚にはカラーフィルタ形成工程を実施して薄板ガラス基板の表面にカラーフィルタを形成する。アレイが形成された薄板ガラス基板と、カラーフィルタが形成された薄板ガラス基板とを貼合わせた後、図５（ａ），（ｂ）を用いて説明した方法にて、２枚の支持ガラス基板を分離する。続いて、薄板ガラス基板をレーザカッタを用いて切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの２８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【００９０】
（実施例６）
本実施例では、実施例４で得られる薄板ガラス積層体２と厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を用いてＬＣＤを製造する。薄板ガラス積層体２を準備して、カラーフィルタ形成工程を実施して薄板ガラス基板の表面にカラーフィルタを形成する。一方厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板（旭硝子製ＡＮ−１００）にアレイ形成工程を実施して厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板の表面にアレイを形成する。
カラーフィルタが形成された薄板ガラス基板積層体と、アレイが形成された厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板とを貼合わせた後、図５（ａ），（ｂ）を用いて説明した方法にて、支持ガラス基板を分離する。
続いて、薄板ガラス基板−無アルカリガラス基板貼合体を縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの２８個のセルに分断する。この際、薄板ガラス基板はレーザカッタで切断する。一方、無アルカリガラス基板はレーザカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断する。
その後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは特性上問題は生じない。
【００９１】
（実施例７）
本実施例では、実施例４で得られる薄板ガラス積層体２を用いてＯＬＥＤを製造する。透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程を実施して、薄板ガラス積層体２の薄板ガラス基板上に有機ＥＬ構造体を形成する。次に、実施例４に記載した方法にて、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する。続いて、薄板ガラス基板をレーザカッタを用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの４０個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成された薄板ガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは特性上問題は生じない。
【００９２】
（比較例１）
孔の開いていない支持ガラス基板を使用した以外は、実施例４と同様の手順を実施して比較例の薄板ガラス積層体３を得た。薄板ガラス積層体３において、支持ガラス基板を剥離するためには、剃刀の刃で端部に剥離のきっかけを与えることが必要であり、支持ガラス基板の分離にかなりの時間を要した。
【産業上の利用可能性】
【００９３】
本発明によって得られた薄板ガラス積層体は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の各種表示装置の製造工程内において、表示装置用ガラス基板のハンドリング用として有用に使用することができる。また、本発明の薄板ガラス積層体を用いた表示装置の製造方法は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の各種表示装置の製造方法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】図１は、本発明の薄板ガラス積層体の一例を示した断面模式図である。
【図２】図２は図１に示す薄板ガラス積層体を下側から見た平面図である。
【図３】図３は、本発明に用いる支持ガラス基板のバリエーションを示した平面図である。
【図４】図４は、図１に示す薄板ガラス積層体１の薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離する手順を示した図である。
【図５】図５（ａ），（ｂ）は、アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程実施後の表示装置において、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する手順を示した図である。
【図６】図６は、実施例１において、薄板ガラス積層体１の薄板ガラス基板１１と支持ガラス基板１２とを分離する手順を示した図である。
【図７】図７は、実施例１〜３の剥離試験の結果を示したグラフである。
【図８】図８は、実施例４で使用した支持ガラス基板の平面図である。
【符号の説明】
【００９５】
１：薄板ガラス積層体
１１：薄板ガラス基板
１２：支持ガラス基板
１３：シリコーン樹脂層
１４：孔
２０：表示装置
２１：封着材
２２：構造物
３０：圧縮気体（圧縮空気）注入用のチューブ
４０：シール材
５０：固定台
【図１】
2007326358.tif 000005
【図２】
2007326358.tif 000006
【図３】
2007326358.tif 000007
【図４】
2007326358.tif 000008
【図５】
2007326358.tif 000009
【図６】
2007326358.tif 000010
【図７】
2007326358.tif 000011
【図８】
2007326358.tif 000012