(57)【要約】【課題】  高レターデーション値を有し、かつ、湿度によるレターデーション変化の小さいセルロースアシレートフィルムを提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物の少なくとも１種とを、含有するセルロースアシレートフィルム。一般式（１）2007009181.tif 000040（一般式（１）中、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環基を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物の少なくとも１種とを、含有するセルロースアシレートフィルム。
一般式（１）
【化１】
2007009181.tif 000037
（一般式（１）中、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環基を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項２】
前記分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される、請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（ＩＩ）
【化２】
2007009181.tif 000038
（一般式（ＩＩ）中、Ｘは置換または無置換のアミノ基、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基またはカルボキシル基を表わす。Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。）
【請求項３】
前記分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される、請求項１に記載のセルロースアシレートフィルム。
【化３】
2007009181.tif 000039
一般式（Ｂ）
（一般式（Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36はそれぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基である。）
【請求項４】
下記式（Ａ）および（Ｂ）を満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
２０ｎｍ≦Ｒｅ(590)≦２５０ｎｍ        （Ａ）
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ(590)≦４００ｎｍ      （Ｂ）
（式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒｅ(590)及びＲｔｈ(590)は、それぞれ、波長５９０ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）または厚み方向レターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
【請求項５】
下記条件を満たす、請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
０％≦（２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)−２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)）/２５℃６０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)≦３０％
（上記式中、Ｒｔｈ(590)は、波長５９０ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）または厚み方向レターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
【請求項６】
請求項１〜５のセルロースアシレートを含む光学補償フィルム。
【請求項７】
偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護膜とを有し、かつ、前記保護膜の少なくとも一方が、請求項１〜５のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムである、偏光板。
【請求項８】
液晶セルと、該液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板とを有し、前記偏光板の少なくとも一方が請求項７に記載の偏光板である、液晶表示装置。
【請求項９】
表示モードがＶＡモードである、請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
表示モードがＯＣＢモードである、請求項８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セルロースアシレートフィルム、ならびにこれを用いた、偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースアシレートフィルムは適度な透水性を有し、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）ことから、液晶表示装置向けの偏光板保護膜として広く利用されてきた。
近年、セルロースアシレートフィルムに位相差を付与し、偏光板保護膜としての機能に加えて、光学補償機能も併せ持たせる方法が提案されている。
このうち、市場が急拡大しているＶＡモード液晶表示装置用光学補償フィルム用途では、正面レターデーション（以下Ｒｅ）だけでなく、厚み方向にも高いレターデーションを発現させることが要求される。
従来セルロースアシレートフィルムの厚み方向レターデーション（以下、Ｒｔｈという）を増大させる方法としては、セルロースアシレートの総アシル化度を低くする、及びレターデーション発現剤を添加する方法等が知られており、後者については特許文献１にトリアジン化合物を添加したセルロースアシレートフィルムが開示されている。
しかし、セルロースアシレートフィルムは一定の吸水性を有するため、環境湿度によりレタデーションが変化するという特性を有しており、これは光学補償フィルム用途では使用環境湿度により液晶表示装置の画質が変化するという問題を引き起こすため、強く改善が求められていた。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３４４６５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、高レターデーション値を有し、かつ、湿度によるレターデーション変化の小さいセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明のさらなる目的は、前記セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとすることにより表示品位の高い偏光板および液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
従来、セルロースアシレートフィルムの吸水性は可塑剤等の疎水性化合物の添加により低減できることが知られていた。しかし、本発明の発明者らが鋭意検討した結果、上記のようなトリアジン化合物を他の疎水性化合物と共にセルロースアシレートフィルムに添加した場合、レターデーション発現性が低下してしまうことを見出した。さらに、本発明の発明者らは、前記トリアジン化合物の疎水性化合物共存時のレターデ−ション発現性の低下は、トリアジン化合物のセルロースアシレートフィルム中での配向が疎水化剤によって阻害されることが原因であることを突き止めた。
以上の検討に基づき、本発明者らは自己会合性の高いレターデーション発現剤を使用すれば、前記疎水性化合物の併用による配向阻害を解消でき、高レターデーションと使用湿度によるレターデーション変化の低減を両立できることを見出し、本発明を完結するに至った。
【０００６】
具体的には、下記手段により上記課題は解決された。
（１）下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物の少なくとも１種とを、含有するセルロースアシレートフィルム。
一般式（１）
【化１】
2007009181.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環基を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
（２）前記分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される、（１）に記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（ＩＩ）
【化２】
2007009181.tif 000003
（一般式（ＩＩ）中、Ｘは置換または無置換のアミノ基、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基またはカルボキシル基を表わす。Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。）
（３）前記分子内に少なくとも１つの水素結合性水素供与性基を有し、かつ、少なくとも１つの芳香環を有する化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される、（１）に記載のセルロースアシレートフィルム。
【化３】
2007009181.tif 000004
（一般式（Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36はそれぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基である。）
（４）下記式（Ａ）および（Ｂ）を満たす、（１）〜（３）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
２０ｎｍ≦Ｒｅ(590)≦２５０ｎｍ        （Ａ）
４０ｎｍ≦Ｒｔｈ(590)≦４００ｎｍ      （Ｂ）
（式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒｅ(590)及びＲｔｈ(590)は、それぞれ、波長５９０ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）または厚み方向レターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
（５）下記条件を満たす、（１）〜（４）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
０％≦（２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)−２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)）/２５℃６０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)≦３０％
（上記式中、Ｒｔｈ(590)は、波長５９０ｎｍにおける正面レターデーション（Ｒｅ）または厚み方向レターデーション（Ｒｔｈ）を表す。）
（６）（１）〜（５）のセルロースアシレートを含む光学補償フィルム。
（７）偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護膜とを有し、かつ、前記保護膜の少なくとも一方が、（１）〜（５）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムである、偏光板。
（８）液晶セルと、該液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板とを有し、前記偏光板の少なくとも一方が（７）に記載の偏光板である、液晶表示装置。
（９）表示モードがＶＡモードである、（８）に記載の液晶表示装置。
（１０）表示モードがＯＣＢモードである、（８）に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のセルロースアシレートフィルムは、高いＲｅおよび高いＲｔｈを有し、環境湿度によるレターデーション変化が小さいという特徴を有する。そのため、本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償フィルムとして好ましく採用できる。特に、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光学補償機能を追加することが可能になった。さらに、このような偏光板を用いることにより、表示品位の高い液晶表示装置を得ることが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明でいう「基」の炭素数には、該「基」が置換基を有する場合、該置換基の炭素数を含まない趣旨である。
【０００９】
［セルロースアシレートフィルム］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、会合性の高いレターデーション発現剤（一般式（１）で表される化合物）と疎水化剤（分子内に水素結合性水素供与性基と芳香環を併せ持つ化合物）を含有する。以下に、本発明で用いるレターデーション発現剤、疎水化剤、セルロースアシレート、セルロースアシレートフィルムの製造方法の順に説明する。
【００１０】
（レターデーション発現剤）
本発明で用いるレターデーション発現剤は、下記一般式（１）で表される化合物である。このようなレターデーション発現剤は、会合性が高く好ましい。以下において一般式（１）で表される化合物について詳細に説明する。
【００１１】
一般式（１）
【化４】
2007009181.tif 000005
（一般式（１）中、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環基を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環基を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【００１２】
一般式（１）中、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。
【００１３】
Ｒ2として好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくはメチル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、さらに好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基）、アミノ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００１４】
Ｒ5として好ましくは、水素原子、ハロゲン原子（好ましくはクロル基、フルオル基）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくはメチル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、さらに好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基）、アミノ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基であり、最も好ましくは水素原子である。
特に、Ｒ2およびＲ5の両方が、水素原子であることが好ましい。
【００１５】
Ｒ4として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくは、水素原子またはアルコキシ基である。
ここで、Ｒ4のアルキル基の炭素数は、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましい。
ここで、Ｒ4のアルコキシ基の炭素数は、１〜１２が好ましく、１〜８がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜４がよりさらに好ましく、１〜３が特に好ましく、１が最も好ましい。
【００１６】
Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ11およびＲ13で表されるアルキル基は、直鎖、分岐または環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を１個取り去った１価の基。）、トリシクロアルキル基であり、より好ましくは無置換の炭素数１〜３０の直鎖または分岐のアルキル基である。
【００１７】
Ｒ11およびＲ13で表されるアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、２−ヘキシルデシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等を挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基などを挙げることができる。
【００１８】
Ｒ11としてさらに好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
Ｒ13としてさらに好ましくは、炭素原子を２個以上含むアルキル基であり、より好ましくは炭素原子を３個以上含むアルキル基である。直鎖または分岐構造を有するものは特に好ましく用いられる。
【００１９】
以下にＲ13で表されるアルキル基の具体例をあげて説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００２０】
【化５】
2007009181.tif 000006
【００２１】
Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環基を表し、繰り返し単位中のＡｒ1は、すべて同一であっても異なっていてもよい。Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環基を表す。
Ａｒ1で表されるアリーレン基として好ましくは、炭素数６〜３０のアリーレン基であり、１または２以上の単環からなる基であってもよいし、２以上の環が縮合した縮合環であってもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ1で表されるアリーレン基としてより好ましくは炭素数６〜２０のアリーレン基であり、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリーレン基であり、例えば、フェニレン基、ｐ−メチルフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。
Ａｒ2で表されるアリール基として好ましくは炭素数６〜３０のアリール基であり、１または２以上の単環であってもよいし、２以上の環が縮合した縮合環であってもよい。また、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。Ａｒ2で表されるアリール基としてより好ましくは炭素数６〜２０のアリール基、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００２２】
一般式（１）中、Ａｒ1およびＡｒ2で表される芳香族ヘテロ環は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環であることが好ましく、５員環若しくは６員環の酸素原子、窒素原子または硫黄原子のうち少なくとも１つを含む芳香族ヘテロ環である。さらに、可能な場合にはさらに置換基を有してもよい。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００２３】
一般式（１）中、Ａｒ1およびＡｒ2で表される芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環、ピロロトリアゾール環、ピラゾロトリアゾール環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましいものは、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環である。
尚、Ａｒ1は２つの結合子を有する２価の芳香族へテロ環基であり、Ａｒ2は１つの結合子を有する１価の芳香族へテロ環基を表す。
【００２４】
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。また、繰り返し単位中のＬ2は、すべて同一であっても異なっていてもよい。
２価の連結基として好ましいものは、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、好ましくは水素原子を表す。以下、同じ）、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基およびこれらの２価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、その内より好ましいものは−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基である。
【００２５】
本発明の一般式（１）で表される化合物において、Ａｒ1はＬ1またはＬ2と結合するが、Ａｒ1がフェニレン基である場合、Ｌ1−Ａｒ1−Ｌ2およびＬ2−Ａｒ1−Ｌ2は互いにパラ位（１，４−位）の関係となることが好ましい。
【００２６】
一般式（１）中、ｎは３以上の整数を表し、好ましくは３〜７であり、より好ましくは３〜６であり、さらに好ましくは３〜５である。
【００２７】
前記一般式（１）の化合物のうち、下記一般式（４）および（５）で表される化合物は特に好ましく用いることができる。
【００２８】
一般式（４）
【化６】
2007009181.tif 000007
【００２９】
（一般式（４）中、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【００３０】
一般式（４）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13は、一般式（１）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2、ｎは、一般式（１）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００３１】
一般式（５）
【化７】
2007009181.tif 000008
【００３２】
（一般式（５）中、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ、単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、Ａｒ2はアリール基または１価の芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ種存在するＬ2、Ａｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【００３３】
一般式（５）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13は、一般式（１）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、Ａｒ2、ｎは、一般式（１）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ14は水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基としてはＲ11、Ｒ13の好ましい例として示したアルキル基が好ましく用いられる。また好ましくは、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数1〜３のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒ11とＲ14は同じであっても異なっていてもよいが、共に、ｎは、メチル基であることが特に好ましい。
【００３４】
また、一般式（１）で表される化合物のうち、一般式（６−Ａ）または一般式（６−Ｂ）で表される化合物も本願発明のレターデーション発現剤として好ましい。
【００３５】
一般式（６−Ａ）
【化８】
2007009181.tif 000009
【００３６】
（一般式（６−Ａ）中、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2およびＬ21は、それぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ2、およびｎ種存在するＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【００３７】
一般式（６−Ａ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（１）におけるそれらと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ21は、好ましくは−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、好ましくは水素原子を表す。以下、同じ）、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基およびこれらの２価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、単結合、−ＮＲ−または−Ｏ−がより好ましい。
【００３８】
一般式（６−Ｂ）
【化９】
2007009181.tif 000010
【００３９】
（一般式（６−Ｂ）中、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ1、Ｌ2およびＬ21は、それぞれ単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、ｎは３以上の整数を表し、ｎ−１種存在するＬ2、およびｎ種存在するＡｒ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。）
【００４０】
一般式（６−Ｂ）中、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ11、Ｒ13、Ｒ14、Ｌ1、Ｌ2、Ａｒ1、ｎは一般式（１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｌ21は、好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、好ましくは水素原子を表す。以下、同じ）、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｓ−、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基およびこれらの２価の基を２つ以上組み合わせて得られる基であり、単結合、−ＮＲ−または−Ｏ−がより好ましい。
【００４１】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基）、アルケニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った１価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の、置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた１価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の��換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。
【００４２】
上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていても良い。そのような官能基として好ましくは、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基である。その他、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基も好ましい。
【００４３】
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００４４】
一般式（６−Ａ）または（６−Ｂ）で表される化合物中、最も好ましくは、
Ｒ11がいずれもメチル基であり、
Ｒ2、Ｒ5がいずれも水素原子であり、
Ｒ13が炭素原子３個以上をもつアルキル基であり、
Ｌ1およびＬ2が、単結合、−Ｏ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2ＮＲ−、−ＮＲＳＯ2−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＯＯ−、および−ＯＣＯ−、アルキニレン基（Ｒは水素原子または置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、好ましくは水素原子を表す。）であり、
Ｌ21が−Ｏ−または−ＮＲ−であり、
Ａｒ1がアリーレン基であり、
ｎが３〜６である
である。
【００４５】
以下に一般式（１）で表される化合物を例示するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００４６】
【化１０】
2007009181.tif 000011
【００４７】
【化１１】
2007009181.tif 000012
【００４８】
【化１２】
2007009181.tif 000013
【００４９】
【化１３】
2007009181.tif 000014
【００５０】
【化１４】
2007009181.tif 000015
【００５１】
【化１５】
2007009181.tif 000016
【００５２】
【化１６】
2007009181.tif 000017
【００５３】
【化１７】
2007009181.tif 000018
【００５４】
一般式（１）で表される化合物の合成は、例えば、最初に置換安息香酸を合成し、この置換安息香酸とフェノール誘導体またはアニリン誘導体の一般的なエステル反応またはアミド化反応によって合成できる。ここで、エステル反応およびアミド化反応は、エステル結合またはアミド結合を形成する反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体またはアニリン誘導体と縮合する方法、縮合剤または触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体またはアニリン誘導体を脱水縮合する方法などが挙げられる。
製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノール誘導体またはアニリン誘導体と縮合する方法が好ましい。
【００５５】
反応溶媒としては、炭化水素系溶媒（好ましくは、トルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくは、ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる。）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくは、トルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【００５６】
反応温度は、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
本反応には塩基を用いない方が好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくは、トリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる。）である。
【００５７】
より具体的には、例えば、一般式（６−Ａ）または一般式（６−Ｂ）で表される化合物は、公知の方法で合成することができ、例えば、ｎ＝４である化合物の場合、下記構造：
【００５８】
【化１８】
2007009181.tif 000019
（式中、Ａはヒドロキシ基、ハロゲン原子等の反応性基を表し、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ4は、水素原子、−ＯＨまたはアルコキシ基である。）
を有する原料化合物を、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応性部位を有する誘導体との反応に付して得られた中間体：
【００５９】
【化１９】
2007009181.tif 000020
【００６０】
（式中、Ａ'はカルボキシル基等の反応性基を表し、Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、Ｌ1は単結合または２価の連結基を表し、Ｒ2およびＲ5は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、Ｒ11およびＲ13は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ4は、水素原子、−ＯＨまたはアルコキシ基である。）
２分子を、
【００６１】
【化２０】
2007009181.tif 000021
【００６２】
（式中、ＢおよびＢ'は、それぞれ、ヒドロキシ基、アミノ基等の反応性基を表し、Ａｒ1はアリーレン基または２価の芳香族へテロ環を表し、Ｌ2は単結合または２価の連結基を表す。）
１分子により連結することによって得ることができる。ただし、本発明の化合物の合成法はこの例に限定されない。
【００６３】
前記一般式（１）で表される化合物は、特に延伸によるＲｅ発現性に優れたフィルムを得るためのレターデーション発現剤として好適に用いることができる。
【００６４】
本発明で採用する一般式（１）で表される化合物（レターデーション発現剤）は、単独または２種類以上混合して用いることができる。レターデーション発現剤の添加量はセルロースアシレートの重量に対して、０．０１〜３０重量％が好ましく、０．１〜２０重量％がより好ましく、１〜５重量％がさらに好ましい。
【００６５】
レターデーション発現剤の添加方法は、アルコール（例えば、メタノール）やメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアシレート溶液（ドープ）に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
【００６６】
（疎水化剤）
次に、疎水化剤（分子内に水素結合性水素供与性基と芳香環を併せ持つ化合物）について説明する。本発明では、分子内に水素結合性水素供与性基と芳香環を併せ持つ疎水化剤を採用することにより、水素結合性水素供与性基によりセルロースアシレート分子鎖と水素結合によって、効果的に固定され、かつ芳香環の有する疎水性により、水分子とセルロースアシレート分子鎖との相互作用を低減できる。
【００６７】
水素結合性水素供与性基とは、水素原子を有し、該水素原子と他の電気陰度性度の高い官能基との間で水素結合を形成できる官能基であり、水素結合性水素供与性基としては、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基が好ましく、ヒドロキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等の官能基が特に好ましい。
【００６８】
本発明の疎水化剤が有する芳香環の数は特に限定されないが１〜１０個が好ましく、２〜８個がより好ましく、３〜６個がさらに好ましい。芳香環の数をこのような範囲にすることにより、疎水化剤とセルロースアシレートとの相溶性と疎水化効果がより効果的に両立させることができる。
【００６９】
水素結合性水素供与性基は芳香環と直接結合してもよく、また炭素原子等他の原子を介して結合していてもよい。
【００７０】
下記一般式（ＩＩ）で表される化合物は本発明の疎水化剤として特に好ましく用いることができる。
一般式（ＩＩ）
【００７１】
【化２１】
2007009181.tif 000022
【００７２】
（一般式（ＩＩ）中、Ｘは置換または無置換のアミノ基、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、置換または無置換のスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基またはカルボキシル基を表わす。Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は、それぞれ、水素原子または置換基を表す。）
【００７３】
Ｘは、好ましくは、置換または無置換のアシルアミノ基、置換または無置換のスルホニルアミノ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、置換または無置換のアミノ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくは、ヒドロキシ基である。
【００７４】
Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113、Ｒ114、Ｒ115、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34およびＲ35は水素原子または置換基を表し、置換基としては以下の置換基Ｔ2が適用できる。
【００７５】
置換基Ｔ2としては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換または無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８アルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、
【００７６】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、ウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１２のヘテロ環基であり、この場合のヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられ、具体的には、イミダゾリル環基、ピリジル環基、キノリル環基、フリル環基、ピペリジル環基、モルホリノ環基、ベンゾオキサゾリル環基、ベンズイミダゾリル環基、ベンズチアゾリル環基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基Ｔ2は、さらに置換基Ｔ2で置換されてもよい。また、置換基が２つ以上ある場合は、それらは同じでも異なってもよい。置換基Ｔ2（置換基Ｔ2が置換された置換基を含む）同士は、互いに結合していてもよい。この場合、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００７７】
以下に一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００７８】
【化２２】
2007009181.tif 000023
【００７９】
【化２３】
2007009181.tif 000024
【００８０】
下記一般式（Ｂ）で表される化合物は本発明の疎水化剤として特に好ましく用いることができる。
一般式（Ｂ）
【００８１】
【化２４】
2007009181.tif 000025
【００８２】
一般式（Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36は、それぞれ、水素原子または置換基を表し、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。さらに、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35およびＲ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基である。
【００８３】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
これらの置換基は更に置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００８４】
また、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ21、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36のうち少なくとも１つはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基であり、より好ましくはアミノ基、ヒドロキシ基であり、特に好ましくはヒドロキシ基である。また、これらの基は置換基によって置換されていてもよい。この場合の置換基として、上述の置換基Ｔが適用でき、好ましい範囲も同様である。
【００８５】
以下に本発明の一般式（Ｂ）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００８６】
【化２５】
2007009181.tif 000026
【００８７】
【化２６】
2007009181.tif 000027
【００８８】
本発明の疎水化剤の分子量は２５０〜２０００が好ましく、２５０〜１０００がより好ましい。またその沸点は２６０℃以上であることが好ましい。沸点は市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製））を用いて測定できる。
【００８９】
本発明の疎水化剤は、アルコール（例えば、メタノール）やメチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒に溶解してから、セルロースアセテート溶液（ドープ）に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
本発明の疎水化剤は、セルロースアシレートの質量に対し、１〜３０重量％が好ましく、２〜３０重量％がより好ましく、３〜２５重量％がさらに好ましく、５％〜２０重量％が最も好ましい。
また、本発明の疎水化剤のレターデーション発現剤に対する重量比は、０．５〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、２〜１５が最も好ましい。
【００９０】
（セルロースアシレート）
本発明のセルロースアシレートフィルムに用いられるセルロースアシレートの原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技法２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会、１５頁）。また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年））。セルロースアシレートの粘度平均重合度は２００〜７００が好ましく、２５０〜５００がより好ましく、２５０〜３５０がさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．５〜５．０であることが好ましく、２．０〜４．５であることがさらに好ましく、３．０〜４．０であることが最も好ましい。
【００９１】
本発明で採用するセルロースアシレートのアシル基は、特に制限は無いが、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基であることが好ましく、アセチル基がより好ましい。全アシル基の置換度（総アシル化度）は１．５〜３．０が好ましく、２．５〜２．９５がより好ましく、２．７０〜２．９０がさらに好ましい。本明細書において、アシル基の置換度（アシル化度）とは、ＡＳＴＭ  Ｄ８１７に従って算出した値である。
【００９２】
アシル基がアセチル基であることが最も好ましく、アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５９．０〜６２．５％が好ましく、６０．７〜６１．５％がさらに好ましい。酢化度を上記範囲とすることにより、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることをより効果的に抑止し、面内ばらつきもより少なくし、温湿度によるレターデーション値の変化をより小さくすることができる。
６位のアシル基の置換度は、Ｒｅ、Ｒｔｈのばらつきを抑制する観点から、０．９以上が好ましい。
【００９３】
また、セルロースのヒドロキシ基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムにおいて、２位のアシル基の置換度をＤＳ２、３位のアシル基の置換度をＤＳ３、６位のアシル基の置換度をＤＳ６とする時、下記式（III）および式（IV）を満たすことが好ましい。
式（III）  ２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
式（IV）   ０．３１０≦ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）
【００９４】
また、セルロースアシレートが、セルロースのヒドロキシ基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（Ｖ）及び（Ｗ）を満たすことが好ましい。
式（Ｖ）：２．７０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
式（Ｗ）：０≦Ｂ≦１．５
【００９５】
（セルロースアシレートフィルムの製造）
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
フィルム製造の為の有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルおよび炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、フィルム製造のための有機溶媒として用いることができる。フィルム製造のための有機溶媒は、アルコール性ヒドロキシ基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲であればよい。
【００９６】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロライドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００９７】
一般的な方法でセルロースアシレート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロライド）を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０〜４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、例えば、４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【００９８】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。また、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００９９】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られる効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１００】
次に、混合物を、例えば、−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１０１】
さらに、これを、例えば、０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０１０２】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアシレート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアシレートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０１０３】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレテートフィルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号、同２，７３９，０７０号各明細書、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１０４】
可塑剤
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１０５】
劣化防止剤
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１０６】
紫外線吸収剤
本発明のセルロースアシレートフィルムは、紫外線吸収剤を含有してもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報や特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを、偏光板の保護膜として用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１０７】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２'−ヒドロキシ−３'−（３"，４"，５"，６"−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５'−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１０８】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）を好ましく使用できる。
【０１０９】
マット剤微粒子
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。これらの微粒子の中ではケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が１〜２０ｎｍであり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができてより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１１０】
これらの微粒子は、通常、平均粒子径が０．０５〜２．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．０５〜２．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．０５〜１．０μｍが好ましく、０．１〜０．７μｍがさらに好ましく、０．１〜０．４μｍが最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。
【０１１１】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１１２】
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１１３】
マット剤分散剤と添加剤溶液の混合、及びセルロースアシレート液との混合にはインラインミキサーを使用することが好ましい。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がより好ましく、１５〜２０質量％がさらに好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は０．００１〜１．０質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．１質量％がさらに好ましい。
【０１１４】
セルロースアシレートフィルムの延伸処理
セルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、１〜２００％であることが好ましく、２〜１００％であることがさらに好ましく、５〜４０％であることが最も好ましい。
延伸方法は請求の範囲を逸脱しない範囲で既存の方法を用いることができるが、面内の均一性の観点から特にテンター延伸が好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムは少なくとも１００ｃｍ以上の幅であることが好ましく、全幅のＲｅ値のばらつきが±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また、Ｒｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、およびＲｔｈ値のバラツキも幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
また延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、延伸開始時の残留溶剤量が２〜５０％であることが好ましい。延伸開始時の残留溶剤量とは、テンター延伸であれば、ウェブ（生乾きのドープ）の両端をクリップで掴み始めた時の残留溶剤量のことであり、５〜５０％で延伸を開始することがさらに好ましく、１０〜４５％で延伸を開始することが特に好ましい。なお、残留溶剤量は下記式で計算する。
残留溶剤量＝１００×｛（ウェブ中の溶剤量）／（ウェブの全体量）｝
また、この際、フィルムを長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸して該フィルムの遅相軸が該フィルムの長尺方向に対して直交するようにすることが好ましい。
【０１１５】
延伸後のセルロースアシレートフィルムの厚さは、好ましくは１１０μｍ以下であり、より好ましくは４０〜１１０μｍであり、さらに好ましくは６０〜１００μｍでる。
【０１１６】
[フィルム物性]
次に本発明のセルロースアシレートフィルムのフィルム物性について説明する。
【０１１７】
（フィルムのレターデーション）
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、正面のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。本発明におけるＲｅは、特に述べない限り、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定された値である。本発明におけるＲｔｈは、特に述べない限り、前記Ｒｅの正面の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５９０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA  ２１ＡＤＨが算出する値である。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｅ(590)は、２０〜２５０ｎｍが好ましく、２０〜１５０ｎｍがより好ましく、３０〜１００ｎｍがさらに好ましい。また、Ｒｔｈ(590)は４０〜４００ｎｍが好ましく、６０〜３５０ｎｍがより好ましく、１００〜３００ｎｍがさらに好ましい。
また、Ｒｅ(590)／Ｒｔｈ(590)比は、０．１〜２．０であることが好ましい。
前記範囲にＲｅ及びＲｔｈを調節することにより視野角補償効果の高いセルロースアシレートフィルムが得られる。
これらの調整はレターデーション発現剤の種類、添加量およびセルロースアシレートフィルムの延伸条件により行うことができる。
【０１１８】
（レターデーションの湿度依存性）
本発明のセルロースアシレートフィルムの２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)、２５℃６０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)、２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)は下記関係を満たすことが好ましい。
０％≦Ｒｔｈ(590)湿度依存性≦３０％
ここで、Ｒｔｈ(590)湿度依存性は、
（２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)−２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)）/２５℃６０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)
を表す。
Ｒｔｈ(590)湿度依存性は、より好ましくは２〜２８％であり、さらに好ましくは２〜２５％であり、最も好ましくは５〜２０％である。
レターデーションの湿度依存性を下記範囲にすることにより、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして組み込んだ液晶表示装置の使用環境湿度による視野角コントラスト変化を小さくすることができる。
【０１１９】
（ヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した値が０〜１．０であることが好ましい。さらに好ましくは、０〜０．８である。
【０１２０】
（光漏れ率）
本発明のセルロースアシレートは偏光解消性ができるだけ低いことが好ましい。フィルムの偏光解消性は２枚の偏光板に挟んで一定の輝度の光を照射した際の輝度から求められる光漏れ率により評価することができる。光漏れ率（％）は、（互いにクロスニコルに配置された２枚の偏光板にフィルムを挟んだ際の輝度）/（互いにパラニコルに配置された２枚の偏光板にフィルムを挟んだ際の輝度）×１００により求められる。
本発明のセルロースアシレートフィルムの光漏れ率は０．０１〜０．５０％が好ましく、０．０５〜０．３０％がさらに好ましい。
【０１２１】
（面状故障）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、例えば、セルロースエステルフィルムをサンプリングし、得られたフィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ状に存在する３０μｍ以上の異物あるいは凝集物の数を数えて求めた値が０〜５０であることが好ましい。さらに好ましくは０〜４０、特に好ましくは０〜３０である。
【０１２２】
（セルロースアシレートフィルムの表面処理）
セルロースアシレートフィルムは、必要に応じて表面処理を施してもよい。表面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理には、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれる。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電処理が含まれる。フィルムの平面性を保つために、これらの表面処理においては、セルロースアシレートフィルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。これらの表面処理後のセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは５５〜７５ｍＮ／ｍであることが好ましい。
グロー放電処理は、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であり、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
【０１２３】
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
【０１２４】
これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種類の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１２５】
セルロースアシレートフィルムに上記の表面処理を実施することにより、フィルムの表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを得ることができる。このセルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護膜とすることにより、偏光膜とセルロースアシレートフィルムの接着性を向上させることができる。また、本発明のセルロースアシレートフィルムをＯＣＢモードの液晶表示装置に用いる場合、本発明のセルロースアシレートフィルム上に配向膜を形成し、その上に円盤状化合物もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を設けても良い。光学異方性層は、配向膜上に円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。このようにセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を設ける場合、従来ではセルロースアシレートフィルムと配向膜との接着性を確保するために、両者の間にゼラチン下塗り層を設ける必要があったが、本発明の、表面エネルギーが５５〜７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフィルムを用いることにより、ゼラチン下塗り層を不要とすることができる。
【０１２６】
［セルロースアシレートフィルムを用いた光学材料］
（光学補償フィルム）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償フィルムとして用いることができる。特に、上記レターデーション値Ｒｅ、Ｒｔｈ、およびＲｅ／Ｒｔｈ比を満たし、膜厚が４０μｍ〜１１０μｍのセルロースアシレートフィルムは、一枚だけで光学補償フィルムとして機能する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学補償フィルムとして用いることが好ましい。
【０１２７】
（偏光板）
偏光板の構成
本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板の保護膜として好ましく用いることができる。まず、本発明の偏光板を構成する保護膜、偏光子について説明する。
本発明の偏光板は、偏光子や保護膜以外にも、粘着剤層、セパレートフィルム、保護膜を構成要素として有していても構わない。
【０１２８】
（１）保護膜
本発明の偏光板は、偏光子の両面に１枚ずつ合計２枚の保護膜を有し、その少なくとも１枚は本発明のセルロースアシレートフィルムである。また、２枚の保護膜のうち、少なくとも１枚は位相差フィルムとしての機能を合わせ持つことが好ましい。液晶表示装置に本発明の偏光板を用いる場合、液晶セルの両側に配置される２枚の偏光板の少なくとも一方が、本発明の偏光板であることが好ましい。
【０１２９】
本発明において用いられる、本発明のセルロースアシレートフィルムとは別の側の保護膜は、ノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリスルフォン、セルロースアシレートなどから製造されたポリマーフィルムであることが好ましい。
【０１３０】
（２）偏光子
本発明に用いられる偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平１１−２４８９３７号公報に記載されているように、ＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
【０１３１】
ＰＶＡは、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。
【０１３２】
ＰＶＡの鹸化度は、特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００モル％が好ましく、９０〜１００モル％が特に好ましい。またＰＶＡの重合度は特に限定されないが、１０００〜１００００が好ましく、１５００〜５０００が特に好ましい。
【０１３３】
ＰＶＡのシンジオタクティシティーは、特許登録第２９７８２１９号公報に記載されているように耐久性を改良するため５５％以上が好ましいが、特許登録第３３１７４９４号公報に記載されている４５〜５２．５％でも好ましく用いることができる。
【０１３４】
ＰＶＡはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造方法は、ＰＶＡ系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、例えば、５〜２０質量％であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚１０〜２００μｍのＰＶＡフィルムを製造できる。ＰＶＡフィルムの製造は、特許登録第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報を参考にして行うことができる。
【０１３５】
ＰＶＡフィルムの結晶化度は、特に限定されないが、特許登録第３２５１０７３号公報に記載されている平均結晶化度（Ｘc）５０〜７５質量％や、面内の色相バラツキを低減させるため、特開２００２−２３６２１４号公報に記載されている結晶化度３８％以下のＰＶＡフィルムを用いることができる。
【０１３６】
ＰＶＡフィルムの複屈折（△ｎ）は小さいことが好ましく、特許登録第３３４２５１６号公報に記載されている、複屈折が１．０×１０-3以下のＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開２００２−２２８８３５号公報に記載されているように、ＰＶＡフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、ＰＶＡフィルムの複屈折を０．０２〜０．０１としてもよいし、特開２００２−０６０５０５号公報に記載されているように（ｎx＋ｎy）／２−ｎzの値を０．０００３〜０．０１としてもよい。ＰＶＡフィルムのレターデーション（面内）は０〜１００ｎｍが好ましく、０〜５０ｎｍがさらに好ましい。また、ＰＶＡフィルムのＲｔｈ（膜厚方向）は０〜５００ｎｍが好ましく、０〜３００ｎｍがさらに好ましい。
【０１３７】
この他、本発明の偏光板には、特許登録第３０２１４９４号公報に記載されている、１，２−グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム；特開２００１−３１６４９２号公報に記載されている、５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ2当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム；特開２００２−０３０１６３号公報に記載されている、フィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム；さらにグリセリンなどの３〜６価の多価アルコ−ルを１〜１００質量部したり、特開平０６−２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルムを好ましく用いることができる。
【０１３８】
ＰＶＡフィルムの延伸前のフィルム膜厚は、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。特開２００２−２３６２１２号公報に記載されているように、水中において４〜６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような、薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。
【０１３９】
二色性分子はＩ3-やＩ5-などの、高次のヨウ素イオン又は二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や、「工業材料」第２８巻、第７号、ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているように、ヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡを浸漬し、ＰＶＡに吸着・配向した状態で生成することができる。
【０１４０】
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、ヒドロキシ基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。
【０１４１】
このような二色性染料の具体例としては、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３７、  Ｃｏｎｇｏ  Ｒｅｄ（Ｃ．Ｉ．  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２８）、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １２、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９０、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２２、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５１、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  １等のベンジジン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４４、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２３、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ７９等のジフェニル尿素系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２等のスチルベン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３１等のジナフチルアミン系；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８１、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７８等のＪ酸系などを挙げることができる。
【０１４２】
これ以外にも、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ８７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ７２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ８９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２４７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ４８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ５１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ６７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ７１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ９８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  １６８、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２０２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２３６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２４９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ２７０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ５９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｇｒｅｅｎ  ８５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １０６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  １９５、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２１０、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２３、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｒｏｗｎ  ２２４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  １９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｂｌａｃｋ  ５４等が、さらに特開昭６２−７０８０２号、特開平１−１６１２０２号、特開平１−１７２９０６号、特開平１−１７２９０７号、特開平１−１８３６０２号、特開平１−２４８１０５号、特開平１−２６５２０５号、特開平７−２６１０２４号の各公報記載の二色性染料等も好ましく使用することができる。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は２種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開２００２−０８２２２２号公報に記載されているように吸着厚みが４μｍ以上であってもよい。
【０１４３】
フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対する上記二色性分子の含有量は、一般に０．０１〜５質量％の範囲に調整される。二色性分子の含有量が該下限値以上であれば、良好な偏光度が発現し、また該上限値以下であれば、単板透過率が低下するなどの問題が生じないので好ましい。
【０１４４】
偏光子の膜厚は、５μｍ〜４０μｍが好ましく、１０μｍ〜３０μｍがさらに好ましい。偏光子の厚さと後述する保護膜の厚さの比を、特開２００２−１７４７２７号公報に記載されている０．０１≦ＤA（偏光子膜厚）／ＤB（保護膜膜厚）≦０．１６範囲とすることも好ましい。
【０１４５】
保護膜の遅相軸と偏光子の吸収軸の交差角は、任意の値でよいが、平行もしくは４５±２０°の方位角であることが好ましい。
【０１４６】
（偏光板の製造工程）
次に、本発明の偏光板の製造工程について説明する。
本発明における偏光板の製造工程は、少なくとも、ＰＶＡフィルムの膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護膜の貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程から構成されることが好ましい。染色工程、硬膜工程、延伸工程の順序を任意に変えること、また、いくつかの工程を組み合わせて同時に行っても構わない。さらに特許登録第３３３１６１５号公報に記載されているように、硬膜工程の後に水洗することも好ましく行うことができる。
【０１４７】
本発明では、ＰＶＡフィルムの膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護膜貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、上記工程中又は工程後にオンライン面状検査工程を設けても構わない。
【０１４８】
ＰＶＡフィルムの膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平１０−１５３７０９号公報に記載されているように、光学性能の安定化及び、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。
また膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、１０〜６０℃、５秒〜２０００秒が好ましい。
【０１４９】
ＰＶＡフィルムの染色工程は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また染色方法としては、浸漬だけでなく、ヨウ素又は染料溶液の塗布又は噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、及び浴中の浴液を撹拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
【０１５０】
二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストな偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素は、例えば、０．０５〜２０ｇ／Ｌ、さらには０．５〜２ｇ／Ｌ；ヨウ化カリウムは、例えば、３〜２００ｇ／Ｌ、さらには３０〜１２０ｇ／Ｌ；ヨウ素：ヨウ化カリウムの質量比は、例えば、１：１〜２０００、さらには１：３０〜１２０が好ましい範囲である。染色時間は、例えば、１０〜１２００秒、さらには３０〜６００秒が好ましく、液温度は、例えば、１０〜６０℃、さらには２０〜５０℃が好ましい。
【０１５１】
また、特許登録第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
【０１５２】
ＰＶＡフィルムの硬膜工程は、ＰＶＡフィルムを架橋剤溶液に浸漬、又は該フィルムに架橋剤溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平１１−５２１３０号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。
【０１５３】
架橋剤としては米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、特許登録第３３５７１０９号公報に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００−３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の代わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。
【０１５４】
本発明では、塩化亜鉛を添加したホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液を作製し、ＰＶＡフィルムを浸漬させて硬膜を行うことが好ましく行われる。ホウ酸は、例えば、１〜１００ｇ／Ｌ、さらには１０〜８０ｇ／Ｌ；ヨウ化カリウムは、例えば、１〜１２０ｇ／Ｌ、さらには５〜１００ｇ／Ｌ；塩化亜鉛は、例えば、０．０１〜１０ｇ／Ｌ、さらには０．０２〜８ｇ／Ｌ；硬膜時間は、例えば、１０〜１２００秒、さらには３０〜６００秒；液温度は、例えば、１０〜６０℃、さらには２０〜５０℃が好ましい。
【０１５５】
ＰＶＡフィルムの延伸工程は、米国特許２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２〜１２倍であり、さらに好ましくは３〜１０倍である。また延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は、特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている：
（保護膜貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７
としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護膜貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている：
０．８０≦（保護膜貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５
としたりすることも好ましく行うことができる。
【０１５６】
ＰＶＡフィルムの乾燥工程は、特開２００２−８６５５４号公報で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特許登録第３１４８５１３号公報に記載されているように、水中退色温度を５０℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平０７−３２５２１５号公報や特開平０７−３２５２１８号公報に記載されているように、温湿度管理した雰囲気でエージングしたりすることも好ましく採用することができる。
【０１５７】
保護膜貼り合わせ工程は、乾燥工程を出た前述の偏光子の両面を、２枚の保護膜で貼合する工程である。貼合直前に接着液を供給し、偏光子と保護膜を重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせる方法が好ましく使用される。また、特開２００１−２９６４２６号公報及び特開２００２−８６５５４号公報に記載されているように、偏光子の延伸に起因するレコードの溝状の凹凸を抑制するため、貼り合わせ時の偏光子の水分率を調整することが好ましい。本発明では０．１質量％〜３０質量％の水分率が好ましく用いられる。
【０１５８】
偏光子と保護膜との接着剤は、特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは、乾燥後に０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜３μｍが特に好ましい。
【０１５９】
また、偏光子と保護膜の接着力を向上させるために、保護膜を表面処理して、親水化してから接着することが好ましく行われる。表面処理の方法には、特に制限は無いが、アルカリ溶液を用いて鹸化する方法、コロナ処理法など公知の方法を用いることができる。さらに表面処理後にゼラチン下塗層等の易接着層を設けてもよい。特開２００２−２６７８３９号公報に記載されているように保護膜表面の水との接触角は５０°以下が好ましい。
【０１６０】
貼り合わせ後乾燥条件は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法に従うが、好ましい温度範囲は３０℃〜１００℃であり、好ましい乾燥時間は３０秒〜６０分である。また、特開平０７−３２５２２０号公報に記載されているように温湿度管理をした雰囲気でエージングすることも好ましい。
【０１６１】
偏光子中の元素含有量は、ヨウ素０．１〜３．０ｇ／ｍ2、ホウ素０．１〜５．０ｇ／ｍ2、カリウム０．１〜２．００ｇ／ｍ2、亜鉛０〜２．００ｇ／ｍ2であることが好ましい。また、カリウム含有量は特開２００１−１６６１４３号公報に記載されているように０．２質量％以下であってもよいし、偏光子中の亜鉛含有量を特開２０００−０３５５１２号公報に記載されている０．０４質量％〜０．５質量％としてもよい。
【０１６２】
特許登録第３３２３２５５号公報に記載されているように、偏光板の寸法安定性を上げるために、染色工程、延伸工程及び硬膜工程のいずれかの工程において、有機チタン化合物及び／又は有機ジルコニウム化合物を添加使用し、有機チタン化合物及び有機ジルコニウム化合物から選ばれた、少なくとも１種の化合物を含有することもできる。また、偏光板の色相を調整するために二色性染料を添加してもよい。
【０１６３】
（偏光板の特性）
（１）透過率及び偏光度
本発明の偏光板の、下記数式（３）で定義される単板透過率は、好ましくは４２．５〜４９．５％であるが、さらに好ましくは４２．８〜４９．０％である。下記数式（４）で定義される偏光度は、好ましくは９９．９００〜９９．９９９％であり、さらに好ましくは９９．９４０〜９９．９９５％である。平行透過率の好ましい範囲は３６〜４２％であり、直交透過率の好ましい範囲は、０．００１〜０．０５％である。下記数式（５）で定義される二色性比の好ましい範囲は４８〜１２１５であるが、さらに好ましくは５３〜５２５である。
【０１６４】
上記の透過率は、ＪＩＳ  Ｚ−８７０１に基づいて、下記数式（３）により定義される。
数式（３）：
【化２７】
2007009181.tif 000028
数式（３）中、Ｋ、Ｓ（λ）、ｙ（λ）、τ（λ）は以下の通りである。
【化２８】
2007009181.tif 000029
Ｓ（λ）：色の表示に用いる標準光の分光分布
ｙ（λ）：ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１表色系）における等色関数
τ（λ）：分光透過率
【０１６５】
数式（４）：
【化２９】
2007009181.tif 000030
【０１６６】
数式（５）：
【化３０】
2007009181.tif 000031
【０１６７】
ヨウ素濃度と単板透過率は、特開２００２−２５８０５１号公報に記載されている範囲であってもよい。
【０１６８】
平行透過率は、特開２００１−０８３３２８号公報や特開２００２−０２２９５０号公報に記載されているように波長依存性が小さくてもよい。偏光板をクロスニコルに配置した場合の光学特性は、特開２００１−０９１７３６号公報に記載されている範囲であってもよく、平行透過率と直交透過率の関係は、特開２００２−１７４７２８号公報に記載されている範囲内であってもよい。
【０１６９】
特開２００２−２２１６１８号公報に記載されているように、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での、１０ｎｍ毎の平行透過率の標準偏差が３以下で、かつ、光の波長が４２０〜７００ｎｍの間での１０ｎｍ毎の（平行透過率／直交透過率）の最小値が３００以上であってもよい。
【０１７０】
偏光板の、波長４４０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、平行透過率、波長５５０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率、波長６１０ｎｍにおける平行透過率と直交透過率が、特開２００２−２５８０４２号公報や特開２００２−２５８０４３号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０１７１】
（２）色相
本発明の偏光板の色相は、ＣＩＥ均等知覚空間として推奨されているＬ*ａ*ｂ*表色系において、明度指数Ｌ*及びクロマティクネス指数ａ*とｂ*を用いて好ましく評価される。
Ｌ*、ａ*、ｂ*は、前記表ＸＹＺ色系におけるＸ、Ｙ、Ｚを用いて数式（６）で定義される。
【０１７２】
数式（６）：
【化３１】
2007009181.tif 000032
【０１７３】
ここでＸ0、Ｙ0、Ｚ0は照明光源の三刺激値を表し、標準光Ｃの場合、Ｘ0＝９８．０７２、Ｙ0＝１００、Ｚ0＝１１８．２２５であり、標準光Ｄ65の場合、Ｘ0＝９５．０４５、Ｙ0＝１００、Ｚ0＝１０８．８９２である。
【０１７４】
偏光板単枚のａ*の範囲は、好ましくは−２．５〜０．２であり、より好ましくは−２．０〜０である。偏光板単枚のｂ*の範囲は、好ましくは１．５〜５であり、より好ましくは２〜４．５である。２枚の偏光板の平行透過光のａ*の範囲は、好ましくは−４．０〜０であり、より好ましくは−３．５〜−０．５である。２枚の偏光板の平行透過光のｂ*の範囲は、好ましくは２．０〜８であり、より好ましくは２．５〜７である。２枚の偏光板の直交透過光のａ*の範囲は、好ましくは−０．５〜１．０であり、より好ましくは０〜２である。２枚の偏光板の直交透過光のｂ*の範囲は、好ましくは−２．０〜２であり、より好ましくは−１．５〜０．５である。
【０１７５】
色相は、前記Ｘ、Ｙ、Ｚから算出される色度座標（ｘ，ｙ）で評価してもよく、例えば、２枚の偏光板の平行透過光の色度（ｘp、ｙp）と直交透過光の色度（ｘc、ｙc）は、特開２００２−２１４４３６号公報、特開２００１−１６６１３６号公報及び特開２００２−１６９０２４号公報に記載されている範囲にしたり、色相と吸光度の関係を特開２００１−３１１８２７号公報に記載されている範囲にしたりすることも好ましく行うことができる。
【０１７６】
（３）視野角特性
偏光板をクロスニコルに配置して波長５５０ｎｍの光を入射させる時、垂直光を入射させた場合と、偏光軸に対して４５°の方位から法線に対し４０°の角度で入射させた場合の、透過率比やｘｙ色度差を特開２００１−１６６１３５号公報や特開２００１−１６６１３７号公報に記載された範囲とすることも好ましい。また特開平１０−０６８８１７号公報に記載されているように、クロスニコル配置した偏光板積層体の、垂直方向の光透過率（Ｔ0）と、積層体の法線から６０°傾斜方向の光透過率（Ｔ60）との比（Ｔ60／Ｔ0）を１００００以下としたり、特開２００２−１３９６２５号公報に記載されているように、偏光板に法線から仰角８０°までの任意な角度で自然光を入射させた場合に、その透過スペクトルの５２０〜６４０ｎｍの波長範囲について、波長域２０ｎｍ以内における透過光の透過率差を６％以下としたり、特開平０８−２４８２０１号公報に記載されている、フィルム上の任意の１ｃｍ離れた場所における透過光の輝度差が３０％以内とすることも好ましい。
【０１７７】
（４）耐久性
（４−１）湿熱耐久性
特開２００１−１１６９２２号公報に記載されているように、６０℃、９０％ＲＨの雰囲気に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率及び偏光度の変化率は、絶対値に基づいて３％以下であることが好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下が好ましく、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１．０％以下が好ましく、０．１％以下であることがより好ましい。また特開平０７−０７７６０８号公報に記載されているように、８０℃、９０％ＲＨで５００時間放置後の偏光度が９５％以上、単体透過率が３８％以上であることも好ましい。
【０１７８】
（４−２）ドライ耐久性
８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合の、その前後における光透過率及び偏光度の変化率が、絶対値に基づいて３％以下であることもまた好ましい。特に光透過率の変化率は２％以下であることが好ましく、また偏光度の変化率は、絶対値に基づいて１．０％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがさらに好ましい。
【０１７９】
（４−３）その他の耐久性
さらに、特開平０６−１６７６１１号公報に記載されているように、８０℃で２時間放置した後の収縮率を０．５％以下としたり、ガラス板の両面にクロスニコル配置した偏光板積層体を、６９℃の雰囲気中で７５０時間放置した後のｘ値及びｙ値を、特開平１０−０６８８１８号公報に記載されている範囲としたり、８０℃、９０％ＲＨの雰囲気中で２００時間放置処理後の、ラマン分光法による１０５ｃｍ-1及び１５７ｃｍ-1のスペクトル強度比の変化を、特開平０８−０９４８３４号公報や特開平０９−１９７１２７号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０１８０】
（５）配向度
ＰＶＡの配向度は高い程良好な偏光性能が得られるが、偏光ラマン散乱や偏光ＦＴ−ＩＲ等の手段によって算出されるオーダーパラメーター値として０．２〜１．０が好ましい範囲である。また、特開昭５９−１３３５０９号公報に記載されているように、偏光子の全非晶領域の高分子セグメントの配向係数と占領分子の配向係数（０．７５以上）との差を少なくとも０．１５としたり、特開平０４−２０４９０７号公報に記載されているように、偏光子の非晶領域の配向係数が０．６５〜０．８５としたり、Ｉ3-やＩ5-の高次ヨウ素イオンの配向度を、オーダーパラメーター値として０．８〜１．０とすることも好ましく行うことができる。
【０１８１】
（６）その他の特性
特開２００２−００６１３３号公報に記載されているように、８０℃、３０分加熱したときの、単位幅当たりの吸収軸方向の収縮力を４．０Ｎ／ｃｍ以下としたり、特開２００２−２３６２１３号公報に記載されているように、偏光板を７０℃の加熱条件下に１２０時間置いた場合に、偏光板の吸収軸方向の寸法変化率及び偏光軸方向の寸法変化率を、共に±０．６％以内としたり、特開２００２−０９０５４６号公報に記載されているように偏光板の水分率を３質量％以下とすることも好ましく行うことができる。さらに、特開２０００−２４９８３２号公報に記載されているように、延伸軸に垂直な方向の表面粗さが中心線平均粗さに基づいて０．０４μｍ以下としたり、特開平１０−２６８２９４号公報に記載されているように、透過軸方向の屈折率ｎ0を１．６より大きくしたり、偏光板の厚みと保護膜の厚みの関係を特開平１０−１１１４１１号公報に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
【０１８２】
（液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に好ましく用いることができる。本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti-ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＯＣＢモードまたはＶＡモードに好ましく用いることができる。
【０１８３】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４，５８３，８２５号、同５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１８４】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードおよびＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に二枚の偏光板を配置してもよいし、ＶＡモードの場合、偏光板をセルのバックライト側に配置してもよい。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
【実施例】
【０１８５】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１８６】
［実施例１］  セルロースアシレートフィルム１０１の作製
＜セルロースアセテート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液０１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル化度  ２．８７のセルロースアセテート  １００．０質量部
Ｃ−７（疎水化剤）                                ３．０質量部
Ｃ−８（疎水化剤）                                ３．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                          ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８７】
＜マット剤溶液１１の調製＞
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した
――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（AEROSIL  R972、日本アエロジル（株）製         ２．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７５．０質量部
メタノール（第２溶媒）                        １２．７質量部
セルロースアシレート溶液０１                  １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８８】
＜レターデーション発現剤２１溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション発現剤溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション発現剤溶液２１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション発現剤（Ａ−２１）            １０．０質量部
レターデーション発現剤（Ａ−２２）            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                          ８．７質量部
セルロースアシレート溶液０１                  １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８９】
上記マット剤溶液を１．３質量部とレターデーション発現剤溶液２．５質量部を濾過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液０１を９５６．２質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤含量３１％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃の雰囲気温度でフィルムをテンターを用いて延伸倍率１７％で横延伸したのち、１４０℃で３０秒間保持した。延伸開始時の残留溶剤含量は１２％であった。その後、クリップを外して１３０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルム１０１を製造した。作製されたセルロースアシレートフィルム１０１の残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は８２μｍ、ヘイズは０．５０、光漏れ率は０．１６％、ガラス転移温度は１５０℃であったまた、フィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ状に存在する３０μｍ以上の異物の数は２０個未満であった
【０１９０】
［実施例２］  セルロースアシレートフィルム１０２〜１０８の作製
実施例１においてセルロースアシレートの種類、レターデーション発現剤の種類、量、疎水化剤の種類、量を表１のものに変更した以外は同様にして、本発明のセルロースアシレートフィルム１０２〜１０８を作製した。
【０１９１】
［比較例１］  セルロースアシレートフィルム２０１〜２０４の作製
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
実施例１においてセルロースアシレートの種類、レターデーション発現剤の種類、量、疎水化剤の種類、量を表１のものに変更した以外は同様にして、比較例のセルロースアシレートフィルム２０１〜２０４を作製した。
【０１９２】
（フィルム物性値の測定）
（１）レターデーションの測定
作製した各セルロースアシレートフィルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃１０％相対湿度（ＲＨ）、２５℃６０％ＲＨ、及び２５℃８０％ＲＨの各条件で波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。結果を表２に示す。表１中、添加量*は、セルロースアシレートに対する重量％を示している。また、表２中、Ｒｔｈ(590)の湿度依存性とは、（２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)−２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)）/２５℃６０％ＲＨにおけるＲｔｈ(590)を表す。
【０１９３】
【表１】
2007009181.tif 000033
【０１９４】
【表２】
2007009181.tif 000034
【０１９５】
表２の結果から本発明のセルロースアシレートフィルムは高レターデーションでかつ、Ｒｔｈの湿度変化が小さく好ましいことがわかった。
【０１９６】
［実施例３］  偏光板１０１の作製
（セルロースアシレートフィルムの鹸化処理）
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム１０１を、１．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬し、次いで室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した後、再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルム１０１の表面を鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。
また、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を同条件で鹸化し、以下の偏光板試料作製に供した。
【０１９７】
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１０１を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに上記で鹸化処理したセルローストリアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板１０１を作製した。
【０１９８】
［実施例４］  偏光板１０２〜１０８の作製
セルロースアシレートフィルム１０２〜１０８についても実施例５と同様にして偏光板１０２〜１０４を作製した。
【０１９９】
［比較例２］  偏光板２０１〜２０４の作製
セルロースアシレートフィルム２０１〜２０４についても実施例５と同様にして偏光板２０１〜２０４を作製した。
【０２００】
［実施例５］  ＶＡ液晶表示装置の作製と評価２
図１の液晶表示装置を作製した。すなわち、観察方向（上）から上側偏光板３０、ＶＡモード液晶セル３１（上基板、液晶層、下基板）、下側偏光板３２を積層し、さらにバックライト光源を配置した。偏光板は、それぞれ、偏光子３４とその両側に設けられた保護膜３３からなる。以下の例では、上側偏光板に市販品の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を用いて、下側偏光板に上で製造した偏光板を使用した。
【０２０１】
（液晶セルの作製）
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（ＭＬＣ６６０８、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（すなわち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（図１）の上側偏光板３０に、市販品のスーパーハイコントラスト品（ＨＬＣ２−５６１８、（株）サンリッツ製）を、下側偏光板３２に実施例３で作製した偏光板１０１を、本発明のセルロースアシレートフィルム１０１が液晶セル側となるように、粘着剤を介して、ＶＡモードセル３１の観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０２０２】
比較例２の偏光板２０１についても同様にして液晶表示装置を作製した。
本発明のセルロースアシレートフィルム１０１を含む偏光板１０１を使用した液晶表示装置は比較例２のセルロースアシレートフィルム２０１を含む偏光板２０１を使用した液晶表示装置に対して、使用環境湿度によるコントラスト視野角の変化が小さく好ましいことがわかった。
【０２０３】
［実施例６］  光学補償機能を有する偏光板の作製
（１）  光学補償フィルムの作製
（セルロースアシレートフィルムの鹸化処理）
実施例２で作製したセルロースアシレートフィルム１０５上に、下記組成の液を５．２ｍＬ／ｍ2塗布し、６０℃で１０秒間乾燥させた。フィルムの表面を流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルム表面を乾燥させた。
【０２０４】
（鹸化液の組成）
イソプロピルアルコール                                ８１８質量部
水                                                    １６７質量部
プロピレングリコール                                  １８７質量部
日本エマルジョン（株）製"ＥＭＡＬＥＸ"                １０質量部
水酸化カリウム                                          ６７質量部
【０２０５】
（配向膜の形成）
鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１０５の上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
次に、セルロースアシレートフィルム１０５の延伸方向（遅相軸とほぼ一致）と４５°の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０２０６】
（配向膜塗布液の組成）
下記構造の変性ポリビニルアルコール                      ２０質量部
水                                                    ３６０質量部
メタノール                                            １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                          １．０質量部
【０２０７】
【化３２】
2007009181.tif 000035
【０２０８】
（光学異方性層の形成）
配向膜上に、下記構造の円盤状化合物９１質量部、エチレンオキシド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９質量部、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマン・ケミカル社製）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）３質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１質量部を、メチルエチルケトン２１４．２質量部に溶解した塗布液を、＃３のワイヤーバーコーターで５．２ｍＬ／ｍ2塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２分間加熱し、円盤状化合物を配向させた。次に、９０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償フィルム１０５を得た。
【０２０９】
【化３３】
2007009181.tif 000036
【０２１０】
（光学補償フィルムの鹸化処理）
実施例３と同様にして光学補償フィルム１０５の鹸化処理を行った。
【０２１１】
（２）  偏光板の作製
（偏光子の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。次に、作製した光学補償フィルム１０５のセルロースアシレートフィルム１０５側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の片側に貼り付けた。セルロースアシレートフィルム１０５の遅相軸および偏光子の透過軸が平行になるように配置した。
【０２１２】
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を実施例３と同様に鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側（光学補償フィルムを貼り付けなかった側）に貼り付けた。このようにして、偏光板１０５−２を作製した。
【０２１３】
［実施例８］  液晶表示装置の作製
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた２枚のガラス基板を、ラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを５．７μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
【０２１４】
（液晶表示装置の作製）
作製したベンド配向セルを挟むように、楕円偏光板１０５−２を２枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
【０２１５】
本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、使用環境湿度によるコントラスト視野角変化が小さく好ましいことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０２１６】
【図１】実施例５で作製した液晶表示装置の概略図を示す。
【符号の説明】
【０２１７】
３０  上側偏光板
３１  ＶＡモード液晶セル
３２  下側偏光板
３３  保護膜
３４  偏光子
【図１】
2007009181.tif 000041