(57)【要約】【課題】楕円偏光板の層構造を簡略化することによって、高温、高湿条件下においても剥がれなどの不具合が生じることがない楕円偏光板を提供する。【解決手段】透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子とが、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向させた後、該配向を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子とが、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向させた後、該配向を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板。
【請求項２】
透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が長尺フィルム形態であることを特徴とする請求項１に記載の楕円偏光板。
【請求項３】
光学異方素子が、ハイブリッドネマチック配向層から少なくとも構成され、該液晶層の平均チルト角が５°〜４５゜であり、波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎと前記光学異方体の厚みｄとの積（Δｎ・ｄ）が３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の楕円偏光板。
【請求項４】
透光性保護フィルムが、トリアセチルセルロースであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の楕円偏光板。
【請求項５】
透光性保護フィルムが、シクロオレフィン系ポリマーであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の楕円偏光板。
【請求項６】
楕円偏光板の厚みが１５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の楕円偏光板。
【請求項７】
偏光素子と光学異方素子との間に、液晶性組成物がネマチック配向を形成する配向膜が設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の楕円偏光板。
【請求項８】
光学異方素子の偏光素子とは反対側の表面に透光性オーバーコート層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の楕円偏光板。
【請求項９】
透光性オーバーコート層がアクリル系樹脂からなることを特徴とする請求項８に記載の楕円偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の楕円偏光板に、さらに少なくとも１枚の光学フィルムが積層されていることを特徴とする楕円偏光板。
【請求項１１】
光学フィルムが、高分子延伸フィルムであることを特徴とする請求項１０に記載の楕円偏光板。
【請求項１２】
光学フィルムが、液晶性フィルムであることを特徴とする請求項１０に記載の楕円偏光板。
【請求項１３】
（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）ラビング処理を施した配向基板上に、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板／光学異方素子からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
（３）前記積層体（Ｂ）の光学異方素子側を、接着剤層２を介して、前記積層体（Ａ）の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Ａ）に転写し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第３工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法。
【請求項１４】
（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記積層体（Ａ）の偏光素子上にラビング処理を施し、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化して光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第２工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４において、偏光素子上に少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物がネマチック配向を形成する配向膜を設けてからラビング処理を施すことを特徴とする請求項１４に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項１６】
透光性保護フィルムが、トリアセチルセルロースまたはシクロオレフィン系ポリマーであることを特徴とする請求項１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項１７】
透光性保護フィルムが表面処理されていることを特徴とする請求項１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項１８】
表面処理が、鹸化処理であることを特徴とする請求項１７に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項１９】
表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする請求項１７に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項２０】
偏光素子が表面処理されていることを特徴とする請求項１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項２１】
表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする請求項２０に記載の楕円偏光板の製造方法。
【請求項２２】
液晶セルの少なくとも片側の面に、請求項１〜１２のいずれかに記載の楕円偏光板を配置した液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハイブリッドネマチック配向構造を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層からなる楕円偏光板およびその製造方法に関する。さらに本発明は、前記楕円偏光板を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は透過モードで画像の表示が可能な透過型、反射モードで画像の表示が可能な反射型、透過モード、反射モードの双方で画像の表示が可能な半透過反射型の３種に大別され、その薄型軽量などの特徴からノートパソコン、テレビなどの表示装置として広く普及している。特に半透過反射型液晶表示装置は反射型と透過型を兼ね備えた表示方式が採用され、周囲の明るさに応じて、いずれかの表示方式に切り替えることにより、消費電力を低減しつつ、明所でも、暗所でも明瞭な表示を行うことができるので、種々の携帯電子機器などに多用されている。
ところで、透過型、反射型および半透過反射型液晶表示装置は特に透過モードにおいて、液晶分子の持つ屈折率異方性のために斜めから見た時に表示コントラストが低下する、表示色が変化する、あるいは階調が反転するなどの視野角の問題が避けられずその改善が望まれている。
この問題を解決させる方法として、従来、ＴＮモード（液晶のねじれ角９０度）を用いた透過型液晶表示装置では、光学補償フィルムを液晶セルと上下偏光板の間に配置する提案がなされ、実用化されている。
【０００３】
例えば、ディスコチック液晶をハイブリッド配向させた光学補償フィルムを液晶セルと上下偏光板の間に配置した構成、また液晶性高分子をハイブリッドネマチック配向させた光学補償フィルムを液晶セルと上下偏光板の間に配置した構成などが挙げられる（特許文献１〜３）。
また半透過反射型液晶表示装置においては、透過モードにおいて、表示原理的に１枚または複数枚の１軸性位相差フィルムと偏光板からなる円偏光板を、液晶セルの上下に配置させる必要がある。
この半透過反射型液晶表示装置の透過モードの視野角拡大には液晶セルとバックライトの間に配置された円偏光板にネマチックハイブリッド配向させた光学補償フィルムを用いる方法が提案されている（特許文献４）。
光学特性の高機能化の一方で、近年大幅に普及している携帯電話や携帯型情報端末機器に代表されるように、薄型化・軽量化の要望も非常に高まっている。それに伴い、表示装置に用いられる光学フィルムについても、薄型化・軽量化が切望されている。そのために高分子延伸フィルムなどをより薄く製造する試みもなされているが、光学特性や製造工程上の制約から高分子延伸フィルムを薄くするのには限界があり、積層して用いた場合には厚みが厚くなるという問題があった。
【０００４】
こうした問題を解決するためには、特許文献５のような支持基板フィルムを用いない液晶物質からなる光学素子を用いるのが有効と考えられるが、前記光学素子を液晶表示装置に適用するには、更に偏光板と粘着剤により貼り合わせる必要がある。
前記光学素子を積層する場合、支持基板フィルムのない場合は取り扱い性、耐久性等に不安がある。一方、偏光素子を有する１つの支持基板フィルム上に直接、光学素子を積層できれば、粘・接着剤層を省略することにより一層の薄型化が図れる他、耐久性等においても非常に優れたフィルムが達成できるが、該光学素子を積層するため工業的な製造方法については未確立であった。
【特許文献１】特許第２６４００８３号公報
【特許文献２】特開平１１−１９４３２５号公報
【特許文献３】特開平１１−１９４３７１号公報
【特許文献４】特開２００２−３１７１７号公報
【特許文献５】特開平８−２７８４９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、高分子延伸フィルムだけでは困難であった光学特性面の高機能化と高耐久性、大幅な薄肉化の両立の実現を目的とする。すなわち、より薄肉で優れた光学機能を発現できる液晶化合物を用いた光学フィルムに着目し、偏光素子を有する１つの支持基板フィルム上に、光学異方素子を積層した楕円偏光板とその製造方法および当該楕円偏光板を配置した液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち本発明の第１は、透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子とが、この順に積層されている楕円偏光板であって、該光学異方素子が少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向させた後、該配向を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層を含むことを特徴とする楕円偏光板、に関する。
本発明の第２は、透光性保護フィルム、偏光素子および光学異方素子が長尺フィルム形態であることを特徴とする本発明の第１に記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第３は、光学異方素子が、ハイブリッドネマチック配向液晶層から少なくとも構成され、該液晶層の平均チルト角が５°〜４５゜であり、波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性Δｎと光学異方体の厚みｄとの積（Δｎ・ｄ）が３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることを特徴とする本発明の第１または２に記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第４は、透光性保護フィルムが、トリアセチルセルロースであることを特徴とする本発明の１〜３のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第５は、透光性保護フィルムが、シクロオレフィン系ポリマーであることを特徴とする本発明の第１〜３のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第６は、楕円偏光板の厚みが１５０μｍ以下であることを特徴とする本発明の第１〜５のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。
【０００７】
本発明の第７は、偏光素子と光学異方素子との間に、液晶性組成物がネマチック配向を形成する配向膜が設けられていることを特徴とする本発明の第１〜６のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第８は、光学異方素子の偏光素子とは反対側の表面に透光性オーバーコート層が設けられていることを特徴とする本発明の第１〜７のいずれかに記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第９は、透光性オーバーコート層がアクリル系樹脂からなることを特徴とする本発明の第８に記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第１０は、本発明の第１〜９のいずれかに記載の楕円偏光板に、さらに少なくとも１枚の光学フィルムが積層されていることを特徴とする楕円偏光板、に関する。
本発明の第１１は、光学フィルムが、高分子延伸フィルムであることを特徴とする本発明の第１０に記載の楕円偏光板、に関する。
本発明の第１２は、光学フィルムが、液晶性フィルムであることを特徴とする本発明の第１０に記載の楕円偏光板、に関する。
【０００８】
本発明の第１３は、（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、（２）ラビング処理を施した配向基板上に、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板／光学異方素子からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、（３）前記積層体（Ｂ）の光学異方素子側を、接着剤層２を介して、前記積層体（Ａ）の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Ａ）に転写し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第３工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法、に関する。
【０００９】
本発明の第１４は、（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、（２）前記積層体（Ａ）の偏光素子上にラビング処理を施し、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化して光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第２工程、の各工程を少なくとも経ることを特徴とする楕円偏光板の製造方法、に関する。
【００１０】
本発明の第１５は、本発明の第１４において、偏光素子上に少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物がネマチック配向を形成する配向膜を設けてからラビング処理を施すことを特徴とする本発明の第１４に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第１６は、透光性保護フィルムが、トリアセチルセルロースまたはシクロオレフィン系ポリマーであることを特徴とする本発明の第１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第１７は、透光性保護フィルムが表面処理されていることを特徴とする本発明の１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第１８は、表面処理が、鹸化処理であることを特徴とする本発明の第１７に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
【００１１】
本発明の第１９は、表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする本発明の第１７に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第２０は、偏光素子が表面処理されていることを特徴とする本発明の第１３または１４に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第２１は、表面処理が、コロナ放電処理であることを特徴とする本発明の第２０に記載の楕円偏光板の製造方法、に関する。
本発明の第２２は、液晶セルの少なくとも片側の面に、本発明の第１〜１２のいずれかに記載の楕円偏光板を配置した液晶表示装置、に関する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の楕円偏光板は、光学異方素子と偏光素子との貼り合わせ工程において、高分子液晶層に損傷が起こり難く、光学異方素子の接着性に優れる。さらに楕円偏光板を構成するラミネート層の数が少ないために、促進耐久性試験において界面で剥がれや泡の発生がない。偏光素子との貼り合わせ工程においても、長尺フィルム形態で貼合することができるために、従来法より貼合工程が合理化できる利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳述する。
本発明では、光学異方素子を偏光素子に直接あるいは接着剤を介して接着することにより楕円偏光板を製造する。そうすることによって、従来のような偏光素子の両側がトリアセチルセルロースフィルム等の光学フィルムで保護された偏光板に光学異方素子を貼合した楕円偏光板よりも層数を減らすことができる。その結果として、楕円偏光板の総厚を薄く出来るとともに、熱あるいは湿度による各層の伸縮挙動の違いに起因する収縮ひずみの影響が小さくなり、貼り合わせた界面での剥がれ等の不具合をなくすことが可能である。
【００１４】
本発明で得られる楕円偏光板の層構成は、以下のような（Ｉ）〜（II）の２通りのいずれかの構成からなり、必要に応じて透光性オーバーコート層等の部材が更に追加されるが、これらに本発明において正の一軸性を示す液晶性組成物を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向構造を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層からなる光学異方素子を使用する点を除いては特に制限は無い。厚みの薄い楕円偏光板を得ると言う点では、（Ｉ）〜（II）のいずれの構成を用いても構わない。
（Ｉ）透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子
（II）透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子
【００１５】
以下、本発明に用いられる構成部材について順に説明する。
まず本発明に用いられる液晶性組成物について説明する。
本発明に用いられる光学異方素子は、光学的に正の一軸性を示す液晶性組成物、具体的には光学的に正の一軸性を示す液晶性高分子化合物等を主体とした液晶性高分子組成物から成り、該液晶性高分子組成物が液晶状態において形成した平均チルト角が５゜〜４５゜のハイブリッドネマチック配向構造を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層を少なくとも含む層である。
ここで、本発明で言うハイブリッドネマチック配向とは、液晶分子がハイブリッドネマチック配向しており、このときの液晶分子のダイレクターと液晶層平面のなす角が該層上面と下面とで異なった配向形態を言う。したがって、上面界面近傍と下面界面近傍とで該ダイレクターと該層平面との成す角度が異なっていることから、該層の上面と下面との間では該角度が連続的に変化しているものといえる。
またハイブリッドネマチック配向状態を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層は、液晶分子のダイレクターが当該層の膜厚方向すべての場所において異なる角度を向いている。したがって当該層は、層という構造体として見た場合、もはや光軸は存在しない。
【００１６】
また本発明でいう平均チルト角とは、ハイブリッドネマチック配向液晶層の膜厚方向における液晶分子のダイレクターとハイブリッドネマチック配向液晶層平面との成す角度の平均値を意味するものである。本発明に供されるハイブリッドネマチック配向液晶層は、該層の一方の界面付近ではダイレクターと層平面との成す角度が、絶対値として通常２５〜９０度、好ましくは３５〜８５度、さらに好ましくは４５〜８０度の角度をなしており、当該面の反対においては、絶対値として通常０〜２０度、好ましくは０〜１０度の角度を成しており、その平均チルト角は、絶対値として通常５〜４５度、好ましくは１５〜４３度、さらに好ましくは２５〜４０度である。平均チルト角が上記範囲から外れた場合、斜め方向から見た場合のコントラストの低下等の恐れがあり望ましくない。なお平均チルト角は、クリスタルローテーション法を応用して求めることができる。
【００１７】
本発明に用いられる光学異方素子を構成するハイブリッドネマチック配向液晶層は、上記のようなハイブリッドネマチック配向状態が固定化され、かつ特定の平均チルト角を有するものであれば、如何様な液晶化合物から形成されたものであっても構わない。例えば低分子液晶を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる層や、液晶性高分子を液晶状態においてハイブリッドネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる液晶層を用いることができる。なお本発明でいうハイブリッドネマチック配向液晶層とは、該液晶層自体が液晶性を呈するか否かを問うものではなく、低分子液晶、液晶性高分子などの液晶化合物をフィルム化することによって得られるものを意味する。
【００１８】
またハイブリッドネマチック配向液晶層が、液晶表示装置に対してより好適な視野角改良効果を発現するための該液晶層の膜厚は、対象とする液晶表示素子の方式や種々の光学パラメーターに依存するので一概には言えないが、通常０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．２μｍ〜５μｍ、特に好ましくは０．４μｍ〜４μｍの範囲である。膜厚が０．１μｍ未満の時は、十分な補償効果が得られない恐れがある。また膜厚が１０μｍを越えると液晶表示装置の表示が不必要に色づく恐れがある。
【００１９】
またハイブリッドネマチック配向液晶層の法線方向から見た場合の面内の見かけの位相差値としては、当該液晶層では、ダイレクターに平行な方向の屈折率（以下ｎｅと呼ぶ）と垂直な方向の屈折率（以下ｎｏと呼ぶ）が異なっているおり、ｎｅからｎｏを引いた値を見かけ上の複屈折率（Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ）とした場合、見かけ上の位相差値は見かけ上の複屈折率と絶対膜厚との積（Δｎ・ｄ）で与えられるとする。この値は、エリプソメトリー等の偏光光学測定により容易に求めることができる。ハイブリッドネマチック配向液晶層のΔｎ・ｄは、波長５５０ｎｍにの単色光に対して、通常１０ｎｍ〜４００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜２００ｎｍ、特に好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲である。Δｎ・ｄが１０ｎｍ未満の時は、十分な視野角拡大効果が得られない恐れがある。また、４００ｎｍより大きい場合は、斜めから見たときに液晶表示装置に不必要な色付きが生じる恐れがある。
【００２０】
本発明の液晶表示装置におけるハイブリッドネマチック配向液晶層の具体的な配置条件について説明するが、より具体的な配置条件を説明するにあたり、図１〜３を用いてハイブリッドネマチック配向液晶層の上下、該液晶層のチルト方向および液晶セル層のプレチルト方向をそれぞれ以下に定義する。
まずハイブリッドネマチック配向液晶層からなる光学異方素子の上下を、該光学異方素子を構成するハイブリッドネマチック界面近傍における液晶分子ダイレクターと当該液晶層平面との成す角度によってそれぞれ定義すると、液晶分子のダイレクターと前記液晶層平面との成す角度が鋭角側で２５〜９０度の角度を成している面をｂ面とし、該角度が鋭角側で０〜２０度の角度を成している面をｃ面とする。
この光学異方素子のｂ面から液晶層を通してｃ面を見た場合、液晶分子ダイレクターとダイレクターのｃ面への投影成分が成す角度が鋭角となる方向で、かつ投影成分と平行な方向をハイブリッドネマチック配向液晶層のチルト方向と定義する（図１及び図２）。
次いで通常、液晶セル層のセル界面では、駆動用低分子液晶はセル界面に対して平行ではなくある角度もって傾いており一般にこの角度をプレチルト角と言うが、セル界面の液晶分子のダイレクターとダイレクターの界面への投影成分とがなす角度が鋭角である方向で、かつダイレクターの投影成分と平行な方向を液晶セル層のプレチルト方向と定義する（図３）。
【００２１】
液晶性高分子としては、各種の主鎖型液晶性高分子、側鎖型液晶性高分子、またはこれらの混合物等を用いることができる。主鎖型液晶性高分子としては、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系、ポリエステルイミド系の液晶性高分子、またはこれらの混合物等が挙げられる。これらの中でも液晶性を与えるメソゲン基とポリメチレン、ポリエチレンオキシド、ポリシロキサン等の屈曲鎖とが交互に結合した半芳香族系ポリエステル系液晶性高分子や、屈曲鎖のない全芳香族系ポリエステル系液晶性高分子が本発明では望ましい。また側鎖型液晶性高分子としては、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系等の直鎖状又は環状構造の骨格鎖を有する高分子に側鎖としてメソゲン基が結合した液晶性高分子、またはこれらの混合物等が挙げられる。これらの中でも、骨格鎖に屈曲鎖からなるスペーサーを介して液晶性を与えるメソゲン基が結合した側鎖型液晶性高分子や、主鎖および側鎖の両方にメソゲンを有する分子構造の液晶性高分子が本発明では望ましい。
【００２２】
またオリゴマーや低分子液晶であっても、架橋性基の導入あるいは適宜な架橋剤のブレンドによって、液晶状態あるいは液晶転移温度以下に冷却して配向固定化された状態で、熱架橋あるいは光架橋等の手段により高分子化できるものも液晶性高分子に含まれる。また、ディスコチック液晶化合物であっても問題なく使用することができる。液晶性高分子は通常、光学的に正または負の一軸性を示すものが用いられる。
【００２３】
低分子液晶としては、シッフ塩基系、ビフェニル系、ターフェニル系、エステル系、チオエステル系、スチルベン系、トラン系、アゾキシ系、アゾ系、フェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、シクロヘキシルシクロヘキサン系、トリメシン酸系、トリフェニレン系、トルクセン系、フタロシアニン系、ポルフィリン系分子骨格を有する低分子液晶化合物、またはこれら化合物の混合物等が挙げられる。
【００２４】
液晶性組成物のＴｇは、配向固定化後の配向安定性に影響を及ぼすため、室温以上であることが好ましく、さらに５０℃以上であることが好ましい。Ｔｇは、液晶性組成物に用いられる液晶性高分子、組成比や必要により添加される各種の化合物等によって調節できるが、前記のような架橋手段によってもよい。
前記の必要により添加される各種の化合物としては、本発明に使用される液晶性組成物の配向を阻害せず、本発明の目的を逸脱しない化合物であればよく、液晶性組成物の層の形成を均一にならしめるためのレベリング剤、界面活性剤、安定剤や、液晶性組成物が架橋性基を有する場合は、適切な条件下に架橋性基の反応を促進しうる化合物（反応促進剤）、例えばラジカル発生剤、カチオン発生剤等を挙げることができる。
【００２５】
次に配向基板について説明する。
配向基板としては、例えばポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリアミド；ポリエーテルイミド；ポリエーテルケトン；ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）；ポリケトン；ポリエーテルスルフォン；ポリフェニレンサルファイド；ポリフェニレンオキサイド；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリ（メタ）アクリレート；ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂で例示される高分子フィルムを使用することができる。また、高分子フィルムの表面に配向膜となるポリビニルアルコールやポリイミド誘導体等の有機薄膜を形成してもよい。前記高分子フィルムは、ラビング処理などの配向処理が施されて配向基板に供せられる。
【００２６】
上記のように、配向基板上に液晶性組成物を配向させるには通常ラビング処理が施されるラビング処理は、長尺の配向基板のＭＤ方向に対して所定の任意の角度で行うことができる。ＭＤ方向に対するラビング方向の角度は、光学異方素子の機能に応じて適宜設定されるが、色補償板としての機能が要求される場合は、通常、ＭＤ方向に対して斜め方向にラビングされるのが好ましい。斜め方向の角度としては、−４５度〜＋４５度の範囲が好ましい。
ラビング処理は任意の方法で行うことができるが、例えば、長尺フィルムをＭＤ方向に搬送するステージ上に、長尺フィルムのＭＤ方向に対して任意の角度でラビングロールを配置し、該フィルムをＭＤ方向に搬送しながら該ラビングロールを回転させ、該フィルム表面をラビング処理する。ラビングロールとステージの移動方向が成す角度は自在に調整し得る機構であり、ラビングロールの表面には、適宜のラビング布材が貼付してある。
【００２７】
液晶性組成物を配向基板のラビング処理面に接触させて液晶性組成物層を形成する方法としては、例えば、液晶性組成物を適宜の溶剤に溶解させ塗布・乾燥させる方法、あるいは、Ｔダイなどにより直接液晶性組成物を溶融押し出しする方法などが挙げられる。膜厚の均一性などの点からは、溶液塗布して乾燥する方法が適当である。液晶性組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばダイコート法、スロットダイコート法、スライドダイコート法、ロールコート法、バーコート法、浸漬引き上げ法などを採用することができる。
塗布後、適宜な乾燥方法により溶剤を除去して未配向の液晶性組成物層が形成される。次いで、所定温度で所定時間加熱して液晶性組成物を配向させた後、Ｔｇ以下に冷却するか、あるいは用いた液晶性組成物に適した方法、例えば光照射および／または加熱処理で架橋（硬化）等を行い固定化することにより配向が固定化されたハイブリッドネマチック配向液晶層を形成することができる。
【００２８】
架橋等を光照射で行う場合は、添加された反応促進剤の吸収波長領域にスペクトルを有するようなメタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザーなどの光源からの光を照射すればよく、１平方センチメートルあたりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、反応の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、液晶性組成物を構成する他成分に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、吸収波長の異なる２種以上の反応促進剤を混合して用いるなどの方法を採ることもできる。
光照射時の温度は、該液晶性組成物が液晶配向をとる温度範囲であることが好ましく、架橋の効果を充分にあげるためには、該液晶性組成物のＴｇ以上の温度で光照射を行うのが好ましい。
【００２９】
配向構造が固定化されているとは、本発明の楕円偏光板を使用する条件下において配向構造が乱れず、保持されていることを意味する。同様の配向状態は液晶セルにおいても作製できるが、配向構造を固定化することで、液晶セルにおけるガラス等の基板が不要となり、軽量化、薄肉化、取扱い性の向上等が達成できる。
【００３０】
次いで、本発明に使用される接着剤層および透光性オーバーコート層について説明する。
光学異方素子上に設けられる接着剤層およびオーバーコート層を形成する材料としては、ハイブリッドネマチック配向液晶層、後述する偏光素子や透光性保護フィルムに対して十分な接着力を有し、前記の各材料の光学的特性を損なわないものであれば、特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂系、メタクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系、ゴム系、ウレタン系、ポリビニルエーテル系およびこれらの混合物系や、熱硬化型および／または光硬化型、電子線硬化型等の各種反応性のものを挙げることができる。これらの接着剤層は、ハイブリッドネマチック配向液晶層を保護する透明保護層（オーバーコート層）の機能を兼ね備えたものも含まれる。なお、上記接着剤として粘着剤を用いることもできる。
【００３１】
前記反応性のものの反応（硬化）条件は、接着剤を構成する成分、粘度や反応温度等の条件により変化するため、それぞれに適した条件を選択して行えばよい。例えば、光硬化型の場合は、好ましくは各種の公知の光開始剤を添加し、メタルハライドランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、キセノンランプ、アークランプ、レーザー、シンクロトロン放射光源などの光源からの光を照射し、反応を行わせればよい。単位面積（１平方センチメートル）当たりの照射量としては、積算照射量として通常１〜２０００ｍＪ、好ましくは１０〜１０００ｍＪの範囲である。ただし、光開始剤の吸収領域と光源のスペクトルが著しく異なる場合や、あるいは反応性の化合物自身に光源波長の吸収能がある場合などはこの限りではない。これらの場合には、適当な光増感剤や、あるいは吸収波長の異なる２種以上の光開始剤を混合して用いるなどの方法を採ることも出来る。電子線硬化型の場合の加速電圧は、通常１０ｋＶ〜２００ｋＶ、好ましくは５０ｋＶ〜１００ｋＶである。
接着剤層およびオーバーコート層の厚みは、前述のように接着剤を構成する成分、接着剤の強度や使用温度などにより異なるが、通常１〜３０μｍ、さらに好ましくは３〜１０μｍである。この範囲外では接着強度が不足したり、端部よりの滲み出しなどがあったりして好ましくない。  
【００３２】
また、これらの接着剤はその特性を損なわない範囲で、光学特性の制御あるいは基板の剥離性や浸食性を制御することを目的として、各種微粒子等や表面改質剤を添加することもできる。
前記微粒子としては、接着剤を構成する化合物とは屈折率の異なる微粒子、透明性を損なわず帯電防止性能向上のための導電性微粒子、耐摩耗性向上のための微粒子等が例示でき、より具体的には、微細シリカ、微細アルミナ、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）微粒子、銀微粒子、各種合成樹脂微粒子などが挙げられる。
【００３３】
また、前記表面改質剤としては、接着剤との相溶性がよく接着剤の硬化性や硬化後の光学性能に影響を及ぼさない限り特に限定されず、イオン性、非イオン性の水溶性界面活性剤、油溶性界面活性剤、高分子界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン等の有機金属系界面活性剤、反応性界面活性剤等が使用できる。とりわけ、パーフルオロアルキル化合物、パーフルオロポリエーテル化合物などのフッ素系界面活性剤、あるいはシリコーン等の有機金属系界面活性剤は表面改質効果が大きいため、特に望ましい。表面改質剤の添加量は、接着剤に対し０．０１〜１０質量％の範囲が望ましく、より望ましくは０．０５〜５質量％、さらに望ましくは０．１〜３質量％である。この範囲よりも添加量が少なすぎると添加効果が不十分となり、一方多すぎると接着強度が下がりすぎるなどの弊害を生じる恐れがある。なお、表面改質剤は、単独で用いても良いし、必要に応じて複数種類を併用しても良い。
さらに本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの各種添加剤を配合しても良い。
【００３４】
本発明に使用できる偏光素子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光素子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させたもの、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムを延伸して二色性材料（沃素、染料）を吸着・配向したものが好適に用いられる。偏光素子の厚さも特に制限されないが、５〜５０μｍ程度が一般的である。
【００３５】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光素子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００３６】
偏光素子の一方の面に設けられる透光性保護フィルムとしては、光学的に等方なフィルムが好ましく、例えばフジタック（富士写真フイルム社製品）やコニカタック（コニカミノルタオプト社製品）などのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、アートンフィルム（ＪＳＲ社製品）、ゼオノアフィルム、ゼオネックスフィルム（日本ゼオン社製品）などのシクロオレフィン系ポリマー、ＴＰＸフィルム（三井化学社製品）、アクリプレンフィルム（三菱レーヨン社製品）などが挙げられるが、楕円偏光板とした場合の平面性、耐熱性や耐湿性などからトリアセチルセルロース、シクロオレフィン系ポリマーが好ましい。透光性保護フィルムの厚さは、一般には１〜１００μｍが好ましく、特に５〜５０μｍとするのが好ましい。
【００３７】
透光性保護フィルムとしては、表面にハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものを用いることができる。
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【００３８】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜５０重量部程度であり、５〜２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための光拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、光拡散層、アンチグレア層等は、透光性保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透光性保護フィルム層とは別体のものとして設けることもできる。
【００３９】
次に、本発明の楕円偏光板の製造方法について詳細に説明する。
本発明で得られる楕円偏光板の層構成は、図４、図５に示すような以下の２通りから選ばれる。
（Ｉ）透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子
（II）透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子
【００４０】
楕円偏光板の製造方法としては、特に限定されないが、一例として以下の方法で製造することができる。
まず、構成（Ｉ）の製造方法について説明する。
構成（Ｉ）は、
（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）ラビング処理を施した配向基板上に、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成して、配向基板／光学異方素子からなる積層体（Ｂ）を得る第２工程、
（３）前記積層体（Ｂ）の光学異方素子側を、接着剤層２を介して、前記積層体（Ａ）の偏光素子側と接着せしめた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Ａ）に転写し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第３工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする。
【００４１】
以下、第１工程から第３工程までの製造方法について順に説明する。
まず、第１工程である積層体（Ａ）の製造方法について説明する。
偏光素子上に、接着剤層１を形成し、接着剤層１を介して透光性保護フィルムと偏光素子を密着した後、必要により接着剤層を反応（硬化）させる。かくして透光性保護フィルム上に接着剤層１を介し接着された積層体（Ａ）を得ることができる。
【００４２】
次いで、第２工程である積層体（Ｂ）の製造方法について説明する。
配向基板上に布等でラビング処理を施した後、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の塗膜層を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶性組成物をハイブリッドネマチック配向せしめ、用いた液晶性組成物に適した手段により液晶性組成物層の配向を固定化する。かくして配向基板上にハイブリッドネマチック配向を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層からなる光学異方素子を有する積層体（Ｂ）を得ることができる。
【００４３】
次いで、第３工程の製造方法について説明する。
前記積層体（Ｂ）の光学異方素子側を、接着剤層２を介して、前記積層体（Ａ）の偏光素子側と密着した後、必要により接着剤層を反応（硬化）させた後、配向基板を剥離して光学異方素子を前記積層体（Ａ）に転写する。
かくして、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる本発明の楕円偏光板が得られる。
【００４４】
なお、積層体（Ｂ）のツイストネマチック配向液晶層の積層体（Ａ）への転写に際して、必要によってはツイストネマチック配向液晶層を配向基板とは異なる別の基板に転写した後、積層体（Ａ）へ再転写してもよい。  
得られた楕円偏光板の光学異方素子の表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性オーバーコートとしては、前述の接着剤から選定することもできる。
【００４５】
次いで、構成（II）の製造方法について説明する。
構成（II）は、
（１）透光性保護フィルムを、接着剤層１を介して偏光素子と接着し、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子からなる積層体（Ａ）を得る第１工程、
（２）前記積層体（Ａ）の偏光素子上にラビング処理を施し、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の層を形成し、該層をハイブリッドネマチック配向させた後、配向を固定化した光学異方素子を形成させて、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子からなる楕円偏光板を得る第２工程、
の各工程を少なくとも経ることを特徴とする。
【００４６】
以下、第１工程から第２工程までの製造方法について順に説明する。
まず、第１工程である積層体（Ａ）の製造方法は、構成（Ｉ）と同様である。
第２工程の製造方法について説明する。
第１工程で製造した積層体（Ａ）の偏光素子上にラビング処理を施し、少なくとも正の一軸性を示す液晶性組成物の塗膜層を適切な方法で形成し、必要に応じて溶媒等を除去し、加熱等により液晶性組成物をハイブリッドネマチック配向せしめ、用いた液晶性組成物に適した手段により液晶性組成物のハイブリッドネマチック配向を固定化する。かくして積層体（Ａ）上にハイブリッドネマチック液晶配向を固定化したハイブリッドネマチック配向液晶層からなる光学異方素子を有する、透光性保護フィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子からなる構成の本発明の楕円偏光板を得ることができる。
【００４７】
得られた楕円偏光板の光学異方素子の表面保護のため、透光性オーバーコート層を設けたり、一時的な表面保護フィルムを貼合しても良い。ここで透光性オーバーコートとしては、前述の接着剤から選定することもできる。
なお、構成（II）の第２工程において、偏光素子上に、偏光素子の液晶性組成物に対する配向性によっては、当該液晶性組成物をネマチック配向させるような適切な配向膜を設けた後にラビングを施し、液晶性組成物の層を形成する方法も本発明に含まれる（図６）。
また本発明では、配向基板上のハイブリッドネマチック配向液晶層を粘着剤層もしくは接着剤層を介して繰り返し積層することにより、ハイブリッドネマチック配向液晶層を複数枚積層することも可能である。
【００４８】
透光性保護フィルムは偏光素子と貼合されるが、貼合する前に透光性保護フィルムあるいは偏光素子、または前記積層体（Ａ）に表面処理を施しておくのが好ましい。
表面処理は、透光性保護フィルムや偏光素子に適した方法を用いればよく、かかる方法としては、鹸化処理、コロナ放電処理、火炎処理、低圧ＵＶ照射、プラズマ処理等を挙げることができ、より好ましくは、透光性保護フィルムとして例えばトリアセチルセルロースを用いた場合は鹸化処理が、またシクロオレフィン系ポリマーを用いた場合は、コロナ放電処理がそれぞれ好ましい。また、偏光素子ではコロナ放電処理が好ましい。
【００４９】
前記の鹸化処理は、通常の方法であるアルカリ水溶液に接触させることによって行われる。アルカリ水溶液としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどが用いられ、アルカリ濃度としては、約０．１〜１０質量％、好ましくは約０．５〜５質量％、さらに好ましくは約１〜３％質量程度の希薄溶液で十分である。処理条件としては、室温で１〜６０分、好ましくは３０分以下、さらに好ましくは１５分以下の温和な条件で十分である。処理後は十分に水洗することが必要なことはいうまでもない。
上記の鹸化処理と同様にコロナ放電処理も通常の条件でよく、例えば、粘着剤層と接する等方な基板面に施す。処理条件としては、使用する基板およびコロナ処理装置の種類により異なるが、例えばエネルギー密度として１〜３００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２が好適である。コロナ放電処理を施すことによって表面張力は増大するが、４０ｄｙｎ／ｃｍ以上に高くしておくことが望ましい。
【００５０】
上記の光学異方素子、偏光素子および透光性保護フィルムは、貼合する場合は長尺フィルム形態でそれぞれＭＤ方向に揃えた状態で、連続的に重ね合わせて積層することができる。
また、これらの３者は、前記製造方法以外にも、偏光素子の両側へ同時に光学異方素子および透光性保護フィルムを貼合しても、偏光素子へ光学異方素子、透光性保護フィルムの順に、または透光性保護フィルム、光学異方素子の順に貼合してもよい。
【００５１】
かくして得られる本発明の楕円偏光板の総厚は、用いた透光性保護フィルム、偏光素子、接着剤、光学異方素子等の各厚さにより変化するが、１５０μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下がよい。総厚が１５０μｍを越えると長尺フィルムをロールに所定長巻いた時にロール径が太くなりすぎ、従来の輸送用包装容器に収納が困難になったり、従来の輸送容器に収納できるようにすると長さが短くなったりして好ましくない。
【００５２】
また、本発明の楕円偏光板に、さらに少なくとも１枚の光学フィルムが積層された楕円偏光板を使用してもよい。
光学フィルムとしては、透明性と均一性に優れたものであれば特に制限されないが、高分子延伸フィルムや、液晶からなる液晶性フィルムが好ましく使用できる。高分子延伸フィルムとしては、セルロース系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルフォン系、ポリアクリル系、ポリエーテルスルフォン系、環状オレフィン系高分子等からなる１軸又は２軸位相差フィルムを例示することができる。中でもポリカーボネート系や環状オレフィン系高分子がコスト面およびフィルムの均一性から好ましい。
【００５３】
また、ここで言う液晶からなる液晶性フィルムとは、液晶を配向させてその配向状態から生じる光学異方性を利用できるフィルムであれば特に制限されるものではない。例えばネマチック液晶やディスコチック液晶、スメクチック液晶等を利用した各種光学機能性フィルム等、公知のものを使用することができる。
液晶性フィルムの分子配列構造は、スメクチック、ネマチック、ねじれネマチック、コレステリックなどのいずれの分子配列構造であってもよく、配向基板付近及び空気界面付近ではそれぞれホモジニアス配向及びホメオトロピック配向状態であり、液晶高分子の平均のダイレクターがフィルムの法線方向から傾斜しているいわゆるハイブリッド配向であってもよい。  
ここに例示した光学フィルムは、液晶表示装置を構成するにあたり、１枚のみの使用でも良いし、複数枚使用しても良い。また、高分子延伸フィルムと、液晶性フィルムの両方を使用することもできる。
【００５４】
以下に本発明の楕円偏光板を適用する液晶表示装置について説明する。
本発明の液晶表示装置は、前記楕円偏光板を少なくとも有する。本発明の楕円偏光板を液晶セルに配置する場合には、本発明の楕円偏光板の光学異方素子側を液晶セル面に近接するように配置することが必要である。
液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および必要に応じて位相差補償板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート等の部材から構成されるが、本発明においては前記楕円偏光板を使用する点を除いて特に制限は無い。また前記楕円偏光板の使用位置は特に制限はなく、また、１カ所でも複数カ所でも良い。
【００５５】
液晶表示装置に用いる偏光板は特に制限されず、前述した楕円偏光板に使用するものと同様の偏光素子から得られるものを使用することができる。
液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。
液晶セルを構成する透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶物質、高分子液晶物質およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性物質等を添加することもできる。
【００５６】
液晶セルは、電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。
液晶セルの方式としては、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、ＯＣＢ（Optically Compensated Birefringence）方式、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）方式、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。
また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Thin Film Transistor）電極、ＴＦＤ（Thin Film Diode）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。
【００５７】
前記の位相差補償板は、前述の本発明に使用される光学フィルムから適宜選定して使用でき、１枚のみの使用でも良いし、複数枚使用しても良い。また、高分子延伸フィルムと、液晶からなる光学補償フィルムの両方を使用することもできる。
反射層としては、特に制限されず、アルミニウム、銀、金、クロム、白金等の金属やそれらを含む合金、酸化マグネシウム等の酸化物、誘電体の多層膜、選択反射を示す液晶又はこれらの組み合わせ等を例示することができる。これら反射層は平面であっても良く、また曲面であっても良い。さらに反射層は、凹凸形状など表面形状に加工を施して拡散反射性を持たせたもの、液晶セルの観察者側と反対側の電極基板上の電極を兼備させたもの、反射層の厚みを薄くしたり、穴をあける等の加工を施すことで光を一部透過させるようにした半透過反射層であっても良く、またそれらを組み合わせたものであっても良い。
【００５８】
光拡散層は、入射光を等方的あるいは異方的に拡散させる性質を有するものであれば、特に制限はない。例えば２種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものや、表面形状に凹凸を付けたものが挙げられる。前記２種以上の領域からなり、その領域間に屈折率差をもつものとしては、マトリックス中にマトリックスとは異なる屈折率を有する粒子を分散させたものが例示される。光拡散層はそれ自身が粘接着性を有するものであっても良い。
光拡散層の膜厚は、特に制限されるものではないが、通常１０μｍ以上５００μｍ以下であることが望ましい。
また光拡散層の全光線透過率は、５０％以上であることが好ましく、特に７０％以上であることが好ましい。さらに光拡散層のヘイズ値は、通常１０〜９５％であり、好ましくは４０〜９０％であり、さらに好ましくは６０〜９０％であることが望ましい。
バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシートとしては、特に制限されず公知のものを使用することができる。
【００５９】
本発明の液晶表示装置は、前記した構成部材以外にも他の構成部材を付設することができる。例えば、カラーフィルターを本発明の液晶表示装置に付設することにより、色純度の高いマルチカラー又はフルカラー表示を行うことができるカラー液晶表示装置を作製することができる。
【実施例】
【００６０】
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例で用いた各分析方法は以下の通りである。また、Δｎ・ｄは特に断りのない限り波長５５０ｎｍにおける値とする。
【００６１】
（１）対数粘度の測定
ウベローデ型粘度計を用い、フェノール／テトラクロロエタン（６０／４０質量比）混合溶媒中、３０℃で測定した。
（２）顕微鏡観察
オリンパス光学社製ＢＨ２偏光顕微鏡で液晶の配向状態を観察した。
（３）ハイブリッドネマチック配向液晶層のパラメータ測定
王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いた。
（４）膜厚の測定
ＳＬＯＡＮ社製ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＸＴＵＲＥ  ＡＮＡＬＹＳＩＳ  ＳＹＳＴＥＭ  Ｄｅｋｔａｋ  ３０３０ＳＴを用いた。また、干渉波測定（日本分光（株）製  紫外・可視・近赤外分光光度計Ｖ−５７０）と屈折率のデータから膜厚を求める方法も併用した。
【００６２】
＜実施例１＞
（積層体Ａの作製）
ＴＡＣフィルム（４０μｍ、富士写真フイルム社製）を室温で、２質量％水酸化カリウム水溶液中に５分間浸漬して鹸化処理を行い、流水中で洗浄した後乾燥させた。延伸したポリビニルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の一方の面に、接着剤層１としてアクリル系接着剤を用いて、鹸化したＴＡＣフィルムを貼り合わせ、積層体Ａを作製した。総膜厚は約６５μｍであり、通常のもの（１０５μｍ）よりも薄くすることが出来た。
【００６３】
（液晶性高分子溶液Ｂ、積層体Ｄの作製）
６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸  １００ｍｍｏｌ、テレフタル酸  １００ｍｍｏｌ、クロロヒドロキノン  ５０ｍｍｏｌ、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール  ５０ｍｍｏｌ、および無水酢酸  ６００ｍｍｏｌを用いて窒素雰囲気下で、１４０℃で２時間アセチル化反応を行った。引き続き２７０℃で２時間、２８０℃で２時間、３００℃で２時間重合を行った。次に得られた反応生成物をテトラクロロエタンに溶解したのち、メタノールで再沈殿を行って精製し、液晶性ポリエステル（ポリマー１）４０．０ｇを得た。この液晶性ポリエステルの対数粘度は０．３５（ｄｌ／ｇ）、液晶相としてネマチック相をもち、等方相−液晶相転移温度は３００℃以上、ガラス転移点は１３５℃であった。
ポリマー１の８質量％のγ―ブチロラクトン溶液（液晶性高分子溶液Ｂ）を調製した。
【００６４】
６５０ｍｍ幅、厚み１００μｍの長尺のＰＥＥＫフィルムを搬送しながら、レーヨン布を巻き付けた１５０ｍｍφのラビングロールを斜めに設定し、高速で回転させることにより連続的にラビングを行い、ラビング角度４５°の配向基板フィルムを得た。ここで、ラビング角度はラビング面を上からみたときにＭＤ方向から反時計回り方向の角度とする。液晶性高分子溶液Ｂを、前記配向基板フィルム上に、ダイコーターを用いて連続的に塗布・乾燥した後、１５０℃×１０分間加熱処理をして液晶性高分子を配向させ、次いで室温に冷却して配向を固定化して、液晶性高分子層とＰＥＥＫフィルムとからなる積層体Ｄを得た。得られた積層体Ｄの厚みは０．６μｍであった。
【００６５】
配向基板として用いたＰＥＥＫフィルムは大きな複屈折を有するため、積層体Ｄの形態では液晶性高分子層の光学パラメータの測定が困難なため、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に次のようにして液晶性高分子層を転写した。
すなわち、ＰＥＥＫフィルム上の液晶性高分子層上に、光学用の紫外線硬化型接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、ＴＡＣフィルム（４０μｍ厚、富士写真フイルム社製）でラミネートして、ＴＡＣフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、ＰＥＥＫフィルムを剥離し、液晶性高分子層／接着剤層／ＴＡＣフィルムからなる積層体を得た。得られた積層体について王子計測機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨによりパラメータ測定した結果、この液晶性高分子層は、ハイブリッドネマチック配向構造を形成しており、当該層のΔｎｄは９０ｎｍ、平均チルト角は２８度であった。
【００６６】
（楕円偏光板Ｅの作製）
積層体Ｄの液晶性高分子層（光学異方素子）上に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００、東亞合成（株）製）を５μｍの厚さに接着剤層２として塗布し、この上に積層体Ａの偏光素子側をラミネートし、約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層２を硬化させた。この後、ＰＥＥＫフィルム／光学異方／接着剤層２／偏光素子／接着剤層１／ＴＡＣフィルムが一体となった積層体からＰＥＥＫフィルムを剥離することにより光学異方素子を積層体Ａ上に転写し、ＴＡＣフィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる楕円偏光板Ｅを得た。該楕円偏光板Ｅの総厚みは、７５μｍであった。
この楕円偏光板Ｅを光学検査したところ、シミや傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板Ｅの光学異方素子側をアクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５００時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。
【００６７】
＜実施例２＞
（接着剤の調製）
ウレタン系接着剤として、主剤となるポリエステルポリオールプレポリマーである東洋モートン（株）製の“ＥＬ−４３６Ａ”（固形分濃度３５％の水溶液）１００部に、イソシアネート系硬化剤である東洋モートン（株）製の“ＥＬ−４３６Ｂ”（有効成分１００％品）３０部を配合し、さらに水を加えて固形分濃度が２０％となるように希釈した。一方、ポリビニルアルコール系接着剤として、（株）クラレ製のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール“クラレポバール  ＫＬ３１８”（酢酸ビニルとイタコン酸ナトリウムのモル比約９８：２の共重合体のケン化物、ケン化度８５〜９０モル％、分子量約８５，０００）の３％水溶液を調製した。得られたウレタン系接着剤とポリビニルアルコール系水溶液とを、質量比１：１（固形分質量比では２０：３）で混合し、混合接着剤とした。
【００６８】
（積層体Ｆの作製）
延伸したポリビニルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の一方の面に、接着剤層１として調製した混合接着剤を混合後１分以内に塗布し、その一方の面には、ゼオノアフィルム（膜厚４０μｍ、日本ゼオン社製）に２５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ処理を施し、そのコロナ処理後３０秒以内にそのコロナ処理面で貼り合わせて、本発明の積層体Ｆを作製した。総膜厚は約６５μｍであり、通常のもの（１０５μｍ）よりも薄くすることが出来た。
【００６９】
（楕円偏光板Ｇの作製）
実施例１で作製した積層体Ｄの光学異方素子上に市販のＵＶ硬化型接着剤（ＵＶ−３４００、東亞合成（株）製）を５μｍの厚さに接着剤層２として塗布し、この上に積層体Ｆの偏光素子側をラミネートし、約６００ｍＪのＵＶ照射により該接着剤層２を硬化させた。この後、ＰＥＥＫフィルム／光学異方素子／接着剤層２／偏光素子／接着剤１／ゼオノアフィルムが一体となった積層体からＰＥＥＫフィルムを剥離することにより光学異方素子を積層体Ｆ上に転写し、ゼオノアフィルム／接着剤層１／偏光素子／接着剤層２／光学異方素子からなる楕円偏光板Ｇを得た。該楕円偏光板Ｇの総厚みは、７５μｍであった。
この円偏光板Ｇを光学検査したところ、シミや傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板Ｇの光学異方素子側をアクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５００時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。
【００７０】
＜実施例３＞
（楕円偏光板Ｈの作製）
実施例２で作製した積層体Ｆを搬送しながら、レーヨン布を巻き付けた１５０ｍｍφのラビングロールを斜めに設定し、高速で回転させることにより連続的にラビングを行い、ラビング角度４５°の配向基板フィルムを得た。ここで、ラビング角度はラビング面を上からみたときにＭＤ方向から反時計回り方向の角度とする。実施例１で調製した液晶性高分子溶液Ｂを、ダイコーターを用いて実施例１と異なる塗布速度で連続的に塗布・乾燥した後、１５０℃×１０分間加熱処理をして液晶性高分子を配向させた。次いで室温に冷却して配向を固定化して、液晶性高分子層からなる光学異方素子を有する楕円偏光板Ｈ（ゼオノアフィルム／接着剤層１／偏光素子／光学異方素子）を得た。該楕円偏光板Ｈの総厚みは、７０μｍであった。
実施例１と同様に、液晶性高分子層のみをＴＡＣフィルムに転写して、光学パラメータを測定したところ、この高分子液晶層は、ハイブリッドネマチック配向構造を形成しており、高分子液晶層のΔｎｄは９０ｎｍ、平均チルト角は２８度であった。
この楕円偏光板Ｈを光学検査したところ、シミや傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板Ｈの光学異方素子側をアクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５００時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。
【００７１】
＜実施例４＞
（積層体Ｉの作製）
実施例２で作製した積層体Ｆ上に搬送しながら、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ，（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）の５質量％溶液（溶媒は、水とイソプロピルアルコールの質量比１：１の混合溶媒）をダイコーターを用いて連続的に塗布・乾燥し、１３０℃で加熱処理してゼオノアフィルム／接着剤層１／偏光素子／ＰＶＡ配向膜からなる積層体Ｉを得た。
（楕円偏光板Ｊの作製）
前記作製した積層体Ｉを搬送しながら、ＰＶＡ配向膜面をレーヨン布を巻き付けた１５０ｍｍφのラビングロールを斜めに設定し、高速で回転させることにより連続的にラビングを行い、ラビング角度４５°の配向基板フィルムを得た。ここで、ラビング角度はラビング面を上からみたときにＭＤ方向から反時計回り方向の角度とする。実施例１で調製した液晶性高分子溶液Ｂを、ダイコーターを用いて実施例３と同様に連続的に塗布・乾燥した後、１５０℃×１０分間加熱処理をして液晶性高分子を配向させた。次いで室温に冷却して配向を固定化して、液晶性高分子層からなる光学異方素子を有する楕円偏光板Ｊ（ゼオノアフィルム／接着剤層１／偏光素子／ＰＶＡ配向膜／光学異方素子）を得た。該楕円偏光板Ｊの総厚みは、７３μｍであった。
この楕円偏光板Ｊを光学検査したところ、シミや傷などの損傷は見られなかった。この楕円偏光板Ｊの光学異方素子側をアクリル系粘着剤を介してガラス板に貼り付け、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、５００時間経過後に取り出して観察したところ、剥がれや泡の発生などの異常は一切認められなかった。
【００７２】
＜比較例１＞
（偏光板Ｍの作製）
延伸したポリビニルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の両側に、アクリル系接着剤を用いて、鹸化したＴＡＣフィルムを貼り合わせて偏光板Ｍを作製した。
（積層体Ｌの作製）
実施例１で作製した積層体Ｄの光学異方素子側を、紫外線硬化型接着剤を介して、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（４０μｍ）に転写した。すなわち、ＰＥＥＫフィルム上の液晶性高分子層の上に、接着剤を５μｍ厚となるように塗布し、ＴＡＣフィルムでラミネートして、ＴＡＣフィルム側から紫外線を照射して接着剤を硬化させた後、ＰＥＥＫフィルムを剥離し、積層体Ｌ（光学異方素子／接着層／ＴＡＣフィルム）を得た。
（楕円偏光板Ｎの作製）
延伸したポリビニルアルコールに沃素を吸着させた偏光素子の両側に、アクリル系接着剤を用いて、鹸化したＴＡＣフィルムを貼り合わせて偏光板Ｍを作製した。
積層体Ｌの光学異方素子側をアクリル系粘着剤を介してこの偏光板Ｍに貼合して楕円偏光板Ｎを作製した。この楕円偏光板Ｎは厚さ約２００μｍと厚く、巻き厚が大きくなるために一回の操作での処理長さは実施例１〜４の楕円偏光板の作製に比べて短くならざるを得なかった。
楕円偏光板Ｎの光学異方素子側にアクリル系粘着剤を塗布し、ガラス板に貼りつけて、実施例１と同様の試験を行ったところ、５００時間経過後に端部に０．５ｍｍの剥がれが認められた。
【００７３】
＜実施例５＞
実施例１で得た楕円偏光板Ｅを用いて、図７に示したような配置で透過型液晶表示装置を作製した。
使用した液晶セル１０は、液晶材料としてＺＬＩ−１６９５（Ｍｅｒｃｋ社製）を用い、ホモジニアス配向させた。液晶層厚は４．９μｍであり、液晶層の基板両界面のプレチルト角は２度であり、液晶セルのΔｎｄは略３２０ｎｍであった。
液晶セル１０の観察者側（図の上側）に偏光板８（厚み約１００μｍ；住友化学（株）製ＳＱＷ−０６２）を配置し、偏光板８と液晶セル１０との間に、一軸延伸したポリカーボネートフィルム（日本ゼオン（株）製：Δｎｄは略１４０ｎｍ）からなる位相差補償板９を配置した。
また、液晶セルのバックライト側（図の下側）に実施例１で得た楕円偏光板Ｅ（図７では１とする）を配置した。
偏光板８及び偏光素子４の吸収軸、位相差補償板９の遅相軸、液晶セル１０の両界面のプレチルト方向、光学異方素子６のチルト方向は図８に記載した条件で配置した。該楕円偏光板１の背面側にはバックライト１１が設けられている。
上記の液晶表示装置に、駆動回路（図示せず）から駆動電圧を０Ｖから５Ｖまで印加し、バックライト１１を配置して点灯時（透過モード）の光学特性を調べたところ明るく高コントラストで視野角依存性の少ない特性が得られたことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】液晶分子のチルト角及びツイスト角を説明するための概念図である。
【図２】光学異方素子を構成する液晶性フィルムの配向構造の概念図である。
【図３】液晶セルのプレチルト方向を説明する概念図である。
【図４】本発明の楕円偏光板の構成例を模式的に示す立面断面図である。
【図５】本発明の楕円偏光板の別の構成例を模式的に示す立面断面図である。
【図６】本発明の楕円偏光板の別の構成例を模式的に示す立面断面図である。
【図７】実施例４で用いた液晶ディスプレイの概念図である。
【図８】実施例４の液晶表示装置における偏光板の吸収軸や液晶セル、光学異方性層の軸角度関係を説明する平面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１  楕円偏光板
２  透光性保護フィルム
３  接着剤層１
４  偏光素子
５  接着剤層２
６  光学異方素子
７  配向膜
８  偏光板
９  位相差補償板
１０  液晶セル
１１  バックライト
【図１】
2007322778.tif 000002
【図２】
2007322778.tif 000003
【図３】
2007322778.tif 000004
【図４】
2007322778.tif 000005
【図５】
2007322778.tif 000006
【図６】
2007322778.tif 000007
【図７】
2007322778.tif 000008
【図８】
2007322778.tif 000009