(57)【要約】【課題】感光層等が形成された処理基板をステージ上へ載置、密着、除去する工程で発生する処理基板への静電気の帯電量を減少させる露光装置をを提供することを目的とする。【解決手段】露光装置１００は、露光光を照射するための光源部１０と、処理基板４１を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ２０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段３０とから構成されており、ステージ２０の表面粗さを１〜１００μｍにしてある。さらに、ステージ２０の１〜１００μｍの表面粗さを達成する手段として、ステージ２０の表面がブラスト処理、化学エッチング処理による表面処理のいずれかを用いたことを特徴とする。【選択図】図１
2007322630.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも露光光を照射するための光源部（１０）と、処理基板を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ（２０）と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御するための制御手段（３０）とを備える露光装置であって、
前記ステージ（２０）の表面が、１〜１００μｍの表面粗さを有していることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の露光装置が、カラーフィルタ基板露光用の一括露光装置であることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記ステージ（２０）の１〜１００μｍの表面粗さを達成する手段として、前記ステージ（２０）の表面がブラスト処理、化学エッチング処理による表面処理のいずれかを用いたことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー液晶表示装置及びカラープラズマディスプレイ等の大型のカラーフィルタ基板のパターン露光に適用される露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル対応の大型カラーテレビの増加に伴い、特にカラー液晶ディスプレイパネルの需要の増加はめざましいものがある。
カラー液晶表示装置及びカラープラズマディスプレイ等に用いられるカラーフィルタ基板は、ガラス基板上に、ブラックマトリックス、赤色フィルタ、緑色フィルタ、青色フィルタ等からなる着色フィルタ、柱状スペーサ等がフォトリソグラフィーを用いたプロセスを経て形成される。
【０００３】
以下フォトリソグラフィープロセスを用いたカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
図４（ａ）〜（ｇ）、図５（ｈ）〜（ｌ）及び図６（ｍ）〜（ｐ）は、カラー液晶ディスプレイパネル用のカラーフィルタ基板をフォトリソグラフィープロセスを用いて作製する製造方法の一例を示す部分模式構成断面図である。
まず、透明基板１１１上にアクリル系樹脂にカーボンブラックを分散した黒色の感光性樹脂をスピンナー等にて塗布し、黒色感光性樹脂層１２１を形成し（図４（ａ）参照）、透明基板１１２にブラックマトリクス用のパターンが形成された露光マスク１２０ＢＬを用いてパターン露光し（図４（ｂ）参照）、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置にブラックマトリクス１２１ａを形成する（図４（ｃ）参照）。
【０００４】
次に、アクリル系の感光性樹脂に赤色顔料を分散した赤色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａが形成された透明基板上にノズルコーター等を用いて塗布し、赤色感光性樹脂層１３１ｒを形成し（図４（ｄ）参照）、透明基板１１２に赤色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｒを用いてパターン露光し（図４（ｅ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に赤色フィルタ１３１Ｒを形成する（図４（ｆ）参照）。
【０００５】
次に、アクリル系の感光性樹脂に緑色顔料を分散した緑色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ及び赤色フィルタ１３１Ｒが形成された透明基板上にノズルコーター等を用いて塗布し、緑色感光性樹脂層１３２ｇを形成し（図４（ｇ）参照）、透明基板１１２に緑色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｇを用いてパターン露光し（図５（ｈ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、透明基板１１１の所定位置に緑色フィルタ１３２Ｇを形成する（図５（ｉ）参照）。
【０００６】
次に、アクリル系の感光性樹脂に青色顔料を分散した青色感光性樹脂溶液をブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３２Ｒ及び緑色フィルタ１３２Ｇが形成された透明基板上にノズルコーター等を用いて塗布し、青色感光性樹脂層１３３ｂを形成し（図５（ｊ）参照）、透明基板１１２に青色フィルタ用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｂを用いてパターン露光し（図５（ｋ）参照）、現像、ポストベーク等の一連のパターニング処理を行って、青色フィルタ１３３Ｂを形成し、ブラックマトリクス１２１ａが形成された透明基板１１１上に赤色フィルタ１３１Ｒ、緑色フィルタ１３２Ｇ及び緑色フィルタ１３３Ｂからなる着色フィルタ１３０を形成する（図５（ｌ）参照）。
【０００７】
次に、酸化インジウム錫系の合金ターゲットをスパッタリングして、透明基板１１１上のブラックマトリクス１２１ａ、赤色フィルタ１３１Ｒ、緑色フィルタ１３２Ｇ及び青色フィルタ１３３Ｂ上に透明導電膜を成膜し、透明電極１４１を形成する（図６（ｍ）参照）。
【０００８】
次に、アクリル系のクリアレジストをノズルコーター等を用いて塗布し、感光性樹脂層１５１を形成し（図６（ｎ）参照）、透明基板１１２に柱状スペーサー用のパターンが形成された露光マスク１２０Ｓを用いてパターン露光し（図６（ｏ）参照）、現像等の一連のパターニング処理を行って、柱状スペーサ１５１Ｓを形成し、透明基板１１１上にブラックマトリクス１２１ａと、赤色フィルタ１３２Ｒ、緑色フィルタ１３２Ｇ及び青色フィルタ１３２Ｂからなる着色フィルタ１３０と、透明電極１４１と、柱状スペーサー１５１Ｓとが形成されたカラーフィルタ基板２００を得ることができる（図６（ｐ）参照）。
【０００９】
上記カラーフィルタ基板の製造工程では、露光マスクを使ったパターン露光工程として、少なくとも５回のパターン露光工程がある。
パターン露光工程は、透明基板に形成され感光層に紫外線照射等でパターン露光し、パターン露光が終わると、露光マスクは透明基板から剥離する工程が繰り返される。
【００１０】
上記パターン露光工程の露光マスクと感光層が形成された透明基板とを密着する工程において、感光層が形成された透明基板をステージ上に載置する際透明基板とステージが接触することにより、ガラス基板が帯電する。さらに、露光済みの透明基板をステージから剥離する際、透明基板の電位が上昇し、静電気放電を起こす場合がある。
【００１１】
露光工程によるこのような帯電、放電を回避するために、露光マスクのマスク基板本体のパターン形成面及びその反対側の面の少なくとも一方に導電体膜を備えた露光マスク用のマスク基板が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１２】
このように、上記露光マスク用のマスク基板の導電膜はマスクステージを介して電気的に接地することにより、静電気現象により電荷が発生したとしてもその電荷は導電体膜内を伝導して速やかに広がるので、マスク基板の部分的な帯電を防ぐことができ、これにより、電荷の放電によるパターンの損傷や、マスク基板本体に対する塵や埃の付着等を防止あるいは効果的に抑制することができる。
【００１３】
しかしながら、上記したカラーフィルタ基板の技術分野では、ガラス基板の大きさは１ｍ〜２ｍ角に達し、その大きさから帯電量も桁違いに大きくなる。
この大型のマスク基板に導電体膜を形成することは、多大の投資を必要とし、コスト的にも問題である。
【特許文献１】特開２００１−１３３９５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、感光層等が形成された処理基板をステージ上へ載置、密着、除去する工程で発生する処理基板への静電気の帯電量を減少させる露光装置をを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、少なくとも露光光を照射するための光源部１０と、処理基板を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ２０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御するための制御手段
（３０）とを備える露光装置であって、
前記ステージ２０の表面が、１〜１００μｍの表面粗さを有していることを特徴とする露光装置としたものである。
【００１６】
また、請求項２においては、請求項１記載の露光装置が、カラーフィルタ基板露光用の一括露光装置であることを特徴とする露光装置したものである。
【００１７】
さらにまた、請求項３においては、前記ステージ２０の１〜１００μｍの表面粗さを達成する手段として、前記ステージ２０の表面がブラスト処理、化学エッチング処理による表面処理のいずれかを用いたことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置としたものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の露光装置はステージ表面が１〜１００μｍの表面粗さになっているので、感光層等が形成された処理基板とステージと密着した際の処理基板の接触面積を減少でき、感光層等が形成された処理基板をステージ上に載置、密着、除去する工程で発生する処理基板の静電気の帯電量を減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１は、本発明の露光装置の一実施例を示す模式構成図である。
本発明の露光装置１００は、図１に示すように、露光光を照射するための光源部１０と、処理基板４１を保持し、ｘ、ｙ、ｚ、θ方向に移動制御できるステージ２０と、光源部のオン、オフ及びステージの移動を制御する制御手段３０とから構成されており、ステージ２０の表面粗さを１〜１００μｍにしてある。
【００２０】
ステージ２０の表面粗さを１〜１００μｍとすることにより、感光層等が形成された処理基板４１とステージ２０との接触面積を減少でき、感光層等が形成された処理基板４１をステージ２０上に載置、密着、除去する工程で発生する処理基板の静電気の帯電量を減少させることができる。
【００２１】
以下、本発明の露光装置１００を用いた処理基板の一連の露光工程について説明する。図２（ａ）〜（ｄ）及び図３（ｅ）〜（ｇ）は、本発明の露光装置１００を用いた一連の露光工程において、ステージ２０、処理基板４１及び露光マスクの挙動と帯電現象について説明した説明図である。
まず、ガラス基板上に感光層等が形成された処理基板４１をステージピン２１上に載置し、処理基板４１がステージ２０の所定位置に載置されるように、アライメントピン６１で処理基板４１のアライメントを行う（図２（ａ）参照）。
【００２２】
次に、ステージ２０が上昇し、処理基板４１がステージ２０の所定位置に載置され、吸着機構により処理基板４１がステージ２０上に吸着され、処理基板４１はステージ２０上に密着される（図２（ｂ）参照）。
この処理基板４１がステージ２０上に密着するときに、ステージ２０表面が平な状態で何も処理差されていないと処理基板４１が帯電する。
ここで、本発明では、ステージ２０の表面粗さを１〜１００μｍとし、処理基板４１がステージ２０上に密着したときの表面積を減少させて、最小の帯電量になるようにしている。
ステージ２０の表面粗さが１μｍ以下では、ステージ２０に処理基板４１を密着したときの表面積を減少させることができない。
ステージ２０の表面粗さが１００μｍ以上では、ガラス基板裏面側のキズ不良、ガラス基
板の吸着不良が懸念される。
【００２３】
１〜１００μｍのステージ２０の表面粗さを達成する手段としては、ステージ（２０）の表面をブラスト処理（サンドブラスト等）、化学エッチング処理（酸性エッチング処理、アルカリエッチング処理等）を行って、１〜１００μｍの表面粗さを得る。
【００２４】
次に、アライメントピン６１を処理基板４１から除去し（図２（ｃ）参照）、処理基板４１と露光マスク５１との露光ギャップが得られるまでステージ２０を上昇させて、停止する。さらに、露光マスク５１と処理基板４１とのアライメントを行って、パターン露光される（図２（ｄ）参照）。
ここでは、露光マスク５１の処理基板４１へのパターン露光は、プロキシミティー露光法が適用されており、露光ギャップは、数十〜数百μｍの範囲で設定される。
もし、ステージ２０表面に所定の表面粗さが設定されていないと、上記処理基板４１とステージが密着した際に帯電が発生し、処理基板４１と露光マスク５１との間で放電の発生が予想される。
しかしながら、ここではステージ２０の表面は、１〜１００μｍの表面粗さが設定されているため、帯電量も少なく、処理基板４１と露光マスク５１との間の放電まで至ることはない。
【００２５】
次に、パターン露光が終了すると、処理基板４１とステージ２０との吸着を解除し、ステージ２０は、基板受け渡し位置まで下降する（図３（ｅ）参照）。
【００２６】
さらに、ステージ２０を下降していくと、処理基板４１はステージピン２１にて支えられ、ステージ２０と処理基板４１との間には空間が発生する。
（図３（ｆ）は、ステージ２０と処理基板４１との間の空間がまだ小さいときの状態を示す。
ここでも、ステージ２０から処理基板４１が離れる際、ステージ２０表面に所定の表面粗さが設定されていないと、上記処理基板４１とステージが密着した際に帯電が発生し、処理基板４１と露光マスク５１との間で放電の発生が予想される。
しかしながら、ここではステージ２０の表面は、１〜１００μｍの表面粗さが設定されているため、帯電量も少なく、処理基板４１と露光マスク５１との間の放電まで至ることはない。
【００２７】
さらに、ステージ２０が下降し、ステージピン２１にて支えられた処理基板４１は所定位置に搬送され、次の処理基板４１がステージピン２１上に載置される。
【００２８】
このように、本発明の露光装置では、ステージ２０の表面は、１〜１００μｍの表面粗さが設定されているため、ステージ２０上に処理基板４１を密着する時、また、パターン露光が終わって処理基板４１をステージ２０から離間する時の、処理基板４１への帯電量を少なくすることができ、処理基板４１と露光マスク５１との間の放電まで至るのを回避することができる。
【００２９】
さらに、本発明の露光装置は、１〜２ｍの大型の処理基板を扱うカラーフィルタ基板露光用の一括露光装置としての展開が有望で、処理基板の帯電量を減少させる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の露光装置の一実施例を示す模式構成図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の露光装置を用いた一連の露光工程において、ステージ２０、処理基板４１及び露光マスクの挙動と帯電現象についての工程の一部を示す説明図である。
【図３】（ｅ）〜（ｆ）は、本発明の露光装置を用いた一連の露光工程において、ステージ２０、処理基板４１及び露光マスクの挙動と帯電現象についての工程の一部を示す説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｇ）は、露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図５】（ｈ）〜（ｌ）は、露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【図６】（ｍ）〜（ｐ）は、露光装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法の工程の一部を示す模式構成断面図である。
【符号の説明】
【００３１】
１０……光源部
２０……ステージ
２１……ステージピン
３０……制御手段
４１……処理基板
５１……露光マスク
６１……アライメントピン
１００……露光装置
１１１、１１２……透明基板
１２０ＢＬ、１２０Ｒ、１２０Ｇ、１２０Ｂ、１２０Ｓ……露光マスク
１２１……黒色感光性樹脂層
１２１ａ……ブラックマトリクス
１３０……着色フィルタ
１３１ｒ……赤色感光性樹脂層
１３１Ｒ……赤色フィルタ
１３２ｇ……緑色感光性樹脂層
１３２Ｇ……緑色フィルタ
１３３ｂ……青色感光性樹脂層
１３３Ｂ……青色フィルタ
１４１……透明電極
１５１……感光性樹脂層
１５１Ｓ……柱状スペーサ
２００……カラーフィルタ基板
【図１】
2007322630.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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