(57)【要約】【課題】フォトマスクを搬入出のために収納容器の上蓋を開閉するフォトマスクの収納容器の開閉装置において、垂直層流型クリーンルーム環境において、基板の清浄度を維持しながら開閉することを可能ならしめる開閉装置を提供すること。【解決手段】第１台座、第２台座と、装置の裏側に固着した支柱とその上部先端に上蓋把持治具と、上下昇降機構の第１シャフトと、前後スライド機構の第２シャフトとを備えた収納容器の開閉装置であり、第１シャフト上の第１台座上に収納容器を載置し、最上部位置に配置の上蓋把持治具に接する位置まで第１シャフトを上昇し、上蓋把持治具により上蓋を把持した後、上下昇降機構を介して第１シャフトを下降させながら第１台座及びベース部を第２シャフト上の第２台座に接する位置まで移動させ、第２台座上に載せ替えた後、前後スライド機構を介して第２台座を装置最前面部位置まで移動させるフォトマスクの収納容器の開閉装置。【選択図】図１
2007148070.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク、又はフォトマスクブランクスを収納、又は搬出するために収納容器の上蓋を開放及び密閉するフォトマスクの収納容器の開閉装置において、
フォトマスク、又はフォトマスクブランクスの収納容器を載置する第１台座及び第２台座と、装置の裏側側面に固定した支柱と、該支柱の上部先端に具備した上蓋つかみ機構の把持治具と、上下昇降機構の第１シャフトと、前後スライド機構の第２シャフトとを備えたフォトマスクの収納容器の開閉装置であって、
第１シャフト上に第１台座が配置され、開閉装置の最上部位置に配置した上蓋つかみ機構の把持治具に接する位置まで第１シャフトを上昇と、開閉装置の最下部位置まで下降との垂直移動の上下昇降機構の第１シャフトを配置し、
前記最上部位置と前記最下部位置の中間位置に前後スライド機構の第２シャフトが配置され、該前後スライド面と上下昇降ライン面との交差位置に第２台座を配置、該第２台座の後側面中央部と第２シャフトの先端とが固着されており、該第２シャフトの前後スライド機構を介して前記第２台座を前記交差位置から装置最前面部位置まで前進、又は後退のスライド移動の前後スライド機構の第２シャフトが配置され、
前記最上部位置まで上昇した第１シャフト上に第１台座を装着し、該第１台座にフォトマスクの収納容器を載置し、上蓋つかみ機構の把持治具によりフォトマスクの収納容器の上蓋を把持した後、第１シャフトを下降させながら第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を前記第２台座に接する位置まで移動させ、第２台座上に載せ替えた後、第２台座、第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を前記第２シャフトの前後スライド機構を介して前記装置最前面部位置まで移動させることを特徴とするフォトマスクの収納容器の開閉装置。
【請求項２】
前記上蓋つかみ機構は、把持した上蓋の開閉ロックを解除し、フォトマスクの収納容器の密封を開放する機能を有することを特徴とする請求項１記載のフォトマスクの収納容器の開閉装置。
【請求項３】
前記フォトマスクの収納容器は、標準規格であるＳＭＩＦ−ＰＯＤであることを特徴とする請求項１、又は２記載のフォトマスクの収納容器の開閉装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの収納容器の開閉装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクブランクス及びフォトマスクの製造工程において、フォトマスクブランクス及びフォトマスクへの塵埃、又は異物付着を防止するために、製造工程は、全てクリーンルーム環境内で行われている。
【０００３】
クリーンルーム環境内のフォトマスクの製造工程では、フォトプロセス法を用いてフォトマスクブランクスへ順番に加工処理が行われてフォトマスクを製造する。その製造工程でのフォトマスクブランクス及びフォトマスクは、工程パスラインから各製品パスラインを経由し、所定の装置内へ投入された後、所定の加工処理が施される。
【０００４】
フォトマスクブランクス及びフォトマスクは、装置内のパスライン以外はフォトマスクの収納容器、例えばＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に載置され、工程内の工程パスライン、例えば工程間及び装置間を移送されている。
【０００５】
工程パスラインから製品パスラインへの搬送では、フォトマスクの収納容器の自動移載機により製品パスライン内へ載置したあと、収納容器の上蓋の開閉ロックを解除し、フォトマスクの収納容器の密封を開放して、収納容器内からフォトマスク移載機を用いて装置内の製品パスラインへ搬送する方法である。
【０００６】
フォトプロセス法を用いたフォトマスクの製造工程では、所定のフォトマスクブランクスを用いて、当該フォトマスクブランクスをその製造又は処理及び検査装置へ持ち回り処理する方法であって、その持ち回り先及び経路では、遮光膜を形成した透明基板に感光性樹脂のレジストを塗布する塗布装置と、フォトマスクブランクスのレジストへマスクパターンを形成する描画装置、又はマスクを用いる縮小露光装置と、レジストパターンを形成する現像処理装置と、レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングするエッチング処理装置と、レジストパターンを剥膜する剥膜処理装置と、各々工程内検査装置と、工程又は装置間の搬送経路の工程パスライン及び製品パスラインと広範囲であり、拡大する方向である。そのため、クリーンルーム環境の領域が拡大するため、クリーンルームの設備費用及びクリーンルームの維持費用が増加する問題がある。また、クリーンルーム内の清浄度を高める場合では、その方法が複雑化する大工事化する問題がある。
【０００７】
一方、最近では、ミニエンバイロンメント方式（局所クリーン化方式）のクリーンルームが主流となっており、クリーンルーム内全て領域の清浄度を高めるのではなく、製品パスライン（装置内パスライン、ＳＭＩＦポッド（ＳＭＩＦ−ＰＯＤ）ケース内）の清浄度を局所的に高清浄度に維持する方式が採用されている。装置内パスラインでは、高清浄化のためその領域を拡大させずに、ＳＭＩＦ−ＰＯＤケース内に収納し搬送する領域を拡大する方向である。高清浄度の製品パスラインの周囲は、通常の清浄度の領域が近接する環境である。そのため、ＳＭＩＦ−ＰＯＤケース内へのフォトマスクの収納、又は搬出の頻度が増加し、収納、又は搬出時の上蓋の開閉方法又は開閉装置での環境汚染が発生する問題がある。
【０００８】
製品パスライン内では、高清浄度を維持するために、垂直層流方向にクリーンエアーの空気が制御されている。クリーンエアーの垂直層流は、高清浄なクリーンエアーを上部から一定速度で吹き出し、途中空間内の浮遊塵を拡散せずに下部の床面へ排出する役割であ
り、高清浄度を維持するために重要である。例えば、垂直層流内に乱流が生じると浮遊塵が攪拌され、前記乱流内は、浮遊塵が滞留し急激に清浄度を低下させる。特にフォトマスク、又はフォトマスクブランクスが乱流雰囲気に曝されることは、フォトマスク、又はフォトマスクブランクスの表面に浮遊塵が付着することであり、品質低下する問題がある（特許文献１参照）。
【０００９】
従来、フォトマスクの収納容器、ＳＭＩＦ−ＰＯＤの上蓋の開閉では、オープナーを用いることが一般的である。垂直層流型クリーンルーム、又はクリーブースにおいて、容器からフォトマスク、又はフォトマスクブランクス（以下フォトマスクと記す）を取り出す際に、従来のＳＭＩＦ―ＰＯＤケースのオープナー（以下開閉装置と記す）を使用すると、上蓋が上昇して開くので、上蓋が垂直層流のクリーンエアーの流れを遮断してしまい、基板の清浄度が維持できない状態となる。上蓋の開閉する従来の開閉装置では、環境汚染が発生する問題がある。
【００１０】
図４の（ａ）〜（ｂ）は、従来のフォトマスクの収納容器の開閉装置の開閉方法の説明図である。
【００１１】
図４（ａ）は、開閉装置上にフォトマスクの収納容器１を載置した状態である。クリーンエアー垂直層流は、上方３０から層流４０が下方向に流れ高清浄度を維持している。次いで、開閉装置の支柱４の先端に具備する上蓋把持治具５によりフォトマスクの収納容器の上蓋１３を把持し、収納容器の上蓋１３の開閉ロックを解除し、フォトマスクの収納容器の密封を開放する。図４（ａ）に示すように、収納容器１のクリーンエアーの上流では、正常な状態であり層流４０により高清浄度の環境が維持されている。
【００１２】
図４（ｂ）は、フォトマスクの収納容器の上蓋１３を把持したまま上蓋把持治具５は上昇する。次いで、上蓋把持治具が停止した後、開閉装置上のフォトマスクの収納容器のベース部１４内よりフォトマスク２０を搬入、又は搬出する。フォトマスクの収納容器の上蓋及び上蓋把持治具が上昇するので、垂直層流のクリーンエアーが直接フォトマスクにあたらず、フォトマスクの収納容器のベース部内及びフォトマスク表面の高清浄度が維持できない。すなわちフォトマスクの収納容器のベース部１４及びフォトマスク２０の上流側で、上蓋の上昇よる乱流５０を発生させ、浮遊塵の攪拌により一時的な清浄度の低下を生じフォトマスクの収納容器のベース部及びフォトマスクに塵埃、又は異物が付着する。図４（ｂ）に示すように、収納容器のベース部１４及びフォトマスク２０のクリーンエアーの上流では、異常な状態であり乱流５０により清浄度劣化の環境が一時的に発生している。
【００１３】
垂直層流型クリーンルーム、又はクリーブースでは、ベース部及びフォトマスクの上流、すなわち上面側では、發塵源を持ち込まず、且つ層流を維持することが重要となる。図４（ｂ）では、支柱及び上蓋把持治具が駆動により上昇するため、駆動の發塵源がベース部及びフォトマスクの上流にあり、且つ上蓋把持治具の上昇がベース部及びフォトマスクの上流で乱流する。
【００１４】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開平９−１８６０７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明の課題は、垂直層流型クリーンルーム環境において、基板の清浄度を維持しながら開閉することを可能ならしめる開閉装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の請求項１に係る発明は、フォトマスク、又はフォトマスクブランクスを収納、又は搬出するために収納容器の上蓋を開放及び密閉するフォトマスクの収納容器の開閉装置において、
フォトマスク、又はフォトマスクブランクスの収納容器を載置する第１台座及び第２台座と、装置の裏側側面に固定した支柱と、該支柱の上部先端に具備した上蓋つかみ機構の把持治具と、上下昇降機構の第１シャフトと、前後スライド機構の第２シャフトとを備えたフォトマスクの収納容器の開閉装置であって、
第１シャフト上に第１台座が配置され、開閉装置の最上部位置に配置した上蓋つかみ機構の把持治具に接する位置まで第１シャフトを上昇と、開閉装置の最下部位置まで下降との垂直移動の上下昇降機構の第１シャフトを配置し、
前記最上部位置と前記最下部位置の中間位置に前後スライド機構の第２シャフトが配置され、該前後スライド面と上下昇降ライン面との交差位置に第２台座を配置、該第２台座の後側面中央部と第２シャフトの先端とが固着されており、該第２シャフトの前後スライド機構を介して前記第２台座を前記交差位置から装置最前面部位置まで前進、又は後退のスライド移動の前後スライド機構の第２シャフトが配置され、
前記最上部位置まで上昇した第１シャフト上に第１台座を装着し、該第１台座にフォトマスクの収納容器を載置し、上蓋つかみ機構の把持治具によりフォトマスクの収納容器の上蓋を把持した後、第１シャフトを下降させながら第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を前記第２台座に接する位置まで移動させ、第２台座上に載せ替えた後、第２台座、第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を前記第２シャフトの前後スライド機構を介して前記装置最前面部位置まで移動させることを特徴とするフォトマスクの収納容器の開閉装置である。
【００１７】
本発明の請求項２に係る発明は、前記上蓋つかみ機構は、把持した上蓋の開閉ロックを解除し、フォトマスクの収納容器の密封を開放する機能を有することを特徴とする請求項１記載のフォトマスクの収納容器の開閉装置である。
【００１８】
本発明の請求項３に係る発明は、前記フォトマスクの収納容器は、標準規格であるＳＭＩＦ−ＰＯＤであることを特徴とする請求項１、又は２記載のフォトマスクの収納容器の開閉装置である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置を用いることにより、垂直層流型クリーンルーム内でＳＭＩＦ−ＰＯＤからフォトマスクを収納、及び搬出する際に、上蓋が垂直層流クリーンエアーの流れを遮断する、又は乱すことがないので、フォトマスクの清浄度を維持することができる。
【００２０】
本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置を用いれば、装置開閉時、ベース部及びフォトマスクの上流、すなわち上面側の装置の駆動部を動作停止することにより、發塵源を排除し、ベース部及びフォトマスクを下降させることにより、層流を維持できるため、ベース部及びフォトマスクの上流で層流のクリーンエアーを維持した環境下でフォトマスクの収納容器の上蓋を開閉するので、フォトマスク及びベース部内の清浄度を維持することができる。
【００２１】
本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置を用いれば、収納容器のベース部及びフォトマスクが終始清浄度を維持することができることにより、装置のパスラインへ高清浄度のままフォトマスクを供給するため、フォトマスクの品質低下を防止し、製造コストがより低減する効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置を一実施形態に基づいて以下説明する。
【００２３】
図１は、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の部分説明図であり、（ａ）は、側断面図であり、（ｂ）は、上面図である。
【００２４】
図１（ａ）に示すように、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置は、フォトマスク２０を収納容器１へ収納する、又は搬出するために、収納容器の上蓋を開放する、又は密閉する開閉装置である。フォトマスクの収納容器の開閉装置は、フォトマスクの収納容器を載置する第１台座２と、第２台座３とを装備し、装置の裏側側面に固定した支柱４と、該支柱の上部先端に上蓋つかみ機構の把持治具５を具備し、上下昇降機構の第１シャフト６と、前後スライド機構の第２シャフト７とを具備した構成からなる装置である。
【００２５】
前記第１シャフト６は、上下昇降機構を持ち、第１シャフト上に第１台座２が配置されている。前記第１シャフトは、開閉装置の最上部位置８までフォトマスクの収納容器１を上昇と、開閉装置の最下部位置１０まで下降との垂直移動の上下昇降ライン面の搬送機能を分担している。開閉装置の最上部位置８では、フォトマスクの収納容器の上蓋１３が支柱の上部先端に固着した上蓋つかみ機構の把持治具に接する位置９に設定している。従って、第１台座２上に載置したフォトマスクの収納容器１は、第１シャフトの上下昇降機構を介して開閉装置の最上部位置から最下部位置の近傍までの上下昇降ライン面を搬送される。
【００２６】
前記第２シャフト７は、前記最上部位置８と前記最下部位置１０の中間位置に配置され前後スライド機構を持ち、第２シャフト７上の前後スライド面と上下昇降ライン面との交差位置１１に第２台座３が配置されている。第２台座３は、後側面中央部と第２シャフト７の先端とが固着されており、第２シャフト７は、前記交差位置１１から装置最前面部位置１２までスライド移動の前後スライド面の搬送機能を分担している。従って、図１（ｂ）に示すように、第２台座３上に載置したフォトマスクの収納容器は、前後スライド機構を介して開閉装置の交差位置１１から装置最前面部位置１２までの前後スライド面を搬送される。
【００２７】
前記交差位置１１では、第１台座２を装着した第１シャフト６は、上下昇降ライン面と交差し、さらに最下部位置１０まで降下し停止する。一方第２シャフト７は、交差位置に第２台座３を載置し、第１シャフト６の交差位置までの降下を待機する。次いで、第１シャフト６が交差位置に降下すると、第２シャフト７上に載置した第２台座３上に第１台座２を載置し、第１シャフト６は第１台座２を切り離し、第２シャフト７及び第２台座３面の共通開口部を貫通して第１シャフト６は最下部位置１０まで降下し停止する。すなわち、第１シャフト６面の形状は、第２シャフト及び第２台座面の共通開口部を貫通可能な形状に工夫され、第１シャフト６面の大きさは、第２シャフト及び第２台座面の内側、すなわち小さい形状になるように工夫されている。そのため、第１シャフト６の降下時、交差位置で、第１台座２を載せ替えて、第１シャフト６のみ降下する。
【００２８】
フォトマスクの収納容器の開閉装置では、前記最上部位置まで上昇した第１シャフト６上に第１台座２を装着し、該第１台座２にフォトマスクの収納容器を載置し、上蓋つかみ機構の把持治具５によりフォトマスクの収納容器の上蓋１３を把持した後、第１シャフトを下降させながら第１台座２及びフォトマスクの収納容器のベース部１４を前記第２台座３に接する位置まで移動させ、第２台座３上に載せ替えた後、第２台座３、第１台座２及びフォトマスクの収納容器のベース部１４を前記第２シャフトの前後スライド機構を介して前記装置最前面部位置１２まで移動させ、該位置で収納容器内からフォトマスク１０を
搬出する、又は収納容器内へ搬入することができる。
【００２９】
本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の開閉動作において、フォトマスクの収納容器の密封を開放した後では、フォトマスクの収納容器のベース部１４及びフォトマスク１０の上流側は、駆動部品を完全に排除した状態で開閉動作を継続し、且つ配置部品の移動を完全に排除した状態で開閉動作を継続し、發塵源及び乱流がない高清浄な環境で開閉することが可能となり、フォトマスク及びベース部内の清浄度を維持することができる。
【００３０】
図２は、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の動作フロー図である。
【００３１】
フォトマスクの収納容器の開閉装置の動作は、工程パスラインのステージから製品パスラインの投入ステージへフォトマスクを投入するための一連の手順のうち、フォトマスクの収納容器内から収納したフォトマスクを搬出する手順を実行する。
【００３２】
（ａ）は、装置外の収納容器移載機を介して、装置外から装置最前面部位置の第２台座上の第１台座上にフォトマスクの収納容器を載置する。収納容器の載置位置は、装置最前面部位置であり、フォトマスクの収納容器の開閉装置の収納容器の搬入位置でもあり、開閉装置の搬出位置でもある。従って、フォトマスクの収納容器の開閉装置では、収納容器の搬出入は自動化されている。
【００３３】
（ｂ）は、第２シャフトの前後スライド機構を介して、第２台座及び第１台座上のフォトマスクの収納容器を装置最前面部位置から交差位置まで後退するスライド移動をする。前記スライド移動した後、第２シャフト上に第２台座及び第１台座上にフォトマスクの収納容器を載置した状態（以下第２シャフト／第２台座／第１台座／収納容器と記す）で交差位置に停止する。
【００３４】
（ｃ）は、第１シャフトの上下昇降機構を介して、交差位置で第２台座上から第１台座及びフォトマスクの収納容器を切り離し、第１台座及びフォトマスクの収納容器を交差位置から最上部位置まで上昇する垂直移動をする。前記垂直移動しながら、第１シャフト／第１台座／収納容器で交差位置を通過する。なお、交差位置の第２シャフト／第２台座／第１台座／収納容器に下側から第１シャフトが上昇し、交差位置で第１台座の裏面に接して第１シャフトへの載せ替える。すなわち、交差位置には、第２シャフト／第２台座が停止し、交差位置の上方へ第１シャフト／第１台座／収納容器が上昇しながら、最上部位置に停止する。
【００３５】
（ｄ）は、最上部位置で上蓋つかみ機構の把持治具を介して、フォトマスクの収納容器の上蓋を把持し、フォトマスクの収納容器のベース部とその上蓋との密封を解除する。フォトマスクの収納容器は、上蓋とベース部からなる構造の収納容器であり、ベース部内にフォトマスクを収納する構造で、上蓋とベース部の接触面はパッキング材により密封する構造である。ベース部とその上蓋との密封を解除は、収納容器の下側より機械式で開閉するロックを外す方法である。
【００３６】
（ｅ）は、第１シャフトの上下昇降機構を介して、第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を最上部位置から交差位置まで下降する垂直移動し、第２台座上に第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を載置する。前記垂直移動した後、最上部位置には把持治具／上蓋があり、交差位置には、第２シャフト／第２台座／第１台座／収納容器のベース部が停止し、第１シャフトは最下部位置に停止する。
【００３７】
（ｆ）は、第２シャフトの前後スライド機構を介して、第２台座及び第１台座上のフォトマスクの収納容器のベース部を交差位置から装置最前面部位置まで前進するスライド移
動をする。前記スライド移動した後、第２シャフト／第２台座／第１台座／ベース部は装置最前面部位置に停止する。
【００３８】
（ｇ）は、装置外のフォトマスク移載機を介して、装置最前面部位置でフォトマスクの収納容器ベース部内よりフォトマスクを搬入する、又は搬出する。すなわち、ベース部のフォトマスクを収納の場合は、フォトマスクを搬出し、製品ラインラインへ投入する。ベース部のみの場合は、準備したフォトマスクをベース部内へ収納する。
【００３９】
（ｈ）は、第２シャフトの前後スライド機構を介して、第２台座及び第１台座上のフォトマスクの収納容器のベース部を装置最前面部位置から交差位置まで後退するスライド移動をする。前記スライド移動した後、第２シャフト／第２台座／第１台座／ベース部を交差位置に停止する。
【００４０】
（ｉ）は、第１シャフトの上下昇降機構を介して、交差位置で第２台座上から第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を切り離し、第１台座及びフォトマスクの収納容器のベース部を交差位置から最上部位置まで上昇する垂直移動をする。垂直移動した後、第１シャフト／第１台座／ベース部を最上部位置に停止し、第２シャフト／第２台座は交差位置に停止する。
【００４１】
（ｊ）は、最上部位置で上蓋つかみ機構の把持治具を介して、把持したフォトマスクの収納容器の上蓋をフォトマスクの収納容器のベース部へ戻し、フォトマスクの収納容器のベース部と上蓋とを密閉し、フォトマスクの収納容器から把持治具を開放する。前記ベース部と上蓋とを密閉した後、最上部位置に第１シャフト／第１台座／収納容器を停止し、把持治具は開放する。
【００４２】
（ｋ）は、第１シャフトの上下昇降機構を介して、第１台座及びフォトマスクの収納容器を最上部位置から交差位置まで下降する垂直移動し、第２台座上に第１台座及びフォトマスクの収納容器を載置する。前記垂直移動した後、第２シャフト／第２台座／第１台座／収納容器を交差位置に停止し、第１シャフトは、最下部位置に停止する。
【００４３】
（ｌ）は、第２シャフトの前後スライド機構を介して、第２台座及び第１台座上のフォトマスクの収納容器を交差位置から装置最前面部位置まで前進するスライド移動をする。前記スライド移動した後、第２シャフト／第２台座／第１台座／収納容器を装置最前面部位置に停止する。
【００４４】
（ｍ）は、装置外の収納容器移載機を介して、装置最前面部位置で第２台座上の第１台座上からフォトマスクの収納容器を装置外へ移載する。
【００４５】
以上（ａ）〜（ｍ）により、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置にて、装置外の収納容器移載機により装置内の装置最前面部位置へ載置されたフォトマスクの収納容器からフォトマスクの収納容器の上蓋を開放し、フォトマスクの収納容器のベース部内へ装置外のフォトマスク移載機によりフォトマスクを搬入、又は搬出することを自動化することができる。
【００４６】
本発明の開閉装置の動作フロー（図２（ａ）〜（ｍ）参照）では、複数の動作フローの変更例が準備されている。例えば、図２（ａ）と（ｉ）〜（ｍ）まで、すなわち（ｂ）〜（ｈ）の動作フローを省略した。この動作フローは、開閉の動作時間が短縮される利点があり、装置外からのフォトマスクの収納容器の載置場所が装置最前面位置から最上部位置に変更され、直接、最上部位置に載置する。なお、実施例１では、直接、最上部位置に載置する方法を採用した実施例である。
【００４７】
図３（ａ）〜（ｆ）は、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の実施例１の開閉方法の説明図である。以下に本発明の実施例を説明する。なお、実施例１では、フォトマスクの収納容器は、ＳＭＩＦ―ＰＯＤを用いた。装置外の収納容器移載機は、開閉装置の最上部位置に直接移載出来る位置に配置し、最上部位置で台座１上に載置した。また、装置外のフォトマスク移載機は、装置最前面部位置に配置した。
【実施例１】
【００４８】
図３（ａ）は、装置外の収納容器移載機を介して、最上部位置まで移動した第１台座２上にＳＭＩＦ―ＰＯＤ１を載置した。ＳＭＩＦ―ＰＯＤ内にはフォトマスクブランクスを収納した。なお、ＳＭＩＦ―ＰＯＤ１は、上蓋１３とベース部１４からなる収納容器である。
【００４９】
図３（ｂ）は、最上部位置で上蓋つかみ機構の把持治具を介して、ＳＭＩＦ―ＰＯＤの上蓋１３を把持し、ＳＭＩＦ―ＰＯＤの収納容器のベース部とその上蓋との密封を解除した。
【００５０】
図３（ｃ）は、第１シャフトの上下昇降機構を介して、第１台座２及びＳＭＩＦ―ＰＯＤのベース部１４を最上部位置から交差位置まで下降する垂直移動した。
【００５１】
図３（ｄ）は、第２台座３上に第１台座２及びＳＭＩＦ―ＰＯＤのベース部１４を載置した。
【００５２】
図３（ｅ）は、第２シャフト７の前後スライド機構を介して、第２台座３及び第１台座２上のＳＭＩＦ―ＰＯＤのベース部１４を交差位置から装置最前面部位置まで前進するスライド移動をし、装置最前面部位置に載置した。
【００５３】
図３（ｆ）は、装置外のフォトマスク移載機を介して、装置最前面部位置のＳＭＩＦ―ＰＯＤのベース部１４内よりフォトマスクブランクスを搬出し、次工程の装置、例えばＥＢ描画装置へライン移送した。以上（ａ）〜（ｆ）によりＳＭＩＦ―ＰＯＤ内フォトマスクブランクスを本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置を用いて次工程のＥＢ描画装置へライン移送した。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】（ａ）〜（ｂ）は、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の説明図である。
【図２】本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の動作フロー図である。
【図３】（ａ）〜（ｆ）は、本発明のフォトマスクの収納容器の開閉装置の一実施例の開閉方法の説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｂ）は、従来のフォトマスクの収納容器の開閉装置の開閉方法の説明図である。
【符号の説明】
【００５５】
１…フォトマスク、又はフォトマスクブランクスの収納容器（フォトマスク収納容器）
２…第１台座
３…第２台座
４…支柱
５…上蓋つかみ機構の把持治具（上蓋把持治具）
６…（上下昇降機構の）第１シャフト
７…（前後スライド機構の）第２シャフト
８…（開閉装置の）最上部位置
９…把持治具に接する位置
１０…（開閉装置の）最下部位置
１１…（前後スライド面と上下昇降ライン面との）交差位置
１２…装置最前面部位置
１３…収納容器の上蓋（上蓋）
１４…収納容器のベース部（ベース部）
２０…フォトマスク、又はフォトマスクブランクス（フォトマスク）
３０…ＵＬＰＡフィルタ
４０…層流
５０…乱流
【図１】
2007148070.tif 000003
【図２】
2007148070.tif 000004
【図３】
2007148070.tif 000005
【図４】
2007148070.tif 000006