(57)【要約】【課題】高い光学的性能および接着性を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯による画面周辺部における光漏れを改善した偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置の提供。【解決手段】偏光子の両側に保護膜を有し、該保護膜の一方が少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、且つ該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶性化合物を少なくとも１種含有する偏光板の少なくとも片面に、多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基を含有する特定の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）、及び多官能性化合物（Ｂ）からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有して形成され、且つ特定のゲル分率を有する粘着層が塗設された偏光板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方が少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶性化合物を少なくとも１種含有し、且つ該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ）（ａ1）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ2）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ3）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ2）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ3）が、該モノマー（ａ1）と化合物（ａ2）の和１００質量部に対して１０質量部以下である共重合体１００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ3）の官能基と反応して、架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする偏光板。
【請求項２】
偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方が少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶性化合物を少なくとも１種含有し、且つ該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ1）（ａ11）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ12）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ13）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ11）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ12）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ13）が、該モノマー（ａ11）と化合物（ａ12）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１００万以上である共重合体１００質量部、
（Ａ2）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ21）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ22）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ23）が、該モノマー（ａ21）と化合物（ａ22）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１０万以下である共重合体２０〜２００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）の官能基と反応して架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であり、さらに（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）及び（Ａ2）における官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量が、下記数式（１）で定義される官能基分配率０〜１５質量％を満足することを特徴とする偏光板。
数式（１）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００。
【請求項３】
前記粘着層における、前記（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）、（Ａ１）、または（Ａ２）のガラス転移温度が０℃以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記偏光膜の少なくとも２層の光学異方性層を有する側とは反対側の保護膜が、光学異方性層を有する位相差板であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】
前記偏光膜の少なくとも２層の光学異方性層を有する側とは反対側の保護膜が、少なくとも1種の液晶性化合物を含有する光学異方性層からなる位相差板であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項６】
前記粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積を貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が４０μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の偏光板。
【請求項７】
前記粘着層の無アルカリガラス板に対する２５℃の雰囲気下における９０°剥離接着力が１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の偏光板。
【請求項８】
前記粘着層の無アルカリガラス板に対する７０℃の雰囲気下で５時間処理した後の９０°剥離接着力が０〜９０℃のいずれの測定温度においても１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の偏光板。
【請求項９】
前記粘着層の２５℃における弾性率が０．０８ＭＰa以上であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１０】
前記粘着層の９０℃における弾性率が０．０６ＭＰa以上であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１１】
前記粘着層の剪断弾性率が０．１ＧＰa〜１００ＧＰaであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１２】
前記粘着剤のゲル分率が６０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１３】
前記粘着層の厚みが５〜３０μｍであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１４】
前記位相差板のＮｚを下記数式（２）のように定義したときに、前記Ｎｚが０より小さいことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の偏光板。
数式（２）：Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ  
ここで、Ｒｅ、Ｒｔｈは、位相差板の面内のレタデーション値、厚み方向のレタデーション値を表す。
【請求項１５】
前記光学異方性層が、ディスコティック液晶性化合物を含有する第１の光学異方性層と、棒状液晶性化合物を含有する第２の光学異方性層を有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記第１の光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、前記棒状液晶性化合物の長軸方向が前記第２の光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されている請求項１〜１４のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１６】
偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方に少なくとも１種の液晶性化合物を含有した光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ）（ａ1）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ2）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ3）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ2）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ3）が、該モノマー（ａ1）と化合物（ａ2）の和１００質量部に対して１０質量部以下である共重合体１００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ3）の官能基と反応して、架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする偏光板。
【請求項１７】
偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方に少なくとも１種の液晶性化合物を含有した光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ1）（ａ11）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ12）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ13）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ11）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ12）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ13）が、該モノマー（ａ11）と化合物（ａ12）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１００万以上である共重合体１００質量部、
（Ａ2）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ21）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ22）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ23）が、該モノマー（ａ21）と化合物（ａ22）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１０万以下である共重合体２０〜２００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）の官能基と反応して架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であり、さらに（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）及び（Ａ2）における官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量が、下記数式（１）で定義される官能基分配率０〜１５質量％を満足することを特徴とする偏光板。
数式（１）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００。
【請求項１８】
前記粘着層における、前記（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）、（Ａ１）、または（Ａ２）のガラス転移温度が０℃以下であることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の偏光板。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の偏光板と、液晶セルとを含む液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、透過型液晶表示装置、ＧＨ−ＬＣＤ、ＰＳ変換素子、光ディスクの書き込み用のピックアップ、輝度向上膜または反射防止膜に利用されるλ／４板として有効な位相差板を保護膜として含む偏光板において、高い接着性を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯における画面周辺部における偏光板の収縮応力に起因する光漏れを改良した偏光板およびこれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
λ／４板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子に使用されている。それらに現在使用されている大部分のλ／４板は、ポリマーフィルムを延伸することで光学異方性を発現させた位相差板である。ポリマーフィルムの光学的な向きは、一般にシート状あるいはロール状フィルムの縦方向または横方向に相当するものであり、シートあるいはロールの斜め方向に光軸や遅相軸を有するポリマーフィルムは、製造が非常に困難である。位相差板を使用する場合の多くは、偏光板の透過軸に対して、平行でも直交でもない角度に配置される。また、２枚以上の位相差板と偏光板を各々が平行でも直交でもない角度に配置される場合も多い。一般に、偏光板の透過軸はロール状フィルムに対して直交方向であるため、位相差板と偏光板を貼り合わせるためには、それぞれのフィルムを所定の角度にカットして、得られるチップを貼り合わせる必要がある。チップの貼り合わせで位相差板と偏光板の積層体を製造する場合、粘着剤の塗布工程や、チップカットあるいはチップの貼り合わせ工程が必要となり、貼り合わせ処理が問題となることがある。この貼り合わせが正確でないと、軸ズレによる品質低下が起きやすく、歩留まりが低下し、コストが増大し、汚染による劣化も起きやすい。
【０００３】
また、ポリマーフィルムでは、三次元方向の屈折率異方性の発現が、延伸倍率、温度、延伸速度、ポリマーの分子量のような様々な条件に影響を受ける。そのため、ポリマーフィルムの光学異方性を精密に制御することが難しい。
【０００４】
かかる問題を解決するため、偏光板の保護膜として使われるセルロースアシレートフィルムにディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を含有する塗布液を塗布し、所定の方向に配向させることで光学異方性を発現させ、ロール状フィルムに対して平行でも直交でもない角度に遅相軸を有する位相差板が提案されている（特許文献１、２）。また、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面に対して実質的に垂直になるように配向固定化された位相差板が開示されている（特許文献３〜６）おり、この位相差板を偏光板に別途張り合わせるのではなく、直接偏光板の保護膜に使用することで液晶表示パネルの製造工程の減少および薄層化を実現することができる。
【０００５】
上述の文献に開示されている方法は、安価で且つ薄い液晶表示装置が得られる点で有効である。しかしながら、近年、液晶表示装置は大型化、高輝度化が急速に進んでおり、偏光板の収縮応力による黒表示時の画面周辺部における光漏れが問題となってきている。偏光板は環境の温湿度の変化により収縮しようとするが、粘着層により液晶セルに固定されているため、偏光板の保護膜、粘着層及び液晶セルのガラス基板に局所的（特に画面周辺部）に応力が発生し、それぞれの光弾性による複屈折の変化により光漏れが生じる。
【０００６】
偏光板を貼り付けた液晶セルを高温下で処理した場合には、偏光板中の水分が放出されることによって偏光板の収縮が大きく、高温処理中及び高温処理から常温常湿下に取り出した直後に光漏れが強く発生する。その後偏光板を常温常湿下で放置すると、偏光板が水分を吸収し偏光板の収縮力が減少するのに伴い光漏れも弱くなる。なお常温常湿下であっても、バックライトを連続点灯すると偏光板の温度が上昇し、高温処理と同様の光漏れが発生する。
【０００７】
偏光板を貼り付けた液晶セルを高温高湿下で処理した場合には、偏光板が水分を吸収し、常温常湿下に放置することで偏光板中の水分が放出されることにより偏光板の収縮力が増大する。この収縮力の増大に伴い光漏れが強くなる。
そのため、このような温湿度変化や連続点灯による画面周辺部における光漏れの改善が要望されている。
【０００８】
ＴＮモードでは偏光板を液晶セルに貼合する粘着剤を柔らかくし、光学補償フィルムにかかる収縮応力を緩和することにより、上記のような光漏れを改善してきている。特許文献７〜９では粘着剤のクリープ値を大きくすることにより、収縮応力を緩和することが開示されている。
【０００９】
その他にも、収縮応力緩和のために偏光板または光学補償フィルムを液晶セルに貼合する粘着剤の各種の弾性率を小さくすることが開示されている。例えば、緩和弾性率（特許文献１０）、弾性率（特許文献１１〜１４）、剪断弾性率（特許文献１５）のようなものが挙げられる。
【００１０】
上記のような収縮応力を緩和させる粘着剤とするために、特許文献１６に開示されるように偏光板または光学補償フィルムを液晶セルに貼合する粘着剤のゲル分率は小さくすることが有効と考えられている。
【００１１】
また、従来は上記のような応力緩和をさせるために粘着剤を柔らかくすると共に、特許文献１７〜１９で開示されるように偏光板にリワーク性を付与するために、粘着剤の接着力を弱く設計していた。
【特許文献１】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献２】特開２００４−５３８４１号公報
【特許文献３】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献４】特開２０００−５６３１０号公報
【特許文献５】特開２０００−１０４０７３号公報
【特許文献６】特開２０００−１０５３１６号公報
【特許文献７】特開２００１−２７２５４１号公報
【特許文献８】特開２００３−５０３１３号公報
【特許文献９】特開２００１−３５００２０号公報
【特許文献１０】特開平１１−５２１３３号公報
【特許文献１１】特開２００１−２７２５４２号公報
【特許文献１２】特開２０００−３２１９９２号公報
【特許文献１３】特開２０００−１６２５８４号公報
【特許文献１４】特開２０００−１５５２１５号公報
【特許文献１５】特開２００１−２７２５４４号公報
【特許文献１６】特開２０００−１５５２１３号公報
【特許文献１７】特開平１１−２５８４１９号公報
【特許文献１８】特開２０００−９９７３号公報
【特許文献１９】特開２００４−７８１７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、高い光学的性能および接着性を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯による画面周辺部における光漏れを改善した偏光板および該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することである。さらには、高い光学補償機能を有しつつ、温湿度変化や液晶表示装置の連続点灯による画面周辺部における光漏れを改善したλ／４板として有効な位相差板を保護膜として含む偏光板および該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、鋭意検討した結果、偏光板の収縮に起因する偏光板の保護膜および粘着層にかかる応力を、偏光板を液晶セルのガラス板に貼り付ける側に設けられる粘着層を特定の組成とすることで抑制することができ、高い接着性を有しつつ、温湿度変化や連続点灯による画面周辺部における光漏れが改善できることを見出した。また、液晶セル表裏の偏光板の吸収軸が互いに直交しており、かつ吸収軸が液晶セルの長辺または短辺に平行な液晶表示装置においては、液晶セル表裏の偏光板の吸収軸が互いに直交しており、かつ吸収軸が液晶セルの長辺または短辺と４５度をなす液晶表示装置とは異なり、偏光子の収縮応力に起因する画面周辺部の光漏れは、偏光板を液晶セルのガラス板に貼り付ける粘着層を硬くすることにより改善できることを見出した。さらに、液晶表示装置のバックライト表面の温度が液晶表示装置の連続点灯時の画面周辺部の光漏れに関連していることを突き止め、表面温度が４０℃以下のバックライトを用いることで、連続点灯時の画面周辺部の光漏れを改善できることを見出した。
【００１４】
すなわち、本発明は、下記構成の偏光板及び液晶表示装置であり、これにより本発明の上記目的が達成される。
（１）偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方が少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶性化合物を少なくとも１種含有し、且つ該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ）（ａ1）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ2）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ3）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ2）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ3）が、該モノマー（ａ1）と化合物（ａ2）の和１００質量部に対して１０質量部以下である共重合体１００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ3）の官能基と反応して、架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする偏光板。
（２）偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方が少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶性化合物を少なくとも１種含有し、且つ該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ1）（ａ11）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ12）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ13）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ11）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ12）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ13）が、該モノマー（ａ11）と化合物（ａ12）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１００万以上である共重合体１００質量部、
（Ａ2）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ21）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ22）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ23）が、該モノマー（ａ21）と化合物（ａ22）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１０万以下である共重合体２０〜２００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）の官能基と反応して架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であり、さらに（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）及び（Ａ2）における官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量が、下記数式（１）で定義される官能基分配率０〜１５質量％を満足することを特徴とする偏光板。
数式（１）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００。
（３）前記粘着層における、前記（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）、（Ａ１）、または（Ａ２）のガラス転移温度が０℃以下であることを特徴とする上記１又は２に記載の偏光板。
（４）前記偏光膜の少なくとも２層の光学異方性層を有する側とは反対側の保護膜が、光学異方性層を有する位相差板であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光板。
（５）前記偏光膜の少なくとも２層の光学異方性層を有する側とは反対側の保護膜が、少なくとも1種の液晶性化合物を含有する光学異方性層からなる位相差板であることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光板。
（６）前記粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積を貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が４０μｍ未満であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の偏光板。
（７）前記粘着層の無アルカリガラス板に対する２５℃の雰囲気下における９０°剥離接着力が１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の偏光板。
【００１５】
（８）前記粘着層の無アルカリガラス板に対する７０℃の雰囲気下で５時間処理した後の９０°剥離接着力が０〜９０℃のいずれの測定温度においても１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることを特徴とする上記（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（９）前記粘着層の２５℃における弾性率が０．０８ＭＰa以上であることを特徴とする上記（１）〜（８）のいずれかに記載の偏光板。
（１０）前記粘着層の９０℃における弾性率が０．０６ＭＰa以上であることを特徴とする上記（１）〜（９）のいずれかに記載の偏光板。
（１１）前記粘着層の剪断弾性率が０．１ＧＰa〜１００ＧＰaであることを特徴とする上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の偏光板。
（１２）前記粘着剤のゲル分率が６０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の偏光板。
（１３）前記粘着層の厚みが５〜３０μｍであることを特徴とする上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の偏光板。
（１４）前記位相差板のＮｚを下記数式（２）のように定義したときに、前記Ｎｚが０より小さいことを特徴とする上記（１）〜（１３）のいずれかに記載の偏光板。
数式（２）：Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ  
ここで、Ｒｅ、Ｒｔｈは、それぞれ、位相差板の面内のレタデーション値、厚み方向のレタデーション値を表す。
（１５）前記光学異方性層が、ディスコティック液晶性化合物を含有する第１の光学異方性層と、棒状液晶性化合物を含有する第２の光学異方性層を有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記第１の光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、前記棒状液晶性化合物の長軸方向が前記第２の光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されている上記（１）〜（１４）のいずれかに記載の偏光板。
【００１６】
（１６）偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方に少なくとも１種の液晶性化合物を含有した光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ）（ａ1）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ2）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ3）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ2）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ3）が、該モノマー（ａ1）と化合物（ａ2）の和１００質量部に対して１０質量部以下である共重合体１００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ3）の官能基と反応して、架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であることを特徴とする偏光板。
（１７）偏光膜の両側に保護膜を有する偏光板であって、該保護膜の一方に少なくとも１種の液晶性化合物を含有した光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含有し、前記ディスコティック液晶性化合物の円盤面が前記光学異方性層面に対して実質的に垂直になるように配向状態が固定化されており、該偏光板の少なくとも片面に粘着層を有し、該粘着層が
（Ａ1）（ａ11）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ12）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ13）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ11）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ12）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ13）が、該モノマー（ａ11）と化合物（ａ12）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１００万以上である共重合体１００質量部、
（Ａ2）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー、（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物、及び、（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー、からなる（メタ）アクリル系共重合体であって、モノマー単位の質量比で（メタ）アクリル酸エステル（ａ21）が７５質量部以上で、ビニル基を有する化合物（ａ22）が２５質量部以下であって、且つ官能基含有モノマー（ａ23）が、該モノマー（ａ21）と化合物（ａ22）の和１００質量部に対して１０質量部以下で、質量平均分子量が１０万以下である共重合体２０〜２００質量部、並びに
（Ｂ）官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）の官能基と反応して架橋構造を形成可能な官能基を分子内中に少なくとも２個有する多官能性化合物０．０１〜１．５質量部、からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を含有する粘着剤が塗設されて形成されており、さらに該粘着剤のゲル分率が４０質量％以上９０質量％以下であり、さらに（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）及び（Ａ2）における官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量が、下記数式（１）で定義される官能基分配率０〜１５質量％を満足することを特徴とする偏光板。
数式（１）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００。
（１８）前記粘着層における、前記（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）、（Ａ１）、または（Ａ２）のガラス転移温度が０℃以下であることを特徴とする上記（１６）又は（１７）に記載の偏光板。
（１９）上記（１）〜（１８）のいずれか１項に記載の偏光板と、液晶セルとを含む液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の偏光板および液晶表示装置は、温湿度変化又は液晶示装置の連続点灯時の黒表示の画面周辺部における光漏れが改善される。さらには、高い光学補償機能を有するλ／４板として有効な位相差板を保護膜として含む偏光板が得られる。また、視野角補償効果に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
なお本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１９】
また、「直交」とは、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５°未満であることが好ましく、±２°未満であることがより好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５°未満であることが好ましく、±１０°未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、フィルム面内で屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率およびレタデーションの測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００２０】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、ある波長λｎｍにおける面内のレタデーションおよび厚さ方向のレタデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレタデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレタデーション値の計３つの方向で測定したレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨを算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。
【００２１】
＜粘着層＞
まず、本発明に関する粘着層について説明する。
液晶表示装置を高温下に放置した場合、高温高湿から低温低湿へ環境を変化させた場合、連続してバックライトを表示させた場合などには、偏光板の寸法変化が生じ、この寸法変化に伴い、粘着層の発泡や、液晶セルなどの被着体からのハガレが生じやすくなる。従来の粘着層は、粘着剤の分子量を上げたり、架橋度を上げたりして、粘着層を上記のような過酷な条件下における使用に耐えるように改良されている。
【００２２】
一方、液晶表示装置の表示モードのひとつであるＴＮモードのように液晶セル表裏の偏光板の吸収軸が互いに直交しており、かつ吸収軸が液晶セルの長辺または短辺と４５度をなす液晶表示装置においては、偏光板の長期間の使用での偏光板の寸法変化によって生ずる内部応力が、偏光板周縁部に集中することによる液晶表示装置の画面周辺部の光漏れが生じることが問題となってきた。この光漏れは偏光板の寸法変化による内部応力を緩和することで改善することができ、このような緩和は粘着層を偏光板の寸法変改に追随させることにより実現されてきた。
【００２３】
ところが、ＶＡモードのような液晶セル表裏の偏光板の吸収軸が互いに直交しており、かつ吸収軸が液晶セルの長辺または短辺と平行な液晶表示装置偏光板では、偏光子の収縮応力に起因する画面周辺部の光漏れは、逆に偏光板を液晶セルのガラス板に貼り付ける粘着層を硬くすることにより改善できることが明らかとなった。
【００２４】
しかし上記のように粘着層を硬くすると、粘着力が低下し過酷な条件下において発生する発泡やハガレが生じる。今回本発明の発明者らは粘着層を三次元架橋（ゲル化）することで粘着層を硬くし、偏光板の寸法変化を防止した上で、ホモポリマーとした場合のＴｇが低い、つまり柔らかい（メタ）アクリル酸エステルを使用することで粘着力も確保出来ることを見出した。また、上記のような接着性能と硬さのバランスは分子量分布（高分子量成分と低分子量成分の比）、共重合体を構成するモノマー成分（低Ｔｇ、高Ｔｇ）の構成比、三次元架橋の程度（ゲル分率）により調整できる。
【００２５】
〔（メタ）アクリル系共重合体：（Ａ）｛並びにＡ1およびＡ2｝〕
（ａ1）（ａ11）（ａ21）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマー
内部応力を緩和させるためには、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルモノマーを使用する。好ましくは−４０℃未満であり、更に好ましくは−５０℃未満のものを使用することである。Ｔｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステルとしては、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘプチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−ノニルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、エトキシメチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、３−エトキシプロピルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−ノニルメタクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、ｎ−ウンデカシルメタクリレート、ｎ−ドデシルメタクリレート、ｎ−ドリデシルメタクリレート等が挙げられる。
【００２６】
（ａ2）（ａ12）（ａ22）ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物
ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃以上のビニル化合物としては、メチルアクリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、ｎ−ウンデカシルアクリレート、ｎ−ドデシルアクリレート、ｎ−トリデシルアクリレート、ｎ−テトラデシルアクリレート、ｎ−ペンタデシルアクリレート、ｎ−ヘキサデシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｉ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ヘプチルメタクリレート、ｎ−テトラデシルメタクリレート、ｎ−ペンタデシルメタクリレート、ｎ−ヘキサデシルメタクリレート等の（メタ）アクリレートが挙げられる。その他のビニル化合物として、酢酸ビニル、スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド及びＮ−メチルアクリルアミドなどを挙げることができる。
【００２７】
［Ｔｇの測定］
ホモポリマーとした場合のＴｇの測定は、示差熱走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、ＴＡ  Ｉｎｓｔｕｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて行った。アルミニウム製のパンにポリマーを入れ、−１６０℃から＋１００℃まで１０℃／ｍiｎで昇温し、その後＋１００℃から−１６０℃まで１０℃／ｍiｎで降温し、降温過程のデータからＴｇを求めた。
【００２８】
本発明では、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の、上記の（メタ）アクリル酸エステルから誘導される繰り返し単位ＲＵSと、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物から誘導される繰り返し単位ＲＵHの割合は、モノマー単位の質量比で、ＲＵS７５質量部以上でＲＵH２５質量部以下である。ＲＵS１００質量部でＲＵH０質量部であってもよいが、本発明では、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の上記の（メタ）アクリル酸エステルと、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物の共重合体とすることが好ましい。これにより粘着層の凝集性を高め、粘着性、耐水性、透明性、加工性などの粘着層の性能を向上することができる。
さらには、ＲＵS８５質量部以上でＲＵH１５質量部以下であることが好ましく、ＲＵS９５質量部以上でＲＵH５質量部以下であることが最も好ましい。
【００２９】
（ａ3）（ａ13）（ａ23）多官能性化合物（Ｂ）に対して反応性を有する官能基含有モノマー
多官能性化合物に対して反応性を有する官能基含有モノマーの例としては、（メタ）アクリル酸、β−カルボキシエチルアクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸及びマレイン酸ブチルなどのカルボキシル基を含有するモノマー；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びアリルアリコールなどの水酸基を含有するモノマー；アミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート及びビニルピリジンなどのアミノ基を含有するモノマー；グリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ基を含有するモノマー及びアセトアセトキシエチル（メタ）アクリレートなどのアセトアセチル基を含有するモノマーなどを挙げることができる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、カルボキシル基を含有するモノマー及び水酸基を含有するモノマーが好ましい。
【００３０】
本発明における、粘着層を形成する（メタ）アクリル系共重合体の組成物の主要成分としての（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛及び後述する（Ａ1）、（Ａ2）｝は、ホモポリマーとした場合のＴｇが−３０℃未満の上記の（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）｛または（ａ11）、（ａ21）｝と、Ｔｇが−３０℃以上のビニル化合物（ａ2）｛または（ａ12）、（ａ22）｝の合計１００質量部に対して１０質量部以下、好ましくは０.５〜１０質量部の、後記する多官能性化合物（Ｂ）に対する反応性を有する官能基含有モノマー（ａ3）｛または（ａ13）、（ａ23）｝との共重合体である。
【００３１】
上記のような量で、（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）｛または（ａ11）、（ａ21）｝及びビニル化合物（ａ2）｛または（ａ12）、（ａ22）｝と、多官能性化合物に対する反応性を有する官能基含有モノマー（ａ3）｛または（ａ13）、（ａ23）｝とを共重合させることにより、多官能性化合物（Ｂ）と結合して良好な接着性を有する共重合体の組成物を形成することができる。
【００３２】
〔多官能性化合物：（Ｂ）〕
本発明の偏光板用粘着層は、反応性官能基を有する多官能性化合物（Ｂ）を含有する。
この化合物の有する官能基は、上記（メタ）アクリル系重合体（Ａ）｛及び（Ａ1）、（Ａ2）｝の反応性を有する官能基と反応するものであり、一分子内に官能基を少なくとも２個、好ましくは２〜４個有している。
【００３３】
このような多官能性化合物（Ｂ）の例としては、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アミン系化合物、金属キレート系化合物及びアジリジン系化合物などを挙げることができる。
【００３４】
イソシアネート系化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート及びこれらのトリメチロールプロパンなどポリオールとのアダクト体などを挙げることができる。
【００３５】
また、エポキシ系化合物の例としては、ビスフェノールＡ、エピクロルヒドリン型のエポキシ系樹脂、エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン及び１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンなどを挙げることができる。
【００３６】
さらに、アミン系化合物の例としては、ヘキサメチレンジアミン、トリエチルジアミン、ポリエチレンイミン、ヘキサメチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリエチルテトラミン、イソホロンジアミン、尿素樹脂、メラミン樹脂等のアミノ樹脂及びメチレン樹脂などを挙げることができる。
【００３７】
またさらに、金属キレート化合物の例としては、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム及びジルコニウムなどの多価金属がアセチルアセトンやアセト酢酸エチルに配位した化合物などを挙げることができる。
【００３８】
さらに、アジリジン系化合物の例としては、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルメタン-４，４’−ビス（1-アジリジンカルボキシド）、Ｎ，Ｎ’−トルエン−２，４−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−１−（２−メチルアジリジン）、トリ−１−アジリジニルホスフィンオキシド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−１，６−ビス（１−アジリジンカルボキシド）、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート及びテトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネートなどを挙げることができる。
【００３９】
その他にも、ジアルデヒド、メチロールポリマー、酸類、酸無水物、アミン酸等を使用することができる。
【００４０】
このような多官能性化合物（Ｂ）は、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛または（Ａ1）、（Ａ2）｝１００質量部に対して、通常は０．０１〜１．５質量部の量で使用される。このような量で多官能性化合物（Ｂ）を使用することにより、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体との間で好適な三次元架橋構造が形成される。なお、これら多官能性化合物（Ｂ）は、単独で又は組み合わせて使用することができる。
【００４１】
〔（メタ）アクリル系共重合体の製造〕
本発明の偏光板用粘着層を構成する（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）の製造には、公知の任意の方法を採用することができる。
【００４２】
例えば質量平均分子量が１００万以上の高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）は、原料モノマー１００質量部に対して、０.０１〜１質量部の重合開始剤（アゾビスイソビチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリルなどのアゾ系重合開始剤、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチルなどの過酸化物、ジフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンなどの光重合開始剤など）を用い、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法により合成され、好ましくは溶液重合で合成される。
【００４３】
溶液重合法の場合、重合溶媒として酢酸エチル、トルエン、ヘキサン、アセトンなどが用いられ、反応温度は５０〜１５０℃、好ましくは５０〜１１０℃、反応時間は３〜１５時間、好ましくは５〜１０時間である。
【００４４】
また、重合平均分子量が１０万以下の低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）は、高分子量アクリル系共重合体（Ａ1）と同様、塊状重合、溶液重合、乳化重合、懸濁重合などの方法により合成され、好ましくは、溶液重合で合成される。但し、質量平均分子量１０万以下にするため、重合開始剤の使用量を高分子量アクリル系共重合体の場合の１０〜１００倍程度にし、さらに好ましくはラウリルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタンなどのメルカプタン、α−メチルスチレンダイマー及びリモネンなどの連鎖移動剤が使用される。
【００４５】
〔偏光板用粘着剤〕
本発明の偏光板用粘着剤は、上記のようにして製造した（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）及び多官能性化合物（Ｂ）を混合することにより製造することができる。（Ａ）としては（Ａ1）、（Ａ2）のどちらを用いてもよい。
また、本発明の偏光板用粘着剤は、上記のようにして製造した高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）、低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）及び多官能性化合物（Ｂ）を混合することにより製造することができる。すなわち、（Ａ）として、（Ａ1）および（Ａ2）の両方を用いてもよい。
この際、低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）は、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）１００質量部に対して、２０〜２００質量部、好ましくは３０〜１５０質量部；多官能性化合物（Ｂ）は、上記高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）１００質量部に対して、０．０１〜１．５質量部、好ましくは０.０１〜１．０質量部の量で含有する。
【００４６】
内部応力の緩和は、ホモポリマーとした場合のＴｇが低い（メタ）アクリル酸エステルを使用することに加えて、高分子量の（メタ）アクリレート共重合体（Ａ1）で三次元架橋構造を作り、その三次元架橋構造中で、低分子量の（メタ）アクリレート共重合体（Ａ2）が動く（滑る）ことによっても行うことができることが特許第３５３３５８９号公報に記載されている。本発明においては、このような内部応力の緩和の程度は、高分子量（質量平均分子量が１００万以上）の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）と低分子量（質量平均分子量が１０万以下）の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）における官能基含有モノマー（ａ13）及び（ａ23）から誘導される繰返し単位の導入量により調整することができ、下記数式（１）で定義される官能基分配率＝０〜１５質量％とすることが好ましく、０〜１０質量％とすることがさらに好ましい。
数式（１）：官能基分配率＝［（メタ）アクリル系共重合体（Ａ2）中の官能基含有モノマー（ａ23）から誘導される繰返し単位の質量／（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）中の官能基含有モノマー（ａ13）から誘導される繰返し単位の質量］×１００。
【００４７】
三次元架橋の程度（ゲル分率）は、粘着剤において、４０質量％以上９０質量％以下であり、６０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは、７０質量％以上９０質量％以下である。
上記の範囲内とすることで、接着性能と緩和のバランスをより有意に調整することが可能となり好ましい。三次元架橋の程度は、多官能性化合物に対する反応性を有する重合性モノマーの量や多官能性化合物の量により調整できる。
【００４８】
本発明の偏光板用粘着剤は、上記のように（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛又は高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）と低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）｝及び多官能性化合物（Ｂ）からなる（メタ）アクリル系共重合体の組成物を主要成分とするが、さらに、この偏光板用粘着剤には、通常粘着剤に配合される、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、シランカップリング剤及び導電性微粒子・光散乱性微粒子等の無機フィラー等を配合することができる。
【００４９】
上記の（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）のガラス転移温度は０℃以下であることが好ましく、より好ましくは−８０〜−５℃であり、特に好ましくは−６０〜−１０℃である。（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）のガラス転移温度は高すぎると、高温における粘着剤層の発泡や剥離時の凝集破壊に対する耐性は高いが、接着力が低くなる。逆にガラス転移点が低すぎると接着力は高くなるが、高温における粘着剤層の発泡や剥離時の凝集破壊に対する耐性が低くなる。したがって、接着力と高温における粘着剤層の発泡や剥離時の凝集破壊に対する耐性のバランスを取るために上記のガラス転移温度に調整することが必要となる。
【００５０】
粘着層の厚みは５〜３０μｍが好ましく、より好ましくは１５〜３０μｍである。
【００５１】
＜粘着層の物性＞
（クリープ量）
前記粘着層を無アルカリガラス板に幅１０ｍｍ、長さ１０ｍｍの面積を貼り付け、２５℃の雰囲気下で２００ｇの荷重を１時間掛けた後のクリープ量が４０μｍ未満であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ未満である。
【００５２】
（９０°剥離接着力）
前記粘着層の無アルカリガラス板に対する２５℃の雰囲気下における９０°剥離接着力は、１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることが好ましく、より好ましくは１３Ｎ／２５ｍｍ幅以上である。
【００５３】
（高温下での剥離接着力）
前記粘着層の無アルカリガラス板に対する７０℃の雰囲気下で５時間処理した後の９０°剥離接着力は、０〜９０℃のいずれの測定温度においても１０Ｎ／２５ｍｍ幅以上であることが好ましく、より好ましくは１３Ｎ／２５ｍｍ幅以上である。
【００５４】
（弾性率）
前記粘着層の２５℃における弾性率は０．０８ＭＰa以上であることが好ましく、より好ましくは０．０９ＭＰａ以上である。また、９０℃における弾性率は０．０６ＭＰa以上であることが好ましく、より好ましくは０．０６５ＭＰａ以上である。
【００５５】
（剪断弾性率）
前記粘着層の剪断弾性率は、０．１ＧＰa〜１００ＧＰaであることが好ましく、より好ましくは１ＧＰa〜３０ＧＰaである。
【００５６】
＜保護膜＞
本発明の偏光板は、偏光子の両側に保護膜を有する。保護膜としては、偏光板に保護膜として通常用いられる保護膜のいずれも使用できる。本発明においては、セルロースアシレートフィルムまたはシクロオレフィン系ポリマー等の透明支持体を用いることが好ましい。保護膜の一方は少なくとも２層の光学異方性層を有する位相差板であり、該光学異方性層のうち少なくとも一層が液晶化合物を少なくとも一種含む。保護膜の一方だけでなく、両方が位相差板であることも好ましい。この場合、偏光子の前記位相差板とは反対面に配置される位相差板は、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する光学異方性層からなることが好ましい。偏光子に配置される位相差板は、光学特性がそれぞれ異なってもよい。
また、偏光子の両側の保護膜の組成は同じであっても異なっていてもよい。例えば、偏光子の両側の保護膜のうち、片側を前述のセルロースアシレートフィルム、もう片側をシクロオレフィン系ポリマーを用いることもできる。また、お互いに異なる組成や異なる光学特性のフィルムを用いることも出来る。さらに、セルロースアシレートフィルムやシクロオレフィン系ポリマーフィルムなどの上にポリマー層を設けて保護膜としてもよい。例えば、セルロースアシレートフィルムの上にポリイミド層を設けて保護膜とすることができる。
【００５７】
［位相差板］
本発明におけるこれらの位相差板は、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する組成物からなり、該液晶性化合物の分子を配向状態に固定して形成された光学異方性層を含む。該位相差板は、面内のレタデーション値、厚み方向のレタデーション値をそれぞれＲｅ、Ｒｔｈとし、Ｎｚを下記式（２）のように定義したときに、Ｎｚが０より小さいことが好ましい。Ｎｚは−５〜−０．１であることがより好ましく、−４．５〜−０．２であることが更に好ましく、−４〜−０．３であることがより更に好ましく、−４〜−１．０であることが最も好ましい。
Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ    （２）
該位相差板平面の法線方向から測定したレタデーションの値をＲｅ（０）とし、該位相差板の遅相軸を傾斜軸として、該位相差板を４０°傾けて測定したレタデーションの値をＲｅ（４０）、該位相差板を前記傾斜方向と反対側に４０°傾けて測定したレタデーションの値をＲｅ（−４０）としたとき、Ｒｅ（０）、Ｒｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）の３点の測定値および該位相差板の厚さと平均屈折率から、厚さ方向の屈折率（Ｒｔｈ）が算出できる。
【００５８】
本発明における位相差板は、Ｒｅが５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１８０ｎｍであるのがより好ましく、８０〜１６０ｎｍであるのがさらに好ましく、９０〜１６０ｎｍであるのが最も好ましい。また、前記Ｒｅ（４０）とＲｅ（−４０）が実質的に等しいことが好ましい。Ｒｅ（４０）とＲｅ（−４０）との差は、０ｎｍであるのがより好ましいが、測定誤差等を考慮して、本明細書ではその差が４ｎｍの範囲を実質的に等しいというものとする。
【００５９】
本発明における位相差板は、波長が大きくなるにしたがってＲｅも大きくなる広帯域性を有することも好ましい。例えば、広帯域性を発現させるため、実質的に１/２波長のＲｅを有する層と実質的に１/４波長のＲｅを有する層を、それらの遅相軸が交差するように積層する技術が特開２０００−２８４１２６号公報などに開示されている。また、変性ポリカーボネートフィルムを延伸することで広帯域性を発現させる技術が国際公開ＷＯ００／２６７０５号公報などに開示されている。これら技術により所望のＲｅを有する広帯域位相差板を作製し、さらに液晶性化合物を含む光学異方性層を積層することにより上記式（２）を満たすように三次元方向の屈折率を制御することができる。
また、Ｒｔｈは−１０００〜−２０ｎｍであることが好ましく、−８００〜−３０ｎｍであることがより好ましく、−６００〜−４０ｎｍであることがさらに好ましく、−３００〜−１００ｎｍであることが特に好ましい。
【００６０】
［液晶性化合物を含む光学異方性層］
本発明における位相差板は、少なくとも一種の液晶性化合物を含む光学異方性層を少なくとも含むことが好ましい。上記光学的特性を満たす限り、液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。
【００６１】
偏光膜の保護膜の少なくとも片方は、光学異方性層を少なくとも２層有する位相差板であり、他方は少なくとも光学異方性層を少なくとも１層有する位相差板であることが好ましい。該光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。三次元方向の屈折率異方性を任意に制御するためには、二層以上の光学異方性層を積層することでより容易になる。例えば、Ｒｅを所望の値にするために第１の光学異方性層を形成し、Ｒｔｈを調整するために第２の光学異方性層を形成することにより、上記式（２）を満たす位相差板を作製することができる。
以下は、液晶性化合物を含む光学異方性層を少なくとも二層含む場合（光学異方性層１が下層、光学異方性層２が上層）の好ましい態様である。
【００６２】
前記第１の光学異方性層に用いられる液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。位相差板が上記式（２）を満たせば液晶性化合物の配向状態は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向いずれでもよい。視野角依存性が対称である位相差板を作製するためには、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平であることも好ましいが、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。円盤面の平均傾斜角がこの範囲内になるように傾斜配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するハイブリッド配向させてもよい。傾斜配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°がさらに好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。棒状液晶性化合物の平均傾斜角がこの範囲内になるように傾斜配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するようにハイブリッド配向させてもよい。傾斜配向またはハイブリッド配向の場合でも、平均傾斜角は０°〜２０°であることが好ましく、０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°がさらに好ましい。
【００６３】
前記第２の光学異方性層に用いられる液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。位相差板が上記式（２）を満たせば液晶性化合物の配向状態は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向いずれでもよい。位相板のＲｔｈの制御には、棒状液晶性化合物を用いることが好ましく、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であることがさらに好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。平均傾斜角がこの範囲内になるように傾斜配向させてもよいし、傾斜角が徐々に変化するようにハイブリッド配向させてもよい。傾斜配向またはハイブリッド配向の場合でも、棒状液晶性化合物の平均傾斜角は７０°〜９０°であることが好ましく、８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°がさらに好ましい。
【００６４】
前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、下記の重合開始剤や空気界面配向剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成することが好ましい。
【００６５】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明では、ディスコティック液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００６６】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表わされる化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは２価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、２価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がより好ましい。
【００６７】
［棒状液晶性化合物］
本発明では、棒状液晶性化合物を用いて光学異方性層を形成することが好ましい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００６８】
［垂直配向促進剤］
ディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を均一に垂直配向させるためには、配向膜界面側および空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御することが必要である。この目的のために、配向膜に、排除体積効果、静電気的効果または表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を添加した組成物を採用してもよい。また、空気界面側の配向制御に関しては液晶性化合物の配向時に空気界面に偏在し、その排除体積効果、静電気的効果、または表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を配合した組成物（以下、単に「液晶性組成物」ということがある）を採用してもよい。このような配向膜界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（配向膜界面側垂直配向剤）としては、ピリジニウム誘導体が好適に用いられる。空気界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（空気界面側垂直配向剤）としては、該化合物が空気界面側に偏在するのを促進する、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物が好適に用いられる。また、これらの化合物を配合することによって、例えば、液晶性組成物を塗布液として調製した場合に、該塗布液の塗布性が改善され、ムラ、ハジキの発生が抑制される。以下に垂直配向剤に関して詳細に説明する。
【００６９】
［配向膜界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な配向膜界面側垂直配向剤としては、下記式（Ｉ）で表されるピリジニウム誘導体（ピリジニウム塩）が好適に用いられる。該ピリジニウム誘導体の少なくとも１種を前記液晶性組成物に添加することによって、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向膜近傍で実質的に垂直に配向させることができる。
【００７０】
【化１】
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【００７１】
式（Ｉ）において、Ｌ１は２価の連結基を表し、アルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲａ−（但し、Ｒａは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子である）、アルケニレン基、アルキニレン基またはアリーレン基との組み合わせからなる炭素原子数が１〜２０の２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基は、直鎖であっても分岐であってもよい。
【００７２】
式（Ｉ）において、Ｒ１は、水素原子、無置換のアミノ基または炭素原子数が１〜２０の置換基で置換された置換アミノ基である。Ｒ１が置換アミノ基である場合、脂肪族基によって置換されていることが好ましい。脂肪族基は、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基および置換アルキニル基が挙げられる。また、Ｒ１が２置換アミノ基である場合、２つの脂肪族基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環または６員環であることが好ましい。Ｒ１は水素原子、無置換のアミノ基または炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、無置換のアミノ基または炭素原子数が２〜１２の置換アミノ基であることがより好ましく、水素原子、無置換のアミノ基または炭素原子数が２〜８の置換アミノ基であることがさらに好ましい。Ｒ１がアミノ基である場合、ピリジニウム環の４位に置換されていることが好ましい。
【００７３】
式（Ｉ）において、Ｘはアニオンである。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、ギ酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。Ｘは、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。
【００７４】
式（Ｉ）において、Ｙ１は５員環又は６員環を部分構造として有する炭素数１〜３０の２価の連結基である。Ｙ１に含まれる環状部分構造はシクロヘキシル環、芳香族環または複素環であることがより好ましい。芳香族環としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、およびピレン環を挙げることができる。ベンゼン環、ビフェニル環、およびナフタレン環がさらに好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環などを挙げることができる。複素環は６員環であることが好ましい。Ｙで表される５員環又は６員環を部分構造として有する２価の連結基は置換基を有していてもよい。
【００７５】
式（Ｉ）において、Ｚは、ハロゲン置換フェニル基、ニトロ置換フェニル基、シアノ置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であり、シアノ置換フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基または炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であるのが好ましい。
Ｚは、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルケニル基、炭素原子数が１〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００７６】
本発明に用いられるピリジニウム化合物としては、下記式（Ｉａ）で表されるピリジニウム化合物が好ましい。
【００７７】
【化２】
2007101678.tif 000003
【００７８】
式（Ｉａ）において、Ｌ３は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−である。ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ３は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、単結合もしくは−Ｏ−であるのがより好ましい。
【００７９】
式（Ｉａ）において、Ｌ４は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ＝Ｎ−である。
【００８０】
式（Ｉａ）において、Ｒ３は、水素原子、無置換アミノ基または炭素原子数が２〜２０のアルキル置換アミノ基である。Ｒ３がジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環または６員環が好ましい。Ｒ３は水素原子、無置換アミノ基または炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基がさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基または炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基が最も好ましい。Ｒ３が無置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位がアミノ置換されていることが好ましい。
【００８１】
式（Ｉａ）において、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環からなる２価の基である。６員環の例は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）および複素環が挙げられる。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびシクロヘキサジエン環が挙げられる。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環が挙げられる。６員環に、他の６員環または５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基および炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基が挙げられる。アルキル基およびアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基または炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。アシル基およびアシルオキシ基の定義は、後述する。
【００８２】
式（Ｉａ）において、Ｘ１はアニオンである。Ｘ１は、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）およびスルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルン酸イオン、ベンゼンスルン酸イオン）が含まれる。
【００８３】
式（Ｉａ）において、Ｚ１は水素原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基または炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基であって、アルキル基およびアルコキシ基は、それぞれ、炭素原子数が２〜１２のアシル基または炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。
【００８４】
式（Ｉａ）において、ｍは１または２であって、ｍが２の場合、２つのＬ４および２つのＹ３は、異なっていてもよい。
ｍが２の場合、Ｚ１は、シアノ基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ１は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基または炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。
【００８５】
アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）または芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基またはアルケニル基であることがさらに好ましい。
【００８６】
式（Ｉａ）において、ｐは、１〜１０の整数である。ＣｐＨ２ｐは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。ＣｐＨ２ｐは、直鎖状アルキレン基であることが好ましい。また、ｐは１または２であることがより好ましい。
【００８７】
以下に、式（Ｉ）および／または（Ｉａ）で表される化合物の具体例を示す。ここで、Ｍｅはメチル基を表す。
【００８８】
【化３】
2007101678.tif 000004
【００８９】
【化４】
2007101678.tif 000005
【００９０】
【化５】
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2007101678.tif 000007
【００９１】
【化６】
2007101678.tif 000008
【００９２】
ピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
【００９３】
前記液晶性組成物中における前記ピリジニウム誘導体の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、液晶性組成物（塗布液として調製した場合は溶媒を除いた液晶性組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。
【００９４】
［空気界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な空気界面側垂直配向剤としては、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有するフルオロ脂肪族基含有ポリマー（以下、「フッ素系ポリマー」という）、又は一般式(III)で表される含フッ素化合物が好適に用いられる。
【００９５】
まず、フッ素系ポリマーについて説明する。
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝およびそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有することを特徴とする。ポリマーの種類としては、「改訂 高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があり、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。前記フッ素系ポリマーは、ポリオレフィン類であることが好ましい。
【００９６】
前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーである。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。フルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７〜７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【００９７】
【化７】
2007101678.tif 000009
【００９８】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フッ素系ポリマーの製造に使用される。
【００９９】
【化８】
2007101678.tif 000010
【０１００】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能なモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【０１０１】
【化９】
2007101678.tif 000011
【０１０２】
【化１０】
2007101678.tif 000012
【０１０３】
【化１１】
2007101678.tif 000013
【０１０４】
【化１２】
2007101678.tif 000014
【０１０５】
【化１３】
2007101678.tif 000015
【０１０６】
【化１４】
2007101678.tif 000016
【０１０７】
【化１５】
2007101678.tif 000017
【０１０８】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの一態様は、フルオロ脂肪族基含有モノマー（以下、「フッ素系モノマー」ということがある）より誘導される繰り返し単位と、下記式(II)で表される親水性基を含有する繰り返し単位とを有する共重合体である。
【０１０９】
【化１６】
2007101678.tif 000018
【０１１０】
上記式(II)において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３３はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、または、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｂ−（Ｒｂは水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｆ）−（Ｒｆはアルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す）、アルキレン基およびアリーレン基。
【０１１１】
式(II)中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３３は、それぞれ独立に、水素原子または下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１１２】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１１３】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１１４】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、または後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１１５】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、またはそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲｂ−のＲｂは、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素原子またはアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲｆ）−のＲｆはアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。ＲｂおよびＲｆがアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲｂ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、アルキレン基またはアリーレン基を含むことが好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲｂ−、アルキレン基またはアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、さらに好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ１、Ｒ２、Ｒ３３における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示する。
【０１１６】
【化１７】
2007101678.tif 000019
【０１１７】
【化１８】
2007101678.tif 000020
【０１１８】
前記式(II)中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基またはスルホ基である。
【０１１９】
前記フッ素系ポリマーは、前記式(II)で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また、前記フッ素系ポリマーは、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種または２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記フッ素系ポリマーは、下記モノマー群から選ばれる１種または２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【０１２０】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエンおよび２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【０１２１】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【０１２２】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【０１２３】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【０１２４】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【０１２５】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【０１２６】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；および
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【０１２７】
前記フッ素系ポリマー中、フルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５質量％以上であるのが好ましく、１０質量％以上であるのがより好ましく、３０質量％以上であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーにおいて、前記式(II)で表される繰り返し単位の量は、該フッ素ポリマーの構成モノマー総量の０．５質量％以上であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましく、１〜１０質量％であるのがさらに好ましい。上記の質量百分率は使用するモノマーの分子量により好ましい範囲の数値が変動し易いため、ポリマーの単位質量当たりの官能基モル数で表す方が、式(II)で表される繰り返し単位の含有量を正確に規定できる。該表記を用いた場合、前記フッ素系ポリマー中に含有される親水性基（式(II)中のＱ）の好ましい量は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ〜１０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましい量は０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜８ｍｍｏｌ／ｇである。
【０１２８】
本発明に用いる前記フッ素系ポリマーの質量平均分子量は１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましく、１００，０００以下がさらに好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
【０１２９】
前記フッ素系ポリマーの重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、または、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１３０】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【０１３１】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【０１３２】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【０１３３】
前記フッ素系ポリマーを好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル類（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、使用するモノマーの全モル数に対して好ましくは０．０１モル％〜５０モル％程度であり、より好ましくは０．０５モル％〜３０モル％、さらに好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【０１３４】
なお、本発明のフッ素系ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１３５】
以下に、フッ素系ポリマーとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定されたＰＥＯ換算の質量平均分子量である。
【０１３６】
【化１９】
2007101678.tif 000021
【０１３７】
【化２０】
2007101678.tif 000022
【０１３８】
【化２１】
2007101678.tif 000023
【０１３９】
【化２２】
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【０１４０】
【化２３】
2007101678.tif 000025
【０１４１】
本発明に用いられるフッ素系ポリマーは、公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフッ素系モノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【０１４２】
本発明の光学異方性層等を形成する為の液晶性組成物（塗布液として調製した場合は、溶媒を除いた液晶性組成物）中における前記フッ素系ポリマーの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーの添加量が０．００５質量％未満では効果が不十分であり、また８質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレタデーションの均一性等）に悪影響を及ぼす。
【０１４３】
次に、同様に空気界面側垂直配向剤として使用可能な、式(III)で表される含フッ素化合物について説明する。
式(III)
（Ｒ０）ｍｏ−Ｌ０−（Ｗ）ｎｏ
式中、Ｒ０はアルキル基、末端にＣＦ３基を有するアルキル基、または末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍｏは１以上の整数を表す。複数個のＲ０は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ３基またはＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ０は（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基を表し、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩を表し、ｎｏは１以上の整数を表す。
【０１４４】
式(III)中、Ｒ０は含フッ素化合物の疎水性基として機能する。Ｒ０で表されるアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは４〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは６〜１６のアルキル基である。該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０１４５】
Ｒ０で表される末端にＣＦ３基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ３基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒ０で表される末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましく、７０％以上を置換されていることがさらに好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示する置換基によって置換されていてもよい。Ｒ０で表される末端にＣＦ３基を有するアルキル基、または末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【０１４６】
Ｒ１：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−
Ｒ２：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−
Ｒ３：ｎ−Ｃ４Ｆ９−
Ｒ４：ｎ−Ｃ８Ｆ１７−（ＣＨ２）２−
Ｒ５：ｎ−Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）２−
Ｒ６：ｎ−Ｃ４Ｆ９−（ＣＨ２）２−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ２）８−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ２）６−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ２）４−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ２）８−（ＣＨ２）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ２）６−（ＣＨ２）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ２）４−（ＣＨ２）−
【０１４７】
式(III)において、Ｌ０で表される（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、芳香族基、ヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲｄ−（Ｒｄは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−からなる群より選ばれる基を少なくとも２つ組み合わせた連結基であることが好ましい。
【０１４８】
式(III)において、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、またはホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩を表す。Ｗの好ましい範囲は、式（II）におけるＱと同一である。
【０１４９】
前記式(III)で表される含フッ素化合物の中でも、下記式(III)−ａまたは式(III)−ｂで表される化合物が好ましい。
【０１５０】
【化２４】
2007101678.tif 000026
【０１５１】
式(III)−ａ中、Ｒ４およびＲ５は各々アルキル基、末端にＣＦ３基を有するアルキル基、または末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表すが、Ｒ４およびＲ５が同時にアルキル基であることはない。Ｗ１およびＷ２は各々水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表すが、Ｗ１およびＷ２が同時に水素原子であることはない。
【０１５２】
式(III)−ｂ
（Ｒ６−Ｌ２−）ｍ２（Ａｒ１）−Ｗ３
式(III)−ｂ中、Ｒ６はアルキル基、末端にＣＦ３基を有するアルキル基、または末端にＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍ２は１以上の整数を表し、複数個のＲ６は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ３基またはＣＦ２Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ２は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、複数個のＬ２は同一でも異なっていてもよい。Ａｒ１は芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環を表し、Ｗ３はカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表す。
【０１５３】
まず、前記式(III)−ａについて説明する。
Ｒ４およびＲ５は前記式(III)におけるＲ０と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｗ１およびＷ２で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩は前記式(III)におけるＷと同義でありその好ましい範囲も同一である。Ｗ１およびＷ２で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは１〜８のアルキル基であり、特に好ましくは１〜３のアルキル基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、またはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式(III)中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ１およびＷ２で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましくは１〜８のアルコキシ基であり、特に好ましくは１〜４のアルコキシ基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、またはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式(III)中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ１およびＷ２で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアミノ基であり、より好ましくは１〜８のアルキルアミノ基であり、さらに好ましくは１〜４のアルキルアミノ基である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、またはホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式(III)中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０１５４】
Ｗ１およびＷ２は、特に好ましくはそれぞれ水素原子または−（ＣＨ２）ｎＳＯ３Ｍ（ｎは０または１を表す。）である。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０１５５】
次に、前記式(III)−ｂについて説明する。
Ｒ６は前記式(III)におけるＲ０と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｌ２は、好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２の芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜４０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−およびそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜２０の連結基を表す。Ａｒ１は、好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環を表し、より好ましくはベンゼン環またはナフタレン環を表す。Ｗ３で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、またはアルキルアミノ基は、前記式(III)−ａにおけるＷ１およびＷ２で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２｝もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、またはアルキルアミノ基と同義でありその好ましい範囲も同一である。
【０１５６】
Ｗ３は、好ましくはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩、または置換基としてカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩またはスルホ基（−ＳＯ３Ｈ）もしくはその塩を有するアルキルアミノ基であり、特に好ましくはＳＯ３Ｍ、またはＣＯ２Ｍである。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０１５７】
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、
【０１５８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）。
【０１５９】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１６０】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６１】
なお、本発明の含フッ素化合物は、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１６２】
本発明に使用可能な式(III)にて表される含フッ素化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる含フッ素化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１６３】
【化２５】
2007101678.tif 000027
【０１６４】
【化２６】
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【０１６５】
【化２７】
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【０１６６】
【化２８】
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【０１６７】
【化２９】
2007101678.tif 000031
【０１６８】
前記液晶性組成物中における前記含フッ素化合物の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記液晶性組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。
第１の光学異方性層と第２の光学異方性は、それぞれ、前記含フッ素系化合物を含有することが好ましく、同一の含フッ素系化合物を１種類以上含有することがさらに好ましい。特に、同一のフッ素系化合物を採用すると、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層を積層する場合に、両層の密着性がよくなり好ましい。
【０１６９】
［塗布溶剤］
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【０１７０】
［重合性開始剤］
垂直配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１７１】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。位相差層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【０１７２】
［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０１７３】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して、好ましくは１〜５０質量％であり、より好ましくは５〜３０質量％である。
【０１７４】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号公報明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
【０１７５】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］に記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１７６】
［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記液晶性組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させてもよい。配向膜は、液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たすため、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、またはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【０１７７】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１７８】
ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【０１７９】
本発明の配向膜では、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、または、液晶性化合物を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、または、液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。
【０１８０】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］に記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒドが好ましく、グルタルアルデヒドがより好ましい。
【０１８１】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用し、または高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０１８２】
配向膜は、例えば、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤および添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１８３】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましく、ロッドコーティング法がより好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１３０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには４０℃〜１２０℃が好ましく、特に５０℃〜１１０℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましく、５がさらに好ましい。
【０１８４】
配向膜は、透明支持体上に設けることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０１８５】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１８６】
配向膜のラビング処理面に前記液晶性組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
また、第１の光学異方性層の上に第２の光学異方性層を積層するとき、前記２層の間に実質的に配向膜を設けない態様も好ましい。この「実質的に配向膜がない」とは、配向膜として機能させるためだけに形成された膜を含んでいないことを意味する。第１の光学異方性層の表面が、第２の光学異方性層の液晶性化合物が配向するのに寄与する場合であっても、第１の光学異方性層が配向膜としてのみ用いるために形成されていない限り、ラビングの有無に関わらず、「実質的に配向膜がない」態様に含まれる。
【０１８７】
｛セルロースアシレートフィルム｝
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムについて説明する。
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、特定のセルロースアシレートを原料として用いて形成されている。光学異方性の発現性を大きくする場合と、小さくする場合で使用するセルロースアシレートを使い分ける。
【０１８８】
〔光学異方性を大きくする場合のセルロースアシレート〕
まず、本発明において用いられる光学異方性の発現性を大きくする場合のセルロースアシレートについて詳細に記載する。
本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いてもよい。
【０１８９】
前記の特定のセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（４）及び（５）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（４）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（５）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
【０１９０】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
【０１９１】
本発明では、水酸基のＡとＢとの置換度の総和（Ａ＋Ｂ）は、上記数式（４）に示すように、２．０〜３．０であることが好ましく、より好ましくは２．２〜２．９であり、特に好ましくは２．４０〜２．８５である。また、Ｂの置換度は上記数式（５）に示すように、０より大きいことが好ましく、０．６以上であることがさらに好ましい。（Ａ＋Ｂ）が２．０以上であれば、親水性が強くなりすぎて環境湿度の影響を受けやすくなるなどの不都合が生じないので好ましい。
【０１９２】
さらに上記数式（５）におけるＢは、その２８％以上が６位水酸基の置換基であるのが好ましいが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％以上がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。
【０１９３】
また更に、セルロースアシレートの６位のＡとＢの置換度の総和が０．７５以上であるのが好ましく、さらには０．８０以上が、特には０．８５以上が好ましい。これらのセルロースアシレートフィルムにより溶解性、濾過性の好ましいフィルム調製用の溶液が作製でき、非塩素系有機溶媒においても、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低く濾過性のよい溶液の作成が可能となる。
【０１９４】
また、セルロースアシレートフィルムが偏光板の液晶セル側に配置される保護膜である場合、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ2、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ3、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ6としたときに、下記数式（６）及び（７）を満たすことが好ましい。
数式（６）：２．０≦ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6≦３．０
数式（７）：ＤＳ6／（ＤＳ2＋ＤＳ3＋ＤＳ6）≧０．３１５
上記数式（６）及び（７）を満たすことにより、セルロースアシレートフィルムの溶媒への溶解性が向上し、また光学異方性の湿度依存性が小さくなるので好ましい。
さらに、上記のアシル基はアセチル基であることが、鹸化が進行しやすい、弾性率が高い、寸度変化が小さい、耐久性が高い、コストが安いという点で好ましい。
【０１９５】
前記炭素原子数３以上のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族炭化水素基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。
【０１９６】
好ましい炭素原子数３以上のアシル基としては、としては、プロピオニル、ブタノイル、ケプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、好ましくはプロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などである。特に好ましくはプロピオニル、ブタノイル基である。
また、プロピオニル基の場合には置換度Ｂは１．３以上であるのが好ましい。
【０１９７】
前記混合脂肪酸セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが挙げられる。
【０１９８】
〔光学異方性を小さくする場合のセルロースアシレート〕
光学異方性を小さくする場合、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが望ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることが望ましい、２．８５〜３．００であることがより望ましい。
【０１９９】
セルロースの水酸基に置換する炭素原子数２〜２２のアシル基のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル又は芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。
【０２００】
これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
【０２０１】
上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、アセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基の少なくとも２種類から実質的になる場合、その全置換度が２.５０〜３．００であることが好ましい。より好ましいアシル置換度は２．７５〜３．００であり、さらに望ましくは２．８５〜３．００である。上記の範囲内であれば、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を充分に低下することができ、好ましい。
【０２０２】
〔セルロースアシレートの合成方法〕
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
【０２０３】
前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位及び６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。
【０２０４】
上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸及び触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロース及び系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解及びエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウム又は亜鉛の炭酸塩、酢酸塩又は酸化物）の水溶液を添加する。
【０２０５】
次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度及び重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水もしくは希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（又は、セルロースアシレート溶液中に、水もしくは希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄及び安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。
【０２０６】
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が、実質的に上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。
ここで『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。
【０２０７】
前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上が０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。
【０２０８】
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【０２０９】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。
【０２１０】
低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。
【０２１１】
セルロースアシレートをフィルムの製造に使用する際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が知られている。本発明では、セルロースアシレートの含水率を上記好適範囲とするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になる方法であれば特に限定されない。
【０２１２】
前記セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．７−１２に詳細に記載されている原料綿や合成方法を採用できる。
【０２１３】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロースアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化することにより得ることができる。
【０２１４】
〔添加剤〕
本発明において前記セルロースアシレート溶液に用いることができる添加剤としては、例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、レターデーション（光学異方性）発現剤、レターデーション（光学異方性）低下剤、波長分散調整剤、染料、微粒子、剥離促進剤、赤外吸収剤などを挙げることができる。本発明においては、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。また、可塑剤、紫外線吸収剤及び剥離促進剤の少なくとも１種以上を用いるのが好ましい。
【０２１５】
それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。
【０２１６】
［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。
【０２１７】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
【０２１８】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【０２１９】
サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。
【０２２０】
これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。
【０２２１】
紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。
【０２２２】
また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。
【０２２３】
紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。
【０２２４】
また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。
【０２２５】
［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。
【０２２６】
［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、本発明に用いられる可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。
【０２２７】
［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。
【０２２８】
［添加時期等］
これらの添加剤を添加する時期は、ドープ作製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に、添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。
【０２２９】
また、セルロースアシレートフィルムが多層である場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば、特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。
【０２３０】
これら添加剤の種類や添加量の選択によって、セルロースアシレートフィルムの動的粘弾性測定機「バイブロン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製）｝で測定するガラス転移点Ｔｇを７０〜１５０℃に、引張試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東洋精機製作所製｝で測定する弾性率を１５００〜４０００ＭＰａすることが好ましい。より好ましくは、ガラス転移点Ｔｇが８０〜１３５℃、弾性率が１５００〜３０００ＭＰａである。すなわち、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、偏光板加工や液晶表示装置組立ての工程適性の点で、ガラス転移点Ｔｇ、弾性率を上記の範囲とすることが好ましい。
【０２３１】
さらに添加剤については、前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．１６以降に詳細に記載されているものを適宜用いることができる。
【０２３２】
［レターデーション発現剤］
本発明では光学異方性を大きく発現させる場合には、好ましいレターデーション値を実現するために、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。本発明において用いることができるレターデーション発現剤としては、棒状又は円盤状化合物からなるものを挙げることができる。棒状又は円盤状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
【０２３３】
棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがさらに好ましい。
【０２３４】
円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、０．０５〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。
【０２３５】
円盤状化合物は、Ｒｔｈレターデーション発現性において棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。
２種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
【０２３６】
棒状又は円盤状化合物からなる前記レターデーション発現剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
【０２３７】
（円盤状化合物）
以下、円盤状化合物について説明する。
円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０２３８】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。
【０２３９】
芳香族性ヘテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく用いられる。
【０２４０】
前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。
【０２４１】
２つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【０２４２】
（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。
【０２４３】
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。
【０２４４】
（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。
【０２４５】
組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ1：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ2：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ3：−アルキレン−Ｏ−
ｃ4：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ5：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ6：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ7：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ8：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ9：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−
ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
【０２４６】
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。
【０２４７】
アルキル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基及び２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。
【０２４８】
アルケニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び１−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基及び１−ヘキシニル基が含まれる。
【０２４９】
脂肪族アシル基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれる。
【０２５０】
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。
【０２５１】
アルキルチオ基の炭素原子数は１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。
【０２５２】
脂肪族アミド基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
【０２５３】
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる。
【０２５４】
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。
【０２５５】
円盤状化合物からなるレターデーション発現剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ましい
【０２５６】
（棒状化合物）
本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。
【０２５７】
直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト｛例えば、“ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００”富士通（株）製｝を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０゜以上であることを意味する。
【０２５８】
棒状化合物としては、少なくとも２つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも２つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：Ａｒ1−Ｌ1−Ａｒ2
上記一般式（１）において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族基である。
【０２５９】
本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。
【０２６０】
芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。
【０２６１】
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
【０２６２】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例えば、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例えば、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ'−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例えば、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）及び非芳香族性複素環基（例えば、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。
【０２６３】
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が好ましい。
【０２６４】
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。
【０２６５】
前記一般式（１）において、Ｌ1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる２価の連結基である。
【０２６６】
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。
【０２６７】
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレン又はエチニレン）である。
【０２６８】
アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６〜１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。
【０２６９】
一般式（１）の分子構造において、Ｌ1を挟んで、Ａｒ1とＡｒ2とが形成する角度は、１４０゜以上である。
【０２７０】
棒状化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物がさらに好ましい。
一般式（２）：Ａｒ1−Ｌ2−Ｘ−Ｌ3−Ａｒ2
上記一般式（２）において、Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ独立に、芳香族基である。
【０２７１】
芳香族基の定義及び例は、一般式（１）のＡｒ1及びＡｒ2と同様である。また、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−及びそれらの組み合わせからなる基より選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。アルキレン基の炭素原子数は１〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１又は２（メチレン又はエチレン）であることが最も好ましい。
Ｌ2及びＬ3は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。
【０２７２】
一般式（２）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレン又はエチニレンである。
【０２７３】
一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６５７号公報の［化１］〜［化１１］に記載の化合物が挙げられる。
【０２７４】
その他、下記一般式（３）で表される化合物もまた好ましい。
一般式（３）：
【０２７５】
【化３０】
2007101678.tif 000032
【０２７６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。）
【０２７７】
レターデーション発現剤のうち、一般式（３）で表される棒状化合物の具体例を以下に示す。
【０２７８】
【化３１】
2007101678.tif 000033
【０２７９】
【化３２】
2007101678.tif 000034
【０２８０】
【化３３】
2007101678.tif 000035
【０２８１】
【化３４】
2007101678.tif 000036
【０２８２】
【化３５】
2007101678.tif 000037
【０２８３】
【化３６】
2007101678.tif 000038
【０２８４】
【化３７】
2007101678.tif 000039
【０２８５】
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて、最大吸収波長（λmax）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、２種類以上併用してもよい。
【０２８６】
棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。
文献としては、“Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．”，５３巻、ｐ２２９（１９７９年）、同８９巻、ｐ９３（１９８２年）、同１４５巻、ｐ１１１（１９８７年）、同１７０巻、ｐ４３（１９８９年）、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，１１３巻、ｐ１３４９（１９９１年）、同１１８巻、ｐ５３４６（１９９６年）、同９２巻、ｐ１５８２ページ（１９７０年）、“Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．”，４０巻、ｐ４２０（１９７５年）、“Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ”，４８巻１６号、ｐ３４３７（１９９２年）を挙げることができる。
【０２８７】
［レターデーション低下剤］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる場合に使用するレターデーション低下剤について説明する。
フィルム中のセルロースアシレートが、面内及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて、光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅ及びＲｔｈをゼロ又はゼロに近くにすることができる。このためには、光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。
【０２８８】
（ＬｏｇＰ値）
光学的異方性の低いセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。化合物のｌｏｇＰ値が７以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が良好で、フィルムの白濁や粉吹きなどの不具合を生じにくいので好ましい。
また化合物のｌｏｇＰ値が０以上であれば、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させることがないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
【０２８９】
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ  Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。
【０２９０】
計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ２１（１９８７年）｝がより好ましい。
【０２９１】
ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が上記の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。
【０２９２】
（光学的異方性を低下する化合物の物性）
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０２９３】
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０２９４】
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
【０２９５】
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
【０２９６】
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０２９７】
光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより、表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。
【０２９８】
（光学異方性を低下させる化合物の具体例）
以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。
【０２９９】
【化３８】
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【０３００】
【化３９】
2007101678.tif 000041
【０３０１】
【化４０】
2007101678.tif 000042
【０３０２】
【化４１】
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【０３０３】
【化４２】
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【０３０４】
【化４３】
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【０３０５】
【化４４】
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【０３０６】
【化４５】
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【０３０７】
【化４６】
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【０３０８】
【化４７】
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【０３０９】
［波長分散調整剤］
次ぎに、セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物について説明する。２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。波長分散調整剤の含有により、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。ここで、Ｒｅ400、Ｒｔｈ400は、波長λ＝４００ｎｍにおける値、Ｒｅ700、Ｒｔｈ700は、波長λ＝７００ｎｍにおける値（いずれも単位：ｎｍ）を表す。このような化合物の添加量としては、０．１〜３０質量％含むことによってセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整できる。
【０３１０】
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって、波長分散を平滑にすることが要求される。一方、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は、吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。
【０３１１】
従って、上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側で大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには、波長分散を調整する化合物は、セルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。
【０３１２】
また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置では、より少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜及び｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜を低下させる化合物を、セルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。
【０３１３】
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。
【０３１４】
波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
【０３１５】
（波長分散調整剤の添加量）
上記の本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
【０３１６】
（波長分散調整剤の添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。
【０３１７】
本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれらの化合物だけに限定されるものではない。
【０３１８】
［染料］
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。
【０３１９】
［マット剤微粒子］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０３２０】
二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見掛け比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以上が好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌ以上がさらに好ましい。見掛け比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０３２１】
マット剤として二酸化珪素微粒子を用いる場合の、その使用量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．０１〜０．３質量部とするのが好ましい。
【０３２２】
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成するが、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次粒子の平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。該平均粒子径が１．５μｍ以下であればヘイズが強くなりすぎることがなく、また０．２μｍ以上であればきしみ防止効果が十分に発揮されるので好ましい。
【０３２３】
微粒子の１次、２次粒子径は、フィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とする。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とする。
【０３２４】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジル」Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジル」Ｒ９７６及びＲ８１１｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。
【０３２５】
これらの中で「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、且つ見掛け比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０３２６】
本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を含有するセルロースアシレートフィルムを得るためには、微粒子の分散液を調製する際いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液を予め作製し、この微粒子分散液を、別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明においては、これらの方法に限定されるものではないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの、二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。
分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
【０３２７】
使用される溶媒は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。
【０３２８】
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートが溶解される前記有機溶媒について記述する。
【０３２９】
本発明においては、有機溶媒として、塩素系有機溶媒を主溶媒とする塩素系溶媒と、塩素系有機溶媒を含まない非塩素系溶媒とのいずれをも用いることができる。
【０３３０】
〔塩素系溶媒〕
本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒が好ましく用いられる。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、その塩素系有機溶媒の種類は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合ジクロロメタンは、有機溶媒全体量中少なくとも５０質量％使用することが好ましい。
【０３３１】
本発明で塩素系有機溶媒と併用される他の有機溶媒について以下に記す。
すなわち、好ましい他の有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２の、エステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素などから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン、エーテル及びアルコールは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を同時に有していてもよい。２種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテート等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等が挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等が挙げられる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノール等が挙げられる。
【０３３２】
また塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが含まれる。
【０３３３】
塩素系有機溶媒と他の有機溶媒との組合せ例としては、以下の組成を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７５／８／５／５／７（質量部）、
ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／８（質量部）、
ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール＝８０／１０／１０（質量部）、
ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝７０／１０／１０／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）。
【０３３４】
〔非塩素系溶媒〕
次に、本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートの溶液を作製するに際して、好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し、流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、非塩素系有機溶媒は特に限定されない。本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２の、エステル、ケトンおよびエーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ペンチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン及びアセチル酢酸メチルが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが挙げられる。
【０３３５】
以上の、セルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述のいろいろな観点から選定されるが、好ましくは以下のとおりである。
すなわち、非塩素系溶媒としては、上記非塩素系有機溶媒を主溶媒とする混合溶媒が好ましく、互いに異なる３種類以上の溶媒の混合溶媒であって、第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも１種又はそれらの混合液であり、第２の溶媒が炭素原子数４〜７のケトン類又はアセト酢酸エステルから選ばれ、第３の溶媒が炭素数１〜１０のアルコール又は炭化水素、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールから選ばれる混合溶媒である。なお第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶媒は、さらに好ましくは、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル又はこれらの混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合溶媒であってもよい。
【０３３６】
第３の溶媒であるアルコールは、その炭化水素鎖が直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素鎖であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール及びシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、その炭化水素鎖の水素の一部又は全部がフッ素で置換されたフッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。
【０３３７】
さらに炭化水素は、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよい。芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン及びキシレンが含まれる。
【０３３８】
これらの第３の溶媒であるアルコール及び炭化水素は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物で用いてもよく特に限定されない。第３の溶媒としては、好ましい具体的化合物は、アルコールとして、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、及びシクロヘキサノール、炭化水素として、シクロヘキサン、ヘキサンなどを挙げることができ、特に好ましくはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。
【０３３９】
以上の３種類の混合溶媒の混合割合は、混合溶媒全体量中、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％、そして第３の溶媒が２〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、さらに第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、そして第３のアルコールが３〜２５質量％含まれることが好ましい。また特に第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３の溶媒がアルコールであって３〜１５質量％含まれることが好ましい。
【０３４０】
以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．１２−１６に詳細に記載されている。
【０３４１】
本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン＝７５／１０／５／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８２／１０／４／４（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８０／１０／４／６（質量部）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝８０／１０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール＝７５／８／５／５／７（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール＝８０／７／５／８（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／ブタノール＝８５／１０／５（質量部）、
酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール＝６０／１５／１４／５／６（質量部）、
酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン＝７０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／１、３−ジオキソラン／メタノール／エタノール＝７０／２０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール＝６０／２０／１０／５／５（質量部）、
酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
【０３４２】
ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール＝５０／２０／２０／５／５（質量部）、
ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン＝６５／１０／１０／５／５／５（質量部）、
アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
アセトン／１，３−ジオキソラン／エタノール／ブタノール＝６５／２０／１０／５（質量部）、
１、３−ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール＝５５／２０／１０／５／５／５（質量部）
などをあげることができる。
【０３４３】
更に、下記の方法で調整したセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８１／８／７／４（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加する方法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール＝８４／１０／４／２（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加する方法、
酢酸メチル／アセトン／エタノール＝８４／１０／６（質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、濾過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加する方法。
【０３４４】
本発明に用いるドープには、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。
【０３４５】
〔セルロースアシレート溶液特性〕
セルロースアシレートの溶液は、前記有機溶媒にセルロースアシレートを溶解させた溶液であり、その濃度は１０〜３０質量％の範囲であることが、製膜流延適性の点で好ましく、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％である。
セルロースアシレート溶液をこのような濃度範囲にする方法は、溶解する段階で所定の濃度になるようにしてもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に、後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液とした後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法でも本発明において好ましく用いられるセルロースアシレート溶液濃度になるように実施されれば特に問題ない。
【０３４６】
次に、本発明では、セルロースアシレート溶液を同一組成の有機溶媒で０．１〜５質量％にしたときの、希釈溶液中のセルロースアシレートの会合体分子量が１５万〜１５００万であることが、溶媒への溶解性の点で好ましい。会合分子量は１８万〜９００万であることがさらに好ましい。この会合分子量は、静的光散乱法で求めることができる。その際に、同時に求められる慣性半径は１０〜２００ｎｍになるように溶解することが好ましい。さらに好ましい慣性半径は２０〜２００ｎｍである。更にまた、第２ビリアル係数が−２×１０-4〜＋４×１０-4となるように溶解することが好ましく、より好ましくは第２ビリアル係数が−２×１０-4〜＋２×１０-4である。
【０３４７】
ここで、本発明での会合分子量、さらに慣性半径及び第２ビリアル係数の定義について述べる。これらは下記方法に従って、静的光散乱法を用いて測定する。測定は装置の都合上希薄領域で測定するが、これらの測定値は本発明の高濃度域でのドープの挙動を反映するものである。
【０３４８】
まず、セルロースアシレートをドープに使用する溶媒に溶かし、０．１質量％、０．２質量％、０．３質量％、０．４質量％の溶液を調製する。なお秤量は、吸湿を防ぐため、セルロースアシレートは、１２０℃で２時間乾燥したものを用い、２５℃、１０％ＲＨで行う。溶解方法は、ドープ溶解時に採用した方法（常温溶解法、冷却溶解法、高温溶解法）に従って実施する。続いてこれらの溶液、及び溶媒を０．２μｍのテフロン（登録商標）製フィルターで濾過する。そして、濾過した溶液の静的光散乱を、光散乱測定装置“ＤＬＳ−７００”｛大塚電子（株）製｝を用い、２５℃において３０゜から１４０゜まで１０゜間隔で測定する。得られたデータをＢＥＲＲＹプロット法にて解析する。なお、この解析に必要な屈折率は、アッベ屈折系で求めた溶媒の値を用い、屈折率の濃度勾配（ｄｎ／ｄｃ）は、示差屈折計“ＤＲＭ−１０２１”｛大塚電子（株）製｝を用い、光散乱測定に用いた溶媒及び溶液を用いて測定する。
【０３４９】
〔ドープの調製〕
次に、セルロースアシレートの流延・製膜用の溶液（ドープ）の調製について述べる。
セルロースアシレートの溶解方法は、特に限定されず、室温溶解法でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解法、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１号、特開昭６１−１０６６２８号、特開昭５８−１２７７３７号、特開平９−９５５４４号、特開平１０−９５８５４号、特開平１０−４５９５０号、特開２０００−５３７８４号、特開平１１−３２２９４６号、さらに特開平１１−３２２９４７号、特開平２−２７６８３０号、特開２０００−２７３２３９号、特開平１１−７１４６３号、特開平０４−２５９５１１号、特開２０００−２７３１８４号、特開平１１−３２３０１７号、特開平１１−３０２３８８号などの各公報にセルロースアシレート溶液の調製法として記載されている。
【０３５０】
以上記載した、これらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、適宜本発明の範囲であれば、本発明においてもこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細、特に非塩素系溶媒系については、前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．２２−２５に詳細に記載されており、その方法に従って実施することができる。さらに本発明において好ましく用いられるセルロースアシレートのドープ溶液については、通常、溶液濃縮、濾過が実施されるが、これらについては同様に前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．２５に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合には、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で行われる。
【０３５１】
セルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率が以下に述べる範囲であることが、流延しやすく好ましい。これらの値は、試料溶液１ｍＬをレオメーター“ＣＬＳ  ５００”に、直径４ｃｍ／２°の“Ｓｔｅｅｌ  Ｃｏｎｅ”（共にＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定する。測定条件はＯｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ  Ｓｔｅｐ／Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｒａｍｐで４０℃〜−１０℃の範囲を２℃／分で可変して測定し、４０℃の静的非ニュートン粘度ｎ*（Ｐａ・ｓ）及び−５℃の貯蔵弾性率Ｇ'（Ｐａ）を求める。なお試料溶液は、予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始する。
【０３５２】
本発明では、４０℃での粘度が１〜４００Ｐａ・ｓであり、１５℃での動的貯蔵弾性率が５００Ｐａ以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃での粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓで、１５℃での動的貯蔵弾性率が１００〜１００万であるのがよい。さらには、低温での動的貯蔵弾性率は大きいほど好ましく、例えば流延支持体が−５℃の場合は、動的貯蔵弾性率が−５℃で１万〜１００万Ｐａであることが好ましく、支持体が−５０℃の場合は、−５０℃での動的貯蔵弾性率が１万〜５００万Ｐａであることが好ましい。
【０３５３】
本発明においては、前述の特定のセルロースアシレートを用いているので、高濃度のドープが得られるのが特徴であり、濃縮という手段に頼らずとも高濃度で、しかも安定性の優れたセルロースアシレート溶液が得られる。更に溶解し易くするために、低い濃度で溶解してから濃縮手段を用いて濃縮してもよい。濃縮の方法としては、特に限定するものはないが、例えば、低濃度溶液を筒体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて、溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法（例えば、特開平４−２５９５１１号公報等）、加熱した低濃度溶液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させるとともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を容器底から抜き出す方法（例えば、米国特許第２，５４１，０１２号、米国特許第２，８５８，２２９号、米国特許第４，４１４，３４１号、米国特許第４，５０４，３５５号各明細書等などに記載の方法）等で実施できる。
【０３５４】
ドープ溶液は、流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。セルロースアシレート溶液の濾過には、絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルターを用いることが好ましく、さらには絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルターを用いることが好ましい。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．６ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下、更には１．０ＭＰａ以下、特に０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常１０Ｐａ・ｓ〜２０００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３０Ｐａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓがより好ましく、４０Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓが更に好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５〜＋７０℃であり、より好ましくは−５〜＋５５℃である。
【０３５５】
〔製膜〕
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、前記セルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて製膜を行うことにより得ることができる。製膜方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して、巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。
【０３５６】
ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製するに際しては、まず、調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が５〜４０質量％となるように濃度を調整しておくことが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラム又はバンド上に流延する方法が好ましく採用され、特には金属支持体温度が−１０〜２０℃の範囲であることが好ましい。さらに本発明では、特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平０２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平０２−１１１５１１号、及び特開平０２−２０８６５０号の各公報に記載の方法を用いることができる。
【０３５７】
［重層流延］
セルロースアシレート溶液は、金属支持体としての平滑なバンド上又はドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延してもよい。複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口から、セルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて、積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってフィルム化することもでき、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。さらに、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高粘度及び低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す、セルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。更にまた、特開昭６１−９４７２４号及び特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の、外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。あるいはまた２個の流延口を用い、第一の流延口により金属支持体上に形成したフィルムを剥離した後、そのフィルムの金属支持体面に接していた側に第二の流延を行うことでより、複数の層のフィルムを作製することもでき、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法を挙げることができる。流延するセルロースアシレート溶液は、同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく、特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるためには、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、粘着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。
【０３５８】
従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くなりがちで固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決法として、複数のセルロースアシレート溶液を、複数の流延口から相対的に少量ずつ流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことが可能になり、平面性も改善されて優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０３５９】
共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合には、金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さとして定義する。共流延の場合、前記の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースアシレート溶液を共流延して、積層構造のセルロースアシレートフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースアシレートフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。またコア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかを含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、あるいは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。さらに剥離促進剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。さらにまた、冷却ドラム法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていてもよく、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。またさらに流延時のセルロースアシレートを含む溶液の粘度も、スキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度がコア層の粘度よりも小さいことが好ましいが、コア層の粘度がスキン層の粘度より小さくてもよい。
【０３６０】
［流延方法］
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。またここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
【０３６１】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基又は２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるセルロースアシレート溶液の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、又は工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
【０３６２】
［乾燥］
セルロースアシレートフィルムの製造に係わる、金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラム又はベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム又はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム又はベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【０３６３】
［延伸処理］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。
【０３６４】
フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。通常は１〜２００％の延伸を行うが、好ましくは１〜１００％、特に好ましくは１〜５０％の延伸を行うのがよい。
【０３６５】
液晶セルの光学異方性の補償及び偏光板を斜めから見た場合の光漏れの抑制のためには、面内レターデーション値が３０ｎｍ以上の保護膜を用いることが好ましく、そのためには延伸処理を行ったセルロースアシレートフィルムが用いられる。具体的には、延伸倍率１０％以上のものが好ましく、さらに好ましくは１５％以上のものである。
【０３６６】
上記の偏光板を斜めから見たときの光漏れの抑制のためには、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。
【０３６７】
乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なり、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【０３６８】
以上のようにして得られた、セルロースアシレートフィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【０３６９】
フィルムの幅方向のＲｅ590値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ590値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
【０３７０】
〔セルロースアシレートフィルムの光学特性〕
本明細書において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、それぞれ波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅλは“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”｛王子計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ、面内の遅相軸（“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値を基に“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”が算出する。
【０３７１】
ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
また、これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨによりｎx（遅相軸方向の屈折率）、ｎy（進相軸方向の屈折率）、ｎz（厚み方向の屈折率
）を算出する。また“ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ”は、面内の遅相軸を傾斜軸とした場合の、フィルム内部を伝播する光に対してレターデーション値が最小となるフィルム法線方向に対する角度βも算出する。
【０３７２】
Ｒｅλレターデーション値、Ｒｔｈλレターデーション値が、それぞれ、以下の数式（２）、（３）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ590≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ590、Ｒｔｈ590は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
【０３７３】
また、セルロースアシレートフィルムの光学異方性の影響を小さくしたい場合は、液晶セル側に配置される保護膜（セルロースアシレートフィルム）のＲｅλ及びＲｔｈλが、数式（８）〜（１１）を満たすことが好ましい。
数式（８）：０≦Ｒｅ590≦１０
数式（９）：｜Ｒｔｈ590｜≦２５
数式（１０）：｜Ｒｅ400−Ｒｅ700｜≦１０
数式（１１）：｜Ｒｔｈ400−Ｒｔｈ700｜≦３５
［式中、Ｒｅ590、Ｒｔｈ590は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値、Ｒｅ400、Ｒｔｈ400は、波長λ＝４００ｎｍにおける値、Ｒｅ700、Ｒｔｈ700は、波長λ＝７００ｎｍにおける値（いずれも単位：ｎｍ）である。］
【０３７４】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムをＶＡモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ590は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ590は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。
【０３７５】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの、フィルム面内の遅相軸角度のバラつきは、ロールフィルムの基準方向に対して−２゜〜＋２゜の範囲にあることが好ましく、−１゜〜＋１゜の範囲にあることがさらに好ましく、−０．５゜〜＋０．５゜の範囲にあることが最も好ましい。ここで、基準方向とは、セルロースアシレートフィルムを縦延伸する場合にはロールフィルムの長手方向であり、横延伸する場合にはロールフィルムの幅方向である。
【０３７６】
また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｅ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｅ値との差ΔＲｅ（＝Ｒｅ10%−Ｒｅ80%）が０〜１０ｎｍであり、２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値との差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ10%−Ｒｔｈ80%）が０〜３０ｎｍであるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
【０３７７】
さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が３．２％以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
含水率の測定法は、セルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを、水分測定器、試料乾燥装置｛“ＣＡ−０３”、“ＶＡ−０５”、共に三菱化学（株）｝を用いてカールフィッシャー法で測定する。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。
【０３７８】
さらにまた、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、９５％ＲＨ、２４時間の透湿度（膜厚８０μｍ換算）が、４００ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以上１８００ｇ／ｍ2・２４ｈｒ以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
【０３７９】
透湿度は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ小さくなり、膜厚が薄ければ大きくなる。そこで、どのような膜厚のサンプルでも基準となる膜厚を設け換算する必要がある。本発明においては、基準となる膜厚を８０μｍとして、次の数式（１３）に従って膜厚を換算した。
数式（１３）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ。
【０３８０】
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４  共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができる。
【０３８１】
ガラス転移温度の測定は、セルロースアシレートフィルム試料（未延伸）５ｍｍ×３０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に、動的粘弾性測定装置「バイブロン：ＤＶＡ−２２５」｛アイティー計測制御（株）製｝｝を用いて、つかみ間距離２０ｍｍ、昇温速度２℃／分、測定温度範囲３０℃〜２００℃、周波数１Ｈｚで測定し、縦軸に対数軸で貯蔵弾性率、横軸に線形軸で温度（℃）をとった時に、貯蔵弾性率が固体領域からガラス転移領域へ移行する際に見受けられる、貯蔵弾性率の急激な減少を示す温度をガラス転移温度Ｔｇとした。具体的には、得られたチャート上において、固体領域で直線１を引き、ガラス転移領域で直線２を引いたときの直線１と直線２の交点が、昇温時に貯蔵弾性率が急激に減少しフィルムが軟化し始める温度であり、ガラス転移領域に移行し始める温度であることから、ガラス転移温度Ｔｇ（動的粘弾性）とした。
【０３８２】
弾性率の測定は、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１５０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後、引張り試験機「ストログラフ−Ｒ２」｛（株）東洋精機製作所製｝｝で、チャック間距離１００ｍｍ、温度２５℃、延伸速度１０ｍｍ／分で行った。
【０３８３】
吸湿膨張係数の測定は、２５℃、８０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルムの寸法をピンゲージで測定した値Ｌ80%と、２５℃、１０％ＲＨ下に２時間以上放置したフィルムの寸法をピンゲージで測定した値Ｌ10%とから、次の数式（１４）により求めた。
数式（１４）：（Ｌ80%−Ｌ10%）／（８０％ＲＨ−１０％ＲＨ）×１０6
【０３８４】
また、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、そのヘイズが０．０１〜２％の範囲であるのが好ましい。ここでヘイズは、以下のようにして測定できる。
ヘイズの測定は、セルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”｛スガ試験機（株）製｝でＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って測定する。
【０３８５】
さらに本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合の質量変化が、０〜５質量％の範囲であるのが、好ましい。
【０３８６】
またさらに、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、６０℃、９５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化が、いずれも０〜５％の範囲であるのが好ましい。
【０３８７】
光弾性係数は、５０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎｅ以下であるのが、液晶表示装置の経時による色味変化を少なくする上で好ましい。
具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１０ｍｍ×１００ｍｍの、長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター“Ｍ１５０”｛日本分光（株）｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。
【０３８８】
｛シクロオレフィン系ポリマー｝
また、保護膜としては、セルロースアシレートの代わりにシクロオレフィン系ポリマーを用いることもできる。シクロオレフィン系ポリマーとしては特開平１−１３２６２５号公報、特開平１−１３２６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開昭６３−２１８７２６号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６１−１２０８１６号公報、特開昭６０−１１５９１２号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６０−２５２４０７号公報、国際公開第２００４／０４９０１１Ａ１号パンフレット、国際公開第２００４／０６８２２６Ａ１号パンフレット、国際公開第２００４／０７０４６３Ａ１号パンフレットに記載のものを使用することができる。また、上市されているシクロオレフィン系ポリマーとしては、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（株）製）、エスシーナ（積水化学工業（株）製）を使用することができる。
該シクロオレフィン系ポリマーフィルムは、その光学異方性の影響を小さくしたい場合は、液晶セル側に配置される保護膜（シクロオレフィン系ポリマーフィルム）のＲｅλ及びＲｔｈλが、前述の数式（８）〜（１１）を満たすことが好ましい。
【０３８９】
＜偏光板＞
次に、本発明に関する偏光板について説明する。
本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の厚みｄ1と、液晶セルと反対側に配置される保護膜の厚みｄ2が、下記数式（１５）を満たすことが好ましい。
数式（１５）：０．３×ｄ1≦ｄ2≦１．３×ｄ1
上記数式（１５）を満たすことにより、弾性率、吸湿膨張係数がほぼ同じ保護膜を組み合わせる場合に、偏光板のカールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となり、好ましい結果が得られる。
【０３９０】
また、本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の弾性率Ｅ1と、液晶セルと反対側に配置される保護膜の弾性率Ｅ2が下記数式（１６）を満たすことが好ましい。それにより、厚み、吸湿膨張係数がほぼ同じ保護膜を組み合わせる場合に偏光板のカールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となり、好ましい結果が得られる。
数式（１６）：０．３×Ｅ1≦Ｅ2≦１．３×Ｅ1
【０３９１】
さらに、液晶セル側に配置される保護膜の厚みｄ1及び弾性率Ｅ1と、液晶セルと反対側に配置される保護膜の厚みｄ2及び弾性率Ｅ2が下記式（１７）を満たすことが好ましい。
数式（１７）：０．３×Ｅ1×ｄ1≦Ｅ2×ｄ2≦１．３×Ｅ1×ｄ1
数式（１７）を満たすことにより、厚み、弾性率が異なる保護膜を組み合わせる場合にも偏光板のカールが−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲となる。
【０３９２】
さらに、本発明に関する偏光板は、液晶セル側に配置される保護膜の吸湿膨張係数Ｃ1と、液晶セルと反対側に配置される保護膜の吸湿膨張係数Ｃ2が下記数式（１８）を満たすことが好ましい。
数式（１８）：０．３×Ｃ1≦Ｃ2≦１．３×Ｃ1
上記数式を満たすことにより、偏光板作製時に対して偏光板を液晶セルに貼り合せる時の湿度が高くなった場合の偏光板カールを−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲がとなり、好ましい結果が得られる。
【０３９３】
偏光板の偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０３９４】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
シクロオレフィン系ポリマーフィルムを偏光板保護膜として用いる場合には、接着剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックスに加えて、アクリル系ポリマー、エポキシ系ポリマー、変成オレフィン系ポリマー、スチレンブタジエン系ポリマー、特殊合成ゴム等の接着剤を用いることができる。
接着性を高めるために表面処理を行っても良い。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてポリマーフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下とすることが好ましい。
【０３９５】
偏光板は、偏光子及びその両面を保護する保護膜、および少なくとも片面に粘着層を有して構成されており、さらにまた、粘着層面にセパレートフィルムを、該偏光板のセパレートフィルムとは反対面にプロテクトフィルムを貼合して構成してもよい。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶セルへ貼合する面の反対面側に用いられる。またセパレートフィルムは偏光板を液晶セルへ貼合するための粘着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
粘着層は（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛又は高分子量（メタ）アクリル系共重合体（Ａ1）と低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ2）｝及び多官能性化合物（Ｂ）からなる（メタ）アクリル系共重合体を含む組成物の溶液をダイコーター等のコーターでセパレートフィルム上に塗布し、乾燥させた後、偏光板保護フィルムにセパレートフィルムごと転写することにより形成される。上記組成物の溶液を偏光板保護フィルム上に塗布し、乾燥させた後、セパレートフィルムで粘着層を覆っても良い。
【０３９６】
前記した延伸したセルロースアシレートフィルムを用いる場合の偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸を一致させるように貼り合せることが好ましい。
【０３９７】
なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１゜以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下して、光抜けが生じたり、液晶セルと組み合わせた場合に、十分な黒レベルやコントラストが得られなかったりするなどの不具合が生じにくいので、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの遅相軸の方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１゜以内であることが好ましく、０．５゜以内であることがさらに好ましい。
【０３９８】
液晶セルへの偏光板の貼り付けは、一般的には多数の穴の開いた吸引治具に偏光板を取り付け、粘着剤が塗設されて形成された粘着層表面のセパレートフィルムを剥がし、粘着層表面を液晶セルに接触させ、ローラーで加圧することにより貼り付けを行う。この際、偏光板が液晶セル側に凹になるようにカールしていると、吸引治具への吸着が十分に行われず、吸引治具への取り付け角度のズレが生じ、液晶セルへの貼り付け角度がずれ、設計どおりの表示特性が得られない。また、液晶セルへの貼り付け途中に偏光板が吸引治具から脱落し、貼り付け作業を続けることができず、作業中断となる場合もある。
【０３９９】
このような偏光板貼り付け不良を生じさせないためには、偏光板のカール量を−３０ｍｍ〜＋１５ｍｍの範囲とすることが好ましく、−２０ｍｍ〜＋５ｍｍの範囲とすることがさらに好ましく、−１０ｍｍ〜０ｍｍの範囲とすることが最も好ましい。ここで、液晶セルに貼り付ける面（粘着剤塗設面＝粘着層表面）側に凹となる場合を＋（プラス）カール、凸となる場合を−（マイナス）カールと呼ぶ。カール量の制御は、液晶セル側の保護膜と、液晶セルと反対側の保護膜の厚み、弾性率、吸湿膨張係数の関係を調整によって行うことができる。
【０４００】
カールの測定は、２３０ｍｍ×３０５ｍｍの大きさの偏光板を、平らな台の上で、端部が持ち上がる面を下にして置き、２５℃、６０％ＲＨの環境に２時間以上を放置した後に、台の面を基準とし偏光板端部の最も離れた位置の高さを測定し、カール量とする。セパレートフィルム、プロテクトフィルムがついている場合は、それらのフィルムはつけたままで測定した。
【０４０１】
〔セルロースアシレートフィルムの表面処理〕
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が前記公技番号２００１−１７４５号ｐ．３０−３２に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
【０４０２】
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液をセルロースアシレートフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
【０４０３】
さらに本発明に関する偏光板は、偏光板の少なくとも一方の側の保護膜の表面に、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けられたものであるのが好ましい。すなわち、偏光板の液晶表示装置への使用時において、液晶セルと反対側に配置される保護膜には、反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる機能性膜としては、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けるのが好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば、反射防止層やハードコート層に防眩性の機能を持たせることにより、反射防止層及び防眩層の二層を設ける代わりに、防眩性反射防止層として機能させてもよい。
【０４０４】
〔反射防止層〕
本発明では、偏光板の保護膜上に、少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層されてなる反射防止層、又は保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に設けられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。なお前者の構成では、一般的に鏡面反射率は１％以上となり、Ｌｏｗ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＬＲ）フィルムと呼ばれる。後者の構成では、鏡面反射率０．５％以下を実現するものが可能となり、Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ）フィルムと呼ばれる。
【０４０５】
［ＬＲフィルム］
偏光板の保護膜上に、光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層（ＬＲフィルム）の好ましい例について述べる。
光散乱層には、マット粒子が分散されているのが好ましく、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明において光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、一層でもよいし、複数層、例えば二層〜四層で構成されていてもよい。
【０４０６】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均凹凸間距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均凹凸間距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５゜の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。
【０４０７】
また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ*値−２〜２、ｂ*値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の、最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなるので好ましい。さらにＣ光源下での透過光のｂ*値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減されるので好ましい。さらにまた、面光源上と反射防止層の間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入して、フィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明の偏光板を適用したときのギラツキが低減されるので好ましい。
【０４０８】
本発明で用いることができる反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０゜光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％
以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値の比が０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２゜傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成されるので好ましい。
【０４０９】
（低屈折率層）
本発明で用いることができる低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２０〜１．４９であり、更に好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（１９）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（１９）：（ｍ／４）λ×０．７＜ｎLｄL＜（ｍ／４）λ×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎLは低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄLは低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【０４１０】
低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。
フッ素ポリマーとしては、動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０゜、純水の滑落角が７０゜以下の、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明に関する偏光板を画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、引張試験機で測定した場合、該剥離力が５００ｇｆ以下であることが好ましく、３００ｇｆ以下であることがより好ましく、１００ｇｆ以下であることが最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど傷がつき難く、該表面硬度は０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０４１１】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしては、ペルフルオロアルキル基含有シラン化合物｛例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン｝の加水分解物、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【０４１２】
含フッ素モノマーの具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ペルフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例えば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や“Ｍ−２０２０”｛ダイキン工業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０４１３】
架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように、分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等｝の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０４１４】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶媒への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０４１５】
上記のポリマーに対しては、特開平１０−２５３８８号及び特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく、適宜硬化剤を併用してもよい。
【０４１６】
（光散乱層）
光散乱層は、表面散乱及び内部散乱の少なくともいずれかによる光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに付与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、及び必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。また、このような光散乱層を設けることにより、該光散乱層が防眩層としても機能し、偏光板が防眩層を有することになる。
【０４１７】
光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。光散乱層の膜厚が該下限値以上であれば、ハード性が不足するなどの問題が生じにくく、該上限値以下であれば、カールや脆性が悪化して加工適性が不足するなどの不都合が生じにくいので好ましい。
【０４１８】
光散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。またバインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、且つ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。
【０４１９】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート｝、上記のエチレンオキシド変性体、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。これらのモノマーは２種以上併用してもよい。
【０４２０】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【０４２１】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を保護膜上に塗布後、電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。
【０４２２】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤又は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。従って、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤又は熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗布液を調製し、該塗布液を保護膜上に塗布後電離放射線又は熱による重合反応により硬化して反射防止層を形成することができる。
【０４２３】
２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりに、又はそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
【０４２４】
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０４２５】
光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有される。マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【０４２６】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。
【０４２７】
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては、単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほどよい。例えば、平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【０４２８】
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【０４２９】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
【０４３０】
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2及びＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
【０４３１】
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
【０４３２】
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【０４３３】
光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．５０〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５１〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０４３４】
光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、又はその両者を光散乱層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明において好ましく用いられる反射防止層の塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【０４３５】
［ＡＲフィルム］
次に保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層された反射防止層（ＡＲフィルム）について述べる。
【０４３６】
保護膜上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成からなる反射防止層は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞保護膜の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【０４３７】
また、保護膜と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の反射防止層が挙げられる。
さらに各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０４３８】
反射防止層のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の表面強度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０４３９】
（高屈折率層及び中屈折率層）
反射防止層の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化膜からなる。
【０４４０】
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
【０４４１】
このような微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用（例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０９号公報等）等挙げられる。
【０４４２】
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に好ましい材料としては、ラジカル重合性及びカチオン重合性の少なくともいずれかの重合性基を２個以上有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有する有機金属化合物を含有する組成物、及びその部分縮合体を含有する組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が挙げられ、例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
【０４４３】
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
【０４４４】
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０４４５】
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０４４６】
（低屈折率層）
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であることが好ましい。より好ましくは１．３０〜１．５０である。
【０４４７】
低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等からなる薄膜層の手段を適用できる。
【０４４８】
含フッ素化合物は、フッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性又は重合性の官能基を含む化合物が好ましく、例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。
【０４４９】
シリコーン化合物としては、ポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン［例えば、「サイラプレーン」｛チッソ（株）製等｝］、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
【０４５０】
架橋又は重合性基を有する、含フッ素ポリマー及びシロキサンポリマーの少なくともいずれかの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時に、又は塗布後に光照射や加熱することにより低屈折率層を形成することが好ましい。
【０４５１】
またシランカップリング剤等の有機金属化合物と、特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを、触媒共存下に縮合反応で硬化するゾル／ゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又はその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ（ペルフルオロアルキルエーテル）基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
【０４５２】
低屈折率層は、上記以外の添加剤として、充填剤｛例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等｝、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
【０４５３】
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
【０４５４】
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０４５５】
（ハードコート層）
ハードコート層は、反射防止層を設けた保護膜に物理強度を付与するために、保護膜の表面に設ける。特に、保護膜と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性化合物における硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。また加水分解性官能基含有の有機金属化合物や有機アルコキシシリル化合物も好ましい。
【０４５６】
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。
【０４５７】
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
【０４５８】
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層を兼ねることもできる。
【０４５９】
ハードコート層の膜厚は、用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
【０４６０】
ハードコート層の表面強度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。またＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０４６１】
（反射防止層の他の層）
さらに、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０４６２】
（帯電防止層）
帯電防止層を設ける場合には、体積抵抗率が１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０-8（Ωｃｍ-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属として、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｗ又はＶをあげることができ、これらを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。
【０４６３】
上記金属酸化物の具体的な例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3、ＷＯ3、Ｖ2Ｏ5等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。
【０４６４】
更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子又は繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用してもよい。なお体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり、単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０-8（Ωｃｍ-3）以下の導電性を確保するためには、該帯電防止層が概ね１０-10（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく、更に好ましくは１０-8（Ω／□）である。帯電防止層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。
【０４６５】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、前記偏光板を少なくとも有するものであり、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等が含まれる。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、および必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては前記偏光板を使用することを必須とする点を除いて特に制限は無い。液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物およびこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【０４６６】
前記液晶セルは、前記電極基板および液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていても良い。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であっても良い。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０４６７】
本発明における偏光板は、反射型、半透過型、および透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。また、本発明における偏光板は、コレステリック液晶フィルムと組み合わされることで、輝度向上膜としても好ましく用いられる。反射型液晶表示装置は、反射板、液晶セルおよび偏光板を、この順に積層した構成を有する。位相差板は、反射板と偏光膜との間（反射板と液晶セルとの間または液晶セルと偏光膜との間）に配置される。反射板は、液晶セルと基板を共有していてもよい。半透過反射型液晶表示装置は、電液晶セルと、該液晶セルより観察者側に配置された偏光板と、前記偏光板と前記液晶セルの間に配置される少なくとも１枚の位相差板と、観察者から見て前記液晶セルよりも後方に設置された半透過反射層を少なくとも備え、さらに観察者から見て前記半透過反射層よりも後方に少なくとも１枚の位相差板と偏光板とを有す。このタイプの液晶表示装置では、バックライトを設置することで反射モードと透過モード両方の使用が可能となる。
【０４６８】
前記液晶表示装置において、本発明の偏光板は楕円偏光板または円偏光板等として機能する。本発明における液晶表示装置は、本発明の前記偏光板を少なくとも１ヶ所に用いたものである。
【０４６９】
本発明の偏光板は前記用途に限らず、その他の種々の用途に供することが出来る。例えば、ホスト−ゲスト型液晶表示装置、タッチパネル、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子などの反射防止膜、反射型偏光板などに用いることができる。
【実施例】
【０４７０】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０４７１】
・実施例１
＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０４７２】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０４７３】
（添加剤溶液の調製）
下記組成をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学異方性低下剤                  ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０４７４】
光学異方性低下剤
【化４８】
2007101678.tif 000050
【０４７５】
波長分散調整剤
【化４９】
2007101678.tif 000051
【０４７６】
（セルロースアシレートフィルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部のそれぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性低下剤および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアシレートフィルムを製造した。得られたフィルムの面内レタデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ（遅相軸はフィルム長手方向と垂直な方向）、厚み方向のレタデーション（Ｒｔｈ）は−１ｎｍであった。
【０４７７】
＜位相差板１ｂの作製＞
（配向膜の形成）
上記作製したセルロースアシレートフィルムの表面をケン化後、下記組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理を施して配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０４７８】
変性ポリビニルアルコール
【化５０】
2007101678.tif 000052
【０４７９】
（第１の光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶性化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶性化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶性化合物の配向を固定化し第１の光学異方性層を形成し、位相差板１ａを作製した。
【０４８０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
第１の光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物                    ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
フッ素系ポリマー  Ｐ−１９                          ０．４質量部
ピリジニム塩  Ｉ−３０                              ０．５質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０４８１】
ディスコティック液晶性化合物
【化５１】
2007101678.tif 000053
【０４８２】
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、上記作製した位相差板１ａの５８９ｎｍにおけるＲｅ(0)=121.6nm、Ｒｅ(40)=112.8nm、Ｒｅ(-40)=112.7nmを測定し、Ｒｔｈ＝-61nmおよびＮｚ=0であった。これらの結果からディスコティック液晶性化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶性化合物がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
【０４８３】
（第２の光学異方性層の形成）
上記作製した位相差板１ａの第１の光学異方性層の上に、上記と同様にして配向膜を形成した。下記組成の棒状液晶性化合物を含む塗布液を配向膜上に＃３．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及び棒状液晶性化合物の配向熟成のために、９０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶性化合物の配向を固定化し第２の光学異方性層を形成した。続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアシレートフィルム表面を連続的にケン化処理し、位相差板１ｂを作製した。
【０４８４】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
第２の光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物Ａ                            １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
フッ素系ポリマー  Ｐ−２２                          ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ｄ）                        ０．２質量部
ピリジニム塩Ｉ−１２                                    ２質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０４８５】
棒状液晶性化合物Ａ
【化５２】
2007101678.tif 000054
【０４８６】
フッ素系ポリマー（Ｄ）
【化５３】
2007101678.tif 000055
【０４８７】
上記と同様にして、位相差板１ｂの５８９ｎｍにおけるＲｅ(0)＝121.6nm、Ｒｅ(40)=85.3nmおよびＲｅ(-40)=85.4nmを測定し、Ｒｔｈ=-243nmおよびＮｚ＝-1.5であった。これらの結果から、ディスコティック液晶性化合物がフィルム面（光学異方性層面）に対して垂直に配向している第１の光学異方性層の上に、棒状液晶性化合物がフィルム面（光学異方性層面）に対して垂直に配向している第２の光学異方性層が形成されたことが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
【０４８８】
＜粘着剤の合成と物性＞  
合成例１
（１）（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）溶液の調製
表１に示す組成比で、ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃未満の（メタ）アクリル酸エステル（ａ1）、ホモポリマーとした時のＴｇが−３０℃以上のビニル基を有する化合物（ａ2）、多官能性化合物に対して反応性を有する官能基含有モノマー（ａ3）及び重合開始剤を反応容器に入れ、この反応容器を窒素ガスで置換した後、攪拌しつつ窒素雰囲気化で、表１に示す反応温度及び時間で反応させた。（メタ）アクリル系共重合体Ｎｏ．１、２、３、５、６については反応後に酢酸エチルで希釈し、固形分濃度２０質量％としポリマー溶液を得た。（メタ）アクリル系共重合体Ｎｏ．４、７については反応後にトルエンで希釈し、固形分濃度２０質量％とし、（メタ）アクリル系共重合体溶液を得た。
【０４８９】
［質量平均分子量の測定］
上記（メタ）アクリル系共重合体溶液における各共重合体の、スチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）をゲル浸透クロマトグラフ法（ＧＰＣ）により求めた。測定条件を下記に示す。また得られた結果を表１に示す。
【０４９０】
装置名：“ＨＬＣ−８１２０”｛東ソー（株）製｝
カラム：“Ｇ７０００ＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  １本｛東ソー（株）製｝
“ＧＭＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  ２本｛東ソー（株）製｝
“Ｇ２５００ＨＸＬ”７．８ｍｍＩＤ×３０ｃｍ  １本｛東ソー（株）製｝
サンプル濃度：１．５ｍＬ／ｍＬになるようにテトラヒドロフランで希釈
移動相溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／分
カラム温度：４０℃
【０４９１】
【表１】
2007101678.tif 000056
【０４９２】
（２）粘着剤溶液の調製
合成例１で調製した（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）溶液を、表２に示す固形分比となるように混合し、表２に示す多官能性化合物（架橋剤）（Ｂ）を添加し、十分に攪拌して粘着剤溶液を得た。
【０４９３】
［ゲル分率の測定］
ゲル分率の測定は下記のように行った。粘着剤溶液を２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。乾燥後の厚みが２５μｍになるように粘着剤溶液の塗布量を調整した。乾燥した粘着層約２０ｍＬをクロロホルム約１０ｍＬに浸漬し、不溶成分を０．４５μｍのフィルターで濾過し、フィルターに残ったものを乾燥し、質量を測りゲル分（架橋成分）の質量Ｍｇとした。さらに、濾液を乾燥して残渣の質量を測り、ゾル分（未架橋成分）の質量Ｍｓとし、下記式によりゲル分率を算出した。
ゲル分率（％）＝Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｍｓ）×１００
尚、表２では粘着層を塗工後直後のゲル分率を示す。表３に示すゲル分率は粘着層を塗工後直後、塗工後１ケ月後のもの、および塗工後１ケ月後にさらに８０℃で５００時間加熱したものの３条件を測定したものである。
【０４９４】
【表２】
2007101678.tif 000057
【０４９５】
合成例２：粘着剤溶液１３の調製
アクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸５質量部、２、２’−アゾビスブチロニトリル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してポリマー１の溶液を得た。ポリマー１の固形分１００質量部に対して、１質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液１３を作製した。
【０４９６】
合成例３：粘着剤溶液１４の調製
アクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸５質量部、過酸化ベンゾイル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してポリマー２の溶液を得た。ポリマー２の固形分１００質量部に対して、１質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液１４を作製した。
【０４９７】
合成例４：粘着剤溶液１５の調製
アクリル酸ブチル１００質量部、アクリル酸５質量部、２、２’−アゾビスブチロニトリル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してポリマー３の溶液を得た。ポリマー３の固形分１００質量部に対して、０．２質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液１５を作製した。
【０４９８】
合成例５：粘着剤溶液１６の調製
アクリル酸ブチル７０質量部、アクリル酸メチル３０質量部、アクリル酸５質量部、２、２’−アゾビスブチロニトリル０．５質量部をモノマー濃度６０質量％となるように酢酸エチルに溶解した後、６０℃で８時間重合してポリマー４の溶液を得た。ポリマー４の固形分１００質量部に対して、１質量部のイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業株式会社製）を加えて十分に攪拌し粘着剤溶液１６を作製した。
【０４９９】
粘着剤１７としてはゴム系の粘着剤を用いた。
【０５００】
［クリープ値の測定］
水洗・乾燥を行った無アリカリガラス板（品番１７３７、コーニング製）７０に粘着層８０を形成した偏光板９０を図１に示すように貼り付けた。貼り付け面積は横ａが１０ｍｍ、縦ｂが１０ｍｍとした。初期接着圧力は５ｋｇ／ｃｍ2とした。その後、接着圧力を除き、５０℃の雰囲気下で２００ｇの荷重Ｗを１時間掛け、室温雰囲気下に取り出し荷重を取り除き粘着剤のクリープ量を測定した。粘着層を形成した偏光板を未試験のものに取り替えて、雰囲気の温度を２５℃、７０℃、９０℃として、５０℃の場合と同様にクリープ量を測定した。
【０５０１】
［接着力の測定］
ＪＩＳ Ｚ ０２３７「粘着テープ、粘着シート試験方法」に基づいて、粘着層の接着力を測定した。具体的には、長さ１００ｍｍ×幅２５ｍｍの粘着層を形成した偏光板を作製し、これを水洗・乾燥を行った無アリカリガラス板（品番１７３７、コーニング製）に貼り付けた。次いで２ｋｇローラーを１往復させた後に、２５℃で２０分間放置した。前記ガラス板と偏光板を２５℃、剥離速度３００ｍｍ／ｍiｎ、９０°ピールの条件で、前記ＪＩＳ規定に基づき、引っ張り試験機（ＴＭＣ−１ｋＮＢ、ミネベア（株）製）を用いて、前記偏光板をガラス板から剥離する際の力を測定することにより、前記粘着層の接着力を測定した。
偏光板をガラス板に貼り付けた後の熱処理なしの場合と、５０℃、５気圧のオートクレーブ中に１５分間放置して接着状態を熟成した後、７０℃で５時間加熱した場合の２通りについて接着力を測定した。
【０５０２】
［弾性率の測定方法］
粘着剤溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整した。さらに、粘着層上にＰＥＴフィルムをかぶせて、２５℃、６０％ＲＨで７日間熟成させた。前記の粘着層を厚さが１ｍｍとなるように積層し、長さ２０ｍｍ×幅５ｍｍのサイズに切り出し、前記の引っ張り試験機を用いて引っ張り速度３００ｍｍ／ｍiｎ、チャック間距離１０ｍｍの条件で応力−歪曲線を求め、弾性率を求めた。測定時の雰囲気温度は２５℃と９０℃の２条件とした。
【０５０３】
［剪断弾性率の測定］
ＪＩＳ  Ｋ  ６８５０の接着剤の引っ張り剪断接着強さ試験方法に従い、引っ張り速度１ｍｍ／ｍiｎで引っ張り、引っ張り応力−歪曲線を求めた。ＪＩＳ  Ｋ  ６８５０には弾性率の計算方法が示されていないので、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７のプラスチックフィルムおよびシートの引っ張り試験方法の８項の（３）に示された計算方法により導き出された値を粘着層の剪断弾性率とした。
［Ｔｇ測定］
Ｔｇの測定は、示差熱走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、ＴＡ  Ｉｎｓｔｕｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて行った。アルミニウム製のパンにポリマーを入れ、−１６０℃から＋１００℃まで１０℃／ｍiｎで昇温し、その後＋１００℃から−１６０℃まで１０℃／ｍiｎで降温し、降温過程のデータからＴｇを求めた。尚、表３におけるＴｇは、（メタ）アクリル系共重合体の測定値である。
【０５０４】
粘着剤１３〜１７の物性値を表３にまとめた。
【表３】
2007101678.tif 000058
【０５０５】
＜偏光板１の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した位相差板１ｂの光学異方性層が形成されていない面を、他方の面に視野角拡大フィルム（ＷＶ ＦＩＬＭ ワイドビューＡ  ＷＶ ＳＡ １２８  富士写真フイルム（株）社製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、長尺の偏光板１を作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であり、ワイドビューフィルムの遅相軸はフィルム長手方向と直交していた。偏光膜の吸収軸と位相差板１ｂの遅相軸とがなす角は４５．０°であった。
【０５０６】
＜偏光板２の作製＞
特開２００３−３３７２２１号公報の実施例に記載の方法と同様にして、長尺状のコレステリック液晶フィルムを作製した。上記作製した偏光板１のワイドビューフィルムとは反対側の面と、コレステリック液晶フィルムを連続的に貼り合せ、長尺状の偏光板２を作製した。
【０５０７】
（粘着層の塗設）
偏光板２への粘着層の塗設は次のように行った。
粘着剤溶液を、２５μｍ厚のＰＥＴフィルム上にダイコーターを用いて塗布した後、乾燥させた。ここで、乾燥後の粘着層の厚さが２５μｍとなるように調整した。さらに、ＰＥＴフィルム上に塗設された粘着層を上記で作製した偏光板２のワイドビューフィルム側に粘着剤溶液No.１〜１７までを転写し、２５℃、６０％ＲＨで７日間熟成させた偏光板試料１〜１７をそれぞれ作成した。
上記のようにして作製した偏光板の粘着層側にはＰＥＴのセパレーターを取り付け、粘着層と逆側にはＰＥＴ製のプロテクトフィルムを取り付けた。
【０５０８】
・実施例２
＜液晶パネルへの実装＞
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板のうち、バックライト側の偏光板のみを剥がし、代わりに上記作製した偏光板試料１〜１７を、ワイドビューフィルムが液晶セル側となるように粘着層を介して、貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【０５０９】
プロテクトフィルムを剥した後、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示及び白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が１０以上の範囲）を算出した。いずれの偏光板を使用した場合も、全方位で極角８０゜以上の良好な視野角特性が得られた。
【０５１０】
［耐久試験による光漏れ及び偏光板剥がれ］
実施例２で作製した液晶表示装置を下記の２条件で耐久試験を行った。
（１）６０℃９０％ＲＨの環境に２００時間保持し、２５℃６０％ＲＨ環境に取り出し２４時間後に液晶表示装置を黒表示させ、光漏れ強度及び偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。結果を表４に示す。
（２）８０℃ｄｒｙの環境に２００時間保持し、２５℃６０％ＲＨ環境に取り出し１時間後に液晶表示装置を黒表示させ、光漏れ強度及び偏光板の液晶パネルからの剥がれの有無を評価した。
【０５１１】
光漏れの評価は以下のように行った。
光漏れ発生状況  実用上の問題      光漏れ度
発生無し            なし          １
非常に弱い          なし          ２
弱い                なし          ３
強い                あり          ４
非常に強い          あり          ５
【０５１２】
【表４】
2007101678.tif 000059
【図面の簡単な説明】
【０５１３】
【図１】本発明の粘着剤のクリープ量を測定する説明図である。
【符号の説明】
【０５１４】
７０：ガラス板
８０：粘着層
９０：偏光板
Ｗ：荷重
【図１】
2007101678.tif 000060