(57)【要約】【課題】低い駆動電圧で駆動可能な静電アクチュエータ、この静電アクチュエータを搭載した液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドを搭載した液滴吐出装置、上記の静電アクチュエータを搭載したデバイスを提供する。【解決手段】振動板１２と、振動板１２にギャップを隔てて対向する対向電極１７と、対向電極１７が形成される電極基板３とを備え、電極基板３には短辺と長辺を有する長方形状の電極用凹部１９が形成され、電極用凹部１９の底面が長辺方向に階段状の段差を形成しており、その底面上に対向電極１７が形成されており、また、振動板１２において段差部分１７ｃに対向する領域に、対向電極１７とは反対側に突出して板厚が厚く形成された領域１２ａを有する。【選択図】図２
2007160723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板と、該振動板にギャップを隔てて対向する対向電極と、該対向電極が形成される電極基板とを備え、
該電極基板には短辺と長辺を有する長方形状の凹部が形成され、該凹部の底面が長辺方向に階段状の段差に形成されて振動板との間に階段状のギャップを形成しており、また、その底面上に前記対向電極が形成されており、さらに、前記振動板において前記段差部分に対向する領域に、前記対向電極とは反対側に突出して板厚が厚く形成された領域を有することを特徴とする静電アクチュエータ。
【請求項２】
前記板厚が厚い領域は、前記振動板において前記凹部の短辺方向に相当する方向のほぼ中央部に形成されていることを特徴とする請求項１記載の静電アクチュエータ。
【請求項３】
前記振動板及び前記板厚が厚い領域は、ボロンをドープしたシリコン基板で構成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の静電アクチュエータ。
【請求項４】
請求項１又は請求項２記載の静電アクチュエータが搭載されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
請求項４記載の記載の液滴吐出ヘッドを搭載していることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３の何れかに記載の静電アクチュエータが搭載されていることを特徴とするデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置並びにデバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録装置は、高速印字が可能、記録時の騒音が極めて小さい、インクの自由度が高い、安価な普通紙を使用できる等の多くの利点を有する。近年、インクジェット記録装置の中でも、記録が必要なときにのみインク液滴を吐出する、いわゆるインク・オン・デマンド方式のインクジェット記録装置が主流となっている。このインク・オン・デマンド方式のインクジェット記録装置は、記録に不要なインク液滴の回収を必要としない等の利点がある。
【０００３】
このインク・オン・デマンド方式のインクジェット記録装置には、インク液滴を吐出させる方法として、駆動手段に静電気力を利用した、いわゆる静電駆動方式のインクジェット記録装置がある。また、駆動手段に圧電素子（ピエゾ素子）を利用した、いわゆる圧電駆動方式のインクジェット記録装置や、発熱素子等を利用した、いわゆるバブルジェット（登録商標）方式のインクジェット記録装置等がある。
【０００４】
上記の静電駆動方式のインクジェット記録装置では、振動板と個別電極（対向電極）を帯電させることにより振動板を個別電極側に吸引して撓ませる。このように小型の装置において２つの物を帯電させることにより、駆動を行う機構を一般的に静電アクチュエータと呼んでいる。インクジェット記録装置等の静電アクチュエータを適用した装置では、一般的にホウ珪酸ガラス等からなる基板（電極基板）に複数の溝を形成し、その内部に個別電極を形成して振動板と個別電極の間にギャップ（隙間）を持たせるようにしている。
【０００５】
近時のインクジェット記録装置では高密度化が進んでおり、この高密度化に伴って振動板の幅は小さくなっている。このため、インクの排除体積（振動板の面積×ギャップ長）が小さくなり、高密度化に伴ってインクの吐出量が少なくなってしまうという問題点があった。
この問題点を解消するためには、ギャップ長を長くしてインクの排除体積を確保することが考えられるが、振動板と個別電極の間のギャップ長を長くすると振動板を駆動するための駆動電圧を大きくしなければならないという問題点があった。
【０００６】
そこで、振動板と電極との間のギャップを階段状にして、ギャップ寸法が段階的に変化するようにし、振動板をギャップが短い階段部分から順次当接させることで低電圧駆動の実現を図るインクジェットヘッドがあった（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−３１８１５５号公報（図２、図４、図５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし従来のインクジェトヘッドでは、振動板の１段目の階段部分に接触した状態において、振動板のうち、静電気力によって電極に引きつけられている部分以外は、振動板自身の弾性力により、その接触部分を支点に上方に撓んだ状態となる（後述の図６参照）。このため、２段目の階段部分と振動板との距離は、１段目と２段目間のギャップよりも広くなっており、思ったほどの低電圧効果が得られないという問題があった。
【０００８】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、低い駆動電圧で駆動可能な静電アクチュエータ、この静電アクチュエータを搭載した液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドを搭載した液滴吐出装置、上記の静電アクチュエータを搭載したデバイスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る静電アクチュエータは、振動板と、振動板にギャップを隔てて対向する対向電極と、対向電極が形成される電極基板とを備え、電極基板には短辺と長辺を有する長方形状の凹部が形成され、凹部の底面が長辺方向に階段状の段差を形成しており、その底面上に対向電極が形成されており、また、振動板において段差部分に対向する領域に、対向電極とは反対側に突出して板厚が厚く形成された領域を有する。
これにより、振動板が凹部の段差の１段目から順に当接するように変形する際に、その段差部分で上方に撓んで対向電極とのギャップが広がるのを防止できるため、低電圧駆動が可能となる。
【００１０】
また、本発明に係る静電アクチュエータは、板厚が厚い領域が、振動板において凹部の短辺方向に相当する方向のほぼ中央部に形成されているものである。
本発明によれば、振動板変形時の上方への振動板の撓みを防止するのに必要な箇所（すなわち振動板において凹部の短辺方向に相当する方向のほぼ中央部）のみ板厚を厚くし、それ以外の部分の板厚は変化させないので、振動板に板厚が厚い領域を設けたことによって振動板全体が下方へ撓む動作の妨げとなることはない構成となっている。
【００１１】
また、本発明に係る静電アクチュエータは、振動板及び板厚が厚い領域が、ボロンをドープしたシリコン基板で構成されているものである。
これにより、ボロンをドープしないシリコン基板で形成した場合に比べて低抵抗とすることができ、低電圧駆動に効果がある。
【００１２】
また、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、上記の何れかの静電アクチュエータが搭載されているものである。
これにより、高密度化しても駆動電圧が低く、液滴の吐出量が確保された液滴吐出ヘッドを得ることができる。
【００１３】
また、本発明に係る液滴吐出装置は、上記の液滴吐出ヘッドを搭載しているものである。
これにより、高精細で吐出性能が高く、また低消費電力の液滴吐出装置を得ることができる。
【００１４】
また、本発明に係るデバイスは、上記の何れかの静電アクチュエータが搭載されているものである。
これにより、駆動電圧が低く、また駆動性能が高いデバイスを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを示した分解斜視図、図２は、本発明の実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを示した縦断面図である。図１では、本発明に係る静電アクチュエータを液滴吐出ヘッド１に適用した例を示しており、この液滴吐出ヘッド１は静電駆動方式でフェイスイジェクトタイプのものである。
本実施の形態１に係る液滴吐出ヘッド１は、主にキャビティ基板２、電極基板３、及びノズル基板４が接合されることにより構成されている。
ノズル基板４はシリコン等からなり、例えば円筒状の第１のノズル孔６と、第１のノズル孔６と連通し、第１のノズル孔６よりも径の大きい円筒状の第２のノズル孔７を有するノズル８が形成されている。第１のノズル孔６は、液滴吐出面１０（キャビティ基板２との接合面１１の反対面）に開口するように形成されており、第２のノズル孔７は、キャビティ基板２との接合面１１に開口するように形成されている。
またノズル基板４には、以下に示す吐出室１３とリザーバ１４を連通するためのオリフィス１５となる凹部が形成されている。このオリフィス１５は複数の吐出室１３に対して１つずつ形成されている。なおオリフィス１５は、キャビティ基板２のノズル基板４側に形成するようにしてもよい。
【００１６】
キャビティ基板２は、例えば単結晶シリコンからなり、底壁が振動板１２である吐出室１３となる凹部が複数形成されている。またキャビティ基板２には、各吐出室１３にインク等の液滴を供給するためのリザーバ１４となる凹部が形成されている。なお図１に示す液滴吐出ヘッド１では、リザーバ１４は単一の凹部から形成されているものとする。
【００１７】
また、振動板１２には、図２に示すように板厚の厚い領域１２ａが設けられ、この領域１２ａを含む振動板１２全体は、高濃度のボロン・ドープ層から形成されている。このボロン・ドープ層は、ボロンを高濃度（約５×１０19ａｔｏｍｓ／ｃｍ3以上）にドープして形成されており、例えばアルカリ性水溶液で単結晶シリコンをエッチングしたときに、エッチング速度が極端に遅くなるいわゆるエッチングストップ層となっている。ボロン・ドープ層がエッチングストップ層として機能するため、振動板１２の厚み及び吐出室１３の容積を高精度で形成することができるようになっている。
【００１８】
ここで、本例は、振動板１２に領域１２ａを設けたことに特徴を有するものであるが、その配置位置や作用等の詳細については後述の図３において詳述する。
【００１９】
また、振動板１２においてキャビティ基板２の電極基板３が接合される側の面には、酸化シリコンや酸化アルミニウム等からなる絶縁膜１６が形成されている。この絶縁膜１６は、液滴吐出ヘッド１の駆動時の絶縁破壊やショートを防止するためのものである。またキャビティ基板２のノズル基板４が接合される側の面には、酸化シリコン等からなる耐液滴保護膜（図示せず）が形成されている。この耐液滴保護膜は、吐出室１３やリザーバ１４の内部の液滴によりキャビティ基板２がエッチングされるのを防止するためのものである。
【００２０】
キャビティ基板２の振動板１２側には、例えばホウ珪酸ガラスからなる電極基板３が接合されている。この電極基板３には、振動板１２との間にギャップ２０を構成する電極用凹部１９がエッチングにより形成されている。電極用凹部１９は、平面的に見て短辺と長辺を有する長方形状に形成されており、底面が長辺方向に階段状の段差に形成されてギャップ２０が階段状に形成されている。なお、図２の例では２段の例を示しているが、更に複数の多段としてもよい。
【００２１】
そして、この電極用凹部１９の底面には、振動板１２と対向する複数の対向電極１７が形成されている。この対向電極１７は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）をスパッタすることにより形成する。なお電極用凹部１９と対向電極１７の間の空間は、ギャップ（隙間）２０となっている。本例の静電アクチュエータは、主に振動板１２と対向電極１７によって構成されている。
【００２２】
さらに電極基板３には、リザーバ１４と連通するインク供給孔１８が形成されている。このインク供給孔１８は、リザーバ１４の底壁に設けられた孔と繋がっており、リザーバ１４にインク等の液滴を外部から供給するために設けられている。またギャップ２０から形成される空間は、ギャップ２０に水蒸気等が浸入するのを防止するために封止材２２によって封止されている。
なお、キャビティ基板２が単結晶シリコンからなり、電極基板３がホウ珪酸ガラスからなる場合には、キャビティ基板２と電極基板３の接合を陽極接合によって行うことができる。
【００２３】
図３は、図２の電極用凹部１９、対向電極１７及び振動板１２の部分の拡大縦断面図である。なお図３（ａ）は、対向電極１７を含めた電極用凹部１９の長辺方向の拡大断面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）の電極用凹部１９の短辺方向の拡大断面図である。
図３（ａ）に示すように、階段状の電極用凹部１９の段差は本例では２段であり、以下、深さの浅い方を１段目１７ａ、深い方を２段目１７ｂと呼び、また、１段目１７ａと２段目１７ｂとの境目の部分を段差部分１７ｃと呼ぶことにする。また、図３において、Ｇ１は振動板１２と１段目１７ａとのギャップ、Ｇ２は１段目１７ａと２段目１７ｂとのギャップであり、本例ではＧ１＝Ｇ２としている。
【００２４】
そして、振動板１２において電極基板３の段差部分１７ｃに対向する領域に、ノズル基板４側に突出して板厚が厚く形成された領域１２ａを備えている。領域１２ａは、振動板１２の短辺方向については、図３（ｂ）に示すように中央部のみが突出するように形成され、その他の部分は通常の振動板１２の板厚とされている。
【００２５】
次に、このように構成された液滴吐出ヘッド１の動作について図２を参照して説明する。
キャビティ基板２と個々の対向電極１７には駆動回路（図示せず）が接続されている。なお対向電極１７と駆動回路の接続は、電極取出し部２１の部分で行っているものとする。駆動回路によりキャビティ基板２と対向電極１７の間にパルス電圧が印加されると、振動板１２と対向電極１７間に静電吸引力が発生し、振動板１２が対向電極１７に引き寄せられて対向電極１７側に撓み、リザーバ１４の内部に溜まっていたインク等の液滴が吐出室１３に流れ込む。そして、キャビティ基板２と電極１７の間に印加されていた電圧がなくなると、振動板１２が元の位置に戻って吐出室１３の内部の圧力が高くなり、ノズル８からインク等の液滴が吐出される。
【００２６】
ここで、本例の液滴吐出ヘッド１においては、振動板１２に板厚の厚い領域１２ａが設けられているので、振動板１２が撓んで変形する際、板厚の厚い領域１２ａを設けなかった場合とは違った挙動を示す。以下、図４及び図５を用いて詳細に説明する。
【００２７】
図４及び図５は、振動板１２の変位動作を示した図で、図４は図２の要部拡大断面図、図５は図４の電極用凹部１９の短辺方向の拡大断面図である。
（ａ）振動板１２は、振動板１２と対向電極１７と間に発生する静電吸引力によって下方へ撓み、まず、振動板１２が１段目１７ａに当接する。このとき、振動板１２に設けた板厚の厚い領域１２ａは、段差部分１７ｃを跨ぐようにして１段目１７ａに当接した状態となっている。この状態において、板厚の厚い領域１２ａのうち１段目１７ａと当接していない部分は、領域１２ａ自身の剛性によって１段目１７ａに接触した他の部分と同じ撓み位置を維持する。すなわち、振動板１２と１段目１７ａとのギャップ２０がＧ２（図３参照）の位置に位置しており、例えば図６に示すように板厚の厚い領域１２ａを設けなかった場合のように、段差部分を支点に上方に撓んで対向電極１７とのギャップ２０がＧ０（よりも広がることがない。よって、板厚の厚い領域１２ａを設けなかった場合に比べて高い静電気力を得ることができる。換言すれば、低電圧駆動が可能となる。そして、（ｂ）段差部分１７ｃを起点に振動板１２が変形を始め、（ｃ）更に変形して対向電極１７に当接する。一部が当接すれば急速に他の部分の当接も進み、（ｄ）ほぼ全面が当接した状態となる。
【００２８】
以上説明したように、本実施の形態１によれば、振動板１２において電極基板３の段差部分に対向する領域に板厚の厚い領域１２ａを設けたので、振動板１２が電極用凹部１９の１段目１７ａから順に当接するように変形する際に、その段差部分１７ｃで上方に撓むことがなく、対向電極１７とのギャップ２０が広がらない。このため、振動板１２を１段目１７ａに当接させるための駆動電圧と、２段目１７ｂに当接させるための駆動電圧とをほぼ等しくすることが可能である。すなわち、電極用凹部１９の１段目（ギャップ２０長の最も短い部分）において振動板１２が対向電極１７と当接するための駆動電圧で、振動板１２の全体を対向電極１７に当接させることができるということである。これにより、駆動電圧を低下させると同時に、例えば液滴吐出ヘッド１における液滴の吐出量を確保することが可能となる。また、本例の静電アクチュエータを適用することにより、高密度化しても駆動電圧が低く、液滴の吐出量が確保された液滴吐出ヘッド１を得ることができる。
【００２９】
また、板厚の厚い領域１２ａは、振動板変形時の上方への振動板の撓みを防止するのに必要な箇所（すなわち振動板１２において電極用凹部１９の短辺方向に相当する方向のほぼ中央部）にのみ設けているため、液滴吐出に必要な振動板１２全体の下方への撓み動作の妨げとならないようになっている。
【００３０】
また、振動板４は、板厚の厚い領域１２ａも含めて、シリコンにボロンをドープしてなるボロンドープ層により形成されているので、単にシリコンで形成した場合に比べて低抵抗に構成され、この点からも低電圧駆動が可能となっている。
【００３１】
なお、本例では、電極用凹部１９の段差が２段の例を図示して説明したが、図７に示すように３段又はそれ以上の構成としてもよい。この場合も、２段の場合と同様に、振動板１２において電極基板３の段差に対向する部分のそれぞれに、板厚の厚い領域１２ａを設けることにより、２段の場合と同様の作用効果を得ることができる。
【００３２】
実施の形態２．
次に、実施の形態１の静電アクチュエータの製造方法を説明する。なお、ノズル基板４は従来公知の方法を用いて形成でき、ここではその説明を省略し、以下ではキャビティ基板２と電極基板３の製造方法について説明する。
【００３３】
図８は、キャビティ基板２の製造工程の途中までを示した図である。以下、図８を参照してキャビティ基板２の製造方法について説明する。
まず、例えば面方位が（１１０）で酸素濃度の低く厚さ５２５μｍのＳｉ基板３１を１０７５℃下の水蒸気を含む酸素雰囲気中で熱酸化し、Ｓｉ基板の表側表面及び裏側表面にＳｉＯ2 膜３２を形成する（図８（ａ））。次にＳｉ基板３１の裏面に、フォトリソグラフィーにより所定の形状のレジスト（図示せず）をパターニングしてエッチングを行い、振動板１２の板厚の厚い領域１２ａとなる部分３３のＳｉＯ2 膜３２を除去する（図８（ｂ））。そして、Ｓｉ基板３１の裏側表面に、ボロンを高濃度に拡散し、ボロンドープ層３４を形成する（図８（ｃ））。そして、Ｓｉ基板３１の両表面のＳｉＯ2 膜３２を除去する（図８（ｄ））。続いても同様にＳｉ基板３１の裏側表面に、ボロンを高濃度に拡散し、振動板１２となる部分のボロンドープ層３５と、振動板１２の板厚の厚い領域１２ａとなる部分のボロンドープ層３５ａとを形成する（図８（ｅ））。そして、Ｓｉ基板３１の両表面に、ＣＶＤ装置によって厚さ１μｍのＳｉＯ2 膜３６を形成する（図８（ｆ））。
【００３４】
その後、ＳｉＯ2 膜３６の表面にフォトリソグラフィーにより所定の形状のレジスト（図示せず）をパターニングしてエッチングを行い、吐出室１３に対応する部分１３ａ、リザーバー１４に対応する部分１４ａのＳｉＯ2 膜３６を除去する（図８（ｇ））。なおこのとき、ＳｉＯ2 膜３２のリザーバー１４に対応する部分１４ａは完全に除去せず、ハーフエッチングするようにする。次に、３５重量％、８０℃の水酸化カリウム水溶液にＳｉ基板３１を浸し、吐出室１３となる凹部１３ｂを途中までエッチングする（図８（ｈ））。
【００３５】
そして、リザーバー１４に対応する部分１４ａのＳｉＯ2 膜３６をフッ酸水溶液で除去する（図８（ｉ））。そして、３５重量％、８０℃の水酸化カリウム水溶液でＳｉ基板３１のエッチングを継続する。ボロンドープ層３５，３５ａは、水酸化カリウム水溶液ではほとんどエッチングが進まないため、ボロンドープ層３５，３５ａはエッチングされずに残り吐出室１３となる凹部１３ｂの部分がエッチングされて、凹部１３ｂの底面のボロンドープ層３５，３５ａが振動板１２、板厚の厚い領域１２ａとなる。一方、Ｓｉ基板３１のエッチングの開始を遅らせたリザーバー１４となる凹部１４ｂの底面部分のシリコンは、ボロンドープ層３５，３５ａまでエッチングが進まず厚く残ることとなる（図８（ｊ））。その後、Ｓｉ基板３１をフッ酸水溶液に浸し、Ｓｉ基板３１の表側表面に形成したＳｉＯ2 膜３６をすべて除去した後、Ｓｉ基板３１の裏側表面に絶縁膜１６を形成してキャビティ基板２が完成する（図８（ｋ））。
【００３６】
図９は、電極ガラス基板２の製造工程の途中までを示した図である。液滴吐出ヘッド１の電極ガラス基板３となるホウ珪酸ガラス製（厚さ１ｍｍ）のガラス基板４１の表側表面にＣｒ／Ａｕ膜（クロム・金合金膜）４２をスパッタにより形成する（図９（ａ））。次にガラス基板４１の表面に、フォトリソグラフィにより所定の形状のレジスト（図示せず）をパターニングしてエッチングを行い、Ｃｒ／Ａｕ膜４２の電極用凹部１９の階段状の段差の２段目１７ｂに対応する部分４２ａ除去する（図９（ｂ））。そして、Ｃｒ／Ａｕ膜４２をエッチングマスクとして、フッ酸水溶液でガラス基板４１を階段状の段差の２段目１７ｂａを途中まで形成する（図９（ｃ））。
【００３７】
そして、再度、フォトリソグラフィにより所定の形状のレジスト（図示せず）をパターニングしてエッチングを行い、Ｃｒ／Ａｕ膜４２の電極用凹部１９の階段状の段差の１段目１７ｂに対応する部分４２ｂを除去する（図９（ｄ））。そして、Ｃｒ／Ａｕ膜４２をエッチングマスクとして、フッ酸水溶液でガラス基板４１をエッチングして階段状の段差の２段目１７ｂ及び１段目１７ａを完成する（図９（ｅ））。そして、表側表面全体にＩＴＯ膜４３をスパッタにより成膜する（図９（ｆ））。
【００３８】
次に、フォトリソグラフィーによりＩＴＯ膜４３を対向電極１７に対応する形状をパターニングし、対向電極１７の部分以外のＩＴＯ膜４３をエッチングにより除去して対向電極１７を形成する。そして、インク供給孔１８を形成する部分を、ダイヤモンドドリルでガラス基板４１を掘削し、インク供給孔１８を形成して電極基板３が完成する（図９（ｇ））。
【００３９】
次に、上記した製造方法により製造した、キャビティ基板２と電極基板３とを陽極接合により接合する。なお、電極基板３をシリコン基板で構成している場合には、接着剤により接合するようにしてもよい。そして、キャビティ基板２にノズルプレート４を接合する。ノズルプレート３がシリコンからなる場合には、キャビティ基板２とノズルプレート４とを接着剤を用いて接合して接合体とする。そして、このような接合体をダイシングによって切断し、さらに、駆動回路（図示せず）と電極取出し部２１、キャビティ基板２の電極端子とを電気的に接続するとともに、ギャップ２０内への異物混入や水分等が入り込みによる悪影響を防止するために封止材２２による封止を行って、液滴吐出ヘッド１を完成させる。
【００４０】
なお、上述の製造方法は一例であり、図示のものに限定されるものではない。また、例えばキャビティ基板２となるシリコン基板３１と電極基板３とを先に接合させた上で、シリコン基板３１に吐出室１３となる凹部等を形成するといった工程で液滴吐出ヘッドを製造してもよい。
【００４１】
実施の形態３．
図９は、実施の形態１に示す液滴吐出ヘッド１を搭載した液滴吐出装置の１例を示した斜視図である。図９に示す液滴吐出装置１００は、一般的なインクジェットプリンタである。
実施の形態１に示す液滴吐出ヘッド１は、駆動電圧が低く液滴の吐出量も十分なため、低消費電力で吐出性能に優れた液滴吐出装置１００を得ることができる。また、実施の形態１に示す液滴吐出ヘッド１は、高密度化しても駆動電圧が低く、液滴の吐出量が確保されるので、高精細で吐出性能が高く、また低消費電力の液滴吐出装置を得ることができる。
なお実施の形態１に示す液滴吐出ヘッド１は、図９に示すインクジェットプリンタの他に、液滴を種々変更することで、液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造、有機ＥＬ表示装置の発光部分の形成、生体液体の吐出等にも適用することができる。
【００４２】
また実施の形態１では、本発明に係る静電アクチュエータを適用した例として液滴吐出ヘッド１を示しているが、本発明の実施の形態１に示す静電アクチュエータは、その他のデバイスにも適用することができる。具体的には、振動板及び対向電極を有するマイクロポンプ等のＭＥＭＳデバイスに適用可能である。
【００４３】
なお、本発明に係る静電アクチュエータ及びその製造方法、液滴吐出ヘッド１及びその製造方法、液滴吐出装置並びにデバイスは、本発明の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の思想の範囲内において変更することができる。例えば実施の形態１において、電極用凹部１９の段差を３段に形成するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを示した分解斜視図。
【図２】本発明の実施の形態１に係る液滴吐出ヘッドを示した縦断面図。
【図３】図２の電極用凹部、対向電極及び振動板の部分の拡大縦断面図。
【図４】振動板の変位動作を示した図（長辺方向要部拡大断面図）。
【図５】振動板の変位動作を示した図（短辺方向要部拡大断面図）。
【図６】板厚の厚い領域を設けなかった場合の動作説明図。
【図７】電極用凹部の段差が３段の場合を示す図。
【図８】キャビティ基板の製造工程を示した図。
【図９】電極基板の製造工程を示した図。
【図１０】実施の形態１の液滴吐出ヘッドを搭載した液滴吐出装置の斜視図。
【符号の説明】
【００４５】
１  液滴吐出ヘッド、２  キャビティ基板、３  電極基板、４  ノズル基板、６  第１のノズル孔、７  第２のノズル孔、８  ノズル、１０  液滴吐出面、１１  接合面、１２  振動板、１２ａ  板厚の厚い領域、１３  吐出室、１４  リザーバ、１５  オリフィス、１６  絶縁膜、１７  対向電極、１７ａ  １段目、１７ｂ  ２段目、１７ｃ  段差部分、１８  インク供給孔、１９  電極用凹部、２０  ギャップ、２２  封止材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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