(57)【要約】【課題】  基板が大型であっても、安全性に優れ、かつ、パーティクルの飛散を回避できるとともに、スループットの向上を図れ、しかも、退避させた複数の基板を所望の順序で再び搬送ラインに進出させることができる基板バッファ装置を提供する。【解決手段】  基板バッファ装置３６は、搬送ラインＡに進出可能で、かつ搬送ラインＡを搬送された基板Ｇを載置可能な載置台５ａ〜５ｆを上下に複数段有する棚部５と、棚部５を昇降させて載置台５ａ〜５ｆのいずれかを搬送ラインＡに進出させる昇降機構６とを具備し、各載置台５ａ〜５ｆは、搬送ラインＡに進出した際に、基板Ｇを搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆを有して搬送ラインＡの一部として機能し、搬送ラインＡに進出している載置台５ａに搬送ラインＡを搬送されてきた基板Ｇを載置し、昇降機構６により棚部５が昇降して基板Ｇを載置台５ａごと搬送ラインＡから退避させる。【選択図】  図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送ラインを一方向に搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるための基板バッファ装置であって、
前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、
前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構と
を具備し、
前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、
前記搬送ラインから基板を退避させる際には、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させることを特徴とする基板バッファ装置。
【請求項２】
搬送ラインを一方向に搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるための基板バッファ装置であって、
前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、
前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構と、
前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御する制御機構と
を具備し、
前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、
前記搬送ラインから基板を退避させる際には、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させるように構成されており、
前記制御機構は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板が載置された状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に、前記昇降機構により前記棚部が昇降するように制御することを特徴とする基板バッファ装置。
【請求項３】
前記搬送ラインに進出している載置台から搬送方向上流側に所定の距離を有して設けられた、前記搬送ラインを搬送される基板を検出する検出部を具備し、
前記制御機構は、前記検出部の検出信号に基づいて、前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御することを特徴とする請求項２に記載の基板バッファ装置。
【請求項４】
前記制御機構は、前記搬送ラインから退避させた基板を再び前記搬送ラインに進出させる際に、先行して退避させた基板から順に進出させるように前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の基板バッファ装置。
【請求項５】
前記昇降機構による前記棚部の昇降の開始時点から、その後、前記棚部の昇降が終了して前記搬送ラインを搬送されてきた基板が前記搬送ラインに進出している載置台に載置され、前記昇降機構によって前記棚部が再び昇降され、前記搬送ラインに進出している別の載置台に載置された基板が前記コンベヤ機構によって送り出される時点までの時間は、前記搬送ラインのタクト時間よりも短く設定されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の基板バッファ装置。
【請求項６】
前記搬送ラインの一部として機能するように、前記搬送ラインに進出した載置台の搬送方向上流側および下流側にそれぞれ隣接して設けられた、前記搬送ラインの基板搬送速度よりも速い基板搬送速度を有する補助コンベヤ機構をさらに具備することを特徴とする請求項５に記載の基板バッファ装置。
【請求項７】
前記各載置台の前記コンベヤ機構は、同一の駆動源によって駆動し、かつ、前記載置台が前記搬送ラインに進出した際に前記駆動源に接続されるように構成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の基板バッファ装置。
【請求項８】
前記各載置台は、前記コンベヤ機構がコロ搬送方式およびベルト搬送方式のいずれかであることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の基板バッファ装置。
【請求項９】
前記最上段の載置台は、平常時に前記搬送ラインに進出して前記搬送ラインの一部として機能することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の基板バッファ装置。
【請求項１０】
前記最上段の載置台は、前記コンベヤ機構がコロ搬送方式であり、前記最上段以外の各載置台は、前記コンベヤ機構がベルト搬送方式であることを特徴とする請求項９に記載の基板バッファ装置。
【請求項１１】
基板を一方向に搬送する搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構とを具備し、
前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することができるように構成された基板バッファ装置を用いて、
前記搬送ラインを搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させる基板バッファリング方法であって、
前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置させ、その状態で前記昇降機構により前記棚部を昇降させてその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させ、
基板の退避時の前記昇降機構による前記棚部の昇降は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板を載置させた状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に行うことを特徴とする基板バッファリング方法。
【請求項１２】
基板を一方向に搬送する搬送ラインと、
前記搬送ラインを搬送される基板に所定の処理を施す処理部と、
前記処理部よりも前記搬送ラインの搬送方向上流側に位置するように設けられ、前記処理部に不具合が生じた際に前記搬送ラインを搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるバッファ装置と
を具備した基板処理装置であって、
前記バッファ装置は、
前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、
前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構と、
前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御する制御機構と
を備え、
前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、
前記処理部に不具合が生じた際に、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させるように構成されており、
前記制御機構は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板が載置された状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に、前記昇降機構により前記棚部が昇降するように制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項１３】
コンピュータ上で動作し、実行時に、請求項１１に記載の基板バッファリング方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とする制御プログラム。
【請求項１４】
コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に、請求項１１に記載の基板バッファリング方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送ラインを一方向に搬送される、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に用いられるガラス基板等の基板を一時的に搬送ラインから退避させるための基板バッファ装置および基板バッファリング方法、このような基板バッファ装置を有する基板処理装置、このような基板バッファリング方法を行うための制御プログラムおよびコンピュータ読取可能な記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＦＰＤの製造においては、ＦＰＤ用のガラス基板上に回路パターンを形成するためにフォトリソグラフィ技術が用いられる。フォトリソグラフィによる回路パターンの形成は、ガラス基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応するようにレジスト膜を露光し、これを現像処理するといった手順で行われており、回路パターンの形成には、レジスト液の塗布や現像処理などの処理を行う各処理ユニットを搬送ラインに沿って設置した製造ラインが用いられている。ガラス基板は、搬送ラインを搬送されつつ、各処理ユニットで所定の処理が施されていくこととなる。
【０００３】
ところで、製造ラインでは通常、処理ユニットに不具合が生じた場合に、この処理ユニットを停止させて不具合を解消する必要があるため、この処理ユニットの停止中に前段または上流側で処理前のガラス基板を搬送ラインから一時的に退避させて保管するバッファ装置が設置される。
【０００４】
このようなバッファ装置としては、搬送ラインに近接して設けられた、ガラス基板を複数多段に収容可能なバッファ筐体（またはバッファユニット）と、搬送ライン上のガラス基板を把持してバッファ筐体内に搬入する搬送アームとを具備したものが知られている（例えば特許文献１、２参照）。このバッファ装置は、搬送アームが昇降することによりバッファ筐体の任意の高さ位置にアクセス可能であり、これにより、バッファ筐体内に収容された複数のガラス基板を所望の順序で再び搬送ラインに搬出することができるように構成されている。
【０００５】
しかしながら、近時、ＦＰＤの大型化が指向され、一辺が２ｍ以上にもなる巨大なガラス基板が出現するに至っており、ガラス基板は大型化に伴って取り扱い性が悪くなるため、搬送アームによる搬送を行う上述した従来のバッファ装置は、安全面を考慮すると大型のガラス基板の処理には適さない。しかも、このバッファ装置は、団扇で扇ぐが如く、搬送アームによってガラス基板を昇降させるため、ガラス基板が大型になると、パーティクルを撒き上がらせやすくなり、撒き上がったパーティクルがガラス基板の表面に付着してしまうおそれもある。
【０００６】
また、一般的に、ティーチング作業を必要とする複雑な動作を行う搬送アームを用いると、工程数の増加につながり、結果的に製造ライン全体のタクトバランスが崩れてスループットの低下につながる可能性もある。
【特許文献１】特開２００３−１６８７１３号公報
【特許文献２】特開２００４−３０４００３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、基板が大型であっても、安全性に優れ、かつ、パーティクルの飛散を回避することができるとともに、スループットの向上を図ることができ、しかも、退避させた複数の基板を所望の順序で再び搬送ラインに進出させることができる基板バッファ装置および基板バッファリング方法、このような基板バッファ装置を有する基板処理装置、ならびにこのような基板バッファリング方法を行うための制御プログラムおよびコンピュータ読取可能な記憶媒体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、搬送ラインを一方向に搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるための基板バッファ装置であって、前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構とを具備し、前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、前記搬送ラインから基板を退避させる際には、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させることを特徴とする基板バッファ装置を提供する。
【０００９】
また、本発明は、搬送ラインを一方向に搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるための基板バッファ装置であって、前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構と、前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御する制御機構とを具備し、前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、前記搬送ラインから基板を退避させる際には、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させるように構成されており、前記制御機構は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板が載置された状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に、前記昇降機構により前記棚部が昇降するように制御することを特徴とする基板バッファ装置を提供する。本発明において、前記搬送ラインに進出している載置台から搬送方向上流側に所定の距離を有して設けられた、前記搬送ラインを搬送される基板を検出する検出部を具備し、前記制御機構は、前記検出部の検出信号に基づいて、前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御することが好ましい。この場合に、前記制御機構は、前記搬送ラインから退避させた基板を再び前記搬送ラインに進出させる際に、先行して退避させた基板から順に進出させるように前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御することが好ましい。
【００１０】
以上の本発明において、前記昇降機構による前記棚部の昇降の開始時点から、その後、前記棚部の昇降が終了して前記搬送ラインを搬送されてきた基板が前記搬送ラインに進出している載置台に載置され、前記昇降機構によって前記棚部が再び昇降され、前記搬送ラインに進出している別の載置台に載置された基板が前記コンベヤ機構によって送り出される時点までの時間は、前記搬送ラインのタクト時間よりも短く設定されていることが好ましい。この場合に、前記搬送ラインの一部として機能するように前記搬送ラインに進出した載置台の搬送方向上流側および下流側にそれぞれ隣接して設けられた、前記搬送ラインの基板搬送速度よりも速い基板搬送速度を有する補助コンベヤ機構をさらに具備することが好ましい。
【００１１】
さらに、以上の本発明において、前記各載置台の前記コンベヤ機構は、同一の駆動源によって駆動し、かつ、前記載置台が前記搬送ラインに進出した際に前記駆動源に接続されるように構成されていることが好ましい。
【００１２】
さらに、以上の本発明において、前記各載置台は、前記コンベヤ機構がコロ搬送方式およびベルト搬送方式のいずれかであることが好ましい。
【００１３】
さらに、以上の本発明において、前記最上段の載置台は、平常時に前記搬送ラインに進出して前記搬送ラインの一部として機能することが好ましい。この場合に、前記最上段の載置台は、前記コンベヤ機構がコロ搬送方式であり、前記最上段以外の各載置台は、前記コンベヤ機構がベルト搬送方式であることが好ましい。
【００１４】
また、本発明は、基板を一方向に搬送する搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構とを具備し、前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することができるように構成された基板バッファ装置を用いて、前記搬送ラインを搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させる基板バッファリング方法であって、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置させ、その状態で前記昇降機構により前記棚部を昇降させてその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させ、基板の退避時の前記昇降機構による前記棚部の昇降は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板を載置させた状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に行うことを特徴とする基板バッファリング方法を提供する。
【００１５】
さらに、本発明は、基板を一方向に搬送する搬送ラインと、前記搬送ラインを搬送される基板に所定の処理を施す処理部と、前記処理部よりも前記搬送ラインの搬送方向上流側に位置するように設けられ、前記処理部に不具合が生じた際に前記搬送ラインを搬送される基板を一時的に搬送ラインから退避させるバッファ装置とを具備した基板処理装置であって、前記バッファ装置は、前記搬送ラインに進出することが可能で、かつ前記搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有し、昇降可能に設けられた棚部と、前記棚部を昇降させて、前記複数の載置台のいずれかを前記搬送ラインに進出させる昇降機構と、前記昇降機構による前記棚部の昇降を制御する制御機構とを備え、前記各載置台は、前記搬送ラインに進出した際に、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有し、前記搬送ラインの一部として機能することが可能であり、前記処理部に不具合が生じた際に、前記複数の載置台のうちの前記搬送ラインに進出しているものに前記搬送ラインを搬送されてきた基板を載置し、その状態で前記昇降機構により前記棚部が昇降してその基板をその載置台ごと前記搬送ラインから退避させるように構成されており、前記制御機構は、前記搬送ラインに進出している載置台に基板が載置された状態で、その載置台と前記搬送ラインを搬送されてきた次の基板とが所定の距離になった際に、前記昇降機構により前記棚部が昇降するように制御することを特徴とする基板処理装置を提供する。
【００１６】
さらに、本発明は、コンピュータ上で動作し、実行時に、前記の基板バッファリング方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とする制御プログラムを提供する。
【００１７】
さらに、本発明は、コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、前記制御プログラムは、実行時に、前記の基板バッファリング方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体を提供する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、搬送ラインに進出することが可能で、かつ搬送ラインを搬送された基板を載置することが可能な載置台を上下に複数段有する棚部を昇降可能に設け、複数の載置台のうちの搬送ラインに進出しているものに、搬送ラインを搬送されてきた基板を載置させ、その状態で棚部を昇降させてその基板をその載置台ごと搬送ラインから退避させるように構成したため、搬送アーム自体を必要とせず、基板が大型であっても、パーティクルの飛散を回避しつつ安全に、かつ、少ない工数で基板を搬送ラインと退避位置との間で搬送することができる。しかも、各載置台を、搬送ラインに進出した際に搬送ラインの一部として機能するように、基板を搬送方向に沿って搬送するコンベヤ機構を有して構成したため、任意の載置台で基板の出し入れを行うことができ、これにより、退避させた複数の基板を所望の順序で再び搬送ラインに進出させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について具体的に説明する。
【００２０】
図１は、本発明に係る基板バッファ装置の一実施形態であるバッファユニットを搭載した、ＦＰＤ用のガラス基板（以下、単に「基板」と記す）へのレジスト膜の形成および露光処理後のレジスト膜の現像処理を行うレジスト塗布・現像処理システムの概略平面図である。
【００２１】
レジスト塗布・現像処理システム（基板処理装置）１００は、複数の基板Ｇを収容するためのカセットＣが載置されるカセットステーション１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施す処理ステーション２と、基板Ｇに露光処理を施す露光装置９との間で基板Ｇの受け渡しを行うインターフェースステーション４とを備えており、カセットステーション１およびインターフェースステーション４はそれぞれ、処理ステーション２の両側に配置されている。なお、図１において、レジスト塗布・現像処理システム１００の長手方向をＸ方向、平面上においてＸ方向と直交する方向をＹ方向とする。
【００２２】
カセットステーション１は、カセットＣをＹ方向に並列に載置可能な載置台１２と、処理ステーション２との間で基板Ｇの搬入出を行う搬送装置１１を備え、載置台１２と外部との間でカセットＣの搬送が行われる。搬送装置１１に設けられた搬送アーム１１ａは、Ｙ方向に延びるガイド１０に沿って移動可能であるとともに、上下動、前後動および水平回転可能であり、カセットＣと処理ステーション２との間で基板Ｇの搬入出を行うものである。
【００２３】
処理ステーション２は、カセットステーション１とインターフェースステーション４との間にＸ方向に伸びる平行な２列の基板Ｇの搬送ラインＡ、Ｂを有している。搬送ラインＡは、コロ搬送やベルト搬送等の所謂平流し搬送によって基板Ｇをカセットステーション１側からインターフェースステーション４側に向かって搬送するように構成され、搬送ラインＢは、コロ搬送やベルト搬送等の所謂平流し搬送によって基板Ｇをインターフェースステーション４側からカセットステーション１側に向かって搬送するように構成されている。
【００２４】
搬送ラインＡ上には、カセットステーション１側からインターフェースステーション４側に向かって、エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２１、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２２、プレヒートユニット（ＰＨ）２３、アドヒージョンユニット（ＡＤ）２４、冷却ユニット（ＣＯＬ）２５、バッファユニット（ＢＵＦ）３６、レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６、減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７、加熱処理ユニット（ＨＴ）２８、冷却ユニット（ＣＯＬ）２９、バッファユニット（ＢＵＦ）３７が順に配列されている。
【００２５】
搬送ラインＢ上には、インターフェースステーション４側からカセットステーション１側に向かって、現像ユニット（ＤＥＶ）３０、加熱処理ユニット（ＨＴ）３１、冷却ユニット（ＣＯＬ）３２、バッファユニット（ＢＵＦ）３８が順に配列されている。なお、冷却ユニット（ＣＯＬ）３２とセットステーション１との間には、レジスト塗布および現像を含む一連の処理が施された基板Ｇを検査する検査装置（ＩＰ）３５が設けられている。
【００２６】
エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２１は基板Ｇに含まれる有機物の除去処理を行い、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２２は基板Ｇのスクラブ洗浄処理および乾燥処理を行う。プレヒートユニット（ＰＨ）２３は基板Ｇの加熱処理を行い、アドヒージョンユニット（ＡＤ）２４は基板Ｇの疎水化処理を行い、後に詳述する冷却ユニット（ＣＯＬ）２５は基板Ｇを冷却する。レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６は基板Ｇ上にレジスト液を供給してレジスト膜を形成し、減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７は、減圧下で基板Ｇ上のレジスト膜に含まれる揮発成分を蒸発させてレジスト膜を乾燥させる。加熱処理ユニット（ＨＴ）２８は基板Ｇの加熱処理を行い、冷却ユニット（ＣＯＬ）２９は、冷却ユニット（ＣＯＬ）２５と同様に基板Ｇを冷却する。
【００２７】
現像ユニット（ＤＥＶ）３０は、基板Ｇ上への現像液の塗布、基板Ｇのリンス処理、基板Ｇの乾燥処理を順次行う。加熱処理ユニット（ＨＴ）３１は、加熱処理ユニット（ＨＴ）２８と同様に基板Ｇの加熱処理を行い、冷却ユニット（ＣＯＬ）３２は、冷却ユニット（ＣＯＬ）２５、２９と同様に基板Ｇを冷却する。
【００２８】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６は、Ｘ方向下流側のユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６、減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７、加熱処理ユニット（ＨＴ）２８または冷却ユニット（ＣＯＬ）２９に不具合が生じた際に、基板Ｇを一時的に搬送ラインＡから退避させるためのものであり、バッファユニット（ＢＵＦ）３７は、Ｘ方向下流側のユニット、例えばインターフェースステーション４、現像ユニット（ＤＥＶ）３０、加熱処理ユニット（ＨＴ）３１または冷却ユニット（ＣＯＬ）３２に不具合が生じた際に、基板Ｇを一時的に搬送ラインＡから退避させるためのものであり、バッファユニット（ＢＵＦ）３８は、Ｘ方向下流側のユニット、例えば検査装置（ＩＰ）３５またはカセットステーション１に不具合が生じた際に、基板Ｇを一時的に搬送ラインＢから退避させるためのものである。バッファユニット（ＢＵＦ）３６、３７、３８については後に詳細に説明する。
【００２９】
インターフェースステーション４は、基板Ｇを収容可能なバッファカセットが配置された、基板Ｇの受け渡し部であるロータリーステージ（ＲＳ）４４と、搬送ラインＡを搬送された基板Ｇを受け取ってロータリーステージ（ＲＳ）４４に搬送する搬送アーム４３とを備えている。搬送アーム４３は、上下動、前後動および水平回転可能であり、搬送アーム４３に隣接して設けられた露光装置９と、搬送アーム４３および現像ユニット（ＤＥＶ）３０に隣接して設けられた、周辺露光装置（ＥＥ）およびタイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）を有する外部装置ブロック９０とにもアクセス可能である。
【００３０】
レジスト塗布・現像処理装置１００は、ＣＰＵを備えたプロセスコントローラ１０１に接続されて制御されるように構成されている。プロセスコントローラ１０１には、工程管理者がレジスト塗布・現像処理装置１００の各部または各ユニットを管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、各部または各ユニットの稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等からなるユーザーインターフェース１０２と、レジスト塗布・現像処理装置１００で実行される各種処理をプロセスコントローラ１０１の制御にて実現するための制御プログラムや処理条件データ等が記録されたレシピが格納された記憶部１０３とが接続されている。
【００３１】
そして、必要に応じて、ユーザーインターフェース１０２からの指示等にて任意のレシピを記憶部１０３から呼び出してプロセスコントローラ１０１に実行させることで、プロセスコントローラ１０１の制御下で、レジスト塗布・現像処理装置１００で所望の処理が行われる。また、制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用したり、あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。
【００３２】
このように構成されたレジスト塗布・現像処理装置１００においては、まず、カセットステーション１の載置台１２に載置されたカセットＣ内の基板Ｇが、搬送装置１１の搬送アーム１１ａによって処理ステーション２の搬送ラインＡの上流側端部に搬送され、さらに搬送ラインＡ上を搬送されて、エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２１で基板Ｇに含まれる有機物の除去処理が行われる。エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２１での有機物の除去処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２２でスクラブ洗浄処理および乾燥処理が施される。
【００３３】
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２２でのスクラブ洗浄処理および乾燥処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、プレヒートユニット（ＰＨ）２３で加熱処理が施され脱水される。プレヒートユニット（ＰＨ）２３での加熱処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、アドヒージョンユニット（ＡＤ）２４で疎水化処理が施される。アドヒージョンユニット（ＡＤ）２４での疎水化処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、冷却ユニット（ＣＯＬ）２５で冷却される。
【００３４】
冷却ユニット（ＣＯＬ）２５で冷却された基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６でレジスト膜が形成される。レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６でのレジスト膜の形成は、基板Ｇが搬送ラインＡ上を搬送されながら、基板Ｇ上にレジスト液が供給されることにより行われる。
【００３５】
レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６でレジスト膜が形成された基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７で減圧雰囲気に晒されることにより、レジスト膜の乾燥処理が施される。
【００３６】
減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７でレジスト膜の乾燥処理が施された基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、加熱処理ユニット（ＨＴ）２８で加熱処理が施され、レジスト膜に含まれる溶剤が除去される。加熱処理ユニット（ＨＴ）２８での加熱処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＡ上を搬送されて、冷却ユニット（ＣＯＬ）２９で冷却される。
【００３７】
冷却ユニット（ＣＯＬ）２９で冷却された基板Ｇは、搬送ラインＡ上を下流側端部まで搬送された後、インターフェースステーション４の搬送アーム４３によってロータリーステージ（ＲＳ）４４に搬送される。次に、基板Ｇは、搬送アーム４３によって外部装置ブロック９０の周辺露光装置（ＥＥ）に搬送されて、周辺露光装置（ＥＥ）でレジスト膜の外周部（不要部分）を除去するための露光処理が施される。続いて、基板Ｇは、搬送アーム４３により露光装置９に搬送され、レジスト膜に所定パターンの露光処理が施される。なお、基板Ｇは、一時的にロータリーステージ（ＲＳ）４４上のバッファカセットに収容された後に、露光装置９に搬送される場合がある。露光処理が終了した基板Ｇは、搬送アーム４３により外部装置ブロック９０のタイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）に搬送され、タイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）で所定の情報が記される。
【００３８】
タイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）で所定の情報が記された基板Ｇは、搬送ラインＢ上を搬送されて、現像ユニット（ＤＥＶ）３０で現像液の塗布処理、リンス処理および乾燥処理が順次施される。現像液の塗布処理、リンス処理および乾燥処理は、例えば、基板Ｇが搬送ラインＢ上を搬送されながら基板Ｇ上に現像液が液盛りされ、次に、搬送が一旦停止されて基板が所定角度傾けられることにより現像液が流れ落とされ、この状態で基板Ｇ上にリンス液が供給されて現像液が洗い流され、その後、基板Ｇが水平姿勢に戻って再び搬送されながら基板Ｇに乾燥ガスが吹き付けられるといった手順で行われる。
【００３９】
現像ユニット（ＤＥＶ）３０での現像液の塗布処理、リンス処理および乾燥処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＢ上を搬送されて、加熱処理ユニット（ＨＴ）３１で加熱処理が施され、レジスト膜に含まれる溶剤および水分が除去される。なお、現像ユニット（ＤＥＶ）３０と加熱処理ユニット（ＨＴ）３１との間には、現像液の脱色処理を行うｉ線ＵＶ照射ユニットを設けてもよい。加熱処理ユニット（ＨＴ）３１での加熱処理が終了した基板Ｇは、搬送ラインＢ上を搬送されて、冷却ユニット（ＣＯＬ）３２で冷却される。
【００４０】
冷却ユニット（ＣＯＬ）３２で冷却された基板Ｇは、搬送ラインＢ上を搬送されて、検査ユニット（ＩＰ）３５で検査される。検査を通過した基板Ｇは、カセットステーション１に設けられた搬送装置１１の搬送アーム１１ａにより載置台１２に載置された所定のカセットＣに収容されることとなる。
【００４１】
次に、バッファユニット（ＢＵＦ）３６について詳細に説明する。なお、バッファユニット（ＢＵＦ）３７、３８もバッファユニット（ＢＵＦ）３６と全く同じ構造を有している。
【００４２】
図２は本発明に係るバッファユニット（ＢＵＦ）３６（基板バッファ装置）の側面方向の断面図であり、図３はその要部を示す側面方向の断面図であり、図４はバッファユニット（ＢＵＦ）３６の別の側面方向の断面図である。
【００４３】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６は、搬送ラインＡに進出可能であり、かつ搬送ラインＡを搬送された基板Ｇを載置可能な複数の載置台５ａ〜５ｆを上下段に有する棚部５と、この棚部５を昇降させて、複数段の載置台５ａ〜５ｆのいずれかを搬送ラインＡに進出させる昇降機構６と、棚部５および昇降機構６を収容するように設けられた筐体７と、搬送ラインＡに進出した載置台５ａ〜５ｆのいずれかに、Ｘ方向上流側および下流側にそれぞれ隣接するように設けられた補助コンベア機構８ａ、８ｂとを具備している。
【００４４】
載置台５ａ〜５ｆはそれぞれ、基板をＸ方向一方側に沿って搬送可能なコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆを備え、搬送ラインＡに進出した際に、このコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆが駆動することにより搬送ラインＡの一部として機能することができるように構成されている。なお、平常時または搬送ラインＡとしての通常搬送時には、上方が開放されていることによって基板Ｇが比較的気流を受けやすい最上段の載置台５ａが搬送ラインＡに進出している。
【００４５】
図５はバッファユニット（ＢＵＦ）３６に設けられた載置台５ａの平面図である。最上段の載置台５ａに設けられたコンベヤ機構５０ａは、図５に示すように、Ｙ方向に延びる回転軸を有する略円柱状のコロ部材５１ａ、５１ｂをＸ方向に間隔をあけて複数有している。コロ部材５１ａ、５１ｂはそれぞれ、超高分子ポリエチレン材料で形成されており、棚部５のＹ方向に対向する側壁に設けられた軸受け５２に回転可能に支持されている。コロ部材５１ａ、５１ｂはそれぞれ、後述する駆動源としてのモータ５３の駆動によって回転し、これにより、コンベヤ機構５０ａは、基板ＧをＸ方向にコロ搬送するように構成されている。ここで、すべてのコロ部材５１ａ、５１ｂ間の例えばＹ方向一端部には、駆動力伝達ベルト５４が掛け渡されており、モータ５３は、これらのコロ部材５１ａ、５１ｂのいずれか一つ、例えばＸ方向中央部のコロ部材５１ａに接続可能であり、このコロ部材５１ａを回転させることにより、駆動力伝達ベルト５４を介してすべてのコロ部材５１ａ、５１ｂを一斉に回転させるように構成されている。コンベヤ機構をコロ搬送方式とすることにより、後述するコンベヤ機構５０ｂ〜５０ｆのようなベルト搬送方式と比較して耐久性を高めることができる。
【００４６】
コロ部材５１ａおよびコロ部材５１ｂはＸ方向に交互に配置されている。コロ部材５１ａ、５１ｂはそれぞれ、Ｙ方向に延びる小径の回転軸５１ｃと、この回転軸５１ｃにＹ方向に間隔をあけて複数設けられた大径の当接部５１ｄとを有し、当接部５１ｄが基板Ｇに当接して基板Ｇを支持するように形成されているが、基板Ｇへの支持力がＹ方向に略均等に分散されるように、コロ部材５１ａとコロ部材５１ｂとでは、当接部５１ｄのＹ方向位置が異なるように構成されている。
【００４７】
図６はバッファユニット（ＢＵＦ）３６に設けられた載置台５ｂ〜５ｆの平面図である。載置台５ｂ〜５ｆに設けられたコンベヤ機構５０ｂ〜５０ｆはそれぞれ、図６に示すように、例えばＸ方向中央部に設けられた主動プーリー５５ａと、例えばＸ方向両端部にそれぞれ設けられた従動プーリー５５ｂと、主動プーリー５５ａおよび各従動プーリー５５ｂ間に掛け渡された搬送ベルト５５ｃとを有している。主動プーリー５５ａは、Ｙ方向に延びる略円柱状に形成され、棚部５のＹ方向に対向する側壁に設けられた軸受け５６に回転可能に支持されている。従動プーリー５５ｂは、例えば、Ｙ方向に間隔をあけて複数設けられ、載置台５ｂ〜５ｆ間を仕切る仕切り板５７上に回転可能に支持されている。搬送ベルト５５ｃは、従動プーリー５５ｂに対応するように、細帯状に形成されてＹ方向に間隔をあけて複数設けられている。コンベヤ機構５０ｂ〜５０ｆはそれぞれ、主動プーリー５５ａがモータ５３の駆動によって回転し、これに伴って各搬送ベルト５５ｃおよび各従動プーリー５５ｂが回転することにより、基板ＧをＸ方向にベルト搬送するように構成されている。コンベヤ機構をベルト搬送方式とすることにより、コンベヤ機構５０ａのようなコロ搬送方式と比較して部材点数を削減することができる。
【００４８】
なお、搬送ベルト５５ｃの蛇行を防止するために、主動プーリー５５ａおよび従動プーリー５５ｂに搬送ベルト５５ｃの嵌め込み溝を形成するなどして、搬送ベルト５５ｃをＹ方向に位置決めしておくことが好ましい。また、搬送ベルト５５ｃの撓みを防止するために、搬送ベルト５５ｃ内を貫通して搬送ベルト５５ｃの搬送面に接するように撓み防止部材（図示せず）を設けてもよい。
【００４９】
昇降機構６は、棚部５を支持するように棚部５の下側に設けられている。昇降機構６は、棚部５の底面の略中央部に設けられたエアシンリンダ機構６１と、棚部５の底面のエアシンリンダ機構６１の周囲に複数設けられたボールねじ機構６２とを備えており、エアシンリンダ機構６１およびボールねじ機構６２が同期して伸縮することにより、棚部５を昇降させるように構成されている。
【００５０】
筐体７は、棚部５が昇降可能なスペースを内部に有し、搬送ラインＡを搬送された基板Ｇの搬入口７１および搬出口７２をそれぞれ、Ｘ方向に対向する側壁に有している。
【００５１】
図７はバッファユニット（ＢＵＦ）３６に設けられたコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆと駆動源であるモータ５３との接続部分を示す図である。モータ５３は、図７に示すように、筐体７のＹ方向に対向する側壁の一方に設けられた、Ｙ方向にスライド可能なスライド機構７３によりＹ方向に移動可能に設けられており、回転シャフトの先端部に例えば突状の係合部５３ａを有している。一方、コンベヤ機構５０ａのＸ方向中央部のコロ部材５１ａの軸方向一端部、およびコンベヤ機構５０ｂ〜５０ｆの主動プーリー５５ａの軸方向一端部にはそれぞれ、載置台５ａ〜５ｆが搬送ラインＡに進出した際に、モータ５３の係合部５３ａと周方向に係合可能な、例えば係合部５３ａが嵌まり込む孔状の係止部５３ｂが設けられている。そして、モータ５３がスライド機構７３によって棚部５に近づくように移動することにより、係合部５３ａと係止部５３ｂとが係合して、搬送ラインＡに進出した載置台５ａ〜５ｆのコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆのいずれかがモータ５３に接続され（図７の仮想線参照）、モータ５３がスライド機構７３によって棚部５から離れるように移動することにより、係合部５３ａと係止部５３ｂとの係合が解除されて、搬送ラインＡに進出した載置台５ａ〜５ｆのコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆのいずれかとモータ５３との接続が解除されるように構成されている。
【００５２】
このような構成により、一つのモータ５３で複数のコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆを別個に駆動させることができ、装置の低コスト化が図られる。モータ５３の回転シャフトに設けられた係合部５３ａと、コロ部材５１ａおよび主動プーリー５５ａにそれぞれ設けられた係止部５３ｂとはクラッチ機構を構成する。なお、モータ５３の回転シャフトとコロ部材５１ａまたは主動プーリー５５ａとの接続は、磁力を利用したマグネットドライブ機構等によって行われるように構成してもよい。
【００５３】
モータ５３によるコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆの基板Ｇの搬送速度（正常時または平常時の搬送速度）は、搬送ラインＡのタクトタイム（搬送ラインＡを搬送される基板Ｇは所定の位置に達してから搬送ラインＡを搬送される次の基板Ｇが所定の位置に達するまでの時間）に応じて適宜設定されるが、ここでは、昇降機構６による棚部５の昇降時間を考慮して、システム全体のタクトバランスを崩さないように、搬送ラインＡの基板Ｇの搬送速度よりも速く設定されている。
【００５４】
補助コンベア機構８ａ、８ｂはそれぞれ、搬送ラインＡのタクトタイムと、モータ５３によるコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆの基板Ｇの搬送時間および昇降機構６による棚部５の昇降時間とを調整するためのものであり、図示しないモータ等の駆動源によって基板ＧをＸ方向にコロ搬送するコロ搬送方式またはベルト搬送するベルト搬送方式で構成され（図中ではコロ搬送方式）、搬送ラインＡの一部として機能する。
【００５５】
補助コンベア機構８ａ、８ｂの基板Ｇの搬送速度はそれぞれ、搬送ラインＡの基板Ｇの搬送速度よりも速く、例えば、コンベヤ機構５０ａ〜５０ｆの基板Ｇの搬送速度（正常時または平常時の搬送速度）と略等しく設定されている。これにより、搬送ラインＡから搬送ラインＡに進出した載置台５ａ〜５ｆへの基板Ｇの受け渡し、および搬送ラインＡに進出した載置台５ａ〜５ｆから搬送ラインＡへの基板Ｇの受け渡しを迅速に行うことができるため、搬送ラインＡのタクトタイムの短縮化を図ることが可能となる。
【００５６】
昇降機構６による棚部５の昇降、スライド機構７３によるモータ５３の移動、モータ５３によるコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆの作動、および補助コンベア機構８ａ、８ｂの作動はそれぞれ、プロセスコントローラ１０１からの指令を受けたユニットコントローラ１０４（制御機構）によって制御される。搬送ラインＡに進出している載置台５ａから所定の距離をあけた搬送方向上流側または搬送方向上流側近傍、例えば補助コンベア機構８ａのＸ方向上流側端部には、搬送ラインＡを搬送される基板Ｇを検出する第１センサ１０５（検出部）が設けられており、各載置台５ａ〜５ｆのＸ方向上流側端部および下流側端部にはそれぞれ、搬送ラインＡを搬送される基板Ｇを検出する第２センサ１０６および第３センサ１０７が設けられている。第１センサ１０５、第２センサ１０６および第３センサ１０７はそれぞれ、基板Ｇを検出すると、検出信号をユニットコントローラ１０４に送信する。第１センサ１０５、第２センサ１０６および第３センサ１０７は、例えば、基板Ｇの在荷を検出する在荷センサで構成することができる。
【００５７】
ユニットコントローラ１０４は、バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニット、例えばレジスト塗布ユニット（ＣＴ）２６、減圧乾燥ユニット（ＤＰ）２７、加熱処理ユニット（ＨＴ）２８または冷却ユニット（ＣＯＬ）２９に不具合が生じ、バッファユニット（ＢＵＦ）３６よりも搬送ラインＡのＸ方向下流側が停止すると、搬送ラインＡを搬送されてきた基板Ｇが搬送ラインＡに進出している載置台５ａ上に載置されようにコンベヤ機構５０ａを停止させる。ここで、ユニットコントローラ１０４は、第２センサ１０６からの検出信号を受信すると、モータ５３の駆動、すなわちコンベヤ機構５０ａの作動を減速させ、第３センサ１０７からの検出信号を受信すると、モータ５３の駆動、すなわちコンベヤ機構５０ａの作動を停止させる。このような制御により、基板Ｇが載置台５ａ上に載置される。また、ユニットコントローラ１０４は、この基板Ｇが載置台５ａ上に載置された状態で、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇを第１センサ１０５が検出する、すなわち搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇが載置台５ａに所定の距離まで近づくと、Ｘ方向下流側のユニットの不具合が解消して搬送ラインＡが復旧するまで、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇから後続の基板Ｇが順次、載置台５ｂ〜５ｆに載置されるように、昇降機構６により棚部５を上昇させて載置台５ｂ〜５ｆを搬送ラインＡに進出させる。ここでも、ユニットコントローラ１０４は、基板Ｇを載置台５ａ上に載置する場合と同様に、基板Ｇが順次、載置台５ｂ〜５ｆに載置されるように、第２センサ１０６および第３センサ１０７からの検出信号に基づいてモータ５３の駆動を制御する。なお、搬送ラインＡに進出している載置台５ａから第１センサ１０５までの距離は、搬送ラインＡや補助コンベヤ機構８ａ等の搬送速度や昇降機構６による棚部５の昇降速度などに応じて設定される。
【００５８】
次に、上述の通り構成されたバッファユニット（ＢＵＦ）３６の動作について説明する。
【００５９】
図８はバッファユニット（ＢＵＦ）３６の基板退避動作について説明するための図であり、図９はバッファユニット（ＢＵＦ）３６の基板送り出し動作について説明するための図である。
【００６０】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６は、レジスト塗布・現像処理装置１００が正常または平常に作動している際には、ユニットコントローラ（制御機構）１０４が、補助コンベア機構８ａ、８ｂを駆動させて搬送ラインＡの一部として機能させるとともに、載置台５ａのコンベヤ機構５０ａをモータ５３により駆動させ、載置台５ａを搬送ラインＡの一部として機能させる（図２参照）。
【００６１】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットに不具合が生じると、プロセスコントローラ１０１からの指令を受けたユニットコントローラ１０４は、まず、Ｘ方向下流側の補助コンベア機構８ｂの駆動を停止させるとともに、載置台５ａのＸ方向上流側から搬送ラインＡを搬送されてきた最初の基板Ｇ１が筐体７の搬入口７１を通過して載置台５ａ上に載置されるように、コンベヤ機構５０ａを停止させる（図８（ａ）参照）。なお、ここでは、搬送ラインＡを搬送されてきた最初の基板Ｇ１が補助コンベア機構８ｂ上に載置されるようにユニットコントローラ１０４に制御させてもよい。
【００６２】
基板Ｇ１が載置台５ａ上に載置された状態で、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇ２を第１センサ１０５が検出すると、ユニットコントローラ１０４は、コンベヤ機構５０ａとモータ５３との接続を解除し、載置台５ｂ〜５ｆのいずれか、例えば載置台５ｂが搬送ラインＡに進出するように昇降機構６により棚部５を上昇させて、コンベヤ機構５０ｂをモータ５３に接続して駆動させ、基板Ｇ２が載置台５ｂ上に載置されるように、モータ５３によるコンベヤ機構５０ｂの駆動を停止させる（図８（ｂ）参照）。これにより、基板Ｇ１は、載置台５ａごと搬送ラインＡから退避して保管される。なお、昇降機構６によって棚部５が昇降する時点から、搬送ラインＡを搬送されてきた基板が搬送ラインＡに進出している載置台５ａ〜５ｆのいずれかに載置されるまでの時間は、搬送ラインＡのタクト時間よりも短く設定されている。
【００６３】
このような工程により、バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットの不具合が解消するまで、搬送ラインＡを搬送されてきた後続の基板Ｇ３、Ｇ４、・・・がそれぞれ、載置台５ｃ、５ｄ、・・・上に載置されて保管されることとなる（図８（ｃ）参照）。なお、載置台５ａ、５ｂ、・・・は、搬送ラインＡのバッファユニット（ＢＵＦ）３６よりもＸ方向上流側を搬送可能な基板Ｇの数と同数だけ棚部５に設けておき、バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットに不具合が生じた際に、カセットステーション１から搬送ラインＡへの基板Ｇの投入が停止されるように構成しておくことが好ましい。これにより、搬送ラインＡを搬送されてきた基板Ｇをすべて載置台に載置させることができる。
【００６４】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットの不具合が解消すると、バッファユニット（ＢＵＦ）３６は、退避させた基板Ｇ１、Ｇ２、・・・を搬送ラインＡに送り出す。ここで、プロセスコントローラ１０１からの指令を受けたユニットコントローラ１０４は、例えば、先行して退避させた基板Ｇ１、Ｇ２、・・・の順に搬送ラインＡに送り出されるように、昇降機構６による棚部５の昇降、スライド機構７３によるモータ５３の移動、モータ５３によるコンベヤ機構５０ａ〜５０ｆの駆動、および補助コンベア機構８ａ、８ｂの駆動をそれぞれ制御する。なお、バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットの不具合が解消した際に、カセットステーション１から搬送ラインＡへの基板Ｇの投入が再び開始されるように構成しておくことが好ましい。
【００６５】
ユニットコントローラ１０４は、まず、補助コンベア機構８ｂを駆動させるとともに、昇降機構６により棚部５を下降させて載置台５ａを搬送ラインＡに進出させ、モータ５３によってコンベヤ機構５０ａを駆動させて、載置台５ａ上の基板Ｇ１を筐体７の搬出口７２から搬送ラインＡの下流側に送り出す（図９（ａ）参照）。ユニットコントローラ１０４は、次に、昇降機構６により棚部５を上昇させて載置台５ｂを搬送ラインＡに進出させ、モータ５３によってコンベヤ機構５０ｂを駆動させて、載置台５ｂ上の基板Ｇ２を搬送ラインＡの下流側に送り出す（図９（ｂ）参照）。同様に、ユニットコントローラ１０４の制御により、先行して退避させた基板Ｇ３、Ｇ４、・・・の順に搬送ラインＡに送り出される（図９（ｃ）参照）。これにより、基板Ｇのいわゆる先入れ先出しが行われるため、レジスト塗布・現像処理装置１００における基板Ｇの処理のバラツキを抑制することができる。
【００６６】
載置台５ａ、５ｂ、・・・上にそれぞれ載置されていた基板Ｇ１、Ｇ２、・・・がすべて搬送ラインＡに送り出されると、ユニットコントローラ１０４は、昇降機構６により棚部５を下降させて載置台５ａを搬送ラインＡに進出させ、コンベヤ機構５０ａを駆動させて載置台５ａを再び搬送ラインＡの一部として機能させることとなる（図２参照）。
【００６７】
図１０、１１はバッファユニット（ＢＵＦ）３６の基板退避および送り出し動作について説明するための図である。
【００６８】
バッファユニット（ＢＵＦ）３６は、昇降機構６による棚部５の昇降を開始する時点から、その後、棚部５の昇降が終了して搬送ラインＡを搬送されてきた基板Ｇを搬送ラインＡに進出している載置台５ａ〜５ｆのいずれかに載置し、昇降機構６によって棚部５が再び昇降し、搬送ラインＡに進出している別の載置台５ａ〜５ｆのいずれかに載置された基板Ｇを送り出す時点までの時間が、搬送ラインＡのタクト時間よりも短く設定されることがなお好ましい。これにより、搬送ラインＡを搬送されてきた基板Ｇを保管しつつ、先行して保管しておいた別の基板Ｇを搬送ラインＡに送り出すことが可能となる。例えば、バッファユニット（ＢＵＦ）３６のＸ方向下流側のユニットの不具合の発生および解消が断続的であり、図１０（ａ）に示すように、載置台５ｃ、５ｄ、・・・上にそれぞれ、基板Ｇ３、Ｇ４、・・・が載置され、基板Ｇ３を搬送ラインＡに送り出す前に、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇ１’を第１センサ１０５が検出した場合には、ユニットコントローラ１０４は、基板Ｇ３の搬送ラインＡへの送り出し動作を一旦休止し、昇降機構６により棚部５を下降させて、空いている載置台５ａを搬送ラインＡに進出させ、基板Ｇ１’を載置台５ａに載置させる（図１０（ｂ）参照）。ユニットコントローラ１０４は、次に、昇降機構６により棚部５を上昇させて、基板Ｇ１’を載置台５ａごと退避させるとともに、載置台５ｃを搬送ラインＡに進出させ、載置台５ｃ上の基板Ｇ３を搬送ラインＡに送り出す（図１０（ｃ）参照）。その後、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板Ｇ２’を第１センサ１０５が検出することになるため（図１１（ａ）参照）、ユニットコントローラ１０４は、昇降機構６により棚部５を下降させて、空いている載置台５ｂを搬送ラインＡに進出させ、基板Ｇ２’を載置台５ｂに載置させることができる（図１１（ｂ）参照）。同様にして、ユニットコントローラ１０４は、Ｇ４、Ｇ５、・・・を搬送ラインＡに送り出しつつ、搬送ラインＡを搬送されてきた後続の基板Ｇ３’、Ｇ４’、・・・を搬送ラインＡから退避させることができる（図１１（ｃ）参照）。なお、基板を搬送ラインＡに送り出した載置台を昇降させずに、搬送ラインＡを搬送されてきた次の基板をその載置台に載置させるように、ユニットコントローラ１０４に制御させてもよい。
【００６９】
次に、バッファユニット（ＢＵＦ）３６を構成する各部の変形例について説明する。
【００７０】
図１２はコンベヤ機構の変形例を示す平面図であり、図１３はその要部を示す断面図である。なお、変形前と同部位については同符号を付して説明を省略する。
【００７１】
各載置台５ａ〜５ｆには、コンベヤ機構５０ａ〜５０ｆ（図５、６参照）に代えて、コンベヤ機構５０ｇを設けてもよい。コンベヤ機構５０ｇは、Ｘ方向中央部に駆動ローラ部１１０を有し、この駆動ローラ部１１０のＸ方向両側にそれぞれ、Ｘ方向両端部に向かって順に、フリーローラ部１１１、駆動ローラ部１１２、フリーローラ部１１１、駆動ローラ部１１３、フリーローラ部１１４を有している。
【００７２】
駆動ローラ部１１０、１１２、１１３には、コロ部材５１ｂが設けられている。なお、駆動ローラ部１１２には、コロ部材５１ｂがＸ方向に２つ配列されている。駆動ローラ部１１０のコロ部材５１ｂのＹ方向一端部には、モータ５３の係合部５３ａと係合可能な係止部５３ｂが設けられているとともに、すべてのコロ部材５１ｂ間には駆動力伝達ベルト５４が掛け渡されており、駆動ローラ部１１０のコロ部材５１ｂをモータ５３によって回転させることにより、駆動力伝達ベルト５４を介してすべてのコロ部材５１ｂが一斉に回転するように構成されている。
【００７３】
フリーローラ部１１１、１１４はそれぞれ、基板Ｇに当接して搬送時にコロ部材５１ａの回転に伴って回転するフリーローラ１１５と、フリーローラ１１５を回転可能に支持する支持部１１６とを有している。フリーローラ１１５は、超高分子ポリエチレン材料によってＹ方向に短く形成されており、コロ部材５１ａの当接部５１ｄのＹ方向位置と対応するようにＹ方向に複数配列されている。より具体的に、フリーローラ１１５は、千鳥状に配置されており、コロ部材５１ｂの当接部５１ｄと等しいＹ方向位置に１つずつ配置され、コロ部材５１ｂの当接部５１ｄ間のＹ方向位置に、Ｘ方向に２つずつ配列されている。支持部１１６は、棚部５のＹ方向に対向する側壁に固定された基材１１７と、カラー１１８を介して基材１１７に固定された、フリーローラ１１５が回転可能に取り付けられた軸受け部材１１９ａ、１１９ｂとを有している。基材１１７は、Ｙ方向に延びる薄肉のＬ字状に形成され、Ｘ方向両端部に対向するように２つ設けられている。軸受け部材１１９ａは、コロ部材５１ｂの当接部５１ｄと等しいＹ方向位置に設けられ、軸受け部材１１９ｂは、軸受け部材１１９ａ間に設けられている。軸受け部材１１９ａ、１１９ｂはそれぞれ、Ｘ方向に延びる薄肉の凸状に形成され、その底面部が図示しないボルト等の固定具により各基材１１７の底面部に固定されている。また、軸受け部材１１９ａ、１１９ｂはそれぞれ、上面部に開口１２０を有し（軸受け部材１１９ａは１つ、軸受け部材１１９ｂは２つ）、フリーローラ１１５が、開口１２０から上方に突出するようにＸ方向に対向する側面部に回転可能に取り付けられている。
【００７４】
なお、コンベヤ機構５０ｇは、運搬性を考慮して、フリーローラ部１１４が取り外し可能に構成されている(図１２の符号Ｃ位置、仮想線参照)。フリーローラ部１１４は、Ｘ方向両端部に設けられているため、駆動力伝達ベルト５４の取り外しや調整等を必要とすることなく着脱することができる。
【００７５】
コンベヤ機構５０ｇは、上述のコンベヤ機構５０ａに比べてコロ部材５１ｂ（コロ部材５１ａ）の数が少ないが、フリーロ−ラ１１５が多数設けられ、フリーロ−ラ１１５を支持する支持部１１６が、Ｌ字状の基材１１７および凸状の軸受け部材１１９ａ、１１９ｂから構成されていることによって薄肉でありながらも優れた強度が確保される。このため、載置台５ａ〜５ｆにコンベヤ機構５０ｇを用いることにより、コンベヤ機構５０ａを用いた場合と比較して、基板Ｇの支持強度を低下させることなく、装置全体の軽量化ならびに低コスト化を図ることができる。また、載置台５ａ〜５ｆに、ベルト搬送による上述のコンベヤ機構５０ｂ〜５０ｆを用いた場合と比較しても、装置全体の軽量化を図ることができるとともに、塵埃等が付着し難い。
【００７６】
図１４はコンベヤ機構とモータ５３との接続部分の変形例を示す図である。モータ５３の係合部５３ａには、先端部に緩衝ローラ１２１を設けてもよい。緩衝ローラ１２１は、モータ５３の回転シャフトの中心部を通る回転軸を有するように設けられる。これにより、モータ５３がスライド機構７３によって棚部５に近づくように移動した際に、係合部５３ａと係止部５３ｂとの位置が合わなかった場合には、緩衝ローラ１２１がコロ部材５１ａまたは主動プーリー５５ａの軸方向一端部に当接して衝撃を和らげるため、当接時の塵埃等の発生を抑止する。さらに、緩衝ローラ１２１がコロ部材５１ａ、５１ｂまたは主動プーリー５５ａの軸方向一端部に当接した状態でモータ５３を駆動させれば、緩衝ローラ１２１の回転によってモータ５３の回転シャフトがスムーズに回転することができるため、係合部５３ａと係止部５３ｂとの位置合わせが容易となる。
【００７７】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、最上段の載置台５ａ以外の載置台５ｂ〜５ｆのいずれかを平常時の搬送ラインとして機能させてもよく、また、搬送ラインＡまたはＢから退避させた複数の基板Ｇの搬送ラインＡまたはＢへの送り出し順序は任意またはランダムであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明によれば、ＦＰＤ用のガラス基板のように特に基板が大型の場合に好適であるが、ガラス基板に限らず、半導体ウエハなどの他の基板のバッファリングにも広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明に係る基板バッファ装置の一実施形態であるバッファユニットを搭載した、ＦＰＤ用のガラス基板へのレジスト膜の形成および露光処理後のレジスト膜の現像処理を行うレジスト塗布・現像処理システムの概略平面図である。
【図２】バッファユニットの側面方向の断面図である。
【図３】バッファユニットの要部を示す側面方向の断面図である。
【図４】バッファユニットの別の側面方向の断面図である。
【図５】バッファユニットに設けられた載置台の平面図である。
【図６】バッファユニットに設けられた載置台の平面図である。
【図７】バッファユニットに設けられたコンベヤ機構とモータとの接続部分を示す図である。
【図８】バッファユニットの基板退避動作について説明するための図である。
【図９】バッファユニットの基板送り出し動作について説明するための図である。
【図１０】バッファユニットの基板退避および送り出し動作について説明するための図である。
【図１１】バッファユニットの基板退避および送り出し動作について説明するための図である。
【図１２】コンベヤ機構の変形例を示す平面図である。
【図１３】コンベヤ機構の変形例の要部を示す断面図である。
【図１４】コンベヤ機構とモータとの接続部分の変形例を示す図である。
【符号の説明】
【００８０】
１…カセットステーション（処理部）
４…インターフェースステーション（処理部）
５…棚部
６…昇降機構
５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆ…載置台
８ａ、８ｂ…補助コンベヤ機構
２６…レジスト塗布ユニット（処理部）
２７…減圧乾燥ユニット（処理部）
２８、３１…加熱処理ユニット（処理部）
２９、３２…冷却ユニット（処理部）
３０…現像ユニット（処理部）
３５…検査装置（処理部）
３６、３７、３８…バッファユニット（基板バッファ装置）
５０ａ、５０ｂ、５０ｃ、５０ｄ、５０ｅ、５０ｆ、５０ｇ…コンベヤ機構
５１ａ、５１ｂ…コロ部材
５３…モータ（駆動源）
５５ｃ…搬送ベルト
１００…レジスト塗布・現像処理装置（基板処理装置）
１０４…ユニットコントローラ（制御機構）
１０５…第１センサ（検出部）
Ａ、Ｂ…搬送ライン
Ｇ（Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇ１’、Ｇ２’、・・・）…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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