(57)【要約】【課題】基板表面に与えるダメージの低減と基板表面に対する洗浄性能の確保を図りながら、基板の適切な搬送を実現する。【解決手段】洗浄室２内を搬送中の基板Ｂの表面に接して洗浄を行う基板処理装置である。基板Ｂの搬送方向に交差する方向に長尺で、弾性材からなる固体状の洗浄部材２３４を備える。洗浄部材２３４は、基板Ｂ表面と接触する先端部分の断面形状のうち、少なくとも基板進入側が円弧状に形成されている。【選択図】図１
2007250806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内を相対移動中の基板の表面を洗浄する基板処理装置において、前記相対移動方向に交差する幅方向に長尺で、弾性材からなる固体状の洗浄部材を備え、前記洗浄部材は、前記相対移動中の基板の端面と当接する位置に配置された先端部分であって、前記相対移動における前記基板の進入側の側断面が先窄まり形状であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記洗浄部材は、多孔性を有する樹脂材から形成されていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記先端部分の側断面形状は、曲面乃至は先端面を有する多角形であることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記洗浄部材は、前記幅方向に対して斜めに配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記洗浄部材は、長手方向に複数に分割して配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記分割された洗浄部材は、互いに平行かつ微小隙間を置いて配置されていることを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記基板の表面に対する接離方向における前記洗浄部材の位置を調節する調節部材を備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示デバイス（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体デバイス等の製造プロセスにおいて、ＬＣＤ又はＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板、プリント基板等に対して各種の処理、例えば洗浄処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板等の基板製造ラインにおいては、例えばエッチング処理用の薬液を用いて基板処理を行う処理装置の後に基板洗浄装置を配設し、基板表面上の残留薄膜やパーティクル等の異物を洗浄によって除去することが行われている。このような基板洗浄装置を有する基板処理装置として、特許文献１には、ローラコンベア等の搬送手段により搬送される基板に純水等の処理液を供給しつつ、該基板の表面に円筒状のロールブラシを当接状態で回転させるものが提案されている。特許文献２には、搬送される基板の上面側及び下面側に、棒状ブラシを所定間隔で複数配設し、基板搬送方向に対して直交する方向に往復運動させることで基板上の埃等を除去する洗浄装置も提案されている。
【０００３】
ところが、特許文献１に示される基板処理装置は、ロールブラシを回転させて基板を洗浄するため、柔らかい金属膜等（例えば、Al（アルミニウム）や、Mo（モリブデン）＋Al等の金属膜等）が形成された基板の表面を洗浄する場合には当該金属膜にダメージを与えるおそれがある。特許文献２に示される洗浄装置は、ブラシを基板表面に当接させた状態で基板搬送方向に対して直交する方向に往復運動させるため、柔らかい金属膜等が形成された基板の表面を洗浄する場合には、特許文献１と同様、ブラシ自身の動作に起因して金属膜にダメージを与えるおそれがある。
【０００４】
そこで、基板表面に与えるダメージを低減し、かつ基板表面に対する洗浄性能という本来機能を確保するべく、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）をスポンジ状の長尺体として形成し、これを基板幅方向に配置した洗浄部材が提案されている。図６は、従来の洗浄部を示す側面図である。図６（Ａ）に示す洗浄部は、基板Ｂを搬送するべく並設された複数のローラ８１と、搬送方向の所定位置に配置された洗浄部９１とから構成され、洗浄部９１は、幅方向に長尺をなし、その断面形状が四角形の洗浄部材９１１と、この洗浄部材９１１の上端を支持する支持部材９１２とを備えて、搬送されてくる基板Ｂの上面に接触して洗浄を行うようにしている。この洗浄部材９１１はＰＶＡをスポンジ状に形成して基板の表面に接するように配置することで、基板Ｂに対するダメージ低減と洗浄性能の確保が図られている。図６（Ｂ）に示す洗浄部は、基板Ｂを搬送するべく並設された複数のローラ８１と、搬送方向の所定位置に配置された洗浄部９２とから構成され、洗浄部９２は、幅方向に長尺をなし、その断面形状が細長い可撓性形状とされた洗浄部材９２１と、この洗浄部材９２１の上端を該洗浄部材９２１が下流側に傾斜した姿勢で支持する支持部材９２２とを備え、搬送されてくる基板によって下半部が撓んで全体的に接触することで洗浄動作を行わせるようにしている。
【特許文献１】特開平９−３２６３７７号公報
【特許文献２】特開平１０−３４０９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図６（Ａ）に示す洗浄部材９１１では、洗浄効果を上げるためには、洗浄部材９１１が基板Ｂの上面に所望の力（接触圧）で押し付けられるように、基板Ｂが洗浄部材９１１の下方に到達する前に、洗浄部材９１１の先端部を、搬送されてくる基板の上面よりも下方に配置しておく必要がある。しかし、洗浄部材９１１は、進入してくる基板Ｂの先端と当接する先端部位の形状が矩形であるため、基板Ｂの先端と当接する際に、基板Ｂの搬送速度にむらを生じさせたり、最悪のケースでは搬送不可の状態に陥る場合が考えられる。あるいは、洗浄部材９１１は、進入してくる基板Ｂの先端エッジとの当接を繰り返すことで、当接位置に亀裂や破断が生じるという問題もある。また、図６（Ｂ）に示す洗浄部材９２１では、その可撓性のため、洗浄部材９２１の先端部を、搬送されてくる基板の上面よりも下方に配置させたとしても、基板Ｂの表面との接触圧が所要のレベルまで確保できないことから、洗浄効果に一定の限界がある。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、基板表面に与えるダメージの低減と基板表面に対する洗浄性能の確保を図りながら、基板の適切な搬送を実現する基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、処理室内を相対移動中の基板の表面を洗浄する基板処理装置において、前記相対移動方向に交差する幅方向に長尺で、弾性材からなる固体状の洗浄部材を備え、前記洗浄部材は、前記相対移動中の基板の端面と当接する位置に配置された先端部分であって、前記相対移動における前記基板の進入側の側断面が先窄まり形状であることを特徴とするものである。
【０００８】
この構成によれば、基板は、基板の先端と洗浄部材の先端部分の先窄まり形状、つまり斜面とが当接（衝突）しつつ、洗浄部材の先端部分側に滑らかに進入していく。このように、基板が洗浄部材の先端部分側に進入していくにつれて、弾性体である洗浄部材は基板と反対方向に縮むように弾性変形する。そして、基板が洗浄部材の先端部分側に進入し終わったときには、洗浄部材が基板側に伸びようとする力によって、基板に対する洗浄部材の押し付け力（接触圧）が得られる。従って、基板に対する洗浄部材の押し付け力（接触圧）を所望値に維持しつつ、基板が洗浄部材の先端部分側に進入するときに基板の先端と洗浄部材の先端部分との当接（衝突）により生じる衝撃が緩和される。これにより、基板表面に与えるダメージの低減と共に基板表面に対する洗浄性能の確保を図りながら、基板の適切な搬送が可能となる。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記洗浄部材は、多孔性を有する樹脂材から形成されていることを特徴とする。この構成によれば、表面の適宜な粗さなどに起因して、高い洗浄効果が得られる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の基板処理装置において、前記先端部分の側断面形状は、曲面乃至は先端面を有する多角形であることを特徴とする。この構成によれば、曲面であれば、当接時の衝撃が連続的に緩衝される。また多角形の場合には、略連続的に緩衝される一方、製造が曲面に比して容易となる。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記洗浄部材は、前記幅方向に対して斜めに配置されていることを特徴とする。この構成によれば、基板は洗浄部材に幅方向の一方側から徐々に当接による負荷を受けることになるため、衝撃は分散し、緩和されることとなる。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記洗浄部材は、長手方向に複数に分割して配置されていることを特徴とする。この構成によれば、洗浄部材の製造が容易となる。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項５記載の基板処理装置において、前記分割された洗浄部材は、互いに平行かつ微小隙間を置いて配置されていることを特徴とする。この構成によれば、洗浄部材の配置スペースが軽減でき、小型化が図れる。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１〜６のいずれかに記載の基板処理装置において、前記基板の表面に対する接離方向における前記洗浄部材の位置を調節する調節部材を備えることを特徴とする。この構成によれば、洗浄性能が最適に調整可能となる。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、基板に対する洗浄部材の押し付け力（接触圧）を所望値に維持しつつ、基板が洗浄部材の先端部分側に進入するときに基板の先端と洗浄部材の先端部分との当接（衝突）により生じる衝撃を緩和することができる。これにより、基板表面に与えるダメージの低減と共に基板表面に対する洗浄性能の確保が図りながら、基板の適切な搬送を可能とし得る。
【００１６】
請求項２に記載の発明によれば、表面の適宜な粗さなどに起因して、高い洗浄効果を得ることができる。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、曲面であれば、当接時の衝撃を連続的に緩衝でき、また多角形の場合には、略連続的に緩衝できる一方、曲面のものに比して容易に製造できる。
【００１８】
請求項４に記載の発明によれば、基板は洗浄部材に幅方向の一方側から徐々に当接による負荷を受けることになるため、衝撃を分散できる分衝撃の緩和が図れる。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、洗浄部材を容易に製造できる。
【００２０】
請求項６に記載の発明によれば、洗浄部材の配置スペースを軽減でき、小型化が図れる。
【００２１】
請求項７に記載の発明によれば、洗浄性能を最適に調整できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は、本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す概略構成図である。本実施形態では、基板処理装置として基板洗浄装置１０を例示している。基板洗浄装置１０は、処理対象となる基板Ｂに薬液処理を施す洗浄室２と、洗浄室２を通過した基板Ｂに濯ぎ処理を施すリンス室３と、液切りのためのエアナイフ室４とを備えている。洗浄室２、リンス室３及びエアナイフ室４はそれぞれ天井壁と四方の側壁とを有する箱形に構成されており、それぞれの出入り口用の開口を介して処理対象である基板Ｂを上流から下流に搬送可能なように連設されている。
【００２３】
洗浄室２は、上流側に配設された、図外のエッチング工程や剥離工程等の前工程の処理室に繋がって配設されている。洗浄室２には、上流側から基板Ｂを受け入れて、下流側に搬送するための複数の搬送ローラ２１が並設されている。これらの搬送ローラ２１は基板Ｂの搬送路２１ａを形成している。
【００２４】
また、洗浄室２は、搬送路２１ａの上方適所に搬送路２１ａに沿って複数配置され、基板Ｂの存在中、あるいは処理期間中に亘って薬液等の処理液（基板洗浄のために用いる各種の処理液の適用が可能）を上方からシャワー状に供給する処理液供給部２２と、搬送路２１ａ上に上方より露出して配置され、搬送方向に所望の個数だけ、好ましくは処理液供給部２２の間に配置されて搬送中の基板Ｂの上面に接触して基板Ｂを洗浄する洗浄部２３を備えている。さらに、洗浄室２は、搬送路２１ａの下方適所に搬送路２１ａに沿って複数配置され、基板Ｂの存在中、あるいは処理期間中に亘って薬液等の処理液（基板洗浄のために用いる各種の処理液の適用が可能）を下方からシャワー状に供給する処理液供給部２４と、搬送路２１ａ上に下方より露出して配置され、搬送方向に所望の個数だけ、好ましくは処理液供給部２４の間に配置されて搬送中の基板Ｂの下面に接触して基板Ｂを洗浄する洗浄部２５を備えている。
【００２５】
なお、図では示していないが、処理液供給部２２，２４は、ポンプを介して処理液供給源から処理液が供給可能にされている。
【００２６】
リンス室３は、洗浄室２で処理された基板Ｂに対して濯ぎ処理を行うものである。リンス室３は、洗浄室２から基板Ｂを受け入れ、下流側に搬送するための複数並設された搬送ローラ３１と、リンス液としての純水等を基板Ｂの上面に供給するリンス液供給ノズル３２と、基板Ｂの下面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル３３とを備えている。
【００２７】
エアナイフ室４は、リンス室３で処理された基板Ｂに対して液切り処理を行うものである。エアナイフ室４は、リンス室３から搬送されてくる基板Ｂを受け入れて、下流側に搬送する搬送ローラ４１と、搬送ローラ４１により搬送される基板Ｂの上面に対してエアを吹き付けて基板Ｂの上面をから処理液を吹き飛ばすと共に、乾燥させるエアナイフ４２１と、基板Ｂの下面に対してエアを吹き付けて基板Ｂの下面から処理液を吹き飛ばすと共に、乾燥させるエアナイフ４２２とを備えている。
【００２８】
搬送ローラ２１，３１，４１は、回転軸のうち、長手方向の複数箇所が大径とされており、この大径部分で基板Ｂを支持して搬送する構成とされており、さらに、搬送ローラ２１，３１，４１の各回転軸の両端部には少なくとも基板を支持する大径部より大径の鍔部が形成され、搬送中の基板の横ずれを防止している。搬送ローラ２１，３１，４１は、モータ等の回転駆動源によって各処理室毎に、あるいは同期ベルト等の回転力伝達手段を介して定速で同期回転駆動されるよう構成されている。
【００２９】
なお、搬送ローラ２１，３１，４１は、回転軸が水平でもよいが、本実施形態では、水平方向に対して所定角度だけ傾斜した姿勢で配設されている。基板Ｂを幅方向に傾斜させることで、特に洗浄室２及びリンス室３において基板Ｂに供給される各液を下方に落としやすくして、基板Ｂの面上からの液切れを良くしている。
【００３０】
図２は、洗浄部を基板の搬送方向上流側から見た図であり、図３は、その分解斜視図である。なお、洗浄部２５は洗浄部２３とほぼ同一形状であるので、ここでは、洗浄部２３について説明する。
【００３１】
洗浄部２３は、洗浄室２の側壁乃至は天井壁の適所に支持されて、搬送路２１ａ上に臨むように露出して配置されている。本実施形態では、洗浄部２３は、洗浄室２の天井壁に固定された板状の支持具２３１（図３）に取り付けられる、板状の第１ブラケット２３２と、この第１ブラケット２３２に取り付けられる第２ブラケット２３３と、この第２ブラケット２３３の下部に支持された洗浄部材２３４とを備えている。
【００３２】
支持具２３１は、洗浄室２の基板搬送方向に直交する幅方向（図２の左右方向）に複数、例えば左右対称位置に２箇所設けられてなり、天井壁への固定を行う固定具２３１１と、固定具２３１１から垂設された連結具２３１２とを備えている。連結具２３１２の下部適所には固定部材、ここでは雄ねじ２３１３が立設されている。第１ブラケット２３２は、搬送路２１ａの幅寸法に対応する長尺に形成されており、連結具２３１２の雄ねじ２３１３と対応する位置に孔２３２１が穿設されている。連結具２３１２の雄ねじ２３１３に第１ブラケット２３２の孔２３２１を通してボルト締めすることで、洗浄室２内での第１ブラケット２３２の位置が決められている。第１ブラケット２３２には長尺方向の適宜の複数位置に、それぞれ固定部材、ここでは雄ねじ２３２２が立設されている。
【００３３】
第２ブラケット２３３は上半部の連結部２３３１と下半部の支持部２３３２とから構成されている。第２ブラケット２３３は、支持部２３３２が搬送路２１ａの幅寸法に対応する長尺を有しており、その上部であって長尺方向に亘って３個の連結部２３３１が形成されている。連結部２３３１は、第１ブラケット２３２の雄ねじ２３２２に対応する位置に上下方向に長い長孔２３３１ａが穿設されている。第１ブラケット２３２の雄ねじ２３２２に連結部２３３１の長孔２３３１ａを通してボルト締めすることで、第１ブラケット２３２に対する第２ブラケット２３３の位置が決められている。この場合、雄ねじ２３２２と長孔２３３１ａとの位置関係を調整してボルト締めすることで、第２ブラケット２３３の上下方向での（高さ）位置と、左右方向での水平性とが調整可能となる。支持部２３３２は、例えば断面形状が所要幅の間隙を有する、下方が開口した矩形状に屈曲された支持構造を有しており、その間隙内に洗浄部材２３４が嵌め込まれて、下方に垂設されている。
【００３４】
洗浄部材２３４は、弾性を有するＰＶＡ等の樹脂を用いてスポンジ状（多孔性）の固体で、搬送路２１ａの幅寸法に対応した長さを有する長尺体である。洗浄部材２３４は、側断面形状が略長方形を有すると共に、基板Ｂの表面と接触する先端部位の側断面形状が円弧状、ここでは半円状を有している。この形状によれば、進入してきた基板Ｂが洗浄部材２３４に当接すると、洗浄部材２３４の先端部分の円弧形状、つまり基板Ｂの先端エッジが、その移動方向と同じ洗浄部材２３４の先端部分の斜面で当接するため、直角に当接する場合に比して、当接時の衝撃が緩和される。すなわち、基板Ｂは、基板Ｂの進入側の先端端面と洗浄部材２３４の先端部分の円弧形状である斜面とが当接（衝突）しつつ、洗浄部材２３４の先端部分側に滑らかに進入していく。このように、基板Ｂが洗浄部材２３４の先端部分側に進入していくにつれて、弾性体である洗浄部材２３４は基板Ｂと反対方向に縮むように弾性変形する。そして、基板Ｂが洗浄部材２３４の先端部分側に進入し終わったときには、洗浄部材２３４が基板Ｂ側に伸びようとする力によって、基板Ｂに対する洗浄部材２３４の押し付け力（接触圧）が得られる。従って、基板Ｂに対する洗浄部材２３４の押し付け力（接触圧）を所望値に維持しつつ、基板Ｂが洗浄部材２３４の先端部分側に進入するときに基板Ｂの先端と洗浄部材２３４の先端部分との当接（衝突）により生じる衝撃が緩和される。これにより、基板Ｂの表面に与えるダメージの低減と共に基板表面に対する洗浄性能の確保が図りながら、基板の適切な搬送が可能となると共に、潜像部材の破損なども低減でき、長寿命化が図れる。洗浄部材２３４の形状、例えば厚み、長さ及び先端の形状は洗浄性能を考慮して適宜に設定されている。
【００３５】
なお、第２ブラケット２３３及び洗浄部材２３４は、搬送路２１ａの幅寸法に対応する寸法を有するものでもよいが、例えば図２に示すように、所定個数、ここでは３つに分割して製造し、それぞれを第１ブラケット２３２に対して取り付けることで、互いに連設して配置する態様としてもよい。このようにすれば、個々が小サイズとなる分、製造が容易となる他、取り付け時の高さ及び搬送路２１ａとの平行性の調整が個別に精度良く対応できる。
【００３６】
図４は、洗浄部材の他の形状を示す側断面図である。図２，３では、洗浄部材の先端形状を円弧状としたが、図４（Ａ）は、先端部位の断面形状を台形とした洗浄部材２３４１である。このように先端に基板Ｂの表面と面で摺接する先端面部２３４１ａを設けることで高い洗浄効果を確保すると共に、少なくとも基板Ｂが進入してくる側の側面を搬送路２１ａに対して直角とせずに、所定の鈍角を有して傾斜した傾斜面部２３４１ｂとすることで、進入する基板Ｂとの当接時の衝撃を緩和（低減）し、基板Ｂの搬送むらを可及的に抑制している。すなわち、基板Ｂは、基板Ｂの進入側の先端端面と洗浄部材２３４１の先端部分の傾斜面部２３４１ｂとが当接（衝突）しつつ、洗浄部材２３４１の先端部分側に滑らかに進入していく。このように、基板Ｂが洗浄部材２３４１の先端部分の傾斜面部２３４１ｂに進入していくにつれて、弾性体である洗浄部材２３４１は基板Ｂと反対方向に縮むように弾性変形する。そして、基板Ｂが洗浄部材２３４１の先端部分側に進入し終わったときには、洗浄部材２３４１が基板Ｂ側に伸びようとする力によって、基板Ｂに対する洗浄部材２３４１の押し付け力（接触圧）が得られる。従って、基板Ｂに対する洗浄部材２３４１の押し付け力（接触圧）を所望値に維持しつつ、基板Ｂが洗浄部材２３４１の先端部分の傾斜面部２３４１ｂに進入するときに基板Ｂの先端と洗浄部材２３４１の先端部分の傾斜面部２３４１ｂとの当接（衝突）により生じる衝撃が緩和される。
【００３７】
図４（Ｂ）、（Ｃ）は、基板Ｂの進入側にのみ傾斜面を形成した例を示すものである。図４（Ｂ）に示す洗浄部材２３４′は、図２の洗浄部材２３４に対応するものであり、図４（Ｃ）に示す洗浄部材２３４１′は、図４（Ａ）の洗浄部材２３４１に対応するものである。なお、図４（Ｂ）、（Ｃ）において、破線で示す部分はなくてもよい。
【００３８】
図５は、洗浄部材の他の実施形態を示すための上面図である。図５では、洗浄部のうちの洗浄部材２３４と基板Ｂとが描かれている。図５（Ａ）に示す洗浄部材２３４は、基板Ｂの搬送路２１ａ上で幅方向に対して所要角度θだけ傾けたものである。この構成によって、基板Ｂは、基板Ｂの進入側の先端端面と洗浄部材２３４の先端部分の円弧形状である斜面とが当接（衝突）しつつ、洗浄部材２３４の先端部分側に滑らかに進入していく。このように、基板Ｂは洗浄部材２３４に幅方向の一方側から徐々に当接による負荷を受けることになるため、衝撃は分散し、緩和されることとなる。また、洗浄部材２３４は、その下流側への斜め方向が搬送路２１ａの幅方向の傾斜の下方位置に合わせているので、液切り効果が一層高まる。
【００３９】
ここに、洗浄部材は、洗浄部材によって基板上から除去されたパーティクル等の異物を含む処理液を、洗浄部材よりも基板搬送方向下流側の基板表面に浸入させないように堰き止めて液切りする作用効果も有する。この作用効果によって、洗浄部材により洗浄処理された基板表面が再汚染されることを防止できる。また、傾斜姿勢で搬送される基板の下端部側に向かうように洗浄部材を傾けて配置（図５（Ａ）（Ｂ）の配置）することによって、洗浄部材により液切れされた洗浄液が、基板の下端部から速やかに排出されるために液切り効果が一層高まる。
【００４０】
図５（Ｂ）に示す洗浄部材２３５は、図５（Ａ）の洗浄部材２３４を長手方向に対して所定個数だけ、ここでは４個の洗浄素体２３５１〜２３５４に分割して基板Ｂの搬送路上で幅方向に対して所要角度θだけ斜めに向けると共に平行に配置している。さらに、洗浄素体２３５１〜２３５４は、互いに一部が対向し、かつ互いに所要の微小隙間を持たせて配置したものである。この構成により、進入してくる基板Ｂとの当接時の衝撃をより緩和できると共に、一部を互いに対向させるように長さ方向に重ねた配置とすることで、全体構造、すなわち図５（Ａ）に比して基板搬送方向について小型化（短寸法化）が図れる。また、洗浄素体２３５１〜２３５４を互いに所要の微小隙間を持たせて配置したので、各隙間から処理液を幅方向に効果的にガイドすることが可能となり、その分、液切りが効果的となる。前記所要の微小隙間は、基板Ｂサイズ、供給される処理液量、また角度θに応じて適宜に設定されている。
【００４１】
本発明は、以下の態様が採用可能である。
（１）以上の実施形態では、洗浄部材の先端部分の形状を側断面で円弧、台形としたが、これに限定されず、連続する曲面であればよく、また台形以外に多角形であってもよい。少なくとも基板進入側が曲面、平面又はその混合形状を問わず、搬送路２１ａに対して鈍角（傾斜）面を有して、すなわち先窄まり形状に形成されておればよい。また、図４（Ａ）、（Ｃ）は、基板Ｂと接触する面が形成されているが、図３の円弧形状であっても、搬送路２１ａに露出して、基板Ｂと接触することで、その弾性により基板Ｂと実質的に面で接触するようになっている。
（２）また、洗浄部材の材料としては、ＰＶＡ以外の樹脂、ゴムであればよく、弾性変形可能な固体状を有するものであればよい。また、スポンジ（多孔性）の他、表面に洗浄効率を考慮しての所定の粗さを有する加工が施されたものでもよい。
（３）また、本実施形態では、第１ブラケット２３２の雄ねじ２３２２に連結部２３３１の長孔２３３１ａを通してボルト締めすることで、洗浄部材の位置の調整が行われる態様としたが、位置決めの部材としては雄ねじとボルトに限定されず、公知の種々の固定部材が採用可能である。
（４）また、かかるオペレータによる位置調整の他、自動で位置調整を行う態様としてもよい。例えば、洗浄部材を昇降させる例えばラックピニオンを用いた公知の昇降機構と、昇降用のモータ等の駆動源と、洗浄部材の高さ位置を検出する近接センサやメカスイッチ等の検出手段と、検出結果から洗浄部材を所要の高さ位置に昇降制御する制御プログラムをＲＯＭ等の記憶媒体に格納したマイクロコンピュータ（制御手段）とから構成してもよく、このようにすれば、常時乃至は装置起動時毎に、適切な位置調整ができ、従って継続的に適切な洗浄処理が自動で行われる。
（５）また、洗浄部材の取り付け方法も嵌め込み式に限定されず、接着式、締結部材を用いて固設する方法の種々の取り付け方法が採用可能である。
（６）洗浄部材を斜めに配置せず、搬送方向と直交する（幅方向と平行な）ように配置してもよい。
（７）また、基板が固定され、洗浄部材が移動する態様としてもよいし、さらに、基板及び洗浄部材の両方が互いに逆向きに移動する態様であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】洗浄部を基板の搬送方向上流側から見た図である。
【図３】洗浄部の分解斜視図である。
【図４】洗浄部材の他の形状を示す側断面図で、（Ａ）は先端部位の断面形状を台形とした図、（Ｂ）、（Ｃ）は、基板の進入側にのみ傾斜面を形成した例を示す図である。
【図５】洗浄部材の他の実施形態を示すための上面図で、（Ａ）は搬送路上で幅方向に対して所要角度θだけ傾けた例、（Ｂ）は（Ａ）の洗浄部材を長手方向に対して所定個数だけ分割した例の図である。
【図６】従来の洗浄部材を示す側面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０  基板処理装置
２１  搬送ローラ
２１ａ  搬送路
２３，２５  洗浄部
２３２  第１ブラケット（調整部材）  
２３３  第２ブラケット（調整部材）
２３２２  雄ねじ（調整部材）
２３３１ａ  長孔（調整部材）
２３４，２３４′，２３４１，２３４１′，２３５  洗浄部材
２３４１ａ  先端面部
２３４１ｂ  傾斜面部
２３５１〜２３５４  洗浄素体
【図１】
2007250806.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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