(57)【要約】【課題】  クメン法によるフェノール製造プロセスから回収される粗α−メチルスチレンから、高純度の精製α−メチルスチレンを取得する、経済的に有利な精製方法を提供する。【解決手段】  クメン法フェノール製造プロセスで回収される粗α−メチルスチレンから少なくとも第１蒸留塔及び第２蒸留塔での蒸留を経て精製α−メチルスチレンを得るα−メチルスチレンの精製方法であって、以下の１）〜３）を充たす精製方法。１）粗α−メチルスチレンのα−メチルスチレン含有量は８８〜９８重量％であること、２）粗α−メチルスチレンを第１蒸留塔で蒸留し、塔頂から軽沸物を分離し、塔底成分を第２蒸留塔に供給すること、３）第２蒸留塔の該塔底成分の供給部位よりも上方の部位より側流又は塔頂留分として精製α−メチルスチレンを得ること【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
クメン法フェノール製造プロセスで回収される粗α−メチルスチレンから少なくとも第１蒸留塔および第２蒸留塔での蒸留工程を経て精製α−メチルスチレンを得るα−メチルスチレンの精製方法であって、以下の１）〜３）を充たすことを特徴とするα−メチルスチレンの精製方法。
１）粗α−メチルスチレンのα−メチルスチレン含有量が８８〜９８重量％であること、
２）粗α−メチルスチレンを第１蒸留塔で蒸留し、塔頂から軽沸物を分離し、塔底成分を第２蒸留塔に供給すること、
３）第２蒸留塔の該塔底成分の供給部位よりも上方の部位から側流又は塔頂留分として精製α−メチルスチレンを得ること。
【請求項２】
第１蒸留塔及び第２蒸留塔の塔底圧力が２０ｋＰａ以下であることを特徴とする請求項１に記載のα−メチルスチレンの精製方法。
【請求項３】
粗α−メチルスチレンが下記４）又は５）の工程により回収されたフェノール含有粗α−メチルスチレンをアルカリで処理することによりフェノールを抽出除去して得られたものであることを特徴とする請求項１又は２に記載のα−メチルスチレンの精製方法。
４）クメン法フェノール製造プロセスにおける、クメンヒドロペルオキシドの酸分解物から粗アセトン塔で粗アセトンを蒸留分離して粗フェノールを得、次いで粗フェノール塔で該粗フェノールから重質物を蒸留分離してフェノール及びα−メチルスチレン含有組成物を得、更に該フェノール及びα−メチルスチレン含有組成物と水とを水抽出塔に供給し、蒸留分離により水抽出塔の塔頂からフェノール含有粗α−メチルスチレンを回収する工程
５）クメン法フェノール製造プロセスにおける、クメンヒドロペルオキシドの酸分解物から粗アセトン塔で粗アセトンを蒸留分離して粗フェノールを得、次いで粗フェノール塔に該粗フェノールと水とを供給し、蒸留分離により粗フェノールの供給部位よりも下方の部位より側流としてフェノールを、塔底から重質物を、塔頂からフェノール含有粗α−メチルスチレンを回収する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クメン法によるフェノール製造プロセスから回収されるα−メチルスチレンの精製方法に関する。詳しくは、本発明は、クメン法によるフェノール製造プロセスから回収されるα−メチルスチレンを複数の蒸留塔を組み合わせて用いることにより、分離が困難な不純物を効率的に分離し、高純度のα−メチルスチレンを取得する精製方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
クメン法フェノールの製造方法は、一般に、原料クメンの酸化で得られたクメンヒドロペルオキシド含有酸化生成物をクメンヒドロペルオキシドの濃度が８０〜８５％程度になるまで濃縮し、次いで、クメンヒドロペルオキシドをフェノールとアセトンに酸分解した後、生成物をアルカリで中和洗浄し、中和生成物からアセトン、フェノールを分離精製する工程を包含することが知られている。この方法で得られた粗フェノールには、アセトン、水、クメン、α−メチルスチレン、その他の不純物等が含まれており、これらの含有物は粗フェノールから蒸留により除去され、精製フェノールが製造されているが、同時に原料化合物として有用なアセトン及びα−メチルスチレンもそれぞれ分離・回収され、必要に応じ更に精製処理に付されている。
特に、α−メチルスチレンは、その主用途がＡＢＳ樹脂であることから、不純物を含有していると樹脂製造プロセスにおいて品質悪化等の不具合を生じるので、より純度の高い製品が求められる。
【０００３】
粗α−メチルスチレンの精製方法は、粗フェノールの分離・回収方法との関連において幾つか提案されている。例えば、特許文献１には、クメンとα−メチルスチレンとの分離が困難であることから、粗フェノールの蒸留に際し、塔頂よりクメン含有留分を留出し、塔底からα−メチルスチレン含有重質分を回収し、次いで回収α−メチルスチレン含有重質分を水蒸気蒸留して、粗α−メチルスチレンを取得し、更にこの粗α−メチルスチレンを蒸留（製品α−メチルスチレン塔）して微量不純物を除去することにより製品α−メチルスチレンを回収することが記載されている。しかしながら、このような精製方法、即ち１塔だけの製品α−メチルスチレン塔で精製した場合、フェノール製造プロセスにおける酸接触分解条件、粗アセトン塔の分離法、アルカリ洗浄槽でのフェノール抽出条件によっては、多量の不純物（クメン、メシチルオキシド、スチレン、フェノール等）が共存するため、所望の製品純度を保つことが困難である。
【０００４】
特許文献２には、クメン法によるフェノール製造で副生分離された粗α−メチルスチレンをアルカリ洗浄と二段階での蒸留を組み合わせた精製方法で精製することが記載され、また、特許文献３には、該粗α−メチルスチレンを所定の塔頂圧に維持された２塔の蒸留塔で蒸留を行う精製方法が記載されている。しかしながら、これらの精製方法では製品の着色問題は解決されるが、蒸留塔には軽沸物を分離後の粗α−メチルスチレンが供給されているので、軽沸物を含む粗α−メチルスチレンの場合には軽沸物の分離を十分に行うことは出来ず高純度の製品を得ることが難しい。しかも該二段階蒸留に先立つ軽沸物の分離を加えると蒸留塔が３本以上になり経済的な方法とはいえない。
【特許文献１】特開２０００−８６５５９公報
【特許文献２】特開平３−２５８７３３号公報
【特許文献３】特開平２−９１０３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであり、その目的は、クメン法によるフェノール製造プロセスから回収される粗α−メチルスチレン、即ち、軽沸不純物（クメン、メシチルオキシド、スチレン等）、α−メチルスチレン、フェノール、ブチルベンゼン、2−メチルベンゾフラン等を含む粗α−メチルスチレンから、高純度の精製α−メチルスチレンを取得する、経済的に有利な精製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、クメン法フェノール製造プロセスから得られる粗α−メチルスチレンと付随する種々の共存化合物につき、それらの蒸留時における挙動について種々検討を重ねた結果、軽沸物等を含む粗α−メチルスチレンを1塔の蒸留塔で処理する段数及び蒸留に必要とされる熱量を蒸留塔２塔に分割した方が効率的に行うことが出来、高純度のα−メチルスチレンが得られるとの知見を得た。
【０００７】
本発明は、上記の知見に基づき完成されたものであり、その要旨は、クメン法フェノール製造プロセスで回収される粗α−メチルスチレンから少なくとも第１蒸留塔及び第２蒸留塔での蒸留工程を経て精製α−メチルスチレンを得るα−メチルスチレンの精製方法であって、以下の１）〜３）を充たすことを特徴とするα−メチルスチレンの精製方法に存する。
１）粗α−メチルスチレンのα−メチルスチレン含有量は８８〜９８重量％であること、
２）粗α−メチルスチレンを第１蒸留塔で蒸留し、塔頂から軽沸物を分離し、塔底成分を第２蒸留塔に供給すること、
３）第２蒸留塔の該塔底成分の供給部位よりも上方の部位より側流又は塔頂留分として精製α−メチルスチレンを得ること。
【発明の効果】
【０００８】
本発明方法によれば、クメン法によるフェノール製造プロセスで回収され、粗フェノール精製段階における軽沸物や重質物不純物を含有する粗α−メチルスチレンを、連続した２本の蒸留塔によって蒸留することにより、フェノール、不純物等を含まない高純度のα−メチルスチレンを確保することができるので、本発明方法は経済的で、運転操作上でも有利なα−メチルスチレンの精製を可能とするのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本明細書において、「精製α−メチルスチレン」とは、一般的に工業レベルで使用可能なα−メチルスチレンのことを言い、その純度は通常α−メチルスチレンとして９９重量％以上である。なお、α−メチルスチレンの一部の用途では純度は９９重量％程度で充分であるが、α−メチルスチレンの主用途であるＡＢＳ樹脂の原料として使用される場合は、不純物の存在がＡＢＳ樹脂の品質悪化等の不具合を生じるので、精製α−メチルスチレンの純度も９９．５重量％以上であることが好ましい。
【００１０】
本発明方法による精製に供される粗α−メチルスチレンは、クメン法によるフェノール製造プロセスで回収される粗α−メチルスチレンであり、該フェノール製造プロセスにおけるフェノールの精製分離工程から分離、回収されたものである。そして、α−メチルスチレン含有量が８８〜９８重量％であれば特に制限されず、その回収される分離工程によって粗α−メチルスチレンに付随する成分や含有量は異なるが、通常、クメン、メシチルオキシド、スチレン等の軽沸不純物、フェノール、ブチルベンゼン、２−メチルベンゾフラン等の重質物等が含有されている。
【００１１】
本発明方法における粗α−メチルスチレンとしては、クメン法フェノール製造プロセスから回収されたフェノール含有粗α−メチルスチレンをアルカリで処理し、フェノールを抽出除去して得られるものが有利である。この様なアルカリ処理を行うフェノール含有粗α−メチルスチレンとしては、例えば以下の工程からなる方法によりフェノール製造プロセスから回収することができる。
【００１２】
第１の方法としては、クメン法フェノール製造プロセスにおける、クメンヒドロペルオキシドの酸分解物から粗アセトンを蒸留分離（粗アセトン塔）してα−メチルスチレン含有粗フェノールを得、次いで該粗フェノールから重質物を蒸留分離（粗フェノール塔）してフェノール及びα−メチルスチレン含有組成物を得、更に該フェノール及びα−メチルスチレン含有組成物と水とを水抽出塔に供給し、蒸留分離により水抽出塔の塔頂からフェノール含有粗α−メチルスチレンを回収する工程からなる方法である。ここで、粗アセトン塔、粗フェノール塔、水抽出塔における蒸留条件は、それぞれの蒸留塔へ供給される供給物の組成等に応じて適宜調整される。
【００１３】
例えば、粗アセトン塔（理論段数４０）に、必要に応じ中和処理等が施された酸分解物が供給（フィード段：１１段）され、塔頂圧力１２０〜２００ｋＰａ、還流比０．３〜１．０で蒸留される。ここでは、塔頂からα−メチルスチレンより軽沸の成分が留去され、塔底からクメンより重質な成分が缶出される。塔底から得られたα−メチルスチレン含有粗フェノールが、粗フェノール塔（理論段数２４）へ供給（フィード段：１８段）され、塔頂圧力４０〜８０ｋＰａ、還流比０．４〜１．０で蒸留される。塔頂よりα−メチルスチレン、フェノール及び不純物を含む留分を得、塔底よりフェノール及び重質分（クミルフェノール、α−メチルスチレンダイマー等）を含む留分が缶出される。
【００１４】
次いで、水抽出塔（理論段数４８）にα−メチルスチレン、フェノール等を含む塔頂留分及び水が供給（フィード段：２０段）され、塔頂圧力２２０〜２５０ｋＰａ、還流比２０〜５０で蒸留される。塔頂より水、α−メチルスチレン、フェノール、不純物を含む留分が留去され、塔底よりフェノール及び微量の重質物が塔底留分として缶出される。
この様にして得られた塔頂留分は、必要に応じアルカリによる洗浄処理を施したのち、本発明方法による精製に供される。
なお、本明細書中において、蒸留塔の段数は全て理論段数であり、また圧力は全て絶対圧力である。
【００１５】
第２の方法としては、クメン法フェノール製造プロセスにおける、クメンヒドロペルオキシドの酸分解物から粗アセトンを蒸留分離（粗アセトン塔）して粗フェノールを得、次いで粗フェノール塔に該粗フェノールと水とを供給し、蒸留分離により粗フェノールの供給部位よりも下方の部位より側流としてフェノールを、塔底から重質物を、塔頂からフェノール含有粗α−メチルスチレンを回収する工程からなる方法である。
【００１６】
具体的には、上記方法と同様に粗アセトン塔（理論段数４０）に、酸分解物が供給（フィード段：１１段）され、塔頂圧力１２０〜２００ｋＰａ、還流比０．３〜１．０で蒸留される。ここでは、塔頂よりα−メチルスチレンより軽沸の成分が留去され、塔底からクメンより重質な成分が缶出される。次いで、塔底から得られるα−メチルスチレン含有粗フェノールと水とが、粗フェノール塔（理論段数４２）へ供給（フィード段：１５段）され、塔頂圧力４０〜８０ｋＰａ、還流比０．４〜１．０で蒸留される。塔頂よりα−メチルスチレン、フェノール及び不純物を含む留分を留出し、サイドカット流（サイドカット段：３０）としてフェノール及び微量の重質物含有物を取り出し、塔底よりフェノール及び重質分（クミルフェノール、α−メチルスチレンダイマー等）を含む留分が缶出される。
この様にして得られた塔頂留分を、必要に応じアルカリによる洗浄処理に供する。
【００１７】
上記のようにして回収されたフェノール含有粗α−メチルスチレンにアルカリによる処理を施してフェノールを抽出除去する場合、代表的な方法としては以下の方法が行われる。アルカリによる処理は、該フェノール含有粗α−メチルスチレンをアルカリ洗浄槽に供給し、アルカリ水溶液と接触させることにより行われる。アルカリとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物等が挙げられるが、工業規模で安価に入手可能な水酸化ナトリウムの水溶液が好適である。アルカリ水溶液での処理温度は、通常２０〜１００℃、好ましくは３０〜７０℃である。この温度よりも低い温度ではフェノールの抽出除去という処理効果が十分達せられず、高温に過ぎるとα−メチルスチレンの重合や微量不純物との反応等により着色等の問題を生ずる恐れがあるので好ましくない。アルカリ処理に使用する水溶液の量は、水溶液のアルカリ濃度、粗α−メチルスチレンのフェノール含有量等により異なるが、通常、処理されるフェノール量に対して、モル比で約１．５倍程度である。
【００１８】
上記のような方法で得られるアルカリ処理後の粗α−メチルスチレンの組成の一例を示せば以下の表１の通りである。なお、表１中の成分は、その他を除き低沸点の順に記載されている。
【００１９】
【表１】
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【００２０】
以下、本発明方法を添付図面に基づき詳細に説明する。
図１は、本発明方法を実施するための具体的態様の一例を示す概略工程図である。図中、１０は第１蒸留塔、５０は第２蒸留塔の一例を示し、これらの蒸留塔の型式は何れでもよく、例えば棚段塔を使用する場合は、用いることのできるトレイとしてはバルブ型で代表されるバラストトレイやシャワー型のシーブトレイを挙げることができるが比較的塔圧損失の低い型式が好ましい。もちろん、充填塔も使用することができ、各種の規則充填物や不規則充填物を本願の目的を損なわない範囲で、その能力に応じて選択することが可能である。
【００２１】
＜第１蒸留塔１０＞
第1蒸留塔１０に粗α−メチルスチレン、例えば上記の如きアルカリ処理後の粗α−メチルスチレンを第1蒸留塔供給ライン１から供給する。粗α−メチルスチレンが供給される蒸留塔の供給部位（供給段）は、通常、理論段ベースで塔頂より５〜１５段目であり、フィード段（供給段）から塔底の間の回収部に必要な段数は軽沸物含有量見合いであるが、１０〜３０段である。
【００２２】
第１蒸留塔の塔頂からクメン等の軽沸物を含有するα−メチルスチレンが塔頂液として留出され、塔底からブチルベンゼン等の重質物を含有するα−メチルスチレンが塔底液として缶出される。塔頂から留出する塔頂液（軽沸物含有α−メチルスチレン）は、その塔頂蒸気がコンデンサー２０で凝縮され、還流比５０〜１００、好ましくは５０〜９０で、第1蒸留塔に戻され、一部は第１留塔塔頂抜き出しライン２から留出される。ライン２から留出される流量は供給される粗α−メチルスチレンの組成見合いであるが、供給される粗α−メチルスチレンに対し、重量比で０．０１〜０．１程度である。この留出物は、例えばクメン回収系（図示せず）に送られ、そこで軽沸物除去塔やα−メチルスチレン水添反応器の上流へ戻される。第１蒸留塔の塔底から缶出される塔底液（ブチルベンゼン等の重質物を含有するα−メチルスチレン）は第１蒸留塔の塔底ライン３により、第２蒸留塔５０へ供給される。この缶出された塔底液中には軽沸物は実質的に共存しておらず、ほぼ全量（軽沸物の約９９重量％）が分離・除去されるので、このことは第１蒸留塔塔頂からクメン等の回収も有効に行われることを示すのである。
【００２３】
第１蒸留塔の塔圧は塔底で２０ｋＰａ以下とするのが好ましく、１５ｋＰａ以下とするのがより好ましい。塔底圧力をこの圧力にすることにより蒸留塔の塔底温度が１００℃前後となり、α−メチルスチレンの重合等による重質物の生成を抑制することが出来る。
【００２４】
＜第２蒸留塔５０＞
第２蒸留塔には、第１蒸留塔から缶出する塔底液、即ち軽質物が除去され主な不純物として重質物を含有するα−メチルスチレンが供給され、その供給部位の上方の部位から側流として又は塔頂留分として精製α−メチルスチレンが取得される。
第２蒸留塔の段数構成は、供給される第１蒸留塔から供給される塔底液の組成にもよるが、例えば塔頂から精製α−メチルスチレンを抜き出す段までが０〜１５段、精製α−メチルスチレンを抜き出す段から第１蒸留塔の塔底液が供給されるフィード段までが７〜３０段、フィード段から塔底までの回収部が２〜２５段とされる。塔頂から精製α−メチルスチレンを抜き出す段までが０段の場合、ライン４とライン５は同一のラインとなる。
【００２５】
塔頂蒸気は第２蒸留塔コンデンサー６０で凝縮され、供給量に対する還流量比１．４〜３．７（還流比２０〜５３、好ましくは２５〜４０）で第２蒸留塔へ戻され、一部は第２蒸留塔塔頂抜き出しライン４より留出される。その流量は供給量比で０．１以下である。精製α−メチルスチレンはサイドカット抜き出しライン５より回収されるが、サイドカット段を設けない場合は第２蒸留塔塔頂抜き出しライン４より精製α−メチルスチレンが得られる。得られる精製α−メチルスチレンの量は供給量に対する回収率（第１蒸留塔から供給された塔底液の量に対する精製α−メチルスチレンの量：重量比）で０．７５〜０．９５である。第２蒸留塔塔底缶出ライン６から重質物含有α−メチルスチレンが精製工程外へパージされる。
【００２６】
蒸留時の第２蒸留塔の塔底圧力は第1蒸留塔と同様の理由により、２０ｋＰａ以下とするのが好ましく、１５ｋＰａ以下とするのが更に好ましい。塔底圧力は、精製α−メチルスチレンを側流或いは塔頂留として取得する態様に応じて、適宜調整される。
第２蒸留塔からは、純度が約９９．５重量％以上の高純度のα−メチルスチレンを得ることが出来る。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものでない。
なお、各蒸留塔の供給段や抜き出し段等は塔頂から数えた段数である。
また、各サンプルの組成はガスクロマトグラフィ（装置：島津製作所社製  ＧＣ−１４Ａ、カラム：信和化工社製  ＵＬＢＯＮ  ＨＲ−２０Ａ、検出器：ＦＩＤ）を用いて定量分析を行った。
【００２８】
（実施例１）
下記表２に示す組成の粗α−メチルスチレンを用い、図１に示す態様に従って精製α−メチルスチレンを取得した。
使用した粗α−メチルスチレンは、クメン法フェノール製造プロセスにおいて、クメンヒドロペルオキシドの酸分解物から粗アセトンを蒸留分離して粗フェノールを得、次いで該粗フェノールから重質物を蒸留分離してフェノール及びα−メチルスチレン含有組成物を得、更に該組成物と水とを水抽出塔で蒸留し、塔頂から回収したフェノール含有粗α−メチルスチレンをアルカリ水溶液で洗浄することにより得たものである。
【００２９】
【表２】
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【００３０】
第1蒸留塔（理論段数３５段）に、粗α−メチルスチレンを塔頂から１２段目に供給し、塔頂からクメン等の軽質分を含む留出液を除去した。得られた第１蒸留塔の塔底液を第２蒸留塔（理論段数４０段）の２０段目へ供給した。第１蒸留塔に供給された粗α−メチルスチレン１００重量部に対し、その殆ど大部分（約９５重量％）が塔底液として第２蒸留塔に供給される。第２蒸留塔から、純度９９．５重量％以上の高純度の精製α−メチルスチレンを側流としてサイドカット段（５段）から抜き出し、ブチルベンゼン等の重質物を含む塔底液をパージした。第２蒸留塔において、サイドカット段（５段）は供給段（２０段）よりも上方の部位となる。
【００３１】
第１蒸留塔及び第２蒸留塔の蒸留条件は、下記の通りである。
第1蒸留塔
塔頂：  圧力  １０．０ｋＰａ、温度  ８５．５℃
塔底：  圧力  １４．０ｋＰａ、温度  １０１．７℃
還流比：８７．５
第２蒸留塔
塔頂：  圧力  ８．０ｋＰａ、温度  ８６．９℃
塔底：  圧力  １３．３ｋＰａ、温度  １０４．２℃
還流比：３８．７３
第１及び第２蒸留塔への供給量及び蒸留塔からの抜き出し量は下記表３に示す通りで行った。
【００３２】
【表３】
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第1蒸留塔塔底抜き出し液（塔底液）及び第2蒸留塔サイドカット液（側流液）の重量組成は、下記表４に示す通りであった。
【００３３】
【表４】
2007269647.tif 000006
【００３４】
（比較例１）
実施例１で用いた粗α−メチルスチレン１００（重量部／時）を、塔底圧力１５ｋＰａの蒸留塔（理論段数７３段）の５３段目に供給し、塔頂から留出液１２．０（重量部／時）を留出させ、還流比４３．６５で蒸留し、１２段目から側流７９．８（重量部／時）を抜き出した。側流として抜き出された精製α−メチルスチレンの組成は表５に示す通りであり、軽質物及び重質物が含まれ高純度の精製α−メチルスチレンが取得できなかった。
【００３５】
【表５】
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【００３６】
（実施例２）
下記表６に示す組成の粗α−メチルスチレンを用い、実施例１と同様にして精製α−メチルスチレンを取得した。
使用した粗α−メチルスチレンは、クメン法フェノール製造プロセスにおいて、クメンヒドロペルオキシドの酸分解生成物から粗アセトンを蒸留分離して粗フェノールを得、次いで粗フェノール塔に該粗フェノールと水とを供給し、蒸留分離により粗フェノールの供給部位よりも下方の部位より側流としてフェノールを、塔底から重質物を、塔頂からフェノール含有粗α−メチルスチレンを回収し、塔頂から回収したフェノール含有粗α−メチルスチレンをアルカリ水溶液で洗浄することにより得たものである。
【００３７】
【表６】
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【００３８】
実施例１と同様の条件で、第１蒸留塔及び第２蒸留塔の運転を行ったところ、第１蒸留塔塔底抜き出し液（塔底液）及び第２蒸留塔サイドカット液（側流液）の重量組成は、下記表７に示すとおりであった。
【００３９】
【表７】
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【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は、本発明の実施対象の一例を示す工程概略図である。
【符号の説明】
【００４１】
１：第１蒸留塔供給ライン
２：第１蒸留塔塔頂ライン
３：第1蒸留塔塔底ライン
４：第2蒸留塔塔頂ライン
５：第2蒸留塔側流ライン
６：第2蒸留塔缶出パージライン
１０：第１蒸留塔
２０：第１蒸留塔コンデンサー
３０：第１蒸留塔分離用ドラム
４０：第１蒸留塔リボイラー
５０：第２蒸留塔
６０：第２蒸留塔コンデンサー
７０：第２蒸留塔分離用ドラム
８０：第２蒸留塔リボイラー
【図１】
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