(57)【要約】【課題】  レーザーマーキングが容易にできる光情報記録媒体用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】  (1) Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜、(2) 前記Ag合金反射膜がBi，Sbの１種以上を0.01〜３原子％含有するもの、(3) 前記Ag合金反射膜がIn，Sn，Pbの１種以上を２〜10原子％含有するもの、(4) 前記Ag合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体、(5) 前記(1) のAg合金反射膜と同様の組成を有するAg合金製のスパッタリングターゲット等。【選択図】        図なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
【請求項２】
Bi，Sbの１種以上を0.01〜３原子％含有している請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
【請求項３】
In，Sn，Pbの１種以上を２〜10原子％含有している請求項１または２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項５】
前記Ag合金反射膜にレーザー光による識別マークが記録されている請求項４記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記Ag合金反射膜を２層以上有すると共に、それぞれの層の組成が同一である請求項４または請求項５記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
【請求項８】
Sbを0.01〜３原子％含有している請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
【請求項９】
Biを0.03〜10原子％含有している請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
【請求項１０】
In，Sn，Pbの１種以上を２〜10原子％含有している請求項７〜９のいずれかに記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに関する技術分野に属し、特には、CD，DVD ，Blu-ray Disk，HD-DVD等の光情報記録媒体において、光ディスク形成後にレーザー等を用いたマーキング、例えば BCA（Burst Cutting Area）規格等に準ずる識別番号のマーキングを可能とするために、低熱伝導率、低溶融温度、高反射率、高耐食性を有する反射膜、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲット、及び、この反射膜を備えた光情報記録媒体に関する技術分野に属するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用型、追記型、書換型の３種類に分類される。
【０００３】
この中、再生専用型光ディスクは、図１に例示するように、透明プラスチック基体（例えばポリカーボネート）上に設けた凹凸の記録ピットにより、製造時に記録データを形成した後にAl、Ag、Au等を主成分とする反射膜層を設けた構造を有しており、データ読み出し時にはディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより、データの再生を行う。また、それぞれ個別の記録ピットを形成した上に反射膜層を設けた基材と半透明反射層を設けた基材の２枚の基材を貼り合わせて２層に記録したデータを読み出すタイプもある。片面でこの記録再生方式では、データは再生専用（追記、書換不可）であり、この方式を採る光ディスクとしては、CD-ROM、DVD-ROM 、DVD-Video などが挙げられる。なお、図１は断面構造を示す模式図であって、図１において、符番の１と５はポリカーボネート基体、２は半透明反射膜層（Au，Ag合金，Si）、３は接着層、４は全反射膜層（Ag合金）を示すものである。
【０００４】
このような再生専用型の光ディスクでは、あらかじめディスク形成時に情報のパターンを形成したスタンパによるプレス加工でディスクを大量生産することから、ディスク個別にIDをつけることは困難であった。しかしながら、ディスクの不正コピーの防止、商品流通のトレーサビリティの向上、付加価値の向上等の目的から、再生専用光ディスクにおいてもレーベルゲート方式や BCA（Burst Cutting Area）方式など、ディスク製造工程あるいはディスク形成後に、専用の装置を用いてディスク一枚毎のIDを記録したディスクが規格化され始めている。このIDのマーキングは、現状では主に製造後のディスクにレーザー光を照射して、反射膜のAl合金を溶融し、反射膜に穴（空洞）をあけることにより記録を行うという方法により行われている。
【０００５】
再生専用の光ディスクの反射膜としては、これまで一般構造材として流通量が多く、そのため安価な JIS6061(Al-Mg系合金）を中心としたAl合金が広く使用されてきた。また、記録型（追記型、書換型）の光ディスクでは、より高反射率なAg合金が広く使用されている。
【０００６】
しかしながら、これらの材料は、熱伝導率が高く、マーキングに高いレーザーパワーを要し、そのため基材であるポリカーボネート基板や接着層にダメージを与えるといった問題点がある。また、耐食性が低く、レーザーマーキングを行った場合、マーキングあとに空洞が出来るため、その後の恒温恒湿試験において反射膜の腐食が発生するという問題点がある。Ag合金を使用する場合、Agの耐熱性の低さから、高温でAg膜が凝集し、反射率が低下するという問題がある。また、特に再生専用型媒体においては、太陽光や蛍光灯下で長時間暴露することにより、反射率の低下や変色が生じる問題があり、これは、ポリカーボネート基板等の樹脂との界面での反応により、Agの溶け出しや反応生成層の形成によるものと考えられている。
【０００７】
Ag合金の熱伝導率の低減に関して、特開1992-252440 号公報にはAgにGe，Si，Sn，Pb，Ga，In，Tl，Sb，Biを添加して熱伝導率を低減する方法が開示されている。特開1992-28032号公報にはAgにCr，Ti，Si，Ta，Nb，Pt，Ir，Fe，Re，Sb，Zr，Sn，Niを添加して熱伝導率を低減する方法が示されている。しかしながら、これらの反射膜は、レーザー照射により膜を溶融・除去することは前提としていないため、膜の熱伝導率の低下と同時に溶融温度が上昇するものもあり、レーザーマーキング用Ag合金として十分な要求特性を満たすものは未だ提供されていないのが現状である。
【０００８】
また、本発明者らは、Nd，Sn，Gd，In等を添加して熱伝導率、光吸収率、耐食性等を改善したレーザーマーキングに適するAg合金を開発した（特願2004-208686 、特願2005-67262）。これらの材料では、添加元素量の増加とともに、熱伝導率の低減や光吸収率の増大がはかれるものの、耐光性が低下してくることから、レーザーマーキング特性と耐候性、耐光性を高いレベルで満たす材料が要求されてくる。
【０００９】
なお、上記光吸収率、耐光性、耐候性は、反射膜に対し下記のように影響する特性である。即ち、光吸収率が増大すると、レーザー光の吸収率が増大してレーザーマーキングしやすくなる（レーザーマーキング特性が向上する）。耐光性が向上すると、太陽光や蛍光灯下での暴露による反射率の低下や変色が生じ難くなる。耐候性が向上すると、高温高湿環境下での腐食やAgの凝集による反射率低下が生じ難くなる（以下、同様）。レーザーマーキングをするAg合金反射膜としては、熱伝導率が低く、光吸収率が高く、耐候性および耐光性に優れている（低熱伝導率、高光吸収率、高耐候性、高耐光性である）ことが必要とされている。
【特許文献１】特開1992-252440 号公報
【特許文献２】特開1992-28032号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
以上述べたように、レーザーマーキングをするAg合金反射膜には、低熱伝導率、高光吸収率、高耐候性、高耐光性が必要とされている。
【００１１】
現状、再生専用の光ディスクでは、反射膜にはJIS 6061系Al合金が使用されているが、本合金は熱伝導率、耐食性（耐候性）の観点で上記レーザーマーキングには対応が困難である。
【００１２】
本発明はこのような事情に着目してなされたものであって、その目的は、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる光情報記録媒体用Ag合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、Agに対して特定の合金元素を特定量含有させたAg合金薄膜が低い熱伝導率、高い耐候性、耐光性を有し、レーザーマーキングに適した光情報記録媒体用反射膜として好適な反射膜（金属膜）であるとの知見を得た。本発明はこのような知見に基づきなされたものであり、本発明によれば上記目的を達成することができる。
【００１４】
このようにして完成され上記目的を達成することができた本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットに係わり、特許請求の範囲の請求項１〜３記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜（第１〜３発明に係るAg合金反射膜）、請求項４〜６記載の光情報記録媒体（第４〜６発明に係る光情報記録媒体）、請求項７〜１０記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット（第７〜１０発明に係るスパッタリングターゲット）であり、それは次のような構成としたものである。
【００１５】
即ち、請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
【００１６】
請求項２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、Bi，Sbの１種以上を0.01〜３原子％含有している請求項１記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第２発明〕。
【００１７】
請求項３記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、In，Sn，Pbの１種以上を２〜10原子％含有している請求項１または２記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第３発明〕。
【００１８】
請求項４記載の光情報記録媒体は、請求項１〜３のいずれかに記載のAg合金反射膜を有していることを特徴とする光情報記録媒体である〔第４発明〕。
【００１９】
請求項５記載の光情報記録媒体は、前記Ag合金反射膜にレーザー光による識別マークが記録されている請求項４記載の光情報記録媒体である〔第５発明〕。
【００２０】
請求項６記載の光情報記録媒体は、前記Ag合金反射膜を２層以上有すると共に、それぞれの層の組成が同一である請求項４または請求項５記載の光情報記録媒体である〔第６発明〕。
【００２１】
請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第７発明〕。
【００２２】
請求項８記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Sbを0.01〜３原子％含有している請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第８発明〕。
【００２３】
請求項９記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、Biを0.03〜10原子％含有している請求項７記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第９発明〕。
【００２４】
請求項１０記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットは、In，Sn，Pbの１種以上を２〜10原子％含有している請求項７〜９のいずれかに記載の光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第１０発明〕。
【発明の効果】
【００２５】
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜によれば、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる。本発明に係る光情報記録媒体は、かかるAg合金反射膜を有し、再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングを好適に行うことができる。本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットによれば、かかるAg合金反射膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
前述したように、レーザーマーキングに適したAg合金薄膜では、低い熱伝導率、高い光吸収率、優れた耐候性、耐光性を有することが必要である。
【００２７】
本発明者らは、Agに種々の元素を添加したAg合金スパッタリングターゲットを製作し、これらターゲットを使用してスパッタリング法により種々の成分・組成のAg合金薄膜を作製し、その組成及び反射膜としての特性を調べ、以下〔下記(1) 〜(5) 〕のことを見いだした。
【００２８】
(1) AgにNd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％添加することにより、溶融温度（液相線温度）を上げることなく、熱伝導率を低減し得、且つ、光吸収率を増大し得る（レーザーマーキング特性を向上し得る）と共に、高温高湿環境下でのAgの凝集現象による反射率低下を抑制し得る（耐候性を向上し得る）。上記元素の添加量が１原子％（以降、単に％ともいう）未満の場合は、熱伝導率の低減効果及び光吸収率の増大効果が小さく、上記元素の添加量が多いほど、熱伝導率の低減効果及び光吸収率の増大効果は大きいが、一方で反射率が低下し、上記元素の添加量が10％超の場合には、反射率の低下が大きくなる。かかる点から、上記元素の添加量は１〜10％とする必要があり、1.5 〜５％とすることが望ましい。
【００２９】
(2) 更にLi，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10％添加することにより、太陽光や蛍光灯下に暴露した際の反射率の低下を抑制し得る（耐光性を向上し得る）。これらの元素は添加量の増加による熱伝導率低減や光吸収率増大の効果は小さい。Li，Mg，Al，Zn，Cuは、耐光性試験（光耐性試験）において、ポリカーボネート基体との界面に濃縮し、その界面でのポリカーボネート基体との反応を抑えて、Agのとけ出しや反応生成層の形成を抑制しているものと考えられる。Pt，Au，Pd，Ru，Rhは、Agよりも貴な元素であり、ポリカーボネート基体との反応を抑えているものと考えられる。上記元素の添加量が２％未満の場合は、耐光性の向上効果が小さく、上記元素の添加量が増加するに伴って耐光性が向上するが、10％超の場合には反射率の低下を招く。かかる点から、上記元素の添加量は２〜10％とする必要がある。
【００３０】
(3) 上記(1) 〜(2) の添加に加え、更にBi，Sbの１種以上を添加することにより、高温高湿環境下での保持による反射率低下をより高水準で抑制し得る（耐候性をさらに向上し得る）が、合金化による反射率低下の観点から、これらは３％以下の添加が良い。また、0.01％未満では合金化による効果が小さい。かかる点から、上記元素の添加量は0.01〜３％とすることが望ましく、更には0.1 〜２％とすることが望ましい。
【００３１】
(4) 更にIn，Sn，Pbの１種以上の添加により、熱伝導率を大きく低下させることができるが、合金化による反射率低下の観点から10％以下の添加が適当である。これらの元素については反射膜の耐久性向上の効果は小さい。これら元素の効果を有効に発揮させるためには２％以上の添加が適当である。
【００３２】
(5) 上記(1) 〜(4) の元素の添加量を調整することにより、熱伝導率：0.8 Ｗ／（Ｋ・cm）以下、波長380 〜1000nmのレーザー光に対する光吸収率：８％にし得るようになり、優れたレーザーマーキング特性を得ることができる。
【００３３】
以上のような知見に基づいて本発明は完成されたものであり、前述のような構成の光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットとしている。
【００３４】
このようにして完成された本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10原子％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜である〔第１発明〕。
【００３５】
この光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、前記(1) および(2) のことからわかるように、熱伝導率が低く、溶融温度（液相線温度）が低く、且つ、光吸収率が高く、このため、より小さなレーザーパワーでマーキングすることができ、且つ、レーザーマーキング特性に優れて、レーザーマーキングが容易にできる。また、高温高湿環境下での反射率低下が抑制される（耐候性に優れている）。更に、太陽光や蛍光灯下に暴露した際の反射率の低下が抑制される（耐光性に優れている）。
【００３６】
従って、本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、レーザーマーキングに良好に対応でき、光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができる。即ち、レーザーマーキングが容易にでき、高温高湿環境下での反射率低下および太陽光や蛍光灯下に暴露した際の反射率の低下が抑制される。
【００３７】
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、更にBi，Sbの１種以上を0.01〜３％含有するようにした場合、前記(3) のことからわかるように、高温高湿環境下での反射率低下をより大幅に抑制することができる〔第２発明〕。
【００３８】
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜において、更にIn，Sn，Pbの１種以上を２〜10％以下含有するようにした場合、前記(4) のことからわかるように、熱伝導率をより大きく低下させることができる〔第３発明〕。
【００３９】
本発明において、光情報記録媒体用Ag合金反射膜の膜厚については、10nm〜100nm とすることが望ましく、更には12nm〜50nmとすることが望ましい。この理由を以下説明する。レーザーによるマーキングは膜厚の薄い方が容易であると考えられるが、膜厚：10nm未満と膜が薄い場合には光が透過して、反射率が低下するので、膜厚10nm以上であることが望ましく、更には12nm以上であることが望ましい。一方、膜厚：100nm 超と膜厚が厚いとAg合金反射膜を溶融させるためにレーザーが与えるエネルギーを大きくする必要があり、マークの形成が困難になるので、膜厚100nm 以下であることが望ましく、更には50nm以下であることが望ましい。また、膜厚の増加と共に表面平滑性が低下し、膜厚100nm 超の場合には光が散乱されやすくなり、高い信号出力が得られなくなるため、膜厚100nm 以下とすることが望ましく、更には50nm以下とすることが望ましい。
【００４０】
レーザーマーキングに用いるレーザー光の波長としては、800 〜810nm が一般的であるが、 320〜800nm の波長のレーザーを用いてもよい。その際、本発明に係るAg合金反射膜においては、光吸収率はレーザー光の波長の低下とともに増大するため、添加元素量を低減することが可能である。
【００４１】
本発明に係る光情報記録媒体は、前述のような本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を有していることとしている〔第４発明〕。この光情報記録媒体は、レーザーマーキングを好適に行うことができる。このため、過大レーザー出力によるディスク構成材（ポリカーボネート基体や接着層）の熱ダメージがなく、また、高温高湿環境下での反射率低下および太陽光や蛍光灯下に暴露した際の反射率の低下が生じ難く、かかる点において優れた特性を有することができる。
【００４２】
本発明に係る光情報記録媒体は、上記のように優れた特性を有することができるので、レーザーマーキング用として特に好適に用いることができる。このようにレーザーマーキング用として用いた場合、レーザーマーキングによりAg合金反射膜に識別マークが記録されたものを得ることができる〔第５発明〕。
【００４３】
本発明に係る光情報記録媒体でのAg合金反射膜は、１層としてもよいし、２層以上としてもよい。２層以上とした場合、それぞれの層の組成が全部または一部相違していてもよいし、それぞれの層の組成が全て同一であってもよい〔第６発明〕。
【００４４】
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットは、Agを主成分とし、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上を合計で１〜10％含有すると共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上を合計で２〜10％含有することを特徴とする光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットである〔第７発明〕。このAg合金スパッタリングターゲットによれば、本発明の第１発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる。
【００４５】
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にSbを0.01〜３％含有するようにした場合は、本発明の第２発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Sbを0.01〜３％含有するものを形成させることができる〔第８発明〕。本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にBiを0.03〜10％含有するようにした場合は、本発明の第２発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜の中、Biを0.01〜３％含有するものを形成させることができる〔第９発明〕。なお、前記Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ce、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhや、前記Sbの場合、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映されるが、上記Biの場合には、薄膜中のBi量はターゲット中のBi量の数十％程度に減少してしまうので、上記のようなターゲット組成（含有量）としている。
【００４６】
本発明に係るAg合金スパッタリングターゲットにおいて、更にIn，Sn，Pbの１種以上を２〜10％含有するようにした場合は、本発明の第３発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜を形成させることができる〔第１０発明〕。なお、In，Sn，Pbの場合、ターゲット中に添加された元素量がそのまま薄膜中の含有量に反映される。
【実施例】
【００４７】
本発明の実施例および比較例について、以下説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。Ag-A-B合金は、A 及びB を含有するAg合金のことである。Ag-A-B-C合金は、A 、B 及びC を含有するAg合金のことである。Ag-aA-bBは、A を a％（原子％）、B を b％含有するAg合金のことである。Ag-aA-bB-cC は、A を a％（原子％）、 Bを b％、C をc ％含有するAg合金のことである。
【００４８】
〔例１〕
表１に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-3Nd-(Li，Au) 合金薄膜〔Nd（３％）を含有すると共にLi，Auの１種を含有するAg合金薄膜〕〔No.1〜10〕、 Ag-Nd-5Li合金薄膜〔No.11 〜14〕、Ag-(Ｙ，Ce，Gd，Sm，La)-（Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Pd，Ru，Rh) 合金薄膜〔No.15 〜27〕、Ag-5Nd〔No.28 〕を作製し、薄膜の熱伝導率、光吸収率、反射率、耐候性、耐光性、レーザーマーキング特性などを調べた。Ag-3Nd-(Li，Au）合金薄膜〔No.1〜10〕において、Li含有量およびAu含有量の影響を調べた。Ag-Nd-5Li 合金薄膜〔No.11 〜14〕において、Nd含有量の影響を調べた。Ag-(Ｙ，Ce，Gd，Sm，La) -(Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Pd，Ru，Rh) 合金薄膜〔No.15 〜27〕及びAg-5Nd〔No.28 〕において、添加元素の種類の影響を調べた。
【００４９】
上記薄膜は、次のようにして作製した。即ち、ＤＣマグネトロンスパッタにより、ポリカーボネート基板（基板サイズ：直径120mm 、厚さ 0.6mm）上に上記のAg合金薄膜を成膜した。このとき、成膜条件は、基板温度：22℃，Arガス圧：２mTorr ，成膜速度：５nm/sec，背圧：５×10-6Torr以下である。Ag合金薄膜の膜厚は50nmとした。スパッタリングターゲットとしては、各種添加元素のチップを純Agターゲット上に配置した複合ターゲットを用いた。
【００５０】
薄膜の熱伝導率については、厚さ100nm で作製したAg合金薄膜の電気抵抗率から換算した。反射率については、日本分光製V-570 紫外可視分光光度計を用いて測定した。光吸収率については、一般的に BCA（Burst Cutting Area）規格に準じた記録に用いられる波長810nm における値を用いた。
【００５１】
耐候性については、高温高湿環境下（温度：80℃、湿度：90％RH）に 100時間保持する前後での反射率の低下の程度で評価した。成膜後の薄膜の反射率および高温高湿環境下に100 時間保持後の薄膜の反射率は、波長405nm における反射率を測定して求めた。
【００５２】
耐光性については、成膜後のAg合金薄膜を晴天時の日中に合計40時間暴露する暴露試験を行い、この暴露試験による反射率の低下の程度で評価した。暴露試験後の薄膜の反射率は、波長405nm における反射率を測定して求めた。
【００５３】
レーザーマーキング特性については、日立コンピュータ機器製POP-120-8Rを用い、線速度：10ｍ／秒、デューティ比：40％で記録する場合に必要なレーザー出力（1.5 〜４Ｗ、0.5 Ｗ刻み）を求め、このレーザー出力で評価した。このとき、３段階評価とし、レーザー出力：1.5 Ｗ以下の場合、優（◎）、レーザー出力：２〜３Ｗの場合、良好（○）、レーザー出力：3.5 Ｗ以上の場合、不良（×）と判定した。
【００５４】
上記測定（調査）の結果を表１に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、Ag-3Nd-(Li,Au)合金薄膜〔No.1〜10〕においては、Nd含有量は全て３％であり、Li，Auの含有量を変化させている。Nd含有量は全て３％であるので、本発明の第１発明の要件の中、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上：合計で１〜10％という要件は全て満たしているが、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上：合計で２〜10％という要件を満たすものと満たしていないものとがある。
【００５５】
Ag-Nd-5Li 合金薄膜〔No.11 〜14〕においては、Li含有量は全て５％であり、Nd含有量を変化させている。Li含有量は全て５％であるので、本発明の第１発明の要件の中、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd, Ru, Rhの１種以上：合計で２〜10％という要件は全て満たしているが、Nd，Gd，Ｙ， Sm ，La，Ceの１種以上：合計で１〜10％という要件を満たすものと満たしていないものとがある。Ag-(Ｙ，Ce，Gd，Sm，La) -(Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Pd，Ru，Rh) 合金薄膜においては、本発明の第１発明の要件を全て満たしている。
【００５６】
表１からわかるように、Ag-3Nd-(Li，Au) 合金薄膜〔No.1〜10〕において、Li含有量：２％未満の場合〔No.1〕や、Au含有量：２％未満の場合〔No.6〕は、耐光性が低いため、耐光性試験（暴露試験）による反射率の低下が大きく、耐光性試験による反射率の低下の抑制が不充分であり、また、レーザーマーキング特性が不良（×）である。Li含有量：10％超の場合〔No.5〕や、Au含有量：10％超の場合〔No.10 〕は、反射率が低くて不充分である。これに対し、Li含有量：２〜10％の場合〔No.2〜4 〕や、Au含有量：２〜10％の場合〔No.7〜9 〕は、耐光性に優れているため、耐光性試験（暴露試験）による反射率の低下が小さく、その反射率の低下の抑制が充分であり、また、レーザーマーキング特性が良好（○）である。
【００５７】
Ag-Nd-5Li 合金薄膜〔No.11 〜14〕において、Nd含有量：１％未満の場合〔No.11 〕、熱伝導率の低減効果が小さいため、熱伝導率が高く、また、光吸収率の増大効果が小さいため、光吸収率が低く、レーザーマーキング特性が不良（×）である。また、高温高湿環境下保持による反射率の低下が大きく、その反射率の低下の抑制が不充分である。Nd含有量：10％超の場合〔No.14 〕、反射率が低くて不充分である。これに対し、Nd含有量：１〜10％の場合〔No.12 〜13〕は、熱伝導率の低減効果が大きいため、熱伝導率が低く、また、光吸収率の増大効果が大きいため、光吸収率が高く、レーザーマーキング特性が優（◎）または良好（○）である。また、高温高湿環境下保持による反射率の低下が小さく、その反射率の低下の抑制が充分である。
【００５８】
Ag-(Ｙ，Ce，Gd，Sm，La) -(Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Pd，Ru，Rh) 合金薄膜〔No.15 〜27〕は全て、Ｙ，Ce，Gd，Sm，Laの１種：５％、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Pd，Ru，Rhの１種：５％であり、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上：合計で１〜10％という要件を満たすと共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上：合計で２〜10％という要件を満たすもの（つまり本発明の第１発明の要件を満たすもの）である。これらは全て、Ag-5Nd〔No.28 〕に比べて、耐光性に優れているため、耐光性試験（暴露試験）による反射率の低下が小さく、その反射率の低下の抑制が充分である。
【００５９】
これらの結果から、Nd，Gd，Ｙ，Sm，La，Ceの１種以上：合計で１〜10％という要件を満たすと共に、Li，Mg，Al，Zn，Cu，Pt，Au，Pd，Ru，Rhの１種以上：合計で２〜10％という要件を満たす（つまり本発明の第１発明の要件を満たす）必要があることが確認された。
【００６０】
〔例２〕
前記例１の場合と同様の作製方法により、表２に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-3Nd-5Li-(Bi, Sb) 合金薄膜〔No.1a 〜8a〕を作製し、前記例１の場合と同様の測定方法により、薄膜の熱伝導率、光吸収率、反射率、耐候性、耐光性、レーザーマーキング特性を調べた。
【００６１】
上記測定（調査）の結果を表２に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、(Bi, Sb)以外は本発明の第１発明の要件を満たしている。Bi, Sbの含有量を変化させており、本発明の第２発明の要件（Bi，Sbの１種以上：0.01〜３％）を満たすものと満たしていないものとがある。
【００６２】
表２からわかるように、Bi含有量の増大とともに、耐候性が向上するため、高温高湿環境下保持による反射率の低下が小さくなっている。
【００６３】
〔例３〕
前記例１の場合と同様の作製方法により、表３に示す組成のAg合金薄膜、即ち、Ag-3Nd-5Li-(Sn，Pb）合金薄膜〔No.1b 〜10b 〕を作製し、前記例１の場合と同様の測定方法により、薄膜の熱伝導率、光吸収率、反射率、耐候性、耐光性、レーザーマーキング特性を調べた。
【００６４】
上記測定（調査）の結果を表３に示す。Ag合金薄膜の組成に関しては、 (Sn，Pb）以外は本発明の第１発明の要件を満たしている。Sn，Pbの含有量を変化させており、本発明の第３発明の要件（In，Sn，Pbの１種以上：２〜10％）を満たすものと満たしていないものとがある。
【００６５】
表２からわかるように、Bi含有量の増大とともに、熱伝導率が低下すると共に、光吸収率が増大し、これらにより、レーザーマーキング特性が更に向上している。
【００６６】
【表１】
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【００６７】
【表２】
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【００６８】
【表３】
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【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明に係る光情報記録媒体用Ag合金反射膜は、再生専用型光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできるので、再生専用型光ディスクの光情報記録媒体用反射膜として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】再生専用型光ディスクの断面構造を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７１】
１--ポリカーボネート基体、２--半透明反射膜層（Au，Ag合金，Si）、３--接着層、
４--全反射膜層（Ag合金）、５--ポリカーボネート基体。
【図１】
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