(57)【要約】【課題】通常伝搬光による検査と滲出近接場光による検査を切り替えて行う光学検査において、滲出近接場光による検査の際に、通常伝搬光によるノイズを有効に軽減し、高いＳ／Ｎ比で高分解能検査を実現する。【解決手段】光源１１から放射されたレーザ光を伝搬させるコア３１を有する光ファイバの射出側端面に、頂角の小さい円錐面状に形成されて近接場光を滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出する通常伝搬光射出面とを同心面状に有し、近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のための被覆層が形成され、射出通常伝搬光が滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように通常伝搬光射出面が形成された光ファイバプローブ１３において、通常伝搬光射出面の少なくとも一部の領域に、特定の偏光成分を選択的に透過させる特定偏光成分透過手段を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から放射されたレーザ光を伝搬させるコアを有するシングルモードの光ファイバの射出側端面に、近接場光を滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出する通常伝搬光射出面とを、上記近接場光滲出面を軸側にして上記通常伝搬光射出面が上記近接場光滲出面を囲繞するように同心面状に有し、上記近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のための被覆層が形成され、上記近接場光滲出面は頂角の小さい円錐面状に形成され、上記通常伝搬光射出面は射出通常伝搬光が滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された光ファイバプローブにおいて、
通常伝搬光射出面の少なくとも一部の領域に、特定の偏光成分を選択的に透過させる特定偏光成分透過手段を有することを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項２】
請求項１記載の光ファイバプローブにおいて、
特定偏光成分透過手段を、通常伝搬光射出面の少なくとも一部の軸対称な領域に有することを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項３】
請求項２記載の光ファイバプローブにおいて、
特定偏光成分透過手段を、通常伝搬光射出面の略全域に有することを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項４】
請求項１または２または３記載の光ファイバプローブにおいて、
特定偏光成分透過手段が、通常伝搬光射出面に設けられた偏光機能を持つサブ波長構造であることを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項５】
請求項４記載の光ファイバプローブにおいて、
偏光機能を持つサブ波長構造が多層膜構造として通常伝搬光射出面に形成されていることを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項６】
請求項４記載の光ファイバプローブにおいて、
偏光機能を持つサブ波長構造が、導電性材料によるワイヤグリッドとして通常伝搬光射出面に形成されていることを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項７】
請求項６記載の光ファイバプローブにおいて、
ワイヤグリッドを構成する導電性材料が、近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のために形成された被覆層と同一材料であることを特徴とする光ファイバプローブ。
【請求項８】
請求項１〜７の任意の１に記載の光ファイバプローブを用いて被検査体の被検面を光学的に検査する方法であって、
レーザ光の偏光を制御する偏光制御手段を、光ファイバプローブの入射側端部よりも光源側に配置し、
上記光源から放射されるレーザ光を光ファイバプローブに導光してコアを伝搬させ、
上記被検面を、滲出近接場光による近接場光スポットもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットより選択的に走査しつつ、被検面を介した検査光を検出手段により検出し、
上記偏光制御手段の操作により上記レーザ光の偏光を制御することにより、通常伝搬光射出面から射出する射出通常伝搬光の強度を変化させて検査を行うことを特徴とする検査方法。
【請求項９】
請求項８記載の検査方法において、
滲出近接場光による近接場光スポットにより被検面の走査を行うとき、
通常伝搬光が特定偏光成分透過手段により遮断されるように、通常伝搬光の偏光を調整することを特徴とする検査方法。
【請求項１０】
請求項８または９記載の検査方法において、
被検面による散乱光もしくは反射光または被検査体透過光を検査光として、光ファイバプローブを介することなく検出手段により検出することを特徴とする検査方法。
【請求項１１】
請求項８または９記載の検査方法において、
被検面による散乱光もしくは反射光を、戻り光として光ファイバプローブを介して検出手段に導光することを特徴とする検査方法。
【請求項１２】
被検査体の被検面を光学的に検査する装置であって、
レーザ光源と、
このレーザ光源からのレーザ光を伝搬させ、滲出近接場光として滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出させて、上記滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された通常伝搬光射出面とを有する光ファイバプローブと、
上記レーザ光源からのレーザ光の偏光を制御する偏光制御手段と、
上記被検査体の被検面を、上記滲出近接場光による近接場光スポットもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットにより選択的に走査する走査手段と、
上記被検面を介した検査光を検出する検出手段と、
を有し、上記光ファイバプローブとして、請求項１〜７の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする検査装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の検査装置において、
検出手段が、被検面による散乱光もしくは反射光または被検査体透過光を、光ファイバプローブを介することなく検出することを特徴とする検査装置。
【請求項１４】
請求項１３記載の検査装置において、
検出手段が、被検査体透過光を受光する受光手段を有することを特徴とする検査装置。
【請求項１５】
請求項１２記載の検査装置において、
検出手段が、被検面による散乱光もしくは反射光を、戻り光として光ファイバプローブを介して検出するように構成されたことを特徴とする検査装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の検査装置において、
検出手段が、光ファイバプローブと光源との間に配置されるビームスプリッタと、このビームスプリッタにより検査光路から分離した戻り光を受光する受光手段を有することを特徴とする検査装置。
【請求項１７】
請求項１２〜１６の任意の１に記載の検査装置において、
偏光制御手段が、光源と光ファイバプローブの入射側端面との間に配置される１／２波長板を有することを特徴とする検査装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の検査装置において、
光ファイバプローブ内を伝搬する通常伝搬光の偏光状態の、光ファイバプローブの曲がりに起因する乱れを補正するための１／４波長板を有することを特徴とする検査装置。
【請求項１９】
請求項１２〜１８の任意の１に記載の検査装置において、
通常伝搬光スポットによる検査を行うときと、近接場光スポットによる検査を行うときとで、それぞれに適した波長のレーザ光を用いるように、光源の発光波長を切り替え可能としたことを特徴とする検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光ファイバプローブおよび検査方法および検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来、シリコンウエハの欠陥検査等を「近接場光」を利用して行うことが提案されている。例えば、回折限界以下の寸法の微細構造体をプローブとして用い、プローブ先端部を照明することでその近傍に近接場光を発生させ、発生した近接場光により被検査面を走査することにより、プローブ近傍に局在している近接場光と試料面との電磁気的な相互作用により散乱した光や被検査体を透過した光を検出することで、被検面から反射光強度やスペクトル、偏光状態等の光学的情報を得ることができる。  
シリコンウエハの欠陥検査等を行う検査装置として、対物レンズによる観察系を含む通常の光学顕微鏡装置に近接場光検出用光プローブを組み込み、対物レンズによる観察系での低分解能の検査後、近接場光を利用した高分解能の検査へ切り替える構成のものが提案されている（特許文献１）が、対物レンズによる広範囲検査後、近接場光による微細な検査領域への光プローブを位置合わせが容易でなく、検査に長時間を要すると考えられる。
【０００３】
光プローブとして、光ファイバの先端部にテーパ角の異なる２つの領域を同心的に形成し、光ファイバの軸心部分に形成されたテーパ角の大きい「尖った形状の部分」を近接場滲出面としてその面にＡｕやＡｇ等の金属薄膜を形成し、近接場滲出面の頂部に近接場光を形成し、近接場光滲出面の周囲にテーパ角の小さい通常伝搬光射出面を形成し、通常伝搬光射出面から射出した通常伝搬光がテーパの作用で、近接場光滲出面からの滲出近接場光よりも光プローブ軸上で離れた位置に集光するようにしたものを用いる検査方法が提案されている（特許文献２）。
【０００４】
特許文献２の光検出方法では、通常伝搬光の集光位置と滲出近接場光とがともに「光プローブ軸方向」に位置するので、通常伝搬光による検査から滲出近接場光への切り替えは光プローブ先端と被検面との「プローブ軸方向の距離」を切り替えるのみでよく、切り替えが容易であるので、検査の高速化を実現できる。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−０５５８１８公報
【特許文献２】特願２００５−  ２９６５２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この発明は、通常伝搬光による検査と滲出近接場光による検査を切り替えて高速の検査を実行できる光学検査において、滲出近接場光による高分解能検査の際の、通常伝搬光によるノイズを有効に軽減し、高いＳ／Ｎ比で高分解能検査を実現することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の光ファイバプローブは「光源から放射されたレーザ光を伝搬させるコアを有するシングルモードの光ファイバの射出側端面に、近接場光を滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出する通常伝搬光射出面とを、近接場光滲出面を軸側にして、通常伝搬光射出面が近接場光滲出面を囲繞するように同心面状に有し、近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のための被覆層が形成され、近接場射出面は頂角の小さい円錐面状に形成され、通常伝搬光射出面は射出通常伝搬光が滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された光ファイバプローブ」であって、以下の特徴を有する（請求項１）。
【０００８】
即ち、光ファイバプローブは、通常伝搬光射出面の少なくとも一部の領域に「特定の偏光成分を選択的に透過させる特定偏光成分透過手段」を有する。
【０００９】
光ファイバプローブを構成する「シングルモードの光ファイバ」の長さには、特に制限がなく、設計条件に応じて適宜の長さのものを用いることができる。  
上記の如く、光ファイバプローブは、シングルモードの光ファイバの射出側端面に、近接場光滲出面と通常伝搬光射出面とを有しており、光源からのレーザ光は、コアをシングルモードの伝搬光（通常伝搬光）である「実質的な平行光束」として伝搬し、近接場光滲出面と通常伝搬光射出面とに入射する。
【００１０】
「近接場光滲出面」をなす円錐面の頂角は、近接場光滲出面に入射する通常伝搬光を全反射させるような角に設定される。近接場光滲出面に形成される「表面プラズモン伝搬のための被覆層」は後述するＡｕやＡｇ等の金属薄膜が好適であり、近接場光滲出面から滲出したエバネセント光は金属薄膜中の自由電子と結合し、表面プラズモンとして被覆層を伝搬して、円錐面状の近接場光滲出面の尖った先端部（以下「尖端部」という。）に「近接場光」を形成する。
【００１１】
「通常伝搬光射出面」は、近接場光滲出面を囲繞するように「同心面状」即ち、近接場光滲出面と回転対称軸を共通にして形成されるが、通常伝搬光射出面は「円錐面状」に形成してもよいし、射出する通常伝搬光の集光を助長する「レンズ面機能をもつ曲面」、例えばトロイダル面等として形成してもよい。
【００１２】
なお、上記「表面プラズモン伝搬のための被覆層」は、射出する通常伝搬光の強度を大きく減少させないことを条件として、通常伝搬光射出面にも形成されることができる。
【００１３】
光ファイバプローブは「特定偏光成分透過手段」を、通常伝搬光射出面の少なくとも一部の領域に有する。特定偏光成分透過手段の形態としては「通常伝搬光射出面の少なくとも一部の軸対称な領域」に有するようにしてもよい（請求項２）が、「通常伝搬光射出面の略全域」に有するようにする（請求項３）ことが好ましい。
【００１４】
「特定偏光成分透過手段」は、通常伝搬光射出面に設けられた「偏光機能を持つサブ波長構造」であることができ（請求項４）、かかる「偏光機能を持つサブ波長構造」は、「多層膜構造」として通常伝搬光射出面に形成する（請求項５）ことも、「導電性材料によるワイヤグリッド」として通常伝搬光射出面に形成する（請求項６）こともできる。
【００１５】
多層膜構造による「偏光機能を持つサブ波長構造」は、特許第３３２５８２５号公報等により知られたものであり、これを通常伝搬光射出面上に形成するには、通常伝搬光射出面に、使用波長程度以下の周期の微細な凹凸構造を形成し、この微細凹凸構造の上に、高屈折率の層と低屈折率の層とを交互に「互いに隣接する高屈折率の層と低屈折率の層」を１ペアとして数１０〜数百ペアを積層して「積層構造」とし、積層構造の最上層表面が上記微細凹凸構造の周期に従って「波打つ」ようにすればよく、具体的には上記公報により提案された自己クローニング法により作製できる。
【００１６】
「ワイヤグリッドによるサブ波長構造」は、例えば、特開平１０−１５３７０６号公報や米国特許６１２２１０３号明細書により知られたものであり「通常伝搬光射出面に、導電性材料による１次元線状格子（ワイヤグリッド）を形成」することにより得ることができる。このようなワイヤグリッドによるサブ波長構造は、１次元線状格子の格子線配列方向に平行な偏光成分を透過させ、格子線に平行な偏光成分を遮断する。
【００１７】
請求項６記載の光ファイバプローブにおいて、ワイヤグリッドを構成する導電性材料は「近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のために形成された被覆層と同一材料」であることができる（請求項７）。このようにすると、光ファイバプローブの製造が容易である。
【００１８】
この発明の検査方法は「請求項１〜７の任意の１に記載の光ファイバプローブを用いて被検査体の被検面を光学的に検査する方法」であって、以下の如き特徴を有する（請求項８）。  
即ち、レーザ光の偏光を制御する偏光制御手段を、光ファイバプローブの入射側端部よりも光源側に配置し、光源から放射されるレーザ光を光ファイバプローブに導光してコアを伝搬させ、被検面を、滲出近接場光による近接場光スポットもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットにより選択的に走査しつつ、被検面を介した検査光を検出手段により検出し、偏光制御手段の操作によりレーザ光の偏光を制御することにより、通常伝搬光射出面から射出する射出通常伝搬光の強度を変化させて検査を行う。
【００１９】
この明細書において「検査」は、被検面の状態を光学的に走査して「被検面の状態を光学的に観察する」場合や「被検面に対して光学的な測定を行う」場合を総称する。  
「偏光制御手段の操作によりレーザ光の偏光を制御する。」とは、特定偏光成分透過手段に対する「通常伝搬光の偏光状態」を変化調整することを意味する。
【００２０】
検出方法の実施に用いられる光ファイバプローブは、通常伝搬光射出面の少なくとも一部に「特定の偏光成分を選択的に透過させる特定偏光成分透過手段」を有するので、偏光制御手段の操作によりレーザ光の偏光を制御することにより、特定偏光成分透過手段を透過する光量を変化させることができる。
【００２１】
従って、通常伝搬光による通常伝搬光スポットによる検査を行う場合には「特定偏光成分透過手段を透過する光量を大きくする」ことにより、被検面に十分な強度の通常伝搬光を集光させることができる。逆に、滲出近接場光による近接場光スポットによる検査を行う場合には「特定偏光成分透過手段を透過する光量を小さく」して、被検面に到達する通常伝搬光の光量を減少させることにより、近接場光スポットによる検査に対して「通常伝搬光がノイズとして影響する」のを軽減できる。
【００２２】
「偏光制御手段の操作によるレーザ光の偏光の制御」は、滲出近接場光により被検面の走査を行うとき、通常伝搬光が特定偏光成分透過手段により遮断されるように、通常伝搬光の偏光を調節するように行うことが好ましい（請求項９）。このようにすることにより、滲出近接場光による検査に対する「通常伝搬光によるノイズ」を最小に抑えることができる。特定偏光成分透過手段を通常伝搬光射出面全域に有する場合には、上記通常伝搬光によるノイズを実質的に０とすることができる。
【００２３】
「被検面を介した検出光」は、被検面の状態により影響された光、即ち、被検面の状態を光学的情報として有する光であり「被検面による散乱光もしくは反射光または被検査体を透過した光（被検査体透過光）」であるが、このような検査光は、光ファイバプローブを介することなく検出手段により検出してもよい（請求項１０）し、被検面による散乱光もしくは反射光を戻り光として「光ファイバプローブを介して検出手段に導光する」ようにしてもよい（請求項１１）。
【００２４】
この発明の検査装置は「被検査体の被検面を光学的に検査する装置」であって、レーザ光源と、光ファイバプローブと、偏光制御手段と、走査手段と、検出手段とを有する。  
「レーザ光源」は、レーザ光を放射する。  
「光ファイバプローブ」は、レーザ光源からのレーザ光をコアによって伝搬させ、滲出近接場光として滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出させて、滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された通常伝搬光射出面とを有するものであり上記請求項１〜７の任意の１に記載の光ファイバプローブである。
【００２５】
「偏光制御手段」は、レーザ光源からのレーザ光の偏光を制御する手段である。  
「走査手段」は、被検査体の被検面を、滲出近接場光による近接場光スポットもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットにより選択的に走査する手段である。このような走査手段としては、従来から広く知られた「３軸の移動ステージ」等を利用することができる。  
「検出手段」は、被検面を介した検査光を検出する手段であり、検出した検出光に基づき「被検面の観察や測定に応じた処理」を行う処理部を含むことができる。
【００２６】
検出手段は「被検面による散乱光もしくは反射光または被検査体透過光を、光ファイバプローブを介することなく検出」するものであってもよい（請求項１３）。この場合、検出手段が「被検査体透過光を受光する受光手段」を有する構成とすることができる（請求項１４）。
【００２７】
請求項１２記載の検査装置における「検出手段」はまた、被検面による散乱光もしくは反射光を「戻り光として光ファイバプローブを介して検出する」ように構成することができ（請求項１５）、この場合、検出手段が「光ファイバプローブと光源との間に配置されるビームスプリッタと、このビームスプリッタにより「検査光路から分離した戻り光」を受光する受光手段」を有する構成とすることができる（請求項１６）。
【００２８】
請求項１２〜１６の任意の１に記載の検査装置における「偏光制御手段」は、光源と光ファイバプローブの入射側端面との間に配置される１／２波長板を有する構成とすることができる（請求項１７）。この場合において、光ファイバプローブが「長い場合」などに、光ファイバプローブ内を伝搬する通常伝搬光の偏光状態の「光ファイバプローブの曲がりに起因する乱れ」を補正するための１／４波長板を有する構成とすることができる（請求項１８）。１／４波長板を用いる場合、１／４波長板は、１／２波長板よりも光ファイバプローブ側に配設しても良く、１／２波長板よりも光源側に配設してもよい。
【００２９】
偏光制御手段は前述の如く「レーザ光の偏光を制御することにより、特定偏光成分透過手段を透過する光量を変化させる」手段であるので、原理的にはレーザ光の偏光状態を特定偏光成分透過手段に対して調整できればよく、例えば「光源を放射レーザ光の光軸の周りに回転させる手段」であることもできる。
【００３０】
また、特定偏光成分透過手段による「特定偏光成分の透過」は、特定偏光成分透過手段を構成する材料に対する波長依存性があり、滲出近接場光強度はレーザ光の波長や近接場光滲出面の頂角に対する波長依存性があるので、通常伝搬光スポットによる検査を行うときと、近接場光スポットによる検査を行うときとで、それぞれに適した波長のレーザ光を用いるように、光源の発光波長を切り替え可能とすることが好ましい（請求項１９）。
【発明の効果】
【００３１】
上記の如く、この発明の光ファイバプローブを用い、通常伝搬光射出面から射出する射出通常伝搬光の強度を変化させることにより、滲出近接場光による高分解能検査の際に、通常伝搬光によるノイズを有効に軽減し、高いＳ／Ｎ比で高分解能検査を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、実施の形態を説明する。  
図１に示す検査装置１は、例えば「被検査体である試料の微小領域における光学物性を測定する近接場光学顕微鏡」等として実施することができる。
【００３３】
検査装置１は、レーザ光を放射する光源１１と、光源１１を駆動する駆動電源１１ａ、光源１１から放射されるレーザ光の波長を切り替える光波長切換部１７、光源１１から射出されたレーザ光の光路中に配置されたビームスプリッタ１２と、ビームスプリッタ１２を透過したレーザ光の光路中に配置された１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂ、これら波長板の調整を行う調整手段１８と、波長板１８ａ、１８ｂを透過した光を被検査体２における被検面２ａに照射する光ファイバプローブ１３と、被検面２ａからの戻り光を検出する光検出器１４、プローブ制御部１５、画像処理部１６、画像表示部１７Ａおよび制御手段１００を有する。制御手段１００はマイクロコンピュータ等により構成され装置全体を制御する。
【００３４】
光ファイバプローブ１３は、コア３１とこれを囲繞するクラッド３２とを有し、レーザ光を伝搬させる伝搬部２１と、伝搬部２１の射出側端部に近接場光滲出部２０ｂと通常伝搬光射出部２０ａとを有するプローブ部２２とを有する。コア３１、クラッド３２は、それぞれ２酸化シリコン系ガラスから成り、ゲルマニウム、リン等を添加することにより、コア３１よりもクラッド３２の屈折率が低くなるように組成制御されている。
【００３５】
光源１１は駆動電源１１ａにより駆動され、光波長切換部１７により設定された波長のレーザ光を放射する。放射されたレーザ光は一部がビームスプリッタ１２を透過し、ついで１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂを透過する。  
１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂは、透過光の光軸の周りに回転調整可能であり調整手段１８により態位調整されて、レーザ光の偏光を制御する。
【００３６】
１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂを透過したレーザ光は光ファイバプローブ１３のコア３１へ入射し、シングルモード波として伝搬部２１のコア３１内を伝搬する。光ファイバプローブ１３の光伝搬部２１は長く、光伝搬部２１が曲がっていると「伝搬するレーザ光の偏光状態が光伝搬部２１の曲がりにより乱れる（直線偏光が楕円化する）」ので、１／４波長板１８ｂの態位調整により「この偏光状態の乱れを補正」し、プローブ部２２に入射するレーザ光を直線偏光にする。
【００３７】
このように、１／４波長板１８ｂは「光伝搬部２１の曲がりによる伝搬レーザ光の偏光状態の乱れを補正」するものであるので、偏光状態に乱れを生じないような構成の光ファイバプローブである場合には不要であり省略することもできる。また、前述したように、１／２波長板１８ａと１／４波長板１８ｂとの順序を、検査光路（光源から被検査体にいたる光路）上で入れ替えてもよい。
【００３８】
図２（ｂ）は、光ファイバプローブ１３のプローブ部２２を、図１の下方から見た状態を示している。プローブ部２２は、通常伝搬光射出部２０ａと近接場光滲出部２０ｂとなっており、通常伝搬光射出部２０ａに対応するコア端面が「通常伝搬光射出面」であり、近接場光滲出部２０ｂに対応するコア端面が「近接場光滲出面」である。
【００３９】
近接場光滲出面は「尖った円錐面状」に形成され、その表面に「表面プラズモン伝搬のための被覆層」がＡｕ、Ａｇによる導電性薄膜として形成されている。近接場光滲出面をなす円錐面の頂角を「α２」とすると頂角：α２は、コアを伝搬して上記円錐面に入射する通常伝搬光の入射角が「全反射角以上」となるような角に設定されている。通常伝搬光が光ファイバプローブ１３のコア３１の中心線に平行であるとして、上記入射角をθ２とすると入射角：θ２は「θ２＝９０度―α２／2」である。入射角：θ２は「コア３１の中心線に直交する面」に対して「近接場光滲出面をなす円錐面」のなす角であるので、以下において「近接場光滲出面のテーパ角：θ２」と呼ぶこともある。
【００４０】
通常伝搬光射出部２０ａは、近接場光滲出面を囲繞して、近接場光滲出面２０ｂと同心面的に形成された円錐面に「特定偏光成分透過手段」として偏光機能を持つサブ波長構造が「導電性材料によるワイヤグリッド」として形成されている。この実施の形態では、ワイヤグリッドＷＧは「通常伝搬光射出面の全域」にわたって形成されている。「通常伝搬光射出部２０ａが近接場光滲出面２０ｂと同心面的である。」とは、近接場光滲出面をなす円錐面と通常伝搬光射出面をなす円錐面とが「円錐軸を共有している」ことを意味する。
【００４１】
図２（ｃ）は、ワイヤグリッドＷＧを説明図的に示している。図示の如く、図面に直交する方向を長手方向とする、幅：ｗ、厚さ：ｈのワイヤが、ピッチ：ｐをなして通常伝搬光射出面２０ａ１の表面に形成されて「グリッド」を構成している。ピッチ：ｐは光源波長よりも小さく、従って、ワイヤグリッドＷＧは「サブ波長構造」をなしている。周知の如く上記ｗ、ｐ、ｈを調整することにより、光源波長に対して偏光機能（特定の偏光成分光のみを透過させる機能）を付与することができる。  
ワイヤグリッドＷＧは「通常伝搬光射出面への成膜及びイオンビームエッチング等の微細加工」により形成することができる。
【００４２】
通常伝搬光射出面をなす円錐面の頂角を「α１（＞α２）」とすると角：α１は、この円錐面に入射する通常伝搬光の入射角が「０より大きく全反射未満」であるような角として設定されている。通常伝搬光が光ファイバプローブ１３のコア３１の中心線に平行であるとして、上記入射角をθ１とすると「θ１＝９０度―α１／2」である。入射角：θ１は上記中心線に直交する面に対して通常伝搬光射出面をなす円錐面のなす角でもあるので、以下において、通常伝搬光射出面のテーパ角：θ１と呼ぶこともある。
【００４３】
上記のようなテーパ角：θ２を持つ近接場光滲出面と、テーパ角：θ１を持つ通常伝搬光射出面と有するコア端面形状は、例えば、特開平７−２６０４５９号公報開示の「フッ酸等の水溶液を用いたウエットエッチングプロセス」により形成できる。
【００４４】
図２（ａ）を参照する。  
コアを伝搬する通常伝搬光Ｌがプローブ部に到達すると、通常伝搬光Ｌは、その一部が近接場光滲出面に入射し、他は通常伝搬光射出面に入射する。近接場光滲出面に入射する通常伝搬光Ｌは「入射角が全反射角以上」であるので、その大部分が近接場光滲出面で全反射し、その際滲出するエバネセント光（近接場光）が金属薄膜中の自由電子と結合し、表面プラズモンとして被覆層２０ｄを伝搬し、近接場光滲出部２０ｂの尖端部に近接場光スポットＰＬを形成する。近接場光スポットＰＬは上記尖端部から数ｎｍ〜数１０ｎｍの位置に形成される。
【００４５】
一方、通常伝搬光射出面に入射した通常伝搬光は、入射角が全反射角未満であるため通常伝搬光射出面から射出するが、その際、通常伝搬光射出面の円錐面の傾き（テーパ）により屈折し、図２（ａ）に示す如くに集光し、近接場光スポットＰＬよりも「（楕円面の）軸上で離れた位置（近接場光滲出部の尖端部から数百ｎｍ〜数μｍ程度離れた位置）」に高い強度の通常伝搬光スポットＳＰを形成する。
【００４６】
このとき、通常伝搬光射出面に入射する通常伝搬光は前述の如く、１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂにより直線偏光状態となっており、通常伝搬光射出面から射出する通常伝搬光は「特定偏光成分透過手段」であるワイヤグリッドＷＧの作用を受ける。即ち、コア内における通常伝搬光の偏光面の向きが、ワイヤグリッドＷＧが透過させるべき特定偏光成分と合致していれば、実質的に１００％の通常伝搬光がワイヤグリッドＷＧを透過するので、通常伝搬光スポットＳＰの強度を最大にできる。
【００４７】
通常伝搬光スポットＳＰにより被検査体の検査を行うときには、この状態で被検面を走査する。近接場光スポットＰＬは近接場光滲出部の先端部に留まり、被検面には達しないため「通常伝搬光スポットＳＰによる走査」には影響しない。
【００４８】
一方、近接場光スポットＰＬによる検査を行うときには、被検面を近接場光滲出部２０ｂの先端部にごく近接させ、近接場光スポットＰＬにより被検面の走査を行うが、このとき通常伝搬光射出部２０ａから通常伝搬光が射出していると、射出した通常伝搬光が被検面を照射し「近接場光スポットによる走査に対してノイズとして作用」する恐れがある。
【００４９】
そこで、この場合、調整手段１８により１／２波長板１８ａ、１／４波長板１８ｂを透過光軸周りに回転調整する操作により、プローブ部２２に入射する通常伝搬光の偏光面を「ワイヤグリッドＷＧが透過させるべき特定偏光成分」と異ならせれば、通常伝搬光射出部２０ａから射出する通常伝搬光の強度を弱めることができ、上記ノイズとしての作用を軽減させることができる。
【００５０】
特に、プローブ部２２に入射する通常伝搬光の偏向面を「ワイヤグリッドＷＧが透過させるべき特定偏光成分と直交させ」れば、通常伝搬光射出面から射出する通常伝搬光の強度を実質的に０（消光比：１００００程度）とすることができ、通常伝搬光のノイズ作用を完全に防止することができる。
【００５１】
図２（ｄ）は、通常伝搬光スポットによる検査を行うときの状態であり、コア３１内における通常伝搬光の偏光の向き（図面に平行な方向）が「ワイヤグリッドＷＧが透過させるべき特定偏光成分」と合致している場合を示し、実質的に１００％の通常伝搬光がワイヤグリッドＷＧを透過する。
【００５２】
図２（ｅ）は、近接場光スポットによる検査を行うときの状態であり、コア３１内における通常伝搬光の偏光の向き（図面に直交する方向）が、ワイヤグリッドＷＧが透過させるべき特定偏光成分と直交している場合を示し、通常伝搬光はワイヤグリッドにより１００％遮断され、検査に対するノイズとして作用しない。勿論、図２（ｄ）、（ｅ）に示す状態とも、図示してはいないが、近接場光スポットは形成されている。
【００５３】
ワイヤグリッドＷＧ等による「特定偏光成分透過手段」を、通常伝搬光射出面の全域でなく、一部に配することによっても通常伝搬光のノイズ作用を軽減させることができることはいうまでもない。
【００５４】
図１に戻ると、光ファイバプローブ１３は上に説明した如く構成されており、光射出部近傍をプローブ制御部１５に装着されている。プローブ制御部１５は、例えば「３軸アクチュエータ」等により構成された公知のものであって、光ファイバプローブ１３の射出側端部を被検面２ａに対して「近接離間させる方向（図の上下方向）」及びこれに直交する２方向に変位させる機能を有する。
【００５５】
被検査体２は、図示されない適宜の支持部に設置されており、近接場光スポットによる検査と通常伝搬光スポットによる検査を切り替えるときには、制御手段１００によりプローブ制御部１５を制御して、光ファイバプローブ１３の射出側端部と被検面２ａとの距離を変化させ、被検面２ａを「近接場光スポットもしくは通常伝搬光スポットの形成されている位置」に合致させ、この状態で被検面２ａに平行な２方向に走査することにより被検面２ａの走査を行う。この切り替えに応じて「偏光制御手段の操作によりレーザ光の偏光を制御する」ことは言うまでもない。上記切り替えに伴う「光ファイバプローブ１３の射出側端部と被検面２ａとの距離の変化量」は、予め実験的に決定してデータ化し制御手段１００に記憶させておく。
【００５６】
なお、被検面の走査は、光ファイバプローブ１３の射出面側を固定し、被検査体２を変位させることにより行うようにしてもよいし、光ファイバプローブ１３の射出側端部と被検面２との距離の切り替えを「被検査体の変位（図１の上下方向の変位）」により行い、近接場光スポットもしくは通常伝搬光スポットによる２次元の走査を、光ファイバプローブ射出側端部の変位により行うようにしてもよい。即ち、被検面と光ファイバプローブとの３次元的な相対変位により走査を実行することができる。
【００５７】
図１に示すように、被検面２ａにより反射された光は「戻り光」として光ファイバプローブ１３を戻り、１／４波長板１８ｂ、１／２波長板１８ａを透過し、ビームスプリッタ１２により反射されて光検出器１４により受光される。光検出器１４は受光した戻り光を光電変換して輝度信号を生成する。生成された輝度信号を基に走査画像が画像処理部１６で作成され、画像表示部１７Ａに表示される。検査者は画像表示部に表示される画像に基づき被検面２ａの詳細を測定、観察して検査を行うことができる。
【００５８】
具体的には、まず、光ファイバプローブの先端（尖端部）と被検面２ａの間隔を「通常伝搬光スポットＳＰによる走査に適した距離（数１００ｎｍ〜数μｍ）」」に設定し、通常伝搬光スポットＳＰによる走査を行う。このとき、光源１１側からのレーザ光の偏光面が「ワイヤグリッドＷＧを実質的に１００％透過する方向」に偏光制御されている。
【００５９】
画像表示部１７Ａに表示される画像から得た「被検面２ａの光学物性情報」に基づき、より詳細な物性検査を望む微小領域が特定され、当該領域へ光ファイバプローブ１３を水平方向に移動させて「位置あわせ」を行い、当該領域のみを対象として「近接場光スポットによる高分解能測定」を実施する。
【００６０】
即ち、近接場光スポットＰＬが形成されている状態で、プローブ制御部１５によりプローブ部２２を被検面２ａに近接する方向に移動させる。近接場光滲出部２０ｂの尖端部と被検面２ａとの距離が、光源１１から射出されるレーザ光の波長の１／４以下となると、近接場光スポットＰＬによる近接場光が被検面２ａに照射され、被検面２ａ上には近接場光による極めて微小な光スポットが形成される。
【００６１】
光スポットを形成した近接場光は被検面２ａにより反射され、検査光としてコア３１を介して光検出器１４に導かれ、上記と同様にして「被検面２ａの高分解能測定」に供せられる。このとき、光源１１側からのレーザ光の偏光面が「ワイヤグリッドＷＧにより実質的に１００％遮断される方向」に偏光制御される。
【００６２】
以上のように、光ファイバプローブ１３の先端のプローブ部２２を被検面２ａに対して近接離間する方向に移動させることにより、近接場光による高分解能検査と通常伝搬光スポットによる低分解能検査を選択的に行うことができる。高分解能測定時における通常伝搬光の射出の抑制により高Ｓ／Ｎでの測定が可能になる。
【００６３】
以上の如く、広範囲の検査から近接場光を利用した高分解能検査へ切り替えて同一被検査体の検査を継続して行う場合、用いる光ファイバプローブを「低分解能用と高分解能用に交換」する必要が無く、広範囲検査と同軸での高分解能検査が可能となるため、煩雑な作業を強いられることなく両分解能検査を行うことができる。
【００６４】
なお、光ファイバプローブ１３のプローブ部２２を被検面２ａに平行な方向に走査する際、プローブ部２２の先端部の被検面２ａに対する高さを一定とすることで検査中に近接離間方向への変位制御が不要となり、先に説明した通常伝搬光スポットとプローブ部先端部との間の距離（数百ｎｍ〜数ｕｍ程度）と相俟ってより高速な走査が可能となり、測定時間の大幅な短縮につながる。
【００６５】
上に、図１、図２に即して説明した実施の形態において、光ファイバプローブ１３は、
光源１１から放射されたレーザ光を伝搬させるコア３１を有するシングルモードの光ファイバの射出側端面に、近接場光を滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出する通常伝搬光射出面とが、近接場光滲出面を軸側にして、通常伝搬光射出面が近接場光滲出面を囲繞するように同心面状に有し、近接場光滲出面に表面プラズモン伝搬のための被覆層２０ｄが形成され、近接場光滲出面は頂角の小さい円錐面状に形成され、通常伝搬光射出面は射出通常伝搬光が滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された光ファイバプローブであって、通常伝搬光射出面の少なくとも一部の領域に、特定の偏光成分を選択的に透過させる特定偏光成分透過手段ＷＧを有するもの（請求項１）である。
【００６６】
また、特定偏光成分透過手段ＷＧを通常伝搬光射出面の略全域に有し（請求項３）、特定偏光成分透過手段ＷＧは、通常伝搬光射出面に設けられた偏光機能を持つサブ波長構造であるワイヤグリッドである（請求項４、６）。
【００６７】
また、上に説明した検査装置によれば、レーザ光の偏光を制御する偏光制御手段１８、１８ａ、１８ｂを、光ファイバプローブ１３の入射側端部よりも光源１１側に配置し、光源１１から放射されるレーザ光を光ファイバプローブ１３に導光してコア３１を伝搬させ、被検面２ａを、滲出近接場光による近接場光スポットＰＬもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットＳＰより選択的に走査しつつ、被検面２ａを介した検査光を検出手段１２、１４、１６、１７Ａにより検出し、偏光制御手段１８、１８ａ、１８ｂの操作によりレーザ光の偏光を制御することにより、通常伝搬光射出面から射出する射出通常伝搬光の強度を変化させて検査を行う検査方法（請求項８）が実施される。
【００６８】
特に、滲出近接場光による近接場光スポットにより被検面の走査を行うとき、通常伝搬光が特定偏光成分透過手段ＷＧにより遮断されるように、通常伝搬光Ｌの偏光を調節することができる（請求項９）。被検面２ａによる散乱光もしくは反射光は、戻り光として光ファイバプローブ１３を介して検出手段１４に導光される（請求項１１）。
【００６９】
また、上記実施の形態の検査装置は、被検査体２の被検面２ａを光学的に検査する装置であって、レーザ光源１１と、このレーザ光源からのレーザ光を伝搬させ、滲出近接場光として滲出させる近接場光滲出面と、通常伝搬光を射出させて、滲出近接場光よりも軸上で離れた位置に集光するように形成された通常伝搬光射出面とを有する光ファイバプローブ１３と、レーザ光源１１からのレーザ光の偏光を制御する偏光制御手段１８、１８ａ、１８ｂと、被検査体２の被検面２ａを、滲出近接場光による近接場光スポットＰＬもしくは集光した射出通常伝搬光による通常伝搬光スポットＳＰより選択的に走査する走査手段１５と、被検面２ａを介した検査光を検出する検出手段１２、１４、１６、１７Ａとを有し、光ファイバプローブとして請求項１、３、４、６記載のものを用いるものである（請求項１２）。
【００７０】
また、検出手段が、被検面による散乱光もしくは反射光を、戻り光として光ファイバプローブ１３を介して検出するように構成されている（請求項１５）。即ち、具体的には、検出手段が、光ファイバプローブ１３と光源１１との間に配置されるビームスプリッタ１２と、ビームスプリッタ１２により検査光路から分離した戻り光を受光する受光手段１４を有し（請求項１６）、さらに、偏光制御手段が、光源１１と光ファイバプローブ１３の入射側端面との間に配置される１／２波長板１８ａを有し（請求項１７）、光ファイバプローブ１３内を伝搬する通常伝搬光の偏光状態の、光ファイバプローブ１３の曲がりに起因する乱れを補正するための１／４波長板１８ｂを有する（請求項１８）。
【００７１】
前述したように、光ファイバプローブにおける特定偏光成分透過手段は「通常伝搬光射出面の少なくとも一部の軸対称な領域」に有することができる（請求項２）。また、特定偏光成分透過手段をワイヤグリッドに代えて「多層膜構造による偏光機能を持つサブ波長構造」としてもよい（請求項５）。
【００７２】
図３に検査装置の実施の別形態を示す。煩雑を避けるため、混同の恐れが無いと思われるものには図１におけると同一の符号を付し、これらについての説明は、図１に関連した説明を援用する。図１に示す実施の形態では、検出手段が「被検面２ａによる散乱光もしくは反射光を、戻り光として光ファイバプローブ１３を介して検出する」ように構成されているが、図３の実施の形態においては、被検面２ａ１を介した検査光を、光ファイバプローブを介することなく検出手段１４、１６、１７Ａにより検出して（請求項１０、１３）検査を行う。即ち、図３に示す実施の形態では、被検査体２Ａは検査レーザ光に対して透明であり、被検面２ａ１を介した検査光は、被検査体２Ａを透過して光検出器１４により受光される（請求項１４）。
【００７３】
若干説明を補足すると、光ファイバプローブ１３の近接場光滲出部２０ｂの尖端から、通常伝搬光スポットＳＰまでの距離（「Ｄ」とする。）は、前述した通常伝搬光射出面のテーパ角：θ１を調整することにより制御できる。図４（ａ）は、テーパ角：θ１と距離：Ｄとの関係を示している。
【００７４】
図４（ａ）に示されているのは、コア３１の屈折率が１．５３、射出側媒質が空気である場合で、テーパ角：θ１＝５０度は全反射角に相当し、テーパ角：θ１がそれより小さくなるにつれて距離：Ｄは増大し、通常伝搬光スポットは、光ファイバプローブの尖端部から数１００ｎｍ〜数ｕｍ程度離れた位置で集光する。これはテーパ角：θ１が小さくなるほど、通常伝搬光射出面での屈折角が小さくなることによる。
【００７５】
また、上記距離：Ｄは、光ファイバプローブのプローブ部２２における近接場光滲出部２２ｂの直径：Ｂと、通常伝搬光射出部２０ａの直径：Ａとの比：Ｂ／Ａにも依存する。この依存関係を図４（ｂ）に示す。この図からわかるように、直径比：Ｂ／Ａを０．２５以下とすることで通常伝搬光スポットを、光ファイバプローブの先端から離れた位置に形成できることがわかる。
【００７６】
Ｂ／Ａが大きくなることは、近接場光滲出部の直径：Ｂが大きくなることを意味するが、近接場光滲出部の円錐形状のテーパ角：θ２は全反射角以上を要することから、直径：Ｂが大きくなることは、上記円錐形状の高さが高くなって、通常伝搬光スポットに近づくため、上記距離：Ｄが小さくなるのである。
【００７７】
Ｂ／Ａが０．２５以下ということは、近接場光滲出部２０ｂと通常伝搬光射出面２０ａとの面積比では０．０８程度となり、通常伝搬光をそのまま射出させてしまうと、被検面で反射あるいは散乱された通常伝搬光が、近接場光による検査にノイズとして作用して、近接場光による検査のＳ／Ｎ比を大幅に低下させるが、この発明の検査方法・検査装置では、近接場光スポットによる被検面の走査に際しては、通常伝搬光射出部からの通常伝搬光の射出を特定偏光成分透過手段により制限して「遮断したり減少させたりする」ので上記の如きＳ／Ｎ比の大幅な低下を有効に軽減もしくは防止することができるのである。
【００７８】
具体的な例として、通常伝搬光射出面のテーパ各：θ１を１１度とし、ワイヤグリッドＷＧを、Ａｕ薄膜の微細加工により、図２（ｃ）におけるｐ＝２００ｎｍ、ｗ＝１２０ｎｍ、ｈ＝１５０ｎｍとし、波長：６３３ｎｍの入射光を通常伝搬光射出面に入射させた場合、互いに直交する偏光に対して、射出光の消光比は１００程度となる。
【００７９】
近接場光滲出面に形成される被覆層２０ｄと、ワイヤグリッドＷＧを形成する導電性材料とは異なる材質でもかまわないが、光ファイバプローブの生産性向上を図るためには、同一の材質（例えば、上記のＡｕやＡｇ等）とすることが望ましい（請求項７）。同一材料構造にすることで被覆層２０を成膜する際に、通常伝搬光射出面にも同時に成膜し、通常伝搬光射出面に成膜された膜に対して、イオンビームエッチング等の微細加工を行うことで、被覆層２０ｂとワイヤグリッドＷＧとを一連の工程で形成できる。なお、ワイヤグリッドＷＧのワイヤ間の空隙部は、微細構造の機械的強度向上を考慮して「空気以外の誘電体」で充填してもよい。
【００８０】
ワイヤグリッドＷＧの「ワイヤを構成する導電性材料」の反射率が高い（例えば８０％以上）ものであれば良好な偏光制御効果（特定偏光成分のみを透過させる効果）を得ることができる。可視帯域での具体例としては、導電性材料が前述のＡｕである場合、波長：６００ｎｍ以上、Ａｌの場合は波長：７００ｎｍ以下で「良好な偏光制御効果」を実現できる。
【００８１】
但し、通常伝搬光スポットによる検査の際のＳ／Ｎ比向上の観点からすると、導電性材料の材料特性（複素屈折率分散）を考慮し、光透過率が最大もしくはその近傍となる波長を選択することが好ましい。例えば、ワイヤグリッドの導電性材料が前述のＡｕの場合には、光透過率分布は図４（ｃ）のような凸形状を成す。この場合「光透過率が最大もしくはその近傍となる波長」は、光透過率が最大値：Ｔ０の１／２の値：Ｔ１となる波長：λ１１、λ１２間の波長帯の波長であり、例えば「Ａｕによるワイヤグリッド」の場合には波長：５００ｎｍ程度（例えば５３２ｎｍ）の波長の光を選択することが望ましい。
【００８２】
近接場光滲出面に形成される「表面プラズモン伝搬のための被覆層」は、導電性であれば、材料として特に制限はないが、表面プラズモンによる近接場光スポットの増強効果が得られることや「化学的安定性に優れる」ことから「Ａｕ薄膜」とすることが好ましい。
【００８３】
滲出する近接場光の強度には「被覆層の材料に応じた波長依存性」がある。この波長依存性は一般に、図５（ａ）に示す如き「山形」になる。このとき、近接場光強度が最大値：Ｐ０の１／２の値：Ｐ１となる「波長：λ２１とλ２２の間の波長帯」にある波長を選択することにより、高い強度の近接場光スポットを実現できる。  
被覆層をＡｕ薄膜とした場合、上記波長帯は４８０〜７００ｎｍ程度であり、５００ｎｍ付近で最も高い強度をとる。  
以上のことから、良好な偏光制御効果、および高い強度の近接場光スポットの双方を実現するには「通常伝搬光の波長は６００ｎｍ程度（例えば６３３ｎｍ）」であることが好ましい。
【００８４】
近接場光強度はまた、近接場光滲出面のテーパ角：θ２にも依存する。このテーパ角依存性は、一般に図５（ｂ）に示す如き「山形」になる。このとき、近接場光強度が、最大値：Ｐ０の１／２の値：Ｐ１となるテーパ角：θａ、θｂの間のテーパ角を選択することにより、高い強度の近接場光スポットを実現できる。  
被覆層をＡｕ薄膜とし、光源からのレーザ光の波長を６３３ｎｍとした場合、上記テーパ角の好適な範囲は４５度〜５５度の範囲である。
【００８５】
近接場光射出面のテーパ角を４５度〜５５度の範囲とし、被覆層とワイヤグリッドを共にＡｕで形成した場合、高解像度検査を近接場光スポットで行う場合、良好な偏光制御効果と高い強度の近接場光スポットとの双方を実現するには、上記の如く「通常伝搬光の波長は６００ｎｍ程度（例えば６３３ｎｍ）」が好適であるが、通常伝搬光スポットによる低解像度検査を行う際、高い強度の通常伝搬光スポットを形成するためには「通常伝搬光の波長は５００ｎｍ程度（例えば５３２ｎｍ）」であることが好ましい。
【００８６】
従って、検査に使用する通常伝搬光の波長は、低解像度検査のときには５３２ｎｍ、高解像度検査のときには６３３ｎｍに切り替えるのがよい（請求項１９）。
【００８７】
図１、図３に実施の形態を示す検査装置では、これを実施するために「光源１１から放射されるレーザ光の波長を切り替える光波長切換部１７」を有し、低解像度検査を行う場合と高解像度検査を行う場合とで、光源１１から放射されるレーザ光の波長を、各検査に適した波長に切り替えるようにしている。具体的には、光源１１として発光波長の異なる複数のレーザ光源が用意され、光波長切換部１７により、これらのレーザ光源のうちから検査解像度に適したものを選択して発光させるのである。
【００８８】
図６は、光ファイバプローブの変形例を示している。  
この例では、光ファイバプローブの射出側端部のプローブ部における近接場光滲出部２０ｂ１において、近接場光滲出面の全体が被覆層２０ｄ１により被覆されているのではなく、近接場光滲出面をなす円錐面の頂部は、被覆層２０ｄ１により被覆されていない。
【００８９】
このような光ファイバプローブにおいて通常伝搬光射出面のテーパ角：θ１が１１度で、被覆層２０ｄ１を構成する導電材料をＡｌとし、ワイヤグリッドにおけるピッチ：ｐ＝３００ｎｍ、線状部幅：ｗ＝２００ｎｍ、線状部厚み：ｈ＝２００ｎｍとすると、波長：６３３ｎｍの通常伝搬光をワイヤグリッド配列方向に平行な直線偏光とした場合（ワイヤグリッドを透過する偏光状態）と、これに直交する直線偏光とした場合とで、入射光に対する射出光の消光比は１００００となる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】検査装置の実施の１形態を説明するための図である。
【図２】図１の実施の形態における光ファイバプローブを説明するための図である。
【図３】検査装置の実施の別形態を説明するための図である。
【図４】特定偏光成分透過手段の性質を説明するための図である。
【図５】近接場光滲出部の性質を説明するための図である。
【図６】光ファイバプローブの変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００９１】
１      検査装置
２      被検査体
２ａ    被検面
１１    光源
１２    ビームスプリッタ
１３    光ファイバプローブ
１８ａ  １／２波長板
１８ｂ  １／４波長板
１４    光検出器
【図１】
2007155453.tif 000003
【図２】
2007155453.tif 000004
【図３】
2007155453.tif 000005
【図４】
2007155453.tif 000006
【図５】
2007155453.tif 000007
【図６】
2007155453.tif 000008