(57)【要約】      （修正有）【課題】マスクの平坦度を向上して、高精度の露光をすることができ、マスクを適当な拘束力で保持することができる露光装置を提供する。【解決手段】被露光材としての基板を保持するワークステージと、基板に対向配置されるマスクＭを保持するマスクステージ１と、基板に対してパターン露光用の光をマスクＭを介して照射する照射手段と、を備える露光装置であって、マスクステージ１は、マスクＭの少なくとも２辺において、１辺につき複数のブロック溝１６ｂを持った保持部１６によってマスクＭを保持し、マスクＭは、保持部１６に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状である。【選択図】図４
2007101882.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光材としての基板を保持するワークステージと、前記基板に対向配置されるマスクを保持するマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備える露光装置であって、
前記マスクステージは、前記マスクの少なくとも２辺において、１辺につき複数の吸引溝を持った保持部によって前記マスクを保持し、
前記マスクは、前記保持部に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状であることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次露光方式で近接（プロキシミティ）露光転写するのに好適な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置として、図１５に示すように、基板Ｗを載置するためのワークステージ２０１と、ワークステージ２０１の上方に配置される枠状のマスクステージ２０２と、マスクステージ２０２に設けられ、所定のマスクパターンを有するマスクＭを着脱自在に吸着保持する複数個の真空吸着溝２０３と、マスクＭの落下を防止するマスク落下防止手段２０４と、を備える露光装置２００が知られている。この露光装置２００の真空吸着溝２０３は、マスクステージ２０２の開口の４辺にそれぞれ設けられており、マスクＭをマスクステージ２０２の下面に接触させた状態で吸着保持する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
また、従来の露光装置に使用するマスクとしては、平坦度／対角長が６．０×１０−５以下である対角長が５００ｍｍ以上の合成石英ガラスの大型基板を用いたものが知られている。（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１１７２３８号公報（第３頁、第１，２図）
【特許文献２】特開２００３−２９２３４６号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ装置などのフラットパネル型ディスプレイ装置は、近年、大型化の一途を辿っており、これに伴いって、このようなフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタを製造する場合に使用される露光装置も大型化に対応する必要がある。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載の露光装置２００では、マスクステージ２０２に保持されるマスクＭが特許文献２に記載のマスクのように大型化すると、図１６に示すように、マスクステージ２０２に保持されたマスクＭが自重により撓んでしまい。その結果、マスクに形成されたマスクパターンをワークステージ２０１上の基板Ｗに精度良く露光することが困難となる。
【０００７】
上記特許文献１に記載の露光装置２００では、マスクＭをマスクステージ２０２の４辺全周に亘って保持させるため、マスクＭを保持する拘束力が強くなりすぎる虞がある。
【０００８】
また、上記特許文献１に記載の露光装置２００のように、マスクＭをマスクステージ２０２に４辺で保持する場合には、露光装置のマスクステージに一般的に設置されるマスクと基板との対向面間の隙間を測定するギャップセンサや、マスクと基板との平面ずれ量を検出するアライメントカメラや、マスクの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ等の各種電子機器を設置する場所が制限されるという問題があった。
【０００９】
また、マスクＭをマスクステージ２０２に４辺で保持する場合、マスクを保持するための領域が大きくなるので、露光領域が狭くなってしまうという問題があった。
【００１０】
さらに、マスクＭをマスクステージ２０２に４辺で保持する場合、マスクステージの開口の大きさに合うサイズのマスクしか保持することができないので、マスクサイズの制約の少ない露光装置が要望されていた。
【００１１】
本発明は、このような不都合を解消するためになされたものであり、その目的は、マスクの平坦度を向上して、高精度の露光をすることができ、マスクを適当な拘束力で保持することができる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  被露光材としての基板を保持するワークステージと、基板に対向配置されるマスクを保持するマスクステージと、基板に対してパターン露光用の光をマスクを介して照射する照射手段と、を備える露光装置であって、前記マスクステージは、前記マスクの少なくとも２辺において、１辺につき複数の吸引溝を持った保持部によって前記マスクを保持し、マスクは、保持部に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状であることを特徴とする露光装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の露光装置によれば、マスクステージは、マスクの少なくとも２辺において、１辺につき複数の吸引溝を持った保持部によってマスクを保持し、マスクは、保持部に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状であるため、マスクの平坦度を向上することができるので、高精度の露光をすることができる。また、マスクの吸着領域は一辺につき複数箇所に分割されるため、マスクを適当な拘束力で保持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明に係る露光装置の各実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
（第１実施形態）
まず、図１〜図１０を参照して、本発明に係る露光装置である分割逐次露光装置の第１実施形態について説明する。
図１は本発明に係る分割逐次露光装置の第１実施形態を説明するための一部分解斜視図、図２は図１に示すマスクステージの拡大斜視図、図３の（ａ）は図２のＡ−Ａ線断面図、（ｂ）は（ａ）のマスク位置調整手段の上面図、図４は図２に示すマスクステージの下面図、図５はアライメントカメラと該アライメントカメラのピント調整機構の基本構造を示す側面図、図６はワーク側アライメントマークの照射光学系を説明するための説明図、図７はアライメント画像のフォーカス調整機構を示す構成図、図８は図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図、図９は図１に示す分割逐次近接露光装置の電気的構成を示すブロック図、図１０はワーク側アライメントマークとマスク側アライメントマークの整合を説明するための説明図である。
【００１６】
図１に示すように、本実施形態の分割逐次露光装置ＰＥは、マスクＭを保持するマスクステージ１と、ガラス基板（被露光材）Ｗを保持するワークステージ２と、パターン露光用の照射手段としての照明光学系３と、マスクステージ１及びワークステージ２を支持する装置ベース４と、を備えている。
【００１７】
なお、ガラス基板Ｗ（以下、単に「基板Ｗ」という。）は、マスクＭに対向配置されており、このマスクＭに描かれたマスクパターンＰを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面）に感光剤が塗布されて透光性とされている。
【００１８】
説明の便宜上、照明光学系３から説明すると、照明光学系３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ３１と、この高圧水銀ランプ３１から照射された光を集光する凹面鏡３２と、この凹面鏡３２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ３３と、平面ミラー３５，３６及び球面ミラー３７と、この平面ミラー３６とオプチカルインテグレータ３３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター３４と、を備えている。
【００１９】
露光時に露光制御用シャッター３４が開制御されると、高圧水銀ランプ３１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経て、マスクステージ１に保持されるマスクＭひいてはワークステージ２に保持される基板Ｗの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクＭのマスクパクーンＰが基板Ｗ上に露光転写されるようになっている。
【００２０】
次に、マスクステージ１及びワークステージ２の順に説明する。初めに、マスクステージ１はマスクステージベース１０を備えており、このマスクステージベース１０は装置ベース４から突設されたマスクステージ支柱１１に支持されてワークステージ２の上方に配置されている。
【００２１】
マスクステージベース１０は、図２に示すように、略矩形形状とされて中央部に開口１０ａを有しており、この開口１０ａにはマスク保持枠１２がＸ，Ｙ方向に移動可能に装着されている。
【００２２】
マスク保持枠１２は、図３（ａ）に示すように、その上端外周部に設けられたフランジ１２ａをマスクステージベース１０の開口１０ａ近傍の上面に載置し、マスクステージベース１０の開口１０ａの内周との間に所定のすき間を介して挿入されている。これにより、マスク保持枠１２は、このすき間分だけＸ，Ｙ方向に移動可能となる。
【００２３】
このマスク保持枠１２の下面には、図３及び図４に示すように、マスクＭの対向する２辺を保持する一対のチャック部１６，１６が間座２０を介して固定されており、マスク保持枠１２とともにマスクステージベース１０に対してＸ，Ｙ方向に移動可能である。チャック部１６，１６の下面には、マスクパターンＰが描かれているマスクＭのＸ方向に対向する２辺を吸着するための複数の吸引ノズル１６ａが所定間隔で開設されており（図はノズル孔を示す。）、チャック部１６，１６は本発明の保持部（チャック装置）を構成している。各チャック部１６の下面には、吸引ノズル１６ａをそれぞれ囲う吸引溝であるボックス溝１６ｂが一辺につき複数設けられており、マスクＭが吸引される１辺における吸引領域は分割されている。これにより、マスクＭは吸引ノズル１６ａを介して真空式吸着装置（図示せず。）によりチャック部１６，１６に２辺で着脱自在に保持される。
【００２４】
マスクＭは、チャック部１６，１６に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状、即ち、重力が作用していない無重力状態（或いは縦置き状態）において上側が凸状に形成される略椀型形状を有しており（図３（ａ）の一点鎖線）、チャック部１６，１６にチャックされた状態では、重力の作用により平面全域に亘ってフラットな形状で保持されている（図３（ａ）の実線）。
【００２５】
また、マスクステージベース１０の上面には、図２において、後述のアライメントカメラ１５による検出結果、又は後述するレーザ測長装置６０による測定結果に基づき、マスク保持枠１２をＸＹ平面内で移動させて、このマスク保持枠１２に保持されたマスクＭの位置及び姿勢を調整するマスク位置調整手段１３が設けられている。
【００２６】
マスク位置調整手段１３は、マスク保持枠１２のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＸ軸方向駆動装置１３ｘと、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられた二台のＹ軸方向駆動装置１３ｙと、を備えている。
【００２７】
Ｘ軸方向駆動装置１３ｘは、Ｘ軸方向に伸縮するロッド１３１ｒを有する駆動用アクチュエータ（例えば、電動アクチュエータ等）１３１と、マスク保持枠１２のＹ軸方向に沿う辺部に取り付けられたリニアガイド（直動軸受案内）１３３と、を備えている。リニアガイド１３３の案内レール１３３ｒは、Ｙ軸方向に延びてマスク保持枠１２に固定される。また、案内レール１３３ｒに移動可能に取り付けられたスライダ１３３ｓは、マスクステージベース１０に固設されたロッド１３１ｒの先端に、ピン支持機構１３２を介して連結されている。
【００２８】
一方、Ｙ軸方向駆動装置１３ｙも、Ｘ軸方向駆動装置１３ｘと同様の構成であって、Ｙ軸方向に伸縮するロッド１３１ｒを有する駆動用アクチュエータ（例えば、電動アクチュエータ等）１３１と、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う辺部に取り付けられたリニアガイド（直動軸受案内）１３３と、を備えている。リニアガイド１３３の案内レール１３３ｒはＸ軸方向に延びてマスク保持枠１２に固定されている。また、案内レール１３３ｒに移動可能に取り付けられたスライダ１３３ｓは、ロッド１３１ｒの先端にピン支持機構１３２を介して連結されている。そして、Ｘ軸方向駆動装置１３ｘによりマスク保持枠１２のＸ軸方向の調整を、二台のＹ軸方向駆動装置１３ｙによりマスク保持枠１２のＹ軸方向及びθ軸方向（Ｚ軸まわりの揺動）の調整を行う。
【００２９】
さらに、マスク保持枠１２のＸ軸方向に互いに対向する二辺の内側には、図２に示すように、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を測定する手段としてのギャップセンサ１４と、マスクＭと位置合わせ基準との平面ずれ量を検出する手段としてのアライメントカメラ１５とが配設されている。このギャップセンサ１４及びアライメントカメラ１５は、共に移動機構１９を介してＸ軸方向に移動可能とされている。
【００３０】
移動機構１９は、マスク保持枠１２のＸ軸方向に互いに対向する二辺の上面側にはそれぞれギャップセンサ１４及びアライメントカメラ１５を保持する保持架台１９１がＹ軸方向に延びて配置されており、この保持架台１９１のＹ軸方向駆動装置１３ｙから離間する側の端部はリニアガイド１９２によって支持されている。リニアガイド１９２は、マスクステージベース１０上に設置されてＸ軸方向に沿って延びる案内レール１９２ｒと、案内レール１９２ｒ上を移動するスライダ（図示せず。）とを備えており、このスライダに保持架台１９１の端部が固定されている。
【００３１】
そして、スライダをモータ及びボールねじからなる駆動用アクチュエータ１９３によって駆動することにより、保持架台１９１を介してギャップセンサ１４及びアライメントカメラ１５がＸ軸方向に移動するようになっている。
【００３２】
アライメントカメラ１５は、図５に示すように、マスクステージ１の下面に保持されているマスクＭの表面のマスク側アライメントマーク１０１をマスク裏面側から光学的に検出するものであり、ピント調整機構１５１によりマスクＭに対して接近離間移動してピント調整がなされるようになっている。
【００３３】
ピント調整機構１５１は、リニアガイド１５２，ボールねじ１５３，モータ１５４を備えている。リニアガイド１５２には、案内レール１５２ｒとスライダ１５２ｓを備えており、このうち案内レール１５２ｒはマスクステージ１の移動機構１９の保持架台１９１に上下方向に延びて取り付けられている一方、このリニアガイド１５２のスライダ１５２ｓにはアライメントカメラ１５がテーブル１５２ｔを介して固定されている。そして、ボールねじ１５３のねじ軸に螺合されたナットをテーブル１５２ｔに連結すると共に、そのねじ軸をモータ１５４で回転駆動するようにしている。
【００３４】
また、本実施形態では、図６に示すように、ワークステージ２に設けてあるワークチャック８の下方には、光源７８１及びコンデンサーレンズ７８２を有してワーク側アライメントマーク１００を下から投影する投影光学系７８がアライメントカメラ１５の光軸に合わせてＺ軸微動ステージ２４と一体に配設されている。なお、ワークステージ２、Ｙ軸送り台５２には投影光学系７８の光路に対応する貫通孔が形成されている。
【００３５】
さらに、本実施形態では、図７に示すように、マスクＭのマスク側アライメントマーク１０１を有する面（マスクマーク面Ｍｍ）位置を検出してアライメントカメラ１５のピントずれを防止するアライメント画像のベストフォーカス調整機構１５０を設けている。このベストフォーカス調整機構１５０は、アライメントカメラ１５及びピント調整機構１５１に加えて、ピントずれ検出手段としてギャップセンサ１４を利用している。即ち、このギャップセンサ１４で計測したマスク下面位置の計測値を、制御装置８０で予め設定したピント位置と比較して差を求め、その差から設定ピント位置からの相対ピント位置変化量を計算し、この計算変化量に応じてピント調整機構１５１のモータ１５４を制御してアライメントカメラ１５を移動させ、これによりアライメントカメラ１５のピントを調整するようにしている。
【００３６】
このベストフォーカス調整機構１５０を用いることにより、マスクＭの板厚変化や板厚のばらつきとは無関係に、アライメント画像の高精度のフォーカス調整が可能となる。すなわち、複数種類のマスクＭを交換して使用する場合に、個々のマスクの厚さが異なる場合でも常に適正なピントを得ることができる。なお、ピント調整機構１５１、投影光学系７８、ベストフォーカス調整機構１５０等は、１層目分割パターンのアライメントの高精度化に対応するものであるばかりでなく、２層目以降のアライメントの高精度化にも寄与するものであり、また、マスクＭの厚さがわかっていれば、ベストフォーカス調整機構１５０を省略して厚さに応じてピント調整機構を動かすようにしても良い。
【００３７】
なお、マスクステージベース１０の開口１０ａのＹ軸方向の両端部にはマスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ（遮蔽板）１７がマスクＭより上方に位置して配置されており、このマスキングアパーチャ１７はモータ，ボールねじ及びリニアガイドよりなるマスキングアパーチャ駆動装置１８によりＹ軸方向に移動可能とされてマスクＭの両端部の遮蔽面積を調整できるようになっている。
【００３８】
次に、ワークステージ２は、装置ベース４上に設置されており、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に調整するＺ軸送り台（ギャップ調整手段）２Ａと、このＺ軸送り台２Ａ上に配設されてワークステージ２をＸＹ軸方向に移動させるワークステージ送り機構２Ｂと、を備えている。
【００３９】
Ｚ軸送り台２Ａは、図８に示すように、装置ベース４上に立設された上下粗動装置２１によってＺ軸方向に粗動可能に支持されたＺ軸粗動ステージ２２と、このＺ軸粗動ステージ２２の上に上下微動装置２３（図１参照。）を介して支持されたＺ軸微動ステージ２４と、を備えている。上下粗動装置２１には、例えばモータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリングが用いられており、単純な上下動作を行うことにより、Ｚ軸粗動ステージ２２を予め設定した位置まで、マスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる。
【００４０】
一方、図１に示す上下微動装置２３は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、本実施形態では、例えば、Ｚ軸粗動ステージ２２の上面に設置したモータ２３１によってボールねじのねじ軸２３２を回転駆動させるようにすると共にボールねじナット２３３をくさび状に形成してそのくさび状ナット２３３の斜面をＺ軸微動ステージ２４の下面に突設したくさび２４１の斜面と係合させ、これにより、可動くさび機構を構成している。
【００４１】
そして、ボールねじのねじ軸２３２を回転駆動させると、くさび状ナット２３３がＹ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が両くさび２３３，２４１の斜面作用により高精度の上下微動運動に変換される。
【００４２】
この可動くさび機構からなる上下微動装置２３は、Ｚ軸微動ステージ２４のＹ軸方向の一端側（図１の手前側）に２台、他端側に１台（図示せず）、合計３台設置されており、それぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置２３は、チルト機能も兼ね備えていることになり、３台のギャップセンサ１４によるマスクＭと基板Ｗとのすき間の測定結果に基づき、マスクＭと基板Ｗとが平行かつ所定のすき間を介して対向するように、Ｚ軸微動ステージ２４の高さを微調整するようになっている。なお、上下粗動装置２１及び上下微動装置２３はＹ軸送り台５２の部分に設けるようにしてもよい。
【００４３】
ワークステージ送り機構２Ｂは、図８に示すように、Ｚ軸微動ステージ２４の上面に、Ｙ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＸ軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド４１と、このリニアガイド４１のスライダ４１ａに取り付けられたＸ軸送り台４２と、Ｘ軸送り台４２をＸ軸方向に移動させるＸ軸送り駆動装置４３と、を備えており、Ｘ軸送り駆動装置４３のモータ４３１によって回転駆動されるボールねじ軸４３２に螺合されたボールねじナット４３３にＸ軸送り台４２が連結されている。
【００４４】
また、このＸ軸送り台４２の上面には、Ｘ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＹ軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド５１と、このリニアガイド５１のスライダ５１ａに取り付けられたＹ軸送り台５２と、Ｙ軸送り台５２をＹ軸方向に移動させるＹ軸送り駆動装置５３と、を備えており、Ｙ軸送り駆動装置５３のモータ５３１によって回転駆動するボールねじ軸５３２に螺合されたボールねじナット（図示せず）に、Ｙ軸送り台５２が連結されている。このＹ軸送り台５２の上面には、ワークステージ２が取り付けられている。
【００４５】
そして、ワークステージ２のＸ軸，Ｙ軸位置を検出する移動距離測定部としてのレーザ測長装置６０が、装置ベース４に設けられている。上記のように構成されたワークステージ２では、ボールねじやリニアガイド自体の形状等の誤差や、これらの取り付け誤差などに起因し、ワークステージ２の移動に際し、位置決め誤差、ヨーイング、真直度などの発生は不可避である。そこで、これらの誤差の測定を目的とするのがこのレーザ測長装置６０である。このレーザ測長装置６０は、図１に示すように、ワークステージ２のＹ軸方向端部に対向して設けレーザを備えた一対のＹ軸干渉計６２，６３と、ワークステージ２のＸ軸方向端部に設けレーザを備えた一つのＸ軸干渉計６４と、ワークステージ２のＹ軸干渉計６２，６３と対向する位置に配設されたＹ軸用ミラー６６と、ワークステージ２のＸ軸干渉計６４と対向する位置に配設されたＸ軸用ミラー６８と、で構成されている。
【００４６】
このように、Ｙ軸方向について２台のＹ軸干渉計６２，６３を設けることにより、ワークステージ２のＹ軸方向位置の情報のみでなく、Ｙ軸干渉計６２と６３の位置データの差分によりヨーイング誤差を知ることもできる。Ｙ軸方向位置については、両者の平均値に、ワークステージ２のＸ軸方向位置、ヨーイング誤差を加味して適宜、補正を加えることにより算出することができる。
【００４７】
そして、ワークステージ２のＸＹ方向位置やＹ軸送り台５２、ひいては前の分割パターンの露光に続いて次の分割パターンをつなぎ露光する際に、基板Ｗを次のエリアに送る段階で、各干渉計６２〜６４より出力する検出信号を、図９に示すように、制御装置８０に入力するようにしている。この制御装置８０は、この検出信号に基づいて分割露光のためのＸＹ方向の移動量を調整するためにＸ軸送り駆動装置４３及びＹ軸送り駆動装置５３を制御すると共に、Ｘ軸干渉計６４による検出結果及びＹ軸干渉計６２，６３による検出結果に基づき、つなぎ露光のための位置決め補正量を算出して、その算出結果をマスク位置調整手段１３（及び必要に応じて上下微動装置２３）に出力する。これにより、この補正量に応じてマスク位置調整手段１３等が駆動され、Ｘ軸送り駆動装置４３又はＹ軸送り駆動装置５３による位置決め誤差、真直度誤差、及びヨーイング等の影響が解消される。
【００４８】
また、ワークステージ２の送りに際する誤差が全くないときでも、最初の状態でマスクＭのマスクパターンＰの向きがワークステージ２の送り方向とずれていると、分割逐次露光により基板Ｗ上に形成される各パターンが傾いた状態で形成されてしまったり、つなぎ露光で基板Ｗ上に分割形成されたパターン同士の継ぎ目がずれて整合しない。
【００４９】
また、上述したようにマスクＭは真空式吸引装置を介してチャック部１６の下面に吸着保持させるのであるが、この吸着保持させる際にマスクＭのマスクパターンＰの向きとワークステージ送り機構２Ｂによるワークステージ２の移動方向とを精度よく合わせることは困難である。
【００５０】
例えば、図１０（ａ）に示すように、最初の位置において角度θ分傾いた状態で露光されると、送り誤差が全くない場合でも、次の位置での露光パターンは２点鎖線で示すように同様に傾いた状態で形成される。
【００５１】
そこで、本実施形態では、図１０に示すように、ワークステージ２（実際にはワークステージ２上に設置されているワークチャック８）の上面の少なくとも２か所に、例えば十字形状(レチクル)を有するワーク側アライメントマーク１００をＸ軸方向に互いに離間して形成する。一方、マスクＭの方には、ワーク側アライメントマーク１００に対応させたマスク測アライメントマーク１０１を形成する。基準側である２ケ所のアライメントマーク１００の中心同士を結ぶ線は、最初の状態（基準位置）においてＸ軸方向と一致し、Ｙ軸方向と直交するように予め調整されている。
【００５２】
そして、図１０（ｂ）に示すように、最初の状態（基準位置）において、アライメントカメラ１５により、アライメントマーク１００と１０１との位置ずれ量を検出し、Ｘ軸方向駆動装置１３ｘ及びＹ軸方向駆動装置１３ｙによってマスク保持枠１２の位置を調整することにより、ワーク側アライメントマーク１００とマスク側アライメントマーク１０１との中心同士が実質的にＸＹ平面内で一致して整合するようにしている。
【００５３】
また、ワーク側アライメントマーク１００とマスク側アライメントマーク１０１との整合については、アライメントマーク検出手段であるアライメントカメラ１５によって高精度にかつ容易に行えるように構成している。
【００５４】
なお、本実施形態の制御装置８０は、露光制御シャッター３４の開制御、ワークステージ２の送り制御、レーザ干渉計６２〜６４の検出値に基づく補正量の演算、マスク位置調整手段１３の駆動制御の他に、アライメント調整時の補正量の演算、Ｚ軸送り台（ギャップ調整手段）２Ａの駆動制御、ワーク自動供給装置（図示せず。）の駆動制御等、分割逐次近接露光装置に組み込まれた殆どのアクチュエータの駆動及び所定の演算処理を、マイクロコンピュータやシーケンサ等を用いたシーケンス制御を基本として実行する。
【００５５】
従って、本実施形態の分割逐次露光装置ＰＥによれば、マスクステージ１は、マスクＭの対向する２辺を保持するチャック部１６，１６を有し、マスクＭは、チャック部１６，１６に保持された時、自重でたわんだ状態でほぼ平面になるような湾曲形状であるため、マスクＭの平坦度を向上することができるので、高精度の露光をすることができる。また、マスクステージ１は、マスクＭの少なくとも２辺において、１辺につき複数のブロック溝１６ｂを持ったチャック部１６，１６によってマスクＭを保持することで、マスクＭの吸着領域が一辺につき複数箇所に分割されるため、マスクＭを適当な拘束力で保持することができる。なお、図１１に示すように、マスクステージ１がマスクＭの４辺を保持するチャック部１６’を有するような場合でも、１辺につき複数のブロック溝１６ｂを備えることで、上記効果を奏することができる。
【００５６】
さらに、マスクＭをチャック部１６，１６に２辺で保持させるため、マスクステージ１の開口１０ａの周縁のスペースを有効に利用することができるので、各種電子機器を設置する自由度を向上することができる。また、マスクＭをチャック部１６，１６に２辺で保持させるため、マスクＭのマスクパターンＰを設ける領域を大きくすることができるので、マスクＭの露光領域を大きくすることができる。さらに、マスクＭをチャック部１６，１６に２辺で保持させるため、マスクＭのチャック部１６に保持されない側の２辺の長さを自由に変更することができるので、マスクサイズの制約を少なくすることができる。なお、図１２に示すように、１辺に複数開設された吸引ノズル１６ａを一つのボックス溝１６ｂで囲うチャック部１６の構成の場合にも、マスクＭを２辺で保持することによる上記効果を奏する。
【００５７】
（第２実施形態）
次に、図１３を参照して、本発明に係る露光装置である分割逐次露光装置の第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については、図面に同一符号を付してその説明を省略或いは簡略化する。
図１３は本発明に係る分割逐次露光装置の第２実施形態のマスクステージの下面図である。
【００５８】
本実施形態のマスク保持枠１２は、図１３に示すように、その下面にマスクＭの対向する２辺を３点で保持する一対のチャック部９０Ｌ，９０Ｒを備える。チャック部９０Ｌの下面には、マスクＭのＸ方向に対向する２辺の一方を吸着保持する吸引ノズル９１Ｌが２個開設され、チャック部９０Ｒの下面には、マスクＭのＸ方向に対向する２辺の他方を吸着保持する吸引ノズル９１Ｒが１個開設される。また、吸引ノズル９１Ｌは、マスクＭのＸ方向に対向する２辺の一方の辺の両端部を吸着保持するように配置され、吸引ノズル９１Ｒは、マスクＭのＸ方向に対向する２辺の他方の辺の中央部を吸着保持するように配置されている。各吸引ノズル９１Ｌ，９１Ｒは、それぞれチャック部９０Ｌ，９０Ｒの下面に形成された吸引溝であるブロック溝９２Ｌ，９２Ｒに開口している。
その他の構成及び作用効果については、上記した第１実施形態と同様である。
【００５９】
（第３実施形態）
次に、図１４を参照して、本発明に係る露光装置である分割逐次露光装置の第３実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同一又は同等部分については、図面に同一符号を付してその説明を省略或いは簡略化する。
図１４は本発明に係る分割逐次露光装置の第３実施形態のマスクステージの下面図である。
【００６０】
本実施形態のマスク保持枠１２は、図１４に示すように、その下面にマスクＭの対向する２辺を多点で保持する一対のチャック部９５，９５を備える。チャック部９５，９５は、マスクステージベース１０ａに固定されるチャックベース９６と、このチャックベース９６にボルト締めで固定される３個の吸着ブロック９７と、を有し、吸着ブロック９７は、チャックベース９６のＹ方向の中央部及び両端部にそれぞれ配置される。また、吸着ブロック９７の下面には、マスクＭを吸着保持する吸引ノズル９８が１個ずつ開設されている。これらの吸引ノズル９８はそれぞれ吸着ブロック９７の下面に形成された吸引溝であるブロック溝９９に開口している。
【００６１】
なお、本実施形態では、チャックベース９６に個別に固定される吸着ブロック９７，９７・・・の全体の平坦度を均一に確保するため、チャックベース９６に仮固定した各吸着ブロック９７を所定の平面度を有する基準面ブロックに吸着保持（位置決め固定）させて、各吸着ブロック９７に一様な所定の平坦度を得させたのち本固定する。
その他の構成及び作用効果については、上記した第１実施形態と同様である。
【００６２】
なお、本発明は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良等が可能である。
例えば、本実施形態では、Ｘ，Ｙ方向の湾曲形状に形成されるマスク使用する場合を例示したが、これに限定されず、Ｘ方向の湾曲形状に形成されるマスクを使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明に係る分割逐次露光装置の第１実施形態を説明するための一部分解斜視図である。
【図２】図１に示すマスクステージの拡大斜視図である。
【図３】（ａ）は図２のＡ−Ａ線断面図、（ｂ）は（ａ）のマスク位置調整手段の上面図である。
【図４】図２に示すマスクステージの下面図である。
【図５】アライメントカメラと該アライメントカメラのピント調整機構の基本構造を示す側面図である。
【図６】ワーク側アライメントマークの照射光学系を説明するための説明図である。
【図７】アライメント画像のフォーカス調整機構を示す構成図である。
【図８】図１に示す分割逐次近接露光装置の正面図である。
【図９】図１に示す分割逐次近接露光装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図１０】ワーク側アライメントマークとマスク側アライメントマークの整合を説明するための説明図である。
【図１１】チャック部の変形例であるマスクステージの下面図である。
【図１２】チャック部の他の変形例であるマスクステージの下面図である。
【図１３】本発明に係る分割逐次露光装置の第２実施形態のマスクステージの下面図である。
【図１４】本発明に係る分割逐次露光装置の第３実施形態のマスクステージの下面図である。
【図１５】従来の露光装置を説明するための断面図である。
【図１６】図１５に示す露光装置のマスクの保持状態を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００６４】
ＰＥ          分割逐次露光装置（露光装置）
Ｗ          ガラス基板（被露光材、基板）
Ｍ          マスク
Ｐ          マスクパターン
１          マスクステージ
２          ワークステージ
２Ａ        Ｚ軸送り台（ギャップ調整手段）
２Ｂ        ワークステージ送り機構
３          照明光学系（照射手段）
４          装置ベース
８          ワークチャック
１０          マスクステージベース
１２          マスク保持枠
１３          マスク位置調整手段
１３ｘ        Ｘ軸方向駆動装置
１３ｙ        Ｙ軸方向駆動装置
１４          ギャップセンサ（ピントずれ検出手段）
１５          アライメントカメラ
１６          チャック部（保持部）
１６ａ        吸引ノズル
１９          移動機構
２１          上下粗動装置
２２          Ｚ軸粗動ステージ
２３          上下微動装置
２４          Ｚ軸微動ステージ
６０          レーザ測長装置
６２，６３    Ｙ軸干渉計（レーザ干渉計）
６４          Ｘ軸干渉計（レーザ干渉計）
６６          Ｙ軸用ミラー
６８          Ｘ軸用ミラー
７８          投影光学系
８０          制御装置
１００        ワーク側アライメントマーク
１０１        マスク側アライメントマーク
１５０        ベストフォーカス調整機構
１５１        ピント調整機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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