(57)【要約】【課題】広範囲に渡る欠陥領域を迅速に除去すると共に、欠陥除去に係る品質低下を防止し、欠陥除去に係る費用的負担を軽減することを可能とする欠陥除去装置等を提供する【解決手段】欠陥除去装置１は、Ｘ方向位置決め機構１５、Ｙ方向位置決め機構１６、θ方向位置決め機構１８を制御し、基板３と吸引装置７との相対的位置決めを行う。欠陥除去装置１は、欠陥領域３３内の吸引点３５の位置に吸引装置７のノズル９を移動させる。欠陥除去装置１は、Ｚ方向位置決め機構１７を制御し、ノズル９を欠陥領域３３にある着色剤２７に接触あるいは接近させる。欠陥除去装置１は、真空発生装置１１を駆動して真空を発生させ、ノズル９から欠陥領域３３にある着色剤２７を硬化前に吸引する。【選択図】図１
2007108196.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布剤が塗布された基板の欠陥を除去する欠陥除去装置であって、
吸引力を発生する吸引装置と、
塗布剤を吸引する吸引ノズルと、を具備し、
前記塗布剤の硬化前に、前記吸引ノズルから欠陥箇所の塗布剤を吸引することを特徴とする欠陥除去装置。
【請求項２】
前記吸引ノズルと前記基板との間隔を調整する間隔調整手段と、
前記基板における基準位置を検出する基準位置検出手段と、
前記基板を撮像して画像処理を行い前記欠陥の位置を特定する欠陥位置特定手段と、
前記基準位置及び前記欠陥の位置に基づいて、前記吸引ノズルと前記基板とを相対的に位置決めする相対的位置決め手段と、
を具備することを特徴とする請求項１に記載の欠陥除去装置。
【請求項３】
前記吸引ノズルにおける前記塗布剤の固着を防止する固着防止手段を具備することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の欠陥除去装置。
【請求項４】
塗布剤が塗布された基板の欠陥を除去する欠陥除去方法であって、
前記塗布剤の硬化前に、吸引ノズルから欠陥箇所の塗布剤を吸引することを特徴とする欠陥除去方法。
【請求項５】
前記吸引ノズルと前記基板との間隔を調整する間隔調整工程と、
前記基板における基準位置を検出する基準位置検出工程と、
前記基板を撮像して画像処理を行い前記欠陥の位置を特定する欠陥位置特定工程と、
前記基準位置及び前記欠陥の位置に基づいて、前記吸引ノズルと前記基板とを相対的に位置決めする相対的位置決め工程と、
を具備することを特徴とする請求項４に記載の欠陥除去方法。
【請求項６】
前記吸引ノズルにおける前記塗布剤の固着を防止する固着防止工程を具備することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の欠陥除去方法。
【請求項７】
基板上に着色層を有するカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法であって、
前記基板上に着色剤を塗布して前記着色層を形成する工程と、
前記着色剤の硬化前に、吸引ノズルから欠陥箇所の着色剤を吸引する工程と、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。
【請求項８】
前記吸引ノズルと前記基板との間隔を調整する間隔調整工程と、
前記基板における基準位置を検出する基準位置検出工程と、
前記基板を撮像して画像処理を行い前記欠陥の位置を特定する欠陥位置特定工程と、
前記基準位置及び前記欠陥の位置に基づいて、前記吸引ノズルと前記基板とを相対的に位置決めする相対的位置決め工程と、
を具備することを特徴とする請求項７に記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項９】
前記吸引ノズルにおける前記着色剤の固着を防止する固着防止工程を具備することを特徴とする請求項７または請求項８に記載のカラーフィルタ製造方法。
【請求項１０】
請求項４から請求項６までのいずれかに記載の欠陥除去方法により欠陥除去されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１１】
２枚１組の基板を貼合し当該基板間に液晶が封入されて構成される液晶素子であって、
前記基板は請求項４から請求項６までのいずれかに記載の欠陥除去方法により欠陥が除去されたカラーフィルタを含むことを特徴とする液晶素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に用いられる液晶素子、液晶素子を構成するカラーフィルタ、カラーフィルタ等の欠陥を除去する欠陥除去装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に液晶ディスプレイにおけるカラーフィルタのパターンを形成する方法として、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法等の各種方法がある。
しかしながら、上記の方法はいずれもＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色について同一工程を繰り返す必要があるので、コスト、歩留まり等の面で問題点がある。
そこで、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のインクをインクジェット方式により基板上に吐出して着色層パターンを形成するパターン形成装置が提案されている（例えば、［特許文献１］参照。）。
このインクジェット方式によれば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のパターン形成を一度の工程により行い、製造工程を簡素化することができるので、コストの低減、歩留まりの向上等を図ることができる。
【０００３】
また、着色剤を塗布して形成した着色層に欠陥が生じた場合、着色剤の硬化後にＹＡＧレーザを照射して欠陥箇所の着色剤を焼き飛ばし、欠陥を除去する。欠陥を除去した箇所に再度着色剤を塗布して欠陥を修正する。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３６１８５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のフォトリソグラフィ方式により形成されるカラーフィルタの着色層の欠陥は小領域で発生するが、インクジェット方式により形成されるカラーフィルタの着色層の欠陥は大領域で発生する場合が多い。
従来のレーザ照射による欠陥除去方法で用いられるレーザのスポット径は、最大で１００μｍ角である。従って、一度の照射で除去可能な領域が小さく、欠陥除去に相当の時間を要するという問題点がある。
【０００６】
また、従来のレーザ照射による欠陥除去方法では、レーザ照射により溶解して飛散した着色剤が他の箇所に再固着したり、レーザ照射により周囲が熱による変質や変形が生じるという問題点がある。
また、レーザ発生装置が高価であり、費用的負担が増大するという問題点がある。
【０００７】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、広範囲に渡る欠陥領域を迅速に除去すると共に、欠陥除去に係る品質低下を防止し、欠陥除去に係る費用的負担を軽減することを可能とする欠陥除去装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前述した目的を達成するために第１の発明は、塗布剤が塗布された基板の欠陥を除去する欠陥除去装置であって、吸引力を発生する吸引装置と、塗布剤を吸引する吸引ノズルと、を具備し、前記塗布剤の硬化前に、前記吸引ノズルから欠陥箇所の塗布剤を吸引することを特徴とする欠陥除去装置である。
【０００９】
欠陥除去装置は、基板の欠陥（塗布欠陥等）を除去する装置である。欠陥除去装置は、吸引装置の吸引ノズルにより、基板の欠陥領域にある塗布剤を硬化前に吸引して除去する。
塗布剤は、基板を加工する際に用いられる流動性を有する液状物の材料であり、例えば、ＬＣＤ（液晶ディスプレイパネル）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の表示装置に用いられるカラーフィルタのパターン形成に用いられる着色剤、電気回路や有機半導体のパターン形成に用いられる塗布材料である。
【００１０】
また、欠陥除去装置は、基板におけるアライメントマーク等の基準位置を検出し、基板を撮像して画像処理を行い欠陥の位置を特定し、基準位置及び欠陥の位置に基づいて、吸引ノズルと基板とを相対的に位置決めし、吸引ノズルと基板との間隔を調整し、基板の欠陥領域に吸引ノズルを接触あるいは接近させることが望ましい。
【００１１】
また、吸引ノズルにおける塗布剤の固着を防止する固着防止手段を備えることが望ましい。固着防止手段としては、例えば、吸引動作を行った後あるいは吸引動作を行わない間、吸引ノズルを溶剤に浸漬したり、溶剤を含むスポンジにノズルを押し当てたり、当該スポンジでノズルを覆うことにより、付着した塗布剤を溶解して除去させることができる。
また、吸引ノズルに撥水性を持たせて塗布剤の付着を防止するようにしてもよい。
【００１２】
第１の発明では、欠陥除去装置は、硬化前のウェット状態の塗布欠陥領域をノズル吸引することにより、広範囲の欠陥領域を迅速に除去することができる。また、塗布直後に検査を行って迅速に欠陥を除去することができる。また、装置構成を簡素化することができるので、費用的負担及び労力的負担を軽減することができる。
また、欠陥除去装置は、塗布欠陥領域を吸引するので、レーザ照射による欠陥除去のように、再固着物による新たな欠陥が生じることがなく、熱による変質や変形が生じることもない。
【００１３】
第２の発明は、塗布剤が塗布された基板の欠陥を除去する欠陥除去方法であって、前記塗布剤の硬化前に、吸引ノズルから欠陥箇所の塗布剤を吸引することを特徴とする欠陥除去方法である。
【００１４】
第２の発明は、第１の発明の欠陥除去装置による欠陥除去方法に関する発明である。
【００１５】
第３の発明は、基板上に着色層を有するカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法であって、前記基板上に着色剤を塗布して前記着色層を形成する工程と、前記着色剤の硬化前に、吸引ノズルから欠陥箇所の着色剤を吸引する工程と、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法である。
第３の発明は、第２の発明の欠陥除去方法により欠陥除去されて製造されるカラーフィルタの製造方法に関する発明である。
【００１６】
第４の発明は、第２の発明の欠陥除去方法により欠陥除去されたカラーフィルタである。
【００１７】
第５の発明は、２枚１組の基板を貼合し当該基板間に液晶が封入されて構成される液晶素子であって、前記基板は第２の発明の欠陥除去方法により欠陥が除去されたカラーフィルタを含むことを特徴とする液晶素子である。
第５の発明は、第２の発明の欠陥除去方法により欠陥除去されたカラーフィルタを含む液晶素子に関する発明である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、広範囲に渡る欠陥領域を迅速に除去すると共に、欠陥除去に係る品質低下を防止し、欠陥除去に係る費用的負担を軽減することを可能とする欠陥除去装置等を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照しながら、本発明に係る欠陥除去装置等の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、略同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。
【００２０】
（１．欠陥除去装置１の構成）
最初に、図１を参照しながら、本発明の実施の形態に係る欠陥除去装置１の構成について説明する。
図１は、欠陥除去装置１の概略斜視図である。
尚、Ｘ方向は基板３の搬送方向を示し、Ｙ方向は吸引装置５の移動方向を示し、Ｚ方向は鉛直方向回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は、互いに直角をなす。
【００２１】
欠陥除去装置１は、吸着テーブル５、吸引装置７、真空発生装置１１、Ｘ方向位置決め機構１５、Ｙ方向位置決め機構１６、Ｚ方向位置決め機構１７、θ方向位置決め機構１８、アライメントカメラ２０、ガントリ２１、定盤２２等から構成される。
【００２２】
欠陥除去装置１は、基板３の欠陥を除去する装置である。欠陥除去装置１は、吸引装置７のノズル９により、基板３の欠陥領域３３にある着色剤２７等の塗布剤を硬化前に吸引して除去する。
【００２３】
吸着テーブル５は、基板３（ガラス基板、フィルム基板等）を吸着して固定するテーブルである。基板の吸着は、例えば、吸着テーブルと基板との間の空気を減圧、真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔（図示しない）が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ（図示しない）等により空気の吸引が行われる。
【００２４】
吸引装置７は、基板３の欠陥領域３３にある塗布剤を吸引する装置である。吸引装置７は、Ｙ方向位置決め機構１６を介してガントリ２１に設けられる。吸引装置７は、塗布剤を吸引するノズル９を有する。吸引装置７は、ノズル９から欠陥領域３３にある塗布剤を硬化前に吸引して基板３の欠陥を除去する。
【００２５】
真空発生装置１１は、真空を発生して吸引装置７に吸引力を付与し、吸引装置７が吸引した塗布剤を回収する装置である。吸引装置７が吸引した塗布剤は、流路１３を経て真空発生装置１１に回収される。
【００２６】
Ｘ方向位置決め機構１５、Ｙ方向位置決め機構１６は、直線移動位置決め機構であり、対象物を所定の軸方向に移動させて位置決めする装置である。尚、直線移動位置決め機構としては、汎用のものを用いることができ、例えば、移動用アクチュエータとして、ステップモータ、サーボモータ、リニアモータを用い、ガイド機構として、ＬＭガイド（ＴＨＫ株式会社製）、エアースライド等を用いることができる。
Ｘ方向位置決め機構１５は、吸着テーブル５をＸ方向に移動させて位置決めを行う。
Ｙ方向位置決め機構１６は、吸引装置７をＹ方向に移動させて位置決めを行う。
尚、Ｘ方向に関しては、吸引装置７側にＸ方向位置決め機構１５と同様の移動位置決め機構を設けてもよい。Ｙ方向に関しては、吸着テーブル５側にＹ方向位置決め機構１６と同様の移動位置決め機構を設けてもよい。
【００２７】
θ方向位置決め機構１８、回転位置決め機構であり、対象物を軸回転させて位置決めする装置である。尚、回転位置決め機構としては、汎用のものを用いることができる、例えば、ダイレクトドライブモータ等を用いることができる。
θ方向位置決め機構１８は、吸着テーブル５をθ方向に回転させて位置決めを行う。
【００２８】
アライメントカメラ２０は、吸着テーブル５に吸着固定された基板３のθ方向角度及びＸＹ座標を検出するために、基板３の所定箇所（基板上に形成されるアライメントマーク（図示しない）等）を撮像するカメラである。アライメントカメラ２０の撮像画像は、欠陥除去装置１のアライメント部（図示しない）に入力される。
尚、アライメントカメラ２０は、欠陥除去装置１のフレーム（図示しない）に固定支持される。
【００２９】
アライメント部（図示しない）は、撮像画像に基づいて基板３のθ方向角度及びＸＹ座標を抽出する処理を行う。アライメント部（図示しない）は、抽出したデータを所定のデータと比較してそれらの偏差を算出し、偏差を小さくするように制御量を演算する。アライメント部（図示しない）は、Ｘ方向位置決め機構１５、Ｙ方向位置決め機構１６、Ｚ方向位置決め機構１７、θ方向位置決め機構１８に対してそれぞれの制御量を出力し、基板３、吸引装置７の位置制御を行う。
このように、欠陥除去装置１は、アライメントカメラ２０の撮像画像に基づいて、基板３、吸引装置７が所定のθ方向角度、所定のＸＹ座標となるように制御する。
【００３０】
（２．吸引装置７のノズル９）
次に、図２〜図４を参照しながら、吸引装置７のノズル９について説明する。
【００３１】
（２−１．吸引動作）
図２は、吸引装置７のノズル９の吸引動作を示す図である。
図２に示す基板３は、カラーフィルタであり、ガラス等の基材２３にブラックマトリクス２５及び着色層２６等が形成される。基板３は、欠陥領域３３を有する。
吸引装置７は、着色剤２７の硬化前にノズル９のノズル口２９から欠陥領域３３にある着色剤２７を吸引する。尚、欠陥領域３３に溢れ出た着色剤２７のみを吸引することが望ましいが、欠陥である着色剤２７を全て吸引するために、欠陥領域３３を含む該画素内の着色剤２７を吸引し、欠陥でない着色剤２７と共に欠陥である着色剤２７を吸引するようにしてもよい。
【００３２】
（２−２．ノズル９の保護）
図３は、溶剤浸漬による塗布剤の溶解を示す図である。
図４は、溶剤含有スポンジによる塗布剤の溶解を示す図である。
【００３３】
吸引装置７は、吸引動作を行った後、ノズル９を溶剤３０に浸し、ノズル９内で硬化して付着した着色剤２７を溶解して除去する。
図３では、容器３１内の溶剤３０にノズル９を浸漬することにより、硬化して付着した着色剤２７を溶解させる。
図４では、溶剤３０を含むスポンジ３２にノズル９を押し当てたり、当該スポンジでノズル９を覆うことにより、硬化して付着した着色剤２７を溶解させる。
尚、溶剤３０としては、アセトン、ＰＧＭＥＡ（ペグミア）、ＭＥＫ（メチルエーテルケトン）を用いることができる。
【００３４】
吸引装置７は、吸引動作を行った後あるいは吸引動作を行わない間、ノズル９内で硬化して固着した着色剤２７を溶剤３０で溶解して除去する機構を設けることにより、ノズル９の目詰まり等を防止することができる。
また、ノズル９に撥水性を持たせて着色剤２７の付着を防止するようにしてもよい。例えば、ノズルを金属材料で形成し、ノズルの表面にテフロン（登録商標）コーティングを行ったり、ノズルの材料にテフロン（登録商標）樹脂等の撥水性材料を用いる。
【００３５】
（２−３．ノズル９の形態等）
一般に、画素の幅は、６０μｍ〜２００μｍ程度である。従って、様々なカラーフィルタに対応するために、ノズル９の内径は、５０μｍ以下であることが望ましい。また、ノズル９の先端は、画素に接触させる場合は、隣接画素に接しないように、先端をＲ形状や球面状にすることが望ましい。
また、ノズル９の先端の材質に関しては、基板３との接触時に傷等が発生しないように基板３より硬度が低いものが望ましい。また、撥水性を持たせてノズル９の目詰まりを防止するようにしてもよい。
また、除去する材料毎（例えば、塗布剤の種類毎、色毎）に、ノズル９を複数設けて使い分けるようにしてもよい。
【００３６】
（３．欠陥除去装置１の動作）
次に、図５〜図１２を参照しながら、欠陥除去装置１の動作について説明する。
図５は、欠陥除去装置１の動作を示すフローチャートである。
【００３７】
欠陥除去装置１は、自動供給装置（図示しない）により基板３を吸着テーブル５に供給し真空ポンプを動作させて吸着させる（ステップ１０１）。
オペレータは、欠陥除去装置１に欠陥領域３３及び基準位置を指示入力する（ステップ１０２）。
欠陥除去装置１は、基板３におけるアライメントマーク等の基準位置を検出する（ステップ１０３）。
尚、基板３の表面を撮影する撮像装置や撮像データを画像処理して欠陥領域３３の位置座標を特定する画像処理装置等を用いて、欠陥領域３３の位置を入力するようにしてもよい。
【００３８】
欠陥除去装置１は、Ｘ方向位置決め機構１５、Ｙ方向位置決め機構１６、θ方向位置決め機構１８を制御し、基板３と吸引装置７との相対的位置決めを行う。欠陥除去装置１は、欠陥領域３３内の吸引点３５の位置に吸引装置７のノズル９を移動させる（ステップ１０４）。
欠陥除去装置１は、Ｚ方向位置決め機構１７を制御し、ノズル９を欠陥領域３３にある着色剤２７に接触あるいは接近させる（ステップ１０５）。
欠陥除去装置１は、真空発生装置１１を駆動して真空を発生させ、ノズル９から欠陥領域３３にある着色剤２７を硬化前に吸引する（ステップ１０６）。
【００３９】
図６及び図７は、塗布欠陥の欠陥領域３３を示す図である。
着色層２６−２の着色剤２７−２（例えば、「Ｇｒｅｅｎ」）が、ブラックマトリクス２５の隔壁を超えて、着色層２６−１の着色剤２７−１（例えば、「Ｒｅｄ」）の部分に溢れ、欠陥領域３３が生じる。図７では、図６と比較して、欠陥領域３３の面積が大きくなっている。
【００４０】
カラーフィルタのパターニングにおいて、インクジェットヘッド方式等による着色剤塗布では、液滴の着弾精度が何らかの原因で悪化し、隣接画素に着色剤がはみ出すことがある。点欠陥、異物欠陥等の場合と異なり、塗布欠陥の場合には、欠陥領域が広範囲に渡る場合が多い。
また、ブラックマトリクスが一部欠けている場合や、親疎水パターン形成に不具合があり疎水性領域であるべきブラックマトリクスの部分が一部親水性領域となっている場合、着色剤がブラックマトリクスの隔壁を越えて隣接画素に溢れ出し、欠陥領域が生じる。
【００４１】
図８〜図１１は、欠陥除去装置１による除去領域３７を示す図である。
図８及び図９は、図６に示す欠陥領域３３の除去後を示す。
図１０及び図１１は、図７に示す欠陥領域３３の除去後を示す。
欠陥除去装置１は、欠陥領域３３にある着色剤２７を吸引し、除去領域３７が形成される。除去領域３７に再度、所定の着色剤２７を塗布することにより、欠陥が修正される。
【００４２】
尚、ブラックマトリクス２５の隔壁には異常がなく、インクジェットヘッドからのインク吐出異常により着色剤２７が隣接画素にはみ出した場合、欠陥除去装置１により欠陥除去処理を行うと、図８及び図１０に示すように、除去領域３７−１は、１画素分白色となる。
また、インクジェットヘッドからのインク吐出には異常がなく、ブラックマトリクス２５の隔壁欠陥３８により着色剤２７が隣接画素にはみ出した場合、欠陥除去装置１により欠陥除去処理を行うと、図９及び図１１に示すように、除去領域３７−２は、隣接画素についても着色剤２７の吸引が行われて２画素分白色となる。
【００４３】
図１２は、レーザ照射によるレーザ除去領域３９付近を示す図である。
欠陥領域３３にレーザ照射を行うことにより、欠陥領域３３の着色剤２７−２が溶解して飛散し、レーザ除去領域３９が形成される。
レーザ照射では、スポット径が限られるので、欠陥領域３３が広範囲に渡る場合、迅速に欠陥除去することができない。
また、レーザ照射により溶解して飛散した着色剤２７−２が他の箇所に付着し、再固着物４１となって、新たな欠陥が生じする場合がある。
また、レーザ照射により周囲が熱による変質や変形が生じる場合がある。
【００４４】
尚、上述の欠陥除去装置の動作制御、各種判定等の処理については、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、記憶装置（ハードディスク等）、入出力装置（メディアリーダ）等を備えるコンピュータ等の電子計算機等を用いることができる。
【００４５】
この場合、各種処理・制御等に必要なプログラム、プログラム実行に必要なデータ、入力データ等を記憶装置に保持し、ＣＰＵが処理実行時にこれらをＲＡＭ上のワークメモリ領域に呼び出して実行し、演算処理（四則演算や比較演算等）、ハードウェアやソフトウェアの動作制御等を行い、上述の各種機能を実現することができる。
また、各種処理・制御等に必要なプログラム等をＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に保持させて流通させてもよいし、このプログラムを通信回線を介して送受することもできる。
【００４６】
（４．効果等）
以上の過程を経て、欠陥除去装置１は、欠陥領域３３の着色剤２７に吸引装置７のノズル９を接触あるいは接近させ、硬化前に欠陥領域３３の着色剤２７を吸引する。
このように、欠陥除去装置は、硬化前のウェット状態の塗布欠陥領域をノズル吸引することにより、広範囲の欠陥領域を迅速に除去することができる。また、塗布直後に検査を行って迅速に欠陥を除去することができる。また、装置構成を簡素化することができるので、費用的負担及び労力的負担を軽減することができる。
また、欠陥除去装置は、塗布欠陥領域を吸引するので、レーザ照射による欠陥除去のように、再固着物による新たな欠陥が生じることがなく、熱による変質や変形が生じることもない。
【００４７】
（５．液晶素子の製造）
図１３は、欠陥除去装置１による塗布欠陥除去を経て製造された液晶素子４３を示す図である。
基板３は、欠陥除去装置１による塗布欠陥除去を経て製造されたカラーフィルタ基板である。基板３には、液晶５１を封入する空間を確保するためのスペーサ４７が形成される。
基板４９は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等のアレイ基板である。
基板３と基板４９とを貼合し、基板の周辺部分にシール材４５を設け、基板間に液晶５１を封入することにより、液晶素子４３が製造される。
【００４８】
以上、添付図面を参照しながら、本発明にかかる欠陥除去装置等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】欠陥除去装置１の概略斜視図
【図２】吸引装置７のノズル９の吸引動作を示す図
【図３】溶剤浸漬による塗布剤の溶解を示す図
【図４】溶剤含有スポンジによる塗布剤の溶解を示す図
【図５】欠陥除去装置１の動作を示すフローチャート
【図６】塗布欠陥の欠陥領域３３を示す図
【図７】塗布欠陥の欠陥領域３３を示す図
【図８】欠陥除去装置１による除去領域３７を示す図（インク吐出異常に起因する塗布欠陥の除去）
【図９】欠陥除去装置１による除去領域３７を示す図（ブラックマトリクスの隔壁欠陥に起因する塗布欠陥の除去）
【図１０】欠陥除去装置１による除去領域３７を示す図（インク吐出異常に起因する塗布欠陥の除去）
【図１１】欠陥除去装置１による除去領域３７を示す図（ブラックマトリクスの隔壁欠陥に起因する塗布欠陥の除去）
【図１２】レーザ照射によるレーザ除去領域３９付近を示す図
【図１３】欠陥除去装置１による塗布欠陥除去を経て製造された液晶素子４３を示す図
【符号の説明】
【００５０】
１………欠陥除去装置
３………基板
５………吸着テーブル
７………吸引装置
９………ノズル
１１………真空発生装置
１３………流路
１５………Ｘ方向位置決め機構
１６………Ｙ方向位置決め機構
１７………Ｚ方向位置決め機構
１８………θ方向位置決め機構
２０………アライメントカメラ
２１………ガントリ
２２………定盤
２３………基材
２５………ブラックマトリクス（ＢＭ）
２６………着色層
２７………着色剤
２９………ノズル口
３０………溶剤
３１………容器
３２………スポンジ
３３………欠陥領域
３５………吸引点
３７………除去領域
３８………隔壁欠陥
３９………レーザ除去領域
４１………再固着物
４３………液晶素子
４５………シール材
４７………スペーサ
４９………基板
５１………液晶
【図１】
2007108196.tif 000003
【図２】
2007108196.tif 000004
【図３】
2007108196.tif 000005
【図４】
2007108196.tif 000006
【図５】
2007108196.tif 000007
【図６】
2007108196.tif 000008
【図７】
2007108196.tif 000009
【図８】
2007108196.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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