(57)【要約】【課題】本発明は、へこみにくく、反射防止性、防水性、防汚性等が良好な光学積層体を提供する。【解決手段】光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されている積層体であって、１）前記低屈折率層が、最表面に形成されており、２）前記低屈折率層が、低屈折率層の厚みより大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する、ことを特徴とする光学積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されている積層体であって、
１）前記低屈折率層が、最表面に形成されており、
２）前記低屈折率層が、低屈折率層の厚みより大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する、
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
前記低屈折率層が、内部に空隙を有する微粒子をさらに含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記巨大粒子の平均粒径が０．０７〜０．２５μｍである、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項４】
１）ハードコート層と光透過性基材との間、又は２）ハードコート層と低屈折率層との間に、帯電防止層、防眩層又はこれらの２以上の層を形成してなる、請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体。
【請求項５】
反射防止用積層体として用いられる、請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置には、ガラス、プラスチック等の板状の透明材料が使用されている。これらの透明材料は、静電気による塵埃の付着、汚れの付着、あるいは擦り傷や引っかき傷等によって、透明性が損なわれやすいという問題点がある。
【０００３】
そこで、透明材料上にハードコート層を形成したり、あるいはハードコート層上に所望の機能（例えば、反射防止性、防汚性、帯電防止性等）を付与するためにさらに他の層を形成させることが行われている（特許文献１）。
【０００４】
例えば、特許文献１には、中空球状であるシリカ系微粒子を皮膜中に含有させることにより、強度、反射防止性に優れた皮膜付基材を提供することを開示している。
【０００５】
しかしながら、上記皮膜付基材の皮膜は、中空球状シリカが樹脂と結着したものであり、その表面は平坦なものとなっているが、鉛筆等の先の尖った物体等が、樹脂部分や、特に中空球状シリカ部分と衝突すると中空であるがゆえにへこみやすい。また、その表面がへこみ、中空シリカが変形（非球状）すると、シリカは弾力性がないため、元の状態には戻りにくい。そうすると、その部分だけ低屈折率層の膜厚が変わり、変色してしまうという問題がある。また、その凹部に水が浸入した場合においても、変形した中空シリカが該水を吸収し、変色してしまうという問題がある。
【特許文献１】特開２００１−２３３６１１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の主な目的は、へこみにくく、反射防止性、防水性、防汚性等が良好な光学積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の層構成を採用することにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、下記の光学積層体に係る。
１．  光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されている積層体であって、
１）前記低屈折率層が、最表面に形成されており、
２）前記低屈折率層が、低屈折率層の厚みより大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する、
ことを特徴とする光学積層体。
２．  前記低屈折率層が、内部に空隙を有する微粒子をさらに含む、請求項１に記載の光学積層体。
３．  前記巨大粒子の平均粒径が０．０７〜０．２５μｍである、請求項１又は２に記載の光学積層体。
４．  １）ハードコート層と光透過性基材との間、又は２）ハードコート層と低屈折率層との間に、帯電防止層、防眩層又はこれらの２以上の層を形成してなる、請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体。
５．  反射防止用積層体として用いられる、請求項１〜４のいずれかに記載の光学積層体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光学積層体は、低屈折率層が、光学積層体の最表面に形成されており、かつ、低屈折率層の厚みより大きい平均粒径を有する巨大粒子を有している。このため、反射防止性に優れ、かつ、鉛筆等の先の尖った物質等による衝撃に対してへこみにくい。また、本発明積層体は、上記構成により、防水性及び防汚性にも優れている。
【００１０】
従って、本発明による光学積層体は、反射防止積層体（防眩性積層体としての利用を含む）として好適に用いることができる。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ等のディスプレイの表面に好ましく用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の光学積層体は、
光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されている積層体であって、
１）前記低屈折率層が、最表面に形成されており、
２）前記低屈折率層が、低屈折率層の厚みよりも大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する、
ことを特徴とする。
【００１２】
光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
【００１３】
これらの材料は市販品を用いることもできる。例えば、ポリエステル樹脂としては、東洋紡（株）社製の製品名「Ａ−４１００」「Ａ−４３００」等が好ましい。また、トリアセテートセルロースとしては、富士写真フィルム（株）社製の製品名「ＴＦ８０ＵＬ」「ＦＴ ＴＤＹ８０ＵＬ」等が好ましい。
【００１４】
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のFVシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
【００１５】
また、光透過性基材として、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）フィルムも使用できる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂などが用いられる。例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製のスミライトFS-1700、JSR（株）製のアートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ticona社製のTopas（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製のオプトレッツOZ-1000シリーズ（脂環式アクリル樹脂）などが挙げられる。
【００１６】
光透過性基材の厚みは限定的ではないが、一般的には３０〜２００μｍ程度とすることが好ましい。
【００１７】
ハードコート層
本発明における「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
【００１８】
ハードコート層の厚みは、所望の特性等に応じて適宜設定できるが、通常は０．１〜１００μｍ、特に０．８〜２０μｍとなるように形成することが望ましい。
【００１９】
ハードコード層は、透明性を有する限り制限されない。例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂（電離放射線硬化型樹脂）、塗工時の固形分を調整するための溶剤を乾燥させることにより皮膜となる樹脂（溶剤乾燥型樹脂）、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂等の１種又は２種以上を用いることができる。（本件においては、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどの硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。）
これらの樹脂自体は、公知又は市販のものを使用することができる。本発明では、電離放射線硬化型樹脂を用いるのが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。これらは１種又は２種以上で用いることができる。
【００２０】
ハードコート層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（ハードコート層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分及び必要に応じて添加剤を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、ハードコート層形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させることにより、ハードコート層を得ることができる。
【００２１】
前記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して混合することができる。
【００２２】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスココーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
【００２３】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
【００２４】
各ハードコート層の形成に用いる組成物としては、透明性を有する前記樹脂の原料成分となるものを用いれば良く、前記樹脂の種類等に応じて適宜設定することができる。例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルへキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー；ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、1，6−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性ジ（又はトリ）アクリレート等の多官能性モノマー等の１種又は２種以上が挙げられる。
【００２５】
本発明では、これらの中でも、エチル（メタ）アクリレート、エチルへキシル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート系化合物の少なくとも１種を好適に用いることができる。すなわち、アクリレート化合物及び／又はメタクリレート化合物の少なくとも１種を好適に用いることができる。
【００２６】
前記組成物においては、必要に応じて溶剤を用いることができる。溶剤としては、用いる原料成分の種類等に応じて公知の溶剤の中から適宜選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ニトロメタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物；又はこれらの２種以上の混合物が挙げられる。より好ましい溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等の少なくとも１種が挙げられる。
【００２７】
特に、前記組成物に用いる溶剤としては、用いる光透過性基材に対して浸透性を有するものを好適に用いることができる。例えば、光透過性基材としてセルロース系樹脂を用いる場合には、メチルエチルケトン等を好適に用いることができる。
【００２８】
前記組成物で溶剤を用いる場合、溶剤の使用量は、各組成物の固形分含有量が５〜８０重量％程度となるように適宜設定すれば良い。
【００２９】
その他の成分
本発明では、前記組成物には、必要に応じて重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤、高屈折率樹脂等の添加剤が含まれていても良い。
【００３０】
重合開始剤としては、特にハードコート層が電離放射線硬化型樹脂により形成される場合、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類の１種又は２種以上が挙げられる。また、この場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等の光増感剤を混合して用いることが好ましい。
【００３１】
特に、前記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する場合は、光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、前記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する場合は、光重合開始剤として、特に芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
【００３２】
光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、通常０．１〜１０重量部程度とすればよい。
【００３３】
帯電防止剤としては、例えば第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物；スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。さらに、上記の化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマーあるいは電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物も、帯電防止剤として使用できる。これらは、１種又は２種以上で使用することができ、また下記の導電性超微粒子とも併用することができる。
【００３４】
本発明では、帯電防止剤として導電性超微粒子を用いることもできる。導電性微超粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等が挙げられる。その他にも、カーボンナノチューブ、フラーレンの炭素材料等を挙げることができる。
【００３５】
前記導電性超微粒子の粒径は、１ミクロン以下のいわゆるサブミクロンの大きさのものが良く、特に平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍの微粒子が好ましい。
【００３６】
さらに、帯電防止剤として、導電性ポリマー（有機系ポリマー）が挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
【００３７】
防眩剤としては、例えば各種の微粒子を用いることができる。その形状は、真球状、楕円状等のいずれであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、前記微粒子は無機系又は有機系のものが挙げられる。前記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。前記微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリルースチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等の１種又は２種以上を用いることができる。
【００３８】
この場合、沈降防止剤を併用することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズが挙げられる。
【００３９】
反射防止フィルムの反射防止性能を高めるため、上記ハードコート層を高屈折率化してもよい。高屈折率化の方法としては、一般的にはハードコート層中に粒径数ｎｍ〜１００ｎｍの金属酸化物（例えばＴｉＯ２、ＺｒＯ２）微粒子を分散させる方法、フルオレン系、硫黄系、臭素系などの有機高屈折率樹脂材料を適宜添加する方法等が挙げられる。
【００４０】
低屈折率層
本発明の低屈折率層は、
１）前記低屈折率層が、最表面に形成されており、
２）前記低屈折率層が、低屈折率層の厚みよりも大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する。
【００４１】
低屈折率層は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。本発明の低屈折率層は、上記特徴を有していることにより、反射防止性に加え、鉛筆等の先の尖った物質等による衝撃に対して、へこみにくい。また、当該表面が凹凸状となっているため、撥水性が良好であり、防水性及び防汚性、耐指紋性に優れる。
【００４２】
低屈折率層は、屈折率１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
【００４３】
本発明の低屈折率層は、低屈折率層の厚みよりも大きい平均粒径を有する巨大粒子を含有する。すなわち、本発明の低屈折率層は、平坦な層（樹脂層）表面から巨大粒子の一部が突出している形状を採用できるため、層全体としては、凹凸状となっている。この概略図（断面図）を図１に示す。
【００４４】
低屈折率層の厚み（巨大粒子を除いた部分、すなわち低屈折率層を構成する樹脂成分の厚み（下記の微粒子を含む場合は当該微粒子も含んだ厚み））は限定的でないが、通常０．０６〜０．２４μｍ程度、好ましくは０．０７〜０．１３μｍ程度である。
【００４５】
本発明の巨大粒子の平均粒径（直径）は、上記低屈折率層の厚みよりも大きい限り特に限定されないが、好ましくは、０．０７〜０．２５μｍ程度、より好ましくは０．０８〜０．１５μｍ程度である。この範囲とすることにより、低屈折率層のヘイズ値が高くならず、強い着色もなく、反射防止性能を妨げることなく、鉛筆硬度、耐水性、防汚性が向上する。
【００４６】
低屈折率層から突出している高さ（図１中の突出部分）は、限定的でないが、厚み方向に対して、好ましくは３〜３０ｎｍ程度、より好ましくは５〜１５ｎｍ程度とすればよい。
【００４７】
巨大粒子の材質は限定的でないが、反射率を低くするという観点から、シリカ、フッ素、アクリル等であることが好ましい。
【００４８】
巨大粒子は、中実（内部に空孔のないもの）、中空及び多孔質のいずれであってもよいが、後述する間隙を有する微粒子よりも硬度（又は強度）が大きい観点から、中実であることが好ましい。
【００４９】
本発明の巨大粒子の含有量は、樹脂１００重量部に対して、通常０．１〜５０重量部程度、好ましくは０．５〜３０重量部程度、最も好ましくは１〜１０重量部程度とすればよい。このような範囲とすることにより、ヘイズ値の向上はなく、全光透過率の低下はなく、耐擦傷性、鉛筆硬度等が向上する。また、擬似的に、「はすの葉構造」となることによって、水、油との接触角が向上し、その結果、撥水撥油性が向上する。
【００５０】
本発明は、このような構造を採用するため、鉛筆等の先端が尖った物質等が低屈折率層に衝突する際、当該巨大粒子が、低屈折率層表面（中空シリカの存在する表面部分や樹脂部分）を当該物質から保護するため、当該表面はへこみにくい。これは、鉛筆等であれば、当該先端部の幅よりも、巨大粒子（突出部分）とその隣り合う巨大粒子（突出部分）との幅の方が狭いため、当該先端部は、巨大粒子とは衝突するが、（後述する）低屈折率樹脂層表面には到達できないことによる。
【００５１】
本発明では、低屈折率樹脂層中には上記巨大粒子のほかに、「内部に空隙を有する微粒子」を含有することが好ましい。これにより、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「内部に空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された中空構造体及び／又は微粒子の内部に気体を含む多孔質構造体であって、微粒子が空隙を有しない場合に比べて低い屈折率を有する微粒子を意味する。これは、一般に気体の占有率の増大に伴ってその屈折率が低下するものである。
【００５２】
上記微粒子のうち、無機系微粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されているシリカ微粒子が挙げられる。その他、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００２−７９６１６号公報、特開２００６−１０６７１４号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であってもよい。空隙を有するシリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に容易に調製することを可能とする。一方、有機系微粒子としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている中空ポリマー微粒子が挙げられる。
【００５３】
本発明にあっては、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も、上記微粒子に含まれる。塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては、１）充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、２）触媒固定用に使用される多孔質微粒子、或いは３）断熱材又は低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子が挙げられる。具体的には、日本シリカ工業株式会社製の「Nipsil」（商品名）、日産化学工業（株）製の「コロイダルシリカＵＰシリーズ」（商品名）等を例示できる。
【００５４】
「内部に空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、低屈折率の厚みよりも小さい限り限定されず、例えば、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が６０ｎｍ以下である。前記微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
【００５５】
「内部に空隙を有する微粒子」を含む場合は、その含有量は、樹脂１００重量部に対して、通常０．１〜５００重量部程度、好ましくは１０〜２００重量部程度とすればよい。
【００５６】
本発明の低屈折率層は、上記巨大粒子のほか、必要に応じて「内部に空隙を有する微粒子」と、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物やフッ素原子含有化合物（フッ素系樹脂として後述する）を含む）等の樹脂で形成されている。
【００５７】
これらのうち、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物が好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂及び／又は電離放射線硬化性化合物を用いることが最も好ましい。
【００５８】
電離放射線硬化性化合物は、これを含む電離放射線硬化性組成物として用いることができる。電離放射線硬化性化合物としては、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーの少なくとも１種を用いることができる。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。
【００５９】
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー又はオリゴマーとしては、例えば不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類；ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類のほか、カチオン重合型エポキシ化合物等が挙げられる。これらは１種又は２種以上で用いることができる。
【００６０】
電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー；アクリル酸メチル、アクリル酸−２一エチルへキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類；アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類；アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類；エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアクリレート化合物；ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアタリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び／又は分子中に２個以上のチオール基を有するポリチオール化合物（例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等）の少なくとも１種を挙げることができる。
【００６１】
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、前記化合物を必要に応じて１種又は２種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために前記モノマーのプレポリマー又はオリゴマーを５重量％以上とし、前記モノマー及び／又はポリチオール化合物を９５重量％以下とするのが好ましい。
【００６２】
低屈折率層にフレキシビリティーが要求される場合は、モノマー量を減らすか、あるいは官能基の数が１又は２のアクリレートモノマーを使用することが望ましい。また、低屈折率層に耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性等が要求される場合は、例えば官能基の数が３つ以上のアクリレートモノマーを使うことが好ましい。ここで、官能基数が１のものとして、２−ヒドロキシアクリレート、２−へキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。官能基数が２のものとして、エチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基数が３以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンクエ、リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。
【００６３】
低屈折率層のフレキシビリティー、表面硬度等の物性を調整するため、必要に応じて、電離放射線照射で硬化しない樹脂を電離放射線硬化性組成物に添加することもできる。前記樹脂として、例えばポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂の１種又は２種以上が挙げられる。この中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の少なくとも１種がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。電離放射線硬化性組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤又は光重合促進剤を添加すれば良い。光重合開始剤として、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等の単独又は２種以上を用いることができる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等の単独又は２種以上を用いることができる。光重合開始剤の添加量は、用いる光重合開始剤の種類等に応じて適宜設定すれば良いが、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対して０．１〜１０重量部程度とすれば良い。
【００６４】
電離放射線硬化性組成物には、必要に応じて反応性の有機ケイ素化合物を併用することができる。例えば、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ’）ｎ（但し、Ｒ及びＲ’は、互いに同一又は異なって、炭素数１〜１０のアルキル基を示す。ｍ及びｎは、各々がｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数を示す。）で示される化合物を用いることができる
【００６５】
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン等の少なくとも１種が挙げられる。
【００６６】
この場合、シランカップリング剤を必要に応じて併用することができる。シランカップリング剤としては、具体的にはγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロへキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等の少なくとも１種が挙げられる。
【００６７】
また、本発明では、低屈折率層に含有される樹脂として、フッ素系樹脂を用いてもよい。フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物またはその重合体である。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
【００６８】
フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。
【００６９】
フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。  上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。
【００７０】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物（フッ素系樹脂）としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
【００７１】
フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体；などが挙げられる。
【００７２】
また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００７３】
上記したほか、さらには、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物；なども、フッ素系樹脂として用いることができる。
【００７４】
低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物（屈折率層形成用組成物）を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分（例えば、上記巨大粒子、樹脂等）及び必要に応じて添加剤（例えば、上記「間隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等）を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させることにより、巨大粒子が均一に分散（存在する）低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤は、例えば、ハードコート層で上述したものが挙げられる。
【００７５】
溶剤もハードコート層で上述したものが挙げられ、好ましくは、メチルイソブチルケトン、 イソプロピルアルコール（IPA）、n-ブタノール、 t-ブタノール、ジエチルケトン、PGME等である。
【００７６】
前記組成物の調製方法は、成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した公知の装置を使用して混合することができる。
【００７７】
塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、ハードコート層の形成で上述した各種方法を用いることができる。
【００７８】
得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。
【００７９】
その他の層
本発明の基本層構成として、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層及び低屈折率層が形成されており、当該低屈折率層が最表面に形成されていれば良い。例えば、光透過性基材上に隣接してハードコート層が形成されハードコート層に隣接して低屈折率層が形成されてなる３層構造が挙げられる。この場合、本発明積層体の光透過性等を損わない範囲内で、必要に応じて１）ハードコート層と低屈折率層の層間、又は２）ハードコート層の下に他の層（帯電防止層、防眩層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
【００８０】
（帯電防止層）
帯電防止層は、帯電防止剤及び樹脂を含む組成物により形成できる。この場合、溶剤を使用することもできる。帯電防止剤及び溶剤としては、前記のハードコート層の項で説明したものを使用することができる。帯電防止層の厚さは限定されないが、３０ｎｍ〜１μｍ程度とすることが好ましい。
【００８１】
前記樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物（有機反応性ケイ素化合物を含む）を使用することができる。これらのうち、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物が好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂及び／又は電離放射線硬化性化合物を用いることが最も好ましい。
【００８２】
帯電防止剤としては、帯電性能を有する限り限定的でない。例えば第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物；スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物；アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系、ホウ素、リン系等の両性化合物；アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。上記の化合物には、分子内にアクリレート系の官能基を有する電離放射線硬化型樹脂としてもよい。さらに、上記の化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマ一あるいは電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物も、帯電防止剤として使用できる。これらは、１種又は２種以上で使用することができ、また下記の導電性超微粒子とも併用することができる。
【００８３】
本発明では、帯電防止剤として導電性超微粒子を用いることもできる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、酸化インジウム錫（略称；ＩＴＯ、１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等が挙げられる。その他にも、カーボンナノチューブ、フラーレンの炭素材料等を挙げることができる。さらに、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。前記導電性超微粒子の粒径は、１ミクロン以下のいわゆるサブミクロンの大きさのものが良く、特に平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍの微粒子が好ましい。
【００８４】
（防眩層）
防眩層は、例えばハードコート層と透過性基材又は低屈折率層との間に形成されて良い。防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む樹脂組成物から形成されて良い。
【００８５】
前記樹脂としては、ハードコート層の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。
【００８６】
防眩剤としては、各種の微粒子を用いることができる。微粒子の平均粒径は限定的ではないが、一般的には０．０１〜２０μｍ程度とすれば良い。また、微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、前記微粒子は、無機系又は有機系のものが挙げられる。
【００８７】
前記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。
【００８８】
前記微粒子は、その平均粒径をＲ（μｍ）とし、防眩層凹凸の十点平均粗さをＲｚ（μｍ）とし、防眩層の凹凸平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をβａとした場合に、下記数式：
３０≦Ｓｍ≦６００
０．０５≦Ｒｚ≦１．６０
０．１≦θａ≦２．５
０．３≦Ｒ≦２０
を全て満たすものが好ましい。
【００８９】
Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表すものであり、（Ｒｚ）は、１０点平均粗さを表すものであり、その定義は、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）に該当するものである。
【００９０】
θａは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、
Δａ＝ｔａｎθａ＝（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和／基準長さ）で求められる。基準長さとは、測定機ＳＥ−３４００で粗さ曲線のカットオフ値λｃ、実際に触針する評価長さにあたる。
【００９１】
また、本発明の別の好ましい様態によれば、前記微粒子と前記樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、Δｎ＝｜ｎ１−ｎ２｜＜０．１５を満たすし、かつ、防眩層内部のへイズ値（凹凸形状による外部ヘイズを、光学積層体全体のヘイズから差し引いて求める）が５５％以下である防眩層が好ましい。
【００９２】
微粒子の添加量は、用いる微粒子の種類、所望の防眩性等によるが、前記樹脂組成物１００重量部に対し、通常は２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度とすれば良い。
【００９３】
防眩層用組成物を調製する際に沈降防止剤を添加することもできる。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、シリカビーズ等のビーズ類を使用することができる。ビーズ類の平均粒径は限定されないが、一般的には０．５μｍ以下とし、好ましくは０．１〜０．２５μｍとする。
【００９４】
防眩層の膜厚（硬化時）は、一般的には０．１〜１００μｍ程度、特に０．８〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。
【実施例】
【００９５】
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
【００９６】
＜製造例１＞
ハードコート層形成用組成物として、下記に示す組成を調製した。
【００９７】
ハードコート層形成用組成物
・ウレタンアクリレート（ＵＶ１７００Ｂ；日本合成社製）        ５重量部
・ポリエステルアクリレート（Ｍ９０５０；東亞合成社製）        ５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）      
０．４重量部
・メチルエチルケトン                                        １０重量部  
【００９８】
＜製造例２＞
低屈折率層形成用組成物として、下記の組成１〜組成６をそれぞれ調製した。
【００９９】
低屈折率層用組成物１
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０重量％「空隙を有する微粒子（粒径６０nm）」、溶液；メチルイソブチルケトン）              １２．３重量部
・シリカ粒子含有溶液    （シリカ粒子固形分２０重量％「巨大粒子（平均粒径１００nm）sicastar  ナカライテスク（株）」、溶液；メチルイソブチルケトン）
１．２３重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部          
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１００】
低屈折率層用組成物２
・処理シリカゾル含有溶液（組成物１のものと同一）      １２．３重量部
・シリカ粒子含有溶液    （シリカ粒子固形分２０重量％「巨大粒子（粒径２００nm）sicastar  ナカライテスク（株）」、溶液；メチルイソブチルケトン）                
０．３６９重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部          
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１０１】
低屈折率層用組成物３
・処理シリカゾル含有溶液（組成物１のものと同一）      １４．３重量部
・シリカ粒子含有溶液      （シリカ粒子固形分２０重量％「巨大粒子（粒径３００nm）sicastar  ナカライテスク（株）」、溶液；メチルイソブチルケトン）
０．７１５重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部          
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１０２】
低屈折率層用組成物４
・処理シリカゾル含有溶液（組成物１のものと同一）      １２．３重量部
・シリカ粒子含有溶液    （シリカ粒子固形分２０重量％「巨大粒子（平均粒径７０nm）sicastar  ナカライテスク（株）」、溶液；メチルイソブチルケト）
１．８４５重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部  
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１０３】
低屈折率層用組成物５
・処理シリカゾル含有溶液（シリカゾル固形分２０重量％「空隙を有する微粒子（粒径８０nm）」、溶液；メチルイソブチルケトン）              １２．３重量部
・シリカ粒子含有溶液    （組成物１のものと同一）    ０．８６１重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部          
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１０４】
低屈折率層用組成物６
・処理シリカゾル含有溶液（組成物１のものと同一）      １４．３重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    １．９５重量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）                                                                ０．１重量部  
・メチルイソブチルケトン                              ８３．５重量部
【０１０５】
実施例１
トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ８０μｍ）を用意し、このフィルムの表面にハードコート組成物を、湿潤重量２０ｇ／ｍ２（乾燥重量１０ｇ／ｍ２）塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥することにより、溶媒を除去した。その後、紫外線照射装置を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行うことにより、組成物を硬化させて、厚み１０μｍのハードコート層を形成させた。
【０１０６】
次に、形成したハードコート層の表面に、低屈折率層用組成物１を、乾燥重量０．１ｇ／ｍ２塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥した。その後、紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行うことにより、実施例１の光学積層体を製造した。低屈折率層の硬化後の膜厚は、約９０ｎｍになるように形成した。
【０１０７】
実施例２
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物２を使用し、硬化後膜厚を約１７０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
【０１０８】
実施例３
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物４を使用し、硬化後膜厚を約６０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
【０１０９】
実施例４
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物５を使用し、硬化後膜厚を約９５ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
【０１１０】
実施例５
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物３を使用し、硬化後膜厚を約２８０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。鉛筆硬度、耐水性、防汚性は良好であったが、低屈折率層としては膜厚が厚くなるため、干渉色着色がみられた。
【０１１１】
比較例１
低屈折率層用組成物１の代わりに低屈折率層用組成物６を使用したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
【０１１２】
評価１（巨大粒子の突出高さｎｍ）
分光光度計（島津製作所製、ＭＰＣ３１００）を用いて、５°正反射率を３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、その反射率曲線の最低反射率部分の波長から塗工した低屈折率の膜厚を算出することにより、塗工した低屈折率層の膜厚を求めた。この値を、添加した巨大粒子の平均粒径から差し引いた値を、巨大粒子が低屈折率層から突出している高さとして算出した。
【０１１３】
評価２（鉛筆硬度試験）
鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製した光学積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験用鉛筆（硬度４Ｈ）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて実施した。
【０１１４】
評価基準
○：（傷なし回数）／（試験回数）の結果が５／５であった。
×：（傷なし回数）／（試験回数）の結果が５／５にならなかった。
【０１１５】
評価３（耐水性試験）
光学積層体の低屈折率層の表面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼付した。
光学積層体の低屈折率層の表面に対して、純水を５ｃｃ滴下し、１時間放置した後、水を拭取り、低屈折率層の表面の色の変化を目視で確認した。
【０１１６】
評価基準
○：色変化なし
×：色変化あり 
評価４（防汚性試験）
光学積層体の低屈折率層の表面に対して、人工指紋液（ＪＩＳ  Ｋ２２４６）とによる接触角度を測定した。
【０１１７】
人工指紋液（ＪＩＳ  Ｋ  ２２４６）は、水（５００ｍｌ）、メタノール（５００ｍｌ）、塩化ナトリウム（７ｇ）、尿素（１ｇ）及び乳酸（４ｇ）を混合した溶液である。
【０１１８】
評価基準
○：人工指紋液の接触角度が４０°以上であった。
×：人工指紋液の接触角度が４０°未満であった。 
【０１１９】
評価５（反射防止性）
反射Ｙ値は、島津製作所製  ＭＰＣ３１００分光光度計にて、５°正反射率を３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト（ＭＰＣ３１００内蔵）で算出される、視感反射率を示す値である。なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼って測定した。
【０１２０】
評価基準
○：反射率が２％以下であった。
×：反射率が２％より大きかった。
【０１２１】
【表１】
2007322877.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】図１は、本発明の低屈折率層の断念図（概略図）を示す図である。
【図１】
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