(57)【要約】【課題】膜厚均一性に優れた光透過層を備え、再生面を保護でき且つインバランスに優れたスタックリブを有する光ディスクが得られる、光ディスク製造装置、回転塗布装置及び光ディスクの製造方法を安価に提供する。【解決手段】この光ディスク製造装置は、透明基板１の表面にスパッタ膜２による記録部と、光透過層３とがこの順に形成され、光透過層３を介して光を記録層に照射するようにした光ディスクを製造するためのものである。この回転塗布装置では、スパッタ膜２上に紫外線硬化樹脂を回転塗布するとともに、紫外線光源６１からの紫外線を、光ファイバー６２およびレンズ６３を介して、透明基板１の裏面側から紫外線硬化樹脂の塗布膜に照射して光透過層を形成する。基板１裏面側からの紫外線照射により、スパッタ膜をマスクとして、スパッタ膜が存在しない領域のうち所望部分の塗布膜を選択的に硬化させることができる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の表面に、反射層を含んでなる記録部と、光透過層とが少なくとも順次形成され、光透過層を介して光を記録部に照射するようにした光ディスクを製造するための光ディスク製造装置であって、前記記録部上に紫外線硬化樹脂を回転塗布し、紫外線照射手段からの紫外線により前記紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化させて光透過層を形成する回転塗布装置を備え、
前記回転塗布装置における紫外線照射手段は、紫外線を前記透明基板の裏面側から照射しうるように構成されていることを特徴とする光ディスク製造装置。
【請求項２】
前記紫外線照射手段は、紫外線を光ファイバーで誘導して前記紫外線硬化樹脂の塗布膜をスポット照射するものであることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置。
【請求項３】
前記紫外線照射手段は、紫外線をレンズにより集光してスポット照射するものであることを特徴とする請求項２に記載の光ディスク製造装置。
【請求項４】
前記紫外線照射手段を複数備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク製造装置。
【請求項５】
前記紫外線照射手段が、前記回転塗布装置の回転ヘッドの回転中心線を中心とする円周上に等角度ピッチで配置されていることを特徴とする請求項４に記載の光ディスク製造装置。
【請求項６】
前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より外側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置。
【請求項７】
前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より内側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置。
【請求項８】
前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より外側の透明基板半径領域、および前記記録部領域より内側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置。
【請求項９】
透明基板の表面に、反射層を含んでなる記録部と、該記録部の上方に光透過層とが少なくとも形成され、光透過層を介して光を記録部に照射するようにした光ディスクを製造するため回転塗布装置であって、前記記録部上に紫外線硬化樹脂を回転塗布し、紫外線照射手段からの紫外線により前記紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化させて光透過層を形成するようにしたものにおいて、
前記紫外線照射手段は、紫外線を前記透明基板の裏面側から照射しうるように構成されていることを特徴とする回転塗布装置。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の光ディスク製造装置を用いた光ディスクの製造方法であって、前記回転塗布装置により、前記記録部上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層を形成するに際し、基板を低速回転させる第１の回転操作において、基板中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板を高速回転させる第２の回転操作により全体の膜厚を調整し、ついで基板回転停止前に、紫外線照射により基板外周部分の紫外線硬化樹脂を硬化させることを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれかに記載の光ディスク製造装置を用いた光ディスクの製造方法であって、前記回転塗布装置により、前記記録部上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層を形成するに際し、基板を低速回転させる第１の回転操作において、基板中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板を高速回転させる第２の回転操作により基板内周部の膜厚を調整し、基板内周部に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、より高速の第３の回転操作によって全体の膜厚を調整することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクを製造するための光ディスク製造装置、回転塗布装置（スピナーまたはスピンコータ）および光ディスクの製造方法に関し、より詳しくは、透明基板の表面に、反射層を含んでなる記録部と、該記録部の上方に光透過層とが少なくとも形成され、光透過層を介して光を記録部に照射するようにした光ディスクを製造するに際し、記録部上に塗布された紫外線硬化樹脂を硬化させて上記光透過層を形成するための紫外線照射手段を備えた回転塗布装置、該回転塗布装置を有する光ディスク製造装置および、これによる光ディスクの製造方法に関するものである。
本発明は特に、光を照射して情報の記録または再生を行う信号記録層と、この信号記録層の上に設けられた、厚さが例えば１０〜２００μｍの光透過層とを有する光ディスクを製造するための光ディスク製造装置、回転塗布装置および光ディスクの製造方法を開示するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、レーザ光を用いて高密度な情報の再生あるいは記録を行う情報記録メディアとして知られ、一般に広く普及している。これら光ディスクは再生専用型、追記型、書き換え型に大別することができる。再生専用型は音楽情報を記録したコンパクト・ディスクと呼ばれるディスクや、画像情報を記録したレーザー・ディスクと称されるディスク等として、また追記型は文書ファイルや静止画ファイル等として、さらに書き換え型はパソコン用のデータファイル等として商品化され、世間に広く普及している。これらの光ディスクの形態としては、厚さが１．２ｍｍである透明樹脂基板の一方の主面に情報層を設け、その上にオーバーコート等の保護膜を設けたもの、あるいは基板と同一の保護板を接着剤により貼り合わせたものが一般的である。
【０００３】
また近年、音声だけでなく映画等の動画を情報として記録するために、より大容量の光ディスクであるデジタル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発・商品化され、既に普及しつつある。ＤＶＤのような高密度光ディスクの実現のために、レーザ波長を短く、かつ開口数（ＮＡ）の大きな対物レンズを使用する、という方式がとられた。しかし、短波長化と高ＮＡ化は、レーザ光の投入方向に対するディスクの傾き角度（チルト）の許容値を小さくする。チルトの許容値を大きくするには基板厚さを薄くすることが有効であり、例えば、ＤＶＤではレーザ波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６０であり、基板厚さを０．６ｍｍとしている。厚さ０．６ｍｍの樹脂基板はそれ単体では機械的強度が弱くチルトを生じてしまうため、ＤＶＤは情報記録面を内側にして２枚の基板を貼り合わせた構造になっている。
【０００４】
さらに、貼り合わせ構造を利用して、貼り合わせる２枚の基板のうち、一方の情報記録面に金、シリコン等からなる透光性の反射層を成膜し、他方の情報記録面に従来のアルミニウム等からなる反射層を成膜している。そして、上記２枚の基板を、これらの情報記録面が内側になるように貼り合せて、上記透光性の反射層を設けた基板側から両方の情報記録面を再生する片面再生２層ＤＶＤも商品化されている。さらに、同様の２層構成であるが、情報記録面が金属反射層ではなく、書き換え可能な薄膜記録層を設けた書き換え型ＤＶＤも提案されている。
【０００５】
また、更なる高密度化を実現させるための技術として、青紫色レーザ光源（波長４００ｎｍ前後）を用いることも提案されている。例えば、記録再生側の光透過層の厚さを０．１ｍｍ程度とし、ＮＡが０．８５程度のレンズを用いて超微細レーザースポットを形成し、信号の記録再生を行う方式である。光透過層の構成としては、以下の２つの方法が挙げられる。
（Ａ）厚さ１．１ｍｍの信号基板の信号面側に、厚さ０．１ｍｍより若干薄い透明基板を、接着剤を用いて貼り付ける。
（Ｂ）厚さ１．１ｍｍの信号基板の信号面側に、厚さ０．１ｍｍ程度の透明樹脂層でコートする。
【０００６】
上記（Ａ）の方法では、透明基板としてキャスティング等で作製されたポリカーボネートシートが用いられる。キャスティングで作製されたシートは厚さばらつきが±１μｍと小さい。シートを信号基板と貼り合せる接着剤の厚さは薄いため、均一にするのが容易であり、その結果、記録再生側の光透過層の厚さを均一にできる。
【０００７】
また、上記（Ｂ）の方法では、透明樹脂の厚さが厚いため、均一にコートするのは難しいが、高価なキャスティングで作製されたシートを使用する必要がないため、低コストな高密度光ディスクが実現できる。
【０００８】
ところで、下記特許文献１には、紫外線硬化樹脂を円盤状基体に回転塗布するときに円盤状基体の最外周での液溜まりの形成を防止し、かつ良好な膜厚に塗布できる光記録媒体の製造装置を提供することを目的とする発明が記載されている。この光記録媒体の製造装置は、記録層が形成された円盤状基体上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を有する光記録媒体を製造するものである。
【０００９】
下記特許文献２には、透明保護層を保護し、回転時のモータへの負荷を低減する突起部を有し、より大きなディスク保持力が得られる光情報記録媒体を提供することを目的とする発明が記載されている。この光情報記録媒体は、光を照射して情報の記録又は再生を行う信号記録層（この信号記録層は例えば、合金からなる金属膜である）と、この信号記録層上に設けられた、厚さ１０〜２００μｍの透明保護層とを有する。また、この光情報記録媒体は、中心穴と、上記信号記録層に情報の記録または再生を行う際に光情報記録媒体を保持するための保持領域とに挟まれた領域の信号記録層に光を照射する光投入面側に、透明保護層の表面よりも突出した突起部を有する。
【００１０】
下記特許文献３には、記録層を形成した後の基板の記録層上に光透過層形成用材料を回転塗布（スピンコート）する方法および装置に関する発明が記載されている。この発明は、小径の光ディスクであっても、膜厚が均一な光透過層形成用材料の塗膜を、回転塗布により形成することを目的としている。
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−４２３８９号公報
【特許文献２】特開２００４−２９６０６４号公報
【特許文献３】特開２００５−６３４９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
光ディスクにおいて、光透過層には非常に高い膜厚の精度と面内均一性が要求され、膜厚の内外差を解消するために、センターキャップ法、センターシール法やセンター後抜き法など、半径０ｍｍから樹脂を塗布する方法が提案されている。しかしながら、これらの法では、センター穴が塞がれていたり、センター穴付近に未硬化の樹脂が残存したりするため、紫外線照射装置への基板搬送が困難である。また、基板に外周端バンプと呼ばれる光透過層の規格外の盛り上がりが生じて記録再生領域に及ぶ現象も発生する。
【００１３】
これらの課題を解決するための技術がいくつか提案されているが、いずれも複雑で高価な機構を必要とする問題があり、コストアップに繋がる。
一方、高密度光ディスクでは光透過層表面が傷に弱く、傷があると容易にサーボが外れてしまう。光透過層自体に強度を付与しようとすると膜厚が厚くなってしまうため、高密度記録には適さない。そのため、光透過層を薄く保ったまま、傷が生じないように保護することは困難であった。
また、高密度光ディスクでは、記録及び再生時の転送レートがＣＤやＤＶＤより大きいため、ディスクの回転数は速くなる。そのため、中心穴に対してディスク上の形状や重量のアンバランスによって、回転スピンドル（モータ）により大きな負荷がかかることになる。
【００１４】
本発明は、従来技術の上記問題点に鑑みなされたもので、その目的ないし解決すべき課題は、膜厚の均一性に優れた光透過層が得られとともに、再生面を保護でき、かつインバランスに優れたスタックリブが得られる光ディスク製造装置および光ディスクの製造方法を提供すること、また記録部（例えば、反射膜＝反射層）上に塗布された紫外線硬化樹脂膜を硬化させて上記光透過層を形成するための紫外線照射手段を備えた回転塗布装置を安価に提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
請求項１の発明は、透明基板の表面に、反射層を含んでなる記録部と、光透過層とが少なくとも順次形成され、光透過層を介して光を記録部に照射するようにした光ディスクを製造するための光ディスク製造装置であって、前記記録部上に紫外線硬化樹脂を回転塗布し、紫外線照射手段からの紫外線により前記紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化させて光透過層を形成する回転塗布装置を備え、前記回転塗布装置における紫外線照射手段は、紫外線を前記透明基板の裏面側から照射しうるように構成されていることを特徴とする光ディスク製造装置である。
請求項１の発明では、光ディスクの上記記録部の具体例として、反射層のみからなる場合（情報の再生専用）や、反射層とその上層の記録層とからなる場合（情報の記録・再生が可能）が挙げられる。
前記反射層は通常、スパッタリング法で形成される。すなわち反射層は、一般的にスパッタ膜（図１を参照）である。
【００１６】
請求項２の発明は、前記紫外線照射手段が紫外線を光ファイバーで誘導して前記紫外線硬化樹脂の塗布膜をスポット照射するものであることを特徴とする請求項１に記載の光ディスク製造装置である。
請求項３の発明は、前記紫外線照射手段が紫外線をレンズにより集光してスポット照射するものであることを特徴とする請求項２に記載の光ディスク製造装置である。
請求項４の発明は、前記紫外線照射手段を複数備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク製造装置である。
請求項５の発明は、前記紫外線照射手段が前記回転塗布装置の回転ヘッドの回転中心線を中心とする円周上に等角度ピッチで配置されていることを特徴とする請求項４に記載の光ディスク製造装置である。
【００１７】
請求項６の発明は、前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より外側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置である。例えば直径１２０ｍｍの光ディスクを作製する場合、前記記録部が形成されている領域は通常、ｒ１９〜５９の範囲、すなわち半径１９ｍｍ〜５９ｍｍのドーナツ状領域である。言い換えると、請求項６の発明では半径５９ｍｍ以上のドーナツ状部分に紫外線を照射する。
【００１８】
請求項７の発明は、前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より内側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置である。例えば直径１２０ｍｍの光ディスクを作製する場合、前記記録部が形成されている領域は通常、ｒ１９〜５９の範囲、すなわち半径１９ｍｍ〜５９ｍｍのドーナツ状領域である。言い換えると、請求項７の発明では半径１９ｍｍ以下の円形部分またはドーナツ状部分に紫外線を照射する。
【００１９】
請求項８の発明は、前記紫外線照射手段が、前記紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、前記記録部領域より外側の透明基板半径領域、および前記記録部領域より内側の透明基板半径領域を照射しうるものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク製造装置である。
【００２０】
請求項９の発明は、透明基板の表面に、反射層を含んでなる記録部と、該記録部の上方に光透過層とが少なくとも形成され、光透過層を介して光を記録部に照射するようにした光ディスクを製造するため回転塗布装置であって、前記記録部上に紫外線硬化樹脂を回転塗布し、紫外線照射手段からの紫外線により前記紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化させて光透過層を形成するようにしたものにおいて、前記紫外線照射手段は、紫外線を前記透明基板の裏面側から照射しうるように構成されていることを特徴とする回転塗布装置である。
【００２１】
請求項１０の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の光ディスク製造装置を用いた光ディスクの製造方法であって、前記回転塗布装置により、前記記録部上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層を形成するに際し、基板を低速回転させる第１の回転操作において、基板中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板を高速回転させる第２の回転操作により全体の膜厚を調整し、ついで基板回転停止前に、紫外線照射により基板外周部分の紫外線硬化樹脂を硬化させることを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【００２２】
請求項１１の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の光ディスク製造装置を用いた光ディスクの製造方法であって、前記回転塗布装置により、前記記録部上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層を形成するに際し、基板を低速回転させる第１の回転操作において、基板中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板を高速回転させる第２の回転操作により基板内周部の膜厚を調整し、基板内周部に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、より高速の第３の回転操作によって全体の膜厚を調整することを特徴とする光ディスクの製造方法である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の効果を請求項別にまとめると、以下のとおりである。
請求項１の発明の効果：記録部の反射層をマスクとして紫外線照射するから、紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち反射層が存在しない領域のみを硬化させることができる。
基板の直上にマスクを接近させて位置決めし、基板の上方に設けた光源からの紫外線を紫外線硬化樹脂の塗布膜に向けて直射するようにした紫外線照射手段に比べて、本発明に係る紫外線照射手段は構造が簡単で操作も簡便であり、安価に提供できるという利点がある。
請求項２の発明の効果：請求項１において紫外線照射位置を自由に設定できるから、反射層が存在しない領域の塗布膜のうち、特に必要な部分のみを高精度に照射することができる。
請求項３の発明の効果：所定の構成により、紫外線照射の位置精度・照射効率（生産タクト）が更に向上する。
請求項４の発明の効果：所定の構成により、照射効率（生産タクト）が更に向上する。
請求項５の発明の効果：所定の構成により、バランスの良い紫外線照射が可能となり、硬化の均一性が高い光透過膜が形成される。
【００２４】
請求項６の発明の効果：紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、記録部領域の外側のドーナツ状部分を紫外線照射するようにしているから、いわゆるセンターシール法や、センター後抜き法などにより紫外線硬化樹脂を回転塗布して得られた、基板中心部分の樹脂が未硬化な基板を後工程（本露光）へ搬送する際に、装置コストの安い真空チャッキング法が、基板外周の樹脂硬化部分を使って行うことができる。
請求項７の発明の効果：紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、記録部領域の内側のドーナツ状部分を紫外線照射するようにしているから、基板中心部分に樹脂を滴下し、基板回転により樹脂を展延塗布した基板を後工程（本露光）へ搬送する際に、装置コストの安い真空チャッキング法が、基板内周の樹脂硬化部分を使って行うことができる。
請求項８の発明の効果：請求項６および７の発明の効果が得られる。
【００２５】
請求項９の発明の効果：記録部の反射層をマスクとして紫外線照射するから、紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち反射層が存在しない領域のみを硬化させることができる。また基板の直上にマスクを接近させて位置決めし、基板の上方に設けた光源からの紫外線を紫外線硬化樹脂の塗布膜に向けて直射するようにした紫外線照射手段に比べて、本発明に係る紫外線照射手段は構造が簡単で操作も簡便であり、安価に提供できるという利点がある。
【００２６】
請求項１０の発明の効果：基板回転停止前に、紫外線照射により基板外周部分の紫外線硬化樹脂を硬化させるから、すなわち基板回転停止後の樹脂の移動（戻り）が生じる前に外周部分の樹脂を硬化させるから、基板の外周端バンプ（基板外周端の隆起部）の発生が防止できる。
【００２７】
請求項１１の発明の効果：内周部の膜厚が薄くなる前に樹脂を硬化させるため塗布膜厚が厚くできるから、基板面内の光透過膜膜厚の均一性が高くなる。また、基板回転中心との偏心量をごく少なくした、インバランスに優れた内周スタックリブを設けることもできる。なお、光ディスクのスタックリブに関しては、例えば特開２００２−３４２９７７号公報、特開２００２−２５１７８４号公報に記載されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。本発明の対象となる光ディスクの構成を図１に示す。光ディスク５の構成は例えば以下の通りである。
（１）図１、図２に示すように、透明基板上に反射層のみからなる記録部と、この記録部上にこれを覆う形態で光透過層を備えているもの。
（２）透明基板上に、反射層とその上に積層された記録層とからなる記録部と、この記録部上にこれを覆う形態で光透過層を備えているもの。
上記（１）（２）において光透過層を形成するには、（ａ）回転塗布法により形成された接着層を介して、光透過層を形成するための透明樹脂フィルムを積層する方法（上記（Ａ）に説明したもの）や、（ｂ）紫外線硬化樹脂を回転塗布法により塗布し、この塗布膜を紫外線照射により硬化させる方法（上記（Ｂ）に説明したもの）が採用できる。
そして、上記（ａ）（ｂ）において回転塗布法を実施する場合には、本発明を有効に適用することができる。なお、上記（１）（２）については後に、更に具体的に説明する。
【００２９】
［基板１］
基板１としては透明基板が採用される。その材料としてはポリカーボネート、アクリル樹脂等の樹脂材料からなる基板や、ガラス基板が挙げられる。また、スパッタ膜２が形成される領域には信号のためのピットあるいはグルーブが形成されている。
【００３０】
［スパッタ膜２］
［反射層］
反射層を形成するための好ましい材料としてはＡｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ等の金属、これら金属の合金が挙げられるが、その他に、半金属元素からなるもの、半導体元素、あるいはこれらの化合物を採用することも可能である。反射層は記録再生時の光を反射して、光の利用効率を高めるとともに、記録時に発生した熱を逃がす放熱層（シートシンク層）の役割も担う。これらの反射層はスパッタリング法によって形成することができる。
【００３１】
［記録層］
記録層は、レーザ光の照射によって情報信号の書き込み・消去が可能な光記録層である。この記録層には、結晶と非晶質の間で可逆的に相変化する相変化材料層や、キュリー温度を越えた温度上昇によって保磁力がなくなり外部磁界の方向に磁化反転する光磁気記録層等が設けられる。相変化材料層には、単体のカルコゲンやカルコゲン化合物が用いられる。また、光磁気記録層には、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の非晶質合金薄膜等の、磁気光学特性（カー効果やファラデー効果）を有する垂直磁化膜等が用いられる。
【００３２】
［光透過層３］
光透過層３は、スパッタ膜２を外部の衝撃から保護するとともに、湿気等の腐食因子と接触するのを防止する保護層として機能する。この光透過層はレーザ光を透過する材料によって構成され、例えば図２に示すように、記録部としてのスパッタ膜２上に紫外線硬化樹脂を回転塗布法によって塗布し、紫外線照射することで光透過層３を形成することができる。
別法として、アクリル系樹脂，ポリオレフィン系樹脂等の樹脂材料よりなるシートやガラス板等の透明材を、紫外線硬化樹脂等の透明接着剤によって記録部上に接着することで、光透過層を設けることもできる。
【００３３】
上記光透過層３は、厚さが例えば０．３ｍｍ以下に規制される。より好ましくは１０〜２００μｍである。このような光ディスクでは、光透過層３側からレーザ光が照射されることによって記録再生が行われるが、この光透過層３の厚さが０．３ｍｍ以下になされていると、記録再生用光学系の対物レンズの開口数ＮＡを０．８にまで上げたとしても、光ディスクの傾きによって生じるコマ収差は小さく抑えられる。したがって、光ディスクの傾きに対して大きな許容度が得られる。
以上が光ディスクの基本的な構成であるが、この構成に加えて誘電体層を設け、光学的特性や熱的特性を制御するように構成することも可能である。
【００３４】
図１、図２について更に詳細に説明する。図１は、本発明の回転塗布法により作製される光ディスク５の一例を示す概略断面図である。基板１はポリカーボネートからなり、外径φ１２０ｍｍ、内径φ１５ｍｍ、厚さ１．１ｍｍで、センター穴１１を有する。スパッタ膜２は、ＲＯＭであれば反射層単層からなり、記録型であれば積層構造であり、φ３８ｍｍ〜φ１１８ｍｍ（ｒ１９ｍｍ〜ｒ５９ｍｍ）の範囲にこのスパッタ膜２が形成されている。光透過層３は、スパッタ膜２を覆うようにφ３８ｍｍより内側（本例ではφ２２ｍｍ）から最外周（φ１２０ｍｍ）まで形成される。光ヘッド（図略）からの記録及び再生のための光（例えば波長４０５ｎｍ）は光透過層３を通り、スパッタ膜２に集光される。
紫外線硬化樹脂としては従来公知のもの、例えば（メタ）アクリレート類に光硬化開始剤を添加したもの、エポキシ化合物に光硬化開始剤を添加したものなどが採用される。
【００３５】
図２は、本実施形態に係る光ディスク製造装置における回転塗布装置（スピナー）の要部構造を示す概略図である。スパッタ膜２を形成した基板１を、直径φ３０ｍｍの回転ヘッド４に真空吸着し、プログラムされた回転数・時間で制御して回転させる。吐出ノズル（図示せず）より基板１の内周部に供給された紫外線硬化樹脂（図示せず）を回転の遠心力で展延し、所望膜厚の樹脂薄膜を形成する。ここで、塗布直後に光ディスク５を下から見ると、紫外線硬化樹脂の塗布膜はスパッタ膜２によりマスクされており、スパッタ膜２領域より外側の基板半径領域にドーナツ形状の紫外線硬化樹脂の塗布膜が露出しており、スパッタ膜２領域より内側の基板半径領域に円形の紫外線硬化樹脂の塗布膜が露出している。
【００３６】
従来の光ディスク作製工程では、紫外線硬化樹脂の薄膜（塗膜）形成後は紫外線照射手段に搬送され、この薄膜の上方から（図１において上方から、つまり基板１と反対側から）照射される紫外線によりこの薄膜が硬化する。
【００３７】
これに対し本発明では、図２に示すように基板外周部に紫外線を照射するべく、紫外線光源６１、光ファイバー６２、レンズ６３よりなる紫外線照射手段が基板外周に設けられており、この紫外線照射手段は、紫外線を基板１にその裏面側から（図１において基板１の下方から）照射しうるように構成されている。
【００３８】
すなわち、紫外線照射手段は、紫外線光源６１からの紫外線を光ファイバー６２で基板１の外周に誘導し、該紫外線をレンズ６３により集光して前記紫外線硬化樹脂の塗布膜をスポット照射するものである。なお、基板１の内周部に紫外線を照射する場合も同様の構成となる。
【００３９】
また、この紫外線照射手段の形態としては、上記請求項４〜８のいずれかに記載のものが採用できる。
すなわち、前記紫外線照射手段（紫外線光源６１、光ファイバー６２、レンズ６３）を複数備え、該紫外線照射手段を前記回転塗布装置の回転ヘッド４の回転中心線を中心とする円周上に等角度ピッチで配置するものである。
【００４０】
また、前記紫外線照射手段は、基板１上の紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、スパッタ膜２領域より外側の基板半径領域（ドーナツ状部分）を照射しうるものである。あるいは、前記紫外線照射手段は、基板１上の紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、スパッタ膜２領域より内側の基板半径領域（円形またはドーナツ状部分）を照射しうるものである。さらに、前記紫外線照射手段は、基板１上の紫外線硬化樹脂の塗布膜のうち、スパッタ膜２領域より外側の基板半径領域（ドーナツ状部分）、およびスパッタ膜２領域より内側の基板半径領域（円形またはドーナツ状部分）を照射しうるものである。ここでこれらを実現するために、レンズ６３を基板１の半径方向に適宜距離だけ移動させ、その位置で固定できるように構成することが有効である。
【００４１】
つぎに、本発明の光ディスクの製造方法を説明する。
本発明の光ディスクの製造方法では、上述した本発明の光ディスク製造装置を用いて、つぎの２つの方法で光ディスクを製造する。
【００４２】
（１）前記回転塗布装置により、スパッタ膜２が形成された基板１について該スパッタ膜２（記録部）上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層３を形成するに際し、まず基板１を低速回転させる第１の回転操作において、基板１中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板１を高速回転させる第２の回転操作により全体の膜厚を調整し、ついで基板１の回転停止前に、前記紫外線照射手段からの紫外線照射により基板１の外周部分の紫外線硬化樹脂を硬化させる。
【００４３】
（２）前記回転塗布装置により、スパッタ膜２が形成された基板１について該スパッタ膜２（記録部）上に紫外線硬化樹脂からなる光透過層３を形成するに際し、基板１を低速回転させる第１の回転操作において、基板１の中心部分に紫外線硬化樹脂を滴下し、基板１を高速回転させる第２の回転操作により基板１の内周部の膜厚を調整し、基板１の内周部に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させた後、より高速の第３の回転操作によって全体の膜厚を調整する。
【実施例】
【００４４】
［比較例１］および［実施例１，２］
次に、従来の光ディスク製造方法としての回転塗布方法（比較例１）とそれによる結果、および本発明の実施例１，２に係る光ディスク製造方法としての回転塗布方法とそれによる結果を図３〜図５に示す。図３が比較例１、図４が実施例１、図５が実施例２を示すものである。
【００４５】
図３（比較例１）において、曲線Ｃ１（太い実線）は、基板回転開始からの経過時間と基板回転数（左縦軸）との関係を示すグラフである。曲線Ｃ２（●の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ５９ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。曲線Ｃ３（×の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ２３ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。
【００４６】
同様に、図４（実施例１）において曲線Ｌ１１（太い実線）は、基板回転開始からの経過時間と基板回転数（左縦軸）との関係を示すグラフである。曲線Ｌ１２（●の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ５９ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。曲線Ｌ１３（×の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ２３ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。
【００４７】
同様に、図５（実施例２）において曲線Ｌ２１（太い実線）は、基板回転開始からの経過時間と基板回転数（左縦軸）との関係を示すグラフである。曲線Ｌ２２（●の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ５９ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。曲線Ｌ２３（×の曲線）は、基板回転開始からの経過時間と、基板の半径ｒ２３ｍｍ位置における樹脂薄膜の膜厚との関係を示すグラフである。
【００４８】
比較例１における回転塗布条件について、図３をもとに説明する。なお、基板回転開始後の経過時間をｔ（秒）で表すことにする（実施例１，２も同じ）。
ｔ＝１（基板の回転を開始してから１秒後）の時点で、基板回転数を低速のＶ１とし、この低速回転を５秒間続けた。低速回転の間（ｔ＝２〜４）に、紫外線硬化樹脂を基板の内周部に滴下した。ｔ＝７の時点で基板回転数を高速のＶ２（１０００ＲＰＭ）とし、この高速回転を４秒間続けた。上記高速回転の後、基板回転数をゼロに落とした。その後、紫外線を照射して塗膜全面を硬化させた。
【００４９】
実施例１における回転塗布条件について、図４をもとに説明する。
ｔ＝１の時点で、基板回転数を低速のＶ１とし、この低速回転を３秒間続けた。この低速回転の間（ｔ＝２〜４）に、紫外線硬化樹脂を基板の内周部に滴下した。滴下終了と殆ど同時に基板回転数を中速のＶｍ（１２０ＲＰＭ）とし、この中速回転を１．５秒間続けた。この中速回転の間（ｔ＝４．５〜５．５）に、基板半径１８ｍｍを中心に紫外線を直径４ｍｍのスポットで基板の下側から照射した（図２）。ｔ＝６の時点で基板回転数を高速のＶ２（１０００ＲＰＭ）とし、この高速回転を４秒間続けた。高速回転の後、基板回転数をゼロに落とした。その後、紫外線を照射して塗膜全面を硬化させた。
【００５０】
実施例２における回転塗布条件について、図５をもとに説明する。
ｔ＝１の時点で、基板回転数を低速のＶ１とし、この低速回転を３秒間続けた。この低速回転の間（ｔ＝２〜４）に、紫外線硬化樹脂を基板の内周部に滴下した。滴下終了と殆ど同時に基板回転数を中速のＶｍ１（１２０ＲＰＭ）とし、この中速回転を１．５秒間続けた。この中速回転の間（ｔ＝４．５〜５．５）に、基板半径１８ｍｍを中心に紫外線を直径４ｍｍのスポットで基板の下側から照射した（図２）。ｔ＝６の時点で基板回転数を高速のＶ２（１０００ＲＰＭ）とし、この高速回転を４秒間続けた。ついで、ｔ＝１０の時点で基板回転数を中速のＶｍ２（６００ＲＰＭ）とし、この中速回転を１秒間続けた。この１秒間（中速Ｖｍ２）に、基板半径６０ｍｍを中心に紫外線を直径４ｍｍのスポットで基板の下側から照射した。中速回転Ｖｍ２の後、基板回転数をゼロに落とした。その後、紫外線を照射して塗膜全面を硬化させた。
【００５１】
つぎに、比較例１および実施例１，２の結果について説明する。
図３に示す従来の塗布方法では、高速回転開始（Ｖ２）とともに膜厚の内外差が生じ、回転時間が長くなるとその差は小さくなるが、数μｍの差はなくならなかった。また、回転停止とともに遠心力で外周端に溜まっていた樹脂が内周に広がり、外周の膜厚が徐々に増加した。
【００５２】
図４に示す実施例１では、高速回転（Ｖ２）に移る前に１２０ＲＰＭ（Ｖｍ）で回転させ膜厚を調整したところで、φ１８ｍｍを中心に直径４ｍｍのスポットを１秒間照射した。これにより内周部分の樹脂が硬化して内周の膜厚が低下せず均一な膜が得られた。１２０ＲＰＭの回転数を低くし膜厚を厚くすることで、高さ０．３ｍｍの均一な内周スタックリブを得ることも可能である。
【００５３】
図５に示す実施例２では、実施例１における操作に加えて、高速回転Ｖ２が停止する前に基板を６００ＲＰＭ（Ｖｍ２）で回転させ、φ６０ｍｍを中心に直径４ｍｍのスポットを１秒間照射した。その結果、スパッタ膜にマスクされていない外周部分（φ５９ｍｍ）の膜の硬化により外周の膜厚が変化することはなかった。
【００５４】
なお本発明は、基板上に反射層とその上方に光透過層とを少なくとも有する光ディスクの製造するための回転塗布装置を含む装置およびその製造方法に係るものであるが、それ以外の製造工程や、光ディスクの層構成や構成材料等については特に制限されず、適宜選定・設定して行うことができる。例えば、貼り合わせ型の光ディスクを作製するために２枚の基板のうち、一方の基板の表面に紫外線硬化型樹脂による接着層を回転塗布により形成し、これに他方の基板を重ね合わせ、この重合基板に紫外線を照射し、接着層を硬化させることで貼り合わせる場合にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態に係る光ディスクの概略断面図である。
【図２】本実施形態に係る回転塗布装置の概略図である。
【図３】従来の回転塗布方法（比較例１）の条件と、その結果を示すグラフである。
【図４】実施例１の回転塗布方法の条件と、その結果を示すグラフである。
【図５】実施例２の回転塗布方法の条件と、その結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５６】
１  基板
２  スパッタ膜（反射層＝反射膜）
３  光透過層
４  回転ヘッド
５  光ディスク
６１  紫外線光源
６２  光ファイバー
６３  レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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