(57)【要約】【課題】キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成できるウェーハ移載手順作成装置を提供する。【解決手段】工場内から提供される提供ウェーハ構成に含まれ、次工程から要求される要求ウェーハ構成に含まれないウェーハをピックアップし、このウェーハに対応したキャリアを新たに想定し、この想定したキャリアにウェーハを配置する。これにより、目標ウェーハ構成を決定する（Ｓ２）。次に、キャリアを１つ選択し、この選択されたキャリアについて提供ウェーハ構成と目標ウェーハ構成とを比較して、このキャリアから退避させるべきウェーハを退避させ、このキャリア内で移動させるべきウェーハを移動させ、他のキャリアからこのキャリアに移入させるべきウェーハを移入させる。この手順を全てのキャリアについて繰り返す。これにより、移載手順を作成する（Ｓ３）。【選択図】図５
2007250593.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成装置であって、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成することを特徴とするウェーハ移載手順作成装置。
【請求項２】
前記第１の手順は、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載し、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、前記退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを設け、この新たなキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載する手順であることを特徴とする請求項１記載のウェーハ移載手順作成装置。
【請求項３】
前記現状のウェーハの配置状態に含まれ、実現することを要求されるウェーハの配置状態には含まれない余剰のウェーハがある場合には、前記余剰のウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを想定し、この新たなキャリアに前記余剰のウェーハを配置することにより、前記目標とするウェーハの配置状態を生成することを特徴とする請求項１または２に記載のウェーハ移載手順作成装置。
【請求項４】
前記ウェーハ及び前記キャリアの汚染制約に基づいて、前記第１乃至第３の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得し、前記各集合の積集合を求めることにより前記第１乃至第３の手順を全て実行可能なソータを選定することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載のウェーハ移載手順作成装置。
【請求項５】
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成方法であって、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択する工程と、
選択された前記一のキャリアについてウェーハの移載手順を生成する工程と、
を備え、
前記ウェーハの移載手順を生成する工程は、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成する工程と、
を有することを特徴とするウェーハ移載手順作成方法。
【請求項６】
前記第１の手順を生成する工程は、
前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアの有無を判断する工程と、
前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載し、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、前記退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを設け、この新たなキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載する工程と、
を有することを特徴とする請求項５記載のウェーハ移載手順作成方法。
【請求項７】
前記現状のウェーハの配置状態に含まれ、実現することを要求されるウェーハの配置状態には含まれない余剰のウェーハがある場合には、前記余剰のウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを想定し、この新たなキャリアに前記余剰のウェーハを配置することにより、前記目標とするウェーハの配置状態を生成する工程をさらに備えたことを特徴とする請求項５または６に記載のウェーハ移載手順作成方法。
【請求項８】
前記ウェーハ及び前記キャリアの汚染制約に基づいて、前記第１乃至第３の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得する工程と、
前記各集合の積集合を求めることにより前記第１乃至第３の手順を全て実行可能なソータを選定する工程と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項５〜７のいずれか１つに記載のウェーハ移載手順作成方法。
【請求項９】
コンピュータに、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成させるウェーハ移載手順作成プログラムであって、
前記コンピュータに、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された前記一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された前記現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態とを比較する機能と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成する機能と、
を実現させることを特徴とするウェーハ移載手順作成プログラム。
【請求項１０】
前記第１の手順は、前記データベースを参照して、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載し、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、前記退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを前記メモリ内に設け、この新たなキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載する手順であることを特徴とする請求項９記載のウェーハ移載手順作成プログラム。
【請求項１１】
前記現状のウェーハの配置状態に含まれ、実現することを要求されるウェーハの配置状態には含まれない余剰のウェーハがある場合には、前記コンピュータに、前記余剰のウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを前記メモリ内に想定し、この新たなキャリアに前記余剰のウェーハを配置することにより、前記目標とするウェーハの配置状態を生成する機能をさらに実現させることを特徴とする請求項９または１０に記載のウェーハ移載手順作成プログラム。
【請求項１２】
前記コンピュータに、
前記ウェーハ及び前記キャリアの汚染制約に基づいて、前記データベースから前記第１乃至第３の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得する機能と、
前記各集合の積集合を求めることにより前記第１乃至第３の手順を全て実行可能なソータを選定する機能と、
をさらに実現させることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１つに記載のウェーハ移載手順作成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムに関し、より詳細には、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するためのウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、トランジスタやＩＣ、ＬＳＩなどの半導体装置は、半導体ウェーハに対して数十〜数百の工程を実施することにより製造される。このため、半導体工場には多数の製造装置が設置され、ウェーハを搭載したキャリアが製造装置間を搬送されて各製造装置に供給される。また、近年、半導体工場には少量多品種生産が求められることが多い。この場合、製造される品種によって工程の数や順序が異なるため、１台の製造装置を工程の配列が異なる複数の品種が通過することになる。
【０００３】
半導体装置の製造装置には、キャリアに搭載されたウェーハを１枚ずつ処理する枚葉式の製造装置と、キャリアに搭載された複数枚のウェーハを同時に処理するバッチ式の製造装置とがある。従来は、製品の納期を早めるために、バッチ式の製造装置を使用する場合において、例えば２４枚のウェーハが入るキャリアに１２枚しかウェーハが入っていなくても、同じ工程を施す他のウェーハの到着を待つことなく、この１２枚のウェーハのみを先行して処理していた。しかし、バッチ式の製造装置の稼働能率を向上させるためには、キャリアに目一杯ウェーハを搭載した状態で処理を行うことが好ましい。このため、製造装置間において、ウェーハをあるキャリアから他のキャリアに移載する作業が必要となる。
【０００４】
近年、半導体工場においては、製造装置、及びこの製造装置間においてキャリアを搬送する搬送装置の多くが自動化され、省人化が図られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、製造装置の稼働能率を上げるためのキャリア間のウェーハの移載は、その都度作業者の指示によって行われている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１９７７１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成できるウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、  
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成装置であって、  
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、  
選択された各キャリアについて、  
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成し、  
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成し、  
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成することを特徴とするウェーハ移載手順作成装置が提供される。
【０００８】
また、本発明の他の一態様によれば、  
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成方法であって、  
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択する工程と、  
選択された前記一のキャリアについてウェーハの移載手順を生成する工程と、  
を備え、  
前記ウェーハの移載手順を生成する工程は、  
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成する工程と、  
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成する工程と、  
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成する工程と、  
を有することを特徴とするウェーハ移載手順作成方法が提供される。
【０００９】
更に、本発明の更に他の一態様によれば、  
コンピュータに、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成させるウェーハ移載手順作成プログラムであって、  
前記コンピュータに、  
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、  
選択された各キャリアについて、  
前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された前記一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された前記現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態とを比較する機能と、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順を生成する機能と、  
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順を生成する機能と、  
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順を生成する機能と、  
を実現させることを特徴とするウェーハ移載手順作成プログラムが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。  
図１は、本実施形態における汚染制約を例示する模式図であり、  
図２は、本実施形態におけるソータの汚染制約を例示する模式図である。  
また、図３は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置が設置された半導体工場を例示する俯瞰図であり、  
図４は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置の要部構成を例示するブロック図であり、  
図５は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法を例示するフローチャート図である。  
なお、本実施形態において、「ウェーハ」は、例えばシリコンの単結晶からなるウェーハであり、「キャリア」は、複数枚のウェーハを収納する搬送用の容器であり、「ソータ」は、例えばウェーハの裏面を吸着することによりこのウェーハを保持して、キャリアからキャリアにウェーハを移載するウェーハ移載装置である。
【００１２】
先ず、ウェーハ移載手順の作成にあたって遵守しなくてはならないウェーハ、キャリア、ソータの汚染制約について説明する。  
図１に例示したように、本実施形態においては、ウェーハ及びキャリアの汚染状態を、例えば６つのカテゴリα（アルファ）、β（ベータ）、γ（ガンマ）、δ（デルタ）、ε（イプシロン）、ζ（ゼータ）に分類する。例えば、ある物質αを使用する処理を行う装置により汚染されたウェーハは、カテゴリαに属するものとする。また、物質αにより汚染されたキャリアも、カテゴリαに属する。
【００１３】
図１に示す矢印は、キャリア間においてウェーハの移載が可能な方向を示している。図１に示すように、同一のカテゴリに属するキャリア間において、このカテゴリに属するウェーハを移載することは可能である。例えば、カテゴリαのウェーハを、カテゴリαのキャリアから他のカテゴリαのキャリアに移載することは可能である。
【００１４】
これに対して、異なるカテゴリに属するキャリア間におけるウェーハの移載には、一定の制約がある。例えば、カテゴリγに属するウェーハを、カテゴリβのキャリアに移載することはできない。カテゴリβのキャリアが、物質γによって二次汚染されてしまうからである。
【００１５】
しかし、その逆に、カテゴリβに属するウェーハを、カテゴリγのキャリアに移載することは可能である。カテゴリβよりもカテゴリγの方が汚染の度合いが高いため、カテゴリγのキャリアにカテゴリβのウェーハが移載されても、このカテゴリγのキャリアが更に汚染されることはないからである。但し、この場合、カテゴリβのキャリアからカテゴリγのキャリアに移載されたウェーハは、カテゴリγのキャリアによって汚染されるため、以後はカテゴリγに属することになる。このように、あるカテゴリのキャリアに搭載されているウェーハは、このキャリアと同じカテゴリに属することになる。なお、一例を挙げると、カテゴリβはアルミニウム（Ａｌ）により汚染された状態であり、カテゴリγは銅（Ｃｕ）により汚染された状態である。
【００１６】
上述の如く、カテゴリ間には、汚染の程度によって序列が存在し、一方のカテゴリのキャリアから他方のカテゴリのキャリアへの移載は可能でも、その逆方向の移載は禁止される一方通行の関係が存在する。また、カテゴリαとカテゴリβのように、両方向で移載が可能となる関係も存在する。更に、カテゴリδとカテゴリεのように、両方向で移載が禁止される関係も存在する。なお、ウェーハ及びキャリアは、洗浄工程を経ることにより、汚染の程度がより低いカテゴリに移籍する。
【００１７】
また、ソータのアームがウェーハの裏面に吸着してこのウェーハを保持することにより、このアームとウェーハとの間でも汚染が拡散する。このため、ソータにも図２に例示したような汚染制約が課せられている。ソータは、例えば、カテゴリαを除くカテゴリ、即ち、カテゴリβ、γ、δ、ε、ζに分類される。そして、第１ポートに配置されたキャリアから第２ポートに配置されたキャリアにウェーハを移載する場合、カテゴリβに属するソータは、カテゴリβ又はカテゴリαに属するキャリアから、カテゴリα〜ζのいずれのキャリアにもウェーハを移載することができる。
【００１８】
また、カテゴリγに属するソータは、カテゴリγ又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリγ又はカテゴリζのキャリアにウェーハを移載することができる。更に、カテゴリδに属するソータは、カテゴリδ又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリδのキャリアにウェーハを移載することができる。更にまた、カテゴリεに属するソータは、カテゴリε又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリεのキャリアにウェーハを移載することができる。更にまた、カテゴリζに属するソータは、カテゴリζのキャリアから、カテゴリζのキャリアのみにウェーハを移載することができる。
【００１９】
このように、ウェーハについては、図１に示す制約を遵守する限り、異なるカテゴリ間の移動が可能である。但し、移動させたウェーハのカテゴリは、移動先のキャリアと同じカテゴリになる。これに対して、キャリア及びソータのカテゴリを変えてしまうと、以後のキャリア及びソータの運用方法が変わってしまうため、キャリア及びソータのカテゴリは固定とし、これらのカテゴリを変更するような移載は許可されない。
【００２０】
このような汚染制約を考慮して、ウェーハをキャリアからキャリアに移載する手順を作成するウェーハ移載手順作成装置について説明する。  
図３に例示したように、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置１０は、半導体工場１００内に設置されている。半導体工場１００においては、複数の製造装置１１が設置されており、これらの製造装置１１間においてキャリアを搬送する搬送装置１２が設けられている。搬送装置１２は、製造装置１１間を結ぶように敷設されたレール１３と、このレール１３に案内されてキャリアを搬送する複数台のカート１４とから構成されている。そして、レール１３の軌道上に、搬送装置１２に対してキャリアを乗降させると共にキャリアを一時的に保持するストッカ１５が設けられており、このストッカ１５に隣接してソータ１６が設けられており、このソータ１６に隣接してウェーハ移載手順作成装置１０が配置されている。ウェーハ移載手順作成装置１０は、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態（以下、「ウェーハ構成」という）を他の配置状態に変更するためのウェーハの移載手順を生成するものである。そして、この生成された移載手順に基づいて、ソータ１６がウェーハの移載を行い、キャリア間でのウェーハの組み替えを自動的に行うようになっている。
【００２１】
図４に示すように、ウェーハ移載手順作成装置１０においては、入力部１、目標構成決定部２、移載手順決定部３、出力部４及びメモリ５が設けられている。また、ウェーハ移載手順作成装置１０は、半導体工場１００（図３参照）内に設けられたデータベース２１に接続されている。データベース２１には、半導体工場１００内に存在するキャリアのウェーハ構成が記憶されている。また、データベース２１には、図２に示すようなソータの汚染制約の情報も記憶されている。
【００２２】
入力部１は、次工程が要求するウェーハ構成（以下、「要求ウェーハ構成」ともいう）を入力する部分であり、例えば、キーボード及び表示パネル又はタッチパネルディスプレイ等が設けられている。又は、入力部１は、半導体工場全体の工程管理を行う上位の自動化システムから命令を受け取るインタフェースであってもよい。なお、以下、半導体工場内のデータベース２１からウェーハ移載手順作成装置１０に提供されるキャリアの現状のウェーハ構成を、「提供ウェーハ構成」という。
【００２３】
目標構成決定部２は、図５のステップＳ２に示す目標構成の決定工程を実行する。目標構成決定部２は、要求ウェーハ構成を含み、提供ウェーハ構成に含まれ要求ウェーハ構成に含まれないウェーハの移載先も含み、且つ、汚染制約を満たすウェーハ構成を、移載の目標とするウェーハ構成（以下、「目標ウェーハ構成」という）として決定するものである。
【００２４】
移載手順決定部３は、ステップＳ３に示す移載手順の決定工程及びステップＳ４に示すソータの選定工程を実行する。移載手順決定部３は、提供ウェーハ構成から目標構成決定部２により決定された目標ウェーハ構成に移行するための具体的な移載手順を生成すると共に、これらの移載を行うソータを選定するものである。なお、目標構成決定部２と移載手順決定部３は、コンピュータのＣＰＵ（Central Processing Unit：中央処理装置）
により実現できる。
【００２５】
出力部４は、移載手順決定部３により決定された移載手順を出力する部分であり、例えば、ソータに移載命令を出力するインタフェースである。また、作業者に対して移載手順を表示する表示パネルを備えていてもよく、この表示パネルは、入力部１の表示パネルと兼用されていてもよい。
【００２６】
メモリ５は、目標構成決定部２及び移載手順決定部３に接続されており、目標構成決定部２及び移載手順決定部３がデータベース２１から抽出したデータを一時的に記憶するものである。メモリ５は、例えば、ＲＡＭ（Random Access Memory：ランダムアクセスメモリ）等の半導体記憶装置により実現することができる。
【００２７】
次に、上述の如く構成されたウェーハ移載手順作成装置の動作、即ち、ウェーハ移載手順作成方法について説明する。  
図６は、図５に示す目標構成決定工程を示すフローチャート図であり、  
図７〜図１２は、目標構成決定工程の各段階におけるウェーハ構成を例示する模式図であり、各図の（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。  
また、図１３は、データベース２１に記憶されたデータの一部を例示する図である。
【００２８】
なお、１つのキャリアに搭載可能なウェーハ数の標準的には２５枚程度であるが、図７〜図１２に示す具体例においては、説明及び図示を簡略化するために、１つのキャリアに８枚のウェーハが搭載可能であるものとし、ウェーハを搭載するスロットには、キャリアの一方の端部から他方の端部に向かって、スロット番号ｐ１〜ｐ８を付している。
【００２９】
本実施形態が実施される状況は、例えば、半導体工場１００に設置されたある製造装置１１において処理を行う際に、ウェーハ構成の組み替えが必要となる場面である。  
先ず、図５のステップＳ１に示すように、作業者が、要求ウェーハ構成を入力部１に入力する。例えば本具体例においては、図７（ａ）に示すように、要求ウェーハ構成は、カテゴリγに属するキャリアＡ、及びカテゴリβに属するキャリアＢの２つのキャリアからなり、キャリアＡのスロットｐ５〜ｐ８には４枚のウェーハＷ１が搭載され、キャリアＢのスロットｐ１、ｐ２には２枚のウェーハＷ２が搭載され、キャリアＢのスロットｐ５、ｐ６には２枚のウェーハＷ３が搭載された構成とする。なお、４枚のウェーハＷ１は同一のロットＬ１に属し、２枚のウェーハＷ２は他の同一のロットＬ２に属し、２枚のウェーハＷ３は更に他の同一のロットＬ３に属している。
【００３０】
本具体例においては、説明を簡略化するために、同一ロットに属するウェーハは相互に区別していないが、必要に応じて、同一ロット内において個々のウェーハを区別してもよい。
【００３１】
一方、このとき、工場内から、図７（ｂ）に示すウェーハ構成が提供されるものとする。即ち、この提供されたウェーハ構成（提供ウェーハ構成）は、カテゴリγに属するキャリアＡ、カテゴリβに属するキャリアＢ、カテゴリβに属するキャリアＣの３つのキャリアからなり、キャリアＡのスロットｐ１〜ｐ４にはロットＬ１に属する４枚のウェーハＷ１が搭載され、スロットｐ５〜ｐ８にはロットＬ４に属する４枚のウェーハＷ４が搭載され、キャリアＢのスロットｐ１、ｐ２にはロットＬ２に属する２枚のウェーハＷ２が搭載され、スロットｐ３〜ｐ６にはロットＬ５に属する４枚のウェーハＷ５が搭載され、キャリアＣのスロットｐ１、ｐ２にはロットＬ３に属する２枚のウェーハＷ３が搭載され、スロットｐ３〜ｐ６にはロットＬ６に属する４枚のウェーハＷ６が搭載された構成である。なお、キャリアＢのスロットｐ７、ｐ８及びキャリアＣのスロットｐ７、ｐ８は空きスロットとなっている。そして、この提供ウェーハ構成のデータは、予めデータベース２１に記憶されている。図１３は、図７（ｂ）に示す提供ウェーハ構成を表すデータを示している。
【００３２】
従って、図７（ｂ）に示す提供ウェーハ構成には、図７（ａ）に示す要求ウェーハ構成には含まれない余剰のウェーハＷ４、Ｗ５、Ｗ６（ロットＬ４、Ｌ５、Ｌ６）が存在する。従って、図７（ｂ）に示すウェーハ構成から図７（ａ）に示すウェーハ構成が生成されるようにウェーハを移載すると、ウェーハＷ４、Ｗ５、Ｗ６の行き場がなくなってしまう。
【００３３】
そこで、本実施形態においては、図５のステップＳ２及び図６に示すような目標構成決定工程を実施する。この目標構成決定工程の処理内容を概説すれば、以下のとおりである。
＜１＞要求ウェーハ構成及び提供ウェーハ構成を認識し（ステップＳ２１、Ｓ２２）、
＜２＞提供ウェーハ構成に含まれ要求ウェーハ構成に含まれない余剰のウェーハをピックアップし（ステップＳ２３、Ｓ２４）、
＜３＞この余剰のウェーハに対応したキャリアを新たに想定し（ステップＳ２５、Ｓ２７）、
＜４＞この新たに想定したキャリアに余剰のウェーハを配置する（ステップＳ２６、Ｓ２８）。  
以下、これらの処理の具体的な実施方法について説明する。なお、以下の工程は、全てコンピュータ内及びコンピュータとデータベースとの間のデータの移動・生成によって仮想的に実施されるものであり、実際にウェーハを移載するわけではない。
【００３４】
先ず、図６のステップＳ２１に示すように、メモリ５内に移載前及び移載後のウェーハ構成を記憶する記憶領域を確保する。このとき、後述するように、目標構成決定工程においてキャリアが新設される可能性があるため、記憶領域は、図７（ａ）及び（ｂ）に示すウェーハ構成に対応する大きさよりも大きく確保しておく。
【００３５】
次に、入力部１から、図７（ａ）に示す要求ウェーハ構成のデータを読み込み、メモリ５の記憶領域に書き込む。また、データベース２１から、図７（ｂ）に示す提供ウェーハ構成のデータを抽出し、メモリ５の記憶領域に書き込む。なお、この提供ウェーハ構成のデータは、図１３に例示するようなデータである。これにより、メモリ５の記憶領域に、図７（ａ）及び（ｂ）に示すウェーハ構成、即ち、初期状態のウェーハ構成を書き込む。このとき、図７（ａ）に示すウェーハ構成を「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」とし、図７（ｂ）に示すウェーハ構成を「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」とする。  
次に、図６のステップＳ２２及び図８に示すように、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれる全てのウェーハを表すデータを取り出す。
【００３６】
次に、ステップＳ２３に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリア（本具体例においてはキャリアＣ）に搭載されているウェーハのうち、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないウェーハ（本具体例においてはウェーハＷ６）を「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」とする。
【００３７】
次に、ステップＳ２４及び図９に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれないウェーハ（ウェーハＷ４〜Ｗ６）から、「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」（ウェーハＷ６）を除いたウェーハ（ウェーハＷ４、Ｗ５）を抽出し、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」とする。
【００３８】
次に、ステップＳ２５及び図１０に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリア（キャリアＣ）に相当するキャリア（キャリアＣ）を「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内に新設する。すなわち、メモリ５の記憶領域内に、キャリアＣに相当する領域を設定する。キャリアＣのカテゴリはカテゴリβであるため、新設するキャリアのカテゴリもカテゴリβとする。
【００３９】
次に、ステップＳ２６及び図１１に示すように、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内に新設したキャリアＣに、「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」（ウェーハＷ６）を配置する。このとき、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」のキャリアＣ内におけるウェーハＷ６を搭載するスロットは、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」のキャリアＣ内においてウェーハＷ６が搭載されているスロットと同じとする。即ち、キャリアＣのスロットｐ３〜ｐ６に、ウェーハＷ６を搭載する。
【００４０】
次に、ステップＳ２７及び図１２に示すように、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」を構成するロット数（即ち、ウェーハの種類数）と同数のキャリアを、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」の双方に新設する。本具体例においては、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」を構成するロットはロットＬ４（ウェーハＷ４）及びロットＬ５（ウェーハＷ５）の２種類であるため、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」の双方に、２つのキャリアＸ１及びＸ２を設ける。このとき、キャリアＸ１のカテゴリはウェーハＷ４と同じカテゴリγとし、キャリアＸ２のカテゴリはウェーハＷ５と同じカテゴリβとする。
【００４１】
次に、ステップＳ２８に示すように、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内のキャリアＸ１に、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」であるロットＬ４（４枚のウェーハＷ４）を配置し、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内のキャリアＸ２に、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」であるロットＬ５（４枚のウェーハＷ５）を配置する。このとき、各キャリアにおいては、ウェーハをスロット番号が小さいスロットから順に詰める。これにより、図１２（ａ）に示すように、移載の目標となるウェーハ構成（目標ウェーハ構成）が決定される。
【００４２】
次に、図５のステップＳ３に示すように、移載手順決定部３において、移載前のウェーハ構成から目標ウェーハ構成を形成するための移載手順を決定する。  
図１４（ａ）は目標となるウェーハ構成を示す図であり、（ｂ）は移載前のウェーハ構成を示す図であり、  
図１５及び図１６は、図５に示す移載手順決定工程を示すフローチャート図であり、  
図１７〜図２１は、移載手順決定工程の各段階におけるウェーハ構成を示す図であり、各図の（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。
【００４３】
ウェーハ及びキャリアの汚染制約については、ステップＳ２に示す目標構成決定工程において考慮されているため、本工程（移載手順決定工程）においては考慮する必要がない。一方、本工程においては、キャリア間のウェーハの移動をいかに円滑に行うかが重要となる。そこで、本工程においては、説明をわかりやすくするために、前述の目標構成決定工程において説明した具体例に替えて、図１４（ｂ）に示すような提供ウェーハ構成を図１４（ａ）に示すような目標ウェーハ構成に再配列する具体例について説明する。
【００４４】
即ち、図１４（ａ）に示すように、目標構成決定工程において決定された目標ウェーハ構成は、キャリアＡのスロットｐ１〜ｐ６にロットＬ１１に属する６枚のウェーハＷ１１が搭載され、キャリアＢのスロットｐ１〜ｐ６にロットＬ１２に属する６枚のウェーハＷ１２が搭載され、キャリアＣのスロットｐ１〜ｐ６にロットＬ１３に属する６枚のウェーハＷ１３が搭載されたものとする。一方、図１４（ｂ）に示すように、移載前の提供ウェーハ構成は、キャリアＡ、Ｂ、Ｃのそれぞれのスロットｐ１、ｐ２にウェーハＷ１２が搭載され、それぞれのスロットｐ３、ｐ４にウェーハＷ１１が搭載され、それぞれのスロットｐ５、ｐ６にウェーハＷ１３が搭載されたものとする。
【００４５】
移載手順決定工程の処理内容を概説すれば、以下のとおりである。
＜１＞キャリアを１つ選択し（ステップＳ３２）、
＜２＞この選択されたキャリアについて、提供ウェーハ構成と目標ウェーハ構成とを比較して、他のキャリアからこのキャリアに移入させる必要があるウェーハ、このキャリア内でスロットを移動させる必要があるウェーハ、このキャリアから他のキャリアに退避させる必要があるウェーハをそれぞれピックアップし（ステップＳ３３〜Ｓ３５）、
＜３＞このキャリアから退避させるべきウェーハを退避させ（ステップＳ３６〜Ｓ４０）、
＜４＞このキャリア内においてスロットを移動させるべきウェーハを移動させ（ステップＳ４１、Ｓ４２）、
＜５＞他のキャリアからこのキャリアに移入させるべきウェーハを移入させる（ステップＳ４３、Ｓ４４）。
＜６＞そして、上記＜１＞〜＜５＞の手順を全てのキャリアについて繰り返す（ステップＳ３１）。  
以下、これらの処理の具体的な実施方法について説明する。なお、以下の工程は、全てコンピュータ内及びコンピュータとデータベース２１との間のデータの移動・生成によって実施され、実際にウェーハを移載するわけではない。
【００４６】
先ず、図１５のステップＳ３１に示すように、移載が終了していないキャリアが存在するか否かを判断し、存在していればステップＳ３２に進み、存在していなければ移載手順決定工程を終了する。  
未移載のキャリアが存在し、ステップＳ３２に進んだ場合は、図１７に示すように、移載が終了していないキャリア（本具体例においてはキャリアＡ、Ｂ、Ｃ）のうち１つのキャリア（例えば、キャリアＡ）を選択し、このキャリアを「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」とする。
【００４７】
次に、ステップＳ３３に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）の現状（移載前）のウェーハ構成を表すデータをデータベース２１から抽出し、メモリ５に記憶させる。一方、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）の目標ウェーハ構成を表すデータは、前述の目標構成決定工程（図５のステップＳ２）において作成され、メモリ５に記憶されている。このとき、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」の現状のウェーハ構成を「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」とし、目標ウェーハ構成を「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」とする。
【００４８】
そして、ステップＳ３４に示すように、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハのうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれないウェーハを「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」とする。即ち、この「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」は、他のキャリア（キャリアＢ、Ｃ）から移入させなくてはならないウェーハである。本具体例においては、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」はキャリアＢ及びＣに搭載されている４枚のウェーハＷ１１である。
【００４９】
また、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハのうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハを「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」とする。本具体例においては、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」はキャリアＡに搭載されている２枚のウェーハＷ１１とする。
【００５０】
更に、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハのうち、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成しないウェーハを「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」とする。即ち、この「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」は、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」から退避させなくてはならないウェーハである。本具体例においては、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」はキャリアＡに搭載されている各２枚のウェーハＷ１２及びＷ１３である。
【００５１】
次に、ステップＳ３５に示すように、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」が搭載されているキャリア（即ち、キャリアＢ及びＣ）を「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」とする。  
次に、ステップＳ３６に進み、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が存在するか否かを判断し、存在する場合は図１６に示すステップＳ３７に進み、存在しない場合はステップＳ４１に進む。
【００５２】
「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が存在し、ステップＳ３７に進んだ場合は、データベース２１を参照して、全ての「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を退避させられるキャリアが存在するか否かを判断し、該当するキャリアが存在すればステップＳ３８に進み、存在しなければステップＳ３９に進む。なお、この「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を退避させるキャリアのカテゴリは、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」と同一であることが必要である。
【００５３】
該当するキャリアが存在し、ステップＳ３８に進んだ場合は、該当するキャリアから１つのキャリアを選択して退避先キャリアとする。このとき、その移載後の構成に前述の「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が含まれ、この「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が収納されるべきスロットが空いているキャリアがあれば、このキャリアを選択する。このようなキャリアがなければ、任意のキャリアを選択する。  
一方、該当するキャリアが存在せず、ステップＳ３９に進んだ場合は、メモリ５の記憶領域内に「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」と同一カテゴリのキャリアを新設し、これを退避先キャリアとする。
【００５４】
本具体例においては、上述の如く、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」は、キャリアＡに搭載されている各２枚のウェーハＷ１２及びＷ１３である。一方、キャリアＢ及びＣにおいては、それぞれ２スロットしか空いておらず、４スロットの空きがあるキャリアは存在しない。従って、全ての「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を退避させられるキャリアは存在しない。そこで、ステップＳ３９に進み、図１８に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）と同一カテゴリのキャリアＸ１をメモリ５内に生成し、これを退避先キャリアとする。
【００５５】
次に、ステップＳ３８又はステップＳ３９からステップＳ４０に進み、図１９に示すように、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を退避先キャリアに移載する。このとき、退避先キャリアの移載後の構成に「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が含まれ、この「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が収納される予定のスロットが空いていれば、そのスロットに「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を移載する。そうでなければ、任意のスロットに移載する。この移載を「手順１」とする。
【００５６】
次に、ステップＳ４１に進み、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」が存在するか否かを判断する。「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」が存在する場合は、ステップＳ４２及び図２０に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」内で「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」をスロットからスロットに移載する。この移載を「手順２」とする。その後、ステップＳ４３に進む。一方、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」が存在しない場合は、ステップＳ４１から直接ステップＳ４３に進む。
【００５７】
次に、ステップＳ４３に示すように、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」が存在するか否かを判断する。「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」が存在する場合は、ステップＳ４４に進み、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」から１つのキャリアを選択し、このキャリアから「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」の所定のスロットに「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」を移載する。この移載を「手順３」とする。そして、この移載が終了したキャリアは、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」から取り除く。その後、ステップＳ４３に戻り、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」がなくなるまで、ステップＳ４４を繰り返す。
【００５８】
本具体例においては、図２１に示すように、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」であるキャリアＢ及びキャリアＣに搭載されている「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」であるウェーハＷ１１を、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」であるキャリアＡに移載する。これにより、キャリアＡに関する移載が終了する。
【００５９】
そして、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」がなくなったら、ステップＳ４３からステップＳ３１に戻る。そして、ステップＳ３１に示すように、移載が終了していないキャリアの有無を判断し、移載が終了していないキャリアがあれば、これを「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」に指定し（ステップＳ３２）、ステップＳ３３〜Ｓ４４に示す工程を繰り返す。本具体例においては、キャリアＢ及びＣについて、ステップＳ３３〜Ｓ４４に示す工程を繰り返す。そして、全てのキャリアの移載が終了した時点で、図５のステップＳ３に示す移載手順決定工程が終了する。これにより、ウェーハの移載手順が作成される。
【００６０】
次に、図５のステップＳ４に示すように、前述の各移載手順に関してソータの汚染制約のチェックを行い、各移載手順が汚染制約を満たしていることをチェックすると共に、汚染制約を満たすソータを選定する。具体的には、データベース２１に記憶されているソータの汚染制約に関する情報（図２参照）を参照して、ステップＳ４０における「手順１」、ステップＳ４２における「手順２」、ステップＳ４４における「手順３」のそれぞれに対して、使用可能なソータの集合を取得する。そして、取得された集合の積集合を求め、この積集合に含まれるソータを、全移載手順に使用可能なソータとして選定する。なお、積集合が空集合である場合は、汚染制約を遵守しつつ１台のソータによって上述の各手順を実行することが不可能であると判断し、エラーメッセージを出力する。
【００６１】
次に、ステップＳ５に示すように、作成された移載手順を出力部４が出力する。例えば、目標構成決定工程（ステップＳ２）において新たに想定されたキャリアＸ１及びＸ２（図１３参照）の補充を指示する信号、移載手順決定工程（ステップＳ３）において作成された移載動作、即ち、「手順１」、「手順２」、「手順３」をキャリアの数だけ繰り返してなる一連の動作を指示する信号、並びに、ソータ選定工程（ステップＳ４）において選定されたソータを示す信号を、ウェーハの移載を管理するソフトウェアに対して出力する。これにより、このソフトウェアが、要求されたカテゴリに属する空のキャリアを工場内から探してくると共に、選定されたソータの第１ポート及び第２ポートに所定のキャリアを装入し、このキャリアの装入と連動させてソータのアームを駆動することにより、ウェーハの移載を実行する。そして、図３に示すように、ソータ１６によりウェーハの組み替えがなされた１組のキャリアは、ストッカ１５及び搬送装置１２により、後工程を実施する製造装置１１に向けて搬送される。また、データベース２１に記憶されているウェーハ構成に関するデータを、移載後のウェーハ構成を表すデータに書き替える。
【００６２】
次に、本実施形態の効果について説明する。  
一般に、ウェーハは、それまで経てきた工程によって汚染状態が異なり、また、キャリア及びソータも、それまで扱ってきたウェーハによって汚染状態が異なっている。このため、ウェーハを無制限にソータによってキャリアに移載すると、このウェーハ、ソータ、キャリア間で汚染物質が拡散してしまう。従って、ウェーハの汚染状態に応じて、使用できるソータ及びキャリアに制約（汚染制約）がある。従来は、この汚染制約が存在することにより、キャリア間におけるウェーハの移載の自動化が困難であった。  
これに対して、本実施形態においては、ステップＳ２に示す目標構成決定工程において、要求ウェーハ構成に含まれないウェーハが提供ウェーハ構成中に含まれている場合に、このウェーハと同じカテゴリのキャリアを新設することにより、汚染制約を満たしつつ、全てのウェーハの移載先を確保することができる。
【００６３】
また、本実施形態においては、ステップＳ３に示す移載手順決定工程において、キャリアを１つずつ選択し、選択されたキャリアから、目標ウェーハ構成においてこのキャリアに搭載されない予定のウェーハを退避させ（手順１）、このキャリア内においてウェーハの移動を行い（手順２）、その後、他のキャリアからこの選択されたキャリアに必要なウェーハを移入させる（手順３）ように、移載手順を作成している。また、ウェーハを退避させる際に、適当な退避先のキャリアがない場合には、汚染制約を満たすキャリアを新設している。これにより、ウェーハ同士がかち合ったり、ウェーハの行き場がなくなることなく、ウェーハの移載を確実に行うことができる。
【００６４】
更に、本実施形態においては、ステップＳ４に示すソータの選定工程において、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータを選定しているため、１台で全ての手順を実行可能なソータを自動的に選択することができる。  
本実施形態によれば、これらの効果により、作業者の指示を要することなく、キャリア間におけるウェーハの移載を自動的に行うことができる。この結果、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置１０をその一要素として、半導体工場全体の自動化システムを構築することができる。これにより、製造装置の稼働効率を向上させた半導体工場の自動化を促進することができる。
【００６５】
なお、本実施形態においては、ステップＳ２に示す目標構成決定工程により目標ウェーハ構成を決定した後、ステップＳ３に示す移載手順決定工程により移載手順を作成する例を示したが、本発明はこれに限定されず、要求ウェーハ構成が提供ウェーハ構成を構成するウェーハを全て含み、且つ汚染制約を満たしている場合には、要求ウェーハ構成をそのまま目標ウェーハ構成とすることができる。この場合は、目標構成決定工程は不要となる。または、目標ウェーハ構成は、作業者が入力してもよく、予めデータベース２１に記憶されていてもよい。これらの場合も、目標構成決定工程は不要となる。なお、これらの場合においても、ステップＳ４に示すソータの選定工程において、目標ウェーハ構成が汚染制約を満たしているか否かをチェックすることができる。
【００６６】
また、本実施形態においては、ステップＳ４に示すソータの選定工程において、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータを選定する例を示したが、本発明はこれに限定されず、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータがない場合には、複数のソータを使用して、各移載手順において汚染制約を遵守しつつ、全手順を実行するようにしてもよい。  
更に、汚染制約も図１に示す制約に限定されず、実行される工程の内容及び製品に要求される清浄度の程度等に応じて、ユーザーサイドで任意に設定することができる。  
更にまた、本発明に係るウェーハ移載手順作成装置は、製造装置間におけるウェーハ構成の組み替えのみならず、製造装置をメンテナンスするためにメンテナンス用のウェーハをキャリアに搭載する際にも利用することができる。
【００６７】
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。  
本実施形態は、前述の第１の実施形態を、スロット数が２５であるキャリアに適用した例である。また、本実施形態においては、用意されているソータの種類が第１の実施形態よりも制限されている。本実施形態における上記以外の構成は、第１の実施形態と同様である。即ち、本実施形態における汚染制約は、第１の実施形態における汚染制約と同様であり、図１に示す規則に従う。また、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置及びウェーハ移載手順作成方法は、前述の第１の実施形態と同じである。
【００６８】
図２２は、本実施形態におけるソータの種類を示す図であり、  
図２３〜図２７は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法の各段階におけるウェーハ構成を示す図であり、各図の（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。
【００６９】
図２２に示すように、本実施形態においては、４台のソータが設定されている。即ち、ソータＮｏ．１は、カテゴリβに属するキャリアからカテゴリβ又はγに属するキャリアにウェーハを移載することができ、ソータＮｏ．２及びソータＮｏ．３は、カテゴリβのキャリアからカテゴリβのキャリアにウェーハを移載することができ、ソータＮｏ．４は、カテゴリβのキャリアからカテゴリζのキャリアにウェーハを移載することができる。このソータの汚染制約に関する情報は、データベース２１に記憶されている。
【００７０】
以下、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法の具体例について説明する。  
先ず、図５のステップＳ１に示すように、入力部１（図４参照）に要求ウェーハ構成を入力する。このとき、図２３（ａ）に示すように、要求ウェーハ構成は、カテゴリβに属するキャリアＡとカテゴリγに属するキャリアＢの２つのキャリアからなり、キャリアＡのスロットｐ１及びｐ２にロットＬ２１に属する２枚のウェーハＷ２１が搭載されており、キャリアＢのスロットｐ１〜ｐ２０にロットＬ２２に属する２０枚のウェーハＷ２２が搭載された構成である。
【００７１】
一方、工場内から、図２３（ｂ）に示すような提供ウェーハ構成が提供される。図２３（ｂ）に示すように、提供ウェーハ構成は、カテゴリβに属するキャリアＡとカテゴリγに属するキャリアＢの２つのキャリアからなり、キャリアＡのスロットｐ１〜ｐ２０にロットＬ２２に属する２０枚のウェーハＷ２２が搭載されており、スロットｐ２１及びｐ２２にロットＬ２１に属する２枚のウェーハＷ２１が搭載されており、スロットｐ２３〜ｐ２５にロットＬ２３に属する３枚のウェーハＷ２３が搭載されており、キャリアＢにはウェーハは搭載されていない。
【００７２】
次に、図５のステップＳ２に示すように、目標構成決定工程を実施する。先ず、図６のステップＳ２１に示すように、目標構成決定部２内に記憶領域を確保し、初期状態のウェーハ構成を書き込む。すなわち、入力部１から要求ウェーハ構成のデータを読み込んでメモリ５に記憶させ、データベース２１から提供ウェーハ構成のデータを抽出してメモリ５に記憶させる。このとき、図２３（ａ）に示す要求ウェーハ構成を「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」とし、図２３（ｂ）に示す提供ウェーハ構成を「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」とする。
【００７３】
次に、ステップＳ２２に示すように、メモリ５に記憶された「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」から、全てのウェーハのデータを取り出す。本具体例においてこのとき取り出されるデータは、ウェーハＷ２１、Ｗ２２、Ｗ２３のデータである。
【００７４】
次に、ステップＳ２３に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリアに搭載されているウェーハのうち、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないウェーハを「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」とする。本具体例においては、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリアは存在しないため、「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」も存在しない。
【００７５】
次に、ステップＳ２４に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれないウェーハ（ウェーハＷ２３）から、「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」を除いたウェーハを「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」とする。本具体例においては、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」はウェーハＷ２３である。
【００７６】
次に、ステップＳ２５に示すように、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリアに相当するキャリアを「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内に新設する。本具体例においては、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」に含まれ「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」に含まれていないキャリアは存在しないため、このステップでは、何もしない。
【００７７】
次に、ステップＳ２６に示すように、ステップＳ２５において新設したキャリアに、「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」を配置する。本具体例においては、新設したキャリアも「ｒｅｓｔＬｏｔｓ」も存在しないため、何もしない。
【００７８】
次に、ステップＳ２７及び図２４に示すように、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」を構成するウェーハの種類数（ロット数）と同数のキャリアを、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」の双方に新設する。本具体例においては、「ｓｔｒａｙＬｏｔｓ」を構成するウェーハはウェーハＷ２３の１種類であるため、「ｂｅｆｏｒｅＳｌｏｔＭａｐ」及び「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」の双方に、１つのキャリアＸを設ける。すなわち、メモリ５の記憶領域内に、新しいキャリアＸに相当する領域を設定する。また、ウェーハＷ２３はキャリアＡに収納されており、キャリアＡの汚染カテゴリはカテゴリβであるため、キャリアＸの汚染カテゴリもカテゴリβとする。
【００７９】
次に、ステップＳ２８に示すように、「ｔａｒｇｅｔＳｌｏｔＭａｐ」内のキャリアＸのスロットｐ１〜ｐ３に、３枚のウェーハＷ２３を配置する。これにより、図２４（ａ）に示すような目標ウェーハ構成が決定される。
【００８０】
このように、図５のステップＳ２に示す目標構成決定工程により目標ウェーハ構成を決定した後、ステップＳ３に示すように、移載手順決定工程を実施する。先ず、図１５のステップＳ３１に進み、未移載のキャリア（キャリアＡ、Ｂ、Ｘ）が存在するためステップＳ３２に進み、未移載のキャリアの中からキャリアＡを選定して、これを「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」とする。
【００８１】
次に、ステップＳ３３に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）の現状（移載前）のウェーハ構成を表すデータ（「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」）をデータベース２１から抽出する。このとき、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）の目標ウェーハ構成を表すデータ（「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」）は、前述の目標構成決定工程（ステップＳ２）により決定され、メモリ５に記憶されている。
【００８２】
そして、ステップＳ３４に示すように、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハ（ウェーハＷ２１）のうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれないウェーハを「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」とする。本具体例においては、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」は存在しない。
【００８３】
また、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハ（ウェーハＷ２１）のうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハを「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」とする。本具体例においては、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」をウェーハＷ２１とする。
【００８４】
更に、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハ（ウェーハＷ２１、Ｗ２２、Ｗ２３）のうち、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成しないウェーハを「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」とする。本具体例においては、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」は２０枚のウェーハＷ２２及び３枚のウェーハＷ２３である。
【００８５】
次に、ステップＳ３５に示すように、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」が搭載されているキャリアを「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」とする。本具体例においては、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」が存在しないため、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」も存在しない。
【００８６】
次に、ステップＳ３６に進み、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が存在しているため図１６に示すステップＳ３７に進み、データベース２１を参照して、全ての「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２２及びＷ２３）を退避させられるキャリアが存在するか否かを判断する。本具体例においては、カテゴリーβに属するキャリアＸにウェーハＷ２２及びＷ２３を退避させることができるため、ステップＳ３８に進み、退避先キャリアとしてキャリアＸを選択する。
【００８７】
そして、ステップＳ４０に進み、図２５に示すように、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２２及びＷ２３）を「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）から退避先キャリア（キャリアＸ）に移載する。このとき、図２５（ａ）に示す目標ウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）のキャリアＸに「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２３）が含まれ、このウェーハＷ２３が収納される予定のスロットｐ１〜ｐ３が空いているため、このスロットにウェーハＷ２３を移載する。これに伴い、ウェーハＷ２２の移転先は、スロットｐ４〜ｐ２３とする。この移載を「手順１」とする。
【００８８】
次に、ステップＳ４１に進み、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」が存在しているためステップＳ４２に進み、図２６に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＡ）内で「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２１）をスロットｐ２１及びｐ２２からスロットｐ１及びｐ２に移載する。この移載を「手順２」とする。  
次に、ステップＳ４３に進み、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」が存在しないため、図１５に示すステップＳ３１に戻る。これにより、キャリアＡの移載が終了する。
【００８９】
次に、ステップＳ３２に進み、移載が終了していないキャリアＢを「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」とする。  
次に、ステップＳ３３に示すように、「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＢ）の現状のウェーハ構成を表すデータ（「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」）をデータベース２１から抽出する。なお、キャリアＢの目標ウェーハ構成を表すデータ（「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」）は、メモリ５に記憶されている。
【００９０】
次に、ステップＳ３４に進み、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」を設定する。上述の如く、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」は、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハ（ウェーハＷ２２）のうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれないウェーハであり、本具体例のこの時点ではウェーハＷ２２である。また、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」は、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成するウェーハ（ウェーハＷ２２）のうち、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハであり、本具体例のこの時点では存在しない。更に、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」は、「ｂｅｆｏｒｅＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」に含まれるウェーハのうち、「ｔａｒｇｅｔＦｏｃｕｓｅｄＭａｐ」を構成しないウェーハであり、本具体例のこの時点では存在しない。
【００９１】
次に、ステップＳ３５に示すように、「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２２）が搭載されているキャリア（キャリアＸ）を「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」とする。  
次に、ステップＳ３６に進み、「ｅｖａｃｕａｔｅＷａｆｅｒｓ」が存在していないため、ステップＳ４１に進み、「ｎｅｅｄＳｅｌｆＷａｆｅｒｓ」が存在していないため、ステップＳ４３に進み、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」（キャリアＸ）が存在しているため、ステップＳ４４に進み、図２７に示すように、「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」（キャリアＸ）から「ｎｅｅｄＷａｆｅｒｓ」（ウェーハＷ２２）を「ｆｏｃｕｓｅｄＣａｒｒｉｅｒ」（キャリアＢ）のスロットｐ１〜ｐ２０に移載する。この移載を手順３とする。そして、キャリアＸを「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」から外す。
【００９２】
次に、ステップＳ４３に戻り、もはや「ｎｅｅｄＣａｒｒｉｅｒｓ」が存在していないため、ステップＳ３１に戻る。これにより、キャリアＢの移載が終了すると共に、キャリアＸの移載も終了する。従って、ステップＳ３１において、未移載のキャリアが存在していないため、移載手順決定工程を終了する。
【００９３】
次に、図５のステップＳ４に示すように、データベース２１に記憶されたソータの汚染制約の情報（図２２参照）を参照して、汚染制約を満たすソータを選定する。  
ステップＳ４０における「手順１」においては、図２４（ｂ）及び図２５（ｂ）に示すように、カテゴリβに属するキャリアＡからカテゴリβに属するキャリアＸにウェーハＷ２２及びＷ２３を移載している。従って、この移載は（β→β）の移載であり、図２２より、使用可能なソータの集合は、（Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３）である。  
ステップＳ４２における「手順２」においては、図２５（ｂ）及び図２６（ｂ）に示すように、ウェーハＷ２１の移載をカテゴリβに属するキャリアＡ内で行っている。従って、この移載も（β→β）の移載であり、図２２より、使用可能なソータの集合は、（Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３）である。  
ステップＳ４４に示す「手順３」においては、図２６（ｂ）及び図２７（ｂ）に示すように、カテゴリβに属するキャリアＸからカテゴリγに属するキャリアＢにウェーハＷ２２を移載している。従って、この移載は（β→γ）の移載であり、図２２より、使用可能なソータの集合は、（Ｎｏ．１）である。
【００９４】
このため、使用可能なソータの集合（Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３）、（Ｎｏ．１、Ｎｏ．２、Ｎｏ．３）、（Ｎｏ．１）の積集合は（Ｎｏ．１）である。即ち、上述の手順１〜３は、ソータＮｏ．１を使用すれば、汚染制約を遵守しつつ実行することができる。従って、使用するソータとして、ソータＮｏ．１を選定する。
【００９５】
次に、ステップＳ５に示すように、上述の如く作成された移載手順を出力部４が出力する。即ち、新たに想定されたキャリアＸ（図２４参照）の補充を指示する信号、上述の「手順１」、「手順２」、「手順３」を指示する信号、ソータとして「ソータＮｏ．１」を選定する信号を、ウェーハの移載を管理するソフトウェアに対して出力する。これにより、ソータＮｏ．１がこの移載手順を実行し、ウェーハを移載する。その後、データベース２１に記憶されているデータを、移載後のウェーハ構成を表すデータに更新する。  
このように、本実施形態においては、スロット数が２５のキャリアを用いる場合においても、人手を介さずにウェーハ移載手順を作成することができる。本実施形態における上記以外の効果は、前述の第１の実施形態と同様である。
【００９６】
なお、上述の各実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置１０においては、目標構成決定部２及び移載手順決定部３を設ける例を示したが、これらは１つのプロセッサにより構成してもよい。また、この場合、目標構成決定部２及び移載手順決定部３の機能をプログラムにより実現してもよい。
【００９７】
このようなプログラムは、コンピュータに、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態（ウェーハ構成）を変更するためのウェーハの移載手順を生成させるウェーハ移載手順作成プログラムである。即ち、このプログラムは、コンピュータに、複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、選択された各キャリアについて、前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態（提供ウェーハ構成）を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された提供ウェーハ構成と目標とするウェーハの配置状態（目標ウェーハ構成）とを比較する機能と、この比較結果に基づいて、選択された一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第１の手順（手順１）を生成する機能と、上述の比較結果に基づいて、この一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第２の手順（手順２）を生成する機能と、上述の比較結果に基づいて、他のキャリアから一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第３の手順（手順３）を生成する機能と、を実現させるものである。
【００９８】
また、第１の手順は、例えば、データベースを参照して、退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに退避させるべきウェーハを移載し、退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアをメモリ内に設け、この新たなキャリアに退避させるべきウェーハを移載する手順とする。これにより、前述の移載手順決定部３の機能を実現することができる。
【００９９】
更に、このプログラムは、例えば、現状のウェーハの配置状態（提供ウェーハ構成）に含まれ、実現することを要求されるウェーハの配置状態（要求ウェーハ構成）には含まれない余剰のウェーハがある場合には、コンピュータに、余剰のウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアをメモリ内に想定し、この新たなキャリアに余剰のウェーハを配置することにより、目標とするウェーハの配置状態（目標ウェーハ構成）を生成する機能をさらに実現させるものとする。これにより、前述の目標構成決定部２の機能を実現することができる。
【０１００】
更にまた、このプログラムは、例えば、コンピュータに、ウェーハ及びキャリアの汚染制約に基づいて、データベースから第１乃至第３の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得する機能と、これらの集合の積集合を求めることにより第１乃至第３の手順を全て実行可能なソータを選定する機能と、をさらに実現させるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明の第１の実施形態における汚染制約を示す図である。
【図２】本実施形態におけるソータの汚染制約を示す図である。
【図３】本実施形態における半導体工場を示す俯瞰図である。
【図４】本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置を示すブロック図である。
【図５】本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法を示すフローチャートである。
【図６】図５に示す目標構成決定工程を示すフローチャート図である。
【図７】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図７の次の段階を示す。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図８の次の段階を示す。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図９の次の段階を示す。
【図１１】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図１０の次の段階を示す。
【図１２】（ａ）及び（ｂ）は、目標構成決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図１１の次の段階を示す。
【図１３】データベースに記憶されたデータの一部を例示する図である。
【図１４】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は目標ウェーハ構成を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成を示す。
【図１５】図５に示す移載手順決定工程を示すフローチャート図である。
【図１６】図５に示す移載手順決定工程を示すフローチャート図であり、図１５に続く図である。
【図１７】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。
【図１８】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図１７の次の段階を示す。
【図１９】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図１８の次の段階を示す。
【図２０】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図１９の次の段階を示す。
【図２１】（ａ）及び（ｂ）は、移載手順決定工程のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図２０の次の段階を示す。
【図２２】本発明の第２の実施形態におけるソータの種類を示す図である。
【図２３】（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示す。
【図２４】（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図２３の次の段階を示す。
【図２５】（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図２４の次の段階を示す。
【図２６】（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図２５の次の段階を示す。
【図２７】（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法のウェーハ構成を示す図であり、（ａ）は移載後のウェーハ構成（ｔａｒｇｅｔ）を示し、（ｂ）は移載前のウェーハ構成（ｂｅｆｏｒｅ）を示し、図２６の次の段階を示す。
【符号の説明】
【０１０２】
１  入力部、２  目標構成決定部、３  移載手順決定部、４  出力部、５  メモリ、１０  ウェーハ移載手順作成装置、１１  製造装置、１２  搬送装置、１３  レール、１４  カート、１５  ストッカ、１６  ソータ、２１、データベース、１００  半導体工場、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｘ、Ｘ１、Ｘ２  キャリア、Ｌ１〜Ｌ６、Ｌ１１〜Ｌ１３、Ｌ２１〜Ｌ２３  ロット、ｐ１〜ｐ２５  スロット、Ｗ１〜Ｗ６、Ｗ１１〜Ｗ１３、Ｗ２１〜Ｗ２３  ウェーハ、α、β、γ、δ、ε、ζ  カテゴリ
【図１】
2007250593.tif 000003
【図２】
2007250593.tif 000004
【図３】
2007250593.tif 000005
【図４】
2007250593.tif 000006
【図５】
2007250593.tif 000007
【図６】
2007250593.tif 000008
【図７】
2007250593.tif 000009
【図８】
2007250593.tif 000010
【図９】
2007250593.tif 000011
【図１０】
2007250593.tif 000012
【図１１】
2007250593.tif 000013
【図１２】
2007250593.tif 000014
【図１３】
2007250593.tif 000015
【図１４】
2007250593.tif 000016
【図１５】
2007250593.tif 000017
【図１６】
2007250593.tif 000018
【図１７】
2007250593.tif 000019
【図１８】
2007250593.tif 000020
【図１９】
2007250593.tif 000021
【図２０】
2007250593.tif 000022
【図２１】
2007250593.tif 000023
【図２２】
2007250593.tif 000024
【図２３】
2007250593.tif 000025
【図２４】
2007250593.tif 000026
【図２５】
2007250593.tif 000027
【図２６】
2007250593.tif 000028
【図２７】
2007250593.tif 000029