(57)【要約】【課題】水蒸気発生室の底面に対して、広範囲に射出水を射出して、水蒸気発生室の底面における蒸発有効面積を広くした水蒸気発生装置を提供することである。【解決手段】熱処理対象物を加熱する加熱室４と、水蒸気を生成する水蒸気発生室１０４と、上記水蒸気発生室１０４の底面を加熱するヒーター１０と、水源に連通させ、水蒸気発生室１０４の底面に水を供給する水供給部１０５と、上記水蒸気発生室１０４と加熱室４とを連通し、加熱室４へ水蒸気を供給する水蒸気排出孔１２とを備え、上記水供給部１０５から供給された水を水蒸気発生室１０４の底面で加熱し、発生した水蒸気を水蒸気排出孔１２を介して加熱室４へ供給する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱処理対象物を加熱する加熱室と、水蒸気を生成する水蒸気発生室と、上記水蒸気発生室の底面を加熱するヒーターと、水源に連通させ、水蒸気発生室の底面に水を供給する水供給部と、上記水蒸気発生室と加熱室とを連通し、加熱室へ水蒸気を供給する水蒸気排出孔とを備え、上記水供給部から供給された水を水蒸気発生室の底面で加熱し、発生した水蒸気を水蒸気排出孔を介して加熱室へ供給する水蒸気発生装置において、上記水供給部には、上記水蒸気発生室の底面上方から水供給部を中心に放射状に水を射出させる射出孔を設けた水蒸気発生装置。
【請求項２】
水蒸気発生室は、上方に凹部を形成した容器本体と、上記凹部を密封する蓋体とで構成され、上記水供給部は、上記蓋体の中央近傍に設けた請求項１記載の水蒸気発生装置。
【請求項３】
水蒸気発生室内であって、上記水蒸気排出孔から所定の間隔を保つとともに、この水蒸気排出孔に対抗させた位置に射出水流出防止壁を設けた請求項１または２記載の水蒸気発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば食品の解凍や加熱調理に際して、発生させた水蒸気を食品等に噴出する水蒸気発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の水蒸気発生装置として、特許文献１に示す装置があるが、この水蒸気発生装置について説明する。
図３、図４に示す水蒸気発生装置１は、水蒸気を発生させるとともに、発生させた水蒸気を利用して加熱調理をする熱処理部２と、この熱処理部２の動作を制御し、かつ、熱処理部２に対する電源供給を行うための電装部３とから構成されている。
熱処理部２は、主に水蒸気を生成、供給する水蒸気生成部Ａを収容するケースＣ１と、例えば冷凍パスタ等の熱処理対象物を配置するとともに、配置した熱処理対象物を加熱調理する加熱室４を構成するケースＣ２とで区画される。この熱処理部２のケースＣ１内部には、凹部５ａを有する蓋体５と、凹部６ａを有する容器本体６とからなる水蒸気発生容器７を備える。そして、この水蒸気発生容器７の内部には、凹部５ａ、６ａがあいまって、水蒸気発生室８が形成される。また、容器本体６であって、水蒸気発生室８の下方には、貫通孔９が形成されるとともに、この貫通孔９に、ヒーター１０が挿入配置され、水蒸気発生室８の底面を加熱するようにしている。
【０００３】
上記蓋体５であって、水蒸気発生室８の側面には、水供給部１１及び水蒸気排出孔１２を、互いに対向する位置に開口させている。また、ケースＣ１の後方（図３、図４中左側）には、外部配管１３を設けている。この外部配管１３は、その一端を、図示しない外部の水供給源に接続するとともに、他端を、水供給器１４に接続している。そして、水供給器１４は、パイプ１５を介して水供給部１１に連通しており、水供給源から外部配管１３を介して供給された水を、水圧調整してパイプ１５側に供給する。したがって、外部の水供給源→外部配管１３→水供給器１４→パイプ１５→水供給部１１→水蒸気発生室８という順に連通することとなる。
【０００４】
一方、上記水蒸気発生室８に開口した水蒸気排出孔１２は、ケースＣ２内に構成される加熱室４に連通している。この加熱室４は、上記したように、内部に冷凍パスタ等の熱処理対象物を配置し、実際に解凍したり、加熱調理したりするところであるが、ケースＣ２によって、水蒸気生成部Ａを備えるケースＣ１側から遮断するようにして形成している。
【０００５】
そして、加熱室４において、上記水蒸気排出孔１２にノズル１６を取り付けている。このノズル１６は、一端を開口した中空のパイプ部材からなるもので、水蒸気排出孔１２に、開口した一端を取り付ける。そして、ノズル１６を水蒸気排出孔１２に取り付けた状態で、その下面（図３中下側）に複数の噴出孔１７を形成している。したがって、水蒸気発生室８から水蒸気排出孔１２→ノズル１６→噴出孔１７→加熱室４という順に連通することとなる。
【０００６】
また、この装置の前面（図３、図４中右側の面）の中ほどに、トレイ挿入口１８を形成し、このトレイ挿入口１８から、熱処理対象物を載せるためのトレイ１９を、加熱室４内へ挿入配置するようにしている。なお、図４に示すように、この水蒸気発生装置１においては、水蒸気生成部Ａ及び加熱室４が、２つ設けられているが、どちらも同様の構成である。
なお、図３、図４において、一点鎖線で囲った水蒸気生成部Ａは、水蒸気の生成及び供給を行うために機能する部分であり、この従来の水蒸気発生装置１においては、水蒸気発生容器７及びこの水蒸気発生容器７に備えた各構成要素が、水蒸気生成部Ａを構成している。
【０００７】
次に、上記の構成にした水蒸気発生装置１の作用について説明する。
例えば、熱処理対象物である冷凍パスタを解凍、加熱調理する場合、まず、電装部３に設けた図示しない電源を入れる。電源を入れるとヒーター１０が、水蒸気発生容器７を加熱する。そして、水蒸気発生容器７が設定温度に達して待機状態になったら、トレイ挿入口１８からトレイ１９を抜き出し、このトレイ１９上に冷凍状態のパスタを載せて、もとの位置に挿入配置する。
【０００８】
その後、電装部３に設けた図示しないスタートボタンを押すと、熱処理部２の水供給器１４に信号が送られる。信号を受けた水供給器１４は、外部配管１３を介して図示しない水供給源から水を導くとともに、この水を、予め設定された水圧、水量でパイプ１５側に吐出する。パイプ１５側に吐出された水は、水供給部１１から水蒸気発生室８に向かって射出される。なお、水供給器１４から吐出される水は、連続的ではなく断続的に吐出されるものであり、例えば、設定された水量が１０秒おきに吐出される。
【０００９】
水蒸気発生室８に射出された水は、重力により、加熱された水蒸気発生室８の底面に落下するとともに、底面に接触した瞬間に、蒸発して高温の水蒸気となる。このように生成された水蒸気は、水蒸気排出孔１２→ノズル１６を介して噴出孔１７から、トレイ１９上の冷凍パスタに向かって、勢いよく噴出され、冷凍パスタを解凍、加熱調理することができる。
【特許文献１】特願２００３−０５１６０９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記の水蒸気発生装置１においては、水圧調整された水を、水供給部１１から水蒸気発生室８の底面に射出する。このとき、水供給部１１から射出される射出水を、できる限り広範囲に射出して、射出水が接触する水蒸気発生室８における底面の面積、いわゆる蒸発有効面積Ｘを広くすることが望まれる。
なぜなら、蒸発有効面積Ｘが狭いと、所定量の射出水を限られた範囲で蒸発させることとなるため、底面の一部に水が溜まってしまい、その部分の温度が低下してしまうからである。このように、水蒸気発生室８における底面の一部の温度が低下すると、蒸発温度に達するのに時間がかかってしまい、瞬時に必要な水蒸気を生成することができなくなってしまう。そのため、熱処理対象物を設定時間内に加熱できないことがあった。
【００１１】
また、水蒸気発生室８の底面部分の温度が低下すれば、もとの設定温度に戻るまでヒーターを加熱しなければならないため、必要以上のランニングコストが発生してしまう。したがって、水供給部１１から供給する水を、できる限り広範囲に射出するようにして、上記蒸発有効面積Ｘを広くする必要がある。
しかし、上記の水蒸気発生装置１においては、水供給部１１が、水蒸気発生室８の側面に設けられているため、水蒸気発生室８の底面において、射出水が接触しないデッドスペースＹができてしまう。水蒸気発生装置１における蒸発有効面積ＸとデッドスペースＹとを示したのが、図４における水蒸気発生室８のＸ及びＹの範囲である。このように、従来の水蒸気発生装置１では、どうしてもデッドスペースＹが広くなってしまい、また、蒸発有効面積Ｘの範囲が狭くなってしまう。そして、蒸発有効面積Ｘが狭くなれば、上記のような問題が生じてしまう。
【００１２】
この発明の目的は、水蒸気発生室の底面に対して、広範囲に射出水を射出して、水蒸気発生室の底面における蒸発有効面積を広くすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明は、熱処理対象物を加熱する加熱室と、水蒸気を生成する水蒸気発生室と、上記水蒸気発生室の底面を加熱するヒーターと、水源に連通させ、水蒸気発生室の底面に水を供給する水供給部と、上記水蒸気発生室と加熱室とを連通し、加熱室へ水蒸気を供給する水蒸気排出孔とを備え、上記水供給部から供給された水を水蒸気発生室の底面で加熱し、発生した水蒸気を水蒸気排出孔を介して加熱室へ供給する水蒸気発生装置を前提とする。
【００１４】
そして、第１の発明は、上記水供給部に、上記水蒸気発生室の底面上方から水供給部を中心に放射状に水を射出させる射出孔を形成した点に特徴を有する。
第２の発明は、水蒸気発生室を、上方に凹部を形成した容器本体と、上記凹部を密封する蓋体とで構成し、上記水供給部は、上記蓋体の中央近傍に設けた点に特徴を有する。
第３の発明は、水蒸気発生室内であって、上記水蒸気排出孔から所定の間隔を保つとともに、この水蒸気排出孔に対抗させた位置に射出水流出防止壁を設けた点に特徴を有する。
【発明の効果】
【００１５】
第１〜第３の発明によれば、射出水を水蒸気発生室底面に対して、広範囲に射出することができるので、デッドスペースを少なくするとともに、蒸発有効面積を広くすることができる。そして、蒸発有効面積を広くすることができるので、水蒸気発生室の底面の温度を低下させずに、設定時間内で確実に熱処理対象物を解凍あるいは加熱調理することができる。
また、第３の発明によれば、射出水流出防止壁を設けたので、射出水が、直接加熱室に浸入することがない。したがって、射出水の水圧を高く設定して、より蒸発有効面積を広くすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１、図２を用いて、この実施形態における水蒸気発生装置について説明する。
なお、この実施形態の水蒸気発生装置は、図３、図４に示す従来の水蒸気発生装置１における水蒸気生成部Ａを、図１、図２に示す構成にしたもので、その他の構成は従来の水蒸気発生装置１と同様である。したがって、従来の水蒸気発生装置と同様の構成要素については、同様の符号を用いるとともに、ここでは、水蒸気生成部Ａについて詳細に説明し、従来と同様の構成については、詳細な説明を省略する。
図１、図２に示す水蒸気発生容器１０１は、蓋体１０２と容器本体１０３とからなる。容器本体１０３は、上方に凹部１０３ａを形成するとともに、その下方に貫通孔９を形成しており、ケースＣ１内に固定されている。上記貫通孔９にはヒーター１０が挿入配置されているが、このヒーター１０は、ケースＣ１の下方に位置する電装部３と電気的に接続している。
【００１７】
上記蓋体１０２は、容器本体１０３の上方に形成された凹部１０３ａの全体を覆うように配置され、蓋体１０２と容器本体１０３とによって、密封された水蒸気発生室１０４が形成される。なお、この状態において、蓋体１０２は、ケースＣ１から上方に突出している。
上記容器本体１０３には、水蒸気発生室１０４の側面に一端を開口させるとともに、他端を加熱室４側に開口させた水蒸気排出孔１２を形成している。そして、この水蒸気排出孔１２の他端であって、加熱室４側開口には、ノズル１６を突出させて固定している。
【００１８】
そして、上記蓋体１０２の中央には、水蒸気発生室１０４と外部とを連通させる、パイプ孔１０２ａが形成されている。このパイプ孔１０２ａの外部側には、一端を水供給器１４に接続したパイプ１５を接続するとともに、パイプ孔１０２ａの水蒸気発生室１０４側には、水供給部１０５を挿入配置している。
【００１９】
この水供給部１０５は、パイプ部材からなるが、上端のみをパイプ孔１０２ａに開口するとともに、下端を水蒸気発生室１０４の底面に接触させている。そして、水供給部１０５の上端寄り外周には、周方向に均等に４つの射出孔１０６を形成している。
このようにして、外部の水供給源→外部配管１３→水供給器１４→パイプ１５→水供給部１０５→射出孔１０６→水蒸気発生室１０４という順に連通することとなる。
また、上記蓋体１０２には、上記水蒸気排出孔１２と水供給部１０５との間であって、水蒸気排出孔１２から間隔を保った位置に、射出水流出防止壁１０７を設けている。この射出水流出防止壁１０７は、蓋体１０２から水蒸気発生室１０４の底面に向かうように設けられており、しかも、図２に示すように、水供給部１０５から射出した射出水が、直接水蒸気排出孔１２に浸入しないように、水蒸気排出孔１２に対抗する位置に設けられている。
【００２０】
次に、この実施形態における水蒸気発生装置の作用について説明する。
この実施形態における水蒸気発生装置は、従来の水蒸気発生装置１と同様、ノズル１６に形成した噴出孔１７から噴出される水蒸気によって、熱処理対象物を解凍、加熱調理するものである。この水蒸気発生装置を利用するにあたり、電装部３に設けた図示しない電源を入れると、ヒーター１０が容器本体１０３を加熱する。そして、容器本体１０３が設定温度に達したら、熱処理対象物を噴出孔１７の下に配置し、電装部３に設けた図示しないスタートボタンを押す。すると、外部配管１３から水供給器１４に水が供給されるとともに、水供給器１４に供給された水は、予め設定された水圧、水量でパイプ１５側に吐出される。なお、水供給器１４から吐出される水は、連続的ではなく断続的に供給されるものであり、例えば、設定された水量が１０秒おきに吐出される。
【００２１】
水供給器１４から吐出された水は、パイプ１５及び蓋体１０２に設けたパイプ孔１０２ａを介して水供給部１０５に供給される。そして、水供給部１０５に供給された水は、射出孔１０６から水蒸気発生室１０４に、水供給部１０５を中心として、放射状に射出されるとともに、水蒸気発生室１０４の底面に、広範囲にわたって落下する。
ただし、射出孔１０６から水蒸気排出孔１２に向かう方向については、射出水が射出水流出防止壁１０７にあたり、跳ね返って落下する。したがって、射出孔１０６から水蒸気排出孔１２へ、射出水が直接浸入することはない。
こうして水蒸気発生室１０４の底面に落下した射出水は、底面に接触した瞬間に蒸発して水蒸気となり、この水蒸気が、水蒸気排出孔１２及びノズル１６を介して噴出孔１７から加熱室４内に配置した熱処理対象物に噴出される。
【００２２】
なお、この実施形態における水供給部１０５は、円周方向に４ヶ所の射出孔１０６を形成したが、特に４つに限られるものではなく、射出水を放射状に射出することができるものであればよい。したがって、ここでいう射出孔１０６には、スリッド形状のものも含まれる。
また、射出孔１０６は、必ずしも水供給部１０５の円周方向に形成するものに限られず、しかも、水供給部１０５の先端が、水蒸気発生室１０４の底面に接触している必要もない。したがって、水供給部１０５の先端に、射出孔１０６を形成してもよい。ただし、この場合には、射出孔１０６の角度等を調整して、水供給部１０５を中心にして、放射状に水を射出するようにしなければならない。
【００２３】
また、この実施形態においては、射出孔１０６の大きさや位置等を調整することで、射出水が到達する距離を調整し、蒸発有効面積Ｘを広くしたり狭くしたりすることができる。すなわち、水供給器１４から吐出する水の吐出圧を一定にしても、射出孔１０６を小さく形成したり、あるいは、より高いところに形成したりすれば、射出水はより遠くまで到達する。
また、この実施形態においては、射出水流出防止壁１０７の先端が、水蒸気発生室１０４の底面に接触していないが、底面に接触するものであってもよい。この場合にも、水蒸気は、射出水流出防止壁１０７の側面を通って、水蒸気排出孔１２に到達するからである。しかも、射出水流出防止壁１０７は、射出孔１０６から射出した射出水が、水蒸気排出孔１２に直接浸入しない位置であれば、水蒸気排出孔１２からの距離等はどのような距離であっても構わない。すなわち、水蒸気排出孔１２の開口を塞がなければ、図１、図２に示す位置よりも、水蒸気排出孔１２側に位置させてもよく、逆に、水供給部１０５側に位置させてもよい。
ただし、水供給部１０５に近づくほど、蒸発有効面積Ｘが狭くなるため、用途に応じて所定の位置に設けるのがよい。
【００２４】
また、この実施形態においては、射出水流出防止壁１０７を、蓋体１０２に設けたが、容器本体１０３側に設けてもよいし、さらには、水蒸気排出孔１２の開口に対向するように複数の射出水流出防止壁１０７を、隙間をあけて設けるようにしてもよい。
いずれにしても、射出水流出防止壁１０７は、射出孔１０６と水蒸気排出孔１２の開口との間であって、射出水の経路を遮断できる位置に設けるものであれば、特に構成等限定されるものではない。
【００２５】
この実施形態の水蒸気発生装置によれば、射出水を水蒸気発生室１０４の底面に対して、広範囲に射出することができるので、デッドスペースＹを少なくするとともに、蒸発有効面積Ｘを広くすることができる。そして、上記のように蒸発有効面積Ｘを広くすることができるので、水蒸気発生室１０４の底面の温度を低下させずに、水が射出されると、瞬時に水蒸気を生成することができる。したがって、設定時間内で確実に熱処理対象物を解凍あるいは加熱調理することができる。
【００２６】
また、射出水流出防止壁１０７がない場合に、射出水の水圧を高く設定して、蒸発有効面積Ｘを広くしようとすれば、射出水が、直接水蒸気供給孔１１を介して加熱室４に浸入してしまうことがある。もし、射出水が加熱室４に浸入してしまうと、その分水蒸気の生成量が減ってしまい、熱処理対象物の加熱が不十分になったり、熱処理対象物が水っぽくなったりしてしまう。
しかし、この実施形態における水蒸気発生装置においては、射出水流出防止壁１０７を設けたので、射出水の水圧を強く設定しても、射出水が、直接加熱室に浸入することがなく、より蒸発有効面積Ｘを広くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】この実施形態における水蒸気発生容器を示す側面図である。
【図２】この実施形態における水蒸気発生容器を示す俯瞰図である。
【図３】従来の水蒸気発生装置を示す側面図である。
【図４】従来の水蒸気発生装置を示す俯瞰図である。
【符号の説明】
【００２８】
１      水蒸気発生装置
４      加熱室
１０    ヒーター
１２    水蒸気排出孔
１０１  水蒸気発生容器
１０２  蓋体
１０３  容器本体
１０４  水蒸気発生室
１０５  水供給部
１０６  射出孔
１０７  射出水流出防止壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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