(57)【要約】【課題】樹脂などの部材に対しパターンロールを適切に押し当てることによって高品質な光学シートを製造する技術を提供する。【解決手段】光学樹脂が塗布されたウェブＷをエンボスロール１３およびニップロール１４によりニップするとともにエンボスロール１３に巻き掛けて、エンボスロール１３に形成されている所定のパターンを光学樹脂に転写することによって、光学シートを製造する。エンボスロール１３およびニップロール１４によるウェブＷに対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）と、光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが、（１／２）×ｌｏｇ１０η−３  ≦  ｌｏｇ１０Ｐ  ≦  （１／２）×ｌｏｇ１０η−２、（１≦η≦１００００）、という関係を満たすように設定される。【選択図】図１
2007108408.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材が塗布された支持体をパターンロールおよび入口ロールによりニップするとともにパターンロールに巻き掛けて、パターンロールに形成されている所定のパターンを光学部材に転写することによって、光学シートを製造する光学シートの製造方法であって、
パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）と、光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが、
（１／２）×ｌｏｇ１０η−３  ≦  ｌｏｇ１０Ｐ  ≦  （１／２）×ｌｏｇ１０η−２
（１≦η≦１００００）
という関係を満たすように設定されることを特徴とする光学シートの製造方法。
【請求項２】
前記光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）は、
１０≦η≦１０００
を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学シートの製造方法。
【請求項３】
前記パターンロールと前記入り口ロールとの距離のばらつきが５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学シートの製造方法。
【請求項４】
前記入り口ロールの直径のばらつきが５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光学シートの製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法によって製造された光学シート。
【請求項６】
光学シートを製造する光学シート製造装置であって、
所定パターンを有するパターンロールと、
光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに狭持して、パターンロールの所定パターンを光学部材に転写する入り口ロールと、を備え、
パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）と、光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが、
（１／２）×ｌｏｇ１０η−３  ≦  ｌｏｇ１０Ｐ  ≦  （１／２）×ｌｏｇ１０η−２
（１≦η≦１００００）
という関係を満たすように設定されることを特徴とする光学シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面に所定のパターンが形成された光学シートおよびその製造方法に関し、例えば、表面に所定の凹凸パターンが形成され液晶表示装置などに用いられるプリズムシートに適用可能な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの電子ディスプレイの表示を鮮明にするため、所定の凹凸状パターンが形成されたプリズムシートなどの光学シートが使用され、ディスプレイ表示の明るさの調整等が行われている。このような光学シートの製造方法として、例えば、支持体上に光硬化樹脂を塗布し、その光硬化樹脂に所定の凹凸状パターンを形成することによって光学シートを製造する方法が知られている。この場合、支持体に対する光硬化樹脂の塗布精度に応じて光学シートの光学特性が変わるため、光硬化樹脂が支持体上に適切に塗布されることが大切である。このような事情の下、光硬化樹脂などの光学部材を支持体上に適切に塗布するための技術がいくつか提案されている。
【０００３】
例えば特許文献１では、樹脂を硬化させて所望の凹凸パターンをフィルムに形成するフィルム製造装置が開示されている。この製造装置は、不完全形状のフィルムを生じにくくさせる目的で提案されている。
【特許文献１】特開平１１−３００７６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年の電子ディスプレイの需要の拡大に伴って、プリズムシートなどの光学シートの需要も拡大している。また、プリズムシートに代表される凹凸状シートの用途も多岐に亘り、凹凸状シートを必要とする技術分野は今後更に拡大していくことが予想される。そのため、様々な大きさの凹凸状シートが大量に製造されることが社会的に望まれている。
【０００５】
しかしながら、凹凸状シートの幅等のサイズが大きくなる程、また凹凸状シートの製造速度を上げる程、製造誤差が生じやすくなり、一定の高品質を確保することが難しくなる。特に、液状または半液状の樹脂にパターンロールを押し当てて当該樹脂に所定の凹凸状パターンを形成する場合、樹脂に対するパターンロールの押し当て力の大きさによって、凹凸状シートの品質が大きく左右される。例えば、樹脂に対するパターンロールの押し当て力が小さい場合には、樹脂にエアーが巻き込まれ、樹脂の面状を悪化させてしまう。また、樹脂に対するパターンロールの押し当て力が大きい場合には、筋状のムラが樹脂に生じてしまい、樹脂の面状を悪化させてしまう。さらに、粘度の高い樹脂を使用する場合には、支持体上における樹脂の塗布状態が不均一になりやすく、その樹脂によって形成される光学シートの品質が悪化することがある。
【０００６】
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、樹脂などの部材に対しパターンロールを適切に押し当てることによって高品質な光学シートを製造することができる光学シートの製造方法に関する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のある態様の光学シートの製造方法は、光学部材が塗布された支持体をパターンロールおよび入口ロールによりニップするとともにパターンロールに巻き掛けて、パターンロールに形成されている所定のパターンを光学部材に転写することによって、光学シートを製造する光学シートの製造方法であって、パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）と、光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが、（１／２）×ｌｏｇ１０η−３≦ｌｏｇ１０Ｐ≦（１／２）×ｌｏｇ１０η−２（１≦η≦１００００）という関係を満たすように設定される。
【０００８】
この態様によれば、ニップ圧Ｐが光学部材の粘度ηに対して好ましい範囲に設定され、パターンロールを光学部材に対して適切な力で押し当てて、高品質な光学シートを製造することができる。
【０００９】
なお、光学部材とは、光学的な機能が付与される部材全般を指し、一般に使用されている樹脂などの部材が光学部材に含まれる。また、光学部材は、液体状態、固体状態、あるいは液体と固体の中間状態のいずれであってもよい。
【００１０】
また、光学シートとは、光学的な機能を有するシート類全般を指し、例えばプリズムシート、フライアイレンズシート（蝿の目レンズシート）、レンチキュラーシート、等の凹凸状の光学的なシートが光学シートに含まれる。
【００１１】
また、パターンロールおよび入り口ロールのうち少なくとも入り口ロールは、剛性部材によって形成されることが好ましい。このような入り口ロールは、荷重に対する形状変化が非常に小さいので、光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに適切に狭持することができる。なお、ここでいう剛体とは、例えば金属やセラミックが挙げられる。
【００１２】
光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）は、１０≦η≦１０００を満たすものであってもよい。この場合、より好ましい範囲に光学部材の粘度ηが設定され、パターンロールを光学部材に対してより適切な力で押し当てることができる。
【００１３】
パターンロールと入り口ロールとの距離のばらつきが５０μｍ以下であってもよい。この場合、パターンロールと入り口ロールとの間の距離のばらつきが低減されるため、光学部材が塗布された支持体に対して付与される入り口ロールおよびパターンロールによるニップ圧が均一化される。これにより、パターンロールを光学部材に対して均一な力で押し当てることができ、高品質な光学シートを製造することができる。
【００１４】
入り口ロールの直径のばらつきが５０μｍ以下であってもよい。この場合、入り口ロールの中心軸と円周との間の距離のばらつきが低減されるため、光学部材が塗布された支持体に対して付与される入り口ロールおよびパターンロールによるニップ圧が均一化される。これにより、パターンロールを光学部材に対して均一な力で押し当てることができ、高品質な光学シートを製造することができる。
【００１５】
本発明の別の態様は、上記の光学シート製造方法によって製造された光学シートである。この態様によれば、光学部材に対しパターンロールが適切な力で押し当てられ、高品質な光学シートが提供される。
【００１６】
本発明の別の態様は、光学シートの製造装置である。この装置は、光学シートを製造する光学シート製造装置であって、所定パターンを有するパターンロールと、光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに狭持して、パターンロールの所定パターンを光学部材に転写する入り口ロールと、を備える。パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）と、光学部材の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが、（１／２）×ｌｏｇ１０η−３≦ｌｏｇ１０Ｐ≦（１／２）×ｌｏｇ１０η−２（１≦η≦１００００）という関係を満たすように設定される。
【００１７】
この態様によれば、光学部材に対しパターンロールを適切な力で押し当てて、高品質な光学シートを製造することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、光学部材の粘度に応じた適切な力でパターンロールが光学部材に押し当てられ、高品質な光学シートが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
【００２０】
図１は、エンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。エンボスシートの製造装置１０は、上流から下流に向かって順次配置された、ウェブ供給部１１、塗布部１２、乾燥部１９、ニップロール（入り口ロール）１４、凹凸ロールであるエンボスロール（パターンロール）１３、樹脂硬化部１５、剥離ロール１６、保護フィルム供給部１７、およびシート巻き取り部１８を備える。
【００２１】
ウェブ供給部１１は、シート状のウェブＷ（支持体）が巻回された送り出しロール等によって構成され、ウェブＷを順次送り出すシート状体供給手段として機能する。
【００２２】
塗布部１２は、樹脂をウェブＷの表面に順次塗布し、樹脂層をウェブＷ上に形成する装置である。
【００２３】
図２は、ウェブＷおよび樹脂層Ｌの配置関係を示す断面図である。樹脂層Ｌは、最終的な製品として提供される凹凸状シート（プリズム層）を構成する部分であり、後段に設置されたエンボスロール１３によって所定の凹凸パターンが形成される。なお、ウェブＷおよび樹脂層Ｌによって構成されるシート状の積層体を、以下「樹脂塗布シートＳ」と称する。
【００２４】
図１に示すように、塗布部１２は、樹脂を供給する樹脂供給タンク（樹脂供給源）１２Ａと、樹脂を吐出する塗布ヘッド１２Ｃと、樹脂供給タンク１２Ａから塗布ヘッド１２Ｃに樹脂を送る送液ポンプ１２Ｂと、樹脂の塗布対象のウェブＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、を含む。また、樹脂供給タンク１２Ａから塗布ヘッド１２Ｃに樹脂を供給するための配管やポンプなどが設けられている。
【００２５】
図１に示す塗布ヘッド１２Ｃは、エクストルージョン型のダイコータであり、液溜め部に貯留されている吐出対象の液体を、スリット状の流路を介してヘッド先端部から吐出させる。なお、塗布ヘッド１２Ｃは、上述のエクストルージョン型のダイコータに限定されるものではなく、任意のタイプの吐出ヘッドを使用することが可能であり、ウェブＷ上に樹脂を適切に塗布することができるものであればよい。
【００２６】
本実施形態の塗布ヘッド１２Ｃから吐出される樹脂は、放射線硬化樹脂であり、後段に設置された樹脂硬化部１５から放射される所定の光（放射線）が照射されると硬化するタイプの樹脂である。
【００２７】
乾燥部１９は、塗布部１２によってウェブＷの表面に塗布された樹脂を乾燥する。乾燥部１９による樹脂の乾燥の程度は調整が可能である。例えば、後段に設置されたエンボスロール１３による所定パターンの転写が効果的に行われるように、樹脂塗布シートＳの樹脂が乾燥される。
【００２８】
図３は、エンボスロール１３の断面の概略を示す図である。図１および図３に示されているエンボスロール１３は、微細な凹凸状の所定パターンが表面に形成されている。したがって、樹脂塗布シートＳの樹脂層Ｌにエンボスロール１３が押し当てられることによって、ロール表面の凹凸状の所定パターンが樹脂層Ｌに転写形成される。そのため、エンボ
スロール１３は、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。このようなエンボスロール１３としては、例えば金属製の剛体のロールが好ましい。
【００２９】
エンボスロール１３の外周面の微細凹凸パターンは、製品として提供されるエンボスシートの表面の微細凹凸パターンを反転した形状パターンであることが求められる。このようにして提供されるエンボスシートとしては、例えば、レンチキュラーレンズやプリズムシートのように微細凹凸パターンが二次元配列されたシート、フライアイレンズのように微細凹凸パターンが三次元配列されたシート、平板レンズのように円錐、角錐等の微細な錐体がＸＹ方向に敷きつめられたシート、等が対象となる。したがって、エンボスロール１３の外周面の微細凹凸パターンは、エンボスシートの表面の微細凹凸パターンに対応させる必要がある。
【００３０】
エンボスロール１３の外周面の微細凹凸パターンの形成方法としては、例えば、シングルポイントのダイヤモンドバイトによる切削加工、フォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、等によって凹凸パターンを外周面に直接形成する方法や、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法、等で凹凸パターンを形成した後、この板状体をロールの周囲に巻き付けて固定したものをエンボスロール１３とする方法が挙げられる。また、その他に、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法、等によって凹凸パターンを形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をロールの周囲に巻き付けて固定したものをエンボスロール１３とする方法も採用することができる。特に反転型を電鋳等によって形成する場合には、１つの原盤（マザー）によって同一形状の板状体が複数得られるという特長がある。
【００３１】
なお、エンボスロール１３の表面には、離型処理が施されることが好ましい。エンボスロール１３の表面に離型処理が施されることによって、微細凹凸パターンの形状が長期に亘って良好に維持される。離型処理としては、公知の各種方法が採用可能であり、例えばフッ素樹脂によるコーティング処理が採用される。
【００３２】
図１に示されているように、ニップロール１４は、エンボスロール１３と対になってウェブＷ上の樹脂層Ｌを押圧し、エンボスロール１３の所定の凹凸パターンを樹脂層Ｌに転写するロール成形加工を行う。このため、ニップロール１４は、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。このようなニップロール１４を構成する部材として、例えば、金属、セラミック、シリコンゴムのようなゴム、等が挙げられる。ニップロール１４の表面の縦弾性係数（ヤング率）が小さ過ぎると、ロール成形加工が不十分になりやすい。一方、ニップロール１４の表面の縦弾性係数（ヤング率）が大き過ぎると、ゴミ等の異物の巻き込みの影響が大きくなる。したがって、ニップロール１４表面の縦弾性係数は、適宜の値に設定されることが好ましい。
【００３３】
なお、エンボスロール１３とニップロール１４との間の隙間（クリアランス）を正確に制御することができるように、エンボスロール１３およびニップロール１４のうち少なくとも一方にこの隙間の大きさを調整する任意の微調整装置が設けられることが好ましい。また、エンボスロール１３とニップロール１４との間で所定の押圧力が付与されるように、エンボスロール１３およびニップロール１４のうち少なくとも一方に任意の加圧装置が設けられることが好ましい。
【００３４】
樹脂硬化部１５は、ニップロール１４の下流側においてエンボスロール１３に対向するようにして設けられる光照射手投である。この樹脂硬化部１５は、樹脂層Ｌの硬化特性に応じた波長の光（放射線）を、樹脂塗布シートＳの搬送速度に応じた光量で放射する。樹脂硬化部１５によって放射された光は、ウェブＷを透過して、樹脂層Ｌを硬化をさせる。このような樹脂硬化部１５として、例えば樹脂塗布シートＳの幅と略同一の長さの円柱状ランプを採用することができる。なお、この円柱状ランプは複数本平行に設けられてもよく、またこの円柱状ランプの背面に反射板が設けられてもよい。
【００３５】
剥離ロール１６は、エンボスロール１３と対になって樹脂塗布シートＳをエンボスロール１３から剥離する。すなわち、エンボスロール１３の周面上に巻き掛けられている樹脂塗布シートＳが、剥離箇所において、エンボスロール１３および剥離ロール１６により挟まれ、剥離ロール１６に巻き掛けられる。これにより、所定パターンが形成された硬化樹脂層Ｌを有する樹脂塗布シートＳが、エンボスロール１３から剥離され、後段へ送られる。このような剥離ロール１６は、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。また、硬化により樹脂等の温度が上昇する場合には、剥離時に樹脂塗布シートＳを冷却することによって樹脂塗布シートＳの剥離性を向上させるために、剥離ロール１６に任意の冷却装置を設けることが好ましい。
【００３６】
なお、図示は省略したが、ニップロール１４による押庄箇所（図１の９時の位置）と剥離ロール１６による剥離箇所（図の３時の位置）との間に、樹脂塗布シートＳが巻き掛けられたエンボスロール１３と対向するようにして、複数のバックアップロールが設けられてもよい。この場合、複数のバックアップロールおよびエンボスロール１３によって樹脂塗布シートＳが支持された状態で樹脂層Ｌの硬化処理が行われるので、エンボスロール１３の所定凹凸パターンが精度良く樹脂層Ｌに転写される。
【００３７】
シート巻き取り部１８は、樹脂塗布シートＳを巻き取る巻き取りロール等を有し、エンボスロール１３から剥離された樹脂塗布シートＳを巻き取って収納する。なお、シート巻き取り部１８によって樹脂塗布シートＳが収納される際に、保護フィルム供給部１７から保護フィルムＨが樹脂塗布シートＳ上に供給され、ウェブＷ、樹脂層Ｌ、および保護フイルムＨが重なった状態でシート巻き取り部１８に巻き取られる。
【００３８】
保護フィルム供給部１７は、シート巻き取り部１８に隣接して設けられ、シート巻き取り部１８によって巻き取られる直前の樹脂塗布シートＳ上に保護フィルムＨを供給する。なお、保護フィルムＨは、必要に応じた任意のものが用いられうる。
【００３９】
なお、エンボスシートの製造装置１０において、塗布部１２とエンボスロール１３との間や、剥離ロール１６とシート巻き取り部１８との間に、樹脂塗布シートＳの搬送路を形成するガイドローラ等を設置したり、樹脂塗布シートＳの搬送中の弛みを吸収するテンションローラ等を設置したりしてもよい。
【００４０】
上述のような構成を有するエンボスシートの製造装置１０において、各ロールには、任意の駆動装置が設けられており、これらの駆動装置によって各ロールは図中の矢印方向へ回転させられる。
【００４１】
次に、樹脂塗布シートＳに対するエンボスロール１３およびニップロール１４によるニップ圧Ｐと、ウェブＷ上の樹脂層Ｌの樹脂の粘度ηとの関係について説明する。
【００４２】
本実施形態では、エンボスロール１３およびニップロール１４により樹脂塗布シートＳに対して加えられるニップ圧Ｐが、樹脂層Ｌを構成するＵＶ硬化樹脂の粘度ηに応じて決定される。すなわち、以下の式（１）が満たされるように、樹脂塗布シートＳに対して加えられるニップ圧Ｐ（ＭＰａ）とＵＶ硬化樹脂の粘度η（ｍＰａ・ｓ）とが決定される。
【００４３】
（１／２）×ｌｏｇ１０η−３  ≦  ｌｏｇ１０Ｐ  ≦  （１／２）×ｌｏｇ１０η−２
（１≦η≦１００００）
図４は、エンボスロール１３およびニップロール１４によって樹脂塗布シートＳに対して加えられるニップ圧Ｐ（縦軸）と、樹脂層Ｌを構成するＵＶ硬化樹脂の粘度η（横軸）との関係を示す図である。図４中の斜線部は、上記式（１）を満たす範囲を示す。
【００４４】
樹脂塗布シートＳに対して加えるニップ圧Ｐを上記式（１）に基づき決定することにより、エンボスロール１３によって所定凹凸パターンが形成された樹脂層Ｌの面状が安定化し、樹脂層Ｌの大きさや所定凹凸パターンの転写速度などが樹脂層Ｌの品質に及ぼす影響を軽減させることができることが実験により確かめられた。したがって、上記式（１）が満たされるようにニップ圧Ｐを定めることにより、所定凹凸パターンが形成された様々なサイズの樹脂層Ｌを安定した品質で大量に製造することが可能となる。なお、実験によれば、樹脂の粘度η（ｍＰａ・ｓ）が以下の式（２）を満たす範囲に設定される場合に、エンボスロール１３によって所定凹凸パターンが形成された樹脂層Ｌの面状がより安定化することが確認された。
【００４５】
１０≦η≦１０００    （２）
また、エンボスロール１３とニップロール１４との距離のばらつきが５０μｍ以下であって、ニップロール１４の直径のばらつきが５０μｍ以下に設定されたエンボスロール１３およびニップロール１４を使用すると、所定凹凸パターンが形成された樹脂層Ｌの面状が更に安定化することが確認された。図５は、ニップロール１４の構成を示す斜視図であり、図中の点線はニップロール１４の回転軸を示す。エンボスロール１３の異なる箇所における直径（例えば、図５中の直径１、直径２、直径３）のばらつきが５０μｍ以下の場合に、樹脂層Ｌの面上が安定化する。
【００４６】
次に、本実施形態で用いられる各材料について説明する。
【００４７】
ウェブＷの材料として、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用することができる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート、等の公知のものを使用することができる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましい。
【００４８】
ウェブＷの幅としては０．１〜３ｍが一般的に採用され、ウェブＷの長さとしては１０００〜１０００００ｍが一般的に採用され、ウェブＷの厚さとしては１〜３００μｍが一般的に採用される。ただし、これら以外のサイズが適用されてもよい。
【００４９】
これらのウェブＷは、予め、コロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などが施されていてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａは、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００５０】
なお、ウェブＷには、接着層等の下地層を乾燥硬化したものが予め設けられていたり、他の機能層が裏面に予め設けられていてもよい。また、ウェブＷとして、１層から構成されるものだけではなく、２層以上から構成されるものを採用することもできる。また、ウェブＷは、光を透過する透明体あるいは反透明体であることが好ましい。
【００５１】
本実施形態に使用可能な樹脂は、（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物とを含有するものが使用できる。特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤との組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。この（メタ）アクロイル基含有化合物としては、（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は、必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いてもよい。
【００５２】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、例えば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−が挙げられる。このような単官能モノマーとして、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５３】
さらに芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５４】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５５】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００５６】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５７】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００５８】
さらに、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、例えばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００５９】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００６０】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、例えばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００６１】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００６２】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いてもよく、必要に応じて複数種を混合して用いてもよい。
【００６３】
光ラジカル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００６４】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００６５】
光ラジカル重合開始剤は、全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は、組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００６６】
組成物にはさらに光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、例えばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００６７】
さらにまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００６８】
ここで、酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08（以上  大日本インキ（株）製）挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００６９】
樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、上記の樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一なく混合できるものであれはよく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、２−メトキシエタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製品の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼしたりする懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。従って、有機溶剤の沸点としては５０℃以上から１５０℃以下が好ましく、さらに好ましくは７０℃から１２０℃の間である。素材の溶解性や、沸点の観点から有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６℃）、1−プロパノ−ル（ｂｐ．９７．２℃）などが好ましい。
【００７０】
樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、十分に塗布性が改善されるためには、１０重量％から４０重量％の間であり、好ましくは15重量％からから３０重量％である。あまり少量だと粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく塗布性が十分に改良されない。しかし多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液がまわったりするなどの問題が発生する。また、乾燥工程にて十分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼしたりする懸念が生じる
樹脂液は、前記各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。
【００７１】
このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５０,０００ｍＰａ・ｓ/２５℃である。基材やエンボスロ−ルに樹脂液を供給する場合は、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を十分に発揮できない。特に、ラインスピ−ドを高速化したときにその傾向が顕著になる。従ってこの場合は液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは、１０〜５０ｍＰａ・ｓである。このような低い粘度は前記の有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。又、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎるとエンボスロ−ルで型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合があり、好ましい粘度は１００〜３,０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスロ−ルで型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスロ−ルで型押しする際は、有機溶剤を乾燥させより高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００７２】
次に、光学シートとしてプリズムシートを製造する場合の好適な例について説明する。
【００７３】
樹脂液を放射線によって硬化させることにより、得られる硬化物は以下の物性を有するものであることが特に好ましい。その硬化物の２５℃での屈折率は１．５５以上が好ましく、１．５６以上であることがより好ましい。屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、十分な正面輝度を確保することができない場合がある。
【００７４】
さらに、その硬化物の軟化点は、４０℃以上、特に５０℃以上であるのが好ましい。軟化点が４０℃未満の場合は耐熱性が十分でない場合がある。
【００７５】
以上説明したように本実施形態によれば、エンボスロール１３およびニップロール１４による樹脂塗布シートＳに対するニップ圧Ｐと樹脂の粘度ηとが適切な値に調整され、エンボスロール１３が樹脂層Ｆに対して適切に押し当てられる。これにより、エンボスロール１３とニップロール１４との間における樹脂層Ｆに対するエアーの混入を適切に防ぐとともに、エンボスロール１３およびニップロール１４が樹脂層Ｆに過度に押し付けられるのを防ぐことができ、高品質なエンボスシート（光学シート）が製造される。特に、比較的大きな幅の光学シートを製造する場合や光学シートの製造速度を増すためにシートの搬送速度を速くする場合のように、エンボスロール１３とニップロール１４との間で樹脂層Ｆに不良が生じ易い場合であっても、本実施形態に係る上述の手法によれば、所望のエンボスシート（光学シート）を品質良く製造することができる。
【００７６】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうる。
【００７７】
例えば、上述の実施形態ではウェブＷ上に樹脂層Ｆが直接形成される例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図６に示すようにウェブＷと樹脂層Ｆとの間に接着層Ｂを設けて、ウェブＷと樹脂層Ｆとの接着性を向上させることも可能である。この場合、接着層ＢがウェブＷ上に予め形成されていてもよいし、ウェブＷに樹脂層Ｆが塗布される直前に接着層ＢがウェブＷに塗布されてもよい。
【実施例】
【００７８】
次に、本発明に基づく具体的な実施例について説明する。なお、以下の実施例は、例示であって本発明を限定するものではない。
【００７９】
（実施例１）
本例では、図１に示されているエンボスシートの製造装置１０によってプリズムシートを製造した。
【００８０】
ウェブＷとして、幅４００ｍｍ、厚さ１７５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）のフィルムを使用した。
【００８１】
ウェブＷおよび樹脂塗布シートＳの搬送速度（ライン速度）を、５ｍ／ｍｉｎに調整した。
【００８２】
エンボスロール１３として、直径３５０ｍｍ、幅４００ｍｍを有するロールを使用した。具体的には、鉄製のロールに銅メッキを施し、この銅メッキ部分にプリズム形状を加工し、さらにハードクロムメッキを施したものをエンボスロール１３として使用した。
【００８３】
エンボスロール１３に形成されている所定の凹凸パターンは、このエンボスロール１３によって樹脂層Ｌに転写されるプリズムが頂角９０°、高さ２５μｍ、および幅５０μｍの形状を持つような、パターン形状となっている。
【００８４】
ニップロール１４として、直径７０ｍｍ、幅４００ｍｍを有する硬質ゴム製のロールを使用した。このニップロール１４の直径のばらつきは５０μｍ以下となっていた。
【００８５】
塗布部１２として、バーコ一夕型の塗布装置を使用した。
【００８６】
塗布部１２によってウェブＷ上に塗布される樹脂として、アクリル系UV硬化樹脂を含む樹脂を使用した。
【００８７】
図７は、エンボスロール１３によって微細凹凸パターンが形成された実施例１における樹脂層Ｆの面状（図中の「面状」を参照）を示し、特に、上記の条件下で、エンボスロール１３およびニップロール１４による樹脂塗布シートＳに対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）、および樹脂層Ｆを構成する樹脂の粘度η（ｍＰａ・ｓ）の各々を変えた場合の樹脂層Ｆの面状を示す。なお、樹脂層Ｆの面状は目視によって判断した。また、図７中の「備考」には、主に、樹脂層Ｆの面状が記載されている。
【００８８】
（実施例２）
本例も、図１に示されているエンボスシートの製造装置１０によってプリズムシートを製造した。なお、上述の実施例１における場合と同じ条件については、その詳細な説明を省略する。
【００８９】
本例では、ニップロール１４として、直径７０ｍｍ、幅４００ｍｍを有する硬質ゴム製のロールを使用した。このニップロール１４の直径のばらつきは１００μｍ以下となっていた。
【００９０】
図８は、エンボスロール１３によって微細凹凸パターンが形成された実施例２における樹脂層Ｆの面状（図中の「面状」を参照）を示し、特に、上記の条件下で、エンボスロール１３およびニップロール１４による樹脂塗布シートＳに対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）、および樹脂層Ｆを構成する樹脂の粘度η（ｍＰａ・ｓ）の各々を変えた場合の樹脂層Ｆの面状を示す。
【００９１】
（各実施例の考察）
上述の実施例１の結果（図７参照）の樹脂層Ｆの面状の結果から、エンボスロール１３およびニップロール１４による樹脂塗布シートＳに対するニップ圧Ｐ（ＭＰａ）、および樹脂層Ｆを構成する樹脂の粘度η（ｍＰａ・ｓ）を、上記の式（１）が満たされるように調整することが好ましいことが分かる。
【００９２】
また、上述の実施例１および実施例２の結果（図７および図８参照）を比較すると、少なくともニップロール（入り口ロール）１４の直径のばらつきが５０μｍ以下であることが好ましいことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】エンボスシートの製造装置の構成を示す概念図である。
【図２】ウェブおよび樹脂層の配置関係を示す断面図である。
【図３】エンボスロールの断面の概略を示す図である。
【図４】エンボスロールおよびニップロールによって樹脂塗布シートに対して加えられるニップ圧（縦軸）と、樹脂層を構成するＵＶ硬化樹脂の粘度（横軸）との関係を示す図である。
【図５】ニップロールの構成を示す斜視図である。
【図６】ウェブおよび樹脂層の配置関係の一変形例を示す断面図である。
【図７】エンボスロールによって微細凹凸パターンが形成された実施例１における樹脂層の面状を示す。
【図８】エンボスロールによって微細凹凸パターンが形成された実施例２における樹脂層の面状を示す。
【符号の説明】
【００９４】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…ウェブ供給部、１２…塗布部、１３…エンボスロール、１４…ニップロール、１５…樹脂硬化部、１６…剥離ロール、１７…保護フィルム供給部、１８…シート巻き取り部、Ｗ…ウェブ、Ｆ…樹脂層
【図１】
2007108408.tif 000003
【図２】
2007108408.tif 000004
【図３】
2007108408.tif 000005
【図４】
2007108408.tif 000006
【図５】
2007108408.tif 000007
【図６】
2007108408.tif 000008
【図７】
2007108408.tif 000009
【図８】
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