(57)【要約】【課題】カルボニルフルオライドをヒポフルオリットと反応させて生成させる高純度のフッ素化過酸化物の生成法の改良。【解決手段】本発明の改良は、高純度のフッ素化過酸化物の生成物の合成及び回収のための工程の簡略化にあり、次の各段階；  （ａ）未反応のヒポフルオリットを本質的に含まず、上記フッ素化過酸化物と未反応の上記カルボニルフルオライドとを含んで成るガス状の反応生成物を生成するような条件下で、上記カルボニルフルオライドを、上記ヒポフルオリットと反応させる段階；  （ｂ）気相条件下において、上記未反応のカルボニルフルオライドを上記ガス状の反応生成物から取り除き、それにより、上記フッ素化過酸化物を含有するガス状生成物流を生成させる段階；次いで  （ｃ）気相内で、上記段階（ｂ）に由来する上記フッ素化過酸化物を収集する段階：を含む。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボニルフルオライドをヒポフルオリットと反応させ、高純度のフッ素化過酸化物を生成させる方法であって、次の各段階；
（ａ）未反応のヒポフルオリットを本質的に含まず、前記フッ素化過酸化物と未反応の前記カルボニルフルオライドとを含んで成るガス状の反応生成物を生成するような条件下で、前記カルボニルフルオライドを、前記ヒポフルオリットと反応させる段階；
（ｂ）気相条件下において、前記未反応のカルボニルフルオライドを前記ガス状の反応生成物から取り除き、それにより、前記フッ素化過酸化物を含有するガス状生成物流を生成させる段階；次いで
（ｃ）気相内で、前記段階（ｂ）に由来する前記フッ素化過酸化物を収集する段階：
を含んで成る方法。
【請求項２】
前記段階（ａ）に記載される反応合成が、次の式Ａ及び式Ｂで表される、請求項１に記載の方法。
【化１】
2007056025.tif 000003
【請求項３】
前記カルボニルフルオライド：前記ヒポフルオリットのモル比が１．１〜３：１である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ガス状の反応生成物を、前記未反応のカルボニルフルオライドを加水分解するための条件下で水性媒体に最初に接触させる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
トレースレベルの水を除去するために効果的な条件下で吸着床中の吸着剤に水性媒体処理流を通すことにより、処理ガス流から水を取り除く、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記吸着剤がゼオライトモレキュラーシーブである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記モレキュラーシーブが、３Ａ又は４Ａモレキュラーシーブである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ヒポフルオリットが、Ｃ1〜8アルキルヒポフルオリット及びＣ1〜8ビスアルキルヒポフルオリットからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記ヒポフルオリットが、トリフルオロメチルヒポフルオリット、クロロジフルオロメチルヒポフルオリット、ペンタフルオロエチルヒポフルオリット、ヘプタフルオロプロピルヒポフルオリット、及びビス（フルオロキシ）ジフルオロメタンからなる群から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記カルボニルフルオライド：前記ヒポフルオリットのモル比が１．２〜１．７：１である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記段階（ａ）において生成される反応生成物が、０．０５質量％未満の未反応のヒポフルオリットを含有する請求項３に記載の方法。
【請求項１２】
（ａ）ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドと、未反応のカルボニルフルオライドと、副生成物とを含んで成り、かつ０．５％未満のトリフルオロメチルヒポフルオリットを有するガス状の反応生成物が生成するような条件下で、カルボニルフルオライドをトリフルオロメチルヒポフルオリットと反応させる段階；
（ｂ）気相条件下で、前記ガス状の反応生成物から前記未反応のカルボニルフルオライドと前記副生成物とを取り除き、それにより、前記ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドを含有するガス状の生成物流を生成させる段階；次いで
（ｃ）気相内で、前記段階（ｂ）に由来するビス（トリフルオロメチル）パーオキシドを収集する段階：
を含む、前記ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドの生成法。
【請求項１３】
前記反応生成物中の未反応の前記トリフルオロメチルヒポフルオリットが、０．１質量％未満の量で存在する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記段階（ａ）における前記ガス状生成物を、カルボニルフルオライドを加水分解し、かつ酸性化合物を生成するための条件下で、水性媒体に最初に接触させる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
吸着床中の吸着剤と接触させて、上記水性媒体処理されたガス状の反応生成物からあらゆる酸性化合物と炭素酸化物とを取り除くことを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
モレキュラーシーブ又はソーダ石灰と接触させて、前記段階（ａ）における反応生成物から未反応のカルボニルフルオライドと副生成物とを取り除く、請求項１２に記載の方法。
【請求項１７】
前記段階（ａ）で用いられる前記カルボニルフルオライド：前記トリフルオロメチルヒポフルオリットのモル比が、１．１〜３：１である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
前記吸着剤が３Ａ又は４Ａゼオライトである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記カルボニルフルオライド及び前記トリフルオロメチルヒポフルオリットが、反応前にあらかじめ生成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
前記段階（ａ）で用いられる前記カルボニルフルオライド：前記トリフルオロメチルヒポフルオリットのモル比が、１．２〜１．７：１である、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
フッ素化過酸化物は強力な酸化剤であり、電子部品の製造においてフリーラジカルジェネレータ及び腐食液としての価値を有する。パーフルオロジメチルパーオキシド（又はビス（トリフルオロメチル）パーオキシドと呼ばれることもある）は、これらの用途において用いられる一般的なフルオロパーオキシドの例である。
【０００２】
電子産業により課せられる多くの要求の一つは、高純度のフッ素化過酸化物である。得られる製品は、実質的に未反応で汚染物質を含まないものでなければならない。合成において生成する反応物質と副生成物との、高反応性かつ有害な性質のために、多くの安全上の問題があり、高純度製品の合成と回収とにおいて、高度の注意が必要とされる。
【０００３】
以下の論文及び特許は、パーフルオロジメチルパーオキシドの製造及びそれらの回収を含むフッ素化過酸化物に関する技術の代表例である。
【０００４】
米国特許第３，１００，８０３号及び同第３，２３０，２６４号（‘２６４のＣＩＰ）には、金属フッ化物触媒の存在下で、等モル量のカルボニルフルオライドとトリフルオロメチルヒポフルオリットとの反応によるパーフルオロジメチルパーオキシドの合成が開示されている。反応温度は、一般に、２００℃を超える。生成物の試料は、液体酸素により冷却されるトラップ中に凝縮させることにより収集される。次に、凝縮液を蒸留により分離する。他の手順において、一酸化炭素は種々の比率でフッ素と反応し、その結果、原位置でカルボニルフルオライド及びトリフルオロメチルヒポフルオリットを生成する。
【０００５】
米国特許第３，２０２，７１８号には、フッ化物塩の存在下、０〜３００℃範囲、好ましくは１００〜２５０℃間の温度でカルボニルフルオライド（ＣＯＦ2）を、３フッ化塩素（ＣｌＦ3）と反応させて、ビス（パーフルオロジメチル）パーオキシド（ＢＴＭＰ）を調製する方法が開示されている。ＢＴＭＰの単離及び精製は、反応生成物を粒状塩化カルシウムの管に通し、水及び希釈した苛性アルカリにより洗浄して残留塩素、フッ化水素、及びカルボニルフルオライドを除去し、洗浄流を−８０℃トラップに通して水を氷結分離し、ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドを凝縮させ、次に、液流を液体窒素トラップに通してビス（トリフルオロジメチル）パーオキシドの損失を防止することで達成する。テトラフルオロメタンが副生成物として存在する場合に、蒸留により最終段階として除去する。
【０００６】
Ｒｏｂｅｒｔｓ，Ｈ．Ｌの「Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｂｉｓ（ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ）Ｐｅｒｏｘｉｄｅ  ａｎｄ  ｉｔｓ  Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ」、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９６４）４５３８には、ニッケルオートクレーブ中において、高温及び高圧（２７５℃及び７８０ｐｓｉｇ）における、ＣＦ3ＯＦ（１．４７：１のモル比）とＣＯＦ2の反応によるＢＴＭＰの調製法が開示されている。オートクレーブは室温に冷却され、オートクレーブ中に残存する生成物を除去し、ガスを液体空気トラップに通す。次に、凝縮液をポドビールニアク・カラム中で蒸留する。次に、回収生成物をヘキサフルオロプロペンと反応させ、テロマーＣＦ3Ｏ］Ｃ3Ｆ6］nＯＣＦ3（ｎ≧２）から成る生成物を生成させる。
【０００７】
Ｇａｒｄ，Ｇ．Ｌ．らの「Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ  ｏｆ  Ｘｅｎｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｃｅｒｔａｉｎ  Ｓｔｒｏｎｇ  Ｏｘｉｄｉｚｉｎｇ  Ａｇｅｎｔｓ」，Ｔｈｅ  Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ  ｏｆ  Ｃｈｉｃａｇｏ  Ｐｒｅｓｓ，Ｃｈｉｃａｇｏ，（１９６３）ｐ１０９〜１１１には、キセノンと種々の酸化剤との種々の反応が開示されている。一例では、キセノンは、トリフルオロメチルヒポフルオリットと反応して、ジフッ化キセノン及びＢＴＭＰを生成する。回収段階において、２２５℃での反応生成物を水浴中で冷却し、次に、−７８℃に冷却し、揮発性生成物を、ポンプで送り出し、そして液体窒素トラップを通す。キセノン以外の揮発性物質は、ＣＦ3ＯＦ、及びＣＦ3ＯＯＣＦ3であることが示され、管中に残留する材料はキセノンジフルオリドである。
【０００８】
米国特許第４，４９９，０２４号には、セシウムフルオリド触媒の存在下での二酸化炭素とフッ素の反応によるビスフルオロキシジフルオロメタン（ＢＤＭ）の製造法が開示されている。主の不純物はＣＦ3ＯＦ、ＣＯ2、及びＣＦ4であるが、微量のＣＦ3ＯＯＣＦ3が存在しうる。高純度の生成物を生成させるための分離を、ガス状不純物の液化及び排出により達成する。
米国特許第４，６５４，４４４号には、水中において、過酸化ナトリウムと、ハロゲン化アシル、例えば、α，α−ジフルオロ−β−ｔ−ブトキシプロピオニルクロライドの反応によってフッ素含有ジアシルパーオキシドを生成させ、そして好適な溶媒により生成物を抽出する方法が開示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、カルボニルフルオライドを、ヒポフルオリットと反応させることにより一般的に生成される高純度のフッ素化過酸化物の生成法における改良を目指している。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記改良は、高純度のフッ素化過酸化物の生成物の合成及び気相回収のための工程の簡略化にあり、次の各段階；
（ａ）未反応のヒポフルオリットを本質的に含まない未反応のカルボニルフルオライドとフッ素化過酸化物とを含んで成るガス状の反応生成物が生成するような条件下で、上記カルボニルフルオライドを上記ヒポフルオリットと反応させる段階；
（ｂ）気相条件下で、上記ガス状の反応生成物から上記未反応のカルボニルフルオライド及びあらゆる副生成物を取り除き、それによって、上記フッ素化過酸化物を含有するガス状生成物流を発生させる段階；次いで
（ｃ）気相内で、上記段階（ｂ）に由来する上記フッ素化過酸化物を収集する段階：
を含む。
【００１１】
大きな利点は、簡略化した気相回収法を用いて達成可能であり、これらの一部には、下記、
エレクトロニクス用途に直接用いるために十分高純度のフッ素化過酸化物を生成することができること、
従来の精製法に関連する低温凝縮段階及び蒸留段階を排除できること、
蒸留段階の必要なく、上記高純度のフッ素化過酸化物を生成できること、そして
高純度のフッ素化過酸化物を生成させる上で濃縮を用いる低温回収法に関連する危険性を低減できること、
が挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、カルボニルフルオライドをフルオロヒポフルオリットと反応させることにより生成される高純度のフッ素化過酸化物の生成法における改良を目指している。本方法は、一般に、２段階を含んで成り、第１段階には、反応生成物を含有するフッ素化過酸化物の合成が含まれ、第２段階には、反応生成物からのフッ素化過酸化物の気相回収が含まれる。
【００１３】
本方法の第１段階は、カルボニルフルオライドを、ヒポフルオリット（トリフルオロメチルヒポフルオリット等）と反応させてフッ素化過酸化物を生成させることを含んで成る。上記ヒポフルオリットは、カルボニルフルオライドとの接触前に調製するか、あるいは、例えば、フッ化物塩（ｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｓａｌｔ）等の触媒の存在下で、一酸化炭素をフッ素と反応させることのように、その場で生成させることができる。同様に、上記カルボニルフルオライドは、ヒポフルオリットとの反応に先立ち、あるいは、例えば、一酸化炭素をフッ素と反応させることのように、その場で生成させることができる。反応スキームに応じて、選択された反応物質は、望ましいように、前もって生成させるか、あるいは、その場で生成させることができる。
【００１４】
反応用に好適なヒポフルオリットの例には、トリフルオロメチルヒポフルオリット、クロロジフルオロメチルヒポフルオリット、ペンタフルオロエチルヒポフルオリット、ヘプタフルオロプロピルヒポフルオリット、及びビス（フルオロキシ）ジフルオロメタン等のＣ1〜8アルキルヒポフルオリット及びＣ1〜8ビスアルキルヒポフルオリットが含まれる。
【００１５】
望ましいフッ素化過酸化物への好ましい経路は、次の式により説明される。
【００１６】
【化１】
2007056025.tif 000002
【００１７】
はじめに、合成に関連する反応条件を制御することにより、回収法の簡略化を含んでフッ素化過酸化物の回収に関連する危険性を減らすことができることが見出された。フッ素化過酸化物合成の最初の目的の一つは、基本的に、反応に用いられるヒポフルオリットを完全に転換させることである。反応条件は、平衡ベースの反応を、反応生成物中に本質的にヒポフルオリットが残らないように完了させるように制御される。上記反応生成物が、０．５質量％未満、一般に０．１質量％未満、好ましくは０．０５質量％未満のヒポフルオリットを有することが好ましい。
【００１８】
未反応のヒポフルオリットを本質的に含まない反応生成物をもたらす鍵となる要因は、反応化学量論にある。ヒポフルオリットに対して、化学量論的に過剰のカルボニルフルオライドが、上式により表される反応を完了させるために用いられる。上記カルボニルフルオライド：ヒポフルオリットのモル比は、一般に、１．１〜３：１、そして好ましくは、１．２〜１．７：１である。通常、反応で少量から微小量生成する他の副生成物には、二酸化炭素、フッ化水素、フッ素、及び外因性の水が含まれる。１５０〜３５０℃の温度及び内因性圧力が一般的である。反応条件は、用いられるヒポフルオリット及び生成しようとするフッ素化過酸化物に応じて変化する。
【００１９】
未反応のヒポフルオリットが本質的に残らないような条件下で、カルボニルフルオライドをヒポフルオリットと反応させることで、気相回収法を実施し、反応生成物から未反応のカルボニルフルオライドと副生成物とを取り除き、そして低温凝縮トラップに反応生成物を通すことなくフッ素化過酸化物を回収できることが見出された。一般に、回収全体にわたって気相条件を維持することで、濃縮状態における反応性の高い化合物に関連する危険性が避けられる。
【００２０】
最も広義には、ガス状の反応生成物からのフッ素化過酸化物の回収は、ガス状の反応生成物を、汚染性カルボニルフルオライド及びあらゆる副生成物を除去できる吸着床に通すことで達成することができる。アルカリ交換化３〜５Ａゼオライト及び無水ソーダ石灰顆粒は、上記汚染物質を除去できる吸着剤の例である。
【００２１】
好ましい回収法では、未反応のカルボニルフルオライドを加水分解し、かつガス流中に存在するあらゆる酸性化合物を中和するため、はじめに、水性媒体（典型的には、水性アルカリ媒体）により、ガス状の反応生成物を洗浄する。５〜５０質量％のアルカリ（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び水酸化カルシウム等）を有するアルカリ溶液は、好ましい洗浄剤である。
【００２２】
回収法の第二部では、未反応のカルボニルフルオライドと、副生成物の炭素酸化物（ＣＯ2等）と、同伴する（ｅｎｔｒａｉｎｅｄ）Ｈ2Ｏとの除去をすすめるために、上記水系処理された反応生成物を、１つ又は２つ以上の吸収床に通す。フッ素化過酸化物の生成物から汚染物質を除去するために好適な代表的な吸着剤には、３及び４Ａゼオライト等のゼオライト及びソーダ石灰が含まれる。フッ素化過酸化物生成物との反応を避けるために、小孔のゼオライトを用いるべきである。上記吸着床を通過した後も一部の炭素酸化物が残る場合には、上記生成物を、炭素酸化物と反応しうるソーダ石灰等の反応剤、又は別の吸着床に通すことができる。
【実施例】
【００２３】
以下の例は、本発明の種々の実施形態を説明するために提供するものであり、本発明の範囲を制限することを意図していない。
【００２４】
例１
ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドの調製（モル比１．５２：１）
反応物質であるカルボニルフルオライド（ＣＯＦ2）とフルオロキシトリフルオロメタン（ＣＦ3ＯＦ）を、フロー方式において調製し、そしてクリーンで乾燥した６００ｍＬモネル圧力反応器中に収集した。１．５２：１のＣＯＦ2：ＣＦ3ＯＦのモル比を示す全体で５００ミリモルのＣＯＦ2及び３２８ミリモルのＣＦ3ＯＦを収集した。ＣＯＦ2とＣＦ3ＯＦとの混合物を、内因性圧力下で、３．５時間で２７４℃まで加熱し、次いで、さらに２時間にわたり２７４℃で保持した。規定時間後、上記混合物を周囲温度まで冷却させた。反応器内容物の赤外線スペクトルにより、ＣＯＦ2及びビス（トリフルオロメチル）パーオキシド（ＢＴＭＰ）、ＣＦ3ＯＯＣＦ3の混合物が示され、ＣＦ3ＯＦは全く観察されなかった。
【００２５】
上記反応器のガス状内容物を、Ｈ2Ｏのカラムからなる精製装置、続いて加熱活性化４Åモレキュラーシーブ床に通し、続いて、周囲温度以下で、クリーンで乾燥した収集シリンダ中に収集した。上記収集シリンダ中の生成物の赤外線分析により、高純度のＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）が示され、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ、ＣＯＦ2、又はＣＦ3ＯＦのいずれの存在証拠もなかった。上記ＢＴＭＰ生成物は、３３．３ｇの質量があり、６０％の収率を示した。
【００２６】
この反応及び回収手順を用いることにより、反応生成物中のＣＦ3ＯＦの存在に関連する危険性と、反応生成物中のＣＦ3ＯＦに伴う分離の危険性とを避けることができる。
【００２７】
例２
ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドの調製（モル比１．２５：１）
例１に記載の実験と同様の実験において、１．２５：１のＣＯＦ2：ＣＦ3ＯＦのモル比を表す４４３ミリモルのＣＯＦ2と３５４ミリモルのＣＦ3ＯＦとを収集した。ＣＯＦ2とＣＦ3ＯＦとの混合物を、内因性圧力下で＞２７０℃まで加熱し、次いで、当該混合物を３．５時間にわたり２７０〜２８０℃に保持した。規定時間の後、上記混合物を周囲温度に冷却させた。上記反応器内容物の赤外線スペクトルにより、ＣＯＦ2及びビス（トリフルオロメチル）パーオキシド（ＢＴＭＰ）、ＣＦ3ＯＯＣＦ3の混合物が示され、ＣＦ3ＯＦは全く観察されなかった。
【００２８】
上記反応の生成物を、例１に記載の方法に従って精製及び収集した。収集シリンダ中の上記生成物の赤外線分析により、高純度のＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）が示され、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ、ＣＯＦ2、又はＣＦ3ＯＦのいずれの存在証拠もなかった。ＢＴＭＰ生成物は、３６．９ｇの質量があり、６１％収率を示した。
【００２９】
例３
ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドの調製（モル比１．９９：１）
反応物質であるカルボニルフルオライド（ＣＯＦ2）とフルオロキシトリフルオロメタン（ＣＦ3ＯＦ）とを、クリーンで乾燥した６００ｍＬモネル圧力反応器中で蒸留した。１．９９：１のＣＯＦ2：ＣＦ3ＯＦのモル比を表す全体で５５８ミリモルのＣＯＦ2と２８１ミリモルのＣＦ3ＯＦとを用いた。ＣＯＦ2及びＣＦ3ＯＦの混合物を、内因性圧力下で、５．５時間で２７５℃まで加熱し、次に、さらに１時間、＞２６９℃で保持した。規定時間の後、上記混合物を周囲温度まで冷却させた。上記反応器内容物の赤外線スペクトルにより、ＣＯ2、ＣＯＦ2及びビス（トリフルオロメチル）パーオキシド（ＢＴＭＰ）、ＣＦ3ＯＯＣＦ3の混合物が示され、ＣＦ3ＯＦは全く観察されなかった。
【００３０】
上記反応器の内容物を、Ｈ2Ｏのカラムからなる精製装置、続いて加熱活性化４Åモレキュラーシーブ床に通し、続いて、周囲温度以下で、クリーンで乾燥した収集シリンダ中に収集した。収集シリンダ中の上記生成物の赤外線分析により、ＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）及びＣＯ2の混合物が示された。モレキュラーシーブが、ＣＯ2の除去に完全には有効でないことは明らかであった。次に、収集シリンダの上記内容物を、ソーダ石灰のカラムに通し、クリーンで乾燥したシリンダ中に集めた。上記シリンダ内容物の分析により、高純度のＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）が示され、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ、ＣＯＦ2、又はＣＦ3ＯＦのいずれの存在証拠もなかった。
【００３１】
この例により、以下のことを示される。トリフルオロメチルヒポフルオリットに対するカルボニルフルオライドのモル比を、約１．７超に上げることが、反応生成物中のトリフルオロメチルヒポフルオリットの濃度を最小にするために有効ではあるものの、炭素酸化物含有率の増加と、未反応のカルボニルフルオライドの濃度の増加とをもたらし、そして
増加した負荷により、反応物質であるカルボニルフルオライドの損失に加え、洗浄及び吸着システムに対して不必要な負担が強いられうる。
【００３２】
例４
粗ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドのソーダ石灰を用いる精製
ＢＴＭＰとＣＯＦ2との混合物を含有する粗試料をソーダ石灰のカラムに通し、次に、クリーンで乾燥した収集シリンダ中に収集した。上記シリンダ内容物の分析により、高純度のＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）が示され、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ、ＣＯＦ2、又はＣＦ3ＯＦのいずれの存在証拠もなかった。
【００３３】
この例により、フッ素化過酸化物を含有する反応生成物から、すべての汚染物質を実質的に除去するために単一吸着剤を用いることができることが実証される。
【００３４】
例５  粗ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドの水及びソーダ石灰を用いる精製
ＢＴＭＰとＣＯＦ2との混合物を含有する粗試料を、Ｈ2Ｏカラム、続いてソーダ石灰のカラムに通し、次に、クリーンで乾燥した収集シリンダ中に収集した。シリンダ内容物の分析により、高純度のＣＦ3ＯＯＣＦ3（ＢＴＭＰ）が示され、ＣＯ2、Ｈ2Ｏ、ＣＯＦ2、又はＣＦ3ＯＦいずれの存在証拠もなかった。
【００３５】
比較例６
粗ビス（トリフルオロメチル）パーオキシドのソーダ石灰を用いる精製
ＢＴＭＰとＣＨ3ＯＦとの混合物を含有する粗試料を精製するための試みは、当該混合物をソーダ石灰のカラムに通すと、当該工程が酸素並びに大量の局部熱を発生し、うまく行かなかった。その熱により、引き続いてＢＴＭＰの分解が生じた。
【００３６】
この例は、ＣＯＦ2とＣＦ3ＯＦとが等モル量で反応する場合のように、未反応のヒポフルオリットを含有するガス状の反応生成物からフッ素化過酸化物の生成物を気相回収することの不適合性を示している。水カラムとの接触による反応生成物の洗浄、及び炭素酸化物の除去。
【外国語明細書】
2007056025000001.pdf