(57)【要約】【課題】高い生産性で作製可能な、光学補償フィルム及び輝度向上膜等の光学異方性層と一体化された偏光板を提供する。【解決手段】第１の光学異方性層、偏光層及び第２の光学異方性層をこの順で有する長尺状の偏光板であって、いずれの層も長尺の状態で連続的に積層された長尺状の偏光板である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光学異方性層、偏光層及び第２の光学異方性層をこの順で有する長尺状の偏光板であって、いずれの層も長尺の状態で連続的に積層された長尺状の偏光板。
【請求項２】
さらに第３の光学異方性層を含み、第１の光学異方性層、偏光層、第２の光学異方性層及び第３の光学異方性層をこの順で有する請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記第１及び／又は第２の光学異方性層が、液晶性化合物を含有する組成物から形成された層を少なくとも含む請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶化合物又は棒状液晶化合物である請求項３に記載の偏光板。
【請求項５】
前記液晶化合物を含有する組成物から形成された層中において、前記液晶性化合物の分子が、ハイブリッド配向、水平配向、垂直配向、コレステリック配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定されている請求項３又は４に記載の偏光板。
【請求項６】
前記第１及び／又は第２の光学異方性層が、ポリマーフィルムを含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項７】
前記ポリマーフィルムが、延伸により光学異方性を発現された延伸ポリマーフィルムである請求項６に記載の偏光板。
【請求項８】
前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムである請求項６又は７に記載の偏光板。
【請求項９】
前記第２の光学異方性層が、面内のレターデーションが９０〜１６０ｎｍであり、かつ遅相軸の方向が長手方向に対して９０°でも０°でもない請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１０】
前記第２の光学異方性層が、面内のレターデーションが９０〜１８０ｎｍである光学異方性層及び面内のレターデーションが２００〜３２０ｎｍである光学異方性層の少なくとも２層を含む積層体であり、前記少なくとも２層の光学異方性層の各々の遅相軸のなす角は９０°でも０°でもなく、かつ、該少なくとも２層の光学異方性層のいずれの遅相軸の方向も長手方向と９０°でも０°でもない請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１１】
前記第３の光学異方性層が、コレステリック液晶層である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１２】
偏光膜、液晶セル、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の偏光板及び光源がこの順で配置された液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償フィルムを有する偏光板及び液晶表示装置に関する。特に本発明は、反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、透過型液晶表示装置、ＧＨ−ＬＣＤなどにおいて、視野角拡大フィルムと輝度向上膜が一体化された偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
λ／４板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子に使用されている。それらに現在使用されている大部分のλ／４板は、ポリマーフィルムを延伸することで光学異方性を発現させた位相差板である。ポリマーフィルムの光学的向きは、一般にシート状あるいはロール状フィルムの縦方向又は横方向に相当するものであり、シートあるいはロールの斜め方向に光軸や遅相軸を有するポリマーフィルムは、製造が非常に困難である。位相差板を使用する場合の多くは、偏光板の透過軸に対して、平行でも直交でもない角度に配置される。また、２枚以上の位相差板と偏光板を各々が平行でも直交でもない角度に配置される場合も多い。一般に、偏光板の透過軸はロール状フィルムに対して直交方向であるため、位相差板と偏光板を貼り合わせるためには、それぞれのフィルムを所定の角度にカットして、得られるチップを貼り合わせる必要がある。チップの貼り合わせで位相差板と偏光板の積層体を製造しようとすると、粘着剤の塗布工程や、チップカットあるいはチップの貼り合わせ工程が必要となり、処理が煩雑であって、軸ズレによる品質低下が起きやすく、歩留まりが低下し、コストが増大し、汚染による劣化も起きやすい。また、ポリマーフィルムでは、三次元方向の屈折率異方性の発現が、延伸倍率、温度、延伸速度、ポリマーの分子量のような様々な条件に影響を受ける。そのため、ポリマーフィルムの光学異方性を精密に制御することも難しい。
【０００３】
かかる問題を解決するために、ロール状フィルムにディスコティック液晶化合物や棒状液晶化合物を含有する塗布液を塗布し、所定の方向に配向させることで光学異方性を発現させ、ロール状フィルムに対して平行でも直交でもない角度に遅相軸を有す位相差板が提案されている（特許文献１、２）。また、ディスコティック液晶分子の円盤面がフィルム面に対して実質的に垂直になるように配向固定化された位相差板が開示されている（特許文献３、４、５、６）。しかしながら、従来の技術では、配向欠陥が多く生じるために、歩留まりの低下や生産性の低下を招いていた。
【特許文献１】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献２】特開２００４−５３８４１号公報
【特許文献３】特開平９−２９２５２２号公報
【特許文献４】特開２０００−５６３１０号公報
【特許文献５】特開２０００−１０４０７３号公報
【特許文献６】特開２０００−１０５３１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、高い生産性で作製可能な、光学補償フィルム及び輝度向上膜等の光学異方性層と一体化された偏光板を提供することを課題とする。また、本発明は、高い生産性で作製可能であり、且つ視野角特性及びバックライト効率の改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【０００５】
上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  第１の光学異方性層、偏光層及び第２の光学異方性層をこの順で有する長尺状の偏光板であって、いずれの層も長尺の状態で連続的に積層された長尺状の偏光板。
［２］  さらに第３の光学異方性層を含み、第１の光学異方性層、偏光層、第２の光学異方性層及び第３の光学異方性層をこの順で有する［１］の偏光板。
［３］  前記第１及び／又は第２の光学異方性層が、液晶性化合物を含有する組成物から形成された層を少なくとも含む［１］又は［２］の偏光板。
［４］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶化合物又は棒状液晶化合物である［３］の偏光板。
［５］  前記層中において、前記液晶性化合物の分子が、ハイブリッド配向、水平配向、垂直配向、コレステリック配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定されている［３］又は［４］の偏光板。
【０００６】
［６］  前記第１及び／又は第２の光学異方性層が、ポリマーフィルムを含む［１］〜［５］のいずれかの偏光板。
［７］  前記ポリマーフィルムが、延伸により光学異方性を発現させた延伸ポリマーフィルムである［６］の偏光板。
［８］  前記ポリマーフィルムが、セルロースアシレートフィルム又はノルボルネン系フィルムである［６］又は［７］の偏光板。
［９］  前記第２の光学異方性層が、面内のレターデーションが９０〜１６０ｎｍであり、かつ遅相軸の方向が長手方向に対して９０°でも０°でもない［１］〜［８］のいずれかの偏光板。
［１０］  前記第２の光学異方性層が、面内のレターデーションが９０〜１８０ｎｍである光学異方性層及び面内のレターデーションが２００〜３２０ｎｍである光学異方性層の少なくとも２層を含む積層体であり、前記少なくとも２層の光学異方性層の各々の遅相軸のなす角は９０°でも０°でもなく、かつ、該少なくとも２層の光学異方性層のいずれの遅相軸の方向も長手方向と９０°でも０°でもない［１］〜［８］のいずれかの偏光板。
［１１］  前記第３の光学異方性層が、コレステリック液晶層である［２］〜［１０］のいずれかの偏光板。
［１２］  偏光膜、液晶セル、［１］〜［１１］のいずれかの偏光板及び光源がこの順で配置された液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、高い生産性で作製可能な、光学補償フィルム及び輝度向上膜等の光学異方性層と一体化された偏光板を提供することができる。また、本発明によれば、高い生産性で作製可能であり、且つ視野角特性及びバックライト効率の改善された液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【０００８】
以下において、本発明位相差板、偏光板及び液晶表示装置の実施形態について順次説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【０００９】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「実質的に垂直」とは、厳密な垂直の角度よりも±２０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±１５゜未満であることが好ましく、±１０゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１０】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１１】
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは各々、ある波長λｎｍにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは前記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１２】
本発明は、第１の光学異方性層、偏光層及び第２の光学異方性層をこの順で有する長尺状の偏光板であって、いずれの層も長尺の状態で連続的に積層されてなる長尺状の偏光板に関する。本発明の偏光板は、そのまま又は所望の大きさに裁断された後、液晶表示装置に組み込まれる。表示面側及びバックライト側いずれに配置される偏光板として用いてもよい。バックライト側に配置する場合は、第１及び第２の光学異方性層のうち、バックライトにより近い位置に配置される光学異方性層が、液晶表示装置の輝度向上に寄与する光学特性を少なくとも有し、液晶セルにより近い位置に配置される光学異方性層が、液晶セルの光学補償に寄与する光学特性を少なくとも有するのが好ましい。
なお、積層の順番は特に限定されず、配置順であってもよいし、その逆であってもよい。また、２以上の層を積層した長尺状の積層体をまず作製し、それに他の長尺状の膜等を積層して、本発明の偏光板を作製してもよい。
【００１３】
本発明の偏光板の一態様は、さらに第３の光学異方性層を含み、第１の光学異方性層、偏光層、第２の光学異方性層及び第３の光学異方性層をこの順で有する。本態様の偏光板をバックライト側に配置する場合は、第３の光学異方性層が最もバックライトに近い位置になるように配置するのが好ましい。第２及び第３の光学異方性層の双方が、液晶表示装置の輝度向上に寄与する光学特性を少なくとも有し、第１の光学異方性層が、液晶セルの光学補償に寄与する光学特性を少なくとも有するのが好ましい。
【００１４】
以下、本発明の偏光板の作製に利用される種々の材料、及び製造方法等を詳細に説明する。
［第１及び第２の光学異方性層］
前記第１及び／又は第２の光学異方性層は、構成材料の分子の配向によって発現された光学異方性を有する。構成材料については特に制限されず、液晶性化合物を含有する組成物から形成され、該液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層であっても、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有する層であっても、双方の層を有していてもよい。前記第１及び／又は第２の光学異方性層は、液晶性化合物を含有する組成物から形成された層を少なくとも一層含んでいる、又はポリマーフィルムを含んでいるのが好ましく、双方を含んでいるのがより好ましい。即ち、第１及び第２の光学異方性層は、ポリマーフィルムと液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層との積層体（以下、「光学補償フィルム」という）であるのが好ましい。以下、本発明において、第１及び／又は第２の光学異方性層として利用可能な光学補償フィルムについて詳細に説明する。
【００１５】
［光学補償フィルム］
本発明では、第１及び／又は第２の光学異方性層として、ポリマーフィルムからなる支持体と、液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層とを有する長尺状の光学補償フィルムを用いてもよい。
【００１６】
［液晶性化合物を含む光学異方性層］
前記光学補償フィルが有する光学異方性層の形成に用いられる液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。
【００１７】
前記光学異方性層において、液晶化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。視野角依存性が対称である位相差板を作製するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であるか、又は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°がさらに好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°がさらに好ましい。
液晶化合物の分子をハイブリッド配向させて視野角依存性が非対称である光学補償フィルムを作製する場合、液晶化合物のダイレクターの平均傾斜角は５〜８５°であることが好ましく、１０〜８０°であることがより好ましく、１５〜７５°であることがさらに好ましい。これらのハイブリッド配向した光学異方性層を含む光学補償フィルムはＴＮモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモードの視野角拡大フィルムや、それらのモードを有す反射型や半透過型用の位相差板として好ましく用いることができる。
【００１８】
前記光学補償フィルムは、液晶性化合物を含有する光学異方性層を含むが、該光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。
【００１９】
前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
【００２０】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明では、前記光学補償フィルムが有する光学異方性層の形成に、ディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、トリフェニレン液晶を用いるのがより好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００２１】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表わされる化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【００２２】
下記式（ＤＩ）及び（Ｉ）で表わされるディスコティック液晶性化合物は、面内レターデーションの波長分散性が低く、高い面内レターデーションを発現可能であり、また特殊な配向膜や添加剤を使用しなくても高い平均傾斜角で均一性に優れた垂直配向を達成できるので、第１又は第２の光学異方性層、特に第２の光学異方性層、の形成に利用するのが好ましい。さらに該液晶性化合物を含有する塗布液は、その粘度が比較的低くなる傾向があり、塗布性が良好である点でも好ましい。
【００２３】
一般式（Ｉ）
【化１】
2007108732.tif 000002
【００２４】
一般式（Ｉ）において、Ｄは円盤状コアである。円盤状コアは、該円盤状化合物の中心に位置し、その円盤面を構成する。円盤状コアは、円盤状液晶性分子の分子構造において、よく知られている概念である。以下に、円盤状コアの例を示す。各化合物中のＹは下記一般式（ＶＩ）を意味する。下記一般式（ＶＩ）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、前記一般式（Ｉ）のものと同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００２５】
一般式（ＶＩ）
【化２】
2007108732.tif 000003
【００２６】
【化３】
2007108732.tif 000004
【００２７】
【化４】
2007108732.tif 000005
【００２８】
円盤状コア（Ｄ）は、トリフェニレン（Ｚ４）であることが特に好ましい。
円盤状コア（Ｄ）は、Ｙ（前記一般式（ＶＩ））以外の置換基を有していてもよい。円盤状コアが有していてもよい置換基の例は、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、メルカプト基、ウレイド基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換カルバモイル基、スルホンアミド基、置換スルファモイル基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、置換アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、置換アリールスルフィニル基、置換ウレイド基、リン酸アミド基、置換シリル基、アルコキシカルボニルオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基ならびに置換アリールオキシカルボニルオキシ基を含む。
【００２９】
アルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキル基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３０】
アルケニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、アルケニル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルケニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。アルキニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、アルキニル基と同様である。置換アルキニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３１】
アリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましい。置換アリール基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリール基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３２】
複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３３】
アルコキシ基及び置換アルコキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。アリールオキシ基及び置換アリールオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３４】
アシル基はホルミル又は−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アシルオキシ基はホルミルオキシ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００３５】
アルコキシカルボニル基及び置換アルコキシカルボニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニル基及び置換アリールオキシカルボニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００３６】
置換アミノ基は、−ＮＨ−Ｒ又は−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アミド基は、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
イミド基は、−Ｎ（−ＣＯ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００３７】
アルコキシカルボニルアミノ基及び置換アルコキシカルボニルアミノ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニルアミノ基及び置換アリールオキシカルボニルアミノ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００３８】
置換カルバモイル基は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
スルホンアミド基は、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。置換スルファモイル基は、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｒ又は−ＳＯ2−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００３９】
アルキルチオ基及び置換アルキルチオ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルチオ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールチオ基及び置換アリールチオ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールチオ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルホニル基及び置換アルキルスルホニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルホニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４０】
アリールスルホニル基及び置換アリールスルホニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールスルホニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４１】
置換ウレイド基は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
リン酸アミド基は、−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）−Ｏ−Ｒ又は−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
置換シリル基は、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2又は−Ｓｉ（−Ｒ）3で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００４２】
アルコキシカルボニルオキシ基及び置換アルコキシカルボニルオキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニルオキシ基及び置換アリールオキシカルボニルオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００４３】
一般式（Ｉ）において、ｎ１は３〜２０の整数であって、３〜１５の整数であることが好ましく、３〜１２の整数であることがより好ましく、３〜１０の整数であることがさらに好ましく、４〜８の整数であることがさらにまた好ましく、６であることが最も好ましい。
【００４４】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は水素原子又は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のいずれか二つが結合して環を形成していてもよく、例えば、脂肪族又は芳香族環があげられる。好ましくはＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、シアノ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子である。
【００４５】
カルボニルオキシ基に対し、Ｒ2及びＲ3、Ｒ4及びＲ5は、シス・トランスの位置関係が存在する。シスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と同方向に置換基が存在する状態であり、トランスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と逆方向に置換基が存在する状態である。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。
【００４６】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の置換基の組み合わせにより、エナンチオマー及びジアステレオマー立体異性体が存在するが、これらは指定のない限り特には制限しない。
【００４７】
一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、下記一般式（II）で表されることが好ましい。
【００４８】
一般式（ＩＩ）
【化５】
2007108732.tif 000006
一般式（ＩＩ）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数である。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は水素原子又は置換基を表し、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍは１〜５の整数を表す。Ｒ6は置換基を表し、複数のＲ6が存在する時、それぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００４９】
上記Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００５０】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ6は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。好ましいＲ6の例は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルオキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基又は置換もしくは無置換のアシルオキシ基である。さらに好ましくは、少なくとも１つのＲ6が置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アルコキシカルボニル基、置換アリール基、置換アリールオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、置換アリールオキシカルボニルオキシ基又は置換アシルオキシ基であり、置換基の末端に重合性基を有する。
【００５１】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ6の置換位置は指定のない限り特に制限しない。好ましくは少なくとも１つのＲ6がパラ位に存在する。
一般式（ＩＩ）において、カルボニルオキシ基に対して、Ｒ5には、シス・トランスの位置関係が存在する。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。好ましくはシスである。
【００５２】
本発明の円盤状化合物、例えば、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基を有する円盤状化合物（重合性円盤状化合物）は、重合反応により円盤状化合物の円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する場合、Ｒ4は置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アリール基又は置換アリールオキシ基であって、各置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
重合性円盤状化合物は、さらに、下記一般式（III）で表されることが好ましい。
【００５３】
一般式（III）
【化６】
2007108732.tif 000007
【００５４】
一般式（III）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ、水素原子又は置換基をあらわし、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００５５】
一般式（III）において、Ｌは酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、及びそれらの組み合わせから選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
アリーレン基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましい。アリーレン基は、フェニレン又はナフチレンであることが好ましく、フェニレンであることがさらに好ましく、ｐ−フェニレンであることが最も好ましい。
置換アリーレン基のアリーレン部分は、アリーレン基と同様である。置換アリーレン基の置換基の例は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
一般式（III）において、Ｑは重合性基である。重合性基は、エポキシ基又はエチレン性不飽和基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和基（例、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル）であることが最も好ましい。
【００５６】
本発明の円盤状化合物として、特に、好ましい円盤状化合物は、下記一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物である。
【００５７】
一般式（ＩＶ）
【化７】
2007108732.tif 000008
【００５８】
一般式（ＩＶ）において、Ｄ1はトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基である。各基の定義及び例は、一般式（Ｉ）と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００５９】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、メチルオキシ基、エチルオキシ基、シアノ基、ハロゲン原子又は置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基であるのが好ましい。
一般式（ＩＶ）において、好ましくはＲ4が、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基である。一般式（ＩＶ）において、好ましくはＲ4が、カルボニルオキシ基に対して、トランスである。
【００６０】
一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物は、重合性基を有することができる。重合性基を有するトリフェニレン化合物（重合性トリフェニレン化合物）は、重合反応によりトリフェニレンからなる円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物が重合性基を有する場合、Ｒ4は炭素原子数が２〜２０の置換アルキル基、炭素原子数が２〜２０の置換アルコキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換アリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換アリールオキシ基であって、置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
上記一般式（ＩＶ）には、不斉炭素原子が存在するため、ジアステレオマーやエナンチオマーが存在するが、本発明においてはこれらを区別せず、すべて含まれるものとする。つまり、構造の記述方法により立体異性体を区別しないこととする。
【００６１】
以下に、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物の例を示す。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（ｘ）をもって、例示化合物（ｘ）と示す。
【００６２】
【化８】
2007108732.tif 000009
【００６３】
【化９】
2007108732.tif 000010
【００６４】
【化１０】
2007108732.tif 000011
【００６５】
【化１１】
2007108732.tif 000012
【００６６】
【化１２】
2007108732.tif 000013
【００６７】
【化１３】
2007108732.tif 000014
【００６８】
一般式（ＤＩ）
【化１４】
2007108732.tif 000015
【００６９】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
【００７０】
Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基で置き換わってもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましい。
Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがさらに好ましい。
【００７１】
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｃ）を表す。波長分散性を小さくしようとする場合、一般式（ＤＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩ−Ｃ）が好ましく、一般式（ＤＩ−Ａ）がより好ましい。Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、Ｒ11＝Ｒ12＝Ｒ13であることが好ましい。
【００７２】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化１５】
2007108732.tif 000016
【００７３】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ11及びＡ12は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。さらに、メチンは無置換であることが好ましい。
Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15又はＡ16がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００７４】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化１６】
2007108732.tif 000017
【００７５】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ21及びＡ22は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25又はＡ26がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００７６】
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化１７】
2007108732.tif 000018
【００７７】
一般式（ＤＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ31及びＡ32は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35又はＡ36がメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【００７８】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ31はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００７９】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ12、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ22、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００８０】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。
【００８１】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１４であることがより好ましい。炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ2−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個有することがさらに好ましい。
【００８２】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれ、かつ炭素数１〜２０である二価の連結基であることが好ましい。なお該炭素数は、炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ2−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個有することがさらに好ましい。
【００８３】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＱ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＱ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＱ31はそれぞれ独立して重合性基又は水素原子を表す。本発明の化合物を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ11、Ｑ21、Ｑ31は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００８４】
【化１８】
2007108732.tif 000019
【００８５】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【００８６】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【００８７】
【化１９】
2007108732.tif 000020
【００８８】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【００８９】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【００９０】
以下に、一般式（ＤＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００９１】
【化２０】
2007108732.tif 000021
【００９２】
【化２１】
2007108732.tif 000022
【００９３】
【化２２】
2007108732.tif 000023
【００９４】
【化２３】
2007108732.tif 000024
【００９５】
【化２４】
2007108732.tif 000025
【００９６】
【化２５】
2007108732.tif 000026
【００９７】
【化２６】
2007108732.tif 000027
【００９８】
【化２７】
2007108732.tif 000028
【００９９】
【化２８】
2007108732.tif 000029
【０１００】
【化２９】
2007108732.tif 000030
【０１０１】
【化３０】
2007108732.tif 000031
【０１０２】
【化３１】
2007108732.tif 000032
【０１０３】
【化３２】
2007108732.tif 000033
【０１０４】
【化３３】
2007108732.tif 000034
【０１０５】
【化３４】
2007108732.tif 000035
【０１０６】
【化３５】
2007108732.tif 000036
【０１０７】
【化３６】
2007108732.tif 000037
【０１０８】
【化３７】
2007108732.tif 000038
【０１０９】
【化３８】
2007108732.tif 000039
【０１１０】
【化３９】
2007108732.tif 000040
【０１１１】
【化４０】
2007108732.tif 000041
【０１１２】
【化４１】
2007108732.tif 000042
【０１１３】
【化４２】
2007108732.tif 000043
【０１１４】
【化４３】
2007108732.tif 000044
【０１１５】
【化４４】
2007108732.tif 000045
【０１１６】
【化４５】
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【０１１７】
【化４６】
2007108732.tif 000047
【０１１８】
【化４７】
2007108732.tif 000048
【０１１９】
【化４８】
2007108732.tif 000049
【０１２０】
【化４９】
2007108732.tif 000050
【０１２１】
【化５０】
2007108732.tif 000051
【０１２２】
【化５１】
2007108732.tif 000052
【０１２３】
［棒状液晶性化合物］
本発明では、前記光学補償フィルムが有する光学異方性層の形成に、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【０１２４】
［垂直配向促進剤］
前記光学異方性層を形成する際に、液晶性化合物の分子を均一に垂直配向させるためには、配向膜界面側及び空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御可能な配向制御剤を用いるのが好ましい。この目的のために、配向膜に、排除体積効果、静電気的効果又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を、液晶性化合物とともに含有する組成物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。また、空気界面側の配向制御に関しては液晶性化合物の配向時に空気界面に偏在し、その排除体積効果、静電気的効果、又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を、液晶性化合物とともに含有する組成物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。このような配向膜界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（配向膜界面側垂直配向剤）としては、ピリジニウム誘導体が好適に用いられる。空気界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（空気界面側垂直配向剤）としては、該化合物が空気界面側に偏在するのを促進する、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物が好適に用いられる。また、これらの化合物を配合することによって、例えば、液晶性組成物を塗布液として調製した場合に、該塗布液の塗布性が改善され、ムラ、ハジキの発生が抑制される。以下に垂直配向剤に関して詳細に説明する。
【０１２５】
［配向膜界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な配向膜界面側垂直配向剤としては、下記式（Ｉ）で表されるピリジニウム誘導体（ピリジニウム塩）が好適に用いられる。該ピリジニウム誘導体の少なくとも１種を前記液晶性組成物に添加することによって、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向膜近傍で実質的に垂直に配向させることができる。
【０１２６】
【化５２】
2007108732.tif 000053
【０１２７】
式（Ｉ）において、Ｌ1は２価の連結基を表し、アルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲa−（但し、Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子である）、アルケニレン基、アルキニレン基又はアリーレン基との組み合わせからなる炭素原子数が１〜２０の２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基は、直鎖であっても分岐であってもよい。
【０１２８】
式（Ｉ）において、Ｒ1は、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換基で置換された置換アミノ基である。Ｒ1が置換アミノ基である場合、脂肪族基によって置換されていることが好ましい。脂肪族基は、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が挙げられる。また、Ｒ1が２置換アミノ基である場合、２つの脂肪族基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環又は６員環であることが好ましい。Ｒ1は水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が２〜１２の置換アミノ基であることがより好ましく、水素原子、無置換のアミノ基又は炭素原子数が２〜８の置換アミノ基であることがさらに好ましい。Ｒ1がアミノ基である場合、ピリジニウム環の４位に置換されていることが好ましい。
【０１２９】
式（Ｉ）において、Ｘはアニオンである。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、ギ酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。Ｘは、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。
【０１３０】
式（Ｉ）において、Ｙ1は５員環又は６員環を部分構造として有する炭素数１〜３０の２価の連結基である。Ｙ1に含まれる環状部分構造はシクロヘキシル環、芳香族環又は複素環であることがより好ましい。芳香族環としては、ベンゼン環、インデン環、ナフタレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、ビフェニル環、及びピレン環を挙げることができる。ベンゼン環、ビフェニル環、及びナフタレン環がさらに好ましい。複素環を構成する複素原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環及びトリアジン環などを挙げることができる。複素環は６員環であることが好ましい。Ｙで表される５員環又は６員環を部分構造として有する２価の連結基は置換基を有していてもよい。
【０１３１】
式（Ｉ）において、Ｚは、ハロゲン置換フェニル基、ニトロ置換フェニル基、シアノ置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であり、シアノ置換フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基又は炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基であるのが好ましい。
Ｚは、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルケニル基、炭素原子数が１〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【０１３２】
本発明に用いられるピリジニウム化合物としては、下記式（Ｉａ）で表されるピリジニウム化合物が好ましい。
【０１３３】
【化５３】
2007108732.tif 000054
【０１３４】
式（Ｉａ）において、Ｌ3は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−である。ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ3は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、単結合又は−Ｏ−であるのがより好ましい。
【０１３５】
式（Ｉａ）において、Ｌ4は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｎ＝Ｎ−である。
【０１３６】
式（Ｉａ）において、Ｒ3は、水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜２０のアルキル置換アミノ基である。Ｒ3がジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環又は６員環が好ましい。Ｒ3は水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基がさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基又は炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基が最も好ましい。Ｒ3が無置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位がアミノ置換されていることが好ましい。
【０１３７】
式（Ｉａ）において、Ｙ2及びＹ3は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環からなる２価の基である。６員環の例は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）及び複素環が挙げられる。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環及びシクロヘキサジエン環が挙げられる。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環及びトリアジン環が挙げられる。６員環に、他の６員環又は５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基及び炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基が挙げられる。アルキル基及びアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基又は炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。アシル基及びアシルオキシ基の定義は、後述する。
【０１３８】
式（Ｉａ）において、Ｘ1はアニオンである。Ｘ1は、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）及びスルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルン酸イオン、ベンゼンスルン酸イオン）が含まれる。
【０１３９】
式（Ｉａ）において、Ｚ1は水素原子、シアノ基、炭素原子数が１〜１２のアルキル基又は炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基であって、アルキル基及びアルコキシ基は、それぞれ、炭素原子数が２〜１２のアシル基又は炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。
【０１４０】
式（Ｉａ）において、ｍは１又は２であって、ｍが２の場合、２つのＬ4及び２つのＹ3は、異なっていてもよい。
ｍが２の場合、Ｚ1は、シアノ基、炭素原子数が１〜１０のアルキル基又は炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ1は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基又は炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。
【０１４１】
アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）又は芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基又はアルケニル基であることがさらに好ましい。
【０１４２】
式（Ｉａ）において、ｐは、１〜１０の整数である。ＣpＨ2pは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。ＣpＨ2pは、直鎖状アルキレン基であることが好ましい。また、ｐは１又は２であることがより好ましい。
【０１４３】
以下に、式（Ｉ）及び／又は（Ｉａ）で表される化合物の具体例を示す。ここで、Ｍｅはメチル基を表す。
【０１４４】
【化５４】
2007108732.tif 000055
【０１４５】
【化５５】
2007108732.tif 000056
【０１４６】
【化５６】
2007108732.tif 000057
【０１４７】
【化５７】
2007108732.tif 000058
【０１４８】
ピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
【０１４９】
前記光学異方性層形成用の組成物中における前記ピリジニウム誘導体の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記組成物（塗布液として調製した場合は溶媒を除いた液晶性組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。
【０１５０】
［空気界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な空気界面側垂直配向剤としては、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有するフルオロ脂肪族基含有ポリマー（以下、「フッ素系ポリマー」という）、又は一般式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物が好適に用いられる。
【０１５１】
まず、フッ素系ポリマーについて説明する。
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有することを特徴とする。ポリマーの種類としては、「改訂  高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があり、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。前記フッ素系ポリマーは、ポリオレフィン類であることが好ましい。
【０１５２】
前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーである。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。フルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）又はオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７〜７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【０１５３】
【化５８】
2007108732.tif 000059
【０１５４】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換され、フッ素系ポリマーの製造に使用される。
【０１５５】
【化５９】
2007108732.tif 000060
【０１５６】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの製造に利用可能なモノマーの具体例を以下に挙げるが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【０１５７】
【化６０】
2007108732.tif 000061
【０１５８】
【化６１】
2007108732.tif 000062
【０１５９】
【化６２】
2007108732.tif 000063
【０１６０】
【化６３】
2007108732.tif 000064
【０１６１】
【化６４】
2007108732.tif 000065
【０１６２】
【化６５】
2007108732.tif 000066
【０１６３】
【化６６】
2007108732.tif 000067
【０１６４】
本発明に使用可能なフッ素系ポリマーの一態様は、フルオロ脂肪族基含有モノマー（以下、「フッ素系モノマー」ということがある）より誘導される繰り返し単位と、下記式（ＩＩ）で表される親水性基を含有する繰り返し単位とを有する共重合体である。
【０１６５】
【化６７】
2007108732.tif 000068
【０１６６】
上記式（ＩＩ）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ33はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又は、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。Ｌは下記の連結基群から選ばれる任意の基、又はそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲb−（Ｒbは水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲf）−（Ｒfはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。
【０１６７】
式（ＩＩ）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ33は、それぞれ独立に、水素原子又は下記に例示した置換基群から選ばれる置換基を表す。
（置換基群）
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアラルキル基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【０１６８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０１６９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１７０】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ33はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、又は後述する−Ｌ−Ｑで表される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子、−Ｌ−Ｑで表される基であることがより好ましく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましく、水素原子、炭素数１〜２のアルキル基であることが最も好ましい。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。該アルキル基は、適当な置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、スルホリル基、カルボキシル基などが挙げられる。なお、アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。
【０１７１】
Ｌは、上記連結基群から選ばれる２価の連結基、又はそれらの２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表す。上記連結基群中、−ＮＲb−のＲbは、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子又はアルキル基である。また、−ＰＯ（ＯＲf）−のＲfはアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好ましくはアルキル基である。Ｒb及びＲfがアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す場合の炭素数は「置換基群」で説明したものと同じである。Ｌとしては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲb−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、アルキレン基又はアリーレン基を含むことが好ましく、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＲb−、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。Ｌがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、さらに好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｌが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、さらに好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｌが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、さらに好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｌとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。このような置換基としては先にＲ1、Ｒ2、Ｒ33における置換基として挙げた置換基と同様なものを挙げることができる。
以下にＬの具体的構造を例示する。
【０１７２】
【化６８】
2007108732.tif 000069
【０１７３】
【化６９】
2007108732.tif 000070
【０１７４】
前記式（ＩＩ）中、Ｑはカルボキシル基、カルボキシル基の塩（例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩（例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、ジメチルフェニルアンモニウムなど）、ピリジニウム塩など）、スルホ基、スルホ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）、ホスホノキシ基、ホスホノキシ基の塩（塩を形成するカチオンの例は上記カルボキシル基に記載のものと同じ）を表す。より好ましくはカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基であり、特に好ましいのはカルボキシル基又はスルホ基である。
【０１７５】
前記フッ素系ポリマーは、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を１種含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。また、前記フッ素系ポリマーは、上記各繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を１種又は２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、通常のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位が好ましい例として挙げられる。以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。前記フッ素系ポリマーは、下記モノマー群から選ばれる１種又は２種以上のモノマーから誘導される繰り返し単位を含有していてもよい。
【０１７６】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【０１７７】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【０１７８】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【０１７９】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【０１８０】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【０１８１】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【０１８２】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；及び
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【０１８３】
前記フッ素系ポリマー中、フルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５質量％以上であるのが好ましく、１０質量％以上であるのがより好ましく、３０質量％以上であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーにおいて、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の量は、該フッ素ポリマーの構成モノマー総量の０．５質量％以上であるのが好ましく、１〜２０質量％であるのがより好ましく、１〜１０質量％であるのがさらに好ましい。上記の質量百分率は使用するモノマーの分子量により好ましい範囲の数値が変動し易いため、ポリマーの単位質量当たりの官能基モル数で表す方が、式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量を正確に規定できる。該表記を用いた場合、前記フッ素系ポリマー中に含有される親水性基（式（ＩＩ）中のＱ）の好ましい量は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ〜１０ｍｍｏｌ／ｇであり、より好ましい量は０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜８ｍｍｏｌ／ｇである。
【０１８４】
本発明に用いる前記フッ素系ポリマーの質量平均分子量は１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましく、１００，０００以下がさらに好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。
【０１８５】
前記フッ素系ポリマーの重合方法は、特に限定されるものではないが、例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、又は、アニオン重合等の重合方法を採ることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用できる点で特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤や、ラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１８６】
ラジカル重合方法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法等を採ることが可能である。典型的なラジカル重合方法である溶液重合についてさらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子科学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）等に記載されている。
【０１８７】
溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機化合物が好ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類；ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、１種単独又は２種以上を組み合わせて用いることが可能である。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【０１８８】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で、１０分〜３０時間加熱することが好ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも、不活性ガスパージを行うことが好ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【０１８９】
前記フッ素系ポリマーを好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法が特に有効である。連鎖移動剤としてはメルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノール等）、ポリハロゲン化アルキル類（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマー等）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され精密な制御が必要であるが、使用するモノマーの全モル数に対して好ましくは０．０１モル％〜５０モル％程度であり、より好ましくは０．０５モル％〜３０モル％、さらに好ましくは０．０８モル％〜２５モル％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【０１９０】
なお、本発明のフッ素系ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０１９１】
以下に、フッ素系ポリマーとして本発明に好ましく用いられる具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によってなんら限定されるものではない。ここで式中の数値（ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値）は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定されたＰＥＯ換算の質量平均分子量である。
【０１９２】
【化７０】
2007108732.tif 000071
【０１９３】
【化７１】
2007108732.tif 000072
【０１９４】
【化７２】
2007108732.tif 000073
【０１９５】
【化７３】
2007108732.tif 000074
【０１９６】
【化７４】
2007108732.tif 000075
【０１９７】
本発明に用いられるフッ素系ポリマーは、公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフッ素系モノマー、水素結合性基を有するモノマー等を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【０１９８】
前記光学異方性層形成用組成物（塗布液として調製した場合は、溶媒を除いた液晶性組成物）中における前記フッ素系ポリマーの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。前記フッ素系ポリマーの添加量が０．００５質量％未満では効果が不十分であり、また８質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼす。
【０１９９】
次に、同様に空気界面側垂直配向剤として使用可能な、式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物について説明する。
式（ＩＩＩ）
（Ｒ0）mo−Ｌ0−（Ｗ）no
式中、Ｒ0はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍｏは１以上の整数を表す。複数個のＲ0は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ0は（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基を表し、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又はホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表し、ｎｏは１以上の整数を表す。
【０２００】
式（ＩＩＩ）中、Ｒ0は含フッ素化合物の疎水性基として機能する。Ｒ0で表されるアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは４〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは６〜１６のアルキル基である。該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０２０１】
Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０であり、より好ましくは４〜１６であり、さらに好ましくは４〜８である。前記末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましく、７０％以上を置換されていることがさらに好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示する置換基によって置換されていてもよい。Ｒ0で表される末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【０２０２】
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【０２０３】
式（ＩＩＩ）において、Ｌ0で表される（ｍｏ＋ｎｏ）価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、芳香族基、ヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲd−（Ｒdは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−からなる群より選ばれる基を少なくとも２つ組み合わせた連結基であることが好ましい。
【０２０４】
式（ＩＩＩ）において、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又はホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩を表す。Ｗの好ましい範囲は、式（ＩＩ）におけるＱと同一である。
【０２０５】
前記式  （ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物の中でも、下記式（ＩＩＩ）−ａ又は式（ＩＩＩ）−ｂで表される化合物が好ましい。
【０２０６】
【化７５】
2007108732.tif 000076
【０２０７】
式（ＩＩＩ）−ａ中、Ｒ4及びＲ5は各々アルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表すが、Ｒ4及びＲ5が同時にアルキル基であることはない。Ｗ1及びＷ2は各々水素原子、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表すが、Ｗ1及びＷ2が同時に水素原子であることはない。
【０２０８】
式（ＩＩＩ）−ｂ
（Ｒ6−Ｌ2−）m2（Ａｒ1）−Ｗ3
式（ＩＩＩ）−ｂ中、Ｒ6はアルキル基、末端にＣＦ3基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍ２は１以上の整数を表し、複数個のＲ6は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ2は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を表し、複数個のＬ2は同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1は芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｗ3はカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有する、アルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルアミノ基を表す。
【０２０９】
まず、前記式（ＩＩＩ）−ａについて説明する。
Ｒ4及びＲ5は前記式（ＩＩＩ）におけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｗ1及びＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩は前記式（ＩＩＩ）におけるＷと同義でありその好ましい範囲も同一である。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、更に好ましくは１〜８のアルキル基であり、特に好ましくは１〜３のアルキル基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキル基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましくは１〜８のアルコキシ基であり、特に好ましくは１〜４のアルコキシ基である。前記置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルコキシ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。Ｗ1及びＷ2で表される置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数１〜２０のアルキルアミノ基であり、より好ましくは１〜８のアルキルアミノ基であり、さらに好ましくは１〜４のアルキルアミノ基である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、少なくとも一つのカルボキシル基、スルホ基、又はホスホノキシ基を有していればよく、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基としては、前記式（ＩＩＩ）中のＷが表すカルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基と同義であり好ましい範囲も同一である。前記カルボキシル基、スルホ基、ホスホノキシ基を有するアルキルアミノ基は、これ以外の置換基によって置換されていてもよく、該置換基としては後述の置換基群Ｄとして例示する置換基のいずれかを適用できる。
【０２１０】
Ｗ1及びＷ2は、特に好ましくはそれぞれ水素原子又は−（ＣＨ2）nＳＯ3Ｍ（ｎは０又は１を表す。）である。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０２１１】
次に、前記式（ＩＩＩ）−ｂについて説明する。
Ｒ6は前記式（ＩＩＩ）におけるＲ0と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｌ2は、好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２の芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜４０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる総炭素数０〜２０の連結基を表す。Ａｒ1は、好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環を表し、より好ましくはベンゼン環又はナフタレン環を表す。Ｗ3で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基は、前記式（ＩＩＩ）−ａにおけるＷ1及びＷ2で表されるカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基、スルホ基もしくはホスホノキシ基を有するアルキル基、アルコキシ基、又はアルキルアミノ基と同義でありその好ましい範囲も同一である。
【０２１２】
Ｗ3は、好ましくはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩、又は置換基としてカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）もしくはその塩又はスルホ基（−ＳＯ3Ｈ）もしくはその塩を有するアルキルアミノ基であり、特に好ましくはＳＯ3Ｍ又はＣＯ2Ｍである。Ｍはカチオンを表すが、分子内で荷電が０になる場合は、Ｍはなくてもよい。Ｍで表されるカチオンとしては、例えばプロトニウムイオン、アルカリ金属イオン（リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンなど）、アルカリ土類金属イオン（バリウムイオン、カルシウムイオンなど）、アンモニウムイオンなどが好ましく適用される。このうち、特に好ましくはプロトニウムイオン、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオンである。
【０２１３】
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、さらに好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、
【０２１４】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）。
【０２１５】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、さらに好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、さらに好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、さらに好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【０２１６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、さらに好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、さらに好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０２１７】
なお、本発明の含フッ素化合物は、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。
【０２１８】
本発明に使用可能な式（ＩＩＩ）にて表される含フッ素化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる含フッ素化合物はこれらに限定されるものではない。
【０２１９】
【化７６】
2007108732.tif 000077
【０２２０】
【化７７】
2007108732.tif 000078
【０２２１】
【化７８】
2007108732.tif 000079
【０２２２】
【化７９】
2007108732.tif 000080
【０２２３】
【化８０】
2007108732.tif 000081
【０２２４】
前記光学異方性層形成用組成物中における前記含フッ素化合物の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜１質量％であるのがさらに好ましい。
【０２２５】
［重合性開始剤］
配向（好ましくは垂直配向）させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０２２６】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。位相差層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【０２２７】
［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
【０２２８】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０２２９】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【０２３０】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０２３１】
［塗布溶剤］
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【０２３２】
［塗布方法］
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。中でも、前記光学異方性層を形成する際は、ワイヤーバーコーティング法を利用して塗布するのが好ましく、ワイヤーバーの回転数は下記式を満たすことが好ましい。
０．６＜（Ｗ×（Ｒ＋２ｒ）×π）／Ｖ＜１．４
［Ｗ：ワイヤーバーの回転数（ｒｐｍ）、Ｒ：バーの芯の直径（ｍ）、ｒ：ワイヤーの直径（ｍ）、Ｖ：支持体の搬送速度（ｍ／ｍｉｎ）］
（Ｗ×（Ｒ＋２ｒ）×π）／Ｖの範囲は、０．７〜１．３であることがより好ましく、０．８〜１．２であることがさらに好ましい。
【０２３３】
前記光学異方性層の形成にはダイコーティング法が好ましく用いられ、特に、スライドコーター又はスロットダイコーターを利用した塗布方法が好ましい。
【０２３４】
図１は、本発明に利用可能なスロットコーターの概略図である。コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２（例えば、光学異方性層の支持体となる透明フィルム）に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２に塗布膜１４ｂを形成する。
【０２３５】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５及びスロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば、図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向（図１中では、紙面を垂直に貫く方向。以下同様である）に、同一の断面形状で延長された空間であり、塗布液を溜めておくのに利用される。その幅方向の延長の有効長さは、塗布幅（例えば、透明フィルムの幅）と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロットとは反対側の面中央から、例えば、供給量を制御可能な供給ポンプ（不図示）等で行われる。ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けてもよい。
【０２３６】
スロット１６は、ポケット１５と同様に、スロットダイ１３の幅方向に、同一の断面形状で延長された空間であり、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路である。ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、幅規制板（不図示）等を用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であるのが好ましいが、この範囲に限定されるものではない。
【０２３７】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【０２３８】
下流側リップランド１９のウェブ走行方向における長さＩＬＯは３０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６０μｍである。また、上流側リップランド１８のウェブ進行方向における長さＩＵＰは特に限定されないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。
【０２３９】
図２は、スロットダイ１３の断面形状の概略図（Ａ）と、他のスロットダイ３０の断面形状の概略図（Ｂ）である。図２（Ｂ）に示すスロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩＬＯは、上流側リップランドの長さＩＵＰと同様の長さになっている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、図２（Ａ）に示すスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩＬＯが上流側リップランドの長さＩＵＰと比較して短くなっている。本発明では、いずれの形状のスロットダイを用いることもできるが、膜厚が２０μｍ以下の塗布を行う場合は、スロットダイ１３の様に、ＩＬＯがＩＵＰより短い形状のスロットダイを用いるほうが、より高い精度で均一の膜厚の塗布を行えるので好ましい。さらに、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯが３０μｍ〜１００μｍの範囲であると、寸法精度のよいリップランドを形成することができるので、より好ましい。
【０２４０】
また、塗膜の膜厚を高精度で均一化するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯのスロットダイ１３の幅方向における変動幅を２０μｍ以内にするのが好ましい。変動幅が前記範囲であると、ビードをより安定的に形成することができ、外乱等が生じてもビードが不安定となるのを防止し、製造適性を維持することができる。
【０２４１】
スロットダイの材質については特に制限はないが、スロット１６の開口部ａを含む先端リップ１７の強度や表面状態の向上の観点から、少なくともこの箇所を含むスロットダイの材質を、超硬材質にするのが好ましい。超硬材質を用いることにより、表面形状の均質性が改善するとともに、常に吐出される塗布液による先端リップの摩耗を防止することもできる。塗布液として研磨材を含む磁性液等を塗布する場合は特に有効である。超硬材質としては、ＷＣを主成分とする材質が挙げられる。例えば、ＷＣ炭化物結晶をＣｏをはじめとする結合金属で結合して調製された材質などが挙げられる。結合金属はＣｏに限定されず、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂをはじめとする各種金属を使用することもできる。前記ＷＣ結晶の平均粒径については特に制限はないが、平均粒径は小さいのが好ましく、５μｍ以内で
あるのが好ましい。
【０２４２】
さらに、薄層の塗布膜厚を高精度に均一に維持するには、スロットダイ１０の先端部における寸法精度のみならず、バックアップロール１３の真直度の精度も重要である。従って、下流側リップランド１９のランド長さＩＬＯの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１３の先端リップ１７とバックアップロール１１の両方の真直度の精度が高いのが好ましい。真直度は下記の式（１）により、概算ではあるが、実用的に十分な精度で求めることができる。但し、下記式（１）を満たさないスロットダイコーターであっても、勿論、本発明に用いることができる。ここで、Ｐｏはウェブ１２の進行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐｐはポケット１５の内圧、σは塗布液１４の表面張力、μは塗布液１４ａの粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さ、Ｌはスロットダイ１３のスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１３のスロット間隙である。そしてスロットダイ１３のポケット１５の内圧Ｐｐと、ウェブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力Ｐｏの差圧Ｐｏ−Ｐｐを、スロットダイ１３の幅方向に一定として、下記（１）式を用いて、必要真直度を求める。これは、スロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１との隙間の長さｄが変化しても、スロットダイ１３のポケット１５の中と前記ビードメニスカス外の差圧が一定となるように、スロットダイ１３の幅方向の流れがポケット１５の中で発生して、流量分布となることによる。
Ｐｏ−Ｐｐ＝１．３４σ／ｈ・（μＵ／σ）２／３＋１２μＵＩＬＯ（ｄ／２−ｈ）／ｄ３−１２μｈＵＬ／Ｄ３・・・（１）
【０２４３】
上記数式（１）を満たす条件でスロットダイコーターにより塗布を実施すると、一般の工業的生産に用いられる塗布系においては、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度（条件により厳密には異なる場合もある）になる。従って、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であるとみなすことができる。これにより、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに，前記先端リップとウェブとの隙間の前記スロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップと前記バックアップロールの真直度を維持するのが好ましい。
なお、本発明においては、多層の光学異方性層を同時に塗布する場合等は、スライドコーターを用いて塗布するのも好ましい。
【０２４４】
［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光層や支持体上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
【０２４５】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０２４６】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。
【０２４７】
前記配向膜において、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０２４８】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０２４９】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０２５０】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤及び添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０２５１】
配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０２５２】
配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０２５３】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０２５４】
配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０２５５】
［支持体］
前記第１及び第２の光学異方性層として用いられる光学補償フィルムは、液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を支持するポリマーフィルムからなる支持体を有する。光学異方性が小さいポリマーフィルムを用いてもよいし、延伸処理などにより光学異方性を発現させたポリマーフィルムを用いてもよい。支持体は光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【０２５６】
支持体の面内のレターデーション（Ｒｅ）は０〜２００ｎｍであることが好ましく、０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、０〜１００ｎｍであることが最も好ましい。また、該支持体の厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−１０００ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、−５００ｎｍ〜２５０ｎｍであることが好ましく、−３００ｎｍ〜２００ｎｍであることが最も好ましい。
【０２５７】
ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート及び環状ポリオレフィンが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。環状ポリオレフィンとしては、特公平２−９６１９号公報記載のテトラシクロドデセン類の開環重合体又はテトラシクロドデセン類とノルボルネン類の開環共重合体を水素添加反応させて得られた重合体を構成成分とするポリマー、商品名としてはアートン（ＪＳＲ製）や、ゼオネックス、ゼオノア（日本ゼオン製）のシリーズから使用することができる。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【０２５８】
ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、垂直配向膜あるいは位相差層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止するために、平均粒径が１０〜１００ｎｍ程度の無機粒子を固形分重量比で５％〜４０％混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
【０２５９】
なお、上記では、第１及び／又は第２の光学異方性層として積層体構造である光学補償フィルムを用いた例を詳細に説明したが、本発明はこの態様に限定されるものではなく、第１及び／又は第２の光学異方性層は、勿論、延伸ポリマーフィルム単独からなっていても、液晶性化合物を含有する組成物から形成された液晶フィルムのみからなっていてもよい。前記延伸ポリマーフィルムの好ましい例は、前記光学補償フィルムが有する支持体の好ましい例と同様である。また、液晶フィルムの好ましい例も、前記光学補償フィルムが有する光学異方性層の好ましい例と同様である。
【０２６０】
前記第１及び第２の光学異方性層として用いられる光学補償フィルムの一方は、長手方向に対して遅相軸が平行でも直交でもない方向にある光学異方性層を有しているのが好ましい。他方は長手方向に対して、遅相軸が平行又は直交の方向にある光学異方性層を有していてもよいし、遅相軸が平行でも直交でもない方向にある光学異方性層を有していてもよい。本発明の偏光板をバックライト側に配置する場合は、少なくとも、バックライトにより近い位置に配置される光学異方性層として用いられる光学補償フィルムが、長手方向に対して遅相軸が平行でも直交でもない方向にある光学異方性層を有しているのが好ましい。光学異方性層の遅相軸の角度はラビングの角度で調整できる。長尺状の支持体の長手方向に対して光学異方性層の遅相軸を平行でも直交でもない角度にすることで（例えば、支持体上に配向膜を形成し、該配向膜の表面を長手方向に対して２〜８８°の方向にラビング処理することで）、後述する楕円偏光板の製造において、長尺状の偏光膜とロールトゥロールによる貼り合せが可能になり、貼り合せの軸角度の精度が高く、生産性の高い楕円偏光板の製造が可能になる。
【０２６１】
本発明の偏光板をバックライト側に配置し、且つ第２の光学異方性層をよりバックライトに近くして配置する場合は、前記第２の光学異方性層は、１／４波長板としての機能を有することが好ましく、面内のレターデーションが９０〜１６０ｎｍであることが好ましい。前記第２の光学異方性層に含まれる少なくとも１層の遅相軸の方向は長手方向に対して９０°でも０°でもないことが好ましい。光学異方性層の遅相軸の方向は、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）などを用いてフィルムの法線方向からレターデーションを測定することで検出できる。具体的には、第２の光学異方性層に含まれる少なくとも１層の遅相軸の方向と長手方向のなす角が、２〜８８°であることを意味し、５〜８５°であることがさらに好ましい。
第２の光学異方性層が、ディスコティック液晶化合物が垂直配向した光学異方性層、あるいは、棒状液晶化合物が水平配向した光学異方性層を含むとき、１／２波長板や１／４波長板などの位相差板として好適に用いることができる。１／２波長板として用いる場合には、該光学異方性層の面内のレターデーションは、２００〜３２０ｎｍであることが好ましく、２２０ｎｍ〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。１／４波長板として用いる場合には、該光学異方性層の面内のレターデーションは、９０〜１８０ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１７０ｎｍであることがさらに好ましい。また、これら１／２波長板と１／４波長板をそれぞれの遅相軸が直交でも平行でもない角度になるように交差させて積層して、広帯域１／４波長板としてもよい。
該光学異方性層の厚さ方向の屈折率を制御するために、前記光学異方性層に加えて、棒状液晶化合物を垂直配向させた光学異方性層やディスコティック液晶化合物を水平配向させた光学異方性層を積層してもよいし、ディスコティック液晶化合物と棒状液晶化合物を混合して形成した光学異方性層を含んでもよい。さらに、光学異方性を有す支持体を用いて制御してもよい。
１／２波長板や１／４波長板などの位相差板として用いる場合、Ｎｚを下記式のように定義したときに、Ｎｚは−５〜２であることが好ましく、−４．５〜１．５であることがさらに好ましく、−４〜１．２であることが最も好ましい。
Ｎｚ＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅ
（ここで、Ｒｅは面内のレターデーション値、Ｒｔｈは厚み方向のレターデーション値）
第２の光学異方性層がかかる光学特性を有すると、ブックライトの利用効率を改善し、輝度向上に寄与するので好ましい。
【０２６２】
本発明の偏光板は、さらに第３の光学異方性層を有していてもよく、第１の光学異方性層、偏光層、第２の光学異方性層及び第３の光学異方性層をこの順で有するのが好ましい。第３の光学異方性層は、液晶化合物を含有する光学異方性層を含むことが好ましく、該液晶化合物を含む層がコレスレリック液晶層であることがさらに好ましい。コレステリック液晶層は、左回りまたは右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどがあげられる。コレステリック液晶層は、液晶ポリマーの配向物、液晶モノマーの配向物の重合層により形成することができる。またコレステリック液晶層はこれらの複合層により形成することもできる。長尺状のコレステリック液晶膜の作製方法は、特開２００３−３３７２２１号公報段落［０１６２］〜［０１６３］、［０１６４］等に詳細が記載されていて、本発明でも利用することができる。
なお、第３の光学異方性層を有する態様は、バックライト側の偏光板として用いるのが好ましく、特に、第３の光学異方性層が、バックライトに最も近い位置となるように配置するのが好ましい。
【０２６３】
［偏光層］
本発明の偏光板は、長尺状の偏光層を有する。偏光層としては、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜のいずれを用いてもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。
【０２６４】
本発明の偏光板の好ましい製造方法は、第１の光学異方性層、偏光層及び第２の光学異方性層がそれぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含む。該長尺の偏光板は用いられる液晶表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。
【０２６５】
偏光膜として直線偏光膜を用い、位相差板と組み合わせて楕円偏光板として構成しておくと、容易に反射型及び半透過型液晶表示装置に組み込むことができる。また、有機ＥＬ表示装置の反射防止膜としても用いることができる。また、長尺状の楕円偏光板に、別途作製した長尺状のコレステリック液晶フィルムもさらに積層できるので、生産性の高い輝度向上膜の製造も容易になる。
【０２６６】
偏光膜は一般に保護膜を有する。本発明において、前記第１及び／又は第２の光学異方性層として、前記光学補償フィルム、即ち、ポリマーフィルムからなる支持体と、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する光学補償フィルムを用いる場合は、透明支持体を偏光層の保護膜として機能させることができる。支持体とは別に偏光層の保護膜を積層する場合は、保護膜として光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
【０２６７】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、前記偏光板を少なくとも有する限り、その構成については特に制限はない。反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等いずれであってもよい。液晶表示装置は一般的に、偏光板、液晶セル、及び必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材から構成されるが、本発明においては、本発明の偏光板表示面側及び／又はバックライト側に使用することを必須とする点を除いて特に制限は無い。また、本発明の偏光板の使用位置についても特に制限はなく、また、１カ所でも複数カ所でもよい。液晶セルとしては特に制限されず、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有していている透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物及びこれらの混合物が挙げられる。また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加することもできる。
【０２６８】
前記液晶セルは、前記電極基板及び液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。前記液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０２６９】
本発明における偏光板は、反射型、半透過型、及び透過型液晶表示装置に好ましく用いられる。また、本発明における偏光板は、コレステリック液晶フィルム（例えば第３の光学異方性層）と組み合わされることで、輝度向上膜としても好ましく用いられる。反射型液晶表示装置は、反射板、液晶セル及び偏光板を、この順に積層した構成を有する。位相差板は、反射板と偏光膜との間（反射板と液晶セルとの間又は液晶セルと偏光膜との間）に配置される。反射板は、液晶セルと基板を共有していてもよい。半透過反射型液晶表示装置は、電液晶セルと、該液晶セルより観察者側に配置された偏光板と、前記偏光板と前記液晶セルの間に配置される少なくとも１枚の位相差板と、観察者から見て前記液晶層よりも後方に設置された半透過反射層を少なくとも備え、さらに観察者から見て前記半透過反射層よりも後方に少なくとも１枚の位相差板と偏光板とを有す。このタイプの液晶表示装置では、バックライトを設置することで反射モードと透過モード両方の使用が可能となる。
【０２７０】
液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましい。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０２７１】
第１及び／又は第２の光学異方性層は、液晶表示装置の視野角補償層としての機能を有することが好ましい。該光学異方性層は、ポリマーフィルムを延伸したり、液晶性化合物を配向させることで光学異方性を発現させたものを用いることができる。該光学異方性層は、使用される液晶表示装置のモードや配置される位置に応じて三次元方向の屈折率異方性を制御するのが好ましい。三次元方向の屈折率異方性は、光学異方性層に含まれる液晶性化合物の分子形状や配向状態で制御してもよいし、支持体として用いる光学異方性を有すポリマーフィルムで制御してもよいし、それらを組み合わせて制御してもよい。
【０２７２】
第１及び／又は第２の光学異方性層の好ましい態様の一つは、液晶性化合物が含まれ、ディスコティック液晶化合物や棒状液晶化合物が好ましく用いられる。液晶性化合物の配向状態は垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、傾斜配向、ねじれ配向、螺旋配向のいずれかであることが好ましい。
ディスコティック液晶性化合物の垂直配向とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム平面に対して実質的に垂直である（分子対称軸がフィルム平面と実質的に平行である）ことを意味する。フィルム平面に対する該円盤面の平均傾斜角は７０〜９０°であることが好ましく、７５〜９０°であることがさらに好ましく、８０〜９０°であることが最も好ましい。
ディスコティック液晶性化合物の水平配向とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム平面に対して実質的に平行である（分子対称軸がフィルム平面と実質的に垂直である）ことを意味する。フィルム平面に対する該円盤面の平均傾斜角は０〜２０°であることが好ましく、０〜１５°であることがさらに好ましく、０〜１０°であることが最も好ましい。
棒状液晶性化合物の垂直配向とは、棒状液晶性化合物の長軸（分子対称軸）がフィルム平面に対して実質的に垂直であることを意味する。フィルム平面に対する該長軸の平均傾斜角は７０〜９０°であることが好ましく、７５〜９０°であることがさらに好ましく、８０〜９０°であることが最も好ましい。
棒状液晶性化合物の水平配向とは、棒状液晶性化合物の長軸（分子対称軸）がフィルム平面に対して実質的に水平であることを意味する。フィルム平面に対する該長軸の平均傾斜角は０〜２０°であることが好ましく、０〜１５°であることがさらに好ましく、０〜１０°であることが最も好ましい。
【０２７３】
前記光学異方性層が垂直配向したディスコティック液晶性化合物、あるいは、垂直配向した棒状液晶性化合物を含むとき、該光学異方性層はＩＰＳモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。
ＩＰＳモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向した光学異方性層の面内のレターデーションは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１８０ｎｍであることがさらに好ましく、７０〜１６０ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレターデーションは、−１００〜−２５ｎｍであることが好ましく、−９０〜−３０ｎｍであることがさらに好ましく、−８０〜−３５ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレターデーションは、０〜２０ｎｍであることが好ましく、０〜１０ｎｍであることがさらに好ましく、０〜５ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレターデーションは２０〜１２０ｎｍであることが好ましく、４０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。
ＩＰＳモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、棒状液晶性化合物が垂直配向した光学異方性層の面内のレターデーションは、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがさらに好ましく、０〜３ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレターデーションは、−４００〜−８０ｎｍであることが好ましく、−３６０〜−１００ｎｍであることがさらに好ましく、−３２０〜−１２０ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレターデーションは、２０〜１５０ｎｍであることが好ましく、３０〜１３０ｎｍであることがさらに好ましく、４０〜１１０ｎｍであることが最も好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレターデーションは、１００〜３００ｎｍであることが好ましく、１２０〜２８０ｎｍであることがさらに好ましく、１４０ｎｍ〜２６０ｎｍであることが最も好ましい。
【０２７４】
前記光学異方性層が、水平配向したディスコティック液晶性化合物、あるいは、水平配向した棒状液晶性化合物を含むときは、該光学異方性層はＶＡモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。
ＶＡモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶性化合物が水平配向した光学異方性層の面内のレターデーションは、０〜１０ｎｍであることが好ましく、０〜５ｎｍであることがより好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレターデーションは、３０〜３００ｎｍであることが好ましく、４０〜２００ｎｍであることがより好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレターデーションは、０〜４０ｎｍであることが好ましく、０〜２０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレターデーションは０〜２００ｎｍであることが好ましく、２０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
ＶＡモード液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、棒状液晶性化合物が水平配向した光学異方性層の面内のレターデーションは、６０〜１４０ｎｍであることが好ましく、８０〜１２０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該光学異方性層の厚さ方向のレターデーションは、３０〜７０ｎｍであることが好ましく、４０〜６０ｎｍであることがより好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレターデーションは、０〜２０ｎｍであることが好ましく、０〜１０ｎｍであることがより好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレターデーションは、−３０〜３０ｎｍであることが好ましく、−２０ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましい。
【０２７５】
前記光学異方性層がディスコティック液晶性化合物を含み、該ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム平面に対して傾いて配向しているとき、該光学異方性層はＴＮモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＨＡＮモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いることができる。光学異方性層の厚さ方向において、ディスコティック液晶性化合物が実質的に一様の角度で傾斜配向していてもよいし、傾斜角度が異なるハイブリッド配向をしていてもよいが、ハイブリッド配向がより好ましい。
ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＨＡＮモードなどの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合、ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の面内のレターデーションは、０〜５０ｎｍであることが好ましく、１５〜４５ｎｍであることがさらに好ましく、２０〜４０ｎｍであることが最も好ましい。また、透明支持体を含んでもよい。該支持体の面内のレターデーションは、０〜６０ｎｍであることが好ましく、０〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。さらに、該支持体の厚さ方向のレターデーションは、４０〜３００ｎｍであることが好ましく、６０ｎｍ〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０２７６】
前記液晶表示装置において、本発明の偏光板は楕円偏光板もしくは円偏光板として機能する。
【０２７７】
本発明の偏光板は前記用途に限らず、その他の種々の用途に供することが出来る。たとえば、ホスト−ゲスト型液晶表示装置、タッチパネル、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子などの反射防止膜、反射型偏光板などに用いることができる。
【実施例】
【０２７８】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０２７９】
［実施例１］
＜第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ１）の作製＞
《セルロースアセテートフィルム（Ｔ１）の作製》
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
セルロースアセテート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．９４のセルロースアセテート      １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２８０】
（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液            １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒）                          ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ                    １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２８１】
（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
添加剤溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――
下記の光学的異方性低下剤                ４９．３質量部
下記の波長分散調整剤                      ４．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ              １２．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――
【０２８２】
光学的異方性低下剤
【化８１】
2007108732.tif 000082
【０２８３】
波長分散調整剤
【化８２】
2007108732.tif 000083
【０２８４】
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．２％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚さ８０μｍの長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ１を製造した。
得られたフィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）は１ｎｍ（遅相軸はフィルム長手方向と垂直な方向）、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は−１ｎｍであった。
【０２８５】
《光学異方性層の作製》
上記作製した長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ１の表面をケン化後、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理を施して配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール      １０質量部
水                                ３７１質量部
メタノール                        １１９質量部
グルタルアルデヒド                ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――
【０２８６】
変性ポリビニルアルコール
【化８３】
2007108732.tif 000084
【０２８７】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃４．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２０ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物                    ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のピリジニウム塩                                ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ａ）                        ０．４質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  １６５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２８８】
ディスコティック液晶性化合物
【化８４】
2007108732.tif 000085
【０２８９】
フッ素系ポリマー（Ａ）
【化８５】
2007108732.tif 000086
【０２９０】
ピリジニウム塩
【化８６】
2007108732.tif 000087
【０２９１】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルムＴ１の表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＲ１を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＲ１の５８９ｎｍにおけるＲｅ（０）、Ｒｅ（４０）及びＲｅ（−４０）を測定したところ、それぞれ、１２１．６ｎｍ、１１３．８ｎｍ及び１１３．７ｎｍであった。これらの結果からディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
作製した長尺状の光学補償フィルムＲ１を、第２の光学異方性層として用いた。
【０２９２】
＜第３の光学異方性層の作製＞
特開２００３−３３７２２１号公報の実施例に記載の方法と同様にして、長尺状のコレステリック液晶フィルムを作製し、第３の光学異方性層（Ｃ１）として用いた。
【０２９３】
＜第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ１）の作製＞
《セルロースアセテートフィルム（Ｔ２）の作製》
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）        ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                              ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                          １１質量部
【０２９４】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。
【０２９５】
レターデーション上昇剤（Ａ）
【化８７】
2007108732.tif 000088
【０２９６】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ２を作製した。
【０２９７】
得られたセルロースアセテートフィルムＴ２の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は８ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は７８ｎｍであった。
【０２９８】
《ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層の形成》
上記第２の光学異方性層の作製における配向膜の形成と同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ２の表面を鹸化処理し、続いて、配向膜を形成した。フィルムの長手方向とラビングローラーの回転軸のなす角が直角になるようにして、連続的に配向膜表面をラビング処理した。
【０２９９】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記のディスコティック液晶性化合物                        ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                        ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）      ２．０質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）          ０．５質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体
（メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）          １．３質量部
メチルエチルケトン                                      ２０７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３００】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルム表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＦ１を作製した。
作製した光学異方性層において、円盤状液晶性化合物は、円盤面と透明保護膜とのなす角度（傾斜角）が、配向膜から空気界面に向かって増加しており、平均傾斜角３７°でハイブリッド配向していた。光学異方性層はシュリーレン等の欠陥がない均一な膜であった。傾斜角は自動複屈折計（ＭＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法で算出した。さらに、サンプルから光学異方性層のみを剥離し、光学異方性層の分子対称軸の平均方向を測定したところ、フィルムの長手方向に対して９０°となっていた。
作製した長尺状の光学補償フィルムＦ１を第１の光学異方性層として用いた。
【０３０１】
＜偏光板の作製＞
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、上記作製した第２の光学異方性層（Ｒ１）のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層が形成されていない面を、他方の面に上記作製した第１の光学異方性層（Ｆ１）のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層が形成されていない面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、第１の光学異方性層、偏光膜、第２の光学異方性層がこの順で積層された長尺の偏光板を作製した。偏光膜の吸収軸はフィルム長手方向に対して平行であり、第１の光学異方性層Ｆ１の遅相軸は偏光板吸収軸と直交しており、第２の光学異方性層Ｒ１の遅相軸と偏光板吸収軸のなす角は４５°であった。続いて、この偏光板と上記作製した長尺状の第３の光学異方性層（Ｃ１）をそれぞれ長尺の状態で連続的に貼り合せた。このとき、第３の光学異方性層（Ｃ１）は第２の光学異方性層（Ｒ１）の側になるように貼り合せた。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ１）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ１）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ１）を作製した。
【０３０２】
［実施例２］
＜第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ２）の作製＞
《セルロースアセテートフィルム（Ｔ３）の作製》
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェ−ト（可塑剤）                    ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェ−ト（可塑剤）            ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ３００質量部
メタノ−ル（第２溶媒）                                  ４５質量部
染料
（住化ファインケム（株）製  ３６０ＦＰ）        ０．０００９重量部
【０３０３】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノ−ル２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤（Ｂ）溶液３６質量部、及びシリカ微粒子（アイロジル製  Ｒ９７２）１．１重量部を混合し、充分に攪拌してド−プを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
【０３０４】
レターデーション上昇剤（Ｂ）
【化８８】
2007108732.tif 000089
【０３０５】
得られたド−プを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に２８％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ３を作製した。
得られたセルロースアセテートフィルムＴ３の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは９２μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は３８ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は１７５ｎｍであった。
【０３０６】
《ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層の形成》
実施例１の第２の光学異方性層の作製における配向膜の形成と同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ３の表面を鹸化処理し、続いて、配向膜を形成した。フィルムの長手方向とラビングローラーの回転軸のなす角が４５°になるようにして、連続的に配向膜表面をラビング処理した。
【０３０７】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液を、上記作製した配向膜上に＃３．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１３０℃の温風で１２０秒間加熱した。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記のディスコティック液晶性化合物                        ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                        ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）              １質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体
（メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）          １．３質量部
メチルエチルケトン                                      ２２７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３０８】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルム表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＦ２を作製した。
作製した光学異方性層において、円盤状液晶性化合物は、円盤面と透明保護膜とのなす角度（傾斜角）が、配向膜から空気界面に向かって増加しており、平均傾斜角３２°でハイブリッド配向していた。さらに、サンプルから光学異方性層のみを剥離し、光学異方性層の分子対称軸の平均方向を測定したところ、フィルムの長手方向に対して４５°となっていた。
作製した長尺状の光学補償フィルムＦ２を、第１の光学異方性層として用いた。
【０３０９】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺状の第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ１）及び第３の光学異方性層（コレステリック液晶フィルムＣ３）を作製した。実施例１の偏光板の作製において、第１の光学異方性層としてＦ１を用いる代わりに、Ｆ２を用いて長尺の偏光板（Ｐ２）を作製した。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ２）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ１）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ２）を作製した。
【０３１０】
［実施例３］
＜第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ３）の作製＞
《セルロースアシレートフィルム（Ｔ４）の作製》
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０３１１】
──────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
──────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５）                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
──────────────────────────────────
【０３１２】
別のミキシングタンクに、上記のレターデーション上昇剤Ｂを１６質量部、下記のレターデーション上昇剤Ｃを８質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーション上昇剤溶液４５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
【０３１３】
レターデーション上昇剤Ｃ
【化８９】
2007108732.tif 000090
【０３１４】
得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満としてセルロースアセテートフィルム（Ｔ４）を作製した。なお、使用したセルロースアシレートのＴｇは１４０℃である。
得られたセルロースアセテートフィルムＴ４の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８８μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は７０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２１０ｎｍであった。
【０３１５】
《棒状液晶化合物を含む光学異方性層の形成》
実施例１の第２の光学異方性層の作製における配向膜の形成と同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ４の表面を鹸化処理し、続いて、配向膜を形成した。ただし、ラビング処理は行わなかった。
【０３１６】
下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を、上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から９０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、９０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。
【０３１７】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物を含む塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物                              １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
下記のフッ素系ポリマー                                  ０．４質量部
下記のピリジニウム塩                                    １質量部
メチルエチルケトン                                  １９８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３１８】
棒状液晶性化合物
【化９０】
2007108732.tif 000091
【０３１９】
フッ素系ポリマー
【化９１】
2007108732.tif 000092
【０３２０】
ピリジニウム塩
【化９２】
2007108732.tif 000093
【０３２１】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルム表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＦ３を作製した。
作製した光学補償フィルムＦ３から棒状液晶性化合物を含む光学異方性層のみを剥離し、光学特性を測定した。波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層のみのＲｅは０ｎｍであり、Ｒｔｈは−２８０ｎｍであった。また、棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成されたことが確認できた。
作製した長尺状の光学補償フィルムＦ３を第１の光学異方性層として用いた。
【０３２２】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ１）及び第３の光学異方性層（コレステリック液晶フィルムＣ３）を作製した。実施例１の偏光板の作製において、第１の光学異方性層としてＦ１を用いる代わりに、Ｆ３を用いて長尺の偏光板（Ｐ３）を作製した。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ３）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ１）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ３）を作製した。
【０３２３】
［実施例４］
＜第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ４）の作製＞
実施例３と同様にして、セルロースアシレートフィルム（Ｔ４）を作製した。得られたセルロースアセテートフィルムＴ４の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８８μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は７０ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は２１０ｎｍであった。
このフィルムの両面に鹸化処理を施し、長尺の光学補償フィルム（第１の光学異方性層）Ｆ４を作製した。
【０３２４】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ１）及び第３の光学異方性層（コレステリック液晶膜Ｃ３）を作製した。実施例１の偏光板の作製において、第１の光学異方性層としてＦ１を用いる代わりに、Ｆ４を用いて長尺の偏光板（Ｐ４）を作製した。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ４）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ１）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ４）を作製した。
【０３２５】
［実施例５］
＜第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ２）の作製＞
≪光学異方性層Ａの形成≫
実施例１と同様にしてセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を作製し、その表面をケン化後、配向膜（下記構造式のポリマー）の希釈液を透明支持体の片面に連続塗布し、厚さ０．５μｍの配向膜を形成した。次いで、透明支持体の長手方向に対し１５°の方向に連続的にラビング処理を施した。
【０３２６】
配向膜用ポリマー
【化９３】
2007108732.tif 000094
【０３２７】
形成した配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に
塗布、乾燥、および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ２．４μｍ
の光学異方性層Ａを形成した。光学異方性層Ａは透明支持体の長手方向に対して
７５°の方向に遅相軸を有していた。５５０ｎｍにおけるレターデーション値は
２６４ｎｍであった。
光学異方性層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶性化合物                                  １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
下記のポリマー                                              ３質量部
メチルエチルケトン                                      １９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３２８】
ポリマー
【化９４】
2007108732.tif 000095
【０３２９】
≪光学異方性層Ｂの形成≫
上記形成した光学異方性層Ａの表面にラビング処理を施した。このとき、光学異方性層Ａの遅相軸に対し６０°であり、支持体の長手方向に対し１５°になるようにラビング処理を施した。次いで、下記の組成の塗布液を、バーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、および加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ１．２μｍの光学異方性層Ｂを形成した。光学異方性層Ｂの遅相軸方向はラビング方向と平行（長手方向に対して１５°）であり、５５０ｎｍにおけるレターデーション値は１３２ｎｍであった。
光学異方性層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記の棒状液晶性化合物                                  １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）      ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
上記のポリマー                                              １質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体
（メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）            １．３質量部
メチルエチルケトン                                      １９７質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３３０】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルムＴ１の表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＲ２を作製した。この長尺状の光学補償フィルムＲ２を第２の光学異方性層として用いた。
【０３３１】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺の第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ１）及び第３の光学異方性層（コレステリック液晶膜Ｃ３）を作製した。実施例１の偏光板の作製において、第２の光学異方性層としてＲ１を用いる代わりに、Ｒ２を用いて長尺の偏光板（Ｐ５）を作製した。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ１）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ２）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ５）を作製した。
【０３３２】
［実施例６］
＜第２の光学異方性層（光学補償フィルムＲ３）の作製＞
《光学異方性層の作製》
（ディスコティック液晶化合物  ＤＬＢ−１の合成）
下記スキームに従って合成した。
【化９５】
2007108732.tif 000096
【０３３３】
（ＤＬＢ−１Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍＬに溶解させ、５−クロロ−１−ペンタノール１．３ｍＬ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍＬを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍＬに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍＬを添加後、４０°で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、ＤＬＢ−１Ａを３．４ｇ得た。
【０３３４】
（ＤＬＢ−１Ｂの合成）
ＤＬＢ−１Ａ  ３．４ｇをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍＬに溶解させ、ピリジン１．２ｍＬ、トリメシン酸クロライド１．２ｇを添加後、１２０°で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取、乾燥し、ＤＬＢ−１Ｂを３．９ｇ得た。
【０３３５】
（ＤＬＢ−１の合成）
ＤＬＢ−１Ｂ  ３．９ｇをジメチルアセトアミド５０ｍＬに溶解させ、炭酸カリウム３．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．０ｇ、アクリル酸１．９ｍＬを添加後、１００°で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、ＤＬＢ−１を３．０ｇ得た。得られたＤＬＢ−１のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０３３６】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．６０（６Ｈ、ｍ）、１．８０−１．９０（１２Ｈ、ｍ）、４．２５（６Ｈ、ｔ）、４．４５（６Ｈ、ｔ）、５．８０（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４０（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。
【０３３７】
得られたＤＬＢ−１の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき８６℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１４２℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、ＤＬＢ−１は８６℃から１４２℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。
【０３３８】
実施例１で作製した長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ１の表面をケン化後、実施例１と同様にして変性ポリビニルアルコールの配向膜を形成した。次に、形成した膜にフィルムの長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理を施した。
【０３３９】
下記の組成のディスコティック液晶化合物ＤＬＢ-１を含む塗布液を上記作製した配向膜上に＃３．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２０ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、さらに１２０℃の温風で６０秒間加熱した。続いて、９０℃にてＵＶ照射を行い液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶化合物ＤＬＢ−１                １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １質量部
実施例３で用いたピリジニウム塩                      ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（Ｂ）                        ０．４質量部
メタノール                                            ３０質量部
メチルエチルケトン                                  ２８０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３４０】
フッ素系ポリマー（Ｂ）
【化９６】
2007108732.tif 000097
【０３４１】
続いて、光学異方性層が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルムＴ１の表面を連続的にケン化処理し、光学補償フィルムＲ３を作製した。
自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、光学補償フィルムＲ３の５８９ｎｍにおけるＲｅ（０）、Ｒｅ（４０）及びＲｅ（−４０）を測定したところ、それぞれ、１２２．５ｎｍ、１１４．０ｎｍ及び１１４．１ｎｍであった。これらの結果からディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることが確認できた。また、遅相軸の方向は配向膜のラビング方向と平行であり、支持体の長手方向となす角は４５°であった。
作製した長尺状の光学補償フィルムＲ３を、第２の光学異方性層として用いた。
【０３４２】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺状の第１の光学異方性層（光学補償フィルムＦ１）及び第３の光学異方性層（コレステリック液晶フィルムＣ３）を作製した。実施例１の偏光板の作製において、第２の光学異方性層として光学補償フィルムＲ１を用いる代わりに、光学補償フィルムＲ３を用いて長尺の偏光板（Ｐ６）を作製した。このようにして、第１の光学異方性層（Ｆ１）、偏光膜、第２の光学異方性層（Ｒ３）、第３の光学異方性層（Ｃ１）がこの順で積層された長尺の偏光板（Ｐ６）を作製した。
【０３４３】
［比較例］
＜第２の光学異方性層の作製＞
長尺状のポリカーボネートフィルムを長手方向に縦一軸延伸し、厚さ６０μｍの延伸フィルムＲＨ１を作製した。第２の光学異方性層（ＲＨ１）の５８９ｎｍにおけるＲｅ（０）、Ｒｅ（４０）及びＲｅ（−４０）を測定したところ、それぞれ、１３８．０ｎｍ、１５２．６ｎｍ及び１５２．５ｎｍであった。また第２の光学異方性層（ＲＨ１）の遅相軸の方向は長手方向と平行であった。
作製した長尺状の延伸フィルムＲＨ１を、２０インチの大きさで裁断した後、第２の光学異方性層として用いた。
【０３４４】
＜第３の光学異方性層の作製＞
実施例１と同様にして、コレステリック液晶フィルムＣ３を作製した。作製した長尺状のコレステリック液晶フィルムＣ３を、を長手方向に対して平行に２０インチの大きさで裁断した後、第３の光学異方性層として用いた。
【０３４５】
＜偏光板の作製＞
実施例１と同様にして、長尺状の偏光膜を作製し、その片側に長尺状の光学補償フィルムＦ１（第1の光学異方性層）を、もう一方に鹸化処理したセルローストリアセテートフィルム（フジタック  ＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）をポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せて、偏光板を作製した。この偏光板を長手方向に対して４５°の角度で２０インチの大きさで裁断した。
この裁断した偏光板のフジタック側の面に、上記裁断した第２の光学異方性層（ＲＨ１）を貼り合せ、さらに、別途裁断した第３の光学異方性層（Ｃ３）を第２の光学異方性層（ＲＨ１）側に貼り合せて、２０インチの大きさの偏光板（ＰＨ１）を作製した。
【０３４６】
上記偏光板（ＰＨ１）の作製において、第１の光学異方性層としてＦ１の代わりにＦ２、Ｆ３、Ｆ４をそれぞれ用いた以外は、比較例と同様にして、それぞれ偏光板ＰＨ２、ＰＨ３、ＰＨ４を作製した。
【０３４７】
実施例１〜６の長尺の偏光板（Ｐ１〜Ｐ６）を２０インチの大きさに２０枚裁断した。実施例の偏光板（Ｐ１〜Ｐ６）はいずれも、偏光軸と各光学異方性層の遅相軸のなす角度のばらつきは、比較例の２０枚作製した偏光板（ＰＨ１〜ＰＨ４）に対し非常に小さかった。また、比較例の偏光板の製造工程では、裁断ロスが大きく、異物の混入が散見されたのに対し、実施例の偏光板では裁断ロスも異物の混入もなく、非常に高い得率となった。
【０３４８】
［実施例７］
＜ＴＮモード液晶表示装置の作製＞
《対向偏光板の作製》
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に、鹸化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、他方の面に上記作製した第１の光学異方性層（Ｆ１）のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層が形成されていない面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、上記偏光板（Ｐ１）の対向偏光板として用いる偏光板（ＰＴ１）を作製した。
【０３４９】
（液晶表示装置の作製）
液晶セルは、セルギャップ（ｄ）５μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、Δｎｄを４２０ｎｍとした（Δｎは液晶材料の屈折率異方性）。また、液晶セル液晶層のねじれ角は９０°とし、セルの上下に偏光板吸収軸が液晶セルの上下基板ラビング方向と一致するように、作製した偏光板（Ｐ１及びＰＴ１）を粘着剤を介して貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰ１を配置し、視認者側にＰＴ１を配置した。なお、Ｐ１、ＰＴ１いずれも第１の光学異方性層がセル側になるように貼り合せた。
【０３５０】
このように作製した液晶表示装置に６０Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示１．５Ｖ、黒表示５．６Ｖのノーマリーホワイトモードとした。測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて表示特性を評価した。
【０３５１】
［実施例８］
＜ベンド配向モード液晶表示装置の作製＞
（対向偏光板の作製）
実施例１の対向偏光板の作製において、第１の光学異方性層としてＦ１を用いる代わりに、Ｆ２を用いて、上記偏光板（Ｐ２）の対向偏光板として用いる長尺の偏光板（ＰＴ２）を作製した。
【０３５２】
（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．５μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板（Ｐ２及びＰＴ２）を粘着剤を介して貼り付けた。このとき、Ｐ２、ＰＴ２いずれも第１の光学異方性層がセル側になるように貼り合せ、ディスコティック液晶を含む光学異方性層を形成する際のラビング方向と、液晶セルのラビング方向とが反平行となるように配置した。また、バックライト側の偏光板にＰ２を配置し、視認者側にＰＴ２を配置した。
【０３５３】
作製した液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモ−ドとした。測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて表示特性を評価した。
【０３５４】
［実施例９］
＜ＩＰＳモード液晶表示装置の作製＞
（対向偏光板の作製）
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に鹸化処理した実施例１のセルロースアセテートフィルムＴ１を、他方の面に鹸化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、上記偏光板（Ｐ３）の対向偏光板として用いる偏光板（ＰＴ３）を作製した。
【０３５５】
（液晶表示装置の作製）
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、セルギャップ（ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせた。次いで、屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入して水平配向液晶セルを作製した。液晶層のΔｎ・ｄの値は３００ｎｍであった。
【０３５６】
上記の水平配向セルの上下のガラス基板に、偏光板（Ｐ３及びＰＴ３）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、バックライト側の偏光板にＰ３を配置し、視認者側にＰＴ３を配置し、偏光板（Ｐ３）に含まれる第１の光学異方性層（Ｆ３）がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板（ＰＴ３）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ１）が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、偏光板（Ｐ３）の吸収軸と液晶セルのラビング方向は直交するようにし、偏光板（Ｐ３）と偏光板（ＰＴ３）の吸収軸は直交するように配置した。
作製した液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示５Ｖ、黒表示０Ｖのノーマリーブラックモードとした。測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて表示特性を評価した。
【０３５７】
［実施例１０］
＜ＶＡモード液晶表示装置の作製＞
（対向偏光板の作製）
ヨウ素水溶液中で連続して染色した厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムを搬送方向に５倍延伸し、乾燥して長尺の偏光膜を得た。この偏光膜の一方の面に鹸化処理した実施例１のセルロースアセテートフィルムＴ１を、他方の面に鹸化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続して貼り合わせ、上記偏光板（Ｐ４）の対向偏光板として用いる偏光板（ＰＴ４）を作製した。
【０３５８】
（液晶表示装置の作製）
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（ＭＬＣ６６０８、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のリターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。
【０３５９】
上記の垂直配向セルの上下のガラス基板に、偏光板（Ｐ４及びＰＴ４）を粘着剤を用いて貼り合わせた。このとき、このとき、バックライト側の偏光板にＰ４を配置し、視認者側にＰＴ４を配置し、偏光板（Ｐ４）に含まれる第１の光学異方性層（Ｆ４）がバックライト側のガラス基板に接するように、また、偏光板（ＰＴ４）に含まれるセルロースアセテートフィルム（Ｔ１）が視認者側のガラス基板に接するように貼り合わせた。また、視認者側の偏光板（ＰＴ４）の吸収軸がパネル左右方向に、そして、バックライト側の偏光板（Ｐ４）の吸収軸が上下方向になるように、クロスニコル配置とした。
【０３６０】
作製した液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示５Ｖ、黒表示０Ｖのノーマリーブラックモードとした。測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて表示特性を評価した。
【０３６１】
［実施例１１］
上記実施例７のＴＮモード液晶表示装置の作製において、バックライト側に配置する偏光板としてＰ１を用いる代わりにＰ５を用いてＴＮモード液晶表示装置を作製し、表示特性を評価した。
【０３６２】
［実施例１２］
上記実施例７のＴＮモード液晶表示装置の作製において、バックライト側に配置する偏光板としてＰ１を用いる代わりにＰ６を用いてＴＮモード液晶表示装置を作製し、表示特性を評価した。
【０３６３】
上記作製したいずれのモードの液晶表示装置も、正面輝度が高く、視野角特性に優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０３６４】
【図１】本発明に利用可能なスロットコーターの概略図である。
【図２】図１中のスロットダイ１３の断面形状の概略図（Ａ）と、他のスロットダイ３０の断面形状の概略図（Ｂ）である。
【符号の説明】
【０３６５】
１０    コータ−
１１    バックアップロール
１２    ウェブ
１３、３０    スロットダイ
１４    塗布液
１５、３２    ポケット
１６、３３    スロット
１７    先端リップ部
１８    上流側リップランド
１９    下流側リップランド
【図１】
2007108732.tif 000098
【図２】
2007108732.tif 000099