(57)【要約】【課題】熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造される近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供する。【解決手段】透明支持体上に近赤外線吸収層を塗設してなる近赤外線吸収フィルタの製造方法において、該近赤外線吸収層が高沸点溶媒中に分散された近赤外線吸収染料を含む塗布液を支持体上に塗布し、加熱乾燥することにより形成されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に近赤外線吸収層を塗設してなる近赤外線吸収フィルタの製造方法において、該近赤外線吸収層が高沸点溶媒中に分散された近赤外線吸収染料を含む塗布液を支持体上に塗布し、加熱乾燥することにより形成されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【請求項２】
前記近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の３０質量％以上９９質量％以下が水であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【請求項３】
前記高沸点溶媒の含有量が、前記近赤外線吸収層中のバインダ総量の１〜３０質量％であることを特徴とする請求項１または２に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【請求項４】
前記近赤外線吸収層が、前記近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法により製造されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタ。
【請求項６】
請求項５に記載の近赤外線吸収フィルタを設けたことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、生産性が高く、保存性及び耐候性の優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造された近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させ、この光線で蛍光体を発光させるが、このとき８００〜１０００ｎｍの近赤外線も放射される。この近赤外線は周辺機器に害を及ぼすものであり、周辺機器ごとに違いがあるが、家電用のテレビやクーラー等のリモコン、その他業務用等の特殊なリモコン等とプラズマディスプレイがそれぞれ発する近赤外線の波長が同域の波長である。したがって、このプラズマディスプレイの発する上記波長領域の近赤外線が、プラズマディスプレイが設置されている周辺の機器が誤動作を生じる原因となるため、リモコン等の操作素子の誤作動を防ぐ必要から、当該近赤外線放出の遮蔽に関する要求が高まっている。
【０００３】
この要求に対して、ＰＤＰの前面硝子に近赤外線吸収フィルタを貼る方式の対策が簡便でコスト面でも有利であることから、この方式が主流となっている。
【０００４】
しかし、ＰＤＰの発熱や紫外線のために、近赤外線吸収フィルタの劣化が課題で、耐熱性のある赤外線吸収染料の開発や吸収効率のよい紫外線吸収剤の併用等工夫がされているが満足な性能になっていないため、改良が要望されている。
【０００５】
また、近赤外線吸収染料の劣化は、水分の影響が大きいので水の影響を受けないように非水系で塗布する方法（例えば、特許文献１参照。）もあるが残留有機溶媒の影響を受ける欠点があり、無溶媒の疎水性樹脂の重合時に染料を存在させて、モノマーと重合開始剤から形成されたものを成型して使用する方法（例えば、特許文献２参照。）があるが、塗布方式でないので生産性が劣る。
【０００６】
また、水系溶媒に染料を微粒子固体分散する方法（例えば、特許文献３参照。）が提案されている。しかし、この方法は水分の影響を少なからず受けて保存性が劣る。
【０００７】
また、高速薄膜塗布で高生産性に有利なゼラチン分散水系塗布（例えば、特許文献４参照。）は、ゼラチンという素材がもつ保水性のために、近赤外線吸収染料の高温高湿保存の劣化が避けられないのが現状である。
【０００８】
このような状況から、光や熱による劣化が少なく、かつ環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタが要望されていた。
【特許文献１】特開平１０−１８６１２７号公報  （段落番号００５９）
【特許文献２】特開平１１−１０９１２６号公報  （段落番号００４２〜００４３）
【特許文献３】特開平１１−１０９５６０号公報  （段落番号０１０５）
【特許文献４】特開平１０−３３３２９５号公報  （段落番号００７１〜０１３１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造される近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【００１１】
１．透明支持体上に近赤外線吸収層を塗設してなる近赤外線吸収フィルタの製造方法において、該近赤外線吸収層が高沸点溶媒中に分散された近赤外線吸収染料を含む塗布液を支持体上に塗布し、加熱乾燥することにより形成されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【００１２】
２．前記近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の３０質量％以上９９質量％以下が水であることを特徴とする前記１に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【００１３】
３．前記高沸点溶媒の含有量が、前記近赤外線吸収層中のバインダ総量の１〜３０質量％であることを特徴とする前記１または２に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【００１４】
４．前記近赤外線吸収層が、前記近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の近赤外線吸収フィルタの製造方法。
【００１５】
５．前記１〜４のいずれか一項に記載の製造方法により製造されることを特徴とする近赤外線吸収フィルタ。
【００１６】
６．前記５に記載の近赤外線吸収フィルタを設けたことを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタ。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の構成により、熱や光に対する劣化が少なく、かつ生産性、環境適性にも優れた近赤外線吸収フィルタの製造方法、その方法によって製造される近赤外線吸収フィルタ及びプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明と構成要素について詳細に説明する。
【００１９】
（高沸点溶媒への分散）
本発明においては、支持体上の少なくとも１層に、分散物（近赤外線吸収染料）粒子の平均分散粒径が０．１２μｍ以下の高沸点溶媒分散液を含有する。ここで、高沸点溶媒分散液とは、非水溶性（２５℃において、蒸留水１００ｇに対し溶解度が３ｇ以下、好ましくは１ｇ以下）有機化合物を含有する高沸点溶媒分散液である。非水溶性有機化合物の例としては、紫外線吸収剤、色濁り防止剤、褪色防止剤などが挙げられる。
【００２０】
本発明に係る分散物の高沸点溶媒分散液は、近赤外線吸収層に含有される。高沸点溶媒分散液中分散物（近赤外線吸収染料）粒子の平均粒径０．１２μｍ以下であり、好ましくは０．０２〜０．１１μｍ、より好ましくは０．０４〜０．１０μｍである。平均分散粒径は、界面活性剤の種類や量の最適化や、高沸点溶媒分散液の粘度調整、分散乳化装置の乳化時間を長くしたり、圧力、剪断力の調整などを組み合わせることにより調整される。なお、平均分散粒径は、英国コールター社製ナノサイザーによって測定できる。
【００２１】
本発明に係る近赤外線吸収染料の高沸点溶媒分散液は、水不溶性の高沸点有機溶媒（例えば、トリクレジルフォスフェート、ジブチルフタレート、ジノニルフェノール等）に染料を溶解した後、超音波分散等の方法により微細な高沸点有機溶媒（オイル）分散物として得ることができるものが好ましい。水不溶性の高沸点有機溶媒の沸点は１００℃以上が好ましく特に好ましくは１４０℃以上３００℃以下の溶媒が好ましい、分散時の分散媒としては特に制限はないが、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン共重合体、などの合成アニオンポリマー、カルボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合成ポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのアニオン性ポリマー、特開昭５２−９２７１６号、ＷＯ８８／０４７９４号などに記載のアニオン性界面活性剤、特願平７−３５０７５３号に記載の化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界面活性剤や、その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができる。
【００２２】
上記高沸点溶媒の含有量は、近赤外線吸収層のバインダ総量の１〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは３〜２５質量％、最も好ましくは５〜２０質量％である。含有量が上記範囲よりも少ない場合には、近赤外線吸収染料が高沸点溶媒中に十分に分散されないことから、所望の吸光度を得ることができず、また含有量が上記範囲よりも多い場合には、分散された高沸点溶媒が経時変化により、塗膜中で凝集してしまい、吸光度が低下してしまったり、高沸点溶媒が塗膜表面に油滴として現れる発汗現象が起こるなどすることから好ましくない。
【００２３】
（近赤外線吸収染料）
本発明において使用できる近赤外線吸収染料の具体例としては、ポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが挙げられる。ＰＤＰ用光学フィルターで近赤外線吸収能が要求されるのは、主として熱線吸収や電子機器のノイズ防止である。このためには、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する染料が好ましく、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、スクワリウム化合物系が好ましい。
【００２４】
特に、本発明においては、近赤外線吸収染料として、ジイモニウム化合物、ニッケルジチオール化合物、フタロシアニン系化合物、スクアリリウム化合物、及びクロコニウム化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことが好ましい。
【００２５】
従来知られているニッケルジチオール錯体系化合物またはフッ素化フタロシアニン系化合物の吸収極大は、７００〜９００ｎｍであり、実用化するに当たっては、通常、上記化合物よりも長波長域に吸収極大を有するアミニウム系化合物、特にはジインモニウム系化合物と組み合わせて用いることにより、有効な近赤外線吸収効果を得ることができる。
【００２６】
ジイモニウム系化合物下記は一般式（１）で示すことができる。
【００２７】
【化１】
2007148072.tif 000002
【００２８】
一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基を示しており、それらは直鎖状でもあるいは分岐鎖状のいずれでもよい。また、それぞれ同じであっても異なっていても良い。また、Ｘは陰イオンを示す。
【００２９】
Ｒ1〜Ｒ8において、アルキル基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、アラルキル基または置換アラルキル基としては、次ぎのものがある。
【００３０】
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基（炭素数１〜１０のものが好ましい。）を、置換アルキル基としては、例えば、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−アセトキシエチル基、カルボキメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、２−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スルフェイトプロピル基、４−スルフェイトブチル基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミルメチル基、３−（アセチルスルファミル）プロピル基、４−（アセチルスルファミル）ブチル基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、４−シアノブチル基、３−シアノブチル基、２−シアノブチル基、５−シアノペンチル基、４−シアノペンチル基、３−シアノペンチル基、２−シアノペンチル基、６−シアノヘキシル基、５−シアノヘキシル基、４−シアノヘキシル基、３−シアノヘキシル基、２−シアノヘキシル基等を、環式アルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基等を、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基等が、アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、置換アラルキル基賭しては、例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジル基、ヒドロキシベンジル基等がそれぞれあげられる。これらのＲにおいて、炭素数が３〜６のアルキル基やシアノ基が置換されたアルキル基がより好適に用いられる。
【００３１】
Ｘは１価の陰イオンまたは２価の陰イオンである。
【００３２】
１価の陰イオンとしては、有機酸１価アニオン、無機１価アニオン等があげられる。有機酸１価アニオンとしては、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の有機カルボン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン等があげられ、好ましくは、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルスルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イオンが挙げられる。
【００３３】
無機１価アニオンとしては、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン等があげられ、好ましいものとしては、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等が挙げられる。
【００３４】
Ｘのうち２価の陰イオンとしては、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２−オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。これらの陰イオンのうち、好ましいものとしては、例えば過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等が挙げられる。
【００３５】
イモニウム化合物の具体例を下記に示す。
（Ｉ−１）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−２）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・過塩素酸）
（Ｉ−３）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−アミルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−４）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−プロピルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−５）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ヘキシルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−６）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−７）７Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−ｎ−ペンチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
（Ｉ−８）Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ジ−メチルアミノフェニル）−１，４−ベンゾキノン−ビス（イモニウム・ヘキサフルオロアンチモン酸）
ニッケルジチオール錯体化合物は下記一般式（２）で示すことができる。
【００３６】
【化２】
2007148072.tif 000003
【００３７】
式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基を表す。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。
【００３８】
Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12において、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基としてはつぎのものがある。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、アルキルとして、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等、シクロアルキル基として、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等、アリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−ニトロフェニル基等、アルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等、アリールチオ基として、例えば、フェニルチオ基、トリルチオ基等、アルコキシ基として例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉｓｏ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基等、アリールオキシ基として、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、ナフトキシ基等、アルキルアミノ基として、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ペンチルアミノ基、ジ−ｉｓｏ−ペンチルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−ヘプチルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−（２−エチルヘキシル）アミノ基、ジベンジルアミノ基、アリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等を表す。式中、ｒは１〜５の整数を表す。
【００３９】
好ましい具体例を下記に示す。
【００４０】
【化３】
2007148072.tif 000004
【００４１】
【化４】
2007148072.tif 000005
【００４２】
本発明に好ましいフタロシアニン化合物は、下記一般式（３）で示すことができる。
【００４３】
【化５】
2007148072.tif 000006
【００４４】
式中、Ｒ13からＲ16は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基を表している。一つの芳香環に複数の置換基を有していてもよく、それらが互いに異なる置換基でも構わない。また、Ｍは２価の金属原子、３価又は４価の置換金属原子、またはオキシ金属を表す。
【００４５】
Ｒ13からＲ16の例としては、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、あるいは置換又は未置換のアリールチオ基としては、次のものがある。ハロゲン原子として、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等、置換又は未置換のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチル−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシル基、１，３−ジメチル−ブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキル基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、γ−メトキシプロピル基、γ−エトキシプロピル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等のアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピル基等のハロゲン化アルキル基、アルキルアミノアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等、置換または未置換のアルコキシ基の例として、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシルオキシ基、１，３−ジメチル−ブチルオキシ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１，２−ジメチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１−エチル−３−メチルブチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、γ−メトキシプロピ��オキシ基、γ−エトキシプロピルオキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジメトキシエトキシ基、ジエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルコキシ基、クロロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピルオキシ基等のハロゲン化アルコキシ基、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノエトキシ基などのアルキルアミノアルコキシ基、ジアルキルアミノアルコキシ基等、置換又は未置換のアリール基として、例えば、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フッ素化フェニル基、ヨウ素化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ピリジル基などが挙げられる。置換又は未置換のアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アルキルフェノキシ基等、置換又は未置換のアルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｉｓｏ−ペンチルチオ基、ｎｅｏ−ペンチルチオ基、１，２−ジメチル−プロピルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシルチオ基、１，３−ジメチル−  ブチルチオ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、１，４−ジメチルペンチルチオ基、２−メチル１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１−エチル−３−メチルブチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルチオ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルチオ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルチオ基、ｎ−ノニルチオ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等、置換又は未置換のアルキルチオ基として、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉｓｏ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｉｓｏ−ペンチルチオ基、ｎｅｏ−ペンチルチオ基、１，２−ジメチル−プロピルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｃｙｃｌｏ−ヘキシルチオ基、１，３−ジメチル−ブチルチオ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１，２−ジメチルブチルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、１，４−ジメチルペンチルチオ基、２−メチル１−ｉｓｏ−プロピルプロピルチオ基、１−エチル−３−メチルブチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルチオ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルチオ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルチオ基、ｎ−ノニルチオ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、メトキシメチルチオ基、メトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、プロポキシエチルチオ基、ブトキシエチルチオ基、γ−メトキシプロピルチオ基、γ−エトキシプロピルチオ基、メトキシエトキシエチルチオ基、エトキシエトキシエチルチオ基、ジメトキシメチルチオ基、ジエトキシメチルチオ基、ジメトキシエチルチオ基、ジエトキシエチルチオ基等のアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルキルチオ基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキルチオ基、クロロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリクロロエチルチオ基、１，１，１，３，３，３，−ヘキサフルオロ−２−プロピルチオ基等のハロゲン化アルキルチオ基、ジメチルアミノエチルシチオ基、ジエチルアミノエチルチオ基等のアルキルアミノアルキルチオ基、ジアルキルアミノアルキルチオ基等、置換又は未置換のアリールチオ基の例として、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アルキルフェニルチオ基等を挙げることができる。
【００４６】
Ｍとしては、次のものがある。２価の金属として、例えば  Ｃｕ（II）、Ｚｎ（II）、Ｃｏ（II）、Ｎｉ（II）、Ｒｕ（II）、Ｒｈ（II）、Ｐｄ（II）、Ｐｔ（II）、Ｍｎ（II）、Ｍｇ（II）、Ｔｉ（II）、Ｂｅ（II）、Ｃａ（II）、Ｂａ（II）、Ｈｇ（II）、Ｐｂ（II）、Ｓｎ（II）等、１置換の３価金属の例として、Ａｌ−Ｃｌ、Ａｌ−Ｂｒ、Ａｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｉ、Ｇａ−Ｃｌ、Ｇａ−Ｆ、Ｇａ−Ｉ、Ｇａ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｃｌ、Ｉｎ−Ｂｒ、Ｉｎ−Ｉ、Ｉｎ−Ｆ、Ｔｌ−Ｃｌ、Ｔｌ−Ｂｒ、Ｔｌ−Ｉ、Ｔｌ−Ｆ、Ａｌ−Ｃ6Ｈ5、Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3）、Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5、Ｍｎ（ＯＨ）、Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5）、Ｍｎ〔ＯＳｉ（ＣＨ3）3〕、Ｆｅ−Ｃｌ、Ｒｕ−Ｃｌ等、２置換の４価金属として、ＣｒＣｌ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＦ2、ＳｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＧｅＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＦ2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＳｎＲ2、ＧｅＲ2〔Ｒはアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Ｓｉ（ＯＲ’）2、Ｓｎ（ＯＲ’）2、Ｇｅ（ＯＲ’）2、Ｔｉ（ＯＲ’）2、Ｃｒ（ＯＲ’）2〔Ｒ’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基またはそれらから誘導される基を表す〕、Ｓｎ（ＳＲ”）2、Ｇｅ（ＳＲ”）2（Ｒ”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基またはそれらから誘導される基を表す）など、オキシ金属の例としては、ＶＯ、ＭｎＯ、ＴｉＯ等を挙げることができる。ｐは１〜４の整数を表す。また、置換基が隣接する場合、５員又は６員の環を形成してもよい。該化合物の合成方法は特開２００５−１４５８９６号公報を参考にすることができる。
【００４７】
フタロシアニン化合物の合成方法は特開２００５−１４５８９６号公報を参考にすることができる。好ましいフタロシアニン化合物を下記に示す。
【００４８】
【化６】
2007148072.tif 000007
【００４９】
【化７】
2007148072.tif 000008
【００５０】
【化８】
2007148072.tif 000009
【００５１】
スクワリウム系化合物は下記一般式（４）で示すことができる。
【００５２】
【化９】
2007148072.tif 000010
【００５３】
式中、Ｒ17〜Ｒ27は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロ環基を表し、これらは置換基を有してもよく、ｍ、ｎは０または１〜６の整数を表す。
【００５４】
Ｒ17からＲ27で表されるアルキル基は、炭素数１から２０、より好ましくは１から１２のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、へキシル、ウンデシル）である。又、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、イソブトキシ）又はアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ、ブチリルオキシ、ヘキシリルオキシ、ベンゾイルオキシ）、スルホ基（塩でもよい）、カルボキシル基（塩でもよい）等で置換されていてもよい。
【００５５】
Ｒ17からＲ27で表されるシクロアルキル基は、シクロペンチル、シクロヘキシルを挙げることが出来る。
【００５６】
Ｒ17からＲ27で表されるアリール基は、６から１２の炭素数のものが好ましく、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。アリール基は、置換していてもよい。置換基としては、炭素数１から８のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ブチル）、炭素原子数１から６のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ｐ−クロロフェノキシ）、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アミノ基（例えば、メチルアミノ、アセチルアミノ、メタンスルホンアミド）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基（塩でもよい）およびスルホ基（塩でもよい）が含まれる。
【００５７】
Ｒ17からＲ27で表されるアラルキル基は、７から１２の炭素数を有するアラルキル基が好ましく（例えば、ベンジル、フェニルエチル）、置換基（例えば、メチル、メトキシ、クロル原子）を有していてもよい。
【００５８】
Ｒ17からＲ27で表されるヘテロ環基としては、チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリジル、インドリル等を挙げることが出来る。隣接する置換基がお互いに結合しシクロペンタン又はシクロヘキサン環を形成してもよい。
【００５９】
一般式（４）で表される化合物は、混合物であってもよい。また、該化合物についてはＤ．Ｊ．Ｇｒａｖｅｓｔｅｉｊｎｅｔａｌ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｔｏｒａｇｅ  Ｍｅｄｉａ  ＳＰＩＥ−４２０，ｐ３２７，１９８３を参考にすることができる。好ましいスクワリウム系化合物の具体例を下記に示す。一般式（４）に含まれないものであるが好ましいスクワリウム化合物例も示す。
【００６０】
【化１０】
2007148072.tif 000011
【００６１】
【化１１】
2007148072.tif 000012
【００６２】
本発明に係る近赤外線吸収染料としての市販品は、ジイモニウム化合物は、ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０４０（これらは日本化薬株式会社製商品名である）、ニッケルジチオール錯体化合物は、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２（これらは三井化学株式会社製商品名である）、フタロシアニン系化合物は、ＩＲ−１０，ＩＲ−１２（以上、日本触媒株式会社商品名）などを挙げることができる。
【００６３】
（バインダ）
赤外吸収染料を含有する層はバインダを用いることによって形成することができる。ここで用いるバインダとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ニトロセルロース、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、フェノキシ系樹脂、ノルボルネン系樹脂、エポキシ系樹脂及び紫外線硬化樹脂等が好ましいが、更に好ましくは、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂である。本発明のバインダに用いられるアクリル系樹脂としては、下記一般式（３）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位を１０質量％以上含む重合体もしくは共重合体が好ましい。
【００６４】
【化１２】
2007148072.tif 000013
【００６５】
［式中、Ｒ31は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ32は−ＣnＨ2n+1（ｎは１〜１０の整数）を表す。］
これらのバインダの例としては、例えば、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチルメタアクリレート、ポリブチルメタアクリレート、ポリメタアクリル酸、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリブチルメタアクリレート及びこれらポリマーを構成するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（三菱レーヨン（株）製）等のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましい樹脂を適宜選択することもできる。上記のバインダは、他のバインダと混合して用いてもよい。このようなバインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアルギン酸（塩）のような水溶性ポリマー、セルロースエステル（例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース）、ポリスチレン及びポリエーテルケトン及びこれらの共重合体、ポリビニルアルコール、カゼイン、寒天、アラビアゴム、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセテートなどのポリマー等が挙げられる。
【００６６】
また、本発明のバインダに用いられるポリエステル系樹脂としては、溶剤溶解性のポリエステルが好ましく、例えば、東洋紡（株）のバイロン１０３、バイロン２００、バイロン３００、バイロン６３０、ユニチカ（株）のエリーテルＵＥ−３２１０、ＵＥ−３３００、東レ（株）のエステルレジン１００、住友化学（株）のスミカスーパーＳ２００、Ｓ３００等が挙げられる。赤外吸収染料を含有する層の成分は、その上に塗設される層の塗布溶剤に対して溶解または膨潤するものであることが好ましい。また、赤外吸収染料を含有する層の厚みは０．１μｍ以上、１５μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上、１０μｍ以下が特に好ましい。赤外吸収染料を含有する層は赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を塗設によって設けることができる。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液を調製する際に使用する溶媒は、各成分を溶解あるいは分散することができる溶媒であればいかなる溶媒であってもよく、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類が挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を併用してもよい。赤外吸収染料を含有する層を構成する成分を含む塗布液の塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。
【００６７】
（近赤外線吸収層）
本発明に係る近赤外線吸収層は水系の塗布液を塗布後乾燥して形成する。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒（分散媒）の３０質量％以上が水であることをいう。
【００６８】
本発明では、近赤外線吸収層の塗布液の溶媒の３０質量％以上９９質量％以下が水であることが好ましい。
【００６９】
当該塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。
【００７０】
具体的な溶媒組成の例としては以下のようなものがある。水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール＝７０／３０、水／エタノール＝９０／１０、水／イソプロパノール＝９０／１０、水／ジメチルホルムアミド＝９５／５、水／メタノール／ジメチルホルムアミド＝８０／１５／５、水／メタノール／ジメチルホルムアミド＝９０／５／５（ただし数字は質量を表す）。
【００７１】
本発明に係る近赤外線吸収層の１層当たりの全バインダ量は１ｍ2当たりの塗布量で示して０．２〜３０ｇ／ｍ2、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。近赤外線吸収層の１層当たりの膜厚は０．３〜５０μｍであることが好ましく、より好ましくは１．５〜３０μｍである。
【００７２】
なお、本発明においては、近赤外吸収染料を含有する層のバインダには親水性ポリマーを用いることが好ましい。
【００７３】
（親水性ポリマー）
本発明においては、親水性ポリマーとしては中でもゼラチンが最も好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンなど、どのようなものでも良い。さらにゼラチン誘導体を用いてもよい。また、バインダーとしては親水性ポリマーに加えて、スチレン、メタクリル酸メチル、アクリル酸、ブチルアクリレート、エチルアクリレート、などのホモまたはコポリマーのラテックスを加えてもよい。これらのラテックスは、水分性を向上させるためのノニオン基（ポリエチレングリコールとアクリル酸のエステル）、アニオン基（例えば、イタコン酸、アクリル酸等のカルボン酸基を持つモノマー）、スルホン酸基（例えば、スチレンスルホン酸、Ｎ−ジメチルスルホプロパンアクリルアミド）のあるモノマーを１モル％〜２０モル％の範囲で共重合させると水分散性を向上させることができる。
【００７４】
（塗布方式）
本発明に係る塗布には、例えば、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押し出しコーター、エアードクター、スライドコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で１〜１００μｍが適当で、好ましくは１０〜８０μｍである。塗布速度は好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎで行われる。
【００７５】
（特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層）
特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、ＰＤＰが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、５９５ｎｍ付近の光を吸収する染料を含有する。このような特定波長を吸収する染料としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。これらの中でも、耐候性が良好であることから、フタロシアニン系、アンスラキノン系染料が特に好ましい。
【００７６】
（支持体）
本発明では、支持体として、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラスなどを用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００７７】
透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはＰＥＴ、ＰＥＮ，ＴＡＣであることが好ましい。
【００７８】
ディスプレイ用の近赤外線吸収材料では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルム又はプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは７０〜１００％であり、より好ましくは８０〜１００％であり、さらに好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
【００７９】
（粘着剤）
本発明に係る近赤外線吸収材料をＰＤＰに貼るに際しての粘着剤としては透明性の高いものがよい。例えば、酢酸ビニル系、エポキシ系、ウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ウレタン−アクリレート系、エポキシ−アクリレート系等が好ましい。中でも透明性、及び無色系のエポキシ−アクリレート、エチレン−酢酸ビニル系がより好ましい。本発明における透明性フィルムに反射防止効果を持たせるには、シリカ微粉末、酸化スズ、酸化チタンの微粉末をアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂等をトルエン等芳香族炭化水素、グリコールエーテル系、プロピレングリコール系のエステル系有機溶剤に溶解した透明性印刷インキに添加した溶液を透明性フィルムに塗布しても良い。これら微粉末の平均粒径としては、０．０１〜１０μｍが好ましく、更に好ましくはこれら粒径が違うものを複数種混ぜることである。これは、透明性フィルム表面に凹凸形状を持たせることで反射光を乱反射させることにより視感の反射率を低減させることである。次に、薄層を透明性フィルムに設け、薄層の界面における光の反射と屈折の効果を利用する方法がある。すなわち、該薄層の厚みがλ／４（λ：光の波長）の場合には、薄層の上面反射光と下面反射光との光の位相が干渉によって打ち消し合う様にずれ、その反射光を合成すると光の強度が低下すること、及び薄層材の屈折率をｎｆとし、該薄層を形成するための透明性フィルムの屈折率をｎｂとしたときにｎｆとｎｂの１／２乗値が等しいとき、光の反射が最も低くなる原理を応用する。従って、薄層の厚みは反射を防ぎたい光の波長の１／４が目標となる。すなわち好ましくは薄層の厚みは０．０５〜０．２５μｍである。また、透明性フィルムと薄層１の間にさらに薄層２を設けた場合、薄層２の屈折率が関係し、薄層２の屈折率をｎｂに用いて上記の計算方法で反射を防止することが出来る。また、一般的にはそれを完全に満足する組み合わせは、得られないが、薄層材の屈折率は透明性フィルムの屈折率よりも極力低いことが必要で、屈折率が１．２８〜１．４５のフッ素系樹脂を用いるのが好ましい。透明性フィルムがポリエチレンテレフタレートの場合は屈折率が１．６４なので適当な例として上げることが出来る。また、三酢酸セルロースの透明性フィルムの場合は屈折率が１．５０なので薄層としてフッ素系樹脂を用いる場合には、透明性フィルムと薄層の間に屈折率が１．５９のジアリルフタレート樹脂層を設けたり、屈折率が２．００の酸化錫の層を設けたり、酸化錫と屈折率が１．４９のアクリル樹脂を混合して屈折率を１．５９に調整した層を設けるのも好ましい。
【００８０】
（帯電防止性能）
透明性フィルムに帯電防止性能を持たせるには、界面活性剤を塗布もしくはコーティングして設けるのがよい。透明性フィルムに酸化スズ、酸化チタン、ＩＴＯ等の透明性導電性物質を印刷インキに添加して塗布しても良いし、スパッタリング等で薄層にして設けるのも良い。必要に応じ、先に述べた透明性フィルムに透明性導電剤の層を設けたり、酸化スズの印刷インキを塗布したりした後、フッ素系樹脂を設けることで、帯電防止性能と反射防止性能の両方の性能を設けることもでき、更に好ましい。帯電防止性能付与のために表面の導電性が重要で、表面抵抗が１０6Ω〜１０12Ω／□が好ましい。
【００８１】
（紫外線吸収剤）
なお、近赤外線吸収能を有する染料を、色調補正層に含有させる場合、上記の染料のうちいずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。近赤外線吸収染料の紫外線による劣化を避けるために紫外線吸収剤を使用することが好ましい。
【００８２】
紫外線吸収剤としては、公知の紫外線吸収剤、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、Ｓ−トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく使用することができる。これらの中、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、環状イミノエステル系化合物が好ましい。ポリエステルに配合するものとしては、特に環状イミノエステル系化合物が好ましい。
【００８３】
好ましい具体例としては、
（Ｕ−１）２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−２）５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−第三−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−３）５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−４）５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−５）５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−６）２−（３−第三ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−７）５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−８）５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−９）５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−１０）５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−第三ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−１１）２，４−ビス（４−ビフェニルイル）−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、
（Ｕ−１２）２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ※−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン（※はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す。）、
（Ｕ−１３）２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、
（Ｕ−１４）ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−１５）２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、
（Ｕ−１６）２−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等である。
【００８４】
（滑り剤）
本発明において用いることができる滑り剤としてはシリコン化合物（例えば、ジメチルシロキサンポリマー）、高級脂肪酸アミド（例えば、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、アラキジン酸アミド等）、高級脂肪酸のフタル酸エステル（例えば、フタル酸ジラウリルエステル）、高級脂肪酸と高級アルコールのエステル、パラフィンなど当業界で公知な化合物を用いてよい。公知の滑り剤として好ましいものは、例えば、米国特許第４，２７５，１４６号に記載の高級脂肪族アミド類、米国特許第３，９３３，５１６号に記載の高級脂肪酸もしくはその金属塩類、その他高級アルコールおよびその誘導体類、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル化合物等を挙げることができる。また、天然物の油脂、ワックス、オイル、例えば、蜜蝋なども併用することができる。さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤として、市販または合成によって入手可能なシリコーン系化合物を挙げることができる。シリコーン系化合物にあってもポリオルガノシロキサン類が好ましい。これらの水溶液での利用に当たっては分散体の形で添加させることがこのましい。
【００８５】
本発明で用いる滑り剤は、水溶液中で分散物の形で最上層に添加される。この場合、水分散系で他の有機溶媒を適宜選択して含有することが出来る。その中で利用できる有機溶剤としては、例えばケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（炭素数１〜８の低級アルコール、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコールなど）、グリコール誘導体類（セロソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、炭素数１〜５の低級脂肪酸エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチルなど）、ハロアルカン類（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、トリクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素など）、炭化水素類（オクタン、ソルベントナフサ、テレピン油、石油エーテル、シンナー、石油ベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、フェノール類（フェノール、レゾルシノールなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、リン酸エステル類（トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェートなど）、アミド系のＤＭＦその他ＤＭＳＯなどを挙げることができる。好ましくはアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類、炭化水素類である。特に、水を混合使用する溶媒系においては、水と均一溶媒となるアルコール類、ケトン類、グリコール誘導体類の中から選ばれる溶媒であり、水不使用の場合の溶媒としては炭化水素類、ケトン類、低級脂肪酸エステル類、ハロアルカン類の使用が好ましい。
【００８６】
この場合、水と有機溶剤の比率は１００〜５０：０〜５０（容量％）であり、より好ましくは１００〜７５：０〜２５（容量％）である。これらにより水系塗布液中での滑り剤の分散物の安定性、塗布性、得られる塗膜の平滑性、ゴミ等の付着防止、耐傷性に優れるものである。なお、上記の有機溶媒は、同一もしくは異なる種類の溶媒と２種以上を混合して用いてもよい。微細分散物は公知の分散技術、例えば、機械的な剪断力による分散、超音波分散、２液混合による析出法などにより得られる。滑り剤の添加量としては１ｍ2当たりの塗布量で示して、０．２〜５００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１〜３００ｍｇ／ｍ2が好ましい。滑り剤は１種のみ用いても２種以上を併用してもよい。滑り剤により、フィルムがステンレスローラーの上を搬送されるときの傷の発生を押させることができるので、動摩擦係数は０．３以下０．１以上であることが好ましい。０．１以下であると滑り性が大きくなり．精度のよい搬送が困難になるので好ましくない。塗布液は塗布される前に塗布液中に存在する粗大粒子をろ過で除去することは必要である。ここで述べる「ろ過」とは、ろ過フィルターによるろ過であり、ろ過フィルターの種類や構造の詳細は特に限定されず、本発明の２〜１０μｍの孔径を通過しない異物を除去できるろ過フィルターであればどのようなものでもよい。それらのろ過フィルターを用いて粗大粒子を除去するためのシステムも特に限定されず、ろ過に大きな問題を発生しなければ、特に限定されない。
【００８７】
（その他の機能性層）
本発明では、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波遮蔽材用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋などの汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層などを設けることができる。
【００８８】
これらの機能性膜はＰＤＰに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイパネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板などの透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルタ（または単にフィルタ）と呼ぶことができる。
【００８９】
反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルタ上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。
【実施例】
【００９０】
〔実施例１〕
以下に本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
【００９１】
《比較例》
（試料−１００の作製）
［支持体１の作製］
透明のポリエチレンテレフタレートフィルムベース（厚み１００μｍ）の片方の面に、０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ａを用いて下引き層Ａが、乾燥膜厚０．２μｍになるように塗設した。さらに、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に下記の下引き塗布液Ｂ、Ａを用い、下引き層Ｂ、Ａが、それぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体−１を作製した。
【００９２】
＜下引き塗布液Ａ＞
ブ  チルアクリレート４０質量％、ｔ−ブチルアクリレート１０質量％、スチレン２５質量％、及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２５質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）２７０ｇと化合物（ＵＬ−１）０．６ｇ及び鹸化度８０％のポリビニルアルコール１ｇを混合した。さらにシリカ粒子（サイロイド３５０、富士シリシア製）１．３ｇを水１００ｇ中にあらかじめ超音波分散機〔アレックス社（ＡＬＥＸ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製、商品名：ウルトラソニック・ジェネレーター（Ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）、周波数２５ｋＨｚ、６００Ｗ〕にて３０分、分散を行っておいた液を加え、最後に水で１０００ｍｌに仕上げて、下引き塗布液Ａ−１とした。
【００９３】
＜コロイド状酸化スズ分散液の合成＞
塩化第２スズ水和物６５ｇを水／エタノール混合溶液２０００ｍｌに溶解して均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈殿物を得た。生成した沈殿物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈殿を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈殿物に蒸留水を添加し全量を２０００ｍｌとする。更に３０％アンモニア水を４０ｍｌ加え水溶液中で加温したあとで、さらに加温して４７０ｍｌになるまで濃縮して、コロイド状酸化スズ分散液を得た。
【００９４】
＜下引き塗布液Ｂ＞
前記コロイド状酸化スズ分散液の合成で合成したＳｎＯ2ゾル液３７．５ｇ、ｎ−ブチルアクリレート１０質量％、ｔ−ブチルアクリレート３５質量％、スチレン２７質量％及び２−ヒドロキシエチルアクリレート２８質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）３．７ｇ、ｎ−ブチルアクリレート４０質量％、スチレン２０質量％、グリシジルメタクリレート４０質量％の共重合体ラテックス液（固形分３０％）１４．８ｇと塗布助剤として界面活性剤ＵＬ−１  ０．１ｇを混合し水で１０００ｍｌに仕上げて下引き塗布液Ｂ−１とした。
【００９５】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−０）の調製）
【００９６】
【化１３】
2007148072.tif 000014
【００９７】
ポリビニルブチラール粉末（ＢＬ−５Ｚ、積水化学社製）２０ｇを室温でメチルエチルケトン８０ｇに溶解した後、赤外吸収染料Ｆ−１０．０４ｇを撹拌しながら添加し、近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−０を調製した。
【００９８】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１００）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−０を、支持体−１の下引き層Ｂ，Ａを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５５℃で３０分間乾燥し、試料−１００を作製した。
【００９９】
《本発明に係る実施例》
（支持体−２の作製）
支持体とする厚さ１００μｍの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面を１００Ｗ／ｍ2・分コロナ処理した後、片面に屈折率１．５５、２５℃における弾性率１００ＭＰａ、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン（株）製、Ｘ４０７Ｃ５）を３００ｎｍの厚さに塗布し、下塗り層を形成した。この下塗り層の上には屈折率１．５０、２５℃における弾性率１２０ＭＰａ、ガラス転移温度５０℃のアクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル（株）製）を乾燥後の厚さ８０ｎｍとなるように塗布し、第２下塗り層を形成した。さらに、もう一方の表面に同様に０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施した後、その上に上記の下引き塗布液Ｂ、Ａを用い、下引き層Ｂ、Ａが、それぞれ乾燥膜厚０．１μｍ、０．２μｍなるように塗設した。その後で、複数のロール群からなるフィルム搬送装置を有する熱処理式オーブンの中で、１３０℃にて１５分熱処理を行い、支持体−２を作製した。
【０１００】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−１）の調製）
酢酸エチル１．４ｇにトリクレジルホスフェート０．６ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１  ０．３を添加し、撹拌溶解した。別の容器に純水１３ｇ、ゼラチン１．５ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液２．６ｇを添加し、溶解した。
【０１０１】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−１を調製した。
【０１０２】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−１）の調製）
ゼラチン７．８５ｇを純水９１．２ｇに４０℃にて溶解した後、上記オイル分散物Ｂ−２を１．８ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−１を調製した。
【０１０３】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０１）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−１を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０１を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．００７である
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−２）の調製）
酢酸エチル０．５ｇにトリクレジルホスフェート０．２ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１  ０．０３を添加し、撹拌溶解した。
【０１０４】
別の容器に純水４．５ｇ、ゼラチン０．５ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液０．９５ｇを添加し、溶解した。
【０１０５】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−２を調製した。
【０１０６】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−２）の調製）
ゼラチン７．５ｇを純水８７ｇに４０℃にて溶解した後、上記オイル分散物Ｂ−２を６．３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−２を調製した。
【０１０７】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０２）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−２を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０２を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．０２５である。
【０１０８】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−３）の調製）
酢酸エチル１．４ｇにトリクレジルホスフェート０．５６ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１０．０３を添加し、撹拌溶解した。別の容器に純水１２．７ｇ、ゼラチン１．５ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液２．６５ｇを添加し、溶解した。
【０１０９】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−３を調製した。
【０１１０】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−３）の調製）
ゼラチン６．５ｇを純水７６．５ｇに４０℃にて溶解した後、上記オイル分散物Ｂ−３を１７．５ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−３を調製した。
【０１１１】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０３）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−２を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０２を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．０７である。
【０１１２】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−４）の調製）
酢酸エチル２．６ｇにトリクレジルホスフェート１．０５ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１０．０３を添加し、撹拌溶解した。
【０１１３】
別の容器に純水２４ｇ、ゼラチン２．８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液４．９ｇを添加し、溶解した。
【０１１４】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−４を調製した。
【０１１５】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−４）の調製）
ゼラチン５．２ｇを純水６３ｇに４０℃にて溶解した後、上記オイル分散物Ｂ−２を３３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン  １％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−４を調製した。
【０１１６】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０４）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−４を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０４を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．１３である。
【０１１７】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−５）の調製）
酢酸エチル７．４ｇにトリクレジルホスフェート２．９５ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１  ０．０３を添加し、撹拌溶解した。
【０１１８】
別の容器に純水６７ｇ、ゼラチン８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液１４ｇを添加し、溶解した。
【０１１９】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−５を調製した。
【０１２０】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−５）の調製）
上記オイル分散物Ｂ−５  ９２ｇに対し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン  １％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−５を調製した。
【０１２１】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０５）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−５を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０５を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．３７である。
【０１２２】
（赤外吸収染料の分散物（Ｂ−６）の調製）
酢酸エチル２．６ｇにトリクレジルホスフェート１．０５ｇを溶解した後、更に赤外吸収染料Ｆ−１０．０３及びインモニウム染料ＩＲＧ−０２２（日本化薬製）０．５ｇを添加し、撹拌溶解した。
【０１２３】
別の容器に純水２４ｇ、ゼラチン２．８ｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸１０％溶液４．９ｇを添加し、溶解した。
【０１２４】
上記ゼラチン溶液中に、撹拌しながら上記赤外染料の溶液を１分間かけて添加したのち、水冷しながら１０分間、超音波分散を行い、ポリマー分散物Ｂ−６を調製した。
【０１２５】
（近赤外線吸収染料層の塗布液（Ｃ−６）の調製）
ゼラチン５．２ｇを純水６３ｇに４０℃にて溶解した後、上記オイル分散物Ｂ−６を３３ｇ添加し、ジクロロ−ヒドロキシトリアジン１％溶液（１．３ｇ）を添加して、塗布液Ｃ−６を調製した。
【０１２６】
（近赤外線吸収フィルタ（試料−１０６）の作製）
上記近赤外線吸収染料層塗布液Ｃ−６を、支持体−２のスチレン−ブタジエンコポリマーを塗布した側に、ウェット膜厚が１００μｍのブレードコーターで塗布し、５０℃で３０分間乾燥し、試料−１０６を作製した。この試料のＯ／Ｇ（高沸点溶媒とバインダの比）は０．１３である。
【０１２７】
（耐光性の評価）
得られた試料−１００〜１０５について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。耐光性劣化試験はスガ試験機株式会社製スーパーキセノンウエザーメーターＳＸ７５を使用し、相対湿度５０％、照射強度５０Ｗ／平米、１００時間試験後の吸収劣化の割合を評価した。評価した結果を表１に示す。
【０１２８】
（耐湿熱性の評価）
得られた試料−１００〜１０５について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、６０℃９０％の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表１に示す。
【０１２９】
（耐熱性の評価）
得られた試料−１００〜１０５について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、分光吸収を日立製分光光度計Ｕ−４１００にて測定し、８００〜１１００ｎｍの近赤外部の平均吸光度を算出した。その後、８０℃（湿度は成り行き）の環境にて５００時間暗所保存し、吸収劣化の割合を評価した。保存後の評価した結果を表１に示す。
【０１３０】
（発汗の評価）
得られた試料−１００〜１０５について、３．５ｃｍ×５ｃｍのサイズに断裁し、８０℃（湿度は成り行き）の環境にて１００時間暗所保存した後に、下記評価基準により目視にて５段階評価した。
【０１３１】
５ランク  保存前後で、塗膜表面に全く変化なく、発汗は認められない。
【０１３２】
４ランク  かすかに塗膜表面に発汗が認められる。
【０１３３】
３ランク  発汗が認められるが、ほとんど気にならないレベル。
【０１３４】
２ランク  発汗が認められ、指で擦ると指に付着するレベル。
【０１３５】
１ランク  強い発汗が認められる。
【０１３６】
上記の各種評価の結果を表１にまとめて示す。
【０１３７】
【表１】
2007148072.tif 000015
【０１３８】
表１から、本発明に係る試料は、比較例より、上記評価において優れていることが分かる。即ち、
〔実施例２〕
（赤外線遮蔽フィルタとしてのプラズマディスプレイ用前面フィルタへの適用）
パイオニア製プラズマディスプレイ（ＰＤＰ−４３５ＨＤＬ）の前面に貼られた光学フィルタを剥がし、白表示をさせて、ＯｃｅａｎＯｐｔｉｃｓ社製超小型スペクトロメータＵＳＢ２０００にて赤外の発光スペクトルを測定したところ、８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍに強いピークが認められた。その後、試料−１０４（３０ｃｍ×３０ｃｍ）をパネル表面に貼付し、ＵＳＢ２０００で同様の測定をした所、赤外の発光スペクトルは全て消失していることを確認した。