(57)【要約】【課題】  蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】  製造装置は、非磁性支持体１の供給ロール14と、回転冷却ドラム20と、蒸着材料18を収容するるつぼ17と、蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する最大入射角規制マスク21A 、及び最小入射角を規制する最小入射角規制マスク21B と、非磁性支持体１面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスク21C,21D と、各マスク21A,21B,21C,21D の間の開口部を開閉可能なシャッター23と、巻き取りロール16とを備え、耳端部規制マスク21C,21D は、その上流側端部と冷却ドラム20との距離ｄA が、その下流側端部と冷却ドラム20との距離ｄB よりも大きくなるように設けられている。【選択図】  図１
2007035161.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空槽内にて、
非磁性支持体の供給ロールと、
供給ロールから繰り出された非磁性支持体を周面に添わせて走行させる回転冷却ドラムと、
蒸着材料を収容し、且つ、電子ビームの照射により蒸発した蒸着材料を回転冷却ドラム周面に添って走行している非磁性支持体面上に蒸着させるように定置されたるつぼと、
蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって上流側に設けられた最大入射角規制マスクと、
蒸着材料の非磁性支持体への最小入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって下流側に設けられた最小入射角規制マスクと、
前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクとの間の領域において、非磁性支持体面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスクと、
前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクと前記一対の耳端部規制マスクとの間の開口部を開閉可能なシャッターと、
蒸着により前記面上に金属薄膜磁性層が形成された非磁性支持体を巻き取る巻き取りロールとを備える磁気記録媒体の製造装置において、
前記一対の耳端部規制マスクは、前記最大入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの上流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄA が、前記最小入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの下流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくなるように設けられていることを特徴とする、磁気記録媒体の製造装置。
【請求項２】
真空槽内にて、供給ロールから非磁性支持体を繰り出し、繰り出された非磁性支持体を回転冷却ドラム周面に添わせて走行させながら、るつぼ内に収容した蒸着材料を電子ビームの照射により蒸発させて走行している非磁性支持体面上に蒸着させて、非磁性支持体面上に金属薄膜磁性層を形成し、その後、金属薄膜磁性層が形成された非磁性支持体を巻き取りロールに巻き取る磁気記録媒体の製造方法において、
蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって上流側に設けられた最大入射角規制マスクと、蒸着材料の非磁性支持体への最小入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって下流側に設けられた最小入射角規制マスクとの間の領域において、
非磁性支持体面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスクを、前記最大入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの上流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄA が、前記最小入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの下流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくなるように設けて蒸着を行うことを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
蒸着準備段階において、前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクと前記一対の耳端部規制マスクとの間の開口部をシャッターによって閉じた状態で、非磁性支持体を前記冷却ドラム周面に添わせて走行させながら、るつぼ内に収容した蒸着材料を電子ビームの照射により加熱溶解させ、蒸着可能な状態として、その後、
前記シャッターを開けた状態として、蒸着を行う、請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体の製造装置及び製造方法に関し、より詳しくは、蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行される磁気記録媒体の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報社会の進展に従い、磁気記録媒体の高密度記録化が切望されるなか、磁気記録層は塗布型からいわゆる金属磁性薄膜型へと進化しつつある。金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は磁性層に塗布型磁気記録媒体のようなバインダーを含まないので、媒体の飽和磁化が大きく、高密度記録に適している。
【０００３】
金属磁性薄膜は、磁性金属としてＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ合金等が用いられ、真空蒸着法によって、非磁性支持体（ベース）としてのポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム等の高分子フィルム上に磁性金属が直接被着されて形成される。
【０００４】
蒸着工程においては、るつぼ内に収容した磁性金属蒸着材料を電子ビームの照射により加熱蒸発させ、蒸発した蒸着材料を回転冷却ドラム周面に添って走行している高分子フィルム面上に蒸着させる。蒸着は、概ね、蒸着材料の高分子フィルムへの最大入射角を規制する最大入射角規制マスクと、最小入射角を規制する最小入射角規制マスクとの間の開口部の領域において行われる。この蒸着材料の加熱による輻射熱や蒸着粒子の持つ熱により高分子フィルムが熱負けして、破断などの製造不良を生ずる場合がある。
【０００５】
特に、高分子フィルムの幅方向端部、いわゆる耳端部については、高分子フィルム長手（走行）方向にテンションをかけて冷却ドラムに沿ってフィルムを走行させた場合でも、冷却ドラム表面から浮き上がりやすいため、十分な冷却効果が得られず、熱負けが生じやすい。また、蒸着粒子が冷却ドラムに付着し、それがドラムに堆積すると、堆積した蒸着粒子上に高分子フィルムが乗り上げることで冷却ドラムによる冷却が十分にフィルムに伝わらなくなり、このことも熱負けを引き起こす原因となる。従って、高分子フィルムの耳端部上を覆うマスクによって蒸着粒子の付着を遮り、耳端部上には蒸着膜を形成しない手法が行われている。例えば、特開平１１−２０００１１号公報には、耳端部における蒸着範囲の制限に関する技術が開示されている。
【０００６】
ところが、特開２００５−７８７３２号公報によれば、高分子フィルムがＰＥＮフィルムであると、ＰＥＮフィルムはフィルム同士が貼り付く現象、いわゆるブロッキング現象を発生しやすい性質を有するため、ベースフィルム耳端部に蒸着膜が形成されない部分がある場合、蒸着済みのベースフィルムをロール状に巻き取った際に耳端部が重なって、この部分でブロッキングが生じてしまい、ベース切れを引き起こす原因となる。
【０００７】
これを解決すべく、上記公報によると、高分子ベースフィルムの幅方向端部を覆う耳端部マスクを、冷却ドラムとこのマスクとの距離Ｌと、ベースフィルム幅方向端部とこのマスクとのオーバーラップ幅ｗとを適切に調整して設けることにより、ベースフィルム幅方向端部への蒸着粒子の回り込みを生じさせ、この近傍に磁性層よりは薄い所定膜厚の金属蒸着膜を形成することが開示されている[0017]。
【０００８】
また、特開２００５−７８７３１号公報によれば、高分子フィルムが芳香族ポリアミド（アラミド、芳香族ＰＡ）フィルムであると、芳香族ＰＡフィルムは帯電しやすい性質を有するため、ベースフィルム耳端部に蒸着膜が形成されない部分がある場合、電子銃からの反跳電子や、二次電子の付着などによって耳端部のみが帯電してしまい、これに起因して走行不良（耳端折れ）が発生しやすい。耳端折れはシワ発生の原因となる。
【０００９】
これを解決すべく、上記公報[0017]によると、特開２００５−７８７３２号公報におけるのと同じことが行われている。
【００１０】
また、特開２０００−２８５４５１号公報には、膜付け開始直後の僅かな期間にベースフィルム上に磁性膜を所定膜厚より薄い膜厚で膜付けし、その後、前記膜付け開始直後の僅かな期間を経過した後に、ベースフィルム上に磁性膜を所定膜厚で膜付けを行う磁気記録媒体の製造方法が開示されている。同号公報によれば、蒸着工程での成膜開始時におけるシワ発生の防止を目的としてフィルムの長手方向端部に薄膜が形成される。
【００１１】
【特許文献１】特開平１１−２０００１１号公報
【特許文献２】特開２００５−７８７３１号公報
【特許文献３】特開２００５−７８７３２号公報
【特許文献４】特開２０００−２８５４５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記いずれの従来技術においても、蒸着工程時のベース切れの発生やシワの発生、及びそれらの起因する走行不良の解決は不十分であった。
【００１３】
本発明者らは、蒸着準備段階におけるベース切れの発生やシワの発生に着目した。磁気記録媒体製品を得るための蒸着工程の前には、蒸着準備段階、すなわち、るつぼ内に収容した蒸着材料ペレットを電子ビームの照射により加熱溶解させ、蒸着可能な状態とする工程が行われる。蒸着準備段階は、蒸着材料のベースフィルムへの最大入射角を規制する最大入射角規制マスクと、最小入射角を規制する最小入射角規制マスクと、ベースフィルム面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスクと間の開口部をシャッターによって閉じた状態で、ベースフィルムを低速で走行させながら行われる。
【００１４】
蒸着中に前記各マスク周囲に付着するスラッジ（不要な蒸着粒子堆積物）の影響を考慮して、前記各マスクとシャッターとの間には、通常間隙が設けられている。蒸着準備段階においては、熱が発生し、熱以外に、蒸発し始めた蒸着粒子、電子銃からの反跳電子、及び二次電子が発生し、これらが、マスクとシャッターとの前記間隙から回り込んで、走行しているベースフィルムに影響を及ぼす。熱の影響により、ベースフィルムは熱負けを起こすことがある。熱の影響を軽減するために、蒸着準備工程においてベースフィルムは走行させられている。蒸着粒子は、ベースフィルムに熱の影響を及ぼすが、一方で、ベースフィルムに付着することにより、ベースフィルムを帯電しにくくさせる。反跳電子や二次電子は、ベースフィルムに付着することにより、ベースフィルムを帯電し易くさせる。
【００１５】
このように、蒸着準備段階において、ベースフィルムは熱の影響を受け、さらに、蒸着粒子、反跳電子、及び二次電子の付着の仕方によって、ベースフィルムの帯電バランスは様々なものとなる。ベースフィルムの帯電バランスの変化は、ベース切れやシワの発生の要因となる。帯電バランスの変化が大きいと、蒸着準備工程においてすら、ベース切れの発生や、シワの発生が起こりやすくなり、走行不良を起こす。
【００１６】
本発明者らは、蒸着準備段階において、ベースフィルムの帯電バランスの変化を小さくして、ベース切れやシワの発生を抑制するように鋭意検討した。その結果、最大入射角規制マスクと接する耳端部規制マスクの上流側端部と冷却ドラムとの距離ｄA を、最小入射角規制マスクと接する耳端部規制マスクの下流側端部と冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくすることにより、蒸着準備工程及びその後に行われる蒸着工程において、ベース切れやシワの発生が抑制され、ベースが安定走行されることを見いだした。
【００１７】
本発明の目的は、蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造装置を提供することにある。また、本発明の目的は、蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１）  真空槽内にて、
非磁性支持体の供給ロールと、
供給ロールから繰り出された非磁性支持体を周面に添わせて走行させる回転冷却ドラムと、
蒸着材料を収容し、且つ、電子ビームの照射により蒸発した蒸着材料を回転冷却ドラム周面に添って走行している非磁性支持体面上に蒸着させるように定置されたるつぼと、
蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって上流側に設けられた最大入射角規制マスクと、
蒸着材料の非磁性支持体への最小入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって下流側に設けられた最小入射角規制マスクと、
前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクとの間の領域において、非磁性支持体面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスクと、
前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクと前記一対の耳端部規制マスクとの間の開口部を開閉可能なシャッターと、
蒸着により前記面上に金属薄膜磁性層が形成された非磁性支持体を巻き取る巻き取りロールとを備える磁気記録媒体の製造装置において、
前記一対の耳端部規制マスクは、前記最大入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの上流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄA が、前記最小入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの下流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくなるように設けられていることを特徴とする、磁気記録媒体の製造装置。
【００１９】
（２）  真空槽内にて、供給ロールから非磁性支持体を繰り出し、繰り出された非磁性支持体を回転冷却ドラム周面に添わせて走行させながら、るつぼ内に収容した蒸着材料を電子ビームの照射により蒸発させて走行している非磁性支持体面上に蒸着させて、非磁性支持体面上に金属薄膜磁性層を形成し、その後、金属薄膜磁性層が形成された非磁性支持体を巻き取りロールに巻き取る磁気記録媒体の製造方法において、
蒸発した蒸着材料の非磁性支持体への最大入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって上流側に設けられた最大入射角規制マスクと、蒸着材料の非磁性支持体への最小入射角を規制する、前記非磁性支持体全幅にわたって下流側に設けられた最小入射角規制マスクとの間の領域において、
非磁性支持体面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスクを、前記最大入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの上流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄA が、前記最小入射角規制マスクと接する該耳端部規制マスクの下流側端部と前記冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくなるように設けて蒸着を行うことを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。
【００２０】
（３）  蒸着準備段階において、前記最大入射角規制マスクと前記最小入射角規制マスクと前記一対の耳端部規制マスクとの間の開口部をシャッターによって閉じた状態で、非磁性支持体を前記冷却ドラム周面に添わせて走行させながら、るつぼ内に収容した蒸着材料を電子ビームの照射により加熱溶解させ、蒸着可能な状態として、その後、
前記シャッターを開けた状態として、蒸着を行う、前記（２）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００２１】
本発明において、最大入射角規制マスクと接する耳端部規制マスクの上流側端部と冷却ドラムとの距離ｄA を、最小入射角規制マスクと接する耳端部規制マスクの下流側端部と冷却ドラムとの距離ｄB よりも大きくすることにより、上流側の蒸着開始点付近において、蒸着粒子の回り込みがより起こりやすくなり、非磁性支持体（ベースフィルム）の耳端部への蒸着粒子の付着が起こりやすくなる。そのため、耳端部に適度な蒸着粒子の付着が得られ、耳端部とそれ以外の部分の帯電状態を近づけることができる。その結果、ベースフィルムの帯電バランスが改善され、ベース切れやシワの発生が抑制されるものと考えられる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造装置が提供される。また、本発明によれば、蒸着準備段階及び蒸着工程時のベース切れの発生がなくベースが安定走行され、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図面を参照して、本発明の磁気記録媒体の製造装置及び製造方法について説明する。なお、この明細書において上流及び下流とは、ベースフィルム(1) の走行方向を基準とする。
【００２４】
図１は、本発明の製造装置の一例の概略構成図である。図２は、図１の製造装置におけるマスクを冷却ドラム側から見た斜視図である。図３は、耳端部規制マスクとベースフィルム面との位置関係を示すための図である。
【００２５】
図１において、本発明の製造装置(11)は、真空ポンプ(12)によって内部が所定の圧力に保たれた真空槽(13)内にて、ベースフィルムの供給ロール(14)と、供給ロール(14)から繰り出されたベースフィルム(1) を周面に添わせて走行させる回転冷却ドラム(20)と、蒸着材料（すなわち強磁性金属）(18)を収容し、且つ、電子銃(19)からの電子ビーム(19b) 照射により蒸発した強磁性金属を、回転冷却ドラム(20)周面に添って走行しているベースフィルム(1) の面上に斜め蒸着させるように定置されたるつぼ(17)と、蒸着粒子を規制するマスク(21)と、開口部を開閉可能なシャッター(23)と、蒸着により前記面上に金属薄膜磁性層が形成されたベースフィルム(1) を巻き取る巻き取りロール(16)とを備えている。
【００２６】
図２を参照して、マスク(21)は、蒸着材料のベースフィルム(1) への最大入射角θｍａｘを規制する、ベースフィルム(1) 全幅にわたって上流側に設けられた最大入射角規制マスク(21A) と、蒸着材料のベースフィルム(1) への最小入射角θｍｉｎを規制する、ベースフィルム(1) 全幅にわたって最大入射角規制マスク(21A) よりも下流側に設けられた最小入射角規制マスク(21B) と、最大入射角規制マスク(21A) と最小入射角規制マスク(21B) とのベースフィルム走行方向の間の領域において、ベースフィルム(1) 面の幅方向両端部への蒸着を規制する一対の耳端部規制マスク(21C)(21D)とが一体化されたものであり、垂直断面が略円弧状のものである。各マスク(21A)(21B)(21C)(21D)によって画定された中央部は、蒸着粒子を通過させる開口部(21E) とされている。また、図示されていないが、冷却ドラム(20)両側面の端部を覆うマスクが、耳端部規制マスク(21C)(21D)から連続的に設けられていてもよい。
【００２７】
一対の耳端部規制マスク(21C)(21D)は、最大入射角規制マスク(21A) と接する該耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') と冷却ドラム(20)との距離ｄA が、最小入射角規制マスク(21B) と接する該耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') と冷却ドラム(20)との距離ｄB よりも大きくなるように設けられている。
【００２８】
上流側の蒸着開始点付近においては、下流側の蒸着終了点付近におけるよりも、飛来する蒸着粒子の数は少ない。距離ｄA ＞距離ｄB とすることにより、上流側の蒸着開始点付近において、蒸着粒子の回り込みをより起こりやすくさせ、それによって、蒸着開始点付近においてベースフィルム(1) の耳端部への蒸着粒子の付着を起こりやすくさせる。そのため、耳端部に適度な蒸着粒子の付着が得られ、耳端部とそれ以外の部分の帯電状態を近づけることができる。
【００２９】
耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') と冷却ドラム(20)との距離ｄA 、及び耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') と冷却ドラム(20)との距離ｄB は、距離ｄA ＞距離ｄB を満たすように製造装置において適宜定めるとよい。例えば、距離ｄB は、２ｍｍ以下が適切であり、０．５ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましく、距離ｄA は、距離ｄB よりも大きく且つ４ｍｍ以下が適切であり、２ｍｍよりも大きく且つ４ｍｍ以下が好ましい。
【００３０】
耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') 付近は、るつぼ(17)から遠いため、この付近に飛来する蒸着粒子の熱は比較的小さくなっている。そのため、この付近の領域では、走行するベースフィルム(1) の蒸着粒子による熱負けは起こりにくい。上流側端部(a)(a') における距離ｄA を下流側端部(b)(b') における距離ｄB よりも大きくし、例えば２ｍｍよりも大きく且つ４ｍｍ以下とすることによって、熱負けを起こすことなく適度な耳端部への蒸着量とすることができる。距離ｄA を４ｍｍよりも大きくすると、蒸着粒子量が多くなり、熱負けが起こる恐れがある。距離ｄA を２ｍｍ以下とすると、蒸着粒子の回り込み量が少なくなり、ベースフィルム耳端部における蒸着が不十分で、十分なブロッキング防止効果が得られなくい。
【００３１】
一方、耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') 付近は、るつぼ(17)から近いため、この付近に飛来する蒸着粒子の熱は大きい。そのため、この付近の領域では、走行するベースフィルム(1) の蒸着粒子による熱負けが起こりやすい。距離ｄB を２ｍｍよりも大きくすると、熱負けが起こる恐れがある。距離ｄB を０．５ｍｍ未満とすると、走行するベースフィルム(1) との接触の恐れがある。
【００３２】
なお、図２に示された例の他に、耳端部規制マスク(21C)(21D)が、最大入射角規制マスク(21A) 及び最小入射角規制マスク(21B) よりも、冷却ドラム(20)側に向かって突出状に形成されていてもよい。
【００３３】
図３には、耳端部規制マスク(21C)(21D)とベースフィルム(1) 面との位置関係の概略が示されている。図３において、耳端部規制マスク(21C)(21D)は、走行しているベースフィルム(1) 面の幅方向各端部(1a)(1b)とのオーバーラップ幅ｗとなるように成されており、冷却ドラム(20)との距離Ｌをおいて設けられている。オーバーラップ幅ｗが小さくなるほど、蒸着粒子の回り込みが起こりやすくなり、また、距離Ｌが大きくなるほど、蒸着粒子の回り込みが起こりやすくなる。それによって、ベースフィルム面の幅方向各端部(1a)(1b)において蒸着粒子の付着が起こりやすくなる。この距離Ｌは、耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') 、すなわち最大入射角規制マスク(21A) との結合点においては、前記の距離ｄA と等しい。耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') 、すなわち最小入射角規制マスク(21B) との結合点においては、前記の距離ｄB と等しい。
【００３４】
距離Ｌは、上記したように距離ｄA ＞距離ｄB を満たすように、耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') における距離ｄB から上流側端部(a)(a') における距離ｄA へと次第に大きくすると良い。また、オーバーラップ幅ｗは、前記距離ｄB の２〜５倍とするとよい。すなわち、２≦ｗ／ｄB ≦５。他の条件にもよるが、オーバーラップ幅ｗが距離ｄB の２倍未満であると、蒸着粒子の回り込み量が多くなりすぎて、冷却ドラム(20)の汚染やベースフィルム耳端部の熱負けなどを生ずる場合がある。また、オーバーラップ幅ｗが距離ｄB の５倍を超えると、蒸着粒子の回り込み量が少なくなり、ベースフィルム耳端部における蒸着が不十分で、十分なブロッキング防止効果が得られない場合がある。
【００３５】
シャッター(23)は、マスク(21)の開口部(21E) を開閉可能なものであり、図示されているような板状であってもよいし、マスク(21A) 及びマスク(21B) に沿うような円弧状のものであってもよい。
【００３６】
また、冷却ドラム(20)と最小入射角規制マスク(21B) との間に、あるいは、最小入射角規制マスク(21B) とシャッター(23)との間には、マスク(21)の開口部(21E) に向けてガス供給口（図示しない）が設けられている。
【００３７】
製造装置(11)を用いて、次のようにして金属薄膜磁性層の形成を行う。
【００３８】
まず、蒸着準備段階を行う。真空ポンプ(12)を作動させ、真空槽(13)内を所定の圧力に保つ。マスク(21)の開口部(21E) をシャッター(23)によって閉じた状態で、ベースフィルム(1) を供給ロール(14)から繰り出し、冷却ドラム(20)周面に添わせて走行させる。この際の走行速度は、通常、後の蒸着工程での走行速度よりは遅い。るつぼ(17)内に収容した蒸着材料ペレット(18)を電子ビーム(19b) の照射によって加熱溶解させ、蒸着可能な状態とする。電子ビーム(19b) は、ベースフィルム(1) の幅方向に走査される。
【００３９】
続いて、蒸着工程を行う。シャッター(23)を移動させ、開口部(21E) を開けた状態とする。ベースフィルム(1) の走行速度を蒸着準備段階での走行速度よりも速くして、ベースフィルム(1) を連続走行させる。ガス供給口から、酸素ガス等の酸化性ガスを開口部(21E) へと供給しながら、るつぼ(17)内に収容した溶解した蒸着材料(18)への電子ビーム(19b) の照射を続け、蒸着材料を加熱蒸発させ、蒸着粒子を発生させる。概ね、開口部(21E) 領域を走行しているベースフィルム(1) 面上に蒸着が行われ、金属薄膜磁性層が形成される。金属薄膜磁性層形成後のベースフィルム(1) を巻き取りロール(16)に巻き取る。巻き取る際のテンションは、ベースフィルム(1) の幅１ｍ当たり４．８〜１２．９ｋｇの範囲内とすることが好適である。
【００４０】
本発明において、前記距離ｄA は前記距離ｄB よりも大きくされている。このため、上流側の蒸着開始点付近において、蒸着粒子の回り込みがより起こりやすくなり、ベースフィルム(1) の耳端部への蒸着粒子の付着が起こりやすくなる。そのため、耳端部に適度な蒸着粒子の付着が得られ、耳端部とそれ以外の部分の帯電状態を近づけることができる。その結果、ベースフィルム(1) の帯電バランスが改善され、ベース切れやシワの発生が抑制される。この効果は、蒸着工程において得られることは勿論であるが、蒸着準備段階において特に顕著である。蒸着準備段階を安定して行うことにより、それに続く蒸着工程を安定して行うことができ、磁気記録媒体を効率よく製造することができる。
【実施例】
【００４１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００４２】
［実施例１〜３：図１〜３で示された製造装置を使用］
図１〜３に示す製造装置(11)を用いて、厚さ４．７μｍのポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）フィルム(1) 上に金属薄膜磁性層を形成した。蒸着材料(18)としてはコバルトペレットを用いた。るつぼ(17)は、酸化マグネシウム製のものを用いた。耳端部規制マスク(21C)(21D)とベースフィルム(1) 面の幅方向各端部(1a)(1b)とのオーバーラップ幅ｗは４ｍｍに設定した。耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') と冷却ドラム(20)との距離ｄA 、及び耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') と冷却ドラム(20)との距離ｄB は、以下のように設定した。
【００４３】
実施例１：距離ｄA ＝３ｍｍ、距離ｄB ＝１ｍｍ
実施例２：距離ｄA ＝３ｍｍ、距離ｄB ＝２ｍｍ
実施例３：距離ｄA ＝４ｍｍ、距離ｄB ＝２ｍｍ
【００４４】
蒸着準備段階：
まず、真空槽(13)内の圧力を真空ポンプ(12)によって１０-3Ｐａに保った。マスク(21)の開口部(21E) をシャッター(23)によって閉じた状態で、ＰＥＮフィルム(1) を走行させ、るつぼ(17)に収容されたコバルトペレット(18)に電子銃(19)から電子ビーム(19b) を照射して、コバルトペレットを加熱溶解した。
【００４５】
蒸着工程：
次に、蒸着可能となったところで、シャッター(23)を移動させ開口部(21E) を開けた状態とした。ベースフィルム(1) の走行速度を蒸着準備段階での走行速度よりも速くして、ベースフィルム(1) を連続走行させ、ガス供給口から酸素ガスを導入しながら、るつぼ(17)内に収容した蒸着材料(18)への電子ビーム(19b) の照射を続け、蒸着を行い、厚さ１７０ｎｍの磁性層を形成した。
【００４６】
各実施例において、１０本のベースロールについて実験を行い、蒸着準備段階において、ベース切れが発生したベースロール本数と、シワが発生したベースロール本数を求めた。同様に、蒸着工程において、ベース切れが発生したベースロール本数と、シワが発生したベースロール本数と、ベース耳端部に熱負けが発生したベースロール本数を求めた。これらの本数を走行不良発生頻度として、結果を表１に示す。
【００４７】
ベース切れとは、帯電により冷却ドラムにベースが巻きつくことで、ベースが破断し、製造ラインが停止した場合を示す。
シワとは、ベース切れしたもの又は熱負けしたものを除き、目視によりベース又は磁性層上にシワが確認された場合を示す。
熱負けとは、目視によりベース耳端部に穴が開いた場合を示す。
【００４８】
［比較例１〜３］
耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') と冷却ドラム(20)との距離ｄA 、及び耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') と冷却ドラム(20)との距離ｄB を以下のように変更した以外は、図１〜３に示したのと同じ装置を用いて、実施例１と同様の操作により、各１０本のベースロールについて実験を行った。結果を表１に示す。
【００４９】
比較例１：距離ｄA ＝１ｍｍ、距離ｄB ＝１ｍｍ
比較例２：距離ｄA ＝２ｍｍ、距離ｄB ＝２ｍｍ
比較例３：距離ｄA ＝３ｍｍ、距離ｄB ＝３ｍｍ
【００５０】
【表１】
2007035161.tif 000003
【００５１】
表１より、実施例１〜３では、蒸着準備段階及び蒸着工程のいずれにおいても、ベース切れやシワの発生は認められず、蒸着工程における熱負けも認められなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の製造装置の一例の概略構成図である。
【図２】同製造装置における各マスクの冷却ドラム側から見た斜視図である。
【図３】同製造装置における耳端部規制マスクとベースフィルム面との位置関係を示すための図である。
【符号の説明】
【００５３】
(1) ：非磁性支持体
(11)：製造装置
(12)：真空ポンプ
(13)：真空槽
(14)：供給ロール
(16)：巻き取りロール
(17)：るつぼ
(18)：蒸着材料
(19)：電子銃
(19b) ：電子ビーム
(20)：冷却ドラム
θｍａｘ：最大入射角
(21A) ：最大入射角規制マスク
θｍｉｎ：最小入射角
(21B) ：最小入射角規制マスク
(21C)(21D)：耳端部規制マスク
(a)(a') ：耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部
(b)(b') ：耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部
(21E) ：マスクの開口部
(23)：シャッター
ｄA ：耳端部規制マスク(21C)(21D)の上流側端部(a)(a') と冷却ドラム(20)との距離
ｄB ：耳端部規制マスク(21C)(21D)の下流側端部(b)(b') と冷却ドラム(20)との距離
【図１】
2007035161.tif 000004
【図２】
2007035161.tif 000005
【図３】
2007035161.tif 000006