(57)【要約】【課題】基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】露光装置ＰＥは、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、マスクステージ１０の下方に位置するメインベッド１９と、メインベッド１９の側方に配設される第１サブベッド１５及び第２サブベッド１６と、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド１５、１６間で移動可能な第１及び第２基板ステージ１１．１２と、メインベッド１９上に位置する第１及び第２基板ステージ１１，１２に保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する照射装置１３と、第１サブベッド２１と第２サブベッド２２に生じた振動がメインベッド１９に伝達されるのを防止する防振機構５０，５１と、を備える。【選択図】図１
2007322706.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを保持するマスクステージと、
前記マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
前記メインベッドの側方に配置される第１サブベッド及び第２サブベッドと、
前記メインベッドと前記第１サブベッド間で移動可能な第１基板ステージと、
前記メインベッドと前記第２サブベッド間で移動可能な第２基板ステージと、
前記メインベッド上に位置する前記第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
前記第１サブベッドと前記第２サブベッドに生じた振動が前記メインベッドに伝達されるのを防止する防振機構と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記防振機構は、前記メインベッドと前記第１及び第２サブベッド間に形成された楔空間、或は、前記第１及び第２サブベッドに形成された楔空間に嵌合可能にそれぞれ設けけられ、傾斜面を有する第１及び第２ベッド部材と、該第１及び第２ベッド部材を上下方向に駆動するアクチュエータと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記防振機構は、前記メインベッドと前記第１及び第２サブベッド間の各対向面を傾斜面とし、前記メインベッドを上下方向に駆動するアクチュエータを備えることで構成されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記防振機構は、前記メインベッドの下方に配置されて、前記メインベッドを支持可能な防振材を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
マスクを保持するマスクステージと、前記マスクステージの下方に位置するメインベッドと、前記メインベッドの側方に配置される第１サブベッド及び第２サブベッドと、前記メインベッドと前記第１サブベッド間で移動可能な第１基板ステージと、前記メインベッドと前記第２サブベッド間で移動可能な第２基板ステージと、前記メインベッド上に位置する前記第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、前記第１サブベッドと前記第２サブベッドに生じた振動が前記メインベッドに伝達されるのを防止する防振機構と、
を備える露光装置を用いた露光方法であって、
前記メインベッド上に位置する前記第１基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのマスクパターンを露光転写する第１露光工程と、
該第１露光工程中、前記第２サブベッド上に位置する前記第２基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第１搬入出工程と、
前記第１基板ステージを前記第１サブベッド上に、前記第２基板ステージを前記メインベッド上にそれぞれ移動する第１移動工程と、
前記第１移動工程後、前記防振機構を駆動する第１駆動工程と、
前記メインベッド上に位置する前記第２基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのマスクパターンを露光転写する第２露光工程と、
該第２露光工程中、前記第１サブベッド上に位置する前記第１基板ステージに対して前記基板を搬入及び搬出する第２搬入出工程と、
前記第１基板ステージを前記メインベッド上に、前記第２基板ステージを前記第２サブベッド上にそれぞれ移動する第２移動工程と、
前記第２移動工程後、前記防振機構を駆動する第２駆動工程と、
を備え、
前記第１駆動工程は、前記第２露光工程中、前記第２搬入出工程によって前記第１サブベッドに生じた振動が前記メインベッドに伝達されるのを防止し、
前記第２駆動工程は、前記第１露光工程中、前記第１搬入出工程によって前記第２サブベッドに生じた振動が前記メインベッドに伝達されるのを防止することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法に関し、より詳細には、半導体や、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置及び露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置としては、マスク（レチクル）と基板（ウェハ）を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光（電子線）を照射し、これにより、基板にマスクパターンを露光転写する装置が知られている（例えば、特許文献１及び２参照。）。
【０００３】
特許文献１に記載の露光装置は、マスクが配置される２つの枠体と、２つの枠体のそれぞれに対応して基板が載置される２つの基板ステージと、２つの基板ステージにそれぞれ対応して配置された２つのアライメント機構と、を備え、それぞれの枠体と基板ステージとを組み合わせた状態で、交互に露光位置に移動させて露光転写するステージ移動機構が知られている。これにより、ステージ移動機構は、２つの基板ステージでアライメントと露光とを同時に行って、タクトタイムの短縮を図っている。
【０００４】
また、特許文献２に記載の露光装置は、２軸ステージのスライダに制振用アクチュエータ及び制振マスを配設してステージの振動を低減させ、これによりステージの整定時間を短縮して位置決め精度の向上を図っている。
【特許文献１】特開昭６３−８７７２５号公報
【特許文献２】特開２００５−１８３８７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載の露光装置では、２つの基板ステージを利用することで基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出を同時に行ってタクトタイムの短縮を図っているが、基板の搬入出時に発生する振動について考慮されておらず、この振動が露光精度に影響を及ぼす可能性があり、更なる改善の余地があった。
【０００６】
また、特許文献２に記載の露光装置は、１台の基板ステージにおける残留振動を低減し、ステージの整定時間の短縮を図っているが、基板の搬入出時に発生する振動について考慮されておらず、２つの基板ステージの利用についても記載がない。
【０００７】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置するメインベッドと、
メインベッドの側方に配置される第１サブベッド及び第２サブベッドと、
メインベッドと第１サブベッド間で移動可能な第１基板ステージと、
メインベッドと第２サブベッド間で移動可能な第２基板ステージと、
メインベッド上に位置する第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
第１サブベッドと第２サブベッドに生じた振動がメインベッドに伝達されるのを防止する防振機構と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【０００９】
（２）  防振機構は、メインベッドと第１及び第２サブベッド間に形成された楔空間、或は、第１及び第２サブベッドに形成された楔空間に嵌合可能にそれぞれ設けけられ、傾斜面を有する第１及び第２ベッド部材と、第１及び第２ベッド部材を上下方向に駆動するアクチュエータと、を備えることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
【００１０】
（３）  防振機構は、メインベッドと第１及び第２サブベッド間の各対向面を傾斜面とし、メインベッドを上下方向に駆動するアクチュエータを備えることを特徴とする（１）に記載の露光装置。
【００１１】
（４）  防振機構は、メインベッドの下方に配置されて、メインベッドを支持可能な防振材を有することを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の露光装置。
【００１２】
（５）  マスクを保持するマスクステージと、マスクステージの下方に位置するメインベッドと、メインベッドの側方に配置される第１サブベッド及び第２サブベッドと、メインベッドと第１サブベッド間で移動可能な第１基板ステージと、メインベッドと第２サブベッド間で移動可能な第２基板ステージと、メインベッド上に位置する第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、第１サブベッドと第２サブベッドに生じた振動がメインベッドに伝達されるのを防止する防振機構と、を備える露光装置を用いた露光方法であって、
メインベッド上に位置する第１基板ステージに保持された基板にマスクのマスクパターンを露光転写する第１露光工程と、
第１露光工程中、第２サブベッド上に位置する第２基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第１搬入出工程と、
第１基板ステージを第１サブベッド上に、第２基板ステージをメインベッド上にそれぞれ移動する第１移動工程と、
第１移動工程後、防振機構を駆動する第１駆動工程と、
メインベッド上に位置する第２基板ステージに保持された基板にマスクのマスクパターンを露光転写する第２露光工程と、
第２露光工程中、第１サブベッド上に位置する第１基板ステージに対して基板を搬入及び搬出する第２搬入出工程と、
第１基板ステージをメインベッド上に、第２基板ステージを第２サブベッド上にそれぞれ移動する第２移動工程と、
第２移動工程後、防振機構を駆動する第２駆動工程と、
を備え、
第１駆動工程は、第２露光工程中、第２搬入出工程によって第１サブベッドに生じた振動がメインベッドに伝達されるのを防止し、
第２駆動工程は、第１露光工程中、第１搬入出工程によって第２サブベッドに生じた振動がメインベッドに伝達されるのを防止することを特徴とする露光方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の露光装置及び露光方法によれば、マスクステージの下方に位置するメインベッドとその側方に配置される第１サブベッド間で移動可能な第１基板ステージと、メインベッドとその側方に配置される第２サブベッド間で移動可能な第２基板ステージと、を備えることで、基板の露光転写と第１及び第２基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ることができ、また、第１サブベッドと第２サブベッドに生じた振動がメインベッドに伝達されるのを防止する防振機構を備えるので、第１及び第２基板ステージに基板を搬入出する際に生じる振動が露光時のメインベッドに伝達されるのを防止することができる。これにより、露光精度に及ぼす振動の影響を排除してマスクパターンを高精度で基板に露光転写することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明に係る露光装置及び露光方法の各実施形態について図面に基づいて詳細に説明する。
【００１５】
（第１実施形態）
図１は本発明の第１実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図、図２は第１基板ステージが第１待機位置から露光位置へ移動可能な状態を示す要部正面図、図３は第１基板ステージが露光位置に位置し、第２基板ステージが第２待機位置に位置した状態を示す要部正面図である。
【００１６】
図１及び図２に示すように、第１実施形態の露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、第１基板ローダ１４、第２基板ローダ１５、及びマスクローダ１６を備え、それぞれ基台１７上に載置されている。また、基台１７上には、防振ゴム等の防振材１８を介して載置されるメインベッド１９と、このメインベッド１９の側方で、メインベッド１９に対して互いに対向配置され、レベルブロック２０を介して載置される第１及び第２サブベッド２１，２２とが設けられている。
【００１７】
マスクステージ１０は、メインベッド１９に設けられた複数の支柱２３に支持されて、メインベッド１９の上方に配置されている。複数の支柱２３は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにメインベッド１９の上方にスペースを形成している。
【００１８】
マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０に対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備え、露光すべきパターンを有するマスクＭがこの開口２５ａに臨むようにしてマスク保持部２５に保持されている。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。
【００１９】
図２に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上面にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。
【００２０】
Ｙ軸送り機構３４は、リニアガイド３８と送り駆動機構３９とを備えて構成され、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４０が、転動体（図示せず）を介してメインベッド１９と第１及び第２サイドベッド２１，２２に亘って延びる２本の案内レール４１に跨架されると共に、固定子４２と可動子４３とを有するリニアモータによってＹ軸テーブル３３を案内レール４１に沿って駆動する。
【００２１】
なお、Ｘ軸送り機構３６もＹ軸送り機構３４と同様の構成を有し、Ｚ−チルト調整機構３７は、くさび状の移動体と送り駆動機構とを組み合わせてなる可動くさび機構によって構成される。なお、送り駆動機構は、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよく、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよい。
【００２２】
これにより、各基板ステージ移動機構３２，３２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。
【００２３】
また、第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１ａ，３１ｂのＸ方向側部とＹ方向側部にそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられている。また、第１サブベッド２１及び第２サブベッド２２のＹ軸方向の両側端と、メインベッド１９のＸ軸方向の一側には、３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第１及び第２ステージ１１，１２の位置を検出する。
【００２４】
図２に示すように、照明装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照明装置１３は、露光位置ＥＰ、即ち、メインベッド１９上に移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンＰが露光転写される。
【００２５】
また、第１基板ローダ１４、及び第２基板ローダ１５は、図示しない基板カセットと、第１待機位置ＷＰ１である、第１サブベッド２１上に位置する第１基板ステージ１１、及び第２待機位置ＷＰ２である、第２サブベッド２２上に位置する第２基板ステージ１２との間で、基板Ｗの搬入・搬出を行い、マスクローダ１７は、図示しないマスクカセットとマスクステージ１０との間で、マスクＭの搬入・搬出を行う。
【００２６】
また、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２との間には、第１サブベッド２１と第２サブベッド２２に生じた振動がメインベッド１９に伝達されるのを防止する防振機構５０，５１が配置されている。
【００２７】
図２に示すように、防振機構５０，５１は、メインベッド１９のＹ方向一端面１９ａとこれに対向する第１サブベッド２１のＹ方向端面２１ａとの間、メインベッド１９のＹ方向他端面１９ｂとこれに対向する第２サブベッド２２のＹ方向端面２２ａとの間に形成される楔空間に配置され、この楔空間に対応するようにＹ方向両端面５２ａ，５２ｂ，５３ａ，５３ｂが傾斜面をなす第１及び第２ベッド部材５２，５３と、第１及び第２ベッド部材５２，５３の下部に取り付けられるピストンロッド５４ａ，５５ａを備えて、第１及び第２ベッド部材５２，５３を上下方向に駆動する油圧或は空圧シリンダからなるアクチュエータ５４，５５と、を有する。
【００２８】
第１及び第２ベッド部材５２，５３は、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２と同一の高さを有しており、第１及び第２ベッド部材５２，５３が下降した位置にある場合、これらベッド部材５２，５３のＹ方向両端面５２ａ，５２ｂ，５３ａ，５３ｂがメインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２のＹ方向端面１９ａ，２１ａ，１９ｂ，２２ａとそれぞれ当接し、これら上面がメインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２と略面一となる。また、第１及び第２ベッド部材５２，５３が上昇した位置にある場合には、第１及び第２ベッド部材５２，５３のＹ方向両端面５２ａ，５２ｂ，５３ａ，５３ｂとメインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２のＹ方向端面１９ａ，２１ａ，１９ｂ，２２ａとの間に所定の隙間が形成される。なお、アクチュエータ５４，５５の駆動は、図示しないセンサによって第１及び第２ベッド部材５２，５３の位置を検出しながら行われる。
【００２９】
また、メインベッド１９と第１及び第２ベッド２１，２２に亘って延びる案内レール４１は、それぞれメインベッド１９、第１及び第２サブベッド２１，２２、第１及び第２ベッド部材５２，５３上に設けられた５つのレール片４１ａ〜４１ｅによって構成されており、第１及び第２ベッド部材５２，５３が下降した場合には、これらレール片４１ａ〜４１ｅが実質的に一本の案内レール４１を形成する。なお、送り駆動機構３９の固定子４２もメインベッド１９、第１及び第２サブベッド２１，２２、第１及び第２ベッド部材５２，５３上にそれぞれ配置されている。
【００３０】
次に、本実施形態の露光装置ＰＥによる露光時における防振機構５０，５１の動作について説明する。
【００３１】
図２に示すように、基板Ｗを保持した第１基板ステージ１１を第１サブベッド２１上の第１待機位置ＷＰ１からメインベッド１９上の露光位置ＥＰに移動する場合には、第１ベッド部材５２は下方に位置されており、メインベッド１９と第１サブベッド２１との間の楔空間に隙間なく嵌合され、第１ベッド部材５２上のレール片４１ｄが、メインベッド１９と第１サブベッド２１のレール片４１ａ，４１ｂと連続となる。この状態で、Ｙ軸送り機構３４の送り駆動機構３９により第１基板ステージ１１は第１待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰに移動する。
【００３２】
そして、図３に示すように、第１基板ステージ１１を露光位置ＥＰに移動させた後、第２ベッド部材５３側のアクチュエータ５５を駆動させ（第２駆動工程）、第２ベッド部材５３を上方に位置させ、第２ベッド部材５３のＹ方向両端面５３ａ，５３ｂと、メインベッド１９及び第２サブベッド２２の各Ｙ方向端面１９ｂ，２２ａとの間に隙間を形成する。
【００３３】
その後、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップ調整及びアライメント調整を行うと共に、第１基板ステージ１１をステップ移動させながら、マスクＭのマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写する（第１露光工程）。
【００３４】
ここで、上記露光転写中、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上では、第２基板ローダ１５を用いて基板Ｗの入れ替え作業、即ち、露光後の基板Ｗの基板カセットへの搬出と基板カセットから基板保持部３１ｂへの基板Ｗの搬入が行われている（第１搬入出工程）が、メインベッド１９と第２サブベッド２２とが第２ベッド部材５３により不連続となり、入れ替え作業によって第２サブベッド２２に生じる振動がメインベッド１９に伝達することが防止され、第１基板ステージ１１での露光動作時に露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができ、マスクパターンＰを高精度で基板Ｗに露光することができる。
【００３５】
そして、第１基板ステージ１１での露光転写及び第２基板ステージ１２での入れ替え作業が終了すると、第２ベッド部材５３側のアクチュエータ５５を駆動させ、第２ベッド部材５３を下方に位置させ、第２ベッド部材５３のＹ方向両端面５３ａ，５３ｂと、メインベッド１９及び第２サブベッド２２の各Ｙ方向端面１９ｂ，２２ａと当接させる。
【００３６】
これにより、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２と、第１及び第２ベッド部材５２，５３上のレール片４１ａ〜４１ｅが連続となり、一本の案内レール４１が構成され、第１基板ステージ１１は第１待機位置ＷＰ１へ、第２基板ステージ１２は露光位置ＥＰへそれぞれ移動する（第１移動工程）。その後、第１ベッド部材５２側のアクチュエータ５４を駆動させ（第１駆動工程）、第１ベッド部材５２を上方に位置させ、第１ベッド部材５２と、メインベッド１９及び第１サブベッド２１との間に隙間を形成する。
【００３７】
この状態で、露光位置ＥＰで第２基板ステージ１２に保持された基板ＷにマスクＭのマスクパターンが露光転写される（第２露光工程）。また、露光転写中、第１基板ローダ１４を用いて第１基板ステージ１１で基板Ｗの入れ替え作業、即ち、露光後の基板Ｗの基板カセットへの搬出と基板カセットから基板保持部３１ａへの基板Ｗの搬入が行われる（第２搬入出工程）が、メインベッド１９と第１サブベッド２１とが第１ベッド部材５２により不連続であるので、基板Ｗを入れ替えする際に第１サブベッドに生じる振動がメインベッド１９に伝達することが防止され、第２基板ステージ１２での露光動作時に露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができ、マスクパターンＰを高精度で基板Ｗに露光することができる。
【００３８】
そして、同様に、第１ベッド部材５２側のアクチュエータ５４を駆動させ、第１ベッド部材５２を下方に位置させて、一本の案内レール４１とし、第１基板ステージ１１を露光位置ＥＰに、第２基板ステージを第２待機位置ＷＰ２へそれぞれ移動した（第２移動工程）後、上述した第２駆動工程を行って、メインベッド１９と第２サブベッド２２とを第１ベッド部材５２により不連続とし、上述した第１露光工程及び第１搬入出工程が繰り返される。
【００３９】
また、本実施形態では、メインベッド１９の下方に配置された防振材１８も、第１サブベッド２１と第２サブベッド２２に生じた振動がメインベッド１９に伝達されるのを防止する防振機構として作用する。即ち、防振材１８は、メインベッド１９での露光転写中に基台２１を介して伝達される、第１及び第２サブベッド２１，２２、第１及び第２基板ローダ１４，１５、マスクローダ１６等、基台２１上の装置からの振動を吸収することができる。
【００４０】
上記したように、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、マスクＭを保持するマスクステージ１０と、マスクステージ１０の下方に位置するメインベッド１９と、メインベッド１９の側方に配置される第１サブベッド２１及び第２サブベッド２２と、メインベッド１９と第１サブベッド２１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、メインベッド１９と第２サブベッド２２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、メインベッド１９上に位置する第１及び第２基板ステージ２１，２２に保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する照射装置１３と、第１サブベッド２１と第２サブベッド２２に生じた振動がメインベッド１９に伝達されるのを防止する防振機構５０，５１と、を備えるので、第１及び第２サブベッド２１、２２において第１及び第２基板ステージ１１、１２に基板Ｗを入れ替えする際に生じる振動が露光時のメインベッド１９に伝達されるのを防止し、露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができる。これにより、マスクＭのマスクパターンＰを高精度で基板Ｗに露光転写することができる。
【００４１】
また、防振機構５０，５１は、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２間に形成された楔空間に嵌合可能にそれぞれ設けけられ、傾斜面を有する第１及び第２ベッド部材５２，５３と、第１及び第２ベッド部材５２，５３を上下方向に駆動するアクチュエータ５４，５５と、を備えるので、比較的軽量なベッド部材５２，５３を駆動すればよく、小型で少数のアクチュエータ５４，５５によってメインベッド１９の防振が可能となる。
【００４２】
さらに、防振機構は、メインベッド１９の下方に配置されて、メインベッド１９を支持可能な防振材１８を有するので、メインベッド１９での露光転写中に基台２１を介して伝達される基台２１上の装置からの振動を吸収することができる。これによっても、露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができ、マスクＭのマスクパターンＰを高精度で基板Ｗに露光転写することができる。
【００４３】
なお、第１及び第２ベッド部材５２，５３は、これらベッド部材５２，５３が上方に位置した際に、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２との間の少なくとも一方のＹ方向端面１９ａ，２１ａ，１９ｂ，２２ａとの間で隙間を形成すればよく、例えば、図４（ａ）に示すように、第１ベッド部材５２のＹ方向端面５２ａ，５２ｂの一方を傾斜面として、他方を垂直面としてもよい。また、第１及び第２ベッド部材５２，５３は、メインベッド１９近傍の第１及び第２サブベッド２１，２２に形成された楔空間に配置されてもよく、例えば、図４（ｂ）に示すように、第１ベッド部材５２がメインベッド１９近傍の第１サブベッド２１内に配置される場合であっても、第１サブベッド２１に生じた振動がメインベッド１９に伝達されるのを防止することができる。
【００４４】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態の露光装置及び露光方法について図５〜図７を参照して説明する。図５は本発明の第２実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図、図６は第１基板ステージが第１待機位置から露光位置へ移動可能な状態を示す要部正面図、図７は第１基板ステージが露光位置に位置し、第２基板ステージが第２待機位置に位置した状態を示す要部正面図である。尚、第２実施形態の露光装置は、防振機構の構成において第１実施形態のものと異なるのみであり、第１実施形態と同等部分については同一符号を付して、説明を省略又は簡略化する。
【００４５】
図６に示すように、第２実施形態の露光装置ＰＥでは、メインベッド１９は、Ｙ方向両端面１９ａ，１９ｂが上方から下方に向かうに従って次第にＹ方向幅が広くなるように傾斜面とした楔形状に形成される。また、第１及び第２サブベッド２１，２２は、メインベッド１９のＹ方向端面１９ａ，１９ｂに対向するＹ方向端面２１ａ，２２ａを有し、これらＹ方向端面２１ａ，２２ａは、Ｙ方向端面１９ａ，１９ｂと等しい角度を持った傾斜面をなしている。
【００４６】
さらに、図５及び図６に示すように、メインベッド１９と基台２１との間には、防振ゴム等の複数の防振材１８がメインベッド１９との間に所定の隙間を持って配置されると共に、メインベッド１９の下面に取り付けられるピストンロッド７０ａを有し、メインベッド１９を上下方向に駆動する油圧又は空圧シリンダからなる複数のアクチュエータ７０が配置されている。即ち、本実施形態の防振機構は、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２間の対向面を傾斜面とし、メインベッド１９を上下方向に駆動するアクチュエータ７０を備える構成と、メインベッド１９の下方に配置された防振材１８とを有している。
【００４７】
また、メインベッド１９と第１及び第２ベッド２１，２２に亘って延びる案内レール４１は、それぞれメインベッド１９、第１及び第２サブベッド２１，２２上に設けられた３つのレール片４１ａ〜４１ｃによって構成されており、メインベッド１９が上方に位置する場合には、これらレール片４１ａ〜４１ｃが実質的に一本の案内レール４１を形成する。なお、送り駆動機構３９の固定子４２もメインベッド１９、第１及び第２サブベッド２１，２２上にそれぞれ配置されている。
【００４８】
本実施形態では、図６に示すように、基板Ｗを保持した第１基板ステージ１１を第１サブベッド２１上の第１待機位置ＷＰ１からメインベッド１９上の露光位置ＥＰに移動する場合には、アクチュエータ７０によってメインベッド１９を上方に位置させ、メインベッド１９のＹ方向両端面１９ａ，１９ｂを第１及び第２サブベッド２１，２２の各Ｙ方向端面２１ａ，２２ａに当接させ、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２のレール片４１ａ〜４１ｃが連続となる。この状態で、Ｙ軸送り機構３４の送り駆動機構３９により第１基板ステージ１１は第１待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰに移動する。
【００４９】
そして、図７に示すように、第１基板ステージ１１を露光位置ＥＰに移動させた後、アクチュエータ７０を駆動させ、メインベッド１９を下方に移動して、メインベッド１９を防振材１８上に支持させると共に、メインベッド１９のＹ方向両端面１９ａ，１９ｂと第１及び第２サブベッド２１，２２の各Ｙ方向端面２１ａ，２２ａとの間に隙間を形成する。
【００５０】
この状態で、第１実施形態と同様、第１基板ステージ１１に保持された基板Ｗに露光転写が行われ、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上では、基板Ｗの入れ替え作業が行われているが、メインベッド１９と第２サブベッド２２とが不連続となり、入れ替え作業によって第２サブベッド２２に生じる振動がメインベッド１９に伝達することが防止され、第１基板ステージ１１での露光動作時に露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができ、マスクパターンＰを高精度で基板Ｗに露光することができる。
【００５１】
なお、第１基板ステージ１１の露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１への移動、第２基板ステージ１２の露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間の移動も、図６に示すように、メインベッド１９が上方に位置した状態で行われ、第２基板ステージ１２の露光位置ＥＰでの露光動作も、図７に示すように、メインベッド１９が下方に位置して防振材１８に載置された状態で行われる。
【００５２】
本実施形態の露光装置ＰＥによれば、第１実施形態と同様、第１及び第２サブベッド２１、２２において第１及び第２基板ステージ１１、１２に基板Ｗを入れ替えする際に生じる振動が露光時のメインベッド１９に伝達されるのを防止し、露光精度に及ぼす振動の影響を排除することができ、特に、防振機構は、メインベッド１９と第１及び第２サブベッド２１，２２間の各対向面１９ａ，１９ｂ，２１ａ，２２ａを傾斜面とし、メインベッド１９を上下方向に駆動するアクチュエータ７０を備えるので、メインベッド１９を相対的に移動させるのみで、メインベッド１９の防振が可能となる。
【００５３】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の第１実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図である。
【図２】第１基板ステージが第１待機位置から露光位置へ移動可能な状態を示す要部正面図である。
【図３】第１基板ステージが露光位置に位置し、第２基板ステージが第２待機位置に位置した状態を示す要部正面図である。
【図４】第１実施形態の露光装置の防振機構の変形例を示す要部拡大正面図である。
【図５】本発明の第２実施形態である露光装置の全体構成を概略示す平面図である。
【図６】第１基板ステージが第１待機位置から露光位置へ移動可能な状態を示す要部正面図である。
【図７】第１基板ステージが露光位置に位置し、第２基板ステージが第２待機位置に位置した状態を示す要部正面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  マスクステージ
１１  第１基板ステージ
１２  第２基板ステージ
１３  照射装置
１８  防振材（防振機構）
１９  メインベッド
２１  第１サブベッド
２２  第２サブベッド
５０，５１  防振機構
５２  第１ベッド部材
５３  第２ベッド部材
５４，５５，７０  アクチュエータ
Ｍ  マスク
ＰＥ  露光装置
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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