(57)【要約】【課題】副走査方向の走査位置を測定するにあたり、基準光源のビーム径が比較的大きくなる、基準光源からの距離が遠くなる程ビーム径が太る、基準光源の出射角度が変動するなどといった事情により、測定の高精度化は期待できない。【解決手段】レーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光させ、当該被走査面を走査する走査光学系の、被走査面上の所望の主走査位置における副走査位置を測定する走査位置測定装置であって、固定して配置された測定用のＣＣＤ受光部８と、ＣＣＤ受光部８に向けてレーザ光を照射する基準光源１３と、ＣＣＤ受光部８と基準光源１３の間に、測定範囲全域に亘り設置され、スリットを有する直定規１７を有し、スリットを通して照射された基準光源１３からのレーザ光の副走査位置を検出することで、所望の主走査位置におけるＣＣＤ受光部８の相対的な副走査位置を測定する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光させ、当該被走査面を走査する走査光学系の、前記被走査面上の所望の主走査位置における副走査位置を測定する走査位置測定装置であって、
複数の所望の主走査位置に移動可能な機構を有する、または、固定して配置された測定用のセンサと、
前記センサに向けてレーザ光を照射する光源と、
前記センサと前記光源の間に、測定範囲全域に亘り設置され、一部に透過部を有する遮光部材を有し、
前記透過部を通して照射された前記光源からのレーザ光の副走査位置を検出することで、所望の主走査位置における前記センサの相対的な副走査位置を測定することを特徴とする、走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項２】
前記光源を、所望の主走査位置において、略同一の位置に略同一の体勢で再設置可能な位置決め部材を有することを特徴とする請求項１記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項３】
前記遮光部材は、前記透過部として微小間隔を開けて固定された一対の直定規であることを特徴とする請求項１記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、前記透過部として微小スリットまたは微小穴が形成された板であることを特徴とする請求項１記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項５】
前記遮光部材と前記光源は、走査光学系の特性値測定時には退避可能であることを特徴とする、請求項１記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項６】
前記透過部の副走査方向寸法は３０μｍ以下であることを特徴とする請求項３または４記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項７】
前記遮光部材と前記センサの間の距離は１０ｍｍ〜１００ｍｍであることを特徴とする請求項１記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項８】
前記直定規の両端付近に、スペーサを挟み込むことで、微小間隔を形成することを特徴とする請求項３記載の走査光学系の走査位置測定装置。
【請求項９】
センサに対向して測定範囲全域に渡り設置された、一部に透過部を有する遮光部材の、当該透過部を通過してきたレーザ光の副走査位置を測定することで、所望の主走査位置における前記センサの相対的な副走査位置を測定することを特徴とする副走査位置測定方法。
【請求項１０】
請求項１から８記載の走査光学系の走査位置測定装置に対し、測定可能な状態に取り付け可能な手段を設けた走査光学系。
【請求項１１】
請求項１０記載の走査光学系を用いた画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、主走査方向の所望位置における、副走査方向の走査位置（副走査位置）を測定する走査光学系の走査位置測定装置などに関する。
【背景技術】
【０００２】
走査光学系の主走査方向所望位置における、副走査方向の走査位置を測定する場合、各主走査位置でのセンサの副走査位置を知る必要がある。特許文献１には、基準光源としてHe-Neを用いた方式が提案されている。また、固定ＣＣＤ(Charge Coupled Device)タイプの測定装置において、校正用の光源からの光を直接ＣＣＤに照射する例（特許文献２）も提案されている。
【特許文献１】特開平１１−２３０８５８号公報
【特許文献２】特開２００５−２３４３５９号公報
【０００３】
レーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光させ、被走査面上を走査する走査光学系は、レーザプリンタやデジタル複写機といった各種の画像形成装置に関して広く知られている。特に近年、走査光学系による走査の「高密度化」や「マルチビーム化」が意図され、光スポットによる走査位置においてさらなる「高精度化」が要求されるようになってきている。上記光スポットは被走査面上を移動して被走査面を走査するが、その被走査面上における光スポットの理想的な移動方向を「主走査方向」と呼び、その主走査方向に直交する方向を「副走査方向」と呼ぶことは周知の通りである。また、光スポットの軌道を「主走査ライン」と呼ぶ。なお、ここで言う「被走査面」は仮想的な平面であり、実体的には光導電性の感光体の感光面である。
【０００４】
主走査ラインは、正確な直線であることが理想的であるが、実際には種々の要因で厳密な直線には少なからず僅かな曲がりが生じる。また、レーザ光束の偏向を回転多面鏡により行う場合には、その各偏向反射面ごとの偏向による主走査ラインが、いわゆる「面倒れ」の影響で副走査方向に微小距離変動することが考えられる。このような主走査ラインの「曲がり」や「副走査方向の微小距離変動」は、所定の許容範囲内に収める必要があるが、走査を高密度化する場合や、マルチビームで走査を行う場合の許容範囲はかなり狭い。走査光学系を実際に組み立てる際やその組み立て後、上記主走査ラインの曲がりや副走査方向の変動を調整したり、これらが設計通りの許容幅内に収まっているかを検査したりするため、被走査面上の所望の主走査位置でその副走査方向の走査位置を測定する必要が生じる。
【０００５】
この走査光学系の測定には、ＣＣＤセンサが一般に用いられ、このＣＣＤセンサは、その受光エレメント（光素子列）の配列方向を被走査面に等価な測定面上の副走査方向に合わせて配置される。
【０００６】
上記ＣＣＤセンサを用いた測定装置による測定による受光信号分布（光強度分布）は、一般に副走査方向にみた受光信号の分布はピーク状のもの（ガウシャン分布に近いもの）であり、１ビームの走査により１のピークが出力される。そして、この出力の断面形状の面積中心をカウントすることにより、この分布の最大値を推定して副走査方向の走査位置が求められる。この光強度分布（ＣＣＤ出力）の概観は図３のグラフに示したものになる。副走査方向の受光エレメントアドレスを横軸にとり、各素子の受光信号レベルを縦軸にとっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、副走査方向の走査位置を測定する目的は、全像高に亘る副走査位置から走査線曲りや傾きを求めたり、又はマルチビームでのピッチ偏差を求めることにある。特にマルチビームでのピッチ偏差はサブミクロンの精度が要求されるため、ステージの位置精度や温度変化等による測定誤差も無視出来ない。
【０００８】
特に、光センサとしてラインＣＣＤセンサを使用する場合がある。ラインＣＣＤセンサは複数の光素子からなる受光エレメントが一定の光素子間ピッチ（７μｍが一般的）で配列されている。各光素子からの出力は、照射される光エネルギに対して直線的に変化し、画像入力ボードによるＡ(Analog)／Ｄ(Digital)変換で、２５６段階の出力値を得る。そして、出力値の重心となる位置を計算する事で、副走査方向の走査位置を算出することができる。
【０００９】
特許文献１の出願前の技術では、単一のＣＣＤセンサを移動ステージにより測定位置まで移動し、その位置での測定が終了すると次の位置に移動する動作を繰返し全像高に亘っての測定を行っていた。このような方式では、移動ステージのピッチング、ヨーイング等の誤差が測定精度を直接低下させてしまうという問題があった。このため、特許文献１の例では、基準光源としてHe-Neを用い、移動ステージのピッチング、ヨーイング等の影響を補正する方式が提案されている。
また特許文献２では、移動ステージを用いない固定ＣＣＤタイプの測定装置において、校正用の基準光源からの光を直接ＣＣＤに照射し、各ＣＣＤの相対位置ずれを補正する例が提案されている。
【００１０】
しかしながらこれらの提案には、以下のような問題がある。
（１）基準光源のビーム径が比較的大きくなってしまうこと
（２）基準光源からの距離が遠くなる程ビーム径が太ること
（３）基準光源の出射角度が変動すること
（４）基準光源のビームプロファイルが完全なガウシャン分布ではないため、センサがラインＣＣＤセンサの場合、ビームが主走査方向に少しでもずれると副走査重心位置も変化すること
これらの事情により、測定の高精度化は期待できない。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そこで、上記問題を解消する本発明の態様は、レーザ光束を被走査面上に光スポットとして集光させ、当該被走査面を走査する走査光学系の、前記被走査面上の所望の主走査位置における副走査位置を測定する走査位置測定装置であって、複数の所望の主走査位置に移動可能な機構を有する、または、固定して配置された測定用のセンサと、前記センサに向けてレーザ光を照射する光源と、前記センサと前記光源の間に、測定範囲全域に亘り設置され、一部に透過部を有する遮光部材を有し、前記透過部を通して照射された前記光源からのレーザ光の副走査位置を検出することで、所望の主走査位置における前記センサの相対的な副走査位置を測定することを特徴とする、走査光学系の走査位置測定装置に関するものである。
一部に透過部のある遮光部材を通して、光源からのビーム光をＣＣＤに照射することにより、光源の出射角変動の影響を除けると共に、副走査方向のビーム径も絞ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。特に、センサがラインセンサの場合、相対的な副走査位置を測定しているので副走査重心位置の変化にも対応できる。
【００１２】
ここで、前記光源を、所望の主走査位置において、略同一の位置に略同一の体勢で再設置可能な位置決め部材を有することを特徴とする。
位置決め部材により、光源の位置・体勢が決まるので、条件を変えずに光源からの光をセンサに照射することができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１３】
また、前記遮光部材は、前記透過部として微小間隔を開けて固定された一対の直定規であることを特徴とする。
これにより、安価に高真直度の透過部を得ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１４】
また、前記遮光部材は、前記透過部として微小スリットまたは微小穴が形成された板であることを特徴とする。
これにより、高真直度の透過部を得ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１５】
また、前記遮光部材と前記光源は、走査光学系の特性値測定時には退避可能であることを特徴とする。
これにより、走査光学系の走査位置測定は問題なく行えると共に、上記のように光源を同じ位置に同じ姿勢で再設置可能とすることで、センサの副走査位置測定も高精度に行える。
【００１６】
また、前記透過部の副走査方向寸法は３０μｍ以下であることを特徴とする。
これにより、光源からのビームを細く絞れ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１７】
また、前記遮光部材と前記センサの間の距離は１０ｍｍ〜１００ｍｍであることを特徴とする。
これにより、近すぎることによる回折の影響と、遠すぎることによるビーム径の太りの影響を回避でき、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１８】
また、前記直定規の両端付近に、スペーサを挟み込むことで、微小間隔を形成することを特徴とする。
直定規の両端付近に、スペーサを挟み込むことで透過部が形成されることになり、安価に高真直度の透過部を得ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。
【００１９】
本発明の他の態様は、センサに対向して測定範囲全域に渡り設置された、一部に透過部を有する遮光部材の、当該透過部を通過してきたレーザ光の副走査位置を測定することで、所望の主走査位置における前記センサの相対的な副走査位置を測定することを特徴とする副走査位置測定方法に関するものである。
一部に透過部のある遮光部材を通して、光源からのビーム光をセンサに照射することにより、光源の出射角変動の影響を除けると共に、副走査方向のビーム径も絞ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。特に、センサがラインセンサの場合、相対的な副走査位置を測定しているので副走査重心位置の変化にも対応できる。
【００２０】
また、本発明の他の態様は、上記走査光学系の走査位置測定装置に対し、測定可能な状態に取り付け可能な手段を設けた走査光学系に関するものである。
取り付け可能とすることで、精度良くビーム副走査位置の調整が可能となる。
【００２１】
また、本発明の他の態様は、上記走査光学系を用いた画像形成装置に関するものである。
画像形成装置に上記走査光学系を使用することにより、副走査方向の色ずれを低減した画像出力が可能となる。
【発明の効果】
【００２２】
一部に透過部のある遮光部材を通して、光源からのビーム光をＣＣＤに照射することにより、出射角変動の影響を除けると共に、副走査方向のビーム径も絞ることができ、高精度にセンサの副走査位置を測定可能となる。特に、センサがラインセンサの場合、相対的な副走査位置を測定しているので副走査重心位置の変化にも対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の走査光学系の走査位置測定装置を実施するための最良の形態を説明する。説明する際には、本明細書と同時に提出する図面を適宜参照する。
【００２４】
まず、本形態の走査光学系２４が実装された画像形成装置の構成を、図１に基づいて説明する。図１において、符号２６はドラム状の感光体からなる像担持体を示す。この像担持体２６の周囲には、像担持体２６の表面を一様に帯電する帯電器２７、像担持体２６の帯電部分に光を照射して静電潜像を形成する走査光学系２４、像担持体２６上の静電潜像をトナーによって現像する現像器２８、像担持体２６上のトナーによる現像画像を用紙に転写する転写器２９、像担持体２６から用紙を剥離させるための剥離器３０、像担持体２６上の残存トナーを払拭するクリーニングユニット３１、像担持体２６の表面を一様に除電する除電器３２などが配列されている。転写器２９と剥離器３０は、用紙搬送ベルト３３が設けられた用紙搬送路３４中に配列され、用紙搬送方向における用紙搬送ベルト３３の下流側には定着器３５が配置され、転写器２９の上流側にはレジストローラ３６が配置されている。像担持体２６の下方には給紙カセット３７とこの給紙カセット３７内の用紙を一枚ずつ給紙する給紙ローラ３８が設けられ、給紙ローラ３８とレジストローラ３６との間にはＵ字状に湾曲された給紙通路３９が設けられている。これらの各機器ないしはユニットは、像担持体２６を中心に、周知の帯電→露光→現像→転写→定着、という電子写真プロセスを実行することによって転写用紙に画像を形成する。
【００２５】
図２は、本形態の走査光学系の走査位置測定ユニットの構成（第１の構成という。）を図示したものである。図２を参照してこの走査位置測定ユニットが走査光学系の副走査方向の走査位置及びレーザ光源のビームプロファイルなどの特性値を測定する方法を説明する。
【００２６】
半導体レーザ２は、レーザ光源１に接続され、走査光学系ユニット６内に設置されている。半導体レーザ２から放出されたレーザビームは、コリメータレンズ及びシリドリカルレンズ３によって、ポリゴンミラー４の鏡面に集光される。ポリゴンミラー４に集光されたレーザビームは、鏡面で反射してｆθレンズ５を通過し、被走査面（像面）上に光スポットとして結像し、主走査方向に走査される。走査されるレーザビームは、被走査面上で光スポットの軌道上に配置されたＣＣＤカメラ７のＣＣＤ受光部８を照射する。このＣＣＤ受光部８には、副走査方向に５０００画素の光素子列からなる受光エレメントがある。この光素子列のピッチは７μｍである。また、ＣＣＤカメラ７は、レーザビームの主走査領域に複数固定配置される。本形態では７台とし、図中左からＣＣＤカメラ７（１）〜７（７）、ＣＣＤ受光部８（１）〜８（７）とする。全てのＣＣＤカメラ７はリレーなどの切換え手段である切換えボックス９を経て、ＣＣＤ受光部８からの受光信号レベルとしての出力が、画像入力ボード１０からなる測定手段を経てパソコン１１に取り込まれる。
【００２７】
画像入力ボード１０では、ＣＣＤ受光部８からの受光信号レベル、特に、各光素子の出力の分布（光強度の分布）を測定する。測定においては、各光素子からの出力が照射され、直線的に変化する光エネルギに対してＡ／Ｄ変換を施し、２５６段階の出力値が得られるようになる。この測定結果は図３のように表示される。そして、パソコン１１の演算装置は、出力断面形状の面積中心がカウントできるソフトを有しており、その出力断面形状の面積中心が演算され、これを副走査方向の走査位置情報として処理する。なお、パソコン１１には情報処理を中央処理制御するＣＰＵ(Central Processing Unit)と、当該ＣＰＵが情報処理を行うために読み出すプログラムを格納した記録媒体としてのＲＯＭ(Read Only Memory)が搭載されている。出力断面形状の面積中心がカウントできるソフトはこのプログラムの一つである。
【００２８】
上記走査位置の測定は、像高方向の複数ポイントで行われ、各箇所の走査位置情報を基にその走査曲がり、傾き、ピッチムラ、ピッチ偏差などが求められる。
【００２９】
走査光学系の副走査方向の走査位置及びレーザ光源のビームプロファイルなどの特性値を測定する方法として図４に示す方法もある。図４は、本形態の走査光学系の走査位置測定ユニットの他の構成（第２の構成という。）を図示したものである。１台のＣＣＤカメラ７は、主走査方向に移動可能なように、ステージ１２上に固定されている。測定位置に移動したＣＣＤカメラ７のＣＣＤ受光部８からの受光信号レベルとしての出力が、画像入力ボード１０からなる測定手段を経てパソコン１１に取り込まれる。
【００３０】
図２に図示した第１の構成の走査位置測定ユニットでは、各ＣＣＤカメラ７は組み付け誤差や部品ばらつきにより、副走査方向の位置が完全には一致していない。このため特許文献２では図５のように全てのセンサを設置した走査位置測定ユニット対して、HE-NEやLD(Laser Diode)モジュール等の平行光出射可能な基準光源１３を、平行移動させることにより照射し、基準平行光の副走査位置測定を行うようにしていた。若しくは、図６のように基準光源１３平行回転させることにより照射し、基準平行光の副走査位置測定行うようにしていた。これにより得られた各光センサの重心位置のズレを補正値とし、副走査方向の走査位置を算出していた。
【００３１】
また、図４に図示した第２の構成の走査位置測定ユニットでは、移動ステージ１２のピッチング、ヨーイング等の影響で、各像高におけるＣＣＤカメラ７の副走査方向の位置が完全には一致していない。このため特許文献１では、図４中に示すようにＣＣＤカメラ７の別の受光部１４に、HE-NEやLDモジュール等の平行光出射可能な基準光源１３を照射し、各測定位置でのＣＣＤカメラ７の副走査位置測定を行うようにしていた。これにより得られた各光センサの重心位置のズレを補正値とし、副走査方向の走査位置を算出していた。しかしこれらの補正方法には、前述したような問題があり、高精度は期待できない。
【００３２】
図７に、第１の構成の走査位置測定ユニットにおける、本形態の実施例を示す。
図７は、図２の走査光学系ユニット６の替わりに、本形態の光照射ユニットを配置した状態を走査位置測定装置として図示したものであり、また、図７の状態を側面方向から見た状態を図８に示す。光照射ユニットは基準光源１３、ベース１４、基準ピン１５（各ＣＣＤカメラ７（１）〜（７）に対応して１５（１）〜（７）とする）、突き立て面１６、直定規１７、スペーサ１９を有して構成されている。基準光源１３はベース１４上に、基準ピン１５と突き当て面１６で位置決めされている。ベース１４は、ＣＣＤカメラ７のベース１８に突き当てられている。このため、ＣＣＤカメラ７に対して、基準光源１３は位置が決まり、再設置しても同じ位置条件が確保される。基準光源１３とＣＣＤカメラ７の間には、２本の直定規１７が両端付近に２個のスペーサ１９を挟んで設置されている。これを正面から見た状態を図９に示す。スペーサ１９で形成される微小間隔のスリット直後では、回折の影響でプロファイルが乱れ、スリットからＣＣＤカメラ７までが遠すぎると、プロファイルが弱く、なまってしまう。今回はスペーサ１９の厚み（つまり、副走査方向の寸法）を３０μｍから２０μｍで、スリットからＣＣＤ７までの距離を１０ｍｍ〜１００ｍｍで実測したところ、良好なプロファイルが得られた。このプロファイルの重心位置を求めることで、ＣＣＤカメラ７の副走査位置が求まる。なお、直定規１７の真直度は５μｍ以下程度であるため、直定規１７の形状誤差が、測定精度に与える影響は小さい。
【００３３】
図１０に、第２の構成の走査位置測定ユニットにおける、本形態の実施例を示す。
図１０は、図４の走査光学系ユニット６の替わりに、本形態の光照射ユニットを配置した状態を走査位置測定装置として図示したものである。基本的には図７に図示した構成と類似しているが、光照射ユニットにおいて、基準光源１３が移動する機構をそなえている。ＣＣＤカメラ７を測定位置に移動させた後、基準光源１３も移動し、ＣＣＤカメラ７の副走査位置を求めるようにする。
【００３４】
なお、何れの構成の走査位置測定装置においても、走査光学系におけるレーザ光源のビームプロファイルなどの特性値を測定する時には、基準光源１３、直定規１７などを有する光照射ユニットを所定の場所に退避できるような空間、機構が設けられている。
【００３５】
スリットは、直定規とスペーサでなく、平板に直接形成したものでもよい。エッチングやレーザ加工で形成すれば、高精度なスリットを安く量産可能である。図１１は、全像高に亘り、つまり、走査位置の測定範囲全域に亘り平板２０にスリット２１を形成した例を図示したものである。この例では、全像高の任意の位置で測定が可能であるが、特に中央付近ではスリットが変形しやすく、測定精度が低下するおそれがある。このためある程度測定位置が限定されても構わない場合には、図１２のように微小なスリット２２を分割して形成し、スリットの変形を防止すればよい。また測定位置が固定の場合には、図１３のようにスリットでなく、微小な穴２３でもよい。スリット２２、穴２３の副走査方向の寸法も３０μｍから２０μｍにすると良好なプロファイルが得られた。
【００３６】
図１４は走査光学系２４を、走査位置測定ユニットに対して測定可能な状態に取り付けた状態の走査位置測定装置を図示したものである。出射光は折り返しミラー４０により偏向されているため、ＣＣＤカメラ７に垂直入射するよう、走査光学系２４を専用のベース２５に取り付ける。ベース２５は走査光学系２４を略同一の位置、略同一の体勢で何度でも設置することを可能とする位置取り決め部材である。まず、図８の状態で各ＣＣＤカメラ７の副走査位置を測定後、図１４の状態で測定することで、走査位置測定装置による走査光学系２４の走査位置測定が正確に行える。なお、走査光学系２４自体にベース２５に対し測定可能な状態に取り付け可能とする機構を備えさせておく。
【００３７】
また測定精度はスリットの寸法精度のみに影響され、光量の違いなどには影響を受けないので、基準光源１３は、図１５に示すようにあらかじめ複数設けておいても構わない。図１５は、第１の構成の走査位置測定ユニットと、複数の基準光源１３を有する光照射ユニットを搭載した走査位置測定装置を図示したものである。このような構成にすれば、基準光源１３を移動する手間が省け、短時間で計測することが可能となる。
【００３８】
なお、上述した形態は本発明を実施するための最良のものであるがこれに限定する趣旨ではない。従って、本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本形態の走査光学系２４が実装された画像形成装置の構成を図示したものである。
【図２】本形態の走査光学系の走査位置測定ユニットの第１の構成を図示したものである。
【図３】画像入力ボード１０で測定した光強度の分布を図示したものである。
【図４】本形態の走査光学系の走査位置測定装置の第２の構成を図示したものである。
【図５】走査位置測定ユニットに対し、平行移動する基準光源１３が平行光を出射する様子を図示したものである。
【図６】走査位置測定ユニットに対し、回転するする基準光源１３が平行光を出射する様子を図示したものである。
【図７】第１の構成の走査位置測定ユニットと本形態の光照射ユニットを搭載した走査位置測定装置を図示したものである。
【図８】図７の状態を側面方向から見た状態を図示したものである。
【図９】２本の直定規１７が両端付近に２個のスペーサ１９を挟んで設置された上体を正面から見たものを図示したものである。
【図１０】第２の構成の走査位置測定ユニットと本形態の光照射ユニットを搭載した走査位置測定装置を図示したものである。
【図１１】全像高に亘り平板２０にスリット２１を形成した例を図示したものである。
【図１２】平板２０にスリット２２を分割して形成した例を図示したものである。
【図１３】平板２０に穴２３を形成した例を図示したものである。
【図１４】走査光学系２４を専用のベース２５に取り付けた状態の走査位置測定装置を図示したものである。
【図１５】第１の構成の走査位置測定ユニットと、複数の基準光源１３を有する光照射ユニットを搭載した走査位置測定装置を図示したものである。
【符号の説明】
【００４０】
１    レーザ光源
２    半導体レーザ
３    コリメータレンズ及びシリドリカルレンズ
４    ポリゴンミラー
５    ｆθレンズ
６    走査光学系ユニット
７    ＣＣＤカメラ
８    ＣＣＤ受光部
９    切換えボックス
１０    画像入力ボード
１１    パソコン
１２    移動ステージ
１３    基準光源
１４    ベース
１５    基準ピン
１６    突き当て面
１７    直定規
１８    ベース
１９    スペーサ
２０    平板
２１    スリット
２２    スリット
２３    穴
２４    走査光学系
２５    ベース
２６    像担持体
２７    帯電器
２８    現像器
２９    転写器
３０    剥離器
３１    クリーニングユニット
３２    除電器
３３    用紙搬送ベルト
３４    用紙搬送路
３５    定着器
３６    レジストローラ
３７    給紙カセット
３８    給紙ローラ
３９    給紙通路
４０    折り返しミラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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