(57)【要約】【課題】液晶表示装置などのバックライトに用いると好適な、輝度及び輝度均一性が増加された導光板を製造する方法を提供する。【解決手段】（ａ）ベース基板に感光膜を所定厚さで塗布する段階と、（ｂ）前記感光膜に光を利用して露光及び現像して前記感光膜の表面から所定深さを有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形成する段階と、（ｃ）前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質を蒸着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタル基板を形成する段階と、（ｄ）前記感光膜から分離された前記メタル基板を下部モールド及び上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導光板形成物質を前記内部空間に注入する段階とを含む。【選択図】図１６
2007148413.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
輝度を強化するための導光板を製造する方法において、（ａ）ベース基板に感光膜を所定厚さで塗布する段階と、（ｂ）前記感光膜に光を利用して露光及び現像して前記感光膜の表面から所定深さを有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形成する段階と、（ｃ）前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質を蒸着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタル基板を形成する段階と、（ｄ）前記感光膜から分離された前記メタル基板を下部モールド及び上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導光板形成物質を前記内部空間に注入する段階とを含むことを特徴とする導光板製造方法。
【請求項２】
前記段階（ｂ）では、前記感光膜に形成された凹所の内壁が、凹所を基準として外側に所定曲率を有する曲面と成るように露光し現像されることを特徴とする請求項１に記載の導光板製造方法。
【請求項３】
前記段階（ｂ）以後には、前記感光膜に形成された凹所の内壁を再び部分的に露光及び現像して前記凹所の内壁から所定深さを有する光拡散凹所を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の導光板製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置などに用いられる導光板の製造方法に係り、より詳細には、液晶表示パネルアセンブリに面光源形態の光学分布を有する光を供給する役割を有する導光板装置の構造を変更して、デイスプレー輝度向上、低消費電力具現、光学的均一性向上及び光損失最小化によって厚さ及び体積を最小化した導光板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示分野で製作される液晶表示装置は、電界の大きさに従って、光透過度が変更する液晶（ＬＣ）の特性を利用して情報処理装置で処理されたデータを、使用者が文字、画像、動画像などの方法により認識できるようにインターフェーシングするデイスプレー装置の一つとして定義できる。
【０００３】
このように、液晶表示装置は、消費電力が小さく、同一のデイスプレー面積を有する他の種類のデイスプレー装置、例えば、ＣＲＴ方式デイスプレー装置に比べて体積及び重さが相当に小さいが、デイスプレー品質はＣＲＴ方式デイスプレー装置と対等であるか、又は、より優れた長所を有する。
【０００４】
このような液晶表示装置は、厚さが相当に薄い２枚のガラス基板の間に微小面積単位により各々異なる電界を形成できるように、いずれか一枚のガラス基板には、板形状の電極を形成する一方、残り一つのガラス基板には具現しようとする解像度に対応する大きさを有する微小面積を有する複数個の電極を形成する。以後、これらを組立てた状態で２枚のガラス基板の間に電界の強さによって光透過度が異なる特性を有する液晶を注入して製作する。
【０００５】
一方、液晶表示装置で光の透過度を制御する役割を有する液晶は、ただ光の透過度のみを精密に制御するだけで、直接光を生産しない。これは、液晶表示装置ではデイスプレーを実施するためには、どのような形態でも液晶を通過する光を必要とすることを意味する。
【０００６】
液晶を通過する光を生成する方法は、液晶表示装置外部の光を利用する方法及び液晶表示装置で電気的エネルギーを消費して光を生成した後、これを使用する方法に大きく分類できる。
【０００７】
このとき、液晶表示装置の外部から入射された光を利用する方法は、外部から液晶表示装置に入射される光がないとき、デイスプレーを実施できない致命的な問題点を有する。
【０００８】
このような、問題点により最近、液晶表示装置に貯蔵された電気的エネルギーを消費して光を生成及びこれを利用してデイスプレーを実施する方法が広く使用されている。
【０００９】
このように、液晶表示装置に貯蔵された電気的エネルギーを消費してデイスプレーを実施するときにも、高品質映像を得るためには多くの問題点が有る。
【００１０】
代表的な問題点は、液晶表示装置の全体デイスプレー面積にわたって均一な光学的均一性、即ち、均一な輝度が保障されなければならないが、このように均一な輝度を発生させる面光源を具現し難しいと言う点である。
【００１１】
添付された図１には、冷陰極線管方式ランプのように線光源光学分布を有する光源（１）で発生した光を、面光源光学分布を有するように変更させることにより、面光源を確保する方式が説明されている。
【００１２】
ここで線光源光学分布を、面光源光学分布を有するように変更する役割は“導光板”（Ｌｉｇｈｔ  Ｇｕｉｄｅｄ  Ｐａｎｅｌ；ＬＧＰ：３）により具現される。
【００１３】
このような導光板３は、所定合成樹脂材質により製作され、全体的な形状は均一な厚さを有するプレート形状又は一側から他側に行くほど厚さが段々増加されるくさび形状により製作される。
【００１４】
このような導光板３の構造は、線光源形態の光学分布を有するランプ１で発生した光が導光板３の側面３ａに入射され導光板３の内側底面３ｂに反射された後、導光板３の上面３ｃを通じてＡの方向に射出されるようにする。
【００１５】
このような導光板３は、面光源形態の光学分布を有するに適するが、漏洩光などによる光効率の低下がある。
【００１６】
導光板３の光効率を高めるために導光板３の外側底面には、シルクスクリーンなどの方式によって反射ドット３ｄが形成される。
【００１７】
しかし、このように導光板３の外側底面に形成される反射ドット３ｄはやはりまた異なる問題点を発生させる。
【００１８】
問題点には、反射ドット３ｄが形成された導光板３を長時間使用する場合、反射ドット３ｄの色が元来の色と異なるように変わることがある。このように、色が変わった反射ドット３ｄに光が反射される場合、反射された光の色が変色即ち、黄変現象が発生し、所望のデイスプレー色相がデイスプレーされない。
【００１９】
また異なる問題点は、シルクスクリーン方式には、反射ドット３ｄの大きさをある程度以下、例えば、１００μｍ以下に精密に形成し難しいと言うものである。
【００２０】
またさらに異なる問題点は、反射ドット３ｄを形成するとき、反射ドット３ｄの形状不良が頻繁に発生されると言うものである。
【００２１】
これ以外にも、面光源形態の光学分布を発生させる導光板を使用する場合、面光源形態の光学的分布は得ることができるが、図４の符号５で図示されたように輝度分布が相当に不均一となる問題点を有する。
【００２２】
このように、導光板３のみを使用したとき、発生されるデイスプレー性能低下を克服するために導光板３の上面には、図２に図示されたように“拡散板（ｄｉｆｆｕｓｅｒ）６”がさらに設置される。図２の符号Ｂは導光板の側面に漏洩される光である。
【００２３】
拡散板６は、導光板３から射出され図４で符号５に図示された光学分布を有する光を図４で符号７に図示された光学分布を有するように光を拡散させる役割を有する。これ以外にも、拡散板６は導光板３に形成された反射ドット３ｄが肉眼で目視されることを防止する役割も有する。
【００２４】
拡散板６を使用する場合、導光板３から射出された光が散乱され光学的均一性はある程度克服される。
【００２５】
しかし、光が散乱される過程で光の方向性が喪失され、図３に図示された液晶表示パネルアセンブリ８に入射された後、光量が減少し、視野角が大きく低下するという異なる問題点を有する。
【００２６】
これを防止するために、図３に図示されたように拡散板６の上面には少なくとも１枚以上のプリズムシート９がさらに設置される。このプリズムシート９は拡散板６で拡散された光を図４の符号１０に図示された光学的分布を有するように光学的分布を変更させる。
【００２７】
一方、導光板３に入射された光のうち一部は、導光板３から反射され液晶表示パネルアセンブリ８側に向かうが、図１乃至図３に図示されたように一部は、導光板３の底面でも漏洩する。図１の符号Ｃは外部へ漏洩する漏洩光である。
【００２８】
このように、光の一部が導光板３の底面を通じて漏洩する場合、当然に液晶表示パネルアセンブリ８に向かう光が足りなくなって、デイスプレーに必要である輝度が足りなくなる問題点を発生させる。
【００２９】
これを防止するために、導光板３の底面には、導光板３で漏洩した光を再生するために光反射率が高い反射シート１１がさらに設けられる。
【００３０】
このように、導光板３及び導光板３に反射ドット３ｄを使用する場合、デイスプレー特性を向上させるために導光板３は、拡散板６、プリズムシート９、反射シート１１などを付随的に必要とするから、生産原価が大きく増加する。
【００３１】
これらは、図示されない収納容器（図示せず）に順次に積層され所謂、“バックライトアセンブリ“を具現する。
【００３２】
このような構成を有する、バックライトアセンブリの構成要素である導光板３、導光板３に関連して設けられる拡散板６、プリズムシート９、反射シート１１は光の光学的均一性を向上させる代わりに、冷陰極線管ランプなどのようなランプ１から発生された光の相当部分が犠牲にされる結果を発生させる。
【００３３】
従って、液晶表示装置からデイスプレーに必要である十分な輝度を得るためには、バックライトアセンブリで損失される光量を勘案して、冷陰極線管方式ランプ１で発生する光量を増加させるしかない。これは、結局、液晶表示装置での消費電力が大きく増加されることを意味する。
【００３４】
これ以外にも、光学的均一性を向上させるに使用される拡散板６、プリズムシート９、反射シート１１は液晶表示装置の厚さを増加させる要因となり、組立に要する時間を増加させ、生産原価を大きく増加させる原因となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３５】
従って、本発明の第１目的は、ランプから発生された光が面光源光学分布を有し、高輝度で液晶表示パネルアセンブリ側に入射されるようにする導光板の製造方法を提供するものである。
【００３６】
本発明の第２目的は、輝度及び輝度均一性が増加された導光板を製造する方法を提供するものである。
【００３７】
本発明の第３目的は、導光板の構造を変更して輝度を大幅向上させることは勿論、厚さ及び体積が減少された液晶表示装置に必要な導光板の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００３８】
上記課題を解決するためになされた本発明による導光板製造方法は、輝度を強化するための導光板を製造する方法において、（ａ）ベース基板に感光膜を所定厚さで塗布する段階と、（ｂ）前記感光膜に光を利用して露光及び現像して前記感光膜の表面から所定深さを有する多角錐形状の凹所を少なくとも１個以上形成する段階と、（ｃ）前記感光膜の表面及び前記凹所にメタル物質を蒸着して、前記感光膜の上部に所定厚さを有するメタル基板を形成する段階と、（ｄ）前記感光膜から分離された前記メタル基板を下部モールド及び上部モールド間の内部空間に位置させた状態で導光板形成物質を前記内部空間に注入する段階とを含むことを特徴とする。
【００３９】
また好ましくは、前記段階（ｂ）では、前記感光膜に形成された凹所の内壁が、凹所を基準として外側に所定曲率を有する曲面と成るように露光し現像されることを特徴とする。
【００４０】
また好ましくは、前記段階（ｂ）以後には、前記感光膜に形成された凹所の内壁を再び部分的に露光及び現像して前記凹所の内壁から所定深さを有する光拡散凹所を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００４１】
第１に、導光板の構造を変更することにより液晶表示パネルアセンブリに供給される光の輝度を大幅に向上した導光板を、最小限のマスク工程数で製造できるので、安価かつ短納期で供給できる。
【００４２】
第２に、導光板の構造を変更することにより、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性を大幅に向上した導光板を、最小限のマスク工程数で製造できるので、安価かつ短納期で供給できる。
【００４３】
第３に、本発明の方法により製造した導光板を用いると、導光板の構造を変更することにより、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性を向上させる役割を有する拡散シートを使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
【００４４】
第４に、本発明の方法により製造した導光板を用いると、導光板の構造を変更することにより、従来の液晶表示パネルアセンブリでディスプレー視野角を向上させる役割を有するプリズムシートを使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
【００４５】
第５に、本発明の方法により製造した導光板を用いると、導光板の構造を変更することにより、従来の導光板から漏洩される光を再生する役割を有する反射板を使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
【００４６】
第６に、本発明の方法により製造した導光板を用いると、導光板の構造を変更することにより、液晶表示パネルアセンブリに供給される光の均一性及び輝度を向上させるための拡散シート、プリズムシート、反射板を全て使用しなくてもよく、液晶表示装置の厚さ減少、重み減少、組立工程数減少、組立部品数減少の効果を得ることができる。
【００４７】
第７に、本発明の方法により製造した導光板を用いると、導光板の構造を変更することにより、光学的均一性および輝度向上、視野角向上のためのいろいろのシート類を使用しないことにより、生産原価を大きく減少させることができる効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４８】
以下、図面を参照して本発明の望ましい実施形態をより詳細に説明する。
【実施例１】
【００４９】
始めに、本実施例の方法を適用して製造される導光板の形態について説明する。図５は、液晶表示パネルに面光源形態の光を提供する役割を有する、第１の形態の導光板７００の背面斜視図である。
【００５０】
図５を参照すれば明らかなように、第１の形態の導光板７００は、全体的に見て、厚さに差がない直六面体プレート形態を有するフラットタイプ又は一側端部から他側端部に行くほど厚さが段々増加するくさび形態により製作することができる。
【００５１】
本形態では、くさび形態を有する導光板について説明する。
【００５２】
このように、くさび形態を有するくさびタイプ導光板は、直六面体と類似した形態を有するために、相互対向する上面及び下面を囲む少なくとも３個以上の側面により構成される。
【００５３】
本形態では望ましくは４個の側面を有する導光板が説明される。
【００５４】
以下、導光板７００のうち液晶表示パネルと向き合う関係を有する面を特別に“光射出面１２０”と定義し、光射出面１２０と対向する残り一つの面を“光反射面１１０”と定義する。
【００５５】
さらに、導光板７００を成す４個の側面のうちランプが設置される側面を特別に“光入射面１３０”と定義し、残り３個の側面を各々“第１側面１４０”、“第２側面１５０”、“第３側面１６０”と定義する。
【００５６】
この時、図５に図示されたように光反射面１１０には全面積にわたって複数個の“輝度強化凹所（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ  ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  ｒｅｃｅｓｓ；１１２）”が形成される。
【００５７】
マトリックス形態で形成された輝度強化凹所１１２は、光入射面１３０に形成されるランプの位置によって形成面積が変更される。
【００５８】
具体的には、輝度強化凹所１１２の形成密度は導光板７００に光を供給するランプが設置される光入射面１３０を基準にして決定される。
【００５９】
より具体的には、光反射面１１０に形成される輝度強化凹所１１２の密度は、光入射面１３０から光入射面１３０と向き合う第１側面１４０にいくほど連続的に増加される。
【００６０】
図６又は図７には、このような密度を有する各輝度強化凹所１１２の形状が図示されている。
【００６１】
輝度強化凹所１１２は、一実施形態で４個の凹所壁面を有する四角錐形態を有する。
【００６２】
本形態では、輝度強化凹所１１２を四角錐として形成したが、これに限らず、少なくとも３つの側面を有した多角錐及び角のない錐の形態を選択的に使用できる。
【００６３】
以下、各輝度強化凹所１１２に形成された４個の凹所壁を各々“第１凹所壁面１１２ａ”、“第２凹所壁面１１２ｂ”、“第３凹所壁面１１２ｃ”、“第４凹所壁面１１２ｄ”と定義する。
【００６４】
ここで重要であることは、導光板７００の光入射面１３０及び第１乃至第３側面１４０、１５０、１６０と輝度強化凹所１１２を形成する４個の第１乃至第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄが各々向き合う関係を有する。
【００６５】
より具体的には、導光板７００の光入射面１３０と第１凹所壁面１１２ａ、導光板７００の第１側面１４０と第２凹所壁面１１２ｂ、導光板７００の第２側面１５０と第３凹所壁面１１２ｃ、導光板７００の第３側面１６０と第４凹所壁面１１２ｄがかなりの正確さで向き合うように形成される。
【００６６】
このように、導光板７００の４個の側面１３０、１４０、１５０、１６０と輝度強化凹所１１２の凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄを相互マッチングさせることにより輝度向上効果を得ることができる。
【００６７】
具体的に、添付された図８又は図９を参照すれば、ランプ２００から発生した光は、導光板７００の光入射面１３０を通じてａ方向に入射された後、導光板７００の光反射面１１０（図９参照）から面光源光学分布を有するように反射される。
【００６８】
この時、ランプ２００が光入射面１３０を通じて入射された光の進行方向は、ａ方向以外に、光入射面１３０と向き合う導光板７００の第１側面１４０から反射されたｂ方向、光入射面１３０と隣接した第２側面１５０から反射されたｃ方向、第３側面１６０から反射されたｄ方向を有する。
【００６９】
この時、輝度強化凹所１１２がない場合、ａ方向に入射された光は、光反射面１１０により光射出面１２０に向かって反射される。
【００７０】
このとき、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向を有する光は、光反射面１１０によりやはり反射されるが、デイスプレーに必要である方向を有しないので損失となる。
【００７１】
これに対し、本形態のように輝度強化凹所１１２が形成される場合、ａ方向、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向を有する光は、全て輝度強化凹所１１２の第１乃至第４凹所壁面１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄにより反射され光射出面１２０に向かう。
【００７２】
添付された図９は、ａ方向に入射された光だけでなく、ｂ方向（図示せず）、ｃ方向及びｄ方向を有する全ての光が輝度強化凹所１１２により反射された後、光射出面１２０を通じて外部に射出されることを示している。
【００７３】
シミュレーション結果によると、ａ方向はもちろん、ｂ方向、ｃ方向、ｄ方向において損失となる光を積極的に活用できる輝度強化凹所１１２を形成する場合、約１０％以上の輝度向上を得ることができる。
【００７４】
図６乃至図９に図示された輝度強化凹所１１２の第１凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄは全て凹所壁面が鏡面加工された四角錐形態を有する。
【００７５】
即ち、これは光が第１凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄから反射されるとき、光は全て鏡面反射となると言うことを意味する。
【００７６】
図１０を参照すれば、このように光が第１凹所壁面１１２ａ乃至第４凹所壁面１１２ｄで鏡面反射を起こす場合、デイスプレー画面３００に局部的に特に明るく又は暗くなった部分が現れることを示す。
【００７７】
このように、輝度均一性低下によりデイスプレー画面３００の一部が部分的に、特別に明るく又は暗く示される場合、使用者の目に疲労を加重させるなど、デイスプレー特性が大きく低下される。
【００７８】
添付された図１１乃至図１７には、第１の形態の導光板を製造するため、輝度強化凹所を導光板７００の光反射面１１０上に製作する方法が図示されている。
【００７９】
添付された図１１を参照すれば、まずベース基板４１０の上面にはスピンコーティングなどの方法により厚目のフォトレジスト薄膜４２０が形成される。
【００８０】
以後、図１２に図示されたように、フォトレジスト薄膜４２０の上面には光を集める役割を有するマイクロレンズ４３０が整合される。
【００８１】
以後、光源４４０で発生した光は、マイクロレンズ４３０に照射され、マイクロレンズ４３０を通過した光は、フォトレジスト薄膜４２０に照射されフォトレジスト薄膜４２０を露光させる。
【００８２】
このような、マイクロレンズ４３０は、図１２に図示したようにマイクロレンズ４３０の焦点が合う部分では、入射光面積が小さく、そこから離れるに従い連続して入射光面積が増加する如き入射形態で所望の露光プロファイルが形成されるようにする。四角錐にすることが必要であればマイクロレンズの形状を調節するかマスクを用いる。
【００８３】
次いで、図１３に図示されたように、露光されたフォトレジスト薄膜４２０を現像することによりフォトレジスト薄膜４２０には形成しようとする輝度強化凹所１１２のプロファイルと同一のパターンの凹所が形成される。
【００８４】
次いで、図１４に図示されたようにパターニングされたフォトレジスト薄膜４２０の上面には、スパッタリング工程により所定メタルが所定時間の間に、所定厚さで蒸着される。これにより、パターニングされたフォトレジスト薄膜４２０の上面にはメタル基板４３０が形成され、メタル基板４３０には輝度強化凹所１１２と同一の形状を有するメタル突起４３５が形成される。
【００８５】
次いで、図１５に図示されたようにメタル基板４３０に付着したフォトレジスト薄膜４２０は、アッシング（ａｓｈｉｎｇ）工程により除去され、フォトレジスト薄膜４２０が除去されたメタル基板４３０は導光板製作用下部鋳型（モールド）４４０に取付けられる。
【００８６】
次いで、図１６に図示されたように、導光板製作用下部鋳型４４０には導光板製作用上部鋳型（モールド）４５０が結合される。
【００８７】
以後、導光板製作用上部鋳型４５０を通じて、導光板製作物質４６０が注入される。これにより、上部鋳型４５０及び下部鋳型４４０との間の空間には図１７に図示されたように光反射面１１０に輝度強化凹所１１２が形成された導光板７００が製作される。
【００８８】
添付された図１８は、第１の形態の導光板７００が適用された液晶表示装置の概念図である。
【００８９】
液晶表示装置６００は概略的に言って、液晶表示パネルアセンブリ６１０及バックライトアセンブリ６６０により構成される。
【００９０】
より具体的には、液晶表示パネルアセンブリ６１０は概略的に言って、ＴＦＴ基板６０１及びカラーフィルタ基板６０２及びこれらの間に位置した液晶（図示せず）により構成された液晶表示パネル６０３、これらを駆動させるための駆動モジュール６０４、６０５、６０６、６０７により構成される。
【００９１】
液晶表示パネルアセンブリ６１０の液晶はただ電界によって、光透過度のみを変える役割を有する。これは液晶表示パネルアセンブリ６１０からデイスプレーを実施するためには、高輝度及び均一な輝度を有する光源を必要とすることを意味する。
【００９２】
これのために、液晶表示パネルの下部には、バックライトアセンブリ６６０が設けられる。
【００９３】
本発明の一実施形態によるバックライトアセンブリ６６０は、概略的に言って実施形態１で説明されたような形状及び製作方法により製作された輝度強化凹所を有する導光板７００、導光板７００の光入射面１３０に光を提供するランプアセンブリ６２０、導光板７００の光射出面１２０の上に設けられ導光板７００から射出された光の輝度均一性を向上させるための光学シート類６３０、導光板７００の底面に形成され導光板７００から漏洩される漏洩光を再生させる反射板６４０を含む。
【００９４】
符号６５０は収納容器である。
【００９５】
表１は従来技術による液晶表示装置のバックライトアセンブリと、本実施例により製造された第１の形態の導光板を用いたバックライトアセンブリ６６０の、構成要素及び輝度を比較した表である。
【表１】
2007148413.tif 000003
【００９６】
表１によると、従来の液晶表示装置のバックライトアセンブリと本実施例によるバックライトアセンブリ６６０は全てプリズムシート、拡散板により構成された光学シート類６３０、導光板７００、反射板６４０を有する。本実施例の場合、導光板７００に形成された輝度強化凹所１１２により従来のバックライトアセンブリに対比して輝度が約１０％以上向上する。
【００９７】
一方、導光板７００の光反射面１１０にマトリックス形態で形成される輝度強化凹所１１２の構造をさらに変更する場合、デイスプレー画面が部分的に、特に明るく又は暗く現れて、デイスプレー性能が低下されるということを防止できる。
【実施例２】
【００９８】
このように、デイスプレー画面の一部が特に、明るく又は暗く現れてデイスプレー性能低下が発生することを防止するために、図２０に図示されたように、第２の形態の導光板７００の光反射面１１０には、第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄが輝度強化凹所１１４の内部空間から外側へ凸に所定曲率を有する曲面になるように形成される。
【００９９】
このように、輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄが所定曲率を有するように曲面を形成することは、図２１に図示されたように第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄに到達して反射される光が曲面に反射されるときより広い角度で反射され、即ち光の反射経路の多様化による拡散が得られるようにするためである。
【０１００】
このように、輝度強化凹所１１４から反射される光が拡散されるようにする場合、高輝度デイスプレーは勿論、光の均一性を大きく向上させ高品質デイスプレーが可能になる。
【０１０１】
このように、輝度強化凹所１１４の凹所壁を曲線加工して輝度を向上させた導光板７００の製法は、前に図１１乃至図１７で十分に説明した実施例１の導光板製作方法と同一である。
【０１０２】
ただ、輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄが所定曲率を有するように製作するためには、露光光源の波長を精密に調節しなければならない。
【実施例３】
【０１０３】
一方、導光板７００に形成された輝度強化凹所１１４での光拡散をより強化するために、図２２に図示されたように輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ上には複数個の光拡散凹所１１４ｅがさらに形成される。
【０１０４】
具体的に、添付された図２３を参照すると、輝度強化凹所１１４の横、縦が一実施形態で１００μｍの長さを有するとするとき、輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄには横、縦の長さが約１５μｍ〜２０μｍである光拡散凹所１１４ｅが少なくとも１個以上形成される。
【０１０５】
このような光拡散凹所１１４ｅは、輝度強化凹所１１４で拡散反射された光を再び散乱させ、輝度均一性をさらに向上させる役割を有する。
【０１０６】
この時、光拡散凹所１１４ｅは規則的な形態で形成又は不規則な形態で形成することができる。また、光拡散凹所１１４ｅは規則的な形態に配列又は不規則な形態に配列されることができる。
【０１０７】
以下、輝度強化凹所１１４に光拡散凹所１１４ｅが形成された導光板７００を製作する方法を添付された図２４乃至図３０を参照して説明する。
【０１０８】
まず、図２４に図示されたようにベース基板８１０の上面には、スピンコーティングなどの方法により厚目のフォトレジスト薄膜８２０が形成される。
【０１０９】
以後、図２５に図示されたようにフォトレジスト薄膜８２０の上面には光を集める役割を有するマイクロレンズ８３０が整合される。
【０１１０】
続いて、光源で発生した光はマイクロレンズ８３０を通過してフォトレジスト薄膜８２０に照射されることにより、フォトレジスト薄膜８２０を露光させる。
【０１１１】
この時、マイクロレンズ８３０の焦点が合う部分では露光面積が最小になり、そこから離れるに従い露光面積が増加され、結局、フォトレジスト薄膜８２０にはマイクロレンズ８３０から照射された光のプロファイルと同様な形態で露光が実施される。このとき、マイクロレンズ８３０の形状を調節して光のプロファイルが四角錐形態を有するようにする。
【０１１２】
以後、図２６に図示されたようにフォトレジスト薄膜８２０のうち、露光された部分は現像液により現像されることにより、フォトレジスト薄膜８２０には多角錐形状、一実施形態で四角錐形態を有する凹所８２５が形成される。
【０１１３】
続いて、図２７に図示されたように、光拡散凹所１１４ｅ形成するための異なるマイクロレンズ８４０が凹所８２５上に位置する。この時、光拡散凹所１１４ｅを形成するためのマイクロレンズ８４０は凹所８２５の内壁一部に再び小凹所が形成されるように全面的にわたって光遮断膜が形成され、一部のみがドット形状で開口されている。
【０１１４】
このような状態で、図２７に図示されたように光源から光が供給されマイクロレンズ８４０を通じて光が露光され、フォトレジスト薄膜８２０のうち予め形成された凹所８２５の内部には、図２８に図示されたように光拡散凹所１１４ｅを形成するための凹所８２７が形成される。
【０１１５】
以後、図２９に図示されたようにフォトレジスト薄膜８２０の上面には全面的にわたってスパッタリング工程により所定メタルが所定時間の間に、所定厚さで蒸着されメタル基板８５０が形成される。
【０１１６】
これにより、メタル基板８５０には輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅと同様な形状を有するメタルパターンが形成される。
【０１１７】
以後、フォトレジスト薄膜８２０は、アッシング工程により除去され、図３０に図示されたようにメタル基板８５０は導光板製作用下部鋳型（モールド）８６０に取付けられる。
【０１１８】
以後、導光板製作用下部鋳型８６０には導光板製作用上部鋳型（モールド）８７０が結合され、導光板製作用上部鋳型８７０を通じて導光板製作物質８８０が注入される。これにより、導光板７００の光反射面１１０には輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅが全て形成される。
【０１１９】
添付された図３１には、このように導光板７００に輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅを備えるように製作された導光板７００が適用された液晶表示装置が図示されている。
【０１２０】
液晶表示装置９００は概略的に言って、液晶表示パネルアセンブリ９１０及びバックライトアセンブリ９６０により構成される。
【０１２１】
より具体的には、液晶表示パネルアセンブリ９１０は、ＴＦＴ基板９０１、カラーフィルタ基板９０２及びこれらの間に位置した液晶により構成された液晶表示パネル９０３、これらを駆動させるための駆動モジュール９０４、９０５、９０６、９０７により構成される。
【０１２２】
一方、液晶表示パネルアセンブリ９１０の液晶は、電界によって光透過度のみを変える役割を有し、これは液晶表示パネルアセンブリからディスプレーを実施するためには光源を必要とすることを意味する。
【０１２３】
これを満足させるために、液晶表示パネル９０３の下部には、バックライトアセンブリ９６０が設けられる。
【０１２４】
本実施例におけるバックライトアセンブリ９６０は、概略的に言って輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅを有する導光板７００、導光板７００の光入射面１３０に光を提供するランプアセンブリ９２０、導光板７００の上面に形成され視野角を向上させる少なくとも１枚以上のプリズムシート９３０、導光板７００の底面に形成され導光板７００から漏洩する漏洩光を再生させる反射板９４０とを含む。
【０１２５】
符号６５０は収納容器である。
【０１２６】
このように、重要な特徴として、本実施例による導光板７００を使用する液晶表示装置９００は、拡散シートが導光板７００の上面と液晶表示パネルアセンブリ９１０の間に設けられなくてもよいということが挙げられる。
【０１２７】
このように、液晶表示装置に拡散シートを使用しなくてもよいということは、導光板７００の光反射面１１０に形成された輝度強化凹所１１４の第１乃至第４凹所壁面１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄをラウンド形態即ち曲面を有するように形成又は輝度強化凹所１１４の凹所壁に光拡散凹所１１４ｅを形成することにより可能になる。
【０１２８】
表２は従来の、一般的な導光板を使用した場合と、本実施例による曲面輝度強化凹所及び光拡散凹所が全て形成された導光板を使用した場合との、バックライトアセンブリの構成要素及び輝度を比較した表である。
【表２】
2007148413.tif 000004
表２によると、従来の液晶表示装置のバックライトアセンブリと本実施例によるバックライトアセンブリは、共通的にプリズムシート９３０、導光板７００、反射板９４０を有する。
【０１２９】
しかし、本実施例の場合、導光板７００に設けた一実施形態で輝度強化凹所１１４及び光拡散凹所１１４ｅによって予め十分な拡散が導光板７００のレベルから得られるので、拡散板が設けられなくてもデイスプレー性能に影響を及ぼさず、従来のバックライトアセンブリ対比輝度が約１０％以上向上される。
【０１３０】
このように、本実施例１〜３により製造した導光板７００は、光射出面１２０に輝度強化凹所１１４又は光拡散凹所１１４ｅを形成して導光板７００へ入射された光の均一性及び輝度を向上させる役割を有する。
【実施例４】
【０１３１】
以下の実施例４では、導光板７００の光射出面１２０の構造を変更して輝度強化凹所１１４で均一性が向上された状態で射出される光の正面視野角確保が可能であるようにする。
【０１３２】
具体的には、図３２に図示されたように導光板７００の光射出面１２０には、予め定めたＸ−Ｙ座標系のＸ軸方向に少なくとも１個以上が連続して反復され、プロファイルがプリズム形態を有する光集光パターン１７２が形成される。
【０１３３】
光集光パターン１７２は導光板７００の光射出面１２０から方向性が相当に一定しない状態で射出される光の方向を視野角が改善される方向に変更させる役割をする。
【０１３４】
ここで、光集光パターン１７２と液晶表示パネルのピクセルパターンは、モアレ現象が起る条件を満足させないように液晶表示パネルのピクセルパターンと光集光パターン１７２のピッチは精密に調節される。
【０１３５】
以下、このように光射出面１２０に光集光パターン１７２を形成し、光反射面に輝度強化凹所１１７が形成された導光板７００を形成する方法を添付された図３３乃至図３８を参照して説明する。
【０１３６】
まず、図３３に図示されたように、プレート形状を有するベース基板８４０の上面には、フォトレジスト薄膜８４１がスピンコーティングなどの方法により厚目に形成される。
【０１３７】
続いて、図３４に図示されたように、フォトレジスト薄膜８４１にはマイクロレンズ（図示せず）を利用した露光方法によって輝度強化凹所１１４が形成される位置にフォトレジスト薄膜１１４の場合と対応する形状を有する凹所８４３が形成される。
【０１３８】
次いで、図３５に図示されたようにフォトレジスト薄膜８４１の上面にはスピンコーティングなどの方法によって、緻密なメタル基板８４５が所定厚さで形成される。このとき、メタル基板８４５には輝度強化凹所１１４と同様な形状を有するメタルパターン８４５ａが形成される。
【０１３９】
次いで、図３６に図示されたようにフォトレジスト薄膜８４１が除去されたメタル基板８４５はメタルパターン８４５ａが上部に向かうように下部鋳型８４６の指定された位置に固定されたとされ、図３７に図示されたように下部鋳型８４６は上部鋳型８４７と結合される。
【０１４０】
ここで、上部鋳型８４７には前述した光集光パターン８４７ａと同様な形状を有するパターンが形成されている。
【０１４１】
次いで、図３８に図示されたような形態で、上部鋳型８４７と下部鋳型８４６との間には導光板製作物質８４８が注入されることにより、光射出面１２０には“Ｖ”字形状を有する光集光パターン１７２が形成され、光反射面には輝度強化凹所１１４が形成された導光板７００が製作される。
【０１４２】
一方、このような方法により製作された導光板７００は光集光パターン１７２がＹ軸と平行となるように形成されるために、図３２におけるＺＸ平面と平行な角度で進行する光は、視野角を改善する方向へ光の方向が変更される。
【０１４３】
しかし、ＺＹ平面と平行な角度を有する光は、視野角を改善する方向へ光の方向を変更することは不可能又は相当に難しい。
【実施例５】
【０１４４】
従って、本実施例では、ＺＹ平面と殆ど平行な角度を有する光の視野角まで改善する一実施形態が開示される。
【０１４５】
添付された図３９ではまず、導光板７００の光射出面１２０にはＸ軸方向に反復し、Ｙ軸方向には平行で、プロファイルがプリズム形態を有する第１集光パターン１７２が形成される。
【０１４６】
集光パターン１７２が形成された導光板７００の上面には光を再び集光するための輝度集中導光板１９０が形成される。
【０１４７】
輝度集中導光板１９０は、底面には集光パターン１７２とかみ合って結合される構造を有する第１補助集光パターン１９２が形成され、上面にはＸ軸方向と平行し、Ｙ軸方向に反復される“Ｖ”字形状を有するプリズム形態の第２補助集光パターン１９４が形成される。
【０１４８】
この時、輝度集中導光板１９０と導光板７００は鋳型（モールド）によって一体的に製作したり、輝度集中導光板１９０及び導光板７００を各々別途の工程により製作した後、これらを相互結合させることができる。
【０１４９】
この時、導光板７００に形成された集光パターン１７２及び輝度集中導光板１９０に形成された第１補助集光パターン１９２はかみ合って結合されるとき、間に微細空間が形成されるようにすることにより、光の屈折率を最適化することができる。
【０１５０】
導光板７００の上面に輝度集中導光板１９０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集中導光板１９０の材質を異なるようにすることにより、光が導光板７００を通過するとき及び輝度集中導光板１９０を通過するときの光学屈折率を調節する方法が可能である。
【０１５１】
また、導光板７００の上面に輝度集中導光板１９０を一体で製作し、導光板７００の材質と輝度集中導光板１９０の材質を同一にすることもできる。
【０１５２】
以下、このように導光板７００の上面に輝度集中導光板１９０を一体で製作する方法を添付された図３３乃至図３８、また図４０又は図４１を参照して説明する。
【０１５３】
まず、これのために前述した図３３及び図３８の過程を同様に実施して、導光板７００の光射出面１２０に第１集光パターン１７２及び導光板７００の光反射面に輝度強化凹所１１４が形成された導光板７００を製作する。
【０１５４】
次いで、図４０に図示されたように製作された導光板７００を下部鋳型８８０に固定させた状態で、上部鋳型８９０と下部鋳型８８０を結合する。
【０１５５】
この時、上部鋳型８９０には第１集光パターン１７２と相異する角度、望ましく９０°の角度をなし、プロファイルがプリズム形状を有する別途のプレートが設けられる。
【０１５６】
代替的には、上部鋳型８９０自体に第１集光パターン１７２と相異する角度、望ましくは９０°の角度をなし、プロファイルがプリズム形状を有するパターンを形成してもよい。
【０１５７】
このような、上部鋳型８９０に下部鋳型８８０が結合された状態で上部鋳型８９０と下部鋳型８８０の間空間には、図４０に図示されたように導光板製作物質１９０ａが注入され導光板７００の上面には、輝度集中導光板１９０が一体で製作される。
【０１５８】
この時、導光板製作物質は導光板７００の材質と一致させてもよく、光集中機能の向上のために、導光板７００と異なる物質を使用してもよい。
【０１５９】
添付された図４２は、前述した実施形態１及び実施形態２の組合せにより製作された導光板７００が適用された液晶表示装置１０００の概念図である。
【０１６０】
液晶表示装置１０００は、概略的に言って液晶表示パネルアセンブリ１１００及びバックライトアセンブリ１２００により構成される。
【０１６１】
より具体的には、液晶表示パネルアセンブリ１１００は概略的に言って、ＴＦＴ基板１１１０及びカラーフィルタ基板１１２０及びこれらの間に位置した液晶により構成された液晶表示パネル１１３０、これらを駆動させるための駆動モジュール１１４０、１１５０、１１６０、１１７０により構成される。
【０１６２】
一方、液晶表示パネルアセンブリ１１００の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有する。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリ１１００からデイスプレーを実施するためには高輝度及び均一な輝度を有する光源を必要とする。
【０１６３】
これを満足させるために、液晶表示パネル１１３０の下部にはバックライトアセンブリ１２００が設けられる。
【０１６４】
上記実施例４、５におけるバックライトアセンブリ１２００は概略的に言って、実施例１〜５で説明されたような形状及び製作方法によって製作された導光板７００、導光板７００の光入射面１３０に光を提供するランプアセンブリ１２１０、導光板７００の底面に形成され導光板７００から漏洩される漏洩光を再生させる反射板１２２０及びこれらを収納する収納容器を含む。
【０１６５】
この時、相当に重要なことは、実施形態１及び実施形態２により製作された導光板７００を使用する液晶表示装置１０００は拡散シート及びプリズムシートにより構成された光学シート類が導光板７００の上面と液晶表示パネルアセンブリ１１００の間に設けられなくてもよいということである。
【０１６６】
このように、液晶表示装置１０００に光学シート類を使用しなくてもよい理由は、前述した実施例４、５により製作された導光板７００の光反射面に形成された輝度強化凹所１１４の凹所壁をラウンド形態で形成し、輝度強化凹所１１４の凹所壁に光拡散凹所を形成し、導光板７００の光射出面に光集光パターン１７２及び輝度集中導光板１９０を形成することにより可能になる。
【０１６７】
表３は従来の一般的な導光板を使用した時と、本発明による実施例４又は５により製作された導光板７００を使用した時の、バックライトアセンブリの構成要素及び輝度を比較した表である。
【表３】
2007148413.tif 000005
【実施例６】
【０１６８】
前述した実施例４、５では、導光板の光入射面を通じて入射された光を光射出面に反射させるとき、光反射面に輝度強化凹所を形成、輝度強化凹所の形状を変更、輝度強化凹所にまた異なる光拡散凹所などを形成及び導光板の光射出面に光集光パターンを形成して、光射出面を通じて射出される光の輝度向上及び輝度均一性及び視野角を向上させることが説明されている。
【０１６９】
一方、前述した導光板の光入射面を通じて入射された光は、大部分が光反射面に形成された輝度強化凹所によって光射出面側に反射されるが、一部は導光板の光反射面から反射されず、光反射面を透過して漏洩し輝度低下が発生する。
【０１７０】
本実施例では、このように導光板の光反射面を通過して漏洩する光を最小化し、反射板を使用しなくても導光板の光反射面を通じて全ての光が反射されることができるようにする実施形態が説明される。
【０１７１】
添付された図１９、図４３、及び図４４を参照すれば、導光板７００の光反射面１１０に輝度強化凹所１１４がマトリックス形態で形成された状態で、輝度強化凹所１１４と輝度強化凹所１１４との間に該当する光反射面１１０の表面から列をなして輝度強化突起１１６がさらに形成される。
【０１７２】
ここで、輝度強化突起１１６は、少なくとも三角錐以上の多角錐により製作することが望ましく、円角錐であってもよい。
【０１７３】
この輝度強化突起１１６は図４４に図示されたように、輝度強化凹所１１４で反射されず、導光板７００から漏洩される光が入射された後、鏡面で少なくとも１度以上反射を重ねた後、進行方向が導光板７００の光射出面１２０側に転換されるようにして、導光板７００から光が漏洩されることを最大限り防止する役割を有する。
【０１７４】
このような輝度強化突起１１６は、図４３に図示されたように輝度強化凹所１１４及び輝度強化凹所１１４との間にただ１つの列で形成される。
【実施例７】
【０１７５】
代替的に、図４５又は図４６に図示されたように輝度強化凹所１１４及び輝度強化凹所１１４との間に少なくとも２列以上で形成することも望ましい形態の１つである。
【０１７６】
この時、輝度強化突起１１６の端部が相当に鋭く加工される場合、輝度強化突起１１６の損傷又は他の部品を損傷させることが生じるので、輝度強化突起１１６の端部は図４４に図示されたように丸みをもたせ、即ちラウンド形態で加工することが望ましい。
【０１７７】
一方、輝度強化突起１１６は導光板の光反射面から漏洩される光を最小化するが、漏洩される光を完全には遮断しない。
【０１７８】
即ち、これは導光板の光反射面底面に光を再生する何らかの手段を必要とすることを意味する。
【実施例８】
【０１７９】
これを勘案して本実施例では、光反射面の底面に光を再生する光再生薄膜１１９がさらに形成される。
【０１８０】
この光再生薄膜１１９は、光反射率が優れた物質であり、どのようなものを使用してもよい。代表的に光反射率が優れたメタル材質又は合成樹脂材質が使用されることができる。
【０１８１】
添付された図４７乃至図５２には、輝度強化凹所１１４及び輝度強化突起１１６を導光板７００に形成する方法が図示されている。
【０１８２】
添付された図面を参照すると、まず、図４７に図示されたようにベース基板８８０には厚目のフォトレジスト薄膜８８２が所定厚さで形成される。
【０１８３】
以後、フォトレジスト薄膜８８２には、輝度強化突起と同じ形状を有する突起８８３が形成される。
【０１８４】
具体的には、図４８を参照すれば、フォトレジスト薄膜８８２に突起８８３を形成するためには、パターンマスク８８４を使用して、フォトレジスト薄膜のうち、突起８８３が形成される部分には、光が到達しないようにし、残り部分には光が到達して露光が実施されるようにする。
【０１８５】
この時、光の強度を調節して光と反応するフォトレジスト薄膜に形成される突起８８３の高さが輝度強化突起の高さと同一であるようにする。
【０１８６】
次いで、現像工程を経ることにより、フォトレジスト薄膜８８２の上面には輝度強化突起と同様な形状を有する突起８８３が指定された位置に形成される。
【０１８７】
続いて、添付された図４９に図示されたようにフォトレジスト薄膜８８２には、前述した実施例１〜５で説明したような過程を経て輝度強化凹所と対応した凹所８８５が形成される。
【０１８８】
次いで、図５０に図示されたように、輝度強化突起が形成される位置に形成された突起８８３及び輝度強化凹所が形成される位置が陥没された凹所８８５が形成されたフォトレジスト薄膜の上面には、スパッタリングなどの方法によって所定の厚さを有するように緻密なメタル基板８８６が形成される。
【０１８９】
次いで、図５１に図示されたように、メタル基板８８６は、下部鋳型８８７に取付けられ、前記上部鋳型８８８と下部鋳型８８７を結合した状態で導光板製造物質８８９が下部鋳型８８７と上部鋳型８８８との間に注入され図５２に図示されたような導光板７００が製造される。
【０１９０】
次いで、図４６に図示されたように導光板７００のうち、輝度強化突起が形成された光反射面には光反射率が高い物質により光再生薄膜１１９が形成される。
【実施例９】
【０１９１】
図５３は、この実施例１〜８の組合せにより製作された導光板７００が適用された液晶表示装置１２００の概念図である。
【０１９２】
液晶表示装置１２００は概略的に言って、液晶表示パネルアセンブリ１２１０及びバックライトアセンブリ１２６０により構成される。
【０１９３】
より具体的には、液晶表示パネルアセンブリ１２１０は概略的に言ってＴＦＴ基板１２０１及びカラーフィルタ基板１２０３及びこれらの間に位置した液晶により構成された液晶表示パネル１２０４、これらを駆動するための駆動モジュール１２０６、１２０７、１２０８、１２０９により構成される。
【０１９４】
一方、液晶表示パネルアセンブリ１２１０の液晶は、電界により光透過度のみを変える役割を有する。このような理由で、液晶表示パネルアセンブリからデイスプレーを実施するためには高輝度及び均一な輝度を有する光源を必要とする。
【０１９５】
これを満足させるために、液晶表示パネルの下部にはバックライトアセンブリ１２６０が設けられる。
【０１９６】
本発明の一実施形態によるバックライトアセンブリ１２６０は概略的に言って、光射出面に光集中パターン、光反射面に輝度強化凹所及び光拡散凹所が全て形成された導光板７００、導光板７００の光入射面に光を提供するランプアセンブリ１２３０とを含む。
【０１９７】
この時、相当に重要なことは実施例１〜８で説明された形状及び製作方法の組合せにより製作された導光板７００を使用する液晶表示装置１２００は、拡散シート、プリズムシートは勿論反射板までも導光板７００の上面及び下面に設けられなくても高輝度デイスプレー及び均一な輝度によりデイスプレーが可能であると言うものである。
【０１９８】
このように、液晶表示装置１２００に拡散シート、プリズムシート及び反射板を使用しなくてもよい理由は、前述した実施例１〜８で十分に説明したとおり、導光板７００の光反射面に形成された輝度強化凹所、輝度強化凹所の凹所壁をラウンド形態で形成又は輝度強化凹所の凹所壁に形成された光拡散凹所、導光板７００の光射出面に形成された集光パターン又は導光板７００の光反射面に光再生薄膜１１９を形成することにより可能になる。
【０１９９】
表４は、従来の、一般的な導光板を使用したとき、及び本発明による実施例１〜８の組合せにより製作された導光板７００を使用したときの、バックライトアセンブリの構成要素を比較した表である。
【表４】
2007148413.tif 000006
【０２００】
表４によると、本発明の実施例１〜８を組合せる場合、従来の液晶表示装置に使用されたプリズムシート、拡散板、反射板を設置しなくてもよいので、液晶表示装置の全体厚さを大きく減少させることができる。
【０２０１】
また、導光板に形成された輝度強化凹所、光拡散凹所、集光パターン、輝度強化突起及び光再生薄膜により光損失が最小になって、従来液晶表示装置より１０％以上向上された輝度によりデイスプレーを実施することができる効果を有する。
【０２０２】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０２０３】
【図１】従来の導光板及び反射ドットの作用を説明するための概念図である。
【図２】従来の導光板で射出された光を拡散させるための拡散シートの作用を説明するための概念図である。
【図３】従来の導光板で射出された光を拡散、光を集中する拡散シート及びプリズムシートの作用及び光の漏洩を防止する反射板の作用を説明するための概念図である。
【図４】従来の導光板で射出された光の光学分布、拡散シートで射出された光の光学分布、プリズムシートで射出された光の光学分布を説明するための概念図である。
【図５】実施例１に係る、第１の形態の導光板の背面斜視図である。
【図６】図５のＤ部分を拡大した拡大図である。
【図７】図６のうち輝度強化凹所部分を切断した断面図である。
【図８】第１の形態の導光板の、輝度強化凹所の作用を説明するための概念図である。
【図９】第１の形態の導光板の、輝度強化凹所の光経路を説明するための概念図である。
【図１０】第１の形態の導光板の、輝度強化凹所による光の鏡面反射結果を図示した概念図である。
【図１１】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１２】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１３】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１４】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１５】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１６】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１７】実施例１に係る輝度強化凹所の製作方法を説明するための工程図である。
【図１８】実施例１に係る輝度強化凹所が形成された導光板が適用された液晶表示装置の分解斜視図である。
【図１９】実施例２、３、６に係る、第２の実施形態の導光板の背面斜視図である。
【図２０】実施例２に係る、図１９のＪ部分拡大図である。
【図２１】図２０のうち、曲面輝度強化凹所部分を切断した断面図である。
【図２２】実施例３に係る、図１９のＨ部分拡大図であって、曲面輝度強化凹所の内部に光拡散凹所をさらに形成したものを図示する。
【図２３】図２２の拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所部分を切断した断面図である。
【図２４】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２５】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２６】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２７】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２８】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図２９】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図３０】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所を製作する方法を図示した工程図である。
【図３１】実施例３に係る、光拡散凹所がさらに形成された曲面輝度強化凹所が形成された導光板が適用された液晶表示装置の分解斜視図である。
【図３２】実施例４に係る導光板の斜視図である。
【図３３】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３４】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３５】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３６】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３７】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３８】図３２の導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図３９】実施例５に係る導光板の斜視図である。
【図４０】図３９に図示された導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図４１】図３９に図示された導光板を製作する方法を図示した工程図である。
【図４２】図３９の導光板が適用された液晶表示装置の分解斜視図である。
【図４３】実施例６に係る、図１９のＩ部分を拡大した斜視図である。
【図４４】図４３のうち、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所を同時に切断して図示した断面図である。
【図４５】実施例７に係る、図１９のＩ部分を拡大した斜視図である。
【図４６】図４５のうち、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所を同時に切断して図示した断面図である。
【図４７】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図４８】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図４９】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図５０】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図５１】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図５２】実施例８に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を製造する工程図である。
【図５３】実施例９に係る、光漏洩防止突起及び輝度強化凹所が全て形成された導光板を有する液晶表示装置の分解斜視図である。
【符号の説明】
【０２０４】
１１０  光反射面
１１２  輝度強化凹所
１１４  輝度強化凹所
１２０  光射出面
１３０  光入射面
１４０  第１側面
１５０  第２側面
１６０  第３側面
２００  ランプ
３００  デイスプレー画面
４２０、８２０  フォトレジスト薄膜
４３０、８３０  マイクロレンズ
４４０、８６０  下部鋳型
４５０、８７０  上部鋳型
４６０、８８０  導光板製作物質
６００、９００  液晶表示装置
６０１、９０１  ＴＦＴ基板
６０２、９０２  カラーフィルタ基板
６１０、９１０  液晶表示パネルアセンブリ
７００  導光板
８１０  ベース基板
【図１】
2007148413.tif 000007
【図２】
2007148413.tif 000008
【図３】
2007148413.tif 000009
【図４】
2007148413.tif 000010
【図５】
2007148413.tif 000011
【図６】
2007148413.tif 000012
【図７】
2007148413.tif 000013
【図８】
2007148413.tif 000014
【図９】
2007148413.tif 000015
【図１０】
2007148413.tif 000016
【図１１】
2007148413.tif 000017
【図１２】
2007148413.tif 000018
【図１３】
2007148413.tif 000019
【図１４】
2007148413.tif 000020
【図１５】
2007148413.tif 000021
【図１６】
2007148413.tif 000022
【図１７】
2007148413.tif 000023
【図１８】
2007148413.tif 000024
【図１９】
2007148413.tif 000025
【図２０】
2007148413.tif 000026
【図２１】
2007148413.tif 000027
【図２２】
2007148413.tif 000028
【図２３】
2007148413.tif 000029
【図２４】
2007148413.tif 000030
【図２５】
2007148413.tif 000031
【図２６】
2007148413.tif 000032
【図２７】
2007148413.tif 000033
【図２８】
2007148413.tif 000034
【図２９】
2007148413.tif 000035
【図３０】
2007148413.tif 000036
【図３１】
2007148413.tif 000037
【図３２】
2007148413.tif 000038
【図３３】
2007148413.tif 000039
【図３４】
2007148413.tif 000040
【図３５】
2007148413.tif 000041
【図３６】
2007148413.tif 000042
【図３７】
2007148413.tif 000043
【図３８】
2007148413.tif 000044
【図３９】
2007148413.tif 000045
【図４０】
2007148413.tif 000046
【図４１】
2007148413.tif 000047
【図４２】
2007148413.tif 000048
【図４３】
2007148413.tif 000049
【図４４】
2007148413.tif 000050
【図４５】
2007148413.tif 000051
【図４６】
2007148413.tif 000052
【図４７】
2007148413.tif 000053
【図４８】
2007148413.tif 000054
【図４９】
2007148413.tif 000055
【図５０】
2007148413.tif 000056
【図５１】
2007148413.tif 000057
【図５２】
2007148413.tif 000058
【図５３】
2007148413.tif 000059