(57)【要約】【課題】形状の精度が高く、伝送特性が良好な光導波路を、煩雑な工程を含むことなく、低コストかつ短時間で形成することができ、また、作業環境も良好に保持することができる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】光導波路の製造方法は、コア部形成用の凹部５を有する型４の、当該凹部５が形成された面上に、液状硬化性組成物６を塗布する工程（Ａ）と、型４の面上の液状硬化性組成物６を、ゴム製のスキージ７で掻きとって除去する工程（Ｂ）と、下部クラッド層用ドライフィルム１の、未硬化層３の側を、型４の凹部５を有する面に加圧して密着させる工程（Ｃ）と、液状硬化性組成物６および未硬化層３を同時に硬化させ、構造体を形成させる工程（Ｄ）と、該構造体から型４を離脱させる工程（Ｅ）と、型４を離脱させた構造体の上に、上部クラッド層１５を形成する工程（Ｆ）を含む。【選択図】図１
2007322567.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層、コア部、および上部クラッド層を含む光導波路の製造方法であって、
（Ａ）コア部形成用の凹部を有する型の、当該凹部が形成された面上に、コア部形成用の液状硬化性組成物を塗布する工程と、
（Ｂ）工程（Ａ）で塗布したコア部形成用の液状硬化性組成物のうち、上記凹部に収容されたもの以外の上記型の面上の液状硬化性組成物を、ゴム製のスキージで掻きとって除去する工程と、
（Ｃ）下部クラッド層形成用の未硬化の硬化性組成物層を基材上に形成させてなる下部クラッド層用ドライフィルムの、硬化性組成物層の側を、工程（Ｂ）を経た上記型の、上記コア部形成用の液状硬化性組成物を収容した凹部を有する面に加圧して密着させる工程と、
（Ｄ）工程（Ｃ）の後、上記コア部形成用の液状硬化性組成物、および上記下部クラッド層用ドライフィルムの未硬化の硬化性組成物層を同時に硬化させ、上記型と、上記型内のコア部と、上記型およびコア部の上に形成された下部クラッド層と、該下部クラッド層の上に位置する基材とからなる構造体を形成させる工程と、
（Ｅ）工程（Ｄ）で得られた構造体から、上記型を離脱させる工程と、
（Ｆ）工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の面上に、上部クラッド層を形成する工程
を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項２】
上記ゴム製のスキージの硬度（ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３）が、４５〜７５である請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
工程（Ｆ）における上部クラッド層の形成が、工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の上に、上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物を塗布した後、該液状硬化性組成物を硬化させることによって行なわれる請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
工程（Ｆ）における上部クラッド層の形成は、上部クラッド層形成用の未硬化の硬化性組成物層を基材上に形成させてなる上部クラッド層用ドライフィルムを、該上部クラッド層用ドライフィルムの、未硬化の硬化性組成物層の側を、工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の上に加圧して密着させ、次いで、上記未硬化の硬化性組成物層を硬化させることによって行なわれる請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路の製造方法に関し、特に、形状の精度が高く、伝送特性が良好な光導波路を低コストで短時間に得ることのできる光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化および高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。その製造方法として、特殊な設備を要する従来の石英系光導波路の製造方法に替えて、安価な高分子材料と成形型を用いる製造方法が種々提案されている。
【０００３】
例えば、型基板６上に、有機溶剤可溶性材料からなる付着部９（凸部）を形成することによりコア形成用の溝８を形成し、溝８への紫外線硬化型樹脂組成物１０（コア材料）の充填、および、充填後の溝８形成面上へのアンダークラッド層２付き基板１の積層、さらには、紫外線照射によるコア材料の硬化を行なった後に、型基板６を剥離して、アンダークラッド層２付き基板１上に形成されたコア層３および付着部９を露呈させ、付着部９を有機溶剤を用いて溶解、除去することにより光導波路を製造する方法が提案されている（特許文献１；符号は特許文献１の図１〜図８参照）。
この方法は、従来の石英系光導波路の製造方法と比較して、短時間かつ低コストで光導波路を製造することができる点で有利である。しかし、この方法は、有機溶剤可溶性材料からなる付着部９を有機溶剤を用いて溶解、除去する必要があるため、継続的な有機溶剤の使用により作業環境が汚染されるという問題がある。
【０００４】
一方、クラッド基板２の表面にコア形成用の凹部（凹溝３）を設け、クラッド基板２の表面又はスタンパ９の型面に空間（窪み６）を設けておき、クラッド基板２の凹部（凹溝３）にコア材料を供給した後、スタンパ９の型面とクラッド基板２とを互いに押圧させて凹部（凹溝３）内にコア４を形成すると共に、凹部（凹溝３）と空間（窪み６）の中間でクラッド基板２とスタンパ９に挟まれたコア材料を空間（窪み６）へ逃がすようにすることを特徴とする光導波路の製造方法が、提案されている（特許文献２；符号は特許文献２の図４参照）。
また、コア形成用の凹部を備えた鋳型３を、クラッド基材５に密着させ、鋳型３に設けられた貫通口４（鋳型３のクラッド基材５と密着させる面の反対側の面から上記凹部に連通するように設けられたもの）からコア材料を供給し、毛細管現象により上記凹部にコア材料を充填することにより、コア部８を形成する光導波路の製造方法が提案されている（特許文献３；符号は特許文献３の図１参照）。
【０００５】
特許文献２および特許文献３に記載された技術によると、有機溶剤の継続的な使用を必要とせず、作業環境を良好に保つことができる。
しかし、特許文献２に記載の技術では、凹溝３と窪み６の間の領域からコア材料を完全に取り除くことは困難と考えられる。凹溝３と窪み６の間にコア材料が残存する場合、この残存するコア材料によって、コア４の伝送特性が低下するおそれがある。
特許文献３に記載の技術では、コア材料の充填が毛細管現象により行われるものであるため、コア材料の充填に長時間を要するという問題がある。また、コア形成用の凹部を備えた鋳型３は、シリコーンエラストマーから形成されるため、耐久性が悪いなどの問題がある。
【０００６】
さらに、次のような技術も提案されている。すなわち、進行方向が変化して異なる方向部分を含む光導波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表面に、コア材料のモノマーを滴下し、前記クラッド基板表面の余分なコア材料のモノマーを、スキージ（例えば、スキージゴム）が前記溝の各異なる方向部分に対し一定の角度で、少なくとも１回掃き取り、前記コア材料のモノマーを紫外線照射で重合させることによりコア部を形成し、次いで、クラッド基板およびコア部の表面に、モノマー状態のクラッド材料を塗布した後、このクラッド材料に対して補強材（ＰＭＭＡ基板）を張り付け、クラッド材料を紫外線照射で重合させることによりクラッド層を形成させ、光導波路を得る方法が提案されている（特許文献４）。
この方法によると、導波路のコア部の光進行方向が変化しても、コアの断面の形状および大きさが均一な光導波路を製造することができる。
しかし、この方法は、クラッド基板、コア部、およびクラッド層の各々を、個別に形成させることが必要であり、光導波路を得るまでの工程の数が多いという問題がある。
【特許文献１】特開２００５−１６５１３３号公報
【特許文献２】特開２００４−２６４８７７号公報
【特許文献３】特開２００４−１０９９２６号公報
【特許文献４】特開平１０−２２１５５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、形状の精度が高く、伝送特性が良好な光導波路を、煩雑な工程を含むことなく、低コストかつ短時間で容易に形成することができ、また、作業環境も良好に保持することができる光導波路の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、コア部形成用の凹部を有する型の、当該凹部を形成した面上に、コア部形成用の液状硬化性組成物を塗布した後、上記凹部に収容されたもの以外の余分な液状硬化性組成物を、ゴム製のスキージで掻きとって除去し、次いで、変形可能な未硬化の硬化性組成物層を基材上に形成させてなる下部クラッド層用ドライフィルムの、未硬化の硬化性組成物層を、上記型のコア部形成用の液状硬化性組成物を収容した凹部を有する面に加圧して密着させることなどによって、本発明の上記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［４］を提供するものである。
［１］  下部クラッド層、コア部、および上部クラッド層を含む光導波路の製造方法であって、（Ａ）コア部形成用の凹部を有する型の、当該凹部が形成された面上に、コア部形成用の液状硬化性組成物を塗布する工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で塗布したコア部形成用の液状硬化性組成物のうち、上記凹部に収容されたもの以外の上記型の面上の液状硬化性組成物を、ゴム製のスキージで掻きとって除去する工程と、（Ｃ）下部クラッド層形成用の未硬化の硬化性組成物層を基材上に形成させてなる下部クラッド層用ドライフィルムの、硬化性組成物層の側を、工程（Ｂ）を経た上記型の、上記コア部形成用の液状硬化性組成物を収容した凹部を有する面に加圧して密着させる工程と、（Ｄ）工程（Ｃ）の後、上記コア部形成用の液状硬化性組成物、および上記下部クラッド層用ドライフィルムの未硬化の硬化性組成物層を同時に硬化させ、上記型と、上記型内のコア部と、上記型およびコア部の上に形成された下部クラッド層と、該下部クラッド層の上に位置する基材とからなる構造体を形成させる工程と、（Ｅ）工程（Ｄ）で得られた構造体から、上記型を離脱させる工程と、（Ｆ）工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の面上に、上部クラッド層を形成する工程を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
［２］  上記ゴム製のスキージの硬度（ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３）が、４５〜７５である上記［１］に記載の光導波路の製造方法。
［３］  工程（Ｆ）における上部クラッド層の形成が、工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の上に、上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物を塗布した後、該液状硬化性組成物を硬化させることによって行なわれる上記［１］または［２］に記載の光導波路の製造方法。
［４］  工程（Ｆ）における上部クラッド層の形成は、上部クラッド層形成用の未硬化の硬化性組成物層を基材上に形成させてなる上部クラッド層用ドライフィルムを、該上部クラッド層用ドライフィルムの、未硬化の硬化性組成物層の側を、工程（Ｅ）で得られた構造体の上記コア部および下部クラッド層の上に加圧して密着させ、次いで、上記未硬化の硬化性組成物層を硬化させることによって行なわれる上記［１］または［２］に記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光導波路の製造方法によると、工程（Ｂ）において、ゴム製のスキージを用いているため、型の上面上の余分なコア部形成用の液状硬化性組成物を掻きとった後に、コア部形成用の凹部の上面（型の上面を延長した面）よりも若干下方の高さ地点に、当該凹部に収容されたコア部形成用の液状硬化性組成物の上面が位置するようになる。そして、工程（Ｃ）において、コア部形成用の液状硬化性組成物を収容した凹部を有する型に対して、未硬化層を有する下部クラッド層用ドライフィルムを加圧して密着させたときに、下部クラッド層用ドライフィルムの未硬化の硬化性組成物層が変形して、型の凹部内の液状硬化性組成物が収容されていない小さな空間に入り込み、型の凹部内のコア部形成用の液状硬化性組成物の上面と接触する。そのため、型の凹部同士の間の上面に、コア部形成用の液状硬化性組成物が残存している場合であっても、型の凹部内のコア部形成用の液状硬化性組成物同士の間に、コア部形成用の液状硬化性組成物が連続的に介在することはない。なぜなら、型の上面上に残存するコア部形成用の液状硬化性組成物は、型の凹部内のコア部形成用の液状硬化性組成物に対して、高さ方向の段差を有し、接触することができないからである。その結果、工程（Ｄ）で形成されるコア部同士の間に、コア部形成用の液状硬化性組成物の硬化物が連続的に形成されることがなく、光導波路の伝送特性の低下を確実に回避することができる。
【００１１】
また、本発明の光導波路の製造方法によると、工程（Ｄ）において、コア部形成用の液状硬化性組成物、および、下部クラッド層用ドライフィルムの未硬化層を同時に硬化させるので、コア部と下部クラッド層を同時に形成することができる。そのため、煩雑な工程を含むことなく、短時間で容易に光導波路を形成することができる。
また、本発明の光導波路の製造方法によれば、工程（Ｄ）において、コア部形成用の液状硬化性組成物および下部クラッド層用ドライフィルムの未硬化の硬化性組成物層が硬化するときに、これらの硬化物の収縮が生じるので、工程（Ｅ）において、コア部を含む構造体から型を離脱させる際に、コア部に欠損や変形が生じず、形状の精度の高い光導波路を得ることができる。
また、本発明の光導波路の製造方法は、高価な材料や特殊な設備を必要としないため、低コストである。
さらに、本発明の光導波路の製造方法によれば、有機溶剤を継続的に使用することがないため、作業環境を良好に維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の光導波路の製造方法の実施形態の例を説明する。図１は、本発明の光導波路の製造方法の一例を示すフロー図、図２は、図１中の（Ｇ−１）、（Ｇ−２）に代えて採用しうる工程を示すフロー図である。
図１中、本発明の光導波路の製造方法は、未硬化の硬化性組成物層３を基材２上に形成させてなる下部クラッド層用ドライフィルム１を用意する準備工程（図１中の（Ａ））と、凹部５を有する型４の上面に、コア部形成用の液状硬化性組成物６を塗布する工程（Ａ）（図１中の（Ｂ））と、型４の上面上の液状硬化性組成物６を、ゴム製のスキージ７で掻きとって除去する工程（Ｂ）（図１中の（Ｃ−１）、（Ｃ−２））と、下部クラッド層用ドライフィルム１の、未硬化層３の側を、型４の上面に加圧して密着させる工程（Ｃ）（図１中の（Ｄ−１）、（Ｄ−２））と、コア部形成用の液状硬化性組成物６、および下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３を、紫外線１０の照射によって同時に硬化させ、型４とコア部１２と下部クラッド層１１と基材２とからなる構造体を形成させる工程（Ｄ）（図１中の（Ｅ））と、得られた構造体から、型４を離脱させる工程（Ｅ）（図１中の（Ｆ））と、型４を離脱させた構造体のコア部１２および下部クラッド層１１の面上に、上部クラッド層１５を形成させ、光導波路１６を完成させる工程（Ｆ）（図１中の（Ｇ−１）、（Ｇ−２））を含むものである。
【００１３】
上部クラッド層１５を形成させる方法としては、例えば、図１に示す第一の実施形態（図１中の（Ｇ−１）、（Ｇ−２））と、図２に示す第二の実施形態（図２中の（Ｇ−３）〜（Ｇ−５））のいずれを採用してもよい。ただし、図２に示す第二の実施形態においては、コア部の高さが小さいことが望ましい。図２中、コア部の高さは、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。
図１中、上部クラッド層１５を形成させる方法は、コア部１２および下部クラッド層１１の面上に、上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物１３を塗布した後（図１中の（Ｇ−１））、紫外線１４の照射（または加熱）によって液状硬化性組成物１３を硬化させて、上部クラッド層１５を形成させる（図１中の（Ｇ−２））ものである。
図２中、上部クラッド層２５を形成させる方法は、図１中の（Ｆ）と同様にして、基材２０、下部クラッド層２１およびコア部２２からなる構造体（図２中の（Ｆ））を作製した後、図１中の下部クラッド層用ドライフィルム１と同様にして作製した上部クラッド層用ドライフィルム２５（上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物の乾燥物である未硬化層２３を、基材２４上に形成させてなるもの）の、未硬化層２３の側を、コア部２２および下部クラッド層２１の上に加圧して密着させ（図２中の（Ｇ−３）、（Ｇ−４））、次いで、上部クラッド層用ドライフィルム２５の未硬化層２３を、紫外線２６の照射（または加熱）によって硬化させて、上部クラッド層２７を形成させ、光導波路２８を完成させる（図２中の（Ｇ−５））ものである。
以下、工程毎に詳しく説明する。
【００１４】
［下部クラッド用ドライフィルムの製造］
本発明の光導波路の製造方法においては、まず、図１中の（Ａ）に示すように、液状硬化性組成物の乾燥物からなる未硬化層３を基材２上に形成させてなる下部クラッド層用ドライフィルム１を用意する。
基材２の材質としては、特に限定されないが、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリイミド等の合成樹脂や、ガラス基板や、シリコン基板等が挙げられる。中でも、ポリエステル等の合成樹脂は、所望の形状を有する透明なフィルムを容易に作製することができる点で好ましく用いられる。
工程（Ｄ）で未硬化層３を硬化させる方法として、光照射を採用する場合、基材２の材質は、光を十分に透過させ得るように、透明なものである必要がある。
基材２は、通常、フィルムとして形成される。基材２の厚さは、特に限定されないが、例えば、１２〜５００μｍである。
【００１５】
未硬化層３は、工程（Ｄ）において硬化させて下部クラッド層を形成するためのものである。
未硬化層３を形成するための硬化性組成物としては、光硬化性組成物と熱硬化性組成物のいずれも使用することができる。中でも、光硬化性組成物は、工程（Ｃ）における加圧密着時に適度な変形を生じ得る未硬化層３を、液状光硬化性組成物の乾燥によって容易に得ることができる点で好ましく用いられる。
未硬化層３を形成するための液状光硬化性組成物の例としては、エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂、重合性モノマー、光重合開始剤、有機溶媒等を含む組成物が挙げられる。
ここで、エチレン性不飽和基等の重合性官能基を有する樹脂は、例えば、カルボキシル基や水酸基を有する重合体に、グリシジル基とエチレン性不飽和基を含有する化合物、イソシアネート基とエチレン性不飽和基を含有する化合物、あるいはアクリル酸クロライドを付加反応させることにより得られる。
ここで、重合性モノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、マクロモノマー、アクリロイルモルフィリン等が挙げられる。
【００１６】
光重合開始剤の例としては、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル−１−ブタノン等が挙げられる。
有機溶剤の例としては、メチルイソブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、トルエン、酢酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等が挙げられる。
また、上記光重合開始剤に替えて、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート等の熱分解性ラジカル発生剤を使用することにより、熱硬化性組成物とすることもできる。
【００１７】
未硬化層３を形成するための硬化性組成物の成分組成は、上部クラッド層を形成したときに、他の各部（下部クラッド層、コア部）に対して、光導波路に要求される屈折率の条件を満たすように定められる。
下部クラッド層用ドライフィルム１は、保存性および取り扱い性を向上させるために、未硬化層の上にカバーフィルムを備えていてもよい。このカバーフィルムは、使用時に未硬化層から剥離されるものであり、容易に剥離することができるように、未硬化層との接触面を表面処理しておくことが望ましい。カバーフィルムの例としては、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等の合成樹脂フィルムの表面に、シリコーン系離型剤を塗布してなるフィルム等が挙げられる。
【００１８】
下部クラッド層用ドライフィルム１は、例えば、基材２の上に液状光硬化性組成物を塗布した後、加熱して液状光硬化性組成物中の有機溶媒を除去し、液状光硬化性組成物の乾燥物からなる未硬化層３を基材２上に形成させることによって得ることができる。
この場合、液状光硬化性組成物の塗布方法としては、アプリケータを用いる方法（アプリケータコート法）、バーコート法、ロールコート法、カーテンフローコート法等が挙げられる。
基材２上の液状光硬化性組成物の厚さは、特に限定されないが、例えば、５〜２００μｍである。
基材２上の液状光硬化性組成物を乾燥させるための加熱温度は、製造効率や、基材２に対する悪影響の回避等の観点から、好ましくは５０〜２５０℃、より好ましくは７０〜１８０℃、特に好ましくは１００〜１５０℃である。
また、加熱時間は、製造効率等の観点から、好ましくは１〜２０分間である。
基材２上の液状光硬化性組成物は、加熱によって有機溶媒が蒸発して乾燥し、変形可能な未硬化層３になる。
なお、未硬化層３を形成するための硬化性組成物として、熱硬化性組成物を用いる場合、液状の熱硬化性組成物を調製して、基材２上に塗布した後、例えば硬化温度より低い温度で加熱して組成物中の溶剤を徐々に除去し、成膜が完了した時点で加熱を中止すればよい。
【００１９】
［工程（Ａ）］
工程（Ａ）は、図１中の（Ｂ）に示すように、コア部形成用の凹部５を上面に有する型４の、当該凹部５を形成している面上に、コア部形成用の液状硬化性組成物６を塗布する工程である。
型４としては、例えば、ＳＵＳ板の上に、Ｎｉ（ニッケル）からなる凸部を形成させてなるもの等が挙げられる。
型４の作製方法は、例えば、次のとおりである。まず、ＳＵＳ板の上に、所定のパターンでフォトレジスト層を形成させる。次いで、ＳＵＳ板の上に、フォトレジスト層の全体を覆うように、電解メッキ、無電解メッキ、スパッタ等の方法で所定の厚さのＮｉ層を形成させる。その後、フォトレジスト層の上面が露出するようになるまで、Ｎｉ層を研磨する。研磨後、アルカリ溶液等を用いてフォトレジスト層を除去すれば、所定のパターン（コア部の形成用の凹部）を有するように形成されたＮｉ層をＳＵＳ板の上に設けてなる型４が得られる。
【００２０】
凹部５内の液状硬化性組成物６は、工程（Ｂ）においてゴム製のスキージ７を用いて型４の上面上の液状硬化性組成物６を除去する際に、型４の上面上の液状硬化性組成物６と共に部分的に除去される。つまり、工程（Ｂ）の後には、凹部５内の液状硬化性組成物６の上面は、型４の上面よりも若干、下方に位置することになる。そのため、鉛直方向の断面が正方形であるコア部を形成させるためには、凹部５は、鉛直方向の断面が、幅よりも高さの方が若干大きい長方形であるように、形成することが望ましい。例えば、凹部５の鉛直方向の断面の形状を、幅に対して高さが５〜１５％大きくなるように定めれば、略正方形の断面を有するコア部を形成することができる。
凹部５の幅は、好ましくは２０〜１００μｍ、より好ましくは３０〜８０μｍ、特に好ましくは４０〜６０μｍである。凹部の高さは、好ましくは、凹部の幅に対して５〜１５％大きい寸法である。凹部の幅および高さが、前記の好ましい数値範囲よりも小さい場合、図１中の（Ｄ−１）の空間９が小さくなるため、図１中の（Ｆ）のコア部１２同士の間にコア部形成用の液状硬化性組成物６の硬化物からなる連続的な連絡路が形成され、光導波路の伝送特性が低下することがある。
【００２１】
コア部形成用の液状硬化性組成物６としては、上述の未硬化層３を形成するための液状硬化性組成物と同様に、光硬化性組成物と熱硬化性組成物のいずれも使用することができる。
コア部形成用の光硬化性組成物の例は、上述の未硬化層３を形成するための液状硬化性組成物の例と同様である。ただし、コア部形成用の光硬化性組成物の成分組成は、コア部を形成したときに、他の各部（上部クラッド層、下部クラッド層）に対して、光導波路に要求される屈折率の条件を満たすように定められる。
コア部形成用の液状硬化性組成物６の粘度（２５℃）は、好ましくは１０〜５，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは５０〜３，０００ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは１００〜１，０００ｍＰａ・ｓである。該粘度が好ましい範囲外であると、液状硬化性組成物６の取り扱いが困難になったり、工程（Ｂ）におけるゴム製のスキージによる余分な液状硬化性組成物６の除去が困難になることがある。なお、粘度は、エチレン性不飽和基含有化合物等の配合量を変えることによって、適宜調整することができる。
液状硬化性組成物６は、少なくとも、コア部形成用の凹部５内の空間を満たすように塗布される。
【００２２】
［工程（Ｂ）］
工程（Ｂ）は、図１中の（Ｃ−１）および（Ｃ−２）に示すように、工程（Ａ）で塗布したコア部形成用の液状硬化性組成物６のうち、凹部５に収容されたもの以外の型４の上面上の液状硬化性組成物６を、ゴム製のスキージ７で掻きとって除去する工程である。
ゴム製のスキージ７は、少なくとも、液状硬化性組成物６を掻きとる部分がゴムで形成されたものである。スキージ７は、凹部５の長手方向の長さよりも大きな寸法の幅を有する板状の先端部分（掻きとる部分）を有することが好ましい。
スキージ７のゴムの種類としては、例えば、エチレン・プロピレンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、天然ゴム等が挙げられる。中でも、耐摩耗性、耐薬品性等の観点から、エチレン・プロピレンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムが好ましく用いられる。
スキージ７のゴムの硬度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６２３５で規定される硬度（試験種類：デュロメータ  タイプＡ  スプリング式)として、好ましくは４５〜７５、より好ましくは５０〜７０である。該硬度が４５未満では、凹部５内の液状硬化性組成物６の掻きとられる量が多すぎたり、スキージ７を型４の上面８上で移動させることが困難なことがあり、該硬度が７５を超えると、凹部５内の液状硬化性組成物６の掻きとられる量が不十分となったり、型４の面の凹凸に対するスキージ７の追随性が劣ることがある。
なお、本発明では、ゴム製のスキージ７を用いているため、型４を傷付けることもない。
【００２３】
ゴム製のスキージ７の先端部分（型４に接触する部分）の断面形状は、角状、円形状等である。
ゴム製のスキージ７は、凹部５の延びる方向に対して略垂直の方向（凹部５を跨ぐ方向）に、型４の上面８上を移動させて使用する。
ゴム製のスキージ７は、型４との接触部分がゴム製であり、適度な弾性を有するため、凹部５の内部の液状硬化性組成物６の一部を掻きとる。このため、スキージ７が通過した後の凹部５の内部の液状硬化性組成物６の上面は、型４の上面８よりも下方に位置することになる。
凹部５の内部の液状硬化性組成物６の掻きとられる量は、凹部５の高さ（１００％）に対して、好ましくは５〜２０％、より好ましくは７〜１５％である。
これにより、工程（Ｃ）において型４の上面に下部クラッド層用ドライフィルム１を加圧して密着させたときに、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３が、凹部５内の空間９（スキージ７によって掻きとられた液状硬化性組成物６が収容されていた部分）に入り込むことが可能になる。
【００２４】
［工程（Ｃ）］
工程（Ｃ）は、図１中の（Ｄ−１）、（Ｄ−２）に示すように、下部クラッド層用ドライフィルム１を、未硬化層３の側を下方に向けて、工程（Ｂ）を経た型４の上面に加圧して、空間９が無くなるように密着させる工程である。
工程（Ｃ）では、まず、下部クラッド層用ドライフィルム１を、未硬化層３の側を下方に向けて、工程（Ｂ）を経た型４の上面に当接させる（図１の（Ｄ−１））。
次いで、下部クラッド層用ドライフィルム１を上方から加圧するか、または、型４を下方から加圧することによって、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３の一部が、凹部５内の空間（スキージ７によって掻きとられた液状硬化性組成物６が収容されていた部分）に入り込むようにする（図１の（Ｄ−２））。これにより、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３と、コア部形成用の液状硬化性組成物６とが、型４の上面よりも若干、下方の位置に接触面を有するようになる。
加圧の手段としては、例えば、ゴムロール、ホットプレス等が挙げられる。
加圧時の圧力は、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３と、コア部形成用の液状硬化性組成物６とが接触することのできる大きさであればよい。
【００２５】
［工程（Ｄ）］
工程（Ｄ）は、図１中の（Ｅ）に示すように、工程（Ｃ）の後、コア部形成用の液状硬化性組成物６、および下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３を、紫外線９の照射等によって同時に硬化させ、型４、下部クラッド層１１、コア部１２および基材２からなる構造体を形成させる工程である。
光照射により硬化させる場合、照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。光の照射量は、特に限定されるものではないが、波長２００〜４５０ｎｍ、照度１〜５００ｍＷ／ｃｍ2の光を、照射量が１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ2となるように照射して露光することが好ましい。
加熱により硬化させる場合、加熱温度は、好ましくは３０〜４００℃、より好ましくは５０〜３００℃、特に好ましくは１００〜２００℃である。加熱時間は、例えば、５分間〜７２時間である。
工程（Ｃ）において、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３と、コア部形成用の液状硬化性組成物６との接触面は、型４の上面よりも若干、下方の位置に形成されている。そのため、工程（Ｄ）において、下部クラッド層用ドライフィルム１の未硬化層３は、型４の凹部５の内部に若干入り込んだ状態で硬化して、下部クラッド層１１になる。
【００２６】
本発明において、未硬化層３が、型４の凹部５の内部に若干入り込んだ状態で硬化することは、最終的に得られる光導波路の伝送性を良好なものとするために必須である。すなわち、未硬化層３と、型４の凹部５内の液状硬化性組成物６との接触面が、型４の上面８に対して同一面である場合、型４の凹部５同士の間の上面８に、液状硬化性組成物６が残存していることがあるため、液状硬化性組成物６の硬化後の隣り合うコア部１２同士の間に、型４の上面８上の液状硬化性組成物６が硬化してなる連絡路が形成されることがある。この連絡路は、光導波路の光伝送特性の低下の原因となる。この点、本発明では、未硬化層３が、型４の凹部５の内部に若干入り込んだ状態で硬化するため、型４の凹部５同士の間の上面８に、液状硬化性組成物６が残存している場合であっても、隣り合うコア部１２同士の間に、コア部１２の材料と同じ材料からなる連絡路は、形成されない。
未硬化層３および液状硬化性組成物６が光硬化性のものである場合、硬化方法として、光の照射を採用すれば、未硬化層３および液状硬化性組成物６を同時に硬化させることができる。また、未硬化層３および液状硬化性組成物６が熱硬化性のものである場合、硬化方法として、加熱を採用すれば、未硬化層３および液状硬化性組成物６を同時に硬化させることができる。このように、本発明では、未硬化層３の硬化による下部クラッド層１１の形成と、液状硬化性組成物６の硬化によるコア部１２の形成を、同時に行なうことができるため、光導波路の製造の効率を格段に高めることができる。
【００２７】
［工程（Ｅ）］
工程（Ｅ）は、図１中の（Ｆ）に示すように、工程（Ｄ）で得られた構造体から、型４を離脱させる工程である。
前工程である工程（Ｄ）において、未硬化層３が硬化して下部クラッド層１１が形成される際の収縮、および、液状硬化性組成物６が硬化してコア部１２が形成される際の収縮によって、下部クラッド層１１およびコア部１２を含む構造体は、型４に対して離脱させ易くなっている。そのため、工程（Ｅ）において、工程（Ｄ）で得られた構造体からの型４の離脱は、容易に行なうことができる。この際、コア部に欠損や変形が生じることはない。
【００２８】
［工程（Ｆ）］
（１）第一の実施形態
工程（Ｆ）の第一の実施形態は、図１中の（Ｇ−１）および（Ｇ−２）に示すように、工程（Ｅ）で得られた構造体のコア部１２および下部クラッド層１１の面上に、上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物１３を塗布した後、紫外線１４の照射によって液状硬化性組成物１３を硬化させて、上部クラッド層１５を形成させ、光導波路１６を完成させる工程である。
上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物１３の成分組成および塗布方法は、上述の下部クラッド層形成用の液状硬化性組成物と同様である。また、上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物１３として、熱硬化性組成物を用いうること、および、この場合の硬化方法として加熱が採用されることも、上述の下部クラッド層形成用の液状硬化性組成物と同様である。
【００２９】
（２）第二の実施形態
工程（Ｆ）の第二の実施形態は、図２に示すように、まず、図１中の（Ｅ）と同様にして、基材２０、下部クラッド層２１およびコア部２２からなる構造体（図２中の（Ｆ））を作製した後、図１中の下部クラッド層用ドライフィルム１と同様にして作製した上部クラッド層用ドライフィルム２５を、未硬化層２３の側を下方に向けて、コア部２２および下部クラッド層２１の上面に加圧して密着させ（図２中の（Ｇ−３）、（Ｇ−４））、次いで、上部クラッド層用ドライフィルム２５の未硬化層２３を、紫外線２６等の光照射または加熱によって硬化させることによって、上部クラッド層２６を形成させる（図２中の（Ｇ−５））ものである。
【００３０】
光導波路１６は、下部クラッド層１１、コア部１２および上部クラッド層１５からなる（図１の（Ｇ−２）参照）。
下部クラッド層１１、コア部１２および上部クラッド層１５の厚さは、特に限定されないが、例えば、下部クラッド層１１の厚さが１０〜２００μｍ、コア部１２の厚さが３〜２００μｍ、上部クラッド層１５の厚さ（上部クラッド層１５の上面とコア部１２の上面の間の距離）が１〜２００μｍとなるように定められる。コア部１２の幅および高さは、特に限定されないが、例えば、５〜１００μｍである。
また、コア部１２の屈折率は、下部クラッド層１１と上部クラッド層１５のいずれの屈折率よりも大きいことが必要である。例えば、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対して、コア部１２の屈折率が１．４２０〜１．６５０、下部クラッド層１１および上部クラッド層１５の屈折率が１．４００〜１．６４８であり、かつ、コア部１２の屈折率が、２つのクラッド層１１、１５のいずれの屈折率よりも０．１％以上大きな値であることが好ましい。
コア部１２、下部クラッド層１１および上部クラッド層１５の各部を構成する組成物の成分組成は、コア部１２、下部クラッド層１１、および上部クラッド層１５の屈折率の関係が上記の条件を満たすように定められる。下部クラッド層を構成する組成物と上部クラッド層を構成する組成物は、同一の硬化性組成物であることが、経済上および製造管理上、好ましい。また、本発明において、製造効率の観点から、下部クラッド層、コア部および上部クラッド層のすべてを、光硬化性組成物で形成することが好ましい。
【実施例】
【００３１】
［調製例１（コア部形成用の液状硬化性組成物の調製）］
攪拌機付きのガラス製フラスコ中に、マクロモノマー（商品名：ＡＡ−６、東亞合成社製）２０重量部、アクリロイルモルフィリン（商品名：ＡＣＭＯ、興人社製）１０重量部、１，９−ノナンジオールジアクリレート（商品名：ライトアクリレート９ＥＧ−Ａ、共栄社化学社製）１２重量部、イソボルニルメタクリレート（商品名：ＩＢＸＭＡ、大阪有機化学工業社製）２０重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：Ｍ８１００、東亞合成社製）１０重量部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロデカンジアクリレート（商品名：Ａ−ＴＣＤ、新中村化学工業社製）２０重量部、トリブロモフェノキシエチルアクリレート（商品名：ＢＲ−３１、第一工業製薬社製）８重量部、光重合開始剤（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）３重量部を加え、４０℃で３時間攪拌して、均一に混合された溶液を得た。次いで、この溶液を冷却し、さらに、室温において、孔径０．１μｍのＰＴＦＥ製フィルターを用いてこの溶液を濾過することにより、コア部形成用の液状硬化性組成物Ａを得た。
液状硬化性組成物Ａは、粘度が３８０ｍＰａ・ｓ、高圧水銀灯で光量１Ｊ／ｃｍ２で照射した硬化膜の波長８２４ｎｍにおける屈折率がｎ＝１．５３０、動的粘弾性法で測定したｔａｎδのピークより求めたガラス転移温度が１５６℃、の物性を有していた。
【００３２】
［調製例２（下部クラッド層および上部クラッド層形成用の液状光硬化性組成物の調製）］
１．ポリマー溶液Ｂの調製
還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１．５重量部、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン１１５重量部を仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。次いで、ヒドロキシエチルメタクリレート２０重量部、ジシクロペンタニルメタクリレート２５重量部、メチルメタクリレート４０重量部、およびｎ−ブチルアクリレート１５重量部を仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度で６時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．１２重量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０５重量部を仕込み、攪拌しながら２−メタクリロキシエチルイソシアネート２３．７重量部を６０℃以下の温度を保ちつつ滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液Ｂを得た。
【００３３】
２．クラッド層形成用硬化性組成物の調製
攪拌装置付きガラスフラスコに、前記「１．ポリマー溶液の調製」で調製したポリマー溶液Ｂを２１５重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成社製、Ｍ８１００）を３０重量部、光重合開始剤として、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９」（商品名）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）を３重量部、を加え、６０℃で３時間攪拌して、均一に混合された溶液を得た。次いで、この溶液を冷却し、さらに、室温において、孔径０．１μｍのＰＴＦＥ製フィルターを用いてこの溶液を濾過することにより、液状硬化性組成物Ｂを得た。
この液状硬化性組成物Ｂは、そのまま、あるいは後述の基材と組み合わせることによって、クラッド層（下部クラッド層、上部クラッド層）の形成材料として用いた。
液状硬化性組成物Ｂは、粘度が１，０００ｍＰａ・ｓ、高圧水銀灯で光量１Ｊ／ｃｍ２で照射した硬化膜の波長８２４ｎｍにおける屈折率が１．４９６、動的粘弾性法で測定したｔａｎδのピークより求めたガラス転移温度が８９℃、の物性を有していた。
【００３４】
［調製例３（クラッド層形成用ドライフィルムの作製）］
厚さ１００μｍの表面処理ポリエステルフィルム（東洋紡績＃Ａ４１００；材質：ポリエチレンテレフタレート）からなる基材上に、前記「２．クラッド層形成用硬化性組成物の調製」で調製した液状硬化性組成物Ｂをアプリケータを用いて塗布した後、１２０℃で５分間、熱風乾燥機中で乾燥させて、前記基材上に厚さ７０μｍの未硬化層（クラッド層形成用組成物）を積層させてなるクラッド層形成用ドライフィルムを得た。
【００３５】
［光導波路の形成］
［実施例１］
（ａ）金型の凹部へのコア部形成用組成物の供給
ＳＵＳ製の基板上に複数のＮｉ製の成形体（凸部）を形成させることによって、コア部形成用の凹部（幅：５０μｍ、深さ：５５μｍ、長さ：３０ｃｍ）を有する金型を作製した。
調製例１で得たコア部形成用の液状硬化性組成物Ａを、アプリケータを用いて、上記の金型上に塗布した。次いで、エチレン・プロピレンゴム製（日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ  ６２５３の試験法によるデュロメータを用いた硬度：６５）の板状のゴム製のスキージ（幅：３０ｃｍ、厚さ：１０ｍｍ、長さ：３０ｃｍ）を用い、０．５ｋｇｆの荷重、および移動速度５０ｃｍ／分の条件下で、金型の凹部から溢れている過剰の液状硬化性組成物Ａを掻きとる操作を行った。操作後、金型を観察すると、金型の凹部以外の上面から、液状硬化性組成物Ａが除去されているとともに、金型の凹部内に収容された液状硬化性組成物Ａの液面が、金型の上面から平均で５μｍほど下方に位置していた。
【００３６】
（ｂ）コア部および下部クラッド層の形成
前記の調製例３で得たクラッド層形成用ドライフィルムを、前記（ａ）で作製した金型の上面に張り合わせた後、ゴムロールを用いて、クラッド層形成用ドライフィルムを金型の上面に押し付ける操作を行った。次に、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を基材であるポリエステルフィルムの側から１００秒間照射して、クラッド層形成用ドライフィルムの未硬化層、および金型内のコア部形成用の光硬化性組成物を光硬化させ、硬化体のみからなる構造体を得た。その後、この構造体から金型を離脱させて、基材（ポリエステルフィルム）と、厚さ２０μｍの下部クラッド層と、幅５０μｍ、厚さ５０μｍのコア部とが、この順で積層されてなる硬化フィルムを得た。
（ｃ）上部クラッド層の形成
前記（ｂ）で作製した硬化フィルム上に、アプリケータを用いて、前記の調製例２で得たクラッド層形成用の液状硬化性組成物Ｂを塗布した後、この液状硬化性組成物Ｂを、熱風乾燥機中で１２０℃、５分間、乾燥させた。次いで、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒間照射することによって、上部クラッド層（厚さ：２０μｍ）を有する光導波路を得た。
【００３７】
［実施例２］
上部クラッド層を形成させるために、前記の調製例３で得たクラッド層形成用ドライフィルムと同様のドライフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして光導波路を作製した。
上部クラッド層を形成させるためのクラッド層形成用ドライフィルムは、実施例１の前記（ｂ）で得た硬化フィルムと同様の硬化フィルムに対し、該硬化フィルムのコア部と対向するようにして積層した。この積層は、温度８０℃、圧力０．５ＭＰａの条件下で、ロール（シリコンゴムで表面層を形成したもの）を、速度が０．５ｍ／分、進行方向がコア部の延びる方向と同じになるようにして、クラッド層形成用ドライフィルム上にて走行させることにより行なった。その後、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を、硬化フィルムの基材（ポリエステルフィルム）の側から１００秒間照射して、クラッド層形成用ドライフィルムの未硬化層を硬化させて、光導波路を得た。
【００３８】
［比較例１］
（ａ）クラッド層形成用ドライフィルムの作製
基材である厚さ１００μｍの表面処理ポリエステルフィルム（東洋紡績＃Ａ４１００）上に、前記の調製例２で得たクラッド層形成用の液状硬化性組成物Ｂをアプリケータを用いて塗布し、乾燥させた後、この硬化性組成物Ｂに対して、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射することによって、基材上に厚さ２０μｍの下部クラッド層を形成させ、クラッド層形成用ドライフィルムを得た。
（ｂ）コア部および下部クラッド層の形成
前記の調製例１で得たコア部形成用の液状硬化性組成物Ａを凹部内に満たした金型（実施例１で作製したものと同様の金型）の上面に、前記の（ａ）で作製したクラッド層形成用ドライフィルムを張り合わせた後、基材（ポリエステルフィルム）の側から波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒間照射し、金型内のコア部形成用の液状硬化性組成物Ａを硬化させ、構造体を作製した。次いで、この構造体から金型を離脱させて、基材、下部クラッド層、およびコア部からなる硬化フィルムを得た。
（ｃ）上部クラッド層の形成
前記の（ｂ）で得た硬化フィルム上に、アプリケータを用いて上記と同様のクラッド層形成用の液状硬化性組成物Ｂを塗布した。次いで、液状硬化性組成物Ｂを塗布した硬化フィルムを、熱風乾燥機中で１２０℃、５分間、乾燥させた後、波長３６５ｎｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１００秒間照射して、上部クラッド層（厚さ：２０μｍ）を有する光導波路を得た。
【００３９】
［評価］
実施例１、実施例２、および比較例１で作製した光導波路について、以下の項目を評価した。
（１）外観
倍率１，０００倍の光学顕微鏡を用いて、コア部の形状の均一性を評価した。コア部の幅が一定であり、欠けや泡がないものを「○」とし、欠けおよび泡があるものを「×」とした。
（２）伝搬損失
光導波路の波長８５０ｎｍにおける伝搬損失（ｄＢ／ｃｍ）を、８５０ｎｍのＬＥＤ光源とコア径５０μｍのＧＩファイバーを用いて、カットバック法で測定した。
結果を表１に示す。
【００４０】
【表１】
2007322567.tif 000003
【００４１】
表１に示すように、比較例１では、コア部の欠け、およびコア部中の気泡が観察され、均一な光導波路が得られず、伝搬損失も大きかった。実施例１、２では、コア部の欠けや、コア部中の気泡がなく、かつ、伝搬損失も０．１ｄＢ／ｃｍ以下と良好であった。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
【図２】本発明の光導波路の製造方法中の工程（Ｇ）の他の例を示すフロー図である。
【符号の説明】
【００４３】
１    下部クラッド層用ドライフィルム
２    基材
３    未硬化層
４    型
５    凹部
６    コア部形成用の液状硬化性組成物
７    ゴム製のスキージ
８    型の上面
９    空間（スキージで掻きとられた部分）
１０    紫外線
１１    下部クラッド層
１２    コア部
１３    上部クラッド層形成用の液状硬化性組成物
１４    紫外線
１５    上部クラッド層
１６    光導波路
２０，２４    基材
２１    下部クラッド層
２２    コア部
２３    未硬化層
２５    クラッド層形成用ドライフィルム
２６    紫外線
２７    上部クラッド層
２８    光導波路
【図１】
2007322567.tif 000004
【図２】
2007322567.tif 000005